(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１導電型の半導体基板の表面に、互いに間隔を置いて設けられた第２導電型のソース領域とドレイン領域と、
前記ソース領域と前記ドレイン領域との間の前記半導体基板の表面近傍の領域であるチャネル形成領域と、
前記ソース領域と前記ドレイン領域と前記チャネル形成領域の上にゲート絶縁膜を介して設けられたフローティングゲート電極と、
前記フローティングゲート電極とコントロール絶縁膜を介して容量結合したコントロール電極と、
からなる電気的書き換え可能な半導体不揮発性メモリにおいて、
前記ドレイン領域内のトンネル領域と前記フローティングゲート電極との間には、第１のトンネル絶縁膜と第２のトンネル絶縁膜が設けられており、
前記第１のトンネル絶縁膜は、前記トンネル領域のエッジ部近傍に形成されており、
前記第２のトンネル絶縁膜は、前記トンネル領域の前記第１のトンネル絶縁膜が形成されていない領域に形成されており、
前記第１のトンネル絶縁膜の膜厚は、前記第２のトンネル絶縁膜の膜厚よりも大きく、前記ゲート絶縁膜の膜厚よりも小さく形成されている電気的書き換え可能な半導体不揮発性メモリ装置。
【請求項２】
前記第１のトンネル絶縁膜の幅は、前記第２のトンネル絶縁膜の厚さ以上である請求項１記載の電気的書き換え可能な半導体不揮発性メモリ装置。
【請求項３】
前記第２のトンネル絶縁膜の厚さは１００Å以下である請求項１記載の電気的書き換え可能な半導体不揮発性メモリ装置。
【請求項４】
前記第１のトンネル絶縁膜あるいは前記第２のトンネル絶縁膜の少なくとも一方は、シリコン酸化膜とシリコン窒化膜の複合膜である請求項１記載の電気的書き換え可能な半導体不揮発性メモリ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子機器に用いられる電気的書き換え可能な半導体不揮発性メモリ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電気的書き換え可能な半導体不揮発性メモリセル（以下ＥＥＰＲＯＭセルと略す）は、Ｐ型シリコン基板上にチャネル領域を介してＮ型ソース領域とＮ型ドレイン領域が配置され、Ｎ型ドレイン領域上の一部にトンネル領域を設け、約１００Åあるいはそれ以下の薄いシリコン酸化膜あるはシリコン酸化膜とシリコン窒化膜の複合膜などからなるトンネル絶縁膜を介してフローティングゲート電極が形成され、フローティングゲート電極上には薄い絶縁膜からなるコントロール絶縁膜を介してコントロールゲート電極が形成され、フローティングゲート電極はコントロールゲート電極と強く容量結合している。
【０００３】
フローティングゲート電極およびコントロールゲート電極は、チャネル領域上に延設されておりチャネル領域のコンダクタンスはフローティングゲート電極の電位によって変化する。
【０００４】
したがって、フローティングゲート電極中の電荷量を変えることにより情報を不揮発性で記憶することができる。トンネル領域を兼ねたドレイン領域にコントロールゲートに対して約１５ｖ以上の電位差を与えることにより、フローティングゲートの電子をトンネル領域のトンネル絶縁膜を介してドレイン領域に放出したり、逆にフローティングゲート電極に注入したりすることができる。
【０００５】
このようにして、フローティングゲートの電荷量を変化させて、不揮発性メモリとして機能させる。
【０００６】
このようなＥＥＰＲＯＭセルをマトリクス状に多数配置して、メモリアレイを形成し、大容量の不揮発性メモリ半導体装置を得る。
【０００７】
ここで、特に電子を通過させるトンネル絶縁膜を有するトンネル領域は重要で、数十万回に及ぶ多数回のメモリセル情報の書き換えを可能にすることや、メモリ情報の数十年にわたる長期保存（電荷の保持）の要求に対して支配的な役目を果たす。
【０００８】
トンネル領域およびトンネル絶縁膜の信頼性改善策として、ドレイン領域と隣接して不純物濃度の異なるトンネル領域を設けて書き換え特性や保持特性を向上させる例も提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平１−１６００５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、改善例のようにドレイン領域と別に専用のトンネル領域を設ける半導体装置においては、占有面積が増大し半導体装置のコストアップに繋がるなどの問題点があった。また、書き換え特性や保持特性に顕著に影響を与えるトンネル領域のエッジへの配慮はなされていなかった。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記問題点を解決するために、本発明は半導体装置を以下のように構成した。
第１導電型の半導体表面領域の表面に、互いに間隔を置いて設けられた第２導電型のソース領域とドレイン領域と、前記ソース領域と前記ドレイン領域との間の前記半導体領域表面であるチャネル形成領域と、前記ソース領域と前記ドレイン領域と前記チャネル形成領域の上にゲート絶縁膜を介して設けられたフローティングゲート電極と、前記フローティングゲート電極とコントロール絶縁膜を介して容量結合したコントロール電極とからなる電気的書き換え可能な半導体不揮発性メモリにおいて、前記ドレイン領域内のトンネル領域と前記フローティングゲート電極領域との間には、第１のトンネル絶縁膜と第２のトンネル絶縁膜が設けられており、前記第１のトンネル絶縁膜は、前記トンネル領域のエッジ部近傍に形成されており、前記第２のトンネル絶縁膜は前記トンネル領域の前記第１のトンネル絶縁膜か形成されていない領域に形成されており、前記第１のトンネル絶縁膜の膜厚は、前記第２のトンネル絶縁膜の膜厚よりも大きく、前記ゲート絶縁膜よりも小さく形成されている電気的書き換え可能な半導体不揮発性メモリ装置とした。
【００１２】
また、前記第１のトンネル絶縁膜の幅は、前記第２のトンネル絶縁膜の厚さ以上である請求項１記載の電気的書き換え可能な半導体不揮発性メモリ装置とした。
【００１３】
また、前記第２のトンネル絶縁膜の厚さは１００Å以下である請求項１記載の電気的書き換え可能な半導体不揮発性メモリ装置とした。
【００１４】
また、前記第１のトンネル絶縁膜あるいは前記第２のトンネル絶縁膜の少なくとも一方は、シリコン酸化膜とシリコン窒化膜の複合膜である請求項１記載の電気的書き換え可能な半導体不揮発性メモリ装置とした。
【発明の効果】
【００１５】
これらの手段によって、電気的書き換え可能な半導体不揮発性メモリ装置における書き換え特性や保持特性に顕著に影響を与えるトンネル領域の欠陥の生じやすいエッジ部の絶縁膜を厚くして膜質の劣化を抑え、エッジ部への電界集中を防止し、占有面積を増加することなくトンネル絶縁膜の劣化を抑制して高い信頼性を持った電気的書き換え可能な半導体不揮発性メモリ装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明による電気的書き換え可能な半導体不揮発性メモリ装置の模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。
【実施例１】
【００１８】
図１は、本発明による電気的書き換え可能な半導体不揮発性メモリ装置の模式的断面図である。
第１導電型のＰ型の半導体基板１０１表面に、互いに間隔を置いて第２導電型のＮ型のソース領域２０１とドレイン領域２０２とが設けられ、ソース領域２０１とドレイン領域２０２との間のＰ型の半導体基板１０１表面であるチャネル形成領域と、ソース領域２０１とドレイン領域２０２とチャネル形成領域の上には、例えばシリコン酸化膜からなる厚さ４００Åのゲート絶縁膜３０１を介してポリシリコンなどからなるフローティングゲート電極５０１が設けられ、フローティングゲート電極５０１上には、シリコン酸化膜やシリコン窒化膜あるいはそれらの複合膜などからなるコントロール絶縁膜６０１を介して容量結合したポリシリコンなどからなるコントロール電極７０１が形成されており、ドレイン領域２０２内のトンネル領域８０１とフローティングゲート電極５０１との間には、トンネル領域８０１のエッジ部近傍に第１のトンネル絶縁膜４０２が、また、トンネル領域８０１のエッジ部近傍以外の第１のトンネル絶縁膜４０２が形成されていない領域には第２のトンネル絶縁膜４０１が設けられており、第１のトンネル絶縁膜４０２の膜厚は例えば２００Åに設定され、第２のトンネル絶縁膜４０１の膜厚は８０Åに設定され、第１のトンネル絶縁膜４０２の膜厚は、第２のトンネル絶縁膜４０１の膜厚よりも大きく、ゲート絶縁膜３０１よりも小さくなるように形成されている。
【００１９】
ここで、第１のトンネル絶縁膜４０２の幅は、第２のトンネル絶縁膜４０１の厚さ以上にすることで、効果的にトンネル領域８０１のエッジ部分でのドレイン領域２０２とフローティングゲート電極５０１との間の電荷の通過を抑制し、エッジ部への電界の集中を防止することができ、第１のトンネル絶縁膜４０２の劣化を防止することができる。
【００２０】
また、第２のトンネル絶縁膜４０１の厚さを１００Å以下とすることにより、ドレイン領域２０２とコントロール電極７０１との電位差がより小さい状態でもトンネル現象を発生させることができる。
【００２１】
また、第１のトンネル絶縁膜４０２あるいは第２のトンネル絶縁膜４０１の少なくとも一方を、シリコン酸化膜とシリコン窒化膜の複合膜とすることにより電子の通過による情報書き換えの回数の増加、および電荷保持特性の向上に寄与できる。
【００２２】
これらの手段によって、電気的書き換え可能な半導体不揮発性メモリ装置における書き換え特性や保持特性に顕著に影響を与えるドレイン領域２０２内のトンネル領域８０１の欠陥の生じやすいエッジ部のトンネル絶縁膜を厚くして膜質の劣化を抑え、トンネル領域８０１のエッジ部への電界集中を防止し、占有面積を増加することなくトンネル絶縁膜の劣化を抑制して高い信頼性を持った電気的書き換え可能な半導体不揮発性メモリ装置を得ることができる。
【符号の説明】
【００２３】
１０１  Ｐ型のシリコン基板
２０１  Ｎ型ソース領域
２０２  Ｎ型ドレイン領域
３０１  ゲート絶縁膜
４０１  第２のトンネル絶縁膜
４０２  第１のトンネル絶縁膜
５０１  フローティングゲート電極
６０１  コントロール絶縁膜
７０１  コントロールゲート電極
８０１  トンネル領域
【図１】
0005606235.tif 000002