(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体装置の製造工程においてスクライブ領域に形成されるプロセスマークの図形データを作成する方法であって、
データ入力部を介して与えられた要素図形から構成された第１のプロセスマークにおいて、制御部が、少なくとも１つの要素図形を抽出するステップと、
前記制御部が、抽出された要素図形を回転中心の周りで１８０°回転させた更なる要素図形を前記第１のプロセスマークに追加することにより、前記回転中心に関して２回回転対称性を有する第２のプロセスマークを作成するステップと、
前記制御部が、前記第２のプロセスマークを記憶装置内のデータベースに格納するステップと
を有する方法。
【請求項２】
前記抽出するステップは２回回転対称性を有しない要素図形を抽出し、該２回回転対称性を有しない要素図形は文字パターンを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記抽出するステップは更に、２回回転対称性を有する要素図形を抽出することを含み、
当該方法は更に、前記回転中心を、前記２回回転対称性を有する要素図形の中心点に設定するステップを有する、
請求項２に記載の方法。
【請求項４】
半導体装置の製造工程においてスクライブ領域に形成されるプロセスマークの図形データを作成する方法であって、
データ入力部を介して与えられた要素図形から構成された第１のプロセスマークにおいて、制御部が、少なくとも１つの要素図形を抽出するステップと、
前記制御部が、抽出された要素図形を９０°回転させた更なる要素図形を前記第１のプロセスマークに追加することにより、第２のプロセスマークを作成するステップと、
前記制御部が、前記第２のプロセスマークを記憶装置内のデータベースに登録するステップと
を有する方法。
【請求項５】
製造すべき半導体装置のデバイスパターンを半導体基板のデバイス形成領域に形成するデバイスパターニング工程であり、請求項１乃至４の何れか一に記載の方法を用いて作成された前記第２のプロセスマーク、又は前記第２のプロセスマークを９０°回転させたプロセスマークをスクライブ領域に形成することを含むデバイスパターニング工程、
を有する半導体装置の製造方法。
【請求項６】
半導体装置の製造工程においてスクライブ領域に形成されるプロセスマークであって、
文字パターンを有する第１の要素図形と、
２回回転対称性を有する第２の要素図形と、
前記第２の要素図形の中心点に関して前記第１の要素図形を９０°又は１８０°回転させた図形に一致する第３の要素図形と、
を有するプロセスマーク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プロセスマークの図形データ作成方法、プロセスマーク、及びそれを用いた半導体装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置などの電子装置の製造においては、典型的に複数のパターニング工程を用いて、半導体ウェーハなどの基板上にデバイス構造が形成される。一般的に、転写露光又は直接描画によりウェーハ上にデバイスパターンを形成するとき、デバイスパターンに加えて、製造プロセスにて必要な各種のプロセスパターンを配置することが行われている。例えば、ウェーハ上のスクライブ領域に、アライメントマーク、重ね合わせ検査マーク、及び／又は工程名称を表す文字パターンなどの識別マークなどを配置することができる。
【０００３】
このようなプロセスマークをウェーハ上のスクライブ領域に形成するためには、レチクルを使用した転写露光であれば、レチクルのスクライブ領域にこれらのプロセスマークを配置することになる。そのため、これらのプロセスマークに対応する図形データを作成し、該図形データをレチクル製作用データのスクライブ領域に配置しておく必要がある。また、直接描画においても、これらのプロセスマークに対応する図形データを作成し、該図形データを直接描画用データのスクライブ領域に配置することになる。
【０００４】
図１及び２は、それぞれ、プロセスマークの一例及びスクライブ領域を模式的に示している。図１に示したプロセスマーク１０は、例えば重ね合わせ検査マークとして使用されることができるものであり、矩形のパターン領域枠１０ａ内に形成されている。図１は更に、この例においてパターン領域枠１０ａの中心点であり且つプロセスマーク１０の中心点であるパターン中心１０ｃを示している。スクライブ領域は、図２に示すように、互いに直交するＸ方向及びＹ方向に沿ってそれぞれ延在する複数のＸ方向スクライブ領域２０ｘ及び複数のＹ方向スクライブ領域２０ｙとして定められる。そして、これらのＸ方向スクライブ領域２０ｘ及びＹ方向スクライブ領域２０ｙの間に、複数のデバイス形成領域２１が画成される。Ｘ方向スクライブ領域２０ｘの幅（Ｙ方向）ｗ１、及びＹ方向スクライブ領域２０ｙの幅（Ｘ方向）ｗ２は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【０００５】
プロセスマーク１０などのプロセスマークには、その種類などに応じて、Ｘ方向スクライブ領域２０ｘ及びＹ方向スクライブ領域２０ｙの何れに配置されるかが決められているものがある。すなわち、プロセスマークには、Ｘ方向及びＹ方向の何れかに限定して配置されるもの、Ｘ方向及びＹ方向の何れに配置されてもよいもの、及び／又はＸ方向及びＹ方向の何れにも配置されなければならないものが存在し得る。さらに、Ｘ方向及びＹ方向の何れにも配置され得るプロセスマークに関しては、Ｘ方向スクライブ領域に配置される場合とＹ方向スクライブ領域に配置される場合とで、プロセスマークの向きを同一にするものと９０°回転させる必要があるものとが存在する。
【０００６】
配置されるスクライブ領域の方向に応じて９０°回転させるプロセスマークについては、双方の向きの図形データを予め作成しておくことと、一方の向きの図形データのみを作成しておき、実際のレイアウト作業時に図形データを追加作成することとが考えられる。
【０００７】
前者の手法は、９０°回転された図形データが実際に必要になるか否かに拘わらず、基準となる１つの向きの図形データから、他方の向きの図形データを予め作成しておくことにより、実際のレイアウト作業時の手番を削減させ得る。換言すれば、レチクル製作用又は直接描画用のデータ上のスクライブ領域に図形データを配置する際には、予め作成した２方向の図形データの中から必要な方向の図形データを選択すればよい。
【０００８】
この手法においては、また、向きを固定することが好ましい９０°回転対称性のない要素図形を基準方向のプロセスマークが含む場合に、９０°回転させたプロセスマークの作成時にそのような要素図形の向きを補正しておくことができる。図３は、９０°回転対称性のない要素図形を文字パターンとした場合の、要素図形の向き補正を示している。図３（ａ）は、文字パターン３５を含む基準方向のプロセスパターン３０の一例と、パターン領域枠３０ａ及びその中心点であるパターン中心３０ｃとを示している。パターン中心３０ｃを回転中心としてプロセスパターン３０をそのまま９０°回転させると、図３（ｂ）に示すように、文字の向きが変化した文字パターン３５’を含むプロセスマーク３０’が得られる。基準方向のプロセスパターンによっては、９０°回転後に文字が上下逆さに配置されることもあり得る。このように、基準方向のプロセスパターンをそのまま９０°回転させると、文字の向きが変化して文字パターンの視認性が低下することがある。それに対し、図３（ｃ）に示すように、プロセスマーク３０’に代えて、その文字パターン３５’を各文字の向きを回転前と同一に補正した文字パターン３５”で置換したプロセスマーク３０”を使用することにより、視認性の低下を回避することができる。この視認性の向上は、後の検査工程などにおいて、パターン誤認の発生を抑制し得る。
【０００９】
しかしながら、露光工程数の増加、プロセスパターンの種類の増加に伴い、作成すべき図形データの種類も増加している。その結果、全て或いは多くのプロセスマークの各々について２方向の図形データを準備すること自体が、レチクル製作用または直接描画用データの作成における新たな手番増加要因になりつつある。また、回転後の文字パターン内で各文字の向きを回転前と同一に補正することも、一般的に、文字パターン内での各文字のレイアウト変更を必要とし、手番を増加させることになる。さらに、作成すべき図形データ数の増加により、図形データの管理工数も増加する。
【００１０】
一方、後者の手法、すなわち、基準となる向きの図形データのみを作成しておく手法は、レイアウト作業の開始後に必要であることが判明した時点で９０°回転された図形データを作成することにより、不要な図形データの作成を回避することができる。故に、この手法は、図形データの種類が増加したときにも、前者の方法と比較して、図形データの事前作成手番を短縮するとともに、図形データの管理工数を軽減することが可能である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特表２００４−５０８７１１号公報
【特許文献２】特開２００１−１０２２８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
レイアウト作業の開始前に基準となる向きの図形データのみを作成しておく手法は、しかしながら、９０°回転された図形データを要するプロセスマークについて、レイアウト作業時に９０°の回転操作を必要とする。９０°の回転には、例えばプロセスパターンに応じて、＋９０°及び−９０°の２通りの回転が存在し得る。なお、以下においては反時計回りをプラス（＋）方向とし、時計回りをマイナス（−）方向として説明するが、これとは逆方向に回転方向を定義することも可能である。基準となる方向の図形データを＋９０°回転させた図形データと−９０°回転させた図形データとが完全に重なり合うならば、図形データの回転方向は＋９０°及び−９０°の何れに指定されてもよい。しかし、図４に例示するように基準となる方向の図形データ（ａ）を＋９０°回転させた図形データ（ｂ）と−９０°回転させた図形データ（ｃ）とが完全には重なり合わないならば、所望の図形データが得られる回転方向が正しく指定される必要がある。
【００１３】
このように、スクライブ領域への図形データのレイアウト時に回転操作が追加される結果、プロセスパターンごとに回転角度と回転方向とを組として管理しなければならない。また、スクライブ領域への図形データのレイアウト時に図形データを逆方向に回転させてしまう可能性を完全に排除することは困難である。
【００１４】
また、図形データの回転方向を正しく指定したとしても、基準となる方向のプロセスパターンの図形データとそれを９０°回転させたプロセスパターンの図形データとの間で、使用上の利便性に差異を生じることがある。例えば、図３（ａ）及び（ｂ）に示したように、文字パターンを要素図形として含むプロセスマークは、９０°回転によって文字パターンの視認性が低下してしまう。視認性の低下は、例えば、後の検査工程等においてアライメントマークや検査マークの誤認及び／又は混同を生じさせ得るものである。
【００１５】
故に、レチクル製作用又は直接描画用のデータのスクライブ領域に図形データを配置する際の図形データの回転操作に関し、回転方向の管理の必要性及び／又は回転後のパターン視認性の低下などを回避し得る技術が望まれる。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
一観点によれば、半導体装置の製造工程においてスクライブ領域に形成されるプロセスマークの図形データを作成する方法が提供される。当該方法は、所与の要素図形から構成された第１のプロセスマークにおいて、少なくとも１つの要素図形を抽出するステップを含む。当該方法は更に、抽出された要素図形を例えば９０°又は１８０°回転させた図形を更なる要素図形として第１のプロセスマークに追加することによって第２のプロセスマークを作成するステップを含む。
【００１７】
他の一観点によれば、製造すべき半導体装置のデバイスパターンを半導体基板のデバイス形成領域に形成するデバイスパターニング工程を有する半導体装置の製造方法が提供される。このデバイスパターニング工程は、上述の方法を用いて作成された上記第２のプロセスマーク、又はそれを９０°回転させたプロセスマークをスクライブ領域に形成することを含む。
【００１８】
他の一観点によれば、半導体装置の製造工程においてスクライブ領域に形成されるプロセスマークが提供される。当該プロセスマークは、文字パターンを有する第１の要素図形と、２回回転対称性を有する第２の要素図形と、第２の要素図形の中心点に関して第１の要素図形を９０°又は１８０°回転させた図形に一致する第３の要素図形とを有する。
【発明の効果】
【００１９】
１８０°回転対称となるように要素図形を追加することにより、２回回転対称性を有するプロセスマークを作成することができ、プロセスマークの９０°回転操作における回転方向の管理が不要にされる。また、９０°回転させた要素図形を追加することにより、９０°回転操作の前／後の双方のプロセスマークの中に同一の向きの要素図形を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】一般的なプロセスマークの一例を示す図である。
【図２】スクライブ領域を模式的に示す図である。
【図３】従来技術に係る要素図形の向き補正を説明する図である。
【図４】回転方向の違いによる回転後の図形データの相違を説明する図である。
【図５】一実施形態に従ったプロセスマークに使用され得る要素図形を例示する図である。
【図６】２回回転対称性を有する要素図形を例示する図である。
【図７】２回回転対称性を有しない要素図形を例示する図である。
【図８】要素図形を追加して２回回転対称性を付与したプロセスマークの一例を示す図である。
【図９】要素図形を追加して２回回転対称性を付与したプロセスマークの他の一例を示す図である。
【図１０】要素図形を追加して回転前後で視認性を確保したプロセスマークの一例を示す図である。
【図１１】要素図形を追加して４回回転対称性を付与したプロセスマークの一例を示す図である。
【図１２】一実施形態に従った基準プロセスマークの生成方法を示すフローチャートである。
【図１３】一実施形態に従った基準プロセスマークの生成方法の一例を示す平面図である。
【図１４】基準プロセスマークへの回転対称性の付与方法の一例を示すフローチャートである。
【図１５】一実施形態に従った基準プロセスマークの生成方法を実行するためのコンピュータシステムを例示するブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、添付図面を参照しながら実施形態について詳細に説明する。図面全体を通して、同一あるいは対応する構成要素には同一又は類似の参照符号を付する。
【００２２】
先ず、一実施形態に従ったプロセスマークに使用され得る種々の要素図形の例を説明する。図５は、（ａ）アライメントパターン、（ｂ）重ね合わせ検査パターン及び（ｃ）文字パターンについて、それぞれの一例を示している。例示したアライメントパターン１１０は、矩形のパターン領域枠１１０ａ内に形成されている。同様に、例示した重ね合わせ検査パターン１２０及び文字パターン１３０は、それぞれ、矩形のパターン領域枠１２０ａ及び１３０ａ内に形成されている。パターン１１０、１２０及び１３０は典型的に、それぞれ、パターン領域枠１１０ａ、１２０ａ及び１３０ａの中心をパターン中心１１０ｃ、１２０ｃ及び１３０ｃとして配置される。
【００２３】
アライメントパターン及び重ね合わせ検査パターンなどの計測パターンの図形データは典型的に、使用目的上、１８０°回転対称性すなわち２回回転対称性を有する。故に、アライメントパターン及び重ね合わせ検査パターンの図形データは典型的に、パターン中心の周りで＋９０°回転させた図形データと−９０°回転させた図形データとが完全に重なり合う。図６は、この＋９０°回転と−９０°回転との間での結果の同一性を、図５（ａ）に示したアライメントパターン１１０について示している。アライメントパターン１１０をパターン中心１１０ｃの周りで（ａ）＋９０°、（ｂ）−９０°回転させたアライメントパターン１１０’、１１０”は、それぞれのパターン領域枠１１０ａ’、１１０ａ”を含めて互いに完全に同一になる。
【００２４】
一方、プロセスマークに使用され得る要素図形には、例えば文字パターンのように対称性よりも識別性など他の性質が強く要求されるものもある。例えば文字パターンなどの２回回転対称性を有しない要素図形の図形データは、パターン中心の周りで＋９０°回転させた図形データと−９０°回転させた図形データとが相異なるものになる。図７は、この＋９０°回転と−９０°回転との間での結果の非同一性を、図５（ｃ）に示した文字パターン１３０について示している。文字パターン１３０をパターン中心１３０ｃの周りで（ａ）＋９０°、（ｂ）−９０°回転させた文字パターン１３０’、１３０”は、それぞれのパターン領域枠１３０ａ’、１３０ａ”は同一になり得るものの、文字パターン自体の向きが互いに異なるものになる。
【００２５】
なお、図６及び７において、＋９０°回転後の要素を「’」付きの参照符号で示し、−９０°回転後の要素を「”」つきの参照符号で示したが、以降の図においても同様の表記法を用いることとする。
【００２６】
続いて、図８及び９に示す２つの例を参照して、一実施形態に従ったプロセスマークを説明する。
【００２７】
図８（ａ）に示す一例に係るプロセスマーク２００は、パターン領域枠２００ａ内に配置された２つの要素図形２１０及び２２０を有している。図示した例において、要素図形２１０及び２２０は図５（ｃ）に示したものと同様の文字パターンを有している。文字パターン２１０及び２２０は、例えば、工程名称を表す識別マークとして用いられ得る。要素図形２１０及び２２０の各々は２回回転対称性を有しないが、２つの要素図形２１０及び２２０を組み合わせたプロセスマーク２００は、全体として２回回転対称性を有するように構成されている。何故なら、プロセスマーク２００においては、パターン領域枠２００ａの中心（パターン中心）２００ｃに関して回転対称となるように、２つの文字パターン２１０及び２２０が配置されているからである。すなわち、マーク２００全体のパターン中心２００ｃを中心として１８０°回転させるとき、要素図形２１０を回転させたものが回転前の要素図形２２０に重なり、要素図形２２０を回転させたものが回転前の要素図形２１０に重なる。
【００２８】
故に、図８（ａ）のプロセスマーク２００をＸ方向及びＹ方向（図２参照）のうちの基準となる方向のプロセスマークとしたとき、＋９０°回転させたプロセスマーク２００’（図８（ｂ））と−９０°回転させたプロセスマーク２００”（図８（ｃ））とが同一となる。なお、厳密に言えば、プロセスマーク２００’と２００”との間で、＋９０°回転された要素図形２１０’と−９０°回転された要素図形２２０”とが重なり、＋９０°回転された要素図形２２０’と−９０°回転された要素図形２１０”とが重なることになる。
【００２９】
図９（ａ）に示す他の一例に係るプロセスマーク３００は、パターン領域枠３００ａ内に配置された３つの要素図形３１０、３２０及び３３０を有している。図示した例において、要素図形３１０及び３２０は図５（ｃ）に示したものと同様の文字パターンを有し、要素図形３３０は図５（ｂ）に示したものと同一の重ね合わせ検査マークを有している。プロセスマーク３００のパターン領域枠３００ａのパターン中心３００ｃは、２回回転対称性を有する重ね合わせ検査パターン３３０のパターン中心に揃えられている。また、文字パターン３１０及び３２０は、それぞれ、パターン中心３００ｃの周りで１８０°回転されたときに、回転前の文字パターン３２０及び３１０に重なり合うように配置されている。なお、プロセスマーク３００は、重ね合わせ検査パターンに代えて、例えば図５（ａ）に示したアライメントパターンなど、その他の２回回転対称パターンを含んでいてもよい。また、プロセスマーク３００は、例えば重ね合わせ検査パターン及びアライメントパターンの双方の機能を有する複合パターンなど、より複雑な２回回転対称パターンを含んでいてもよい。
【００３０】
この例において、文字パターン３１０と重ね合わせ検査パターン３３０との２つの要素図形のみを有するプロセスマークを考えると、該プロセスマークは、２回回転対称性を有しない文字パターン３１０の存在により、全体としても２回回転対称性を有しない。一方、この実施形態に従ったプロセスマーク３００は、パターン中心３００ｃに関して文字パターン３１０と１８０°回転対称の位置に文字パターン３２０を追加したことにより、全体として２回回転対称性を有する。
【００３１】
故に、図９（ａ）のプロセスマーク３００を基準となる方向のプロセスマークとしたとき、＋９０°回転させたプロセスマーク３００’（図９（ｂ））と−９０°回転させたプロセスマーク３００”（図９（ｃ））とが同一となる。なお、厳密に言えば、プロセスマーク３００’と３００”との間で、＋９０°回転された要素図形３１０’と−９０°回転された要素図形３２０”とが重なり、＋９０°回転された要素図形３２０’と−９０°回転された要素図形３１０”とが重なることになる。また、要素図形３３０の２回回転対称性により、＋９０°回転された要素図形３３０’と−９０°回転された要素図形３３０”とが重なり合う。
【００３２】
以上のように、２回回転対称性を有しない要素図形に対して１８０°回転対称となる要素図形を追加することにより、２回回転対称性を有しない要素図形を含むプロセスマークに対しても２回回転対称性を付与することができる。このようにして２回回転対称性を付与されたプロセスマークを、基準となる方向のプロセスマークとして予め作成しておくことは、２方向それぞれのプロセスマークを予め作成する必要がないことに加えて、プロセスマークの回転方向を管理することを不要にし得る。また、他方向のスクライブ領域へのプロセスマークのレイアウト時に図形データを逆方向に回転させて配置してしまうことで生じる問題が回避される。
【００３３】
なお、１つ以上の所与の非２回回転対称パターン（例えば、図９の文字パターン３１０）と１つ以上の所与の２回回転対称パターン（例えば、図９の重ね合わせ検査パターン３３０）とを含む２回回転対称プロセスマークの構成は複数存在する。例えば、非２回回転対称パターンのみでなく２回回転対称パターンをも追加することにより、様々な２回回転対称プロセスマークを構成することができる。しかしながら、好ましくは、プロセスマーク（又はパターン領域枠）のサイズを不必要に増大させないよう、非２回回転対称パターンのみが追加される。
【００３４】
次に、図１０及び１１に示す２つの例を参照して、他の一実施形態に従ったプロセスマークを説明する。
【００３５】
図１０（ａ）に示す一例に係るプロセスマーク４００は、パターン領域枠４００ａ内に配置された３つの要素図形４１０、４２０及び４３０を有している。図示した例において、要素図形４１０及び４２０は文字パターンを有しており、要素図形４３０は図５（ｂ）に示したものと同一の重ね合わせ検査パターンを有している。なお、プロセスマーク４００は、重ね合わせ検査パターンに加えて、あるいは代えて、その他のパターンを含んでいてもよい。文字パターン４１０及び４２０は、例えば、工程名称を表す識別マークとして用いられ得る。文字パターンはそれ自体、９０°回転対称性すなわち４回回転対称性を有しておらず、典型的に２回回転対称性も有しない。
【００３６】
ここで、プロセスマーク４００がＸ方向及びＹ方向（図２参照）のうちの基準となる方向のプロセスマークとして予め作成され、他方向のプロセスマークとしてレイアウトされるときに＋９０°回転されるように指定されているとする。文字パターン４１０は、その視認性を確保するため、各文字が通常の読み書き時のように縦向きとなるように構成され、文字パターン４２０は、或る点を回転中心４１０ｃとして文字パターン４１０を−９０°回転させたパターンとして形成されている。故に、文字パターン４２０の各文字は横向きに配置されている。要素図形４１０の回転中心４１０ｃは、要素図形４１０を−９０°回転させたパターン（例えば、要素図形４２０）がその他の要素図形と重ならない限りにおいて、必ずしもパターン領域枠４００ａの中心点と同一である必要はない。図１０においては、文字パターン４１０の回転中心４１０ｃは、重ね合わせ検査パターン４３０の中心点にされている。図１０のように回転中心４１０ｃを設定することにより、重ね合わせ検査パターン４３０から見た２つの文字パターン４１０及び４２０の対称性を確保することができる。
【００３７】
この例において、文字パターン４１０と重ね合わせ検査パターン４３０との２つの要素図形のみを有するプロセスマークを考えると、＋９０°回転されたとき、回転後の文字パターン４１０’の各文字が横向きに配置され、文字の視認性が低下してしまう。一方、この実施形態に従ったプロセスマーク４００の場合には、図１０（ｂ）に示すように、回転操作の指定に従って＋９０°回転されたプロセスマーク４００’において、文字パターン４２０’の各文字が縦向きに配置され、文字の視認性が確保される。なお、ここではプロセスマーク４００の回転を＋９０°に指定し、要素図形４１０を−９０°回転させて追加の要素図形４２０を形成したが、プロセスマークの回転指定が−９０°の場合には、要素図形４１０を＋９０°回転させて追加の要素図形を形成すればよい。
【００３８】
このように、４回回転対称性を有しない要素図形を＋９０°又は−９０°回転させた要素図形を基準方向のプロセスマークに追加することにより、所定方向に９０°回転させたプロセスマークにおいても基準方向のプロセスマークと同様の要素図形を視認し得る。故に、スクライブ領域への図形データのレイアウト時に、基準方向のプロセスマークを単に所定方向に回転させて配置した場合であっても、回転前後の何れのプロセスマークにおいても誤認などを抑制あるいは防止することができる。また、９０°回転させた要素図形を基準方向のプロセスマークに追加することは、図３を参照して説明した視認性を高めるためのパターン変更と比較して短手番で行うことができる。
【００３９】
図１１（ａ）に示す他の一例に係るプロセスマーク５００は、図１０（ａ）に示したプロセスマーク４００に対して、プロセスマーク全体としての回転対称性を付与したものである。プロセスマーク５００は、パターン領域枠５００ａ内に配置された５つの要素図形５１０−５５０を有している。図示した例において、４つの要素図形５１０−５４０は文字パターンを有し、要素図形５５０は重ね合わせ検査マークを有している。プロセスマーク５００のパターン領域枠５００ａのパターン中心５００ｃは、重ね合わせ検査パターン５５０のパターン中心に揃えられている。また、文字パターン５２０、５３０、５４０は、それぞれ、文字パターン５１０をパターン中心５００ｃの周りで−９０°、（＋／−）１８０°、＋９０°回転させたパターンとして形成されている。
【００４０】
故に、４つの文字パターン５１０−５４０の結合パターンは、パターン中心５００ｃに関して４回回転対称性を有する。また、プロセスマーク５００は全体として、要素図形５５０の回転対称性に一致する回転対称性を有する。すなわち、プロセスマーク５００は、要素図形５５０が４回回転対称性を有する場合には４回回転対称性を有し、要素図形５５０が２回回転対称性のみを有する場合には２回回転対称性を有する。このようなプロセスマークを基準方向のプロセスパターンとして作成しておくことにより、＋９０°及び−９０°の何れの回転操作を行った場合にも、例えば文字パターンなどの非４回回転対称パターンの視認性を高めることができる。また、プロセスマーク全体として少なくとも２回回転対称性を確保することができ、図８及び９に示したプロセスマーク２００及び３００と同様に、回転方向の管理などに関する問題を回避することができる。
【００４１】
さらに、転写露光又は直接描画などによる半導体装置のデバイスパターンの形成工程に、例えば図８−１１に例示したプロセスマークなどの実施形態に係るプロセスマークを用いることは、より効率的に半導体装置を製造することを可能にする。例えば、レチクル製造過程又は直接描画データの作成過程での手戻りが削減され得る。また、これらのデータ作成過程での各種の比較検証時、又は半導体装置の製造プロセスにおける使用時において、アライメントマーク及び検査マークなどの各種プロセスマークの誤認などが防止される。
【００４２】
次に、図１２に示すフローチャートを参照して、一実施形態に従った、Ｘ方向又はＹ方向のうちの基準となる方向のプロセスマーク（以下、基準プロセスマークと称する）の生成方法の一例を説明する。この方法は、所与のプロセスマークから、２回回転対称性を有する基準プロセスマーク、及び／又は＋／−９０°回転させたときに向きが一致する要素図形を有する基準プロセスマークを生成し得る。
【００４３】
先ず、ステップＳ１にて、基準プロセスマークが含むべき１つ以上の要素図形が与えられる。各要素図形は、例えばアライメントパターンや重ね合わせ検査パターンなどの測定パターン、及び／又は工程名称の識別パターンなど、或る機能を果たす１つ以上の構成要素のグループとして与えられ得る。一例として、図１３（ａ）に示す正方形の４辺上に配置された４つの線分で構成された重ね合わせ検査パターン６１０、及び／又は図１３（ｂ）に示すような１つ以上の文字で構成された文字パターン６２０などが与えられる。
【００４４】
各要素図形は、例えばマウス及びキーボードなどのユーザインタフェースを介してユーザによって入力され得る。あるいは、要素図形は、要素図形データベースに予め格納された要素図形群の中から選択されてもよい。また、各要素図形（６１０、６２０）には要素図形データ領域枠（６１０ａ、６２０ａ）と中心点（６１０ｃ、６２０ｃ）とが定義される。例えば、要素図形を含む最小の矩形領域として要素図形データ領域枠が定義され、該矩形領域の２つの対角線の交点として中心点が定義される。そして、各要素図形において、その中心点を原点とした各構成要素の頂点の座標値が抽出される。
【００４５】
各要素図形データは、例えば、ユーザ指定された要素図形名と、中心点に対する要素図形データ領域枠の頂点座標（又は、Ｘ方向及びＹ方向のサイズ）及び各構成要素の頂点座標とを用いて、記憶装置の要素図形格納部に保存されることができる。
【００４６】
次いで、ステップＳ２にて、ステップＳ１にて入力された各要素図形がその中心点に対してｎ°回転対称性を有するかが判定される。回転角度ｎは、１８０°、＋９０°、−９０°及び／又はユーザによって指定されたその他の角度を含み得る。例えば、プロセッサなどの制御部が、アルゴリズム保存領域に格納された対称性判定アルゴリズムを用いて、各要素図形がｎ°回転対称性を有するかを決定する。一例として、要素図形内の全ての構成要素の頂点座標を、該要素図形の中心点を回転中心としたｎ°回転の前後で比較する。回転前後での頂点座標が一対一対応していれば、要素図形はｎ°回転対称であると判定することができる。一方、回転前後で頂点座標が一対一対応していなければ、要素図形はｎ°回転対称でないと判定し得る。判定されたｎ°回転対称性は、要素図形格納部に格納された各要素図形データの付帯情報として保存され得る。
【００４７】
次いで、ステップＳ３にて、要素図形を組み合わせて配置することにより、暫定的な基準プロセスマークの図形データを作成する。例えば、ユーザがユーザインタフェースを介して要素図形をレイアウトすることができる。他の例では、制御部が、例えば異なる要素図形の矩形データ領域枠が隣接し合うように各要素図形の中心点座標を決定することなどによって、要素図形をレイアウトしてもよい。そして、暫定的な基準プロセスマークの図形データ領域枠（以下、暫定プロセスマーク領域枠と称する）と、その中心点（以下、暫定プロセスマーク中心点と称する）が定められる。例えば、この基準プロセスマークを構成する全ての要素図形を囲む最小の矩形領域として暫定プロセスマーク領域枠が定められ、この矩形領域の２つの対角線の交点として暫定プロセスマーク中心点が定められる。一例として、図１３（ｃ）に示すように、要素図形６１０と６２０とを隣接させて配置した暫定的な基準プロセスマーク６０５に対して、暫定プロセスマーク領域枠６０５ａ及び暫定プロセスマーク中心点６０５ｃが定められる。
【００４８】
暫定的な基準プロセスマークの図形データは、例えば、ユーザ指定されたプロセスマーク名と、各要素図形名及び暫定プロセスマーク中心点を原点とした各要素図形の中心点の座標などとを用いて、記憶装置の暫定プロセスマーク格納部に保存されることができる。これらに加えて、暫定的な基準プロセスマークを構成する要素図形の数が保存されてもよい。また、必要に応じて、暫定プロセスマーク領域枠の頂点座標（又は、Ｘ方向及びＹ方向のサイズ）、及び／又は基準となるスクライブ領域の方向（Ｘ方向又はＹ方向）など、暫定的な基準プロセスマークに関するその他の情報も保存され得る。
【００４９】
次いで、ステップＳ４にて、ステップＳ３にて作成された暫定的な基準プロセスマークの図形データが、暫定プロセスマーク中心点を回転中心としたｎ°回転に対して対称性を有するかが判定される。この場合も、回転角度ｎは、１８０°、＋９０°、−９０°及び／又はユーザによって指定されたその他の角度を含み得る。プロセッサなどの制御部が、アルゴズム格納領域に格納された対称性判定アルゴリズムを用いて、暫定的な基準プロセスマークがｎ°回転対称性を有するかを決定する。
【００５０】
一例として、暫定的な基準プロセスマーク内の全ての頂点の、暫定プロセスマーク中心点を原点とした座標を、暫定プロセスマーク中心点を回転中心としたｎ°回転の前後で比較する。暫定的な基準プロセスマーク内の全ての頂点座標は、例えば、暫定的な基準プロセスマークに関連付けられて保存された各要素図形の中心点座標と、各要素図形に関連付けられて保存された各要素図形の中心点に対する各構成要素の頂点座標とから算出し得る。回転前後での頂点座標が一対一対応していれば、暫定的な基準プロセスマークはｎ°回転対称であると判定することができる。一方、回転前後で頂点座標が一対一対応していなければ、暫定的な基準プロセスマークはｎ°回転対称でないと判定し得る。
【００５１】
他の一例として、暫定的な基準プロセスマークのｎ°回転対称性の判定は、各要素図形の付帯情報として保存された各要素図形のｎ°回転対称性の情報を利用してもよい。暫定的な基準プロセスマークが、暫定プロセスマーク中心点と一致する中心点を有するｎ°回転対称の要素図形を有するとき、暫定的な基準プロセスマークのｎ°回転対称性の判定はその他の１つ以上の要素図形に対してのみ行えばよい。例えば、暫定的な基準プロセスマークが中心点を共通にする唯一の要素図形を有し、該要素図形がｎ°回転対称性を有するとき、暫定的な基準プロセスマークもｎ°回転対称であるとすることができる。また、暫定的な基準プロセスマークは、１つのｎ°回転対称でない要素図形を有するとき、ｎ°回転対称でないとすることができる。
【００５２】
判定された暫定的な基準プロセスマークのｎ°回転対称性の有／無は、暫定的な基準プロセスマークの図形データの付帯情報として暫定プロセスマーク格納部に保存され得る。
【００５３】
次いで、ステップＳ５にて、暫定的な基準プロセスマークへのｎ°回転対称性の付与が必要か否かの決定が行われる。このため、暫定的な基準プロセスマークから作成される基準プロセスマークが有すべきｎ°回転対称性が、例えばユーザによって選択される。あるいは、初期設定として例えば１８０°回転対称性の必要性が設定されており、例えば９０°回転対称性などの更なる、あるいは異なる対称性が必要である場合に、ユーザが追加的あるいは置換的に選択を行ってもよい。また、必要なｎ°回転対称性の選択は、ステップＳ１の要素図形の入力時、又はステップＳ３の暫定的な基準プロセスマークの作成時に行われてもよい。
【００５４】
ステップＳ５にて暫定的な基準プロセスマークへのｎ°回転対称性の付与が不要であると決定された場合、ステップＳ７にて、暫定的な基準プロセスマークが、最終的な基準プロセスマークとして、例えば、記憶装置の基準プロセスマークデータベースに登録される。一例として、ステップＳ４にて１８０°回転対称であると判定された暫定的な基準プロセスマークは、９０°回転対称性などのその他の回転対称性が要求されないとき、最終的な基準プロセスマークとして登録される。他の一例として、ステップＳ４にて回転対称性を有しないと判定された暫定的な基準プロセスマークであっても、例えばＸ方向又はＹ方向の基準となる方向のスクライブ領域で使用されることに制約されるものは、最終的な基準プロセスマークとして登録され得る。
【００５５】
基準プロセスマークのデータベースに登録される最終的な基準プロセスマークのデータは、好ましくは、先にユーザ指定されたプロセスマーク名、基準となるスクライブ領域の方向、及び該プロセスマーク内の全ての図形データの頂点座標を含む。また、配置されることが可能なスクライブ領域の方向、及び／又は備えているｎ°回転対称性に関する情報が付帯情報として保存されてもよい。
【００５６】
ステップＳ５にて暫定的な基準プロセスマークへのｎ°回転対称性の付与が必要であると決定された場合、ステップＳ６にて、制御部は、ｎ°回転対称性を有する基準プロセスマークを生成するよう、暫定的な基準プロセスマークにｎ°回転対称性を付与する。
【００５７】
回転対称性付与ステップＳ６は、例えば、図１４に示すように、要素図形の分類ステップＳ６−１、パターン中心（回転中心）の設定ステップＳ６−２、及び要素図形の追加／移動ステップＳ６−３を含み得る。
【００５８】
ステップＳ６−１にて、制御部は、ステップＳ１にて判定されて保存された要素図形のｎ°回転対称性の情報を読み出し、暫定的な基準プロセスマークを構成する要素図形を、ｎ°回転対称性を有するものと、ｎ°回転対称性を有しないものとに分類する。例えばアライメントパターン及び重ね合わせ検査パターンなどの測定パターンに相当する要素図形は、典型的に１８０°回転対称性を有し、場合により９０°回転対称性をも有する。一方、文字パターンなどの識別パターンは典型的に１８０°回転対称性及び９０°回転対称性を有しないため、測定パターンとは異なるように分類される。
【００５９】
制御部はまた、ｎ°回転対称性を有しない要素図形が複数存在する場合に、これら複数の要素図形の中に、それぞれの中心点を一致させて一方をｎ°回転させたときに他方に重なり合う要素図形の対が存在するかを判定することができる。制御部は更に、ｎ°回転対称性を有する要素図形が複数存在する場合にも、それらのパターンの同一性を識別し、同様にペアリングすることができる。このように要素図形をペアリングし、対を形成しない要素図形を抽出することにより、ステップＳ６−３で追加すべき要素図形を決定することができる。
【００６０】
次いで、ステップＳ６−２にて、制御部は、暫定プロセスマーク中心点に代えて、最終的な基準プロセスマークのパターン中心（回転中心）を決定する。この回転中心は、典型的に、ステップＳ６−１にて見出されたｎ°回転対称性を有する要素図形の中心点に一致するように決定される。一例として、図１３（ｄ）に示すように、少なくとも１８０°回転対称性を有する要素図形６１０の図形データの中心点に回転中心６００ｃが設定される。
【００６１】
ｎ°回転対称性を有する複数の要素図形が見出されている場合には、例えば、それらのうちで最大のデータ領域枠を有する要素図形の中心点が上記回転中心として選択され得る。あるいは、ｎ°回転対称性を有する複数の要素図形の中に、対を為す要素図形と対を為さない要素図形が存在する場合には、対を為さない要素図形の中心点が上記回転中心として選択されてもよい。複数のｎ°回転対称性を有しない要素図形のみが見出されている場合には、そのような非回転対称の要素図形の図形データ領域枠の境界上又は外側に回転中心が定められる。ユーザがユーザインタフェースを介して回転中心を選択・設定することが可能にされてもよい。暫定プロセスマーク格納部に保存されていた暫定プロセスマーク中心点が新たに設定された回転中心で置換され、暫定プロセスマークに関する図形データが更新される。
【００６２】
なお、基準プロセスマークの１８０°回転対称性が要求されず、文字パターンなど一部の要素図形の９０°回転配置のみが要求される場合、この９０°回転配置の回転中心は必ずしも、ｎ°回転対称性を有する要素図形の中心点に一致される必要はない。９０°回転配置の回転中心は、例えば、９０°回転配置された２つの文字パターンが、ｎ°回転対称性を有する検査パターンなどの要素図形のデータ領域枠の２辺に接するように決定されてもよい。
【００６３】
そして、ステップＳ６−３にて、制御部は、ｎ°回転対称性を有しない要素図形に関し、それを回転中心に関して１８０°、＋９０°又は−９０°回転させた図形の図形データを算出し、該図形データを有する図形を更なる要素図形として追加する。一例として、図１３（ｄ）に示すように、文字パターンを有する要素図形６２０を回転中心６００ｃの周りで１８０°回転させた要素図形６３０が追加される。そして、要素図形６１０、６２０及び６３０を包含する図形データ領域枠６００ａが定められる。得られたプロセスマーク６００は、回転中心６００ｃに関して１８０°回転対称性すなわち２回回転対称性を有する。
【００６４】
ステップＳ６−１にてペアリングが為された要素図形の対が存在する場合には、新たな要素図形を追加する必要はなく、一方が他方に対して回転中心の周りでｎ°回転された関係になるように、対の少なくとも一方の要素図形の中心点を移動すればよい。新たに追加された要素図形及び／又は移動された要素図形の中心点に関して、暫定プロセスマーク格納部に保存された暫定プロセスマークに関する図形データが更新される。
【００６５】
なお、追加された要素図形及び／又は中心点が移動された要素図形がその他の要素図形と重なる場合には、その旨を例えばディスプレー上での表示などによってユーザに警告することができる。また、最終的な基準プロセスマーク又はそれを９０°回転させたプロセスマークの領域枠の幅が、要素図形の追加などによって、Ｘ方向又はＹ方向のスクライブ領域の幅（図２のｗ１、ｗ２参照）を超過する場合にも、その旨をユーザに警告することができる。警告を受けたユーザは、例えば、使用する要素図形のパターン及び／又はサイズを変更することにより、使用可能な基準プロセスマークを再構築してもよい。
【００６６】
ステップＳ６にて、ｎ°回転対称性が付与された基準プロセスマークは、ステップＳ５から直接的にステップＳ７に進められた暫定的な基準プロセスマークと同様に、ステップＳ７にて、最終的な基準プロセスマークとしてデータベースに登録されることができる。
【００６７】
以上のステップ群を必要な基準プロセスマークに関して繰り返すことにより、複数の基準プロセスマークを格納したデータベースが構築される。このデータベースを用いることにより、レチクル製作用又は直接描画用のデータのスクライブ領域に図形データを配置する際の図形データの回転操作に関して、回転方向の管理及び／又は回転後のパターン視認性の低下に関する問題が回避され得る。
【００６８】
この方法は、コンピュータのプロセッサなどによって実行されるときに、コンピュータに当該方法を実行させるコンピュータプログラムとして実装されてもよい。また、コンピュータプログラムは、例えば、コンピュータ読み取り可能記憶媒体に格納されることによって、あるいは通信ネットワークを介してダウンロードされることによって、コンピュータのプロセッサなどによって実行され得る。
【００６９】
図１５は、図１２に示した基準プロセスマーク生成方法を実行し得るコンピュータシステム９００の一例を概略的に示している。コンピュータシステム９００は、データ入力部９１０、記憶装置９２０、制御部９３０、及びデータ出力部９４０を含んでいる。
【００７０】
データ入力部９１０は、例えばマウス及びキーボードなどのユーザインタフェース装置を有し、ユーザによる要素図形データ及び暫定的な基準プロセスマークデータの入力及び作成を支援する。入力される要素図形データには、要素図形の名称、機能及びデータ領域サイズなどの図形要素自体のデータと、要素図形を構成する１つ以上の構成要素の形状、サイズ及び位置などのデータとを含み得る。入力される暫定的な基準プロセスマークデータには、プロセスマークの名称、用途、及び基準とする方向などを含み得る。データ入力部９１０はまた、回転対称性を有する基準プロセスマークの作成時に回転中心や要素図形の配置などをユーザが指定することを可能にし得る。
【００７１】
記憶装置９２０は、例えば１つ以上の半導体メモリ及び／又はハードディスクを含み得る。記憶装置９２０は、上述の基準プロセスマーク生成方法に使用される種々のアルゴリズムを格納するアルゴリズム格納部９２１を含み得る。アルゴリズム格納部９２１には、例えば、中心点の導出、回転中心に対するｎ°回転移動及びｎ°回転対称性判定、並びに要素図形の重なり判定などを行うアルゴリズムが格納される。記憶装置９２０はまた、予め作成した多数の要素図形を有する要素図形データベース９２２と、ユーザ入力された、あるいは要素図形データベース９２２からユーザ選択された要素図形に関するデータを保存する要素図形データ格納部９２３とを含み得る。要素図形データ格納部９２３は、例えば、データ入力部９１０を介してユーザ入力された要素図形データと、それらのデータから得られた中心点、構成要素の頂点座標及びｎ°回転対称性の有／無などの制御部９３０により決定あるいは判定されたデータとを有する。記憶装置９２０はまた、要素図形を組み合わせて作成された暫定的な基準プロセスマークを格納する暫定プロセスマーク格納部９２４を含み得る。暫定プロセスマーク格納部９２４は、データ入力部９１０を介してユーザ入力された暫定的な基準プロセスマークに関するデータを有する。暫定プロセスマーク格納部９２４は更に、暫定的なプロセスマークの中心点座標、該中心点に対する各要素図形の中心点の相対位置、及びｎ°回転対称性の有／無などの、制御部９３０により決定あるいは判定されたデータを有する。記憶装置９２０は更に、最終的に得られた基準プロセスマークのデータベース９２５を含み得る。
【００７２】
制御部９３０は、例えば１つ以上のプロセッサなどの演算手段を有し、コンピュータシステム９００のその他の構成要素と相互作用して、少なくとも一部のプロセスマークが回転対称性を有する複数の基準プロセスマークを生成する。制御部９３０は、例えば、記憶装置９２０のアルゴリズム格納部９２１に格納されたアルゴリズムを用いての各要素図形及び暫定的な基準プロセスマークのｎ°回転対称性の判定、及び基準プロセスマークへのｎ°回転対称性の付与を実行する。制御部９３０はまた、データ入力部９１０から入力されたデータの記憶装置９２０への保存、及び生成された基準プロセスマークのデータベース９２５への登録を行い得る。
【００７３】
データ出力部９４０は、例えばディスプレー及び／又はプリンタなどのデータ出力装置を含み得る。データ出力部９４０は、生成された暫定的及び最終的な基準プロセスマークをユーザに提示するとともに、制御部９３０による回転対称性判定結果、及び／又は制御部９３０が設定した回転中心をユーザに提示し得る。データ出力部９４０はまた、最終的な基準プロセスマーク又はそれを９０°回転させたプロセスマークのデータ領域枠の幅が、要素図形の追加などによってＸ方向又はＹ方向のスクライブ領域の幅を超過する場合などに、ユーザにその旨を警告することができる。
【００７４】
以上、実施形態について詳述したが、本発明は特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された要旨の範囲内において、種々の変形及び変更が可能である。
【００７５】
以上の説明に関し、更に以下の付記を開示する。
（付記１）
半導体装置の製造工程においてスクライブ領域に形成されるプロセスマークの図形データを作成する方法であって、
データ入力部を介して与えられた要素図形から構成された第１のプロセスマークにおいて、制御部が、少なくとも１つの要素図形を抽出するステップと、
前記制御部が、抽出された要素図形を回転中心の周りで１８０°回転させた更なる要素図形を前記第１のプロセスマークに追加することにより、前記回転中心に関して２回回転対称性を有する第２のプロセスマークを作成するステップと、
前記制御部が、前記第２のプロセスマークを記憶装置内のデータベースに格納するステップと
を有する方法。
（付記２）  前記抽出するステップは２回回転対称性を有しない要素図形を抽出する、付記２に記載の方法。
（付記３）
前記２回回転対称性を有しない要素図形は文字パターンを有する、付記２に記載の方法。
（付記４）
前記抽出するステップは更に、２回回転対称性を有する要素図形を抽出することを含み、
当該方法は更に、前記回転中心を、前記２回回転対称性を有する要素図形の中心点に設定するステップを有する、
付記２又は３に記載の方法。
（付記５）
前記２回回転対称性を有する要素図形はアライメントパターン又は重ね合わせ検査パターンを有する、付記４に記載の方法。
（付記６）
半導体装置の製造工程においてスクライブ領域に形成されるプロセスマークの図形データを作成する方法であって、
データ入力部を介して与えられた要素図形から構成された第１のプロセスマークにおいて、制御部が、少なくとも１つの要素図形を抽出するステップと、
前記制御部が、抽出された要素図形を９０°回転させた更なる要素図形を前記第１のプロセスマークに追加することにより、第２のプロセスマークを作成するステップと、
前記制御部が、前記第２のプロセスマークを記憶装置内のデータベースに登録するステップと
を有する方法。
（付記７）
前記第２のプロセスマークを作成するステップは、前記抽出された要素図形を＋９０°、−９０°及び１８０°回転させた３つの更なる要素図形を前記第１のプロセスマークに追加する、付記６に記載の方法。
（付記８）
前記抽出するステップは、文字パターンを有する要素図形を抽出する、付記６又は７に記載の方法。
（付記９）
製造すべき半導体装置のデバイスパターンを半導体基板のデバイス形成領域に形成するデバイスパターニング工程であり、付記１乃至８の何れか一に記載の方法を用いて作成された前記第２のプロセスマーク、又は前記第２のプロセスマークを９０°回転させたプロセスマークをスクライブ領域に形成することを含むデバイスパターニング工程、
を有する半導体装置の製造方法。
（付記１０）
半導体装置の製造工程においてスクライブ領域に形成されるプロセスマークであって、
文字パターンを有する第１の要素図形と、
２回回転対称性を有する第２の要素図形と、
前記第２の要素図形の中心点に関して前記第１の要素図形を９０°又は１８０°回転させた図形に一致する第３の要素図形と、
を有するプロセスマーク。
【符号の説明】
【００７６】
２０ｘ  Ｘ方向スクライブ領域
２０ｙ  Ｙ方向スクライブ領域
２１  デバイス形成領域
１１０、１２０、１３０  要素図形
１１０ａ、１２０ａ、１３０ａ  要素図形の領域枠
１１０ｃ、１２０ｃ、１３０ｃ  要素図形のパターン中心
２００、３００、４００、５００  プロセスマーク
２００ａ、３００ａ、４００ａ、５００ａ  プロセスマークの領域枠
２００ｃ、３００ｃ、４００ｃ、５００ｃ  プロセスマークのパターン中心
２１０、３１０、３３０、４１０、４３０、５１０、５５０  要素図形
２２０、３２０、４２０、５２０、５３０、５４０  （追加された）要素図形
６００  基準プロセスマーク
６００ａ  基準プロセスマークの領域枠
６００ｃ  基準プロセスマークのパターン中心
６０５  暫定的な基準プロセスマーク
６０５ａ  暫定的な基準プロセスマークの領域枠
６０５ｃ  暫定的な基準プロセスマークのパターン中心
６１０、６２０  要素図形
６１０ａ、６２０ａ  要素図形の領域枠
６１０ｃ、６２０ｃ  要素図形のパターン中心
６３０  追加された要素図形
９００  コンピュータシステム
９１０  データ入力部
９２０  記憶装置
９２１  アルゴリズム格納部
９２２  要素図形データベース
９２３  要素図形データ格納部
９２４  暫定プロセスマーク格納部
９２５  基準プロセスマークデータベース
９３０  制御部
９４０  データ出力部
【図１】
0005516189.tif 000002
【図２】
0005516189.tif 000003
【図３】
0005516189.tif 000004
【図４】
0005516189.tif 000005
【図５】
0005516189.tif 000006
【図６】
0005516189.tif 000007
【図７】
0005516189.tif 000008
【図８】
0005516189.tif 000009
【図９】
0005516189.tif 000010
【図１０】
0005516189.tif 000011
【図１１】
0005516189.tif 000012
【図１２】
0005516189.tif 000013
【図１３】
0005516189.tif 000014
【図１４】
0005516189.tif 000015
【図１５】
0005516189.tif 000016