(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体の上に少なくともハードコート層を有する反射防止フィルムであって、
一次粒子の平均直径が６μｍ以上１２μｍ以下である微粒子により透明支持体に凹凸が形成されており、
前記ハードコート層の厚みが３μｍ以上１５μｍ以下であり、
前記透明支持体がセルロースアシレートフィルムであり、
前記セルロースアシレートフィルムが、基層と表層とを有する多層構造からなり、前記表層のみに前記微粒子が添加されており、
前記微粒子の添加量は前記表層に対して０．２質量％以上１２質量％以下であり、
前記微粒子は有機粒子であり、
前記微粒子の屈折率と前記透明支持体の屈折率との差が０．００１以上０．０３以下である
ことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
前記微粒子が、架橋ポリメチルメタクリレート粒子またはシリコーン粒子である請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記反射防止フィルムのハードコート層が積層された側の面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ以上０．２μｍ以下であり、かつ平均山谷間隔（Ｓｍ）が５０μｍ以上１５０μｍ以下であり、かつＪＩＳ  Ｂ  ０６０１によるθａが０．４°以上１．５°以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記ハードコート層の上に、ハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層を積層することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記低屈折率層が微粒子を含み、該微粒子が、無機微粒子、中空の無機微粒子、又は中空の有機樹脂微粒子であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
前記ハードコート層が平均粒径３μｍ以上の粒子を含有しないことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
前記ハードコート層が平均粒径１μｍ以下の無機微粒子を含有しないことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
前記ハードコート層の屈折率を１．４５以上１．５５以下とすることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
【請求項９】
前記表層が前記基層の両側に積層されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１０】
偏光膜と該偏光膜の両側に保護フィルムを有する偏光板であって、少なくとも一方の保護フィルムが請求項１〜９のいずれか一項に記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の反射防止フィルム、または請求項１０に記載の偏光板を有することを特徴とする画像表示装置。
【請求項１２】
反射防止フィルム用透明支持体の製造方法であって、
透明支持体は一次粒子の平均直径６μｍ以上１２μｍ以下の微粒子により凹凸が形成されており、
前記透明支持体がセルロースアシレートフィルムであり、
前記セルロースアシレートフィルムが、基層と表層とを有する多層構造からなり、前記表層のみに前記微粒子が添加されており、
前記微粒子の添加量は前記表層に対して０．２質量％以上１２質量％以下であり、
前記微粒子は有機粒子であり、
前記微粒子の屈折率と前記透明支持体の屈折率との差が０．００１以上０．０３以下であり、
かつ前記透明支持体が共流延によって形成されたことを特徴とする反射防止フィルム用透明支持体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、および反射防止フィルム用透明支持体の製造方法に関する。
【０００２】
近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）は大画面化が進み、例えば反射防止フィルム、光拡散シート等の光学フィルムを配置した液晶表示装置が増大している。例えば反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）などのような様々な画像表示装置において、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために、ディスプレイの表面に配置される。また、光拡散シートは液晶表示装置のバックライトに用いられる。
【０００３】
現在、反射防止フィルムとして、防眩フィルムが市場で広く使用されている。防眩フィルムは一般的に無機または有機の微粒子を防眩層に添加し、表面に凹凸を設ける方法で作成されている。しかしながら、上記方法で作成された防眩フィルムはフィルム表面の漆黒感が悪く、ディスプレイ表面に設置した際に品位を下げることがある。
【０００４】
一方、特別な防眩層を設けずに、基材自身に凹凸を付与しその上にハードコート層や反射防止層を設け防眩効果を有する防眩フィルムを得る方法が開示されている。例えば基材フィルムに微粒子を含有し、表面凹凸形状を形成することで反射防止フィルムに防眩性を付与する技術が開示されている（特許文献１）。
【０００５】
しかしながら、特許文献１で開示されている微粒子を使用した反射防止フィルムでは、防眩性の付与は可能なものの、作成された反射防止フィルムを画像表示装置に設置した際に画面のコントラストの低下や、ギラツキの発生が予期されるため、さらなる改善が望まれていた。
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−１５６８０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、透明支持体中に添加する微粒子の粒径及び屈折率差を適切な範囲に制御することにより、良好な漆黒感を実現しつつ、画像表示装置に設置した際のギラツキを防止し、かつコントラスト比の良好な反射防止フィルム及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は以下の構成により達成される。
＜１＞
透明支持体の上に少なくともハードコート層を有する反射防止フィルムであって、
一次粒子の平均直径が６μｍ以上１２μｍ以下である微粒子により透明支持体に凹凸が形成されており、
前記ハードコート層の厚みが３μｍ以上１５μｍ以下であり、
前記透明支持体がセルロースアシレートフィルムであり、
前記セルロースアシレートフィルムが、基層と表層とを有する多層構造からなり、前記表層のみに前記微粒子が添加されており、
前記微粒子の添加量は前記表層に対して０．２質量％以上１２質量％以下であり、
前記微粒子は有機粒子であり、
前記微粒子の屈折率と前記透明支持体の屈折率との差が０．００１以上０．０３以下である
ことを特徴とする反射防止フィルム。
＜２＞
前記微粒子が、架橋ポリメチルメタクリレート粒子またはシリコーン粒子である＜１＞に記載の反射防止フィルム。
＜３＞
前記反射防止フィルムのハードコート層が積層された側の面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ以上０．２μｍ以下であり、かつ平均山谷間隔（Ｓｍ）が５０μｍ以上１５０μｍ以下であり、かつＪＩＳ  Ｂ  ０６０１によるθａが０．４°以上１．５°以下であることを特徴とする＜１＞または＜２＞に記載の反射防止フィルム。
＜４＞
前記ハードコート層の上に、ハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層を積層することを特徴とする＜１＞〜＜３＞のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
＜５＞
前記低屈折率層が微粒子を含み、該微粒子が、無機微粒子、中空の無機微粒子、又は中空の有機樹脂微粒子であることを特徴とする＜１＞〜＜４＞のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
＜６＞
前記ハードコート層が平均粒径３μｍ以上の粒子を含有しないことを特徴とする＜１＞〜＜５＞のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
＜７＞
前記ハードコート層が平均粒径１μｍ以下の無機微粒子を含有しないことを特徴とする＜１＞〜＜６＞のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
＜８＞
前記ハードコート層の屈折率を１．４５以上１．５５以下とすることを特徴とする＜１＞〜＜７＞のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
＜９＞
前記表層が前記基層の両側に積層されていることを特徴とする＜１＞〜＜８＞のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
＜１０＞
偏光膜と該偏光膜の両側に保護フィルムを有する偏光板であって、少なくとも一方の保護フィルムが＜１＞〜＜９＞のいずれか一項に記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
＜１１＞
＜１＞〜＜９＞のいずれか一項に記載の反射防止フィルム、または＜１０＞に記載の偏光板を有することを特徴とする画像表示装置。
＜１２＞
反射防止フィルム用透明支持体の製造方法であって、
透明支持体は一次粒子の平均直径６μｍ以上１２μｍ以下の微粒子により凹凸が形成されており、
前記透明支持体がセルロースアシレートフィルムであり、
前記セルロースアシレートフィルムが、基層と表層とを有する多層構造からなり、前記表層のみに前記微粒子が添加されており、
前記微粒子の添加量は前記表層に対して０．２質量％以上１２質量％以下であり、
前記微粒子は有機粒子であり、
前記微粒子の屈折率と前記透明支持体の屈折率との差が０．００１以上０．０３以下であり、
かつ前記透明支持体が共流延によって形成されたことを特徴とする反射防止フィルム用透明支持体の製造方法。
なお、本発明は上記＜１＞〜＜１２＞に関するものであるが、参考のためその他の事項（下記［１］〜［１４］に記載した事項等）についても記載した。
【０００９】
［１］
透明支持体の上に少なくともハードコート層を有する反射防止フィルムであって、
一次粒子の平均直径が３μｍ以上１２μｍ以下である微粒子により透明支持体に凹凸が形成されており、
かつ前記ハードコート層の厚みが３μｍ以上１５μｍ以下
であることを特徴とする反射防止フィルム。
［２］
前記微粒子の屈折率と前記透明支持体の屈折率との差が０．００１以上０．０５以下であることを特徴とする前記［１］に記載の反射防止フィルム。
［３］
前記反射防止フィルムのハードコート層が積層された側の面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ以上０．２μｍ以下であり、かつ平均山谷間隔（Ｓｍ）が５０μｍ以上１５０μｍ以下であり、かつＪＩＳ  Ｂ  ０６０１によるθａが０．４°以上１．５°以下であることを特徴とする前記［１］または［２］に記載の反射防止フィルム。
［４］
前記透明支持体がセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする前記［１］〜［３］のいずれかに記載の反射防止フィルム。
［５］
前記ハードコート層の上に、ハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層を積層することを特徴とする前記［１］〜［４］のいずれかに記載の反射防止フィルム。
［６］
前記低屈折率層が微粒子を含み、該微粒子が、無機微粒子、中空の無機微粒子、又は中空の有機樹脂微粒子であることを特徴とする前記［１］〜［５］のいずれかに記載の反射防止フィルム。
［７］
前記ハードコート層が平均粒径３μｍ以上の粒子を含有しないことを特徴とする前記［１］〜［６］のいずれかに記載の反射防止フィルム。
［８］
前記ハードコート層が平均粒径１μｍ以下の無機微粒子を含有しないことを特徴とする前記［１］〜［７］のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
［９］
前記ハードコート層の屈折率を１．４５以上１．５５以下とすることを特徴とする前記［１］〜［８］のいずれかに記載の反射防止フィルム。
［１０］
前記セルロースアシレートフィルムが、基層と表層とを有する多層構造からなり、前記表層のみに前記微粒子が添加されていることを特徴とする前記［４］に記載の反射防止フィルム。
［１１］
前記表層が前記基層の両側に積層されていることを特徴とする前記［１０］に記載の反射防止フィルム。
［１２］
偏光膜と該偏光膜の両側に保護フィルムを有する偏光板であって、少なくとも一方の保護フィルムが前記［１］〜［１１］のいずれかに記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
［１３］
前記［１］〜［１１］のいずれかに記載の反射防止フィルム、または前記［１２］に記載の偏光板を有することを特徴とする画像表示装置。
［１４］
反射防止フィルム用透明支持体の製造方法であって、透明支持体は一次粒子の平均直径３μｍ以上１２μｍ以下の微粒子により凹凸が形成されており、かつ前記微粒子の屈折率と前記透明支持体の屈折率との差が０．００１以上０．０５以下であり、かつ前記透明支持体が共流延によって形成されたことを特徴とする反射防止フィルム用透明支持体の製造方法。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、良好な漆黒感を実現しつつ、画像表示装置に設置した際のギラツキを防止し、かつコントラスト比の良好な反射防止フィルム、それを用いた偏光板及び視認性に優れた表示装置を提供することができる。
本発明によれば、良好な漆黒感を実現しつつ、画像表示装置に設置した際のギラツキを防止し、かつコントラスト比の良好な反射防止フィルムに好適な反射防止フィルム用透明支持体の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１２】
＜透明支持体に用いられる微粒子＞
本発明に用いられる透明支持体には、表面に凹凸面を形成するために、微粒子を含有させる。またさらに、内部散乱効果を持たせるために、微粒子を含有することも好ましい。
【００１３】
微粒子は有機粒子であっても、無機粒子であってもよい。粒径にばらつきがないほど、散乱特性にばらつきが少なくなり、ヘイズ値の設計が容易となる。
【００１４】
本発明に使用することの出来る無機粒子としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ＩＴＯ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム或いはこれらの複合酸化物等を挙げることが出来る。
【００１５】
微粒子の一次粒子の平均直径は３μｍ〜１２μｍであり、５μｍ〜１２μｍが好ましく、６μｍ〜１０μｍがより好ましい。透明支持体中のこれらの微粒子の含有量は０．１〜２０質量％であることが好ましく、０．１〜１８質量％がより好ましい。共流延法あるいは共押出しによる多層構成の透明支持体の場合は、表層にこの含有量でこれらの微粒子を含有することが好ましい。
微粒子の平均直径が上記の範囲である場合にのみ、画像表示装置に設置した際のギラツキを防止し、かつコントラスト比が良好となり、かつ漆黒感が良好な反射防止フィルムを得ることができる。平均直径が３μｍ未満であると表面の凹凸が細かくなって反射光の乱反射が強くなり、画面が白茶け、漆黒感に劣る反射防止フィルムとなる。平均粒径が１２μｍを超えると、理由は明らかでないがコントラスト比が低下する。
【００１６】
有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、或いはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を透明支持体に加えることが出来る。
【００１７】
市販の有機粒子の具体例としては、架橋アクリル粒子（ＭＸ−５００、ＭＸ−１０００、ＭＲ−７ＨＧ、ＭＲ−１０ＨＧ、ＭＲ−５ＧＳＮ、ＭＲ−７Ｇ、ＭＲ−１０Ｇ、綜研化学（株）製、ＭＢＸ−５、ＭＢＸ−８、ＭＢＸ−１２（積水化成品工業（株）製）、架橋スチレン粒子（ＳＢＸ−６、ＳＢＸ−８、ＳＢＸ−１２（積水化成品工業（株）製）、架橋アクリルスチレン粒子（ＳＸ−３５０ＨＬ、ＳＸ−３５０ＨＬＬＲ、綜研化学（株）製）、シリコーン粒子（トスパール１３０、トスパール１４５、トスパール１４５Ａ、トスパール１１１０、トスパール２０００Ｂ、トスパール２０００Ｂ＊、トスパール２４０、トスパール２４０＊、トスパール３１２０、ＧＥ東芝シリコーン（株）製）、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物（エポスターＬ１５、エポスターＭ０５、（株）日本触媒製）などが挙げられる。
【００１８】
これらの内でも、本発明の目的である良好なコントラストとギラツキ防止を両立するためには、透明支持体の屈折率と微粒子の屈折率差が０．００１以上０．０５以下である微粒子を選択することが好ましく、屈折率差が０．００２以上０．０３以下であることが好ましい。屈折率差をこの範囲に抑えることで、ギラツキを抑えるのに十分なヘイズを確保しながら、かつ微粒子と透明支持体の屈折率差により発生する光の散乱を一定の範囲に抑え、画像表示装置に貼り付けた際のコントラストの低下を最低限に抑えることが可能となる。
【００１９】
ここで、透明支持体の屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。前記微粒子の屈折率は、屈折率の異なる２種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に微粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。
【００２０】
本発明において透明支持体に好適に用いられる微粒子としては、製膜後のフィルム中での凝集が抑制されて微粒子として安定に分散されるなどの理由から、表面処理されていることが好ましい。表面処理は、微粒子の表面を有機化合物で処理するなどして行われ、その際用いることができる有機化合物の例には、従来公知の金属酸化物や無機顔料等の無機フィラー類の表面改質剤などを挙げることができ、例えば「顔料分散安定化と表面処理技術・評価」第一章（技術情報協会、２００１年刊行）等に記載されている。具体的には、該微粒子表面と親和性を有する極性基を有する有機化合物、カップリング化合物があげられる。
【００２１】
微粒子表面と親和性を有する極性基としては、カルボキシ基、ホスホノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、環状酸無水物基、アミノ基等があげられ、分子中に少なくとも１種を含有する化合物が好ましい。例えば、長鎖脂肪族カルボン酸（例えばステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸等）、ポリオール化合物（例えばペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ＥＣＨ（エピクロルヒドリン）変性グリセロール等）、ホスホノ基含有化合物［例えばＥＯ（エチレンオキサイド）変性リン酸等］、アルカノールアミン［エチレンジアミンＥＯ付加体（５モル）等］等が挙げられる。
【００２２】
カップリング化合物としては、従来公知の有機金属化合物が挙げられ、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤等が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。具体的には、例えば山下普三、金子東助「架橋剤ハンドブック」（大成社、１９８１年刊）記載のカップリング化合物が挙げられる。
表面処理に際しては、上述した化合物を２種類以上併用することもできる。
【００２３】
本発明で使用される微粒子の形状は、特に限定されないが米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、不定形状が好ましい。微粒子は単独で用いてもよいが、２種類以上を併用して用いることもできる。
【００２４】
＜透明支持体＞
次に本発明に係る透明支持体について説明する。
本発明の透明支持体は、セルロースアシレート（例えばトリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例えばシンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例えばポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン、ポリシクロアルカン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトン等から選ばれる。このなかでも、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが好ましい。
【００２５】
偏光板に用いるのに好ましい透明保護フィルムとして、フィルムの疎水性／親水性のバランス、偏光膜のビニルアルコール系膜との貼合性やフィルム面内全体の光学特性の均一性が重要であり、特にセルロースアシレートフィルムが好ましく挙げられる。特に、セルロースの脂肪酸エステル（セルロースアシレート）フィルムが好ましく、さらにはセルロースアシレート、可塑剤および微粒子を含有するフィルムであるのが好ましい。
【００２６】
以下、セルロースアシレートフィルムを例として説明する。
【００２７】
セルロースアシレートフィルムは、基層と表層とを有する多層構造からなることが好ましく、この場合、その表層のみに微粒子が添加されている。この表層は、基層の片側にのみ積層されていても、基層の両側に積層されていてもよい。すなわち、図１に示すように、基層１とその両面に積層された表層２とからなる三層の態様と、図２に示すように、基層１とその一方の面に積層された表層２とからなる二層の態様とがある。また、表層は、表面に位置する個所に積層されるもので、基層と表層との間に他の層を積層することもできる。
【００２８】
このようなセルロースアシレートフィルムにおいて、表層のみに微粒子が添加されており、基層には微粒子が添加されていないのが好ましい。すなわち、表層にのみ微粒子を添加することにより、セルロースアシレートフィルムの表面の平面性及びタッキング防止性を確保し、かつ表面に防眩性を与えるとともに、基層（中間に他の層を積層した場合は、その中間層も含む）に微粒子を添加しないことにより、セルロースアシレートフィルム全体の透明性を確保している。
【００２９】
セルロースアシレートフィルムの膜厚は、２０〜２００μｍであることが好ましく、より好ましくは、３０〜１２０μｍである。セルロースアシレートフィルムの表層の厚みは、０.０００２ｍｍ〜０.０２ｍｍが好ましく、０.０００５ｍｍ〜０.０１５ｍｍがより好ましい。表層の厚みが０．０００２ｍｍ未満であると、均一な層を形成することが困難である。また、表層の厚みが０．０２ｍｍを越えると、積層化の利点が損なわれる恐れがある。
【００３０】
本発明のセルロースアシレートフィルムを製造するには、共流延法（重層同時流延）、逐次流延法、塗布法等の積層流延する方法を用いることができる。共流延法および逐次流延法により製造する場合には、先ず、各層用のドープを調製する。共流延法は、流延用支持体（バンドまたはドラム）の上に、各層（３層あるいはそれ以上でも良い）各々の流延用ドープを別のスリットなどから同時に押出す流延用ギーサからドープを押出して各層を同時に流延し、適当な時期に支持体から剥ぎ取り、乾燥させてフィルムを成形する流延法である。
【００３１】
逐次流延法は、流延用支持体の上に先ず第１層用の流延用ドープを流延用ギーサから押出して流延し、乾燥あるいは乾燥させることなく、その上に第２層用の流延用ドープを流延用ギーサから押出して流延し、以後、同様に第３層以降のドープを逐次流延・積層し、適当な時期に支持体から剥ぎ取り、乾燥させてフィルムを成形する流延法である。
【００３２】
塗布法は、一般的には、基層のフィルムを溶液製膜法により成形し、表層を形成するために塗布する塗布液を調製し、適当な塗布機を用いて、片面ずつまたは両面同時にフィルムに塗布液を塗布・乾燥して積層構造のフィルムを成形する方法である。
【００３３】
以上のように、セルロースアシレートフィルムを製造するには、共流延法、逐次流延法及び塗布法のどの方法を用いてもよい。しかし、一般的に、塗布法では塗布後の乾燥負荷が増大し、逐次流延法では工程が複雑になり、フィルムの平面性を維持することが困難であるが、共流延法では工程が単純で、生産性が高く、フィルムの平面性が比較的容易に得ることができるので、共流延法で製造することが好ましい。また、基層に微粒子を添加して表面凹凸を形成しようとすると大量の粒子を添加する必要があり、光透過率の低下の弊害が起きるため、共流延法で表層のみに粒子を添加し、光透過率の低下を伴わずに表面凹凸を形成することが好ましい。
【００３４】
セルロースアシレートフィルムを製造する装置としては、表面が鏡面処理された流延バンドを用いた溶液製膜装置であっても、流延ドラムを用いた溶液製膜装置であってもよい。流延バンドを用いた溶液製膜装置を図３に、流延ドラムを用いた溶液製膜装置を図４に示す。
【００３５】
図３に示すバンド式の溶液製膜装置において、１１は攪拌機で、綿、可塑剤及び溶剤が投入されているものであり、この攪拌機１１は、移送ポンプ１２、濾過器１３、ストックタンク１４、流延送液ポンプ１５、及び微粒子、染料、紫外線吸収剤（ＵＶ剤）等を添加するための添加剤注入ポンプ１６を介して流延ダイ１７に連結されている。流延ダイ１７の下方には、流延バンド１８が設けられるとともに、減圧チャンバー１９が設けられている。
【００３６】
図４に示すドラム式の溶液製膜装置において、２０は流延ドラムで、バンド式の溶液製膜装置における流延バンド１８の代わりに設けられている。なお、攪拌機１１、移送ポンプ１２、濾過器１３、ストックタンク１４、流延送液ポンプ１５、添加剤注入ポンプ１６及び流延ダイ１７は同一に構成されている。
【００３７】
上記流延ダイとしては、図５、図６及び図７に示すようなものを用いることができる。
【００３８】
図５は、単層のフィルムを製膜する際に用いる流延ダイで、逐次流延法に用いるものであり、この流延ダイ３０は、１つのマニホールド３１が形成されている。図６は、マルチマニホールド型の共流延ダイで、この共流延ダイ３０は、３つのマニホールド３２が形成され３層構成のフィルムを製膜できるものである。図７は、フィードブロック型の共流延ダイで、この共流延ダイ３０は、マニホールド３３が形成されるとともに、フィードブロック３４が設けられ、フィードブロック３４で合流させられて複数層（図７においては３層）になったドープを流延するものである。
【００３９】
なお、以上の流延ダイにおいては、コートハンガーダイを使用しているが、これに限定されるものでなく、Ｔダイ等他の形状のダイであってもよい。
【００４０】
［セルロースアシレート］
透明保護フィルムとして用いられるセルロースアシレートフィルムの原料のセルロースとしては、綿花リンター、ケナフ、木材パルプ（広葉樹パルプ、針葉樹パルプ）等があり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。
【００４１】
本発明においては、セルロースからエステル化してセルロースアシレートを作製するが、特に好ましい前述のセルロースがそのまま利用できる訳ではなく、リンター、ケナフ、パルプを精製して用いられる。
【００４２】
本発明においてセルロースアシレートとは、セルロースの総炭素数２〜２２のカルボン酸エステルのことである。
【００４３】
本発明に用いられるセルロースアシレートの炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族アシル基でも芳香族アシル基でもよく、特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル、シクロアルキルカルボニルエステル、あるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、シクロヘキサンカルボニル、アダマンタンカルボニル、フェニルアセチル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、（メタ）アクリロイル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、より好ましいアシル基は、プロピオニル、ブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、シクロヘキサンカルボニル、フェニルアセチル、ベンゾイル、ナフチルカルボニルなどである。
【００４４】
セルロースアシレートの合成方法は、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行  発明協会）ｐ．９に詳細に記載されている。
【００４５】
本発明に好適に用いられるセルロースアシレートとしては、セルロースの水酸基への置換度が下記数式（７）および（８）を満足するものが好ましい。
数式（７）：２．３≦ＳＡ’＋ＳＢ’≦３．０
数式（８）：０≦ＳＡ’≦３．０
【００４６】
ここで、ＳＡ’はセルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基の置換度、またＳＢ’はセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度を表す。なお、ＳＡはセルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基を表し、ＳＢはセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３〜２２のアシル基を表す。
【００４７】
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部をアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３位および６位のそれぞれについて、セルロースがエステル化している割合（各位それぞれ１００％のエステル化は置換度１）を意味する。本発明では、ＳＡとＳＢの置換度の総和（ＳＡ’＋ＳＢ’）は、より好ましくは２．６〜３．０であり、特に好ましくは２．８０〜３．００である。また、ＳＡの置換度（ＳＡ’）はより好ましくは１．４〜３．０であり、特には２．３〜２．９である。
【００４８】
更に、下記数式（９）を同時に満足することが好ましい。
数式（９）：０≦ＳＢ”≦１．２
ここで、ＳＢ”はセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３または４のアシル基を表す。
【００４９】
さらにＳＢ”はその２８％以上が６位水酸基の置換基であるのが好ましく、より好ましくは３０％以上が６位水酸基の置換基であり、３１％以上がさらに好ましく、特には３２％以上が６位水酸基の置換基であることも好ましい。また更に、セルロースアシレートの６位のＳＡ’とＳＢ”の置換度の総和が０．８以上であり、さらには０．８５以上であり、特には０．９０以上であるセルロースアシレートフィルムも好ましいものとして挙げることができる。これらのセルロースアシレートフィルムにより溶解性の好ましい溶液が作製でき、特に非塩素系有機溶媒において、良好な溶液の作製が可能となる。
【００５０】
尚、置換度はセルロース中の水酸基に結合した脂肪酸の結合度を測定し、計算によって得られる。測定方法としては、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９１、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準拠して測定することができる。また、水酸基へのアシル基の置換の状態は、13Ｃ  ＮＭＲ法によって測定される。
【００５１】
上記セルロースアシレートフィルムは、フィルムを構成するポリマー成分が実質的に前記の数式（７）および（８）を満足するセルロースアシレートからなることが好ましい。「実質的に」とは、全ポリマー成分の５５質量％以上（好ましくは７０質量％以上、さらに好ましくは８０質量％以上）を意味する。セルロースアシレートは単独若しくは２種類以上の併用であってもよい。
【００５２】
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度２００〜７００、好ましくは２３０〜５５０、更に好ましくは２３０〜３５０であり、特に好ましくは粘度平均重合度２４０〜３２０である。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。更に特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。
【００５３】
またセルロースアシレートの数平均分子量Ｍｎは、好ましくは７〜２５×１０4の範囲
、より好ましくは、８〜１５×１０4の範囲にあることが望ましい。また、該セルロース
アシレートの質量平均分子量Ｍｗとの比、Ｍｗ／Ｍｎは、好ましくは１．０〜５．０、より好ましくは１．０〜３．０である。なお、セルロースアシレートの平均分子量および分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用いて測定でき、これを用いて上記ＭｎおよびＭｗを算出し、Ｍｗ／Ｍｎを計算することができる。
【００５４】
本発明において用いられる上記セルロースアシレートフィルムは、上述の数式（７）および（８）を満足する範囲にあるセルロースアシレート、可塑剤［特に好ましくは後述するオクタノール／水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０ないし１０である可塑剤］、を各々少なくとも１種含有してなるフィルムが好ましく用いられる。
【００５５】
［可塑剤］
本発明で用いられる可塑剤は、セルロースアシレートフィルムに柔軟性を与え、寸法安定性を向上させ、耐湿性を向上させるために添加される成分である。好ましい可塑剤は、沸点が２００℃以上で、２５℃で液体であるか、または融点が２５〜２５０℃の固体であることが好ましい。更に好ましくは沸点が２５０℃以上で、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である可塑剤が挙げられる。可塑剤が液体の場合は、その精製は通常減圧蒸留によって実施され、高真空ほど好ましく、本発明では、特に、２００℃における蒸気圧が１３３３Ｐａ以下の可塑剤を用いることが好ましく、より好ましくは蒸気圧６６７Ｐａ以下、更に好ましくは１３３〜１Ｐａの化合物が好ましい。
【００５６】
これらの好ましく添加される可塑剤としては、上記の物性の範囲内にあるリン酸エステル、カルボン酸エステル、ポリオールエステル等が用いられる。
リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が含まれる。
【００５７】
カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジフェニルフタレート、ジエチルヘキシルフタレート等が挙げられる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル、Ｏ−アセチルクエン酸トリブチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。
これらの好ましい可塑剤は、２５℃においてＴＰＰ（融点約５０℃）以外は液体であり、沸点も２５０℃以上である。
【００５８】
その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。グリコール酸エステルの例としては、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、メチルフタリルメチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレートなどがある。
【００５９】
また、特開平５−１９４７８８号、特開昭６０−２５００５３号、特開平４−２２７９４１号、特開平６−１６８６９号、特開平５−２７１４７１号、特開平７−２８６０６８号、特開平５−５０４７号、特開平１１−８０３８１号、特開平７−２０３１７号、特開平８−５７８７９号、特開平１０−１５２５６８号、特開平１０−１２０８２４号の各公報などに記載されている可塑剤も好ましく用いられる。これらの公報によると可塑剤の例示だけでなくその利用方法あるいはその特性についての好ましい記載が多数あり、本発明においても好ましく用いられるものである。
【００６０】
その他の可塑剤としては、特開平１１−１２４４４５号記載の（ジ）ペンタエリスリトールエステル類、特開平１１−２４６７０４号記載のグリセロールエステル類、特開２０００−６３５６０号記載のジグリセロールエステル類、特開平１１−９２５７４号記載のクエン酸エステル類、特開平１１−９０９４６号記載の置換フェニルリン酸エステル類、特開２００３−１６５８６８号等記載の芳香環とシクロヘキサン環を含有するエステル化合物などが好ましく用いられる。
【００６１】
更には本発明では、オクタノール／水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０ないし１０である可塑剤が特に好ましく用いられる。化合物のｌｏｇＰ値が１０以下であれば、セルロースアシレートとの相溶性が良好で、フィルムの白濁や粉吹きなどの不具合を生じることがなく、またｌｏｇＰ値が０よりも大きければ、親水性が高くなりすぎることがないのでセルロースアシレートフィルムの耐水性を悪化させるなどの弊害が生じにくいので、上記範囲内のものを用いることが好ましい。ｌｏｇＰ値として、さらに好ましい範囲は１ないし８であり、特に好ましい範囲は２ないし７である。
【００６２】
オクタノール／水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ日本工業規格Ｚ７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ浸とう法により実施することができる。また、オクタノール／水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法あるいは経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法［Ｊ．  Ｃｈｅｍ．  Ｉｎｆ．  Ｃｏｍｐｕｔ．  Ｓｃｉ．，  ２７巻２１頁（１９８７）］、  Ｖｉｓｗａｎａｄｈａｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法［Ｊ．  Ｃｈｅｍ．  Ｉｎｆ．  Ｃｏｍｐｕｔ．  Ｓｃｉ．，  ２９巻１６３頁（１９８９）］、  Ｂｒｏｔｏ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法［Ｅｕｒ．  Ｊ．  Ｍｅｄ．  Ｃｈｅｍ．  −  Ｃｈｉｍ．  Ｔｈｅｏｒ．，  １９巻７１頁（１９８４）］などが好ましく用いられるが、中でもＣｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法がより好ましい。ある化合物のｌｏｇＰの値が、測定方法または計算方法により異なる場合に、該化合物が本発明の範囲内であるかどうかは、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法により判断することが好ましい。
【００６３】
また、分子量１０００〜１０万の樹脂成分を有する高分子可塑剤も好ましく用いられる。例えば、特開２００２−２２９５６号公報に記載のポリエステルおよびまたはポリエーテル、特開平５−１９７０７３号公報に記載のポリエステルエーテル、ポリエステルウレタンまたはポリエステル、特開平２−２９２３４２号公報に記載のコポリエステルエーテル、特開２００２−１４６０４４号公報等記載のエポキシ樹脂またはノボラック樹脂等が挙げられる。
【００６４】
これらの可塑剤は単独もしくは２種類以上を混合して用いてもよい。可塑剤の添加量はセルロースアシレート１００質量部に対して２〜３０質量部、特に５〜２０質量部が好ましい。
【００６５】
［紫外線防止剤］
上記セルロースアシレートフィルムには、フィルム自身の耐光性向上、或いは偏光板、液晶表示装置の液晶化合物等の画像表示部材の劣化防止のために、更に紫外線防止剤（紫外線吸収剤）を添加することが好ましい。  
【００６６】
紫外線吸収剤としては、液晶の劣化防止の点より波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な画像表示性の点より波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が可及的に少ないものを用いることが好ましい。特に、波長３７０ｎｍでの透過率が、２０％以下であることが望ましく、好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下である。このような紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、前記のような紫外線吸収性基を含有する高分子紫外線吸収化合物等があげられるが、これらに限定されない。紫外線吸収剤は２種以上用いてもよい。
【００６７】
紫外線吸収剤のドープへの添加方法は、アルコールやメチレンクロライド、ジオキソランなどの有機溶媒に溶解してから添加してもよいし、また直接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体のように有機溶媒に溶解しないものは、有機溶媒とセルロースアシレート中にデゾルバやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。
【００６８】
本発明において紫外線吸収剤の使用量は、セルロースアシレート１００質量部に対し０．１〜５．０質量部、好ましくは０．５〜２．０質量部、より好ましくは０．８〜２．０質量部である。
【００６９】
［他の添加剤］
更に、セルロースアシレート組成物には、各調製工程において用途に応じた他の種々の添加剤（例えば、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン等）、光学異方性コントロール剤、剥離剤、帯電防止剤、赤外吸収剤等）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。さらにまた、赤外吸収剤としては例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載のものが使用できる。
【００７０】
これらの添加剤の添加する時期は、ドープ作製工程において何れで添加してもよいが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、セルロースアシレートフィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開２００１−１５１９０２号公報などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。上記の紫外線吸収剤を含めてこれらの詳細は、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）１６〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
【００７１】
これらの添加剤の使用量は、セルロールアシレート全組成物中、０．００１〜２０質量％の範囲で適宜用いられることが好ましい。
【００７２】
（溶媒）
次に、セルロースアシレートを溶解する有機溶媒について記述する。用いる有機溶媒としては、従来公知の有機溶媒が挙げられ、例えば溶解度パラメーターで１７〜２２の範囲ものが好ましい。溶解度パラメーターは、例えばＪ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ、Ｅ．Ｈ等の「ＰｏｌｙｍｅｒＨａｎｄｂｏｏｋ（４ｔｈ．ｅｄｉｔｉｏｎ）」、ＶＩＩ／６７１〜ＶＩＩ／７１４に記載の内容のものを表す。低級脂肪族炭化水素の塩化物、低級脂肪族アルコール、炭素原子数３から１２までのケトン、炭素原子数３〜１２のエステル、炭素原子数３〜１２のエーテル、炭素原子数５〜８の脂肪族炭化水素類、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素類、フルオロアルコール類（例えば、特開平８−１４３７０９号公報  段落番号［００２０］、同１１−６０８０７号公報  段落番号［００３７］等に記載の化合物）等が挙げられる。
【００７３】
セルロースアシレートは、有機溶媒に１０〜３０質量％溶解していることが好ましいが、より好ましくは１３〜２７質量％であり、特には１５〜２５質量％溶解しているセルロースアシレート溶液であることが好ましい。これらの濃度にセルロースアシレートを調製する方法は、溶解する段階で所定の濃度になるように調製してもよく、また予め低濃度溶液（例えば９〜１４質量％）として作製した後に後述する濃縮工程で所定の高濃度溶液に調整してもよい。さらに、予め高濃度のセルロースアシレート溶液として後に、種々の添加物を添加することで所定の低濃度のセルロースアシレート溶液としてもよく、いずれかの方法で本発明のセルロースアシレート溶液濃度になるように実施されれば特に問題ない。
【００７４】
［ドープの調製］
セルロースアシレート溶液（ドープ）の調製について、その溶解方法は、上記のように特に限定されるものではなく、室温溶解法、冷却溶解法または高温溶解方法により実施され、さらにはこれらの組み合わせで実施される。これらに関しては、例えば特開平５−１６３３０１号、特開昭６１−１０６６２８号、特開昭５８−１２７７３７号、特開平９−９５５４４号、特開平１０−９５８５４号、特開平１０−４５９５０号、特開２０００−５３７８４号、特開平１１−３２２９４６号、特開平１１−３２２９４７号、特開平２−２７６８３０号、特開２０００−２７３２３９号、特開平１１−７１４６３号、特開平０４−２５９５１１号、特開２０００−２７３１８４号、特開平１１−３２３０１７号、特開平１１−３０２３８８号などの各公報にセルロースアシレート溶液の調製法が記載されている。これらのセルロースアシレートの有機溶媒への溶解方法は、本発明においても、その範囲内であればこれらの技術を適宜適用できるものである。これらの詳細、特に非塩素系溶媒系については、前記の公技番号２００１−１７４５号の２２〜２５頁に詳細に記載されている方法で実施される。さらにセルロースアシレートのドープ溶液は、溶液濃縮，ろ過が通常実施され、同様に前記の公技番号２００１−１７４５号の２５頁に詳細に記載されている。なお、高温度で溶解する場合は、使用する有機溶媒の沸点以上の場合がほとんどであり、その場合は加圧状態で用いられる。
【００７５】
セルロースアシレート溶液は、その溶液の粘度と動的貯蔵弾性率が特定の範囲であることが好ましい。試料溶液１ｍＬをレオメーター（ＣＬＳ  ５００）に直径４ｃｍ／２゜のＳｔｅｅｌ  Ｃｏｎｅ（共にＴＡ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｎｔｓ社製）を用い、測定条件はＯｓｃｉｌｌａｔｉｏｎ  Ｓｔｅｐ／Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ  Ｒａｍｐで４０℃〜−１０℃の範囲を２℃／分で可変して測定し、４０℃の静的非ニュートン粘度ｎ*（Ｐａ・ｓｅｃ）および５℃の貯蔵弾性率Ｇ’（Ｐａ）を求める。試料溶液は、予め測定開始温度にて液温一定となるまで保温した後に測定を開始する。４０℃での粘度が１〜３００Ｐａ・ｓｅｃであり、かつ−５℃での動的貯蔵弾性率が１万〜１００万Ｐａであることが好ましい。より好ましくは、４０℃での粘度が１〜２００Ｐａ・ｓｅｃであり、かつ−５℃での動的貯蔵弾性率が３万〜５０万Ｐａである。
【００７６】
［セルロースアシレートフィルムの特性］
反射防止フィルムの透明支持体として、さらには偏光膜の透明保護フィルムとして、好適に使用されるセルロースアシレートフィルムは、以下のような特性を有することが好ましい。
【００７７】
｛フィルムの力学特性｝
（フィルムの機械的特性）
透明保護フィルムの幅方向のカール値は−７／ｍ〜＋７／ｍであることが好ましい。長尺で広幅の透明保護フィルムに対し行う際に、透明保護フィルムの幅方向のカール値が前述の範囲内にあると、フィルムのハンドリングの支障や、フィルムの切断が起きることが無く、また、フィルムのエッジや中央部などで、フィルムが搬送ロールと強く接触することからくる発塵や、フィルム上への異物付着が少なくなり、本発明の偏光板の点欠陥や塗布スジの頻度が許容値を超えることがなく、好ましい。また、偏光膜貼り合せ時に気泡が入ることを防ぐことができて好ましい。
【００７８】
カール値は、アメリカ国家規格協会の規定する測定方法（ＡＮＳＩ／ＡＳＣＰＨ１．２９−１９８５）に従い測定することができる。
【００７９】
透明保護フィルムの残留溶媒量は、０．００１〜１．５質量％とすることでカールを抑制できるので好ましい。さらに０．０１〜１．０質量％以下であることがより好ましい。これは、前述の溶液流延製膜方法による成膜時の残留溶媒量を少なくすることで自由体積が小さくなることが主要な効果要因になるためと思われる。
【００８０】
セルロースアシレートフィルムの引き裂き強度は、そのＪＩＳ  Ｋ−７１２８−２：１９９８の引裂き試験方法（エルメンドルフ引裂き法）に基づく引裂き強度が、２ｇ以上であるのが、前記の膜厚においても膜の強度が充分に保持できる点で好ましい。より好ましくは、５〜２５ｇであり、更に好ましくは６〜２５ｇである。また６０μｍ換算では、８ｇ以上が好ましく、より好ましくは８〜１５ｇである。具体的には、試料片５０ｍｍ×６４ｍｍを、２５℃、６５％ＲＨの条件下に２時間調湿した後に軽荷重引裂き強度試験機を用いて測定できる。
【００８１】
また、引掻き強度は２ｇ以上であることが好ましく、５ｇ以上であることがより好ましく、１０ｇ以上であることが特に好ましい。この範囲とすることにより、フィルム表面の耐傷性、ハンドリング性が問題なく保持される。引掻き強度は、円錐頂角が９０゜で先端の半径が０．２５ｍのサファイヤ針を用いて透明保護フィルム表面を引掻き、引掻き跡が目視にて確認できる荷重（ｇ）をもって評価することができる。
【００８２】
（フィルムの吸湿膨張係数）
上記セルロースアシレートフィルムの吸湿膨張係数を３０×１０−５／％ＲＨ以下とすることが好ましい。吸湿膨張係数は、１５×１０−５／％ＲＨ以下とすることがより好ましく、１０×１０−５／％ＲＨ以下であることがさらに好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、１．０×１０−５／％ＲＨ以上の値である。吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。この吸湿膨張係数を調節することで、偏光板透明保護フィルムの耐久性が良好となり、或いは光学補償フィルムを積層した偏光板の場合には光学補償機能を維持したまま、額縁状の透過率上昇すなわち歪みによる光漏れを防止することができる。
【００８３】
吸湿膨張係数の測定方法について以下に示す。作製したセルロースアシレートフィルムから幅５ｍｍ、長さ２０ｍｍの試料を切り出し、片方の端を固定して２５℃、２０％ＲＨ（Ｒ０）の雰囲気下にぶら下げる。他方の端に０．５ｇの重りをぶら下げて、１０分間放置し長さ（Ｈ０）を測定した。次に、温度は２５℃のまま、湿度を８０％ＲＨ（Ｒ１）にして２４時間放置した後の長さ（Ｈ１）を測定する。吸湿膨張係数は下記数式（１０）により算出する。測定は同一試料につき１０サンプル行い、平均値を採用する。
数式（１０）：吸湿膨張係数（／％ＲＨ）＝｛（Ｈ１−Ｈ０）／Ｈ０｝／（Ｒ１−Ｒ０）
【００８４】
作製したセルロースアシレートフィルムの吸湿による寸度変化を小さくするには、本発明で用いられる前記の可塑剤または微粒子等を添加することにより可能となる。分子中にバルキーで疎水性を有する多環式脂環式構造をもつ可塑剤が有効に作用すると思われる。また、セルロースアシレートフィルム中の残留溶媒量を少なくして自由体積を小さくすることも有効な手段として挙げられる。具体的には、セルロースアシレートフィルムに対する残留溶媒量が、０．００１〜１．５質量％の範囲となる条件で乾燥することが好ましい。より好ましくは０．０１〜１．０質量％である。
【００８５】
（フィルムの平衡含水率）
セルロースアシレートフィルムの平衡含水率は、偏光板の透明保護フィルムとして用いる際、ポリビニルアルコールなどの水溶性ポリマーとの接着性を損なわないために、膜厚のいかんに関わらず、２５℃８０％ＲＨにおける平衡含水率が、０〜４質量％であることが好ましい。０．１〜３．５質量％であることがより好ましく、１〜３質量％であることが特に好ましい。平衡含水率が該上限値以下であれば、セルロースアシレートフィルムを偏光板の透明保護フィルムとして用いる際にレターデーションの湿度変化による依存性が大きくなりすぎることがないので好ましい。
【００８６】
含水率の測定法は、本発明のセルロースアシレートフィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを、水分測定器“ＣＡ−０３”および試料乾燥装置“ＶＡ−０５”［共に三菱化学（株）製］を用いてカールフィッシャー法により測定した。含水率は、水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出する。
【００８７】
（フィルムの透湿度）
本発明のセルロースアシレートフィルムの透湿度は、ＪＩＳ規格ＪＩＳ  Ｚ−０２０８をもとに、温度６０℃、湿度９５％ＲＨの条件において測定し、得られた値を膜厚８０μｍに換算したものである。該透湿度は４００〜２０００ｇ／ｍ2・２４ｈ、さらには５０
０〜１８００ｇ／ｍ2・２４ｈ、特には６００〜１６００ｇ／ｍ2・２４ｈの範囲であることが好ましい。透湿度が該上限値以下であれば、フィルムのレターデーション値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超えることが少ないので好ましい。一方、該透湿度が該下限値以上であれば、偏光膜に貼り付けて偏光板を作製する場合に、セルロースアシレートフィルムにより接着剤の乾燥が妨げられて接着不良を引き起こすなどの不具合が生じにくいので好ましい。
【００８８】
セルロースアシレートフィルムの膜厚が厚ければ透湿度は小さくなり、膜厚が薄ければ透湿度は大きくなる。そこでどのような膜厚のサンプルでも基準を８０μｍに設け換算する必要がある。膜厚の換算は、（８０μｍ換算の透湿度＝実測の透湿度×実測の膜厚μｍ／８０μｍ）として求める。
【００８９】
透湿度の測定法は、「高分子の物性ＩＩ」（高分子実験講座４  共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができ、セルロースアシレートフィルム試料７０ｍｍφを２５℃、９０％ＲＨおよび６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、透湿試験装置［“ＫＫ−７０９００７”東洋精機（株）製］にて、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ2）し、透湿度＝調湿後質量−調湿前質量で求める。
【００９０】
次に、透明支持体の上に積層するハードコート層について記載する。
【００９１】
＜ハードコート層＞
本発明の反射防止フィルムには、フィルムの物理的強度を付与するために、更に、漆黒感の良好な表面形状を達成するために、透明支持体の一方の面にハードコート層が設けられる。
好ましくは、その上に低屈折率層が設けられ、更に好ましくはハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられ、反射防止フィルムを構成する。
ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
【００９２】
本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、屈折率が１．４５〜２．００の範囲にあることが好ましく、１．４５〜１．５５の範囲にあることがより好ましく、さらに好ましくは１．４８〜１．５５であり、特に好ましくは１．４９〜１．５３である。ハードコート層の屈折率をこの範囲に制御することにより、反射色をニュートラルな範囲に抑えつつ、表面の反射率が十分低減された反射防止フィルムを得ることができる。更にハードコート層の屈折率をこの範囲に制御することで、干渉ムラと呼ばれるセルロースアシレート透明支持体とハードコート層の屈折率差に起因する故障を低減することができる。
【００９３】
ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、ハードコート層の厚さは通常３μｍ〜１５μｍ程度とし、好ましくは５μｍ〜１５μｍ、さらに好ましくは４μｍ〜１２μｍ、最も好ましくは５μｍ〜８μｍである。ハードコート層を上記厚み範囲にすることで透明支持体に形成された凹凸を適度にレベリングし、漆黒感の良好な反射防止フィルムを得ることができる。ハードコート層が厚すぎるとレベリングが進んで表面がフラットとなり、防眩効果が不足する。ハードコート層が薄すぎると表面凹凸が大きく、反射光が乱反射して漆黒感の劣った反射防止フィルムとなる。
【００９４】
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、２Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上であることがさらに好ましく、４Ｈ以上であることが最も好ましい。
さらに、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【００９５】
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【００９６】
ハードコート層には、内部散乱性付与、あるいはハードコート層の表面凹凸形状付与の目的で、平均粒径が３．０〜１２．０μｍ、好ましくは５〜８μｍの微粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子を含有してもよい。但し、必要とされる、表面凹凸形状、あるいは内部散乱性は、前記したように透明支持体に含有される微粒子により、表面凹凸形状、さらには内部散乱性が付与されているため、ハードコート層には平均粒径３μｍ以上の粒子を含有しないことが好ましい。また、平均粒径１μｍ以下の無機微粒子はハードコート層の屈折率を調整する意図で添加されるが、ハードコート層用塗布液の安定性を低下させる弊害があるため、該無機微粒子を含まないことが好ましい。
【００９７】
また、ハードコート層の表面凹凸形状については、中心線平均粗さ（Ｒａ）を０．０５μｍ以上０．２０μｍ以下とすることが好ましい。Ｒａは、より好ましくは０．０５μｍ以上０．１５μｍ以下である。また、凹凸の周期（Ｓｍ）は１０μｍ以上１５０μｍ以下とすることが好ましく、５０μｍ以上１５０μｍ以下とすることがより好ましく、６０μｍ以上１２０μｍ以下にすることがさらに好ましい。
【００９８】
ハードコート層の平均傾斜角θａは、０．４°以上１．５°以下であることが好ましい。θａが０．４°未満であると、十分なアンチグレア性を発揮することができず、外光等の映り込みが生じるという不都合がある。その一方、θａが１．５°を超えると、ヘイズ値が増大するという不都合がある。前記範囲内であると、ハードコート層の防眩効果を向上させることができ、外光等の映り込みを好適に防止することができる。
【００９９】
本発明に於いて、前記平均傾斜角θａは、下記数式（１）で定義される値である。
【０１００】
【数１】
0005380025.tif 000002
【０１０１】
前記数式（１）に於いて、Δａは下記数式（２）に示すように、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１（１９９４年度版）に規定される粗さ曲線の基準長さＬに於いて、隣り合う山の頂点と谷の最下点との差（高さｈ）の合計（ｈ１＋ｈ２＋ｈ３＋…＋ｈｎ）を前記基準長さＬで除した値である。前記粗さ曲線は、断面曲線から所定の波長より長い表面うねり成分を位相差補償形広域フィルターで除去した曲線である。また、前記断面曲線とは対象面に直角な平面で対象面を切断したときに、その切り口に現れる輪郭である。図８に前記粗さ曲線、高さｈ及び基準線Ｌの一例を示す。
【０１０２】
【数２】
0005380025.tif 000003
【０１０３】
Ｒａ、Ｓｍ及びθaをこの範囲に制御することで、十分な防眩性を確保しつつ、漆黒感
の良好な反射防止フィルムを得ることができる。
【０１０４】
［低屈折率層］
本発明においては、前記のハードコート層より外側、すなわち透明支持体より遠い側に低屈折率層を設けることができる。低屈折率層を有することで、防眩性フィルムに反射防止機能を付与し、さらには防眩性をより高めることができる。低屈折率層の屈折率は前記のハードコート層の屈折率より低く設定することが好ましい。低屈折率層とハードコート層との屈折率差が小さすぎる場合は反射防止性が低下し、大き過ぎると反射光の色味が強くなる傾向がある。低屈折率層とハードコート層との屈折率差は０．０１以上０．３０以下が好ましく、０．０５以上０．２０以下がより好ましい。
低屈折率層は、低屈折率素材を用いて形成することができる。低屈折率素材としては、低屈折率バインダーを用いることができる。また、バインダーに微粒子を加えて低屈折率層を形成することもできる。
【０１０５】
低屈折率バインダーとしては、含フッ素共重合体を好ましく用いることができる。含フッ素共重合体は、含フッ素ビニルモノマーから導かれる構成単位と架橋性付与のための構成単位を有することが好ましい。
【０１０６】
（含フッ素共重合体）
含フッ素共重合体を主として構成する含フッ素ビニルモノマーとしては、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオリド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類｛例えば「ビスコート６ＦＭ」（商品名）、大阪有機化学工業（株）や“Ｒ−２０２０”（商品名）、ダイキン工業（株）製等｝、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはペルフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
【０１０７】
これらの含フッ素ビニルモノマーの組成比を上げれば屈折率を下げることができるが、皮膜強度は低下する傾向がある。本発明では共重合体のフッ素含率が２０〜６０質量％となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは２５〜５５質量％の場合であり、特に好ましくは３０〜５０質量％の場合である。
【０１０８】
架橋反応性付与のための構成単位としては主として以下の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）で示される単位が挙げられる。
（Ａ）：グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内に予め自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、
（Ｂ）：カルボキシ基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー｛例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等｝の重合によって得られる構成単位、
（Ｃ）：分子内に上記（Ａ）、（Ｂ）の官能基と反応する基とそれとは別に架橋性官能基を有する化合物を、上記（Ａ）、（Ｂ）の構成単位と反応させて得られる構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で合成できる構成単位）が挙げられる。
【０１０９】
上記（Ｃ）の構成単位は、その架橋性官能基が光重合性基であることが好ましい。該光重合性基としては、例えば（メタ）アクリロイル基、アルケニル基、シンナモイル基、シンナミリデンアセチル基、ベンザルアセトフェノン基、スチリルピリジン基、α−フェニルマレイミド基、フェニルアジド基、スルフォニルアジド基、カルボニルアジド基、ジアゾ基、ｏ−キノンジアジド基、フリルアクリロイル基、クマリン基、ピロン基、アントラセン基、ベンゾフェノン基、スチルベン基、ジチオカルバメート基、キサンテート基、１，２，３−チアジアゾール基、シクロプロペン基、アザジオキサビシクロ基などを挙げることができ、これらは１種のみでなく２種以上であってもよい。これらのうち、（メタ）アクリロイル基及びシンナモイル基が好ましく、特に好ましくは（メタ）アクリロイル基である。
【０１１０】
光重合性基含有共重合体を調製するための具体的な方法としては、下記の方法を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
ａ．水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、（メタ）アクリル酸クロリドを反応させてエステル化する方法、
ｂ．水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、イソシアネート基を含有する(メタ)アクリル酸エステルを反応させてウレタン化する方法、
ｃ．エポキシ基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、（メタ）アクリル酸を反応させてエステル化する方法、
ｄ．カルボキシ基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、エポキシ基を含有する含有（メタ）アクリル酸エステルを反応させてエステル化する方法。
【０１１１】
なお、上記光重合性基の導入量は任意に調節することができ、塗膜面状安定性・無機粒子共存時の面状故障低下・膜強度向上などの点からカルボキシ基やヒドロキシ基等を残していても良い。
共重合体中の架橋性付与のための構成単位の導入量が１０〜５０モル％であることが好ましく、より好ましくは１５〜４５モル％の場合であり、特に好ましくは２０〜４０モル％の場合である。
本発明における低屈折率層に有用な共重合体では、上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位及び、架橋性付与のための構成単位以外に、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶媒への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から、適宜他のビニルモノマーを共重合することもできる。これらのビニルモノマーは、目的に応じて複数を組み合わせてもよく、合計で共重合体中の０〜６５モル％の範囲で導入されていることが好ましく、０〜４０モル％の範囲であることがより好ましく、０〜３０モル％の範囲であることが特に好ましい。
【０１１２】
併用可能なビニルモノマー単位には、特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸２‐ヒドロキシエチル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル等）、スチレン誘導体（スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、不飽和カルボン酸類（アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等）、アクリルアミド類（Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド）、アクリロニトリル等を挙げることができる。
【０１１３】
本発明で特に有用な含フッ素共重合体は、ペルフルオロオレフィンとビニルエーテル類又はビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基｛（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等｝を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０モル％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０モル％の場合である。好ましいポリマーについては、特開２００２−２４３９０７号、特開２００２−３７２６０１号、特開２００３−２６７３２号、特開２００３−２２２７０２号、特開２００３−２９４９１１号、特開２００３−３２９８０４号、特開２００４−４４４４、特開２００４−４５４６２号の各公報に記載のものを挙げることができる。
【０１１４】
また本発明で有用な含フッ素共重合体には、防汚性を付与する目的で、ポリシロキサン構造が導入されていることが好ましい。ポリシロキサン構造の導入方法に制限はないが、例えば特開平６−９３１００号、特開平１１−１８９６２１号、同１１−２２８６３１号、特開２０００−３１３７０９号の各公報に記載のごとく、シリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシロキサンブロック共重合成分を導入する方法；特開平２−２５１５５５号、同２−３０８８０６号の各公報に記載のごとくシリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフト共重合成分を導入する方法が好ましい。特に好ましい化合物としては、特開平１１−１８９６２１号公報の実施例１、２、及び３のポリマー、又は特開平２−２５１５５５号公報の共重合体Ａ−２及びＡ−３を挙げることができる。これらのポリシロキサン成分は、ポリマー中の０．５〜１０質量％であることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％である。
【０１１５】
本発明に好ましく用いることのできる共重合体の好ましい分子量は、質量平均分子量が５０００以上、好ましくは１００００〜５０００００、最も好ましくは１５０００〜２０００００である。平均分子量の異なるポリマーを併用することで塗膜面状の改良や耐傷性の改良を行うこともできる。
【０１１６】
上記の共重合体に対しては、特開平１０−２５３８８号公報及び特開２０００−１７０２８号公報に記載のごとく、適宜、重合性不飽和基を有する硬化剤を併用してもよい。また、特開２００２−１４５９５２号公報に記載のごとく、含フッ素の多官能の重合性不飽和基を有する化合物との併用も好ましい。多官能の重合性不飽和基を有する化合物の例としては、前記防眩層で述べた多官能モノマーを挙げることができる。これら化合物は、特に共重合体本体に重合性不飽和基を有する化合物を用いた場合に耐擦傷性改良に対する併用効果が大きく好ましい。
【０１１７】
低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４６であることが好ましく、１．２５〜１．４２であることがより好ましく、１．３０〜１．３８であることが特に好ましい。また低屈折率層の厚さは、５０〜１５０ｎｍであることが好ましく、７０〜１２０ｎｍであることがさらに好ましい。
【０１１８】
（微粒子）
次に本発明における低屈折率層に好ましく用いることのできる微粒子について説明する。
【０１１９】
低屈折率層に含まれる微粒子の塗設量は、１〜１００ｍｇ／ｍ２が好ましく、より好ましくは１〜８０ｍｇ／ｍ２、更に好ましくは１〜７０ｍｇ／ｍ２である。微粒子の塗設量が該下限値以上であれば、耐擦傷性の改良効果が明らかに現れ、該上限値以下であれば、低屈折率層表面に微細な凹凸ができて外観や積分反射率が悪化するなどの不具合が生じないので好ましい。該微粒子は、低屈折率層に含有させることから、低屈折率であることが好ましい。
【０１２０】
具体的には、低屈折率層に含まれる微粒子は、無機微粒子、中空の無機微粒子、又は中空の有機樹脂微粒子であって、低屈折率のものであることが好ましく、中空の無機微粒子が特に好ましい。無機微粒子としては、例えば、シリカ又は中空シリカの微粒子が挙げられる。
【０１２１】
このような微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの３０％以上１００％以下が好ましく、より好ましくは３０％以上８０％以下、更に好ましくは３５％以上７０％以下である。すなわち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、微粒子の粒径は３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下、更に好ましくは、３５ｎｍ以上７０ｎｍ以下である。
【０１２２】
上記のような（中空）シリカ微粒子は、その粒径が上記下限値以上であれば、耐擦傷性の改良効果が明らかに現れ、上記上限値以下であれば、低屈折率層表面に微細な凹凸ができて外観や積分反射率が悪化するなどの不具合が生じないので好ましい。
【０１２３】
（中空）シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでもよく、また単分散粒子でも、凝集粒子（この場合は、２次粒子径が、低屈折率層の層厚の１５％〜１５０％であることが好ましい）でも構わない。また、２種類以上の複数の粒子（種類又は粒径）を用いても構わない。粒子の形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題ない。
【０１２４】
低屈折率層の屈折率を低下させるために、中空のシリカ微粒子を用いることが特に好ましい。該中空シリカ微粒子は屈折率が１．１７〜１．４０、より好ましくは１．１７〜１．３５、さらに好ましくは１．１７〜１．３３である。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をｒｉ、粒子外殻の半径をｒｏとすると、空隙率ｘは下記数式（３）で算出される。
【０１２５】
数式（３）：  ｘ＝（４πｒｉ３／３）／（４πｒｏ３／３）×１００
【０１２６】
空隙率ｘは、好ましくは１０〜６０％、さらに好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から１．１７未満の低屈折率の粒子は困難である。なお、これら中空シリカ粒子の屈折率はアッベ屈折率計｛（株）アタゴ製｝にて測定をおこなった。
【０１２７】
防汚性向上の観点から、更に、低屈折率層表面の表面自由エネルギーを下げることが好ましい。具体的には、含フッ素化合物やポリシロキサン構造を有する化合物を低屈折率層に使用することが好ましい。
【０１２８】
ポリシロキサン構造を有する添加剤としては、反応性基含有ポリシロキサン｛例えば“ＫＦ−１００Ｔ”，“Ｘ−２２−１６９ＡＳ”，“ＫＦ−１０２”，“Ｘ−２２−３７０１ＩＥ”，“Ｘ−２２−１６４Ｂ”，“Ｘ−２２−５００２”，“Ｘ−２２−１７３Ｂ”，“Ｘ−２２−１７４Ｄ”，“Ｘ−２２−１６７Ｂ”，“Ｘ−２２−１６１ＡＳ” （商品名）、以上、信越化学工業（株）製；“ＡＫ−５”，“ＡＫ−３０”，“ＡＫ−３２”（商品名）、以上東亜合成（株）製；、「サイラプレーンＦＭ０７２５」，「サイラプレーンＦＭ０７２１」（商品名）、以上チッソ（株）製等｝を添加するのも好ましい。また、特開２００３−１１２３８３号公報の表２、表３に記載のシリコーン系化合物も好ましく使用できる。これらのポリシロキサンは低屈折率層全固形分の０．１〜１０質量％の範囲で添加されることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％の場合である。
【０１２９】
〔反射防止フィルムの作製方法〕
本発明の反射防止フィルムは、以下の方法で形成することができるが、これらに制限されるものではない。
【０１３０】
［塗布液の調整］
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。その際、溶媒の揮発量を最小限に抑制することにより、塗布液中の含水率の上昇を抑制できる。塗布液中の含水率は５％以下が好ましく、２％以下がより好ましい。溶媒の揮発量の抑制は、各素材をタンクに投入後の攪拌時の密閉性を向上すること、移液作業時の塗布液の空気接触面積を最小化すること等で達成される。また、塗布中、又はその前後に塗布液中の含水率を低減する手段を設けてもよい。
【０１３１】
［濾過］
塗布に用いる塗布液は塗布前に濾過することが好ましい。濾過のフィルタは、塗布液中の成分が除去されない範囲でできるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。濾過には、絶対濾過精度０．１〜５０μｍ、さらには絶対濾過精度０．１〜４０μｍであるフィルタが好ましく用いられる。フィルタの厚さは、０．１〜１０ｍｍが好ましく、更には０．２〜２ｍｍが好ましい。その場合、濾過圧力は１．５ＭＰａ以下、より好ましくは１．０ＭＰａ以下、更には０．２ＭＰａ以下で濾過することが好ましい。
【０１３２】
濾過フィルタ部材は、塗布液に影響を及ぼさなければ特に限定されない。具体的には、前記した無機化合物の湿式分散物の濾過部材と同様のものが挙げられる。また、濾過した塗布液を、塗布直前に超音波分散して、脱泡、分散物の分散保持を補助することも好ましい。
【０１３３】
［塗布前の処理］
透明支持体は、塗布前に、ベース変形の矯正のための加熱処理、又は、塗工性改良や塗設層との接着性改良のための表面処理を施すことが好ましい。表面処理の具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理又は紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。
【０１３４】
さらに塗布が行われる前工程として、除塵工程を行うことが好ましく、それに用いられる除塵方法としては、特開昭５９−１５０５７１号公報に記載のフィルム表面に不織布や、ブレード等を押しつける方法；特開平１０−３０９５５３号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法；特開平７−３３３６１３号公報に記載される超音波振動する圧縮空気を吹き付けて付着物を剥離させ、吸引する方法｛（株）伸興製、ニューウルトラクリーナー等｝；等の乾式除塵法が挙げられる。また、洗浄槽中にフィルムを導入し、超音波振動子により付着物を剥離させる方法；特公昭４９−１３０２０号公報に記載されているフィルムに洗浄液を供給したあと、高速空気の吹き付け、吸い込みを行う方法；特開２００１−３８３０６号公報に記載のように、ウェブを液体でぬらしたロールで連続的に擦った後、擦った面に液体を噴射して洗浄する方法；等の湿式除塵法を用いることもできる。このような除塵方法のうち、超音波除塵による方法又は湿式除塵による方法が、除塵効果の点で特に好ましい。
【０１３５】
また、このような除塵工程を行う前に、透明支持体上の静電気を除電しておくことは、除塵効率を上げ、ゴミの付着を抑える点で特に好ましい。このような除電方法としては、コロナ放電式のイオナイザ、ＵＶ、軟Ｘ線等の光照射式のイオナイザ等を用いることができる。除塵、塗布前後の透明支持体の帯電圧は、１０００Ｖ以下が望ましく、好ましくは３００Ｖ以下、特に好ましくは、１００Ｖ以下である。
【０１３６】
フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理において透明支持体、例えばセルロースアシレートフィルムなどの温度を、そのフィルムを構成するポリマーのＴｇ以下、セルロースアシレートフィルムの場合には１５０℃以下とすることが好ましい。
【０１３７】
本発明の反射防止フィルムを、偏光板の保護フィルムとして使用する場合のように、該反射防止フィルムの好ましい透明支持体であるセルロースアシレートフィルムを偏光膜と接着させる場合には、偏光膜との接着性の観点から、酸処理又はアルカリ処理、すなわちセルロースアシレートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。
【０１３８】
接着性などの観点から、透明支持体としてのセルロースアシレートフィルムの表面エネルギーは、５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましく、上記表面処理により調整することができる。
【０１３９】
［塗布］
本発明のフィルムの各層は以下の塗布方法により形成することができるが、この方法に制限されない。ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（ダイコート法）（米国特許第２６８１２９４号明細書、国際公開第２００５／１２３２７４号パンフレット参照）、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。
【０１４０】
本発明で用いられるマイクログラビアコート法とは、直径が約１０〜１００ｍｍ、好ましくは約２０〜５０ｍｍで、全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを透明支持体の下方に設置し、該支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、該支持体の上面が自由状態にある位置におけるその支持体の下面に、一定量の塗布液を転写させて塗工することを特徴とするコート法である。ロール形態の透明支持体を連続的に巻き出し、この巻き出された支持体の一方の側に、少なくとも防眩層及びフッ素含有オレフィン系重合体を含む低屈折率層のうちの少なくとも一層をマイクログラビアコート法によって塗工することができる。
【０１４１】
マイクログラビアコート法による塗工条件としては、グラビアロールに刻印されたグラビアパターンの線数は５０〜８００本／ｉｎ、さらには１００〜３００本／ｉｎが好ましく、グラビアパターンの深度は１〜６００μｍ、さらには５〜２００μｍが好ましく、グラビアロールの回転数は３〜８００ｒｐｍ、さらには５〜２００ｒｐｍであることが好ましく、透明支持体の搬送速度は０．５〜１００ｍ／分、さらには１〜５０ｍ／分であることが好ましい。
【０１４２】
本発明のフィルムを高い生産性で供給するために、エクストルージョン法（ダイコート法）が好ましく用いられる。特に特開２００６−１２２８８９号公報に記載のエクストルージョン法により、特に好ましく塗布が可能である。
【０１４３】
ダイコート法は、前計量方式であるために安定した膜厚の確保が容易である。低塗布量の塗布液に対して、この塗布方式は、高速で膜厚安定性よく塗布が可能である。他の塗布方式でも塗布は可能であるが、ディップコート法は液受け槽中の塗布液振動が不可避であり、段状のムラが発生しやすい。リバースロールコート法では、塗布に関連するロールの偏芯やたわみにより、段状のムラが発生しやすい。また、これらの塗布方式は後計量方式であるため、安定した膜厚の確保が容易ではない。該ダイコート法を用い、２０ｍ／分以上で塗布することが生産性の面から好ましい。
【０１４４】
［乾燥］
本発明のフィルムは、透明支持体上に直接又は他の層を介して塗布された後、溶媒を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送されることが好ましい。
溶媒を乾燥する方法としては、各種の知見を利用することができる。具体的な知見としては、特開２００１−２８６８１７号公報、同２００１−３１４７９８号公報、同２００３−１２６７６８号公報、同２００３−３１５５０５号公報、同２００４−３４００２号公報などの記載技術が挙げられる。
【０１４５】
乾燥ゾーンの温度は２５℃〜１４０℃が好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温であり、後半は比較的高温であることが好ましい。但し、各層の塗布液の組成物に含有される、溶媒以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。例えば、紫外線硬化樹脂と併用される市販の光ラジカル発生剤の中には、１２０℃の温風中で数分以内にその数１０％前後が揮発してしまうものもあり、また、単官能、２官能の（メタ）アクリル酸エステルモノマー等は１００℃の温風中で揮発が進行するものもある。そのような場合には、上記のように各層の塗布液に含有される溶媒以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。
【０１４６】
また、各層の塗布液を透明支持体上に塗布した後の乾燥風は、該塗布液の固形分濃度が１〜５０％の間は、塗膜表面の風速が０．０１〜２ｍ／秒の範囲にあることが、乾燥ムラを防止するために好ましい。また、各層の塗布液を透明支持体上に塗布した後、乾燥ゾーン内で、該支持体の塗布面とは反対の面に接触する搬送ロールと支持体との温度差が０℃〜２０℃以内となるようにすることにより、搬送ロール上での伝熱ムラによる乾燥ムラの発生を防止することができるので好ましい。
【０１４７】
［硬化］
本発明の反射防止フィルムは、溶媒の乾燥の後に、ウェブとして電離放射線及び／又は熱により各塗膜を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化することができる。本発明における電離放射線種は特に制限されるものではなく、皮膜を形成する硬化性組成物の種類に応じて、紫外線、電子線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、Ｘ線などから適宜選択することができるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。
【０１４８】
紫外線硬化性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく利用できる。
【０１４９】
また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。
【０１５０】
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は１０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、更に好ましくは、５０〜１００００ｍＪ／ｃｍ２であり、特に好ましくは、５０〜２０００ｍＪ／ｃｍ２である。その際、ウェブの幅方向の照射量分布は中央の最大照射量に対して両端まで含めて５０〜１００％の分布が好ましく、８０〜１００％の分布がより好ましい。
【０１５１】
本発明では、透明支持体上に積層された少なくとも一層を、電離放射線を照射しかつ電離放射線照射開始から０．５秒以上の間、膜面温度５０℃以上に加熱した状態で、酸素濃度１０００ｐｐｍ、好ましくは５００ｐｐｍ、さらに好ましくは、１００ｐｐｍ、最も好ましくは５０ｐｐｍ以下の雰囲気で電離放射線を照射する工程によって硬化することが好ましい。
【０１５２】
また電離放射線照射と同時及び／又は連続して、低酸素濃度の雰囲気で加熱されることも好ましい。特に最外層であり、且つ膜厚が薄い低屈折率層がこの方法で硬化されることが好ましい。硬化反応が熱で加速され、物理強度、耐薬品性に優れた皮膜を形成することができる。
【０１５３】
電離放射線を照射する時間については、０．５秒以上６０秒以下が好ましく、０．７秒以上１０秒以下がより好ましい。照射時間が０．５秒以上であれば硬化反応を完了させることができ、十分な硬化を行うことができる。また長時間低酸素条件を維持するには、設備の大型化や、窒素等の不活性なガスを多量に必要とすることなどため、照射時間は６０秒以下とすることが好ましい。
【０１５４】
酸素濃度を１０００ｐｐｍ以下にする手法としては、大気を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
【０１５５】
不活性なガスを、電離放射線による硬化反応が行われる電離放射線照射室（「反応室」ともいう）に供給し、且つ反応室のウェッブ入口側にやや吹き出す条件にすることで、ウェッブ搬送に伴う同伴エアーを排除し、反応室の酸素濃度を有効に下げられるとともに、酸素による硬化阻害の大きい電極表面の実質の酸素濃度を効率よく低減することができる。反応室のウェッブ入口側での不活性ガスの流れの方向は、反応室の給気、排気のバランスを調整することなどで制御できる。不活性ガスをウェッブ表面に直接吹き付けることも、同伴エアーを除去する方法として好ましく用いられる。
【０１５６】
また上記反応室の前に前室を設け、事前にウェッブ表面の酸素を排除することで、より硬化を効率よく進めることもできる。また電離放射線反応室又は前室のウェッブ入口側を構成する側面は、不活性ガスを効率的に使用するために、ウェッブ表面とのギャップは０．２〜１５ｍｍであることが好ましく、より好ましくは、０．２〜１０ｍｍとするのがよく、０．２〜５ｍｍとするのが最も好ましい。しかし、ウェッブを連続製造するには、ウェッブを接合して繋げていく必要があり、接合には接合テープなどで貼る方法が広く用いられているが、電離放射線反応室又は前室の入口面とウェッブのギャップをあまり狭くすると、接合テープなど接合部材が引っかかる問題が生じる。このためギャップを狭くするには、電離放射線反応室又は前室の入口面の少なくとも一部を可動式とし、接合部が入るときは接合厚み分ギャップを広げるのが好ましい。この実現のためには、電離放射線反応室又は前室の入口面を進行方向前後に可動式にしておき、接合部が通過する際に前後に動いてギャップを広げるやり方や、電離放射線反応室又は前室の入口面をウェッブ面に対し、垂直方向に可動にし、接合部が通過する際に上下に動いてギャップを広げるやり方を取ることができる。
【０１５７】
紫外線照射は、本発明の反射防止フィルムを構成する複数の層それぞれに対して、一層設ける毎に照射してもよいし、積層後照射してもよい。またこれらを組み合わせて照射してもよい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射することが好ましい。
【０１５８】
本発明では、透明支持体上に積層された少なくとも一層を、複数回の電離放射線により硬化することができる。この場合、少なくとも２回の電離放射線が酸素濃度１０００ｐｐｍを超えることのない連続した反応室で行われることが好ましい。複数回の電離放射線照射を同一の低酸素濃度の反応室で行うことにより、硬化に必要な反応時間を有効に確保することができる。特に高生産性のため製造速度をあげた場合には、硬化反応に必要な電離放射線のエネルギーを確保するために複数回の電離放射線照射が必要となる。
【０１５９】
また、硬化率（１００−残存官能基含率）が１００％未満のある値となった場合、その上に層を設けて電離放射線及び／又は熱による硬化を施した際に、下層の硬化率が上層を設ける前よりも高くなって、下層と上層との間の密着性が改良されるので好ましい。
【０１６０】
［ハンドリング］
本発明の反射防止フィルムを連続的に製造するためには、ロール状の透明支持体フィルムを連続的に送り出す工程、塗布液を塗布・乾燥する工程、塗膜を硬化する工程、硬化した層を有する該支持体フィルムを巻き取る工程が行われる。
【０１６１】
ロール状の透明支持体から該支持体がクリーン室に連続的に送り出され、クリーン室内で、その支持体に帯電している静電気を静電除電装置により除電し、引き続き透明支持体上に付着している異物を、除塵装置により除去する。引き続きクリーン室内に設置されている塗布部で塗布液がその支持体上に塗布され、塗布された透明支持体は乾燥室に送られて乾燥される。
乾燥した塗布層を有する透明支持体は乾燥室から硬化室へ送り出され、塗布層に含有されるモノマーが重合して硬化する。さらに、硬化した層を有する透明支持体は硬化部へ送られ硬化を完結させ、硬化が完結した層を有する透明支持体は巻き取られてロール状となる。
【０１６２】
上記工程は、各層の形成毎に行ってもよいし、塗布部−乾燥室−硬化部を複数設けて、各層の形成を連続的に行うことも可能である。
【０１６３】
本発明の反射防止フィルムを作製するためには、上記したように塗布液の精密濾過操作と同時に、塗布部における塗布工程及び乾燥室で行われる乾燥工程が高い清浄度の空気雰囲気下で行われ、且つ塗布が行われる前に、透明支持体フィルム上のゴミ、ほこりが充分に除かれていることが好ましい。塗布工程及び乾燥工程の空気清浄度は、米国連邦規格２０９Ｅにおける空気清浄度の規格に基づき、クラス１０（０．５μｍ以上の粒子が３５３個／ｍ３以下）以上であることが望ましく、更に好ましくはクラス１（０．５μｍ以上の粒子が３５．５個／ｍ３以下）以上であることが望ましい。また、空気清浄度は、塗布−乾燥工程以外の送り出し、巻き取り部等においても高いことがより好ましい。
【０１６４】
［鹸化処理］
本発明の反射防止フィルムを、偏光膜の２枚の表面保護フィルムのうちの一方として用いて偏光板を作製する際には、偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、接着面における接着性を改良することが好ましい。
【０１６５】
ａ．アルカリ液に浸漬する法
アルカリ液の中にフィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面のアルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は０．５〜３モル／Ｌであり、特に好ましくは１〜２モル／Ｌである。好ましいアルカリ液の液温は３０〜７５℃、特に好ましくは４０〜６０℃である。
【０１６６】
上記の鹸化条件の組合せは、比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
【０１６７】
鹸化処理することにより、塗布層を有する表面と反対の表面が親水化される。偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
【０１６８】
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。
【０１６９】
鹸化処理は、塗布層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の、水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に塗布層を有する表面から内部までアルカリによるダメージを受けるため、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる各層の受けるダメージの指標として、反対側の表面の透明支持体の水に対する接触角を用いた場合、特に透明支持体がトリアセチルセルロースであれば、好ましくは１０°〜５０°、より好ましくは３０°〜５０°、さらに好ましくは４０°〜５０°となる。５０°以下であれば、偏光膜との接着性に問題が生じることがなく、好ましい。また１０°以上であれば、フィルムが受けるダメージが大きくないので、物理強度を損なうことがないので好ましい。
【０１７０】
ｂ．アルカリ液を塗布する方法
上述の浸漬法における各膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ液を、塗布層を有する表面と反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、塗布以外にも噴霧、液を含んだベルト等への接触などによって行われることも含む。
【０１７１】
これらの方法を採ることにより、別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの点では（ａ）の浸漬法より高くなる。一方で、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面にはアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができる。例えば、蒸着膜やゾル−ゲル膜では、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響が起こるため、浸漬法では設けることが望ましくないが、この塗布法では液と接触しないため問題なく使用することが可能である。
【０１７２】
上記（ａ）、（ｂ）のどちらの鹸化方法においても、ロール状の支持体から巻き出して各層を形成後に行うことができるため、フィルム製造工程の後に加えて一連の操作で行ってもよい。さらに、同様に巻き出した支持体と偏光板との貼り合わせ工程も併せて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率よく偏光板を作成することができる。
【０１７３】
ｃ．ラミネートフィルムで保護して鹸化する方法
上記（ｂ）と同様に、塗布層がアルカリ液に対する耐性が不足している場合に、最終層まで形成した後に、該最終層を形成した面にラミネートフィルムを貼り合せてからアルカリ液に浸漬することで、最終層を形成した面とは反対側のトリアセチルセルロース面だけを親水化し、然る後にラミネートフィルムを剥離する方法を用いることもできる。この方法でも、塗布層へのダメージなしに、偏光板保護フィルムとして必要なだけの親水化処理を、透明支持体であるトリアセチルセルロースフィルムの、最終層を形成した面とは反対の面だけに施すことができる。上記（ｂ）の方法と比較して、ラミネートフィルムが廃棄物として発生する半面、特別なアルカリ液を塗布する装置が不要である利点がある。
【０１７４】
ｄ．中途層まで形成後にアルカリ液に浸漬する方法
下層まではアルカリ液に対する耐性があるが、上層のアルカリ液に対する耐性不足である場合には、下層まで形成後にアルカリ液に浸漬して両面を親水化処理し、然る後に上層を形成することもできる。製造工程が煩雑になるが、例えば、防眩層とフッ素含有ゾル−ゲル膜の低屈折率層とからなるフィルムにおいて、親水基を有する場合には、防眩層と低屈折率層との層間密着性が向上する利点がある。
【０１７５】
ｅ．予め鹸化済のセルロースアシレートフィルムに塗布層を形成する方法
透明支持体であるセルロースアシレートフィルムを、予めアルカリ液に浸漬するなどして鹸化し、何れか一方の面に、直接又は他の層を介して塗布層を形成してもよい。アルカリ液に浸漬して鹸化する場合には、鹸化により親水化されたセルロースアシレート面と塗布層との層間密着性が悪化することがある。そのような場合には、鹸化後、塗布層を形成する面だけにコロナ放電、グロー放電等の処理をすることで親水化面を除去してから塗布層を形成することで対処できる。また、塗布層が親水性基を有する場合には層間密着が良好なこともある。
【０１７６】
＜偏光板＞
〔偏光板の作製〕
［偏光板の構成］
本発明の反射防止フィルムは、偏光膜とその両側に配置された保護フィルムとからなる偏光板の、その保護フィルムの一方又は両方に使用して、防眩性の偏光板とすることができる。
【０１７７】
一方の保護フィルムとして本発明の反射防止フィルムを用い、他方の保護フィルムには、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよいが、その他方の保護フィルムには、溶液製膜法で製造され、且つ１０〜１００％の延伸倍率でロールフィルム形態における幅方向に延伸したセルロースアセテートフィルムを用いることが好ましい。
【０１７８】
更には、本発明の偏光板において、片面が本発明の反射防止フィルムであるのに対して、他方の保護フィルムが液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであることも好ましい態様である。
【０１７９】
［偏光膜］
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
【０１８０】
また偏光膜としては、公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作製される。
すなわち、連続的に供給されるポリビニルアルコール系フィルムなどのポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸して、少なくともフィルム幅方向に１．１〜２０．０倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が３％以内で、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、２０〜７０゜傾斜するように、フィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に４５°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。
【０１８１】
ポリマーフィルムの延伸方法については、特開２００２−８６５５４号公報の段落番号００２０〜００３０に詳しい記載がある。
【０１８２】
本発明においては、反射防止フィルムの透明支持体やセルロースアセテートフィルムの遅相軸と、偏光膜の透過軸とは、実質的に平行になるように配置するのがよい。
【０１８３】
［保護フィルム］
偏光板の生産性には保護フィルムの透湿性が重要である。偏光膜と保護フィルムは水系接着剤で貼り合わせられており、この接着剤溶媒は保護フィルム中を拡散することで乾燥される。保護フィルムの透湿性が高ければ、高いほど乾燥は早くなり、生産性は向上するが、高くなりすぎると、液晶表示装置の使用環境（高湿下）により、水分が偏光膜中に入ることで偏光能が低下する。
【０１８４】
保護フィルムの透湿性は、透明支持体やポリマーフィルム（及び重合性液晶化合物）の厚み、自由体積、親疎水性、等により決定される。本発明の反射防止フィルムを偏光板の保護フィルムとして用いる場合、透湿性は１００〜１０００ｇ／ｍ２・２４ｈｒｓであることが好ましく、３００〜７００ｇ／ｍ２・２４ｈｒｓであることが更に好ましい。
【０１８５】
透明支持体の厚みは、製膜の場合、リップ流量とラインスピード又は、延伸、圧縮により調整することができる。使用する主素材により透湿性が異なるので、厚み調整により好ましい範囲にすることが可能である。
【０１８６】
透明支持体の自由体積は、製膜の場合、乾燥温度と時間により調整することができる。この場合もまた、使用する主素材により透湿性が異なるので、自由体積調整により好ましい範囲にすることが可能である。
【０１８７】
透明支持体の親疎水性は、添加剤により調整することができる。上記自由体積中に親水的添加剤を添加することで透湿性は高くなり、逆に疎水性添加剤を添加することで透湿性を低くすることができる。
【０１８８】
上記透湿性を独立に制御することにより、光学補償能を有する偏光板を安価に高い生産性で製造することが可能となる。
【０１８９】
（光学補償フィルム）
偏光膜の２枚の保護フィルムのうち、本発明の反射防止フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい態様である。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
【０１９０】
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
【０１９１】
＜本発明の使用形態＞
〔画像表示装置〕
本発明の反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に用いられる。本発明に従う反射防止フィルムは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）又は陰極管表示装置（ＣＲＴ）など公知のディスプレイ上に用いることができる。
【０１９２】
［液晶表示装置］
本発明の反射防止フィルム及び偏光板は、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、ディスプレイの最表層に用いることが好ましい。
【０１９３】
一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。さらに、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されることもある。
【０１９４】
液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード又はＥＣＢモードであることが好ましい。
【０１９５】
（ＴＮモード）
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに６０〜１２０゜にねじれ配向している。
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
【０１９６】
（ＶＡモード）
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、
（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、
（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ  ｏｆ  Ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、
（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）及び、
（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
【０１９７】
（ＯＣＢモード）
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルであり、米国特許第４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）液晶モードと呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【０１９８】
（ＩＰＳモード）
ＩＰＳモードの液晶セルは、ネマチック液晶に横電界をかけてスイッチングする方式であり、詳しくはＰｒｏｃ．ＩＤＲＣ（Ａｓｉａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  ’９５），ｐ．５７７−５８０及び同ｐ．７０７−７１０に記載されている。
【０１９９】
（ＥＣＢモード）
ＥＣＢモードの液晶セルは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向している。ＥＣＢモードは、最も単純な構造を有する液晶表示モードの一つであって、例えば特開平５−２０３９４６号公報に詳細が記載されている。
【０２００】
［液晶表示装置以外の画像表示装置］
（ＰＤＰ）
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、一般に、ガス、ガラス基板、電極、電極リード材料、厚膜印刷材料、蛍光体により構成される。ガラス基板は、前面ガラス基板と後面ガラス基板の２枚である。２枚のガラス基板には電極と絶縁層を形成する。後面ガラス基板には、さらに蛍光体層を形成する。２枚のガラス基板を組み立てて、その間にガスを封入する。
【０２０１】
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、既に市販されている。プラズマディスプレイパネルについては、特開平５−２０５６４３号、同９−３０６３６６号の各公報に記載がある。
【０２０２】
前面板をプラズマディスプレイパネルの前面に配置することがある。前面板はプラズマディスプレイパネルを保護するために充分な強度を備えていることが好ましい。前面板は、プラズマディスプレイパネルと隙間を置いて使用することもできるし、プラズマディスプレイ本体に直貼りして使用することもできる。プラズマディスプレイパネルのような画像表示装置では、反射防止フィルムをディスプレイ表面に直接貼り付けることができる。また、ディスプレイの前に前面板が設けられている場合は、前面板の表側（外側）又は裏側（ディスプレイ側）に反射防止フィルムを貼り付けることもできる。
【０２０３】
（タッチパネル）
本発明の反射防止フィルムは、特開平５−１２７８２２号公報、特開２００２−４８９１３号公報等に記載されるタッチパネルなどに応用することができる。
【０２０４】
（有機ＥＬ素子）
本発明の反射防止フィルムは、有機ＥＬ素子等の保護フィルムとして用いることができる。
【０２０５】
本発明の反射防止フィルムを有機ＥＬ素子等に用いる場合には、特開平１１−３３５６６１号、特開平１１−３３５３６８号、特開２００１−１９２６５１号、特開２００１−１９２６５２号、特開２００１−１９２６５３号、特開２００１−３３５７７６号、特開２００１−２４７８５９号、特開２００１−１８１６１６号、特開２００１−１８１６１７号、特開２００２−１８１８１６号、特開２００２−１８１６１７号、特開２００２−０５６９７６号等の各公報記載の内容を応用することができる。また、特開２００１−１４８２９１号、特開２００１−２２１９１６号、特開２００１−２３１４４３号の各公報記載の内容と併せて用いることが好ましい。
【実施例】
【０２０６】
［透明支持体の作成］
表１に示したドープ処方にて、基層ドープと表層ドープを作成し、表２に示した条件で流延し、透明支持体１〜透明支持体１４を作成した。１００℃の熱風にて残留溶剤量が１０質量％になるまで乾燥し、その後１４０℃の熱風にて１０分間乾燥させた。透明支持体の屈折率は１．４８だった。
【０２０７】
【表１】
0005380025.tif 000004
【０２０８】
【表２】
0005380025.tif 000005
【０２０９】
ＳＳＸ−１０６ＴＮ：架橋ポリメチルメタクリレート粒子、屈折率１．４９、積水化成品工業（株）製
ＭＸ８００：架橋ポリメチルメタクリレート粒子、屈折率１．４９、綜研化学（株）製
ＭＢＸ−１２：架橋ポリメチルメタクリレート粒子、屈折率１．４９、積水化成品工業（株）製
トスパール２０００Ｂ：シリコーン粒子、屈折率１．４５、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ（株）製
ＭＸ１５０：架橋ポリメチルメタクリレート粒子、屈折率１．４９、綜研化学（株）製
ＳＸ３５０Ｈ：架橋ポリスチレン粒子、屈折率１．５９、綜研化学（株）製
ＭＢＸ−１５：架橋ポリメチルメタクリレート粒子、屈折率１．４９、積水化成品工業（株）製
【０２１０】
［ハードコート層用塗布液の作成］
下記に示す各々の成分をミキシングタンクに投入し、攪拌したのち、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して調製した。
【０２１１】
｛ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−１）の調製｝
ＰＥＴ−３０                                        ４８．５質量部
イルガキュア１２７                                    １．５質量部
メチルイソブチルケトン                              ３０．０質量部
メチルエチルケトン                                  ２０．０質量部
【０２１２】
上記の各成分は以下の通りである。
ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］
イルガキュア１２７：光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製
【０２１３】
［低屈折率層用塗布液の調製］
（ゾル液ａの調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、メチルエチルケトン１２０質量部、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン“ＫＢＭ−５１０３”｛信越化学工業（株）製｝１００質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３質量部を加え混合したのち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液ａを得た。質量平均分子量は１８００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００質量％であった。ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０２１４】
｛中空シリカ微粒子分散液（Ａ−１）の調製｝
中空シリカ微粒子ゾル（粒子サイズ約４０〜５０ｎｍ、シェル厚６〜８ｎｍ、屈折率１．３１、固形分濃度２０質量％、主溶媒イソプロピルアルコール、特開２００２−７９６１６号公報の調製例４に準じて粒子サイズを変更して作製）５００質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン“ＫＢＭ−５１０３”｛信越化学工業（株）製｝３０質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート「ケロープＥＰ−１２」｛ホープ製薬（株）製｝１．５質量部加え混合した後に、イオン交換水９質量部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８部を添加し、中空シリカ分散液（Ａ−１）を得た。得られた中空シリカ分散液の固形分濃度は１８質量％、溶媒乾燥後の屈折率は１．３１であった。
【０２１５】
｛低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）の調製｝
メチルエチルケトン１００質量部に対して、特開２００４−４５４６２号公報に記載の含フッ素共重合体（Ｐ−３）（重量平均分子量約５００００）４４．０質量部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物“ＤＰＨＡ”｛日本化薬（株）製｝６．０質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン“ＲＭＳ−０３３”（Ｇｅｌｅｓｔ社製）３．０質量部、「イルガキュア９０７」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝を３．０質量部加えて溶解した。その後に中空シリカ微粒子分散液（Ａ−１）を１９５質量部（シリカ＋表面処理剤固形分として３９．０質量部）、ゾル液ａ  １７．２質量部（固形分として５．０質量部）を添加した。塗布液全体の固形分濃度が６質量％になり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が１０対９０になるようにシクロヘキサン、メチルエチルケトンで希釈して低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）を調製した。
【０２１６】
［ハードコート層の塗設］
特開２００３−２１１０５２号公報の図１に記載されたスロットダイコーターを用いて、作成した透明支持体１〜透明支持体１４をロール形態で巻き出して、ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−１）を、下記表３の乾燥膜厚になるように塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの「空冷メタルハライドランプ」｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照射量７０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させた反射防止フィルム（ＨＣ−１）〜（ＨＣ−１４）を作製し、巻き取った。ハードコート層は表層−１の側の面に塗設した。ハードコート層の屈折率は、１．５２であった。
【０２１７】
【表３】
0005380025.tif 000006
【０２１８】
［低屈折率層の塗設］
反射防止フィルム（ＨＣ−５）のハードコート層の上に、低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）を、特開２００３−２１１０５２号公報の図１に記載されたスロットダイコーターを用いて、低屈折率層の乾燥膜厚が９０ｎｍになるようにウエット塗布し、６０℃で５０秒間乾燥の後、さらに窒素パージにより、酸素濃度１００ｐｐｍの雰囲気下で２４０Ｗ／ｃｍの「空冷メタルハライドランプ」｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、低屈折率層（屈折率１．３５）を形成させて巻き取り、反射防止フィルム（ＨＣ−５−Ｌ）を作成した。
【０２１９】
〔反射防止フィルムの評価〕
作成した反射防止フィルム（ＨＣ−１）〜（ＨＣ−４）、（ＨＣ−５−Ｌ）、（ＨＣ−６）〜（ＨＣ−１４）に対して、以下の評価を実施した。評価結果を表３に示す。
なお、上記表３において透明支持体３を有する反射防止フィルムＨＣ−３、透明支持体４を有する反射防止フィルムＨＣ−４、透明支持体９を有する反射防止フィルムＨＣ−９は「参考例」と読み替えるものとする。
【０２２０】
［表面粗さ（Ｒａ、Ｓｍ、θa）の測定］
触針式表面粗さ計、「サーフコーダSE3500（（株）小坂研究所製）を用い、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４記載の算術平均表面粗さＲａ値、凹凸の平均間隔Ｓｍ値を求めた。また、平均傾斜角θａ値も同測定器にて自動算出により求めた。
【０２２１】
［平均粒径］
電子顕微鏡“Ｓ−３４００Ｎ”｛（株）日立ハイテクノロジーズ製｝を用い、作製された反射防止フィルムを５０００倍の倍率で透過撮影する。撮影された粒子をランダムに１０個選定し、１０個の粒子直径の平均値を平均粒径とした。
【０２２２】
［ハードコート層の膜厚］
電子顕微鏡“Ｓ−３４００Ｎ”｛（株）日立ハイテクノロジーズ製｝を用い、作製された反射防止フィルムの断面を５０００倍の倍率で撮影する。ハードコート層の膜厚をランダムに１０点測定し、平均値を導出する。この作業を三視野について行い、その平均値をハードコート層の平均膜厚とした。
【０２２３】
［映り込み−防眩性］
反射防止フィルムの裏面を黒マジックで塗りつぶした後に、反射防止フィルムの表面に蛍光灯の光を反射させた際の光の映り込みの様子を評価した。△以上のレベルを合格と判定した。
◎：光の反射が少なく、気にならない。
○：光は反射しているが、十分に拡散されており、気にならない。
△：やや蛍光灯の形状が映りこんでいるが、気にならない。
×：蛍光灯の形がはっきりと映り込み、眩しくて気になる。
【０２２４】
〔偏光板の作製〕
延伸したポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。反射防止フィルム（ＨＣ−１）〜（ＨＣ−４）、（ＨＣ−５−Ｌ）、（ＨＣ−６）〜（ＨＣ−１４）のそれぞれに鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、各反射防止フィルムのセルローストリアセテート側が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。また、市販のセルローストリアセテートフィルム「フジタックＴＤ８０ＵＦ」｛富士フイルム（株）製｝をポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の、反射防止フィルムを貼った側とは反対側に貼り付けた。このようにして反射防止フィルム付き偏光板（ＨＫＨ−０１）〜（ＨＫＨ−１４）を作製した。
【０２２５】
〔反射防止フィルム付き偏光板の評価〕
［ギラツキ］
３２型フルハイビジョン液晶ＴＶ“ＬＣ−３２ＧＳ１０”｛シャープ（株）製｝の視認側の偏光板を剥がし、代わりに偏光板（ＨＫＨ−０１）〜（ＨＫＨ−１４）を、反射防止フィルムが最表面となるように粘着剤を介して、視認側に貼り付けた。
液晶ＴＶを点灯して白表示した際の画面のギラツキの様子を評価した。△以上のレベルを合格と判定した。
○：ギラツキが気にならない。
△：わずかにギラツキが発生するが、実用上問題ない。
×：ギラツキが強く発生し、気になる。
【０２２６】
（コントラスト）
３２型フルハイビジョン液晶ＴＶ“ＬＣ−３２ＧＳ１０”｛シャープ（株）製｝の視認側の偏光板を剥がし、代わりに偏光板（ＨＫＨ−０１）〜（ＨＫＨ−１４）を、反射防止フィルムが最表面となるように粘着剤を介して、視認側に貼り付けた。貼り付けたパネルに対して、受光機（ＭＩＮＯＬＴＡ製、ＳＰＥＣＴＲＯＲＡＤＩＯＭＥＴＥＲ ＣＳ１０
００Ａ）を５０ｃｍ上方に平行になるように設定した。暗室条件下にて、パネルの画像を黒表示及び白表示にそれぞれ切り替え、偏光板の中央部分に於ける黒表示での輝度、白表示での輝度をそれぞれ黒輝度・白輝度とし測定を行った。その値を基にコントラスト比（白輝度／黒輝度）を算出した。
コントラスト比２０００以上を○、
１８００以上２０００未満を△、
１８００未満を×
とした。
【０２２７】
（漆黒感）
３２型フルハイビジョン液晶ＴＶ“ＬＣ−３２ＧＳ１０”｛シャープ（株）製｝の視認側の偏光板を剥がし、代わりに偏光板（ＨＫＨ−０１）〜（ＨＫＨ−１４）を、反射防止フィルムが最表面となるように粘着剤を介して、視認側に貼り付けた。一般的にTVを用いる一般家庭環境下（約２００Ｌｘ）にてパネルを黒表示にて駆動させて漆黒感を目視にて確認した。
目視の際の判定基準は、
黒の程度が非常に良好な場合を◎、
黒の程度が良好な場合を○、
若干白っぽくなっているものの、実用上問題はない場合を△、
白ボケが発生している場合を×
とし、△以上を合格とした。
【０２２８】
表３の結果から明らかな通り、本発明の反射防止フィルムは、透明支持体の上に少なくともハードコート層が積層された反射防止フィルムであって、透明支持体は直径３μｍ以上１２μｍ以下の微粒子により凹凸が形成されており、かつ微粒子の屈折率と前記透明支持体の屈折率との差が０．００１以上０．０３以下であり、かつハードコート層の厚みが３μｍ以上１５μｍ以下の範囲にすることにより、コントラストが高く、ギラツキが発生せず、明室下での画面の漆黒感が良好で、かつ防眩性の良好な反射防止フィルムを得ることができる。
【０２２９】
更に、本発明の反射防止フィルムは、粘着材又は接着材により偏光板等の光学フィルムに好適に用いることができ、その光学フィルムを装着した画像表示装置は、十分な防眩性、表示コントラスト特性を有し、漆黒感が良好なため品位が高く、かつギラツキが発生しない為、家庭用テレビとして使用した場合でも好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【０２３０】
【図１】透明支持体の層構造を示す図である。
【図２】透明支持体の層構造を示す図である。
【図３】流延バンドを用いた溶液製膜装置を示す図である。
【図４】流延ドラムを用いた溶液製膜装置を示す図である。
【図５】逐次流延法に用いる単層のフィルムを製膜する流延ダイを示す図である。
【図６】マルチマニホールド型の共流延ダイを示す図である。
【図７】フィードブロック型の共流延ダイを示す図である。
【図８】粗さ曲線、高さｈ及び基準線Ｌの一例を示す図である。
【符号の説明】
【０２３１】
１  基層
２  表層
１１  攪拌機
１２  移送ポンプ
１３  濾過器
１４  ストックタンク
１５  流延送液ポンプ
１６  添加剤注入ポンプ
１７  流延ダイ
１８  流延バンド
１９  減圧チャンバー
２０  流延ドラム
３０  流延ダイ
３２  マニホールド
３３  マニホールド
３４  フィードブロック
【図１】
0005380025.tif 000007
【図２】
0005380025.tif 000008
【図３】
0005380025.tif 000009
【図４】
0005380025.tif 000010
【図５】
0005380025.tif 000011
【図６】
0005380025.tif 000012
【図７】
0005380025.tif 000013
【図８】
0005380025.tif 000014