(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
原料炭を乾留してコークスを生成する乾留炉に設けられるガス循環装置であって、
前記乾留により発生し前記乾留炉から排出されたガスを循環ガスとして乾留炉へ戻す循環ラインを備え、該循環ラインには、ガス処理装置、ガスタンク、およびガス加熱装置が上流側からこの順に設けられ、
前記ガス処理装置は、乾留炉が排出した循環ガスからタールを除去するとともに、当該循環ガスを冷却し、
前記ガスタンクは、その外壁が外気にさらされる位置に配置されるとともに、前記ガス処理装置が排出した循環ガスを蓄積することで、当該循環ガスを外気により３５℃以下に間接冷却し、
前記ガス加熱装置は、前記ガスタンクが排出した循環ガスを加熱し、当該循環ガスを乾留炉に戻し、
前記ガスタンクにおいて、前記ガス処理装置からの循環ガスが前記ガスタンク内に流入する流入口と、前記ガスタンクから前記ガス加熱装置側へ循環ガスが流出する流出口とが設けられ、
前記流入口において前記ガスタンク内へ流入する循環ガスの流れを示すベクトルの延長線上に、前記流出口が位置しないようになっている、ことを特徴とする乾留炉に設けられるガス循環装置。
【請求項２】
前記ガスタンクには、前記循環ラインとは別のガスラインが接続されており、該ガスタンクは、該ガスラインを通して、蓄積している前記循環ガスを、燃料として、前記ガス加熱装置とは別の燃料需要箇所へ供給可能となっている、ことを特徴とする請求項１に記載のガス循環装置。
【請求項３】
前記ガス処理装置は、
前記乾留炉が排出した前記循環ガスに水を噴霧することで該循環ガスからタールを除去する水噴霧装置と、
該水噴霧装置が排出した循環ガスを５０℃以下まで冷却するガス冷却装置と、を有する、ことを特徴とする請求項１または２に記載のガス循環装置。
【請求項４】
原料炭を乾留してコークスを生成する乾留炉で発生するガスを、前記乾留炉から排出し該乾留炉へ戻すガス循環方法であって、
前記乾留により発生し前記乾留炉から排出されたガスを循環ガスとして乾留炉へ戻す循環ラインを設けるとともに、該循環ラインに、ガス処理装置、外壁が外気にさらされるガスタンク、および、ガス加熱装置を上流側からこの順に配置し、前記ガスタンクにおいて、前記ガス処理装置からの循環ガスが前記ガスタンク内に流入する流入口と、前記ガスタンクから前記ガス加熱装置側へ循環ガスが流出する流出口とが設けられ、前記流入口において前記ガスタンク内へ流入する循環ガスの流れを示すベクトルの延長線上に、前記流出口が位置しないようになっており、
前記ガス処理装置にて、乾留炉が排出した循環ガスからタールを除去するとともに、当該循環ガスを冷却し、
前記ガスタンクにて、前記ガス処理装置が排出した循環ガスを蓄積することで、３５℃以下に間接冷却された当該循環ガスを前記ガス加熱装置へ排出し、
前記ガス加熱装置にて、前記ガスタンクが排出した循環ガスを加熱し、当該循環ガスを乾留炉に戻す、ことを特徴とするガス循環方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、原料炭を乾留してコークスを生成する乾留炉に設けられるガス循環装置に関する。また、本発明は、乾留炉で発生するガスの循環方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
乾留炉では、コークスを生成するために、原料炭を加熱して乾留する。本願に関連する従来の乾留炉として、下記の特許文献１に記載された連続式成形コークス製造設備や、下記の特許文献２、３に記載されたフェロコークス製造炉などがある。
【０００３】
ガス循環装置は、乾留炉内において乾留により発生するガスを、循環させて原料炭の加熱に使用するものである。まず、ガス循環装置は、乾留炉内において乾留時に発生するガスを、乾留炉外へ排出する。次いで、ガス循環装置は、排出されたガス中のタールおよびダストを除去する。その後、ガス循環装置は、当該ガスを、加熱して、酸素を含まない還元性ガスとして、乾留炉へ再び戻す。乾留炉では、戻された高温の還元性ガスにより原料炭を直接加熱して乾留する。このように、乾留炉から排出され乾留炉に戻るまでのガスを、以下、循環ガスという。この循環ガスの主成分は、Ｈ２、ＣＯ、およびＣＨ４である。
【０００４】
図１は、本発明に関連する乾留炉６１およびガス循環装置６３の構成例を示す。図１のように、ガス循環装置６３は、水噴霧装置６５、ガス冷却装置６７、湿式電気集塵装置６９、およびガス加熱装置７１を備える。
【０００５】
水噴霧装置６５は、乾留炉６１から排出された直後の循環ガスに、水を噴霧することで、当該循環ガスからタールを除去するとともに、当該循環ガスを８０℃程度まで冷却する。
【０００６】
ガス冷却装置６７は、水噴霧装置６５を通過した循環ガスをさら冷却して、当該循環ガスの温度を３５℃程度まで冷却する。ガス冷却装置６７は、例えば、循環ガスに水を噴霧することで、循環ガスを水で直接冷却する冷却塔や、熱交換により循環ガスを間接的に冷却する熱交換器（例えばシェルチューブ式熱交換器）などであってよい。
【０００７】
湿式電気集塵装置６９は、ガス冷却装置６７から送られてきた循環ガス中のタールやダストを除去する。
【０００８】
ガス加熱装置７１は、湿式電気集塵装置６９からの循環ガスを加熱することで、当該循環ガスの温度を９９０℃程度まで上昇させる。
【０００９】
上述のように、ガス循環装置６３では、２段階冷却で、循環ガスの飽和水分濃度を所定値以下にしている。すなわち、水噴霧装置６５とガス冷却装置６７との２段階の冷却により循環ガス温度を３５℃程度以下に冷却することで、飽和水分濃度（すなわち、単位体積の循環ガスに対する、当該単位体積の循環ガスに含みうる最大水蒸気量の体積による割合。以下同様）を６％程度以下に低下させることで、乾留炉６１に戻される時点で、循環ガスの水分濃度を低下させ、これにより、乾留炉６１内における炭素の消費量を抑えている。
【００１０】
具体的には、次の通りである。ガス循環装置６３により乾留炉６１に戻される循環ガスに水分が多く含まれていると、乾留炉６１において、次式（１）、（２）の反応が促進される。
Ｃ＋Ｈ２Ｏ→ＣＯ＋Ｈ２  ・・・（１）
Ｃ＋２Ｈ２Ｏ→ＣＯ２＋２Ｈ２  ・・・（２）
式（１）、（２）のように、炭素が消費されてしまい、その結果、成型されるコークスの強度が低下してしまう可能性がある。そこで、水噴霧装置６５とガス冷却装置６７による２段階の冷却で、循環ガスの飽和水分濃度を６％程度まで低下させることで、乾留炉６１に戻される時点において循環ガスの水分濃度を低下させ、上式（１）、（２）における炭素の消費（酸化）を抑えることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００２−２５６２７２号公報
【特許文献２】特開昭６４−８３６０７号公報
【特許文献３】特開昭５９−６６４８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかし、上述のように２段階の冷却で、循環ガスの温度を、３５℃程度以下にするためには、冷却設備が大型化してしまう。例えば、ガス冷却装置６７が大型化してしまう。
【００１３】
図２は、ガス冷却装置６７の構成例を示す。図２のように、ガス冷却装置６７は、循環ガス６８に水を直接噴霧するガス冷却塔７２を有する。図２では、ガス冷却塔７２内で噴霧する水は工業用水であり、この工業用水を循環して使用している。すなわち、ガス冷却塔７２内で噴霧された工業用水は、ポンプ７３により、ガス冷却塔７２外の熱交換器７４へ送られ、そこで冷却される。熱交換器７４により冷却された工業用水は、再びガス冷却塔７２へ送られてガス冷却塔７２内で噴霧される。
【００１４】
図２の構成において、ガス冷却塔７２内において噴霧する工業用水の温度を、ガス冷却塔７２から排出される時点における循環ガスの設定温度（３５℃）よりも低くする必要がある。従って、熱交換器７４に供給する冷却用の水を冷却する高価な冷却機器（チラー）７５をさらに設ける必要があり、その結果、設備コストが高くなってしまう。特に、夏場には、熱交換器７４に供給する冷却用の水の温度が、３５℃近傍まで上昇してしまうため、冷却機器７５が必要となる。
【００１５】
上述のように、循環ガスを冷却するための設備コストが高くなってしまう。
【００１６】
そこで、本発明の目的は、乾留炉から排出された循環ガスを加熱して乾留炉に戻す場合に、ガス冷却設備のコストを抑え、かつ、循環ガスを冷却するのに要するエネルギをも抑えつつ、循環ガスを加熱前に低温度（例えば、３５℃程度以下）まで冷却でき、これにより、乾留炉に戻される循環ガス中の水分濃度を抑えることができるガス循環装置と方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記目的を達成するため、本発明によると、原料炭を乾留してコークスを生成する乾留炉に設けられるガス循環装置であって、
前記乾留により発生し前記乾留炉から排出されたガスを循環ガスとして乾留炉へ戻す循環ラインを備え、該循環ラインには、ガス処理装置、ガスタンク、およびガス加熱装置が上流側からこの順に設けられ、
前記ガス処理装置は、乾留炉が排出した循環ガスからタールを除去するとともに、当該循環ガスを冷却し、
前記ガスタンクは、その外壁が外気にさらされる位置に配置されるとともに、前記ガス処理装置が排出した循環ガスを蓄積することで、当該循環ガスを外気により間接冷却し、
前記ガス加熱装置は、前記ガスタンクが排出した循環ガスを加熱し、当該循環ガスを乾留炉に戻す、ことを特徴とする乾留炉に設けられるガス循環装置が提供される。
【００１８】
本発明の好ましい実施形態によると、前記ガスタンクには、前記循環ラインとは別のガスラインが接続されており、該ガスタンクは、該ガスラインを通して、蓄積している前記循環ガスを、燃料として、前記ガス加熱装置とは別の燃料需要箇所へ供給可能となっている。
【００１９】
また、本発明の好ましい実施形態によると、前記ガス処理装置は、
前記乾留炉が排出した前記循環ガスに水を噴霧することで該循環ガスからタールを除去する水噴霧装置と、
該水噴霧装置が排出した循環ガスを５０℃以下まで冷却するガス冷却装置と、を有する。
【００２０】
また、上記目的を達成するため、本発明によると、原料炭を乾留してコークスを生成する乾留炉で発生するガスを、前記乾留炉から排出し該乾留炉へ戻すガス循環方法であって、
前記乾留により発生し前記乾留炉から排出されたガスを循環ガスとして乾留炉へ戻す循環ラインを設けるとともに、該循環ラインに、ガス処理装置、外壁が外気にさらされるガスタンク、および、ガス加熱装置を上流側からこの順に配置し、
前記ガス処理装置にて、乾留炉が排出した循環ガスからタールを除去するとともに、当該循環ガスを冷却し、
前記ガスタンクにて、前記ガス処理装置が排出した循環ガスを蓄積することで、外気の温度に間接冷却された当該循環ガスを前記ガス加熱装置へ排出し、
前記ガス加熱装置にて、前記ガスタンクが排出した循環ガスを加熱し、当該循環ガスを乾留炉に戻す、ことを特徴とするガス循環方法が提供される。
【発明の効果】
【００２１】
上述した本発明によると、外気にさらされる位置に配置された前記ガスタンクに、循環ガスを蓄積することで、当該循環ガスを、エネルギを要しない外気により間接冷却するので、チラーなどの高価な設備を設ける必要がなくなる。従って、ガス冷却設備のコストを抑え、かつ、循環ガスを冷却するのに要するエネルギをも抑えつつ、循環ガスを低温度（例えば、３５℃程度以下）に冷却でき、これにより、乾留炉に戻される循環ガス中の水分濃度を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明に関連する乾留炉とガス循環装置の構成例を示す。
【図２】図１のガス冷却装置の構成例を示す。
【図３】本発明の実施形態によるガス循環装置を示す。
【図４】図３のガスタンクを示す。
【図５】図３のガス処理装置の構成例を示す。
【図６】図３のガス加熱装置の構成例を示す。
【図７】本発明の実施形態によるガス循環方法のフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明の好ましい実施形態を図面に基づいて説明する。なお、各図において共通する部分には同一の符号を付し、重複した説明を省略する。
【００２４】
図３は、乾留炉１およびガス循環装置１０を示す。本発明の実施形態によるガス循環装置１０は、原料炭９を乾留してコークスを生成する乾留炉１に設けられる。
原料炭（成型炭）９は、例えば、非粘結炭または微粘結炭を主原料とするものである。原料炭９は、炉頂ホッパ３、炉頂ロータリーバルブ５、および炉頂仕切りゲート７を介して、乾留炉１の炉頂に連続的に装入される。
乾留炉１の内部において、原料炭９は、ガス循環装置１０から供給される熱風による直接加熱により乾留され、炉底より成型コークス１１として、製品切出装置１３、および排出ダンパ１７（図３の例では、２重ダンパ）を介して炉外に排出される。
【００２５】
ガス循環装置１０は、前記乾留により発生し乾留炉１から排出されたガスを循環ガスとして再び乾留炉１へ戻す循環ライン（配管）１９を備える。該循環ライン１９には、ガス処理装置２１、ガスタンク２３、およびガス加熱装置２５が上流側からこの順に設けられる。
【００２６】
ガス処理装置２１は、乾留炉１が排出した循環ガスからタールおよびダストを除去するとともに、当該循環ガスを冷却する。本実施形態では、ガス処理装置２１により、循環ガスは、５０℃程度にまで冷却される。なお、乾留炉１から排出された直後の循環ガスの温度は、例えば、３５０℃程度である。
【００２７】
ガスタンク（ガスホルダ）２３は、ガスタンク２３の外壁が外気にさらされる位置に配置される。ガスタンク２３は、ガス処理装置２１が排出した循環ガスを蓄積し、これにより、当該ガスが、前記外壁を介して外気により間接的に冷却される。また、ガスタンク２３は、このように冷却された当該ガスの一部を循環ガスとしてガス加熱装置２５へ排出する。
ガスタンク２３には、循環ライン１９とは別のガスライン２２が接続されており、該ガスタンク２３は、該ガスライン２２を通して、蓄積している前記ガスを、加熱用の燃料として、ガス加熱装置２５とは別の燃料需要箇所（例えば、ガスバーナーや、鉄板を圧延前に加熱する加熱炉など）へ供給可能となっている。
【００２８】
図４は、図３のガスタンクを示す部分拡大図である。図４において、符号１９ａが指している矢印は、循環ガス、およびその流れ方向を示す。
好ましくは、ガスタンク２３において、ガス処理装置２１からの循環ガスがガスタンク２３内に流入する流入口２３ａと、ガスタンク２３からガス加熱装置２５側へ流出する流出口２３ｂとは、共に、前記外壁（またはガスタンク２３内の前記外壁近傍）に位置するが、鉛直方向または水平方向（図４の例では、鉛直方向。即ち、図４の紙面における上下方向）に関し、互いに反対側に位置する。
また、好ましくは、流入口２３ａにおいて、ガスタンク２３内へ流入する循環ガスの流れを示すベクトルＶ（図４を参照）の延長線上に、流出口２３ｂが位置しないようにする。
このような構成で、より確実に、外気温度または外気温度程度に冷却された循環ガスをガス加熱装置２５側へ排出させることができる。
【００２９】
ガス加熱装置２５は、ガスタンク２３が排出した循環ガスを９９０℃程度まで加熱し、当該循環ガスを乾留炉１に戻す。乾留炉１では、ガス加熱装置２５により加熱された循環ガス（還元性ガス）により、原料炭９を乾留してコークスを生成する。
【００３０】
このような構成により、ガス循環装置１０は、乾留炉１内で乾留により発生する新たなガスを循環ガスに追加しながら、循環ガスを循環させる。
【００３１】
上述の構成を有するガス循環装置１０では、ガス処理装置２１の冷却能力を、低く設定することができる。すなわち、上述のように、ガスタンク２３において、外気を利用して循環ガスを冷却するので、ガスタンク２３よりも上流側にあるガス処理装置２１において、図２のガス冷却装置６７の場合のように循環ガスを３５℃以下にまで冷却する必要がなくなる。
【００３２】
図５は、本実施形態によるガス処理装置２１の構成を示す。図５のように、ガス処理装置２１は、水噴霧装置２７、ガス冷却装置２９、および湿式電気集塵装置３１を有する。なお、図５において、符号１９ａが指している矢印は、循環ガス、およびその流れ方向を示す。
【００３３】
水噴霧装置２７は、冷却された水を循環ガスに直接噴霧する。これにより、循環ガスに含まれるタールを水に取り込ませて、循環ガスからタールを除去する。また、好ましくは、水噴霧装置２７の水噴霧により、循環ガスの温度を８０℃程度まで冷却する。なお、噴霧された水は、循環ライン１９に設けられた液貯留部２７ａに一時的に蓄積された後、タンク３３へ排出後、系外の排水処理装置に送られ、そこで処理される。
【００３４】
ガス冷却装置２９は、ガス冷却塔３５、ポンプ３７、および熱交換器３９を有する。ガス冷却塔３５内では、循環ガスに水を直接噴霧する。噴霧された水は、ガス冷却塔３５の下部３５ａに溜まり、ポンプ３７により、ガス冷却塔３５外の熱交換器３９へ送られ、そこで冷却される。熱交換器３９により冷却された水は、再び、ガス冷却塔３５へ送られてガス冷却塔３５内で噴霧される。なお、噴霧された水は、ガス冷却塔３５の下部３５ａに一時的に蓄積され、当該水の一部がガス冷却塔３５の底部からタンク３３へ排出されて処理される。また、ガス冷却塔３５に循環される水が減少したら、適宜の手段により当該水を補充してよい。図５では、ガス冷却塔３５内で噴霧する水は、好ましくは、工業用水であり、この工業用水を上述のように循環して使用している。ガス冷却塔３５でも、タールやダストが除去されるが、タールは、主に水噴霧装置２７で除去され、ダストは、主に湿式電気集塵装置３１で除去される。
【００３５】
ガス冷却装置２９の冷却能力は、本実施形態によると、低く設定することができる。すなわち、上述のように、ガスタンク２３において、外気を利用して循環ガスを冷却するので、ガス冷却装置２９において、図２のガス冷却装置６７の場合のように循環ガスを３５℃以下にまで冷却する必要がなくなる。ただし、好ましくは、ガス冷却装置２９により、循環ガスの温度を５０℃以下に冷却するようにする。これにより、循環ガスに含まれているナフタレンを、析出させ、ガス冷却装置２９において噴霧した水中に取り込ませる。このようにして循環ガスからナフタレンを除去することで、ガス冷却装置２９の下流において、湿式電気集塵装置３１や循環ライン１９内にナフタレンが析出して堆積することを防止し、その結果、ナフタレンの堆積で循環ガスの流れが妨げられることを防止する。
【００３６】
湿式電気集塵装置３１は、循環ガス中のダストを除去する。湿式電気集塵装置３１を通過した循環ガスは、循環ライン１９によりガスタンク２３へ送られる。
【００３７】
図６は、本実施形態によるガス加熱装置２５の構成を示す。図６のように、ガス加熱装置２５は、間接加熱装置４１、および燃焼加熱装置４３を有する。
【００３８】
間接加熱装置４１は、ガスタンク２３からの循環ガスを、熱交換により所定の中温（例えば５００〜６００℃）まで間接加熱する。間接加熱装置４１は、この例では、熱交換器４５と空気ブロア４７と燃焼器（ガスバーナ）４８と燃料ガス源４９からなり、燃焼器４８において、点火をして、燃料ガス源４９からの燃料ガス（例えば都市ガス）を空気ブロア４７からの空気で燃焼させて高温燃焼ガスを発生し、この高温燃焼ガスを熱交換器４５に供給する。これにより、熱交換器４５において、当該高温燃焼ガスで、循環ガスを中温（例えば５００〜６００℃）まで間接加熱する。このように間接加熱された循環ガスは、循環ライン１９により燃焼加熱装置４３へ送られる。
【００３９】
燃焼加熱装置４３は、間接加熱装置４１からの循環ガスに空気を混合し、当該混合ガスを点火して燃焼し、これにより、循環ガスを９９０℃程度まで加熱する。燃焼加熱装置４３は、この例では、燃焼器５１、燃料源５２、および空気ブロア５３を有する。燃焼器５１には、循環ガスの一部が供給されるとともに、燃料源５２から燃料（都市ガス、灯油など）が供給され、さらに、空気ブロア５３から空気が供給され、燃焼器５１において、当該循環ガスの一部および当該燃料を、点火して当該空気で燃焼させて燃焼ガスを発生させる。また、燃焼加熱装置４３は、燃焼器５１からの当該燃焼ガスと、燃焼器５１を経由せずに間接加熱装置４１から送られてきた循環ガスとを混合することで、当該循環ガスを９９０℃程度まで加熱する。このように加熱された循環ガスは、循環ライン１９により乾留炉１へ戻される。
【００４０】
燃焼加熱装置４３による燃焼で水分が発生する。これについて、燃焼器５１に供給される前記燃料は、循環ガスよりも水素成分が少なく、しかも、循環ガスは、上述のようにガス冷却装置２９による冷却で、循環ガス中の水分濃度が十分に小さくなる。従って、燃焼加熱装置４３で発生した燃焼ガス中の水分が循環ガスに足されても、乾留炉１に循環ガスが戻される時点で、循環ガスの水分濃度を体積で所定値（例えば８〜１０％）以下にすることができる。
【００４１】
図７は、上述したガス循環装置１０を用いたガス循環方法のフローチャートである。このガス循環方法では、原料炭９を乾留してコークスを生成する乾留炉１で発生するガスを、乾留炉１から排出し再び該乾留炉へ戻す。ガス循環方法は、ステップＳ１〜Ｓ４を有する。
【００４２】
ステップＳ１では、前記乾留により発生し乾留炉１から排出されたガスを循環ガスとして再び乾留炉１へ戻す上述の循環ライン１９を設ける。また、ステップＳ１では、該循環ライン１９に、ガス処理装置２１およびガス加熱装置２５を上流側からこの順に設ける。さらに、ステップＳ１では、さらに、外壁が外気にさらされるガスタンク２３を介してガス処理装置２１とガス加熱装置２５とを循環ライン１９で接続する。
ステップＳ２では、ガス処理装置２１にて、乾留炉１が排出した循環ガスからタールを除去するとともに、当該循環ガスを冷却する。このガス処理装置２１の構成と作用は、上述と同じである。
ステップＳ３では、ガスタンク２３にて、ガス処理装置２１が排出した循環ガスを蓄積することで、外気の温度に間接冷却された当該循環ガスをガス加熱装置２５へ排出する。このガスタンク２３の構成と作用は、上述と同じである。
ステップＳ４では、ガス加熱装置２５にて、ガスタンク２３が排出した循環ガスを加熱し、当該循環ガスを乾留炉１に戻す。このガス加熱装置２５の構成と作用は、上述と同じである。
【００４３】
上述した本発明の実施形態によると、外気にさらされる位置に配置されたガスタンク２３に、循環ガスを蓄積することで、当該循環ガスを、エネルギを要しない外気により間接冷却するので、チラーなどの高価な設備を設ける必要がなくなる。例えば、ガス冷却装置２９において、循環ガスの温度を３５℃よりも高い５０℃に冷却するようにしても、下流のガスタンク２３において、循環ガスを一時的に蓄え、外気を用いた間接冷却で、当該循環ガスを３５℃以下（外気の温度）に冷却することができる。従って、ガス冷却設備のコストを抑え、かつ、循環ガスを冷却するのに要するエネルギをも抑えつつ、循環ガスを低温度（例えば、３５℃以下）に冷却でき、これにより、乾留炉１に戻されるガス中の水分濃度を体積で所定値（例えば８〜１０％）以下に抑えることができる。
【００４４】
本発明は上述した実施の形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、以下の変更を単独でまたは組み合わせて採用してもよい。
【００４５】
ガス処理装置２１は、乾留炉１が排出した加熱ガスからタールを除去するとともに、当該加熱ガスを冷却するものであれば、図５の構成に限定されない。
【００４６】
ガス加熱装置２５は、ガスタンク２３が排出した循環ガスを乾留に必要な温度まで加熱するものであれば、図６の構成に限定されない。例えば、ガス加熱装置２５において、間接加熱装置４１を省略してもよい。また、ガス加熱装置２５において、燃焼加熱装置４３の燃焼器５１は、その内部で点火して、循環ガスを燃焼せずに、供給される燃料（都市ガス、灯油など）のみを空気ブロア５３からの空気で燃焼させ、これにより生じた高温の燃焼ガスを循環ガスに混合させてもよい。
【符号の説明】
【００４７】
１  乾留炉、９  原料炭、１０  ガス循環装置、
１９  循環ライン、２１  ガス処理装置、
２３  ガスタンク、２５  ガス加熱装置、２７  水噴霧装置、
２９  ガス冷却装置、３１  湿式電気集塵装置、
３５  ガス冷却塔、３７  ポンプ、３９  熱交換器、
４１  間接加熱装置、４３  燃焼加熱装置、４５  熱交換器
【図１】
0005419159.tif 000002
【図２】
0005419159.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
0005419159.tif 000008