(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のコイルと、
第２のコイルと、
前記第１のコイルと前記第２のコイルとを隔離している第１の絶縁層と、
前記第１のコイルに直列接続されている第３のコイルと、
前記第２のコイルと前記第３のコイルとを隔離している第２の絶縁層と、
前記第２のコイルに直列接続されている第４のコイルと、
前記第３のコイルと前記第４のコイルとを隔離している第３の絶縁層と、
第１の材料層と、
第２の材料層と、
を備えており、
前記第２のコイルは前記第１のコイルと前記第３のコイルとの間に配設されており、
前記第３のコイルは前記第２のコイルと前記第４のコイルとの間に配設されており、
前記第１の材料層と前記第２の材料層との間に前記第一のコイル、前記第２のコイル、前記第３のコイル及び前記第４のコイルが設けられ、
前記第１の絶縁層、前記第２の絶縁層及び前記第３の絶縁層のうちの少なくとも一つが磁性材料を含み、
前記第１材料層及び前記第２の材料層の一方が、磁性材料層と絶縁材料層とを有するヘテロ積層基板であり、
前記磁性材料層が、独立した複数の磁性材料ブロックを有してなることを特徴とする多層らせん構造のコモンモードフィルタ。
【請求項２】
前記磁性材料層及び前記絶縁材料層が拡散接合又は接着接合により接合されることを特徴とする請求項１に記載の多層らせん構造のコモンモードフィルタ。
【請求項３】
前記第１のコイルの内端部と前記第３のコイルの内端部とが接続されており、前記第２のコイルの内端部と前記第４のコイルの内端部とが接続されていることを特徴とする請求項１に記載の多層らせん構造のコモンモードフィルタ。
【請求項４】
前記第１のコイルの外端部、前記第２のコイルの外端部、前記第３のコイルの外端部、及び前記第４のコイルの外端部は前記コモンモードフィルタの周囲に隣接していることを特徴とする請求項３に記載の多層らせん構造のコモンモードフィルタ。
【請求項５】
前記第１のコイルの内端部と前記第３のコイルの内端部とが接続されており、前記第２のコイルの外端部と前記第４のコイルの外端部とが接続されていることを特徴とする請求項１に記載の多層らせん構造のコモンモードフィルタ。
【請求項６】
第１の端部が前記第２のコイルの内端部に接続されており、第２の端部が前記コモンモードフィルタの周囲に隣接している第１のリード線と、第１の端部が前記第４のコイルの内端部に接続されており、第２の端部が前記コモンモードフィルタの周囲に隣接している第２のリード線と、を更に具備したことを特徴とする請求項５に記載の多層らせん構造のコモンモードフィルタ。
【請求項７】
前記第１のコイルの外端部と前記第３のコイルの外端部とが接続されており、前記第２のコイルの外端部と前記第４のコイルの外端部とが接続されていることを特徴とする請求項１に記載の多層らせん構造のコモンモードフィルタ。
【請求項８】
前記第２のコイルの内端部に接続されている端部を備えた第１のリード線と、
前記第３のコイルの内端部に接続されている端部を備えた第２のリード線と、
を更に具備したことを特徴とする請求項７に記載の多層らせん構造のコモンモードフィルタ。
【請求項９】
第１のコイルと、
第２のコイルと、
第１のコイルに直列接続されている第３のコイルと、
第２のコイルに直列接続されている第４のコイルと、
前記第１のコイル、前記第２のコイル、前記第３のコイル及び前記第４のコイルに貫設されている磁性材料部と
第１の材料層と、
第２の材料層と、
を備えており、
前記第２のコイルは前記第１のコイルと前記第３のコイルとの間に配設されており、
前記第３のコイルは前記第２のコイルと前記第４のコイルとの間に配設されており、
前記第１の材料層と前記第２の材料層との間に前記第一のコイル、前記第２のコイル、前記第３のコイル及び前記第４のコイルが設けられ、
前記第１材料層及び前記第２の材料層の一方が、磁性材料層と絶縁材料層とを有するヘテロ積層基板であり、
前記磁性材料層が、独立した複数の磁性材料ブロックを有してなることを特徴とする多層らせん構造のコモンモードフィルタ。
【請求項１０】
前記第１のコイルと前記第２のコイルとを隔離する第１の絶縁層と、
前記第２のコイルと前記第３のコイルとを隔離する第２の絶縁層と、
前記第３のコイルと前記第４のコイルとを隔離する第３の絶縁層と、
をさらに備えており、
前記第１の絶縁層、前記第２の絶縁層及び前記第３の絶縁層のうちの少なくとも一つが磁性材料を含んでいることを特徴とする請求項９に記載の多層らせん構造のコモンモードフィルタ。
【請求項１１】
前記第１のコイル、前記第２のコイル、前記第３のコイル及び前記第４のコイルが前記磁性材料部を囲むことを特徴とする請求項９に記載の多層らせん構造のコモンモードフィルタ。
【請求項１２】
前記磁性材料部が前記第１のコイル、前記第２のコイル、前記第３のコイル及び前記第４のコイルの巻線隙間に貫設されていることを特徴とする請求項９に記載の多層らせん構造のコモンモードフィルタ。
【請求項１３】
独立した複数の磁性材料ブロックを有してなる磁性材料層を絶縁材料層上に形成して、ヘテロ積層基板を得るステップと、
内端部と外端部とを有する第１のコイルを前記ヘテロ積層基板上に形成するステップと、
第１の絶縁層を形成して、前記第１のコイルを被覆するステップと、
内端部と外端部とを有する第２のコイルを前記第１の絶縁層上に形成するステップと、
第２の絶縁層を形成して、前記第２のコイルを被覆するステップと、
第１のコンタクトホールを形成して、前記第１のコイルの前記内端部又は前記外端部を露出させるステップと、
前記第１のコンタクトホールに第１の金属を充填して、第１の導電性スタッドを形成するステップと、
前記第１の導電性スタッドにいずれかが接続される内端部と外端部を有する第３のコイルを前記第２の絶縁層上に形成するステップと、
第３の絶縁層を形成して、前記第３のコイルを被覆するステップと、
第２のコンタクトホールを形成して、前記第２のコイルの前記内端部又は前記外端部を露出させるステップと、
前記第２のコンタクトホールに第２の金属を充填して、第２の導電性スタッドを形成するステップと、
前記第２の導電性スタッドにいずれかが接続される内端部と外端部を有する第４のコイルを前記第３の絶縁層上に形成するステップと、
第４の絶縁層を形成して、前記第４のコイルを被覆するステップと、
前記第１のコイル、前記第２のコイル、前記第３のコイル及び前記第４のコイルに貫設される凹部を形成するステップと、
磁性材料を前記凹部内に充填するステップと、
材料層を前記第４の絶縁層上に設けるステップと、
を含む多層らせん構造のコモンモードフィルタの製造方法。
【請求項１４】
前記第１のコイル、前記第２のコイル、前記第３のコイル及び前記第４のコイルが前記凹部を囲むか、又は前記凹部が前記第１のコイル、前記第２のコイル、前記第３のコイル及び前記第４のコイルの巻線隙間に貫設されることを特徴とする請求項１３に記載の製造方法。
【請求項１５】
前記第１の絶縁層、前記第２の絶縁層、前記第３の絶縁層又は前記材料層がポリイミド、エポキシ樹脂又はベンゾシクロブテン樹脂を含んでおり、前記第１の絶縁層、前記第２の絶縁層及び前記第３の絶縁層のうちの少なくとも一つが磁性材料を含んでいることを特徴とする請求項１３に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はコモンモードフィルタに関し、特に積層式のコモンモードフィルタ及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
コモンモードノイズ（ｃｏｍｍｏｎ ｍｏｄｅ ｎｏｉｓｅ）はすべての導線上にて、同一方向で伝送されるノイズである。コモンモードノイズを抑制するために、当該ノイズを伝送する配線上にコモンモードフィルタ（ｃｏｍｍｏｎ ｍｏｄｅ ｆｉｌｔｅｒ ｏｒ ｃｈｏｋｅ）を配設することができる。従来、コモンモードフィルタは主に鉄芯上に同じ巻数の二組のコイル部材を巻回して構成されている。コモンモード電流がコモンモードフィルタを流れると、二つのコイルに同方向の磁界が発生して、コモンモードフィルタに高いインピーダンス（ｉｍｐｅｄａｎｃｅ）が現れて、コモンモード電流を抑制する効果を達成する。
【０００３】
携帯型電子機器の需要に応えるべく、チップ型のコモンモードフィルタが開発されている。特許文献１では、二つのコイル導線層（ｃｏｉｌ ｃｏｎｄｕｃｔｏｒ ｌａｙｅｒｓ）と、二つのリード線電極層（ｌｅａｄ―ｏｕｔ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ ｌａｙｅｒｓ）と、複数の絶縁層（ｉｎｓｕｌａｔｉｏｎ ｌａｙｅｒｓ）と、二つの磁性層（ｍａｇｎｅｔｉｃ ｌａｙｅｒｓ）とを備えたチップ型コモンモードフィルタが開示されている。各コイル導電層は一つのコイルを備えており、二つのリード線電極層は、外部に電気的に接続するために、二つのコイル内における端部をチップ型コモンモードフィルタの縁部にそれぞれ延出している。絶縁層はコイル導電層とリード線電極層とを電気的に隔離するために用いられている。コイル導電層、リード線電極層及び絶縁層は二つの磁性層の間に配設されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】米国特許第７，１４５，４２７ Ｂ２号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
寸法の大きさの制限から、上記したチップ型コモンモードフィルタは通常、再度コイル構造を調整することで、コモンモードインピーダンス（ｃｏｍｍｏｎ ｍｏｄｅ ｉｍｐｅｄａｎｃｅ）の上昇又はカットオフ周波数（ｃｕｔ ｏｆｆ ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）の制御を顕著化させることは難しい。もしコイルの巻数を増やす方式でコモンモードインピーダンスを上昇させると、チップ型コモンモードフィルタの実装時に必要な面積が広くなってしまい、携帯型電子機器に応用するのに不利となってしまう。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様によれば、多層らせん構造のコモンモードフィルタは、第１のコイルと、第２のコイルと、第１の絶縁層と、第３のコイルと、第２の絶縁層と、第４のコイルと、第３の絶縁層とを備えている。第１のコイルは第３のコイルに直列接続されており、そして第２のコイルは第４のコイルに直列接続されている。第２のコイルは第１のコイルと第３のコイルとの間に配設されており、第３のコイルは第２のコイルと第４のコイルとの間に配設されている。第１の絶縁層は第１のコイルと第２のコイルとを隔離している。第２の絶縁層は第２のコイルと第３のコイルとを隔離している。第３の絶縁層は第３のコイルと第４のコイルとを隔離している。第１の絶縁層、第２の絶縁層及び第３の絶縁層のうちの少なくとも一つは磁性材料を含んでいる。
【０００７】
本発明の一態様によれば、多層らせん構造のコモンモードフィルタは、第１のコイルと、第２のコイルと、第３のコイルと、第４のコイルと、磁性材料部とを備えている。第２のコイルは前記第１のコイルと前記第３のコイルとの間に配設されている。第３のコイルは第２のコイルと第４のコイルとの間に配設されている。第１のコイルは第３のコイルに直列接続されている。第２のコイルは第４のコイルに直列接続されている。磁性材料部は第１のコイル、第２のコイル、第３のコイル及び第４のコイルに貫設されている。
【０００８】
本発明の一態様によれば、多層らせん構造のコモンモードフィルタの製造方法は、内端部と外端部とを有する第１のコイルを材料層上に形成するステップと、第１の絶縁層を形成して、前記第１のコイルを被覆するステップと、内端部と外端部とを有する第２のコイルを前記第１の絶縁層上に形成するステップと、第２の絶縁層を形成して、前記第２のコイルを被覆するステップと、第１のコンタクトホールを形成して、前記第１のコイルの前記内端部又は前記外端部を露出させるステップと、前記第１のコンタクトホールに第１の金属を充填して、第１の導電性スタッドを形成するステップと、前記第１の導電性スタッドにいずれかが接続される内端部と外端部を有する第３のコイルを前記第２の絶縁層上に形成するステップと、第３の絶縁層を形成して、前記第３のコイルを被覆するステップと、第２のコンタクトホールを形成して、前記第２のコイルの前記内端部又は前記外端部を露出させるステップと、前記第２のコンタクトホールに第２の金属を充填して、第２の導電性スタッドを形成するステップと、前記第２の導電性スタッドにいずれかが接続される内端部と外端部を有する第４のコイルを前記第３の絶縁層上に形成するステップと、第４の絶縁層を形成して、前記第４のコイルを被覆するステップと、前記第１のコイル、前記第２のコイル、前記第３のコイル及び前記第４のコイルに貫設される凹部を形成するステップと、磁性材料を前記凹部内に充填するステップと、を含む。
【０００９】
上記において、本発明の技術的特徴及び長所がすでにかなり広汎に概略的に記述されることで、下記する本発明の詳細な説明はより良く理解され得る。本発明の特許請求の標的を構成するその他の技術的特徴及び長所は下記に記述する。本発明の技術分野における当業者であれば、下記に開示する技術的思想及び特定の実施例を利用して、その他構造又は製造工程を修正又は設計することで、本発明と同じ目的は容易に実現できるはずである。本発明の技術分野における当業者はまた、これら等価の構造は別紙の特許請求の範囲にて限定する本発明の技術的思想及び範囲から離れることはできないことも理解するはずである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の一態様におけるコモンモードフィルタは最大インピーダンス値が高く、そして同じインピーダンス値においては、周波数帯域が広い。したがって、多層らせん構造を備えたコモンモードフィルタは、確実に従来のコモンモードフィルタよりも優れた性能を示している。さらに、コモンモードフィルタのコモンモードインピーダンスを高めて、コモンモードフィルタのインダクタンス値を増進することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施例におけるコモンモードフィルタの分解概略図
【図２】図１のコモンモードフィルタの断面概略図
【図３】本発明の他の実施例におけるコモンモードフィルタの断面概略図
【図４】本発明の他の実施例におけるコモンモードフィルタの断面概略図
【図５】本発明の他の実施例におけるコモンモードフィルタの断面概略図
【図６】本発明の他の実施例におけるコモンモードフィルタの一部の平面図
【図７】本発明の他の実施例におけるコモンモードフィルタの断面図
【図８】本発明の一実施例のコモンモードフィルタの製造工程手順を示す断面概略図
【図９】本発明の一実施例のコモンモードフィルタの製造工程手順を示す断面概略図
【図１０】本発明の一実施例のコモンモードフィルタの製造工程手順を示す断面概略図
【図１１】本発明の一実施例におけるコモンモードフィルタのインピーダンス値と周波数との関係グラフ
【図１２】公知のコモンモードフィルタのインピーダンス値と周波数との関係グラフ
【図１３】本発明の一実施例におけるヘテロ積層基板の概略図
【図１４】本発明の他の実施例におけるヘテロ積層基板の概略図
【図１５】本発明のさらに他の実施例におけるヘテロ積層基板の概略図
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明は一面において、二つのコイル組を備えたコモンモードフィルタを開示している。各コイル組は直列接続された複数のコイルを備えており、このうち隣接するコイルは絶縁層により隔離されている。二つのコイル組のコイルは交互に積層されている。コイル組の巻数を増やすと、コモンモードフィルタのコモンモードインピーダンスを高めて、ディファレンスモード信号のカットオフ周波数を効果的に抑制できる。また、各コイル組の巻数は増やしても、コモンモードフィルタに必要な面積は変わらないようにすることができる。
【００１３】
一部実施例において、コモンモードフィルタは、直列接続された複数のコイルを電気的に隔離するための複数の絶縁層をさらに備えることができ、複数の絶縁層における少なくとも一つが磁性材料を含むことができることで、コイルに生じた磁力線を封じ込めて、コモンモードフィルタのインダクタンス値及びコモンモードインピーダンスを高めることができる。
【００１４】
その他の実施例において、コモンモードフィルタは複数の直列接続されたコイルに貫設されている磁性材料部を備えることができることで、コモンモードフィルタのインダクタンス値及びコモンモードインピーダンスを高める。
【００１５】
さらに、コモンモードフィルタは二つの材料層をさらに備えることができ、コイルは二つの材料層の間に挟持して設けられる。二つの材料層における少なくとも一つが磁性材料を含むことができることで、コモンモードフィルタは優れたフィルタリング効果を備えることができる。
【００１６】
図１には、本発明の一実施例におけるコモンモードフィルタ１００の分解概略図を示す。図１を参照する。コモンモードフィルタ１００は第１のコイル層３と、第１の絶縁層４と、第２のコイル層５と、第２の絶縁層６と、第３のコイル層７と、第３の絶縁層８と、第４のコイル層９とを備えており、第１の絶縁層４は第１のコイル層３と第２のコイル層５とを隔離しており、第２の絶縁層６は第２のコイル層５と第３のコイル層７とを隔離しており、第３の絶縁層８は第３のコイル層７と第４のコイル層９とを隔離している。
【００１７】
第１の絶縁層４、第２の絶縁層６及び第３の絶縁層８などの材料はポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ ｒｅｓｉｎ）又はベンゾシクロブテン樹脂（ＢＣＢ）を含むことができる。第１の絶縁層４、第２の絶縁層６及び第３の絶縁層８のうちの少なくとも一つが、例えば鉄磁性材料といった磁性材料を含んでいる。一実施例において、磁性材料はニッケル亜鉛フェライト又はマンガン亜鉛フェライトを含むことができる。
【００１８】
第１の絶縁層４、第２の絶縁層６及び第３の絶縁層８などの製造方法はスピンコーティング工程、浸漬工程（ｄｉｐｐｉｎｇ ｐｒｏｃｅｓｓ）、スプレー工程（ｓｐｒａｙ ｐｒｏｃｅｓｓ）、スクリーン印刷工程（ｓｃｒｅｅｎ―ｐｒｉｎｔｉｎｇ ｐｒｏｃｅｓｓ）又は薄膜形成工程（ｔｈｉｎ ｆｉｌｍ ｆｏｒｍａｔｉｏｎ ｐｒｏｃｅｓｓ）などを含むことができる。
【００１９】
第１のコイル層３は第１のコイル３１を備えており、第２のコイル層５は第２のコイル５１を備えており、第３のコイル層７は第３のコイル７１を備えており、第４のコイル層９は第４のコイル９１を備えている。第２のコイル５１は第１のコイル３１と第３のコイル７１との間に配設されており、第３のコイル７１は第２のコイル５１と第４のコイル９１との間に配設されている。第１のコイル３１と第３のコイル７１とは直列接続されており、そして第２のコイル５１と第４のコイル９１とは直列接続されている。直列接続されている第１のコイル３１と第３のコイル７１、および直列接続されている第２のコイル５１と第４のコイル９１は電磁的に接続されているので、直列接続されている第１のコイル３１と第３のコイル７１、および直列接続されている第２のコイル５１と第４のコイル９１により、コモンモードノイズを除去できる。
【００２０】
第１のコイル３１、第２のコイル５１、第３のコイル７１及び第４のコイル９１は図１に示す矩形らせん（ｒｅｃｔａｎｇｕｌａｒ ｓｐｉｒａｌ）とすることができるが、例えば円形らせん（ｃｉｒｃｕｌａｒ ｓｐｉｒａｌ）などのその他形状のらせんとしても良い。
【００２１】
一実施例において、第１のコイル３１、第２のコイル５１、第３のコイル７１及び第４のコイル９１は垂直方向で大部分が重なっている。
【００２２】
一実施例において、第１のコイル３１、第２のコイル５１、第３のコイル７１及び第４のコイル９１は同じ巻数で巻回させることができる。
【００２３】
一実施例において、第１のコイル層３、第２のコイル層５、第３のコイル層７及び第４のコイル層９は真空成膜工程（ｖａｃｕｕｍ ｆｉｌｍ ｆｏｒｍａｔｉｏｎ ｐｒｏｃｅｓｓ）（蒸着又はスパッタリング）又はめっき（ｐｌａｔｉｎｇ）工程で製造することができる。第１のコイル層３、第２のコイル層５、第３のコイル層７及び第４のコイル層９の材料は、銀、パラジウム、アルミニウム、クロム、ニッケル、チタン、金、銅、白金又はその合金を含むことができる。
【００２４】
コモンモードフィルタ１００は第１の材料層１と第２の材料層１１とをさらに備えることができ、このうち第１のコイル３１、第２のコイル５１、第３のコイル７１及び第４のコイル９１は第１の材料層１と第２の材料層１１との間に配設されている。
【００２５】
一実施例において、第１の材料層１又は第２の材料層１１のうちの少なくとも一つは、例えば鉄磁性材料といった磁性材料を含んでいる。言い換えれば、第１の材料層１が磁性材料層であり、第２の材料層１１が非磁性材料又は絶縁層であるか、又は、第１の材料層１が非磁性材料又は絶縁層であり、第２の材料層１１が磁性材料層である。一実施例において、前記磁性材料層は磁性基板を備えている。前記非磁性材料層は非磁性材料基板を備えている。前記絶縁層は絶縁基板を備えている。一実施例において、磁性材料はニッケル亜鉛フェライト又はマンガン亜鉛フェライトを含んでいる。一実施例において、非磁性材料層は酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、ガラス又は石英を含んでいる。一実施例において、磁性材料層は高分子材料および磁性粉末を含んでいる。高分子材料はポリイミド、エポキシ樹脂又はベンゾシクロブテン樹脂を含むことができる。磁性粉末はニッケル亜鉛フェライト又はマンガン亜鉛フェライトを含んでいる。
【００２６】
図１３を参照する。一実施例において、第１の材料層１はヘテロ積層基板を備えている。そして他の実施例において、第２の材料層１１はヘテロ積層基板を備えている。ヘテロ積層基板は絶縁材料層１１１と、磁性材料層１１２とを備えている。絶縁材料層１１１及び磁性材料層１１２は同時焼成の方式で、両者の間に拡散接合を発生させることができる。絶縁材料層１１１及び磁性材料層１１２は接着剤で接着することができる。絶縁材料層１１１及び磁性材料層１１２はそれぞれ厚膜印刷で形成することができる。
【００２７】
絶縁材料層１１１又は磁性材料層１１２は外側層とすることができる。一実施例において、磁性材料層１１２はコイルのサイズに応じて製作することができる。磁性材料層１１２は、図１３に示すように、絶縁材料層１１１よりも概ね小さくすることができる。他の実施例において、磁性材料層１１２の面積は実質的に絶縁材料層１１１の面積に相当するものとすることができる。
【００２８】
図１４及び図１５を参照する。磁性材料層１１２’又は１１２’’は独立した複数の磁性材料ブロック１１２１’又は１１２１’’を含むことができる。磁性材料ブロック１１２１’又は１１２１’’は絶縁材料層１１１の主面上に配列されている。
【００２９】
第１の材料層１及び／又は第２の材料層１１は磁性材料を含み、コモンモードフィルタ１００の磁界範囲を制限（ｃｏｎｆｉｎｅ）して、コモンモードフィルタ１００は優れたフィルタリング効果を備えることができる。
【００３０】
再度図１を参照する。コモンモードフィルタ１００は更に側部絶縁層２と、側部絶縁層１０とを備えている。側部絶縁層２は第１の材料層１上に形成されている。第１のコイル層３は側部絶縁層２上に形成されている。第１の絶縁層４は第１のコイル層３を被覆している。第２のコイル層５は第１の絶縁層４上に形成されている。第２の絶縁層６は第２のコイル層５を被覆している。第３のコイル層７は第２の絶縁層６上に形成されている。第３の絶縁層８は第３のコイル層７を被覆している。第４のコイル層９は第３の絶縁層８上に形成されている。側部絶縁層１０は第４のコイル層９を被覆している。第２の材料層１１は側部絶縁層１０上に配設されている。
【００３１】
特記するならば、図１及び図２を参照するように、第１のコイル３１は内端部３２を有し、第３のコイル７１は内端部７２を有し、第１の絶縁層４はコンタクトホール（ｃｏｎｔａｃｔ ｈｏｌｅ）４１を備えており、そして第２の絶縁層６はコンタクトホール６１を備えており、このうちコンタクトホール４１は第１のコイル３１の内端部３２と第３のコイル７１の内端部７２との間に形成されており、コンタクトホール６１もまた第１のコイル３１の内端部３２と第３のコイル７１の内端部７２との間に形成されることから、第１のコイル３１及び第３のコイル７１はコンタクトホール４１及びコンタクトホール６１を介して電気的に接続されることができる。
【００３２】
さらに、コモンモードフィルタ１００は更に導電性スタッド１２を備えてもよく、導電性スタッド１２はコンタクトホール４１及びコンタクトホール６１を貫通して、第１のコイル３１の内端部３２と第３のコイル７１の内端部７２とを接続することができる。
【００３３】
第２のコイル５１は内端部５２を有し、第４のコイル９１は内端部９２を有し、第２の絶縁層６は更にコンタクトホール６２を備えてもよく、そして第３の絶縁層８はコンタクトホール８１を備えてもよく、このうちコンタクトホール６２及びコンタクトホール８１は第２のコイル５１の内端部５２と第４のコイル９１の内端部９２との間に形成されることで、第２のコイル５１の内端部５２と第４のコイル９１の内端部９２がコンタクトホール６２及びコンタクトホール８１により電気的に接続されることができる。
【００３４】
コモンモードフィルタ１００は更に導電性スタッド１３を備えることができる。導電性スタッド１３はコンタクトホール６２及びコンタクトホール８１を貫通して、第２のコイル５１の内端部５２と第４のコイル９１の内端部９２とを接続している。
【００３５】
一実施例において、導電性スタッド１２及び導電性スタッド１３は真空成膜工程（蒸着又はスパッタリング）又はめっき工程で製造することができる。導電性スタッド１２及び導電性スタッド１３の材料は、銀、パラジウム、アルミニウム、クロム、ニッケル、チタン、金、銅、白金又はその合金を含むことができる。
【００３６】
一実施例において、側部絶縁層２及び１０の材料はポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ ｒｅｓｉｎ）又はベンゾシクロブテン樹脂（ＢＣＢ）を含むことができる。側部絶縁層２及び１０の製造方法はスピンコーティング工程、浸漬工程、スプレー工程、スクリーン印刷工程又は薄膜形成工程などを含むことができる。
【００３７】
第１のコイル３１、第２のコイル５１、第３のコイル７１及び第４のコイル９１の各々における外端部３３、５３、７３又は９３は延出して、対応する電極３４、５４、７４又は９４に接続されることができる。電極３４、５４、７４又は９４はコモンモードフィルタ１００の周囲に隣接している。第１のコイル３１、第２のコイル５１、第３のコイル７１及び第４のコイル９１は対応する電極３４、５４、７４又は９４を介して、外部に電気的に接続されている。
【００３８】
一実施例において、側部絶縁層２の厚さは１μｍないし２０μｍの間とすることができる。
【００３９】
一実施例において、第１の材料層１が絶縁基板であるとき、第１のコイル層３は第１の材料層１に直接形成することができる。そしてこの場合、第１の材料層１上に側部絶縁層２を形成する必要はない。
【００４０】
一実施例において、コモンモードフィルタ１００は更に、側部絶縁層１０と第２の材料層１１とを接着する接着層（図示しない）を備えることができる。
【００４１】
図３には、本発明の他の実施例におけるコモンモードフィルタ３００の断面概略図を示す。図３を参照する。コモンモードフィルタ３００は第１の材料層１と、外部絶縁層３５と、第１のリード層１４と、側部絶縁層２と、第１のコイル層３と、第１の絶縁層４と、第２のコイル層５と、第２の絶縁層６と、第３のコイル層７と、第３の絶縁層８と、第４のコイル層９と、側部絶縁層１０と、第２のリード層１５と、外部絶縁層３６と、第２の材料層１１とを備えている。
【００４２】
外部絶縁層３５は第１の材料層１上に形成されている。第１のリード層１４は外部絶縁層３５上に形成されている。側部絶縁層２は第１のリード層１４を被覆している。第１のコイル層３は側部絶縁層２上に形成されている。第１の絶縁層４は第１のコイル層３を被覆している。第２のコイル層５は第１の絶縁層４上に形成されている。第２の絶縁層６は第２のコイル層５を被覆している。第３のコイル層７は第２の絶縁層６上に形成されている。第３の絶縁層８は第３のコイル層７を被覆している。第４のコイル層９は第３の絶縁層８上に形成されている。側部絶縁層１０は第４のコイル層９を被覆している。第２のリード層１５は側部絶縁層１０上に形成されている。外部絶縁層３６は第２のリード層１５を被覆している。第２の材料層１１は外部絶縁層３６上に配設されている。
【００４３】
一実施例において、第１の絶縁層４、第２の絶縁層６及び第３の絶縁層８のうちの少なくとも一つが、例えば鉄磁性材料といった磁性材料を含んでいる。一実施例において、磁性材料はニッケル亜鉛フェライト又はマンガン亜鉛フェライトを含むことができる。
【００４４】
一実施例において、第１の材料層１及び第２の材料層１１の少なくとも一方が磁性材料を含んでいる。
【００４５】
一実施例において、第１の材料層１及び第２の材料層１１の少なくとも一方がヘテロ積層基板を備えている。
【００４６】
外部絶縁層３５及び３６の材料はポリイミド、エポキシ樹脂又はベンゾシクロブテン樹脂を含むことができ、その製造方法はスピンコーティング工程、浸漬工程、スプレー工程、スクリーン印刷工程又は薄膜形成工程などを含むことができる。
【００４７】
第１のコイル層３は第１のコイル３１を備えており、第１のコイル３１は内端部３２と外端部３３とを有している。第２のコイル層５は第２のコイル５１を備えており、第２のコイル５１は内端部５２と外端部５３とを有している。第３のコイル層７は第３のコイル７１を備えており、第３のコイル７１は内端部７２と外端部７３とを有している。第４のコイル層９は第４のコイル９１を備えており、第４のコイル９１は内端部９２と外端部９３とを有している。
【００４８】
第１の絶縁層４はコンタクトホール４１を備えており、第２の絶縁層６はコンタクトホール６１を備えており、導電性スタッド１２はコンタクトホール４１及びコンタクトホール６１を貫通して、第１のコイル３１の内端部３２と第３のコイル７１の内端部７２とを接続して、第１のコイル３１と第３のコイル７１とを直列接続している。第２の絶縁層６は更にコンタクトホール６３を備えており、第３の絶縁層８はコンタクトホール８２を備えており、導電性スタッド１７はコンタクトホール６３及びコンタクトホール８２を貫通して、第２のコイル５１の外端部５３と第４のコイル９１の外端部９３とを接続して、第２のコイル５１と第４のコイル９１とを直列接続している。
【００４９】
導電性スタッド１２及び１７は真空成膜工程（蒸着又はスパッタリング）又はめっき工程で製造することができる。導電性スタッド１７は、銀、パラジウム、アルミニウム、クロム、ニッケル、チタン、金、銅、白金又はその合金を含むことができる。
【００５０】
第１のリード層１４はリード線１４１を備えている。リード線１４１の一端部はコモンモードフィルタ３００の周囲３０１にまで延出することで、外部と電気的に接続する働きをしている。そしてリード線１４１の他端部は側部絶縁層２及び第１の絶縁層４上のコンタクトホールを介して、第２のコイル５１の内端部５２に接続されている。第２のリード層１５はリード線１５１を備えている。リード線１５１の一端部はコモンモードフィルタ３００の周囲３０１にまで延出することで、外部と電気的に接続する働きをしている。そしてリード線１５１の他端部は側部絶縁層１０のコンタクトホールを介して、第４のコイル９１の内端部９２に接続されている。また、第１のコイル３１の外端部３３は、コモンモードフィルタ３００の周囲３０１に延出して隣接し、コモンモードフィルタ３００の周囲３０１に隣接した対応する電極に接続されている。第３のコイル７１の外端部７３もまた、コモンモードフィルタ３００の周囲３０１に延出して隣接し、コモンモードフィルタ３００の周囲３０１に隣接した対応する電極に接続されている。
【００５１】
第１のリード層１４、第１のコイル層３、第２のコイル層５、第３のコイル層７、第４のコイル層９及び第２のリード層１５の材料は、銀、パラジウム、アルミニウム、クロム、ニッケル、チタン、金、銅、白金又はその合金を含むことができる。また、第１のリード層１４、第１のコイル層３、第２のコイル層５、第３のコイル層７、第４のコイル層９及び第２のリード層１５は真空成膜工程（蒸着又はスパッタリング）又はめっき工程で製造することができる。
【００５２】
図３に示す接続方式以外に、第１のコイル３１、第２のコイル５１、第３のコイル７１、第４のコイル９１には別の接続方式があってもよい。他の実施例において、第１のコイル３１の外端部３３と第３のコイル層７の外端部７３とが接続されて、第１のコイル３１と第３のコイル層７とを直列接続している。第２のコイル５１の内端部５２と第４のコイル層９の内端部９２とが接続されて、第２のコイル５１と第４のコイル層９とを直列接続している。また、第１のコイル３１の内端部３２及び第３のコイル７１の内端部７２にそれぞれリード線が接続されて、対外的な電気的接続をしている。
【００５３】
図４には、本発明の他の実施例におけるコモンモードフィルタ４００の断面概略図を示す。図４を参照する。コモンモードフィルタ４００は第１の材料層１と、外部絶縁層３５と、第１のリード層１４’と、側部絶縁層２と、第１のコイル層３と、第１の絶縁層４と、第２のコイル層５と、第２の絶縁層６と、第３のコイル層７と、第３の絶縁層８と、第４のコイル層９と、側部絶縁層１０と、第２のリード層１５’と、外部絶縁層３６と、第２の材料層１１とを備えている。
【００５４】
外部絶縁層３５は第１の材料層１上に形成されている。第１のリード層１４’は外部絶縁層３５上に形成されている。側部絶縁層２は第１のリード層１４’を被覆している。第１のコイル層３は側部絶縁層２上に形成されている。第１の絶縁層４は第１のコイル層３を被覆している。第２のコイル層５は第１の絶縁層４上に形成されている。第２の絶縁層６は第２のコイル層５を被覆している。第３のコイル層７は第２の絶縁層６上に形成されている。第３の絶縁層８は第３のコイル層７を被覆している。第４のコイル層９は第３の絶縁層８上に形成されている。側部絶縁層１０は第４のコイル層９を被覆している。第２のリード層１５’は側部絶縁層１０上に形成されている。外部絶縁層３６は第２のリード層１５’を被覆している。第２の材料層１１は外部絶縁層３６上に配設されている。
【００５５】
一実施例において、第１の絶縁層４、第２の絶縁層６及び第３の絶縁層８のうちの少なくとも一つが、例えば鉄磁性材料といった磁性材料を含んでいる。一実施例において、磁性材料はニッケル亜鉛フェライト又はマンガン亜鉛フェライトを含むことができる。
【００５６】
第１のコイル層３は第１のコイル３１を備えており、第１のコイル３１は内端部３２と外端部３３とを有している。第２のコイル層５は第２のコイル５１を備えており、第２のコイル５１は内端部５２と外端部５３とを有している。第３のコイル層７は第３のコイル７１を備えており、第３のコイル７１は内端部７２と外端部７３とを有している。第４のコイル層９は第４のコイル９１を備えており、第４のコイル９１は内端部９２と外端部９３とを有している。
【００５７】
第１の絶縁層４はコンタクトホール４２を備えており、第２の絶縁層６はコンタクトホール６４を備えており、導電性スタッド１８はコンタクトホール４２及びコンタクトホール６４を貫通して、第１のコイル３１の外端部３３と第３のコイル７１の外端部７３とを接続して、第１のコイル３１と第３のコイル７１とを直列接続している。第２の絶縁層６は更にコンタクトホール６５を備えており、第３の絶縁層８はコンタクトホール８３を備えており、導電性スタッド１９はコンタクトホール６５及びコンタクトホール８３を貫通して、第２のコイル５１の外端部５３と第４のコイル９１の外端部９３とを接続して、第２のコイル５１と第４のコイル９１とを直列接続している。
【００５８】
導電性スタッド１８及び１９は真空成膜工程（蒸着又はスパッタリング）又はめっき工程で製造することができる。導電性スタッド１８及び１９は、銀、パラジウム、アルミニウム、クロム、ニッケル、チタン、金、銅、白金又はその合金を含むことができる。
【００５９】
第１のリード層１４’はリード線１４１と１４２とを備えている。リード線１４１の一端部はコモンモードフィルタ４００の周囲３０１にまで延出することで、外部と電気的に接続する働きをしている。そしてリード線１４１の他端部は側部絶縁層２及び第１の絶縁層４上のコンタクトホールを介して、第２のコイル５１の内端部５２に接続されている。リード線１４２の一端部はコモンモードフィルタ４００の周囲３０１にまで延出して、外部と電気的に接続する働きをしている。そしてリード線１４２の他端部は側部絶縁層２上のコンタクトホールを介して、第１のコイル３１の内端部３２に接続されている。第２のリード層１５’は二つのリード線１５１と１５２とを備えている。リード線１５１の一端部はコモンモードフィルタ４００の周囲３０１にまで延出して、外部と電気的に接続する働きをしている。そしてリード線１５１の他端部は側部絶縁層１０及び第３の絶縁層８のコンタクトホールを介して、第３のコイル７１の内端部７２に接続されている。リード線１５２の一端部はコモンモードフィルタ４００の周囲３０１にまで延出して、外部と電気的に接続する働きをしている。そしてリード線１５２の他端部は側部絶縁層１０のコンタクトホールを介して、第４のコイル９１の内端部９２に接続されている。
【００６０】
第１のリード層１４’、第１のコイル層３、第２のコイル層５、第３のコイル層７、第４のコイル層９及び第２のリード層１５’の材料は、銀、パラジウム、アルミニウム、クロム、ニッケル、チタン、金、銅、白金又はその合金を含むことができる。また、第１のリード層１４’、第１のコイル層３、第２のコイル層５、第３のコイル層７、第４のコイル層９及び第２のリード層１５’は真空成膜工程（蒸着又はスパッタリング）又はめっき工程で製造することができる。
【００６１】
一実施例において、第１の材料層１及び第２の材料層１１の少なくとも一方が磁性材料を含んでいる。
【００６２】
一実施例において、第１の材料層１及び第２の材料層１１の少なくとも一方がヘテロ積層基板を備えている。
【００６３】
図５には、本発明の他の実施例におけるコモンモードフィルタ５００の断面概略図を示す。図５を参照する。コモンモードフィルタ５００は第１の材料層１と、第１のコイル層３と、第１の絶縁層４と、第２のコイル層５と、第２の絶縁層６と、第３のコイル層７’と、第３の絶縁層８と、第４のコイル層９’と、第４の絶縁層２５と、第５のコイル層２１と、第５の絶縁層２６と、第６のコイル層２２と、第６の絶縁層２７と、リード層２３と、第７の絶縁層２８と、リード層２４と、第２の材料層１１を備えており、第１の絶縁層４は第１のコイル層３と第２のコイル層５とを電気的に隔離しており、第２の絶縁層６は第２のコイル層５と第３のコイル層７’とを電気的に隔離しており、第３の絶縁層８は第３のコイル層７’と第４のコイル層９’とを電気的に隔離している。第４の絶縁層２５は第４のコイル層９’と第５のコイル層２１とを電気的に隔離している。第５の絶縁層２６は第５のコイル層２１と第６のコイル層２２とを電気的に隔離している。第６の絶縁層２７は第６のコイル層２２とリード層２３とを電気的に隔離している。第７の絶縁層２８はリード層２３とリード層２４とを電気的に隔離している。
【００６４】
一実施例において第１の絶縁層４、第２の絶縁層６、第３の絶縁層８、第４の絶縁層２５、第５の絶縁層２６、第６の絶縁層２７及び第７の絶縁層２８の材料はポリイミド、エポキシ樹脂又はベンゾシクロブテン樹脂（ＢＣＢ）を含むことができる。第１の絶縁層４、第２の絶縁層６、第３の絶縁層８、第４の絶縁層２５、第５の絶縁層２６、第６の絶縁層２７及び第７の絶縁層２８のうちの少なくとも一つが、例えば鉄磁性材料といった磁性材料を含んでいる。一実施例において、磁性材料はニッケル亜鉛フェライト又はマンガン亜鉛フェライトを含むことができる。
【００６５】
第１のコイル層３は第１のコイル３１を備えており、第２のコイル層５は第２のコイル５１を備えており、第３のコイル層７’は第３のコイル７１を備えており、第４のコイル層９’は第４のコイル９１を備えており、第５のコイル層２１は第５のコイル２１１を備えており、そして第６のコイル層２２は第６のコイル２２１を備えている。第１のコイル層３、第２のコイル層５、第３のコイル層７’、第４のコイル層９’、第５のコイル層２１及び第６のコイル層２２は重なって設けられており、このうち第１のコイル３１、第３のコイル７１及び第５のコイル２１１は直列接続されている。そして第２のコイル５１と、第４のコイル９１と第６のコイル２２１とは直列接続されている。また、第１のコイル３１、第２のコイル５１と、第３のコイル７１、第４のコイル９１、第５のコイル２１１及び第６のコイル２２１は第１の材料層１と第２の材料層１１との間に配設されている。
【００６６】
実施例において、側部絶縁層２は第１の材料層１上に形成することができる。第１のコイル層３は側部絶縁層２上に形成されている。また、側部絶縁層１０を形成することができ、リード層２４を被覆している。第２の材料層１１はリード層２４上に配設されている。
【００６７】
側部絶縁層２及び側部絶縁層１０の材料はポリイミド、エポキシ樹脂又はベンゾシクロブテン樹脂を含み、その製造方法はスピンコーティング工程、浸漬工程、スプレー工程、スクリーン印刷工程又は薄膜形成工程などを含むことができる。
【００６８】
導電性スタッド１２は第１の絶縁層４のコンタクトホール４１及び第２の絶縁層６のコンタクトホール６１を貫通して、第１のコイル３１の内端部３２と第３のコイル７１の内端部７２とを接続している。第１のコイル３１の外端部３３は電極３４に接続されている。
【００６９】
導電性スタッド１３は第２の絶縁層６のコンタクトホール６２及び第３の絶縁層８のコンタクトホール８１を貫通して、第２のコイル５１の内端部５２と第４のコイル９１の内端部９２とを接続している。第２のコイル５１の外端部５３は電極５４に接続されている。
【００７０】
導電性スタッド７５は第３の絶縁層８のコンタクトホール８２及び第４の絶縁層２５のコンタクトホール２５２を貫通して、第３のコイル７１の外端部７３と第５のコイル２１１の外端部２１３とを接続している。
【００７１】
導電性スタッド９５は第４の絶縁層２５のコンタクトホール２５１及び第５の絶縁層２６のコンタクトホール２６１を貫通して、第４のコイル９１の外端部９３と第６のコイル２２１の外端部２２３とを接続している。
【００７２】
導電性スタッド２１４は第５の絶縁層２６のコンタクトホール２６２及び第６の絶縁層２７のコンタクトホール２７１を貫通して、第５のコイル２１１の内端部２１２とリード層２３のリード線２３１の一端とを接続している。リード線２３１の他端は電極に接続されている。
【００７３】
導電性スタッド２２４は第６の絶縁層２７のコンタクトホール２７２及び第７の絶縁層２８のコンタクトホール２８１を貫通して、第６のコイル２２１の内端部２２２とリード層２４のリード線２４１の一端とを接続している。リード線２４１の他端は電極に接続されている。
【００７４】
第１のコイル層３、第２のコイル層５、第３のコイル層７’、第４のコイル層９’、第５のコイル層２１、第６のコイル層２２、リード層２３及びリード層２４の材料は、銀、パラジウム、アルミニウム、クロム、ニッケル、チタン、金、銅、白金又はその合金を含むことができ、真空成膜工程（蒸着又はスパッタリング）又はめっき工程で製造することができる。
【００７５】
導電性スタッド１２、１３、７５、９５、２１４及び２２４の材料は、銀、パラジウム、アルミニウム、クロム、ニッケル、チタン、金、銅、白金又はその合金を含むことができ、真空成膜工程（蒸着又はスパッタリング）又はめっき工程で製造することができる。
【００７６】
一実施例において、第１の材料層１及び第２の材料層１１の少なくとも一方が磁性材料を含んでいる。
【００７７】
一実施例において、第１の材料層１及び第２の材料層１１の少なくとも一方がヘテロ積層基板を備えている。
【００７８】
図６は他の実施例におけるコモンモードフィルタ１００’の一部の平面図である。図７は他の実施例におけるコモンモードフィルタ１００’の断面図である。図６及び図７を参照する。コモンモードフィルタ１００’は第１のコイル層３と、第２のコイル層５と、第３のコイル層７と、第４のコイル層９と、磁性材料部（６０１、６０２、６０３又は６０４）とを備えている。第１のコイル層３は第１のコイル３１を備えており、第２のコイル層５は第２のコイル５１を備えており、第３のコイル層７は第３のコイル７１を備えており、第４のコイル層９は第４のコイル９１を備えている。第２のコイル５１は第１のコイル３１と第３のコイル７１との間に配設されており、第３のコイル７１は第２のコイル５１と第４のコイル９１との間に配設されている。第１のコイル３１と第３のコイル７１とは直列接続されており、そして第２のコイル５１と第４のコイル９１とは直列接続されている。直列接続されている第１のコイル３１及び第３のコイル７１と、直列接続されている第２のコイル５１及び第４のコイル９１は電磁的に接続されているので、直列接続されている第１のコイル３１及び第３のコイル７１と、直列接続されている第２のコイル５１及び第４のコイル９１とにより、コモンモードノイズを除去できる。磁性材料部（６０１、６０２、６０３又は６０４）は第１のコイル３１、第２のコイル５１、第３のコイル７１及び第４のコイル９１に貫設されているため、コモンモードフィルタ１００’は優れたコモンモードインピーダンス値を備えることができる。
【００７９】
一実施例において、コモンモードフィルタ１００’は磁性材料部６０１を備えており、このうち第１のコイル３１、第２のコイル５１、第３のコイル７１及び第４のコイル９１は磁性材料部６０１を囲むように配設されている。
【００８０】
一実施例において、コモンモードフィルタ１００’は磁性材料部６０１を備えており、前記磁性材料部６０１は第１のコイル３１、第２のコイル５１、第３のコイル７１及び第４のコイル９１のコイル中心箇所に貫設されている。
【００８１】
一実施例において、コモンモードフィルタ１００’は磁性材料部（６０２、６０３又は６０４）を備えており、このうち磁性材料部（６０２、６０３又は６０４）は第１のコイル３１、第２のコイル５１、第３のコイル７１及び第４のコイル９１中の巻線隙間（ｉｎｔｅｒ−ｔｕｒｎ ｓｐａｃｅｓ）９６に貫設されている。
【００８２】
一実施例において、コモンモードフィルタ１００’は磁性材料部６０１及び少なくとも一つの磁性材料部（６０２、６０３又は６０４）を備えている。
【００８３】
図８ないし図１０は断面概略図であって、本発明の一実施例のコモンモードフィルタ１００’の製造工程手順を示している。図１０の実施例のコモンモードフィルタ１００’は図１の実施例のコモンモードフィルタ１００に似ているが、コモンモードフィルタ１００’は磁性材料部６０１を備えている点が異なる。したがって、コモンモードフィルタ１００’内のコイル層の構造及びコイル間の接続方式は図１を参照することができる。図１及び図８を参照する。まず材料層１を準備する。一実施例において、材料層１は絶縁材料層とすることができる。一実施例において、材料層１は磁性材料層とすることができる。一実施例において、材料層１は図１３ないし図１５に示すヘテロ積層基板とすることができ、このうちヘテロ積層基板は絶縁材料層と磁性材料層とを備えている。絶縁材料層及び磁性材料層は同時焼成接合とするか、又は接着剤接合とすることができる。絶縁材料層及び磁性材料層はそれぞれ厚膜印刷で形成しても良い。磁性材料層はニッケル亜鉛フェライト又はマンガン亜鉛フェライトを含むことができる。磁性材料層は高分子材料および磁性粉末を含むことができる。高分子材料はポリイミド、エポキシ樹脂又はベンゾシクロブテン樹脂を含むことができる。磁性粉末はニッケル亜鉛フェライト又はマンガン亜鉛フェライトを含んでいる。絶縁材料層は酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、ガラス又は石英を含むことができる。
【００８４】
その後、側部絶縁層２を第１の材料層１上に形成する。側部絶縁層２の材料は高分子材料を含むことができ、これにはポリイミド、エポキシ樹脂又はベンゾシクロブテン樹脂が含まれる。側部絶縁層２の製造方法はスピンコーティング工程、浸漬工程、スプレー工程、スクリーン印刷工程又は薄膜形成工程などを含むことができる。
【００８５】
さらに図１及び図８を参照する。側部絶縁層２上には第１のコイル層３が形成されており、このうち第１のコイル層３は第１のコイル３１と電極３４（図１）とを備えており、このうち第１のコイル３１の外端部３３は電極３４に接続されている（図１）。第１のコイル層３の製造ではまず真空成膜工程（蒸着又はスパッタリング）又はめっき工程などで金属層を堆積することができる。その後、マイクロリソグラフィ工程で、前記金属層をパターンニングする。金属層は、銀、パラジウム、アルミニウム、クロム、ニッケル、チタン、金、銅、白金又はその合金を含むことができる。
【００８６】
特に、第１のコイル３１はフレームめっき工程により形成することができる。フレームめっき工程では、まず電極層（ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ ｌａｙｅｒ）を側部絶縁層２上に形成する。電極層はスパッタリング又は蒸着工程により形成することができる。クロム膜又はチタン膜を電極層下に形成して、接着性を向上させることができる。次に、マイクロリソグラフィ工程により、コイルパターンを有するマスク層を形成する。続いて、めっき工程を行って、めっき層を形成する。その後、マスク層を剥離（ｐｅｅｌ ｏｆｆ）する。その後、エッチング工程で、電極層を除去すると、第１のコイル３１が形成することができる。
【００８７】
その後、第１の絶縁層４を形成して、第１のコイル層３を被覆する。第１の絶縁層４は高分子材料を含むことができ、これにはポリイミド、エポキシ樹脂又はベンゾシクロブテン樹脂が含まれる。第１の絶縁層４の製造方法はスピンコーティング工程、浸漬工程、スプレー工程、スクリーン印刷工程又は薄膜形成工程などを含むことができる。
【００８８】
この後、第１の絶縁層４上に第２のコイル層５を形成するが、このうち第２のコイル層５は第２のコイル５１と電極５４とを備えており（図１）、このうち第２のコイル５１の外端部５３は電極５４に接続されている（図１）。第２のコイル層５の材料は、銀、パラジウム、アルミニウム、クロム、ニッケル、チタン、金、銅、白金又はその合金を含む金属を含む。第２のコイル層５の金属材料は、真空成膜工程（蒸着又はスパッタリング）又はめっき工程などで堆積することができる。第２のコイル層５のパターンニングはマイクロリソグラフィ工程を用いることができる。一実施例において、第２のコイル５１は前記したフレームめっき工程で製造してもよい。
【００８９】
その後、第２の絶縁層６を形成して、第２のコイル層５を被覆する。第２の絶縁層６は高分子材料を含むことができ、これにはポリイミド、エポキシ樹脂又はベンゾシクロブテン樹脂が含まれる。第２の絶縁層６の製造方法はスピンコーティング工程、浸漬工程、スプレー工程、スクリーン印刷工程又は薄膜形成工程などを含むことができる。
【００９０】
続いて図１を参照する。第１のコイル３１の内端部３２上に、マイクロリソグラフィ工程でコンタクトホール４１及び６１を形成して、第１のコイル３１の内端部３２を露出させる。その後、真空成膜工程（蒸着又はスパッタリング）又はめっき工程などでコンタクトホール４１及び６１内に金属を堆積させて、導電性スタッド１２を形成する。
【００９１】
再度図１及び図８を参照する。第２の絶縁層６上に第３のコイル層７を形成する。第３のコイル層７は第３のコイル７１と、電極７４とを備えており（図１）、このうち第３のコイル７１の外端部７３は電極７４に接続されており（図１）、そして第３のコイル７１の内端部７２は導電性スタッド１２に接続されている。第３のコイル層７の材料は、銀、パラジウム、アルミニウム、クロム、ニッケル、チタン、金、銅、白金又はその合金を含む金属を含む。第３のコイル層７の金属材料は、真空成膜工程（蒸着又はスパッタリング）又はめっき工程などで堆積することができる。第３のコイル層７のパターンニングはマイクロリソグラフィ工程を用いることができる。一実施例において、第３のコイル７１は前記したフレームめっき工程で製造してもよい。
【００９２】
この後、第３の絶縁層８を形成して、第３のコイル層７を被覆する。第３の絶縁層８は高分子材料を含むことができ、これにはポリイミド、エポキシ樹脂又はベンゾシクロブテン樹脂が含まれる。第３の絶縁層８の製造方法はスピンコーティング工程、浸漬工程、スプレー工程、スクリーン印刷工程又は薄膜形成工程などを含むことができる。
【００９３】
続いて、マイクロリソグラフィ工程でコンタクトホール６２及び８１を形成して、第２のコイル５１の内端部５２を露出させる。その後、真空成膜工程（蒸着又はスパッタリング）又はめっき工程などでコンタクトホール６２及び８１内に金属を堆積させて、導電性スタッド１３を形成する。
【００９４】
この後、第３の絶縁層８上に、第４のコイル層９を形成する。第４のコイル層９は第４のコイル９１と電極９４とを備えており（図１）、このうち第４のコイル９１の外端部９３は電極９４に接続されており（図１）、そして第４のコイル９１の内端部９２は導電性スタッド１３に接続されている。第４のコイル層９の材料は、銀、パラジウム、アルミニウム、クロム、ニッケル、チタン、金、銅、白金又はその合金を含む金属を含む。第４のコイル層９の金属材料は、真空成膜工程（蒸着又はスパッタリング）又はめっき工程などで堆積することができる。第４のコイル層９のパターンニングはマイクロリソグラフィ工程を用いることができる。一実施例において、第４のコイル９１は前記したフレームめっき工程で製造してもよい。
【００９５】
その後、側部絶縁層１０を形成して、第４のコイル層９を被覆する。側部絶縁層１０はポリイミド、エポキシ樹脂又はベンゾシクロブテン樹脂を含む高分子材料を含むことができる。
【００９６】
さらに、第１の絶縁層４、第２の絶縁層６及び第３の絶縁層８に貫設される凹部６０５を形成して、側部絶縁層２を露出させる。一実施例において、凹部６０５は第１のコイル層３を支持する表面を露出させることができる。他の実施例において、凹部６０５は第１のコイル層３を支持する表面を貫通することができる。
【００９７】
図９を参照する。磁性材料６０６は側部絶縁層１０を被覆して、凹部６０５を充填する。磁性材料６０６は樹脂を含むことができる。磁性材料６０６は印刷方式で側部絶縁層１０を覆うことができる。続いて、磁性材料６０６を硬化させる。
【００９８】
硬化後の磁性材料６０６は研磨（ｐｏｌｉｓｈｅｄ）により、所望部分を残す。一実施例において、側部絶縁層１０上の硬化後の磁性材料６０６は除去することができる。他の実施例において、側部絶縁層１０上の硬化後の磁性材料６０６は側部絶縁層１０を被覆する薄膜層として研磨することができる。
【００９９】
図１０を参照する。側部絶縁層１０上に材料層１１を配設する。一実施例において、材料層１１はポリイミド、エポキシ樹脂又はベンゾシクロブテン樹脂を含む絶縁材料層とすることができる。一実施例において、材料層１１は磁性基板を備えることができる。
【０１００】
一実施例において、材料層１１は接着層７０１により、側部絶縁層１０上に接着することができる。
【０１０１】
本願におけるその他実施例の磁性材料部を備えるコモンモードフィルタは図８ないし図１０に示す製造工程で完成することができるので、ここでは詳細な製造工程の説明は省略する。
【０１０２】
図１１には、本発明の一実施例における多層らせん構造のコモンモードフィルタのインピーダンス値と周波数（ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）との関係グラフを示す。図１２には、公知のコモンモードフィルタのインピーダンス値と周波数との関係グラフを示す。図１１と図１２に示すグラフを比較すると、多層らせん構造のコモンモードフィルタは最大インピーダンス値が高く、そして同じインピーダンス値においては、周波数帯域が広いことが分かる。したがって、多層らせん構造を備えたコモンモードフィルタは、確実に従来のコモンモードフィルタよりも優れた性能を示している。さらには、多層らせん構造のコモンモードフィルタの絶縁層中に磁性材料を添加したことで、コモンモードフィルタのコモンモードインピーダンスを高めて、コモンモードフィルタのインダクタンス値を増進することができる。また、多層らせん構造のコモンモードフィルタに磁性材料部が埋設されることで、コモンモードフィルタのコモンモードインピーダンスを高めて、コモンモードフィルタのインダクタンス値を増進することができる。
【０１０３】
本発明の技術内容及び技術的特徴は上記したとおりであるが、本発明の技術分野における当業者であれば、別紙の特許請求の範囲で限定する本発明の技術的思想及び範囲を離れることなく、本発明の教示及び開示は各種の置換及び付加が可能であることを理解するはずである。例えば、上記した数多くの製造工程は異なる方法で実施、又はその他工程に変更するか、又は上記した二種類を組み合わせることも可能である。
【０１０４】
また、本願の権利範囲は上記開示した特定の実施例の製造工程、設備、製造、物質の成分、装置、方法又は手順に限定されるものではない。本発明の技術分野の当業者であれば、本発明で教示及び開示する製造工程、設備、製造、物質の成分、装置、方法又は手順に基づき、現時点で存在するもの、又は後日開発されるものに関わらず、それが本願の実施例に開示するものと実質的に同一の方式で実質的に同一の効果が実現され、そして実質的に同一の結果が達成されるものも、本発明に使用できるものであることを理解するはずである。したがって、別紙の特許請求の範囲はこの類の製造工程、設備、製造、物質の成分、装置、方法又は手順を含むよう用いられる。
【符号の説明】
【０１０５】
１  第１の材料層
２  側部絶縁層
３  第１のコイル層
４  第１の絶縁層
５  第２のコイル層
６  第２の絶縁層
７、７’  第３のコイル層
８  第３の絶縁層
９、９’  第４のコイル層
１０  側部絶縁層
１１  第２の材料層
１２、１３、１７、１８、１９、７５、９５、２１４、２２４  導電性スタッド
１４、１４’  第１のリード層
１５、１５’  第２のリード層
２１  第５のコイル層
２２  第６のコイル層
２３、２４、２３１、２４１  リード層
２５  第４の絶縁層
２６  第５の絶縁層
２７  第６の絶縁層
２８  第７の絶縁層
３１  第１のコイル
３２、５２、７２、９２、２１２、２２２  内端部
３３、５３、７３、９３、２１３、２２３  外端部
３４、５４、７４、９４  電極
３５、３６  外部絶縁層
４１、４２、６１〜６５、８１〜８３、２５１、２５２、２６１、２６２、２７１、２７２、２８１  コンタクトホール
５１  第２のコイル
７１  第３のコイル
９１  第４のコイル
９６  巻線隙間
１００、１００’  コモンモードフィルタ
１１１  絶縁材料層
１１２、１１２’、１１２’’  磁性材料層
１４１、１４２、１５１、１５２、２３１、２４１  リード線
２１１  第５のコイル
２２１  第６のコイル
３００  コモンモードフィルタ
３０１  周囲
４００  コモンモードフィルタ
５００  コモンモードフィルタ
６０１〜６０４  磁性材料部
６０５  凹部
６０６  磁性材料
７０１  接着層
１１２１’、１１２１’’  磁性材料ブロック
【図１】
0005600095.tif 000002
【図２】
0005600095.tif 000003
【図３】
0005600095.tif 000004
【図４】
0005600095.tif 000005
【図５】
0005600095.tif 000006
【図６】
0005600095.tif 000007
【図７】
0005600095.tif 000008
【図８】
0005600095.tif 000009
【図９】
0005600095.tif 000010
【図１０】
0005600095.tif 000011
【図１１】
0005600095.tif 000012
【図１２】
0005600095.tif 000013
【図１３】
0005600095.tif 000014
【図１４】
0005600095.tif 000015
【図１５】
0005600095.tif 000016