(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の貫通孔を形成して蒸着マスクを製造するために用いられる金属板の製造方法であって、
前記蒸着マスクの前記貫通孔は、前記金属板をエッチングすることによって形成されるものであり、
前記金属板の製造方法は、
母材を圧延して前記金属板を得る圧延工程と、
前記圧延工程によって得られた前記金属板をアニールするアニール工程と、
を備え、
前記金属板から取り出した複数のサンプルに熱処理を施す前後に測定される、前記各サンプル上の２つの測定点の間における距離をそれぞれＬ１およびＬ２とし、各サンプルの熱復元率Ｆを以下の式
Ｆ＝｛（Ｌ１−Ｌ２）／Ｌ１｝×１０６（ｐｐｍ）
によって定義する場合、以下の条件（１），（２）が満たされており、
（１）前記各サンプルにおける熱復元率の平均値が−１０ｐｐｍ以上かつ＋１０ｐｐｍ以下であること；および、
（２）前記各サンプルにおける熱復元率のばらつきが２０ｐｐｍ以下であること；
前記サンプルは、前記金属板を前記金属板の幅方向に沿って切断することによって得た少なくとも１つのサンプル金属板を、前記金属板の長手方向に沿って複数に切断することによって得られるものであり、
前記サンプル上の前記２つの測定点は、前記金属板の長手方向に沿って並んでおり、
前記熱処理は、前記各サンプルの温度を２５℃から３００℃に３０分間で昇温させる第１工程と、５分間にわたって前記各サンプルの温度を３００℃に保持する第２工程と、前記各サンプルの温度を３００℃から２５℃に６０分間で降温させる第３工程と、からなり、
前記熱復元率のばらつきは、前記各サンプルにおける熱復元率の標準偏差に３を掛けることによって算出される値であり、
前記金属板の厚みは、０．１００ｍｍ以下である、金属板の製造方法。
【請求項２】
前記アニール工程は、前記圧延された母材を長手方向に引っ張りながら実施される、請求項１に記載の金属板の製造方法。
【請求項３】
前記アニール工程は、コアに巻き取られた状態の前記金属板に対して実施される、請求項１に記載の金属板の製造方法。
【請求項４】
前記母材が、インバー材から構成されている、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の金属板の製造方法。
【請求項５】
複数の貫通孔を形成して蒸着マスクを製造するために用いられる金属板であって、
前記マスクの前記貫通孔は、前記金属板をエッチングすることによって形成されるものであり、
前記金属板から取り出した複数のサンプルに熱処理を施す前後に測定される、前記各サンプル上の２つの測定点の間における距離をそれぞれＬ１およびＬ２とし、各サンプルの熱復元率Ｆを以下の式
Ｆ＝｛（Ｌ１−Ｌ２）／Ｌ１｝×１０６（ｐｐｍ）
によって定義する場合、以下の条件（１），（２）が満たされており、
（１）前記各サンプルにおける熱復元率の平均値が−１０ｐｐｍ以上かつ＋１０ｐｐｍ以下であること；および、
（２）前記各サンプルにおける熱復元率のばらつきが２０ｐｐｍ以下であること；
前記サンプルは、前記金属板を前記金属板の幅方向に沿って切断することによって得た少なくとも１つのサンプル金属板を、前記金属板の長手方向に沿って複数に切断することによって得られるものであり、
前記サンプル上の前記２つの測定点は、前記金属板の長手方向に沿って並んでおり、
前記熱処理は、前記各サンプルの温度を２５℃から３００℃に３０分間で昇温させる第１工程と、５分間にわたって前記各サンプルの温度を３００℃に保持する第２工程と、前記各サンプルの温度を３００℃から２５℃に６０分間で降温させる第３工程と、からなり、
前記熱復元率のばらつきは、前記各サンプルにおける熱復元率の標準偏差に３を掛けることによって算出される値であり、
前記金属板の厚みは、０．１００ｍｍ以下である、金属板。
【請求項６】
前記金属板が、インバー材から構成されている、請求項５に記載の金属板。
【請求項７】
複数の貫通孔が形成された蒸着マスクを製造する方法であって、
金属板を準備する工程と、
前記金属板上にレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、
前記金属板のうち前記レジストパターンによって覆われていない領域をエッチングし、前記金属板に、前記貫通孔を画成するようになる凹部を形成するエッチング工程と、を備え、
前記金属板から取り出した複数のサンプルに熱処理を施す前後に測定される、前記各サンプル上の２つの測定点の間における距離をそれぞれＬ１およびＬ２とし、各サンプルの熱復元率Ｆを以下の式
Ｆ＝｛（Ｌ１−Ｌ２）／Ｌ１｝×１０６（ｐｐｍ）
によって定義する場合、以下の条件（１），（２）が満たされており、
（１）前記各サンプルにおける熱復元率の平均値が−１０ｐｐｍ以上かつ＋１０ｐｐｍ以下であること；および、
（２）前記各サンプルにおける熱復元率のばらつきが２０ｐｐｍ以下であること；
前記サンプルは、前記金属板を前記金属板の幅方向に沿って切断することによって得た少なくとも１つのサンプル金属板を、前記金属板の長手方向に沿って複数に切断することによって得られるものであり、
前記サンプル上の前記２つの測定点は、前記金属板の長手方向に沿って並んでおり、
前記熱処理は、前記各サンプルの温度を２５℃から３００℃に３０分間で昇温させる第１工程と、５分間にわたって前記各サンプルの温度を３００℃に保持する第２工程と、前記各サンプルの温度を３００℃から２５℃に６０分間で降温させる第３工程と、からなり、
前記熱復元率のばらつきは、前記各サンプルにおける熱復元率の標準偏差に３を掛けることによって算出される値であり、
前記金属板の厚みは、０．１００ｍｍ以下である、蒸着マスクの製造方法。
【請求項８】
前記レジストパターン形成工程は、
前記金属板上にレジスト膜を形成する工程と、
前記レジスト膜に露光マスクを真空密着させる工程と、
前記露光マスクを介して前記レジスト膜を所定のパターンで露光する工程と、
露光された前記レジスト膜に像を形成するための現像工程と、を有し、
前記現像工程は、前記レジスト膜の硬度を高めるためのレジスト熱処理工程を含む、請求項７に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項９】
前記金属板が、インバー材から構成されている、請求項７または８に記載の蒸着マスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の貫通孔を形成して蒸着マスクを製造するために用いられる金属板に関する。また本発明は、金属板の製造方法に関する。また本発明は、複数の貫通孔が形成されたマスクを、金属板を用いて製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、スマートフォンやタブレットＰＣ等の持ち運び可能なデバイスで用いられる表示装置に対して、高精細であること、例えば画素密度が３００ｐｐｉ以上であることが求められている。また、持ち運び可能なデバイスにおいても、フルハイビジョンに対応することへの需要が高まっており、この場合、表示装置の画素密度が例えば４５０ｐｐｉ以上であることが求められる。
【０００３】
応答性の良さや消費電力の低さのため、有機ＥＬ表示装置が注目されている。有機ＥＬ表示装置の画素を形成する方法として、所望のパターンで配列された貫通孔を含む蒸着マスクを用い、所望のパターンで画素を形成する方法が知られている。具体的には、はじめに、有機ＥＬ表示装置用の基板に対して蒸着マスクを密着させ、次に、密着させた蒸着マスクおよび基板を共に蒸着装置に投入し、有機材料などの蒸着を行う。蒸着マスクは一般に、フォトリソグラフィー技術を用いたエッチングによって金属板に貫通孔を形成することにより、製造され得る（例えば、特許文献１）。例えば、はじめに、金属板上にレジスト膜を形成し、次に、レジスト膜に露光マスクを密着させた状態でレジスト膜を露光してレジストパターンを形成し、その後、金属板のうちレジストパターンによって覆われていない領域をエッチングすることにより、貫通孔が形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−３９３１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
蒸着マスクを用いて蒸着材料を基板上に成膜する場合、基板だけでなく蒸着マスクにも蒸着材料が付着する。例えば、蒸着材料の中には、蒸着マスクの法線方向に対して大きく傾斜した方向に沿って基板に向かうものも存在するが、そのような蒸着材料は、基板に到達するよりも前に蒸着マスクの貫通孔の壁面に到達して付着する。この場合、基板のうち蒸着マスクの貫通孔の壁面の近傍に位置する領域には蒸着材料が付着しにくくなり、この結果、付着する蒸着材料の厚みが他の部分に比べて小さくなってしまったり、蒸着材料が付着していない部分が生じてしまったりすることが考えられる。すなわち、蒸着マスクの貫通孔の壁面の近傍における蒸着が不安定になってしまうことが考えられる。従って、有機ＥＬ表示装置の画素を形成するために蒸着マスクが用いられる場合、画素の寸法精度や位置精度が低下してしまい、この結果、有機ＥＬ表示装置の発光効率が低下してしまうことになる。
【０００６】
このような課題を解決するため、蒸着マスクを製造するために用いられる金属板の厚みを小さくすることが考えられる。なぜなら、金属板の厚みを小さくすることによって、蒸着マスクの貫通孔の壁面の高さを小さくすることができ、このことにより、蒸着材料のうち貫通孔の壁面に付着するものの比率を低くすることができるからである。しかしながら、厚みの小さな金属板を得るためには、母材を圧延して金属板を製造する際の圧延率を大きくする必要がある。ここで圧延率とは、（母材の厚み−金属板の厚み）／（母材の厚み）によって算出される値のことである。金属を圧延した場合、金属の内部には歪が生じる。圧延後にアニールなどの熱処理を施した場合であっても、このような歪を短時間で完全に除去することは容易ではない。従って、蒸着マスクを作製するために用いられる金属板には、金属板の内部に残留している歪すなわち残留歪が通常は存在している。
【０００７】
ところで、金属板を用いて蒸着マスクを製造する工程や、蒸着マスクを用いた蒸着工程は、蒸着マスクを構成する金属板に熱を加える工程を含んでいる。この際、熱に起因して、金属板中の残留応力が除去されたり、結晶の配列が変化したりすることがある。残留応力が除去されたり、結晶の配列が変化したりすると、金属板の寸法が短くなることがある。例えば残留応力が除去された場合は、残留応力で保持されていた材料形状が、できるだけ歪がなくなるように変化するため、金属板の寸法が短くなることがある。また結晶の配列が変化した場合は、結晶密度が、より密度が高くなるよう変化するため、金属板の寸法が短くなることがある。
【０００８】
蒸着マスクを構成する金属板の寸法が熱によって変化し得るということは、蒸着マスクに形成された貫通孔の位置が熱によって変化し得ることを意味している。また、金属板の内部の残留歪の程度が、金属板の幅方向において異なることも考えられる。この場合、貫通孔の位置が熱によって変化する程度が、元となる長尺金属板において蒸着マスクを構成する金属板が占めていた幅方向での位置によって異なることになる。このことは、蒸着マスクに形成された貫通孔の位置が熱によって変化するだけでなく、その変化の程度が、蒸着マスクの個体ごとに異なることを意味する。従って、各蒸着マスクの貫通孔の孔の位置を精密に設定するためには、元となる長尺金属板として、残留歪の程度およびそのばらつきが小さなものを用いることが重要になる。このような課題は、上述の特許文献１においては認識されていないものである。
【０００９】
本発明は、このような課題を考慮してなされたものであり、高い位置精度で形成された貫通孔を備えた蒸着マスクを製造するために用いられる金属板を提供することを目的とする。また本発明は、金属板の製造方法およびマスクの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、複数の貫通孔を形成して蒸着マスクを製造するために用いられる金属板の製造方法であって、
前記蒸着マスクの前記貫通孔は、前記金属板をエッチングすることによって形成されるものであり、
前記金属板の製造方法は、
母材を圧延して前記金属板を得る圧延工程と、
前記圧延工程によって得られた前記金属板をアニールするアニール工程と、
を備え、
前記金属板から取り出した複数のサンプルに熱処理を施す前後に測定される、前記各サンプル上の２つの測定点の間における距離をそれぞれＬ１およびＬ２とし、各サンプルの熱復元率Ｆを以下の式
Ｆ＝｛（Ｌ１−Ｌ２）／Ｌ１｝×１０６（ｐｐｍ）
によって定義する場合、以下の条件（１），（２）が満たされており、
（１）前記各サンプルにおける熱復元率の平均値が−１０ｐｐｍ以上かつ＋１０ｐｐｍ以下であること；および、
（２）前記各サンプルにおける熱復元率のばらつきが２０ｐｐｍ以下であること；
前記サンプルは、前記金属板を前記金属板の幅方向に沿って切断することによって得た少なくとも１つのサンプル金属板を、前記金属板の長手方向に沿って複数に切断することによって得られるものであり、
前記サンプル上の前記２つの測定点は、前記金属板の長手方向に沿って並んでおり、
前記熱処理は、前記各サンプルの温度を２５℃から３００℃に３０分間で昇温させる第１工程と、５分間にわたって前記各サンプルの温度を３００℃に保持する第２工程と、前記各サンプルの温度を３００℃から２５℃に６０分間で降温させる第３工程と、からなり、
前記熱復元率のばらつきは、前記各サンプルにおける熱復元率の標準偏差に３を掛けることによって算出される値である、金属板の製造方法である。
【００１１】
本発明による金属板の製造方法において、前記アニール工程は、前記圧延された母材を長手方向に引っ張りながら実施されてもよい。若しくは、前記アニール工程は、コアに巻き取られた状態の前記金属板に対して実施されてもよい。
【００１２】
本発明による金属板の製造方法において、前記母材が、インバー材から構成されていてもよい。
【００１３】
本発明は、複数の貫通孔を形成して蒸着マスクを製造するために用いられる金属板であって、
前記マスクの前記貫通孔は、前記金属板をエッチングすることによって形成されるものであり、
前記金属板から取り出した複数のサンプルに熱処理を施す前後に測定される、前記各サンプル上の２つの測定点の間における距離をそれぞれＬ１およびＬ２とし、各サンプルの熱復元率Ｆを以下の式
Ｆ＝｛（Ｌ１−Ｌ２）／Ｌ１｝×１０６
によって定義する場合、以下の条件（１），（２）が満たされており、
（１）前記各サンプルにおける熱復元率の平均値が−１０ｐｐｍ以上かつ＋１０ｐｐｍ以下であること；および、
（２）前記各サンプルにおける熱復元率のばらつきが２０ｐｐｍ以下であること；
前記サンプルは、前記金属板を前記金属板の幅方向に沿って切断することによって得た少なくとも１つのサンプル金属板を、前記金属板の長手方向に沿って複数に切断することによって得られるものであり、
前記サンプル上の前記２つの測定点は、前記金属板の長手方向に沿って並んでおり、
前記熱処理は、前記各サンプルの温度を２５℃から３００℃に３０分間で昇温させる第１工程と、５分間にわたって前記各サンプルの温度を３００℃に保持する第２工程と、前記各サンプルの温度を３００℃から２５℃に６０分間で降温させる第３工程と、からなり、
前記熱復元率のばらつきは、前記各サンプルにおける熱復元率の標準偏差に３を掛けることによって算出される値である、金属板である。
【００１４】
本発明による金属板は、インバー材から構成されていてもよい。
【００１５】
本発明は、複数の貫通孔が形成された蒸着マスクを製造する方法であって、
金属板を準備する工程と、
前記金属板上にレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、
前記金属板のうち前記レジストパターンによって覆われていない領域をエッチングし、前記金属板に、前記貫通孔を画成するようになる凹部を形成するエッチング工程と、を備え、
前記金属板から取り出した複数のサンプルに熱処理を施す前後に測定される、前記各サンプル上の２つの測定点の間における距離をそれぞれＬ１およびＬ２とし、各サンプルの熱復元率Ｆを以下の式
Ｆ＝｛（Ｌ１−Ｌ２）／Ｌ１｝×１０６
によって定義する場合、以下の条件（１），（２）が満たされており、
（１）前記各サンプルにおける熱復元率の平均値が−１０ｐｐｍ以上かつ＋１０ｐｐｍ以下であること；および、
（２）前記各サンプルにおける熱復元率のばらつきが２０ｐｐｍ以下であること；
前記サンプルは、前記金属板を前記金属板の幅方向に沿って切断することによって得た少なくとも１つのサンプル金属板を、前記金属板の長手方向に沿って複数に切断することによって得られるものであり、
前記サンプル上の前記２つの測定点は、前記金属板の長手方向に沿って並んでおり、
前記熱処理は、前記各サンプルの温度を２５℃から３００℃に３０分間で昇温させる第１工程と、５分間にわたって前記各サンプルの温度を３００℃に保持する第２工程と、前記各サンプルの温度を３００℃から２５℃に６０分間で降温させる第３工程と、からなり、
前記熱復元率のばらつきは、前記各サンプルにおける熱復元率の標準偏差に３を掛けることによって算出される値である、蒸着マスクの製造方法である。
【００１６】
本発明による蒸着マスクの製造方法において、前記レジストパターン形成工程は、
前記金属板上にレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜に露光マスクを真空密着させる工程と、前記露光マスクを介して前記レジスト膜を所定のパターンで露光する工程と、露光された前記レジスト膜に像を形成するための現像工程と、を有し、前記現像工程は、前記レジスト膜の硬度を高めるためのレジスト熱処理工程を含んでいてもよい。
【００１７】
本発明による蒸着マスクの製造方法において、前記金属板が、インバー材から構成されていてもよい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、貫通孔の位置のばらつきが抑制された蒸着マスクを得ることができる。このため、基板上に付着される蒸着材料の位置精度を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】図１は、本発明の一実施の形態を説明するための図であって、蒸着マスクを含む蒸着マスク装置の一例を示す概略平面図である。
【図２】図２は、図１に示す蒸着マスク装置を用いて蒸着する方法を説明するための図である。
【図３】図３は、図１に示された蒸着マスクを示す部分平面図である。
【図４】図４は、図３のＩＶ−ＩＶ線に沿った断面図である。
【図５】図５は、図３のＶ−Ｖ線に沿った断面図である。
【図６】図６は、図３のＶＩ−ＶＩ線に沿った断面図である。
【図７】図７（ａ）は、母材を圧延して、所望の厚さを有する金属板を得る工程を示す図であり、図７（ｂ）は、圧延によって得られた金属板をアニールする工程を示す図である。
【図８】図８（ａ）は、長尺金属板を示す平面図であり、図８（ｂ）は、長尺金属板から切り出されたサンプル金属板を示す平面図であり、図８（ｃ）は、サンプル金属板から切り出されたサンプルを示す平面図である。
【図９Ａ】図９Ａは、サンプルに対して施される熱処理を示す図である。
【図９Ｂ】図９Ｂ（ａ）（ｂ）はそれぞれ、熱処理が施される前および後におけるサンプルを示す平面図である。
【図１０】図１０は、図１に示す蒸着マスクの製造方法の一例を全体的に説明するための模式図である。
【図１１】図１１は、蒸着マスクの製造方法の一例を説明するための図であって、金属板上にレジスト膜を形成する工程を示す断面図である。
【図１２】図１２は、蒸着マスクの製造方法の一例を説明するための図であって、レジスト膜に露光マスクを密着させる工程を示す断面図である。
【図１３】図１３は、蒸着マスクの製造方法の一例を説明するための図であって、法線方向に沿った断面において長尺金属板を示す図である。
【図１４】図１４は、蒸着マスクの製造方法の一例を説明するための図であって、法線方向に沿った断面において長尺金属板を示す図である。
【図１５】図１５は、蒸着マスクの製造方法の一例を説明するための図であって、法線方向に沿った断面において長尺金属板を示す図である。
【図１６】図１６は、蒸着マスクの製造方法の一例を説明するための図であって、法線方向に沿った断面において長尺金属板を示す図である。
【図１７】図１７は、蒸着マスクの製造方法の一例を説明するための図であって、法線方向に沿った断面において長尺金属板を示す図である。
【図１８】図１８は、蒸着マスクの製造方法の一例を説明するための図であって、法線方向に沿った断面において長尺金属板を示す図である。
【図１９】図１９は、蒸着マスクの製造方法の一例を説明するための図であって、法線方向に沿った断面において長尺金属板を示す図である。
【図２０】図２０は、蒸着マスクを含む蒸着マスク装置の変形例を示す図である。
【図２１】図２１は、第１〜第１０巻き体から切り出された第１〜第１０サンプルにおける熱復元率の測定結果を示す図である。
【図２２】図２２は、第１〜第１０巻き体から得られた長尺金属板から作製された蒸着マスクにおける、１次効果の評価結果を示す図である。
【図２３】図２３は、第１〜第１０巻き体から得られた長尺金属板から作製された蒸着マスクにおける、２次効果の評価結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
【００２１】
図１〜図１９は、本発明による一実施の形態を説明するための図である。以下の実施の形態およびその変形例では、有機ＥＬ表示装置を製造する際に有機材料を所望のパターンで基板上にパターニングするために用いられる蒸着マスクの製造方法を例にあげて説明する。ただし、このような適用に限定されることなく、種々の用途に用いられる蒸着マスクの製造方法に対し、本発明を適用することができる。
【００２２】
なお、本明細書において、「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「板」はシートやフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念であり、したがって、例えば「金属板」は、「金属シート」や「金属フィルム」と呼ばれる部材と呼称の違いのみにおいて区別され得ない。
【００２３】
また、「板面（シート面、フィルム面）」とは、対象となる板状（シート状、フィルム状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となる板状部材（シート状部材、フィルム状部材）の平面方向と一致する面のことを指す。また、板状（シート状、フィルム状）の部材に対して用いる法線方向とは、当該部材の板面（シート面、フィルム面）に対する法線方向のことを指す。
【００２４】
さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件および物理的特性並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」、「同等」等の用語や長さや角度並びに物理的特性の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。
【００２５】
（蒸着マスク装置）
まず、製造方法対象となる蒸着マスクを含む蒸着マスク装置の一例について、主に図１〜図６を参照して説明する。ここで、図１は、蒸着マスクを含む蒸着マスク装置の一例を示す平面図であり、図２は、図１に示す蒸着マスク装置の使用方法を説明するための図である。図３は、蒸着マスクを第１面の側から示す平面図であり、図４〜図６は、図３の各位置における断面図である。
【００２６】
図１及び図２に示された蒸着マスク装置１０は、略矩形状の金属板２１からなる複数の蒸着マスク２０と、複数の蒸着マスク２０の周縁部に取り付けられたフレーム１５と、を備えている。各蒸着マスク２０には、互いに対向する第１面２１ａおよび第２面２１ｂを有する金属板２１を少なくとも第１面２１ａからエッチングすることにより形成された貫通孔２５が、多数設けられている。この蒸着マスク装置１０は、図２に示すように、蒸着マスク２０が蒸着対象物である基板、例えばガラス基板９２の下面に対面するようにして蒸着装置９０内に支持され、基板への蒸着材料の蒸着に使用される。
【００２７】
蒸着装置９０内では、不図示の磁石からの磁力によって、蒸着マスク２０とガラス基板９２とが密着するようになる。蒸着装置９０内には、蒸着マスク装置１０の下方に、蒸着材料（一例として、有機発光材料）９８を収容するるつぼ９４と、るつぼ９４を加熱するヒータ９６とが配置されている。るつぼ９４内の蒸着材料９８は、ヒータ９６からの加熱により、気化または昇華してガラス基板９２の表面に付着するようになる。上述したように、蒸着マスク２０には多数の貫通孔２５が形成されており、蒸着材料９８はこの貫通孔２５を介してガラス基板９２に付着する。この結果、蒸着マスク２０の貫通孔２５の位置に対応した所望のパターンで、蒸着材料９８がガラス基板９２の表面に成膜される。
【００２８】
上述したように、本実施の形態では、貫通孔２５が各有効領域２２において所定のパターンで配置されている。なお、カラー表示を行いたい場合には、貫通孔２５の配列方向（前述の一方向）に沿って蒸着マスク２０（蒸着マスク装置１０）とガラス基板９２とを少しずつ相対移動させ、赤色用の有機発光材料、緑色用の有機発光材料および青色用の有機発光材料を順に蒸着させていってもよい。
【００２９】
なお、蒸着マスク装置１０のフレーム１５は、矩形状の蒸着マスク２０の周縁部に取り付けられている。フレーム１５は、蒸着マスク２０が撓んでしまうことがないように蒸着マスクを張った状態に保持する。蒸着マスク２０とフレーム１５とは、例えばスポット溶接により互いに対して固定されている。
【００３０】
蒸着処理は、高温雰囲気となる蒸着装置９０の内部で実施される。従って、蒸着処理の間、蒸着装置９０の内部に保持される蒸着マスク２０、フレーム１５および基板９２も加熱される。この際、蒸着マスク、フレーム１５および基板９２は、各々の熱膨張係数に基づいた寸法変化の挙動を示すことになる。この場合、蒸着マスク２０やフレーム１５と基板９２の熱膨張係数が大きく異なっていると、それらの寸法変化の差異に起因した位置ずれが生じ、この結果、基板９２上に付着する蒸着材料の寸法精度や位置精度が低下してしまう。このような課題を解決するため、蒸着マスク２０およびフレーム１５の熱膨張係数が、基板９２の熱膨張係数と同等の値であることが好ましい。例えば、基板９２としてガラス基板９２が用いられる場合、蒸着マスク２０およびフレーム１５の材料として、鉄に３６％のニッケルを加えた合金であるインバー材を用いることができる。
【００３１】
（蒸着マスク）
次に、蒸着マスク２０について詳細に説明する。図１に示すように、本実施の形態において、蒸着マスク２０は、金属板２１からなり、平面視において略四角形形状、さらに正確には平面視において略矩形状の輪郭を有している。蒸着マスク２０の金属板２１は、規則的な配列で貫通孔２５が形成された有効領域２２と、有効領域２２を取り囲む周囲領域２３と、を含んでいる。周囲領域２３は、有効領域２２を支持するための領域であり、基板へ蒸着されることを意図された蒸着材料が通過する領域ではない。例えば、有機ＥＬ表示装置用の有機発光材料の蒸着に用いられる蒸着マスク２０においては、有効領域２２は、有機発光材料が蒸着して画素を形成するようになる基板（ガラス基板９２）上の区域、すなわち、作製された有機ＥＬ表示装置用基板の表示面をなすようになる基板上の区域に対面する、蒸着マスク２０内の領域のことである。ただし、種々の目的から、周囲領域２３に貫通孔や凹部が形成されていてもよい。図１に示された例において、各有効領域２２は、平面視において略四角形形状、さらに正確には平面視において略矩形状の輪郭を有している。
【００３２】
図示された例において、蒸着マスク２０の複数の有効領域２２は、蒸着マスク２０の長手方向と平行な一方向に沿って所定の間隔を空けて一列に配列されている。図示された例では、一つの有効領域２２が一つの有機ＥＬ表示装置に対応するようになっている。すなわち、図１に示された蒸着マスク装置１０（蒸着マスク２０）によれば、多面付蒸着が可能となっている。
【００３３】
図３に示すように、図示された例において、各有効領域２２に形成された複数の貫通孔２５は、当該有効領域２２において、互いに直交する二方向に沿ってそれぞれ所定のピッチで配列されている。この金属板２１に形成された貫通孔２５の一例について、図３〜図６を主に参照して更に詳述する。
【００３４】
図４〜図６に示すように、複数の貫通孔２５は、蒸着マスク２０の法線方向に沿った一方の側となる第１面２０ａと、蒸着マスク２０の法線方向に沿った他方の側となる第２面２０ｂと、の間を延びて、蒸着マスク２０を貫通している。図示された例では、後に詳述するように、蒸着マスクの法線方向における一方の側となる金属板２１の第１面２１ａの側から金属板２１に第１凹部３０がエッチングによって形成され、金属板２１の法線方向における他方の側となる第２面２１ｂの側から金属板２１に第２凹部３５が形成され、この第１凹部３０および第２凹部３５によって貫通孔２５が形成されている。
【００３５】
図３〜図６に示すように、蒸着マスク２０の第１面２０ａの側から第２面２０ｂの側へ向けて、蒸着マスク２０の法線方向に沿った各位置における蒸着マスク２０の板面に沿った断面での各第１凹部３０の断面積は、しだいに小さくなっていく。図３に示すように、第１凹部３０の壁面３１は、その全領域において蒸着マスク２０の法線方向に対して交差する方向に延びており、蒸着マスク２０の法線方向に沿った一方の側に向けて露出している。同様に、蒸着マスク２０の法線方向に沿った各位置における蒸着マスク２０の板面に沿った断面での各第２凹部３５の断面積は、蒸着マスク２０の第２面２０ｂの側から第１面２０ａの側へ向けて、しだいに小さくなっていてもよい。第２凹部３５の壁面３６は、その全領域において蒸着マスク２０の法線方向に対して交差する方向に延びており、蒸着マスク２０の法線方向に沿った他方の側に向けて露出している。
【００３６】
なお、図４〜図６に示すように、第１凹部３０の壁面３１と、第２凹部３５の壁面３６とは、周状の接続部４１を介して接続されている。接続部４１は、蒸着マスクの法線方向に対して傾斜した第１凹部３０の壁面３１と、蒸着マスクの法線方向に対して傾斜した第２凹部３５の壁面３６とが合流する張り出し部の稜線によって、画成されている。そして、接続部４１は、蒸着マスク２０の平面視において最も貫通孔２５の面積が小さくなる貫通部４２を画成する。
【００３７】
図４〜図６に示すように、蒸着マスクの法線方向に沿った他方の側の面、すなわち、蒸着マスク２０の第２面２０ｂ上において、隣り合う二つの貫通孔２５は、蒸着マスクの板面に沿って互いから離間している。すなわち、後述する製造方法のように、蒸着マスク２０の第２面２０ｂに対応するようになる金属板２１の第２面２１ｂ側から当該金属板２１をエッチングして第２凹部３５を作製する場合、隣り合う二つの第２凹部３５の間に金属板２１の第２面２１ｂが残存するようになる。
【００３８】
一方、図４〜図６に示すように、蒸着マスクの法線方向に沿った一方の側、すなわち、蒸着マスク２０の第１面２０ａの側において、隣り合う二つの第１凹部３０が接続されている。すなわち、後述する製造方法のように、蒸着マスク２０の第１面２０ａに対応するようになる金属板２１の第１面２１ａ側から当該金属板２１をエッチングして第１凹部３０を形成する場合、隣り合う二つの第１凹部３０の間に、金属板２１の第１面２１ａが残存しないようになる。すなわち、金属板２１の第１面２１ａは、有効領域２２の全域にわたってエッチングされている。このような第１凹部３０によって形成される蒸着マスク２０の第１面２０ａによれば、図２に示すように蒸着マスク２０の第１面２０ａが蒸着材料９８に対面するようにしてこの蒸着マスク２０を用いた場合に、蒸着材料９８の利用効率を効果的に改善することができる。
【００３９】
図２に示すようにして蒸着マスク装置１０が蒸着装置９０に収容された場合、図４に二点鎖線で示すように、蒸着マスク２０の第１面２０ａが蒸着材料９８を保持したるつぼ９４側に位置し、蒸着マスク２０の第２面２０ｂがガラス基板９２に対面する。したがって、蒸着材料９８は、次第に断面積が小さくなっていく第１凹部３０を通過してガラス基板９２に付着する。図４に矢印で示すように、蒸着材料９８は、るつぼ９４からガラス基板９２に向けてガラス基板９２の法線方向に沿って移動するだけでなく、ガラス基板９２の法線方向に対して大きく傾斜した方向に移動することもある。このとき、蒸着マスク２０の厚みが大きいと、斜めに移動する蒸着材料９８の多くは、貫通孔２５を通ってガラス基板９２に到達するよりも前に、第１凹部３０の壁面３１に到達して付着する。この場合、ガラス基板９２上の貫通孔２５に対面する領域内には、蒸着材料９８が到達しやすい領域と到達しにくい部分が生じてしまう。従って、蒸着材料の利用効率（成膜効率：ガラス基板９２に付着する割合）を高めて高価な蒸着材料を節約し、且つ、高価な蒸着材料を用いた成膜を所望の領域内に安定してむらなく実施するためには、斜めに移動する蒸着材料９８を可能な限りガラス基板９２に到達させるように蒸着マスク２０を構成することが重要になる。すなわち、蒸着マスク２０のシート面に直交する図４〜図６の断面において、貫通孔２５の最小断面積を持つ部分となる接続部４１と、第１凹部３０の壁面３１の他の任意の位置と、を通過する直線Ｌ１が、蒸着マスク２０の法線方向に対してなす最小角度θ１（図４参照）を、十分に大きくすることが有利となる。
【００４０】
角度θ１を大きくするための方法の１つとして、蒸着マスク２０の厚みを小さくし、これによって、第１凹部３０の壁面３１や第２凹部３５の壁面３６の高さを小さくすることが考えられる。すなわち、蒸着マスク２０を構成するための金属板２１として、蒸着マスク２０の強度を確保できる範囲内で可能な限り厚みの小さな金属板２１を用いることが好ましいと言える。
【００４１】
角度θ１を大きくするためのその他の方法として、第１凹部３０の輪郭を最適化することも考えられる。たとえば本実施の形態によれば、隣り合う二つの第１凹部３０の壁面３１が合流することにより、他の凹部と合流していない点線で示された壁面（輪郭）を有する凹部と比較して、この角度θ１を大幅に大きくすることができている（図４参照）。以下、その理由について説明する。
【００４２】
第１凹部３０は、後に詳述するように、金属板２１の第１面２１ａをエッチングすることにより形成される。エッチングによって形成される凹部の壁面は、一般的に、浸食方向に向けて凸となる曲面状となる。したがって、エッチングによって形成された凹部の壁面３１は、エッチングの開始側となる領域において切り立ち、エッチングの開始側とは反対側となる領域、すなわち凹部の最も深い側においては、金属板２１の法線方向に対して比較的に大きく傾斜するようになる。一方、図示された蒸着マスク２０では、隣り合う二つの第１凹部３０の壁面３１が、エッチングの開始側において合流しているので、二つの第１凹部３０の壁面３１の先端縁３２が合流する部分４３の外輪郭が、切り立った形状ではなく、面取された形状となっている。このため、貫通孔２５の大部分をなす第１凹部３０の壁面３１を、蒸着マスクの法線方向に対して効果的に傾斜させることができる。すなわち角度θ１を大きくすることができる。
【００４３】
本実施の形態による蒸着マスク２０によれば、有効領域２２の全域において、第１凹部３０の壁面３１が蒸着マスクの法線方向に対してなす傾斜角度θ１を効果的に増大させることができる。これにより、蒸着材料９８の利用効率を効果的に改善しながら、所望のパターンでの蒸着を高精度に安定して実施することができる。
【００４４】
（材料）
以下、上述の蒸着マスク２０を構成するための材料（金属板）について説明する。厚みの小さな蒸着マスク２０を得るためには、母材を圧延して金属板を製造する際の圧延率を大きくする必要がある。しかしながら、圧延率が大きいほど、金属板の内部に残留している応力すなわち残留応力も大きくなってしまう。このような残留応力を除去する方法として、金属板を加熱する方法が知られている。ところで、加熱によって残留応力が除去されると、金属板の外形の寸法が変化することがある。例えば、金属板の長手方向における寸法が、金属板を加熱した後に短くなることがある。なぜなら、金属板の内部の残留応力が除去されて残留歪が除去されたり、結晶の配列が変化して結晶密度が変化したりすることが導かれるからである。以下の説明において、熱に起因して金属板の外形の寸法が変化する現象のことを「熱復元」とも称する。
【００４５】
ところで、金属板を用いて蒸着マスク２０を製造する工程は、金属板に熱を加える工程を含んでいる。例えば、金属板上にレジスト膜を形成する工程においては、はじめに、ネガ型の感光性レジスト材料を含む塗布液を金属板上に塗布し、その後、熱によって塗布液を乾燥させる。この際、金属板に熱が加えられるので、残留歪が除去されることがある。また、レジスト膜を現像する工程においても、レジスト膜の硬度を高めるためにレジスト膜を加熱することがある。この際も金属板に熱が加えられるので、残留歪が除去されることがある。従って蒸着マスクの製造工程において、上述の金属板の熱復元が生じ得る。また蒸着マスク２０を用いた蒸着工程においても、蒸着マスク２０に所定の熱が加えられ、これによって熱復元が生じることが考えられる。
なお、熱に起因する残留歪の除去が金属板２１上の位置によらず均一に生じる場合、金属板２１の熱復元も、金属板２１上の位置によらず均一に生じることになる。すなわち、金属板２１上の任意の２点の標点間の距離の変化率（収縮率）が、標点の位置に同一の値になる。一方、熱に起因する残留歪の除去が金属板２１上の位置に依存して不均一に生じる場合、金属板２１の熱復元も、金属板２１上の位置に依存して不均一に生じることになる。すなわち、金属板２１上の任意の２点の標点間の距離の変化率（収縮率）が、標点の位置に依存して異なる値になる。以下の説明において、位置によらず均一に生じる熱復元のことを、「均一な熱復元」と称し、位置に依存して不均一に生じる熱復元のことを、「不均一な熱復元」と称する。
【００４６】
以下、金属板の「不均一な熱復元」によって生じ得る問題点について考える。
蒸着マスク２０を用いたところで蒸着工程においては、図１に示すように、複数の蒸着マスク２０がフレーム１５に取り付けられる。各蒸着マスク２０は、張った状態でフレーム１５に保持される。従って、長手方向における金属板２１の熱復元が、幅方向における位置によらず均等に生じる場合、引張量を調整することで、取り付けられる際の、フレーム１５に対する蒸着マスク２０の長さを調整することができる。すなわち、フレーム１５に対する蒸着マスク２０の貫通孔２５の位置を理想的に調整することができる。
一方、長手方向における金属板２１の熱復元が幅方向に不均一に生じている場合、複数の蒸着マスク２０を一律に引っ張ったとしても、各蒸着マスク２０における貫通孔２５の位置を理想的に調整することはできない。また、各蒸着マスク２０における金属板２１の熱復元の程度の差は、目視では確認不可能な程度の小さなものである。従って、各蒸着マスク２０における引っ張り量を個別に調整することによってフレーム１５に対する各蒸着マスク２０の貫通孔２５の位置を理想的に調整することは、困難である。このため、長手方向における金属板２１の熱復元が幅方向に不均一に生じている場合、蒸着マスク２０を用いた蒸着工程によって作製される有機ＥＬ表示装置の発光層の位置が、蒸着マスク２０において生じていた熱復元のばらつきの程度に応じてばらつくことになる。このことは、有機ＥＬ表示装置の品質のばらつきを招いてしまう。
【００４７】
このような背景の下、幅方向における熱復元の量のばらつきが小さい金属板を選別して用いることが重要になる。なお上述のように、蒸着マスク２０の製造工程における熱復元は、用いられる金属板の内部の残留歪に起因して生じる。従って、幅方向における熱復元の量のばらつきが小さい金属板を用いるということは、幅方向における残留歪の量のばらつきが小さい金属板を用いることに対応している。
【００４８】
次に、このような構成からなる本実施の形態とその作用および効果について説明する。ここでは、はじめに、蒸着マスクを製造するために用いられる金属板の製造方法について説明する。次に、得られた金属板を用いて蒸着マスクを製造する方法について説明する。その後、得られた蒸着マスクを用いて基板上に蒸着材料を蒸着させる方法について説明する。
【００４９】
（金属板の製造方法）
はじめに図７（ａ）（ｂ）、図８（ａ）（ｂ）（ｃ）、図９Ａおよび図９Ｂ（ａ）（ｂ）を参照して、金属板の製造方法について説明する。図７（ａ）は、母材を圧延して、所望の厚さを有する金属板を得る工程を示す図であり、図７（ｂ）は、圧延によって得られた金属板をアニールする工程を示す図である。
【００５０】
〔圧延工程〕
はじめに図７（ａ）に示すように、インバー材から構成された母材５５を準備し、この母材５５を、一対の圧延ロール５６ａ，５６ｂを含む圧延装置５６に向けて、矢印Ｄ１で示す搬送方向に沿って搬送する。一対の圧延ロール５６ａ，５６ｂの間に到達した母材５５は、一対の圧延ロール５６ａ，５６ｂによって圧延され、この結果、母材５５は、その厚みが低減されるとともに、搬送方向に沿って伸ばされる。これによって、厚みｔ０の長尺金属板６４を得ることができる。図７（ａ）に示すように、長尺金属板６４をコア６１に巻き取ることによって巻き体６２を形成してもよい。厚みｔ０の具体的な値は特には限られないが、例えば０．０２０ｍｍ以上かつ０．１００ｍｍ以下となっている。
【００５１】
なお図７（ａ）は、圧延工程の概略を示すものに過ぎず、圧延工程を実施するための具体的な構成や手順が特に限られることはない。例えば圧延工程は、母材５５を構成するインバー材の結晶配列を変化させる温度以上の温度で母材を加工する熱間圧延工程や、インバー材の結晶配列を変化させる温度以下の温度で母材を加工する冷間圧延工程を含んでいてもよい。
【００５２】
〔スリット工程〕
その後、圧延工程によって得られた長尺金属板６４の幅方向における両端をそれぞれ３ｍｍ以上かつ５ｍｍ以下の範囲にわたって切り落とすスリット工程を実施してもよい。このスリット工程は、圧延に起因して長尺金属板６４の両端に生じ得るクラックを除去するために実施される。このようなスリット工程を実施することにより、長尺金属板６４が破断してしまう現象、いわゆる板切れが、クラックを起点として生じてしまうことを防ぐことができる。
【００５３】
〔アニール工程〕
その後、圧延によって長尺金属板６４内に蓄積された残留応力を取り除くため、図７（ｂ）に示すように、アニール装置５７を用いて長尺金属板６４をアニールする。アニール工程は、図７（ｂ）に示すように、長尺金属板６４を搬送方向（長手方向）に引っ張りながら実施されてもよい。すなわち、アニール工程は、いわゆるバッチ式の焼鈍ではなく、搬送しながらの連続焼鈍として実施されてもよい。アニール工程が実施される期間は、長尺金属板６４の厚みや圧延率などに応じて適切に設定されるが、例えば５００℃で６０秒にわたってアニール工程が実施される。なお上記「６０秒」は、アニール装置５７中の５００℃に加熱された空間を長尺金属板６４が通過することに要する時間が６０秒であることを意味している。
【００５４】
アニール工程を実施することにより、残留歪が有る程度除去された、厚みｔ０の長尺金属板６４を得ることができる。なお厚みｔ０は通常、蒸着マスク２０の周囲領域２３内の最大厚みＴｂに等しくなる。
【００５５】
なお、上述の圧延工程、スリット工程およびアニール工程を複数回繰り返すことによって、厚みｔ０の長尺の金属板６４を作製してもよい。また図７（ｂ）においては、アニール工程が、長尺金属板６４を長手方向に引っ張りながら実施される例を示したが、これに限られることはなく、アニール工程を、長尺金属板６４がコア６１に巻き取られた状態で実施してもよい。すなわちバッチ式の焼鈍が実施されてもよい。なお、長尺金属板６４がコア６１に巻き取られた状態でアニール工程を実施する場合、長尺金属板６４に、巻き体６２の巻き取り径に応じた反りの癖がついてしまうことがある。従って、巻き体６２の巻き径や母材５５を構成する材料によっては、長尺金属板６４を長手方向に引っ張りながらアニール工程を実施することが有利である。
【００５６】
なお上述の連続焼鈍は、バッチ式の焼鈍に比べて工程のスループットを高めることができるというメリットをもたらすが、反面、バッチ式の焼鈍に比べて残留歪の除去の程度が不十分になるというデメリットを有している。すなわち、上述の熱復元は、バッチ式の焼鈍が実施される場合よりも、連続焼鈍が実施される場合に生じ易いと考えられる。
【００５７】
〔切断工程〕
その後、長尺金属板６４の幅方向における両端をそれぞれ所定範囲にわたって切り落とし、これによって、長尺金属板６４の幅を所望の幅に調整する切断工程を実施する。このようにして、所望の厚みおよび幅を有する長尺金属板６４を得ることができる。
【００５８】
〔検査工程〕
その後、得られた長尺金属板６４から取り出されたサンプルに熱処理を施す前後での熱復元の程度を検査する検査工程を実施する。図８（ａ）は、得られた長尺金属板６４を示す平面図である。図８（ａ）において、長手方向における長尺金属板６４の先端が符号６４ｃで表されており、後端が符号６４ｄで表されている。検査工程においては、はじめに、長尺金属板６４を長尺金属板６４の幅方向に沿って切断することによって、長手方向における所定の長さを有するサンプル金属板７５を得る。サンプル金属板７５は、１つの巻き体６２を構成する長尺金属板６４から少なくとも１つ切り出される。例えば図８（ａ）において点線で示すように、サンプル金属板７５は、長尺金属板６４の先端６４ｃにおいて２つ切り出され、長尺金属板６４の後端６４ｄにおいて２つ切り出される。図８（ｂ）には、１つの長尺金属板６４から切り出された４つのサンプル金属板７５が示されている。
【００５９】
次に、サンプル金属板７５を金属板の長手方向に沿って複数に切断することによって、複数のサンプル７６を得る。例えば図８（ｂ）において点線で示すように、サンプル金属板７５が幅方向に１０等分される。図８（ｃ）には、４つのサンプル金属板７５から切り出された、合計４０本のサンプル７６が示されている。
【００６０】
その後、各サンプル７６に熱処理を施す前後において、各サンプル７６上の２つの測定点７６ａの間における距離を２５℃の温度条件下でそれぞれ測定する。熱処理は、図９Ａに示すように、各サンプル７６の温度をＰ１からＰ２に、時間Ｚ１をかけて昇温させる第１工程Ｓ１と、時間Ｚ２にわたって各サンプル７６の温度を温度Ｐ１に保持する第２工程Ｓ２と、各サンプル７６の温度をＰ２からＰ１に、時間Ｚ３をかけて降温させる第３工程Ｓ３と、からなっている。時間Ｚ１，Ｚ２，Ｚ３および温度Ｐ１，Ｐ２は、蒸着マスク２０の製造工程において金属板２１に加えられえる熱を模擬することができるよう、設定される。例えばＺ１，Ｚ２，Ｚ３は、それぞれ３０分間，５分間，６０分間に設定され、温度Ｐ１，Ｐ２は、それぞれ常温（例えば２５℃），３００℃に設定される。
第１工程において、サンプル７６は、図９Ａに示すように、温度Ｐ１（２５℃）から温度Ｐ２（３００℃）まで均一な速度（昇温速度）で昇温されるよう、加熱される。同様に第３工程において、サンプル７６は、温度Ｐ２（３００℃）から温度Ｐ１（２５℃）まで均一な速度（降温速度）で降温されるよう、冷却される。
【００６１】
図９Ｂ（ａ）は、熱処理が施される前のサンプル７６を示す平面図であり、図９Ｂ（ｂ）は、熱処理が施された後のサンプル７６を示す平面図である。図９Ｂ（ａ）（ｂ）において、サンプル７６に熱処理を施す前後での、サンプル７６の長手方向、すなわち長尺金属板６４の長手方向における２つの測定点７６ａの間の距離が、それぞれ符号Ｌ１およびＬ２で示されている。２つの測定点７６ａは例えば、サンプル７６に熱処理を施す前における距離Ｌ１が、各サンプル７６の熱復元の程度を評価する上で適切な距離、例えば約５００ｍｍとなるよう、設定されている。なお図９Ｂ（ａ）（ｂ）においては、説明の便宜上、距離Ｌ１，Ｌ２の差が実際よりも大きく表現されている。
【００６２】
図９Ｂ（ａ）（ｂ）においては、２つの測定点７６ａがサンプル７６の長手方向に沿って並ぶよう設定されている。しかしながら、サンプル７６の熱復元を適切に観察することができる限りにおいて、測定点７６ａの並べ方が特に限られることはない。
【００６３】
２つの測定点７６ａをサンプル７６に付す方法は特には限られないが、例えば測定点７６ａは、サンプル７６に形成された傷痕などの印としてサンプル７６に付されている。
【００６４】
熱処理が施される前後における、サンプル７６の長手方向における２つの測定点７６ａの間の距離Ｌ１，Ｌ２を測定した後、以下の式に基づいて、サンプル７６の熱復元率Ｆを算出する。
Ｆ＝｛（Ｌ１−Ｌ２）／Ｌ１｝×１０６（単位はｐｐｍ）
このように熱復元率Ｆは、熱処理前のサンプル７６における２つの測定点７６ａ間の距離Ｌ１に対する、熱処理前後での距離Ｌ１，Ｌ２の差の百万分率として定義される。例えば、Ｌ１が５００ｍｍであり、Ｌ２が４９９．９９５ｍｍである場合、熱復元率Ｆは＋１０ｐｐｍになる。距離Ｌ１、Ｌ２の測定はいずれも、温度Ｐ１の条件下、すなわち常温（２５℃）で実施される。
【００６５】
ところで、上述の長尺金属板６４には、圧延工程の際の長尺金属板６４の伸び率が幅方向の位置に応じて異なることに起因する波打ち形状が現れることがある。このような波打ち形状が現れている場合、上述の距離Ｌ１，Ｌ２は、波打ち形状に沿ってサンプル７６の表面をスキャンすることによって得られる、波打ち形状を考慮した距離であってもよく、若しくは、波打ち形状を無視した距離であってもよい。いずれの測定法においても、サンプル７６に生じる熱復元の程度を評価することができる。
例えば、後述する実施例においては、新東Ｓプレシジョン株式会社製の自動二次元座標測定器ＡＭＩＣ−７１０を用いてサンプル７６の距離Ｌ１，Ｌ２を測定した結果を示すが、この場合、距離Ｌ１，Ｌ２は、サンプル７６の波打ち形状を無視した、ＸＹ座標上の距離となっている。なおＡＭＩＣ−７１０は、測定対象の環境温度、すなわちサンプル７６の環境温度を一定にする機能も含んでいる。このため、ＡＭＩＣ−７１０を用いることにより、温度変化の影響を受けない安定した測定が可能になる。
【００６６】
その後、得られた熱復元率Ｆの値に基づいて、長尺金属板６４の選別を実施する。ここでは、以下の条件（１），（２）をいずれも満たす長尺金属板６４のみを、後述する蒸着マスク２０の製造工程において使用するという、長尺金属板６４の選別を実施する。
（１）各サンプル７６における熱復元率Ｆの平均値Ｋ１が−１０ｐｐｍ以上かつ＋１０ｐｐｍ以下であること。
（２）各サンプル７６における熱復元率ＦのばらつきＫ２が２０ｐｐｍ以下であること。
各サンプル７６における熱復元率ＦのばらつきＫ２は、所定の本数のサンプル７６、例えば４０本のサンプル７６における熱復元率Ｆの標準偏差σ１に３を掛けることによって算出される値である。すなわち、ばらつきＫ２として、３σ１を採用している。
【００６７】
上記の条件（１）は、各サンプル７６における熱復元率Ｆの平均値Ｋ１が、蒸着マスク２０の貫通孔２５に対して求められる位置精度に比べて十分に小さいことを意味している。従って、条件（１）が満たされている長尺金属板６４を用いることにより、蒸着マスク２０を構成する金属板２１の寸法が、熱復元に起因して、蒸着マスク２０の製造工程の間に蒸着マスク２０の品質に影響を及ぼす程度に変化してしまうことを防ぐことができる。このため、金属板２１に形成する貫通孔２５の位置を、熱復元率を考慮してロット毎に調整するという作業や、複数の蒸着マスク２０をフレーム１５に取り付ける際の引っ張り量を、熱復元率を考慮してロット毎に調整するという作業などが不要になる。
【００６８】
上記の条件（２）は、各サンプル７６における熱復元率ＦのばらつきＫ２が、蒸着マスク２０の貫通孔２５に対して求められる位置精度の程度に比べて十分に小さいことを意味している。従って、条件（２）が満たされている長尺金属板６４を用いることにより、１つの長尺金属板６４から得られる複数の蒸着マスク２０における貫通孔２５の位置のばらつきを、許容範囲内のものとすることができる。このためフレーム１５に取り付けられた複数の蒸着マスク２０を用いた蒸着工程によって基板上に蒸着される蒸着材料の位置が個体ごとにばらつくことを抑制することができる。従って、蒸着によって有機ＥＬ表示装置の画素を形成する場合、有機ＥＬ表示装置の画素の位置精度を高めることができる。このため、各画素から出射される光を無駄なく取り出すことができるようになる。すなわち、各画素の発光効率を高めることができる。
【００６９】
（蒸着マスクの製造方法）
次に、上述のようにして選別された長尺金属板６４を用いて蒸着マスク２０を製造する方法について、主に図１０〜図１９を参照して説明する。以下に説明する蒸着マスク２０の製造方法では、図１０に示すように、長尺金属板６４が供給され、この長尺金属板６４に貫通孔２５が形成され、さらに長尺金属板６４を断裁することによって枚葉状の金属板２１からなる蒸着マスク２０が得られる。
【００７０】
より具体的には、蒸着マスク２０の製造方法、帯状に延びる長尺の金属板６４を供給する工程と、フォトリソグラフィー技術を用いたエッチングを長尺の金属板６４に施して、長尺金属板６４に第１面６４ａの側から第１凹部３０を形成する工程と、フォトリソグラフィー技術を用いたエッチングを長尺金属板６４に施して、長尺金属板６４に第２面６４ｂの側から第２凹部３５を形成する工程と、を含んでいる。そして、長尺金属板６４に形成された第１凹部３０と第２凹部３５とが互いに通じ合うことによって、長尺金属板６４に貫通孔２５が作製される。図１１に示された例では、第２凹部３５の形成工程が、第１凹部３０の形成工程の前に実施され、且つ、第２凹部３５の形成工程と第１凹部３０の形成工程の間に、作製された第２凹部３５を封止する工程が、さらに設けられている。以下において、各工程の詳細を説明する。
【００７１】
図１０には、蒸着マスク２０を作製するための製造装置６０が示されている。図１０に示すように、まず、長尺金属板６４をコア６１に巻き取った巻き体６２が準備される。そして、このコア６１が回転して巻き体６２が巻き出されることにより、図１０に示すように帯状に延びる長尺金属板６４が供給される。なお、長尺金属板６４は、貫通孔２５を形成されて枚葉状の金属板２１、さらには蒸着マスク２０をなすようになる。
【００７２】
供給された長尺金属板６４は、搬送ローラー７２によって、エッチング装置（エッチング手段）７０に搬送される。エッチング手段７０によって、図１１〜図１９に示された各処理が施される。なお本実施の形態においては、長尺金属板６４の幅方向に複数の蒸着マスク２０が割り付けられるものとする。すなわち、複数の蒸着マスク２０が、長手方向において長尺金属板６４の所定の位置を占める領域から作製される。この場合、長尺金属板６４の熱復元率が幅方向においてばらついていると、得られる蒸着マスク２０の長さや後述するトータルピッチもばらつくことになる。
【００７３】
まず、図１１に示すように、長尺金属板６４の第１面６４ａ上（図１１の紙面における下側の面上）および第２面６４ｂ上にネガ型の感光性レジスト材料を含む塗布液を塗布して、レジスト膜６５ｃ、６５ｄを形成する。
【００７４】
次に、レジスト膜６５ｃ、６５ｄのうちの除去したい領域に光を透過させないようにした露光マスク８５ａ、８５ｂを準備し、露光マスク８５ａ、８５ｂをそれぞれ図１２に示すようにレジスト膜６５ｃ、６５ｄ上に配置する。露光マスク８５ａ、８５ｂとしては、例えば、レジスト膜６５ｃ、６５ｄのうちの除去したい領域に光を透過させないようにしたガラス乾板が用いられる。その後、真空密着によって露光マスク８５ａ、８５ｂをレジスト膜６５ｃ、６５ｄに十分に密着させる。
なお感光性レジスト材料として、ポジ型のものが用いられてもよい。この場合、露光マスクとして、レジスト膜のうちの除去したい領域に光を透過させるようにした露光マスクが用いられる。
【００７５】
その後、レジスト膜６５ｃ、６５ｄを露光マスク８５ａ、８５ｂ越しに露光する。さらに、露光されたレジスト膜６５ｃ、６５ｄに像を形成するためにレジスト膜６５ｃ、６５ｄを現像する（現像工程）。以上のようにして、図１３に示すように、長尺金属板６４の第１面６４ａ上にレジストパターン（単に、レジストとも呼ぶ）６５ａを形成し、長尺金属板６４の第２面６４ｂ上にレジストパターン（単に、レジストとも呼ぶ）６５ｂを形成することができる。なお現像工程は、レジスト膜６５ｃ、６５ｄの硬度を高めるためのレジスト熱処理工程を含んでいてもよい。レジスト熱処理工程においては、例えば、３００℃の温度条件下で５分間の加熱処理を行う。
【００７６】
次に、図１４に示すように、長尺金属板６４上に形成されたレジストパターン６５ｂをマスクとして、エッチング液（例えば塩化第二鉄溶液）を用いて、長尺金属板６４の第２面６４ｂ側からエッチングする。例えば、エッチング液が、搬送される長尺金属板６４の第２面６４ｂに対面する側に配置されたノズルから、レジストパターン６５ｂ越しに長尺金属板６４の第２面６４ｂに向けて噴射される。この結果、図１４に示すように、長尺金属板６４のうちのレジストパターン６５ｂによって覆われていない領域で、エッチング液による浸食が進む。以上のようにして、第２面６４ｂの側から長尺金属板６４に多数の第２凹部３５が形成される。
【００７７】
その後、図１５に示すように、エッチング液に対する耐性を有した樹脂６９によって、形成された第２凹部３５が被覆される。すなわち、エッチング液に対する耐性を有した樹脂６９によって、第２凹部３５が封止される。図１５に示す例において、樹脂６９の膜が、形成された第２凹部３５だけでなく、第２面６４ｂ（レジストパターン６５ｂ）も覆うように形成されている。
【００７８】
次に、図１６に示すように、長尺金属板６４に対して第２回目のエッチングを行う。第２回目のエッチングにおいて、長尺金属板６４は第１面６４ａの側のみからエッチングされ、第１面６４ａの側から第１凹部３０の形成が進行していく。長尺金属板６４の第２面６４ｂの側には、エッチング液に対する耐性を有した樹脂６９が被覆されているからである。したがって、第１回目のエッチングにより所望の形状に形成された第２凹部３５の形状が損なわれてしまうことはない。
【００７９】
エッチングによる浸食は、長尺金属板６４のうちのエッチング液に触れている部分において行われていく。従って、浸食は、長尺金属板６４の法線方向（厚み方向）のみに進むのではなく、長尺金属板６４の板面に沿った方向にも進んでいく。この結果、図１７に示すように、エッチングが長尺金属板６４の法線方向に進んで第１凹部３０が第２凹部３５と接続するだけでなく、レジストパターン６５ａの隣り合う二つの孔６６ａに対面する位置にそれぞれ形成された二つの第１凹部３０が、二つの孔６６ａの間に位置するブリッジ部６７ａの裏側において、合流する。
【００８０】
図１８に示すように、長尺金属板６４の第１面６４ａの側からのエッチングがさらに進む。図１８に示すように、隣り合う二つの第１凹部３０が合流してなる合流部分４３がレジストパターン６５ａから離間して、レジストパターン６５ａ下となる当該合流部分４３において、エッチングによる浸食が金属板６４の法線方向（厚さ方向）にも進む。これにより、蒸着マスクの法線方向に沿った一方の側へ向けて尖っていた合流部分４３が、蒸着マスクの法線方向に沿った一方の側からエッチングされ、図１８に示すように面取される。これにより、第１凹部３０の壁面３１が蒸着マスクの法線方向に対してなす傾斜角度θ１を増大させることができる。
【００８１】
このようにして、エッチングによる長尺金属板６４の第１面６４ａの浸食が、長尺金属板６４の有効領域２２をなすようになる全領域内において、進む。これにより、有効領域２２をなすようになる領域内における長尺金属板６４の法線方向に沿った最大厚みＴａが、エッチング前における長尺金属板６４の最大厚みＴｂより薄くなる。
【００８２】
以上のようにして、長尺金属板６４の第１面６４ａの側からのエッチングが予め設定した量だけ進んで、長尺金属板６４に対する第２回目のエッチングが終了する。このとき、第１凹部３０は長尺金属板６４の厚さ方向に沿って第２凹部３５に到達する位置まで延びており、これにより、互いに通じ合っている第１凹部３０および第２凹部３５によって貫通孔２５が長尺金属板６４に形成される。
【００８３】
その後、図１９に示すように、長尺金属板６４から樹脂６９が除去される。樹脂膜６９は、例えばアルカリ系剥離液を用いることによって、除去することができる。アルカリ系剥離液が用いられる場合、図１９に示すように、樹脂６９と同時にレジストパターン６５ａ，６５ｂも除去される。なお、樹脂６９を除去した後、樹脂６９とは別途にレジストパターン６５ａ，６５ｂを除去してもよい。
【００８４】
このようにして多数の貫通孔２５を形成された長尺金属板６４は、当該長尺金属板６４を狭持した状態で回転する搬送ローラー７２，７２により、切断装置（切断手段）７３へ搬送される。なお、この搬送ローラー７２，７２の回転によって長尺金属板６４に作用するテンション（引っ張り応力）を介し、上述した供給コア６１が回転させられ、巻き体６２から長尺金属板６４が供給されるようになっている。
【００８５】
その後、多数の凹部６１が形成された長尺金属板６４を切断装置（切断手段）７３によって所定の長さおよび幅に切断することにより、多数の貫通孔２５が形成された枚葉状の金属板２１が得られる。
【００８６】
以上のようにして、多数の貫通孔２５を形成された金属板２１からなる蒸着マスク２０が得られる。ここで本実施の形態によれば、金属板２１の第１面２１ａは、有効領域２２の全域にわたってエッチングされている。このため、蒸着マスク２０の有効領域２２の厚みを小さくし、かつ、第１面２１ａ側に形成される二つの第１凹部３０の壁面３１の先端縁３２が合流する部分４３の外輪郭を、面取された形状とすることができる。従って、上述の角度θ１を大きくすることができ、このことにより、蒸着材料の利用効率および蒸着の位置精度を向上させることができる。
【００８７】
また本実施の形態によれば、上述の条件（１），（２）により、幅方向Ｄ２の各位置において測定される熱復元率の平均値およびばらつきが抑制された長尺金属板６４が用いられている。このため、長尺金属板６４から得られる複数の蒸着マスク２０の貫通孔２５の位置が個体ごとにばらつくことを抑制することができる。
【００８８】
（蒸着方法）
次に、得られた蒸着マスク２０を用いて基板９２上に蒸着材料を蒸着させる方法について説明する。はじめに図２に示すように、蒸着マスク２０を基板９２に対して密着させる。この際、図１に示すように、複数の蒸着マスク２０をフレーム１５に張設することによって、蒸着マスク２０の面が基板９２の面に平行になるようにする。ここで本実施の形態によれば、長尺金属板６４の幅方向における熱復元率の平均値およびばらつきに基づいて予め選別された長尺金属板６４が用いられている。このため、このような選別が実施されない場合に比べて、蒸着マスク２０の長さが設計値から相違すること、および、複数の蒸着マスク２０の長さがばらつくことが抑制されている。従って、フレーム１５に対する各蒸着マスク２０の貫通孔２５の位置の、設計値からのずれを低減することができる。このため、高い位置精度で蒸着材料を基板９２に蒸着させることができる。従って、蒸着によって有機ＥＬ表示装置の画素を形成する場合、有機ＥＬ表示装置の画素の位置精度を高めることができる。このため、各画素から出射される光を無駄なく取り出すことができるようになる。すなわち、各画素の発光効率を高めることができる。
【００８９】
なお本実施の形態において、金属板２１の第１面２１ａが、有効領域２２の全域にわたってエッチングされる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、有効領域２２の一部においてのみ金属板２１の第１面２１ａがエッチングされてもよい。
【００９０】
また本実施の形態において、長尺金属板６４の幅方向に複数の蒸着マスク２０が割り付けられる例を示した。また、蒸着工程において、複数の蒸着マスク２０がフレーム１５に取り付けられる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図２０に示すように、金属板２１の幅方向および長手方向の両方に沿って格子状に配置された複数の有効領域２２を有する蒸着マスク２０が用いられてもよい。この場合であっても、幅方向における熱復元率のばらつきが低減された長尺金属板６４を用いることにより、熱に起因する寸法変化の程度が蒸着マスク２０の幅方向の位置によってばらつくことを抑制することができる。これによって、蒸着工程において、基板上に付着される蒸着材料の位置精度を高めることができる。
【実施例】
【００９１】
次に、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。
【００９２】
（第１巻き体および第１サンプル）
はじめに、インバー材から構成された母材に対して上述の圧延工程、スリット工程、アニール工程および切断工程を実施することにより、長尺の金属板が巻き取られた巻き体（第１巻き体）を製造した。
【００９３】
具体的には、はじめに、第１熱間圧延工程および第１冷間圧延工程をこの順で行う第１圧延工程を実施し、次に、長尺金属板の幅方向における両端をそれぞれ３ｍｍ以上かつ５ｍｍ以下の範囲にわたって切り落とす第１スリット工程を実施し、その後、５００℃で６０秒にわたって長尺金属板を連続焼鈍する第１アニール工程を実施した。さらに、第１アニール工程を経た長尺金属板に対して、第２冷間圧延工程を含む第２圧延工程を実施し、次に、長尺金属板の幅方向における両端をそれぞれ３ｍｍ以上かつ５ｍｍ以下の範囲にわたって切り落とす第２スリット工程を実施し、その後、５００℃で６０秒にわたって長尺金属板を連続焼鈍する第２アニール工程を実施した。これによって、所望の厚みを有する、約６００ｍｍ幅の長尺金属板６４を得た。その後、長尺金属板６４の幅方向における両端をそれぞれ所定範囲にわたって切り落とし、これによって、長尺金属板６４の幅を所望の幅、具体的には５００ｍｍ幅に最終的に調整する切断工程を実施した。
【００９４】
なお、上述の冷間圧延工程においては、バックアップローラーを用いた圧力調整を行った。具体的には、長尺金属板６４の形状が左右対称になるよう、圧延機のバックアップローラー形状、および、圧力を調整した。また、冷間圧延工程は、圧延油、例えば灯油を用いてクーリングしながら行った。冷間圧延工程の後には、炭化水素系の洗浄剤で長尺金属板を洗浄する洗浄工程を行った。洗浄工程の後には、上述のスリット工程を実施した。
【００９５】
その後、シャーを用いて長尺金属板６４をその幅方向に沿って切断することによって、幅５００ｍｍ、投影長さ７００ｍｍの金属板からなる第１サンプル金属板を得た。ここでは、長尺金属板６４の先端において２つの第１サンプル金属板を切り出し、かつ、長尺金属板６４の後端において２つの第１サンプル金属板を切り出した。なお「投影長さ」とは、金属板を真上から見た場合、すなわち金属板の波打ち形状を無視した場合の金属板の長さ（圧延方向における寸法）のことである。また第１サンプル金属板の幅とは、幅方向における第１サンプル金属板の一対の端部の間の距離のことである。第１サンプル金属板の一対の端部は、圧延工程およびアニール工程によって得られる金属板の幅方向における両端を所定範囲にわたって切り落とす切断工程を経ることによって形成される部分であり、ほぼ真っ直ぐに延びている。
【００９６】
次に、４つの第１サンプル金属板をそれぞれ長手方向に沿って１０等分した。これによって、幅５０ｍｍ、投影長さ７００ｍｍを有する合計４０本の第１サンプルを得た。その後、針を用いて各第１サンプルをひっかくことにより、各第１サンプル上に２つの測定点を付した。２つの測定点は、２つの測定点の間に長手方向において約５００ｍｍの間隔が空くよう、付された。
【００９７】
次に、各第１サンプルに対して熱処理を施した。また、熱処理を施す前後での、各第１サンプルの長手方向における２つの測定点の間の距離Ｌ１，Ｌ２を、２５℃の温度条件下で測定した。熱処理においては、はじめに、各第１サンプルの温度を２５℃から３００℃に３０分かけて昇温させ、次に、各第１サンプルの温度を５分間にわたって３００℃に保持し、その後、各第１サンプルの温度を３００℃から２５℃に６０分間かけて降温させた。ここでは、各第１サンプルに熱処理を施し、かつ各第１サンプルの２つの測定点の間の距離を測定するための測定器として、新東Ｓプレシジョン株式会社製の上述の自動二次元座標測定器ＡＭＩＣ−７１０を用いた。また、測定された距離Ｌ１，Ｌ２に基づいて、上述の熱復元率Ｆを算出した。
【００９８】
測定の結果、各第１サンプルにおける熱復元率Ｆの平均値Ｋ１は−２ｐｐｍであり、また、熱復元率のばらつきＫ２は１６ｐｐｍであった。これらの測定結果と、上述の条件（１），（２）とを照らしあわせたところ、第１サンプルにおいては、条件（１），（２）のいずれもが満たされていた。従って第１サンプルが取り出された第１巻き体は、蒸着マスクを製造するための素材として用いることができるものであると判定される。
【００９９】
〔１次効果の評価〕
上述の第１サンプルが得られた第１巻き体の長尺金属板を用いて、長手方向に沿って５つの有効領域が設けられた蒸着マスクを多数製造した。各蒸着マスクの各有効領域には、規則的な配列で多数の貫通孔が形成されている。次に、得られた蒸着マスクの位置精度を評価するため、各蒸着マスクのトータルピッチを測定し、そしてトータルピッチの平均値およびばらつきを算出した。
ここでトータルピッチとは、蒸着マスクにおける所定の２点間の距離のことである。蒸着マスクの位置精度を評価することができる限りにおいて、２点の設定箇所は特には限られないが、ここでは、蒸着マスクの一端側に位置する有効領域の近傍に形成される所定のマークと、蒸着マスクの他端側に位置する有効領域の近傍に形成される所定のマークとの間の距離を、トータルピッチとして測定した。この場合のトータルピッチは、設計上は約６００ｍｍになる。
トータルピッチのばらつきの程度の指標としては、熱復元率の場合と同様に、各蒸着マスクのトータルピッチの測定値の標準偏差（σ２）に３を掛けた値、すなわち３σ２を利用した。
【０１００】
第１巻き体から得られた蒸着マスクのトータルピッチの測定値の平均値は６００．００１８ｍｍであり、ばらつき（３σ２）は９．３μｍであった。なお標準偏差（σ２）を算出する際のｎ数は、後述する第２巻き体〜第１０巻き体から得られた蒸着マスクとの間での比較を行う上で十分な確度を標準偏差（σ２）の値が有するよう設定した。具体的には、４０本の第１サンプルの各々において２箇所でトータルピッチを測定することにより、ｎ数を８０とした。なお、蒸着マスクのトータルピッチの測定値の平均値およびばらつきの許容範囲は、蒸着マスクを用いることによって作製される有機ＥＬ表示装置の画素密度などに応じて定められる。例えば、４００ｐｐｉの画素密度の有機ＥＬ表示装置を作製する場合、蒸着マスクのトータルピッチの測定値の平均値が設計値（例えば６００．００００ｍｍ）±０．００５ｍｍの範囲内であり、かつ、蒸着マスクのトータルピッチの測定値のばらつきが０．０１ｍｍ以下であることが求められる。このように設定することにより、得られる蒸着マスクのトータルピッチを、設計値（例えば６００．００００ｍｍ）±０．０１５ｍｍの範囲内、すなわち許容値の範囲内に入れることができる。
【０１０１】
また、第１巻き体から得られた蒸着マスクのトータルピッチを、工程能力指数の観点で評価した。工程能力指数とは、工程の持つ品質達成能力（工程能力）を数値化したものである。一般には、工程能力指数が１．３３以上であれば、その工程の品質達成能力は良好であると言われる。
【０１０２】
以下、工程能力指数の算出方法について説明する。工程の結果として製造される物の特性値の平均値が調整され得る場合の工程能力指数Ｃｐは、以下の式によって算出される。
Ｃｐ＝（ＵＳＬ−ＬＳＬ）／（６×σ２）
ここでＵＳＬおよびＬＳＬはそれぞれ、上側規格値および下側規格値である。例えば本実施例においては、上述のように、トータルピッチの許容値が６００．００００ｍｍ±０．０１５ｍｍであるので、ＵＳＬは６００．０１５ｍｍであり、ＬＳＬは５９９．９８５ｍｍである。なお、「特性値の平均値が調整され得る」とは、工程の調整によって、特性値の平均値をＵＳＬおよびＬＳＬの中間にすることができる場合を意味している。
【０１０３】
一方、特性値の平均値がＵＳＬおよびＬＳＬの中間から外れることを考慮した場合の工程能力指数Ｃｐｋは、以下の式によって算出される。
Ｃｐｋ＝（１−ｋ）×Ｃｐ
ここでｋは、以下の式によって算出される。
【数１】
0005516816.tif 000002
ここでμは、第１巻き体から得られた蒸着マスクのトータルピッチの測定値の平均値のことである。
【０１０４】
本実施例においては、工程能力指数として、上述のＣｐｋを採用する。第１巻き体の長尺金属板から得られた蒸着マスクのトータルピッチの工程能力指数Ｃｐｋは、１．４２であった。
【０１０５】
（２次効果の評価）
第１巻き体の長尺金属板から作製された蒸着マスクを用いて、基板上に蒸着材料を蒸着させた。なお、用いた蒸着マスクに形成されている多数の貫通孔のパターンは、画素密度３００ｐｐｉに対応したストライプパターンであった。また蒸着材料としては、緑色の光を放射する緑色用有機発光材料を用いた。その後、基板上に蒸着された、緑色用有機発光材料からなる複数の緑色発光層について、それらの中心座標位置を測定した。中心座標位置の測定は、蒸着マスクの１つの有効領域に基づいて形成される複数の緑色発光層のうちの９個の緑色発光層について実施した。上述の各サンプルの評価の場合と同様にして１つの長尺金属板から取り出される１０本の蒸着マスクに関して評価した場合、１つの蒸着マスクに存在する有効領域の数が５であるとすると、測定対象となる緑色発光層の数は、１０×５×９＝４５０となる。
【０１０６】
測定された中心座標位置の各々について、設計値からのずれ量を算出した。また、ずれ量の標準偏差σ３を算出した。そして、ずれ量のばらつき（３σ３）が許容値以下であるかどうかを判定した。この際、中心座標位置のずれ量のばらつきの許容値は１０μｍとした。結果、中心座標位置のずれ量のばらつきは８．７μｍであった。すなわち、蒸着材料の位置精度は良好であった。
【０１０７】
（第２〜第１０巻き体および第２〜第１０サンプル）
第１巻き体の場合と同様にして、インバー材から構成された母材から、第２巻き体〜第１０巻き体を製造した。さらに、第１巻き体の場合と同様にして、第２巻き体〜第１０巻き体に関して、各巻き体から取り出されたサンプルの熱復元率の測定、並びに、各巻き体の長尺金属板から作製された蒸着マスクに関する上述の１次効果の評価および２次効果の評価を実施した。
【０１０８】
（各サンプルの判定結果のまとめ）
第１巻き体〜第１０巻き体から取り出された各サンプルの熱復元率の測定結果を、図２１に示す。図２１に示すように、第１，第２，第３および第５サンプルでは、判定結果が「○」となった。すなわち、上述の条件（１），（２）がいずれも満たされていた。一方、第４，第６，第７，第８，第９および第１０サンプルにおいては、判定結果が「×」となった。すなわち、上述の条件（１）または（２）の少なくとも１つが満たされていなかった。具体的には、第７，第８および第９サンプルにおいては、上述の条件（１）が満たされていなかった。また、第４および第６サンプルにおいては、上述の条件（２）が満たされていなかった。また第１０サンプルにおいては、上述の条件（１），（２）がいずれも満たされていなかった。
【０１０９】
（１次効果および２次効果の評価結果のまとめ）
第１巻き体〜第１０巻き体の長尺金属板から作製された蒸着マスクに関する上述の１次効果の評価および２次効果の評価の結果を、それぞれ図２２および図２３に示す。
図２２および図２３に示すように、第１，第２，第３および第５巻き体から得られた長尺金属板を用いて作製した蒸着マスクについては、１次効果の評価の判定結果および２次効果の評価の判定結果がいずれも「○」となった。具体的には、１次効果に関しては、図２２に示すように、トータルピッチ（ＴＰ）の平均値が６００．００００ｍｍ±０．００５ｍｍの範囲内となり、ＴＰのばらつきが０．０１ｍｍ以下となり、かつ、工程能力指数Ｃｐｋが１．３３以上となっていた。また、２次効果に関しては、図２３に示すように、作製された緑色発光層の中心座標位置のずれ量のばらつきが１０μｍ以下となっていた。
一方、第４，第６，第７，第８，第９および第１０巻き体から得られた長尺金属板を用いて作製した蒸着マスクにおいては、１次効果の評価の判定結果および２次効果の評価の判定結果がいずれも「×」となった。具体的には、１次効果に関しては、工程能力指数Ｃｐｋが１．３３未満となり、２次効果に関しては、作製された緑色発光層の中心座標位置のずれ量のばらつきが１０μｍを超えていた。さらに、第６〜第１０巻き体から得られた長尺金属板用いて作製した蒸着マスクにおいては、ＴＰの平均値が６００．００００ｍｍ±０．００５ｍｍの範囲外となっていた。さらに、第１０巻き体から得られた長尺金属板用いて作製した蒸着マスクにおいては、ＴＰのばらつきが０．０１ｍｍを超えていた。
【０１１０】
図２１、図２２および図２３の対比から分かるように、上述の条件（１），（２）に基づく判定結果と、１次効果および２次効果に基づく判定結果とは完全に一致していた。すなわち、上述の条件（１），（２）を利用することにより、蒸着マスクの製造工程における工程能力指数を高めることができ、かつ、発光層を高い位置精度で形成することができる長尺金属板６４を選別することができると言える。すなわち、上述の条件（１），（２）は、長尺金属板６４を選別するための有力な判断手法であると考える。
【要約】
【課題】貫通孔の位置のばらつきが抑制された蒸着マスクを作製することができる金属板を提供する。
【解決手段】熱処理前のサンプルにおける２つの測定点間の距離に対する、熱処理前後での距離の差の百万分率を、熱復元率として定義する。この場合、各サンプルにおける熱復元率の平均値が−１０ｐｐｍ以上かつ＋１０ｐｐｍ以下であり、かつ、各サンプルにおける熱復元率のばらつきが２０ｐｐｍ以下である。
【選択図】図９Ｂ【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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