(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークの投入、前洗浄、メッキ、後洗浄、乾燥およびワークの排出の各処理を順次に行い、１個のワークに対してこれらの処理が終了した後に、次のワークに対する処理を開始するメッキ処理機であって、
水平な支持板の下側に形成された機械室および上側に形成された処理室を備えた処理機架台と、
前記処理室内に配置されている複数の処理ステーションと、
前記複数の処理ステーションを経由してワークを１個ずつ移送するために前記処理室内に配置されているワーク移送機構と、
各部を駆動制御する制御盤とを有し、
前記複数の処理ステーションには、前記処理室の前面に形成したワーク投入側のワーク受け取り位置から前記処理室の後端に向けて配置された洗浄ステーション、すすぎステーションおよびメッキステーションと、前記処理室の前面に形成したワーク排出側のワーク受け取り位置から処理室の後端に向けて配置された乾燥ステーションおよび酸洗浄ステーションとが含まれており、
各処理ステーションは、処理槽と、前記ワーク移送機構との間でワークの受け渡しを行うと共に、受け取ったワークを前記処理槽内の降下位置および当該処理槽から上方に引き上げた上昇位置に移動させるワーク昇降ユニットとを備えており、
前記ワーク移送機構は、処理室幅方向に水平に往復直線移動が可能であり、処理室前後方向に水平に往復直線移動が可能であり、かつ、処理室上下方向に昇降可能なワーク把持用のグリッパを備え、
前記制御盤は、前記洗浄ステーションでのワーク洗浄処理、前記酸洗浄ステーションでのワーク酸洗浄処理、および、前記すすぎステーションでのワークすすぎ処理を含む前洗浄と、前記メッキステーションでのワークメッキ処理と、前記すすぎステーションでのワークすすぎ処理を含む後洗浄と、前記乾燥ステーションでのワーク乾燥処理とがこの順序で行われるように、前記処理室幅方向および前記処理室前後方向へのワーク移送機構によるワークの移送、および、各処理ステーションのワーク昇降ユニットによるワークの移動を制御することを特徴とするメッキ処理機。
【請求項２】
請求項１において、
前記ワーク昇降ユニットは、
ワーク載置台と、
前記ワーク載置台を、そのワーク載置面が水平となっている水平姿勢から４５度以下の角度に傾斜した傾斜姿勢となるように、傾斜させる姿勢切替機構を備えていることを特徴とするメッキ処理機。
【請求項３】
請求項２において、
前記洗浄、前記酸洗浄、および、前記すすぎの各ステーションの前記ワーク昇降ユニットは、ワークを載せた前記ワーク載置台を前記水平姿勢から前記傾斜姿勢に切り替えた状態で、前記処理槽に貯留されている液体に浸漬させたワークを当該液体から引き上げることを特徴とするメッキ処理機。
【請求項４】
請求項２または３において、
前記乾燥ステーションの前記処理槽はエアーブローノズルを備えた空気乾燥処理槽であり、
当該乾燥ステーションでは、前記エアーブローノズルからのエアーブロー時に、前記ワーク昇降ユニットはワークを載せた前記ワーク載置台を水平姿勢から傾斜姿勢に切り替えることを特徴とするメッキ処理機。
【請求項５】
請求項２ないし４のうちのいずれかの項において、
各処理ステーションにおける前記ワーク昇降ユニットは同一構成の共通ユニットであることを特徴とするメッキ処理機。
【請求項６】
請求項５において、
前記共通ユニットは、
ユニットフレームと、
このユニットフレームに搭載した昇降用エアーシリンダによって昇降する昇降腕と、
前記昇降腕に対して、水平軸線回りに旋回可能な状態で取り付けられている前記ワーク載置台と、
前記昇降腕に搭載した旋回用エアーシリンダによって、前記水平軸線を中心として前記ワーク載置台を前記水平姿勢および前記傾斜姿勢に旋回させる前記姿勢切替機構とを有していることを特徴とするメッキ処理機。
【請求項７】
請求項１ないし６のうちのいずれかの項において、
前記洗浄、前記酸洗浄、および前記すすぎの各ステーションに配置されている前記処理槽はビーカーから構成されていることを特徴とするメッキ処理機。
【請求項８】
請求項１ないし７のうちのいずれかの項において、
前記処理室および前記機械室は実質的な密閉室であり、
これら処理室および機械室の間は前記支持板に形成した連通穴を介して連通しており、
前記処理室に形成した排気口には排気管が接続されており、
前記排気管を介して前記処理室内が所定の負圧状態に保持されることを特徴とするメッキ処理機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、メダル等の小物ワークにメッキ処理を施すために用いるメッキ処理機に関し、さらに詳しくは、ＤＴＦ（デスクトップファクトリー）に用いるのに適した小型でコンパクトなメッキ処理機に関する。
【背景技術】
【０００２】
メッキ処理装置として各種のものが知られているが、一般的には、洗浄、すすぎ等の前処理を行う複数の処理槽、メッキ処理槽、および、洗浄、すすぎ、乾燥等の後処理を行う複数の処理槽が配列されたライン構成となっており、メッキ対象のワークが、連続して、あるいはバッチ式で、ラインに沿って搬送され、ワークに対して各処理が順次に施されるようになっている。このようなメッキ処理装置は、本願出願人によって特許文献１、２に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−１１１３７１号公報
【特許文献２】国際公開ＷＯ２００７／０６３８１７号のパンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ここで、試験研究に用いるメッキ処理装置、学校での実験などに用いるメッキ処理装置は、卓上に乗るような小型でコンパクトな構成のものが望ましい。しかしながら、従来においては、そのような小型でコンパクトな構成のＤＴＦに適したメッキ処理装置は提案されていない。
【０００５】
本発明の課題は、この点に鑑みて、小型でコンパクトな構成のメッキ処理機を提案することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するために、本発明は、ワークの投入、前洗浄、メッキ、後洗浄、乾燥およびワークの排出の各処理を順次に行い、１個のワークに対してこれらの処理が終了した後に、次のワークに対する処理を開始するメッキ処理機であって、
水平な支持板の下側に形成された機械室および上側に形成された処理室を備えた処理機架台と、
前記処理室内に配置されている複数の処理ステーションと、
前記複数の処理ステーションを経由してワークを１個ずつ移送するために前記処理室内に配置されているワーク移送機構と、
各部を駆動制御する制御盤とを有し、
前記複数の処理ステーションには、前記処理室の前面に形成したワーク投入側のワーク受け取り位置から前記処理室の後端に向けて配置された洗浄ステーション、すすぎステーションおよびメッキステーションと、前記処理室の前面に形成したワーク排出側のワーク受け取り位置から処理室の後端に向けて配置された乾燥ステーションおよび酸洗浄ステーションとが含まれており、
各処理ステーションは、処理槽と、前記ワーク移送機構との間でワークの受け渡しを行うと共に、受け取ったワークを前記処理槽内の降下位置および当該処理槽から上方に引き上げた上昇位置に移動させるワーク昇降ユニットとを備えており、
前記ワーク移送機構は、処理室幅方向に水平に往復直線移動が可能であり、処理室前後方向に水平に往復直線移動が可能であり、かつ、処理室上下方向に昇降可能なワーク把持用のグリッパを備え、
前記制御盤は、前記洗浄ステーションでのワーク洗浄処理、前記酸洗浄ステーションでのワーク酸洗浄処理、および、前記すすぎステーションでのワークすすぎ処理を含む前洗浄と、前記メッキステーションでのワークメッキ処理と、前記すすぎステーションでのワークすすぎ処理を含む後洗浄と、前記乾燥ステーションでのワーク乾燥処理とがこの順序で行われるように、前記処理室幅方向および前記処理室前後方向へのワーク移送機構によるワークの移送、および、各処理ステーションのワーク昇降ユニットによるワークの移動を制御することを特徴としている。
【０００７】
ここで、前記ワーク昇降ユニットは、ワーク載置台と、前記ワーク載置台を、そのワーク載置面が水平となっている水平姿勢から４５度以下の角度に傾斜した傾斜姿勢となるように、傾斜させる姿勢切替機構を備えた構成のものとすることができる。
【０００８】
この構成のワーク昇降ユニットを用いれば、前記洗浄、前記酸洗浄、および、前記すすぎの各ステーションにおいて、ワークを載せた前記ワーク載置台を前記水平姿勢から前記傾斜姿勢に切り替えた状態で、前記処理槽に貯留されている液体に浸漬させたワークを当該液体から引き上げることができる。
【０００９】
このようにすると、ワークが傾斜姿勢で液体から引き上げられ、引き上げ時にワークに付着している液体がワーク表面に沿って流れてワークから落下するので液切れが良いという利点がある。ワーク形状および液体の粘性などに応じて引き上げ時のワークの傾斜角度を適切に設定しておけばよい。例えば、１０度から２０度の間の傾斜角度にすればよい。
【００１０】
また、前記乾燥ステーションの前記処理槽がエアーブローノズルを備えた空気乾燥処理槽の場合においても、前記エアーブローノズルからのエアーブロー時に、ワークを載せた前記ワーク載置台を水平姿勢から傾斜姿勢に切り替えることが望ましい。ワークを傾斜させることにより、ワーク表面に付着している液滴をワーク表面から速やかに落下させることができるので、効率良くワークを乾燥することができる。
【００１１】
次に、各処理ステーションにおける前記ワーク昇降ユニットを同一構成の共通ユニットとすれば、部品点数を少なくできるのでメッキ処理機の製造コストの低減化に有利である。この場合、共通は、ユニットフレームと、このユニットフレームに搭載した昇降用エアーシリンダによって昇降する昇降腕と、前記昇降腕に対して、水平軸線回りに旋回可能な状態で取り付けられている前記ワーク載置台と、前記昇降腕に搭載した旋回用エアーシリンダによって、前記水平軸線を中心として前記ワーク載置台を前記水平姿勢および前記傾斜姿勢に旋回させる前記姿勢切替機構とを備えた構成とすることができる。
【００１２】
また、前記洗浄、前記酸洗浄、および前記すすぎの各ステーションに配置されている前記処理槽をビーカーから構成することができる。市販のビーカーを利用すればメッキ処理機の製造コストの低減化に有利である。
【００１３】
一方、研究室、教室内などにおいてメッキ処理機を使用する場合には、前記処理室および前記機械室を実質的な密閉室とし、これら処理室および機械室の間を前記支持板に形成した連通穴を介して連通させ、前記処理室に形成した排気口に排気管を接続し、前記排気管を介して前記処理室内を所定の負圧状態に保持することが望ましい。
【００１４】
このようにすれば、酸洗浄液、メッキ液などの臭いが研究室、教室内に流れることを防止でき、室内環境の悪化を防止できる。また、排気管を介して吸引した排気をフィルタなどを介して脱臭して大気中に放出すればよい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のメッキ処理機では、処理室内に配置されている洗浄ステーションおよびすすぎステーションをメッキ処理の前後において繰り返し使用して、メッキ処理の前処理および後処理を行うようにワーク移送機構によってワークを移送している。したがって、ラインに沿って配列されている各処理槽を一方の側から他方の側に順次に搬送しながら前処理、メッキ処理および後処理が行われる一般的なメッキ処理装置に比べて、各処理槽の数が少なくて済むと共に、各処理槽の配置の自由度が高いので、小型でコンパクトなＤＴＦに適したメッキ処理機を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明を適用したメッキ処理機の全体構成を示す斜視図である。
【図２】図１のメッキ処理機の処理室内部を示す説明図である。
【図３】図２のグリッパを取り出して示す説明図である。
【図４】図１のメッキ処理機の洗浄ステーションおよびすすぎステーションを取り出して示す斜視図である。
【図５】各ステーションに配置されているワーク昇降ユニットを取り出して示す斜視図であり、（ａ）は降下位置での傾斜姿勢の状態を示し、（ｂ）は上昇位置での水平姿勢の状態を示す。
【図６】図１のメッキ処理機のメッキステーションを示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下に、図面を参照して本発明を適用したメッキ処理機の実施の形態を説明する。
【００１８】
図１は本発明の実施の形態に係るメッキ処理機の全体構成を示す斜視図である。メッキ処理機１は、例えば、メダル状のワークｗを１個ずつ受け入れて、前洗浄、メッキ、後洗浄および乾燥の各処理を順次に施すものである。メッキ処理機１の架台２は、所定の高さ位置において前後に長い水平な矩形の支持板３を備え、その下側には直方体形状の機械室４が形成され、その上側には直方体形状の処理室５が形成されている。処理室５は前後方向の長さが機械室４よりも短く、処理室５の前側の支持板３の部分がワーク投入・排出台３ａとなっている。また、処理室５の外側面の後端部には、図１において想像線で示すように、各部の制御を司る制御盤６が取り付けられている。
【００１９】
機械室４および処理室５は、直方体形状に組まれた枠材４ａ、５ａと、これらに取り付けた透明あるいは不透明な矩形のパネル４ｂ、５ｂとから構成されており、実質的な密閉室となっており、これら機械室４と処理室５の間には、支持板３に形成した連通穴３ｂを介して連通している。処理室５の後面の上端部分には排気口５ｄが形成されており、ここには排気管７が連結されている。排気管７の他端は吸引機８に連通しており、動作中においては処理室５および機械室４の内部は大気圧よりも僅かに低い負圧状態に維持され、臭いが外部に漏れ出ないようになっている。吸引機８に吸引された排気は不図示のフィルタを介して脱臭および濾過された後に大気中に放出されるようになっている。また、処理室５の後面には開閉扉５ｃが取り付けられており、ここを介して保守点検作業などを行うことができるようになっている。
【００２０】
図２は処理室５の内部を示す部分斜視図である。図１、図２を参照して説明すると、処理室５の内部には、支持板３に複数の処理ステーションが搭載されている。本例では、洗浄ステーション１１、すすぎステーション１２、酸洗浄ステーション１３、メッキステーション１４、乾燥ステーション１５、および超音波洗浄ステーション１６が搭載されている。また、これらの処理ステーション１１〜１６の上方には、各処理ステーション１１〜１６にワークｗを移送するための３軸ステージからなるワーク移送機構２０が配置されている。さらに、処理室５の前面部分には、ワーク移送機構２０に処理対象のワークｗを投入するためのワーク投入機構３０およびワーク移送機構２０から処理済のワークｗを受け取って排出するワーク排出機構４０が配置されている。
【００２１】
ワーク移送機構２０は、処理室５の内部における後端において支持板３に立設された門型枠２１を備えており、この門型枠２１における処理機幅方向に水平に延びている水平レール枠２１ａには、当該水平レール枠２１ａに沿って幅方向に往復直線移動可能なＺ軸ステージ２２が搭載されている。Ｚ軸ステージ２２には処理機前方に水平に延びる水平レール枠２２ａが搭載されている。水平レール枠２２ａには、当該水平レール枠２２ａに沿って前後方向に往復直線移動可能なＸ軸ステージ２３が搭載されている。Ｘ軸ステージ２３には垂直に延びる垂直レール枠２３ａが搭載されている。垂直レール枠２３ａには、当該垂直レール枠２３ａに沿って昇降可能なＹ軸ステージ２４が搭載されている。Ｙ軸ステージ２４には下向きに垂直な姿勢でグリッパ２５が搭載されている。
【００２２】
図３は、図１、図２に示すグリッパ２５を反対側から見た場合の部分斜視図である。グリッパ２５は、垂直に配置されているエアー駆動式のアクチュエータ２５ａと、このアクチュエータ２５ａの下端に、等角度間隔で放射状に取付けた３本の把持爪２５ｂとを備えている。各把持爪２５ｂは、アクチュエータ２５ａによって相互に接近する方向および離れる方向にスライド可能である。これらの把持爪２５ｂによりメダル状のワークｗを把持して各処理ステーション１１〜１６に移送することができる。
【００２３】
この構成のワーク移送機構２０に対して処理室５の外部から処理対象のワークｗを投入するワーク投入機構３０は、図２から分かるように、垂直に配置したエアー駆動式の旋回アクチュエータ３１と、この旋回アクチュエータ３１によって旋回可能な水平な旋回腕３２とを備えている。旋回腕３２は、処理室５の前面に形成した一定幅の隙間５ｅを介して処理室５の前面から室外に突出したワーク受け取り位置と、処理室５の室内に突出したワーク引き渡し位置との間を旋回可能である。ワーク受け取り位置にある旋回腕３２の先端部にワークｗを載せ、旋回腕３２をワーク引き渡し位置に旋回することにより、処理室５の内部に配置されているワーク移送機構２０のグリッパ２６によってワークｗを把持することができる。ワーク排出機構４０も同一構成であり、旋回アクチュエータ４１と旋回腕４２とを備えており、旋回腕４２は、処理室５の前面から室内に突出したワーク受け取り位置と、処理室５の前面から室外に突出したワーク排出位置に旋回可能である。
【００２４】
次に、図４は洗浄ステーション１１とすすぎステーション１２を取り出して示す図であり、図１、図２とは反対側から見た場合の斜視図である。これらの処理ステーション１１、１２は、上方が開口している直方体形状の洗浄液貯留槽５１の内部に配置されている。洗浄ステーション１１は、処理槽としてのビーカー５２と、ビーカー５２に貯留した洗浄液にワークｗを浸漬するためのワーク昇降ユニット５３とを備えている。同様に、すすぎステーション１２も、処理槽としてのビーカー５４と、ビーカー５４に貯留したすすぎ液にワークを浸漬するためのワーク昇降ユニット５５とを備えている。本例では、ワーク昇降ユニット５３および５５を含め、各処理ステーション１１〜１６に配置されているワーク昇降ユニットは同一構造の共通ユニットである。
【００２５】
洗浄液貯留槽５１には洗浄液、例えば洗浄水が所定水位に維持されるように貯留されている。洗浄ステーション１１のビーカー５２は洗浄液貯留槽５１と連通しており、同一水位の洗浄水が貯留されている。これに対して、すすぎステーション１２のビーカー５４には、機械室４の側に配置されている循環ポンプ（図示せず）によって新たな洗浄水が供給されるようになっている。ビーカー５４の側面上端側の部位にはオーバーフロー孔５４ａが形成されており、オーバーフローした洗浄水が洗浄液貯留槽５１に流れ出すようになっている。
【００２６】
図５は、洗浄ステーション１１に配置されているワーク昇降ユニット５３を取り出して示す斜視図であり、（ａ）は降下位置での傾斜姿勢の状態を示し、（ｂ）は上昇位置での水平姿勢の状態を示す。図４および図５を参照して説明すると、ワーク昇降ユニット５３は、洗浄液貯留槽５１の側面に垂直に固定したユニットフレーム６１を備えている。このユニットフレーム６１には上向きに昇降用エアーシリンダ６２が組み込まれており、昇降用エアーシリンダ６２によって、その上端から上方に伸長可能な一対の伸縮ロッド６３の上端には、左右一対の昇降腕６４が取り付けられている。
【００２７】
昇降腕６４は全体として下向きのコの字形状をしており、伸縮ロッド６３に取り付けられている垂直板部分６４ａと、この上端から直角に折れ曲がって水平に延びている水平板部分６４ｂと、この水平板部分６４ｂの先端から直角に折れ曲がって下方に延びている垂直板部分６４ｃとを備えている。一対の昇降腕６４における垂直板部分６４ｃの下端には水平支軸６５が取り付けられており、水平支軸６５には、当該水平支軸６５（水平軸線）を中心として上下に旋回可能な状態でワーク載置台６６が取り付けられている。ワーク載置台６６は長方形の板部材から形成されている。ワーク載置台６６のワーク載置面６６ａには等角度間隔で放射状に延びる線状突起６６ｂが形成されており、これらの線状突起６６ｂの間には円形の水切り孔６６ｃがワーク載置台６６を貫通して延びている。
【００２８】
ここで、昇降腕６４にはワーク載置台６６の姿勢切替機構が備わっている。この姿勢切替機構は、一方の昇降腕６４の水平板部分６４ｂに水平に取り付けた旋回用エアーシリンダ６７を備えている。旋回用エアーシリンダ６７の伸縮ロッド６７ａの先端は、昇降腕６４に上下方向に旋回可能に取り付けたＬ形リンク６８の上端に、連結ピンを介して回動可能に連結されている。Ｌ形リンク６８の下側の端は、連結ピンを介して、垂直連結板６９の上端に回動可能に連結されている。垂直連結板６９の下端は、連結ピンを介して、ワーク載置台６６における水平支軸６５とは反対側の長辺縁の側に回動可能に連結されている。
【００２９】
旋回用エアーシリンダ６７の伸縮ロッド６７ａが引き込み状態では、図５（ｂ）に示すように、ワーク載置台６６は、そのワーク載置面６６ａが水平となる水平姿勢に維持される。旋回用エアーシリンダ６７の伸縮ロッド６７ａを伸長させると、図４、図５（ａ）に示すように、ワーク載置台６６は、そのワーク載置面６６ａが傾斜した傾斜姿勢に切り替わる。また、ワーク載置台６６は、昇降用エアーシリンダ６２の伸縮ロッド６３が伸長した状態では、図５（ｂ）に示すように、ビーカー５２に貯留されている洗浄水から上方に引き上げられた上昇位置に保持される。昇降用エアーシリンダ６２の伸縮ロッド６３が引き込まれると、ワーク載置台６６は、図４、図５（ａ）に示すように、ビーカー５２に貯留されている洗浄水に浸漬した降下位置に保持される。
【００３０】
次に、図６はメッキステーション１４および超音波洗浄ステーション１６を示す説明図である。メッキステーション１４は、メッキ処理液が貯留されている処理槽としてのビーカー７１と、メッキ処理液内に浸漬した電極板７０（図２参照）と、ワーク昇降ユニット７２と、ビーカー７１が載っている超音波振動機７３を備えている。ワーク昇降ユニット７２は上記のワーク昇降ユニット５３と同一構成であるので、その説明を省略する。なお、他方の処理ステーション１６は、例えば、ビーカー７５と、ワーク昇降ユニット７６と、超音波振動機７７を備えた超音波洗浄ステーションである。
【００３１】
一方、酸洗浄ステーション１３は、基本的に洗浄ステーション１１と同様に、ビーカー８１と、ワーク昇降ユニット８２とを備えている（図６参照）。ビーカー８１には洗浄液として硫酸または塩酸溶液が貯留されており、不図示の循環機構によって洗浄液を供給、回収することが可能となっている。また、乾燥ステーション１５は、処理槽９１と、ワーク昇降ユニット９２と、処理槽９１に入れたワークｗに乾燥用空気を吹き付けるための不図示のエアーブローノズルを備えている。なお、ワーク昇降ユニット８２、９２はワーク昇降ユニット５３と同一構成である。
【００３２】
この構成のメッキ処理機１の制御盤６は、例えば、洗浄ステーション１１でのワーク洗浄処理、酸洗浄ステーション１３でのワーク酸洗浄処理、および、すすぎステーション１２でのワークすすぎ処理からなる前洗浄と、メッキステーション１４でのワークメッキ処理と、すすぎステーション１２でのワークすすぎ処理からなる後洗浄と、乾燥ステーション１５でのワーク乾燥処理とがこの順序で行われるように、ワーク移送機構２０によるワークｗの移送および各処理ステーション１１〜１５のワーク昇降ユニット５３、５５、７２、７６、８２、９２によるワークの移動を制御する。
【００３３】
メッキ処理の一連の動作は次の通りである。まず、ワーク投入機構３０の旋回腕３２を室外に突出した位置に旋回し、そこに処理対象のワークｗを載せ、旋回腕３２を室内側に旋回させる。処理室内に投入されたワークｗを、ワーク移送機構２０のグリッパ２５によって把持して、洗浄ステーション１１のビーカー５２の真上に移送する。ワーク昇降ユニット５３を駆動して、ビーカー５２に浸漬された降下位置にあるワーク載置台６６を上昇位置まで引き上げて、図５（ｂ）の状態にする。水平姿勢のワーク載置台６６にグリッパ２５からワークｗを引き渡す。ワーク引き渡し後に、ワーク昇降ユニット５３を駆動してワーク載置台６６を傾斜姿勢に切り替えた後にワーク載置台６６を降下位置まで降下させて洗浄液内に浸漬させて洗浄を行う（洗浄処理）。洗浄後に、ワーク載置台６６を再び上昇位置まで引き上げて、ワーク載置台６６を水平姿勢に戻し、グリッパ２５にワークｗを引き渡す。
【００３４】
次に、グリッパ２５によってワークｗを隣接するすすぎステーション１２に移送し、ワーク昇降ユニット５５を同様に動作させてワークｗのすすぎを行う（すすぎ処理）。この後は、ワークｗを酸洗浄ステーション１３に移送してワークｗの酸洗浄を行う。酸洗浄後は再びワークをすすぎステーション１２に戻してワークｗのすすぎを行う。しかる後に、ワークｗをメッキステーション１４に移送してメッキ処理を施す。メッキ後のワークｗをすすぎステーション１２に移送してワークｗのすすぎを行った後に、ワークを乾燥ステーション１５に移送して乾燥させる。乾燥後のワークを排出機構４０の旋回腕４２に載せ、旋回腕４２を室外側に旋回させることにより、メッキ処理後のワークが処理室５から排出される。これらの一連の処理が終了した後に、処理対象の新たなワークをワーク投入機構３０の旋回腕３２に載せて処理室内に投入してメッキ処理を行うという動作を繰り返す。
【００３５】
なお、上記のメッキ処理では超音波洗浄ステーション１６を使用していないが、洗浄処理において超音波洗浄ステーション１６を用いてもよい。また、上記の処理は一例であり、洗浄回数、すすぎ回数等は、ワークの形状、種類等に応じて、各種の処理形態が適宜採用される。また、洗浄処理としてアルカリ洗浄を追加することも可能である。
【符号の説明】
【００３６】
１    メッキ処理機
２    架台
３    支持板
３ａ  ワーク投入・排出台
３ｂ  連通穴
４    機械室
４ａ、５ａ  枠材
４ｂ、５ｂ  パネル
５    処理室
５ｃ  開閉扉
５ｄ  排気口
６    制御盤
７    排気管
８    吸引機
１１  洗浄ステーション
１２  すすぎステーション
１３  酸洗浄ステーション
１４  メッキステーション
１５  乾燥ステーション
１６  超音波洗浄ステーション
２０  ワーク移送機構
２１  門型枠
２１ａ  水平レール枠
２２  Ｚ軸ステージ
２２ａ  水平レール枠
２３  Ｘ軸ステージ
２３ａ  垂直レール枠
２４  Ｙ軸ステージ
２５  グリッパ
２５ａ  アクチュエータ
２５ｂ  把持爪
３０  ワーク投入機構
３１  旋回アクチュエータ
３２  旋回腕
４０  ワーク排出機構
４１  旋回アクチュエータ
４２  旋回腕
５１  洗浄液貯留槽
５２、５４、７１、７５、８１  ビーカー
５３、５５、７２、７６、８２、９２  ワーク昇降ユニット
５４ａ  オーバーフロー孔
６１  ユニットフレーム
６２  昇降用エアーシリンダ
６３  伸縮ロッド
６４  昇降腕
６４ａ  垂直板部分
６４ｂ  水平板部分
６４ｃ  垂直板部分
６５  水平支軸
６６  ワーク載置台
６６ａ  ワーク載置面
６６ｂ  線状突起
６６ｃ  水切り孔
６７  エアーシリンダ
６８  Ｌ形リンク
６９  垂直連結腕
７０  電極板
７３、７７  超音波振動機
９１  処理槽
ｗ    ワーク
【図３】
0005645587.tif 000002
【図１】
0005645587.tif 000003
【図２】
0005645587.tif 000004
【図４】
0005645587.tif 000005
【図５】
0005645587.tif 000006
【図６】
0005645587.tif 000007