(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の要件（１）〜（４）を満たすエチレン単独重合体。
（１）炭素原子１０００個当りのエチル分岐が８個以上
（２）エチル分岐以外のアルキル分岐が、それぞれ０．１個以下
（３）末端不飽和基（末端ビニル基、末端ビニレン基、末端ビニリデン基の合計）中の末端ビニル基と末端ビニレン基の割合が、末端ビニル基／末端不飽和基＜０．０１であり、かつ末端ビニレン基／末端不飽和基＜０．０１
（４）末端ビニリデン基と末端メチル基の比が、末端ビニリデン基／末端メチル基＞０．９０
【請求項２】
末端ビニリデン基が末端エチルビニリデン基である請求項１に記載のエチレン単独重合体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エチレン単独重合体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
エチレンを重合して分岐構造をもつポリエチレンを製造する方法としては、高圧ラジカル法が古くから知られている。該方法によれば、エチレンを単独重合することにより、短鎖分岐と長鎖分岐を含んだ複雑な分岐構造をもつ低密度ポリエチレンが得られる。しかし高圧ラジカル法はラジカル反応を利用するため、得られるエチレン重合体の分岐構造を制御することは難しく、その機械的強度は必ずしも十分満足できるものではなかった。
【０００３】
高圧ラジカル法で得られるエチレン単独重合体の各ポリマー鎖の末端は、その重合機構から、一方はメチル基、他方はメチル基または不飽和基である。ポリマー鎖の片末端の不飽和基としては、ビニル基、ビニリデン基などがあり、片末端にビニリデン基構造をもつポリエチレンは、片末端にビニル基構造をもつポリエチレンに比べ、成形加工時の樹脂の熱安定性が高いことが知られている（例えば特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−３４８１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、これまでに知られているエチレン単独重合体は、ポリマー鎖の片末端の不飽和基の割合、およびポリマー鎖の片末端の不飽和基数に占めるビニリデン基の割合が、かならずしも高くなく、成形加工時の樹脂の熱安定性についてさらなる改良が求められていた。また、分岐構造の制御が困難であり、複数種のアルキル分岐を有しているため、機械的強度が不十分であるという問題もあった。
【０００６】
かかる状況のもと、本発明が解決しようとする課題は、ポリマー鎖の片末端の不飽和基の割合、およびポリマー鎖の片末端の不飽和基数に占めるビニリデン基の割合が高く、かつ分岐構造が制御されたエチレン単独重合体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち、本発明は、以下の要件（１）〜（４）を満たすエチレン単独重合体である。
（１）炭素原子１０００個当りのエチル分岐が８個以上
（２）エチル分岐以外のアルキル分岐が、それぞれ０．１個以下
（３）末端不飽和基（末端ビニル基、末端ビニレン基、末端ビニリデン基の合計）中の末端ビニル基と末端ビニレン基の割合が、末端ビニル基／末端不飽和基＜０．０１であり、かつ末端ビニレン基／末端不飽和基＜０．０１
（４）末端ビニリデン基と末端メチル基の比が、末端ビニリデン基／末端メチル基＞０．９０
【発明の効果】
【０００８】
本発明により、ポリマー鎖の片末端の不飽和基の割合、およびポリマー鎖の片末端の不飽和基数に占めるビニリデン基の割合が高いエチレン単独重合体を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明のエチレン単独重合体は、炭素原子１０００個当りのエチル分岐が８個以上である（要件（１））。さらに本発明のエチレン単独重合体は、エチル分岐以外のアルキル分岐が、それぞれ０．１個以下である（要件（２））。
【００１０】
上記の要件（１）、（２）を満たすエチレン単独重合体は、分岐鎖として、実質的にエチル分岐のみを有するエチレン単独重合体であるといえる。炭素原子１０００個当りのエチル分岐が８個以上であり、エチル分岐以外のアルキル分岐が、それぞれ０．１個以下であるエチレン単独重合体とは、例えば該エチレン単独重合体が、エチル分岐以外のアルキル分岐としてメチル分岐とブチル分岐を有する場合、該エチレン単独重合体の主鎖を構成する炭素原子数１０００個当り、メチル分岐が０．１個以下、ブチル分岐が０．１個以下であり、かつエチル分岐が８個以上であることを意味する。
【００１１】
本発明のエチレン単独重合体のエチル分岐数としては、炭素原子１０００個当りのエチル分岐が８個以上であり、エチレン単独重合体の機械的強度を高める観点から、好ましくは１０個以上であり、より好ましくは１１個以上であり、さらに好ましくは１２個以上であり、特に好ましくは１３個以上であり、最も好ましくは１４個以上である。
【００１２】
エチレン単独重合体における炭素原子数１０００個当りの各アルキル分岐の数は、カーボン核磁気共鳴法によって、次の測定条件により、カーボン核磁気共鳴スペクトル（13Ｃ−ＮＭＲ）を測定し、下記算出方法より求めることができる。
＜測定条件＞
装置    ：Ｂｒｕｋｅｒ社製  ＡＶＡＮＣＥ６００
測定プローブ：１０ｍｍプローブ
測定溶媒：１，２−ジクロロベンゼン／１，２−ジクロロベンゼン−ｄ４
＝７５／２５（容積比）の混合液
測定温度：１３０℃
測定方法：プロトンデカップリング法
パルス幅：４５度
パルス繰り返し時間：４秒
測定基準：テトラメチルシラン
窓関数  ：正の指数関数
積算回数：３２．０〜３２．２ｐｐｍに観測されるピークのＳＮ比が１００以上になるまで積算する。なお、ノイズの基準は５０〜６０ｐｐｍの領域をノイズと定義した。
＜エチル分岐の数の算出方法＞
５〜５０ｐｐｍに観測されるすべてのピークの積分値の総和を１０００として、３９．５〜４０．０ｐｐｍに観測されるピークの積分値と３７．１〜３７．６ｐｐｍに観測される積分値の和をエチル分岐の数とした。
＜他のアルキル分岐の数の算出方法＞
５〜５０ｐｐｍに観測されるすべてのピークの積分値の総和を１０００としたときの、１９〜２０ｐｐｍに観測されるピークの積分値をメチル分岐数、１４．３〜１４．８ｐｐｍに観測されるピークの積分値をプロピル分岐数、３８．０〜３８．５ｐｐｍに観測されるピーク積分値の総和を炭素原子数４以上の分岐数とした。
【００１３】
本発明のエチレン単独重合体の末端不飽和基（末端ビニル基、末端ビニレン基、末端ビニリデン基の合計）中の末端ビニル基の割合は、成形加工時の熱安定性を高める観点から、通常、末端ビニル基／末端不飽和基＜０．０１であり、好ましくは末端ビニル基／末端不飽和基＜０．００５であり、より好ましくは末端ビニル基／末端不飽和基＜０．００１である。
【００１４】
本発明のエチレン単独重合体の末端不飽和基（末端ビニル基、末端ビニレン基、末端ビニリデン基の合計）中の末端ビニレン基の割合は、成形加工時の熱安定性を高める観点から、通常、末端ビニレン基／末端不飽和基＜０．０１であり、好ましくは末端ビニレン基／末端不飽和基＜０．００５であり、より好ましくは末端ビニレン基／末端不飽和基＜０．００１である。
【００１５】
本発明のエチレン単独重合体の末端ビニリデン基と末端メチル基の比は、通常、末端ビニリデン基／末端メチル基＞０．９０であり、エチレン単独重合体の変性をしやすくする観点から、好ましくは末端ビニリデン基／末端メチル基＞０．９２であり、より好ましくは末端ビニリデン基／末端メチル基＞０．９４であり、さらに好ましくは末端ビニリデン基／末端メチル基＞０．９５であり、特に好ましくは末端ビニリデン基／末端メチル基＞０．９６である。
【００１６】
上記の末端メチル基とは、ポリマー鎖の飽和末端基におけるメチル基である。
【００１７】
エチレン単独重合体における末端ビニリデン基と末端メチル基との比は、カーボン核磁気共鳴法によって、次の測定条件により、カーボン核磁気共鳴スペクトル（13Ｃ−ＮＭＲ）を測定し、下記算出方法より求めることができる。
＜測定条件＞
装置    ：Ｂｒｕｋｅｒ社製  ＡＶＡＮＣＥ６００
測定プローブ：１０ｍｍプローブ
測定溶媒：１，２−ジクロロベンゼン／１，２−ジクロロベンゼン−ｄ４
＝７５／２５（容積比）の混合液
測定温度：１３０℃
測定方法：プロトンデカップリング法
パルス幅：４５度
パルス繰り返し時間：４秒
測定基準：テトラメチルシラン
窓関数  ：正の指数関数
積算回数：３２．０〜３２．２ｐｐｍに観測されるピークのＳＮ比が１００以上になるまで積算する。なお、ノイズの基準は５０〜６０ｐｐｍの領域をノイズと定義した。
＜算出方法＞
３６．４〜３６．６ｐｐｍに観測されるピークの積分値を末端ビニリデン基、３２．０〜３２．２ｐｐｍに観測されるピークの積分値を末端メチル基として、末端ビニリデン基／末端メチル基の値を求めた。
【００１８】
エチレン単独重合体における末端ビニル基と末端不飽和基との比、および末端ビニレン基と末端不飽和基との比は、プロトン核磁気共鳴法によって、次の測定条件により、プロトン核磁気共鳴スペクトル（1Ｈ−ＮＭＲ）を測定し、下記算出方法より求めることができる。
＜測定条件＞
装置    ：日本電子製  ＥＸ２７０
測定プローブ：５ｍｍプローブ
測定溶媒：１，２−ジクロロベンゼン−ｄ４
測定試料濃度：ポリマー１０ｍｇに対して測定溶媒０．５ｍｌ
測定温度：１３０℃
パルス幅：３０度
パルス繰り返し時間：７秒
測定基準：テトラメチルシラン
積算回数：６４回
＜算出方法＞
４．８６〜５．０２ｐｐｍに観測されるピークの積分値を末端ビニル基として、４．６４〜４．８０ｐｐｍ（ビニリデン）、４．８６〜５．０２ｐｐｍ（ビニル）、５．３０〜５．５３ｐｐｍ（トランスビニレン）に観測されるピークの積分値の和を末端不飽和基として、末端ビニル基／末端不飽和基の値をもとめた。
また、５．３０〜５．５３ｐｐｍに観測されるピークの積分値を末端ビニレン基として、４．６４〜４．８０ｐｐｍ（ビニリデン）、４．８６〜５．０２ｐｐｍ（ビニル）、５．３０〜５．５３ｐｐｍ（トランスビニレン）に観測されるピークの積分値の和を末端不飽和基として、末端ビニレン基／末端不飽和基の値をもとめた。
【００１９】
本発明における末端ビニリデン基とは、下記の一般式（Ｉ）で表すことができる。
ＰＲ4Ｃ＝ＣＨ2  （Ｉ）
（Ｐはエチレン単独重合体のポリマー鎖であり、Ｒ4は炭化水素基である。）
【００２０】
本発明における末端ビニル基とは、下記の一般式（ＩＩ）で表すことができる。
ＰＨＣ＝ＣＨ2  （ＩＩ）
（Ｐはエチレン単独重合体のポリマー鎖である。）
【００２１】
本発明における末端ビニレン基は、下記の一般式（ＩＩＩ）で表すことができる。
ＰＨＣ＝ＣＨＲ4  （ＩＩＩ）
（Ｐはエチレン単独重合体のポリマー鎖であり、Ｒ4は炭化水素基である。）
【００２２】
Ｒ4の炭化水素基としては、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基等があげられる。
【００２３】
アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−エイコシル基などがあげられる。エチレン重合時に連鎖移動剤を用いた場合には、得られるエチレン単独重合体における前記した末端のアルキル基はいずれも、使用した連鎖移動剤に由来するフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子で置換されたアルキル基としては、例えばフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、トリクロロメチル基、フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、パーブロモプロピル基などがあげられる。またこれらのアルキル基はいずれも、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；フェノキシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【００２４】
アルキル基として好ましくは、メチル基、エチル基、およびブチル基である。
【００２５】
アラルキル基としては、例えばベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、（３，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、（ｎ−ドデシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などがあげられる。エチレン重合時に連鎖移動剤を用いた場合には、得られるエチレン単独重合体における前記した末端のアラルキル基はいずれも、使用した連鎖移動剤に由来するフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；フェノキシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【００２６】
アリール基としては、例えばフェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などがあげられる。エチレン重合時に連鎖移動剤を用いた場合には、得られるエチレン単独重合体における前記した末端のアリール基はいずれも、使用した連鎖移動剤に由来するフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；フェノキシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【００２７】
炭化水素基として好ましくは、メチル基、エチル基、およびブチル基であり、より好ましくはエチル基である。
本発明のエチレン単独重合体の末端ビニリデン基は、末端エチルビニリデン基であることが好ましい。
【００２８】
本発明のエチレン単独重合体の極限粘度［η］は、エチレン単独重合体の機械的強度を高める観点から、好ましくは０．３以上であり、より好ましくは０．４以上であり、さらに好ましくは０．５以上である。
【００２９】
エチレン単独重合体の極限粘度［η］は、以下の方法により求めることができる。
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（ＢＨＴ）を０．５ｇ／Ｌの濃度で溶解したテトラリン溶液（以下、ブランク溶液と称する。）と、エチレン重合体を濃度が１ｍｇ／ｍｌとなるようにブランク溶液に溶解した溶液（以下、サンプル溶液と称する。）とを調整し、ウベローデ型粘度計により、ブランク溶液とサンプル溶液の１３５℃での降下時間を測定し、該降下時間から１３５℃での相対粘度（ηｒｅｌ）を求めた後、下記式から算出する。
［η］＝２３．３×ｌｏｇ（ηｒｅｌ）
【００３０】
本発明のエチレン単独重合体は、以下の成分（Ａ）および（Ｂ）を接触させて得られるエチレン重合用触媒成分により製造することができる。
成分（Ａ）：メソ型メタロセン系化合物
成分（Ｂ）：メタロセン系化合物をイオン化してイオン性の錯体を形成する化合物
【００３１】
成分（Ａ）のメソ型メタロセン系化合物は、メソ型のシクロペンタジエニル型アニオン骨格を有する遷移金属化合物であり、下記一般式（１）で表される遷移金属化合物である。
Ｌ2ＭＸ2                        （１）
Ｍは周期律表第４族の遷移金属原子である。Ｌはシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基であり、二つのＬは互いに炭素原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子のいずれか一つ、または二つ以上を含有する架橋基を介して連結され、メソ型に配位したものである。Ｘはハロゲン原子、炭化水素基（但し、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を除く）、または炭化水素オキシ基である。）
【００３２】
一般式（１）において、Ｍは周期律表（ＩＵＰＡＣ１９８９年）第４族の遷移金属原子であり、好ましくはチタン原子、ジルコニウム原子またはハフニウム原子であり、より好ましくはジルコニウム原子である。
【００３３】
一般式（１）において、Ｌはシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基であり、二つのＬは同じであっても異なっていてもよい。また二つのＬは互いに炭素原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子を含有する架橋基を介して連結され、メソ型に配位したものである。
【００３４】
Ｌにおけるシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基としてはη5−（置換）インデニル基であり、具体的に例示すれば、η5−インデニル基、η5−４，５，６，７−テトラヒドロインデニル基、η5−２−メチルインデニル基、η5−３−メチルインデニル基、η5−４−メチルインデニル基、η5−５−メチルインデニル基、η5−６−メチルインデニル基、η5−７−メチルインデニル基、η5−２−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル基、η5−３−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル基、η5−４−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル基、η5−５−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル基、η5−６−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル基、η5−７−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル基、η5−２，３−ジメチルインデニル基、η5−２，４，７−トリメチルインデニル基、η5−２−メチル−４−イソプロピルインデニル基、η5−４，５−ベンズインデニル基、η5−４−フェニルインデニル基、η5−２−メチル−５−フェニルインデニル基、η5−２−メチル−４−フェニルインデニル基、η5−２−メチル−４−ナフチルインデニル基、η5−３−ベンジルインデニル基、およびこれらの置換体等があげられる。なお、本明細書においては、遷移金属化合物の名称については「η5−」を省略することがある。
【００３５】
シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基同士は、それぞれ、炭素原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子のいずれか一つ、または二つ以上を含有する架橋基を介して連結されたものである。かかる架橋基としては、エチレン基、プロピレン基等のアルキレン基；ジメチルメチレン基、ジフェニルメチレン基などの置換アルキレン基；またはシリレン基、ジメチルシリレン基、ジフェニルシリレン基、テトラメチルジシリレン基などの置換シリレン基；ジメチルゲルミレン基、ジフェニルゲルミレン基などのゲルミレン基などがあげられる。
【００３６】
成分（Ａ）のメソ型メタロセン系化合物は、好ましくは、メソ型のインデン型アニオン骨格を有する遷移金属化合物であり、下記一般式（２）で表される遷移金属化合物である。
0005417881.tif 000002
［式中、Ｍは周期律表第４族の遷移金属原子を表し、Ｘはハロゲン原子、炭化水素基（但し、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を除く）、または炭化水素オキシ基であり、下記一般式（２）で表される架橋基Ｑを介して連結され、メソ型に配位したものである。複数のＸは互いに同じであっても異なっていてもよい。
0005417881.tif 000003
（式中、ｍは１〜５の整数であり、Ｊは周期律表の第１４族の原子を表し、複数のＪは互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｋは水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基（但し、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を除く）、置換シリル基で置換された炭化水素基、または置換アミノ基で置換された炭化水素基であり、複数のＫは互いに同じであっても異なっていてもよい。）］
【００３７】
一般式（３）において、Ｊは周期律表（ＩＵＰＡＣ１９８９年）第１４族の原子であり、好ましくは炭素原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子であり、より好ましくは炭素原子、ケイ素原子である。複数のＪは互いに同じであっても異なっていてもよい。
【００３８】
一般式（２）におけるＸは、ハロゲン原子、炭化水素基（但し、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を除く）、または炭化水素オキシ基である。ハロゲン原子の具体例としてフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子があげられる。ここでいう炭化水素基としてはシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を含まない。ここでいう炭化水素基としてはアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基等が挙げられ、炭化水素オキシ基としては、アルコキシ基、アラルキルオキシ基やアリールオキシ基等があげられる。複数のＸは互いに同じであっても異なっていてもよい。
【００３９】
一般式（３）におけるＫは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素オキシ基、置換シリル基で置換された炭化水素基（但し、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を除く）、または置換アミノ基で置換された炭化水素基である。ハロゲン原子の具体例としてフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子があげられる。ここでいう炭化水素基としてはシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を含まない。ここでいう炭化水素基としてはアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基等が挙げられ、炭化水素オキシ基としては、アルコキシ基、アラルキルオキシ基やアリールオキシ基等があげられる。複数のＫは互いに同じであっても異なっていてもよい。
【００４０】
ＸおよびＫにおけるアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−エイコシル基などがあげられ、これらのアルキル基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子で置換されたアルキル基としては、例えばフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、トリクロロメチル基、フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、パーブロモプロピル基などがあげられる。またこれらのアルキル基はいずれも、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；フェノキシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【００４１】
ＸおよびＫにおけるアラルキル基としては、例えばベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、（３，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、（ｎ−ドデシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などがあげられ、これらのアラルキル基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；フェノキシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【００４２】
ＸおよびＫにおけるアリール基としては、例えばフェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などがあげられ、これらのアリール基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；フェノキシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【００４３】
ＸおよびＫにおけるアルケニル基としては、例えばアリル基、メタリル基、クロチル基、１，３−ジフェニル−２−プロペニル基などがあげられる。
【００４４】
ＸおよびＫにおけるアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、ネオペントキシ基、ｎ−ヘキソキシ基、ｎ−オクトキシ基、ｎ−ドデソキシ基、ｎ−ペンタデソキシ基、ｎ−イコソキシ基などがあげられ、これらのアルコキシ基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；フェノキシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【００４５】
ＸおよびＫにおけるアラルキルオキシ基としては、例えばベンジルオキシ基、（２−メチルフェニル）メトキシ基、（３−メチルフェニル）メトキシ基、（４−メチルフェニル）メトキシ基、（２、３−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２、４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２、５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２、６−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−プロピルフェニル）メトキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−デシルフェニル）メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などがあげられ、これらのアラルキルオキシ基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；フェノキシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【００４６】
ＸおよびＫにおけるアリールオキシ基としては、例えばフェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２、３−ジメチルフェノキシ基、２、４−ジメチルフェノキシ基、２、５−ジメチルフェノキシ基、２、６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノキシ基、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ基、２−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェノキシ基、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、２−ｔｅｒｔ−ブチル−３，４−ジメチルフェノキシ基、２−ｔｅｒｔ−ブチル−３，５−ジメチルフェノキシ基、２−ｔｅｒｔ−ブチル−３，６−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノキシ基、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２−ｔｅｒｔ−ブチル−３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルフェノキシ基、２−ｔｅｒｔ−ブチル−３，４，６−トリメチルフェノキシ基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３，４−ジメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノキシ基、２−ｔｅｒｔ−ブチル−３，５，６−トリメチルフェノキシ基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３，５−ジメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基などがあげられ、これらのアリールオキシ基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；フェノキシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【００４７】
Ｋにおける置換シリル基で置換された炭化水素基としては、トリメチルシリルメチル基、トリメチルシリルエチル基、トリメチルシリルプロピル基、トリメチルシリルブチル基、トリメチルシリルフェニル基、ビス（トリメチルシリル）メチル基、ビス（トリメチルシリル）エチル基、ビス（トリメチルシリル）プロピル基、ビス（トリメチルシリル）ブチル基、ビス（トリメチルシリル）フェニル基、トリフェニルシリルメチル基などがあげられる。
【００４８】
Ｋにおける置換アミノ基で置換された炭化水素基としては、ジメチルアミノメチル基、ジメチルアミノエチル基、ジメチルアミノプロピル基、ジメチルアミノブチル基、ジメチルアミノフェニル基、ビス（ジメチルアミノ）メチル基、ビス（ジメチルアミノ）エチル基、ビス（ジメチルアミノ）プロピル基、ビス（ジメチルアミノ）ブチル基、ビス（ジメチルアミノ）フェニル基、フェニルアミノメチル基、ジフェニルアミノメチル基、ジフェニルアミノフェニル基などがあげられる。
【００４９】
架橋基Ｑの具体例としては、エチレン基、プロピレン基等のアルキレン基；ジメチルメチレン基、ジフェニルメチレン基などの置換アルキレン基；またはシリレン基、ジメチルシリレン基、ジフェニルシリレン基、テトラメチルジシリレン基などの置換シリレン基；ジメチルゲルミレン基、ジフェニルゲルミレン基などのゲルミレン基などがあげられる。
【００５０】
メソ型メタロセン系化合物の具体例としては、架橋基で２つのシクロペンタジエニル型アニオン骨格が結合した構造を持つ基を有するメソ型メタロセン系化合物として、メソ−ジメチルシリレンビス（インデニル）チタンジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２−メチルインデニル）チタンジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル）チタンジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２，３−ジメチルインデニル）チタンジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２，４，７−トリメチルインデニル）チタンジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２−メチル−４−イソプロピルインデニル）チタンジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（４，５−ベンズインデニル）チタンジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２−フェニルインデニル）チタンジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（４−フェニルインデニル）チタンジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２−メチル−４−フェニルインデニル）チタンジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２−メチル−５−フェニルインデニル）チタンジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２−メチル−４−ナフチルインデニル）チタンジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（３−ベンジルインデニル）チタンジクロライド、メソ−ジメチルシリレン（インデニル）（３−ベンジルインデニル）チタンジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）チタンジクロライド、などや、メソ−ジメチルシリレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２−メチルインデニル）ジルコニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル）ジルコニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２，３−ジメチルインデニル）ジルコニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２，４，７−トリメチルインデニル）ジルコニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２−メチル−４−イソプロピルインデニル）ジルコニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（４，５−ベンズインデニル）ジルコニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２−フェニルインデニル）ジルコニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（４−フェニルインデニル）ジルコニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２−メチル−４−フェニルインデニル）ジルコニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２−メチル−５−フェニルインデニル）ジルコニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２−メチル−４−ナフチルインデニル）ジルコニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（３−ベンジルインデニル）ジルコニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレン（インデニル）（３−ベンジルインデニル）ジルコニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロライド、などや、メソ−ジメチルシリレンビス（インデニル）ハフニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２−メチルインデニル）ハフニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル）ハフニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２，３−ジメチルインデニル）ハフニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２，４，７−トリメチルインデニル）ハフニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２−メチル−４−イソプロピルインデニル）ハフニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（４，５−ベンズインデニル）ハフニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２−フェニルインデニル）ハフニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（４−フェニルインデニル）ハフニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２−メチル−４−フェニルインデニル）ハフニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２−メチル−５−フェニルインデニル）ハフニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（２−メチル−４−ナフチルインデニル）ハフニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（３−ベンジルインデニル）ハフニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレン（インデニル）（３−ベンジルインデニル）ハフニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ハフニウムジクロライド、などや、これらの化合物の、ジメチルシリレンをメチレン、エチレン、ジメチルメチレン（イソプロピリデン）、ジフェニルメチレン、ジエチルシリレン、ジフェニルシリレン、ジメトキシシリレン、ジメチルゲルミレン、またはジフェニルゲルミレンに変更した化合物、ジクロライドをジフルオライド、ジブロマイド、ジアイオダイド、ジメチル、ジエチル、ジイソプロピル、ジフェニル、ジベンジル、ジメトキシド、ジエトキシド、ジ（ｎ−プロポキシド）、ジ（イソプロポキシド）、ジフェノキシド、またはジ（ペンタフルオロフェノキシド）に変更した化合物などを例示することができる。
【００５１】
成分（Ａ）のメソ型メタロセン系化合物としては、アルキレン基やシリレン基等の架橋基で２つのシクロペンタジエニル型アニオン骨格が結合した構造を持つ基を有するメソ型メタロセン系化合物が好ましい。
【００５２】
シクロペンタジエニル型アニオン骨格としては、インデニル基、メチルインデニル基、ベンジルインデニル基、が好ましく、インデニル基がより好ましい。
架橋基としては、エチレン基、ジメチルメチレン基、ジメチルシリレン基が好ましく、ジメチルシリレン基がより好ましい。
より好ましいメソ型メタロセン系化合物としては、メソ−エチレンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライド、メソ−ジメチルシリレンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライド、メソ−ジメチルメチレンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドをあげることができる。さらに好ましいメソ型メタロセン系化合物としては、メソ−ジメチルシリレンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドをあげることができる。
【００５３】
これらの遷移金属化合物は一種類のみを用いても、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５４】
成分（Ｂ）は、メタロセン系化合物をイオン化してイオン性の錯体を形成する化合物である。
メタロセン系化合物をイオン化してイオン性の錯体を形成する化合物としては、有機アルミニウムオキシ化合物および／またはホウ素化合物をあげることができる。
【００５５】
有機アルミニウムオキシ化合物としては、下記一般式（４）で示される構造を有する環状のアルミノキサン、下記一般式（５）で示される構造を有する線状のアルミノキサン、（４）および／または（５）と水酸基を有する化合物とを反応させることにより得られる変性アルミノキサン化合物などがあげられる。（但し、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ炭化水素基であり、全てのＲ1、全てのＲ2は同じであっても異なっていてもよい。ａは２以上の整数を、ｂは１以上の整数を表す。）
Ｒ1、またはＲ2における炭化水素基としては、炭素原子数１〜８の炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
｛−Ａｌ（Ｒ1）−Ｏ−｝a    （４）
Ｒ2｛−Ａｌ（Ｒ2）−Ｏ−｝bＡｌＲ22    （５）
【００５６】
一般式（４）で示される構造を有する環状のアルミノキサン、一般式（５）で示される構造を有する線状のアルミノキサンにおける、Ｒ1、Ｒ2の具体例としては、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基等のアルキル基を例示することができる。ａは２以上の整数であり、ｂは１以上の整数である。好ましくは、Ｒ1およびＲ2はメチル基、またはイソブチル基であり、ａは２〜４０、ｂは１〜４０である。
【００５７】
上記のアルミノキサンは各種の方法で作られる。その方法については特に制限はなく、公知の方法に準じて作ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を適当な有機溶剤（ベンゼン、脂肪族炭化水素など）に溶かした溶液を水と接触させて作る。また、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）と結晶水を含んでいる金属塩（例えば、硫酸銅水和物など）に接触させて作る方法が例示できる。このようにして得られたアルミノキサンや市販のアルミノキサンは通常、（４）と（５）との混合物となっていると考えられる。
【００５８】
また、このようなアルミノキサン（前記（４）および／または（５）で表わされるアルミノキサン）と水酸基を有する化合物とを反応させることにより得られる変性アルミノキサン化合物を形成させ使用することも好ましくされる。かかる水酸基を有する化合物としては、アルコール、フェノール、またはシラノールである。
【００５９】
有機アルミニウムオキシ化合物等の具体例として、メチルアルミノサン、メチルイソブチルアルミノサンなどをあげることができる。
【００６０】
ホウ素化合物としては、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等があげられる。
【００６１】
メタロセン系化合物をイオン化してイオン性の錯体を形成する化合物としては、有機アルミニウムオキシ化合物が好ましい。
【００６２】
成分（Ｂ）におけるメタロセン系化合物をイオン化してイオン性の錯体を形成する化合物は、微粒子状担体に担持して用いてもよい。微粒子状担体としては、多孔性の物質が好ましく、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、Ｂ2Ｏ3、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＢａＯ、ＴｈＯ2等の無機酸化物；スメクタイト、モンモリロナイト、ヘクトライト、ラポナイト、サポナイト等の粘土や粘土鉱物；ポリエチレン、ポリプロピレン、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体などの有機ポリマーなどが使用される。該微粒子状担体の５０％体積平均粒子径は、通常、１０〜５００μｍであり、該５０％体積平均粒子径は、光散乱式レーザー回折法などで測定される。また、該微粒子状担体の細孔容量は、通常０．３〜１０ｍｌ／ｇであり、該微粒子状担体の比表面積は、通常、１０〜１０００ｍ2／ｇである。該細孔容量と該比表面積は、ガス吸着法により測定され、細孔容量はガス脱着量をＢＪＨ法で、比表面積はガス吸着量をＢＥＴ法で解析することにより求められる。
【００６３】
該微粒子状担体は、乾燥され、実質的に水分が除去されていることが好ましく、乾燥方法として好ましくは加熱乾燥である。乾燥温度は、目視で水分を確認できない微粒子状担体については、通常温度１００〜１５００℃であり、好ましくは１００〜１０００℃であり、更に好ましくは２００〜８００℃である。乾燥時間は特に限定されないが、好ましくは１０分間〜５０時間、より好ましくは１時間〜３０時間である。加熱乾燥の方法としては、例えば、加熱中に乾燥した不活性ガス（例えば、窒素またはアルゴン等）を一定の流速で流通させて乾燥する方法、または、減圧下で加熱乾燥する方法等があげられる。
【００６４】
成分（Ｂ）のメタロセン系化合物をイオン化してイオン性の錯体を形成する化合物を、微粒子状担体に担持する方法としては、メタロセン系化合物をイオン化してイオン性の錯体を形成する化合物と微粒子状担体とを接触させる方法であればよく、溶媒中でこれらを混合して接触させる方法などがあげられる。また該方法では、微粒子状担体の存在下で、メタロセン系化合物をイオン化してイオン性の錯体を形成する化合物を調製する方法でもよい。
【００６５】
メタロセン系化合物をイオン化してイオン性の錯体を形成する化合物と微粒子状担体との接触処理は、不活性気体雰囲気下で行うことが好ましい。また、処理温度は通常−１００〜３００℃であり、好ましくは−８０〜２００℃である。処理時間は通常１分間〜２００時間であり、好ましくは１０分間〜１００時間である。また、このような処理は溶媒を用いてもよく、または溶媒を用いることなく直接接触処理してもよい。
【００６６】
接触処理に用いる溶媒としては、メタロセン系化合物をイオン化してイオン性の錯体を形成する化合物に対して不活性な溶媒が用いられ、通常、炭化水素溶媒が用いられ、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、２，２，４−トリメチルペンタン、シクロヘキサン等の飽和炭化水素溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒があげられる。
【００６７】
本発明のエチレン単独重合体を重合する際には、前記成分（Ａ）、（Ｂ）に加えて、成分（Ｃ）として有機アルミニウム化合物を併用してもよい。特に成分（Ｂ）がホウ素化合物である場合には、成分（Ｃ）を併用することにより、本発明のエチレン単独重合体を得ることができる。
成分（Ｃ）の有機アルミニウム化合物としては、公知の有機アルミニウム化合物が使用できる。好ましくは、下記一般式（６）で示される有機アルミニウム化合物である。
Ｒ3cＡｌＹ3-c                                        （６）
（式中、Ｒは炭化水素基を表し、全てのＲ3は同一であっても異なっていてもよい。Ｙは水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、またはアリールオキシ基を表し、全てのＹは同一であっても異なっていてもよい。ｃは０＜ｃ≦３を満足する数を表す。）
【００６８】
有機アルミニウム化合物を表す一般式（６）におけるＲ3として好ましくは炭素原子数１〜２４の炭化水素基であり、より好ましくは炭素原子数１〜２４のアルキル基である。具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ヘキシル基、２−メチルヘキシル基、ｎ−オクチル基等が挙げられ、好ましくはエチル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ヘキシル基またはｎ−オクチル基である。
【００６９】
また、Ｙがハロゲン原子である場合の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、好ましくは塩素原子である。
Ｙにおけるアルコキシ基としては炭素原子数１〜２４のアルコキシ基が好ましく、具体例としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、ネオペントキシ基、ｎ−ヘキソキシ基、ｎ−オクトキシ基、ｎ−ドデソキシ基、ｎ−ペンタデソキシ基、ｎ−イコソキシ基などが挙げられ、好ましくはメトキシ基、エトキシ基またはｔｅｒｔ−ブトキシ基である。
【００７０】
Ｙにおけるアリールオキシ基としては炭素原子数６〜２４のアリールオキシ基が好ましく、具体例としては、例えばフェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基などが挙げられる。
【００７１】
Ｙにおけるアラルキルオキシ基としては炭素原子数７〜２４のアラルキルオキシ基が好ましく、具体例としては、例えばベンジルオキシ基、（２−メチルフェニル）メトキシ基、（３−メチルフェニル）メトキシ基、（４−メチルフェニル）メトキシ基、（２，３−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，６−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−プロピルフェニル）メトキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−デシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−テトラデシルフェニル）メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などが挙げられ、好ましくはベンジルオキシ基である。
【００７２】
一般式（６）で表される有機アルミニウム化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ−ｎ−プロピルアルミニウム、トリ−ｎ−ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−ｎ−ヘキシルアルミニウム、トリ−ｎ−オクチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム；ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジ−ｎ−プロピルアルミニウムクロライド、ジ−ｎ−ブチルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジ−ｎ−ヘキシルアルミニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロライド；メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、ｎ−プロピルアルミニウムジクロライド、ｎ−ブチルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ｎ−ヘキシルアルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジクロライド；ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジ−ｎ−プロピルアルミニウムハイドライド、ジ−ｎ−ブチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジ−ｎ−ヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイドライド；メチル（ジメトキシ）アルミニウム、メチル（ジエトキシ）アルミニウム、メチル（ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ）アルミニウム等のアルキル（ジアルコキシ）アルミニウム；ジメチル（メトキシ）アルミニウム、ジメチル（エトキシ）アルミニウム、ジメチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）アルミニウム等のジアルキル（アルコキシ）アルミニウム；メチル（ジフェノキシ）アルミニウム、メチルビス（２，６−ジイソプロピルフェノキシ）アルミニウム、メチルビス（２，６−ジフェニルフェノキシ）アルミニウム等のアルキル（ジアリールオキシ）アルミニウム；ジメチル（フェノキシ）アルミニウム、ジメチル（２，６−ジイソプロピルフェノキシ）アルミニウム、ジメチル（２，６−ジフェニルフェノキシ）アルミニウム等のジアルキル（アリールオキシ）アルミニウム等を例示することができる。
【００７３】
これらの内、好ましくはトリアルキルアルミニウムであり、さらに好ましくはトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ−ｎ−ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−ｎ−ヘキシルアルミニウムまたはトリ−ｎ−オクチルアルミニウムであり、特に好ましくはトリイソブチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、またはトリ−ｎ−オクチルアルミニウムである。
これらの有機アルミニウム化合物は一種類のみを用いても、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７４】
各触媒成分を触媒調製用反応器もしくは重合用反応器に供給する方法も、特に制限されるものではない。各成分を固体状態で供給する方法、水分や酸素等の触媒成分を失活させる成分を十分に取り除いた炭化水素溶媒に溶解させた溶液状態、または懸濁もしくはスラリー化させた状態で供給する方法等が挙げられる。このときの溶媒としては、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、またはメチレンクロライド等のハロゲン化炭化水素が挙げられ、脂肪族炭化水素または芳香族炭化水素が好ましい。
【００７５】
本発明において、前記触媒成分を用いてエチレンを単独重合する方法も特に限定されるものではなく、ガス状のモノマー中での気相重合、溶媒を使用するスラリー重合等が可能である。エチレン自身を溶媒に用いること（バルク重合）も可能である。重合方法は、回分式重合、連続式重合のいずれでも可能であり、さらに重合を反応条件の異なる２段階以上に分けて行ってもよい。重合時間は、一般に、目的とするオレフィン重合体の種類、反応装置により適宜決定されるが、通常、１分間〜２０時間の範囲を取ることができる。
各触媒成分、モノマーは、公知の任意の方法によって、任意の順序で反応器に添加できる。例えば、各触媒成分、モノマーを反応器に同時に添加する方法、逐次に添加する方法等を用いることができる。各触媒成分はモノマーと接触させる前に、不活性雰囲気中において予備接触させておいてもよい。
【００７６】
溶液重合、およびスラリー重合は、公知の重合方法、重合条件に従って行えばよい。好ましい重合方法として、モノマー供給物、希釈剤などを必要に応じて連続的に添加し、かつ、ポリマー生成物を連続的または少なくとも周期的に取出す連続式反応器を用いて連続的に重合する方法が挙げられる。反応器としては、ループ反応器や、攪拌反応器を使用することができる。また、反応条件が異なる複数の反応器を直列および／または並列に並べて使用してもよい。
【００７７】
製造するエチレン単独重合体の分子量は反応帯域の温度の調節、水素の添加等、公知の各種の手段によって制御することができる。
水素を用いる場合は、得られるエチレン単独重合体の末端ビニリデン基／末端メチル基の値を大きくする観点から、添加量を少なくすることが好ましい。
【００７８】
また、重合に際して、混合ガス中に不活性ガスなどを共存させてもよい。
【００７９】
溶液重合、およびスラリー重合の際の条件として、温度は通常−３０℃〜１５０℃であり、好ましくは０℃〜１００℃の範囲であり、より好ましくは０〜８０℃である。より高い温度で重合することにより、重合活性を高めることができ、また得られるエチレン単独重合体の末端ビニリデン基／末端メチル基の値を大きくすることができる。またより低い温度で重合することにより、得られるエチレン単独重合体の分子量を高くすることができる。
【００８０】
溶液重合、およびスラリー重合に用いる溶媒としては、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の飽和炭化水素溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、またはメチレンクロライド等のハロゲン化炭化水素溶媒が挙げられる。
【００８１】
気相重合は、公知の気相重合方法、重合条件に従って行えばよい。気相重合反応装置としては、流動層型反応槽、好ましくは、拡大部を有する流動層型反応槽が用いられる。反応槽内に攪拌翼が設置された反応装置を用いてもよい。
【００８２】
重合に用いる希釈剤としては、例えばパラフィン、シクロパラフィンまたは芳香族炭化水素のような不活性希釈剤を用いることができる。
【００８３】
気相重合における重合用反応器反応帯域の温度は、通常０℃〜１５０℃、好ましくは３０℃〜１００℃の範囲をとることができる。また、重合に際して、混合ガス中に不活性ガスを共存させてもよい。より高い温度で重合することにより、重合活性を高めることができ、また得られるエチレン単独重合体の末端ビニリデン基／末端メチル基の値を大きくすることができる。またより低い温度で重合することにより、得られるエチレン単独重合体の分子量を高くすることができる。
【００８４】
重合におけるエチレンの分圧は、通常０．０１ＭＰａ〜１０ＭＰａである。重合活性を高める観点から、好ましくは０．０２ＭＰａ以上であり、より好ましくは０．０５ＭＰａ以上である。得られるエチレン単独重合体のエチル分岐数を増加させる観点から、好ましくは５ＭＰａ以下であり、より好ましくは２ＭＰａ以下であり、さらに好ましくは１ＭＰａ以下である。
【００８５】
本発明においては、このような重合（本重合）の実施前に予備重合を行ってもかまわない。
【００８６】
本発明のエチレン単独重合体を得るために用いる触媒成分は、前記した成分（Ａ）および成分（Ｂ）、さらに任意成分として成分（Ｃ）を接触させて得られる。成分（Ａ）の使用量は、重合活性を高める観点から、成分（Ｂ）１ｇに対し、通常０．０００００１ｍｏｌ〜０．００２ｍｏｌであり、０．００００１ｍｏｌ〜０．００２ｍｏｌであることが好ましい。
【００８７】
成分（Ｃ）の使用量は、成分（Ａ）に対する成分（Ｃ）のモル比（Ｃ）／（Ａ）として、通常１０００００以下であり、得られるエチレン単独重合体のエチル分岐数を増加させる観点から、１００００以下であることが好ましい。
【００８８】
溶液重合、およびスラリー重合において、成分（Ｂ）として有機アルミニウムオキシ化合物を用いる場合は、成分（Ｂ）と成分（Ｃ）の合計濃度は、溶媒に対し通常１０ｍｍｏｌ／Ｌ以下であり、末端ビニリデン基／末端メチル基の値を大きくする観点から、好ましくは８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であり、より好ましくは、６ｍｍｏｌ／Ｌ以下であり、さらに好ましくは４ｍｍｏｌ／Ｌ以下であり、特に好ましくは２ｍｍｏｌ／Ｌ以下である。
【００８９】
溶液重合、およびスラリー重合において、成分（Ｂ）としてホウ素化合物を用いる場合は、成分（Ｃ）の濃度は、溶媒に対し通常１０ｍｍｏｌ／Ｌ以下である。末端ビニリデン基／末端メチル基の値を大きくする観点から、好ましくは８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であり、より好ましくは、６ｍｍｏｌ／Ｌ以下であり、さらに好ましくは４ｍｍｏｌ／Ｌ以下であり、特に好ましくは２ｍｍｏｌ／Ｌ以下である。
【００９０】
メタロセン系化合物中のメソ型メタロセン系化合物の割合は、通常９５重量％以上であり、好ましくは９７重量％以上、さらに好ましくは９９重量％以上である。
メソ型メタロセン系化合物は、再結晶などの方法により得ることができる。またメタロセン系化合物中のメソ型メタロセン系化合物の割合は、通常、ＮＭＲなどの分析手法により求めることができる。
例えば、メソ型メタロセン系化合物の一つである、メソ−ジメチルシリレンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの1Ｈ−ＮＭＲの分析値は、非特許文献２に記載されている。
【００９１】
本発明のエチレン単独重合体には、必要に応じて、公知の添加剤を含有させてもよい。添加剤としては、例えば、発泡剤、発泡助剤、架橋剤、架橋助剤、酸化防止剤、耐候剤、滑剤、抗ブロッキング剤、帯電防止剤、防曇剤、無滴剤、顔料、フィラー等があげられる。
【００９２】
本発明のエチレン単独重合体は、公知の成形加工方法、例えば、インフレーションフィルム成形加工法やＴダイフィルム成形加工法などの押出成形法、射出成形法、圧縮成形法、押出発泡法、常圧発泡成形法、加圧発泡成形法などが用いられる。
【００９３】
本発明のエチレン単独重合体を用いて、成形体を得ることができる。該成形体としては、パイプ・チューブ類、容器類、キャップ類、フィルム、シート等が挙げられる。
【実施例】
【００９４】
以下、実施例および比較例により本発明を説明する。
（１）極限粘度（［η］、単位：ｄｌ／ｇ）
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（ＢＨＴ）を０．５ｇ／Ｌの濃度で溶解したテトラリン溶液（以下、ブランク溶液と称する。）と、エチレン重合体を濃度が１ｍｇ／ｍｌとなるようにブランク溶液に溶解した溶液（以下、サンプル溶液と称する。）とを調整し、ウベローデ型粘度計により、ブランク溶液とサンプル溶液の１３５℃での降下時間を測定し、該降下時間から１３５℃での相対粘度（ηｒｅｌ）を求めた後、下記式から算出した。
［η］＝２３．３×ｌｏｇ（ηｒｅｌ）
【００９５】
（２）エチル分岐（炭素原子数２）の数（単位：１／１０００Ｃ）
カーボン核磁気共鳴法によって、次の測定条件により、カーボン核磁気共鳴スペクトル（13Ｃ−ＮＭＲ）を測定し、下記算出方法より求めた。
＜測定条件＞
装置    ：Ｂｒｕｋｅｒ社製  ＡＶＡＮＣＥ６００
測定プローブ：１０ｍｍプローブ
測定溶媒：１，２−ジクロロベンゼン／１，２−ジクロロベンゼン−ｄ４
＝７５／２５（容積比）の混合液
測定温度：１３０℃
測定方法：プロトンデカップリング法
パルス幅：４５度
パルス繰り返し時間：４秒
測定基準：テトラメチルシラン
窓関数  ：正の指数関数
積算回数：３２．０〜３２．２ｐｐｍに観測されるピークのＳＮ比が１００以上になるまで積算した。なお、ノイズの基準は５０〜６０ｐｐｍの領域をノイズと定義した。
＜エチル分岐の数の算出方法＞
５〜５０ｐｐｍに観測されるすべてのピークの積分値の総和を１０００として、３９．５〜４０．０ｐｐｍに観測されるピークの積分値と３７．１〜３７．６ｐｐｍに観測される積分値の和をエチル分岐の数とした。
＜他のアルキル分岐の数の算出方法＞
５〜５０ｐｐｍに観測されるすべてのピークの積分値の総和を１０００としたときの、１９〜２０ｐｐｍに観測されるピークの積分値をメチル分岐数、１４．３〜１４．８ｐｐｍに観測されるピークの積分値をプロピル分岐数、３８．０〜３８．５ｐｐｍに観測されるピーク積分値の総和を炭素原子数４以上の分岐数とした。
【００９６】
（３）末端ビニリデン基／末端メチル基の値
カーボン核磁気共鳴法によって、次の測定条件により、カーボン核磁気共鳴スペクトル（13Ｃ−ＮＭＲ）を測定し、下記算出方法より求めた。
＜測定条件＞
装置    ：Ｂｒｕｋｅｒ社製  ＡＶＡＮＣＥ６００
測定プローブ：１０ｍｍプローブ
測定溶媒：１，２−ジクロロベンゼン／１，２−ジクロロベンゼン−ｄ４
＝７５／２５（容積比）の混合液
測定温度：１３０℃
測定方法：プロトンデカップリング法
パルス幅：４５度
パルス繰り返し時間：４秒
測定基準：テトラメチルシラン
窓関数  ：正の指数関数
積算回数：３２．０〜３２．２ｐｐｍに観測されるピークのＳＮ比が１００以上になるまで積算した。なお、ノイズの基準は５０〜６０ｐｐｍの領域をノイズと定義した。
＜算出方法＞
３６．４〜３６．６ｐｐｍに観測されるピークの積分値を末端ビニリデン基、３２．０〜３２．２ｐｐｍに観測されるピークの積分値を末端メチル基として、末端ビニリデン基／末端メチル基の値を求めた。
【００９７】
（４）末端ビニル基／不飽和末端基、および末端ビニレン基／不飽和末端基の値
プロトン核磁気共鳴法によって、次の測定条件により、プロトン核磁気共鳴スペクトル（1Ｈ−ＮＭＲ）を測定し、下記算出方法より求めた。
＜測定条件＞
装置    ：日本電子製  ＥＸ２７０
測定プローブ：５ｍｍプローブ
測定溶媒：１，２−ジクロロベンゼン−ｄ４
測定試料濃度：ポリマー１０ｍｇに対して測定溶媒０．５ｍｌ
測定温度：１３０℃
パルス幅：３０度
パルス繰り返し時間：７秒
測定基準：テトラメチルシラン
積算回数：６４回
＜算出方法＞
４．８６〜５．０２ｐｐｍに観測されるピークの積分値を末端ビニル基として、４．６４〜４．８０ｐｐｍ（ビニリデン）、４．８６〜５．０２ｐｐｍ（ビニル）、５．３０〜５．５３ｐｐｍ（トランスビニレン）に観測されるピークの積分値の和を末端不飽和基として、末端ビニル基／末端不飽和基の値をもとめた。
また、５．３０〜５．５３ｐｐｍに観測されるピークの積分値を末端ビニレンとして、４．６４〜４．８０ｐｐｍ（ビニリデン）、４．８６〜５．０２ｐｐｍ（ビニル）、５．３０〜５．５３ｐｐｍ（トランスビニレン）に観測されるピークの積分値の和を末端不飽和基として、末端ビニレン基／不飽和末端基の値をもとめた。
【００９８】
（５）メタロセン系化合物中のメソ−ジメチルシリレンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの割合
非特許文献２を参考に、プロトン核磁気共鳴法によって、次の測定条件により、プロトン核磁気共鳴スペクトル（1Ｈ−ＮＭＲ）を測定し、割合を求めた。
＜測定条件＞
測定プローブ：５ｍｍプローブ
測定溶媒：クロロホルム−ｄ１
測定試料濃度：サンプル１０ｍｇに対して測定溶媒０．５ｍｌ
測定温度：２５℃
パルス幅：３０度
パルス繰り返し時間：５秒
測定基準：化学シフト値の基準は、クロロホルムのピークを７．２４ｐｐｍとした。
積算回数：８回
【００９９】
実施例１
（１）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した５リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を真空にし、ブタンを１２００ｇ仕込み、系内の温度を５０℃まで昇温した後、エチレンを、その分圧が０．１ＭＰａになるように導入し、系内を安定させた。これにメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製  ＰＭＡＯ−ｓ）の濃度が２．７９ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサンのヘキサン溶液を０．５５ｍＬ投入した（溶媒に対するメチルアルミノキサンの濃度は、０．８ｍｍｏｌ／ｍＬである）。次にメソ−ジメチルシリレンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライド濃度が２μｍｏｌ／ｍＬであるメソ−ジメチルシリレンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドのトルエン溶液を３ｍＬ投入した。重合中は全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給しながら、５０℃で２４０分重合した。その後、ブタン、エチレンをパージして、エチレン重合体９．８ｇを得た。得られたエチレン単独重合体の［η］は０．６３であった。13Ｃ−ＮＭＲ測定において観測されたアルキル分岐はエチル分岐のみであり、エチル分岐数は１４．６（／１０００Ｃ）であった。13Ｃ−ＮＭＲより算出した、末端ビニリデン／末端メチルの比は０．９７であった。
また1Ｈ−ＮＭＲにおいて、４．０〜６．５ｐｐｍで観測されたピークは、ビニリデン構造に由来する４．７ｐｐｍのみであり、末端ビニル基／末端不飽和基の値は０、末端ビニレン基／末端不飽和基の値は０、であった。
なお、重合に用いたメソ−ジメチルシリレンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドについて、1Ｈ−ＮＭＲ測定したところ、メソ−ジメチルシリレンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライド以外の化合物は確認できなかった。
【０１００】
実施例２
（１）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した５リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を真空にし、ブタンを１２００ｇ仕込み、系内の温度を５０℃まで昇温した後、エチレンを、その分圧が０．１ＭＰａになるように導入し、系内を安定させた。これにメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製  ＰＭＡＯ−ｓ）の濃度が２．７２ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサンのヘキサン溶液を２．２ｍＬ投入した（溶媒に対するメチルアルミノキサンの濃度は、３．０ｍｍｏｌ／ｍＬである）。次にメソ−ジメチルシリレンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライド濃度が２μｍｏｌ／ｍＬであるメソ−ジメチルシリレンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドのトルエン溶液を３ｍＬ投入した。重合中は全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給しながら、５０℃で２４０分重合した。その後、ブタン、エチレンをパージして、エチレン重合体３３．５ｇを得た。得られたエチレン単独重合体の［η］は０．５８であった。13Ｃ−ＮＭＲ測定において観測されたアルキル分岐はエチル分岐のみであり、エチル分岐数は１４．５（／１０００Ｃ）であった。13Ｃ−ＮＭＲより算出した、末端ビニリデン／末端メチルの比は０．９６であった。
また1Ｈ−ＮＭＲにおいて、４．０〜６．５ｐｐｍで観測されたピークは、ビニリデン構造に由来する４．７ｐｐｍのみであり、末端ビニル基／末端不飽和基の値は０、末端ビニレン基／末端不飽和基の値は０、であった。
なお、重合に用いたメソ−ジメチルシリレンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドについて、1Ｈ−ＮＭＲ測定したところ、メソ−ジメチルシリレンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライド以外の化合物は確認できなかった。
【０１０１】
比較例１
（１）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した５リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を真空にし、ブタンを１２００ｇ仕込み、系内の温度を５０℃まで昇温した後、エチレンを、その分圧が０．１ＭＰａになるように導入し、系内を安定させた。これにメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製  ＰＭＡＯ−ｓ）の濃度が２．７２ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサンのヘキサン溶液を１１．０ｍＬ投入した（溶媒に対するメチルアルミノキサンの濃度は、３０ｍｍｏｌ／ｍＬである）。次にメソ−ジメチルシリレンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライド濃度が２μｍｏｌ／ｍＬであるメソ−ジメチルシリレンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドのトルエン溶液を３ｍＬ投入した。重合中は全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給しながら、５０℃で２４０分重合した。その後、ブタン、エチレンをパージして、エチレン重合体３３．５ｇを得た。得られたエチレン単独重合体の［η］は０．６６であった。13Ｃ−ＮＭＲ測定において観測されたアルキル分岐はエチル分岐のみであり、エチル分岐数は１４．４（／１０００Ｃ）であった。13Ｃ−ＮＭＲより算出した、末端ビニリデン／末端メチルの比は０．８７であった。
また1Ｈ−ＮＭＲにおいて、４．０〜６．５ｐｐｍで観測されたピークは、ビニリデン構造に由来する４．７ｐｐｍのみであり、末端ビニル基／末端不飽和基の値は０、末端ビニレン基／末端不飽和基の値は０、であった。
なお、重合に用いたメソ−ジメチルシリレンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドについて、1Ｈ−ＮＭＲ測定したところ、メソ−ジメチルシリレンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライド以外の化合物は確認できなかった。
【０１０２】
参考例１  
市販のエチレン系共重合体（住友化学株式会社製  スミカセン−Ｌ  ＦＳ２４０）の値を示す。［η］は１．５であった。13Ｃ−ＮＭＲ測定において観測されたアルキル分岐はエチル分岐のみであり、エチル分岐数は２０．３（／１０００Ｃ）であった。13Ｃ−ＮＭＲで末端ビニリデンに由来するピークは観測されず、末端ビニリデン／末端メチルの比は０であった。また1Ｈ−ＮＭＲにおいて、末端不飽和基に由来する４．０〜６．５ｐｐｍのピークはなかった。