(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
両面研磨装置の上定盤と下定盤の対向する面にそれぞれ研磨パッドを装着し、上定盤に装着した研磨パッドの研磨面と下定盤に装着した研磨パッドの研磨面との間に、円盤形状を有するガラス基板を保持したキャリアを配置し、ガラス基板の両主平面に上定盤の研磨パッドの研磨面と下定盤の研磨パッドの研磨面を互いに押圧させた状態で、ガラス基板の主平面に研磨液を供給するとともに、ガラス基板と研磨面を相対的に動かして、ガラス基板の両主平面を同時に研磨する工程を有する、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
前記研磨工程においては、
前記キャリアは、円盤形状ガラス基板を保持するガラス基板保持穴を複数有し、該ガラス基板保持穴の真円度は１００μｍ以下で、かつ前記ガラス基板保持穴の直径は前記円盤形状ガラス基板の直径に対し１．１０ｍｍ〜１．９０ｍｍ大きいものであり、研磨される前記円盤形状ガラス基板の両主平面の総研磨量は４〜７５μｍであることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
請求項１の製造方法により製造された磁気記録媒体用ガラス基板であり、
前記磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域の内径側領域と外径側領域において、０°、９０°、１８０°、２７０°の計８箇所の位置で、マイクロメータまたはレーザ変位計を用いて測定した板厚の最大板厚値と最小板厚値の差（同一ガラス基板面内の板厚偏差）から求めた平行度ａが０．５μｍ以下である磁気記録媒体用ガラス基板。
【請求項３】
請求項１の製造方法により製造された磁気記録媒体用ガラス基板であり、
前記磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも記録再生領域における、レーザ干渉計を用いて測定した両主平面の平行度ｂが０．６μｍ以下である磁気記録媒体用ガラス基板。
【請求項４】
請求項１の製造方法により製造された磁気記録媒体用ガラス基板であり、
同一ロットで研磨加工された磁気記録媒体用ガラス基板間の板厚の偏差が０．８μｍ以下である磁気記録媒体用ガラス基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板面内の板厚偏差に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法と磁気記録媒体用ガラス基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の磁気ディスクの高記録密度化にともない、磁気記録媒体用ガラス基板への要求特性は年々厳しくなっている。磁気ディスクの高記録密度化を達成するため、ガラス基板の主平面の面積を有効活用するべく、磁気ヘッドをガラス基板の端部まで通過させるようになってきている。また、大容量の情報を磁気ディスクへ速く記録再生するため、磁気ディスクの回転速度を高速化する検討も行われている。
【０００３】
磁気ヘッドをガラス基板の端部まで通過させる、あるいは磁気ディスクの回転速度を高速化させる場合、磁気記録媒体用ガラス基板の形状（例えば、板厚偏差、端部形状、平坦度など）に乱れがあると、磁気ヘッドの浮上姿勢が乱され、磁気ヘッドが磁気ディスクに接触して障害が発生するおそれがある。
【０００４】
磁気記録媒体用ガラス基板の形状、特に基板外周端部の平滑性を向上するキャリア（特許文献１）が提案されている。また、非特許文献１に、ガラス基板保持穴のガラス基板に対する直径差が、研磨加工中のガラス基板の挙動に及ぼす影響が調べられている。
【０００５】
ガラス基板保持穴のガラス基板に対する直径差を１．０ｍｍとして、両面研磨装置を用いてガラス基板を研磨加工した時、ガラス基板はガラス基板保持穴内で殆ど自転運動しない様子が、非特許文献１において観察されている。特許文献１に記載のキャリアは、ガラス基板保持穴の磁気記録媒体用ガラス基板に対する直径差を０．５ｍｍ〜１．０ｍｍに設定してガラス基板を研磨するものであり、ガラス基板保持穴内でガラス基板が殆ど自転運動しないため、磁気記録媒体用ガラス基板の面内を均一に研磨できず、ガラス基板面内の板厚偏差に優れる磁気記録媒体用ガラス基板が得られないおそれがある。
【０００６】
また、ガラス基板の研磨を継続すると、上定盤の研磨面と下定盤の研磨面はガラス基板により削られ、研磨中にガラス基板に接触する研磨面と接触しない研磨面との境界に段差が形成される。このように、上定盤の研磨面と下定盤の研磨面に形成された段差は、ガラス基板研磨中にガラス基板の外径側領域に接触し、ガラス基板の外径側領域を局部的に過剰研磨するおそれがある。そのため、同一ガラス基板面内の研磨量を均一とすることが難しくなり、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが困難となるおそれがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−１９８７５１号公報
【非特許文献】
【０００８】
【非特許文献１】２０１０年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集  頁７５〜７６、Ａ７４  スケルトン両面研磨機における研磨現象の解明  埼玉大学大学院
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、ガラス基板面内の板厚偏差に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。また、ガラス基板面内の板厚偏差に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を生産性高く研磨するガラス基板の研磨方法、及び該研磨方法を用いた工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面を研磨する研磨工程において、ガラス基板の自転運動を促進する真円度が１００μｍ以下で、かつ直径が前記円盤形状ガラス基板の直径に対し１．１０ｍｍ〜１．９０ｍｍ大きいガラス基板保持穴を有するキャリアを用い、研磨される前記円盤形状ガラス基板の両主平面の総研磨量が４〜７５μｍであることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のキャリアを用いた研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板面内の板厚偏差に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を生産性高く製造できる。本発明の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法で製造した磁気記録媒体用ガラス基板の上に、磁性層などの薄膜を形成して製造した磁気ディスクは、ＨＤＤ（ハードディスクドライブ）試験において、磁気ヘッドの浮上姿勢が乱されず、磁気ヘッドが磁気ディスクに接触して生じる障害を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】磁気記録媒体用ガラス基板の斜視図。
【図２】磁気記録媒体用ガラス基板の断面斜視図。
【図３】両面研磨装置の概略図。
【図４】キャリアの概略図。
【図５】磁気記録媒体用ガラス基板の平行度をレーザ干渉計で測定した例。レーザ干渉計で観察された干渉縞の画像と、干渉縞を解析して得た平行度の値。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明を実施するための形態について説明するが、本発明は以下に記載される実施形態に限らない。
【００１４】
本発明の磁気記録媒体用ガラス基板１０の斜視図を図１に、磁気記録媒体用ガラス基板１０を切断したものの断面斜視図を図２に示す。図１と図２において各符号は、磁気記録媒体用ガラス基板の主平面１０１、内周側面１０２、外周側面１０３、内周面取り部１０４、外周面取り部１０５をそれぞれ示す。図２中、Ａ１とＡ６は磁気記録媒体用ガラス基板の外径側領域の板厚、Ａ２とＡ５は磁気記録媒体用ガラス基板の中間領域の板厚、Ａ３とＡ４は磁気記録媒体用ガラス基板の内径側領域の板厚をそれぞれ示す。本発明において、円盤形状ガラス基板の直径とは、外周側面１０３の最外周面の直径である。
【００１５】
一般に、磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気ディスクの製造工程は、以下の工程を含む。（１）フロート法、フュージョン法またはプレス成形法で成形されたガラス素基板を、円盤形状に加工した後、内周側面と外周側面に面取り加工を行う。（２）ガラス基板の上下主平面にラッピング加工を行う。（３）ガラス基板の側面部と面取り部に端面研磨を行う。（４）ガラス基板の上下主平面に研磨を行う。研磨工程は、１次研磨のみでも良く、１次研磨と２次研磨を行っても良く、２次研磨の後に３次研磨を行っても良い。（５）ガラス基板の精密洗浄を行い、磁気記録媒体用ガラス基板を製造する。（６）磁気記録媒体用ガラス基板の上に磁性層などの薄膜を形成し、磁気ディスクを製造する。
【００１６】
なお、上記磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気ディスクの製造工程において、各工程間にガラス基板洗浄（工程間洗浄）やガラス基板表面のエッチング（工程間エッチング）を実施してもよい。さらに、磁気記録媒体用ガラス基板に高い機械的強度が求められる場合、ガラス基板の表層に強化層を形成する強化工程（例えば、化学強化工程）を研磨工程前、または研磨工程後、あるいは研磨工程間で実施してもよい。
【００１７】
本発明において、磁気記録媒体用ガラス基板は、アモルファスガラスでもよく、結晶化ガラスでもよく、ガラス基板の表層に強化層を有する強化ガラス（例えば、化学強化ガラス）でもよい。また、本発明のガラス基板のガラス素基板は、フロート法で造られたものでも良く、フュージョン法で造られたものでも良く、プレス成形法で造られたものでもよい。
【００１８】
本発明は、（４）ガラス基板の上下主平面に研磨を行う工程に関し、磁気記録媒体用ガラス基板の研磨加工に係るものである。
【００１９】
図３は、両面研磨装置２０の概略図である。図３において、１０は磁気記録媒体用ガラス基板、３０は上定盤の研磨面、４０は下定盤の研磨面、５０はキャリア、２０１は上定盤、２０２は下定盤、２０３はサンギア、２０４はインターナルギア、をそれぞれ示す。
【００２０】
また、図４に磁気記録媒体用ガラス基板の製造工程で使用されるキャリア５０の概略図を示す。図中、５０はキャリア、５０１はガラス基板保持穴、５０１Ａは内径側保持穴、５０１Ｂは中間部保持穴、５０１Ｃは外径側保持穴をそれぞれ示す。キャリア５０のガラス基板保持穴５０１は、キャリア５０の中央を中心とした同心円状に形成される。
【００２１】
ガラス基板の研磨を継続すると、上定盤の研磨面３０と下定盤の研磨面４０はガラス基板により削られ、研磨中にガラス基板に接触する研磨面と接触しない研磨面との境界に段差が形成される。上定盤の研磨面３０と下定盤の研磨面４０に形成された段差は、外径側保持穴５０１Ｃに保持されたガラス基板の外径側領域を局部的に過剰研磨する。
【００２２】
本発明者らが鋭意検討した結果、磁気記録媒体用ガラス基板１０がガラス基板保持穴５０１の中で自転運動しやすいガラス基板保持穴５０１の形状（真円度）にする、さらに好ましくは、ガラス基板保持穴５０１の直径を磁気記録媒体用ガラス基板１０の直径に対して大きくして磁気記録媒体用ガラス基板１０がガラス基板保持穴５０１の中で自転運動するようにすると、ガラス基板の外径側領域が局部的に過剰研磨されることを抑制できることを見出した。
【００２３】
磁気記録媒体用ガラス基板１０をガラス基板保持穴５０１の中で確実に自転運動させるガラス基板保持穴５０１の真円度は１００μｍ以下である。ガラス基板保持穴５０１の真円度が１００μｍ以下であると、ガラス基板の研磨中に磁気記録媒体用ガラス基板１０がガラス基板保持穴５０１の中で確実に自転運動できるため、ガラス基板の外径側領域が局部的に過剰研磨されず、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板が得られる。ガラス基板保持穴５０１の真円度は１００μｍ以下であり、８０μｍ以下が好ましく、５０μｍ以下が特に好ましい。ガラス基板保持穴５０１の形状は、輪郭形状測定機を用いて測定する。
【００２４】
ガラス基板保持穴５０１の直径は、磁気記録媒体用ガラス基板の直径に対し１．１０ｍｍ〜１．９０ｍｍ大きいことが好ましい。
【００２５】
ガラス基板保持穴５０１の直径が１．１０ｍｍ未満であると、ガラス基板保持穴５０１の中で磁気記録媒体用ガラス基板１０が充分に自転運動できず、ガラス基板の外径側領域が局部的に過剰研磨され、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが難しくなるおそれがある。また、磁気記録媒体用ガラス基板１０とガラス基板保持穴５０１との隙間が小さいと研磨液の流れが悪くなり、研磨液を研磨面に均一供給することが難しくなり、同一ロット内の研磨量にばらつきが生じ、同一ロット内の板厚がばらつくおそれもある。
【００２６】
ガラス基板保持穴５０１の直径が１．９０ｍｍを超えた場合、ガラス基板保持穴５０１中に泡が混入し易くなり、混入した泡により振動が発生し、ガラス基板を均一に研磨することが難しくなる、または研磨中にガラス基板やキャリアが破損する（クラッシュ）おそれがある。また、ガラス基板保持穴５０１の直径が１．９０ｍｍを超えると、１枚のキャリアに充填できるガラス基板の枚数が減少する、キャリアの強度が低下して研磨中にガラス基板やキャリアが破損する（クラッシュ）などの問題が生じるおそれがある。
【００２７】
ガラス基板保持穴５０１の直径は、磁気記録媒体用ガラス基板の直径に対し１．１０ｍｍ〜１．９０ｍｍ大きいものが好ましく、１．３０ｍｍ〜１．９０ｍｍ大きいものがさらに好ましく、１．３０ｍｍ〜１．８５ｍｍ大きいものが特に好ましい。
【００２８】
磁気記録媒体用ガラス基板１０は、キャリア５０のガラス基板保持穴に保持された状態で、上定盤の研磨面３０と下定盤の研磨面４０との間に狭持され、ガラス基板の両主平面に上定盤の研磨面３０と下定盤の研磨面４０を互いに押圧させた状態で、ガラス基板の両主平面に研磨液を供給するとともに、ガラス基板と研磨面を相対的に動かして、ガラス基板の両主平面を同時に研磨する。
【００２９】
両面研磨装置２０は、サンギア２０３とインターナルギア２０４をそれぞれ所定の回転比率で回転駆動することにより、キャリア５０を自転させながらサンギア２０３の周りを公転するように移動させる（遊星駆動させる）とともに、上定盤２０１と下定盤２０２をそれぞれの回転数で回転駆動し、ガラス基板の両主平面を同時に研磨する。
【００３０】
上定盤２０１と下定盤２０２のガラス基板と対向する面には、研磨パッドが装着されている。上定盤２０１と下定盤２０２に装着された研磨パッドは、上定盤の研磨面３０と下定盤の研磨面４０とをそれぞれ所定の形状とするため、ドレス治具を用いてドレス処理が施される。ドレス処理は、ドレス治具と研磨パッドとの間にドレス水を供給するとともに、ドレス治具と研磨パッドを相対的に動かして、研磨パッドの表面（上定盤の研磨面３０となる面と下定盤の研磨面４０となる面）を削り行う。
【００３１】
本発明の研磨工程において、研磨される磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の総研磨量は２μｍ〜８０μｍであることが好ましい。本発明のキャリアは両主平面の総研磨量が２μｍ〜８０μｍの研磨工程で使用したときに、磁気記録媒体用ガラス基板１０をガラス基板保持穴５０１の中で充分に自転運動させ、ガラス基板の外径側領域が局部的に過剰研磨されることを抑制し、磁気記録媒体用ガラス基板の平行度を向上させる効果を示す。両主平面の総研磨量は２μｍ〜８０μｍが好ましく、４μｍ〜７５μｍがより好ましく、６μｍ〜７０μｍが特に好ましい。
【００３２】
磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度は、磁気記録媒体用ガラス基板の各領域における板厚（例えば、Ａ１〜Ａ６）が均一である（ガラス基板面内の板厚偏差が小さい）と優れており、各領域における板厚が不均一である（ガラス基板面内の板厚偏差が大きい）と劣ることになる。
【００３３】
磁気記録媒体用ガラス基板の板厚と平行度はマイクロメータ、レーザ変位計、レーザ干渉計などの測定機を用いて測定する。
【００３４】
マイクロメータやレーザ変位計を用いた板厚の測定は、磁気記録媒体用ガラス基板の面内で任意に決めた複数の箇所で板厚を測定し、その平均値を求めて行う。
【００３５】
マイクロメータやレーザ変位計を用いた平行度ａの測定は、磁気記録媒体用ガラス基板の面内で任意に決めた複数の箇所で板厚を測定し、最大板厚値と最小板厚値の差を求めて行う。
【００３６】
レーザ干渉計は、光の波長を物差しとしているので高精度に平行度ｂを測定できる。また、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度ｂを、１回のデータ取得で測定できるため、測定効率に優れる。レーザ干渉計を用いた磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度ｂの測定は、両主平面から反射した反射光の位相差により形成される干渉縞を観察し、得られた干渉縞を解析することにより行う。レーザ干渉計で観察される明暗の干渉縞は等高線となっており、その間隔は光源の波長と入射角により決定される。
【００３７】
磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度ｂを、本発明の実施例で用いたレーザ干渉計（フジノン社製、製品名：平面測定用フィゾー干渉計）で測定した結果、干渉縞の画像と干渉縞を解析して得た平行度ｂの値を、図５に示す。
【００３８】
レーザ干渉計で観察された干渉縞の本数が少ないほど、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度は優れている、つまり、平行度ｂを測定した領域の板厚偏差が小さく、同一ガラス基板面内の板厚分布が優れることを意味する。
【００３９】
本発明の研磨方法を用いた研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により、ガラス基板の外径側領域が局部的に過剰研磨されず、平行度ａが０．５μｍ以下の磁気記録媒体用ガラス基板を生産性高く製造できる。磁気記録媒体用ガラス基板の平行度ａは０．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以下が特に好ましい。さらに、同一ロットで研磨加工された磁気記録媒体用ガラス基板間の前記平行度ａの偏差が０．２μｍ以下の磁気記録媒体用ガラス基板を生産性高く製造できる。
【００４０】
本発明の研磨方法を用いた研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により、ガラス基板の外径側領域が局部的に過剰研磨されず、磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも記録再生領域における、レーザ干渉計を用いて測定した両主平面の平行度ｂが０．６μｍ以下の磁気記録媒体用ガラス基板を生産性高く製造できる。磁気記録媒体用ガラス基板の平行度ｂは０．６μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以下が特に好ましい。さらに、同一ロットで研磨加工された磁気記録媒体用ガラス基板間の前記平行度ｂの偏差が０．４μｍ以下の磁気記録媒体用ガラス基板を生産性高く製造できる。
【００４１】
本発明の研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により、同一ロットで研磨加工されたガラス基板間の板厚の偏差が０．８μｍ以下の磁気記録媒体用ガラス基板を、生産性高く製造できる。
【００４２】
なお、本発明において、同一ロットとは、同一両面研磨装置を用いて同時に研磨加工したガラス基板のことをいう。例えば、外径６５ｍｍの磁気記録媒体用ガラス基板を研磨する場合、２２Ｂ型両面研磨装置の１ロットのガラス基板枚数は１５０枚〜２２２枚、１６Ｂ型両面研磨装置の１ロットのガラス基板枚数は９０枚〜１１５枚、９Ｂ型両面研磨装置の１ロットのガラス基板枚数は２０枚〜３０枚が一般的である。
【００４３】
本発明の研磨方法を用いた研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法で製造された磁気記録媒用ガラス基板は、磁気記録媒体用ガラス基板の形状特性（例えば、板厚偏差、平行度）に優れる。そのため、本発明の磁気記録媒体用ガラス基板の上に磁性層などの薄膜を形成して製造された磁気ディスクは、ＨＤＤ（ハードディスクドライブ）試験において、磁気ヘッドの浮上姿勢を乱すことなく、磁気ヘッドが磁気ディスクに接触する障害が発生しない。
【実施例】
【００４４】
以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに説明するが、本発明はこれにより何ら制限されるものではない。
【００４５】
［磁気記録媒体用ガラス基板の調整］
外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、板厚０．６３５ｍｍの磁気記録媒体用ガラス基板用に、フロート法で成形されたＳｉＯ２を主成分とするガラス基板をドーナツ状円形ガラス基板（中央部に円孔を有する円盤形状ガラス基板）に加工した。
【００４６】
このドーナツ状円形ガラス基板の内周側面と外周側面を、面取り幅０．１５ｍｍ、面取り角度４５°の磁気記録媒体用ガラス基板が得られるように面取り加工し、その後アルミナ砥粒を用いて、ガラス基板上下主平面をラッピングし、砥粒を洗浄除去した。
【００４７】
次に、ガラス基板の外周側面と外周面取り部を、研磨ブラシと酸化セリウム砥粒を用いて研磨し、外周側面と外周面取り部のキズを除去し、鏡面となるように外周端面を研磨加工した。外周端面研磨後のガラス基板は、砥粒を洗浄除去される。外周端面研磨後、ガラス基板の内周側面と内周面取り部を研磨ブラシと酸化セリウム砥粒を用いて研磨し、内周側面と内周面取り部のキズを除去し、鏡面となるように内周端面を研磨加工した。内周端面研磨を行ったガラス基板は、砥粒を洗浄除去される。
【００４８】
［磁気記録媒体用ガラス基板の１次〜３次研磨］
次に、ガラス基板は研磨具として硬質ウレタン製の研磨パッドと酸化セリウム砥粒を含有する研磨液（平均粒子直径、以下、平均粒径と略す、約１．３μｍの酸化セリウムを主成分した研磨液組成物）を用いて、２２Ｂ型両面研磨装置（スピードファム社製、製品名：ＤＳＭ２２Ｂ−６ＰＶ−４ＭＨ）、または１６Ｂ型両面研磨装置（スピードファム社製、製品名：ＤＳＭ１６Ｂ−６ＰＶ−４ＭＨ）により上下主平面を１次研磨した。
【００４９】
１次研磨工程において、両面研磨装置の上定盤と下定盤に装着した研磨パッドは、ガラス基板を研磨する前に、ドレス治具を用いてドレス処理が施され、所定の研磨面に形成される。
【００５０】
１次研磨は、メインの研磨加工圧力は８５ｇ／ｃｍ２、定盤回転数は３０ｒｐｍ、総研磨量は上下主平面の厚さ方向で計４０μｍとなるように研磨時間を設定して実施した。本実施例において、２２Ｂ型両面研磨装置で研磨したときの１ロットは１８０枚、１６Ｂ型両面研磨装置で研磨したときの１ロットは１００枚とした。研磨後のガラス基板は、酸化セリウムを洗浄除去した後に板厚と平行度ａと平行度ｂを測定した。
【００５１】
１次研磨後のガラス基板は、研磨具として軟質ウレタン製の研磨パッドと、上記の酸化セリウム砥粒よりも平均粒径が小さい酸化セリウム砥粒を含有する研磨液（平均粒径約０．５μｍの酸化セリウムを主成分とする研磨液組成物）を用いて、２２Ｂ型両面研磨装置（スピードファム社製、製品名：ＤＳＭ２２Ｂ−６ＰＶ−４ＭＨ）、または１６Ｂ型両面研磨装置（スピードファム社製、製品名：ＤＳＭ１６Ｂ−６ＰＶ−４ＭＨ）により上下主平面を２次研磨した。
【００５２】
２次研磨工程において、両面研磨装置の上定盤と下定盤に装着した研磨パッドは、ガラス基板を研磨する前に、ドレス治具を用いてドレス処理が施され、所定の研磨面に形成される。
【００５３】
２次研磨のメイン研磨加工圧力は８５ｇ／ｃｍ２、定盤回転数は３０ｒｐｍ、研磨時間は総研磨量が上下主平面の厚さ方向で計６μｍとなるように設定し、ガラス基板を研磨した。本実施例において、２２Ｂ型両面研磨装置で研磨したときの１ロットは１８０枚、１６Ｂ型両面研磨装置で研磨したときの１ロットは１００枚とした。研磨後のガラス基板は、酸化セリウムを洗浄除去した後に板厚と平行度ａ、平行度ｂを測定した。
【００５４】
研磨されたガラス基板の板厚と平行度ａは、ＣＣＤレーザ変位計（キーエンス社製、レーザーヘッドはＬＫ−Ｇ１５／アンプＬＫ−Ｇ３０００Ｖ）を用いて測定した。
【００５５】
磁気記録媒体用ガラス基板の中心部から１５ｍｍと２５ｍｍの領域で（記録再生領域の内径側領域と外径側領域）、０°、９０°、１８０°、２７０°の計８箇所の位置で板厚を測定した。同一ガラス基板面内の８箇所の位置で測定した板厚の最大板厚値と最小板厚値の差（同一ガラス基板面内の板厚偏差）を平行度ａとした。平行度ａは、１ロットにつき、キャリアの内径側保持穴５０１Ａと外径側保持穴５０１Ｃから１枚づつガラス基板を抜き取り、計２枚のガラス基板を用いて測定した。
【００５６】
板厚は、１ロットにつき、各キャリアの内径側保持穴５０１Ａと外径側保持穴５０１Ｃから１枚づつガラス基板を抜き取り、２２Ｂ型両面研磨装置では計１２枚、１６Ｂ型両面研磨装置では計１０枚のガラス基板を用いて測定した。磁気記録媒体用ガラス基板の中心部から２０ｍｍの領域で（記録再生領域の中間領域）、０°、１８０°の計２箇所の位置で板厚を測定し、その平均値をガラス基板の板厚とした。同一ロットで研磨加工された磁気記録媒体用ガラス基板間の板厚の偏差は、同一ロット内の最大板厚と最少板厚の差から求めた。
【００５７】
ガラス基板の平行度ｂは、レーザ干渉計（フジノン社製、製品名：平面測定用フィゾー干渉計  Ｇ１０２）を用いて測定した。平行度ｂは、図３に示したように、ガラス基板両主平面からの反射光の位相差により形成される干渉縞を観察し、観測された干渉縞本数に０．３２を積算して算出した。平行度ｂの測定領域は、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍの磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域を含むように設定する。本実施例では、測定領域は、円盤中心部から１０．０ｍｍ〜３２．５ｍｍの領域に設定し測定した。
【００５８】
平行度ｂは、平行度ａと同様に１ロットにつき、キャリアの内径側保持穴５０１Ａと外径側保持穴５０１Ｃから１枚づつガラス基板を抜き取り測定した。
【００５９】
キャリアのガラス基板保持穴５０１の真円度は、輪郭形状測定機（小坂研究所社製、製品名：フォームコーダ  ＥＦ−１５０Ｅ）を用いて測定した。真円度は、内径側保持穴５０１Ａ、中間部保持穴５０１Ｂ、外径側保持穴５０１Ｃの真円度をそれぞれ測定し、計３点の平均値をガラス基板保持穴の真円度とした。
【００６０】
２２Ｂ型または１６Ｂ型の両面研磨装置を用い、各直径と真円度のガラス基板保持穴５０１を有するキャリアにガラス基板を保持して、１次研磨したガラス基板のロット内板厚偏差、平行度ａと平行度ｂの測定結果を表１に、２次研磨したガラス基板のロット内板厚偏差、平行度ａと平行度ｂの測定結果を表２に示す。表１と表２において、例１〜例４と例６〜例９は実施例、例５と例１０は比較例である。
【００６１】
ガラス基板保持穴の真円度が１００μｍ以上のキャリアを用いた例５と例１０において、平行度ａ、平行度ｂ、同一ロットで研磨加工されたガラス基板間の板厚の偏差（最大板厚値と最小板厚値との差）は悪く、板厚偏差に優れるガラス基板を得られなかった。
【００６２】
２次研磨後、ガラス基板は研磨具として軟質ウレタン製の研磨パッドとコロイダルシリカを含有する研磨液（一次粒子の平均粒径が２０〜３０ｎｍのコロイダルシリカを主成分とする研磨液組成物）を用いて、両面研磨装置により上下主平面を３次研磨した。３次研磨は、上下主平面の厚さ方向での総研磨量が１μｍとなるように研磨時間を設定して実施した。３次研磨は総研磨量が１μｍと少ないため、研磨後のガラス基板の平行度ａや平行度ｂに対し、１次研磨や２次研磨ほど大きく影響を及ぼさない。
【００６３】
３次研磨を行ったガラス基板は、アルカリ性洗剤によるスクラブ洗浄、アルカリ性洗剤溶液に浸漬した状態での超音波洗浄、純水に浸漬した状態での超音波洗浄、を順次行い、イソプロピルアルコール蒸気にて乾燥された。
【００６４】
洗浄乾燥後、磁気記録媒体用ガラス基板の平行度ａと平行度ｂを測定した。平行度ａと平行度ｂの測定は、１次研磨後のガラス基板や２次研磨後のガラス基板と同じ測定方法で実施した。
【００６５】
２次研磨後の例６〜例８のガラス基板に、３次研磨を施し、洗浄乾燥して得た磁気記録媒体用ガラス基板は、平行度ａが０．５μｍ以下であり、平行度ｂは０．６μｍ以下であり、同一ロットで研磨加工されたガラス基板間の板厚の偏差（最大板厚値と最小板厚値との差）は０．８μｍ以下であった。
【００６６】
【表１】
0005510030.tif 000002
【００６７】
【表２】
0005510030.tif 000003
【産業上の利用可能性】
【００６８】
本発明は、ガラス基板を研磨する工程を有する、ガラス基板の製造方法に適用できる。本発明が適用できるガラス基板としては、磁気記録媒体用、フォトマスク用、液晶や有機ＥＬ等のディスプレイ用、光ピックアップ素子や光学フィルタや光学レンズ等の光学部品用などのガラス基板が具体的なものとして挙げられる。
【符号の説明】
【００６９】
１０：磁気記録媒体用ガラス基板、１０１：磁気記録媒体用ガラス基板の主平面、１０２：内周側面、１０３：外周側面、１０４：内周面取り部、１０５：外周面取り部、
Ａ１とＡ６：磁気記録媒体用ガラス基板の外径側領域の板厚、Ａ２とＡ５：磁気記録媒体用ガラス基板の中間領域の板厚、Ａ３とＡ４：磁気記録媒体用ガラス基板の内径側領域の板厚、
２０：両面研磨装置、３０：上定盤の研磨面、４０：下定盤の研磨面、５０：キャリア、２０１：上定盤、２０２：下定盤、２０３：サンギア、２０４：インターナルギア、
５０１：ガラス基板保持穴、５０１Ａ：内径側保持穴、５０１Ｂ：中間部保持穴、５０１Ｃ：外径側保持穴。
【図１】
0005510030.tif 000004
【図２】
0005510030.tif 000005
【図３】
0005510030.tif 000006
【図４】
0005510030.tif 000007
【図５】
0005510030.tif 000008