(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
収縮性フィルムに、非液晶性材料と溶媒とを含む複屈折層形成材料を塗工することにより、前記収縮性フィルム上に塗膜を形成する塗膜形成工程と、
前記塗膜を乾燥する乾燥工程と、
前記乾燥後の塗膜を有する収縮性フィルムを加熱して収縮させることにより、前記塗膜中の非液晶性材料を配向させて複屈折層を形成する複屈折層形成工程と、を有し、
前記非液晶性材料が、下記一般式（Ｉ）で表されるポリアリレートを含み、
前記乾燥工程が、前記塗膜中の溶媒含有量が５重量％〜１５重量％となるように塗膜を乾燥することを含み、
前記複屈折層形成工程において形成される複屈折層が、屈折率楕円体ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙを満たす、光学フィルムの製造方法。
【化１】
0005600847.tif 000008
Ａ及びＢは、それぞれ同一又は異なる置換基を表し、ａ及びｂは、対応するＡ及びＢの置換数である１〜４の整数を表し、Ｄは、共有結合、ＣＨ２基、Ｃ（ＣＨ３）２基、Ｃ（ＣＺ３）２基（ここで、Ｚはハロゲン原子である）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ３）２基又はＮ（ＣＨ３）基であり、Ｒ１は、炭素原子数１〜１０の直鎖若しくは分岐のアルキル基又は置換若しくは無置換のアリール基であり、Ｒ２は、炭素原子数１〜１０の直鎖若しくは分岐のアルキル基又は置換若しくは無置換のアリール基であり、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ同一又は異なって、水素原子又は炭素原子数１〜４の直鎖若しくは分岐のアルキル基であり、ｐ１は、０〜３の整数であり、ｐ２は、１〜３の整数であり、ｎは、２以上の整数である。
【請求項２】
前記非液晶性材料が、下記式で表される厚み方向の複屈折率Δｎｘｚが０．０００７以上である、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
Δｎｘｚ＝ｎｘ’−ｎｚ’
前記ｎｘ’は、前記非液晶性材料を固化層としたときのその層の面内において屈折率が最大となる方向の屈折率を表し、前記ｎｚ’は、前記固化層の厚み方向の屈折率を表す。
【請求項３】
前記乾燥工程における乾燥温度が、前記溶媒の沸点よりも低い、請求項１又は２に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記複屈折層形成工程における加熱温度が、前記溶媒の沸点よりも５℃以上高い、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、所定の位相差を有する複屈折層を含む光学フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
位相差板は、所定の位相差を有する複屈折層を含む光学フィルムの１種である。
従来、溶液流延法によって製造された位相差板が知られている。例えば、特許文献１には、面内において一方向に収縮性を示す透明高分子フィルム上に、非液晶性材料（ポリマー）溶液を塗工して塗工膜を形成し、前記透明高分子フィルムを収縮させて塗工膜を収縮させ、所定の位相差を有する複屈折層（収縮後の塗工膜）を得ることが開示されている。
さらに、特許文献１には、バックライトの熱などで複屈折層の位相差が経時的に変化することを防止するため、前記複屈折層の残存溶媒量が、２．５ｍｇ／ｇ以下に設定することが開示されている。
【０００３】
しかしながら、複屈折層の製造過程における含有溶媒との関係で、非液晶性材料を良好に配向させることができない場合がある。
また、残存溶媒量が小さい複屈折層を最終的に得るための簡便な方法も求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−７５４５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、非液晶性材料が良好に配向した屈折率楕円体ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙを満たす複屈折層を含む光学フィルムの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の光学フィルムの製造方法は、収縮性フィルムに、非液晶性材料と溶媒とを含む複屈折層形成材料を塗工することにより、前記収縮性フィルム上に塗膜を形成する塗膜形成工程と、前記塗膜を乾燥する乾燥工程と、前記乾燥後の塗膜を有する収縮性フィルムを加熱して収縮させることにより、前記塗膜中の非液晶性材料を配向させて複屈折層を形成する複屈折層形成工程と、を有し、前記非液晶性材料が、下記一般式（Ｉ）で表されるポリアリレートを含み、前記乾燥工程が、前記塗膜中の溶媒含有量が５重量％〜１５重量％となるように塗膜を乾燥することを含み、前記複屈折層形成工程において形成される複屈折層が、屈折率楕円体ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙを満たす。
【化１】
0005600847.tif 000002
一般式（Ｉ）において、Ａ及びＢは、それぞれ同一又は異なる置換基を表し、ａ及びｂは、対応するＡ及びＢの置換数である１〜４の整数を表し、Ｄは、共有結合、ＣＨ２基、Ｃ（ＣＨ３）２基、Ｃ（ＣＺ３）２基（ここで、Ｚはハロゲン原子である）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ３）２基又はＮ（ＣＨ３）基であり、Ｒ１は、炭素原子数１〜１０の直鎖若しくは分岐のアルキル基又は置換若しくは無置換のアリール基であり、Ｒ２は、炭素原子数１〜１０の直鎖若しくは分岐のアルキル基又は置換若しくは無置換のアリール基であり、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ同一又は異なって、水素原子又は炭素原子数１〜４の直鎖若しくは分岐のアルキル基であり、ｐ１は、０〜３の整数であり、ｐ２は、１〜３の整数であり、ｎは、２以上の整数である。
【０００７】
本発明の好ましい光学フィルムの製造方法は、乾燥工程における乾燥温度が、前記溶媒の沸点よりも低い。
本発明の他の好ましい光学フィルムの製造方法は、前記複屈折層形成工程における加熱温度が、前記溶媒の沸点よりも５℃以上高い。
【０００９】
本発明の好ましい光学フィルムの製造方法は、前記非液晶性材料が、下記式で表される厚み方向の複屈折率Δｎｘｚが０．０００７以上の材料である。
Δｎｘｚ＝ｎｘ’−ｎｚ’
前記ｎｘ’は、前記非液晶性材料を固化層としたときのその層の面内において屈折率が最大となる方向の屈折率を表し、前記ｎｚ’は、前記固化層の厚み方向の屈折率を表す。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の製造方法によれば、非液晶性材料が良好に配向し且つ屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙを満たす複屈折層を含む光学フィルムを形成できる。また、本発明の好ましい製造方法によれば、残存溶媒量の小さい複屈折層を含む光学フィルムを簡便に形成でき、その光学フィルムは、その位相差が経時的に変化し難いので、例えば、画像表示装置の構成部材として好適に利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】光学フィルムの製造工程の概略を示す参考側面図。
【図２】本発明の収縮性フィルムをＭＤ方向に収縮させ且つＴＤ方向に拡幅させたときの概略を示す参考平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の光学フィルムの製造方法は、収縮性フィルムに、非液晶性材料と溶媒とを含む複屈折層形成材料を塗工することにより、前記収縮性フィルム上に塗膜を形成する塗膜形成工程と、前記塗膜を乾燥する乾燥工程と、前記乾燥後の塗膜を有する収縮性フィルムを加熱して収縮させることにより、前記塗膜中の非液晶性材料を配向させて複屈折層を形成する複屈折層形成工程と、を有する。
前記乾燥工程には、前記塗膜中の溶媒含有量が５重量％〜１５重量％となるように塗膜を乾燥することが含まれる。
前記複屈折層形成工程には、加熱温度が前記溶媒の沸点よりも高くなるように収縮性フィルムを加熱することが含まれる。
上記製造方法においては、好ましくは、式：Δｎｘｚ＝ｎｘ’−ｎｚ’で表される厚み方向の複屈折率Δｎｘｚが０．０００７以上の非液晶性材料が用いられる。
前記ｎｘ’は、前記非液晶性材料を固化層としたときのその層の面内において屈折率が最大となる方向の屈折率を表し、前記ｎｚ’は、前記固化層の厚み方向の屈折率（前記ｎｘ’の方向及び前記固化層の面内において前記ｎｘ’の方向と直交する方向の、各方向に対して直交する方向の屈折率）を表す。
前記複屈折率（Δｎｘｚ）の定義において、前記固化層は、例えば、基材上に、前記非液晶性材料を溶剤に溶解した溶液を直接塗工して形成された塗膜を固化した層であって、無延伸及び無収縮の層を意味する。ただし、その固化層の厚みは何ら制限されない。
前記複屈折率（Δｎｘｚ）は、０．０００７以上であり、好ましくは、０．０００７〜０．０５の範囲であり、より好ましくは、０．００１〜０．０４の範囲である。
【００１３】
［光学フィルムの製造方法の概要］
図１及び図２は、本発明の光学フィルムの製造工程の一例を示す参考図である。なお、フィルムや各装置の相対的な大きさは実際のものと異なることに留意されたい。また、フィルムは、通常、テンションローラなどを含めて多数本のローラを介して送出されるが、これらのローラは、図示しない。
【００１４】
この図示例の光学フィルムの製造工程は、長尺の収縮性フィルムを送出しながら光学フィルムを連続的に生産する連続式（いわゆる、ロールｔｏロール方式）を表している。もっとも、本発明の製造方法は、連続式に限られず、バッチ式でもよい。
【００１５】
上記連続式では、長尺の収縮性フィルムが用いられる。前記長尺とは、長手寸法が幅寸法よりも十分に大きいことを意味する。その長手寸法は、通常、幅寸法の２倍以上であり、好ましくは３倍以上である。本発明で用いられる長尺の収縮性フィルムは、ロール状に巻かれていてもよい。その巻き長さは、好ましくは３００ｍ以上であり、より好ましくは１，０００ｍ〜５０，０００ｍである。収縮性フィルムの幅寸法は、製造装置の規模に応じて適宜設定できるが、通常、５００ｍｍ〜４，０００ｍｍである。
なお、ＭＤ方向は、前記収縮性フィルムの長手方向であり、ＴＤ方向は、同幅方向である。
【００１６】
図１において、ロール２に巻かれた長尺の収縮性フィルム１が引き出され、その長手方向に送出される途中で、収縮性フィルム１上に塗膜３が形成され、次に、連続してその塗膜３に収縮処理が加えられた後、再び、ロール４に巻き取られる。
長尺の収縮性フィルム１の送出経路中において、上流側から順に、塗工装置９１、乾燥装置９２、及び加熱装置９３が配置されている。
【００１７】
塗工装置９１は、収縮性フィルム１の表面に複屈折層形成材料を塗工して、未固化の薄い塗膜３ａを収縮性フィルム１上に形成するための装置である。
前記未固化の塗膜３ａは、収縮性フィルム１の送出に従い、固化ゾーンに導かれる。前記固化ゾーンに配置された乾燥装置９２は、未固化の塗膜３ａを乾燥し固化させるための装置である。複屈折層形成材料が、蒸発性又は揮発性の溶媒を含む場合には、前記乾燥装置９２は、未固化の塗膜３ａを乾燥し且つその中に含まれる溶媒を回収する。塗膜３ａ中に含まれる溶媒が蒸発性又は揮発性に優れた溶媒である場合には、自然乾燥によって未固化の塗膜３ａを固化させることもできるので、特に乾燥装置は固化ゾーンに設けられていなくてもよい。以下、本明細書において、「蒸発又は揮発」を単に「揮発」という。
乾燥装置としては、例えば、送風機、温風機、溶媒回収装置付き乾燥機などが挙げられる。
【００１８】
前記固化された塗膜３が収縮性フィルム１に積層された積層体は、加熱ゾーンに導かれる。前記加熱ゾーンに配置された加熱装置９３は、収縮性フィルム１に熱を加えるための装置である。加熱装置９３によって加熱された収縮性フィルム１は、所定方向に収縮する。例えば、ＭＤ方向に熱収縮性を有する収縮性フィルムを用いた場合には、加熱によってＭＤ方向に収縮し、ＴＤ方向に熱収縮性を有する収縮性フィルムを用いた場合には、加熱によってＴＤ方向に収縮する。
【００１９】
例えば、収縮性フィルム１がＭＤ方向に収縮性を有する場合には、収縮性フィルムの収縮に追従して、図２に示すように、そのフィルム１上に形成された塗膜３もＭＤ方向に収縮される。なお、収縮性フィルム１がＭＤ方向に収縮したときには、その体積変化によりＴＤ方向に拡幅し得る。この収縮性フィルムのＴＤ方向への拡幅に追従して、塗膜３もＴＤ方向に拡幅される。図２において、ＭＤ方向の収縮とＴＤ方向の拡幅を矢印で表現している。なお、収縮性フィルムをＭＤ方向に収縮させるときに、それをＴＤ方向に延伸する処理（機械的な力を加えてＴＤ方向に引張る処理）を行ってもよい。
収縮性フィルム１がＴＤ方向に収縮性を有する場合には、ＭＤ方向に収縮性を有する場合と反対に、ＭＤ方向に拡幅又は延伸処理を行ってもよい。
この収縮性フィルム１の収縮に伴う塗膜３の所定方向の収縮によって、塗膜３中の非液晶性材料が配向する。配向後の塗膜３が、複屈折層となる。
以下、各工程に分けて本発明を説明する。
【００２０】
［塗膜形成工程］
塗膜形成工程は、複屈折層形成工程の前に実施される工程であって、所定の複屈折を発現する前の塗膜を、収縮性フィルム上に形成するために行われる。
収縮性フィルムは、所定方向に熱収縮性を有するフィルムである。ただし、熱収縮性とは、所定温度に加熱すると所定方向に収縮する性質をいう。
【００２１】
前記収縮性フィルムの形成材料としては、特に制限されないが、熱可塑性樹脂が好ましい。具体的には、その形成材料としては、例えば、ポリエチレンやポリプロピレン（ＰＰ）などのポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などのポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、トリアセチルセルロースなどのセルロース樹脂、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリイミド、ポリアクリル、アセテート樹脂、ポリアリレート、ポリビニルアルコール、及びこれらの混合物などが挙げられる。また、液晶ポリマーなども使用できる。前記収縮性フィルムは、１種又は２種以上の前記形成材料から形成された一軸又は二軸の延伸フィルムであることが好ましい。
【００２２】
好ましくは、前記収縮性フィルムは、ポリオレフィン、ポリエステル、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、セルロース樹脂、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリイミド、ポリアクリル、アセテート樹脂、ポリアリレート、ポリビニルアルコール及び液晶ポリマーからなる群から選択される少なくとも１種の形成材料から形成された延伸フィルムである。
前記収縮性フィルムは、例えば、市販品を用いてもよい。前記市販品としては、例えば、東京インキ（株）製の「ノーブレン」、三菱化学（株）製の「ノバクリアー」、東洋紡績（株）製の「スペースクリーン」、グンゼ（株）製の「ファンシーラップ」、東レ（株）製の「トレファン」、東レ（株）製の「ルミラー」、ＪＳＲ（株）製の「アートン」、日本ゼオン（株）製の「ゼオノア」、旭化成（株）製の「サンテック」などが挙げられる。
【００２３】
前記収縮性フィルムの厚みは、特に制限されないが、例えば、１０μｍ〜３００μｍの範囲であり、好ましくは、２０μｍ〜２００μｍの範囲であり、より好ましくは、４０μｍ〜１５０μｍの範囲である。前記収縮性フィルムの表面には、前記複屈折層との密着性向上などを目的に、表面処理を施してもよい。前記表面処理としては、例えば、クロム酸処理、オゾン暴露、火炎暴露、高圧電撃暴露、イオン化放射線処理などの化学的又は物理的処理が挙げられる。また、前記収縮姓フィルムの表面には、下塗り剤（例えば、粘着物質）の塗布によるプライマー層が形成されていてもよい。
【００２４】
前記複屈折層形成材料は、非液晶性材料と溶媒とを含む。
前記非液晶性材料は、前記複屈折率（Δｎｘｚ）が０．０００７以上の非液晶性材料であることが好ましい。
具体的には、前記非液晶性材料としては、例えば、ポリアリレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリアリールエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリビニルアルコール、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォン、及びこれらの混合物などが挙げられる。
本発明の製造方法で用いられる非液晶性材料は、これらのポリマー群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
このような非液晶性材料を用いることにより、屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を満たす複屈折層を形成することができる。
【００２５】
中でも、前記ポリアリレートが、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を含むことが好ましい。
【００２６】
【化１】
0005600847.tif 000003
【００２７】
前記式（Ｉ）において、Ａ及びＢは、それぞれ置換基を表し、例えば、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基である。Ａ及びＢは、同一でもよいし、異なっていてもよい。ａ及びｂは、対応するＡ及びＢの置換数を表し、それぞれ１〜４の整数である。Ｄは、共有結合、ＣＨ２基、Ｃ（ＣＨ３）２基、Ｃ（ＣＺ３）２基（ここで、Ｚはハロゲン原子である）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ３）２基、又はＮ（ＣＨ３）基である。Ｒ１は、炭素原子数１〜１０の直鎖若しくは分岐のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基であり、Ｒ２は、炭素原子数１〜１０の直鎖若しくは分岐のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基であり、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ水素原子、又は炭素原子数１〜４の直鎖若しくは分岐のアルキル基である。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、同一でもよいし、それぞれ異なっていてもよい。ただし、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６が全て水素原子である場合、Ｒ２は炭素数２〜１０の直鎖若しくは分岐のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基であってもよい。また、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６の少なくとも１つが水素原子以外である場合には、Ｒ２はメチル基であってもよい。ｐ１は、０〜３の整数であり、ｐ２は、１〜３の整数であり、ｎは、２以上の整数である。
【００２８】
前記式（Ｉ）において、前記無置換アリール基としては、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ナフチル基、ビナフチル基、トリフェニルフェニル基などが挙げられる。また、前記置換アリール基としては、前記無置換アリール基の水素原子のうち１つ以上が、炭素原子数１〜１０の直鎖若しくは分岐のアルキル基、炭素原子数１〜１０の直鎖若しくは分岐のアルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、シリル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、又はフェニル基に置換されたものなどが挙げられる。また、前記ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられる。
【００２９】
前記式（Ｉ）において、Ｒ１がメチル基であり、且つＲ２が炭素原子数２〜４の直鎖若しくは分岐のアルキル基であることが好ましく、Ｒ２がエチル基又はイソブチル基であることが特に好ましい。このようなポリアリレートは、トルエンやキシレンなどの低極性溶剤への溶解性に優れるとともに、複屈折の発現性が高く、耐熱性に優れる（ガラス転移温度が高い）。
【００３０】
前記式（Ｉ）において、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６の少なくとも１つが炭素原子数１〜４の直鎖若しくは分岐のアルキル基であることが好ましく、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６の全てが炭素原子数１〜４の直鎖若しくは分岐のアルキル基であることがより好ましく、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６の全てがメチル基であることが特に好ましい。
【００３１】
前記ポリアリレートは、環境負荷低減の観点から、分子中にハロゲン原子を有さない非ハロゲン化ポリアリレートであることが好ましい。前記ポリアリレートは、前述のとおり、Ｒ１〜Ｒ６の特定の組み合わせにより、分子中にハロゲン原子を含まなくても、溶剤に対する高い溶解性を有し得る。
【００３２】
前記ポリアリレートは、前記式（Ｉ）における、Ａ、Ｂ、Ｄ、Ｒ１〜Ｒ６、ｐ１、ｐ２及びｎが異なる２種以上のモノマー単位を有するもの、すなわち、共重合体であってもよい。
【００３３】
また、溶剤に対する溶解性と複屈折発現性を両立する観点からは、前記式（Ｉ）において、Ｄが共有結合であり、ｐ１＝０、ｐ２＝１であることが好ましい。すなわち、前記ポリアリレートが、下記一般式（ＩＩ）で表される構造を有することが好ましい。さらに、酸成分としてテレフタル酸誘導体を用いた下記一般式（ＩＩＩ）で表されるものや、下記一般式（ＩＶ）で表されるテレフタル酸誘導体とイソフタル酸誘導体とを用いた共重合体の構造を有するものが好ましい。特に、汎用溶剤に対する溶解性の観点からは、下記一般式（ＩＶ）で表される構造を有する共重合体が好ましい。
【００３４】
【化２】
0005600847.tif 000004
【００３５】
【化３】
0005600847.tif 000005
【００３６】
【化４】
0005600847.tif 000006
【００３７】
なお、前記式（ＩＩ）〜（ＩＶ）において、Ｂ、Ｒ１〜Ｒ６及びｂは、前記式（Ｉ）と同様であり、Ｂ’、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９〜Ｒ１２及びｂ’は、それぞれ、前記Ｂ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３〜Ｒ６及びｂと同様であり、ｎ、ｌ及びｍは、いずれも２以上の整数である。また、前記式（ＩＶ）においては、便宜上、前記ポリアリレートをブロック共重合体として表しているが、これに限定されず、ランダム共重合体であってもよい。
【００３８】
前記式（ＩＶ）で表されるポリアリレートにおいて、酸成分のうちテレフタル酸誘導体由来構造の含有率、すなわちｌ／（ｌ＋ｍ）は、０．３以上であることが好ましい。ｌ／（ｌ＋ｍ）を前記範囲とするポリアリレートは、複屈折の発現性がより高く、耐熱性により優れる。ｌ／（ｌ＋ｍ）は、より好ましくは、０．５以上であり、さらに好ましくは、０．６以上である。
【００３９】
前記ポリアリレートにおいて、前記式（Ｉ）〜（ＩＶ）で表される構造の含有率は、特に制限されないが、５０モル％以上であることが好ましく、より好ましくは、７５モル％以上であり、さらに好ましくは、８０モル％以上である。
【００４０】
前記ポリアリレートの重量平均分子量（Ｍｗ）は、テトラヒドロフラン溶媒によるゲル・パーミエーション・クロマトグラフ法（ポリスチレン標準）で測定した値が、３，０００〜１，０００，０００の範囲であることが好ましい。Ｍｗを前記範囲とすることで、溶剤溶解性などの作業性に優れるとともに、高強度で、高温環境における光学特性の変化が抑制された光学フィルムを得ることができる。Ｍｗは、より好ましくは、５，０００〜１，０００，０００であり、さらに好ましくは、１０，０００〜５００，０００であり、最も好ましくは、５０，０００〜３５０，０００である。
【００４１】
前記ポリアリレートのガラス転移温度は、特に制限されないが、耐熱性の観点から、好ましくは、１００℃以上であり、より好ましくは、１２０℃以上であり、さらに好ましくは、１５０℃以上である。また、成型性、加工性の観点から、前記ガラス転移温度は、３００℃以下であることが好ましく、より好ましくは、２５０℃以下である。
【００４２】
前記ポリアリレートの製造方法は、特に制限されず、公知の方法を用い得る。一般的には、前記ポリアリレートは、ビスフェノール化合物とジカルボン酸若しくはその誘導体を重縮合させることで製造できる。
【００４３】
前記重縮合法としては、例えば、脱酢酸による溶融重縮合法、脱フェノールによる溶融重縮合法、ビスフェノール化合物とジカルボン酸クロライドとを有機塩基の存在下、有機溶媒系で反応させる脱塩酸均一重合法、ビスフェノール化合物とジカルボン酸クロライドとをアルカリ水溶液と水非混和性有機溶媒の２相系で反応させる界面重縮合法、ビスフェノール化合物とジカルボン酸とを用い、縮合剤を用いて反応系中で活性中間体を生成させる直接重縮合法などが挙げられる。これらの中でも、透明性、耐熱性の向上及び高分子量化の観点から、界面重縮合法が好ましい。
【００４４】
前記界面重縮合法によって前記ポリアリレートを製造する場合には、モノマー（ビスフェノール化合物及びジカルボン酸クロライド）、有機溶媒、アルカリ、触媒などが用いられる。
【００４５】
前記ビスフェノール化合物としては、例えば、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルペンタン、３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，４−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，４−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルペンタン、２，２−ビス（３，４−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルペンタン、２，２−ビス（３−ｓｅｃ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロパンなどが挙げられる。
【００４６】
前記ジカルボン酸クロライドとしては、例えば、テレフタル酸クロライド、イソフタル酸クロライド、フタル酸クロライド、４，４’−ジフェニルジカルボン酸クロライド、４，４’−スチルベンジカルボン酸クロライドなどの無置換芳香族クロライド、及びこれらに前記式（Ｉ）におけるＡ及びＢの例として示した置換基などを有する芳香族クロライドなどが挙げられる。
【００４７】
前記有機溶媒としては、特に制限されないが、水との混和性が低く、且つ前記ポリアリレートを溶解するものが好ましい。前記有機溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン系溶剤、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤、又はアニソールなどが好適である。また、これらの溶剤を２種以上混合して用いてもよい。
【００４８】
前記アルカリとしては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどが挙げられる。前記アルカリの使用量は、例えば、前記ビスフェノール化合物の２モル倍〜５モル倍（１〜２．５モル当量）である。
【００４９】
前記触媒は、相間移動触媒を用いることが好ましい。前記触媒としては、例えば、テトラブチルアンモニウムブロマイド、トリオクチルメチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリブチルアンモニウムクロライドなどの第４級アンモニウム塩、テトラフェニルホスホニウムクロライド、トリフェニルメチルホスホニウムクロライドなどの第４級ホスホニウム塩、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテル、ジベンゾ−１８−クラウン−６、ジシクロへキシル−１８−クラウン−６などのポリエチレンオキサイド化合物などが挙げられる。これらの中でも、反応後の除去などの取り扱い易さの点で、テトラアルキルアンモニウムハライド類が好適である。また、その他、必要に応じて、酸化防止剤、分子量調整剤などを任意で使用できる。
【００５０】
前記ポリアリレートの分子量を調整する方法としては、例えば、水酸基とカルボキシル基の官能基比を変えて反応させる方法や、分子量調整剤として、一官能の物質を反応時に添加する方法などが挙げられる。前記分子量調整剤としては、例えば、フェノール、クレゾール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールなどの一価フェノール類、安息香酸クロライド、メタンスルホニルクロライド、フェニルクロロホルメートなどの一価酸クロライド類、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ドデシルアルコール、ステアリルアルコール、ベンジルアルコール、フェネチルアルコールなどの一価アルコール類などが挙げられる。また、重縮合反応後に一価酸クロライドを反応させることで末端フェノールを封止でき、フェノールの酸化による着色を抑制できる。また、重縮合反応中に酸化防止剤を併用してもよい。
【００５１】
前記界面重縮合法において、重縮合反応後は、水相及び有機相の混合状態であり、ポリアリレート、有機溶媒、及び水以外に、触媒や残存モノマーなどの不純物が含まれる。前記ハロゲン系溶剤を用いて前記界面重縮合法を実施した場合、一般的に、水溶性不純物を除去する方法として、水相を分離、除去する分液操作を繰り返して水洗する方法が取られる。また、水洗後、必要に応じて、アセトン、メタノールなどの前記ポリアリレートの貧溶媒となる水混和性有機溶媒を用いて再沈殿を行ってもよい。前記再沈殿を行うことで、脱水、脱溶媒ができ、前記ポリアリレートを粉体として取り出すことが可能となり、さらに、ビスフェノール化合物などのような疎水性不純物も低減できる。前記水混和性有機溶媒としては、水との相溶性が高く、且つ前記ポリアリレートを０．５重量％以上溶解しない溶媒を用いることが好ましい。また、加熱乾燥により容易に除去可能という点において、前記水混和性有機溶媒の沸点は、１２０℃以下であることが好ましい。このような水混和性有姓溶媒の好ましい例としては、前記ポリアリレートの種類により溶解性が異なるため一概には言えないが、例えば、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類などが挙げられる。
【００５２】
界面重縮合反応時のモノマー仕込み濃度、及び後処理時のポリアリレート濃度は、生産性の点から、高いほど好ましい。水相及び有機相も含めた反応後の総液量に対するポリアリレート量は、１重量％以上であることが好ましく、より好ましくは、３重量％以上であり、さらに好ましくは、５重量％以上である。
【００５３】
反応温度は、特に制限されないが、好ましくは、−５℃〜５０℃の範囲である。反応温度が前記範囲であれば、反応中の粘度、温度の調整が容易であり、加水分解や酸化着色などの副反応も少なくなる。反応温度は、より好ましくは、５℃〜３５℃であり、さらに好ましくは、１０℃〜３０℃の室温付近である。
【００５４】
また、副反応を抑制するために、重縮合反応に伴う発熱を考慮して、予め温度を低く設定しておくことも可能である。或いは、反応を徐々に進めるために、前記アルカリやジカルボン酸クロライドを徐々に添加することもできる。このようなアルカリやジカルボン酸クロライドの添加は、１０分未満など短時間で行ってもよいが、発熱を抑制するために、１０分〜１２０分かけて添加することが好ましく、１５分〜９０分かけて添加することがより好ましい。また、酸化着色の抑制を目的に、窒素などの不活性ガス雰囲気下で反応を進行させることが好ましい。
【００５５】
アルカリやジカルボン酸クロライドを添加した後の反応時間は、モノマーの種類、アルカリの使用量、及びアルカリの濃度などによって異なるため一概には言えないが、例えば、１０分〜１０時間であり、好ましくは、３０分〜５時間であり、より好ましくは、１時間〜４時間である。
【００５６】
このようにして得られたポリアリレートは、界面重縮合反応を終了した後、分液、水洗を行った後、そのまま樹脂溶液として用いてもよく、或いは、さらに貧溶媒を用いて粉体化して用いてもよい。また、環境負荷の観点から、前記ポリアリレートのハロゲン系溶剤含有量は、１０００ｐｐｍ（０．１重量％）以下であることが好ましく、より好ましくは、３００ｐｐｍ（０．０３重量％）以下であり、さらに好ましくは、１００ｐｐｍ（０．０１重量％）以下であり、特に好ましくは、５０ｐｐｍ（０．００５重量％）以下である。前記ポリアリレートは、溶剤溶解性に優れ、ハロゲン系溶剤以外の溶剤にも可溶であることから、重縮合反応時にハロゲン系溶剤以外の溶剤（例えば、トルエン、シクロヘキサン、アニソールなど）を用いることで、前記ポリアリレート中のハロゲン系溶剤含有量を減少させることも可能である。
【００５７】
前記複屈折層形成材料には、前記非液晶性材料を溶解させるための溶媒を含んでいる。
前記溶媒としては、前記非液晶性材料の種類に応じて、適宜決定できるが、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなどが挙げられる。前記溶媒は、１種単独で、又は２種以上を併用してもよい。
【００５８】
特に、環境負荷低減の観点から、前記溶媒は、非ハロゲン系溶媒を用いることが好ましい。前記非ハロゲン系溶媒としては、例えば、芳香族炭化水素類や、ケトン類、エステル類などが好適であり、中でも、トルエン、キシレン、シクロペンタノンがより好ましく、トルエンを用いることがさらに好ましい。また、前記非ハロゲン系溶媒を含む混合溶媒も使用できる。
前記混合溶媒を用いる場合には、全体の５０重量％以上の割合で前記非ハロゲン系溶媒を含有する溶媒が好ましく、より好ましくは、全体の８０重量％以上の割合で前記非ハロゲン系溶媒を含有する。中でも、全体の５０重量％以上の割合でトルエンを含有する溶媒が好ましく、より好ましくは、全体の８０重量％以上の割合でトルエンを含有する。この場合において、トルエン以外の溶媒としては、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、４−メチル−２−ペンタノン（メチルイソブチルケトン、ＭＩＢＫ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）などを用いることができる。前記非液晶性材料として前記ポリアリレートを用いた場合には、前記ポリアリレートは溶剤溶解性に優れるため、これらの低極性の溶媒にも可溶である。
【００５９】
後述する複屈折層形成工程において、収縮性フィルムを収縮させるときの熱によって、塗膜中の溶媒が揮発することが好ましい。このように収縮性フィルムの収縮時に、溶媒が揮発するようにすれば、残存溶媒量が小さい複屈折層を最終的に得ることができる。
例えば、収縮性フィルムを収縮させる時の加熱温度よりも、沸点が低い溶媒を用いることが好ましい。かかる溶媒は、収縮性フィルムの収縮と同時に、塗膜から揮発するので好ましい。
収縮性フィルムの収縮時の加熱温度よりも沸点が低い溶媒は、前記収縮時の加熱温度との関係で適宜選択され得るが、例えば、沸点が６０℃〜１６０℃の溶媒が好ましい。具体的には、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレン、シクロペンタノン、シクロヘキサンなどが挙げられる。
【００６０】
前記複屈折層形成材料の調製方法は、特に限定されず、公知の方法を用い得る。例えば、前記溶媒の撹拌下に、粉末状、又はペレット状若しくはタブレット状などに成型した前記非液晶性材料を所望の濃度となるまで前記溶媒に徐々に加えて溶解させることにより、複屈折層形成材料を調製できる。
【００６１】
前記複屈折層形成材料における前記非液晶性材料の濃度は、特に制限されない。塗工に適した粘度とするために、前記非液晶性材料の濃度は、例えば、１重量％〜３０重量％とすることが好ましく、より好ましくは、１重量％〜２０重量％である。ここで、「塗工に適した粘度」とは、塗工時にスジ状の塗工ムラなどの欠陥が生じない程度に流動性を有する粘度をいう。前記粘度は、前記収縮性フィルムの種類、収縮性フィルムの送出速度（塗工速度）、塗工厚などによって異なるため一概には言えないが、例えば、３００ｍＰａ・ｓ〜１，０００ｍＰａ・ｓが好ましく、４００ｍＰａ・ｓ〜８００ｍＰａ・ｓがより好ましい。なお、前記粘度は、３０℃での測定値である。
【００６２】
前記複屈折層形成材料は、必要に応じて、さらに、添加剤を含んでいてもよい。前記添加剤としては、例えば、劣化防止剤、紫外線防止剤、光学異方性調節剤、可塑剤、赤外線吸収剤、フィラーなどが挙げられる。前記添加剤は、固体又は液体のいずれでもよい。すなわち、前記添加剤は、その融点や沸点において特に限定されるものではない。
【００６３】
前記収縮性フィルム上に、前記複屈折層形成材料を直接塗工して塗膜を形成する。前記複屈折層形成材料の塗工方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法などが挙げられる。また、前記塗工に際しては、必要に応じて、多層コーティングを採用することもできる。
【００６４】
［乾燥工程］
乾燥工程は、塗膜形成工程後、複屈折層形成工程の前に実施される工程であって、未固化の塗膜を、収縮性フィルム上に固化させるために設けられている。
前記複屈折層形成材料を塗工した直後の塗膜は、通常、多量の溶媒を含んだ未固化の状態である。このため、後述する複屈折層形成工程の前に、前記未固化の塗膜を乾燥させることが好ましい。
【００６５】
乾燥は、前記未固化の塗膜中の溶媒含有量が５重量％〜１５重量％となるように行われる。溶媒含有量が５重量％〜１５重量％となった塗膜は、殆ど流動性がなくなり、収縮性フィルム上で固化している。
前記乾燥の方法としては、例えば、自然乾燥、風を吹き付けての風乾、加熱乾燥、又はこれらを組み合わせた方法などが挙げられる。乾燥条件は、前記収縮性フィルムの種類、前記非液晶性材料及び前記溶媒の種類、前記非液晶性材料の濃度などに応じて適宜決定できる。具体的には、乾燥温度が、例えば、２５℃〜３００℃の範囲であり、好ましくは、５０℃〜２００℃であり、より好ましくは、６０℃〜１８０℃である。なお、前記乾燥は、一定温度で行ってもよいし、段階的に温度を上昇又は下降させながら行ってもよい。
なお、前記乾燥温度は、塗膜表面における温度をいう。
【００６６】
前記乾燥温度は、前記溶媒の沸点よりも低いことが好ましく、さらに、溶媒の沸点よりも１０℃以上低いことがより好ましく、４０℃以上低いことが特に好ましい。未固化の塗膜中に含まれる溶媒の沸点よりも低い温度で塗膜を乾燥することにより、塗膜の溶媒残存量を所望の範囲に容易に調整できる。ただし、上述のように乾燥温度が一定でない場合には、乾燥工程中の全期間又は一時期に、溶媒の沸点よりも低い温度が含まれていればよい。
加熱乾燥を行う場合には、前記収縮性フィルムの収縮が起こらない温度条件で実施することが好ましい。また、乾燥時間も、特に制限されないが、例えば、１０秒〜６０分の範囲であり、好ましくは、３０秒〜３０分である。
上記乾燥方法、乾燥温度及び乾燥時間を適宜設定することにより、塗膜中の溶媒含有量が５重量％〜１５重量％となるまで乾燥が行われる。
【００６７】
上述のように固化後の塗膜中の溶媒含有量は、５重量％〜１５重量％である。
下記複屈折層形成工程において、溶媒含有量が前記範囲の塗膜が積層された収縮性フィルムを収縮させることにより、非液晶性材料を良好に配向させることができる。溶媒含有量が５重量％未満であると、塗膜が硬すぎるので、収縮性フィルムの収縮を阻害するおそれがあり、さらに、塗膜中の非液晶性材料が余り動かず、これを良好に配向させることができない。また、溶媒含有量が１５重量％を超えると、残存溶媒量が大きい複屈折層が得られるおそれがある。
【００６８】
固化後の塗膜の厚みは、好ましくは２０μｍ以下であり、より好ましくは、１μｍ〜２０μｍであり、さらに好ましくは、３μｍ〜１５μｍである。
【００６９】
［複屈折層形成工程］
複屈折層形成工程は、上記塗膜が積層された収縮性フィルムを所定方向に収縮させることにより、塗膜に所定の位相差を発現させる工程である。前記収縮によって位相差が発現した塗膜が、本発明の複屈折層である。
【００７０】
上記塗膜は、収縮性フィルムに積層されているので、収縮性フィルムを所定方向に収縮させることにより、それに追従して、塗膜が所定方向に収縮される。
前記収縮性フィルムを収縮させる際、この収縮方向と直交する方向に前記収縮性フィルムと塗膜との積層体を延伸してもよい。前記収縮及び延伸は、別個に実施してもよいが、同時に実施することが好ましい。同時に実施することにより、前記収縮及び延伸により発現した配向性を緩和させることなく維持できる。この場合、前記収縮性フィルムを幅方向（ＴＤ方向）に延伸し、前記収縮性フィルムを長手方向（ＭＤ方向）に収縮させることが好ましい。前記積層体を延伸する手段としては、ロール延伸機、テンター延伸機、及び二軸延伸機などの任意の適切な延伸機が用いられる。
【００７１】
前記収縮性フィルムを収縮させるときの加熱処理の条件としては、特に制限されず、前記収縮性フィルムの種類などに応じて適宜決定できるが、例えば、加熱温度は、２５℃〜３００℃の範囲であり、好ましくは、５０℃〜２００℃であり、より好ましくは、６０℃〜１８０℃である。
また、収縮させる時の熱によって、塗膜中に残存する溶媒を揮発させるために、前記加熱温度は、複屈折層形成材料に用いられた溶媒の沸点よりも高いことが好ましい。具体的には、前記加熱温度は、前記溶媒の沸点よりも５℃以上高いことが好ましい。
なお、前記加熱温度は、収縮性フィルムの収縮時におけるその表面の温度をいう。
【００７２】
このようにすれば収縮性フィルムの収縮時に溶媒が揮発するので、残存溶媒量の小さい複屈折層を簡便に得ることができる。
残存溶媒量の小さい複屈折層は、その位相差が経時的に変化し難い。特に、バックライトの熱などで位相差が変化し難いので、かかる複屈折層を含む光学フィルムは、画像表示装置の構成部材として好適に利用できる。
本発明の製造方法によれば、残存溶媒量が０．２％以下、好ましくは０．１％以下という、残存溶媒量が極めて小さい複屈折層を得ることも可能である。
【００７３】
本発明の製造方法において、前記複屈折層形成工程における前記収縮性フィルム（及び塗膜）の収縮倍率は、適宜設定される。例えば、前記収縮性フィルム（及び塗膜）の収縮倍率は、好ましくは０．５０倍〜０．９９倍の範囲であり、より好ましくは０．６０倍〜０．９８倍であり、さらに好ましくは０．７５倍〜０．９５倍である。
前記積層体（収縮性フィルムと塗膜との積層体）を前記収縮方向と直交する方向に延伸する場合には、前記積層体の延伸倍率は、１．０１〜３．０倍の範囲であることが好ましく、より好ましくは、１．０５〜２．０倍であり、さらに好ましくは、１．１０〜１．５０倍である。
なお、前記収縮倍率は、式：収縮方向の収縮後の長さ／収縮前の長さ、に基づいて求められる。前記延伸倍率は、式：延伸方向の延伸後の長さ／延伸前の長さ、に基づいて求められる。
【００７４】
［光学フィルムの特性及び用途］
以上のようにして、所望の位相差を有する複屈折層が収縮性フィルムの上に積層された光学フィルムを得ることができる。
本発明の製造方法によれば、一軸性又は二軸性の複屈折層を得ることができる。例えば、屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙを満たす二軸性の複屈折層が得られ得る。
【００７５】
本発明の製造方法によれば、面内位相差が１００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲の複屈折層を得ることができる。前記複屈折層の面内位相差は、好ましくは、１００ｎｍ〜３００ｎｍの範囲であり、より好ましくは、１３０ｎｍ〜２９０ｎｍである。前記正面位相差は、前記複屈折層の面内で屈折率が最大となる方向（遅相軸方向）の屈折率をｎｘ、前記複屈折層の面内で前記ｎｘと直交する方向（進相軸方向）の屈折率をｎｙ、前記複屈折層の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ、により算出される。
【００７６】
前記複屈折層は、前記収縮性フィルムとの積層体としてそのまま本発明の光学フィルムとして使用してもよい。或いは、前記収縮性フィルムから剥離した複屈折層のみを本発明の光学フィルムとして使用してもよい。また、前記収縮性フィルム上に形成した前記複屈折層を、粘着剤などを介して、偏光子のような他の光学部材と接着してもよい。
【００７７】
本発明の光学フィルムは、通常、それ単独で、又は、前記光学フィルムに偏光子を積層した偏光板の形態で使用される。
本発明の光学フィルム又は偏光板の好ましい用途は、画像表示装置の構成部材である。
この画像表示装置は、本発明の光学フィルム又は偏光板を用いること以外は、従来の画像表示装置と同様の構成である。例えば、ＬＣＤの場合、液晶セルの光学部材、及び必要に応じ照明システム（バックライトなど）の各構成部品を適宜組み立てて駆動回路に組み込むことなどにより製造できる。
【実施例】
【００７８】
つぎに、本発明の実施例及び比較例を示して本発明をさらに詳述する。ただし、本発明は、下記実施例及び比較例によって制限されない。なお、下記実施例及び比較例における各種特性は、下記の方法により評価又は測定を行った。
【００７９】
（配向性の測定）
配向性は、収縮性フィルムから複屈折層を剥離して、王子計測機器（株）製の商品名「ＫＯＢＲＡ−ＷＰＲ」を用いて測定した。
その測定結果を下記Ｇ及びＮＧの判定で評価した。
Ｇ：３０％収縮時でのΔｎｘｙが０．０２以上。
ＮＧ：３０％収縮時でのΔｎｘｙが０．０２未満。
ただし、前記Δｎｘｙ＝ｎｘ−ｎｙである。
【００８０】
（収縮量の測定）
残存溶媒量が少ない場合、速比による設定よりも収縮せず、緩んだ状態となる。そのときの実際の試料の収縮量と設定した収縮量との差を比較した。収縮量の測定は金尺で行った。
設定収縮量は、フィルムの巻取り速度と繰り出し速度の比に基づいて設定したものである。実際の収縮量は、収縮方向における収縮前後の寸法（＝収縮前の長さ−収縮方向の収縮後の長さ）を金尺で測定したものである。
その測定結果を下記Ｇ及びＮＧの判定で評価した。
Ｇ：設定収縮量と実際の収縮量の差が−５．０％以下。
ＮＧ：設定収縮量と実際の収縮量の差が−５．０％超える。
【００８１】
［実施例１］
（非液晶性材料の合成）
撹拌装置を備えた反応容器中で、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルペンタン３．２６ｇ及びベンジルトリエチルアンモニウムクロライド０．０６ｇを、水酸化ナトリウム溶液２５ｍＬに溶解させた。この溶液に、テレフタル酸クロライド２．０３ｇを３５ｍＬのクロロホルムに溶解させた溶液を、撹拌しながら一度に加え、室温で９０分間撹拌することにより、重縮合溶液を得た。その後、前記重縮合溶液を静置分離することにより、ポリアリレートを含んだクロロホルム溶液を分離した。次に、前記分離したクロロホルム溶液を酢酸水で洗浄し、さらにイオン交換水で洗浄した後、これをメタノールに投入することにより、ポリアリレートを析出させた。析出したポリアリレートを濾過し、減圧下で乾燥することにより、白色のポリアルート３．７７ｇを得た（収率９１％）。
【００８２】
（光学フィルムの作製）
上記で得られたポリアリート１０ｇをメチルエチルケトン７３ｇに溶解させることにより、複屈折層形成材料を調製した。その後、前記形成材料を、Ａ−ＰＥＴフィルム（三菱化学（株）製、「ノバクリアー」）を一軸延伸した収縮性フィルムの上に直接塗工し、その塗膜を乾燥温度３５℃で５分間乾燥させた後、加熱温度８５℃で前記フィルムを収縮させ、複屈折層を有する光学フィルムを作製した。前記フィルムの一方向（前記一軸延伸方向）における収縮倍率は０．７０倍で、前記一方向と直交する方向における拡幅倍率は１．１５倍であった。
【００８３】
前記乾燥後且つフィルムを収縮させる前の塗膜中の溶媒含有量を測定した。また、フィルムを収縮させた後の塗膜（複屈折層）の残存溶媒量を測定した。ただし、溶媒含有量及び残存溶媒量（重量％）は、（溶媒の重量／塗膜の重量）×１００で求めた。
さらに、得られた複屈折層の配向性及び収縮量を上記測定方法に従って測定した。それらの結果を、表１に示す。
なお、下記実施例２乃至実施例５及び比較例１乃至比較例３についても、同様に、溶媒含有量、残存溶媒量、配向性及び収縮量をそれぞれ測定した。それらの結果を、表１に併せて示す。
【００８４】
【表１】
0005600847.tif 000007
【００８５】
［実施例２］
（非液晶性材料の合成）
撹拌装置を備えた反応容器中で、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルペンタン２．７０ｇ及びベンジルトリエチルアンモニウムクロライド０．０６ｇを、水酸化ナトリウム溶液２５ｍＬに溶解させた。この溶液に、テレフタル酸クロライド１．５２ｇとイソフタル酸クロライド０．５１ｇを３０ｍＬのクロロホルムに溶解させた溶液を、撹拌しながら一度に加え、室温で９０分間撹拌することにより、重縮合溶液を得た。その後、前記重縮合溶液を静置分離することにより、ポリアリレートを含んだクロロホルム溶液を分離した。次に、前記分離したクロロホルム溶液を酢酸水で洗浄し、さらにイオン交換水で洗浄した後、これをメタノールに投入することにより、ポリアリレートを析出させた。析出したポリアリレートを濾過し、減圧下で乾燥することにより、白色のポリアリレート３．４１ｇを得た（収率９２％）。
【００８６】
（光学フィルムの作製）
上記で得られたポリアリレート１０ｇをトルエン７３ｇに溶解させることにより、複屈折層形成材料を調製した。その後、前記形成材料を、縦一軸延伸ポリプロピレンフィルム（東京インキ（株）製、商品名「ノーブレン」）の上に直接塗工し、その塗膜を乾燥温度６０℃で５分間乾燥させた後、加熱温度１３０℃で前記フィルムを収縮させ、複屈折層を有する光学フィルムを作製した。前記フィルムの一方向（前記一軸延伸方向）における収縮倍率は０．７０倍で、前記一方向と直交する方向における拡幅倍率は１．１５倍であった。
【００８７】
［実施例３］
トルエンに代えてシクロペンタノンを使用したこと、及びフィルムの加熱温度を１５０℃としたこと以外は、実施例２と同様にして、複屈折層を有する光学フィルムを作製した。
【００８８】
［実施例４］
Ａ−ＰＥＴフィルムに代えて縦一軸延伸ポリプロピレンフィルム（東京インキ（株）製、商品名「ノーブレン」）を用いたこと、メチルエチルケトンに代えてメチルイソブチルケトンを使用したこと、乾燥温度を８０℃としたこと、及びフィルムの加熱温度を１５０℃としたこと以外は、実施例１と同様にして、複屈折層を有する光学フィルムを作製した。
【００８９】
［実施例５］
メチルエチルケトンに代えて酢酸エチルを使用したこと、及び乾燥温度を３０℃としたこと以外は、実施例１と同様にして、複屈折層を有する光学フィルムを作製した。
【００９０】
［比較例１］
縦一軸延伸ポリプロピレンフィルムに代えて実施例１で用いたＡ−ＰＥＴからなる収縮性フィルムを用いたこと、乾燥温度を３５℃としたこと、及びフィルムの加熱温度を８５℃としたこと以外は、実施例２と同様にして、複屈折層を有する光学フィルムを作製した。
【００９１】
［比較例２］
トルエンに代えてシクロヘキサノンを使用したこと、及び乾燥温度を５０℃としたこと以外は、実施例２と同様にして、複屈折層を有する光学フィルムを作製した。
【００９２】
［比較例３］
トルエンに代えてテトラヒドロフランを使用したこと、及び乾燥温度を６６℃としたこと以外は、実施例２と同様にして、複屈折層を有する光学フィルムを作製した。
【産業上の利用可能性】
【００９３】
本発明は、例えば、屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を満たす複屈折層を含む光学フィルムの製造に利用できる。この光学フィルムは、偏光板や画像表示装置の構成部材などとして利用できる。
【符号の説明】
【００９４】
１…収縮性フィルム、３ａ…未固化の塗膜、３…固化後の塗膜、９１…塗工装置、９２…乾燥装置、９３…加熱装置
【図１】
0005600847.tif 000009
【図２】
0005600847.tif 000010