(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶剤を塗布した被塗布物を乾燥させるドライヤの乾燥室へ、該乾燥室内で気化した溶剤蒸気を回収処理した該乾燥室の排気を給気する溶剤回収システムであって、
前記乾燥室の排気に含まれる前記溶剤蒸気を回収する第一の溶剤回収部と、
前記第一の溶剤回収部を通過した前記排気に残る前記溶剤蒸気を回収して前記乾燥室へ乾燥気として給気する第二の溶剤回収部と、
前記第二の溶剤回収部が前記乾燥室へ給気する前記乾燥気よりも溶剤蒸気が多く残留する、前記第一の溶剤回収部を通過した直後の前記排気が、該第二の溶剤回収部が給気する前記乾燥気よりも前に前記被塗布物に当たるように、該第一の溶剤回収部を通過した直後の前記排気を予乾燥気として該乾燥室へ給気する給気経路と、を備える、
溶剤回収システム。
【請求項２】
前記被塗布物は、前記ドライヤの乾燥室内を流れるように通過しており、
前記給気経路は、前記乾燥室内のうち、前記第二の溶剤回収部からの給気が当たる被塗布物よりも上流側の被塗布物に当たるように、前記予乾燥気を該乾燥室へ給気する、
請求項１に記載の溶剤回収システム。
【請求項３】
前記第一の溶剤回収部は、冷凍設備において冷却された冷却媒体が管内を流れるコイルに前記排気を接触させて、該排気に含まれる前記溶剤蒸気を凝縮回収し、
前記第二の溶剤回収部は、前記第一の溶剤回収部を通過した前記排気を吸着材に接触させて、該排気に残る前記溶剤蒸気を吸着回収して前記乾燥室へ乾燥気として給気する、
請求項１または２に記載の溶剤回収システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、溶剤回収システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
化学的な処理を伴う生産設備等においては、排気される気体に溶剤蒸気が含まれている。このような溶剤蒸気を回収する技術として、例えば、溶剤蒸気を凝縮させた後に吸着材に吸着させるものが提案されている（特許文献１を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−６９４３５号公報
【特許文献２】特開平５−１５７２５号公報
【特許文献３】特開２００８−１８０４５９号公報
【特許文献４】特開２００９−６６５７８号公報
【特許文献５】特開２００５−１０３３７８号公報
【特許文献６】特開２００５−１５２７６２号公報
【特許文献７】特開２００９−１６２４０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
例えば、ＮＭＰ溶剤を塗布するリチウムイオン電池用の電極のように、各種の溶剤を塗布した被塗布物を乾燥させる処理を施す場合、塗布した溶剤の効果的な乾燥と、乾燥処理に要するコストの削減との両立を図るために、被塗布物を乾燥させるドライヤ（乾燥炉）の排気から溶剤蒸気を回収処理して乾燥気とし、これを再びドライヤへ給気することが行なわれる。このとき、ドライヤに給気する乾燥気は、処理対象の製品に要求される仕様にもよるが、塗布されている溶剤が確実に乾燥するように、比較的高い乾燥度が要求される。
【０００５】
しかし、ドライヤが大きいと、ドライヤへ再び給気する気体の乾燥度を保つために要するコストも多大である。本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、ドライヤへ再び給気する気体の溶剤蒸気の回収に要するコストを抑制する溶剤回収システムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため、本発明は、ドライヤの排気中の溶剤蒸気を段階的に回収処理する少なくとも２以上の溶剤回収部を備え、残留する溶剤蒸気が比較的多い第１段の溶剤回収部の排気が、残留する溶剤蒸気が比較的少ない第２段の溶剤回収部の排気よりも前に被塗布物に当たるようにした。
【０００７】
詳細には、溶剤を塗布した被塗布物を乾燥させるドライヤの乾燥室へ、該乾燥室内で気化した溶剤蒸気を回収処理した該乾燥室の排気を給気する溶剤回収システムであって、前記乾燥室の排気に含まれる前記溶剤蒸気を回収する第一の溶剤回収部と、前記第一の溶剤回収部を通過した前記排気に残る前記溶剤蒸気を回収して前記乾燥室へ乾燥気として給気する第二の溶剤回収部と、前記第二の溶剤回収部が前記乾燥室へ給気する前記乾燥気よりも溶剤蒸気が多く残留する、前記第一の溶剤回収部を通過した直後の前記排気が、該第二の溶剤回収部が給気する前記乾燥気よりも前に前記被塗布物に当たるように、該第一の溶剤回収部を通過した直後の前記排気を予乾燥気として該乾燥室へ給気する給気経路と、を
備える。
【０００８】
被塗布物に当てる乾燥気の乾燥度は極力高い方が乾燥の促進という面からは好ましいが、乾燥処理に要するコストの削減という観点に鑑みれば、溶剤を回収する機器が最も効率的な動作点で運転されることが好ましい。換言すると、ドライヤの乾燥室内にある何れの被塗布物もが略均等な乾燥速度で乾燥していくことが好ましい。
【０００９】
そこで、上記溶剤回収システムでは、乾燥開始直後の被塗布物を乾燥させる乾燥気は、乾燥終了直前の被塗布物を乾燥させる乾燥気よりも乾燥度が高くても差し支えないことに着目し、少なくとも２段階構成にした溶剤回収部の第一段目にあたる第一の溶剤回収部の比較的高濃度の排気をドライヤへ送り、主に乾燥開始直後の被塗布物の乾燥気に用いることで、第二段目以降にあたる第二の溶剤回収部の容量を小さくしている。これにより、溶剤回収に要する設備のイニシャルコストやランニングコストが抑制でき、溶剤回収に係るコストを削減できる。
【００１０】
また、前記被塗布物は、前記ドライヤの乾燥室内を流れるように通過しており、前記給気経路は、前記乾燥室内のうち、前記第二の溶剤回収部からの給気が当たる被塗布物よりも上流側の被塗布物に当たるように、前記予乾燥気を該乾燥室へ給気するものであってもよい。ドライヤの乾燥室内を被塗布物が連続的に通過することで乾燥処理が施される場合、上流側と下流側とで被塗布物の乾燥度合いが異なる。このように、乾燥度合いが異なる被塗布物が並存するドライヤの乾燥室に上記溶剤回収システムを適用すれば、溶剤回収部を多段階としたことによるコスト削減効果、すなわち、第二段目以降にあたる第二の溶剤回収部の容量を小さくできることによるコスト削減効果がより効果的に発揮される。
【００１１】
また、前記第一の溶剤回収部は、冷凍設備において冷却された冷却媒体が管内を流れるコイルに前記排気を接触させて、該排気に含まれる前記溶剤蒸気を凝縮回収し、前記第二の溶剤回収部は、前記第一の溶剤回収部を通過した前記排気を吸着材に接触させて、該排気に残る前記溶剤蒸気を吸着回収して前記乾燥室へ乾燥気として給気するものであってもよい。溶剤蒸気の回収に際しては、凝縮回収法よりも吸着回収法の方がガス中の溶剤蒸気の濃度をより低くすることができる。よって、第一の溶剤回収部を凝縮回収法によるものとし、第二の溶剤回収部を吸着回収法によるものとすれば、各溶剤回収部の排気の溶剤濃度をより段階的に差別化することができ、溶剤回収部を多段階としたことによるコスト削減効果、すなわち、第二段目以降にあたる第二の溶剤回収部の容量を小さくできることによるコスト削減効果がより効果的に発揮される。
【発明の効果】
【００１２】
上記溶剤回収システムであれば、ドライヤへ再び給気する気体中の溶剤蒸気の回収に要するコストを抑制することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】溶剤回収システムの構成図である。
【図２】ドライヤの構成図である。
【図３】ＮＭＰ飽和濃度を示したグラフである。
【図４】各乾燥室の給気の溶剤濃度を示したグラフ。
【図５】変形例に係る溶剤回収システムの構成図である。
【図６】変形例に係るドライヤの構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の実施形態に係る溶剤回収システムの構成を図１に示す。溶剤回収システム１は、図１に示すように、溶剤蒸気を含む所定の気体（以下、単にガスと呼ぶ）をコイルで冷
却して溶剤を凝縮回収する溶剤回収装置２と、溶剤回収装置２を通過したガス中に残る溶剤をゼオライトあるいは活性炭等の吸着材で吸着回収する濃縮装置３とを備える。また、溶剤回収システム１は、ガスを送気する各種のファンや熱交換を行うコイルを備える。
【００１５】
溶剤回収システム１は、有機溶剤によって各種の化学処理を行う生産設備類から排気される排気中の溶剤蒸気を回収する装置である。本実施形態では、リチウムイオン電池工場で使用されるＮ−メチルピロリドン（以下、ＮＭＰという）の溶剤蒸気を含む生産排気からＮＭＰを回収することを前提に説明するが、その他の溶剤類であってもよい。リチウムイオン電池工場では電極製造時にＮＭＰを使用する。電極に塗布されたＮＭＰは、塗布されたＮＭＰを乾燥処理するドライヤで蒸発して排気される。本実施形態に係る溶剤回収システム１が併設されるドライヤを図２に示す。
【００１６】
ドライヤ１６は、図２に示すように、複数の乾燥室１７Ａ〜Ｇに分割されており、各乾燥室１７Ａ〜Ｇ内を、ＮＭＰ溶剤が表面に塗布された電極が順に通過する。ドライヤ１６は、半密閉であり、電極を通過する出入り口が設けられている。溶剤蒸気を含むガスが漏れないよう、出入り口は負圧になるように給排気が調整されている。各乾燥室１７Ａ〜Ｇ内には、高温のガスが導入されており、電極が内部を通過する過程で、電極の表面に塗布されたＮＭＰ溶剤が蒸発する。各乾燥室１７Ａ〜Ｇ内に導入される高温のガスは、省エネルギーのため、その多くが乾燥室１７Ａ〜Ｇから排気されてファン１５Ｓから加熱コイルと微粒子フィルタ（ＨＥＰＡフィルタ）を通って再び還流されるガスであるが、そのガスの一部は本実施形態に係る溶剤回収システム１が浄化した後に乾燥室１７Ａ〜Ｇ内へ戻している。
【００１７】
本実施形態に係る溶剤回収システム１は、このようなドライヤ１６に付帯して設置される装置であり、ドライヤ１６の排気中の溶剤蒸気を回収する。本実施形態では、ドライヤ１６から排気される溶剤蒸気の想定濃度を２０００ｐｐｍとしている。ドライヤ１６の排気は、８０〜１００℃程度を想定している。溶剤回収システム１で用いる冷却水は、生産設備が設置された建物で生産装置の発熱部を冷却する冷却塔で生成された空調設備のものを用いている。この冷却水には、２種類の温度帯域のものが用意されており、屋外に設置された冷却塔で冷却された冷却水と、冷凍機によって冷却された冷却水（冷水と呼んでもよい）とがある。前者は、外気温度にもよるが、設計温度を３２℃としているため、冷却塔で冷却された冷却水の事を、以下、３２℃冷却水と呼ぶことにする。一方、後者は、冷凍機によって７℃に冷却された冷却水であるため、冷凍機で冷却された冷却水の事を、以下、７℃冷却水と呼ぶことにする。３２℃冷却水の製造に要する動力は、ヒートポンプを使った７℃冷却水の製造に要する動力に比べて遥かに小さいため、熱負荷をなるべく３２℃冷却水で処理することが、溶剤回収システム１全体が消費する動力の削減に効果的である。
【００１８】
溶剤回収装置２は、図１に示すように、直列に並んだ４基の熱交換コイル（符号４〜７）を有している。以下、上流側から順に、予冷却器４、前置冷却器５、主冷却器６、後置加熱器７と呼ぶことにする。
【００１９】
予冷却器４は、ドライヤ１６に給気するためのファン１５ＡＨ，１５ＡＬの下流側に設けられた予加熱器８Ｈ，８Ｌと水循環系９を介して接続されている。このほか、溶剤回収システム１は、後述する吸着ロータ１３に冷却凝縮された残りの溶剤蒸気混じりのガスを送気するファン１５Ｂ、吸着ロータ１３の吸着機能の再生のためのファン１５Ｃを備える。予冷却器４は、ドライヤ１６から送られたガスを冷却する。予冷却器４で除去されたガスの熱は、水循環系９を循環する水によって予加熱器８Ｈ，８Ｌへ移送され、溶剤回収装置２や濃縮装置３で浄化されて再びドライヤへ送られる各ガスを加熱する。予冷却器４に流入した約１００℃のガスは、６３℃になって前置冷却器５へ送られる。
【００２０】
水循環系９は、循環系内の圧力を大気圧よりも高く（例えば、ゲージ圧で０．２ＭＰａならば飽和蒸気温度は１３３．７℃なので、この温度以下であれば沸騰しない）なっており、ドライヤから送られるガスの温度が高温になっても系内の水が沸騰しない。水循環系９内の圧力は、アキュームレータによって一定に保たれる。
【００２１】
前置冷却器５は、予冷却器４によって冷却されたガスを更に冷却する。予冷却器４は、経路中に冷却塔を擁する３２℃冷却水循環系１１の冷却水でガスを冷却する。前置冷却器５に流入した６３℃のガスは、２７℃になって主冷却器６へ送られる。
【００２２】
主冷却器６は、前置冷却器５によって冷却されたガスを更に冷却する。主冷却器６は、経路中に冷凍機を擁する７℃冷却水循環系１２の冷却水でガスを冷却する。主冷却器６は、前置冷却器５から送られた２７℃のガスを１２℃まで冷やす。主冷却器６を通過する冷却水の流量は、主冷却器６の下流側のガスの温度が１２℃になるように温度制御を行う流量調整弁１０によって調整される。ドライヤから送られるガスが主冷却器６で１２℃まで冷やされることにより、主冷却器６の冷却コイルの表面でＮＭＰ蒸気が凝縮する。
【００２３】
図３は、ＮＭＰ飽和濃度を示したグラフである。溶剤回収装置２では、溶剤蒸気を含むガスが予冷却器４を通過して６３℃になると溶剤蒸気の濃度が約２０００ｐｐｍ程度になり、前置冷却器５を通過して２７℃になると溶剤蒸気の濃度が約８００ｐｐｍ程度になり、主冷却器６を通過して１２℃になると溶剤蒸気の濃度が約２７０ｐｐｍになる。
【００２４】
後置加熱器７は、主冷却器６によって冷却されたガスを加熱する。後置加熱器７は、経路中に冷却塔を要する３２℃冷却水循環系１１の冷却水でガスを加熱する。後置加熱器７は、主冷却器６から送られた１２℃のガスを２７℃まで加熱する。
【００２５】
ここで、３２℃冷却水循環系１１の冷却水は、次のような経路を辿る。すなわち、冷却塔で冷却された冷却水は、冷却塔を出たのちに後置加熱器７を通り、その次に前置冷却器５を通って再び冷却塔へ戻る。後置加熱器７に流入するガスの温度が１２℃なので、後置加熱器７に流入する３２℃の冷却水は、後置加熱器７の通過後に１７℃となり、前置冷却器５へ流入する。前置冷却器５に流入するガスの温度が６３℃なので、前置冷却器５に流入する冷却水は、前置冷却器５の通過後に５３℃となり、冷却塔へ再び送られる。なお、３２℃冷却水循環系１１に設けられる冷却塔は、他の生産設備の冷却塔と統合して運用されているため、冷却塔へ再び送られる５３℃の冷却水は他の生産設備の冷却水と混合されることにより、冷却塔に戻る冷却水の返り温度は５３℃よりも低い温度になる。
【００２６】
このため、溶剤回収装置２では、熱の多くが３２℃冷却水循環系１１によって処理される。すなわち、３２℃冷却水循環系１１の冷却水を、後置加熱器７を介さないで前置冷却器５へ流した場合、前置冷却器５を通過したガスは２７℃にまでは低下しないため、７℃冷却水循環系１２の冷凍機の負荷が増大してしまう。しかし、本実施形態に係る溶剤回収装置２であれば、３２℃冷却水循環系１１の冷却水を、後置加熱器７を介して前置冷却器５へ流すことにより、後置加熱器７を通過することで１７℃に冷却された冷却水が前置冷却器５を通過するので、主冷却器６に流入させるガスを予め２７℃にまで冷却することができる。
【００２７】
溶剤回収装置２によってある程度の溶剤が回収され、その最下流で昇温されたガスは、濃縮装置３へ送られて更に浄化される。濃縮装置３は、図１に示すように、吸着ロータ１３や蒸気加熱コイル１４を有しており、次のように構成されている。
【００２８】
吸着ロータ１３は、円筒状の部材の内部にゼオライト等の吸着材を担持したものである
。吸着ロータ１３の両端面には、図示しないセクション分割カセットが配置されており、このカセットによって吸着ロータ１３のガス通過域が３つのセクションに区画される。吸着ロータ１３は、このセクション分割カセットと相対的に回転可能なようになっており、このカセットによって吸着ロータ１３に処理領域Ｒ１、再生領域Ｒ２、パージ領域Ｒ３が形成される。
【００２９】
処理領域Ｒ１には、ファン１５Ｂによって送られる溶剤回収装置２を出た２７℃のガスが通過する。処理領域Ｒ１は、通気するガス中のＮＭＰを吸着し、浄化したガスを排出する。処理領域Ｒ１を出たガスの多くは、溶剤回収システム１を出てドライヤへ送られる。また、処理領域Ｒ１を出たガスの一部は、パージ領域Ｒ３へ送られる。なお、処理領域Ｒ１を出たガスは、一部あるいは全量を屋外へ排気してもよい。
【００３０】
パージ領域Ｒ３は、吸着ロータ１３がセクション分割カセットと相対的に回転することにより、吸着ロータ１３のある一点が再生領域Ｒ２から処理領域Ｒ１へ遷移する途中で形成される領域である。パージ領域Ｒ３は、再生直後でインサービス前の高温状態にある吸着材を冷却するための領域であり、処理領域Ｒ１を出たガスの一部が通過することにより冷却される。吸着ロータ１３が、図１の矢印が示す方向に回転することで、吸着ロータ１３のある一点が処理領域Ｒ１、再生領域Ｒ２、パージ領域Ｒ３の順に繰り返し遷移する。
【００３１】
パージ領域Ｒ３を出たガスは、蒸気加熱コイル１４で加熱された後、再生領域Ｒ２へ送られる。蒸気加熱コイル１４は、溶剤回収システム１が設置された建屋のユーティリティ配管から供給されるボイラーの蒸気でガスを加熱する。蒸気加熱コイル１４内の復水は、ドレントラップを介して再びボイラーの給水タンクへ戻される。パージ領域Ｒ３から排出された６８℃のガスは、蒸気加熱コイル１４による加熱で１３０℃になり、再生領域Ｒ２へ送られる。これにより、再生領域Ｒ２は高温になり、吸着した溶剤を離脱する。再生領域Ｒ２を出たガスは、溶剤回収装置２へ再び送られる。これにより、再生加熱によって吸着ロータ１３から離脱した溶剤の多くが、溶剤回収装置２の主冷却器６で凝縮して回収されることになる。なお、前述のように３２℃冷却水循環系１１の冷却塔を出た冷却水がそのままの温度で主冷却器６を出たガスと熱交換することは、蒸気加熱コイル１４に高熱を供給するボイラーの負荷低減に寄与する。
【００３２】
ところで、乾燥室１７Ａ〜Ｇ内では、ＮＭＰ溶剤が気化するために気中のＮＭＰ濃度が非常に高濃度（例えば、２０００ｐｐｍ程度）になるため、乾燥能力を保つためには、各乾燥室１７Ａ〜Ｇ内に導入するガスのＮＭＰ濃度をこれよりも低い濃度（例えば、３００〜５００ｐｐｍ程度）にする必要がある。このため、乾燥室１７Ａ〜Ｇから排気されたガスの一部を浄化する溶剤回収システム１から排気されて乾燥室１７Ａ〜Ｇ内へ戻るガスのＮＭＰ濃度は、１０〜２００ｐｐｍ程度にまで浄化される必要があるが、その濃度は送り先の乾燥室に応じて異なる。すなわち、ドライヤ１６の中でも乾燥開始直後の上流工程においては、電極に大量のＮＭＰ溶剤が付着しているために乾燥室内のＮＭＰ濃度が高く、ドライヤ１６の中でも乾燥終了直前の下流工程においては、電極に付着していたＮＭＰ溶剤の多くが既に乾燥しているために乾燥室内のＮＭＰ濃度が低い。
【００３３】
そこで、本実施形態に係る溶剤回収システム１は、ドライヤ１６の各乾燥室１７Ａ〜Ｇを、２つの領域に概念的に分けており、ドライヤ１６の上流側の領域１８Ｈに属する乾燥室１７Ａ〜ＥにはＮＭＰ濃度が比較的高い溶剤回収装置２の排気が給気経路１９Ｈを介して送られ、ドライヤ１６の下流側の領域１８Ｌに属する乾燥室１７Ｆ〜ＧにはＮＭＰ濃度が比較的低い濃縮装置３の排気が給気経路１９Ｌを介して送られるようになっている。すなわち、領域１８Ｈには、溶剤回収装置２のファン１５Ｂから濃縮装置３の吸着ロータ１３へ流れるガスの一部が、ファン１５ＡＨから送られる。このガスを、高濃度系のドライヤ給気と呼ぶ。また、領域１８Ｌには、吸着ロータ１３の処理領域Ｒ１を出たガスの一部
が、ファン１５ＡＬから送られる。このガスを、低濃度系のドライヤ給気と呼ぶ。
【００３４】
この溶剤回収システム１であれば、濃縮装置３を出たガスよりもＮＭＰ濃度の高い、溶剤回収装置２を通過直後のガスを予乾燥気としてドライヤ１６へ給気するための給気経路１９Ｈが備わっているため、濃縮装置３の容量が小さくて済み、溶剤回収に係るコストを削減できる。
【００３５】
図４は、溶剤回収システム１から各乾燥室へ送られる給気の溶剤濃度を、本実施形態のもの（実施例）と従来技術のもの（すなわち、給気経路１９Ｈを省いて全乾燥室１７Ａ〜Ｇへ給気経路１９Ｌのガスを流したもの）とを比較したグラフである。このグラフから判るように、本実施形態では、領域１８Ｈに属する乾燥室１７Ａ〜ＥにＮＭＰ濃度が比較的高い給気が送られる。このため、本実施形態であれば、従来技術に比べて濃縮装置３の容量を大幅に小さくすることができ、システム全体の動作効率を改善することができることが判る。
【００３６】
本実施形態では、このように、溶剤回収システムが効率的な動作点で作動することができるため、濃縮装置などを小型化することができ、イニシャルコストやランニングコストの抑制を図ることができる。
【００３７】
なお、上記溶剤回収システム１は、溶剤回収を三段階以上で行い、各段階の排気をドライヤへ給気するようにしてもよい。例えば、三段階の場合であれば、図５に示すように、溶剤回収装置２から出たガス中に残留する溶剤蒸気を、濃縮装置３Ａと濃縮装置３Ｂの２段階で除去する。この変形例の場合、給気経路１９Ｈや１９Ｌの他に、給気経路１９Ｍが加わることになる。そして、ドライヤ１６を構成する各乾燥室１７Ａ〜Ｇは、給気経路１９Ｈを経由して送られる高濃度の給気が送られる領域１８Ｈ、給気経路１９Ｍを経由して送られる中濃度の給気が送られる領域１８Ｍ、給気経路１９Ｌを経由して送られる低濃度の給気が送られる領域１８Ｌの３つの領域に概念的に分割されることになる。
【００３８】
また、蒸気溶剤回収システム１は、溶剤蒸気を段階的に除去可能なものであれば、如何なるものを採用してもよく、例えば、高濃度系のドライヤ給気分は凝縮式の溶剤回収装置で処理しつつ、スクラバーのようなＮＭＰ溶剤を水などに吸収除去させる湿式の装置を併用することで、湿式の装置の容量を大幅に小さくすることができる。
【符号の説明】
【００３９】
１・・溶剤回収システム
２・・溶剤回収装置
３・・濃縮装置
１６・・ドライヤ
１７Ａ〜Ｇ・・乾燥室
１８Ｈ，１８Ｌ・・領域
１９Ｈ，１９Ｌ・・給気経路
【図１】
0005628051.tif 000002
【図２】
0005628051.tif 000003
【図３】
0005628051.tif 000004
【図４】
0005628051.tif 000005
【図５】
0005628051.tif 000006
【図６】
0005628051.tif 000007