(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成されたゲートオン／オフ電圧を供給するゲートライン、及び該ゲートラインに対して絶縁膜を間に置いて交差して形成されたデータラインを含む信号ラインと、
前記信号ラインに接続された薄膜トランジスタ及び該薄膜トランジスタに接続された画素電極と、
前記信号ラインの一側端に形成され、外部から駆動信号の供給を受ける接続パッドと、
前記基板の外郭に沿って形成され、前記ゲートラインと同一の金属で同一平面上に形成された少なくとも一つのリペアラインと、
前記データラインの一側に前記データラインに対して絶縁膜を間に置いて重畳されるように形成され、前記リペアラインと同一の金属で同一平面上に形成される第１補助リペアラインと、
前記データラインの他側に前記データラインに対して絶縁膜を間に置いて重畳されるように形成され、前記リペアラインと同一の金属で同一平面上に形成される第２補助リペアラインと、
前記データライン及び前記画素電極のうちのいずれか一つと同一の金属で同一の平面上に形成され、前記第２補助リペアラインに対して絶縁膜を間に置いて重畳されるように形成され、該第２補助リペアライン及び前記リペアラインを互いに連結するための連結ラインと、
を備えることを特徴とする表示基板。
【請求項２】
前記第１補助リペアラインと前記第２補助リペアラインは、リペアの際にリペアされる前記データラインに連結されることを特徴とする請求項１記載の表示基板。
【請求項３】
前記接続パッドは、前記ゲートラインに連結されたゲート接続パッドと、前記データラインに接続されたデータ接続パッドと、を含むことを特徴とする請求項１記載の表示基板。
【請求項４】
複数個の前記データ接続パッドが、データ接続パッドブロックを形成することを特徴とする請求項３記載の表示基板。
【請求項５】
前記第１補助リペアラインは、前記データ接続パッドブロック単位で前記データラインと交差するように形成され、一側がいずれか一つのデータ接続パッドブロックに含まれるリペア接続パッドに連結され、他側がフローティングされることを特徴とする請求項４記載の表示基板。
【請求項６】
第２補助リペアラインは、前記データ接続パッドブロック単位で連結された前記データラインに対して交差するように形成されることを特徴とする請求項５記載の表示基板。
【請求項７】
前記第１及び第２補助リペアラインのそれぞれは、前記リペアラインの個数と同一の個数で形成されることを特徴とする請求項６記載の表示基板。
【請求項８】
液晶パネルと、
接続パッドに連結されて信号ラインに駆動信号を供給するパネル駆動部と、
第１リペアラインと接続される第２リペアラインが形成された回路基板と、
を備え、
前記液晶パネルは、
基板と、
前記基板上に形成されたゲートオン／オフ電圧を供給するゲートライン、及び該ゲートラインに対して絶縁膜を間に置いて交差して形成されたデータラインを含む信号ラインと、
前記信号ラインに接続された薄膜トランジスタ及び該薄膜トランジスタに接続された画素電極と、
前記信号ラインの一側端に形成され、外部から駆動信号の供給を受ける接続パッドと、
前記基板の外郭に沿って形成され、前記ゲートラインと同一の金属で同一平面上に形成された少なくとも一つの前記第１リペアラインと、
前記データラインの一側に前記データラインに対して絶縁膜を間に置いて重畳されるように形成され、前記第１リペアラインと同一の金属で同一平面上に形成される第１補助リペアラインと、
前記データラインの他側に前記データラインに対して絶縁膜を間に置いて重畳されるように形成され、前記第１リペアラインと同一の金属で同一平面上に形成される第２補助リペアラインと、
前記データライン及び前記画素電極のうちのいずれか一つと同一の金属で同一の平面上に形成され、前記第２補助リペアラインに対して絶縁膜を間に置いて重畳されるように形成され、該第２補助リペアライン及び前記第１リペアラインを互いに連結するための連結ラインと、
前記第１基板と向き合い、その間に液晶が介在された第２基板と、を含むことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項９】
前記第１補助リペアラインと前記第２補助リペアラインは、リペアの際に前記データラインに連結されることを特徴とする請求項８記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記パネル駆動部は、
前記ゲートラインに前記ゲートオン／オフ電圧を供給するゲート駆動回路と、
前記データラインにデータ電圧を供給するデータ駆動回路と、
前記データ駆動回路が実装されて一側が前記接続パッドに連結され、他側が前記回路基板に接続されるテープキャリアパッケージと、を含むことを特徴とする請求項９記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記接続パッドは、
前記ゲートラインに連結されたゲート接続パッドと、前記データラインに接続されたデータ接続パッドと、を含み、複数個の前記データ接続パッドが前記テープキャリアパッケージのうちのいずれか一つに連結されるデータ接続パッドブロックで形成されることを特徴とする請求項１０記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記第１及び第２補助リペアラインは、前記データ接続パッドブロック別に連結された前記データラインと交差するように形成されることを特徴とする請求項１１記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記第１補助リペアラインは、前記データ接続パッドブロックに形成されたいずれか一つの前記データ接続パッドと隣接して形成されたリペア接続パッドに連結されることを特徴とする請求項１２記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記回路基板は、前記第２リペアライン及び前記第１補助リペアラインに、リペアの際に連結される第３補助リペアラインを含むことを特徴とする請求項１３記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記第１リペアラインの個数は、前記第２リペアライン、及び前記第１補助リペアライン乃至第３補助リペアラインの個数とそれぞれ同一であることを特徴とする請求項１４記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示基板及びそれを含む液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は電界を用いて誘電率異方性を有する液晶の光透過率を調節することで画像を表示する。このような液晶表示装置は、画像を表示する液晶表示パネル、液晶パネルを駆動するパネル駆動部、及び液晶パネルに光を供給するバックライトユニットを具備する。
【０００３】
液晶パネルはカラーフィルタアレイが形成されたカラーフィルタ基板と薄膜トランジスタアレイが形成された薄膜トランジスタ基板が液晶を間に置いて合着されて形成される。カラーフィルタ基板には共通電圧が形成される共通電極が形成され、薄膜トランジスタ基板にはデータ電圧が個別的に供給される複数の画素電極がマトリクッス形態で形成される。また、薄膜トランジスタ基板には、複数の画素電極を個別的に駆動するための薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタを順次にターンオンさせるゲートライン、及び薄膜トランジスタにデータ電圧を供給するデータラインが形成される。
【０００４】
薄膜トランジスタ基板に形成されたゲートライン及びデータラインを含む信号ラインは数μｍ以下の微細幅で形成されるので断線不良が発生することがあり得る。従って、薄膜トランジスタ基板には断線された信号ラインをリペアするリペアラインが具備される。リペアラインは、薄膜トランジスタ基板の外郭に沿って信号ラインと重畳されるようにリング形態で形成され、リペアラインと信号ラインとの重畳部にレーザー溶接を通じて断線した信号ラインに信号を供給する。しかし、リペアラインと断線した信号ラインのリペア工程の際にリペアポイント個数が少なくとも５個以上になる。このように、リペアポイント数が増加するとリペア成功率が低下するという問題点がある。また、リペアポイント数が増加するとリペアポイントで発生するコンタクト抵抗によって信号ラインに供給される信号がＲＣディレイの影響を受けリペアされた後リペアされた信号ラインの画質不良が発生することがあり得る。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで、本発明は上記従来の問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、リペアポイント数を減少させて信頼性を向上させ、リペアされた信号ラインのＲＣディレイを減少させた表示基板及びそれを含む液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するためになされた本発明による表示基板は、
基板上に形成されたゲートオン／オフ電圧を供給するゲートライン、及び該ゲートラインに対して絶縁膜を間に置いて交差して形成されたデータラインを含む信号ラインと、前記信号ラインに接続された薄膜トランジスタ及び該薄膜トランジスタに接続された画素電極と、前記信号ラインの一側端に形成され、外部から駆動信号の供給を受ける接続パッドと、前記基板の外郭に沿って形成され、前記ゲートラインと同一の金属で同一平面上に形成された少なくとも一つのリペアラインと、前記データラインの一側に前記データラインに対して絶縁膜を間に置いて重畳されるように形成され、前記リペアラインと同一の金属で同一平面上に形成される第１補助リペアラインと、前記データラインの他側に前記データラインに対して絶縁膜を間に置いて重畳されるように形成され、前記リペアラインと同一の金属で同一平面上に形成される第２補助リペアラインと、前記データライン及び前記画素電極のうちのいずれか一つと同一の金属で同一の平面上に形成され、前記第２補助リペアラインに対して絶縁膜を間に置いて重畳されるように形成され、該第２補助リペアライン及び前記リペアラインを互いに連結するための連結ラインを備えることを特徴とする。
【０００７】
前記第１補助リペアラインと前記第２補助リペアラインは、リペアの際にリペアされる前記信号ラインと連結されてもよい。
【００１３】
前記接続パッドは、前記ゲートラインと連結されたゲート接続パッド、及び前記データラインと接続されたデータ接続パッドと、を含むことができる。
【００１４】
前記データ接続パッドの多数が、データ接続パッドブロックを形成することができる。
【００１５】
前記第１補助リペアラインは、前記データ接続パッドブロック単位で前記データラインと交差するように形成され、一側がいずれか一つのデータ接続パッドブロックに含まれるリペア接続パッドと連結され、他側がフローティングされるようにすることができる。
【００１６】
第２補助リペアラインは、前記データ接続パッドブロック単位で連結された前記データラインと交差するように形成できる。
【００１７】
前記第１及び第２補助リペアラインのそれぞれは、前記リペアラインの個数と同一の個数で形成できる。
【００２０】
上記目的を達成するためになされた本発明による液晶表示装置は、液晶パネルと、接続パッドに連結されて信号ラインに駆動信号を供給するパネル駆動部と、第１リペアラインと接続される第２リペアラインが形成された回路基板と、を備え、
前記液晶パネルは、基板と、前記基板上に形成されたゲートオン／オフ電圧を供給するゲートライン、及び該ゲートラインに対して絶縁膜を間に置いて交差して形成されたデータラインを含む信号ラインと、前記信号ラインに接続された薄膜トランジスタ及び該薄膜トランジスタに接続された画素電極と、前記信号ラインの一側端に形成され、外部から駆動信号の供給を受ける接続パッドと、前記基板の外郭に沿って形成され、前記ゲートラインと同一の金属で同一平面上に形成された少なくとも一つの前記第１リペアラインと、前記データラインの一側に前記データラインに対して絶縁膜を間に置いて重畳されるように形成され、前記第１リペアラインと同一の金属で同一平面上に形成される第１補助リペアラインと、前記データラインの他側に前記データラインに対して絶縁膜を間に置いて重畳されるように形成され、前記第１リペアラインと同一の金属で同一平面上に形成される第２補助リペアラインと、前記データライン及び前記画素電極のうちのいずれか一つと同一の金属で同一の平面上に形成され、前記第２補助リペアラインに対して絶縁膜を間に置いて重畳されるように形成され、該第２補助リペアライン及び前記第１リペアラインを互いに連結するための連結ラインと、前記第１基板と向き合い、その間に液晶が介在された第２基板を含むことを特徴とする。
【００２１】
前記第１補助リペアラインと前記第２補助リペアラインは、リペアの際に前記信号ラインと連結されるようにすることができる。
【００２２】
前記パネル駆動部は、ゲートラインにゲートオン／オフ電圧を供給するゲート駆動回路、データラインにデータ電圧を供給するデータ駆動回路、及び前記データ駆動回路が実装されて一側が前記接続パッドと連結され、他側が前記回路基板と接続されるテープキャリアパッケージを含むことができる。
【００２３】
前記接続パッドは、前記ゲートラインと連結されたゲート接続パッド、及び前記データラインと接続されたデータ接続パッドを含み、前記データ接続パッドの複数が前記テープキャリアパッケージのうちのいずれか一つと連結されるデータ接続パッドブロックで形成できる。
【００２４】
前記第１及び第２補助リペアラインは、前記データ接続パッドブロック別に連結された前記データラインと交差するように形成できる。
【００２５】
前記第１補助リペアラインは、前記データ接続パッドブロックに形成されたいずれか一つの前記データ接続パッドと隣接して形成されたリペア接続パッドと連結されるようにすることができる。
【００２６】
前記回路基板は、前記第２リペアライン及び前記第１補助リペアラインとリペアの際に連結される第３補助リペアラインを含むことができる。
【００２７】
前記第１リペアラインの個数は、前記第２リペアライン、及び前記第１補助リペアライン乃至第３補助リペアラインの個数とそれぞれ同一であることができる。
【発明の効果】
【００３１】
本発明による表示基板、それを含む液晶表示装置及びそのリペア方法によれば、第１補助リペアラインをリペアラインと同一の金属で形成し、第２補助リペアラインとリペアラインとを連結する連結ラインを具備するのでリペアポイント個数を減少させることができる。
それにより、リペア工程時間が短縮され、リペアポイント個数の減少によりコンタクト抵抗が減少してリペアされた信号ラインのＲＣディレイによる表示不良が防止される。
また、リペアポイントの個数が減少してリペア成功確率が増加することで歩留まりが向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
上記技術的課題に基づく特徴の他、本発明のさらなる技術的特徴を、図面を参照した実施例による説明を通じて明白に示す。
以下、本発明による表示基板、それを含む液晶表示装置及びそのリペア方法を実施するための最良の形態の具体例を、図面を参照してより詳細に説明する。
【００３３】
図１は、本発明の一実施例による液晶表示装置を示す平面図である。
【００３４】
図１を参照すると、本発明の一実施例による液晶表示装置は、画像を表示し、第１リペアライン１００が形成された液晶パネル１０、液晶パネル１０の信号ラインＧＬ、ＤＬに駆動信号を供給するゲート駆動回路５０及びデータ駆動回路７０、第２リペアライン２００が形成されてタイミングコントローラ３０及び電源部４０が実装されたデータ印刷回路基板２０、データ印刷回路基板２０及び液晶パネル１０とそれぞれ連結されてデータ駆動回路７０が実装されたテープキャリアパッケージ６０を含む。
【００３５】
具体的に、データ印刷回路基板２０は、ゲート駆動回路５０及びデータ駆動回路７０に電源信号を供給する電源部４０と、制御信号を供給するタイミングコントローラ３０が実装される。また、第１リペアライン１００と後で連結される第２リペアライン２００、及びリペア工程の際に液晶パネル１０の第１補助リペアライン１２０と第２リペアライン２００とを連結する第３補助リペアライン２４０を含む。
【００３６】
電源部４０は、ゲート駆動回路５０にゲートオン電圧及びゲートオフ電圧を供給し、データ駆動回路７０にアナログ駆動電圧を供給する。
【００３７】
タイミングコントローラ３０は、ゲート駆動回路５０にゲートスタートパルス、ゲートシフトクロック、ゲート出力制御信号を生成して供給する。また、タイミングコントローラ３０は、データ駆動回路７０にデータスタートパルス、データシフトクロック、極性制御信号を含むデータ制御信号を供給する。また、タイミングコントローラ３０は外部から入力されたデジタルデータ信号をデータ駆動回路７０に供給する。
【００３８】
第２リペアライン２００は薄膜トランジスタ基板１１に形成された第１リペアライン１００の数と同一の数で形成され、後で、第１リペアライン１００と連結されて閉ループを形成する。第３補助リペアライン２４０は、第１補助リペアライン１２０に供給されるデータ電圧を第２リペアライン２００に供給するように、一側がデータＴＣＰ６０に連結され、他側が第２リペアライン２００に連結される。ここで、第２補助リペアライン１３０はリペア工程の際に選択的に第２リペアライン２００と連結されることが好ましい。
【００３９】
このようなデータ印刷回路基板２０はデータ駆動回路７０が実装されたデータテープキャリアパッケージ６０の一側と電気的に連結される。
【００４０】
データＴＣＰ６０には信号を供給するパターンが形成され、特に、データ印刷回路基板２０の左側及び右側の端に接続されるデータＴＣＰ６０には第１リペアライン１００と第２リペアライン２００とを連結する信号パターンが形成される。また、データＴＣＰ６０のそれぞれには第１補助リペアライン１２０と第１リペアライン１００とを連結するように信号パターンが形成される。このようなデータＴＣＰ６０は、他側が液晶パネル１０の一側に形成されたデータ接続パッドブロック１８０のそれぞれに一つずつ接続され、信号パターン、データ接続パッド８２及びリペア接続パッド１２２とで電気的に連結される。
【００４１】
液晶パネル１０は、薄膜トランジスタアレイが形成され、薄膜トランジスタアレイの信号ラインＧＬ、ＤＬをリペアするための第１リペアライン１００が形成された第１基板１１、液晶を間に置いて対向して形成される第２基板１２を含む。ここで、第１基板１１は薄膜トランジスタ基板と称し、第２基板１２はカラーフィルタ基板と称する。
【００４２】
カラーフィルタ基板１２は、光漏れを防止するブラックマトリクス、ブラックマトリクスで区画された画素領域に形成されて色を表示するカラーフィルタ、薄膜トランジスタ基板１１に形成された画素電極９０と対向して垂直電界を形成する共通電極を含む。
【００４３】
液晶は、誘電率異方性を有する物質で形成され、薄膜トランジスタ基板１１に形成された画素電極９０とカラーフィルタ基板１２に形成された共通電極との間の垂直電界によって駆動されて光透過率を変化させる。
【００４４】
薄膜トランジスタ基板１１について図２乃至図７を参照して詳細に説明する。
【００４５】
図２は、本発明の一実施例による薄膜トランジスタ基板を示す平面図であり、図３は、図２に示した薄膜トランジスタ基板の‘Ａ’領域を拡大した拡大図であり、図４は、図３に示した薄膜トランジスタ基板の‘Ａ’領域の拡大図のＩ−Ｉ’線に沿って切断した断面図である。
【００４６】
図２乃至図４を参照すると、薄膜トランジスタ基板１１は、基板１５上の表示領域に形成された信号ラインＧＬ、ＤＬ、信号ラインＧＬ、ＤＬと接続された薄膜トランジスタＴＦＴ、及び薄膜トランジスタＴＦＴと接続された画素電極９０、基板１５の外郭の非表示領域に形成された第１リペアライン１００、信号ラインＧＬ、ＤＬの一側に信号ラインと重畳されてリペアの際に連結される第１補助リペアライン１２０、信号ラインの他側に信号ラインと重畳されてリペアの際に連結される第２補助リペアライン１３０、及び第２補助リペアライン１３０と第１リペアライン１００とを連結する連結ライン１４０を含む。
【００４７】
具体的に、信号ラインＧＬ、ＤＬは、画素電極９０が形成されて画像を表示する表示領域に形成されてゲートオン／オフ電圧を供給するゲートラインＧＬ、ゲートラインと交差して形成されてデータ電圧を供給するデータラインＤＬを含む。
【００４８】
接続パッドはゲートラインＧＬの一側端に形成されたゲート接続パッド５１及びデータラインの一側端に形成されたデータ接続パッド８２を含む。ゲート接続パッド５１はゲート駆動回路５０と直接連結されるか、ゲート駆動回路５０が実装されたテープキャリアパッケージと連結されてもよい。データ接続パッド８２はデータ駆動回路７０と直接連結されるか、データ駆動回路７０が実装されたデータテープキャリアパッケージ６０と連結されてもよい。また、データ接続パッド８２はデータラインの端に第１コンタクトホール８１を通じてデータラインと連結される。その際、データ接続パッド８２は一つの駆動回路と連結されるデータ接続パッドブロック１８０単位で形成される。例えば、データ駆動回路７０の場合、それぞれのデータ駆動回路７０は３００個〜６００個のデータラインＤＬにデータ電圧を供給し、解像度が高い場合には複数のデータ駆動回路７０が必要である。従って、データ接続パッド８２は３００個〜６００個のデータラインＤＬをバンドル（ｂｕｎｄｌｅ）したデータ接続パッドブロック１８０に含まれる。また、データ駆動回路７０またはデータテープキャリアパッケージ６０はデータ接続パッドブロック１８０に一つずつ接続される。
【００４９】
一方、リペア接続パッド１２２は第１補助リペアライン１２０の一側端に形成され、第１補助リペアライン１２０を露出するように形成された第２コンタクトホール１２１を介して第１補助リペアライン１２０に接続される。ここで、ゲート接続パッド５１、データ接続パッド８２及びリペア接続パッド１２２は画素電極９０と同一の金属で同一平面上に形成されることが望ましい。
【００５０】
ゲートラインＧＬとデータラインＤＬは互いに交差して画素領域を画定し、画素領域にはゲートラインＧＬ及びデータラインＤＬのそれぞれと接続された薄膜トランジスタＴＦＴと、薄膜トランジスタＴＦＴと接続された画素電極９０が形成される。薄膜トランジスタＴＦＴはゲートラインＧＬから供給されたゲートオン電圧によってターンオンしてデータラインＤＬから供給データ電圧を画素電極９０に供給する。その際、第１基板１１には画素電極９０に供給されたデータ電圧を一つのフレームの間維持させるストレージ電極がさらに形成され得る。
【００５１】
図３及び図４を参照すると、薄膜トランジスタＴＦＴは、ゲートラインＧＬと接続されたゲート電極７１、データラインＤＬと接続されたソース電極７２、ソース電極７２と向き合い、画素電極９０と接続されたドレイン電極７３、ゲート電極７１とゲート絶縁膜７４を間に置いて重畳されてソース電極７２とドレイン電極７３との間にチャンネルを形成する半導体層７５を具備する。また、薄膜トランジスタＴＦＴはソース電極７２及びドレイン電極７３と半導体層７５との間のオーミックコンタクト層７６をさらに具備する。このような薄膜トランジスタＴＦＴはゲートラインＧＬに供給されたゲートオン電圧に応答してデータラインＤＬに供給されたデータ電圧を画素電極９０に供給する。
【００５２】
画素電極９０は、薄膜トランジスタＴＦＴを覆う保護膜７７上に形成され、保護膜７７を貫通する画素コンタクトホール９１を経由してドレイン電極７３と接続される。画素電極９０は薄膜トランジスタＴＦＴからのデータ電圧が供給されるとカラーフィルタ基板１２に形成された共通電極（図示せず）との電圧差によって液晶を駆動し光透過率を調節する。このような画素電極９０はＩＴＯ（インジウム錫酸化物）またはＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）などの透明導電性金属物質から形成されることが望ましい。
【００５３】
第１リペアライン１００は薄膜トランジスタ基板１１の外郭の非表示領域に沿ってリング形態に形成される。その際、第１リペアライン１００は１個または複数個が互いに平行に形成されてもよい。本発明においては、図２に示したように、２個の第１リペアライン１００が形成されたものを例にして説明する。このような第１リペアライン１００はゲートラインＧＬと同一の金属で同一平面上に形成される。
【００５４】
第１補助リペアライン１２０はデータ接続パッドブロック１８０に連結されたデータラインＤＬと重畳されて形成される。第１補助リペアライン１２０は一つのデータ接続パッドブロック１８０に含まれたデータ接続パッド８２と連結されたデータラインＤＬと重畳される。また、第１補助リペアライン１２０は、一側がフローティングされて他側が第２コンタクトホール１２１を介してリペア接続パッド１２２と連結される。ここで、第１補助リペアライン１２０は上述した第１リペアライン１００の個数と同一の個数で形成される。その際、第１補助リペアライン１２０とデータラインの重畳部は後でデータラインＤＬの断線の際に重畳部にレーザー溶接され、断線したデータラインと第１補助リペアライン１２０はゲートラインＧＬと同一の金属で同一平面上に形成される。これにより、第１補助リペアライン１２０は、ゲート絶縁膜７４を間に置いてデータラインＤＬと交差し、データラインＤＬと交差して形成されることによって、リペアの際に第１補助リペアライン１２０とデータラインＤＬとの交差部をレーザー溶接することでリペアポイントが１個に減少し、従来と対比してリペアポイント個数が減少する。
【００５５】
図５は、図２に示した薄膜トランジスタ基板の領域Ｂを拡大して示す拡大図の一例であり、図６は、図５に示した薄膜トランジスタ基板の領域Ａの拡大図のＩＩ−ＩＩ‘線に沿って切断された断面を示す断面図である。
【００５６】
図５及び図６は、第２補助リペアライン１３０とリペアラインが形成された領域を示す。図５及び図６を参照すると、第２補助リペアライン１３０はデータラインＤＬと交差するように形成される。また、第２補助リペアライン１３０はフローティングされて形成される。このような第２補助リペアライン１３０はデータラインＤＬとの絶縁のためにゲートラインＧＬと同一の金属層で形成されることが望ましい。即ち、第２補助リペアライン１３０はデータラインＤＬとゲート絶縁膜７４を間に置いて互いに交差するように形成される。また、第２補助リペアライン１３０はデータ接続パッドブロック１８０単位で形成される。ここで、第２補助リペアライン１３０は第１リペアライン１００の個数と同一の個数で形成されることが望ましい。また、第２補助リペアライン１３０はデータラインＤＬと重畳された領域が後でデータラインＤＬの断線発生の際にレーザー溶接されてデータラインＤＬと接続される。
【００５７】
第２補助リペアライン１３０は連結ライン１４０を介して第１リペアライン１００と電気的に連結される。連結ライン１４０は第１リペアライン１００に形成された第３コンタクトホール１４１と第２補助リペアライン１３０に形成された第４コンタクトホール１４３を介して電気的に連結される。第３及び第４コンタクトホール１４１、１４３はゲート絶縁膜７４及び保護膜７７を貫通して形成される。このような連結ライン１４０は、図５に示したように、画素電極９０と同一の透明金属層から形成される。例えば、第１リペアライン１００及び第２補助リペアライン１３０の個数が２つ以上の場合第１リペアライン１００のそれぞれと第２補助リペアライン１３０のそれぞれが１対１で連結されなければならないので、連結ライン１４０は第１リペアライン１００及び第２補助リペアライン１３０と交差するように形成されて第３及び第４コンタクトホール１４１、１４３のようなコンタクトホールを介して連結されることが望ましい。
【００５８】
一方、連結ライン１４０は図７及び図８に示したようにデータラインＤＬと同一の金属で形成されてもよい。その際、連結ライン１４０は第２補助リペアライン１３０及び第１リペアライン１００との間に形成されてブリッジ電極１４２を介して電気的に連結される。即ち、連結ライン１４０は第１リペアライン１００に形成された第３コンタクトホール１４１と連結ラインの両側端を露出する第５コンタクトホール１４４を経由してブリッジ電極１４２に接続され第１リペアライン１００と連結ライン１４０とを電気的に連結する。また、連結ライン１４０は他側に形成された第５コンタクトホール１４４と第２補助リペアライン１３０に形成された第４コンタクトホール１４３を経由するブリッジ電極１４２を介して第２補助リペアライン１３０と連結される。連結ライン１４０を露出する第５コンタクトホール１４４は保護膜７７を貫通して形成される。また、ブリッジ電極１４２は画素電極９０と同一の透明導電層から形成されることが好ましい。
【００５９】
図２に示したようにダミーライン２６０はデータラインと接続されたデータ接続パッド８２の他側から第２リペアライン２００まで延長されて形成され、第２リペアライン２００とゲート絶縁膜７４を間に置いて重畳して形成される。ダミーライン２６０は後でリペアの際に第１リペアライン１００とレーザー溶接を通じて連結される。しかし、ダミーライン２６０は液晶パネル１０の製造過程で除去される。ダミーライン２６０の除去は後で説明する。
【００６０】
薄膜トランジスタ基板１１は検査過程を通じてデータラインＤＬの断線が検出される。薄膜トランジスタ基板１１はデータ接続パッド８２にテスト信号を印加し、他側から入力されたテスト信号を測定して信号有無に従って断線を判断する。その際、断線が発生したデータラインの一側、即ち、第１補助リペアライン１２０と交差する領域は第１補助リペアライン１２０と交差部をレーザーで溶接し、第２補助リペアライン１３０と交差部をレーザー溶接する。次に、データ接続パッド８２の上部に位置しており、第１リペアライン１００と交差するダミーライン２６０とを電気的に連結して断線したデータラインＤＬの両側にデータ電圧を供給する。ここで、第１リペアライン１００は、図９に示したように、レーザー切断線２７０に沿って切断され、両側にリペア信号、即ち、データ電圧が供給される。例えば、それぞれのデータテープキャリアパッケージ６０と接続されたデータ接続パッドブロック１８０でデータラインＤＬが１個ずつ断線した場合、レーザー切断線２７０は基板１５の中央で第１リペアライン１００を切断する。しかし、断線したデータラインＤＬが左側または右側に集中する場合、リペアされたデータラインの数を両分するように第１リペアライン１００を切断することが望ましい。即ち、一つのデータ接続パッドブロック１８０で２個のデータラインＤＬが断線し、これと隣接した他のデータ接続パッドブロック１８０で少なくとも一つのデータラインＤＬが断線してこれらをリペアする場合、２個のデータラインＤＬが断線したデータ接続パッドブロック１８０を基準にして第１リペアライン１００を切断することが望ましい。
【００６１】
上述したように、データラインＤＬの断線テストの後に、図２に示した基板切断線２５０に沿って薄膜トランジスタ基板１１を切断する。その際、基板切断線２５０と基板１５の外郭との間に形成された第１リペアライン１００及びダミーライン２６０は全部除去される。
【００６２】
次に、カラーフィルタアレイが形成されたカラーフィルタ基板１２を合着する。その際、液晶を薄膜トランジスタ基板１１及びカラーフィルタ基板１２の２つの基板間に予め形成するか、２つの基板１１、１２を合着した後に液晶を注入することができる。
【００６３】
次に、液晶パネル１０の一側にデータ駆動回路７０が実装されたデータテープキャリアパッケージ６０を接続する。その際、データテープキャリアパッケージ６０の他側はデータ印刷回路基板２０に連結される。データ印刷回路基板２０に形成された第２リペアライン２００の一側はデータ印刷回路基板２０の一側端に形成されたデータテープキャリアパッケージ６０信号パターンと連結されて薄膜トランジスタ基板１１に形成された第１リペアライン１００の一側と連結され、第２リペアライン２００の他側はデータ印刷回路基板２０の他側端に形成されたデータテープキャリアパッケージ６０の信号パターンを介して第１リペアライン１００の他側と連結される。その際、データ印刷回路基板２０に形成された第２リペアライン２００は薄膜トランジスタ基板１１のレーザー切断線２７０と対応するレーザー切断線２８０に沿って切断する。また、第１補助リペアライン１２０及び第２リペアライン２００を連結する第３補助リペアライン２４０を通じてリペア工程を完了する。それにより、２個の第１リペアライン１００が形成された場合に断線した４個のデータラインをリペアすることができる。
【００６４】
一方、本発明においては、データラインが断線した時にそれをリペアすることを例にして説明したが、ゲートラインが断線しても同一の方法を通じてリペアすることができる。即ち、ゲートラインをリペアする場合は、第１リペアライン、第１及び第２補助リペアラインをデータラインと同一の金属を形成してリペア工程の際に上述したものと同一にすることができる。
【００６５】
以上、本発明を実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者であれば、本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変更できる。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の一実施例による液晶表示装置を示す平面図である。
【図２】図１に示した液晶表示装置の薄膜トランジスタ基板を示す平面図である。
【図３】図２に示した薄膜トランジスタ基板の領域Ａを拡大して示す拡大図である。
【図４】図３に示した薄膜トランジスタ基板のＩ−Ｉ‘線に沿って切断された断面を示す断面図である。
【図５】図２に示した薄膜トランジスタ基板の領域Ｂを拡大して示す拡大図の一例である。
【図６】図５に示した薄膜トランジスタ基板の領域Ａの拡大図のＩＩ−ＩＩ‘線に沿って切断された断面を示す断面図である。
【図７】図２に示した薄膜トランジスタ基板の領域Ｂを拡大して示す拡大図である。
【図８】図７に示した薄膜トランジスタ基板の領域Ｂの拡大図のＩＩＩ−ＩＩＩ‘線に沿って切断された断面を示す断面図である。
【図９】本発明の一実施例によるリペア後の液晶表示装置を示す平面図である。
【符号の説明】
【００６７】
１０    液晶パネル
１１    薄膜トランジスタ基板（第１基板）
１２    カラーフィルタ基板（第２基板）
１５    基板
２０    データ印刷回路基板
３０    タイミングコントローラ
４０    電源部
５０    ゲート駆動回路
５１    ゲート接続パッド
６０    データＴＣＰ（テープキャリアパッケージ）
７０    データ駆動回路
７１    ゲート電極
７２    ソース電極
７３    ドレイン電極
７４    ゲート絶縁膜
７５    半導体層
７６    オーミックコンタクト層
７７    保護膜
８１    第１コンタクトホール
８２    データ接続パッド
９０    画素電極
９１    画素コンタクトホール
１００    第１リペアライン
１２０    第１補助リペアライン
１２１    第２コンタクトホール
１２２    リペア接続パッド
１３０    第２補助リペアライン
１４０    連結ライン
１４１    第３コンタクトホール
１４２    ブリッジ電極
１４３    第４コンタクトホール
１４４    第５コンタクトホール
１８０    データ接続パッドブロック
２００    第２リペアライン
２４０    第３補助リペアライン
２５０    基板切断線
２６０    ダミーライン
２７０    レーザー切断線
２８０    第２リペア切断線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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