(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
分岐または架橋したアニオン性の高分子電解質の製造方法であって、
前記アニオン性の高分子電解質は、該アニオン性の高分子電解質を１００モル％とするときに、ナトリウム塩のフォームに塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸から誘導されるモノマーユニットを９５モル％まで有し、少なくとも１つの中性モノマーを９０モル％まで有し、式(1)の少なくとも１つのモノマーを１０モル％まで有し、
【化１】
0005426013.tif 000004
但し、Ｒ１は水素原子またはメチル基、Ｒは８個から３０個までの炭素原子を含む線状または分岐したアルキル基、ｎは１以上５０以下の数であり、前記アニオン性の高分子電解質の成分単量体単位のモル比の合計が１００％を超えないこと、および前記方法は以下の工程を有すること、
工程ａ）；前記所望のモル比で、溶剤(S)、2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸、中性モノマー、前記2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸のナトリウム塩を形成し得る少なくとも１つの中和剤、必要に応じて前記式(1)のモノマー、および架橋剤及び／又は他の添加物を含む反応混合物を提供する工程であって、前記溶剤(S)は式(2)のケトンまたは混合物のうちのいずれかであり、前記混合物は、該混合物を１００モル％とするときに、２５モル％以下のモル比の水を含むこと、
【化２】
0005426013.tif 000005
但し、Ｒ３とＲ４は、同一または異なり、メチル基、エチル基、イソプロピル基またはイソブチル基のいずれかであり、
式(2)の前記ケトンがモル比で７５モル％以上１００モル％以下であり、
工程ｂ）；前記工程ａ）で提供した前記反応混合物のなかに遊離基イニシエーターを導入することにより開始され、分岐または架橋した前記アニオン性の高分子電解質の沈殿物を得るために反応を終点まで進めさせる重合反応工程と、を有することを特徴とする分岐または架橋したアニオン性の高分子電解質の製造方法。
【請求項２】
前記溶剤(S)からセパレーションにより前記工程ｂ）において得られた前記沈殿物を単離する工程ｃ）をさらに有することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記工程ｃ）から得た前記沈殿物を乾燥させる工程ｄ）をさらに有することを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記溶剤(S)は、プロパン-2-オン、ブタン-2-オン、ペンタン-2-オン、3-メチルブタン-2-オン、3-エチルペンタン-20-オン、または4-メチルペンタン-2-オンのうちから選択されるケトンまたは混合物のいずれかであり、
前記混合物は、該混合物を１００モル％とするときに、１５モル％と等しいか又はそれより小さいモル比の水と、プロパン-2-オン、ブタン-2-オン、ペンタン-2-オン、3-メチルブタン-2-オン、3-エチルペンタン-2-オン、または4-メチルペンタン-2-オンのうちから選択され、９０モル％と等しいか又はそれより大きく、かつ１００モル％以下のモル比のケトンと、からなることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
前記溶剤(S)は、プロパン-2-オン、ブタン-2-オン、ペンタン-2-オン、3-メチルブタン-2-オン、3-エチルペンタン-20-オン、または4-メチルペンタン-2-オンのうちから選択されるケトンまたは混合物のいずれかであり、
前記混合物は、該混合物を１００モル％とするときに、５モル％と等しいか又はそれより小さいモル比の水と、プロパン-2-オン、ブタン-2-オン、ペンタン-2-オン、3-メチルブタン-2-オン、3-エチルペンタン-2-オン、または4-メチルペンタン-2-オンのうちから選択され、９５モル％と等しいか又はそれより大きく、かつ１００モル％以下のモル比のケトンと、からなることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
前記溶剤(S)は、アセトンまたは水／アセトン混合物のいずれかであり、前記水／アセトン混合物のモル比が５/９５と等しいかそれより小さいことを特徴とする請求項４又は５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
前記アニオン性の高分子電解質は、該アニオン性の高分子電解質を１００モル％とするときに、前記式(1)の化合物から誘導されるモノマーユニットを０．０５〜５モル％、とくに０．１〜１モル％有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
前記アニオン性の高分子電解質は、（2-ヒドロオキシエチル）アクリレートまたはN,N-ジメチルアクリルアミドのうちから選択される中性モノマーから誘導されるモノマーユニットを有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
前記アニオン性の高分子電解質は、該アニオン性の高分子電解質を１００モル％とするときに、ナトリウム塩のフォームに塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸から誘導されるモノマーユニットを１０モル％以上９０モル％以下含み、中性モノマーを５モル％から９０モル％まで含み、前記式(1)のモノマーを５モル％まで含むことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
前記アニオン性の高分子電解質は、該アニオン性の高分子電解質を１００モル％とするときに、ナトリウム塩のフォームに塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸から誘導されるモノマーユニットを２５モル％以上９０モル％以下含み、中性モノマーを５モル％から７５モル％まで含み、前記式(1)のモノマーを５モル％まで含むことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
前記アニオン性の高分子電解質は、該アニオン性の高分子電解質を１００モル％とするときに、ナトリウム塩のフォームに塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸から誘導されるモノマーユニットを５０モル％以上８５モル％以下含み、中性モノマーを１０モル％から５０モル％まで含み、前記式(1)のモノマーを５モル％まで含むことを特徴とする請求項９又は１０のいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】
前記アニオン性の高分子電解質は、該アニオン性の高分子電解質を１００モル％とするときに、ナトリウム塩のフォームに塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸から誘導されるモノマーユニットを７５モル％以上８５モル％以下含み、中性モノマーを１０モル％から２５モル％まで含み、前記式(1)のモノマーを５モル％まで含むことを特徴とする請求項９又は１０のいずれか１項記載の方法。
【請求項１３】
前記アニオン性の高分子電解質は、架橋し及び／又はジエチレンまたはポリエチレン化合物が分岐し、関連するすべての前記モノマーがモル比で０．００５モル％と１モル％との間にあることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項記載の方法。
【請求項１４】
前記工程a)の代わりに、溶剤(S)、中性モノマー、前記2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸のナトリウム塩、および式(1)の前記モノマーを所望の割合で有する反応混合物を提供する工程a2)を有することを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項記載の方法。
【請求項１５】
前記工程a2)の前に、前記2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸のナトリウム塩を形成し得る中和剤で前記2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸を中和することにより、前記2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸のナトリウム塩を提供する工程a1)をさらに有することを特徴とする請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
前記架橋したアニオン性の高分子電解質が、ナトリウム塩のフォームに塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸の架橋ターポリマーは、N,N-ジメチルアクリルアミド及びペンタコサエトキシレート・ベヘニル・メタクリレートのナトリウム塩のフォームを塩化したものであり、モノマーユニットを１００モル％とするときに、前記ナトリウム塩のフォームに塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸から誘導される前記モノマーユニットを７５モル％以上８５モル％以下含み、中性モノマーを１０モル％以上２５モル％以下含み、式(1)のモノマーを０．０５モル％以上５モル％以下含む架橋ターポリマーであることを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか１項記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化粧用または製薬用の製剤フォームでの用途、およびそれを提供する方法のための新規なポリマーに関する。
【背景技術】
【０００２】
化粧品業界ではクリーム、乳液および話題の各種溶液の粘性が増加しているため合成濃厚化ポリマーが正式に用いられている。
【０００３】
化粧品業界で現在使用されている合成濃厚化ポリマーは、界面活性剤により水中油分乳液中に分散されるポリマーにおいて粉体フォームおよび液体フォームの２つの物理的フォームがある。
【０００４】
化粧品業界で粉体フォームに使用される濃厚化ポリマーは、商品名カーボポル(CarbopolTM)および商品名ペムレン(PemulenTM)の名称で市販され、特許文献１〜３（米国特許5,373,044公報、米国特許2,798,053公報、欧州特許出願EP 301 532公開公報）に記載されており、主にアクリル酸重合体またはアクリル酸共重合体およびアルキルアクリレート共重合体およびそれらの塩である。
【０００５】
また、最近では2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸単独重合体（ホモポリマー）または共重合体（コポリマー）も化粧品業界において粉体フォーム形態に使用されている。このような製品は、アリストフレックス(Aristoflex)の商品名称で市販され、特許文献４〜６（欧州特許出願EP 816 403公開公報、同EP 1 116 733公開公報、同EP 1 069 142公開公報）に記載されている。
【０００６】
上述したすべてのポリマーは、ベンゼン、エチルアセテート、ヘキサン、シクロヘキサンまたはt-ブタノールのような有機溶剤に溶けた対応するモノマー（コレスポンディングモノマー)から沈殿重合により得られる。
【０００７】
これらの粉体フォームの濃厚剤は、クリアゲルを得ることが可能であり、一般に肌にやさしい。
【０００８】
一方、これらの粉体フォームの濃厚剤にはある種の欠点がある。その欠点とは、時々取扱いが難しいことがあり、濃厚化すべき媒体中への溶け込みが遅く、たまに溶剤残渣を含むことがあり、濃厚化の能力が濃厚化すべき溶液中の電解質の存在によりかなりの影響を受けるなどである。
【０００９】
化粧品業界ではインバース・ラテックスのフォームに濃厚剤が汎用されており、例えば商品名セピゲルTM305、シムルゲルTM600、シムルゲルTMEG、シムルゲルTMNS、シムルゲルTMA、セピプラスTM400、セピプラスTM265、シムルゲルTMS)が市販されている。
【００１０】
これらと違った粉体ポリマーでは、インバース・ラテックスを使用することが容易であり、しかも非常にたやすく分散し、より厚く延びるという実績レベルがある。
【００１１】
それにもかかわらず、それらのインバース・ラテックスは、定着したものが剥げ落ちる現象に関連する製品の良好な安定性と使用中に要求される良好な転置特性とのために油分および１つ又はそれ以上の界面活性剤を含有するという欠点を有する。それは、これらのオイル及び／又は界面活性剤のいくつかは肌にやさしくないことがしばしばあることである。それに加えて、このタイプの濃厚剤はクリアゲルを提供することができない。
【００１２】
特許文献７（欧州特許出願EP 1 496 081 公開公報）は、オイル除去し噴霧乾燥した後のインバース・ラテックスから得た粉状の濃厚剤を開示している。このタイプの濃厚剤は登録商標セピノブETM 10で市販されている。しかし、従来の粉状濃厚剤の短所がいくつか組み合わさると、例えばオイルの不足やインバース・ラテックスの短所、すなわちオイル中での拡散速度が速いことや濃厚化性能が強いことが組み合わさると、完全なクリアゲルが生成されず、また、透明な化粧品製剤の調合に使用することができない。さらに、それらは日焼け止め剤（サンスクリーン）のように電解質中に非常に豊富にある化粧品組成物内で十分な機能を果たせない。
【００１３】
後者の欠点を改善することはすでに可能になっている。すなわち、アンモニウム2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホネート、N,N-ジメチルアクリルアミド、ペンタコサエソキシレート(25 EO)・ビヘニル・メタクリレートの粉状ポリマーを合成することにより、およびt-ブタノール中で沈殿重合させることにより、電解質に対して抵抗性を有するということが特許文献８（国際出願WO 2008/087326公報）に記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】米国特許5,373,044公報
【特許文献２】米国特許2,798,053公報
【特許文献３】欧州特許出願EP 301 532公開公報
【特許文献４】欧州特許出願EP 816 403公開公報
【特許文献５】欧州特許出願EP 1 116 733公開公報
【特許文献６】欧州特許出願EP 1 069 142公開公報
【特許文献７】欧州特許出願EP 1 496 081 公開公報
【特許文献８】国際出願WO 2008/087326公報
【発明の概要】
【００１５】
しかし、t-ブタノールは、純度の高い純粋物になると高価な溶剤である。とくにt-ブタノールは、重合プロセス中に形成される水の除去物が共沸混合物の存在のために複合化する。
【００１６】
さらに、t-ブタノールの使用は、アンモニアまたはアンモニア含有塩と2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸との中和に必要になるため、これらはt-ブタノールに可溶であるこの酸の塩のみに限られる。しかし、アンモニアの存在は、化粧品業界ではハンディキャップとして残る。すなわち、アンモニアの存在を市場タイプのハンディキャップとするか又は技術タイプのハンディキャップとするかという問題である。具体的には、最終製品である製剤からアンモニアを除去すること、ある活性成分とアンモニアイオンとを副反応させること、例えばセルフ日焼け製剤に用いるジヒドロキシアセトン（DHA）を増量することは可能である。
【００１７】
国際出願00/38751は、濃縮水溶液に不溶であり、低濃度の塩水溶液に可溶であるイオン感受性ポリマーを提供する方法を開示している。そのイオン感受性ポリマーは、アセトン/水（質量比で70/30）の混合物内で酸の形成が無い状態でモノマーのラディカル重合により得られる。ポリマー形成後に、任意に、得たポリマーを中和する。
【００１８】
そこで、本発明者は、上記の欠点をもたない新規な合成濃厚剤を見出した。
【００１９】
本発明の第１の面に従う主題は、線状、分岐または架橋したアニオン性の高分子電解質の製造方法であって、前記アニオン性の高分子電解質は、該アニオン性の高分子電解質を１００モル％とするときに、ナトリウム塩のフォームに塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸から誘導されるモノマーユニットを９５モル％まで有し、少なくとも１つの中性モノマーを９０モル％まで有し、任意に式(1)の少なくとも１つのモノマーを１０モル％まで有し、
【化１】
0005426013.tif 000002
【００２０】
但し、Ｒ１は水素原子またはメチル基、Ｒは８個から３０個までの炭素原子を含む線状または分岐したアルキル基、ｎは１以上５０以下の数であり、前記アニオン性の高分子電解質の成分単量体単位のモル比の合計が１００％を超えないこと、および前記方法は以下の工程を有すること、
工程ａ）；前記所望のモル比で、溶剤(S)、2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸、中性モノマー、前記2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸のナトリウム塩を形成し得る少なくとも１つの中和剤、必要に応じて前記式(1)のモノマー、および必要に応じて又は望ましくは架橋剤及び／又は他の添加物を含む反応混合物を提供する工程であって、前記溶剤(S)は式(2)のケトンまたは混合物のうちのいずれかであり、前記混合物は、該混合物を１００モル％とするときに、０モル％より大きく２５モル％以下のモル比の水を含むこと、
【化２】
0005426013.tif 000003
【００２１】
但し、Ｒ３とＲ４は、同一または異なり、メチル基、エチル基、イソプロピル基またはイソブチル基のいずれかであり、
式(2)の前記ケトンがモル比で７５モル％以上１００モル％以下であり、
工程ｂ）；前記工程ａ）で提供した前記反応混合物のなかに遊離基イニシエーターを導入することにより開始され、線状、分岐または架橋した前記アニオン性の高分子電解質の沈殿物を得るために反応を終点まで進めさせる重合反応工程と、を有する。
【００２２】
上述した方法では、前記溶剤(S)からセパレーションにより前記工程ｂ）において得られた前記沈殿物を単離する工程ｃ）を有するようにしてもよく、必要であれば工程ｃ）から得た前記沈殿物を乾燥させる工程ｄ）をさらに有するようにしてもよい。
【００２３】
用語「分岐した高分子電解質」は、それが水に不溶であるときに、低い速度グレードで非常に高い粘性とする結果として高い絡まる状態を得るために、ぶら下がり鎖（ペンダントチェイン）をもつ非線状の高分子電解質のことを意味する。
【００２４】
用語「架橋した高分子電解質」は、水不溶だが水を吸収して膨張し得る三次元ネットワークの形態にある非線状の高分子電解質のことを意味する。その結果としてケミカルゲルが得られる。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
本発明方法により得られた高分子電解質は、架橋したユニット及び／又は分岐したユニットを有することができる。
【００２６】
上記式(1)において、「線状または分岐したアルカリ基は８個から３０個の炭素原子を含む」の記載は、とくにＲのことを意味する。Ｒとは、線状の主アルコールから誘導される基が、例えばオクチル、デシル、アンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、エイコシルまたはドコシル、トリアコンタニルのいずれかの基であるか、又はゲルベ・アルコールから誘導される基のいずれかであり、一般式ＣＨ3-(ＣＨ2)p-ＣＨ[ＣＨ3-(ＣＨ2)p-2]-ＣＨ2ＯＨ，に対応する分岐した1-アルカノールであり、ｐが２〜１４の整数であり、例えば2-エチルヘキシル、2-プロピルヘプチル、2-ブチルオクチル、2-ペンチルノニル、2-ヘキシルデシルまたは2-オクチルドデシルのいずれかの基であるか、又は一般式ＣＨ3-ＣＨ(ＣＨ3)-(ＣＨ2)m-ＣＨ2ＯＨ，に対応するイソアルカノールから誘導される基のいずれかであり、ｍが２〜２６の整数であり、例えば4-メチルペンチル、5-メチルヘキシル、6-メチルヘプチル、15-メチルペンタデシルまたは16-メチルヘプタデシルのいずれかの基であるか、又は2-ヘキルオクチル、2-オクチルデシルまたは2-ヘキシルドデシルのいずれかの基である。
【００２７】
「ナトリウム塩を形成し得る少なくとも１つの中和剤」の記載は、上記方法において、とくに炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウムまたは重炭酸ナトリウム（炭酸水素ナトリウムともいう）のことを意味する。
【００２８】
上記方法の１つの特徴的な面において、中和剤が重炭酸ナトリウムである。
【００２９】
本発明の他の特徴的な面において、上記方法は、Ｒが炭素原子を１０個から２２個まで含むアルキル基であり、より好ましくはアルキル基が炭素原子を１２個から２２個まで含み、最も好ましくはアルキル基が炭素原子を１８個から２２個まで含み、式(1)の化合物から誘導されるモノマーユニットを有するアニオン性の高分子電解質を提供する。
【００３０】
本発明の他のもう１つの特徴的な面において、上記方法は、ｎが３〜３０の整数である式(1)の化合物から誘導されるモノマーユニットを有するアニオン性の高分子電解質を提供する。
【００３１】
本発明の他のもう１つの特徴的な面において、上記方法は、Ｒ１が水素原子である式(1)の化合物から誘導されるモノマーユニットを有するアニオン性の高分子電解質を提供する。
【００３２】
本発明の他のもう１つの特徴的な面において、上記方法は、テトラエトキシレートラウリルアクリレート、テトラエトキシレートラウリルメタクリレート、ペンタコサエトキシレートビヘニルアクリレートまたはペンタコサエトキシレートビヘニルメタクリレートのいずれかから誘導されるモノマーユニットを有するアニオン性の高分子電解質を提供する。
【００３３】
本発明の他の特徴的な面に従う主題は、上記方法において、前記溶剤(S)が、プロパン-2-オン、ブタン-2-オン、ペンタン-2-オン、3-メチルブタン-2-オン、3-エチルペンタン-20-オン、または4-メチルペンタン-2-オンのうちから選択されるケトンまたは混合物のいずれかであり、前記混合物は、該混合物を１００モル％とするときに、０モル％より大きく１５モル％と等しいか又はそれより小さい、好ましくは５モル％と等しいか又はそれより小さいモル比の水と、プロパン-2-オン、ブタン-2-オン、ペンタン-2-オン、3-メチルブタン-2-オン、3-エチルペンタン-2-オン、または4-メチルペンタン-2-オンのうちから選択され、９０モル％と等しいか又はそれより大きい、好ましくは９５モル％と等しいか又はそれより大きく、かつ１００モル％以下のモル比のケトンと、からなる。
【００３４】
本発明の他の特徴的な面に従う主題は、上記方法において、前記溶剤(S)が、アセトンまたは水／アセトン混合物のいずれかであり、前記水／アセトン混合物のモル比が０より大きく５/９５と等しいかそれより小さい。
【００３５】
本発明の他の特徴的な面に従う主題は、上記方法において、前記アニオン性の高分子電解質が前記式(1)の化合物から誘導されるモノマーユニットを有する。
【００３６】
本発明の他の特徴的な面に従う主題は、上記方法において、前記アニオン性の高分子電解質が、該アニオン性の高分子電解質を１００モル％とするときに、前記式(1)の化合物から誘導されるモノマーユニットを０．０５〜５モル％、とくに０．１〜１モル％有する。
【００３７】
中性モノマーは、アクリルアミド、メタクリルアミド、N-アルキルアクリルアミドから選択されるいずれかであることが好ましい。N-アルキルアクリルアミドは、１個から４個までの炭素原子を含むアルキル群、例えばN-メチルアクリルアミド、N-エチルアクリルアミド、N-プロピルアクリルアミド、N-イソプロピルアクリルアミド、N-ブチルアクリルアミド、またはN-(ターブチル)アクリルアミド、N-アクリルメタクリルアミドである。１個から４個までの炭素原子を含むアルキル群は、例えばN-メチルメタクリルアミド、N-エチルメタクリルアミド、N-プロピルメタクリルアミド、N-イソプロピルメタクリルアミド、N-ブチルメタクリルアミドまたはN-(ターブチル)メタクリルアミド、N,N-ジアルキルアクリルアミドである。１〜４個の炭素原子を有するアルキル群は、例えばN,N-ジメチルアクリルアミド、N,N-ジエチルアクリルアミド、またはN,N-ジプロピルアクリルアミド、(2-ヒドロキシエチル)アクリレート、(2,3-ヒドロキシプロピル)アクリレート、(2-ヒドロキシエチル)メタクリレート、(2,3-ジヒドロキシプロピル)メタクリレート、ジアセトンアクリルアミド、またはエトキシレート誘導体であり、これらのエステル又はビニルピロリドンの各々が400〜1000グラム/モルの分子量を有する。
【００３８】
本発明の他の特徴的な面に従う主題は、上記方法において、前記アニオン性の高分子電解質が、アクリルアミド、(2-ヒドロキシエチル)アクリレートまたはN,N-ジメチルアクリルアミドのうちから選択される中性モノマーから誘導されるモノマーユニットを有する。
【００３９】
本発明の１つの特徴的な面に従う主題は、上記方法において、前記アニオン性の高分子電解質が、該アニオン性の高分子電解質を１００モル％とするときに、ナトリウム塩のフォームに塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸から誘導されるモノマーユニットを１０モル％以上、好ましくは２５モル％以上、９０モル％以下まで含み、中性モノマーを５モル％から９０モル％まで、好ましくは７５モル％まで含み、前記式(1)のモノマーを０モル％から５モル％まで含む。
【００４０】
本発明の他の特徴的な面に従う主題は、上記方法において、前記アニオン性の高分子電解質が、該アニオン性の高分子電解質を１００モル％とするときに、ナトリウム塩のフォームに塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸から誘導されるモノマーユニットを５０モル％以上、好ましくは７５モル％以上、８５モル％以下まで含み、中性モノマーを１０モル％から５０モル％まで、好ましくは２５モル％まで含み、前記式(1)のモノマーを０モル％から５モル％まで含む。
【００４１】
本発明の他の特徴的な面に従う主題は、上記方法において、前記アニオン性の高分子電解質が、架橋し及び／又はジエチレンまたはポリエチレン化合物が分岐し、関連するすべての前記モノマーがモル比で０．００５モル％と１モル％との間にある。この特徴的な面に従う主題では、架橋剤及び／又は分岐剤としてエチルグリコールジメタクリレート、ジアリロクス酢酸またはジアリロクス酢酸ナトリウムのような塩、テトラアリロクスエタン、エチレングリコールジアクリレート、ジアリルウレア、トリアリルアミン、トリメチロールプロパン・トリアクリレート、メチレンビス（アクリルアミド）またはこれらの混合物から選択される化合物を用いる。
【００４２】
本発明の他の特徴的な面に従う主題は、上記方法において、ナトリウム塩のフォームに塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸の架橋ターポリマーが、N,N-ジメチルアクリルアミド及びペンタコサエトキシレート・ベヘニル・メタクリレートのナトリウム塩のフォームを塩化したものであり、モノマーユニットを１００モル％とするときに、前記ナトリウム塩のフォームに塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸から誘導される前記モノマーユニットを７５モル％以上８５モル％以下含み、中性モノマーを１０モル％以上２５モル％以下含み、式(1)のモノマーを０．０５モル％以上５モル％以下含む。
【００４３】
本発明の他の特徴的な面に従う主題は、上記のように規定したターポリマーでもよい。
【００４４】
本発明の他の特徴的な面に従う主題は、上記工程ａ）において、錯化剤、転移剤および鎖限定剤のうちから選択される１つ又はそれ以上の添加剤を加える。
【００４５】
本発明の他の特徴的な面に従う主題は、以下に列記するアニオン性の高分子電解質を提供するために上記の方法を行う。
【００４６】
アニオン性の高分子電解質が、ナトリウム塩のフォームに部分的に塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸の共重合体（コポリマー）およびメチレンビス（アクリルアミド）を架橋したアクリルアミドである。
【００４７】
アニオン性の高分子電解質が、ナトリウム塩のフォームに部分的に塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸の共重合体（コポリマー）およびメチレンビス（アクリルアミド）を架橋したアクリルアミドである。
【００４８】
アニオン性の高分子電解質が、ナトリウム塩のフォームに部分的に塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸の共重合体（コポリマー）およびメチレンビス（アクリルアミド）を架橋したN,N-ジメチルアクリルアミドである。
【００４９】
アニオン性の高分子電解質が、ナトリウム塩のフォームに部分的に塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸の三元共重合体（ターポリマー）およびメチレンビス（アクリルアミド）を架橋したアクリルアミドおよびテトラエトキシレート・ラウリル・アクリレートである。
【００５０】
アニオン性の高分子電解質が、ナトリウム塩のフォームに部分的に塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸の三元共重合体（ターポリマー）およびメチレンビス（アクリルアミド）を架橋した2-ヒドロキシエチルアクリレートおよびテトラエトキシレート・ラウリル・アクリレートである。
【００５１】
アニオン性の高分子電解質が、ナトリウム塩のフォームに部分的に塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸の三元共重合体（ターポリマー）およびメチレンビス（アクリルアミド）を架橋したアクリルアミドおよびペンタコサエトキシレート・ベヘニル・メタクリレートである。
【００５２】
アニオン性の高分子電解質が、ナトリウム塩のフォームに部分的に塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸の三元共重合体（ターポリマー）およびトリメチロルプロパン・トリアクリレートを架橋した2-ヒドロキシエチルアクリレートおよびペンタコサエトキシレート・ベヘニル・メタクリレートである。
【００５３】
アニオン性の高分子電解質が、ナトリウム塩のフォームに部分的に塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸の三元共重合体（ターポリマー）およびメチレンビス（アクリルアミド）を架橋したアクリルアミドおよびペンタコサエトキシレート・ベヘニル・メタクリレートである。
【００５４】
アニオン性の高分子電解質が、ナトリウム塩のフォームに部分的に塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸の三元共重合体（ターポリマー）およびメチレンビス（アクリルアミド）を架橋したN,N-ジメチルアクリルアミドおよびテトラエトキシレート・ラウリル・アクリレートである。
【００５５】
アニオン性の高分子電解質が、ナトリウム塩のフォームに部分的に塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸の三元共重合体（ターポリマー）およびメチレンビス（アクリルアミド）を架橋したN,N-ジメチルアクリルアミドおよびテトラエトキシレート・ラウリル・メタクリレートである。
【００５６】
アニオン性の高分子電解質が、ナトリウム塩のフォームに部分的に塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸の三元共重合体（ターポリマー）およびメチレンビス（アクリルアミド）を架橋したN,N-ジメチルアクリルアミドおよびペンタコサエトキシレート・ベヘニル・メタクリレートである。
【００５７】
アニオン性の高分子電解質が、ナトリウム塩のフォームに部分的に塩化された2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸の三元共重合体（ターポリマー）およびトリメチロルプロパン・トリアクリレートを架橋したN,N-ジメチルアクリルアミドおよびペンタコサエトキシレート・ベヘニル・メタクリレートである。
【００５８】
本発明の他の特徴的な面に従う主題は、上記工程ｂ）において、ホモリシスにより遊離基を生成する過酸化ジラウロイル、アゾビス（イソブチロニトリル）またはその他のアゾ誘導体のような遊離基開始剤（フリーラジカル・イニシエーター）を用いて５０℃以上の温度で重合反応を開始する。
【００５９】
本発明の他の特徴的な面に従う主題は、上記工程ｂ）において、２０℃以上の温度での酸化還元結合反応（レドックスカップル）により重合反応を開始し、次いでクアシアディアバティック・マナー(quasiadiabatic manner)を行う。
【００６０】
本発明の他の特徴的な面に従う主題は、上記工程ｃ）において、前記合成溶剤から得た沈殿物のセパレーションをろ過により行う。
【００６１】
本発明の主題は、上記方法の変形例として、上記工程a)の代わりに、溶剤(S)、中性モノマー、前記2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸のナトリウム塩、および必要に応じて式(1)の前記モノマーを所望の割合で有する反応混合物を提供する工程a2)を有する。また、本発明の主題は、上記方法の変形例として、前記工程a2)の前に、前記2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸のナトリウム塩を形成し得る中和剤で前記2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸を中和することにより、前記2-メチル-2-[(1-オキソ-2-プロペニル)アミノ]-1-プロパンスルホン酸のナトリウム塩を提供する工程a1)をさらに有する。
【００６２】
本発明の他の特徴的な面に従う主題は、化粧品、皮膚薬剤または薬剤組成物のための濃厚剤及び／又は安定剤及び／又は乳化剤として、上記方法または上記ターポリマーにより得られたアニオン性の高分子電解質の使用である。
【００６３】
本発明の他の特徴的な面に従う主題は、上記方法または上記ターポリマーにより得られたアニオン性の高分子電解質の効果的な量を含む化粧品、皮膚薬剤または薬剤組成物である。
【００６４】
用語「効果的な量」とは、化粧品、皮膚薬剤または薬剤組成物の十分な厚みを得るために十分な量を意味するものである。
【００６５】
本発明の他の特徴的な面において、化粧品、皮膚薬剤または薬剤組成物は、上記方法または上記ターポリマーにより得られたアニオン性の高分子電解質を質量で0.1〜10％、より好ましくは0.5〜5％含む。
【００６６】
本発明に係る話題の組成物は、人間または動物の肌や粘液性の膜に適用されることが意図されており、少なくとも１つの水性の相および少なくとも１つの油性の相を有する。この話題の乳液は、油入り水（Ｏ/Ｗ）、水入り油（Ｗ/Ｏ）、油入り水入り油（Ｏ/Ｗ/Ｏ）、または水入り油入り水（Ｗ/Ｏ/Ｗ）のどのタイプでもよい。話題乳液の油性の相は１つ又はそれ以上の油の混合物からなる。
【００６７】
本発明に係る話題の組成物は、化粧品用途に意図されるか、または、肌、頭皮および粘液性膜の疾患の処理に意図される薬剤を提供することに使用されてもよい。後者の場合において、話題の組成物は例えば抗炎症剤、筋肉緩和剤、抗カビ剤、抗菌剤または抗フケ剤に含まれる活性な成分を含む。
【００６８】
本発明の組成物を肌、頭皮または粘液性膜に向けられる化粧品組成物として用いるとき、活性な成分、例えば湿潤剤、セルフ日焼け剤、日焼け止め剤、抗しわ剤、スリミング剤、遊離基脱除剤、抗ざ瘡剤、抗カビ剤または抗フケ剤を任意に含むことができる。
【００６９】
本発明の最後の特徴的な面に従う主題は、ジヒドロキシアセトンを質量で0.5％から5％まで含む化粧品組成物である。
【００７０】
本発明の組成物のｐＨは、好ましくは３と等しいか又はそれより大きい。
【００７１】
また、本発明の組成物は、このタイプの組成物、例えばフレグランス、保存剤、着色剤、色素、日焼け止め剤、活性な成分、緩和薬または表面活性剤に従来から含まれている化合物をも含むものである。
【００７２】
１つの特徴的な面に従う本発明は、少なくとも１つの水性の相を有する組成物を濃厚化し、乳化し、安定化するための上記アニオン性の高分子電解質の使用に関するものである。
【００７３】
本発明のアニオン性の高分子電解質は、セピゲルTM305、セピゲルTM501、シムルゲルTMEG、シムルゲルTMEPG、シムルゲルTMNS、シムルゲルTM600、シムルゲルTMA、セピプラスTM265、セピプラスTM250、セピプラスTM400またはセピノブTMETM 10の商品名で市販されているインバース・ラテックスの代わりに有利に用いられるので、乳液、ローション、クリーム、石鹸、バス、バーム、シャンプーまたはコンディショナーのような製剤を提供するための他の賦形剤と良好な適合性能を示す。また、本発明のアニオン性の高分子電解質は前記セピゲルTMまたはシムルゲルTM、セピプラスTM及び／又はセピノブTMETM 10との間の使用においても同様の良好な適合性能を示す。
【００７４】
本発明のアニオン性の高分子電解質は、国際公開ＷＯ 92/06778公報、ＷＯ 95/04592公報、ＷＯ 95/13863公報、ＷＯ 96/37285公報、ＷＯ 98/22207公報、ＷＯ 98/47610公報またはＦＲ 2 734 496に記載され特許請求された濃縮液との間ではとくに良好に適合し得るものであり、またＷＯ 93/08204公報に記載された表面活性剤との間でもとくに良好に適合し得るものである。
【００７５】
本発明のアニオン性の高分子電解質は、モンタノブTM68、モンタノブTM82、モンタノブTM202、モンタノブTML、モンタノブTMS、フルイダノブTM20XまたはイージイノブTMとの間ではとくに良好に適合し得る。また、EP 0 629 396公報に記載され特許請求されたこれらのタイプの乳液にも本発明のアニオン性の高分子電解質を使用することができ、またＷＯ 93/05762公報またはＷＯ 93/21316公報に記載されたこれらから選択されるオルガノポリシロキサンが化粧学的または生理学的に受容し得る水分散液にも本発明のアニオン性の高分子電解質を使用することができる。
【００７６】
ＷＯ93/07856公報に記載された酸性ｐＨで化粧学的または生理学的に受容し得るゲルを形成するのにも本発明のアニオン性の高分子電解質を使用することができる。また、欧州特許EP 0 684 024公報に記載された整髪用ゲルを形成するために非イオンセルロースと組み合わせて使用するようにしてもよく、あるいは砂糖の脂肪酸ゲルと組み合わせて使用するようにしてもよく、あるいは欧州特許EP 0 603 019公報に記載された髪または肌を処理する化合物を形成するのに使用してもよく、あるいはＷＯ92/21316公報に記載され特許請求されたシャンプーまたはコンディショナーに使用してもよく、あるいはドイツDE 19523596公報に記載されたヘアトリートメント製品を形成するためのカーボポルTMのようなアニオン性のホモポリマーと組み合わせて使用するようにしてもよい。
【００７７】
本発明の高分子電解質は、活発な成分、例えばセルフ日焼け剤、ジヒドロキシアセトン(DHA)、エリトルロースまたは抗ざ瘡剤とも適合し得るものであり、欧州特許EP 0 715 845公報、EP 0 604 249公報、EP 0 576 188公報またはＷＯ 93/07902公報などに特許請求されたセルフ日焼け組成物のなかに入れることができる。
【００７８】
また、本発明の高分子電解質は、アミノ酸のN-アクイル誘導体と適合でき、ＷＯ 92/21318公報、ＷＯ 94/27561公報またはＷＯ 98/09611公報などに記載され特許請求された敏感肌をとくに和らげる組成物に用いられる。
【００７９】
また、本発明の高分子電解質は、植物または生合成オリジンのヒドロコロイド、例えばキサンタンガム、カラヤガム、カラゲーナーテ、アルギン酸塩、ガラクトマンナンのようなものであり、シリケートのようなものであり、セルロースのようなものであり、それらの誘導体であり、これらのスターチおよび吸水性誘導体であり、ポリウレタンであり、濃厚化及び/又はゲル化するポリマーと適合し得るものである。
【００８０】
以下の実施例を用いて本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００８１】
Ａ）本発明方法によりトリエチロールプロパン・トリアクリレートに架橋されたＡＴＢＳ(ナトリウム塩)/ＤＭＡＭ(BEM 25)の三元共重合体（高分子電解質１）
1)次に列記するものを２０℃で容量２リットルのガラス反応器に入れる。
【００８２】
アセトン  344グラム
2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸(ATBS G)  50.8グラム
NaHCO3  20.8グラム
N,N-ジメチルアクリルアミド  6.1グラム
脱イオン水  9.6グラム
ペンタコサエトキシレート・ベヘニル・メタクリレート(BEM-25)  0.58グラム
トリメチロールプロパン  0.45グラム
2)反応器において撹拌し、活発な窒素吹込みスパージングを１時間おこなう。反応媒体を５５℃に加熱し、次いで重合させるために0.75グラムのジラウロイル過酸化物(dilauroyl peroxide)を添加する。
【００８３】
3)アセトンの還流を２時間保持した後に、反応媒体を冷却する。
【００８４】
4)ろ過後、回収した高分子電解質(1)粉体を真空下のオーブン内で乾燥させる。
【００８５】
［得られたポリマーの特性評価］
ポリマー粉体２％水溶液の２５℃での粘度（ブルックフィールドRVT，スピンドル６，速度５）：η＝60200mPa.s.
ポリマー粉体２％水溶液＋0.1％ NaClの２５℃での粘度（ブルックフィールドRVT，スピンドル６，速度５）：η＝71000mPa.s.
ポリマー粉体２％水溶液＋1％ NaClの２５℃での粘度（ブルックフィールドRVT，スピンドル６，速度５）：η＝60200mPa.s.
上記Ａ）項の再生工程1)にある１つの試みとして、t-ブタノール/水の混合物(97.5/2.5体積比)に15.5重量％のナトリウム2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホネートを含む水溶液を作製しようとしたが失敗に終わった。それは、2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸のナトリウム塩はt-ブタノールのなかで析出沈殿物の形成および/または不安定な分散のために、この溶媒に可溶な他のモノマーと均一に重合させることが不可能になるからである。
【００８６】
Ｂ）本発明方法により製造された高分子電解質１でつくられた製剤の実施例
（実施例１：ケアクリーム）
環化メチコーン：                          10％
高分子電解質１：                          0.8％
モンタノブTM 68：                          2％
ステアリルアルコール(Stearyl alcohol)：    1％
ステアリンアルコール(Stearic alcohol)：    0.5％
保存剤 ：                                  0.65％
リシン ：                                  0.025％
ＥＤＴＡ（二ナトリウム塩） ：              0.05％
キサンタンガム ：                          0.2％
グリセリン ：                              3％
水 ：                                q.s.  100％
（実施例２：アフターシェイブ香油）
製剤
Ａ      高分子電解質１：                    1.5％
水：                          q.s.  100％
Ｂ      マイクロパールTM M 100：            5.0％
セピシーデTMCl：                    0.50％
フレグランス：                      0.20％
95度エタノール：                    10.0％
手順：ＢをＡに加える。
【００８７】
（実施例３：サテンボディ乳液）
製剤
Ａ      シムルゾルTM 165：                          5％
ラノールTMHB1688：                          8.50％
シェアバター：                              2％
パラフィンオイル：                          6.5％
ラノールTM 14M：                            3％
ラノールTM S：                              0.6％
Ｂ      水：                                        66.2％
Ｃ      マイクロパールTM M 100：                    5％
Ｄ      高分子電解質 1：                            3％
Ｅ      セピシーデTM Cl：                            0.3％
セピシーデTM HB：                            0.5％
アクアキシルTM ：                            3％
フレグランス：                              0.20％
ビタミンＥアセテート：                      0.20％
ピロリジンワンカルボキシレートナトリウム：  1％
手順：ＣをＢに加え、Ｂを70℃でＡ中にて懸濁化し、次いでＤを60℃で加え引き続き30℃でＥを加える。
【００８８】
（実施例４：Ｏ/Ｗクリーム）
製剤
Ａ      シムルゾルTM 165：                  5％
ラノールTM HB1688：                 20.0％
ラノールTM Ｐ：                     1.0％
Ｂ      水：                        q.s.    100％
Ｃ      高分子電解質 1：                    2.50％
Ｄ      セピシーデTM Cl：                   0.20％
セピシーデTM HB：                   0.30％
手順：Ｂを75℃前後でＡに入れ、Ｃを60℃前後で加え、続いてＤを45℃前後で加える。
【００８９】
（実施例５：無油日焼け止めゲル（ノングリーシイ・アンチサン・ゲル））
製剤
Ａ      高分子電解質１：                    3.00％
水：                                30％
Ｂ      セピシーデTM Cl：                   0.20％
セピシーデTM HB：                   0.30％
フレグランス：                      0.10％
Ｃ      着色剤：                            q.s.
水：                                30％
Ｄ      マイクロパールTM M 100：            3.00％
水：                          q.s.  100％
Ｅ      シリコーン油：                      2.0％
パーゾルTM MCX：                     5.00％
手順：ＢをＡに入れ、Ｃを加え、続いてＤを加え、Ｅを加える。
【００９０】
（実施例６：日焼け止め乳液）
製剤
Ａ      モンタノブTMＳ：                    3.0％
ゴマ油：                            5.0％
パーゾルTM MCX：                    5.0％
λカラゲナン：                      0.10％
Ｂ      水：                          q.s.  100％
Ｃ      高分子電解質１：                    0.80％
Ｄ      フレグランス：                      q.s.
保存剤：                            q.s.
手順：Ｂを75℃でＡに入れて乳化し、次いでＣを60℃前後で加え、続いてＤを30℃前後で加え、必要に応じてｐＨを調整する。
【００９１】
（実施例７：マッサージゲル）
製剤
Ａ      高分子電解質１：                    3.5％
水：                                20.0％
Ｂ      冷却剤：                            2錠/100g
水：                                q.s.
Ｃ      エタノール：                        10％
メンソール：                        0.10％
Ｄ      シリコーン油：                      5.0％
手順：ＢをＡに加え、次いでＣを前記混合物に加え、続いてＤを加える。
【００９２】
（実施例８：モイスチャー及びマットファンデーション）
製剤
Ａ      水：                                    20.0％
ブチレングリコール：                    4.0％
PEG-400 ：                              4.0％
ペコシルTM PS100：                      1.0％
水酸化ナトリウム：                  q.s. pH = 9
水酸化チタン：                          7.0％
タルク：                                2.0％
黄色鉄酸化物：                            0.8％
赤色鉄酸化物：                            0.3％
黒色鉄酸化物：                            0.05％
Ｂ      ラノールTM 99 ：                        8％
カプリル酸カプリン・トリグリセライド：  8％
モンタノブTM 202：                      5.00％
Ｃ      水 ：                            q.s.  100％
マイクロパールTM M305 ：                2.0％
四ナトリウム EDTA ：                    0.05％
Ｄ      環化メチコーン：                        4.0％
キサンタンガム：                        0.2％
高分子電解質１：                        0.8％
Ｅ      セピシーデTMHB：                        0.5％
セピシーデTMCl：                        0.3％
フレグランス：                          0.2％
手順：混合物Ｂ＋Ｄと混合物Ａ＋Ｃを80℃に準備し、両者を混合し、ともに乳化する。
【００９３】
（実施例９：輝きゲル（ラディアンスゲル））
Ａ      高分子電解質１：                                4％
水：                                            30％
Ｂ      エラスチンHPM：                                5.0％
Ｃ      マイクロパールTM M 100：                        3％
水：                                            5％
Ｄ      セピシーデTMCl：                                0.2％
セピシーデTMHB：                                0.3％
フレグランス：                                  0.06％
50％ピロリジンワンカルボキシレートナトリウム：  1％
水：                                      q.s.  100％
手順：Ａを準備し、ＢをＡに加え、続いてＣを加え、Ｄを加える。
【００９４】
（実施例１０：ボディ乳液）
モンタノブTMＳ：                          3.5％
ラノールTM 37T：                          8.0％
ゾラグムTMＬ：                            0.05％
水：                                q.s.  100％
ベンゾフェノン-3：                        2.0％
ジメチコーン 350 cPs：                    0.05％
高分子電解質１：                          0.8％
保存剤：                                  0.2％
フレグランス：                            0.4％
（実施例１１：スイートアーモンドオイル入り化粧落し乳液）
モンタノブTM 68 ：                        5％
スイートアーモンドオイル：                5％
水：                                q.s.  100％
高分子電解質１：                          0.3％
グリセリン：                            5％
保存剤：                                  0.2％
フレグランス：                            0.3％
（実施例１２：油症肌用モイスチャー化クリーム）
モンタノブTM 68：                          5％
セチルステアリル・オクタノエート：        8％
オクチル・パルミタート：                  2％
水：                                q.s.  100％
高分子電解質１：                          0.6％
マイクロパールTM M 100：                  3.0％
ムコ-多糖 ：                              5％
セピシーデTM HB：                          0.8％
フレグランス：                            0.3％
（実施例１３：アルコールフリーの和らぎアフターシェイブ香油）
リパシーデTM PVB：                        1.0％
ラノールTM 99 ：                          2.0％
スイートアーモンドオイル：                0.5％
高分子電解質１：                          3.5％
水：                                q.s.  100％
フレグランス：                            0.4％
セピシーデTM HB ：                        0.4％
セピシーデTM Cl ：                        0.2％
（実施例１４：敏感な肌用のＡＨＡを有するクリーム）
N-ラウロイルアミノ酸の混合物：            0.1〜5％
マグネシウムカリウムアスパラギン酸：      0.002〜0.5％
ラノールTM 99：                            2％
モンタノブTM 68：                          5.0％
水：                                q.s.  100％
高分子電解質１：                          1.50％
グルコン酸：                              1.50％
トリエタノールアミン(TEA) ：              0.9％
セピシーデTMHB：                          0.3％
セピシーデTMCl：                          0.2％
フレグランス：                            0.4％
（実施例１５：日焼け後を和らげるケア製品）
N-ラウリルアミノ酸の混合物：              0.1〜5％
マグネシウムカリウムアスパラギン酸：      0.002〜0.5％
ラノールTM 99 ：                          10.0％
水：                                q.s.  100％
高分子電解質１：                          2.50％
セピシーデTMHB：                          0.3％
セピシーデTMCl：                          0.2％
フレグランス：                            0.4％
着色剤：                                  0.03％
（実施例１６：化粧落し乳液）
モンタノブTMＳ：                          3％
プリモールTM 352：                        8.0％
スイートアーモンドオイル：                2％
水：                                q.s.  100％
高分子電解質１：                          0.8％
保存剤：                                  0.2％
（実施例１７：アルカリｐＨの流動性乳液）
マーコルTM 82 ：                          5.0％
水酸化ナトリウム：                        10.0％
水：                                q.s.  100％
高分子電解質１：                          1.5％
（実施例１８：流動性ファンデーション）
シムルゾルTM 165：                        5.0％
ラノールTM 84D：                          8.0％
ラノールTM 99 ：                          5.0％
水：                                q.s.  100％
天然色素および体質顔料：                  10.0％
高分子電解質１：                          1.2％
保存剤：                                  0.2％
フレグランス：                            0.4％
（実施例１９：日焼け止め乳液）
モンタノブTMＳ：                          3.5％
ラノールTM 37T：                          10.0％
パーゾルTM MCX：                          5.0％
ユーゾレックスTM 4360 ：                  2.0％
水：                                q.s.  100％
高分子電解質１：                          1.8％
保存剤：                                  0.2％
フレグランス：                            0.4％
（実施例２０：目もと用ゲル）
高分子電解質１：                          2.0％
フレグランス：                            0.06％
ピロリジンワンカルボキシレートナトリウム：0.2％
ダウコーニングTM 245液：                  2.0％
水：                                q.s.  100％
（実施例２１：付けたままのケア組成物）
高分子電解質１：                          1.5％
フレグランス：                            q.s.
保存剤：                                  q.s.
ダウコーニングTM X2 8360：                5.0％
ダウコーニングTM Q2 1401：                15.0％
水：                                q.s.  100％
（実施例２２：スライミングゲル）
高分子電解質１：                          5％
エタノール：                              30％
メンソール：                              0.1％
カフェイン：                              2.5％
ラスカス(ruscus)の抽出物：                2％
アイビー(ivy)の抽出物 ：                  2％
セピシーデTMHB：                          1％
水：                                q.s.  100％
（実施例２３：超自然色合いクリームゲル）
製剤
Ａ      水：                                  10.0％
ブチレングリコール：                  4.0％
PEG-400 ：                            4.0％
ペコシルTM PS100：                    1.5％
ＮａＯＨ：                      q.s.  pH = 7
二酸化チタン：                      2.0％
黄色鉄酸化物：                          0.8％
赤色鉄酸化物：                          0.3％
黒色鉄酸化物：                          0.05％
Ｂ      ラノールTM 99 ：                      4.0％
カプリル酸カプリン・トリグリセライド：4.0％
セピフィールTM ONE：                  1.0％
高分子電解質１：                      3.0％
Ｃ      水：                            q.s.  100％
マイクロパールTM M305：                2.0％
四ナトリウムEDTA：                    0.05％
環化メチコーン：                      4.0％
Ｄ      セピシーデTM HB：                      0.5％
セピシーデTM Cl：                      0.3％
フレグランス：                        0.2％
手順：混合物Ｂ＋Ｃを準備し、これにＡを加え、続いてＤを加える。
【００９５】
（実施例２４：油症肌用ケア製品）
マイクロパールTM M310：                        1.0％
高分子電解質１：                              5.0％
オクチル・イソノナノエート：                  4.0％
水：                                    q.s.  100％
セピコントロールTM A5：                        4.0％
フレグランス：                                0.1％
セピシーデTM HB：                              0.3％
セピシーデTM Cl：                              0.2％
カピゲルTM 98：                              0.5％
水：                                          10％
（実施例２５：ＡＨＡ入りクリーム）
モンタノブTM 68：                              5.0％
リパシーデTM PVB ：                            1.05％
ラノールTM 99：                                10.0％
水：                                    q.s.  100％
グルコン酸：                                  1.5％
ＴＥＡ（トリエタノールアミン）：              0.9％
高分子電解質１：                              1.5％
フレグランス：                                0.4％
セピシーデTM HB：                              0.2％
セピシーデTM Cl：                              0.4％
（実施例２６：顔面とボディ用の無油セルフ日焼け製品）
ラノールTM 2681 ：                            3.0％
高分子電解質１：                              2.5％
水：                                    q.s.  100％
ジヒドロアセトン：                            3.0％
フレグランス：                                0.2％
セピシーデTM HB：                              0.8％
水酸化ナトリウム：                      q.s.  pH = 5
（実施例２７：タヒチのモノイオイル入り日焼け止め乳液）
タヒチのモノイオイル：                        10％
リパシーデTM PVD：                            0.5％
高分子電解質：                                2.2％
水：                                    q.s.  100％
フレグランス：                                0.1％
セピシーデTM HB：                              0.3％
セピシーデTM Cl：                              0.1％
パーゾルTM MCX ：                              4.0％
（実施例２８：顔面用日焼け止めケア製品）
環化メチコーンおよびジメチコノール：          4.0％
高分子電解質１：                              3.5％
水：                                    q.s.  100％
フレグランス：                                0.1％
セピシーデTM HB：                              0.3％
セピシーデTM Cl：                              0.21％
パーゾルTM MCX ：                              5.0％
チタン雲母：                                  2.0％
乳酸：                                  q.s.  pH = 6.5
（実施例２９：日光無しの日焼け乳液）
ラノールTM 99：                                15％
モンタノブTM 68：                              5.0％
パーゾルTM MCX ：                              3.0％
水：                                    q.s.  100％
ジヒドロアセトン：                            5.0％
モノ燐酸ナトリウム：                          0.2％
高分子電解質１：                              0.5％
フレグランス：                                0.3％
セピシーデTM HB：                              0.8％
水酸化ナトリウム：                      q.s.  pH = 5
（実施例３０：ケアクリーム）
環化メチコーン：                              10％
高分子電解質１：                              0.8％
モンタノブTM 68：                              4.5％
保存剤：                                      0.65％
リシン：                                      0.025％
ＥＤＴＡ（二ナトリウム塩）：                  0.05％
キサンタンガム：                              0.2％
グリセリン：                                3％
水：                                    q.s.  100％
（実施例３１：ケアクリーム）
環化メチコーン：                                  10％
高分子電解質２：                                  0.8％
モンタノブTM 68：                                  4.5％
ポリフルオロプロピルメチル・イソプロピルエーテル：0.5％
保存剤：                                          0.65％
リシン：                                          0.025％
ＥＤＴＡ（二ナトリウム塩）：                      0.05％
ペムレンTM TR1：                                  0.2％
グリセリン：                                    3％
水：                                        q.s.  100％
（実施例３２：ボディ乳液）
製剤
Ａ      シムルゾルTM 165：                      5.0％
ラノールTM 1688 ：                      12.0％
ラノールTM 14M：                        2.0％
セチルアルコール：                      0.3％
シェーレセモルTM OP：                      3％
Ｂ      水：                              q.s.  100％
Ｃ      高分子電解質１：                        0.35％
Ｄ      セピシーデTM Cl：                        0.2％
セピシーデTM HB：                        0.5％
フレグランス：                           0.20％
手順：Ｂを75℃前後でＡに加えて乳化し、Ｃを60℃前後で加え、続いてＤを30℃前後で加える。
【００９６】
（実施例３３：マッサージケアゲル）
製剤
Ａ      高分子電解質１：                        3.00％
水：                                    30％
Ｂ      セピシーデTM Cl：                        0.20％
セピシーデTM HB：                        0.30％
フレグランス：                           0.05％
Ｃ      冷却剤：                                 q.s.
水：                              q.s.  100％
Ｄ      マイクロパールTM SQL：                    5.0％
ラノールTM 1688：                          2％
手順：Ａを準備し、Ｂを加え、続いてＣを加え、Ｄを加える。
【００９７】
（実施例３４：ボディ乳液）
製剤
Ａ      モンタノブTMＳ：                          3.0％
グリセリル・トリヘプトナート：            10.0％
Ｂ      水：                                q.s.  100％
Ｃ      高分子電解質１：                          1.0％
Ｄ      フレグランス：                            q.s.
保存剤：                                  q.s.
手順：Ａを約75℃で溶解する。Ｂを75℃でＡに加えて乳化し、次いでＣを60℃前後加え、続けてＤを加える。
【００９８】
（実施例３５：アルコールフリーの緩和アフターシェイブバーム）
ラウリルアミノ酸の混合物：                        0.1〜5％
マグネシウムカリウムアスパラギン酸：              0.002〜0.5％
ラノールTM 99：                                    2％
スイートアーモンドオイル：                        0.5％
水：                                        q.s.  100％
高分子電解質１：                                  3％
セピシーデTM HB：                                  0.3％
セピシーデTM Cl：                                  0.2％
フレグランス：                                    0.4％
（実施例３６：ボディ乳液）
モンタノブTMＳ：                                  3.5％
ラノールTM 37T：                                  8.0％
ソラグムTMＬ：                                    0.05％
水：                                        q.s.  100％
ベンゾフェノン-1：                                2.0％
ジメチコーン 350 cPs：                            0.05％
高分子電解質２：                                  0.8％
保存剤：                                          0.2％
フレグランス：                                    0.4％
（実施例３７：アルコールフリーの緩和アフターシェイブバーム）
リパシーデTM PVD：                                1.0％
ラノールTM 99 ：                                  2.0％
スイートアーモンドオイル：                        0.5％
高分子電解質１：                                  3.5％
水：                                        q.s.  100％
フレグランス：                                    0.4％
セピシーデTM HB ：                                0.4％
セピシーデTM Cl ：                                0.2％
（実施例３８：リフレッシュアフターシェイブゲル）
リパシーデTM PVB：                                0.5％
ラノールTM 99 ：                                  5.0％
高分子電解質１：                                  2.5％
水：                                        q.s.  100％
マイクロパールTM LM ：                            0.5％
フレグランス：                                    0.2％
セピシーデTM HB ：                                0.3％
セピシーデTM Cl ：                                0.2％
（実施例３９：ＡＨＡ入りクリーム）
モンタノブTM 68 ：                                5.0％
リパシーデTM PVB：                                1.05％
ラノールTM 99 ：                                  10.0％
水：                                        q.s.  100％
グルコン酸：                                      1.5％
ＴＥＡ（トリエタノールアミン）：                  0.9％
高分子電解質１：                                  1.5％
フレグランス：                                    0.4％
セピシーデTM HB ：                                0.2％
セピシーデTM Cl ：                                0.4％
（実施例４０：グロスゲル）
高分子電解質１：                                  1.5％
揮発性シリコーン：                                25％
モノプロピレングリコール：                        25％
脱塩水：                                          10％
グリセリン：                                q.s.  100％
（実施例４１：スリミングゲル）
高分子電解質１：                                  1.5％
イソノニル・イソノナノエート：                    2％
カフェイン：                                      5％
エタノール：                                      40％
マイクロパールTM LM ：                            2％
脱塩水：                                    q.s.  100％
保存剤  フレグランス：                            q.s.
（実施例４２：化粧落し乳液）
シムルゾルTM 165：                                4％
モンタノブTM 202：1％
カプリレート-カプラート・トリグリセリド：        15％
ペコシルTM DCT：                                  1％
脱塩水：                                          q.s.
カピゲルTM 98 ：                                  0.5％
高分子電解質１：                                  1％
プロテオルTM APL ：                                2％
水酸化ナトリウム：                          q.s.  pH = 7
（実施例４３：ストレスを受け脆化した髪用の再構成「リンスオフ」クリームマスク）
ケトロールTMＴ：                                  0.5％
ペコシルTM SPP50：                                0.75％
N-ココイルアミノ酸：                              0.70％
ブチレングリコール：                              3.0％
高分子電解質１：                                  3.0％
モンタノブTM 82：                                  3.0％
ホホバ油 ：                                        1.0％
ラノールTMＰ：                                     6.0％
アモニルTM DM：                                    1.0％
ラノールTM 99：                                    5.0％
セピシーデTM HB：                                  0.3％
セピシーデTM Cl：                                  0.2％
フレグランス：                                     0.2％
水：                                          q.s. 100％
（実施例４４：日焼け止めクリーム）
シムルゾルTM 165：                                 3％
モンタノブTM 82：                                  2％
Ｃ12-15 ベンゾエート：                            8％
ペコシルTM PS 100：                                2％
ジメチコーン：                                     2％
環化メチコーン：                                   5％
オキシ・パラ-メソキシシンナマート：                6％
ベンゾフェノン-3：                                 4％
酸化チタン：                                       8％
キサンタンガム：                                   0.2％
ブチレングリコール：                               5％
水：                                         q.s.  100％
高分子電解質１：                                   1.5％
保存剤、フレグランス：                             q.s.
（実施例４５：コンビネーションスキン用ケアゲル）
高分子電解質１：                                    4％
プラント・スクアラン：                              5％
ジメチコーン：                                      1.5％
セピコントロールTM A5 ：                            4％
キサンタンガム：                                    0.3％
水：                                          q.s.  100％
保存剤、フレグランス：                              q.s.
（実施例４６：ヘアローション）
ブチレングリコール：                                3.0％
高分子電解質１：                                    3％
シムルゾルTM 1293：3.0％
乳酸：                                        q.s.  pH = 6
セピシーデTM HB ：                                  0.2％
セピシーデTM Cl ：                                  0.3％
フレグランス：                                      0.3％
水：                                          q.s.  100％
（実施例４７：保護リラックスシャンプー）
アモニルTM 675 SB ：                                5.0％
28％ナトリウムラウリルエーテル硫酸塩：              35.0％
高分子電解質１：                                    3.0％
セピシーデTM HB ：                                  0.5％
セピシーデTM Cl ：                                  0.3％
水酸化ナトリウム：                            q.s.  pH = 7.2
フレグランス：                                      0.3％
冷却剤（FDC ブルー1/イエロー5） ：                  q.s.
水：                                            QS  100％
（実施例４８：「付けたまま」の保護製品；アンチストレス・ヘアケア）
ケトロールTM T：                                    0.5％
ココイルアミノ酸の混合物：                          3.0％
ブチレングリコール：                                5.0％
ＤＣ 1501 ：                                        5.0％
高分子電解質１：                                    4.0％
セピシーデTM HB ：                                  0.5％
セピシーデTM Cl ：                                  0.3％
フレグランス：                                      0.3％
水：                                            QS  100％
（実施例４９：ビタミン入りクリーム）
シムルゾルTM 165：                                  5％
モンタノブTM 202 ：                                  1％
カプリル酸/カプリン・トリグリセライド：              20％
ビタミンＡパルミテート ：                            0.2％
ビタミンＥアセテート ：                              1％
マイクロパールTM M 305 ：                            1.5％
高分子電解質１ ：                                    2％
水：                                          q.s.  100％
保存剤、フレグランス：                              q.s.
（実施例５０：日焼け止めゲル）
高分子電解質１：                                    3.00％
セピシーデTM Cl：                                    0.20％
セピシーデTM HB：                                    0.30％
フレグランス：                                      0.10％
シリカ：                                            3.00％
水：                                          q.s.  100％
シリコーン油：                                      2.0％
ベンゾフェノン-3：                                  5.00％
（実施例５１：リップグロス）
高分子電解質１：                                    1.50％
シェーレセモルTM TISC ：                            15.00％
ビスタノールTM NPGC ：                              15.00％
カンダリン・パプリカ：                              0.50％
モンタノブTM 80 ：                                  1.00％
アンタロンTM V216 ：                                0.90％
アプリコットフレーバリング：                        0.20％
セピシーデTM HB：                                    0.50％
ＣマルチデックスTM H16322：                    q.s.  100％
（実施例５２：サンソイル圧縮パウダー）
高分子電解質１：                                    2.00％
ラノールTM 99 ：                                    12.00％
セピホワイトTM MSH：                                1.00％
タルク：                                            33.00％
マイクロパールTM M310：                              3.00％
黄色鉄酸化物：                                      0.80％
赤色鉄酸化物：                                      0.30％
黒色鉄酸化物：                                      0.05％
マイカ：                                      q.s.  100％
（実施例５３：アトピー傾向肌用の乳液）
アーラセルTM P135 ：                                2.00％
高分子電解質１：                                    1.00％
ラノールTM 1688：                                    14.00％
プリモールTM 352 ：                                  8.00％
グリセリン ：                                        5.00％
水 ：                                          q.s.  100％
マグネシウム硫酸塩 ：                                0.70％
セピシーデTM HB ：                                    0.30％
セピシーデTM Cl ：                                    0.20％
マイクロパールTM M310 ：                              5.00％
（実施例５４：日焼けを緩和する日焼け止めケア製品（シリコーン入り水））
高分子電解質１：                                      2.00％
DC5225C ：                                            20.00％
DC 345：                                              10.00％
セピカームTM VG ：                                    3.00％
二酸化チタン MT100T ：                                5.00％
酸化亜鉛：                                            5.00％
セピシーデTM HB：                                      0.30％
フレグランス：                                        0.05％
セピシーデTM Cl：                                      0.20％
グリセリン：                                          5.00％
塩化ナトリウム：                                      2.00％
水：                                            q.s.  100％
（実施例５５：多面ケア製品）
高分子電解質１：                                      3.00％
C12-15 アルキルベンゾアート ：                        25.00％
アクアキシルTM ：                                      3.00％
セピトニックTM M3：                                    1.00％
セピシーデTM HB：                                      0.50％
セピシーデTM Cl：                                      0.30％
（実施例５６：セルフ日焼けゲル）
高分子電解質１：                                      5.0％
エタノール：                                          30％
ジヒドロキシアセトン：                                5％
メンソール：                                          0.1％
カフェイン：                                          2.5％
アイビーの抽出物：                                    2％
セピシーデTM HB：                                      1％
水：                                          q.s.    100％
（実施例５７：日焼け止めとセルフ日焼けゲル）
モンタノブTMＳ：                                      3.0％
グリセリル・トリヘプタノエート：                      10.0％
リパシーデTM PVB：                                    1.05％
高分子電解質１：                                      2.2％
水：                                            q.s.  100％
ジヒドロアセトン：                                    5％
フレグランス：                                        0.1％
セピシーデTM HB：                                      0.3％
セピシーデTM Cl：                                      0.1％
パーゾルTM MCX ：                                      4.0％
（実施例５８：α-ハイドロオキシ酸含有のセルフ日焼けクリーム）
モンタノブTM 68：                                      5.0％
リパシーデTM PVB ：                                    1.05％
ラノールTM 99：                                        10.0％
水 ：                                            q.s.  100％
グルコン酸 ：                                          1.5％
ジヒドロアセトン ：                                    3％
トリエタノールアミン ：                                0.9％
高分子電解質１ ：                                      1.5％
フレグランス ：                                        0.4％
セピシーデTM HB ：                                      0.2％
セピシーデTM Cl ：                                      0.4％
（実施例５９：敏感な肌用のアルファハイドロオキシ酸含有のセルフ日焼けクリーム）
N-ラウロイルアミノ酸の混合物：                          0.1〜5％
マグネシウムカリウムアスパラギン酸：                    0.002〜0.5％
モンタノブTM 68：                                        5.0％
ラノールTM 99：                                          2.0％
水：                                              q.s.  100％
乳酸：                                                  1.5％
ジヒドロキシアセトン：                                  3.5％
トリエタノールアミン：                                  0.9％
高分子電解質１：                                        1.5％
フレグランス：                                          0.4％
セピシーデTM HB：                                        0.3％
セピシーデTM Cl：                                        0.2％
（実施例６０：セルフ日焼け乳液、潤いモイスチャーサテン乳液）
シムルゾルTM 165：                                      5.0％
ラノールTM 1688 ：                                      8.5％
ガラムバター：                                          2％
パラフィン油：                                          6.5％
ラノールTM 14M：                                        3％
ラノールTMＳ：                                          0.6％
水：                                                    66.2％
ジヒドロキシアセトン：                                  3％
マイクロパールTM M 100 ：                                5％
高分子電解質１：                                        3％
アクアキシルTM：                                        5％
ビタミンＥアセテート：                                  0.20％
ピロリジンワンカルボキシレートナトリウム：              0.20％
フレグランス：                                          0.2％
セピシーデTM HB ：                                      0.5％
セピシーデTM Cl ：                                      0.3％
上記実施例に用いた市販品の定義を以下に列記する。
【００９９】
シムルゾルTM 1293は、キャスター油を水素添加処理し、かつエトキシ化処理したものであり、エトキシ化数が40に等しく、セピック社により販売されている。
【０１００】
カピゲルTM 98は、セピック社により販売されているアクリレート共重合体をベースとする液体濃厚剤である。
【０１０１】
ケトロールTM Ｔは、ケルコ社により販売されているキサンタンガムである。
【０１０２】
ラノールTM 99は、セピック社により販売されているイソノニル・イソノナノエートである。
【０１０３】
ＤＣ 1501は、ダウケミカル社により販売されている環化ペンタシロキサンとジメチコノール塩の混合物である。
【０１０４】
モンタノブTM 82は、セテアリルアルコールとココイルグルコシドをベースとする乳化剤である。
【０１０５】
モンタノブTM 68（セテアリルグルコシド）は、ＷＯ 92/06778公報に記載されているセルフ乳化可能な組成物であり、セピック社により販売されている。
【０１０６】
マイクロパールTM M 100は、非常に感触とマッティングアクションが良い超微粉であり、マツモ社により販売されている。
【０１０７】
セピシーデTM Clは、すなわちイミダゾリニル・ウレアは、セピック社により販売されている保存剤である。
【０１０８】
ペムレンTM TR1は、グッドリッチ社により販売されているアクリルポリマーである。
【０１０９】
シムルゾルTM 165は、セピック社により販売されているセルフ乳化可能なグリセリル・ステアラートである。
【０１１０】
ラノールTM 1688は、セピック社により販売されている無油効果を有する緩和性エステルである。
【０１１１】
ラノールTM 14MおよびラノールTM Ｓは、セピック社により販売されている売れ筋の成長製品である。
【０１１２】
セピシーデTM HBは、フェノキシエタノール、メチルパラベン、エチルパラベン、プロピルパラベン及びブチルパラベンの混合物であり、セピック社により販売されている。
【０１１３】
アクアキシルTM は、セピック社により販売されている湿潤剤である。
【０１１４】
シェーレセモルTM OPは、無油効果を有する緩和性エステルである。
【０１１５】
ラノールTM Ｐは、セピック社により販売されている安定効果を有する添加物である。
【０１１６】
パーゾルTM MCXは、ギバウダン社により販売されているオクチルパラ-メトキシシンナマートである。
【０１１７】
モンタノブTM Ｓは、セピック社により販売されている真珠箔剤であり、ＷＯ 95/13863公報に記載されているアルキルポリグルコシドの混合物をベースとするものである。
【０１１８】
マイクロパールTM SQLは、マッサージの作用によりリリースされたスクアランを含む微粒子の混合物であり、マツモ社により販売されている。
【０１１９】
ラノールTM 37Tは、セピック社により販売されているグリセリル・トリヘプタノエートである。
【０１２０】
ゾラグムTM Ｌは、セピック社により販売されているカラゲーナンである。
【０１２１】
マーコルTM 82は、エクソン社により販売されているパラフィン油である。
【０１２２】
ラノールTM 84Dは、セピック社により販売されているジオクチル・マレートである。
【０１２３】
パーゾルTM NOXは、ギバウダン社により販売されているサンスクリーンである。
【０１２４】
ユーゾレックスTM 4360は、メルク社により販売されているサンスクリーンである。
【０１２５】
ダウコーニングTM 245液は、ダウコーニング社により販売されている環化メチコーンである。
【０１２６】
ラパシードTM PVBは、セピック社により販売されているアシル化されたウィートたんぱく質の加水分解生成物である。
【０１２７】
マイクロパールTM LMは、セピック社により販売されているスクアラン、ポリ（メチル・メタクリレート）およびメンソールの混合物である。
【０１２８】
セピコントロールTM A5は、セピック社により販売されているカプリロイル・グリシンとシナモン・ジラニカムの抽出物の混合物であり、1998年6月23日出願の国際出願PCT/FR98/01313に記載されている。
【０１２９】
ラノールTM 2681は、セピック社により販売されているココナッツ・カプリレート/カプラートの混合物である。
【０１３０】
モンタノブTM 202は、ＷＯ 98/47610に記載されているＡＰＧ/脂肪アルコールであり、セピック社により販売されている。
【０１３１】
プロテオルTM APLは、セピック社により販売されている泡立ち表面活性剤である。
【０１３２】
シェーレセモルTM TISCは、シェーレ社により販売されているエステル（トリイソステアリル・シトレート）である。
【０１３３】
ビスタノールTM NPGCは、セワ・カセイ社により販売されているエステル（ネオペンチルグリコールジカプレート）である。
【０１３４】
アンタロンTM V216は、ユニバー社により販売されている合成ポリマー（PVP/ヘキサデセネ共重合体）である。
【０１３５】
ＣマルチデックスTM H16322は、セレスター社により販売されているポリオール（マルチトルシロップ）である。
【０１３６】
セピホワイトTM MSHは、セピック社により販売されている脱色剤（N-アンデサイレノイル・フェニルララニン）である。
【０１３７】
ＤＣ345は、ダウコーニング社により販売されている環化メチコーンである。
【０１３８】
ＤＣ 5225Ｃは、ダウコーニング社により販売されている環化ペンタシロキサンとジメチコーン共重合体の混合物である。
【０１３９】
セピカームTM VGは、セピック社により販売されている穏やかな軟質の活性剤（パルミトイルプロラインナトリウム）である。
【０１４０】
ＭＴ100ＶＴは、ユニペックス社により供給される表面処理（アルミニウム水酸化物/ステアリン酸）された微粒化した二酸化チタンである。
【０１４１】
Ｚ-コート ＨＰ1は、ガッテフォッセ(Gattefosse)により供給される表面処理された微粒化した酸化亜鉛である。
【０１４２】
カンダリン・パプリカは、カリウムアルミニウム珪酸塩と鉄酸化物との混合物である。
【０１４３】
マイクロパールTM M 310は、マツモ社により販売されている非常にソフトな感触でマット作用をもつ超微粒粉である。
【０１４４】
プリモールTM 352は、エクソン社により販売されている天然オイルである。
【０１４５】
ペコシルTM DCTは、フェニックス社により販売されているナトリウム・ジメチコーン PEG-7 アセタイル・メチルタウレートである。
【０１４６】
ペコシルTM PS 100は、フェニックス社により販売されているジメチコーンPEG-7である。