(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
波長が７８０ｎｍよりも大きく且つ２０００ｎｍ以下となる赤外線帯域の光が透過する赤外線透過フィルムであって、
３８０ｎｍ以下となる平均間隔で配列された微小突起によって形成された凹凸面を有する凹凸構造層と、
前記凹凸構造層の前記凹凸面上に設けられ、前記凹凸面の凹凸に沿って延びる金属薄膜と、を備え、
前記赤外線透過フィルムの法線方向に沿って入射する波長が７８０ｎｍよりも大きく２０００ｎｍ以下の赤外線帯域の光の最大透過率が、当該赤外線透過フィルムの法線方向に沿って入射する波長が３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の可視光線帯域の光の最大透過率よりも、大きい、赤外線透過フィルム。
【請求項２】
前記赤外線透過フィルムの法線方向に沿って入射する波長が７８０ｎｍよりも大きく２０００ｎｍ以下の赤外線帯域の光の最小透過率が、当該赤外線透過フィルムの法線方向に沿って入射する波長が３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の可視光線帯域の光の最大透過率よりも、大きい、請求項１に記載の赤外線透過フィルム。
【請求項３】
前記金属薄膜は、スパッタリング法または蒸着法により形成されたアルミニウム、アルミニウム合金、銀、または、銀合金からなる膜である、請求項１または２に記載の赤外線透過フィルム。
【請求項４】
前記金属薄膜は、前記凹凸構造層の前記凹凸面が平坦面であったと仮定した場合にスパッタリング法または蒸着法を用いて形成される膜の厚みが３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下となる量のアルミニウム、アルミニウム合金、銀、または、銀合金からなる膜である、請求項３に記載の赤外線透過フィルム。
【請求項５】
前記金属薄膜は、前記凹凸構造層の前記凹凸面が平坦面であったと仮定した場合にスパッタリング法を用いて形成される膜の厚みが３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下となる量のアルミニウム又はアルミニウム合金からなる膜である、請求項３に記載の赤外線透過フィルム。
【請求項６】
前記凹凸構造層が、複数の頂部を有する微小突起を含んでいる、請求項１〜５のいずれか一項に記載の赤外線透過フィルム。
【請求項７】
波長が７８０ｎｍよりも大きく且つ２０００ｎｍ以下となる赤外線帯域の光が透過する赤外線透過フィルムの製造方法であって、
３８０ｎｍ以下となる平均間隔で配列された微小突起によって形成された凹凸面を有する凹凸構造層を形成する工程と、
前記凹凸構造層の前記凹凸面上に、前記凹凸面の凹凸に沿って延びる金属薄膜を形成する工程と、を備え、
得られた赤外線透過フィルムの法線方向に沿って入射する波長が７８０ｎｍよりも大きく２０００ｎｍ以下の赤外線帯域の光の最大透過率が、当該赤外線透過フィルムの法線方向に沿って入射する波長が３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の可視光線帯域の光の最大透過率よりも、大きくなる、赤外線透過フィルムの製造方法。
【請求項８】
得られた赤外線透過フィルムの法線方向に沿って入射する波長が７８０ｎｍよりも大きく２０００ｎｍ以下の赤外線帯域の光の最小透過率が、当該赤外線透過フィルムの法線方向に沿って入射する波長が３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の可視光線帯域の光の最大透過率よりも、大きくなる、請求項７に記載の赤外線透過フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記金属薄膜は、スパッタリング法または蒸着法を用いて、アルミニウム、アルミニウム合金、銀、または、銀合金から形成される、請求項７または８に記載の赤外線透過フィルムの製造方法。
【請求項１０】
前記金属薄膜は、前記凹凸構造層の前記凹凸面が平坦面であったと仮定した場合に厚みが３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下となるように、スパッタリング法または蒸着法を用いて、アルミニウム、アルミニウム合金、銀、または、銀合金から形成される、請求項９に記載の赤外線透過フィルムの製造方法。
【請求項１１】
前記金属薄膜は、前記凹凸構造層の前記凹凸面が平坦面であったと仮定した場合に厚みが３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下となるように、スパッタリング法を用いて、アルミニウム又はアルミニウム合金から形成される、請求項９に記載の赤外線透過フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、波長が７８０ｎｍよりも大きく且つ２０００ｎｍ以下となる赤外線帯域の光が高い透過率で透過する赤外線透過フィルム、及び、この赤外線透過フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、特許文献１に開示されているように、赤外線域の光を選択的に透過させる膜が知られている。特許文献１に開示された膜は、誘電多層膜として形成され、赤外線域の光を選択的に、すなわち、赤外線域以外の光よりも高い透過率で透過させることができる。また今般普及している赤外線選択透過性を有したフィルムとして、ゼラチンフィルターも知られている。しかしながら、赤外線選択透過性を有した従来のフィルムは、赤外線に対して優れた選択透過性を示すことができるが、コストや取り扱い性の面において十分とは言えない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−１６５４９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、微小突起によって形成された凹凸面を有する凹凸構造層が、いわゆるモスアイ構造体として、反射防止機能を発現することが知られている。そして、本件発明者は鋭意研究を重ねた結果として、微小突起によって形成された凹凸面上に金属薄膜を形成することにより、可視光線帯域の光よりも赤外線域の光を高い透過率で透過させるといった作用効果が奏されることを知見した。このような作用効果は、従来のモスアイ構造体の作用効果から予測され得ないものであり、且つ、樹脂フィルムの平坦面上に金属薄膜を成膜した場合、一般に、長波長域の光の透過率がより大きく低下する傾向があることからしても、従来の技術水準から予測される範囲を超えた顕著な作用効果であると言える。すなわち、本発明は、本件発明者による以上の知見に基づくものであり、赤外線透過フィルム及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明による赤外線透過フィルムは、
波長が７８０ｎｍよりも大きく且つ２０００ｎｍ以下となる赤外線帯域の光が透過する赤外線透過フィルムであって、
３８０ｎｍ以下となる平均間隔で配列された微小突起によって形成された凹凸面を有する凹凸構造層と、
前記凹凸構造層の前記凹凸面上に設けられ、前記凹凸面の凹凸に沿って延びる金属薄膜と、を備え、
前記赤外線透過フィルムの法線方向に沿って入射する波長が７８０ｎｍよりも大きく２０００ｎｍ以下の赤外線帯域の光の最大透過率が、当該赤外線透過フィルムの法線方向に沿って入射する波長が３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の可視光線帯域の光の最大透過率よりも、大きい。
【０００６】
本発明による赤外線透過フィルムにおいて、前記赤外線透過フィルムの法線方向に沿って入射する波長が７８０ｎｍよりも大きく２０００ｎｍ以下の赤外線帯域の光の最小透過率が、当該赤外線透過フィルムの法線方向に沿って入射する波長が３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の可視光線帯域の光の最大透過率よりも、大きくなっていてもよい。
【０００７】
本発明による赤外線透過フィルムにおいて、前記金属薄膜は、スパッタリング法または蒸着法により形成されたアルミニウム、アルミニウム合金、銀、または、銀合金からなる膜であってもよい。
【０００８】
本発明による赤外線透過フィルムにおいて、前記金属薄膜は、前記凹凸構造層の前記凹凸面が平坦面であったと仮定した場合にスパッタリング法または蒸着法を用いて形成される膜の厚みが３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下となる量のアルミニウム、アルミニウム合金、銀、または、銀合金からなる膜であってもよい。
【０００９】
本発明による赤外線透過フィルムにおいて、前記金属薄膜は、前記凹凸構造層の前記凹凸面が平坦面であったと仮定した場合にスパッタリング法を用いて形成される膜の厚みが３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下となる量のアルミニウム又はアルミニウム合金からなる膜であってもよい。
【００１０】
本発明による赤外線透過フィルムにおいて、前記凹凸構造層が、複数の頂部を有する微小突起を含んでいてもよい。
【００１１】
本発明による赤外線透過フィルムの製造方法は、
波長が７８０ｎｍよりも大きく且つ２０００ｎｍ以下となる赤外線帯域の光が透過する赤外線透過フィルムの製造方法であって、
３８０ｎｍ以下となる平均間隔で配列された微小突起によって形成された凹凸面を有する凹凸構造層を形成する工程と、
前記凹凸構造層の前記凹凸面上に、前記凹凸面の凹凸に沿って延びる金属薄膜を形成する工程と、を備え、
得られた赤外線透過フィルムの法線方向に沿って入射する波長が７８０ｎｍよりも大きく２０００ｎｍ以下の赤外線帯域の光の最大透過率が、当該赤外線透過フィルムの法線方向に沿って入射する波長が３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の可視光線帯域の光の最大透過率よりも、大きくなる。
【００１２】
本発明による赤外線透過フィルムの製造方法において、得られた赤外線透過フィルムの法線方向に沿って入射する波長が７８０ｎｍよりも大きく２０００ｎｍ以下の赤外線帯域の光の最小透過率が、当該赤外線透過フィルムの法線方向に沿って入射する波長が３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の可視光線帯域の光の最大透過率よりも、大きくなるようにしてもよい。
【００１３】
本発明による赤外線透過フィルムの製造方法において、前記金属薄膜は、スパッタリング法または蒸着法を用いて、アルミニウム、アルミニウム合金、銀、または、銀合金から形成されるようにしてもよい。
【００１４】
本発明による赤外線透過フィルムの製造方法において、前記金属薄膜は、前記凹凸構造層の前記凹凸面が平坦面であったと仮定した場合に厚みが３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下となるように、スパッタリング法または蒸着法を用いて、アルミニウム、アルミニウム合金、銀、または、銀合金から形成されるようにしてもよい。
【００１５】
本発明による赤外線透過フィルムの製造方法において、前記金属薄膜は、前記凹凸構造層の前記凹凸面が平坦面であったと仮定した場合に厚みが３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下となるように、スパッタリング法を用いて、アルミニウム又はアルミニウム合金から形成されるようにしてもよい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、従来とは異なる構成の赤外線透過フィルムが提供される。この赤外線透過フィルムは、製造コスト面や取り扱い性においても優れている。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、本発明による一実施の形態を説明するための図であって、赤外線透過フィルムを当該赤外線透過フィルムのフィルム面への法線方向に沿った断面にて示す断面図である。
【図２】図２は、図１の赤外線透過フィルムの凹凸構造層を示す斜視図である。
【図３】図３は、凹凸構造層の凹凸面の一例を示す平面写真である。
【図４】図４は、凹凸構造層の凹凸面の一例を示す平面写真である。
【図５】図５は、凹凸構造層の凹凸面の一例を示す平面写真である。
【図６】図６は、図３〜５の凹凸構造層の凹凸面について、隣接する微小突起の間隔の分布を調査した結果を示すグラフである。
【図７】図７は、図３〜５の凹凸構造層の凹凸面について、微小突起の高さの分布を調査した結果を示すグラフである。
【図８】図８は、凹凸構造層の製造方法の一例を説明するための図である。
【図９】図９は、図８の製造方法で用いられるロール版を示す斜視図である。
【図１０】図１０は、図９のロール版を製造する方法を説明するための図である。
【図１１】図１１（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ、凹凸構造層の凹凸面の他の例を示す断面図、斜視図、上面図である。
【図１２】図１２（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ、凹凸構造層の凹凸面の他の例を示す平面写真である。
【図１３】図１３は、凹凸構造層の凹凸面のさらに他の例を示す断面図である。
【図１４】図１４は、赤外線透過フィルム又はその他のフィルムに入射する光についての透過率のスペクトル分布を示すグラフである。
【図１５】図１５は、赤外線透過フィルム又はその他のフィルムに入射する光についての透過率のスペクトル分布を示すグラフである。
【図１６】図１６は、赤外線透過フィルムのサンプルＡ２を示す断面写真である。
【図１７】図１７は、赤外線透過フィルムのサンプルＡ３を示す断面写真である。
【図１８】図１８は、赤外線透過フィルムのサンプルＡ４を示す断面写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する写真以外の図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
【００１９】
なお、本明細書において、「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「フィルム」は板やシートと呼ばれ得るような部材も含む概念であり、したがって、「赤外線透過フィルム」は、「赤外線透過板」や「赤外線透過シート」と呼ばれる部材と呼称の違いのみにおいて区別され得ない。
【００２０】
また、「フィルム面（板面、シート面）」とは、対象となるフィルム状（板状、シート状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となるフィルム状部材（板状部材、シート状部材）の平面方向と一致する面のことを指す。
【００２１】
さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。
【００２２】
＜＜赤外線透過フィルム＞＞
ここで説明する赤外線透過フィルム１０は、凹凸面２１を有する凹凸構造層２０と、凹凸構造層２０の凹凸面２１上に設けられた金属薄膜３０と、を有している。凹凸構造層２０の凹凸面２１は、可視光線帯域の最短波長以下の間隔で配列された微小突起２２によって形成されている。凹凸面２１上に設けられた金属薄膜３０は、凹凸面２１の凹凸に沿って延びている。赤外線透過フィルム１０の一方の側の面は金属薄膜３０によって形成され、この赤外線透過フィルム１０の一方の側の面は、凹凸構造層２０の凹凸面２１の凹凸に起因した凹凸を有する凹凸面１１として形成されている。図１及び図２に示された赤外線透過フィルム１０は、透明基材１５をさらに有している。透明基材１５は、金属薄膜３０を支持している。
【００２３】
ここで説明する赤外線透過フィルム１０は、赤外線選択透過性を有しており、赤外線域の光を多の波長帯域の光と比較してより積極的に透過させる。具体的には、赤外線透過フィルム１０のフィルム面への法線方向ｎｄに沿って入射する波長が７８０ｎｍよりも大きく２０００ｎｍ以下の赤外線帯域の光の最大透過率が、当該赤外線透過フィルム１０のフィルム面への法線方向ｎｄに沿って入射する波長が３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の可視光線帯域の光の最大透過率よりも、大きくなる。より好ましくは、赤外線透過フィルム１０のフィルム面への法線方向ｎｄに沿って入射する波長が７８０ｎｍよりも大きく２０００ｎｍ以下の赤外線帯域の光の最小透過率が、当該赤外線透過フィルムのフィルム面への法線方向ｎｄに沿って入射する波長が３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の可視光線帯域の光の最大透過率よりも、大きくなっている。ここで、赤外線透過フィルム１０の透過率は、ＪＩＳＫ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
【００２４】
以下、赤外線透過フィルム１０の各構成について説明し、その後、赤外線透過フィルム１０の特性について実験データを参照しながら更に詳述する。
【００２５】
＜透明基材＞
透明基材１５としては、透明導電フィルムに用いられる公知の透明基材を適宜選択して用いることができ、特に限定されない。透明基材１５に用いられる材料としては、例えば、透明樹脂が挙げられる。透明樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマ一等を挙げることができる。また、透明基材１５に用いられる材料としては、例えばソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、ＰＬＺＴ等のセラミックス、石英、蛍石等の各種透明無機材料等も挙げられる。
【００２６】
透明基材１５は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、透明基材の透過率は、ＪＩＳＫ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
【００２７】
透明基材１５の厚みは、赤外線透過フィルム１０の用途に応じて適宜設定することができ、特に限定されないが、通常２０〜５０００μｍであり、透明基材１５は、ロールの形で供給されるもの、巻き取れるほどには曲がらないが負荷をかけることによって湾曲するもの、完全に曲がらないもののいずれであってもよい。
【００２８】
透明基材１５の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。また、透明基材１５と凹凸構造層２０とが別の材料から形成される場合には、透明基材１５と金属薄膜３０との密着性を向上させ、ひいては耐摩耗性を向上させるためのプライマー層を透明基材１５上に形成してもよい。このプライマー層は、透明基材１５および凹凸構造層２０との双方に密着性を有し、可視光学的に透明であることが好ましい。プライマー層の材料としては、例えば、フッ素系コーティング剤及びシランカップリング剤等から適宜選択して使用することができる。フッ素系コーティング剤の市販品としては、例えば、フロロテクノロジー製のフロロサーフ  ＦＧ−５０１０Ｚ１３０等が挙げられ、前記シランカップリング剤の市販品としては、例えば、ハーベス製のデュラサーフプライマーＤＳ−ＰＣ−３Ｂ等が挙げられる。
【００２９】
＜凹凸構造層＞
上述したように、凹凸構造層２０は、可視光線帯域の最短波長としての３８０ｎｍ以下となる間隔で配列された微小突起２２によって形成された凹凸面２１を有している。ここで、微小突起２２の「微小」とは、可視光線帯域の最短波長である３８０ｎｍ以下の平均間隔ｄＡＶＧで配列される程度に微小であることを意味している。
【００３０】
図１に示すように、凹凸構造層２０が有する凹凸面２１上には後に詳述する金属薄膜３０が形成される。そして、金属薄膜３０によって形成される赤外線透過フィルム１０の一方の表面は、凹凸面２１に起因した凹凸面１１となっている。このため、最終的な赤外線透過フィルム１０に形成される凹凸面１１をなす微小突起１２が配列される平均間隔も、可視光線帯域の最短波長である３８０ｎｍ以下の間隔となる。
【００３１】
凹凸構造層２０の厚みは、特に限定されないが、一例として１０〜３００μｍとすることができる。なお、この場合の凹凸構造層２０の厚みとは、図１に示すように、凹凸構造層２０の透明基材１５側の界面から、当該凹凸構造層２０の凹凸面２１をなす微小突起２２の頂部２３までの赤外線透過フィルム１０のフィルム面への法線方向ｎｄに沿った高さｔ１を意味する。
【００３２】
凹凸構造層２０は、樹脂を含有してなる層とすることができ、更に、樹脂組成物の硬化物からなる層とすることができる。凹凸構造層２０の形成に用いられる樹脂組成物は、少なくとも樹脂を含み、必要に応じて重合開始剤等その他の成分を含有する。凹凸構造層２０の形成に用いられる樹脂としては、特に限定されないが、例えば、アクリレート系、エポキシ系、ポリエステル系等の電離放射線硬化性樹脂、アクリレート系、ウレタン系、エポキシ系、ポリシロキサン系等の熱硬化性樹脂、アクリレート系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系等の熱可塑性樹脂等の各種材料及び各種硬化形態の賦型用樹脂を使用することができる。なお、電離放射線とは、分子を重合させて硬化させ得るエネルギーを有する電磁波または荷電粒子を意味し、例えば、すべての紫外線（ＵＶ、ＵＶ−Ｂ、ＵＶ−Ｃ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線等が挙げられる。
【００３３】
凹凸構造層２０の形成に用いられる樹脂としては、微小突起２２の成形性及び機械的強度に優れる点から電離放射線硬化性樹脂が好ましい。電離放射線硬化性樹脂とは、分子中にラジカル重合性及び／又はカチオン重合性結合を有する単量体、低重合度の重合体、反応性重合体を適宜混合したものであり、重合開始剤によって硬化されるものである。なお、非反応性重合体を含有してもよい。
【００３４】
樹脂組成物は、さらに必要に応じて、重合開始剤、離型剤、光増感剤、酸化防止剤、重合禁止剤、架橋剤、赤外線吸収剤、帯電防止剤、粘度調整剤、密着性向上剤等を含有することもできる。
【００３５】
［凹凸面］
図２には、凹凸構造層２０の凹凸面２１が示されている。凹凸面２１は、可視光線帯域の最短波長としての３８０ｎｍ以下の平均間隔ｄＡＶＧで配列された微小突起２２によって形成されている。より好ましくは、凹凸構造層２０の凹凸面２１をなす微小突起２２の最大間隔ｄＭＡＸが可視光線帯域の最短波長以下となっている。このため、凹凸構造層２０の凹凸面２１は、いわゆるモスアイ構造体として、極めて優れた反射防止機能を発揮し得る程度の凹凸面となっている。また後述するように、凹凸面２１上に設けられる金属薄膜３０は、凹凸面２１の凹凸に沿って延びる薄膜として形成される、このため、金属薄膜３０によって形成される赤外線透過フィルム１０の凹凸面１１も、凹凸構造層２０の凹凸面２１をなす微小突起２２に対応して形成される微小突起１２によって形成され、凹凸構造層２０の凹凸面２１と略同一の構成を有することが可能となる。この結果、凹凸構造層２０の凹凸面２１が反射防止機能を有している場合、赤外線透過フィルム１０の凹凸面１１が、微小突起１２の配列に起因して、凹凸構造層２０の凹凸面２１と同様の反射防止機能を発揮することができる。
【００３６】
また本件発明者が鋭意実験を重ねたところ、反射防止機能を発揮し得る程度にまで高精細に形成された凹凸構造層２０によれば、当該凹凸構造層２０を用いて作製される赤外線透過フィルム１０に対して、有効な赤外線選択透過性を付与し得ることが知見された。以下、反射防止機能を発揮し得る程度に微細に形成された凹凸構造層２０の凹凸面２１の構成について詳述する。
【００３７】
反射防止機能を発揮し得る程度に微細に形成された凹凸構造層２０においては、隣接する微小突起２２の平均間隔ｄＡＶＧが、より好ましくは、隣接する微小突起２２の最大間隔ｄＭＡＸが、反射防止を図ることとなる可視光波長帯域の最短波長Λｍｉｎ以下（ｄＡＶＧ≦Λｍｉｎ、ｄＭＡＸ≦Λｍｉｎ）となるように、凹凸構造層２０に作製される微小突起２２が密接して配置される。この間隔ｄに係る隣接する微小突起２２は、いわゆる隣り合う微小突起２２であり、透明基材１５側の付け根部分である微小突起の裾の部分が接している突起である。凹凸構造層２０では微小突起２２が密接して配置されることにより、微小突起２２間の谷の部位を順次辿るようにして線分を作成すると、平面視において各微小突起を囲む多角形状領域を多数連結してなる網目状の模様が作製されることになる。間隔ｄに係る隣接する微小突起２２は、この網目状の模様を構成する一部の線分を共有する突起である。
【００３８】
なお微小突起２２に関しては、より詳細には以下のように定義される。モスアイ構造による反射防止機能では、モスアイ構造体とこれに隣接する媒質との界面における有効屈折率を、厚み方向に連続的に変化させて反射防止を図るものであることから、モスアイ構造体の突起に関しては一定の条件を満足することが必要である。この条件のうちの１つであるモスアイ構造体の突起の間隔に関して、例えば特開昭５０−７００４０号公報、特許第４６３２５８９号公報等に開示のように、微小突起が一定周期で規則正しく配置されている場合、隣接する微小突起の間隔ｄは、突起配列の周期Ｐ（ｄ＝Ｐ）となる。これにより可視光線帯域の最長波長をλＭＡＸ、最短波長をλｍｉｎとした場合、最低限、可視光線帯域の最長波長において反射防止効果を奏し得る必要最小限の条件は、Λｍｉｎ＝λＭＡＸであるため、Ｐ≦λＭＡＸとなり、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得る必要十分の条件は、Λｍｉｎ＝λｍｉｎであるため、Ｐ≦λｍｉｎとなる。
【００３９】
なお波長λＭＡＸ、λｍｉｎは、観察条件、光の強度（輝度）、個人差等にも依存して多少幅を持ち得るが、標準的には、λＭＡＸ＝７８０ｎｍ及びλｍｉｎ＝３８０ｎｍとされる。これらにより可視光線帯域の全波長に対する反射防止効果をより確実に奏し得る好ましい条件は、ｄ≦３００ｎｍであり、より好ましい条件は、ｄ≦２００ｎｍとなる。なお反射防止効果の発現及び反射率の等方性（低角度依存性）の確保等の理由から、周期ｄの下限値は、通常、ｄ≧５０ｎｍ、好ましくは、ｄ≧１００ｎｍとされる。これに対して突起の高さＨ（図２参照）は、十分な反射防止効果を発現させる観点より、Ｈ≧０．２×λＭＡＸ＝１５６ｎｍ（λＭＡＸ＝７８０ｎｍとして）とされる。
【００４０】
一方、微小突起２２が不規則に配置されている場合には、隣接する微小突起間の間隔ｄはばらつきを有することになる。より具体的には、図３に示すように、透明基材１５の表面又は裏面の法線方向から見た平面視において、微小突起が一定周期で規則正しく配列されていない場合、以下のように算定される。
【００４１】
（１）すなわち先ず、原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope;AFM）又は走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope:SEM）を用いて突起の面内配列（突起配列の平面視形状）を検出する。なお図３は、実際に原子間力顕微鏡により求められた拡大写真である。
【００４２】
（２）続いてこの求められた面内配列から各突起の高さの極大点（以下、単に極大点と呼ぶ）を検出する。なお極大点を求める方法としては、平面視形状と対応する断面形状の拡大写真とを逐次対比して極大点を求める方法、平面視拡大写真の画像処理によって極大点を求める方法、ＡＦＭから得られた微小突起群の高さデータの解析等、種々の手法を適用することができる。図４は、図３に示した拡大写真に対応した高さの面内分布データ（図３のＡＦＭ画像濃淡データとも大略対応関係は有り）の処理による極大点の検出結果を示す図であり、この図において黒点により示す個所がそれぞれ各突起の極大点である。なおこの処理では４．５×４．５画素のガウシアン特性によるローパスフィルタにより事前に高さデータを処理し、これによりノイズによる極大点の誤検出を防止した。また８画素×８画素による最大値検出用のフィルタを順次スキャンすることにより１ｎｍ（＝１画素）単位で極大点を求めた。
【００４３】
（３）次に検出した極大点を母点とするドロネー図（Ｄｅｌａｕｎａｒｙ  Ｄｉａｇｒａｍ）を作成する。ここでドロネー図とは、各極大点を母点としてボロノイ分割を行った場合に、ボロノイ領域が隣接する母点同士を隣接母点と定義し、各隣接母点同士を線分で結んで得られる三角形の集合体からなる網状図形である。各三角形は、ドロネー三角形と呼ばれ、各三角形の辺（隣接母点同士を結ぶ線分）は、ドロネー線と呼ばれる。図５は、図４から求められるドロネー図（白色の線分により表される図である）を図４による原画像と重ね合わせた図である。ドロネー図は、ボロノイ図（Ｖｏｒｏｎｏｉ  ｄｉａｇｒａｍ）と双対の関係に有る。またボロノイ分割とは、各隣接母点間を結ぶ線分（ドロネー線）の垂直二等分線同士によって画成される閉多角形の集合体からなる網状図形で平面を分割することを言う。ボロノイ分割により得られる網状図形がボロノイ図であり、各閉領域がボロノイ領域である。
【００４４】
（４）次に、各ドロネー線の線分長の度数分布、すなわち隣接する極大点間の距離（以下、隣接突起間距離と呼ぶ）の度数分布を求める。図６は、図５のドロネー図から作成した度数分布のヒストグラムである。なお、後述する図１１に示すように、突起２２の頂部２３に溝状等の凹部が存在する、或いは、頂部２３が複数の峰に分裂している場合は、求めた度数分布から、このような突起の頂部に凹部が存在する微細構造、頂部が複数の峰に分裂している微細構造に起因するデータを除去し、突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を作成する。
【００４５】
具体的には、突起２２の頂部２３に凹部が存在する微細構造、頂部２３が複数の峰に分裂している多峰性の微小突起２２に係る微細構造においては、このような微細構造を備えていない単峰性の微小突起２２の場合の数値範囲から、隣接極大点間距離が明らかに大きく異なることになる。これによりこの特徴を利用して対応するデータを除去することにより突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を検出する。より具体的には、例えば図３に示すような微小突起（群）の平面視の拡大写真から、５〜２０個程度の互いに隣接する単峰性微小突起を選んで、その隣接極大点間距離の値を標本抽出し、この標本抽出して求められる数値範囲から明らかに外れる値（通常、標本抽出して求められる隣接極大点間距離平均値に対して、値が１／２以下のデータ）を除外して度数分布を検出する。図６の例では、隣接極大点間距離が５６ｎｍ以下のデータ（矢印Ａにより示す左端の小山）を除外する。なお図６は、このような除外する処理を行う前の度数分布を示すものである。因みに上述の極大点検用のフィルタの設定により、このような除外する処理を実行してもよい。
【００４６】
（５）このようにして求めた隣接突起間距離ｄの度数分布から平均値（平均間隔）ｄＡＶＧ及び標準偏差σを求める。ここでこのようにして得られる度数分布を正規分布とみなして平均値ｄＡＶＧ及び標準偏差σを求めると、図６の例では、平均値ｄＡＶＧ＝１５８ｎｍ、標準偏差σ＝３８ｎｍとなった。これにより隣接突起間距離の最大値ｄＭＡＸを、ｄＭＡＸ＝ｄＡＶＧ＋２σとし、この例ではｄＭＡＸ＝２３４ｎｍとなる。
【００４７】
なお同様の手法を適用して突起の高さを定義する。この場合、上述の（２）により求められる極大点から、特定の基準位置からの各極大点位置の相対的な高さの差を取得してヒストグラム化する。図７は、このようにして求められる突起付け根位置を基準（高さ０）とした突起高さＨの度数分布のヒストグラムを示す図である。このヒストグラムによる度数分布から突起高さの平均値ＨＡＶＧ、標準偏差σを求める。ここでこの図７の例では、平均値ＨＡＶＧ＝１７８ｎｍ、標準偏差σ＝３０ｎｍである。これによりこの例では、突起の高さは、平均値ＨＡＶＧ＝１７８ｎｍとなる。なお図７に示す突起高さＨのヒストグラムにおいて、多峰性の微小突起の場合は、頂部を複数有していることにより、１つの突起に対してこれら複数のデータが混在することになる。そこでこの場合は麓部が同一の微小突起に属するそれぞれ複数の頂部の中から高さの最も高い頂部を、当該微小突起の突起高さとして採用して度数分布を求める。
【００４８】
なお上述した突起の高さを測る際の基準位置は、隣接する微小突起の間の谷底（高さの極小点）を高さ０の基準とする。但し、係る谷底の高さ自体が場所によって異なる場合（例えば、図１３に示すように、谷底の高さが微小突起の隣接突起間距離に比べて大きな周期でウネリを有する場合等）は、（１）先ず、透明基材１５の表面又は裏面から測った各谷底の高さの平均値を、該平均値が収束するに足る面積の中で算出する。（２）次いで、該平均値の高さを持ち、透明基材１５の表面又は裏面と平行な面を基準面として考える。（３）その後、該基準面を改めて高さ０として、該基準面からの各微小突起の高さを算出する。
【００４９】
隣接する微小突起２２の間の谷底の高さ自体が場所によって異なる場合、例えば図１３に示すように、各微小突起間の谷底を連ねた包絡面が、可視光線帯域の最長波長λＭＡＸ以上の周期Ｄ（すなわちＤ＞λＭＡＸである）でうねることもある。該周期的なうねりは、透明基材１５の表裏面に平行な平面（図１３におけるＸＹ平面）における１方向（例えばＸ方向）のみでこれと直交する方向（例えばＹ方向）には一定高さであっても良いし、或いは透明基材１５の表裏面に平行な平面（図１３におけるＸＹ平面）における２方向（Ｘ方向及びＹ方向）共にうねりを有していても良い。Ｄ＞λＭＡＸを満たす周期Ｄでうねった凹凸面２６が多数の微小突起からなる微小突起群に重畳することによって、微小突起群で完全に反射防止し切れずに残った反射光を散乱させ、殘留反射光、とくに鏡面反射光を更に視認し難くし、以って、赤外線透過フィルム１０の透過視認性を一段と向上させることができる。
【００５０】
尚、係る凹凸面２６の周期Ｄが全面に渡って一定では無く分布を有する場合は、該凹凸面について凸部間距離の度数分布を求め、その平均値をＤＡＶＧ、標準偏差をΣとしたときの、
Ｄｍｉｎ＝ＤＡＶＧ―２Σ
として定義する最小隣接突起間距離を以って周期Ｄの代わりとして設計する。即ち、微小突起群の殘留反射光の散乱効果を十分奏し得る条件は、
Ｄｍｉｎ＞λＭＡＸ
である。通常、Ｄ又はＤｍｉｎは１〜２００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍとされる。
【００５１】
突起が不規則に配置されている場合には、このようにして求められる隣接突起間距離の平均値ｄＡＶＧ、突起の高さの平均値（平均高さ）ＨＡＶＧが、規則正しく配置されている場合の上述の条件を満足することが、凹凸構造層２０に有効な反射防止機能を付与する観点だけでなく、赤外線透過フィルム１０に有効な赤外線選択透過性を付与する観点において、或る程度有効であることが判った。すなわち、隣接する微小突起２２の平均間隔が可視光帯域に最長波長以下であること（ｄＡＶＧ≦λＭＡＸ）が好ましく、隣接する微小突起２２の平均間隔が可視光帯域に最短波長以下であること（ｄＡＶＧ≦λｍｉｎ）がより好ましい。具体的には、可視光帯域の最短波長が３８０ｎｍであることから、好ましい条件はｄＡＶＧ≦３００ｎｍであり、更に好ましい条件は、ｄＡＶＧ≦２００ｎｍである。また反射防止効果の発現及び反射率の等方性（低角度依存性）の確保等の理由から、通常、ｄＡＶＧ≧５０ｎｍであり、好ましくは、ｄＡＶＧ≧１００ｎｍとされる。また突起高さについては、十分な反射防止効果を発現する為には、ＨＡＶＧ≧０．２×λＭＡＸ＝１５６ｎｍ（λＭＡＸ＝７８０ｎｍとして）とされる。
【００５２】
さらに、突起が不規則に配置されている場合、隣接突起間距離の最大値ｄＭＡＸ＝ｄＡＶＧ＋２σが、規則正しく配置されている場合の上述の条件を満足することが、凹凸構造層２０に有効な反射防止機能を付与する観点だけでなく、赤外線透過フィルム１０に有効な赤外線選択透過性を付与する観点において、より有効であることが判った。すなわち、隣接する微小突起２２の最大間隔が可視光帯域に最長波長以下であること（ｄＭＡＸ≦λＭＡＸ）が好ましく、隣接する微小突起２２の最大間隔が可視光帯域に最短波長以下であること（ｄＭＡＸ≦λｍｉｎ）がより好ましい。具体的には、可視光帯域の最短波長が３８０ｎｍであることから、好ましい条件はｄＭＡＸ≦３００ｎｍであり、更に好ましい条件は、ｄＭＡＸ≦２００ｎｍである。また反射防止効果の発現及び反射率の等方性（低角度依存性）の確保等の理由から、通常、ｄＭＡＸ≧５０ｎｍであり、好ましくは、ｄＭＡＸ≧１００ｎｍとされる。
【００５３】
因みに、図３〜図７の例により説明すると、ｄＭＡＸ＝２３４ｎｍ≦λＭＡＸ＝７８０ｎｍとなり、ｄＭＡＸ≦λＭＡＸの条件を満足し、さらに、可視光線帯域の最短波長λｍｉｎが３８０ｎｍであることからｄＭＡＸ≦λｍｉｎの条件も満たすことが判る。また、平均突起高さＨＡＶＧ＝１７８ｎｍであることにより、平均突起高さＨＡＶＧ≧０．２×λＭＡＸ＝１５６ｎｍとなり（可視光波長帯域の最長波長λＭＡＸ＝７８０ｎｍとして）、突起の高さに関する条件も満足していることが判る。なお標準偏差σ＝３０ｎｍであることから、ＨＡＶＧ−σ＝１４８ｎｍ＜０．２×λＭＡＸ＝１５６ｎｍとの関係式が成立することから、統計学上、全突起の５０％以上、８４％以下が、突起の高さに係る条件（１７８ｎｍ以上）の条件を満足していることが判る。なおＡＦＭ及びＳＥＭによる観察結果、並びに微小突起の高さ分布の解析結果から、詳しくは後述する多峰性の微小突起は相対的に高さの低い微小突起よりも高さの高い微小突起でより多く生じる傾向にあることが判明した。
【００５４】
［凹凸構造層の製造方法］
図８は、この凹凸構造層２０の製造方法を示す図である。図示された製造方法では、樹脂供給工程において、ダイ９２により帯状フィルム形態の透明基材１５に凹凸構造層２０を構成するようになる未硬化で液状の紫外線硬化性樹脂を塗布する。なお紫外線硬化性樹脂の塗布については、ダイ９２による場合に限らず、各種の手法を適用することができる。続いて、押圧ローラ９４により、凹凸構造層の賦型用金型であるロール版（金型）９３の周側面に透明基材１５を押圧し、これにより透明基材１５に未硬化状態で液状のアクリレート系紫外線硬化性樹脂を密着させると共に、ロール版９３の周側面に作製された微細な凹凸形状の凹部に紫外線硬化性樹脂を充分に充填する。この状態で、紫外線の照射により紫外線硬化性樹脂を硬化させ、これにより透明基材１５の表面に微小突起２２を有した凹凸構造層２０を作製する。次に、剥離ローラ９５を用いてロール版９３から、硬化した紫外線硬化性樹脂からなる凹凸構造層２０と一体に透明基材１５を剥離する。次に、後述するようにして、凹凸構造層２０の凹凸面２１上に金属薄膜３０を形成することにより、赤外線透過フィルム１０が得られる。
【００５５】
図９は、ロール版９３の構成を示す斜視図である。ロール版９３は、円筒形状の金属材料である母材の周側面に、陽極酸化処理およびエッチング処理の繰り返しにより、凹凸構造層２０の凹凸面２１を賦型するための微細な凹凸形状が作製される。このため母材は、少なくとも周側面に純度の高いアルミニウム層が設けられた円柱形状又は円筒形状の部材が適用される。一例として、母材に中空のステンレスパイプが適用され、直接に又は各種の中間層を介して、純度の高いアルミニウム層が設けられる。ステンレスパイプに代えて、銅やアルミニウム等のパイプ材等を適用してもよい。ロール版９３は、陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより、母材の周側面に微細穴が密に作製され、この微細穴を掘り進めると共に、開口部に近付くに従ってより大きな径となるようにこの微細穴の穴径を徐々に拡大して凹凸形状が作製される。これによりロール版９３は、深さ方向に徐々に穴径が小さくなる微細穴が密に作製され、凹凸構造層２０には、この微細穴に対応して、頂部２３に近付くに従って徐々に径が小さくなる多数の微小突起２２からなる凹凸面２１が作製される。その際に、アルミニウム層の純度(不純物量)や結晶粒径、陽極酸化処理及び／又はエッチング処理等の諸条件を適宜調整することによって、上述してきた凹凸面２１を賦型し得るロール版９３を作製することができる。
【００５６】
図１０は、ロール版９３の製造方法を示す図である。この製造方法では、まず、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法によって、母材の周側面を超鏡面化する（電解研磨）。続いて、母材の周側面にアルミニウムをスパッタリングし、純度の高いアルミニウム層を作製する。次に、陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮ、エッチング工程Ｅ１、…、ＥＮを交互に繰り返して母材を処理し、ロール版９３を作製する。
【００５７】
この製造方法において、陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮでは、陽極酸化法により母材の周側面に微細な穴を作製し、さらにこの作製した微細な穴を掘り進める。ここで陽極酸化工程では、例えば負極に炭素棒、ステンレス板材等を使用する場合のように、アルミニウムの陽極酸化に適用される各種の手法を広く適用することができる。また溶解液についても、中性、酸性の各種溶解液を使用することができ、より具体的には、例えば硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液等を使用することができる。この製造工程Ａ１、…、ＡＮは、液温、印加する電圧、陽極酸化に供する時間等の管理により、微細な穴を、作製対象となる微小突起２２の形状に対応した形状に形成することができる。
【００５８】
続くエッチング工程Ｅ１、…、ＥＮは、金型をエッチング液に浸漬し、陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮにより作製、掘り進めた微細な穴の穴径をエッチングにより拡大し、深さ方向に向かって滑らか、かつ徐々に穴径が小さくなるように、これら微細な穴を整形する。なおエッチング液については、この種の処理に適用される各種エッチング液を広く適用することができ、より具体的には、例えば硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液等を使用することができる。これらによりこの製造工程では、陽極酸化処理とエッチング処理とを交互にそれぞれ複数回実行することにより、賦型に供する微細穴を母材の周側面に作製する。
【００５９】
なお、図１３を参照しながら説明した凹凸構造層２０、すなわち、隣接する微小突起２２の間の谷底の高さ自体が場所によって異なる凹凸構造層２０を作製するためのロール版９３は、次のようにして製造され得る。即ち、ロール版９３の製造工程において、円筒（又は円柱）形状の母材の表面にサンドブラスト又はマット（つや消し）メッキによって凹凸面２６の凹凸形状に対応する凹凸形状を賦形する。次いで、該凹凸形状の面上に、直接或いは必要に応じて適宜の中間層を形成した後、アルミニウム層を積層する。その後、該凹凸形状表面に対応した表面形状を賦形されたアルミニウム層に上述の方法と同様にして陽極酸化処理及びエッチング処理を施し、微小突起２２を含む凹凸面２１を形成するためのロール版９３が得られる。
【００６０】
［耐擦傷性の向上］
ところでこの陽極酸化処理及びエッチング処理の交互の繰り返しにより微細穴を作製して凹凸構造層２０を作製したところ、耐擦傷性に改善の余地が見られた。そこで凹凸構造層２０を詳細に観察したところ、従来のこの種の凹凸構造層２０のように、多角錘形状や回転放物面形状のような１つの頂部のみを持つ単峰性の微小突起のみからなり、各頂部の高さも一様に作製されている場合には、例えば他の物体が接触した場合に、広い範囲で微小突起の形状が一様に損なわれ、これにより反射防止機能等の微小突起２２に起因した機能が局所的に劣化し、また、凹凸構造層２０並びに最終的に得られる赤外線透過フィルム１０において、接触個所に白濁、傷等が発生して外観不良が発生し得ることが判った。そして、ロール版の製造条件を変更することにより、微小突起１２，２２を有した凹凸構造層２０並びに赤外線透過フィルム１０の耐擦傷性を改善し得ることが判った。
【００６１】
このような耐擦傷性が改善された凹凸構造層２０の表面形状をＡＦＭ（Atomic Force Microscope：原子間力顕微鏡）及びＳＥＭ（Scanning Electron Microscope：走査型電子顕微鏡）により観察したところ、多数の微小突起の中に、頂部２３を複数有する多峰性の微小突起２２が存在することが判った。また、多峰性の微小突起２２を含む凹凸構造層２０の凹凸面２１に金属薄膜３０を形成して赤外線透過フィルム１０を作製した場合、赤外線透過フィルム１０の凹凸面１１にも、多峰性の微小突起２２に対応して多峰性の微小突起１２を含ませることができた。この結果、多峰性の微小突起２２に起因して奏される凹凸構造層２０の作用効果と同様の作用効果を、この凹凸構造層２０を含む赤外線透過フィルム１０も奏することができた。なおここで微細形状の観察のために、種々の方式の顕微鏡が提供されているものの、微細構造を損なわないようにして凹凸構造層２０や赤外線透過フィルム１０の表面形状を観察する場合には、ＡＦＭ及びＳＥＭが適している。
【００６２】
図１１は、頂部２３を複数有する多峰性の微小突起２２の説明に供する断面図（図１１（ａ））、斜視図（図１１（ｂ））、平面図（図１１（ｃ））である。なおこの図１１は、理解を容易にするための模式図であり、図１１（ａ）は、連続する微小突起２２の頂部２３を結ぶ折れ線に沿って断面を切り出して示す図である。この図１１（ｂ）及び（ｃ）において、ｘｙ方向は、赤外線透過フィルム１０のフィルム面に沿った方向であり、ｚ方向は赤外線透過フィルム１０の法線方向ｎｄ（微小突起の高さ方向）である。凹凸構造層２０において、多くの微小突起２２は、透明基材１５から離間して頂部２３に向かうに従って徐々に断面積（高さ方向に直交する面（図１１においてＸＹ平面と平行な面）で切断した場合の断面積）が小さくなって、頂部２３が１つの単峰性微小突起として作製される。しかしながら、複数の微小突起２２が結合したかのように、先端部分に溝が形成され、頂部２３が２つになった微小突起２２（２２Ａ）、頂部２３が３つになった微小突起（２２Ｂ）、さらには頂部２３が４つ以上の微小突起（図示略）等からなる多峰性微小突起２２も存在することが確認された。なお単峰性の微小突起２２の形状は、概略、回転放物面の様な頂部の丸い形状、或いは円錐の様な頂点の尖った形状で近似することができる。一方、多峰性の微小突起２２Ａ、２２Ｂの形状は、概略、単峰性の微小突起２２の先端部近傍に溝状の凹部を切り込んで、先端部を複数の峰に分割したような形状で近似される。多峰性の微小突起２２Ａ、２２Ｂの形状、或いは、複数の峰を含み高さ方向（図１１ではＺ軸方向）を含む仮想的切断面で切断した場合の縦断面形状は、極大点を複数個含み各極大点近傍が上に凸の曲線になる代数曲線Ｚ＝ａ２Ｘ２＋ａ４Ｘ４＋・・＋ａ２ｎＸ２ｎ＋・・で近似されるような形状となる。
【００６３】
このような頂部２３を複数有する多峰性の微小突起２２は、単峰性の微小突起２２に比して、先端部近傍の寸法に対する基端部（裾の部分）の太さが相対的に太くなる。これにより、多峰性の微小突起２２は、単峰性の微小突起に比して機械的強度が優れていると言える。これにより頂部２３を複数有する多峰性の微小突起２２が存在する場合、凹凸構造層２０では、単峰性の微小突起２２のみによる場合に比して、同じ隣接突起間距離（同じ反射防止性能）でも耐擦傷性がより向上するものと考えられる。さらに、具体的に凹凸構造層２０に外力が加わった場合、単峰性の微小突起２２のみの場合に比して、外力をより多くの頂部２３で分散して受けることができる為、各頂部２３に加わる外力を低減し、微小突起２２が損傷し難いようにすることができ、これにより微小突起２２に起因した機能（例えば、凹凸構造層２０における反射防止機能や赤外線透過フィルム１０における赤外線選択透過機能）の局所的な劣化を低減し、さらに赤外線透過フィルム１０の外観不良の発生を低減することができる。また仮に微小突起２２が損傷した場合でも、その損傷個所の面積を低減することができる。更に、多峰性の微小突起２２の多くは、最高峰高さ（麓が同じ微小突起に属する最も高い峰の高さ）が突起高さの平均値ＨＡＶＧ以上の微小突起に生じやすい傾向があるので、外力を先ず各峰部分が受止めて犠牲的に損傷することによって、該微小突起２２の峰より低い本体部分、及び該多峰性の微小突起２２よりも高さの低い微小突起２２の損耗を防ぐ。これによっても微小突起２２に起因した機能の局所的な劣化を低減し、さらにこの凹凸構造層２０を用いた赤外線透過フィルム１０の外観不良の発生を低減することができる。
【００６４】
なお上述した図３〜図７に係る測定結果は、多峰性の微小突起２２を含む凹凸構造層２０についての測定結果であり、図６に示す度数分布においては、隣接突起間距離ｄ（横軸の値）について、２０ｎｍ及び４０ｎｍの短距離の極大値と１２０ｎｍ及び１６４ｎｍの長距離の極大値との２種類の極大値が存在する。これらの極大値のうちの長距離の極大値は、微小突起本体（頂部よりも下の中腹から麓にかけての部分）の配列に対応し、一方、短距離の極大値は先端部近傍に存在する複数の頂部（峰）２３に対応する。これにより極大点間距離の度数分布によっても、多峰性の微小突起２２の存在を確認することができる。
【００６５】
なお多峰性の微小突起２２は、その存在により耐擦傷性を向上できるものの、充分に存在しない場合には、この耐擦傷性を向上する効果を十分に発揮できないことは言うまでもない。そして、耐擦傷性を有効に改善する観点からは、表面に存在する全微小突起中における多峰性の微小突起の個数の比率は１０％以上とすることが好ましく、３０％以上であればより好ましく、５０％以上であればさらにより好ましい。
【００６６】
さらにこのような多峰性の微小突起２２Ａ、２２Ｂを含む微小突起群（２２、２２Ａ、２２Ｂ、・・）を有する凹凸構造層２０を詳細に検討したところ、各微小突起２２の高さが種々に異なることが判った（図７、図１１（ａ）参照）。なおここで各微小突起２２の高さとは、上述したように、麓（付け根）部を共有するある特定の微小突起２２について、その先端部に存在する最高高さを有する峰（最高峰）の高さを言う。図１１（ａ）の微小突起２２の如くの単峰性の微小突起の場合は、頂部における唯一の峰（極大点）の高さが該微小突起の突起高さとなる。また図１１（ａ）の微小突起２２Ａ、２２Ｂのような多峰性の微小突起の場合は、先端部に在る麓部を共有する複数の峰のうちの最高峰の高さをもって該微小突起２２の高さとする。このように微小突起２２の高さが種々に異なる場合には、例えば物体の接触により高さの高い微小突起２２の形状が損なわれた場合でも、高さの低い微小突起２２においては、形状が維持されることになる。これによっても凹凸構造層２０では、微小突起２２に起因した機能の局所的な劣化を低減し、さらには赤外線透過フィルム１０の外観不良の発生を低減することができ、その結果、耐擦傷性を向上することができる。
【００６７】
また凹凸構造層２０表面の微小突起群と物体との間に塵埃が付着すると、当該物体が凹凸構造層２０に対して相対的に摺動した際に、該塵埃が研磨剤として機能して微小突起（群）の磨耗、損傷が促進されることになる。この場合に、微小突起群を構成する各微小突起間に高低差が有ると、塵埃は高さの高い微小突起に強く接触し、これを損傷させる。一方で低高さの微小突起との接触は弱まり、高さの低い微小突起については損傷が軽減され、無傷ないしは軽微な傷で残存した高さの低い微小突起によって反射防止性能等の微小突起２２に起因した機能が維持される。
【００６８】
またこれに加えて、各微小突起２２の高さに分布（高低差）の有る微小突起群では、多数の微小突起のうちの高さの高い微小突起２２のみが、例えば凹凸構造層２０と対向するように配置された各種の部材表面と接触することになる。これにより、高さが同一の微小突起のみによる場合に比して格段的に滑りを良くすることができ、製造工程等における凹凸構造層２０の取り扱いが容易にもなる。なおこのように滑りを良くする観点から、ばらつきは、標準偏差により規定した場合に、１０ｎｍ以上必要であるものの、５０ｎｍより大きくなると、このばらつきによる表面のざらつき感が感じられるようになる。従ってこの高さのばらつきは、１０ｎｍ以上、５０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００６９】
また、凹凸面２１が多峰性の微小突起２２を含むことは、隣接微小突起間が接触さらには一体複合化する現象にともなう不都合、すなわちスティッキングにともなう不都合を回避する観点からも好ましい。まず、スティッキングを生じると、実質上の隣接突起間距離ｄは一体複合化した微小突起数２２の分だけ増加してしまう。例えば、間隔ｄ＝２００ｎｍの微小突起が４個スティッキングすると、実質上、スティッキングして一体化した突起の大きさは、ｄ＝４×２００ｎｍ＝８００ｎｍ＞可視光線帯域の最長波長（７８０ｎｍ）となり、これにより局所的に微小突起２２に起因した機能が損なわれることになる。
【００７０】
一方、多峰性の微小突起２２Ａ、２２Ｂ、・・からなる微小突起群の場合、先端部近傍の各峰間の隣接突起間距離ｄＰＥＡＫは、麓から中腹にかけての微小突起本体部の隣接突起間距離ｄＢＡＳＥよりも小さくなり（ｄＰＥＡＫ＜ｄＢＡＳＥ）、通常、ｄＰＥＡＫ＝ｄＢＡＳＥ／４〜ｄＢＡＳＥ／２程度である。その為、各峰間の隣接突起間距離ｄＰＥＡＫ≪λｍｉｎとすることで微小突起２２の機能（例えば、凹凸構造層２０における反射防止機能）を十分に維持することができる。但し、多峰性の微小突起の各峰部は、麓部の幅に対する峰部の高さの比が小さく、単峰性の微小突起の麓部の幅に対する頂点の高さの比の１／２〜１／１０程度である。従って、同じ外力に対して、多峰性微小突起の峰部は単峰性の微小突起に比べての変形し難い。且つ、多峰性微小突起の本体部自体は峰部よりも隣接突起間距離は大であり、且つ強度も大である。その為、結局、多峰性の微小突起からなる微小突起群は、単峰性の微小突起からなる突起群に比べて、スティッキングの生じ難さと低反射率とを容易に両立させることができる。
【００７１】
ところでこのような微小突起２２の作製に供するロール版では、陽極酸化処理とエッチング処理との交互の繰り返しにより、穴径を拡大しながら微細穴を掘り進め、これにより微小突起の賦型に供する微細穴が作製される。多峰性の微小突起２２は、係る構造の先端部に対応する形状の凹部を備えた微小穴により作成されるものであり、このような微小穴は、極めて近接して作製された微細穴が、エッチング処理により、一体化して作製されると考えられる。これにより多峰性の微小突起と単峰性の微小突起とを混在させるには、陽極酸化により作製される微細穴の間隔を大きくばらつかせることにより実現することができ、陽極酸化処理におけるばらつきを大きくすることにより実現することができる。
【００７２】
また微細穴の高さのばらつきは、ロール版に作製される微細穴の深さのばらつきによるものであり、このような微細穴の深さのばらつきについても、陽極酸化処理におけるばらつきに起因するものと言える。
【００７３】
なお、陽極酸化処理における印加電圧（化成電圧）と微細穴の間隔とは或る程度の相関にて比例関係にあり、さらに一定範囲より印加電圧が逸脱するとばらつきが大きくなる。これにより濃度０．０１Ｍ〜０．０３Ｍの硫酸、シュウ酸、リン酸の水溶液を使用して、電圧１５Ｖ（第１工程）〜３５Ｖ（第２工程：第１工程に対して約２．３倍）の印加電圧により、多峰性の微小突起と単峰性の微小突起とが混在し、かつ微小突起の高さがばらついた凹凸構造層２０生産用のロール版を作製することができた。なお印加電圧が変動すると、微細穴の間隔のばらつきが大きくなることにより、例えば直流電源によりバイアスした交流電源を使用して印加用電圧を生成する場合等、印加電圧を意図的に変動させてもよい。また電圧変動率の大きな電源を使用して陽極酸化処理を実行してもよい。
【００７４】
図１２は、頂部２３が複数の微小突起２２を示す写真であり、図１２（ａ）は、ＡＦＭによるものであり、図１２（ｂ）及び（ｃ）は、ＳＥＭによるものである。図１２（ａ）では、溝ｇ及び３つの頂部２３を有する微小突起、及び溝ｇ及び２つの頂部２３を有する微小突起２２を見て取ることができ、図１２（ｂ）では、溝ｇ及び４つの頂部２３を有する微小突起２２、及び溝ｇ及び２つの頂部２３を有する微小突起２２を見て取ることができ、図１２（ｃ）では、溝ｇ及び３つの頂部２３を有する微小突起２２、溝ｇ及び２つの頂点を有する微小突起２２を見て取ることができる。なおこの図１２は、水温２０℃、濃度０．０２Ｍのシュウ酸水溶液を適用し、印加電圧４０Ｖにより１２０秒、陽極酸化処理を実行したものである。またエッチング処理には、第１工程に同上陽極酸化液、第２工程に水温２０℃、濃度１．０Ｍのリン酸水溶液を適用した。陽極酸化処理とエッチング処理との回数は、それぞれ３（〜５）回である。
【００７５】
以上の構成によれば、頂部２３が複数からなる多峰性の微小突起２２と頂点が１つの単峰性の微小突起２２とを混在させることにより、従来に比して凹凸構造層２０の耐擦傷性、さらには赤外線透過フィルム１０の耐擦傷性を向上することができる。またさらに微小突起２２の高さに分布を持たせることにより、滑り性を向上することができる。
【００７６】
＜金属薄膜＞
次に、金属薄膜３０について説明する。上述したように、凹凸面２１上に設けられた金属薄膜３０は、凹凸面２１の凹凸に沿って延びている。金属薄膜３０の「薄膜」とは、金属薄膜３０の表面上に凹凸面２１の微小突起２２に起因した凹凸が残存する程度に薄膜であることを意味している。
【００７７】
とりわけ、図１に示された金属薄膜３０は、或る程度の均一な厚みにて、凹凸面２１上に設けられている。このような形態によれば、金属薄膜３０によって構成される赤外線透過フィルム１０の凹凸面１１が、凹凸構造層２０の凹凸面２１と同様の形状となり、凹凸構造層２０の凹凸面２１によって発現される機能と同様の作用効果、すなわち反射防止機能、擦傷に対する耐性等を発揮することができる。
【００７８】
赤外線透過フィルム１０が赤外線を選択的に透過させる機能を示すようにする前提として、金属薄膜３０は透過性を有している必要がある。金属薄膜３０の透過率は特に限定されるものではないが、赤外線透過フィルム１０を法線方向ｎｄに透過する赤外線域の光の透過率が、少なくとも１０％以上となるように、好ましくは３０％以上となるように、さらに好ましくは５０％以上となるように、金属薄膜３０の透過率が設定されていることが好ましい。したがって、金属薄膜３０の透過率は、少なくとも１０％以上、好ましくは３０％以上、さらに好ましくは５０％以上に設定される。
【００７９】
金属薄膜３０は、単層であってもよいし、複数の層によって形成されていてもよい。金属薄膜３０をなす金属材料は、特に限定されることなく、アルミニウム、銀、銅、金、および、これらの合金等を用いることができる。金属薄膜３０の形成方法は、特に限定されることなく、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等の気相法(ドライプロセス) 、インクジェット印刷法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、オフセット印刷法、フレキソ印刷法、ディスペンサ印刷法、スリットコート法、ダイコート法、ドクターブレードコート法、ワイヤーバーコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法等の溶液塗布法(ウェットプロセス) が挙げられる。さらに、金属薄膜３０の厚みは、特に限定されることなく、上述した透過率を確保し得るように設定され得る。
【００８０】
ただし、本件発明らが鋭意研究を重ねたところ、赤外線域の光を可視光線帯域の光よりも高い透過率で透過させる機能を赤外線透過フィルム１０に付与する観点からは、金属薄膜３０は、アルミニウム、アルミニウム合金、銀、又は、銀合金をスパッタリング法または真空蒸着法で凹凸構造層２０の凹凸面２１上に成膜することにより形成された膜であることが好ましい。また、金属薄膜３０は、凹凸構造層２０の凹凸面２１が平坦面であったと仮定した場合にスパッタリング法を用いて形成される膜が３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下となる量のアルミニウム、アルミニウム合金、銀、又は、銀合金からなる膜であることが好ましい。すなわち、金属薄膜３０をなすアルミニウム、アルミニウム合金、銀、又は、銀合金は、平面視において同面積となる平坦面に成膜した際に、３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下となる量であることが好ましい。さらに言い換えると、金属薄膜３０は、平面視において同面積となる平坦面に成膜した場合に、３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下となる厚さの膜が形成される条件でのスパッタリング法にて成膜されたアルミニウム、アルミニウム合金、銀、又は、銀合金からなる膜であることが好ましい。
【００８１】
＜赤外線透過フィルムの特性＞
次に、図１４及び図１５を参照しながら、上述してきた構成の赤外線透過フィルム１０の光学特性について説明する。
【００８２】
一例が図１４及び図１５に示されているように、赤外線透過フィルム１０及びその他のフィルムに入射する光についての透過率のスペクトル分布を調査した。
【００８３】
このうち、赤外線透過フィルム１０に係るサンプルは、まず上述した方法にて凹凸構造層２０を作製するための金型（ロール版９３）を作製し、次に作製された金型を用いて上述した方法にて作製した。金型の作製において、陽極酸化処理およびエッチングの条件を変化させて複数種類の金型を用意した。これにともなって、互いに異なる凹凸面２１を有した複数の凹凸構造層２０が得られた。さらに、金属薄膜３０の成膜方法および厚みを変化させた。そして、図１４及び図１５に示された結果は、得られた各サンプルについて、透過率のスペクトル分布を調査した結果の一例である。
【００８４】
一方、赤外線透過フィルム１０以外のフィルムとして、透明基材１５のみからなるサンプルｅ１，ｅ２と、透明基材１５と透明基材１５上に形成された凹凸構造層２０とからなるサンプルｅ３と、透明基材１５と透明基材１５上に形成された金属薄膜３０とからなるサンプルａ１，ａ２，ｂ１，ｃ１と、を用意した。
【００８５】
ここで、図１４及び図１５に透過光のスペクトル分布を示された各サンプルの詳細について説明する。なお、表１には、各サンプルの概略構成が示されている。
【００８６】
（サンプルＡ１）
まず次のようにして、透過率異方性フィルムのサンプルを作製するための金型を作製した。純度９９．５０％の圧延されたアルミニウム板を、小さいうねりとして表面粗さＲｚが３０ｎｍ、大きいうねりが１μｍとなるように研磨した後、０．０２Ｍシュウ酸水溶液の電解液中で、化成電圧４０Ｖ、２０℃の条件にて１２０秒間、陽極酸化を実施した。次に、第一エッチング処理として、陽極酸化後の電解液で６０秒間エッチング処理を行った。続いて、第二エッチング処理として、１．０Ｍリン酸水溶液で１５０秒間孔径処理を行った。さらに、上記処理を繰り返し、これらを合計５回追加実施した。これにより、アルミニウム基板上に陽極酸化アルミニウム膜が形成された。最後に、フッ素系離型剤を塗布し、余分な離型剤を洗浄することで、凹凸構造層製造用金型を得た。
【００８７】
その後、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）２０重量部、アロニックスＭ―２６０（商品名；東亜合成社製）７０重量部、ヒドロキシエチルアクリレート１０重量部、及び、光開始剤としてルシリン（商品名；ＴＰＯ社製）３重量部を溶解させ、活性エネルギー線硬化性組成物（紫外線硬化型樹脂組成物）を得た。得られた紫外線硬化型樹脂組成物を、上記で得られた金型の表面を覆うようにして、厚さ２０μｍとなるように塗布・充填し、その上に透明基材１５として厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製）を斜めから貼り合わせた後、貼り合わせられた貼合体をゴムローラーで１０Ｎ/ｃｍの加重で圧着した。金型全体に均一な組成物が塗布されたことを確認し、フィルム側から２０００ｍＪ/ｃｍ２のエネルギーで紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂組成物を硬化させて凹凸構造層２０を透明基材１５上に作製した。その後、紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物としての凹凸構造層２０を透明基材１５とともに、金型より剥離した。得られた凹凸構造層２０において、隣接突起間距離の平均値（平均間隔）ｄＡＶＧは略１００ｎｍであり、突起高さの平均値ＨＡＶＧ、は略１７０ｎｍであった。
【００８８】
次に、得られた凹凸構造層２０の凹凸面２１上に、当該金属薄膜３０が形成されるべき凹凸面２１上の領域と平面視において同面積となる平板材の表面に成膜した場合に厚さ１０ｎｍのスパッタリング膜が形成される条件にて、アルミニウムをスパッタリングして金属薄膜３０を作製した。
【００８９】
（サンプルＡ２）
サンプルＡ２は、金属薄膜３０の厚さのみがサンプルＡ１と異なり、その他をサンプルＡ１と同一に構成した。サンプルＡ２では、金属薄膜３０が形成されるべき凹凸面２１上の領域と平面視において同面積となる平板材の表面に成膜した場合に厚さ３０ｎｍのスパッタリング膜が形成される条件にて、凹凸構造層２０の凹凸面２１上にアルミニウムをスパッタリングして作製した。なお、図１６はサンプルＡ２を写した写真であり、図１７はサンプルＡ３を写した写真であり、図１８はサンプルＡ４を写した写真である。
【００９０】
（サンプルＡ３）
サンプルＡ３は、金属薄膜３０の厚さのみがサンプルＡ１と異なり、その他をサンプルＡ１と同一に構成した。サンプルＡ３では、金属薄膜３０が形成されるべき凹凸面２１上の領域と平面視において同面積となる平板材の表面に成膜した場合に厚さ５０ｎｍのスパッタリング膜が形成される条件にて、凹凸構造層２０の凹凸面２１上にアルミニウムをスパッタリングして作製した。
【００９１】
（サンプルＡ４）
サンプルＡ４は、金属薄膜３０の厚さのみがサンプルＡ１と異なり、その他をサンプルＡ１と同一に構成した。サンプルＡ４では、金属薄膜３０が形成されるべき凹凸面２１上の領域と平面視において同面積となる平板材の表面に成膜した場合に厚さ８０ｎｍのスパッタリング膜が形成される条件にて、凹凸構造層２０の凹凸面２１上にアルミニウムをスパッタリングして作製した。
【００９２】
（サンプルＢ１）
サンプルＢ１は、金属薄膜３０の成膜方法のみがサンプルＡ１と異なり、その他をサンプルＡ１と同一に構成した。すなわち、サンプルＢ１の透明基材１５及び凹凸構造層２０は、サンプルＡ１の透明基材１５及び凹凸構造層２０と同一とした。サンプルＢ１では、真空蒸着法により、アルミニウムからなる金属薄膜３０を凹凸構造層２０の凹凸面２１面上に形成した。アルミニウムの真空蒸着は、金属薄膜３０が形成されるべき凹凸面２１上の領域と平面視において同面積となる平板材の表面に成膜した場合に厚さ１０ｎｍの蒸着膜が形成される条件にて、行った。
【００９３】
（サンプルＢ２）
サンプルＢ２は、金属薄膜３０の厚さのみがサンプルＢ１と異なり、その他をサンプルＢ１と同一に構成した。サンプルＢ２では、金属薄膜３０が形成されるべき凹凸面２１上の領域と平面視において同面積となる平板材の表面に成膜した場合に厚さ２０ｎｍの蒸着膜が形成される条件にて、凹凸構造層２０の凹凸面２１上にアルミニウムを真空蒸着して作製した。
【００９４】
（サンプルＣ１）
サンプルＣ１は、金属薄膜３０の材料のみがサンプルＡ１と異なり、その他をサンプルＡ１と同一に構成した。すなわち、サンプルＣ１の透明基材１５及び凹凸構造層２０は、サンプルＡ１の透明基材１５及び凹凸構造層２０と同一とした。サンプルＣ１では、スパッタリング法により、銀からなる金属薄膜３０を凹凸構造層２０の凹凸面２１面上に形成した。銀のスパッタリングは、金属薄膜３０が形成されるべき凹凸面２１上の領域と平面視において同面積となる平板材の表面に成膜した場合に厚さ１０ｎｍのスパッタリング膜が形成される条件にて、行った。
【００９５】
（サンプルＤ１）
サンプルＤ１は、金属薄膜３０の成膜方法および材料のみがサンプルＡ１と異なり、その他をサンプルＡ１と同一に構成した。すなわち、サンプルＤ１の透明基材１５及び凹凸構造層２０は、サンプルＡ１の透明基材１５及び凹凸構造層２０と同一とした。サンプルＤ１では、真空蒸着法により、銀からなる金属薄膜３０を凹凸構造層２０の凹凸面２１面上に形成した。銀の真空蒸着は、金属薄膜３０が形成されるべき凹凸面２１上の領域と平面視において同面積となる平板材の表面に成膜した場合に厚さ１０ｎｍの真空蒸着膜が形成される条件にて、行った。
【００９６】
（サンプルＤ２）
サンプルＤ２は、金属薄膜３０の厚さのみがサンプルＤ１と異なり、その他をサンプルＤ１と同一に構成した。サンプルＤ２では、金属薄膜３０が形成されるべき凹凸面２１上の領域と平面視において同面積となる平板材の表面に成膜した場合に厚さ２０ｎｍの蒸着膜が形成される条件にて、凹凸構造層２０の凹凸面２１上に銀を真空蒸着して作製した。
【００９７】
（サンプルＤ３）
サンプルＤ３は、金属薄膜３０の厚さのみがサンプルＤ１と異なり、その他をサンプルＤ１と同一に構成した。サンプルＤ３では、金属薄膜３０が形成されるべき凹凸面２１上の領域と平面視において同面積となる平板材の表面に成膜した場合に厚さ４０ｎｍの蒸着膜が形成される条件にて、凹凸構造層２０の凹凸面２１上に銀を真空蒸着して作製した。
【００９８】
（サンプルＤ４）
サンプルＤ４は、金属薄膜３０の厚さのみがサンプルＤ１と異なり、その他をサンプルＤ１と同一に構成した。サンプルＤ４では、金属薄膜３０が形成されるべき凹凸面２１上の領域と平面視において同面積となる平板材の表面に成膜した場合に厚さ８０ｎｍの蒸着膜が形成される条件にて、凹凸構造層２０の凹凸面２１上に銀を真空蒸着して作製した。
【００９９】
（サンプルａ１）
サンプルａ１は、凹凸構造層２０を設けなかった点においてサンプルＡ１と異なり、その他をサンプルＡ１と同一に構成した。すなわち、サンプルａ１では、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製）からなる透明基材１５の表面に、スパッタリング法により、厚さ１０ｎｍのアルミニウムからなる金属薄膜３０を形成した。
【０１００】
（サンプルａ２）
サンプルａ２は、凹凸構造層２０を設けなかった点においてサンプルＡ２と異なり、その他をサンプルＡ２と同一に構成した。すなわち、サンプルａ２では、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製）からなる透明基材１５の表面に、スパッタリング法により、厚さ３０ｎｍのアルミニウムからなる金属薄膜３０を形成した。
【０１０１】
（サンプルｂ１）
サンプルｂ１は、凹凸構造層２０を設けなかった点においてサンプルＢ１と異なり、その他をサンプルＢ１と同一に構成した。すなわち、サンプルｂ１では、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製）からなる透明基材１５の表面に、真空蒸着法により、厚さ１０ｎｍのアルミニウムからなる金属薄膜３０を形成した。
【０１０２】
（サンプルｃ１）
サンプルｃ１は、凹凸構造層２０を設けなかった点においてサンプルＣ１と異なり、その他をサンプルＣ１と同一に構成した。すなわち、サンプルｃ１では、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製）からなる透明基材１５の表面に、スパッタリング法により、厚さ１０ｎｍの銀からなる金属薄膜３０を形成した。
【０１０３】
（サンプルｅ１）
サンプルｅ１は、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製）とした。
【０１０４】
（サンプルｅ２）
サンプルｅ１は、厚さ１２５μｍのポリエチレンテレフタラートフィルム（東レ社製）とした。
【０１０５】
（サンプルｅ３）
サンプルｅ３は、金属薄膜３０を設けなかった点においてサンプルＡ１と異なり、その他をサンプルＡ１と同一に構成した。すなわち、サンプルｅ３では、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製）からなる透明基材１５の表面に、凹凸構造層２０を形成した。サンプルｅ３の透明基材１５及び凹凸構造層２０は、サンプルＡ１の透明基材１５及び凹凸構造層２０と同一とした。
【０１０６】
【表１】
0005626667.tif 000002
【０１０７】
本件発明者が確認したところ、以上に説明した赤外線透過フィルム１０では、図１４及び図１５に示された結果でも実証されているように、赤外線透過フィルム１０のフィルム面への法線方向ｎｄに沿って入射する波長が７８０ｎｍよりも大きく２０００ｎｍ以下の赤外線帯域の光の最小透過率が、当該赤外線透過フィルム１０のフィルム面への法線方向ｎｄに沿って入射する波長が３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の可視光線帯域の光の最大透過率よりも、大きくなる傾向が生じた。すなわち、以上に説明した赤外線透過フィルム１０では、赤外線帯域の光の透過率が、可視光線帯域の光の透過率よりも大きくなり、赤外線帯域の光が、可視光線帯域の光よりも赤外線透過フィルム１０を透過しやすくなる。したがって、赤外線透過フィルム１０を透過した光には、赤外線透過フィルム１０への入射光と比較して、より高い割合で、赤外線帯域の光が含まれるようになる。
【０１０８】
さらに、図１４及び図１５にも示されているように、金属薄膜３０の成膜方法や厚みを調節することにより、赤外線透過フィルム１０のフィルム面への法線方向ｎｄに沿って入射する波長が７８０ｎｍよりも大きく２０００ｎｍ以下の赤外線帯域の光の最小透過率を、当該赤外線透過フィルム１０のフィルム面への法線方向ｎｄに沿って入射する波長が３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の可視光線帯域の光の最大透過率よりも、大きくすることができた。具体的には、平面視において同面積となる平坦面に成膜した場合に厚さが３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下となる条件にて、アルミニウム、アルミニウム合金、銀、又は、銀合金をスパッタリング又は蒸着して金属薄膜３０を形成した場合に、このような傾向がより顕著に現れた。
【０１０９】
さらに、図１４及び図１５に示された結果からも理解できるように、平面視において同面積となる平坦面に成膜した場合に厚さが３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下となる条件にて、アルミニウムまたはアルミニウム合金をスパッタリングして金属薄膜３０を形成することによって得られた場合、赤外線域の光の最大透過率が、或る程度高い値（４０％以上）となり且つ可視光線帯域の光の最大透過率を大きく（３０％程度）上回り、赤外線域の光を選択的に透過する赤外線フィルタとして有効に機能することが確認された。
【０１１０】
以上のように、凹凸構造層２０の凹凸面２１上に金属薄膜３０を形成してなる赤外線透過フィルム１０が、赤外線を選択的に透過させるようになることの原因の詳細は不明であるが、凹凸構造層２０の凹凸面２１に起因して形成される凹凸面１１による反射防止機能と、金属薄膜３０の形成による短波長側の光に対する反射防止機能の消失等が、組み合わさることにより、赤外線を選択的に透過させる機能が発現されるものと推察される。
【０１１１】
なお、図１４及び図１５において、サンプルａ１、ａ２，ｂ１，ｃ１についての透過率のスペクトル分布と、サンプルｅ１についての透過率のスペクトル分布とを比較することからも理解され得るように、樹脂フィルムの平坦な表面に金属薄膜を成膜した場合、当該樹脂フィルムに入射する光の透過率は、当該光の波長が長くなるにつれて低下するようになる。典型的には、赤外線域の光の透過率は、可視光線帯域の光の透過率と比較して大きく低下する。このような傾向は、金属薄膜がスパッタリング法により樹脂フィルムの平坦な表面に形成されている場合に、より顕著となる。樹脂フィルムの平坦な表面に金属薄膜を成膜した場合におけるこのような傾向に照らすと、凹凸構造層２０の凹凸面２１上に金属薄膜３０を形成することによって生じるようになる、可視光帯域の光よりも可視光帯域よりも長波長側の赤外線域の光がより透過しやすくなるといった作用効果は、従来の技術水準から予測される範囲を超えた顕著なものであると言える。
【０１１２】
＜＜赤外線透過フィルム１０の用途＞＞
以上に説明した赤外線透過フィルム１０は、赤外線域の光を可視光線帯域の光と比べてより高い透過率で透過させることができる。したがって、赤外線域の光を選択的に透過させる赤外線フィルタとして、赤外線カメラ、赤外線サーモグラフィ、光高温計、赤外線放射温度計等の種々の分野に広く適用され得る。
【０１１３】
また、赤外線透過フィルム１０は、従来の赤外線透過フィルタと比較して、安価に製造することができ、また、取り扱い性に優れる。とりわけ、赤外線透過フィルム１０の凹凸構造層２０が多峰性の微小突起２２を含む場合には、赤外線透過フィルム１０が優れた耐擦傷性を有するようになり、より過酷な用途への適用も可能となる。
【０１１４】
＜＜変形例＞＞
なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、変形の一例について説明する。以下の説明では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。
【０１１５】
例えば、上述した実施の形態において、凹凸構造体２０の凹凸面２１をなす微小突起２２が複数の頂部２３を有する例を示したが、これに限られず、すべての微小突起２２が頂部２３を一つしか有さないようにしてもよい。
【０１１６】
また、上述した実施の形態において、赤外線透過フィルム１０が、一方の面側のみに、凹凸構造層２０の凹凸面２１を有し且つ当該当該凹凸面２１上に金属薄膜３０が形成されている例を示したが、これに限られない。赤外線透過フィルム１０が、一方の面側および他方の面側の両側に凹凸構造層２０の凹凸面２１を有し、且つ、両方の凹凸面２１上に金属薄膜３０が形成されていてもよい。或いは、赤外線透過フィルム１０が、一方の面側および他方の面側の両側に凹凸構造層２０の凹凸面２１を有し、且つ、片方の凹凸面２１上のみに金属薄膜３０が形成されていてもよい。
【０１１７】
さらに、上述した実施の形態において、赤外線透過フィルム１０が、透明基材１５と、凹凸構造層２０と、金属薄膜３０と、からなる例を示したが、これに限られない。赤外線透過フィルム１０から透明基材１５が省かれてもよいし、赤外線透過フィルム１０に、他の層が追加されてもよい。
【符号の説明】
【０１１８】
１０   赤外線透過フィルム
１１   凹凸面
１２   微小突起
１５   透明基材
２０   凹凸構造層
２１   凹凸面
２２   微小突起
２３   頂部
３０   金属薄膜
【図１】
0005626667.tif 000003
【図２】
0005626667.tif 000004
【図６】
0005626667.tif 000005
【図７】
0005626667.tif 000006
【図８】
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【図９】
0005626667.tif 000008
【図１０】
0005626667.tif 000009
【図１１】
0005626667.tif 000010
【図１３】
0005626667.tif 000011
【図１４】
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【図１５】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図１２】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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