(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技機に揺動可能に設けられ揺動操作により該遊技機を操作するための操作レバー把持部と、該操作レバー把持部を常時は揺動状態でない中立状態となるように付勢する弾性部材と、を備える遊技機操作装置において、
揺動操作によって前記操作レバー把持部と一体動作する光遮断部位と、
対向配置させる光源及び光検出器間の光路に形成され、特定方向への前記揺動操作に応じて前記光遮断部位により生じる遮光又はその解除をさせる光軸であって、互いに異なる複数の光軸を形成するための、あらかじめ複数のスリットが形成されたセンサ本体側ケース部と、
これら光軸の内、前記遮光又はその解除をさせる、少なくとも１つの光軸に対応する、光源及び光検出器が取付け保持され、前記センサ本体側ケース部に対して組付け自在であって、組付け時には、いずれの光源も、該当するスリットにより光軸を形成する位置に定められ、いずれの光検出器も、該当するスリットによる光軸の遮光の有無を検出する位置に定められ、未組付け時には、これら光源及び光検出器を保持したまま取り外し可能なセンサユニット部と、を備え、
これら光源及び光検出器の内、検知すべき方向への前記操作レバーの揺動操作に伴った、光軸の遮光の検出に必要な光源及び光検出器が、少なくとも前記センサユニット部に取付け保持され、
検知すべき前記操作レバー把持部の揺動操作の揺動方向やその組み合わせに応じて、検出すべき前記遮光又はその解除をさせる光軸に対応する、光源及び光検出器が取付け保持されていない前記センサユニット部が組み付けられている場合には、これら光源及び光検出器が取付け保持された、前記スリットとの対応関係が異なる前記センサユニット部への取り替えによって対応可能とされたことを特徴とする遊技機操作装置。
【請求項２】
請求項１に記載の遊技機操作装置において、
前記光遮断部位の動作の少なくとも１つの特定方向に対して平行に、該光遮断部位の幅と略同じ間隔で、前記光軸が等間隔となるように構成されていることを特徴とする遊技機操作装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、遊技機に揺動可能に設けられ揺動操作により該遊技機を操作するための操作レバー把持部と、該操作レバー把持部を常時は揺動状態でない中立状態となるように付勢する弾性部材と、を備える遊技機操作装置に係り、特に、コストアップを抑制しながら、検知すべき操作レバーの揺動操作の方向や、その組み合わせや数などの変更に対して、速やかに容易に応じられる遊技機操作装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば図１に示すようなスロットマシン等の遊技機５０においては、外周面に図柄が描かれたリール５１ａ〜５１ｃと、コインを賭ける割合や図柄の組合わせを決定するベットボタン５３と、遊技を開始させるスタートレバー５５と、各々のリールを停止させる停止ボタン５７ａ〜５７ｃと、これらを収納する筐体６０等を備えた構造を有している。
【０００３】
一般的にスタートレバー５５は、ばねの復元力によって水平位置に保持されており、操作時には後端が上下もしくは上下左右斜め、又は前後のいずれかの方向に移動することにより、遮光されていた光センサの発光素子によって発せられた光が、光センサの受光素子によって受光される、もしくはこの逆の作用によって、遊技の開始を検知させる検知信号が生成される。
【０００４】
例えば、本発明者が先に提案した特許文献１に例示されるスタートレバー５５によれば、スタートレバー５５は上下左右斜めいずれの方向にも傾動操作可能に支持され、スタートレバー５５が中立位置（水平位置）の状態においては、スタートレバー５５の把持部とは逆のレバー軸の端部に設けられている遮光部（軸部）が、第一操作状態検出手段及び第二操作状態検出手段が遮光状態となるように設けてある。第一操作状態検出手段及び第二操作状態検出手段は、直交するように配置してあり、スタートレバー５５の把持部を上下左右斜めのいずれかの方向に傾動操作すると、第一操作状態検出手段もしくは第二操作状態検出手段の少なくとも一方が遮光状態を解除され、これによってスタートレバー５５の傾動操作が検出される。
【０００５】
この特許文献１に例示されるスタートレバー５５では、上下左右斜めと複数の方向に傾動操作可能に構成されているが、いずれの方向に傾動操作したとしても、遊技機の遊技開始を指示する機能しか持っていなかった。
【０００６】
これに対して、特許文献２に例示されるスタートレバー５５は、上下左右斜めいずれの方向にも傾動操作可能に支持され、スタートレバー５５の把持部とは逆のレバー軸の端部に円盤状に形成された被検出部が設けられている。操作状態検出手段は上下左右４箇所に設けてあり、スタートレバー５５の把持部を上下左右斜めのいずれかの方向に傾動操作することにより、少なくともいずれか１箇所の操作状態検出手段の光軸を円盤状に形成された被検出部が遮光することにより、スタートレバー５５の傾動操作が検出される。
【０００７】
従って、特許文献２に例示されるスタートレバー５５では、遊技機の遊技開始を指示する機能に加え、上下左右４箇所に設けられた操作状態検出手段のそれぞれに、例えば演出選択といった遊技価値付与機能を設けることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００６−２４６９４２号公報（図１０）
【特許文献２】特開２００５−１９８７３０号公報（図２）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ここで、従来、遊技機の遊技開始を指示する機能のみ必要な場合には、例えば特許文献１の遊技機操作装置、あるいは、スタートレバー５５の傾動操作の方向に応じて遊技価値付与機能を設ける場合には、例えば特許文献２の遊技機操作装置というように、スタートレバー５５の揺動操作により指示すべき数が異なると、遊技機操作装置を使い分ける必要がある。
【００１０】
あるいは、指示すべき数が多い遊技機操作装置を流用することも考えられる。
【００１１】
しかしながら、例えば、上下左右斜めいずれの方向に傾動操作しても遊技開始する場合、特許文献２に例示されるスタートレバー５５の構成では、上下左右４箇所の操作状態検出手段が必要である。従って、特許文献１に例示されるスタートレバー５５より、操作状態検出手段が２箇所多く必要となり、コストアップとなってしまう。
【００１２】
又、特許文献２の場合、把持部とは逆のレバー軸の端部に被検出部が円盤状に形成されている。このため、特許文献１に例示されるスタートレバー５５のように軸部で遮光している場合に比べ、操作状態検出手段収容部の胴回りの径が大きくなり、スタートレバー５５の取り付けがし難くなってしまうという問題点があった。
【００１３】
本発明は、前記従来の問題点を解決するためのもので、コストアップを抑制しながら、検知すべき操作レバーの揺動操作の方向や、その組み合わせなどの変更に対して、速やかに容易に応じられる、調整が簡単な遊技機操作装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、遊技機に揺動可能に設けられ揺動操作により該遊技機を操作するための操作レバー把持部と、該操作レバー把持部を常時は揺動状態でない中立状態となるように付勢する弾性部材と、を備える遊技機操作装置において、揺動操作によって前記操作レバー把持部と一体動作する光遮断部位と、対向配置させる光源及び光検出器間の光路に形成され、特定方向への前記揺動操作に応じて前記光遮断部位により生じる遮光又はその解除をさせる光軸であって、互いに異なる複数の光軸を形成するための、あらかじめ複数のスリットが形成されたセンサ本体側ケース部と、これら光軸の内、前記遮光又はその解除をさせる、少なくとも１つの光軸に対応する、光源及び光検出器が取付け保持され、前記センサ本体側ケース部に対して組付け自在であって、組付け時には、いずれの光源も、該当するスリットにより光軸を形成する位置に定められ、いずれの光検出器も、該当するスリットによる光軸の遮光の有無を検出する位置に定められ、未組付け時には、これら光源及び光検出器を保持したまま取り外し可能なセンサユニット部と、を備え、これら光源及び光検出器の内、検知すべき方向への前記操作レバーの揺動操作に伴った、光軸の遮光の検出に必要な光源及び光検出器が、少なくとも前記センサユニット部に取付け保持され、検知すべき前記操作レバー把持部の揺動操作の揺動方向やその組み合わせに応じて、検出すべき前記遮光又はその解除をさせる光軸に対応する、光源及び光検出器が取付け保持されていない前記センサユニット部が組み付けられている場合には、これら光源及び光検出器が取付け保持された、前記スリットとの対応関係が異なる前記センサユニット部への取り替えによって対応可能とすることにより、前記課題を解決したものである。
【００１５】
ここで、前記光遮断部位の動作の少なくとも１つの特定方向に対して平行に、該光遮断部位の幅と略同じ間隔で、前記光軸が等間隔となるように構成することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、センサユニット部は、センサ本体側ケース部に組付け自在になっており、更に、検知すべき操作レバーの揺動操作の方向や、その組み合わせ又数に応じて光源及び光検出器が取付け保持された、異なるセンサユニット部を用意することも可能である。従って、必要な機能に応じて、必要な数の光源及び光検出器を配置することができ、且つどの配置パターンにおいてもセンサユニット部は同一形状で構成でき、異なる該センサユニット部の交換で対応することもできる。
【００１７】
又、光遮断部位の動作の少なくとも１つの特定方向に平行に、該光遮断部位の幅と略同じ間隔で、前記光軸が等間隔となるように構成すると、センサユニット部内部における光源及び光検出器の配置によって、操作レバーの揺動操作の様々な状態の検知に応じることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】従来からのスロットマシン等の遊技機全体の斜視図
【図２】本発明の一実施形態を示すスタートレバーの外観を示す斜視図
【図３】上記スタートレバーの垂直断面図
【図４】前記スタートレバーの分解図
【図５】前記スタートレバーにおける操作状態検出手段収容部の分解図
【図６】前記実施形態における、第１のセンサ基板を用いた１光軸のセンサユニット部の斜視図
【図７】上記１光軸のセンサユニット部の平面概念図
【図８】前記実施形態における、第２のセンサ基板を用いた平行２光軸のセンサユニット部の斜視図
【図９】上記平行２光軸のセンサユニット部の平面概念図
【図１０】前記実施形態における、第３のセンサ基板を用いた直交２光軸のセンサユニット部の斜視図
【図１１】上記直交２光軸のセンサユニット部の平面概念図
【図１２】前記実施形態における、第４のセンサ基板を用いた３光軸のセンサユニット部の斜視図
【図１３】上記３光軸のセンサユニット部の平面概念図
【図１４】前記実施形態における、第５のセンサ基板を用いた４光軸のセンサユニット部の斜視図
【図１５】上記４光軸のセンサユニット部の平面概念図
【図１６】前記実施形態においてレバー部を下側に押圧傾動操作をした場合のスタートレバーの外観を示す斜視図
【図１７】前記実施形態においてレバー部を下側に押圧傾動操作をした場合のスタートレバーの垂直断面図
【図１８】前記実施形態において第３のセンサ基板を用いた場合における、スタートレバーの縦断面図
【図１９】前記実施形態において第３のセンサ基板を用いた場合における、スタートレバーの平面概念図
【図２０】前記実施形態において第５のセンサ基板を用いた場合における、スタートレバーの縦断面図
【図２１】前記実施形態において第５のセンサ基板を用いた場合における、スタートレバーの平面概念図
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、図を用いて本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００２０】
図２は、本発明の一実施形態を示すスタートレバー５５の外観を示す斜視図である。図３及び図４は、それぞれ、このスタートレバー５５の垂直断面図及び分解図である。更に、図５は、このスタートレバー５５における操作状態検出手段収容部の分解図である。なお、図２及び図３では、レバー軸３は中立位置にある。
【００２１】
本実施形態のスタートレバー５５は、前述の図１に示したスロットマシン等の遊技機５０などに利用可能であり、図２などに示す、レバーベース８に形成されたねじ部８１、及び該ねじ部８１に締結されるナット（図示なし）によって、遊技機５０などの前面に取付けられる。遊技者は、レバー部１を任意方向に傾動操作する。
【００２２】
レバーベース８の後端部には、スペーサケース１２が配されており、図４に示す、レバーベース８後端部に設けられたねじ部８２と、スペーサケース１２のねじ部１２１とで結合される。更に、操作状態検出手段収容部１３は、コネクタカバー１４と共締めされるようにねじ１５によってスペーサケース１２に固定される。
【００２３】
この操作状態検出手段収容部１３は、図５に示すように、フォトセンサ１７１〜１７４を保護するセンサケース１６と、基板１７５上にフォトセンサ１７１〜１７４を配置したセンサ基板１７と、後方の蓋の役割をするエンドキャップ１８で構成される。なお、フォトセンサ１７１及び１７２、フォトセンサ１７３及び１７４は、互いに対向して設けられ、該対向配置において、一方が光源で他方が光検出器となる。
【００２４】
この操作状態検出手段収容部１３において、まず、センサケース１６の中央部には、レバー部１が傾動操作された際に動作するレバー軸３の先端部になる遮光部３１が、該センサケース１６の内壁と干渉しない、十分な空間を持った凹部１６４が形成されている。又、この凹部１６４の４方の内壁にはセンサケース１６内部に収容されたフォトセンサ１７１〜１７４からの光軸が通るためのスリット１６１、１６２が各３箇所ずつ（後述のＸ軸の１６１ａ、１６１ｂ、１６１ｃ、及びＹ軸の１６２ａ、１６２ｂ、１６２ｃ）形成されている。更に、センサケース１６の４隅には、ねじ１５が通るための貫通穴１６３（図５）が形成されている。
【００２５】
ここで、上記のＸ軸及びＹ軸とは、後述の図７、図９、図１１、図１３、図１５、図１９、図２１の平面概念図における横軸及び縦軸である。
【００２６】
センサケース１６の外周は、レバーベース８に形成されたねじ部８１に締結されるナット（図示なし）の内径よりも小さく構成されている。従って、該締結によって、スタートレバー５５を遊技機５０などに取付ける際には、このレバーベース８に一体となったセンサケース１６を、該ねじ部８１を締結する孔から差し込むことができる。
【００２７】
センサ基板１７は、基板１７５上にフォトセンサ１７１〜１７４が搭載されており、基板１７５裏面にはコネクタ１７６が搭載されている。このとき、フォトセンサ１７１がＸ軸発光素子、フォトセンサ１７２がＸ軸受光素子、フォトセンサ１７３がＹ軸発光素子、フォトセンサ１７４がＹ軸受光素子であり、Ｘ軸はフォトセンサ１７１とフォトセンサ１７２、Ｙ軸はフォトセンサ１７３とフォトセンサ１７４のそれぞれが一組で１光軸を構成している。
【００２８】
エンドキャップ１８にはコネクタ１７６が通る貫通穴１８１が設けてあり、又、エンドキャップ１８の外周部には、センサケース１６に外周側壁に設けられた係合穴１６３に係合する爪部１８２が形成されている。
【００２９】
ここで、上記のセンサケース１６は、本発明のセンサ本体側ケース部に相当する。又、センサケース１６に対して取り外し可能なセンサ基板１７は、本発明のセンサユニット部に相当する。レバーばね５は弾性部材に、レバー軸３の先端の遮光部３１は光遮断部位に相当する。
【００３０】
次に、主に図３及び図４により、スタートレバー５５の構造について説明する。
【００３１】
このスタートレバー５５は、把持球２とレバー軸３が一体形成されたレバー部１と、常時にはレバー部１を中立状態となるように付勢するレバーばね５を内蔵し、且つ傾動方向の押圧操作もしくは軸心方向に押し込み操作可能にレバー部１を支持するレバーベース８と、内部にフォトセンサ１７１〜１７４を収容可能な操作状態検出手段収容部１３及び操作状態検出手段収容部１３を保持するスペーサケース１２、操作状態検出手段収容部１３の後面に配置されたコネクタ１７６を保護するコネクタカバー１４によって概ね構成されている。
【００３２】
レバーベース８の内部は、内空領域８３及び内空領域８４が貫通孔８５で繋がっており、その内部を把持球２とレバー軸３が一体形成されたレバー部１が貫通して配置される。レバーベース８の内空領域８３には、レバー部１を常時に中立状態となるように付勢するレバーばね５を内蔵しており、レバーばね５はレバーストッパ４及びスラストコマ６に挟まれるように配されている。その他、内空領域８３の底面にはスラストコマ保護座金７が配されている。レバーベース８の内空領域８４には、内接するようにスリーブ９が配置されている。スリーブ９の後面にはスリーブ保護座金１０が配され、その後ろにＥリング１１がレバー部１に嵌合している。Ｅリング１１及びスリーブ保護座金１０、スリーブ９がばね５の付勢力に抗してレバー部１が前端部方向に抜けるのを防いでいる。レバー部１の後端部にはフォトセンサ１７１〜１７４の光軸を遮光する遮光部３１が形成されている。
【００３３】
レバーベース８の後端部には、スペーサケース１２が配されており、レバーベース８後端部に設けられたねじ部８２と、スペーサケース１２のねじ部１２１とで結合される。スペーサケース１２の後面には、レバー部１が傾動操作された際に遮光部３１が干渉しない十分な空間を持った貫通穴１２２が形成されている。貫通穴１２２の後面縁にはボス１２３が形成されており、操作状態検出手段収容部１３に形成された凹部１６４に嵌り込むことにより、操作状態検出手段収容部１３に位置決めされる。更に、操作状態検出手段収容部１３は、コネクタカバー１４と共締めされるようにねじ１５によってスペーサケース１２に固定される。
【００３４】
続いて、図６〜図１５により、本実施形態のセンサ基板１７のフォトセンサ１７１〜１７４の配置パターンについて説明する。
【００３５】
まず、図６及び図７は、本実施形態における１光軸のセンサユニット部の斜視図及び平面概念図である。図８及び図９は、平行２光軸のセンサユニット部の斜視図及び平面概念図である。図１０及び図１１は、直交２光軸のセンサユニット部の斜視図及び平面概念図である。図１２及び図１３は、３光軸のセンサユニット部の斜視図及び平面概念図である。図１４及び図１５は、４光軸のセンサユニット部の斜視図及び平面概念図である。
【００３６】
図１６は、前述のレバー軸が中立位置の図２に対応させた、レバー部を下側に押圧傾動操作をした場合の、実施形態のスタートレバー５５の外観を示す斜視図である。図１７は、前述のレバー軸が中立位置の図３に対応させた、レバー部を下側に押圧傾動操作をした場合の、このスタートレバー５５の垂直断面図である。
【００３７】
ここで、図２、図３、図５、図１６、及び図１７において、センサ基板１７は、一例として、図１４及び図１５に示される４光軸の配置パターンのものである。
【００３８】
又、図７、図９、図１１、図１３、図１５において、図中横方向の光軸をＸ軸方向のものと称し、センサケース１６の内側の凹部１６４の４方の内壁に各３箇所ずつ形成された光軸が通るためのスリット（Ｘ軸方向は１６１ａ、１６１ｂ、１６１ｃ）に対応させて、図中上から順にＬｘａ〜Ｌｘｃとする。縦方向の光軸をＹ軸方向のものと称し、凹部１６４の４方の各内壁に３箇所ずつ形成された光軸が通るためのスリット（Ｙ軸方向は１６２ａ、１６２ｂ、１６２ｃ）に対応させて、図中左から順にＬｙａ〜Ｌｙｃとする。
【００３９】
まず、図６及び図７に例示される第１のセンサ基板１７Ａの配置パターンでは、Ｘ軸に１光軸（フォトセンサ１７１ｂ−１７２ｂによる）を配置している。フォトセンサ１７１ｂから発光された光は、スリット１６１ｂを通り１７２ｂで受光される。この配置パターンは、レバー軸１が上下にしか傾動しないスタートレバー５５に用いられ、遊技開始の機能しか持たない。
【００４０】
次に、図８及び図９に例示される第２のセンサ基板１７Ｂの配置パターンでは、Ｘ軸に２光軸（フォトセンサ１７１ａ−１７２ａ、フォトセンサ１７１ｃ−１７２ｃによる）を配置している。フォトセンサ１７１ａから発光された光はスリット１６１ａを通りフォトセンサ１７２ａで受光され、フォトセンサ１７１ｃから発光された光はスリット１６１ｃを通り１７２ｃで受光される。この配置パターンは、レバー軸１が上下にしか傾動しないスタートレバー５５に用いられ、遊技開始の機能の他に上下の画面スクロールや画面選択、ＢＥＴの増減などの機能を付加できる。
【００４１】
続いて、図１０及び図１１に例示される第３のセンサ基板１７Ｃの配置パターンでは、Ｘ軸に１光軸（フォトセンサ１７１ｂ−１７２ｂによる）、Ｙ軸に１光軸（フォトセンサ１７３ｂ−１７４ｂによる）を配置している。フォトセンサ１７１ｂから発光された光はスリット１６１ｂを通りフォトセンサ１７２ｂで受光され、フォトセンサ１７３ｂから発光された光はスリット１６２ｂを通りフォトセンサ１７４ｂで受光される。この配置パターンは、レバー軸１が上下左右斜めのいずれの方向にも傾動するスタートレバー５５に用いられ、遊技開始の機能しかもたない。
【００４２】
更に、図１２及び図１３に例示される第４のセンサ基板１７Ｄの配置パターンでは、Ｘ軸に１光軸（フォトセンサ１７１ｂ−１７２ｂによる）、Ｙ軸に２光軸（フォトセンサ１７３ａ−１７４ａ、フォトセンサ１７３ｃ−１７４ｃによる）を配置している。フォトセンサ１７１ｂから発光された光はスリット１６１ｂを通りフォトセンサ１７２ｂで受光され、フォトセンサ１７３ａから発光された光はスリット１６２ａを通りフォトセンサ１７４ａで受光され、フォトセンサ１７３ｃから発光された光はスリット１６２ｃを通りフォトセンサ１７４ｃで受光される。この配置パターンは、レバー軸１が上下左右斜めのいずれの方向にも傾動するスタートレバー５５に用いられ、遊技開始の機能の他に左右の画面スクロールや画面選択、ＢＥＴの増減、左右方向に動作が必要なミニゲーム（例えばインベーダーゲームやブロック崩しなど）のコントローラー（ジョイスティック）などの機能を付加できる。
【００４３】
次に、図１４及び図１５に例示される第５のセンサ基板１７Ｅの配置パターンでは、Ｘ軸に２光軸（フォトセンサ１７１ａ−１７２ａ、フォトセンサ１７１ｃ−１７２ｃによる）、Ｙ軸に２光軸（フォトセンサ１７３ａ−１７４ａ、フォトセンサ１７３ｃ−１７４ｃによる）を配置している。フォトセンサ１７１ａから発光された光はスリット１６１ａを通りフォトセンサ１７２ａで受光され、フォトセンサ１７１ｃから発光された光はスリット１６１ｃを通りフォトセンサ１７２ｃで受光され、フォトセンサ１７３ａから発光された光はスリット１６２ａを通りフォトセンサ１７４ａで受光され、フォトセンサ１７３ｃから発光された光はスリット１６２ｃを通りフォトセンサ１７４ｃで受光される。この配置パターンは、レバー軸１が上下左右斜めのいずれの方向にも傾動するスタートレバー５５に用いられ、遊技開始の機能の他に、上下左右斜めの画面スクロールや画面選択、ＢＥＴの増減、上下左右斜め方向に動作が必要なミニゲーム（例えば格闘ゲームなど）のコントローラー（ジョイスティック）などの機能を付加できる。
【００４４】
以下、本実施形態の作用について説明する。
【００４５】
以上の構成において、レバー部１がいずれかの方向に傾動操作されると、内空領域８４に内接するスリーブ９のＲ形状部９１が、該内空領域８４に対して点接触状態となってレバー部１が傾動する。又、スラストコマ６では、底面外周部６１が支点となって、レバー軸３に沿ってレバーばね５を押し縮める方向に摺動する。この結果、レバーストッパ４及びスラストコマ６に挟まれるように配されたレバーばね５は、レバー部１を中立状態へ復帰させる付勢力を蓄える。
【００４６】
このとき、レバーストッパ４はレバー部１の傾動角度を規制する。更に、レバー部１は軸心方向に押し込み操作も可能で、レバーストッパ４後端面とスラストコマ６前端面が当節する位置までレバー部１を軸心方向に押し込み操作することが可能である。
【００４７】
例えば図１６に例示される構成によれば、レバー部１が下方向に傾動操作された場合、レバー部１はスリーブ９のＲ形状部９１を支点として傾動し、把持球２とは多端側の遮光部３１は上向きに旋回し、スリット１６１による光軸Ｌｘａ（フォトセンサ１７１ａ−１７２ａに対応）を遮光することによって、レバー部１が下方向に傾動したことが検出される。
【００４８】
図６及び図７に例示される第１のセンサ基板１７Ａの配置パターンでは、中立状態において光軸Ｌｘｂ（フォトセンサ１７１ｂ−１７２ｂに対応）は遮光部３１によって遮光状態にある。上もしくは下方向に傾動操作されると、フォトセンサ１７１ｂ−１７２ｂは受光状態となり、上もしくは下方向に傾動操作されたことを検出する。即ち、上下のどちらに傾動操作されたか判別はできないが、上下のどちらかに傾動操作されたことがわかる。
【００４９】
図８及び図９に例示される第２のセンサ基板１７Ｂの配置パターンでは、中立状態において光軸Ｌｘａ（フォトセンサ１７１ａ−１７２ａに対応）及び光軸Ｌｘｃ（フォトセンサ１７１ｃ−１７２ｃに対応）は受光状態である。上方向に傾動操作されると、光軸Ｌｘｃは遮光部３１によって遮光状態となり、上方向に傾動操作されたことを検出する。又、下方向に傾動操作されると、光軸Ｌｘａは遮光部３１によって遮光状態となり、下方向に傾動操作されたことを検出する。即ち、上方に傾動操作されたのか、下方向に傾動操作されたのか判別できる。
【００５０】
図１０及び図１１に例示される第３のセンサ基板１７Ｃの配置パターンでは、中立状態において光軸Ｌｘｂ（フォトセンサ１７１ｂ−１７２ｂに対応）及び光軸Ｌｙｂ（フォトセンサ１７３ｂ−１７４ｂに対応）は遮光部３１によって遮光状態にある。上もしくは下方向に傾動操作されると、フォトセンサ１７１ｂ−１７２ｂは受光状態となり、上もしくは下方向に傾動操作されたことを検出する。又、右もしくは左方向に傾動操作されると、フォトセンサ１７３ｂ−１７４ｂは受光状態となり、右もしくは左方向に傾動操作されたことを検出する。即ち、上下のどちらに傾動操作されたか判別はできないが、上下のどちらかに傾動操作されたこと、及び、左右のどちらに傾動操作されたか判別はできないが、左右のどちらかに傾動操作されたことがわかる。
【００５１】
図１２及び図１３に例示される第４のセンサ基板１７Ｄの配置パターンでは、中立状態において光軸Ｌｘｂ（フォトセンサ１７１ｂ−１７２ｂに対応）は遮光状態にあり、光軸Ｌｙａ（フォトセンサ１７３ａ−１７４ａに対応）及び光軸Ｌｙｃ（フォトセンサ１７３ｃ−１７４ｃに対応）は受光状態である。上もしくは下方向に傾動操作されると、光軸Ｌｘｂは受光状態となり、上もしくは下方向に傾動操作されたことを検出する。又、左方向に傾動操作されると、光軸Ｌｙｃは遮光部３１によって遮光状態となり、左方向に傾動操作されたことを検出する。更に、右方向に傾動操作されると、光軸Ｌｙａは遮光部３１によって遮光状態となり、右方向に傾動操作されたことを検出する。即ち、上下のどちらに傾動操作されたか判別はできないが、上下のどちらかに傾動操作されたこと、及び、左方向に傾動操作されたのか、右方向に傾動操作されたのか判別できる。
【００５２】
図１４及び図１５に例示される第５のセンサ基板１７Ｅの配置パターンでは、中立状態において光軸Ｌｘａ（フォトセンサ１７１ａ−１７２ａに対応）及び光軸Ｌｘｃ（フォトセンサ１７１ｃ−１７２ｃに対応）、光軸Ｌｙａ（フォトセンサ１７３ａ−１７４ａに対応）及び光軸Ｌｙｃ（フォトセンサ１７３ｃ−１７４ｃに対応）は遮光させず、フォトセンサで受光可能な状態である。上方向に傾動操作されると、光軸Ｌｘｃは遮光部３１によって遮光状態となり、上方向に傾動操作されたことを検出する。下方向に傾動操作されると、光軸Ｌｘａは遮光部３１によって遮光状態となり、下方向に傾動操作されたことを検出する。左方向に傾動操作されると、光軸Ｌｙｃは遮光部３１によって遮光状態となり、左方向に傾動操作されたことを検出する。右方向に傾動操作されると、光軸Ｌｙａは遮光部３１によって遮光状態となり、右方向に傾動操作されたことを検出する。
【００５３】
このセンサ基板１７Ｅでは、更に、左斜め上方向に傾動操作されると、光軸Ｌｘｃ及び光軸Ｌｙｃは遮光部３１によって遮光状態となり、左斜め上方向に傾動操作されたことを検出する。右斜め上方向に傾動操作されると、光軸Ｌｘｃ及び光軸Ｌｙａは遮光部３１によって遮光状態となり、右斜め上方向に傾動操作されたことを検出する。左斜め下方向に傾動操作されると、光軸Ｌｘａ及び光軸Ｌｙｃは遮光部３１によって遮光状態となり、左斜め下方向に傾動操作されたことを検出する。右斜め下方向に傾動操作されると、光軸Ｌｘａ及び光軸Ｌｙａは遮光部３１によって遮光状態となり、右斜め下方向に傾動操作されたことを検出する。
【００５４】
上述のようにこのセンサ基板１７Ｅでは、上方向に傾動操作されたのか、下方向に傾動操作されたのか、左方向に傾動操作されたのか、右方向に傾動操作されたのか、更には、左斜め上方向に傾動操作されたのか、右斜め上方向に傾動操作されたのか、左斜め下方向に傾動操作されたのか、右斜め下方向に傾動操作されたのか判別できる。
【００５５】
図１８及び図１９は、第３のセンサ基板１７Ｃを用いた場合における、スタートレバー５５の縦断面図及び平面概念図である。図２０及び図２１は、第５のセンサ基板１７Ｅを用いた場合における、スタートレバー５５の縦断面図及び平面概念図である。
【００５６】
ここで、センサケース１６の凹部１６４の内部の４方の内壁に形成された、全てのスリットによって形成されるいずれの光軸の太さも細く、無視できるものとする。本実施形態のセンサ基板１７Ａ〜１７Ｅでは、レバー軸３の揺動に伴って動作する、この先端部の遮光部３１の動作面における太さ、又これらスリットの各内壁における形成間隔は、例えば図１９（センサ基板１７Ｃ）及び図２０（センサ基板１７Ｅ）に図示されるように、いずれも互いに略等しくされている。
【００５７】
このため、図１９において、遮光部３１が中立状態から光軸Ｌｘｂの遮光が解除されるまで、図１９中の矢印だけ動作する距離と、図２１において、遮光部３１が中立状態から光軸Ｌｘａを遮光するまで、図２１中の矢印だけ動作する距離とを略等しくすることができ、検知するレバー軸の傾動角度を略等しくすることができる。
【００５８】
つまり、スタートレバー５５において、検知すべき操作レバーの揺動操作の方向や、その組み合わせ又数に対して、フォトセンサの異なる配置パターン、異なるセンサ基板１７Ａ〜１７Ｅでも対応することができる。但し、備えるフォトセンサの選択やオン・オフの入れ替えで適宜対応する必要がある。
【００５９】
又、スタートレバー５５を操作する遊技者から見た場合、このように揺動動作の検知を、フォトセンサの異なる配置パターンで対応した場合にも、ほぼ同一の操作タイミングで傾動操作が検知され、従って、配置パターンの違いによる操作タイミングの違和感がない。
【００６０】
例えば、第１のセンサ基板１７Ａ（図６及び図７）によるスタートレバー５５の揺動動作有りの検知は、第２のセンサ基板１７Ｂ（図８及び図９）において、光軸Ｌｘａの遮光検出、及び光軸Ｌｘｃの遮光検出の論理和によっても行なうことができる。この際、センサ基板１７Ａ及びセンサ基板１７Ｂでは、揺動動作有りの検知の傾動角度を略等しくすることができる。
【００６１】
なお、スリットによって形成される光軸の太さが、無視できない太さｗ１であったとする。又、凹部１６４の４方の各内壁におけるスリットの配列形成の間隔をｗ２とする。又、該配列方向の、レバー軸３の先端部の遮光部３１の太さをｗ３とする。この場合、ｗ３が（ｗ２−（ｗ１／２））に略等しくなるようにすれば、上述のようなフォトセンサの異なる配置パターン、異なるセンサ基板１７Ａ〜１７Ｅによる対応が可能になる。
【００６２】
なお、以上に説明した実施形態では、互いに平行な光軸間では、光軸の両端において同じ側に光源、他方側に光検出器が配列している。しかしながら、光源及び光検出器の大きさが異なる場合、大きい方が配列された側は、設置スペースを多く要するようになる。これに対して、光軸の両端において一方の側には光源及び光検出器を交互に、他方の側には光検出器及び光源を交互に配列することで、光源及び光検出器の大きさが異なる場合にも、効率よく光源及び光検出器を配置することができる。
【符号の説明】
【００６３】
１…レバー部
２…把持球
３…レバー軸
３１…遮光部
５…レバーばね
８…レバーベース
１２…スペーサケース
１３…操作状態検出手段収容部
１４…コネクタカバー
１５…ねじ
１６…センサケース
１６１、１６２、１６１ａ、１６２ａ、１６１ｂ、１６２ｂ、１６１ｃ、１６２ｃ…スリット
１７１〜１７４、１７１ａ〜１７４ａ、１７１ｂ〜１７４ｂ、１７１ｃ〜１７４ｃ…フォトセンサ
１７…センサ基板
５０…遊技機
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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