(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動体と、
前記移動体に取り付けられた第１部材と、該第１部材と協働して前記移動体が第１軸及び該第１軸と交わる第２軸を含む所定の面に沿った方向に移動する推力を発生させる第２部材と、を有する平面モータと、
前記第２部材が取り付けられ、前記移動体を移動可能に支持しつつ、前記第１部材が移動する向きと反対の向きへ移動可能な反力部材と、
前記反力部材を支持し、前記推力の向きと反対の向きへの前記反力部材の移動を許容する複数の防振装置と、
前記推力によって前記移動体が移動する際に、前記反力部材と前記移動体とを含む系の重心を中心に生じる回転力をキャンセルする力を、前記反力部材に作用させるキャンセル装置と、
を備えた移動体装置。
【請求項２】
請求項１に記載の移動体装置において、
前記キャンセル装置は、前記反力部材に対して、前記所定の面に直交する方向の力を、前記所定の面に平行な面内に関する位置が異なる少なくとも３つの作用点に作用させる移動体装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の移動体装置において、
前記キャンセル装置は、
前記所定の面に直交する直交軸方向に移動する質量体と；
前記反力部材に設けられ、前記質量体を前記直交軸方向に案内するガイドと；
前記移動体の移動に応じて、前記質量体を前記ガイドに対して移動させるアクチュエータと；を有する移動体装置。
【請求項４】
駆動系と、
前記駆動系が発生する推力により、第１軸及び該第１軸と交わる第２軸を含む所定の面に沿って移動可能な移動体と、
前記移動体を前記所定の面に沿って移動可能に支持するとともに、前記推力の向きと反対の向きへ移動する反力部材と、
前記反力部材を支持し、前記推力の向きと反対の向きへの前記反力部材の移動を許容する複数の防振装置と、
前記所定の面に交差する方向に移動可能な質量体と、前記反力部材に設けられて前記質量体を前記所定の面に交差する方向に案内するガイドと、前記移動体の移動に応じて前記質量体を前記ガイドに対して移動させるアクチュエータとを有し、前記移動体の移動により、前記反力部材と前記移動体とを含む系の重心を中心に生じる回転力をキャンセルする力を、前記反力部材に作用させるキャンセル装置と、
を備えた移動体装置。
【請求項５】
請求項４に記載の移動体装置において、
前記駆動系は、前記移動体に設けられた可動子と、前記反力部材に設けられ、前記可動子との間に前記推力を作用させる固定子とを有する平面モータである移動体装置。
【請求項６】
請求項３〜５のいずれか一項に記載の移動体装置において、
前記アクチュエータは、前記所定の面に平行な面内の前記反力部材と前記移動体とを含む系の重心と、前記作用点との距離に応じた加速度で、前記質量体を駆動する移動体装置。
【請求項７】
請求項３〜６のいずれか一項に記載の移動体装置において、
前記アクチュエータは、前記移動体の加速度の大きさに応じた加速度で、前記質量体を駆動する移動体装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の移動体装置において、
前記移動体は、前記反力部材の一面と対向する対向面と、該対向面より上部に設けられて前記物体を保持する保持面とを有し、前記推力は前記対向面と前記一面との間に生じる移動体装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の移動体装置において、
前記反力部材は、前記複数の防振装置のそれぞれによって前記所定の面に直交する方向に微少駆動可能に支持されている移動体装置。
【請求項１０】
エネルギビームの照射により物体を露光する露光装置であって、
前記物体が前記移動体に保持される請求項１〜９のいずれか一項に記載の移動体装置を備える露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、移動体装置及び露光装置に係り、さらに詳しくは、ガイド面を有するベース上を移動する移動体を有する移動体装置、及びエネルギビームの照射により物体を露光する露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体素子（集積回路等）、液晶表示素子等の電子デバイス（マイクロデバイス）の製造におけるリソグラフィ工程では、主として、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（いわゆるステッパ）、又はステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが用いられている。【０００３】
この種の露光装置では、ウエハ又はガラスプレート等の基板（以下、ウエハを総称する）を保持して２次元平面内を移動するウエハステージと、該ウエハステージを所定の速度で駆動する駆動系とを有するステージ装置が一般的に用いられている。そして、ステージ装置の駆動系としては、ウエハに転写されるパターンの微細化にともなって、制御対象をより高速に、かつ高精度に位置決めすることが可能な平面モータなどが用いられている（例えば特許文献１参照）。平面モータを用いたステージ装置は、回転型のモータを用いた装置と比較して、機械的な摩擦が生じる部分が少なくなるため装置のランニングコストを抑制することができ、さらには装置の構成をシンプルにすることができるので、今後利用の拡大が予想される。【０００４】
しかしながら、平面モータを用いてウエハステージを駆動する場合、その駆動力の反力が平面モータの固定子に作用し、この反力に起因して装置に生じる振動が露光精度を悪化させるおそれがある。【０００５】
【特許文献１】国際公開第９９／０４８１９２号
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の事情の下でなされたもので、第１の観点からすると、移動体と、前記移動体に取り付けられた第１部材と、該第１部材と協働して前記移動体が第１軸及び該第１軸と交わる第２軸を含む所定の面に沿った方向に移動する推力を発生させる第２部材と、を有する平面モータと、前記第２部材が取り付けられ、前記移動体を移動可能に支持しつつ、前記第１部材が移動する向きと反対の向きへ移動可能な反力部材と、前記反力部材を支持し、前記推力の向きと反対の向きへの前記反力部材の移動を許容する複数の防振装置と、前記推力によって前記移動体が移動する際に、前記反力部材と前記移動体とを含む系の重心を中心に生じる回転力をキャンセルする力を、前記反力部材に作用させるキャンセル装置と、を備えた第１の移動体装置である。
【０００７】
また、本発明は第２の観点からすると、駆動系と、前記駆動系が発生する推力により、第１軸及び該第１軸と交わる第２軸を含む所定の面に沿って移動可能な移動体と、前記移動体を前記所定の面に沿って移動可能に支持するとともに、前記推力の向きと反対の向きへ移動する反力部材と、前記反力部材を支持し、前記推力の向きと反対の向きへの前記反力部材の移動を許容する複数の防振装置と、前記所定の面に交差する方向に移動可能な質量体と、前記反力部材に設けられて前記質量体を前記所定の面に交差する方向に案内するガイドと、前記移動体の移動に応じて前記質量体を前記ガイドに対して移動させるアクチュエータとを有し、前記移動体の移動により、前記反力部材と前記移動体とを含む系の重心を中心に生じる回転力をキャンセルする力を、前記反力部材に作用させるキャンセル装置と、を備えた第２の移動体装置である。
【０００８】
また、本発明は第３の観点からすると、エネルギビームの照射により物体を露光する露光装置であって、前記物体が前記移動体に保持される本発明の移動体装置を備える露光装置である。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の一実施形態の露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】防振装置の近傍を示す図である。
【図３】ウエハステージを示す斜視図である。
【図４】ウエハステージの一部断面図（その１）である。
【図５】ウエハステージの一部断面図（その２）である。
【図６】図６（Ａ）及び図６（Ｂ）は、ガイド５４を構成する固定子コイルを示す図（その１、その２）である。
【図７】図７（Ａ）及び図７（Ｂ）は、固定子コイルの各巻線と磁石ユニットの永久磁石の配置を説明するための図（その１、その２）である
【図８】図８（Ａ）及び図８（Ｂ）は、固定子コイルと磁石ユニットとの作用を説明するための図（その１、その２）である。
【図９】固定子コイルと磁石ユニットとの作用を説明するための図（その３）である。
【図１０】露光装置の制御系のブロック図である。
【図１１】カウンタマス装置３５の動作を説明するための図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の一実施形態を図１〜図１１に基づいて説明する。【００１１】
図１には、本実施形態に係る露光装置１０の概略構成が示されている。この露光装置１０は、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニング・ステッパ）である。後述するように本実施形態では、投影光学系ＰＬが設けられており、以下この投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと平行な方向をＺ軸方向、これに直交する面内でレチクルＲとウエハＷとが相対走査される方向をＹ軸方向、Ｚ軸及びＹ軸に直交する方向をＸ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸に平行な軸回りの回転方向をそれぞれθｘ方向、θｙ方向、θｚ方向として説明を行う。【００１２】
露光装置１０は、光源及び照明光学系を含み、照明光（露光光）ＩＬによりレチクルＲを照明する照明系１２、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、投影ユニットＰＵ、ウエハＷが載置されるウエハステージＷＳＴを含むウエハステージ装置１００、及びこれらの制御系を備えている。【００１３】
照明系１２は、不図示のレチクルブラインドで規定されたレチクルＲ上のスリット状の照明領域を照明光ＩＬによりほぼ均一な照度で照明する。ここで、照明光ＩＬとしては、一例としてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられている。【００１４】
レチクルステージＲＳＴは、ＸＹ平面に沿って配置されたレチクルステージベース２０上に配置され、レチクルステージ駆動系１９を構成する例えば磁気浮上型２次元リニアアクチュエータが発生する磁気浮上力によってレチクルステージベース２０上に浮上支持されている。そして、レチクルステージＲＳＴ上には、レチクルＲが、例えば真空吸着又は静電吸着により固定されている。【００１５】
レチクルステージＲＳＴは、レチクルステージ駆動系１９が発生する駆動力によってＹ軸方向に所定ストロークで駆動されるとともに、Ｘ軸方向及びθｚ方向にも微小駆動され、更に、レチクルステージ駆動系１９が複数箇所で発生する磁気浮上力の調整によってＺ軸方向及びＸＹ平面に対する傾斜方向（θｘ方向及びθｙ方向）にも微小駆動可能である。【００１６】
レチクルステージＲＳＴ（レチクルＲ）のＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転情報も含む）は、レチクルステージＲＳＴに固定された（又は形成された）反射面にレーザビームを照射するレチクルレーザ干渉計（以下、「レチクル干渉計」という）１８Ｒによって、例えば０．２５〜１ｎｍ程度の分解能で常時求めることが可能である。そして、レチクルＲのＺ軸方向の位置情報は、例えば米国特許第５，４４８，３３２号明細書に開示される多点焦点位置検出系からなる不図示のレチクルフォーカスセンサによって求められる。【００１７】
レチクル干渉計１８Ｒ及びレチクルフォーカスセンサの計測値は、主制御装置１１（図１０参照）に供給され、主制御装置１１は、これらの計測値に基づいて、レチクルステージ駆動系１９を介してレチクルステージＲＳＴを駆動する。【００１８】
投影ユニットＰＵは、レチクルステージＲＳＴの図１における下方に配置されている。投影ユニットＰＵは、円筒状の鏡筒４０と、該鏡筒４０に保持された複数の光学素子から成る投影光学系ＰＬとを有している。【００１９】
投影光学系ＰＬとしては、例えば、Ｚ軸と平行な光軸ＡＸに沿って配列された複数の光学素子（レンズエレメント）からなる屈折光学系が用いられている。投影光学系ＰＬは、例えば両側テレセントリックで、所定の投影倍率（例えば１／４倍、１／５倍又は１／８倍など）を有する。このため、照明系１２からの照明光ＩＬによって照明領域が照明されると、投影光学系ＰＬの第１面（物体面）とパターン面がほぼ一致して配置されるレチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬを介してその照明領域内のレチクルの回路パターンの縮小像（回路パターンの一部の縮小像）が、投影光学系ＰＬの第２面（像面）側に配置される、表面にレジスト（感光剤）が塗布されたウエハＷ上の前記照明領域に共役な領域（露光領域）に形成される。そして、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとの同期移動によって、照明領域（照明光ＩＬ）に対してレチクルを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させるとともに、露光領域（照明光ＩＬ）に対してウエハＷを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させることで、ウエハＷ上の１つのショット領域（区画領域）の走査露光が行われ、そのショット領域にレチクルのパターンが転写される。すなわち、本実施形態では照明系１２及び投影光学系ＰＬによってウエハＷ上にレチクルＲのパターンが生成され、照明光ＩＬによるウエハＷ上の感応層（レジスト層）の露光によってウエハＷ上にそのパターンが形成される。【００２０】
ウエハステージ装置１００は、ベース３０、ベース３０をＸＹ面平内で微少移動させるＸＹトリムモータ３６、ベース３０の上面（ＸＹ平面）に沿って移動するウエハステージＷＳＴ、ウエハステージＷＳＴを駆動する駆動系、及びウエハステージＷＳＴの駆動に伴ってベース３０に作用する回転力をキャンセルする複数のカウンタマス装置３５などを備えている。【００２１】
ベース３０は、上面側に磁石ユニット３２が埋め込まれた正方形板状の部材であり、床面１０２に載置された支持台３７の上方に、複数の転動体８８ａ（例えば、ボール、ころ等）を含む支持装置８８をそれぞれ介して複数の防振装置３４によってほぼ水平に支持されている。【００２２】
磁石ユニット３２は、Ｚ軸方向の磁界を発生させる複数の永久磁石と、Ｙ軸方向又はＸ軸方向の磁界を発生させる補間磁石とを有している。そして、それぞれの永久磁石は、隣接する永久磁石間で磁界の向きが相互に逆向きとなるようにマトリクス状に配置されている。また、それぞれの補間磁石は、補間磁石が生じさせる磁界の向きが、隣接する永久磁石間に生じる磁界の向きと一致した状態で、隣接する永久磁石の間にそれぞれ配置されている。これにより、磁石ユニット３２では、隣接する永久磁石間に、補間磁石を介して磁束が巡る磁気回路が形成されるようになっている。磁石ユニット３２は、ベース３０の上面側から埋め込まれ、ベース３０の上面には、磁石ユニット３２を覆うように、非磁性体から成る保護プレート３１が固定されている。保護プレート３１は、ウエハステージＷＳＴと、磁石ユニット３２との直接的な接触を防止するとともに、ウエハステージＷＳＴの移動の際のガイド面となっている。【００２３】
図２は、ベース３０を支持する防振装置３４を示す図である。図２に示されるように、防振装置３４は、支持台３７の上面に固定されたエアマウント７０と、ベース３０を鉛直方向（Ｚ軸方向）に高応答で微小駆動可能なボイスコイルモータ７８とを備えている。【００２４】
エアマウント７０は、上部に開口を有するハウジング７１と、ハウジング７１の開口を塞ぐ状態で配置された保持部材７３と、ハウジング７１と保持部材７３とに接続され、ハウジング７１及び保持部材７３とともにほぼ気密状態の気体室７４を形成するダイヤフラム７５と、気体室７４の内部に充填された気体、例えば空気の圧力を調整する電磁レギュレータ（以下、適宜「レギュレータ」とも呼ぶ）７７とを備えている。【００２５】
ボイスコイルモータ７８は、ベース３０の下面に支持装置８８を介して取り付けられた可動子７８ａ、及び該可動子７８ａにＺ軸方向の電磁力を作用させる固定子７８ｂを有している。【００２６】
防振装置３４では、主制御装置１１（図１０参照）により不図示の圧力センサの計測値に基づいて電磁レギュレータ７７が制御され、気体室７４内部の気体の圧力制御が行われる。これにより、床面１０２（図１参照）から支持台３７を介して伝搬される、例えば２０Ｈｚ程度の振動成分が除振される。また、気体室７４内の気体の制御だけでは、２０Ｈｚ程度の振動成分しか除振することができないため、主制御装置１１は、電磁レギュレータ７７の制御と並行して、例えば、ベース３０の振動を検出する不図示の加速度センサなどからの出力に応じてボイスコイルモータ７８の制御を行う。これにより、ベース３０と床面１０２上に載置された支持台３７との間は振動的にマイクロＧレベルで絶縁される。【００２７】
また、ベース３０は、複数の転動体８８ａを含む支持装置８８を介して防振装置３４に支持されているため、防振装置３４に対してＸ軸方向及びＹ軸方向に相対移動することができる。支持装置８８としては、例えばスラストベアリングやエアベアリングを用いることができる。そして、ベース３０のＸＹ平面内の位置（θｚ回転も含む）は、例えばベース３０の側面にレーザビームを照射するレーザ干渉計（以下、「ベース干渉計」という）１８Ｂ（図１参照）によって、例えば０．２５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出される。なお、ベース干渉計１８Ｂは、Ｘ軸方向位置計測用のものとＹ軸方向位置計測用のものとがそれぞれ配置されているが、図１ではこれらが代表的にベース干渉計１８Ｂとして図示されている。【００２８】
ＸＹトリムモータ３６は、図１に示されるように、ベース３０の側面に取り付けられた可動子３６ａと、該可動子３６ａにＸ軸方向及びＹ軸方向の電磁力を作用させる固定子３６ｂとを有している。そして、ウエハステージＷＳＴがベース３０上を所定の加速度で移動する際に生じる反力によってベース３０がＸＹ平面内を移動した場合には、主制御装置１１（図１０参照）が、ベース干渉計１８ＢをモニタしつつＸＹトリムモータ３６を制御することで、反力によって移動したベース３０を反力の方向と反対の方向へ移動させる。【００２９】
図３は、ウエハステージＷＳＴの斜視図である。図３に示されるように、ウエハステージＷＳＴは、粗動ステージＷＲＳと、粗動ステージＷＲＳ上に移動可能に配置された微動ステージＷＦＳと、微動ステージＷＦＳに支持されるウエハテーブル４２とを有している。【００３０】
図４は、ウエハステージＷＳＴを＋Ｙ方向に向かって見た断面図（一部断面図）であり、図５は、ウエハステージＷＳＴを−Ｘ方向へ向かって見た断面図（一部断面図）である。これら図４及び図５を参照するとわかるように、粗動ステージＷＲＳは、正方形板状のベース部５１、及びベース部５１上面の＋Ｙ側端部及び−Ｙ側端部から上方（＋Ｚ方向）へ延設された一対の支持部５２の２部分からなるＺＹ断面Ｕ字状の部材である。【００３１】
ベース部５１の下面側（−Ｚ側の面側）には、電機子ユニット５８が収容されている。電機子ユニット５８は、供給される電流の大きさに応じたＺ軸方向の磁界を発生させる複数のコイルを含んでおり、上述したベース３０に配置された磁石ユニット３２と共に、粗動ステージＷＲＳを、ベース３０の上面に固定された保護プレート３１の上面で駆動する平面モータ（ＸＹ駆動系）を構成している。【００３２】
また、粗動ステージＷＲＳの一対の支持部５２の間には、長手方向をＹ軸方向とする４本のガイド５４それぞれが、＋Ｙ側端部及び−Ｙ側端部を一対の支持部５２によってそれぞれ支持されることで、Ｚ軸方向及びＸ軸方向にそれぞれ隣接した状態で架設されている。【００３３】
図６（Ａ）及び図６（Ｂ）を参照するとわかるように、ガイド５４の内部の−Ｘ側には、平面視（上方から見て）正方形の上部巻線５５ａと下部巻線５５ｂとが上下方向に重ねて配置された複数の固定子コイル５５が、Ｙ軸に沿って等間隔に配置されている。また、ガイド５４の内部の＋Ｘ側には、平面視長方形の固定子コイル５６が、Ｙ軸方向を長手方向として配置されている。なお、図６（Ａ）及び図６（Ｂ）は、図４及び図５で示された４本のガイド５４のうちの１本を示すものである。以下の図７（Ａ）及び図７（Ｂ）、図８（Ａ）及び図８（Ｂ）、図９を用いた説明では、１本のガイド５４について説明するが、例えばガイド５４に配置される固定子コイル５５、５６の構成やその構成に伴う力の発生原理は各ガイド５４に共通するものである。そして、４本のガイド５４は、各々が有する固定子コイル５５、５６が、微動ステージＷＦＳの中心Ｃ（図４参照、重心でもよい）に対して図４に示されるような断面において点対称となるように配置されている。ただし、このような配置に限定されることはなく、４本のガイドは、例えば、図面左右または上下のガイドの２組ずつが線対称となるように配置されてもよい。また、図７（Ａ）、図８（Ａ）、及び図８（Ｂ）では、複数の固定子コイル５５に対して、−Ｙ側から＋Ｙ側に向けて順に５５１、５５２，５５３の番号を付して説明する。【００３４】
微動ステージＷＦＳは、図４及び図５を参照するとわかるように、長手方向をＹ軸方向とする直方体状の部材であり、＋Ｙ側から−Ｙ側に貫通する４つの開口部６０Ａ,６０Ｂ,６０Ｃ,６０ＤがＺ軸方向及びＸ軸方向にそれぞれ隣接した状態で形成されている。そして、開口部６０Ａ〜６０Ｄそれぞれの上下に対向する一対の対向面のうち、上側の面には長手方向をＹ軸方向とする磁石ユニット６１Ａ，６３ＡがＸ軸方向に隣接してそれぞれ固定され、下側の面には長手方向をＹ軸方向とする磁石ユニット６１Ｂ，６３ＢがＸ軸方向に隣接してそれぞれ固定されている。【００３５】
微動ステージＷＦＳは、４つの開口部６０Ａ〜６０Ｄそれぞれに、ガイド５４が挿入された状態で粗動ステージＷＲＳに対して装着されている。また、粗動ステージＷＲＳに装着された微動ステージＷＦＳの自重は、支持装置（自重キャンセラ）６０によって粗動ステージＷＲＳのベース部５１の上面に支持されている。これにより、４本のガイド５４と、磁石ユニット６１Ａ，６１Ｂ，６３Ａ，６３Ｂそれぞれとが機械的に干渉しないようになっている。【００３６】
ウエハテーブル４２は、平面視が略正方形の板状部材から成り、下面が微動ステージＷＦＳの上面に固定され、上面には例えば不図示のウエハホルダを介してウエハＷが静電吸着又は真空吸着される。また、ウエハテーブル４２の上面には、不図示の基準マーク板が、その表面がウエハＷと同一高さとなる状態で固定されている。この基準マーク板の表面には、少なくとも一対のレチクルアライメント用の第１基準マークと、これらの第１基準マークに対して既知の位置関係にあるオフアクシスアライメント系のベースライン計測用の第２基準マークなどが形成されている。さらに、ウエハテーブル４２の＋Ｙ側の側面、及び−Ｘ側の側面には、鏡面加工によって反射面がそれぞれ形成されている。【００３７】
上述のように粗動ステージＷＲＳに微動ステージＷＦＳが装着されたときには、例えば図４に示されるように、ガイド５４の上方に磁石ユニット６１Ａ,６３Ａがそれぞれ位置し、ガイド５４の下方に磁石ユニット６１Ｂ，６３Ｂがそれぞれ位置している。また、この状態のときには、図７（Ａ）及び図７（Ｂ）に示されるように、磁石ユニット６１Ａ，６１Ｂは、ガイド５４の内部に配置された固定子コイル５５を介して対向した状態となっている。そして、図７（Ｂ）に示されるように、磁石ユニット６３Ａ，６３Ｂは、ガイド５４の内部に配置された固定子コイル５６を介して対向した状態となっている。【００３８】
磁石ユニット６１Ａ，６１Ｂそれぞれは、上面側（＋Ｚ側）がＮ極である複数の永久磁石６２Ｎ、及び下面側（−Ｚ側）がＳ極である複数の永久磁石６２Ｓを有している。磁石ユニット６１Ａ，６１Ｂそれぞれにおいて、複数の永久磁石６２Ｎと永久磁石６２Ｓとは、Ｙ軸方向に交互に、且つ等間隔で配列されている。また、磁石ユニット６１Ａの有する永久磁石６２Ｎは、磁石ユニット６１Ｂの有する永久磁石６２Ｓに対向して配置され、磁石ユニット６１Ａの有する永久磁石６２Ｓは、磁石ユニット６１Ｂの有する永久磁石６２Ｎに対向して配置されている。これにより、磁石ユニット６１Ａと磁石ユニット６１Ｂに挟まれた空間には、Ｙ軸方向に相互に向きが反対の磁界がＹ軸方向に等間隔で形成される。【００３９】
また、磁石ユニット６１Ａでは、図７（Ａ）に示されるように、例えば磁石ユニット６１Ａが有する複数の永久磁石のうちの一つの永久磁石６２Ｎの直下に固定子コイル５５２の中心が配置された状態で、この永久磁石６２Ｎに対して＋Ｙ方向に隣接する一組の永久磁石６２Ｎ，６２Ｓがそれぞれ固定子コイル５５１の上部巻線５５ａの上方に配置され、且つ−Ｙ方向に隣接する一組の永久磁石６２Ｓ，６２Ｎがそれぞれ固定コイル５５３の上部巻線５５ａの上方に配置されるように、隣接する永久磁石６２Ｎ，６２Ｓの間隔が設定されている。磁石ユニット６１Ｂが有する複数の永久磁石６２Ｎ，６２Ｓの間隔も、磁石ユニット６１Ａが有する複数の永久磁石６２Ｎ，６２Ｓの間隔と同様に設定されている。【００４０】
したがって、一例として図８（Ａ）に示される固定子コイル５５２のように、中心の位置が永久磁石６２Ｎの直下に位置する固定子コイル５５の上部巻線５５ａに−Ｚ方向から見て右回りの電流が供給されると、固定子コイル５５の上方にＮ極が形成され、また、下部巻線５５ｂに−Ｚ方向から見て左回りの電流が供給されると固定子コイル５５の下方にＮ極が形成される。これにより、固定子コイル５５と磁石ユニット６１Ａとの間に吸引力が発生し、固定子コイル５５と磁石ユニット６１Ｂとの間に反発力（斥力）が発生する。この力は微動ステージＷＦＳに対して下向きの推力として作用するため、微動ステージＷＦＳを粗動ステージＷＲＳに対して下方（−Ｚ方向）に相対移動させることができる。【００４１】
同様に中心の位置が永久磁石６２Ｎの直下に位置する固定子コイル５５の上部巻線５５ａに−Ｚ方向から見て左回りの電流が供給されると、固定子コイル５５の上方にＳ極が形成され、また、下部巻線５５ｂに−Ｚ方向から見て右回りの電流が供給されると、固定子コイル５５の下方にＳ極が形成される。これにより、固定子コイル５５と磁石ユニット６１Ａとの間に反発力が発生し、固定子コイル５５と磁石ユニット６１Ｂとの間に吸引力が発生する。この力は微動ステージＷＦＳに対して上向きの推力として作用するため、微動ステージＷＦＳを粗動ステージＷＲＳに対して上方（＋Ｚ方向）に相対移動させることができる。【００４２】
また、一例として図８（Ｂ）に示される固定子コイル５５１，５５３のように、各巻線５５ａ，５５ｂそれぞれが永久磁石６２Ｓ、６２Ｎの直下に位置する固定子コイル５５の各巻線５５ａ，５５ｂに、それぞれ−Ｚ方向から見て右回りの電流が供給されると、各巻線５５ａ,５５ｂに−Ｙ方向の力（ローレンツ力）が作用し、その反作用として永久磁石６２に＋Ｙ方向の力が作用する。永久磁石６２に作用する力は微動ステージＷＦＳに対して＋Ｙ方向の推力として作用するため、微動ステージＷＦＳを粗動ステージＷＲＳに対して＋Ｙ方向に相対移動させることができる。【００４３】
同様に各巻線５５ａ，５５ｂそれぞれが永久磁石６２Ｓ、６２Ｎの直下に位置する固定子コイル５５の各巻線５５ａ，５５ｂに、それぞれ−Ｚ方向から見て左回りの電流が供給されると、各巻線５５ａ,５５ｂに＋Ｙ方向の力が作用し、その反作用として永久磁石６２に−Ｙ方向の力が作用する。永久磁石６２に作用する力は微動ステージＷＦＳに対して−Ｙ方向の推力として作用するため、微動ステージＷＦＳを粗動ステージＷＲＳに対して−Ｙ方向に相対移動させることができる。【００４４】
また、磁石ユニット６３Ａ，６３Ｂそれぞれは、図７（Ｂ）を参照するとわかるように、Ｘ軸方向に関して所定間隔で配置された一組の永久磁石６４（６４Ｓ、６４Ｎ）を有している。一組の永久磁石６４それぞれのうち、−Ｘ側の永久磁石は、それぞれ上面側（＋Ｚ側）がＳ極となっており、＋Ｘ側の永久磁石は、それぞれ上面側（−Ｚ側）がＮ極となっている。以下、上面側がＳ極となった永久磁石６４を永久磁石６４Ｓと表し、上面側がＮ極となった永久磁石６４を永久磁石６４Ｎと表す。これにより、一対の永久磁石６４Ｓに挟まれた空間には、下向きの磁界が形成され、一対の永久磁石６４Ｎに挟まれた空間には、上向きの磁界が形成される。一対の永久磁石６４Ｓは、固定子コイル５６の−Ｘ側の端部の上方、及び下方にそれぞれ配置され、一対の永久磁石６４Ｎは、固定子コイル５６の＋Ｘ側の端部の上方、及び下方にそれぞれ配置されている。【００４５】
したがって、一例として図９に示されるように、固定子コイル５６に−Ｚ方向から見て右回りの電流が供給されると、固定子コイル５６に＋Ｘ方向の力（ローレンツ力）が作用し、その反作用として永久磁石６４（６４Ｓ、６４Ｎ）に−Ｘ方向の力が作用する。永久磁石６４に作用する力は微動ステージＷＦＳに対して−Ｘ方向の推力として作用するため、微動ステージＷＦＳを粗動ステージＷＲＳに対して−Ｘ方向に相対移動させることができる。【００４６】
同様に、固定子コイル５６に−Ｚ方向から見て左回りの電流が供給されると、固定子コイル５６に−Ｘ方向の力が作用し、その反作用として永久磁石６４に＋Ｘ方向の力が作用する。永久磁石６４に作用する力は微動ステージＷＦＳに対して＋Ｘ方向の推力として作用するため、微動ステージＷＦＳを粗動ステージＷＲＳに対して＋Ｘ方向に相対移動させることができる。【００４７】
以上の説明から明らかなように、本実施形態のウエハステージ装置１００では、ベース３０に固定された磁石ユニット３２と、粗動ステージＷＲＳに固定された電機子ユニット５８とで、ウエハステージＷＳＴをＸＹ平面内で駆動するＸＹ駆動系（平面モータ）ＸＹＭ（図１０参照）が構成されている。また、本実施形態のウエハステージＷＳＴでは、微動ステージＷＦＳの開口部６０Ａ〜６０Ｄそれぞれに挿入されたガイド５４に固定されたコイル５５と、開口部６０Ａ〜６０Ｄを規定する一対の対向面それぞれに固定された磁石ユニット６１Ａ，６１Ｂとで、微動ステージＷＦＳを粗動ステージＷＲＳに対してＹ軸方向及びＺ軸方向に相対移動する４つのＹＺ駆動系ＹＺ１，ＹＺ２，ＹＺ３，ＹＺ４（各々図１０参照）が構成されている。また、微動ステージＷＦＳの開口部６０Ａ〜６０Ｄそれぞれに挿入されたガイド５４に固定されたコイル５６と、開口部６０Ａ〜６０Ｄを規定する一対の対向面それぞれに固定された磁石ユニット６３Ａ，６３Ｂとで、微動ステージＷＦＳを粗動ステージＷＲＳに対してＸ軸方向に相対移動する４つのＸ駆動系Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３，Ｘ４（各々図１０参照）が構成されている。【００４８】
これにより、ウエハステージ装置１００では、ＹＺ駆動系ＹＺ１〜ＹＺ４のうちの一部と他部とに互いに異なる推力を発生させることで、微動ステージＷＦＳを、Ｚ軸及び／又はＹ軸回りに回転させることができる。具体的に説明すると、ＹＺ駆動系ＹＺ１（及び／又はＹＺ駆動系ＹＺ２）と、ＹＺ駆動系ＹＺ３（及び／又はＹＺ駆動系ＹＺ４）との間で、大きさが異なるＹ軸方向の推力を微動ステージＷＦＳに作用させることで、微動ステージＷＦＳをＺ軸回りに回転させることができる。また、ＹＺ駆動系ＹＺ１（及び／又はＹＺ駆動系ＹＺ３）と、ＹＺ駆動系ＹＺ２（及び／又はＹＺ駆動系ＹＺ４）との間で、大きさが異なるＹ軸方向の推力を微動ステージＷＦＳに作用させることで、微動ステージＷＦＳをＸ軸回りに回転させることができる。また、ウエハステージ装置１００では、Ｘ駆動系Ｘ１〜Ｘ４のうちの一部と他部とに互いに異なる推力を発生させることで、微動ステージＷＦＳを、Ｙ軸回りに回転させることができる。具体的に説明すると、Ｘ駆動系Ｘ１（及び／又はＸ駆動系Ｘ３）と、Ｘ駆動系Ｘ２（及び／又はＸ駆動系Ｘ４）との間で、大きさが異なるＸ軸方向の推力を微動ステージＷＦＳに作用させることで、微動ステージＷＦＳをＹ軸回りに回転させることができる。【００４９】
図１に戻り、ウエハステージＷＳＴのＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転情報も含む）は、ウエハテーブル４２（図３参照）の側面にレーザビームを照射するウエハレーザ干渉計（以下、「ウエハ干渉計」という）１８Ｗによって、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時求めることが可能である。なお、ウエハ干渉計１８Ｗは、Ｘ軸方向位置計測用のものとＹ軸方向位置計測用のものとを含むが、図１ではこれらが代表的にウエハ干渉計１８Ｗとして図示されている。また、Ｘ軸方向位置計測用のレーザ干渉計及びＹ軸方向位置計測用のレーザ干渉計は、ともに測長軸を複数有する多軸干渉計であり、ウエハテーブル４２のＸ、Ｙ位置情報の他、回転情報（ヨーイング量情報（θｚ方向の回転情報）、ピッチング量情報（θｘ方向の回転情報）、ローリング量情報（θｙ方向の回転情報））も求めることができる。【００５０】
ウエハステージＷＳＴに保持されたウエハＷ表面のＺ軸方向の位置情報及び傾斜量は、投影ユニットＰＵの鏡筒４０に図示しない保持装置を介して取り付けられた、前述のレチクルフォーカスセンサと同様の、例えば米国特許第５，４４８，３３２号明細書に詳細に開示されているウエハフォーカスセンサＷＦ（図１０参照）によって求めることができる。【００５１】
ウエハテーブル４２及びウエハＷに関する位置情報（又は速度情報）は、主制御装置１１に送られ、主制御装置１１は、これらの位置情報（又は速度情報）に基づいて、ＸＹ駆動系ＸＹＭ、４つのＹＺ駆動系ＹＺ１〜ＹＺ４、４つのＸ駆動系Ｘ１〜Ｘ４を介して粗動ステージＷＲＳ及び微動ステージＷＦＳの位置（又は速度）制御を行う。【００５２】
ここで、ウエハステージＷＳＴがベース３０の上面で、ＸＹ駆動系ＸＹＭによって、加速及び減速される際には、ベース３０の磁石ユニット３２と、ウエハステージＷＳＴの電機子ユニット５８との間に電磁力が作用する。例えば図１１に示されるように、ウエハステージＷＳＴに＋Ｙ方向の推力Ｆを作用させた場合には、磁石ユニット３２には−Ｙ方向に推力Ｆの反力Ｆ’が作用する。そして、この反力Ｆ’によって、ウエハステージＷＳＴ、ベース３０、磁石ユニット３２等を含む系（以下、ウエハ駆動系と略述する）には、例えば、その系の重心を通りＸ軸に平行な軸Ｓ回りに、反力Ｆ’に軸Ｓから反力Ｆ’の作用する点までのＺ軸方向の距離Ｄを乗じた大きさのトルク（ピッチングモーメント）が働く。【００５３】
複数のカウンタマス装置３５それぞれは、ベース３０とウエハステージＷＳＴとを含む系の重心を中心に生じるトルクをキャンセルする方向の力を、ベース３０に作用させるためのものである。カウンタマス装置３５は、図１に示されるように、例えばベース３０下面の−Ｙ側端部及び＋Ｙ側端部にそれぞれ配置されており、ベース３０下面に長手方向をＺ軸方向として固定されたリニアガイド３５ａと、該リニアガイド３５ａに沿ってＺ軸方向に移動可能な環状のカウンタマス３５ｂとを有している。【００５４】
リニアガイド３５ａには、例えばその内部に複数の電機子コイルがＺ軸方向に配置されている。また、環状のカウンタマス３５ｂは、リニアガイド３５ａが挿入された状態でリニアガイド３５ａに取り付けられ、カウンタマス３５ｂに配置された永久磁石がリニアガイド３５ａに対向するようになっている。すなわち、カウンタマス３５ｂの永久磁石と、リニアガイド３５ａの電機子コイルとで、カウンタマス３５ｂをＺ軸方向へ移動させるリニアモータが構成され、主制御装置１１（図１０参照）は、リニアガイド３５ａの電機子コイルに供給する電流を制御することで、カウンタマス３５ｂをリニアガイド３５ａに沿って昇降させることができるようになっている。【００５５】
本実施形態では、主制御装置１１は、ウエハステージＷＳＴに推力を作用させることにより、ウエハステージＷＳＴの加速及び減速を行う際に、上述のようにウエハ駆動系に働くトルクをキャンセルするように、カウンタマス装置３５のカウンタマス３５ｂをリニアガイド３５ａに沿って移動させる。具体的には、主制御装置１１は、図１１に示されるように、カウンタマス３５ｂに推力ｆを作用させることによって、リニアガイド３５ａに推力ｆの反力ｆ’を作用させる。【００５６】
これによって、ウエハ駆動系には、反力ｆ’に反力ｆ’の作用点から軸ＳまでのＹ軸方向の距離Ｌを乗じたトルクが働く。このトルクは、ウエハ駆動系の軸Ｓ回りに働き、カウンタマス３５ｂの質量をＭ、加速度をａとすると、次式（１）で示される。
ｆ’・Ｌ＝Ｍ・ａ・Ｌ…（１）【００５７】
したがって、主制御装置１１は、次式（２）で示される大きさの加速度ａをもって、カウンタマス３５ｂをリニアガイド３５ａに沿って移動させる。これによって、ウエハステージＷＳＴの駆動時に軸Ｓ回りに生じるトルクと、カウンタマス３５ｂの駆動時に生じるトルクとが相殺される。
ａ＝Ｆ’・Ｄ／（Ｍ・Ｌ）…（２）【００５８】
推力Ｆは、ＸＹ駆動系ＸＹＭに送られる駆動信号等にその情報を盛り込んでおけば該駆動系を駆動する前に既知となるので、その反力Ｆ’を予測することも可能である。したがって、所定の推力Ｆを決めれば上記加速度ａを求めることができ、カウンタマス３５の駆動をフィードフォワードで制御することが可能である。ただし、これに限定されるものではなく、例えば、反力Ｆ’をセンサ等で直接検出して上記加速度ａを求めることで、カウンタマス３５の駆動をフィードバック制御するようにしてもよい。これにより、推力Ｆと反力Ｆ’の対応が、外乱等によって所定の関係を満たさない場合等でもウエハ駆動系の軸Ｓ回りに生じるトルクを相殺することが可能となる。なお、上記外乱を防振装置３４によって抑制することも可能であり、主制御装置１１は、防振装置３４とカウンタマス装置３５とを適宜制御して前記外乱の影響を受けないようにウエハ駆動系の軸Ｓ回りに生じるトルクをキャンセルようにしてもよい。【００５９】
なお、ここでは説明の便宜上、図１１に示されるように、１つのカウンタマス装置３５を用いて、ウエハステージＷＳＴの駆動時にウエハ駆動系の軸Ｓ回りに生じるトルクをキャンセルする場合について説明したが、２つのカウンタマス装置３５を用いて、ウエハ駆動系の軸Ｓ回りに生じるトルクをキャンセルしてもよい。この場合には、２つのカウンタマス装置３５を駆動することによって、ウエハ駆動系の軸Ｓ回りに作用するトルクの大きさが、ウエハステージＷＳＴの駆動時に軸Ｓ回りに生じるトルクの大きさと等しくなるように、各カウンタマス３５ｂを駆動すればよい。また、カウンタマス装置３５を３つ以上設けるように構成してもよい。【００６０】
本実施形態では、カウンタマス装置３５は、ＸＹ面内において支持台３７に固定されていたが、それに限定されるものでもない。例えば、カウンタマス装置３５が支持台３７に対してＸＹ方向に移動できるようにしてもよい。そして、ＸＹ駆動系ＸＹＭの反力Ｆ’が支持台３７に作用する位置に応じて、カウンタマス装置３５が発生させる反力ｆ’が支持台３７に作用する位置が変わるようにしてもよい。この場合、両反力の作用位置がなるべく近接するようにカウンタマス装置３５の位置を制御することもできる。【００６１】
図１０は、本実施形態の露光装置１０のステージ制御に関連する制御系を一部省略して示すブロック図である。図１０に示される制御系は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）、ＲＯＭ（リード・オンリ・メモリ）、ＲＡＭ（ランダム・アクセス・メモリ）等から成るいわゆるマイクロコンピュータ（又はワークステーション）を含み、装置全体を統括して制御する主制御装置１１を中心として構成されている。【００６２】
また、露光装置１０は、図１に示されるように、投影ユニットＰＵの近傍に、オフアクシス方式のアライメント系ＡＬＧを有している。このアライメント系ＡＬＧとしては、例えば、ウエハ上のレジストを感光させないブロードバンドな検出光束を対象マークに照射し、その対象マークからの反射光により受光面に結像された対象マークの像と不図示の指標の像とを撮像素子（ＣＣＤ）等を用いて撮像し、それらの撮像信号を出力する画像処理方式のＦＩＡ（Field Image Alignment）系のアライメントセンサが用いられている。このアライメント系ＡＬＧは、指標中心を基準とするマークの位置情報を主制御装置１１に供給する。主制御装置１１は、この供給された情報と、ウエハ干渉計１８Ｗの計測値とに基づいて、検出対象のマーク、具体的には基準マーク板上の第２基準マーク又はウエハ上のアライメントマークのウエハ干渉計１８Ｗの測長軸で規定されるステージ座標系上における位置情報を求めるようになっている。【００６３】
上記のように構成された本実施形態の露光装置１０では、まず、ウエハＷ及びレチクルＲが、それぞれウエハステージＷＳＴ及びレチクルステージＲＳＴ上にロードされ、レチクルアライメント及びベースライン計測、並びにウエハアライメント（例えばＥＧＡ（エンハンスト・グローバル・アライメント）等）などの所定の準備作業が行われる。その後、主制御装置１１の管理の下、ウエハＷの第１番目のショット領域に対する露光のための加速開始位置にウエハステージＷＳＴが移動されるとともに、レチクルＲの位置が加速開始位置となるように、レチクルステージＲＳＴが移動される。そして、レチクルステージＲＳＴと、ウエハステージＷＳＴとがＹ軸方向に沿って同期駆動されることで、ウエハＷ上の第１番目のショット領域に対する露光が行われる。以後、レチクル上のすべてのショット領域に対する露光が行われることで、ウエハＷの露光が完了する。【００６４】
以上に説明したように、本実施形態によると、露光動作中にウエハステージＷＳＴがベース３０上で加速及び減速を行うことに起因して、ベース３０等を含むウエハ駆動系に働くトルクと、カウンタマス装置３５のカウンタマス３５ｂが所定の加速度でリニアガイド３５ａに沿って駆動されることによりウエハ駆動系に働くトルクとが相殺される。これによって、ウエハ駆動系に働くトルクがキャンセルされ、露光装置１０では精度よくウエハＷに対する露光を行うことが可能となる。【００６５】
また、ベース３０は、床面１０２に載置された支持台３７に対して、防振装置３４を介して支持されている。したがって、ウエハステージＷＳＴ及びカウンタマス装置３５のカウンタマス３５ｂの移動に起因してウエハ駆動系に生じる振動は、支持台３７に対して絶縁される。したがって、露光装置１０を構成する照明系１２、レチクルステージＲＳＴなどに、ウエハ駆動系で生じた振動が伝搬することを回避することが可能となる。【００６６】
なお、本実施形態では、カウンタマス装置３５が、ベース３０の＋Ｙ側及び−Ｙ側端部に配置されている場合について説明したが、これに限らず、ベース３０の下面の少なくとも３カ所以上に配置されていてもよい。これにより、ウエハ駆動系に対して、上述の軸Ｓとは異なる軸回りのトルクを働かせることができる。【００６７】
また、上記実施形態では、電機子ユニット５８が粗動ステージＷＲＳ側に配置される場合について説明したが、これに限らずベース３０側に電機子ユニットが配置され、粗動ステージＷＲＳ側に磁石ユニットが配置されることとしても良い。【００６８】
また、上記実施形態では、ウエハステージを１つ有するウエハステージ装置に本発明を適用した場合について説明したが、本発明がこれに限られるものではなく、２つ以上のウエハステージを有するウエハステージ装置に本発明を適用することも可能である。【００６９】
また、上記実施形態のウエハフォーカスセンサＷＦに代えて、ウエハＷの面形状を検出する面形状検出装置を用いてもよい。この面形状検出装置としては、ウエハに対し、例えばウエハの直径より長いライン状のビームを斜入射させる照射系と、該照射系により照射されたビームの反射光を受光する検出器、例えば１次元ＣＣＤセンサ又はラインセンサなどを有する受光系を含むものが考えられる。したがって、公知の多点ＡＦ系の検出原理と同じ原理で、複数の点状の照射領域を計測点として、各計測点でのウエハのＺ位置（ウエハが移動する所定面（ＸＹ平面）と垂直なＺ軸方向に関する位置情報）を求めることができる。この場合、露光開始前に、ウエハ表面のＺ位置情報の分布を算出し、露光動作の際には、該算出結果に基づいて、微動ステージのＺ軸方向に関する位置・姿勢を制御することができる。【００７０】
また、上記実施形態では、粗動ステージＷＲＳを駆動する駆動装置として平面モータを用いることとしたが、これに限らず、リニアモータを用いることとしても良い。【００７１】
また、上記実施形態ではウエハステージ装置に本発明の移動体装置が採用された場合について説明したが、これに限らず、レチクルステージＲＳＴに本発明の移動体装置を採用することも可能である。【００７２】
また、上記実施形態では、ウエハ表面を水平面（ＸＹ平面）と平行に保持するウエハステージ装置に本発明を採用した場合について説明したが、これに限らず、ウエハ表面をＸＹ平面と直交する面にほぼ平行に保持するウエハステージ（縦型ステージ）に本発明を採用することも可能である。【００７３】
また、上記実施形態の露光装置における投影光学系の倍率は縮小系のみならず等倍および拡大系のいずれでも良いし、投影光学系ＰＬは屈折系のみならず、反射系及び反射屈折系のいずれでも良いし、その投影像は倒立像及び正立像のいずれでも良い。【００７４】
また、国際公開第２００４／５３９５５号に開示される液浸露光装置に本発明を適用することも可能である。また、上記実施形態の露光装置は、例えば国際公開第２００５／０７４０１４号などに開示されているように、ウエハステージとは別に計測ステージを備えるものでも良い。【００７５】
また、上記実施形態では、ステップ・アンド・スキャン方式等の走査型露光装置に本発明が適用された場合について説明したが、本発明の適用範囲がこれに限定されないことは勿論である。すなわちステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置、さらに、ステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置、又はプロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーなどにも、本発明は適用できる。【００７６】
露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置や、有機ＥＬ、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。【００７７】
また、照明光ＩＬは、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）に限らず、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などの紫外光や、Ｆ2レーザ光（波長１５７ｎｍ）などの真空紫外光であっても良い。例えば真空紫外光としてＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。【００７８】
また、上記実施形態では、露光装置の照明光ＩＬとしては波長１００ｎｍ以上の光に限らず、波長１００ｎｍ未満の光を用いても良いことはいうまでもない。例えば、近年、７０ｎｍ以下のパターンを露光するために、ＳＯＲやプラズマレーザを光源として、軟Ｘ線領域（例えば５〜１５ｎｍの波長域）のＥＵＶ（Extreme Ultraviolet）光を発生させるとともに、その露光波長（例えば１３．５ｎｍ）の下で設計されたオール反射縮小光学系、及び反射型マスクを用いたＥＵＶ露光装置の開発が行われている。この装置においては、円弧照明を用いてマスクとウエハを同期走査してスキャン露光する構成が考えられるので、かかる装置にも本発明を適用することができる。この他、電子線又はイオンビームなどの荷電粒子線を用いる露光装置にも本発明を適用できる。【００７９】
また、上記実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスク（レチクル）を用いたが、このレチクルに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターンまたは反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（又は可変成形マスク、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器とも呼ばれる）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）などを含む）を用いても良い。かかる可変成形マスクを用いる場合には、前述のアライメントマークの検出結果を考慮して、ウエハ上の複数の区画領域のうち、アライメントマーク検出時に露光していたショット領域より後に露光が行われる少なくとも一つの別のショット領域の露光の際に、電子データに基づいて形成すべき、透過パターン又は反射パターンを変化させることで、ウエハとパターン像との相対位置制御を行っても良い。【００８０】
また、半導体デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、前述した調整方法によりパターンの転写特性が調整される上記実施形態の露光装置で、マスクに形成されたパターンを感光物体上に転写するリソグラフィステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、パターンの転写特性が調整される上記実施形態の露光装置が用いられるので、高集積度のデバイスの生産性を向上することが可能である。
【産業上の利用可能性】
【００８１】
以上説明したように、本発明の移動体装置は、ガイド面を有するベース上で移動体を駆動するのに適している。また、本発明の露光装置は、物体を露光してパターンを形成するのに適している。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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