(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１波長を有する第１の光を反射し、前記第１波長より短い第２波長を有する第２の光を透過させるフィルタであって、
複数の開口を形成する複数の板状部材を含み、
前記複数の板状部材は、それぞれの壁面が互いに平行となるように配置され、
前記複数の板状部材によって形成される光入射側の端面は、前記壁面に平行な平面と前記壁面に垂直な方向とに対して非平行である、
ことを特徴とするフィルタ。
【請求項２】
第１波長を有する第１の光を反射し、前記第１波長より短い第２波長を有する第２の光を透過させるフィルタであって、
複数の開口を形成する複数の板状部材を含み、
前記複数の板状部材のそれぞれの第１端面によって形成される光入射側の端面は、前記壁面に平行な平面と前記壁面に垂直な方向とに対して非平行であり、
前記複数の板状部材のうち少なくとも一組の隣接する板状部材の前記第１端面における間隙は、前記少なくとも一組の隣接する板状部材の前記第１端面の反対側の第２端面における間隙より大きい、ことを特徴とするフィルタ。
【請求項３】
前記複数の板状部材の第１端面は平面をなし、前記壁面に平行な平面と前記壁面に垂直な方向とに対して非平行であり、
前記平面と、前記複数の板状部材の壁面とのなす角が前記複数の開口毎に異なる、ことを特徴とする請求項２に記載のフィルタ。
【請求項４】
前記複数の板状部材によって形成される光入射側の端面は曲面である、ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のフィルタ。
【請求項５】
前記第１端面に異なる入射角度の光が入射する、ことを特徴とする請求項２または請求項３に記載のフィルタ。
【請求項６】
第１波長を有する第１の光と前記第１波長より短い第２波長を有する第２の光とを含む光を出射する光源と、
前記光の光路外に配置され、前記第１の光を吸収する吸収部材と、
前記光源から出射された光のうち前記第１の光を前記吸収部材に向けて反射し、前記光源から出射された光のうち前記第２の光を透過させる請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載のフィルタと、
を備え、
前記フィルタを透過した前記第２の光で基板を露光する、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項７】
請求項６に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルタ、露光装置及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＥＵＶ（Extreme Ultra-Violet）光源として、プラズマ光源にはレーザープラズマ光源（ＬＰＰ）、放電型プラズマ光源（ＤＰＰ）などのプラズマ光源が用いられる。例えば、ＬＰＰでは、真空容器中に置かれたターゲット材に高強度のパルスレーザー光を照射し、高温のプラズマを発生させ、これから放射される例えば波長１３．５ｎｍ程度のＥＵＶ光を利用する。ターゲット材としては、金属、不活性ガスなどが用いられる。ターゲットから放射されるＥＵＶ光の平均強度を高くするためにはパルスレーザーの繰り返し周波数の高い方が良く、通常数ｋＨｚの繰り返し周波数で運転される。また、ターゲットから放射されるＥＵＶ光を効率よく利用するために集光ミラーが設けられている。集光ミラーには、モリブデンとシリコンの膜を交互に６０層ほど積層させた多層膜ミラーや金属をコーティングした斜入射ミラーなどが使用される。照明光学系は、複数の多層膜ミラー、斜入射ミラー、反射型インテグレータ等から構成される。反射型インテグレータはマスクを均一に所定の開口数で照明する役割を持っている。反射型インテグレータには平行化されたＥＵＶ光が入射され、焦点距離ｆの位置に二次光源を作る。
【０００３】
照明系から供給されたＥＵＶ光は原版であるレチクルで反射され、６〜８枚の多層膜ミラーからなる投影光学系で１／４に縮小されて、レジストが塗布されたウエハに照射される。レチクル及びウエハは、それぞれレチクルステージ及びウエハステージに保持され、アライメント光学系で精密に位置合わせ、フォーカス検出光学系で精密にフォーカスされた状態で、縮小倍率に比例した速度比で同期して走査する。このようにして、レチクルの縮小投影像がウエハ上に結像した状態でそれらを同期走査するという動作が繰り返される（ステップ・アンド・スキャン）。こうして、ウエハ全面にレチクルの転写パターンが転写される。
【０００４】
プラズマ光源は所望のＥＵＶ光だけでなく、赤外領域からＥＵＶまでの不要な光（Out of Band光：以下ＯｏＢ光）も発生する。これらＯｏＢ光はフレアとなってウエハ上の光のコントラストを低減させたり、ウエハを熱膨張させたりする。また、ミラーの熱負荷を増大させるため、特に投影系のミラーに関して問題となる。
【０００５】
ＯｏＢ光を除去するためにフィルタ（Spectral Purity Filter）を光路に設置して、所望のＥＵＶ光だけを選択的に透過させる方法が、特許文献１及び非特許文献１に開示されている。非特許文献１では、ＯｏＢ光の波長より小さな開口を設け、ＥＵＶ光だけを透過させてＯｏＢ光（赤外光）を反射させる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−１９１０９０号公報
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】Wouter A. Soer, Grid spectral purityfilters for suppression of infrared radiation in laser-produced plasma EUVsources, Proc. of SPIE Vol. 7271 72712Y-8(2009)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、従来のフィルタがＯｏＢ光(赤外光)を上流のミラーに向けて反射させるため、ミラーやチャンバ等の部材を加熱してしまう。また、設計外の光路を通るため照明系だけでなく、投影光学系の光学素子やウエハ上にも迷光となった赤外光が到達し、加熱するという問題がある。
【０００９】
そこで、本発明は、反射させた光による悪影響を発生させることなく特定の波長の光を選択的に透過させるフィルタを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の１つの側面は、第１波長を有する第１の光を反射し、前記第１波長より短い第２波長を有する第２の光を透過させるフィルタであって、複数の開口を形成する複数の板状部材を含み、前記複数の板状部材は、それぞれの壁面が互いに平行となるように配置され、前記複数の板状部材によって形成される光入射側の端面は、前記壁面に平行な平面と前記壁面に垂直な方向とに対して非平行である、ことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、反射させた光による悪影響を発生させることなく特定の波長の光を選択的に透過させるフィルタを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】第１実施形態のフィルタを示した図である。
【図２】第１実施形態のフィルタが赤外光を反射する様子を示した図である。
【図３】第１実施形態のフィルタを示した図である。
【図４】第２実施形態のフィルタを示した図である。
【図５】第３実施形態のフィルタを示した図である。
【図６】第４実施形態のフィルタを示した図である。
【図７】第４実施形態のフィルタが赤外光を反射する様子を示した図である。
【図８】第４実施形態のフィルタを示した図である。
【図９】第６実施形態のフィルタを示した図である。
【図１０】第６実施形態のフィルタが赤外光を反射する様子を示した図である。
【図１１】第７実施形態のフィルタを示した図である。
【図１２】第８実施形態のフィルタを示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の露光装置は、第１波長を有する第１の光と第１波長より短い第２波長を有する第２の光とを含む光を出射する光源と、光源から入射された光のうち、第１の光を反射し、第２の光を透過させるフィルタとを備える。露光装置は、さらに光源から出射された光の光路外に配置され、第１の光を吸収する吸収部材を備える。フィルタで反射された第１の光は、吸収部材に向けて反射される。露光装置は、フィルタを透過した第２の光で基板を露光する。第１の光は例えば赤外光であり、第２の光は例えばＥＵＶ光である。フィルタに入射した第１の光（赤外光）は入射した方向とは異なる方向に反射され、戻り光となることが防げる。フィルタに入射した第２の波長の光（ＥＵＶ光）がフィルタの内壁にけられた損失は最小限に抑えられるようにフィルタが構成される。
【００１４】
例えば、赤外光の波長より十分に薄い複数の板状部材を、赤外光の波長より十分に小さくかつＥＵＶ光の波長より大きい間隔で互いに平行となるように並べることで、入射する赤外光を反射しＥＵＶ光を透過することができる。このとき反射されるのは入射する赤外光の偏光成分のうち、電気ベクトルが板状部材に平行な偏光であり、電気ベクトルが板状部材に垂直な偏光は透過する。よって、露光装置において、入射する赤外光の偏光が直線偏光あるいは直線偏光に近い場合、１個のフィルタが赤外光の電気ベクトルと板状部材とが平行になるように配置される。偏光状態がランダム又はランダムに近い赤外光が入射する場合、板状部材によるフィルタは２個使用される。２個のフィルタをそれらの板状部材が互いにが直交する関係になるように同一光路中に配置することで、入射した赤外光の全方向成分の偏光を反射することができる。
【００１５】
フィルタが光の入射方向（第２方向）と直交する第１方向に沿って配置された複数の板状部材で構成されている場合、板状部材の端面によって形成される包絡面は、第１方向と非平行な平面をなすか、又は、光路外に曲率中心を持つ曲面をなす。フィルタが第１方向に沿って配置された複数の開口を有する部材で構成されている場合、前記部材の端面は、やはり、第１方向と非平行な平面をなすか、又は、光路外に曲率中心を持つ曲面をなす。露光装置内に設置したフィルタにより反射された赤外光はチャンバや保持部などの露光装置の構成部材を暖めてしまう。反射された赤外光を吸収する吸収部材を設置することで、赤外光が露光装置の構成部材を暖めてしまうことを防止することができる。吸収部材は露光光の光路外に設置される。フィルタの設置角度は、反射された赤外光が吸収部材へ向かうように決定される。
【００１６】
露光装置のサイズは小型であることが好ましく、そのためには装置内の各素子がコンパクトであれば配置の自由度が上がるため設計が容易となる。吸収部材のサイズを小さくするためにはフィルタで反射する赤外光を集光する必要がある。フィルタ表面に曲率を持たせることで、フィルタで反射する赤外光を集光して吸収部材へ導くことができる。露光装置内に設置したフィルタへの入射光は必ずしも平行光であるとは限らない。フィルタへの入射光が集光光もしくは発散光であった場合、フィルタへの入射光の角度はフィルタの面内で一定ではない。フィルタを構成する全ての内壁が互いに平行である場合、ある場所で入射光に対して内壁が平行になるように設置すると、その場所以外ではＥＵＶ光がけられてしまうため、ＥＵＶ光の透過率が低下する。そこで、フィルタの各内壁の角度を、その場所での入射光と各々平行にすることで、ＥＵＶ光の透過率の低下を防ぐことができる。以下に、本発明の実施形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。
【００１７】
〔第１実施形態〕
図１に基づいて第１実施形態のフィルタ１０について説明する。フィルタ１０は、複数の板状部材１１を赤外光の波長より小さくＥＵＶ光の波長より大きな一定の間隙をおいて平行に並べて配置した構造を有し、正面から見るとスリット状の開口が並んでいる。フィルタ１０は、入射光１２に対して板状部材１１の内壁１１ａが平行となり、入射光１２の入射側の端面１１ｂによって形成される包絡面１１ｃが、入射光の進行方向（第２方向）と非平行な平面をなすように配置されている。つまり、包絡面１１ｃが入射光の進行方向に垂直な面に対して傾くようにフィルタ１０が設置されている。複数の板状部材１１はホルダ１４により支持されている。
【００１８】
図２はフィルタ１０をＥＵＶ露光装置に搭載した時の、入射光１２とフィルタ１０との関係を模式的に表したものである。照明系の光路中で露光光が平行化されている場所にフィルタ１０を挿入する。図２において左側が照明系の上流側、右側が下流側である。１２は入射光である。フィルタ１０の上流では赤外光とＥＵＶ光が混ざった状態である。フィルタ１０により、赤外光が反射され、ＥＵＶ光が下流の光学系へと導かれる。反射された赤外光１５が迷光となって露光装置を暖めないように、反射された赤外光１５を吸収するための吸収部材１６を露光光の光路外に設置する。ここで入射光１２の作るベクトルと入射点と吸収部材１６を結ぶベクトルで決まる角度を二分するようにフィルタ１０の入射側の包絡面１１ｃにおける法線１３の角度が設定されている。フィルタ１０の内壁１１ａと入射光１２とは平行である。フィルタ１０を挿入したことによる露光光の損失は図１の正面図で示した板状部材１１の端面１１ｂをなす部分にＥＵＶ光が当たる場合だけである。板状部材１１の壁面でＥＵＶ光がけられることがないため、ＥＵＶ光の損失は最小限に抑えられる。
【００１９】
本実施形態に用いるフィルタ１０は、板状部材１１を並べて配置したものであるため、板状部材１１に平行な偏光成分しか反射することができない。よって、フィルタ１０に入射する赤外光の偏光状態がランダムである場合、同様のフィルタ１０’をもう一枚使用する。２枚目のフィルタ１０’は１枚目のフィルタ１０に対してスリットの長手方向が直交するような向きで、同一光路上に設置される。赤外光を入射光１２とは異なる方向に反射させるため、２枚目のフィルタ１０’も１枚目のフィルタ１０と同様に包絡面が入射光の進行方向に垂直な面に対して傾くようにフィルタ１０が設置されている。。
【００２０】
フィルタ１０全体のサイズは露光装置中の設置場所のビームサイズと同サイズ以上とするため、例えば３０ｍｍ×３０ｍｍ程度である。フィルタ１０は照明系の光路中で露光光が平行化されている場所に設置される。またこのときフィルタ１０の内壁１１ａと入射光とが平行になるように設置される。図３に示されるように、板状部材１１が配置される間隔をｄ、板状部材１１の厚さをｔ、板状部材１１の幅をｈ、板状部材１１の壁面と入射光１２とがなす角をθとすると、θによるＥＵＶ光の損失は、板状部材１１の射影面積から以下の式のように表すことができる。
ｈ*ｔａｎθ／（ｄ−ｔ）・・・（１）
【００２１】
本実施形態において、板状部材１１の壁面と入射光１２とが角度をなすことによるＥＵＶ光の光量損失が２０％以下であることが好ましい。すなわち、ｄ、ｈ、ｔ、θの関係は（２）式のようになり、θが満たすべき値の範囲は（３）式で表される。
ｈ*ｔａｎθ／（ｄ−ｔ）≦０．２・・・（２）
θ≦ｔａｎ-1｛０．２＊（ｄ−ｔ）／ｈ｝・・・（３）
【００２２】
プラズマ光源、特にＣＯ２レーザーを励起レーザーとしたＬＰＰの場合、問題となる赤外光の波長は１０．６μｍである。この波長の赤外光を許容値まで除去するためには、ｄが５μｍ、ｔが０．５μｍ、ｈが５μｍ程度である。よって、（３）式から、θはおよそ１０度以下となることがわかる。ここで図２に基づいて、板状部材の端面１１ｂが形成する包絡面１１ｃにおける法線１３と入射光１２とがなす角度について説明する。平行化された入射光１２の直径をａ、板状部材の端面１１ｂが形成する包絡面１１ｃにおける法線１３と入射光１２がなす角度をφとすると、入射光１２と反射光１５とを分離するために必要なフィルタ１０からの距離ｘは（４）式で表される。
ｘ＝ａ/ｔａｎ（２φ）・・・（４）
【００２３】
本実施形態において、板状部材の端面１１ｂが形成する包絡面１１ｃにおける法線１３と入射光１２とがなす角度φは２０°程度である。入射光１２の直径ａが２５ｍｍであるとき、フィルタ１０の設置位置を上流側の光学素子より３０ｍｍ以上離れた位置とすることで入射光１２と反射された赤外光１５を分離することができる。反射された赤外光１５は露光装置内に設置された吸収部材１６により吸収される。吸収部材１６に吸収される赤外光は数１００Ｗ以上であるため、吸収部材１６からの輻射熱を防ぐための水冷機構が備えられていることが望ましい。
【００２４】
〔第２実施形態〕
図４に基づいて第２実施形態のフィルタ４０について説明する。ここでは第１実施形態との差異についてのみ記述する。図４は第２実施形態におけるフィルタ４０の正面図及び断面図である。第２実施形態におけるフィルタ４０は、複数の開口を有し入射光の進行方向（第２方向）に沿って延びる部材４１の入射光の入射側における端面４１ｃが平面をなすように複数の板状部材が２次元に配置した構造を有している。開口の形状は正四角形とされている。フィルタ４０の開口が２次元に配置されているので赤外光の両偏光を同時に除去することができる。開口の形状は、円形、六角形でも同様の効果が得られる。入射光の入射側における部材４１の端面４１ｃにおける法線４２と各開口の軸４４とは斜めに交わっている。フィルタ４０は例えばＳｉの異方性エッチングで製作する。Ｓｉの異方性エッチングでフィルタを製作し、赤外光を反射するための金属膜を部材４１の表面全体に成膜する。複数の板状部材はホルダ４３により支持されている。
【００２５】
第２実施形態の露光装置において、フィルタ４０は照明系の光路中で露光光が平行化されている場所に挿入され、開口の軸４４が入射光と平行になるように設置される。このとき開口がアレイ状に配置された部材４１の入射側の端面４１ｃにおける法線４２は、入射光と斜めに交わっている。フィルタ４０の上流側から入射する赤外光とＥＵＶ光は、フィルタ４０により、赤外光は入射した方向とは異なる方向に反射され、ＥＵＶ光は下流の光学系に導かれる。反射された赤外光が迷光となって露光装置を暖めないように、反射された赤外光を吸収するための吸収部材１６を露光光の光路外に設置する。ここで入射光の作るベクトルと入射点と吸収部材１６とを結ぶベクトルで決まる角度を二分するようにフィルタ４０の入射側の端面４１ｃにおける法線の角度が設定されている。
【００２６】
第２実施形態の露光装置に使用されるフィルタ４０は、開口をアレイ状に配列した構造を有しているため、入射する赤外光の両偏光を同時に反射することができる。て入射する赤外光の偏光状態がランダムであっても、使用するフィルタ４０は１つでよい。
【００２７】
部材４１のサイズは開口５μｍ、板状部材の厚さ０．５μｍ、長さ５μｍ程度となる。そしてこれらの部材４１を含むフィルタ４０のサイズは、露光装置中の設置場所のビームサイズと同サイズ以上とするため、例えば２００ｍｍ×１００ｍｍ程度である。露光装置において、フィルタ４０は開口の軸４４と入射光とが略平行になるように設置される。第１実施形態と同様に、各開口の軸４４と入射光とが角度をなすことによるＥＵＶ光の光量損失が２０％以下であることが好ましい。すなわち、各開口の軸４４と入射光とがなす角度をθとすると、θが採りうる値は（３）式で表され、θはおよそ１０度以下である。各開口の軸４４と複数の部材４１の入射側の端面４１ｃにおける法線４２とがなす角度は２０°とすることが好ましい。
【００２８】
〔第３実施形態〕
図５に基づいて第３実施形態のフィルタ５０について説明する。図５は第３実施形態におけるフィルタ５０の正面図及び断面図である。フィルタ５０は、板状部材５１を階段状に並べて配置した構造を有している。各板状部材５１は棒状の支持部材５２で固定されている。板状部材５１の壁面５１ａと、板状部材５１の端面が形成する包絡面５１ｃにおける法線５３とが斜めに交わるような形状となっている。第３実施形態のフィルタ５０は板状部材の壁面５１ａが入射光と平行になるように設置される。
【００２９】
板状部材５１の幅は５μｍ、厚さは０．５μｍ、板状部材５１が配置される間隔は５μｍ程度である。フィルタ５０のサイズは、露光装置中の設置場所のビームサイズと同サイズ以上とするため、例えば３０ｍｍ×３０ｍｍ程度である。第３実施形態の露光装置において、フィルタ５０は板状部材の壁面５１ａと入射光とが略平行になるように設置される。第１実施形態と同様に、各開口の軸５４と入射光とが角度をなすことによるＥＵＶ光の光量損失が２０％以下であることが好ましい。すなわち、各開口の軸５４と入射光とがなす角度をθとすると、θが採りうる値は（３）式で表され、θはおよそ１０度以下である。各開口の軸５４と複数の板状部材５１の入射側の端面の包絡面５１ｃにおける法線５３とがなす角度は２０°とすることが好ましい。
【００３０】
〔第４実施形態〕
図６に基づいて第４実施形態のフィルタ６０について説明する。第４実施形態におけるフィルタ６０は、複数の開口を持つ部材６１を、その第１端面６１ｃが平面をなし、かつ、光路に沿って収束するように配置した形状を有している。図６に示すように、フィルタ６０の各開口の軸６４と複数の部材６１の第１端面６１ｃにおける法線６２とはいずれも斜めに交わっている。第１端面６１ｃにおける隣接する板状部材の間隙は、第１端面６１ｃの反対側の第２端面における隣接する板状部材の間隙より大きい。
【００３１】
このフィルタ６０を図７に示すように入射光７１が平行化されていない照明系の光路中に挿入する。フィルタ６０への入射光７１の入射角度はフィルタ６０の面内位置により異なるが、局所的に見ると各開口の軸６４はその部材６１への入射光７１と平行である。よってＥＵＶ光は部材６１の壁面６１ａでけられることがないため、ＥＵＶ光の損失は最小となる。フィルタ６０によって反射された赤外光７２は光路外に設置された吸収部材７３に吸収されるため光学素子に悪影響を与えない。
【００３２】
第４実施形態では各開口の軸６４とその部材６１への入射光７１が平行であったが、必ずしも各開口の軸６４とその部材６１への入射光７１が全ての場所で平行である必要はない。図８のように一部だけが入射光７１と平行であってもよい。例えば開口の軸６４の角度を６４ａと６４ｂの二種類とすることで、各開口の軸６４と入射光７１が平行でない位置では部材６１の壁面６１ａでＥＵＶ光がけられてしまうためＥＵＶ光の透過率が低下するが、フィルタ６０の製作が容易となる。すなわち、少なくとも一組の隣接する板状部材において第１端面における間隙が第２端面における間隙より大きければよい。開口の軸６４と入射光７１とがなす角度の上限値は、第１実施形態の考え方と同様に、部材６１の射影面積から決定され、例えば１０度である。軸６４ａを有する部材と軸６４ｂを有する部材とを別々に製作し、ホルダ６３内で一体化させるといったことが可能となるため、フィルタ６０の製作が容易となる。
【００３３】
〔第５実施形態〕
第５実施形態のフィルタについて説明する。第５実施形態において図６で示される部材６１は複数の板状部材から構成されており、フィルタ６０は、板状部材６１を階段状に並べて配置した構造を有している。フィルタ６０の板状部材の壁面６１ａと、板状部材６１の端面の包絡面６１ｃにおける法線６２とはいずれも斜めに交わっており、壁面６１ａと法線６２とのなす角度は場所により異なっている。
【００３４】
〔第６実施形態〕
図９に基づいて第６実施形態のフィルタ９０について説明する。図９に示すように、フィルタ９０の板状部材９１の端面９１ｃは曲面であり、その曲率中心の第１方向における位置は、複数の開口の全てを含む１つの領域の第１方向における範囲の外側にある。すなわち、端面の法線９２とフィルタの内壁９１ａとはいずれの場所においても斜めに交わっている。このフィルタ９０を図１０に示すように入射光１０３が平行化されている照明系の光路中に挿入する。反射された赤外光１０１はフィルタ９０により集光され、吸収部材１０２で吸収される。反射された赤外光１０１は集光されているため、吸収部材１０２のサイズを小さくすることができる。吸収部材１０２のサイズを小さくすることにより照明系内の設置自由度が上がるため、照明系の設計が容易となる。なお、第６実施形態における複数の板状部材９１の替わりに複数の棒状部材を配置し、複数の開口が一方の端面にのみ存在するようにしてもよい。
【００３５】
〔第７実施形態〕
図１１に基づいて第７実施形態のフィルタ１１０について説明する。図１１に示すように、複数の開口が２次元に沿って配列された部材１１１の端面１１１ｃは曲率を持ち、端面１１１ｃにおける法線１１２とフィルタの内壁１１１ａとはいずれの場所においても斜めに交わっている。
【００３６】
〔第８実施形態〕
図１２に基づいて第８実施形態のフィルタ１２０について説明する。第６実施形態において複数の板状部材はホルダに固定されていたが、第８実施形態においては、複数の板状部材は棒状の支持部材で固定されている。図１２に示すように、フィルタ１２０の各板状部材の端面の包絡面１２１ｃは曲率を持ち、包絡面１２１ｃにおける法線とフィルタの内壁とはいずれの場所においても斜めに交わっている。
【００３７】
〔デバイスの製造方法〕
本発明の一実施形態のデバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイス等）の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハ（基板）に集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、前記工程で露光されたウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）と、パッケージング工程（封入）を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
【００３８】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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