(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
広帯域波長の光を出射する光源と、
前記光源からの光を参照光と測定光とに分割する分割手段と、
前記分割手段により分割された前記参照光を伝達する参照光伝達手段と、
前記参照光伝達手段を介して伝達された前記参照光を反射し、前記参照光伝達手段に入射させるための参照ミラーと、
前記分割手段により分割された前記測定光を伝達する測定光伝達手段と、
前記測定光伝達手段を介して伝達された前記測定光を、被検体に向かって集光させると共に、前記被検体から反射した測定光を受光して、前記測定光伝達手段に入射させるための集光光学系を含むプローブと、
前記参照光伝達手段を介して戻った前記参照光と、前記測定光伝達手段を介して戻った前記測定光とを合成して合成光を形成する合成手段と、
前記合成手段により形成された合成光より干渉信号を取得する干渉信号取得手段と、
前記干渉信号取得手段により取得された前記干渉信号を周波数成分に分解して、それに応じて前記被検体の断層画像を取得する画像取得手段とを有し、
前記集光光学系は、少なくとも１つの反射面を有し、
前記分割手段から前記参照光伝達手段に沿って前記参照ミラーを経て前記合成手段に至るまでの参照光路長が、前記分割手段から前記測定光伝達手段に沿って前記集光光学系の集光位置を経て前記合成手段に至るまでの測定光路長より長いことを特徴とする光干渉断層画像取得装置。
【請求項２】
前記参照光路長と前記測定光路長との光路長差Δｌは、以下の式を満たすことを特徴とする請求項１に記載の光干渉断層画像取得装置。
０．３／π・（λ／ＮＡ2）＜Δｌ＜３．０／π・（λ／ＮＡ2） （１）
但し、ＮＡは被検体に入射する１／ｅ2強度光線の開口数ＮＡであり、λは前記光源から出射される光の中心波長である。
【請求項３】
前記反射面の位置は、前記反射面で反射した反射光が前記干渉信号として取得される画像取得範囲にあることを特徴とする請求項１または２に記載の光干渉断層画像取得装置。
【請求項４】
前記画像取得範囲は、前記干渉信号を検出するデータのサンプリング数により決定されることを特徴とする請求項３に記載の光干渉断層画像取得装置。
【請求項５】
前記画像取得範囲は、前記プローブから出射する測定光の可干渉距離により決定されることを特徴とする請求項３に記載の光干渉断層画像取得装置。
【請求項６】
前記画像取得範囲は、２０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項３に記載の光干渉断層画像取得装置。
【請求項７】
前記集光光学系の反射面は、入射した前記測定光を反射して光軸に沿って戻すことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光干渉断層画像取得装置。
【請求項８】
広帯域波長の光を出射する光源と、
前記光源からの光を参照光と測定光とに分割する分割手段と、
前記分割手段により分割された前記参照光を伝達する参照光伝達手段と、
前記参照光伝達手段を介して伝達された前記参照光を反射し、前記参照光伝達手段に入射させるための参照ミラーと、
前記分割手段により分割された前記測定光を伝達する測定光伝達手段と、
前記測定光伝達手段を介して伝達された前記測定光を、被検体に向かって集光させると共に、前記被検体から反射した測定光を受光して、前記測定光伝達手段に入射させるための集光光学系を含むプローブと、
前記参照光伝達手段を介して戻った前記参照光と、前記測定光伝達手段を介して戻った前記測定光とを合成して合成光を形成する合成手段と、
前記合成手段により形成された合成光より干渉信号を取得する干渉信号取得手段と、
前記干渉信号取得手段により取得された前記干渉信号を周波数成分に分解して、それに応じて前記被検体の断層画像を取得する画像取得手段とを有する光干渉断層画像取得装置に用いるプローブであって、
前記プローブの集光光学系は、少なくとも１つの反射面を有し、前記分割手段から前記参照光伝達手段に沿って前記参照ミラーを経て前記合成手段に至るまでの参照光路長が、前記分割手段から前記測定光伝達手段に沿って前記集光光学系の集光位置を経て前記合成手段に至るまでの測定光路長より長いことを特徴とするプローブ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＳＳ−ＯＣＴ（Ｓｗｅｐｔ Ｓｏｕｒｃｅ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｈｅｒｅｎｃｅ Ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ）やＳＤ−ＯＣＴ（Ｓｐｅｃｔｒａｌ Ｄｏｍａｉｎ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｈｅｒｅｎｃｅ Ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ）などを含む、ＦＤ−ＯＣＴ（Ｆｏｕｒｉｅｒ Ｄｏｍａｉｎ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｈｅｒｅｎｃｅ Ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ）計測により光干渉断層画像を取得する光干渉断層画像取得装置及び光干渉断層画像取得装置に用いるプローブに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、生体の体腔内を観察する内視鏡装置として、照明光が照射された生体から反射した反射光を用いて生体の像を撮像し、モニタ等に表示する電子内視鏡装置が広く普及され様々な分野で利用されている。また多くの内視鏡は鉗子口を備え、この鉗子口から鉗子チャンネルを介して体腔内に導入されたプローブにより、体腔内の組織の生検や治療を行うことができる。【０００３】
上述した内視鏡装置として超音波を用いた超音波断層画像取得装置等が知られているが、その他にＯＣＴ計測を用いた光断層画像化装置が用いられることがある（特許文献１参照）。プローブは体腔内に導入するために外形の細いプローブなどが用いられている（特許文献２参照）。
このＯＣＴ計測は、光干渉計測の一種であり、光源から射出された低コヒーレント光を測定光と参照光とに分割し、該測定光を被検体に照射してその反射光、もしくは後方散乱光と、参照ミラーで反射した参照光とを合波し、該反射光と参照光との干渉光の強度に基づいて断層画像を取得するものである。【０００４】
上記のＯＣＴ計測には、大きくわけてＴＤ（Ｔｉｍｅ  ｄｏｍａｉｎ）−ＯＣＴ計測とＦＤ（Ｆｏｕｒｉｅｒ  Ｄｏｍａｉｎ）−ＯＣＴ計測の２種類がある。ＴＤ−ＯＣＴ計測は、参照光の光路長を変更しながら干渉光強度を測定することにより、測定対象の深さ方向の位置（以下、深さ位置という）に対応した反射光強度分布を取得する方法である。【０００５】
一方、ＦＤ−ＯＣＴ計測は、参照光と信号光の光路長は変えることなく、光のスペクトル成分毎に干渉光強度を測定し、ここで得られたスペクトル干渉強度信号を計算機にてフーリエ変換に代表される周波数解析を行うことで、深さ位置に対応した反射光強度分布を取得する方法である。ＦＤ−ＯＣＴ計測は、ＴＤ−ＯＣＴ計測に存在する機械的な走査が不要となることで、高速な測定が可能となる手法として、近年注目されている。【０００６】
ＦＤ−ＯＣＴ計測を行う装置構成で代表的なものとしては、ＳＤ（Ｓｐｅｃｔｒａｌ  Ｄｏｍａｉｎ）−ＯＣＴ装置とＳＳ（Ｓｗｅｐｔ  ｓｏｕｒｃｅ）−ＯＣＴ装置の２種類が挙げられる。ＳＤ−ＯＣＴ装置は、広帯域の低コヒーレント光を用い、干渉光を分光手段により各光周波数成分に分解し、アレイ型光検出器等にて各光周波数成分毎の干渉光強度を測定し、ここで得られたスペクトル干渉波形を計算機でフーリエ変換解析することにより、断層画像を構成するようにしたものである。ＳＳ−ＯＣＴ装置は、光周波数を時間的に掃引させるレーザ等を光源に用い、干渉光の光周波数の時間変化に対応した信号の時間波形を測定し、これにより得られたスペクトル干渉強度信号を計算機でフーリエ変換することにより断層画像を構成するようにしたものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−２８９８５０号公報
【特許文献２】米国特許第６８９１９８４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかるに、ＯＣＴ計測において測定光を照射するプローブは、被検体である人体の組織に接近するか、もしくは接触させて用いられるため、特許文献１に示すように、透明な筒状のシースによって測定光の集光光学系が覆われている。特に、特許文献１の従来技術では、被検体との接触面積を高めるために、シースを三角筒状としているが、これにより集光光学系によって集光される測定光の一部がシースの側面で反射され、この反射光が被検体からの反射光と共に参照光と合波されると、断層画像上のノイズとして顕在化し、被検体の画像と区別しにくくなるという問題がある。また、シースの側面での反射率が低くても一定のノイズが現れることから、例えシースの面に反射防止膜を形成しても根本的な対策とならないといえる。【０００９】
これに対し、特許文献２には、プローブ出射先端に設けたプリズム面を所定の角度に傾けることで、プリズム面での測定光の反射光を別な方向に向け、それにより被検体からの反射光のみを参照光と合波させようとする構成が開示されている。しかしながら、プローブに設けたプリズムは小さいため、所定の角度に傾けた面の精度を出しにくく、コストが増大するという問題がある。又、例えプリズム面を所定の角度に傾けた場合でも、その反射光が参照光と合波されることを完全に阻止することは困難である。【００１０】
本発明は、上述の問題に鑑みてなされたものであり、簡素な構成でありながら、集光光学系の反射面からの測定光の反射の影響を光干渉断層画像から有効に取り除いて、高画質な光干渉断層画像を形成することが出来る光干渉断層画像取得装置及び光干渉断層画像取得装置に用いるプローブを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
請求項１に記載の光干渉断層画像取得装置は、
広帯域波長の光を出射する光源と、
前記光源からの光を参照光と測定光とに分割する分割手段と、
前記分割手段により分割された前記参照光を伝達する参照光伝達手段と、
前記参照光伝達手段を介して伝達された前記参照光を反射し、前記参照光伝達手段に入射させるための参照ミラーと、
前記分割手段により分割された前記測定光を伝達する測定光伝達手段と、
前記測定光伝達手段を介して伝達された前記測定光を、被検体に向かって集光させると共に、前記被検体から反射した測定光を受光して、前記測定光伝達手段に入射させるための集光光学系を含むプローブと、
前記参照光伝達手段を介して戻った前記参照光と、前記測定光伝達手段を介して戻った前記測定光とを合成して合成光を形成する合成手段と、
前記合成手段により形成された合成光より干渉信号を取得する干渉信号取得手段と、
前記干渉信号取得手段により取得された前記干渉信号を周波数成分に分解して、それに応じて前記被検体の断層画像を取得する画像取得手段とを有し、
前記集光光学系は、少なくとも１つの反射面を有し、
前記分割手段から前記参照光伝達手段に沿って前記参照ミラーを経て前記合成手段に至るまでの参照光路長が、前記分割手段から前記測定光伝達手段に沿って前記集光光学系の集光位置を経て前記合成手段に至るまでの測定光路長より長いことを特徴とする。【００１２】
一般的に、ＳＤ−ＯＣＴ計測又はＳＳ−ＯＣＴ計測において、光源から参照ミラーまでの参照光路長と、光源から被検体までの測定光路長との間に大きな差があると、参照ミラーで反射した参照光と、被検体で反射した測定光とが干渉しにくくなり、有効な光干渉断層画像を形成できない。そこで、光源から参照ミラーまでの参照光路長と、光源から被検体までの測定光路長とを近づけたい。ところが、測定光の集光光学系に反射面がある場合、かかる反射面は被検体に比較的接近しているので、その反射光をピックアップしてしまうことにより、被検体からの反射光と区別できなくなる恐れがある。【００１３】
これに対し本発明によれば、前記光源から前記参照ミラーまでの参照光路長が、前記光源から前記集光光学系の集光位置までの測定光路長より長いので、測定光の集光光学系に反射面があって、かかる反射面から反射光が生じても、被検体からの反射光と明確に区別でき、しかも集光光学系の反射面と参照ミラーとが光路長方向に離れるので、可干渉性が減少し、反射面からの干渉信号波形が小さくなる。また、被検体からの反射光との可干渉性は比較的大きくなるため、ＳＮ（Ｓｉｇｎａｌ  ｔｏ  Ｎｏｉｓｅ）比の良い高画質な光干渉断層画像を形成できる。尚、「集光光学系」とはパワーを持つ光学素子のみならず、測定光伝達手段と被検体との間に配置され、測定光を透過もしくは反射する全ての要素を含む。又、「参照光伝達手段」とは、参照光が往復伝達される光路をいうが、往路と復路が異なる場合も含む。この場合、参照ミラーに向かう参照光は通過するが、参照ミラーから反射した参照光が通過しない参照光伝達手段も存在し、或いは参照ミラーから反射した参照光は通過するが、参照ミラーへ向かう参照光が通過しない参照光伝達手段も存在する。同様に、「測定光伝達手段」とは、測定光が往復伝達される光路をいうが、往路と復路が異なる場合も含む。この場合、被検体に向かう測定光は通過するが、被検体から反射した測定光が通過しない測定光伝達手段も存在し、或いは被検体から反射した測定光は通過するが、被検体へ向かう測定光が通過しない測定光伝達手段も存在する。【００１４】
請求項２に記載の光干渉断層画像取得装置は、請求項１に記載の発明において、前記参照光路長と前記測定光路長との光路長差Δｌは、以下の式を満たすことを特徴とする。これにより、前記参照ミラーで反射した参照光と、前記被検体で反射した測定光とを干渉しやすくでき、有効な光干渉断層画像を形成できる。より具体的には、光路長差Δｌが、（１）式の下限を下回ると被検体からの信号を可干渉性の良い状態で取得できるが取得される干渉信号はより低周波となり、直流成分の信号とオーバーラップしてしまい、高ＳＮ比の画像が得られない。言い換えると、干渉信号をフーリエ変化した時、直流成分の干渉信号は原点位置付近に発生するが、これと被検体からの信号の画像分離が困難になると言える。また、光路長差Δｌが、（１）式の上限を上回ると可干渉性が悪くなり高ＳＮ比の画像が得られなくなる。よって、（１）式を満たすのが好ましい。【００１５】
０．３／π・（λ／ＮＡ２）＜Δｌ＜３．０／π・（λ／ＮＡ２）      （１）
但し、ＮＡは被検体に入射する１／ｅ２強度光線の開口数ＮＡであり、λは前記光源から出射される光の中心波長である。（１）式は、レイリー長を基に干渉可能性の程度割合を表した式である。【００１６】
請求項３に記載の光干渉断層画像取得装置は、請求項１又は２に記載の発明において、前記反射面の位置は、前記反射面で反射した反射光が前記干渉信号として取得される画像取得範囲にあることを特徴とする。なお、画像取得範囲とは、光干渉断層画像取得装置が測定できる奥行き方向（δｚ）の範囲を言う。【００１７】
請求項４に記載の光干渉断層画像取得装置は、請求項３に記載の発明において、前記画像取得範囲は、前記干渉信号を検出するデータのサンプリング数により決定されることを特徴とする。ここで、被検体のサンプリング点の数をＮ、サンプリング中の走査する波長をδλ、測定光の中心波長をλＣとすると、画像取得範囲δＺは以下の式で表せる（２６  Ｄｅｃｅｍｂｅｒ  ２００５／Ｖｏｌ．１３、Ｎｏ．２６／ＯＰＴＩＣＳ  ＥＸＰＲＥＳＳ  １０６５２参照）。【００１８】
δＺ＝ＮλＣ２／４δλ      （２）
請求項５に記載の光干渉断層画像取得装置は、請求項３に記載の発明において、前記画像取得範囲は、前記プローブから出射する測定光の可干渉距離により決定されることを特徴とする。「可干渉距離」とは、干渉が可能な距離をいう。【００１９】
請求項６に記載の光干渉断層画像取得装置は、請求項３に記載の発明において、前記画像取得範囲は、２０ｍｍ以下であることを特徴とする。【００２０】
請求項７に記載の光干渉断層画像取得装置は、請求項１〜６のいずれかに記載の発明において、前記集光光学系の反射面は、入射した前記測定光を反射して光軸に沿って戻すことを特徴とする。前記反射面は、平面又は球面もしくは非球面を含む。【００２１】
請求項８に記載の光干渉断層画像取得装置に用いるプローブは、
広帯域波長の光を出射する光源と、
前記光源からの光を参照光と測定光とに分割する分割手段と、
前記分割手段により分割された前記参照光を伝達する参照光伝達手段と、
前記参照光伝達手段を介して伝達された前記参照光を反射し、前記参照光伝達手段に入射させるための参照ミラーと、
前記分割手段により分割された前記測定光を伝達する測定光伝達手段と、
前記測定光伝達手段を介して伝達された前記測定光を、被検体に向かって集光させると共に、前記被検体から反射した測定光を受光して、前記測定光伝達手段に入射させるための集光光学系を含むプローブと、
前記参照光伝達手段を介して戻った前記参照光と、前記測定光伝達手段を介して戻った前記測定光とを合成して合成光を形成する合成手段と、
前記合成手段により形成された合成光より干渉信号を取得する干渉信号取得手段と、
前記干渉信号取得手段により取得された前記干渉信号を周波数成分に分解して、それに応じて前記被検体の断層画像を取得する画像取得手段とを有する光干渉断層画像取得装置に用いるプローブであって、
前記プローブの集光光学系は、少なくとも１つの反射面を有し、前記分割手段から前記参照光伝達手段に沿って前記参照ミラーを経て前記合成手段に至るまでの参照光路長が、前記分割手段から前記測定光伝達手段に沿って前記集光光学系の集光位置を経て前記合成手段に至るまでの測定光路長より長いことを特徴とする。【００２２】
本発明によれば、前記光源から前記参照ミラーまでの参照光路長が、前記光源から前記集光光学系の集光位置までの測定光路長より長いので、測定光の集光光学系に反射面があって、かかる反射面から反射光が生じても、被検体からの反射光と明確に区別でき、しかも集光光学系の反射面と参照ミラーとが光路長方向に離れるので、ノイズとしての反射面の波形がより小さくなり、よって高画質な光干渉断層画像を形成できる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、簡素な構成でありながら、集光光学系の反射面からの測定光の反射の影響を光干渉断層画像から有効に取り除いて、高画質な光干渉断層画像を形成することが出来る光干渉断層画像取得装置及び光干渉断層画像取得装置に用いるプローブを提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本実施の形態にかかる光干渉断層画像取得装置の外観斜視図である。
【図２】本発明の光干渉断層画像取得装置の好ましい実施の形態を示すブロック図である。
【図３】第１の実施の形態にかかるプローブＰＬＢの先端部分を示す断面図である。
【図４】図４（ａ）は、第１比較例にかかる参照ミラーと被検体の位置との関係を示す図であり、図４（ｂ）は、第１比較例において合成光から取得された干渉信号をフーリエ変換して得られた断層画像の図であり、縦軸が信号強度、横軸が光学距離（光路長に沿った距離）である。図４（ｃ）は、第３比較例にかかる参照ミラーと被検体の位置との関係を示す図であり、図４（ｄ）は、第３比較例において合成光から取得された干渉信号をフーリエ変換して得られた断層画像の図である。
【図５】図５（ａ）は、第１実施例にかかる参照ミラーと被検体の位置との関係を示す図であり、図５（ｂ）は、第１実施例において合成光から取得された干渉信号をフーリエ変換して得られた断層画像の図であり、縦軸が信号強度、横軸が光学距離（光路長に沿った距離）である。
【図６】図６（ａ）は、第２比較例にかかる参照ミラーと被検体の位置との関係を示す図であり、図６（ｂ）は、第２比較例において合成光から取得された干渉信号をフーリエ変換して得られた断層画像の図であり、縦軸が信号強度、横軸が光学距離（光路長に沿った距離）である。
【図７】図７（ａ）は、第２実施例にかかる参照ミラーと被検体の位置との関係を示す図であり、図７（ｂ）は、第２実施例において合成光から取得された干渉信号をフーリエ変換して得られた断層画像の図であり、縦軸が信号強度、横軸が光学距離（光路長に沿った距離）である。
【図８】第２の実施の形態にかかるプローブの断面図である。
【図９】第３の実施の形態にかかるプローブの断面図である。
【図１０】第４の実施の形態にかかるプローブの断面図である。
【図１１】別の実施の形態にかかる光干渉断層画像取得装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。図１は、本実施の形態にかかる光干渉断層画像取得装置の外観斜視図である。光干渉断層画像取得装置は、ＯＣＴ計測により被検体Ｓの断層画像を取得する本体ＭＢと、該本体ＭＢに着脱可能に取り付けられ、測定光を測定対象まで導波するプローブＰＬＢとを備えている。このプローブＰＬＢは、取り外して洗浄・消毒、または別プローブに付替えをおこなうことができるようになっている。
【００２８】
図２は、本実施の形態にかかる光干渉断層画像取得装置の概略構成図である。ここではＳＤ−ＯＣＴの構成をとっている。光干渉断層画像取得装置の本体ＭＢは、広帯域波長の低コヒーレント光Ｌを射出する光源ＳＬＤと、光源ＳＬＤから射出された低コヒーレント光Ｌを伝達する光ファイバＦＢ１と、光ファイバＦＢ１の末端に一体的に形成されたカプラＢＳと、カプラＢＳにより分割された測定光Ｌ１をプローブＰＬＢ側に導くと共に、プローブＰＬＢ側からの測定光Ｌ１をカプラＢＳまで伝達する光ファイバＦＢ２と、カプラＢＳにより分割された参照光Ｌ２を参照ミラーＲＭ側に導くと共に、参照ミラーＲＭ側からの参照光Ｌ２をカプラＢＳまで伝達する光ファイバＦＢ３と、光ファイバＦＢ３の端部から出射された参照光Ｌ２を平行光に変換する参照光学系ＲＯＰと、参照光学系ＲＯＰからの平行光を反射する参照ミラーＲＭと、参照ミラーＲＭの位置を調整する調整装置ＡＤＪと、調整装置ＡＤＪと、プローブＰＬＢの駆動装置ＤＲとを制御する制御装置ＣＯＮＴと、カプラＢＳでプローブＰＬＢ側からの測定光Ｌ１と参照ミラーＲＭから反射した参照光Ｌ２とを合成することにより得られた合成光Ｌ５を伝達する光ファイバＦＢ４と、光ファイバＦＢ４により伝達された合成光Ｌ５から干渉信号を取得する干渉信号検出部ＩＳＤと、干渉信号検出部ＩＳＤで取得された干渉信号をフーリエ変換することで周波数解析を行い、光干渉断層画像を取得する画像処理部ＩＰと、画像処理部ＩＰからの信号に基づいて光干渉断層画像を表示するモニタＭＮＴとを有している。
【００２９】
ここで、光源ＳＬＤは、たとえばＳＬＤ（Ｓｕｐｅｒ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ  Ｄｉｏｄｅ）やＡＳＥ（Ａｍｐｌｉｆｉｅｄ  Ｓｐｏｎｔａｎｅｏｕｓ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ）等の広帯域波長の低コヒーレント光を射出するレーザ光源からなっている。なお、光干渉断層画像取得装置は、生体を被検体Ｓとしたときの断層画像を取得するものであるため、被検体Ｓ内を透過するときの散乱・吸収による光の減衰を最小限に抑えることができる、たとえば広スペクトル帯域の超短パルスレーザ光源等を用いるのが好ましい。
【００３０】
光ファイバＦＢ１、ＦＢ２、ＦＢ３、ＦＢ４と一体であるカプラＢＳは、たとえば２×２の光ファイバカプラからなっており、光源ＳＬＤから光ファイバＦＢ１を介して導波された低コヒーレント光Ｌを、測定光Ｌ１と参照光Ｌ２に分割するようになっていると共に、戻ってきた測定光Ｌ１と参照光Ｌ２とを合成して、光ファイバＦＢ４に出力する。測定光Ｌ１は光ファイバＦＢ２により導波され、参照光Ｌ２は光ファイバＦＢ３に導波され、合成光Ｌ５は光ファイバＦＢ４により導波されるようになっている。ここでは、光ファイバＦＢ１、ＦＢ２、ＦＢ３、ＦＢ４とカプラＢＳとが光伝達手段を構成する。但し、光ファイバＦＢ１、ＦＢ２、ＦＢ３、ＦＢ４とカプラＢＳとは別部材から構成されて、連結されるようになっていても良い。尚、光ファイバの先端はフェルールと呼ばれる保護筒内に設けられているが、本明細書では省略する。
【００３１】
光ファイバＦＢ２は、プローブＰＬＢの内部光ファイバＦＢに、光学的カップリングＣＰＬを介して接続され、測定光Ｌ１は、光ファイバＦＢ２からプローブＰＬＢへ導波されるようになっている。光学的カップリングＣＰＬは、後述する駆動装置ＤＲの駆動によって、光ファイバＦＢ２と、内部光ファイバとの間に相対変位が生じた場合でも、測定光Ｌ１の伝達を可能とするものである。
【００３２】
図３はプローブＰＬＢの先端部分を示す断面図であり、図２と図３を参照してプローブＰＬＢについて説明する。プローブＰＬＢは、たとえば体腔内に挿入されたり、生体に近接して配置されるものであって、光ファイバＦＢ２を包囲するフェルール端に設けられたコネクタＣＮ（図１）に連結される。図３において、プローブＰＬＢは、丸筒状又は角筒状のシースＣＹと、シースＣＹ内において環状のトルクワイヤガイド（軸受）ＴＷＧにより支持された中空のフレキシブルなトルクワイヤＴＷと、シースＣＹの外部に設けられトルクワイヤＴＷを回転変位及び軸線方向変位させる駆動装置ＤＲと、トルクワイヤＴＷの端部に外周を固定され内部光ファイバＦＢの端部に連結された凸レンズＰＬとを有している。駆動装置ＤＲと、本体ＭＢの制御装置ＣＯＮＴとは配線Ｈにより接続されている。シースＣＹはたとえば可撓性のある樹脂等から形成され、シースＣＹの先端部分には内部を封止すると共に、測定光Ｌ１と透過するための透明な平行平板ＰＰが固定されている。トルクワイヤＴＷは、たとえば金属線材を螺旋状に巻回した２重の密着コイルからなるものであって、各密着コイルはそれぞれ巻回方向が反対なるように巻回されており、従って可撓性は有するが、駆動装置ＤＲにより一端を回転変位／軸線方向変位させると、曲がった状態でも他端も同方向に変位するようになっている。平行平板ＰＰは、凸レンズＰＬと同軸に取り付けられているが、角度付けされて取り付けられていても良い。
【００３３】
光干渉断層画像取得装置の動作（光干渉断層画像取得方法）について説明する。まず、制御装置ＣＯＮＴは、プローブＰＬＢの固有のデータを読み出して、それに応じて、調整装置ＡＤＪを駆動制御して参照ミラーＲＭの位置を調整する。これにより、常に光源から参照ミラーＲＭまでの参照光路長は、光源から被検体Ｓの集光位置ＦＰまでの測定光路長より長くなっている。
【００３４】
図２において、光源ＳＬＤから射出された低コヒーレント光Ｌは、光ファイバＦＢ１の内部を伝播し、分割手段である（但しここでは合成手段を兼ねる）カプラＢＳで測定光Ｌ１と参照光Ｌ２とに分割される。カプラＢＳにより分割された測定光Ｌ１は、測定光伝達手段である光ファイバＦＢ２の内部を伝播し、光学的カップリングＣＰＬを介してプローブＰＬＢに入射する。図３において、光ファイバＦＢ２を介してプローブＰＬＢ側に伝達された測定光Ｌ１は、光学的カップリングＣＰＬを介して連結された内部光ファイバＦＢに入射し、内部光ファイバＦＢを出射後に凸レンズＰＬにより収束光に変換され、平行平板ＰＰを通過して、被検体の組織に集光されるようになっている。被検体からの反射光Ｌ３は、平行平板ＰＰを通過して、凸レンズＰＬにより内部光ファイバＦＢの端面に集光され、更に内部光ファイバＦＢを通り、光学的カップリングＣＰＬを介して光ファイバＦＢ２に戻され、光ファイバＦＢ２に沿ってカプラＢＳに向かう。
【００３５】
一方、図２において、カプラＢＳにより分割された参照光Ｌ２は、参照光伝達手段である光ファイバＦＢ３の内部を伝播し、その端面から参照光学系ＲＯＰに入射して、参照ミラーＲＭに向かって照射される。参照光Ｌ２は、参照ミラーＲＭで反射されて、反射光としての参照光Ｌ４となり、参照ミラーＲＭで反射され、光ファイバＦＢ３の端部から入射し、光ファイバＦＢ３に沿ってカプラＢＳに向かう。カプラＢＳにより反射光Ｌ３と反射光Ｌ４とが合成され、この合成光Ｌ５は、干渉信号取得手段である干渉信号検出部ＩＳＤに伝達されて、ここで干渉信号が取得される。画像取得手段である画像処理部ＩＰは、この干渉信号を入力して、干渉信号を周波数成分に分解する周波数解析、すなわちフーリエ変換することで周波数解析を行い、光干渉断層画像を取得する。制御装置ＣＯＮＴが、駆動装置ＤＲを介してプローブＰＬＢのトルクワイヤＴＷを変位させて測定光Ｌ１を被検体Ｓ上で走査させれば、この走査方向に沿った各組織において被検体Ｓの深さ方向の情報が得られるので、この走査方向を含む断層面についての断層画像を取得することができる。このようにして取得された断層画像は、モニタＭＮＴに表示される。
【００３６】
ここで、干渉信号検出部ＩＳＤにおける干渉光の検出および画像処理部ＩＰにおける画像の生成について簡単に説明する。なお、この詳細については「武田  光夫、「光周波数走査スペクトル干渉顕微鏡」、光技術コンタクト、２００３、Ｖｏｌ４１、Ｎｏ７、ｐ４２６−ｐ４３２」に詳しい記載がある。
【００３７】
測定光Ｌ１が被検体Ｓに照射されたとき、被検体Ｓの各組織の深さからの反射光Ｌ３と、参照ミラーＲＭで反射された参照光Ｌ４との合成光Ｌ５において、いろいろな光路長差をもって干渉しあう際の各光路長差ｌに対する干渉縞の光強度をＳ（ｌ）とすると、干渉信号検出部ＩＳＤにおいて検出される光強度Ｉ（ｋ）は、
Ｉ（ｋ）＝∫０∞Ｓ（ｌ）［１＋ｃｏｓ（ｋｌ）］ｄｌ      （３）
で表される。ここで、ｋは波数、ｌは光路長差である。式（３）は波数ｋを変数とする光周波数領域のインターフェログラムとして与えられていると考えることができる。このため、画像処理部ＩＰにおいて、干渉信号検出部ＩＳＤが検出した干渉光をフーリエ変換にかけて周波数解析を行い、干渉光の光強度Ｓ（ｌ）を決定することにより、被検体Ｓの各組織の深さ位置における反射情報を取得し、断層画像を生成することができる。そして、画像処理部ＩＰにて生成された断層画像は、モニタＭＮＴにおいて表示される。
【００３８】
次に、参照ミラーＲＭの位置について考察する。図４（ａ）は、第１比較例にかかる参照ミラーと被検体の位置との関係を示す図であり、図４（ｂ）は、第１比較例において合成光から取得された干渉信号をフーリエ変換して得られた断層画像の図である。図４（ｃ）は、第３比較例にかかる参照ミラーと被検体の位置との関係を示す図であり、図４（ｄ）は、第３比較例において合成光から取得された干渉信号をフーリエ変換して得られた断層画像の図である。図５（ａ）は、第１実施例にかかる参照ミラーと被検体の位置との関係を示す図であり、図５（ｂ）は、第１実施例において合成光から取得された干渉信号をフーリエ変換して得られた断層画像の図である。なお、断層画像には電気信号や光学的ゆらぎによりバックグラウンドに発生するランダムなノイズが検出させるがここでは図示していない。
【００３９】
ここで、凸レンズＰＬと平行平板ＰＰとが集光光学系を構成するが、シースＣＹの端部に取り付けられた平行平板ＰＰを測定光Ｌ１が通過するので、平行平板ＰＰの両面（集光光学系の反射面を構成する凸レンズＰＬ側の面ＰＰ１と被検体Ｓ側の面ＰＰ２）から、或る程度の反射光が発生し光軸に沿って戻る。しかるに、図４（ａ）、（ｂ）の第１比較例の場合、カプラＢＳから参照ミラーＲＭまでの参照光路長ＲＬ（分割手段から参照ミラーＲＭまでの往路と、参照ミラーＲＭから合成手段までの復路とが異なる場合は、往路長＋復路長、以下同じ）が、カプラＢＳから被検体Ｓの集光位置ＦＰまでの測定光路長ＭＬ（分割手段から集光位置ＦＰまでの往路と、集光位置ＦＰから合成手段までの復路とが異なる場合は、往路長＋復路長、以下同じ）より短い。かかる場合、平行平板ＰＰの両面からの反射光が、参照光と干渉することによって、図４（ｂ）に示すように、原点（光路長に沿った参照ミラーの位置）に近い位置に２つの大きなパルス状の波形ＷＳ１，ＷＳ２が生じることとなる。一方、被検体Ｓの組織を示す波形ＷＳ３は、パルス状の波形ＷＳ１，ＷＳ２より原点から遠い位置に生じる。尚、干渉光をフーリエ変換処理すると、図に示すように原点を中心として鏡像の波形が生じる。
【００４０】
一般的にＯＣＴ計測においては、参照光路長ＲＬと測定光路長ＭＬとの差Δｌが大きいと、可干渉性が悪くなり信号のＳＮ比が小さくなり、断層画像を形成したときにノイズとの識別が難しくなる。よって、図４の比較例の場合、波形ＷＳ３の波形が小さくなりＳＮ比が悪く、高画質の画像を取得できない。
【００４１】
一方で、図４（ｃ）、（ｄ）に示す第３比較例の場合、可干渉性の良い状態で被検体Ｓからの信号Ｗ３を取得できるように参照ミラーＲＭの位置を被検体Ｓに近づけた様子を示す。ここで参照ミラーＲＭの位置は、参照光路長ＲＬが測定光路長ＭＬより短くかつ平行平板ＰＰの両面から反射された反射光の光路長より長くなる（即ち参照ミラーＲＭは平行平板ＰＰより光源から遠い位置に配置される）ように設定されている。かかる場合、平行平板ＰＰの両面からの反射光が、参照光と干渉することによって、図４（ｄ）に示すように、原点に近い位置で波形ＷＳ１，ＷＳ２が、被検体Ｓの組織を示す波形ＷＳ３と重なってしまい、正確な断層画像を得ることができなくなる。このように構成上反射面を有してしまう測定プローブにおいて高画質な画像を取得する事が困難である。
【００４２】
これに対し、図５に示す第１実施例の場合、カプラＢＳから参照ミラーＲＭまでの参照光路長ＲＬを、カプラＢＳから被検体Ｓの集光位置ＦＰまでの測定光路長ＭＬより長くしている。これにより、平行平板ＰＰの両面からの反射光が、参照光と干渉することによって、図５（ｂ）に示すようにフーリエ変換後に発生する不要な信号であるパルス状の波形ＷＳ１，ＷＳ２が生じたとしても、被検体Ｓの組織を示す波形ＷＳ３と信号を分離でき、かつ原点に近い位置で取得される波形ＷＳ３は可干渉性が良好で信号のＳＮ比が大きくなるため、高画質な断層画像を形成できることとなる。この構成のように参照ミラー位置を設定すれば、反射面である平行平板ＰＰからの反射を防ぐために平行平板ＰＰを傾けたりＡＲコートを施したりする必要がなく、一方で平行平板ＰＰの信号が波形ＷＳ３と分離されるため平行平板ＰＰからの信号であるは波形ＷＳ１，ＷＳ２を完全に除去することが可能であり、かつ高画質な断層画像を取得できる。また、ここでは示していないが反射面は平行平板ＰＰだけでなく内部光ファイバＦＢの出射端面ＳＳ（図６参照）とも考えられる。尚、実施例１においては、例えばＮＡ＝０．０２の凸レンズＰＬ、中心波長１．３μｍの光線を出射する光源を使用できる。この場合、Δｌは０．３ｍｍｍから３．１ｍｍに設定するとよい。
【００４３】
図６（ａ）は、第２比較例にかかる参照ミラーと被検体の位置との関係を示す図であり、図６（ｂ）は、第２比較例において合成光から取得された干渉信号をフーリエ変換して得られた断層画像の図である。図７（ａ）は、第２実施例にかかる参照ミラーと被検体の位置との関係を示す図であり、図７（ｂ）は、第２実施例において合成光から取得された干渉信号をフーリエ変換して得られた断層画像の図である。
【００４４】
図６に示す第２比較例では、上述の第１比較例と異なり、内部光ファイバＦＢ側の面ＰＬ１を平面とした凸レンズＰＬを用いている。従って、集光光学系の反射面は、凸レンズＰＬの面ＰＬ１と、平行平板ＰＰの両面ＰＰ１，ＰＰ２となる。カプラＢＳから参照ミラーＲＭまでの参照光路長ＲＬが、カプラＢＳから被検体Ｓの集光位置ＦＰまでの測定光路長ＭＬより短いのは同様である。従って、原点に近い位置に、集光光学系の反射面からの反射光に応じて３つの大きなパルス状の波形ＷＳ１，ＷＳ２、ＷＳ４が生じることとなる。一方、被検体Ｓの組織を示す波形ＷＳ３は、パルス状の波形ＷＳ１，ＷＳ２、ＷＳ４より原点から遠い位置に生じ可干渉性の悪い信号として取得されるためＳＮ比が悪い。
【００４５】
これに対し、図７に示す第２実施例の場合、カプラＢＳから参照ミラーＲＭまでの参照光路長ＲＬを、カプラＢＳから被検体Ｓの集光位置ＦＰまでの測定光路長ＭＬより長くしている。これにより、平行平板ＰＰの両面及び凸レンズＰＬの面ＰＬ１からの反射光が、参照光と干渉することによって、図７（ｂ）に示すようにパルス状の波形ＷＳ１，ＷＳ２、ＷＳ４、ＷＳ５が生じたとしても、被検体Ｓの組織を示す波形ＷＳ３と信号を分離でき、かつ原点に近い位置で取得される波形ＷＳ３は可干渉性が良好で信号のＳＮ比が大きくなるため、これに基づいて高画質な断層画像を形成できることとなる。尚、波形ＷＳ５は、内部光ファイバＦＢの出射端面ＳＳからの反射光に基づく波形である。この構成のように参照ミラー位置を設定すれば、反射面である平行平板ＰＰ及び面ＰＬ１からの反射を防ぐために平行平板ＰＰおよび面ＰＬ１を傾けたりＡＲコートを施したりする必要がなく、一方で平行平板ＰＰ及び面ＰＬ１の信号が波形ＷＳ３と分離されるため平行平板ＰＰ及び面ＰＬ１からの信号であるは波形ＷＳ１，ＷＳ２，ＷＳ４、ＷＳ５を完全に除去することが可能であり、かつ高画質な断層画像を取得できる。
【００４６】
図８は、第２の実施の形態にかかるプローブの断面図である。このプローブＰＬＢは、プローブＰＬＢは、筒状のシースＣＹと、シースＣＹ内において環状のトルクワイヤガイド（軸受）ＴＷＧにより支持された中空のフレキシブルなトルクワイヤＴＷと、シースＣＹの外部に設けられトルクワイヤＴＷを回転変位及び軸線方向変位させる駆動装置ＤＲと、トルクワイヤＴＷの端部に外周を固定され内部光ファイバＦＢの端部に連結されたＧＲＩＮレンズ（Ｇｒａｄｉｅｎｔ  Ｉｎｄｅｘ  Ｌｅｎｓ）ＧＬと、ＧＲＩＮレンズＧＬに取り付けられたプリズムＰＲと、シースＣＹの先端に固定されたキャップＣＰとを有している。本実施の形態においては、シースＣＹが集光光学系の一部を構成し、よってシースＣＹの側壁の両面が反射面を構成する。
【００４７】
光ファイバＦＢ２を介してプローブＰＬＢ側に伝達された測定光Ｌ１は、光学的カップリングＣＰＬを介して連結された内部光ファイバＦＢに入射し、ＧＲＩＮレンズにＧＬによって集光され、プリズムＰＲで反射されて被検体Ｓの組織に集光されるようになっている。被検体Ｓからの反射光Ｌ３は、プリズムＰＲにより反射され、ＧＲＩＮレンズＧＬに入射して内部光ファイバＦＢを通り、光学的カップリングＣＰＬを介して光ファイバＦＢ２に戻される。その他の構成については、図３の示す実施の形態と同様である。
【００４８】
図９は、第３の実施の形態にかかるプローブの断面図である。このプローブＰＬＢは、プローブＰＬＢは、筒状のシースＣＹと、シースＣＹ内において環状のトルクワイヤガイド（軸受）ＴＷＧにより支持された中空のフレキシブルなトルクワイヤＴＷと、シースＣＹの外部に設けられトルクワイヤＴＷを回転変位及び軸線方向変位させる駆動装置ＤＲと、トルクワイヤＴＷの端部に外周を固定され内部光ファイバＦＢの端部に連結されたＧＲＩＮレンズ（Ｇｒａｄｉｅｎｔ  Ｉｎｄｅｘ  Ｌｅｎｓ）ＧＬと、ＧＲＩＮレンズＧＬに取り付けられた反射ミラーＭＲと、シースＣＹの先端に固定されたキャップＣＰとを有している。本実施の形態においても、シースＣＹが集光光学系の一部を構成し、よってシースＣＹの側壁の両面が反射面を構成する。
【００４９】
光ファイバＦＢ２を介してプローブＰＬＢ側に伝達された測定光Ｌ１は、光学的カップリングＣＰＬを介して連結された内部光ファイバＦＢに入射し、ＧＲＩＮレンズにＧＬによって集光され、反射ミラーＭＲで反射されて被検体Ｓの組織に集光されるようになっている。被検体Ｓからの反射光Ｌ３は、反射ミラーＭＲにより反射され、ＧＲＩＮレンズＧＬに入射して内部光ファイバＦＢを通り、光学的カップリングＣＰＬを介して光ファイバＦＢ２に戻される。その他の構成については、図３の示す実施の形態と同様である。
【００５０】
図１０は、第４の実施の形態にかかるプローブの断面図である。このプローブＰＬＢは、プローブＰＬＢは、筒状のシースＣＹと、シースＣＹ内において環状のトルクワイヤガイド（軸受）ＴＷＧにより支持された中空のフレキシブルなトルクワイヤＴＷと、シースＣＹの外部に設けられトルクワイヤＴＷを回転変位及び軸線方向変位させる駆動装置ＤＲと、トルクワイヤＴＷの端部に外周を固定され内部光ファイバＦＢの端部に連結されたプリズムＰＲと、プリズムＰＲの出射面に取り付けられた凸レンズＰＬと、シースＣＹの先端に固定されたキャップＣＰとを有している。本実施の形態においても、シースＣＹが集光光学系の一部を構成し、よってシースＣＹの側壁の両面が反射面を構成する。
【００５１】
光ファイバＦＢ２を介してプローブＰＬＢ側に伝達された測定光Ｌ１は、光学的カップリングＣＰＬを介して連結された内部光ファイバＦＢに入射し、更にプリズムＰＲで反射されて凸レンズＰＬを介して被検体Ｓの組織に集光されるようになっている。被検体Ｓからの反射光Ｌ３は、凸レンズＰＬを通過しプリズムＰＲにより反射され、内部光ファイバＦＢを通り、光学的カップリングＣＰＬを介して光ファイバＦＢ２に戻される。その他の構成については、図３の示す実施の形態と同様である。
【００５２】
図１１は、別の実施の形態にかかる光干渉断層画像取得装置の概略構成図である。本実施の形態は、図２に示す実施の形態のカプラＢＳを、分割手段である分割用カプラＤＶ、合成手段である合成用カプラＣＭＰ、第１サーキュレータＣ１，第２サーキュレータＣ２に置き換えている点が異なる。又、光学的カップリングＣＰＬは、レンズＬＳ１，ＬＳ２を有している。それ以外の構成は、省略したものも含めて上述の実施の形態と同様である。なお、第１サーキュレータＣ１と光学的カップリングＣＰＬを連結する光ファイバＦＢ２２が測定光伝達手段を構成し、第２サーキュレータＣ２から参照ミラーＲＭ側に延在する光ファイバＦＢ３２が参照光伝達手段を構成する。測定光路長は、分割用カプラＤＶ−被検体の集光位置−光学的カップリングＣＰＬまでの全光路長であり、参照光路長は、分割用カプラＤＶ−参照ミラーＲＭ−光学的カップリングＣＰＬまでの全光路長である。測定光Ｌ１と反射光Ｌ３を伝達する測定光伝達手段は共通でも良し、独立していても良い。又、参照光Ｌ２と反射光Ｌ４を伝達する参照光伝達手段は共通でも良し、独立していても良い。
【００５３】
図１１において、光源ＳＬＤから射出された低コヒーレント光Ｌは、分割用カプラＤＶと一体の光ファイバＦＢ１の内部を伝播し、分割用カプラＤＶで測定光Ｌ１と参照光Ｌ２とに分割される。分割用カプラＤＶにより分割された測定光Ｌ１は、光ファイバＦＢ２１の内部を伝播し、第１サーキュレータＣ１を通過して光ファイバＦＢ２２の内部を伝播し、光学的カップリングＣＰＬに入射する。ここで、光ファイバＦＢ２２の端部から出射された測定光Ｌ１は、レンズＬＳ１で平行光に変換され、レンズＬＳ２でプローブＰＬＢの内部光ファイバＦＢの端部に集光される。明らかであるが、光ファイバＦＢ２２と、内部光ファイバＦＢとの間に相対回転変位が生じても、光学的カップリングＣＰＬで伝達される光量は変化しない。また、内部光ファイバＦＢの光軸方向への相対変位は内部光ファイバＦＢをたわませた状態で伸張することで実現できる。
【００５４】
光学的カップリングＣＰＬを介してプローブＰＬＢ側に伝達された測定光Ｌ１は、内部光ファイバＦＢを通り、ＧＲＩＮレンズにより収束光に変換され、プリズムＰＲで反射されて、被検体の組織に集光されるようになっている。被検体からの反射光Ｌ３は、プリズムＰＲで反射されてＧＲＩＮレンズにより内部光ファイバＦＢの端面に集光され、更に内部光ファイバＦＢを通り、光学的カップリングＣＰＬを介して光ファイバＦＢ２２に戻され、光ファイバＦＢ２２に沿って第１サーキュレータＣ１に向かう。反射光Ｌ３は、第１サーキュレータＣ１で、光ファイバＦＢ２３に沿って合成用カプラＣＭＰ側へ向かう。
【００５５】
一方、図１１において、分割用カプラＤＶにより分割された参照光Ｌ２は、光ファイバＦＢ３１の内部を伝播し、第２サーキュレータＣ２を通過して光ファイバＦＢ３２の内部を伝播し、その端面から参照光学系ＲＯＰに入射して、参照ミラーＲＭに向かって照射される。参照光Ｌ２は、参照ミラーＲＭで反射されて、反射光としての参照光Ｌ４となり、光ファイバＦＢ３２の端部から入射し、光ファイバＦＢ３２に沿って第２サーキュレータＣ２に向かう。反射光Ｌ４は、第２サーキュレータＣ２で、光ファイバＦＢ３３に沿って合成用カプラＣＭＰ側へ向かう。合成用カプラＣＭＰにより反射光Ｌ３と反射光Ｌ４とが合成され、この合成光Ｌ５は、干渉信号取得手段である干渉信号検出部ＩＳＤに伝達されて、ここで干渉信号が取得される。画像取得手段である画像処理部ＩＰは、この干渉信号を入力してフーリエ変換することで周波数解析を行い、光干渉断層画像を取得することができる。
【産業上の利用可能性】
【００５６】
尚、本発明は、ＳＤ−ＯＣＴ測定、ＳＳ−ＯＣＴ測定のいずれにも適用可能であり、集光光学系の構成は実施例の構成でなくともよい。
【符号の説明】
【００５７】
ＡＤＪ  調整装置
ＢＳ  カプラ
ＣＯＮＴ  制御装置
ＣＮ  コネクタ
ＣＹ  シース
ＤＲ  駆動装置
ＦＢ  内部光ファイバ
ＦＢ１  光ファイバ
ＦＢ２  光ファイバ
ＦＢ３  光ファイバ
ＦＢ４  光ファイバ
ＦＰ  集光位置
ＧＬ  ＧＲＩＮレンズ
Ｈ  配線
ＩＰ  画像処理部
ＩＳＤ  干渉信号検出部
Ｌ  低コヒーレント光
Ｌ１  測定光
Ｌ２  参照光
Ｌ３  反射した測定光
Ｌ４  反射した参照光
Ｌ５  合成光
ＭＢ  本体
ＭＮＴ  モニタ
ＭＲ  反射ミラー
ＰＬ  凸レンズ
ＰＬ１  面
ＰＬＢ  プローブ
ＰＰ  平行平板
ＰＰ１  面
ＰＰ２  面
ＰＲ  プリズム
ＲＭ  参照ミラー
ＲＯＰ  参照光学系
ＳＬＤ  光源
ＴＷ  トルクワイヤ
ＷＳ１〜ＷＳ４  波形
【図８】
0005447512.tif 000002
【図１０】
0005447512.tif 000003
【図１】
0005447512.tif 000004
【図２】
0005447512.tif 000005
【図３】
0005447512.tif 000006
【図４】
0005447512.tif 000007
【図５】
0005447512.tif 000008
【図６】
0005447512.tif 000009
【図７】
0005447512.tif 000010
【図９】
0005447512.tif 000011
【図１１】
0005447512.tif 000012