(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
非極性有機溶媒に対する感受性を有する溶媒感受性層を、非極性有機溶媒を用いて塗布法で形成する工程と、
高分子を含む第１のエミッタと、前記第１のエミッタとは異なった高分子とを含むパターニングされた層を、前記溶媒感受性層上に配置する工程と、
第２のエミッタを含む層を前記パターニングされた層および前記溶媒感受性層上に配置して、前記第２のエミッタを含むパターニングされていない層を形成する工程と
を含み、
前記パターニングされた層を配置する工程は、前記第１のエミッタと前記異なった高分子とを含む転写層の一部を選択的に熱転写する工程を含み、
前記パターニングされていない層を形成する工程は、前記熱転写する工程の後に真空蒸着を用いる工程を含む、エレクトロルミネセンスデバイスを製造する方法。
【請求項２】
前記パターニングされていない層を形成する前に、第３のエミッタを含む第２のパターニングされた層を前記溶媒感受性層上に配置する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２のパターニングされた層を配置する工程が、前記第３のエミッタを含む第２の転写層の一部を選択的に熱転写する工程を含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第２の転写層が高分子をさらに含む、請求項３に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
パターニングされた発光層の形成は、エレクトロルミネセンスデバイスの製造に重要であるが困難な工程である。たとえば、別個の、赤色、緑色、および青色のパターニングされたエミッタ層の形成は、典型的には、エレクトロルミネセンスフルカラーディスプレイデバイスの製造に必要である。真空蒸着（たとえば、シャドーマスクを使用する）は、パターニングされた層の各々を形成するための最も一般的な技術である。この技術の複雑さおよびコストのため、特に大型ディスプレイを製造する際に用いるために、パターニングされた層を形成する他の方法が当該技術において必要である。溶液から材料を堆積させることに基づいた方法が、大規模なデバイス製造とのそれらの予期された適合性のため特に望ましい。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００２】
インクジェット印刷技術が、パターニングされたエミッタ層を製造するために提案されている。インクジェット印刷によって２色のパターニングされたエミッタ前駆体を堆積させ、その後、溶液技術によって第３の色のエミッタを堆積させることが、報告されている。しかし、パターニングされた層を堆積させるためのインクジェット印刷技術の使用は、インクジェット媒体中に堆積されている材料の溶解度、湿潤、および均一性を含む要因によって制限される。
【課題を解決するための手段】
【０００３】
一態様において、本発明は、エレクトロルミネセンスデバイスを製造する方法を提供する。一実施形態において、この方法は、任意に溶媒感受性（ｓｏｌｖｅｎｔ−ｓｕｓｃｅｐｔｉｂｌｅ）である、第１のエミッタを含む転写層の一部を、レセプタに選択的に熱転写して、レセプタ上に配置された、第１のエミッタを含むパターニングされたエミッタ層を形成する工程と、第２のエミッタを含む層をパターニングされたエミッタ層およびレセプタ上に配置して、第２のエミッタを含むパターニングされていないエミッタ層を形成する工程とを含む。任意に、この方法は、パターニングされていないエミッタ層を形成する前、第３のエミッタを含む第２の転写層の一部をレセプタに選択的に熱転写して、レセプタ上に配置された、第３のエミッタを含む第２のパターニングされたエミッタ層を形成する工程をさらに含む。好ましくは、レセプタは、アノード、正孔輸送層、正孔注入層、電子ブロッキング層、誘電体層、パッシベーション層、基板、またはそれらの組合せである。好ましくは、パターニングされていないエミッタ層は、ドープされていない電子輸送層、ドープされた電子輸送層、ドープされていない正孔ブロッキング層、ドープされた正孔ブロッキング層、またはそれらの組合せである。いくつかの実施形態において、レセプタは、正孔輸送層であり、アノードに取付けられ、この場合、デバイスは、任意に、正孔輸送層とアノードとの間に配置された正孔注入層を含むことができる。任意に、この方法は、カソードをパターニングされていないエミッタ層上に配置する工程をさらに含む。
【０００４】
別の実施形態において、エレクトロルミネセンスデバイスを製造する方法は、第１のエミッタを含むパターニングされていない層を提供する工程と、任意に溶媒感受性である、第２のエミッタを含む転写層の一部を、パターニングされていないエミッタ層に選択的に熱転写して、パターニングされていないエミッタ層上に配置された、第２のエミッタを含むパターニングされたエミッタ層を形成する工程とを含む。任意に、この方法は、第３のエミッタを含む第２の転写層の一部をパターニングされていないエミッタ層に選択的に熱転写して、パターニングされていないエミッタ層上に配置された、第３のエミッタを含む第２のパターニングされたエミッタ層を形成する工程をさらに含む。好ましくは、パターニングされていないエミッタ層は、ドープされていない電子輸送層、ドープされた電子輸送層、ドープされていない正孔ブロッキング層、ドープされた正孔ブロッキング層、ドープされていない電子注入層、ドープされた電子注入層、またはそれらの組合せである。いくつかの実施形態において、この方法は、アノードをパターニングされたエミッタ層およびパターニングされていないエミッタ層上に配置する工程をさらに含む。正孔輸送層、正孔注入層、電子ブロッキング層、またはそれらの組合せを、任意に、エミッタ層とアノードとの間に配置することができる。任意に、パターニングされていないエミッタ層の、パターニングされたエミッタ層と反対の側は、カソードに取付けられる。
【０００５】
別の実施形態において、エレクトロルミネセンスデバイスを製造する方法は、溶媒感受性層を提供する工程と、第１のエミッタと、第１のエミッタと同じまたは異なった不揮発性成分とを含むパターニングされた層を、溶媒感受性層上に配置する工程と、第２のエミッタを含む層をパターニングされた層および溶媒感受性層上に配置して、第２のエミッタを含むパターニングされていないエミッタ層を形成する工程とを含む。好ましくは、パターニングされた層を配置する工程は、第１のエミッタと不揮発性成分とを含む転写層の一部を選択的に熱転写する工程を含む。任意に、パターニングされていないエミッタ層を形成する前に、好ましくは第３のエミッタと任意に不揮発性成分とを含む第２の転写層の一部を熱転写することによって、第３のエミッタを含む第２のパターニングされた層を溶媒感受性層上に配置する。
【０００６】
別の実施形態において、エレクトロルミネセンスデバイスを製造する方法は、第１のエミッタを含む溶媒感受性のパターニングされていない層を提供する工程と、第２のエミッタと、第２のエミッタと同じまたは異なった不揮発性成分とを含むパターニングされた層を、溶媒感受性層上に配置する工程とを含む。好ましくは、パターニングされた層を配置する工程は、第２のエミッタと不揮発性成分とを含む転写層の一部を選択的に熱転写する工程を含む。任意に、この方法は、好ましくは第３のエミッタを含む第２の転写層の一部を熱転写することによって、第３のエミッタと任意に不揮発性成分とを含む第２のパターニングされた層を溶媒感受性層上に配置する工程をさらに含む。
【０００７】
別の態様において、本発明は、エレクトロルミネセンスデバイスを提供する。エレクトロルミネセンスデバイスは、溶媒感受性層と；溶媒感受性層上のパターニングされた層であって、第１のエミッタと、第１のエミッタと同じまたは異なった不揮発性成分とを含むパターニングされた層と；パターニングされたエミッタ層および溶媒感受性層上に配置された、第２のエミッタを含むパターニングされていない層とを含む。任意に、パターニングされた層は第３のエミッタをさらに含む。あるいは、第２のパターニングされた層を任意に溶媒感受性層上に配置してもよく、第２のパターニングされた層は第３のエミッタを含む。好ましくは、溶媒感受性層は、正孔輸送層、正孔注入層、電子ブロッキング層、誘電体層、パッシベーション層、またはそれらの組合せである。好ましくは、パターニングされていないエミッタ層は、ドープされていない電子輸送層、ドープされた電子輸送層、ドープされていない正孔ブロッキング層、ドープされた正孔ブロッキング層、ドープされていない電子注入層、ドープされた電子注入層、またはそれらの組合せである。いくつかの実施形態において、アノードを溶媒感受性層に取付けることができ、カソードをパターニングされていないエミッタ層に取付けることができる。任意に、正孔注入層、電子ブロッキング層、またはそれらの組合せを、アノードと溶媒感受性層との間に配置することができる。一実施形態において、カソードは不透明であり、アノードは透明であり、デバイスは、透明なアノードを通して光を発するように動作可能である。別の実施形態において、カソードは透明であり、アノードは不透明であり、デバイスは、透明なカソードを通して光を発するように動作可能である。さらに別の実施形態において、カソードは透明であり、デバイスは、アノードに取付けられた不透明な基板をさらに含み、デバイスは、透明なカソードを通して光を発するように動作可能である。さらに別の実施形態において、カソードは透明であり、アノードは透明であり、デバイスは、透明なカソードおよび透明なアノードを通して光を発するように動作可能である。任意に、パターニングされていないエミッタ層は溶媒感受性である。
【０００８】
別の態様において、本発明は、光を発生させる方法を提供する。この方法は、ここで説明されるようなエレクトロルミネセンスデバイスを提供する工程と、信号をアノードおよびカソードに与える工程であって、信号が、エミッタをアドレスする（ａｄｄｒｅｓｓ）ように動作可能であり、その後、エミッタが光を発する工程とを含む。好ましくは、デバイスはアクティブまたはパッシブアドレスされる（ａｃｔｉｖｅ  ｏｒ  ｐａｓｓｉｖｅ  ａｄｄｒｅｓｓｅｄ）デバイスである。好ましくは、デバイスはフルカラーディスプレイまたは調整可能なライティングデバイスである。
【０００９】
多層ＯＬＥＤデバイスの発光特徴は、電子および正孔の再結合が生じるゾーンを制御または制限することによって、変更することができる。効率的な蛍光発光または燐光発光が可能な１つの層を備えたデバイスの場合、最適なデバイス性能は、再結合ゾーンがエミッタ層内に配置された場合に生じる。多数の発光層（たとえば、赤色のパターニングされたエミッタ層および青色のパターニングされていないエミッタ層）を備えたデバイスの場合、発光を主として１つの層（たとえば、赤色のパターニングされたエミッタ層）から得ることが可能である。したがって、たとえば、基板を赤色および緑色発光領域でパターニングし、次に、パターニングされていない青色エミッタ層を設けることによって、フルカラーＯＬＥＤディスプレイを構成することが可能である。再結合ゾーンが適切に制御される場合、赤色および緑色発光領域は、著しい青色発光を示さない。ディスプレイデバイス用途の場合、飽和赤色、飽和緑色、および飽和青色を発するディスプレイサブピクセルを有することが好ましい。したがって、パターニングされたエミッタ層が、エミッタ層の部分を選択的に熱転写することによって形成される本発明の実施形態において、「ｎ」色デバイス（たとえば、３色デバイス）を、「ｎ」より少ない熱転写工程（たとえば、２つの選択的な熱転写工程）を用いることによって、準備することが可能である。
【００１０】
いくつかの実施形態において、動作電圧または電流密度を変えることによって、多層デバイスの異なった層からの発光の量を変更することが可能であり、ときには好ましい。このいわゆる「色調整」は、ライティング用途に使用されるＯＬＥＤに有用であることができる。
【００１１】
定義
ここで使用されるように、「層」は、別の材料上に配置された不連続（たとえば、パターニングされた層）または連続（たとえば、パターニングされていない）材料を指す。
【００１２】
ここで使用されるように、「パターニングされた層」は、パターニングされた層の材料が他方の材料の選択された部分のみの上に配置された不連続層を指す。
【００１３】
ここで使用されるように、「パターニングされていない層」は、パターニングされていない層の材料が他方の材料の全部分の上に配置された連続層を指す。
【００１４】
ここで使用されるように、「溶媒感受性」層は、溶媒コーティング層が溶媒感受性層上に直接コーティングされた場合、溶媒の存在下で、意図された目的のため、溶解される、腐食される、浸透される、および／または動作不能にされるであろう層である。
【００１５】
ここで使用されるように、溶媒コーティング層のための「溶媒」は、エレクトロルミネセンスデバイスの層を形成するのに適した有機ポリマーまたは樹脂を、溶解するか、分散させるか、懸濁させることができる有機溶媒または水性溶媒を指す。
【００１６】
一般に、別の層「上に配置された」または「に取付けられた」層は、任意に２つの層の間の１つ以上の付加的な層を含むように、広く解釈されることが意図される。
【００１７】
ここで使用されるように、「溶媒感受性層」「上の」または「上に配置された」層は、溶媒感受性層「上の」または「上に配置された」層からの溶媒が溶媒感受性層と接触することができる（たとえば、気化、拡散、または溶媒を付加的な層を通して輸送する他の方法によって）という条件で、溶媒感受性層と直接接触する層、または１つ以上の付加的な層によって溶媒感受性層から分離された層を含むことが意図される。好ましくは、「溶媒感受性層」「上の」または「上に配置された」層は、溶媒感受性層と直接接触する。
【００１８】
ここで使用されるように、「透明な電極」は、可視光を実質的に透過する導電性要素を意味する。可視光を実質的に透過する要素は、好ましくは、要素の表面に垂直に当たった、特にデバイス発光最大値に対応する波長における、入射可視光の少なくとも５０％、より好ましくは少なくとも８０％を透過する。
【００１９】
ここで使用されるように、「不透明な電極」は、可視光を実質的に吸収または反射する導電性要素を意味する。可視光を実質的に吸収または反射する要素は、好ましくは、要素の表面に垂直に当たった、特にデバイス発光最大値に対応する波長における、入射可視光の少なくとも９０％を吸収または反射する。
【００２０】
ここで使用されるように、「アクティブアドレスされる」デバイスは、ピクセルまたはサブピクセルのアレイを駆動するための機構を含むデバイスであり、各ピクセルまたはサブピクセルは別々の回路によってアドレスされる。一般に、別々の回路は、ピクセルまたはサブピクセルに隣接し、デバイスの内部にある。
【００２１】
ここで使用されるように、「パッシブアドレスされる」デバイスは、ピクセルまたはサブピクセルのアレイを駆動するための機構を含むデバイスであり、各ピクセルまたはサブピクセルは、行電極および列電極を含む電子回路を通してアドレスされる。一般に、電子回路はデバイスの外部にある。
【００２２】
ここで使用されるように、「調整可能なライティング」デバイスは、駆動条件（たとえば、電圧、電流密度など）に依存する可変色の光を発する要素である。
【００２３】
ここで使用されるように、「フルカラーディスプレイ」デバイスは、カラー写真およびビデオを描写するのに適した色の全域（たとえば、全国テレビジョン方式委員会（Ｎａｔｉｏｎａｌ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ  Ｓｔａｎｄａｒｄｓ  Ｃｏｍｍｉｔｔｅｅ）ＮＴＳＣによって定義された全域）で画像を表示することができる、ピクセルおよびサブピクセルのアレイを含む電子構成要素を意味する。
【００２４】
ここで使用されるように、「不揮発性成分」は、典型的には真空蒸着または真空昇華のために用いられる条件下で無視できるほどの蒸気圧を有する成分を意味する。典型的には、分解温度より低い温度で少なくとも０．１オングストローム／秒の速度で堆積させることができない材料は、不揮発性であるとみなされる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１Ａ】本発明によるエレクトロルミネセンスデバイスを組立てる例示的な方法を示し、「下部アノード」構成を有する概略断面図である。
【図１Ｂ】本発明によるエレクトロルミネセンスデバイスを組立てる例示的な方法を示し、「下部アノード」構成を有する概略断面図である。
【図１Ｃ】本発明によるエレクトロルミネセンスデバイスを組立てる例示的な方法を示し、「下部アノード」構成を有する概略断面図である。図１Ａから図１Ｃに示された方法は、本発明の好ましい実施形態を例示するために簡略化された態様で示されている。特定のデバイスの構造に望ましい１つまたは複数の付加的な層を含めることは、当業者には明らかであろう。したがって、ここに示される方法およびデバイスは、ここで説明される特定の層のみに限定されることが意図されないが、必要に応じて付加的な層を含むと広く解釈されるべきである。
【図２Ａ】本発明によるエレクトロルミネセンスデバイスを組立てる例示的な方法を示し、「上部アノード」構成を有する概略断面図である。
【図２Ｂ】本発明によるエレクトロルミネセンスデバイスを組立てる例示的な方法を示し、「上部アノード」構成を有する概略断面図である。
【図２Ｃ】本発明によるエレクトロルミネセンスデバイスを組立てる例示的な方法を示し、「上部アノード」構成を有する概略断面図である。図２Ａから図２Ｃに示された方法は、本発明の好ましい実施形態を例示するために簡略化された態様で示されている。特定のデバイスの構造に望ましい１つまたは複数の付加的な層を含めることは、当業者には明らかであろう。したがって、ここに示される方法およびデバイスは、ここで説明される特定の層のみに限定されることが意図されないが、必要に応じて付加的な層を含むと広く解釈されるべきである。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本発明は、エレクトロルミネセンスデバイス、およびそのようなデバイスを製造および使用する方法を提供する。エレクトロルミネセンスデバイスは、当該技術において周知であり、たとえば、有機エレクトロルミネセンス（ＯＥＬ）デバイスが挙げられる。たとえば、サルベック（Ｓａｌｂｅｃｋ）、ベリヒテ・デア・ブンゼン−ゲゼルシャフト−フィジカル・ケミストリー（Ｂｅｒ．Ｂｕｎｓｅｎｇｅｓ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．）、１００（１０）：１６６７（１９９６）；ワイ・サトウ（Ｙ．Ｓａｔｏ）、「有機ＬＥＤシステム考察（Ｏｒｇａｎｉｃ  ＬＥＤ  Ｓｙｓｔｅｍ  Ｃｏｎｓｉｄｅｒａｔｉｏｎｓ）」、セミコンダクターズ・アンド・セミメタルズ（Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒｓ  ａｎｄ  Ｓｅｍｉｍｅｔａｌｓ）（ジー・ミューラー（Ｇ．  Ｍｅｕｌｌｅｒ）編集）、Ｖｏｌ．６４、ｐ．２０９（２０００）；キド（Ｋｉｄｏ）、ブレティン・オブ・エレクトロケミストリー（Ｂｕｌｌｅｔｉｎ  ｏｆ  Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）、１０（１）：１（１９９４）；エフ・ソー（Ｆ．  Ｓｏ）ら、インターナショナル・ジャーナル・オブ・ハイ・スピード・エレクトロニクス・アンド・システムズ（Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｈｉｇｈ  Ｓｐｅｅｄ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ  ａｎｄ  Ｓｙｓｔｅｍｓ）、８（２）：２４７（１９９７）；バルド（Ｂａｌｄｏ）ら、ピュア・アンド・アプライド・ケミストリー（Ｐｕｒｅ  Ａｐｐｌ．  Ｃｈｅｍ．）、７１（１１）：２０９５（１９９９）を参照されたい。ここで使用されるように、「エレクトロルミネセンスデバイス」は、完全なデバイスおよび部分的なデバイス（たとえば、デバイス構成要素）を網羅することが意図される。同様に、エレクトロルミネセンスデバイスを製造する方法は、デバイスまたはデバイス構成要素の形成または部分的な形成を網羅することが意図される。
【００２７】
エレクトロルミネセンスデバイスの１つまたは複数の層を、熱転写ドナー要素からの１つまたは複数の層の熱転写によって形成してもよい。特定の例として、熱転写要素を、ＯＥＬデバイスまたはデバイスのアレイ、およびＯＥＬディスプレイでの使用のための構成要素を少なくとも部分的に製造するために形成することができる。これは、たとえば、熱転写要素の１つのまたは多成分転写ユニットの熱転写によって達成することができる。単層および多層転写を用いて、他のデバイスおよび物体を形成することができることが認められるであろう。本発明は、そのように限定されないが、本発明のさまざまな態様の理解が、以下で提供される実施例の説明によって得られるであろう。
【００２８】
１つ以上の熱転写要素からの材料の選択的な熱転写によって、材料を基板上にパターニングすることができる。向けられた熱を熱転写要素の選択された部分に加えることによって、熱転写要素を加熱することができる。加熱要素（たとえば、抵抗加熱要素）を使用する、放射線（たとえば、光のビーム）を熱に変換する、および／または電流を熱転写要素の層に印加して、熱を発生させて、熱を発生させることができる。多くの場合、たとえばランプまたはレーザからの光を使用する熱転写が、しばしば達成することができる正確さおよび精度のため有利である。転写されたパターンのサイズおよび形状（たとえば、線、円、正方形、または他の形状）は、たとえば、光ビームのサイズ、光ビームの照射パターン、熱転写要素との向けられたビームの接触の持続期間、および熱転写要素の材料を選択することによって制御することができる。
【００２９】
熱転写要素は、さまざまな要素およびデバイス、またはそれらの部分を形成するために使用することができる転写層を含むことができる。例示的な材料および転写層としては、電子ディスプレイに有用な、要素、デバイス、およびそれらの部分を形成するために使用することができるものが挙げられる。本発明に使用される例がＯＥＬデバイスおよびディスプレイに集中することが最も多いが、熱転写要素からの材料の転写を、また、電子回路および光学構成要素およびエレクトロニクス構成要素、たとえば、抵抗器、キャパシタ、ダイオード、整流器、エレクトロルミネセンスランプ、メモリ要素、電界効果トランジスタ、バイポーラトランジスタ、ユニジャンクショントランジスタ、ＭＯＳトランジスタ、金属−絶縁体−半導体トランジスタ、有機トランジスタ、電荷結合デバイス、絶縁体−金属−絶縁体スタック、有機導体−金属−有機導体スタック、集積回路、光検出器、レーザ、レンズ、導波管、格子、ホログラフィック要素、フィルタ（たとえば、アド−ドロップ（ａｄｄ−ｄｒｏｐ）フィルタ、利得平坦化フィルタ、カットオフフィルタなど）、ミラー、スプリッタ、カプラ、コンバイナ、変調器、センサ（たとえば、エバネッセントセンサ、位相変調センサ、干渉計センサなど）、光学キャビティ、圧電性デバイス、強誘電性デバイス、薄膜バッテリ、またはそれらの組合せ；たとえば、光学ディスプレイ用アクティブマトリックスアレイとしての電界効果トランジスタと有機エレクトロルミネセンスランプとの組合せ、を少なくとも部分的に形成するために用いることができる。多成分転写ユニットおよび／または１つの層を転写することによって、他のアイテムを形成してもよい。
【００３０】
光を使用する熱転写は、しばしば、たとえば、集積回路のトランジスタおよび他の構成要素、ならびにエレクトロルミネセンスランプおよび制御回路などの、ディスプレイでの使用のための構成要素を含む、小さい光学および電子デバイスなどの非常に小さいデバイスの、より良好な正確さおよび品質管理をもたらすことができる。さらに、光を使用する熱転写は、少なくともいくつかの場合、デバイスサイズと比較して大きい領域にわたって多数のデバイスを形成するとき、より良好な位置合せに備えることができる。例として、多くのピクセルを有するディスプレイの構成要素を、この方法を用いて形成することができる。
【００３１】
いくつかの場合、多数の熱転写要素を使用して、デバイスまたは他の物体を形成するか、隣接したデバイス、他の物体、またはそれらの部分を形成してもよい。多数の熱転写要素は、多成分転写ユニットを備えた熱転写要素、および１つの層を転写する熱転写要素を含んでもよい。たとえば、多成分転写ユニットを備えた１つ以上の熱転写要素、および／または各々１つの層または多層ユニットを転写するために使用することができる１つ以上の熱転写要素を使用して、デバイスまたは他の物体を形成してもよい。
【００３２】
デバイスまたはデバイスのアレイを形成するための１つ以上の層の熱転写は、また、たとえば、多くの電子および光学デバイスを形成するために用いられる、フォトリソグラフィパターニングまたはインクジェットパターニングなどのプロセスの湿式処理工程を低減するかなくすのに有用であることができる。ドナー要素から層をパターニングするための熱転写は、また、層コーティング工程をパターニング工程から切り離すのに有用であることができ、たとえば、そのような結合が、パターニングすることができる層状構造のタイプまたは隣接した構造のタイプを制限することがある場合である。フォトリソグラフィ、インクジェット、スクリーン印刷、およびさまざまなマスクベースの技術などの従来のパターニングプロセスにおいて、層は、典型的には、パターニングが生じる基板上に直接コーティングされる。パターニングは、コーティングと同時に（インクジェット、スクリーン印刷、およびいくつかのマスクベースのプロセス関する限り）、またはコーティングの後エッチングもしくは別の除去技術によって、行うことができる。そのような従来の方法での困難は、材料をコーティングするために使用される溶媒、および／または材料をパターニングするために用いられるエッチングプロセスが、先にコーティングされたまたはパターニングされた層または材料を、損傷する、溶解する、浸透する、および／または動作不能にすることがあることである。
【００３３】
本発明において、材料を熱転写ドナー要素上にコーティングして、ドナー要素の転写層を形成することができる。次に、転写層材料を選択的な熱転写によってドナーからレセプタにパターニングすることができる。ドナー上へのコーティング、およびその後の選択的な転写によるパターニングは、層コーティング工程のパターニング工程からの切り離しを表す。コーティング工程およびパターニング工程を切り離すことの利点は、従来のパターニングプロセスを使用して、パターニングすることが可能だとしても困難であろう他の材料の上にまたは隣に材料をパターニングすることができることである。たとえば、本発明の方法において、溶媒コーティング層が溶媒感受性材料上に直接コーティングされた場合、溶媒の存在下で、意図された目的のため、溶解される、腐食される、浸透される、および／または動作不能にされるであろう溶媒感受性材料上に、溶媒コーティング層をパターニングすることができる。同じことは、溶媒と不適合であってもよいレセプタ上の材料または層の隣にあるが必ずしもそれらと接触しない、溶媒コーティング材料のパターニングされた熱転写に当てはまる。
【００３４】
「溶媒感受性」層は、溶媒コーティング層が溶媒感受性層上に直接コーティングされた場合、溶媒の存在下で、意図された目的のため、溶解される、腐食される、浸透される、および／または動作不能にされるであろう層である。溶媒感受性についての簡単なテストが、第１の溶媒から第１の層をスピンコーティングし、溶媒を乾燥させ、次に、第２の溶媒を第１のコーティング層の上にスピンコーティングすることによって行われる。第１のコーティング層が、第２の溶媒によって、溶解、腐食、または浸透された場合、第１のコーティング層は、溶媒感受性層であるとみなされる。あるいは、同様のテストを、第１のコーティング層が真空蒸着によって堆積された場合に行うことができる。
【００３５】
「第２の溶媒」は、好ましくは、エレクトロルミネセンスデバイスの層を形成するのに適した有機ポリマーまたは樹脂を、溶解するか、分散させるか、懸濁させることができる有機溶媒である。適切な溶媒を、たとえば、アイ・エム・スモールウッド（Ｉ．Ｍ．Ｓｍａｌｌｗｏｏｄ）、「有機溶媒特性のハンドブック（Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ）」、アーノルド／ホールステッドプレス（Ａｒｎｏｌｄ／Ｈａｌｓｔｅｄ  Ｐｒｅｓｓ）（１９９６）に見出すことができる。
【００３６】
本発明のいくつかの実施形態において、転写層は不揮発性成分を含む。不揮発性成分は、典型的には真空蒸着または真空昇華のために用いられる条件下で無視できるほどの蒸気圧を有する化学化合物である。化合物が不揮発性であるかを定めるための簡単なテストは、化合物をその成分の真空蒸着条件下で昇華させようと試みることである。不揮発性化合物は、一般に、分解する（たとえば、炭化する（ｃｈａｒ）、劣化するなど）か、現在入手可能な真空蒸着システムにおける真空蒸着に実際的であるのに十分な速度で昇華しない。典型的には、分解温度より低い温度で少なくとも０．１オングストローム／秒の堆積速度を達成することができない材料は、不揮発性であるとみなすことができる。不揮発性成分の一般的な例としては、ポリマー、オリゴマー、デンドリマー、大分子量種、セラミックスなどが挙げられる。
【００３７】
以下でより詳細に説明されるように、ＯＥＬデバイスの形成は、特に適した例を提供する。例示的なドナー要素、熱転写方法、および熱転写方法によって製造されたデバイスが、たとえば、米国特許第６，４１０，２０１号明細書（ウォーク（Ｗｏｌｋ）ら）に開示されている。
【００３８】
放射線（たとえば、光）を使用する熱転写の場合、さまざまな放射線放出源を本発明に使用することができる。アナログ技術（たとえば、マスクを介する照射）の場合、高電力光源（たとえば、キセノンフラッシュランプおよびレーザ）が有用である。デジタル画像形成技術の場合、赤外、可視、および紫外レーザが、特に有用である。適切なレーザとしては、たとえば、高電力（≧１００ミリワット（ｍｉｌｌｗａｔｔｓ）（ｍＷ））単一モードレーザダイオード、ファイバ結合レーザダイオード、およびダイオード励起（ｄｉｏｄｅ−ｐｕｍｐｅｄ）固体レーザ（たとえば、Ｎｄ：ＹＡＧおよびＮｄ：ＹＬＦ）が挙げられる。レーザ照射ドウェル時間は、たとえば、０．１から１００マイクロ秒の範囲内であることができ、レーザフルエンスは、たとえば、１平方センチメートルあたり０．０１から１ジュール（Ｊ／ｃｍ 2 ）の範囲内であることができる。
【００３９】
大きい基板領域にわたって、高いスポット配置正確さが必要である場合（たとえば、高情報フルカラーディスプレイ用途のため）、レーザが放射線源として特に有用である。レーザ源は、また、１ｍ×１ｍ×１．１ｍｍのガラスなどの大きい剛性基板、および１００マイクロメートルのポリイミドシートなどの連続またはシート状フィルム基板の両方と適合性がある。
【００４０】
抵抗サーマルプリントヘッドまたはアレイを、たとえば、光−熱変換（ＬＴＨＣ）層または放射線吸収体がなくてもよい簡略化されたドナーフィルム構造とともに使用してもよい。これは、より小さい基板サイズ（たとえば、どの寸法も約３０ｃｍ未満）で、または英数字セグメント化ディスプレイに必要なパターンなどの、より大きいパターンについて、特に有用であろう。
【００４１】
画像形成の間、熱転写要素は、典型的には、レセプタと密接に接触される。少なくともいくつかの場合、圧力または真空を用いて、熱転写要素をレセプタと密接に接触させて保持する。次に、放射線源を使用して、ＬＴＨＣ層（および／または放射線吸収体を含有する他の層）を画像様に（たとえば、デジタル的に、またはマスクを介するアナログ照射によって）加熱して、パターンに従う熱転写要素からレセプタへの転写層の画像様転写を行う。
【００４２】
あるいは、抵抗加熱要素などの加熱要素を使用して、転写ユニットを転写してもよい。熱転写要素を加熱要素と選択的に接触させて、パターンに従う転写層の一部の熱転写を引起す。別の実施形態において、熱転写要素は、層に印加された電流を熱に変換することができる層を含んでもよい。
【００４３】
典型的には、転写層は、任意の中間層およびＬＴＨＣ層などの熱転写要素の他の層のいずれも転写することなく、レセプタに転写される。任意の中間層の存在は、ＬＴＨＣ層のレセプタへの転写をなくすか低減することができ、および／または転写層の転写された部分の歪みを低減することができる。好ましくは、画像形成条件下において、中間層のＬＴＨＣ層への接着力は、中間層の転写層への接着力より大きい。いくつかの場合、反射性または吸収性中間層を使用して、中間層を透過した画像形成放射線のレベルを減衰させ、透過した放射線と転写層および／またはレセプタとの相互作用から生じることがある、転写層の転写された部分のいかなる損傷も低減することができる。これは、レセプタが画像形成放射線を高度に吸収する場合に発生することがある熱損傷を低減する際に特に有益である。
【００４４】
長さおよび幅寸法が１メートル以上である熱転写要素を含む大きい熱転写要素を使用することができる。動作中、レーザを、大きい熱転写要素を横切って、ラスタする（ｒａｓｔｅｒｅｄ）か他の態様で移動させることができ、レーザは、所望のパターンに従って熱転写要素の部分を照射するように選択的に動作される。あるいは、レーザは静止していてもよく、熱転写要素をレーザの下で移動させてもよい。
【００４５】
熱転写ドナー基板はポリマーフィルムであることができる。１つの適切なタイプのポリマーフィルムは、ポリエステルフィルム、たとえば、ポリエチレンテレフタレートフィルムまたはポリエチレンナフタレートフィルムである。しかし、特定の波長における光の高透過を含む十分な光学特性（光が加熱および転写のために使用される場合）、ならびに特定の用途に十分な機械的安定性および熱安定性を有する他のフィルムを使用することができる。ドナー基板は、少なくともいくつかの場合、平坦であり、そのため、その上に均一なコーティングを形成することができる。ドナー基板は、また、典型的には、ＬＴＨＣ層の加熱にもかかわらず安定したままである材料から選択される。ドナー基板の典型的な厚さは、０．０２５から０．１５ｍｍ、好ましくは０．０５から０．１ｍｍであるが、より厚いまたはより薄いドナー基板を使用してもよい。
【００４６】
典型的には、ドナー基板およびＬＴＨＣ層を形成するために使用される材料は、ＬＴＨＣ層とドナー基板との間の接着を向上させるように選択される。任意の下塗り層を使用して、その後の層のコーティングの間、均一性を増加させることができ、また、ＬＴＨＣ層とドナー基板との間の中間層接合強度を増加させることができる。プライマー層を備えた適切な基板の一例が、帝人株式会社（Ｔｅｉｊｉｎ  Ｌｔｄ．）（製品Ｎｏ．ＨＰＥ１００、日本、大阪（Ｏｓａｋａ，Ｊａｐａｎ））から入手可能である。
【００４７】
任意の中間層を、熱転写要素のＬＴＨＣ層と転写層との間に配置して、転写層の転写された部分の損傷および汚染を最小にすることができ、任意の中間層は、また、転写層の転写された部分の歪みを低減することができる。中間層は、また、転写層の熱転写要素の残りへの接着に影響を及ぼすことができる。典型的には、中間層は高耐熱性を有する。好ましくは、中間層は、特に、転写された画像を非機能的にする程度に、画像形成条件下で歪まないし化学的に分解しない。中間層は、典型的には、転写プロセスの間にＬＴＨＣ層と接触したままであり、実質的に転写層とともに転写されない。
【００４８】
中間層は、いくつかの利益をもたらすことができる。中間層は、光−熱変換層へのまたは光−熱変換層からの材料の転写に対するバリヤであることができる。それは、また、熱不安定材料を転写することができるように、転写層で達成される温度を調整することができる。中間層の存在は、また、転写された材料の向上したプラスチックメモリをもたらすことができる。
【００４９】
熱転写要素は、任意の剥離層を含むことができる。任意の剥離層は、典型的には、たとえば発光源または加熱要素による、熱転写要素の加熱時に、転写層の、熱転写要素の残り（たとえば、中間層および／またはＬＴＨＣ層）からの剥離を促進する。少なくともいくつかの場合、剥離層は、熱に曝す前、転写層の熱転写要素の残りへのいくらかの接着をもたらす。
【００５０】
剥離層は、転写層の一部であっても、別個の層であってもよい。剥離層のすべてまたは一部を転写層で転写してもよい。あるいは、転写層が転写されるとき、剥離層のほとんどまたは実質的にすべてが、ドナー基板とともに残ることができる。いくつかの場合、たとえば、昇華可能な材料を含む剥離層では、剥離層の一部を転写プロセスの間に消散させてもよい。
【００５１】
本発明の熱転写要素の転写層は、レセプタへの転写のための１つ以上の層を含むことができる。これらの１つ以上の層を、有機材料、無機材料、有機金属材料、および他の材料を使用して形成してもよい。転写層を、１つ以上の別々の層を有すると説明し例示したが、１つを超える層が使用される少なくともいくつかの場合、各層の少なくとも一部を含む界面領域があってもよいことが理解されるであろう。これは、たとえば、転写層の転写前、間、または後、層の混合または層間の材料の拡散がある場合に、生じてもよい。他の場合、転写層の転写前、間、または後、個別の層を完全にまたは部分的に混合してもよい。いずれにせよ、これらの構造は、特に、デバイスの異なった機能が異なった領域によって行われる場合に、１つを超える独立した層を含むと言及される。
【００５２】
転写層は、レセプタへの接着を促進するために、転写層の外面上に配置された接着剤層を含んでもよい。接着剤層は、たとえば、接着剤層がレセプタと転写層の他の層との間で電荷を伝導する場合、動作層であってもよいし、たとえば、接着剤層が転写層をレセプタに接着するだけである場合、非動作層であってもよい。接着剤層は、たとえば、導電性および非導電性ポリマー、導電性および非導電性充填ポリマー、および／または導電性および非導電性分散系を含む熱可塑性ポリマーを使用して形成してもよい。
【００５３】
転写層は、また、熱転写要素の残りと接触する転写層の表面上に配置された剥離層を含んでもよい。上述されたように、転写層の転写時、この剥離層は転写層の残りとともに部分的にまたは完全に転写してもよいし、剥離層の実質的にすべてが熱転写要素とともに残ってもよいし、剥離層は全体的にまたは部分的に消散してもよい。適切な剥離層は上述した。
【００５４】
転写層を別々の層で形成してもよいが、少なくともいくつかの実施形態において、転写層が、デバイスにおける多数の構成要素および／または多数の使用を有する層を含んでもよいことが理解されるであろう。少なくともいくつかの実施形態において、２つ以上の別々の層を、転写の間ともに溶融してもよいし、他の態様で混合するか組合せてもよいことも理解されるであろう。いずれにせよ、これらの層は、混合されるか組合されるが、個別の層と呼ぶ。
【００５５】
１つ以上の単または多成分転写ユニットの転写によりＯＥＬ（有機エレクトロルミネセンス）デバイスの少なくとも一部を形成することは、熱転写要素を使用するアクティブデバイスの形成の、特に例示的な、非限定的な例を提供する。少なくともいくつかの場合、ＯＥＬデバイスは、カソードとアノードとの間に挟まれた、１つ以上の適切な有機材料の１つまたは複数の薄い層を含む。電子がカソードから有機層に注入され、正孔がアノードから有機層に注入される。注入された電荷が、反対に帯電された電極の方に移動するとき、それらは、再結合して、典型的には励起子と呼ばれる電子−正孔対を形成してもよい。これらの励起子、または励起状態種は、それらが基底状態に減衰して戻るにつれて、光の形態のエネルギーを発することができる（たとえば、ツツイ（Ｔｓｕｔｓｕｉ）、ＭＲＳブレティン（ＭＲＳ  Ｂｕｌｌｅｔｉｎ）、２２：３９−４５（１９９７）を参照のこと）。
【００５６】
ＯＥＬデバイス構造の例示的な例としては、電荷搬送および／または発光種がポリマーマトリックス中に分散された分子分散ポリマーデバイス（たとえば、キド（Ｋｉｄｏ）、トレンズ・イン・ポリマー・サイエンス（Ｔｒｅｎｄｓ  ｉｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ）、２：３５０−３５５（１９９４）を参照のこと）、ポリフェニレンビニレンなどのポリマーの層が電荷搬送および発光種として作用する共役ポリマーデバイス（たとえば、ホールズ（Ｈａｌｌｓ）ら、シン・ソリッド・フィルムズ（Ｔｈｉｎ  Ｓｏｌｉｄ  Ｆｉｌｍｓ）、２７６：１３−２０（１９９６）を参照のこと）、蒸着小分子ヘテロ構造デバイス（たとえば、米国特許第５，０６１，５６９号明細書（バンスライク（ＶａｎＳｌｙｋｅ）ら）およびチェン（Ｃｈｅｎ）ら、マクロモルキュラー・シンポジア（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｓｙｍｐｏｓｉａ）、１２５：１−４８（１９９７）を参照のこと）、発光電気化学電池（たとえば、ペイ（Ｐｅｉ）ら、ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ（Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）、１１８：３９２２−３９２９（１９９６）を参照のこと）、および多数の波長の光を発することができる、垂直スタック有機発光ダイオード（たとえば、米国特許第５，７０７，７４５号明細書（フォレスト（Ｆｏｒｒｅｓｔ）ら）およびシェン（Ｓｈｅｎ）ら、サイエンス（Ｓｃｉｅｎｃｅ）、２７６：２００９−２０１１（１９９７）を参照のこと）が挙げられる。
【００５７】
ここで使用されるように、「小分子」という用語は、非ポリマー有機分子、無機分子、または有機金属分子を指し、「有機小分子」という用語は、非ポリマー有機分子または有機金属分子を指す。ＯＥＬデバイスにおいて、小分子材料は、エミッタ層として、電荷輸送層として、エミッタ層（たとえば、発される色を制御するために）または電荷輸送層のドーパントなどとして使用することができる。
【００５８】
ディスプレイ用途などの多くの用途の場合、カソードおよびアノードの少なくとも１つが、エレクトロルミネセンスデバイスによって発された光に対して透明であることが好ましい。これは、デバイスの配向（すなわち、アノードまたはカソードが基板により近いか）および発光の方向（すなわち、基板を通ってまたは基板から離れて）による。
【００５９】
アノードおよびカソードは、典型的には、たとえば、金、白金、パラジウム、アルミニウム、チタン、窒化チタン、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化フッ素スズ（ｆｌｕｏｒｉｎｅ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）（ＦＴＯ）、およびポリアニリンを含む、金属、合金、金属化合物、金属酸化物、導電性セラミックス、導電性分散系、および導電性ポリマーなどの導電性材料を使用して形成される。アノードおよびカソードは、導電性材料の１つの層であることができるか、多数の層を含むことができる。たとえば、アノードまたはカソードは、アルミニウムの層および金の層、アルミニウムの層およびフッ化リチウムの層、または金属層および導電性有機層を含んでもよい。導電性有機層（たとえば、厚さ０．１から５マイクロメートル）と、薄い金属層または金属化合物層（たとえば、１００から１０００オングストローム）とからなる２層カソード（またはアノード）を提供することが特に有用であろう。そのような二層電極構造は、デバイスの、下にある湿気または酸素に敏感な層（たとえば、有機発光層）を損傷することがある湿気または酸素に対してより耐性があってもよい。そのような損傷は、薄い金属層にピンホールがある場合に発生することがあり、これらは、導電性有機層によって被覆しシールすることができる。損傷および／またはデバイス破損は、薄い金属層の亀裂または破壊によって引起されることがある。導電性有機層の追加は、金属層を破壊に対してより耐性にすることができるか、腐食性物質に対する拡散バリヤとして、および破壊が発生するとき導電性ブリッジとして作用することができる。
【００６０】
正孔輸送層は、デバイスへの正孔の注入およびカソードの方へのそれらの移動を促進する。正孔輸送層は、さらに、アノードへの電子の通過のためのバリヤとして作用することができる。正孔輸送層は、たとえば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン（ＴＰＤとしても知られている）などのジアミン誘導体、またはＮ，Ｎ’−ビス（３−ナフタレン−２−イル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（フェニル）ベンジジン（ＮＢＰ）などの他の正孔導電性材料を含むことができる。一般に、正孔輸送層は、有機小分子材料、導電性ポリマー、有機小分子でドープされたポリマーマトリックス、および他の適切な有機または無機導電性材料または半導性材料を含むことができる。
【００６１】
電子輸送層は、電子の注入およびアノードの方へのそれらの移動を促進する。電子輸送層は、さらに、カソードへの正孔の通過のためのバリヤとして作用することができる。
【００６２】
エミッタ層は、しばしば、たとえばトリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム（ＡＬＱ）などの金属キレート化合物から形成される。エミッタ層は、また、ポリ（フェニレンビニレン）（ＰＰＶ）、ポリ−パラ−フェニレン（ＰＰＰ）、およびポリフルオレン（ＰＦ）などの発光ポリマー；ＡＬＱが一例である有機小分子材料；有機小分子でドープされたポリマー；および他の適切な材料を含むことができる。
【００６３】
任意に、電子輸送層は、ここで説明されるような蛍光染料または燐光（ｐｈｏｓｐｏｒｅｓｃｅｎｔ）染料でドープすることができる。ドープされた電子輸送層は、電子輸送／エミッタ層とここで呼ぶことがある。好ましい実施形態において、電子輸送層は青色蛍光染料でドープされる。
【００６４】
電子輸送／エミッタ層を含む実施形態の場合、正孔輸送層と電子輸送／エミッタ層との間の界面は、正孔および電子の通過のためのバリヤを形成し、それにより、正孔／電子再結合ゾーンを作り、効率的な有機エレクトロルミネセンスデバイスを提供する。エミッタ材料がＡＬＱである場合、ＯＥＬデバイスは青緑色光を発する。異なった色の発光は、電子輸送／エミッタ層の異なったエミッタおよびドーパントの使用によって達成してもよい（たとえば、チェン（Ｃｈｅｎ）ら、マクロモルキュラー・シンポジア（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｓｙｍｐｏｓｉａ）、１２５：１−４８（１９９７）を参照のこと）。
【００６５】
電子輸送／エミッタ層と第２のエミッタ層とを含む実施形態の場合、電子輸送／エミッタ層を、再結合および発光が第２のエミッタ層に制限されるように、電子輸送層として単独で機能するように準備することができる。好ましくは、この構造は、効率的な有機エレクトロルミネセンスデバイスを提供することができる。
【００６６】
他のＯＥＬ多層デバイス構造は、たとえば、またエミッタ層である正孔輸送層を含んでもよい。あるいは、正孔輸送層および電子輸送／エミッタ層を組合せて１つの層にすることができる。さらに、別個のエミッタ層を正孔輸送層と電子輸送層との間に介在させることができる。
【００６７】
ＯＥＬ材料および層をパターニングして、ＯＥＬデバイスを形成することは、従来のパターニング技術でのいくつかの困難、およびどのようにこれらの困難を本発明によって克服することができるかを示すのに特に適した例を提供する。従来のパターニング技術では、ディスプレイ基板上に他の層をコーティングまたはパターニングするために使用される溶媒またはエッチャントに曝されることからの腐食、浸透、または溶解に対する感受性によって使用することができないいくつかの材料または層があることがある。したがって、溶媒コーティング層が溶媒感受性層上にコーティングされるので、またはエッチャントがエッチャント感受性である他の層の上の層をパターニングするために使用されるので、従来の技術によって製造することができないデバイス構造および／またはディスプレイ構造があることがある。たとえば、基板上のアノードと、アノード上の小分子正孔輸送層と、正孔輸送層上の発光ポリマーエミッタと、エミッタ層上のカソードとを含むＯＥＬデバイスを形成する際に、発光ポリマーをコーティングするために使用される溶媒が、従来の処理技術下で正孔輸送層を損傷することがある。同じ制限は、一方が発光ポリマーエミッタ層を含有してもよく、他方が有機小分子エミッタ層を含有してもよい隣接したＯＥＬデバイスの従来のパターニングに当てはまるであろう。これらの制限は、本発明の熱パターニング方法を用いて克服することができる。これらの制限を克服することは、可能なデバイス構造および材料代替物のより広い範囲を可能にし、これらを用いて、他の態様では達成されないかもしれない、輝度、寿命、色純度、効率などの特徴を示すＯＥＬデバイスおよびディスプレイを達成してもよい。したがって、本発明は、新たなＯＥＬデバイス構造およびディスプレイ構造ならびに新たなパターニング方法を提供する。
【００６８】
説明されるように、１つ以上のドナー要素からの選択的な熱転写によって、ＯＥＬデバイスを形成することができる。多数のデバイスをまたレセプタ上に転写して、ピクシレート化（ｐｉｘｉｌａｔｅｄ）ディスプレイを形成することができる。あるいは、赤色、緑色、および青色熱転写要素を互いの上に転写して、米国特許第５，７０７，７４５号明細書（フォレスト（Ｆｏｒｒｅｓｔ）ら）に開示されたタイプのマルチカラースタックＯＬＥＤデバイスを作ることができる。
【００６９】
マルチカラーピクシレート化ＯＥＬディスプレイを形成するためのさらに別の方法は、３つの別個のドナーから、赤色、緑色、および青色エミッタ（たとえば）をパターニングし、次に、別個の工程で、１つのドナー要素からカソード（および、任意に、電子輸送層）をすべてパターニングすることである。このように、各ＯＥＬデバイスは、少なくとも２つの熱転写によってパターニングされ、その最初が、エミッタ部分（および、任意に、接着剤層、バッファ層、アノード、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロッキング層など）をパターニングし、その２番目がカソード部分（および、任意に、電子注入層、電子輸送層、正孔ブロッキング層など）をパターニングする。
【００７０】
２つ以上のドナー要素（たとえば、エミッタドナーおよびカソードドナー）の間でデバイス層を分けることの１つの利点は、同じドナー要素を使用して、パッシブマトリックスまたはアクティブマトリックスディスプレイ構造のためのＯＥＬデバイスのエミッタ部分をパターニングすることができることである。一般に、アクティブマトリックスディスプレイは、デバイスすべての上に堆積された共通カソードを含む。この構造の場合、カソードを含むエミッタスタックの熱転写は必要でなく、カソードのない転写スタックを有することが望ましいであろう。パッシブマトリックスディスプレイの場合、カソードのないドナーを使用して、エミッタ部分の各々（マルチカラーが望ましい場合、各色について異なったドナー）を転写し、その後、各デバイスについて、同じ別個のドナー要素から、カソードをパターニングすることができる。あるいは、パッシブマトリックスディスプレイのカソードを、ワイ−エイチ・タク（Ｙ．−Ｈ  Ｔａｋ）ら、シンセティック・メタルズ（Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ  Ｍｅｔａｌｓ）、１３８：４９７（２００３）によって説明された方法を用いてパターニングすることができ、共通カソードを、基板に付与し、その後、レーザアブレーションプロセスによって分離する。したがって、さまざまなエミッタドナーをさまざまなディスプレイ構造のために使用することができる。
【００７１】
本発明の別の利点は、ＯＥＬデバイスを、たとえば、説明された方法に従って転写しパターニングして、異なった、および他の態様では不適合なタイプのエミッタ材料を有する隣接したデバイスを形成することができることである。たとえば、赤色発光有機小分子デバイス（たとえば、アクティブ蒸着小分子層を使用するもの）を、青色発光（ｂｌｕｅ−ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ）ポリマーデバイス（たとえば、アクティブ溶液コーティング発光ポリマー層を使用するもの）と同じレセプタ上にパターニングすることができる。これは、同じまたは隣接したデバイスの他の材料に用いられる特定のコーティング技術および／またはパターニング技術との適合性ではなく、機能性（たとえば、輝度、効率、寿命、導電性、パターニング後の物理特性（たとえば、可撓性など））に基づいて発光材料（および他のデバイス層材料）を選択するためのフレキシビリティを可能にする。ＯＥＬディスプレイの異なった色のデバイスについて異なったタイプのエミッタ材料を選択することができることは、相補的なデバイス特徴を選択する際により大きいフレキシビリティを与えることができる。異なったタイプのエミッタを使用することができることは、また、１つのＯＥＬデバイスのための好ましいエミッタ材料が別のＯＥＬデバイスのための好ましいエミッタ材料と不適合である場合に、重要になり得る。
【００７２】
基板は、透明なフィルム、ディスプレイブラックマトリックス、電子ディスプレイのパッシブ部分およびアクティブ部分（たとえば、電極、薄膜トランジスタ、有機トランジスタなど）、金属、半導体、ガラス、さまざまな紙、およびプラスチックを含むがこれらに限定されない、特定の用途に適したいかなるアイテムであってもよい。本発明に使用することができる基板の非限定的な例としては、アノード処理アルミニウムおよび他の金属、プラスチックフィルム（たとえば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン）、酸化インジウムスズコーティングプラスチックフィルム、ガラス、酸化インジウムスズコーティングガラス、フレキシブル回路、回路基板、シリコンまたは他の半導体、およびさまざまな異なったタイプの紙（たとえば、充填されたもしくは充填されていない、カレンダ加工された、またはコーティングされた）が挙げられる。ＯＥＬディスプレイの場合、使用される基板のタイプは、しばしば、ディスプレイが、上部発光ディスプレイ（ビューアと基板との間に位置決めされた１つまたは複数のエミッタ層）、下部発光ディスプレイ（ビューアと１つまたは複数のエミッタ層との間に位置決めされた基板）、または上部および下部発光ディスプレイの両方であるかによる。上部発光ディスプレイの場合、基板は、透明である必要はない。下部発光ディスプレイの場合、透明な基板が典型的には望ましい。
【００７３】
基板がレセプタとして（たとえば、熱転写された層のためのレセプタとして）使用される場合、さまざまな層（たとえば、接着剤層）を基板上にコーティングして、転写層のレセプタへの転写を促進してもよい。他の層を基板上にコーティングして、多層デバイスの一部を形成してもよい。たとえば、熱転写要素からの転写層の転写の前に基板上に形成された金属および／または導電性有機アノードまたはカソードを有する基板を使用して、ＯＥＬまたは他の電子デバイスを形成してもよい。たとえば、任意の適切な方法、たとえば、フォトリソグラフィ技術またはここに教示される熱転写技術を用いて、１つ以上の導電層を基板上に堆積させ（ｄｅｐｏｓｉｔｎｇ）、層をパターニングして１つ以上のアノードまたはカソードにすることによって、アノードまたはカソードを形成してもよい。
【００７４】
多層デバイスをパターニングするための特に有用な基板は、電極の少なくとも一部の上の絶縁バリヤのパターンとともに、共通電極、または電極のパターンを有するものである。絶縁バリヤは、レセプタ電極と、多層スタックとともにまたは多層スタックの上に転写された対向する電極との間の電気的短絡を防止するのを助けるために、多層デバイスの端縁の意図された位置に対応するパターンで設けることができる。これは、パッシブマトリックスディスプレイに特に有用である。また、アクティブマトリックスディスプレイ構造において、絶縁バリヤは、一般に設けられる共通電極からアクティブマトリックスのトランジスタを隔離するのを助けることができる。これは、デバイス効率を低減することがある漏れ電流および寄生キャパシタンスを防止するのを助けることができる。
【００７５】
エレクトロルミネセンス（ＥＬ）デバイスは、ビューア位置の方に光を発し、「下部アノード」または「上部アノード」と特徴づけてもよい。「下部アノード」および「上部アノード」という用語は、アノード、基板、およびカソードの相対位置を示す。「下部アノード」デバイスにおいて、アノードは基板とカソードとの間に位置決めされる。「上部アノード」デバイスにおいて、カソードはアノードと基板との間に位置決めされる。ここで説明されるいくつかの実施形態において、基板は、レセプタ、またはレセプタの一部（たとえば、熱転写された材料のためのレセプタ）であってもよい。
【００７６】
下部アノードデバイスおよび上部アノードデバイスは、「下部発光」または「上部発光」とさらに特徴づけてもよい。「下部発光」および「上部発光」という用語は、基板、１つまたは複数のエミッタ層、およびビューアの相対位置を示す。ビューア位置は、「ビューア」が、人の観察者、スクリーン、光学構成要素、電子デバイスなどであろうと、一般に、発された光の意図された目的位置を示す。下部発光ＥＬデバイスにおいて、透明なまたは半透明な基板が、１つまたは複数のエミッタ層とビューアとの間に位置決めされる。逆の、すなわち上部発光構成において、１つまたは複数のエミッタ層は基板とビューアとの間に位置決めされる。
【００７７】
一般に、ここに開示されるデバイス構造は、本発明の好ましい実施形態を例示するために簡略化された態様で示されている。特定のデバイスの構造に望ましい１つまたは複数の付加的な層を含めることは、当業者には明らかであろう。したがって、ここに示されるデバイス構造は、ここで説明される特定の層のみに限定されることが意図されないが、必要に応じて付加的な層を含むと広く解釈されるべきである。
【００７８】
ここで図面を参照すると、図１Ａから図１Ｃは、本発明によるエレクトロルミネセンスデバイスの組立てを示し、特に「下部アノード」構成を示す。
【００７９】
第１のエミッタ（たとえば、赤色、緑色、または青色発光）を含む１つ以上のパターニングされたエミッタ層１３０が、アノード、またはアノードに取付けられた層であってもよいレセプタ１２０上に配置される。いくつかの実施形態において、パターニングされたエミッタ層１３０は、第１のエミッタと同じでも異なってもよい不揮発性成分を含む。いくつかの実施形態において、パターニングされたエミッタ層１３０は、第１のエミッタを含む転写層の一部をレセプタ１２０に選択的に熱転写することによって、レセプタ１２０上に配置されて、パターニングされたエミッタ層１３０を形成する。
【００８０】
任意に、図１Ｂを参照すると、付加的なエミッタを含む１つ以上の付加的なパターニングされたエミッタ層１４０を、レセプタ１２０上に配置してもよい。いくつかの実施形態において、パターニングされたエミッタ層１４０は、付加的なエミッタと同じでも異なってもよい不揮発性成分を含んでもよい。いくつかの実施形態において、付加的なパターニングされたエミッタ層１４０は、付加的なエミッタを含む１つ以上の付加的な転写層の一部を選択的に熱転写することによって、レセプタ１２０上に配置される。好ましくは、付加的なエミッタは、第１のエミッタと異なった色の光を発する。
【００８１】
図１Ｃを参照すると、次に、第２のエミッタを含む層を、パターニングされたエミッタ層上に配置して、パターニングされていないエミッタ層１５０（たとえば、赤色、緑色、または青色発光）を形成する。好ましくは、第２のエミッタ層１５０は、第１のエミッタ層１３０およびいかなる付加的なエミッタ層１４０と異なった色の光を発する。
【００８２】
いくつかの実施形態において、レセプタ１２０は溶媒感受性である。レセプタ１２０は、また、たとえば、正孔輸送層、正孔注入層、電子ブロッキング層、誘電体層、パッシベーション層、またはそれらの組合せであってもよい。レセプタ１２０を、たとえば、好ましくはパターニングされたアノード１１０に取付けてもよい。付加的な層をレセプタ１２０とアノード１１０との間に配置してもよい。たとえば、レセプタ１２０が正孔輸送層である場合、正孔注入層１１４をレセプタ１２０とアノード１１０との間に配置してもよい。さらに、アノード１１０を基板１０５に取付けてもよい。
【００８３】
パターニングされていないエミッタ層１５０は、さらに、たとえば、任意にドープしてもよい（たとえば、蛍光染料または燐光染料で）電子輸送層、任意にドープしてもよい（たとえば、蛍光染料または燐光染料で）正孔ブロッキング層、またはそれらの組合せであってもよい。カソード１６０を、パターニングされていないエミッタ層１５０上に配置してもよい。
【００８４】
エレクトロルミネセンスデバイスが下部発光デバイスである実施形態の場合、アノード１１０および基板１０５は透明であり、カソード１６０は好ましくは不透明である。
【００８５】
エレクトロルミネセンスデバイスが上部発光デバイスである実施形態の場合、カソード１６０は透明であり、アノード１１０および／または基板１０５は好ましくは不透明である。
【００８６】
基板１０５、アノード１１０、およびカソード１６０がすべて透明である構成は、上部発光および下部発光の両方であるとみなされる。
【００８７】
図２Ａから図２Ｃは、本発明によるエレクトロルミネセンスデバイスの組立てを示し、特に「上部アノード」構成を示す。
【００８８】
第１のエミッタ（たとえば、赤色、緑色、または青色発光）を含むパターニングされていない層２２０が提供される。第２のエミッタを含む１つ以上のパターニングされたエミッタ層２３０が、パターニングされていないエミッタ層２２０上に配置される。いくつかの実施形態において、パターニングされたエミッタ層２３０は、第２のエミッタと同じでも異なってもよい不揮発性成分を含む。いくつかの実施形態において、パターニングされたエミッタ層２３０は、第２のエミッタを含む転写層の一部を、パターニングされていないエミッタ層２２０に選択的に熱転写することによって、パターニングされていないエミッタ層２２０上に配置されて、パターニングされたエミッタ層２３０を形成する。
【００８９】
任意に、図２Ｂを参照すると、付加的なエミッタを含む１つ以上の付加的なパターニングされたエミッタ層２４０を、パターニングされていないエミッタ層２２０上に配置してもよい。いくつかの実施形態において、パターニングされたエミッタ層２４０は、付加的なエミッタと同じでも異なってもよい不揮発性成分を含んでもよい。いくつかの実施形態において、付加的なパターニングされたエミッタ層２４０は、付加的なエミッタを含む１つ以上の付加的な転写層の一部を選択的に熱転写することによって、パターニングされていないエミッタ層２２０上に配置される。好ましくは、付加的なエミッタは、第１および第２のエミッタと異なった色の光を発する。
【００９０】
任意に、図２Ｃを参照すると、アノード２５０を、パターニングされたエミッタ層２３０および存在する場合は付加的なパターニングされたエミッタ層２４０上に配置してもよい。付加的な層を、アノード２５０と、パターニングされたエミッタ層２３０および存在する場合はパターニングされたエミッタ層２４０との間に配置してもよい。たとえば、正孔輸送層、正孔注入層、または電子ブロッキング層２４４を、アノード２５０と、パターニングされたエミッタ層２３０および存在する場合はエミッタ層２４０との間に配置してもよい。
【００９１】
いくつかの実施形態において、パターニングされていないエミッタ層２２０は溶媒感受性である。パターニングされていないエミッタ層は、さらに、たとえば、任意にドープしてもよい（たとえば、蛍光染料または燐光染料で）電子輸送層、任意にドープしてもよい（たとえば、蛍光染料または燐光染料で）正孔ブロッキング層、任意にドープしてもよい（たとえば、蛍光染料または燐光染料で）電子注入層、またはそれらの組合せであってもよい。パターニングされていないエミッタ層２２０を、たとえば、好ましくはパターニングされたカソード２１０に取付けてもよい。さらに、カソード２１０を、たとえば基板２０５に取付けてもよい。
【００９２】
エレクトロルミネセンスデバイスが下部発光デバイスである実施形態の場合、カソード２１０は透明であり、基板２０５は、存在する場合、透明であり、アノード２５０は好ましくは不透明である。
【００９３】
エレクトロルミネセンスデバイスが上部発光デバイスである実施形態の場合、アノード２５０は透明であり、カソード２１０および／または基板２０５は好ましくは不透明である。
【００９４】
基板２０５、アノード２５０、およびカソード２１０がすべて透明である構成は、上部発光および下部発光の両方であるとみなされる。
【００９５】
図１Ａから図１Ｃおよび図２Ａから図２Ｃに概略的に示されたデバイスは、好ましくは、信号をアノードおよびカソードに与えることによって光を発するように動作可能である。好ましくは、信号は、エミッタをアドレスするように動作可能であり、その後、エミッタは光を発する。一般に、ここに上で定義されたようなアクティブまたはパッシブアドレッシング機構を用いて、ピクセルまたはサブピクセルのアレイをアドレスしてもよい。フルカラーディスプレイデバイスおよび調整可能なライティングデバイスの両方が、本発明の範囲内で可能である。フルカラーディスプレイデバイスは、一般に、各々が、赤色、緑色、および青色光などの異なった色の光を発する３つのエミッタを使用する。調整可能なライティングデバイスは、一般に、各々が異なった色の光を発する２つのエミッタを使用する。デバイスを、電流をピクセル内のサブピクセルの各々に与えることによって動作させてもよい。電流とサブピクセルとの比の変化は、ピクセルから発される光の色および輝度の両方に影響を及ぼす。
【実施例】
【００９６】
本発明は、次の非限定的な実施例によって例示され、次の非限定的な実施例を参照してより完全に理解されるであろう。特定の実施例、材料、量、および手順は、ここに記載されるような本発明の範囲および精神に従って広く解釈されるべきである。
【００９７】
特に明記しない限り、部はすべて重量部であり、比およびパーセンテージはすべて重量による。簡潔にするため、さまざまな略記が、実施例で使用され、次の表に示されるように、意味を与えられ、および／または市販の材料を説明する。
【００９８】
【表１】
0005603289.tif 000002
【表２】
0005603289.tif 000003
【００９９】
上記表に特定されていない材料は、特に明記しない限り、ウィスコンシン州ミルウォーキーのアルドリッチ・ケミカル・カンパニー（Ａｌｄｒｉｃｈ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｍｉｌｗａｕｋｅｅ，ＷＩ）から得られた。
【０１００】
ドナーフィルムの一般的な準備
ドナーフィルムを、各実施例で使用し、この一般的な準備で説明されるように準備した。３．５５部のレーブン（Ｒａｖｅｎ）７６０ウルトラ（Ｕｌｔｒａ）、０．６３部のビュートバー（Ｂｕｔｖａｒ）Ｂ−９８、１．９０部のジョンクリル（Ｊｏｎｃｒｙｌ）６７、０．３２部のディスパービック（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ）１６１、０．０９部のＦＣ界面活性剤、１２．０９部のエベクリル（Ｅｂｅｃｒｙｌ）６２９、８．０６部のエルバサイト（Ｅｌｖａｃｉｔｅ）２６６９、０．８２部のイルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）３６９、０．１２部のイルガキュア１８４、４５．３１部の２−ブタノン、および２７．１９部の１，２−プロパンジオールモノメチルエーテルアセテートを混合することによって、ＬＴＨＣ溶液を準備した。この溶液を、１インチあたり１１０の螺旋セルを有するマイクログラビアロールを備えた、ヤスイ・セイキ・ラボ・コータ（Ｙａｓｕｉ  Ｓｅｉｋｉ  Ｌａｂ  Ｃｏａｔｅｒ）、モデルＣＡＧ−１５０を使用して、Ｍ７Ｑフィルム上にコーティングした。ＬＴＨＣコーティングを８０℃でインライン乾燥させ、１００％のエネルギー出力（ＵＶＡ３２０から３９０ｎｍ）で６．１ｍ／ｍｉｎの照射速度でフュージョンＵＶシステムズ・インコーポレイテッド（Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ  Ｓｙｓｔｅｍｓ  Ｉｎｃ．）６００ワットＤバルブによって供給されるＵＶ放射線下で硬化させた。
【０１０１】
１４．８５部のＳＲ  ３５１ＨＰ、０．９３部のビュートバーＢ−９８、２．７８部のジョンクリル６７、１．２５部のイルガキュア３６９、０．１９部のイルガキュア１８４、４８部の２−ブタノン、および３２部の１−メトキシ−２−プロパノールを混合することによって、中間層溶液を製造した。この溶液を、１線インチあたり１８０の螺旋セルを有するマイクログラビアロールを備えた、ヤスイ・セイキ・ラボ・コータ、モデルＣＡＧ−１５０を使用して、輪転グラビア方法によって、硬化されたＬＴＨＣ層上にコーティングした。このコーティングを６０℃でインライン乾燥させ、コーティングを６０％のエネルギー出力（ＵＶＡ３２０から３９０ｎｍ）で６．１ｍ／ｍｉｎでフュージョンＵＶシステムズ・インコーポレイテッド６００ワットＤバルブの下を通過させることによって供給されるＵＶ放射線下で硬化させた。
【０１０２】
実施例１
実施例１は、本発明によるエレクトロルミネセンスデバイスを製造する方法を示し、第１のエミッタを含む転写層をレセプタに選択的に熱転写して、パターニングされたエミッタ層を形成し、第２のエミッタを含む層を、パターニングされたエミッタ層上に配置して、パターニングされていないエミッタ層を設ける。
【０１０３】
レセプタの準備
ＰＥＤＯＴを、プラディスク（Ｐｕｒａｄｉｓｃ）フィルタを使用して２回濾過し、ブロックピクセルＩＴＯガラス基板上にスピンコーティングして、乾燥厚さが４０ｎｍの層をもたらした。コーティングされたガラス基板を５分間２００℃で窒素雰囲気下で焼成した。メタノールを使用して、コーティング層をＩＴＯ領域の部分から選択的に除去して、レセプタを電源に接続するための接触領域を設けた。
【０１０４】
ドナーの準備
ＬＥＰ（黄色エミッタ）およびＰＳを１：３の重量比で組合せ、ＨＰＬＣグレードトルエンで１．５８重量％に希釈し、加熱し７０℃で撹拌し、プラディスクフィルタを使用して１回濾過し、一般的な準備で説明されたように準備されたドナーフィルム上にスピンコーティングして、乾燥厚さが９０ｎｍの転写層をもたらした。
【０１０５】
パターニングされたエミッタ層の選択的な熱転写
ドナーからの転写層を、ＬＩＴＩによってレセプタ上に画像形成して、パターニングされたエミッタ層をもたらした。２つのレーザを、１６ワットの電力で、一方向スキャンで、三角形ディザパターンおよび４００ＫＨｚの周波数で使用した。要求された線幅は１００マイクロメートルであり、ピッチは２２５マイクロメートルであり、線量は０．６５０Ｊ／ｃｍ２であった。
【０１０６】
パターニングされていないエミッタ層の堆積
材料が、電源に接続するためのＩＴＯ接触領域上に堆積されることを防止するシャドーマスクを使用して、約１０−５トルの真空下で、約０．５〜１重量％のペリレン青色染料でドープされたＢＡｌｑの厚さ５００Åの層を、標準真空蒸着技術によって、パターニングされたエミッタ層上に堆積させた。
【０１０７】
カソードの堆積
ＬｉＦの厚さ１０Åのフィルムおよびその後のアルミニウムの厚さ２０００Åのフィルムからなる２層カソードを、パターニングされていないエミッタ層上に順次堆積させた。堆積は、約１０−６トルの真空下で、カソードとレセプタ上のＩＴＯ接触領域との間の接触を考慮する第２のシャドーマスクを使用して行った。
【０１０８】
実施例１に対応する対照デバイスの準備
パターニングされたエミッタ層からの黄色発光色が、パターニングされていないエミッタ層中のペリレン青色染料の存在によって影響されないことを実証するために、実施例１のデバイスに対応する対照デバイスを準備した。
【０１０９】
対照デバイスは、実施例１で使用されたものと同様のレセプタを含んだ。ＬＥＰ（黄色エミッタ）およびＰＳを１：３の重量比で組合せ、ＨＰＬＣグレードトルエンで１．５８重量％に希釈し、加熱し７０℃で撹拌し、プラディスクフィルタを通して１回濾過し、すぐにレセプタ上にスピンコーティングして、９０ｎｍの乾燥厚さにした。これにより、組成が実施例１のパターニングされたエミッタ層に対応するパターニングされていないエミッタ層が設けられた。コーティング層をＩＴＯ領域の部分から選択的に除去して、レセプタを電源に接続するための接触領域を設けた。
【０１１０】
ペリレン青色染料を含有する層を準備し、パターニングされていないエミッタ層上に堆積させた。より具体的には、約０．５〜１重量％のペリレン青色染料でドープされたＢＡｌｑの厚さ５００Åの層を、約１０−５トルの真空下で、標準真空蒸着技術によって、パターニングされていないエミッタ層上に堆積させた。材料が、電源に接続するためのＩＴＯ接触領域上に堆積されることを防止するために、シャドーマスクを使用した。
【０１１１】
実施例１のカソードのために用いられた手順に従うことによって、カソードを、ペリレン青色染料を含有する層上に堆積させた。
【０１１２】
エレクトロルミネセンススペクトル
実施例１およびその対照デバイスのエレクトロルミネセンススペクトルを、ケースレー・ソース・メータ（Ｋｅｉｔｈｌｅｙ  Ｓｏｕｒｃｅ  Ｍｅｔｅｒ）２４００（オハイオ州クリーブランドのケースレーインスツルメンツ（Ｋｅｉｔｈｌｅｙ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ，Ｃｌｅｖｅｌａｎｄ，ＯＨ））でデバイスを駆動し、オーシャンオプティクス光ファイバ蛍光分光計（Ｏｃｅａｎ  Ｏｐｔｉｃｓ  Ｆｉｂｅｒ  Ｏｐｔｉｃ  Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ  Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ）（フロリダ州ダニーディンのオーシャンオプティクス・インコーポレイテッド（Ｏｃｅａｎ  Ｏｐｔｉｃｓ  Ｉｎｃ．，  Ｄｕｎｅｄｉｎ，  ＦＬ））で、４つの異なったデバイス電流密度（１０、２０、３０、および４０ｍＡ／ｃｍ２）で出力を記録することによって得た。
【０１１３】
実施例１は、パターニングされたエミッタ層によって寄与された黄色ストライプ、および、黄色ストライプ間の、パターニングされていないエミッタ層によって寄与された青色ストライプのパターンを示した。しかし、対照デバイスは、パターニングされていないエミッタ層によって寄与された黄色領域のみを示し、青色領域を示さなかった。したがって、両方のデバイスにおいて、ペリレン青色染料を含有する層は、それが、黄色エミッタを含有する層（すなわち、実施例１のパターニングされたエミッタ層、および対照デバイスのパターニングされていないエミッタ層）上に堆積されたところで、実質的に電子輸送機能のみを提供し、励起子再結合ゾーンの、ペリレン青色染料を含有する層への観察できるシフトはなかった。これらのデバイスは、また、駆動電流のＣＩＥ色座標およびスペクトル特徴の独立を実証する。
【０１１４】
実施例２
実施例２は、本発明によるエレクトロルミネセンスデバイスを製造する方法を示し、第１のエミッタを含む転写層をレセプタに選択的に熱転写して、パターニングされたエミッタ層を形成し、第２のエミッタを含む層を、パターニングされたエミッタ層上に配置して、パターニングされていないエミッタ層を設ける。
【０１１５】
レセプタの準備
レセプタを実施例１で用いられた手順に従って準備した。
【０１１６】
ドナーの準備
ＰＶＫ−４、ＭＴＤＡＴＡ、ＰＢＤ、およびＩｒ（ｂｔｐ）２（ｔｍｈｄ）（赤色エミッタ）を、４２：２８：２７：３の重量比で組合せ、次に、ＨＰＬＣグレードトルエンで１．９７重量％に希釈した。結果として生じる溶液を、プラディスクフィルタを通して２回濾過し、一般的な準備で説明されたように準備されたドナーフィルム上にスピンコーティングして、乾燥厚さが５５ｎｍの転写層をもたらした。
【０１１７】
パターニングされたエミッタ層の選択的な熱転写
ドナーからの転写層を、ＬＩＴＩによってレセプタ上に画像形成して、パターニングされたエミッタ層をもたらした。１つのレーザを、４ワットの電力で、一方向スキャンで、三角形ディザパターンおよび４００ＫＨｚの周波数で使用した。要求された線幅は１００マイクロメートルであり、ピッチは２２５マイクロメートルであり、線量は０．８７５Ｊ／ｃｍ２であった。
【０１１８】
パターニングされていないエミッタ層の堆積およびカソードの堆積
次に、ペリレン青色染料を含有するパターニングされていないエミッタ層および２層カソードを、これらの層の堆積について実施例１と関連して説明された手順に従って、パターニングされたエミッタ層上に堆積させた。
【０１１９】
実施例２に対応する対照デバイスの準備
パターニングされたエミッタ層からの赤色発光色が、パターニングされていないエミッタ層中のペリレン青色染料の存在によって影響されないことを実証するために、実施例２のデバイスに対応する対照デバイスを準備した。
【０１２０】
対照デバイスは、実施例２で使用されたものと同様のレセプタを含んだ。ＰＶＫ−４、ＭＴＤＡＴＡ、ＰＢＤ、およびＩｒ（ｂｔｐ）２（ｔｍｈｄ）（赤色エミッタ）を、４２：２８：２７：３の重量比で組合せ、次に、ＨＰＬＣグレードトルエンで１．９７重量％に希釈した。結果として生じる溶液を、プラディスクフィルタを通して２回濾過し、レセプタ上にスピンコーティングして、５０ｎｍの乾燥厚さにして、組成が実施例２のパターニングされたエミッタ層に対応するパターニングされていないエミッタ層を設けた。コーティング層をＩＴＯ領域の部分から選択的に除去して、レセプタを電源に接続するための接触領域を設けた。
【０１２１】
ペリレン青色染料を含有する層を準備し、パターニングされていないエミッタ層上に堆積させた。より具体的には、約０．５〜１重量％のペリレン青色染料でドープされたＢＡｌｑの厚さ５００Åの層を、約１０−５トルの真空下で、標準真空蒸着技術によって、パターニングされていないエミッタ層上に堆積させた。材料が、電源に接続するためのＩＴＯ接触領域上に堆積されることを防止するために、シャドーマスクを使用した。
【０１２２】
実施例２のカソードのために用いられた手順に従うことによって、カソードを、ペリレン青色染料を含有する層に付与した。
【０１２３】
エレクトロルミネセンススペクトル
実施例２およびその対照デバイスのエレクトロルミネセンススペクトルを、アジレント（Ａｇｉｌｅｎｔ）Ｅ３６１２  ＤＣ電源（カリフォルニア州パロアルトのアジレント・テクノロジーズ（Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，  Ｐａｌｏ  Ａｌｔｏ，  ＣＡ））で電力をデバイスに与え、ニコン・エクリプス（Ｎｉｋｏｎ  Ｅｃｌｉｐｓｅ）ＴＥ３００倒立光学顕微鏡（日本、東京の株式会社ニコン（Ｎｉｋｏｎ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｔｏｋｙｏ，Ｊａｐａｎ））でエレクトロルミネセンスを顕微鏡検査することによって観察した。
【０１２４】
実施例２は、パターニングされたエミッタ層によって寄与された赤色ストライプ、および、赤色ストライプ間の、パターニングされていないエミッタ層によって寄与された青色ストライプのパターンを示した。しかし、対照デバイスは、パターニングされていないエミッタ層によって寄与された赤色領域のみを示し、青色領域を示さなかった。したがって、両方のデバイスにおいて、したがって、両方のデバイスにおいて、ペリレン青色染料を含有する層は、それが、赤色エミッタを含有する層（すなわち、実施例２のパターニングされたエミッタ層、および対照デバイスのパターニングされていないエミッタ層）上に堆積されたところで、実質的に電子輸送機能のみを提供し、励起子再結合ゾーンの、ペリレン青色染料を含有する層への観察できるシフトはなかった。
【０１２５】
実施例３
実施例３は、本発明によるエレクトロルミネセンスデバイスを製造する方法を示し、第１のエミッタを含む転写層をレセプタに選択的に熱転写して、パターニングされたエミッタ層を形成し、第２のエミッタを含む層を、パターニングされたエミッタ層上に配置して、パターニングされていないエミッタ層を設ける。実施例３を、Ｉｒ（ｂｔｐ）２（ｔｍｈｄ）赤色エミッタを、Ｉｒ（ｐｐｙ）２（ｔｍｈｄ）、緑色エミッタと取替える以外は、実施例２の手順に従うことによって準備した。
【０１２６】
実施例３に対応する対照デバイスの準備
パターニングされたエミッタ層からの緑色発光色が、パターニングされていないエミッタ層中のペリレン青色染料の存在によって影響されないことを実証するために、実施例３のデバイスに対応する対照デバイスを準備した。実施例３の対照デバイスを、Ｉｒ（ｂｔｐ）２（ｔｍｈｄ）赤色エミッタを、Ｉｒ（ｐｐｙ）２（ｔｍｈｄ）、緑色エミッタと取替える以外は、実施例２の対照デバイスと関連して用いられた手順に従うことによって準備した。
【０１２７】
エレクトロルミネセンススペクトル
実施例３およびその対照デバイスのエレクトロルミネセンススペクトルを、実施例２と関連して説明された手順を用いて観察した。
【０１２８】
実施例３は、パターニングされたエミッタ層によって寄与された緑色ストライプ、および、緑色ストライプ間の、パターニングされていないエミッタ層によって寄与された青色ストライプのパターンを示した。しかし、対照デバイスは、パターニングされていないエミッタ層によって寄与された緑色領域のみを示し、青色領域を示さなかった。したがって、両方のデバイスにおいて、ペリレン青色染料を含有する層は、それが、緑色エミッタを含有する層（すなわち、実施例３のパターニングされたエミッタ層、および対照デバイスのパターニングされていないエミッタ層）上に堆積されたところで、実質的に電子輸送機能のみを提供し、励起子再結合ゾーンの、ペリレン青色染料を含有する層への観察できるシフトはなかった。
【０１２９】
実施例４
実施例４は、本発明によるエレクトロルミネセンスデバイスを製造する方法を示し、第１のエミッタおよび第２のエミッタを含む転写層をレセプタに選択的に熱転写して、パターニングされたエミッタ層を形成し、第３のエミッタを含む層を、パターニングされたエミッタ層上に配置して、パターニングされていないエミッタ層を設ける。第１のエミッタを実施例２の赤色エミッタによって提供し、第２のエミッタを実施例３の緑色エミッタによって提供した。
【０１３０】
レセプタを、実施例１と関連して説明された手順に従うことによって準備し、各々が転写層を含有する別個のドナーを、実施例２（赤色エミッタ）および実施例３（緑色エミッタ）に従って準備した。赤色エミッタを含有する転写層を、ピッチが３００マイクロメートルである以外は実施例２で説明されたレーザ構成を用いて、ＬＩＴＩによって、レセプタ上に画像形成した。緑色エミッタを含有する転写層を、また、ＬＩＴＩによって、再び、ピッチが３００マイクロメートルである以外は実施例２で説明されたレーザ構成を用いて、同じレセプタ上に画像形成した。緑色エミッタを含有する転写層の起点（ｏｒｉｇｉｎ）を、赤色エミッタを含有する転写層の起点に対して＋１００マイクロメートルシフトした。
【０１３１】
次に、ペリレン青色染料を含有するパターニングされていないエミッタ層および２層カソードを、これらの層の堆積について実施例１と関連して説明された手順を用いて、第１の（赤色）および第２の（緑色）エミッタを含有するパターニングされたエミッタ層上に堆積させた。
【０１３２】
エレクトロルミネセンススペクトル
実施例４のエレクトロルミネセンススペクトルは、実施例２と関連して説明された手順を用いて観察し、交互の、赤色、緑色、および青色ストライプのパターンを示し、赤色および緑色発光パターンは、ＬＩＴＩによる選択的な熱転写によってパターニングされた領域に対応した。
【０１３３】
実施例５
実施例５は、本発明によるエレクトロルミネセンスデバイスを製造する方法を示し、第１のエミッタおよび第２のエミッタを含む転写層をレセプタに選択的に熱転写して、溶媒感受性層上にパターニングされたエミッタ層を形成し、第３のエミッタを含む層を、パターニングされたエミッタ層上に配置して、パターニングされていないエミッタ層を設ける。
【０１３４】
レセプタの準備
ＥＬ１１１Ｔの溶液を、ＨＰＬＣグレードトルエン中５．０重量％で製造し、２０分間７０℃でホットプレート上で撹拌させた。次に、溶液を、プラディスクフィルタを通して濾過し、ストライプ状ピクセルＩＴＯガラス上にスピンコーティングして、乾燥厚さが１６０ｎｍの溶媒感受性層をもたらした。トルエンを使用して、コーティング層をＩＴＯ領域の部分から選択的に除去して、レセプタを電源に接続するための接触領域を設けた。
【０１３５】
ドナーの準備
第１のエミッタに対応する第１のドナーを準備するために、ＥＬ０２８Ｔ、スピロ−ＣＦ３−ＰＢＤ、およびＩｒ（ｂｔｐ）２（ｔｍｈｄ）、赤色エミッタを、４５：４５：１０の重量比で組合せ、クロロベンゼンで１．３５重量％に希釈し、２０分間７０℃でホットプレート上で撹拌させた。結果として生じる溶液を、プラディスクフィルタを通して１回濾過し、一般的な準備で説明されたように準備されたドナーフィルム上にスピンコーティングして、乾燥厚さが５０ｎｍの転写層をもたらした。第２のエミッタに対応する第２のドナーを、同じように、しかし、赤色エミッタの代わりに、緑色エミッタ、Ｉｒ（ｐｐｙ） 3 −Ｓ−Ｃ−１を使用して、準備した。
【０１３６】
パターニングされたエミッタ層の選択的な熱転写
第１のドナーからの転写層を、ＬＩＴＩによってレセプタ上に画像形成して、パターニングされたエミッタ層をもたらした。１つのレーザを、４ワットの電力で、一方向スキャンで、三角形ディザパターンおよび４００ＫＨｚの周波数で使用した。要求された線幅は１１０マイクロメートルであり、ピッチは４９５マイクロメートルであり、線量は０．８５Ｊ／ｃｍ２であった。次に、第２のドナーからの転写層を、ＬＩＴＩによって、同じレーザ構成を用いて、同じレセプタ上に画像形成して、第１の（赤色）および第２の（緑色）エミッタを含むパターニングされたエミッタ層を設けた。緑色エミッタを含有する転写層の起点を、赤色エミッタを含有する転写層の起点に対して＋１６５マイクロメートルシフトした。
【０１３７】
パターニングされていないエミッタ層の堆積およびカソードの堆積
次に、ペリレン青色染料を含有するパターニングされていないエミッタ層および２層カソードを、これらの層の堆積について実施例１と関連して説明された手順に従って、第１の（赤色）および第２の（緑色）エミッタを含むパターニングされたエミッタ層上に堆積させた。
【０１３８】
エレクトロルミネセンススペクトル
実施例５のエレクトロルミネセンススペクトルは、実施例２と関連して説明された手順を用いて観察し、交互の、赤色、緑色、および青色ストライプのパターンを示し、赤色および緑色発光パターンは、ＬＩＴＩによる選択的な熱転写によってパターニングされた領域に対応した。
【０１３９】
実施例６
実施例６は、本発明によるエレクトロルミネセンスデバイスを製造する方法を示し、第１のエミッタを含む転写層をレセプタに選択的に熱転写して、溶媒感受性層上にパターニングされたエミッタ層を形成し、第２のエミッタを含む層を、パターニングされたエミッタ層上に配置して、パターニングされていないエミッタ層を設ける。
【０１４０】
レセプタの準備
２−ｍＴＮＡＴＡの溶液を、ＨＰＬＣグレードトルエン中６．０重量％で製造し、プラディスクフィルタを通して１回濾過し、ストライプ状ピクセルＩＴＯガラス上にスピンコーティングして、乾燥厚さが１６２ｎｍの溶媒感受性層をもたらした。トルエンを使用して、コーティング層をＩＴＯ領域の部分から選択的に除去して、レセプタを電源に接続するための接触領域を設けた。
【０１４１】
ドナーの準備
ＴＡＰＣ、ＴＰＯＢ（昇華）、およびＩｒ（ｐｐｙ）２（ｔｍｈｄ）（緑色エミッタ）を、４５：４５：１０の重量比で組合せ、クロロベンゼンで１．７８重量％に希釈し、２０分間７０℃でホットプレート上で撹拌させた。結果として生じる溶液を、プラディスクフィルタを通して１回濾過し、一般的な準備で説明されたように準備されたドナーフィルム上にスピンコーティングして、乾燥厚さが４５ｎｍの転写層をもたらした。
【０１４２】
パターニングされたエミッタ層の選択的な熱転写
ドナーからの転写層を、ＬＩＴＩによってレセプタ上に画像形成して、１つおきのＩＴＯストライプと位置合せするパターニングされたエミッタ層をもたらした。１つのレーザを、４ワットの電力で、一方向スキャンで、三角形ディザパターンおよび４００ＫＨｚの周波数で使用した。要求された線幅は１１０マイクロメートルであり、ピッチは３３０マイクロメートルであり、線量は０．９０Ｊ／ｃｍ２であった。
【０１４３】
パターニングされていないエミッタ層の堆積およびカソードの堆積
次に、ペリレン青色染料を含有するパターニングされていないエミッタ層および２層カソードを、これらの層の堆積について実施例１と関連して説明された手順に従って、パターニングされたエミッタ層上に堆積させた。
【０１４４】
実施例６の対照デバイスの準備
２つの対照デバイスを実施例６のために準備した。転写層の選択的な熱転写の間、ピッチが１６５マイクロメートルであり、これが、すべてのＩＴＯストライプと位置合せするパターンをもたらす以外は、実施例６を準備するために用いられた手順に従って、第１の対照デバイスを準備した。第２の対照デバイスも、ドナーの準備および転写層の熱転写を省く以外は、実施例６と関連して用いられた手順に従って準備した。したがって、第２の対照デバイスにおいて、ペリレン青色染料を含有するパターニングされていないエミッタ層を、介在するパターニングされたエミッタ層を伴わずに、溶媒感受性層上に直接配置した。
【０１４５】
エレクトロルミネセンススペクトル
実施例６のデバイスおよびその２つの対照デバイスのエレクトロルミネセンススペクトルを、実施例２と関連して説明された手順を用いて観察した。実施例６のデバイスは、交互の緑色および青色ストライプのパターンを示し、緑色発光パターンは、ＬＩＴＩによる選択的な熱転写によってパターニングされた領域に対応した。第１の対照デバイスは、ＬＩＴＩによる選択的な熱転写によってパターニングされた領域に対応する緑色ストライプのパターンを示し、第２の対照デバイスは、ＩＴＯストライプのパターンに対応する青色ストライプのパターンを示した。
【０１４６】
実施例７
実施例７は、本発明によるエレクトロルミネセンスデバイスを製造する方法を示し、第１のエミッタを含む転写層をレセプタに選択的に熱転写して、溶媒感受性層上にパターニングされたエミッタ層を形成し、第２のエミッタを含む層を、パターニングされたエミッタ層上に配置して、パターニングされていないエミッタ層を設ける。
【０１４７】
レセプタ上に堆積された溶媒感受性層中、２−ｍＴＮＡＴＡをＳＴ  １６９３．Ｓと取替え、この層を、乾燥厚さが１４０ｎｍであるように付与する以外は、実施例６と関連して説明された手順に従うことによって、実施例７を準備した。実施例７の２つの対照デバイスも、レセプタ上の、２−ｍＴＮＡＴＡの代わりにＳＴ  １６９３．Ｓを含有する溶媒感受性層の存在以外は、実施例６と関連して説明された手順に従って準備した。
【０１４８】
エレクトロルミネセンススペクトル
実施例７のデバイスおよびその２つの対照デバイスのエレクトロルミネセンススペクトルを、実施例６と関連して説明された手順を用いて観察した。実施例７のデバイスは、交互の緑色および青色ストライプのパターンを示し、緑色発光パターンは、ＬＩＴＩによる選択的な熱転写によってパターニングされた領域に対応した。第１の対照デバイスは、ＬＩＴＩによる選択的な熱転写によってパターニングされた領域に対応する緑色ストライプのパターンを示し、第２の対照デバイスは、ＩＴＯストライプのパターンに対応する青色
ストライプのパターンを示した。
【０１４９】
実施例８
実施例８は、本発明によるエレクトロルミネセンスデバイスを製造する方法を示し、第１のエミッタを含む転写層をレセプタに選択的に熱転写して、溶媒感受性層上にパターニングされたエミッタ層を形成し、第２のエミッタを含む層を、パターニングされたエミッタ層上に配置して、パターニングされていないエミッタ層を設ける。
【０１５０】
レセプタの準備
ＳＴ  ７５５．Ｓの溶液を、クロロベンゼン中５．０重量％で製造し、２０分間７０℃でホットプレート上で撹拌させ、プラディスクフィルタを通して１回濾過し、ストライプ状ピクセルＩＴＯガラス上にスピンコーティングした。コーティングされたＩＴＯガラスを１０分間８０℃で窒素雰囲気下で焼成して、乾燥厚さが１２６ｎｍの溶媒感受性層をもたらした。トルエンを使用して、コーティング層をＩＴＯ領域の部分から選択的に除去して、レセプタを電源に接続するための接触領域を設けた。
【０１５１】
ドナーの準備
ＳＴ  ７５５．Ｓ、ＴＰＯＢ（昇華）、およびＩｒ（ｂｔｐ）２（ｔｍｈｄ）（赤色エミッタ）を、４４．２６：４４．２６：１１．５の重量比で組合せ、クロロベンゼンで１．７１重量％に希釈し、２０分間７０℃でホットプレート上で撹拌させた。結果として生じる溶液を、プラディスクフィルタを通して１回濾過し、一般的な準備で説明されたように準備されたドナーフィルム上にスピンコーティングして、８０℃で１０分間窒素雰囲気下で焼成した後、乾燥厚さが４５ｎｍの転写層をもたらした。
【０１５２】
実施例８の対照デバイスの準備
２つの対照デバイスを実施例８のために準備した。４ワットの電力で、一方向スキャンで、三角形ディザパターンおよび４００ＫＨｚの周波数で１つのレーザを使用して、ドナーからの転写層をレセプタに画像形成することによって、第１の対照デバイスを準備した。要求された線幅は１１０マイクロメートルであり、ピッチは１６５マイクロメートルであり、線量は０．９０Ｊ／ｃｍ２であり、すべてのＩＴＯストライプと位置合せする画像形成されたパターンをもたらした。次に、ペリレン青色染料を含有するパターニングされていないエミッタ層および２層カソードを、これらの層の堆積について実施例１と関連して説明された手順に従って、パターニングされたエミッタ上に堆積させた。
【０１５３】
第２の対照デバイスも、ドナーの準備および転写層の熱転写を省く以外は、実施例８と関連して用いられた手順に従って準備した。したがって、第２の対照デバイスにおいて、ペリレン青色染料を含有するパターニングされていないエミッタ層を、介在するパターニングされたエミッタ層を伴わずに、溶媒感受性層上に直接配置した。
【０１５４】
エレクトロルミネセンススペクトル
実施例８のデバイスおよびその２つの対照デバイスのエレクトロルミネセンススペクトルを、実施例２と関連して説明された手順を用いて観察した。第１の対照デバイスは、ＬＩＴＩによる選択的な熱転写によってパターニングされた領域に対応する赤色ストライプのパターンを示し、第２の対照デバイスは、ＩＴＯストライプのパターンに対応する青色ストライプのパターンを示した。
【０１５５】
実施例９
実施例９は、本発明によるエレクトロルミネセンスデバイスを製造する方法を示し、第１のエミッタを含む転写層をレセプタに選択的に熱転写して、溶媒感受性層上にパターニングされたエミッタ層を形成し、第２のエミッタを含む層を、パターニングされたエミッタ層上に配置して、パターニングされていないエミッタ層を設ける。
【０１５６】
基板上に堆積された溶媒感受性層中、ＳＴ  ７５５．ＳをＳＴ  １６９３．Ｓと取替え、この層を、乾燥厚さが１４０ｎｍであるように付与する以外は、実施例８と関連して説明された手順に従うことによって、実施例９を準備した。さらに、ＳＴ  １６９３．Ｓの溶液を、トルエン中６．０重量％で製造し、５分間周囲条件下で撹拌させ、濾過し、スピンコーティングした。実施例９の２つの対照デバイスも、ＳＴ  ７５５．Ｓの代わりに、レセプタ上に堆積された溶媒感受性層中のＳＴ  １６９３．Ｓの存在以外は、実施例８と関連して説明された手順に従って準備した。
【０１５７】
エレクトロルミネセンススペクトル
２つの対照デバイスのエレクトロルミネセンススペクトルを、実施例６と関連して説明された手順を用いて観察した。第１の対照デバイスは、ＬＩＴＩによる選択的な熱転写によってパターニングされた領域に対応する赤色ストライプのパターンを示し、第２の対照デバイスは、ＩＴＯストライプのパターンに対応する青色ストライプのパターンを示した。
【０１５８】
実施例１０
実施例１０は、本発明によるエレクトロルミネセンスデバイスを製造する方法を示し、第１のエミッタおよび第２のエミッタを含む転写層をレセプタに選択的に熱転写して、溶媒感受性層上にパターニングされたエミッタ層を形成し、第３のエミッタを含む層を、パターニングされたエミッタ層上に配置して、パターニングされていないエミッタ層を設ける。
【０１５９】
レセプタの準備
ＳＴ  ７５５．Ｓの溶液を、クロロベンゼン中５．０重量％で製造し、２０分間７０℃でホットプレート上で撹拌させ、プラディスクフィルタを通して濾過し、ストライプ状ピクセルＩＴＯガラス上にスピンコーティングした。コーティングされたＩＴＯガラスを１０分間８０℃で窒素雰囲気下で焼成して、乾燥厚さが１２６ｎｍの溶媒感受性層をもたらした。トルエンを使用して、コーティング層をＩＴＯ領域の部分から選択的に除去して、レセプタを電源に接続するための接触領域を設けた。
【０１６０】
ドナーの準備
第１のエミッタに対応する第１のドナーを準備するために、ＳＴ  ７５５．Ｓ、ＴＰＯＢ、およびＩｒ（ｂｔｐ）２（ｔｍｈｄ）（赤色エミッタ）を、４４．２６：４４．２６：１１．５の重量比で組合せ、クロロベンゼンで１．７１重量％に希釈し、２０分間７０℃でホットプレート上で撹拌した。結果として生じる溶液を、プラディスクフィルタを通して１回濾過し、一般的な準備で説明されたように準備されたドナーフィルム上にスピンコーティングして、オーブン内で８０℃で１０分間窒素雰囲気下で焼成した後、乾燥厚さが４５ｎｍの転写層をもたらした。第２のエミッタに対応する第２のドナーを、同じように、しかし、赤色エミッタの代わりに、緑色エミッタ、Ｉｒ（ｐｐｙ）２（ｔｍｈｄ）を使用して、準備した。
【０１６１】
パターニングされたエミッタ層の選択的な熱転写
第１のドナーからの転写層を、ＬＩＴＩによってレセプタ上に画像形成して、パターニングされたエミッタ層をもたらした。１つのレーザを、４ワットの電力で、一方向スキャンで、三角形ディザパターンおよび４００ＫＨｚの周波数で使用した。要求された線幅は１１０マイクロメートルであり、ピッチは４９５マイクロメートルであり、線量は０．９０Ｊ／ｃｍ２であった。次に、第２のドナーからの転写層を、ＬＩＴＩによって、同じレーザ構成を用いて、同じレセプタ上に画像形成して、第１の（赤色）および第２の（緑色）エミッタを含むパターニングされたエミッタ層を設けた。緑色エミッタを含有する転写層の起点を、赤色エミッタを含有する転写層の起点に対して＋１６５マイクロメートルシフトした。
【０１６２】
パターニングされていないエミッタ層の堆積およびカソードの堆積
次に、ペリレン青色染料を含有するパターニングされていないエミッタ層および２層カソードを、これらの層の堆積について実施例１と関連して説明された手順に従って、第１の（赤色）および第２の（緑色）エミッタを含むパターニングされたエミッタ層上に堆積させた。
【０１６３】
エレクトロルミネセンススペクトル
実施例１０のエレクトロルミネセンススペクトルは、実施例２と関連して説明された手順を用いて観察し、交互の、赤色、緑色、および青色ストライプのパターンを示し、赤色および緑色発光パターンは、ＬＩＴＩによる選択的な熱転写によってパターニングされた領域に対応した。
【０１６４】
実施例１１
実施例１１は、本発明によるエレクトロルミネセンスデバイスを製造する方法を示し、第１のエミッタを含む転写層をレセプタに選択的に熱転写して、溶媒感受性層上にパターニングされたエミッタ層を形成し、第２のエミッタを含む層を、パターニングされたエミッタ層上に配置して、パターニングされていないエミッタ層を設ける。
【０１６５】
エレクトロルミネセンスデバイスの準備
ドナーを、実施例１と関連して説明された手順に従って準備し、実施例９と関連して説明された手順に従って準備された溶媒感受性層を含有するレセプタに、転写層を選択的に熱転写して、パターニングされたエミッタ層をもたらした。２つのレーザを、１６ワットの電力で、一方向スキャンで、三角形ディザパターンおよび４００ＫＨｚの周波数で使用した。要求された線幅は１１０マイクロメートルであり、ピッチは１６５マイクロメートルであり、線量は０．６５０Ｊ／ｃｍ２であった。次に、ペリレン青色染料を含有するパターニングされていないエミッタ層および２層カソードを、これらの層の堆積について実施例１と関連して説明された手順に従って、パターニングされたエミッタ層上に堆積させた。
【０１６６】
実施例１１の対照デバイスの準備
対照デバイスも、ドナーの準備およびパターニングされたエミッタ層の熱転写を省く以外は、実施例１１と関連して用いられた手順に従って準備した。したがって、ペリレン青色染料を含有するパターニングされていないエミッタ層を、介在するパターニングされたエミッタ層を伴わずに、溶媒感受性層上に直接配置した。
【０１６７】
エレクトロルミネセンススペクトル
実施例１１のデバイスおよびその対照デバイスのエレクトロルミネセンススペクトルを、実施例２と関連して説明された手順を用いて観察した。実施例１１のデバイスは、交互の黄色および青色ストライプのパターンを示し、黄色発光パターンは、ＬＩＴＩによる選択的な熱転写によってパターニングされた領域に対応した。対照デバイスは、ＩＴＯストライプのパターンに対応する青色ストライプのパターンを示した。
【０１６８】
ここに引用された特許、特許出願、および出版物、および電子的に入手可能な資料すべての完全な開示を、引用により援用する。先の詳細な説明および実施例は、理解の明確さのためだけに与えられた。不要な限定がそれらから理解されるべきではない。本発明は、示され説明された厳密な詳細に限定されず、というのは、当業者には明らかな変更が、特許請求の範囲によって規定される本発明の範囲内に含められるからである。
【図１Ａ】
0005603289.tif 000004
【図１Ｂ】
0005603289.tif 000005
【図１Ｃ】
0005603289.tif 000006
【図２Ａ】
0005603289.tif 000007
【図２Ｂ】
0005603289.tif 000008
【図２Ｃ】
0005603289.tif 000009