(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに屈折率が異なるコア部とクラッド部とを含むコア層を備える光導波路を有し、
前記コア部は、
（Ａ）環状オレフィン樹脂と、
（Ｂ）前記（Ａ）とは屈折率が異なる、オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマー、エポキシ基を有するモノマーおよびエポキシ基を有するオリゴマーのうちの少なくとも１種と、
（Ｃ）光酸発生剤と、
を含む組成物で構成された層に対し活性放射線を選択的に照射することにより、同一平面上にて２つの線状部が互いに交差した交差部を有する形状に形成されたものであり、
前記組成物は、前記（Ａ）１００重量部に対して１重量部以上５０重量部以下の割合で前記（Ｂ）を含むものであり、
前記コア層のうち、前記活性放射線が照射された領域と未照射領域とで、前記（Ｂ）由来の構造体の濃度が異なっていることを特徴とする光導波路構造体。
【請求項２】
前記コア部の伝搬損失が０．１０［ｄＢ／ｃｍ］以下である請求項１に記載の光導波路構造体。
【請求項３】
前記コア層の活性放射線が照射された領域と未照射領域の屈折率差が０．０１以上である請求項１または２に記載の光導波路構造体。
【請求項４】
前記コア層の活性放射線が照射された領域を前記クラッド部の少なくとも一部とし、未照射領域を前記コア部の少なくとも一部とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の光導波路構造体。
【請求項５】
前記（Ｂ）は、前記（Ａ）よりも屈折率が低いものであり、
前記（Ａ）の環状オレフィン樹脂は、前記（Ｃ）の光酸発生剤から発生する酸により脱離する脱離性基を有するものである請求項１ないし４のいずれか１項に記載の光導波路構造体。
【請求項６】
８５℃、８５％ＲＨの高温高湿環境下に５００時間置く湿熱処理に供された後の伝搬損失が０．１２［ｄＢ／ｃｍ］以下である請求項１ないし５のいずれか１項に記載の光導波路構造体。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載の光導波路構造体を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路構造体および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、光通信の分野における光部品として、光分岐結合器（光カプラ）、光合分波器等が開発されており、これらに用いる光導波路型素子が有望視されている。この光導波路型素子（以下、単に「光導波路」ともいう。）としては、従来の石英系光導波路の他、製造（パターニング）が容易で汎用性に富むポリマー系光導波路があり、最近では後者の開発が盛んに行われている。
【０００３】
このような光導波路は、通常、基板上に所定の配置（パターン）で形成され、光導波路構造体として取り扱われる。この光導波路構造体としては、基板上に所定の電気配線回路と、コア部およびクラッド部で構成される光導波路とを形成し、さらにこの光導波路に発光素子および受光素子を取り付けたものが開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
しかしながら、上記特許文献１に記載の光導波路構造体では、次のような問題点がある。
１．光導波路の形成工程が複雑であり、伝送光の光路を構成するコア部のパターン形状の設計、選択の自由度が狭い。
２．コア部のパターン形状の精度や寸法精度が悪い。
３．光信号の伝送効率が低い。
４．電気配線パターンと組み合わせた場合に、該電気配線パターンの設計における自由度が狭い。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−１４６６０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができ、また、耐久性に優れるとともに高集積化が可能な光導波路を備えた光導波路構造体および電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的は、下記（１）〜（７）の本発明により達成される。
（１）  互いに屈折率が異なるコア部とクラッド部とを含むコア層を備える光導波路を有し、
前記コア部は、
（Ａ）環状オレフィン樹脂と、
（Ｂ）前記（Ａ）とは屈折率が異なる、オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマー、エポキシ基を有するモノマーおよびエポキシ基を有するオリゴマーのうちの少なくとも１種と、
（Ｃ）光酸発生剤と、
を含む組成物で構成された層に対し活性放射線を選択的に照射することにより、同一平面上にて２つの線状部が互いに交差した交差部を有する形状に形成されたものであり、
前記組成物は、前記（Ａ）１００重量部に対して１重量部以上５０重量部以下の割合で前記（Ｂ）を含むものであり、
前記コア層のうち、前記活性放射線が照射された領域と未照射領域とで、前記（Ｂ）由来の構造体の濃度が異なっていることを特徴とする光導波路構造体。
【００２０】
（２） 前記コア部の伝搬損失が０．１０［ｄＢ／ｃｍ］以下である上記（１）に記載の光導波路構造体。
【００２１】
（３）  前記コア層の活性放射線が照射された領域と未照射領域の屈折率差が０．０１以上である上記（１）または（２）に記載の光導波路構造体。
【００２２】
（４）  前記コア層の活性放射線が照射された領域を前記クラッド部の少なくとも一部とし、未照射領域を前記コア部の少なくとも一部とする上記（１）ないし（３）のいずれかに記載の光導波路構造体。
（５）  前記（Ｂ）は、前記（Ａ）よりも屈折率が低いものであり、
前記（Ａ）の環状オレフィン樹脂は、前記（Ｃ）の光酸発生剤から発生する酸により脱離する脱離性基を有するものである上記（１）ないし（４）のいずれかに記載の光導波路構造体。
（６）  ８５℃、８５％ＲＨの高温高湿環境下に５００時間置く湿熱処理に供された後の伝搬損失が０．１２［ｄＢ／ｃｍ］以下である上記（１）ないし（５）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００３０】
（７）  上記（１）ないし（６）のいずれかに記載の光導波路構造体を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の効果】
【００３１】
本発明によれば、光の照射という簡単な方法でコア部のパターニングをすることができ、コア部のパターン形状の設計の自由度が広く、しかも寸法精度の高いコア部が得られる。
【００３２】
また、寸法精度が高いので、コア部同士を交差させても、交差部における光伝送効率の低下が抑制される。したがって、コア部同士の比較的自由な交差が可能になり、光導波路構造体における光導波路の高集積化が図られる。
【００３３】
また、コア部をノルボルネン系樹脂（環状オレフィン系樹脂）を主とする樹脂組成物で構成した場合には、変形に対し特に強く欠陥が生じ難いという効果が高い他、コア部とクラッド部との屈折率の差をより大きくすることができ、しかも、耐熱性に優れ、その結果、より高性能で耐久性に優れる光導波路が得られる。
【００３４】
また、電気回路、光回路ともに、形成が容易で、種々の形状のものを寸法精度よく形成することができる。特に、光回路については、露光パターンの選択により、どのような形状や配置の光路（コア部）でも形成することができ、また、細い光路でもシャープに形成することができるので、回路の集積化に寄与し、デバイスの小型化が図られる。
【００３５】
このような本発明の光導波路構造体は、光回路（光導波路のパターン）や電気回路の設計の幅が広く、歩留まりが高く、光伝送性能を高く維持し、信頼性、耐久性に優れ、汎用性に富む。そのため、本発明の光導波路構造体を備えることにより、信頼性の高い種々の電子部品および電子機器が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の光導波路構造体の第１実施形態を一部透過および切り欠いた状態で示す斜視図である。
【図２】図１に示す光導波路構造体に含まれるコア層の平面図である。
【図３】本発明の光導波路構造体の第１実施形態に含まれるコア層の変形例を示す平面図である。
【図４】本発明の光導波路構造体の第２実施形態を示す平面図である。
【図５】本発明の光導波路構造体の第２実施形態を示す断面図である。
【図６】本発明の光導波路構造体の第３実施形態を示す断面図である。
【図７】本発明の光導波路構造体の第４実施形態が有する光導波路のコア層の一部を示す平面図である。
【図８】本発明の光導波路構造体の第４実施形態に含まれるコア層の変形例を示す平面図である。
【図９】本発明の光導波路構造体の第４実施形態に含まれるコア層の変形例を示す平面図である。
【図１０】光導波路の製造方法の工程例を模式的に示す断面図である。
【図１１】光導波路の製造方法の工程例を模式的に示す断面図である。
【図１２】光導波路の製造方法の工程例を模式的に示す断面図である。
【図１３】実施例における曲げ損失の測定方法を模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
以下、本発明の光導波路構造体および電子機器について添付図面に示す好適実施形態に基づき詳細に説明する。
【００３８】
＜第１実施形態：図１〜３＞
図１は、本発明の光導波路構造体の第１実施形態を一部透過および切り欠いた状態で示す斜視図、図２は、図１に示す光導波路構造体に含まれるコア層の平面図である。なお、図１では、層の厚さ方向（各図の上下方向）が誇張して描かれている。
【００３９】
図１に示すように、本発明の光導波路構造体１は、下側からクラッド層（下側クラッド層）９１、コア層９３およびクラッド層（上側クラッド層）９２をこの順に積層してなる帯状の光導波路９を備えるものであり、コア層９３には、互いに交差する２つのコア部９４（第１の線状部および第２の線状部）と、これらのコア部９４に隣接するクラッド部９５とが形成されている。コア部９４は、伝送光の光路を形成する部分であり、クラッド部９５は、コア層９３に形成されているものの伝送光の光路を形成せず、クラッド層９１、９２と同様の機能を果たす部分である。
【００４０】
また、コア部９４は、クラッド部９５に比べて屈折率が高く、また、クラッド層９１、９２に対しても屈折率が高い。クラッド層９１および９２は、それぞれ、コア部９４の下部および上部に位置するクラッド部を構成するものである。このような構成により、コア部９４は、図１に示すように、その外周の全周をクラッド部に囲まれた導光路として機能する。
【００４１】
コア層９３の構成材料としては、光（例えば紫外線）の照射により、あるいはさらに加熱することにより屈折率が変化する材料とされる。このような材料の好ましい例としては、ベンゾシクロブテン系ポリマー、ノルボルネン系ポリマー（樹脂）等の環状オレフィン系樹脂を含む樹脂組成物を主材料とするものが挙げられ、ノルボルネン系ポリマーを含む（主材料とする）ものが特に好ましい。
【００４２】
このような材料で構成されたコア層９３は、曲げ等の変形に対する耐性に優れ、特に繰り返し湾曲変形した場合でも、コア部９４とクラッド部９５との剥離や、コア層９３と隣接する層（クラッド層９１、９２）との層間剥離が生じ難く、コア部９４内やクラッド部９５内にマイクロクラックが発生することも防止される。その結果、光導波路９の光伝送性能が維持され、耐久性に優れた光導波路９が得られる。
【００４３】
また、コア層９３の構成材料には、例えば、酸化防止剤、屈折率調整剤、可塑剤、増粘剤、補強剤、増感剤、レベリング剤、消泡剤、密着助剤および難燃剤等の添加剤が含まれていてもよい。酸化防止剤の添加は、高温安定性の向上、耐候性の向上、光劣化の抑制という効果がある。このような酸化防止剤としては、例えば、モノフェノール系、ビスフェノール系、トリフェノール系等のフェノール系や、芳香族アミン系のものが挙げられる。また、可塑剤、増粘剤、補強剤の添加により、曲げに対する耐性をさらに増大させることもできる。
【００４４】
前記酸化防止剤に代表される添加剤の含有率（２種以上の場合は合計）は、コア層９３の構成材料全体に対し、０．５〜４０重量％程度が好ましく、３〜３０重量％程度がより好ましい。この量が少なすぎると、添加剤の機能を十分に発揮することができず、量が多すぎると、添加剤の種類や特性によっては、コア部９４を伝送する光（伝送光）の透過率の低下、パターニング不良、屈折率不安定等を生じるおそれがある。
【００４５】
コア層９３の形成方法としては、塗布法が挙げられる。塗布法としては、コア層形成用組成物（ワニス等）を塗布し硬化（固化）させる方法、硬化性を有するモノマー組成物を塗布し硬化（固化）させる方法が挙げられる。また、塗布法以外の方法、例えば、別途製造されたシート材を接合する方法を採用することもできる。
【００４６】
以上のようにして得られたコア層９３に対し、マスクを用いて光（活性放射線）を選択的に照射し、所望の形状のコア部９４をパターニングする。
【００４７】
露光に用いる光としては、可視光、紫外光、赤外光、レーザー光等の活性エネルギー光線が挙げられる。また、光を用いるのではなく、Ｘ線等の電磁波や、電子線等の粒子線を用いるようにしてもよい。
【００４８】
コア層９３において、光が照射された部位は、その屈折率が低下し、光が照射されなかった部位との間で屈折率の差が生じる。例えば、コア層９３の光が照射された部位がクラッド部９５となり、照射されなかった部位がコア部９４となる。クラッド部９５の屈折率は、クラッド層９１、９２の屈折率とほぼ等しい。
【００４９】
また、コア層９３に対し光を所定のパターンで照射した後、加熱することにより、コア部９４を形成する場合もある。この加熱工程を付加することにより、コア部９４とクラッド部９５との屈折率の差がより大きくなるので好ましい。なお、この原理等については、後に詳述する。
【００５０】
形成されるコア部９４のパターン形状は、図２に示すように、平面視にて、２つの直線状のコア部９４（第１の線状部および第２の線状部）が互いに交差した形状をなしている。その結果、２つの直線状のコア部９４が交差する箇所に十字状の交差部９４３が形成される。このような交差部９４３によれば、同一平面上に存在する２つのコア部９４をそれぞれ伝搬する光信号が、互いに混信したり、著しい過剰損失を伴うことなく、比較的自由に交錯させることができる。その結果、コア部９４のパターン形状の自由度が飛躍的に高まり、コア層９３中に形成可能なコア部９４の集積度を高めることができる。すなわち、一方のコア部９４を横断するように他方のコア部９４を形成することができるので、コア層９３のスペースを有効利用することができる。
【００５１】
本発明では、コア層９３に対して、光（活性放射線）を選択的に照射しさえすれば、所望の形状のコア部９４を容易に形成可能であることから、同一平面上に存在する２つのコア部９４が交差してなる交差部９４３の形状も正確に制御することが可能である。このため、寸法精度が高く、混信や過剰損失を確実に抑制することのできる光導波路構造体１が得られる。
【００５２】
また、交差部９４３は、前述したように、１層のコア層９３内で２つのコア部９４を互いに交差させるものであるため、立体交差等と異なり、複雑な製造プロセスを伴わなくとも簡単に製造可能である。
【００５３】
なお、交差部９４３における過剰損失は、２つのコア部９４の交差角をできるだけ大きくすることにより低減させることができる。図２では、交差角が９０°の場合を示しているが、交差角はそれ以外の角度であってもよく、具体的には１０〜９０°であるのが好ましく、３０〜９０°であるのがより好ましい。
【００５４】
また、交差部９４３において交差するコア部９４の数は、２つに限らず、３つ以上であってもよい。
【００５５】
ところで、交差部９４３から放射状に延伸する各コア部９４のうち、隣り合う２つのコア部９４とクラッド部９５との境界線９４５は、交差部９４３において互いに直交している。その結果、交差部９４３には、境界線９４５が直角に折れ曲がった角部（交点）９４４が４つ形成されることとなる。
【００５６】
図３は、本発明の光導波路構造体の第１実施形態に含まれるコア層の変形例を示す平面図である。なお、図３に示す光導波路構造体１は、下記の事項が異なる以外、図２に示す光導波路構造体１と同様である。
【００５７】
図３に示す光導波路構造体１（光導波路９）では、図２に示す４つの角部９４４にそれぞれ面取り加工が施され、面取り部９４６が形成されている。このような面取り部９４６を設けることにより、交差部９４３における過剰損失の低減が図られる。これは、交差部９４３に入射した伝送光が角部９４４に当たって意図しない方向に反射したり、クラッド部９５に漏出したりすることが抑制されるためであると考えられる。したがって、面取り部９４６を設けることにより、光導波路構造体１における混信を抑制しつつ、光伝送効率を高めることができる。
【００５８】
なお、面取り部９４６の大きさは、コア部９４の幅や比屈折率差等に応じて適宜設定されるが、角部９４４の先端と面取り部９４６との離間距離ａは、各面取り部９４６に隣接するコア部９４の平均幅の０．１〜０．８倍程度であるのが好ましく、０．２〜０．６倍程度であるのがより好ましい。角部９４４の先端と面取り部９４６との離間距離を前記範囲内とすることにより、面取り部９４６の長さがコア部９４の幅に対して最適化されることとなり、伝送光が角部９４４に当たる確率やクラッド部９５に漏出する確率を低下させつつ、交差部９４３における混信を確実に防止することができる。
【００５９】
また、面取り部９４６の形状は、図３に示すように、角部９４４を切り取るような直線状であってもよいが、交差部９４３の中心に向かって突出する、あるいは、中心とは反対側に向かって突出する湾曲形状であってもよく、また、この湾曲形状に類似した多角形の形状であってもよい。
【００６０】
コア部９４のパターン形状は、上記の交差部９４３以外に、コア部９４が湾曲した湾曲部を有する形状、コア部９４が分岐した分岐部、複数のコア部９４が１つのコア部９４に合流した合流部を有する形状、あるいはこれらのうちの２以上を組み合わせた形状等、いかなる形状を有するものでもよい。なお、これらのパターンの形成においては、光の照射パターンの設定により、いかなるパターン形状をも容易に実現することができる点が、本発明の特徴である。
【００６１】
光導波路９の各部の構成材料およびコア部９４の形成方法等については、後に詳述する。
【００６２】
＜第２実施形態：図４、５＞
図４、５には、本発明の光導波路構造体１の第２実施形態が示されている。以下、この光導波路構造体１について説明するが、前記第１実施形態と同様の事項についてはその説明を省略し、相違点を中心に説明する。
【００６３】
図４は、本発明の光導波路構造体の第２実施形態を示す平面図、図５は、図４のＡ−Ａ線断面図である。
【００６４】
本実施形態の光導波路構造体１は、光導波路９に別の構成要素が追加されている点が前記と異なり、それ以外は同様である。
【００６５】
すなわち、図４に示す光導波路構造体１は、交差部９４３を有する光導波路９の入射端および出射端に設けられた発光素子３および受光素子４を備えている。さらに、光導波路構造体１は、図５に示すように、光導波路９の下面に設けられた基板２と、基板２の下面に設けられた導体層５とを備えている。また、導体層５には、所定のパターニングが施されることにより電気配線が形成されており、基板２と導体層５とで配線基板を構成している。
【００６６】
光導波路９には、平面視にて、並列する２つのコア部９４ａ、９４ｂが形成されている。この２つのコア部９４ａ、９４ｂは、それぞれ、途中で湾曲し、その延伸方向が１８０°変化している。光導波路９は、このような湾曲部９４７を２つ有しており、延伸方向が２回変化することにより、つづら折りの形状をなしている。
【００６７】
また、湾曲部９４７では、コア部９４ａとコア部９４ｂとが互いに交差している。このように交差部９４３が設けられることにより、コア部９４ａとコア部９４ｂは、それぞれ湾曲部９４７における曲率半径を等しくすることができる。これにより、両者の光伝送効率も等しくなり、光導波路９のチャンネル間における品質バラツキを抑制することができる。
【００６８】
一方、仮に交差部９４３が設けられていない場合、湾曲部の内側に位置するコア部は、外側に位置するコア部に比べて、より短い曲率半径での湾曲を強いられることとなる。このため、湾曲部における過剰損失が著しく増大し、光伝送効率の低下を招くこととなる。そればかりか、外側に位置するコア部と内側に位置するコア部との間で、光伝送効率の著しい差を生じるため、チャンネル間の光伝送効率のバラツキが大きくなる。さらには、内側に位置するコア部について、光伝送効率の低下を抑えるべく曲率半径を緩和した場合には、それに伴って湾曲部の面積も拡大せざるを得ず、結果的には光導波路の小型化を阻害することとなる。
【００６９】
以上のような理由から、交差部９４３を有する光導波路９は、光伝送効率の低下およびバラツキを抑えつつ、小型化することが可能である。なお、本実施形態に係る交差部９４３の構成は、前記第１実施形態に係る交差部９４３の構成と同様である。
【００７０】
また、コア部９４ａ、９４ｂの途中には、光回路の構成要素となり得る光部品９４８が設けられる。このため、本実施形態によれば、小さな面積の光導波路９であっても、複数の光部品９４８を高密度に搭載することができる。光部品９４８としては、例えば、光合分波器、光分岐結合器、光フィルター、回折格子、プリズム等が挙げられる。
【００７１】
基板２は、可撓性および絶縁性を有するフレキシブル基板である。
基板２の構成材料としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ビスマレイミド樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹脂、トリアゾール樹脂、ポリシアヌレート樹脂、ポリイソシアヌレート樹脂、ベンゾシクロブテン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンザオキサゾール樹脂、ノルボルネン樹脂等が挙げられる。また、これらの材料は、単独で使用してもよく、複数を混合して使用してもよい。
【００７２】
また、基板２は、複数の層の積層体であってもよい。例えば、組成（種類）が同じ樹脂材料からなる第１の層と第２の層とを積層したもの、それぞれ組成（種類）が異なる樹脂材料からなる第１の層と第２の層とを積層したものが挙げられる。なお、積層体における層構成は、これに限定されないことは言うまでもない。
【００７３】
基板２の厚さは、特に限定されないが、通常、５〜５０μｍ程度であるのが好ましく、１０〜４０μｍ程度であるのがより好ましい。基板２の厚さが前記範囲内であれば、光導波路構造体１は十分な可撓性を有するものとなる。
【００７４】
基板２が有する可撓性は、例えば人の手で容易に屈曲させることができる程度のものである。具体的には、基板２のヤング率（引張弾性率）は、一般的な室温環境下（２０〜２５℃前後）で１〜２０ＧＰａ程度であるのが好ましく、２〜１２ＧＰａ程度であるのがより好ましい。
【００７５】
基板２の下面に接合された導体層５は、それぞれ、所定の形状にパターニングされて、所望の電気配線および回路を構成している。導体層５の構成材料としては、例えば、銅、銅系合金、アルミニウム、アルミニウム系合金等の各種金属材料が挙げられる。導体層５の厚さは、特に限定されないが、通常、３〜１２０μｍ程度が好ましく、５〜７０μｍ程度がより好ましい。
【００７６】
導体層５は、例えば、金属箔の接合（接着）、金属メッキ、蒸着、スパッタリング等の方法により形成されたものである。導体層５へのパターニングは、例えばエッチング、印刷、マスキング等の方法を用いることができる。
【００７７】
なお、基板２と導体層５とで構成される配線基板としては、例えば、ポリエステル銅張フィルム基板、ポリイミド銅張フィルム基板、アラミド銅張フィルム基板のような銅張フィルム基板、ガラス布・エポキシ銅張積層板のようなガラス基材銅張積層板、ガラス不織布・エポキシ銅張積層板のようなコンポジット銅張積層板等が挙げられる。
【００７８】
一方、基板２には、貫通孔２１が形成されており、貫通孔２１内には導電材料（例えば、銅、銅系合金、アルミニウム、アルミニウム系合金等の各種金属材料）が充填され、導体ポスト２２が設けられている。この導体ポスト２２は、導体層５と基板２の上面側とを電気的に接続している。
【００７９】
なお、導体ポスト２２は、貫通孔２１の内面に形成された導体層で構成されたものでもよい。この場合、導体ポスト２２は、貫通孔２１の内面にメッキ法等の各種成膜法により形成され、貫通孔２１内を充填するものでなくてもよい。
【００８０】
発光素子３は、基台３０と、基台３０の表面に固定された発光部３１と、発光部３１の電極パッドと基台３０の電極パッドとを接続する金属ワイヤ３２と、基台３０の下面に設けられ、発光部３１を外部回路と接続するための外部電極３３とを有している。また、発光部３１および金属ワイヤ３２は、基台３０の表面に半球状に盛られた樹脂モールド３４で覆われている。
【００８１】
外部電極３３に通電がなされると、発光部３１が発光する。
発光素子３は、外部電極３３が導体ポスト２２に接合（電気的に接続）されるようにして基板２上に搭載されている。
【００８２】
一方、受光素子４は、基台４０と、基台４０の表面に固定された受光部４１と、受光部４１の電極パッドと基台４０の電極パッドとを接続する金属ワイヤ４２と、基台４０の下面に設けられ、受光部４１を外部回路と接続するための外部電極４３とを有している。また、受光部４１および金属ワイヤ４２は、基台４０の表面に半球状に盛られた樹脂モールド４４で覆われている。
【００８３】
受光部４１が光信号を受光すると、電気信号に変換され、外部電極４３から出力される。
【００８４】
受光素子４は、外部電極４３が導体ポスト２２に接合（電気的に接続）されるようにして基板２上に搭載されている。
【００８５】
なお、発光素子３における発光部３１および受光素子４における受光部４１は、それぞれ１つの発光点または１つの受光点で構成されているものの他、発光点または受光点が複数個集合したものでもよい。発光点または受光点が複数個集合したものとしては、例えば、発光点または受光点が列状（例えば発光点または受光点が１×４個、１×１２個）または行列状（例えば発光点または受光点がｎ×ｍ個：ｎ、ｍは２以上の整数）に配置されたものや、複数の発光点または受光点がランダム（不規則）に配置されたもの等が挙げられる。
【００８６】
樹脂モールド３４は、発光素子３の基台３０の右側において、発光部３１等を封止している。これにより、発光部３１が外部に露出することなく封止された構造となるため、汚れ、損傷、酸化等から発光部３１が保護される。その結果、発光素子３の信頼性が向上する。
【００８７】
また、樹脂モールド４４は、受光素子４の基台４０の左側において、受光部４１等を封止している。これにより、受光部４１が外部に露出することなく封止された構造となるため、汚れ、損傷、酸化等から受光部４１が保護される。その結果、受光素子４の信頼性が向上する。
【００８８】
また、樹脂モールド３４、４４の構成材料としては、絶縁性を有する樹脂材料が好ましく、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ノルボルネン樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。
【００８９】
光導波路９は、発光部３１の発光点と、受光部４１の受光点とを結ぶように、発光素子３と受光素子４との間に設けられている。これにより、発光点と受光点とが光導波路９により光学的に接続されている。
【００９０】
光導波路９のコア部９４は、平面視で（図４において）各発光点や各受光点と重なるようなパターン形状で形成されている。
【００９１】
光導波路９の両端部（発光素子３および受光素子４との接続部）は、発光素子３に設けられた樹脂モールド３４および受光素子４に設けられた樹脂モールド４４で覆われており、発光素子３および受光素子４に固定されている。これにより、光導波路９、発光素子３および受光素子４は、一体化され、１つの部品（光配線）として取り扱うことが可能になる。
【００９２】
なお、図４に示す光導波路９は、２つのコア部９４を有するものであるが、１つの光導波路９に形成されるコア部９４の数は、例えば、１つの発光部３１に設けられる発光点の個数や、１つの受光部４１に設けられる受光点の数に応じて設定され、特に限定されるものではない。
【００９３】
本実施形態の光導波路構造体１では、導体層５および導体ポスト２２を介して発光素子３の外部電極３３へ通電がなされると、発光部３１の発光点が発光し、図４および図５中右方へ向かって発せられた光は、光導波路９のコア部９４に入る。光導波路９では、コア部９４とクラッド部（クラッド層９１、９２および側方のクラッド部９５）との界面で反射を繰り返しながら、コア部９４内をその長手方向に沿って進む。そして、受光部４１の受光点に光が到達すると、受光部４１において光信号が電気信号へと変換され、外部電極４３から出力される。
【００９４】
このような光導波路構造体１は、後に詳述するが、光導波路９が高分子材料で構成されているため可撓性を有し、かつ、コア部９４とクラッド部９５との屈折率差が大きいので、光導波路９が折り曲げられたときでも、十分な伝送効率を有するものとなる。
【００９５】
＜第３実施形態：図６＞
図６には、本発明の光導波路構造体１の第３実施形態が示されている。以下、この光導波路構造体１について説明するが、前記第２実施形態と同様の事項についてはその説明を省略し、相違点を中心に説明する。
【００９６】
図６は、第３実施形態を示す断面図である。
本実施形態の光導波路構造体１は、基板２と導体層５とで構成される配線基板の構成が前記と異なり、それ以外は同様である。
【００９７】
すなわち、図６に示す配線基板は、光導波路９の長手方向の両端部の上面にそれぞれ積層された基板２と、各基板２の上面に設けられた導体層５とを有している。
【００９８】
図６の左側の基板２には、表面実装型の発光素子３と、発光素子３の発光を駆動する発光用ＩＣ（発光用電気素子）３５とが搭載されている。発光素子３と発光用ＩＣ３５との間は、導体層５に形成された電気配線を介して電気的に接続されている。これにより、発光素子３の発光を発光用ＩＣ３５により制御することができる。すなわち、左側の基板２には、発光素子３と発光用ＩＣ３５とを有する発光回路３００が構築されている。
【００９９】
一方、図６の右側の基板２には、表面実装型の受光素子４と、受光素子４により受光した信号を増幅する受光用ＩＣ（受光用電気素子）４５とが搭載されている。受光素子４と受光用ＩＣ４５との間は、導体層５に形成された電気配線を介して電気的に接続されている。これにより、受光素子４で受光し、電気信号に変換した後、この電気信号が受光用ＩＣ４５に入力されて増幅される。すなわち、右側の基板２には、受光素子４と受光用ＩＣ４５とを有する受光回路４００が構築されている。
【０１００】
また、光導波路９のうち、発光素子３の発光部３１の直下に対応する位置には、光路変換部９７１が形成されている。一方、光導波路９のうち、受光素子４の受光部４１の直下に対応する位置には、光路変換部９７２が形成されている。
【０１０１】
各光路変換部９７１、９７２は、光導波路９の一部を除去することにより、除去した部分の内面の一部が光導波路９のコア部９４の軸線に対してほぼ４５°傾斜する傾斜面を有するように形成される。この傾斜面は、発光部３１からの光をコア部９４に導くよう９０°の角度で反射したり、コア部９４を伝搬してきた光を受光部４１に導くように９０°の角度で反射したりする反射面として機能する。
【０１０２】
そして、発光部３１と受光部４１との間を、光路変換部９７１、コア部９４および光路変換部９７２により光学的に接続することができる。このようにして、発光回路３００と受光回路４００との間で光を授受することで、光通信を行うことができる。
【０１０３】
なお、基板２の厚さが薄い場合または基板２が透光性を有している場合には、図６のように基板２を透過するようにして発光素子３や受光素子４と光導波路９とを光学的に接続することができるが、必要に応じて、基板２を透過する光の光路に沿って貫通孔を形成するようにしてもよい。
【０１０４】
また、反射面には、必要に応じて金属膜等からなる反射膜を設けるようにしてもよい。さらには、除去した部分にコア部９４よりも低屈折率の材料を充填するようにしてもよい。
【０１０５】
なお、図６では、光導波路９の両端部にそれぞれ基板２を積層しているが、この基板２の大きさは、光導波路９の全体にわたって積層される程度の大きさであってもよい。この場合、基板２の長手方向の全体にわたって導体層５を設け、この導体層５中に電気配線を形成することで、上述した光通信と並行して電気通信も行うことができる。これにより、光導波路構造体１の回路設計の自由度が飛躍的に高まり、回路の集積度も高めることができる。併せて、電気通信用の構造体を別途用意する必要がなくなるという利点もある。
【０１０６】
＜第４実施形態：図７＞
図７には、本発明の光導波路構造体１の第４実施形態が示されている。以下、この光導波路構造体１について説明するが、前記第１実施形態と同様の事項についてはその説明を省略し、相違点を中心に説明する。
【０１０７】
図７は、第４実施形態が有する光導波路のコア層の一部を示す平面図である。
本実施形態の光導波路構造体１は、光導波路９の構成が前記と異なり、それ以外は同様である。
【０１０８】
すなわち、図７に示す光導波路構造体１は、図示しない交差部９４３に加え、コア部９４の途中に設けられ、コア部９４を２つに分岐する分岐部９４９を備えている。このような分岐部９４９を備えることにより、光導波路構造体１は、コア部９４を伝搬する伝送光を複数のチャンネルに分岐させ、複数の接続先との間で光通信を行うことを可能にする。
【０１０９】
分岐部９４９は、平面視にて、Ｙ字状をなしている。図７において分岐部９４９より左側には、１つのコア部９４ｃが伸びており、一方、分岐部９４９より右側には、２つのコア部９４ｄがそれぞれ異なる方向に伸びている。コア部９４ｃを右側に向かって伝搬してきた伝送光は、分岐部９４９において、その形状に応じた分岐割合で分割され、それぞれ２つのコア部９４ｄを伝搬することとなる。
【０１１０】
分岐部９４９における分岐割合を決定するのは、２つのコア部９４ｄの間に位置するクラッド部９５の左側端部９５１の位置や形状である。図７に示すように、左側端部９５１の位置が２つのコア部９４ｄの中間に位置していれば、分岐割合はそれぞれ半分になる。一方、左側端部９５１が一方のコア部９４ｄ側に寄っている場合は、その分、一方のコア部９４ｄ側に分岐する伝送光の光量が減少し、分岐割合が変化する。
【０１１１】
クラッド部９５の左側端部９５１は、２つのコア部９４ｄとクラッド部９５との境界線の交点であるが、この交点において各境界線がなす角度をαとしたとき、角度αは０．０５〜１０°程度であるのが好ましく、０．１〜５°程度であるのがより好ましい。角度αを前記範囲内とすることにより、分岐部９４９における過剰損失の増大を防止しつつ、伝送光を確実に分岐させることができる。
【０１１２】
上述したように、本発明では、コア層９３に対して、光（活性放射線）を選択的に照射しさえすれば、所望の形状のコア部９４を容易に形成可能であることから、分岐部９４９の形状も正確に制御することが可能である。このため、目的とする分岐割合を有する寸法精度の高い光導波路構造体１が得られる。
【０１１３】
図８は、本発明の光導波路構造体の第４実施形態に含まれるコア層の変形例を示す平面図である。なお、図８に示す光導波路構造体１は、下記の事項が異なる以外、図７に示す光導波路構造体１と同様である。
【０１１４】
図８に示す光導波路構造体１（光導波路９）は、分岐部９４９のコア部９４中に島状に設けられた島状体９５０を１つ備えている。コア部９４ｃを右側に向かって伝搬してきた伝送光は、島状体９５０により分岐され、さらに、島状体９５０により分岐されなかった伝送光は、クラッド部９５の左側端部９５１により分岐される。これにより、図７に示す光導波路構造体１に比べて、分岐割合のバラツキが抑制されるとともに、目的とする分岐割合をより確実に実現することができる。
【０１１５】
島状体９５０は、コア部９４ｃの屈折率とは異なる屈折率の材料で構成される。分岐部９４９に設けられる島状体９５０に対しては、比較的大きな角度で伝送光が入射することになるため、伝送光は島状体９５０内に入射するとともに屈折する。その結果、島状体９５０により出射方向が変更されることとなる。この現象を利用することで、分岐部９４９における伝送光の分岐を、より確実に行うことができる。
【０１１６】
なお、島状体９５０の屈折率がコア部９４ｃの屈折率より低い場合と高い場合とで、島状体９５０における光の屈折方向が異なるため、島状体９５０の屈折率に応じて、島状体９５０の形状や配置等を適宜設定すればよい。
【０１１７】
図８に示す島状体９５０の平面視形状は三角形であるが、この形状は特に限定されず、真円、楕円、長円を含む円形、菱形、平行四辺形を含む四角形、五角形以上の多角形、その他の任意の形状であってもよい。これらの形状であれば、伝送光の進行方向が比較的単純化されるので、島状体９５０の設計が容易になる。
【０１１８】
図９は、本発明の光導波路構造体の第４実施形態に含まれるコア層の変形例を示す平面図である。なお、図９に示す光導波路構造体１は、下記の事項が異なる以外、図８に示す光導波路構造体１と同様である。
【０１１９】
図９に示す光導波路構造体１（光導波路９）は、島状体９５０を複数個備えている。複数個の島状体９５０は、コア部９４ｃの光軸（伝送光の進行方向）の延長線上に一列に整列するよう配置されている。このような構成であれば、図８に示す光導波路構造体１に比べて、分岐割合のバラツキがさらに抑制されることとなる。
【０１２０】
なお、複数個の島状体９５０は、互いに連結していても、互いに分離していてもよい。
また、複数個の島状体９５０は、同じ形状であってもよく、互いに異なる形状であってもよい。さらに、島状体９５０の大きさについても、同じであっても、互いに異なっていてもよい。
【０１２１】
以上、第１〜第４実施形態について説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、発明の要旨を変更しない限り、他の構成のものでもよい。また、本発明は、第１〜第４実施形態のうちの任意の２以上の実施形態が備える構成を組み合わせたものでもよい。
【０１２２】
上述したような本発明の光導波路構造体では、同一平面上に存在する２つのコア部９４を、互いに混信させたり、著しい過剰損失を生じさせることなく、交錯させることができるので、コア部９４のパターン形状の自由度が飛躍的に高まる。その結果、コア層９３に形成可能なコア部９４の集積度を高めることができ、光導波路構造体１の高集積化を図ることができる。
【０１２３】
また、本発明の光導波路構造体を備えることにより、複数の地点間で高品質の光通信を行うことができるため、信頼性の高い電子機器（本発明の電子機器）が得られる。
【０１２４】
なお、本発明の光導波路構造体を備える電子機器としては、例えば、携帯電話、ゲーム機、ルーター装置、ＷＤＭ装置、パソコン、テレビ、ホーム・サーバー等の電子機器類が挙げられる。これらの電子機器では、いずれも、例えばＬＳＩ等の演算装置とＲＡＭ等の記憶装置との間で、大容量のデータを高速に伝送する必要がある。したがって、このような電子機器が本発明の光導波路構造体を備えることにより、電気配線に特有なノイズ、信号劣化等の不具合が解消されるため、その性能の飛躍的な向上が期待できる。
【０１２５】
また、光導波路構造体の高集積化に伴い、電子機器の小型化を図ることもできる。
さらに、光導波路部分では、電気配線に比べて発熱量が大幅に削減される。このため、基板内の集積度をさらに高めて小型化が図られるとともに、冷却に要する電力を削減することができ、電子機器全体の消費電力を削減することができる。
【０１２６】
＜光導波路の製造方法＞
次に、前記各実施形態における、光導波路９の製造方法および各部の構成材料等について説明するが、特にコア部９４の形成方法について詳細に説明する。
【０１２７】
まず、コア部９４の形成方法の説明に先立って、コア部９４の形成に用いられる感光性樹脂組成物について説明する。
【０１２８】
（感光性樹脂組成物）
本実施形態において用いる感光性樹脂組成物は、
（Ａ）環状オレフィン樹脂と、
（Ｂ）（Ａ）とは屈折率が異なり、かつ、環状エーテル基を有するモノマーおよび環状エーテル基を有するオリゴマーのうち少なくともいずれか一方と、
（Ｃ）光酸発生剤と、
を備える。
【０１２９】
なかでも、光の伝搬損失の発生を確実に抑制するという観点から、
側鎖に（Ｃ）光酸発生剤から発生する酸により脱離する脱離性基を有する環状オレフィン樹脂（Ａ）と、
下記式（１００）のモノマーとを含むことが好ましい。
【０１３０】
【化４】
0005423551.tif 000002
【０１３１】
このような感光性樹脂組成物は、フィルム状に成形されて光導波路形成用フィルムとされ、さらに、屈折率が異なる領域を含むフィルム、例えば、光導波路フィルムとして使用される。
【０１３２】
すなわち、このような感光性樹脂組成物を使用することで、光の伝搬損失の発生が抑制された光導波路フィルム等を提供することができる。なかでも、湾曲した光導波路を形成した場合において、光の伝搬損失の発生を顕著に抑制することができる。
【０１３３】
さらに、このような光導波路フィルムを使用した光配線、前記光配線と、電気回路とを備える光電気混載基板を提供することができる。このような光配線および光電気混載基板によれば、従来の電気配線で問題となっていたＥＭＩ（電磁波障害）の改善が可能となり、従来よりも信号伝達速度を大幅に向上することができる。
【０１３４】
また、光導波路フィルムを使用した電子機器も提供できる。光導波路フィルムを用いることにより、省スペース化が図られるため、電子機器の小型化に寄与する。
【０１３５】
このような電子機器としては、具体的には、コンピューター、サーバー、携帯電話、ゲーム機器、メモリーテスター、外観検査ロボット等を挙げることができる。
【０１３６】
以下、感光性樹脂組成物の成分について順次詳述する。
（（Ａ）環状オレフィン樹脂）
成分（Ａ）の環状オレフィン樹脂は、感光性樹脂組成物のフィルム成形性を確保するために添加されるものであり、ベースポリマーとなるものである。
【０１３７】
ここで、環状オレフィン樹脂は、無置換のものであってもよいし、水素が他の基により置換されたものであってもよい。
【０１３８】
環状オレフィン樹脂としては、例えばノルボルネン系樹脂、ベンゾシクロブテン系樹脂等が挙げられる。
【０１３９】
なかでも、耐熱性、透明性等の観点からノルボルネン系樹脂を使用することが好ましい。
【０１４０】
ノルボルネン系樹脂としては、例えば、
（１）ノルボルネン型モノマーを付加（共）重合して得られるノルボルネン型モノマーの付加（共）重合体、
（２）ノルボルネン型モノマーとエチレンやα−オレフィン類との付加共重合体、
（３）ノルボルネン型モノマーと非共役ジエン、および必要に応じて他のモノマーとの付加共重合体のような付加重合体、
（４）ノルボルネン型モノマーの開環（共）重合体、および必要に応じて該（共）重合体を水素添加した樹脂、
（５）ノルボルネン型モノマーとエチレンやα−オレフィン類との開環共重合体、および必要に応じて該（共）重合体を水素添加した樹脂、
（６）ノルボルネン型モノマーと非共役ジエン、または他のモノマーとの開環共重合体、および必要に応じて該（共）重合体を水素添加したポリマーのような開環重合体が挙げられる。これらの重合体としては、ランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体等が挙げられる。
【０１４１】
これらのノルボルネン系樹脂は、例えば、開環メタセシス重合（ＲＯＭＰ）、ＲＯＭＰと水素化反応との組み合わせ、ラジカルまたはカチオンによる重合、カチオン性パラジウム重合開始剤を用いた重合、これ以外の重合開始剤（例えば、ニッケルや他の遷移金属の重合開始剤）を用いた重合等、公知のすべての重合方法で得ることができる。
【０１４２】
これらの中でも、ノルボルネン系樹脂としては、付加（共）重合体が好ましい。付加（共）重合体は、透明性、耐熱性および可撓性に富むことからも好ましい。たとえば、感光性樹脂組成物によりフィルムを形成した後、電気部品等を、半田を介して実装することがある。このような場合において、高い耐熱性、すなわち、耐リフロー性を有することが必要となるため、付加（共）重合体が好ましい。また、感光性樹脂組成物によりフィルムを形成し、製品に組み込んだ際に、たとえば、８０℃程度の環境下にて使用される場合がある。このような場合においても、耐熱性を確保するという観点から、付加（共）重合体が好ましい。
【０１４３】
なかでも、ノルボルネン系樹脂は、重合性基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位や、アリール基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位を含むものが好ましい。
【０１４４】
重合性基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位としては、エポキシ基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位、（メタ）アクリル基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位、および、アルコキシシリル基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位がのうちの少なくとも１種が好適である。これらの重合性基は、各種重合性基の中でも、反応性が高いことから好ましい。
【０１４５】
また、このような重合性基を含むノルボルネンの繰り返し単位を、２種以上含むものを用いれば、可撓性と耐熱性の両立を図ることができる。
【０１４６】
一方、アリール基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位を含むことにより、アリール基に由来する極めて高い疎水性によって、吸水による寸法変化等をより確実に防止することができる。
【０１４７】
さらに、ノルボルネン系ポリマーは、アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むものが好ましい。なお、アルキル基は、直鎖状または分岐状のいずれであってもよい。
【０１４８】
アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むことにより、ノルボルネン系ポリマーは、柔軟性が高くなるため、高いフレキシビリティ（可撓性）を付与することができる。
【０１４９】
また、アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むノルボルネン系ポリマーは、特定の波長領域（特に、８５０ｎｍ付近の波長領域）の光に対する透過率が優れることからも好ましい。
【０１５０】
このようなことから、ノルボルネン系樹脂としては、以下の式（１）〜（４）、（８）〜（１０）で表されるものが好適である。
【０１５１】
【化５】
0005423551.tif 000003
（式（１）中、Ｒ１は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ａは、０〜３の整数を表し、ｂは、１〜３の整数を表し、ｐ１／ｑ１が２０以下である。）
【０１５２】
式（１）のノルボルネン系樹脂は、以下のようにして製造することができる。
Ｒ１を有するノルボルネンと、側鎖にエポキシ基を有するノルボルネンとをトルエンに溶かし、Ｎｉ化合物（Ａ）を触媒として用いて溶液重合させることで（１）を得る。
【０１５３】
【化６】
0005423551.tif 000004
【０１５４】
なお、側鎖にエポキシ基を有するノルボルネンの製造方法は、たとえば、（i）（ii）の通りである。
【０１５５】
（i）ノルボルネンメタノール（ＮＢ−ＣＨ２−ＯＨ）の合成
ＤＣＰＤ（ジシクロペンタジエン）のクラッキングにより生成したＣＰＤ（シクロペンタジエン）とαオレフィン（CH2=CH-CH2-OH）を高温高圧下で反応させる。
【０１５６】
【化７】
0005423551.tif 000005
【０１５７】
（ii）エポキシノルボルネンの合成
ノルボルネンメタノールとエピクロルヒドリンとの反応により生成する。
【０１５８】
【化８】
0005423551.tif 000006
【０１５９】
なお、式（１）において、ｂが２もしくは３の場合には、エピクロルヒドリンのメチレン基がエチレン基、プロピレン基等になったものを使用する。
【０１６０】
式（１）で表されるノルボルネン系樹脂の中でも、可撓性と耐熱性の両立を図ることが可能との観点から、特に、Ｒ１が炭素数４〜１０のアルキル基であり、ａおよびｂがそれぞれ１である化合物、例えば、ブチルボルネンとメチルグリシジルエーテルノルボルネンとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとメチルグリシジルエーテルノルボルネンとのコポリマー、デシルノルボルネンとメチルグリシジルエーテルノルボルネンとのコポリマー等が好ましい。
【０１６１】
【化９】
0005423551.tif 000007
（式（２）中、Ｒ２は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ３は、水素原子またはメチル基を表し、ｃは、０〜３の整数を表し、ｐ２／ｑ２が２０以下である。）
【０１６２】
式（２）のノルボルネン系樹脂は、Ｒ2を有するノルボルネンと、側鎖にアクリルおよびメタクリル基を有するノルボルネンとをトルエンに溶かし、上述したＮｉ化合物（Ａ）を触媒に用いて溶液重合させることで得ることができる。
【０１６３】
なお、式（２）で表されるノルボルネン系ポリマーの中でも、可撓性と耐熱性との両立の観点から、特に、Ｒ２が炭素数４〜１０のアルキル基であり、ｃが１である化合物、例えば、ブチルボルネンとアクリル酸２−（５−ノルボルネニル）メチルとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとアクリル酸２−（５−ノルボルネニル）メチルとのコポリマー、デシルノルボルネンとアクリル酸２−（５−ノルボルネニル）メチルとのコポリマー等が好ましい。
【０１６４】
【化１０】
0005423551.tif 000008
（式（３）中、Ｒ４は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、各Ｘ３は、それぞれ独立して、炭素数１〜３のアルキル基を表し、ｄは、０〜３の整数を表し、ｐ３／ｑ３が２０以下である。）
【０１６５】
式（３）の樹脂は、Ｒ4を有するノルボルネンと、側鎖にアルコキシシリル基を有するノルボルネンとをトルエンに溶かし、上述したＮｉ化合物（Ａ）を触媒に用いて溶液重合させることで得ることができる。
【０１６６】
なお、式（３）で表されるノルボルネン系ポリマーの中でも、特に、Ｒ４が炭素数４〜１０のアルキル基であり、ｄが１または２、Ｘ３がメチル基またはエチル基である化合物、例えば、ブチルボルネンとノルボルネニルエチルトリメトキシシランとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとノルボルネニルエチルトリメトキシシランとのコポリマー、デシルノルボルネンとノルボルネニルエチルトリメトキシシランとのコポリマー、ブチルボルネンとトリエトキシシリルノルボルネンとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとトリエトキシシリルノルボルネンとのコポリマー、デシルノルボルネンとトリエトキシシリルノルボルネンとのコポリマー、ブチルボルネンとトリメトキシシリルノルボルネンとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとトリメトキシシリルノルボルネンとのコポリマー、デシルノルボルネンとトリメトキシシリルノルボルネンとのコポリマー等が好ましい。
【０１６７】
【化１１】
0005423551.tif 000009
（式中、Ｒ５は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、下記式（５）〜（７）で表される置換基を表すが、同時に同一の置換基であることはない。また、ｐ４／ｑ４＋ｒが２０以下である。）
【０１６８】
Ｒ5を有するノルボルネンと、側鎖にＡ1およびＡ2を有するノルボルネンとをトルエンに溶かし、Ｎｉ化合物（Ａ）を触媒に用いて溶液重合させることで（４）を得る。
【０１６９】
【化１２】
0005423551.tif 000010
（式（５）中、ｅは、０〜３の整数を表し、ｆは、１〜３の整数を表す。）
【０１７０】
【化１３】
0005423551.tif 000011
（式（６）中、Ｒ６は、水素原子またはメチル基を表し、ｇは、０〜３の整数を表す。）
【０１７１】
【化１４】
0005423551.tif 000012
（式（７）中、Ｘ４は、それぞれ独立して、炭素数１〜３のアルキル基を表し、ｈは、０〜３の整数を表す。）
【０１７２】
なお、式（４）で表されるノルボルネン系ポリマーとしては、例えば、ブチルノルボルネン、ヘキシルノルボルネンまたはデシルノルボルネンのいずれかと、アクリル酸２−（５−ノルボルネニル）メチルと、ノルボルネニルエチルトリメトキシシラン、トリエトキシシリルノルボルネンまたはトリメトキシシリルノルボルネンのいずれかとのターポリマー、ブチルボルネン、ヘキシルノルボルネンまたはデシルノルボルネンのいずれかと、アクリル酸２−（５−ノルボルネニル）メチルと、メチルグリシジルエーテルノルボルネンとのターポリマー、ブチルボルネン、ヘキシルノルボルネンまたはデシルノルボルネンのいずれかと、メチルグリシジルエーテルノルボルネン、ノルボルネニルエチルトリメトキシシラン、トリエトキシシリルノルボルネンまたはトリメトキシシリルノルボルネンのいずれかとのターポリマー等が挙げられる。
【０１７３】
【化１５】
0005423551.tif 000013
（式（８）中、Ｒ７は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ８は、水素原子、メチル基またはエチル基を表し、Ａｒは、アリール基を表し、Ｘ１は、酸素原子またはメチレン基を表し、Ｘ２は、炭素原子またはシリコン原子を表し、ｉは、０〜３の整数を表し、ｊは、１〜３の整数を表し、ｐ５／ｑ５が２０以下である。）
【０１７４】
Ｒ７を有するノルボルネンと、側鎖に-(CH2)-X1-X2(R8)3-j(Ar)jを含むノルボルネンとをトルエンに溶かし、Ｎｉ化合物を触媒に用いて溶液重合させることで（８）を得る。
【０１７５】
なお、式（８）で表されるノルボルネン系ポリマーの中でも、Ｘ１が酸素原子、Ｘ２がシリコン原子、Ａｒがフェニル基であるものが好ましい。
【０１７６】
さらには、可撓性、耐熱性および屈折率制御の観点から特に、Ｒ７が炭素数４〜１０のアルキル基であり、Ｘ１が酸素原子、Ｘ２がシリコン原子、Ａｒがフェニル基、Ｒ８がメチル基、ｉが１、ｊが２である化合物、例えば、ブチルボルネンとジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランとのコポリマー、デシルノルボルネンとジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランとのコポリマー等が好ましい。
具体的には、以下のようなノルボルネン系樹脂を使用することが好ましい。
【０１７７】
【化１６】
0005423551.tif 000014
（式（９）におけるＲ７、ｐ５、ｑ５、ｉは、式（８）と同じである。）
【０１７８】
また、可撓性と耐熱性および屈折率制御の観点から、式（８）において、Ｒ７が炭素数４〜１０のアルキル基であり、Ｘ１がメチレン基、Ｘ２が炭素原子、Ａｒがフェニル基、Ｒ８が水素原子、ｉが０、ｊが１である化合物、例えば、ブチルボルネンとフェニルエチルノルボルネンとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとフェニルエチルノルボルネンとのコポリマー、デシルノルボルネンとフェニルエチルノルボルネンとのコポリマー等であってもよい。
さらに、ノルボルネン系樹脂として、次のようなものを使用してもよい。
【０１７９】
【化１７】
0005423551.tif 000015
（式（１０）において、Ｒ１０は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ１１は、アリール基を示し、ｋは０以上、４以下である。ｐ６／ｑ６は２０以下である。）
【０１８０】
また、ｐ１／ｑ１〜ｐ３／ｑ３、ｐ５／ｑ５、ｐ６／ｑ６またはｐ４／ｑ４＋ｒは、２０以下であればよいが、１５以下であるのが好ましく、０．１〜１０程度がより好ましい。これにより、複数種のノルボルネンの繰り返し単位を含む効果が如何なく発揮される。
【０１８１】
以上のようなノルボルネン系樹脂は、脱離性基を有するものであることが好ましい。ここで、脱離性基とは、酸の作用により離脱するものである。
【０１８２】
具体的には、分子構造中に、−Ｏ−構造、−Ｓｉ−アリール構造および−Ｏ−Ｓｉ−構造のうちの少なくとも１つを有するものが好ましい。かかる酸離脱性基は、カチオンの作用により比較的容易に離脱する。
【０１８３】
このうち、離脱により樹脂の屈折率に低下を生じさせる離脱性基としては、−Ｓｉ−ジフェニル構造および−Ｏ−Ｓｉ−ジフェニル構造の少なくとも一方が好ましい。
【０１８４】
例えば、式（８）で表されるノルボルネン系ポリマーの中で、Ｘ１が酸素原子、Ｘ２がシリコン原子、Ａｒがフェニル基であるものが脱離性基を有するものとなる。
【０１８５】
また、式（３）においては、アルコキシシリル基のＳｉ−O−Ｘ３の部分で脱離する場合がある。
【０１８６】
例えば、式（９）のノルボルネン系樹脂を使用した場合、光酸発生剤（ＰＡＧと表記）から発生した酸により、以下のように反応が進むと推測される。なお、ここでは、脱離性基の部分のみを示し、また、ｉ＝１の場合で説明している。
【０１８７】
【化１８】
0005423551.tif 000016
【０１８８】
さらに、式（９）の構造に加えて、側鎖にエポキシ基を有するものであってもよい。このようなものを使用することで密着性に優れたフィルムが形成可能という効果がある。
具体例として以下のようなものとなる。
【０１８９】
【化１９】
0005423551.tif 000017
（式（３１）において、ｐ７／ｑ７＋ｒ２は、２０以下である。）
【０１９０】
式（３１）で示される化合物は、たとえば、ヘキシルノルボルネンと、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン（側鎖に-CH2-O-Si(CH3)(Ph)2を含むノルボルネン）およびエポキシノルボルネンをトルエンに溶かし、Ｎｉ化合物を触媒に用いて溶液重合させることで得ることができる。
【０１９１】
（（Ｂ）環状エーテル基を有するモノマー、環状エーテル基を有するオリゴマー）
次に、（Ｂ）の成分について説明する。
【０１９２】
成分（Ｂ）は、環状エーテル基を有するモノマーおよび環状エーテル基を有するオリゴマーのうちの少なくとも一方である。この成分（Ｂ）は、成分（Ａ）の樹脂と屈折率が異なり、かつ、成分（Ａ）の樹脂と相溶性のあるものであればよい。成分（Ｂ）と、成分（Ａ）の樹脂との屈折率差は、０．０１以上であることが好ましい。
【０１９３】
なお、成分（Ｂ）の屈折率は、成分（Ａ）の樹脂よりも高いものであってもよいが、成分（Ｂ）は、成分（Ａ）の樹脂よりも屈折率が低いことが好ましい。
【０１９４】
成分（Ｂ）の環状エーテル基を有するモノマー、環状エーテル基を有するオリゴマーは、酸の存在下において開環により重合するものである。モノマー、オリゴマーの拡散性を考慮すると、このモノマーの分子量（重量平均分子量）、オリゴマーの分子量（重量平均分子量）は、それぞれ１００以上、４００以下であることが好ましい。
【０１９５】
成分（Ｂ）は、たとえば、オキセタニル基あるいは、エポキシ基を有する。このような環状エーテル基は、酸により開環しやすいため、好ましい。
【０１９６】
オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーとしては、下記式（１１）〜（２０）の群から選ばれるものが好ましい。これらを使用することで波長８５０ｎｍ近傍での透明性に優れ、可撓性と耐熱性の両立が可能という利点がある。また、これらを単独でも混合して用いても差し支えない。
【０１９７】
【化２０】
0005423551.tif 000018
【０１９８】
【化２１】
0005423551.tif 000019
【０１９９】
【化２２】
0005423551.tif 000020
【０２００】
【化２３】
0005423551.tif 000021
【０２０１】
【化２４】
0005423551.tif 000022
【０２０２】
【化２５】
0005423551.tif 000023
【０２０３】
【化２６】
0005423551.tif 000024
【０２０４】
【化２７】
0005423551.tif 000025
（式（１８）においてｎは０以上、３以下である。）
【０２０５】
【化２８】
0005423551.tif 000026
【０２０６】
【化２９】
0005423551.tif 000027
【０２０７】
以上のようなモノマーおよびオリゴマーのなかでも、成分（Ａ）の樹脂との屈折率差を確保する観点から式（１３）、（１５）、（１６）、（１７）、（２０）で表される化合物を使用することが好ましい。
【０２０８】
さらには、成分（Ａ）の樹脂との屈折率差がある点、分子量が小さく、モノマーの運動性が高い点、モノマーが容易に揮発しない点を考慮すると、式（２０）、式（１５）で表される化合物を使用することが特に好ましい。
【０２０９】
また、オキセタニル基を有する化合物としては、以下の式（３２）、式（３３）で表される化合物を使用することができる。式（３２）で表される化合物としては、東亞合成製の商品名ＴＥＳＯＸ等、式（３３）で表される化合物としては、東亞合成製の商品名ＯＸ−ＳＱ等を使用することができる。
【０２１０】
【化３０】
0005423551.tif 000028
【０２１１】
【化３１】
0005423551.tif 000029
（式（３３）において、ｎは１または２である）
【０２１２】
また、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーとしては、たとえば、以下のようなものがあげられる。このエポキシ基を有するモノマー、オリゴマーは、酸の存在下において開環により重合するものである。
【０２１３】
エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーとしては、以下の式（３４）〜（３９）で表されるものを使用することができる。なかでも、エポキシ環のひずみエネルギーが大きく反応性に優れるという観点から式（３６）〜（３９）で表される脂環式エポキシモノマーを使用することが好ましい。
【０２１４】
なお、式（３４）で表される化合物は、エポキシノルボルネンであり、このような化合物としては、たとえば、プロメラス社製  ＥｐＮＢを使用することができる。式（３５）で表される化合物は、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランであり、この化合物としては、たとえば、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製  Ｚ−６０４０を使用することができる。また、式（３６）で表される化合物は、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランであり、この化合物としては、たとえば、東京化成製  Ｅ０３２７を使用することができる。
【０２１５】
さらに、式（３７）で表される化合物は、３、４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３、’４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレートであり、この化合物としては、たとえば、ダイセル化学社製  セロキサイド２０２１Ｐを使用することができる。また、式（３８）で表される化合物は、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサンであり、この化合物としては、たとえば、ダイセル化学社製  セロキサイド２０００を使用することができる。
【０２１６】
さらに、式（３９）で表される化合物は、１，２：８，９ジエポキシリモネンであり、この化合物としては、たとえば、（ダイセル化学社製  セロキサイド３０００）を使用することができる。
【０２１７】
【化３２】
0005423551.tif 000030
【０２１８】
【化３３】
0005423551.tif 000031
【０２１９】
【化３４】
0005423551.tif 000032
【０２２０】
【化３５】
0005423551.tif 000033
【０２２１】
【化３６】
0005423551.tif 000034
【０２２２】
【化３７】
0005423551.tif 000035
【０２２３】
さらに、（Ｂ）の成分として、オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーと、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーとが併用されていてもよい。
【０２２４】
オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーは重合を開始する開始反応が遅いが、生長反応が速い。これに対し、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーは、重合を開始する開始反応が速いが、生長反応が遅い。そのため、オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーと、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーとを併用することで、光を照射した際に、光照射部分と、未照射部分との屈折率差を確実に生じさせることができる。
【０２２５】
この（Ｂ）成分の添加量は、（Ａ）成分１００重量部に対し、１重量部以上、５０重量部以下であることが好ましく、２重量部以上、２０重量部以下であることがより好ましい。これにより、コア／クラッド間の屈折率変調を可能にし、可撓性と耐熱性との両立が図れるという効果がある。
【０２２６】
（（Ｃ）光酸発生剤）
光酸発生剤としては、光のエネルギーを吸収してブレンステッド酸あるいはルイス酸を生成するものであればよく、例えば、トリフェニルスルフォニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリス（４−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウム−トリフルオロメタンスルホネートなどのスルホニウム塩類、ｐ−ニトロフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェートなどのジアゾニウム塩類、アンモニウム塩類、ホスホニウム塩類、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、（トリキュミル）ヨードニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどのヨードニウム塩類、キノンジアジド類、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタンなどのジアゾメタン類、１−フェニル−１−（４−メチルフェニル）スルホニルオキシ−１−ベンゾイルメタン、Ｎ−ヒドロキシナフタルイミド−トリフルオロメタンサルホネートなどのスルホン酸エステル類、ジフェニルジスルホンなどのジスルホン類、トリス（２，４，６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３．４−メチレンジオキシフェニル）−４，６−ビス−（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのトリアジン類などの化合物を挙げることができる。これらの光酸発生剤は、単独、または複数を組み合わせて使用することができる。
【０２２７】
光酸発生剤の含有量は、（Ａ）成分１００重量部に対し０．０１重量部以上、０．３重量部以下であることが好ましく、０．０２重量部以上、０．２重量部以下であることがより好ましい。これにより、反応性の向上という効果がある。
【０２２８】
感光性樹脂組成物は、以上の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の成分に加えて、増感剤等の添加剤を含有していてもよい。
【０２２９】
増感剤は、光に対する光酸発生剤の感度を増大して、光酸発生剤の活性化（反応または分解）に要する時間やエネルギーを減少させる機能や、光酸発生剤の活性化に適する波長に光の波長を変化させる機能を有するものである。
【０２３０】
このような増感剤としては、光酸発生剤の感度や増感剤の吸収のピーク波長に応じて適宜選択され、特に限定されないが、たとえば、９，１０−ジブトキシアントラセン（ＣＡＳ番号第７６２７５−１４−４番）のようなアントラセン類、キサントン類、アントラキノン類、フェナントレン類、クリセン類、ベンツピレン類、フルオラセン類（fluoranthenes）、ルブレン類、ピレン類、インダンスリーン類、チオキサンテン−９−オン類（thioxanthen-9-ones）等が挙げられ、これらを単独または混合物として用いることができる。
【０２３１】
増感剤の具体例としては、例えば、２−イソプロピル−９Ｈ−チオキサンテン−９−オン、４−イソプロピル−９Ｈ−チオキサンテン−９−オン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、フェノチアジン（phenothiazine）またはこれらの混合物が挙げられる。
【０２３２】
増感剤の含有量は、感光性樹脂組成物中で、０．０１重量％以上であるのが好ましく、０．５重量％以上であるのがより好ましく、１重量％以上であるのがさらに好ましい。なお、上限値は、５重量％以下であるのが好ましい。
【０２３３】
以上の感光性樹脂組成物のうち、成分（Ａ）として側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン樹脂と、成分（Ｃ）の光酸発生剤と、成分（Ｂ）として下記式（１００）に記載の第１モノマーと、を含む感光性樹脂組成物が特に好ましい。
【０２３４】
【化３８】
0005423551.tif 000036
【０２３５】
以下、特に好ましいこの感光性樹脂組成物について説明する。
前記側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン樹脂を構成する環状オレフィン樹脂（Ａ）としては、前述したようなものを使用できるが、例えばシクロヘキセン、シクロオクテン等の単環体モノマーの重合体、ノルボルネン、ノルボルナジエン、ジシクロペンタジエン、ジヒドロジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、トリシクロペンタジエン、ジヒドロトリシクロペンタジエン、テトラシクロペンタジエン、ジヒドロテトラシクロペンタジエン等の多環体モノマーの重合体等が挙げられる。これらの中でも多環体モノマーの重合体の中から選ばれる１種以上の環状オレフィン樹脂が好ましく用いられる。これにより、樹脂の耐熱性を向上することができる。
【０２３６】
なお、重合形態としては、ランダム重合、ブロック重合等の公知の形態を適用することができる。例えばノルボルネン型モノマーの重合の具体例としては、ノルボルネン型モノマ−の（共）重合体、ノルボルネン型モノマ−とα−オレフィン類などの共重合可能な他のモノマ−との共重合体、およびこれらの共重合体の水素添加物などが具体例に該当する。これら環状オレフィン樹脂は、公知の重合法により製造することが可能であり、その重合方法には付加重合法と開環重合法とがあり、前述の中でも付加重合法で得られる環状オレフィン樹脂（特にノルボルネン系樹脂）が好ましい（すなわち、ノルボルネン系化合物の付加重合体）。これにより、透明性、耐熱性および可撓性に優れる。
【０２３７】
前記脱離性基としては、光酸発生剤から発生する酸（Ｈ＋）の作用により分子の一部が切断されて離脱するものである。具体的には、分子構造中（側鎖）に、前述したような−Ｏ−構造、−Ｓｉ−アリール構造および−Ｏ−Ｓｉ−構造のうちの少なくとも１つを有するものが好ましい。上述したような離脱性基は、酸（Ｈ＋）の作用により比較的容易に離脱する。
【０２３８】
上述した脱離性基の中でも離脱により樹脂の屈折率に低下を生じさせる離脱性基としては、−Ｓｉ−ジフェニル構造および−Ｏ−Ｓｉ−ジフェニル構造の少なくとも一方が好ましい。
【０２３９】
前記脱離性基の含有量は、特に限定されないが、前記側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン樹脂中の１０〜８０重量％であるのが好ましく、特に２０〜６０重量％であるのがより好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に可撓性と屈折率変調機能（屈折率差を大きくする効果）との両立に優れる。
【０２４０】
このような側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン樹脂としては、下記式（１０１）および／または下記式（１０２）で示される繰り返し単位を有するものが好ましい。これにより、樹脂の屈折率を高くすることができる。
【０２４１】
【化３９】
0005423551.tif 000037
（式１０１においてｎは０以上、９以下の整数である。）
【０２４２】
【化４０】
0005423551.tif 000038
【０２４３】
前記感光性樹脂組成物は、上記式（１００）に記載のモノマー（以下、第１モノマーという）を含む。これにより、さらに左右のコア／クラッド間の屈折率差を拡大することができる。
【０２４４】
第１モノマーの含有量は、特に限定されないが、前記側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン樹脂１００重量部に対して１重量部以上、５０重量部以下であることが好ましく、特に２重量部以上、２０重量部以下であることが好ましい。これにより、コア／クラッド間の屈折率変調を可能にし、可撓性と耐熱性との両立が図られる。
【０２４５】
このように、上述した第１モノマーを側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン樹脂と併用した場合に、コア／クラッド間の屈折率変調と、可撓性とのバランスに優れることの理由は、以下の通りと考えられる。
【０２４６】
まず、以上のような感光性樹脂組成物を用いた場合に、コア／クラッド間の屈折率変調に優れるのは、光照射等によって発生した酸により、第１モノマーが重合反応を開始するとき、第１モノマーがその反応性に優れているからである。第１モノマーの反応性が優れていると、第１モノマーの硬化性が高くなり、第１モノマーの濃度勾配によって生じる第１モノマーの拡散性が向上する。それによって、光照射領域と、未照射領域との屈折率差を大きくすることができる。
【０２４７】
また、第１モノマーは一官能であるために、重合反応が進行して感光性樹脂組成物としての架橋密度はそれほど高くはならない。そのため、可撓性にも優れている。
【０２４８】
前記感光性樹脂組成物は、特に限定されないが、前記第１モノマーと異なる第２モノマーを含んでいてもよい。なお、前記第１モノマーと異なる第２モノマーとは、構造が異なるモノマーでもよく、分子量が異なるモノマーでもよい。
【０２４９】
なかでも、第２モノマーは、成分（Ｂ）として含まれており、例えばエポキシ化合物、式（１００）で示されるものと異なる他のオキセタン化合物、ビニルエーテル化合物等が挙げられる。これらの中でもエポキシ化合物（特に脂環式エポキシ化合物）および２官能のオキセタン化合物（オキセタニル基を２つ有するモノマー）の少なくとも１種が好ましい。これにより、前記第１モノマーと前記環状オレフィン樹脂との反応性を向上させることができ、それによって透明性を保持しつつ、導波路の耐熱性を向上させることができる。
【０２５０】
第２モノマーとしては、具体的には、上記式（１５）の化合物、上記式（１２）の化合物、上記式（１１）の化合物、上記式（１８）の化合物、上記式（１９）の化合物、上記式（３４）〜（３９）の化合物が挙げられる。
【０２５１】
前記第２モノマーの含有量は、特に限定されないが、前記環状オレフィン樹脂１００重量部に対して１重量部以上、５０重量部以下であることが好ましく、特に２重量部以上、２０重量部以下であることがより好ましい。これにより、前記第１モノマーとの反応性を向上させることができる。
【０２５２】
また、前記第２モノマーと前記第１モノマーとの併用割合も特に限定されないが、重量比（前記第２モノマーの重量／前記第１モノマーの重量）で、０．１〜１が好ましく、特に０．１〜０．６が好ましい。併用割合が前記範囲内であると、反応性の速さと導波路の耐熱性とのバランスに優れる。
【０２５３】
光酸発生剤の含有量は、特に限定されないが、前記側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン系樹脂１００重量部に対して０．０１重量部以上、０．３重量部以下であることが好ましく、特に０．０２重量部以上、０．２重量部以下であることがより好ましい。含有量が下限値未満であると反応性が低下する場合があり、前記上限値を超えると光導波路に着色が生じて光損失が低下する場合がある。
【０２５４】
前記感光性樹脂組成物は、上述した環状オレフィン系樹脂、光酸発生剤、第１モノマーおよび第２モノマー以外に、硬化触媒、酸化防止剤等を含んでいてもよい。
【０２５５】
また、上述した感光性樹脂組成物は、コア部９４の形成用の組成物として用いることができる。
【０２５６】
（光導波路の製造方法）
図１０〜１２は、それぞれ、光導波路の製造方法の工程例を模式的に示す断面図である。
【０２５７】
ここでは、成分（Ｂ）が成分（Ａ）の環状オレフィン樹脂よりも屈折率が低いものである場合の感光性樹脂組成物を用いて光導波路を製造する方法を例にして説明する。
【０２５８】
まず、図１０（Ａ）に示すように、感光性樹脂組成物を溶媒に溶かしてワニス９００を調製し、このワニス９００をクラッド層９１上に塗布する。
【０２５９】
感光性樹脂組成物をワニス状に調製する溶媒としては、たとえば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、テトラヒドロピラン（ＴＨＰ）、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグリム）、ジエチレングリコールエチルエーテル（カルビトール）などのエーテル系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、フェニルセロソルブなどのセロソルブ系溶媒、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン、メシチレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドンなどの芳香族複素環化合物系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）などのアミド系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化合物系溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル、ギ酸エチルなどのエステル系溶媒、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホランなどの硫黄化合物系溶媒の各種有機溶媒、または、これらを含む混合溶媒が挙げられる。
【０２６０】
次に、光導波路９のクラッド層９１上にワニス９００を塗布した後、乾燥させて、溶媒を蒸発（脱溶媒）させる。これにより、図１０（Ｂ）に示すように、ワニス９００は、光導波路形成用のフィルム９１０となる。このフィルム９１０は、後述する光の照射により、コア部９４とクラッド部９５とが形成されたコア層９３となる。
【０２６１】
ここで、ワニス９００を塗布する方法としては、たとえば、ドクターブレード法、スピンコート法、ディッピング法、テーブルコート法、スプレー法、アプリケーター法、カーテンコート法、ダイコート法の方法が挙げられるが、これらに限定されるわけではない。クラッド層９１としては、たとえば、後述するコア部９４よりも屈折率が低いシートが使用され、たとえば、ノルボルネン系樹脂と、エポキシ樹脂とを含むシートが使用される。
【０２６２】
次に、フィルム９１０に対し、選択的に光（たとえば、紫外線）を照射する。
この際、図１１（Ａ）に示すように、フィルム９１０の上方に開口が形成されたマスクＭを配置する。このマスクＭの開口を介して、フィルム９１０に対し、光を照射する。
【０２６３】
用いられる光としては、例えば、波長２００〜４５０ｎｍの範囲にピーク波長を有するものが挙げられる。これにより、光酸発生剤の組成にもよるが、光酸発生剤を比較的容易に活性化させることができる。
【０２６４】
また、光の照射量は、特に限定されないが、０．１〜９Ｊ／ｃｍ２程度であるのが好ましく、０．２〜６Ｊ／ｃｍ２程度であるのがより好ましく、０．２〜３Ｊ／ｃｍ２程度であるのがさらに好ましい。
【０２６５】
なお、レーザー光のように指向性の高い光を用いる場合には、マスクＭの使用を省略することもできる。
【０２６６】
フィルム９１０のうち、光が照射された領域では、光酸発生剤から酸が発生することとなる。発生した酸により、成分（Ｂ）が重合する。
【０２６７】
光が照射されていない領域では、光酸発生剤から酸が発生しないため、成分（Ｂ）は重合しない。照射部分では、成分（Ｂ）が重合しポリマーとなるため、成分（Ｂ）量が少なくなる。これに応じて、未照射部分の成分（Ｂ）が照射部分に拡散し、これにより、照射部分と未照射部分とで屈折率差が生じる。
【０２６８】
ここで、成分（Ｂ）が、環状オレフィン樹脂よりも屈折率が低い場合には、未照射部分の成分（Ｂ）が照射部分に拡散することで、未照射部分の屈折率が高くなるとともに、照射部分の屈折率は低くなる。
【０２６９】
なお、成分（Ｂ）が重合したポリマーと、環状エーテル基を有するモノマーとの屈折率差は、０以上、０．００１以下程度であり、屈折率は略同じであると考えられる。
【０２７０】
このように上述した感光性樹脂組成物を使用した場合には、光酸発生剤から発生する酸により、成分（Ｂ）の重合を開始させることが可能である。
【０２７１】
さらに、本発明に用いられる環状オレフィン樹脂は必ずしも脱離性基を有していなくてもよいが、成分（Ａ）として、脱離性基を有する環状オレフィン樹脂を使用している場合には、以下の作用が生じる。
【０２７２】
光を照射した部分では、光酸発生剤から発生した酸により、環状オレフィン樹脂の脱離性基が脱離することとなる。−Ｓｉ−アリール構造、−Ｓｉ−ジフェニル構造および−Ｏ−Ｓｉ−ジフェニル構造等の脱離性基の場合、離脱により樹脂の屈折率が低下することとなる。そのため、照射部分の屈折率は脱離性基の脱離前に比べてさらに低下することとなる。
【０２７３】
次に、フィルム９１０を加熱する。この加熱工程において、光を照射した照射部分の成分（Ｂ）がさらに重合する。一方で、この加熱工程において、未照射部分の成分（Ｂ）は揮発することとなる。これにより、未照射部分では、成分（Ｂ）が少なくなり、環状オレフィン樹脂に近い屈折率となる。
【０２７４】
このフィルム９１０においては、図１１（Ｂ）に示すように、光が照射された領域がクラッド部９５となり、未照射領域がコア部９４となる。コア部９４における前記成分（Ｂ）由来の構造体濃度と、クラッド部９５における前記成分（Ｂ）由来の構造体濃度とが異なる。具体的には、コア部９４における成分（Ｂ）由来の構造体濃度は、クラッド部９５における成分（Ｂ）由来の構造体濃度より低い。
【０２７５】
また、クラッド部９５は、コア部９４よりも屈折率が低くなり、クラッド部９５とコア部９４との屈折率差は、０．０１以上となる。以上のようにして、フィルム９１０には、コア部９４とクラッド部９５とが形成され、コア層９３が得られる。
【０２７６】
この加熱工程における加熱温度は、特に限定されないが、３０〜１８０℃程度であるのが好ましく、４０〜１６０℃程度であるのがより好ましい。
【０２７７】
また、加熱時間は、光を照射した照射部分の成分（Ｂ）の重合反応がほぼ完了するように設定するのが好ましく、具体的には、０．１〜２時間程度であるのが好ましく、０．１〜１時間程度であるのがより好ましい。
【０２７８】
その後、このコア層９３上に、クラッド層９１と同様のフィルムを貼り付ける。このフィルムがクラッド層９２となる。一対のクラッド層９１、９２は、クラッド部９５とは異なる方向から、コア部９４を挟むように配置されることとなる。
【０２７９】
なお、クラッド層９２は、フィルム状のものを貼り付けるのではなく、コア層９３上に液状材料を塗布し硬化（固化）させる方法によっても形成することができる。
以上の工程により、図１２に示す光導波路９が得られる。
【０２８０】
また、本発明において用いる感光性樹脂組成物により光導波路９を得た場合には、特に半田耐リフロー性に優れる。さらに、光導波路９を曲げた場合であっても光損失を少なくすることができる。
【０２８１】
なお、上記の説明では、クラッド層９１上に直接、感光性樹脂組成物を供給し、フィルム９１０（コア層９３）を形成する場合について説明したが、別の基材上にフィルム９１０（コア層９３）を形成した後、得られたコア層９３をクラッド層９１またはクラッド層９２上に転写し、その後、コア層９３を介してクラッド層９１とクラッド層９２とを重ね合わせるようにしてもよい。
【０２８２】
次に、本実施形態の作用効果について説明する。
本実施形態において用いる感光性樹脂組成物に光を当てると、光酸発生剤から酸が発生し、照射部分のみにおいて、成分（Ｂ）が重合されることとなる。そうすると、照射部分における成分（Ｂ）の量が少なくなるため、未照射部分の成分（Ｂ）が照射部分に拡散し、これにより、照射部分と未照射部分とで屈折率差が生じる。具体的には、本実施形態では、ベースポリマーとして、成分（Ｂ）よりも屈折率が高い置換または無置換の環状オレフィン樹脂を使用しているため、未照射部分の成分（Ｂ）が照射部分に拡散することで、未照射部分の屈折率が、照射部分の屈折率よりも高くなる。
【０２８３】
これに加え、光照射後、感光性樹脂組成物の加熱を行うと、未照射部分から成分（Ｂ）が揮発する。これにより、照射部分と未照射部分とでさらに屈折率差が生じる。
【０２８４】
このように感光性樹脂組成物を使用することで、照射部分と未照射部分とで確実に屈折率差を形成することができる。また、本発明によれば、単に光を照射するという簡単な方法でコア部をパターニングすることができる。例えば、フォトマスク等の露光パターンを適宜選択することにより、どのような形状や配置の光路（コア部）でも形成することができ、また、細い光路でもシャープに形成することができるので、回路の集積化に寄与し、デバイスの小型化が図られる。すなわち、本発明によれば、コア部のパターン形状の設計の自由度が広く、しかも寸法精度の高いコア部が得られる。
【０２８５】
なお、従来、オキセタニル基等を有するノルボルネン系樹脂を、熱酸発生剤により架橋させる技術が知られている。しかしながら、このような技術に用いられる組成物は、ベースポリマーとして、オキセタニル基等を有するノルボルネン系樹脂を含有する。そして、組成物全体を加熱させ、組成物全体において架橋構造を生じさせるものである。そのため、従来用いられていたこの組成物には、選択的に光を照射し、酸を発生させることで、選択的に重合を生じさせ、モノマー濃度が少なくなった領域にモノマーが拡散して、濃度差ができるという技術的思想は全くない。
【０２８６】
これに対し、本実施形態において用いる感光性樹脂組成物は、選択的に光を照射すると、酸の発生により照射部分における成分（Ｂ）の量が少なくなるため、未照射部分の成分（Ｂ）が照射部分に拡散し、これにより、照射部分と未照射部分とで屈折率差が生じることを見出したものである。
【０２８７】
また、環状オレフィン樹脂を、光酸発生剤から発生する酸により脱離し、脱離により、成分（Ａ）の環状オレフィン樹脂の屈折率を低下させる脱離性基を有するものとした場合には、光を照射した領域の屈折率を、未照射領域に比べ確実に低下させることができる。
【０２８８】
一方で、環状オレフィン樹脂を脱離性基を有しないものとした場合には、側鎖が化学的に安定となるため、光照射や、加熱等の条件により、コア部、クラッド部の屈折率が変動してしまうことを抑制できる。
【０２８９】
さらに、本実施形態では、成分（Ａ）としてノルボルネン系樹脂を使用している。これにより、特定波長における光透過性を確実に高めることができ、伝搬損失の低減を確実に図ることができる。
【０２９０】
また、クラッド部９５は、コア部９４よりも屈折率が低く、クラッド部９５とコア部９４との屈折率差を０．０１以上とすることで、確実に光をコア部９４に閉じ込めることができ、光の伝搬損失の発生を抑制できる。
【０２９１】
一方、従来、光導波路形成用の組成物として、ポリマー、モノマー、助触媒および触媒前駆体を含むものが知られている。
【０２９２】
このうち、モノマーは、光の照射により反応物を形成し、光を照射した領域の屈折率を、未照射領域の屈折率と異ならせ得るものである。
【０２９３】
また、触媒前駆体は、モノマーの反応（重合反応、架橋反応等）を開始させ得る物質であり、光の照射により活性化した助触媒の作用により、活性化温度が変化する物質である。この活性化温度の変化により、光の照射領域と未照射領域との間で、モノマーの反応を開始させる温度が異なり、その結果、照射領域のみにおいて反応物を形成させることができる。
【０２９４】
これに対し、本実施形態において用いる感光性樹脂組成物は、このような多量の金属元素を含む物質を必要としない。このため、上述したような伝搬損失の増加が防止され、伝搬効率に優れかつ耐熱性に優れた光導波路９が得られる。
【０２９５】
このような従来の組成物を用いた場合でも光照射によりコア部とクラッド部とを作り分けることができるが、本実施形態に用いられる感光性樹脂組成物によれば、コア部９４とクラッド部９５との屈折率差をより拡大するとともに、耐熱性が向上するため、より信頼性の高い光導波路９が得られる。これは主に、成分（Ａ）および成分（Ｂ）の組成を最適化したことによるものである。
【０２９６】
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
【０２９７】
また、前記実施形態では、感光性樹脂組成物を使用して、光導波路フィルムを形成したが、これに限らず、ホログラム等に使用してもよい。前述の感光性樹脂組成物は、屈折率が高い領域と、屈折率が低い領域とが混在するフィルムを形成するのに適している。
【実施例】
【０２９８】
次に、本発明の実施例について説明する。
Ａ．光導波路の製造
（実施例１）
【０２９９】
（１）脱離性基を有するノルボルネン系樹脂の合成
水分および酸素濃度がいずれも１ｐｐｍ以下に制御され、乾燥窒素で充満されたグローブボックス中において、ヘキシルノルボルネン（ＨｘＮＢ）７．２ｇ（４０．１ｍｍｏｌ）、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン１２．９ｇ（４０．１ｍｍｏｌ）を５００ｍＬバイアル瓶に計量し、脱水トルエン６０ｇと酢酸エチル１１ｇを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。
【０３００】
次に、１００ｍＬバイアルビン中に下記化学式（Ｂ）で表わされるＮｉ触媒１．５６ｇ（３．２ｍｍｏｌ）と脱水トルエン１０ｍＬを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。
【０３０１】
この下記化学式（Ｂ）で表わされるＮｉ触媒溶液１ｍＬをシリンジで正確に計量し、上記２種のノルボルネンを溶解させたバイアル瓶中に定量的に注入し室温で１時間撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認された。この時点で栓を抜き、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｇを加えて撹拌を行い、反応溶液を得た。
【０３０２】
１００ｍＬビーカーに無水酢酸９．５ｇ、過酸化水素水１８ｇ（濃度３０％）、イオン交換水３０ｇを加えて撹拌し、その場で過酢酸水溶液を調製した。次にこの水溶液全量を上記反応溶液に加えて１２時間撹拌してＮｉの還元処理を行った。
【０３０３】
次に、処理の完了した反応溶液を分液ロートに移し替え、下部の水層を除去した後、イソプロピルアルコールの３０％水溶液を１００ｍＬ加えて激しく撹拌を行った。静置して完全に二層分離が行われた後で水層を除去した。この水洗プロセスを合計で３回繰り返した後、油層を大過剰のアセトン中に滴下して生成したポリマーを再沈殿させ、ろ過によりろ液と分別した後、６０℃に設定した真空乾燥機中で１２時間加熱乾燥を行うことにより、ポリマー＃１を得た。ポリマー＃１の分子量分布は、ＧＰＣ測定により、Ｍｗ＝１０万、Ｍｎ＝４万であった。また、ポリマー＃１中の各構造単位のモル比は、ＮＭＲによる同定により、ヘキシルルボルネン構造単位が５０ｍｏｌ％、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が５０ｍｏｌ％であった。また屈折率はメトリコンにより１．５５（測定波長；６３３ｎｍ）であった。
【０３０４】
【化４１】
0005423551.tif 000039
【０３０５】
【化４２】
0005423551.tif 000040
【０３０６】
（２）感光性樹脂組成物の製造
精製した上記ポリマー＃１  １０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（チバガイギー社製）０．０１ｇ、シクロヘキシルオキセタンモノマー（式２０（式１００）で示した第１モノマー、東亜合成製  ＣＨＯＸ、ＣＡＳ＃４８３３０３−２５−９、分子量１８６、沸点１２５℃／１．３３ｋＰａ）２ｇ、光酸発生剤  ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃  １７８２３３−７２−２）（1.36E-2g、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加え均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄な感光性樹脂組成物ワニスＶ１を得た。
【０３０７】
（３）光導波路フィルムの製造
（下側クラッド層の作製）
シリコンウエハ上に感光性ノルボルネン樹脂組成物（プロメラス社製  Ａｖａｔｒｅｌ２０００Ｐワニス）をドクターブレードにより均一に塗布した後、４５℃の乾燥機に１５分間投入した。溶剤を完全に除去した後、塗布された全面に紫外線を１００ｍJ照射し、乾燥機中１２０℃で１時間加熱して、塗膜を硬化させて、下側クラッド層を形成させた。形成された下側クラッド層は、厚みが２０μｍであり、無色透明であり、屈折率は１．５２（測定波長；６３３ｎｍ）であった。
【０３０８】
（コア層の形成）
上記下側クラッド層上に感光性樹脂組成物ワニスＶ１をドクターブレードによって均一に塗布した後、４５℃の乾燥機に１５分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２で選択的に照射した。マスクを取り去り、乾燥機中４５℃で３０分、８５℃で３０分、１５０℃で１時間と三段階で加熱を行った。加熱後、非常に鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。また、コア部およびクラッド部の形成が確認された。
【０３０９】
（上側クラッド層の形成）
ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）フィルム上に、予め乾燥厚み２０μｍになるようにＡｖａｔｒｅｌ２０００Ｐを積層させたドライフィルムを、上記コア層に貼り合わせ、１４０℃に設定された真空ラミネーターに投入して熱圧着を行った。その後、紫外線を１００ｍＪ全面照射し乾燥機中１２０℃で１時間加熱して、Ａｖａｔｒｅｌ２０００Ｐを硬化させて、上側クラッド層を形成させ、光導波路を得た。このとき、上側クラッド層は、無色透明であり、その屈折率は１．５２であった。
【０３１０】
（４）評価
（光導波路の損失評価）
８５０ｎｍＶＣＳＥＬ（面発光レーザー）より発せられた光を５０μｍφの光ファイバーを経由して上記光導波路に導入し、２００μｍφの光ファイバーで受光を行って光の強度を測定した。なお、測定にはカットバック法を採用した。光導波路の長手方向を横軸にとり、挿入損失を縦軸にプロットしていったところ、測定値はきれいに直線上に並び、その傾きから伝搬損失は０．０３ｄＢ／ｃｍと算出することができた。
【０３１１】
（コア部とクラッド部との屈折率差）
上記（コア層の形成）で形成した、水平方向に隣接する左右のコア部−クラッド部間の屈折率差は、次のように求めた。
【０３１２】
カナダ国  EXFO社製 Optical waveguide analyzer OWA-9500により波長６５６ｎｍのレーザー光を光導波路に照射し、コア領域およびクラッド領域の屈折率をそれぞれ実測して、それらの差を算出した。その結果、屈折率差は０．０２であった。
【０３１３】
（実施例２）
（１）脱離性基を有しないノルボルネン系樹脂の合成
水分および酸素濃度がいずれも１ｐｐｍ以下に制御され、乾燥窒素で充満されたグローブボックス中において、ヘキシルノルボルネン（ＨｘＮＢ）９．４ｇ（５３．１ｍｍｏｌ）、フェニルエチルノルボルネン１０．５ｇ（５３．１ｍｍｏｌ）を５００ｍＬバイアル瓶に計量し、脱水トルエン６０ｇと酢酸エチル１１ｇを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。
【０３１４】
次に、１００ｍＬバイアルビン中に上記化学式（Ｂ）で表わされるＮｉ触媒２．０６ｇ（３．２ｍｍｏｌ）と脱水トルエン１０ｍＬを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。
【０３１５】
上記化学式（Ｂ）で表わされるＮｉ触媒溶液１ｍＬをシリンジで正確に計量し、上記２種のノルボルネンを溶解させたバイアル瓶中に定量的に注入し室温で１時間撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認された。この時点で栓を抜き、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｇを加えて撹拌を行い、反応溶液を得た。
【０３１６】
１００ｍＬビーカーに無水酢酸９．５ｇ、過酸化水素水１８ｇ（濃度３０％）、イオン交換水３０ｇを加えて撹拌し、その場で過酢酸水溶液を調製した。次にこの水溶液全量を上記反応溶液に加えて１２時間撹拌してＮｉの還元処理を行った。
【０３１７】
次に、処理の完了した反応溶液を分液ロートに移し替え、下部の水層を除去した後、イソプロピルアルコールの３０％水溶液を１００ｍＬ加えて激しく撹拌を行った。静置して完全に二層分離が行われた後で水層を除去した。この水洗プロセスを合計で３回繰り返した後、油層を大過剰のアセトン中に滴下して生成したポリマーを再沈殿させ、ろ過によりろ液と分別した後、６０℃に設定した真空乾燥機中で１２時間加熱乾燥を行うことにより、ポリマー＃２を得た。ポリマー＃２の分子量分布は、ＧＰＣ測定により、Ｍｗ＝９万、Ｍｎ＝４万であった。また、ポリマー＃２中の各構造単位のモル比は、ＮＭＲによる同定により、ヘキシルルボルネン構造単位が５０ｍｏｌ％、フェニルエチルノルボルネン構造単位が５０ｍｏｌ％であった。また屈折率はメトリコンにより１．５４（測定波長；６３３ｎｍ）であった。
【０３１８】
【化４３】
0005423551.tif 000041
【０３１９】
（２）感光性樹脂組成物の製造
精製した上記ポリマー＃２  １０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（チバガイギー社製）０．０１ｇ、シクロヘキシルオキセタンモノマー（式２０で示したもの、東亜合成製  ＣＨＯＸ、ＣＡＳ＃４８３３０３−２５−９、分子量１８６、沸点１２５℃／１．３３ｋＰａ）２ｇ、光酸発生剤  ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃  １７８２３３−７２−２）（1.36E-2g、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加え均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄な感光性樹脂組成物ワニスＶ２を得た。
【０３２０】
（３）光導波路フィルムの製造
（下側クラッド層の作製）
実施例１と同様の下側クラッド層を作製した。
【０３２１】
（コア層の形成）
上記下側クラッド層上に感光性樹脂組成物ワニスＶ２をドクターブレードによって均一に塗布した後、４５℃の乾燥機に１５分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２で選択的に照射した。マスクを取り去り、乾燥機中４５℃で３０分、８５℃で３０分、１５０℃で１時間と三段階で加熱を行った。加熱後、非常に鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。また、コア部およびクラッド部の形成が確認された。
【０３２２】
（上側クラッド層の形成）
実施例１と同様の上側クラッド層を作製した
【０３２３】
（４）評価
実施例１と同じ方法により、評価を行った。伝搬損失は０．０４ｄＢ／ｃｍと算出することができた。コア部とクラッド部の屈折率差は０．０１であった。
【０３２４】
（実施例３）
（１）脱離性基を有するノルボルネン系樹脂の合成
実施例１と同様の方法でノルボルネン系樹脂を作製した。
【０３２５】
（２）感光性樹脂組成物の製造
精製した上記ポリマー＃１  １０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（チバガイギー社製）０．０１ｇ、２官能オキセタンモノマー（式（１５）で示したもの、東亜合成製、ＤＯＸ、ＣＡＳ＃１８９３４−００−４、分子量２１４、沸点１１９℃／０．６７ｋＰａ）２ｇ、光酸発生剤  ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃  １７８２３３−７２−２）（1.36E-2g、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加え均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄な感光性樹脂組成物ワニスＶ３を得た。
【０３２６】
（３）光導波路フィルムの製造
（下側クラッド層の作製）
実施例１と同様の下側クラッド層を作製した。
【０３２７】
（コア層の形成）
上記下側クラッド層上に感光性樹脂組成物ワニスＶ３をドクターブレードによって均一に塗布した後、４５℃の乾燥機に１５分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２で選択的に照射した。マスクを取り去り、乾燥機中４５℃で３０分、８５℃で３０分、１５０℃で１時間と三段階で加熱を行った。加熱後、非常に鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。また、コア部およびクラッド部の形成が確認された。
【０３２８】
（上側クラッド層の形成）
実施例１と同様の上側クラッド層を作製した。
【０３２９】
（４）評価
実施例１と同じ方法により、評価を行った。伝搬損失は０．０４ｄＢ／ｃｍと算出することができた。コア部とクラッド部の屈折率差は０．０１であった。
【０３３０】
（実施例４）
（１）脱離性基を有するノルボルネン系樹脂の合成
実施例１と同様の方法でノルボルネン系樹脂を作製した。
【０３３１】
（２）感光性樹脂組成物の製造
精製した上記ポリマー＃１  １０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（チバガイギー社製）０．０１ｇ、脂環式エポキシモノマー（式（３７）で示したもの、ダイセル化学製、セロキサイド２０２１Ｐ、ＣＡＳ＃２３８６−８７−０、分子量２５２、沸点１８８℃／４ｈＰａ）２ｇ、光酸発生剤  ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃  １７８２３３−７２−２）（1.36E-2g、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加え均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄な感光性樹脂組成物ワニスＶ４を得た。
【０３３２】
（３）光導波路フィルムの製造
（下側クラッド層の作製）
実施例１と同様の下側クラッド層を作製した。
【０３３３】
（コア層の形成）
上記下側クラッド層上に感光性樹脂組成物ワニスＶ４をドクターブレードによって均一に塗布した後、４５℃の乾燥機に１５分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２で選択的に照射した。マスクを取り去り、乾燥機中４５℃で３０分、８５℃で３０分、１５０℃で１時間と三段階で加熱を行った。加熱後、非常に鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。また、コア部およびクラッド部の形成が確認された。
【０３３４】
（上側クラッド層の形成）
実施例１と同様の上側クラッド層を作製した。
【０３３５】
（４）評価
実施例１と同じ方法により、評価を行った。伝搬損失は０．０４ｄＢ／ｃｍと算出することができた。コア部とクラッド部の屈折率差は０．０１であった。
【０３３６】
（実施例５）
（１）脱離性基を有するノルボルネン系樹脂の合成
実施例１と同様の方法でノルボルネン系樹脂を作製した。
【０３３７】
（２）感光性樹脂組成物の製造
精製した上記ポリマー＃１  １０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（チバガイギー社製）０．０１ｇ、シクロヘキシルオキセタンモノマー（式２０で示したもの、東亜合成製  ＣＨＯＸ）１ｇ、脂環式エポキシモノマー（ダイセル化学製、セロキサイド２０２１Ｐ）  １ｇ、光酸発生剤  ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃  １７８２３３−７２−２）（1.36E-2g、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加え均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄な感光性樹脂組成物ワニスＶ５を得た。
【０３３８】
（３）光導波路フィルムの製造
（下側クラッド層の作製）
実施例１と同様の下側クラッド層を作製した。
【０３３９】
（コア層の形成）
上記下側クラッド層上に感光性樹脂組成物ワニスＶ５をドクターブレードによって均一に塗布した後、４５℃の乾燥機に１５分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２で選択的に照射した。マスクを取り去り、乾燥機中４５℃で３０分、８５℃で３０分、１５０℃で１時間と三段階で加熱を行った。加熱後、非常に鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。また、コア部およびクラッド部の形成が確認された。
【０３４０】
（上側クラッド層の形成）
実施例１と同様の上側クラッド層を作製した。
【０３４１】
（４）評価
実施例１と同じ方法により、評価を行った。伝搬損失は０．０３ｄＢ／ｃｍと算出することができた。コア部とクラッド部の屈折率差は０．０１であった。
【０３４２】
（実施例６）
（１）脱離性基を有するノルボルネン系樹脂の合成
実施例１と同様の方法でノルボルネン系樹脂を作製した。
【０３４３】
（２）感光性樹脂組成物の製造
精製した上記ポリマー＃１  １０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（チバガイギー社製）０．０１ｇ、シクロヘキシルオキセタンモノマー（式２０で示したもの、東亜合成製  ＣＨＯＸ）１．５ｇ、光酸発生剤  ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃  １７８２３３−７２−２）（1.36E-2g、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加え均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄な感光性樹脂組成物ワニスＶ６を得た。
【０３４４】
（３）光導波路フィルムの製造
（下側クラッド層の作製）
実施例１と同様の下側クラッド層を作製した。
【０３４５】
（コア層の形成）
上記下側クラッド層上に感光性樹脂組成物ワニスＶ６をドクターブレードによって均一に塗布した後、４５℃の乾燥機に１５分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２で選択的に照射した。マスクを取り去り、乾燥機中４５℃で３０分、８５℃で３０分、１５０℃で１時間と三段階で加熱を行った。加熱後、非常に鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。また、コア部およびクラッド部の形成が確認された。
【０３４６】
（上側クラッド層の形成）
実施例１と同様の上側クラッド層を作製した。
【０３４７】
（４）評価
実施例１と同じ方法により、評価を行った。伝搬損失は０．０３ｄＢ／ｃｍと算出することができた。コア部とクラッド部の屈折率差は０．０１であった。
【０３４８】
（実施例７）
（１）脱離性基を有するノルボルネン系樹脂の合成
水分および酸素濃度がいずれも１ｐｐｍ以下に制御され、乾燥窒素で充満されたグローブボックス中において、ヘキシルノルボルネン（ＨｘＮＢ）６．４ｇ（３６．１ｍｍｏｌ）、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン（ｄｉＰｈＮＢ）８．７ｇ（２７．１ｍｍｏｌ）、エポキシノルボルネン（ＥｐＮＢ）４．９ｇ（２７．１ｍｍｏｌ）を５００ｍＬバイアル瓶に計量し、脱水トルエン６０ｇと酢酸エチル１１ｇを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。
【０３４９】
次に、１００ｍＬバイアルビン中に上記化学式（Ｂ）で表わされるＮｉ触媒１．７５ｇ（３．２ｍｍｏｌ）と脱水トルエン１０ｍＬを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。
【０３５０】
この上記化学式（Ｂ）で表わされるＮｉ触媒溶液１ｍＬをシリンジで正確に計量し、上記３種のノルボルネンを溶解させたバイアル瓶中に定量的に注入し室温で１時間撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認された。この時点で栓を抜き、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｇを加えて撹拌を行い、反応溶液を得た。
【０３５１】
１００ｍＬビーカーに無水酢酸９．５ｇ、過酸化水素水１８ｇ（濃度３０％）、イオン交換水３０ｇを加えて撹拌し、その場で過酢酸水溶液を調製した。次にこの水溶液全量を上記反応溶液に加えて１２時間撹拌してＮｉの還元処理を行った。
【０３５２】
次に、処理の完了した反応溶液を分液ロートに移し替え、下部の水層を除去した後、イソプロピルアルコールイソプロピルアルコールの３０％水溶液を１００ｍＬ加えて激しく撹拌を行った。静置して完全に二層分離が行われた後で水層を除去した。この水洗プロセスを合計で３回繰り返した後、油層を大過剰のアセトン中に滴下して生成したポリマーを再沈殿させ、ろ過によりろ液と分別した後、６０℃に設定した真空乾燥機中で１２時間加熱乾燥を行うことにより、ポリマー＃３を得た。ポリマー＃３の分子量分布は、ＧＰＣ測定により、Ｍｗ＝８万、Ｍｎ＝４万であった。また、ポリマー＃３中の各構造単位のモル比は、ＮＭＲによる同定により、ヘキシルルボルネン構造単位が４０ｍｏｌ％、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が３０ｍｏｌ％、エポキシノルボルネン構造単位が３０ｍｏｌ％であった。また屈折率はメトリコンにより１．５３（測定波長；６３３ｎｍ）であった。
【０３５３】
【化４４】
0005423551.tif 000042
【０３５４】
（２）感光性樹脂組成物の製造
精製した上記ポリマー＃３  １０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（チバガイギー社製）０．０１ｇ、シクロヘキシルオキセタンモノマー（式２０で示したもの、東亜合成製  ＣＨＯＸ）１．０ｇ、光酸発生剤  ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃  １７８２３３−７２−２）（1.36E-2g、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加え均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄な感光性樹脂組成物ワニスＶ７を得た。
【０３５５】
（３）光導波路フィルムの製造
（下側クラッド層の作製）
実施例１と同様の下側クラッド層を作製した。
【０３５６】
（コア層の形成）
上記下側クラッド層上に感光性樹脂組成物ワニスＶ７をドクターブレードによって均一に塗布した後、４５℃の乾燥機に１５分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２で選択的に照射した。マスクを取り去り、乾燥機中４５℃で３０分、８５℃で３０分、１５０℃で１時間と三段階で加熱を行った。加熱後、非常に鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。また、コア部およびクラッド部の形成が確認された。
【０３５７】
（上側クラッド層の形成）
実施例１と同様の上層クラッドを作製した。
【０３５８】
（４）評価
実施例１と同じ方法により、評価を行った。伝搬損失は０．０４ｄＢ／ｃｍと算出することができた。コア部とクラッド部の屈折率差は０．０２であった。
以上、実施例１〜７で得られた光導波路フィルムの評価結果を表１に示す。
【０３５９】
【表１】
0005423551.tif 000043
【０３６０】
実施例１〜７では、感光性樹脂組成物に光を当てると、光酸発生剤から、酸が発生し、照射部分のみにおいて、環状エーテル基を有するモノマーが重合する。そして、照射部分における未反応モノマー量が少なくなるため、照射部分／未照射部分間で生じた濃度勾配を解消するために未照射部分のモノマーが照射部分に拡散する。
また、光照射後、加熱を行うと、未照射部分からモノマーが揮発する。
【０３６１】
以上より、コア部とクラッド部との間でモノマー由来の構造体濃度が異なり、クラッド部では、環状エーテル基を有するモノマー由来の構造体が多くなり、コア部では、環状エーテル基を有するモノマー由来の構造体が少なくなる。このことは、コア部とクラッド部との間で０．０１以上の比較的大きな屈折率差が生じることから認められる。
【０３６２】
なお、実施例１〜７では、直線状の光導波路を形成したが、曲線状（曲率半径１０ｍｍ程度）の光導波路を形成した場合には、光損失が少ないことが顕著になる。
【０３６３】
さらには、実施例１〜７で得られた光導波路フィルムは、耐熱性が高く、２６０℃の耐リフロー性を有している。
【０３６４】
（実施例８）
（１）脱離性基を有するノルボルネン樹脂の合成
脱離性基を有するノルボルネン系樹脂の合成において、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン１２．９ｇ（４０．１ｍｍｏｌ）に代えて、フェニルジメチルノルボルネンメトキシシラン１０．４ｇ（４０．１ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にした。得られた側鎖に脱離性基を有するノルボルネン系樹脂Ｂ（式１０３）の分子量は、ＧＰＣ測定により、Ｍｗ＝１１万、Ｍｎ＝５万であった。また、各構造単位のモル比は、ＮＭＲによる同定により、ヘキシルノルボルネン構造単位が５０ｍｏｌ％、フェニルジメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が５０ｍｏｌ％であった。また屈折率はメトリコンにより１．５３（測定波長；６３３ｎｍ）であった。
【０３６５】
（２）感光性樹脂組成物の製造
ポリマー＃１に変えて、ノルボルネン系樹脂Ｂを使用した点以外は、実施例１と同様に感光性樹脂組成物を得た。
【０３６６】
（３）光導波路フィルムの製造
ノルボルネン系樹脂Ｂを含む上記感光性樹脂組成物を使用した点以外は、実施例１と同様にして、光導波路フィルムを得た。
【０３６７】
実施例１と同様に、光導波路の損失評価を行ったところ、得られた光導波路フィルムの伝搬損失は０．０３ｄＢ／ｃｍであった。
【０３６８】
【化４５】
0005423551.tif 000044
【０３６９】
（実施例９）
（１）感光性樹脂組成物として以下のものを用いた以外は、実施例１と同様にした。
【０３７０】
実施例１で得られたノルボルネン系樹脂１０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（チバガイギー社製）０．０１ｇ、シクロヘキシルオキセタンモノマー（式（１００）で示した第１モノマー、東亜合成製  ＣＨＯＸ、ＣＡＳ＃４８３３０３−２５−９、分子量１８６、沸点１２５℃／１．３３ｋＰａ）１ｇ、２官能オキセタンモノマー（式（１０４）で示した第２モノマー、東亜合成製、ＤＯＸ、ＣＡＳ＃１８９３４−００−４、分子量２１４、沸点１１９℃／０．６７ｋＰａ）１ｇ、光酸発生剤  ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃  １７８２３３−７２−２）（１．３６Ｅ−２ｇ、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加え均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄なコア層用の感光性樹脂組成物ワニスを調製した。
【０３７１】
（２）光導波路フィルムの製造
上記（１）の感光性樹脂組成物を使用した点以外は、実施例１と同様にして、光導波路フィルムを得た。
【０３７２】
実施例１と同様に、光導波路の損失評価を行ったところ、得られた光導波路フィルムの伝搬損失は０．０４ｄＢ／ｃｍであった。
【０３７３】
【化４６】
0005423551.tif 000045
【０３７４】
（実施例１０）
環状オレフィンとして以下のものを用いた以外は、実施例１と同様にした。
【０３７５】
（１）ノルボルネン系樹脂Ｃの合成
公知の手法（例えば特開２００３−２５２９６３号公報）を用いてフェニルエチルノルボルネン（ＰＥＮＢ）モノマーの開環メタセシス重合を行い、下記式（１０５）で表されるノルボルネン系樹脂Ｃを得た。
【０３７６】
（２）感光性樹脂組成物製造
ポリマー＃１に変えて、ノルボルネン系樹脂Ｃを使用した点以外は、実施例１と同様に感光性樹脂組成物を得た。
【０３７７】
（３）光導波路フィルムの製造
ノルボルネン系樹脂Ｃを含む上記感光性樹脂組成物を使用した点以外は、実施例１と同様にして、光導波路フィルムを得た。
【０３７８】
実施例１と同様に、光導波路の損失評価を行ったところ、得られた光導波路フィルムの伝搬損失は０．０５ｄＢ／ｃｍであった。
【０３７９】
【化４７】
0005423551.tif 000046
【０３８０】
（実施例１１）
第１モノマーの配合量を０．５ｇにした以外は、実施例１と同様にして、光導波路フィルムを作製した。
なお、得られた光導波路フィルムの伝搬損失は、０．１ｄＢ／ｃｍであった。
【０３８１】
（実施例１２）
第１モノマーの配合量を４．０ｇに以外は、実施例１と同様にして、光導波路フィルムを作製した。
なお、得られた光導波路フィルムの伝搬損失は、０．１ｄＢ／ｃｍであった。
【０３８２】
（比較例１）
第１モノマーを用いなかった以外は、実施例１と同様にして、光導波路フィルムを作製した。
なお、得られた光導波路フィルムの伝搬損失は、０．９０ｄＢ／ｃｍであった。
【０３８３】
（比較例２）
（１）各成分の合成
【０３８４】
＜触媒前駆体：Ｐｄ（ＯＡｃ）２（Ｐ（Ｃｙ）３）２の合成＞
漏斗を装備した２口丸底フラスコで、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（５．００ｇ、２２．３ｍｍｏｌ）とＣＨ２Ｃｌ２（３０ｍＬ）からなる赤茶色懸濁液を−７８℃で攪拌した。
【０３８５】
漏斗に、Ｐ（Ｃｙ）３（１３．１２ｍＬ（４４．６ｍｍｏｌ））のＣＨ２Ｃｌ２溶液（３０ｍＬ）を入れ、そして、１５分かけて上記攪拌懸濁液に滴下した。その結果、徐々に赤褐色から黄色に変化した。
【０３８６】
−７８℃で１時間攪拌した後、懸濁液を室温に温め、さらに２時間攪拌して、ヘキサン（２０ｍＬ）で希釈した。
【０３８７】
次に、この黄色の固体を空気中でろ過し、ペンタンで洗浄し（５×１０ｍＬ）、真空乾燥させた。
【０３８８】
２次収集物は、ろ液を０℃に冷却して分離し、上記と同様に洗浄して乾燥させた。これにより、触媒前駆体を得た。
【０３８９】
（２）感光性樹脂組成物の製造
精製した上記ポリマー＃１  １０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（チバガイギー社製）０．０１ｇ、ジメチルビス（ノルボルネンメトキシ）シラン（ＳｉＸ）２．４ｇ、上記触媒前駆体（2.6E-2g）、光酸発生剤  ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃  １７８２３３−７２−２）（1.36E-2g、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加え均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄な感光性樹脂組成物ワニスを得た。
【０３９０】
（３）光導波路フィルムの製造
（下側クラッド層の作製）
実施例１と同様の下側クラッド層を作製した。
【０３９１】
（コア層の形成）
上記下側クラッド層上に調製したワニスをドクターブレードによって均一に塗布した後、４５℃の乾燥機に１５分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２で選択的に照射した。マスクを取り去り、乾燥機中４５℃で３０分、８５℃で３０分、１５０℃で１時間と三段階で加熱を行った。加熱後、導波路パターンが現れているのが確認された。また、コア部およびクラッド部の形成が確認された。
【０３９２】
（上側クラッド層の形成）
実施例１と同様の上側クラッド層を作製した
【０３９３】
（４）評価
実施例１と同じ方法により、評価を行った。伝搬損失は０．０５ｄＢ／ｃｍと算出することができた。コア部とクラッド部の屈折率差は０．００５であった。
【０３９４】
Ｂ．光導波路の評価
各実施例および比較例で得られた光導波路について、以下の評価を行った。評価項目を内容とともに示す。得られた結果を表２に示す。
【０３９５】
１．光損失
８５０ｎｍＶＣＳＥＬ（面発光レーザー）より発せられた光を５０μｍφの光ファイバーを経由して上記光導波路に導入し、２００μｍφの光ファイバーで受光を行って光の強度を測定した。なお、測定にはカットバック法を採用し、導波路長を横軸、挿入損失を縦軸にプロットしていったところ、測定値はきれいに直線上に並び、その傾きから伝搬損失を算出した。
【０３９６】
２．耐熱性
上記光導波路を高温高湿槽（８５℃、８５％ＲＨ）に投入し、湿熱処理５００時間後の伝搬損失を評価した。また、リフロー処理（Ｎ２雰囲気下、最大温度２６０℃／６０秒）による伝搬損失の劣化の有無も並行して確認した。
なお、ここでの伝搬損失の測定は、１の光損失の測定方法と同じである。
【０３９７】
３．光導波路の曲げ損失
１０ｍｍの曲率半径を有する光導波路フィルムの光強度の曲げ損失を評価した。８５０ｎｍＶＣＳＥＬ（面発光レーザー）より発せられた光を５０μｍφの光ファイバーを経由して上記光導波路フィルムの端面に導入し、２００μｍφの光ファイバーで他端から受光を行って光の強度を測定した（下記式参照）。長さの等しい光導波路フィルムを曲げたときに生じる損失の増分を「曲げ損失」と定義し、図１３に示すように、光導波路フィルムを曲線状にした場合の挿入損失と光導波路フィルムを直線状にした場合の挿入損失との差で「曲げ損失」を表した。
【０３９８】
挿入損失［ｄＢ］＝  −１０ｌｏｇ（出射光強度／入射光強度）
曲げ損失＝（曲線での挿入損失）−（直線での挿入損失）
【０３９９】
【表２】
0005423551.tif 000047
【０４００】
表２から明らかなように実施例１，８−１２は、光損失が低く、光導波路の性能が優れていることが示された。
【０４０１】
また、実施例１，８−１２は、高温高湿処理後およびリフロー処理後の光損失も小さく、耐熱性にも優れていることが示された。
【０４０２】
また、特に実施例１，８，９，１０は、曲げ損失も小さく、光導波路を屈曲させて用いても十分な性能を発揮することが示唆された。
【０４０３】
さらに、各実施例および比較例で得られた光導波路フィルムを用いて、前記第１実施形態にかかる光導波路構造体を作製したところ、各実施例で得られた光導波路フィルムを用いた光導波路構造体は、それぞれ、各比較例で得られた光導波路フィルムを用いた光導波路構造体に比べて、伝送損失の低いものが得られた。また、交差部における混信の発生もほとんど認められなかった。
【０４０４】
また、各実施例および比較例で得られた光導波路フィルムを用いて、前記第４実施形態にかかる光導波路構造体を作製したところ、分岐部における分岐割合はそれぞれ半分となり、目的とする分岐割合とほぼ一致した。これに対し、比較例で得られた光導波路フィルムを用いた光導波路構造体では、その分岐割合が、目的とする分岐割合から外れていることが認められた。
【符号の説明】
【０４０５】
１                光導波路構造体
２                基板
２１              貫通孔
２２              導体ポスト
３                発光素子
３０              基台
３１              発光部
３２              金属ワイヤ
３３              外部電極
３４              樹脂モールド
３５              発光用ＩＣ（発光用電気素子）
３００            発光回路
４                受光素子
４０              基台
４１              受光部
４２              金属ワイヤ
４３              外部電極
４４              樹脂モールド
４５              受光用ＩＣ（受光用電気素子）
４００            受光回路
５                導体層
９                光導波路
９１              クラッド層
９２              クラッド層
９３              コア層
９４、９４ａ、９４ｂ、９４ｃ、９４ｄ  コア部
９４３            交差部
９４４            角部（交点）
９４５            境界線
９４６            面取り部
９４７            湾曲部
９４８            光部品
９４９            分岐部
９５              クラッド部
９５０            島状体
９５１            左側端部
９７１、９７２    光路変換部
９００            ワニス
９１０            フィルム
Ｍ                マスク
ａ                離間距離
【図１】
0005423551.tif 000048
【図２】
0005423551.tif 000049
【図３】
0005423551.tif 000050
【図４】
0005423551.tif 000051
【図５】
0005423551.tif 000052
【図６】
0005423551.tif 000053
【図７】
0005423551.tif 000054
【図８】
0005423551.tif 000055
【図９】
0005423551.tif 000056
【図１０】
0005423551.tif 000057
【図１１】
0005423551.tif 000058
【図１２】
0005423551.tif 000059
【図１３】
0005423551.tif 000060