(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
エチレンと１−オクテンを含んでなる混合物を重合条件下で金属錯体、共触媒および重合調整剤を含んでなる触媒組成物と接触させることにより、コポリマーを形成するエチレンと１−オクテンを共重合させる方法であって、
この金属錯体がチタンの３−アミノ−置換インデン−１−イル錯体を含んでなり；
この共触媒がトリス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素またはテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートのトリアルキルアンモニウム塩を含んでなり；そして
この重合調整剤がｔ−ブタノールとトリオクチルアルミニウムとの１：１モルの反応生成物；２，６−ジフェニルフェノール、２，６−ジ（ｔ−ブチル）−４−メチルフェノール、フェノールおよびｔ−ブチルジ（メチル）ヒドロキシシランとトリイソブチルアルミニウムとの１：１モルの反応生成物；ジ（ｎ−ペンチル）アミンとトリイソブチルアルミニウムとの２：１モルの反応生成物；２，６−ジフェニルフェノールおよびｔ−ブチルジ（メチル）ヒドロキシシランとトリエチルアルミニウムとの２：１モルの反応生成物；２，６−ジフェニルフェノール、２，６−ジ（ｔ−ブチル）−４−メチルフェノール、フェノール、ｔ−ブタノール、１−ドデカノール、ｔ−ブチルジ（メチル）ヒドロキシシランおよびｐ−メトキシフェノールとトリオクチルアルミニウムとの１：１モルの反応生成物；および２，６−ジフェニルフェノール、２，６−ジ（ｔ−ブチル）−４−メチルフェノールおよびｔ−ブチルジ（メチル）ヒドロキシシランとトリ（オクチル）アルミニウムとの２：１モルの反応生成物からなる群から選択される化合物を含んでなることを特徴とする方法。
【請求項２】
この金属錯体が（Ｎ−１，１−ジメチルエチル）−１，１−ジメチル−１−（（１，２，３，３ａ，７ａ−η）−３−（テトラヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）−１Η−インデン−１−イル）シラナミナト−（２−）−Ｎ−）−チタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエンまたは（Ｎ−１，１−ジメチルエチル）−１，１−（４−ｎ−ブチルフェニル）−１−（（１，２，３，３ａ，７ａ−η）−３−（１，３−ジヒドロ−２Ｈ−イソインドール−２−イル）−１Ｈ−インデン−１−イル）シラナミナト−（２−）−Ｎ−）−ジメチルチタンを含んでなり、そしてこの重合調整剤が（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）ジイソブチルアルミニウムまたはビス（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）オクチルアルミニウムを含んでなる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
エチレンと１−オクテンを含んでなる混合物を重合条件下で金属錯体、共触媒および重合調整剤を含んでなる触媒組成物と接触させることにより、コポリマーを形成するエチレンと１−オクテンを共重合させる方法であって、
この金属錯体がチタンのｓ−インダセニルシラナミナト錯体を含んでなり；
この共触媒がトリス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素またはテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートのトリアルキルアンモニウム塩を含んでなり；そして
この重合調整剤がフェニルナフチルアミン、トリエチルヒドロキシシラン、ｎ−ブタノール、または安息香酸とトリイソブチルアルミニウムとの１：１モルの反応生成物；２，６−ジフェニルフェノール、４−メチル−２，６−ジ（ｔ−ブチル）フェノール、トリエチルヒドロキシシラン、ｎ−ブタノールまたは２−ヒドロキシメチルフランとトリオクチルアルミニウムとの反応生成物；およびフェノールまたは２−（ヒドロキシメチル）ピリジンとジブチルマグネシウムとの反応生成物からなる群から選択される化合物を含んでなることを特徴とする方法。
【請求項４】
この金属錯体が［Ｎ−（１，１−ジメチルエチル）−１，１−ジメチル−［１，２，３，３ａ，８ａ−η）−１，５，６，７−テトラヒドロ−２−メチル−ｓ−インダセン−１−イル］シラナミナト（２−）−Ｎ］チタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエンを含んでなり、そしてこの重合調整剤が（フェニル（ナフチル）アミノ）ジイソブチルアルミニウム、（トリエチルシロキシ）ジイソブチルアルミニウム、（ｎ−ブトキシ）−ジイソブチルアルミニウム、ジイソブチルアルミニウムベンゾエート；２，６−ジフェニルフェノキシ（ジオクチル）アルミニウム、４−メチル−２，６−ジｔ−ブチルフェノキシ）ジオクチルアルミニウム、（トリエチルシロキシ）ジオクチルアルミニウム、（ｎ−ブトキシ）−ジオクチルアルミニウム、（２−フラニルメトキシ）ジオクチルアルミニウム；フェノキシ−ｎ−ブチルマグネシウムまたは（２−ピリジニルメトキシ）−ｎ−ブチルマグネシウムを含んでなる、請求項３に記載の方法。 
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（クロスリファレンスの記述）
この出願は、２００４年６月１６日出願の米国特許仮出願番号６０／５８０，３３０の
利益を主張する。
【０００２】
本発明は特に重合工程で使用するための新しい触媒組成物の研究分野に関する。特に、
本発明は、遷移金属錯体、共触媒および１つまたはそれ以上の重合調整剤を含んでなる組
成物を使用する均一および担持された均一触媒反応を行う装置および方法；ならびにこの
ような組成物のライブラリーを迅速に作り出し、そして試験するための技術に関する。本
発明は、また、オレフィン重合において改善された性質を有するある触媒組成物の使用に
関する。
【背景技術】
【０００３】
生物的、有機および無機合成および研究での使用に大きな数の化合物を迅速にスクリー
ニングするのに、コンビナトリアルおよび他のハイスループット技術が使用されてきた。
コンビナトリアル材料科学は、化学的に多様な化合物あるいは材料のコレクションを作り
出すための方法と、そして望ましい性能の特性および性質を求めて化合物または材料のこ
のライブラリーを迅速に試験あるいはスクリーニングするための方法を一般に指す。この
ようなコンビナトリアル法の用途の領域は、高温超伝導体、磁気抵抗材料、ルミネッセン
ス化合物および触媒としての使用のための無機化合物の発見を含むものであった。例とし
て、米国特許第５，７１２，１７１号、第５，７７６，３５９号、第５，９８５，３５６
号、第６，００４，６１７号、第６，０３０，９１７号、第６，０４５，６７１号、第６
，２４８，５４０号、第６，３２６，０９０号、第６，３４６，２９０号および第６，６
２７，５７１号、ＥＰ−Ａ−９７８，４９９およびＷＯ００／４０３３１を含む。
【０００４】
前出の特許リファレンスに加えて、Senkan, Nature, vol.394, pp.350-353 (July 23, 
1998); Burgess et al., Angew. Chem. Int. Ed. Eng.. 1996, 35, No.2, pp.220-222; M
aier et al., Angew. Chem. Int. Ed. Eng., 1998, 37, No. 19, pp.2644-2647; Reetz e
t al., Angew. Chem. Int. Ed. Eng., 1998, 37, No. 19, pp.2647-2650; Angew.Chem.In
t. Ed.Eng., 1998, 37, No. 17, pp.2333-2336; Morken et al., Science, vol. 280, pp
. 267-270 (April 10, 1998); Gilbertson et al., Tetrahedron Letters, vol. 37, no.
36, pp. 6475-6478 (1996), and Boussie et al., JACS. 2003, 125, 4306-4317を含む、
多数の学術論文もコンビナトリアル技術を開示した。
【０００５】
ＷＯ００／４０３３１においては、元素周期律表の３−１５族の金属と１つまたはそれ
以上の配位子から形成される金属化合物を使用するオレフィン重合触媒を含む均一および
担持された均一な配位重合触媒を評価するためのコンビナトリアル装置および方法が開示
されている。
【０００６】
前出および他のリファレンスはコンビナトリアル材料試験の技術を進歩させたが、なお
更なる改善と進歩が所望される。特に、候補材料をスクリーニングするための更に迅速な
技術が望まれる。更には、コンビナトリアル技術は単純な金属錯体／共触媒組み合わせ物
の発見に適用されてきたが、重合調整剤を含む更に複雑な組成物がコンビナトリアル技術
に以前にかけられたことはない。特に、コンビナトリアル法を適用して、重合調整剤を含
んでなる触媒組成物を迅速にスクリーニングし、評価する必要性がなお存在する。したが
って、オレフィン重合での使用に特に合わされた重合調整剤含有組成物の迅速かつ信頼性
のある発見および展開のためのコンビナトリアル法および装置に対する必要性がなお存在
する。
【０００７】
様々の遷移金属錯体とこれらを含有する触媒組成物が当分野で以前に知られている。と
りわけ、これらの錯体およびこれらを作製する方法が米国特許第５，７０３，１８７号、
第６．０１３，８１９号、第５，１８９，１９２号、第５，５３２，３９４号、第５，４
７０，９９３号、第５，４８６，６３２号、第５，７７０，５３８号、第５，４９５，０
３６号、第６，０１５，８６８号、第６，１５３，７７６号、第６，１０７，４２１号、
第５，８６６，７０４号、第６，２６８，４４４号、第６，０３４，０２２号、第６，１
５０，２９７号、第６，５１５，１５５号、第６，６１３，９２１号、第５，９７２，８
２２号、第５，８５４，３６２号、第５，８９２，０７６号、第５，８１７，８４９号、
第６，０８４，１１５号、第６，１０３，６５７号および第６，２８４，９０５号、２０
０３ＵＳ０２０４０１７、２００２ＵＳ０１４２９１２、ＷＯ２０００  ０２０３７７、
ＷＯ２０００／４０３３１およびＷＯ２００２  ０３８６２８そのほかに記載されている
。
【０００８】
様々の共触媒、活性化剤および活性化技術は前出の金属錯体との組み合わせでの使用に
当分野で同様に知られている。共触媒が開示されているリファレンスの例として、特許お
よび刊行物の前出のリストならびに米国特許第５，０６４，８０２号、第５，３２１，１
０６号、第５，７２１，１８５号、第５，３７２，６８２号、第５，７８３，５１２号、
第５，９１９，９８３号、第６，３４４，５２９号、第６，３９５，６７１号、第６，２
１４，７６０号そのほかを含む。
【０００９】
オレフィン重合において遷移金属錯体および共触媒との組み合わせでの使用に以前に開
示された既知の化合物は、米国特許第５，４５３，４１０号、第５，７２１，１８３号、
第６，０７４，９７７号、第６，０１７，８４２号、第６，２１４，７６０号、第６，３
８７，８３８号そのほかに記載されている、アルモキサン、アルミニウムアルキルおよび
金属アルコキシあるいはアミド化合物を含む。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、特に重合調整剤を含んでなる触媒組成物を使用する均一および担持された均
一付加重合で使用されるように合わされた、ライブラリーのコンビナトリアル合成および
これらのコンビナトリアルライブラリーのスクリーニングを行うための方法および装置を
提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
この方法論の最も広い概念は、触媒組成物のライブラリーが作製され、そして、特に重
合条件下での工程変数または得られたポリマー製品の性質を測定することにより、オレフ
ィン重合活性に対してスクリーニングされるということである。作製されるライブラリー
は、通常、有機金属化合物または混合物のアレーまたはこれらの多レベルのアレーから触
媒組成物を形成する１つまたはそれ以上の変換段階により形成される。この触媒組成物は
、少なくとも遷移金属化合物あるいは錯体、触媒を活性なオレフィン重合組成物に変換す
る共触媒および重合調整剤を含んでなる。得られた製品は、付加重合条件下での重合活性
および／または得られたポリマーの性質に対してスクリーニングされる。本発明は、この
ような合成およびスクリーニングの実施のための多数の実施形態を提供し、そしてこの実
施形態は一緒に組み合わせ得る。
【００１２】
このライブラリーにおいては、各構成員は共通の性質または機能性を有し得るが、構造
的な多様性、分子量または試験対象のある他の変数で変わるであろう（有理型変動）。別
法としては、このライブラリーは一つにまとめる特徴または構造を持たない多様な化合物
の混合物を含有し得る（ランダム変動）。このライブラリーの個別の構成員は一部化学的
に有意な形態で相互に異なるが、較正および統計的分析の目的で、ライブラリー構成員の
ある繰り返しが望まれ得る。場合によっては、親ライブラリーの１つまたはそれ以上の構
成員から１つまたはそれ以上のアリコートを採り、そしてこれらを場合によっては任意の
更なる成分と組み合わせることにより、１つまたはそれ以上の娘ライブラリーが親ライブ
ラリーから作り出され得る。例えば、各娘ライブラリーは元のライブラリーのレプリカで
あると考え得るが、１つまたはそれ以上の更なる成分または化学的操作を含む。次に付加
重合条件にかけられる、１つまたはそれ以上の触媒ライブラリーを作り出すように、少な
くとも１つの遷移金属錯体が前駆体ライブラリーまたは娘ライブラリーの構成員の少なく
とも一部に存在しなければならない。製品ライブラリー、すなわちポリマーライブラリー
を作り出すように、重合が使用され得る。別法としては、重合は活性に対するスクリーン
として役立つ。例えば反応試剤の量または異なる重合条件、例えば時間、温度、圧力、撹
拌速度、試剤添加の順序、不純物タイプおよび量などを変えることにより、工程条件もコ
ンビナトリアル化され得る。この方法は、場合によっては、異なるスクリーニング段階、
例えばライブラリーから一部の構成員を取り除く一次スクリーンから二次スクリーンを提
供し得る。所望の性質を更に同定するように、ライブラリーの１つまたはそれ以上の構成
員またはこの前駆体は、既知の標準、ブランクまたは不活性化合物により置換され得る。
【００１３】
本発明による新規な触媒組成物の探索のために特に合わされた本発明の一つの実施形態
は、少なくとも１つの遷移金属錯体またはこれらの前駆体を含んでなる複数の構成員化合
物を含む遷移金属錯体ライブラリーから出発する。この錯体は、一般に、組成により、構
造により、あるいは組成と構造により異なるであろう。例として、錯体、例えば少なくと
も１つのπ結合配位子基または少なくとも１つの電子供与性配位子基を含有する、元素周
期律表の３−１１族の金属のヒドロカルビル、クロリドあるいはアミド誘導体ならびにこ
のような化合物のルイス塩基含有誘導体または前出の化合物の混合物を含む。所望ならば
、このライブラリーは、前出の遷移金属錯体および／またはこれらの配位子の前駆体から
開始し、所望の遷移金属錯体を含んでなる娘ライブラリーの作製に更なる合成レベルを組
み込み得る。
【００１４】
このライブラリー（遷移金属錯体ライブラリー、共触媒ライブラリーまたは重合調整剤
ライブラリー）は、スクリーン対象の触媒組成物を形成するために１つまたはそれ以上の
試剤または処理を含む１つまたはそれ以上の段階または段階の繰り返しを含み得る１つま
たはそれ以上の変換工程にかけられ得る。このような変換工程の例として、金属化、メタ
セシスまたは遷移金属錯体または前駆体の他の化学的変換、１つまたはそれ以上の溶媒の
添加、混合、加熱、冷却、濾過、抽出または単純な熟成および共触媒および１つまたはそ
れ以上の重合調整剤との最終的な組み合わせを含む。遷移金属錯体、共触媒および重合調
整剤の様々の組み合わせ物と、このような共触媒または重合調整剤の形成方法を評価し、
スクリーンするために、このような共触媒および重合調整剤またはこれらの作製に使用さ
れる成分の別々なライブラリーも遷移金属錯体（またはこれらの前駆体）のライブラリー
との組み合わせで使用され得る。
【００１５】
前出の操作は、試剤の測定された添加、得られた反応混合物の適切な混合および操作、
反応器内容物の加熱およびまたは冷却、生成物の分離および副生成物の除去、溶媒、また
は他の成分の除去可能なセルまたは他の好適な反応容器の使用を必要とする。望ましくは
、各反応セルあるいは容器は密封され、そして不活性雰囲気に曝されるか、あるいはそう
でなければ揮発性反応器成分の喪失または他の試剤、反応器または反応の汚染を防止する
ために、雰囲気、他の反応セルおよびライブラリーから単離される。一つの実施形態にお
いては、各反応器あるいはセルは、セル中の固体反応器含有物から液体の容易な分離を可
能とする濾過手段を備えられるか、あるいは濾過手段にアクセスを有する。この濾過器具
はセルの外に搭載され、そして前出の分離を行う目的でセルの中に挿入され、その後で分
離の完了時にセルから取り外されるか、あるいは外され得る。別法としては、各セルは、
液体成分を分離／除去するために、濾過媒体、例えば反応器内容物と接触したフリットガ
ラス表面およびバルブまたは他の選択手段を含み得る。この装置は、所望ならば、反応セ
ルへの装填の前に、様々の成分、特に重合調整剤を前処理するかあるいは形成するために
、別な反応容器を更に含み得る。
【００１６】
別の実施形態においては、出発成分（例えば、配位子、有機金属化合物、金属化誘導体
、共触媒、重合調整剤、添加物、モノマー、溶媒、不純物など）の混合物が異なる比、順
序または方法で組み合わされる。この重合は製品ライブラリーあるいはアレーを作り出す
ように様々の条件下で行われる。この実施形態においては、重合工程の条件はコンビナト
リアル化されている変数であり得る。コンビナトリアル化され得る好適な工程条件は、出
発成分の量および比、工程段階の繰り返し、金属錯体の精製および回収、重合調整剤また
は触媒組成物、触媒組成成分の添加順序、触媒組成物またはこれらの任意の成分の形成に
許容される時間、触媒形成反応温度および圧力、反応物への出発成分添加速度、滞留時間
（または生成物除去速度）、重合温度、圧力、反応雰囲気、混合速度および当業者ならば
認識する任意の他の条件を含む。
【００１７】
加えて、前出の実施形態は一緒に組み合わせ可能である。例えば、本発明は、使用され
る出発成分において多様性を有することにより；触媒ライブラリーの形成に使用される反
応条件（例えば、時間、温度、混合速度または触媒形成で使用される他の条件）において
多様性を有することにより；使用される重合条件における多様性により；あるいは前出の
変数すべての組み合わせにより実施され得る。ポリマー製品のライブラリーは、重合条件
、例えば生成される熱、あるいは更に好ましくは、１つまたはそれ以上のモノマーの消費
の測定により、あるいは得られたポリマーの性質、例えば分子量または分子量分布により
スクリーニングされる。ポリマーライブラリーは、また、慣用の分析技術を使用して、あ
るいは多数の異なる迅速ポリマーキャラクタリゼーション法の一つを使用することにより
、関心のあるポリマーが作り出されたかどうかを決めるように試験され得る。
【００１８】
ポリマー性質は後反応器条件により悪影響を受ける可能性があるために、製品の性質の
物理的試験は候補材料をスクリーニングするための精確なインジケーターであり得ない。
ポリマーの性質は、酸化防止剤、安定剤および他の保存剤をポリマー試料に添加すること
により物理的試験を行うことができるまで形成後しばしば保存される。コンビナトリアル
材料試験で通常使用される小さい試料サイズへのこのような添加物の組み込みおよびこれ
らの使用の適合は、極めて非実用的であり、そして得られたプロトコルに著しい複雑さ、
遅れおよびコストを付加する可能性がある。更には、ライブラリーを通じての適切かつ再
現性のある組み込みは困難であることがわかり、そして最低でも別の変動の源を導入する
可能性がある。したがって、本発明での使用に好ましいスクリーニング方法は、重合時に
起こる工程条件の試験および記録である。
【００１９】
この方法論の実施形態は、出発材料を組み合わせ、ライブラリーを娘ライブラリー化し
、関心のある反応を実施し、そして工程の結果をスクリーニングするために１つまたはそ
れ以上のステーションを含む、多数の異なるステーションを含む柔軟性のある系に組み合
わされ得る。使用者がライブラリー設計、スクリーニングおよび／またはデータ操作基準
を入力することにより、全シリーズの実験を設計し得るように、この系は、系の活動を制
御し、モニターし、そして指示する制御系を含む。
【００２０】
当業者ならば、本発明のライブラリーにおける多様性を作り出すための様々の方法を認
識するであろう。このスクリーニングは、好ましくは１つまたはそれ以上の工程パラメー
ターを直接に測定し、ライブラリーの個別構成員を評価するための定量化手段をもたらす
ことにより、この多様性が関心の持たれる製品または工程を生成したかどうかを決めるの
に使用される。この明細書で概説した原理を注意深く適用することによって、本発明者は
、遷移金属錯体、共触媒および重合調整剤を含んでなる触媒組成物の同定に特に適合され
たコンビナトリアル研究方法を提供することに成功した。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】実施例１−４においてＣ１、Ｃ２、Ｃ３、Ｃ４およびＣ５として同定されている金属錯体（触媒前駆体）の化学構造である。
【図２】実施例１−４においてＣ１、Ｃ２、Ｃ３、Ｃ４およびＣ５として同定されている金属錯体（触媒前駆体）の化学構造である。
【図３】実施例１−４においてＣ１、Ｃ２、Ｃ３、Ｃ４およびＣ５として同定されている金属錯体（触媒前駆体）の化学構造である。
【図４】実施例１−４においてＣ１、Ｃ２、Ｃ３、Ｃ４およびＣ５として同定されている金属錯体（触媒前駆体）の化学構造である。
【図５】実施例１−４においてＣ１、Ｃ２、Ｃ３、Ｃ４およびＣ５として同定されている金属錯体（触媒前駆体）の化学構造である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
この明細書中で元素周期律表へのすべての参照は、ＣＲＣ  Ｐｒｅｓｓ，Ｉｎｃ．発行
の元素周期律表（２００１年版権）を引用するものとする。また、族へのあらゆる参照も
、この元素周期律表において反映されている族であるものとし、族の番号付けにＩＵＰＡ
Ｃ系を用いている。米国特許慣行の目的で、特に合成方法、原材料および当分野での一般
的な知識の開示に関して、この明細書中で参考とされる任意の特許、特許出願または公報
の内容は、参照して全体で本明細書に組み込まれている（あるいは同等のこれらの米国版
は参照して組み込まれている）。特記しない限り、文脈から明白であるか、あるいは当分
野で慣用的であるように、すべての部およびパーセントは重量基準である。
【００２３】
この明細書中で出現する場合には、用語「含んでなる」およびこれらの派生語は、これ
らがこの明細書中で開示されているかどうかに拘わらず、あらゆる更なる成分、段階また
は手順の存在を排除するようには意図されていない。あらゆる疑念を回避するために、用
語「含んでなる」の使用によりこの明細書中で請求されるすべての組成は、特記しない限
り、あらゆる更なる添加物、補助剤または化合物を含み得る。対照的に、用語「本質的に
・・・からなる」は、この明細書中で出現する場合には、あらゆる続いて起こる列挙から
操作に必須でないものを除いてあらゆる他の成分、段階または手順も排除する。用語「・
・・からなる」は、使用される場合には、特に記述されているか、あるいは掲げられてい
るあらゆる成分、段階または手順も排除する。用語「または」は、特記しない限り、個別
でならびにあらゆる組み合わせでも掲げられた構成員を指す。
【００２４】
極めて望ましくは、本発明の方法論は、最適化あるいは本発明のスクリーニング手順に
したがって測定した少なくとも２つの、更に好ましくは少なくとも３つの工程変数または
製品変数を最大化することに基づく所望の触媒組成物の選択を包含する。
触媒
【００２５】
この明細書で使用される遷移金属化合物は、元素周期律表の３−１１族、好ましくは４
−８族、最も好ましくは４族、すなわちチタン、ジルコニウムおよびハフニウムから選択
される金属の化合物または錯体を含む。好ましい化合物は、１つまたはそれ以上の非局在
化された、π結合配位子または多価ルイス塩基配位子を含有するものである。例として、
メタロセン、半メタロセン、拘束構造および多価のピリジルアミン塩基錯体を含む。この
化合物は式ＭＫkＸxＺzまたはこれらの二量体により一般的に表される。
式中
【００２６】
Ｍは元素周期律表の３−１０族金属、好ましくは４−８族金属、最も好ましくは４族金
属から選択される遷移金属であり；
【００２７】
Ｋは独立して各々の起源でＫがＭに結合する非局在化されたπ電子を含有する基であり
、前記Ｋ基は水素原子を数えずに５０個までの原子を含有し、場合によっては、２つまた
はそれ以上のＫ基は一緒に連結して、架橋構造を形成し得、そして更に場合によっては、
１つまたはそれ以上のＫ基はＺ、ＸまたはＺとＸの両方に結合し得る；
【００２８】
Ｘは独立して各々の起源で４０個までの非水素原子を有する一価のアニオン性部分であ
り、場合によっては、１つまたはそれ以上のＸ基は一緒に結合して、二価あるいは多価の
アニオン性基を形成し、そして更に場合によっては、１つまたはそれ以上のＸ基と１つま
たはそれ以上のＺ基は一緒に結合して、Ｍに共有結合し、そしてこれに配位する部分を形
成し得る；
【００２９】
Ｚは独立して各々の起源でＺがＭに配位する少なくとも１つの非共有電子対を含有する
５０個までの非水素原子の中性の、ルイス塩基供与体配位子であり；
ｋは０〜３の整数であり；
ｘは１〜４の整数であり；
ｚは０〜３の数であり；そして
和ｋ＋ｘはＭの形式酸化状態に等しい。
【００３０】
好適な金属錯体は、環状あるいは非環状の非局在化されたπ結合のアニオン性配位子基
であり得る、１〜３個のπ結合のアニオン性あるいは中性の配位子基を含有するものを含
む。このようなπ結合基を例示するのは、共役あるいは非共役の、環状あるいは非環状の
ジエンおよびジエニル基、アリル基、ボラタベンゼン基、ホスホールおよびアリーン基で
ある。用語「π結合」とは、部分的に非局在化されたπ結合からの電子を共有することに
より、遷移金属に結合した配位子基の意味である。
【００３１】
この非局在化されたπ結合基中の各原子は、水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、ハロヒ
ドロカルビル、ヒドロカルビル置換のヘテロ原子からなる群から選択される基により独立
して置換され得る。ここで、このヘテロ原子は元素周期律表の１４−１６族から選択され
、そしてこのようなヒドロカルビル置換のヘテロ原子基は１５あるいは１６族のヘテロ原
子含有部分により更に置換されている。加えて、２つまたはそれ以上のこのような基は一
緒になり部分あるいは完全水素化した融合環系を含む融合環系を形成するか、あるいは金
属と金属環状体を形成し得る。用語「ヒドロカルビル」の内に含まれるのは、Ｃ1-20直鎖
、分岐鎖および環状アルキル基、Ｃ6-20芳香族基、Ｃ7-20アルキル置換の芳香族反応試剤
およびＣ7-20アリール置換のアルキル基である。好適なヒドロカルビル置換のヘテロ原子
基は、ホウ素、ケイ素、ゲルマニウム、窒素、リンまたは酸素のモノ−、ジ−およびトリ
置換基を含む。ここで、このヒドロカルビル基の各々は１〜２０個の炭素原子を含有する
。例として、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、ピローリジニル、トリメチルシリル、トリエチル
シリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、メチルジ（ｔ−ブチル）シリル、トリフェニルゲル
ミルおよびトリメチルゲルミル基を含む。１５あるいは１６族のヘテロ原子含有部分の例
として、遷移金属またはランタニド金属に結合し、そしてヒドロカルビル基、π結合基ま
たはヒドロカルビル置換ヘテロ原子に結合した、アミノ、ホスフィノ、アルコキシ、ある
いはアルキルチオ部分またはこれらの二価誘導体、例えば、アミド、ホスフィド、アルキ
レンオキシあるいはアルキレンチオ基を含む。
【００３２】
好適なアニオン性の非局在化されたπ結合基の例として、シクロペンタジエニル、イン
デニル、フルオレニル、テトラヒドロインデニル、テトラヒドロフルオレニル、オクタヒ
ドロフルオレニル、ペンタジエニル、シクロヘキサジエニル、ジヒドロアントラセニル、
ヘキサヒドロアントラセニル、デカヒドロアントラセニル基、ホスホールおよびボラタベ
ンジル基、ならびにこれらの不活性置換誘導体、特にこれらのＣ1-10ヒドロカルビル置換
あるいはトリス（Ｃ1-10ヒドロカルビル）シリル置換誘導体を含む。好ましいアニオン性
非局在化されたπ結合基は、シクロペンタジエニル、ペンタメチルシクロペンタジエニル
、テトラメチルシクロペンタジエニル、テトラメチルシリルシクロペンタジエニル、イン
デニル、２，３−ジメチルインデニル、フルオレニル、２−メチルインデニル、２−メチ
ル−４−フェニルインデニル、テトラヒドロフルオレニル、オクタヒドロフルオレニル、
１−インダセニル、３−ピローリジノインデン−１−イル、３，４−（シクロペンタ（ｌ
）フェナントレン−１−イルおよびテトラヒドロインデニルである。
【００３３】
このボラタベンジル配位子はベンゼンのホウ素含有類似体であるアニオン性配位子であ
る。これらは、当分野で以前から既知であり、G. Herberich, et al., in Organometalli
cs, 14, 1, 471-480 (1995)により記述されている。好ましいボラタベンゼンは式：
【化１】
0005579142.tif 000002
に対応する。式中、
Ｒ1は好ましくは水素、ヒドロカルビル、シリル、ハロまたはゲルミルからなる群から
選択される不活性な置換基であり、前記Ｒ1は水素を数えずに２０個までの原子を有し、
そして場合によっては２つの隣接するＲ1基は一緒に連結され得る。このような非局在化
されたπ結合基の二価誘導体を含む錯体においては、これらの１つの原子は共有結合また
は共有結合した二価基によりこの錯体の別の原子に結合して、架橋した系を形成する。
【００３４】
ホスホールはシクロペンタジエニル基のリン含有類似体であるアニオン性配位子である
。これらは、当分野で以前から既知であり、ＷＯ９８／５０３９２などにより記述されて
いる。好ましいホスホール配位子は式：
【化２】
0005579142.tif 000003
に対応する。式中、Ｒ1は前に定義した通りである。
【００３５】
この明細書中での使用に好ましい遷移金属錯体は式：ＭＫkＸxＺzまたはこれらの二量
体に対応する。式中：Ｍは４族金属であり；
ＫはＫがＭに結合する非局在化されたπ電子を含有する基であり、前記Ｋ基は水素原子
を数えずに５０個までの原子を含有し、場合によっては、２つのＫ基は一緒に連結して、
架橋構造を形成し得、そして更に場合によっては、１つのＫは、ＸまたはＺに結合し得る
；
Ｘは各々の起源で４０個までの非水素原子を有する一価のアニオン性部分であり、場合
によっては、１つまたはそれ以上のＸ基と１つまたはそれ以上のＫ基は一緒に結合して、
金属環状体を形成し、そして更に場合によっては、１つまたはそれ以上のＸ基と１つまた
はそれ以上のＺ基は一緒に結合して、Ｍに共有結合し、そしてこれに配位する部分を形成
し得る；
Ｚは独立して各々の起源でＺがＭに配位する少なくとも１つの非共有電子対を含有する
５０個までの非水素原子の中性の、ルイス塩基供与体配位子であり；
ｋは０〜３の整数であり；
ｘは１〜４の整数であり；
ｚは０〜３の数であり；そして
和ｋ＋ｘはＭの形式酸化状態に等しい。
【００３６】
好ましい錯体は１個あるいは２個のＫ基を含有するものを含む。後者の錯体は２個のＫ
基を連結する架橋基を含有するものを含む。好ましい架橋基は式（ＥＲ’2）eに対応する
ものである。式中、Ｅはケイ素、ゲルマニウム、スズまたは炭素であり、Ｒ’は独立して
各々の起源で水素またはシリル、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシおよびこれらの
組み合わせ物から選択される基であり、前記Ｒ’は３０個までの炭素あるいはケイ素原子
を有し、そしてｅは１〜８である。好ましくは、Ｒ’は独立して各々の起源でメチル、エ
チル、プロピル、ベンジル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニル、メトキシ、エトキシまたはフ
ェノキシである。
【００３７】
２個のＫ基を含有する錯体の例は式：
【化３】
0005579142.tif 000004
に対応する化合物である。式中：
Ｍはチタン、ジルコニウムまたはハフニウム、好ましくは＋２あるいは＋４の形式酸化
状態のジルコニウムまたはハフニウムであり；
Ｒ3は、各々の起源で独立して水素、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、シアノ、ハ
ロおよびこれらの組み合わせ物からなる群から選択され、前記Ｒ3は２０個までの非水素
原子を有し、あるいは隣接したＲ3基は一緒になり二価誘導体（すなわち、ヒドロカルバ
ジイル、シラジイルあるいはゲルマジイル基）を形成して、融合環系を形成し、そして
Ｘ”は独立して各々の起源で４０個までの非水素原子のアニオン性配位子基であるか、
あるいは２個のＸ”基は一緒になり４０個までの非水素原子の二価アニオン性配位子基を
形成するか、あるいは一緒になり非局在化されたπ電子によりＭに結合した４〜３０個の
非水素原子を有する共役ジエンであり、この時にはＭは＋２の形式酸化状態にあり、そし
て
Ｒ’、Ｅおよびｅは前に定義した通りである。
【００３８】
２個のπ結合基を含有する例示の架橋された配位子は、ジメチルビス（シクロペンタジ
エニル）シラン、
ジメチルビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）シラン、
ジメチルビス（２−エチルシクロペンタジエン−１−イル）シラン、
ジメチルビス（２−ｔ−ブチルシクロペンタジエン−１−イル）シラン、
２，２−ビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）プロパン、
ジメチルビス（インデン−１−イル）シラン、
ジメチルビス（テトラヒドロインデン−１−イル）シラン、
ジメチルビス（フルオレン−１−イル）シラン、
ジメチルビス（テトラヒドロフルオレン−１−イル）シラン、
ジメチルビス（２−メチル−４−フェニルインデン−１−イル）−シラン、
ジメチルビス（２−メチルインデン−１−イル）シラン、
ジメチル（シクロペンタジエニル）（フルオレン−１−イル）シラン、
ジメチル（シクロペンタジエニル）（オクタヒドロフルオレン−１−イル）シラン、
ジメチル（シクロペンタジエニル）（テトラヒドロフルオレン−１−イル）シラン、
（１，１，２，２−テトラメチル）−１，２−ビス（シクロペンタジエニル）ジシラン
、
（１，２−ビス（シクロペンタジエニル）エタン、および
ジメチル（シクロペンタジエニル）−１−（フルオレン−１−イル）メタン
である。
【００３９】
好ましいＸ”基は、ヒドリド、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、ハロヒドロカルビ
ル、ハロシリル、シリルヒドロカルビルおよびアミノヒドロカルビル基から選択されるか
、あるいは２個のＸ”基は一緒になり共役ジエンの二価誘導体を形成するか、あるいは一
緒になりこれらは中性のπ結合共役ジエンを形成する。最も好ましいＸ”基はＣ1-20ヒド
ロカルビル基である。
【００４０】
本発明での使用に好適な前出の式の金属錯体の例として、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジベンジル、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムメチルベンジル、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムメチルフェニル、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジフェニル、
ビス（シクロペンタジエニル）チタン−アリル、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムメチルメトキシド、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムメチルクロリド、
ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、
ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）チタンジメチル、
ビス（インデニル）ジルコニウムジメチル、
インデニルフルオレニルジルコニウムジメチル、
ビス（インデニル）ジルコニウムメチル（２−（ジメチルアミノ）ベンジル）、
ビス（インデニル）ジルコニウムメチルトリメチルシリル、
ビス（テトラヒドロインデニル）ジルコニウムメチルトリメチルシリル、
ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムメチルベンジル、
ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジベンジル、
ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムメチルメトキシド、
ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムメチルクロリド、
ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、
ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジベンジル、
ビス（ｔ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、
ビス（エチルテトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、
ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジベンジル、
ビス（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジベンジル、
ジメチルシリルビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、
ジメチルシリルビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）チタン（ＩＩＩ）アリル、
ジメチルシリルビス（ｔ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシリルビス（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
（メチレンビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）チタン（ＩＩＩ）２−（ジメチ
ルアミノ）ベンジル、
（メチレンビス（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）チタン（ＩＩＩ）２−（ジメチル
アミノ）ベンジル、
ジメチルシリルビス（インデニル）ジルコニウムベンジルクロリド、
ジメチルシリルビス（２−メチルインデニル）ジルコニウムジメチル、
ジメチルシリルビス（２−メチル−４−フェニルインデニル）ジルコニウムジメチル、
ジメチルシリルビス（２−メチルインデニル）ジルコニウム−１，４−ジフェニル−１
，３−ブタジエン、
ジメチルシリルビス（２−メチル−４−フェニルインデニル）ジルコニウム（ＩＩ）１
，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、
ジメチルシリルビス（テトラヒドロインデニル）ジルコニウム（ＩＩ）１，４−ジフェ
ニル−１，３−ブタジエン、
ジメチルシリルビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチルジメ
チルシリルビス（フルオレニル）ジルコニウムジメチル、
ジメチルシリル−ビス（テトラヒドロフルオレニル）ジルコニウムビス（トリメチルシ
リル）、
（イソプロピリデン）（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジベン
ジルおよび
ジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウム
ジメチル
を含む。
【００４１】
本発明で使用される更なる類の金属錯体は、先行する式：ＭＫＺzＸxまたはこれらの二
量体に対応する。式中、Ｍ、Ｋ、Ｘ、ｘおよびｚは前に定義した通りであり、そしてＺは
Ｋと一緒にＭとの金属環状体を形成する５０個までの非水素原子の置換基である。
【００４２】
好ましいＺ置換基は、Ｋに直接に結合した、酸素、イオウ、ホウ素または元素周期律表
の１４族の構成員である少なくとも１つの原子と、Ｍと共有結合で結合した、窒素、リン
、酸素またはイオウからなる群から選択される異なる原子を含んでなる３０個までの非水
素原子を含有する基を含む。
【００４３】
特に、本発明により使用されるこの類の４族金属錯体は、式：
【化４】
0005579142.tif 000005
に対応する「拘束構造触媒」を含む。式中：
Ｍはチタンまたはジルコニウム、好ましくは＋２、＋３、あるいは＋４の形式酸化状態
のチタンであり；
Ｋ1は１〜５個のＲ2基により場合によっては置換された、非局在化されたπ結合配位子
基であり、
Ｒ2は各々の起源で独立して水素、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、シアノ、ハロ
およびこれらの組み合わせ物からなる群から選択され、前記Ｒ2は２０個までの非水素原
子を有するか、あるいは隣接するＲ2基は一緒になり二価誘導体（すなわち、ヒドロカラ
バジイル、シラジイルあるいはゲルマジイル基）を形成して、それにより融合環系を形成
し、
各Ｘはハロ、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシあるいはシリル基であり、前記基
は２０個までの非水素原子を有するか、あるいは２個のＸ基は一緒になり中性のＣ5-30共
役ジエンまたはこれらの二価誘導体を形成し；
Ｙは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ’−、−ＰＲ’−であり；そして
Ｘ’はＳｉＲ’2、ＣＲ’2、ＳｉＲ’2ＳｉＲ’2、ＣＲ’2ＣＲ’2、ＣＲ’＝ＣＲ’、
ＣＲ’2ＳｉＲ’2またはＧｅＲ’2であり、そして
Ｒ’は独立して各々の起源で水素またはシリル、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキ
シおよびこれらの組み合わせ物から選択される群であり、前記Ｒ’は３０個までの炭素あ
るいはケイ素原子を有する。
【００４４】
前出の拘束構造金属錯体の特定の例として式：
【化５】
0005579142.tif 000006
に対応する化合物を含む。式中、
Ａｒは水素を数えずに６〜３０個の原子のアリール基であり；
Ｒ4は独立して各々の起源で水素、Ａｒまたはヒドロカルビル、トリヒドロカルビルシ
リル、トリヒドロカルビルゲルミル、ハライド、ヒドロカルビルオキシ、トリヒドロカル
ビルシロキシ、ビス（トリヒドロカルビルシリル）アミノ、ジ（ヒドロカルビル）アミノ
、ヒドロカルバジイルアミノ、ヒドロカルビルイミノ、ジ（ヒドロカルビル）ホスフィノ
、ヒドロカルバジイルホスフィノ、ヒドロカルビルスルフィド、ハロ置換ヒドロカルビル
、ヒドロカルビルオキシ置換ヒドロカルビル、トリヒドロカルビルシリル置換ヒドロカル
ビル、トリヒドロカルビルシロキシ置換ヒドロカルビル、ビス（トリヒドロカルビルシリ
ル）アミノ置換ヒドロカルビル、ジ（ヒドロカルビル）アミノ置換ヒドロカルビル、ヒド
ロカルビレンアミノ置換ヒドロカルビル、ジ（ヒドロカルビル）ホスフィノ置換ヒドロカ
ルビル、ヒドロカルビレンホスフィノ置換ヒドロカルビルまたはヒドロカルビルスルフィ
ド置換ヒドロカルビルから選択されるＡｒ以外の基であり、前記Ｒ基は水素原子を数えず
に４０個までの原子を有し；
Ｍはチタンであり；
Ｘ’はＳｉＲ62、ＣＲ62、ＳｉＲ62ＳｉＲ62、ＣＲ62ＣＲ62、ＣＲ6＝ＣＲ6、ＣＲ62Ｓ
ｉＲ62、ＢＲ6、ＢＲ6Ｌ”またはＧｅＲ62であり；
Ｙは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ5−、−ＰＲ5−；−ＮＲ52または−ＰＲ52であり；
Ｒ5は、独立して各々の起源で、ヒドロカルビル、トリヒドロカルビルシリルまたはト
リヒドロカルビルシリルヒドロカルビルであり、前記Ｒ5は水素以外の２０個までの原子
を有し、そして場合によっては２個のＲ5基またはＲ5はＹまたはＺと一緒になり環系を形
成し；
Ｒ6は、独立して各々の起源で、水素またはヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、
シリル、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリール、−ＮＲ52およびこれらの組み合わせ
物から選択される構成員であり、前記Ｒ6は２０個までの非水素原子を有し、そして場合
によっては、２個のＲ6基またはＲ6はＺと一緒になり環系を形成し；
ＺはＲ5、Ｒ6またはＸに場合によっては結合する、中性ジエンまたは単歯状あるいは多
歯状ルイス塩基であり；
Ｘは水素、水素を数えずに６０個までの原子を有する一価のアニオン性配位子基である
か、あるいは２個のＸ基は二価配位子基であり；
ｘは１または２であり；そして
ｚは０、１または２である。
この前出の金属錯体の好ましい例は、シクロペンタジエニルあるいはインデニル基の３
−および４位の両方でＡｒ基により置換されている。
【００４５】
この前出の金属錯体の例として、
（３−フェニルシクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（ｔ−ブチルアミド）シラン
チタンジクロリド、
（３−フェニルシクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（ｔ−ブチルアミド）シラン
チタンジメチル、
（３−フェニルシクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（ｔ−ブチルアミド）シラン
チタン（ＩＩ）１，３−ジフェニル−１，３−ブタジエン；
（３−（ピロール−１−イル）シクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（ｔ−ブチル
アミド）シランチタンジクロリド、
（３−（ピロール−１−イル）シクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（ｔ−ブチル
アミド）シランチタンジメチル、
（３−（ピロール−１−イル）シクロペンタジエン−１−イル））ジメチル（ｔ−ブチ
ルアミド）シランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン；
（３−（１−メチルピロール−３−イル）シクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（
ｔ−ブチルアミド）シランチタンジクロリド、
（３−（１−メチルピロール−３−イル）シクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（
ｔ−ブチルアミド）シランチタンジメチル、
（３−（１−メチルピロール−３−イル）シクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（
ｔ−ブチルアミド）シランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン；
（３，４−ジフェニルシクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（ｔ−ブチルアミド）
シランチタンジクロリド、
（３，４−ジフェニルシクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（ｔ−ブチルアミド）
シランチタンジメチル、
（３，４−ジフェニルシクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（ｔ−ブチルアミド）
シランチタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエン；
（３−（３−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）フェニル）シクロペンタジエン−１−イル）ジ
メチル（ｔ−ブチルアミド）シランチタンジクロリド、
（３−（３−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）フェニルシクロペンタジエン−１−イル）ジメ
チル（ｔ−ブチルアミド）シランチタンジメチル、
（３−（３−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）フェニルシクロペンタジエン−１−イル）ジメ
チル（ｔ−ブチルアミド）シランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエ
ン；
（３−（４−メトキシフェニル）−４−メチルシクロペンタジエン−１−イル）ジメチ
ル（ｔ−ブチルアミド）シランチタンジクロリド、
（３−（４−メトキシフェニル）−４−フェニルシクロペンタジエン−１−イル）ジメ
チル（ｔ−ブチルアミド）シランチタンジメチル、
（３−４−メトキシフェニル）−４−フェニルシクロペンタジエン−１−イル）ジメチ
ル（ｔ−ブチルアミド）シランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン
；
（３−フェニル−４−メトキシシクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（ｔ−ブチル
アミド）シランチタンジクロリド、
（３−フェニル−４−メトキシシクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（ｔ−ブチル
アミド）シランチタンジメチル、
（３−フェニル−４−メトキシシクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（ｔ−ブチル
アミド）シランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、
（３−フェニル−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）シクロペンタジエン−１−イル）ジ
メチル（ｔ−ブチルアミド）シランチタンジクロリド、
（３−フェニル−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）シクロペンタジエン−１−イル）ジ
メチル（ｔ−ブチルアミド）シランチタンジメチル、
（３−フェニル−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）シクロペンタジエン−１−イル）ジ
メチル（ｔ−ブチルアミド）シランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジ
エン；
２−メチル−（３，４−ジ（４−メチルフェニル）シクロペンタジエン−１−イル）ジ
メチル（ｔ−ブチルアミド）シランチタンジクロリド、
２−メチル−（３，４−ジ（４−メチルフェニル）シクロペンタジエン−１−イル）ジ
メチル（ｔ−ブチルアミド）シランチタンジメチル、
２−メチル−（３，４−ジ（４−メチルフェニル）シクロペンタジエン−１−イル）ジ
メチル（ｔ−ブチルアミド）シランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジ
エン；
（（２，３−ジフェニル）−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）シクロペンタジエン−１
−イル）ジメチル（ｔ−ブチルアミド）シランチタンジクロリド、
（（２，３−ジフェニル）−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）シクロペンタジエン−１
−イル）ジメチル（ｔ−ブチルアミド）シランチタンジメチル、
（（２，３−ジフェニル）−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）シクロペンタジエン−１
−イル）ジメチル（ｔ−ブチルアミド）シランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，
３−ブタジエン；
（２，３，４−トリフェニル−５−メチルシクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（
ｔ−ブチルアミド）シランチタンジクロリド、
（２，３，４−トリフェニル−５−メチルシクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（
ｔ−ブチルアミド）シランチタンジメチル、
（２，３，４−トリフェニル−５−メチルシクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（
ｔ−ブチルアミド）シランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン；
（３−フェニル−４−メトキシシクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（ｔ−ブチル
アミド）シランチタンジクロリド、
（３−フェニル−４−メトキシシクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（ｔ−ブチル
アミド）シランチタンジメチル、
（３−フェニル−４−メトキシシクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（ｔ−ブチル
アミド）シランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン；
（２，３−ジフェニル−４−（ｎ−ブチル）シクロペンタジエン−１−イル）ジメチル
（ｔ−ブチルアミド）シランチタンジクロリド、
（２，３−ジフェニル−４−（ｎ−ブチル）シクロペンタジエン−１−イル）ジメチル
（ｔ−ブチルアミド）シランチタンジメチル、
（２，３−ジフェニル−４−（ｎ−ブチル）シクロペンタジエン−１−イル）ジメチル
（ｔ−ブチルアミド）シランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン；
（２，３，４，５−テトラフェニルシクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（ｔ−ブ
チルアミド）シランチタンジクロリド、
（２，３，４，５−テトラフェニルシクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（ｔ−ブ
チルアミド）シランチタンジメチルおよび
（２，３，４，５−テトラフェニルシクロペンタジエン−１−イル）ジメチル（ｔ−ブ
チルアミド）シランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン
を含む。
【００４６】
この明細書中で触媒としての使用に好適な金属錯体の更なる例は式
【化６】
0005579142.tif 000007
に対応する多環状錯体である。式中、
Ｍは＋２、＋３あるいは＋４の形式酸化状態のチタンであり；
Ｒ7は独立して各々の起源でヒドリド、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、ハライド
、ヒドロカルビルオキシ、ヒドロカルビルシロキシ、ヒドロカルビルシリルアミノ、ジ（
ヒドロカルビル）アミノ、ヒドロカルビレンアミノ、ジ（ヒドロカルビル）ホスフィノ、
ヒドロカルビレン−ホスフィノ、ヒドロカルビルスルフィド、ハロ置換ヒドロカルビル、
ヒドロカルビルオキシ置換ヒドロカルビル、シリル置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビル
シロキシ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリルアミノ置換ヒドロカルビル、ジ（ヒ
ドロカルビル）アミノ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビレンアミノ置換ヒドロカルビル
、ジ（ヒドロカルビル）ホスフィノ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビレン−ホスフィノ
置換ヒドロカルビルまたはヒドロカルビルスルフィド置換ヒドロカルビルであり、前記Ｒ
7基は水素を数えずに４０個までの原子を有し、そして場合によっては、前出の基の２つ
以上は一緒になり二価誘導体を形成し得；
Ｒ8は金属錯体の残りと共に融合系を形成する二価ヒドロカルビレン−あるいは置換ヒ
ドロカルビレン基であり、前記Ｒ8は水素を数えずに１〜３０個の原子を含有し；
Ｘ’は二価部分またはＭへの配位−共有結合を形成することができる、１個のσ結合と
中性の２個の電子対を含んでなる部分であり、前記Ｘ’はホウ素または元素周期律表の１
４族の構成員を含んでなり、そして窒素、リン、イオウまたは酸素も含んでなり；
Ｘは、環状、非局在化されたπ結合配位子基である配位子の類を除いて、６０個までの
原子を有する一価のアニオン性配位子基であり、そして場合によっては２個のＸ基は一緒
になり二価配位子基を形成し；
Ｚは独立して各々の起源で２０個までの原子を有する中性の連結反応化合物であり；
ｘは０、１または２であり；そして
ｚはゼロまたは１である。
【００４７】
このような錯体の好ましい例は、式：
【化７】
0005579142.tif 000008
に対応する３−フェニル置換のｓ−インデセニル錯体、式：
【化８】
0005579142.tif 000009
に対応する２，３−ジメチル置換のｓ−インデセニル錯体または式：
【化９】
0005579142.tif 000010
に対応する２−メチル置換のｓ−インデセニル錯体である。本発明による触媒（Ａ）とし
て有用に使用される金属錯体の更なる例として、式：
【化１０】
0005579142.tif 000011
のものを含む。
特定の金属錯体は、
（８−メチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−１−イル）−Ｎ−（
１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１
，３−ブタジエン、
（８−メチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−１−イル）−Ｎ−（
１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエン、
（８−メチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−１−イル）−Ｎ−（
１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＩＩ）２−（Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノ）ベンジル、
（８−メチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−１−イル）−Ｎ−（
１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＶ）ジクロリド、
（８−メチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−１−イル）−Ｎ−（
１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＶ）ジメチル、
（８−メチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−１−イル）−Ｎ−（
１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＶ）ジベンジル、
（８−ジフルオロメチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−１−イル
）−Ｎ−（１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＩ）１，４−ジフ
ェニル−１，３−ブタジエン、
（８−ジフルオロメチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−１−イル
）−Ｎ−（１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＩ）１，３−ペン
タジエン、
（８−ジフルオロメチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−１−イル
）−Ｎ−（１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＩＩ）２−（Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル、
（８−ジフルオロメチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−１−イル
）−Ｎ−（１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＶ）ジクロリド、
（８−ジフルオロメチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−１−イル
）−Ｎ−（１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＶ）ジメチル、
（８−ジフルオロメチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−１−イル
）−Ｎ−（１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＶ）ジベンジル、
（８−メチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−２−イル）−Ｎ−（
１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１
，３−ブタジエン、
（８−メチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−２−イル）−Ｎ−（
１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエン、
（８−メチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−２−イル）−Ｎ−（
１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＩＩ）２−（Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノ）ベンジル、
（８−メチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−２−イル）−Ｎ−（
１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＶ）ジクロリド、
（８−メチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−２−イル）−Ｎ−（
１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＶ）ジメチル、
（８−メチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−２−イル）−Ｎ−（
１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＶ）ジベンジル、
（８−ジフルオロメチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−２−イル
）−Ｎ−（１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＩ）１，４−ジフ
ェニル−１，３−ブタジエン、
（８−ジフルオロメチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−２−イル
）−Ｎ−（１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＩ）１，３−ペン
タジエン、
（８−ジフルオロメチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−２−イル
）−Ｎ−（１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＩＩ）２−（Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル、
（８−ジフルオロメチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−２−イル
）−Ｎ−（１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＶ）ジクロリド、
（８−ジフルオロメチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−２−イル
）−Ｎ−（１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＶ）ジメチル、
（８−ジフルオロメチレン−１，８−ジヒドロジベンゾ［ｅ，ｈ］アズレン−２−イル
）−Ｎ−（１，１−ジメチルエチル）ジメチルシランアミドチタン（ＩＶ）ジベンジル
およびこれらの混合物、特に位置異性体の混合物
を含む。
【００４８】
本発明により使用するための金属錯体の更なる例示的な例は式：
【化１１】
0005579142.tif 000012
に対応する。式中、
Ｍは＋２、＋３あるいは＋４の形式酸化状態のチタンであり；
Ｔは−ＮＲ9−または−Ｏ−であり；
Ｒ9は水素を数えずに１０個までの原子のヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、ジヒド
ロカルビルボリルまたはハロヒドロカルビルであり；
Ｒ10は独立して各々の起源で水素、ヒドロカルビル、トリヒドロカルビルシリル、トリ
ヒドロカルビルシリルヒドロカルビル、ゲルミル、ハライド、ヒドロカルビルオキシ、ヒ
ドロカルビルシロキシ、ヒドロカルビルシリルアミノ、ジ（ヒドロカルビル）アミノ、ヒ
ドロカルビレンアミノ、ジ（ヒドロカルビル）ホスフィノ、ヒドロカルビレン−ホスフィ
ノ、ヒドロカルビルスルフィド、ハロ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ置換ヒ
ドロカルビル、シリル置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシロキシ置換ヒドロカルビル
、ヒドロカルビルシリルアミノ置換ヒドロカルビル、ジ（ヒドロカルビル）アミノ置換ヒ
ドロカルビル、ヒドロカルビレンアミノ置換ヒドロカルビル、ジ（ヒドロカルビル）ホス
フィノ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビレンホスフィノ置換ヒドロカルビルまたはヒド
ロカルビルスルフィド置換ヒドロカルビルであり、前記Ｒ10基は水素を数えずに４０個ま
での原子を有し、そして場合によっては前出の隣接するＲ10基の２つ以上は一緒になり二
価誘導体を形成して、飽和あるいは不飽和融合環を形成し；
Ｘ’は非局在化されたπ電子を欠く二価部分またはＭへの配位−共有結合を形成するこ
とができる、１個のσ結合と中性の２個の電子対を含んでなる部分であり、前記Ｘ’はホ
ウ素または元素周期律表の１４族の構成員を含んでなり、そして窒素、リン、イオウまた
は酸素も含んでなり；
Ｘは、環状、非局在化されたπ結合配位子基である配位子の類を除いて、６０個までの
原子を有する一価のアニオン性配位子基であるか、あるいは２個のＸ基は一緒になりアニ
オン性二価配位子基を形成し；
Ｚは独立して各々の起源で２０個までの原子を有する中性の連結性化合物であり；
ｘは０、１、２または３であり；そして
ｚは０または１である。
【００４９】
極めて好ましくは、Ｔは＝Ｎ（ＣＨ3）であり、Ｘはハロまたはヒドロカルビルであり
、ｘは２であり、Ｘ’はジメチルシランであり、ｚは０であり、そしてＲ10は各々の起源
で水素、水素を数えずに２０個までの原子のヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、ジ
ヒドロカルビルアミノ、ヒドロカルビレンアミノ、ジヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロ
カルビル基またはヒドロカルビレンアミノ−置換ヒドロカルビル基であり、そして場合に
よっては２個のＲ10基は一緒に連結され得る。
【００５０】
本発明の実施で使用され得る前出の式の例示的な金属錯体は、
（ｔ−ブチルアミド）ジメチル−［６，７］ベンゾ−［４，５：２’，３’］（１−メ
チルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチタン（ＩＩ）１，４−
ジフェニル−１，３−ブタジエン、
（ｔ−ブチルアミド）ジメチル−［６，７］ベンゾ−［４，５：２’，３’］（１−メ
チルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチタン（ＩＩ）１，３−
ペンタジエン、
（ｔ−ブチルアミド）ジメチル−［６，７］ベンゾ−［４，５：２’，３’］（１−メ
チルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチタン（ＩＩＩ）２−（
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル、
（ｔ−ブチルアミド）ジメチル−［６，７］ベンゾ−［４，５：２’，３’］（１−メ
チルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチタン（ＩＶ）ジクロリ
ド、
（ｔ−ブチルアミド）ジメチル−［６，７］ベンゾ−［４，５：２’，３’］（１−メ
チルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチタン（ＩＶ）ジメチル
、
（ｔ−ブチルアミド）ジメチル−［６，７］ベンゾ−［４，５：２’，３’］（１−メ
チルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチタン（ＩＶ）ジベンジ
ル、
（ｔ−ブチルアミド）ジメチル−［６，７］ベンゾ−［４，５：２’，３’］（１−メ
チルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチタン（ＩＶ）ビス（ト
リメチルシリル）、
（シクロヘキシルアミド）ジメチル−［６，７］ベンゾ−［４，５：２’，３’］（１
−メチルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチタン（ＩＩ）１，
４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、
（シクロヘキシルアミド）ジメチル−［６，７］ベンゾ−［４，５：２’，３’］（１
−メチルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチタン（ＩＩ）１，
３−ペンタジエン、
（シクロヘキシルアミド）ジメチル−［６，７］ベンゾ−［４，５：２’，３’］（１
−メチルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチタン（ＩＩＩ）２
−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル、
（シクロヘキシルアミド）ジメチル−［６，７］ベンゾ−［４，５：２’，３’］（１
−メチルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチタン（ＩＶ）ジク
ロリド、
（シクロヘキシルアミド）ジメチル−［６，７］ベンゾ−［４，５：２’，３’］（１
−メチルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチタン（ＩＶ）ジメ
チル、
（シクロヘキシルアミド）ジメチル−［６，７］ベンゾ−［４，５：２’，３’］（１
−メチルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチタン（ＩＶ）ジベ
ンジル、
（シクロヘキシルアミド）ジメチル−［６，７］ベンゾ−［４，５：２’，３’］（１
−メチルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチタン（ＩＶ）ビス
（トリメチルシリル）、
（ｔ−ブチルアミド）ジ（ｐ−メチルフェニル）−［６，７］ベンゾ−［４，５：２’
，３’］（１−メチルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチタン
（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、
（ｔ−ブチルアミド）ジ（ｐ−メチルフェニル）−［６，７］ベンゾ−［４，５：２’
，３’］（１−メチルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチタン
（ＩＩ）１，３−ペンタジエン、
（ｔ−ブチルアミド）ジ（ｐ−メチルフェニル）−［６，７］ベンゾ−［４，５：２’
，３’］（１−メチルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチタン
（ＩＩＩ）２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル、
（ｔ−ブチルアミド）ジ（ｐ−メチルフェニル）−［６，７］ベンゾ−［４，５：２’
，３’］（１−メチルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチタン
（ＩＶ）ジクロリド、
（ｔ−ブチルアミド）ジ（ｐ−メチルフェニル）−［６，７］ベンゾ−［４，５：２’
，３’］（１−メチルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチタン
（ＩＶ）ジメチル、
（ｔ−ブチルアミド）ジ（ｐ−メチルフェニル）−［６，７］ベンゾ−［４，５：２’
，３’］（１−メチルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチタン
（ＩＶ）ジベンジル、
（ｔ−ブチルアミド）ジ（ｐ−メチルフェニル）−［６，７］ベンゾ−［４，５：２’
，３’］（１−メチルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチタン
（ＩＶ）ビス（トリメチルシリル）、
（シクロヘキシルアミド）ジ（ｐ−メチルフェニル）−［６，７］ベンゾ−［４，５：
２’，３’］（１−メチルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチ
タン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、
（シクロヘキシルアミド）ジ（ｐ−メチルフェニル）−［６，７］ベンゾ−［４，５：
２’，３’］（１−メチルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチ
タン（ＩＩ）１，３−ペンタジエン、
（シクロヘキシルアミド）ジ（ｐ−メチルフェニル）−［６，７］ベンゾ−［４，５：
２’，３’］（１−メチルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチ
タン（ＩＩＩ）２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル、
（シクロヘキシルアミド）ジ（ｐ−メチルフェニル）−［６，７］ベンゾ−［４，５：
２’，３’］（１−メチルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチ
タン（ＩＶ）ジクロリド、
（シクロヘキシルアミド）ジ（ｐ−メチルフェニル）−［６，７］ベンゾ−［４，５：
２’，３’］（１−メチルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチ
タン（ＩＶ）ジメチル、
（シクロヘキシルアミド）ジ（ｐ−メチルフェニル）−［６，７］ベンゾ−［４，５：
２’，３’］（１−メチルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチ
タン（ＩＶ）ジベンジル；および
（シクロヘキシルアミド）ジ（ｐ−メチルフェニル）−［６，７］ベンゾ−［４，５：
２’，３’］（１−メチルイソインドール）−（３Ｈ）−インデン−２−イル）シランチ
タン（ＩＶ）ビス（トリメチルシリル）
の化合物を更に含む。
【００５１】
本発明の実施で使用され得る例示的な４族金属錯体は、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（１，１−ジメチル−２，３，４，９，１０−η−１，４
，５，６，７，８−ヘキサヒドロナフタレニル）ジメチルシランチタンジメチル、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（１，１，２，３−テトラメチル−２，３，４，９，１０
−η−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロナフタレニル）ジメチルシランチタンジメ
チル、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル）ジメチル
シランチタンジベンジル、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル）ジメチル
シランチタンジメチル、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル）−１，２
−エタンジイルチタンジメチル、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−インデニル）ジメチルシランチタ
ンジメチル、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル）ジメチル
シランチタン（ＩＩＩ）２−（ジメチルアミノ）ベンジル；
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル）ジメチル
シランチタン（ＩＩＩ）アリル、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル）ジメチル
シランチタン（ＩＩＩ）２，４−ジメチルペンタジエニル、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル）ジメチル
シランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル）ジメチル
シランチタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（２−メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）
１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（２−メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）
２，４−ヘキサジエン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（２−メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ）
２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（２−メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ）
イソプレン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（２−メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ）
１，３−ブタジエン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（２，３−ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン（
ＩＶ）２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（２，３−ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン（
ＩＶ）イソプレン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（２，３−ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン（
ＩＶ）ジメチル、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（２，３−ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン（
ＩＶ）ジベンジル、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（２，３−ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン（
ＩＶ）１，３−ブタジエン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（２，３−ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン（
ＩＩ）１，３−ペンタジエン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（２，３−ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン（
ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（２−メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）
１，３−ペンタジエン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（２−メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ）
ジメチル、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（２−メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ）
ジベンジル、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（２−メチル−４−フェニルインデニル）ジメチルシラン
チタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（２−メチル−４−フェニルインデニル）ジメチルシラン
チタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（２−メチル−４−フェニルインデニル）ジメチルシラン
チタン（ＩＩ）２，４−ヘキサジエン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル）ジメチル
−シランチタン（ＩＶ）１，３−ブタジエン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル）ジメチル
シランチタン（ＩＶ）２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル）ジメチル
シランチタン（ＩＶ）イソプレン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル）ジメチル
−シランチタン（ＩＩ）１，４−ジベンジル−１，３−ブタジエン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル）ジメチル
シランチタン（ＩＩ）２，４−ヘキサジエン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル）ジメチル
−シランチタン（ＩＩ）３−メチル−１，３−ペンタジエン、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（２，４−ジメチルペンタジエン−３−イル）ジメチルシ
ランチタンジメチル、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（６，６−ジメチルシクロヘキサジエニル）ジメチルシラ
ンチタンジメチル、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（１，１−ジメチル−２，３，４，９，１０−η−１，４
，５，６，７，８−ヘキサヒドロナフタレン−４−イル）ジメチルシランチタンジメチル
、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（１，１，２，３−テトラメチル−２，３，４，９，１０
−η−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロナフタレン−４−イル）ジメチルシランチ
タンジメチル、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニルメチルフェ
ニルシランチタン（ＩＶ）ジメチル、
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニルメチルフェ
ニルシランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、
１−（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）−２−（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル
）エタンジイルチタン（ＩＶ）ジメチル、および
１−（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）−２−（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル
）エタンジイル−チタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン
を更に含む。
【００５２】
他の非局在化されたπ結合錯体、特に他の４族金属を含有するものは、勿論、当業者に
は明白であり、そしてＷＯ０３／７８４８０、ＷＯ０３／７８４８３、ＷＯ０２／９２６
１０、ＷＯ０２／０２５７７、ＵＳ２００３／０００４２８６および米国特許第６，５１
５，１５５号、第６，５５５，６３４号、第６，１５０，２９７号、第６，０３４，０２
２号、第６，２６８，４４４号、第６，０１５，８６８号、第５，８６６，７０４号およ
び第５，４７０，９９３号で開示されている。
【００５３】
本発明で使用される多価ルイス塩基錯体は、４族金属誘導体、特にヒドロカルビルアミ
ン置換ヘテロアリール化合物のハフニウム誘導体、特に式Ｒ11ＨＮ−Ｔ−Ｒ12の化合物を
含む。好ましくは、この錯体は式：
【化１２】
0005579142.tif 000013
に対応する。式中：
Ｒ11はアルキル、シクロアルキル、ヘテロアルキル、シクロヘテロアルキル、アリール
および水素を数えずに１〜３０個の原子を含有するこれらの不活性置換誘導体から選択さ
れ；
Ｔ1は水素以外の１〜２０個の原子の二価架橋基、好ましくはモノ−あるいはジ−Ｃ1-2
0ヒドロカルビル置換メチレンあるいはシラン基であり；そして
Ｒ12はルイス塩基官能基を含有するＣ6-20ヘテロアリール基、特にピリジン−２−イル
−あるいは置換ピリジン−２−イル基であり；そして
この金属錯体においては、Ｍ1は４族金属、好ましくはハフニウムであり；
Ｘ1はアニオン性、中性あるいはジアニオン性の配位子基であり；
ｘ’はこのようなＸ1基の数を示す、０ないし５の数であり；そして
結合、任意の結合および電子供与性相互作用はそれぞれ線、点線および矢印により表さ
れる。
【００５４】
好ましい錯体は、配位子形成がアミン基からの水素脱離および場合によっては特にＲ12
からの１つまたはそれ以上の更なる基の喪失から生じるものである。加えて、ルイス塩基
官能基からの電子供与、好ましくは電子対は金属中心に更なる安定性をもたらす。前出の
多官能性ルイス塩基化合物および得られた金属錯体の好ましい例は式：
【化１３】
0005579142.tif 000014
に対応する。式中：
Ｍ1、Ｘ1、ｘ’、Ｒ11およびＴ1は前に定義した通りであり、
Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16は水素、ハロまたは水素を数えずに２０個までの原子のア
ルキル、シクロアルキル、ヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、あるいは
シリル基であるか、あるいは隣接するＲ13、Ｒ14、Ｒ15あるいはＲ16基は一緒に連結して
、融合環誘導体を形成し得：そして
結合、任意の結合および電子供与性相互作用はそれぞれ線、点線および矢印により表さ
れる。
【００５５】
前出の二官能性ルイス塩基化合物および金属錯体の更に好ましい例は式：
【化１４】
0005579142.tif 000015
に対応する。式中、
Ｍ1、Ｘ1およびｘ’は前に定義した通りであり、
Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16は前に定義した通りであり、好ましくはＲ13、Ｒ14および
Ｒ15は水素またはＣ1-4アルキルであり、そしてＲ16はＣ6-20アリール、最も好ましくは
ナフタレニルであり；
Ｒaは独立して各々の起源でＣ1-4アルキルであり、そしてａは１−５であり、最も好ま
しくは２つのオルト位置のＲaはイソプロピルまたはｔ−ブチルであり；
Ｒ17およびＲ18は独立して各々の起源で水素、ハロゲンまたはＣ1-20アルキルあるいは
アリール基であり、最も好ましくはＲ17およびＲ18の一方は水素であり、そして他方はＣ
6-20アリール基、特に融合多環状アリール基、最も好ましくはアントラセニル基であり、
そして
結合、任意の結合および電子供与性相互作用はそれぞれ線、点線および矢印により表さ
れる。
【００５６】
この明細書中での使用に極めて好ましい多官能性ルイス塩基化合物および金属錯体は式
【化１５】
0005579142.tif 000016
に対応する。式中、
Ｘ1は各々の起源でハライド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミドまたはＣ1-4アルキルであり、そ
して好ましくは各々の起源でＸはメチルであり；
Ｒbは独立して各々の起源で水素、ハロゲン、Ｃ1-20アルキルまたはＣ6-20アリールで
あり、あるいは２個の隣接するＲb基は一緒に連結して、環を形成し、そしてｂは１−５
であり；そして
Ｒcは独立して各々の起源で水素、ハロゲン、Ｃ1-20アルキルまたはＣ6-20アリールで
あるか、あるいは２個の隣接するＲc基は一緒に連結して、環を形成し、そしてｃは１−
５である。
【００５７】
本発明による使用に金属錯体の最も極めて好ましい例は式：
【化１６】
0005579142.tif 000017
の錯体である。式中、
ＲxはＣ1-4アルキルまたはシクロアルキル、好ましくはメチルまたはイソプロピルであ
り；そして
Ｘ1は各々の起源でハライド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミドまたはＣ1-4アルキル、好ましく
はメチルである。
このような金属錯体の特定な例は、
［Ｎ−（２，６−ジ（１−メチルエチル）フェニル）アミド）（ｏ−トリル）（α−ナ
フタレン−２−ジイル（６−ピリジン−２−ジイル）メタン）］ハフニウムジメチル；
［Ｎ−（２，６−ジ（１−メチルエチル）フェニル）アミド）（ｏ−トリル）（α−ナ
フタレン−２−ジイル（６−ピリジン−２−ジイル）メタン）］ハフニウムジ（Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミド）；
［Ｎ−（２，６−ジ（１−メチルエチル）フェニル）アミド）（ｏ−トリル）（α−ナ
フタレン−２−ジイル（６−ピリジン−２−ジイル）メタン）］ハフニウムジクロリド；
［Ｎ−（２，６−ジ（１−メチルエチル）フェニル）アミド）（２−イソプロピルフェ
ニル）（α−ナフタレン−２−ジイル（６−ピリジン−２−ジイル）メタン）］ハフニウ
ムジメチル；
［Ｎ−（２，６−ジ（１−メチルエチル）フェニル）アミド）（２−イソプロピルフェ
ニル）（α−ナフタレン−２−ジイル（６−ピリジン−２−ジイル）メタン）］ハフニウ
ムジ（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）；
［Ｎ−（２，６−ジ（１−メチルエチル）フェニル）アミド）（２−イソプロピルフェ
ニル）（α−ナフタレン−２−ジイル（６−ピリジン−２−ジイル）メタン）］ハフニウ
ムジクロリド；
［Ｎ−（２，６−ジ（１−メチルエチル）フェニル）アミド）（フェナントレン−５−
イル）（α−ナフタレン−２−ジイル（６−ピリジン−２−ジイル）メタン）］ハフニウ
ムジメチル；
［Ｎ−（２，６−ジ（１−メチルエチル）フェニル）アミド）（フェナントレン−５−
イル）（α−ナフタレン−２−ジイル（６−ピリジン−２−ジイル）メタン）］ハフニウ
ムジ（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）；および
［Ｎ−（２，６−ジ（１−メチルエチル）フェニル）アミド）（フェナントレン−５−
イル）（α−ナフタレン−２−ジイル（６−ピリジン−２−ジイル）メタン）］ハフニウ
ムジクロリド
を含む。
【００５８】
本発明で使用される金属錯体の製造に使用される反応条件下で、ピリジン−２−イル基
の６−位で置換されているα−ナフタレン基の２−位の水素は、脱離を受け易く、金属が
得られたアミド基とα−ナフタレニル基の２−位の両方に共有結合し、ならびに窒素原子
の電子対によりピリジニル窒素原子への配位により安定化されている金属錯体を一意的に
形成するということが見出された。
【００５９】
前出の多価ルイス塩基錯体は、遷移金属源と中性の多官能性配位子源を含む標準的な金
属化および配位子交換法により便利に製造される。この錯体は、対応する４族金属テトラ
アミドおよびヒドロカルビル化剤、例えばトリメチルアルミニウムから出発する、アミド
脱離およびヒドロカルビル化法によっても製造され得る。他の技術も使用され得る。これ
らの錯体は、米国特許第６，３２０，００５号および第６，１０３，６５７号、ＰＣＴ公
報ＷＯ０２／３８６２８およびＷＯ０３／４０１９５および２００３年５月２日出願のＵ
ＳＳＮ１０／４２９，０２４の開示から知られている。
【００６０】
好適な金属化合物は式：
【化１７】
0005579142.tif 000018
に対応する４−１０族の誘導体を更に含む。式中、
Ｍ2は元素周期律表の４−１０族の金属、好ましくは４族、Ｎｉ（ＩＩ）またはＰｄ（
ＩＩ）、最も好ましくはジルコニウムまたはハフニウムであり；
Ｔ2は独立して各々の起源で窒素、酸素またはリン含有の基であり；
Ｘ2はハロ、ヒドロカルビル、またはヒドロカルビルオキシであり；
ｔは１または２であり；
ｘ”は電荷バランスをもたらすように選択された数であり；そして
Ｔ2およびＮは架橋配位子により連結される。
【００６１】
このような触媒は、他の開示の内でJ. Am. Chem. Soc, 118, 267-268 (1996), J. Am. 
Cham. Soc. 117, 6414-6415 (1995) and Organometallics. 16, 1514-1516, (1997)で以
前に開示された。
【００６２】
前出の金属錯体の好ましい例は式
【化１８】
0005579142.tif 000019
に対応する４族金属、特にジルコニウムの芳香族ジイミンまたは芳香族ジオキシイミン錯
体である。式中、
Ｍ2、Ｘ2およびＴ2は前に定義した通りであり；
Ｒdは独立して各々の起源で水素、ハロゲンまたはＲeであり；そして
Ｒeは独立して各々の起源でＣ1-10ヒドロカルビル、好ましくはＣ1-4アルキルである。
【００６３】
この明細書中の使用に更なる好適な金属錯体は、６族金属の誘導体、特に式Ｍ3（ＯＲf
）u（ＮＲf2）ｒＸ3v-u-rに対応する化合物を含む。式中、
Ｍ3は６族金属、特に＋３の形式酸化状態のクロムであり；
Ｒfは独立して各々の起源で３〜２０個の炭素のアルキル基、５〜２０個の炭素のシク
ロアルキル基、６〜２０個の炭素のアリールあるいはアルキルアリール基またはトリ（Ｃ
1-20）ヒドロカルビルシリル基であり、そして場合によっては同一のあるいは隣接したア
ミド基上の２個のＲf基は一緒に連結されて、ヘテロ脂環式環またはこれらのアルキル−
、アリール−、シクロアルキル−、あるいはトリヒドロカルビルシリル置換誘導体を形成
し得；
Ｘ3は水素を数えずに２０個までの原子のアニオン性配位子であり、そして場合によっ
ては１つまたはそれ以上のＸ3基および／または１つまたはそれ以上のＯＲfあるいはＮＲ
f2基は一緒に連結して、脂肪族あるいは芳香族環を形成し得、
ｕおよびｒは０よりも大きいかあるいは等しく、あるいはｖ未満あるいは等しい数であ
り、そして
ｖはＭ3の原子価である。
【００６４】
好ましいＲf基は３〜２０個の炭素の二級あるいは三級アルキル基、アリール、アルキ
ルアリールおよびトリヒドロカルビルシリル基を含むか、あるいは単一のアミド上の２個
のＲf基は一緒になりＣ5-12アルキレン基である。最も好ましくは、Ｒfは各々の起源でイ
ソプロピル、シクロヘキシルまたはトリメチルシリルである。
【００６５】
好ましいＸ3基は、水素を数えずに１０個までの原子のヒドリド、ハライド、ヒドロカ
ルビル、トリヒドロカルビルシリル、ヒドロカルビルオキシおよびトリヒドロカルビルシ
ロキシ、最も好ましくはクロリドまたはメチルを含む。
【００６６】
好適な６族金属化合物の更なる例は、クロムトリス（ビス（トリメチルシリル）アミド
）、クロムトリス（ジイソプロピルアミド）、クロムトリス（ジフェニルアミド）、クロ
ムトリス（ジ（２−メチルフェニル）アミド）、クロムトリス（ジシクロヘキシルアミド
）およびクロムトリス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）を含む。好ましい６
族金属化合物はクロムトリス（ビス（トリメチルシリル）アミド）およびクロムトリス（
ジイソプロピルアミド）である。この６族金属化合物は、J.C.S..Dalton.(1972), p1580-
1584で以前に開示された技術、あるいは他の好適な技術により、対応するトリアルキルク
ロム化合物と所望の配位子の金属化された塩とをエーテル溶媒中で反応させ、続いて脂肪
族炭化水素から回収することにより容易に作製され得る。
【００６７】
更なる好適な化合物は式（ＨＯＡｒ2Ｏ）2Ｔ3のヒドロキシアリール置換ビス（アリー
ルオキシ）配位子の金属錯体を含む。好ましくは、このような錯体は式：
【化１９】
0005579142.tif 000020
に対応する。式中：
Ｔ3は水素を数えずに２〜２０個の原子の二価の架橋基、好ましくは置換あるいは非置
換のＣ3-6アルキレン基であり；そして
Ａｒ2は独立して各々の起源でＣ6-20アリーレンあるいは不活性基置換アリーレン基で
あり；
Ｍ1は４族金属、好ましくはハフニウムであり；
Ｘ1はアニオン性、中性あるいはジアニオン性の配位子基であり；
ｘ’はこのようなＸ1基の数を示す０〜５の数であり；そして
結合、任意の結合および電子供与性相互作用はそれぞれ線、点線および矢印により表さ
れる。
【００６８】
前出の金属錯体の好ましい例は式：
【化２０】
0005579142.tif 000021
に対応する。式中、
Ａｒ4はＣ6-20アリールまたはこれらの不活性置換誘導体、特に３，５−ジ（イソプロ
ピル）フェニル、３，５−ジ（イソブチル）フェニル、ジベンゾ−１Ｈ−ピロール−１−
イルまたはアントラセン−５−イルであり、そして
Ｔ4は独立して各々の起源でＣ3-6アルキレンまたはこれらの不活性置換誘導体であり；
Ｒ14は独立して各々の起源で水素、ハロ、ヒドロカルビル、トリヒドロカルビルシリル
、または水素を数えずに５０個までの原子のトリヒドロカルビルシリルヒドロカルビルで
あり；そして
Ｘは独立して各々の起源でハロあるいはヒドロカルビルあるいは水素を数えずに２０個
までの原子のトリヒドロカルビルシリル基であるか、あるいは２Ｘ基は一緒になり前出の
ヒドロカルビルあるいはトリヒドロカルビルシリル基の二価誘導体である。
【００６９】
特に好ましいのは、式
【化２１】
0005579142.tif 000022
の化合物である。式中、
Ａｒ4は３，５−ジ（イソプロピル）フェニル、３，５−ジ（イソブチル）フェニル、
ジベンゾ−１Ｈ−ピロール−１−イルまたはアントラセン−５−イルであり、
Ｒ14は水素、ハロまたはＣ1-4アルキル、特にメチルであり、
Ｔ4はプロパン−１，３−ジイルまたはブタン−１，４−ジイルであり、そして
Ｘはクロロ、メチルまたはベンジルである。
【００７０】
最も極めて好ましい金属化合物は式：
【化２２】
0005579142.tif 000023
に対応する。
【００７１】
活性化剤化合物
当分野で以前に既知であるものなど、金属錯体はカチオン形成性共触媒と組み合わせる
ことにより遷移金属オレフィン重合錯体と共に使用するのに触媒的に活性となされる。こ
の明細書での使用に好適なカチオン形成性共触媒は、中性ルイス酸、例えばＣ1-30ヒドロ
カルビル置換の１３族化合物、特に各ヒドロカルビルあるいはハロゲン化ヒドロカルビル
基中に１〜１０個の炭素を有するトリ（ヒドロカルビル）アルミニウム−あるいはトリ（
ヒドロカルビル）ホウ素化合物およびこれらのハロゲン化（ペルハロゲン化を含む）誘導
体、更に特にペルフッ素化トリ（アリール）ホウ素化合物および最も特にトリス（ペンタ
フルオロフェニル）ホウ素；非ポリマー型で適合する非配位性イオン形成性化合物（酸化
性条件下でのこのような化合物の使用を含む）、特にコンパチブルの非配位性アニオンの
アンモニウム−、ホスホニウム−、オキソニウム−、カルボニウム−、シリリウム−ある
いはスルホニウム塩または適合する非配位性アニオンのフェロセニウム−、鉛−あるいは
銀塩の使用；および前出のカチオン形成性共触媒の組み合わせおよび技術を含む。前出の
活性化共触媒および活性化技術は、オレフィン重合に対する異なる金属錯体に関してＥＰ
−Ａ−２７７，００３、ＵＳ−Ａ−５，１５３，１５７、ＵＳ−Ａ−５，０６４，８０２
、ＵＳ−Ａ−５，３２１，１０６、ＵＳ−Ａ−５，７２１，１８５、ＵＳ−Ａ−５，３５
０，７２３、ＵＳ−Ａ−５，４２５，８７２、ＵＳ−Ａ−５，６２５，０８７、ＵＳ−Ａ
−５，８８３，２０４、ＵＳ−Ａ−５，９１９，９８３、ＵＳ−Ａ−５，７８３，５１２
、ＷＯ９９／１５５３４およびＷＯ９９／４２４６７で以前に教示された。
【００７２】
中性ルイス酸の組み合わせ物、特に各アルキル基中に１〜４個の炭素を有するトリアル
キルアルミニウム化合物と、各ヒドロカルビル基中に１〜２０個の炭素を有するハロゲン
化トリ（ヒドロカルビル）ホウ素化合物、特にトリス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素
の組み合わせ物、このような中性ルイス酸混合物のポリマー型あるいはオリゴマー型アル
モキサンとの更なる組み合わせ物および単一の中性ルイス酸、特にトリス（ペンタフルオ
ロフェニル）ホウ素のポリマー型あるいはオリゴマー型アルモキサンとの組み合わせ物が
活性化共触媒として使用され得る。金属錯体：トリス（ペンタフルオロフェニルホウ素：
アルモキサンの好ましいモル比は１：１：１〜１：５：２０、更に好ましくは１：１：１
．５〜１：５：１０である。
【００７３】
本発明の一つの実施形態において共触媒として有用な好適なイオン形成性化合物は、プ
ロトンを供与する能力のあるブレンステッド酸であるカチオンと、適合する非配位性アニ
オンＡ-を含んでなる。この明細書で使用されているように、用語「非配位性」は、遷移
金属含有前駆体錯体およびこれから誘導される触媒誘導体に配位しないか、あるいはこの
ような錯体に弱く配位して、中性ルイス塩基による置換を受けるのに十分可動のままであ
るアニオンまたは物質を意味する。非配位性アニオンは、カチオン性金属錯体中で電荷平
衡型アニオンとして機能する場合、アニオン性置換基またはこれらの断片を前記カチオン
に移し、中性錯体を形成するアニオンを特に指す。「コンパチブルアニオン」は、初めに
形成された錯体が分解する場合、中性に分解せず、そして所望の続く重合またはこの錯体
の他の使用と非干渉性であるアニオンである。
【００７４】
好ましいアニオンは、電荷を担持する金属またはメタロイドコアを含んでなる単一の配
位錯体を含有し、アニオンがこの２つの成分を組み合わせた場合形成され得る活性触媒種
（金属カチオン）の電荷を平衡化可能なものである。また、前記アニオンは、オレフィン
系、ジオレフィン系およびアセチレン型不飽和化合物または他の中性ルイス塩基、例えば
エーテルまたはニトリルによる置換を受けるのに十分可動性でなければならない。好適な
金属は、限定ではないが、アルミニウム、金および白金を含む。好適なメタロイドは、限
定ではないが、ホウ素、リンおよびケイ素を含む。勿論、単一の金属またはメタロイド原
子を含有する配位錯体を含んでなるアニオンを含有する化合物はよく知られ、そして特に
アニオン部分に単一のホウ素原子を含有する多数のこのような化合物は市販されている。
【００７５】
好ましくは、このような共触媒は一般式：
（Ｌ*−Ｈ）g+（Ａ）g-
により表され得る。式中、
Ｌ*は中性ルイス塩基であり；
（Ｌ*−Ｈ）+はＬ*の共役ブレンステッド酸であり；
Ａg-はｇ−の電荷を有する非配位性のコンパチブルアニオンであり；そして
ｇは１〜３の整数である。
【００７６】
更に好ましくはＡg-は式［Ｍ’Ｑ4］-に対応する。式中、
Ｍ’は＋３の形式酸化状態のホウ素またはアルミニウムであり；そして
Ｑは独立して各々の起源でヒドリド、ジアルキルアミド、ハライド、ヒドロカルビル、
ヒドロカルビルオキシド、ハロ置換ヒドロカルビル、ハロ置換ヒドロカルビルオキシおよ
びハロ置換シリルヒドロカルビル基（ペルハロゲン化ヒドロカルビル−、ペルハロゲン化
ヒドロカルビルオキシ−およびペルハロゲン化シリルヒドロカルビル基を含む）から選択
され、多くとも１つにおいて起源がＱハライドであるという前提で前記Ｑは２０個までの
炭素を有する。好適なヒドロカルビルオキシドＱ基の例はＵＳ−Ａ−５，２９６，４３３
で開示されている。
【００７７】
更に好ましい実施形態においては、ｄは１であり、すなわち、この対イオンは単一のマ
イナス電荷を有し、そしてＡ-である。本発明の触媒の作製において特に有用であるホウ
素を含んでなる活性化共触媒は一般式
（Ｌ*−Ｈ）+（ＢＱ4）-
により表され得る。式中、
Ｌ*は前に定義した通りであり；
Ｂは３の形式酸化状態のホウ素であり；
多くとも１つにおいて起源がＱヒドロカルビルであるという前提で、Ｑは２０個までの
非水素原子のヒドロカルビル−、ヒドロカルビルオキシ−、フッ素化ヒドロカルビル−、
フッ素化ヒドロカルビルオキシ−またはフッ素化シリルヒドロカルビル基である。
【００７８】
好ましいルイス塩基塩はアンモニウム塩、更に好ましくは１つまたはそれ以上のＣ12-4
0アルキル基を含有するトリアルキルアンモニウム塩である。最も好ましくは、Ｑは各々
の起源でフッ素化アリール基、特にペンタフルオロフェニル基である。
【００７９】
例示であり、限定ではないが、本発明の改善された触媒で活性化共触媒として使用され
得るホウ素化合物の例は、
トリ置換アンモニウム塩、例えば：
トリメチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリ（ｓｅｃ−ブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート
、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムｎ−ブチルトリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート
、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムベンジルトリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（４−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−２，
３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（４−（トリイソプロピルシリル）−２，３
，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムペンタフルオロフェノキシトリス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
Ｎ，Ｎ−ジメチル−２，４，６−トリメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレート、
ジメチルオクタデシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
メチルジオクタデシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
ジアルキルアンモニウム塩、例えば：
ジ−（ｉ−プロピル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
メチルオクタデシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
メチルオクタドデシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートお
よび
ジオクタデシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート；
トリ置換ホスホニウム塩、例えば：
トリフェニルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
メチルジオクタデシルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートお
よび
トリ（２，６−ジメチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル
）ボレート；
ジ置換オキソニウム塩、例えば：
ジフェニルオキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
ジ（ｏ−トリル）オキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートおよび
ジ（オクタデシル）オキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート；
ジ置換スルホニウム塩、例えば：
ジ（ｏ−トリル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、およ
び
メチルオクタデシルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート
である。
【００８０】
好ましい（Ｌ*−Ｈ）+カチオンはメチルジオクタデシルアンモニウムカチオン、ジメチ
ルオクタデシルアンモニウムカチオンおよび１あるいは２個のＣ14-18アルキル基を含有
するトリアルキルアミンの混合物から誘導されるアンモニウムカチオンである。
【００８１】
別の好適なイオン形成性の活性化共触媒は式：
（Ｏｘh+）g（Ａg-）h
により表されるカチオン性酸化剤と非配位性のコンパチブルアニオンの塩を含んでなる。
式中、
Ｏｘh+はｈ＋の電荷を有するカチオン性酸化剤であり；
ｈは１〜３の整数であり；そして
Ａg-およびｇは以前に定義した通りである。
【００８２】
カチオン性酸化剤の例はフェロセニウム、ヒドロカルビル置換フェロセニウム、Ａｇ+
’またはＰｂ+2を含む。Ａg-の好ましい実施形態は、活性化共触媒、特にテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレートを含有するブレンステッド酸に関して前に定義したアニ
オンである。
【００８３】
別の好適なイオン形成性の活性化共触媒は式：
［Ｃ］+Ａ-
により表されるカルベニウムイオンと非配位性のコンパチブルアニオンの塩である化合物
を含んでなる。式中：
［Ｃ］+はＣ1-20カルベニウムイオンであり；そして
Ａ-は−１の電荷を有する非配位性のコンパチブルアニオンである。好ましいカルベニ
ウムイオンはトリチルカチオン、すなわちトリフェニルメチリウムである。
【００８４】
更なる好適なイオン形成の活性化共触媒は式
（Ｑ13Ｓｉ）+Ａ-
により表されるシリリウムイオンと非配位性のコンパチブルアニオンの塩である化合物を
含んでなる。式中：
Ｑ1はＣ1-10ヒドロカルビルであり、そしてＡ-は前に定義した通りである。
【００８５】
好ましいシリリウム塩活性化共触媒は、トリメチルシリリウムテトラキスペンタフルオ
ロフェニルボレート、トリエチルシリリウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート
およびこれらのエーテル置換付加物である。シリリウム塩はJ. Chem.Soc.Chem.Comm.,199
3,383-384, as well as Lambert, J.B., et al., Organometallics,1994,13,2430-2443で
以前に全般的に開示された。付加重合触媒に対する活性化共触媒としての上記のシリリウ
ム塩の使用はＵＳ−Ａ−５，６２５，０８７で開示されている。
【００８６】
アルコール、メルカプタン、シラノールおよびオキシムのトリス（ペンタフルオロフェ
ニル）ホウ素とのある錯体も有効な触媒活性化剤であり、そして本発明により使用され得
る。このような共触媒はＵＳ−Ａ-５，２９６，４３３で開示されている。
【００８７】
この明細書中での使用に好適な活性化共触媒は、また、ポリマー型あるいはオリゴマー
型アルモキサン、特に各ヒドロカルビルあるいはハロゲン化ヒドロカルビル基中に１〜１
０個の炭素を有するメチルアルモキサン（ＭＡＯ）、トリイソブチルアルミニウム変成メ
チルアルモキサン（ＭＭＡＯ）またはイソブチルアルモキサン；ルイス酸変成アルモキサ
ン、特にペルハロゲン化トリ（ヒドロカルビル）アルミニウム−あるいはペルハロゲン化
トリ（ヒドロカルビル）ホウ素変成アルモキサン、最も特にトリス（ペンタフルオロフェ
ニル）ホウ素変成アルモキサンを含む。このような共触媒は米国特許第６，２１４，７６
０号、第６，１６０，１４６号、第６，１４０，５２１号および第６，６９６，３７９号
で以前に開示されている。
【００８８】
拡張アニオンと一般的に呼ばれ、米国特許第６，３９５，６７１号で更に開示されてい
る非配位性アニオンを含んでなる共触媒の類は、本発明の金属錯体をオレフィン重合のた
めに活性化するのに、好適に使用され得る。一般に、これらの共触媒（イミダゾリド、置
換イミダゾリド、イミダゾリニド、置換イミダゾリニド、ベンズイミダゾリドまたは置換
ベンズイミダゾリドアニオンを有するものにより例示されている）は、
【化２３】
0005579142.tif 000024
の通り図示され得る。式中：
Ａ*+はカチオン、特にプロトン含有カチオンであり、そして好ましくは１個あるいは２
個のＣ10-40アルキル基を含有するトリヒドロカルビルアンモニウムカチオン、特にメチ
ルジ（Ｃ14-20アルキル）アンモニウムカチオンであり、
Ｑ3は独立して各々の起源で、水素またはハロ、水素を数えずに３０個までの原子のヒ
ドロカルビル、ハロカルビル、ハロヒドロカルビル、シリルヒドロカルビルまたはシリル
、（モノ−、ジ−およびトリ（ヒドロカルビル）シリルを含む）基、好ましくはＣ1-20ア
ルキルであり、そして
Ｑ2はトリス（ペンタフルオロフェニル）ボランまたはトリス（ペンタフルオロフェニ
ル）アルマン）である。
【００８９】
これらの触媒活性化剤の例として、
トリヒドロカルビルアンモニウム塩、特に
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）イミダゾリド、
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）−２−ウンデシルイミダゾリド、
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）−２−ヘプタデシルイミダゾリド
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）−４，５−ビス（ウンデシル）イミ
ダゾリド、
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）−４，５−ビス（ヘプタデシル）イ
ミダゾリド、
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）イミダゾリニド、
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）−２−ウンデシルイミダゾリニド、
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）−２−ヘプタデシルイミダゾリニド
、
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）−４，５−ビス（ウンデシル）イミ
ダゾリニド、
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）−４，５−ビス（ヘプタデシル）イ
ミダゾリニド、
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）−５，６−ジメチルベンズイミダゾ
リド、
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）−５，６−ビス（ウンデシル）ベン
ズイミダゾリド、
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）イミダゾリド、
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）−２−ウンデシルイミダゾリド、
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）−２−ヘプタデシルイミダゾリド
、
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）−４，５−ビス（ウンデシル）イ
ミダゾリド、
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）−４，５−ビス（ヘプタデシル）
イミダゾリド、
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）イミダゾリニド、
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）−２−ウンデシルイミダゾリニド
、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）−２−ヘプタデシルイミダゾリニ
ド、
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）−４，５−ビス（ウンデシル）イ
ミダゾリニド、
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）−４，５−ビス（ヘプタデシル）イミダゾリ
ニド、
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）−５，６−ジメチルベンズイミダ
ゾリドおよび
ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）−５，６−ビス（ウンデシル）ベ
ンズイミダゾリド
のメチルジ（Ｃ14-20アルキル）アンモニウム塩を含む。
【００９０】
他の活性化剤はＰＣＴ公報ＷＯ９８／０７５１５に記載されているもの、例えばトリス
（２，２’，２”−ノナフルオロビフェニル）フルオロアルミネートを含む。活性化剤の
組み合わせ物、例えば組み合わせ物におけるアルモキサンおよびイオン化活性化剤も本発
明により意図される。例えば、ＥＰ−Ａ−Ｏ５７３１２０、ＰＣＴ公報ＷＯ９４／０７９
２８およびＷＯ９５／１４０４４および米国特許第５，１５３，１５７号および第５，４
５３，４１０号を参照のこと。ＷＯ９８／０９９９６は、これらの水和物を含めてペルク
ロレート、ペルイオデートおよびイオデートと共の活性化触媒化合物を述べている。ＷＯ
９９／１８１３５は有機ボロアルミニウム活性化剤の使用を述べている。ＷＯ０３／１０
１７１はブレンステッド酸のルイス酸との付加物である触媒活性化剤を述べている。触媒
化合物を活性化するための他の活性化剤または方法は、例えば米国特許第５，８４９，８
５２号、第５，８５９，６５３号、第５，８６９，７２３号、ＥＰ−Ａ−６１５９８１お
よびＰＣＴ公報ＷＯ９８／３２７７５に記載されている。前出の触媒活性化剤のすべてな
らびに遷移金属錯体の任意の他の既知の活性化剤は本発明により単独あるいは組み合わせ
で使用され得る。
【００９１】
重合調整剤
最も一般的な意味における本発明での使用の重合調整剤（ＰＭ）組成物は、少なくとも
２つの試剤、例えば１つまたはそれ以上のルイス酸と１つまたはそれ以上の有機プロトン
化試剤との反応生成物を含んでなる。得られた生成物は、様々の種と動的な相互変換する
化合物の間の平衡を含めて、種の混合物を含有し得るということが当業者により認識され
るべきである。本発明の一つの実施形態においては、精製および／または単離された反応
生成物それ自身よりも前出の試剤を好適な希釈剤、好ましくは炭化水素、例えばヘキサン
またはヘプタン中で組み合わせる時に形成される反応混合物が使用に好ましい。
【００９２】
好適なルイス酸は式：［Ｍ4Ａ1ｘ'Ｇy'］の化合物である。式中、
Ｍ4は２−１３族の金属、Ｇｅ、ＳｎまたはＢｉであり；
Ａ1は独立してアニオン性あるいはポリアニオン性の配位子であり；
ｘ’はゼロよりも大きい数であり、そして６未満であるかそれに等しく；
Ｇは場合によってはＡ1に結合した中性ルイス塩基であり；
ｙ’は０−４の数であり；
ｚ’は１〜１０の数である。
【００９３】
好ましくは、このルイス酸は一般式：Ｍ4Ａ1x'Ｇy'の金属化合物である。式中、Ｍ4は
族２−１３の金属、Ｇｅ、ＳｎまたはＢｉであり；Ａ1は独立してアニオン性配位子であ
り；ｘ’は整数であり、そしてＭ4の原子価に等しく；Ｇは中性ルイス塩基であり；そし
てｙ’は０−４の数である。更に好ましくは、Ｍ4はＭｇ、Ｂ、Ｇａ、ＡｌまたはＺｎで
あり；Ａ1はＣ1−２０ヒドロカルビルまたは不活性置換ヒドロカルビル、特にＣ1-12アル
キルあるいはアリールである。好ましい不活性置換基はハライド、トリメチルシリル、ハ
ロアリールおよびハロアルキルを含む。
【００９４】
本発明で使用されて重合調整剤を形成する有機プロトン化試剤は式［（Ｈ−Ｊ1）z"Ａ2
］z"'の化合物を含む。式中：
Ｊ1はＮＡ3、ＰＡ3、ＳまたはＯであり、
ｚ”は１または２であり、
Ａ2はＣ1-20ヒドロカルビルまたは不活性置換ヒドロカルビル、トリ（Ｃ1-10ヒドロカ
ルビル）シリルまたはこれらの多価誘導体であり、
Ａ3は水素、Ｃ1-20ヒドロカルビルまたは不活性置換ヒドロカルビルまたは共有結合（
Ａ2が二価配位子基であり、そしてｚ”が１である場合には）であり；そして
ｚ’”は１〜１０の数である。
【００９５】
好ましい有機プロトン化試剤は、式（Ｈ−Ｊ1）Z"Ａ2の化合物を含む。式中、Ｊ1はＮ
Ａ3、ＰＡ3、ＳまたはＯであり、そしてｚ”は１または２であり；そしてＡ2はＣ1-20ヒ
ドロカルビルまたは不活性置換ヒドロカルビル、トリ（Ｃ1-4ヒドロカルビル）シリルま
たはこれらの二価誘導体、特にＣ1-12アルキル、１，４−ブチレン、トリ（Ｃ1-4アルキ
ル）シリルまたはアリールであり、そしてＡ3は水素、Ｃ1-20ヒドロカルビルまたは不活
性置換ヒドロカルビルまたは共有結合である。好ましい不活性な置換基はハライド、トリ
メチルシリル、ハロアリールまたはハロアルキルである。
【００９６】
本発明による重合調整剤を使用することにより、１つまたはそれ以上の工程あるいは製
品の性質は有益な影響を受ける。例として、同等の重合条件においてコモノマーを多く、
あるいは少なく組み込むエチレンと、１つまたはそれ以上のコモノマー、特に１−ブテン
、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテンまたはスチレンのコポリマー
を製造する、あるいは別法としては、反応混合物中でより高い重合温度またはより低いコ
モノマー濃度において同等なコポリマーを製造する能力を含む。重合調整剤の使用の別の
有益な特徴は、ホモポリマーおよびコポリマー製品の分子量分布（Ｍｗ／Ｍn）が狭いこ
とあるいは広いことにより決められる製品形成における選択性が大きいこと、あるいは特
定の種、例えば分化された結晶性、溶解性、タクチシティ、融点、メルトフローインデッ
クス、コモノマー含量または他の物理的性質を有するポリマー区分が形成を相対的に欠く
ことあるいは形成が低減することであり得る。ＰＭの使用の更なる望ましい結果は改善さ
れた工程の性質、例えば改善されたモノマーの転換効率であり得る。最終的に、別の実施
形態においては、候補のＰＭ材料は非標準の反応条件下の性能に基づいて評価され得る。
例えば、ＰＭが存在しないと、試剤あるいはモノマー源中の特定の反応試剤または不純物
により、重合効率は悪影響を受け得る。例として、コモノマー、特にガス化（Ｈ2／Ｈ2Ｏ
混合物の反応）により石炭、ピート、セルロース、あるいは他の炭素源と共に、そして得
られた混合物の分留により製造される１−オクテンの使用を含む。
【００９７】
前出の例のすべてにおいて、統計的評価ツールを適用して、個別の重合または他の反応
により生成されるデータを精密化することが望ましい。この方式で、信頼できない、ある
いは欠陥のある結果が除去可能であり、そしてデータ中の傾向が更に容易に確認可能であ
る。望ましくは、統計的に有意な要求に合致するデータ、特に９５パーセント以上の信頼
区間を満たすデータが本発明で使用される。加えて、最適な性能は与えられた性質におけ
る最大あるいは最小値または与えられた間隔（ピーク形成プロフィール）にわたる結果に
より、あるいは試験される変数の範囲にわたっての一定の、減少するあるいは増加する結
果により表され得るということが理解される。
【００９８】
しばしば、ほとんど異ならない重合条件下で多数の候補を評価するために、理論的な重
合モデルまたはこのようなデータから誘導可能な別々な結果または変数に基づいて標準的
な反応条件下で転換値を計算することが必要である。このように、関心のある変数もこの
ような理論的なあるいは計算された結果に基づいて、あるいは多数の変数の組み合わせに
より選択され得る。
【００９９】
この重合調整剤に加えて、慣用の添加物も反応混合物中で１つまたはそれ以上の有益な
結果を得るのに使用され得る。例えば、存在する場合には、反応混合物中に存在する有害
な不純物を除去するのに掃去剤が使用され得る。好適な掃去剤の例として、金属錯体の活
性化を生じるのには不十分である量で使用されるアルモキサン化合物である。特に好まし
いアルモキサンは、Ａｋｚｏ  Ｎｏｂｌｅ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから商品名ＭＭＡＯ
−ＩＰおよびＭＭＡＯ−３Ａで市販されているトリイソプロピルアルミニウム変成メチル
アルモキサンまたはトリイソブチルアルミニウム変成メチルアルモキサンを含む。通常、
使用されるこのような掃去剤のモル量は金属錯体１モル当たり金属（アルミニウム）値基
準で１〜１０モルの範囲にある。
【０１００】
選択方法
「ライブラリー」は、この用語がこの明細書中で使用されるように、化学的多様性また
は工程多様性のいずれかを有する化合物の群を意味する。化学的多様性は、分子または化
合物中の原子またはこれらの配列に関して変わる構成員を有するライブラリーを指す。工
程多様性は、異なる処理条件に曝され、そして異なる工程履歴の結果として異なる化学的
性質を有するか、あるいは有しない構成員を有するライブラリーを指す。異なる処理条件
は、化合物と試剤の比、反応時間、反応温度、反応圧力、反応への出発成分添加の速度、
滞留時間（または製品取り出し速度）、反応雰囲気、混合速度または当業者ならが認識す
るであろう他の条件を変化させることを含む。完璧なコンビナトリアル研究および開発プ
ログラムがオレフィン重合反応に対して企図され得るのは多様性を有するライブラリーの
作製および関心のある性質または化合物に対するこのようなライブラリーのスクリーニン
グによるものである。
【０１０１】
「アレー」は、他のライブラリーまたはライブラリー構成員との組み合わせを促進する
１つまたはそれ以上のライブラリーの構成員の空間的な配置を指す。
【０１０２】
特に、本発明は、触媒組成物としての評価のための様々の経路により遷移金属錯体、こ
れらの共触媒および重合調整剤のライブラリーまたは前出の任意の２つまたはそれ以上の
アレーを合成するための方法および装置を提供する。好ましくは、本発明は、オレフィン
の重合工程あるいは製品の１つまたはそれ以上の態様を最適化あるいは改善する重合調整
剤を同定する方法に関する。触媒組成物のための更なる成分はライブラリーとして配列さ
れるか、あるいは一定の、あるいは標準化された試剤として含まれ得る。特にこの共触媒
または活性化剤が研究あるいはスクリーニング対象の変数の一つである場合には、様々の
技術による活性化された組成物へのこれらの遷移金属錯体の活性化も含まれ得る。遷移金
属錯体、共触媒および／または重合調整剤のライブラリーを作製した後、本発明は、これ
らのアレーの形成および１つまたはそれ以上の得られた性質のスクリーニングに備える。
スクリーニングは、例えばモノマーおよびコモノマーの選択、溶媒、圧力、温度、撹拌速
度、容積、化学量論的な関係および薬品の添加順序を含む、触媒活性について詳細な情報
を様々の反応オプションおよび条件下で提供する一連の個別の重合反応器中であり得る。
このように、単一あるいは多数のライブラリーまたはアレーに対する重合反応条件のいず
れかを「コンビナトリアル化する」ように選択され得る。このことは、様々のライブラリ
ーの個別の構成員が組み合わされ、そして場合によっては１つまたはそれ以上の工程段階
にかけられて、触媒組成物を最終的に形成し、１つまたはそれ以上のオレフィン重合性、
ポリマーの性質または他の性能の性質について試験されるということを意味する。この付
加重合コンビナトリアル法における任意的な段階は、個別の重合反応器中でのスクリーニ
ングの前の一次スクリーンを含み得る。一次スクリーンは、例えばこの触媒ライブラリー
のいずれの構成員が均一な溶液を構成するかを簡単に決める光学的なスクリーニングを含
んでなる。別の任意的な段階は、重合反応器中で形成される得られたポリマーを更に特徴
付けることである。このような更なるスクリーニングは、迅速な液体クロマトグラフィお
よび／または光散乱系または得られたポリマーの化学的、物理的あるいは機械的性質の決
定を使用し得る。
【０１０３】
前駆体ライブラリー、プロ触媒ライブラリー、触媒ライブラリー、これから形成される
アレーまたは製品ライブラリーの構成員は、通常、空間的にアドレス可能なフォーマット
で保存あるいは提供され、各化合物または混合物が通常、液体の形態、例えば溶液または
スラリーで他から分離され、そして密封されたバイアル中に保持されるということを意味
する。様々のライブラリーの形成において使用される成分、試剤または溶媒の腐食性の性
状により、個別バイアル、すべての反応容器および更にはコンビナトリアル装置全体は好
ましくは不活性雰囲気条件下で保持される。すべての操作は不活性雰囲気または高真空条
件下で行われる。
【０１０４】
触媒組成物ライブラリーの各構成員が異なる反応により、あるいは異なる反応条件下で
、あるいは異なる反応と反応条件の組み合わせにより同一の親ライブラリー構成員から作
られるように、プロ触媒ライブラリーを作り出す一つのオプションは、遷移金属錯体、共
触媒および／または重合調整剤ライブラリーのストック溶液の生成を含み得る。好ましい
実施形態においては、遷移金属錯体ライブラリー、共触媒ライブラリーおよび重合調整剤
ライブラリーは、液体の形態で提供され、例えば各化合物は、好ましくは液体、例えば炭
化水素、ハロ炭素またはハロ炭化水素中の希薄な形態であるいはスラリー（例えば、固体
触媒担体が含まれる場合）として別々の容器中に保存される。好ましくは、親ライブラリ
ーを含んでなる化合物または混合物は、既知の液体取り扱いロボットのロボットアームで
あり得る針が貫通することができるセプタムまたは他のシール機構を有するバイアル中に
保存されるか、あるいは関心のある重合の前に、あるいはそれと同時にこのような成分の
組み合わせにより作製される。
【０１０５】
様々の触媒組成物が他のライブラリーまたは標準の組み合わせ物から形成されて、アレ
ーを形成し得る。好ましい実施形態においては、触媒前駆体ライブラリーからの少なくと
も１つの構成員は少なくとも１つの共触媒および１つの重合調整剤と組み合わされる。別
法としては、ランダムあるいは非ランダム変動を求める目的で１つまたはそれ以上のアレ
ー構成員の繰り返しを場合によっては含む、統計的なアプローチを使用して、試験対象の
様々の成分をランダム化し得る。極めて望ましくは、このライブラリーが組み合わされ、
そして少なくとも８個の、好ましくは少なくとも２４個の、更に好ましくは少なくとも３
２個の、そして最も好ましくは少なくとも４８個の触媒ライブラリー構成員または得られ
たアレーの重合工程構成員を形成するように、反応条件が変動される。
【０１０６】
いくつかの実施形態においては、実際に、生成物が得られたならば、このような組み合
わせ物の生成物を決定せずに、様々の化合物、特にＰＭ成分が組み合わされ得る。金属錯
体、共触媒および重合調整剤は反応容器に同時にあるいは順次に添加され得る。これらは
関心のある反応において使用される任意の更なる反応試剤またはモノマーの添加の前、一
緒に、あるいは続いて添加され得る。別法として、この化合物の一部または全部は、続く
工程における使用前に予備反応あるいは組み合わせおよび回収あるいは精製され得る。前
出の工程のすべてにおいて、任意の単一あるいは多数の組み合わせの物の結果は決められ
る必要はない。
【０１０７】
製品ライブラリー（触媒組成物またはポリマー）は、関心のある反応において工程変数
をコンビナトリアル化することから得られる異なる構成員を有し得る。コンビナトリアル
化され得る工程変数は、タイプ、量および出発成分の比、反応時間、反応温度、反応圧力
、反応（または反応器）への出発成分添加の速度および／または方法、滞留時間（すなわ
ち、反応または反応器からの製品取り出しの速度および／または方法）、反応撹拌速度お
よび／または方法、反応停止速度および／または方法、反応雰囲気および当業者が認識す
るであろう他の条件を含む。
【０１０８】
当業者ならば、前駆体、調整剤、活性化剤または一緒に組み合わされて、触媒組成物ラ
イブラリーを形成し得る他の出発成分の膨大な数の異なる可能な組み合わせを認識するで
あろう。加えて、この組み合わせ法は、異なる出発成分比、異なる温度、溶媒、圧力、混
合速度、時間、薬品の添加順序または雰囲気を含む様々の反応条件の組み合わせと組み合
わされて、広範な製品ライブラリーを形成し得る。
【０１０９】
本発明の方法論においては、ライブラリーは関心のある性質または化合物を求めてスク
リーニングされる。このスクリーニングは関心のある反応がリアルタイムで、あるいは反
応の後に行われるときに行われる。この明細書で使用されるように、「スクリーニング」
は、１つまたはそれ以上の製品あるいは工程変数、好ましくは付加重合条件下での１つま
たはそれ以上の工程変数を測定することにより、所望の性質を求めてライブラリーを試験
することを指す。１つまたはそれ以上の工程変数のスクリーニングは、所望ならば、関心
のある製品の性質の評価と組み合わせ得る。例えば、重合反応器、特に溶液重合反応器中
で行われる重合反応は、モノマー消費、温度上昇および／または圧力、粘度、粒子サイズ
あるいは色のにより評価可能であり、そしてこれらの結果は１つまたはそれ以上のポリマ
ーの性質と個別に、あるいはまとめて相関付けられる。オンライン工程データとこのよう
に関連付けられ得る好適なポリマー性質の例として、分子量、分子量分布、コモノマー含
量、結晶性融点、メルトインデックス、フローインデックスまたはメルトフローの性質、
タクチシティ、溶解性、密度などを含む。
【０１１０】
様々のライブラリーの各々は、液体あるいは液体の状態で保存され、そして組み合わせ
、娘ライブラリー化、関心のある反応の実施、スクリーニングあるいはこれらの組み合わ
せのために保存から取り出され得る。ライブラリーは、ライブラリーを相互に別々に保持
する保存ラック中で好ましくは保存される。ライブラリーは既知の自動化ロボットを用い
て保存から手動あるいは自動で取り出され得る。このような保存されたライブラリーの取
り出しに有用な特定なロボットは、Ａｕｒｏｒａ  Ｂｉｏｓｃｉｅｎｃｅｓまたは他の既
知のロボット供給元から販売されているものないずれの系を含む。ライブラリーを固相で
保存する場合には、構成員は、通常、溶解あるいはスラリー化を必要とし、これは、溶解
あるいはスラリー化ステーションで、あるいは十分な容積がライブラリー保存に提供され
る場合には、試料を保持する容器または小室中で行われ得る。希釈ステーションは、ライ
ブラリー構成員を好適な溶媒に溶解させるか、あるいは関心のある反応またはスクリーニ
ングで使用する前にライブラリー構成員の濃厚溶液を希釈する場所である。
【０１１１】
各遷移金属錯体、共触媒、重合調整剤あるいは触媒組成物のライブラリーは、アレーの
形成により１つまたはそれ以上の娘ライブラリーに転換され得る。娘ライブラリーは、親
ライブラリー中の１つまたはそれ以上の構成員から１つまたはそれ以上のアリコートを採
取し、そして場合によっては、親ライブラリーとは異なる条件で処理するか、あるいは別
な方法で転換して、第２のライブラリーを形成することにより、親ライブラリーから作り
出される。親ライブラリーの限定された数の構成員はこの方式で娘ライブラリー化され得
、あるいはすべての構成員は娘ライブラリー化されて、少なくとも一度娘ライブラリーを
作り出し得る。このように、娘ライブラリーは、構成員の数および試料サイズの点で親ラ
イブラリーよりも小さいか、同じサイズであるか、あるいはより大きくともよい。親ライ
ブラリーの再現を必要とせずに関心のあるマルチ反応のマルチライブラリーまたはマルチ
スクリーニングを提供するために、娘ライブラリー化が行われる。
【０１１２】
この明細書で使用されるように、「ステーション」は、ライブラリーの構成員に対する
１つまたはそれ以上の機能を行う装置における場所である。この機能は、出発成分を組み
合わせること、反応により製品ライブラリーを作り出すこと、スクリーニング、精製、分
離または上述の他の機能のいずれかを行うことであり得る。このように、このステーショ
ンは、ポンプとコンピューター付きの液体取り扱いロボット（当分野で知られているよう
に）を含んでなり、分注、溶解、混合および／または一つの容器から他の容器へ液体を移
す。
【０１１３】
このステーションは、上述の反応器のいずれかを含んでなり得、そして所望ならば装置
の残部から離して、例えば不活性雰囲気グローブボックス中に配置され得る。ステーショ
ンは、また、所望ならば装置のクリーニング、再コンディショニングまたは再設定により
場合によっては分離されて、マルチ機能も行い得る。
【０１１４】
場合によっては、濾過ステーションが設けられる。濾過ステーションは、液体生成物ま
たは組成物から固相試剤あるいは生成物を分離するのに有用である。例えば、固相副生成
物が得られた場合には、このようなステーションは濾過段階におけるあらゆる液相成分の
分離も可能とする。別法としては、可溶性の反応生成物がこの明細書での更なる使用に所
望される場合には、所望されない副生成物の除去に濾過が使用され得る。望ましくは、こ
の濾過ステーションは、各濾過後元の工程条件に戻すことにより多数回使用可能である。
【０１１５】
濾過ステーションは、金属錯体、共触媒および重合調整剤のライブラリーの合成におけ
る容易さをもたらす。触媒組成物の様々の成分は、様々の試剤、溶媒および重合調整剤を
組み合わせ、そして過剰の試剤あるいは副生成物を除去しながら、単一の反応器中で液相
または液相で提供され得る。この技術は、一般に、過剰な任意の試剤あるいは溶媒の使用
、容易な精製または仕上げおよび工程の自動化を可能とする。
【０１１６】
この明細書中で有用なスクリーニングに好適な技術は、ＷＯ９８／１５８１５またはＷ
Ｏ９８／１５８０５で開示されているように、赤外（ＩＲ）サーモグラフィまたはフーリ
エ変換赤外（ＦＴＩＲ）分光法または可視光あるいは他の光学的観察を含む。光学的方法
を使用することは、通常、出発材料（すなわち、反応試剤および／またはモノマーを入れ
た触媒組成物ライブラリー構成員）をアレー構成でチャンバー（例えば、真空チャンバー
または反応試剤モノマーにより加圧されたチャンバーまたは不活性ガスにより加圧された
チャンバー）の中に挿入することを伴う。触媒構成員または製品構成員の出発材料のため
にマルチウエルを有するプレート（例えばミクロタイタープレート）を用いて、関心のあ
る反応はチャンバー中で平行して、あるいは個別的に行われる。このチャンバーは光学カ
メラに不可視（例えばＩＲカメラにはフッ化カルシウムまたはサファイア結晶を使用する
ことにより）である窓を有する。関心のある反応を行いながら、この反応をモニターする
。例えば、ＩＲカメラまたは熱電対は反応により放出される熱を記録し得る。工程条件を
モニターするための好ましい方法は、通常、１つまたはそれ以上のモノマーの流れまたは
密封された反応器中の圧力損失または重合条件下で運転される密封された反応器内の時間
と共の圧力減少を測定することにより、１つまたはそれ以上のモノマーの消費を測定する
ことである。
【０１１７】
広範で多様な重合条件へに本発明の適用性は広いために、コンビナトリアルアプローチ
を使用して、異なる付加重合反応での使用に最適な触媒組成物を同定することができる。
本発明のコンビナトリアルアプローチの利点は、金属錯体、共触媒および重合調整剤の選
択が特定の重合条件に合わされ得るということである。
【０１１８】
本発明のスクリーニング操作で使用される重合のスケールは、使用される装置によって
所望のように改変可能であるが、遷移金属錯体、共触媒および重合調整剤を好ましくは０
．０１μｇ〜１．０ｇの、更に好ましくは０．１μｇと０．１ｇの間の量で使用する。当
業者ならば、関心のあるライブラリーを生成および／または評価するように反応および反
応条件の適切な組（１つまたはそれ以上の不純物の添加を含む）を容易に決めることがで
きる。
【０１１９】
様々のライブラリーの構成員は、マルチ・チューブアレーまたはマルチ・ウエルプレー
ト中で、好ましくはアレーの形態で論理的あるいはランダムな様式で配列可能である。好
ましくは、この液体は関心のある化合物または混合物の希薄な溶液あるいはスラリーであ
る。好ましい実施形態においては、Ａ×Ｂアレーは関心のある金属錯体、共触媒および重
合調整剤の様々の組み合わせにより作製される。しかしながら、場合によっては異なる重
合温度、濃度、圧力、モノマーまたは他の反応条件において単一の遷移金属錯体または共
触媒を複数の重合調整剤、モノマー、不純物または他の添加物について評価し、そして次
に工程を複数の異なる主題化合物について所望のように繰り返すことも可能である。
【０１２０】
関心のある反応条件下でのライブラリー構成員、試剤または工程条件の特別な組み合わ
せの性能が測定され、そして試験される特定の組み合わせに関連付けられる。非標準条件
、系統的変動または他の変数を補償するためのこのデータの調整が適用可能である。加え
て、統計的分析を行って、生データを操作し、そしてデータ変動の存在を決め得る。この
アレーは、所望ならば、合成および／または評価を迅速に処理し、この試験から得られる
情報容量を最大とし、あるいはこのようなデータの迅速な評価を容易にする様式で配列可
能である。化合物のライブラリーを組織化する方法は当業者にはよく知られていて、例え
ば米国特許第５，７１２，１７１号に記載されている。このような方法は、この明細書中
に記載されている化合物および工程パラメーターによる使用に容易に適合可能である。
【０１２１】
遷移金属錯体、共触媒、重合調整剤または得られた触媒組成物のマルチ合成の変動をス
クリーニングすることにより、最適候補の選択が迅速に決定され得る。様々のライブラリ
ーあるいは娘ライブラリーの構成員の所望の物理的および化学的性質は、迅速に最適化可
能であり、そして特別なアレーまたはサブアレー内の化学的あるいは物理的変化と直接に
関連付け可能である。
【０１２２】
ライブラリー中の様々の構成員を使用する重合は、一般に、マルチ・チューブラックま
たはタイタープレート上のマルチ・ウエルプレート中のチューブまたはウエル中で、ある
いは不活性担持材料のマトリックス中で重合条件下で最適なこれらの混合物を接触させ、
そして１つまたはそれ以上の工程変数、特に熱発生またはモノマー消費をモニターしなが
ら付加重合反応を起こさせることを含む。関心のある重合におけるガス状流れをモニター
することは容易であり、精確であるために、熱発生と場合によっては関連付けられるエチ
レン消費は、この明細書中でのスクリーニングに最も所望される工程変数である。ポリマ
ーの性質、特にタクチシティ、分子量またはコモノマー組成物の二次スクリーニングは、
本発明による工程データと更に場合によっては関連付けられる。
【０１２３】
適切な重合反応器、例えばマルチ・チューブラック中のチューブまたはマルチ・ウエル
プレート中のウエルに適切な試剤を添加するのに、ロボットアームとマルチ・ピペット器
具が普通に使用される。別法としては、しかしながら望ましくないこととして、主題の重
合を行うのに普通の重合反応器が順次使用可能である。望ましいこととして、汚染を避け
るために、このチューブはゴムセプタムまたは類似のカバーにより被覆され、そして試剤
はこのカバーから挿入された針から添加される。前出の操作に好適な工程装置は、米国特
許第６，０３０，９１７号、第６，２４８，５４０号およびＥＰ−Ａ−９７８，４９９で
以前に開示された。
【０１２４】
一つの実施形態においては、この重合はコンピューター制御により行われる。ライブラ
リーの化合物の各々の同定は、コンピューターで「メモリーマップ」または重合に関する
データを関連付けるための他の手段中に保存可能である。別法としては、この化学は好ま
しくはマルチ・チューブラックまたはマルチ・ウエルプレート中で手動で実施可能であり
、そして得られた情報は所望ならば例えばコンピューター上で保存される。
【０１２５】
コンビナトリアル化学で普通に使用されるマルチ・ウエルプレートまたはマルチ・チュ
ーブアレーのいずれのタイプも使用可能である。好ましくは、ウエルまたはチューブの数
は３０を超え、そして各マルチ・チューブアレー中の位置の少なくとも６０パーセントの
チューブがある。このラックの形状は重要でないが、好ましくはラックは正方形あるいは
長方形である。このチューブは、例えばプラスチック、ガラスまたは不活性金属、例えば
ステンレススチールで製造可能である。重合スクリーンニングで使用される温度は望まし
いこととして１００℃を超えて、更に好ましくは１１０℃を超えて、比較的高いために、
好ましくはガラスまたは金属、そして最も好ましくはステンレススチールの反応器が使用
される。
【０１２６】
アレーのウエルおよび／またはチューブに試剤を添加し、あるいは試剤を除去すること
ができる液体取り扱い装置のあらゆるタイプも使用可能である。多数のこのような取り扱
い装置はロボットアームとロボット器具の使用を含む。好適な器具はコンビナトリアル化
学の当業者によく知られている。個別のセルは、また、望ましくは、液体試剤、生成物ま
たは副生成物を除去し、セル中に固体生成物または試剤を残すことができる濾過手段を有
するか、あるいはそれにアクセス可能である。ポリマー製品の単離は、市販の遠心揮発分
除去装置または蒸発器を用いて実施可能であり、そしてこの工程の自動化された手順の一
部である必要はない。
【０１２７】
重合反応器から試料を採取し、そしてこの内容物を分析することができるあらゆる器具
も製品スクリーニングに使用可能である。例として、クロマトグラフ装置、例えば分析用
あるいは合成用スケールの高性能液体クロマトグラフィ（ＨＰＬＣ）、ＧＣまたはカラム
クロマトグラフィを含む。ポリマーの性質の分析のために、簡単な溶液粘度、メルト粘度
、1ＨＮＭＲ、13ＣＮＭＲ、ＦＴＩＲ、キシレン溶解性（ＸＳ）試験または他の普通の分
析法がポリマーの性質の測定に使用され得る。
【０１２８】
好ましくは、クロマトグラフカラム（ＨＰＬＣ、ＧＣまたはカラムクロマトグラフィ）
を使用する実施形態においては、関心のある化合物がカラムから溶出する場合、この装置
は同定する能力を有する。関心のある化合物がカラムから溶出する場合、様々の手段が同
定するのに普通に使用されてきて、これらは、紫外（ＵＶ）、赤外（ＩＲ）、薄層クロマ
トグラフィ（ＴＬＣ）、ガスクロマトグラフィ−質量分析法（ＧＣ−ＭＳ）、フレームイ
オン化検出器（ＦＩＤ）、核磁気共鳴（ＮＭＲ）および蒸発型光散乱検出器（ＥＬＳＤ）
を含む。これらの手段のいずれかおよび当業者に既知の他の手段も単独で、あるいは組み
合わせで使用可能である。
【０１２９】
本発明は、ライブラリー中の化合物と混合物および重合から得られる製品流の同定を保
存する能力のあるコンピューターシステムを好ましくは含む。データを管理するソフトウ
エアはコンピュータ上に保存される。各重合で使用される化合物と結果の同定を関連付け
るのに、リレーショナルデータベースソフトウエアが使用可能である。この目的の多数の
市販のリレーショナルデータベースソフトウエアプログラムが入手可能であり、当業者に
は既知である。リレーショナルデータベースソフトウエアはこの明細書中に記載されてい
る工程時に得られるデータの管理に好ましいタイプのソフトウエアであるが、試験化合物
の「メモリーマップ」を作り出し、そしてこの情報を重合から得られる情報と関連付ける
ことができるあらゆるソフトウエアも使用可能である。
【０１３０】
本発明は１つまたはそれ以上の付加重合性モノマーの重合に関して有益に使用される。
好ましい付加重合性モノマーはエチレン型不飽和モノマー、アセチレン系化合物、共役あ
るいは非共役ジエンおよびポリエンを含む。好ましいモノマーは、オレフィン、特に２〜
２０，０００個の、好ましくは２〜２０個の、更に好ましくは２〜８個の炭素原子を有す
るα−オレフィン、２個以上のこのようなアルファ−オレフィンの組み合わせ物および１
個以上のこのようなα−オレフィンの１つまたはそれ以上のジオレフィンの組み合わせ物
を含む。特に好適なα−オレフィンは、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテ
ン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネ
ン、１−デセン、１−ウンデセン、１−ドデセン、１−トリデセン、１−テトラデセン、
１−ペンタデセンおよびこれらの組み合わせ物を含む。他の好ましい付加重合性モノマー
は、スチレン、ハロ−あるいはアルキル置換スチレン、テトラフルオロエチレン、ビニル
シクロブテン、１，４−ヘキサジエン、ジシクロペンタジエン、エチリデンノルボルネン
および１，７−オクタジエンを含む。
【０１３１】
この発明の次の特定の実施形態が特に望ましく、添付クレームについての特定の開示を
与えるためにここに記載される：
１．１つまたはそれ以上の付加重合性モノマーの均一な付加重合で使用する触媒組成物
を同定するための方法であって、前記触媒組成物が元素周期律表の３−１１族の金属の触
媒前駆体化合物、共触媒および１つまたはそれ以上のポリマーまたは工程の性質を改善可
能な重合調整剤を含んでなり、前記方法が
Ａ）元素周期律表の３−１１族の金属を含んでなる複数の触媒前駆体化合物ｉ）；触
媒前駆体化合物を活性な重合触媒に変換する能力のある少なくとも１つの共触媒ｉｉ）；
および重合調整剤ｉｉｉ）として評価対象とされる少なくとも１つの化合物を含んでなる
複数の触媒前駆体化合物、を含んでなる少なくとも１つのライブラリーを準備すること；
Ｂ）これらと１つまたはそれ以上の共触媒ｉｉ）および１つまたはそれ以上の重合調
整剤ｉｉｉ）との反応により、多数のこの触媒前駆体化合物ｉ）を重合性について試験対
象とされる組成物に順次変換すること；
Ｃ）段階Ｂ）の得られた組成物またはこれらの一部を１つまたはそれ以上の付加重合
性モノマーとオレフィン付加重合条件下で重合反応器中で接触させること；
Ｄ）関心のある少なくとも１つの工程変数または製品変数を測定すること；および
Ｅ）前記少なくとも１つの工程変数または製品変数を参照することにより、関心のあ
る触媒組成物を選択すること
を含んでなり、２つまたはそれ以上の出発試剤の間の反応によりこの重合調整剤ｉｉｉ）
を使用前に製造することを特徴とする方法。
【０１３２】
２．１つまたはそれ以上の付加重合性モノマーの均一な付加重合で使用する触媒組成物
を同定するための方法であって、前記触媒組成物が元素周期律表の３−１１族の金属の触
媒前駆体化合物、共触媒および１つまたはそれ以上のポリマーまたは工程の性質を改善す
る能力のある重合調整剤を含んでなり、前記方法が
Ａ）元素周期律表の３−１１族の金属を含んでなる少なくとも１つの触媒前駆体化合
物ｉ）；触媒前駆体化合物ｉ）を活性な重合触媒に変換するために評価対象とする複数の
候補共触媒ｉｉ）を含んでなる少なくとも１つのライブラリー；および重合調整剤として
評価対象とされる少なくとも１つの化合物ｉｉｉ）を準備すること；
Ｂ）多数のこの共触媒化合物ｉｉ）を順次使用して、これらと１つまたはそれ以上の
触媒ｉ）および１つまたはそれ以上の重合調整剤ｉｉｉ）との反応により、重合性につい
て試験対象とする組成物を作製すること；
Ｃ）この得られた組成物またはこれらの一部を１つまたはそれ以上の付加重合性モノ
マーとオレフィン付加重合条件下で重合反応器中で接触させること；
Ｄ）関心のある少なくとも１つの工程変数または製品変数を測定すること；および
Ｅ）前記少なくとも１つの工程変数または製品変数を参照することにより、関心のあ
る触媒組成物を選択すること
を含んでなり、２つまたはそれ以上の出発試剤の間の反応によりこの重合調整剤ｉｉｉ）
を使用前に製造することを特徴とする方法。
【０１３３】
３．１つまたはそれ以上の付加重合性モノマーの均一な付加重合で使用する触媒組成物
を同定するための方法であって、前記触媒組成物が元素周期律表の３−１１族の金属の触
媒前駆体化合物、共触媒および１つまたはそれ以上のポリマーまたは工程の性質を改善す
る能力のある重合調整剤を含んでなり、前記方法が
Ａ）元素周期律表の３−１１族の金属を含んでなる少なくとも１つの触媒前駆体化合
物ｉ）；触媒前駆体化合物ｉ）を活性な重合触媒に変換可能な少なくとも１つの共触媒ｉ
ｉ）；および重合調整剤として評価対象とされる複数の候補化合物ｉｉｉ）を含んでなる
少なくとも１つのライブラリーを準備すること；
Ｂ）多数のこの候補重合調整剤化合物ｉｉｉ）を順次使用して、これらと１つまたは
それ以上の触媒ｉ）および１つまたはそれ以上の共触媒ｉｉ）との反応により、重合性に
ついて試験対象とされる組成物を作製すること；
Ｃ）この得られた組成物またはこれらの一部を１つまたはそれ以上の付加重合性モノ
マーとオレフィン付加重合条件下で重合反応器中で接触させること；
Ｄ）関心のある少なくとも１つの工程変数または製品変数を測定すること；および
Ｅ）前記少なくとも１つの工程変数または製品変数を参照することにより、関心のあ
る触媒組成物を選択すること
を含んでなり、２つまたはそれ以上の出発試剤の間の反応によりこの重合調整剤ｉｉｉ）
を使用前に製造することを特徴とする方法。
【０１３４】
４．この重合調整剤が式［Ｍ4Ａ1x'Ｇy'］z'
（式中、
Ｍ4は２−１３族の金属、Ｇｅ、Ｓｎ、またはＢｉであり；
Ａ1は独立してアニオン性あるいはポリアニオン性の配位子であり；
ｘ’はゼロよりも大きく、そして６未満あるいは６に等しい数であり；
Ｇは場合によってはＡ1に結合した、中性ルイス塩基であり；
ｙ’は０−４の数であり；
ｚ’は１〜１０の数である）
の１つまたはそれ以上の金属化合物と
式［（Ｈ−Ｊ1）z"Ａ2］z"'
（式中、
Ｊ1はＮＡ3、ＰＡ3、ＳまたはＯであり；
ｚ”は１または２であり；
Ａ2はＣ1-20ヒドロカルビルまたは不活性置換ヒドロカルビルまたはこれらの多価誘導
体であり；
Ａ3は水素、Ｃ1-20ヒドロカルビルまたは不活性置換ヒドロカルビルまたは共有結合（
Ａ2が二価配位子の基であり、そしてｚ”が１である場合には）；そして
ｚ’”は１〜１０の数である）
の１つまたはそれ以上の化合物とを反応させることにより作製される、第一実施形態から
第三実施形態のいずれか一項に記載の方法。
【０１３５】
５．この重合調整剤が溶液中で作製され、そして単離または精製せずに使用される、第
四実施形態に記載の方法。
【０１３６】
６．この重合調整剤がこの出発試剤の炭化水素溶液を接触させることにより作製される
、第五実施形態に記載の方法。
【０１３７】
７．段階Ｃ）が重合調整剤溶液、モノマー、３−１１族金属錯体および共触媒を任意の
順序で、あるいは任意のこれらの下位組み合わせ物を形成することにより組み合わせるこ
とを含んでなる、第六実施形態に記載の方法。
【０１３８】
８．この共触媒がアルモキサン、トリ（フルオロアリール）ボランまたはテトラ（フル
オロフェニル）ボレートのアンモニウム塩を含んでなる、第四実施形態に記載の方法。
【０１３９】
９．エチレン、プロピレン、エチレンとプロピレンの組み合わせ物または前出のものの
いずれかと、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、ス
チレンまたはエチリデンノルボルネンの組み合わせ物が共重合される、第八実施形態に記
載の方法。
【０１４０】
１０．この触媒が（１Ｈ−シクロペンタ［ｌ］フェナントレン−２−イル）ジメチル（
ｔ−ブチルアミド）シランチタンジメチルを含んでなり、この共触媒がテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレートのトリアルキルアンモニウム塩を含んでなり、そしてエチ
レンとスチレンの混合物が共重合される、第九実施形態に記載の方法。
【０１４１】
１１．この共触媒がメチルジ（Ｃ14-18アルキル）アンモニウムテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレート塩の混合物を含んでなる、第八実施形態に記載の方法。
【０１４２】
１２．工程変数と製品変数から選択される少なくとも２つの変数を参照することにより
、関心のある触媒組成物が選択される、第四実施形態に記載の方法。
【０１４３】
１３．この工程変数が高い触媒効率、モノマー消費、高い重合温度での改善された触媒
効率および遷移金属化合物に対する重合調整剤のモル比の増加にともなう生産性の漸増ま
たは増加であり；そしてこの製品変数が高結晶性ポリマー区分の形成の低下またはエチレ
ンと少なくとも１つの共重合性コモノマーのコポリマー中へのコモノマーの組み込みの増
加である、第十二実施形態に記載の方法。
【０１４４】
１４．この工程段階のすべてがコンピューター制御されたロボット処理により同一の反
応器容器中で行われ、そしてこのスクリーニング結果が少なくとも１つのメモリー素子に
保存される、第四実施形態に記載の方法。
【０１４５】
１５．Ａ×ＢアレーのＡ軸の形成にこのライブラリーが使用され、そして前記Ａ×Ｂア
レーのＢ軸の形成に組成または工程条件の第２の選択が使用され、そして前記Ａ×Ｂアレ
ーの二次元の対の組の中から関心のある性質を選択するのにリレーショナルデータベース
ソフトウエアが使用される、第十四実施形態に記載の方法。
【０１４６】
１６．測定される工程変数がこの重合時に消費される少なくとも１つのモノマーの量で
ある、第四実施形態に記載の方法。
【０１４７】
１７．段階ｄ）において関心のある性質が下記の重合モデル
〜Ｃ*r＋Ｍ→〜Ｃ*r+1      ｋp          ガス状モノマー伝播
〜Ｃ*r→ＤＣ                ｋd          活性点不活性化
（式中、
〜Ｃ*rは鎖長ｒの成長鎖であり、
Ｍはモノマーであり、
ＤＣは不活性化したポリマー鎖であり、
ｋpはガス状モノマーの成長速度定数であり、そして
ｋdは活性点不活性化速度定数である）
に基づき、式：
【数２】
0005579142.tif 000025
（式中、
［Ｍ］液体は液相中のガス状モノマー濃度であり、そして
［Ｃ］0はｔ＝０における触媒の初期濃度である）
によりＬｅｖｅｎｂｅｒｇ−Ｍａｒｑｕａｒｔ非線形回帰法により求めて、時間（ｔ秒で
の）に対する全ガス状モノマー吸収として計算される、３００秒後の計算された転換率で
ある、第一実施形態に記載の方法。
【０１４８】
１８．この３００秒のモノマー吸収がこの重合調整剤の代わりにトリイソブチルアルミ
ニウムで変成されたメチルアルモキサン（ＭＭＡＯ）を５：１のＭＭＡＯ：Ｔｉモル比で
用いた対応する値よりも大きい、第十七実施形態に記載の方法。
【０１４９】
１９．少なくとも１つのオレフィンモノマーとスチレンを含んでなる重合性混合物を重
合条件下で遷移金属錯体、共触媒および重合調整剤を含んでなる触媒組成物と接触させる
ことにより、オレフィンを重合させるプロセスであって、この重合調整剤がエチルアルミ
ニウムビス（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミド）およびジ（２，７−ジメチル−６−オクテン−
１−イル）アルミニウムＮ，Ｎ−ジフェニルアミドからなる群から選択されることを特徴
とするプロセス。
【０１５０】
２０．この金属錯体が４族金属錯体であり、そしてこの共触媒がルイス酸または非配位
性コンパチブルアニオンのトリヒドロカルビルアンモニウム塩である、第十九実施形態に
記載のプロセス。
【０１５１】
２１．エチレンとスチレンを含んでなる混合物を重合条件下で金属錯体、共触媒および
重合調整剤を含んでなる触媒組成物と接触させることにより、擬ランダムコポリマーを形
成するエチレンとスチレンを共重合させるプロセスであって、
この金属錯体が（１Ｈ−シクロペンタ［ｌ］フェナントレン−２−イル）ジメチル（ｔ
−ブチルアミド）シランチタンジメチルを含んでなり；
この共触媒がトリス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素またはテトラキス（ペンタフル
オロフェニル）ボレートトリアルキルアンモニウム塩を含んでなり；そして
この重合調整剤がエチルアルミニウムビス（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミド）およびジ（２
，７−ジメチル−６−オクテン−１−イル）アルミニウムＮ，Ｎ−ジフェニルアミドから
なる群から選択されることを特徴とするプロセス。
【０１５２】
２２．エチレンと１−オクテンを含んでなる混合物を重合条件下で金属錯体、共触媒お
よび重合調整剤を含んでなる触媒組成物と接触させることにより、コポリマーを形成する
エチレンと１−オクテンを共重合させるプロセスであって、
この金属錯体がチタンの３−アミノ−置換インデン−１−イル錯体を含んでなり；
この共触媒がトリス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素またはテトラキス（ペンタフル
オロフェニル）ボレートのトリアルキルアンモニウム塩を含んでなり；そして
この重合調整剤がｔ−ブタノールとトリオクチルアルミニウムとの１：１モルの反応生
成物；２，６−ジフェニルフェノール、２，６−ジ（ｔ−ブチル）−４−メチルフェノー
ル、フェノールおよびｔ−ブチルジ（メチル）ヒドロキシシランとトリイソブチルアルミ
ニウムとの１：１モルの反応生成物；ジ（ｎ−ペンチル）アミンとトリイソブチルアルミ
ニウムとの２：１モルの反応生成物；２，６−ジフェニルフェノールおよびｔ−ブチルジ
（メチル）ヒドロキシシランとトリエチルアルミニウムとの２：１モルの反応生成物；２
，６−ジフェニルフェノール、２，６−ジ（ｔ−ブチル）−４−メチルフェノール、フェ
ノール、ｔ−ブタノール、１−ドデカノール、ｔ−ブチルジ（メチル）ヒドロキシシラン
およびｐ−メトキシフェノールとトリオクチルアルミニウムとの１：１モルの反応生成物
；および２，６−ジフェニルフェノール、２，６−ジ（ｔ−ブチル）−４−メチルフェノ
ールおよびｔ−ブチルジ（メチル）ヒドロキシシランとトリ（オクチル）アルミニウムと
の２：１モルの反応生成物からなる群から選択される化合物を含んでなることを特徴とす
るプロセス。
【０１５３】
２３．この金属錯体が（Ｎ−１，１−ジメチルエチル）−１，１−ジメチル−１−（（
１，２，３，３ａ，７ａ−η）−３−（テトラヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）−１
Η−インデン−１−イル）シラナミナト−（２−）−Ｎ−）−チタン（ＩＩ）１，３−ペ
ンタジエンまたは（Ｎ−１，１−ジメチルエチル）−１，１−（４−ｎ−ブチルフェニル
）−１−（（１，２，３，３ａ，７ａ−η）−３−（１，３−ジヒドロ−２Ｈ−イソイン
ドール−２−イル）−１Ｈ−インデン−１−イル）シラナミナト−（２−）−Ｎ−）−ジ
メチルチタンを含んでなり、そしてこの重合調整剤が（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）ジ
イソブチルアルミニウムまたはビス（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）オクチルアルミニウ
ムを含んでなる、第二十二実施形態に記載のプロセス。
【０１５４】
２４．エチレンと１−オクテンを含んでなる混合物を重合条件下で金属錯体、共触媒お
よび重合調整剤を含んでなる触媒組成物と接触させることにより、コポリマーを形成する
エチレンと１−オクテンを共重合させるプロセスであって、
この金属錯体がチタンのｓ−インダセニルシラナミナト錯体を含んでなり；
この共触媒がトリス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素またはテトラキス（ペンタフル
オロフェニル）ボレートのトリアルキルアンモニウム塩を含んでなり；そして
この重合調整剤がフェニルナフチルアミン、トリエチルヒドロキシシラン、ｎ−ブタノ
ール、または安息香酸とトリイソブチルアルミニウムとの１：１モルの反応生成物；２，
６−ジフェニルフェノール、４−メチル−２，６−ジ（ｔ−ブチル）フェノール、トリエ
チルヒドロキシシラン、ｎ−ブタノールまたは２−ヒドロキシメチルフランとトリオクチ
ルアルミニウムとの反応生成物；およびフェノールまたは２−（ヒドロキシメチル）ピリ
ジンとジブチルマグネシウムとの反応生成物からなる群から選択される化合物を含んでな
ることを特徴とするプロセス。
【０１５５】
２５．この金属錯体が［Ｎ−（１，１−ジメチルエチル）−１，１−ジメチル−［１，
２，３，３ａ，８ａ−η）−１，５，６，７−テトラヒドロ−２−メチル−ｓ−インダセ
ン−１−イル］シラナミナト（２−）−Ｎ］チタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエンを含ん
でなり、そしてこの重合調整剤が（フェニル（ナフチル）アミノ）ジイソブチルアルミニ
ウム、（トリエチルシロキシ）ジイソブチルアルミニウム、（ｎ−ブトキシ）−ジイソブ
チルアルミニウム、ジイソブチルアルミニウムベンゾエート；２，６−ジフェニルフェノ
キシ（ジオクチル）アルミニウム、４−メチル−２，６−ジｔ−ブチルフェノキシ）ジオ
クチルアルミニウム、（トリエチルシロキシ）ジオクチルアルミニウム、（ｎ−ブトキシ
）−ジオクチルアルミニウム、（２−フラニルメトキシ）ジオクチルアルミニウム；フェ
ノキシ−ｎ−ブチルマグネシウムまたは（２−ピリジニルメトキシ）−ｎ−ブチルマグネ
シウムを含んでなる、第二十四実施形態に記載のプロセス。
【０１５６】
２６．エチレンとプロピレンを含んでなる混合物を重合条件下で金属錯体、共触媒およ
び重合調整剤を含んでなる触媒組成物と接触させることにより、コポリマーを形成するエ
チレンとプロピレンを共重合させるプロセスであって、
この金属錯体がハフニウムとピリジルアミンの錯体を含んでなり；
この共触媒がトリス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素またはテトラキス（ペンタフル
オロフェニル）ボレートのトリアルキルアンモニウム塩を含んでなり；そして
この重合調整剤がトリ（Ｃ2-20アルキル）アルミニウムとビス（トリメチルシリル）ア
ミン、１−オクタノール、１−ドデカノール、フェノール、４−メチル−２，６−ジ（ｔ
−ブチル）フェノール、またはｔ−ブチルジメチルシロキサンとの反応生成物を含んでな
ることを特徴とするプロセス。
【０１５７】
２７．この金属錯体が２−［Ｎ−（２，６−ジイソプロピルフェニルアミド）−ｏ−イ
ソプロピルフェニルメチル］−６−（２−η−１−ナフチル）−ピリジルハフニウム（Ｉ
Ｖ）ジメチルを含んでなり、この共触媒がメチルジ（Ｃ14-18）長鎖アルキルアンモニウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート塩の混合物を含んでなり、そしてこの
重合調整剤が（ドデシルオキシ）ジオクチルアルミニウム、（ビス（トリメチルシリル）
アミノ）ジオクチルアルミニウム、フェノキシジオクチルアルミニウム、（４−メチル−
２，６−ジ（ｔ−ブチル）フェノキシ）ジオクチルアルミニウム、（ｔ−ブチルジメチル
シロキシ）ジオクチルアルミニウム、ビス（トリメチルシリル）アミノジエチルアルミニ
ウムまたはビス（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）イソプロピルアルミニウムを含んでなる
、第二十六実施形態に記載のプロセス。
（実施例）
【０１５８】
本発明が特に開示されなかったあらゆる成分の不在下でも操作可能であるということは
理解される。次の実施例は本発明の更なる例示に提供され、そして限定するものとして解
釈されるべきでない。特記しない限り、すべての部およびパーセントは重量基準で表現さ
れる。用語「一晩」は、使用される場合には、ほぼ１６−１８時間の時間を指し、「室温
」は、使用される場合には、約２０−２５℃の温度を指し、そして「混合アルカン」はＥ
ｘｘｏｎ  Ｍｏｂｉｌ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，ＩｎｃからＩｓｏｐａｒ  Ｅ（商標）の商
標で市販されている水素化プロピレンオリゴマー、大部分Ｃ6−Ｃ12イソアルカンの混合
物を指す。
【０１５９】
触媒組成物ライブラリー作製
１６×１３ｍＬ反応器組を備えたＣｈｅｍｓｐｅｅｄ（商標）合成装置、モデルＡＳＷ
２０００（Ｃｈｅｍｓｐｅｅｄ，Ｉｎｃ．から入手し得る）を用いるロボット合成により
、重合調整剤として試験するための化合物のライブラリーを作製する。通常、全部で８０
個の反応器に対して５組の還流コンデンサー付きの１６Ｘ１３ｍＬの反応器をロボットデ
ッキ上に設置する。各ライブラリーに対する試剤をドライボックス中で作製し、そしてロ
ボットデッキに移す。これら試剤をこの作製し、収めるのに使用されるバイアルを使用前
にオーブン中１５０℃で少なくとも４時間乾燥するすべての反応を不活性雰囲気下で行う
。
【０１６０】
ソフトウエア制御を用いて、この反応器を１１０℃で少なくとも４時間真空で、続いて
１１０℃で６０分間アルゴンパージ下で加熱して、反応器を乾燥する。次に、この反応器
を周囲温度まで冷却する。このカニューレと試料ループを乾燥窒素により満たし、次に試
料ループ（通常、１００００あるいは２５０００μＬ）の容積をトルエン中の１ＭのＡｌ
Ｅｔ3により吸引することにより、試料ループを不動態化する。次に、この溶液をリンス
ステーションにおいて捨て、そしてカニューレと試料ループを新しいトルエンによりリン
スする。液体取り扱い装置を用いて、８０個の反応器を第１の試剤（トリアルキルアルミ
ニウム）溶液により装填する。渦発生装置を開始（８００ｒｐｍ）し、そして反応器のジ
ャケット温度を２５℃に設定し、還流コンデンサーを５℃に設定する。次に、第２の試剤
溶液（アミンまたはアルコール）を５ｍＬ／分の添加速度で反応器に装填する。添加がす
べて完結した後、この反応器をアルゴン下で閉じ、そして１００℃で５時間加熱し、次に
５０℃まで冷却し、その後渦発生を停止する。
【０１６１】
次に、試剤トレーを変えて、２０ｍＬの試料バイアルを収める。液体取り扱い装置を用
いて、各反応器の内容物をセラムキャップ付きの２０ｍＬバイアルに移す。次に、この試
料を希釈して、所望の重合調整剤のほぼ０．１Ｍ溶液を得る。この生成物を移した後、こ
の試料を合成装置パージボックスの窒素雰囲気下でキャップし、そして使用前の貯蔵のた
めにドライボックスに移す。
【０１６２】
１等量あるいは２等量の第２の試剤（Ｂ）を第１の試剤（Ａ）と炭化水素希釈剤、通常
ヘキサンまたはヘプタン中で反応させて、更なるスクリーニングのために化合物のライブ
ラリーを生成させる。この試剤を初めに２０−２５℃で接触させ、続いて還流において数
時間加熱する。試験される試剤の対を表１に示す。この生成物は、２等量のＢ３を１等量
のＡ２を組み合わせるときに得られた（Ｂ３）3Ａ２2（３Ｂ群と２Ａ群の生成物）を除い
て、対応する化学量論的な反応生成物である。
【表１】
0005579142.tif 000026
0005579142.tif 000027
【実施例１】
【０１６３】
ポリマー分子量の決定のために迅速ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＨＴＧＰ
Ｃ）を備えた４８個のセル平行圧力反応器（ＰＰＲ）中でエチレンとスチレンの混合物の
重合における前出の組成物の評価を行う。重合を行うために、各セルに１６ｍＬのガラス
挿入物を嵌める。この触媒組成物中で使用される金属錯体は、米国特許第６，１５０，２
９７号の教示にしたがって製造された、（１Ｈ−シクロペンタ［ｌ］フェナントレン−２
−イル）ジメチル（ｔ−ブチルアミド）シラン−チタンジメチル（Ｃｌ）（１００ナノモ
ル）である。Ｃｌの構造を図１に開示する。この共触媒は、メチルジ（Ｃ14-18）長鎖ア
ルキルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート塩の混合物（１１０
ナノモル）である。この候補の重合調整剤（ＰＭ）を５、１５、５０および２００のＰＭ
：Ｔｉモル比で、１２０℃の重合温度で、そして２００ｐｓｉ（１．４ＭＰａ）の圧力で
試験した。各反応器中に存在するスチレンの量は６１１μＬ（５３３マイクロモル）であ
る。試剤の詳細を表２に示す。
【表２】
0005579142.tif 000028
【０１６４】
各１６ｍＬのガラス挿入物の空の重量をロボットにより測定する。トルエン（変数）を
各反応器セルの中に量り込む。次に、この反応器を撹拌（８００ｒｐｍ）し、そして運転
温度１２０℃まで加熱する。このとき、すべての反応器をエチレンにより飽和させ、そし
て各個別反応器を共触媒と重合調整剤の予備混合物により装填し、続いてスチレンを装填
する。次に、温度を１２０℃で維持し、そして圧力を２００ｐｓｉ（１．４ＭＰａ）で維
持しながら、触媒を添加することによりこの重合反応を開始する。エチレンを必要に応じ
て供給しながら、この反応を１０分間進行させる。運転時間の後、反応器をアルゴン中の
５パーセントのＣＯ2によりクエンチする。すべての反応器をクエンチした後、冷却し、
通気させる。揮発分を遠心分離機中真空下で一晩除去する。
【０１６５】
１）効率、２）最少の高結晶性区分の形成および、３）ＰＭ／Ｔｉ比の関数としてのエ
チレン転換の望ましいプロフィールの３つの要求に基づいて、重合結果を評価する。１つ
またはそれ以上の前出の基準に合致する重合調整剤を表３に示す。トリイソブチルアルミ
ニウム変成メチルアルモキサン（ＭＭＡＯ−３Ａ、Ａｋｚｏ−Ｎｏｂｌｅ  Ｃｏｒｐｏｒ
ａｔｉｏｎから入手し得る）を重合調整剤として使用する標準の触媒組成物（比較例）に
対して効率を測定する。しかしながら、最小および最大のＰＭ含量（それぞれ５および２
００のＡｌ／Ｔｉ比）に対する結果が統計的に疑わしいために、１５および５０のＡｌ／
Ｔｉ比で得られる結果のみに基づいて効率をスクリーニングする。比較例と等しいか、あ
るいはそれよりも良好な効率を与える重合調整剤がこの明細書中の使用に好ましい。表３
中に、この標準による許容し得る効率性能を数字１により示す。
【０１６６】
高結晶性区分（ＨＣＦ）はスチレン組み込みのレベルが極めて低く、したがって高結晶
性であるエチレン／スチレンインターポリマー（ＥＳＩ）を指す。これは一般に溶液重合
工程において低溶解性のものであり、そして反応器操作性が劣ることと関連する。このよ
うなＨＣＦポリマーの存在はこのポリマーのＧＰＣプロットから識別可能である。高重合
温度の使用は、このポリマー中に著しい量のＨＣＦが存在することと関連する操作性の問
題を少なくとも部分的に軽減するが、この存在は製品性質に及ぼす悪影響によっても一般
に望ましくない。したがって、最少のＨＣＦ形成を生じる重合調整剤が所望される。表３
においては、ＥＳＩのＧＰＣプロット中で識別可能な許容し得る（非検出可能な、あるい
は最少の）ＨＣＦを数字２により示す。
【０１６７】
エチレン重合プロフィールは、少なくとも経済的に正当化可能であるＰＭ：Ｔｉの範囲
内のＰＭ：Ｔｉモル比の関数としての最大のエチレン転換の欠如を指す。このような最大
の存在は、特に更なる重合調整剤の使用が迅速な触媒効率の損失（ピーク形成プロフィー
ル）を生じる場合には、運転者が重合時の重合調整剤含量を常に調整して、重合活性に及
ぼす悪影響を回避することを必要とする。関心のある範囲で増加するか、あるいは高い比
における顕著な活性損失無しで平坦部に達する効率プロフィールが最も所望される。表３
においては、許容し得る転換性能（平坦部または上昇部）が数字３により識別され、プロ
フィールの上昇が認められる。少なくとも１つの許容し得るＰＭを有する、試験される第
２の成分のみを表３に示す。
【表３】
0005579142.tif 000029
【０１６８】
所定の金属錯体／共触媒組み合わせ物に対する前出の要求の２つ、最も好ましくは３つ
全部を満たす重合調整剤が特に好ましい。試験されたもののうち２つの重合調整剤Ｂ３3
Ａ２2およびＢ３Ａ４（表３で太字タイプで示す）のみが前出のスクリーンの３つの要求
をすべて満足する。これらの重合調整剤はビス（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミド）エチルアル
ミニウムおよびＮ，Ｎ−ジフェニルアミドビス（２，７−ジメチル−６−オクテン−１−
イル）アルミニウムと同定される。
【実施例２】
【０１６９】
２ａ）１−オクテンをスチレンの代わりに使用することを除いて、実施例１の重合条件
を実質的に繰り返し、そして重合を混合アルカン溶媒中１３５℃で行って、エラストマー
型エチレン／１−オクテンコポリマーを製造する。トリイソブチルアルミニウム（Ａ１）
トリエチルアルミニウム（Ａ２）およびトリオクチルアルミニウム（Ａ５）の３種のアル
ミニウム含有試剤のみを使用して、新しい重合調整剤ライブラリーを作製する。
【０１７０】
この触媒組成物で使用される触媒前駆体は、米国特許第６，２６８，４４４号の教示に
したがって作製される、チタンの３−アミノ−置換インデン−１−イル錯体、（Ｎ−１，
１−ジメチルエチル）−１，１−ジメチル−１−（（１，２，３，３ａ，７ａ−η）−３
−（テトラヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）−１Ｈ−インデン−１−イル）シラナミ
ナト−（２−）−Ｎ−）−チタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエン（Ｃ２）およびＵＳ２０
０３／０００４２８６の教示にしたがって作製される、（Ｎ−１，１−ジメチルエチル）
−１，１−（４−ｎ−ブチルフェニル）−１−（（１，２，３，３ａ，７ａ−η）−３−
（１，３−ジヒドロ−２Ｈ−イソインドール−２−イル）−１Ｈ−インデン−１−イル）
シラナミナト−（２−）−Ｎ−）−ジメチルチタン（Ｃ３）である。Ｃ２およびＣ３の構
造を図２および３で開示する。この共触媒はメチルジ（Ｃ14-18）長鎖アルキルアンモニ
ウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート塩の混合物である。加えて、Ｔｉ基
準で５：１のモル比の掃去剤のトリイソプロピルアルミニウム変成メチルアルモキサン（
ＭＭＡＯ３Ａ，Ａｋｚｏ−Ｎｏｂｌｅ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手し得る）をすべ
ての配合物において使用して、反応混合物中の不純物と反応させる。
【０１７１】
範囲を見出す実験を行って、試験される各温度において満足な量の様々の成分を求める
。活性が装置の能力を超えることなく測定可能であるように条件を選択する。１３５℃に
おいて、エチレン圧力を１９４ｐｓｉｇ（１．４４ＭＰａ）となるように選択し、ヘキサ
ン溶媒の量を６．０μＬとし、そして使用される１−オクテンの量を８１９μＬとする。
更なる代表的な条件を表４に示す。
【表４】
0005579142.tif 000030
【０１７２】
各実験において、反応器セルを溶媒により装填し、続いて１−オクテン、ＭＭＡＯおよ
びＰＭ（コントロールランに対しては、ＰＭを省略する）により装填した。次に、このセ
ルを１３５℃まで加熱し、そしてエチレンガスにより加圧する。触媒と共触媒を液体取り
扱い装置によりバイアル中で予備混合し、そして反応器の中に注入して、重合を開始する
。反応時間の１０分後あるいは１２０ｐｓｉｇ（０．９３ＭＰａ）までの圧力減少時に、
二酸化炭素によりクンチングすることにより、重合を停止する。
【０１７３】
ＰＭ選択を各ＰＰＲラン内で２回スクリーニングする。このことは、ＭＭＡＯをＡｌ：
Ｔｉモル比５：１で使用し、そしてＰＭ候補を使用しない４つのコントロール反応と共に
ライブラリー当たり２２個の候補化合物を可能とする。すべてのＰＭ重合に対するＰＭ：
Ｔｉモル比は５０：１である。各触媒に対する７つのライブラリーをスクリーニングし、
合計１５４個の試験された重合調整剤を準備する。重合結果をＰＭが存在しない標準的な
触媒組成物と比較した活性に基づいて評価する。各触媒に対する上位１０個の候補とこれ
らの相対的な触媒活性を表５に報告する。
【表５】
0005579142.tif 000031
表５：エチレン／１−オクテンの１３５℃の重合結果
【０１７４】
１３５℃において、前出の金属錯体の一方または他方と共に、最良の重合調整剤は、ｔ
−ブタノールとトリオクチルアルミニウムとの１：１モルの反応生成物、すなわちジオク
チルｔ−ブトキシアルミニウム；２，６−ジフェニルフェノール、２，６−ジ（ｔ−ブチ
ル）−４−メチルフェノール、フェノールおよびｔ−ブチルジ（メチル）ヒドロキシシラ
ンとトリイソブチルアルミニウムとの１：１モルの反応生成物；ジ（ｎ−ペンチル）アミ
ンとトリイソブチルアルミニウムとの２：１モルの反応生成物；２，６−ジフェニルフェ
ノールおよびｔ−ブチルジ（メチル）ヒドロキシシランとトリエチルアルミニウムとの２
：１モルの反応生成物；２，６−ジフェニルフェノール、２，６−ジ（ｔ−ブチル）−４
−メチルフェノール、フェノール、ｔ−ブタノール、１−ドデカノール、ｔ−ブチルジ（
メチル）ヒドロキシシランおよびｐ−メトキシフェノールとトリオクチルアルミニウムと
の１：１モルの反応生成物；および２，６−ジフェニルフェノール、２，６−ジ（ｔ−ブ
チル）−４−メチルフェノールおよびｔ−ブチルジ（メチル）ヒドロキシシランとトリ（
オクチル）アルミニウムとの２：１モルの反応生成物である。これらの反応生成物は、（
２，６−ジフェニルフェノキシ）ジ（ｉ−ブチル）アルミニウム、（２，６−ジ（ｔ−ブ
チル）−４−メチルフェノキシ）ジ（ｉ−ブチル）アルミニウム、フェノキシジ（ｉ−ブ
チル）アルミニウム、（ｔ−ブチルジ（メチル）シロキシ）ジ（ｉ−ブチル）アルミニウ
ム、（ジ（ｎ−ペンチル）アミノ）ジ（ｉ−ブチル）アルミニウム、ビス（ジ（２，６−
フェニル）フェノキシ）エチル−アルミニウム、ビス（（ｔ−ブチル）ジメチルシロキシ
）エチルアルミニウム、（２，６−ジフェニルフェノキシ）ジオクチルアルミニウム、２
，６−ジ（ｔ−ブチル）−４−メチルフェノキシ）ジオクチルアルミニウム、（フェノキ
シ）ジオクチルアルミニウム、（ｔ−ブトキシ）ジオクチルアルミニウム、（ｎ−ドデシ
ルオキシ）ジオクチルアルミニウム、（（ｔ−ブチル）ジ（メチル）シロキシ）ジオクチ
ルアルミニウム、（４−メトキシフェノキシ）ジオクチルアルミニウム、ビス（（２，６
−ジフェニル）フェノキシ）オクチルアルミニウム、ビス（２，６−ジ（ｔ−ブチル）−
４−メチルフェノキシ）オクチルアルミニウムおよびビス（ｔ−ブチルジ（メチル）シロ
キシ）オクチルアルミニウムの化合物を主として含んでなる。３つの前出のＰＭは、両方
の金属錯体、すなわち（ｔ−ブチルジ（メチル）−シロキシ）ジイソブチルアルミニウム
、（２，６−ジ（ｔ−ブチル）−４−メチルフェノキシ）ジオクチルアルミニウムおよび
ビス（ｔ−ブチルジ（メチル）シロキシ）オクチルアルミニウムと共に改善された活性を
与えた。
【０１７５】
２ｂ）次に、１３５℃での２２個の最良のＰＭ候補を１６０℃での両方の金属錯体によ
りエチレン／１−オクテン共重合性について再試験する。この一連の実験においては、エ
チレン圧力を２００ｐｓｉｇ（１．４８ＭＰａ）まで増加し、そして使用される１−オク
テンの量は２２７μＬである。更なる試剤量を表６に示す。
【表６】
0005579142.tif 000032
【０１７６】
反応の１０分後あるいは１２０ｐｓｉｇ（０．９３ＭＰａ）までの圧力低下時に、転換
データ収集を停止する。反応を１０分前に停止した場合（目標圧力に到達したために）に
得られる結果を更によく説明するために、
〜Ｃ*r＋Ｍ→〜Ｃ*r+1        ｋp    ガス状モノマー伝播
〜Ｃ*ｒ→ＤＣ                  ｋd    活性点不活性化
（式中、
〜Ｃ*rは鎖長ｒの成長鎖であり、
Ｍはモノマーであり、
ＤＣは不活性化したポリマー鎖であり、
ｋpはガス状モノマーの成長速度定数であり、そして
ｋdは活性点不活性化速度定数である）
の重合モデルを用いて計算し、式
【数３】
0005579142.tif 000033
（式中、
［Ｍ］液体は液相中のガス状モノマー濃度であり、そして
［Ｃ］0はｔ＝０における触媒の初期濃度である）
によりＬｅｖｅｎｂｅｒｇ−Ｍａｒｑｕａｒｔ非線形回帰法により求めて、時間（ｔ秒で
の）に対する全ガス状モノマー吸収として計算される、５分間の転換率に基づいて、活性
を評価する。
【０１７７】
次に、上式を使用して、各ＰＰＲセルから得られる転換率−時間データをフィットさせ
る。実質的にW.H. Press, S.A. Teukolsky, W.T. Vetterling, B.P. Flannery,“Numeric
al Recipesin C”, Second Edition, Cambridge University Press(1997)に記載されてい
るＬｅｖｅｎｂｅｒｇ−Ｍａｒｑｕａｒｔ非線形回帰法を使用して、上式をこのデータに
フィットさせ、そして動的速度定数ｋｐおよびｋｄを評価する。次に、各セルに対する見
積もられた速度定数を上式に置換することにより、５分（ｔ＝３００秒）後のエチレン転
換率（ｋＰａでの圧力低下）を計算し、そして各ＰＰＲセルにおける触媒活性をランク付
けするのに使用する。１６０℃における両方の触媒に対する上位１０のランキングを表７
に示す。ＰＭ候補を使用せず（ＭＭＡＯ単独）に得られる平均５分間のモノマー吸収に対
して、結果を各金属錯体に対して５：１のＡｌ：Ｔｉモル比において表す。（ＭＭＡＯを
用いる対応する平均の５分間のモノマー吸収はＣ２＝５４１ｋＰａ、Ｃ3＝４７２ｋＰａ
である）。添え字１−１０は順位１＝最良、１０＝最悪を示す。すべての示される実験は
、ＭＭＡＯ単独を用いて得られるものよりも、少なくとも４２パーセント大きい５分間の
モノマー吸収を有するものであった（すなわち、相対的な活性＝１．４２）。
【表７】
0005579142.tif 000034
【０１７８】
表５および７を比較することにより、両方の金属錯体に対して１３５℃における活性の
改善および１６０℃における計算された５分間の活性の改善を示す唯一の触媒／重合調整
剤組み合わせ物は、（ｔ−ブチル）ジメチルヒドロキシルシランとトリ（ｉ−ブチル）ア
ルミニウムとの１：１モルの反応生成物、すなわち（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）−ジ
（イソブチル）アルミニウムおよび（ｔ−ブチル）ジメチルヒドロキシルシランとトリオ
クチルアルミニウムの１：２モルの反応生成物、すなわちビス（ｔ−ブチルジメチルシロ
キシ）オクチルアルミニウムであるということがわかる。
【実施例３】
【０１７９】
触媒前駆体として使用される金属錯体がチタンのｓ−インダセニルシラナミナト錯体、
［Ｎ−（１，１−ジメチルエチル）−１，１−ジメチル−［１，２，３，３ａ，８ａ−η
］−１，５，６，７−テトラヒドロ−２−メチル−ｓ−インダセン−１−イル］シラナミ
ナト（２−）−Ｎ］チタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエン（Ｃ４）（米国特許第５，９６
５，７５６号の教示にしたがって作製した）であることを除いて、実施例２ａ）の反応条
件を実質的に繰り返す。Ｃ４の構造を図４に開示する。この共触媒は、触媒前駆体に基づ
いて１．２：１のモル比で使用されるメチルジ（Ｃ14-18）長鎖アルキルアンモニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート塩の混合物である。トリイソプロピルアル
ミニウム変成メチルアルモキサン（ＭＭＡＯ-3Ａ，Ａｋｚｏ−Ｎｏｂｌｅ  Ｃｏｒｐｏｒ
ａｔｉｏｎから入手し得る）を掃去剤としてチタン基準のモル比で５：１で添加する。重
合温度は１３５℃である。すべての重合を混合アルカン溶媒（Ｉｓｏｐａｒ（商標）Ｅ，
Ｅｘｘｏｎ  Ｍｏｂｉｌ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．から入手し得る）中５０：１、
２５：１および１０：１のＰＭ：Ｔｉモル比で行う。初期のエチレン圧力は２００ｐｓｉ
ｇ（１．４８ＭＰａ）であり、そして使用する１−オクテンの量は２２７μＬである。制
御をＰＭ候補の不在下で行い、すべての他の反応条件を同一のまま留める。１０分間の重
合後１．００よりも大きい相対的なエチレン吸収を示すＰＭ候補とＰＭ：Ｔｉモル比（カ
ッコ内）を表８に示す。掲げたすべてのＰＭ候補は示した反応試剤の１：１モルの反応生
成物である。改善された活性を示す化合物は、フェニルナフチルアミン、トリエチルヒド
ロキシシラン、ｎ−ブタノールまたは安息香酸とトリイソブチルアルミニウムとの反応生
成物；２，６−ジフェニルフェノール、４−メチル−２，６−ジ（ｔ−ブチル）フェノー
ル、トリエチルヒドロキシシラン、ｎ−ブタノールまたは２−ヒドロキシメチルフランと
トリオクチルアルミニウムとの反応生成物；およびフェノールまたは２−（ヒドロキシメ
チル）ピリジンとジブチルマグネシウムとの反応生成物である。これらの金属含有化合物
は、（フェニル（ナフチル）アミノ）ジイソブチルアルミニウム、（トリエチルシロキシ
）ジイソブチルアルミニウム、（ｎ−ブトキシ）ジイソブチルアルミニウム、ジイソブチ
ルアルミニウムベンゾエート；２，６−ジフェニルフェノキシ（ジオクチル）アルミニウ
ム、４−メチル−２，６−ジｔ−ブチルフェノキシ）ジオクチルアルミニウム、（トリエ
チルシロキシ）ジオクチルアルミニウム、（ｎ−ブトキシ）ジオクチルアルミニウム、（
２−フランイルメトキシ）ジオクチルアルミニウム、フェノキシ−ｎ−ブチルマグネシウ
ムおよび（２−ピリジニルメトキシ）−ｎ−ブチルマグネシウムとして同定される。
【０１８０】
加えて、前出のマルチ反応器を使用することにより、ルイス塩基官能基を欠くアルミニ
ウム化合物は、本発明の反応条件下で比較的良好な活性を有することが見出された。化合
物、ジ−ｉ−ブチルアルミニウムヒドリドは、Ｔi基準で１０：１のモル比で１．６２の
相対的な活性を有していた。
【０１８１】
得られたＬＬＤＰＥポリマーはすべて実施例２で製造された製品よりも高密度の製品で
あり、そしてフィルム形成用あるいはブロー成形用樹脂としての使用に好適である。
【表８】
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【実施例４】
【０１８２】
実施例１のコンビナトリアル反応器を使用して、様々の重合調整剤を用いてエチレンと
プロピレン（重量で５０：５０）を共重合する。触媒前駆体として使用される金属錯体は
２−［Ｎ−（２，６−ジイソプロピルフェニルアミド）−ｏ−イソプロピルフェニルメチ
ル］−６−（２−η−１−ナフチル）−ピリジルハフニウム（ＩＶ）ジメチル（Ｃ５）（
２００３年５月２日出願のＵＳＳΝ６０／４２９，０２４の教示にしたがって製造される
）である。Ｃ５の構造を図５に開示する。使用される共触媒は、ハフニウム基準で１．２
：１のモル比で使用されるメチルジ（Ｃ14-18）長鎖アルキルアンモニウムテトラキス（
ペンタフルオロフェニル）ボレート塩の混合物である。トリイソプロピルアルミニウム変
成メチルアルモキサン（ＭＭＡＯ−ＩＰ，Ａｋｚｏ−Ｎｏｂｌｅ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏ
ｎから入手し得る）を掃去剤としてハフニウム基準で３０：１のモル比で添加する。混合
アルカン溶媒と掃去剤と、続けて重合調整剤（５０：１、ハフニウムのモル数基準で）と
共触媒を各セルに添加する。使用される溶媒の量（ほぼ２ｍｌ）を予め計算して、６．０
ｍｌの最終の反応混合物容積を得る。この反応器を１２０℃の反応温度まで撹拌しながら
加熱し、そしてエチレン／プロピレン混合物により加圧（２５０ｐｓｉｇ、１．８３ＭＰ
ａ）し、その後金属錯体を添加する。
【０１８３】
重合を１０分間あるいは１２０パーセントの最大転換率に等しい圧力低下まで行う。Ｍ
ＭＡＯ−ＩＰ単独（Ｈｆに対するモル比＝３０：１）の使用と比較した相対的なモノマー
吸収に基づいて合計１６２個の重合調整剤をスクリーニングする。選択された結果を表９
に示す。４個のＰＭ候補（太字タイプで示す）のみが１よりも大きい相対的なモノマー吸
収を示す。３個のＰＭ候補のみが少なくとも１０パーセントの改善（相対的なモノマー吸
収＞１．１）を示した。
【表９】
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【０１８４】
表８および９の結果を比較することによって、ある重合、例えばエチレン／１−オクテ
ン共重合に対する好適な性質を有する重合調整剤は、他の反応、例えばエチレン／プロピ
レン共重合における重合調整剤としての使用に必ずしも適合していないということが見ら
れ得る。コンビナトリアルスクリーニング条件下で、トリオクチルアルミニウムと１−ド
デカノール、ビス（トリメチルシリル）アミン、フェノールおよび４−メチル−２，６−
ジ（ｔ−ブチル）フェノールとの１：１反応生成物のみがハフニウムピリジルアミン金属
錯体、特に２−［Ｎ−（２，６−ジイソプロピルフェニルアミド）−ｏ−イソプロピルフ
ェニルメチル］−６−（２−η−１−ナフチル）−ピリジルハフニウム（ＩＶ）ジメチル
およびアンモニウムボレート活性化剤、特にメチルジ（Ｃ14-18）長鎖アルキルアンモニ
ウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート塩とアルモキサン掃去剤、特にトリ
（イソプロピル）アルミニウム変成メチルアルモキサンの混合物と共に改善されたエチレ
ンの相対的な組み込み速度を示した。これらの重合調整剤は、（ドデシルオキシ）ジオク
チルアルミニウム、（ビス（トリメチルシリル）−アミノ）ジオクチルアルミニウム、フ
ェノキシジオクチルアルミニウムおよび（４−メチル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノキ
シ）ジオクチル−アルミニウムとして同定される。
【０１８５】
実施例４の重合条件を同等の重合条件下で１リットルのバッチ反応器にスケールアップ
する場合には、前出のＰＭ候補は実際の使用条件下で卓越した性能を示し、成功をもたら
す重合調整剤の性能を予測するための前出のスクリーニング法の信頼性を例示する。大規
模のバッチ重合条件下の他の好適な重合調整剤は、コンビナトリアル条件下で１．０の相
対的な活性（表９中のＢ１５Ａ５）を有する（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）ジオクチル
アルミニウム、コンビナトリアル条件下で０．７８の相対的な活性（表９中のＢ９Ａ２）
を有する（ビス（トリメチルシリル）アミノ）ジエチルアルミニウムおよびコンビナトリ
アル条件下で０．９６の相対的な活性（表９中のＢ１５2Ａｌ）を有するビス（ｔ−ブチ
ルジメチルシロキシ）イソプロピルアルミニウムを含む。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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