(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射面（２２）を有する複数の視野ファセット（１８）であって、該視野ファセット（１８）の像は物体視野（９）内で重ね合わせられる複数の視野ファセット（１８）を有し、
前記視野ファセット（１８）が、互いに隣接する該視野ファセット（１８）の配置が視野ファセットミラー（６）の基部平面（ｘｙ）を張るように配置される、
前記物体視野（９）に配置された物体の構造を像視野（１３）内に伝達するためのＥＵＶマイクロリソグラフィのための投影露光装置（１）の照明光学系に使用するための視野ファセットミラー（６）であって、
前記照明光学系を前記視野ファセット（１８）を介してチャンネル別に導かれる照明光の様々な経路に起因して発生する、前記物体視野（９）内での前記ファセット像の各々の理想的な結像状態からのずれを事前補償するように、前記視野ファセット（１８）のうちの少なくとも２つの反射面（２２）の基部平面（ｘｙ）上への投影が、以下のパラメータ：
形状、
向き、
のうちの少なくとも１つに関して異なる、
ことを特徴とする視野ファセットミラー。
【請求項２】
前記視野ファセット（１８）は、支持板（２１）上で特に行別又は列別に互いに隣合わせで配置されることを特徴とする請求項１に記載の視野ファセットミラー。
【請求項３】
前記視野ファセット（１８）のうちの少なくとも２つが、前記視野ファセットミラー（６）の前記基部平面（ｘｙ）に垂直な軸（２３；２６）の回りに１°よりも大きく互いに対して傾斜して配置されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の視野ファセットミラー。
【請求項４】
前記視野ファセット（１８）の前記基部平面（ｘｙ）上への投影が、部分リング形状を有することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー。
【請求項５】
前記傾斜軸（２３）は、隣接する視野ファセット（１８）の前記部分リング形状が配置されたリングの中心点を通じて延び、従って、該傾斜軸（２３）の回りの傾斜時に、該視野ファセットは、該リングに沿って外周方向に変位されることを特徴とする請求項３及び請求項４のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー。
【請求項６】
前記基部平面（ｘｙ）上への投影における前記視野ファセット（１８）は、前記部分リングの少なくとも２ｍｍの厚み、特に、３．４ｍｍの厚みを有することを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の視野ファセットミラー。
【請求項７】
前記視野ファセット（１８）のうちの少なくとも２つが、前記部分リングの半径と平行に延びる軸（２５）の回りに互いに対して傾斜されることを特徴とする請求項４から請求項６のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー。
【請求項８】
前記視野ファセット（１８）の前記反射面（２２）は、各場合に、２つの対向する球面側壁（２７，２８）によって制限されたファセット基部本体（２４）の端壁によって形成されることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー。
【請求項９】
前記ファセット基部本体は、前記２つの対向する球面側壁（２７，２８）によって凸状／凹状に制限されることを特徴とする請求項８に記載の視野ファセットミラー。
【請求項１０】
隣接するファセット基部本体（２４）の前記２つの互いに対面する側壁（２７x，２８y）は、同じ曲率半径を有し、かつ互いに対して同心状に延びることを特徴とする請求項８又は請求項９に記載の視野ファセットミラー。
【請求項１１】
前記視野ファセット（１８）のうちの１つの前記ファセット基部本体（２４）の前記２つの対向する側壁（２７x，２８x）は、同じ曲率半径（Ｒ1）を有し、かつ同心ではないことを特徴とする請求項８から請求項１０のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー。
【請求項１２】
前記視野ファセット（１８）のうちの１つの前記ファセット基部本体（２４）の前記２つの対向する側壁（２７x，２８x）は、異なる曲率半径（Ｒ1，Ｒ2）を有し、かつ同心であることを特徴とする請求項８から請求項１０のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー。
【請求項１３】
前記ファセット基部本体（２４）の前記２つの対向する側壁（２７x，２８x）は、同心ではなく、前記反射面（２２）は、前記外周方向に変化する厚みを有する部分リングを形成することを特徴とする請求項８から請求項１０のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー。
【請求項１４】
前記視野ファセット（１８ａから１８ｃ）のうちの少なくとも２つが、対称中心半径（２９）に関して異なる方位角広がりを有し、特に、この対称中心半径（２９）に関して非対称の方位角広がりを有することを特徴とする請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー。
【請求項１５】
隣接する視野ファセット（１８1，１８2）が、前記視野ファセットミラー（６）の前記基部平面（ｘｙ）に垂直な軸（２６）の回りに互い対して傾斜して配置されることを特徴とする請求項１から請求項１４のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー。
【請求項１６】
前記視野ファセット（１８1，１８2）の前記反射面（２２）は、長手ファセット広がり（ｘ）と短手ファセット広がり（ｙ）とを有し、該長手ファセット広がり（ｘ）に沿って間断なく変化する中間空間（４５）が、該長手ファセット広がり（ｘ）にわたって隣接し、かつ互いに対して傾斜された視野ファセット（１８1，１８2）の間に生成されることを特徴とする請求項１５に記載の視野ファセットミラー。
【請求項１７】
請求項８から請求項１６のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー（６）を生成する方法であって、
球面側壁（２７，２８）を有するファセット基部本体（２４）を有する個々の未加工視野ファセット（３４）を生成する段階と、
隣接するファセット基部本体（２４）のそれぞれ互いに割り当てられた側壁（２７，２８）が同じ曲率半径を有する視野ファセットスタック（３８）に前記個々の未加工視野ファセット（３４）を割り当てる段階と、
前記視野ファセットの前記個々の反射面（２２）を個々に処理する段階（３９）と、
処理された視野ファセット（１８）の群を組み立てて視野ファセットミラー（６）上にファセット装置を形成する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１８】
視野ファセットブロック（４２）への群別の配置が、前記視野ファセット（１８）の前記装置を組み立てる時に行われることを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記割り当ての後かつ前記個々の処理の前に、未加工ファセットブロックが組み立てられ（４０ａ）、該未加工ファセットブロックの基部面（４１）が研削されて、平坦な基準面が形成されることを特徴とする請求項１７又は請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
請求項１から請求項１６のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー（６）を有する照明光学系。
【請求項２１】
請求項２０に記載の照明光学系（１０）を有し、
前記物体視野（９）を前記像視野（１３）内に結像するための投影光学系（１２）を有する、
ことを特徴とする照明系。
【請求項２２】
請求項２１に記載の照明系と、
ＥＵＶ光源（２）と、
を有することを特徴とする投影露光装置。
【請求項２３】
微細構造構成要素を生成する方法であって、
レチクルとウェーハを準備する段階と、
請求項２２に記載の投影露光装置を用いて前記レチクル上の構造を前記ウェーハの感光層上に投影する段階と、
前記ウェーハ上に微細構造を生成する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、請求項１の前文に記載のＥＵＶマイクロリソグラフィのための投影露光装置の照明光学系に使用するための視野ファセットミラーに関する。本発明はまた、この種の視野ファセットミラーを製造する方法、この種の視野ファセットミラーを有する照明光学系、この種の照明光学系を有する照明系、この種の照明系を有する投影露光装置、この種の投影露光装置を用いて微細構造構成要素又はナノ構造構成要素を生成する方法、並びにこの種の製造法に従って微細構造化又はナノ構造化されて生成された構成要素にも関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の視野ファセットミラーは、ＷＯ  ２００７／１２８４０７Ａから公知である。
【０００３】
この種の視野ファセットミラーは、一方で物体視野の均一な照明をもたらし、他方でＥＵＶ光源によって生成された照明光の可能な限り大きい部分を物体視野に誘導する。この場合、視野ファセットミラーのファセットは、照明される物体視野に適応された形状及びアスペクト比を受け入れる。公知の視野ファセットミラーでは、特に、ＥＵＶ光源によって供給される照明光が照明光束にわたって均一な強度分布を持たない場合の均一な物体視野照明と高いＥＵＶ収量との同時保証に関する改善要求が依然として存在する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】ＷＯ  ２００７／１２８４０７Ａ
【特許文献２】ＤＥ  １０  ２００８  ００９  ６００  Ａ
【特許文献３】ＥＰ  ０  ９５２  ４９１  Ａ１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従って、以下の発明の目的は、均一な物体視野照明を高いＥＵＶ収量と同時に保証することにより、高い要件を満たすように冒頭で示した種類の視野ファセットミラーを開発することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明によると、この目的は、請求項１に開示している特徴を有する視野ファセットミラーによって達成される。
【０００７】
本発明の核心部は、公知の視野ファセットミラーで一般的に存在する支持板の法線方向への視野ファセット縁部の投影が、特にサイズ及び同じく形状の両方に関して同一であり、更には向きに関しても同一であるというこれまでに維持されていた境界条件を放棄することである。非同一に形成された投影を可能にする新しい自由度に起因して、例えば、結像条件の理由から起こり得る個別視野ファセット像の互いに対する回転の事前補償を物体視野上での個別視野ファセット像の重ね合わせ中に達成することができる。本発明によって認識されているように、照明光学系を視野ファセットを介してチャンネル別に導かれる照明光の様々な経路に起因して、ファセット像のこの種の回転がもたらされる。この場合、視野ファセットの結像スケール変動が物体視野上で発生する可能性もある。視野ファセット反射面の同一の基部平面上への投影という条件を放棄することにより、結像スケールの上述の変動を事前補償することができる。物体視野上への結像中において、物体視野上で重ね合わされる視野ファセット像が、異なる実ファセット面と、特に縁部において、もはや一致しないので、事前補償なしのファセット像の回転は、物体視野照明の望ましくない縁部散乱効果を招く。互いに隣合わせで配置された視野ファセットによって張られる視野ファセットミラーの基部平面は、一般的に、視野ファセット支持体の保持平面によって予め決定される。一般的に、この基部平面は、視野ファセットミラーの主反射平面と一致し、この主反射平面に対して、照明光学系の照明チャンネルの割り当てに対して視野ファセットを依然として個別に傾斜して配置することができる。この場合、主反射平面は、傾斜されていない視野ファセット、言い換えれば保持平面に整列した視野ファセットを有する反射平面である。
【０００８】
視野ファセットは、支持板上に互いに隣合わせで配置することができる。この場合、この支持板は、一般的に、視野ファセットミラーの基部平面と平行に延びている。
【０００９】
視野ファセットのうちの少なくとも２つは、視野ファセットミラーの基部平面に対して垂直な軸の回りに１°よりも大きく互いに対して傾斜して配置することができる。傾斜されていない開始位置に対する傾斜は、例えば、−３°と３°の間の範囲、−２°と２°の間の範囲、又は−１°と１°の間の範囲にあるとすることができる。この傾斜は最大でも、視野ファセットの反射面の傾斜位置を殆ど変化させず、従って、傾斜された視野ファセットの結像光学系の照明チャンネルへの割り当てに対していかなる効果も又は僅かな効果しか持たない。視野ファセットのそのような傾斜装置は、視野ファセットの考えられる立体収容の問題の理由からこれまでは排除されていた自由度であり、視野ファセットミラー上の視野ファセットの既知の充填幾何学形状において観察される物体視野照明の縁部散乱を低減するか又は更には完全に回避するのに役立つ自由度を表している。本発明による、基部平面又は主反射平面に対して垂直な軸の回りの視野ファセットの傾斜という自由度は、主反射平面に位置する軸であり、一方で傾斜された視野ファセットの反射面の主反射平面上の投影面と、他方で実反射面の間の過度に大きい調節不良を招く軸の回りの傾斜角が回避される設計を容易にする。本発明によると、物体視野照明における崩壊的な縁部散乱がもたらされることなく視野ファセットミラーを充填するのに、視野ファセットの製造に関してより好ましいアスペクト比を有する視野ファセットを用いることができる。この場合、更に、物体視野の充填度、従って、伝達可能光伝導率が実質的に増大される。これは、特に、高い光伝導率を有する光源、又は光損失なしに異なる程度で充填される照明瞳をもたらす照明系では重要である。主反射平面に対して垂直な傾斜軸の回りに傾斜された視野ファセットの瞳ファセットミラーの瞳ファセットへの割り当てによって所定の照明角度への割り当ては、照明光の強度モニタリングを最小限の損失で物体視野の縁部において行うことを保証する可能性を誘導する。この種の視野ファセットは、投影露光中に、物体が物体変位方向に連続して又は段階的に変位した投影露光システムに対して用いることができる。
【００１０】
請求項４に記載の視野ファセットの部分リング又は弧形状は、相応に部分リング形又は弓形の物体視野の良好に適応された照明を可能にする。この種の物体視野形状は、ミラー光学系として設計された投影露光装置の下流投影光学系を用いて良好に結像することができる。
【００１１】
請求項５に記載の傾斜軸の装置は、傾斜が、大きく見積もったものとしてもファセット反射面の弓形又は部分リング形の側縁部の位置の僅かな偏位しか招かないので、それぞれの視野ファセットの傾斜が、主反射平面内でのこの視野ファセットの充填要件を殆ど変化させないことを保証する。この傾斜軸の回りの傾斜中には、部分円又は弧形状に関する外周方向に先導するか又は追従するファセット反射面の端面は、実際に排他的に変位される。
【００１２】
請求項６に記載の視野ファセットは、部分リングの小さい厚みを有する視野ファセットと比較して低い製造経費で製造することができる。この部分リングの最小の厚みは、それぞれの視野ファセット基部本体の視野ファセットの製造において取り扱いが相応により容易な厚みが伴う。更に、大きい幅を有する視野ファセットの相対的な相互遮蔽を小さくすることができる。
【００１３】
請求項７に記載の更に別の傾斜自由度に関して傾斜された視野ファセットは、ＥＵＶ投影露光システムの照明光学系の視野ファセットから瞳ファセットミラーの瞳ファセットへの割り当てにおいて望ましい変調性を保証する。視野ファセットに割り当てられる瞳ファセットミラーの瞳ファセットの予め判断され、十分に混合された割り当てが可能である。視野ファセットの実反射面上から主反射平面上に投影される視野ファセット面の可能な限り小さい偏位を誘導する傾斜を有する更に別の傾斜自由度のための傾斜軸としてある軸が選択される。
【００１４】
請求項８に記載の対向する球面側壁によって制限されるファセット基部本体は、精密に製造することができる。この場合の「球面」は、「球体の面の区画のような形の」を意味する。代替的に、視野ファセットは、対向する２つの円筒形の側壁であり、特に互いと平行に変位した側壁によって制限されたファセット基部本体を有することができる。この種の視野ファセットを小さい間隔で互いに隣合わせで配置することができ、それによって主反射平面内での視野ファセットの高い充填密度がもたらされる。
【００１５】
請求項９に記載のファセット形状は、照明される物体視野の弓形又は部分リングの形状と良好に適合される。２つの対向する球面側壁の一方は凸であり、２つの球面側壁のうちの他方は凹である。
【００１６】
請求項１０に記載のファセット基部本体の側壁を有するファセットは、一方で密に充填することができ、他方で２つの隣接するファセット基部本体の互いに対面する側壁の球面に沿った互いに対する変位を可能にする。それによって視野ファセットミラーの視野ファセットの互いに対する相対的な位置決めが可能になる。
【００１７】
請求項１１に記載の視野ファセットは、球面側壁を製造するための１つの同じ処理ツールを用いて製造することができる。
【００１８】
請求項１２に記載のファセットミラーは、一方で密に充填することができ、他方で他の視野ファセットの間に密に充填し、それにも関わらず中心の回りに傾斜調節することができる。
【００１９】
請求項１３に記載の視野ファセットは、例えば、照明光の強度を制御するために、より特異な物体視野形状又はそうでなければ他の要件に適応させることができる。
【００２０】
請求項１４に記載の視野ファセットミラーは、物体視野の縁部領域に配置されたセンサの照明を可能にし、従って、ファセットミラーにエネルギを印加する光源のエネルギ又は強度の有効なモニタリングが可能である。
【００２１】
請求項１５に記載の隣接して互い対して傾斜された視野ファセットは、請求項３に記載の視野ファセットミラーのものに対応する利点を有する。
【００２２】
請求項１６に記載の中間空間は、個別視野ファセットの個別装置を可能にし、従って、物体視野内での視野ファセットの結像における望ましくない像傾斜効果の良好な補償を可能にする。視野ファセットは、設計において弓形又は矩形とすることができる。視野ファセットは、視野ファセットミラーの基部平面に列別に配置することができる。視野ファセットの５０％よりも高い充填密度が可能である。
【００２３】
本発明によると、様々な実施形態が与えられる請求項１７に記載の視野ファセットミラーは、この種の視野ファセットミラーが装備された投影露光装置内のＥＵＶ光収量を増大する。
【００２４】
請求項１８に記載の製造工程は、隣接するファセット基部本体の同じ曲率半径を有する側壁を用いた視野ファセット群の効率的な製造を可能にする。
【００２５】
請求項１９に記載の製造法は、視野ファセットミラーのファセットブロック装置に適応される。
【００２６】
請求項２０に記載の製造法は、ファセットブロック内に組み立てられた視野ファセットの正確な向きの設定を可能にする。
【００２７】
請求項２１に記載の照明光学系の利点は、本発明による視野ファセットミラーを参照して上述したものに対応する。
【００２８】
請求項２２に記載の照明光学系では、各場合に物体視野内に視野ファセット像の中心を重なる伝達ファセットミラーに対する調節仕様からの離脱は、物体視野内の視野ファセット像の合計の重ね合わせの最適化に関して更に別の自由度を誘導することが認識された。伝達ファセットの調節は、ファセット像の重ね合わせが物体視野にわたって合計して最適化されるように行われる。視野ファセット及びそれに関連付けられた伝達ファセットは、静的ファセットとすることができ、又はそうでなければ作動可能ファセット、言い換えれば、制御方式で変位させることができるファセットとすることができる。視野ファセット及び／又は伝達ファセットは、複数の個別ファセットから構成することができる。これらの個別ファセットは、互いに対して作動可能な方式で変位可能にすることができる。この種の個別ファセット／個別構造を用いた対応する概念は、ＤＥ  １０  ２００８  ００９  ６００  Ａから公知である。視野ファセットの変位又は傾斜を用いて、それぞれの視野ファセットに個別に関連付けられた伝達ファセットを伝達ファセットミラーの複数の可能な伝達ファセットから選択することができる。視野ファセットの反射面の中心が、本発明による照明光学系内で結像される物体視野の中心における拡張領域は、１ｍｍ2又はそれよりも大きい大きさの程度の面積を充填することができる。拡張領域は、弓形視野ファセットの像に対してほぼタンジェンシャル方向に延びる寸法と、弓形視野ファセットの像に対してほぼラジアル方向に延びる寸法とに張られる面積を有する。タンジェンシャル寸法は、物体視野の長手視野広がりの方向に延びることができ、ラジアル寸法は、物体視野の短手物体視野に沿って延びることができる。タンジェンシャル寸法は、視野ファセットの像の弧の曲率半径、及び視野ファセットミラーの基部平面に対して垂直な軸の回りの視野ファセットの互いに対する傾斜角のタンジェント（ｔａｎ）に比例するサイズを有する。±３°の範囲の視野ファセットのこの種の一般的な傾斜、及び視野ファセット像の１５０ｍｍの弧の曲率半径の場合には、拡張領域の１５ｍｍのタンジェンシャル寸法がもたらされる。拡張領域のラジアル寸法は、物体平面から分離した視野ファセット像のターゲット重ね合わせ平面からの物体平面の間隔に比例する。このターゲット重ね合わせ平面は、例えば、補正絞りの変位平面と一致することができる。例えば、ターゲット重ね合わせ平面には、ＵＮＩＣＯＭを配置することができる。ターゲット重ね合わせ平面を補正絞り又は補正遮光器の絞り下平面又は遮光器下平面とも呼ぶ。更に、拡張領域のラジアル寸法は、物体視野照明の開口数に比例する。物体視野照明の開口数に対して一般的な値、例えば、ＮＡ＝０．１を仮定し、物体平面とターゲット重ね合わせ平面の間の間隔に対して、例えば、１０ｍｍを仮定すると、拡張領域のラジアル寸法に対して１．５ｍｍの値がもたらされる。拡張領域は、タンジェンシャル寸法に対して３ｍｍと２５ｍｍの間の広がり、特に５ｍｍと２０ｍｍの間の広がりを有することができる。ラジアル寸法に対しては、拡張領域は、０．５ｍｍと３ｍｍの間の広がり、特に０．７５ｍｍと２ｍｍの間の広がりを有することができる。一方の物体平面と、他方のターゲット重ね合わせ平面とは互いに密接するので、上述の寸法を考察するのに、拡張領域をターゲット重ね合わせ平面内で観察するか、又は物体平面内で観察するかは実際には重要ではない。
【００２９】
請求項２３に記載の照明光学系では、視野ファセットの反射面の中心を物体視野の中心において長手視野広がりに沿って拡張された領域上に結像する伝達ファセットの向きにより、弓形視野ファセットの物体視野上への結像の傾斜効果の補償を驚く程に達成することができる。本発明によると、物体視野内のファセット弧の全ての中心を互いの上に厳密に結像すべきであるという条件を放棄すれば、傾斜された弧も同様に元の弧に依然として非常に類似することが認識された。後続光学系の傾斜結像効果の良好な補償は、驚く程に僅かな経費で、その目的に対して湾曲視野ファセットを用いる従来の視野ファセットミラーの構造への比較的大きい干渉を必要とせずにもたらされる。
【００３０】
請求項２４に記載の重ね合わせ装置は、より鮮明に重ね合わされた縁部から物体視野照明の強度に影響を与える補正機構の使用を可能にし、従って、この補正機構を用いた場合の照明角度分布に対する望ましくない効果が最小にされる。重ね合わせは、物体平面内で最適化することができ、又は代替的に、物体平面に適合しなくてもよい補正機構の変位平面内でも最適化することができる。
【００３１】
請求項２５に記載の照明系、請求項２６に記載の投影露光装置、請求項２７に記載の製造法、及び請求項２８に記載の微細構造構成要素の利点は、本発明による視野ファセットミラーを参照して上述したものに対応する。
【００３２】
下記では本発明の実施形態を図面を用いてより詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】照明光学系を子午断面内に示すＥＵＶマイクロリソグラフィのための投影露光装置の概略図である。
【図２】図１に記載の照明光学系の視野ファセットミラーの平面図である。
【図３】図２の詳細部ＩＩＩによる詳細拡大図の概略図である。
【図４】図２に記載の視野ファセットミラーの視野ファセットの個別の１つの拡大斜視分解組立図である。
【図５】図２に記載の視野ファセットミラーにおける使用に対して群別に配置された視野ファセットの様々な実施形態、及びこれらの視野ファセットの隣接する装置例の平面図である。
【図６】図２に記載の視野ファセットミラーにおける使用に対して群別に配置された視野ファセットの様々な実施形態、及びこれらの視野ファセットの隣接する装置例の平面図である。
【図７】図２に記載の視野ファセットミラーにおける使用に対して群別に配置された視野ファセットの様々な実施形態、及びこれらの視野ファセットの隣接する装置例の平面図である。
【図８】図２に記載の視野ファセットミラーにおける使用に対して群別に配置された視野ファセットの様々な実施形態、及びこれらの視野ファセットの隣接する装置例の平面図である。
【図９】照明光学系によって強度モニタリングセンサの位置で照明される物体視野の縁部における照明条件をｘ軸の回りに１８０°、ｚ軸の回りに９０°回転だけさせた図１と同等の子午断面内に示す図である。
【図１０】物体視野の縁部照明を様々な照明方向に対して強調した物体視野の平面図である。
【図１１】図２に記載の装置内の視野ファセット上に所定の試験点パターンから発した物体視野の照明の重ね合わせを示す図１０と類似の図である。
【図１２】可能な傾斜角を示すための隣接して互いに対して傾斜して配置された２つの視野ファセットの概略図である。
【図１３】隣接するファセット基部本体の互いに対面する側壁が同じ曲率半径を有する視野ファセットを有する視野ファセットミラーの製造順序の概略図である。
【図１４】図１に記載の照明光学系に使用するための視野ファセットミラーの更に別の実施形態の図２と類似の図である。
【図１５】図１４の詳細部ＸＶによる詳細拡大図である。
【図１６】図１に記載の照明光学系に使用するための視野ファセットミラーの更に別の実施形態の図２と類似の図である。
【図１７】図１６の詳細部ＸＶＩＩの拡大図である。
【図１８】瞳ファセットミラーとして構成された伝達ファセットミラーを用いて物体視野内に重ね合わせ方式で結像される反射面を有する視野ファセットミラーを有する照明光学系の更に別の実施形態による物体視野照明の補正絞り又は補正遮光器のターゲット重ね合わせ平面内の重ね合わせを示す図１１と類似の図である。
【図１９】図１８に記載の照明光学系の視野ファセットの反射面の中心の像の物体視野内での位置を図１８に記載の図と比較して鮮明に拡大したスケールで示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
図１は、ＥＵＶマイクロリソグラフィのための投影露光装置１を略示している。光源２としてＥＵＶ放射線源が用いられる。このＥＵＶ放射線源は、ＬＰＰ（レーザ生成プラズマ）放射線源又はＤＰＰ（放電生成プラズマ）放射線源とすることができる。光源２は、５ｎｍと３０ｎｍとの範囲の波長のＥＵＶ有利放射線３を放出する。下記では有利放射線３を照明光又は結像光とも呼ぶことにする。
【００３５】
光源によって放出された照明光３は、最初にコレクター４内に集光される。コレクター４は、光源２の種類に依存して楕円体ミラー又は多段コレクターとすることができる。照明光３は、コレクターの後に中間焦点面５を通過し、その後、以下に詳細に以下に説明する視野ファセットミラー６上に入射する。照明光３は、視野ファセットミラー６から瞳ファセットミラー７に対して反射される。照明光束は、一方で視野ファセットミラー６のファセットを用いて、他方で瞳ファセットミラー７のファセットを用いて複数の照明チャンネルに分割され、視野ファセット又は瞳ファセットを有する１つのファセット対が、各照明チャンネルに厳密に割り当てられる。
【００３６】
瞳ファセットミラー７の下流に配置された後続光学系８は、照明光３、言い換えれば全ての照明チャンネルの光を物体視野９に対して誘導する。視野ファセットミラー６、瞳ファセットミラー７、及び後続光学系８は、物体視野９を照明するための照明光学系１０の構成要素である。物体視野９は、以下に説明するように弓形、部分円形、又は部分リング形である。物体視野９は、投影露光装置１の照明光学系１０の下流に配置された投影光学系１２の物体平面１１内に位置する。投影光学系１２により、図面には示していないレチクル上、言い換えれば投影されるマスク上の物体視野９に配置された構造が、像平面１４内の像視野１３上に結像される。像視野１３の位置には、上部にレチクルの構造が伝達されて微細構造構成要素又はナノ構造構成要素、例えば、半導体チップを生成する同じく図面に示していないウェーハが配置される。
【００３７】
瞳ファセットミラー７と物体視野９の間の後続光学系８は、３つの更に別のＥＵＶミラー１５、１６、１７を有する。物体視野９の前の最後のＥＵＶミラー１７は、かすめ入射のためのミラーとして設計される。照明光学系１０の別の実施形態では、後続光学系８は、より多くのミラー又はより少ないミラーを有することができ、又は完全に不要にすることさえ可能である。完全に不要にする場合には、照明光３は、瞳ファセットミラー７から物体視野９に直接もたらされる。
【００３８】
位置関係の例示を容易にするために、下記ではｘｙｚ座標系を用いる。図１では、ｘ方向は、作図面に対して垂直にそれに対して延びている。図１のｙ方向は右に延び、図１のｚ方向は下方に延びている。図２以降において直交座標系を同様に用いている場合には、各場合にその直交座標系は、図示の構成要素の反射面にわたる。これらの場合、ｘ方向は、各場合に図１のｘ方向と平行である。図１のｙ方向に対する個々の反射面のｙ方向の角度関係は、それぞれの反射面の向きに依存する。
【００３９】
図２は、視野ファセットミラー６をより詳細に示している。この視野ファセットミラー６は、図２の左から右に順次番号が振られた列Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４で配置された合計で４つの個別視野ファセット１８を有する。２つの中心列Ｓ２、Ｓ３は、ｙ方向に延び、かつ一定のｘ広がりを有する取り付け領域１９によって互いから分離される。取り付け領域１９は、光源２及びコレクター４の構造によって構造的にもたらされる、照明光束の遠視野遮蔽に対応する。４つのファセット列Ｓ１からＳ４は、各場合に全４つのファセット列Ｓ１からＳ４が、照明光３の円形に制限された遠視野２０に存在することを保証するｙ広がりを有する。視野ファセット１８における支持板２１の縁部は、遠視野２０の縁部と一致する。
【００４０】
視野ファセット１８の反射面２２は、ｘｙ平面上への投影に関して、言い換えれば視野ファセットミラー６の主反射平面に関して互いに合同の物体視野９の形状と同様な弓形又は部分リング形状を有する。
【００４１】
物体視野９は、１３／１のｘ／ｙアスペクト比を有する。視野ファセット１８のｘ／ｙアスペクト比は１３／１よりも大きい。構成によっては、視野ファセット１８のｘ／ｙアスペクト比は、例えば、２６／１であり、一般的に、２０／１よりも大きい。
【００４２】
合計で視野ファセットミラー６は、４１６個の視野ファセット１８を有する。この種の視野ファセットミラー６の別の構成は、例えば、数十と１０００の間の範囲に視野ファセット１８の個数を有することができる。
【００４３】
視野ファセット１８は、約３．４ｍｍのｙ方向広がりを有する。視野ファセット１８のｙ方向広がりは、特に２ｍｍよりも大きい。
【００４４】
合計で全４１６個の視野ファセット１８は、７３％の充填密度を有する。充填密度は、支持板２１上で照明される合計の面に関する全ての視野ファセット１８の照明反射面２２の和として定められる。
【００４５】
図３は、視野ファセットミラー６のファセット列Ｓ１の末端領域内の詳細拡大図を示している。隣接する視野ファセット１８は、視野ファセットミラー６の主反射平面に対して垂直に、言い換えれば、図２のｚ軸と平行に延びる軸の回りに互い対して１°よりも大きく傾斜して配置される。
【００４６】
図２には、これをファセット列Ｓ４内の下部から第２の視野ファセット１８2の例を用いて列Ｓ４内の下部から第３の視野ファセット１８3との比較で示している。これらの２つの視野ファセット１８2、１８3は、図２の作図面に対して垂直な、言い換えれば視野ファセットミラー６の主反射平面に対して垂直な軸２３の回りに約２°の傾斜角Ｋｚだけ互いに対して傾斜される。より大きい傾斜角Ｋｚも可能である。これは、視野ファセット１８2が、視野ファセット１８3に対して左手縁部において突出し、言い換えれば負のｘ方向に突出し、それに対して視野ファセット１８3は、視野ファセット１８2に対して右手縁部において、言い換えれば正のｘ方向に同じ量だけ突出することを意味する。隣接する視野ファセット１８の間の対応する突出を図３の詳細拡大図から推測することができる。隣接する視野ファセット１８の間の傾斜角Ｋｚは、±３°の間の範囲で異なる。
【００４７】
それぞれ隣接する視野ファセット１８の互いに対する傾斜角Ｋｚを定める際に用いる傾斜軸２３は、これらの２つの部分リング形視野ファセット１８に割り当てられたリング中心の間の中央に位置する。従って、隣接する視野ファセット１８は、リング中心とほぼ対応する軸２３の回りに互いに対して傾斜される。隣接する視野ファセット１８のそれぞれのリング中心の位置によって定められる軸２３の回りの互いに対するこれらの視野ファセット１８の傾斜を下記では傾斜Ｚとも表している。傾斜角Ｋｚは、各場合にこの傾斜Ｚに割り当てられる。
【００４８】
図４は、視野ファセット１８のうちの１つの構造の詳細を示している。反射面２２は、ｘ方向に約６０ｍｍの広がりを有する。ファセット基部本体２４は、図４には詳細には示していない方式で反射面２２から隔たって続いている。
【００４９】
反射面２２は、交替するモリブデン層とシリコン層とを用いて反射率を増大させる多層コーティングを有する。
【００５０】
ファセット基部本体２４は、ｙ軸に対して実質的に垂直に配置された２つの対向する球面側壁２７、２８によって凸状／凹状に制限される。図４の観察者に向く側壁２７は凸であり、図４の観察者から隔たった反対の側壁２８は凹である。
【００５１】
側壁２７、２８が平行に変位した円柱面であるこの種のファセット基部本体２４の設計に限定すると、この種のファセット基部本体２４の反射面２２の視野ファセット１８の互いに隣接する装置によって張られる基部平面ｘｙ上への投影は、平行に変位した部分円によって制限される。凹側壁２８によって定められる内側部分円の凸側壁２７によって定められる外側部分円へのラジアル方向に延びる平行変位の方向は、視野ファセット１８の各々において個別である。これらの平行変位方向とｙ軸の間の角度は、それぞれの傾斜角Ｋｚに対応する。ファセット基部本体２４の側壁２７、２８は、平行に変位した球面とすることができる。
【００５２】
反射面２２は、ファセット基部本体２４の合計で４つの端壁のうちの１つとして構成される。反射面２２は、平面、又はそうでなければ所定の結像仕様に従って曲面、例えば、球面、非球面、又は自由曲面とすることができる。
【００５３】
図４は、隣接する視野ファセット１８の互いに対する更に別の傾斜の可能性、すなわち、下記で傾斜Ｙとも呼ぶことにするｙ軸と平行な更に別の傾斜軸２５の回りの傾斜を示している。傾斜軸２５は、視野ファセット１８の反射面２２の部分リング形状によって予め判断された半径と平行に延びている。傾斜Ｙに起因して、図４の傾斜された反射面（２２’を参照されたい）に対する法線Ｎの角度偏位が存在する。図４には、傾斜角Ｋｙの傾斜Ｙの偏位を非常に誇張して示している。この種の傾斜Ｙは、それぞれの視野ファセット１８の反射面２２の正しい向きの設定において、又は視野ファセットミラー６の製造に関連して同様に用いることができる。原理的には、傾斜Ｙを用いて、それぞれの視野ファセット１８の瞳ファセットミラー７の関連付けられた瞳ファセットへの割り当てを行うことができる。
【００５４】
図２に関連して説明したような傾斜角Ｋｚの傾斜の代替として、同じく反射面２２の中心２７ａを通過して延びるｚ軸に対して同じく平行な傾斜軸２６（図４を参照されたい）の回りに視野ファセット１８を傾斜させることができる。傾斜軸２６の回りのこの種の傾斜も同様に視野ファセット１８の傾斜Ｚをもたらす。
【００５５】
図５は、隣接する視野ファセット１８のこれらの視野ファセット１８に対してそれぞれ定められた傾斜軸２３の回りの傾斜を再度略示している。図５には、２つの隣接する列Ｓｘ及びＳｙの区画を示している。図５には、列Ｓｘの上部から下部へと順次インデックスに番号を振った合計で４つの視野ファセット１８1から１８4と、列Ｓｙの同様に上部から下部へと順次インデックスに番号を振った合計で３つの視野ファセット１８5から１８7とを示している。視野ファセット１８1から１８7は、各々順次弓形形状又は部分リング形状を有する。
【００５６】
視野ファセット１８1から１８7の視野ファセットミラー６の主反射平面ｘｙ上への投影に関して、全ての視野ファセット１８1から１８7が、互いに合同の部分リング形状を有するわけではない。従って、視野ファセット１８２は、その上に配置された視野ファセット１８１よりも大きい周囲角にわたって延び、視野ファセット１８１よりもｘ方向に大きい広がりを有する。
【００５７】
一方で視野ファセット１８1から１８4と、他方で視野ファセット１８5から１８7との互いに対面する側壁２７、２８は、各場合に同じ曲率半径を有する。
【００５８】
図５には、視野ファセット１８５から１８７の互いに対する有効傾斜角Ｋｚを矢印２９で示している。図示の矢印２９のうちの３つは、それぞれの視野ファセット１８5から１８7の中心対称半径の延長線である。それぞれの中心対称半径は、視野ファセット１８のうちの１つの凹又は凸の２つの側壁２８、２７の対応する半径である。図面では、これらの対称半径を参照番号２９によっても特徴付けている。代表的な傾斜軸２３も示している。
【００５９】
図５では、視野ファセット１８の側壁２７、２８のうちの一部の曲率半径を破線の円で示している。
【００６０】
図６は、ファセット列Ｓｘ内の隣接する視野ファセットミラー１８1から１８8の更に別の装置を示している。図６の最下部に示している視野ファセット１８8の球面凹側壁２８8は、中心３０8から発して量Ｒ1を有する曲率半径を有する。視野ファセット１８8の球面凸側壁２７8は、中心３０8に対して正のｙ方向に視野ファセット１８8のファセット基部本体２４8の中心厚Ｍｚだけオフセットして配置された中心３０7から発して同じく量Ｒ１を有する曲率半径を有する。同時に中心３０7は、視野ファセット１８8に隣接する視野ファセット１８7の凹球面側壁２８7の曲率に対する中心である。それに応じて、図６に示している他の視野ファセット１８1から１８8の他の側壁２７1から２７7及び２８1から２８6は、各場合に正のｙ方向に間隔Ｍｚだけ互いから順次分離した中心３０1から３０7によって同様に定められる。
【００６１】
従って、図６に記載の実施形態では、全ての側壁２７1から２７8、２８1から２８8は、量に関して同じ曲率半径Ｒ1を有する。図６に記載の実施形態におけるファセットミラー１８xのうちの１つの側壁２７x、２８xは同心状に延びず、それぞれの視野ファセットミラー１８xの２つの側壁２７x、２８xの曲率の中心点３０xは、ｙ方向に反射面の厚みだけ互いに対してオフセットされる。図７は、列Ｓx内に隣接して配置された視野ファセット１８の別の実施形態を示している。図７には、４つの視野ファセット１８１から１８４を互いに上下に示している。図７に示している４つの視野ファセット１８のうちの２つ、すなわち、視野ファセット１８2及び１８4は、異なる曲率半径Ｒ2、Ｒ1を有し、同心の対向する側壁２７2、２８2又は２７4、２８4を有する。図７ではこれを視野ファセット１８2の側壁２７2、２８2の曲率を用いてより詳細に例示している。球面凹側壁２８2は、中心３０2から発して量Ｒ1を有する曲率半径を有する。視野ファセット１８2の球面凸側壁２７2は、同じ中心３０2から発してＲ1よりも大きい量Ｒ2を有する曲率半径を有する。
【００６２】
図７に示している２つの更に別の視野ファセット１８1、１８3は、異なる曲率半径を有し、更に、同心ではない凸／凹側壁２７1、２８1又は２７3、２８3を有する。図７に記載の列Ｓｘ内のファセット１８xの装置は、各場合に同心の側壁２７、２８を有する視野ファセット１８が、非同心の側壁２７、２８を有する視野ファセット１８であり、更に異なる曲率半径を有する視野ファセット１８と交替するようなものである。
【００６３】
図８は、同心ではない対向する側壁２７、２８を有する視野ファセット１８1から１８4を有するファセット列Ｓｘを示している。更に、図８に記載の視野ファセット１８1から１８4の球面側壁２７、２８を定める際に用いる中心は、場合毎にｘ方向に互いに対して同様にオフセットされる。図８に記載の視野ファセット１８1から１８4の反射面は、各場合に外周方向に変化するｙ厚みを有する部分リングを形成する。図８の視野ファセット１８4の反射面２２のｙ厚みは、左から右に連続的に増大する。視野ファセット１８2の反射面２２のｙ厚みは、左から右に連続的に減少する。図８では、視野ファセット１８1から１８4のｙ方向の厚みを鮮明に誇張して示している。図８では、ｘ軸に対して鋭角に延び、視野ファセット１８1、１８2、及び１８3の傾斜角Ｋｚを表す線を破線で示している。
【００６４】
物体視野９の領域及び物体平面１１の領域内の照明状態を図９から図１１を用いて以下に説明する。間隔Δｚだけ物体平面１１から分離され、物体平面１１の上流の照明光３のビーム方向に位置する検出平面３１内には、図９に一方を略示している２つのＥＵＶ強度センサ３３を有する検出デバイス３２が配置される。図９は、正のｘ値の場合の物体視野９の縁部を拡大形式で示している。
【００６５】
物体視野９を照明するために、物体視野９は、投影露光に対して照明光３の開口数ＮＡの範囲でｘ値ｘnまで照明角度とは無関係に用いることができる。方向−ＮＡからの放射線では、ｘnよりも大きいｘ値の場合に、図９に示しているセンサ３３が物体視野９を遮蔽する。センサ３３がビーム方向−ＮＡから依然として作用を受けるためには、照明光束は、物体平面１１内でｘ方向にｘ-NA＞ｘnが適用されるｘ-NAまでの広がりを有するべきである。照明光３が、図９に示しているセンサ３３上に厳密にｚ方向に入射するためには（ｖx＝０）、物体平面１１内でｘ0＞ｘ-NAが適用される値ｘ0までの照明が存在すべきである。照明角度＋ＮＡよりも小さい照明光が図９に示しているセンサ３３に到達するためには、物体平面１１内でｘ+NA＞ｘ0が適用されるｘ値ｘ+NAまでの照明が発生すべきである。
【００６６】
これを値±ｘnにおける物体視野９の縁部を超える物体視野９の照明を示す図１０に略示している。異なる見方により、照明方向−ＮＡ、Ｖx＝０、及び＋ＮＡからの放射線の場合にセンサ３３の照明が保証されるようなｘ方向に必要とされる物体視野照明のコーナを示している。照明方向−ＮＡに対するコーナは、正のｘ値の場合に有利な視野縁部ｘnからの最小ｘ間隔を有し、負のｘ値の場合に有利な視野縁部−ｘnからの最大ｘ間隔を有する。照明方向＋ＮＡに対するコーナの場合には、上述のことは厳密に逆転する。物体視野９の両側の照明方向Ｖx＝０に対するコーナ点は、有利な視野限界±ｘnに対して同じｘ間隔を有する。
【００６７】
それに応じて、物体視野９上に重ね合わせて結像される形状を有する視野ファセット１８は、照明角度の関数として、言い換えれば、瞳ファセットミラー７のそれぞれの瞳ファセットに対する視野ファセット１８の割り当ての関数として、センサ３３の照明が、各場合に照明角度の関数としての光損失を伴わずに達成されるような様々なｘ方向広がりを有するべきである。センサ３３を照明するのに必要な視野ファセット１８のこれらの様々なｘ方向広がりは、視野ファセット１８のある一定のもののｘ方向に得られる中心対称半径に関するｘ方向非対称性によって得られる。
【００６８】
すなわち、センサ３３の照明が、中心対称半径２９の両側の個別視野ファセット１８の方位角広がりの調整により、傾斜角Ｋｚとは無関係に達成される。中心対称半径から測定すると、視野ファセット１８は、あらゆる側に不均等なｘ広がりを有し、更に、それぞれの傾斜軸２３の回りの方位角方向に不均等な広がりを有する。
【００６９】
図１０は、挿入図において、この種の非対称にされた視野ファセット１８ａ、１８ｂ、及び１８ｃの投影の形状を示している。全ての３つの視野ファセット１８ａから１８ｃは、１つの同じ中心対称半径２９を有する。中心対称半径２９から発し、図１０に示している最上部の視野ファセット１８ａは、左よりも右に大きい方位角にわたって延びている。図１０の中央に示している視野ファセット１８ｂは、右よりも左に大きい方位角にわたって延びている。図１０の最下部に示している視野ファセット１８ｃは、両方向にほぼ同じ方位角にわたって延びている。全ての３つの視野ファセット１８ａから１８ｃが同じ傾斜角Ｋｚを有するという事実を参照されたい。
【００７０】
図１１は、図２の装置による互いに対して傾斜Ｚで傾斜された視野ファセット１８の物体視野９内での重ね合わせを示している。一方でそれぞれの視野ファセット１８の中央の領域内の代表的な照明点ＡＰの重ね合わせと、他方で視野ファセット１８の２つの側部領域内との代表的な照明点ＡＰの重ね合わせとを示している。図１１は、図２に記載の装置にある様々な視野ファセット１８上の同じ位置が、同様に物体視野９の縁部領域内の同じ位置に重ね合わされることを示している。
【００７１】
物体平面１１内での望ましくない散乱、すなわち、様々なファセットの同じファセット点の像の偏位は発生しない。
【００７２】
視野ファセット１８の像の物体視野９内でのこの実際に完全な重ね合わせは、基部平面ｘｙ上での様々な視野ファセット１８の反射面２２の投影が、反射面２２のサイズ、反射面２２の形状、反射面２２の向きというパラメータのうちの少なくとも１つにおいて異なるということの直接的な結果である。この差異は事前補償を誘導し、従って、発生する傾斜、すなわち、発生するサイズ変動、すなわち、発生する形状変動を有する異なる反射面２２の物体視野９内での個々の結像は、図１１に示している物体視野９内での視野ファセット１８の完全な重ね合わせを正確にもたらす。
【００７３】
図１２は、同じ曲率半径で同心状に配置された互いに対面する側壁２７1、２８2を有する２つの視野ファセット１８1、１８2の傾斜の可能性を示している。それによって中心Ｏの回りに定められる面のあらゆる傾斜が可能である。関連付けられる傾斜軸は、あらゆる方向に延びることができる。この傾斜軸は、中心Ｏを通じて延びることしか必要としない。
【００７４】
図１３は、図２のもの方式でファセットミラー６を製造する方法の順序を略示している。最初に、球面側壁２７、２８を有する個々の未加工視野ファセット３４が製造される（側壁２８を製造するための球面研削体３６を示している方法段階３５を参照されたい）。次に、方法段階３７では、個々の未加工視野ファセット３４が視野ファセットスタック２８に割り当てられ、この割り当てでは、隣接するファセット基部本体２４の互いに関連付けられたそれぞれの側壁２７、２８は、同じ曲率半径を有する。
【００７５】
未加工視野ファセットの個々の反射面２２は個々に処理され、言い換えれば、光学的に研磨され、反射多層が設けられる。
【００７６】
段階３７における割り当ての後、個々の処理（段階３９）の前の方法段階４０では、未加工視野ファセット３４のブロックが組み立てられ（段階４０ａ）、次に、未加工視野ファセット３４のブロックの基部面４１が、平坦な基準面へと研削される。個々の処理３９の後には、視野ファセット１８から構成されるそれぞれの群のファセットブロック４１への組立てが次に行われ、基準面４１は、ミラー保持構造４４の平坦な対抗面４３上に配置される。
【００７７】
各場合に傾斜Ｚだけ互いに対して個別に傾斜された視野ファセット１８を有する視野ファセットミラー６の更に別の構成を図１４及び図１５を用いて以下に説明する。図１から図１３を参照して上述したものに対応する構成要素、機能、及び製造方法段階は同じ参照番号を有し、これらに対しては再度詳細には解説しない。
【００７８】
図１４及び図１５に記載の視野ファセットミラー６は、合計で２９９個の視野ファセット１８を有する。これらの２９９個の視野ファセット１８の全体体は、５６％の充填密度を有する。充填度とも呼ぶ充填密度は、視野ファセットミラー６の合計照明面に関連する。充填密度は、反射に用いられる視野ファセット１８の反射面２２の和を図１４に遠隔視野２０の縁部によって指定している、視野ファセットミラー６の合計のこの場合は楕円形の照明区域の面積によって割算することによってもたらされる。この場合、取り付け領域１９のない、言い換えれば、視野ファセットミラー６の上流の構成要素によってもたらされる遠隔視野２０の遮蔽のない照明区域が、充填密度の分母内に代入される。
【００７９】
図１４に記載の視野ファセットミラー６の基本構造は、４つの列Ｓ１からＳ４内の視野ファセットの装置に関してさえも図２に記載の視野ファセットミラー６の構造に対応する。図１４及び図１５に記載の視野ファセットミラー６では、隣接するそれぞれの視野ファセット１８は、それぞれの視野ファセット１８のほぼ中心２７ａを通じて延びるｚ軸と平行に延びる傾斜軸２６の回りに互いに対してピボット回転される（傾斜Ｚ）。以下に、これを図１５及び２つの代表的な視野ファセット１８1、１８2を用いてより詳細に説明する。視野ファセット１８2は、図１５の列Ｓ２内で視野ファセット１８1の直下に配置される。視野ファセット１８1に対して、視野ファセット１８2は、その中心２７ａの回りに約０．５°だけ反計時方向に傾斜して配置される。
【００８０】
弓形視野ファセット１８の反射面２２の各々は、ｘ方向に長手ファセット広がりを有し、ｙ方向に短手ファセット広がりを有する。図１４及び図１５に記載の実施形態では、長手ファセット広がりに沿って、言い換えれば、互いに対して傾斜され、長手ファセット広がりにわたって隣接する２つの視野ファセット１８1、１８2の間のｘ方向に沿って間断なく、特に厳密に単調に変化する中間空間４５がもたらされる。図１４及び図１５に記載の実施形態では、２つの視野ファセット１８1、１８2の間の中間４５は、左から右へと低減する。図１４及び図１５に記載の視野ファセットミラー６の直接に隣接する他の視野ファセット１８の場合には、視野ファセット１８の間の中間空間４５も増大することができる。図１４及び図１５に記載の視野ファセットミラー６の実施形態では、直接に隣接する視野ファセット１８は、個々の場合にそれぞれの中心２７ａの回りに互いに対する相対傾斜Ｚを持たずに構成することができる。この場合、中間空間４５を長手ファセット広がりに沿って左から右へと一定に留めることができる。
【００８１】
それぞれの中心２７ａを通じる傾斜軸２６の回りの傾斜角である傾斜Ｚは、−３°から３°の範囲に確実に位置する。
【００８２】
照明光学系１０の瞳ファセットミラー７の１つの瞳ファセットは、照明チャンネルを通じて図１４及び図１５に記載の視野ファセットミラー６の２９９個の視野ファセット１８の各々に厳密に割り当てられる。瞳ファセットミラー７は伝達ファセットミラーであり、瞳ファセットミラー７の瞳ファセットは伝達ファセットである。上述の割り当ては、それぞれの視野ファセット１８の物体視野９内での結像によってもたらされる像の傾斜が、視野ファセット１８のそれぞれの中心２７ａによって定められる傾斜軸２６の回りのそれぞれの傾斜角である傾斜Ｚに起因して正確に補償され、従って、後続光学系８の傾斜結像効果にも関わらず、視野ファセット１８の像が、物体視野９内で実際に傾斜なしに互いに重ね合わされるようなものである。
【００８３】
個別に傾斜Ｚだけ互いに対してそれぞれ傾斜された視野ファセット１８を有する視野ファセットミラー６の更に別の構成を図１６及び図１７を用いて以下に説明する。図１から図１５を参照して上述したものに対応する構成要素、機能、及び製造方法段階は同じ参照番号を有し、これらに対しては再度詳細には解説しないことにする。
【００８４】
図１６及び図１７に記載の視野ファセットミラー６は、図１６及び図１７に記載の視野ファセットミラー内の視野ファセット１８が湾曲しておらず、矩形の反射面２２を有することを除けば、図１４及び図１５に記載の視野ファセットミラー６に対応する。図１６及び図１７に記載の視野ファセットミラー６もまた、各場合に傾斜Ｚだけ個別に傾斜された２９９個の視野ファセット１８であり、照明チャンネルを通じた結像の傾斜効果に従って照明光学系１０の瞳ファセットミラー７の瞳ファセットが個々に割り当てられた視野ファセット１８を有する。
【００８５】
図１６及び図１７に記載の視野ファセットミラー６では、視野ファセット１８の充填密度は５３％である。
【００８６】
図１８を用いて、視野ファセットミラー６と瞳ファセットミラーの形態にある伝達ファセットミラーとを有する照明光学系１０の更に別の実施形態を以下に説明する。図１から図１５を参照して上記に既に解説したものに対応する構成要素、機能、及び製造方法段階は同じ参照番号を有し、これらに対しては再度詳細には解説しないことにする。
【００８７】
図１８は、物体視野９に隣接して物体視野９から分離した以下により詳細に説明する絞り平面又はターゲット重ね合わせ平面内での視野ファセットミラー６の弓形視野ファセット１８上の代表的な照明点ＡＰの像の図２の方式による重ね合わせを示している。この場合、照明点ＡＰの同じ格子、具体的には、１１個の照明点ＡＰの各々がｘ方向に離間した３つのｙ方向に等しく分離した行である１１×３格子が視野ファセット１８の各々の上に観察される。照明点ＡＰのｘ方向の間隔は、物体視野９内で照明点ＡＰの等距離格子が生成されるように選択される。
【００８８】
図１８に記載の重ね合わせを誘導する照明光学系１０では、伝達ファセット、言い換えれば瞳ファセットミラー７の瞳ファセットの向きは、弓形視野ファセット１８の反射面２２の中心２７ａが１つの点上に結像されず、拡張領域４６（図１８を参照されたい）上に結像されるように定められる。各場合に中心２７ａは、それぞれの対称半径のそれぞれの反射面２２の側壁２７、２８との交点の間の中間に位置する。
【００８９】
図１９は、大幅に拡大した図に物体視野の中心における拡張結像領域を示している。領域４６は、ｘ方向に数ミリメートルの広がりを有し、ｙ方向に１ミリメートルよりも短い広がりを有する。中心照明点ＡＰの中心像Ｂ（２７ａ）は、領域４６内に散乱して存在する。この散乱は、瞳ファセットの対応する傾斜によってもたらされる視野ファセット１８のそれぞれの像のｘ方向及びｙ方向の対応する平行移動の結果である。
【００９０】
瞳ファセットの対応する傾斜調節による個別のｘ平行移動及びｙ平行移動は、物体視野９内、特に小さいｘ値及び大きいｘ値の場合の視野縁部における全ての視野ファセットの合計の重ね合わせが、全ての中心像Ｂ（２７ａ）が、物体視野７内の一点に重ね合わされる調節仕様と比較して大きく改善されることを意味する。
【００９１】
図１８及び図１９に記載の照明光学系１０では、個別のｘ平行移動及びｙ平行移動は、長手視野広がりｘに沿って延びる図１８の下側縁部４７に沿った視野ファセット１８の反射面２２の像が、長手視野広がりに沿った、言い換えればｘ軸に沿った反対の縁部４８に沿ってよりも鮮明に互い重ね合わせて結像されるように最適化される。縁部４７からは、例えば、複数の指形絞りの使用により、例えば、ＥＰ  ０  ９５２  ４９１  Ａ１から公知のＵＮＩＣＯＭを用いて、物体平面１１内、又はそこから分離した絞り平面内で物体視野９の照明の照明角度に依存しない強度補正が可能である。補正絞りの絞り平面は、既に上述のように物体平面１１から分離したものとすることができる。この場合、図１８及び図１９に記載の照明光学系１０内での最適化は、縁部４７に沿った視野ファセット１８の反射面２２の像が、像平面内で互いに鮮明に重ね合わせて結像されるようなｘ方向及びｙ方向の平行移動によって行うことができる。
【００９２】
従って、図１８及び図１９に記載の照明光学系１０は、物体視野７内での視野ファセット像の良好な重なり、従って、最適な照明を保証するように照明光学系１０の対応する構成によって後続光学系８の傾斜結像効果を補償することに対する更に別の可能性を表している。
【００９３】
視野ファセットミラー６の視野ファセット１８の上述の装置の変形に起因して、物体視野９を照明するように視野ファセットミラー６によって反射された照明光３の伝達が最大にされる。
【００９４】
微細構造構成要素又はナノ構造構成要素を生成するために、投影露光装置１は、以下の通りに用いられる。最初にレチクルとウェーハとが準備される。次に、レチクル上の構造が、投影露光装置１を用いてウェーハの感光層上に投影される。感光層を現像することにより、ウェーハ上の微細構造及び従って微細構造構成要素が製造される。
【００９５】
投影露光装置１は、スキャナとして設計される。この場合、レチクルは、投影露光中にｙ方向に連続的に変位される。代替的に、レチクルがｙ方向に段階的に変位したステッパとしての構成も可能である。
【００９６】
図７に記載の装置では、例えば、中心３０2の回りの視野ファセット１８2の傾斜調節は、他の視野ファセット１８1、１８3、１８4をこの場合に変位させる必要なく可能である。
【符号の説明】
【００９７】
１８x  視野ファセット
２２  反射面
ｘ、ｙ  基部平面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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