(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
銅箔表面の少なくとも一部にアゾール化合物及びシランカップリング剤の混合層が形成され、ＸＰＳによる深さ方向分析でＳｉ及びＮを検出し、かつＣ検出量がバックグラウンドレベルよりも大きい深さ範囲の平均値Ｄ0が１．０〜５．０ｎｍであるリチウムイオン電池集電体用銅箔。
【請求項２】
前記銅箔表面と前記混合層との間に、アゾール化合物もしくはクロメート層で構成された中間層が形成された請求項１に記載のリチウムイオン電池集電体用銅箔。
【請求項３】
前記アゾール化合物がベンゾトリアゾール系化合物である請求項１又は２に記載のリチウムイオン電池集電体用銅箔。
【請求項４】
前記ベンゾトリアゾール系化合物が１，２，３−ベンゾトリアゾールである請求項３に記載のリチウムイオン電池集電体用銅箔。
【請求項５】
前記シランカップリング剤がイミダゾール基を含む請求項１〜４のいずれかに記載のリチウムイオン電池集電体用銅箔。
【請求項６】
前記イミダゾール基を含むシランカップリング剤が、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとイミダゾールとの反応によって得られるイミダゾールシランである請求項５に記載のリチウムイオン電池集電体用銅箔。
【請求項７】
リチウムイオン二次電池負極集電体用である請求項１〜６のいずれかに記載のリチウムイオン電池集電体用銅箔。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の銅箔を集電体として用いたリチウムイオン電池。
【請求項９】
銅箔表面の少なくとも一部に対し、アゾール化合物及びシランカップリング剤の混合液で表面処理を実施して前記アゾール化合物及び前記シランカップリング剤の混合層を形成する工程を含み、
前記混合液は、アゾール化合物を１×１０-4〜２０×１０-4ｍｏｌ／Ｌ、及び、シランカップリング剤を１×１０-4〜３０×１０-4ｍｏｌ／Ｌで含むリチウムイオン電池集電体用銅箔の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はリチウムイオン電池集電体用銅箔に関し、とりわけリチウムイオン二次電池負極集電体用銅箔に関する。
【背景技術】
【０００２】
リチウムイオン電池はエネルギー密度が高く、比較的高い電圧を得ることができるという特徴を有し、ノートパソコン、ビデオカメラ、デジタルカメラ、携帯電話等の小型電子機器用に多用されている。電気自動車や一般家庭の分散配置型電源といった大型機器の電源としての利用も実用段階となっている。【０００３】
リチウムイオン電池の電極体は一般に、図１に示すように、正極１１、セパレータ１２及び負極１３が幾十にも巻回又は積層されたスタック構造を有している。典型的には、正極は、アルミニウム箔でできた正極集電体とその表面に設けられたＬｉＣｏＯ2、ＬｉＮｉＯ2及びＬｉＭｎ2Ｏ4といったリチウム複合酸化物を材料とする正極活物質から構成され、負極は銅箔でできた負極集電体とその表面に設けられたカーボン等を材料とする負極活物質から構成される。正極同士及び負極同士は各タブ（１４、１５）でそれぞれ溶接される。また、正極及び負極はアルミニウムやニッケル製のタブ端子と接続されるが、これも溶接により行われる。溶接は超音波溶接により行われるのが通常である。【０００４】
負極の集電体として使用される銅箔に要求される特性としては、負極活物質との密着性、銅箔又はタブ端子との超音波溶接性、更には防錆性が挙げられる。【０００５】
活物質層との密着性を改善するための一般的な方法としては、予め粗化処理と呼ばれる銅箔表面に凹凸を形成する表面処理が挙げられる。粗化処理の方法としては、ブラスト処理、粗面ロールによる圧延、機械研磨、電解研磨、化学研磨及び電着粒のめっき等の方法が知られており、これらの中でも特に電着粒のめっきは多用されている。この技術は、硫酸銅酸性めっき浴を用いて、銅箔表面に樹枝状又は小球状に銅を多数電着せしめて微細な凹凸を形成し、投錨効果による密着性の改善を狙ったり、体積変化の大きな活物質の膨張時に活物質層の凹部に応力を集中させて亀裂を形成せしめ、集電体界面に応力が集中することによる剥離を防ぐことを狙ったりして行われている（例えば、特許第３７３３０６７号公報）。【０００６】
防錆性を向上させる方法としては、銅箔表面をクロメート処理やシランカップリング処理する方法が知られている。シランカップリング処理は、密着性の向上効果も得られる。例えば、特開２００８−１８４６５７号公報には、銅箔の少なくとも一方の面に、ニッケル、コバルト、タングステン、モリブデンのうち少なくとも一つ以上から選択された金属又はこれら金属とメタロイド金属であるリン又は、ほう素との間で形成されたバリア層を形成し、次いで形成したバリア層上に三価クロムをクロム源とするクロメート処理を施し、得られた三価クロメート皮膜上にシランカップリング処理を施すことで、密着性及び防錆性が向上したことが記載されている。ここには、シランカップリング処理の条件として、シランカップリング剤の濃度を０．５ｍＬ／Ｌ以上、１０ｍＬ／Ｌ以下とすること、液温３０℃で５秒間浸漬後、直ちに処理液から取り出して乾燥させることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特許第３７３３０６７号公報
【特許文献２】特開２００８−１８４６５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
このように、リチウムイオン電池の集電体として使用される銅箔の密着性及び防錆性向上のための技術開発が行われてきているが、これらの特性をバランス良く向上させた銅箔については、いまだ満足できるものがないのが実情である。そこで、本発明は密着性及び防錆性の特性をバランス良く向上したリチウムイオン電池の集電体用銅箔を提供することを第一の課題とする。本発明はそのような銅箔を製造する方法を提供することを第二の課題とする。更に、本発明は本発明に係る銅箔を集電体として用いたリチウムイオン電池を提供することを第三の課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は上記課題を解決するために研究を重ねたところ、銅箔表面のシランカップリング処理によって活物質の密着性を確認し、さらに、シランカップリング処理未実施の銅箔より良好な防錆性も確認した。しかしながら、防錆性に関して、銅に広く用いられているアゾール系化合物による表面処理と比較すると、劣っていることが確認された。そこで、更に研究を重ねたところ、シランカップリング剤とアゾール系表面処理剤との混合液で表面処理することにより、課題解決の糸口を見出した。詳細に検討したところ、銅箔表面をシランカップリング剤とアゾール系表面処理剤との混合液で表面処理することで、それぞれの表面処理剤の濃度を単独で使用する場合よりも低い濃度で十分な活物質密着性及び防錆性の効果をバランス良く得られることが判明した。この効果は、シランカップリング剤による表面処理とアゾール系表面処理剤による表面処理とをそれぞれ単独で重ねて行った（表面処理剤の重ね塗り）場合には得られないものである。すなわち、シランカップリング剤とアゾール系表面処理剤との混合液で表面処理することにより、従来得られなかった密着性及び防錆性のバランスに優れた銅箔を提供できることを見出した。【００１０】
以上の知見を基礎として完成した本発明は一側面において、銅箔表面の少なくとも一部にアゾール化合物及びシランカップリング剤の混合層が形成されたリチウムイオン電池集電体用銅箔である。【００１１】
本発明に係る銅箔は一実施形態において、ＸＰＳによる深さ方向分析でＳｉ及びＮを検出し、かつＣ検出量がバックグラウンドレベルよりも大きい深さ範囲の平均値Ｄ0が１．０〜５．０ｎｍである。【００１２】
本発明に係る銅箔は別の一実施形態において、前記銅箔表面と前記混合層との間に、アゾール化合物もしくはクロメート層で構成された中間層が形成されている。【００１３】
本発明に係る銅箔は更に別の一実施形態において、前記アゾール化合物がベンゾトリアゾール系化合物である。【００１４】
本発明に係る銅箔は更に別の一実施形態において、前記ベンゾトリアゾール系化合物が１，２，３−ベンゾトリアゾールである。【００１５】
本発明に係る銅箔は更に別の一実施形態において、前記シランカップリング剤が分子内にＮを含む。【００１６】
本発明に係る銅箔は更に別の一実施形態において、前記分子内にＮを含むシランカップリング剤がイミダゾール基を含む。【００１７】
本発明に係る銅箔は更に別の一実施形態において、前記イミダゾール基を含むシランカップリング剤が、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとイミダゾールとの反応によって得られる。【００１８】
本発明に係る銅箔は更に別の一実施形態において、リチウムイオン二次電池負極集電体用である。【００１９】
本発明は別の一側面において、本発明に係る銅箔を集電体として用いたリチウムイオン電池である。【００２０】
本発明は更に別の一側面において、銅箔表面の少なくとも一部に対し、アゾール化合物及びシランカップリング剤の混合液で表面処理を実施して前記アゾール化合物及び前記シランカップリング剤の混合層を形成する工程を含むリチウムイオン電池集電体用銅箔の製造方法である。【００２１】
本発明に係るリチウムイオン電池集電体用銅箔の製造方法は一実施形態において、前記混合液が、アゾール化合物を１×１０-4〜２０×１０-4ｍｏｌ／Ｌ、及び、シランカップリング剤を１×１０-4〜３０×１０-4ｍｏｌ／Ｌで含む。
【発明の効果】
【００２２】
本発明に係る銅箔によれば、負極活物質との接着性及び防錆性がバランス良く向上する。そのため、リチウムイオン電池の集電体として好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】リチウムイオン電池のスタック構造の模式図を示す。
【図２】有機皮膜の厚みを測定する際に得られるＸＰＳのデプスプロファイルの例であり、上段図がＮ、中段図がＳｉ、下段図がＣのデプスプロファイルを表す。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
１．銅箔基材
本発明において、銅箔は電解銅箔及び圧延銅箔のいずれでもよい。また、「銅箔」には銅合金箔も含まれるものとする。銅箔の材料としては、特に制限はなく、用途や要求特性に応じて適宜選択すればよい。例えば、限定的ではないが、圧延銅箔の場合、高純度の銅（無酸素銅やタフピッチ銅等）の他、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ａｇ、Ｆｅ、ＺｒＰ等から少なくとも１種を添加した銅合金が挙げられる。
【００２５】
銅箔の厚みは特に制限はなく、要求特性に応じて適宜選択すればよい。一般的には１〜１００μｍであるが、リチウム二次電池負極の集電体として使用する場合、銅箔を薄肉化した方がより高容量の電池を得ることができる。そのような観点から、典型的には２〜５０μｍ、より典型的には５〜２０μｍ程度である。
【００２６】
２．表面処理
表面処理は、アゾール系化合物とシランカップリング剤との混合液を用いて行う。表面処理は、銅箔の上下面のうち負極活物質との密着性が要求される少なくとも一面に混合液を浸漬、塗布及び噴霧などによって接触させ、その後、乾燥することでアゾール系化合物及びシランカップリング剤を銅箔表面の銅と反応させ、銅箔表面に固定することで行う。
【００２７】
本発明では、アゾール系化合物の防錆性を利用し、それとシランカップリング剤との混合層によって負極活物質への接着性及び防錆性をバランス良く向上させている。このような点から、アゾール系化合物としては、特に良好な防錆性を有することが一般的に知られているベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、ベンゾトリアゾール系化合物としては、限定されず、上述の本発明の目的からはどのようなものであってもよい。ベンゾトリアゾール系化合物としては、例えば、１，２，３−ベンゾトリアゾール、１−メチルベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル］ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、ナフトトリアゾール、５−ニトロベンゾトリアゾール、及び、フェナジノトリアゾール等のベンゾトリアゾール系化合物が挙げられる。
【００２８】
シランカップリング剤は分子内に有機材料と反応結合する官能基、及び、無機材料と反応結合する官能基を同時に有する有機ケイ素化合物である。有機材料と反応結合する官能基としては、例えば、ビニル基、エポキシ基、スチリル基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、アミノ基、Ｎ−フェニルアミノプロピル基、ウレイド基、クロロプロピル基、メルカプト基、イソシアネート基、スルフィド基、ヘキシル基、イミダゾール基等が挙げられ、分子内にＮを含むものが好ましく、特に、イミダゾール基が好ましい。無機材料と反応結合する官能基としては、例えば、クロル基等のハロゲン基、アルコキシ基、アセトキシ基、イソプロペノキシ基等が挙げられる。シランカップリング剤は２種以上を組み合わせて用いることもできる。
【００２９】
シランカップリング剤の具体例としては、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（ビニルベンジル）−２−アミノエチル−３−アミノプロピル、トリメトキシシラン、Ｎ−（ｐ−ビニルベンジル）−Ｎ−（トリメトキシシリルプロピル）エチレンジアミン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ビス（３−（トリエトキシシリル）プロピル）ジスルフィド、ビス（３−（トリエトキシシリル）プロピル）テトラスルフィド、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリクロルシラン、アリルトリメトキシシラン、ジアリルジメチルシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、及び３−イソシアネートプロピルトリエトキシシランが挙げられる。
【００３０】
本発明で使用することのできるシランカップリング剤としては、特開平６−２５６３５８号公報に記載のアゾール系化合物とエポキシシラン系化合物との反応で得られたシランカップリング剤も例示することができ、その全内容を本明細書に援用する。
エポキシシラン系化合物としては、以下の一般式：
【化１】
0005417436.tif 000002
（式中、Ｒ1、Ｒ2は、同一でも異なっていてもよく、水素又は炭素数が１〜３のアルキル基であり、ｎは１〜３である。）
で示されるエポキシシランカップリング剤（例えば３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン）が特に好ましい。アゾール系化合物としては、ベンゾイミダゾール、イミダゾールが特に好ましい。本発明で使用するシランカップリング剤は、これらのシランカップリング剤とイミダゾールとの反応により得られるイミダゾールシランであるのが特に好ましい。アゾール系化合物とエポキシシラン系化合物との反応は、特開平６−２５６３５８号公報に説示されている条件で行うことができる。例えば、８０〜２００℃でアゾール系化合物１モルに対して０．１〜１０モルのエポキシシラン系化合物を滴下して５分〜２時間反応させる。その際、溶媒は特に不要であるが、クロロホルム、ジオキサン、メタノール、エタノール等の有機溶媒を用いてもよい。
【００３１】
従来は、負極活物質との密着性や防錆性を上げるという目的でシランカップリング剤の有機皮膜を銅箔表面に形成していたが、アゾール系化合物による表面処理と比較すると防錆性が劣っている。一方、銅箔の防錆処理にはアゾール系化合物が広く用いられており、シランカップリング処理と比較すると、より優れた防錆性を示すものの、活物質密着性は劣っている。これら両方の長所を引き出す方法として、一方の表面処理後に他方の表面処理をする、すなわち上塗りや重ね塗りが考えられる。しかし、アゾール系化合物による表面処理後にシランカップリング剤による表面処理を行った場合には、アゾール系化合物の防錆性が低下し、また、シランカップリング剤による表面処理後にアゾール系化合物による表面処理を行った場合には、シランカップリング剤による表面処理で生じた活物質密着性の効果が低下してしまうため、密着性と防錆性とを両立させることはできない。そこで、本発明では、シランカップリング剤とアゾール系化合物との混合液で一度に表面処理することで、シランカップリング剤による表面処理で得られる密着性とアゾール系化合物による表面処理で得られる防錆性とを両立させることとした。
【００３２】
さらに、シランカップリング剤とアゾール系化合物との混合液で表面処理を行う場合には、それぞれ単独で使用する場合よりも低濃度で十分な効果が得られる。すなわち、該表面処理により形成された銅箔表面の混合層の平均厚みが薄くても十分な密着性及び防錆性が得られることを見出した。また、混合層の平均厚みを薄くすれば、超音波溶接性が良好となるため、優れた密着性、防錆性及び超音波溶接性をバランス良く備えることができる。
ここで、負極活物質は、バインダーで接着性を付与されている。負極活物質と集電体である銅箔との密着性にこのバインダーは影響を与える。バインダーの種類としては、ＰＶＤＦ（ポリフッ化ビニリデン）に代表されるバインダーを用いた溶剤系とＳＢＲ（スチレンブタジエンゴム）に代表されるバインダーを用いた水系がある。当初は溶剤系バインダーが用いられてきたが、コストや環境面で水系バインダーの使用が増加している。一般に、水系バインダーは溶剤系バインダーよりも銅箔との密着性が悪いという問題がある。このような問題に対しては、負極スラリーや塗工条件を工夫することで密着性を確保するものが知られている。これに対し、本発明の表面処理は、溶剤系バインダー及び水系バインダーの両方に効果があり、特に密着性の低い水系バインダーには有効である。このため、負極スラリーや塗工条件等の工夫によって密着性を確保する必要がなく、製造効率が良好となる。
【００３３】
シランカップリング剤とアゾール系化合物とで形成された混合層と銅箔との間には、さらにアゾール系化合物で構成された中間層を形成してもよい。この場合、最表面にはシランカップリング剤とアゾール系化合物とで形成された混合層が存在するため、上述のように優れた密着性、防錆性及び超音波溶接性をバランス良く備えることができる上、さらに混合層と銅箔との間にアゾール系化合物で構成された中間層が形成されているため、防錆性をより向上させることができる。また、中間層として、クロメート処理層を形成してもよい。クロメート処理層もまた、防錆性を有しているため、クロメート処理層で形成した中間層を設けることによって、防錆性をより向上させることができる。さらに、シランカップリング剤とアゾール系化合物とで形成された混合層と銅箔との間に中間層を設ける代わりに、例えば銅箔表面をシランカップリング処理しておいて、その上に混合層を設けてもよい。これにより、密着性がさらに向上する。
【００３４】
シランカップリング剤とアゾール系化合物との混合液により形成された混合層について、その構造を正確に解明することは困難であるが、化学構造解析として、銅箔表面をフーリエ変換型赤外分光装置（ＦＴ−ＩＲ装置）にて分析することでＳｉ−ＯＨ基、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ基を検出し、飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ装置）でアゾール系化合物を検出することができる。そして、これらの検出結果によりシランカップリング剤及びアゾール系化合物の存在を確認した上で、さらにＸ線光電子分光分析装置（ＸＰＳ装置）とアルゴンスパッタとを組み合わせて、深さ方向の元素分析を行い、各元素の分布の様子によって、シランカップリング剤とアゾール系化合物との混合液により形成された混合層が形成されているのか、又は、シランカップリング又はアゾール系化合物による単独の層が形成されているのかを判定する。また、当該深さ方向の元素分析により、混合層の厚みを決定する。ＸＰＳ装置にてＳｉ及びＮを検出し、且つ、Ｃ検出量がバックグラウンドレベルよりも大きい深さ範囲を混合層の厚みとしてこれを複数箇所測定し、その平均値Ｄ0を混合層の平均厚みとする。混合層の平均厚みは密着性、防錆性及び超音波溶接性の共存を図る観点から、Ｄ0は１．０〜５．０ｎｍが好ましく、１．５〜４．０ｎｍがより好ましい。また、混合層と銅箔との間にさらに中間層が形成されている場合であっても、混合層及び中間層の合計の平均厚みについて、Ｄ0は同様に、１．０〜５．０ｎｍが好ましく、１．５〜４．０ｎｍがより好ましい。また、混合層と中間層とが形成されている場合、それらの厚みの割合として、混合層の方が大きいことが好ましい。図２に、有機皮膜の厚みを測定する際に得られるＸＰＳ装置によるＮ，Ｓｉ，Ｃのデプスプロファイルの例を示す。
【００３５】
シランカップリング剤及びアゾール系化合物は、エタノールや水等の溶媒に溶かして使用することができる。
また、一般に、シランカップリング剤やアゾール系化合物の濃度を高くすると、形成される有機皮膜が厚くなり、濃度を低くすると薄くなる。両者を混合した溶液を、ｐＨ６．０〜９．０、好ましくはｐＨ６．５〜８．０の範囲で処理することで、シランカップリング剤及びアゾール系化合物の混合層が形成される。
【００３６】
表面処理で使用するシランカップリング剤及びアゾール系化合物の混合液において、シランカップリング剤濃度は、１×１０-4〜３０×１０-4ｍｏｌ／Ｌ、好ましくは３×１０-4〜１５×１０-4ｍｏｌ／Ｌであり、アゾール系化合物の濃度は、１×１０-4〜２０×１０-4ｍｏｌ／Ｌ、好ましくは２×１０-4〜１０×１０-4ｍｏｌ／Ｌである。これらの濃度範囲の混合液にて表面処理をすることで、密着性、防錆性及び超音波溶接性のバランスが良好な混合層を形成することができる。
【００３７】
本発明に係る銅箔を材料とする集電体とその上に形成された活物質層によって構成された負極を用いて、慣用手段によりリチウムイオン電池を作製することができる。リチウムイオン電池には、電解質中のリチウムイオンが電気伝導を担うリチウムイオン一次電池用及びリチウムイオン二次電池が含まれる。負極活物質としては、限定的ではないが、炭素、珪素、スズ、ゲルマニウム、鉛、アンチモン、アルミニウム、インジウム、リチウム、酸化スズ、チタン酸リチウム、窒化リチウム、インジウムを固溶した酸化錫、インジウム−錫合金、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−インジウム合金等が挙げられる。
【実施例】
【００３８】
以下、本発明の実施例を示すが、これらは本発明をより良く理解するために提供するものであり、本発明が限定されることを意図するものではない。
（実施例１）
アゾール系化合物及びシランカップリング剤の混合液による表面処理が特性に与える影響を検討するため、以下の条件で実施例及び比較例を作成した。各種条件及び試験結果を後述の表１に示す。
［圧延銅箔の製造］
厚さ２００ｍｍ、幅６００ｍｍのタフピッチ銅のインゴットを製造し、熱間圧延により１０ｍｍまで圧延した。
次に、焼鈍と冷間圧延を繰り返し、最後に冷間圧延で、ワークロール径６０ｍｍ、ワークロール表面粗さＲａを０．０３μｍとし、最終パスの圧延速度４００ｍ／分、加工度２０％として厚さ１０μｍに仕上げた。圧延油の粘度は９．０ｃＳｔ（２５℃）であった。得られた圧延銅箔はＲａが０．１１μｍであった。【００３９】
［電解銅箔の製造］
特許第４１１５２４０号の実施例に記載された電解液を用いて電解して、１０μｍの電解銅箔を製造した。得られた電解銅箔はＲａが０．１２μｍであった。【００４０】
［表面処理］
上記の通り製造した板厚１０μｍの圧延銅箔及び電解銅箔につき、表１に記載の濃度のアゾール系化合物及びシランカップリング剤各単独の水溶液、及び、両者を混合した水溶液を準備し、これに３秒間浸漬した後、ドライヤーにて乾燥した。続いて、活物質への塗布及び密着性評価を行った。アゾール系化合物は、１，２，３−ベンゾトリアゾール（以下、ＢＴＡ）を、また、シランカップリング剤は日鉱金属株式会社製のイミダゾールシラン（ＩＳ−１０００）を用い、実施例１−８のみ、信越化学工業株式会社製のＮ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシランを用いた。【００４１】
［防錆性］
（１）銅箔を３０ｍｍ×６０ｍｍの大きさに切り出した。
（２）試料（１）を硫化水素暴露試験機（Ｈ２Ｓ：３ｐｐｍ、４０℃、５０ＲＨ％）に入れ、２０分間保持した。
（３）試料を（２）の試験機から取り出し、銅箔表面の色調を確認した。
（４）試験後の銅箔表面の色調が試験前と同じものを「○」、試験前と比較して、薄い赤褐色に変色したものを「△」、表面全体が紫あるいは青色に変色したものを「×」とした。【００４２】
［活物質との密着性］
（１）平均径９μｍの人工黒鉛とポリビニリデンフルオライドとを重量比１：９で混合し、これを溶剤Ｎ−メチル−２−ピロリドンに分散させた。
（２）銅箔の表面に上記の活物質を塗布した。
（３）活物質を塗布した銅箔を乾燥機にて９０℃×３０分間加熱した。なお、このときにはシランカップリング剤は銅表面にＯＨ基が結合していないため、未反応のシランカップリング剤との脱水反応により銅表面と反応することはほとんどない。
（４）乾燥後、２０ｍｍ角に切り出し、１．５トン／ｍｍ2×２０秒間の荷重をかけた。
（５）上記サンプルに対し、カッターにて碁盤目状に切り傷を形成し、市販の粘着テープ（セロテープ（登録商標））を貼り、重さ２ｋｇのローラーを置いて１往復させて粘着テープを圧着した。
（６）粘着テープを剥がし、銅箔上に残存した活物質は、表面の画像をＰＣに取り込み、二値化によって銅表面の金属光沢部分と活物質が残存する黒色部分を区別し、活物質の残存率を算出した。残存率は、各サンプル３つの平均値とした。活物質密着性の判定は、残存率５０％未満を「×」、５０％以上７０％未満を「△」、７０％以上９０％未満を「○」、９０％以上を「◎」とした。【００４３】
［超音波溶接性］
（１）銅箔を１００ｍｍ×１５０ｍｍの大きさに切り出し、３０枚重ねた。
（２）ブランソン社製のアクチュエータ（型番：Ｕｌｔｒａｗｅｌｄ  Ｌ２０Ｅ）にホーン（ピッチ０．８ｍｍ、高さ０．４ｍｍ）を取り付けた。アンビルは０．２ｍｍピッチを使用した。
（３）溶接条件は、圧力４０ｐｓｉ、振幅６０μｍ、振動数２０ｋＨｚ、溶接時間は０．１秒とした。
（４）上記条件で溶接した後、銅箔を１枚ずつ剥離したときに、２１枚以上の銅箔が溶接部分で破れた場合を「◎」、１１〜２０枚の銅箔が溶接部分で破れた場合を「○」、１〜１０枚の銅箔が溶接部分で破れた場合を「△」、一枚も銅箔が破れなかった場合を「×」とした。なお、銅箔を剥離する前に、ホーンに接触していた最表層の銅箔の溶接部分を実態顕微鏡にて２０倍で拡大観察し、クラックが発生していないことを確認してから剥離試験を実施した。【００４４】
［有機皮膜の判定］
有機皮膜が、混合層であるのか、混合層と中間層とであるのか、又は、シランカップリング剤又はＢＴＡ単独で形成された層であるのか、についての判定を行った。具体的には、銅箔表面をフーリエ変換型赤外分光装置（ＦＴ−ＩＲ装置）にて分析することでＳｉ−ＯＨ基、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ基を検出し、飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ装置）でアゾール系化合物を検出する。そして、これらの検出結果によりシランカップリング剤及びアゾール系化合物の存在を確認した。さらにＸ線光電子分光分析装置（ＸＰＳ装置）とアルゴンスパッタとを組み合わせて、深さ方向の元素分析を行い、各元素の分布の様子により、有機皮膜が、（Ａ）混合層であるのか、（Ｂ）混合層と中間層とであるのか、（Ｃ）シランカップリング剤で形成された単独層であるのか、又は、（Ｄ）ＢＴＡで形成された単独層であるのかを決定した。【００４５】
［有機皮膜の厚み］
有機皮膜（混合層、混合層及び中間層、又は、シランカップリング剤又はＢＴＡ単独で形成された層）の厚みは、アルゴンスパッタしながらＸＰＳ装置で銅箔の深さ方向について元素分析し、Ｓｉ及びＮを検出し、且つ、Ｃ検出量がバックグラウンドレベルよりも大きな深さ範囲（ＳｉＯ2換算）を有機皮膜厚みとし、任意の５カ所の平均値を有機皮膜厚みの平均値とした。
・装置：ＸＰＳ装置（アルバックファイ社、型式５６００ＭＣ）
・真空度：５．７×１０-7Ｐａ
・Ｘ線：単色ＡｌＫα、Ｘ線出力２１０Ｗ、入射角４５°、取り出し角４５°
・イオン線：イオン種Ａｒ+、加速電圧３ｋＶ、掃引面積３ｍｍ×３ｍｍ、スパッタリングレート２．３ｎｍ／ｍｉｎ（ＳｉＯ2換算）【００４６】
【表１】
0005417436.tif 000003
【００４７】
（評価結果）
実施例１−１〜１−６及び１−９〜１−１１は、圧延銅箔あるいは電解銅箔を用いているが、ＢＴＡとシランカップリング剤との混合液で表面処理をしており、更に、ＢＴＡとシランカップリング剤との混合有機皮膜厚が１．０〜５．０ｎｍの範囲にある。このため、溶接性、防錆性及び密着性の全てにおいて良好な特性を示している。
実施例１−７は、ＢＴＡで表面処理した後に、さらに実施例１−１と同濃度のＢＴＡとシランカップリング剤の混合液で表面処理をしており、ＢＴＡとシランカップリング剤の混合層と銅箔の間に、更にＢＴＡの中間層が存在するため、実施例１−１と比較して防錆性が良好である。また、ここでの有機皮膜厚は、上記２層の合計値であり、１．０〜５．０ｎｍの範囲にあるため、溶接性も良好である。密着性については、混合層が最表層にあるため、良好である。
実施例１−８は、シランカップリング剤としてＮ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシランを用いているが、イミダゾールシランを用いた場合と同様に溶接性、防錆性及び密着性の全てにおいて良好な特性を示している。
比較例１−１２は、表面処理未実施であり、表面に有機皮膜が存在せず、溶接性は良好であるが、防錆性と密着性が悪い。
比較例１−１３〜１−１５は、ＢＴＡのみで表面処理を行っており、処理液濃度が低いほど溶接性が良好で、処理液濃度が高いほど防錆性が良好である。しかしながら、いずれの濃度であっても密着性が悪く、ＢＴＡのみでは、溶接性、防錆性及び密着性を同時に満足させることができないことを示している。
比較例１−１６〜１−１８は、シランカップリング剤のみで表面処理を行っており、処理液濃度が低いほど溶接性が良好で、処理液濃度が高いほど密着性が良好である。しかしながら、いずれの濃度であっても防錆性が悪く、シランカップリング剤のみでは、溶接性、防錆性及び密着性を同時に満足させることができないことを示している。
比較例１−１９は、ＢＴＡのみで表面処理した後にシランカップリング剤のみで表面処理しており、ＢＴＡとシランカップリング剤との混合液で表面処理をしていない。このため、有機皮膜厚が１．０〜５．０ｎｍの範囲にあるものの、防錆性が悪く、溶接性、防錆性及び密着性を同時に満足させることができないことを示している。
比較例１−２０は、シランカップリング剤のみで表面処理した後にＢＴＡのみで表面処理しており、ＢＴＡとシランカップリング剤との混合液で表面処理をしていない。このため、有機皮膜厚が１．０〜５．０ｎｍの範囲にあるものの、密着性が悪く、溶接性、防錆性及び密着性を同時に満足させることができないことを示している。【００４８】
（実施例２）
有機皮膜厚と、防錆性及び超音波溶接性との関係を検討するために、実施例２として以下の実験を行った。
本発明の実施例として、シランカップリング剤及びアゾール系化合物の混合層を有しているが、その混合層（有機皮膜）厚が１．０〜５．０ｎｍの範囲外である実施例２−１及び２−２を形成した。実施例２−１及び２−２は、混合液中のアゾール系化合物及びシランカップリング剤の濃度を調整しながら、上述の実施例１で記載の方法で形成した。
より具体的には、実施例２−１では、圧延銅箔を用い、混合液中のシラン濃度が１．５×１０-4ｍｏｌ／Ｌ、ＢＴＡ濃度が１×１０-4ｍｏｌ／Ｌであった。これにより形成された実施例２−１の有機皮膜厚は、０．８ｎｍであった。
実施例２−２では、圧延銅箔を用い、混合液中のシラン濃度が３．０×１０-4ｍｏｌ／Ｌ、ＢＴＡ濃度が３０×１０-4ｍｏｌ／Ｌであった。これにより形成された実施例２−２の有機皮膜厚は、５．６ｎｍであった。【００４９】
また、比較例として、実施例２−１又は２−２と同様の有機皮膜厚を有しているが、有機皮膜がアゾール系化合物又はシランカップリング剤のいずれか一方のみで構成されている比較例２−３及び２−４を上述の実施例１で記載の方法で作成した。
より具体的には、比較例２−３では、圧延銅箔を用い、シランカップリング剤のみで表面処理を行った。処理液中のシラン濃度は１．５×１０-4ｍｏｌ／Ｌとした。これにより形成された比較例２−３の有機皮膜厚は、０．９ｎｍであった。
比較例２−４では、圧延銅箔を用い、ＢＴＡのみで表面処理を行った。処理液中のＢＴＡ濃度は３０×１０-4ｍｏｌ／Ｌとした。これにより形成された比較例２−４の有機皮膜厚は、５．４ｎｍであった。
実施例２に係る試験条件及び評価結果を表２に示す。【００５０】
【表２】
0005417436.tif 000004
【００５１】
（評価結果）
実施例２−１は、有機皮膜厚が１．０ｎｍ未満であり、実施例１―９に比べて防錆性が劣っているが、同様の有機皮膜厚を有する比較例２−３に比べると防錆性が優れていた。
実施例２−２は、有機皮膜厚が５．０ｎｍ超であり、実施例１―９に比べて超音波溶接性が劣っているが、同様の有機皮膜厚を有する比較例２−４に比べると超音波溶接性が優れていた。【００５２】
（実施例３）
表３に示すような種々の銅合金を銅箔基材に用いた。これらは全て、各元素を無酸素銅中の溶湯に添加してインゴットを鋳造し、焼鈍及び圧延を繰り返して厚さ６〜２０μｍまで圧延することで作製した。
次に、表３に記載の濃度のアゾール系化合物及びシランカップリング剤単独の水溶液、及び、両者を混合した水溶液を準備し、上述のようにして作製した各種銅合金箔を５秒間浸漬した後、ドライヤーにて乾燥した。続いて、活物質への塗布及び密着性評価を行った。
アゾール系化合物としては１，２，３−ベンゾトリアゾール（ＢＴＡ）を、シランカップリング剤としては日鉱金属社製のイミダゾールシラン（ＩＳ−１０００）を用いた。
防錆性、活物質密着性、有機皮膜判定及び膜厚について、実施例１と同じ方法で評価し、超音波溶接性は以下の通り評価した。
評価結果を表３に示す。【００５３】
［超音波溶接性］
（１）銅箔を１００ｍｍ×１５０ｍｍの大きさに切り出し、板厚６μｍでは５０枚、板厚１０μｍでは３０枚、板厚２０μｍでは１５枚重ねた。
（２）ブランソン社製のアクチュエータ（型番：Ｕｌｔｒａｗｅｌｄ  Ｌ２０Ｅ）にホーン（ピッチ０．８ｍｍ、高さ０．４ｍｍ）を取り付けた。アンビルは０．２ｍｍピッチを使用した。
（３）溶接条件は、圧力４０ｐｓｉ、振幅６０μｍ、振動数２０ｋＨｚ、溶接時間は０．１秒とした。
（４）上記条件で溶接した後、銅箔を１枚ずつ剥離したときに、板厚６μｍでは３５枚以上、板厚１０μｍでは２１枚以上、板厚２０μｍでは１１枚以上の銅箔が溶接部分で破れた場合を「◎」、板厚６μｍでは１８〜３４枚、板厚１０μｍでは１１〜２０枚、板厚２０μｍでは６〜１０枚の銅箔が溶接部分で破れた場合を「○」、板厚６μｍでは１〜１７枚、板厚１０μｍでは１〜１０枚、板厚２０μｍでは１〜５枚の銅箔が溶接部分で破れた場合を「△」、１枚も銅箔が破れなかった場合を「×」とした。なお、銅箔を剥離する前に、ホーンに接触していた最表層の銅箔の溶接部分を実態顕微鏡にて２０倍で拡大観察し、クラックが発生していないことを確認してから剥離試験を実施した。【００５４】
【表３】
0005417436.tif 000005
【００５５】
（評価結果）
実施例３−１〜３−８は、ＢＴＡとシランカップリング剤との混合液で表面処理しており、更に、ＢＴＡとシランカップリング剤との混合有機皮膜が１．０〜５．０ｎｍの範囲にある。このため、溶接性、防錆性及び密着性の全てにおいて良好な特性を示している。
比較例３−９は、シランカップリング剤のみで表面処理を行っており、防錆性が不十分である。
比較例３−１０は、シランカップリング剤のみで表面処理した後にＢＴＡのみで表面処理しており、ＢＴＡとシランカップリング剤の混合液で表面処理をしていない。このため、有機皮膜厚が１．０〜５．０ｎｍの範囲にあるものの、密着性が悪く、溶接性、防錆性及び密着性を同時に満足させることができない。
比較例３−１１は、ＢＴＡのみで表面処理を行っており、密着性が不十分である。
比較例３−１２は、ＢＴＡのみで表面処理した後にシランカップリング剤のみで表面処理しており、ＢＴＡとシランカップリング剤の混合液で表面処理をしていない。このため、有機皮膜厚が１．０〜５．０ｎｍの範囲にあるものの、防錆性が悪く、溶接性、防錆性及び密着性を同時に満足させることができない。【００５６】
（実施例４）
水系バインダーを用いた場合に、アゾール系化合物及びシランカップリング剤の混合液による表面処理が特性に与える影響を検討するため、以下の条件で実施例及び比較例を作製した。各種条件及び試験結果を表４に示す。なお、圧延銅箔及び電解銅箔の製造及び防錆性、超音波溶接性、有機皮膜の判定と厚みの評価は、実施例１と同じである。【００５７】
［表面処理］
板厚１０μｍの圧延銅箔および電解銅箔につき、表４に記載の濃度のアゾール系化合物及びシランカップリング剤各単独の水溶液、及び、両者を混合した水溶液を準備し、これに５秒浸漬した後、ドライヤーにて乾燥した。続いて、活物質の塗布及び密着性評価を行った。アゾール系化合物は、ＢＴＡを、また、シランカップリング剤は日鉱金属社製のイミダゾールシラン（ＩＳ−１０００）を用いた。【００５８】
［活物質との密着性］
活物質との密着性は、ピール強度の測定で評価した。
（１）水とＣＭＣ（カルボキシメチルセルロース）を混合し、攪拌した。
（２）上記の混合液に黒鉛を加え攪拌し、さらに水を加えた。
（３）上記混合液にＳＢＲを加えて攪拌し、粘度３０００〜４０００Ｐａ・ｓとなるように水を加えた。
なお、ここで、ＣＭＣと黒鉛とＳＢＲの添加比率は、重量比で１：９８：１とした。
（４）（３）を銅箔表面上にドクターブレードを使って一定厚みに塗布した。
（５）６０℃×１０分、１２０℃×１０分の順で乾燥した。
（６）１．５トン／ｍｍ2×２０秒間の荷重をかけてプレス加圧した。
（７）上記サンプルを幅１５ｍｍに切り出した。
（８）支持板に両面テープを貼り付けて、さらに銅箔の活物質側を両面テープに貼り付けた。
（９）銅箔を引き剥がしながらピール強度を測定し、平均ピール強度を算出した。
ピール強度は、ＪＩＳ  Ｃ  ６４７１に準じる方法で、引き剥がし角度９０°にて測定した。
活物質密着性の判定は、サンプル幅１５ｍｍに対して、平均ピール強度１００ｍＮ未満を「×」、１００ｍＮ以上１５０ｍＮ未満を「△」、１５０ｍＮ以上２００ｍＮ未満を「○」、２００ｍＮ以上を「◎」とした。【００５９】
【表４】
0005417436.tif 000006
【００６０】
（評価結果）
実施例４−１〜４−６及び４−８〜４−１０は、圧延銅箔あるいは電解銅箔を用いているが、ＢＴＡとシランカップリング剤との混合液で表面処理しており、更に、ＢＴＡとシランカップリング剤との混合有機皮膜が１．０〜５．０ｎｍの範囲にある。このため、溶接性、防錆性及び密着性の全てにおいて良好な特性を示している。
実施例４−７は、ＢＴＡで表面処理した後に、さらに実施例４−１と同濃度のＢＴＡとシランカップリング剤の混合液で表面処理をしており、ＢＴＡとシランカップリング剤の混合層と銅箔の間に、更にＢＴＡの中間層が存在するため、実施例４−１と比較して防錆性が良好である。また、ここでの有機膜厚は、上記２層の合計値であり、１．０〜５．０ｎｍの範囲にあるため、溶接性も良好である。密着性については、混合層が最表層にあるため、良好である。
比較例４−１１は、表面処理未実施であり、表面に有機皮膜が存在せず、溶接性は良好であるが、防錆性と密着性が悪い。
比較例４−１２及び４−１３は、ＢＴＡのみで表面処理を行っており、処理液濃度が低い場合は溶接性が良好で、処理液濃度が高い場合は防錆性が良好である。しかしながら、いずれの濃度でも密着性が悪く、ＢＴＡのみでは、溶接性、防錆性及び密着性を同時に満足させることができない。
比較例４−１４及び４−１５は、シランカップリング剤のみで表面処理を行っており、処理液濃度が低い場合は溶接性が良好で、処理液濃度が高い場合は密着性が良好である。しかしながら、いずれの濃度であっても防錆性が悪く、シランカップリング剤のみでは、溶接性、防錆性及び密着性を同時に満足させることができない。
比較例４−１６は、ＢＴＡのみで表面処理した後にシランカップリング剤のみで表面処理しており、ＢＴＡとシランカップリング剤の混合液で表面処理をしていない。このため、有機皮膜厚が１．０〜５．０ｎｍの範囲にあるものの、防錆性が悪く、溶接性、防錆性及び密着性を同時に満足させることができない。
比較例４−１７は、シランカップリング剤のみで表面処理した後にＢＴＡのみで表面処理しており、ＢＴＡとシランカップリング剤の混合液で表面処理をしていない。このため、有機皮膜厚が１．０〜５．０ｎｍの範囲にあるものの、密着性が悪く、溶接性、防錆性及び密着性を同時に満足させることができない。
【符号の説明】
【００６１】
１１  正極
１２  セパレータ
１３  負極
１４、１５  タブ
【図１】
0005417436.tif 000007
【図２】
0005417436.tif 000008