(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を介して基板を露光する液浸露光装置で用いられる液浸部材であって、
液体回収部を有する第１液浸部材と、
可動物体が対向可能な第１面、及び該第１面と反対側の第２面を有し、露光光の光路に対して前記液体回収部の外側に配置される部分を含むプレートを有する第２液浸部材と、を備え、
前記液体回収部は、前記第２面の一部と第１ギャップを介して対向し、前記第１ギャップ内の液体を回収可能である液浸部材。
【請求項２】
前記第２液浸部材は、前記露光光の光路に対して前記液体回収部の内側に配置される部分を含む
請求項１記載の液浸部材。
【請求項３】
前記可動物体と前記第１面とのギャップは、前記露光光の光路に対して前記液体回収部の内側に前記可動物体と対向して配置される第３面と前記可動物体とのギャップよりも小さい
請求項１または２記載の液浸部材。
【請求項４】
液体を介して基板を露光する液浸露光装置で用いられる液浸部材であって、
液体回収部を有する第１液浸部材と、
可動物体が対向可能な第１面、及び該第１面と反対側の第２面を有するプレートを有する第２液浸部材と、
露光光の光路に対して前記液体回収部の内側に前記可動物体に対向して配置される第３面と、を備え、
前記第３面と前記可動物体とのギャップは、前記液体回収部と前記可動物体とのギャップよりも小さく、
前記可動物体と前記第１面とのギャップは、前記第３面と前記可動物体とのギャップよりも小さく、
前記液体回収部は、前記第２面の一部と第１ギャップを介して対向し、前記第１ギャップ内の液体を回収可能である液浸部材。
【請求項５】
前記第１液浸部材と前記第２液浸部材との間に形成される第１開口部を備え、
前記第１ギャップは、前記可動物体に面しない第２開口部と接続されている
請求項１〜４のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項６】
液体を介して基板を露光する液浸露光装置で用いられる液浸部材であって、
液体回収部を有する第１液浸部材と、
可動物体が対向可能な第１面、及び該第１面と反対側の第２面を有するプレートを有する第２液浸部材と、
前記第１液浸部材と前記第２液浸部材との間に形成される第１開口部と、を備え、
前記液体回収部は、前記第２面の一部と第１ギャップを介して対向し、前記第１ギャップ内の液体を回収可能であり、
前記第１ギャップは、前記可動物体に面しない第２開口部と接続されている液浸部材。
【請求項７】
前記第２開口部は、露光光の光路に対して前記第１開口部の外側に設けられている
請求項５または６記載の液浸部材。
【請求項８】
前記第１ギャップは、前記第２開口部を介して開放されている
請求項５〜７のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項９】
前記第２開口部と前記可動物体との距離は、前記第１開口部と前記可動物体との距離より大きい
請求項５〜８のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１０】
前記液体回収部は多孔部材を含み、
前記多孔部材に接触した液体の少なくとも一部を前記多孔部材を介して回収する
請求項１〜９のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１１】
前記多孔部材は、気体の通過が抑制されている
請求項１０記載の液浸部材。
【請求項１２】
露光光が通過可能な開口を有する第３液浸部材を備える
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１３】
前記第１液浸部材と前記第３液浸部材との間に、前記可動物体と対向するように形成された第３開口部を備える
請求項１２記載の液浸部材。
【請求項１４】
前記第１液浸部材と前記第３液浸部材との間に設けられた第２ギャップと、
前記第３開口部とは異なる第４開口部とを備え、
前記第２ギャップは、前記第３開口部に接続され、前記第４開口部を介して大気開放されている
請求項１３記載の液浸部材。
【請求項１５】
前記第３液浸部材は、前記開口の周囲に下面を有し、
前記可動物体と前記第１面との距離は、前記可動物体と前記第３液浸部材の前記下面との距離より小さい
請求項１２〜１４のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１６】
前記第１ギャップは、毛管路を形成する
請求項１〜１５のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１７】
前記第１面は、露光光の光路を囲むように配置されている
請求項１〜１６のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１８】
前記第１面の少なくとも一部は、前記露光光の光路から離れる方向において、前記第１面と対向する前記可動物体の表面から徐々に離れる傾斜部を有する
請求項１〜１７のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１９】
前記第２面は、前記第１面に対して傾いた傾斜部を含む
請求項１〜１８のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項２０】
前記第２面は、前記第１面に対して傾いた傾斜部と、前記第１面と実質的に平行な平坦部とを含む
請求項１〜１８のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項２１】
前記傾斜部は、前記露光光の光路から離れる方向において、前記第１面と対向する前記可動物体の表面から徐々に離れる
請求項１９または２０記載の液浸部材。
【請求項２２】
前記第２面は、前記液体に対して親液性である
請求項１〜２１のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項２３】
前記第１面は、前記液体に対して撥液性である
請求項１〜２２のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項２４】
基板を露光する液浸露光装置であって、
露光光を射出する射出面を有する光学部材と、
前記光学部材と前記光学部材の射出面と対向する位置に移動可能な前記可動物体との間に液体の液浸空間を形成する請求項１〜２３のいずれか一項記載の液浸部材と、を備える液浸露光装置。
【請求項２５】
前記可動物体は、前記基板を含み、
前記基板上の前記液体を介して前記露光光が前記基板に照射される
請求項２４記載の液浸露光装置。
【請求項２６】
請求項２４または２５記載の液浸露光装置を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項２７】
基板を露光する液浸露光方法であって、
請求項１〜２３のいずれか一項記載の液浸部材を用いて、露光光を射出する光学部材と基板との間の露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成し、
前記液浸空間の液体を介して前記光学部材からの露光光で前記基板を露光する液浸露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液浸露光装置で用いられる液体回収システム、液浸露光装置、液浸露光方法、及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、下記特許文献に開示されているような、液体を介して基板を露光する液浸露光装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第９９／４９５０４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
露光装置においては、デバイスの生産性向上等を目的として、基板の移動速度の高速化が要求される。液浸露光装置においては、基板の移動中に基板上の液体を回収することが行われる。しかしながら、液体を十分に回収しきれず、液体が漏出したり、基板上に液体が残留したりする可能性がある。それにより、基板に形成されるパターンに欠陥が生じる等、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが製造される可能性がある。
【０００５】
本発明の態様は、液体を良好に回収できる液体回収システムを提供することを目的とする。また、別の目的は、露光不良の発生を抑制できる液浸露光装置及び液浸露光方法を提供することである。また、別の目的は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様に従えば、液浸露光装置で用いられる液体回収システムであって、第１面、及び第１面と反対側の第２面を有するプレートと、少なくとも一部が第２面と第１ギャップを介して対向する液体回収部と、を備え、プレートの第１面と対向する可動物体上の液体を液体回収部を介して回収する液体回収システムが提供される。
【０００７】
本発明の第２の態様に従えば、基板を露光する液浸露光装置であって、露光光を射出する射出面を有する光学部材と、第１面、及び第１面と反対側の第２面を有するプレートと、少なくとも一部が第２面と第１ギャップを介して対向する液体回収部と、を備え、プレートの第１面と対向する物体上の液体を液体回収部を介して回収する液浸露光装置が提供される。
【０００８】
本発明の第３の態様に従えば、上記態様の液浸露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【０００９】
本発明の第４の態様に従えば、基板を露光する液浸露光方法であって、基板上の液体を介して露光光で基板を露光することと、基板の露光中に、液体回収システムを使って基板上の液体を回収することとを含み、液体回収システムは、第１面、及び第１面と反対側の第２面を有するプレートと、少なくとも一部が第２面と第１ギャップを介して対向するように配置された液体回収部と、を有し、プレートの第１面と対向する基板上の液体を液体回収部を介して回収する液浸露光方法が提供される。
【００１０】
本発明の第５の態様に従えば、上記態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【００１１】
本発明の第６の態様に従えば、液浸露光装置であって、光が射出される射出面を有する光学部材であり、前記射出面と可動物体との間のスペースに少なくとも配置される液体に前記射出面が接する前記光学部材と；前記可動物体に面する液体接触面と；前記液体接触面を囲む液体回収面であり、前記液体が吸引される吸引領域を有する前記液体回収面と；前記可動物体に面する第１面であり、その少なくとも一部が前記液体回収面と前記可動物体との間に配置される前記第１面と、前記液体回収面と前記第１面との間に配置される第２面であり、その少なくとも一部が前記液体回収面に面する前記第２面と；前記液体回収面と前記第２面との間の開口を介して前記液体が流入可能なギャップと、を備え、前記ギャップに流入した液体が前記液体回収面から回収される液浸露光装置が提供される。
【００１２】
本発明の第７の態様に従えば、液浸露光装置であって、光が射出される射出面を有する光学部材であり、前記射出面と可動物体との間のスペースに少なくとも配置される液体に前記射出面が接する前記光学部材と；前記可動物体に面する液体接触面と；前記液体接触面を囲む液体回収面であり、前記液体が吸引される吸引領域を有し、前記光の光路に近い前記吸引領域の一部が前記可動物体に面する前記液体回収面と；前記可動物体に面する第１面であり、その少なくとも一部が前記液体回収面と前記可動物体との間に配置される前記第１面と、を備えた液浸露光装置が提供される。
【００１３】
本発明の第８の態様に従えば、液浸露光装置であって、光が射出される射出面を有する光学部材であり、前記射出面と可動物体との間のスペースに少なくとも配置される液体に前記射出面が接する前記光学部材と；前記可動物体に面する液体接触面と；前記液体接触面を囲む液体回収面であり、前記液体が吸引される吸引領域を有する前記液体回収面と；前記可動物体に面する第１面であり、前記液体接触面から比較的遠い前記吸引領域の一部を覆いかつ前記液体接触面に比較的近い前記吸引領域の一部を覆わない前記第１面と、を備えた液浸露光装置が提供される。
【００１４】
本発明の第９の態様に従えば、液浸露光装置であって、光が射出される射出面を有する光学部材であり、前記射出面と可動物体との間のスペースに少なくとも配置される液体に前記射出面が接する前記光学部材と；前記可動物体に面する液体接触面と；前記液体接触面を囲む液体回収面であり、前記液体が吸引される吸引領域を有する前記液体回収面と；前記可動物体に面する第１面であり、その少なくとも一部が前記液体回収面と前記可動物体との間に配置される前記第１面と；前記液体回収面と前記第１面との間に配置される第２面であり、その少なくとも一部が前記液体回収面に面する前記第２面と；前記液体回収面と前記第２面との間の開口を介して前記液体が流入可能なギャップと、を備え、前記開口における前記第２面の位置が前記液体接触面に比べて前記可動物体に近い液浸露光装置が提供される。
【００１５】
本発明の第１０の態様に従えば、液浸露光装置であって、光が射出される射出面を有する光学部材であり、前記射出面と可動物体との間のスペースに少なくとも配置される液体に前記射出面が接する前記光学部材と；前記可動物体に面する液体接触面と；前記液体接触面を囲む液体回収面であり、前記液体が吸引される吸引領域を有する前記液体回収面と；前記液体接触面と前記液体回収面との間の開口を介して前記液体が流入可能なギャップと；前記可動物体に面する第１面であり、その少なくとも一部が前記液体回収面と前記可動物体との間に配置される前記第１面と、を備えた液浸露光装置が提供される。
【００１６】
本発明の第１１の態様に従えば、液浸露光装置であって、光が射出される射出面を有する光学部材であり、前記射出面と可動物体との間のスペースに少なくとも配置される液体に前記射出面が接する前記光学部材と；前記可動物体に面する液体接触面と；前記液体接触面を囲む液体回収面であり、前記液体が吸引される吸引領域を有する前記液体回収面と；前記液体接触面と前記液体回収面との間の開口を介して前記液体が流入可能な第１ギャップと；前記可動物体に面する第１面であり、その少なくとも一部が前記液体回収面と前記可動物体との間に配置される前記第１面と；前記液体回収面と前記第１面との間に配置される第２面であり、その少なくとも一部が前記液体回収面に面する前記第２面と；前記液体回収面と前記第２面との間の開口を介して前記液体が流入可能な第２ギャップと、を備えた液浸露光装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】第１実施形態に係る露光装置を示す概略構成図である。
【図２】第１実施形態に係る液浸部材の近傍を示す側断面図である。
【図３】第１実施形態に係る液浸部材を下方から見た図である。
【図４】第１実施形態に係る液浸部材の一部を拡大した側断面図である。
【図５Ａ】第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を示す図である。
【図５Ｂ】第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を示す図である。
【図６Ａ】第１実施形態に係る液浸部材の作用を説明するための模式図であって、比較例の液浸部材を用いた場合を示す。
【図６Ｂ】第１実施形態に係る液浸部材の作用を説明するための模式図である。
【図６Ｃ】第１実施形態に係る液浸部材の作用を説明するための模式図である。
【図６Ｄ】第１実施形態に係る液浸部材の作用を説明するための模式図である。
【図７】第１実施形態に係る液浸部材の別の例を下方から見た図である。
【図８】第２実施形態に係る液浸部材の近傍を示す側断面図である。
【図９】第２実施形態に係る液浸部材の一部を拡大した側断面図である。
【図１０】マイクロデバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。なお、以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。そして、水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１９】
＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸを示す概略構成図である。図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持しながら移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持しながら移動可能な基板ステージ２と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置３とを備えている。
【００２０】
なお、ここでいう基板Ｐは、デバイスを製造するための基板であって、例えばシリコンウエハのような半導体ウエハ等の基材に感光材（フォトレジスト）等の膜が形成されたもの、あるいは感光膜に加えて保護膜（トップコート膜）などの各種の膜を塗布したものを含む。マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。
また、本実施形態においては、マスクＭとして透過型のマスクを用いるが、反射型のマスクを用いることもできる。透過型マスクＭは、遮光膜でパターンが形成されるバイナリーマスクに限られず、例えばハーフトーン型、あるいは空間周波数変調型などの位相シフトマスクも含む。
【００２１】
本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置であって、露光光ＥＬの光路空間の少なくとも一部を液体ＬＱで満たすように液浸空間ＬＳを形成する。なお、露光光ＥＬの光路空間は、露光光ＥＬが通過する光路を含む空間である。液浸空間ＬＳは、液体ＬＱで満たされた空間である。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。
【００２２】
本実施形態においては、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い終端光学素子４の像面側の光路空間Ｋを液体ＬＱで満たすように液浸空間ＬＳが形成される。終端光学素子４は、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する射出面５を有する。液浸空間ＬＳは、終端光学素子４の射出側（像面側）の光路空間Ｋを液体ＬＱで満たすように形成される。
【００２３】
露光装置ＥＸは、液浸空間ＬＳを形成可能な液浸部材６を備えている。液浸部材６は、終端光学素子４の近傍に配置されている。
【００２４】
液浸部材６は、下面７を有する。終端光学素子４の射出側（像面側）で移動可能な物体は、終端光学素子４の射出面５と対向する位置に移動可能であり、且つ液浸部材６の下面７と対向する位置に移動可能である。物体が終端光学素子４の射出面５と対向する位置に配置されたとき、液浸部材６の下面７の少なくとも一部と物体の表面とが対向する。液浸部材６の下面７と物体の表面とが対向しているとき、露光装置ＥＸは、液浸部材６の下面７と物体の表面との間に液体ＬＱを保持できる。また、終端光学素子４の射出面５と物体の表面とが対向しているとき、露光装置ＥＸは、終端光学素子４の射出面５と物体の表面との間に液体ＬＱを保持できる。一方側の液浸部材６の下面７及び終端光学素子４の射出面５と他方側の物体の表面との間に液体ＬＱを保持することによって、露光装置ＥＸは、終端光学素子４の射出面５と物体の表面との間の光路空間Ｋを液体ＬＱで満たすように液浸空間ＬＳを形成可能である。
【００２５】
また、露光装置ＥＸは、液体ＬＱを供給する供給機構８と、液体ＬＱを回収する回収機構９とを備えている。供給機構８は、液浸部材６の下面７と物体の表面との間のスペース並びに終端光学素子４の射出面５と物体の表面との間のスペースに液体ＬＱを供給可能である。回収機構９は、液浸部材６の下面７と物体の表面との間のスペース並びに終端光学素子４の射出面５と物体の表面との間のスペースの液体ＬＱを回収可能である。
【００２６】
本実施形態においては、液浸部材６の下面７及び終端光学素子４の射出面５と対向可能な物体は、基板ステージ２、及びその基板ステージ２に保持された基板Ｐの少なくとも一方を含む。なお、以下においては、説明を簡単にするために、主に、液浸部材６の下面７及び終端光学素子４の射出面５と基板Ｐとが対向している状態を説明する。
【００２７】
本実施形態においては、液浸部材６の下面７及び終端光学素子４の射出面５と対向する位置に配置された物体の表面の一部の領域（局所的な領域）が液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成され、その物体の表面と液浸部材６の下面７との間に液体ＬＱの界面(メニスカス、エッジ)ＬＧが形成される。すなわち、本実施形態においては、露光装置ＥＸは、基板Ｐの露光時に、投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲを含む基板Ｐ上の一部の領域が液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳを形成する局所液浸方式を採用する。なお、界面ＬＧの様子は、図に示されたものに限定されない。
【００２８】
照明系ＩＬは、マスクＭ上の所定の照明領域ＩＲを均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとしては、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光が用いられる。
【００２９】
マスクステージ１は、リニアモータ等のアクチュエータを含む駆動システム１Ｄにより、マスクＭを保持した状態で、Ｘ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向に移動可能である。マスクステージ１（マスクＭ）のＸ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向の位置情報はレーザ干渉計１Ｓによって計測される。レーザ干渉計１Ｓは、マスクステージ１に設けられた反射ミラー１Ｒを用いて位置情報を計測する。制御装置３は、レーザ干渉計１Ｓの計測結果に基づいて駆動システム１Ｄを駆動し、マスクステージ１に保持されているマスクＭの位置制御を行う。
【００３０】
投影光学系ＰＬは、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で基板Ｐに投影する。投影光学系ＰＬの複数の光学素子は、鏡筒ＰＫに保持されている。本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５、又は１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは縮小系、等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態においては、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸはＺ軸方向と平行である。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系ＰＬは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。
【００３１】
基板ステージ２は、リニアモータ等のアクチュエータを含む駆動システム２Ｄにより、基板Ｐを保持した状態で、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６自由度の方向に移動可能である。基板ステージ２（基板Ｐ）のＸ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向の位置情報はレーザ干渉計２Ｓによって計測される。レーザ干渉計２Ｓは、基板ステージ２に設けられた反射ミラー２Ｒを用いて位置情報を計測する。また、基板ステージ２に保持されている基板Ｐの表面の面位置情報（Ｚ軸、θＸ、及びθＹ方向に関する位置情報）は、不図示のフォーカス・レベリング検出システムによって検出される。制御装置３は、レーザ干渉計２Ｓの計測結果及びフォーカス・レベリング検出システムの検出結果に基づいて駆動システム２Ｄを駆動し、基板ステージ２に保持されている基板Ｐの位置制御を行う。
【００３２】
基板ステージ２は、基板Ｐを保持する基板ホルダ２Ｈと、基板ホルダ２Ｈの周囲に配置され、終端光学素子４の射出面５と対向可能な上面２Ｔとを有する。基板ホルダ２Ｈは、基板ステージ２上に設けられた凹部２Ｃに配置されている。基板ホルダ２Ｈは、基板Ｐの表面とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、基板Ｐを保持する。基板ホルダ２Ｈに保持された基板Ｐの表面は、終端光学素子４の射出面５と対向可能である。また、基板ステージ２の上面２Ｔは、ＸＹ平面とほぼ平行な平坦面である。基板ホルダ２Ｈに保持された基板Ｐの表面と基板ステージ２の上面２Ｔとは、ほぼ同一平面内に配置され、ほぼ面一である。上面２Ｔは、例えばフッ素を含む材料で形成されており、液体ＬＱに対して撥液性を有する。上面２Ｔと液体ＬＱとの接触角は、例えば８０°以上である。
【００３３】
露光装置ＥＸは、基板ステージ２を移動可能に支持するガイド面１０を有する定盤１１を備えている。本実施形態においては、ガイド面１０は、ＸＹ平面とほぼ平行である。基板ステージ２は、ガイド面１０に沿って、ＸＹ方向（二次元方向）に移動可能である。
【００３４】
本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。露光装置ＥＸは、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対して一方のＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭを他方のＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。これにより、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影され、基板Ｐは露光光ＥＬで露光される。
【００３５】
次に、液浸部材６、供給機構８、及び回収機構９について、図１〜図４を参照して説明する。図２は、液浸部材６の近傍を示す側断面図、図３は、液浸部材６を下面７側から見た図、図４は、液浸部材６の一部を拡大した図である。
【００３６】
なお、以下の説明においては、液浸部材６の下面７及び終端光学素子４の射出面５と対向する位置に基板Ｐが配置されている場合を例にして説明するが、上述のように、液浸部材６の下面７及び終端光学素子４の射出面５と対向する位置には、基板ステージ２等、基板Ｐ以外の物体も配置可能である。また、以下の説明においては、終端光学素子４の射出面５を適宜、終端光学素子４の下面５、と称する。
【００３７】
図１〜図４において、液浸部材６は、第１部材１２と、第２部材１３と、第３部材１４とを含む。本実施形態においては、第１部材１２と、第２部材１３と、第３部材１４とは、それぞれ異なる部材である。第１部材１２、第２部材１３、及び第３部材１４のそれぞれは、環状の部材である。本実施形態においては、第１部材１２、第２部材１３、及び第３部材１４のそれぞれは、不図示の支持機構によって、所定の位置関係で支持されている。
【００３８】
第１部材１２は、終端光学素子４の近傍において、露光光ＥＬの光路を囲むように配置されている。本実施形態においては、第１部材１２は、露光光ＥＬの光路に対して終端光学素子４の外側に、ギャップＧ１を介して、終端光学素子４を囲むように配置されている。
【００３９】
第２部材１３は、第１部材１２の近傍において、露光光ＥＬの光路を囲むように配置されている。本実施形態においては、第２部材１３の少なくとも一部は、露光光ＥＬの光路に対して第１部材１２の外側に、ギャップＧ２を介して、第１部材１２を囲むように設けられている。
【００４０】
第３部材１４は、第２部材１３の近傍において、露光光ＥＬの光路を囲むように配置されている。本実施形態においては、第３部材１４の少なくとも一部は、露光光ＥＬの光路に対して第２部材１３の外側に、ギャップＧ３を介して、第２部材１３を囲むように設けられている。
【００４１】
本実施形態の終端光学素子４は、投影光学系ＰＬの物体面からの露光光ＥＬが入射する入射面１６と、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する射出面（下面）５と、入射面１６の外周と射出面５の外周とを結ぶ外周面（側面）１７とを有する。本実施形態においては、射出面（下面）５は、ＸＹ平面とほぼ平行である。外周面１７は、露光光ＥＬの光路から外側に離れる方向において、基板Ｐの表面から除々に離れるように傾斜している。また、本実施形態においては、入射面１６もＸＹ平面とほぼ平行であるが、入射面１６は、物体面に向かって凸な曲面でもよい。
【００４２】
第１部材１２は、終端光学素子４の外周面１７と対向し、その外周面１７に沿って形成された内周面１８と、終端光学素子４に対して内周面１８の外側に配置された外周面１９と、終端光学素子４の下面５の一部と対向する第１上面２０と、基板Ｐの表面と対向する第１下面２１とを有する。
【００４３】
第１部材１２は、Ｚ軸方向に関して少なくとも一部が終端光学素子４の下面５と基板Ｐの表面との間に配置される下板部１２Ａと、下板部１２Ａの外周に接続され、終端光学素子４の外周面１７を囲むように配置される側板部１２Ｂと、側板部１２Ｂの上端の外周に接続され、終端光学素子４の外周面１７を囲むように配置される上板部１２Ｃとを含む。
下板部１２Ａの外周は、側板部１２Ｂの下端の内周と接続される。
【００４４】
なお、本実施形態においては、第１部材１２は、下板部１２Ａ、側板部１２Ｂ、及び上板部１２Ｃを有する１つの部材で形成されているが、下板部１２Ａ、側板部１２Ｂ、及び上板部１２Ｃを複数の部材で形成し、それらを結合して第１部材１２を形成してもよい。
【００４５】
第１部材１２の内周面１８は、側板部１２Ｂの一方の面を含み、終端光学素子４の外周面１７とギャップＧ１を介して対向するように配置される。第１部材１２の外周面１９は、側板部１２Ｂの他方の面を含み、内周面１８とほぼ平行である。なお、内周面１８と外周面１９とは平行でなくてもよい。
【００４６】
換言すると、本実施形態において、ギャップＧ１（環状ギャップ）の一端部が、流体的に周囲空間に接続され、他端部が液浸空間に流体的に接続されている。本実施形態において、ギャップＧ１の、周囲空間（例えば大気空間）との接続位置が液浸空間との接続位置に比べて上方（＋Ｚ）である。ギャップＧ１に面する径方向内方の壁の少なくとも一部は、終端光学素子４の外周面１７である。ギャップＧ１に面する径方向外方の壁の少なくとも一部は、第１部材１２の内周面１８である。すなわち、ギャップＧ１の少なくとも一部は、終端光学素子４と第１部材１２とのインタースペースである。本実施形態において、壁（１７）及び壁（１８）は上方（＋Ｚ）に向かって拡大する径を有し、壁（１７）と壁（１８）とは実質的に平行にできる。径の拡大に伴い、軸方向の単位長さあたりのギャップＧ１の容積が上方（＋Ｚ）に向かって増大する。他の実施形態において、壁（１７）と壁（１８）とは実質的に非平行にできる。
【００４７】
第１部材１２の第１上面２０は、下板部１２Ａの上面を含み、終端光学素子４の下面５とギャップＧ４を介して対向するように配置される。第１上面２０は、ＸＹ平面とほぼ平行な平坦面である。
【００４８】
第１部材１２の第１下面２１は、下板部１２Ａの下面を含む。例えば、基板Ｐの露光中、基板Ｐの表面は、ギャップＧ５を介して、第１下面２１と対向するように配置される。
第１下面２１は、ＸＹ平面（基板Ｐの表面）とほぼ平行な平坦面である。
【００４９】
また、下板部１２Ａは、中央に開口２４を有する。開口２４は、終端光学素子４の下面５から射出された露光光ＥＬを通過可能である。例えば、基板Ｐの露光中、終端光学素子４の下面５から射出された露光光ＥＬは、開口２４を通過し、基板Ｐ上の液体ＬＱを介して基板Ｐの表面に照射される。本実施形態においては、開口２４における露光光ＥＬの断面形状はＸ軸方向を長手方向とする略矩形状（スリット状）である。開口２４は、露光光ＥＬの断面形状に応じて、ＸＹ方向において略矩形状（スリット状）に形成されている。
また、開口２４における露光光ＥＬの断面形状と、基板Ｐにおける投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲの形状とはほぼ同じである。第１上面２０及び第１下面２１は、開口２４の周囲に形成されている。また、図３に示すように、本実施形態においては、第１下面２１の外形は、Ｘ軸及びＹ軸のそれぞれと平行な辺を有する矩形（正方形）である。
【００５０】
第２部材１３は、第１部材１２の外周面１９と対向し、その外周面１９に沿うように形成された内周面２５と、第１部材１２に対して、内周面２５の外側に配置された外周面２６と、第１部材１２の上板部１２Ｃの下面２７と対向する上面２８と、少なくとも一部が基板Ｐの表面と対向する第２下面２９とを有する。
【００５１】
第２部材１３は、第１部材１２の上板部１２Ｃと対向する上板部１３Ｃと、上板部１３Ｃの外周と接続するように配置された外側板部１３Ｂと、上板部１３Ｃの内周と接続するように配置された内側板部１３Ａとを含む。なお、本実施形態においては、第２部材１３は、内側板部１３Ａ、外側板部１３Ｂ、及び上板部１３Ｃを有する１つの部材で形成されていてもよいし、内側板部１３Ａ、外側板部１３Ｂ、及び上板部１３Ｃを複数の部材で形成し、それらを結合して第２部材１３を形成してもよい。
【００５２】
また、第２部材１３のうち、基板Ｐの表面及び第３部材１４の少なくとも一部と対向する部分には、多孔部材（メッシュ部材）３０が配置されている。本実施形態において、多孔部材３０は、プレートに複数の孔（貫通孔）を形成したもの、複数の孔（pore）が形成された焼結部材（例えば、焼結金属）、又は発泡部材（例えば、発泡金属）などを用いることができる。他の実施形態において、多孔部材３０として、上記以外の多孔部材を用いることができる。本実施形態においては、多孔部材３０は、少なくとも一部が基板Ｐの表面と対向するように配置される。第２部材１３の第２下面２９は、多孔部材３０の下面（吸引領域、回収面）を含む。
【００５３】
第２部材１３の内周面２５は、内側板部１３Ａの内側面を含み、第１部材１２の外周面１９とギャップＧ２を介して対向するように配置される。本実施形態において、第１部材１２の外周面１９と第２部材１３の内周面２５とはほぼ平行である。なお、第１部材１２の外周面１９と第２部材１３の内周面２５とは平行でなくてもよい。
【００５４】
第２部材１３の上面２８は、上板部１３Ｃの上面を含み、第１部材１２の上板部１２Ｃの下面２７とギャップＧ６を介して対向するように配置される。第２部材１３の上面２８及び第１部材１２の上板部１２Ｃの下面２７は、ＸＹ平面とほぼ平行な平坦面である。
【００５５】
多孔部材３０の下面は、第２下面２９の少なくとも一部を形成する。本実施形態においては、多孔部材３０の下面の一部は、基板Ｐの表面と対向する。すなわち多孔部材３０の下面（吸引領域、回収面）を含む第２部材１３の第２下面２９の一部は基板Ｐの表面に面することができる。例えば基板Ｐの露光中、基板Ｐの表面は、ギャップＧ７を介して、第２下面２９（多孔部材３０の下面）の少なくとも一部と対向するように配置される。本実施形態において、第２下面２９は、ＸＹ平面とほぼ平行な平坦面である。他の実施形態において、第２下面２９は、ＸＹ平面と実質的に非平行にできる。
【００５６】
また、図３に示すように、本実施形態においては、多孔部材３０の下面は、Ｘ軸及びＹ軸のそれぞれと平行な辺を有する矩形の枠状に形成されている。
【００５７】
第３部材１４は、第２部材１３の外周面２６と対向し（面し）、その外周面２６に沿うように形成された内周面５０と、第２下面２９の一部（多孔部材３０の下面の一部）と対向する（面する）第３上面５１と、基板Ｐの表面と対向する（面する）第３下面５２とを有する。
【００５８】
第３部材１４は、Ｚ軸方向に関して少なくとも一部が第２下面２９と基板Ｐの表面との間に配置される下板部１４Ａと、下板部１４Ａの外周に接続され、第２部材１３の外周面２６を囲むように配置される側板部１４Ｂとを含む。
【００５９】
なお、本実施形態においては、第３部材１４は、下板部１４Ａ、及び側板部１４Ｂを有する１つの部材で形成されているが、下板部１４Ａ、及び側板部１４Ｂを複数の部材で形成し、それらを結合して第３部材１４を形成してもよい。
【００６０】
第３部材１４の内周面５０は、側板部１４Ｂの内周面を含み、第２部材１３の外周面２６とギャップＧ３を介して対向するように配置される。第３部材１４の内周面５０は、第２部材１３の外周面２６とほぼ平行である。なお、内周面５０と外周面２６とは平行でなくてもよい。
【００６１】
下板部１４Ａは、上面、及び上面と反対側の下面を有する。第３上面５１は、下板部１４Ａの上面を含み、第３下面５２は、下板部１４Ａの下面及び側板部１４Ｂの下面を含む。第３上面５１及び第３下面５２のそれぞれは、露光光ＥＬの光路を囲むように配置されている。
【００６２】
第３下面５２は、ＸＹ平面とほぼ平行な平坦部５２Ａと、露光光ＥＬの光路から離れる方向において、基板Ｐの表面から除々に離れる傾斜部５２Ｂとを有する。平坦部５２Ａは、下面５２における露光光ＥＬの光路側に、露光光ＥＬの光路を囲むように配置されている。傾斜部５２Ｂは、露光光ＥＬの光路に対して平坦部５２Ａの外側に、露光光ＥＬの光路を囲むように配置されている。また、平坦部５２Ａの外縁のＺ軸方向の位置と傾斜部５２Ｂの内縁のＺ軸方向の位置とは同じである。他の実施形態において、平坦部５２Ａは、ＸＹ平面と実質的に非平行にできる。
【００６３】
第３上面５１は、第３下面５２の平坦部５２Ａに対して傾いた傾斜部５１Ｂと、第３下面５２の平坦部５２Ａと平行な平坦部５１Ａとを有する。本実施形態においては、第３上面５１の平坦部５１Ａは、ＸＹ平面とほぼ平行である。他の実施形態において、平坦部５１Ａは、ＸＹ平面と実質的に非平行にできる。
【００６４】
第３上面５１の傾斜部５１Ｂは、第３上面５１における露光光ＥＬの光路側に、露光光ＥＬの光路を囲むように配置されている。第３上面５１の傾斜部５１Ｂは、露光光ＥＬの光路から離れる方向において、基板Ｐの表面から除々に離れるように傾斜している。本実施形態において、第３上面５１の傾斜部５１Ｂと第３下面５２の平坦部５２Ａとがなす角度は、鋭角である。第３上面５１の平坦部５１Ａは、露光光ＥＬの光路に対して傾斜部５１Ｂの外側に、露光光ＥＬの光路を囲むように配置されている。傾斜部５１Ｂの外縁のＺ軸方向の位置と平坦部５１Ａの内縁のＺ軸方向の位置とは同じである。
【００６５】
ここで、以下の説明において、第３上面５１の傾斜部５１Ｂと第３下面５２の平坦部５２Ａとで形成される鋭角に尖った部分を適宜、尖端部５５、と称する。尖端部５５は、露光光ＥＬの光路に向かって尖っている。
【００６６】
本実施形態において、尖端部５５の先端（第３部材１４の第３上面５１のエッジ、第３部材１４における第２部材１３に面する領域の先端部）は、第１部材１２の第１下面２１に比べて基板Ｐに近い。すなわち、基板Ｐからのその先端の高さは、第１部材１２の第１下面２１に比べて低い。
【００６７】
第３上面５１の平坦部５１Ａの一部は、第２下面２９とギャップＧ８を介して対向するように配置される。また、例えば基板Ｐの露光中、基板Ｐの表面は、ギャップＧ９を介して、第３下面５２の平坦部５２Ａと対向するように配置される。
【００６８】
以下の説明において、第２下面２９と第３上面５１との間のギャップＧ８を適宜、第１ギャップＧ８、と称する。また、第１部材１２の外周面１９と第２部材１３の内周面２５との間のギャップＧ２を適宜、第２ギャップＧ２、と称する。
【００６９】
本実施形態において、第３部材１４の第３上面５１の内側エッジは、第１部材１２の第１下面２１の外形と平行に形成されている。すなわち、図３に示すように、第３上面５１の内側エッジの形状は、第１下面２１の外       形と相似であり、矩形（正方形）である。なお、第３上面５１の内側エッジの形状を、第１下面２１の外形と非相似にすることができる。
【００７０】
本実施形態においては、第２下面２９（多孔部材３０の下面）は、第３上面５１と対向しない第１領域２９Ａと、第３上面５１と対向する第２領域２９Ｂとを有する。第１領域２９Ａは、第２下面２９における露光光ＥＬの光路側に、露光光ＥＬの光路を囲むように配置されている。第２領域２９Ｂは、露光光ＥＬの光路に対して第１領域２９Ａの外側に、露光光ＥＬの光路を囲むように配置されている。
【００７１】
換言すれば、本実施形態において、第２部材１３の第２下面２９（又は多孔部材３０の下面）は、第３部材１４の第３上面５１に比べて大きい面積を有することができる。本実施形態において、第３部材１４は、第２部材１３の第２下面２９を部分的に覆う。第３部材１４は、第２部材１３の第２下面２９の径方向外側の領域（第２領域２９Ｂ）を覆う。
第２部材１３の第２下面２９において、第３部材１４に覆われた領域２９Ｂが基板Ｐから隠れる。第２下面２９において、第３部材１４に覆われていない領域（第１領域２９Ａ）は、径方向内側の領域である。その覆われていない領域２９Ａは、覆われている領域２９Ｂよりも露光光の光路に近い。その覆われていない領域は、基板Ｐに直面（front）することができる。
【００７２】
本実施形態において、第３部材１４の第３上面５１の内側エッジは、多孔部材３０の内側エッジ（内側板部１３Ａと多孔部材３０との接続部）と平行に設けられている。すなわち、図３に示すように、第３上面５１の内側エッジの形状は、多孔部材３０の内側エッジの形状と相似であり、矩形（正方形）である。なお、第３上面５１の内側エッジの形状を、多孔部材３０の内側エッジの形状と非相似にすることができる。
【００７３】
本実施形態において、液浸部材６の下面７は、第１下面２１、第２下面２９、及び第３下面５２を含む。第１下面２１は、露光光ＥＬの光路を囲むように配置されている。第２下面２９は、露光光ＥＬの光路に対して第１下面２１の外側で、露光光ＥＬの光路、及び第１下面２１を囲むように配置されている。第３下面５２は、露光光ＥＬの光路に対して第２下面２９の第１領域２９Ａの外側で、露光光ＥＬの光路、第１下面２１、及び第２下面２９の第１領域２９Ａを囲むように配置されている。換言すると、第１下面２１の径方向外側に第２下面２９及び第３下面５２が配置され、その第２下面２９の一部（第１領域２９Ａ）の径方向外側に第３下面５２が配置される。
【００７４】
図４に示すように、本実施形態においては、第３下面５２の平坦部５２Ａと基板Ｐの表面との距離Ｄ３（ギャップＧ９のサイズ）は、第１下面２１と基板Ｐの表面との距離Ｄ１（ギャップＧ５のサイズ）より小さい。また、第１下面２１と基板Ｐの表面との距離Ｄ１（ギャップＧ５のサイズ）は、第２下面２９と基板Ｐの表面との距離Ｄ２（ギャップＧ７のサイズ）より小さい。
【００７５】
液浸部材６の下面７と対向する位置に基板Ｐが配置されているとき、液浸部材６は、少なくとも第１下面２１と基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを保持できる。本実施形態においては、第１部材１２のうち、少なくとも第１下面２１は、例えばチタンで形成されており、液体ＬＱに対して親液性を有する。例えば、第１下面２１と液体ＬＱとの接触角は、９０、８０、７０、６０、５０、４０、３０、２０、又は１０度以下にできる。その接触角は、好ましくは４０度以下にでき、より好ましくは２０度以下にできる。液体ＬＱに対して親液性を有し、基板Ｐの表面（ＸＹ平面）とほぼ平行な第１下面２１は、基板ＰがＸＹ方向に移動した場合でも、液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触し続けることができる。第１下面２１は、少なくとも基板Ｐの露光中に、液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触する液体接触面である。
【００７６】
また、第２下面２９の第１領域２９Ａは、基板Ｐ上の液体ＬＱと接触可能であり、液浸部材６の下面７と対向する位置に基板Ｐが配置されているとき、液浸部材６は、第２下面２９の第１領域２９Ａと基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを保持できる。また、第２下面２９の第２領域２９Ｂは、第１ギャップＧ８に流入した液体ＬＱと接触可能である。また、本実施形態においては、第２部材１３のうち、少なくとも液体ＬＱと接触する部分は、例えばチタンで形成されており、液体ＬＱに対して親液性を有する。例えば、第２下面２９と液体ＬＱとの接触角は、９０、８０、７０、６０、５０、４０、３０、２０、又は１０度以下にできる。その接触角は、好ましくは４０度以下にでき、より好ましくは２０度以下にできる。
【００７７】
また、第３下面５２は、基板Ｐ上の液体ＬＱと接触可能であり、液浸部材６の下面７と対向する位置に基板Ｐが配置されているとき、液浸部材６は、第３下面５２と基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを保持できる。本実施形態においては、第３下面５２の平坦部５２Ａは、液体ＬＱに対して撥液性を有し、第３下面５２の傾斜部５２Ｂは、液体ＬＱに対して親液性を有する。また、平坦部５１Ａ及び傾斜部５１Ｂを含む第３上面５１は、液体ＬＱに対して親液性を有する。本実施形態においては、第３部材１４はチタンで形成されており、第３下面５２の平坦部５２Ａに、例えばフッ素を含む材料等、液体ＬＱに対して撥液性を有する材料の膜が形成されている。第３上面５１及び第３下面５２の傾斜部５２Ｂは、チタンで形成されている。例えば、第３下面５２の平坦部５２Ａと液体ＬＱとの接触角は、１００、１１０、１２０、１３０、又は１４０度以上にできる。その接触角は、より好ましくは１１０度以上にできる。また、第３上面５１と液体ＬＱとの接触角、及び第３下面５２の傾斜部５２Ｂと液体ＬＱとの接触角は、それぞれ９０、８０、７０、６０、５０、４０、３０、２０、又は１０度以下にできる。その接触角は、好ましくは４０度以下であり、より好ましくは２０度以下である。なお、第３下面５２の平坦部５２Ａは撥液性でなくてもよい。
【００７８】
図２及び図４においては、基板Ｐ上の液体ＬＱの一部が、第１下面２１、第２下面２９の一部の領域、及び第３下面５２の一部の領域と基板Ｐとの間に保持されている状態が示されている。例えば基板Ｐの露光中、第１下面２１、第２下面２９、及び第３下面５２を含む液浸部材６の下面７と基板Ｐの表面との間に液体ＬＱを保持することによって、液浸空間ＬＳが形成される。
【００７９】
第２下面２９と第３上面５１（尖端部５５）との間には、第１開口部５３が形成されている。図２及び図４に示すように、第１開口部５３は、基板Ｐ上の液体ＬＱ（液浸空間ＬＳの液体ＬＱ）と接触可能な位置に配置されており、基板Ｐ上の液体ＬＱが流入可能である。第１開口部５３は、第１ギャップＧ８と接続されている。第１ギャップＧ８は、基板Ｐ上の液体ＬＱが、第１開口部５３を介して流入可能に設けられている。
【００８０】
第１開口部５３は、第３部材１４の下板部１４Ａ（尖端部５５）のエッジと、多孔部材３０との間に設けられている。すなわち、第１開口部５３は、第１領域２９Ａと第２領域２９Ｂとの境界の近傍に配置されている。第１開口部５３は、スリット状であって、露光光ＥＬの光路を囲むように、環状に設けられている。第１ギャップＧ８は、露光光ＥＬの光路に対して第１開口部５３の外側で、第１開口部５３に沿って環状に設けられている。
本実施形態においては、下板部１４Ａのエッジには、傾斜部５１Ｂが形成されており、第１開口部５３の幅（第３上面５１の傾斜部５１Ｂと第２下面２９とのＺ軸方向の距離）は、第３上面５１の平坦部５１Ａと第２下面２９のＺ軸方向の距離よりも、僅かに大きい。
【００８１】
第１ギャップＧ８は、第１開口部５３とは異なる第２開口部５４を介して、大気開放されている。第２開口部５４は、液浸部材６（液浸空間ＬＳ）の周囲の外部空間（周囲環境）の気体と接触可能な位置に配置されており、外部空間の気体が流入可能である。第１ギャップＧ８は、外部空間の気体が、第２開口部５４を介して流入可能に設けられている。
【００８２】
第２開口部５４は、基板Ｐ上の液体ＬＱ（液浸空間ＬＳの液体ＬＱ）が流入しない位置に設けられている。
【００８３】
本実施形態においては、第２開口部５４は、露光光ＥＬの光路に対して、第１開口部５３及び第１ギャップＧ８の外側に配置されており、基板Ｐの表面と対向しない位置に配置されている。第２開口部５４は、第１開口部５３よりも＋Ｚ側に配置されている。
【００８４】
本実施形態においては、第２開口部５４は、第２部材１３の外周面２６と第３部材１４の内側面５０の上端との間に形成され、ギャップＧ３と接続されている。ギャップＧ３は、外部空間の気体が、第２開口部５４を介して流入可能に設けられている。また、本実施形態においては、第１ギャップＧ８とギャップＧ３とは接続されており（一体であり）、第２開口部５４は、ギャップＧ３を介して、第１ギャップＧ８と接続されている。換言すれば、ギャップＧ３は大気開放されており、ギャップＧ８がギャップＧ３を介して大気開放されている。
【００８５】
本実施形態においては、第１開口部５３、第２開口部５４、及びギャップＧ８、Ｇ３のそれぞれが、第２部材１３と第３部材１４との間に設けられている。
【００８６】
換言すると、本実施形態において、ギャップＧ８（環状ギャップ）の少なくとも一部及びギャップＧ３（環状ギャップ）の少なくとも一部はそれぞれ、第２部材１３（多孔部材３０）と第３部材１４とのインタースペースである。本実施形態において、ギャップＧ８及びギャップＧ３を含むスペースの一端部が、流体的に周囲空間に接続され、他端部が液浸空間に流体的に接続されている。本実施形態において、ギャップＧ８及びギャップＧ３を含むスペースの、外部空間との接続位置が液浸空間との接続位置に比べて上方（＋Ｚ）である。本実施形態において、所定の幅を有するギャップＧ８は、実質的に水平方向に延在し、所定の幅を有するギャップＧ３は実質的に鉛直方向に延在する。ギャップＧ８の径方向外方端とギャップＧ３の下方端とが流体的に接続されている。ギャップＧ８に面する上方の壁の少なくとも一部は第２部材１３の第２下面２９（多孔部材３０の下面）である。ギャップＧ８に面する下方の壁は、第３部材１４の第３上面５１である。本実施形態において、壁（２９）と壁（５１Ａ）とは実質的に平行にできる。他の実施形態において、壁（２９）と壁（５１Ａ）とは実質的に非平行にできる。ギャップＧ２に面する径方向内方の壁の少なくとも一部は、第２部材１３の外周面２６である。ギャップＧ２に面する径方向外方の壁の少なくとも一部は、第３部材１４の内周面５０である。本実施形態において、壁（２６）と壁（５０）とは実質的に平行にできる。他の実施形態において、壁（２６）と壁（５０）とは実質的に非平行にできる。
【００８７】
外部空間の気体は、第２開口部５４を介して、ギャップＧ８、Ｇ３に流入可能であるとともに、ギャップＧ８、Ｇ３の気体は、第２開口部５４を介して、外部空間に流出可能である。本実施形態においては、第１ギャップＧ８とその第１ギャップＧ８の外側の外部空間（大気空間）との間において、第２開口部５４を介して、常に気体が出入り可能となっており、第１ギャップＧ８は、第２開口部５４を介して、大気開放された状態となっている。
【００８８】
第１ギャップＧ８が大気開放されている状態とは、第１ギャップＧ８が液浸部材６の周囲（液浸空間ＬＳの周囲）の気体空間と常に連通している状態を含む。例えば、第１ギャップＧ８が大気開放されている状態では、第１開口部５３の全域が液浸空間ＬＳの液体ＬＱに覆われている場合であっても、第１ギャップＧ８と外部空間（周囲環境）との間において、第２開口部５４を介して、気体が出入り可能である。なお、露光装置ＥＸは、通常、環境制御されたチャンバ内に配置されており、上述の「大気開放」は、第１ギャップＧ８がチャンバ内の気体空間と連通している状態も含む。また、外部空間の気体は、必ずしも空気でなくてもよく、例えば窒素であってもよい。
【００８９】
第１下面２１と第２下面２９との間には、第３開口部３３が形成されている。図２及び図４に示すように、第３開口部３３は、基板Ｐ上の液体ＬＱ（液浸空間ＬＳの液体ＬＱ）と接触可能な位置に配置されており、基板Ｐ上の液体ＬＱが流入可能である。第３開口部３３は、第２ギャップＧ２と接続されている。第２ギャップＧ２は、基板Ｐ上の液体ＬＱが、第３開口部３３を介して流入可能に設けられている。
【００９０】
第３開口部３３は、第２ギャップＧ２の下端に配置されており、基板Ｐの表面は、第３開口部３３と対向する位置に移動可能である。第３開口部３３は、スリット状であって、第１下面２１を囲むように、環状に設けられている。図３に示すように、本実施形態においては、第３開口部３３は、矩形の環状に設けられている。また、第２ギャップＧ２は、第１部材１２を囲むように、第３開口部３３に沿って環状に設けられている。
【００９１】
第２ギャップＧ２は、第３開口部３３とは異なる第４開口部３４を介して、大気開放されている。第４開口部３４は、液浸部材６（液浸空間ＬＳ）の周囲の外部空間（周囲環境）の気体と接触可能な位置に配置されており、外部空間の気体が流入可能である。第２ギャップＧ２は、外部空間の気体が、第４開口部３４を介して流入可能に設けられている。
【００９２】
第４開口部３４は、基板Ｐ上の液体ＬＱ（液浸空間ＬＳの液体ＬＱ）と接触不能である。すなわち、第４開口部３４は、第３開口部３３と対向する基板Ｐ上の液体ＬＱが流入しない位置に設けられている。
【００９３】
本実施形態においては、第４開口部３４は、露光光ＥＬの光路に対して第３開口部３３及び第２ギャップＧ２の外側に配置されており、基板Ｐの表面と対向しない位置に配置されている。第４開口部３４は、第３開口部３３よりも＋Ｚ側に配置されている。
【００９４】
本実施形態においては、第４開口部３４は、第１部材１２の上板部１２Ｃの下面２７の外周と第２部材１３の上面２８の外周との間に形成され、ギャップＧ６と接続されている。ギャップＧ６は、外部空間の気体が、第４開口部３４を介して流入可能に設けられている。また、本実施形態においては、第２ギャップＧ２とギャップＧ６とは接続されており（一体であり）、第４開口部３４は、ギャップＧ６を介して、第２ギャップＧ２と接続されている。
【００９５】
外部空間の気体は、第４開口部３４を介して、ギャップＧ２、Ｇ６に流入可能であるとともに、ギャップＧ２、Ｇ６の気体は、第４開口部３４を介して、外部空間に流出可能である。本実施形態においては、第２ギャップＧ２とその第２ギャップＧ２の外側の外部空間（大気空間）との間において、第４開口部３４を介して、常に気体が出入り可能となっており、第２ギャップＧ２は、第４開口部３４を介して、大気開放された状態となっている。
【００９６】
本実施形態においては、第３開口部３３、第４開口部３４、及びギャップＧ２、Ｇ６のそれぞれが、第１部材１２と第２部材１３との間に設けられている。
【００９７】
換言すると、本実施形態において、第２ギャップＧ２（環状ギャップ）の少なくとも一部は、第１部材１２と第２部材１３とのインタースペースである。本実施形態において、ギャップＧ２の一端部が、流体的に周囲空間に接続され、他端部が液浸空間に流体的に接続されている。本実施形態において、ギャップＧ２の、周囲空間（例えば大気空間）との接続位置が液浸空間との接続位置に比べて上方（＋Ｚ）である。ギャップＧ２に面する径方向内方の壁の少なくとも一部は、第１部材１２の外周面１９である。ギャップＧ２に面する径方向外方の壁の少なくとも一部は、第２部材１３の内周面２５である。本実施形態において、壁（１９）及び壁（２５）は上方（＋Ｚ）に向かって拡大する径を有し、壁（１９）と壁（２５）とは実質的に平行にできる。径の拡大に伴い、軸方向の単位長さあたりのギャップＧ２の容積が上方（＋Ｚ）に向かって増大する。他の実施形態において、壁（１９）と壁（２５）とは実質的に非平行にできる。
【００９８】
なお、第１部材１２と第２部材１３とを接触するように配置し、第３開口部３３、第４開口部３４、及びギャップＧ２，Ｇ６を設けなくてもよい。
【００９９】
供給機構８は、清浄で温度調整された液体ＬＱを送出可能な液体供給装置３６と、光路空間Ｋの近傍に配置された供給口３７と、液体供給装置３６と供給口３７とを接続する流路３８とを含む。
【０１００】
本実施形態においては、供給口３７は、第１部材１２に形成されている。流路３８は、第１部材１２の内部に形成された供給流路３８Ａ、及びその供給流路３８Ａと液体供給装置３６とを接続する供給管で形成される流路３８Ｂを含む。液体供給装置３６から送出された液体ＬＱは、流路３８を介して、供給口３７に供給される。供給口３７は、液体供給装置３６からの液体ＬＱを光路空間Ｋに供給する。
【０１０１】
本実施形態においては、供給口３７は、終端光学素子４の下面５と第１上面２０との間のギャップＧ４に接続されており、そのギャップＧ４に液体ＬＱを供給可能である。また、本実施形態においては、供給口３７は、光路空間Ｋに対してＹ軸方向両側のそれぞれに設けられている。なお、供給口３７は、光路空間Ｋに対してＸ軸方向の両側に設けられていてもよい。
【０１０２】
本実施形態においては、供給口３７は、露光光ＥＬの光路に対して、第１開口部５３及び第３開口部３３の内側に配置されている。
【０１０３】
回収機構９は、真空システムを含み、液体ＬＱを吸引して回収可能な液体回収装置３９と、液体ＬＱを回収可能な回収部４０と、液体回収装置３９と回収部４０とを接続する流路４１とを含む。
【０１０４】
回収部４０は、液体ＬＱを吸引して回収可能な吸引口を含む。本実施形態においては、回収部４０は、基板Ｐの表面及び第３上面５１と対向可能な第２部材１３の一部分に配置されている。すなわち、本実施形態においては、回収部４０は、第２下面２９に配置されている。回収部４０は、一部が第３上面５１と第１ギャップＧ８を介して対向するように配置される。
【０１０５】
本実施形態においては、第２部材１３には、内側板部１３Ａ、上板部１３Ｃ、及び外側板部１３Ｂによって、基板Ｐの表面及び第３上面５１と対向する開口を有する吸引流路（空間部、回収流路）４１Ａが形成されており、その空間部４１Ａの開口に、回収部４０が配置されている。本実施形態においては、回収部４０は、第１ギャップＧ８に沿って環状に設けられている。
【０１０６】
回収部４０は、吸引口を覆うように配置された多孔部材（メッシュ部材）３０を有する。上述のように、多孔部材３０の下面は、基板Ｐの表面及び第３上面５１と対向する第２下面２９の少なくとも一部を形成する。本実施形態においては、回収部４０の多孔部材３０の下面の一部の領域（第２領域２９Ｂ）が、第３上面５１と第１ギャップＧ８を介して対向する。
【０１０７】
回収機構９は、第３下面５２を含む液浸部材６の下面７と対向する基板Ｐ上の液体ＬＱを、回収部４０を介して回収する。本実施形態においては、流路４１は、第２部材１３の内部に形成された吸引流路４１Ａ、及びその吸引流路４１Ａと液体回収装置３９とを接続する回収管で形成される流路４１Ｂを含む。真空システムを含む液体回収装置３９が駆動されることによって、多孔部材３０の上面と第２下面２９との間に圧力差を発生させ、液体ＬＱは多孔部材３０（回収部４０）より吸引される。回収部４０から吸引された液体ＬＱは、流路４１を介して、液体回収装置３９に回収される。
【０１０８】
回収部４０は、多孔部材３０に接触した液体ＬＱの少なくとも一部を多孔部材３０を介して回収する。回収部４０は、多孔部材３０の第１領域２９Ａに接触した液体ＬＱを回収可能である。
【０１０９】
また、回収部４０は、第１開口部５３を介して第１ギャップＧ８に流入し、多孔部材３０の第２領域２９Ｂに接触した液体ＬＱを回収可能である。本実施形態においては、液浸部材６の下面７と基板Ｐの表面との間の液体ＬＱの少なくとも一部は、第１開口部５３を介して、第１ギャップＧ８に流入可能である。第１ギャップＧ８は、基板Ｐ上の液体ＬＱが、第１開口部５３を介して流入可能に設けられている。また、第１ギャップＧ８は、第２開口部５４を介して大気開放されているので、液体ＬＱは、第１開口部５３を介して、第１ギャップＧ８内に円滑に流入可能である。回収部４０は、第１開口部５３を介して第１ギャップＧ８に流入した液体ＬＱの少なくとも一部を多孔部材３０を介して吸引可能である。
【０１１０】
本実施形態においては、第１ギャップＧ８は、基板Ｐ上の液体ＬＱが流入可能な毛管路を形成する。多孔部材３０の下面と第３上面５１との間隔は、０．５〜２．０ｍｍである。第１開口部５３に接触した液体ＬＱは、毛管現象によって第１ギャップＧ８内に引き込まれ、多孔部材３０の第２領域２９Ｂの表面と接触し、多孔部材３０を介して回収される。
【０１１１】
また、本実施形態において、第３上面５１は、液体ＬＱに対して親液性なので、液体ＬＱは、第１開口部５３を介して、第１ギャップＧ８内に円滑に流入可能である。
【０１１２】
また、本実施形態の回収機構９においては、例えば国際公開第２００５／０２４５１７号パンフレット、米国特許出願公開第２００７／０２２２９５９号公報等に開示されているように、多孔部材３０の下面と接触する気体の多孔部材３０の通過が抑制されるように、多孔部材３０の孔の大きさ、多孔部材３０の液体ＬＱとの表面張力、第１ギャップＧ８の圧力（外部空間の圧力）に対する吸引流路４１Ａの圧力等を含む液体回収条件が設定されている。すなわち、本実施形態においては、多孔部材３０の下面に接触した液体ＬＱのみが、多孔部材３０を通過して吸引流路４１Ａに流入するように液体回収条件が設定されており、多孔部材３０の下面に接触した気体は、多孔部材３０をほぼ通過しない。換言すれば、本実施形態の回収部４０は、液体ＬＱのみを吸引（回収）し、気体は吸引しない。
したがって、図２、図４などに示すように、液体ＬＱと気体との界面ＬＧが多孔部材３０と第３部材１４の下板部１４Ａとの間に存在していても、多孔部材３０を介して気体が回収流路４１に流入しない。
【０１１３】
本実施形態においては、回収部４０は、多孔部材３０を介して、液体ＬＱのみを吸引するので、振動の発生、気化熱の発生などを抑制できる。他の実施形態において、回収部４０が、多孔部材３０を介して、液体ＬＱを気体とともに回収してもよい。
【０１１４】
次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを液浸露光する方法について説明する。
【０１１５】
液浸空間ＬＳを形成するために、制御装置３は、供給機構８を用いて、露光光ＥＬの光路空間Ｋに液体ＬＱを供給する。液体ＬＱを供給するときには、制御装置３は、液浸部材６の下面７及び終端光学素子４の下面５と対向する位置に、基板Ｐ（基板ステージ２）等の物体を配置する。液体供給装置３６から送出された液体ＬＱは、流路３８を介して供給口３７に供給される。供給口３７は、終端光学素子４の下面５と第１上面２０との間のギャップＧ４に液体ＬＱを供給する。液体ＬＱは、終端光学素子４の下面５と第１上面２０との間のギャップＧ４を流れ、開口２４を介して、第１下面２１と基板Ｐの表面との間のギャップＧ５に流入し、その第１下面２１と基板Ｐの表面との間に保持される。また、液体ＬＱの少なくとも一部は、第２下面２９と基板Ｐの表面との間のギャップＧ７に流入し、その第２下面２９と基板Ｐの表面との間に保持される。また、液体ＬＱの少なくとも一部は、第３下面５２と基板Ｐの表面との間のギャップＧ９に流入し、その第３下面５２と基板Ｐの表面との間に保持される。
【０１１６】
こうして、ギャップＧ４及びギャップＧ５が液体ＬＱで満たされ、終端光学素子４の下面５と基板Ｐの表面との間の光路空間Ｋを液体ＬＱで満たすように液浸空間ＬＳが形成される。
【０１１７】
また、本実施形態においては、制御装置３は、供給機構８による液体供給動作と並行して、回収機構９による液体回収動作を行う。基板Ｐ上の液体ＬＱの少なくとも一部は、回収部４０の多孔部材３０の第１領域２９Ａに接触し、その多孔部材３０を介して吸引される。また、基板Ｐ上の液体ＬＱの少なくとも一部は、第１開口部５３を介して、第１ギャップＧ８に流入する。基板Ｐ上の液体ＬＱは、例えば毛管現象によって、第１ギャップＧ８内に流入する。第１ギャップＧ８内において、回収部４０の多孔部材３０の下面（多孔部材３０の下面の第２領域２９Ｂ）に接触した液体ＬＱは、その多孔部材３０を介して吸引される。回収部４０より吸引された液体ＬＱは、流路４１を介して、液体回収装置３９に回収される。
【０１１８】
制御装置３は、供給機構８による液体供給動作と回収機構９による液体回収動作とを並行して行うことで、常に所望状態（温度、クリーン度等）の液体ＬＱで、基板Ｐ上に液浸領域を局所的に形成できる。
【０１１９】
液浸空間ＬＳが形成された後、制御装置３は、基板Ｐの露光を開始する。上述のように、本実施形態の露光装置ＥＸは走査型露光装置である。制御装置３は、液浸部材６の下面７と基板Ｐの表面との間に液体ＬＱを保持して液浸空間ＬＳを形成した状態で、露光光ＥＬの光路及び液浸空間ＬＳに対して、基板Ｐの表面をＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液体ＬＱとを介して露光光ＥＬを基板Ｐに照射する。これにより、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影され、基板Ｐは露光光ＥＬで露光される。
【０１２０】
また、制御装置３は、例えば基板Ｐ上の第１のショット領域の露光が終了した後、第２のショット領域の露光を開始するために、液浸空間ＬＳを形成した状態で、基板Ｐの表面をＸ軸方向（あるいはＸＹ平面内においてＸ軸方向に対して傾斜する方向）に移動する動作を実行する。
【０１２１】
本実施形態においては、基板Ｐの表面をＸＹ方向に移動した場合においても、液浸部材６の下面７と基板Ｐの表面との間の液体ＬＱが、その液浸部材６の下面７と基板Ｐの表面との間の空間の外側に漏出しない。
【０１２２】
図５Ａ及び図５Ｂは、露光光ＥＬの光路及び液浸空間ＬＳに対して、基板Ｐの表面をＹ軸方向に移動している状態を示す模式図であって、図５Ａは、基板Ｐを第１の速度で移動した状態を示す図、図５Ｂは、基板Ｐを第１の速度よりも速い第２の速度で移動した状態を示す図である。図５Ａ及び５Ｂに示すように、本実施形態においては、基板Ｐの停止中のみならず、基板Ｐの移動中においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面（メニスカス、エッジ）ＬＧが、基板Ｐの表面と液浸部材６の下面７との間に形成されるように、露光条件が設定されている。本実施形態においては、基板Ｐの移動中においても、液体ＬＱの界面ＬＧが、第２下面２９及び第３下面５２の少なくとも一方と接するように、露光条件が設定されている。露光条件は、基板Ｐの移動条件、及び液浸空間ＬＳを形成する液浸条件を含む。基板Ｐの移動条件は、基板Ｐの移動速度、加速度、減速度、所定方向の一方向（例えば＋Ｙ方向）に移動するときの距離、及び移動方向を含む。液浸条件は、供給口３７の単位時間当たりの液体ＬＱの供給量等を含む。
【０１２３】
本実施形態においては、回収部４０の少なくとも一部と対向するように第３部材１４（下板部１４Ａ）が配置されており、多孔部材３０の下面の第１領域２９Ａに接触した液体ＬＱ、及び第１開口部５３を介して第１ギャップＧ８に流入し、多孔部材３０の下面の第２領域２９Ｂに接触した液体ＬＱを、多孔部材３０を介して吸引する。これにより、液浸空間ＬＳに対して基板ＰをＸＹ方向に移動した場合でも、液体ＬＱが漏出したり、基板Ｐの表面に液体ＬＱ（液体ＬＱの膜、滴など）が残留したりすることを抑制できる。
【０１２４】
このように、回収部４０と基板Ｐとの間において、回収部４０の少なくとも一部と対向するように配置される第３部材１４を設けたのは、以下のような発明者の知見による。
【０１２５】
図６Ａは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収する回収部（多孔部材）４０Ｊが、基板Ｐの表面と対向する液浸部材６Ｊの下面７Ｊに配置されている状態を示す模式図である。図６Ａにおいては、回収部４０と基板Ｐとの間において回収部４０Ｊと対向する部材は配置されておらず、回収部４０Ｊの全ての領域が、基板Ｐの表面と対向している。このような液浸部材６Ｊを用いて、液浸空間ＬＳ（液浸部材６Ｊ）に対して基板ＰをＸＹ平面内の一方向（ここでは−Ｙ方向）に高速で移動すると、回収部４０Ｊと基板Ｐとの間において液体ＬＱが基板Ｐ上で薄い膜となり、基板Ｐ上の液体ＬＱが回収部４０Ｊの外側、具体的には、基板Ｐの移動方向の前方側（−Ｙ側）において、回収部４０Ｊの外側に漏出する場合がある。この現象は、液浸部材６Ｊの下面７Ｊと基板Ｐの表面との間において、液浸部材６Ｊの下面７Ｊ近傍、すなわち回収部４０Ｊ近傍の液体ＬＱが、回収部４０Ｊの吸引動作によって上方（＋Ｚ方向）に流れ、その回収部４０Ｊに回収されるが、基板Ｐの表面近傍の液体ＬＱは、基板Ｐとの表面張力等により、回収部４０Ｊから回収されずに、基板Ｐ上で薄い膜となり、基板Ｐの移動とともに、基板Ｐの移動方向の前方側において回収部４０Ｊの外側へ引き出されることによって生じる。このような現象が生じると、回収部４０Ｊの外側に引き出された液体ＬＱが、例えば滴となって基板Ｐ上に残留し、パターンの欠陥等を引き起こす原因となる。そして、このような現象は、基板Ｐの移動速度の高速化に伴って発生しやすくなることが、発明者の知見により明らかになった。
【０１２６】
図６Ｂは、本実施形態に係る液浸部材６を示す模式図である。本実施形態においては、回収部４０と基板Ｐとの間において回収部４０の一部と対向するように第３部材１４が配置されているので、液浸部材６の下面７近傍（第２下面２９近傍）において、上方（＋Ｚ方向）への液体ＬＱの強い流れが生じない。すなわち、本実施形態においては、回収部４０の一部と対向するように配置された第３部材１４が、基板Ｐ上の液体ＬＱに対して回収部４０の強い吸引力が作用することを抑制している。
【０１２７】
また、第１ギャップＧ８は、大気開放状態であり、第１開口部５３から第１ギャップＧ８への液体ＬＱの流入は、専ら第１ギャップＧ８の毛管力に依存しているので、第１開口部５３の近傍においても、液体ＬＱの上方（＋Ｚ方向）への強い流れが生じない。また、露光光ＥＬの光路に対して第１領域２９Ａの外側には第３下面５２が配置されており、回収部４０で回収されなかった液体ＬＱは、第３下面５２と基板Ｐの表面との間に保持される。したがって、液浸空間ＬＳ（液浸部材６）に対して基板ＰをＸＹ平面内の一方向（−Ｙ方向）に高速で移動した場合でも、本実施形態に係る液浸部材６を用いることによって、基板Ｐの移動方向の前方側（−Ｙ側）において基板Ｐ上の液体ＬＱが薄膜になる現象が抑制され、界面ＬＧは、第２下面２９及び第３下面５２と基板Ｐの表面との間において所望状態に維持される。すなわち、基板Ｐを移動した場合でも、液浸部材６の下面７と基板Ｐの表面との間の液体ＬＱが下面７から剥離することが抑制される。このように、本実施形態においては、下面７と基板Ｐの表面との間において液体ＬＱが下面７と接しているので、基板Ｐの移動方向の前方側（−Ｙ側）においても、液体ＬＱの界面ＬＧの状態は所望状態に維持される。したがって、液体ＬＱが、液浸部材６と基板Ｐとの間の空間の外側へ漏出したり、基板Ｐ上に液体ＬＱ（滴など）が残留したりすることが抑制される。また、本実施形態においては、多孔部材３０の下面の一部（第１領域２９Ａ）が、第３部材１３で覆われずに、露出しているので、基板Ｐの移動に伴う界面ＬＧの移動が抑制され、液体ＬＱが基板Ｐ上に残留することが抑制される。
【０１２８】
図６Ｃは、本実施形態に係る液浸部材６を用いて形成された液浸空間ＬＳに対して基板Ｐを−Ｙ方向に高速で移動させたときの液浸空間ＬＳの状態の一例を示す図である。基板Ｐの移動条件などによって、基板Ｐの移動に伴って、界面ＬＧが第３下面５２の平坦部５２Ａの径方向外側に移動する可能性もある。本実施形態においては、第３下面５２は平坦部５２Ａの外側に傾斜部５２Ｂを有しているので、液浸空間ＬＳの液体ＬＱには、傾斜部５２Ｂに沿って斜め上方に移動する成分Ｆ１と、水平方向に移動する成分Ｆ２とが生成される。また、基板Ｐと下面５２との間の空間の体積を大きくすることができる。したがって、液浸空間ＬＳの拡大（大型化）を抑制できる。なお、第３下面５２と基板Ｐとの間の液体ＬＱが、第３下面５２から剥離しないように第３下面５２の傾斜部５２ＢのＸＹ平面（平坦部５１Ａ）に対する傾斜角度が調整されることは言うまでもない。
【０１２９】
また、本実施形態に係る液浸部材６は、第３上面５１の傾斜部５１Ｂと第３下面５２の平坦部５２Ａとで形成される尖端部５５を有しているので、例えば図６Ｄに示すように、基板Ｐ上に液体ＬＱの滴が形成された場合でも、その液体ＬＱの滴を、尖端部５５で分断することができる。尖端部５５は、Ｚ軸方向に関して、射出面５、第１下面２１、及び第２下面２９より基板Ｐに近い位置に配置されており、射出面５、第１下面２１、及び第２下面２９の第１領域２９Ａの少なくとも１つと対向する領域から尖端部５５に向かって相対的に移動する基板Ｐ上の液体ＬＱの滴を分断することができる。尖端部５５は、液体ＬＱの滴を、少なくとも２つの滴に分断できる。尖端部５５に接触して分断され、尖端部５５の上方に移動した液体ＬＱは、第１開口部５３を介して第１ギャップＧ８内に移動し、多孔部材３０を介して回収部４０に回収される。なお、尖端部５５に接触した後、回収部４０に回収されずに、第３部材１４と基板Ｐとの間に液体ＬＱの滴（図６Ｄ中、符号ＬＱｚ参照）が残留する可能性がある。この液体ＬＱの滴ＬＱｚは、尖端部５５で分断された後、第３部材１４と基板Ｐとの間のスペースに入り込んだ微小な滴であると考えられる。
また、基板Ｐ上に残留する液体ＬＱの滴ＬＱｚとしては、尖端部５５に接触せずに、第３部材１４と基板Ｐとの間のスペースに入り込んだ微小な滴である可能性もある。基板Ｐ上に液体ＬＱが残留すると、基板Ｐに形成されるパターンに欠陥が生じる可能性があるが、その残留した液体ＬＱの滴ＬＱｚが微小であれば、パターンの欠陥が発生しない可能性がある。そのため、尖端部５５を設けることによって、パターン欠陥の発生を抑制できる。
【０１３０】
以上説明したように、本実施形態によれば、液体ＬＱを良好に回収でき、液体ＬＱの漏出、基板Ｐ上における残留等の発生を抑制できるので、露光不良の発生を抑制できる。また、露光不良の発生を抑制しつつ、基板Ｐの移動速度を高速化できる。したがって、良好なデバイスを生産性良く製造できる。
【０１３１】
なお、本実施形態においては、例えば図３に示したように、ＸＹ平面内における液浸部材６の外形は、Ｘ軸及びＹ軸とほぼ平行な辺を有する矩形状（正方形状）であるが、図７に示すように、ＸＹ平面内における液浸部材６Ｂの外形が、Ｘ軸及びＹ軸に対して傾斜する辺を有する矩形状（正方形状）であってもよい。図７において、液浸部材６Ｂは、Ｘ軸方向を長手方向とする略矩形状（スリット状）の開口２４と、Ｘ軸及びＹ軸に対してＸＹ平面内において約４５度傾斜した辺を有する矩形状（正方形状）の第１下面２１とを有する。また、ＸＹ平面内における第２下面２９及び下面５２の外形も、Ｘ軸及びＹ軸に対して約４５度傾斜した辺を有する矩形状（正方形状）である。
【０１３２】
なお、ＸＹ平面内における液浸部材の外形が、円形状であってもよい。
【０１３３】
なお、本実施形態においては、液浸部材６は、第１部材１２、第２部材１３、及び第３部材１４の複数の部材を含むが、これら複数の部材が一体で形成されていてもよいし、複数の部材のうち、任意の部材同士が結合されていてもよい。
【０１３４】
＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１３５】
図８は、第２実施形態に係る液浸部材６Ｃの近傍を示す側断面図、図９は、液浸部材６Ｃの一部を拡大した図である。本実施形態の特徴的な部分は、回収部４０の全部の領域と第３上面５１とが対向している点にある。なお、第２実施形態においては、回収部４０と第３上面５１とが同じ第４部材１３４に形成されている場合を例にして説明するが、上述の第１実施形態と同様、回収部４０を有する部材と第３上面５１を有する部材とが異なる部材であってもよい。
【０１３６】
図８及び図９に示すように、本実施形態においては、液浸部材６Ｃは、第１下面２１を有する第１部材１２と、第１部材１２の近傍において、第１部材１２を囲むように配置され、回収部４０を有する第４部材１３４とを有する。第４部材１３４は、回収部４０が配置される第２下面２９と、第２下面２９に配置された回収部４０の全部の領域と対向するように配置された第３上面５１とを有する。回収部４０の多孔部材３０の下面と第３上面５１との間には第１ギャップＧ８が形成されている。第３上面５１は、平坦部５１Ａと傾斜部５１Ｂとを有し、第３上面５１と反対側の第３下面５２は、平坦部５２Ａと傾斜部５２Ｂとを有する。第４部材１３４は、平坦部５１Ａ及び傾斜部５１Ｂを含む第３上面５１及び第３下面５２の平坦部５２Ａを形成するプレート部１３４Ｔを有する。第３上面５１の傾斜部５１Ｂと第３下面５２の平坦部５２Ａとによって尖端部５５が形成される。
【０１３７】
液浸部材６Ｃは、第１ギャップＧ８と接続する第１開口部５３Ｃを備えている。第１開口部５３Ｃは、第２下面２９と第３上面５１の露光光ＥＬの光路側のエッジとの間に形成されている。第１ギャップＧ８は、第２開口部５４Ｃを介して、大気開放されている。
【０１３８】
第１部材１２と第４部材１３４との間には、第３開口部３３Ｃが形成されている。第３開口部３３Ｃは、第１部材１２の第１下面２１と、第４部材１３４の第３下面５２との間に配置されている。第３開口部３３Ｃは、基板Ｐ上の液体ＬＱ（液浸空間ＬＳの液体ＬＱ）と接触可能な位置に配置されており、基板Ｐ上の液体ＬＱが流入可能である。第３開口部３３Ｃは、第２ギャップＧ２と接続されている。第２ギャップＧ２は、基板Ｐ上の液体ＬＱが、第３開口部３３Ｃを介して流入可能に設けられている。第３開口部３３Ｃは、第２ギャップＧ２の下端に配置されており、基板Ｐの表面は、第３開口部３３Ｃと対向する位置に移動可能である。
【０１３９】
第２ギャップＧ２は、第３開口部３３Ｃとは異なる第４開口部３４Ｃを介して、大気開放されている。第４開口部３４Ｃは、液浸部材６（液浸空間ＬＳ）の周囲の外部空間（周囲環境）の気体と接触可能な位置に配置されており、外部空間の気体が流入可能である。
第４開口部３４Ｃは、基板Ｐ上の液体ＬＱ（液浸空間ＬＳの液体ＬＱ）と接触不能な位置に配置されている。第２ギャップＧ２は、外部空間の気体が、第４開口部３４Ｃを介して流入可能に設けられている。本実施形態においては、第４開口部３４Ｃは、第１部材１２と第４部材１３４との間に形成されている。
【０１４０】
基板Ｐ上の液体ＬＱは、第３開口部３３Ｃから第１開口部５３Ｃを介して、多孔部材３０の下面と第３上面５１との間の第１ギャップＧ８に流入可能である。第１下面２１及び第３下面５２と対向する基板Ｐ上の液体ＬＱは、第３開口部３３Ｃから第１開口部５３Ｃを介して、第１ギャップＧ８に流入可能である。本実施形態においては、基板Ｐ上の液体ＬＱが第３開口部３３Ｃを介して流入可能な第２ギャップＧ２と、第１ギャップＧ８とは、第１開口部５３Ｃを介して接続されており、第３開口部３３Ｃに流入した液体ＬＱは、第１開口部５３Ｃを介して、第１ギャップＧ８に流入可能である。第１ギャップＧ８に流入した液体ＬＱは、多孔部材３０を含む回収部４０より回収される。
【０１４１】
本実施形態においても、液体ＬＱを良好に回収でき、液体ＬＱの漏出、基板Ｐ上における残留等の発生を抑制できるので、露光不良の発生を抑制できる。また、露光不良の発生を抑制しつつ、基板Ｐの移動速度を高速化できる。したがって、良好なデバイスを生産性良く製造できる。
【０１４２】
なお、上述の第１、第２実施形態において、第３上面５１及び第３下面５２を、第１下面２１及び第２下面２９に対して可動であってもよい。この場合、上述の第１実施形態のように、第３上面５１及び第３下面５２を有する部材を、第１下面２１及び第２下面２９を有する部材と異なる部材で設けても良い。また、第３上面５１及び第３下面５２を有する部材を受動的に移動可能に設けても良いし、駆動機構を使って、第３上面５１及び第３下面５２を有する部材を能動的に動かしてもよい。さらに、液浸部材６は、終端光学素子４に対して可動であってもよい。
【０１４３】
なお、上述の第１、第２実施形態において、第１下面２１と基板Ｐの表面との距離Ｄ１と、第２下面２９と基板Ｐの表面との距離Ｄ２とが同じでもよい。また、第１下面２１と基板Ｐの表面との距離Ｄ１と、第３下面５２の平坦部５２Ａと基板Ｐの表面との距離Ｄ３とが同じでもよい。
【０１４４】
なお、上述の各実施形態においては、第３下面５２の傾斜部５２Ｂは、互いに異なる方向を向く４つの平面によって形成されているが、曲面でもよい。あるいは、５つ以上の複数の平面を組み合わせることによって傾斜部５２Ｂを形成してもよい。
【０１４５】
なお、上述の各実施形態においては、第３上面５１の平坦部５１Ａ及び第３下面５２の平坦部５２Ａは、ＸＹ平面と平行であるが、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。また、第３上面５１の平坦部５１Ａと第３下面５２の平坦部５２Ａとは平行でなくてもよい。
【０１４６】
なお、上述の各実施形態において、例えば第３下面５２の一部に段差が形成されていてもよい。
なお、上述の各実施形態において、第１部材１２を省略して、第２部材１３に液体供給口を設けてもよい。この場合、第２部材１３の内周面２５が終端光学素子４の外周面と対向する。また、上述の各実施形態においては、回収部４０（多孔部材３０）が環状に連続的に設けられているが、複数の回収部４０（多孔部材３０）を、露光光ＥＬの周りに離散的に配置してもよい。例えば、国際公開第２００６／１０６８５１号公報に開示されているような液浸部材６を本実施形態の露光装置ＥＸに適用することができる。この場合も、各回収部４０（多孔部材３０）の一部を覆うように第３部材１４の下板部１４Ａを配置すればよい。
また、上述の各実施形態において、「環状」は、矩形環状を含むことができる。なお、「環状」は、矩形環状、リング状環状、円形環状、多角形環状などのような様々な形状を含むこともできる。
【０１４７】
なお、上述の各実施形態において、投影光学系ＰＬは、終端光学素子４の射出側（像面側）の光路空間を液体ＬＱで満たしているが、国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているように、終端光学素子４の入射側（物体面側）の光路空間も液体ＬＱで満たす投影光学系を採用することもできる。
【０１４８】
なお、上述の実施形態の液体ＬＱは水であるが、水以外の液体であってもよい。液体ＬＱとしては、露光光ＥＬに対する透過性があってできるだけ屈折率が高く、投影光学系ＰＬ、あるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）の膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体ＬＱとして、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル、セダー油等を用いることも可能である。
また、液体ＬＱとして、屈折率が１．６〜１．８程度のものを使用してもよい。液体ＬＱと接触する投影光学系ＰＬの光学素子（終端光学素子４など）は、例えば石英（シリカ）、あるいは、フッ化カルシウム（蛍石）、フッ化バリウム、フッ化ストロンチウム、フッ化リチウム、及びフッ化ナトリウム等のフッ化化合物の単結晶材料で形成してもよい。更に、終端光学素子４は、石英及び蛍石よりも屈折率が高い（例えば１．６以上）材料で形成してもよい。屈折率が１．６以上の材料としては、例えば、国際公開第２００５／０５９６１７号パンフレットに開示されるサファイア、二酸化ゲルマニウム等、あるいは、国際公開第２００５／０５９６１８号パンフレットに開示される塩化カリウム（屈折率は約１．７５）等を用いることができる。さらに、終端光学素子の表面の一部（少なくとも液体との接触面を含む）又は全部に、親液性及び／又は溶解防止機能を有する薄膜を形成してもよい。なお、石英は液体との親和性が高く、かつ溶解防止膜も不要であるが、蛍石は少なくとも溶解防止膜を形成することができる。液体ＬＱとして、種々の流体、例えば、超臨界流体を用いることも可能である。純水よりも屈折率が高い（例えば１．５以上）の液体としては、例えば、屈折率が約１．５０のイソプロパノール、屈折率が約１．６１のグリセロール（グリセリン）といったＣ−Ｈ結合あるいはＯ−Ｈ結合を持つ所定液体、ヘキサン、ヘプタン、デカン等の所定液体（有機溶剤）、あるいは屈折率が約１．６０のデカリン(Decalin: Decahydronaphthalene)などが挙げられる。また、液体は、これら液体のうち任意の２種類以上の液体を混合したものでもよいし、純水にこれら液体の少なくとも１つを添加（混合）したものでもよい。さらに、液体は、純水にＨ＋、Ｃｓ＋、Ｋ＋、Ｃｌ−、ＳＯ４２−、ＰＯ４２−等の塩基又は酸を添加（混合）したものでもよいし、純水にＡｌ酸化物等の微粒子を添加（混合）したものでもよい。なお、液体としては、光の吸収係数が小さく、温度依存性が少なく、投影光学系、及び／又は基板の表面に塗布されている感光材（又はトップコート膜あるいは反射防止膜など）に対して安定なものであることが好ましい。基板には、液体から感光材や基材を保護するトップコート膜などを設けることができる。
【０１４９】
また、例えば露光光ＥＬがＦ２レーザ光である場合、このＦ２レーザ光は水を透過しないので、液体ＬＱとしてはＦ２レーザ光を透過可能なもの、例えば、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フッ素系オイル等のフッ素系流体を用いることができる。この場合、液体ＬＱと接触する部分には、例えばフッ素を含む極性の小さい分子構造の物質で薄膜を形成することで親液化処理する。
【０１５０】
なお、上述の各実施形態の基板Ｐとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）、またはフィルム部材等が適用される。また、基板はその形状が円形に限られるものでなく、矩形など他の形状でもよい。
【０１５１】
露光装置ＥＸとしては、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。
【０１５２】
さらに、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系ＰＬを用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系ＰＬを用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光してもよい（スティッチ方式の一括露光装置）。また、スティッチ方式の露光装置としては、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
【０１５３】
また、例えば特表２００４−５１９８５０号公報（対応米国特許第６，６１１，３１６号）に開示されているように、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置などにも本発明を適用することができる。また、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーなどにも本発明を適用することができる。
【０１５４】
また、本発明は、特開平１０−１６３０９９号公報、特開平１０−２１４７８３号公報、特表２０００−５０５９５８号公報、米国特許６，３４１，００７号、米国特許６，４００，４４１号、米国特許６，５４９，２６９号、及び米国特許６，５９０,６３４号、米国特許６，２０８，４０７号、米国特許６，２６２，７９６号などに開示されているような複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置にも適用できる。
【０１５５】
更に、例えば特開平１１−１３５４００号公報、特開２０００−１６４５０４号公報（対応米国特許第６，８９７，９６３号）等に開示されているように、基板を保持する基板ステージと基準マークが形成された基準部材及び／又は各種の光電センサを搭載した計測ステージとを備えた露光装置にも本発明を適用することができる。また、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置にも適用することができる。
【０１５６】
露光装置ＥＸの種類としては、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【０１５７】
なお、上述の各実施形態においては、レーザ干渉計１Ｓ、２Ｓを含む干渉計システムを用いてマスクステージ１及び基板ステージ２の各位置情報を計測するものとしたが、これに限らず、例えば各ステージ１、２に設けられるスケール（回折格子）を検出するエンコーダシステムを用いてもよい。この場合、干渉計システムとエンコーダシステムとの両方を備えるハイブリッドシステムとし、干渉計システムの計測結果を用いてエンコーダシステムの計測結果の較正（キャリブレーション）を行うことが好ましい。また、干渉計システムとエンコーダシステムとを切り換えて用いる、あるいはその両方を用いて、ステージの位置制御を行うようにしてもよい。
【０１５８】
また、上述の各実施形態では、露光光ＥＬとしてＡｒＦエキシマレーザ光を発生する光源装置として、ＡｒＦエキシマレーザを用いてもよいが、例えば、国際公開第１９９９／４６８３５号パンフレット（対応米国特許７,０２３,６１０号）に開示されているように、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザなどの固体レーザ光源、ファイバーアンプなどを有する光増幅部、及び波長変換部などを含み、波長１９３ｎｍのパルス光を出力する高調波発生装置を用いてもよい。さらに、上記実施形態では、前述の各照明領域と、投影領域がそれぞれ矩形状であるものとしたが、他の形状、例えば円弧状などでもよい。
【０１５９】
なお、上述の各実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号公報に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。可変成形マスクは、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器：Spatial Light Modulator (ＳＬＭ)とも呼ばれる）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）等を含む。なお、ＤＭＤを用いた露光装置は、例えば米国特許第６,７７８,２５７号公報に開示されている。また、可変成形マスクとしては、ＤＭＤに限られるものでなく、ＤＭＤに代えて、以下に説明する非発光型画像表示素子を用いても良い。ここで、非発光型画像表示素子は、所定方向へ進行する光の振幅（強度）、位相あるいは偏光の状態を空間的に変調する素子であり、透過型空間光変調器としては、透過型液晶表示素子（ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）以外に、エレクトロクロミックディスプレイ（ＥＣＤ）等が例として挙げられる。また、反射型空間光変調器としては、上述のＤＭＤの他に、反射ミラーアレイ、反射型液晶表示素子、電気泳動ディスプレイ（ＥＰＤ：Electro Phoretic Display）、電子ペーパー（または電子インク）、光回折型ライトバルブ（Grating Light Valve）等が例として挙げられる。
【０１６０】
また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしても良い。この場合、照明系は不要となる。ここで自発光型画像表示素子としては、例えば、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）、無機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ：Organic Light Emitting Diode）、ＬＥＤディスプレイ、ＬＤディスプレイ、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ：Field Emission Display）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ：Plasma Display Panel）等が挙げられる。また、パターン形成装置が備える自発光型画像表示素子として、複数の発光点を有する固体光源装置、チップを複数個アレイ状に配列した固体光源チップアレイ、または複数の発光点を１枚の基板に作り込んだタイプのもの等を用い、該固体光源チップを電気的に制御してパターンを形成しても良い。なお、固体光源素子は、無機、有機を問わない。
【０１６１】
上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬを備えた露光装置を例に挙げて説明してきたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に本発明を適用することができる。このように投影光学系ＰＬを用いない場合であっても、露光光はレンズ等の光学部材を介して基板に照射され、そのような光学部材と基板との間の所定空間に液浸空間が形成される。
【０１６２】
また、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているように、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって、基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。
【０１６３】
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【０１６４】
以上のように、上記実施形態の露光装置ＥＸは、各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置ＥＸへの組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置ＥＸへの組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置ＥＸへの組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置ＥＸ全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置ＥＸの製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【０１６５】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図１０に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンを用いて露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【符号の説明】
【０１６６】
２…基板ステージ、４…終端光学素子、５…射出面、６…液浸部材、７…下面、９…回収機構、１２…第１部材、１３…第２部材、１４…第３部材、１４Ａ…下板部、２０…第１上面、２１…第１下面、２９…第２下面、３０…多孔部材、３３…第３開口部、３４…第４開口部、４０…回収部、５１…第３上面、５１Ａ…平坦部、５１Ｂ…傾斜部、５２…第３下面、５２Ａ…平坦部、５２Ｂ…傾斜部、５３…第１開口部、５４…第２開口部、５５…尖端部、ＥＸ…露光装置、Ｇ２…第２ギャップ、Ｇ８…第１ギャップ、Ｋ…光路空間、ＬＱ…液体、ＬＳ…液浸空間、Ｐ…基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図６Ｄ】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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