(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
上側に開口部が形成されたカップ体の中に基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成される液処理部と、
基板に処理液を供給するための処理液ノズルと、
前記カップ体の外側に設けられ、前記処理液ノズルを待機させるための待機部と、
前記液処理部の上方領域と、待機部との間で処理液ノズルを移動させるための移動手段と、
前記待機部に設けられ、待機部で待機する処理液ノズルに洗浄液を供給して洗浄する洗浄液供給手段と、
前記待機部に設けられ、当該待機部で待機する処理液ノズルから垂れた前記洗浄液の液滴に接触して、当該液滴を処理液ノズルから除去する液取り部と、
前記処理液ノズルにガスを吐出して、前記洗浄液供給手段から供給される洗浄液が処理液ノズルへ衝突する圧力を制御するガス供給部と、
を備えたことを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
前記液処理部は、横方向に一列に複数設けられ、
前記処理液ノズルはこれら複数の液処理部に対して共用化され、
前記待機部は、液処理部の列の延長線上に設けられ、
前記移動手段は、前記液処理部の各々の上方領域と前記待機部との間で前記処理液ノズルを液処理部の列に従って移動させることを特徴とする請求項１記載の液処理装置。
【請求項３】
上側に開口部が形成されたカップ体の中に基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成され、各々横方向に一列に配置された複数の液処理部と、
これら複数の液処理部に対して共用化され、基板に処理液を供給するための処理液ノズルと、
前記液処理部の列の延長線上に設けられ、処理液ノズルを待機させるための待機部と、
前記液処理部の各々の上方領域と前記待機部との間で前記処理液ノズルを液処理部の列に従って移動させるための移動手段と、
互いに隣接するカップ体の開口部間に設けられ、処理液ノズルに洗浄液を供給して洗浄する洗浄液供給手段と、
互いに隣接するカップ体の開口部間に設けられ、前記移動手段により移動する処理液ノズルから垂れた前記洗浄液の液滴に接触して、当該液滴を処理液ノズルから除去する液取り部と、
前記処理液ノズルにガスを吐出して、前記洗浄液供給手段から供給される洗浄液が処理液ノズルへ衝突する圧力を制御するガス供給部と、
を備えたことを特徴とする液処理装置。
【請求項４】
前記液取り部は、前記待機部にて待機する処理液ノズルの吐出口の投影領域から外れた位置に設けられることを特徴とする請求項１または２記載の液処理装置。
【請求項５】
前記洗浄液供給手段は液取り部に設けられ、前記液取り部は洗浄液を供給する吐出口を備えることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項６】
前記液取り部の上方に位置する処理液ノズルにガスを吐出し、処理液ノズルに付着した洗浄液を当該処理液ノズルの下方側へと押し流すための第１のガス供給部が設けられたことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項７】
前記処理液ノズルは、斜め下方に前記処理液を吐出する吐出口を備えていることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項８】
前記処理液は現像液であり、前記基板はその表面にレジストが塗布され、露光されたものであることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか一つに記載の液処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に処理液を供給して液処理を行う液処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造工程の一つであるフォトレジスト工程においては、半導体ウエハ（以下、ウエハという）の表面にレジストを塗布し、このレジストを所定のパターンで露光した後に現像してレジストパターンを形成している。このような処理は、一般にレジストの塗布、現像を行う塗布、現像装置に露光装置を接続したシステムを用いて行われる。
【０００３】
この塗布、現像装置にはウエハに処理液を供給して液処理を行う液処理モジュールが設けられている。この液処理モジュールとしては例えば現像液を供給して現像を行う現像モジュール（現像装置）がある。現像モジュールは、ウエハを保持する基板保持部と、排液手段及び排気手段を備え、その基板保持部に保持されたウエハを囲むように設けられたカップ体とを含む現像処理部を備えている。また、その他に現像モジュールは前記ウエハに現像液を供給するための現像液ノズルと、その現像液ノズルを待機させるための待機部と、現像液供給後に洗浄液を供給する洗浄液ノズルと、を備えている。
【０００４】
スループットの向上を図るために、この現像モジュールにおいて前記現像処理部を横方向に複数配設し、その現像処理部の配列方向の延長線上に前記待機部を設け、そして各カップに共通の現像液ノズルが各現像処理部の上方領域と待機部との間を移動して現像液を供給する構成とする場合がある。この場合、一の現像処理部のウエハに現像液の供給が行われている間に他の現像処理部ではウエハに洗浄液が供給されたり、基板保持部を回転させてスピン乾燥が行われたりする。
【０００５】
ところでウエハに現像液供給を行った後、現像液ノズルの下端に現像液の液滴が付着し、垂れ下がる場合がある。そして現像装置を上記のように構成した場合、現像液ノズルが現像処理部間を移動する間にこの液滴が乾燥を終えたウエハ上に落下して、ウォーターマークとなってしまうおそれがある。そこで、このように現像液ノズルから垂れ下がる液滴を除去する要求が高くなっている。
【０００６】
この液滴の除去を行うためには、現像液ノズルに吸引機構を設けて現像液ノズルの吐出口から吸引を行い、液滴を吸い込むことや、ウエハ以外の場所に向けて現像液を吐出し、液滴を押し流すいわゆるダミーディスペンスと呼ばれる処理を行うことが考えられる。しかし前記吸引機構を設けることはコスト高になるし、ダミーディスペンスを行うことは処理タクトの延長によるスループットの低下や現像処理のコストの上昇を招くおそれがある。
【０００７】
また、ウエハへの現像液の供給方法としては、回転するウエハに現像液ノズルから現像液を吐出させながら、その現像液ノズルをウエハの直径方向に移動させてその表面に液膜を形成する場合がある。この場合、ウエハＷに吐出された現像液がウエハＷ上で撥ねてパーティクルとなることを抑えるために、現像液ノズル１１は図４３に示すようにその吐出口１２が斜めに傾いた状態で移動手段に取り付けられ、その移動手段によって傾いた状態のまま、ウエハＷ上及び現像処理部間を移動させることが検討されている。
【０００８】
しかし、このように現像液ノズル１１を傾けた場合には図中の鎖線間で示す吐出口１２の投影領域１４から下方にずれた位置に液滴１３が形成されるため、上記のように吸引機構を設けたり、ダミーディスペンスを行ったりしても十分に液滴１３が除去できないおそれがある。
【０００９】
ところで、現像液ノズル１１から現像液をウエハに吐出すると、吐出口１２及びその周辺に付着した現像液が乾燥し、当該現像液に含まれる成分が析出する。そして、この析出物が現像液ノズル１１から落下し、ウエハに付着すると現像欠陥が発生するおそれがある。そこで、洗浄液により現像液ノズル１１を洗浄することも考えられるが、この洗浄液の滴が現像液ノズル１１から処理中のウエハに垂れると欠陥を引き起こしてしまうおそれがある。
【００１０】
現像装置について説明してきたが、現像液の代わりにレジストなどの各種処理液を塗布する液処理装置についても、使用する処理液が現像液と異なる他は、既述の現像装置と同様の装置構成とされる場合がある。そして、その液処理装置についてもこのように処理液を供給するノズルから液滴が垂れ下がり、垂れ下がる間にその液滴に含まれる溶剤が揮発し、液滴中の成分の濃度が変化することが考えられる。そして、そのように成分の濃度が変化した液滴が液処理前、液処理後のウエハ上に落下すればその液滴がパーティクルとなってウエハを汚染したり、ウエハの面内における処理の均一性が低下したりすることで、やはり歩留りが低下するおそれがある。また、この液処理装置においても処理液の成分が乾燥して、ノズルからウエハＷに落下するおそれがある。
【００１１】
特許文献１には一つのカップ体の側方位置に液滴除去用の針を設けることが記載されている。しかし上記のように複数のカップ体を設けて処理を行うことについては記載されておらず、また、上記の処理液からの析出物について対処する手段については記載されていない。従って、上記の問題を解決するには不十分である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開平１０−２６１６０９（段落００２０など）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は、液処理装置において、前記処理液ノズルに付着した処理液からの析出物により基板が汚染されることを防ぎ、歩留りの低下を防ぐことができる液処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の液処理装置は、上側に開口部が形成されたカップ体の中に基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成される液処理部と、
基板に処理液を供給するための処理液ノズルと、
前記カップ体の外側に設けられ、前記処理液ノズルを待機させるための待機部と、
前記液処理部の上方領域と、待機部との間で処理液ノズルを移動させるための移動手段と、
前記待機部に設けられ、待機部で待機する処理液ノズルに洗浄液を供給して洗浄する洗浄液供給手段と、
前記待機部に設けられ、当該待機部で待機する処理液ノズルから垂れた前記洗浄液の液滴に接触して、当該液滴を処理液ノズルから除去する液取り部と、
前記処理液ノズルにガスを吐出して、前記洗浄液供給手段から供給される洗浄液が処理液ノズルへ衝突する圧力を制御するガス供給部と、
を備えたことを特徴とする。
【００１５】
前記液処理装置は例えば、
（ａ）前記液処理部は、横方向に一列に複数設けられ、
前記処理液ノズルはこれら複数の液処理部に対して共用化され、
前記待機部は、液処理部の列の延長線上に設けられ、
前記移動手段は、前記液処理部の各々の上方領域と前記待機部との間で前記液処理ノズルを液処理部の列に従って移動させるように構成される。
【００１６】
本発明の他の液処理装置は、上側に開口部が形成されたカップ体の中に基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成され、各々横方向に一列に配置された複数の液処理部と、
これら複数の液処理部に対して共用化され、基板に処理液を供給するための処理液ノズルと、
前記液処理部の列の延長線上に設けられ、処理液ノズルを待機させるための待機部と、
前記液処理部の各々の上方領域と前記待機部との間で前記処理液ノズルを液処理部の列に従って移動させるための移動手段と、
互いに隣接するカップ体の開口部間に設けられ、処理液ノズルに洗浄液を供給して洗浄する洗浄液供給手段と、
互いに隣接するカップ体の開口部間に設けられ、前記移動手段により移動する処理液ノズルから垂れた前記洗浄液の液滴に接触して、当該液滴を処理液ノズルから除去する液取り部と、
前記処理液ノズルにガスを吐出して、前記洗浄液供給手段から供給される洗浄液が処理液ノズルへ衝突する圧力を制御するガス供給部と、
を備えたことを特徴とする。
【００１７】
これらの液処理装置の具体的な態様としては以下の通りである。
（ｂ）前記液取り部は、前記待機部にて待機する処理液ノズルの吐出口の投影領域から外れた位置に設けられる。
（ｃ）前記洗浄液供給手段は液取り部に設けられ、前記液取り部は洗浄液を供給する供給口を備える。
（ｄ）前記液取り部の上方に位置する処理液ノズルにガスを吐出し、処理液ノズルに付着した洗浄液を当該処理液ノズルの下方側へと押し流すガス供給部が設けられる。
（ｅ）前記処理液は現像液であり、前記基板はその表面にレジストが塗布され、露光されたものである。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、待機部に設けられた洗浄液供給手段により、処理液ノズルに洗浄液を供給して処理液ノズルの付着物を除去し、前記待機部で待機する処理液ノズルの下方側に位置する液取り部が、洗浄液の液滴を処理液ノズルから除去する。従って、処理液の付着物及び洗浄液の滴が基板に落下して、基板に欠陥が発生したり、ウォーターマークが生じて、基板に正常な処理が行えなくなることを防ぐことができるため、歩留りの低下を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の実施の形態に係る現像装置の概略図である。
【図２】前記現像装置の斜視図である。
【図３】前記現像装置の平面図である。
【図４】前記現像装置に設けられた現像液ノズル及び待機部の斜視図である。
【図５】前記現像液ノズルと液取り部との位置関係を示す説明図及び前記現像液ノズルの下方側斜視図である。
【図６】前記現像液ノズルにより現像液がウエハに供給される様子を示した説明図である。
【図７】現像液ノズルの移動経路において現像液ノズルの液滴が除去される様子を示した説明図である。
【図８】待機部において現像液ノズルの液滴が除去される様子を示した説明図である。
【図９】前記現像装置による現像工程を示した作用図である。
【図１０】前記現像装置による現像工程を示した作用図である。
【図１１】前記現像装置による現像工程を示した作用図である。
【図１２】前記現像装置の他の現像工程を示した作用図である。
【図１３】液取り部の他の構成を示した説明図である。
【図１４】液取り部のさらに他の構成を示した説明図である。
【図１５】さらに他の液取り部及び当該液取り部を備えた待機部の斜視図である
【図１６】前記待機部の縦断側面図である。
【図１７】前記液取り部の正面図である。
【図１８】ノズルの洗浄及び液取りを行う様子を示した工程図である。
【図１９】ノズルの洗浄及び液取りを行う様子を示した工程図である。
【図２０】ノズルの洗浄及び液取りを行う様子を示した工程図である。
【図２１】ノズルの洗浄及び液取りを行う様子を示した工程図である。
【図２２】ノズルの洗浄及び液取りを行う様子を示した工程図である。
【図２３】ノズルの洗浄及び液取りを行う様子を示した工程図である。
【図２４】他の液取り部の斜視図である
【図２５】前記液取り部の側面図である。
【図２６】他の液取り部の斜視図である
【図２７】前記液取り部の側面図である。
【図２８】他の液取り部の斜視図である
【図２９】前記液取り部の縦断側面図である。
【図３０】他の液取り部の斜視図である
【図３１】前記液取り部の縦断側面図である。
【図３２】前記液取り部の正面図である。
【図３３】さらに他の液取り部の縦断側面図である。
【図３４】前記液取り部の平面図である。
【図３５】前記液取り部によりノズルが洗浄される様子を示す説明図である。
【図３６】さらに他の液取り部及び当該液取り部を備えた待機部の斜視図である
【図３７】前記待機部に設けられる洗浄部の縦断側面図である。
【図３８】前記液取り部により液取りを行う様子を示した説明図である。
【図３９】前記待機部に設けられる洗浄部の縦断側面図である。
【図４０】前記現像装置を備えた塗布、現像装置の平面図である。
【図４１】前記塗布、現像装置の斜視図である。
【図４２】前記塗布、現像装置の縦断平面図である。
【図４３】現像液ノズルから液滴が垂れ下がった様子を示した説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
本発明の液処理装置の一例である現像装置２について、その概略構成図である図１を参照しながら説明する。現像装置２は３つの液処理部である現像処理部２１ａ、２１ｂ、２１ｃと、複合ノズル部４ａ〜４ｃと、現像液ノズル６とを備えている。
【００２５】
現像処理部２１ａ〜２１ｃは横方向に一列に配列されている。各現像処理部２１ａ〜２１ｃは各々同様に構成されており、ここでは現像処理部２１ａを例に挙げて説明する。現像処理部２１ａは夫々ウエハＷの裏面中央部を吸着して水平に保持する基板保持部であるスピンチャック２２ａを備え、スピンチャック２２ａは回転軸２３ａを介して回転駆動機構２４ａと接続されている。スピンチャック２２ａは、回転駆動機構２４ａを介してウエハＷを保持した状態で鉛直軸回りに回転自在に構成されており、その回転軸上にウエハＷの中心が位置するように設定されている。回転駆動機構２４ａは後述の制御部１００からの制御信号を受けてスピンチャック２２ａの回転速度を制御する。
【００２６】
スピンチャック２２ａの周囲にはスピンチャック２２ａ上のウエハＷを囲むようにして上方側に開口部３０ａを備えたカップ体３１ａが設けられており、カップ体３１ａの側周面上端側は内側に傾斜した傾斜部３２ａを形成している。カップ体３１ａの底部側には、図１に示すように例えば凹部状をなす液受け部３３ａが設けられている。液受け部３３ａは、図示しない隔壁によりウエハＷの周縁下方側に全周に亘って外側領域と内側領域とに区画されている。外側領域の底部には貯留した現像液などのドレインを排出するための図示しない廃液口が設けられ、内側領域の底部には処理雰囲気を排気するための排気口３４ａ，３４ａが設けられている。
【００２７】
排気口３４ａ，３４ａには排気管３５ａの一端が接続されており、排気管３５ａの他端は、排気ダンパ３６ａを介して現像処理部２１ｂ及び２１ｃの排気管３５ｂ、３５ｃと合流し、例えば現像装置２が設置された工場の排気路に接続されている。排気ダンパ３６ａは、制御部１００からの制御信号を受けてカップ体３１ａ内の排気量を制御する。
【００２８】
図２、図３は、図１の現像装置２を実際に構成したものを夫々模式的に示した斜視図、上面図である。図中２５ａは、昇降自在に構成された昇降ピンであり、カップ体３１ａ内に３本設けられている。現像装置２にウエハＷを搬送する図示しない基板搬送手段の動作に応じて昇降ピン２５ａが昇降し、その基板搬送手段とスピンチャック２２ａとの間でウエハＷが受け渡される。
【００２９】
現像処理部２１ｂの各部について現像処理部２１ａの各部に対応する部分については、現像処理部２１ａの説明で用いた数字と同じ数字を用い、且つａの代わりにｂを付して各図中に示している。また、現像処理部２１ｃの各部について現像処理部２１ａの各部に対応する部分については、現像処理部２１ａの説明で用いた数字と同じ数字を用い、且つａの代わりにｃを付して各図中に示している。
【００３０】
続いて複合ノズル部４ａ，４ｂ，４ｃについて説明する。これら複合ノズル部４ａ，４ｂ，４ｃは夫々現像処理部２１ａ，２１ｂ，２１ｃのウエハＷに純水及びＮ２（窒素）ガスを供給するように構成されており、各複合ノズル部４ａ〜４ｃは同様に構成されている。ここでは代表して複合ノズル部４ａを例に挙げて説明する。複合ノズル部４ａは夫々純水ノズル４１ａ及びＮ２ガスノズル４２ａを備えており、これら各ノズル４１ａ，４２ａはウエハＷの直径方向に互いに連接され、各ノズル４１ａ，４２ａは例えば夫々鉛直下方に開口した円形の細孔である吐出口を夫々備えている。
【００３１】
図１に示すように、純水ノズル４１ａは供給路４３を介して純水が貯留された純水供給源５Ｂに、Ｎ２ガスノズル４２ａは供給路４４を介してＮ２ガスが貯留されたＮ２ガス供給源５Ｃに夫々接続されている。純水はウエハＷに現像液を供給する前にその現像液の濡れ性を高めるために供給されるプリウエット処理を行うための表面処理液であり、また現像後、不要になった現像液を洗い流すためのリンス液でもある。Ｎ２ガスはウエハＷを乾燥させるために当該ウエハＷに吹き付けられる乾燥用ガスであり、この例ではスピンチャック２２ａ〜２２ｃの回転による液の振り切りの他に、このＮ２ガスによる供給により洗浄後のウエハＷが乾燥される。
【００３２】
供給路４３ａ，４４ａには流量制御部４５ａ，４６ａが夫々介設されている。各流量制御部４５ａ及び４６ａはバルブやマスフローコントローラなどを含み、制御部１００からの制御信号に基づいて各ノズル４１ａ，４２ａからウエハＷへの各純水及びガスの給断を制御する。
【００３３】
図２及び図３に示すように複合ノズル部４ａには当該複合ノズル部４ａを支持するアーム体４７ａの一端が接続されており、アーム体４７ａの他端は移動手段である駆動機構４８ａに接続されている。駆動機構４８ａは、現像処理部２１ａ〜２１ｃの配列方向に沿って形成された基台３７上を、その配列方向に伸長したガイド４９ａに沿って移動し、またアーム体４７ａを介して複合ノズル部４ａを昇降させる。この駆動機構４８ａの移動及び駆動機構４８ａによる昇降によって、純水ノズル４１ａ、Ｎ２ガスノズル４２ａの吐出口がスピンチャック２２ａに載置されたウエハＷの中心部上に移動し、純水、Ｎ２ガスを夫々ウエハＷの中心に供給することができる。駆動機構４８ａの動作は制御部１００からの制御信号を受けて制御される。
【００３４】
現像処理部の図示と同様に、複合ノズル部４ｂ，４ｃにおける複合ノズル部４ａと同様に構成された各部については、複合ノズル部の説明に用いた符号と同じ数字の符号を用い、且つ符号中のａをｂまたはｃに夫々変更して示している。
【００３５】
各現像処理部２１ａ〜２１ｃの側方には上側が開口したカップ状のノズル待機部５１ａ〜５１ｃが夫々設けられ、その待機部５１ａ〜５１ｃの内部は複合ノズル部４ａ〜４ｃの待機領域５２ａ〜５２ｃとして構成されている。そして、複合ノズル部４ａ〜４ｃはウエハＷに処理を行わないときには、これら待機領域５２ａ〜５２ｃに夫々収納される。
【００３６】
続いて、処理液ノズルである現像液ノズル６について図４、図５（ａ）（ｂ）も参照しながら説明する。現像液ノズル６はその下端面に当該現像液ノズル６の移動方向に沿って扁平なスリット状に開口した吐出口６１を備えており、その吐出口６１の長さ方向はウエハＷの直径及び現像液ノズル６の移動方向に並行している。また、図５（ａ）に示すように吐出口６１は斜めに向けて形成されている。
【００３７】
図１に示すように現像液ノズル６には現像液供給路６２の一端が接続されている。現像液供給路６２の他端はバルブやマスフローコントローラなどを含んだ流量制御部６３を介して現像液供給源５Ａに接続されており、制御部１００からの制御信号に従って、流量制御部６３が現像液ノズル６からウエハＷへの現像液の給断を制御する。
【００３８】
図２及び図４に示すように現像液ノズル６はアーム体６４の一端に接続されて支持されており、アーム体６４の他端は基台３７上に設けられた駆動機構６５に接続されている。駆動機構６５は、基台３７に現像処理部２１ａ〜２１ｃの配列方向に伸長するように設けられたガイド６０に沿って横方向に移動できるように構成されている。また、駆動機構６５はアーム体６４を介して現像液ノズル６を昇降させることができる。駆動機構６５の動作は制御部１００からの制御信号を受けて制御される。
【００３９】
現像液ノズル６は、その駆動機構６５により各現像処理部２１ａ〜２１ｃの上方領域と後述の待機部６６との間を移動する。また、図６に示すように、現像液ノズル６は各現像処理部２１ａ〜２１ｃに搬入されたウエハＷの回転方向に沿って斜めに帯状に現像液を供給しながら、矢印で示すように当該ウエハＷの周縁部から中心部に向かって移動して、ウエハＷの表面全体に現像液Ｌの液膜を形成することができる。
【００４０】
現像処理部２１ａのカップ体３１ａと現像処理部２１ｂのカップ体３１ｂとの間において、待機部５２ｂの上方位置には液取り部７Ａが設けられている。また、現像処理部２１ｂのカップ体３１ｂと現像処理部２１ｃのカップ体３１ｃとの間において、待機部５２ｃの上方位置には液取り部７Ｂが設けられている。これら液取り部７Ａ，７Ｂは現像液ノズル６の横方向への移動路の下方側に設けられている。
【００４１】
液取り部７Ａ，７Ｂは互いに同様に構成されており、図５（ａ）及び図７（ａ）を用いて説明する。これらの図に示すように液取り部７Ａ、７Ｂは、水平に設けられた基部７１と、基部７１から斜め方向に伸びた板状の液受け部７２とを備えており、その液受け部７２の先端は現像液ノズル６の横方向への移動方向と並行し、且つそのように横方向に移動する現像液ノズル６の下端と近接するように形成されている。これらの液取り部７Ａ，７Ｂは、現像液ノズル６から現像液の液滴を効率よく除去するために、例えば高い親水性を有する多孔質のセラミックスにより構成されており、毛細管現象により液滴をその内部に吸収して除去する。
【００４２】
図７（ａ）〜図７（ｄ）は、現像液ノズル６が横方向に移動するときの様子を示しており、現像液ノズル６が移動するときに液取り部７Ａ及び７Ｂは現像液ノズル６に近接し、現像液ノズル６の下端に垂れ下がって形成された液滴Ｄに接触し、この液滴Ｄをその内部に取り込んで除去する。ところで現像液ノズル６の下端に垂れ下がって形成される現像液の液滴Ｄとしては、繰り返し現像処理を行う過程でその下端への現像液の蓄積によって次第に大きくなり、所定の大きさになったときに重力によって現像液ノズル６から落下するが、この落下前に除去できればよいので、図５（ａ）中の現像液ノズル６の下端と液取り部７Ａとの距離ｈ１はこの液滴Ｄが落下するときの大きさに応じて任意に設定され、例えば１．５ｍｍである。
【００４３】
基台３７において、現像処理部２１ａ〜２１ｃの配列方向の延長線上には上側が開口したカップ状に形成された待機部６６が設けられており、その待機部６６の内部は現像液ノズル６の待機領域６７として構成されている。現像液ノズル６は、ウエハＷに処理を行わないときにはこの待機領域６７に収納され、現像処理を行うときに前記駆動機構６５を介して当該待機領域６７から各現像処理部２１ａ〜２１ｃへ移動する。
【００４４】
待機領域６７には液取り部７Ｃが設けられている。図４に示すように液取り部７Ｃは、液取り部７Ａ，７Ｂと同様に構成されており、現像液ノズル６が待機部６６に収納されたときに液受け部７２の先端は現像液ノズル６の吐出口６１に近接し、また吐出口６１の長さ方向と、この先端とが並行するように設けられている。図８（ａ）〜（ｄ）は、現像液ノズル６が待機部６６に収納され、現像液ノズル６から垂れた現像液の液滴Ｄを液取り部７Ｃが吸収して、除去する様子を示している。図８（ｄ）中に示した待機部６６に収納されたときの現像液ノズル６の下端と液取り部７Ｃとの距離ｈ２はこの液滴Ｄが落下するときの大きさに応じて任意に設定され、例えば１．５ｍｍである。
【００４５】
続いて制御部１００について説明する。制御部１００は例えばコンピュータからなり、不図示のプログラム格納部を有している。このプログラム格納部には、後述の作用で説明する現像処理が行われるように命令が組まれた例えばソフトウエアからなるプログラムが格納され、このプログラムが制御部１００に読み出されることで制御部１００はウエハの回転速度、各ノズルの移動、ウエハへの現像液、純水及びＮ２ガスの供給などを制御する。このプログラムは、例えばハードディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスクまたはメモリーカードなどの記憶媒体に収納された状態でプログラム格納部に格納される。
【００４６】
続いて、この現像装置２に順次ウエハＷが搬入されたときに、行われる処理の一例について図９〜図１２を参照しながら説明する。ウエハＷは例えば不図示の基板搬送手段により現像処理部２１ａ，２１ｂ，２１ｃの順に搬送され、また各ウエハＷの表面にはレジストが塗布されており、そのレジストが所定の露光処理を受けているものとする。また便宜上、現像処理部２１ａ，２１ｂ，２１ｃに搬入されるウエハＷを夫々便宜上、ウエハＷ１，Ｗ２，Ｗ３と記載する。
【００４７】
また、既述のように繰り返し現像処理を行う度に現像液ノズル６の下端に現像液が溜まり、当該ノズル６に付着した液滴Ｄが大きくなる。そして、液滴Ｄが所定のサイズになったときに液取り部７Ａ〜７Ｃにより除去できるように現像液ノズル６と各液取り部との距離を調整すればよいが、下記の説明では現像液の液滴Ｄが除去される様子を明確に示すために説明の便宜上、この液滴ＤがウエハＷに処理を行う度に現像液ノズル６に垂れ下がり、処理を行う度にその液滴Ｄが除去されるように液取り部７Ａ〜７Ｃの位置が調整されているものとする。
【００４８】
図９（ａ）に示すように処理開始前において現像液ノズル６、複合ノズル部４ａ〜４ｃは、夫々待機部６６，５１ａ〜５１ｃに収納されている。各カップ体３１ａ〜３１ｃ内の排気量が所定の排気量になり、ウエハＷ１が現像処理部２１ａのスピンチャック２２ａに受け渡され、所定の回転数で回転すると共に複合ノズル部４ａがウエハＷ１上に移動し、純水ノズル４１ａがウエハＷ１の中心部に純水Ｆを吐出する。吐出された純水Ｆは、遠心力により周縁部へと展伸されるいわゆるスピンコーティングによってウエハＷ１を覆い、既述のプリウエットが行われる（図９（ｂ））。
【００４９】
純水Ｆの供給が停止し、複合ノズル部４ａがウエハＷ１の周縁部側へと移動すると共に現像液ノズル６が待機部６６からウエハＷ１の周縁部上へと移動する。そして、現像液ノズル６は現像液Ｌを供給しながらウエハＷ１の中心部上へと移動し（図９（ｃ））、ウエハＷ１の表面全体が現像液Ｌにより覆われる。その後、現像液ノズル６からの現像液Ｌの吐出が停止し、現像液ノズル６が待機部６６に戻る（図９（ｄ））。
【００５０】
現像液ノズル６が待機部６６内の待機領域６７に収納され、図８（ａ）〜（ｄ）で示したように現像液ノズル６の下端が液取り部７Ｃに近接し、その下端から垂れた液滴Ｄが液取り部７Ｃに接触して、当該液取り部７Ｃに吸収されて除去される。また、複合ノズル部４ａがウエハＷ１の中心部上に移動し、ウエハＷ１の中心部上に純水Ｆが供給されてウエハＷ１表面の現像液Ｌが洗い流される。その一方で、基板処理部２１ｂのスピンチャック２２ｂにウエハＷ２が受け渡される（図９（ｅ））。
【００５１】
然る後、ウエハＷ２が所定の回転数で回転し、複合ノズル部４ｂが待機部５１ｂからウエハＷ２上に移動し、純水ノズル４１ｂがウエハＷ２の中心部上に純水Ｆを吐出して、ウエハＷ２の表面が純水Ｆにより覆われると共に、現像液ノズル６がウエハＷ２の周縁部上へ移動する。その一方で純水ノズル４１ａからウエハＷ１への純水Ｆの供給が停止する（図１０（ａ））。
【００５２】
Ｎ２ガスノズル４２ａがウエハＷ１の中心部上に移動し、Ｎ２ガスがウエハＷ１に吐出されて、回転による純水の振り切りとこのガス供給との相乗作用でウエハＷ１が乾燥される。その一方で、純水ノズル４１ｂからウエハＷ２への純水Ｆの吐出が停止し、複合ノズル部４ｂがウエハＷ２の周縁部上へ移動し、現像液ノズル６が現像液Ｌを吐出しながらウエハＷ２の周縁部上から中心部上へ移動して（図１０（ｂ））、ウエハＷ２の表面全体が現像液Ｌに被覆される。
【００５３】
その後、前記ウエハＷ１へのＮ２ガスの吐出が停止すると共にウエハＷ１の回転が停止し、複合ノズル部４ａが待機部５１ａに戻る一方で、ウエハＷ２への現像液Ｌの供給が停止する。続いて、現像液ノズル６は図中矢印で示すように液取り部７Ａの上方を通過し、図７（ａ）〜（ｄ）で説明したように現像液ノズル６の下端に垂れた液滴Ｄが液取り部７Ａに接触し、吸収されて除去され（図１０（ｃ）、（ｄ））、現像液ノズル６はウエハＷ１の上方を通過して待機部６６に戻る（図１０（ｅ））。また、複合ノズル部４ｂがウエハＷ２の中心部上に移動し、純水ＦをウエハＷ２に供給して、ウエハＷ２表面の現像液Ｌが洗い流される。その一方で、現像処理部２１ｃのスピンチャック２２ｃにウエハＷ３が受け渡される（図１１（ａ））。
【００５４】
続いてウエハＷ３が所定の回転数で回転し、複合ノズル部４ｃが待機部５１ｃからウエハＷ３上に移動し、純水ノズル４２ｃがウエハＷ３の中心部上に純水Ｆを吐出して、スピンコーティングによりウエハＷ３の表面が純水Ｆにより覆われると共に現像液ノズル６がウエハＷ３の周縁部上へ移動する。また、その一方で純水ノズル４１ｂからの純水Ｆの供給が停止し、Ｎ2ガスノズル４２ｂがウエハＷ２の中心部上に移動する（図１１（ｂ））。
【００５５】
そして、Ｎ２ガスがウエハＷ２の中心部上に吐出されてウエハＷ２が乾燥される一方で、純水ノズル４１ｃからの純水Ｆの吐出が停止し、複合ノズル部４ｃがウエハＷ３の周縁部上へ移動する。そして、現像液ノズル６が現像液Ｌを吐出しながらウエハＷ３の周縁部上から中心部上へ移動し（図１１（ｃ））、ウエハＷ３の表面全体が現像液Ｌに被覆される。
【００５６】
その後、前記ウエハＷ２へのＮ２ガスの吐出が停止すると共にウエハＷ２の回転が停止して、複合ノズル部４ｂが待機部５１ｂに戻る一方で、ウエハＷ３への現像液Ｌの供給が停止する。そして、現像液ノズル６は図中矢印で示すように液取り部７Ｂの上方を通過し、図７で説明したように現像液ノズル６の下端に垂れた液滴Ｄが液取り部７Ｂに接触して吸収され、除去される（図１１（ｄ）、（ｅ））。その後、現像液ノズル６は現像処理部２１ｂ，２１ａの上方を通過して待機部６６に戻る（図１２（ａ））。また、複合ノズル部４ｃがウエハＷ３の中心部上に移動し、ウエハＷ３の中心部上に純水Ｆが供給されてウエハＷ３表面の現像液Ｌが洗い流される（図１２（ｂ））。
【００５７】
その後、純水ノズル４１ｃからの純水Ｆの供給が停止し、Ｎ２ガスノズル４２ｃがウエハＷ３の中心部上に移動して、Ｎ２ガスノズル４２ｃからＮ２ガスがウエハＷ３の中心部上に吐出されてウエハＷ３が乾燥される（図１２（ｃ））。その後Ｎ２ガスの供給が停止すると共にウエハＷ３の回転が停止し、複合ノズル部４ｃが待機部５１ｃに戻り（図１２（ｄ））、基板搬送手段によりウエハＷ３が現像処理部３１ｃから搬出される。
【００５８】
この現像装置２によれば、横方向に一列に配列された現像処理部２１ａ〜２１ｃのカップ体３１ａ〜３１ｃ間において、駆動機構６５により移動する現像液ノズル６の移動路の下方側に、その現像液ノズル６の下端に近接し、当該現像液ノズル６から垂れた現像液の液滴Ｄに接触して、その液滴Ｄを現像液ノズル６から除去するための液取り部７Ａ，７Ｂが、その現像液ノズル６の移動軌道上に設けられている。従って現像液ノズル６がウエハＷに処理を行うために待機部６６と各現像処理部２１ａ〜２１ｃとを移動し、現像液が除去されて乾燥したウエハＷ上を通過するにあたって、その乾燥したウエハＷ上への現像液ノズル６からの前記液滴Ｄの落下を防ぐことができる。従ってその液滴がパーティクルとなってウエハＷを汚染することが防がれるので、歩留りの低下を抑えることができる。また、現像液ノズル６の移動中にその液滴Ｄが除去されるので、液滴Ｄを除去するための時間を必要としない。その結果としてスループットの低下を抑えることができる。
【００５９】
また、この現像装置２は待機部６６においても液取り部７Ｃを備えており、ノズル６が横方向に移動するときだけでなく待機部６６に収納されたときにも液滴Ｄの除去が行われるので、より確実に既述の現像液ノズル６から乾燥したウエハＷへの液滴Ｄの落下を防ぐことができる。
【００６０】
上記の例では３枚のウエハＷが現像処理される様子を説明しているが、３枚以上のウエハＷを処理する場合には、例えば続けて現像処理部２１ａ、２１ｂ、２１ｃの順に繰り返しウエハＷが搬送されて、上記の例と同様に現像処理が行われる。
【００６１】
また、上記の例ではウエハＷに現像液を供給する毎に現像液ノズル６が待機部６６に戻っているがこのように処理の度に待機部６６に戻らずに、一の現像処理部で現像液を供給したら直接他の現像処理部に移動して現像液を供給し、何枚かウエハＷに現像液を供給した後に待機部６６に戻ってもよい。また、現像処理部２１ａ〜２１ｃへのウエハＷの搬送順も上記の通りでなくてもよく、例えば現像処理部２１ａ，２１ｂにこの順で繰り返しウエハＷが搬送され、所定の枚数これら現像処理部２１ａ及び２１ｂにウエハＷが搬送されたら現像処理部２１ｃにウエハＷが搬送されるようにし、この搬送順に現像処理が行われるようにしてもよい。これらのように現像処理を行う場合も各現像処理部２１ａ〜２１ｃ間を移動するときに液滴が除去されるので上記の実施形態と同様の効果が得られる。
【００６２】
液取り部としては例えば図１３（ａ）にその外観を、図１３（ｂ）にその側面を夫々示すように構成してもよい。液滴の高い除去効果を得るためにこの液取り部８１は櫛形に形成されており、その表面には現像液ノズル６の移動方向に沿って多数の溝（凹部）８２が形成されている。そして、既述の実施形態と同様に現像液ノズル６の下端が近接して、液滴Ｄがその液取り部８１の表面に付着すると、図１３（ｂ）に矢印で示すように液滴Ｄが毛細管現象によりその溝８２内に進入する。また、溝８２内に現像液を多く貯留させることにより、当該液取り部８１の交換の頻度が高くなることを防ぐために、この液取り部８１において図１３（ｃ）に示すように溝８２の下方側が広がるように構成されていてもよい。
【００６３】
ところで、この例では現像液ノズル６の吐出口６１は斜めに開口する代わりに、垂直方向に開口していてもよいが、背景技術の欄で説明したように、斜め方向に開口した現像液ノズル６を用いた場合の方がダミーディスペンスや液の吸引などを行っても、現像液ノズルからの液滴の落下を防ぎにくいので、既述の液取り部を設けることが特に有効になる。
【００６４】
上記の各液取り部を構成する材料としてはセラミックスに限られないが、液滴Ｄの高い除去効果を得るために親水性の材料を用いることが好ましい。また、その表面状態を荒くすることにより、高い現像液の除去効果を得ることができるので好ましい。また、各液取り部を弾性材を用いて構成してもよく、この場合は現像液ノズル６が各液取り部と接触しても、これら液取り部及び現像液ノズルの破損を防ぐことができるので、現像液ノズルと液取り部との間隔の調整に手間をかけることを抑えることができる。
【００６５】
また、ウエハＷへの液滴Ｄの落下を防ぐことができればよいので、液取り部７Ａ，７Ｂはカップ体３１ａ〜３１ｃの開口部３０ａ〜３０ｃ間に設けられていればよく、例えばカップ体３１ａ〜３１ｃの上側の傾斜部３２ａ〜３２ｃ上に設けられていてもよい。
【００６６】
また、上記の例では現像処理部２１ａ〜２１ｃが直線方向に配列され、その列の延長線上に待機部６６が設けられているが、現像処理部２１ａ〜２１ｃ及び待機部６６が周方向に配列されており、現像液ノズル６がその配列方向に移動し、その現像液ノズル６の移動路の下方側に液取り部７Ａ,７Ｂが設けられてもよい。現像処理部及び液取り部の数としては既述の実施形態に限られるものではない。
【００６７】
また、液取り部としては図１４（ａ）、（ｂ）に示す構成としてもよい。この液取り部９は基台９１上に側面視三角形状の液受け部９２を備えている。また、基台９１上には斜め方向に純水などの洗浄液を吐出する洗浄液ノズル９３が設けられている。図中９４は基台９１に設けられた排液口であり、不図示の排液路に接続されている。この液取り部９は例えば液受け部７Ａ〜７Ｃの代わりに各カップ体３１ａ〜３１ｃ間及び待機領域６７に設けられる。この例では現像処理を行うための現像液ノズル９０は斜め方向に円形に開口した吐出口９７を備えており、基部９６を介して既述のアーム体６４に接続され、現像液ノズル６と同様に昇降及び横方向への移動を行うことができる。
【００６８】
例えば、カップ体３１ａ〜３１ｃ間において設けられた液受け部９２に現像液ノズル９０が横方向から移動して近づくと、現像液の液滴Ｄが液受け部９２に接触し、液受け部９２を伝わって基台９１へと流れ落ちる。さらに洗浄液ノズル９３から現像液ノズル９０に向けて洗浄液が吐出されて、その洗浄液により液滴Ｄが洗い流される。そして洗い流された液はノズル９０の下端から液受け部９２へ伝わり、その基台９１へと流れ落ち、その流れ落ちた排液は、排液口９４から除去される。この液取り部９は、液取り部７Ｃの代わりに待機領域６７に設けてもよい。また、この例において洗浄液ノズル９３を設けず、液受け部９２に接触した液滴を当該液受け部９２の下方に伝わらせることだけで現像液ノズル６からの液滴の除去を行ってもよい。
【００６９】
洗浄液を吐出するノズル９３としては、現像液ノズル９０についての高い洗浄効果を得て液滴Ｄの除去効果を高めるために、例えば洗浄液の液体と気体とを混合して洗浄液の霧を発生させてその霧を噴霧するいわゆる２流体ノズルを用いてもよい。また、そのように除去効果を高める目的のために例えば１ＭＨｚ程度の超音波をかけた洗浄液を吐出する、いわゆるメガソニックノズルを用いてもよい。なお、現像液ノズル９０の代わりに既述の現像液ノズル６に対してこの液取り部９を用いてもよい。
【００７０】
液取り部のさらに他の例である液取り部１０１と、この液取り部１０１が設けられた待機部６６の構成について、その斜視図である図１５と縦断側面図である図１６とを参照しながら説明する。液取り部１０１は、図１４の液取り部９と同様に現像液ノズルを洗浄する機構を備えている。液取り部１０１は側面視山型に形成された山型部１０２と、扁平な方形状に形成された排液部１０３とを備えている。現像液ノズル６を支持するアーム体６４の先端側を前方側、基端側を後方側とすると、排液部１０３は山型部１０２の後方側に位置している。
【００７１】
山型部１０２は、前方側から後方側に向かって上る傾斜面１０４と、後方側から前方側に向かって上る傾斜面１０５とを備えている。また山型部１０２は傾斜面１０４、１０５に夫々連続して形成された垂直面１０６を備え、垂直面１０６と傾斜面１０５とは山型部１０２の頂部１０７を構成している。頂部１０７と、傾斜面１０５とは現像液ノズル６から液滴を除去しやすいように、既述の液取り部７Ａ〜７Ｃと同様に親水性が高い部材により構成される。現像液ノズル６から垂れる液滴は、その大きさが１ｍｍ以下の場合は現像液ノズル６から落下し難いため、待機部６６で待機する現像液ノズル６の下端と、前記頂部１０７との間隔ｈ３は、例えば２ｍｍに設定される。また、図１６中θで示した垂直面１０６と傾斜面１０５とがなす角度は、重力により現像液ノズル６から付着した液滴を効率よく下方へ落下させる角度、例えば４５度に構成される。後述するように待機中の現像液ノズル６から現像液を吐出する場合があり、このとき吐出された現像液が山型部１０２に衝突して飛散しないように、当該山型部１０２は前記現像液ノズル６の吐出口６１の吐出方向に向かう投影領域から外れるように形成されている。
【００７２】
図１７は山型部１０２の正面図であり、図中Ｅ１で示した山型部１０２の幅は例えば４５ｍｍである。また、現像液ノズル６の幅Ｅ２は、例えば１５ｍｍである。この図１７に示すように、前記傾斜面１０４には、現像液ノズル６の幅方向に沿って複数の洗浄液吐出孔１０８が設けられている。洗浄液吐出孔１０８は、山型部１０２内に形成された洗浄液の流路１０９に接続されており、上方の現像液ノズル６へ向けて洗浄液、例えば純水を供給する。流路１０９及び洗浄液吐出孔１０８は、洗浄液供給手段を構成する。図１５及び図１６に戻って、排液部１０３は前記傾斜面１０５の下端から横方向に向かって伸びる上面１１１を備え、上面１１１には傾斜面１０５を伝わって落下した液滴を除去する排液口１１２が開口している。
【００７３】
待機部６６内の待機領域６７について、さらに説明する。前記液取り部１０１の前方側には扁平な方形状の排液部１１３が設けられており、排液部１１３の上面は、前記傾斜面１０４の下端よりも低く形成されている。この上面には排液口１１４が開口しており、現像液ノズル６から吐出された現像液を排出する。図中１１０は、この排液口１１４に接続される排液路である。
【００７４】
液取り部１０１の側方には流路形成部１１５が設けられている。流路形成部１１５内に形成された流路１１６は、山型部１０２の前記流路１０９に接続されており、当該流路１０９に洗浄液として純水を供給する。流路１１６の上流側は不図示の純水供給源に接続されており、制御部１００により前記純水供給源から流路１１６への純水の給断が制御される。また、待機部６６の底面には排気口１１７が開口している。この排気口１１７は、ダミーディスペンスや現像液ノズル６の洗浄を行う間、待機領域６７を排気する。それによって発生したミストを除去し、当該ミストが現像液ノズル６へ付着することを防ぐ役割を有する。
【００７５】
前記ダミーディスペンスは、現像液の流路での詰まりを防止したり、劣化した現像液がウエハＷに供給されることを防ぐなどの目的で、現像液ノズル６からウエハＷ以外の場所に現像液を吐出する処理である。定期的に行ったり、ロットの切り替わり時に、後続のロットの先頭のウエハＷを処理する前に行う。
【００７６】
図１８にはダミーディスペンス実行時の様子を示している。既述のように現像液ノズル６から吐出された現像液Ｌは、山型部１０２には干渉せずに排液部１１３に向けて吐出され、待機領域６７での現像液の飛散が抑えられるようになっている。現像液Ｌの吐出停止後、現像液ノズル６から垂れた現像液の液滴Ｄは、山型部１０２の頂部１０７に付着し（図１９）、傾斜面１０４、１０５を伝わって、排液口１１２、１１４に流れ込んで排液される（図２０）。
【００７７】
続いて、現像液ノズル６の洗浄が行われる工程について説明する。洗浄液吐出孔１０８から現像液ノズル６に向けて純水Ａが供給される。純水Ａは、現像液が乾燥することにより現像液ノズル６の吐出口６１及びその周囲に付着した析出物を洗い流し、傾斜面１０４、１０５を伝わって排液口１１２、１１４から除去される（図２１）。所定の時間経過後に純水Ａの供給が停止し、洗浄処理が終了する。洗浄処理終了後、現像液ノズル６から垂れる純水Ａの液滴は、現像液の液滴Ｄと同様に山型部１０２の頂部１０７に付着し（図２２）、傾斜面１０４、１０５を伝わって、現像液ノズル６から除去される（図２３）。
【００７８】
このような洗浄処理は、ダミーディスペンス同様に定期的に行ってもよいし、ウエハＷのロットの切り替わり時に行ってもよい。また、例えば前記ダミーディスペンス終了後に行ってもよい。このように現像液の析出物及び現像液ノズル６の洗浄に用いた洗浄液が当該現像液ノズル６から除去されることで、現像液ノズル６がカップ体３１ａ〜３１ｃ上を通過するときに、前記析出物がウエハＷに落下して現像欠陥が発生することや、洗浄液の滴が現像装置１にて処理中または処理後搬出前のウエハＷに落下してウォーターマークが形成されてしまうことを防ぐことができる。背景技術の項目で説明したように現像液ノズル６は、吐出口６１が斜めに形成されているため吸引機構などを設けても液滴の除去が難しいので、このように液取り部を設けることが有効である。また、この例では現像液ノズル６を洗浄する機構が液取り部に一体的に設けられているので、待機部６６の大型化を防ぎ、装置の設置面積を抑えることができる。ところで、前記現像液の析出物は速やかに純水に溶解することが確認されている。従って、ミストの発生が抑えられるような低い水圧で洗浄液を現像液ノズル６に供給することが得策である。
【００７９】
液取り部及び流路形成部の他の例について、その斜視図及び側面図を参照しながら既述の液取り部１０１及び流路形成部１１５との差異点を中心に説明する。図２４及び図２５に示す液取り部１２１は、前記液取り部１０１と同様の形状に構成されているが、洗浄液吐出孔１０８を備えていない。そして、図中の流路形成部１２２は、待機する現像液ノズル６の前方側にて水平方向に伸びるアーム１２３を備える。このアーム１２３には、当該アーム１２３の伸びる方向に沿って洗浄液の流路１２４が形成されている。アーム１２３には、前記現像液ノズル６に面するように、当該アーム１２３の伸長方向に伸びたスリット１２５が開口しており、前記流路１２４からスリット１２５に純水が供給され、当該純水が現像液ノズル６の吐出口６１に供給される。
【００８０】
図２６及び図２７に示す例では前記液取り部１２１が設けられている。これらの図に示した流路形成部１２６は、その側方に純水の流路１１６に連通した吐出口１２７を備えている。この吐出口１２７から現像液ノズル６の下端に洗浄液を吐出し、前記析出物を洗い流す。図２８及び図２９では液取り部１３１と流路形成部１１５とを示している。液取り部１３１は、液取り部１０１と同様に略同様に形成されているが、洗浄液吐出孔１０８の代わりに現像液ノズル６の幅方向に広がるスリット１３２が設けられている。スリット１３２から供給された純水は、洗浄液吐出孔１０８から供給される純水と同様に現像液ノズル６の吐出口６１に供給される。
【００８１】
続いて、液取り部１４１について夫々その斜視図、側面図、正面図である図３０、図３１、図３２を参照しながら説明する。液取り部１４１はその内部に流路形成部１１５の流路１１６に連通する流路１４２を備えており、当該流路１４２は横方向に形成されている。この流路１４２から上方側に向かう流路１４３が、左右に間隔をおいて複数形成されている。各流路１４３の下流側は、液取り部１４１内を後方側に向かった後、上方側に屈曲するように形成された流路１４４に接続されている。そして、流路１４４の下流端は、液取り部１３１の傾斜面１０４に左右に広がるように開口したスリット１４５に接続されている。このように屈曲した流路１４４を介して洗浄液を現像液ノズル６に供給することで、現像液ノズル６に供給される純水の吐出圧を抑え、純水の飛散を防止して、ミストの発生を抑えることができる。
【００８２】
図３３にはアーム体６４に現像液ノズル６及びリンスノズル１５１を設けた例を示している。このリンスノズル１５１は、既述の純水ノズル４１ａ〜４１ｃの代わりに用いられ、例えば界面活性剤を含んだ処理液をウエハＷに供給して、ウエハＷから現像液を洗い流す。図３３に示す液取り部１５３は、液取り部１０１と同様に現像液ノズル６を洗浄する他に、リンスノズル１５１に付着した前記処理液からの析出物を洗浄して除去する機能を有する。液取り部１０１との差異点として、液取り部１５３は、山型部１０２の前方側に起立した円筒部１５４が設けられている。
【００８３】
図３４には液取り部１５３の上面を示している。円筒部１５４の上端は外側が内側に対して下降する傾斜面１５５として形成されており、上側に向けてリング状のスリット１５６が開口している。スリット１５６は円筒部１５４の長さ方向に形成された純水の流路１５７に接続されている。円筒部１５４内は排液口１５８として構成されている。
【００８４】
現像液ノズル６が待機しているときに、このリンスノズル１５１が円筒部１５４上に位置し、リンスノズル１５１の洗浄が行われる。図３５（ａ）はこの洗浄時の様子を示しており、スリット１５６から供給された純水Ａは、リンスノズル１５１の吐出口及びその周囲に付着した処理液の析出物を洗い流した後、重力により傾斜面１５５を下方に伝わり、排液口１５８に流れ込んで除去される。純水Ａの吐出停止後は、図３５（ｂ）に示すようにこのリンスノズル１５１の吐出口１５０から処理液が吐出され、ダミーディスペンスが行われる。吐出口１５０は垂直に開口しているため、吐出口１５０及びその周囲の純水Ａは吐出された処理液Ｆに押し流されて除去される。なお、リンスノズルは、アーム体６４に複数設けられてもよく、その数に応じて円筒部１５４が設けられる。
【００８５】
また、液取り部と、現像液ノズル６の洗浄を行う洗浄部とを異なる箇所に設けてもよい。図３６は、そのように洗浄部１６１と液取り部１６２を設けた待機部６６を示しており、洗浄部１６１と、液取り部１６２とが現像液ノズル６の幅方向に設けられている。図３７には洗浄部１６１の縦断側面図を示している。洗浄部１６１は角柱状に構成されている。図中Ｅ３で示す洗浄部１６１の幅は例えば３０ｍｍである。洗浄部１６１の上面は前方側の排液部１１３に向けて下る傾斜面１６３として構成されており、吐出した液を当該排液部１１３に排液できるように、後方側ほどその高さが高く形成されている。傾斜面１６３には前後方向に間隔をおいて純水の吐出口１６４、１６５、１６６を備えている。図中の矢印は純水の吐出方向を示しており、吐出口１６４は上方向に、吐出口１６４、１６６は現像液ノズル６に向けて斜め方向に現像液を吐出するように夫々開口している。洗浄時に現像液ノズル６の下端の直下に位置する吐出口１６５は、現像液ノズル６の下端全体に純水を供給できるように、吐出口１６４、１６６よりも大きく形成されている。
【００８６】
液取り部１６２は、山型部１７１を備えており、図中Ｅ４で示す当該山型部１７１の幅は例えば３０ｍｍである。山型部１７１は、液滴を前方側の排液部１１３、後方側の排液部１０３にガイドできるように傾斜面１７２、１７３を備えている。山型部１７１の前後上方には、ガス供給ノズル１７４、１７５が設けられており、これらガス供給ノズル１７４、１７５は吐出口１７６を備えている。
【００８７】
現像処理を終え、待機部６６に現像液ノズル６が戻ると、現像液ノズル６は洗浄部１６１の上方に位置し、洗浄部１６１から純水が供給されて、現像液ノズル６が洗浄される。純水の供給停止後、現像液ノズル６は横方向に移動し、山型部１６６の上方に位置すると停止する。その後、図３８に示すようにガス供給ノズル１７４、１７５から斜め下方に向けて、エアが吐出される。吐出されたエアは現像液ノズル６に当り、現像液ノズル６を下方へと向かう気流が形成され、現像液ノズル６に付着した純水Ａの液滴はこの気流に流されて現像液ノズル６の下端へと伝わる。そして、山型部１７１に付着し、当該山型部１７１の傾斜面１７２、１７３から排液部１１３、１０３に流れて除去される。その後、エアの吐出が停止する。
【００８８】
このように待機部６６を構成して処理を行っても、液取り部１０１を設ける場合と同様の効果が得られる。また、上記のように第１のガス供給部であるガス供給ノズル１７４，１７５を設けることで、より確実に現像液ノズル６に付着した純水を除去できるので、当該純水がウエハＷに落下して、ウォーターマークが形成されることを抑えることができる。この例でダミーディスペンスを行う場合は、現像液ノズル６は、現像液の吐出が妨げられないように山型部１６６の上方に位置する。山型部１６６は既述の例と同様、吐出口６１の投影領域から外れるように形成される
【００８９】
図３９に示すように洗浄部１６１の前後上方に第２のガス供給部であるガス供給ノズル１７７、１７８を設けて、現像液ノズル６の洗浄中に各ガス供給ノズル１７７，１７８から斜め下方にエアを吐出してもよい。前記エアが現像液ノズル６の下端に向かうことで、各吐出口１６４〜１６６から吐出された純水の現像液ノズル６への衝突力が抑えられ、当該純水からミストが発生することを抑えることができる。
【００９０】
上記の洗浄液供給手段を備えた液取り部及び洗浄液供給手段と共に設けられる液取り部は、現像液ノズル６の待機部６６に設けられることに限られず、既述の液取り部７Ａ、７Ｂと同様にカップ体３１ａ〜３１ｃの間に設けることができる。また、前記液取り部の構造や材質としては、既述の櫛歯構造やセラミックスなどの各構造、各材質を適用することができる。また、複数の現像処理部２１ａ〜２１ｃを備えた現像装置２について説明したが、現像処理部が１つだけ設けられるように構成した場合も、待機部で前記析出物や洗浄液が除去されることにより、これらがウエハＷに落下することを防ぐことができるため、本発明を適用することが有効である。
【００９１】
本発明の現像装置への適用例について説明してきたが、例えばレジスト塗布装置などの他の液処理装置へも本発明を適用することができる。この場合、処理液ノズルからの処理液が、当該処理液による処理前及び処理後の基板への落下することを防ぎ、パーティクルが発生したり、基板の処理の面内均一性が低下したりすることを防ぐことができる。その結果として歩留りの低下を防ぐことができる。
【００９２】
以下、上記の現像装置２が組み込まれた塗布、現像装置２０１について説明する。図４０は塗布、現像装置２０１に露光装置Ｃ４が接続されたレジストパターン形成システムの平面図を示しており、図４１は同システムの斜視図である。また、図４２は塗布、現像装置２０１の縦断面図である。この塗布、現像装置２０１にはキャリアブロックＣ１が設けられており、その載置台２１１上に載置された密閉型のキャリア２１０から受け渡しアーム２１２がウエハＷを取り出して処理ブロックＣ２に受け渡し、処理ブロックＣ２から受け渡しアーム２１２が処理済みのウエハＷを受け取ってキャリア２１０に戻すように構成されている。キャリア２１０は多数枚のウエハＷを含み、各ウエハＷは順次処理ブロックＣ２へと搬送される。
【００９３】
前記処理ブロックＣ２は、図４１に示すようにこの例では現像処理を行うための第１のブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１、レジスト膜の下層に形成される反射防止膜の形成処理を行うための第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２、レジスト膜の塗布を行うための第３のブロック（ＣＯＴ層）Ｂ３、レジスト膜の上層側に形成される反射防止膜の形成を行うための第４のブロック（ＩＴＣ層）Ｂ４を、下から順に積層して構成されている。
【００９４】
処理ブロックＣ２の各層は平面視同様に構成されている。第３のブロック（ＣＯＴ層）Ｂ３を例に挙げて説明すると、ＣＯＴ層Ｂ３は塗布膜としてレジスト膜を形成するためのレジスト膜形成モジュールと、このレジスト膜形成モジュールにて行われる処理の前処理及び後処理を行うための加熱・冷却系の処理モジュール群を構成する棚ユニットＵ１〜Ｕ４と、前記レジスト膜形成モジュールと加熱・冷却系の処理モジュール群との間に設けられ、これらの間でウエハＷの受け渡しを行う搬送アームＡ３と、により構成されている。
【００９５】
前記棚ユニットＵ１〜Ｕ４は搬送アームＡ３が移動する搬送領域Ｒ１に沿って配列され、夫々上記の加熱モジュール、冷却モジュールが積層されることにより構成される。加熱モジュールは載置されたウエハを加熱するための加熱板を備えており、冷却モジュールは載置されたウエハを冷却するための冷却板を備えている。
【００９６】
第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２、第４のブロック（ＩＴＣ層）Ｂ４については、前記レジスト膜形成モジュールに相当する反射防止膜形成モジュール、保護膜形成モジュールが夫々設けられ、これらモジュールにおいてレジストの代わりに処理液として反射防止膜形成用の薬液、保護膜形成用の薬液が夫々ウエハＷに供給されることを除けばＣＯＴ層Ｂ３と同様の構成である。
【００９７】
第１のブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１については一つのＤＥＶ層Ｂ１内にレジスト膜形成モジュールに対応する現像モジュール２１３が２段に積層されており、各現像モジュール１１３は夫々既述の現像装置２に相当し、共通の筐体内に３基の現像処理部や既述の各ノズルを含んでいる。また、ＤＥＶ層Ｂ１にはこの現像モジュール１１３の前処理及び後処理を行うための加熱・冷却系の処理モジュール群を構成する棚ユニットＵ１〜Ｕ４が設けられている。そしてＤＥＶ層Ｂ１内には、これら２段の現像モジュールと、前記加熱・冷却系の処理モジュールとにウエハＷを搬送するための搬送アームＡ１が設けられている。つまり２段の現像モジュールに対して搬送アームＡ１が共通化されている構成となっている。この搬送アームＡ１が上記の基板搬送手段に相当する。
【００９８】
更に処理ブロックＣ２には、図４０及び図４２に示すように棚ユニットＵ５が設けられ、キャリアブロックＣ１からのウエハＷは前記棚ユニットＵ５の一つの受け渡しユニット、例えば第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２の対応する受け渡しユニットＣＰＬ２に順次搬送される。第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２内の搬送アームＡ２は、この受け渡しユニットＣＰＬ２からウエハＷを受け取って各ユニット（反射防止膜形成モジュール及び加熱・冷却系の処理ユニット群）に搬送し、これらユニットにてウエハＷには反射防止膜が形成される。
【００９９】
その後、ウエハＷは棚ユニットＵ５の受け渡しユニットＢＦ２、受け渡しアームＤ１、棚ユニットＵ５の受け渡しユニットＣＰＬ３に搬送され、そこで例えば２３℃に温度調整された後、搬送アームＡ３を介して第３のブロック（ＣＯＴ層）Ｂ３に搬入され、レジスト膜形成モジュールにてレジスト膜が形成される。更にウエハＷは、搬送アームＡ３→棚ユニットＵ５の受け渡しユニットＢＦ３→受け渡しアームＤ１を経て棚ユニットＵ５における受渡しユニットＢＦ３に受け渡される。なおレジスト膜が形成されたウエハＷは、第４のブロック（ＩＴＣ層）Ｂ４にて更に保護膜が形成される場合もある。この場合は、ウエハＷは受け渡しユニットＣＰＬ４を介して搬送アームＡ４に受け渡され、保護膜の形成された後搬送アームＡ４により受け渡しユニットＴＲＳ４に受け渡される。
【０１００】
一方ＤＥＶ層Ｂ１内の上部には、棚ユニットＵ５に設けられた受け渡しユニットＣＰＬ１１から棚ユニットＵ６に設けられた受け渡しユニットＣＰＬ１２にウエハＷを直接搬送するための専用の搬送手段であるシャトルアーム２１５が設けられている。レジスト膜や更に保護膜の形成されたウエハＷは、受け渡しアームＤ１を介して受け渡しユニットＢＦ３、ＴＲＳ４から受け取り受け渡しユニットＣＰＬ１１に受け渡され、ここからシャトルアーム２１５により棚ユニットＵ６の受け渡しユニットＣＰＬ１２に直接搬送され、インターフェイスブロックＣ３に取り込まれることになる。なお図４２中のＣＰＬが付されている受け渡しユニットは温調用の冷却ユニットを兼ねており、ＢＦが付されている受け渡しユニットは複数枚のウエハＷを載置可能なバッファユニットを兼ねている。
【０１０１】
次いで、ウエハＷはインターフェイスアーム２１６により露光装置Ｃ４に搬送され、ここで所定の露光処理が行われた後、棚ユニットＵ６の受け渡しユニットＴＲＳ６に載置されて処理ブロックＣ２に戻される。戻されたウエハＷは、第１のブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１にて現像処理が行われ、搬送アームＡ１により棚ユニットＵ５の受け渡しユニットＴＲＳ１に受け渡される。その後、受け渡しアーム２１２を介してキャリア２１０に戻される。
【０１０２】
（評価試験１）
現像液ノズル６において、その下端からどの程度下方まで垂れ下がった液滴Ｄが落下するのかを確認した。結果として液滴の大きさが１ｍｍ、２ｍｍ、３ｍｍの場合においては液滴の落下は起きなかったが、液滴の大きさが４ｍｍになると現像液ノズル６の先端から落下することが確認された。そして、この結果を踏まえて、現像液ノズル６が待機部６６に収納されたとき当該現像液ノズル６の下端と液取り部７Ｃとの距離ｈ２を２ｍｍに設定し、続いて現像液ノズル６を液取り部７Ｃに対して上昇させ、現像液ノズルの下端から２ｍｍ強下側へ垂れ下がった液滴を形成した。そして、現像液ノズル６を下降させ、待機部６６に収納した後、現像液ノズル６を上昇させて、液滴の有無を観察した。この現像液ノズル６を上昇させての液滴の形成と現像液ノズル６の待機部６６への収納とを５０回繰り返し行った。
【０１０３】
評価試験１の結果、現像液ノズル６が下降する毎に液滴は現像液ノズル６の下端から除去された。この試験から上記の実施形態のように現像装置２に液取り部７Ｃを設けることで液滴の除去が行うことができることが示された。また、現像液ノズル６が接近する方向は異なるが、この実験から液取り部７Ａ，７Ｂにおいても有効に現像液ノズル６から液滴Ｄの除去が行うことができることが予想される。
【０１０４】
（評価試験２）
液取り部７Ｃを絵の具で染めて、評価試験１と同様の試験を行い、現像液ノズル６が絵の具で汚染されるかどうかを調べた。結果として現像液ノズル６への絵の具の付着はなかった。従って、現像液ノズル６から液取り部７Ｃに付着した、液滴は再度現像液ノズル６に付着せずに、液取り部７Ｃにより除去されていることが分かる。この試験からも上記の実施形態のように現像装置に液取り部７Ｃを設けることが有効であることが分かり、また液取り部７Ａ，７Ｂを設けることが有効であることが予想される。
【符号の説明】
【０１０５】
Ｄ            液滴
Ｌ            現像液
Ｗ    ウエハ
２            現像装置
２１ａ〜２１ｃ    現像処理部
２２ａ〜２２ｃ    スピンチャック
３０ａ〜３０ｃ    開口部
３１ａ〜３１ｃ    カップ体
４ａ〜４ｃ      複合ノズル部
４１ａ〜４１ｃ    純水ノズル
４２ａ〜４２ｃ      Ｎ２ガスノズル
６                  現像液ノズル
６１                吐出口
６５                駆動機構
６６                待機部
７Ａ〜７Ｃ        液取り部
１００              制御部
１０１              液取り部
１０２              山型部
１０３              排液部
１０８              洗浄液吐出孔
１１３              排液部
１１４              排液口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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