(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の磁極を有する第１の磁石と、当該第１の磁極に対して対向配置される第２の磁極を有する第２の磁石と、前記第１の磁極と同極の第３の磁極と前記第２の磁極と同極の第４の磁極とを有する第３の磁石とを備え、前記第１の磁極と前記第３の磁極とが対面すると共に、前記第２の磁極と前記第４の磁極とが対面するように前記第１の磁石と前記第２の磁石の間の隙間に前記第３の磁石の一部分を挿入し、前記第１及び第２の磁石の組と前記第３の磁石とのいずれか一方を固定部、前記第１及び第２の磁石の組と前記第３の磁石とのいずれか他方を可動部として、当該可動部に接続された被支持体を、前記第１の磁極と前記第２の磁極とが対面する第１の方向と直交する２つの方向のうち、前記第３の磁石が挿入される第２の方向に移動可能に支持する磁気支持機構であって、
前記第３の磁石は、前記第１及び第２の方向と直交する第３の方向における磁力が作用する実効的な幅が、前記第１の磁石及び前記第２の磁石の間に挿入される側の第１の端部より当該第１の端部とは反対側の第２の端部が狭くなるように形成されていることを特徴とする磁気支持機構。
【請求項２】
前記第３の磁石は、前記第１及び第２の方向と直交する第３の方向における磁力が作用する実効的な幅が、前記第１の磁石及び前記第２の磁石の間に挿入される側の第１の端部より当該第１の端部とは反対側の第２の端部がより狭くなるように傾斜した形状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気支持機構。
【請求項３】
前記第３の磁石は、前記第１及び第２の方向と直交する第３の方向における磁力が作用する実効的な幅が、前記第１の磁石及び前記第２の磁石の間に挿入される側の第１の端部より当該第１の端部とは反対側の第２の端部がより狭くなるように切り欠いた穴部が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気支持機構。
【請求項４】
第１の磁極を有する第１の磁石と、当該第１の磁極に対して対向配置される第２の磁極を有する第２の磁石と、前記第１の磁極と同極の第３の磁極と前記第２の磁極と同極の第４の磁極とを有する第３の磁石とを備え、前記第１の磁極と前記第３の磁極とが対面すると共に、前記第２の磁極と前記第４の磁極とが対面するように前記第１の磁石と前記第２の磁石の間の隙間に前記第３の磁石の一部分を挿入し、前記第１及び第２の磁石の組と前記第３の磁石とのいずれか一方を固定部、前記第１及び第２の磁石の組と前記第３の磁石とのいずれか他方を可動部として、当該可動部に接続された被支持体を、前記第１の磁極と前記第２の磁極とが対面する第１の方向と直交する２つの方向のうち、前記第３の磁石が挿入される第２の方向に移動可能に支持する磁気支持機構であって、
前記第１及び第２の磁石の組は、前記第１及び第２の方向と直交する第３の方向における磁力が作用する実効的な幅が、前記第３の磁石が挿入される側の前記第１及び第２の磁石の第１の端部から当該反対側の第２の端部にいくにつれて狭くなるように形成されていることを特徴とする磁気支持機構。
【請求項５】
第１の磁極を有する第１の磁石と、当該第１の磁極に対して対向配置される第２の磁極を有する第２の磁石と、前記第１の磁極と同極の第３の磁極と前記第２の磁極と同極の第４の磁極とを有する第３の磁石とを備え、前記第１の磁極と前記第３の磁極とが対面すると共に、前記第２の磁極と前記第４の磁極とが対面するように前記第１の磁石と前記第２の磁石の間の隙間に前記第３の磁石の一部分を挿入し、前記第１及び第２の磁石の組と前記第３の磁石とのいずれか一方を固定部、前記第１及び第２の磁石の組と前記第３の磁石とのいずれか他方を可動部として、当該可動部に接続された被支持体を、前記第１の磁極と前記第２の磁極とが対面する第１の方向と直交する２つの方向のうち、前記第３の磁石が挿入される第２の方向に移動可能に支持する磁気支持機構であって、
前記第１の方向から見たとき、前記第３の磁石を前記第２の方向に挿入するにつれて前記第１の磁石と前記第３の磁石とが重なる面積の増加率が低減することを特徴とする磁気支持機構。
【請求項６】
基板及び原版を相対的に移動可能に保持するステージ装置と、
前記原版のパターンを前記基板に露光するための照明光を形成する照明装置と、を備える露光装置であって、
前記照明装置の遮光部を駆動するための駆動部を、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の磁気支持機構により支持したことを特徴とする露光装置。
【請求項７】
請求項６に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、互いに対面する磁石の磁気反発力により被支持体を支持する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体デバイスの更なるパターン微細化、高スループット化の要求に対応するために、ウエハサイズの大型化、露光光学系のＮＡの増大、露光装置の高スループット化等によって、露光装置自体のサイズが大型化している。また、近年の露光装置では、スリット形状の照明光を用いて、レチクルとウエハを同期させながら走査して露光する走査露光方式が主流である。
【０００３】
この露光装置の大型化に伴って、ステージその他の駆動機構を構成するアクチュエータも大型化してきており、アクチュエータから発生する熱やその変動によって構造体が変形し、半導体デバイスのパターン微細化を阻害する要因となっている。このため、熱の発生を抑えながら、大型且つ高重量のアクチュエータの可動要素を可動範囲内で一定の支持力で支持する支持機構が望まれている。ところが、熱の発生を抑えるように支持機構を構成しても、可動要素の可動範囲内において支持力が大きく変動してしまうという不都合がある。
【０００４】
特許文献１には、浮上部２（可動部）と固定部１に吸引力が働くように磁石が配置された磁気支持機構が記載されている。この磁気支持機構は、空隙の幅の増加に起因する漏れ磁束の増加を抑制するための磁気手段２１を備え、漏れ磁束の増加を抑制することにより、空隙の幅が変化した場合においても、支持力の変化を低減する効果を得ている。
【０００５】
また、特許文献２には、可動部３１と固定部３２の磁石が同極で対面となるように配置され、反発力を利用して浮上させる磁気支持機構が記載されている。固定部３２は、磁石が平行に配置されており、この平行に配置された磁石間に同極が対面となるように、可動部の磁石３１が押し込まれている。この磁気支持機構では、可動磁石を固定磁石の間に押し込んでいくと所定の位置まで支持力が増加するが、ある領域で可動磁石の位置と支持力がほぼ一定となる領域が存在する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−２８４４３８号公報
【特許文献２】特開２００３−３４３５５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１では、可動部の位置によって補極を含む可動部と固定部の磁極間距離が変化するため、磁気吸引力が変化してしまう。すなわち、可動部の位置の変化は、磁極間の変化に相当し、これにより磁力の変化が大きくなってしまう。したがって、可動位置に応じた支持力の変化を低減する効果が小さく、大きな支持力が必要な場合、可動位置によって支持力の差が大きくなってしまう。
【０００８】
特許文献２では、特許文献２の図４に磁石の浮上位置と浮上力の関係が示されているが、ある領域で浮上力が一定になるのではなく、浮上力が増加から減少に変わる曲線の一部分を利用している。このため、浮上力の変化が小さい領域を移動させること及びその領域を広げることが困難である。すなわち、浮上力の変化を低減する範囲が小さく、可動範囲が狭い領域に限られてしまうため、可動範囲が広い場合、可動位置によって支持力の差が大きくなってしまう。
【０００９】
このように、従来の磁気支持機構では、大きな支持力が必要な場合や広い可動範囲が必要な場合に、可動位置に応じた支持力の差分を調整するアクチュエータが必要であり、その調整する力を発生させるためにアクチュエータから熱が発生してしまう。
【００１０】
本発明は、上記課題に鑑みてなされ、その目的は、被支持体の可動範囲における支持力の変化を低減できる磁気支持機構を実現することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決し、目的を達成するために、本発明の磁気支持機構は、第１の磁極を有する第１の磁石と、当該第１の磁極に対して対向配置される第２の磁極を有する第２の磁石と、前記第１の磁極と同極の第３の磁極と前記第２の磁極と同極の第４の磁極とを有する第３の磁石とを備え、前記第１の磁極と前記第３の磁極とが対面すると共に、前記第２の磁極と前記第４の磁極とが対面するように前記第１の磁石と前記第２の磁石の間の隙間に前記第３の磁石の一部分を挿入し、前記第１及び第２の磁石の組と前記第３の磁石とのいずれか一方を固定部、前記第１及び第２の磁石の組と前記第３の磁石とのいずれか他方を可動部として、当該可動部に接続された被支持体を、前記第１の磁極と前記第２の磁極とが対面する第１の方向と直交する２つの方向のうち、前記第３の磁石が挿入される第２の方向に移動可能に支持する磁気支持機構であって、前記第３の磁石は、前記第１及び第２の方向と直交する第３の方向における磁力が作用する実効的な幅が、前記第１の磁石及び前記第２の磁石の間に挿入される側の第１の端部より当該第１の端部とは反対側の第２の端部が狭くなるように形成されている。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、被支持体の可動範囲における支持力の変化を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明に係る実施形態の磁気支持機構を示す図である。
【図２】従来の磁気支持機構の効果を説明する図である。
【図３】本発明に係る磁気支持機構の効果を説明する図である。
【図４】従来の磁気支持機構の作用と本発明に係る磁気支持機構の作用とを比較して示す図である。
【図５】本発明に係る実施形態２の磁気支持機構を示す図である。
【図６】本発明に係る実施形態３の磁気支持機構を示す図である。
【図７】本発明の磁気支持機構を適用した遮光装置を示す図である。
【図８】本発明に係る実施形態の磁気支持機構を適用した遮光装置を露光装置に適用した一例を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下に、添付図面を参照して本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。尚、以下に説明する実施の形態は、本発明を実現するための一例であり、本発明が適用される装置の構成や各種条件によって適宜修正又は変更されるべきものであり、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではない。
【００１５】
［磁気支持機構の構成］図７は、本発明に係る実施形態の磁気支持機構を適用した遮光装置の構成を示す図である。以下では、本発明の磁気支持機構を、ウエハにパターンを焼き付けて半導体デバイスを製造するための露光装置に搭載される遮光装置２００に適用した例について説明する。図７において、遮光装置２００は、不要な露光領域に照明光が照射されないように、遮光部を不図示のレチクル（原版）およびウエハ（基板）と同期走査させる。遮光部としてのブレードは、矩形の照射領域１１０を画定するために、水平方向（Ｘ方向）に移動するＸブレード１３１Ａ，１３１Ｂと、鉛直方向（Ｚ方向）に移動するＺブレード１２１Ａ，１２１Ｂを有する。これらのブレードのうち、レチクルおよびウエハと同期走査させるのは、Ｚブレード１２１Ａ，１２１Ｂである。Ｚブレード１２１Ａ，１２１Ｂを移動させた場合、リニアモータ１２３で構成されるブレード駆動部１２４では駆動反力が発生し、ブレード支持部としての照明支持部１０１に振動外乱として加わってしまう。この駆動反力を打ち消す方法として、カウンタマス、あるいはカウンタウェイトと呼ばれる機構がある。カウンタマスとは、移動体の移動方向と反対方向に質量体を移動することによって移動体の移動による反力の影響を相殺する機構である。
【００１６】
本例の遮光装置２００の場合、リニアモータ１２３によってＺブレードの可動子１２１Ａ，１２１Ｂを移動させ、リニアモータ１３３によってＸブレード１３１Ａ，１３１Ｂを移動させる。Ｚブレード１２１Ａ，１２１Ｂが−Ｚ方向に移動した場合、その駆動反力によって、ブレード駆動部１２４は、スライダ１２６に沿って＋Ｚ方向に移動することによって、Ｚブレード１２１Ａ，１２１Ｂの駆動反力を打ち消している。同様に、Ｚブレード１２１Ａ，１２１Ｂが＋Ｚ方向に移動した場合、ブレード駆動部１２４は−Ｚ方向に移動し、駆動反力を打ち消すことができる。しかし、この方法では、ブレード駆動部１２４の自重による力が、常に−Ｚ方向に生じているため、ブレード駆動部１２４がＺ方向へ移動する妨げとなるおそれがある。このため、この自重による力を相殺するために、自重補償を行う磁気支持機構１００によりブレード駆動部１２４を支持している。磁気支持機構１００は、ブレード駆動部１２４の自重に相当する力をその可動範囲内で一定の磁気反発力で支持する。そして、磁気支持機構１００の支持力が、被支持体としてのブレード駆動部１２４の可動範囲内で変動したとしても、アクチュエータ１２５により力を制御することが可能である。
【００１７】
［実施形態１］図１は本発明に係る実施形態１の磁気支持機構１００を異なる方向から見た斜視図である。磁気支持機構１００は、第１の磁極面（Ｓ極）を有する第１の磁石２２ａが第１のヨーク２３ａに固定された第１の固定部２１ａを有する。また、磁気支持機構１００は、第１の磁極（Ｓ極）に対してＸ方向の間隔が一定になるように平行に対向配置される第２の磁極（Ｎ極）を有する第２の磁石２２ｂが第２のヨーク２３ｂに固定された第２の固定部２１ｂを有する。更に、磁気支持機構１００は、第１の磁極と同極の第３の磁極（Ｓ極）と第２の磁極と同極の第４の磁極（Ｎ極）とを有する第３の磁石１２を有する。そして、第１の磁極と第３の磁極とが対面すると共に、第２の磁極と第４の磁極とが対面するように第１の磁石２２ａと第２の磁石２２ｂの間の隙間に第３の磁石１２の一部分を移動可能に挿入する。上記構成で、第１及び第２の磁石２２ａ，２２ｂの組と第３の磁石１２とのいずれか一方を固定部、第１及び第２の磁石２２ａ，２２ｂの組と第３の磁石１２とのいずれか他方を可動部とする。このようにして、上記可動部に接続された被支持体を、第１の磁極と第２の磁極とが対面する第１の方向（Ｘ方向）と直交する２つの方向（Ｙ方向及びＺ方向）のうち、第３の磁石１２が挿入される第２の方向（Ｚ方向）に移動可能に支持する。即ち、磁気支持機構１００は、第１の磁石２２ａの第１の磁極と第２の磁石２２ｂの第２の磁極とが第３の磁石１２における各同極の磁極が対面することにより発生するＺ方向の磁気反発力を利用して第３の磁石１２を非接触で支持する。
【００１８】
以下では、第１及び第２の磁石２２ａ，２２ｂを固定部、第３の磁石１２を可動部として説明するが、第３の磁石１２を固定部、第１及び第２の磁石２２ａ，２２ｂを可動部としても、同等の効果を奏することは言うまでもない。これは、一方の磁石の実効幅が変化していくのに対して、他方の磁石の実効幅が変化しないためである。
【００１９】
第３の磁石１２は、第３の方向（Ｙ方向）における磁力が作用する実効的な幅ｗが、第１の磁石２２ａ及び第２の磁石２２ｂの間に挿入される側の第１の端部１２ｂより当該第１の端部１２ｂと反対側の第２の端部１２ａが狭くなるように形成されている。換言すると、第３の磁石１２の磁極面の形状は、第１の端部１２ｂから＋Ｚ方向に向かうほど磁力が作用する実効的な幅又は面積が狭くなるように形成されている。更に換言すると第３の磁石１２を挿入していく際、磁石２２ａ，２２ｂの磁極面と重なる面積の増加量が小さくなるように磁力が作用する実効的な幅又は面積が形成されている。つまり、第１の方向（Ｘ方向）から見たとき、第３の磁石を第２の方向（−Ｚ方向）に挿入するにつれて第１の磁石と第３の磁石とが重なる面積の増加率が低減するように形成されている。
【００２０】
本実施形態では、第３の磁石１２のＹ方向の両端部に傾斜部１３が形成されている。傾斜部１３は、第３の磁石１２のＹ方向の幅ｗが、第１及び第２の磁石２２ａ，２２ｂの間に挿入される側の第１の端部１２ｂより第１の端部１２ｂとは反対側の第２の端部１２ａがより狭くなるように形成されている。この傾斜部１３は、少なくとも一部又は全体的に形成され、直線状でも湾曲した形状でもよい。
【００２１】
なお、実効的な幅とは、互いに対面する磁極からの磁力が作用する実効的な長さ又は面積を意味し、実施形態１では、Ｙ方向の幅ｗである。
【００２２】
なお、第１のヨーク２３ａと第２のヨーク２３ｂと、これらヨーク２３ａ，２３ｂを接続するＸ方向に延びるヨーク２４は、本実施形態の磁気支持機構１００に必須の構成ではない。本実施形態として適用する場合、第１の磁石２２ａの第１の磁極と第３の磁石１２の第３の磁極と、第２の磁石２２ｂの第２の磁極と第３の磁石１２の第４の磁極の間の間隔を一定に保持する必要がある。このため、Ｚ方向にのみ移動可能なガイド機構等を配置することで、Ｘ−Ｙ方向への変位を規制することが望ましい。また、第１及び第２の磁石２２ａ，２２ｂと第３の磁石１２とが互いに同極の磁極が対面するように配置されていれば、磁極の配列は図１と同様でなくともよい。以上の条件を満たしていれば、第１及び第２の磁石２２ａ，２２ｂと第３の磁石１２は、単一でも複数で構成してもよい。
【００２３】
次に、本発明に係る作用を、図２から図４を参照して説明する。図２（ａ）、（ｂ）は従来の磁気支持機構を簡易的に示した正面図及び側面図である。図３（ａ）、（ｂ）は本発明に係る磁気支持機構を簡易的に示した正面図及び側面図である。図４は従来の磁気支持機構と本発明に係る磁気支持機構の可動部の磁石の位置Ｚと支持力Ｆｚの関係を例示し、曲線４１および曲線４２は、従来の磁気支持機構の特性、曲線４３は本発明に係る磁気支持機構の特性をそれぞれ示している。曲線４１と曲線４２は、図２に示す従来の磁気支持機構の可動磁石３１の幅ｗが異なっている。曲線４２は、図３に示す本例の第３の磁石１２の幅ｗ１より小さく、曲線４１は、図３に示す本例の第３の磁石１２の幅ｗ２より大きい場合をそれぞれ示している。なお、図２では、図１と同様の構成には同一の符号を付して示している。
【００２４】
図４の曲線４１または４２に示すように、可動磁石３１を図２に示す挿入位置ｚ１から−Ｚ方向に移動させると、位置ｚ２まで支持力が増加していき、更に可動磁石３１を−Ｚ方向に移動させると、支持力Ｆｚは略一定になった後に急減する。
【００２５】
一方、図４の曲線４３に示すように、本実施形態では、図３に示す位置ｚ１からｚ２まで第３の磁石１２を挿入していくときの支持力の変化の傾きが低減されている。本実施形態では、第３の磁石１２が−Ｚ方向に移動した場合、その端面に形成された傾斜部１３によって、一定の幅ｗ２の長方形磁石を−Ｚ方向に移動させた場合と比較して磁場から力を受ける実効的な幅又は面積が減少している。これにより、−Ｚ方向に移動したときの支持力の増加を抑えることができる。よって、本発明は、従来の構造で−Ｚ方向に移動させた場合に所定の位置まで支持力が増加する領域、即ち特許文献２（図４）のような支持力が略一定となる狭い領域でなく、より広い範囲に対して適用可能である。また、電力を供給して駆動されるアクチュエータを使用しないため、電力に起因する熱を発生させることもなくなる。また、アクチュエータを使用した場合においても、本発明により支持力の変化が低減しているため、アクチュエータによる調整分の力が小さくなり、熱の発生を抑えることができる。
【００２６】
また、−Ｚ方向に移動した際の支持力の増加を抑える効果は、図３に示す第３の磁石１２の傾斜部１３の角度θが小さい程、大きくなる。角度θを小さくする場合、図４に示す曲線４１と曲線４２の差が大きくなることに相当するため、曲線４３のＺ２からＺ１の範囲での傾きは、傾斜角度θを小さくしていくと、いずれ図４に示す方向とは逆になる。
【００２７】
本実施形態の磁気支持機構１００は、図７で述べた遮光装置２００のように自重補償を行う装置に搭載することが望ましいが、他の自重補償を必要とする装置に適用してもよい。例えば、本実施形態の磁気支持機構１００を、半導体製造装置におけるウエハ（基板）及びレチクル（原版）を相対的に移動可能に保持するステージ装置等の非接触で磁気反発力を利用して被支持体を支持する装置に適用することもできる。
【００２８】
［実施形態２］次に、図５を参照して、実施形態２の磁気支持機構について説明する。なお、以下では、実施形態１と同様の構成には同一の符号を付して説明を省略する。図５は実施形態２の磁気支持機構の構成を示す斜視図（ａ）、正面図（ｂ）及び側面図（ｃ）である。実施形態１との違いは、可動部としての第３の磁石１２に傾斜部ではなく一部を切り欠いた穴部５１が形成されている点である。この穴部５１の形状は、三角形、四角形、その他の多角形、円形、楕円形等あらゆる形状が適用可能である。また、穴部と傾斜部とを組み合わせてもよい。また、単一でも複数で構成してもよい。
【００２９】
実施形態１と同様に、第３の磁石１２が−Ｚ方向に移動した場合、穴部５１によって実効的な幅ｗ３の磁石を−Ｚ方向に移動させた場合と比較して磁場から力を受ける実効的な幅又は面積が−Ｚ方向に移動する方向ほど減少する。これにより、−Ｚ方向に移動した際、支持力の増加を抑えることができる。
【００３０】
なお、実効的な幅とは、互いに対面する磁極からの磁力が作用する実効的な長さ又は面積を意味し、上記実施形態２では穴部を除いたＹ方向の長さの総和｛ｗ３−（ｗ２ーｗ１）｝を意味する。
【００３１】
［実施形態３］次に、図６を参照して、実施形態３の磁気支持機構について説明する。以下では、実施形態１と同様の構成には同一の符号を付して説明を省略する。図６は実施形態３の磁気支持機構の構成を示す斜視図（ａ）、正面図（ｂ）及び側面図（ｃ）である。実施形態１との違いは、第３の磁石６５は傾斜部や穴部のない長方形とし、第１及び第２の磁石６２ａ，６２ｂに傾斜部６４を形成している点である。
【００３２】
第１及び第２の磁石６２ａ，６２ｂのＹ方向の両端部には傾斜部６４が形成されている。この傾斜部６４は、Ｙ方向の磁力が作用する実効的な幅が、第１及び第２の磁石６２ａ，６２ｂの間に挿入される第３の磁石６５の端部６５ｂの側の第１の端部６２ａ−１，６２ｂ−１が、第１の端部６２ａ−１，６２ｂ−１とは反対側の第２の端部６２ａ−２，６２ｂ−２より狭くなるように形成されている。換言すると、傾斜部６４は、第３の磁石６５が＋Ｚ方向ほど磁力が作用する実効的な幅又は面積が広くなるように形成されている。更に換言すると、傾斜部６４は、第３の磁石６５を挿入していく際、第１及び第２の磁石６２ａ，６２ｂの磁極面と重なる面積の増加量が小さくなるように磁力が作用する実効的な幅又は面積が狭くなるように形成されている。この傾斜部６４は直線状でも湾曲した形状でもよい。また、実施形態２のように穴部を形成したり、傾斜部と穴部とを組み合わせてもよい。但し、第１及び第２の磁石６２ａ，６２ｂが共に等しい形状である必要がある。
【００３３】
実施形態３では、第３の磁石６５が−Ｚ方向に移動した場合、第１及び第２の磁石６２ａ，６２ｂの傾斜部６４によって、第１及び第２の磁石６２ａ，６２ｂが幅ｗ２の長方形磁石であった場合と比較して実効的な幅又は面積が減少する。これにより、−Ｚ方向に移動した際、支持力の増加を抑えることができる。
【００３４】
なお、実効的な幅とは、互いに対面する磁極からの磁力が作用する実効的な長さ又は面積を意味し、実施形態３では、Ｙ方向の幅ｗ１＜ｗ＜ｗ２である。
【００３５】
図８は、本発明に係る実施形態の磁気支持機構を適用した遮光装置を露光装置に適用した一例を示す概略構成図である。光源であるエキシマレーザ２０１から出射された光は、光路調整光学系２０２及び照明形状調整光学系２０３、オプティカルインテグレータ２０４、開口絞り２０５に導かれる。開口絞り２０５を透過した光はレンズ２０６によって遮光装置２００上に結像し、遮光装置２００によって形成された開口エリアを透過した光が結像光学系２０７へ導かれる。そして、結像光学系２０７を透過した光は、レチクルステージ２０９上に載置されたレチクル２０８に照射される。レチクル２０８を透過した光は投影光学系２１０によって、ウエハステージ２１２上に載置されたウエハ２１１上に投影される。本発明に係る実施形態の磁気支持機構を適用した遮光装置は、一括露光型の露光装置であっても走査露型の露光装置であっても適用可能である。
【００３６】
なお、デバイス（半導体集積回路素子、液晶表示素子等）は、上述の実施形態の露光装置を用いて感光剤を塗布した基板を露光する工程と、その感光剤を現像する現像工程と、他の周知の工程と、を経ることにより製造される。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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