(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学素子をレンズ枠に組み込んだ状態で赤外領域のレーザ光を該光学素子のコバ部に照射し、該コバ部で反射した反射光を受光して該レンズ枠に対する該光学素子の傾き又は位置を調整した後、接着剤により該光学素子を該レンズ枠に固定する、光学素子の製造方法において、
前記光学素子は、光の反射を低減する第１反射防止構造を有する光学機能面を備えた光学部と、前記光学部の外周に設けられ、光の反射を低減する第２反射防止構造を有するコバ面を備えたコバ部とを備え、
前記第２反射防止構造の赤外光に対する反射率は、前記第１反射防止構造の赤外光に対する反射率よりも大きいことを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項２】
前記第１反射防止構造の可視光に対する反射率は、１％以下であることを特徴とする請求項１に記載の光学素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
ここに開示された技術は、入射光の反射を低減する反射防止構造が表面に形成された光学素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光の反射を低減する反射防止構造が表面に設けられた種々の光学素子が提案されている。
【０００３】
反射防止構造の１つとして、微細な単位構造（例えば、線条凹部又は線条凸部からなる微細構造や、錐体状又は柱状の凹部又は凸部からなる微細構造等）を光学部材の表面に入射光の波長以下のピッチで形成する技術が提案されている。
【０００４】
例えば、特許文献１は、レンズの光学機能面だけでなく、コバ部などの非光学機能面にも反射防止構造を形成し、さらに、非光学機能面の反射防止構造の上には不透明な膜を形成している。これにより、レンズ全面の反射を抑制している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−２７６０５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、レンズをレンズ枠や鏡筒に組み込む際に、レンズの傾き調整が行われる場合がある。レンズの傾き調整は、レンズにレーザ光を照射し、その反射光を観測することによって行われる。
【０００７】
しかしながら、レンズ全体の反射率が低いと、反射光を観測することができず、レンズの傾き調整を行うことができない。通常、コバ面にレーザ光を照射してレンズの傾き調整を行うことが多いが、特許文献１のようにコバ面にまで反射防止構造を設ける場合には、レンズの傾き調整がさらに難しくなる。つまり、光学機能面以外の部分の反射低減とレンズの傾き調整の実現とを両立させることは困難である。
【０００８】
ここに開示された技術は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、光学機能面以外の部分の反射低減とレンズの傾き調整の実現とを両立させることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
ここに開示された光学素子の製造方法は、光学素子をレンズ枠に組み込んだ状態で赤外領域のレーザ光を該光学素子のコバ部に照射し、該コバ部で反射した反射光を受光して該レンズ枠に対する該光学素子の傾きや位置を調整した後、接着剤により該光学素子を該レンズ枠に固定する、光学素子の製造方法であって、前記光学素子は、光の反射を低減する第１反射防止構造を有する光学機能面を備えた光学部と、前記光学部の外周に設けられ、光の反射を低減する第２反射防止構造を有するコバ面を備えたコバ部とを備え、前記第２反射防止構造の赤外光に対する反射率は、前記第１反射防止構造の赤外光に対する反射率よりも大きいことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
前記光学素子によれば、光学機能面以外の部分の反射低減とレンズの傾き調整の実現とを両立させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、レンズの断面図である。
【図２】図２は、レンズの拡大断面図である。
【図３】図３は、傾き調整時のレンズ及び調整装置の配置図である。
【図４】図４は、調整装置のモニタの画面である。
【図５】図５は、射出成形に用いる成形型を作成するための工程を示す図である。
【図６】図６は、カメラの概略図である。
【図７】図７は、変形例に係るレンズの拡大断面図である。
【図８】図８は、その他の実施形態に係る変形例に係る凸部の斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、例示的な実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【００１５】
［１．光学素子］
図１は、レンズ１０の断面図を示す。
【００１６】
レンズ１０は、光軸Ｘを含む光学部１１と、光学部１１の外周に設けられたコバ部１２とを備える。光学部１１とコバ部１２とで素子本体部を構成する。レンズ１０は、両凸形状のレンズである。レンズ１０は、射出成形により製造された樹脂成形品である。レンズ１０は、光学素子の一例である。
【００１７】
光学部１１は、第１光学面１４と第２光学面１５とを有している。第１及び第２光学面１４，１５は、光学機能面（光学有効面ともいう）である。
【００１８】
コバ部１２は、第１光学面１４側の第１コバ面１２ａと、第２光学面１５側の第２コバ面１２ｂと、外周面１２ｃとを有している。第１コバ面１２ａ及び第２コバ面１２ｂは、光軸Ｘと直交している。尚、第１コバ面１２ａ及び第２コバ面１２ｂは、光軸Ｘと直交していなくてもよい。第１コバ面１２ａ及び第２コバ面１２ｂは、周縁面の一例である。
【００１９】
第１光学面１４、第２光学面１５、第１コバ面１２ａ及び第２コバ面１２ｂは、ＳＷＳ（Sub-Wavelength-Structure）１３を有している。ＳＷＳ１３は、反射防止構造の一例である。ＳＷＳ１３は、所定のピッチ（周期）以下で配列された複数の微細な単位構造を有し、該ピッチ以上の波長を有する光の反射を低減することができる。本実施形態のＳＷＳ１３の単位構造は、凸部１６である。凸部１６は、円錐形状をしている。
【００２０】
詳しくは、ＳＷＳ１３は、第１光学面１４及び第２光学面１５に設けられた第１ＳＷＳ１３ａと、第１コバ面１２ａ及び第２コバ面１２ｂに設けられた第２ＳＷＳ１３ｂとを有している。第１ＳＷＳ１３ａは、第１凸部１６ａを有する。第２ＳＷＳ１３ｂは、第２凸部１６ｂを有する。以下、第１ＳＷＳ１３ａと第２ＳＷＳ１３ｂとを区別しないときには、単にＳＷＳ１３と称する。また、第１凸部１６ａと第２凸部１６ｂとを区別しないときには、単に凸部１６と称する。
【００２１】
ＳＷＳ１３においては、複数の凸部１６が配列されることによって、複数の凸部１６の間には凸部１６で囲まれた凹部が複数形成されている。複数の凹部の底部（最も低い部分）を連結して形成される仮想的な面をベース面Ｌとする。ベース面Ｌは、第１光学面１４及び第２光学面１５の第１ベース面Ｌ１と第１コバ面１２ａ及び第２コバ面１２ｂの第２ベース面Ｌ２とを有する。第１ベース面Ｌ１は、レンズ１０に求められる光学特性を実現するために必要な形状に形成されている。第１ベース面Ｌ１は、曲面形状に形成されている。例えば、第１ベース面Ｌ１は、曲面形状、非球面形状又は自由曲面に形成されている。尚、第１ベース面Ｌ１は、平面であってもよい。第２ベース面Ｌ２は、光軸Ｘに直交する平面形状に形成されている。尚、第２ベース面Ｌ２は、光軸Ｘと直交していなくてもよく、曲面であってもよい。以下、第１ベース面Ｌ１と第２ベース面Ｌ２とを区別しないときには、単にベース面Ｌと称する。
【００２２】
ここで、凸部１６のピッチは、隣り合う凸部１６の頂点間の、光軸Ｘと直交する方向への距離である。また、凸部１６の光軸方向の高さは、凸部１６の頂点からベース面Ｌまでの光軸方向への距離である。図２に、レンズ１０の拡大断面図を示す。図２に示すように、凸部１６の頂点をＡとし、頂点Ａから光軸方向に延びる線分とベース面Ｌとの交点を交点Ｂとする。凸部１６の光軸方向の高さＨは、頂点Ａから交点Ｂまでの距離で定義される。具体的には、第１凸部１６ａの高さＨ１は、頂点Ａから第１ベース面Ｌ１における交点Ｂまでの距離である。第２凸部１６ｂの高さＨ２は、頂点Ａから第２ベース面Ｌ２における交点Ｂまでの距離である。尚、実際に成形した凸部１６の先端は、微小な曲率を有する場合がある。そのような場合には、最も先端の部分を頂点Ａとする。以下、「凸部の高さ」は、特段の断りがない限り、光軸方向の高さを意味する。
【００２３】
ＳＷＳ１３は、少なくとも凸部１６のピッチ以上の波長を有する光の反射を低減することができる。レンズ１０を撮像光学系で使用する場合、反射を低減する対象となる光は可視光である。その場合、対象波長は４００ｎｍ〜７００ｎｍとなるので、凸部１６のピッチは、４００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００２４】
また、高い反射防止効果を実現する観点からは、凸部１６の高さは、対象波長の０．４倍以上であることが好ましい。対象波長が可視光の場合には、凸部１６の高さは、２８０ｎｍ以上であることが好ましい。
【００２５】
さらに、ＳＷＳ１３において回折光を発生させないためには、凸部１６のピッチを、対象波長をレンズ１０の屈折率で除した解以下とすることが好ましい。対象波長が可視光であって且つレンズ１０の屈折率が１．５の場合、凸部１６のピッチは２６６ｎｍ以下であることが好ましい。
【００２６】
尚、レンズ１０の光学機能面においては、反射率をより低く抑え、透過率をより高くすることが好ましい。例えば、凸部１６のピッチを２３０ｎｍ、凸部１６の高さを３５０ｎｍとすることによって、可視光全域における反射率を０．１〜０．２％以下とすることができ、良好な反射抑制効果を得ることができる。
【００２７】
ここで、第１ＳＷＳ１３ａの可視光に対して対する反射率は、約１％以下となっている。例えば、第１凸部１６ａの高さＨ１は、前述の如く、２８０ｎｍ以上である。好適な例としては、第１凸部１６ａの高さＨ１は、３５０ｎｍである。
【００２８】
第２ＳＷＳ１３ｂの赤外光（波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍ）に対する反射率は、第１ＳＷＳ１３ａの赤外光に対する反射率よりも高くなっている。具体的には、第２凸部１６ｂの高さＨ２は、第１凸部１６ａの高さＨ１よりも低くなっている。第２ＳＷＳ１３ｂは、後述するレンズ１０の傾き調整に用いられる。そのため、第２ＳＷＳ１３ｂの赤外光に対する反射率は、傾き調整を実行可能な程度であればよく、例えば、約１％以上であってもよい。
【００２９】
また、第２ＳＷＳ１３ｂの反射率は、全ての赤外光に対して、第１ＳＷＳ１３ａよりも高い必要はなく、赤外領域に含まれる少なくとも一の波長の光に対して、第１ＳＷＳ１３ａよりも高ければよい。該一の波長の光を用いることによって後述するレンズ１０の傾き調整を行うことができる。
【００３０】
ただし、第２ＳＷＳ１３ｂの反射率が全ての赤外光に対して第１ＳＷＳ１３ａよりも高い場合には、レンズ１０の傾き調整に用いる赤外光の選択範囲を広げることができる。
【００３１】
一例としては、第１凸部１６ａの高さＨ１は約３５０ｎｍであり、第２凸部１６ｂの高さＨ２は約２８０ｎｍである。これにより、第１ＳＷＳ１３ａは可視光に対して高い反射防止効果を発揮することができ、第２ＳＷＳ１３ｂは赤外光を反射することができる。
【００３２】
赤外光は、可視光よりも波長が長い。そのため、第２ＳＷＳ１３ｂが赤外光を反射するように第２凸部１６ｂを低くしても、第２ＳＷＳ１３ｂにおいて可視光の反射を低減することができる。
【００３３】
［２．レンズの傾き調整］
レンズ１０は、レンズ枠などに組み込まれる際に、光軸Ｘの傾き調整が行われる。図３に、傾き調整時のレンズ１０及び調整装置５０の配置図を示す。図４に、調整装置５０のモニタ画像を示す。
【００３４】
レンズ１０は、レンズ枠１９に組み込まれる。その際、レンズ１０は、ＵＶ硬化樹脂等の接着剤を介してレンズ枠１９に固定される。
【００３５】
調整装置５０は、レーザ光源５１と、受光部５２とを有する。レーザ光源５１は、レーザ光（例えば、波長８５０ｎｍの赤外レーザ）を照射する。受光部５２は、レンズ１０で反射したレーザ光を受光する。
【００３６】
傾き調整においては、まず、レンズ１０がレンズ枠１９に組み込まれる。この段階では、接着剤は固化していない。次に、レーザ光源５１からレンズ１０のコバ部１２へレーザ光が照射される。受光部５２は、コバ部１２で反射した反射光を受光する。調整装置５０は、図４に示すようなモニタに受光した反射光のスポット像５３を表示する。
【００３７】
続いて、スポット像５３が、モニタ画面の所定の位置（図４の例ではモニタ画面の中心）に表示されるように、レンズ枠１９に対するレンズ１０の傾きや位置を調整する。調整完了後、接着剤にＵＶ光を照射して、レンズ１０をレンズ枠１９に固定する。
【００３８】
［３．レンズの製造］
レンズ１０は、射出成形により製造される。図５は、射出成形に用いる成形型を作成するための工程を示す図である。成形型は、第１光学面１４を成形する成形型と第２光学面１５を成形する成形型とを有する。ここでは、一方の成形型を作成する工程について説明するが、他方の成形型も同様の工程で得ることができる。
【００３９】
まず、成形型母材４１を用意する。そして、図５（Ａ）に示すように、成形型母材４１に、機械加工によってレンズ１０の反転形状を形成する。この段階におけるレンズ１０の反転形状とは、光学面及びコバ面から凸部１６を省略したレンズ１０の反転形状であり、レンズ１０の第１ベース面Ｌ１及び第２ベース面Ｌ２に相当する。成形型母材４１は、高強度で且つエッチングにより微細加工し易い材料であればよい。例えば、成形型母材４１として、ＳｉＯ２（石英）、Ｓｉ（シリコン）、ＧＣ（グラッシーカーボン）、ＳｉＣ（シリコンカーバイド）、ＷＣ（超硬）等を用いることができる。
【００４０】
次に、図５（Ｂ）に示すように、成形型母材４１の表面に金属マスク４２を形成する。金属マスク４２は、スパッタリング法又は蒸着法等によって形成することができる。金属マスク４２の材料としては、Ｃｒ、Ｔａ、ＷＳｉ、Ｎｉ、Ｗ等を用いることができる。
【００４１】
続いて、図５（Ｃ）に示すように、金属マスク４２の上にレジストマスク４３を形成する。レジストマスク４３は、スピンコート法又はスプレーコート法等によって形成することができる。
【００４２】
その後、図５（Ｄ）に示すように、ＳＷＳ１３に対応したレジストドットパターン４４をレジストマスク４３から形成する。レジストドットパターン４４は、電子ビーム描画法又は干渉露光（ホログラム露光）法等によって形成することができる。レジストドットパターン４４は、光学面に相当する部分だけでなく、コバ面に相当する部分にも形成される。すなわち、レジストドットパターン４４は、光学面に相当する部分の第１レジストドットパターン４４ａと、コバ面に相当する部分の第２レジストドットパターン４４ｂとを有する。
【００４３】
次に、図５（Ｅ）に示すように、レジストドットパターン４４をドライエッチングによって金属マスク４２に転写する。これにより、金属マスクドットパターン４５が形成される。なお、金属マスクドットパターン４５は、ウェットエッチングによって形成してもよい。金属マスクドットパターン４５は、レジストドットパターン４４と同様に、光学面に相当する部分だけでなく、コバ面に相当する部分にも形成される。すなわち、金属マスクドットパターン４５は、光学面に相当する部分の第１金属マスクドットパターン４５ａと、コバ面に相当する部分の第２金属マスクドットパターン４５ｂとを有する。
【００４４】
続いて、図５（Ｆ）に示すように、金属マスクドットパターン４５をドライエッチングによって成形型母材４１に転写する。こうして、成形型母材４１の表面に凸部１６の反転形状である凹部３５が形成される。凹部３５は、金属マスクドットパターン４５と同様に、光学面に相当する部分だけでなく、コバ面に相当する部分にも形成される。すなわち、凹部３５は、光学面に相当する部分の第１凹部３５ａと、コバ面に相当する部分の第２凹部３５ｂとを有する。
【００４５】
こうして、一方の成形型３１が作成される。他方の成形型も同様に形成される。
【００４６】
ここで、第１凹部３５ａは、第２凹部３５ｂよりも深くなっている。例えば、第１レジストドットパターン４４ａの穴径を第２レジストドットパターン４４ｂの穴径を大きくすることによって、第１凹部３５ａを第２凹部３５ｂよりも深くすることができる。第１レジストドットパターン４４ａと第２レジストドットパターン４４ｂとで穴径を変えることによって、エッチング時のエッチング深さが異なる。第１レジストドットパターン４４ａ及び第２レジストドットパターン４４ｂの穴径は、レジスト露光時の露光量を変えることによって調整することができる。
【００４７】
あるいは、エッチング時のエッチング深さを調整することによって、第１凹部３５ａを第２凹部３５ｂよりも深くすることもできる。一般に、ドライエッチング装置内で発生したプラズマ（イオン）は、被加工材の突起部又は角部に集中しやすい。本プロセスでは、成形型母材４１をドライエッチング加工する場合、コバ面に相当する、成形型母材４１の周縁部にプラズマが集中する。その結果、成形型母材４１においては中央部よりも周縁部の方がエッチング速度が速くなる。第１レジストドットパターン４４ａの穴径と第２レジストドットパターン４４ｂの穴径とが同じであっても、コバ面に相当する第２レジストドットパターン４４ｂ及び第２金属マスクドットパターン４５ｂは、光学面に相当する第１レジストドットパターン４４ａ及び第１金属マスクドットパターン４５ａよりも早く消失する。このため、光学面に相当する部分のマスクが消失するまでエッチングを行うと、コバ面に相当する、成形型母材４１の周縁部はマスクが消失した後もエッチングが継続され、オーバーエッチングになる。その結果、成形型母材４１の周縁部における凹部３５が浅くなる。
【００４８】
こうして作成された成形型を用いてレンズ１０を成形することによって、第２凸部１６ｂが第１凸部１６ａよりも低いレンズ１０を得ることができる。レンズ成形方法としては、レンズ１０の材料がガラスの場合はリヒートプレス成形、レンズ１０の材料が樹脂の場合は射出成形、ＵＶ硬化樹脂成形、及び熱硬化樹脂成形などが挙げられる。
【００４９】
また、成形型は、成形前に成形面を離型処理することが好ましい。ガラス成形であれば、カーボン（Ｃ）、窒化硼素（ＢＮ）、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）、貴金属膜（白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、イリジウム（Ｉｒ）、ロジウム（Ｒｈ）、オスミウム（Ｏｓ）、ルテニウム（Ｒｕ）、レニウム（Ｒｅ）、タングステン（Ｗ）、タンタル（Ｔａ）のうち、少なくとも１種類以上の金属を含む合金）などの薄膜を成形面に形成すればよい。樹脂成形であれば、フッ素系離モールド剤を成形面に塗布すればよい。このような離型処理を行うことで、成形品の離型性を高めることができる。
【００５０】
尚、第１凹部３５ａの深さと第２凹部３５ｂの深さとが同じ成形型を用いても、第２凸部１６ｂが第１凸部１６ａよりも低いレンズ１０を製造することができる。例えば、射出成形やリヒートプレース成形の成形条件を調整することによって、第２凸部１６ｂを第１凸部１６ａよりも低くすることができる。コバ部１２は、光学部１１に比べて薄いため、光学部１１に比べて早く固化する。そのため、第２凹部３５ｂには成形材料が流入しにくい。これを解消するために通常であれば、成形材料の温度を上げたり、圧力を上げたりする。しかしながら、第２凸部１６ｂが第１凸部１６ａよりも低いレンズ１０を製造する場合には、成形材料を第２凹部３５ｂへ流入し易くする対策を施さない。その結果、第２凹部３５ｂにおいては、第１凹部３５ａに比べて成形材料の充填率が低下し、第２凸部１６ｂが第１凸部１６ａよりも低いレンズ１０を製造することができる。
【００５１】
［４．カメラ］
次に、レンズ１０を備えるカメラ１００について説明する。図６に、カメラ１００の概略図を示す。
【００５２】
カメラ１００は、カメラ本体１１０と、該カメラ本体１１０に取り付けられた交換レンズ１２０とを備えている。カメラ１００は、撮像装置の一例である。
【００５３】
カメラ本体１１０は、撮像素子１３０を有している。
【００５４】
交換レンズ１２０は、カメラ本体１１０に着脱可能に構成されている。交換レンズ１２０は、例えば、望遠ズームレンズである。交換レンズ１２０は、光束をカメラ本体１１０の撮像素子１３０上に合焦させるための結像光学系１４０を有している。結像光学系１４０は、上記レンズ１０と、屈折型レンズ１５０，１６０とを有している。レンズ１０はレンズ素子として機能する。
【００５５】
［５．効果］
したがって、前記レンズ１０は、光軸Ｘを有する第１光学面１４と、前記第１光学面１４の外周に設けられた第１コバ面１２ａとを備え、前記第１光学面１４は、光の反射を低減する第１ＳＷＳ１３ａを有し、前記第１コバ面１２ａは、光の反射を低減する第２ＳＷＳ１３ｂを有し、前記第２ＳＷＳ１３ｂの所定の波長の光に対する反射率は、前記第１ＳＷＳ１３ａの所定の波長の光に対する反射率よりも大きい。
【００５６】
前記の構成によれば、第１光学面１４に第１ＳＷＳ１３ａを設け、第１コバ面１２ａに第２ＳＷＳ１３ｂを設けることによって、レンズ１０全体の反射を低減することができる。それに加えて、第２ＳＷＳ１３ｂの所定の波長の光に対する反射率が第１ＳＷＳ１３ａの所定の波長の光に対する反射率に比べて高いため、赤外領域の波長の光を第２ＳＷＳ１３ｂに照射することによってレンズ１０の傾き調整を行うことができる。つまり、光学機能面以外の部分の反射低減とレンズ１０の傾き調整の実現とを両立させることができる。
【００５８】
前記の構成によれば、所定の波長は可視光領域以外の波長であるので、第２ＳＷＳ１３ｂが該所定の波長の光を反射したとしても、人はその反射光を視認できない。つまり、レンズ１０及びそれを備えた装置が人を対象としている場合に、第２ＳＷＳ１３ｂが光を反射することによる悪影響を低減することができる。
【００５９】
また、前記第１ＳＷＳ１３ａの可視光に対する反射率は、１％以下である。
【００６０】
前記の構成によれば、第１光学面においては可視光の反射を非常によく低減することができる。
【００６２】
前記の構成によれば、レンズ１０の傾き調整を容易に行うことができる。つまり、前記レンズ１０によれば、赤外領域の波長の光を用いることによってレンズ１０の傾き調整を実現することができる。一般に、可視光以外で汎用的な光源は赤外光の光源である。そのため、第２ＳＷＳ１３ｂの赤外光に対する反射率を高めることによって、汎用的な光源を用いてレンズ１０の傾き調整を行うことができる。
【００６３】
また、前記第１ＳＷＳ１３ａは、複数の第１凸部１６ａを有しており、前記第２ＳＷＳ１３ｂは、複数の第２凸部１６ｂを有しており、前記第２凸部１６ｂの前記光軸Ｘの方向の高さは、前記第１凸部１６ａの前記光軸Ｘの方向の高さよりも低い。
【００６４】
ＳＷＳ１３の反射防止効果は凸部の高さに依存する。凸部が高いほど、反射防止効果は高くなる。そのため、第２凸部１６ｂの高さを第１凸部１６ａの高さよりも低くすることによって、第２凸部１６ｂの反射率を第１凸部１６ａの反射率よりも大きくすることができる。
【００６５】
また、凸部が低くなると、比較的長い波長の光の反射率が上昇する。そのため、第２凸部１６ｂの高さを第１凸部１６ａの高さよりも低くすることによって、比較的短い波長の光の反射を低減しつつ、比較的長い波長の光の反射率を大きくすることができる。例えば、前述の如く、反射させる対象の光の波長が反射を低減する対象の光の波長よりも長い場合には、第２凸部１６ｂの高さを低くすることが有効である。例えば、反射させる対象の光が赤外光であり、反射を低減する対象の光が可視光である場合に、第２凸部１６ｂの高さを低くすることが有効である。つまり、第２凸部１６ｂの高さを低くすることによって、反射させる対象の光に対する反射の向上と、反射を低減する対象の光の反射低減とを両立させることができる。
【００６６】
前記カメラ１００は、レンズ１０を備えている。
【００６７】
前記の構成によれば、カメラ１００において、レンズ１０全体の反射を低減できると共に、レンズ１０の光軸Ｘをレンズ鏡筒の光軸と高い精度で一致させることができる。
【００６８】
［６．変形例］
次に、変形例に係るレンズについて説明する。
【００６９】
変形例に係るレンズ２１０においては、第２ＳＷＳ２１３ｂの構成が前記レンズ１０の第２ＳＷＳ１３ｂと異なる。そこで、レンズ２１０のうちレンズ１０と同様の構成は同様の符号を付して説明を省略し、異なる部分を中心に説明する。図７は、変形例に係るレンズ２１０の拡大断面図である。
【００７０】
レンズ２１０は、第１光学面１４及び第２光学面１５に設けられた第１ＳＷＳ１３ａと、第１コバ面１２ａ及び第２コバ面１２ｂに設けられた第２ＳＷＳ２１３ｂとを有している。
【００７１】
第１ＳＷＳ１３ａは、レンズ１０と同様に、第１凸部１６ａを有し、可視光の反射を低減する構成となっている。
【００７２】
第２ＳＷＳ２１３ｂは、第２凸部２１６ｂを有している。第２凸部２１６ｂの頂部に第１平坦面２１６ｃが形成されている。すなわち、第２凸部２１６ｂは、円錐台形状である。また、第２ＳＷＳ２１３ｂにおいては、複数の第２凸部２１６ｂの間に第２凸部２１６ｂで囲まれた凹部２１６ｄが形成されている。凹部２１６ｄの底部には第２平坦面２１６ｅが形成されている。平坦面２１６ｃ及び平坦面２１６ｅは共に、光軸Ｘに直交している。尚、第１平坦面２１６ｃ及び第２平坦面２１６ｅは、厳密に平坦でなくてもよい。
【００７３】
第１平坦面２１６ｃと第２平坦面２１６ｅとの光軸方向の距離は、所定の波長の略半分に設定されている。例えば、該距離は、赤外光の波長（例えば、８５０ｎｍ）の略半分に設定されている。このような構成の場合、第１平坦面２１６ｃで反射された所定の波長の光と第２平坦面２１６ｅで反射された所定の波長の光とが干渉して強め合う。結果として、第２ＳＷＳ２１３ｂにおける所定の波長の光の反射率が大きくなる。第１平坦面２１６ｃと第２平坦面２１６ｅとの光軸方向の距離を適宜設定することによって、反射率が高い光の波長を調整することができる。
【００７４】
したがって、変形例に係るレンズ２１０においては、前記第２ＳＷＳ２１３ｂは、頂部に第１平坦面２１６ｃが形成された複数の第２凸部２１６ｂを有しており、前記複数の第２凸部２１６ｂの間には該第２凸部２１６ｂで囲まれた凹部２１６ｄが形成され、前記凹部２１６ｄの底部には、第２平坦面２１６ｅが形成されており、前記第２凸部２１６ｂの第１平坦面２１６ｃと前記凹部２１６ｄの第２平坦面２１６ｅとの前記光軸Ｘの方向の距離は、前記所定の波長の半分である。
【００７５】
前記の構成によれば、第１平坦面２１６ｃで反射した所定の波長の光と第２平坦面２１６ｅで反射した所定の波長の光とが干渉して強め合い、結果として、所定の波長の光の反射率を高くすることができる。
【００７６】
尚、第１平坦面２１６ｃと第２平坦面２１６ｅとの光軸方向の距離は、所定の波長の厳密に半分でなくてもよく、実質的に半分であればよい。つまり、実質的に半分とは、第１平坦面２１６ｃによる反射光と第２平坦面２１６ｅによる反射光とが干渉で強め合う関係にあることを意味する。
【００７７】
《その他の実施形態》
以上のように、本出願において開示する技術の例示として、前記実施形態を説明した。しかしながら、本開示における技術は、これに限定されず、適宜、変更、置き換え、付加、省略などを行った実施の形態にも適用可能である。また、上記実施形態で説明した各構成要素を組み合わせて、新たな実施の形態とすることも可能である。また、添付図面及び詳細な説明に記載された構成要素の中には、課題解決のために必須な構成要素だけでなく、上記技術を例示するために、課題解決のためには必須でない構成要素も含まれ得る。そのため、それらの必須ではない構成要素が添付図面や詳細な説明に記載されていることをもって、直ちに、それらの必須ではない構成要素が必須であるとの認定をするべきではない。
【００７８】
前記実施形態について、以下のような構成としてもよい。
【００７９】
前記ＳＷＳ１３は、第１光学面１４及び第２光学面１５の両方に設けられている必要はなく、何れか一方の面だけに設けられていてもよい。また、ＳＷＳ１３は、第１コバ面１２ａ及び第２コバ面１２ｂの両方に設けられている必要はなく、何れか一方の面だけに設けられていてもよい。ＳＷＳ１３は、外周面１２ｃに設けられていてもよい。
【００８０】
また、第２ＳＷＳ１３ｂ、２１３ｂは、第１コバ面１２ａ及び第２コバ面１２ｂに設けられているが、第１コバ面１２ａ及び第２コバ面１２ｂの何れか一方だけに設けられていてもよい。
【００８１】
また、第２ＳＷＳ１３ｂ，２１３ｂは、第１コバ面１２ａ又は第２コバ面１２ｂの全面ではなく、一部に設けられていてもよい。すなわち、第１コバ面１２ａ又は第２コバ面１２ｂには、一部に第２ＳＷＳ１３ｂ，２１３ｂが設けられ、残りの部分に第１ＳＷＳ１３ａが設けられていてもよい。
【００８２】
尚、前記第１凸部１６ａ及び第２凸部１６ｂの形状及び数値は一例である。ＳＷＳ１３の反射率は、ＳＷＳ１３の材料や形状によって変化する。凸部の材料及び高さ及びピッチを変えることによってＳＷＳ１３の反射率を調整することができる。前記実施形態では、凸部１６の材料及びピッチが第１ＳＷＳ１３ａと第２ＳＷＳ１３ｂとで同じなので、高さを第１凸部１６ａと第２凸部１６ｂとで異ならせることによって、反射率を第１ＳＷＳ１３ａと第２ＳＷＳ１３ｂとで異ならせている。例えば、第１凸部１６ａのピッチと第２凸部１６ｂのピッチとを異ならせてもよい。つまり、第１凸部１６ａのピッチ及び高さ並びに第２凸部１６ｂのピッチ及び高さを調節することによって、第２ＳＷＳ１３ｂの赤外光に対する反射率を第１ＳＷＳ１３ａの赤外光に対する反射率よりも高くしてもよい。
【００８３】
反射防止構造は、ＳＷＳに限られるものではない。反射防止構造は、１又は複数の薄膜で構成されたＡＲコーティング又はＡＲシートであってもよい。ＡＲコーティング及びＡＲシートは、光の干渉により反射を低減するものであり得る。ＡＲコーティングは、光学部１１の表面に塗布される。ＡＲシートは、光学部１１の表面に貼付される。また、反射防止構造は、光学面の表面に設けられた層の内部に微細な空隙を有する構造であってもよい。このような反射防止構造であっても、コバ面に設けられた反射防止構造の所定の波長の光（例えば、赤外光）に対する反射率は、光学面に設けられた反射防止構造の所定の波長の光（例えば、赤外光）に対する反射率よりも大きい。その結果、光学面に限らず、コバ面の反射を抑制することができ、それに加えて、レンズの傾き調整を行うこともできる。
【００８４】
第１ＳＷＳ１３ａは、可視光の反射を低減しているが、第１ＳＷＳ１３ａが反射を低減する光は、可視光でなくてもよい。第１ＳＷＳ１３ａが対象とする光は、レンズ１０の使用状況に応じて、適宜設定することができる。第１ＳＷＳ１３ａの第１凸部１６ａのピッチ及び高さ等を変更することによって、第１ＳＷＳ１３ａにより反射が低減される光の波長を変更することができる。同様に、第２ＳＷＳ１３ｂ，２１３ｂは、赤外光を反射しているが、第２ＳＷＳ１３ｂ，２１３ｂが反射する光は、赤外光でなくてもよい。ただし、光学素子が人間による使用を対象とする場合には、第２ＳＷＳ１３ｂ，２１３ｂが対象とする光は紫外光及び赤外光等の不可視光であることが好ましい。つまり、第２ＳＷＳ１３ｂ，２１３ｂで反射光が生じたとしても、その反射光は不可視光なので、人間は視認できない。
【００８５】
前記ＳＷＳ１３の単位構造は、円錐形状（図８（Ａ）参照）であるが、単位構造の形状は、これに限られるものではない。例えば、単位構造は、図８（Ｂ）に示すように、六角錐形状や、四角錐形状などの角錐形状であってもよい。単位構造は、図８（Ｃ）に示す円柱形状や、図８（Ｄ）に示す角柱形状であってもよい。さらには、単位構造は、図８（Ｅ），（Ｆ）に示すように、円柱又は角柱の先端が丸くなった形状であってもよい。単位構造は、図８（Ｇ），（Ｈ）に示すように、円錐台形状又は角錐台形状であってもよい。
【００８６】
また、単位構造は、複数の凹部が形成されることによって、複数の凹部の間に該凹部によって囲まれて形成される凸部であってもよい。つまり、凸部と凹部とは相対的な関係である。ＳＷＳにおいては、複数の凸部の間には凹部が形成されている一方、複数の凹部の間には凸部が形成されている。つまり、ＳＷＳは、複数の凸部が配列されているとみなすこともできるし、複数の凹部が配列されているとみなすこともできる。
【００８７】
単位構造は、厳密な幾何学的な形状である必要はない。単位構造は、凸形状であって、反射を低減すべき対象光の波長よりも小さいピッチでの配列が可能な形状であればよい。
【００８８】
また、前記レンズ１０は、両凸形状であったが、これには限らない。例えば、レンズ１０は、両凹形状でもよく、凸メニスカス形状でもよく、凹メニスカス形状でもよい。また、レンズ１０は、レンズ素子と機能するものでなくてもよい。
【００８９】
成形型は、前記作成方法に限られるものではない。前記作成方法では、レジストドットパターン４４をレジストマスク４３から形成する際に電子ビーム描画法を用いたが、干渉露光（ホログラム露光）法、Ｘ線リソグラフィなどのリソグラフィであってもよい。また、ナノインプリントや粒子配列によってマスクを形成してもよい。
【産業上の利用可能性】
【００９０】
以上説明したように、ここに開示された技術は、入射光の反射を低減する反射防止構造が形成された光学素子について有用である。例えば、ここに開示された光学素子を用いることによって、高品位な結像光学系、対物光学系、走査光学系、ピックアップ光学系等の各種光学系、鏡筒ユニット、光ピックアップユニット、撮像ユニット等の各種光学ユニット、及び撮像装置、光ピックアップ装置、光走査装置等を実現することができる。
【符号の説明】
【００９１】
１０，２１０    レンズ
１１      光学部
１２      コバ部
１２ａ    第１コバ面（コバ面）
１２ｂ    第２コバ面（コバ面）
１３      ＳＷＳ
１３ａ    第１ＳＷＳ（第１反射防止構造）
１３ｂ，２１３ｂ    第２ＳＷＳ（第２反射防止構造）
１４      第１光学面（光学機能面）
１５      第２光学面（光学機能面）
１６      凸部
１６ａ    第１凸部
１６ｂ，２１６ｂ    第２凸部
２１６ｃ  第１平坦面
２１６ｄ  凹部
２１６ｅ  第２平坦面
１９      レンズ枠
３１      成形型
３５      凹部
３５ａ    第１凹部
３５ｂ    第２凹部
４１      成形型母材
４２      金属マスク
４３      レジストマスク
４４      レジストドットパターン
４５      金属マスクドットパターン
５０      調整装置
５１      レーザ光源
５２      受光部
５３      スポット像
１００    カメラ（撮像装置）
１１０    カメラ本体
１２０    交換レンズ
１３０    撮像素子
１４０    結像光学系
１５０    屈折型レンズ
１６０    屈折型レンズ
Ｘ        光軸
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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