(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリアミック酸およびポリイミドよりなる群から選択される少なくとも一種の重合体、ただし前記重合体はその分子内の少なくとも一部に下記式（Ａ’）
ＲI−（ＸＩ）ｎ１−ＲＩＩ−Ｏ−ＸＩＩ−ＣＯＯ−（ＲＩＩＩＯ）ｎ２−＊    （Ａ’）
（式（Ａ’）中、ＲＩは炭素数１〜３０のアルキル基または炭素数１〜３０のフルオロアルキル基であり、ＲＩＩは単結合、メチレン基または炭素数２〜３０のアルキレン基であり、ＲＩＩＩは炭素数２〜５のアルキレン基であり、ＸＩおよびＸＩＩは、それぞれ、２価の脂環式基、２価の複素環式基、アリーレン基または２価の複素芳香族基であり、ただし、複数の基ＸＩは互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎ１は２〜５の整数であり、ｎ２は０〜１０の整数であり、「＊」は結合手であることを示す。）
で表される基を有する、を含有することを特徴とする、液晶配向剤。
【請求項２】
前記重合体が、テトラカルボン酸二無水物と、下記式（Ａ）
【化１】
0005590304.tif 000025
（式（Ａ）中、ＲＩ、ＲＩＩ、ＲＩＩＩ、ＸＩ、ＸＩＩ、ｎ１およびｎ２は、それぞれ、上記式（Ａ’）におけるのと同義である。）
で表される化合物を含むジアミンとを反応させて得られるポリアミック酸および該ポリアミック酸を脱水閉環してなるポリイミドよりなる群から選択される少なくとも一種の重合体を含有する、請求項１に記載の液晶配向剤。
【請求項３】
上記式（Ａ）におけるＸＩが２価の脂環式基であり、ＸＩＩがアリーレン基である、請求項２に記載の液晶配向剤。
【請求項４】
上記式（Ａ）における（ＸＩ）ｎ１が４，４’−ビシクロへキシレン基であり、ＸＩＩが１，４−フェニレン基である、請求項３に記載の液晶配向剤。
【請求項５】
上記テトラカルボン酸二無水物が、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物を含むものである、請求項２〜４のいずれか一項に記載の液晶配向剤。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の液晶配向剤から形成されたことを特徴とする、液晶配向膜。
【請求項７】
請求項６に記載の液晶配向膜を具備することを特徴とする、液晶表示素子。
【請求項８】
テトラカルボン酸二無水物と、上記式（Ａ）で表される化合物を含むジアミンとを反応させて得られるポリアミック酸。
【請求項９】
テトラカルボン酸二無水物と、上記式（Ａ）で表される化合物を含むジアミンとを反応させて得られるポリアミック酸を脱水閉環してなるポリイミド。
【請求項１０】
上記式（Ａ）で表される化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶配向剤、液晶配向膜および液晶表示素子に関する。さらに詳しくは、膜質が均一であり、電気特性および耐熱性に優れる液晶配向膜を与えることができるとともに塗布性にも優れる液晶配向剤ならびに高品位の表示が可能であり、しかも長時間駆動した場合における表示品位の劣化が抑制された液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、知られている液晶表示素子は、電極構造および使用する液晶分子の物性から以下に示すモードに分けることができる。
先ず、透明導電膜が設けられている基板表面に液晶配向膜を形成して液晶表示素子用基板とし、その２枚を対向配置してその間隙内に正の誘電異方性を有するネマチック液晶の層を形成してサンドイッチ構造のセルとし、液晶分子の長軸が一方の基板から他方の基板に向かって連続的に９０°捻れるようにした、いわゆるＴＮ型（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）液晶セルを有するＴＮ型液晶表示素子（特許文献１）およびＴＮ型液晶表示素子に比して高いデューティー比を実現することのできるＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型液晶表示素子（特許文献２）が知られている。さらに、ＴＮ型液晶表示素子と同様の対向電極配置をとり、しかし電極間隙内に負の誘電率異方性有するネマチック液晶の層を注入し、液晶を基板に対してほぼ垂直に配向させるＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型表示素子が知られている（特許文献３）。このＶＡ型表示素子は、高コントラストであり、且つ大面積表示素子の製造が可能である。
一方、電極対を一枚の基板面内に櫛歯状に配置することにより、電界印加時の液晶の駆動方向を基板面内方向のみとするＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型液晶表示素子（特許文献４）、ＩＰＳ型の電極構造を変更し、表示素子部分の開口率を上げて輝度を向上させたＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型液晶表示素子（特許文献５）が知られており、それぞれ、視野角特性に優れる。
さらにこれらのほか、視角依存性が少ないと共に映像画面の高速応答性に優れたＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ：光学補償ベンド）型液晶表示素子（特許文献６）などが開発されている。
【０００３】
これらの液晶表示素子における液晶配向膜の材料としては、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステルなどの樹脂材料が知られており、特にポリアミック酸またはポリイミドからなる液晶配向膜は耐熱性、機械的強度、液晶との親和性などに優れており、多くの液晶表示素子に使用されている（特許文献７〜８）。
近年、液晶表示素子はテレビ用途への展開がなされており、表示の精細化や高度な動画の固定技術の発達と相俟って、従来の液晶表示素子からは考えられないほどの長時間視聴が常態化してきた。しかしながら従来知られている材料からなる液晶配向膜を具備する液晶表示素子を長時間駆動すると、画質が劣化することが指摘されている。この現象は、長時間の連続駆動をすると液晶配向膜に熱ストレスが印加され、その結果、液晶配向膜の電気特性、特に電圧保持率が著しく低下することに起因するものと考えられており、かかる劣化を来たさない液晶配向膜材料の提供が望まれている。
さらに、液晶テレビは大画面化の傾向にあるとともに、製造コスト削減の観点から、液晶表示素子に用いられる基板は年々大型化する傾向にある。そのため、液晶配向剤を基板に塗布した後、これを焼成するまでの時間（引き置き時間）が長くなる傾向にある。従来知られている液晶配向剤を使用すると、引き置き時間が長くなると塗膜の均一性が損なわれ、あるいはピンホールが発生し、得られる液晶表示素子の表示品位が悪化すると指摘されており、長時間の引き置きを行っても均一な塗膜を形成することができ、表示品位に優れる液晶表示素子を与えることのできる液晶配向剤の提供が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平０４−１５３６２２号公報
【特許文献２】特開昭６０−１０７０２０号公報
【特許文献３】特開平１１−２５８６０５号公報
【特許文献４】特開昭５６−９１２７７号公報
【特許文献５】特開２００８−２１６５７２号公報
【特許文献６】特開２００９−４８２１１号公報
【特許文献７】米国特許第５，９２８，７３３号明細書
【特許文献８】特開昭６２−１６５６２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、塗布後に長時間の引き置きを行った場合でも膜質が均一であり、電気特性および耐熱性に優れる液晶配向膜を与えることができる液晶配向剤を提供することにある。
本発明の別の目的は、高品位の表示が可能であり、しかも長時間駆動した場合における表示品位の劣化が抑制された液晶表示素子を提供することにある。
本発明のさらに他の目的および利点は、以下の説明から明らかになろう。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明によれば、本発明の上記目的は、第一に、
ポリアミック酸およびポリイミドよりなる群から選択される少なくとも一種の重合体、ただし前記重合体はその分子内の少なくとも一部に下記式（Ａ’）
ＲＩ−（ＸＩ）ｎ１−ＲＩＩ−Ｏ−ＸＩＩ−ＣＯＯ−（ＲＩＩＩＯ）ｎ２−＊    （Ａ’）
（式（Ａ’）中、ＲＩは炭素数１〜３０のアルキル基または炭素数１〜３０のフルオロアルキル基であり、ＲＩＩは単結合、メチレン基または炭素数２〜３０のアルキレン基であり、ＲＩＩＩは炭素数２〜５のアルキレン基であり、ＸＩおよびＸＩＩは、それぞれ、２価の脂環式基、２価の複素環式基、アリーレン基または２価の複素芳香族基であり、ただし、複数の基ＸＩは互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎ１は２〜５の整数であり、ｎ２は０〜１０の整数であり、「＊」は結合手であることを示す。）
で表される基を有する、を含有することを特徴とする、液晶配向剤。
本発明の上記目的は、第二に、
上記の液晶配向剤から形成された液晶配向膜を具備する液晶表示素子によって達成される。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の液晶配向剤は、塗布後に長時間の引き置きを行った場合でも膜質が均一であり、電気特性および耐熱性に優れる液晶配向膜を与えることができる。
かかる本発明の液晶配向剤から形成された液晶配向膜を具備する本発明の液晶表示素子は、高品位の表示が可能であり、しかも長時間駆動した場合における表示品位の劣化が抑制されたものである。従って、本発明の液晶表示素子は種々の装置に有効に適用することができ、例えば時計、携帯型ゲーム、ワープロ、ノート型パソコン、カーナビゲーションシステム、カムコーダー、携帯情報端末、デジタルカメラ、携帯電話、各種モニター、液晶テレビなどの表示装置に好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】合成例Ａ−１で得られた化合物（Ａ−１−１）の１Ｈ−ＮＭＲチャート。
【図２】合成例Ａ−２で得られた化合物（Ａ−２−１）の１Ｈ−ＮＭＲチャート。
【図３】合成例Ａ−３で得られた化合物（Ａ−２−２）の１Ｈ−ＮＭＲチャート。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の液晶配向剤は、ポリアミック酸およびポリイミドよりなる群から選択される少なくとも一種の重合体、ただし前記重合体はその分子内の少なくとも一部に上記式（Ａ’）で表される基を有する、を含有する。このような重合体を、本明細書において、以下、「特定重合体」という。
上記式（Ａ’）におけるＲＩの炭素数１〜３０のアルキル基としては、炭素数１〜１２の直鎖のアルキル基が好ましく、特に好ましいものとしてｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基などを挙げることができる。
ＲＩの炭素数１〜３０のフルオロアルキル基の好ましい例としては、例えば下記式（ＲＩ−１）
ＣｉＦ２ｉ＋１−ＣｊＨ２ｊ−      （ＲＩ−１）
（上記式中、ｉは１〜３０の整数であり、ｊは０〜２９の整数であり、ただし、ｉ＋ｊは１〜３０の整数である。）
で表される基を挙げることができ、上記式（ＲＩ−１）で表される直鎖の基であることがさらに好ましく、その具体例として、例えばトリフルオロメチル基、４，４，５，５，５−ペンタフルオロペンチル基などを挙げることができる。
上記式（Ａ’）におけるＲＩＩとしては、単結合またはメチレン基であることが好ましく、メチレン基であることが特に好ましい。
上記式（Ａ’）におけるＲＩＩＩとしては、炭素数２または３のアルキレン基であることが好ましく、その具体例として、例えば１，２−エチレン基、１，２−プロピレン基、１，３−プロピレン基などを挙げることができる。これらのうち１，２−エチレン基または１，２−プロピレン基がより好ましい。上記１，２−プロピレン基の結合の方向は問わない。ＲＩＩＩとしては特に１，２−エチレン基であることが好ましい。
【００１０】
上記式（Ａ’）におけるＸＩおよびＸＩＩの２価の脂環式基としては、それぞれ、例えば炭素数３〜８の２価の脂環式基であることができ、その具体例として例えば１，４−シクロへキシレン基、１，３−シクロヘキシレン基、１，３−シクロペンチレン基などを挙げることができる。ＸＩおよびＸＩＩの２価の複素環式基としては、それぞれ、例えば炭素数３〜８の２価の複素脂環式基であることができ、その具体例として例えばピペリジン−１，４−ジイル基、ピペラジン−１，４−ジイル基などを挙げることができる。ＸＩおよびＸＩＩのアリーレン基としては、それぞれ、例えば炭素数６〜１２のアリーレン基であることができ、その具体例として例えば１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−２，７−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基などを挙げることができる。ＸＩおよびＸＩＩの２価の複素芳香族基としては、それぞれ、例えば炭素数４〜８の２価の複素芳香族基であることができ、その具体例として例えばピリジン−２，５−ジイル基、ピリジン−２，６−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，６−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピロール−２，５−ジイル基、イミダゾール−１，４−ジイル基、ピラゾール−１，３−ジイル基、ピラゾール−１，４−ジイル基などを挙げることができる。上記ＸＩおよびＸＩＩの炭素数３〜８の２価の脂環式基、炭素数３〜８の２価の複素環式基、炭素数６〜１２のアリーレン基および炭素数４〜８の２価の複素芳香族基は、それぞれ、１つまたは２つ以上のフッ素原子または炭素数１〜１２のアルキル基で置換されていてもよい。
【００１１】
上記式（Ａ’）におけるＸＩとしては２価の脂環式基であることが、ｎ１は２であることがそれぞれ好ましい。上記式（Ａ’）における（ＸＩ）ｎ１として特に好ましくは４，４’−ビシクロへキシレン基である。
上記式（Ａ’）におけるＸＩＩとしては、アリーレン基であることが好ましく、特に好ましくは１，４−フェニレン基である。
上記式（Ａ’）におけるｎ２としては、０または１であることが好ましい。
【００１２】
分子内の少なくとも一部に上記式（Ａ’）で表される基を有するポリアミック酸は、例えば
上記式（Ａ’）で表される基および２つのカルボン酸無水物基を有する化合物を含むテトラカルボン酸二無水物と、ジアミンと、を反応させるか、あるいは
テトラカルボン酸二無水物と、上記式（Ａ’）で表される基および２つのアミノ基を有する化合物を含むジアミンと、を反応させることにより得ることができ、
分子内の少なくとも一部に上記式（Ａ’）で表される基を有するポリイミドは、例えば上記の如くして得られたポリアミック酸を脱水閉環することにより得ることができる。
本発明の液晶配向剤に含有される特定重合体としては、テトラカルボン酸二無水物と、上記式（Ａ’）で表される構造および２つのアミノ基を有する化合物を含むジアミンと、を反応させて得られるポリアミック酸および該ポリアミック酸を脱水閉環してなるポリイミドよりなる群から選択される少なくとも一種の重合体であることが好ましい。
【００１３】
＜ポリアミック酸＞
［テトラカルボン酸二無水物］
本発明の液晶配向剤における好ましいポリアミック酸の合成に用いられるテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジクロロ−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−テトラメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、２，３，４，５−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−メチル−５（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−エチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−７−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−７−エチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−エチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５，８−ジメチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン、ビシクロ［２．２．２］−オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、３−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−２，４−ジオン−６−スピロ−３’−（テトラヒドロフラン−２’，５’−ジオン）、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロ−３−フラニル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、３，５，６−トリカルボキシ−２−カルボキシメチルノルボルナン−２：３，５：６−二無水物、４，９−ジオキサトリシクロ［５．３．１．０２，６］ウンデカン−３，５，８，１０−テトラオン、下記式（Ｔ−Ｉ）および（Ｔ−ＩＩ）
【００１４】
【化２】
0005590304.tif 000002
【００１５】
（式中、Ｒ１およびＲ３は、それぞれ、芳香環を有する２価の有機基であり、Ｒ２およびＲ４は、それぞれ、水素原子またはアルキル基であり、複数存在するＲ２およびＲ４は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。）
のそれぞれで表される化合物などの脂肪族テトラカルボン酸二無水物および脂環式テトラカルボン酸二無水物；
ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−フランテトラカルボン酸二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルプロパン二無水物、３，３’，４，４’−パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（フタル酸）フェニルホスフィンオキサイド二無水物、ｐ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ｍ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェニルエーテル二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェニルメタン二無水物、エチレングリコール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、プロピレングリコール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、１，４−ブタンジオール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、１，６−ヘキサンジオール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、１，８−オクタンジオール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−ビス（アンヒドロトリメリテート）、下記式（Ｔ−１）〜（Ｔ−４）
【００１６】
【化３】
0005590304.tif 000003
【００１７】
【化４】
0005590304.tif 000004
【００１８】
のそれぞれで表される化合物などの芳香族テトラカルボン酸二無水物を挙げることができる。上記芳香族テトラカルボン酸二無水物のベンゼン環は、１つまたは２つ以上の炭素数１〜４のアルキル基（好ましくはメチル基）で置換されていてもよい。
これらのテトラカルボン酸二無水物は一種単独でまたは二種以上組み合わせて用いることができる。
本発明における好ましいポリアミック酸の合成に用いられるテトラカルボン酸二無水物としては、上記のうち、ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５，８−ジメチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、ビシクロ［２．２．２］−オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、３−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−２，４−ジオン−６−スピロ−３’−（テトラヒドロフラン−２’，５’−ジオン）、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロ−３−フラニル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、３，５，６−トリカルボキシ−２−カルボキシメチルノルボルナン−２：３，５：６−二無水物、４，９−ジオキサトリシクロ［５．３．１．０２，６］ウンデカン−３，５，８，１０−テトラオン、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、上記式（Ｔ−Ｉ）で表される化合物のうちの下記式（Ｔ−５）〜（Ｔ−７）
【００１９】
【化５】
0005590304.tif 000005
【００２０】
のそれぞれで表される化合物および上記式（Ｔ−ＩＩ）で表される化合物のうちの下記式（Ｔ−８）
【００２１】
【化６】
0005590304.tif 000006
【００２２】
で表される化合物よりなる群から選択される少なくとも一種（以下、「特定テトラカルボン酸二無水物」という。）を含むものであることが、形成される液晶配向膜が良好な液晶配向性を発現することとなる観点から好ましい。
特定テトラカルボン酸二無水物としてより好ましくは、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、３−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−２，４−ジオン−６−スピロ−３’−（テトラヒドロフラン−２’，５’−ジオン）、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロ−３−フラニル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、３，５，６−トリカルボキシ−２−カルボキシメチルノルボルナン−２：３，５：６−二無水物、４，９−ジオキサトリシクロ［５．３．１．０２，６］ウンデカン−３，５，８，１０−テトラオン、ピロメリット酸二無水物および上記式（Ｔ−５）で表される化合物よりなる群から選択される少なくとも一種であり、特に好ましくは２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物である。
本発明における好ましいポリアミック酸の合成に用いられるテトラカルボン酸二無水物は、上記の如き特定テトラカルボン酸二無水物を、全テトラカルボン酸二無水物に対して、１０モル％以上含むものであることが好ましく、３０モル％含むものであることがより好ましく、特に４０モル％以上含むものであることが好ましい。
本発明における好ましいポリアミック酸の合成に用いられるテトラカルボン酸二無水物としては、上記の如き特定テトラカルボン酸二無水物のみを用いることが、最も好ましい。
【００２３】
［ジアミン］
本発明における好ましいポリアミック酸の合成に用いられるジアミンは、上記式（Ａ’）で表される基および２つのアミノ基を有する化合物を含むものである。
上記式（Ａ’）で表される基および２つのアミノ基を有する化合物としては、下記式（Ａ）
【００２４】
【化１】
0005590304.tif 000007
【００２５】
（式（Ａ）中、ＲＩ、ＲＩＩ、ＲＩＩＩ、ＸＩ、ＸＩＩ、ｎ１およびｎ２は、それぞれ、上記式（Ａ’）におけるのと同義である。）
で表される化合物であることが好ましい。上記式（Ａ）においてベンゼン環に結合している２つのアミノ基は、２，４−位または３，５−位にあることが好ましい。
かかる上記式（Ａ）で表される化合物のさらに具体的な例としては、例えば下記式（Ａ−１）〜（Ａ−４）
【００２６】
【化７】
0005590304.tif 000008
【００２７】
（式（Ａ−１）〜（Ａ−４）中、ＲＩは、それぞれ、上記式（Ａ）におけるのと同義である。）
のそれぞれで表される化合物を挙げることができる。
かかる上記式（Ａ）で表される化合物は、有機化合物の定法を適宜に組み合わせることにより、合成することができる。例えば上記式（Ａ−１）で表される化合物は、例えば下記スキーム
【００２８】
【化８】
0005590304.tif 000009
【００２９】
（上記スキームにおいて、ＲＩは上記式（Ａ）におけるのと同義である。）
に従って合成することができる。すなわち、所望の基ＲＩを有する化合物（Ａ−ａ）とｐ−クロロベンゼンスルホン酸クロリドとを反応させて化合物（Ａ−ｂ）とし、さらに化合物（Ａ−ｂ）と４−ヒドロキシ安息香酸エチルとを反応させて化合物（Ａ−ｃ）を得た後、例えば適当なアルカリの存在下に加水分解することにより中間体（Ａ−ｄ）を得、この中間体（Ａ−ｄ）と３，５−ビス（ジアリルアミノ）フェノール（化合物Ｂ）とを反応させて化合物（Ａ−１ｅ）とした後に、好ましくはＮ，Ｎ−ジメチルバルビツル酸およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムの存在下に脱アリルすることにより、合成することができる。ここで使用する化合物（Ｂ）は、１，３，５−トリヒドロキシベンゼンと２当量のジアリルアミンとを反応させることにより、容易に得ることができる。
また、上記式（Ａ−３）で表される化合物は、例えば下記スキーム
【００３０】
【化９】
0005590304.tif 000010
【００３１】
（上記スキームにおいて、ＲＩは上記式（Ａ）におけるのと同義である。）
に従って合成することができる。すなわち、上記と同様にして得た中間体（Ａ−ｄ）と１−ヒドロキシ−２，４−ジニトロベンゼンとを反応させて化合物（Ａ−３ｅ）とした後、パラジウムカーボンおよび水素などの適当な還元系を用いてニトロ基をアミノ基に変換することにより、合成することができる。
本発明における好ましいポリアミック酸を合成するために用いられるジアミンとしては、上記式（Ａ）で表される化合物のみを単独で用いてもよく、上記式（Ａ）で表される化合物とその他のジアミンとを組み合わせて用いてもよい。
【００３２】
ここで使用することのできるその他のジアミンとしては、例えばｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノベンズアニリド、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、１，５−ジアミノナフタレン、２，２’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、５−アミノ−１−（４’−アミノフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン、６−アミノ−１−（４’−アミノフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノベンゾフェノン、３，４’−ジアミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）−１０−ヒドロアントラセン、２，７−ジアミノフルオレン、９，９−ジメチル-２，７−ジアミノフルオレン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、ビス（４−アミノ−２−クロロフェニル）メタン、２，２’，５，５’−テトラクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノ−５，５’−ジメトキシビフェニル、３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、４，４’−（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、２，２’−ビス［４−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル、４，４’−ジアミノ−２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル、４，４’−ビス［（４−アミノ−２−トリフルオロメチル）フェノキシ］−オクタフルオロビフェニル、３，５−ジアミノ安息香酸、２，４−ジアミノ安息香酸、下記式（Ｄ−１）〜（Ｄ−５）
【００３３】
【化１０】
0005590304.tif 000011
【００３４】
【化１１】
0005590304.tif 000012
【００３５】
（式（Ｄ−４）中のｙは２〜１２の整数であり、式（Ｄ−５）中のｚは１〜５の整数である。）
のそれぞれで表される化合物などの芳香族ジアミン；
１，１−メタキシリレンジアミン、１，３−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−４，７−メタノインダニレンジメチレンジアミン、トリシクロ［６．２．１．０２，７］−ウンデシレンジメチレンジアミン、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（アミノメチル）シクロヘキサンなどの脂肪族ジアミンおよび脂環式ジアミン；
２，３−ジアミノピリジン、２，６−ジアミノピリジン、３，４−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリミジン、５，６−ジアミノ−２，３−ジシアノピラジン、５，６−ジアミノ−２，４−ジヒドロキシピリミジン、２，４−ジアミノ−６−ジメチルアミノ−１，３，５−トリアジン、１，４−ビス（３−アミノプロピル）ピペラジン、２，４−ジアミノ−６−イソプロポキシ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−メトキシ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−メチル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−１，３，５−トリアジン、４，６−ジアミノ−２−ビニル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−５−フェニルチアゾール、２，６−ジアミノプリン、５，６−ジアミノ−１，３−ジメチルウラシル、３，５−ジアミノ−１，２，４−トリアゾール、３，８−ジアミノ−６−フェニルフェナントリジン、１，４−ジアミノピペラジン、３，６−ジアミノアクリジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−アミノフェニル）フェニルアミン、３，６−ジアミノカルバゾール、Ｎ−メチル−３，６−ジアミノカルバゾール、Ｎ−エチル−３，６−ジアミノカルバゾール、Ｎ−フェニル−３，６−ジアミノカルバゾール、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−アミノフェニル）−ベンジジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−アミノフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジメチル−ベンジジン、および下記式（Ｄ−Ｉ）および（Ｄ−ＩＩ）
【００３６】
【化１２】
0005590304.tif 000013
【００３７】
（式（Ｄ−Ｉ）中、Ｒ５はピリジン、ピリミジン、トリアジン、ピペリジンおよびピペラジンよりなる群から選択される窒素原子を含む環構造を有する１価の有機基であり、Ｘ１は２価の有機基であり；
式（Ｄ−ＩＩ）中、Ｒ６はピリジン、ピリミジン、トリアジン、ピペリジンおよびピペラジンよりなる群から選択される窒素原子を含む環構造を有する２価の有機基であり、Ｘ２は、それぞれ、２価の有機基であり、複数存在するＸ２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。）
のそれぞれで表される化合物などの、分子内に２つの１級アミノ基および該１級アミノ基以外の窒素原子を有するジアミン；
下記式（Ｄ−ＩＩＩ）
【００３８】
【化１３】
0005590304.tif 000014
【００３９】
（式（Ｄ−ＩＩＩ）中、Ｒ７は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−または−ＣＯ−であり、Ｒ８はステロイド骨格、トリフルオロメチルフェニル基、トリフルオロメトキシフェニル基およびフルオロフェニル基よりなる群から選択される骨格もしくは基を有する１価の有機基または炭素数６〜３０のアルキル基である。）
で表される化合物などのモノ置換フェニレンジアミン；
下記式（Ｄ−ＩＶ）
【００４０】
【化１４】
0005590304.tif 000015
【００４１】
（式（Ｄ−ＩＶ）中、Ｒ９は、それぞれ、炭素数１〜１２の炭化水素基であり、複数存在するＲ９はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、ｐは、それぞれ、１〜３の整数であり、ｑは１〜２０の整数である。）
で表される化合物などのジアミノオルガノシロキサンなどを挙げることができる。上記芳香族ジアミン、分子内に２つの１級アミノ基および該１級アミノ基以外の窒素原子を有するジアミンおよびモノ置換フェニレンジアミンの有するベンゼン環は、１つまたは２つ以上の炭素数１〜４のアルキル基（好ましくはメチル基）で置換されていてもよい。また、上記式（Ｄ−ＩＩＩ）におけるステロイド骨格とは、シクロペンタノ−ペルヒドロフェナントレン核からなる骨格またはその炭素−炭素結合の１つもしくは２つ以上が二重結合となった骨格をいう。
これらのジアミンは、単独でまたは二種以上組み合わせて用いることができる。
【００４２】
本発明における好ましいポリアミック酸を合成するために用いられるその他のジアミンとしては、上記のうち、ｐ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、１，５−ジアミノナフタレン、２，２’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノ−２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル、２，７−ジアミノフルオレン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、４，４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、４，４’−（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、１，４−ジアミノシクロヘキサン、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、上記式（Ｄ−１）〜（Ｄ−５）のそれぞれで表される化合物、２，６−ジアミノピリジン、３，４−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリミジン、３，６−ジアミノアクリジン、３，６−ジアミノカルバゾール、Ｎ−メチル−３，６−ジアミノカルバゾール、Ｎ−エチル−３，６−ジアミノカルバゾール、Ｎ−フェニル−３，６−ジアミノカルバゾール、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−アミノフェニル）−ベンジジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−アミノフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジメチルベンジジン、３，５−ジアミノ安息香酸、上記式（Ｄ−Ｉ）で表される化合物のうちの下記式（Ｄ−６）
【００４３】
【化１５】
0005590304.tif 000016
【００４４】
で表される化合物、上記式（Ｄ−ＩＩ）で表される化合物のうちの下記式（Ｄ−７）
【００４５】
【化１６】
0005590304.tif 000017
【００４６】
で表される化合物、上記式（Ｄ−ＩＩＩ）で表される化合物のうちのドデカノキシ−２，４−ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ−２，４−ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ−２，４−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−２，４−ジアミノベンゼン、ドデカノキシ−２，５−ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ−２，５−ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ−２，５−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−２，５−ジアミノベンゼン、下記式（Ｄ−８）〜（Ｄ−１５）
【００４７】
【化１７】
0005590304.tif 000018
【００４８】
【化１８】
0005590304.tif 000019
【００４９】
【化１９】
0005590304.tif 000020
【００５０】
のそれぞれで表される化合物および上記式（Ｄ−ＩＶ）で表される化合物のうちの１，３−ビス（３−アミノプロピル）−テトラメチルジシロキサンよりなる群から選択される少なくとも一種（以下、「他の特定ジアミン」という。）を用いることが好ましい。
本発明における好ましいポリアミック酸の合成に用いられるジアミンは、上記式（Ａ）で表される化合物を、全ジアミンに対して、０．１モル％以上含むものであることが好ましく、０．５〜５０モル％含むものであることがより好ましく、特に１〜４０モル％含むものであることが好ましい。
本発明における好ましいポリアミック酸の合成に用いられるジアミンは、上記式（Ａ）で表される化合物のほかに、上記の如き他の特定ジアミンを含むものであることが好ましい。この場合における他の特定ジアミンの使用割合としては、全ジアミンに対して３０モル％以上であることが好ましく、３０〜９９．９モル％であることがより好ましく、５０〜９９．５モル％であることがさらに好ましく、特に６０〜９９モル％含むものであることが好ましい。
本発明における好ましいポリアミック酸の合成に用いられるジアミンは、上記式（Ａ）で表される化合物および他の特定ジアミンのみからなるものであることが好ましい。
【００５１】
［ポリアミック酸の合成］
本発明における好ましいポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物と上記式（Ａ）で表される化合物を含むジアミンとを反応させることにより得ることができる。
ポリアミック酸の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とジアミンとの使用割合は、ジアミンのアミノ基１当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が０．２〜２当量となる割合が好ましく、さらに好ましくは０．３〜１．２当量となる割合である。
ポリアミック酸の合成反応は、好ましくは有機溶媒中において、好ましくは−２０℃〜１５０℃、より好ましくは０〜１００℃の温度条件下において、好ましくは０．１〜２４時間、より好ましくは０．５〜１２時間行われる。
ポリアミック酸の合成に際して使用することのできる有機溶媒としては、例えば非プロトン性極性溶媒、フェノールおよびその誘導体、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素、炭化水素などを挙げることができる。
【００５２】
上記非プロトン性極性溶媒としては、例えばＮ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミドなどを；
上記フェノール誘導体としては、例えばｍ−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノールなどを；
上記アルコールとしては、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテルなどを；
上記ケトンとしては、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンを；
上記エステルとしては、例えば乳酸エチル、乳酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネ−ト、エチルエトキシプロピオネ−ト、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチルなどを；
上記エーテルとしては、例えばジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコール−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコール−ｉ−プロピルエーテル、エチレングリコール−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、テトラヒドロフランなどを；
上記ハロゲン化炭化水素としては、例えばジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，４−ジクロロブタン、トリクロロエタン、クロルベンゼン、ｏ−ジクロルベンゼンなどを；
上記炭化水素としては、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、イソアミルプロピオネート、イソアミルイソブチレート、ジイソペンチルエーテルなどを、それぞれ挙げることができる。
【００５３】
これらの有機溶媒のうち、非プロトン性極性溶媒ならびにフェノールおよびその誘導体よりなる群（第一群の有機溶媒）から選択される一種以上、または前記第一群の有機溶媒から選択される一種以上とアルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素および炭化水素よりなる群（第二群の有機溶媒）から選択される一種以上との混合物を使用することが好ましい。後者の場合、第二群の有機溶媒の使用割合は、第一群の有機溶媒および第二群の有機溶媒の合計に対して、好ましくは５０重量％以下であり、より好ましくは４０重量％以下であり、さらに３０重量％以下であることが好ましい。
以上のようにして、ポリアミック酸を溶解してなる反応溶液が得られる。
この反応溶液はそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、または単離したポリアミック酸を精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。
ポリアミック酸を脱水閉環してポリイミドとする場合には、上記反応溶液をそのまま脱水閉環反応に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸を単離したうえで脱水閉環反応に供してもよく、または単離したポリアミック酸を精製したうえで脱水閉環反応に供してもよい。
ポリアミック酸の単離は、上記反応溶液を大量の貧溶媒中に注いで析出物を得、この析出物を減圧下乾燥する方法、あるいは、反応溶液中の溶媒をエバポレーターで減圧留去する方法により行うことができる。また、このポリアミック酸を再び有機溶媒に溶解し、次いで貧溶媒で析出させる方法、あるいは、ポリアミック酸を再び有機溶媒に溶解して得た溶液を洗浄した後、該溶液中の溶媒をエバポレーターで減圧留去する工程を１回または数回行う方法により、ポリアミック酸を精製することができる。
【００５４】
＜ポリイミド＞
本発明における好ましいポリイミドは、上記の如きポリアミック酸を脱水閉環してイミド化することにより得ることができる。
上記ポリイミドの合成に用いられるテトラカルボン酸二無水物としては、上述したポリアミック酸の合成に用いられるテトラカルボン酸二無水物と同じ化合物を挙げることができる。好ましいテトラカルボン酸二無水物の種類およびその好ましい使用割合もポリアミック酸の場合と同様である。
本発明における好ましいポリイミドを合成するために用いられるジアミンとしては、上記のポリアミック酸の合成に用いられるジアミンと同じジアミンを挙げることができる。すなわち、本発明の液晶配向剤に含有されるポリイミドの合成に用いられるジアミンは、上記式（Ａ）で表される化合物を含むものであり、上記式（Ａ）で表される化合物のみを用いてもよく、上記式（Ａ）で表される化合物と上記他のジアミンとを併用してもよい。好ましい他のジアミンの種類および各ジアミンの好ましい使用割合もポリアミック酸の場合と同様である。
本発明における好ましいポリイミドは、原料であるポリアミック酸が有していたアミック酸構造のすべてを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造とイミド環構造が併存する部分イミド化物であってもよい。本発明におけるポリイミドは、イミド化率が３０％以上であることが好ましく、４０％以上であることがより好ましく、特に４５％以上であることが好ましい。このイミド化率は、ポリイミドのアミック酸構造の数とイミド環構造の数との合計に対するイミド環構造の数の占める割合を百分率で表したものである。このとき、イミド環の一部がイソイミド環であってもよい。
【００５５】
ポリアミック酸の脱水閉環は、好ましくは（ｉ）ポリアミック酸を加熱する方法により、または（ｉｉ）ポリアミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤および脱水閉環触媒を添加し必要に応じて加熱する方法により行われる。
上記（ｉ）のポリアミック酸を加熱する方法における反応温度は好ましくは５０〜２００℃であり、より好ましくは６０〜１７０℃である。反応温度が５０℃未満では脱水閉環反応が十分に進行せず、反応温度が２００℃を超えると得られるポリイミドの分子量が低下することがある。反応時間は好ましくは１．０〜２４時間であり、より好ましくは１．０〜１２時間である。
一方、上記（ｉｉ）のポリアミック酸の溶液中に脱水剤および脱水閉環触媒を添加する方法において、脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用量は、所望するイミド化率によるが、ポリアミック酸のアミック酸構造の１モルに対して０．０１〜２０モルとすることが好ましい。また、脱水閉環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミンなどの３級アミンを用いることができる。しかし、これらに限定されるものではない。脱水閉環触媒の使用量は、使用する脱水剤１モルに対して０．０１〜１０モルとすることが好ましい。イミド化率は上記の脱水剤、脱水閉環剤の使用量が多いほど高くすることができる。脱水閉環反応に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。脱水閉環反応の反応温度は好ましくは０〜１８０℃であり、より好ましくは１０〜１５０℃である。反応時間は好ましくは１．０〜１２０時間であり、より好ましくは２．０〜３０時間である。
【００５６】
上記方法（ｉ）において得られるポリイミドは、これをそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、あるいは得られるポリイミドを精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。一方、上記方法（ｉｉ）においてはポリイミドを含有する反応溶液が得られる。この反応溶液は、これをそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液から脱水剤および脱水閉環触媒を除いたうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、ポリイミドを単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、または単離したポリイミドを精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。反応溶液から脱水剤および脱水閉環触媒を除くには、例えば溶媒置換などの方法を適用することができる。ポリイミドの単離、精製は、ポリアミック酸の単離、精製方法として上記したのと同様の操作を行うことにより行うことができる。
【００５７】
−末端修飾型の重合体−
本発明において上記ポリアミック酸およびポリイミドは、それぞれ、分子量が調節された末端修飾型の重合体であってもよい。末端修飾型の重合体を用いることにより、本発明の効果が損なわれることなく液晶配向剤の塗布特性などをさらに改善することができる。このような末端修飾型の重合体は、ポリアミック酸を合成する際に、分子量調節剤を重合反応系に添加することにより行うことができる。分子量調節剤としては、例えば酸一無水物、モノアミン化合物、モノイソシアネート化合物などを挙げることができる。
上記酸一無水物としては、例えば無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン酸、ｎ−デシルサクシニック酸無水物、ｎ−ドデシルサクシニック酸無水物、ｎ−テトラデシルサクシニック酸無水物、ｎ−ヘキサデシルサクシニック酸無水物などを；
上記モノアミン化合物としては、例えばアニリン、シクロヘキシルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｎ−ペンチルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ−デシルアミン、ｎ−ウンデシルアミン、ｎ−ドデシルアミン、ｎ−トリデシルアミン、ｎ−テトラデシルアミン、ｎ−ペンタデシルアミン、ｎ−ヘキサデシルアミン、ｎ−ヘプタデシルアミン、ｎ−オクタデシルアミン、ｎ−エイコシルアミンなど；
上記モノイソシアネート化合物としては、例えばフェニルイソシアネート、ナフチルイソシアネートなどを、それぞれ挙げることができる。
分子量調節剤の使用割合は、ポリアミック酸を合成する際に使用するテトラカルボン酸二無水物およびジアミンの合計１００重量部に対して好ましくは２０重量以下であり、より好ましくは１０重量部以下である。
−溶液粘度−
以上のようにして得られるポリアミック酸またはポリイミドは、濃度１０重量％の溶液としたときに、２０〜８００ｍＰａ・ｓの溶液粘度を持つものであることが好ましく、３０〜５００ｍＰａ・ｓの溶液粘度を持つものであることがより好ましい。
上記重合体の溶液粘度（ｍＰａ・ｓ）は、当該重合体の良溶媒（例えばγ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなど）を用いて調製した濃度１０重量％の重合体溶液につき、Ｅ型回転粘度計を用いて２５℃において測定した値である。
【００５８】
＜その他の成分＞
本発明の液晶配向膜は、上記の如き特定重合体を必須成分として含有するが、必要に応じてその他の成分を含有していてもよい。かかるその他の成分としては、例えばその他の重合体、分子内に少なくとも１つのエポキシ基を有する化合物（以下、「エポキシ化合物」という。）、官能性シラン化合物などを挙げることができる。
［その他の重合体］
上記その他の重合体は、溶液特性および電気特性の改善のために使用することができる。かかるその他の重合体は、特定重合体以外の重合体であり、例えばテトラカルボン酸二無水物と上記式（Ａ）で表される化合物を含まないジアミンとを反応させて得られるポリアミック酸（以下、「他のポリアミック酸」という。）、該ポリアミック酸を脱水閉環してなるポリイミド（以下、「他のポリイミド」という。）、ポリアミック酸エステル、ポリエステル、ポリアミド、ポリシロキサン、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレン誘導体、ポリ（スチレン−フェニルマレイミド）誘導体、ポリ（メタ）アクリレートなどを挙げることができる。これらのうち、他のポリアミック酸または他のポリイミドが好ましく、他のポリアミック酸がより好ましい。
その他の重合体の使用割合としては、重合体の合計（上記の特定重合体およびその他の重合体の合計をいう。以下同じ。）に対して好ましくは５０重量％以下であり、より好ましくは４０重量％以下であり、さらに３０重量％以下であることが好ましい。
【００５９】
［エポキシ化合物］
上記エポキシ化合物としては、例えばエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、２，２−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−ベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−アミノメチルシクロヘキサン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−シクロヘキシルアミンなどを好ましいものとして挙げることができる。
これらエポキシ化合物の配合割合は、重合体の合計１００重量部に対して、好ましくは４０重量部以下であり、より好ましくは０．１〜３０重量部である。
【００６０】
［官能性シラン化合物］
上記官能性シラン化合物としては、例えば３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−アミノプロピルトリメトキシシラン、２−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、Ｎ−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、１０−トリメトキシシリル−１，４，７−トリアザデカン、１０−トリエトキシシリル−１，４，７−トリアザデカン、９−トリメトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、９−トリメトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、９−トリエトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、９−トリメトキシシリル−３，６−ジアザノナン酸メチル、９−トリエトキシシリル−３，６−ジアザノナン酸メチル、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、２―グリシドキシエチルトリメトキシシラン、２―グリシドキシエチルトリエトキシシラン、３―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３―グリシドキシプロピルトリエトキシシランなどを挙げることができる。
これら官能性シラン化合物の配合割合は、重合体の合計１００重量部に対して、好ましくは２重量部以下であり、より好ましくは０．０２〜０．２重量部である。
【００６１】
本発明の液晶配向剤は、上記の如きポリアミック酸およびポリイミドよりなる群から選択される少なくとも１種の重合体ならびに必要に応じて任意的に配合されるその他の添加剤が、好ましくは有機溶媒中に溶解含有されて構成される。
本発明の液晶配向剤に使用できる有機溶媒としては、例えばＮ−メチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、γ−ブチロラクタム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、エチレングリコールモノメチルエーテル、乳酸ブチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネ−ト、エチルエトキシプロピオネ−ト、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコール−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコール−ｉ−プロピルエーテル、エチレングリコール−ｎ−ブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、イソアミルプロピオネート、イソアミルイソブチレート、ジイソペンチルエーテル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどを挙げることができる。これらは単独で使用することができ、または２種以上を混合して使用することができる。
【００６２】
本発明の液晶配向剤における固形分濃度（液晶配向剤の溶媒以外の成分の合計重量が液晶配向剤の全重量に占める割合）は、粘性、揮発性などを考慮して適宜に選択されるが、好ましくは１〜１０重量％の範囲である。すなわち、本発明の液晶配向剤は、後述するように基板表面に塗布され、好ましくは加熱されることにより液晶配向膜となる塗膜が形成されるが、固形分濃度が１重量％未満である場合には、この塗膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜を得ることができず、一方固形分濃度が１０重量％を超える場合には、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配向膜を得ることができず、また、液晶配向剤の粘性が増大して塗布特性が劣るものとなる。
特に好ましい固形分濃度の範囲は、基板に液晶配向剤を塗布する際に用いる方法によって異なる。例えばスピンナー法による場合には固形分濃度１．５〜４．５重量％の範囲が特に好ましい。印刷法による場合には、固形分濃度を３〜９重量％の範囲とし、それにより溶液粘度を１２〜５０ｍＰａ・sの範囲とすることが特に好ましい。インクジェット法による場合には、固形分濃度を１〜５重量％の範囲とし、それにより、溶液粘度を３〜１５ｍＰａ・sの範囲とすることが特に好ましい。
本発明の液晶配向剤を調製する際の温度は、好ましくは１０℃〜５０℃であり、より好ましくは２０℃〜３０℃である。
【００６３】
＜液晶表示素子＞
本発明の液晶表示素子は、上記の如き本発明の液晶配向剤から形成された液晶配向膜を具備するものである。
本発明の液晶表示素子は、例えば以下（１）ないし（３）の工程により製造することができる。工程（１）は、所望の動作モードによって使用基板が異なる。工程（２）および（３）は各動作モードに共通である。
（１）先ず基板上に本発明の液晶配向剤を塗布し、次いで塗布面を加熱することにより基板上に塗膜を形成する。
【００６４】
（１−１）ＴＮ型、ＳＴＮ型またはＶＡ型液晶表示素子を製造する場合、パターニングされた透明導電膜が設けられている基板二枚を一対として、その各透明性導電膜形成面上に、本発明の液晶配向剤を、好ましくはオフセット印刷法、スピンコート法またはインクジェット印刷法によりそれぞれ塗布し、次いで、各塗布面を加熱することにより塗膜を形成する。ここに、基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラスなどのガラス；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリ（脂環式オレフィン）などのプラスチックからなる透明基板を用いることができる。基板の一面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズ（ＳｎＯ２）からなるＮＥＳＡ膜（米国ＰＰＧ社登録商標）、酸化インジウム−酸化スズ（Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２）からなるＩＴＯ膜などを用いることができ、パターニングされた透明導電膜を得るには、例えばパターンなし透明導電膜を形成した後フォト・エッチングによりパターンを形成する方法、透明導電膜を形成する際に所望のパターンを有するマスクを用いる方法などによることができる。液晶配向剤の塗布に際しては、基板表面および透明導電膜と塗膜との接着性をさらに良好にするために、基板表面のうち塗膜を形成するべき面に、官能性シラン化合物、官能性チタン化合物などを予め塗布する前処理を施しておいてもよい。
液晶配向剤塗布後、塗布した配向剤の液垂れ防止などの目的で、好ましくは予備加熱（プレベーク）が実施される。プレベーク温度は、好ましくは３０〜２００℃であり、より好ましくは４０〜１５０℃であり、特に好ましくは４０〜１００℃である。プレベーク時間は好ましくは０．２５〜１０分であり、より好ましくは０．５〜５分である。その後、溶剤を完全に除去し、必要に応じてポリアミック酸を熱イミド化することを目的として焼成（ポストベーク）工程が実施される。この焼成（ポストベーク）温度は、好ましくは８０〜３００℃であり、より好ましくは１２０〜２５０℃であるポストベーク時間は好ましくは５〜２００分であり、より好ましくは１０〜１００分である。このようにして、形成される膜の膜厚は、好ましくは０．００１〜１μｍであり、より好ましくは０．００５〜０．５μｍである。
（１−２）一方、ＩＰＳ型液晶表示素子を製造する場合、櫛歯型にパターニングされた透明導電膜が設けられている基板の導電膜形成面と、導電膜が設けられていない対向基板の一面とに、本発明の液晶配向剤を好ましくはオフセット印刷法、スピンコート法またはインクジェット印刷法によってそれぞれ塗布し、次いで各塗布面を加熱することにより塗膜を形成する。
このとき使用される基板および透明導電膜の材質、透明導電膜のパターニング方法、基板の前処理ならびに液晶配向剤を塗布した後の加熱方法については上記（１−１）と同様である。
形成される塗膜の好ましい膜厚は、上記（１−１）と同様である。
【００６５】
（２）本発明の方法により製造される液晶表示素子がＶＡ型の液晶表示素子である場合には、上記のようにして形成された塗膜をそのまま液晶配向膜として使用することができるが、所望に応じて次に述べるラビング処理を行った後に使用に供してもよい。
一方、ＶＡ型以外の液晶表示素子を製造する場合には、上記のようにして形成された塗膜にラビング処理を施すことにより液晶配向膜とする。
ラビング処理は、上記のようにして形成された塗膜面に対し、例えばナイロン、レーヨン、コットンなどの繊維からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦ることにより行うことができる。これにより、液晶分子の配向能が塗膜に付与されて液晶配向膜となる。
さらに、上記のようにして形成された液晶配向膜に対し、例えば特許文献１３（特開平６−２２２３６６号公報）や特許文献１４（特開平６−２８１９３７号公報）に示されているような液晶配向膜の一部に紫外線を照射することによって液晶配向膜の一部の領域のプレチルト角を変化させる処理や、特許文献１５（特開平５−１０７５４４号公報）に示されているような液晶配向膜表面の一部にレジスト膜を形成したうえで先のラビング処理と異なる方向にラビング処理を行った後にレジスト膜を除去する処理を行い、液晶配向膜が領域ごとに異なる液晶配向能を持つようにすることによって得られる液晶表示素子の視界特性を改善することが可能である。
【００６６】
（３）上記のようにして液晶配向膜が形成された基板を２枚準備し、対向配置した２枚の基板間に液晶を配置することにより、液晶セルを製造する。ここで、塗膜に対してラビング処理を行った場合には、２枚の基板は、各塗膜におけるラビング方向が互いに所定の角度、例えば直交または逆平行となるように対向配置される。
液晶セルを製造するには、例えば以下の２つの方法が挙げられる。
第一の方法は、従来から知られている方法である。先ず、それぞれの液晶配向膜が対向するように間隙（セルギャップ）を介して２枚の基板を対向配置し、２枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基板表面およびシール剤により区画されたセルギャップ内に液晶を注入充填した後、注入孔を封止することにより、液晶セルを製造することができる。
第二の方法は、ＯＤＦ（Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌ）方式と呼ばれる手法である。液晶配向膜を形成した２枚の基板のうちの一方の基板上の所定の場所に例えば紫外光硬化性のシール材を塗布し、さらに液晶配向膜面上に液晶を滴下した後、液晶配向膜が対向するように他方の基板を貼り合わせ、次いで基板の全面に紫外光を照射してシール剤を硬化することにより、液晶セルを製造することができる。
いずれの方法による場合でも、上記のようにして製造した液晶セルにつき、さらに、用いた液晶が等方相をとる温度まで加熱した後、室温まで徐冷することにより、液晶注入時の流動配向を除去することが望ましい。
そして、液晶セルの外側表面に偏光板を貼り合わせることにより、本発明の液晶表示素子を得ることができる。
【００６７】
ここに、シール剤としては、例えば硬化剤およびスペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹脂などを用いることができる。
前記液晶としては、例えばネマティック型液晶、スメクティック型液晶などを用いることができ、これらのうちネマティック型液晶が好ましい。ＶＡ型液晶セルの場合、負の誘電異方性を有するネマティック型液晶が好ましく、例えばジシアノベンゼン系液晶、ピリダジン系液晶、シッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶などが用いられる。ＴＮ型液晶セルまたはＳＴＮ型液晶セルの場合には、正の誘電異方性を有するネマティック型液晶が好ましく、例えばビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、エステル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニルシクロヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン系液晶などが用いられる。これらの液晶に、例えばコレスチルクロライド、コレステリルノナエート、コレステリルカーボネートなどのコレステリック液晶；商品名Ｃ−１５、ＣＢ−１５（メルク社製）として販売されているようなカイラル剤；ｐ−デシロキシベンジリデン−ｐ−アミノ−２−メチルブチルシンナメートなどの強誘電性液晶などを、さらに添加して使用してもよい。
液晶セルの外表面に貼り合わされる偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながら、ヨウ素を吸収させた「Ｈ膜」と称される偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板またはＨ膜そのものからなる偏光板を挙げることができる。
【実施例】
【００６８】
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。
下記合成例において合成した化合物の１Ｈ−ＮＭＲ、重合体の溶液粘度およびポリイミドのイミド化率は、それぞれ以下の方法により測定した。
［１Ｈ−ＮＭＲ］
上記式（Ａ）で表される化合物の１Ｈ−ＮＭＲは以下の条件により測定した。
測定装置：ＥＣＸ  ４００Ｐ（日本電子（株）製）
磁場強度：４００ＭＨｚ
溶媒：ジメチルスルホキシド−ｄ６
標準物質：テトラメチルシラン
測定温度：２５℃
［重合体の溶液粘度］
重合体の溶液粘度（ｍＰａ・ｓ）は、各合成例に記載された溶媒を用いて重合体濃度１０重量％に調整された重合体溶液につき、Ｅ型回転粘度計を用いて２５℃で測定した。
［ポリイミドのイミド化率］
各合成例で得られたポリイミドを含有する溶液を少量分取して純水に投入し、得られた沈殿を室温で十分に減圧乾燥した後、重水素化ジメチルスルホキシドに溶解し、テトラメチルシランを基準物質として室温で測定した１Ｈ−ＮＭＲスペクトルから、下記数式（１）
イミド化率（％）＝（１−Ａ１／Ａ２×α）×１００      （１）
（数式（１）中、Ａ１は化学シフト１０ｐｐｍ付近のＮＨ基のプロトン由来のピーク面積であり、Ａ２はその他のプロトン由来のピーク面積であり、αはポリイミドの前駆体（ポリアミック酸）におけるＮＨ基のプロトン１個に対するその他のプロトンの個数割合である。）
によって計算により求めた。
【００６９】
＜上記式（Ａ）で表される化合物の合成例＞
以下における化合物（中間体含む）の合成は、必要に応じて下記に記載のスケールで繰り返すことにより、以降の化合物および重合体の合成における必要量を確保した。
合成例Ａ−１
下記スキーム１
【００７０】
【化２０】
0005590304.tif 000021
【００７１】
に従って、化合物（Ａ−１−１）を合成した。
窒素雰囲気下、５，０００ｍＬ三口フラスコに、化合物（Ａ−１−１ａ）２６６．５ｇ、ｐ−クロロベンゼンスルホニルクロリド２５３．３ｇ、ジクロロメタン１，０００ｍＬを仕込み、０℃において攪拌した。ここに、トリエチルアミン１８０ｍＬをジクロロメタン２００ｍＬに溶解した溶液を３０分間かけて滴下し、室温（２５℃）において３時間攪拌下に反応を行った。次いで得られた反応混合物にジクロロメタン１，０００ｍＬを追加し、得られた有機層を蒸留水で洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、ロータリーエバポレーターにより溶媒を除去して無色の粘性液体を得た。この無色の粘性液体にエタノール３，０００ｍＬを加えて十分に攪拌した後、析出した白色固体をろ取して回収し、化合物（Ａ−１−１ｂ）３３５．６ｇを得た。
次に、５，０００ｍＬ三口フラスコに、上記化合物（Ａ−１−１ｂ）２２０．５ｇ、４−ヒドロキシ安息香酸エチル１６６．２ｇ、炭酸カリウム１７２．８ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２，０００ｍＬを仕込み、８０℃において８時間攪拌下に反応を行った。反応終了後、得られた反応混合物にトルエン４，０００ｍＬを加え、有機層を蒸留水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、ロータリーエバポレーターにより溶媒を除去して無色の粘性液体を得た。得られた無色の粘性液体にエタノール３，０００ｍＬを加えて十分に攪拌した後、析出した白色固体をろ取して化合物（Ａ−１−１ｃ）１８４．１ｇを得た。
５，０００ｍＬ三口フラスコに、上記化合物（Ａ−１−１ｃ）１６５．８ｇ、水酸化ナトリウム４０．０g、テトラヒドロフラン１，５００ｍＬ、蒸留水５００ｍＬおよびエタノール５００ｍＬを仕込み、９０℃において６時間攪拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物に１規定の希塩酸１５００ｍＬを加えて室温で１時間攪拌した。次いで、反応混合物にトルエン２，５００ｍＬを加え、有機層を蒸留水で洗浄した。
次いでロータリーエバポレーターにより有機層から溶媒を除去して光沢のある白色粉末である化合物（Ａ−１−１ｄ）１５４．２ｇを得た。
【００７２】
窒素雰囲気下、３，０００ｍＬ三口フラスコに、上記化合物（Ａ−１−１ｄ）１１６．０ｇ、ｐ−トルエンスルホニルクロリド６２．０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２３ｍＬおよびピリジン６００ｍＬを仕込み、１００℃において１時間攪拌した。ここに、３，５−ビス（ジアリルアミノ）フェノール（化合物（Ｂ））９２．４ｇをピリジン１５０ｍＬに溶解した溶液を１５分かけて滴下した後、１００℃において６時間攪拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物に蒸留水２，０００ｍＬを加え、クロロホルム２，５００ｍＬで抽出して有機層を得た。得られた有機層を蒸留水で洗浄し、さらに硫酸マグネシウムで乾燥した後、ロータリーエバポレーターにより溶媒を除去して粗生成物を得た。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフ（充填剤：シリカゲル、展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１（重量比））にアプライし、得られた留分から減圧にて溶媒を除去することにより、淡黄色の粘性液体である化合物（Ａ−１−１ｅ）１０３．８ｇを得た。
さらに、窒素雰囲気下、５，０００ｍＬ三口フラスコに上記化合物（Ａ−１−１ｅ）９７．９ｇ、１，３−ジメチルバルビツル酸７０．３ｇ、テトラキス（トリフェニルホスフィノ）パラジウム（０）３．５ｇおよびジクロロメタン２，０００ｍＬを仕込み、３５℃において８時間攪拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物を濃縮して１Ｌ程度のジクロロメタンを除去した後、析出した粉末をろ取して回収した。得られた光沢のある淡黄色の粉末をテトラヒドロフラン５，０００ｍＬに溶解し、得られた溶液に活性炭６０ｇを添加して室温で１５分間攪拌した。得られた混合物から活性炭をセライトろ過により除去した後、減圧にて溶媒を除去することにより、白色粉末である化合物（Ａ−１−１）５５．２ｇを得た。
得られた化合物（Ａ−１−１）の１Ｈ−ＮＭＲチャートを図１に示した。
合成例Ａ−２
下記スキーム２
【００７３】
【化２１】
0005590304.tif 000022
【００７４】
に従って、化合物（Ａ−２−１）を合成した。
窒素雰囲気下、５，０００ｍＬ三口フラスコに、３，５−ビス（ジアリルアミノ）フェノール（化合物（Ｂ））１４２．２ｇ、エチレンカーボナート２２０．２ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミド１６．１ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１，０００ｍＬを仕込み、１５０℃において６時間攪拌下に反応を行った。得られた反応混合物に酢酸エチル２，０００ｍＬおよびメタノール５００ｍＬを加え、得られた有機層につき、１規定の水酸化ナトリウム水溶液および蒸留水で順次に洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥後、ロータリーエバポレーターにより溶媒を除去して粗生成物を得た。得られた組成生物をカラムクロマトグラフ（充填剤：シリカゲル、展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１（重量比））にアプライし、得られた留分から減圧により溶媒を除去することにより、淡橙色の粘性液体である化合物（Ａ−２−１ａ）１３８．６ｇを得た。
次いで、窒素雰囲気下、３，０００ｍＬ三口フラスコに、上記合成例Ａ−１におけるのと同様にして合成した化合物（Ａ−１−１ｄ）１５４．６ｇ、ｐ−トルエンスルホニルクロリド７６．３ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３２ｍＬおよびピリジン８００ｍＬを仕込み、１００℃において１時間攪拌した。ここに、上記で得た化合物（Ａ−２−１ａ）１３１．４ｇをピリジン２００ｍＬに溶解した溶液を１５分間かけて滴下した後、得られた混合物につき、１００℃において１２時間攪拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物に蒸留水２，０００ｍＬを加え、クロロホルム２，５００ｍＬで抽出して有機層を得た。得られた有機層を蒸留水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、ロータリーエバポレーターにより溶媒を除去して粗生成物を得た。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフ（充填剤：シリカゲル、展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１（重量比））にアプライし、得られた留分から減圧により溶媒を除去することにより、淡黄色の粘性液体である化合物（Ａ−２−１ｂ）１７８．４ｇを得た。
【００７５】
さらに、窒素雰囲気下、５，０００ｍＬ三口フラスコに、上記化合物（Ａ−２−１ｂ）１７４．３ｇ、１，３−ジメチルバルビツル酸１１７．１ｇ、テトラキス（トリフェニルホスフィノ）パラジウム（０）５．８ｇおよびジクロロメタン２，０００ｍＬを仕込み、３５℃において８時間攪拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物にクロロホルム２，０００ｍＬを加えて得た有機層を１規定の炭酸ナトリウム水溶液で洗浄して未反応の１，３−ジメチルバルビツル酸を除去した後、さらに蒸留水で洗浄した。減圧により有機層から溶媒を除去して得られた粉末をエタノールによって十分に洗浄した。洗浄後の粉末（淡黄色）をテトラヒドロフラン２，０００ｍＬに溶解して得た溶液に活性炭１００ｇを添加し、室温で１５分間攪拌した。得られた混合物から活性炭をセライトろ過により除去した後、減圧にて溶媒を除去することにより、白色粉末である化合物（Ａ−２−１）８８．６ｇを得た。
得られた化合物（Ａ−２−１）の１Ｈ−ＮＭＲチャートを図２に示した。
合成例Ａ−３
下記スキーム３
【００７６】
【化２２】
0005590304.tif 000023
【００７７】
に従って、化合物（Ａ−２−２）を合成した。
窒素雰囲気下、５，０００ｍＬ三口フラスコに、化合物（Ａ−２−２ａ）２３８．２ｇ、ｐ−クロロベンゼンスルホニルクロリド２５３．３ｇおよびジクロロメタン１，０００ｍＬを仕込み、０℃で攪拌した。ここに、トリエチルアミン１８０ｍＬをジクロロメタン２００ｍＬに溶解した溶液を３０分かけて滴下した後、室温において３時間攪拌下に反応を行った。反応終了後、得られた反応混合物にジクロロメタン１，０００ｍＬを追加して得た有機層を蒸留水で洗浄し、さらに硫酸マグネシウムで乾燥した後、ロータリーエバポレーターにより溶媒を除去して無色の粘性液体を得た。得られた無色の粘性液体にエタノール３，０００ｍＬを加えて十分に攪拌した後、析出した白色固体をろ取により回収し、化合物（Ａ−２−２ｂ）３１８．２ｇを得た。
次いで、５，０００ｍＬ三口フラスコに、上記化合物（Ａ−２−２ｂ）２０６．１ｇ、４−ヒドロキシ安息香酸エチル１６６．２ｇ、炭酸カリウム１７２．８ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２，０００ｍＬを仕込み、８０℃において８時間攪拌下に反応を行った。反応終了後、得られた反応混合物にトルエン４，０００ｍＬを加えて得た有機層を蒸留水で洗浄し、さらに硫酸マグネシウムで乾燥した後、ロータリーエバポレーターにより溶媒を除去することにより、無色の粘性液体を得た。得られた無色の粘性液体にエタノール３，０００ｍＬを加えて十分に攪拌した後、析出した白色固体をろ取により回収し、化合物（Ａ−２−２ｃ）１７４．６ｇを得た。
５，０００ｍＬ三口フラスコに、上記化合物（Ａ−２−２ｃ）１５４．５ｇ、水酸化ナトリウム４０．０ｇ、テトラヒドロフラン１，５００ｍＬ、蒸留水５００ｍＬおよびエタノール５００ｍＬを仕込み、９０℃において６時間攪拌下に反応を行った。反応終了後、得られた反応混合物に１規定の希塩酸１，５００ｍＬを加えて室温で１時間攪拌した。次いで得られた混合物にトルエン２，５００ｍＬを加えて得た有機層を蒸留水で洗浄した後、ロータリーエバポレーターによって溶媒を除去することにより、光沢のある白色粉末である化合物（Ａ−２−２ｄ）１４２．９ｇを得た。
【００７８】
窒素雰囲気下、３，０００ｍＬ三口フラスコに、上記化合物（Ａ−２−２ｄ）１０７．５ｇ、ｐ−トルエンスルホニルクロリド６２．０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２３ｍＬおよびピリジン６００ｍＬを仕込み、１００℃において１時間攪拌した。ここに、上記合成例Ａ−２におけるのと同様にして合成した化合物（Ａ−２−１ａ）１０６．７ｇをピリジン１５０ｍＬに溶解した溶液を１５分かけて滴下した後、１００℃において６時間攪拌下に反応を行った。反応終了後、得られた反応混合物に蒸留水２，０００ｍＬを加え、さらにクロロホルム２，５００ｍＬで抽出して有機層を得た。得られた有機層を蒸留水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、ロータリーエバポレーターにより溶媒を除去して粗生成物を得た。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフ（充填剤：シリカゲル、展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１（重量比））にアプライし、得られた留分から減圧にて溶媒を除去することにより、淡黄色の粘性液体である化合物（Ａ−２−２ｅ）１１１．６ｇを得た。
さらに、窒素雰囲気下、５，０００ｍＬ三口フラスコに、上記化合物（Ａ−２−２ｅ）１００．３ｇ、１，３−ジメチルバルビツル酸７０．３ｇ、テトラキス（トリフェニルホスフィノ）パラジウム（０）３．５ｇおよびジクロロメタン２，０００ｍＬを仕込み、３５℃において８時間攪拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物を濃縮して１，０００ｍＬ程度のジクロロメタンを除去した後、析出した粉末をろ取して回収した。得られた光沢のある淡黄色の粉末をテトラヒドロフラン５，０００ｍＬに溶解した後、得られた溶液に活性炭６０ｇを添加し、室温で１５分間攪拌した。得られた混合物から活性炭をセライトろ過により除去した後、減圧にて溶媒を除去することにより、白色粉末である化合物（Ａ−２−２）６３．０ｇを得た。
得られた化合物（Ａ−２−２）の１Ｈ−ＮＭＲチャートを図３に示した。
【００７９】
＜ポリイミドの合成例＞
合成例ＰＩ−１
テトラカルボン酸二無水物として２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物１１０ｇ（０．５０モル）ならびにジアミンとしてｐ−フェニレンジアミン４３ｇ（０．４０モル）および上記合成例Ａ−１で得た化合物（Ａ−１−１）４９ｇ（０．１０モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン７９８ｇに溶解し、６０℃で６時間反応を行ってポリアミック酸を含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えてポリアミック酸濃度１０重量％の溶液として測定した溶液粘度は６２ｍＰａ・ｓであった。
次いで、得られたポリアミック酸溶液にＮ−メチル−２−ピロリドン２，０００ｇを追加し、ピリジン４０ｇおよび無水酢酸５１ｇを添加して１１０℃で４時間脱水閉環を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなＮ−メチル−２−ピロリドンで溶媒置換（本操作にて脱水閉環反応に使用したピリジンおよび無水酢酸を系外に除去した。以下同じ。）することにより、イミド化率約５０％のポリイミド（Ｂ−１）を約１５重量％含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えてポリイミド濃度１０重量％の溶液として測定した溶液粘度は４９ｍＰａ・ｓであった。
【００８０】
合成例ＰＩ−２
テトラカルボン酸二無水物として２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物６６ｇ（０．３０モル）および１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン６０ｇ（０．２０モル）ならびにジアミンとしてｐ−フェニレンジアミン３８ｇ（０．３５モル）および上記合成例Ａ−２で得た化合物（Ａ−２−１）８１ｇ（０．１５モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン９８０ｇに溶解し、６０℃で６時間反応を行ってポリアミック酸を含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えてポリアミック酸濃度１０重量％の溶液として測定した溶液粘度は５８ｍＰａ・ｓであった。
次いで、得られたポリアミック酸溶液にＮ−メチル−２−ピロリドン２，２８０ｇを追加し、ピリジン４０ｇおよび無水酢酸５１ｇを添加して１１０℃で４時間脱水閉環を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなＮ−メチル−２−ピロリドンで溶媒置換することにより、イミド化率約５０％のポリイミド（Ｂ−２）を約１５重量％含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えてポリイミド濃度１０重量％の溶液として測定した溶液粘度は４８ｍＰａ・ｓであった。
【００８１】
合成例ＰＩ−３
テトラカルボン酸二無水物として２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物８８ｇ（０．４０モル）および１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物２０ｇ（０．１０モル）ならびにジアミンとしてｐ−フェニレンジアミン４８ｇ（０．４５モル）および上記合成例Ａ−３で得た化合物（Ａ−２−２）２６ｇ（０．０５モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン７２８ｇに溶解し、６０℃で６時間反応を行ってポリアミック酸を含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えてポリアミック酸濃度１０重量％の溶液として測定した溶液粘度は６５ｍＰａ・ｓであった。
次いで、得られたポリアミック酸溶液にＮ−メチル−２−ピロリドン１，７００ｇを追加し、ピリジン４０ｇおよび無水酢酸５１ｇを添加して１１０℃で４時間脱水閉環を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなＮ−メチル−２−ピロリドンで溶媒置換することにより、イミド化率約５０％のポリイミド（Ｂ−３）を約１５重量％含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えてポリイミド濃度１０重量％の溶液として測定した溶液粘度は５０ｍＰａ・ｓであった。
【００８２】
合成例ＰＩ−４
テトラカルボン酸二無水物として２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物１１０ｇ（０．５０モル）ならびにジアミンとしてｐ−フェニレンジアミン４３ｇ（０．４０モル）および上記合成例Ａ−１で得た化合物（Ａ−１−１）４９ｇ（０．１０モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン７９８ｇに溶解し、６０℃で４時間反応を行ってポリアミック酸を含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えてポリアミック酸濃度１０重量％の溶液として測定した溶液粘度は４５ｍＰａ・ｓであった。
次いで、得られたポリアミック酸溶液にＮ−メチル−２−ピロリドン２，０００ｇを追加し、ピリジン８０ｇおよび無水酢酸１０２ｇを添加して１１０℃で４時間脱水閉環を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなＮ−メチル−２−ピロリドンで溶媒置換することにより、イミド化率約８０％のポリイミド（Ｂ−４）を約１５重量％含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えてポリイミド濃度１０重量％の溶液として測定した溶液粘度は４９ｍＰａ・ｓであった。
【００８３】
合成例ＰＩ−５
テトラカルボン酸二無水物として２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物１１０ｇ（０．５０モル）ならびにジアミンとしてｐ−フェニレンジアミン３２ｇ（０．３０モル）、４，４’−ジアミノジフェニルメタン１０ｇ（０．０５モル）および上記合成例Ａ−２で得た化合物（Ａ−２−１）８１ｇ（０．１５モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン９３２ｇに溶解し、６０℃で４時間反応を行ってポリアミック酸を含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えてポリアミック酸濃度１０重量％の溶液として測定した溶液粘度は４７ｍＰａ・ｓであった。
次いで、得られたポリアミック酸溶液にＮ−メチル−２−ピロリドン２，１６０ｇを追加し、ピリジン８０ｇおよび無水酢酸１０２ｇを添加して１１０℃で４時間脱水閉環を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなＮ−メチル−２−ピロリドンで溶媒置換することにより、イミド化率約８０％のポリイミド（Ｂ−５）を約１５重量％含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えてポリイミド濃度１０重量％の溶液として測定した溶液粘度は４８ｍＰａ・ｓであった。
【００８４】
合成例ＰＩ−６
テトラカルボン酸二無水物として２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物１１０ｇ（０．５０モル）ならびにジアミンとしてｐ−フェニレンジアミン３８ｇ（０．３５モル）、４，４’−ジアミノジフェニルメタン２０ｇ（０．１０モル）および上記合成例Ａ−３で得た化合物（Ａ−２−２）２６ｇ（０．０５モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン７８０ｇに溶解し、６０℃で４時間反応を行ってポリアミック酸を含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えてポリアミック酸濃度１０重量％の溶液として測定した溶液粘度は４３ｍＰａ・ｓであった。
次いで、得られたポリアミック酸溶液にＮ−メチル−２−ピロリドン１，８００ｇを追加し、ピリジン８０ｇおよび無水酢酸１０２ｇを添加して１１０℃で４時間脱水閉環を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなＮ−メチル−２−ピロリドンで溶媒置換することにより、イミド化率約８０％のポリイミド（Ｂ−６）を約１５重量％含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えてポリイミド濃度１０重量％の溶液として測定した溶液粘度は５０ｍＰａ・ｓであった。
【００８５】
＜ポリイミドの比較合成例＞
比較合成例ｐｉ−１
テトラカルボン酸二無水物として２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物１１０ｇ（０．５０モル）ならびにジアミンとしてｐ−フェニレンジアミン４３ｇ（０．４０モル）および３（３，５−ジアミノベンゾイルオキシ）コレスタン５２ｇ（０．１０モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン８３０ｇに溶解し、６０℃で６時間反応を行ってポリアミック酸を含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えてポリアミック酸濃度１０重量％の溶液として測定した溶液粘度は６０ｍＰａ・ｓであった。
次いで、得られたポリアミック酸溶液にＮ−メチル−２−ピロリドン１，９００ｇを追加し、ピリジン４０ｇおよび無水酢酸５１ｇを添加して１１０℃で４時間脱水閉環を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなＮ−メチル−２−ピロリドンで溶媒置換することにより、イミド化率約５０％のポリイミド（ｂ−１）を約１５重量％含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えてポリイミド濃度１０重量％の溶液として測定した溶液粘度は４７ｍＰａ・ｓであった。
【００８６】
比較合成例ｐｉ−２
テトラカルボン酸二無水物として２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物１１０ｇ（０．５０モル）ならびにジアミンとしてｐ−フェニレンジアミン４３ｇ（０．４０モル）および３（３，５−ジアミノベンゾイルオキシ）コレスタン５２ｇ（０．１０モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン８３０ｇに溶解し、６０℃で４時間反応を行ってポリアミック酸を含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えてポリアミック酸濃度１０重量％の溶液として測定した溶液粘度は４４ｍＰａ・ｓであった。
次いで、得られたポリアミック酸溶液にＮ−メチル−２−ピロリドン１，９００ｇを追加し、ピリジン８０ｇおよび無水酢酸１０２ｇを添加して１１０℃で４時間脱水閉環を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなＮ−メチル−２−ピロリドンで溶媒置換することにより、イミド化率約８０％のポリイミド（ｂ−２）を約１５重量％含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えてポリイミド濃度１０重量％の溶液として測定した溶液粘度は４７ｍＰａ・ｓであった。
【００８７】
比較合成例ｐｉ−３
テトラカルボン酸二無水物として２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物６６ｇ（０．３０モル）および１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン６０ｇ（０．２０モル）ならびにジアミンとしてｐ−フェニレンジアミン３８ｇ（０．３５モル）および３（３，５−ジアミノベンゾイルオキシ）コレスタン７８ｇ（０．１５モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン９７０ｇに溶解し、６０℃で６時間反応を行ってポリアミック酸を含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えてポリアミック酸濃度１０重量％の溶液として測定した溶液粘度は６０ｍＰａ・ｓであった。
次いで、得られたポリアミック酸溶液にＮ−メチル−２−ピロリドン２，２４０ｇを追加し、ピリジン４０ｇおよび無水酢酸５１ｇを添加して１１０℃で４時間脱水閉環を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなＮ−メチル−２−ピロリドンで溶媒置換することにより、イミド化率約５０％のポリイミド（ｂ−３）を約１５重量％含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えてポリイミド濃度１０重量％の溶液として測定した溶液粘度は４７ｍＰａ・ｓであった。
【００８８】
比較合成例ｐｉ−４
テトラカルボン酸二無水物として２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物１１０ｇ（０．５０モル）ならびにジアミンとしてｐ−フェニレンジアミン３２ｇ（０．３０モル）、４，４’−ジアミノジフェニルメタン１０ｇ（０．０５モル）および３（３，５−ジアミノベンゾイルオキシ）コレスタン７８ｇ（０．１５モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン９２０ｇに溶解し、６０℃で４時間反応を行ってポリアミック酸を含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えてポリアミック酸濃度１０重量％の溶液として測定した溶液粘度は４４ｍＰａ・ｓであった。
次いで、得られたポリアミック酸溶液にＮ−メチル−２−ピロリドン２，１４０ｇを追加し、ピリジン８０ｇおよび無水酢酸１０２ｇを添加して１１０℃で４時間脱水閉環を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなＮ−メチル−２−ピロリドンで溶媒置換することにより、イミド化率約８０％のポリイミド（ｂ−４）を約１５重量％含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えてポリイミド濃度１０重量％の溶液として測定した溶液粘度は４７ｍＰａ・ｓであった。
【００８９】
＜液晶配向剤の調製および評価＞
実施例１
（Ｉ）液晶配向剤の調製
上記合成例ＰＩ−１で得たポリイミド（Ｂ−１）を含有する溶液に、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）およびブチルセロソルブ（ＢＣ）を加え、さらにエポキシ化合物としてＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタンをポリイミド１００重量部に対して１０重量部加えて十分に撹拌し、溶媒組成がＮＭＰ：ＢＣ＝５０：５０（重量比）、固形分濃度７．０重量％の溶液とした。この溶液を孔径１μｍのフィルターを用いて濾過することにより、液晶配向剤を調製した。
（ＩＩ）液晶配向剤の評価
上記で調製した液晶配向剤につき、下記の方法により評価を行った。評価結果は表１に示した。
【００９０】
（１）塗布性（塗布後の引き置き時間の影響）の評価
上記で調製した液晶配向剤をＩＴＯ膜からなる透明電極付きガラス基板５枚の各透明電極面に、それぞれ液晶配向膜印刷機（日本写真印刷（株）製）を用いて塗布し、塗布終了時からプレベーク開始時までの時間（引き置き時間）を３０秒、６０秒、８０秒、１００秒および１２０秒と変量して引き置きを行った後、８０℃のホットプレート上で１分間加熱（プレベーク）して溶媒を除去した後、２３０℃のホットプレート上で１０分間加熱（ポストベーク）することにより、それぞれ平均膜厚６００Åの、引き置き時間の異なる塗膜を形成した。この塗膜を倍率２０倍の顕微鏡により印刷ムラおよびピンホールの有無を観察し、印刷ムラおよびピンホールの双方が観察されない最長の引き置き時間を調べた。この値が６０秒以上であれば、塗布性は良好であるといえる。
（２）塗膜の膜厚均一性の評価
上記で形成した塗膜のうちの、印刷ムラおよびピンホールの双方が観察されない最長の引き置き時間にて形成した塗膜につき、触針式膜厚計（ＫＬＡテンコール社製）を用いて基板の中央における膜厚と基板の外側端から１５ｍｍ中央に寄った位置における膜厚とをそれぞれ測定し、両者の膜厚差を調べた。この膜厚差が２０Å以下であれば、膜厚均一性は良好であるといえる。
【００９１】
（３）液晶セルの製造
上記で調製した液晶配向剤を、液晶配向膜印刷機（日本写真印刷（株）製）を用いてＩＴＯ膜からなる透明電極付きガラス基板の透明電極面に塗布し、１分間引き置いた後に、８０℃のホットプレート上で１分間加熱（プレベーク）して溶媒を除去し、更に２３０℃のホットプレート上で１０分間加熱（ポストベーク）して、平均膜厚６００Åの塗膜（液晶配向膜）を形成した。この操作を繰り返すことによってＩＴＯ膜上に液晶配向膜を有する基板一対（２枚）を得た。
次に、上記一対の基板の液晶配向膜を有するそれぞれの外縁に、直径３．５μｍの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤を塗布した後、液晶配向膜面が相対するように重ね合わせて圧着し、接着剤を硬化した。次いで、液晶注入口より一対の基板間に、ネマティック型液晶（メルク社製、ＭＬＣ−６６０８）を充填した後、アクリル系光硬化接着剤で液晶注入口を封止することにより、液晶セルを製造した。
（４）電圧保持率の評価
上記で製造した液晶表示セルに対し、６０℃において５Ｖの電圧を６０マイクロ秒の印加時間、１６７ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から１６７ミリ秒後の電圧保持率（ＶＨＲ０）を、測定装置として（株）東陽テクニカ製、「ＶＨＲ−１」を用いて測定した。
（５）耐熱安定性の評価
上記で製造した液晶セルにつき、交流６．０Ｖ（ピーク−ピーク）を重畳した３０Ｈｚ、３．０Ｖの矩形波を、７０℃の環境温度で５００時間印加した。５００時間経過後のセルの電圧保持率（ＶＨＲ５００）を上記（４）と同様にして測定し、この値を初期値（上記（４）で測定した電圧保持率、ＶＨＲ０）と比較して、両者の差（△ＶＨＲ）を下記式（２）
△ＶＨＲ（％）＝ＶＨＲ０−ＶＨＲ５００      （２）
により調べた。この値が１０％未満であった場合を耐熱安定性「良好」、１０％以上であった場合を耐熱安定性「不良」として評価した。
【００９２】
実施例２〜１２、比較例１〜４
上記実施例１において、ポリイミド（Ｂ−１）を含有する溶液の代わりに表１に記載した重合体を含有する溶液をそれぞれ用い、エポキシ化合物の使用量を表１に記載のとおりとしたほかは実施例１と同様にして液晶配向剤を調製して評価した。評価結果は表１に示した。
なお、比較例２および４においては、ポリイミドを含有する溶液にＮ−メチル−２−ピロリドンおよびブチルセロソルブを加えた時点でポリイミドの析出が見られたため、液晶配向剤の評価をすることはできなかった。
比較例５および６
比較例２および４において、Ｎ−メチル−２−ピロリドン：ブチルセロソルブ＝７０：３０（重量比）となるように両溶媒を加えたほかは、比較例２および４とそれぞれ同様にして液晶配向剤を調製して評価した。
評価結果は表１に示した。
【００９３】
【表１】
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【図１】
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【図２】
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【図３】
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