(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶媒に溶質を含有する第１液を媒体に付与する液付与装置へ液を供給する供給流路と、
前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、
前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、
前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記液付与装置による前記媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに前記供給流路へ前記第２液を断続的に供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
を備えたことを特徴とする液供給装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液供給装置において、
前記供給流路を通過する液を加圧する第１加圧手段と、
前記液付与装置による媒体への液付与処理停止中に前記第２液を前記液付与装置へ供給する場合に、前記第１加圧手段を連続的又は断続的に動作させるように前記第１加圧手段の動作を制御する第１加圧制御手段と、
を備えたことを特徴とする液供給装置。
【請求項３】
請求項２に記載の液供給装置において、
前記第１加圧制御手段は、前記液付与装置による媒体への液付与処理中に前記第２液を供給する場合に、前記第１加圧手段を断続的に動作させることを特徴とする液供給装置。
【請求項４】
溶媒に溶質を含有する第１液を媒体に付与する液付与装置へ液を供給する供給流路と、
前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、
前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、
前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記液付与装置による前記媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに前記供給流路へ前記第２液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
前記供給流路を通過する液を加圧する第１加圧手段と、
前記液付与装置による媒体への液付与処理停止中に前記第２液を前記液付与装置へ供給する場合に前記第１加圧手段を連続的又は断続的に動作させ、前記液付与装置による媒体への液付与処理中に前記第２液を供給する場合に前記第１加圧手段を断続的に動作させるように前記第１加圧手段の動作を制御する第１加圧制御手段と、
を備えたことを特徴とする液供給装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の液供給装置において、
前記測定手段よりも前記液付与装置側における前記供給流路の少なくとも一部の断面積は、前記切換手段から前記測定手段までの断面積を超える構造を有することを特徴とする液供給装置。
【請求項６】
溶媒に溶質を含有する第１液を媒体に付与する液付与装置へ液を供給する供給流路と、
前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、
前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、
前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記液付与装置による前記媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに前記供給流路へ前記第２液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
を備え、
前記測定手段よりも前記液付与装置側における前記供給流路の少なくとも一部の断面積は、前記切換手段から前記測定手段までの断面積を超える構造を有することを特徴とする液供給装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載の液供給装置において、
前記供給流路の前記切換手段から前記測定手段までの断面積は、０．８ｍｍ２以上８０ｍｍ２以下であることを特徴とする液供給装置。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載の液供給装置において、
前記第１液が貯留される第１液貯留部と、
前記第１液貯留部に貯留される液量を検出する液量検出手段と、
前記第１液貯留部へ前記第１液を補充する第１液補充手段と、
前記第１液貯留部から前記液付与装置へ液が供給される流路とは別経路で前記液付与装置から前記第１液貯留部へ液を循環させる循環流路と、
前記液付与装置と前記第１液貯留部との間で液を循環させている間に、前記第１液貯留部の液量を一定範囲に保つように前記第１液補充手段による前記第１液貯留部への第１液の補充を制御する循環制御手段と、
を備えたことを特徴とする液供給装置。
【請求項９】
請求項８に記載の液供給装置において、
前記第１液補充手段の動作頻度を監視し、前記第１液補充手段の動作頻度に基づいて当該液供給装置の動作状態を判断する監視手段を備えたことを特徴とする液供給装置。
【請求項１０】
溶媒に溶質を含有する第１液を媒体に付与する液付与装置へ液を供給する供給流路と、
前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、
前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、
前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記液付与装置による前記媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに前記供給流路へ前記第２液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
前記第１液が貯留される第１液貯留部と、
前記第１液貯留部に貯留される液量を検出する液量検出手段と、
前記第１液貯留部へ前記第１液を補充する第１液補充手段と、
前記第１液貯留部から前記液付与装置へ液が供給される流路とは別経路で前記液付与装置から前記第１液貯留部へ液を循環させる循環流路と、
前記液付与装置と前記第１液貯留部との間で液を循環させている間に、前記第１液貯留部の液量を一定範囲に保つように前記第１液補充手段による前記第１液貯留部への第１液の補充を制御する循環制御手段と、
を備えた液供給装置であって、
前記第１液補充手段の動作頻度を監視し、前記第１液補充手段の動作頻度に基づいて当該液供給装置の動作状態を判断する監視手段を備えたことを特徴とする液供給装置。
【請求項１１】
溶媒に溶質を含有する第１液を媒体に付与する液付与部と、
前記液付与部へ液を供給する供給流路と、
前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、
前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、
前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記液付与部による媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに、前記供給流路へ前記第２液を断続的に供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
を備えたことを特徴とする液付与装置。
【請求項１２】
溶媒に溶質を含有する第１液を媒体に付与する液付与部と、
前記液付与部へ液を供給する供給流路と、
前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、
前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、
前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記液付与部による媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに、前記供給流路へ前記第２液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
前記供給流路を通過する液を加圧する第１加圧手段と、
前記液付与部による媒体への液付与処理停止中に前記第２液を前記液付与部へ供給する場合に前記第１加圧手段を連続的又は断続的に動作させ、前記液付与部による媒体への液付与処理中に前記第２液を供給する場合に前記第１加圧手段を断続的に動作させるように前記第１加圧手段の動作を制御する第１加圧制御手段と、
を備えたことを特徴とする液付与装置。
【請求項１３】
溶媒に溶質を含有する第１液を媒体に付与する液付与部と、
前記液付与部へ液を供給する供給流路と、
前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、
前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、
前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記液付与部による媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに、前記供給流路へ前記第２液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
を備え、
前記測定手段よりも前記液付与部側における前記供給流路の少なくとも一部の断面積は、前記切換手段から前記測定手段までの断面積を超える構造を有することを特徴とする液付与装置。
【請求項１４】
溶媒に溶質を含有する第１液を媒体に付与する液付与部と、
前記液付与部へ液を供給する液供給装置と、
を備えた液付与装置であって、
前記液供給装置は、前記液付与部へ液を供給する供給流路と、
前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、
前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、
前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記液付与部による媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに、前記供給流路へ前記第２液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
前記第１液が貯留される第１液貯留部と、
前記第１液貯留部に貯留される液量を検出する液量検出手段と、
前記第１液貯留部へ前記第１液を補充する第１液補充手段と、
前記第１液貯留部から前記液付与部へ液が供給される流路とは別経路で前記液付与部から前記第１液貯留部へ液を循環させる循環流路と、
前記液付与部と前記第１液貯留部との間で液を循環させている間に、前記第１液貯留部の液量を一定範囲に保つように前記第１液補充手段による前記第１液貯留部への第１液の補充を制御する循環制御手段と、
前記第１液補充手段の動作頻度を監視し、前記第１液補充手段の動作頻度に基づいて当該液供給装置の動作状態を判断する監視手段と、
を備えたことを特徴とする液付与装置。
【請求項１５】
請求項１１から１４のいずれか１項に記載の液付与装置において、
前記液付与部による媒体への液付与処理の際に、前記測定手段の測定結果に応じて、前記液付与部により媒体に付与される液の温度を調節する温度調節手段を備えたことを特徴とする液付与装置。
【請求項１６】
請求項１１から１５のいずれか１項に記載の液付与装置において、
前記液付与部は、回転させながら前記媒体へ接触させて前記第１液を前記媒体へ付与す
る付与ローラを含み、
前記液付与部による媒体への液付与処理の際に、前記測定手段の測定結果に応じて、前
記付与ローラの回転速度及び前記付与ローラの前記媒体への付勢力の少なくともいずれかを可変させる付与ローラ制御手段を備えたことを特徴とする液付与装置。
【請求項１７】
記録媒体に処理液を付与する処理液付与手段と、
前記処理液付与手段によって処理液が付与された記録媒体に画像を形成する画像形成手段と、
前記処理液付与手段へ液を供給する供給流路と、
前記供給流路へ前記処理液を供給する処理液供給流路と、
前記処理液よりも溶質成分の含有比率が低い希釈液を前記供給流路へ供給する希釈液供給流路と、
前記供給流路へ前記処理液を供給するか前記希釈液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記処理液付与手段による記録媒体への処理液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記処理液の物性値が所定範囲を超えたときに、前記供給流路へ前記希釈液を断続的に供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
を具備することを特徴とする画像形成装置。
【請求項１８】
記録媒体に処理液を付与する処理液付与手段と、
前記処理液付与手段によって処理液が付与された記録媒体に画像を形成する画像形成手段と、
前記処理液付与手段へ液を供給する供給流路と、
前記供給流路へ前記処理液を供給する処理液供給流路と、
前記処理液よりも溶質成分の含有比率が低い希釈液を前記供給流路へ供給する希釈液供給流路と、
前記供給流路へ前記処理液を供給するか前記希釈液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記処理液付与手段による記録媒体への処理液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記処理液の物性値が所定範囲を超えたときに、前記供給流路へ前記希釈液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
前記供給流路を通過する液を加圧する第１加圧手段と、
前記処理液付与手段による媒体への液付与処理停止中に前記希釈液を前記処理液付与手段へ供給する場合に前記第１加圧手段を連続的又は断続的に動作させ、前記処理液付与手段による媒体への液付与処理中に前記希釈液を供給する場合に前記第１加圧手段を断続的に動作させるように前記第１加圧手段の動作を制御する第１加圧制御手段と、
を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項１９】
記録媒体に処理液を付与する処理液付与手段と、
前記処理液付与手段によって処理液が付与された記録媒体に画像を形成する画像形成手段と、
前記処理液付与手段へ液を供給する供給流路と、
前記供給流路へ前記処理液を供給する処理液供給流路と、
前記処理液よりも溶質成分の含有比率が低い希釈液を前記供給流路へ供給する希釈液供給流路と、
前記供給流路へ前記処理液を供給するか前記希釈液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記処理液付与手段による記録媒体への処理液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記処理液の物性値が所定範囲を超えたときに、前記供給流路へ前記希釈液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
を備え、
前記測定手段よりも前記処理液付与手段側における前記供給流路の少なくとも一部の断面積は、前記切換手段から前記測定手段までの断面積を超える構造を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２０】
記録媒体に処理液を付与する処理液付与手段と、
前記処理液付与手段によって処理液が付与された記録媒体に画像を形成する画像形成手段と、
前記処理液付与手段へ液を供給する液供給装置と、
を備えた画像形成装置であって、
前記液供給装置は、前記処理液付与手段へ液を供給する供給流路と、
前記供給流路へ前記処理液を供給する処理液供給流路と、
前記処理液よりも溶質成分の含有比率が低い希釈液を前記供給流路へ供給する希釈液供給流路と、
前記供給流路へ前記処理液を供給するか前記希釈液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記処理液付与手段による記録媒体への処理液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記処理液の物性値が所定範囲を超えたときに、前記供給流路へ前記希釈液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
前記処理液が貯留される第１液貯留部と、
前記第１液貯留部に貯留される液量を検出する液量検出手段と、
前記第１液貯留部へ前記処理液を補充する第１液補充手段と、
前記第１液貯留部から前記処理液付与手段へ液が供給される流路とは別経路で前記処理液付与手段から前記第１液貯留部へ液を循環させる循環流路と、
前記処理液付与手段と前記第１液貯留部との間で液を循環させている間に、前記第１液貯留部の液量を一定範囲に保つように前記第１液補充手段による前記第１液貯留部への前記処理液の補充を制御する循環制御手段と、
前記第１液補充手段の動作頻度を監視し、前記第１液補充手段の動作頻度に基づいて当該液供給装置の動作状態を判断する監視手段と、
を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液供給装置及び液付与装置並びに画像形成装置に係り、特に媒体等に液を付与する液付与装置における液の循環系の構造及びメンテナンス技術、並びにこれを用いた画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
汎用の画像形成装置として普及しているインクジェット記録装置において、インクジェット方式を用いた各種媒体への良好な画像形成を目的として、凝集処理剤を用いた直接描画方式が検討されている。かかる直接描画方式は、凝集処理剤や他の処理液体を記録媒体上に付与し、これらの液体を乾燥させた後に、定着用ポリマー粒子を添加したインクを打滴して記録媒体上に画像を形成し、インクに凝集反応が発生した後に加熱して記録媒体上の水分を除去し、さらに、ポリマー粒子を成膜して画像を記録媒体に固定する方式が好適である。また、上述した直接描画方式において凝集処理液を付与する方法として、オフセット印刷機などで実績のあるローラ塗布が好適である。
【０００３】
一方、稼動中に凝集処理液中の水分（溶質成分）が蒸発して濃度が高まることや、稼動後に凝集処理液の諸成分が塗布ローラに残留することなどによって、塗布ムラなどの不具合が発生してしまうことがあり得る。
【０００４】
これらの課題に対しては、凝集処理液のタンク内の濃度をモニタして加水制御を行うことや、自動洗浄機能を具備した循環供給系を構成することなどの改善策が取られている。
【０００５】
塗布液の濃度変化に対して、特許文献１は、塗布ローラの浸漬深さや回転速度を可変することで、付与される液の付与量を調整するように構成された液体付与装置を開示している。また、特許文献２は、バッファ容器や浸漬槽のレジスト溶液の濃度又は粘度を測定し、測定された濃度、粘度に応じて溶媒をレジスト溶液に添加して、レジスト溶液の塗布厚を一定に保つように構成されたレジスト塗布装置、塗布方法を開示している。
【０００６】
洗浄機能に関して、特許文献３は、印字ヘッドの下流のトレイや回収タンクの洗浄廃液中の吐出液成分の濃度をモニタし、濃度測定値が所定の基準以下になるまで洗浄を繰り返して、洗浄を確実に行うように構成された印刷装置を開示している。また、特許文献４は、流路制御弁４２〜４６を切換制御して、インラインコーティング装置（ドクターブレード装置）１２にコート液と洗浄液を切換供給することで、インラインコーティング装置１２のコート部を自動洗浄するように構成された印刷機用自動コーティング／洗浄システムを開示している。
【０００７】
さらに、特許文献５は、ポンプの運転とバルブの切り換えにより、ニス舟へのニスの供給とニス舟の洗浄とを選択的に切り替えることで、ニスコートの作業性改善と労力の軽減を計るように構成された印刷物ニス塗り装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−２５０６８号公報
【特許文献２】特開２００７‐５７６９４号公報
【特許文献３】特開２００８−８６８４６号公報
【特許文献４】特開平６−２４６９０２号公報
【特許文献５】特開昭５９−１４２１５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、液付与処理におけるさらなる信頼性の確保及び安定性の確保を図る上で、付与される液の濃度調整に供給される希釈液や、洗浄時に供給される洗浄液の誤充填を検知すること、ポンプや制御弁などの動作を確認すること、塗布液の濃度をモニタする手段を清浄に保つこと、洗浄状態を簡便にチェックすることなどが課題として挙げられる。
【００１０】
特許文献１に記載された液体付与装置は、浸漬深さや回転速度を可変させることで一定レベルの液付与量の調整を可能としているが、浸漬深さや回転速度だけで溶媒蒸発に対応するためには調整範囲を広く設定する必要があり、共振や塗布ムラなどの不具合を生じやすい。また、塗布ローラを付与液に浸漬したまま停止すると、塗布ローラの非浸漬部に付与液が固着して塗布ムラが発生しやすい。
【００１１】
また、特許文献２に記載のレジスト塗布装置は、循環を停止すると浸漬槽にレジスト溶液が残留して固着などの不具合を生じやすい構成である。また、循環ポンプが故障や制御エラーで停止しても検出できず、塗布不良が長時間持続する可能性もある。さらに、溶媒を補充するための専用のポンプが必要だが、このポンプは稼動時間が短いため利用効率が上がらない。
【００１２】
特許文献３に記載された印刷装置は、洗浄後の廃液のための専用のモニタ手段を設けることで廃液の吐出液成分の濃度を測定することが可能ではあるが、廃液用のモニタ手段の利用効率が上がらない構成である。また、吐出動作時又は洗浄時における供給液の誤装填という問題が存在しているが、特許文献３には吐出液と洗浄液の誤装填の検知については何ら開示されていない。
【００１３】
特許文献４に記載された印刷機用自動コーティング／洗浄システム、及び特許文献５に記載された印刷物ニス塗り装置は、水や溶剤などの蒸発性を有する溶媒を用いたコーティングを使用するには、溶媒が蒸発して濃度変化を生じやすい。また、特許文献２に記載のように循環系に濃度計を設けることで、コーティング液の濃度を管理できるが、ポンプや制御弁の動作状態を確認することや、ドクターブレード装置１２の洗浄状態を確認することが困難である。さらに、洗浄不足によるコーティング液の残留や、洗浄過多による洗浄液や洗浄時間の無駄が生じやすい構成である。
【００１４】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、付与液の物性の変化や装置内の洗浄不足による不具合を回避するとともに、装置各部の動作異常や液の誤装填が防止され、液の安定した付与が実現される液供給装置及び液付与装置、並びにこれを用いた画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達成するために、本発明に係る液供給装置は、溶媒に溶質を含有する第１液を媒体に付与する液付与装置へ液を供給する供給流路と、前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、前記液付与装置による前記媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに前記供給流路へ前記第２液を断続的に供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、液付与装置に供給される第１液の物性監視が可能となり、第１液の物性が所定範囲を超えたときに第２液を供給することで、第１液の物性が安定する。また、第２液を供給することで測定手段が浄化され、かつ、第２液を供給する際の物性値の変化から切換手段の動作確認が可能である。第１液と第２液の物性監視を行うことで、第１液と第２液のタンクに補充される液の誤充填が検出可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の実施形態に係る塗布装置（液供給装置）の全体構成を示すブロック図
【図２】図１に示す塗布装置のシステム構成を示す要部ブロック図
【図３】図１に示す塗布装置の塗布液循環供給シーケンスを説明する図
【図４】図１に示す塗布装置の加水シーケンスを説明する図
【図５】液体の種類と濃度値との関係を示す説明図
【図６】図１に示す塗布装置の加水制御における濃度変化を説明する図
【図７】図１に示す塗布装置の加水制御における制御タイミングと濃度値の関係を説明する図
【図８】図１に示す塗布装置における塗布ローラの回転速度と塗布量の関係を説明する図
【図９】図１に示す塗布装置の洗浄シーケンスを説明する図
【図１０】図１に示す塗布装置の洗浄モニタ機能を説明する図
【図１１】洗浄シーケンスにおける液の温度と粘度の関係を説明する図
【図１２】図１に示す塗布装置の予備洗浄機能を説明する図
【図１３】図１に示す塗布装置の廃液回収機能を説明する図
【図１４】図１に示す塗布装置における液抜き動作を説明する図
【図１５】ろ過フィルタのメンテナンスを説明する図
【図１６】ドレインフィルタ、オーバーフローフィルタのメンテナンスを説明する図
【図１７】図１に示す塗布装置における塗布液バッファタンクのメンテナンスを説明する図
【図１８】図１に示す塗布装置が適用されたインクジェット記録装置の全体構成図
【図１９】図１８に示すインクジェットヘッドの構成例を示す平面透視図
【図２０】図１９に示すインクジェットヘッドの一部拡大図
【図２１】図１９に示すインクジェットヘッドの他の構成例を示す平面透視図
【図２２】図１９に示すインクジェットヘッドのさらに他の構成例を示す平面透視図
【図２３】図１９中のＡ−Ａ線に沿う断面図
【図２４】図１８に示すインクジェット記録装置のシステム構成を示す要部ブロック図
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、添付図面に従って本発明の好ましい実施の形態について詳説する。
【００１９】
〔塗布装置の全体構成〕
図１は、本発明の実施形態に係る塗布装置の概略構成を示す全体構成図である。
【００２０】
同図に示す塗布装置１０は、溶媒（水）と溶質を含む水溶性の塗布液を媒体の表面に塗布する塗布部１２と、塗布部１２に塗布液及び希釈液を供給する供給部１４と、を含んで構成されている。なお、塗布部１２及び供給部１４のそれぞれは、単独で液塗布装置、液供給装置として機能させることができる。また、塗布液の一例として、インクジェット記録装置に使用されるインクを凝集させる酸性液が挙げられる。以下の〔表２〕に、インクを凝集させる機能を有する酸性液（凝集処理液）の組成例を示す。
【００２１】
【表２】
0005525784.tif 000002
上記表２の組成にて凝集処理液を調整し、得られた液の物性値を測定した結果、粘度４．９(mPa・s)、表面張力２４．３(ｍN/m)、ｐＨ値１．５であった。このようにインクの凝集性やローラによる塗布性に優れ、かつ、記録媒体の濡れに優れたものであるといえる。
【００２２】
塗布部１２は、周面に媒体を保持する圧胴２０と、圧胴２０に保持された媒体に接触して塗布液を塗布する塗布ローラ２２と、塗布皿２４に充填されている塗布液を汲み上げて塗布ローラ２２に供給する供給ローラ２６と、塗布ローラ２２をクリーニングする清掃部２８と、を含んで構成される。
【００２３】
供給部１４は、補充用の塗布液が貯留される塗布液補充タンク３０と、塗布液補充タンク３０から塗布液バッファタンク３２へ塗布液を送液するための塗布液補充ポンプ３４と、塗布液バッファタンク３２から塗布部１２へ送られる塗布液の流路となる供給流路３６と、供給流路３６を開閉するための塗布液供給バルブ３８と、塗布液バッファタンク３２から塗布部１２へ送られる塗布液に圧力を付与する供給ポンプ４０と、を含んで構成される。
【００２４】
また、塗布液の濃度を調整するために塗布部１２へ供給される希釈液が貯留される希釈液タンク４２が、希釈液供給流路４４を介して供給流路３６と連通している。希釈液供給流路４４は、希釈液供給流路４４を開閉するための希釈液供給バルブ４６が設けられ、塗布液供給バルブ３８よりも塗布部１２側で供給流路３６と接続されている。
【００２５】
供給流路３６の希釈液供給流路４４との接続部よりも塗布部１２側には、供給流路３６を通過する液の濃度を測定するための濃度センサ４８が設けられている。濃度センサ４８から得られた濃度情報（センサ信号）は、変換部５０を介して制御系（図１中不図示、図２に詳細を図示）へ送られる。すなわち、塗布液供給バルブ３８を通過して塗布部１２へ送られる塗布液、及び希釈液供給バルブ４６を通過して塗布部１２へ送られる希釈液は、供給流路３６に設けられた濃度センサ４８によって濃度値が監視されるように構成されている。
【００２６】
供給流路３６の供給ポンプ４０よりも塗布部１２側には、供給流路３６を通過する液の温度を調整するためのヒータ５２と、メンテナンス時や凍結防止の目的で供給流路３６の液を抜くための手動バルブ５４と、塗布部１２の直近において、塗布部１２に送られる液の温度を検出するためのサーミスタ５６が設けられている。ヒータ５２に付随してヒータ自身の温度を検出するためのサーミスタ（不図示）と、ヒータ５２の過熱防止用のサーモスタット５８とが具備される。
【００２７】
塗布部１２に設けられる塗布皿２４の排出口（不図示）は、ドレインバルブ６０、オーバーフローバルブ６２を介して排出流路６４と連通されている。排出流路６４は、廃液タンク７２と連通されるとともに、ろ過フィルタ６６、排出ポンプ６８、排出バルブ７０が設けられている。また、排出流路６４は循環流路７４と連通され、循環流路７４に設けられた循環バルブ７６を介して塗布液バッファタンク３２と連通されている。
【００２８】
〔塗布部の構成〕
次に、図１に図示される塗布部１２の構成について詳細に説明する。
【００２９】
圧胴２０は、周面に媒体を保持するための多数の吸着穴が設けられている媒体保持領域を具備し、吸着穴から媒体に対して真空ポンプ（不図示）から負圧が付与され媒体が保持されるように構成されている。圧胴２０は円筒のドラム形状を有し、不図示の回転機構により符号Ａを付して図示した反時計回りに回転させることで、周面に保持された媒体を圧胴２０の回転方向に沿って移動させる。
【００３０】
塗布ローラ２２は、その表面が所定量の塗布液を保持することができる材質（例えば、ゴム）で構成され、不図示の回転機構によって圧胴２０と反対方向（符号Ｂを付して図示した時計回り方向）に回転駆動可能に構成されている。塗布ローラ２２を所定の回転速度で回転させながら、圧胴２０に保持された媒体に所定の押圧で押し当てて、媒体の表面に塗布液が塗布される。
【００３１】
また、圧胴２０は媒体の先端を保持するグリッパ（グリッパ部）２１が設けられている。該グリッパ２１は、圧胴２０の周面（媒体保持面）から突出した構造を有しているので、塗布ローラ２２はグリッパ２１と衝突しないように、グリッパ２１が通過する際に圧胴２０の周面から離間可能に構成されている。図１では、符号Ｄを付して塗布ローラ２２の移動方向を図示する。
【００３２】
塗布皿２４は、供給部１４から供給された塗布液が貯留される部材であり、塗布液が保持される液保持部２４Ａと、液保持部２４Ａからオーバーフローした塗布液が集められるオーバーフロー部２４Ｂと、液保持部２４Ａとオーバーフロー部２４Ｂとを区画している仕切板２４Ｃと、を含んで構成される。液保持部２４Ａの塗布液の液面高さが仕切板２４Ｃに設けられた開口部２４Ｄの位置に達すると、開口部２４Ｄからオーバーフロー部２４Ｂへ塗布液が流れ込み、液保持部２４Ａ内の塗布液の液面高さが一定に保たれる。
【００３３】
液保持部２４Ａの底面には塗布液を排出するための排出口（不図示）が設けられ、オーバーフロー部２４Ｂの底面にも塗布液を排出するための排出口（不図示）が設けられている。液保持部２４Ａ及びオーバーフロー部２４Ｂの排出口は、それぞれドレインバルブ６０、オーバーフローバルブ６２と接続され、排出流路６４と連通される。また、液保持部２４Ａの底面には、液保持部２４Ａ内の塗布液の温度を調整するためのヒータ２４Ｅが設けられている。なお、ヒータ２４Ｅが省略された態様も可能である。
【００３４】
供給ローラ２６は、クロムやセラミックでメッキ（又はコート）された表面、もしくはステンレス材の表面に、図示しない細かい溝（セル）が形成されたアニロックスローラが適用される。供給ローラ２６は、その表面の一部が塗布皿２４の中の塗布液に浸漬され、符号Ｃを付して図示した塗布ローラ２２と反対の反時計回り方向に回転させることで、溝の中に保持された塗布液を汲み上げる。供給ローラ２６の表面が塗布ローラ２２に接触すると、供給ローラ２６の溝に保持された塗布液は塗布ローラ２２の表面に転写される。なお、供給ローラ２６に液量を調整するためにブレードを付勢させてもよい。
【００３５】
清掃部２８は、圧胴２０の周面に付着した付着物（主として塗布液）を除去するための手段として機能する。図１には、圧胴２０の周面を払拭するブレード２８Ａと、ブレード２８Ａにより除去された付着物を回収する回収トレイ２８Ｂと、を含む態様が図示されている。塗布ローラ２２と同様に、ブレード２８Ａはグリッパ２１と衝突を回避するためにグリッパ２１が通過する際に圧胴２０の周面から離間可能に構成されている。
【００３６】
〔供給部の構成〕
次に、供給部１４の構成について詳細に説明する。
【００３７】
塗布液補充タンク３０は、内部の塗布液が消費された分だけ大気と置換される一方向弁などが組み込まれた密閉型の構造を有し、その内部には塗布液をろ過するためのろ過フィルタ３０Ａが具備されている。また、塗布液補充タンク３０はフロートセンサ（図１中不図示、図２に符号１２６を付して図示）を具備し、塗布液を補充する際の液面の上限を検出することができ、かつ、塗布液を消費したときの液面の下限を検出することができる。液面の上限又は下限が検出されるとその旨を報知する報知手段（ブザー、ランプ、報知信号を制御系へ送出する手段等）が具備されている。
【００３８】
塗布液バッファタンク３２は、内部の塗布液をろ過するためのろ過フィルタ３２Ａと、塗布液の液面の上限及び下限を検出するためのフロートセンサ３３と、を備えている。フロートセンサ３３によって塗布液の液面が下限を下回ったことが検出されると、塗布液補充ポンプ３４を動作させて塗布液補充タンク３０から塗布液バッファタンク３２へ一定量の塗布液が補充され、塗布液バッファタンク３２内の液量が一定範囲に保たれる。また、フロートセンサ３３によって塗布液の液面が上限に達したことが検出されると、塗布液バッファタンク３２の液量異常として報知信号が制御系へ送出される。
【００３９】
希釈液タンク４２は、塗布液補充タンク３０と同様の密閉型の構造（内部の塗布液が消費された分だけ大気と置換される一方向弁などが組み込まれた構造）を有し、内部の希釈液をろ過するためのろ過フィルタ４２Ａが具備されるとともに、外部に回収トレイ４２Ｂが具備されている。回収トレイ４２Ｂは、希釈液タンク４２に液を補充する際の液受けであり、回収トレイ４２Ｂ溜まった液は不図示の廃液流路を介して廃液タンク７２に送られるように構成されている。
【００４０】
希釈液は、溶媒の蒸発等によって使用範囲濃度を超えて高濃度となった塗布液を希釈する液体であり、蒸留水やイオン交換水などの水にジクロルイソシアヌル酸塩などの塩素系殺菌剤を添加したものが好適に用いられる。なお、希釈液は、使用範囲濃度よりも希釈された低濃度の塗布液を適用してもよい。
【００４１】
廃液タンク７２は、塗布部１２から排出される液体が集められるタンクである。廃液タンク７２にも不図示の上限センサが具備されており、廃液タンク７２内の液が上限センサの位置を超えるとその旨を報知する報知手段（ブザー、ランプ、報知信号を制御系へ送出する手段等）が具備されている。また、廃液タンク７２は、廃液回収流路７８及びポンプ８０を介して清掃部２８の回収トレイ２８Ｂと連通されている。
【００４２】
塗布液供給バルブ３８及び希釈液供給バルブ４６は、図２に図示する制御系から送出される制御信号に応じて開閉が制御される制御弁が適用される。塗布液供給バルブ３８及び希釈液供給バルブ４６の開閉を制御するとともに、これらの開閉に応じ供給ポンプ４０を動作させることで、供給流路３６へ塗布液が供給されるか、希釈液が供給されるかを切り換えることが可能となっている。なお、ドレインバルブ６０、オーバーフローバルブ６２、排出バルブ７０、循環バルブ７６もまた、制御弁が適用され、図２に図示する制御系から送出される制御信号に応じてその開閉が制御される。
【００４３】
供給ポンプ４０及び排出ポンプ６８は、チュープポンプなど正逆両用型ポンプが適用される。供給ポンプ４０及び排出ポンプ６８の回転方向の切り換えによって、供給流路３６、排出流路６４に流れる液の方向は切り換え可能に構成されている。チューブポンプは、小型自給式であり、送液方向の切り換えが容易であり、装置の小型化、制御系の簡素化に寄与する。なお、塗布液供給バルブ３８及び希釈液供給バルブ４６などバルブ類の開閉制御、及び供給ポンプ４０及び排出ポンプ６８のオンオフ制御、回転方向制御、回転速度制御の詳細については後述する。
【００４４】
供給流路３６内を通過する液の濃度を検出する濃度センサ４８は、被検出対象の液体の濃度情報（濃度値）に応じたセンサ信号を出力する。本例の濃度センサ４８には、光の屈折率に基づいて水溶液中に含まれる溶質成分（可溶性固形分）の濃度を測定する屈折率濃度計（ブリックス濃度計）が適用される。屈折率濃度計は、不図示の温度センサが内蔵されており、測定濃度の温度依存が自動的に補正される。
【００４５】
供給流路３６を流れる液の温度調節を行うヒータ５２は、塗布部１２の近傍に設けられるサーミスタ５６の検出温度に応じて通電時間が制御される。サーミスタ５６は、塗布部１２（塗布皿２４）内の塗布液の温度を検出する位置に設けられていてもよい。
【００４６】
〔制御系の説明〕
図２は、塗布装置１０の制御系の概略構成を示すブロック図である。塗布装置１０は、通信インターフェース１００、システム制御部１０２、圧胴制御部１０４、塗布ローラ制御部１０６、バルブ制御部１０８、ポンプ制御部１１０、温度制御部１１２（サーモスタット５８）が備えられている。また、図２では図示を省略するが、各部の動作パラメータや設定値、濃度センサ４８から得られた濃度情報等が記憶される記憶部（メモリ）を備えている。
【００４７】
通信インターフェース１００は、ホストコンピュータ１１６から送られてくる制御データを受信するインターフェース部である。通信インターフェース１００の通信方式や形態は限定されるものではなく、ＵＳＢ（Universal Serial Bus）などのシリアルインターフェースを適用してもよいし、セントロニクスなどのパラレルインターフェースを適用してもよい。
【００４８】
システム制御部１０２は、中央演算処理装置（ＣＰＵ）及びその周辺回路等から構成され、所定のプログラムに従って塗布装置１０の全体を制御する制御装置として機能するとともに、各種演算を行う演算装置として機能する。すなわち、システム制御部１０２は、通信インターフェース１００、圧胴制御部１０４等の各部を制御し、ホストコンピュータ１１６との間の通信制御、記憶部の読み書き制御等を行うとともに、上記の各部を制御する制御信号を生成する。
【００４９】
圧胴制御部１０４は、圧胴駆動部１１８を介して図１に図示した圧胴２０の回転動作や媒体の動作を制御する。例えば、ジョブ（塗布動作）間の待機モードにおいて媒体検出センサ１２０により処理対象の媒体が検出されると、媒体の吸着動作が開始されるとともに、圧胴２０の回転動作が塗布処理モードの動作に切り換えられる。
【００５０】
塗布ローラ制御部１０６は、システム制御部１０２から送られた制御信号に基づいて、図１に図示した塗布ローラ２２や供給ローラ２６を駆動するローラ駆動部１２２を制御する。例えば、圧胴２０に処理対象の媒体が供給されると、圧胴２０の動作に応じて塗布ローラ２２を圧胴２０に押圧させるとともに圧胴２０に供給ローラ２６を押圧させ、塗布ローラ２２及び供給ローラ２６を所定の回転数で所定の回転方向に回転させる。また、塗布ローラ制御部１０６は、塗布ローラ２２の離間や、塗布ローラ２２及び供給ローラ２６の回転速度を制御する。
【００５１】
バルブ制御部１０８は、システム制御部１０２から送られた制御信号に基づいて、制御バルブ（塗布液供給バルブ３８、希釈液供給バルブ４６、ドレインバルブ６０、オーバーフローバルブ６２、排出バルブ７０、循環バルブ７６）の開閉を制御する。
【００５２】
ポンプ制御部１１０は、システム制御部１０２から送られた制御信号に基づいて、ポンプ１１１（塗布液補充ポンプ３４、供給ポンプ４０、排出ポンプ６８、ポンプ８０、及び圧胴２０に保持される媒体に吸着圧力を付与するポンプなどその他のポンプ）のオンオフ、回転速度、回転方向（正逆転制御可能なもの）を制御する。なお、システム制御部１０２によって、バルブの開閉タイミングや、ポンプのオンオフのタイミングの同期が取られるように制御される。
【００５３】
温度制御部１１２は、塗布液の温度が所定の温度に保たれるように、温度センサ１２４（サーミスタ５６）の検出温度に基づいて、塗布部１２に供給される塗布液の温度を調整するヒータ５２を制御するとともに、塗布皿２４に設けられるヒータ２４Ｅを制御する。また、塗布装置１０の各部に設けられる不図示のヒータ類の制御を行う。
【００５４】
図１に図示した塗布液補充タンク３０や塗布液バッファタンク３２、希釈液タンク４２、廃液タンク７２に設けられているフロートセンサ１２６（図１では、塗布液バッファタンク３２に設けられたフロートセンサに符号３３を付して図示）によって、内部の液の液面が上限を超えたことが検出されると、その旨の検出信号がシステム制御部１０２に送られる。システム制御部１０２は、フロートセンサ１２６から送出される検出信号を受け取ると、ブザーやランプなどの報知手段（不図示）を動作させて、その旨を報知させる。
【００５５】
一方、システム制御部１０２は、塗布液バッファタンク３２に設けられるフロートセンサ１２６から塗布液の液面が下限を下回ったことを検出した旨の検出信号を受けると、塗布液補充ポンプ３４を動作させるようにポンプ制御部１１０へ制御信号を送出する。また、塗布液補充タンク３０及び希釈液タンク４２に設けられたフロートセンサ１２６によって、内部の液の液面が下限を下回ったことを検出した旨の検出信号を受け取ると、ブザーやランプなどの報知手段を動作させて、その旨を報知させる。
【００５６】
システム制御部１０２は、濃度センサ４８から供給流路３６を通過する液の濃度情報が送られると、その濃度情報を所定の記憶部（不図示）に逐次記憶してその変化を監視する。供給流路３６を通過する塗布液の濃度が設定範囲の上限を超えると、塗布部１２へ希釈液タンク４２から所定量の希釈液が供給されるように、加水制御シーケンス（詳細後述）が実行される。
【００５７】
一方、供給流路３６を通過する塗布液の濃度が設定範囲の下限を超えると、塗布部１２の塗布液を循環させる循環シーケンスが実行されるとともに、ヒータ５２（ヒータ２４Ｅ）を動作させて塗布液を加温して濃縮するように温度制御部１１２へ制御信号を送出する。
【００５８】
ここで、塗布部１２の塗布処理の一連の流れを説明する。待機モード中は塗布ローラ２２（図１参照）を圧胴２０から離間させ、塗布ローラ２２及び供給ローラ２６を塗布動作中よりも遅い回転速度で回転させるとともに、塗布液バッファタンク３２と塗布皿２４の間で塗布液を循環させる。塗布皿２４内の塗布液を攪拌し、かつ、塗布液を循環させることで、塗布液の温度、濃度、粘度などの物性が均質に保たれ、塗布液の溶質の固着が防止され、紙粉などの異物はフィルタ６６によってろ過される。
【００５９】
不図示の搬送系によって処理対象の媒体が搬送され、媒体検出センサ１２０によって媒体が検出されると塗布処理モードに移行し、媒体の搬送に同期して塗布ローラ２２及び供給ローラ２６を所定の回転速度で回転させるとともに、グリッパ２１の通過に同期しながら塗布ローラ２２をニップさせる。塗布動作が終了して処理モードから待機モードに移行すると、塗布ローラ２２を圧胴２０から離間させ、塗布ローラ２２及び供給ローラ２６を減速させる。一方、塗布処理が終了すると、塗布部１２の塗布液は塗布液バッファタンク３２へ回収され、洗浄シーケンスが実行される。なお、塗布処理モード中は、処理液を循環させている（詳細後述）。
【００６０】
次に、本例に示す塗布装置１０の液供給制御、液循環制御、洗浄制御について詳説する。
【００６１】
〔循環供給シーケンスの説明〕
図３は、塗布液バッファタンク３２から塗布部１２へ塗布液を供給する場合の循環供給シーケンスを模式的に表した図である。以降、先に説明した部分と同一又は類似する部分には同一の符号を付し、その説明は省略する。また、図３以降の図において太線で図示された流路は、矢印の方向へ液が流れることを表している。
【００６２】
循環供給シーケンスでは、塗布液供給バルブ３８、オーバーフローバルブ６２、及び循環バルブ７６が開かれ、供給ポンプ４０及び排出ポンプ６８を正転動作させる。塗布液バッファタンク３２の塗布液は、塗布液供給バルブ３８、濃度センサ４８、供給ポンプ４０、サーミスタ５６を経由して塗布部１２の塗布皿２４へ供給される。
【００６３】
塗布皿２４へ塗布液が連続的に供給され、塗布皿２４の液保持部２４Ａに一定量以上の塗布液が供給されると、余剰の塗布液はオーバーフロー部２４Ｂへ流れ出し、オーバーフロー部２４Ｂの排出口（不図示）、オーバーフローバルブ６２、排出ポンプ６８、循環流路７４、循環バルブ７６を経由して塗布液バッファタンク３２へ戻される。塗布部１２の動作中において、かかる塗布液の循環供給を行うことにより、供給ローラ２６によって汲み上げられた分の塗布液が遅滞なく補充され、塗布皿２４の液保持部２４Ａの液面は一定の水位に保たれる。
【００６４】
循環シーケンスが終了されるときは、ドレインバルブ６０が開かれ、オーバーフローバルブ６２及び循環バルブ７６が開かれたまま、供給ポンプ４０を停止させ、塗布液供給バルブ３８が閉じられる。排出ポンプ６８を一定期間正転動作させて塗布液が塗布液バッファタンク３２へ回収されると、ドレインバルブ６０、オーバーフローバルブ６２、循環バルブ７６が閉じられる。
【００６５】
塗布液の循環供給シーケンスの実行中は、濃度センサ４８から得られる濃度情報に基づき、供給流路３６を通過する塗布液の濃度が監視される。上述したように、濃度センサ４８から得られた濃度情報は、図３に図示したシステムコントローラの制御により所定のサンプリングタイミングでサンプリングされ、記憶される。
【００６６】
〔加水シーケンスの説明〕
濃度センサ４８から得られた濃度情報に基づいて、供給流路３６を通過して塗布部１２に供給される塗布液の濃度が設定濃度範囲の上限を超えたと判断されると、塗布液の濃度が使用濃度範囲内になるように希釈する加水シーケンスが実行される。
【００６７】
図４は、希釈液タンク４２から供給流路３６へ希釈液が供給される加水シーケンスの説明図である。同図に示す加水シーケンスでは、塗布液供給バルブ３８が閉じられて塗布液の供給を停止させるとともに、希釈液供給バルブ４６を開いて希釈液供給流路４４、希釈液供給バルブ４６を経由して希釈液が供給流路３６へ供給される。供給流路３６へ供給された希釈液は、濃度センサ４８、供給ポンプ４０、ヒータ５２、サーミスタ５６を経由して塗布部１２へ供給される。
【００６８】
希釈液の供給量は、濃度センサ４８により得られた濃度情報と、希釈後の塗布液の目標濃度とに基づいて決められ、希釈液供給バルブ４６の開放時間及び供給ポンプ４０の動作時間及び回転速度により管理される。すなわち、濃度センサ４８により得られた濃度情報と、希釈後の塗布液の目標濃度との関係から希釈液の供給量が決められると、希釈液の供給量に対応して希釈液供給バルブ４６の開放時間、供給ポンプ４０の回転速度、動作時間が決められる。
【００６９】
所定量の希釈液が塗布部１２へ供給されると、塗布液供給バルブ３８を開くとともに、希釈液供給バルブ４６が閉じられ、塗布液バッファタンク３２から塗布部１２へ塗布液の循環供給が再開される（図３参照）。
【００７０】
本例では、供給流路３６へ塗布液を供給するか、希釈液を供給するかを切り換える塗布液供給バルブ３８及び希釈液供給バルブ４６の塗布部１２側（液の流れ方向における下流側）に濃度センサ４８を配置することで、循環供給シーケンス実行時の塗布液、加水シーケンス実行時の希釈液のいずれも濃度センサ４８を通過するので、塗布液、希釈液の両方の濃度を測定し、監視することが可能である。
【００７１】
また、希釈液タンク４２から塗布液バッファタンク３２へポンプを介して直接希釈液を供給する態様と比較して、当該ポンプや塗布液バッファタンク３２へ供給される希釈液の濃度を測定するための手段が不要となる。
【００７２】
さらに、希釈液を塗布部１２へ供給する際に、希釈液が通過する供給流路３６（チューブ）の内部が洗浄されるとともに、濃度センサ４８やサーミスタ５６などの測定部材、ヒータなどの液と接触する部材（接液部材）の内部が洗浄される。
【００７３】
ここで、液体の種類と濃度センサ４８から得られる濃度値について説明する。図５は、液体の種類と濃度センサ４８（ブリックス濃度計）により得られる濃度値（Brix濃度(%)）の関係を示す表である。同図に示すように、塗布液（凝集処理剤）の濃度値は２１〜２８パーセントであり、希釈液（水の場合）の濃度値は０〜５パーセントである。したがって、この濃度値（濃度情報）から濃度センサ４８を通った液の種類を判断することが可能である。また、塗布液供給バルブ３８と希釈液供給バルブ４６の切換が正常に行われているか、さらに、塗布液供給バルブ３８及び希釈液供給バルブ４６が正常に動作しているかを判断することができる。さらにまた、塗布液補充タンク３０や希釈液タンク４２に他の液が誤装填されていないかを判断することができる。
【００７４】
なお、参考までに、本例に示す塗布装置１０をインクジェット記録装置に適用した場合において（詳細後述）、使用される液体のブリック濃度を図５に示す。Ｃ（シアン）インク、Ｍ（マゼンダ）インク、Ｋ（黒）インクのブリックス濃度は３５パーセント以上、Ｙ（イエロー）インクのブリックス濃度は３０〜３３パーセント、洗浄液（インクジェットヘッドのノズル面等を洗浄するもの）のブリックス濃度は１８〜２０パーセントである。また、液が存在しない場合のブリックス濃度は−２〜−１パーセントとする。
【００７５】
図５に示す、希釈液、洗浄液、塗布液はいずれも無色透明のものが多く、見た目では判断することが極めて困難であるが、濃度センサ４８から得られる濃度情報に基づいて、いずれの液体であるかを容易に判断することができる。
【００７６】
本例に示す加水シーケンスは、ジョブ間などの待機モード中及びジョブ内の処理モード中のいずれの場合にも実行可能である。以下に、加水シーケンスが待機モード中に実行される場合と、処理モード中に実行される場合とに分けて詳説する。
【００７７】
（待機モード中に加水シーケンスが実行される場合）
上述したように、待機モード中は塗布液を循環させ、濃度センサ４８により得られた塗布液の濃度値が監視され、塗布液の濃度値が設定範囲の上限を超えて濃縮が進んだ場合には塗布部１２へ希釈液が供給される。待機モード中は、塗布皿２４内の塗布液の濃度が変化しても問題はなく、希釈された塗布液を循環させることで、次のジョブ開始までに塗布液の濃度、温度等を均質にすることができる。
【００７８】
また、供給流路３６に希釈液を通過させることで、待機中にも供給流路３６や供給流路３６に設けられている測定部材や接液部材を洗浄することができ、塗布液が固定されることによる測定精度の低下やヒータの寿命低下が防止される。
【００７９】
図６は、１ジョブ（３０分）を実行後に塗布液を循環させながら加水制御をしたときの経過時間と濃度値（Brix濃度(%)）との関係を示すグラフである。なお、塗布液の温度は３５℃に温調されている。同図に示すように、希釈液が供給された直後は、濃度値がゼロ近傍まで大きく下降するものの、循環流路７４や塗布液バッファタンク３２で攪拌され、すぐに濃度は安定する。一方、図６に破線で図示するように、該加水シーケンスを実行しない場合には、ほぼ経過時間に比例して濃度が上昇する。
【００８０】
塗布液のブリックス濃度は２５パーセントから２５．７パーセントの範囲内（２５パーセントを基準として３パーセント以内）であり、塗布開始前の塗布液の濃度変化を±３パーセントの範囲で制御することが可能である。
【００８１】
（処理モード中に加水シーケンスが実行される場合）
処理モード中における加水シーケンスの実行では、濃度センサ４８よりも塗布部１２側の配管を濃度センサ４８の塗布部１２と反対側の配管よりも太くするとともに、希釈液の供給を断続的に行うことで、塗布部１２における塗布液の急激な濃度変化を回避することができ、塗布処理に影響を与えることなく加水シーケンスを実行することができる。
【００８２】
図７（ａ）は供給ポンプ４０の動作、（ｂ）は塗布液供給バルブ３８の動作、（ｃ）は希釈液供給バルブ４６（図１参照）の動作であり、（ｄ）は濃度センサ４８（図４参照）から得られる濃度値の変化を表している。図７（ａ）〜（ｄ）の横方向は時間を示し、供給ポンプ４０の動作タイミング、塗布液供給バルブ３８の動作タイミング、希釈液供給バルブ４６の動作タイミング、濃度値の変化の関係を示している。
【００８３】
図７（ａ）において「ＯＮ」で示す状態は供給ポンプ４０の動作中であり、「ＯＦＦ」で示す状態は供給ポンプ４０の停止中である。また、図７（ｂ），（ｃ）において「ＯＰＥＮ」で表す状態は塗布液供給バルブ３８及び希釈液供給バルブ４６を開いた状態を表し、「ＣＬＯＳＥ」で表す状態は塗布液供給バルブ３８及び希釈液供給バルブ４６が閉じられた状態である。図７（ｄ）に図示した濃度センサ４８の濃度値において、「塗布液」と記載した状態は塗布液の濃度値を表し、「水」と記載した状態は希釈液の濃度値を表している。
【００８４】
希釈液供給バルブ４６が閉じられた状態で塗布液供給バルブ３８が開かれ、供給ポンプ４０を動作させると、符号１４０を付して図示するように、濃度センサ４８が示す濃度値は洗浄状態である水の濃度値から塗布液の濃度値へ上昇する。符号１４２を付して図示するように、塗布液の濃度が経時濃縮によって緩やかに上昇して所定の値を超えると、希釈液供給バルブ４６が開かれ希釈液が供給流路３６へ供給され、その後、塗布液供給バルブ３８が閉じられて塗布液の供給を停止させる。
【００８５】
希釈液が供給流路３６に供給されることで、符号１４４を付して図示したように、濃度センサ４８が示す濃度値が急激に低下する。その後、塗布液供給バルブ３８が開かれ塗布液が供給流路３６へ送られると、符号１４６を付して図示したように、供給流路３６内の液の濃度は急激に上昇する。希釈液供給バルブ４６が閉じられると、循環によって供給流路３６内の液の濃度は低下し、経時によって所定の濃度まで上昇する。
【００８６】
なお、塗布液供給バルブ３８及び希釈液供給バルブ４６が同時に開かれる期間を設けることで、供給流路３６に適用されるチューブが負圧を受けてつぶれてしまうことが防止される。
【００８７】
希釈液の供給を停止させるときは、先に塗布液供給バルブ３８が開かれて塗布液の供給が開始された後に、希釈液供給バルブ４６が閉じられる。塗布液が供給されると、符号１４６を付して図示したように、濃度センサ４８が示す濃度値は水の濃度値から塗布液の濃度値へ急激に変化する。希釈液供給バルブ４６が閉じられるときにも、供給流路３６に適用されるチューブがつぶれることを防止するために、塗布液供給バルブ３８と希釈液供給バルブ４６の両方を同時に開く期間が設けられる。
【００８８】
希釈液供給バルブ４６が開かれる期間を２〜３秒程度とすることで、塗布液の急激な濃度変化が回避され、塗布液供給バルブ３８及び希釈液供給バルブ４６の両方が同時に開かれる期間を０．２〜０．５秒程度とすることで、希釈液供給バルブ４６の開閉時における供給流路３６に用いられるチューブがつぶれてしまうことが防止される。
【００８９】
塗布液供給バルブ３８と希釈液供給バルブ４６から濃度センサ４８までの流路に使用されるチューブやヒータ５２の内径をより細くすることで（例えば、内径１〜１０ｍｍ、断面積に換算すると０．８ｍｍ２〜８０ｍｍ２）、濃度変化の検出応答性が向上する。また、濃度センサ４８から塗布部１２までの供給流路３６に用いられるチューブの内径をより太くすることで（例えば、内径１０〜２０ｍｍ、断面積に換算すると約７８ｍｍ２〜３２０ｍｍ２）、この部分における攪拌作用が大きくなり、供給流路３６において塗布液がより均質化しやすくなり、好適である。また、供給ローラ２６の回転によって塗布皿２４内の塗布状態の液が一段と攪拌されて均質化され、待機モードと同様の濃度管理が可能である。
【００９０】
処理モード中に塗布液の濃縮がより顕著な場合には、塗布液の温度、塗布ローラ２２の回転数、塗布ローラ２２の付勢力を変えて、媒体に塗布される塗布液の濃度を相対的に変えて補助的に補正する態様が好ましい。
【００９１】
図８は、塗布ローラ２２（図１参照）と圧胴２０との速比（塗布ローラの速度／圧胴の速度）と、媒体に塗布される塗布液の量（ｇ／ｍ２）との関係を表したグラフである。同図に示すように、塗布ローラ２２の速度を小さくすると単位面積あたりの塗布液の塗布量は減少し、塗布ローラ２２の速度を大きくすると単位面積あたりの塗布液の塗布量は増加する傾向がある。この傾向は、媒体の種類を変えても共通している。図８に符号１６０を付した特性は媒体Ａ（グロス紙）のものであり、符号１６２を付した特性は媒体Ｂ（マット紙）のものである。
【００９２】
塗布液の単位面積あたりの塗布量を減少させることで、媒体に塗布される塗布液の総量（塗布液に含有する溶質の総量）が減少するので、媒体に塗布される塗布液の濃度を低下させることと等価になる。また、塗布液の温度を上昇させると塗布液の粘度が低下して媒体に塗布される塗布液の総量が減少し、塗布ローラ２２の付勢力を上昇させると媒体に塗布される塗布液の総量が減少し、いずれの場合にも媒体に塗布される塗布液の濃度を低下させること等価になる。
【００９３】
塗布ローラ２２の回転速度や付勢力の大幅な変更や塗布液の温度の大幅な変更は、塗布ムラや共振などの不具合を生じるものの、かかる不具合を生じない範囲で変更を行うことにより濃度調整を補助する手段として有効である。
【００９４】
さらに、塗布液バッファタンク３２に設けられたフロートセンサ（図２参照）を用いて、一定量（例えば、塗布液バッファタンク３２の容量が５リットルのときに２〜３リットル程度）の塗布液を循環させることで、塗布液の濃度や粘度などの物性値が安定する。また、塗布液の液量が低下する度合い（塗布液補充ポンプ３４の動作頻度）を監視することで、供給系（図１の供給部１４）や制御系（図２参照）の動作確認をすることが可能である。
【００９５】
例えば、塗布液補充ポンプ３４の動作頻度が低い場合は、塗布液の塗布量が過少であり、塗布ローラ２２の媒体への接触不良の可能性が考えられる。一方、塗布液補充ポンプ３４の動作頻度が高い場合は、塗布液の塗布量が過大であり、配管（塗布皿２４の配管、排出流路６４に用いられる配管の液漏れの可能性が考えられる。
【００９６】
本例では、供給流路３６を通過する液の濃度情報を取得して、塗布部１２へ供給される液の種類を判断し、ポンプ類、バルブ類の動作確認を行う態様を例示したが、濃度情報に代わり他の液物性情報を測定してもよい。他の液物性情報としては、導電率計による導電率、ｐＨメータによるｐＨ値、粘度計による粘度などが挙げられる。導電率、粘度の測定値が上昇した場合やｐＨ値が下降した場合には、液の濃縮が進行したと判断することができる。
【００９７】
〔洗浄シーケンスの説明〕
次に、本例に示す塗布装置１０の洗浄シーケンスについて説明する。以下に説明する洗浄シーケンスは、塗布部１２の塗布処理が終了した後に自動実行される。
【００９８】
図９は、洗浄シーケンスの説明図である。本例に示す洗浄シーケンスは、塗布液の濃度調整に使用する希釈液を用いて、塗布部１２の圧胴２０、塗布ローラ２２、供給ローラ２６が洗浄されるとともに、供給部１４の供給流路３６や濃度センサ４８が洗浄される。
【００９９】
同図に示すように、洗浄シーケンスが実行されると、先ず、供給ポンプ４０を停止させ、塗布液供給バルブ３８が閉じられて塗布液の供給を停止させるとともに、ドレインバルブ６０、オーバーフローバルブ６２、循環バルブ７６が開かれ、排出ポンプ６８を動作させて、塗布部１２の塗布液が塗布液バッファタンク３２へ回収される。
【０１００】
次に、ドレインバルブ６０が閉じられ、排出バルブ７０が開かれた後に循環バルブ７６が閉じられ、さらに、希釈液供給バルブ４６が開かれて供給ポンプ４０を動作させると、希釈液タンク４２から希釈液供給バルブ４６、供給流路３６を経由して希釈液が塗布部１２へ連続的に供給され、塗布皿２４からオーバーフローした希釈液は、排出流路６４を経由して廃液タンク７２へ回収される。
【０１０１】
また、洗浄シーケンスでは、塗布ローラ２２及び供給ローラ２６を所定の期間回転させて、これらの洗浄が行われ、洗浄後の塗布ローラ２２を圧胴２０に押圧させた状態で圧胴２０を回転させて圧胴２０が洗浄される。圧胴２０、塗布ローラ２２、供給ローラ２６が洗浄されるとドレインバルブ６０が開かれ、塗布皿２４の液保持部２４Ａの希釈液が廃液タンク７２へ回収される。
【０１０２】
上述した洗浄シーケンスでは、希釈液供給バルブ４６から塗布部１２までの間に設けられる供給流路３６及び供給ポンプ４０が洗浄されるとともに、供給流路３６に設けられる濃度センサ４８、サーミスタ５６など測定部材の内部（塗布液が通過する部分）が洗浄されるので、供給部１４の各部の良好な状態が維持され、塗布液の供給異常などの不具合が防止される。なお、希釈液に代わり、洗浄効果を向上させる機能を有する洗浄液を適用することも可能である。
【０１０３】
ここで、オーバーフローバルブ６２を開かずに供給ポンプ４０を動作させれば、塗布皿２４のオーバーフロー部２４Ｂの液面が塗布処理中よりも上昇して、仕切板２４Ｃより高い位置まで液が補充される。この状態で供給ローラ２６を高速回転させると、液保持部２４Ａのオーバーフロー界面やオーバーフロー部２４Ｂの洗浄性が向上する。塗布皿２４に供給される液の量は供給ポンプ４０の動作時間により設定することができ、また、塗布皿２４に上限センサを設けてオーバーフローバルブ６２を制御してもよい。
【０１０４】
〔洗浄モニタ機能〕
次に、本例に示す塗布装置１０に具備される洗浄モニタ機能について説明する。洗浄モニタ機能は、洗浄シーケンスが正常に実行されたかを確認するとともに、洗浄対象の各部の洗浄が十分であるかを確認するための洗浄モニタ機能を具備している。
【０１０５】
図１０は、洗浄モニタ機能の説明図である。洗浄モニタ機能が実行されると、まず、塗布液供給バルブ３８が閉じられた状態で希釈液供給バルブ４６が開かれ、供給ポンプ４０を動作させて、希釈液タンク４２から塗布部１２へ希釈液が供給される。塗布皿２４の液保持部２４Ａからの希釈液がオーバーフローする程度の量、もしくはそれ以上の量の希釈液が塗布部１２へ供給されると、ドレインバルブ６０、オーバーフローバルブ６２、排出バルブ７０、循環バルブ７６が閉じられ、排出ポンプ６８を停止させる。
【０１０６】
塗布皿２４に希釈液が溜められた状態で塗布ローラ２２を圧胴２０から離間させ、塗布ローラ２２及び供給ローラ２６を回転させて塗布ローラ２２及び供給ローラ２６の洗浄が行われる。さらに、塗布ローラ２２を圧胴２０に押圧させ、圧胴２０及び塗布ローラ２２、供給ローラ２６を回転させて、圧胴２０の洗浄が行われる。なお、圧胴２０、塗布ローラ２２、供給ローラ２６の洗浄中に希釈液が不足する場合には、希釈液が適宜補充される。
【０１０７】
圧胴２０、塗布ローラ２２及び供給ローラ２６が洗浄されると、塗布液供給バルブ３８が開かれるとともに希釈液供給バルブ４６が閉じられ、供給ポンプ４０を逆転動作させて、塗布皿２４の液保持部２４Ａに残った洗浄後の希釈液の少なくとも一部を、濃度センサ４８の濃度測定値が所定の値に上昇するまで戻す。次に、ドレインバルブ６０、オーバーフローバルブ６２、排出バルブ７０が開かれ、排出ポンプ６８を正転動作させて塗布皿２４に残った洗浄後の希釈液が廃液タンク７２へ回収する。さらに、供給ポンプ４０を逆転動作させて塗布液バッファタンク３２へ希釈液を回収すれば、供給流路３６に残った洗浄後の希釈液が塗布液バッファタンク３２へ回収される際に、濃度センサ４８から回収時の希釈液の濃度情報を得ることができる。
【０１０８】
回収時の希釈液には洗浄された被洗浄部から除去された塗布液の成分が溶解しているので、回収時の希釈液の濃度情報に基づいて、塗布ローラ２２、供給ローラ２６、圧胴２０などの塗布部１２の洗浄状態や、供給流路３６及び供給流路３６に設けられる濃度センサ４８等の洗浄状態を把握することが可能である。
【０１０９】
例えば、供給時の希釈液の濃度値は０〜５パーセントであり（図５参照）、塗布液（凝集処理液の場合）の濃度値は２１〜２８パーセントなので、回収時の希釈液の濃度値が５パーセントを超え、２１パーセント未満であれば、洗浄シーケンスが正常に実行されたと判断することができる。また、回収時の希釈液の濃度値に洗浄の程度の指標を規定しておくことで、良好な洗浄状態が得られているか否かを判断することができる。例えば、「０％＜濃度値＜１０％」の場合は洗浄が十分と判断し、「１０％≦濃度値＜２１％」の場合には、洗浄が不十分と判断することができる。
【０１１０】
洗浄が不十分と判断された場合には、洗浄シーケンスを再度実行することが好ましい。より好ましくは、再洗浄の際には洗浄条件を変更してより強力に洗浄を行うことである。洗浄条件の変更例として、洗浄回数を増やす、洗浄時間（塗布ローラ２２の回転時間など）を増やす、洗浄時の温度設定を上げるなどが挙げられる。
【０１１１】
図１１は、洗浄液の温度（液温）と粘度との関係を表すグラフである。同図に示すように、希釈液の温度が上がると残留している塗布液の粘度が低下するので高い洗浄効果を得ることができ、塗布液及び希釈液の溶解度が増して、より高い洗浄効果を得ることができる。
【０１１２】
上述した洗浄モニタ機能を利用することにより、洗浄対象の各部の洗浄が十分に行われたか否かを判断することができ、洗浄不足による塗布ローラ２２や供給ローラ２６への塗布液の残留が防止される。なお、塗布液バッファタンク３２内の塗布液は回収された希釈液により希釈されるが、塗布液バッファタンク３２は供給流路３６と比較して大容量であり、希釈の程度は軽度である。
【０１１３】
仮に、洗浄を数回実施して、ある程度の希釈液が塗布液バッファタンク３２に回収された場合など、希釈の程度が塗布処理時の塗布液の濃度に影響する程度に塗布液が希釈されたとしても、塗布液の温度を下げて粘度を下げる、塗布ローラ２２の回転数を下げるなどの塗布量の補助的な補正によって対応可能である。
【０１１４】
〔予備洗浄機能〕
次に、予備洗浄機能について説明する。
【０１１５】
予備洗浄機能では、廃液タンク７２内の液体を使用して塗布部１２の各部を洗浄するものである。廃液タンク７２は、洗浄シーケンスに使用された希釈液や、装置のジャムの発生などにより塗布皿２４に残った塗布液などが回収されるので、塗布液バッファタンク３２の塗布液よりも希釈された低濃度の塗布液が収容されている。この低濃度の塗布液を用いて予備洗浄を行うことで、希釈液の消費量が抑制され、かつ、廃液の再利用が可能となる。
【０１１６】
図１２は、予備洗浄機能の説明図である。塗布部１２の塗布液が塗布液バッファタンク３２へ回収されると、循環バルブ７６が閉じられ、ドレインバルブ６０、排出バルブ７０が開かれ、排出ポンプ６８を反転動作させて、廃液タンク７２内の液が塗布皿２４の液保持部２４Ａへ供給される。液保持部２４Ａに所定量の液が供給されると、洗浄シーケンスと同様の制御によって、圧胴２０、塗布ローラ２２、供給ローラ２６の予備洗浄が行われる。予備洗浄時に排出ポンプ６８を駆動制御して、塗布皿２４のオーバーフロー部２４Ｂにも廃液タンク７２から液を充填させれば、塗布皿２４の液保持部２４Ａの液面が上昇して洗浄性の向上が見込まれる。
【０１１７】
〔廃液の再利用〕
廃液タンク７２の液は前述のとおり希釈されているため、通常は所定の廃棄処理が施された後に廃棄されるが、廃液タンク７２から塗布液バッファタンク３２へ廃液を戻し、再利用処理を施して塗布液として再利用することが可能である。廃液の再利用処理は夜間や休日など装置非稼動後に実行される。
【０１１８】
図１３は、廃液タンク７２から塗布液バッファタンク３２へ廃液を戻す廃液回収シーケンスの説明図である。同図に示すように、塗布液供給バルブ３８、ドレインバルブ６０、排出バルブ７０が開かれ、供給ポンプ４０及び排出ポンプ６８を反転動作させ、廃液タンク７２内の液が排出流路６４、塗布部１２、供給流路３６、塗布液供給バルブ３８を経由して塗布液バッファタンク３２へ戻される。
【０１１９】
塗布液バッファタンク３２へ廃液が戻されると、再利用処理が実行される。再利用処理は、循環供給シーケンス（図３参照）が利用され、塗布液バッファタンク３２の液を循環させ、濃度センサ４８を用いて液の濃度が監視されながら、ヒータ５２を用いて循環中の液に加熱処理が施される。加熱処理によって循環中の液が濃縮されて所定の濃度に達すると、加熱処理及び循環シーケンスが停止される。
【０１２０】
上述した再利用処理が終了されると、供給ポンプ４０を反転動作させて供給流路３６内の液が塗布液バッファタンク３２へ回収されるとともに、ドレインバルブ６０、循環バルブ７６が開かれ、排出ポンプ６８を正転動作させて塗布皿２４に残留している液は塗布液バッファタンク３２へ回収される。なお、廃液回収シーケンス実行前に、補充配管（塗布液補充タンク３０から塗布液バッファタンク３２へ塗布液を供給するための配管）を塗布液バッファタンク３２の底部に到達するように延ばしておき、塗布液補充ポンプ３４を逆転動作させて、塗布液バッファタンク３２の塗布液を抜いておけば、さらに効果的である。
【０１２１】
〔液抜きシーケンス〕
次に、液抜きシーケンスについて説明する。液抜きシーケンスは、部品交換などのメンテナンスや冬場の凍結防止を目的として、塗布液の循環供給シーケンス（図３参照）の終了後や洗浄シーケンス（図９参照）の終了後に実行される。
【０１２２】
図１４は、液抜きシーケンスの説明図である。液抜きシーケンスでは、塗布液供給バルブ３８が開かれ、希釈液供給バルブ４６が閉じられた状態で、供給ポンプ４０を逆転動作させ、塗布部１２の塗布液が塗布液バッファタンク３２へ回収される。その後、塗布液供給バルブ３８が閉じられた状態で希釈液供給バルブ４６を開くと希釈液供給流路４４内の希釈液が希釈液タンク４２へ回収される。
【０１２３】
また、塗布液補充ポンプ３４を正逆転切換が可能な構成とすることで、塗布液補充タンク３０と塗布液バッファタンク３２との間の流路の塗布液を塗布液補充タンク３０へ戻すことも可能である。
【０１２４】
このようにして、供給部１４の各流路内の液を抜くことができるように構成することで、部品交換などのメンテナンス性が改善され、濃度センサ４８や塗布液供給バルブ３８等のバルブ類、供給ポンプ４０等のポンプ類、ヒータ５２などの凍結による破損が防止される。また、濃度センサ４８から得られる濃度値を監視することで、液が抜けたことを確実に検出することができる。
【０１２５】
〔ろ過フィルタのメンテナンス〕
塗布処理中や塗布処理後の塗布液には、処理対象の媒体を構成する素材や媒体の処理に用いられる材料、及び媒体の表面に付着して機外から持ち込まれる物質が混入していることがあり、排出流路６４に設けられたろ過フィルタ６６でこれらの異物を除去することで、濃度センサ４８や塗布ローラ２２の塗布欠陥などを低減化しているが、長期間の使用によりろ過フィルタ６６の詰まりが発生しやすい。ろ過フィルタ６６の詰まりの原因となるものとして、紙媒体を使用する場合の紙粉や塗工層成分、印刷装置に用いられるパウダー類などが挙げられ、これらを除去するろ過フィルタ６６はメッシュサイズが１０〜１００μｍ程度の比較的細かなものが適用される。
【０１２６】
図１５に示す塗布装置１０’は、ろ過フィルタ６６に詰まった汚れ（異物）を除去するメンテナンスを実行可能に構成されている。
【０１２７】
図１５は、ろ過フィルタ６６のメンテナンスを行う構成が追加された塗布装置１０’の概略構成図である。同図に示すよう塗布装置１０’は、ろ過フィルタ６６と廃液タンク７２の間にメンテナンス用排出流路６４’が設けられるとともに、メンテナンス用排出流路６４’に一方向弁７０’が設けられている。
【０１２８】
一方向弁７０’は、ろ過フィルタ６６から廃液タンク７２へ向かう方向にのみ液を流すように構成されており、ドレインバルブ６０、オーバーフローバルブ６２が閉じられた状態で排出ポンプ６８を反転動作させると一方向弁７０’が開かれるので、ろ過フィルタ６６から除去された異物を含んだ塗布液は、一方向弁７０’、メンテナンス用排出流路６４’を介して廃液タンク７２へ回収される。
【０１２９】
かかる構成によれば、ろ過フィルタ６６の自動メンテナンスが可能となり、詰まりの原因となる異物による装置内の汚染も防止される。また、一方向弁７０’に代わり、リリーフバルブを適用することも可能である。リリーフバルブは、一次側（ろ過フィルタ６６側）に一定以上の圧力が付与されると自動的に弁が開いて流体を放出し、一次側の圧力が一定以下に下降すれば弁が閉じる機能（構造）を持つ弁である。
【０１３０】
すなわち、ドレインバルブ６０、オーバーフローバルブ６２が閉じられた状態で排出ポンプ６８を反転動作させると、リリーフバルブの一次側に圧力がかかり、一定以上の圧力（例えば、３０〜３００キロパスカル程度）がかかるとリリーフバルブが開き、ろ過フィルタ６６の汚れが廃液タンク７２へ送られる。さらに、リリーフバルブの開放圧力を高くして（例えば、１００〜２００キロパスカル）ろ過フィルタ６６からリリーフバルブまでの流路にシリコンチューブなどの弾性を有する材料（硬度が４０〜７０°、より好ましくは５０〜６０°の材料）を適用すれば、該流路が膨張してからリリーフバルブが開放されるので、瞬間的に流速を高めることができ、より効果的なメンテナンスが可能である。
【０１３１】
なお、廃液タンク７２の液を濃縮して再利用する場合などは、廃液タンク７２とは別にタンクを用意して回収すれば、塗布液の汚れを軽減することも可能である。
【０１３２】
〔塗布皿のメンテナンス〕
次に、塗布皿のメンテナンス機能が付加された塗布装置について説明する。図１６は、塗布液バッファタンク３２のメンテナンス機能が付加された塗布装置１０”の概略構成図である。
【０１３３】
同図に示す塗布装置１０”は、先に説明した塗布装置１０（図１参照）において、供給ポンプ４０の塗布液供給バルブ３８側から廃液タンク７２へのメンテナンス流路９０が設けられるとともに、メンテナンス流路９０に一方向弁９２が設けられている。一方向弁９２は、供給ポンプ４０から廃液タンク７２へ向かう方向にのみ開く構造を有している。
【０１３４】
塗布部１２に設けられる塗布皿２４の液保持部２４Ａの排出口近傍には、液保持部２４Ａ内に混入した異物（紙粉や紙片など）を捕獲するドレインフィルタ（不図示）が設けられ、オーバーフロー部２４Ｂの排出口の近傍には、オーバーフローフィルタ（不図示）が設けられている。このドレインフィルタ、オーバーフローフィルタは、塗布皿２４内の配管に異物が詰まることを防止するものであり、０．１ｍｍ〜０．５ｍｍ程度のメッシュ構造を有している。長期間の使用によってドレインフィルタ及びオーバーフローフィルタにも詰まりが発生するので、メンテナンスを行う必要がある。
【０１３５】
図１６に示す塗布装置１０”は、塗布皿２４のドレインフィルタ及びオーバーフローフィルタに付着した異物が供給流路３６を経由し、さらに、メンテナンス流路９０及び一方向弁９２を経由して廃液タンク７２へ送られるように構成されている。
【０１３６】
すなわち、ドレインフィルタ及びオーバーフローフィルタのメンテナンスが実行されると、循環バルブ７６、ドレインバルブ６０が開かれるとともに、塗布液供給バルブ３８、希釈液供給バルブ４６、オーバーフローバルブ６２が閉じられる。この状態で排出ポンプ６８を逆回転させると、塗布皿２４の液保持部２４Ａのドレインフィルタに付着した異物がドレインフィルタから離脱して液保持部２４Ａを浮遊する。また、循環バルブ７６、オーバーフローバルブ６２が開かれ、塗布液供給バルブ３８、希釈液供給バルブ４６、ドレインバルブ６０が閉じられる。この状態で排出ポンプ６８を逆転動作させると、オーバーフローフィルタに付着した異物がオーバーフローフィルタから離脱してオーバーフロー部２４Ｂを浮遊する。
【０１３７】
さらに、供給ポンプ４０を逆転動作させると一方向弁９２が開かれるので、塗布皿２４の液保持部２４Ａの塗布液は供給流路３６、供給ポンプ４０、メンテナンス流路９０、一方向弁９２を経由して、廃液タンク７２へ送られる。さらにまた、オーバーフローバルブ６２が開かれた状態で排出ポンプ６８を逆転動作させると、オーバーフロー部２４Ｂの液が液保持部２４Ａへ移動する。液保持部２４Ａの液は供給ポンプ４０を逆転動作させることで廃液タンク７２へ送られる。
【０１３８】
かかる構成によれば、塗布皿２４に設けられるドレインフィルタ及びオーバーフローフィルタの自動メンテナンスが可能である。なお、塗布皿２４から供給流路３６、メンテナンス流路９０を経由して廃液タンク７２に至る流路は、紙粉などの異物が詰まらないように、異物の大きさを考慮して通常よりも太くしておくことが好ましい。
【０１３９】
上述したろ過フィルタのメンテナンス及び塗布皿のメンテナンスは、水溶性の塗布液以外の塗布液（例えば、フォトレジストや油性インク）を使用する塗布装置にも適用することが可能である。
【０１４０】
〔塗布液バッファタンクのメンテナンス〕
次に、塗布液バッファタンクのメンテナンスについて説明する。
【０１４１】
上記したろ過フィルタ６６や、ドレインフィルタ、オーバーフローフィルタのメンテナンスなどによって塗布液を消費して、塗布液バッファタンク３２を空にした後に、希釈液タンク４２から、塗布皿２４を経由して希釈液が塗布液バッファタンク３２へ充填され、塗布液バッファタンク３２から供給流路３６、塗布部１２、排出流路６４、循環流路７４を経由して塗布液バッファタンク３２へ希釈液を循環させることで、塗布液バッファタンク３２や供給流路３６、排出流路６４、循環流路７４のメンテナンスを行うことができる。
【０１４２】
図１７は、塗布液バッファタンク３２等のメンテナンスを説明する図である。同図に太実線を用いて示すように、希釈液を塗布液バッファタンク３２へ充填するシーケンスは、希釈液供給バルブ４６、オーバーフローバルブ６２、循環バルブ７６が開かれ、供給ポンプ４０、排出ポンプ６８を正転動作させると、希釈液タンク４２から塗布部１２を経由して塗布液バッファタンク３２へ希釈液が充填される。
【０１４３】
希釈液を循環させるシーケンスでは、塗布液供給バルブ３８、オーバーフローバルブ６２、循環バルブ７６が開かれ、供給ポンプ４０、排出ポンプ６８を正転動作させると、塗布液バッファタンク３２内の希釈液は太破線で図示する経路を循環する。希釈液を循環させるシーケンスにおいて、塗布ローラ２２、供給ローラ２６を回転させて、これらを洗浄してもよい。また、濃度センサ４８を用いて循環する希釈液の濃度をモニタして洗浄回数などを設定することで、さらに安定したメンテナンス（洗浄）が可能である。
【０１４４】
塗布液バッファタンク３２にジクロルイソシアヌル酸塩などの塩素系殺菌剤を希釈液タンク４２よりも多く添加することで、濃度センサ４８などの測定部材や塗布ローラ２２などの洗浄殺菌効果が向上し、さらに効果的である。
【０１４５】
さらに、図１５に示したメンテナンス用排出流路６４’及び一方向弁７０’、図１６に示したメンテナンス流路９０、一方向弁９２を備え、循環（洗浄）後にフィルタ類のメンテナンスを行うことで、メンテナンス流路６４’，９０、一方向弁７０’，９２が希釈液で洗浄される。
【０１４６】
〔他の装置構成への適用例〕
次に、上述した塗布装置１０（１０’、１０”）を記録媒体にカラー画像を形成するインクジェット記録装置へ適用した構成例について説明する。以下に説明するインクジェット記録装置は、記録媒体に凝集処理剤を塗布する処理液塗布部へ上述した塗布装置を適用したものである。
【０１４７】
（インクジェット記録装置の全体構成）
図１８は、本実施形態に係るインクジェット記録装置の全体構成を示した構成図である。同図に示すインクジェット記録装置２００は、色材を含有するインクと該インクを凝集させる機能を有する凝集処理液を用いて、所定の画像データに基づいて記録媒体２１４の記録面に画像を形成する二液凝集方式の記録装置である。
【０１４８】
インクジェット記録装置２００は、主として、給紙部２２０、処理液塗布部２３０、描画部２４０、乾燥処理部２５０、定着処理部２６０、及び排出部２７０を備えて構成される。処理液塗布部２３０、描画部２４０、乾燥処理部２５０、定着処理部２６０の前段に搬送される記録媒体２１４の受け渡しを行う手段として渡し胴２３２，２４２，２５２，２６２が設けられるとともに、処理液塗布部２３０、描画部２４０、乾燥処理部２５０、定着処理部２６０のそれぞれに記録媒体２１４を保持しながら搬送する手段として、ドラム形状を有する圧胴２３４，２４４，２５４，２６４が設けられている。
【０１４９】
渡し胴２３２〜２６２及び圧胴２３４〜２６４は、外周面の所定位置に記録媒体２１４の先端部（又は後端部）を挟んで保持するグリッパ２８０Ａ，２８０Ｂが設けられている。グリッパ２８０Ａとグリッパ２８０Ｂにおける記録媒体２１４の先端部を挟んで保持する構造、及び他の圧胴又は渡し胴に備えられるグリッパとの間で記録媒体２１４の受け渡しを行う構造は同一であり、かつ、グリッパ２８０Ａとグリッパ２８０Ｂは、圧胴２３４の外周面の圧胴２３４の回転方向について１８０°移動させた対称位置に配置されている。
【０１５０】
グリッパ２８０Ａ，２８０Ｂにより記録媒体２１４の先端部を狭持した状態で渡し胴２３２〜２６２及び圧胴２３４〜２６４を所定の方向に回転させると、渡し胴２３２〜２６２及び圧胴２３４〜２６４の外周面に沿って記録媒体２１４が回転搬送される。
【０１５１】
なお、図１８中、圧胴２３４に備えられるグリッパ２８０Ａ，２８０Ｂのみ符号を付し、他の圧胴及び渡し胴のグリッパの符号は省略する。
【０１５２】
給紙部２２０に収容されている記録媒体（枚葉紙）２１４が処理液塗布部２３０に給紙されると、圧胴２３４の外周面に保持された記録媒体２１４の記録面に、凝集処理液（以下、単に「処理液」と記載することがある。）が付与される。なお、「記録媒体２１４の記録面」とは、圧胴２３４〜２６４の保持された状態における外側面であり、圧胴２３４〜２６４に保持される面と反対面である。
【０１５３】
その後、凝集処理液が付与された記録媒体２１４は描画部２４０に送出され、描画部２４０において記録面の凝集処理液が付与された領域に色インクが付与され、所望の画像が形成される。
【０１５４】
さらに、該色インクによる画像が形成された記録媒体２１４は乾燥処理部２５０に送られ、乾燥処理部２５０において乾燥処理が施されるとともに、乾燥処理後に定着処理部２６０に送られ、定着処理が施される。乾燥処理及び定着処理が施されることで、記録媒体２１４上に形成された画像が堅牢化される。このようにして、記録媒体２１４の記録面に所望の画像が形成され、該画像が記録媒体２１４の記録面に定着した後に、排出部２７０から装置外部に搬送される。
【０１５５】
以下、インクジェット記録装置２００の各部(給紙部２２０、処理液塗布部２３０、描画部２４０、乾燥処理部２５０、定着処理部２６０、排出部２７０)について詳細に説明する。
【０１５６】
（給紙部）
給紙部２２０は、給紙トレイ２２２と不図示の送り出し機構が設けられ、記録媒体２１４は給紙トレイ２２２から一枚ずつ送り出されるように構成されている。給紙トレイ２２２から送り出された記録媒体２１４は、渡し胴（給紙胴）２３２のグリッパ（不図示）の位置に先端部が位置するように不図示のガイド部材によって位置決めされて一旦停止する。
【０１５７】
（処理液塗布部）
処理液塗布部２３０（図１に図示した塗布装置１０に対応）は、給紙胴２３２から受け渡された記録媒体２１４を外周面に保持して記録媒体２１４を所定の搬送方向へ搬送する圧胴（処理液ドラム）２３４（図１に図示した圧胴２０に対応）と、処理液ドラム２３４の外周面に保持された記録媒体２１４の記録面に処理液を付与する処理液塗布装置２３６（図１に図示した供給部１４及び塗布ローラ２２、塗布皿２４，供給ローラ２６を含む構成に対応）と、を含んで構成されている。処理液ドラム２３４を図１８における反時計回りに回転させると、記録媒体２１４は処理液ドラム２３４の外周面に沿って反時計回り方向に回転搬送される。
【０１５８】
図１８に示す処理液塗布装置２３６は、処理液ドラム２３４の外周面（記録媒体保持面）と対向する位置に設けられている。処理液塗布装置２３６の構成例として、処理液が貯留される処理液容器（図１に図示した塗布皿２４に対応）と、処理液容器の処理液に一部が浸漬され、処理液容器内の処理液を汲み上げる汲み上げローラ（図１に図示した供給ローラ２６に対応）と、汲み上げローラにより汲み上げられた処理液を記録媒体２１４上に移動させる塗布ローラ（ゴムローラ、図１に図示した塗布ローラ２２に対応）と、を含んで構成される態様が挙げられる。
【０１５９】
なお、該塗布ローラを上下方向（処理液ドラム２３４の外周面の法線方向）に移動させる塗布ローラ移動機構を備え、該塗布ローラとグリッパ２８０Ａ，２８０Ｂとの衝突を回避可能に構成する態様が好ましい。
【０１６０】
処理液塗布部２３０により記録媒体２１４に付与される処理液は、描画部２４０で付与されるインク中の色材（顔料）を凝集させる色材凝集剤を含有し、記録媒体２１４上で処理液とインクとが接触すると、インク中の色材が凝集して溶媒との分離が促進される。
【０１６１】
処理液塗布装置２３６は、記録媒体２１４に塗布される処理液量を計量しながら塗布することが好ましく、記録媒体２１４上の処理液の膜厚は、描画部２４０から打滴されるインク液滴の直径より十分に小さくすることが好ましい。
【０１６２】
本発明に係る塗布装置（液供給装置）は、処理液塗布部２３０（処理液塗布装置２３６）に適用される。
【０１６３】
（描画部）
描画部２４０は、記録媒体２１４を保持して搬送する圧胴（描画ドラム）２４４と、記録媒体２１４を描画ドラム２４４に密着させるための用紙抑えローラ２４６と、記録媒体２１４にインクを付与するインクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙを備えている。なお、描画ドラム２４４の基本構造は、先に説明した処理液ドラム２３４と共通しているので、ここでの説明は省略する。
【０１６４】
用紙抑えローラ２４６は、描画ドラム２４４の外周面に記録媒体２１４を密着させるためのガイド部材であり、描画ドラム２４４の外周面に対向し、渡し胴２４２と描画ドラム２４４との記録媒体２１４の受渡位置よりも記録媒体２１４の搬送方向下流側であり、且つ、インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙよりも記録媒体２１４の搬送方向上流側に配置される。
【０１６５】
渡し胴２４２から描画ドラム２４４に受け渡された記録媒体２１４は、グリッパ（符号省略）によって先端が保持された状態で回転搬送される際に、用紙抑えローラ２４６によって押圧され、描画ドラム２４４の外周面に密着する。このようにして、記録媒体２１４を描画ドラム２４４の外周面に密着させた後に、描画ドラム２４４の外周面から浮き上がりのない状態で、インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙの直下の印字領域に送られる。
【０１６６】
インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙはそれぞれ、マゼンダ（Ｍ）、黒（Ｋ）、シアン（Ｃ）、イエロー（Ｙ）の４色のインクに対応しており、描画ドラム２４４の回転方向（図１８における反時計回り方向）に上流側から順に配置されるとともに、インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙのインク吐出面（ノズル面）が描画ドラム２４４に保持された記録媒体２１４の記録面と対向するように配置される。なお、「インク吐出面（ノズル面）」とは、記録媒体２１４の記録面と対向するインクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙの面であり、後述するインクが吐出されるノズル（図１９に符号３０１を付して図示する。）が形成される面である。
【０１６７】
また、図１８に示すインクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙは、描画ドラム２４４の外周面に保持された記録媒体２１４の記録面とインクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙのノズル面が略平行となるように、水平面に対して傾けられて配置されている。
【０１６８】
インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙは、記録媒体２１４における画像形成領域の最大幅（記録媒体２１４の搬送方向と直交する方向の長さ）に対応する長さを有するフルライン型のヘッドであり、記録媒体２１４の搬送方向と直交する方向に延在するように固定設置される。
【０１６９】
インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙのノズル面（液体吐出面）には、記録媒体２１４の画像形成領域の全幅にわたってインク吐出用のノズル（図１８中不図示、図１９に符号３０２を付して図示する。）がマトリクス配置されて形成されている。
【０１７０】
記録媒体２１４がインクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙの直下の印字領域に搬送されると、インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙから記録媒体２１４の凝集処理液が付与された領域に画像データに基づいて各色のインクが吐出（打滴）される。
【０１７１】
インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙから、対応する色インクの液滴が、描画ドラム２４４の外周面に保持された記録媒体２１４の記録面に向かって吐出されると、記録媒体２１４上で処理液とインクが接触し、インク中に分散する色材（顔料系色材）又は不溶化する色材（染料系色材）の凝集反応が発現し、色材凝集体が形成される。これにより、記録媒体２１４上に形成された画像における色材の移動（ドットの位置ズレ、ドットの色ムラ）が防止される。
【０１７２】
また、描画部２４０の描画ドラム２４４は、処理液塗布部２３０の処理液ドラム２３４に対して構造上分離しているので、インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙに処理液が付着することがなく、インクの吐出異常の要因を低減することができる。
【０１７３】
なお、本例では、ＣＭＹＫの標準色（４色）の構成を例示したが、インク色や色数の組み合わせについては本実施形態に限定されず、必要に応じて淡インク、濃インク、特別色インクを追加してもよい。例えば、ライトシアン、ライトマゼンタなどのライト系インクを吐出するインクジェットヘッドを追加する構成も可能であり、各色ヘッドの配置順序も特に限定はない。
【０１７４】
（乾燥処理部）
乾燥処理部２５０は、画像形成後の記録媒体２１４を保持して搬送する圧胴（乾燥ドラム）２５４と、該記録媒体２１４上の水分（液体成分）を蒸発させる乾燥処理を施す溶媒乾燥装置２５６を備えている。なお、乾燥ドラム２５４の基本構造は、先に説明した処理液ドラム２３４及び描画ドラム２４４と共通しているので、ここでの説明は省略する。
【０１７５】
溶媒乾燥装置２５６は、乾燥ドラム２５４の外周面に対向する位置に配置され、記録媒体２１４に存在する水分を蒸発させる処理部である。描画部２４０により記録媒体２１４にインクが付与されると、処理液とインクとの凝集反応により分離したインクの液体成分（溶媒成分）及び処理液の液体成分（溶媒成分）が記録媒体２１４上に残留してしまうので、かかる液体成分を除去する必要がある。
【０１７６】
溶媒乾燥装置２５６は、ヒータによる加熱、ファンによる送風、又はこれらを併用して記録媒体２１４上に存在する液体成分を蒸発させる乾燥処理を施し、記録媒体２１４上の液体成分を除去するための処理部である。記録媒体２１４に付与される加熱量及び送風量は、記録媒体２１４上に残留する水分量、記録媒体２１４の種類、及び記録媒体２１４の搬送速度（干渉処理時間）等のパラメータに応じて適宜設定される。
【０１７７】
溶媒乾燥装置２５６による乾燥処理が行われる際に、乾燥処理部２５０の乾燥ドラム２５４は、描画部２４０の描画ドラム２４４に対して構造上分離しているので、インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙにおいて、熱又は送風によるヘッドメニスカス部の乾燥によるインクの吐出異常の要因を低減することができる。
【０１７８】
記録媒体２１４のコックリングの矯正効果を発揮させるために、乾燥ドラム２５４の曲率を０．００２（１／ｍｍ）以上とするとよい。また、乾燥処理後の記録媒体の湾曲（カール）を防止するために、乾燥ドラム２５４の曲率を０．００３３（１／ｍｍ）以下とするとよい。
【０１７９】
また、乾燥ドラム２５４の表面温度を調整する手段（例えば、内蔵ヒータ）を備え、該表面温度を５０℃以上に調整するとよい。記録媒体２１４の裏面から加熱処理を施すことによって乾燥が促進され、次段の定着処理時における画像破壊が防止される。かかる態様において、乾燥ドラム２５４の外周面に記録媒体２１４を密着させる手段を具備すると、さらに効果的である。記録媒体２１４を密着させる手段の一例として、真空吸着、静電吸着などが挙げられる。
【０１８０】
なお、乾燥ドラム２５４の表面温度の上限については、特に限定されるものではないが、乾燥ドラム２５４の表面に付着したインクをクリーニングするなどのメンテナンス作業の安全性（高温による火傷防止）の観点から７５℃以下（より好ましくは６０℃以下）に設定されることが好ましい。
【０１８１】
このように構成された乾燥ドラム２５４の外周面に、記録媒体２１４の記録面が外側を向くように（すなわち、記録媒体２１４の記録面が凸側となるように湾曲させた状態で）保持し、回転搬送しながら乾燥処理を施すことで、記録媒体２１４のシワや浮きに起因する乾燥ムラが確実に防止される。
【０１８２】
（定着処理部）
定着処理部２６０は、記録媒体２１４を保持して搬送する圧胴（定着ドラム）２６４と、画像形成がされ、さらに、液体が除去された記録媒体２１４に加熱処理を施すヒータ２６６と、該記録媒体２１４を記録面側から押圧する定着ローラ２６８と、を備えて構成される。なお、定着ドラム２６４の基本構造は処理液ドラム２３４、描画ドラム２４４、及び乾燥ドラム２５４と共通しているので、ここでの説明は省略する。ヒータ２６６及び定着ローラ２６８は、定着ドラム２６４の外周面に対向する位置に配置され、定着ドラム２６４の回転方向（図１８において反時計回り方向）の上流側から順に配置される。
【０１８３】
定着処理部２６０では、記録媒体２１４の記録面に対してヒータ２６６による予備加熱処理が施されるとともに、定着ローラ２６８による定着処理が施される。ヒータ２６６の加熱温度は記録媒体の種類、インクの種類（インクに含有するポリマー微粒子の種類）などに応じて適宜設定される。例えば、インクに含有するポリマー微粒子のガラス転移点温度や最低造膜温度とする態様が考えられる。
【０１８４】
定着ローラ２６８は、乾燥させたインクを加熱加圧することによってインク中の自己分散性ポリマー微粒子を溶着し、インクを被膜化させるためのローラ部材であり、記録媒体２１４を加熱加圧するように構成される。具体的には、定着ローラ２６８は、定着ドラム２６４に対して圧接するように配置されており、定着ドラム２６４との間でニップローラを構成するようになっている。これにより、記録媒体２１４は、定着ローラ２６８と定着ドラム２６４との間に挟まれ、所定のニップ圧でニップされ、定着処理が行われる。
【０１８５】
定着ローラ２６８の構成例として、熱伝導性の良いアルミなどの金属パイプ内にハロゲンランプを組み込んだ加熱ローラによって構成する態様が挙げられる。かかる加熱ローラで記録媒体２１４を加熱することによって、インクに含まれるポリマー微粒子のガラス転移点温度以上の熱エネルギーが付与されると、該ポリマー微粒子が溶融して画像の表面に透明の被膜が形成される。
【０１８６】
この状態で記録媒体２１４の記録面に加圧を施すと、記録媒体２１４の凹凸に溶融したポリマー微粒子が押し込み定着されるとともに、画像表面の凹凸がレベリングされ、好ましい光沢性を得ることができる。なお、画像層の厚みやポリマー微粒子のガラス転移点温度特性に応じて、定着ローラ２６８を複数段設けた構成も好ましい。
【０１８７】
また、定着ローラ２６８の表面硬度は７１°以下であることが好ましい。定着ローラ２６８の表面をより軟質化することで、コックリングにより生じた記録媒体２１４の凹凸に対して追随効果を期待でき、記録媒体２１４の凹凸に起因する定着ムラがより効果的に防止される。
【０１８８】
図１８に示すインクジェット記録装置２００は、定着処理部２６０の処理領域の後段（記録媒体搬送方向の下流側）には、インラインセンサ２８２が設けられている。インラインセンサ２８２は、記録媒体２１４に形成された画像（又は記録媒体２１４の余白領域に形成されたチェックパターン）を読み取るためのセンサであり、ＣＣＤラインセンサが好適に用いられる。
【０１８９】
本例に示すインクジェット記録装置２００は、インラインセンサ２８２の読取結果に基づいてインクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙの吐出異常の有無が判断される。また、インラインセンサ２８２は、水分量、表面温度、光沢度などを計測するための計測手段を含む態様も可能である。かかる態様において、水分量、表面温度、光沢度の読取結果に基づいて、乾燥処理部２５０の処理温度や定着処理部２６０の加熱温度及び加圧圧力などのパラメータを適宜調整し、装置内部の温度変化や各部の温度変化に対応して、上記制御パラメータが適宜調整される。
【０１９０】
（排出部）
図１８に示すように、定着処理部２６０に続いて排出部２７０が設けられている。排出部２７０は、張架ローラ２７２Ａ，２７２Ｂに巻きかけられた無端状の搬送ベルト２７４と、画像形成後の記録媒体２１４が収容される排出トレイ２７６と、を備えて構成されている。
【０１９１】
定着処理部２６０から送り出された定着処理後の記録媒体２１４は、搬送ベルト２７４によって搬送され、排出トレイ２７６に排出される。
【０１９２】
（インクジェットヘッドの構造）
次に、描画部２４０に具備されるインクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙの構造について説明する。なお、各色に対応するインクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙの構造は共通しているので、以下、これらを代表して符号３００によってインクジェットヘッド（以下、単に「ヘッド」ともいう。）を示すものとする。
【０１９３】
図１９はヘッド３００の構造例を示す平面透視図である。以降、本明細書において、先に説明した図と同一又は類似する部分には同一の符号を付し、その説明は省略することとする。
【０１９４】
図１９に示すように、ヘッド３００のノズル面には、記録媒体２１４の全幅Ｗｍに対応する長さにわたって複数のノズル３０２が並べられた構造を有するフルライン型ヘッドである。なお、記録媒体２１４の搬送方向Ｓは副走査方向と呼ばれることがあり、記録媒体２１４の搬送方向Ｓと直交する方向Ｍは主走査方向と呼ばれることがある。
【０１９５】
記録媒体２１４上に形成されるドットピッチを高密度化するためには、ヘッド３００におけるノズルピッチを高密度化する必要がある。本例のヘッド３００は、図１９に示すように、インク吐出口であるノズル３０２と、各ノズル３０２と連通する圧力室３０４と、不図示の共通流路と各圧力室３０４とを連通させる供給口３０６等からなる複数のインク室ユニット（記録素子単位としての液滴吐出素子）３０８をマトリクス配置した構造を有し、これにより、ヘッド３００の長手方向である主走査方向に沿って並ぶように投影される実質的なノズル間隔（図２０に符号Ｐｎを付して図示する投影ノズルピッチ）の高密度化を達成している。
【０１９６】
ノズル３０２と連通する圧力室３０４は、その平面形状が概略正方形となっており、対角線上の両隅部の一方にノズル３０２が設けられ、他方に供給口３０６が設けられている。なお、圧力室３０４の形状は本例に限定されず、平面形状が四角形（菱形、長方形など）、五角形、六角形その他の多角形、円形、楕円形など、多様な形態があり得る。
【０１９７】
図２０は、図１９に図示したヘッド３００の一部を拡大した拡大図である。同図に示すように、ノズル３０２及び圧力室３０４等からなるインク室ユニット３０８を、主走査方向（符号Ｍを付して図示）に沿う行方向及び主走査方向に対して直交しない一定の角度θ（０°＜θ＜９０°）を有する斜めの列方向（符号Ｓ’を付して図示）に沿って一定の配列パターンでマトリクス配列させることにより、本例の高密度ノズルヘッドが実現されている。
【０１９８】
すなわち、主走査方向に対してある角度θをなす方向に沿ってインク室ユニット３０８を一定のピッチｄで複数配列する構造により、主走査方向に並ぶように投影されたノズルの投影ノズルピッチＰｎはｄ×cosθとなり、主走査方向については、各ノズル３０２が一定のピッチＰｎで直線状に配列されたものと等価的に取り扱うことができる。このような構成により、主走査方向に並ぶように投影されるノズル列は、１インチ当たり2400個（2400ノズル／インチ）におよぶ高密度配置を実現することが可能になる。
【０１９９】
なお、記録媒体２１４の全幅Ｗｍに対応する長さにわたり１列以上のノズル列を構成する形態は本例に限定されない。例えば、図１９の構成に代えて、図２１に示すように、複数のノズル３０２が２次元に配列された短尺のヘッドモジュール３００’を千鳥状に配列して繋ぎ合わせることで長尺化することにより、全体として記録媒体２１４の全幅に対応する長さのノズル列を有するラインヘッドを構成してもよい。
【０２００】
また、図２２に示すように、記録媒体２１４の全幅に満たない短尺のヘッドモジュール３００”を一列に並べてラインヘッドを構成してもよい。同図において、列方向（図２０参照）に沿って並べられたノズル３０２は斜めの実線で図示されている。
【０２０１】
図２３は、図１９に示すヘッド３００（インク室ユニット３０８）の立体構造を示す断面図（図１９中Ａ−Ａ線に沿う断面図）である。
【０２０２】
ノズル３０２と連通する圧力室３０４は、供給口３０６を介して共通流路３１０と連通している。共通流路３１０はインク供給源たるインクタンク（不図示）と連通しており、該インクタンクから供給されるインクは共通流路３１０を介して各圧力室３０４に供給される。
【０２０３】
圧力室３０４の上面を構成する振動板３１２には、個別電極３１４と共通電極３１６とを具備し、個別電極３１４と共通電極３１６との間に圧電体部３１８がはさまれた構造を有する圧電素子３２０が接合されている。また、図２３に示すヘッド３００は、圧力室３０４、供給口３０６、及び共通流路３１０などの流路構造が形成された構造体に、ノズル３０２の開口部３２２が形成されるノズル板３２４を接合した構造を有している。
【０２０４】
個別電極３１４と共通電極３１６との間に所定の駆動電圧を印加することによって圧電素子３２０及び振動板３１２が変形し、これに伴い圧力室３０４の容積が変化する。圧力室３０４の容積変化により圧力室３０４内部のインクに圧力変化が生じ、圧力室３０４の容積変化に対応する体積のインクがノズル３０２から吐出される。インクが吐出された後は、圧電素子３２０及び振動板３１２が元の状態に戻る際に、共通流路３１０から供給口３０６を通って新しいインクが圧力室３０４に充填される。
【０２０５】
本例では、ヘッド３００に設けられたノズル３０２から吐出させるインクの吐出力発生手段として圧電素子３２０を適用したが、圧力室３０４内にヒータを備え、ヒータの加熱による膜沸騰の圧力を利用してインクを吐出させるサーマル方式を適用することも可能である。
【０２０６】
（制御系の説明）
図２４は、インクジェット記録装置２００の制御系の概略構成を示すブロック図である。インクジェット記録装置２００は、通信インターフェース４００、システム制御部４０２、搬送制御部３４４、画像処理部３４６、ヘッド駆動部３４８を備えるとともに、記憶部（メモリ）３５０、一次記憶部３５２を備えている。
【０２０７】
通信インターフェース４００は、ホストコンピュータ４１６から送られてくる画像データを受信するインターフェース部である。通信インターフェース４００は、ＵＳＢ（Universal Serial Bus）などのシリアルインターフェースを適用してもよいし、セントロニクスなどのパラレルインターフェースを適用してもよい。通信インターフェース４００は、通信を高速化するためのバッファメモリ（不図示）を搭載してもよい。
【０２０８】
システム制御部４０２は、中央演算処理装置（ＣＰＵ）及びその周辺回路等から構成され、所定のプログラムに従ってインクジェット記録装置２００の全体を制御する制御装置として機能するとともに、各種演算を行う演算装置として機能し、さらに、記憶部３５０及び一次記憶部３５２のメモリコントローラとして機能する。すなわち、システム制御部４０２は、通信インターフェース４００、搬送制御部３４４等の各部を制御し、ホストコンピュータ４１６との間の通信制御、記憶部３５０及び一次記憶部３５２の読み書き制御等を行うとともに、上記の各部を制御する制御信号を生成する。
【０２０９】
ホストコンピュータ４１６から送出された画像データは通信インターフェース４００を介してインクジェット記録装置２００に取り込まれ、画像処理部３４６によって所定の画像処理が施される。
【０２１０】
画像処理部３４６は、画像データから印字制御用の信号を生成するための各種加工、補正などの処理を行う信号（画像）処理機能を有し、生成した印字データをヘッド駆動部３４８に供給する制御部である。画像処理部３４６において所要の信号処理が施され、該画像データに基づいて、ヘッド駆動部３４８を介してヘッド３００の吐出液滴量（打滴量）や吐出タイミングの制御が行われる。これにより、所望のドットサイズやドット配置が実現される。なお、図２４に示すヘッド駆動部３４８には、ヘッド３００の駆動条件を一定に保つためのフィードバック制御系を含んでいてもよい。
【０２１１】
また、搬送制御部３４４は、画像処理部３４６により生成された印字制御用の信号に基づいて記録媒体２１４（図１８参照）の搬送タイミング及び搬送速度を制御する。図２４における搬送駆動部３５６は、図１８の圧胴２３４〜２６４を回転させるモータや、渡し胴２３２〜２６２を回転させるモータ、給紙部２２０における記録媒体２１４の送出機構のモータ、排出部２７０の張架ローラ２７２Ａ（２７２Ｂ）を駆動するモータなどが含まれ、搬送制御部３４４は上記のモータのドライバーとして機能している。
【０２１２】
記憶部３５０は、システム制御部４０２のＣＰＵが実行するプログラムや、装置各部の制御に必要な各種データ、制御パラメータなどが格納されており、システム制御部４０２を通じてデータの読み書きが行われる。記憶部３５０は、半導体素子からなるメモリに限らず、ハードディスクなど磁気媒体を用いてもよい。また、外部インターフェースを備え、着脱可能な記憶媒体を用いてもよい。
【０２１３】
一時記憶部（一次記憶メモリ）３５２は、通信インターフェース４００を介して入力された画像データを一旦格納する一次記憶手段としての機能や、記憶部３５０に記憶されている各種プログラムの展開領域及びＣＰＵの演算作業領域（例えば、画像処理部３４６の作業領域）としての機能を有している。一時記憶部３５２には、逐次読み書きが可能な揮発性メモリ（ＲＡＭ）が用いられる。
【０２１４】
さらに、このインクジェット記録装置２００は、処理液付与制御部３６０、乾燥処理制御部３６２、及び定着処理制御部３６４を備えており、システム制御部４０２からの指示にしたがって、それぞれ、処理液塗布部２３０、乾燥処理部２５０、及び定着処理部２６０の各部の動作を制御する。
【０２１５】
処理液付与制御部３６０は、画像処理部３４６から得られた印字データに基づいて、処理液付与のタイミングの制御を制御するとともに、処理液の付与量を制御する。また、乾燥処理制御部３６２は、乾燥処理のタイミングを制御するとともに、処理温度、送風量等を制御し、定着処理制御部３６４は、定着処理部２６０のヒータ２６６の温度を制御するとともに、定着ローラ２６８の押圧を制御する。
【０２１６】
検出部３６６は、図１８に示したインラインセンサ２８２と、インラインセンサ２８２から出力される読取信号にノズル除去や増幅、波形整形などの所定の信号処理を施す信号処理部を含む処理ブロックである。システム制御部４０２は、検出部３６６により得られた検出信号に基づいて、ヘッド３００の吐出異常の有無を判断する。
【０２１７】
図２４に図示した、ローラ制御部４０６、バルブ制御部４０８、ポンプ制御部４１０、温度制御部４１２は、図２の塗布ローラ制御部１０６、バルブ制御部１０８、ポンプ制御部１１０、温度制御部１１２に相当している。また、図２４のローラ駆動部４２２、制御バルブ４０９は図２のローラ駆動部１２２、塗布液供給バルブ３８等の制御バルブに相当している。なお、図２４では、複数の制御バルブを代表して符号４０９を付して図示されている。
【０２１８】
図２４のポンプ４１１、ヒータ４３０は、図２のポンプ１１１、ヒータ２４Ｅ，５２に相当し、図２４の濃度センサ４４８、温度センサ４２４、フロートセンサ４２６及び媒体検出センサ４２０は、それぞれ図２の濃度センサ４８、温度センサ１２４、フロートセンサ１２６（３３）、媒体検出センサ１２０に相当している。なお、図２に図示した構成と対応関係を説明した構成についてはすでに説明しているので、ここでの説明は省略する。
【０２１９】
上述した他の装置構成例では、記録媒体にカラーインクを吐出してカラー画像を記録するインクジェット記録装置を例示したが、マスクパターンの形成やプリント配線基板の配線描画など基板に樹脂液等により所定のパターン形状を形成する他の画像形成装置にも、本発明に係る塗布装置（液供給装置）を適用可能である。
【０２２０】
以上、本発明に係る塗布装置（液供給装置）を詳細に説明したが、本発明は、以上の例には限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変形を行ってもよいのはもちろんである。
【０２２１】
〔付記〕
上記に詳述した発明の実施形態についての記載から把握されるとおり、本明細書は少なくとも以下に示す発明を含む多様な技術思想の開示を含んでいる。
【０２２２】
（発明１）：溶媒に溶質を含有する第１液を媒体に付与する液付与装置へ液を供給する供給流路と、前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、前記供給流路を通過する液の物性を測定する測定手段と、前記液付与装置による前記媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに前記供給流路へ前記第２液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、を備えたことを特徴とする液供給装置。
【０２２３】
本発明によれば、液付与装置に供給される第１液の物性監視が可能となり、第１液の物性が所定範囲を超えたときに第２液を供給することで、第１液の物性が安定する。また、第２液を供給することで測定手段が浄化され、かつ、第２液を供給する際の物性値の変化から切換手段の動作確認が可能である。第１液と第２液の物性監視を行うことで、第１液と第２液のタンクに補充される液の誤充填が検出可能となる。
【０２２４】
第１液は、溶媒（例えば、水系溶媒）に所定の溶質成分を含有させた液体であり、その一例として、所定の媒体の表明をコートする（コート層を形成する）コート液が挙げられる。また、第２液は、第１液の溶媒のみでもよい。
【０２２５】
第１液の物性（物性値）は、少なくとも第１液の濃度情報を含む態様が好ましい。すなわち、切換制御手段は第１液の濃度情報に応じて第１液と第２液との供給切換を制御する。
【０２２６】
切換手段には、切換制御手段から送出された制御信号に応じて動作する制御弁を適用する態様が好ましい。
【０２２７】
（発明２）：発明１に記載の液供給装置において、前記供給流路を通過する液を加圧する第１加圧手段と、前記液付与装置による媒体への液付与処理停止中に前記第２液を前記液付与装置へ供給する場合に、前記第１加圧手段を連続的又は断続的に動作させるように前記第１加圧手段の動作を制御する第１加圧制御手段と、を備えたことを特徴する。
【０２２８】
かかる態様によれば、液付与装置の動作中に第１液の溶媒が蒸発して第１液の濃縮が進行した場合にも、動作休止中に第１液を希釈させることで、次の液付与装置の動作時における第１液の好ましい状態が維持される。
【０２２９】
また、供給流路や測定手段を第２液によって洗浄することができ、供給流路や測定手段の好ましい状態が維持される。
【０２３０】
（発明３）：発明２に記載の液供給装置において、前記第１加圧制御手段は、前記液付与装置による媒体への液付与処理中に前記第２液を供給する場合に、前記第１加圧手段を断続的に動作させることを特徴とする。
【０２３１】
かかる態様によれば、液付与装置に液付与処理中においても、液付与装置内の第１液の急激な物性変化を抑制しながら、第１液の好ましい状態を維持し得る。
【０２３２】
（発明４）：発明１乃至３のいずれかに記載の液供給装置において、前記測定手段よりも前記液付与装置側における前記供給流路の少なくとも一部の断面積は、前記切換手段から前記測定手段までの断面積を超える構造を有することを特徴とする。
【０２３３】
かかる態様によれば、切換手段から測定手段までの供給流路の断面積をより小さくすることで物性値の変化を検出する際の応答性が向上する。また、測定手段よりも液付与装置側の供給流路の断面積をより大きくすることで、第１液と第２液との攪拌効果が向上する。
【０２３４】
（発明５）：発明１乃至４に記載の液供給装置において、前記供給流路の前記切換手段から前記測定手段までの断面積は、０．８ｍｍ２以上８０ｍｍ２以下であることを特徴する。
【０２３５】
かかる態様において、測定手段よりも液付与装置側の供給流路の断面積は、７８ｍｍ２（例えば、供給流路の断面が直径１０ｍｍの円の場合の断面積７８．５ｍｍ２）を超え３２０ｍｍ２（例えば、供給流路の断面が直径２００ｍｍの円の場合の断面積３１４ｍｍ２）以下とする態様が好ましい。
【０２３６】
（発明６）：発明１乃至５のいずれかに記載の液供給装置において、前記第１液が貯留される第１液貯留部と、前記第１液貯留部に貯留される液量を検出する液量検出手段と、前記第１液貯留部へ前記第１液を補充する第１液補充手段と、前記第１液貯留部から前記液付与装置へ液が供給される流路とは別経路で前記液付与装置から前記第１液貯留部へ液を循環させる循環流路と、前記第１液貯留部の液量を一定範囲に保つように前記第１液補充手段による前記第１液貯留部への第１液の補充を制御する循環制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【０２３７】
かかる態様によれば、第１液貯留部の液量を一定範囲に保つように第１液を循環させることで、一定量の第２液を加える加水制御が安定する。また、循環によって液付与装置における第１液が均質化され、第１液の物性が安定する。
【０２３８】
循環流路のうち、第１液貯留部から液付与部までは供給流路を含む態様が好ましい。かかる態様によれば、測定手段によって循環中の液の物性値を測定可能となる。
【０２３９】
循環流路と、循環流路に設けられる開閉手段（制御弁）と、加圧手段（ポンプ）と、を含む循環手段を具備する態様も可能である。また、第１貯留部の容積の２０％〜６０％の第１液（例えば、５リットルに対して２〜３リットル）を循環させる態様が好ましい。
【０２４０】
（発明７）：発明６に記載の液供給装置において、前記第１液補充手段の動作頻度を監視し、前記第１液補充手段の動作頻度に基づいて当該液供給装置の状態を判断する監視手段を備えたことを特徴とする。
【０２４１】
かかる態様によれば、液付与装置の動作状態や当該液供給装置の動作状態（液付与装置の供給系の動作状態）を確認することができる。
【０２４２】
例えば、第１液補充手段の動作頻度が所定範囲未満の場合には供給液量の不足であり、液付与装置の異常（付与液量の過少）と判断し、所定範囲を超える場合には供給液量が過剰であり、液供給装置の異常（流路のリーク、液漏れ等）と判断することができる。
【０２４３】
（発明８）：溶媒に溶質を含有する第１液を媒体に付与する液付与部と、前記液付与部へ液を供給する供給流路と、前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、前記供給流路を通過する液の物性を測定する測定手段と、前記液付与部による媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに、前記供給流路へ前記第２液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、を備えたことを特徴とする液付与装置。
【０２４４】
本発明における液付与装置には、所定の媒体に第１液を塗布する塗布装置が含まれる。
（発明９）：発明８に記載の液付与装置において、前記液付与部による媒体への液付与処理の際に、前記測定手段の測定結果に応じて、前記液付与部により媒体に付与される液の温度を調節する温度調節手段を備えたことを特徴とする。
【０２４５】
かかる態様によれば、第１液の物性値に応じて前記供給流路を通過する液の温度を調節することで、第１液に物性の変化が生じた場合（例えば、濃縮した場合）の付与量の微調整ができ、第１液の付与量を安定させることができる。
【０２４６】
かかる態様において、第１液の温度を上げると粘度が低下して溶質成分の塗布量を減少させることができる。すなわち、第１液の濃縮が進行して付与量が増加するときには、第１液の温度を上げて付与量の微調整が可能である。
【０２４７】
（発明１０）：発明８又は９に記載の液付与装置において、前記液付与部は、回転させながら前記媒体へ接触させて前記第１液を前記媒体へ付与する付与ローラを含み、前記液付与部による媒体への液付与処理の際に、前記測定手段の測定結果に応じて、前記付与ローラの回転速度及び前記付与ローラの前記媒体への付勢力の少なくともいずれかを可変させる付与ローラ制御手段を備えたことを特徴とする。
【０２４８】
かかる態様によれば、付与ローラ等を制御することにより第１液の物性変化による塗布量の変化の微調整が可能である。
【０２４９】
（発明１１）：記録媒体に処理液を付与する処理液付与手段と、前記処理液付与手段によって処理液が付与された記録媒体に画像を形成する画像形成手段と、前記処理液付与手段へ液を供給する供給流路と、前記供給流路へ前記処理液を供給する処理液供給流路と、前記処理液よりも溶質成分の含有比率が低い希釈液を前記供給流路へ供給する希釈液供給流路と、前記供給流路へ前記処理液を供給するか前記希釈液を供給するかを切り換える切換手段と、前記供給流路を通過する液の物性を測定する測定手段と、前記処理液付与部による記録媒体への処理液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに、前記供給流路へ前記第２液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、を具備することを特徴とする画像形成装置。
【０２５０】
本発明に係る画像形成装置には、インクジェット方式により記録媒体に画像を形成するインクジェット記録装置が含まれる。
【０２５１】
また、本明細書は以下に示す発明を含む技術思想の開示を含んでいる。
【０２５２】
（発明１２）：発明１乃至７のいずれかに記載の液供給装置において、前記液付与装置を洗浄するための洗浄液を前記液付与装置へ供給する洗浄液供給流路と、前記供給流路を介して前記液付与装置に洗浄処理が施された後の洗浄液を回収する洗浄液回収手段と、を備えたことを特徴とする。
【０２５３】
かかる態様によれば、洗浄液を液付与装置から回収する際に、供給流路の洗浄が可能となる。また、かかる態様において、供給流路を経由して液付与装置へ洗浄液を供給する態様も好ましい。
【０２５４】
（発明１３）：発明１２に記載の液供給装置において、前記洗浄液回収手段は、前記測定手段を介して前記液付与装置に洗浄処理が施された後の洗浄液の少なくとも一部を回収することを特徴とする。
【０２５５】
かかる態様によれば、測定手段によって洗浄後の洗浄液の物性値を測定し、該物性値に基づく洗浄状態のモニタが可能となる。
【０２５６】
（発明１４）：発明１２又は１３に記載の液供給装置において、前記洗浄液は前記第２液であり、前記洗浄液供給流路は前記第２液供給流路であり、前記切換制御手段は、前記洗浄液を前記液付与装置へ供給するよう前記切換手段を切り換えることを特徴とする。
【０２５７】
第１液を希釈する第２液を洗浄液として用いることで、供給系を共通化することができ、装置構成の簡略化が可能である。また、回収された洗浄後の第２液を希釈液として再利用することが可能となる。
【０２５８】
（発明１５）：発明２乃至７のいずれか及び発明１２乃至１３のいずれかに記載の液供給装置において、前記第１加圧手段は、チューブポンプを含み、前記第１加圧制御手段は、当該液供給装置の動作に応じて前記第１加圧手段の動作方向を制御することを特徴とする。
【０２５９】
供給流路内の液を加圧する第１加圧手段を正逆転可能に構成することで、供給流路を液回収流路として使用することができる。
【０２６０】
（発明１６）：発明９又は１０のいずれかに記載の液付与装置において、前記液付与部を洗浄する場合、前記温度調節手段は前記媒体に前記第１液を付与するときよりも前記第２液の温度が高くなるように洗浄液温度調節手段の設定温度を上げることを特徴とする。
【０２６１】
かかる態様によれば、洗浄液の粘度が低下し溶解度が増加するので、洗浄効果を高めることが可能となる。
【０２６２】
（発明１７）：発明８乃至１０及び１６に記載の液付与装置において、前記液付与部は、前記供給流路を介して供給された液が保持される液保持部を具備し、前記液保持部と連通する液回収流路と、前記液保持部内の液及び前記液回収流路内の液を加圧する第２加圧手段と、前記第２加圧手段の動作を制御する第２加圧制御手段と、を備え、前記第２加圧制御手段は、前記液付与部を洗浄するときの前記液付与部の液量が前記媒体へ前記第１液を付与するときの前記液付与部の液量よりも多くなるように前記第２加圧手段を制御することを特徴とする。
【０２６３】
液付与部の洗浄時における液付与部の洗浄液の液面が第１液付与時よりも上昇して液界面の洗浄性が向上する。
【０２６４】
（発明１８）：発明１０、１６及び１７に記載の液付与装置において、前記付与ローラ制御手段は、洗浄時における前記付与ローラの回転速度を前記第１液の付与動作時よりも上げるように前記付与ローラの動作を制御することを特徴とする。
【０２６５】
かかる態様によれば、洗浄液の攪拌性が増して洗浄効果が向上する。
【０２６６】
（発明１９）：発明１７又は１８に記載の液付与装置において、前記液回収流路を介して回収された液を収容する廃液収容手段を備え、前記第２加圧制御手段は、前記液付与部を洗浄する際に、前記廃液回収手段に収容されている液を前記液付与部へ戻すように前記第２加圧手段を制御することを特徴とする。
【０２６７】
かかる態様によれば、廃液回収手段に収容されている液を予備洗浄に使用することで、洗浄液の消費量の低減化を図ることが可能となる。
【０２６８】
（発明２０）：発明１９に記載の液付与装置において、前記第１液貯留部へ前記第１液を補充する第１液補充手段と、前記液付与装置と前記第１液貯留部との間で液を循環させる循環流路と、前記第１液貯留部の液量を一定範囲に保つように前記第１液補充手段による前記第１液貯留部への第１液の補充を制御する循環制御手段と、を備え、前記第２加圧制御手段を用いて前記廃液回収手段に収容されている液を前記液付与部へ戻すように前記第２加圧手段を制御し、前記循環制御手段を用いて前記液付与部、前記供給流路及び前記測定手段を介して前記第１液貯留部へ循環させ、前記測定手段を用いて前記循環させる液の物性値を監視しながら、前記温度調整手段を用いて前記循環させる液に濃縮処理を施すことを特徴とする。
【０２６９】
（発明２１）：発明２０に記載の液付与装置において、前記供給流路及び前記第１液供給流路、前記第２液供給流路における液の流れ方向を切り換える液流方向切換手段と、前記液付与部へ前記第２液が供給された後に前記第２液が回収されるときに、前記液付与部内及び前記供給流路内の液が前記付与液供給流路を介して回収されるように、前記切換手段及び前記液流方向切換手段を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【０２７０】
かかる態様によれば、「液抜き」を行うことで部品交換などのメンテナンスにおける作業性が改善されるとともに、凍結等による各流路や各流路に設けられる加圧手段、切換手段などの破損が防止される。
【０２７１】
かかる態様における「液抜き」は、夜間など装置を長期間停止させる場合に行うとことが好ましい。
【０２７２】
（発明２２）：発明２１に記載の液付与装置において、前記第２液が貯留される第２液貯留部を備え、前記制御手段は、前記第２液供給流路内の液が前記第２液貯留部へ回収されるように、前記切換手段及び前記液流方向切換手段を制御することを特徴とする。
【０２７３】
かかる態様によれば、第２液の「液抜き」も可能である。
【０２７４】
（発明２３）：発明１７乃至２２のいずれかに記載の液付与装置において、前記液回収流路の前記第２加圧手段よりも前記液付与部側に設けられ、前記液回収流路を通過する液をろ過する第１フィルタ手段と、前記第１フィルタ手段の前記液付与部側に接続されるとともに前記廃液回収手段と連通される第２液回収流路と、前記第１フィルタ手段から前記第２液回収流路を介して前記廃液回収手段へ液が流れるときに前記第２回収流路を開く第２回収流路開閉手段と、を備えたことを特徴とする。
【０２７５】
かかる態様によれば、第１フィルタ手段の詰まりが解消されるとともに、第１フィルタ手段に詰まっていた汚れは廃液回収手段に回収される。
【０２７６】
（発明２４）：発明２３に記載の液付与装置において、前記第２回収流路開閉手段は、前記第１フィルタ手段から前記第２流路へ液が流れるときに開く一方向弁を含むことを特徴とする。
【０２７７】
かかる態様によれは、簡単な構成によって第１フィルタ手段のメンテナンスが可能となる。
【０２７８】
一方向弁は、所定の方向に所定の圧力が付与されたときにのみ開くように動作するリリーフバルブを適用するとよい。
【０２７９】
（発明２５）：発明２３又は２４に記載の液付与装置において、前記第２回収流路は、少なくとも前記第１フィルタ手段と前記第２流路開閉手段との間が弾性を有する部材により構成されることを特徴とする。
【０２８０】
かかる態様によれは、瞬間的に流速が速まるので効果的である。
【０２８１】
（発明２６）：発明１９乃至２５のいずれかに記載の液付与装置において、前記液付与部の前記第１液回収流路と連通する排出部に設けられ、前記液付与部から前記第１液回収流路へ排出される液をろ過する第２フィルタ手段と、一方の端部は前記供給流路と連通され、他方の端部は前記廃液回収手段と連通されるメンテナンス流路と、前記メンテナンス流路に設けられ前記供給流路から前記廃液回収手段へ液が流れるときに開くメンテナンス流路開閉手段と、を備えたことを特徴とする。
【０２８２】
かかる態様によれば、第２フィルタ手段の詰まりが解消されるとともに、第２フィルタ手段に詰まっていた第１液の溶質成分は第１液貯留部へ回収される。
【０２８３】
（発明２７）：発明２６に記載の液付与装置において、前記メンテナンス流路開閉手段は、前記供給流路から前記廃液回収手段へ液が流れるときに開く一方向弁を含むことを特徴とする。
【０２８４】
一方向弁は、メンテナンス流路と供給流路との接合部により近い位置に設けられる態様が好ましい。
【０２８５】
（発明２８）：発明２６又は２７に記載の液付与装置において、前記メンテナンス流路は、少なくとも前記供給流路との接続部と前記メンテナンス流路開閉手段との間が弾性を有する部材により構成されることを特徴とする。
【符号の説明】
【０２８６】
１０…塗布装置、１２…塗布部、１４…供給部、２２…塗布ローラ、２４…塗布皿、３０…塗布液補充タンク、３２…塗布液バッファタンク、３３，１２６…フロートセンサ、３４…塗布液補充ポンプ、３６…供給流路、３８…塗布液供給バルブ、４０…供給ポンプ、４２…希釈液タンク、４６…希釈液供給バルブ、４８…濃度センサ、５０…変換部、５２…ヒータ、５６…サーミスタ、６４…排出流路、６８…排出ポンプ、７０…排出バルブ、７２…廃液タンク、７４…循環流路、７６…循環バルブ、１０２…システム制御部、１０６…塗布ローラ制御部、１０８…バルブ制御部、１１０…ポンプ制御部、１１２…温度制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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