(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
経糸及び緯糸により織成された地組織と、前記地組織に織り込まれ前記地組織より突出した多数のパイル糸とからなるラビング用布材において、前記パイル糸が無機微粒子を含み、無機微粒子が二酸化チタンであり、無機微粒子の粒径が０．１μｍ以上３．０μｍ以下であり、パイル糸に含まれる無機微粒子の割合が０．１重量％以上４．０重量％以下であることを特徴とするラビング用布材。
【請求項２】
パイル糸がビスコースレーヨン繊維からなるカットパイル糸であることを特徴とする請求項１に記載のラビング用布材。
【請求項３】
パイル糸がアセテート繊維、あるいはポリエチレンテレフタレート繊維からなるカットパイル糸であることを特徴とする請求項１に記載のラビング用布材。
【請求項４】
１１．３／μｍ以上の方位角方向のアンカリングエネルギーAφと液晶のねじれ弾性定数k22との比を液晶表示素子に与えることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載のラビング用布材。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれかに記載のラビング用布材により液晶表示素子の配向膜表面を擦ることによって、配向膜表面の高分子鎖を延伸し、高分子鎖の配列方向に沿って液晶分子を配列させる工程を有することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、液晶表示素子製造工程で用いられるラビング用布材に関するものである。
【背景技術】
【０００２】  液晶表示素子は薄型、軽量、低消費電力を特徴としており、テレビやノートパソコンを始め、携帯電話、電子書籍など、日常生活において無くてはならない存在になっている。その表示品位は素子内の液晶分子配列と、液晶−配向膜界面での分子間相互作用によって決まる。【０００３】  現行の液晶表示方式は、電圧無印加時に液晶分子が基板面に略平行に配列する方式と、略垂直に配列する方式に大別される。前者の方式には、素子内で液晶分子配列が９０°捻れ基板面に垂直な方向に電界が印加されるＴＮ（ツイステッドネマティック）モードと、液晶分子配列が捻れておらず基板面に平行な電界を印加するＩＰＳ（インプレーンスイッチング）モード、及びＦＦＳ（フリンジフィールドスイッチング）モードがあり、何れも液晶素子製造工程においてラビング処理が行われている。【０００４】  ここにおいて、ラビング処理とはパイル地の布材により配向膜表面を一定方向に擦ることであり、この操作により配向膜表面の高分子鎖が延伸され、その高分子鎖の配列方向に沿って液晶分子が配列する。【０００５】  パイル地の布材は、図１及び図２に示すように、経糸１及び緯糸２からなる地組織に経糸方向にパイル長が数ｍｍ程度のカットパイル３が織り込まれた構造をしており、こうしたパイル地の布材を回転ローラの外周に巻きつけて回転させながら基板表面に接触させる。このようなラビング処理により基板表面の配向膜はその表面が一定方向に延伸される。また、ラビング処理条件によっては、一定方向の微細な擦り跡が形成されることがある。図１はカットパイルがＷ字に織り込まれており、主に長繊維糸で織成する場合に用いられる。図２はＶ字にカットパイルが織り込まれ、主に紡績糸で織成する場合に用いられる。【０００６】  図３はラビング処理された配向膜表面での液晶分子の配列の様子を模式化したものである。ラビング処理により液晶分子３１は基板面に対して一定の傾きを持った状態で所定の方向に配列する。この時の傾き角θｐをプレチルト角と言う。【０００７】  こうしたパイル地の布材を用いてラビング処理を行う場合、パイル糸の立毛性、細さ及び開繊の度合いがラビング処理の均一性、即ち、プレチルト角の均一性及び配向方位の均一性に大きな影響を及ぼすため、均一性向上に向けてさまざまな対策が採られてきている。例えば、特許文献１では、ビスコースレーヨン・フィラメントからなるカットパイルを地組織の経糸方向に所定角度傾斜させることで、ビスコースレーヨン・フィラメントが有する微細ヒダ構造が傾斜した状態で基板表面に接触して、より微細な配向処理が可能になる点が記載されている。また、特許文献２では、シルケット加工により各々の綿短繊維の捩れが除去された改良綿糸をカットパイル糸に用いた点が記載されている。また、特許文献３には、ビスコースレーヨン糸、キュプラ糸等をパイル糸として用い樹脂加工処理を施して形態安定加工を行う点が記載されている。【０００８】  液晶表示特性は、前述のごとく素子内の液晶分子配列と、液晶−配向膜界面での分子間相互作用に大きく依存し、それらはプレチルト角及びアンカリングエネルギーでもって規定される。プレチルト角は基板面からの液晶分子の傾き角であり、アンカリングエネルギーは図４に示されるように、初期プレチルト角にある液晶分子４１を動かすのに必要なエネルギーである。このアンカリングエネルギーは、便宜上、基板法線方向に動かすのに必要なエネルギーＡθ（極角方向のアンカリングエネルギー）と基板面に平行な方向に動かすのに必要なエネルギーＡφ（方位角方向のアンカリングエネルギー）に分けて議論される。【０００９】  ラビング処理により液晶分子を配列させる表示モードのうち、ＩＰＳ（インプレーンスイッチング）モード、及びＦＦＳ（フリンジフィールドスイッチング）モードは視野角特性が良好であり、押圧による表示画像の歪みも少ないため、タッチパネルを有する液晶表示機器に多く採用されてきている。【００１０】  しかしながら、これらの表示モードは熱擾乱や、電極配線のきわをラビングしづらいことなどのため高いコントラスト比が得られないという課題を有している。更に、印加電圧を下げた時、あるいは除去したときの応答、即ち、立ち下がり応答が遅く残像となり、焼き付きとして認識されるという課題も有している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】登録実用新案第３０３２８２０号公報
【特許文献２】登録実用新案第３０４５４６４号公報
【特許文献３】特開２００２−１４８６２８号公報
【非特許文献】
【００１２】
【非特許文献１】電気情報通信学会論文誌  Ｃ  Ｖｏｌ．Ｊ８３−Ｃ  Ｎｏ．２  ｐｐ．１５１−１５９  ２０００年２月
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】  斜め方向での光漏れや電極配線近傍での光漏れを抑え、高コントラスト比を得るには液晶分子のプレチルト角を低くすることが有効であり、焼き付きを低減するためには方位角方向でのアンカリングエネルギーを大きくし、立ち下がり応答を速くすることが有効であることは既に知られており、これまで積極的に配向膜材料の開発が進められているが、低プレチルト角と大きな方位角方向のアンカリングエネルギーを実現する配向膜表面はまだ得られていない。【００１４】  液晶材料のプレチルト角やアンカリングエネルギーは、液晶材料と配向膜材料との、界面近傍における分子間相互作用で決まるものであり、使用する液晶材料、あるいは配向膜材料の分子構造、および極性により大きく左右される。そのような意味において、これまでの研究開発は液晶材料、あるいは配向膜材料の開発が主であった。例えば、石原らはプレチルト角、及びアンカリングエネルギーの液晶／配向膜分子構造依存性について報告している（非特許文献１）。【００１５】  一方、図５に示されるように、液晶−配向膜界面では液晶分子５１が配向膜分子鎖５２の中に入り込んでおり、配向膜分子鎖５２の並び方、粗密などによりプレチルト角やアンカリングエネルギーが変わる。即ち、ラビング条件によってもプレチルト角やアンカリングエネルギーは変化する。【００１６】  従来より液晶−配向膜界面に関しては多くの研究開発がなされているが、ラビング用布材でもってプレチルト角やアンカリングエネルギーを制御するという発想は、これまでなかった。本発明者らは、ラビング用布材に着目し、鋭意研究を進めた結果、低プレチルト角であり、且つ方位角方向のアンカリングエネルギーが大きい配向膜界面を形成することが可能なラビング用布材を開発するに至った。
【課題を解決するための手段】
【００１７】  本発明に係るラビング用布材は、経糸及び緯糸により織成された地組織と、前記地組織に織り込まれ前記地組織より突出した多数のパイル糸とからなるラビング用布材において、前記パイル糸が、無機微粒子を含むカットパイル糸であることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１８】  本発明のラビング用布材は、無機微粒子を含むパイル糸を用いたラビング用布材であり、液晶分子のプレチルト角をより低くすることが可能であり、更に方位角方向のアンカリングエネルギーをより大きくすることが可能であるため、水平配向している液晶分子を基板面内にスイッチングさせるＩＰＳモードやＦＦＳモード液晶表示素子製造プロセスで用いられるラビング用布材に最適である。即ち、本発明ラビング用布材を用いることにより、ＩＰＳモードやＦＦＳモード液晶表示素子のコントラスト比を大きくすることが出来、かつ表示課題である焼き付き現象を大幅に低減させることが出来るなど、その実用的価値は極めて大きい。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】ラビング用布材のＷ字の織組織の模式図である。
【図２】ラビング用布材のＶ字の織組織の模式図である。
【図３】液晶プレチルト角を説明するための図である。
【図４】アンカリングエネルギーを説明するための図である。
【図５】液晶−配向膜界面のようすを説明するための模式図である。
【図６】レーザー光散乱により膜表面状態を観察した時の様子を説明すための図である。
【図７】本発明二酸化チタンを含有するビスコースレーヨンフィラメントの断面写真
【発明を実施するための形態】
【００２０】  以下、本発明に係わるラビング用布材に関する実施形態について詳述する。
ラビング用布材の評価は、所定のラビング条件で配向処理を行った配向膜基板を用いてテストセルを作製し、ｐ型ネマティック液晶を封入した後、液晶プレチルト角、及び方位角方向のアンカリングエネルギーを測定して行った。
【００２１】  本発明実施例で用いたラビング条件は、ローラー回転数を１１００ｒｐｍ、ステージ送り速度を５０ｍｍ／秒、押し込み量を０．３ｍｍとしたが、これにより何ら本発明を限定するものではない。
【００２２】  プレチルト角測定用のテストセルは乾燥膜厚５０ｎｍで形成されたポリイミド配向膜ＳＥ−６５１４（日産化学工業株式会社製）を有する２枚のガラス基板を所定のラビング条件で擦ったのち、６．０μｍのスペーサビーズを介して貼り合わせて作製したホモジニアスセルであり、減圧雰囲気下でｐ型ネマチック液晶ＭＬＣ−３００７（メルク社製）を封入したものである。プレチルト角の測定は、シンテック株式会社製汎用偏光解析装置Ｏｐｔｉｐｒｏにて行った。
【００２３】  また、方位角方向のアンカリングエネルギー測定用のテストセルは、乾燥膜厚５０ｎｍで形成されたポリイミド配向膜ＳＥ−６５１４（日産化学工業株式会社製）を有する２枚のガラス基板を所定のラビング条件で擦ったのち、５．５μｍのスペーサビーズを介して貼り合わせて作製した２個のＴＮセルであり、一方のＴＮセルにはカイラル材料を含まないｐ型ネマチック液晶ＭＬＣ−３００７（メルク社製）を封入し、他方のＴＮセルにはカイラル材料Ｓ−８１１（メルク社製）を含んだｐ型ネマチック液晶ＭＬＣ−３００７（メルク社製）を封入した。方位角方向のアンカリングエネルギーは、シンテック株式会社製汎用偏光解析装置ＯｐｔｉｐｒｏにてそれぞれのＴＮセルの捻り角φ１、φ２を測定し、下式により算出した。
【００２４】
【数１】
0005468630.tif 000002
ここにおいて、Ａφは方位角方向のアンカリングエネルギー［Ｊ／ｍ２］、ｋ２２は使用した液晶材料ＭＬＣ−３００７の捻れ弾性定数［Ｎ］、ｄは液晶セル厚［ｍ］、ｐはカイラル材Ｓ−８１１を添加した液晶材料ＭＬＣ−３００７のカイラルピッチ［ｍ］、φ１はカイラル材を含まない液晶材料ＭＬＣ−３００７を封入したＴＮセルの液晶捻れ角「度］、φ２はカイラル材Ｓ−８１１を含む液晶材料ＭＬＣ−３００７を封入したＴＮセルの捻れ角［度］を表している。
【００２５】  使用する液晶材料が同一の場合は、捻れ弾性定数ｋ２２を定数と考えてもセル間の比較は可能であるため、本実施例では方位角方向のアンカリングエネルギーＡφと液晶材料の捻れ弾性定数ｋ２２との比（Ａφ／ｋ２２）でもって方位角方向のアンカリングエネルギーの大きさを評価した。
【００２６】  一方、プレチルト角が低く、大きな方位角方向のアンカリングエネルギーを有する配向膜表面が実現出来たとしても、ラビング筋やラビング傷が発生したのでは実使用に値しないことは言うまでもない。そこで、不適切なラビング処理により発生するラビング筋やラビング傷の起こりやすさを評価する一手法として、配向膜内部を導波するレーザー光の散乱を観察する手法を取り入れ、散乱強度の大きさでもってラビング筋やラビング傷の起こりやすさを評価した。
【００２７】  図６にレーザー光散乱によるラビング筋、及びラビング傷を評価する方法の概要を説明する。均一に配向処理が行われている場合（図６（ａ））には光導波中の光散乱は殆ど無いが、ラビングにより配向膜表面に傷（凹凸）が形成されているときや、不均一ラビングにより膜表面の延伸の程度にばらつきがある場合（配向膜表面屈折率にばらつきがある場合）（図６（ｂ））、光散乱が大きくなる。
【実施例１】
【００２８】  ０．０２重量％水酸化ナトリウム水溶液に対して平均粒子径０．６μｍの二酸化チタン粒子を２０重量％を含む水溶液をホモジナイザーにて３０分攪拌し、二酸化チタン分散水溶液を調整した。その後、得られた二酸化チタン分散水溶液をセルロース９．０重量％、水酸化ナトリウム５．６重量％からなるビスコース原液に添加混合し、紡糸原液を調整した。【００２９】  得られた紡糸原液を多数の細孔を有するノズルを用い、硫酸６０ｇ／ｌ、硫酸ナトリウム３５０ｇ／ｌ、硫酸亜鉛１５ｇ／ｌと水とからなる４０℃の浴中に押し出し凝固再生させる。その後、水洗乾燥をして０．９重量％の二酸化チタンを含有するビスコースレーヨンを得た。図７に、断面形状写真を示す。【００３０】  次に、得られた二酸化チタンを含むレーヨンを、以下の方法により経糸及び緯糸により織成された地組織に織り込むことによりラビング用布材Ａを作製した。【００３１】  経糸として、キュプラ繊維からなる１３５デシテックス（１２０デニール）の長繊維糸を使い、緯糸として、キュプラ繊維からなる８２デシテックス（７５デニール）の長繊維糸を使って、経糸密度２５本／ｃｍ、緯糸密度３８本／ｃｍで平織りに織られた地組織を用意した。次に、パイル糸として、得られた二酸化チタン含有レーヨンからなる１３５デシテックス（１２０デニール）／５０フィラメントの長繊維糸を使い、糸密度が７７０本／ｃｍ２となるように周知の織機により図１に示すＷ字型で地組織に織り込んだ。【００３２】  作製された織布は単位面積あたりのパイルフィラメントの本数が４０，０００本／ｃｍ２で、パイル長は１．８０ｍｍとなるように切断した。こうして織成された織布を常法に従いシャーリングによりカットパイルの高さを揃えた後、スチーム工程、洗浄工程、起毛処理工程を経てラビング用布材Ａを得た。【００３３】  次に、本ラビング用布材Ａを用いて配向処理を行ったホモジニアスセル（セル厚６．０μｍ）にｐ型液晶材料ＭＬＣ−３００７（メルク株式会社製）を封入してプレチルト角を測定したところ、０．４度であった。また、ＴＮセル（セル厚５．３μｍ）にカイラル材料を含まないＭＬＣ−３００７を封入して測定した液晶捻れ角は８７．９度、カイラル材料Ｓ−８１１を含むＭＬＣ−３００７（カイラルピッチ７９．４μｍ）を封入して測定した液晶捻れ角は８９．２度であり、前記数式より計算される方位角方向のアンカリングエネルギーＡφと使用した液晶材料の捻れ弾性定数ｋ２２の比は１７．９／μｍであった。【００３４】（比較例１）
二酸化チタンを含まないこと以外は実施例１と全く同様にしてラビング用布材Ｘを作製し、同様にテストセルを作製しプレチルト角、及び方位角方向のアンカリングエネルギーと使用した液晶材料の捻れ弾性定数ｋ２２の比を測定したところ、それぞれ２．１度、１．６／μｍであった。【００３５】  以上より明らかなように、本発明ラビング用布材は１度未満の低いプレチルト角を与えると同時に、高い方位角方向のアンカリングエネルギーを与えることができ、ＩＰＳモード（あるいはＦＦＳモード）用のラビング用布材として、その実用的価値は極めて高い。
【実施例２】
【００３６】  平均粒子径０．１μｍの二酸化ケイ素粒子を２０重量％を含むアルコール水溶液をホモジナイザーにて３０分攪拌し、二酸化ケイ素分散水溶液を調整した。その後、得られた二酸化ケイ素分散水溶液をアセチルアセテートのアセトン溶液中に溶解せしめ、常法に従い乾式紡糸を行った。得られたアセテート繊維のアセチル化度は２．６５であり、二酸化ケイ素の固形分濃度は０．４重量％であった。【００３７】  その後、得られた二酸化ケイ素を含有するアセテート繊維を糸密度が７７０本／ｃｍ２となるように実施例１と同様にして図１に示すＷ字型で地組織に織り込んだ。作成された織布は単位面積あたりのパイルフィラメントの本数が４０，０００本／ｃｍ２で、パイル長は１．８０ｍｍとなるように切断した。こうして織成された織布を実施例１と同様にスチーム工程、洗浄工程、起毛処理工程を経てラビング用布材Ｂとした。【００３８】  次に、本ラビング用布材Ｂを用いて配向処理を行ったホモジニアスセル（セル厚６．０μｍ）にｐ型液晶材料ＭＬＣ−３００７（メルク株式会社製）を封入してプレチルト角を測定したところ、０．６度であった。また、ＴＮセル（セル厚５．５μｍ）にカイラル材料を含まないＭＬＣ−３００７を封入して測定した液晶捻れ角は８９．５度、カイラル材料を含むＭＬＣ−３００７（カイラルピッチ７９．４μｍ）を封入して測定した液晶捻れ角は９１．４度であり、前記数式より計算される方位角方向のアンカリングエネルギーＡφと使用した液晶材料の捻れ弾性定数ｋ２２の比は１２．７／μｍであった。【００３９】  以上より明らかなように、本発明ラビング用布材はパイル糸中に無機微粒子を含んでおり、パイル糸に剛性を与えるとともに、効率よく配向膜表面を延伸することが出来、液晶プレチルト角を抑えることが出来る。また、液晶分子の方位角方向のアンカリングエネルギーを大きくすることが出来る特徴を有しており、ＩＰＳモードやＦＦＳモードの焼きつき抑制に極めて有効である。
【実施例３】
【００４０】  二酸化チタンの粒径が異なる以外、実施例１と全く同様にしてラビング用布材Ｃ〜Ｊを作製し、テストセルの配向処理を行い、液晶材料のプレチルト角と方位角方向のアンカリングエネルギーと液晶捻れ弾性定数との比を測定した。また、レーザー光散乱法によるラビング筋やラビング傷の出やすさについても評価した。結果を表１に示す。【００４１】
【表１】
0005468630.tif 000003
【００４２】  表１より明らかなように、微粒子径が０．１μｍ以上３．０μｍ以下の二酸化チタンを含むパイル糸を用いたラビング用布材は、１度未満の低いプレチルト角と高い方位角方向のアンカリングエネルギーを実現することが出来るため、ＩＰＳモードやＦＦＳモードのラビング用布材として最適である。
微粒子径が３．５μｍ以上の二酸化チタンを用いた場合には、配向膜表面へのダメージが大きく、液晶表示素子におけるラビング筋不良の要因となるため、好ましくない。また、微粒子径が０．０５μｍ以下の場合には、嵩比重が小さくなり、分散混合などの作業性が著しく悪くなるため好ましくない。
【実施例４】
【００４３】  実施例１と同様な方法にて、微粒子径が１．０μｍである二酸化チタン、あるいは二酸化ケイ素をビスコース原液中に分散濃度を変えて分散した。その後、常法に従って紡糸し、実施例１と同一の地組織に織り込みラビング用布材Ｋ〜Ｑとした。【００４４】  得られたラビング用布材Ｋ〜Ｑを用いてテストセルの配向処理を行い、液晶材料のプレチルト角と方位角方向のアンカリングエネルギーと液晶捻れ弾性定数の比を測定した。結果を表２に示す。また、ラビング筋やラビング傷の発生の起こりやすさに対応した導波レーザー光散乱の程度を観察した結果も併せて表２に示した。【００４５】
【表２】
0005468630.tif 000004
【００４６】  表２より明らかなように、微粒子濃度が０．１重量％以上４．０重量％以下のパイル糸を用いたラビング用布材は、１度未満の低いプレチルト角と高い方位角方向のアンカリングエネルギーを実現することが出来るなど実用的価値は高い。また、微粒子濃度が０．０５重量％以下では微粒子添加の効果が認められず、また微粒子濃度が５重量％以上ではラビング筋発生の可能性が高くなるため、好ましくない。
【実施例５】
【００４７】  常法に従い、スノーテックス−２０（日産化学工業株式会社製コロイダルシリカの商品名）を用い、二酸化ケイ素の含量が２．５重量％のポリエチレンテレフタレートを以下の条件で、フルダル極細糸ＰＯＹ１３５デシテックス／５０フィラメントを紡糸した。ここにおいて、エマルジョン濃度は６重量％、エマルジョン付与量は１５重量％とした。
尚、紡糸条件は、紡糸口金のオリフィス孔径（円形）：０．１７ｍｍ、孔数：５０、紡糸温度：２９５℃、紡糸速度：２６００ｍ／分であった。【００４８】  その後、得られた二酸化ケイ素を含有するポリエチレンテレフタレート繊維を糸密度が７７０本／ｃｍ２となるように実施例１と同様にして図１に示すＷ字型で地組織に織り込んだ。作成された織布は単位面積あたりのパイルフィラメントの本数が４０，０００本／ｃｍ２で、パイル長は１．８０ｍｍとなるように切断した。こうして織成された織布を起毛処理を行い、ラビング用布材Ｒを得た。【００４９】  次に、得られたラビング用布材Ｒを用いテストセルの配向処理を行い、液晶材料のプレチルト角と方位角方向のアンカリングエネルギーと液晶捻れ弾性定数との比を測定したところ、それぞれ０．８度、１０．８／μｍであった。【００５０】  以上より明らかなように、本発明ラビング用布材は、無機微粒子を含むパイル糸を用いたラビング用布材であり、本発明ラビング用布材を用いることにより、液晶配向のプレチルト角を低くすることが出来、かつ方位角方向のアンカリングエネルギーを大きくすることが出来る。【００５１】  従来より服飾関連では艶消しを目的として、無機微粒子を熱可塑性ポリマー中に分散し紡糸した繊維が知られているが、ラビング用布材としてこれらの布を用いることは目的が異なり、容易に想起しうるものではない。【００５２】  従来のラビング用布材の開発においては、布材と配向膜との摩擦係数を大きくすることにより配向膜表面が強く延伸され、配向膜に大きな液晶配向能が付与されると考えられていた。しかしながら、大きな摩擦力の大部分は熱として消費され、必ずしも配向膜の延伸に使われていないため、摩擦係数と配向膜の液晶配向能とは１：１に対応していない。酸化チタン等の微粒子は滑材としても機能するため、微粒子を含むパイル糸によりラビング処理を行うと、熱によるエネルギー損失が少なく効率よくエネルギーが配向膜の延伸に使われるため、従来にくらべより強くラビングされると考えられる。即ち、プレチルト角をより低くすることが出来る。【００５３】  また、微粒子を含有するパイル糸を用いたラビング用布材は、微粒子を含有しないパイル糸を用いたラビング用布材に比べて剛性があるため、配向膜表面をラビングするに際して、より強く配向膜表面高分子鎖を押しつけるため、高分子側鎖はより基板面に水平な方向に傾くと思われる。そのため、液晶分子と配向膜主鎖の極性部位とがより近接することが可能となり、アンカリングエネルギーが大きくなると考えられる。【００５４】  無機微粒子、パイル糸、及び地組織の材料は、本発明実施例に開示された材料に限定されるものではない。本発明に係るラビング用布材の地組織としては、レーヨンに代表される再生繊維、綿に代表される天然繊維、アセテート等の半合成繊維、ポリエチレンテレフタレートに代表されるポリエステル系合成繊維、ナイロンに代表される脂肪族ポリアミド系合成繊維あるいはこれらの混合繊維を用いた薄地または厚地の織物が採用できる。織物組織としては、パイル糸が織り込めるのであればよく特に限定されないが、図１又は図２に示すような構造を用いるのが好ましい。【００５５】  地組織に用いる経糸及び緯糸は、長繊維糸の場合３３〜１６７デシテックス（３０〜１５０デニール）の範囲のものが好ましく、長繊維糸としては、例えばビスコースレーヨン糸、キュプラ糸が用いられる。また、紡績糸の場合経糸及び緯糸として綿番手が双糸１４０番手〜単糸１０番手のものが好ましい。【００５６】  無機微粒子としては、硫化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ルテニウム、酸化マグネシウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素、ケイ酸アルミニウム、硫酸バリウム、アルミナ、カオリン、炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、硫酸カルシウム、カーボンナノチューブ、などが好適な材料である。なかでも、二酸化チタン、及び二酸化ケイ素は高純度で均質なものが容易に得られ、より好適な材料である。【００５７】  本発明に用いられるパイル材料としては、ポリ（ピバロラクトン）、ポリ（カプロラクトン）及び同族の重合体のようなポリラクトン；ポリウレタン；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテル；ポリケトン；脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミドなどのポリアミド；ポリ（エチレンアゼレート）、ポリ（エチレン１，５−ナフタレート）、ポリ（１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート）、ポリ（エチレンオキシベンゾエート）、ポリ（ｐ−ヒドロキシベンゾエート）、ポリ（１，４−シクロヘキシリデンジメチレンテレフタレート）、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート及び同族の重合体のようなポリエステル；ポリアリーレンオキシド；ポリアリーレンスルフィド；ポリエーテルイミド；ビニル重合体及びそれらの共重合体；エチレン−酢酸ビニル共重合体及び同族の重合体；アクリル重合体、ポリアクリレート及びそれらの共重合体；エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、アクリロニトリル共重合体、メタクリル酸メチル−スチレン共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、メタクリレート−ブタジエン−スチレン共重合体、ＡＢＳ及び同族の重合体；低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、低密度塩素化ポリエチレン、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）、ポリエチレン、ポリスチレン及び同族の重合体；ポリフラン；酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、プロピオン酸セルロース及び同族の重合体のようなセルロースエステルプラスチック；シリコーン樹脂などが挙げられる。なかでも、ビスコースレーヨン、ポリエステル、及びアセテート樹脂は服飾関連でも広く用いられ、製法も確立されており、パイル糸に特に適している。【００５８】  本発明実施例においては、カットパイル長を１．８ｍｍ、フィラメント密度を４０，０００本／ｃｍ２に統一したが、これにより本発明を何ら限定するものではない。
【符号の説明】
【００５９】１１、２１          地組織の経糸
１２、２２          地組織の緯糸
１３、２３          パイル糸
３１、４１、５１    液晶分子
３２、４２、６２    配向膜
３３、４３          電極
３４、４４、６３    ガラス基板
５２                配向膜高分子鎖
６１                レーザー光
７１                二酸化チタン微粒子
７２                レーヨン
【図１】
0005468630.tif 000005
【図２】
0005468630.tif 000006
【図３】
0005468630.tif 000007
【図４】
0005468630.tif 000008
【図５】
0005468630.tif 000009
【図６】
0005468630.tif 000010
【図７】
0005468630.tif 000011