(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データでありエンボス版の製造に用いられるハイトデータのシームレス処理を行うテクスチュアデータ処理装置であって、
前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出手段と、
前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点により生成されるテクスチュアデータに基づくハイトデータを生成する制御点付加手段と、
前記ハイトデータの画素値に応じて、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きするテクスチュア上書き手段と、
を具備することを特徴とするテクスチュアデータ処理装置。
【請求項２】
前記ハイトデータ上書き手段は、
前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータの画素値と、前記所定の範囲の一方の端部のハイトデータの画素値を、対応する位置において比較し、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータの画素値が示すテクスチュアの高さが、前記所定の範囲の一方の端部のハイトデータの画素値が示すテクスチュアの高さよりも高い場合、前記位置における画素値を前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータの画素値とし、
前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータの画素値と、前記所定の範囲の他方の端部のハイトデータの画素値を、対応する位置において比較し、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータの画素値が示すテクスチュアの高さが、前記所定の範囲の他方の端部のハイトデータの画素値が示すテクスチュアの高さよりも高い場合、前記位置における画素値を前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータの画素値とすることを特徴とする請求項１記載のテクスチュアデータ処理装置。
【請求項３】
テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データでありエンボス版の製造に用いられるハイトデータのシームレス処理を行うテクスチュアデータ処理装置であって、
前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出手段と、
前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点によりテクスチュアデータを生成する制御点付加手段と、
前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置に上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置に上書きし、テクスチュアデータによるハイトデータを生成するテクスチュア上書き手段と、
を具備することを特徴とするテクスチュアデータ処理装置。
【請求項４】
前記テクスチュア上書き手段は、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータまたはテクスチュアデータを、前記所定の範囲の一方の端部に上書きする際、前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部から所定量ずらした位置に上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータまたはテクスチュアデータを、前記所定の範囲の他方の端部に上書きする際、前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った他方の端部から所定量ずらした位置に上書きすることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載のテクスチュアデータ処置装置。
【請求項５】
前記テクスチュアデータには、前記所定の方向に沿って、その高さ位置が周期性を有する部分が含まれ、
前記所定の範囲は、前記所定の方向に沿った一端と他端で前記高さ位置の位相が一致するものであることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載のテクスチュアデータ処理装置。
【請求項６】
前記テクスチュアデータは、たて糸、よこ糸を有する織物のデータであり、前記所定の方向は、前記たて糸に沿った方向、前記よこ糸に沿った方向であることを特徴とする請求項５記載のテクスチュアデータ処理装置。
【請求項７】
テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データでありエンボス版の製造に用いられるハイトデータのシームレス処理を行うテクスチュアデータ処理装置を用いたテクスチュアデータ処理方法であって、
前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出ステップと、
前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点により生成されるテクスチュアデータに基づくハイトデータを生成する制御点付加ステップと、
前記ハイトデータの画素値に応じて、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きするテクスチュア上書きステップと、
を具備することを特徴とするテクスチュアデータ処理方法。
【請求項８】
テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データでありエンボス版の製造に用いられるハイトデータのシームレス処理を行うテクスチュアデータ処理装置を用いたテクスチュアデータ処理方法であって、
前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出ステップと、
前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点によりテクスチュアデータを生成する制御点付加ステップと、
前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置に上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置に上書きし、テクスチュアデータによるハイトデータを生成するテクスチュア上書きステップと、
を具備することを特徴とするテクスチュアデータ処理方法。
【請求項９】
コンピュータを請求項１から請求項８のいずれかに記載のテクスチュアデータ処理装置として機能させるためのプログラム。
【請求項１０】
テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データであるハイトデータのシームレス処理を行い、シームレス処理されたハイトデータを用いてエンボス版の製造を行うエンボス版製造装置であって、
前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出手段と、
前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点により生成されるテクスチュアデータに基づくハイトデータを生成する制御点付加手段と、
前記ハイトデータの画素値に応じて、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きするテクスチュア上書き手段と、
前記テクスチュア上書き手段により生成されたハイトデータを複数並べて出力するハイトデータ出力手段と、
前記ハイトデータ出力手段により出力されたハイトデータに基づいて、テクスチュアの表面形状をエンボス版シリンダに形成したエンボス版を製造するエンボス版製造手段と、
を具備することを特徴とするエンボス版製造装置。
【請求項１１】
テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データであるハイトデータのシームレス処理を行い、シームレス処理されたハイトデータを用いてエンボス版の製造を行うエンボス版製造装置であって、
前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出手段と、
前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点によりテクスチュアデータを生成する制御点付加手段と、
前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置に上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置に上書きし、テクスチュアデータによるハイトデータを生成するテクスチュア上書き手段と、
前記テクスチュア上書き手段により生成されたハイトデータを複数並べて出力するハイトデータ出力手段と、
前記ハイトデータ出力手段により出力されたハイトデータに基づいて、テクスチュアの表面形状をエンボス版シリンダに形成したエンボス版を製造するエンボス版製造手段と、
を具備することを特徴とするエンボス版製造装置。
【請求項１２】
前記エンボス版製造手段は、前記エンボス版シリンダに対して、打刻刃またはレーザビームを用いて前記テクスチュアの表面形状を彫刻する彫刻手段であることを特徴とする請求項１０または請求項１１に記載のエンボス版製造装置。
【請求項１３】
前記エンボス版製造手段は、
レジスト層をコーティングした前記エンボス版シリンダ、または該エンボス版シリンダへの露光処理に用いるフォトマスクに対して、前記ハイトデータに基づく露光パターンを形成するパターン露光手段と、
前記露光パターンが形成された前記エンボス板シリンダ、または前記フォトマスクに対して腐食処理を施す腐食手段と、
を含むことを特徴とする請求項１０または請求項１１に記載のエンボス版製造装置。
【請求項１４】
テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データであるハイトデータのシームレス処理を行い、シームレス処理されたハイトデータを用いてエンボス版の製造を行うエンボス版製造装置を用いたエンボス版製造方法であって、
前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出ステップと、
前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点により生成されるテクスチュアデータに基づくハイトデータを生成する制御点付加ステップと、
前記ハイトデータの画素値に応じて、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きするテクスチュア上書きステップと、
前記テクスチュア上書き手段により生成されたハイトデータを複数並べて出力するハイトデータ出力ステップと、
前記ハイトデータ出力手段により出力されたハイトデータに基づいて、テクスチュアの表面形状をエンボス版シリンダに形成したエンボス版を製造するエンボス版製造ステップと、
を具備することを特徴とするエンボス版製造方法。
【請求項１５】
テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データであるハイトデータのシームレス処理を行い、シームレス処理されたハイトデータを用いてエンボス版の製造を行うエンボス版製造装置を用いたエンボス版製造方法であって、
前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出ステップと、
前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点によりテクスチュアデータを生成する制御点付加ステップと、
前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置に上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置に上書きし、テクスチュアデータによるハイトデータを生成するテクスチュア上書きステップと、
前記テクスチュア上書き手段により生成されたハイトデータを複数並べて出力するハイトデータ出力ステップと、
前記ハイトデータ出力手段により出力されたハイトデータに基づいて、テクスチュアの表面形状をエンボス版シリンダに形成したエンボス版を製造するエンボス版製造ステップと、
を具備することを特徴とするエンボス版製造方法。
【請求項１６】
請求項１０または請求項１１に記載のエンボス版製造装置によって製造されたエンボス版を用いてシート表面形状を加工したシート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はテクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データでありエンボス版の製造に用いられるハイトデータのシームレス処理を行うテクスチュアデータ処理装置、テクスチュアデータ処理方法、プログラム、およびシームレス処理されたハイトデータを用いてエンボス版の製造を行うエンボス版製造装置、エンボス版製造方法、さらにはこれにより作製されるシートに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、建材の壁紙等に用いられるエンボス版またはシートの意匠には、織物布地等のテクスチュアに近い表面形状を有するものがある。このようなシートの製造工程には、テクスチュア表面形状のエンボス版を製造するために織物布地等のテクスチュアの型を取る工程が含まれる。型取りの方法には、シリコンやスキャナを用いて対象の素材から型を取得する手法と、コンピュータ等の計算装置を用いてテクスチュア表面の凹凸の質感をデータとして生成する手法とがある。
【０００３】
コンピュータ等を用いて織物布地等のテクスチュア表面形状を有するエンボス版またはシートを生成する技術としては、例えば、特許文献１、２、３に示すものが公知である。特許文献１では、たて糸とよこ糸を交互に織った「平織」布地を表現したシートを作成するため、布領域のサイズ、糸幅、繊維幅、糸の高さ等のパラメータを用い、たて糸及びよこ糸の相対座標値を算出し、その相対座標値に基づいて布領域における各画素の高さを決定し、織物データを生成する手法が開示されている。また、特許文献２は、特許文献１を基本概念として、たて糸とよこ糸とがほぼ２対１の割合で表れる「綾織り」布地を表現したシートを作成するものである。また、特許文献３では、絹調の布地を表現したシートを作成するために、光の乱反射を多く発生させる多角錐形状を布領域内に適用し、その座標値に応じた高さを決定し、織物データを作成している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−５８４５９号公報
【特許文献２】特開２００１−１７９８２５号公報
【特許文献３】特開２００１−１１３８９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述の特許文献１〜３に記載された織物データは、繊維のレベルまで細密に表現したモデルではない。そのため布地表面から繊維の飛び出した、いわゆる「ケバ」や、撚り糸の太さのばらつきである「ムラ」といった実際の布地の質感を表現できる程、精細なものではなかった。
【０００６】
また、上記のように自動生成した、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データであるハイトデータを用いてエンボス版を製造する際には、当該ハイトデータを縦横に並べるようにしてエンボス版のサイズに応じたハイトデータを形成する必要があるが、その際には、テクスチュア（ハイトデータ）のつなぎ目をシームレスに処理する必要がある。これを行わないと、エンボス版を用いて作製した壁紙等で、ハイトデータの繋ぎ目で一定の模様が形成され、これが不自然に見えることなどがあるためである。
【０００７】
特に、上記のようにケバやムラといった実際の布地の質感等を微細に表現するようなテクスチュアでは、これらのケバやムラの微細な形状まで考慮してシームレス処理する必要があり、単に画素値を滑らかに連続させるといった処理だけでは不自然な画像となる可能性がある。
【０００８】
本発明は、前述した問題点に鑑みてなされたもので、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データであるハイトデータのシームレス処理を行い、ハイトデータを用いたエンボス版の製造時にテクスチュアの繋ぎ目を目立たなくするテクスチュアデータ処理装置等を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前述した目的を達成するために第１の発明は、テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データでありエンボス版の製造に用いられるハイトデータのシームレス処理を行うテクスチュアデータ処理装置であって、前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出手段と、前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点により生成されるテクスチュアデータに基づくハイトデータを生成する制御点付加手段と、前記ハイトデータの画素値に応じて、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きするテクスチュア上書き手段と、を具備することを特徴とするテクスチュアデータ処理装置である。
【００１０】
また、前記ハイトデータ上書き手段は、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータの画素値と、前記所定の範囲の一方の端部のハイトデータの画素値を、対応する位置において比較し、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータの画素値が示すテクスチュアの高さが、前記所定の範囲の一方の端部のハイトデータの画素値が示すテクスチュアの高さよりも高い場合、前記位置における画素値を前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータの画素値とし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータの画素値と、前記所定の範囲の他方の端部のハイトデータの画素値を、対応する位置において比較し、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータの画素値が示すテクスチュアの高さが、前記所定の範囲の他方の端部のハイトデータの画素値が示すテクスチュアの高さよりも高い場合、前記位置における画素値を前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータの画素値とすることが望ましい。
【００１１】
前述した目的を達成するために第２の発明は、テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データでありエンボス版の製造に用いられるハイトデータのシームレス処理を行うテクスチュアデータ処理装置であって、前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出手段と、前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点によりテクスチュアデータを生成する制御点付加手段と、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置に上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置に上書きし、テクスチュアデータによるハイトデータを生成するテクスチュア上書き手段と、を具備することを特徴とするテクスチュアデータ処理装置である。
【００１２】
また、第１の発明または第２の発明の前記テクスチュア上書き手段は、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータまたはテクスチュアデータを、前記所定の範囲の一方の端部に上書きする際、前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部から所定量ずらした位置に上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータまたはテクスチュアデータを、前記所定の範囲の他方の端部に上書きする際、前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った他方の端部から所定量ずらした位置に上書きするようにしてもよい。
【００１３】
また、前記テクスチュアデータには、前記所定の方向に沿って、その高さ位置が周期性を有する部分が含まれ、前記所定の範囲は、前記所定の方向に沿った一端と他端で前記高さ位置の位相が一致するものとすることができる。
さらに、前記テクスチュアデータは、たて糸、よこ糸を有する織物のデータであり、前記所定の方向は、前記たて糸に沿った方向、前記よこ糸に沿った方向とすることができる。
【００１４】
また、第３の発明は、テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データでありエンボス版の製造に用いられるハイトデータのシームレス処理を行うテクスチュアデータ処理装置を用いたテクスチュアデータ処理方法であって、前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出ステップと、前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点により生成されるテクスチュアデータに基づくハイトデータを生成する制御点付加ステップと、前記ハイトデータの画素値に応じて、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きするテクスチュア上書きステップと、を具備することを特徴とするテクスチュアデータ処理方法である。
【００１５】
また、第４の発明は、テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データでありエンボス版の製造に用いられるハイトデータのシームレス処理を行うテクスチュアデータ処理装置を用いたテクスチュアデータ処理方法であって、前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出ステップと、前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点によりテクスチュアデータを生成する制御点付加ステップと、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置に上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置に上書きし、テクスチュアデータによるハイトデータを生成するテクスチュア上書きステップと、を具備することを特徴とするテクスチュアデータ処理方法である。
【００１６】
また、第５の発明は、コンピュータを第１の発明または第２の発明に記載のテクスチュアデータ処理装置として機能させるためのプログラムである。
【００１７】
また、第６の発明は、テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データであるハイトデータのシームレス処理を行い、シームレス処理されたハイトデータを用いてエンボス版の製造を行うエンボス版製造装置であって、前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出手段と、前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点により生成されるテクスチュアデータに基づくハイトデータを生成する制御点付加手段と、前記ハイトデータの画素値に応じて、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きするテクスチュア上書き手段と、前記テクスチュア上書き手段により生成されたハイトデータを複数並べて出力するハイトデータ出力手段と、前記ハイトデータ出力手段により出力されたハイトデータに基づいて、テクスチュアの表面形状をエンボス版シリンダに形成したエンボス版を製造するエンボス版製造手段と、を具備することを特徴とするエンボス版製造装置である。
【００１８】
また、第７の発明は、テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データであるハイトデータのシームレス処理を行い、シームレス処理されたハイトデータを用いてエンボス版の製造を行うエンボス版製造装置であって、前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出手段と、前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点によりテクスチュアデータを生成する制御点付加手段と、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置に上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置に上書きし、テクスチュアデータによるハイトデータを生成するテクスチュア上書き手段と、前記テクスチュア上書き手段により生成されたハイトデータを複数並べて出力するハイトデータ出力手段と、前記ハイトデータ出力手段により出力されたハイトデータに基づいて、テクスチュアの表面形状をエンボス版シリンダに形成したエンボス版を製造するエンボス版製造手段と、を具備することを特徴とするエンボス版製造装置である。
【００１９】
第６の発明、第７の発明のエンボス版製造装置において、前記エンボス版製造手段は、前記エンボス版シリンダに対して、打刻刃またはレーザビームを用いて前記テクスチュアの表面形状を彫刻する彫刻手段とすることができる。
【００２０】
また、第６の発明、第７の発明のエンボス版製造装置において、前記エンボス版製造手段は、レジスト層をコーティングした前記エンボス版シリンダ、または該エンボス版シリンダへの露光処理に用いるフォトマスクに対して、前記ハイトデータに基づく露光パターンを形成するパターン露光手段と、前記露光パターンが形成された前記エンボス板シリンダ、または前記フォトマスクに対して腐食処理を施す腐食装置と、を含むことも望ましい。
【００２１】
また、第８の発明は、テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データであるハイトデータのシームレス処理を行い、シームレス処理されたハイトデータを用いてエンボス版の製造を行うエンボス版製造装置を用いたエンボス版製造方法であって、前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出ステップと、前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点により生成されるテクスチュアデータに基づくハイトデータを生成する制御点付加ステップと、前記ハイトデータの画素値に応じて、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きするテクスチュア上書きステップと、前記テクスチュア上書き手段により生成されたハイトデータを複数並べて出力するハイトデータ出力ステップと、前記ハイトデータ出力手段により出力されたハイトデータに基づいて、テクスチュアの表面形状をエンボス版シリンダに形成したエンボス版を製造するエンボス版製造ステップと、を具備することを特徴とするエンボス版製造方法である。
【００２２】
また、第９の発明は、テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データであるハイトデータのシームレス処理を行い、シームレス処理されたハイトデータを用いてエンボス版の製造を行うエンボス版製造装置を用いたエンボス版製造方法であって、前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出ステップと、前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点によりテクスチュアデータを生成する制御点付加ステップと、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置に上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置に上書きし、テクスチュアデータによるハイトデータを生成するテクスチュア上書きステップと、前記テクスチュア上書き手段により生成されたハイトデータを複数並べて出力するハイトデータ出力ステップと、前記ハイトデータ出力手段により出力されたハイトデータに基づいて、テクスチュアの表面形状をエンボス版シリンダに形成したエンボス版を製造するエンボス版製造ステップと、を具備することを特徴とするエンボス版製造方法である。
【００２３】
また、第１０の発明は、第６の発明または第７の発明のエンボス版製造装置によって製造されたエンボス版を用いてシート表面形状を加工した壁紙シートである。
【００２４】
以上の構成により、テクスチュアの微細な形状を表すテクスチュアデータを反映させたハイトデータのシームレス処理を行うので、精密なシームレス処理を行うことができ、テクスチュアデータが繊維のケバ等の不規則な部分を有する場合でも精度の高いシームレス処理を行うことができる。また、複数並べたときに端部が滑らかに連続するハイトデータの１単位の処理を行うので、扱うデータが小さく、計算処理にかかる負担を軽減することができ、高解像度のデータであっても計算処理の負担を抑えることができるという利点を有する。また、テクスチュアの上書きの際に上書き位置を所定量ずらすことで、シームレス処理されたハイトデータを所定量ずらして並べその繋ぎ目がより自然に見えるようにすることもできる。また、たて糸、よこ糸により構成される織物のデータなど、テクスチュアデータが所定の方向に沿って高さ位置に周期性を有する場合は、所定の範囲を周期性を考慮して定めることでハイトデータを滑らかに連続させることができる。さらに、このようにシームレス処理され複数並べたハイトデータをエンボス版の製造に用いることで、エンボス版として、テクスチュアの微細な形状を表現し、複数並べたテクスチュアの表面形状（ハイトデータ）どうしが滑らかに連続するものを作製することができる。このようなエンボス版で作製したシートは、微細な形状を表現するとともに、繋ぎ目が不自然に見えたりすることがなく、意匠性に優れたものとなる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データであるハイトデータのシームレス処理を行い、ハイトデータを用いたエンボス版の製造時にテクスチュアの繋ぎ目を目立たなくするテクスチュアデータ処理装置等を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】テクスチュアデータ処理装置１のハードウエア構成を示すブロック図
【図２】テクスチュアデータ処理装置１の機能ブロック図
【図３】テクスチュアデータ処理の流れを示すフローチャート
【図４】テクスチュアデータ生成の流れを示すフローチャート
【図５】繊維データについて説明する図
【図６】円柱モデル３４の糸データについて説明する図
【図７】円錐台モデル３６について説明する図
【図８】糸データの３Ｄ画像の一例
【図９】織物の組織について説明する図。（Ａ）は平織、（Ｂ）は綾織。
【図１０】糸の変形について説明する図
【図１１】ベジエ曲線に基づいて変形された糸の３Ｄ画像の一例
【図１２】生成された織物データの３Ｄ画像の一例
【図１３】糸の太さの「ムラ」を表現した織物データの３Ｄ画像の一例
【図１４】糸データに「ケバ」を付加した織物データの３Ｄ画像の一例
【図１５】生成されたハイトデータの画像の一例
【図１６】生成されたハイトデータの画像の一例
【図１７】シームレス処理の流れを示すフローチャート
【図１８】制御点の抽出について説明する図
【図１９】制御点によるテクスチュアデータ生成について説明する図
【図２０】制御点の付加とハイトデータの上書きについて説明する図
【図２１】上書きされた後のハイトデータを説明する図
【図２２】連続するハイトデータについて説明する図
【図２３】ハイトデータの上書きと複数並べた配置を説明する図
【図２４】複数並べたハイトデータの画像の一例
【図２５】ハイトデータの上書きと複数並べた配置を説明する図
【図２６】織物布地調エンボス版製造装置９のハードウエア構成の一例を示すブロック図
【図２７】エンボス版製造装置９Ａの全体構成図
【図２８】エンボス版製造装置９Ｂの全体構成図
【図２９】エンボス版の製造に供するフォトマスクの製造装置９Ｃを説明する図
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、図面に基づいて本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。
【００２８】
［第1の実施の形態］
まず、本発明に係るテクスチュアデータ処理装置１について説明する。
図１は、本実施の形態のテクスチュアデータ処理装置１のハードウエア構成を示す。
テクスチュアデータ処理装置１は、図１に示すように、例えば、制御部１０、記憶部１１、メディア入出力部１２、周辺機器Ｉ／Ｆ部１３、通信部１４、入力部１５、表示部１６、印刷部１７等がバス１８を介して接続されて構成される。
【００２９】
制御部１０は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｓｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）等により構成される。
ＣＰＵは、記憶部１１、ＲＯＭ、記録媒体等に格納されるプログラムをＲＡＭ上のワークメモリ領域に呼び出して実行し、バス１８を介して接続された各部を駆動制御する。制御部１０のＣＰＵは後述するテクスチュアデータ処理（図３参照）を実行する。
【００３０】
ＲＯＭは、コンピュータのブートプログラムやＢＩＯＳ等のプログラム、データ等を恒久的に保持する。ＲＡＭは、ロードしたプログラムやデータを一時的に保持するとともに、制御部１０が各種処理を行うために使用するワークエリアを備える。
【００３１】
記憶部１１は、ＨＤＤ（ハードディスクドライブ）であり、制御部１０が実行するプログラムや、プログラム実行に必要なデータ、ＯＳ（オペレーティング・システム）等が格納されている。これらのプログラムコードは、制御部１０により必要に応じて読み出されてＲＡＭに移され、ＣＰＵに読み出されて実行される。
【００３２】
メディア入出力部１２（ドライブ装置）は、例えば、フロッピー（登録商標）ディスクドライブ、ＰＤドライブ、ＣＤドライブ、ＤＶＤドライブ、ＭＯドライブ等のメディア入出力装置であり、データの入出力を行う。
【００３３】
通信部１４は、通信制御装置、通信ポート等を有し、ネットワークとの通信を媒介する通信インタフェースであり、通信制御を行う。
入力部１５は、例えば、キーボード、マウス等のポインティング・デバイス、テンキー等の入力装置であり、入力されたデータを制御部１０へ出力する。
【００３４】
表示部１６は、例えば液晶パネル、ＣＲＴモニタ等のディスプレイ装置と、ディスプレイ装置と連携して表示処理を実行するための論理回路（ビデオアダプタ等）で構成され、制御部１０の制御により入力された表示情報をディスプレイ装置上に表示させる。
印刷部１７は、プリンタであり、生成されたハイトデータ等の画像の印刷処理等を行う。
【００３５】
次に、本発明のテクスチュアデータ処理装置１の機能について、図２を参照して説明する。なお、本実施形態では、テクスチュアデータとしてたて糸、よこ糸を有する織物のデータの例をあげて説明する。ただし、テクスチュアデータはこれに限られることはない。
【００３６】
図２に示すように、テクスチュアデータ処理装置１の制御部１０は、テクスチュアデータ（織物データ）のハイトデータを生成するための機能として、テクスチュアデータ生成部１９と、シームレス処理部２０、出力部３０を有する。テクスチュアデータ生成部１９は、パラメータ入力部２１、繊維形状生成部２２、糸の形状生成部２３、織物の組織生成部２４、織物の形状生成部２５、階調画像生成部２６を有する。シームレス処理部２０は、制御点抽出部２７、制御点付加部２８、テクスチュア上書き部２９を有する。
【００３７】
すなわち、制御部１０は、テクスチュアの高さ情報を画素値で表すハイトデータを生成するために、テクスチュアデータ処理装置１の各部を制御して、パラメータ入力、繊維形状生成、糸の形状生成、織物の組織生成、織物の形状生成、階調画像生成の各処理を行い、生成したハイトデータのシームレス処理を行うために、テクスチュアデータ処理装置１の各部を制御して、制御点抽出、制御点付加、テクスチュア上書きの各処理を行い、生成したハイトデータの出力を行う。これらの処理の詳細については後述する。
【００３８】
次に、テクスチュアデータ処理装置１の動作を説明する。
図３のフローチャートに示すように、テクスチュアデータ処理装置１の制御部１０は、テクスチュアデータ生成ステップ（ステップＳ１）、ハイトデータのシームレス処理ステップ（ステップＳ２）、及び出力ステップ（ステップＳ３）の各ステップを含むテクスチュアデータ処理プログラムを実行することにより、テクスチュアデータのハイトデータを生成し、ハイトデータのシームレス処理を行い、シームレス処理後のハイトデータを複数並べて出力する。
【００３９】
まず、テクスチュアデータ生成ステップＳ１における処理を説明する。テクスチュアデータ生成ステップとしては、図４に示すように、パラメータ入力ステップ（ステップＳ１１）、繊維形状生成ステップ（ステップＳ１２）、糸の形状生成ステップ（ステップＳ１３）、織物の組織生成ステップ（ステップＳ１４）、織物の形状生成ステップ（ステップＳ１５）、階調画像生成ステップ（ステップＳ１６）が含まれ、テクスチュアの高さ情報を表すデータであるハイトデータを生成する。
【００４０】
＜パラメータ入力ステップ（図４のステップＳ１１）＞
本実施の形態のテクスチュアデータ処理装置１において、制御部１０は、まず、後述する繊維生成ステップＳ１２、糸の形状生成ステップＳ１３、織物の組織生成ステップＳ１４、織物の形状生成ステップＳ１５、階調画像生成ステップＳ１６で利用されるパラメータの入力を受け付ける。
【００４１】
繊維生成ステップＳ１２で利用されるパラメータとしては、繊維の長さ、繊維の揺らぎの幅、及び繊維の分節数等が挙げられる。
糸の形状生成ステップＳ１３で利用されるパラメータとしては、糸の単位長さ当りの繊維数、繊維の撚り（回転角度）、糸の半径、糸の形状を表現するモデルを定義する関数等が挙げられる。
織物の組織生成ステップＳ１４で利用されるパラメータとしては、織物の一組織におけるたて糸及びよこ糸の表裏配置情報を定義する二値の行列等が挙げられる。
織物の形状生成ステップＳ１５で利用されるパラメータとしては、たて糸及びよこ糸の間隔、繊維の「ケバ」や「ムラ」を調整するための値等が挙げられる。
階調画像生成ステップＳ１６で利用されるパラメータとしては、階調数等が挙げられる。
【００４２】
各種パラメータの入力を受け付ける際、制御部１０は必要なパラメータを入力するための入力画面を生成し、表示部１６に表示するようにしてもよい。また、制御部１０は、入力部１５から入力されたパラメータを、ＲＡＭに保持する。入力されたパラメータは、各ステップで読み出され、繊維データ、糸データ、または織物データの生成に使用される。
【００４３】
＜繊維形状生成ステップ（図４のステップＳ１２）＞
次に、制御部１０は、繊維の形状を定義する。
制御部１０は、入力されたパラメータ「繊維の長さ」に基づいて、３次元空間内に任意の長さの線または任意数の点群の集合を設定する。ここで、線とは、直線、曲線、または曲線の集合を含むものとする。以下の説明では、繊維を定義するため、任意の長さの線分を繊維データとして３次元空間内に設定する。そして、パラメータ「分節数」に基づいて、その線分（任意の長さの線または任意数の点群の集合を設定した場合は、線または点群の集合）を区切り、各ノード（区切られた線分の１要素）をパラメータ「繊維の揺らぎ」の幅内にランダムに揺らして配置することにより、繊維データを生成する。
【００４４】
具体的には、図５（Ａ）に示すように、繊維３１の両端を含む分節数をＮｎとした場合、線分の始点の座標をｎ０、終点の座標をｎＮｎ−１、ｉ番目のノードの始点の座標をｎiとする。これらの座標ｎ０、ｎＮｎ−１、ｎiは３次元ベクトルで表される。
ｉ番目のノードの始点の座標ｎｉは、次の式（１）に示す位置となる。
【００４５】
【数１】
0005471495.tif 000002
【００４６】
ここで、Ｚｎは、各ノードに揺らぎを与えるために設定される３次元ベクトルである。Ｚｎの各要素を、区間［ＪｇＭｉｎ，ＪｇＭａｘ］の乱数とすれば、ランダムな揺らぎをもつ繊維を表現できる。
【００４７】
また、定義した繊維データに、図５（Ｂ）に示すような所望の表面形状を付加してもよい。繊維の表面の形状は、定義した繊維データ上のサンプル点ｓを中心とした、球表面の関数である式（２）の論理和として定義する。或いは、多角形によって定義する。
【００４８】
【数２】
0005471495.tif 000003
【００４９】
ここで、ｘは３次元ベクトルであり、ｒｎはサンプル点ｓから表面までの距離とする。
【００５０】
＜糸の形状生成ステップ（図４のステップＳ１３）＞
次に、制御部１０は、糸の形状を定義する。糸は、繊維を束ね、撚ったものとして表現される。
【００５１】
糸の形状を表現するため、所定の閉じた空間内に、繊維データが所定数配置される。このような糸のモデルを閉空間モデルと呼ぶものとする。閉空間モデルは、その閉空間を表現する関数によって定義される。
閉空間モデルの一例として、例えば、図６に示すような、所定の単位長の長さ及びパラメータ「糸の半径」分の半径ｒを持つ円柱モデル３４を使用する。
制御部１０は、まず、円柱モデル３４内に、繊維データ３１，３１，３１，・・・をパラメータ「繊維数」だけ略平行に配置する（図６（Ａ））。
各繊維データ３１，３１，３１，・・・は、円柱モデル３４の上面と下面とを結ぶ方向（図中ｚ方向）に対して略平行に配置されるものとする。
【００５２】
具体的には、制御部１０は、繊維生成ステップＳ１２で生成された繊維データ３１に対して、平行移動等の処理を行い、円柱モデル３４内に複数の繊維３１をランダムに配置する。
各繊維の移動のベクトルＴｔ＝（Ｔｔｘ，Ｔｔｙ，Ｔｔｚ）は式（３）の値となる。
【００５３】
【数３】
0005471495.tif 000004
【００５４】
ここで、ｌは円柱モデル３４の長さ、Ｚ０，Ｚ１，Ｚ２，Ｚ３，Ｚ４は区間［０，１］の乱数列の値とし、各繊維にそれぞれ設定される。
【００５５】
また、図７に示すように、上面と下面の半径が異なる円錐台を複数連結した円錐台モデル３６を使用して糸を形成してもよい。
【００５６】
円錐台モデル３６を用いる場合は、式（３）のｒを、糸の長軸（ｚ軸）の値に応じた円錐台の半径を返す関数ｒ（ａ）に置き換える。
円錐台の半径を返す関数ｒ（ａ）を式（４）で定義するものとする。
【００５７】
【数４】
0005471495.tif 000005
【００５８】
ここで、ａは、区間［０，１］の値、ｒｕとｒｄは、それぞれ円錐台の上面と下面の半径である。
【００５９】
また制御部１０は、パラメータ「繊維の撚り（回転角度θ）」の分だけ、糸に含まれる各繊維データを回転させ、撚りを表現する（図６（Ｂ）、（Ｃ））。
【００６０】
制御部１０は、繊維データ３１の各ノードを糸の中心軸（円柱モデル３４または円錐モデル３６の上面及び下面の中心を結ぶ軸）を回転の軸として、繊維データの１端点を固定しつつ、各ノード端点を順次θ度回転させる。
【００６１】
図６（Ｃ）は、糸３５の長軸の任意位置における垂直断面（ｘ−ｙ）である。図６（Ｃ）の黒点は、糸３５に含まれる繊維データを意味する。
繊維データを回転させる際は、各ノード端点を順次円の接線方向にθ度移動させるとともに、ノード長さの補正を行う。一般的な回転処理では、回転の軸から離れた点ほど移動量が多くなる。そのため、糸の外側の繊維が密に表現されてしまう。これを避けるため、各ノードの長さが元の長さを保つように移動後の位置を補正する。
【００６２】
すなわち、式（５）に示すように、i番目のノード端点の座標ｎｉを、ｎｉ’’の位置に移動する。
【００６３】
【数５】
0005471495.tif 000006
【００６４】
ここで、ｉは区間［０，Ｎｎ］とする。Ｎｎは、ノード数を表す上限値である。
この回転処理によって繊維の束である糸が撚られ、図８に示すような糸データが生成される。図８は、撚りの処理が行われた糸の３Ｄ画像を示す図である。糸の長軸が回転軸（ｚ軸）である。図８に示すように、糸の複数の繊維が撚られた様子が表現される。
【００６５】
＜織物の組織生成ステップ（図４のステップＳ１４）＞
次に、制御部１０は、織物の組織を定義する。
織物は、たて糸とよこ糸とから構成されるため、たて糸とよこ糸との交差する点（以下、組織点と呼ぶ）では、たて糸及びよこ糸のうちどちらか一方が表面に現れ、他方は裏面に現れる。
【００６６】
図９（Ａ）は平織の基本単位となる組織、図９（Ｂ）は綾織の基本単位となる組織を表している。図中、黒で示すブロックがたて糸であり、白で示すブロックがよこ糸である。
【００６７】
定義した一組織の繰り返しである完全組織の場合、全組織の表裏の関係は、一単位の組織の行列Ａにより定義される。以下、一単位の組織の表裏の関係を示す行列Ａを表裏配置情報と呼ぶ。
例えば、平織の表裏配置情報は、式（６）に示すような２×２行列により定義される。
【００６８】
【数６】
0005471495.tif 000007
【００６９】
一方、たて糸の数をＭ、よこ糸の数をＮとした場合、組織点の数はＭ・Ｎ点である。
ここで、組織点の位置を、たて糸のインデックスｊ、よこ糸のインデックスｋで表現すると、たて糸のインデックスｊと行列Ａの行数ｍの余剰、またはよこ糸のインデックスｋと列数ｎの余剰を参照することにより、注目する組織点が行列Ａのどの要素に該当するかが決定され、各糸の表裏配置情報が決定される。
また、ここでは、行列Ａの要素が１のとき、たて糸が表であるとして定義する。更に、たて糸の長軸をｚ方向、よこ糸の長軸をｘ方向、表裏をｙ方向に配置するものとする。
【００７０】
以上から、各組織点におけるたて糸の座標ｇ＝（ｇｘ，ｇｙ，ｇｚ）は式（７）で定義される。
【００７１】
【数７】
0005471495.tif 000008
【００７２】
ここで、Ｉｗａｒｐは、たて糸の間隔と、Ｉｗｅｆｔは、よこ糸の間隔、ｒは、たて糸の半径である。
【００７３】
よこ糸については、行列Ａを−Ａとすることで、同様に組織点での座標を算出できる。
【００７４】
本実施の形態では、制御部１０は、ステップＳ１４の処理を、組織点の数Ｍ・Ｎ回だけ繰り返す。
【００７５】
＜織物の形状生成ステップ（図４のステップＳ１５）＞
次に、制御部１０は、たて糸とよこ糸の繊維が、それぞれ隣り合う組織点間を滑らかに補間するように、繊維を構成する各ノードを適宜平行移動する処理を行う。
図１０は、糸５６の変形について説明する図である。図１０では、紙面の左右方向をｚ方向、紙面上下方向をｙ方向、紙面鉛直方向をｘ方向としている。
糸４６と糸５６とが交差するｚ位置ｚｋから、糸４７と糸５６とが交差するｚ位置ｚｋ＋１までの間を、糸５６内の繊維が滑らかに補間する。
【００７６】
ここで、二つの値（隣り合う組織点の座標）を滑らかに補間する関数ｆ（ｙａ，ｙｂ，ｔ）を用いる。
ｙａとｙｂは対象となる組織点のｙ軸の座標であり、ｔは、隣り合う組織点間の位置を示し［０，１］の値をとる媒介変数である。
【００７７】
糸を変形するために、以下の式（８）に示すｆ’（ｙａ，ｙｂ，ｔ）を、各繊維を構成するノードのｙ座標に加える。
【００７８】
【数８】
0005471495.tif 000009
【００７９】
上述の媒介変数ｔは、糸生成時の式（３）のＺ０と同値である。
ここでは、補間の関数ｆ（ｙａ，ｙｂ，ｔ）の一例として、式（９）に示す３次元ベジエ曲線を用いるものとする。
【００８０】
【数９】
0005471495.tif 000010
【００８１】
なお、式（９）に代えて、式（１０）を使用してもよい。式（１０）のパラメータｙｃ，ｙｄは、布地の織り方に依存するパラメータであり、ユーザにより指定可能とする。
また、ベジエ曲線に代えて、他の補間の関数としてもよい。
【００８２】
【数１０】
0005471495.tif 000011
【００８３】
変形処理された糸の３Ｄ画像を、図１１に示す。
また、たて糸とよこ糸をそれぞれ６本ずつ用いた平織の織物の３Ｄ画像を図１２に示す。
図１１、図１２に示すように、本テクスチュアデータ処理装置１で生成された糸データまたは織物データは、糸に含まれる繊維の質感が微細に表現されていること分かる。
【００８４】
この段階で、更に、生成した織物データについて、糸の太さの「ムラ」や、糸の表面もしくは内部に含まれる繊維がほつれている様子を示す「ケバ」を調整するようにしてもよい。
【００８５】
糸の「ムラ」を表現するために、制御部１０は、糸を定義した円錐台モデル３６の上面の半径と、その上面と接している下面の半径とが同値となるようにしつつ、それらの半径をランダムに揺らす。すなわち、糸の円錐台の上面もしくは下面の半径を区間［ＪｒＭｉｎ，ＪｒＭａｘ］の乱数として与える。
糸に「ムラ」を加えたときの織物の３Ｄ画像を図１３に示す。
【００８６】
また、「ケバ」を表現するために、制御部１０は、まず、糸として束ねられた繊維の中から「ケバ」とする繊維を所望の数Ｎｆだけ無作為に選択する。ここで、Ｎｆは区間［ＮｆＭｉｎ，ＮｆＭａｘ］の無作為な値とする。ＮｆＭｉｎは０以上、ＮｆＭａｘは糸の円錐台モデル３６に充填された繊維の数Ｎｔ以下とする。
制御部１０は、選択した繊維を糸の表面に飛び出させるために、直線状に変形させ、各ノードにノイズを付加する。ケバとなる繊維のノードｎｉの位置は、式（１１）のｎｉ’に移動する。
【００８７】
【数１１】
0005471495.tif 000012
【００８８】
このとき、Ｚｆ１は糸の飛び出し距離を定義するパラメータであり、区間［Ｊｆ１Ｍｉｎ，Ｊｆ１Ｍａｘ］の乱数とする。Ｚｆ２は、繊維の揺らぎを定義するパラメータであり、各要素が区間［Ｊｆ２Ｍｉｎ，Ｊｆ２Ｍａｘ］の乱数の３次元ベクトルとする。
【００８９】
糸の「ケバ」を付加した織物の３Ｄ画像を図１４に示す。
【００９０】
＜階調画像生成ステップ（図４のステップＳ１６）＞
次に、テクスチュアデータ処理装置１は、生成された織物データの３次元形状をハイトフィールドに変換する処理を行う。制御部１０は、生成された織物データの３次元形状の表側から繊維の表面で最も高い部分を選択し、テクスチュアの高さ情報を例えば２５６階調の階調画像（グレースケール等）で表し、２次元平面に射影したハイトデータを生成する。
【００９１】
ハイトフィールドに変換する処理において、制御部１０は、織物データの繊維の線分をラスタライズした後に、距離に依存した減衰関数を用いて曲面を生成する。或いは、制御部１０は、線分を中心とする陰関数を用いたモデリングを行って曲面を生成し、その後ラスタライズしてハイトデータを生成するようにしてもよい。
【００９２】
本発明の実施の形態に係るテクスチュアデータ処理装置１により生成したテクスチュアデータの例として、表１に示すパラメータを設定し、生成した織物データのハイトデータを示す。
【００９３】
【表１】
0005471495.tif 000013
【００９４】
このようなパラメータを用いて生成したハイトデータを、２５６階調のグレースケールで表現した画像を図１５及び図１６に示す。
図１５及び図１６に示すように、織物データは、糸の撚りの「ムラ」や繊維の「ケバ」等の微細な形状が表現されており、実際の布地の質感を十分微細に表現している。
【００９５】
このように、テクスチュアデータ処理装置１の制御部１０は、図３のテクスチュアデータ生成ステップＳ１において、３次元空間内に任意の長さの線や任意数の点群の集合を設定し、この線や点群の集合を任意の分節数に区切った各ノードの端点を所定の揺らぎ幅内にランダムに揺らすことにより、繊維データを定義し、複数の繊維データを、例えば円柱または円錐台といった閉空間モデル内に略平行に配置し、配置された各繊維データの各線分端点を所定角度だけ回転させることにより表現される糸データを生成する。そして制御部１０は、生成された複数の糸データを、織物のたて糸及びよこ糸として夫々所定間隔で配置し、各糸データの表裏配置に基づいて、該たて糸及びよこ糸の形状を変形し、織物形状データを生成する。更に制御部１０は、生成された織物形状データを２次元座標空間のハイトフィールドデータに変換し、ハイトデータとして出力する。
【００９６】
従って、織物を繊維のような微細なレベルまで表現することが可能となり、写実性が向上する。
【００９７】
また、テクスチュアデータ処理装置１では、繊維データに対するパラメータとして、繊維の長さ、繊維の揺らぎ幅、繊維を構成するノードの数等をユーザの所望の値で入力可能としたり、糸データに対するパラメータとして、繊維データの数、回転角度、糸の半径、糸の閉空間モデルを定義する関数等をユーザの所望の値で入力可能とするため、繊維の形状、糸の形状、繊維の粗密さ、織物の糸間隔、繊維のケバ、糸のムラ等を直感的に操作でき、様々な質感の織物データを得ることができる。
【００９８】
また、糸データを生成する際は、糸の撚りを表現するために繊維を回転させる際に、元の繊維の長さを保つようにしているため、糸の太さ方向位置における繊維の不均衡がなくなり、実際の繊維を撚っているような自然な糸データを生成できる。
また、ハイトデータの出力サイズを任意に変更できるので、実用性が向上する。
【００９９】
なお、上述の実施の形態では、平織について説明したが、綾織としてもよい。この場合、上述の平織の織物組織の表裏配置情報を示す式（６）に代えて、次の式（１２）を用いるものとする。
【０１００】
【数１２】
0005471495.tif 000014
【０１０１】
なお、以上のステップでは、たて糸とよこ糸の交点（組織点）が制御点として設定され、前述のような、テクスチュアを生成するためのテクスチュア生成情報が各制御点（を示す情報）と紐付けられる等してＲＡＭ等に記憶される。これらの情報は、以降のシームレス処理ステップＳ２におけるシームレス処理で用いられる。
【０１０２】
即ち、制御点は３次元空間内で糸の通り道となるものであり、Ｘ、Ｙ、Ｚ軸の位置情報を有する。Ｙ軸の値は、糸が通過する高さを指す。また、糸の生成のために、糸の太さ、制御点間に存在する繊維の数、撚りの角度、ケバとなる繊維の数、ケバとなった場合にでる方向と出る距離等の情報を有する。さらに、糸を構成する繊維の生成のために、繊維の数、繊維のちぢれ、繊維の太さ等の情報を有する。各パラメータは、制御点間を補間する補間関数（線形または非線形）に依存し、形状生成関数を用いて３次元空間内の制御点間に織物データ（テクスチュアデータ）を形成する。以上のような情報がテクスチュア生成情報の例である。
【０１０３】
次に、シームレス処理ステップ（図３のステップＳ２）における処理を説明する。テクスチュアデータ生成装置１の制御部１０は、ステップＳ２において、ステップＳ１で生成されたハイトデータのシームレス処理を行う。エンボス版の製造に用いるハイトデータとしては、自動生成されたハイトデータを一定範囲で切り出し、これを並べることになるが、そのままではこれらの画像（ハイトデータ）の繋ぎ目は連続しない。よってこれらの画像を並べたときにシームレスに連続されるよう、ステップＳ２のシームレス処理が必要になる。
【０１０４】
シームレス処理ステップ（図３のステップＳ２）としては、図１７に示すように、制御点抽出ステップ（ステップＳ７１）、制御点付加ステップ（ステップＳ７２）、テクスチュア上書きステップ（ステップＳ７３）が含まれる。
【０１０５】
＜制御点抽出ステップＳ７１（図１７のステップＳ７１）＞
まず、制御部１０は、ステップＳ１で生成されたハイトデータの所定の範囲を切り出し、ハイトデータのテクスチュアデータに含まれる複数の制御点を抽出する。
【０１０６】
よこ糸６０の場合、図１８（Ａ）に示すように、制御点６３が、よこ糸６０の方向に沿って連続するように、よこ糸６０（６０−１〜６０−４）とたて糸５９（５９−１〜５９−４）の交点に配置される。図１８（Ａ）は平織の場合を示す。平織の場合、よこ糸６０については、たて糸５９より低いＹ座標（高さ）の制御点６３とたて糸５９より高いＹ座標の制御点６３が、よこ糸６０の方向に沿って交互に連続する。本実施形態ではシームレス処理を主によこ糸６０の場合について説明するが、たて糸の場合も同様の処理が行われる。なお、たて糸５９に係る制御点は、たて糸５９の方向に沿って連続するように、たて糸５９とよこ糸６０の交点に配置される。
【０１０７】
制御部１０は、図１８（Ａ）に示すように、ハイトデータを所定の切り出し範囲６５で切り出し、切り出し範囲６５内の、よこ糸６０に沿って連続する制御点６３を抽出する。
【０１０８】
切り出し範囲６５は、例えばよこ糸６０−１について示す図１８（Ｂ）で表されるように、よこ糸６０の方向に沿った両端でよこ糸６０のＹ座標（高低を周期的に繰り返す）の高低の位相を合わせるように設定する。即ち、切り出し範囲６５でよこ糸６０の方向に沿ったＹ座標（高さ）の変動がｎ周期（ｎは自然数）存在するように切り出す。図１８（Ｂ）ではｎ＝２である。このような処理を行うのは、端部の位相を揃えない場合、後述するシームレス処理されたハイトデータが、これを並べた場合に繋ぎ目の位置で高いもしくは低い値で連続し不自然に見える可能性があるためである。なお、この切り出し範囲６５は予め選択し、これに基づいて制御部１０が上記の処理を行うことができる。また、処理の際に操作者が入力部１５を介して定めるものであってもよい。また、図１８（Ｂ）において６２は繊維のケバである。
【０１０９】
図１８（Ｂ）に示すように、よこ糸６０−１に沿った切り出し範囲６５をみると、よこ糸６０−１の方向に沿って連続する制御点６３−１〜６３−４が抽出される。制御点６３−１は切り出し範囲６５の左端部に位置し、制御点６３−４は切り出し範囲６５の右端部に位置する。
【０１１０】
図１９に示すように、制御点６３は、位置情報や、糸の太さ等の前述した情報を有し、制御点６３の、所定の方向（よこ糸６０の方向やたて糸５９の方向）に隣り合う一組は、これらの情報や制御点６３間を補間する補間関数等のテクスチュア生成情報により、形状生成関数を用いて制御点間によこ糸６０やケバ６２等のテクスチュアデータ６６を補間、生成する。
【０１１１】
制御点６３−１〜６３−４が抽出された状態を示す図が図２０である。図２０は図１８（Ａ）のよこ糸６０−１の方向に沿って制御点６３−１〜６３−４を見たものである。図において縦軸はＹ軸に対応し、テクスチュアデータ６６の高さ方向を示す。横軸はＸ軸に対応し、よこ糸６０−１に沿った方向を示す。
【０１１２】
制御点６３−１〜６３−４を抽出すると、図２０（Ａ）に示すように、これらの間にテクスチュアデータ６６が生成される。即ち、各制御点の間でよこ糸６０やケバ６２等のテクスチュアデータ６６が補間、生成される。なお、切り出し範囲６５の左右端部（制御点６３−１と切り出し範囲６５の左端との間、制御点６３−４と切り出し範囲６５の右端との間）では、制御点６３−１の左側や制御点６３−４の右側に制御点が存在しないため、テクスチュアデータ６６（よこ糸６０）が補間されない。
【０１１３】
また、図２０において６７は、テクスチュアデータ６６のＹ値（高さ）の最高値を示すハイトデータであり、当該最高値を０〜２５５の画素値であらわしたもので、自動的に、または入力部１５を介した操作者の操作により、テクスチュアデータ６６に基づいて生成することができる。
【０１１４】
＜制御点付加ステップ（図１７のステップＳ２２）＞
続いて、制御部１０は、図２０（Ｂ）に示すように、抽出した制御点６３の左端の制御点６３−１を、切り出し範囲６５の右端部の外でよこ糸６０−１の方向に沿って制御点６３−４の隣に付加（コピー）し、制御点６３−１’とする。制御点６３−１’の持つテクスチュア生成情報は、Ｘ軸方向（よこ糸６０−１の方向）の位置情報を除いて、制御点６３−１と同様のものである。
【０１１５】
すると、制御点６３−４と制御点６３−１’の間にテクスチュアデータ６６が補間、生成される。即ち、前述のテクスチュア生成情報により、切り出し範囲６５の右端部と、切り出し範囲６５の右外側でよこ糸６０が補間され、ケバ６２’等が生成される。
【０１１６】
これに伴って、切り出し範囲６５の右外側でもテクスチュアデータ６６に基づいてハイトデータ６７が生成される。
【０１１７】
＜テクスチュア上書きステップ（図１７のステップＳ２３）＞
次に、制御部１０は、ハイトデータ６７の画素値に応じて、図２０（Ｃ）に示す、切り出し範囲６５の右端部の外側の部分のハイトデータ６７−１を、切り出し範囲６５の左端部のハイトデータ６７−２に上書きする。この際、ハイトデータ６７−１の左端（切り出し範囲６５の右端）を切り出し範囲６５の左端に対応させる。
【０１１８】
制御部１０は、このとき対応する位置で画素値を比較し、ハイトデータ６７−１の画素値が示すテクスチュアの高さが、ハイトデータ６７−２の画素値が示すテクスチュアの高さよりも高い場合には、当該位置でハイトデータ６７−２の画素値をハイトデータ６７−１の画素値とする。そうでない場合は、ハイトデータ６７−２の画素値を維持する。
【０１１９】
ステップＳ２３の処理は、切り出し範囲６５の左外側についても行う。即ち、ハイトデータ６７の画素値に応じて、切り出し範囲６５の左端部の外側の部分のハイトデータ６７−３を、切り出し範囲６５の右端部のハイトデータ６７−４に上書きする。この際、ハイトデータ６７−３の右端（切り出し範囲６５の左端）を切り出し範囲６５の右端に対応させる。上記と同様、制御部１０は、このとき対応する位置で画素値を比較し、ハイトデータ６７−３の画素値が示すテクスチュアの高さが、ハイトデータ６７−４の画素値が示すテクスチュアの高さよりも高い場合には、当該位置でハイトデータ６７−４の画素値をハイトデータ６７−３の画素値とする。そうでない場合は、ハイトデータ６７−４の画素値を維持する。
【０１２０】
以上の処理を行うと、図２１に示すような図１８（Ｂ）の切り出し範囲６５でよこ糸６０−１に沿ってハイトデータ６７が生成される。これは、任意の位置でテクスチュアの高さの最高値を表すハイトデータ６７の生成においては、切り出し範囲６５の右（左）端部の外側で生成したテクスチュアデータ６６を、切り出し範囲６５の左（右）端部に、テクスチュアデータ６６の左（右）端と切り出し範囲６５の左（右）端を対応させて上書きし図２１のテクスチュアデータ６６を生成したことに実質等しくなり、ハイトデータ６７のよこ糸６０−１の方向に沿った端部Ａと端部Ａ’が連続するようになる。
【０１２１】
即ち、図２２（Ａ）に示すように、ハイトデータ６７を横にならべた場合に、その繋ぎ目６９でハイトデータ６７は滑らかに連続する。これは、テクスチュアデータ６６の端部同士が繋ぎ目６９で連続することよりわかる。
【０１２２】
一方、図２２（Ｂ）は切り出し範囲６５のテクスチュアデータ６６をそのまま連続させたものだが、その繋ぎ目６９で、常にテクスチュアデータ６６の高さ情報が不連続になる。従って、切り出し範囲６５のハイトデータ６７をそのまま繋ぎ合わせると繋ぎ目６９が不自然になる。
【０１２３】
このように、本実施形態のシームレス処理により生成されたハイトデータは、その繋ぎ目において画素値が連続するので、画像を繋ぎ合わせたときに繋ぎ目が不自然にならない。
【０１２４】
図２３（Ａ）に示すように、ステップＳ７２〜Ｓ７３の処理を図１８（Ａ）のよこ糸６０−２からよこ糸６０−４に沿って配置された制御点６３についても行い、図２３（Ｂ）に示すようなハイトデータ６７を生成すると、よこ糸６０−２に対応するハイトデータ６７の端部Ｂと端部Ｂ’、よこ糸６０−３に対応するハイトデータ６７の端部Ｃと端部Ｃ’、よこ糸６０−４に対応するハイトデータ６７の端部Ｄと端部Ｄ’も連続するようになる。なお、簡単のため図２３では各よこ糸６０の幅方向を１つの画素で表している。
【０１２５】
制御部１０は、たて糸５９−１からたて糸５９−４に沿って配置された制御点６３についても同様の処理を行い、切り出し範囲６５のハイトデータ６７を生成する。後述の出力ステップで出力を行う際に、図２３（Ｃ）に示すように縦横に位置を合わせて並べると、縦横方向に滑らかに連続するシームレス画像を生成、出力することができる。
【０１２６】
このようなシームレス画像が図２４であり、端部が滑らかに連続することがわかる。
【０１２７】
なお、ステップＳ７２では切り出し範囲６５の右端部の外側にテクスチュアデータ６６を補間、生成したが、ステップＳ７２ではどちらか一方の端部の外側に制御点を付加すればよい。即ち、ステップＳ７２で左端部の外側に制御点を付加して切り出し範囲６５の左端部の外側でテクスチュアデータ６６を補間、生成するようにしてもよい。
【０１２８】
また、制御点付加ステップＳ７２で上記と同様にしてテクスチュアデータ６６を生成し、テクスチュア上書きステップＳ７３では、切り出し範囲６５の右端部の外側に生成したテクスチュアデータ６６を切り出し範囲６５の左端部に、当該テクスチュアデータ６６の左端（切り出し範囲６５の右端）と切り出し範囲６５の左端を対応させて上書きし、切り出し範囲６５の左端部の外側に生成したテクスチュアデータ６６を切り出し範囲６５の右端部に、当該テクスチュアデータ６６の右端（切り出し範囲６５の左端）と切り出し範囲６５の右端を対応させて上書きしてもよい。これは、図２１のテクスチュアデータ６６を実際に生成することになり、当該テクスチュアデータ６６に基づいて生成されるハイトデータ６７の端部Ａと端部Ａ’（図２１）は、滑らかに連続する。この場合では、画素値の大小を判定する必要がない。
【０１２９】
また、テクスチュア上書きステップＳ２３では、ハイトデータ６７またはテクスチュアデータ６６を上書きする際に、よこ糸６０の方向に沿った端部に上書きせず、よこ糸６０と直交する方向に所定量ずらした位置の端部に上書きするようにしてもよい。即ち、図２５（Ａ）に示すように、よこ糸６０−１、６０−２、６０−３、６０−４について生成された切り出し範囲６５の右端部の外側のハイトデータ６６で、よこ糸６０−３、６０−４、６０−１、６０−２について生成された切り出し範囲６５の左端部のハイトデータ６６をそれぞれ上書きし、よこ糸６０−１、６０−２、６０−３、６０−４について生成された切り出し範囲６５の左端部の外側のハイトデータ６７で、よこ糸６０−３、６０−４、６０−１、６０−２について生成された切り出し範囲６５の右端部のハイトデータ６７をそれぞれ上書きしてもよい。テクスチュアデータ６６を上書きする場合も同様である。
【０１３０】
この場合、よこ糸６０−１に対応するハイトデータ６７とよこ糸６０−３に対応するハイトデータ６７が連続し、よこ糸６０−２に対応するハイトデータ６７とよこ糸６０−４に対応するハイトデータ６７が連続するようになる。即ち、図２５（Ｂ）に示す端部Ａと端部Ｃ’、端部Ａ’と端部Ｃ、端部Ｂと端部Ｄ’、端部Ｂ’と端部Ｄが連続するようになる。
【０１３１】
制御部１０により、たて糸５９については前述したようにシームレス処理を行い、切り出し範囲６５のハイトデータを生成する。すると、切り出し範囲６５のハイトデータ６７は、後述の出力ステップで出力を行う際に、図２５（Ｃ）のように、縦方向（よこ糸６０の方向と直交するＺ軸方向）に所定量位置をずらして並べたときに繋ぎ目が連続するようになる。切り出し範囲６５のハイトデータ６７を位置をずらして並べるので、繋ぎ目がより自然に見えるようになる。
【０１３２】
なお、上記した上書き位置をずらす所定量やその方向は、生成されるハイトデータ６７の並べ方により様々に定めることができる。上書きの際にずらすか否かを含め、上書きの方法は予め選択しておき、これに基づいて制御部１０が上記の処理を行うことができる。また、処理の際に操作者が入力部１５を介して定めるものであってもよい。
【０１３３】
以上のようにシームレス処理（図３のステップＳ２）が行われ、シームレス処理されたハイトデータが生成される。本実施形態によれば、テクスチュアの微細な形状を表すテクスチュアデータを反映させながらハイトデータのシームレス処理を行うので、精密なシームレス処理を行うことができ、テクスチュアデータが繊維のケバ等の不規則な部分を有する場合でも精度の高いシームレス処理を行うことができる。また、複数並べたときに端部が滑らかに連続するハイトデータの１単位の処理を行うので、扱うデータが小さく、計算処理にかかる負荷を軽減することができ、高解像度のデータであっても計算処理の負担を抑えることができるという利点を有する。
【０１３４】
また、本実施形態のシームレス処理は、繊維データに限らず、テクスチュア生成情報を用いて、所定の方向に隣り合う制御点間でテクスチュアデータが生成できる制御点を含み、これを用いて生成されるテクスチュアデータ（ハイトデータ）全般に適用することができる。テクスチュアの種類により前述のテクスチュア生成情報の種類は異なる。
【０１３５】
さらに、本実施形態では、周期的に高さが変動するよこ糸やたて糸を含む繊維データをテクスチュアデータの例として説明を行ったが、周期性を有するデータのみに適用されるものでもない。周期性のないデータであっても、上記の条件を満たしていれば同様の手順で適用することが可能であり、その場合はステップＳ７１における制御点抽出の条件（端部の位相が一致するように切り出し範囲６５を定める）が必要でなくなる。
【０１３６】
さらに、ハイトデータで表す高さ情報は、上述したように実際の高さを表すものに限らず、高さ情報とみなし、後述のエンボス版製造の際に高さ情報として用いるものを含む。例えば陰影等の色彩情報を高さ情報としてエンボス版あるいはこれにより製造されるシート等で表現する場合も考えられ、例えばＹ軸を所定の色（高さの最高値とみなす）との色差として上記のシームレス処理等を行うことなどができる。
【０１３７】
＜出力ステップ（図３のステップＳ３）＞
制御部１０は、予め設定された数（大きさ）や並べ方で、あるいは入力部１５から入力される指示操作にしたがって、シームレス処理されたハイトデータ６７を、図２３（Ｃ）や図２５（Ｃ）のように複数並べられた状態でＲＡＭや記憶部１１またはメディア入出力部１２に接続された記憶媒体等に記憶し出力する。その大きさは、後述するエンボス版の大きさに応じたものとできる。また、これらを表示部１６に表示させたり、印刷部１７に出力して印刷したりする場合もある。
【０１３８】
［第２の実施形態］
次に、本発明に係るエンボス版製造装置、及びシートについて説明する。
【０１３９】
本第２の実施の形態のエンボス版製造装置９は、第１の実施の形態のテクスチュアデータ処理手順に従って生成しシームレス処理され、エンボス版シリンダの大きさに応じて複数並べられ出力されたハイトデータに基づいて、エンボス版シリンダにテクスチュア表面形状のエンボス彫刻を施すものである。
【０１４０】
図２６に示すように、エンボス版製造装置９は、ハイトデータを出力または格納するコンピュータ９１（テクスチュアデータ処理装置１）と、エンボス版製造手段９２と、を備える。
【０１４１】
コンピュータ９１は、ハイトデータを生成してシームレス処理しエンボス版シリンダの大きさに応じて複数並べた、または予め生成されシームレス処理されエンボス版シリンダの大きさに合わせて複数並べたハイトデータを記憶部に記憶する。また、コンピュータ９１は、エンボス版製造手段９２の動作を制御する。
【０１４２】
第２の実施の形態では、エンボス版製造手段９２として、機械彫刻またはレーザ彫刻を施す彫刻機９３を利用するものとする。
図２７に第２の実施の形態のエンボス版製造装置９Ａの構成を示す。
【０１４３】
図２７に示すように、エンボス版製造装置９Ａは、コンピュータ９１、彫刻機９３、支持台１０１、及び回転駆動部１０４を備える。
彫刻機９３は、彫刻機制御部９３１、駆動部９３２、及び彫刻用刃（打刻刃）９３３を備える。彫刻機制御部９３１は、コンピュータ９１から入力されるテクスチュアのハイトデータに従って彫刻機駆動部９３２を駆動し、彫刻用刃９３３を支持台１０１，１０１に支持されたエンボス版シリンダ１００の版面に対して深さ方向に上下動するとともに、エンボス版シリンダ１００の回転軸方向（図中Ａ−Ａ方向）に移動させる。回転駆動部１０４は、コンピュータ９１から入力される指示に従って、支持台１０１，１０１に支持されたエンボス版シリンダ１００を回転軸Ａ−Ａ方向を中心に回転する。
これにより、彫刻機９３は、コンピュータ９１から入力されたテクスチュアのハイトデータに従った深さで金属製或いは樹脂製のエンボス版シリンダ１００に彫刻を施し、織物布地等のテクスチュアの表面形状を形成する。
【０１４４】
なお、彫刻機９３は、彫刻用刃９３３に代えて、レーザ等を用いる方式のものでもよい。この場合、彫刻機９３は、図２７の駆動部９３２及び彫刻用刃９３３に代えて、走査部、レーザ発振器、及び光学ユニットを備え、レーザ発振器によって生成されるレーザビームを光学ユニットを介して照射する。
彫刻機制御部９３１は、走査部を駆動し、光学ユニットをエンボス版シリンダ１００の回転軸方向（図中Ａ−Ａ方向）に移動させるとともに、レーザ発振器を制御してレーザの出力値を深さ情報（ハイトデータ）に従った出力値に変調する。これにより、エンボス版シリンダ１００の所定位置に所定の出力でレーザビームを照射して、エンボス版シリンダ１００の表面に織物布地等のテクスチュア表面形状の凹凸を彫刻する。
【０１４５】
彫刻機９３は、例えば、階調画像（ハイトデータ）におけるグレースケール０％の部分を凸、グレースケール１００％の部分を凹として彫刻を行う。彫刻の深さは任意に設定可能であるが、例えば、５００μｍに設定した場合は、グレースケール０％の部分は深さ０μｍ、グレースケール５０％の部分は深さ２５０μｍ、グレースケール１００％の部分は深さ５００μｍで彫刻される。
【０１４６】
グレースケール画像データからエンボス版シリンダを彫刻する手法については、例えば特開２００８−２４６８５３に詳述されている。
【０１４７】
本第２の実施の形態のエンボス版製造装置９Ａにより製造されたエンボス版を用いて、所望のシートに対してエンボス加工を行えば、織物布地等のテクスチュアの表面形状を有するシートを得ることが可能となる。シートは、紙、樹脂、合成皮革、金属等からなり、例えば、壁紙等の建材として利用される。
【０１４８】
以上説明したように、第２の実施の形態のエンボス版製造装置９Ａによれば、第１の実施の形態と同様の手法で生成された、繊維等のテクスチュアの微細な形状を表現し、端部が滑らかに連続するように複数並べられたハイトデータに基づいて、エンボス版シリンダ１００に織物布地等のテクスチュアの表面形状を形成することが可能となる。また、このエンボス版シリンダ１００を用いて、所望のシートにエンボス加工を施すことが可能となる。これにより、エンボス版シリンダとして、微細な形状を表現し、複数並べたテクスチュア表面形状（ハイトデータ）どうしが滑らかに連続するものを作製することができる。テクスチュア表面形状どうしが滑らかに連続する当該シリンダで得られたシートは、微細な形状を表現するとともに、繋ぎ目が不自然に見えたりすることがなく、意匠性に優れたものとなる。
【０１４９】
また、この手法で製造したエンボス版には、実際の布地等のテクスチュア素材を型取る手法を用いた場合に生じる、例えば布地の皺やよれ、或いは布地表面の起伏の低減（繊維のつぶれ）等の質感の損失が生じない。
また、エンボス版を用いてシート表面を織物布地等のテクスチュア表面形状に加工し、量産することが可能となる。
【０１５０】
なお、第２の実施の形態において、ハイトデータは、例えば、彫刻機９３に接続されたコンピュータ９１とは異なるコンピュータ等にて生成されたものを、記憶媒体を介してコンピュータ９１に入力したり、所定の通信インタフェースを介してコンピュータ９１に入力したりしてもよい。
【０１５１】
［第３の実施形態］
第３の実施の形態のエンボス版製造装置は、第１の実施の形態のテクスチュアデータ処理手順に従って生成しシームレス処理され、エンボス版シリンダの大きさに応じて複数並べられ出力されたハイトデータに基づいて、エンボス版シリンダにエッチングの手法を用いて織物布地等のテクスチュア表面の凹凸形状を形成する。
【０１５２】
図２８に示すように、第３の実施の形態のエンボス版製造装置９Ｂは、ハイトデータの生成等を行うコンピュータ９１（テクスチュアデータ処理装置１）、パターン露光装置９６、腐食装置９８、支持台１０１、及び回転駆動部１０４を備える。また、支持台１０１にはレジスト層をコーティングしたエンボス版シリンダ２００が取り付けられている。
支持台１０１及び回転駆動部１０４の構成及び動作は、第２の実施の形態と同様である。
【０１５３】
なお、コンピュータ９１のハイトデータは、例えば、別のコンピュータ等にて生成されたものを、記憶媒体を介して入力したり、所定の通信インタフェースを介して入力したりしてもよい。
【０１５４】
パターン露光装置９６は、走査部９６１、レーザ発振器９６２、及び光学ユニット９６３を備える。パターン露光装置９６は、コンピュータ９１から入力されるテクスチュアのハイトデータに従って走査部９６１を駆動し、レーザ照射口である光学ユニットをエンボス版シリンダ２００の回転軸方向（図中Ａ−Ａ方向）に移動させるとともに、レーザ発振器９６２を制御して深さ情報（ハイトデータ）に従った出力値に変調する。本実施形態では、所定の画素値を閾値としてハイトデータを二値化し、当該閾値を境にレーザがＯＮ／ＯＦＦになるよう制御を行う。これにより、レジスト層をコーティングしたエンボス版シリンダ２００の所定位置にレーザビームを照射し、露光部と非露光部とからなるパターンを形成する露光処理を行う。レジスト層としては、ポジ型レジスト、ネガ型レジストのいずれも用いることができる。ポジ型レジストの場合は、露光処理により露光部のレジスト層がゲル化する。ネガ型レジストの場合は、露光処理により露光部のレジスト層が硬化する。この露光処理が完了したエンボス版２００は図示しない現像装置において現像、および版洗浄によって、レジスト層のうち露光部（ポジ型レジストの場合）もしくは非露光部（ネガ型レジストの場合）が除去され、レジスト部のパターンが形成される。その後、腐食装置９８によりエンボス版に腐食液を作用させると、露出した金属面が腐食を受けて窪み、パターンに応じた凹凸構造が形成される。その後洗浄処理を行いレジスト部を除去する。このレジスト層コーティング、露光処理、現像処理、洗浄処理（非レジスト部の除去）、腐食処理、洗浄処理（レジスト部の除去）を、上記の閾値を変えて複数回繰り返すことにより、エンボス版シリンダ２００の表面に深さの異なる凹凸が形成される。
【０１５５】
閾値は、エンボス版作成時にコンピュータ９１の入力部等を介して定めてもよいが、閾値の決定を表示部等のグラフや数字を見ながら行うことになり、エンボス版作成時の手間がかかる。そのため、閾値は予め（複数）定めておき、ハイトデータの出力時（ステップＳ３）に、テクスチュアデータ処理装置１の制御部１０により、あるいは入力部１５から入力される指示操作に従って、元のハイトデータから閾値に基づくハイトデータを前もって作成し、これをパターン露光装置９６に入力して閾値に応じたレーザのＯＮ／ＯＦＦの制御を行うとよい。例えば、画像処理ソフトのポスタリゼーション機能等を用いて閾値に基づく複数階調（多値画像）のハイトデータを作成し、これに基づき閾値に応じたレーザのＯＮ／ＯＦＦの制御を行う。また、各閾値に基づく二階調（二値画像）のハイトデータをそれぞれ作成しておき、閾値に応じたレーザのＯＮ／ＯＦＦの制御を、用いる二値画像のハイトデータを変えることで行ってもよい。閾値に基づくハイトデータを予め作成しておくと、エンボス版作成時に閾値を定める手間が省け、またエッチング時のマスク形状やマスク面積が、閾値に基づくハイトデータより視覚的に捉えられるので、版面の凹凸がイメージしやすく好適である。
【０１５６】
また、レーザビームによってレジストを形成する手段としては、レジスト層をコーティングしたシリンダに直接描画（レジスト層を焼飛ばす）をし、現像処理や、洗浄処理による非レジスト部の除去を必要としないレーザ刷版装置もあり、多く用いられている。この場合のエンボス版製造装置の構成は、現像装置等を必要としない点を除いて上記のエンボス版製造装置９Ｂと同様である。また、パターン露光装置９６は、コンピュータ９１から入力されるテクスチュアのハイトデータについて、上記の閾値を境にレーザがＯＮ／ＯＦＦになるよう上記と同様の制御を行い、レジスト層をコーティングしたエンボス版シリンダ２００の所定位置にレーザビームを照射し、露光部のレジスト層を焼き飛ばし除去してレジスト部のパターンを形成する。レーザ発振機９６２が発振するレーザとしては、ＹＡＧレーザやファイバーレーザを使用することができる。その後、上記と同様の腐食処理を行いパターンに応じた凹凸構造をエンボス版に形成し、洗浄処理によりレジスト部の除去を行う。これらレジスト層コーティング、露光処理、腐食処理、洗浄処理（レジスト部の除去）を、上記の閾値を変えて複数回繰り返すことにより、エンボス版シリンダ２００の表面に深さの異なる凹凸が形成される。このように、レーザによりレジスト層が焼き飛ばされるので、現像処理や、洗浄処理による非レジスト部の除去が不要になる。
【０１５７】
本第３の実施の形態のエンボス版製造装置９Ｂを使用して製造されたエンボス版を利用して、紙、樹脂、合成皮革、金属等からなる所望のシートに対してエンボス加工を行えば、織物布地等のテクスチュアの表面形状を有するシートを得ることが可能となる。上記の手順により、エンボス版シリンダとして、微細な形状を表現し、複数並べたテクスチュア表面形状（ハイトデータ）どうしが滑らかに連続するものを作製することができ、テクスチュア表面形状どうしが滑らかに連続する当該シリンダで得られたシートは、微細な形状を表現するとともに、繋ぎ目が不自然に見えたりすることがなく、意匠性に優れたものとなる。
【０１５８】
以上説明したように、第３の実施の形態のエンボス版製造装置９Ｂによれば、第１の実施の形態と同様の手法で生成された、織物等の微細なテクスチュア表面形状のハイトデータに基づいて、テクスチュア表面形状（ハイトデータ）の端部どうしが滑らかに連続するエンボス版シリンダ２００を形成することが可能となる。その結果、織物の繊維のレベル等テクスチュアの表面形状を微細に表現し、テクスチュアの繋ぎ目が不自然にならないエンボス版が得られる。また、この手法で製造したエンボス版には、実際の布地等のテクスチュア素材を型取る手法を用いた場合に生じる、例えば布地の皺やよれ、或いは布地表面の起伏の低減（繊維のつぶれ）等の質感の損失が生じない。
【０１５９】
また、このエンボス版シリンダ２００を用いて、所望のシート表面を織物布地調に加工し、量産することが可能となる。
【０１６０】
［第４の実施の形態］
第４の実施の形態のエンボス版製造装置は、第３の実施の形態と同様に、第１の実施の形態のテクスチュアデータ処理手順に従って生成しシームレス処理され、エンボス版シリンダの大きさに応じて複数並べられ出力されたハイトデータに基づいて、エンボス版シリンダにエッチングの手法を用いて織物布地等のテクスチュア表面の凹凸形状を形成する。エッチングにはフォトマスク９７を使用する。
【０１６１】
図２９（Ａ）に示すように、本第４の実施の形態では、上述のコンピュータ９１及びパターン露光装置９６、腐食装置９８をフォトマスク９７の製造段階で利用する。すなわち、フォトマスク製造装置９Ｃは、ハイトデータの生成等を行うコンピュータ９１（テクスチュアデータ処理装置１）及びパターン露光装置９６、腐食装置９８によって構成される。
【０１６２】
なお、コンピュータ９１のハイトデータは、例えば、別のコンピュータ等にて生成されたものを、記憶媒体を介して入力したり、所定の通信インタフェースを介して入力したりしてもよい。
【０１６３】
フォトマスク９７は、フォトマスク基板９７３上に遮光膜９７２が形成され、更にその上にレジスト層９７１がコーティングされる。このような状態のフォトマスク９７に対して、パターン露光装置９６は、第３の実施形態と同様の方法でテクスチュアのハイトデータ（所定深さ方向位置の２値データ）に従った露光を行なうことにより、レジスト層９７１に露光部と非露光部とを形成する。露光後に、現像、洗浄し、不要なレジスト層を除去しレジスト部のパターンを形成する。更に、腐食装置９８により腐食液を作用させ、腐食、洗浄を行うことにより不要な遮光膜を除去するとともにレジスト部を除去し、フォトマスク基板９７３上に遮光パターンを形成する。
【０１６４】
このように遮光パターンの形成されたフォトマスク９７は、必要な深さ位置の数だけ製造され、それぞれ図２９（Ｂ）に示すようにエンボス版シリンダ２００への露光の際に使用される。
図２９（Ｂ）に示すように、フォトマスク９７にてレジスト層のコーティングされたエンボス版シリンダ２００を覆い、露光することにより、フォトマスク９７に形成されている遮光パターンに従った露光部及び非露光部が形成される。更に、第３の実施形態と同様、現像処理、洗浄処理を行うことにより不要なレジスト層が除去されてレジスト部のパターンが形成され、腐食処理、洗浄処理を行うことにより、エンボス版シリンダ２００の表面に凹凸が形成されレジスト部が除去される。フォトマスク９７を交換して、レジスト層コーティング、露光、現像、洗浄（非レジスト部の除去）、腐食、洗浄（レジスト部の除去）を繰り返すことにより、エンボス版シリンダ２００の表面に複数段に凹凸が形成される。
【０１６５】
以上説明したように、本第４の実施の形態のフォトマスク製造装置９Ｃによれば、ハイトデータに基づく遮光パターンを施したフォトマスク９７を製造できる。このフォトマスク９７を使用して、エンボス版のエッチングを行えば、ハイトデータに基づく凹凸が形成されたエンボス版を得ることが可能となる。その結果、織物の繊維のレベル等テクスチュアの表面形状を微細に表現し、テクスチュアの繋ぎ目が不自然にならないエンボス版が得られる。また、この手法で製造したエンボス版には、実際の布地等のテクスチュア素材を型取る手法を用いた場合に生じる、例えば布地の皺やよれ、或いは布地表面の起伏の低減（繊維のつぶれ）等の質感の損失が生じない。
【０１６６】
また、このように製造されたエンボス版を利用して、紙、樹脂、合成皮革、金属等からなる所望のシートに対してエンボス加工を行えば、織物布地等のテクスチュアの表面形状を有するシートを得ることが可能となる。上記の手順により、エンボス版シリンダとして、微細な形状を表現し、複数並べたテクスチュア表面形状（ハイトデータ）どうしが滑らかに連続するものを作製することができ、テクスチュア表面形状どうしが滑らかに連続する当該シリンダで得られたシートは、微細な形状を表現するとともに、繋ぎ目が不自然に見えたりすることがなく、意匠性に優れたものとなる。
【０１６７】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係るテクスチュアデータ処理装置等の好適な実施形態について説明したが、本発明は前述した実施形態に限定されるものではない。当業者であれば、本願で開示した技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【符号の説明】
【０１６８】
１・・・・・・・テクスチュアデータ処理装置
９・・・・・・・エンボス版製造装置
１０・・・・・・制御部
１５・・・・・・入力部
１６・・・・・・表示部
１７・・・・・・印刷部
１９・・・・・・テクスチュア生成部
２０・・・・・・シームレス処理部
２１・・・・・・パラメータ入力部
２２・・・・・・繊維形状生成部
２３・・・・・・糸の形状生成部
２４・・・・・・織物の組織生成部
２５・・・・・・織物の形状生成部
２６・・・・・・階調画像生成部
２７・・・・・・制御点抽出部
２８・・・・・・制御点付加部
２９・・・・・・テクスチュア上書き部
３０・・・・・・出力部
３１・・・・・・繊維データ
３４、３５、３６・・糸のモデル
４３〜４７、５９・・・・・・たて糸
５１〜５６、６０・・・・・・よこ糸
６２・・・・・・ケバ
６３・・・・・・制御点
６５・・・・・・切り出し範囲
６６・・・・・・テクスチュアデータ
６７・・・・・・ハイトデータ
６９・・・・・・繋ぎ目
９１・・・・・・コンピュータ
９２・・・・・・エンボス版製造手段
９３・・・・・・彫刻機
９６・・・・・・パターン露光装置
９７・・・・・・フォトマスク
９８・・・・・・腐食装置
１００・・・・・エンボス版シリンダ
２００・・・・・エンボス版シリンダ（レジスト層被覆）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図９】
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【図１０】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図８】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図２４】
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