(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
型と被成型品とを保持する型・被成型品仮保持ユニットと、
前記被成型品の正確な位置に、前記型に形成されている微細な転写パターンを転写すべく、前記型と前記被成型品との相対的な位置の調整を行う位置調整装置と、
前記位置調整装置とは別個に設けられ、前記相対的な位置の調整がされた型で前記相対的な位置の調整がされた被成型品を押圧して前記型に形成されている微細な転写パターンを前記被成型品に転写する転写装置と、
前記転写装置とは別個に設けられ、前記転写装置を用いた転写がされた後にお互いにくっついている前記型と前記被成型品とを分離する離型装置とを有し、
前記位置調整装置では、前記型と前記被成型品とを保持した前記型・被成型品仮保持ユニットを用いて前記型と前記被成型品との相対的な位置を調整し、前記型と前記被成型品とを接触させるとともに、前記型・被成型品仮保持ユニットが形成する真空成型室内を減圧することによって前記型と前記被成型品との相対的な位置を維持し、
前記転写装置での転写、前記離型装置での前記被成型品からの前記型の分離、および、前記位置調整装置と前記転写装置との間における前記型と前記被成型品との搬送は、前記型・被成型品仮保持ユニットを用いる、
ことを特徴とする転写システム。
【請求項２】
請求項１に記載の転写システムにおいて、
前記位置調整装置と前記離型装置とが共用されている、
ことを特徴とする転写システム。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の転写システムにおいて、
前記転写装置による転写は、真空成型室内でなされるように構成されており、
前記位置調整装置で位置決めがされた型と前記位置調整装置で位置決めがされた被成型品とが、これらの相対的な位置が前記真空成型室で保持されて前記転写装置に供給されるように構成されている、
ことを特徴とする転写システム。
【請求項４】
型と被成型品とを保持する型・被成型品仮保持ユニットと、
前記型に形成されている微細な転写パターンを、前記型で前記被成型品を押圧して前記被成型品に転写する転写装置と、
前記転写装置とは別個に設けられ、前記転写装置を用いた転写後にお互いにくっついている前記型と前記被成型品とを分離する離型装置とを有し、
前記転写装置での転写は、前記型と前記被成型品とを保持した前記型・被成型品仮保持ユニットを用いて前記型と前記被成型品との相対的な位置を調整し、前記型と前記被成型品とを接触させるとともに、前記型・被成型品仮保持ユニットが形成する真空成型室内を減圧することによって前記型と前記被成型品との相対的な位置を維持した前記型・被成型品仮保持ユニットを用い、
前記離型装置での前記被成型品からの前記型の分離は、前記型と前記被成型品とを保持した前記型・被成型品仮保持ユニットを用いる、
ことを特徴とする転写システム。
【請求項５】
請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の転写システムを用いて、型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する、
ことを特徴とする転写方法。
【請求項６】
被成型品の正確な位置に、型に形成されている微細な転写パターンを転写すべく、前記型と前記被成型品との相対的な位置の調整を行う位置調整工程と、
前記位置調整工程とは別の場所で、前記位置調整工程により前記相対的な位置の調整がされた型で前記位置調整工程により前記相対的な位置の調整がされた被成型品を押圧して前記型に形成されている微細な転写パターンを前記被成型品に転写する転写工程と、
前記転写工程とは別の場所で、前記転写工程により転写がされた後にお互いにくっついている前記型と前記被成型品とを分離する離型工程とを有し、
前記位置調整工程では、前記型と前記被成型品とを保持した型・被成型品仮保持ユニットを用いて前記型と前記被成型品との相対的な位置を調整し、前記型と前記被成型品とを接触させるとともに、前記型・被成型品仮保持ユニットが形成する真空成型室内を減圧することによって前記型と前記被成型品との相対的な位置を維持し、
前記転写工程での転写、前記離型工程での前記被成型品からの前記型の分離、および、前記位置調整工程と前記転写工程との間における前記型と前記被成型品との搬送は、前記型・被成型品仮保持ユニットを用いる、
ことを特徴とする転写方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写システムおよび転写方法に係り、型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写するものに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子線描画法などで石英基板等に超微細な転写パターンを形成して型（モールド）を作製し、被成型品に前記型を所定の圧力で押圧して、当該型に形成された転写パターンを転写するナノインプリント技術が研究開発されている（たとえば、非特許文献１参照）。
【０００３】
ナノオーダーの微細なパターン（転写パターン）を低コストで成型する方法としてリソグラフィ技術を用いたインプリント法が考案されている。この成型法は大別して熱インプリント法とＵＶインプリント法とに分類される。
【０００４】
熱インプリント法では、型を基板に押圧し、熱可塑性ポリマからなる樹脂（熱可塑性樹脂）が十分に流動可能となる温度になるまで加熱して微細パターンに樹脂を流入させたのち、型と樹脂をガラス転移温度以下になるまで冷却し、基板に転写された微細パターンを固化したのち型を引き離す。
【０００５】
ＵＶインプリント法では、光を透過できる透明な型を使用し、ＵＶ硬化性液に型を押しつけてＵＶ放射光を加える。適当な時間放射光を加えて液を硬化させ微細パターンを転写したのち型を引き戻す。
【０００６】
ハードディスクやＣＤ、ＤＶＤなど回転式の記憶装置では、最近、高密度のデータをディスクに形成するための記憶媒体（記録媒体）を成型する手段として、こうしたナノインプリント技術を活用する方法への関心が高くなってきている。
【０００７】
図２８、図２９は、熱インプリント法で使用される従来の転写装置３００の概略構成を示す図である。
【０００８】
従来の転写装置３００は、位置決めユニット３０２と被成型品ベース設置体３０４と被成型品ベース３０６と型ベース押圧体３０８と型ベース３１０とベローズ３１２とを備えて構成されている。型ベース３１０には型Ｍが設置され被成型品ベース３０６には被成型品Ｗが設置されるようになっている。
【０００９】
また、従来の転写装置３００には、型Ｍに形成されているアイマークと被成型品Ｗに形成されているアイマークとを撮影するためのカメラ３１４が設けられている。カメラ３１４は、図２８に示す撮影位置（撮影可能位置；観察位置）から図２９に示す退避位置へ、また、退避位置から撮影位置へ移動できるようになっている。
【００１０】
そして、転写装置３００では、図２８に示すように、型Ｍや転写前の被成型品Ｗが設置されている状態で、制御装置３１６の制御の下、撮影位置に位置しているカメラ３１４で各アイマークを撮影し、この撮影結果に応じて位置決めユニット３０２を稼動し、被成型品Ｗに対する型Ｍの位置を正確なものにしている。
【００１１】
続いて、カメラ３１４を退避位置に退避させ、型Ｍや被成型品Ｗを加熱し、型ベース押圧体３０８を下降し、型Ｍで被成型品Ｗを所定の時間押圧し、この押圧後に型Ｍや被成型品Ｗを冷却し、型Ｍに形成されている微細な転写パターンを被成型品Ｗに転写している。
【００１２】
この後、型ベース押圧体３０８を上昇させて型Ｍを被成型品Ｗから離すと、図２９で示すように、被成型品Ｗへの微細な転写パターンの転写が終了する。
【００１３】
なお、従来の技術に関連する文献として、たとえば特許文献１を掲げることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】特開２００６−３１８９７３号公報
【非特許文献】
【００１５】
【非特許文献１】Precision Engineering Journal of the International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology 25(2001) 192-199
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
ところで、従来の転写装置３００では、被成型品への転写が効率良く行われないという問題がある。
【００１７】
すなわち、型や被成型品を加熱し型で被成型品を押圧した後、型や被成型品が冷えるまで、型と被成型品とをそのままにして待つ必要がある。この間、カメラを観察位置に移動して型や被成型品を撮影することできず、カメラを退避位置に待機させておく必要があり、転写の効率が低下している。
【００１８】
なお、上記問題は、ＵＶインプリント法でも同様に発生する問題である。
【００１９】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写システムおよび転写方法において、従来よりも効率良く転写をすることができるものを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
請求項１に記載の発明は、型と被成型品とを保持する型・被成型品仮保持ユニットと、前記被成型品の正確な位置に、前記型に形成されている微細な転写パターンを転写すべく、前記型と前記被成型品との相対的な位置の調整を行う位置調整装置と、前記位置調整装置とは別個に設けられ、前記相対的な位置の調整がされた型で前記相対的な位置の調整がされた被成型品を押圧して前記型に形成されている微細な転写パターンを前記被成型品に転写する転写装置と、前記転写装置とは別個に設けられ、前記転写装置を用いた転写がされた後にお互いにくっついている前記型と前記被成型品とを分離する離型装置とを有し、前記位置調整装置では、前記型と前記被成型品とを保持した前記型・被成型品仮保持ユニットを用いて前記型と前記被成型品との相対的な位置を調整し、前記型と前記被成型品とを接触させるとともに、前記型・被成型品仮保持ユニットが形成する真空成型室内を減圧することによって前記型と前記被成型品との相対的な位置を維持し、前記転写装置での転写、前記離型装置での前記被成型品からの前記型の分離、および、前記位置調整装置と前記転写装置との間における前記型と前記被成型品との搬送は、前記型・被成型品仮保持ユニットを用いる転写システムである。
【００２１】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の転写システムにおいて、前記位置調整装置と前記離型装置とが共用されている転写システムである。
【００２２】
請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の転写システムにおいて、前記転写装置による転写は、真空成型室内でなされるように構成されており、前記位置調整装置で位置決めがされた型と前記位置調整装置で位置決めがされた被成型品とが、これらの相対的な位置が前記真空成型室で保持されて前記転写装置に供給されるように構成されている転写システムである。
【００２３】
請求項４に記載の発明は、型と被成型品とを保持する型・被成型品仮保持ユニットと、前記型に形成されている微細な転写パターンを、前記型で前記被成型品を押圧して前記被成型品に転写する転写装置と、前記転写装置とは別個に設けられ、前記転写装置を用いた転写後にお互いにくっついている前記型と前記被成型品とを分離する離型装置とを有し、前記転写装置での転写は、前記型と前記被成型品とを保持した前記型・被成型品仮保持ユニットを用いて前記型と前記被成型品との相対的な位置を調整し、前記型と前記被成型品とを接触させるとともに、前記型・被成型品仮保持ユニットが形成する真空成型室内を減圧することによって前記型と前記被成型品との相対的な位置を維持した前記型・被成型品仮保持ユニットを用い、前記離型装置での前記被成型品からの前記型の分離は、前記型と前記被成型品とを保持した前記型・被成型品仮保持ユニットを用いる転写システムである。
【００２４】
請求項５に記載の発明は、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の転写システムを用いて、型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写方法である。
【００２５】
請求項６に記載の発明は、被成型品の正確な位置に、型に形成されている微細な転写パターンを転写すべく、前記型と前記被成型品との相対的な位置の調整を行う位置調整工程と、前記位置調整工程とは別の場所で、前記位置調整工程により前記相対的な位置の調整がされた型で前記位置調整工程により前記相対的な位置の調整がされた被成型品を押圧して前記型に形成されている微細な転写パターンを前記被成型品に転写する転写工程と、前記転写工程とは別の場所で、前記転写工程により転写がされた後にお互いにくっついている前記型と前記被成型品とを分離する離型工程とを有し、前記位置調整工程では、前記型と前記被成型品とを保持した型・被成型品仮保持ユニットを用いて前記型と前記被成型品との相対的な位置を調整し、前記型と前記被成型品とを接触させるとともに、前記型・被成型品仮保持ユニットが形成する真空成型室内を減圧することによって前記型と前記被成型品との相対的な位置を維持し、前記転写工程での転写、前記離型工程での前記被成型品からの前記型の分離、および、前記位置調整工程と前記転写工程との間における前記型と前記被成型品との搬送は、前記型・被成型品仮保持ユニットを用いる転写方法である。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写システムおよび転写方法において、従来よりも効率良く転写をすることができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る転写システムの概略構成を示す平面図である。
【図２】位置調整装置や仮保持ユニットの概略構成を示す図である。
【図３】位置調整装置や仮保持ユニットの概略構成を示す図である。
【図４】位置調整装置や仮保持ユニットの概略構成を示す図である。
【図５】位置調整装置や仮保持ユニットの概略構成を示す図である。
【図６】熱インプリント法で転写をする転写装置の概略構成を示す図である。
【図７】熱インプリント法で転写をする転写装置の概略構成を示す図である。
【図８】熱インプリント法で転写をする転写装置の概略構成を示す図である。
【図９】離型装置の概略構成を示す図である。
【図１０】離型装置の概略構成を示す図である。
【図１１】離型装置の概略構成を示す図である。
【図１２】離型装置の概略構成を示す図である。
【図１３】本発明の第２の実施形態に係る転写システムの概略構成を示す平面図である。
【図１４】離型装置と仮保持ユニットの変形例を示す図である。
【図１５】離型装置と仮保持ユニットの変形例を示す図である。
【図１６】離型装置と仮保持ユニットの変形例と引き剥がし装置とを示す図である。
【図１７】ＵＶインプリント法で使用される仮保持ユニット等を、位置調整装置で使用する場合を示す図である。
【図１８】ＵＶインプリント法で使用される仮保持ユニット等を、位置調整装置で使用する場合を示す図である。
【図１９】ＵＶインプリント法で使用される仮保持ユニット等を、位置調整装置で使用する場合を示す図である。
【図２０】ＵＶインプリント法で使用される仮保持ユニット等を、位置調整装置で使用する場合を示す図である。
【図２１】ＵＶインプリント法で使用される仮保持ユニット等を、転写装置で使用する場合を示す図である。
【図２２】ＵＶインプリント法で使用される仮保持ユニット等を、転写装置で使用する場合を示す図である。
【図２３】ＵＶインプリント法で使用される仮保持ユニット等を、転写装置で使用する場合を示す図である。
【図２４】ＵＶインプリント法で使用される仮保持ユニット等を、離型装置で使用する場合を示す図である。
【図２５】ＵＶインプリント法で使用される仮保持ユニット等を、離型装置で使用する場合を示す図である。
【図２６】ベローズの代わりに維持装置を用いて、型と被成型品との位置関係を維持する仮保持ユニットの構成を示す図である。
【図２７】本発明の第３の実施形態に係る転写システムの概略構成を示す平面図である。
【図２８】熱インプリント法で使用される従来の転写装置の概略構成を示す図である。
【図２９】熱インプリント法で使用される従来の転写装置の概略構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
［第１の実施形態］
図１は、本発明の第１の実施形態に係る転写システム１の概略構成を示す平面図である。
【００２９】
転写システム（ナノインプリントシステム）１は、型（モールド）Ｍに形成されている微細な転写パターン（微細な凹凸で形成された転写パターン）を被成型品（被転写素材）Ｗに転写するためのシステムであり、たとえば、転写前被成型品ストッカ３と位置調整装置５と転写装置７と離型装置９と転写後被成型品ストッカ１１とを備えて構成されている。なお、本明細書では、説明の便宜のために、水平な一方向をＸ軸方向とし、水平な他の一方向であってＸ軸方向に直交する方向をＹ軸方向とし、鉛直方向（上下方向）をＺ軸方向という場合がある。
【００３０】
転写前被成型品ストッカ３は、微細な転写パターンが転写される前の被成型品Ｗを複数枚格納することができるストッカである。
【００３１】
位置調整装置（位置調整ステーション）５は、型Ｍに形成されている微細な転写パターンを被成型品Ｗに転写する前に、型Ｍと被成型品Ｗとの相対的な位置の調整（型Ｍに対する被成型品Ｗの位置決め）を行う装置である。この位置の調整は、被成型品Ｗの正確な位置に、型Ｍに形成されている微細な転写パターンを転写するためにするものである。
【００３２】
転写装置（転写ステーション）７は、位置調整装置５とは別個に設けられており、位置調整装置５で相対的な位置の調整がされた型Ｍで被成型品（位置調整装置５で相対的な位置の調整がされた被成型品）Ｗを押圧して、型Ｍに形成されている微細な転写パターンを被成型品Ｗに転写する装置である。
【００３３】
型Ｍや被成型品Ｗは、たとえば、矩形状もしくは円形状等で平板状に形成されている。微細な転写パターンは、型Ｍの厚さ方向の一方の面に形成されている。また、微細な転写パターンが転写されて、型Ｍの微細な凹凸とは反転した微細な凹凸が、被成型品Ｗの厚さ方向の一方の面に形成されるようになっている。
【００３４】
離型装置（離型ステーション）９は、位置調整装置５や転写装置７とは別個に設けられており、転写装置７を用いて転写がされた後にお互いにくっついている型Ｍと被成型品Ｗとを分離する（被成型品Ｗから型Ｍを離す）装置である。
【００３５】
転写後被成型品ストッカ１１は、微細な転写パターンが転写された被成型品Ｗを複数枚格納することができるストッカである。
【００３６】
位置調整装置５での型Ｍと被成型品Ｗとの位置合わせ、転写装置７での転写、離型装置９での被成型品Ｗからの型Ｍの分離、位置調整装置５と転写装置７との間における型Ｍと被成型品Ｗとの搬送、および、転写装置７と離型装置９との間における型Ｍと被成型品Ｗとの搬送は、詳しくは後述する型・被成型品仮保持ユニット（以下、「仮保持ユニット」という。）１３（図２等を参照）を用いてなされるようになっている。
【００３７】
転写前被成型品ストッカ３と位置調整装置５との間には、ロボット等で構成された搬送装置（図示せず）が設けられており、図１に矢印Ａ１１で示すように、転写前被成型品ストッカ３から位置調整装置５へ、被成型品Ｗをたとえば枚葉で搬送（供給）することができるようになっている。
【００３８】
転写装置７は、１台の位置調整装置５と１台の離型装置９とに対してたとえば複数台設けられており、位置調整装置５および離型装置９と、各転写装置７との間には、レール１５上にロボット（図１に矢印Ａ１２で示す方向に移動位置決め自在なロボット）１７を配置した搬送装置１９が設けられている。
【００３９】
そして、仮保持ユニット１３を用いて位置調整装置５で位置決めされた型Ｍと被成型品Ｗとが、仮保持ユニット１３と共に、搬送装置１９によって、各転写装置７のうちのいずれかの転写装置７に搬送（供給）されるようになっている。
【００４０】
また、各転写装置７のうちのいずれかの転写装置７で転写がされた被成型品Ｗとこの転写に使用された型（被成型品Ｗに張り付いている型）Ｍとが、仮保持ユニット１３と共に、搬送装置１９によって、転写装置７から離型装置９に搬送（搬出）されるようになっている。
【００４１】
離型装置９と位置調整装置５との間には、ロボット等で構成された搬送装置（図示せず）が設けられており、図１に矢印Ａ１３で示すように、離型装置９から位置調整装置５へ、型Ｍとこの型Ｍを保持しているが被成型品Ｗが取り外された仮保持ユニット１３とを搬送（供給）することができるようになっている。この供給された仮保持ユニット１３等は、再び型Ｍと被成型品Ｗとの位置決め等に使用される。
【００４２】
離型装置９と転写後被成型品ストッカ１１との間には、ロボット等で構成された搬送装置（図示せず）が設けられており、図１に矢印Ａ１４で示すように、離型装置９から転写後被成型品ストッカ１１へ、転写がされた被成型品Ｗをたとえば枚葉で搬送（搬出）することができるようになっている。
【００４３】
ここで、仮保持ユニット１３について詳しく説明する（たとえば、図２〜図５参照）。
【００４４】
仮保持ユニット１３は、平板状の型ベース２１と平板状の被成型品ベース（素材ベース）２３とを備えて構成されている。型ベース２１には、型Ｍが型取付具２５を用いて一体的に設置されている。型Ｍが型ベース２１に設置されている状態では、型ベース２１のほぼ中央に型Ｍが位置していると共に、平板状の型Ｍの厚さ方向の他方の面（上面；微細な転写パターンが形成されている面とは反対側の面）が、型ベース２１の平面状の下面に面接触している。
【００４５】
被成型品ベース２３には、被成型品Ｗが載置されて設置されるようになっている。また、被成型品Ｗを被成型品ベース２３に設置したときに、たとえば、型取付具２５と同様に構成された被成型品取付具（図示せず）によって、被成型品ベース２３で被成型品Ｗを一体的に保持するようになっている。
【００４６】
なお、転写をすべく型Ｍで被成型品Ｗを押圧したときに、型取付具２５と被成型品取付具とは、お互いが干渉しない位置に設けられているものとする。たとえば、Ｚ軸方向から見たときに、型Ｍよりも被成型品Ｗのほうが大きく形成されており、被成型品Ｗの内側に型Ｍが位置しており、被成型品取付具が被成型品Ｗの周辺（縁の近傍）を把持している。そして、型取付具２５と被成型品取付具とはお互いが干渉しないようになっている。なお、型取付具２５や被成型品取付具に代えてもしく加えて、真空吸着により、型Ｍや被成型品Ｗを保持する構成であってもよい。
【００４７】
被成型品Ｗが被成型品ベース２３に設置されている状態では、被成型品ベース２３のほぼ中央に被成型品Ｗが位置していると共に、平板状の被成型品Ｗの厚さ方向の他方の面（下面；微細な転写パターンが転写される面とは反対側の面）が、被成型品ベース２３の平面状の上面に面接触している。
【００４８】
型ベース２１には、ベローズ２７等の筒状の弾性体もしくは軸方向に伸縮自在な筒状の部材が一体的に設けられており、型ベース２１とベローズ２７と被成型品ベース２３とで、転写の際に型Ｍと被成型品Ｗとが内部に入る真空成型室２９（図３等参照）が形成されるようになっている。
【００４９】
詳しく説明すると、円筒状のベローズ２７の軸方向の一端部（上端部）には、リング状の上側ベローズ支持体３１が一体的に設けられている。また、円筒状のベローズ２７の軸方向の他端部（下端部）には、リング状の下側ベローズ支持体３３が一体的に設けられている。
【００５０】
そして、型取付具２５やこの型取付具２５を用いて型ベース２１に一体的に設置されている型Ｍがベローズ２７の内側に入るように、上側ベローズ支持体３１が型ベース２１の下面の外周部近傍に一体的に設けられている。なお、上側ベローズ支持体３１と型ベース２１との間の気密性を確保するために、上側ベローズ支持体３１には、Ｏリング３５等のシール部材が設けられている。下側ベローズ支持体３３の下端にも、Ｏリング３７等のシール部材が設けられている。
【００５１】
図２で示すように、型ベース２１に設置された型Ｍが、被成型品ベース２３に設置された被成型品Ｗから大きく離れているときには（型ベース２１に設置された型Ｍの下面が被成型品ベース２３に設置された被成型品Ｗの上面から距離Ｈ１だけ離れているときには）、下側ベローズ支持体３３に設けられているＯリング３７が、被成型品ベース２３から距離Ｈ２だけ離れており、真空成型室２９は形成されない。なお、距離Ｈ２の値は、距離Ｈ１の値よりも大きい。
【００５２】
図２に示す状態から、型Ｍを保持している型ベース２１を下降して、図３で示すように、下側ベローズ支持体３３に設けられているＯリング３７を被成型品ベース２３の上面に接触させることにより、型Ｍと被成型品Ｗとが内部に入る真空成型室（転写の際に被成型品Ｗの微細な凹凸に気泡が入り込むことを防止するための真空成型室）２９が形成されるようになっている。なお、図３に示す状態では、型ベース２１に設置された型Ｍの下面が被成型品ベース２３に設置された被成型品Ｗの上面から距離Ｈ３（距離Ｈ２−距離Ｈ１）だけ離れている。
【００５３】
図３に示す状態から、型Ｍを保持している型ベース２１をさらに下降すると、ベローズ２７が圧縮されて軸方向（上下方向）の長さが短くなるように弾性変形し、図４で示すように、型ベース２１に設置された型Ｍが被成型品ベース２３に設置された被成型品Ｗに接触するようになっている。
【００５４】
なお、ベローズ２７が、型ベース２１ではなくて、被成型品ベース２３に一体的に設けられている構成であってもよいし、ベローズ２７が、軸方向（上下方向）の中間部で２つに分割されており、上側のベローズが型ベース２１に一体的に設けられており、下側のベローズが被成型品ベース２３に一体的に設けられている構成であってもよい。
【００５５】
被成型品ベース２３には、真空成型室２９内をほぼ真空になるまで減圧するための空気経路３９が設けられている。空気経路３９の一方の端部は、真空成型室２９内につながるようになっている。空気経路３９の他方の端部には、たとえば、パイロットチェック弁４１が設けられており、このパイロットチェック弁４１からは、主経路４３とパイロット圧供給路４５とが延出している。主経路４３の先端部には、開閉バルブ（たとえば、ワンタッチ継ぎ手）４７が設けられており、パイロット圧供給路４５の先端部にも、開閉バルブ（たとえば、ワンタッチ継ぎ手）４９が設けられている。
【００５６】
なお、図２、図３等では、空気経路３９の一部とパイロットチェック弁４１と主経路４３とパイロット圧供給路４５と各開閉バルブ４７，４９とが、被成型品ベース２３とは別個に設けられているように図示しているが、実際には、上述した空気経路３９の一部等は、被成型品ベース２３に一体的に設けられている。
【００５７】
そして、図３に示す状態で、主経路４３の開閉バルブ４７に真空ポンプ５１を接続し、真空成型室２９内の空気圧を減圧し、型Ｍが設けられている型ベース２１を下降し、図４で示すように、ほぼ真空の雰囲気内で被成型品Ｗに型Ｍを接触させることができるようになっている。この後、開閉バルブ４７から真空ポンプ５１を外しても、真空成型室２９のほぼ真空の雰囲気を維持することができるようになっている。
【００５８】
次に、位置調整装置（アライメント装置）５について詳しく説明する。
【００５９】
位置調整装置５は、ベース体５３と位置決めユニット５５と被成型品ベース設置体（素材ベース設置体）５７と型ベース押圧体（型ベース設置体）５９とを備えて構成されている（図２等参照）。
【００６０】
位置決めユニット５５は、ベース体５３の下方に設けられており、位置決めユニット５５のベース部がベース体５３に一体的に設けられている。位置決めユニット５５の可動部の上面（Ｚ軸方向に対して直交している平面）には、詳しくは後述する被成型品ベース着脱装置６２を用いて、平板状の被成型品ベース設置体５７が一体的に設けられるようになっている。位置決めユニット５５の可動部に被成型品ベース設置体５７が設置されている状態では、被成型品ベース設置体５７の平面状の上面が、Ｚ軸方向に対して直交している。
【００６１】
位置決めユニット５５は、たとえば、ＸＹステージとθステージとで構成されており、位置決めユニット５５の可動部に設けられている被成型品ベース設置体５７が、制御装置６１の制御の下、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向で移動位置決めされるようになっていると共に、θ軸（位置決めユニット５５の中心を通ってＺ軸方向に延びている軸）まわりで回動位置決めされるようになっている。
【００６２】
型ベース押圧体５９は、ベース体５３や被成型品ベース設置体５７の上方で、被成型品ベース設置体５７から離れてベース体５３に設けられている。また、型ベース押圧体５９は、図示しないリニアガイドベアリングを介してベース体５３に設けられており、ベース体５３に対して上下方向（Ｚ軸方向）で移動自在になっている。さらに、図示しないサーボモータ等のアクチュエータやボールねじを用いて、制御装置６１の制御の下、型ベース押圧体５９が移動位置決めされるようになっている。
【００６３】
なお、型ベース押圧体５９を移動することに代えてもしくは加えて被成型品ベース設置体５７を上下方向でベース体５３に対して移動位置決め自在な構成にしてもよい。すなわち、被成型品ベース設置体５７と型ベース押圧体５９とが、お互いが接近・離反する方向で相対的に移動位置決め自在になっていればよい。
【００６４】
また、被成型品ベース設置体５７をＸ軸方向、Ｙ軸方向およびθ軸まわりに移動（回動）位置決め自在に設けることに代えてもしく加えて、型ベース（詳しくは後述する型ベース着脱装置６３を用いて型ベース押圧体５９に一体的に設けられている型ベース）２１を、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびθ軸まわりに移動（回動）位置決め自在に設けてあってもよい。すなわち、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびθ軸まわりで、被成型品ベース設置体５７に対して型ベース２１が相対的に移動（回動）位置決め自在になっている構成になっていればよい。
【００６５】
型ベース押圧体５９の下面は、Ｚ軸方向に対して直交した平面状に形成されている。被成型品ベース設置体５７の上面も、前述したように、Ｚ軸方向に対して直交した平面状に形成されている。そして、型ベース押圧体５９の下面と、被成型品ベース設置体５７の上面とは、お互いが所定の距離だけ離れ平行になって対向している。
【００６６】
型ベース押圧体５９には、型ベース着脱装置６３が設けられている。型ベース着脱装置６３は、たとえば、「Ｌ」字状に形成された保持部材６５を備えて構成されている。保持部材６５は、型ベース押圧体５９の下面の周辺部に複数設けられている。また、保持部材６５は、Ｚ軸方向に延出している柱状の基端部側部位と、この基端部側部位の先端部で水平方向に突出している先端部側部位とを備えて「Ｌ」字状に形成されている。
【００６７】
そして、制御装置６１の制御の下、図示しない空気圧シリンダ等のアクチュエータで、基端部側部位の中心を通ってＺ軸方向に延びている軸Ｚ１を回動中心にして回動位置決め自在になっていると共に、Ｚ軸方向で移動位置決め自在になっている。すなわち、図２で示す保持位置Ｐ１と開放位置Ｐ２との間を移動するようになっている。
【００６８】
保持位置Ｐ１は、保持部材６５が型ベース２１を保持している位置であり、この保持により、型ベース（型ベース２１に保持されている型Ｍ、ベローズ２７）２１が、型ベース押圧体５９の所定の位置に一体的に設置されている。開放位置は、保持部材６５が型ベース２１を開放するときの位置である。
【００６９】
被成型品ベース設置体５７にも、型ベース着脱装置６３と同様であって前述した被成型品ベース着脱装置６２が設けられているが、被成型品ベース設置体５７の被成型品ベース着脱装置６２を削除し、被成型品ベース２３を被成型品ベース設置体５７に載置するだけで設置する構成であってもよい。
【００７０】
型ベース着脱装置６３を用いて仮保持ユニット１３を型ベース押圧体５９に設置した状態では、仮保持ユニット１３の型ベース２１の上面が型ベース押圧体５９の下面に面接触して、型ベース２１（ベローズ２７、型Ｍ）が型ベース押圧体５９に一体的に設置されるようになっている。また、被成型品ベース着脱装置６２を用いて仮保持ユニット１３を設置した状態では、仮保持ユニット１３の被成型品ベース２３の下面が被成型品ベース設置体５７の上面に面接触して、被成型品ベース２３（被成型品Ｗ）が被成型品ベース設置体５７に一体的に設置されるようになっている。
【００７１】
また、位置調整装置５には、撮像装置（カメラ）６７が設けられている。カメラ６７は、カメラ移動装置６９によって、型Ｍや被成型品Ｗを撮影可能な位置（観察位置）から型Ｍの微細な転写パターンを被成型品Ｗに転写するときに型Ｍや被成型品Ｗや仮保持ユニット１３と干渉しない退避位置へ移動し、また、退避位置から観察位置へ移動できるようになっている。
【００７２】
さらに説明すると、図２で示すように、型Ｍと被成型品Ｗとが所定の距離Ｈ１だけ離れており、また、ベローズ２７のＯリング３７が被成型品ベース２３から所定の距離Ｈ２だけ離れているときに、カメラ６７が、型Ｍと被成型品Ｗとの間に型Ｍや被成型品Ｗから離れた状態で入り込み、撮影可能位置（観察位置）に位置することができるようになっている。
【００７３】
なお、図２で示す状態では、型ベース押圧体５９がたとえば上昇端に位置しており、仮保持ユニット１３に型Ｍと被成型品Ｗとが設置されており、仮保持ユニット１３の型ベース２１が型ベース着脱装置６３で型ベース押圧体５９に一体的に設けられており、仮保持ユニット１３の被成型品ベース２３が被成型品ベース着脱装置６２で被成型品ベース設置体５７に一体的に設けられている。
【００７４】
撮影可能位置に位置しているカメラ６７によって、型Ｍに形成されているアイマークと被成型品Ｗに形成されているアイマークとをほぼ同時に撮影することができるようになっている。そして、カメラ６７の撮影結果（各アイマークの位置）を用いて、制御装置６１の制御の下、位置決めユニット５５を駆動し、型Ｍに対する被成型品Ｗの位置決め（Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、θ軸まわりの位置決め）をすることができるようになっている。
【００７５】
また、型Ｍに対する被成型品Ｗの位置決めをした後、カメラ６７を退避位置に位置させ、ベローズ２７のＯリング３７と被成型品ベース２３とがお互いに接触するまで型ベース押圧体５９を下降すると、図３で示すように、真空成型室２９が形成されるようになっている。
【００７６】
真空成型室２９を減圧して、図４で示すように、型Ｍが被成型品Ｗに接触するまで、型ベース押圧体５９をさらに下降し、真空ポンプ５１を開閉バルブ４７から取り外すことにより、型Ｍと被成型品Ｗとが大気圧によって仮保持ユニット１３で保持され、型Ｍと被成型品Ｗと仮保持ユニット１３との相対的な位置が維持されるようになっている。
【００７７】
図４に示した状態から、各着脱装置６２，６３を開放すると、図５で示すように、型Ｍと被成型品Ｗとを保持している仮保持ユニット１３を、真空成型室２９を維持（真空成型室２９をほぼ真空の状態で維持）し、型Ｍと被成型品Ｗと仮保持ユニット１３との相対的な位置を維持したまま、位置調整装置５から搬出することができるようになっている。
【００７８】
熱インプリント法で転写をする転写装置（図６参照）７は、ベース体７１と被成型品ベース設置体（素材ベース設置体；被成型品側加熱冷却プレート）７３と型ベース押圧体（型側加熱冷却プレート）７５とを備えて構成されている。被成型品ベース設置体７３は、ベース体７１の下方でベース体７１に一体的に設けられている。型ベース押圧体７５は、ベース体７１や被成型品ベース設置体７３の上方で、被成型品ベース設置体７３から離れてベース体７１に設けられている。また、型ベース押圧体７５は、図示しないリニアガイドベアリングを介してベース体７１に設けられており、ベース体７１に対して上下方向（Ｚ軸方向）で移動自在になっている。さらに、図示しないサーボモータ等のアクチュエータやボールねじを用いて、制御装置７７の制御の下、型ベース押圧体７５が移動位置決めされるようになっている。
【００７９】
なお、型ベース押圧体７５を移動することに代えてもしくは加えて被成型品ベース設置体７３を上下方向でベース体７１に対して移動位置決め自在な構成にしてもよい。すなわち、被成型品ベース設置体７３と型ベース押圧体７５とが、お互いが接近・離反する方向で相対的に移動位置決め自在になっていればよい。
【００８０】
型ベース押圧体７５の下面は、Ｚ軸方向に対して直交した平面状に形成されている。被成型品ベース設置体７３の上面も、Ｚ軸方向に対して直交した平面状に形成されている。そして、型ベース押圧体７５の下面と、被成型品ベース設置体７３の上面とは、お互いが所定の距離だけ離れ平行になって対向している。
【００８１】
被成型品ベース設置体７３には、熱可塑性樹脂で構成されている被成型品Ｗを加熱するための加熱手段７９と被成型品Ｗを冷却するための冷却手段８１とが設けられている。
【００８２】
たとえば、被成型品ベース設置体７３には、温度媒体（たとえば油や水）を流すための媒体用貫通孔が設けられており、この媒体用貫通孔内に、被成型品ベース設置体７３の外部に設置されている媒体加熱装置（図示せず）で加熱された熱媒体（温媒体）を流すことにより、被成型品ベース設置体７３を加熱して被成型品ベース設置体７３（仮保持ユニット１３の被成型品ベース２３、被成型品Ｗ）の温度を上げることができるようになっている。
【００８３】
また、たとえば、媒体用貫通孔内に、被成型品ベース設置体７３の外部に設置されている媒体冷却装置（図示せず）で冷却された熱媒体（冷媒）を温媒体に代えて流すことにより、被成型品ベース設置体７３を冷却して被成型品ベース設置体（仮保持ユニット１３の被成型品ベース２３、被成型品Ｗ）の温度をたとえば常温まで下げることができるようになっている。
【００８４】
型ベース押圧体７５にも、被成型品ベース設置体７３の場合と同様な加熱手段８３と冷却手段８５とが設けられている。
【００８５】
なお、型ベース押圧体７５に設けられている加熱手段８３と冷却手段８５、被成型品ベース設置体７３に設けられている加熱手段７９と冷却手段８１の少なくともいずれかを削除した構成であってもよい。すなわち、型ベース押圧体７５、被成型品ベース設置体７３の少なくとも一方に加熱手段と冷却手段とを設けた構成であってもよい。
【００８６】
さらに、冷却手段を削除した構成であってもよいし、型ベース押圧体７５に加熱手段を設け被成型品ベース設置体７３に冷却手段を設けた構成であってもよいし、または、被成型品ベース設置体７３に加熱手段を設け型ベース押圧体７５に冷却手段を設けた構成であってもよい。
【００８７】
転写装置７には、位置調整装置５から搬出された仮保持ユニット１３が設置されるようになっている。この仮保持ユニット１３では、図５で示すように、ほぼ真空状態の真空成型室２９が形成され、型Ｍと被成型品Ｗとがお互いに接触して型Ｍと被成型品Ｗとの相対的な位置が維持されている。
【００８８】
詳しく説明すると、図６に示すように、型ベース押圧体７５がたとえば上昇端に位置している状態で、仮保持ユニット１３の被成型品ベース２３の平面状の下面が被成型品ベース設置体７３の平面状の上面に面接触するようにして、仮保持ユニット１３が被成型品ベース設置体７３に載置されるようになっている。この載置がされている状態では、仮保持ユニット１３の型ベース２１と型ベース押圧体７５との間は、所定の間隔があいている。なお、ほぼ真空状態の真空成型室２９は、離型装置９で被成型品Ｗから型Ｍを分離する直前まで維持されるようになっている。
【００８９】
図６で示したように、転写装置７に仮保持ユニット１３が載置されている状態で、制御装置７７の制御の下、加熱手段７９，８３で型Ｍと被成型品Ｗとを被成型品Ｗが軟化し転写に適した程度の硬さになるまで加熱するようになっている。被成型品Ｗが適度に軟化した後、図７で示すように、型ベース押圧体７５を図７に二点鎖線で示す位置まで下降して仮保持ユニット１３（型Ｍと被成型品Ｗ）を被成型品ベース設置体７３と型ベース押圧体７５とで挟み込み、型Ｍで被成型品Ｗを押圧するようになっている。なお、加熱手段７９，８３による加熱を、型ベース押圧体７５が図７に二点鎖線で示す位置まで下降したときに開始するように構成されていてもよい。
【００９０】
被成型品ベース設置体７３と型ベース押圧体７５とで仮保持ユニット１３の挟み込みをしている状態では、仮保持ユニット１３の型ベース２１の上面が型ベース押圧体７５の下面に面接触しており、仮保持ユニット１３の被成型品ベース２３の下面が被成型品ベース設置体７３の上面に面接触しており、押圧のための被成型品Ｗの軟化の度合いが維持されるように、加熱手段７９，８３による加熱がなされるようになっている。
【００９１】
上記押圧開始から所定の時間が経過して、軟化した被成型品Ｗに型Ｍの微細な転写パターンが転写された後（被成型品Ｗに型Ｍの逆パターンが形成された後）、冷却手段８１，８５で、仮保持ユニット１３（型Ｍ、被成型品Ｗ）が常温になるまで仮保持ユニット１３を冷却して被成型品Ｗを固化させるようになっている。また、この固化後に、図７に実線で示す位置まで、型ベース押圧体７５を上昇させ、仮保持ユニット１３から型ベース押圧体７５を離すようになっている。そして、図８で示すように、転写装置７から仮保持ユニット１３を搬出することができるようになっている。
【００９２】
なお、図８で示す仮保持ユニット１３には、型Ｍと被成型品Ｗとが設置されており、型Ｍが被成型品Ｗに張り付いており、さらに、真空成型室２９の真空が維持されている。
【００９３】
次に、離型装置９について詳しく説明する。
【００９４】
離型装置９は、ベース体８７と被成型品ベース設置体（素材ベース設置体）８９と型ベース移動体（型ベース設置体）９１とを備えて構成されている（図９等参照）。
【００９５】
被成型品ベース設置体８９は、ベース体８７の下方でベース体８７に一体的に設けられている。型ベース移動体９１は、ベース体８７の上方や被成型品ベース設置体８９の上方で、被成型品ベース設置体８９から離れてベース体８７に設けられている。また、型ベース移動体９１は、図示しないリニアガイドベアリングを介してベース体８７に設けられており、ベース体８７に対して上下方向（Ｚ軸方向）で移動自在になっている。さらに、図示しないサーボモータ等のアクチュエータやボールねじを用いて、制御装置９３の制御の下、型ベース移動体９１が移動位置決めされるようになっている。
【００９６】
なお、型ベース移動体９１を移動することに代えてもしくは加えて被成型品ベース設置体８９を上下方向でベース体８７に対して移動位置決め自在な構成にしてもよい。すなわち、被成型品ベース設置体８９と型ベース移動体９１とが、お互いが接近・離反する方向で相対的に移動位置決め自在になっていればよい。
【００９７】
型ベース移動体９１の下面は、Ｚ軸方向に対して直交した平面状に形成されている。被成型品ベース設置体８９の上面も、Ｚ軸方向に対して直交した平面状に形成されている。そして、型ベース移動体９１の下面と、被成型品ベース設置体８９の上面とは、お互いが所定の距離だけ離れ平行になって対向している。
【００９８】
型ベース移動体９１には、位置調整装置５の場合と同様な型ベース着脱装置９５が設けられており、被成型品ベース設置体８９にも、位置調整装置５の場合と同様な被成型品着脱装置９７が設けられている。
【００９９】
そして、図９で示すように、型ベース移動体９１がたとえば上昇端に位置している状態で、図８で示す仮保持ユニット（型Ｍが被成型品Ｗに張り付いており、真空成型室２９が形成されており、ほぼ常温まで冷却された仮保持ユニット）１３を、離型装置９に載置するようになっている。この後、制御装置９３の制御の下、被成型品着脱装置９７を用いて、仮保持ユニット１３の被成型品ベース２３が離型装置９の被成型品ベース設置体８９に一体的に保持されるようになっている。仮保持ユニット１３を、被成型品ベース設置体８９に載置した状態では、仮保持ユニット１３の被成型品ベース２３の下面が被成型品ベース設置体８９の上面に面接触している。
【０１００】
図９で示す状態から、型ベース移動体９１が仮保持ユニット１３の型ベース２１に接触するまで型ベース移動体９１を下降すると、図１０で示すように、型ベース着脱装置９５が仮保持ユニット１３の型ベース２１を保持するようになっている。ここで、パイロット圧供給路４５に圧縮空気を供給すると、パイロットチェック弁４１が開き、主経路４３と空気通路３９とを通って、空気が真空成型室２９内に入り込み、真空成型室２９内の圧力を大気圧にすることができるようになっている。
【０１０１】
真空成型室２９内を大気圧にした後、型ベース移動体９１を上昇すると、図１１に示すように、ベローズ２７の下側のＯリング３７が被成型品ベース２３から離れて真空成型室２９が無くなると共に、型Ｍが被成型品Ｗから離れて離型がされるようになっている。
【０１０２】
図１１で示す状態で、仮保持ユニット１３等を離型装置９から取り外す等すると図１２で示す状態になる。図１２で示す状態では、仮保持ユニット１３に型Ｍが設けられており、仮保持ユニット１３のベローズ２７が被成型品ベース２３から離れて真空成型室２９が開放されており、転写がされた被成型品Ｗが被成型品ベース２３から取り外されている。
【０１０３】
この後、搬送装置（図示せず）を用いて、ベローズ２７や型Ｍが設置されている型ベース２１と被成型品Ｗが取り外された被成型品ベース２３とが、図１に矢印Ａ１３で示すように位置調整装置５に搬送され、微細な転写パターンが転写された被成型品Ｗが、図１に矢印Ａ１４で示すように転写後被成型品ストッカ１１に搬送されるようになっている。
【０１０４】
なお、図１に示す転写システム１には図示しない制御装置が設けられており、この制御装置が各搬送装置を制御していると共に、各装置５，７，９に設けられている各制御装置６１，７７，９３を制御しているものとする。
【０１０５】
ところで、離型装置９に、引き剥がし装置（離型補助装置）９９を設けてもよい。引き剥がし装置９９は、被成型品Ｗから型Ｍを離すときに、より小さい力で型Ｍを離すためのものであり、たとえば、図１６に示すように、楔型器具１０１を備えて構成されている。そして、制御装置９３の制御の下、図示しない移動装置で楔型器具１０１を移動し、楔型器具１０１の尖った先端を、お互いが貼り付いている型Ｍと被成型品Ｗと境界の周辺部に差し込み、上記周辺部およびこの近傍の部位で、被成型品Ｗから型をごく僅かに引き剥がすようになっている。これにより、型ベース移動体９１を小さな力で上昇しても、被成型品Ｗから型Ｍを離すことができるようになっている。
【０１０６】
なお、真空成型室２９が形成されている状態では、楔型器具１０１が型Ｍや被成型品Ｗに接触できない。そこで、図１４〜図１６に示す仮保持ユニット１３には、ベローズ２７を縮めるためのアクチュエータ（たとえば、単動型の空気圧シリンダ１０３）が設けられている。
【０１０７】
空気圧シリンダ１０３に圧縮空気を供給していない状態では、図１４〜図１６に示す仮保持ユニット１３は、図９〜図１２に示す仮保持ユニット１３と同様に動作する（離型装置９や仮保持ユニット１３等が同様に動作する）が、空気圧シリンダ１０３に圧縮空気を供給すると、仮保持ユニット１３のベローズ２７が縮むようになっている。
【０１０８】
すなわち、図１５に示す状態で、真空成型室２９内を大気圧にし、空気圧シリンダ１０３に圧縮空気を供給すると、図１６で示すように、型ベース移動体９１を上昇させなくてもベローズ２７が縮んで、真空成型室２９が解放され（無くなり）、被成型品Ｗに型Ｍがくっついている状態であっても、楔型器具１０１が型Ｍや被成型品Ｗに接触できるようになっている。
【０１０９】
なお、図１４〜図１６に示す仮保持ユニット１３では、被成型品ベース２３が被成型品Ｗを保持している構成であるが、被成型品ベース２３が被成型品Ｗを保持しておらず、被成型品Ｗが被成型品ベース２３に載置しているだけであってもよい。そして、空気圧シリンダ１０３でベローズ２７を持ち上げた後（縮めた後）であって型ベース移動体９１を上昇させて型Ｍを被成型品Ｗから離す前に、図示しない保持装置（たとえば離型装置９に設けられている保持装置）で、被成型品Ｗを被成型品ベース２３に一体的に保持する構成であってもよい。
【０１１０】
ここで、図１に示す転写システム１を構成している位置調整装置５、転写装置７、離型装置９の台数について説明する。なお、型Ｍや被成型品Ｗは、１台の装置では、たとえば枚葉で、転写等がなされるようになっており、１つの仮保持ユニット１３には、１枚の型Ｍと1枚の被成型品Ｗとが設置されるようになっているものとする。
【０１１１】
位置調整装置５、転写装置７、離型装置９の台数の比は、転写システム１で型Ｍに形成されている微細な転写パターンを被成型品Ｗに転写するときに、各装置５，７，９の待ち時間が最小になるか、もしくは、従来よりも少なくなる値になっている。
【０１１２】
たとえば、位置調整装置５において、１枚の型Ｍと１枚の被成型品Ｗと１つの仮保持ユニット１３を設置し、型Ｍと被成型品Ｗとを位置決めし、真空成型室２９を形成するのに（図２〜図５参照）、１分程度の時間を要するものとする。
【０１１３】
また、転写装置７において、１枚の型Ｍや１枚の被成型品Ｗを加熱し、型Ｍで被成型品Ｗを押圧し、型Ｍと被成型品Ｗを冷却するのに（図６〜図８参照）、１０分程度の時間を要するものとする。
【０１１４】
また、離型装置９において、１枚の被成型品Ｗに張り付いている１枚の型Ｍを、被成型品Ｗから分離するのに（図９〜図１２参照）、１分程度の時間を要するものとする。
【０１１５】
この場合、転写システム１は、１台の位置調整装置５と１０台の転写装置７と１台の離型装置９とで構成されている。なお、転写装置７の台数を９台以下の複数台もしくは１台にしてもよい。
【０１１６】
また、複数台の転写装置７のうちの１台の転写装置が押圧機能（転写のために型Ｍで被成型品Ｗを押圧する機能）と加熱機能（転写のために型Ｍや被成型品Ｗを加熱する機能）を備えており、複数台の転写装置７のうちの他の一部の転写装置（１台でもよいし複数台でもよい。）が、加熱機能のみを備えており、複数台の転写装置７のうちのさらなる他の一部の転写装置（１台でもよいし複数台でもよい。）が、冷却機能（転写のために型や被成型品を冷却する機能）のみを備えている構成であってもよい。
【０１１７】
この場合、位置調整装置５から供給された型Ｍと被成型品Ｗと仮保持ユニット１３とは、まず、加熱機能のみを有する転写装置７に供給されて加熱され、続いて、押圧機能と加熱機能とを備えた転写装置７に供給されて加熱されつつ押圧され、続いて、冷却機能のみを備えた転写装置７で冷却されるようになっているものとする。
【０１１８】
さらに、冷却機能のみを備えた転写装置７が、冷却機能を備えておらず、単なる仮保持ユニット１３の載置台で構成されており、強制冷却ではない自然冷却によって、仮保持ユニット１３や型Ｍや被成型品Ｗを冷却するようになっていてもよい。
【０１１９】
ここで、転写システム１の動作について説明する。
【０１２０】
転写前被成型品ストッカ３から位置調整装置５（仮保持ユニット１３）に被成型品Ｗを供給すると、位置調整装置５で、被成型品Ｗの正確な位置に、型Ｍに形成されている微細な転写パターンを転写すべく、仮保持ユニット１３を用いて、型Ｍと被成型品Ｗとの相対的な位置の調整がなされる。
【０１２１】
続いて、位置調整装置５とは別の場所に設けられた転写装置７を用い、位置調整装置５により、相対的な位置の調整がされた型Ｍで相対的な位置の調整がされた被成型品Ｗを押圧して型Ｍに形成されている微細な転写パターンを被成型品Ｗに転写する。
【０１２２】
続いて、位置調整装置５や転写装置７とは別の場所に設けられた離型装置９を用い、転写がされた後にお互いにくっついている型Ｍと被成型品Ｗとを分離する（被成型品Ｗから型Ｍを離す）。
【０１２３】
続いて、転写がされた被成型品Ｗを転写後被成型品ストッカ１１に搬送し、仮保持ユニット１３を位置調整装置５に搬送する（戻す）。
【０１２４】
転写システム１によれば、転写システム１が、位置調整装置５と転写装置７と離型装置９とに分かれて構成されているので、たとえば、転写装置７で型Ｍや被成型品Ｗを冷却している間であっても、位置調整装置５の位置決めユニット５５や離型装置９を稼動させることができ、従来よりも効率良く転写をすることができる。
【０１２５】
具体例を掲げて詳しく説明する。従来の転写装置３００を用いて１枚の被成型品Ｗに型Ｍに形成されている微細な転写パターンを転写する場合、１枚の型Ｍが設置されている転写装置３００に１枚の被成型品Ｗを設置し、設置された被成型品Ｗと型Ｍとの位置決めをするのに、たとえば、１分程度の時間を要するものとする。
【０１２６】
この位置決め後に、型Ｍや被成型品Ｗを加熱し、型ベース押圧体３０８を下降し、型Ｍで被成型品Ｗを所定の時間押圧し、この後、型Ｍと被成型品Ｗとを冷却して被成型品Ｗに微細な転写パターンを転写するのに、たとえば、１０分程度の時間を要するものとする。
【０１２７】
この転写後に、型ベース押圧体３０８を上昇させて、型Ｍを被成型品Ｗから離し、転写がされた被成型品Ｗを転写装置３００から取り外すのに、たとえば、１分程度の時間を要するものとする。
【０１２８】
つまり、１枚の被成型品Ｗに微細な転写パターンを形成するために、１２分程度の時間を要してしまうことになる。１分程度の時間で、１枚の被成型品Ｗに微細な転写パターンを形成するためには、従来の転写装置３００を１２台用いた転写システムが必要になる。
【０１２９】
上記１２台の転写装置３００のそれぞれでは、たとえば、上記転写のための１０分間において、カメラ３１４や位置決めユニット３０２等が待機している状態であり、１２台の転写装置３００で構成されている転写システムでは、被成型品Ｗへの転写が効率良くなされているとは言えない。
【０１３０】
これに対して、型Ｍと被成型品Ｗとの位置決めに１分点度の時間を要し、転写に１０分程度の時間を要し、離型に１分程度の時間を要するとして、転写システム１では、１分程度の時間で１枚の被成型品Ｗに微細な転写パターンを形成するために、位置調整装置５を１台、転写装置７を１０台、離型装置９を１台備えておればよく、さらに、位置調整装置５のカメラ６７や位置決めユニット５５および離型装置９の待機時間が少なくなっており、従来よりも効率のよい転写を行うことができる。
【０１３１】
また、転写システム１では、位置調整装置５には位置調整機能のみを持たせ、転写装置７には加熱機能等を含む転写機能のみを持たせ、離型装置９には、離型機能のみを持たせた構成であるので、すなわち、各機能を分散して設けてあるので、システム全体の構成が簡素化されており、従来よりも安価な転写システムとすることができる。
【０１３２】
また、離型装置９では、被成型品Ｗから型Ｍを容易に剥がすための引き剥がし装置９９（図１６参照）を設けることがある。このように、引き剥がし装置９９を設ける場合、従来の転写装置３００では、カメラ３１４等に加えて引き剥がし装置を設けなければならず、カメラ３１４等に干渉することなく引き剥がし装置を設けることが困難である。さらに、強固に貼り付けている型Ｍを被成型品Ｗから離すための複雑な構成の引き剥がし装置を設けることは、一層困難である。
【０１３３】
これに対して、転写システム１では、位置調整装置５と別個に構成されている離型装置９に引き剥がし装置９９を設ければよいので、引き剥がし装置９９の設置が容易になる。また、引き剥がし装置９９の構成を複雑にしても、引き剥がし装置９９を容易に設置することができる。
【０１３４】
また、前述したように、ベローズ２７等を備えた仮保持ユニット１３を使用することにより、転写装置７による転写が、真空成型室２９内でなされるように構成されており、また、位置調整装置５で位置決めがされた型Ｍと位置調整装置５で位置決めがされた被成型品Ｗとは、これらの相対的な位置が真空成型室２９で保持されて転写装置７に供給されるように構成されている。
【０１３５】
これにより、転写をする際に被成型品Ｗに微細な気泡が発生することを防止することができると共に、位置決めがされた型Ｍと位置決めがされた被成型品Ｗとの位置関係を、別途の装置や機構や器具を設けることなく、維持することができる。
【０１３６】
ところで、ベローズ２７（真空成型室２９）に代えてもしくは加えて、位置決めがされた型Ｍと位置決めがされた被成型品Ｗとの位置関係を維持する維持装置１０５を設けてもよい。
【０１３７】
ここで、維持装置１０５について図２６を用いて詳しく説明する。
【０１３８】
図２６は、ベローズ２７（真空成型室２９）の代わりに、維持装置１０５を用いて、型Ｍと被成型品Ｗとの位置関係を維持する仮保持ユニット１３ａの構成を示す図である。図２６（ａ）は、型ベース２１から維持装置１０５が離れている状態を示す図であり、図２６（ｂ）は、被成型品ベース２３に維持装置１０５が設置されて、型Ｍ（型ベース２１）と被成型品Ｗ（被成型品ベース２３）との位置関係が保持（維持）されている状態を示す図であり、図２６（ｃ）は、図２６（ｂ）におけるＸＸＶＩの部分矢視図である。
【０１３９】
仮保持ユニット１３ａでは、段差１１３を備えた切り欠きで構成された被係合部１０７が、型ベース２１と被成型品ベース２３とに設けられている。また、仮保持ユニット１３ａは、たとえば、単動の空気圧シリンダ１１１と、空気圧シリンダ１１１のヘッド（シリンダの先端）に細長い棒状の部材を介して設けられた鍔状の係合部１０９Ａと、空気圧シリンダ１１１のロッド（ピストンロッド）の先端部に設けられた鍔状の係合部１０９Ｂとを備えて構成されている。
【０１４０】
空気圧シリンダ１１１に圧縮空気が供給されている状態では、各係合部１０９Ａ，１０９Ｂ間の距離Ｌ２が、各被係合部１０７における各段差１１３Ａ，１１３Ｂ間の距離Ｌ１よりも大きくなっている。一方、空気圧シリンダ１１１に圧縮空気が供給されておらず空気圧シリンダ１１１のシリンダ室内が大気圧になっている状態では、各係合部１０９Ａ，１０９Ｂ間の距離Ｌ２が、各被係合部１０７における各段差１１３Ａ，１１３Ｂ間の距離Ｌ１よりも小さくなるようになっている。
【０１４１】
したがって、図２６（ａ）で示す状態で維持装置１０５を型ベース２１や被成型品ベース２３に適宜設置し、空気圧シリンダ１１１への圧縮空気の供給を停止すると、単動空気圧シリンダ１１１のバネにより、図２６（ｂ）で示すように各係合部１０９Ａ、１０９Ｂが各段差１１３Ａ，１１３Ｂに当接し、型ベース２１と被成型品ベース２３とがお互いに近づく方向の力を受けて、型ベース２１（型Ｍ）と被成型品ベース２３（被成型品Ｗ）とが一体化されるようになっている。
【０１４２】
なお、被係合部１０７は、型ベース２１や被成型品ベース２３周辺の複数個所に設けられており、これらの被係合部１０７のそれぞれに、維持装置１０５が設置されるようになっている。
【０１４３】
ここで、ＵＶインプリント法による転写等について説明する。
【０１４４】
図１７〜図２０は、ＵＶインプリント法で使用される仮保持ユニット１３等を、位置調整装置５で使用する場合を示す図であり、図２〜図５に対応した図である。図２１〜図２３は、ＵＶインプリント法で使用される仮保持ユニット１３等を、転写装置７ａで使用する場合を示す図であり、図６〜図９に対応した図である。また、図２４、図２５は、ＵＶインプリント法で使用される仮保持ユニット１３等を、離型装置９で使用する場合を示す図であり、図９、図１２に対応した図である。
【０１４５】
ＵＶインプリント法の被成型品Ｗは、たとえばガラスやシリコン等の材料で構成されている平板状の基材Ｗ１の厚さ方向の一方の面（上面）に、紫外線硬化樹脂Ｗ２の薄膜を設けて構成されている。そして、硬化前の紫外線硬化樹脂Ｗ２を型（紫外線を透過する石英等で構成された型）Ｍで図２２で示すように押圧し、紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂Ｗ２を硬化させて、型Ｍに形成されている微細な転写パターンを被成型品Ｗに転写するようになっている。
【０１４６】
ＵＶインプリント法で使用される位置調整装置５は、硬化前の紫外線硬化樹脂Ｗ２を基材Ｗ１の上面に設けるための紫外線硬化樹脂設置装置（図示せず）が設けられている点が、熱インプリント法で使用される位置調整装置と異なり、その他の点は、熱インプリント法で使用される位置調整装置とほぼ同様に構成されている。なお、紫外線硬化樹脂設置装置を削除して、手動で紫外線硬化樹脂Ｗ２を設けるようにしてもよい。
【０１４７】
また、ＵＶインプリント法で使用される仮保持ユニット１３は、たとえば、型ベース２１の少なくとも一部が、紫外線を透過する部材（たとえば石英ガラス）１１５で構成されている点が、熱インプリント法で使用される仮保持ユニットとは異なる。
【０１４８】
また、ＵＶインプリント法で使用される転写装置７ａは、型ベース押圧体７５ａに紫外線を透過する貫通孔７５ｂと紫外線発生装置１１７が設けられており、しかも、加熱手段７９，８３や冷却手段８１，８５が削除されている点が、熱インプリント法で使用される転写装置７とは異なり、その他の点は、熱インプリント法で使用される転写装置７とほぼ同様に構成されている。
【０１４９】
なお、紫外線を照射した後、被成型品Ｗを加熱したり冷却したりする場合もあるので、ＵＶインプリント法で使用される転写装置７ａに、加熱手段７９，８３や冷却手段８１，８５が設けられていてもよい。
【０１５０】
ＵＶインプリント法で使用される離型装置９は、熱インプリント法で使用される離型装置とほぼ同様に構成されている。
【０１５１】
なお、ＵＶインプリント法では、一般的に、転写後に型Ｍと被成型品Ｗとがより強固にくっついているので、転写後に型Ｍを被成型品Ｗから離す操作が熱インプリント法の場合よりも難しいが、ＵＶインプリント法で使用される離型装置９であっても、カメラ等が設けられていないので、複雑な構成の引き剥がし装置を設置することが容易になる。
【０１５２】
［第２の実施形態］
図１３は、本発明の第２の実施形態に係る転写システム１ａの概略構成を示す平面図である。
【０１５３】
転写システム１ａは、第１の実施形態に係る転写システム１で使用されている位置調整装置５と離型装置９とが共用されている点を除いては、第１の実施形態に係る転写システム１とほぼ同様に構成されている。
【０１５４】
すなわち、第１の実施形態に係る転写システム１で使用されている位置調整装置５と、第１の実施形態に係る転写システム１で使用されている離型装置９とは、お互いの構成が近似している。このことに着目して、第２の実施形態に係る転写システム１ａでは、位置調整装置５と離型装置９とに代えて、位置調整装置５と離型装置９との機能を備えた（位置調整装置５と離型装置９とが合体されている）位置調整・離型装置１１９が配置されている。
【０１５５】
転写システム１ａでは、位置調整装置と離型装置とが共用してあるので、図１に示す態様に比べて、位置調整装置もしくは離型装置のいずれかがほぼ不要となり、システムの構成を簡素化することができると共に、転写装置７の台数を図１に示す態様に比べて少なくし、システム全体の規模を小さくすることができる。
【０１５６】
［第３の実施形態］
図２７は、本発明の第３の実施形態に係る転写システム１ｂの概略構成を示す平面図である。
【０１５７】
転写システム１ｂは、第１の実施形態に係る転写システム１で使用されている位置調整装置５と転写装置７とが共用されている点を除いては、第１の実施形態に係る転写システム１とほぼ同様に構成されている。
【０１５８】
すなわち、第３の実施形態に係る転写システム１ｂでは、位置調整装置５と転写装置７とに代えて、位置調整５と転写装置７との機能を備えた（位置調整装置５と転写装置７とが合体されている）位置調整・転写装置１２１が配置されている。
【０１５９】
さらに、転写の態様（種類）によっては、位置調整装置（型Ｍと被成型品Ｗとの精密な位置調整）が不要な場合もある。この場合には、位置調整装置を削除してもよい。
【符号の説明】
【０１６０】
１、１ａ、１ｂ  転写システム
５  位置調整装置
７、７ａ  転写装置
９  離型装置
２９  真空成型室
Ｍ  型
Ｗ  被成型品
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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