(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子部品基板を処理するために用いられるレーザレンズを支持する装置であって、前記装置は、
前記レーザレンズをＺ軸に沿って前記電子部品基板に対して所望の位置に移動させるリニアアクチュエータと、
前記レーザレンズを重力場において支持するとともに流体作動シリンダによって画定される流体式釣合い装置であって、前記流体作動シリンダが、ハウジングに組み込まれて端部行程限界位置の間を移動するピストンを有し、前記ピストンによって前記ハウジングを、第１及び第２流体連通ポートをそれぞれ有する第１及び第２流体チャンバに分割する流体式釣合い装置と、
前記第１及び第２流体チャンバに前記第１及び第２流体連通ポートをそれぞれ介して接続することができる流体圧力供給源であって、前記流体圧力供給源は、前記レーザレンズを平衡状態で前記重力場において吊り下げるために調整可能である、流体圧力供給源と、
を備え、
前記リニアアクチュエータは、Ｚ軸に沿って前記流体式釣合い装置と前記レーザレンズの間に配置され、
前記リニアアクチュエータが前記レーザレンズを前記所望の位置に移動させる間、前記流体式釣合い装置は前記レーザレンズを静的に平衡状態に均衡させることを特徴とする装置。
【請求項２】
前記流体作動シリンダの前記第１及び第２流体チャンバ内の圧力を変化させることにより、前記レーザレンズの質量を、前記ハウジング内のピストンの位置に関係なく平衡状態に維持しながら、前記レーザレンズを、前記ハイジング内の前記ピストンの行程範囲内のいずれの位置にも移動させることができることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記リニアアクチュエータは音声コイル巻線及び音声コイル磁石を備え、前記流体式釣合い装置の前記ピストンが、前記音声コイル磁石を貫通して前記音声コイル巻線に結合されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
前記流体作動シリンダの前記第１及び第２流体連通ポートのうち１つのポートに組み込まれ、前記リニアアクチュエータ及び前記流体式釣合い装置に固有の振動減衰を変化させる、オリフィスサイズが調整可能なオリフィスを更に備えることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項５】
電子部品基板を処理するために用いられるレーザレンズを支持する方法であって、前記方法は、
流体圧力供給源を調整して、前記レーザレンズを平衡状態で重力場において前記集光レンズの質量及び重力に基づいてハウジングに組み込まれるピストンの対向する両端部行程界位置の間の位置に吊り下げるステップと、ここで、前記ピストン及び前記ハウジングが流体式釣合い装置の流体作動シリンダを備え、前記ピストンが、前記流体作動シリンダを、第１及び第２の流体連通ポートをそれぞれ有する第１及び第２流体連通ポートそれぞれを介して前記第１及び第２流体チャンバに接続され、
前記流体圧力供給源を調整した後、リニアアクチュエータで前記電子部品基板に対する所望の位置に前記レーザレンズをＺ軸に沿って移動させるステップとを含み、
前記リニアアクチュエータは前記Ｚ軸に沿って前記流体式釣合い装置と前記集光レンズの間に配置され、
前記リニアアクチュエータが前記レーザレンズを前記所望の位置に移動させる間、前記流体式釣合い装置は前記レーザレンズを平衡状態に均衡させることを特徴とする方法。
【請求項６】
前記流体圧力供給源を調整するステップは、
前記レーザレンズの質量を重力場において静的に吊り下げるステップ、又は
前記レーザレンズの質量を、前記ハウジング内のピストンの位置に関係なく平衡状態に維持しながら、前記レーザレンズを、前記ハウジング内の前記ピストンの行程範囲内のいずれかの位置に移動させるステップ、
のうちの少なくとも１つのステップを更に含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記流体式釣合い装置及び前記リニアアクチュエータに固有の振動減衰を、前記流体作動シリンダの前記第１及び第２流体連通ポートのうちの少なくとも１つのポートに組み込まれるオリフィスのサイズを変更することにより変化させるステップを更に含むことを特徴とする請求項５又は６に記載の方法。
【請求項８】
前記リニアアクチュエータは、音声コイル巻き及び音声コイル磁石を備え、前記流体の前記ピストンが、前記音声コイル磁石を貫通して前記音声コイル巻線に結合されていることを特徴とする請求項５〜７にいずれか一項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子部品を処理するために使用されるレーザレンズの流体式釣合い装置に関し、特に電子部品を処理するために使用されるレーザレンズの空気圧式釣合い装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在公知のやり方では、ブロック及び滑車、バネ、またはモータを使用して、レーザレンズのような質量に掛かる重力に反作用させる。これらの解決策の全てに欠点がある。ブロック及び滑車の構造では、非常に大きい質量が系に付加される。アセンブリを大きな速度及び加速度で移動させる必要がある場合、付加質量は、熱が発生し、かつ動的性能が低下するために望ましくない。バネによって、無視できる大きさの質量が付加される。しかしながら、バネは、系ダイナミクスの固有振動数を低下させるように作用し易く、これにより、往々にして、特に振動周波数が系の固有振動数に近い場合に、デバイスを動的環境で動作させる際に問題が生じ得る。振動数が一致するこの問題の解決策は、より硬いバネ、またはより柔軟なバネを提供することである。この解決策の欠点は、この解決策によって、駆動モータがバネに逆らって、より強く押すように作用してしまう、または駆動モータが質量の一部を重力場に逆らって支えるように作用してしまう可能性があり、従って駆動モータを加熱してしまうということである。モータを使用して質量を支えることによる欠点は、モータが、力またはトルクを生成するために必要な電流が継続的に流れるので加熱され始めることである。更に熱が発生することにより、構造及びデバイスが熱の影響を受け易くなるという問題が生じる。質量を重力場において、非常に大きな質量をアセンブリに付加することなく、電流が継続的に流れることによって過剰な熱を発生させることなく、そして／またはアセンブリの固有振動数を低下させることなく平衡させることが望ましい。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００３】
本発明の１つの実施形態による装置は、質量を重力場において、金属バネまたはブロック及び滑車を使用することなく平衡させる。流体式釣合い装置は、系に固有の固有振動数及び振動減衰を自動的に、または手動で変化させる機能を有する。均等化する圧力をシリンダの両側に作用させることにより、支持される質量は静的な平衡状態を重力場において成立させる。各ポートにおけるオリフィスは、手動で、または自動的に調整可能であるので、系の減衰の程度を変化させることができる。当該装置は、質量を系において、大きな質量を系に付加することなく平衡させ、そして系の固有振動数を低下させることがない。当該装置によって、固有振動数を、シリンダの両側に作用する圧力を増加させることにより変化させることができる。系の減衰は、シリンダのポートのオリフィスサイズを変化させることにより調整することもできる。当該装置は、バネ質量系を重力場において、大きな質量を付加することなく、または固有振動数を低下させることなく平衡させる。当該装置は、系のバネ定数を、シリンダ内の圧力を変化させることにより変化させることができる。当該装置は、系の減衰を、シリンダポートのオリフィスサイズを変化させることにより変化させることができる。
本発明の他の適用形態は当業者には、以下の記述を添付の図面に関連付けながら一読すると明らかになる。
【図面の簡単な説明】
【０００４】
本明細書における記述では、添付の図面が参照され、これらの図面では、同様の参照番号は同様の構成要素を、幾つかの図を通じて指す。
【図１】流体シリンダのハウジング内を移動可能なピストンの両側に画定される各チャンバに対応する流体連通ポートを有する流体シリンダの簡易模式図である。
【図２】電子部品基板を処理する装置の一部分の簡易模式図であり、当該部分は、本発明の１つの実施形態による流体式釣合い調整によって静的平衡状態で吊り下げられるレーザレンズを有する。
【図３】微細構造の紫外線レーザアブレーションパターニングに用いるレーザシステムの簡易外観図であり、このシステムでは、本発明を組み込むことができる。
【発明を実施するための形態】
【０００５】
ここで、図１及び２を参照すると、一例としてかつ非制限的に、デバイス１４の一部分１２を支持して電子部品基板を処理する装置１０が示され、この処理では、例えばスクライブ線を電子部品基板に形成する。装置１０はアセンブリ１６を含み、このアセンブリ１６は、レーザレンズ１８を重力場２０において支持して、電子部品基板に対するＺ軸２４に沿って、リニアアクチュエータ２６により、集中移動２２させる。アセンブリ１６の流体式釣合い装置２８は、流体作動シリンダ３０によって画定され、流体作動シリンダ３０は、ハウジング３４に組み込まれて端部行程限界位置３６，３８の間を移動するピストン３２を有する。ピストン３２によってハウジング３４は、第１及び第２流体連通ポート４４，４６をそれぞれ有する第１及び第２流体チャンバ４０，４２に分割される。
【０００６】
流体圧力供給源４８は、第１及び第２チャンバ４０，４２に、第１及び第２流体連通ポート４４，４６をそれぞれ介して接続することができる。流体圧力供給源４８は、各供給ラインの圧力調整手段４８ａ，４８ｂを介して調整可能であるので、異なる圧力をピストン３２の両側に伝達して、レーザレンズ１８を平衡状態で重力場２０において静的に吊り下げることができる。流体圧力供給源４８によって、レーザレンズ１８に関連する質量は、ハウジング３４に組み込まれたピストン３２の端部行程限界位置３６，３８の間のいずれの位置にも、レーザレンズ１８の質量を平衡状態に維持しながら移動することができる。
【０００７】
第１及び第２チャンバ４０，４２内の圧力は調整可能であるので、レーザレンズ１８の質量を平衡状態で重力場２０において静的に吊り下げることができる。流体作動シリンダ３０の第１及び第２チャンバ４０，４２内の圧力を調整することにより、レーザレンズ１８を、ハウジング３４内のピストン３２の行程範囲内のいずれの位置にも、レーザレンズ１８の質量を、ハウジング３４内のピストン３２の位置に関係なく平衡状態に維持しながら移動させることができる。流体式釣合い装置２８によって平衡状態で静的に平衡させながらレーザレンズ１８を所望の位置に移動させるために、リニアアクチュエータ２６は、流体式釣合い装置２８とは別体として設けることができる。流体式釣合い装置２８は、いずれの所望の流体圧力でも作用させることができる。一例としてかつ非制限的に、流体式釣合い装置２８は空気圧式釣合い装置２８である。
【０００８】
流体作動シリンダ３０は、レーザレンズ１８の振動減衰を調整して、力をアセンブリ１６に作用させた後のピストン３２及びレーザレンズ１８のオーバートラベルを最小に抑えるようにする。アセンブリ１６に固有の振動減衰は、流体作動シリンダ３０の第１及び第２流体連通ポート４４，４６のうちの少なくとも１つのポートに組み込まれるオリフィスのサイズを変更することにより変化させることができる。要望に応じて、調整可能なオリフィス５０を各流体連通ポート４４，４６に組み込んで、アセンブリ１６に固有の振動減衰を手動で、または自動的に変化させることができる。
【０００９】
流体作動シリンダ３０は、レーザレンズ１８に関連する質量を重力場２０において、アセンブリ１６に固有の固有振動数を低下させることなく平衡させる。流体作動シリンダ３０は、レーザレンズ１８の質量を重力場２０において、非常に大きな質量をアセンブリ１６に付加することなく平衡させる。流体圧力は、各供給ラインの圧力調整手段４８ａ，４８ｂを介して個別に制御されて、ピストン３２の両側に作用する力の大きさを等しくするので、静的平衡状態を重力場２０において実現する。アセンブリ１６に固有のバネ定数は、ハウジング３４の第１及び第２チャンバ４０，４２のうちの少なくとも１つのチャンバ内の流体圧力の変化に応じて変化させることができる。
【００１０】
レーザレンズ１８を含むアセンブリ１６を重力場２０において支持して、電子部品基板に対して、Ｚ軸２４に沿って、装置１０のリニアアクチュエータ２６によって、電子部品基板に対して、集中移動２２するように、スクライブ線を電子部品基板に形成する場合のように、電子部品基板を処理する方法は、アセンブリ１６用の流体式釣合い装置２８を提供するステップを含むことができる。図示のアセンブリ１６は、流体作動シリンダ３０によって画定され、流体作動シリンダ３０は、ハウジング３４に組み込まれて、対向する端部行程限界位置３６，３８の間を往復移動するピストン３２を有する。ピストン３２によってシリンダ３０は、第１及び第２流体連通ポート４４，４６をそれぞれ有する第１及び第２チャンバ４０，４２に分割される。当該方法は、流体圧力供給源４８を第１及び第２チャンバ４０，４２に、対応する第１及び第２流体連通ポート４４，４６に接続される各供給ラインの個別の圧力調整手段４８ａ，４８ｂを介して接続するステップを含むことができる。当該方法は、流体圧力供給源４８を圧力調整手段４８ａ，４８ｂにより手動または自動で調整して、レーザレンズ１８を平衡状態で重力場２０において静的に吊り下げるステップを更に含むことができる。圧力調整手段４８ａ，４８ｂを介して作用する流体圧力供給源４８によって、レーザレンズ１８の質量を、ハウジング３４に組み込まれるピストン３２の対向する端部行程限界位置３６，３８の間のいずれの位置にも、レーザレンズ１８の質量を平衡状態に維持しながら移動させることができる。流体圧力供給源４８はガス系または液体系とすることができる。一例としてかつ非制限的に、流体圧力供給源４８は、空圧系、油圧系、または特定の用途に適するいずれかの所望のガス媒質または液体媒質である。空圧系は広く利用することができ、かつ電子部品装置用途におけるほとんどの処理作業に適する。
【００１１】
動作状態では、流体作動シリンダ３０と、対応するポート４４，４６を介して連通する個別の圧力調整手段４８ａ，４８ｂを介して作用する流体圧力供給源４８は、レーザレンズ１８の質量を平衡状態で重力場２０において静的に吊り下げる。流体圧力供給源４８を、各供給ラインの個別の圧力調整手段４８ａ，４８ｂを介してピストンの両側に異なる圧力を作用させるために、流体作動シリンダ３０と連通する対応するポート４４，４６を介して伝達するように調整することにより、レーザレンズ１８の質量を平衡状態に、ハウジング３４内でのピストン３２の位置に関係なく維持しながら、レーザレンズ１８をハウジング３４内のピストン３２の行程範囲３６，３８内の任意の位置に移動する。レーザレンズ１８は、流体圧力変化に応じて移動させることができる、または外部駆動力が、流体作動シリンダ３０とは別体のリニアアクチュエータ２６から作用する結果として移動させることができる。同時に、流体作動シリンダ３０は、レーザレンズ１８の質量を平衡状態に維持することにより、外部駆動力を発生させるための所要電力を低く抑えることができる。リニアアクチュエータ２６は、一例としてかつ非制限的に、音声コイル磁石５２及び音声コイル巻線５４として形成される。ピストン３２の両側に作用する流体圧力に起因する力の大きさを等しくすることにより、アセンブリ１６において、レーザレンズ１８の静的平衡状態を重力場２０において実現することができる。
【００１２】
流体圧力供給源４８を、流体作動シリンダ３０と連通する圧力調整手段４８ａ，４８ｂを介して調整することにより、レーザレンズ１８に固有の振動減衰を調整することができるので、力がアセンブリ１６に作用した後のレーザレンズ１８を支持するアセンブリ１６のオーバートラベルを最小に抑えることができる。動作状態では、当該方法によってアセンブリ１６に固有の振動減衰を、流体作動シリンダ３０の第１及び第２流体連通ポート４４，４６のうちの少なくとも１つのポートに組み込まれるオリフィス５０のサイズを変更することにより変化させることができる。流体作動シリンダ３０の各流体連通ポート４４，４６に組み込まれるオリフィス５０を調整することにより、アセンブリ１６に固有の振動減衰を変化させることもできる。
【００１３】
流体圧力供給源４８を、流体作動シリンダ３０と連通する圧力調整手段４８ａ，４８ｂを介して調整することにより、レーザレンズ１８に関連する質量を重力場２０において、アセンブリ１６に固有の振動数を低下させることなく平衡させる。流体圧力供給源４８を、流体作動シリンダ３０と連通する圧力調整手段４８ａ，４８ｂを介して調整することによって、レーザレンズ１８の質量を重力場２０において、非常に大きな質量をアセンブリに付加することなく平衡させることができる。アセンブリ１６に固有のバネ定数は、アセンブリ１６の第１及び第２チャンバ４０，４２のうちの少なくとも１つのチャンバ内の圧力の変化に応じて変化する。
【００１４】
本発明について、一例としてかつ非制限的に、スクライブ線を電子部品基板に形成する場合のような、電子部品基板を処理する場合に関して説明してきた。図面を簡易化して、スクライブ線形成装置のうち、アセンブリ１６用の流体式釣合い装置２８と直接相互作用する部分を示してきた。スクライブ線形成装置の他の部分、及びスクライブ線形成装置の動作は、公知の従来構成に従ったものとすることができ、これらの従来構成は、例えば米国特許第６，９４９，４４９号、国際公開番号ＷＯ  ２００５／００８８４９  Ａ２、米国公開特許第ＵＳ  ２００５／００４２８０５  Ａ１号、及び米国公開特許第ＵＳ  ２００７／００５００７５  Ａ１号に説明されている。他の公知のスクライブ線形成装置及びプロセスは、米国特許第５，９６１，８５２号、及び国際公開番号ＷＯ  ２００６／０８８９９１  Ａ２に記載されている。本明細書において開示される流体式釣合い装置２８は他の装置と組み合わせて使用することができ、レーザレンズは、電子部品基板のようなワークピース（作業対象部材）に対して集中移動するために重力場において支持されることも理解されたい。
【００１５】
本発明を組み込むことができるアセンブリの１つの例を図３に示し、この図は、米国特許第７，１５７，０３８号明細書（U.S.Patent No.7,157,038 B1）からほぼそのまま複製したものである。勿論、これは単なる１つの例に過ぎない。米国特許第７，１５７，０３８号明細書（U.S.Patent No.7,157,038 B1）の図４のアセンブリ１０ｂ、上の記述で参照したアセンブリ、及び他の公知のアセンブリを使用することもできる。
【００１６】
図３のアセンブリは、ウェハチャックアセンブリ１４０を備える複合ビーム位置決めシステムを利用するレーザ処理システム１１０であり、このウェハチャックアセンブリ１４０は、半導体ワークピース１３の微細構造の紫外線レーザアブレーションパターニングに用いることができる。図示のレーザシステム１１０はレーザ１１４を含み、このレーザ１１４は、所定の波長、及び空間モードプロファイルを持つ１つ以上のレーザパルスのレーザ出力１１６を供給する。
【００１７】
レーザ出力１１６は任意であるが、種々の公知の拡大光学系及び／又はコリメーション光学系１１８を通過し、光路１２０に沿って伝搬し、そしてビーム位置決めシステム１３０によって誘導されて、レーザシステム出力パルス（群）１３２をワークピース１３の所望のレーザターゲット位置１３４に衝突させる。ビーム位置決めシステム１３０は好ましくは、並進移動ステージ位置決め装置を含み、このステージ位置決め装置では、少なくとも２つの直交移動ステージ１３６及び１３８を用いることが好ましく、これらの直交移動ステージは、例えばＸ，Ｙ，及び／又はＺ位置決めミラー２４２及び２４４を支持し、かつこれらの直交移動ステージによって、同じ、または異なるワークピース１３のターゲット位置１３４の間の高速移動が可能になる。
【００１８】
図示のように、並進移動ステージ位置決め装置は分割軸システムであり、この分割軸システムでは、通常、リニアモータによってレール１４６に沿って移動するＹステージ１３６は、ワークピース１３を支持し、かつ移動させ、そして通常、リニアモータによってレール１４８に沿って移動するＸステージ１３８は、高速位置決め装置１５０、及び各アセンブリが集光レンズ１８を支持する構成の１つ以上の関連アセンブリ１６を支持し、かつ移動させる。アセンブリ１６は、高速位置決め装置１５０内に、多数の実装手法のうちのいずれか１つの手法によって実装されて、レーザレンズ１８がＺ軸２４に沿って、ハウジング３４の端部限界位置３６，３８によって定義される範囲内で自由に移動することができるようになっている。位置決めミラー（図示せず）は、高速位置決め装置１５０のハウジング内に実装されて、光路１２０をＺ軸２４に沿って、レーザレンズ１８を通って所望のレーザターゲット位置１３４に誘導する。装置１０の残りの部分は外部に実装される。すなわち、圧力調整手段４８ａ，４８ｂによって画定され、かつポート４４，４６に達する経路群はそれぞれ、高速位置決め装置１５０のハウジングを通り抜けて流体圧力供給源４８に達する。
【００１９】
Ｘステージ１３８とＹステージ１３６との間のＺ寸法も調整可能である。位置決めミラー２４２及び２４４を、光路１２０がレーザ１１４と、光路１２０に沿って位置決めされる高速位置決め装置１５０との間の全ての折り返し点を通過するように整列する。高速位置決め装置１５０は、例えば高分解能リニアモータ、またはガルバノメータミラーペアを用いることができる可能性があり、これらのリニアモータまたはガルバノメータミラーは、固有の処理動作、または反復処理動作を、供給されるテストデータまたは設計データに基づいて実行することができる。ステージ１３６及び１３８、並びに位置決め装置１５０は、パネル化されたデータ、またはパネル化されないデータに基づき、個別に制御、および移動させる、または一括して移動させるように調整することができる。
【００２０】
高速位置決め装置１５０は、ワークピース１３の表面の１つ以上の基準マークに位置合わせすることができる視覚システムも含むことが好ましい。ビーム位置決めシステム１３０は、従来の視覚手段またはビームを用いて位置合わせシステムを動作させることができ、この位置合わせシステムは、対物レンズで位置合わせを行なう、または別体のカメラの光軸からずれた位置にあり、かつ当業者には公知になっている。位置決めシステム１３０の幾つかの形態は、Ｃｕｔｌｅｒらよる米国特許第５，７５１，５８５号明細書に詳細に記載されている。
【００２１】
１／２波長偏光板のような任意選択のレーザパワーコントローラ１５２を光路１２０に沿って配置することができる。また、フォトダイオードのような１つ以上のビーム検出素子１５４をレーザパワーコントローラ１５２の下流に配置することができ、例えばレーザ出力１１６の波長を部分的に透過するように適合させた位置決めミラー２４４に整列させることができる。ビーム検出素子１５４はビーム診断電子装置と通信することが好ましく、このビーム診断電子装置は、信号を伝送してレーザパワーコントローラ１５２の効果を修正する。
【００２２】
ワークピース１３はチャックアセンブリ１４０によって支持され、このチャックアセンブリ１４０は、真空チャック台１４２と、チャック上部１４４と、任意選択のプレート１４８と、を含む。プレート１４８は、ステージ１３６，１３８のうちの少なくとも１つのステージとの接続、及び接続解除が容易に行なわれる。台１４２は代案として、ステージ１３６または１３８に直接固定されるように適合させることができる。
【００２３】
ここで、図１に戻ってこの図を参照すると、動作状態では、シリンダ３０内の相反する流体圧力Ｐ１及びＰ２を調整して、支持される質量が平衡状態で重力場において静的に吊り下げられるようにし、この場合、（Ｐ１×Ａ１）−（Ｐ２×Ａ２）＝（ＭＡＳＳ×ＧＲＡＶＩＴＹ）が成り立ち、式中Ｐ１は、第１チャンバ４０内の圧力であり、Ａ１は、第１チャンバ４０内のピストン３２の表面積であり、Ｐ２は、第２チャンバ４２内の圧力であり、Ａ２は、第２チャンバ４２内のピストン３２の表面積であり、ＭＡＳＳは、平衡状態で吊り下げられるアセンブリ１６の重量であり、そしてＧＲＡＶＩＴＹは、既知の重力定数である。質量は、ハウジング３４内のピストン３２の行程範囲内のいずれの位置にも移動させることができ、かつ質量は、ピストン３２の静止ポイントがどこであるかに関係なく、常に平衡状態にある。系の振動減衰を調整して、オーバートラベルが、駆動力を作用させた後に全く発生することがないようにすることができる。一例としてかつ非制限的に、釣合い装置２８の１つの適切な適用形態では、リニアアクチュエータをここに示すように使用するＺ軸アセンブリを吊り下げる。つまり、当該装置によって、質量または力に作用する重力またはバネ力の影響を無くすことができる。
【００２４】
上述の実施形態を説明して、本発明を容易に理解することができるようにしてきたが、これらの実施形態によって、本発明が制限されることはない。むしろ、本発明は、添付の請求項の範囲に包含される種々の変形物及び均等配設を含むことを意図したものであり、これらの請求項の範囲は、最も広い解釈に従って解釈されるべきであるので、全てのこのような種々の変形物及び均等構造を、法律によって許容されるものとして含む。
【図１】
0005461392.tif 000002
【図２】
0005461392.tif 000003
【図３】
0005461392.tif 000004