(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転する被塗布体における回転方向の基準位置で液の吐出を開始して、吐出口から延出した該液を該被塗布体に塗布する吐出部と、
該被塗布体が該基準位置から予め定められた回転角度回転する回転時間における経過時間毎の該被塗布体と該吐出部の吐出距離を測定する測定部と、
該吐出部が吐出を開始してから経過時間毎に累積していく該吐出口からの該液の延出長さと、該測定部が測定した吐出距離と、が一致するときを、該液が該被塗布体に接触する接液時点とし、該被塗布体へ該吐出部から吐出された液の塗布開始端と塗布終了端とが重なるように、該接液時点に基づいて、該吐出部からの該液の吐出時間を設定する設定部と、
該吐出時間の間、該吐出部から該液の吐出を行う制御部と、
を有する塗布装置。
【請求項２】
回転する被塗布体における回転方向の基準位置で液の吐出を開始して、吐出口から延出した該液を該被塗布体に塗布する吐出部と、
該被塗布体が該基準位置から予め定められた回転角度回転する回転時間における経過時間毎の該被塗布体と該吐出部の吐出距離を測定する測定部と、
該吐出部が吐出を開始してから経過時間毎に累積していく該吐出口からの該液の延出長さと、該測定部が測定した吐出距離と、が一致するときの該被塗布体の回転位置を、該液が該被塗布体に接触する接液位置とし、該被塗布体へ該吐出部から吐出された液の塗布開始端と塗布終了端とが重なるように、該接液位置に基づいて、該被塗布体の回転角度を設定する設定部と、
該被塗布体が該回転角度回転している間、該吐出部から該液の吐出を行う制御部と、
を有する塗布装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の塗布装置を用いて、回転する前記被塗布体に前記塗布開始端と前記塗布終了端とが重なるように液を塗布する塗布工程と、
前記塗布工程で前記被塗布体に塗布された液を乾燥させる乾燥工程と、
を有する膜体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布装置、膜体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、ロールを水平に両端チャックして、所望の周速度で回転し得るロールへの塗膜形成装置において、前記ロールの上側より近接し、塗布液を上側より塗布する塗布ヘッドと、前記塗布液を必要な量だけ塗布ヘッドに供給する塗布液供給手段と、前記塗布ヘッドの面長を、前記ロールの面長より両端を短くし、前記ロールの両端に未塗布部を形成し、前記塗布ヘッドの両端の外面に、塗布ヘッドと相対する前記未塗布部との距離を測定する手段と、前記距離を測定する手段と連結して距離を一定に制御する手段と、を備えたことを特徴とするロールへの塗膜形成装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−１０６１９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、塗布開始端と塗布終了端との重なり量のバラつきを抑制することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
請求項１の発明は、回転する被塗布体における回転方向の基準位置で液の吐出を開始して、吐出口から延出した該液を該被塗布体に塗布する吐出部と、該被塗布体が該基準位置から予め定められた回転角度回転する回転時間における経過時間毎の該被塗布体と該吐出部の吐出距離を測定する測定部と、該吐出部が吐出を開始してから経過時間毎に累積していく該吐出口からの該液の延出長さと、該測定部が測定した吐出距離と、が一致するときを、該液が該被塗布体に接触する接液時点とし、該被塗布体へ該吐出部から吐出された液の塗布開始端と塗布終了端とが重なるように、該接液時点に基づいて、該吐出部からの該液の吐出時間を設定する設定部と、該吐出時間の間、該吐出部から該液の吐出を行う制御部と、を有する。
【０００６】
請求項２の発明は、回転する被塗布体における回転方向の基準位置で液の吐出を開始して、吐出口から延出した該液を該被塗布体に塗布する吐出部と、該被塗布体が該基準位置から予め定められた回転角度回転する回転時間における経過時間毎の該被塗布体と該吐出部の吐出距離を測定する測定部と、該吐出部が吐出を開始してから経過時間毎に累積していく該吐出口からの該液の延出長さと、該測定部が測定した吐出距離と、が一致するときの該被塗布体の回転位置を、該液が該被塗布体に接触する接液位置とし、該被塗布体へ該吐出部から吐出された液の塗布開始端と塗布終了端とが重なるように、該接液位置に基づいて、該被塗布体の回転角度を設定する設定部と、該被塗布体が該回転角度回転している間、該吐出部から該液の吐出を行う制御部と、を有する。
【０００７】
請求項３の発明は、請求項１又は２記載の塗布装置を用いて、回転する前記被塗布体に前記塗布開始端と前記塗布終了端とが重なるように液を塗布する塗布工程と、前記塗布工程で前記被塗布体に塗布された液を乾燥させる乾燥工程と、を有する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の請求項１の構成によれば、設定された吐出時間よりも長い又は短い時間の間、吐出する場合に比べ、塗布開始端と塗布終了端との重なり量のバラつきを抑制できる。
【０００９】
本発明の請求項２の構成によれば、設定された回転角度よりも大きい又は小さい角度分被塗布体が回転する間、吐出する場合に比べ、塗布開始端と塗布終了端との重なり量のバラつきを抑制できる。
【００１０】
本発明の請求項３の構成によれば、本構成における塗布装置を用いない場合に比べ、塗布開始端と塗布終了端との重なり量のバラつきが小さい膜体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本実施形態に係る塗布装置の構成を示す概略図である。
【図２】本実施形態に係る塗布装置の構成を示す概略図である。
【図３】本実施形態に係る塗布装置の構成を示す概略図である。
【図４】吐出距離が短い場合を示す概略図である。
【図５】吐出距離が長い場合を示す概略図である。
【図６】吐出距離と接液時間との関係を示すグラフである。
【図７】塗布開始端と塗布終了端との重なる部分を示す概略図である。
【図８】基準位置から予め定められた回転角度回転する回転時間における経過時間と吐出距離との関係を示すグラフである。
【図９】吐出開始から経過した経過時間と塗布液の延出長さとの関係を示すグラフである。
【図１０】吐出開始から塗布液が吐出面から延び出るモデルを示す概念図である。
【図１１】接液時点の求め方を説明するためのグラフである。
【図１２】実施例及び比較例の評価結果を示すグラフである。
【図１３】評価方法を説明するための説明図である。
【図１４】測定部の変形例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下に、本発明に係る実施形態の一例を図面に基づき説明する。
【００１３】
（塗布装置１０の構成）
まず、本実施形態に係る塗布装置１０の構成を説明する。図１は、本実施形態に係る塗布装置１０の構成を示す概略図である。なお、下記の説明で用いるＸ方向、−Ｘ方向、Ｙ方向、−Ｙ方向、Ｚ方向及び−Ｚ方向は、図中の矢印方向を示すものである。また、図中の「○」の中に「×」が記載されたものは、紙面の手前から奥へ向かう矢印（奥行き方向）を意味し、図中の「○」の中に「・」が記載されたものは、紙面の奥から手前へ向かう矢印（手前方向）を意味する。
【００１４】
塗布装置１０は、図１に示されるように、円筒状の基体１４（被塗布体の一例）を回転する回転部としての回転ユニット２０と、回転ユニット２０によって回転している基体１４に対して塗布液Ｌを吐出する吐出ユニット３０（吐出部の一例）と、を備えている。
【００１５】
（回転ユニット２０）
回転ユニット２０は、図１に示されるように、円筒状の基体１４を回転可能に支持する支持部２２と、支持部２２によって支持されている基体１４をその軸線周りに回転駆動する駆動モータ２４と、支持部２２をＸ方向、−Ｘ方向に移動する移動機構２６と、を有している。
【００１６】
支持部２２は、具体的には、基体１４の軸方向（Ｚ方向）両端部を回転可能に支持するように構成されている。
【００１７】
移動機構２６は、一例として、Ｚ方向に間隔をあけて配置された２本のシャフト（図示省略）の間にボールネジ２８が配置された構成となっている。そして、移動機構２６では、モータ２９がボールネジ２８を正回転、逆回転することでＸ方向、−Ｘ方向に支持部２２を移動するようになっている。これにより、支持部２２に支持された基体１４は、吐出ユニット３０による塗布（吐出）がなされる塗布位置（図２及び図３に示す位置）と、吐出ユニット３０による塗布（吐出）がなされない非塗布位置（待機位置、図１に示す位置）との間を移動可能となっている。
【００１８】
（吐出ユニット３０）
吐出ユニット３０は、基体１４の表面（外周面）に塗布液Ｌを吐出する吐出手段としてのスリットダイ３２と、塗布液Ｌが内部に貯留された貯留タンク３４と、貯留タンク３４の底部とスリットダイ３２とに接続された流路としての供給配管３６と、を有している。
【００１９】
さらに、吐出ユニット３０は、供給配管３６内の塗布液Ｌをスリットダイ３２へ供給（圧送）する供給ポンプ３８と、供給配管３６から貯留タンク３４へ塗布液を戻す戻り配管４０と、供給配管３６と戻り配管４０との接続部分に設けられた三方弁４２と、を有している。
【００２０】
さらに、吐出ユニット３０は、スリットダイ３２からの塗布液Ｌの吐出を停止する際に塗布液Ｌを吸引する吸引部４４と、スリットダイ３２をＹ方向、−Ｙ方向に移動する移動機構４６と、を有している。
【００２１】
スリットダイ３２は、Ｚ方向を長手方向とすると共にＹ方向側（基体１４の表面と対向する上側）に開口した吐出口３２Ａと、Ｚ方向に間隔をあけて複数配置されると共にＹ方向を軸方向として吐出口３２Ａに接続された分岐管３２Ｂと、複数の分岐管３２Ｂの吐出口３２Ａ側とは反対側に接続されＺ方向を軸方向とするマニホールド３２Ｃと、マニホールド３２Ｃと供給配管３６とを接続する接続管３２Ｄと、を有している。このスリットダイ３２では、塗布位置に位置する基体１４に対して対向する対向面（上面）が、吐出口３２Ａが形成された吐出面３２Ｍとされている。そして、スリットダイ３２では、塗布液Ｌを吐出口３２Ａから基体１４へ吐出し（図４（Ｂ）参照）、吐出面３２Ｍ（吐出口３２Ａ）に接した状態で基体１４側へ延び出た塗布液Ｌを基体１４に塗布するようになっている（図４（Ｃ）参照）。
【００２２】
貯留タンク３４は、Ｙ方向上部に戻り配管４０の下端が接続されており、Ｙ方向下部に供給配管３６の一端が接続されている。これにより、貯留タンク３４では、戻り配管４０内を流れた塗布液Ｌが内部に貯留されると共に、底部（Ｙ方向下部）から供給配管３６へ塗布液Ｌが供給されるようになっている。
【００２３】
供給ポンプ３８は、供給配管３６（貯留タンク３４に近い側）に取り付けられており、電源（図示省略）からの通電によって作動し、供給配管３６内の塗布液Ｌをスリットダイ３２へ供給（圧送）するようになっている。この供給ポンプ３８の作動、停止は、制御ユニット７０の後述の制御部７４によって切り替えられるようになっている。なお、スリットダイ３２が塗布液Ｌを吐出していない待機状態においても、三方弁４２が供給配管３６の下流側を閉じた状態で供給ポンプ３８が作動され、塗布液Ｌが、供給配管３６と戻り配管４０とを循環するようになっている。これは、供給ポンプ３８を停止させると、運転を開始してもすぐには設定圧力に達しないためである。
【００２４】
三方弁４２は、制御ユニット７０の後述の制御部７４によって塗布液Ｌの流れる行き先が切り替えられるようになっており、塗布液Ｌを基体１４へ塗布するときは戻り配管４０側を閉止すると共に供給配管３６側（下流側）を開放し、塗布液Ｌを基体１４へ塗布しないときは戻り配管４０側を開放すると共に供給配管３６側（下流側）を閉止するようになっている。
【００２５】
吸引部４４は、供給配管３６に設けられた本体４４Ａと、本体４４Ａ内で移動可能に設けられたピストンシリンダ４４Ｂ（一軸ロボシリンダ）と、を有している。ピストンシリンダ４４Ｂの動作は、制御ユニット７０の後述の制御部７４により制御されるようになっている。具体的には、吸引部４４は、吐出口３２Ａから基体１４への塗布液Ｌの吐出を終了する際に塗布液Ｌを吸引するように、制御ユニット７０の後述の制御部７４により制御されるようになっている。
【００２６】
移動機構４６は、一例として、Ｚ方向に間隔をあけて配置された２本のシャフト（図示省略）の間にボールネジ４８が配置された構成となっている。そして、移動機構４６では、モータ４９がボールネジ４８を正回転、逆回転することでＹ方向、−Ｙ方向にスリットダイ３２を移動するようになっている。これにより、スリットダイ３２は、基体１４へ塗布液Ｌを吐出する吐出位置（図２及び図３に示す位置）と、当該吐出位置から退避した退避位置（図１に示す位置）との間を移動可能となっている。
【００２７】
（吐出ユニット３０の吐出動作の制御）
次に、吐出ユニット３０の吐出動作の制御について説明する。
【００２８】
本実施形態では、前述のように、吐出ユニット３０は、塗布液Ｌを吐出口３２Ａから吐出し（図４（Ｂ）参照）、吐出面３２Ｍ（吐出口３２Ａ）に接した状態で基体１４側へ延び出た塗布液Ｌを基体１４に塗布するようになっている（図４（Ｃ）参照）。
【００２９】
このため、吐出ユニット３０（スリットダイ３２の吐出面３２Ｍ）と基体１４表面との距離（以下、吐出距離という）が変動すると、吐出ユニット３０による吐出の開始から基体１４に塗布液Ｌが接触するまでの時間（以下、接液時間という）が変動する。具体的には、吐出距離が短い場合（図４（Ａ）参照）よりも、吐出距離が長い場合（図５（Ａ）参照）の方が、吐出ユニット３０による吐出の開始から基体１４に塗布液Ｌが接触するまでの接液時間がかかり、図６に示されるように、吐出距離が長くなるにつれて、当該接液時間も長くなる。
【００３０】
すなわち、吐出距離が短い場合（図４（Ａ）参照）及び吐出距離が長い場合（図５（Ａ）参照）において、同時に、吐出ユニット３０による吐出を開始したとき、吐出距離が短い場合で基体１４に塗布液Ｌが接触した時点（図４（Ｂ）参照）において、吐出距離が長い場合では基体１４に塗布液Ｌは接触しない（図５（Ｂ）参照）。さらに、吐出距離が長い場合で基体１４に塗布液Ｌが接触した時点（図５（Ｃ）参照）において、吐出距離が短い場合では、既に、基体１４の周方向に沿って塗布液Ｌが塗布された状態となる（図４（Ｃ）参照）。なお、図４の構成における吐出ユニット３０に対する基体１４の位置が、図５において、二点鎖線で示されている。
【００３１】
従って、吐出距離の長短に関わらず、吐出開始から吐出終了までの吐出時間を同じとすると、図７に示されるように、塗布液Ｌの塗布開始端ＬＳと塗布終了端ＬＦとの継ぎ目の重なりＬＮの度合が変化し、継ぎ目での膜厚ＬＨがばらつく。すなわち、吐出距離が適正距離である場合（図７（Ａ）参照）に対して、吐出距離が短い場合は、図７（Ｂ）に示されるように、当該重なりＬＮが大きくなって継ぎ目での膜厚ＬＨが厚くなり、吐出距離が長い場合は、図７（Ｃ）に示されるように、当該重なりＬＮが小さくなって継ぎ目での膜厚ＬＨが薄くなる。なお、図７において、符号ＬＮは、塗布開始端ＬＳと塗布終了端ＬＦとにおいて重なる部分を示し、符号ＬＴは、塗布開始端ＬＳと塗布終了端ＬＦとが重なることで盛り上がた部分を示す。また、符号ＬＨは、後述の回転工程（レべリング工程）を経た後における継ぎ目での膜厚を示すものである。
【００３２】
そこで、塗布装置１０では、吐出距離に応じて、吐出ユニット３０の駆動（吐出動作）を制御するように構成されている。具体的には、塗布装置１０は、図１に示されるように、吐出距離を測定する測定部６０と、測定部６０の測定結果に基づき吐出ユニット３０の駆動（吐出動作）を制御する制御手段としての制御ユニット７０と、を有している。
【００３３】
なお、吐出距離の変動は、例えば、支持部２２が有する回転中心と基体１４の中心とがずれて基体１４が支持部２２の回転中心に対して偏心した状態で回転することや、基体１４が製造誤差により偏心した外周面を有することなどによって生じる。
【００３４】
（測定部６０）
測定部６０は、非塗布位置（図１に示す位置）に位置する基体１４の軸方向（Ｚ方向）中央部に対向するように配置されている。さらに、測定部６０は、例えば、基体１４が非塗布位置に位置する場合の支持部２２における回転中心との距離が、基体１４が塗布位置（図２及び図３に示す位置）に位置する場合の支持部２２における回転中心と吐出位置（図２及び図３に示す位置）に位置する場合のスリットダイ３２の吐出面３２Ｍとの距離と等しくなるように、設定されている。
【００３５】
そして、測定部６０は、基体１４が塗布位置に位置する状態において、吐出位置に位置するスリットダイ３２の吐出面３２Ｍと基体１４の軸方向中央部の表面との間の距離を測定するようになっている。
【００３６】
具体的には、測定部６０は、例えば、光学式の変位センサで構成されている。光学式の変位センサとしては、例えば、反射型の光学センサが用いられる。
【００３７】
反射型の光学センサでは、例えば、光源から発せられた光がレンズによって集光され、基体１４に照射されるようになっている。そして、基体１４からの反射光を受光レンズによって受光素子上に集光するようになっている。基体１４の位置（光学センサからの距離）が変化すれば、受光素子上の結像位置が異なり、電流値が変化するので、この電流値を用い、光学センサ（すなわち、吐出面３２Ｍ）から基体１４までの距離を求める（測定する）ようになっている。
【００３８】
さらに、測定部６０では、基体１４の回転方向の基準位置から予め定められた回転角度回転する回転時間において、吐出距離の変動を測定するようになっている。これにより、図８に示されるように、当該回転時間における時間経過に伴って変動する吐出距離を示す変動曲線Ｈ１、Ｈ２が得られる。なお、図８に示す変動曲線Ｈ１及び変動曲線Ｈ２は、それぞれが、変動曲線の一例を示すものである。
【００３９】
なお、当該回転角度は、３６０°（１周分）に限られず、任意に設定される。また、基体１４の回転方向の基準位置は、例えば、以下のように検出される。すなわち、基体１４における周方向のいずれかの箇所に検出マーク１４Ａが付され、測定部６０に対して、その回転方向上流側の予め定められた第１の距離に配置されたマーク検出センサ６８によって、検出マーク１４Ａを検出するようになっている。そして、例えば、マーク検出センサ６８が検出マーク１４Ａを検出した際に、測定部６０に対向する位置が基準位置として検出されるようになっている。
【００４０】
（制御ユニット７０）
制御ユニット７０は、測定部６０で測定された測定結果に基づいてスリットダイ３２からの塗布液Ｌの吐出時間を設定する設定部７２と、設定部７２で設定された吐出時間の間、スリットダイ３２から塗布液Ｌの吐出を行う制御部７４と、を有している。
【００４１】
設定部７２は、回転している基体１４へスリットダイ３２から吐出された塗布液Ｌの塗布開始端と塗布終了端とが重なるように、吐出時間を設定するようになっている。具体的には、以下のように、吐出時間が設定される。
【００４２】
設定部７２は、塗布液Ｌの吐出を開始してからの経過した時間に伴って累積していくスリットダイ３２の吐出面３２Ｍ（吐出口３２Ａ）から延び出る塗布液Ｌの延出長さ（図９参照）の情報を有している。
【００４３】
当該延出長さを計算する際における塗布液Ｌが延び出ていくモデルとしては、例えば、塗布液Ｌが吐出口３２Ａの幅のまま直線状に延び出る直線モデル（図１０（Ａ）参照）と、塗布液Ｌが吐出面３２Ｍで半円状に広がりながら延び出ていく半円モデル（図１０（Ｂ）参照）と、が考えられる。
【００４４】
直線モデルでは、図９の実線で示されるように、時間の経過と共に直線的に延出長さが累積する。半円モデルでは、図９の破線で示されるように、直線モデルに比べて、時間の経過と共に累積する延出長さが短くなる。
【００４５】
なお、塗布液Ｌが吐出面３２Ｍに対して濡れやすい（広がりやすい）場合には、塗布液Ｌが吐出面３２Ｍで半円状に広がりながら延び出ていくので、半円モデルが適している。塗布液Ｌの吐出面３２Ｍに対する濡れやすさ（広がりやすさ）は、塗布液Ｌの粘度等の物性や、吐出面３２Ｍ（スリットダイ３２）の材質や形状、吐出方向と重力方向との関係によって決まる。なお、当該延出長さは、予め実測しておいてもよい。
【００４６】
さらに、設定部７２は、塗布液Ｌの塗布開始端と塗布終了端とが重なるのに必要な接液時点（塗布液Ｌが基体１４に接触する時点）から吐出終了時点までの必要時間の情報を有している。必要時間は、具体的には、所望の膜厚になる場合（図７（Ａ）の状態となる場合）の時間であり、例えば、基体１４が、予め設定された設定回転速度で１回転強（一例として３６０．５°）回転する時間である。
【００４７】
そして、設定部７２では、当該延出長さの情報と測定部６０の測定結果とから、塗布液Ｌを吐出開始してから当該塗布液Ｌが基体１４の表面に接触する接液時点を把握する。
【００４８】
具体的には、塗布液Ｌの吐出を開始してからの経過時間ごとに累積していく延出長さと、基体１４が基準位置から回転する経過時間ごとに変動する吐出距離と、が一致するときを、接液時点と把握する。すなわち、例えば、測定部６０の測定結果として変動曲線Ｈ１が得られた場合には、図１１に示されるように、延出長さを示す破線と変動曲線Ｈ１とが交わる時点ｔ１が接液時点として把握される。また、測定部６０の測定結果として変動曲線Ｈ２が得られた場合には、図１１に示されるように、延出長さを示す破線と変動曲線Ｈ１とが交わる時点ｔ２が、接液時点として把握される。
【００４９】
そして、接液時点から前述の必要時間の経過後を吐出終了時点とし、吐出開始時点から当該吐出終了時点までを吐出時間として設定するようになっている。
【００５０】
制御部７４は、基体１４の基準位置から基体１４に対してスリットダイ３２による吐出を開始して、設定部７２で設定された吐出時間の間、スリットダイ３２から塗布液Ｌの吐出を行うように、吐出ユニット３０の吐出動作を制御するようになっている。具体的には、以下のように、三方弁４２、供給ポンプ３８及び吸引部４４の駆動が制御される。
【００５１】
すなわち、塗布液Ｌの吐出開始動作においては、三方弁４２が供給ポンプ３８からスリットダイ３２までの供給配管３６を開放すると共に戻り配管４０側を閉止するように、三方弁４２の駆動を制御部７４が制御するようになっている。さらに、この状態で供給ポンプ３８が動作するように供給ポンプ３８の駆動を制御部７４が制御するようになっている。
【００５２】
また、吐出開始時点から、設定部７２で設定された吐出時間が経過した時点で、三方弁４２がスリットダイ３２側の供給配管３６を閉止するように、三方弁４２の駆動を制御部７４が制御するようになっている。さらに、この三方弁４２の切り替えに伴って、塗布液Ｌの供給を停止すると共に、吸引部４４が塗布液Ｌを吸引するように、供給ポンプ３８及び吸引部４４の駆動を制御部７４が制御するようになっている。
【００５３】
なお、塗布位置に位置する基体１４の回転方向の基準位置は、例えば、以下のように検出される。すなわち、吐出位置に位置するスリットダイ３２に対して、その回転方向上流側の予め定められた距離（前述の第１の距離と同じ距離）に配置されたマーク検出センサ５８によって、基体１４に付された検出マーク１４Ａを検出するようになっている。そして、例えば、マーク検出センサ５８が検出マーク１４Ａを検出した際に、スリットダイ３２に対向する位置が基準位置として検出されるようになっている。
【００５４】
（感光層の製造方法）
次に、本実施形態の作用として、電子写真式の画像形成装置に用いられる感光体の感光層（膜体の一例）の製造方法について説明する。
【００５５】
当該製造方法では、まず、基体１４を支持部２２に装着し、支持部２２が基体１４を支持する。支持部２２が基体１４を支持した初期状態では、図１に示されるように、基体１４が非塗布位置に位置し、スリットダイ３２が退避位置に位置している。
【００５６】
次に、駆動モータ２４が基体１４を回転する。次に、測定部６０が、回転している基体１４の回転方向の基準位置から予め定められた回転角度回転する回転時間において、吐出距離の変動を測定する。これにより、例えば、図８に示されるように、回転時間における時間経過に伴って変動する吐出距離を示す変動曲線Ｈ１が得られる。
【００５７】
次に、設定部７２が、測定部６０で測定された測定結果に基づいてスリットダイ３２からの塗布液Ｌの吐出時間を設定する。
【００５８】
具体的には、塗布液Ｌの吐出を開始してからの経過時間ごとに累積していく既知の延出長さと、基体１４が基準位置から回転する経過時間ごとに変動する吐出距離と、が一致するときを、接液時点として把握する。すなわち、図１１に示されるように、延出長さを示す破線と変動曲線Ｈ１とが交わる時点ｔ１を接液時点として把握する。そして、接液時点から、既知の必要時間（塗布液Ｌの塗布開始端と塗布終了端とが重なるのに必要な接液時点から吐出終了時点までの必要時間）の経過後を吐出終了時点とし、吐出開始時点から当該吐出終了時点までを吐出時間として設定する。
【００５９】
次に、図２に示されるように、移動機構２６が基体１４を塗布位置に移動させると共に、移動機構４６がスリットダイ３２を吐出位置に移動させる。
【００６０】
そして、制御部７４が、設定部７２で設定された吐出時間の間、スリットダイ３２から塗布液Ｌの吐出を行う（塗布工程の一例）。具体的には、以下のように、塗布液Ｌの吐出が行われる。
【００６１】
三方弁４２は、供給ポンプ３８からスリットダイ３２までの供給配管３６を開放しており、戻り配管４０側を閉止している。この状態において供給ポンプ３８が動作し、基体１４の表面（外周面）に塗布液Ｌの吐出が開始される。
【００６２】
吐出開始時点から、設定部７２で設定された吐出時間が経過した時点で、三方弁４２がスリットダイ３２側の供給配管３６を閉止するように切り替えられ、且つ、塗布液Ｌの供給が停止されると共に、図３に示されるように、吸引部４４が塗布液Ｌを吸引する。さらに、吸引部４４が塗布液Ｌを吸引するとき、スリットダイ３２が−Ｙ方向に移動して、スリットダイ３２を基体１４から離間させる。これにより、基体１４の表面に対する塗布液Ｌの吐出が終了される。
【００６３】
このように、本実施形態では、吐出距離に応じて吐出時間を変えて、塗布液Ｌを吐出するので、吐出距離の長短に関わらず吐出時間が一定である場合に比べ、塗布開始端と塗布終了端との重なり量のバラつきが抑制される。
【００６４】
次に、駆動モータ２４は、単位時間当たりの回転数を低下させると共に、塗布液Ｌが塗布された基体１４を、あらかじめ設定された設定時間又は設定回転数で回転させる（回転工程（レべリング工程）の一例）。これにより、塗布液Ｌは、図７（Ａ）に示す重なり部分ＬＴが徐々にならされ（レベリングされ）、平滑になってくる
【００６５】
次に、基体１４を加熱して、基体１４の表面に塗布された塗布液Ｌを乾燥させる（乾燥工程の一例）。乾燥方法としては、基体１４を乾燥炉に入れる方法、基体１４に熱風を吹き付ける方法、赤外線加熱方法など任意の公知の方法が用いられる。乾燥中も塗布液Ｌが垂れないように、基体１４を回転させることが望ましい。
【００６６】
このようにして、基体１４の表面に感光層が製造される。なお、感光層は、例えば、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層、及び保護層などで構成され、このうちの少なくとも１層が、上記製造方法により製造される。そして、基体１４に当該感光層が製造されることで、感光体が製造される。
【００６７】
本製造方法によれば、塗布開始端と塗布終了端との重なり量のバラつきが小さく、膜厚のバラつきが少ない感光層及び、当該感光層が形成された感光体を得られる。
【００６８】
（評価）
本評価では、測定部６０で測定された測定結果に基づいてスリットダイ３２からの塗布液Ｌの吐出時間を設定部７２で設定し、当該吐出時間の間、スリットダイ３２から塗布液Ｌの吐出を行う実施例（上記実施形態の構成）と、吐出距離に関わらず予め設定された吐出時間の間、スリットダイ３２から塗布液Ｌの吐出を行う比較例（図１２の実線参照）とにおいて、強制的に吐出距離を変化させて評価を行った。
【００６９】
実施例としては、直線モデルで延出長さを求めた場合（実施例１（図１２の一点鎖線参照））と、半円モデルで延出長さを求めた場合（実施例２（図１２の破線参照））と、について評価を行った。
【００７０】
また、当該評価では、図１３に示されるように、基体１４の外周一部に塗布液Ｌが塗布されるように塗布長を設定し、塗布長は、ＣＣＤラインセンサにて周方向へスキャンし、画像解析して測定した。
【００７１】
この結果、図１２に示されるように、比較例に比べて、実施例１において塗布長のバラつきが小さく、さらに、実施例１に比べて、実施例２において塗布長のバラつきが小さかった。これは、本実施形態の構成では、塗布液Ｌが吐出面３２Ｍに接した状態で吐出面３２Ｍで広がりながら塗布されることから、半円モデルが適していたためと考えられる。
【００７２】
（変形例）
上記実施形態では、設定部７２は、測定部６０で測定された測定結果に基づいてスリットダイ３２からの塗布液Ｌの吐出時間を設定し、制御部７４が、設定部７２で設定された吐出時間の間、スリットダイ３２から塗布液Ｌの吐出を行うようになっていたが、これに限られず、例えば、基体１４の回転角度を基準としてもよい。具体的には、設定部７２が、測定部６０で測定された測定結果に基づいて、基体１４の回転角度を設定し、制御部７４が、設定部７２で設定された回転角度分基体１４が回転している間、スリットダイ３２から塗布液Ｌの吐出を行うようにしてもよい。
【００７３】
上記実施形態では、測定部６０としては、反射型の光学センサを用いたが、これに限られず、例えば、図１４に示されるように、透過型の光学センサ１６０を用いてもよい。透過型の光学センサ１６０では、発光部１６０Ａと受光部１６０Ｂとを有しており、発光部１６０Ａから受光部１６０Ｂへの光１６０Ｌを遮る幅によって、吐出面３２Ｍから基体１４までの距離を求める（測定する）ようになっている。
【００７４】
上記実施形態では、測定部６０は、基体１４の軸方向中央部に対向して配置されていたが、これに限られず、例えば、基体１４の軸方向端部に対向して配置されていてもよく、基体１４の軸方向のいずれの箇所に対向配置されていてもよい。また、測定部６０は、例えば、基体１４の軸方向の複数個所で、吐出距離を測定し、その測定値を平均などすることによって得られた測定結果に基づき、設定部７２が吐出時間(回転角度)を設定してもよい。
【００７５】
上記実施形態では、吐出ユニット３０の吐出方向は、上方とされていたが、これに限られず、例えば、当該吐出方向は、水平方向（側方）であってもよく、吐出方向と重力方向との関係は不問である。
【００７６】
上記の製造方法では、感光体の感光層を製造する場合について説明したが、製造される膜体としては、環状のベルト（例えば、中間転写ベルト）などであってもよい。この場合では、基体１４に形成された塗膜を基体１４から取り外すことでベルトが製造される。
【００７７】
上記の製造方法では、回転工程（レべリング工程）を有していたが、これに限られない。例えば、製造物によっては継ぎ目部分において、ある程度のうねり（凹凸）が許容され、その場合では、回転工程（レべリング工程）を経ずに、製造物を製造してもよい。
【００７８】
本発明は、上記の実施形態に限るものではなく、種々の変形、変更、改良が可能である。例えば、上記に示した変形例は、適宜、複数を組み合わせて構成しても良い。
【符号の説明】
【００７９】
１０   塗布装置
１４   基体（被塗布体の一例）
３０   吐出ユニット（吐出部の一例）
６０   測定部
７２   設定部
７４   制御部
【要約】
【課題】塗布開始端と塗布終了端との重なり量のバラつきを抑制する。
【解決手段】被塗布体に液を吐出する吐出部と、該被塗布体と該吐出部の距離を測定する測定部と、回転する該被塗布体へ該吐出部から吐出された液の塗布開始端と塗布終了端とが重なるように、該測定部で測定された測定結果に基づいて、該吐出部からの該液の吐出時間を設定する設定部と、該吐出時間の間、該吐出部から該液の吐出を行う制御部と、を有する。
【選択図】図１【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図１０】
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