(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）、式（ＩＩ）、及び式（ＩＩＩ）
【化１】
0005564047.tif 000005
（式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、それぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、
Ｒ４は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基及び２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル基からなる群より選ばれるヒドロキシ基を有していてもよいアルキル基、またはシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロデカニル基、１−アダマンチル基、及びイソボロニル基からなる群より選ばれるシクロアルキル基を表し、
Ｒ５は水素原子またはＣ１〜Ｃ６のアルキル基を表し、ｍ、ｎ、ｋは各繰り返し単位のモル比率を表し、ｍは、０以上１未満の正数を表し、ｎ及びｋは、それぞれ独立に、正数を表し、ｍ＋ｎ＋ｋ＝１の関係を満たす。）で表される繰り返し単位を含有し、
式（Ｉ）及び式（ＩＩ）で表される繰り返し単位のブロックと、式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位のブロックの２つのブロックからなり、
その重量平均分子量が、５０，０００〜２００，０００の範囲であることを特徴とする共重合体。
【請求項２】
式（Ｉ）及び式（ＩＩ）で表される繰り返し単位が、式（Ｉ）で表される繰り返し単位と式（ＩＩ）で表される繰り返し単位がランダムで結合していることを特徴とする請求項１に記載の共重合体。
【請求項３】
重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が、１．０１〜１．５０の範囲であることを特徴とする請求項１又は２に記載の共重合体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体素子等の表面保護膜、層間絶縁膜、チップ積層用接着剤等に用いられる絶縁樹脂組成物に好適な共重合体に関する。本願は、２００９年８月４日に出願された日本国特許出願第２００９−１８１２１０号に対し優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
電気絶縁性、耐熱衝撃性、密着性等の特性に優れた硬化物用のポリマーとして、下記式（１）で示される構造単位（Ａ１）１０〜９９モル％及び下記式（２）で示される構造単位（Ａ２）９０〜１モル％有する共重合体（Ａ）（但し、該共重合体（Ａ）を構成する全構成単位の合計を１００モル％とする。）が知られている。（特許文献１を参照）【０００３】
【化１】
0005564047.tif 000002
【０００４】
（式中、Ｒ１１及びＲ３３は、それぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシ基、またはアリール基を表し、Ｒ２２及びＲ４４は、それぞれ独立に水素原子、またはメチル基を表し、ｍ１は、１〜３の整数、ｎ１及びｋ１は、それぞれ独立に０〜３の整数を表し、ｍ１＋ｎ１≦５を表す。）【０００５】
より具体的には、ｐ−ヒドロキシスチレン／スチレン／メタクリル酸メチル＝８０／１０／１０（モル比）からなる共重合体（Ｍｗ＝１０，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．５）が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】ＷＯ２００８−０２６４０１号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記共重合体でも、チップ積層用接着剤として必ずしも満足のいく特性が得られていないという問題があった。
本発明は、チップ積層用接着剤等として耐熱性、耐クラック性、高温接着性、密着性等の特性が満足のいく硬化物用の共重合体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、アリール部分の繰り返し単位とアクリル酸エステル部分の繰り返し単位をブロックで結合させ、しかも５万以上の高分子量とすることで、上記特性を満足するポリマーが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。【０００９】
即ち、本発明は、
（１）式（Ｉ）、式（ＩＩ）、及び式（ＩＩＩ）【００１０】
【化２】
0005564047.tif 000003
【００１１】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、それぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、Ｒ４は、ヒドロキシ基を有していてもよいアルキル基またはシクロアルキル基を表し、Ｒ５は水素原子またはＣ１〜Ｃ６のアルキル基を表し、ｍ、ｎ、ｋは各繰り返し単位のモル比率を表し、ｍは、０以上１未満の正数を表し、ｎ及びｋは、それぞれ独立に、正数を表し、ｍ＋ｎ＋ｋ＝１の関係を満たす。）で表される繰り返し単位を含有し、その重量平均分子量が、５０，０００〜２００，０００の範囲であることを特徴とする共重合体に関し、
（２）式（Ｉ）及び式（ＩＩ）で表される繰り返し単位と式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位が、ブロックで結合していることを特徴とする（１）に記載の共重合体に関し、
（３）式（Ｉ）及び式（ＩＩ）で表される繰り返し単位が、式（Ｉ）で表される繰り返し単位と式（ＩＩ）で表される繰り返し単位がランダムで結合していることを特徴とする（２）に記載の共重合体に関し、
（４）重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が、１．０１〜１．５０の範囲であることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の共重合体に関する 。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の共重合体は、式（Ｉ），式（ＩＩ）及び式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位を含み、その重量平均分子量が、５万〜２０万の範囲であることを特徴とする。
式（Ｉ）中、Ｒ１は、水素原子またはメチル基を表す。
Ｒ５は水素原子またはＣ１〜Ｃ６のアルキル基を表し、アルキル基としては、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基等を例示することができる。
式（ＩＩ）中、Ｒ２は、水素原子またはメチル基を表す。
式（ＩＩＩ）中、Ｒ３は、水素原子またはメチル基を表す。
Ｒ４は、ヒドロキシ基を有していてもよいアルキル基またはシクロアルキル基を表し、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、またはｎ−デシル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、または２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル基等のヒドロキシ基を有していてもよいアルキル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１−エチルシクロヘキシル基、ノルボルニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロデカニル基、１−アダマンチル基、またはイソボロニル基等のシクロアルキル基を例示することができる。
【００１３】
式（Ｉ）で表される繰り返し単位、式（ＩＩ）で表される繰り返し単位、及び式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位の結合様式は、特に制限されず、具体的には、ランダム結合、ブロック結合、交互結合、またはグラフト結合等を例示することができる。
中でも、式（Ｉ）及び式（ＩＩ）で表される繰り返し単位（Ｂ１２）と式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位（Ｂ３）がブロック結合であるのが好ましい。（Ｂ１２）に含まれる式（Ｉ）で表される繰り返し単位（Ｂ１）及び式（ＩＩ）で表される繰り返し単位（Ｂ２）の結合様式は、特に限定されず、具体的には、ランダム結合、ブロック結合、交互結合、またはグラフト結合等を例示することができるが、特にランダム結合を好ましく例示することができる。
各繰り返し単位（Ｂ１）〜（Ｂ３）のモル比は特に制限されないが、（Ｂ１）＋（Ｂ２）／（Ｂ３）は、９０／１０〜６０／４０の範囲を好ましく例示することができ、（Ｂ１）／（Ｂ２）は、９０／１０〜１０／９０の範囲を好ましく例示することができる。
本発明の共重合体の重量平均分子量は、５０，０００〜２００，０００の範囲ではあるが、７０，０００〜２００，０００が好ましく、中でも７０，０００〜１６０，０００の範囲が特に好ましい。
本発明の共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．０１〜２．５０の範囲が好ましく、さらに１．０１〜１．５０の範囲が好ましい。
【００１４】
本発明の共重合体の製造方法は、Ｍｗ＝５０，０００〜２００，０００の範囲の分子量のものができる製造方法であれば特に限定されず、たとえば、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合、リビング重合等の公知の方法を用いることができる。
本発明の製造に用いられる原料の単量体として、具体的には、式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）に対応する下記式（ＩＶ）〜（ＶＩ）に示す二重結合含有化合物を例示することができる。
【００１５】
【化３】
0005564047.tif 000004
【００１６】
（式中、Ｒ１〜Ｒ４は、前記と同じ意味を表す。）
【００１７】
式（ＩＶ）で表される化合物として、具体的には、スチレン、α−メチルスチレン、４−メチルスチレン、４−エチルスチレン、４−ｎ−ブチルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン等を例示することができる。
式（Ｖ）で表される化合物として具体的には、４−ヒドロキシスチレン、３−ヒドロキシスチレン、４−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、３−ヒドロキシ−α−メチルスチレン等を例示することができる。
式（ＶＩ）で表される化合物として具体的には、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｓ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸ｎ−ペンチル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、アクリル酸ｎ−ヘプチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｓ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ペンチル、メタクリル酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸ｎ−ヘプチル等を例示することができる。
【００１８】
本発明の共重合体を構成する各繰り返し単位（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の組み合わせとして具体的には、以下に示すような組み合わせを例示することができる。尚、各繰り返し単位は、それに対応する単量体で表すこととする。
スチレン／４−ヒドロキシスチレン／アクリル酸メチル、スチレン／４−ヒドロキシスチレン／アクリル酸エチル、スチレン／４−ヒドロキシスチレン／アクリル酸ｔ−ブチル、α−メチルスチレン／４−ヒドロキシスチレン／アクリル酸メチル、α−メチルスチレン／４−ヒドロキシスチレン／アクリル酸エチル、α−メチルスチレン／４−ヒドロキシスチレン／アクリル酸ｔ−ブチル、スチレン／α−メチル−４−ヒドロキシスチレン／アクリル酸メチル、スチレン／α−メチル−４−ヒドロキシスチレン／アクリル酸エチル、スチレン／α−メチル−４−ヒドロキシスチレン／アクリル酸ｔ−ブチル、スチレン／３−ヒドロキシスチレン／アクリル酸メチル、スチレン／３−ヒドロキシスチレン／アクリル酸エチル、スチレン／３−ヒドロキシスチレン／アクリル酸ｔ−ブチル、スチレン／４−ヒドロキシスチレン／メタクリル酸メチル、スチレン／４−ヒドロキシスチレン／メタクリル酸エチル、スチレン／４−ヒドロキシスチレン／メタクリル酸ｔ−ブチル、α−メチルスチレン／４−ヒドロキシスチレン／メタクリル酸メチル、α−メチルスチレン／４−ヒドロキシスチレン／メタクリル酸エチル、α−メチルスチレン／４−ヒドロキシスチレン／メタクリル酸ｔ−ブチル、スチレン／α−メチル−４−ヒドロキシスチレン／メタクリル酸メチル、スチレン／α−メチル−４−ヒドロキシスチレン／メタクリル酸エチル、スチレン／α−メチル−４−ヒドロキシスチレン／メタクリル酸ｔ−ブチル、スチレン／３−ヒドロキシスチレン／メタクリル酸メチル、スチレン／３−ヒドロキシスチレン／メタクリル酸エチル、スチレン／３−ヒドロキシスチレン／メタクリル酸ｔ−ブチル、ｐ−メチルスチレン／４−ヒドロキシスチレン／アクリル酸メチル、ｐ−エチルスチレン／４−ヒドロキシスチレン／アクリル酸メチル、ｐ−ｔ−ブチルスチレン／４−ヒドロキシスチレン／アクリル酸メチル、ｐ−ｔ−ブチルスチレン／４−ヒドロキシスチレン／アクリル酸エチル等を例示することができる。
【００１９】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明の範囲は、実施例に限定されるものではない。
【実施例１】
【００２０】
窒素雰囲気下、２−メルカプトチアゾリン（０．１２ｇ：１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（以下ＴＨＦと略す）（４００ｇ）溶液に、室温でｎ−ブチルリチウム（以下ｎ−ＢｕＬｉと略す）溶液（１．７８ｇ；４ｍｍｏｌ）を加え、１５分間攪拌した。続いて、−４０℃に冷却し、ｎ−ＢｕＬｉ溶液（０．９１ｇ；２ｍｍｏｌ）を加え、ｐ−ｔ−ブトキシスチレン（以下ＰＴＢＳＴと略す）（６２．０６ｇ；３５２ｍｍｏｌ）及びジブチルマグネシウムヘキサン溶液（０．９７ｇ；１ｍｍｏｌ）を加えたＴＨＦ（６５ｇ）溶液を１５分かけて滴下し、滴下終了後、ジブチルマグネシウムヘキサン溶液（０．７９ｇ；１ｍｍｏｌ）を加え、同温度で２０分間攪拌した。続いて、３．７９％塩化リチウムＴＨＦ溶液（７．７６ｇ：７ｍｍｏｌ）にジフェニルエチレン（０．２９ｇ；２ｍｍｏｌ）およびジブチルマグネシウムヘキサン溶液（０．６１ｇ；１ｍｍｏｌ）を加えた溶液を１分かけて滴下し、同温度で１５分間攪拌した。その後、−５０℃に冷却し、メチルメタクリレート（以下ＭＭＡと略す）（８．７４ｇ；８７ｍｍｏｌ）およびジエチル亜鉛ヘキサン溶液（０．８２ｇ；１ｍｍｏｌ）を加えたＴＨＦ（１５ｇ）溶液を５分かけて滴下し、同温度で６０分間攪拌し、その後メタノールを加え反応を停止した。反応液をガスクロマトグラフィーで測定したが、ＰＴＢＳＴやＭＭＡは観測されなかった。反応液を濃縮した後、酢酸エチルを加え、水で洗浄した。有機層を濃縮した後、ＴＨＦで希釈し、撹拌下メタノールに該ＴＨＦ希釈溶液を滴下してポリマーを析出させ、１時間攪拌し、濾過後、減圧乾燥した。乾燥ポリマー（１００ｇ）をトルエン／エタノール（３５／６５ｗｔ％）混合溶媒に溶解し、２５％濃塩酸を添加し、７０℃で４時間加熱撹拌した。冷却後、酢酸エチルを加え、炭酸水素ナトリウムで中和後、水で洗浄した。有機層を濃縮した後、ＴＨＦを加え、ヘキサンに攪拌しながら滴下してポリマーを析出させ、濾過後、減圧乾燥させた。
得られたポリマーをＧＰＣ分析した結果は、Ｍｗ＝８９５００、分散度＝１．１７であり、１３Ｃ−ＮＭＲで組成比を分析した結果は、ｐ−ヒドロキシスチレン（以下ＰＨＳと略す）／ＭＭＡ（モル比）＝８０／２０であった。
【実施例２】
【００２１】
窒素雰囲気下、２−メルカプトチアゾリン（０．１２ｇ：１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５００ｇ）溶液に室温でｎ−ＢｕＬｉ溶液（１．６７ｇ；４ｍｍｏｌ）を加え、１５分間攪拌した。続いて、−４０℃に冷却し、ｎ−ＢｕＬｉ溶液（０．６８ｇ；２ｍｍｏｌ）を加え、ＰＴＢＳＴ（３１．０３ｇ；１７６ｍｍｏｌ）、スチレン（以下ＳＴと略す）（１８．７３ｇ；１８０ｍｍｏｌ）およびジブチルマグネシウムヘキサン溶液（１．１９ｇ；２ｍｍｏｌ）を加えたＴＨＦ（６０ｇ）溶液を３０分かけて滴下し、滴下終了後、ジブチルマグネシウムヘキサン溶液（０．８５ｇ；１ｍｍｏｌ）を加え、同温度で１５分間攪拌した。続いて、３．７９％塩化リチウムＴＨＦ溶液（５．７３ｇ：５ｍｍｏｌ）にジフェニルエチレン（０．３７ｇ；２ｍｍｏｌ）およびジブチルマグネシウムヘキサン溶液（０．３２ｇ；０．５ｍｍｏｌ）を加えた溶液を２分かけて滴下し、滴下終了後１５分間攪拌した。その後、−５０℃に冷却し、ＭＭＡ（８．９９ｇ；９０ｍｍｏｌ）およびジエチル亜鉛ヘキサン溶液（１．００ｇ；１ｍｍｏｌ）を加えたＴＨＦ（１０ｇ）溶液を７分かけて滴下し、同温度でさらに６０分間攪拌し、メタノールを加え反応を停止した。反応液をガスクロマトグラフィーで測定したが、ＰＴＢＳＴ、ＳＴおよびＭＭＡは観測されなかった。その後、実施例１と同様に処理した得られたポリマーを実施例１と同様に反応させた。
その結果得られたポリマーをＧＰＣ分析したところ、Ｍｗ＝８５３００、分散度＝１．１９であり、１３Ｃ−ＮＭＲで組成比を分析した結果は、ＰＨＳ／ＳＴ／ＭＭＡ（モル比）＝４１／４１／１８であった。
【実施例３】
【００２２】
窒素雰囲気下、２−メルカプトチアゾリン（０．３６ｇ：３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１３５０ｇ）溶液に室温でｎ−ＢｕＬｉ溶液（４．２８ｇ；１０ｍｍｏｌ）を加え、１５分間攪拌した。続いて、−４０℃に冷却し、ｎ−ＢｕＬｉ溶液（１．１６ｇ；３ｍｍｏｌ）を加え、ＰＴＢＳＴ（８４．４７ｇ；４７９ｍｍｏｌ）、ＳＴ（５０．０２ｇ；４８０ｍｍｏｌ）およびジブチルマグネシウムヘキサン溶液（２．１３ｇ；３ｍｍｏｌ）を加えたＴＨＦ（６０ｇ）溶液を２５分かけて滴下し、同温度で５分間撹拌した後、ブチルマグネシウムヘキサン溶液（２．５６ｇ；４ｍｍｏｌ）を加え、５分間攪拌した。続いて、３．７１％塩化リチウムＴＨＦ溶液（８．５４ｇ：７ｍｍｏｌ）にジフェニルエチレン（１．０８ｇ；６ｍｍｏｌ）およびジエチル亜鉛ヘキサン溶液（０．２０ｇ；０．３ｍｍｏｌ）を加えた溶液を同温度で２分かけて滴下し、１０分間攪拌し、−５０℃に冷却した。その後、ＭＭＡ（２４．０２ｇ；２４０ｍｍｏｌ）およびジエチル亜鉛ヘキサン溶液（０．４６ｇ；０．６ｍｍｏｌ）を加えたＴＨＦ（２０ｇ）溶液を１３分かけて滴下し、同温度で６０分間攪拌し、メタノールを加え反応を停止した。反応液をガスクロマトグラフィーで測定したが、ＰＴＢＳＴ、ＳＴおよびＭＭＡは観測されなかった。その後、実施例１と同様に処理した得られたポリマーを実施例１と同様に反応させた。
得られたポリマーをＧＰＣ分析した結果は、Ｍｗ＝７００００、分散度＝１．０８であり、１３Ｃ−ＮＭＲで組成比を分析した結果は、ＰＨＳ／ＳＴ／ＭＭＡ（モル比）＝４１／４２／１７であった。
【実施例４】
【００２３】
窒素雰囲気下、２−メルカプトチアゾリン（０．３６ｇ：３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１３４０ｇ）溶液に室温でｎ−ＢｕＬｉ溶液（４．８９ｇ；１２ｍｍｏｌ）を加え、１５分間攪拌した。続いて、−４０℃に冷却し、ｎ−ＢｕＬｉ溶液（０．９４ｇ；２ｍｍｏｌ）を加え、ＰＴＢＳＴ（８４．４８ｇ；４７９ｍｍｏｌ）、ＳＴ（４９．９４ｇ；４８０ｍｍｏｌ）およびジブチルマグネシウムヘキサン溶液（２．００ｇ；３ｍｍｏｌ）を加えたＴＨＦ（６０ｇ）溶液を２７分かけて滴下し、同温度で５分間撹拌し、ジブチルマグネシウムヘキサン溶液（１．９１ｇ；３ｍｍｏｌ）を加え、５分間攪拌した。続いて、３．７１％塩化リチウムＴＨＦ溶液（８．１９ｇ：７ｍｍｏｌ）にジフェニルエチレン（１．０９ｇ；６ｍｍｏｌ）およびジエチル亜鉛ヘキサン溶液（０．２２ｇ；０．３ｍｍｏｌ）を加えた溶液を２分かけて滴下し、滴下終了後１５分間攪拌し、−５０℃に冷却した。その後、ＭＭＡ（２４．０１ｇ；２４０ｍｍｏｌ）およびジエチル亜鉛ヘキサン溶液（０．３８ｇ；０．５ｍｍｏｌ）を加えたＴＨＦ（２０ｇ）溶液を１２分かけて滴下し、同温度で６０分間攪拌し、メタノールを加え反応を停止した。反応液をガスクロマトグラフィーで測定したが、ＰＴＢＳＴ、ＳＴおよびＭＭＡは観測されなかった。その後、実施例１と同様に処理した得られたポリマーを実施例１と同様に反応させた。
得られたポリマーをＧＰＣ分析した結果は、Ｍｗ＝９０４００、分散度＝１．０８であり、１３Ｃ−ＮＭＲで組成比を分析した結果は、ＰＨＳ／ＳＴ／ＭＭＡ（モル比）＝４４／４４／１２あった。
【実施例５】
【００２４】
窒素雰囲気下、２−メルカプトチアゾリン（０．１２ｇ：１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５００ｇ）溶液に室温でｎ−ＢｕＬｉ溶液（１．５７ｇ；４ｍｍｏｌ）を加え、１５分間攪拌した。続いて、−４０℃に冷却し、ｎ−ＢｕＬｉ溶液（０．７３ｇ；２ｍｍｏｌ）を加え、ｐ−（１−エトキシエトキシ）スチレン（以下ＰＥＥＳと略す）（４７．４７ｇ；２４２ｍｍｏｌ）、ＳＴ（２４．３３ｇ；２３４ｍｍｏｌ）およびジブチルマグネシウムヘキサン溶液（１．７１ｇ；２ｍｍｏｌ）を加えたＴＨＦ（６０ｇ）溶液を２３分かけて滴下し、５分間撹拌した後、ジブチルマグネシウムヘキサン溶液（１．０２ｇ；１ｍｍｏｌ）を加え、１０分間攪拌した。続いて、ジフェニルエチレン（０．３５ｇ；２ｍｍｏｌ）を加え、１０分間攪拌した。その後、−５０℃に冷却し、３．７１％塩化リチウムＴＨＦ溶液（９．２６ｇ：８ｍｍｏｌ）にジエチル亜鉛ヘキサン溶液（０．６１ｇ；１ｍｍｏｌ）を加えた溶液を１分かけて滴下し、ＭＭＡ（１２．３６ｇ；１２３ｍｍｏｌ）およびジエチル亜鉛ヘキサン溶液（０．６４ｇ；１ｍｍｏｌ）を加えたＴＨＦ（１０ｇ）溶液を１０分かけて滴下し、同温度で６０分間攪拌し、メタノールを加え反応を停止した。反応液をガスクロマトグラフィーで測定したが、ＰＥＥＳ、ＳＴおよびＭＭＡは観測されなかった。その後、濃塩酸（６．９８ｇ；６９ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間攪拌後、トリエチルアミン（５．２２ｇ；５２ｍｍｏｌ）を加え、さらに酢酸（１．８６ｇ；３１ｍｍｏｌ）を加えた。トリエチルアミン／塩酸塩を濾過後、濃縮し、水を加え、１時間攪拌後、析出したポリマーを濾過した。得られたポリマーをＴＨＦ（４５０ｇ）と酢酸エチル（５００ｇ）の混合溶媒に溶解し、水で洗浄した。有機層を濃縮した後、ＴＨＦ（２００ｇ）を加えて溶解し、その溶液をヘキサンに攪拌しながら滴下し、ポリマーを析出させた。析出したポリマーを濾過後、減圧乾燥させた。
得られたポリマーをＧＰＣ分析した結果は、Ｍｗ＝７５０００、分散度＝１．３６であり、１３Ｃ−ＮＭＲで組成比を分析した結果は、ＰＨＳ／ＳＴ／ＭＭＡ（モル比）＝４２／４１／１７であった。
【実施例６】
【００２５】
窒素雰囲気下、２−メルカプトチアゾリン（０．２３ｇ：２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（７００ｇ）溶液に室温でｎ−ＢｕＬｉ溶液（４．８９ｇ；１２ｍｍｏｌ）を加え、６０分間攪拌した。続いて、−４０℃に冷却し、ｎ−ＢｕＬｉ溶液（２．０３ｇ；５ｍｍｏｌ）を加え、ＰＴＢＳＴ（２２．６３ｇ；１２８ｍｍｏｌ）、ＳＴ（４０．４１ｇ；３８８ｍｍｏｌ）およびジブチルマグネシウムヘキサン溶液（０．８８ｇ；１ｍｍｏｌ）の混合溶液を１０分かけて滴下し、滴下終了５分後、ジブチルマグネシウムヘキサン溶液（０．８１ｇ；１ｍｍｏｌ）を加え、５分攪拌した。続いて、３．７９％塩化リチウムＴＨＦ溶液（３．７８ｇ：３ｍｍｏｌ）にジフェニルエチレン（０．８３ｇ；５ｍｍｏｌ）およびジエチル亜鉛ヘキサン溶液（０．３３ｇ；０．５ｍｍｏｌ）を加えた溶液を１分かけて滴下し、滴下終了後１５分間攪拌し、−５０℃に冷却した。その後、ＭＭＡ（１３．０９ｇ；１３１ｍｍｏｌ）およびジエチル亜鉛ヘキサン溶液（０．２３ｇ；０．３ｍｍｏｌ）の混合溶液を３分かけて滴下し、滴下終了後６０分攪拌し、メタノールを加え反応を停止した。反応「液をガスクロマトグラフィーで測定したが、ＰＴＢＳＴ、ＳＴおよびＭＭＡは観測されなかった。その後、実施例１と同様に処理し得られたポリマーを実施例１と同様に反応させた。
得られたポリマーをＧＰＣ分析した結果は、Ｍｗ＝１０４５００、分散度＝１．０７であり、１３Ｃ−ＮＭＲで組成比を分析した結果は、ＰＨＳ／ＳＴ／ＭＭＡ（モル比）＝２１／６０／１９であった。
【実施例７】
【００２６】
窒素雰囲気下、２−メルカプトチアゾリン（０．２３ｇ：２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（７５０ｇ）に室温でｎ−ＢｕＬｉ溶液（１．９９ｇ；５ｍｍｏｌ）を加え、６０分間攪拌した。続いて、−４０℃に冷却し、ｎ−ＢｕＬｉ溶液（０．４７ｇ；１ｍｍｏｌ）を加え、ＰＴＢＳＴ（６２．０６ｇ；３５２ｍｍｏｌ）、ＳＴ（１２．１５ｇ；１１７ｍｍｏｌ）およびジブチルマグネシウムヘキサン溶液（０．８９ｇ；１ｍｍｏｌ）の混合溶液を１０分かけて滴下し、滴下終了５分後、ジブチルマグネシウムヘキサン溶液（０．８２ｇ；１ｍｍｏｌ）を加え、５分攪拌した。続いて、３．７９％塩化リチウムＴＨＦ溶液（４．０８ｇ：３．６ｍｍｏｌ）にジフェニルエチレン（０．９５ｇ；５．３ｍｍｏｌ）およびジエチル亜鉛ヘキサン溶液（０．４４ｇ；０．６ｍｍｏｌ）を加えた溶液を１分かけて滴下し、滴下終了後１５分間攪拌し、−５０℃に冷却した。その後、ＭＭＡ（１１．６４ｇ；１１６ｍｍｏｌ）およびジエチル亜鉛ヘキサン溶液（０．２７ｇ；０．４ｍｍｏｌ）の混合溶液を２分かけて滴下し、同温度で６０分間攪拌し、メタノールを加え反応を停止した。反応液をガスクロマトグラフィーで測定したが、ＰＴＢＳＴ、ＳＴおよびＭＭＡは観測されなかった。その後、実施例１と同様に処理し得られたポリマーを実施例１と同様に反応させた。
得られたポリマーをＧＰＣ分析した結果は、Ｍｗ＝１２３５００、分散度＝１．０７であり、１３Ｃ−ＮＭＲで組成比を分析した結果は、ＰＨＳ／ＳＴ／ＭＭＡ（モル比）＝６１／２０／１９であった。
【実施例８】
【００２７】
窒素雰囲気下、２−メルカプトチアゾリン（０．１４ｇ：１．２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（７００ｇ）に室温でｎ−ＢｕＬｉ溶液（２．８９ｇ；７ｍｍｏｌ）を加え、３０分間攪拌した。続いて、−４０℃に冷却し、ｎ−ＢｕＬｉ溶液（０．５０ｇ；１．２ｍｍｏｌ）を加え、ＰＴＢＳＴ（４９．８１ｇ；２８３ｍｍｏｌ）、ｐ−ｔ−ブチルスチレン（７１．９８ｇ；４４９ｍｍｏｌ）およびジブチルマグネシウムヘキサン溶液（１．８０ｇ；２．５ｍｍｏｌ）の混合溶液を４０分かけて滴下し、滴下終了３０分攪拌した。続いて、３．７９％塩化リチウムＴＨＦ溶液（３．２６ｇ：２．９ｍｍｏｌ）にジフェニルエチレン（０．３０ｇ；１．７ｍｍｏｌ）およびジエチル亜鉛ヘキサン溶液（０．１９ｇ；０．３ｍｍｏｌ）を加えた溶液を１分かけて滴下し、滴下終了後１５分間攪拌し、−５０℃に冷却した。その後、ＭＭＡ（１７．７８ｇ；１７８ｍｍｏｌ）およびジエチル亜鉛ヘキサン溶液（０．４０ｇ；０．６ｍｍｏｌ）の混合溶液を１２分かけて滴下し、同温度で６０分間攪拌し、メタノールを加え反応を停止した。反応液をガスクロマトグラフィーで測定したが、ＰＴＢＳＴ、ｐ−ｔ−ブチルスチレンおよびＭＭＡは観測されなかった。その後、実施例１と同様に処理し得られたポリマーを実施例１と同様に反応させた。
得られたポリマーをＧＰＣ分析した結果は、Ｍｗ＝１５３６００、分散度＝１．１８であり、１３Ｃ−ＮＭＲで組成比を分析した結果は、ＰＨＳ／ｐ−ｔ−ブチルスチレン／ＭＭＡ（モル比）＝３２／４７／２１であった。
【産業上の利用可能性】
【００２８】
本発明によれば、チップ積層用接着剤等に用いられる、耐熱性、耐クラック性、高温接着性、密着性等の優れたポリマーを提供することができる 。