(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ａ−１）で表される構造単位又は下記式（Ａ−２）で表される構造単位を有する重合体を含むレジスト下層膜形成組成物。
【化１】
0005582316.tif 000023
｛式（Ａ−１）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素原子数１乃至８のアルキレン基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキレン基又はフェニレン基を表す（ここで、該アルキレン基、該シクロアルキレン基又は該フェニレン基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよい。）。
一方、式（Ａ−２）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素原子数１乃至８のアルキレン基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキレン基、フェニレン基又は炭素原子数７乃至１０のアルキルフェニレン基を表す（ここで、該アルキレン基、該シクロアルキレン基、該フェニレン基又は該アルキルフェニレン基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよく、エーテル基を１つ以上有していてもよい。）。
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は同一又は異種の炭素原子数１乃至８のアルキル基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表し、Ｒ3とＲ4、Ｒ3とＲ5、Ｒ4とＲ5はそれぞれ結合して環を形成していてもよい。
Ｒ6は炭素原子数１乃至８のアルキル基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキル基又はフェニル基を表す（ここで、該アルキル基、該シクロアルキル基又は該フェニル基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよい。）。｝
【請求項２】
下記式（Ａ−１）で表される構造単位又は下記式（Ａ−２）で表される構造単位、及び下記式（Ｂ）で表される構造単位を有する重合体を含むレジスト下層膜形成組成物。
【化２】
0005582316.tif 000024
｛式（Ａ−１）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素原子数１乃至８のアルキレン基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキレン基又はフェニレン基を表す（ここで、該アルキレン基、該シクロアルキレン基又は該フェニレン基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよい。）。
一方、式（Ａ−２）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素原子数１乃至８のアルキレン基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキレン基、フェニレン基又は炭素原子数７乃至１０のアルキルフェニレン基を表す（ここで、該アルキレン基、該シクロアルキレン基、該フェニレン基又は該アルキルフェニレン基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよく、エーテル基を１つ以上有していてもよい。）。
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は同一又は異種の炭素原子数１乃至８のアルキル基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表し、Ｒ3とＲ4、Ｒ3とＲ5、Ｒ4とＲ5はそれぞれ結合して環を形成していてもよい。
Ｒ6は炭素原子数１乃至８のアルキル基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキル基又はフェニル基を表す（ここで、該アルキル基、該シクロアルキル基又は該フェニル基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよい。）
式（Ｂ）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ａ1は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−又は直接結合を表し、Ｘ1は炭素原子数１乃至８のアルキル基、アリール基又はアリールアルキル基を表し、該アルキル基、該アリール基又は該アリールアルキル基はヒドロキシ基、カルボキシル基又はエポキシ基を少なくとも１つ有する。
ｐ及びｑは前記重合体に含まれる構造単位を得るための原料モノマーの仕込み比（質量％）を表し、ｐ及びｑはそれぞれ０．０５乃至０．９５の範囲である。但し、ｐ＋ｑ≦１を満たす。｝
【請求項３】
下記式（Ａ−１）で表される構造単位又は下記式（Ａ−２）で表される構造単位、下記式（Ｂ）で表される構造単位、及び下記式（Ｃ）で表される構造単位を有する重合体を含むレジスト下層膜形成組成物。
【化３】
0005582316.tif 000025
｛式（Ａ−１）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素原子数１乃至８のアルキレン基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキレン基又はフェニレン基を表す（ここで、該アルキレン基、該シクロアルキレン基又は該フェニレン基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよい。）。
一方、式（Ａ−２）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素原子数１乃至８のアルキレン基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキレン基、フェニレン基又は炭素原子数７乃至１０のアルキルフェニレン基を表す（ここで、該アルキレン基、該シクロアルキレン基、該フェニレン基又は該アルキルフェニレン基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよく、エーテル基を１つ以上有していてもよい。）。
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は同一又は異種の炭素原子数１乃至８のアルキル基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表し、Ｒ3とＲ4、Ｒ3とＲ5、Ｒ4とＲ5はそれぞれ結合して環を形成していてもよい。
Ｒ6は炭素原子数１乃至８のアルキル基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキル基又はフェニル基を表す（ここで、該アルキル基、該シクロアルキル基又は該フェニル基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよい。）
式（Ｂ）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ａ1は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−又は直接結合を表し、Ｘ1は炭素原子数１乃至８のアルキル基、アリール基又はアリールアルキル基を表し、該アルキル基、該アリール基又は該アリールアルキル基はヒドロキシ基、カルボキシル基又はエポキシ基を少なくとも１つ有する。
式（Ｃ）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ａ2は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−又は直接結合を表し、Ｘ2は水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換された炭素原子数１乃至８のアルキル基を表す。
ｐ、ｑ及びｒは前記重合体に含まれる構造単位を得るための原料モノマーの仕込み比（質量％）を表し、ｐ、ｑ及びｒはそれぞれ０．０５乃至０．９５の範囲である。但し、ｐ＋ｑ＋ｒ≦１を満たす。｝
【請求項４】
前記重合体の含有量は、前記レジスト下層膜形成組成物の固形分の含有量に基づいて０．１乃至１０質量％である、請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のレジスト下層膜形成組成物。
【請求項５】
さらに架橋剤、架橋触媒、及び有機溶剤を含む請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のレジスト下層膜形成組成物。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載のレジスト下層膜形成組成物を、パターンを形成する加工対象膜を有する基板上に、塗布しベークしてレジスト下層膜を形成する工程、
形成された前記レジスト下層膜上にレジスト膜を形成する工程、
前記レジスト膜が形成された基板に、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、極端紫外線（ＥＵＶ）及び電子線（ＥＢ）からなる群から選択される放射線を照射する工程、
照射後に前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程、及び
形成された前記レジストパターンをマスクとしてドライエッチングにより前記基板上にパターンを転写する工程を含む、半導体素子を作製する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリマー型の光酸発生剤を含有するレジスト下層膜形成組成物及び該組成物から形成されるレジスト下層膜を用いたレジストパターンの形成方法に関し、より詳細には、レジストパターン形状の改良が可能な該組成物及び該パターン形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、低分子の光酸発生剤を含むレジスト下層膜形成組成物、例えば、酸官能基を有する、溶媒系に可溶なポリマーおよび／またはオリゴマーを架橋剤および光酸発生剤と共に含む、湿式現像性反射防止膜組成物（特許文献１）や光吸収をなす発色団（クロモフォア）を有する少なくとも一種の繰り返し単位と、ヒドロキシル及び／またはカルボキシル基を有する少なくとも一種の繰り返し単位とを含んでなるポリマー、末端ビニルエーテル基を有する架橋剤、場合によっては光酸発生剤及び／または酸及び／または熱酸発生剤を含む、反射防止膜形成組成物（特許文献２）が提案されて用いられている。【０００３】
しかし、これら反射防止膜組成物では、光酸発生剤として単独の低分子化合物が使用されているため、光酸発生剤成分がレジストへ溶出（リーチング）することや焼成時に光酸発生剤成分に由来する昇華物が発生することが問題となる。レジストへの溶出は、液体のレジスト組成物を汚染し、これにより、光酸発生剤成分のリソグラフィー装置内部への残留や部品への付着を引き起こし、露光不足や現像不良など露光・現像に悪影響を及ぼす原因となる。また、昇華物は、その後反射防止膜上に異物として付着し、欠陥等の悪影響を与えるおそれがある。【０００４】
一方、ポリマー化された光酸発生剤をレジスト膜に取り入れる技術は既に知られており、例えば、光酸発生剤として重合性不飽和結合を有するスルホン酸のオニウム塩を重合した重合体を含むことを特徴とするレジスト材料が提案されている（特許文献３）。この文献には、前記重合体が、さらに、酸素脱離基を有する繰り返し単位と、密着性基を有する繰り返し単位とを有する構造をなすところのレジスト材料についても開示されている。しかし、当該レジスト材料は、液浸リソグラフィーに好適なレジスト材料を提供することを目的としており、またこの文献には、高精度なパターンを得るためのレジスト下層膜への適用について具体的な手段及び効果は示唆されていない。【０００５】
また、光酸発生剤の重合体、上部反射防止膜の重合体、及び有機溶媒を含む上部反射防止膜組成物が提案されている（特許文献４）。当該上部反射防止膜組成物はフォトレジスト膜の上部に塗布し、上部反射防止膜を形成するものであり、この文献はイマージョンリソグラフィに適用可能な上部反射防止膜の組成物を提供することを目的としている。その上、この文献には、当該組成物のレジスト下層膜としてのドライリソグラフィへの適用の可能性については示唆されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特表２００７−５３６３８９号公報
【特許文献２】特開２００８−５０１９８５号公報
【特許文献３】特開２００６−１７８３１７号公報
【特許文献４】特開２００６−１６９４９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで、本発明は、上記の事情に基づきなされたものであり、その解決しようとする課題は、パターン底部においても容易にストレート形状のレジストパターンを形成できる等、レジストパターン形状のより一層の改良を達成することが可能なポリマー型の光酸発生剤を含有するレジスト下層膜形成組成物及び該組成物から形成されるレジスト下層膜を用いたレジストパターンの形成方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記の課題を解決するべく鋭意研究を行った結果、光酸発生剤をポリマーの構造単位として導入することで、レジスト下層膜からレジスト底部へ酸を効果的に供給することができ且つ光酸発生剤のレジストへの溶出及び昇華を抑制することができる構成とすることにより、ストレート形状のレジストパターンを容易に形成できる等、レジストパターン形状のより改良を図ることができ、その上、レジストへの溶出による悪影響及び昇華物の発生による問題の発生を無くすことができることを見出し、本発明を完成するに至った。また、ポリマー中に光酸発生剤成分以外に、第二成分、第三成分を導入して機能性ポリマーに仕上げることにより、その機能性ポリマーを含むレジスト下層膜形成組成物の機能・役割を多様化し、それから形成されるレジスト下層膜の機能性を向上させることが可能になることも見出した。【０００９】
すなわち、第１観点として、下記式（Ａ−１）で表される構造単位又は下記式（Ａ−２）で表される構造単位を有する重合体を含むレジスト下層膜形成組成物。
【化１】
0005582316.tif 000002
｛式（Ａ−１）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素原子数１乃至８のアルキレン基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキレン基又はフェニレン基を表す（ここで、該アルキレン基、該シクロアルキレン基又は該フェニレン基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよい。）。
一方、式（Ａ−２）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素原子数１乃至８のアルキレン基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキレン基、フェニレン基又は炭素原子数７乃至１０のアルキルフェニレン基を表す（ここで、該アルキレン基、該シクロアルキレン基、該フェニレン基又は該アルキルフェニレン基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよく、エーテル基を１つ以上有していてもよい。）。
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は同一又は異種の炭素原子数１乃至８のアルキル基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表し、Ｒ3とＲ4、Ｒ3とＲ5、Ｒ4とＲ5はそれぞれ結合して環を形成していてもよい。
Ｒ6は炭素原子数１乃至８のアルキル基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキル基又はフェニル基を表す（ここで、該アルキル基、該シクロアルキル基又は該フェニル基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよい。）。｝【００１０】
第２観点として、下記式（Ａ−１）で表される構造単位又は下記式（Ａ−２）で表される構造単位、及び下記式（Ｂ）で表される構造単位を有する重合体を含むレジスト下層膜形成組成物。
【化２】
0005582316.tif 000003
｛式（Ａ−１）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素原子数１乃至８のアルキレン基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキレン基又はフェニレン基を表す（ここで、該アルキレン基、該シクロアルキレン基又は該フェニレン基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよい。）。
一方、式（Ａ−２）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素原子数１乃至８のアルキレン基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキレン基、フェニレン基又は炭素原子数７乃至１０のアルキルフェニレン基を表す（ここで、該アルキレン基、該シクロアルキレン基、該フェニレン基又は該アルキルフェニレン基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよく、エーテル基を１つ以上有していてもよい。）。
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は同一又は異種の炭素原子数１乃至８のアルキル基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表し、Ｒ3とＲ4、Ｒ3とＲ5、Ｒ4とＲ5はそれぞれ結合して環を形成していてもよい。
Ｒ6は炭素原子数１乃至８のアルキル基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキル基又はフェニル基を表す（ここで、該アルキル基、該シクロアルキル基又は該フェニル基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよい。）
式（Ｂ）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ａ1は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−又は直接結合を表し、Ｘ1は炭素原子数１乃至８のアルキル基、アリール基又はアリールアルキル基を表し、該アルキル基、該アリール基又は該アリールアルキル基はヒドロキシ基、カルボキシル基又はエポキシ基を少なくとも１つ有する。
ｐ及びｑは前記重合体に含まれる構造単位を得るための原料モノマーの仕込み比（質量％）を表し、ｐ及びｑはそれぞれ０．０５乃至０．９５の範囲である。但し、ｐ＋ｑ≦１を満たす。｝【００１１】
第３観点として、下記式（Ａ−１）で表される構造単位又は下記式（Ａ−２）で表される構造単位、下記式（Ｂ）で表される構造単位、及び下記式（Ｃ）で表される構造単位を有する重合体を含むレジスト下層膜形成組成物。
【化３】
0005582316.tif 000004
｛式（Ａ−１）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素原子数１乃至８のアルキレン基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキレン基又はフェニレン基を表す（ここで、該アルキレン基、該シクロアルキレン基又は該フェニレン基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよい。）。
一方、式（Ａ−２）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素原子数１乃至８のアルキレン基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキレン基、フェニレン基又は炭素原子数７乃至１０のアルキルフェニレン基を表す（ここで、該アルキレン基、該シクロアルキレン基、該フェニレン基又は該アルキルフェニレン基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよく、エーテル基を１つ以上有していてもよい。）。
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は同一又は異種の炭素原子数１乃至８のアルキル基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表し、Ｒ3とＲ4、Ｒ3とＲ5、Ｒ4とＲ5はそれぞれ結合して環を形成していてもよい。
Ｒ6は炭素原子数１乃至８のアルキル基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキル基又はフェニル基を表す（ここで、該アルキル基、該シクロアルキル基又は該フェニル基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよい。）
式（Ｂ）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ａ1は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−又は直接結合を表し、Ｘ1は炭素原子数１乃至８のアルキル基、アリール基又はアリールアルキル基を表し、該アルキル基、該アリール基又は該アリールアルキル基はヒドロキシ基、カルボキシル基又はエポキシ基を少なくとも１つ有する。
式（Ｃ）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ａ2は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−又は直接結合を表し、Ｘ2は水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換された炭素原子数１乃至８のアルキル基を表す。
ｐ、ｑ及びｒは前記重合体に含まれる構造単位を得るための原料モノマーの仕込み比（質量％）を表し、ｐ、ｑ及びｒはそれぞれ０．０５乃至０．９５の範囲である。但し、ｐ＋ｑ＋ｒ≦１を満たす。｝【００１２】
さらに、前記式（Ａ−１）、式（Ａ−２）で表されるような光酸発生剤を構造単位に有しない重合体を、第１観点乃至第３観点のいずれかに記載のレジスト下層膜形成組成物に含むことができる。このような重合体として、例えばアクリル系ポリマー、ポリエステル、ノボラックが挙げられる。【００１３】
第４観点として、さらに架橋剤、架橋触媒、及び有機溶剤を含む第１観点乃至第３観点のいずれかに記載のレジスト下層膜形成組成物。
第５観点として、
第１観点乃至第４観点のいずれかに記載のレジスト下層膜形成組成物を、パターンを形成する加工対象膜を有する基板上に、塗布しベークしてレジスト下層膜を形成する工程、
形成された前記レジスト下層膜上にレジスト膜を形成する工程、
前記レジスト膜が形成された基板に、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、極端紫外線（ＥＵＶ）及び電子線（ＥＢ）からなる群から選択される放射線を照射する工程、
照射後に前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程、及び
形成された前記レジストパターンをマスクとしてドライエッチングにより前記基板上にパターンを転写する工程を含む、半導体素子を作製する方法。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のレジスト下層膜形成組成物は、光酸発生剤をポリマーの構造単位として導入したものを組成物中に配合していることから、当該組成物から形成されたレジスト下層膜において、露光時、光酸発生剤から効率的に酸が発生し、当該レジスト下層膜とレジスト膜の界面近傍に供給することで、とりわけレジストパターン底部におけるより正確なエッチングが可能となり、容易にストレート形状のレジストパターンを形成できる等、レジストパターン形状の著しい改良を図ることが可能である。また、従来の低分子光酸発生剤の適用の際に問題となる光酸発生剤成分の溶出（リーチング）を防止すること、及び焼成工程による光酸発生剤成分の昇華を抑制することが可能である。
また、本発明のレジスト下層膜形成組成物は、光酸発生剤成分以外に第二、第三成分として機能性モノマーを導入したポリマーを含有することにより、レジスト下層膜形成組成物から形成されるレジスト下層膜の機能性を向上させることが可能となる。
さらに、本発明のレジスト下層膜形成組成物から形成されたレジスト下層膜は、放射線、特にＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、ＥＵＶ、ＥＢ等に対して高感度、高解像度でラインエッジラフネスが小さく、レジスト材料とのインターミキシングの発生を低減できる。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、各成分の詳細を説明する。
本発明のレジスト下層膜形成組成物から有機溶剤を除いた固形分は、例えば０．５乃至１０質量％である。
【００１６】
本発明のレジスト下層膜形成組成物に含まれる光酸発生剤の重合体としては、下記式（Ａ−１）で表される構造単位又は下記式（Ａ−２）で表される構造単位を有する。
【化４】
0005582316.tif 000005
｛式（Ａ−１）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素原子数１乃至８のアルキレン基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキレン基又はフェニレン基を表す（ここで、該アルキレン基、該シクロアルキレン基又は該フェニレン基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよい。）。
一方、式（Ａ−２）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素原子数１乃至８のアルキレン基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキレン基、フェニレン基又は炭素原子数７乃至１０のアルキルフェニレン基を表す（ここで、該アルキレン基、該シクロアルキレン基、該フェニレン基又は該アルキルフェニレン基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよく、エーテル基を１つ以上有していてもよい。）。
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は同一又は異種の炭素原子数１乃至８のアルキル基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表し、Ｒ3とＲ4、Ｒ3とＲ5、Ｒ4とＲ5はそれぞれ結合して環を形成していてもよい。
Ｒ6は炭素原子数１乃至８のアルキル基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキル基又はフェニル基を表す（ここで、該アルキル基、該シクロアルキル基又は該フェニル基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよい。）。｝
【００１７】
上記式（Ａ−１）は、重合性不飽和結合を有するスルホン酸のスルホニウム塩（カチオン遊離型）である光酸発生剤の重合体である。また、上記式（Ａ−２）は、重合性不飽和結合を有するスルホニウムのスルホン酸塩（アニオン遊離型）である光酸発生剤の重合体である。
【００１８】
上述のような本発明のレジスト下層膜形成組成物に含まれる重合体を得るために必要な重合性不飽和結合を有するスルホン酸のスルホニウム塩及び重合性不飽和結合を有するスルホニウムのスルホン酸塩としては、下記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）が例示される。
【化５】
0005582316.tif 000006
｛式（Ｉ）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素原子数１乃至８のアルキレン基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキレン基又はフェニレン基を表す（ここで、該アルキレン基、該シクロアルキレン基又は該フェニレン基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよい。）。
一方、式（ＩＩ）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素原子数１乃至８のアルキレン基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキレン基、フェニレン基又は炭素原子数７乃至１０のアルキルフェニレン基を表す（ここで、該アルキレン基、該シクロアルキレン基、該フェニレン基又は該アルキルフェニレン基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよく、エーテル基を１つ以上有していてもよい。）。
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は同一又は異種の炭素原子数１乃至８のアルキル基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表し、Ｒ3とＲ4、Ｒ3とＲ5、Ｒ4とＲ5はそれぞれ結合して環を形成していてもよい。
Ｒ6は炭素原子数１乃至８のアルキル基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキル基又はフェニル基を表す（ここで、該アルキル基、該シクロアルキル基又は該フェニル基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよい。）。｝
【００１９】
上記一般式（Ｉ）で表されるスルホン酸のスルホニウム塩におけるスルホン酸アニオンとしては、下記のものを例示することができる。
【化６】
0005582316.tif 000007
【００２０】
また、上記一般式（Ｉ）で表されるスルホニウム塩のカチオンとしては、下記のものを例示することができる。
【化７】
0005582316.tif 000008
【００２１】
上記一般式（ＩＩ）で表されるスルホニウムのスルホン酸塩におけるスルホニウムカチオンとしては、下記のものを例示することができる。
【化８】
0005582316.tif 000009
【００２２】
また、上記一般式（ＩＩ）で表されるスルホン酸塩のアニオンとしては、下記のものを例示することができる。
【化９】
0005582316.tif 000010
【００２３】
上記一般式（Ｉ）で表されるスルホン酸のスルホニウム塩の合成は既知であり、例えば、特開２００９−０９１３５０号公報及び特開２００９−０９１３５１号公報に開示されている。
【００２４】
また、上記一般式（ＩＩ）で表されるスルホニウムのスルホン酸塩の合成も既知であり、例えば、Ｈｅｎｇｐｅｎｇ  Ｗｕ等  Ａｄｖ．Ｆｕｎｃｔ．Ｍａｔｅｒ．２００１，１１，Ｎｏ．４，Ａｕｇｕｓｔ等に開示されている。
【００２５】
上記式（Ａ−１）又は上記式（Ａ−２）で表される構造単位を有する重合体の粘度は、通常、１乃至１００ｃＰである。
なお、粘度は、東機産業（株）製、ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ  ＴＶ−２０で測定した値である。
【００２６】
本発明のレジスト下層膜形成組成物における上記式（Ａ−１）又は上記式（Ａ−２）で表される構造単位を有する重合体の含有量は、当該レジスト下層膜形成組成物の固形分の含有量に基づいて、例えば、０．１乃至１０質量％である。この重合体は、添加剤としてだけでなく前記固形分の主成分として本発明のレジスト下層膜形成組成物に含ませても良い。
【００２７】
また、本発明のレジスト下層膜形成組成物に含まれる重合体は、下記式（Ａ−１）で表される構造単位又は下記式（Ａ−２）で表される構造単位以外に、下記式（Ｂ）で表される構造単位を有することができる。
【化１０】
0005582316.tif 000011
｛式（Ａ−１）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素原子数１乃至８のアルキレン基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキレン基又はフェニレン基を表す（ここで、該アルキレン基、該シクロアルキレン基又は該フェニレン基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよい。）。
一方、式（Ａ−２）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素原子数１乃至８のアルキレン基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキレン基、フェニレン基又は炭素原子数７乃至１０のアルキルフェニレン基を表す（ここで、該アルキレン基、該シクロアルキレン基、該フェニレン基又は該アルキルフェニレン基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよく、エーテル基を１つ以上有していてもよい。）。
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は同一又は異種の炭素原子数１乃至８のアルキル基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表し、Ｒ3とＲ4、Ｒ3とＲ5、Ｒ4とＲ5はそれぞれ結合して環を形成していてもよい。
Ｒ6は炭素原子数１乃至８のアルキル基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキル基又はフェニル基を表す（ここで、該アルキル基、該シクロアルキル基又は該フェニル基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよい。）
式（Ｂ）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ａ1は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−又は直接結合を表し、Ｘ1は炭素原子数１乃至８のアルキル基、アリール基又はアリールアルキル基を表し、該アルキル基、該アリール基又は該アリールアルキル基はヒドロキシ基、カルボキシル基又はエポキシ基を少なくとも１つ有する。
ｐ及びｑは前記重合体に含まれる構造単位を得るための原料モノマーの仕込み比（質量％）を表し、ｐ及びｑはそれぞれ０．０５乃至０．９５の範囲である。但し、ｐ＋ｑ≦１を満たす。｝
【００２８】
本発明のレジスト下層膜形成組成物は、ポリマー中に上記式（Ａ−１）又は上記式（Ａ−２）で表される光酸発生剤成分以外に、第二成分として上記式（Ｂ）で表される構造単位を導入したポリマーを含ませることにより、レジスト下層膜形成組成物から形成されるレジスト下層膜の機能性を向上させることが可能となる。
【００２９】
上記式（Ｂ）で表される第二成分としては、例えば、下記式（ＩＩＩ）で表される架橋部位（−ＯＨ）を有する構造単位を導入することにより、本発明のレジスト下層膜形成組成物から形成されるレジスト下層膜に熱架橋膜としての性質を付与することが可能であり、かつ本発明のレジスト下層膜形成組成物に含まれる、光酸発生剤成分を構造単位に有するポリマーを添加剤として適用した場合にベースポリマーに固定化することが可能となるため、レジスト下層膜上にレジストを塗布する際に光酸発生成分のリーチング（溶出）を抑制したり、光酸発生剤成分の昇華を抑制することが可能となる。
【化１１】
0005582316.tif 000012
【００３０】
上記式（Ｂ）で表される第二成分の原料モノマーとして、例えばアクリル酸、メタクリル酸、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２，３−ジヒドロキシプロピルアクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、２，３−ジヒドロキシプロピルメタクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシメタクリレート、４−ヒドロキシスチレン、４−ヒドロキシフェニルアクリレート、４−ヒドロキシフェニルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートが挙げられる。
【００３１】
レジストパターン形状をストレート形状に改良し、第二成分を導入することでレジスト下層膜の機能性を向上させるためには、ｐは通常、０．０５乃至０．９５である。一方、ｑは通常、０．０５乃至０．９５である。
【００３２】
また、上記式（Ａ−１）又は上記式（Ａ−２）で表される構造単位、及び上記式（Ｂ）で表される構造単位を有する重合体の粘度は、１乃至１００ｃＰである。
なお、粘度は、東機産業（株）製、ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ  ＴＶ−２０で測定した値である。
【００３３】
さらに、本発明のレジスト下層膜形成組成物に含まれる重合体は、下記式（Ａ−１）で表される構造単位又は下記式（Ａ−２）で表される構造単位、及び下記式（Ｂ）で表される構造単位以外に、下記式（Ｃ）で表される構造単位を有することができる。
【化１２】
0005582316.tif 000013
｛式（Ａ−１）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素原子数１乃至８のアルキレン基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキレン基又はフェニレン基を表す（ここで、該アルキレン基、該シクロアルキレン基又は該フェニレン基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよい。）。
一方、式（Ａ−２）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素原子数１乃至８のアルキレン基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキレン基、フェニレン基又は炭素原子数７乃至１０のアルキルフェニレン基を表す（ここで、該アルキレン基、該シクロアルキレン基、該フェニレン基又は該アルキルフェニレン基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよく、エーテル基を１つ以上有していてもよい。）。
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は同一又は異種の炭素原子数１乃至８のアルキル基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表し、Ｒ3とＲ4、Ｒ3とＲ5、Ｒ4とＲ5はそれぞれ結合して環を形成していてもよい。
Ｒ6は炭素原子数１乃至８のアルキル基、炭素原子数４乃至８のシクロアルキル基又はフェニル基を表す（ここで、該アルキル基、該シクロアルキル基又は該フェニル基の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換されていてもよい。）
式（Ｂ）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ａ1は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−又は直接結合を表し、Ｘ1は炭素原子数１乃至８のアルキル基、アリール基又はアリールアルキル基を表し、該アルキル基、該アリール基又は該アリールアルキル基はヒドロキシ基、カルボキシル基又はエポキシ基を少なくとも１つ有する。
式（Ｃ）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ａ2は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−又は直接結合を表し、Ｘ2は水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換された炭素原子数１乃至８のアルキル基を表す。
ｐ、ｑ及びｒは前記重合体に含まれる構造単位を得るための原料モノマーの仕込み比（質量％）を表し、ｐ、ｑ及びｒはそれぞれ０．０５乃至０．９５の範囲である。但し、ｐ＋ｑ＋ｒ≦１を満たす。｝
【００３４】
本発明のレジスト下層膜形成組成物は、ポリマー中に上記式（Ａ−１）又は上記式（Ａ−２）で表される光酸発生剤成分以外に、上述の第二成分同様、第三成分として上記式（Ｃ）で表される構造単位を導入したポリマーを含ませることにより、レジスト下層膜形成組成物から形成されるレジスト下層膜の機能性を向上させることが可能となる。
【００３５】
上記式（Ｃ）で表される第三成分としては、例えば、下記式（ＩＶ）で表されるフッ素系の構造単位を導入することにより、表面エネルギーを低下させ、本発明のレジスト下層膜形成組成物に含まれる、光酸発生剤成分を構造単位に有するポリマーを添加剤として適用した場合に光酸発生剤成分を効果的にレジスト下層膜表面部位へ偏析可能となる。また、少量の添加量でも効果的に酸としての効能を示すことが可能となる。
【化１３】
0005582316.tif 000014
【００３６】
上記式（Ｃ）で表される第三成分の原料モノマーとして、例えば２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルアクリレート、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチルアクリレート、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロブチルアクリレート、ビス（２，２，２−トリフルオロメチル）イソプロピルアクリレート、４−フルオロフェニルアクリレート、２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルメタクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチルメタクリレート、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロブチルメタクリレート、ビス（２，２，２−トリフルオロメチル）イソプロピルメタクリレート、４−フルオロフェニルメタクリレート、２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニルメタクリレート等が挙げられる。
【００３７】
レジストパターン形状をストレート形状に改良し、第二成分及び第三成分を導入することでレジスト下層膜の機能性を向上させるためには、ｐは通常、０．０５乃至０．９５である。また、ｑは通常、０．０５乃至０．９５である。さらに、ｒは通常、０．０５乃至０．９５である。
【００３８】
また、上記式（Ａ−１）又は上記式（Ａ−２）で表される構造単位、上記式（Ｂ）及び上記式（Ｃ）で表される構造単位を有する重合体の粘度は、１乃至１００ｃＰである。
なお、粘度は、東機産業（株）製、ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ  ＴＶ−２０で測定した値である。
【００３９】
本発明のレジスト下層膜形成組成物に含まれる重合体の合成方法としては、特に限定されないが、例えば、有機溶媒中で、上記式（Ｉ）で表されるスルホン酸のスルホニウム塩又は上記式（ＩＩ）で表されるスルホニウムのスルホン酸塩、上記式（Ｂ）で表される第二成分の原料モノマー、及び上記式（Ｃ）で表される第三成分の原料モノマーに重合開始剤を加えて加熱重合を行い合成することができる。
【００４０】
当該重合開始剤としては、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、ジメチル２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド等を挙げることができ、通常５０乃至８０℃に加熱して重合できる。反応時間としては通常２乃至１００時間、または５乃至３０時間である。
【００４１】
本発明のレジスト下層膜形成組成物はさらに架橋剤を含むことができる。
そのような架橋剤としては、特に制限はないが、少なくとも二つの架橋形成置換基を有する架橋性化合物が好ましく用いられる。当該架橋剤としては、例えば、メチロール基、メトキシメチル基といった架橋形成置換基を有するメラミン系化合物や置換尿素系化合物が挙げられる。具体的には、メトキシメチル化グリコールウリル又はメトキシメチル化メラミンなどの化合物であり、例えば、テトラメトキシメチルグリコールウリル、テトラブトキシメチルグリコールウリル、及びヘキサメトキシメチルメラミンである。また、テトラメトキシメチル尿素、テトラブトキシメチル尿素などの化合物も挙げられる。
【００４２】
本発明のレジスト下層膜形成組成物における上記架橋剤の含有量は、当該レジスト下層膜形成組成物の固形分の含有量に基づいて、１乃至５０質量％である。
【００４３】
また架橋反応を促進させるために、本発明のレジスト下層膜形成組成物は架橋触媒を含むことができる。
そのような架橋触媒としては、例えば、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、及びピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート等のスルホン酸化合物、サリチル酸、スルホサリチル酸、クエン酸、安息香酸、及びヒドロキシ安息香酸等のカルボン酸化合物を挙げることができる。
【００４４】
本発明のレジスト下層膜形成組成物における上記架橋触媒の含有量は、当該レジスト下層膜形成組成物の固形分の含有量に基づいて、０．０２乃至１０質量％である。
【００４５】
本発明のレジスト下層膜形成組成物は、上述より、上記の各成分を有機溶剤に溶解させ、重合開始剤を加えて加熱重合させることによって調製できる。
そのような有機溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、メトキシブタノール類、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、及びＮ−メチルピロリドン等を挙げることができる。
【００４６】
上記有機溶剤は単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。
【００４７】
また、本発明のレジスト下層膜形成組成物は、界面活性剤を含むこともできる。
当該界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、エフトップ［登録商標］ＥＦ３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（三菱マテリアル電子化成株式会社（旧（株）ジェムコ）製）、メガファック［登録商標］Ｆ１７１、Ｆ１７３、Ｒ３０（ＤＩＣ株式会社（旧大日本インキ化学工業（株））製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、アサヒガード［登録商標］ＡＧ７１０、サーフロン［登録商標］Ｓ−３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ１０５、ＳＣ１０６（旭硝子（株）製）等のフッ素系界面活性剤、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）等を挙げることができる。
【００４８】
上記界面活性剤は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。
【００４９】
また、上記界面活性剤が使用される場合、本発明のレジスト下層膜形成組成物における含有量は、当該レジスト下層膜形成組成物の固形分中の含有量に基づいて、３質量％以下であり、好ましくは１質量％以下であり、より好ましくは０．５質量％以下である。
【００５０】
また、本発明のレジスト下層膜形成組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、レオロジー調整剤、接着補助剤等も含むことができる。
【００５１】
以下、本発明のレジスト下層膜形成組成物の使用について説明する。
【００５２】
基板｛例えば、酸化珪素膜で被覆されたシリコン等の半導体基板、窒化珪素膜又は酸化窒化珪素膜で被覆されたシリコン等の半導体基板、窒化珪素基板、石英基板、ガラス基板（無アルカリガラス、低アルカリガラス、結晶化ガラスを含む）、ＩＴＯ膜が形成されたガラス基板等｝上に、スピナー、コーター等の適当な塗布方法により本発明のレジスト下層膜形成組成物が塗布され、その後、ホットプレート等の加熱手段を用いてベークすることにより、レジスト下層膜が形成される。
【００５３】
ベーク条件としては、ベーク温度８０乃至２５０℃、ベーク時間０．３乃至６０分間の中から適宜選択され、好ましくは、ベーク温度１３０乃至２５０℃、ベーク時間０．５乃至５分間である。
【００５４】
また、本発明のレジスト下層膜の膜厚としては、０．００５乃至３．０μｍであり、好ましは０．０１乃至１．０μｍであり、より好ましくは０．０１乃至０．５μｍである。  
【００５５】
次にレジスト下層膜上にフォトレジスト膜が形成される。フォトレジスト膜の形成は一般的な方法、すなわち、フォトレジスト溶液のレジスト下層膜上への塗布及びベークによって行うことができる。
【００５６】
本発明のレジスト下層膜形成組成物により得られるレジスト下層膜上に形成されるフォトレジストとしては、露光光に感光するものであれば、特に限定はない。当該フォトレジストとしては、例えば、ノボラック樹脂と１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルとからなるポジ型フォトレジスト、酸により分解してアルカリ溶解速度を上昇させる基を有するバインダーと光酸発生剤とからなる化学増幅型フォトレジスト、酸により分解してフォトレジストのアルカリ溶解速度を上昇させる低分子化合物とアルカリ可溶性バインダーと光酸発生剤とからなる化学増幅型フォトレジスト、酸により分解してアルカリ溶解速度を上昇させる基を有するバインダーと酸により分解してフォトレジストのアルカリ溶解速度を上昇させる低分子化合物と光酸発生剤とからなる化学増幅型フォトレジスト等がある。
【００５７】
具体的には、商品名：ＡＰＥＸ−Ｘ（ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ社（旧シプレイ社）製）、商品名：ＰＡＲ７１０（住友化学（株）製）、商品名：ＳＥＰＲ４３０（信越化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００５８】
本発明では、半導体製造装置の製造に用いるフォトレジストパターンの形成方法において、露光は所定のパターンを形成するためのマスク（レチクル）を通して露光が行われる。露光には、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー等を使用することができる。露光後、必要に応じて露光後加熱（Ｐｏｓｔ  Ｅｘｐｏｓｕｒｅ  Ｂａｋｅ）が行われる。露光後加熱の条件としては、加熱温度８０乃至１５０℃、加熱時間０．３乃至６０分間の中から適宜選択される。レジスト下層膜とフォトレジスト膜で被覆された半導体基板を、フォトマスクを用いて露光を行い、その後に現像する工程により半導体装置を製造する。
【００５９】
現像に用いる現像液としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物の水溶液、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、コリン等の水酸化四級アンモニウムの水溶液、エタノールアミン、プロピルアミン、エチレンジアミン等のアミン水溶液等のアルカリ性水溶液等が挙げることができる。
【００６０】
現像の条件としては、現像温度５乃至５０℃、現像時間１０乃至３００秒から適宜選択される。本発明のレジスト下層膜形成組成物から形成されるレジスト下層膜は、フォトレジストの現像に汎用されている２．３８質量％の水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を用いて、室温で容易に現像を行うことができる。
【実施例】
【００６１】
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を更に詳しく説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものでない。【００６２】
＜合成例１＞
１００ｍＬのフラスコにトリフェニルスルホニウム２−メタクリロイルオキシ−１，１−ジフルオロエタンスルホネート（モノマー１）２．８０ｇ（特開２００９−０９１３５０号公報及び特開２００９−０９１３５１号公報参照）と２−ヒドロキシプロピルメタクリレート２．１０ｇ、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート２．１０ｇにプロピレングリコールモノメチルエーテル２０．９３ｇを添加した。次に、この反応容器を遮光した後、７０℃に加熱し、窒素雰囲気下、プロピレングリコールモノメチルエーテル７．００ｇに２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．０７ｇを溶解させた溶液を少しずつ反応容器内に滴下した。滴下終了後、７０℃で２４時間反応させ、高分子化合物の溶液を得た。得られた溶液の粘度は５７．８ｃＰ（東機産業(株)製、ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ  ＴＶ−２０）であった。これをポリマー１とする。
【化１４】
0005582316.tif 000015
【００６３】
＜合成例２＞
１００ｍＬのフラスコにトリフルオロメタンスルホニル４−ジメチルスルホニルフェニルメタクリレート（モノマー２）２．８０ｇ（Ｈｅｎｇｐｅｎｇ  Ｗｕ等  Ａｄｖ．Ｆｕｎｃｔ．Ｍａｔｅｒ．２００１，１１，Ｎｏ．４，Ａｕｇｕｓｔ参照）と２−ヒドロキシプロピルメタクリレート２．１０ｇ、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート２．１０ｇに乳酸エチル２０．９３ｇを添加した。次に、この反応容器を遮光した後、７０℃に加熱し、窒素雰囲気下、乳酸エチル７．００ｇに２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．０７ｇを溶解させた溶液を少しずつ反応容器内に滴下した。滴下終了後、７０℃で２４時間反応させ、高分子化合物の溶液を得た。得られた溶液の粘度は５５．０ｃＰ（東機産業(株)製、ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ  ＴＶ−２０）であった。これをポリマー２とする。
【化１５】
0005582316.tif 000016
【００６４】
＜合成例３＞
１００ｍＬのフラスコにノナフルオロブタンスルホニル４−ジメチルスルホニルフェニルメタクリレート（モノマー３）４．００ｇ（Ｈｅｎｇｐｅｎｇ  Ｗｕ等  Ａｄｖ．Ｆｕｎｃｔ．Ｍａｔｅｒ．２００１，１１，Ｎｏ．４，Ａｕｇｕｓｔ参照）と２−ヒドロキシプロピルメタクリレート３．００ｇ、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート３．００ｇに乳酸エチル２９．９０ｇを添加した。次に、この反応容器を遮光した後、７０℃に加熱し、窒素雰囲気下、乳酸エチル１０．００ｇに２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．１０ｇを溶解させた溶液を少しずつ反応容器内に滴下した。滴下終了後、７０℃で２４時間反応させ、高分子化合物の溶液を得た。得られた溶液の粘度は４２．４ｃＰ（東機産業(株)製、ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ  ＴＶ−２０）であった。これをポリマー３とする。
【化１６】
0005582316.tif 000017
【００６５】
＜合成例４＞
１００ｍＬのフラスコにヘプタデカフルオロオクタンスルホニル４−ジメチルスルホニルフェニルメタクリレート（モノマー４）４．００ｇ（Ｈｅｎｇｐｅｎｇ  Ｗｕ等  Ａｄｖ．Ｆｕｎｃｔ．Ｍａｔｅｒ．２００１，１１，Ｎｏ．４，Ａｕｇｕｓｔ参照）と２−ヒドロキシプロピルメタクリレート３．００ｇ、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート３．００ｇに乳酸エチル２９．９０ｇを添加した。次に、この反応容器を遮光した後、７０℃に加熱し、窒素雰囲気下、乳酸エチル１０．００ｇに２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．１０ｇを溶解させた溶液を少しずつ反応容器内に滴下した。滴下終了後、７０℃で２４時間反応させ、高分子化合物の溶液を得た。得られた溶液の粘度は１８．１ｃＰ（東機産業(株)製、ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ  ＴＶ−２０）であった。これをポリマー４とする。
【化１７】
0005582316.tif 000018
【００６６】
＜合成例５＞
３００ｍＬのフラスコにベンジルメタクリレート１０．２０ｇと２−ヒドロキシプロピルメタクリレート９．９０ｇ、γ−ブチロラクトンメタクリレート９．９０ｇに乳酸エチル８９．７０ｇを添加した。次に、この反応容器を７０℃に加熱し、窒素雰囲気下、乳酸エチル３０．００ｇに２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．３０ｇを溶解させた溶液を少しずつ反応容器内に滴下した。滴下終了後、７０℃で２４時間反応させ、高分子化合物の溶液を得た。得られた溶液の重量平均分子量Ｍｗは２６０００（ポリスチレン換算）であった。これをポリマー５とする。
【化１８】
0005582316.tif 000019
【００６７】
上記重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）による測定結果である。
測定には東ソー（株）製ＧＰＣ装置を用いた。
装置名：ＧＰＣ  ＡＳ−８０２０
溶離液：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）＋ＬｉＢｒ・Ｈ2Ｏ（１０ｍｍｏｌ）
使用カラム：Ａｓａｈｉｐａｋ[登録商標]（ＧＦ−７１０ＨＧ、ＧＦ−５１０ＨＱ、ＧＦ−３１０ＨＱ）
流量：０．６００ｍｌ／分
カラム温度：４０℃【００６８】
＜実施例１＞
上記合成例５で得た高分子化合物（ポリマー５）０．５７ｇを有する乳酸エチル溶液３．００ｇにテトラメトキシメチルグリコールウリル０．１４ｇ、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート０．０１ｇ、添加剤として上記合成例１で得た高分子化合物（ポリマー１）０．０３ｇを有するプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液０．１５ｇ（ポリマー５の固形分に対して５質量％）を混合し、プロピレングリコールモノメチルエーテル４．４ｇ、乳酸エチル１０．２ｇに溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過し、レジスト下層膜形成組成物溶液を調製した。【００６９】
＜実施例２＞
上記合成例５で得た高分子化合物（ポリマー５）０．５７ｇを有する乳酸エチル溶液３．００ｇにテトラメトキシメチルグリコールウリル０．１４ｇ、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート０．０１ｇ、添加剤として上記合成例１で得た高分子化合物（ポリマー１）０．０９ｇを有するプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液０．４５ｇ（ポリマー５の固形分に対して１５質量％）を混合し、プロピレングリコールモノメチルエーテル４．６ｇ、乳酸エチル１１．１ｇに溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過し、レジスト下層膜形成組成物溶液を調製した。【００７０】
＜実施例３＞
上記合成例５で得た高分子化合物（ポリマー５）０．５７ｇを有する乳酸エチル溶液３．００ｇにテトラメトキシメチルグリコールウリル０．１４ｇ、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート０．０１ｇ、添加剤として上記合成例２で得た高分子化合物（ポリマー２）０．０３ｇを有する乳酸エチル溶液０．１４ｇ（ポリマー５の固形分に対して５質量％）を混合し、プロピレングリコールモノメチルエーテル４．５ｇ、乳酸エチル１０．１ｇに溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過し、レジスト下層膜形成組成物溶液を調製した。【００７１】
＜実施例４＞
上記合成例５で得た高分子化合物（ポリマー５）０．５７ｇを有する乳酸エチル溶液３．００ｇにテトラメトキシメチルグリコールウリル０．１４ｇ、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート０．０１ｇ、添加剤として上記合成例３で得た高分子化合物（ポリマー３）０．０３ｇを有する乳酸エチル溶液０．１４ｇ（ポリマー５の固形分に対して５質量％）を混合し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５．２ｇ、乳酸エチル８．７ｇに溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過し、レジスト下層膜形成組成物溶液を調製した。【００７２】
＜実施例５＞
上記合成例５で得た高分子化合物（ポリマー５）０．５７ｇを有する乳酸エチル溶液３．００ｇにテトラメトキシメチルグリコールウリル０．１４ｇ、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート０．０１ｇ、添加剤として上記合成例３で得た高分子化合物（ポリマー３）０．０９ｇを有する乳酸エチル溶液０．４３ｇ（ポリマー５の固形分に対して１５質量％）を混合し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５．２ｇ、乳酸エチル８．５ｇに溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過し、レジスト下層膜形成組成物溶液を調製した。【００７３】
＜実施例６＞
上記合成例５で得た高分子化合物（ポリマー５）０．５７ｇを有する乳酸エチル溶液３．００ｇにテトラメトキシメチルグリコールウリル０．１４ｇ、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート０．０１ｇ、添加剤として上記合成例４で得た高分子化合物（ポリマー４）０．０３ｇを有する乳酸エチル溶液０．１４ｇ（ポリマー５の固形分に対して５質量％）を混合し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５．２ｇ、乳酸エチル８．７ｇに溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過し、レジスト下層膜形成組成物溶液を調製した。【００７４】
＜実施例７＞
上記合成例５で得た高分子化合物０．５７ｇ（ポリマー５）を有する乳酸エチル溶液３．００ｇにテトラメトキシメチルグリコールウリル０．１４ｇ、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート０．０１ｇ、添加剤として上記合成例４で得た高分子化合物（ポリマー４）０．０９ｇを有する乳酸エチル溶液０．４３ｇ（ポリマー５の固形分に対して１５質量％）を混合し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５．２ｇ、乳酸エチル８．５ｇに溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過し、レジスト下層膜形成組成物溶液を調製した。【００７５】
＜比較例１＞
上記合成例５で得た高分子化合物（ポリマー５）０．５７ｇを有する乳酸エチル溶液３．００ｇにテトラメトキシメチルグリコールウリル０．１４ｇ、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート０．０１ｇを混合し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５．２ｇ、乳酸エチル８．８ｇに溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過し、レジスト下層膜形成組成物溶液を調製した。【００７６】
＜比較例２＞
上記合成例５で得た高分子化合物（ポリマー５）０．５４ｇを有する乳酸エチル溶液２．７３ｇにテトラメトキシメチルグリコールウリル０．１３ｇ、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート０．０１ｇ、添加剤として上記合成例１で得た高分子化合物（ポリマー１）の前駆体化合物であるトリフェニルスルホニウム２−メタクリロイルオキシ−１，１−ジフルオロエタンスルホネート（モノマー１）０．０１ｇを混合し、プロピレングリコールモノメチルエーテル５．７ｇ、乳酸エチル１１．０ｇに溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過し、レジスト下層膜形成組成物を調製した。なお、モノマー１の添加量は、ポリマー５の固形分に対して２質量％とした。【００７７】
＜比較例３＞
上記合成例５で得た高分子化合物（ポリマー５）０．５４ｇを有する乳酸エチル溶液２．７３ｇにテトラメトキシメチルグリコールウリル０．１３ｇ、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート０．０１ｇ、添加剤として上記合成例１で得た高分子化合物（ポリマー１）の前駆体化合物であるトリフェニルスルホニウム２−メタクリロイルオキシ−１，１−ジフルオロエタンスルホネート（モノマー１）０．０３ｇを混合し、プロピレングリコールモノメチルエーテル５．７ｇ、乳酸エチル１１．１ｇに溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過し、レジスト下層膜形成組成物を調製した。なお、モノマー１の添加量は、実施例１と同様にポリマー５の固形分に対して５質量％とした。【００７８】
＜比較例４＞
上記合成例５で得た高分子化合物０．５４ｇ（ポリマー５）を有する乳酸エチル溶液２．７３ｇにテトラメトキシメチルグリコールウリル０．１３ｇ、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート０．０１ｇ、添加剤として上記合成例２で得た高分子化合物（ポリマー２）の前駆体化合物であるトリフルオロメタンスルホニル４−ジメチルスルホニルフェニルメタクリレート（モノマー２）０．０１ｇを混合し、プロピレングリコールモノメチルエーテル５．７ｇ、乳酸エチル１１．０ｇに溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過し、レジスト下層膜形成組成物を調製した。なお、モノマー２の添加量は、ポリマー５の固形分に対して２質量％とした。【００７９】
＜比較例５＞
上記合成例５で得た高分子化合物０．５４ｇ（ポリマー５）を有する乳酸エチル溶液２．７３ｇにテトラメトキシメチルグリコールウリル０．１３ｇ、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート０．０１ｇ、添加剤として上記合成例２で得た高分子化合物（ポリマー２）の前駆体化合物であるトリフルオロメタンスルホニル４−ジメチルスルホニルフェニルメタクリレート（モノマー２）０．０３ｇを混合し、プロピレングリコールモノメチルエーテル５．７ｇ、乳酸エチル１１．１ｇに溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過し、レジスト下層膜形成組成物を調製した。なお、モノマー２の添加量は、実施例３と同様にポリマー５の固形分に対して５質量％とした。【００８０】
［昇華物定量試験］
このように調製したレジスト下層膜形成組成物溶液（実施例１乃至４及び比較例２乃至５）をスピンコーターによりシリコンウエハー上に塗布し、国際公開第２００７／１１１１４７号に記載の昇華物定量装置を用いて、２０５℃のホットプレート上で６０秒間加熱した際に発生するレジスト下層膜形成組成物由来の昇華物量を定量した。その結果を表１及び表２にまとめる。【００８１】
【表１】
0005582316.tif 000020
【００８２】
【表２】
0005582316.tif 000021
【００８３】
表１及び表２の結果より、本発明のレジスト下層膜形成組成物は、ポリマー化した光酸発生剤を含むことにより、従来の低分子タイプの光酸発生剤を含むレジスト下層膜形成組成物と比較して、ベーク時に光酸発生剤成分の昇華を抑制することが可能であることを確認できた。【００８４】
［レジストパターン形成試験］
上記のように調製したレジスト下層膜形成組成物溶液（実施例１乃至８及び比較例１乃至５）をコーターデベロッパー（東京エレクトロン（株）製、ＣｌｅａｎＴｒａｃｋ−ＡＣＴ８）によりシリコンウエハー上に塗布し、ホットプレート上で２０５℃、６０秒間加熱することで、リソグラフィー用レジスト下層膜（膜厚０．０８μｍ）を形成した。このレジスト下層膜の上層に、ＡｒＦリソグラフィー用レジスト（東京応化工業（株）製、ＴＡｒＦ−Ｐ６１１１ＭＥ）溶液を塗布し、ホットプレート上で１３０℃、６０秒間加熱してレジスト膜を形成した。この膜に、ＡｒＦエキシマレーザー露光装置（（株）ニコン製、Ｓ３０７Ｅ、ＮＡ＝０．８５）を用いてレジストのライン幅が０．０８μｍ、スペース幅が０．１０μｍとなるようなラインアンドスペースが形成されるマスクを通して露光した後、１３０℃、６０秒間加熱（ＰＥＢ）し、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの２．３８質量％水溶液で６０秒間現像を行うことで、レジストパターン（実施例１乃至８及び比較例１乃至５）を得た。
得られたレジストパターンは、走査型電子顕微鏡（（株）日立ハイテクノロジーズ製、Ｓ−４８００）を用いてレジストのパターン形状を観察した。その結果を表３にまとめる。【００８５】
【表３】
0005582316.tif 000022
【００８６】
表３の結果より、本発明のレジスト下層膜形成組成物は、光酸発生剤成分の昇華が抑制されるため、波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザーにおける露光条件において、当該組成物から形成されたレジスト下層膜中に含まれる光酸発生剤成分から効率的に酸が発生することで、従来のレジスト下層膜と比較して、レジストパターン形状をストレート形状に改善することが可能であることが確認できた。【００８７】
以上、本発明のリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物の実施形態を説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載された範囲には限定されない。上記実施形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能である。