(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一電極と発光層と第二電極とをこの順に有する有機エレクトロルミネッセンス素子の少なくとも片面に設けられるレンズアレイシートであって、
前記レンズアレイシートの少なくとも片面に凹凸構造を有する層を備え、
前記凹凸構造を有する層が重合性不飽和基を有する反応性界面活性剤を含有する樹脂を硬化させた層であり、且つ防曇性を有する、レンズアレイシート。
【請求項２】
前記凹凸構造を有する層が、水溶性アクリレートを含有する樹脂を硬化させた層である、請求項１記載のレンズアレイシート。
【請求項３】
前記凹凸構造を有する層を構成する材料について平坦面で測定した水接触角が、６５°以下である、請求項１又は２に記載のレンズアレイシート。
【請求項４】
第一電極と発光層と第二電極とをこの順に有する有機エレクトロルミネッセンス素子と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の少なくとも片面に設けられた請求項１〜３のいずれか一項に記載のレンズアレイシートとを有する、発光装置。
【請求項５】
前記第一電極及び前記第二電極が透明電極である、請求項４記載の発光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、適宜「有機ＥＬ素子」という。）の少なくとも片面に設けられるレンズアレイシート、並びに有機ＥＬ素子及び前記レンズアレイシートを有する発光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子を用いた発光装置として、例えば、有機ＥＬ表示装置、有機ＥＬ光源装置などが知られている。また、有機ＥＬ素子で発光した光の利用効率を向上させる目的で、有機ＥＬ素子の発光面に、凹凸構造を有するレンズアレイシートを設ける検討がなされている（特許文献１，２参照）。このようなレンズアレイシートとしては、成形性が容易なため、例えば樹脂製のシートに凹凸構造を形成したものが提案されている。さらに、有機ＥＬ素子の電極を透明にすることで、向こう側が見渡せるシースルータイプの発光装置の検討がなされている（特許文献３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第４５０７８８０号公報
【特許文献２】特許第４６１４０１２号公報
【特許文献３】特許第３５６０３７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、これらの発光装置が高湿度下にさらされると、表面に結露が生じ、光の取出効率が下がったり、画像の鮮明度が下がったりする課題があった。
本発明は上記の課題に鑑みて創案されたもので、光の取出効率が高く、高湿度下でも特性に優れる発光装置を実現できるレンズアレイシート、並びに、光の取出効率が高く、高湿度下でも特性に優れる発光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は前記の課題を解決するべく鋭意検討した結果、レンズシートの表面に凹凸構造を形成し、また当該レンズシートの表面（特に凹凸構造を有する面）の防曇性を高めることによって、光の取出効率が高く、高湿度下でも特性に優れる発光装置を実現できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は以下の〔１〕〜〔６〕を要旨とする。
【０００６】
〔１〕  第一電極と発光層と第二電極とをこの順に有する有機エレクトロルミネッセンス素子の少なくとも片面に設けられるレンズアレイシートであって、
前記レンズアレイシートの少なくとも片面に凹凸構造を有する層を備え、
前記凹凸構造を有する層が防曇性を有する、レンズアレイシート。
〔２〕  前記凹凸構造を有する層が、水溶性アクリレートを含有する樹脂を硬化させた層である、〔１〕記載のレンズアレイシート。
〔３〕  前記凹凸構造を有する層が、重合性不飽和基を有する反応性界面活性剤を含有する樹脂を硬化させた層である、〔１〕又は〔２〕に記載のレンズアレイシート。
〔４〕    前記凹凸構造を有する層を構成する材料について平坦面で測定した水接触角が、６５°以下である、〔１〕〜〔３〕のいずれか一項に記載のレンズアレイシート。
〔５〕  第一電極と発光層と第二電極とをこの順に有する有機エレクトロルミネッセンス素子と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の少なくとも片面に設けられた〔１〕〜〔４〕のいずれか一項に記載のレンズアレイシートとを有する、発光装置。
〔６〕  前記第一電極及び前記第二電極が透明電極である、〔５〕記載の発光装置。
【発明の効果】
【０００７】
本発明のレンズアレイシートによれば、光の取出効率が高く、高湿度下でも特性に優れる発光装置を実現できる。
本発明の発光装置は、光の取出効率が高く、高湿度下でも特性に優れる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、本発明の第一実施形態に係る発光装置を模式的に示す斜視図である。
【図２】図２は、本発明の第一実施形態に係る発光装置を説明する図であって、図１に示す発光装置を線１ａ−１ｂを通り出光面に対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す断面図である。
【図３】図３は、本発明の第一実施形態に係る発光装置の出光面の一部を、発光装置の厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す部分平面図である。
【図４】図４は、本発明の第一実施形態に係る凹凸構造層を、図３の線３ａを通り出光面に対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す部分断面図である。
【図５】図５は、本発明の第一実施形態に係る発光装置の出光面の斜面部を、平坦面部に対して垂直な方向に、平坦面部に対して平行な平面へと投影した様子を模式的に示す投影図である。
【図６】図６は、本発明の第二実施形態に係る発光装置を模式的に示す斜視図である。
【図７】図７は、本発明の第二実施形態に係る発光装置を説明する図であって、図６に示す発光装置を線６ａ−６ｂを通り出光面の面方向に対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す断面図である。
【図８】図８は、本発明の第二実施形態に係る発光装置の出光面の一部を、発光装置の厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す部分平面図である。
【図９】図９は、本発明の第二実施形態に係る凹凸構造層を、図８の線８ａを通り出光面に対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す部分断面図である。
【図１０】図１０は、本発明の第三実施形態に係る発光装置を模式的に示す斜視図である。
【図１１】図１１は、本発明の第四実施形態に係る発光装置を厚み方向から見た様子を模式的に示す上面図である。
【図１２】図１２は、本発明の第四実施形態に係る発光装置を説明する図であって、図１１に示す発光装置を、図１１中の線１１ａを通る、出光面と垂直な面で切断した断面を示す断面図である。
【図１３】図１３は、本発明の第五実施形態に係る凹凸構造層の断面を模式的に示す断面図である。
【図１４】図１４は、本発明の第六実施形態に係る発光装置を模式的に示す斜視図である。
【図１５】図１５は、本発明の別の実施形態に係る凹凸構造層の断面を模式的に示す断面図である。
【図１６】図１６は、本発明の別の実施形態に係る凹凸構造層の断面を模式的に示す断面図である。
【図１７】図１７は、本発明の別の実施形態に係る構造層の断面を模式的に示す断面図である。
【図１８】図１８は、実施例１で用いた金属モールドの製造の様子を模式的に表す図である。
【図１９】図１９は、実施例１における凹凸構造層を、切削方向に垂直な平面で切った断面の様子を模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、実施形態及び例示物等を示して本発明について詳細に説明するが、本発明は以下に説明する実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の要旨及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施できる。
【００１０】
〔第一実施形態〕
図１及び図２はいずれも本発明の第一実施形態に係る発光装置を説明する図であって、図１は発光装置を模式的に示す斜視図であり、図２は図１に示す発光装置を線１ａ−１ｂを通り出光面に対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す断面図である。
【００１１】
図１に示すように、本発明の第一実施形態に係る発光装置１０は、矩形の平板状の構造を有する装置であり、両面発光型の有機ＥＬ素子１４０と、この有機ＥＬ素子１４０の少なくとも片面に直接または間接的に設けられる出光面構造層１００とを備える。有機ＥＬ素子１４０は、少なくとも第一電極である透明電極層１４１、発光層１４２及び第二電極である透明電極層１４３をこの順に備え、その表面１４４及び１４５の両方から発光できるようになっている。本実施形態では、透明電極層１４１及び透明電極層１４３が透明であるので、発光層１４２からの光が、透明電極層１４１及びその表面１４４を透過して、または透明電極層１４３及びその表面１４５を透過して、有機ＥＬ素子１４０の外部へ出て行くようになっている。そこで、以下の説明においては表面１４４及び１４５を「発光面」と呼ぶ。
【００１２】
前述したように、有機ＥＬ素子１４０の発光面１４４には出光面構造層１００が設けられている。本実施形態では、出光面構造層１００は発光面１４４に接するように直接に設けられているものとする。
さらに、本実施形態の発光装置１０は上述した部材以外にも構成要素を備えていてもよい。本実施形態では、有機ＥＬ素子１４０の発光面１４５に封止基材１５１が設けられているものとする。
【００１３】
したがって、発光装置１０は、封止基材１５１と、有機ＥＬ素子１４０と、出光面構造層１００とをこの順に備える。このような発光装置１０では、出光面構造層１００における有機ＥＬ素子１４０とは反対側の表面１０Ｕを通って発光装置１０の外部へ光が射出し、また、封止基材１５１における有機ＥＬ素子１４０とは反対側の表面１０Ｄを通って発光装置１０の外部へ光が射出する。表面１０Ｕ及び１０Ｄは、発光装置１０の最も外側に位置し、この表面１０Ｕ及び１０Ｄを通って光が射出するため、表面１０Ｕ及び１０Ｄを「出光面」と呼ぶ。
【００１４】
〔１．有機ＥＬ素子〕
例えば有機ＥＬ素子１４０として例示するように、有機ＥＬ素子は、通常、第一電極と、第二電極と、これらの電極間に設けられ、電極から電圧を印加されることにより発光する発光層と、を備える。
【００１５】
有機ＥＬ素子は、基板上に有機ＥＬ素子を構成する電極、発光層等の層を形成し、さらにそれらの層を覆う封止部材を設け、基板と封止部材で発光層等の層を封止した構成とされるのが一般的である。
【００１６】
前記発光層としては、特に限定されず既知のものを適宜選択できる。発光層中の発光材料は１種類に限らず、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。また、発光層は１層に限らず、光源としての用途に適合すべく、一種類の層単独又は複数種類の層の組み合わせとすることができる。これにより、白色又はそれに近い色の光を発光するものとし得る。
【００１７】
有機ＥＬ素子を構成する電極は、通常は第一電極及び第二電極のうち少なくとも一方が透明であり、好ましくは第一電極及び第二電極の両方が透明である。ここで「透明」であるとは、光学部材に用いるのに適した程度の光線透過率を有する意味である。例えば、発光装置１０が全体として後述する所望の全光線透過率を有する程度に高い光線透過率を有する電極を、透明電極層として用いればよい。このように高い透明性を有する電極を備えることにより、発光層で発生した光の取出効率を向上できる。また、第一電極及び第二電極の両方を透明にすることにより、発光装置を通じて向こう側を明瞭に見通すことができる。なお、透明電極層の材料は１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。さらに透明電極層は１層のみを備える単層構造の層であってもよく、２層以上の層を備える複層構造の層であってもよい。
【００１８】
有機ＥＬ素子１４０は、透明電極層１４１と透明電極層１４３との間に、発光層１４２に加えてホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層及び電子注入層等の他の層（図示せず。）をさらに有していてもよい。また、有機ＥＬ素子１４０は、透明電極層１４１及び透明電極層１４３に通電するための配線、発光層１４２の封止のための周辺構造等の任意の構成要素をさらに備えていてもよい。
【００１９】
透明電極層及びその間に設ける層を構成する材料としては、特に限定されないが、具体例として下記のものを挙げることができる。
透明電極層の材料としては、例えばＩＴＯ（酸化インジウムスズ）等を挙げることができる。
正孔注入層の材料としては、例えばスターバースト系芳香族ジアミン化合物等を挙げることができる。
正孔輸送層の材料としては、例えばトリフェニルジアミン誘導体等を挙げることができる。
黄色発光層のホスト材料としては、例えばトリフェニルジアミン誘導体等を挙げることができ、黄色発光層のドーパント材料としては、例えばテトラセン誘導体等を挙げることができる。
緑色発光層の材料としては、例えばピラゾリン誘導体等を挙げることができる。
青色発光層のホスト材料としては、例えばアントラセン誘導体等を挙げることができ、青色発光層のドーパント材料としては、例えばペリレン誘導体等を挙げることができる。
赤色発光層の材料としては、例えばユーロピウム錯体等を挙げることができる。
電子輸送層の材料としては、例えばアルミニウムキノリン錯体（Ａｌｑ）等を挙げることができる。
【００２０】
上記のもの又はその他の発光層を適宜組み合わせて積層型又はタンデム型と呼ばれる、補色関係にある発光色を発生する発光層を得ることができる。補色関係の組み合わせは、黄／青、又は緑／青／赤等とすることができる。
【００２１】
〔２．出光面構造層〕
出光面構造層１００は、少なくともレンズアレイシート１１０を含む層であり、複数の層からなるものとしうるが、単一の層からなってもよい。所望の特性を備えた出光面構造層１００を容易に得る観点からは、複数の層からなることが好ましい。図１に示すように、本実施形態に係る出光面構造層１００は、レンズアレイシート１１０と、基板としての支持基板１３１と、レンズアレイシート１１０及び支持基板１３１を接着する接着層１２１とを備える。これにより、性能の高い出光面構造層１００を容易に得ることができる。
【００２２】
（２−１．レンズアレイシート）
レンズアレイシート１１０は、凹凸構造を有する層（即ち、凹凸構造層）１１１を少なくとも片面に備えるシートであり、単一の層からなるシートであってもよく、複数の層からなるシートであってもよい。本実施形態では、レンズアレイシート１１０は、凹凸構造層１１１及び基材フィルム層１１２を含む複層シートとなっている。また、レンズアレイシート１１０は、有機ＥＬ素子１４０の片面（即ち発光面１４４）に、支持基板１３１及び接着層１２１を介して間接的に設けられている。
【００２３】
（凹凸構造の説明）
凹凸構造層１１１は、有機ＥＬ素子１４０の発光装置１０の片方の表面（即ち発光装置１０の一方の出光面側の最外層。図中の上側）に位置する層であり、この凹凸構造層１１１の有機ＥＬ素子１４０とは反対側の表面が出光面１０Ｕとなっている。出光面１０Ｕは、巨視的に見ると、有機ＥＬ素子１４０の発光面１４４と平行な面であり、発光装置１０の主面と平行である。しかし、出光面１０Ｕは、微視的に見ると、凹凸構造を有するため、凹部又は凸部上の面は発光面１４４と非平行な角度をなしうる。そこで、以下の説明において、出光面に対して平行又は垂直であるとは、別に断らない限り、凹部又は凸部を無視して巨視的に見た出光面に対して平行又は垂直であることをいう。また、発光装置１０は、別に断らない限り、かかる出光面１０Ｕが水平方向と平行で且つ上向きになるよう載置した状態で説明する。
さらに、構成要素が「平行」又は「垂直」であるとは、本発明の効果を損ねない範囲、例えば±５°の範囲内で誤差を含んでいてもよい。
【００２４】
凹凸構造層１１１が出光面１０Ｕに有する凹凸構造は、有機ＥＬ素子１４０の発光面１４４に対して平行な平坦面部１１３及び１１４と、これらの平坦面部１１３及び１１４に対して傾斜した斜面部１１５とにより構成されている。具体的には、凹凸構造層１１１の出光面１０Ｕは、平坦面部１１４を底面とし、かつ斜面部１１５を側面とする複数の凹部１１６と、隣接する凹部１１６間の隙間部分に相当する平坦面部１１３とを備えて構成される。ここで、斜面部が平坦面部に対して傾斜するとは、斜面部が平坦面部と平行でないことを表す。
【００２５】
なお、本明細書においては、図面は模式的な図示であるため、出光面１０Ｕ上には僅かな個数の凹部１１６のみを示しているが、実際の発光装置及びレンズアレイシートにおいては、一枚の発光装置１０の出光面１０Ｕに、これよりも遥かに多い数の凹部を設けてもよい。
【００２６】
図３は、凹凸構造層１１１の出光面１０Ｕの一部を、発光装置１０の厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す部分平面図である。また、図４は、凹凸構造層１１１を、図３の線３ａを通り出光面１０Ｕに対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す部分断面図である。なお、前記の線３ａは、一列の凹部１１６の全ての平坦面部１１４の上を通る線であるものとする。また、以下の説明において「厚み方向」とは、特に断らない限り、発光装置１０の厚み方向を指す。さらに、発光装置１０の厚み方向は、通常はレンズアレイシート１１０の厚み方向に一致する。
【００２７】
図３に示すように、出光面１０Ｕは、複数の凹部１１６と、これらの凹部１１６間の隙間部分である平坦面部１１３とを備えている。各凹部１１６は、それぞれ正四角錐の頂部を底面と平行に切り取った形状（角錐台形状）である。各凹部１１６は、その底部分に相当する四角形状の平坦面部１１４と、前記平坦面部１１４の四角形の四辺からそれぞれ延びる四面の斜面部１１５とにより構成されている。より具体的には、凹部１１６の底面である平坦面部１１４は正方形状である。また、凹部１１６を構成する四面の斜面部１１５は、いずれも同一の台形状である。さらに、斜面部１１５と平坦面部１１３との境界線１１７は、正方形を構成している。すなわち、本実施形態では、凹部１１６は、正四角錐台形状である。
【００２８】
凹部１１６は、通常、位置が離散的になるように設けられる。ここでは、複数の凹部１１６は、出光面１０Ｕに対して平行で互いに直交する２方向Ｘ及びＹに沿って配列されている。具体的には、凹部１１６は、一定の間隔Ｌを空けて、直交する２方向Ｘ及びＹに沿って連続して配置されている。前記の２方向Ｘ及びＹにおいて、隣り合う凹部１１６の間には隙間が設けられていて、この隙間が平坦面部１１３を構成している。したがって、出光面１０Ｕにおいては、通常、平坦面部１１４の周囲には斜面部１１５が位置し、斜面部１１５の周囲（ひいては、凹部１１６の周囲）には平坦面部１１３が位置している。
【００２９】
図５は、発光装置１０の出光面１０Ｕの斜面部１１５を、平坦面部１１３及び１１４に対して垂直な方向に、平坦面部１１３及び１１４に対して平行な平面９００へと投影した様子を模式的に示す投影図である。なお、本実施形態では、平坦面部１１３及び１１４に対して垂直な方向は、出光面１０Ｕに対して垂直な方向、及び、発光装置１０の厚み方向に対して平行な方向に一致する。また、平坦面部１１３及び１１４に対して平行な平面９００は、出光面１０Ｕに対して平行な平面となる。ただし、前記の平坦面部１１３及び１１４に対して平行な平面９００は、発光装置１０が有する平面ではなく、斜面部１１５の投影面積を測定するために設定される投影平面である。また、図５において、発光装置１０の出光面１０Ｕの斜面部１１５を、平坦面部１１３及び１１４に対して垂直な方向に、平坦面部１１３及び１１４に対して平行な平面９００へと投影した投影像９０１には斜線を付して示す。
【００３０】
図５に示すように、本実施形態においては、斜面部１１５を、平坦面部１１３及び１１４に対して垂直な方向に、平坦面部１１３及び１１４に対して平行な平面９００へと投影して形成される投影面積が、平坦面部１１３及び１１４の合計面積の、通常０．１倍以下、好ましくは０．０５倍以下、より好ましくは０．０１倍以下である。また、平坦面部１１３及び１１４の合計面積に対する斜面部１１５の投影面積の比の下限は、通常０．０００１倍以上、好ましくは０．０００５倍以上、より好ましくは０．００１倍以上である。
【００３１】
出光面１０Ｕが前記のような凹凸構造を有することにより、本実施形態の発光装置１０は、以下の（ｉ）〜（iii）のような効果を奏することができる。
【００３２】
（ｉ）凹凸構造を有さない場合と比較して、発光装置１０では、出光面１０Ｕを通した光の取出効率を高めることができる。すなわち、平坦面部１１３及び１１４で内部反射することにより取り出すことができなかった光であっても、斜面部１１５を通してであれば取り出すことができるので、光の取出効率を向上させることができる。
【００３３】
（ii）発光装置１０の向こう側を見通せるようになる。従来の片面発光型の発光装置に設けられる凹凸構造を両面発光型の発光装置に適用した場合、通常は斜面部の割合が大きくなることによりヘイズが大きくなり、発光装置の向こう側を見通せなくなる。これに対し、平坦面部１１３及び１１４の合計面積に対する斜面部１１５の投影面積の割合を前記の範囲に収めると、出光面１０Ｕに対して垂直な方向から見た場合の凹凸構造によるヘイズの向上を抑制できる。したがって、本実施形態の発光装置１０によれば、凹凸構造を有しながらもヘイズの上昇を抑制できるので、シースルーを損なわないようになっている。
【００３４】
（iii）外部衝撃により凹凸構造の欠け等が生じることを防止でき、ひいては出光面１０Ｕの機械的強度を向上させることができる。一般に、面に凹凸構造があると、その面に衝撃が加えられた場合に当該凹凸構造の一部に力が集中し、破損を招きやすくなる傾向がある。ところが、本実施形態の発光装置１０では、平坦面部１１３の厚み方向の位置（以下、適宜「高さ位置」という。）を揃えて均一で平坦な面としているため、外部から出光面１０Ｕに加えられる力又は衝撃によって凹凸構造層１１１の一部に力が集中することを抑制できるようになっている。このため、凹凸構造層１１１の破損を防止し、良好な光取出効率と、発光装置１０の出光面１０Ｕの高い機械的強度とを両立させることができるようになっている。
【００３５】
さらに、図４に示すように、出光面１０Ｕにおける平坦面部１１３及び平坦面部１１４の高低差（本実施形態では、凹部１１６の深さ）Ｈの最大値は、好ましくは１２μｍ以下であり、１１μｍ以下もしくは１０μｍ以下としてもよい。なお、下限は、通常０．１μｍ以上であり、０．１５μｍ以上もしくは０．２μｍ以上としてもよい。
【００３６】
平坦面部１１３及び１１４の高低差Ｈの最大値をこのような範囲に収めることにより、出光面１０Ｕの法線方向に対して傾斜した方向（斜め方向）から見た場合にも発光装置１０の向こう側を見通すことができるようになる。斜面部１１５の面積割合が大きいと、斜め方向から出光面１０Ｕを見た場合のヘイズが大きくなる傾向がある。これに対し、平坦面部１１３及び１１４の合計面積（全面積）に対する斜面部１１５の投影面積の割合が前記の範囲に収まり、且つ、平坦面部１１３及び１１４の高低差Ｈの最大値が前記の範囲に収まることにより、斜め方向から見た場合のヘイズの向上を抑制できるので、斜め方向から発光装置１０を見た場合でもシースルーを損なわないようにできる。
【００３７】
さらに、前記の平坦面部１１３及び１１４の高低差Ｈの最大値は、凹凸構造層１１１の厚みＴとの関係で、適切な範囲にすることが好ましい。例えば、凹凸構造層１１１の材料として、凹凸構造層１１１の耐久性の維持に有利な硬質の材料を用いた場合、凹凸構造層１１１の厚みＴを薄くしたほうが発光装置１０の可撓性を高めることが可能となり、発光装置１０の製造工程における凹凸構造層１１１の取り扱いが容易となるので、好ましい。具体的には、平坦面部１１３及び１１４の高低差Ｈの最大値と凹凸構造層１１１の厚みＴとの差は、０〜３０μｍであることが好ましい。なお、本実施形態では、凹凸構造層１１１の厚さＴとは、凹凸構造が形成されていない基材フィルム層１１２側の面と、平坦面部１１３との距離のことである。
【００３８】
図４に示すように、斜面部１１５は、平坦面部１１３及び１１４に対して、通常８０°以上、好ましくは８１°以上、より好ましくは８２°以上、また、通常９０°未満、好ましくは８９°以下、より好ましくは８８°以下の傾斜角度θで傾斜していることが好ましい。すなわち、斜面部１１５はいずれも平坦面部１１３及び１１４に対して平行でない面であるが、これらの斜面部１１５と平坦面部１１３及び１１４とがなす角度θが前記の範囲に収まることが好ましい。このように斜面部１１５の傾斜角度θが大きいことにより、光の取出効率を安定して高めることができる。また、傾斜角度θが小さい場合と比べ、傾斜角度θが大きいと斜面部１１５一つあたりの前記投影面積を小さくできるので、出光面１０Ｕに対して垂直な方向から見た場合に発光装置１０の向こう側をより明瞭に見通しやすくなる。出光面１０Ｕに対して垂直な方向は発光装置１０の正面方向に当たり、通常はこの正面方向から発光装置１０の向こう側を見通す頻度が高いと想定されるため、前記の利点は実用上、有用である。
【００３９】
また、本実施形態では、全ての斜面部１１５の傾斜角度θは、同じ大きさに設定されているが、特に限定されず異なっていてもよい。
【００４０】
図３に示すように、出光面１０Ｕは、平坦面部１１３及び１１４並びに２つの斜面部１１５を含む繰り返し構造が、２方向Ｘ及びＹそれぞれに沿って繰り返し並んだ形状となっている。例えば方向Ｘにおいては、図４に示すように、平坦面部１１３、斜面部１１５、平坦面部１１４及び斜面部１１５がこの順に並んだ繰り返し構造１１８が繰り返し並んだ形状となっている。このような繰り返し構造１１８のピッチＰは、通常０．１μｍ以上、好ましくは０．１５μｍ以上、より好ましくは０．２μｍ以上であり、通常５００μｍ以下、好ましくは４５０μｍ以下、より好ましくは４００μｍ以下である。ピッチＰが前記範囲の下限値以上となることにより取出効率が向上するという利点がある。また、ピッチＰが前記範囲の上限値以下となることにより透明性がよくなるという利点がある。
【００４１】
凹凸構造層１１１の厚さＴは、１μｍ〜７０μｍであることが好ましい。また、基材フィルム層１１２の厚さは、２０μｍ〜３００μｍであることが好ましい。
【００４２】
（防曇性の説明）
本実施形態に係る凹凸構造層１１１は、防曇性を有する。ここで防曇性とは、曇り難い性質のことを意味する。この防曇性は、「ＪＩＳ  ｋ  ２３９９：自動車用くもり止め剤」のくもり止め性評価試験方法に準拠して、０．７ｍｍ厚のガラスにレンズアレイシートを固定して、凹凸構造層の表面（即ち、出光面１０Ｕ）に７０℃の水蒸気を３分間吹き付けた後のくもりによって評価できる。
【００４３】
凹凸構造層１１１が防曇性を有することによって、出光面１０Ｕは高湿度下でも曇り難くなっている。このため、高湿度下において出光面１０Ｕが曇って光の取出効率が低下することを防止できる。また、高湿度下において出光面１０Ｕのヘイズが上昇してシースルーが損なわれることを防止することもできる。
【００４４】
前記のように防曇性を高める手段に制限はない。例えば、出光面１０Ｕにおいて水が濡れ広がり易くすることによって防曇性を高めてもよい。水が濡れ広がり易いと、水蒸気が付着しても出光面１０Ｕに水滴が形成され難くなるので、凹凸構造層１１１に優れた防曇性をもたせることができる。
【００４５】
水の濡れ広がり易さを高めるには、通常、水接触角が低い材料によって凹凸構造層１１１を形成する。具体的には、ある材料で凹凸の無い面（平坦面）を形成した場合に、当該平坦面で測定した水接触角が、通常６５°以下、好ましくは５０°以下、より好ましくは４０°以下となる材料によって凹凸構造層１１１を形成することにより、出光面１０Ｕの水の濡れ広がり易さを高めることができる。なお、前記の水接触角の下限は通常０°であるが、１０°以上であってもよい。
【００４６】
（レンズアレイシートの材料の説明）
レンズアレイシート１１０は、通常、透明樹脂により形成する。本実施形態においては、レンズアレイシート１１０を構成する凹凸構造層１１１及び基材フィルム層１１２それぞれが、光学部材として用いるのに適した光線透過率を有するものとする。例えば、レンズアレイシート１１０全体として、８０％以上の全光線透過率を有するものとしてもよい。
【００４７】
透明樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等を挙げることができる。本実施形態の場合、これらの透明樹脂を基材フィルム層の表面に塗布し、塗布された透明樹脂を硬化させることにより、凹凸構造層１１１を作製できる。なかでも、熱可塑性樹脂は熱による変形が容易であるため、また紫外線硬化性樹脂は硬化性が高く効率が良いため、凹凸構造層１１１の効率的な形成が可能となり、それぞれ好ましい。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエステル系、ポリアクリレート系、シクロオレフィン系等の樹脂が挙げられる。また、紫外線硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ系、アクリル系、ウレタン系、エン／チオール系、イソシアネート系等の樹脂が挙げられる。
【００４８】
転写性の観点から、熱転写により凹凸構造を形成する熱可塑性樹脂の粘度は、１００℃の条件で、１０００ｃＰ以下が好ましく、５００ｃＰ以下がより好ましく、１００ｃＰ以下がさらに好ましい。同様に、紫外線硬化により凹凸構造を形成する紫外線硬化樹脂の粘度は、２５℃の条件で、１０００ｃＰ以下が好ましく、５００ｃＰ以下がより好ましく、１００ｃＰ以下がさらに好ましい。
【００４９】
ただし、前記のように防曇性を高める観点から、凹凸構造層１１１の材料としては、当該材料により形成した平坦面の水接触角を小さくできる材料を用いることが好ましい。そこで、前記の水接触角を小さくする観点からは、凹凸構造層１１１は、重合性不飽和基を有する反応性界面活性剤を含む樹脂を硬化させた層が好ましい。
【００５０】
凹凸構造層１１１を製造する際、例えば基材フィルム層１１２に樹脂を塗布すると、塗膜の表面は、通常、空気に露出するか、又は、型等に接触することになる。そのため、塗膜の表面は、通常、樹脂と空気との界面、または、樹脂と型の材料との界面となる。このため、樹脂の塗膜において界面活性剤は塗膜の表面付近に密に存在する傾向がある。したがって、界面活性剤を含む樹脂を用いれば、樹脂を硬化させた後の凹凸構造層１１１の表面に界面活性剤を集めて親水性を高めることにより、水に対する接触角を小さくすることができる。
【００５１】
また、硬化前の樹脂に含まれる反応性界面活性剤は、樹脂を硬化させる際に重合性不飽和基が樹脂に含まれるモノマー又はポリマーと反応する。このため、硬化後の樹脂においては、反応性界面活性剤に由来する構造がポリマー鎖の一部（通常は、側鎖）として含まれることになる。すなわち、凹凸構造層１１１において反応性界面活性剤は、硬化後の樹脂においては遊離した分子として存在するのではなく、樹脂に含まれるポリマー鎖に結合した状態で存在する。したがって、出光面１０Ｕに水が付着したり、その水を拭き取ったりしりしても界面活性剤が失われないようになっているので、凹凸構造層１１１を形成する材料の水接触角の変化を抑制し、長期間にわたって防曇性を維持することができる。
【００５２】
反応性界面活性剤においては、通常、重合性不飽和基が疎水性基として作用する。反応性界面活性剤が有する重合性不飽和基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ビニリデン基、プロペニル基、イソプロペニル基、イソブチリデン基等が挙げられる。なお、反応性界面活性剤が有する重合性不飽和基の種類は、１種類でもよく、２種類以上でもよい。
【００５３】
また、反応性界面活性剤は、親水性を発現する部分として、通常は親水性基を有する。反応性界面活性剤は、親水性基の種類により、アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤に分類される。また、この親水性基は、重合性を有さないことが好ましい。親水性基が重合性を有すると、樹脂の硬化時に親水性基がモノマー又はポリマーと重合し、凹凸構造層１１１の出光面１０Ｕの親水性を高めることができなくなる可能性がある。
【００５４】
アニオン系の親水性基としては、例えば、−ＳＯ３Ｍ、−ＣＯＯＭ、−ＰＯ（ＯＨ）２等が挙げられる。ここでＭは、水素原子又はカチオンを示す。カチオンとしては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属イオン；カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属イオン；アンモニウムイオン；モノメチルアミン、ジメチルアミン、モノエチルアミン、トリエチルアミン等のアルキルアミンのアンモニウムイオン；モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミンのアンモニウムイオンなどが挙げられる。
カチオン系の親水基としては、例えば、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＳＯ３ＯＲ等が挙げられる。ここでＲは、アルキル基を示す。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基などが挙げられる。
ノニオン系の親水基としては、例えば、−ＯＨが挙げられる。
これらの中でも、親水性基が塗膜表面に偏在しやすい特性を有するため、特にアニオン系の反応性界面活性剤が好ましい。なお、反応性界面活性剤が有する親水性基の種類は、１種類でもよく、２種類以上でもよい。
【００５５】
好適な反応性界面活性剤の例を挙げると、下記の式（Ｉ）で表される化合物が挙げられる。
【００５６】
【化１】
0005637027.tif 000002
【００５７】
式（Ｉ）において、Ｒは２価の結合基を表し、例えば−Ｓｉ−Ｏ−基、メチレン基及びフェニレン基等が挙げられる。
また、式（Ｉ）において、Ｒ１は親水性基を表し、例えば−ＳＯ３ＮＨ４等が挙げられる。
さらに、式（Ｉ）において、ｎは１以上１００以下の整数である。
【００５８】
なお、反応性界面活性剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００５９】
硬化前の樹脂に含まれる反応性界面活性剤の量は、硬化前の樹脂に含まれるモノマー１００重量部に対して、通常１．０重量部以上、好ましくは３．０重量部以上、より好ましくは５．０重量部以上であり、通常２０重量部以下、好ましくは１５重量部以下、より好ましくは１０重量部以下である。反応性界面活性剤の量を前記範囲の下限値以上とすることにより凹凸構造層１１１に防曇性を安定して発現させることができ、また上限値以下とすることにより膜強度を適切な範囲とすることができる。
【００６０】
また、凹凸構造層１１１は、水溶性アクリレートを含む樹脂を硬化させた層であることが好ましく、親水性の官能基であるエチレンオキサイド基、水酸基及びカルボキシル基からなる群より選ばれる一種類以上の基を分子内に有する水溶性アクリレートを含む樹脂を硬化させた層であることが特に好ましい。ここで水溶性とは、２５℃において、その化合物０．５ｇを１００ｇの水に溶解した際に、不溶分が０．５重量％未満であることをいう。また、水溶性アクリレートは、硬化前の樹脂に含まれていることが好ましく、硬化後の樹脂には通常、ポリアクリレートとして含まれる。
【００６１】
上述したように、水接触角の小さい材料で凹凸構造層１１１を形成することにより、凹凸構造層１１１は高い防曇性を備える。しかし、例えば出光面１０Ｕに水が付着することにより凹凸構造層１１１が１回水に濡れると、その後で当該凹凸構造層１１１を乾燥させても、再び高湿度環境におかれた場合に凹凸構造層１１１の防曇性が低下することがある。しかし、硬化前の状態において前記の水溶性アクリレートを含む樹脂を硬化させて凹凸構造層１１１を形成すると、その凹凸構造層１１１は前記のように防曇性が低下し難くなる。このように防曇性の低下を抑制できる理由は定かではないが、前記の水溶性アクリレートに由来する構造を含むポリマーは吸水性を有するため、この吸水性の作用により防曇性が維持されているものと推察される。
【００６２】
前記の水溶性アクリレートの例としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート及びブチレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート及びジブチレングリコールジ（メタ）アクリレート等のジアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート及びトリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート等のトリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート及びテトラブチレングリコールジ（メタ）アクリレート等のテトラアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート及びポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、β−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエーテルトリ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。なお、水溶性アクリレートは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。また、（メタ）アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートを意味する。
【００６３】
また、膜の硬度、強度を適切な範囲にするために、硬化前の樹脂は、非水溶性多官能（メタ）アクリレートを含有してもよい。非水溶性多官能（メタ）アクリレートの例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリアルキレンオキサイドトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリカプロラクトネートトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタンポリアルキレンオキサイドトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールヘキサントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールヘキサンポリアルキレンオキサイドトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールオクタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールオクタンポリアルキレンオキサイドトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリヒドロキシベンゼン（ピロガロール等）ポリアルキレンオキサイド付加体トリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイドテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラカプロラクトネートテトラ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンポリアルキレンオキサイドテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、テトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールエタンテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールエタンポリアルキレンオキサイドテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールブタンテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールブタンポリアルキレンオキサイドテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールヘキサンポリアルキレンオキサイドテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールオクタンテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールオクタンポリアルキレンオキサイドテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイドペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイドヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサカプロラクトネートヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイドヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイドヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイドオクタ（メタ）アクリレート、等の各種（メタ）アクリレート；ジトリメチロールプロパンテトラカプロラクトネート、トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレート等が挙げられる。
【００６４】
また、凹凸構造層１１１は、出光面１０Ｕの凹凸構造を形成しやすく且つ凹凸構造の耐擦傷性を得やすいという観点から、硬化時の硬度が高い材料によって形成することが好ましい。具体的には、７μｍの膜厚の樹脂層を基材上に凹凸構造が無い状態で形成した際に、鉛筆硬度で、好ましくはＨＢ以上、更に好ましくはＨ以上、特に好ましくは２Ｈ以上になる材料で凹凸構造層１１１を形成することが望ましい。
【００６５】
一方、基材フィルム層１１２は、凹凸構造層１１１の形成に際しての取り扱い、並びに、レンズアレイシート１１０の取り扱いを容易とするために、ある程度の柔軟性がある材料で形成することが好ましい。このように、硬い凹凸構造層１１１と柔軟な基材フィルム層１１２とを組み合わせることにより、取り扱いが容易で且つ耐久性に優れるレンズアレイシート１１０を得ることができ、その結果、高性能の発光装置１０を容易に製造することができる。
【００６６】
このような組み合わせは、それぞれの層を形成する樹脂として、上に例示した透明樹脂を適切に選択することにより得ることができる。具体的には、凹凸構造層１１１を上述した水溶性アクリレート等を含む紫外線硬化性樹脂によって形成し、一方、基材フィルム層１１２として脂環式オレフィンポリマー製のフィルム（例えば、日本ゼオン社製「ゼオノアフィルム」等）、ポリエステルフィルム又はポリカーボネートフィルムを用いることが好ましい。これらのフィルムには、凹凸構造を形成する樹脂との密着性を高めるために、あらかじめ易接着層を形成しておくことが好ましい。
【００６７】
また、レンズアレイシート１１０が凹凸構造層１１１と基材フィルム層１１２とを含む場合、凹凸構造層１１１と基材フィルム層１１２との屈折率はできるだけ近くするようにしてもよい。この場合、凹凸構造層１１１と基材フィルム層１１２との屈折率差は、好ましくは０．１以内、さらに好ましくは０．０５以内である。
【００６８】
さらに、凹凸構造層１１１、基材フィルム層１１２等のレンズアレイシート１１０の構成要素となる層には、シースルーを阻害しない範囲で、光拡散性のある材料を用いてもよい。これにより、シースルーを維持しつつ、レンズアレイシート１１０を透過する光を拡散させることができ、観察角度による色味の変化等の不具合を低減し得る。
【００６９】
光拡散性のある材料としては、例えば、粒子を含んだ材料、２種類以上の樹脂を混ぜ合わせて光を拡散させるアロイ樹脂、等を挙げることができる。なかでも、光拡散性を容易に調節できるという観点から、粒子を含んだ材料が好ましい。
【００７０】
粒子は、透明であってもよく、不透明であってもよい。粒子の材料としては、例えば、金属及び金属化合物、並びに樹脂等が挙げられる。金属化合物としては、例えば、金属の酸化物及び窒化物を挙げることができる。金属及び金属化合物の具体例を挙げると、銀、アルミニウムのような反射率が高い金属；酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、窒化珪素、錫添加酸化インジウム、酸化チタン等の金属化合物；などを挙げることができる。一方、樹脂としては、例えば、メタクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を挙げることができる。なお、粒子は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
また、粒子の形状は、例えば、球状、円柱状、立方体状、直方体状、角錐状、円錐状、星型状等の形状としてもよい。
【００７１】
さらに、樹脂は、必要に応じて任意の成分を含んでいてもよい。当該任意の成分としては、例えば、光重合開始剤；フェノール系、アミン系等の劣化防止剤；界面活性剤系、シロキサン系等の帯電防止剤；トリアゾール系、２−ヒドロキシベンゾフェノン系等の耐光剤；などの添加剤を挙げることができる。
【００７２】
（２−２．支持基板）
図１に示すように、本実施形態の発光装置１０は、有機ＥＬ素子１４０とレンズアレイシート１１０との間に、支持基板１３１を備える。支持基板１３１を備えることにより、発光装置１０に、たわみを抑制する剛性を与えることができる。また、支持基板１３１として、有機ＥＬ素子１４０を封止する性能に優れるものを用いれば、発光装置１０の耐久性を向上させることができる。さらに、支持基板１３１として、有機ＥＬ素子１４０を構成する層を製造工程において支持基板１３１の上に順次容易に形成しうる基板を用いれば、発光装置１０の製造を容易にすることができる。
【００７３】
支持基板１３１を構成する材料の例としては、通常、透明な材料を用いる。その例を挙げると、ガラス、樹脂などが挙げられる。なお、支持基板１３１の材料は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
支持基板１３１を構成する材料の屈折率は、特に制限されないが、１．４〜２．０とすることが好ましい。
支持基板１３１の厚さは、特に限定されないが、０．１ｍｍ〜５ｍｍであることが好ましい。
【００７４】
（２−３．接着層）
本実施形態の発光装置１０は、レンズアレイシート１１０と支持基板１３１との間に接着層１２１を備える。接着層１２１は、レンズアレイシート１１０の基材フィルム層１１２と支持基板１３１との間に介在して、これらの２層を接着する層である。
【００７５】
接着層１２１の材料である接着剤は、狭義の接着剤（２３℃における剪断貯蔵弾性率が１〜５００ＭＰａであり、常温で粘着性を示さない、いわゆるホットメルト型の接着剤）のみならず、２３℃における剪断貯蔵弾性率が１ＭＰａ未満である粘着剤をも包含する。具体的には、支持基板１３１あるいは基材フィルム層１１２に近い屈折率を有し、且つ透明な材料を適宜用いうる。より具体的には、例えばアクリル系接着剤あるいは粘着剤が挙げられる。接着層の厚さは、５μｍ〜１００μｍであることが好ましい。
【００７６】
〔３．封止基材〕
本実施形態の発光装置１０は、発光面１４５に封止基材１５１を備える。封止基材１５１は、発光面１４５に直接接するように設けてもよい。また、発光面１４５と封止基材１５１との間に、充填材や接着剤等の任意の物質が存在していてもよいし、空隙が存在していてもよい。空隙には、発光層１４２の耐久性を大きく損なう等の不都合がない限りは空気やその他の気体が存在してもよいし、空隙内を真空としてもよい。
【００７７】
封止基材１５１としては、有機ＥＬ素子１４０を封止でき、発光面１４５から発せられる光を透過させる任意の部材を用いてもよい。例えば、支持基材１３１と同様の部材を用いてもよい。
【００７８】
〔４．製造方法〕
発光装置１０の製造方法は、特に限定されないが、例えば、支持基板１３１の一方の面に有機ＥＬ素子１４０を構成する各層を積層する工程と、凹凸構造層１１１及び基材フィルム層１１２を有するレンズアレイシート１１０を用意する工程と、用意したレンズアレイシート１１０を接着層１２１を介して支持基板１３１の他方の面に貼付する工程と、有機ＥＬ素子１４０の支持基板１３１とは反対側の面に封止基材１５１を設ける工程とを行うことにより製造してもよい。なお、前記の各工程は、所望の発光装置１０が得られる限り順番に制限はない。
【００７９】
凹凸構造層１１１及び基材フィルム層１１２を有するレンズアレイシート１１０の製造は、例えば、所望の形状を有する金型等の型を用意し、この型を凹凸構造層１１１を形成する材料の層に転写することにより行ってもよい。より具体的な方法としては、例えば、
（方法１）基材フィルム層１１２を構成する樹脂Ａの層及び凹凸構造層１１１を構成する樹脂Ｂの層（凹凸構造はまだ形成されていない）を有する未加工レンズアレイシートを用意し、かかる未加工レンズアレイシートの樹脂Ｂ側の表面に、凹凸構造を形成する方法；及び
（方法２）基材フィルム層１１２の上に、液体状態の樹脂Ｂを塗布し、塗布された樹脂Ｂの層に型を当て、その状態で樹脂Ｂを硬化させ、凹凸構造層１１１を形成する方法
などを挙げることができる。
【００８０】
方法１において、未加工レンズアレイシートは、例えば樹脂Ａ及び樹脂Ｂを共押出する押出成形により得てもよい。未加工レンズアレイシートの樹脂Ｂ側の表面に、所望の表面形状を有する型を押し当てることにより、凹凸構造を形成することができる。
より具体的には、長尺の未加工レンズアレイシートを押出成形により連続的に形成し、所望の表面形状を有する転写ロールとニップロールとで未加工レンズアレイシートを加圧し、それにより、連続的な製造を効率的に行うことができる。転写ロールとニップロールとによる挟み圧力は、好ましくは数ＭＰａ〜数十ＭＰａである。また転写時の温度は、樹脂Ｂのガラス転移温度をＴｇとすると、好ましくはＴｇ以上（Ｔｇ＋１００℃）以下である。未加工レンズアレイシートと転写ロールとの接触時間はフィルムの送り速度、すなわちロール回転速度によって調整でき、好ましくは５秒以上６００秒以下である。
【００８１】
方法２において、凹凸構造層１１１を構成する樹脂Ｂとしては、紫外線等のエネルギー線により硬化しうる組成物を用いることが好ましい。かかる樹脂Ｂを、基材フィルム層１１２上に塗布し、型を当てた状態で、塗布面の裏側（基材フィルム層の、樹脂Ｂを塗布した面とは反対側）に位置する光源から、紫外線等のエネルギー線を照射し、樹脂Ｂを硬化させ、その後型を剥離することにより、樹脂Ｂの塗膜を凹凸構造層１１１とし、レンズアレイシート１１０を得ることができる。
【００８２】
〔５．主な利点の説明〕
本実施形態の発光装置１０は上述したように構成されているため、有機ＥＬ素子１４０の発光面１４４から発せられる光は出光面構造層１００を透過して出光面１０Ｕを通って出光し、発光面１４５から発せられる光は封止基材１５１を透過して出光面１０Ｄを通って出光する。この際、出光面１０Ｕが平坦面部１１３及び１１４並びに斜面部１１５を含む凹凸構造を有するため、出光面１０Ｕを通して光を高効率で取り出すことができる。
【００８３】
また、凹凸構造層１１１が防曇性を有するので、出光面１０Ｕは高湿度下でも曇り難くなっている。このため、高湿度下において出光面１０Ｕが曇って光の取出効率が低下することを防止できる。また、高湿度下において出光面１０Ｕのヘイズが上昇してシースルーが損なわれることを防止することもできる。
【００８４】
さらに、発光装置１０が備える層がいずれも透明であるため、発光装置１０では、一方の出光面１０Ｕに入射した光は発光装置１０を透過して他方の出光面１０Ｄを通って出光できるようになっており、また、他方の出光面１０Ｄに入射した光も発光装置１０を透過して一方の出光面１０Ｕを通って出光できるようになっている。さらに、本実施形態では、平坦面部１１３及び１１４の合計面積に対する斜面部１１５の投影面積の割合を所定の範囲に収めてあるので、ヘイズを抑制できる。したがって、発光装置１０を通じて反対側を肉眼で明瞭に見通すことができるようになり、シースルー型の発光装置を実現できる。
【００８５】
具体的には、発光装置１０は、発光装置１０全体として、通常６０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上の全光線透過率を有する。なお、上限は理想的には１００％であるが、通常は９０％以下である。
【００８６】
さらに、発光装置１０では凹凸構造の形状を適切に設定してあるので、発光装置１０のヘイズは、発光装置１０全体として、通常１０％以下、好ましくは５％以下、より好ましくは１％以下と小さい値になっている。なお、下限値は理想的にはゼロであるが、通常は０．１％以上である。
【００８７】
〔第二実施形態〕
第一実施形態においては出光面に凹部を設け、この凹部により凹凸構造を構成したが、例えば、凹部の代わりに凸部を設けてもよい。以下、その例を、図面を用いて説明する。
【００８８】
図６〜図９はいずれも本発明の第二実施形態に係る発光装置を説明する図である。図６は発光装置を模式的に示す斜視図である。図７は図６に示す発光装置を線６ａ−６ｂを通り出光面の面方向に対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す断面図である。図８は発光装置の出光面の一部を、発光装置の厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す部分平面図である。図９は凹凸構造層を、図８の線８ａを通り出光面に対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す部分断面図である。
【００８９】
図６〜図９に示すように、本発明の第二実施形態に係る発光装置２０は、凹凸構造層１１１の代わりに凹凸構造層２１１を備えていること以外は、第一実施形態に係る発光装置１０と同様である。この凹凸構造層２１１は、形状以外は凹凸構造層１１１と同様であり、凹凸構造層１１１と同様に防曇性を有する。すなわち、第二実施形態に係る発光装置２０は、出光面構造層２００を構成するレンズアレイシート２１０において、凹凸構造層２１１の表面である出光面２０Ｕの形状が異なる他は、第一実施形態と同様の構成を有している。
【００９０】
出光面２０Ｕの凹凸構造は、第一実施形態に係る出光面１０Ｕの凹凸構造の凹凸を反転させたような形状であり、平坦面部２１３、平坦面部２１４及び斜面部２１５が、第一実施形態に係る平坦面部１１３、平坦面部１１４及び斜面部１１５にそれぞれ対応する。このため、出光面２０Ｕは凹部１１６の代わりに凸部２１６を有し、凸部２１６は、正四角錐の頂部を底面と平行に切り取った形状を有する。また、凸部２１６は、それぞれ、発光面１４４に対して平行な平坦面部２１４を上面として有し、平坦面部２１４に対して傾斜した斜面部２１５を側面として有する。さらに、隣り合う凸部２１６の間には隙間が設けられていて、この隙間が、発光面１４４に対して平行な平坦面部２１３を構成している。なお、図９において符号「２１８」は平坦面部２１３、斜面部２１５、平坦面部２１４及び斜面部２１５を含む繰り返し単位を表す。
【００９１】
本実施形態の発光装置２０は上述したように構成されているため、有機ＥＬ素子１４０の発光面１４４から発せられる光は出光面２０Ｕを通って出光し、発光面１４５から発せられる光は出光面１０Ｄを通って出光することになる。この際、凹凸構造層２１１が防曇性を有するので、出光面２０Ｕは高湿度下でも曇り難くなっているため、出光面２０Ｕが曇って光の取出効率が低下したり、ヘイズが上昇してシースルーが損なわれたりすることを防止できる。さらに、シースルーであることを維持しながら、高効率で光を取り出すことができる。また、第一実施形態と同様の効果を奏することができる。
【００９２】
〔第三実施形態〕
第一及び第二実施形態においては、有機ＥＬ素子の２つの発光面のうち片面にレンズアレイシートを設けるようにしたが、両方の発光面にレンズアレイシートを設けるようにしてもよい。以下、その例を、図面を用いて説明する。
【００９３】
図１０は本発明の第三実施形態に係る発光装置を模式的に示す斜視図である。図１０に示すように、本発明の第三実施形態に係る発光装置３０は、封止基材１５１の代わりに出光面構造層１００を備えること以外は、第一実施形態に係る発光装置１０と同様である。これにより、発光装置３０は、有機ＥＬ素子１４０の２つの発光面１４４及び１４５の両方に、出光面構造層１００を備えることになる。したがって、発光装置３０は、２つの出光面１０Ｕ及び１０Ｄの両方に、防曇性を有する凹凸構造層１１１を有するレンズアレイシート１１０を備えることになる。なお、本実施形態では、２つの発光面１４４及び１４５に、それぞれ同じ形状の凹凸構造層１１１を有するレンズアレイシート１１０を設けているが、必ずしもこのような形態には限定されず、一方の発光面１４４のレンズアレイシート１１０の凹凸構造層１１１の凹凸構造の形状と、他方の発光面１４５のレンズアレイシート１１０の凹凸構造層１１１の凹凸構造の形状を異なるものとしてもよい。
【００９４】
本実施形態の発光装置３０は上述したように構成されているため、有機ＥＬ素子１４０の発光面１４４から発せられる光は出光面１０Ｕを通って出光し、発光面１４５から発せられる光は出光面１０Ｄを通って出光することになる。この際、凹凸構造層１１１が防曇性を有するので、出光面１０Ｕ及び１０Ｄの両方が高湿度下でも曇り難くなっているため、出光面１０Ｕ及び１０Ｄが曇って光の取出効率が低下したり、ヘイズが上昇してシースルーが損なわれたりすることを防止できる。さらに、シースルーであることを維持しながら、高効率で光を取り出すことができる。また、第一実施形態と同様の効果を奏することができる。
【００９５】
〔第四実施形態〕
第一〜第三実施形態においては、凹部及び凸部並びに当該凹部又は凸部に含まれる斜面部を、出光面に対して平行で互いに直交する２方向に沿って配列するようにしたが、これらは、直交しない２方向に沿って配列してもよく、３方向以上の方向に沿って配列してもよく、ランダムに配置してもよい。以下、その例を、図面を用いて説明する。
【００９６】
図１１及び図１２は、いずれも本発明の第四実施形態に係る発光装置を説明する図であって、図１１は、発光装置を厚み方向から見た様子を模式的に示す上面図であり、図１２は、図１１に示す発光装置を、図１１中の線１１ａを通る、出光面４０Ｕと垂直な面で切断した断面を示す断面図である。
【００９７】
図１１及び図１２に示すように、本発明の第四実施形態に係る発光装置４０は、凹凸構造層１１１の代わりに凹凸構造層４１１を備えていること以外は、第一実施形態に係る発光装置１０と同様である。この凹凸構造層４１１は、形状以外は凹凸構造層１１１と同様であり、凹凸構造層１１１と同様に防曇性を有する。すなわち、第四実施形態にかかる発光装置４０は、出光面構造層４００を構成するレンズアレイシート４１０において、凹凸構造層４１１の表面である出光面４０Ｕの形状が異なる他は、第一実施形態と同様の構成を有している。
【００９８】
凹凸構造層４１１の表面である出光面４０Ｕには、円錐の頂部を底面と平行に切り取った形状（円錐台形状）の凹部４１６が複数形成されている。円錐台形状であるため、凹部４１６は、発光面１４４に対して平行な平坦面部４１４を底面として有し、平坦面部４１４に対して傾斜した斜面部４１５を側面として有する。また、出光面４０Ｕ上において凹部４１６は、一定の間隔をおいて、線１１ａ、１１ｂ及び１１ｃに平行な３つの面内方向に沿って連続して配置されている。ここで、線１１ａ、１１ｂ及び１１ｃは、互いに６０°の角度をなしている。したがって、隣り合う凹部４１６の間には、線１１ａ、１１ｂ及び１１ｃに沿って隙間が設けられ、この隙間が、発光面１４４に対して平行な平坦面部４１３を構成している。
【００９９】
本実施形態の発光装置４０は上述したように構成されているため、有機ＥＬ素子１４０の発光面１４４から発せられる光は出光面４０Ｕを通って出光し、発光面１４５から発せられる光は出光面１０Ｄを通って出光することになる。この際、凹凸構造層４１１が防曇性を有するので、出光面４０Ｕは高湿度下でも曇り難くなっているため、出光面４０Ｕが曇って光の取出効率が低下したり、ヘイズが上昇してシースルーが損なわれたりすることを防止できる。さらに、シースルーであることを維持しながら、高効率で光を取り出すことができる。また、第一実施形態と同様の効果を奏することができる。
【０１００】
〔第五実施形態〕
第一〜第四実施形態においては、同じ出光面に形成される凹部又は凸部の寸法を一定にし、ひいては凹凸構造が有する平坦面部及び斜面部の寸法もそれぞれ一定に形成したが、寸法を不揃いにして寸法差を設けるようにしてもよい。中でも、出光面を通って出光する出射光及び出光面で反射した反射光の一方又は両方の干渉をもたらす差異を超える寸法差を設けると、前記の出射光及び反射光の一方又は両方の干渉による虹ムラを抑制できるため、好ましい。例えば、凹部又は凸部の深さ又は高さに当たる平坦面部の高低差に、前記の寸法差があることが好ましい。なお、出光面を通って出光する出射光には、有機ＥＬ素子が発した光だけでなく、当該出光面の反対側から発光装置へ入射して発光装置を透過した透過光も含む。以下、このような凹凸構造の例を、図面を用いて説明する。
【０１０１】
図１３は本発明の第五実施形態に係る凹凸構造層の断面を模式的に示す断面図である。図１３に示すように、本発明の第五実施形態に係る凹凸構造層５１１の表面である出光面５０Ｕには、平坦面部５１４を底面とし斜面部５１５を側面とする凹部５１６と、平坦面部５１７を底面とし斜面部５１８を側面とする凹部５１９とが、それぞれ複数設けられている。また、凹部５１６及び５１９の間には隙間が設けられていて、この隙間が平坦面部５１３を構成している。
【０１０２】
ここで、凹部５１６の深さ（すなわち、平坦面部５１３と平坦面部５１４との高低差）Ｈ５１６は、凹部５１９の深さ（すなわち、平坦面部５１３と平坦面部５１７との高低差）Ｈ５１９よりも小さくなっている。この場合、凹部５１６の深さＨ５１６と凹部５１９の深さＨ５１９との間に、出射光及び反射光の一方又は両方の干渉をもたらす差異を超える寸法差Ｈ５１９−Ｈ５１６があると、干渉による虹ムラを抑制できる。この際、前記の寸法差Ｈ５１９−Ｈ５１６は、出射光の干渉をもたらす差異を超える寸法差であってもよいが、出射光よりも反射光の方が虹ムラへの影響が大きい傾向があるので、反射光の干渉をもたらす差異を超える寸法差であることが好ましく、出射光及び反射光の両方の干渉をもたらす差異を超える寸法差であることがより好ましい。より具体的には、前述した寸法差が無い場合には、例えば、凹凸構造層５１１の上面における平坦面部５１３、５１４および５１７での反射光と凹凸構造層５１１の下面での反射光との間で干渉が起こり虹ムラが生じていた。しかしながら、凹凸構造に前記所定の寸法差を備えることにより、反射光間の干渉を抑えることができ、出光面５０Ｕにおける虹ムラを抑えることができる。
【０１０３】
前記の干渉をもたらす差異を超える寸法差とは、有機ＥＬ素子１４０から発せられた出射光の干渉を例に挙げると、例えば、出射光の中心波長の、通常０．６２倍以上、好ましくは１．５倍以上の寸法差である。この寸法差を設けることにより、虹ムラの発生を抑制することができる。かかる寸法差の上限は特に限定されないが、好ましくは、出射光の中心波長の６０倍以下である。
【０１０４】
上記数値範囲は、以下に示す知見から確認している。すなわち、凹部の深さを全て揃える態様で設計した凹凸構造層において、凹部の深さに１７０ｎｍ以上の誤差が生じると干渉が発生して虹ムラが現れるという場合に、かかる虹ムラを発生させる誤差の最小値の２倍以上の高さの寸法差を敢えて設けると、虹ムラの発生を抑制することができることが分かっている。さらに、凹部の深さを全て揃える態様で設計した凹凸構造層において、凹部の深さに標準偏差でσ１ｎｍ（≒６０ｎｍ）のバラツキが生じると干渉が発生し虹ムラが現れるという場合、６×σ１ｎｍ（＝３６０ｎｍ）以上の寸法差を敢えて設けることにより、虹ムラの発生を抑制することができることが分かっている。上記２つの知見により、出射光の干渉をもたらす差異を超える寸法差は、発光装置が出光する光の中心波長の０．６２倍以上であると示すことができる。
【０１０５】
また、同様の理由から、透過光及び反射光の干渉では、干渉をもたらす差異を超える寸法差は、透過光及び反射光の中心波長の、通常０．６２倍以上、好ましくは１．５倍以上の寸法差であり、また通常６０倍以下の寸法差である。ただし、通常は、透過光及び反射光は自然光であり、任意の波長を含む光であるため、反射する光の中心波長を決定することは難しい。そこで、虹ムラの原因となる光が可視光であることに鑑みて、通常は、可視光の中心波長である５５０ｎｍを反射する光の中心波長として、前記の寸法差を設定する。
【０１０６】
さらに、本実施形態のように凹凸構造が寸法差を有するようにした場合でも、凹凸構造層５１１が防曇性を有するので、出光面５０Ｕは高湿度下でも曇り難くなっているため、出光面５０Ｕが曇って光の取出効率が低下したり、ヘイズが上昇してシースルーが損なわれたりすることを防止できる。さらに、シースルーであることを維持しながら、高効率で光を取り出すことができる。また、第一実施形態と同様の効果を奏することができる。
【０１０７】
なお、平坦面部の高低差以外の要素において、前記の寸法差を設けた場合でも、同様の効果を得ることができる。例えば、平坦面部の高低差、凹部又は凸部の間隔、繰り返し構造のピッチ、などの要素群のうち１つ以上の要素において前記の寸法差があれば、同様に虹ムラを抑制することができる。
【０１０８】
〔第六実施形態〕
本発明に係るレンズアレイシートは、有機ＥＬ素子を備える発光装置であれば、任意のものに適用できる。したがって、有機ＥＬ素子に対して対称な層構造を有する発光装置に対して上述したレンズアレイシートを設けてもよく、有機ＥＬ素子に対して非対称な層構造を有する発光装置に対してレンズアレイシートを設けてもよい。例えば、第三実施形態では対称な層構造の発光装置の例を示したが、有機ＥＬ素子に対して非対称な層構造を有する発光装置にレンズアレイシートを適用してもよい。以下、その例を、図面を用いて説明する。
【０１０９】
図１４は本発明の第六実施形態に係る発光装置を模式的に示す斜視図である。図１４に示すように、本発明の第六実施形態に係る発光装置６０は、有機ＥＬ素子１４０の第二の透明電極層１４３と封止基材１５１との間に不活性ガス層６６１を備えること以外は第一実施形態に係る発光装置１０と同様である。
【０１１０】
不活性ガス層６６１は外部から浸入する酸素及び湿気が有機ＥＬ素子１４０を劣化させないように保護する層であり、窒素ガス等の不活性ガスが充填された層である。なお、通常は発光装置６０の側面は図示しない封止部材で封止されるため、不活性ガス層６６１内のガスが外部に漏れ出すことは無い。
【０１１１】
この発光装置６０は、有機ＥＬ素子１４０の一方の発光面１４５側にだけ不活性ガス層６６１を有する点で、有機ＥＬ素子１４０に対して非対称な層構造を有する。このような発光装置６０であっても、凹凸構造層１１１が防曇性を有するので、出光面６０Ｕは高湿度下でも曇り難くなっているため、出光面６０Ｕが曇って光の取出効率が低下したり、ヘイズが上昇してシースルーが損なわれたりすることを防止できる。さらに、シースルーであることを維持しながら、高効率で光を取り出すことができる。また、第一実施形態と同様の効果を奏することができる。
【０１１２】
〔その他〕
本発明の発光装置及びレンズアレイシートについて実施形態を示して説明したが、本発明は更に変更して実施してもよい。
例えば、上述した実施形態ではレンズアレイシートを粘着層及び支持基板を介して有機ＥＬ素子の発光面に設けたが、発光面に他の層を介さずに直接に接するように設けてもよい。
また、例えば、上述した実施形態では発光面に直接に接するように出光面構造層を設けたが、出光面構造層は他の層を介して発光面に設けられていてもよい。他の層としては、例えば、有機ＥＬ素子を外気及び湿気から保護するガスバリア層、紫外線を遮断する紫外線カット層などが挙げられる。
【０１１３】
また、例えば、上述した実施形態では、レンズアレイシートとしては、凹凸構造層及び基材フィルム層からなるものを示したが、出光面構造層は、これらよりも少ない層から構成されたものであってもよく、又は逆にこれらの層に加えて任意の層をさらに含むものであってもよい。
【０１１４】
また、例えば、平坦面部及び斜面部の位置、向き、形状、数及びこれらの組み合わせは、実施形態のものに限られず、変更してもよい。
具体例を挙げると、平坦面部は、上述した実施形態のように高さ位置を２段階に揃えて設ける以外にも、図１５に示すように１段階に揃えて設けてもよい。図１５は、本発明の別の実施形態に係る凹凸構造層の断面を模式的に示す断面図である。図１５に示す凹凸構造層７１１の出光面７０Ｕにおいては、円錐、角錐等の錐形状の凹部７１６の側面として斜面部７１５が設けられ、隣り合う凹部７１６間の隙間に高さ位置を揃えて平坦面部７１３が設けられている。このように平坦面部の高さ位置を１段階に揃える場合でも、上述した実施形態と同様の利点が得られる。
【０１１５】
また、例えば、図１６に示すように、平坦面部の高さ位置を３段階以上に揃えるようにしてもよい。図１６は、本発明の別の実施形態に係る凹凸構造層の断面を模式的に示す断面図である。図１６に示す凹凸構造層８１１の出光面８０Ｕにおいて凹部８１６は平坦面部８１４及び８１７並びに斜面部８１５及び８１８を有する。また、底面として平坦面部８１４の周囲に斜面部８１５が設けられ、斜面部８１５の周囲に平坦面部８１７が設けられ、平坦面部８１７の周囲に斜面部８１８が設けられ、隣り合う凹部８１６間の隙間に平坦面部８１３が設けられている。このように平坦面部の高さ位置を３段階以上の複数段階で揃える場合でも、上述した実施形態と同様の利点が得られる。なお、平坦面部の高さ位置を３段階以上の複数段階で揃える場合、厚み方向の平坦面部の高低差の最大値は、図１６において符号ＨＭＡＸで示す寸法となる。
【０１１６】
また、上述した実施形態のように斜面部を平坦な平面とする以外にも、図１７に示すように曲面としてもよい。図１７は本発明の別の実施形態に係る構造層の断面を模式的に示す断面図である。図１７に示す凹凸構造層９１１の出光面９０Ｕにおいては、凹部９１６の底面として平坦面部９１４が設けられ、平坦面部９１４の周囲に、平坦面部９１４からの距離が離れるにつれて次第に傾斜角度が増加又は減少する曲面状の斜面部９１５が設けられ、斜面部９１５の周囲に平坦面部９１３が設けられている。このように斜面部が曲面となっている場合でも、上述した実施形態と同様の利点が得られる。
【０１１７】
したがって、出光面に形成される凹部及び凸部の形状は、例えば、角錐台形状、円錐台形状、球面の一部の形状、及びこれらを組み合わせた形状など、様々な形状を有しうる。また、前記の角錐台形状の底面の形状は、三角、五角、六角、正方形以外の四角形などの形状とすることもできる。
【０１１８】
また、上述した実施形態では、出光面の全面に分布する凹部又は凸部として、同一の形状からなるもののみが分布しているものを示したが、出光面には異なる形状の凹部又は凸部が混在していてもよく、また、凹部と凸部とが混在していてもよい。例えば、大きさの異なる凹部又は凸部が混在していたり、角錐台形状及び円錐台形状の凹部又は凸部が混在していたり、異なる傾斜角度の斜面部が混在していたりしてもよい。
【０１１９】
また、例えば、上述した実施形態では、凹部及び凸部の幅、並びに、隣り合う凹部同士の間隔及び凸部同士の間隔については、一定のものを示したが、凹部及び凸部の幅が狭いものと広いものとが混在していてもよく、また、隣り合う凹部同士の間隔及び凸部同士の間隔が狭い箇所と広い箇所とが混在していてもよい。
【０１２０】
さらに、例えば、シースルータイプ以外の発光装置に本発明に係るレンズアレイシートを適用してもよい。具体例を挙げると、上述した実施形態において、第二電極として透明電極層１４３の代わりに反射電極層を設けたり、透明電極層１４３と封止基材１５１との間に反射層を設けたりしてもよい。この場合でも、シースルー以外の点では上述した実施形態と同様の利点が得られる。
【０１２１】
〔用途〕
本発明の発光装置は、例えば、照明器具、バックライト装置、表示装置等の用途に用いることができる。
照明器具は、本発明の発光装置を光源として有し、さらに、必要に応じて、光源を保持する部材、電力を供給する回路等の任意の構成要素を備える。
また、バックライト装置は、本発明の発光装置を光源として有し、さらに、必要に応じて、筐体、電力を供給する回路、出光する光をさらに均一にするための拡散板、拡散シート、プリズムシート等の任意の構成要素を含む。バックライト装置の用途は、液晶表示装置等、画素を制御して画像を表示させる表示装置、並びに看板等の固定された画像を表示させる表示装置のバックライト等が挙げられる。
【実施例】
【０１２２】
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。なお、以下の説明において、量を示す「部」及び「％」は、別に断らない限り重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。
【０１２３】
〔試薬の説明〕
（アクリルモノマーの説明）
テトラエチレングリコールジアクリレートとしては、東京化成工業社製の試薬を用いた。
【０１２４】
【化２】
0005637027.tif 000003
【０１２５】
エトキシ化フェニルアクリレートとしては、ダイセルサイテック社製「ＥＢＥＣＲＹＬ１１４」を用いた。
【０１２６】
【化３】
0005637027.tif 000004
【０１２７】
トリメチロールプロパントリアクリレートとしては、ダイセルサイテック社製「ＴＥＭＰＴＡ」を用いた。
【０１２８】
【化４】
0005637027.tif 000005
【０１２９】
トリシクロデカンジメタノールジアクリレートとしては、ダイセルサイテック社製「ＩＲＲ２１４−ｋ」を用いた。
【０１３０】
【化５】
0005637027.tif 000006
【０１３１】
（界面活性剤の説明）
ポリオキシエチレンアルキルエーテル基を含有する反応性界面活性剤として、第一工業製薬社製「アクアロンＫＨ−１０」を用いた。
【０１３２】
【化６】
0005637027.tif 000007
【０１３３】
エーテル基とシロキサン基を含有する反応性界面活性剤として、ビックケミージャパン社製「ＢＹＫ−ＵＶ３５００」を用いた。
パーフルオロアルキル基を含有する反応性界面活性剤として、ネオス社製「フタージェント６０１Ａ」を用いた。
【０１３４】
（光重合開始剤の説明）
光重合開始剤としては、チバスペシャリティーケミカル社製「イルガキュアー１８４」を用いた。
【０１３５】
〔配合液の調製〕
下記表１に示す組み合わせ及び量で試薬を混合して、配合液Ａ〜Ｈを作製した。
得られた配合液の粘度を、液温度が２５℃の条件で音叉型振動式粘度計（Ａ＆Ｄ社製「ＳＶ−１０」）を用いて測定した。また、得られた配合液の屈折率を、アッベ屈折率計（アタゴ社製「ＤＲ−Ａ１」）を用いて測定した。結果を表１に示す。
【０１３６】
【表１】
0005637027.tif 000008
【０１３７】
〔実施例１〕
（基材フィルムの製造）
ウレタン樹脂の水分散液（第一工業製薬社製「スーパーフレックス２１０」、固形分濃度３５％）１７０部、アジピン酸ジヒドラジド（和光純薬社製）６部、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル（ナガセケムテックス社製「デナコールＥＸ−５２１」）３部、および純水１８００部からなる混合物を、均一に撹拌混合した後、孔径３μｍのフィルターでろ過して、易接着用塗布液１を得た。
【０１３８】
次いで、幅１３００ｍｍ、長さ１０００ｍのフィルム（日本ゼオン社製「ゼオノアフィルム  ＺＦ−１４−１００」、厚さ１００μｍ、屈折率１．５３）の表面に、コロナ放電処理装置（春日電機社製）を用いて、放電量５００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２でコロナ放電処理を行った。コロナ放電処理を施した面に、グラビアコーターを用いて、乾燥膜厚が０．１μｍになるように易接着用塗布液１を塗布し、９５℃で乾燥させて易接着層を形成し、基材フィルムを得た。
【０１３９】
（凹凸層の形成）
得られた基材フィルムの易接着層側の面に配合液Ａを５０μｍの膜厚で塗布して塗膜を形成し、塗膜上に金属モールドを押し付けた。この状態で、紫外線を１．５ｍＪ／ｃｍ２照射し塗膜を硬化させ、凹凸構造を有する凹凸構造層（厚み１２μｍ）を形成した。凹凸構造を作製する金属モールドは、図１８に示すように、頂角が１５°、先端幅Ｗ０が５μｍの切削バイト１を用いて、型とする金属板２の一方の表面において図１８に示す繰り返し単位を面内のある方向に沿って切削し、続いてかかる方向に直交する方向に沿って切削して得た。切削は一定の切削ピッチＰで行った。また、切削により形成される溝の深さはＨ１〜Ｈ５の５段階に変え、こうして形成される５本の溝を繰り返し単位として、繰り返し切削を行った。本実施例においては、切削ピッチＰを３５μｍにし、繰り返し単位に含まれる溝の深さＨ１〜Ｈ５は、Ｈ１が７．６μｍ、Ｈ２が７．３μｍ、Ｈ３が７μｍ、Ｈ４が６．７μｍ、およびＨ５が６．４μｍとなるようにした。また、こうして形成される５本の溝の幅Ｗ１〜Ｗ５は、Ｗ１が７．００μｍ、Ｗ２が６．９２μｍ、Ｗ３が６．８４μｍ、Ｗ４が６．７６μｍ、およびＷ５が６．６９μｍであった。なお、評価用として、フィルム端面から５０ｍｍの幅で溝の彫られていない平坦な部分を設けた。
【０１４０】
図１９は、得られた凹凸構造層を、切削方向に垂直な平面で切った断面の様子を模式的に示す図である。図１９に示すように、得られた凹凸構造層３の表面には、金属モールドに形成された溝に対応して四角錐台形状の凹部を多数有する凹凸構造が形成され、凹部の周囲には高さ位置およびピッチが異なる複数の平坦面が設けられた。この凹凸構造層３の凹凸構造が形成された面において、平坦面部に対する斜面部の平均傾斜角度は８２．５°であった。また、平坦面部の合計面積（全面積）に対する斜面部の投影面積の比は０．１であり、平坦面部の高低差の最大は７．６μｍであった。なお、四角錐台形状の凹部の底辺の長さの平均値は３０μｍであり、深さの平均値は７μｍであった。
こうして、基材フィルムの表面に凹凸構造層を備えるレンズアレイシートを得た。
【０１４１】
（透明有機ＥＬ素子の製造）
主面に透明電極層が形成されたガラス基板上に、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、ホール阻止層、電荷発生層、金属酸化物層及び陰極を、この順に形成した。各層を形成した材料と膜厚は下記の通りである。
・透明電極層：ＩＴＯ  ３００ｎｍ
・ホール注入層：三酸化モリブデン（ＭｏＯ３）  ５ｎｍ
・ホール輸送層：ＮＳ−２１［新日鉄化学株式会社製］及びＭｏＯ３  ２０ｎｍ、さらにＮＳ２１  ５ｎｍ、合計２５ｎｍ
・発光層：ＮＳ２１及びＥＹ５２（ｅ−Ｒａｙ    Ｏｐｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ    Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社（以下、ｅ−Ｒａｙ社とする）製）２０ｎｍ、さらにＥＢ４３及びＥＢ５２（共にｅ−Ｒａｙ社製）３０ｎｍ、合計５０ｎｍ
・ホール阻止層：ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（ｐ−フェニルフェノラート）アルミニウム（ＢＡｌｑ）  ５ｎｍ
・電荷発生層：Ｌｉｑ及びＤＰＢ  ３５ｎｍ、さらにアルミニウム  １．５ｎｍ、さらにＮＳ２１及びＭｏＯ３  １０ｎｍ、合計３７．５ｎｍ
・金属酸化物層：ＭｏＯ３  ５ｎｍ
・陰極：ＩＴＯ  １００ｎｍ
【０１４２】
ホール注入層から金属酸化物層までの形成は、真空蒸着装置内に透明電極層を既に形成したガラス基板を設置し、上記のホール輸送層から金属酸化物層までの材料を抵抗加熱式により順次蒸着させることにより行なった。系内圧は５×１０−３Ｐａで、蒸発速度０．１ｎｍ／ｓ〜０．２ｎｍ／ｓで行った。その後、陰極層のＩＴＯは、対向ターゲット型スパッタ法により製膜した。これを、ＵＶ硬化樹脂を用いて、別のガラス板により封止し、透明有機ＥＬ素子１を得た。得られた透明有機ＥＬ素子１に通電し駆動させたところ、良好な白色の発光が得られ、正面方向及び斜め方向共に、透明性が優れていた。なお、ここで正面方向とは発光面の法線方向に平行な方向を指し、斜め方向とは発光面に対して４５°傾斜した方向を指す。
【０１４３】
（発光装置１の製造）
得られた透明有機ＥＬ素子１にレンズアレイシートを粘着層（アクリル系樹脂、屈折率１．４９、日東電工社製「ＣＳ９６２１」）を介して貼り合せ、透明有機ＥＬ素子１−粘着層−基材フィルム−凹凸構造層との層構成を有する発光装置１を得た。得られた発光装置１を通電して発光させ、発光装置１の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。
【０１４４】
〔実施例２〜４及び比較例１〜４〕
実施例１の配合液Ａを配合液Ｂ〜Ｈにそれぞれ変更した以外は実施例１と同様にして、発光装置２〜８を製造した。
【０１４５】
〔評価〕
製造した発光装置１〜８をそれぞれ以下の評価方法で評価した。評価結果は表２に示す。
【０１４６】
（水接触角の測定）
接触角計（協和界面化学社製「Ｄｒｏｐ  Ｍａｓｔｅｒ  ＤＭ３０１」）を用いて、凹凸構造層の表面の純水を滴下した５秒後の水接触角を測定した。測定には、フィルム端から５０ｍｍの、溝が形成されていない平坦面を用いた。
【０１４７】
（防曇性の評価）
「ＪＩＳ  ｋ  ２３９９：自動車用くもり止め剤」のくもり止め性評価試験方法に準拠して、０．７ｍｍ厚のガラスにレンズアレイシートを固定して、凹凸構造層の表面に７０℃の水蒸気を３分間吹き付けた後のくもりを評価した。繰り返し回数５回でくもりの無いものを「優」、２回ではくもりが発生しないが５回でくもりが発生するものを「良」、１回目からくもりの発生するものを「不良」とした。この結果を初期の防曇性とした。
【０１４８】
（浸水試験後の防曇性の評価）
レンズアレイシートを４０℃の純水に３分間浸し、浸水試験を実施した。浸水試験後の発光装置の凹凸構造層の表面に付着した水をエアーガンで除去した後、上記の防曇性の評価方法で評価した。この結果を浸水後防曇性１とした。
また、浸水試験後に、８０℃のオーブンで５分間乾燥した後に、上記の防曇性の評価方法で評価した。この結果を浸水後防曇性２とした。
【０１４９】
（光取り出し量の評価）
実施例１で得られた透明有機ＥＬ素子１、並びに、実施例１〜４及び比較例１〜４で得られた発光装置１〜８について、プログラムを用いた光学シミュレーションで、発光層の光度を１ｌｍとし、両面からでてくる光度をそれぞれ算出した。プログラムとしては、Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｒｅｓｅｒｃｈ  Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ社製「Ｌｉｇｈｔ  Ｔｏｏｌｓ」を用いた。レンズアレイシートが無い場合の光度（すなわち、透明有機ＥＬ素子１の光度）と比較して、面発光装置１〜８では、凹凸構造層が設けられた側の出光面（すなわち、凹凸構造層の表面）からの光取出量は約３．３倍、凹凸構造層の無い側の出光面（すなわち、ガラス板の表面）からの光取出量は約１．４倍であった。
【０１５０】
（透明性、虹ムラ）
５ｍｍ×５ｍｍサイズの文字を配列した表示面の５０ｃｍ手前に、透明有機ＥＬ素子１および発光装置１〜８を非点灯状態で配置した。透明有機ＥＬ素子１および発光装置１〜８を通して、正面方向および斜め方向から文字を観察した。いずれも文字のにじみやゆがみが無くはっきり読み取れた。また、目視観で虹ムラの有無を確認したが、凹凸構造の高低差を所定範囲で不揃いとしているため、凹凸構造層の表裏面での反射光における干渉に基づく虹ムラがほとんど観察されなかった。
【０１５１】
【表２】
0005637027.tif 000009
【０１５２】
〔検討〕
実施例の結果から、水接触角が小さい材料を用いて凹凸構造層を形成すれば、優れた防曇性が得られることが分かる。凹凸構造層が防曇性を有すれば、高湿度下においても凹凸構造による光取出効率の向上効果が得られるので、光の取出効率が高く、高湿度下でも特性に優れる発光装置を実現できる。
【符号の説明】
【０１５３】
１０，２０，３０，４０，６０  発光装置
１０Ｕ，１０Ｄ，２０Ｕ，４０Ｕ，５０Ｕ，７０Ｕ，８０Ｕ，９０Ｕ  出光面
１００  出光面構造層
１１０  レンズアレイシート
１１１  凹凸構造層
１１２  基材フィルム層
１１３，１１４  平坦面部
１１５  斜面部
１１６  凹部
１２１  接着層
１３１  支持基板
１４０  有機ＥＬ素子
１４１  透明電極層（第一電極）
１４２  発光層
１４３  透明電極層（第二電極）
１４４，１４５  発光面
１５１  封止基材
２００  出光面構造層
２１０  レンズアレイシート
２１１  凹凸構造層
２１３，２１４  平坦面部
２１５  斜面部
２１６  凸部
４００  出光面構造層
４１０  レンズアレイシート
４１１  凹凸構造層
４１３，４１４  平坦面部
４１５  斜面部
４１６  凹部
５１１  凹凸構造層
５１３，５１４，５１７  平坦面部
５１５，５１８  斜面部
５１６，５１９  凹部
６６１  不活性ガス層
７１１  凹凸構造層
７１３  平坦面部
７１５  斜面部
７１６  凹部
８１１  凹凸構造層
８１３，８１４，８１７  平坦面部
８１５，８１８  斜面部
８１６  凹部
９００  平面
９０１  投影像
９１１  凹凸構造層
９１３，９１４  平坦面部
９１５  斜面部
９１６  凹部
【図１】
0005637027.tif 000010
【図２】
0005637027.tif 000011
【図３】
0005637027.tif 000012
【図４】
0005637027.tif 000013
【図５】
0005637027.tif 000014
【図６】
0005637027.tif 000015
【図７】
0005637027.tif 000016
【図８】
0005637027.tif 000017
【図９】
0005637027.tif 000018
【図１０】
0005637027.tif 000019
【図１１】
0005637027.tif 000020
【図１２】
0005637027.tif 000021
【図１３】
0005637027.tif 000022
【図１４】
0005637027.tif 000023
【図１５】
0005637027.tif 000024
【図１６】
0005637027.tif 000025
【図１７】
0005637027.tif 000026
【図１８】
0005637027.tif 000027
【図１９】
0005637027.tif 000028