(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子ビームを用いて試料を走査して前記試料の観察画像を得る方法であって、
前記試料を前記荷電粒子ビームで走査しながら前記試料上における前記荷電粒子ビームの照射位置を移動させることにより観察視野を移動させる照射位置移動ステップと、
前記試料上における走査線毎に前記試料の観察画像を生成するステップと、
前記観察画像を複数フレームについて取得するステップと、
前記複数フレームについて前記走査線に対応する画像間の差分を求めるステップと、
前記走査線のうち前記複数フレーム間で前記走査線に対応する画像の位置が異なっている位置ずれ走査線を特定するステップと、
前記走査線のうち前記位置ずれ走査線を除いたものに対応する観察画像の位置を前記位置ずれ走査線の位置に補正するステップと、
前記補正後の前記観察画像を用いて前記試料上の所定パターンの個数をカウントするステップと、
を有することを特徴とする観察画像取得方法。
【請求項２】
前記差分に基づき前記複数フレーム間のずれ方向を特定するステップと、
前記走査線の走査方向を前記ずれ方向と平行になるように補正するステップと、
を有することを特徴とする請求項１記載の観察画像取得方法。
【請求項３】
前記補正後の前記複数フレームについての観察画像を同じ位置で重ね合わせて新たな観察画像を生成するステップを有する
ことを特徴とする請求項１記載の観察画像取得方法。
【請求項４】
前記照射位置移動ステップでは、前記試料を載置しているステージの位置を移動させることにより、前記試料上における前記荷電粒子ビームの照射位置を移動させる
ことを特徴とする請求項１記載の観察画像取得方法。
【請求項５】
前記照射位置移動ステップでは、前記荷電粒子ビームの照射方向を偏向させることにより、前記試料上における前記荷電粒子ビームの照射位置を移動させる
ことを特徴とする請求項１記載の観察画像取得方法。
【請求項６】
荷電粒子ビームを試料に対して照射する荷電粒子ビーム源と、
前記試料を載置するステージと、
前記荷電粒子ビームの照射方向を偏向させる偏向器と、
前記試料から放出される電子を検出する検出器と、
前記検出器の検出結果に基づき前記試料の観察画像を生成する画像処理部と、
前記ステージおよび前記偏向器の動作を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、
前記試料を前記荷電粒子ビームで走査しながら前記試料上における前記荷電粒子ビームの照射位置を移動させることにより観察視野を移動させる照射位置移動ステップと、
前記試料上における走査線毎に前記試料の観察画像を生成するステップと、
前記観察画像を複数フレームについて取得するステップと、
前記複数フレームについて前記走査線に対応する画像間の差分を求めるステップと、
前記走査線のうち前記複数フレーム間で前記走査線に対応する画像の位置が異なっている位置ずれ走査線を特定するステップと、
前記走査線のうち前記位置ずれ走査線を除いたものに対応する観察画像の位置を前記位置ずれ走査線の位置に補正するステップと、
前記補正後の前記観察画像を用いて前記試料上の所定パターンの個数をカウントするステップと、
を実行することを特徴とする走査型電子顕微鏡。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、走査型電子顕微鏡を用いて試料の観察画像を取得する方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、走査型電子顕微鏡を用いて、所定の形状パターンが規則的に繰り返し配置された半導体部品の不良解析が行われている。近年では、半導体の微細化が試料ステージの位置決め精度よりも進行し、高倍率の走査型電子顕微鏡を用いても、不良位置を特定することが困難になりつつある。
【０００３】
一方、不良箇所にプローブを当ててデバイス特性を測定して初めて不良の有無を判定することができるような、外見からは判断することができない不良も存在する。このような不良を解析する際には、不良箇所を収束イオンビームなどで切り出す必要がある。このとき、同じ形状パターンが隣接して多数並んでいるなかから切り出すべき箇所を正確に特定するため、各形状パターンに識別番号などを付与して個々の形状パターンを識別する必要がある。どの形状パターンを切り出したかを特定せずにデバイス特性を測定しても、検査の意義がないからである。
【０００４】
下記特許文献１には、上記のような同じ形状パターンをカウントする手法が記載されている。同文献に記載されている手法では、試料ステージを移動させながら形状パターンをカウントする手法の発展形として、各形状パターンを画面上で矩形枠を用いて囲みながら識別番号を付与する方法を開示している。オペレータは、画面上に表示される各形状パターンの識別番号を目視確認しながら、切り出すべき形状パターンを特定する。本手法によれば、ステージの位置決め精度によらず、各形状パターンを識別番号によって特定することができる点で、利点がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−２５１８２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記特許文献１記載の手法では、荷電粒子ビームを照射している最中に、視野範囲を移動させるため試料ステージを動かすと、荷電粒子ビームの照射位置がステージ移動にともなって引き伸ばされ、これにより観察画像がステージ移動方向に歪む。形状パターンに識別番号を付与しながらカウントする際には、パターンマッチングによって同一形状を探索しながら個々の形状パターンを識別するため、観察画像が歪むとその形状パターンを識別することができず、その形状パターンをカウントせずにスキップして次の形状パターンに進んでしまう可能性がある。
【０００７】
フレームレートをステージの移動速度よりも極端に上げれば、観察画像の歪みは小さくなるが、１画素当たりの２次電子収量も減ってしまうので、観察画像が荒くなり、結果として形状パターンを識別できなくなる可能性がある。
【０００８】
オペレータとしては、作業を速やかに完了させるため試料ステージを速く動かしたいと考える一方で、試料ステージを速く動かしすぎると上記のような不具合が生じる。すなわち、試料ステージの移動速度と形状パターンの識別精度は、トレードオフの関係にある。実際の作業においては、観察画像の精度を重視して試料ステージの移動速度を落とすことが多く、作業効率を低下させる要因になっていると思われる。
【０００９】
また、荷電粒子ビームを照射していない撮像休止区間で試料ステージを移動させることも考えられるが、観察画像の移動がコマ切れになって見づらくなる。
【００１０】
本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、荷電粒子ビームを照射している最中に試料ステージを移動させても観察画像の歪みを生じさせないようにすることのできる観察画像取得手法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明に係る観察画像取得方法では、フレーム間でずれが生じている走査線を特定し、観察画像のうちその走査線以外の部分を、ずれている走査線の位置に合わせるように位置補正する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明に係る観察画像取得方法によれば、荷電粒子ビームを照射している最中にステージが移動したため走査線がずれても、フレーム間のずれを特定することによってその走査線を特定することができる。この走査線の位置に合わせて他の部分を位置補正することにより、観察画像の歪みを元に戻し、形状パターンを正確に識別することができる。その結果、荷電粒子ビームを照射している最中でもステージを移動させることができるので、作業効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】実施形態１に係る走査型電子顕微鏡２８の構成図である。
【図２】荷電粒子ビーム３を照射している最中に試料ステージ２６を移動させることによって観察画像に歪みが生じる原理を説明する図である。
【図３】観察画像が不鮮明になる原理を説明する図である。
【図４】観察画像の位置を補正することにより歪みをなくす手順を説明する図である。
【図５】試料１１上の所定形状パターンをカウントしながら観察画像を生成する従来の手順を示すフローチャートである。
【図６】実施形態１において、走査型電子顕微鏡２８が試料１１上の所定形状パターンをカウントしながら観察画像を生成する手順を示すフローチャートである。
【図７】実施形態２に係る観察画像取得手法を説明する図である。
【図８】１フレーム分の観察画像を生成する従来の手順を示すフローチャートである。
【図９】実施形態３において、走査型電子顕微鏡２８が１フレーム分の観察画像を生成する手順を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
＜実施の形態１＞
図１は、本発明の実施形態１に係る走査型電子顕微鏡２８の構成図である。本体１は、荷電粒子ビーム源２、第１収束レンズ５、第２収束レンズ６、偏向コイル７、視野移動コイル８、対物レンズ９、２次電子検出器１０、試料ステージ２６を備える。これらは制御部１２によって制御される。ステージ制御部２７は、試料ステージ２６の移動位置を制御する。
【００１５】
制御部１２は、荷電粒子ビーム制御部１３、増幅器１５、画像処理部１６、システム制御部１４を備える。システム制御部１４は、これら構成要素を統合制御する。
【００１６】
コンピュータ２２は、オペレータが制御部１２に対して指示を与えるために使用する操作端末であり、キーボード２３、マウス２４、ディプレイ２５を備える。
【００１７】
荷電粒子ビーム絞り４、第１収束レンズ５、第２収束レンズ６、偏向コイル７、対物レンズ９は、荷電粒子ビーム源２から放出された荷電粒子ビーム３を細く絞り、試料１１に対して照射しながら試料１１を走査する。荷電粒子ビーム制御部１３は、高圧電源、レンズ電源、偏向アンプなどの、荷電粒子ビーム３を制御するための構成要素を備える。システム制御部１４は、荷電粒子ビーム制御部１３のこれら構成要素を用いて、荷電粒子ビーム３を制御する。
【００１８】
また、システム制御部１４は、対物レンズ駆動部１３ｂを用いて、対物レンズ９に供給する電流を変化させることにより、荷電粒子ビーム３の試料１１上における焦点位置を制御する。
【００１９】
２次電子検出器１０は、荷電粒子ビーム３を試料１１に照射することによって生じる２次電子を検出する。増幅器１５は、２次電子検出器１０が検出した２次電子の検出信号を増幅し、画像処理部１６に出力する。
【００２０】
画像処理部１６は、Ａ／Ｄコンバータ１７、画素積算部１８、フレーム積算部１９、画像メモリ２０、画像送信部２１を備える。Ａ／Ｄコンバータ１７は、増幅器１５の出力をデジタルデータに変換する。画素積算部１８は、Ａ／Ｄコンバータ１７の出力を画素毎の輝度値に換算する。フレーム積算部１９は、画素積算部１８の出力を１フレーム毎に観察画像データとして整形し、画像送信部２１に出力する。画像送信部２１は、観察画像データをコンピュータ２２に送信し、コンピュータ２２はその観察画像を画面表示する。画像メモリ２０は、１以上のフレームについての観察画像データを保存し、必要に応じて以降のフレームの観察画像と重ね合わせ、画像のざらつきを低減させる。
【００２１】
ディスプレイ２５は、観察画像を画面表示する。ステージ制御部２７が試料ステージ２６を移動させるか、または視野移動コイル８が試料１１上に照射する荷電粒子ビーム３の位置を変化させると、ディスプレイ２５が画面表示する観察視野が移動する。ステージ制御部２７が試料ステージ２６を回転させるか、または偏向コイル７の電流を変調すると、荷電粒子ビーム３の走査方向が回転し、その結果としてディスプレイ２５が画面表示する観察視野が回転する。ステージ制御部２７が試料ステージ２６を傾斜させると、試料１１の傾斜像を得ることができる。
【００２２】
図２は、荷電粒子ビーム３を照射している最中に試料ステージ２６を移動させることによって観察画像に歪みが生じる原理を説明する図である。走査型電子顕微鏡２８は、一般に観察視野の水平方向に荷電粒子ビーム３を走査させながら、水平走査線画像を取得し、これを上辺から下辺に向かって繰り返すことによって２次元観察画像を生成する。ここでは水平走査線３５〜３９を例示した。
【００２３】
ここで、荷電粒子ビーム３を照射している最中に試料ステージ２６が方向２９に移動したと仮定する。試料１１上には、円形パターンが形成されているものとする。円形パターンの初期位置は位置３０である。試料ステージ２６の移動にともなって、円形パターンの位置は、位置３０から位置３４に向かって移動する。
【００２４】
荷電粒子ビーム３を水平走査線３６上で走査している際に、円形パターンが位置３０から位置３１まで移動したと仮定すると、水平走査線３６上で円形パターンを走査した結果として得られる走査線画像は、線分３６ｂ上のものとなる。同様に、水平走査線３７上で得られる走査線画像は線分３７ｂ上のもの、水平走査線３８上で得られる走査線画像は線分３８ｂ上のものであるものとする。
【００２５】
線分３６ｂ〜３８ｂ上の走査線画像を連結すると、最終的に得られる円形パターンの観察画像は、楕円パターン４０のように、方向２９へ引き伸ばされた形状となる。これは、荷電粒子ビーム３を照射している最中に試料ステージ２６が移動することにより、照射位置が方向２９に沿って引き伸ばされてずれることによる。
【００２６】
試料ステージ２６の移動速度に対してフレームレートを極端に上げることによって観察画像の歪みを低減することもできるが、１画素当たりの２次電子収量が少なくなるので、ざらついた観察画像となる。リカーシブフィルタなどを適用することによって複数の観察画像を重ね合わせ、観察画像のざらつきを抑えることもできるが、この場合は観察画像が不鮮明になる可能性がある。
【００２７】
図３は、観察画像が不鮮明になる原理を説明する図である。ここでは、荷電粒子ビーム３を照射しながら、リカーシブフィルタを適用して４枚積算した観察画像を観察している最中に、試料ステージ２６が方向４１へ移動したと仮定する。試料１１上の円形パターンの初期位置は、位置４２である。１フレーム後に円形パターンが位置４３まで移動したものとする。
【００２８】
領域４５は、４枚分の観察画像が重ね合わさった階調を有する。一方、領域４４と領域４６は３枚分の観察画像が重ね合わさった階調を有する。そのため、領域４４と領域４６は領域４５よりもコントラストが低下し、観察画像が不鮮明となる。
【００２９】
図２〜図３で説明した、観察画像の歪みや不鮮明さは、走査が完了しておらず画素データを全て取得できていない時点で走査位置がずれること、すなわち画面内の画素データを同時に取得できていないことに起因している。これは、荷電粒子ビーム３を用いて試料１１を走査している最中に試料ステージ２６を移動させると、必ず生じるものである。そこで本発明では、取得した観察画像を試料ステージ２６の移動方向に補正することにより、歪みや不鮮明さを解消することを図る。
【００３０】
図４は、観察画像の位置を補正することにより歪みをなくす手順を説明する図である。フレーム５１は１枚目の観察画像、フレーム４７は２枚目の観察画像である。ここでは、荷電粒子ビーム３が走査線４８上を走査しているとき、試料１１が方向５０に移動したものと仮定する。
【００３１】
走査線４８上で走査を実行しているとき、観察視野を移動するために試料１１を移動させると、フレーム５１上の走査線５２に相当するフレーム４７上の走査線４９が、方向５０にずれる。これにより、走査線５２はフレーム５１の右側寄りの位置に配置されているのに対し、走査線４９はフレーム４７の左側寄りの位置に配置されている。この状態のままで観察画像を生成すると、円形パターンは左向きに歪んでしまう。
【００３２】
システム制御部１４は、フレーム４７とフレーム５１の間で、走査線毎の差分をパターンマッチングによって求める。ここでは、走査線５２から得る観察画像と、走査線４９から得る観察画像が、パターンマッチングによって合致する。しかし、これらの位置はずれ量５３だけずれていることが分かる。
【００３３】
そこで、システム制御部１４は、走査線４９の走査を終了した後、走査線４９を除いた走査線から得られた観察画像５４の位置を、走査線４９の位置に合わせて補正し、走査線４９の観察画像とともに画面表示させる。この様子を図４の下図に示した。これにより、荷電粒子ビーム３を照射している最中に試料１１が移動した場合でも、観察画像の歪みを生じさせないようにすることができる。
【００３４】
なお、観察画像を移動させると、円形パターンの外側の領域に欠損部分が生じる可能性がある、これを防ぐためには、あらかじめ欠損部分を見込んで観察範囲５５よりも広い領域に対して荷電粒子ビーム３を照射し、円形パターンの外側領域についても走査線画像を得ておくとよい。これにより、観察画像をずれ量５３だけ移動させても、観察範囲５５内では欠損部分が生じないようにすることができる。
【００３５】
図５は、試料１１上の所定形状パターンをカウントしながら観察画像を生成する従来の手順を示すフローチャートである。本フローチャートは、後述の図６で説明する、本発明に係る手法と比較するために例示するものである。以下、図５の各ステップについて説明する。
（図５：ステップＳ５０１〜Ｓ５０２）
Ａ／Ｄコンバータ１７は、２次電子検出器１０が検出した２次電子の検出信号を、デジタルデータに変換する（Ｓ５０１）。画素積算部１８は、Ａ／Ｄコンバータ１７の出力を画素毎の輝度値に換算する（Ｓ５０２）。
（図５：ステップＳ５０３〜Ｓ５０４）
画素積算部１８は、画素毎の輝度値を走査線毎に画像メモリ２０に格納する（Ｓ５０３）。画像送信部２１は、走査線毎の観察画像データをコンピュータ２２に送信し、コンピュータ２２はその走査線の観察画像を画面表示する（Ｓ５０４）。すなわち、従来手法では、走査線毎に観察画像を更新している。
【００３６】
図６は、本実施形態１において、走査型電子顕微鏡２８が試料１１上の所定形状パターンをカウントしながら観察画像を生成する手順を示すフローチャートである。以下、図６の各ステップについて説明する。
（図６：ステップＳ６０１〜Ｓ６０３）
これらのステップは、図５のステップＳ５０１〜Ｓ５０３と同様である。
（図６：ステップＳ６０４）
システム制御部１４は、現在荷電粒子ビーム３を照射している走査線の観察画像を、１つ前のフレームにおける同じ走査線の観察画像とパターンマッチングする。
【００３７】
（図６：ステップＳ６０５）
システム制御部１４は、ステップＳ６０４の結果、フレーム間で走査線画像が一致したか否かを判定する。図４で説明したような、走査線間の位置ずれがある場合は、ステップＳ６０６へ進む。位置ずれがない場合は、ステップＳ６０７へスキップする。システム制御部１４は、本ステップにより、位置ずれがある走査線を特定することができる。
（図６：ステップＳ６０６）
システム制御部１４は、図４で説明したように、前フレームにおける、位置ずれがある走査線を除いた走査線の観察画像の位置を、位置ずれがある走査線の位置に合わせるように補正する。
（図６：ステップＳ６０７）
システム制御部１４は、ステップＳ６０６の結果として得られる補正後の観察画像を、コンピュータ２２のディスプレイ２５上に画面表示する。また、システム制御部１４は、補正後の観察画像上に現れる所定形状のパターンを個々に識別し、識別番号を付与してディスプレイ２５上に画面表示する。
【００３８】
＜実施の形態１：まとめ＞
以上のように、本実施形態１に係る走査型電子顕微鏡２８は、フレーム間で位置ずれが生じている走査線を特定し、その走査線を除いた走査線の観察画像の位置を、位置がずれている走査線に合わせて位置補正する。これにより、荷電粒子ビーム３を試料１１に照射している最中に試料１１が移動した場合でも、歪んだ観察画像を移動後の走査線位置に合わせて位置補正することができる。すなわち、歪んだ観察画像を移動後の位置に合わせて本来の形状に補正し、形状パターンを正確に識別することができる。
【００３９】
また、本実施形態１において、試料１１が水平方向に移動することを想定して水平方向にパターンマッチングを実施することとしたが、荷電粒子ビーム３を照射している走査線の上下に位置する走査線に対しても、パターンマッチング実施するようにしてもよい。これにより、試料１１が走査線に対して垂直方向に移動した場合でも、観察画像の歪みを補正することができる。以下の実施形態でも同様である。
【００４０】
＜実施の形態２＞
本発明の実施形態２では、荷電粒子ビーム３を照射している最中に、試料１１が走査線に対して斜めの方向に移動した場合の処理を説明する。走査型電子顕微鏡２８の構成は、実施形態１と同様であるため、以下では差異点を中心に説明する。
【００４１】
図７は、本実施形態２に係る観察画像取得手法を説明する図である。ここでは、試料１１が走査線に対して斜めの方向５０に移動したものと仮定する。システム制御部１４は、走査線４９と他の走査線の間でパターンマッチングを実施する。ここでは走査線５２と走査線４９が合致したものとする。
【００４２】
システム制御部１４は、走査線４９と走査線５２の位置ずれに基づき、試料１１の移動方向５０を特定することができる。以後、システム制御部１４は、荷電粒子ビーム３の走査方向が方向５０と平行になるように、荷電粒子ビーム制御部１３へ指示する。以後の処理は実施形態１と同様である。
【００４３】
以上のように、本実施形態２に係る走査型電子顕微鏡２８は、荷電粒子ビーム３を照射している最中に、試料１１が走査線に対して斜めの方向に移動したときは、荷電粒子ビーム３の走査方向を、試料１１の移動方向と平行となるように修正する。これにより、以後のパターンマッチングは走査線に対して水平方向にのみ実施すればよいので、システム制御部１４がパターンマッチングを実施する処理負担を軽減することができる。
【００４４】
＜実施の形態３＞
以上の実施形態１〜２において、複数フレームの観察画像を重ね合わせて積算し、単一の観察画像を得ることもできる。観察画像が歪んだ状態で積算処理を実施すると、図３で説明したように観察画像が不鮮明になる可能性があるが、実施形態１〜２で説明したように歪みを補正すれば、かかる不具合は生じない。
【００４５】
そこで本発明の実施形態３では、観察画像の歪みを補正した上で積算処理を実施する動作例を説明する。走査型電子顕微鏡２８の構成は、実施形態１と同様であるため、以下では積算処理に係る点を中心に説明する。
【００４６】
図８は、１フレーム分の観察画像を生成する従来の手順を示すフローチャートである。本フローチャートは、後述の図９において説明する、本発明に係る手法と比較するために例示するものである。以下、図８の各ステップについて説明する。
（図８：ステップＳ８０１〜Ｓ８０２）
これらのステップは、図５のステップＳ５０１〜Ｓ５０２と同様である。
（図８：ステップＳ８０３〜Ｓ８０４）
フレーム積算部１９は、画素積算部１８の出力を１フレーム毎に観察画像データとして整形する（Ｓ８０３）。画像送信部２１は、観察画像データをコンピュータ２２に送信し、コンピュータ２２はその観察画像を画面表示する（Ｓ８０４）。すなわち、従来の手法では、位置がずれている走査線画像をそのまま積算しているため、図３で説明したように観察画像が不鮮明となる可能性がある。
【００４７】
図９は、本実施形態３において、走査型電子顕微鏡２８が１フレーム分の観察画像を生成する手順を示すフローチャートである。以下、図９の各ステップについて説明する。
（図９：ステップＳ９０１〜Ｓ９０６）
これらのステップは、図６のステップＳ６０１〜Ｓ６０６と同様である。
（図９：ステップＳ９０７〜Ｓ９０８）
フレーム積算部１９は、ステップＳ９０６の結果として得られた補正後の観察画像を、前のフレームの観察画像と同じ位置で重ね合わせて積算する。フレーム積算部１９は、全ての走査線について同様の処理を実行する。
（図９：ステップＳ９０９）
システム制御部１４は、ステップＳ９０８までの結果として得られる補正後の観察画像を、コンピュータ２２のディスプレイ２５上に画面表示する。すなわち、本発明に係る手法では、走査線の位置ずれを補正した後の観察画像を積算するので、歪みのない観察画像を重ね合わせることになり、図３で説明したような不鮮明さを低減することができる。
【００４８】
＜実施の形態３：まとめ＞
以上のように、本実施形態３に係る走査型電子顕微鏡２８は、補正後の観察画像を重ね合わせて積算することにより、観察画像のざらつきを低減することができる。また、実施形態１〜２で説明した手法で補正した後に積算処理を実施しているので、図３で説明したような不鮮明さを抑えることができる。
【００４９】
＜実施の形態４＞
以上の実施形態１〜３では、荷電粒子ビーム３を照射中に試料ステージ２６が移動することにより、試料１１が移動し、観察画像の歪みが生じることを説明した。これは、観察視野を移動するため試料ステージ２６を移動させていることによる。
【００５０】
同様の観察画像の歪みは、荷電粒子ビーム３の照射方向が変化することによっても生じる。例えば、観察視野を移動するため試料ステージ２６を移動させることに代えて、荷電粒子ビーム３の偏向方向を変化させる場合が考えられる。
【００５１】
いずれの場合においても、観察画像に生じた歪みを補正する手法として、本発明に係る手法を用いることができる。
【００５２】
＜実施の形態５＞
以上、本発明に係る実施形態を具体的に説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。
【００５３】
また、上記各構成、機能、処理部などは、それらの全部または一部を、例えば集積回路で設計することによりハードウェアとして実現することもできるし、プロセッサがそれぞれの機能を実現するプログラムを実行することによりソフトウェアとして実現することもできる。各機能を実現するプログラム、テーブルなどの情報は、メモリやハードディスクなどの記憶装置、ＩＣカード、ＤＶＤなどの記憶媒体に格納することができる。
【符号の説明】
【００５４】
１：本体、２：荷電粒子ビーム源、３：荷電粒子ビーム、４：荷電粒子ビーム絞り、５：第１収束レンズ、６：第２収束レンズ、７：偏向コイル、８：視野移動コイル、９：対物レンズ、１０：２次電子検出器、１１：試料、１２：制御部、１３：荷電粒子ビーム制御部、１３ｂ：対物レンズ駆動部、１４：システム制御部、１５：増幅器、１６：画像処理部、１７：Ａ／Ｄコンバータ、１８：画素積算部、１９：フレーム積算部、２０：画像メモリ、２１：画像送信部、２２：コンピュータ、２３：キーボード、２４：マウス、２５：ディプレイ、２６：試料ステージ、２７：ステージ制御部、２９：移動方向、３０〜３４：円形パターンの位置、３５〜３９：走査線、４０：楕円パターン、４２〜４３：位置、４４〜４６：領域、４７：２つ目のフレーム、４８〜４９：走査線、５０：移動方向、５１：１つ目のフレーム、５２：走査線、５３：ずれ量、５４：観察画像、５５：観察範囲。
【図１】
0005468515.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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