(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体に形成された測定対象膜に光を照射して前記測定対象膜の膜構造を測定する膜構造測定方法であって、
前記光から前記測定対象膜の表面の形状である表面形状データ及び前記測定対象膜と前記物体との界面の形状である界面形状データを測定するステップと、
前記表面形状データに対して当該表面形状データとの差分の平均値がほぼ０となる第１の基準面を算出して前記差分を補正された表面形状データとして算出するとともに、前記界面形状データに対して当該界面形状データとの差分の平均値がほぼ０となる第２の基準面を算出して前記差分を補正された界面形状データとして算出するステップと、
前記補正された表面形状データ及び前記補正された界面形状データの相関係数を算出し前記相関係数の絶対値が最小となる条件から、前記測定対象膜の屈折率を算出するステップと、を有する膜構造測定方法。
【請求項２】
前記基準面は直平面である請求項１に記載の膜構造測定方法。
【請求項３】
前記補正された表面形状データをＳCとし、前記補正された界面形状をＫC′としたとき、前記屈折率ｎは、次式
【数８】
0005500354.tif 000009
により算出される請求項１または２に記載の膜構造測定方法。
【請求項４】
前記表面形状データ、前記界面形状データ及び前記屈折率から、前記測定対象膜の膜厚分布を算出するステップをさらに有する請求項１〜３のいずれか一項に記載の膜構造測定方法。
【請求項５】
物体及び当該物体の表面に形成された測定対象膜に光を照射して前記測定対象膜の表面の形状である表面形状データ及び前記測定対象膜と前記物体との界面の形状である界面形状データを取得する撮像装置と、
請求項１〜４のいずれか一項に記載の膜構造測定方法により前記測定対象膜の膜構造を算出する制御用プロセッサと、を有する表面形状測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、膜構造測定方法及び表面形状測定装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント基板の表面には、例えば絶縁することを目的に透明な膜（透明膜）が形成されている。このような透明膜に対しては、例えば、白色干渉法を用いた表面形状測定装置を用いることにより、透明膜の表面で反射した測定光から透明膜の表面の形状データを得ることができ、また、透明膜を透過させて、透明膜とプリント基板表面との界面で反射した測定光からこの界面の形状データ（界面形状データ）を得ることができる（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特公平６−５４２１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、透明膜を透過した光により測定された界面形状のデータは、表面形状の影響を受けている。すなわち、この透明膜の屈折率により実際の界面形状からずれて観測されてしまう。透明膜の屈折率が正確に分かっている場合には演算により正確な界面形状を求めることができるが、透明膜が形成されたときの条件（透明膜の材料の製造工程や塗布工程等）やその後の経年変化等により屈折率は変化する可能性があるため、正確な界面形状を求めることができないという課題があった。このような膜厚測定としてはエリプソメータが使用されるが、基本的に点の測定であるため、例えば透明膜の不良解析を行う場合のようにその不良部分を探査しなければならない場合には、効率的な解析を行うことができない。
【０００５】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、測定対象膜に光を照射して測定される表面形状データ及び界面形状データから、この測定対象膜の屈折率を得ることができる膜構造測定方法、及び、この膜構造測定方法により測定対象膜の膜構造を測定する表面形状測定装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するために、本発明に係る膜構造測定方法は、物体に形成された測定対象膜に光を照射してこの測定対象膜の膜構造を測定する膜構造測定方法であって、前記光から測定対象膜の表面の形状である表面形状データ及び測定対象膜と物体との界面の形状である界面形状データを測定するステップと、表面形状データに対して当該表面形状データとの差分の平均値がほぼ０となる第１の基準面を算出してこの差分を補正された表面形状データとして算出するとともに、界面形状データに対して当該界面形状データとの差分の平均値がほぼ０となる第２の基準面を算出してこの差分を補正された界面形状データとして算出するステップと、補正された表面形状データ及び補正された界面形状データの相関係数を算出しこの相関係数の絶対値が最小となる条件から、測定対象膜の屈折率を算出するステップと、を有する。
【０００７】
このような膜構造測定方法において、基準面は直平面であることが好ましい。
【０００８】
また、このような膜構造測定方法において、補正された表面形状データをＳCとし、補正された界面形状をＫC′としたとき、屈折率ｎは、次式
【数１】
0005500354.tif 000002
により算出することができる。
【０００９】
また、このような膜構造測定方法は、前記表面形状データ、前記界面形状データ及び前記屈折率から、前記測定対象膜の膜厚分布を算出するステップをさらに有することが好ましい。
【００１０】
また、本発明に係る表面形状測定装置は、物体及び当該物体の表面に形成された測定対象膜に光を照射して測定対象膜の表面の形状である表面形状データ及び測定対象膜と物体との界面の形状である界面形状データを取得する撮像装置と、上述の膜構造測定方法のいずれかにより測定対象膜の膜構造を算出する制御用プロセッサと、を有する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明に係る膜構造測定方法及びこの方法を用いた表面形状測定装置によれば、測定対象膜に光を照射して測定される表面形状データ及び界面形状データから、この測定対象膜の屈折率を得ることができ、さらにこの屈折率を用いて、真の界面形状データや膜厚分布を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】表面形状測定装置の構成を示す説明図である。
【図２】上記表面形状測定装置の光学系を示す説明図である。
【図３】試料と測定結果との関係を示す説明図であって、（ａ）はプリント基板上に透明膜が形成された試料の断面図を示し、（ｂ）はその測定結果を示す。
【図４】膜構造測定方法を示すフローチャートである。
【図５】直平面補正を示す説明図であって、（ａ）は表面データ及び界面データと直平面との関係を示し、（ｂ）は直平面補正された結果を示す。
【図６】透明膜の屈折率と表面形状データ及び界面形状データとの関係を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の好ましい実施形態について図面を参照して説明する。まず、図１及び図２を用いて、物体に形成された測定対象膜の表面形状及び界面形状を測定する表面形状測定装置の一例として、白色干渉法を用いた表面形状測定装置の構成について説明する。この表面形状測定装置１００は、試料１０５を走査してこの試料１０５の画像を取得する撮像装置１０９と、この撮像装置１０９の作動の制御及び取得された画像から試料の膜構造（透明膜の屈折率や表面及び界面形状等）を算出する制御用プロセッサ１１０と、この制御用プロセッサ１１０による処理結果を表示するディスプレイ装置１１１と、を有して構成される。
【００１４】
撮像装置１０９は、撮像素子１４が内蔵された撮像カメラ１０１と、光学系が格納された顕微鏡鏡筒装置１０２と、ピエゾ素子１６を有し対物レンズユニット１５を駆動して試料１０５を垂直走査するピエゾ駆動装置１０３と、対物レンズユニット１５が格納された顕微鏡対物レンズ１０４と、試料１０５が載置される顕微鏡用試料台１０６と、白色光を放射して試料１０５を照明する光源１が格納された顕微鏡用照明装置１０７と、顕微鏡鏡筒装置１０２や顕微鏡照明装置１０７を支持する顕微鏡ベース１０８と、を有して構成される。なお、ピエゾ素子１６の駆動制御及び撮像素子１４から出力される信号の処理は上述の制御用プロセッサ１１０により行われる。
【００１５】
また、この表面形状測定装置１００の光学系は、光源１から放射された光を集光して試料１０５に照射する照明光学系２と、試料１０５からの光を集光してこの試料１０５の像を撮像素子１４の撮像面上に結像する結像光学系３と、を有して構成される。
【００１６】
照明光学系２は、光源１側から順に、この光源１から放射された光を略平行光に変換する集光レンズ４と、この略平行光を一旦結像してさらに略平行光としてリレーする第１リレーレンズ６及び第２リレーレンズ８と、第２リレーレンズ８から出射した略平行光の一部を試料１０５の方向へ反射するハーフミラー（若しくはハーフプリズム）９と、このハーフミラー９で反射された光を試料１０５上に集光して照射する対物レンズユニット１５と、から構成されている。なお、第１リレーレンズ６と第２リレーレンズ８との間に開口絞り７が設けられており、また、第２リレーレンズ８とハーフミラー９との間に視野絞り５が設けられている。
【００１７】
一方、結像光学系３は、試料１０５側から順に、この試料１０５で反射した光を集光する対物レンズユニット１５と、対物レンズユニット１５からの光の一部を透過するハーフミラー９と、ハーフミラー９を透過した光を集光して撮像素子１４の撮像面上に結像する結像レンズ１３と、から構成されている。
【００１８】
ここで、対物レンズユニット１５は、対物レンズ１０と、対物レンズ１０から出射した光の一部を透過して試料１０５に導き、残りの光を反射するハーフミラー（若しくはハーフプリズム）１１と、対物レンズ１０の試料１０５側の焦点と共役な位置に配置され、ハーフミラー１１で反射した光を反射する参照ミラー１２とが一体に構成されている。なお、この対物レンズユニット１５は、ピエゾ素子１６により対物レンズ１０の光軸に沿って振動される。
【００１９】
このような構成の表面形状測定装置１００によると、光源１から放射された光は照明光学系２により対物レンズユニット１５に導かれ対物レンズ１０で集光される。この対物レンズ１０で集光された光はハーフミラー１１に入射し、一部の光は透過して試料１０５上に集光され、残りの光は反射して参照ミラー１２上に集光される。そして、試料１０５で反射した光（この光を「測定光」と呼ぶ）はハーフミラー１１に再度入射してその一部が透過し、また、参照ミラー１２で反射した光（この光を「参照光」と呼ぶ）もハーフミラー１１に再度入射してその一部が撮像素子１４側に反射するため、これらの測定光及び参照光が重畳されて対物レンズ１０に入射し、結像光学系３により撮像素子１４の撮像面上に試料１０５の像として結像される。
【００２０】
対物レンズユニット１５において、対物レンズ１０の焦点面と参照ミラー１２の反射面とは上述したように共役であるので、ハーフミラー１１で重畳された測定光と参照光とは干渉する。そのため、この対物レンズユニット１５をピエゾ素子１６で光軸方向に振動させると、対物レンズ１０の焦点面にある試料１０５から出射した測定光は強められ、それ以外から出射した測定光は弱められるため、撮像素子１４で得られる試料１０５の像は、対物レンズ１０の焦点面にある部分が明るくなり、それ以外の部分が暗くなる（干渉縞を形成する）。そのため、この像から試料１０５の高さ情報を算出してその形状を測定することができる。なお、本実施形態に係る表面形状測定装置１００の対物レンズユニット１５においては、測定光と参照光との干渉をマイケルソン型としているが、ミラウ型やリンニク型の構成とすることも可能である。
【００２１】
ここで、試料１０５が、図３（ａ）に示すように、プリント基板（物体）１０５ａの表面に透明膜（測定対象膜）１０５ｂが形成されている場合であって、この透明膜１０５ｂの表面１０５ｃ、及び、プリント基板１０５ａの表面、すなわち、プリント基板１０５ａと透明膜１０５ｂとの界面１０５ｄの形状を測定する場合について説明する。なお、説明を簡単にするために、界面１０５ｄは、直平面であって、対物レンズ１０の光軸と直交するように配置されているものとする。
【００２２】
表面形状測定装置１００の撮像素子１４から出力される試料１０５の画像を用いて算出される透明膜１０５ｂの表面１０５ｃの形状の測定値（以下、「表面形状データ」と呼ぶ）をＳ（ｉ，ｊ）とし、界面１０５ｄの形状の測定値（以下、「界面形状データ」と呼ぶ）をＫ′（ｉ，ｊ）とすると、測定で得られる界面形状データＫ′（ｉ，ｊ）は透明膜１０５ｂの屈折率ｎの影響を受けているため、真の界面形状データＫ（ｉ，ｊ）は次式（１）で求められる。なお、（ｉ，ｊ）は撮像素子１４の撮像面（若しくは、この撮像素子１４で撮像される試料１０５の像）の座標である。ここで、撮像素子１４の撮像面は、対物レンズ１０の光軸に直交するように配置されているものとする。また、図３（ｂ）に示すように、表面形状データＳ（ｉ，ｊ）、界面形状データＫ（ｉ，ｊ），Ｋ′（ｉ，ｊ）は、対物レンズ１０の光軸方向で、試料１０５に対して照射される光の進む方向を正として表すものとする。
【００２３】
【数２】
0005500354.tif 000003
【００２４】
この式（１）において、第２項の（Ｋ′（ｉ，ｊ）−Ｓ（ｉ，ｊ））は、試料１０５において、座標（ｉ，ｊ）に相当する場所の表面１０５ｃと界面１０５ｄとの光学距離を表している。この式（１）より、座標（ｉ，ｊ）における真の界面形状データＫ及び透明膜１０５ｂの厚さを計算するためには、透明膜１０５ｂの屈折率ｎの正確な値が必要となる。透明膜１０５ｂの屈折率ｎの正確な値を測定するためには、上述のように、例えば、エリプソメトリの原理に基づく専用の装置で計測する方法があるが、表面形状の測定箇所毎に、別の装置により屈折率を測定することは煩雑であり、測定作業の効率が低下する。そこで、表面形状測定装置１００により得られる表面形状データＳ（ｉ，ｊ）及び測定された界面形状データＫ′（ｉ，ｊ）からその箇所の透明膜１０５ｂの屈折率ｎを求める膜構造測定方法について図４に示すフローチャートに基づいて以下に説明する。なお、以降の説明では座標（ｉ，ｊ）は省略する。また、以下の処理は、本実施形態の場合、制御用プロセッサ１１０で実行される。
【００２５】
まず、制御用プロセッサ１１０は、ピエゾ素子１６を作動させて試料１０５の表面を光軸方向に走査（ピエゾ走査）して撮像素子１４により試料１０５の画像を取得する（ステップＳ２００）。そして、この画像から表面形状データＳを算出し（ステップＳ２１０）、さらに界面形状データＫ′を算出する（ステップＳ２２０）。
【００２６】
次に、測定で得られた表面形状データＳ及び界面形状データＫ′の各々を基準となる面により補正して補正された表面形状データＳC及び界面形状データＫC′を算出する（ステップＳ２３０）。具体的には、図５（ａ）に示すように、基準面として補正された結果の平均値がほぼ０となるような直平面Ｓ0，Ｋ0′を最小二乗法などで求め、図５（ｂ）に示すように、表面形状データＳ及び界面形状データＫ′と直平面Ｓ0，Ｋ0′との差分から、補正された表面形状データＳC及び界面形状データＫC′を求める。なお、図５（ｂ）は、直平面Ｏに対する補正された表面形状データＳC及び界面形状データＫC′との関係を示している。
【００２７】
ここで、補正された表面形状データＳCと同様の方法で補正された真の界面形状データＫCとの相関係数Ｃを求めると、次式（２）のように表される。なお、この式（２）において、バー付のＳC及びバー付のＫCはそれぞれ、補正された表面形状データＳC及び真の界面形状データＫCの平均値である。また、Σは、座標（ｉ，ｊ）で表されるデータの総和を示している。
【００２８】
【数３】
0005500354.tif 000004
【００２９】
この式（２）において、真の界面形状データＫを上述の式（１）で置き換えてＫ′で表すと相関係数Ｃは、次式（３）のように表される。なお、この式（３）において、補正された表面形状データＳC及び界面形状データＫC，ＫC′の平均値は、上述のように０である。
【００３０】
【数４】
0005500354.tif 000005
【００３１】
ここで、図６に示すように，透明膜１０５ｂの表面１０５ｃが、対物レンズ１０側に向かって凸であるとすると、透明膜の屈折率ｎと表面形状データＳ及び測定された界面形状データＫ′とから式（１）により算出される界面形状データは、屈折率ｎが真の値の場合に真の界面形状データＫと一致するが、屈折率ｎが真の値より大きい場合には表面１０５ｃ側に凸となり（図６におけるＫ＋）、反対に屈折率ｎが真の値より小さい場合には表面１０５ｃと反対側に凸となって算出される（図６におけるＫ−）。これにより、補正された表面形状ＳCと補正された真の界面形状ＫCとの相関係数Ｃの絶対値は、透明膜１０５ｂの屈折率ｎが真の値のときに最小となることが判る。したがって、式（３）で示される相関係数Ｃの二乗が最小になる屈折率ｎの値を求めれば、透明膜１０５ｂの真の屈折率を求めることができる。具体的には、次式（４）に示すように、相関係数Ｃの二乗を屈折率ｎで偏微分した値が０となるときである。
【００３２】
【数５】
0005500354.tif 000006
【００３３】
上述のように、屈折率ｎを真の値を挟んで変化させると相関係数Ｃは変化するため、この相関係数Ｃの屈折率ｎによる偏微分の値（∂Ｃ／∂ｎ）は０ではない。よって、式（４）において、相関係数Ｃが０になる屈折率ｎが真の値ということになる。すなわち、式（３）の相関係数Ｃを０として、次式（５）のように表される。
【００３４】
【数６】
0005500354.tif 000007
【００３５】
そして、この式（５）から屈折率ｎを求めると、次式（６）のように表される。
【００３６】
【数７】
0005500354.tif 000008
【００３７】
以上より、直平面補正された表面形状データＳC及び界面形状データＫC′を式（６）に代入することにより、撮像素子１４で撮像された領域の透明膜１０５ｂの屈折率ｎを求めることができる（ステップＳ２４０）。そして、このようにして求められた屈折率ｎから、透明膜１０５ｂの膜厚分布や、真の界面形状Ｋを算出し（ステップＳ２５０）、その結果が、例えば制御用プロセッサ１１０によりディスプレイ装置１１１に表示される（ステップＳ２６０）。
【００３８】
図３（ｂ）に示すように、表面形状データＳが対物レンズ１０側に凸形状を有すると、直平面の界面１０５ｄに対して測定される界面形状データＫ′は対物レンズ１０と反対側に凸になる。すなわち、表面形状データの補正値ＳCが負になるときは測定された界面形状データの補正値ＫC′は正になり、反対に、表面形状データの補正値ＳCが正になるときは測定された界面形状データの補正値ＫC′は負になるため、式（６）における第２項の分子は負になる。そのため、この式（６）の第２項全体も負となるので、式（６）から求められる屈折率ｎは１よりも大きくなる。すなわち、物質の屈折率は１より大きいため、この式（６）はこの特性に合致していると言える。
【００３９】
なお、以上の説明では白色干渉を用いて表面形状及び界面形状を測定する場合について説明したが、本発明がこの構成の表面形状測定装置に限定されることはなく、例えば、コンフォーカル顕微鏡等にも適用することができる。また、膜構造測定方法において、測定で得られた表面形状データＳ及び界面形状データＫ′を直平面で補正する場合について説明したが、４次曲面で補正することも可能である。
【符号の説明】
【００４０】
１０５ａ  プリント基板（物体）    １０５ｂ  透明膜（測定対象膜）
１０９  撮像装置    １１０  制御用プロセッサ
【図１】
0005500354.tif 000010
【図２】
0005500354.tif 000011
【図３】
0005500354.tif 000012
【図４】
0005500354.tif 000013
【図５】
0005500354.tif 000014
【図６】
0005500354.tif 000015