(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式Ｉの置換ビフェニル類：
【化１】
0005481476.tif 000011
（式中、置換基はそれぞれ下記で定義の通りであり；
Ｒ１はニトロであり、
Ｒ２はシアノ、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ４−ハロアルキル、Ｃ１−Ｃ４−ハロアルコキシまたはＣ１−Ｃ４−ハロアルキルチオであり、
ｎは、０、１、２または３であり、ｎ＝２または３である場合、Ｒ２基は同一もしくは異なる定義を有することができ、
Ｒ３は、水素、シアノまたはハロゲンである。）
の製造方法であって、下記式ＩＩのハロベンゼン：
【化２】
0005481476.tif 000012
（式中、Ｈａｌは塩素または臭素であり、Ｒ１およびＲ３はそれぞれ上記で定義の通りである。）
を、塩基ならびにパラジウムおよび下記式ＩＩＩの二座リン配位子：
【化３】
0005481476.tif 000013
（式中、Ａｒはメチル、メトキシ、フッ素および塩素からなる群から選択される１〜３個の置換基を有していても良いフェニルであり、Ｒ４およびＲ５はそれぞれＣ１−Ｃ８−アルキルもしくはＣ３−Ｃ６−シクロアルキルであり、またはＲ４とＲ５が一体となって、所望に応じてＣ１−Ｃ６−アルキル置換基を有していても良い２〜７員架橋を形成している。）
からなるパラジウム触媒の存在下に、溶媒または希釈剤中にて、フェニルボロン酸ＩＶａ：
【化４】
0005481476.tif 000014
ジフェニルボリン酸ＩＶｂ：
【化５】
0005481476.tif 000015
またはＩＶａとＩＶｂの混合物（Ｒ２およびｎは上記で定義の通りである。）と反応させる段階を有する前記製造方法。
【請求項２】
Ｒ２がハロゲンであり、ｎが２または３であり、Ｒ３が水素またはハロゲンである請求項１に記載の方法。
【請求項３】
Ｒ２がフッ素または塩素である請求項１に記載の方法。
【請求項４】
Ｒ１が、Ｒ２を有するフェニル環に対してオルト位にある請求項１に記載の方法。
【請求項５】
Ｒ１およびＲ３が互いに対してパラ位にある請求項１に記載の方法。
【請求項６】
Ａｒがフェニルである請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記反応を５０〜１４０℃の温度で行う請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記反応を水および有機溶媒の混合物中で行う請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記有機溶媒としてエーテルを用いる請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記反応を１〜６バールの圧力で行う請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
３，４，５−トリフルオロ−２′−ニトロビフェニル。
【請求項１２】
得られた置換ビフェニルを次に、それ自体公知の方法で、ピラゾールカルボキサミドＶ：
【化６】
0005481476.tif 000016
（式中、Ｒ６はメチルまたはハロメチルである。）
に変換する請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、下記式Ｉの置換ビフェニル類：
【化１】
0005481476.tif 000002
【０００２】
（式中、置換基はそれぞれ下記で定義の通りであり；
Ｒ１はニトロまたはアミノであり、
Ｒ２はシアノ、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ４−ハロアルキル、Ｃ１−Ｃ４−ハロアルコキシまたはＣ１−Ｃ４−ハロアルキルチオであり、
ｎは、０、１、２または３であり、ｎ＝２または３である場合、Ｒ２基は同一もしくは異なる定義を有することができ、
Ｒ３は、水素、シアノまたはハロゲンである。）
の製造方法であって、下記式ＩＩのハロベンゼン：
【化２】
0005481476.tif 000003
【０００３】
（式中、Ｈａｌは塩素または臭素であり、Ｒ１およびＲ３はそれぞれ上記で定義の通りである。）
を、塩基ならびにパラジウムおよび下記式ＩＩＩの二座リン配位子：
【化３】
0005481476.tif 000004
【０００４】
（式中、Ａｒはメチル、メトキシ、フッ素および塩素からなる群から選択される１〜３個の置換基を有していても良いフェニルであり、Ｒ４およびＲ５はそれぞれＣ１−Ｃ８−アルキルもしくはＣ３−Ｃ６−シクロアルキルであり、またはＲ４とＲ５が一体となって、所望に応じてＣ１−Ｃ６−アルキル置換基を有していても良い２〜７員架橋を形成している。）
からなるパラジウム触媒の存在下に、溶媒または希釈剤中にて、フェニルボロン酸ＩＶａ：
【化４】
0005481476.tif 000005
【０００５】
ジフェニルボリン酸ＩＶｂ：
【化５】
0005481476.tif 000006
【０００６】
またはＩＶａとＩＶｂの混合物（Ｒ２およびｎは上記で定義の通りである。）と反応させる段階を有する前記製造方法に関する。
【背景技術】
【０００７】
クロロ芳香族の芳香族ボロン酸およびボリン酸とのパラジウム触媒カップリング自体は公知である。例えば、２−ニトロクロロベンゼンのハロゲン置換芳香族ボロン酸とのカップリングによる、対応する形で置換されたニトロビフェニル類の形成が、ＷＯ９７／３３８４６に記載されている。トリフェニルホスフィンは、そのようなカップリング反応において、パラジウムに対し最も一般的に使用される配位子である。しかしながら、配位子としてトリフェニルホスフィンを使用することには、カップリング相手として使用される芳香族ボロン酸およびボリン酸が高い頻度でプロト脱ホウ素化（protodeboronated）され、その位置が非置換の芳香族化合物が望ましくない副産物として形成されるというリスクがある。選択性および収率を高めることを目的として、パラジウム源基準でかなりの過剰モル量でトリフェニルホスフィンを用いる場合にも、それが当てはまる。
【０００８】
二座１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）プロパン（ｄｐｐｐ）配位子を使用した場合のクロロ芳香族のハロゲン置換芳香族ボロン酸およびボリン酸とのパラジウム触媒反応が、トリフェニルホスフィンの場合と比較して、かなり低い収率で進行することが今回見出された（実施例２ａと比較して実施例２ｂを参照）。しかしながら、アルキル鎖において別の置換基によって若干修飾された二座配位子、例えば１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）−２，２−ジメチルプロパンまたは１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）−２−エチル−２−ブチルプロパンを用いると、驚くべきことに、所望のカップリング生成物が非常に良好な収率で得られ、同時にプロト脱ホウ素化副生成物のレベルが非常に低い。
【化６】
0005481476.tif 000007
【０００９】
これら後者の配位子を使用する場合のさらに別の利点は、パラジウム源の必要量と配位子の量の両方を、トリフェニルホスフィンを用いる方法と比較して大幅に低減することができるというものである。使用されるパラジウム化合物は一般に非常に高価であることから、このパラジウム使用低減手段は、非常に経済的価値が高いものである。
【００１０】
現在までのところ、文献的には、カップリング反応での二座ビスホスフィン配位子の使用については、希にしか報告されていなかった。ＷＯ９８／１６４８６には、簡単なクロロ芳香族の反応における親油性脂肪族ビスホスフィン類の使用が報告されているが、実施例による裏付けはない。
【００１１】
ＤＥ−Ａ４３４０４９０には、カップリング反応における１，２−ビス（ジシクロヘキシルホスフィニル）エタンおよび１，２−ビス（ジエチルホスフィニル）エタンの使用が記載されている。その場合、電子豊富なクロロ芳香族を用いると良好な結果が得られたが、フッ素やトリフルオロメチルなどの電子吸引性置換基を有する芳香族では良好な結果は得られなかった。
【００１２】
しかしながら、完全に脂肪族置換されたホスフィンについては、空気感受性が非常に高く、一部のものは自然発火性であることから、それらの使用は非常に限られたものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】ＷＯ９７／３３８４６
【特許文献２】ＷＯ９８／１６４８６
【特許文献３】ＤＥ−Ａ４３４０４９０
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
従って本発明の目的は、低いパラジウム触媒濃度で進行する置換ビフェニルの位置選択的製造において、工業的規模で技術的に実行可能である経済的に存立し得る方法を提供することにあった。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
冒頭で定義される方法は、詳細に説明した先行技術における欠点を克服するものである。
【００１６】
本方法によって製造される置換ビフェニルＩは好ましくは、下記の置換基を有する。
【００１７】
すなわち、
Ｒ１は、ニトロまたはアミノ、より好ましくはニトロであり；
Ｒ２は、シアノ、フッ素、塩素、臭素、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシまたはトリフルオロメチルチオ、より好ましくはフッ素、塩素またはトリフルオロメチルチオ、最も好ましくはフッ素または塩素であり；
ｎは、２または３、より好ましくは３であり；
Ｒ３は、水素またはハロゲン、特には水素またはフッ素である。
【００１８】
とりわけ好ましいものは、３，４，５−トリフルオロ−２′−ニトロビフェニルの製造である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
下記の均一触媒スズキビアリールクロスカップリングを、好ましくは下記のスキームに従って実施する。
【化７】
0005481476.tif 000008
【００２０】
原料は好ましくは、式ＩＶａのフェニルボロン酸もしくは式ＩＶｂのジフェニルボリン酸またはそれらの混合物であり、Ｒ２およびｎはそれぞれ上記で定義の通りである。
【００２１】
とりわけ好ましいものは、原料として３，４，５−トリフルオロフェニルボロン酸およびジ（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボリン酸（ＩＶａおよびＩＶｂ）を用いるものである。
【００２２】
好ましくは、１個のニトロもしくはアミノ基を有する化合物（ＩＩ）、特には２−ニトロクロロベンゼンまたは２−アミノクロロベンゼンまたは２−アミノブロモベンゼンから進行するものである。
【００２３】
フェニルボロン酸ＩＶａまたはジフェニルボリン酸ＩＶｂ基準で、化合物ＩＩは通常、ほぼ等モル量で、好ましくは約３０モル％以下の過剰量で使用する。モル比および過剰量の計算では、純粋な形態またはＩＶａとの混合物として使用されるジフェニルボリン酸ＩＶｂが、２個のフェニル基を移動させることが可能であることを考慮すべきである。
【００２４】
使用される塩基は好ましくは、混合物での、特には単独での、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属水素炭酸塩、アルカリ金属酢酸塩、アルカリ土類金属酢酸塩、アルカリ金属アルコキシドおよびアルカリ土類金属アルコキシドである。
【００２５】
特に好ましい塩基は、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩およびアルカリ金属水素炭酸塩である。
【００２６】
特別に好ましい塩基は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよび水酸化リチウムなどのアルカリ金属水酸化物、さらには炭酸リチウム、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩およびアルカリ金属水素炭酸塩である。
【００２７】
しかしながら、使用される塩基は、３級アミン類などの有機塩基であっても良い。好ましくは、例えばトリエチルアミンまたはジメチルシクロヘキシルアミンを用いる。
【００２８】
塩基は好ましくは、フェニルボロン酸ＩＶａまたはジフェニルボリン酸ＩＶｂに基づいて１００〜５００モル％、より好ましくは１５０〜４００モル％の割合で用いる。
【００２９】
好適なパラジウム源は、例えば塩化パラジウム（ＩＩ）もしくは酢酸パラジウム（ＩＩ）などのパラジウム（ＩＩ）塩またはそれらの水溶液であり、ビスアセトニトリルパラジウム（ＩＩ）クロリドまたは酸化状態「０」でのＰｄとのパラジウム錯体もある。
【００３０】
特に好ましくは、塩化パラジウム（ＩＩ）の使用である。
【００３１】
アルキル鎖で置換された好適な二座リン配位子およびその製造は、先行出願のＥＰ０８１５４１８４．９から公知である。
【００３２】
好ましいものは、非置換のフェニル環を有する１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）プロパン類ＩＩＩであり、特別にはＲ４がメチル、エチル、１−メチルエチル、ｎ−ブチル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、ｎ−ヘキシル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチルおよび４−メチルペンチルもしくはシクロプロピルなどのＣ１−Ｃ６−アルキルであり、Ｒ５がメチル、エチル、１−メチルエチル、ｎ−ブチル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、ｎ−ヘキシル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチルおよび４−メチルペンチルなどのＣ１−Ｃ６−アルキルである該化合物、
またはＲ４＋Ｒ５が一体となってエタン−１，２−ジイル、プロパン−１，３−ジイル、ブタン−１，４−ジイルまたはペンタン−１，５−ジイル鎖である該化合物である。
【００３３】
特に好ましいリン配位子ＩＩＩは、１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）−２−メチルプロパン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）−２，２−ジメチルプロパン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）−２−メチル−２−エチルプロパン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）−２，２−ジエチルプロパン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）−２−メチル−２−プロピルプロパン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）−２−エチル−２−プロピルプロパン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）−２，２−ジプロピルプロパン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）−２−メチル−２−ブチルプロパン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）−２−エチル−２−ブチルプロパン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）−２−プロピル−２−ブチルプロパン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）−２，２−ジブチルプロパン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）−２−メチル−２−シクロプロピルプロパン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）−２−メチル−２−シクロブチルプロパン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）−２−メチル−２−シクロペンチル−プロパン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）−２−メチル−２−シクロヘキシルプロパン、１，１−ビス（ジフェニルホスフィニル）シクロプロパン、１，１−ビス（ジフェニルホスフィニル）シクロブタン、１，１−ビス（ジフェニルホスフィニル）シクロペンタン、１，１−ビス（ジフェニルホスフィニル）シクロヘキサン、特別には１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）−２，２−ジメチルプロパンおよび１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）−２−エチル−２−ブチルプロパンである。
【００３４】
錯体配位子の反応性は、臭化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム（ＴＢＡＢ）などの４級アンモニウム塩を加えることで高めることができる（例えばD. Zimら, Tetrahedron Lett. 2000年, 第41巻, p. 8199を参照）。
【００３５】
概して、０．５〜５モル当量の前記錯体配位子、特別には１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）−２，２−ジメチルプロパンおよび１，３−ビス（ジフェニルホスフィニル）−２−エチル−２−ブチルプロパンを、１当量のパラジウム（ＩＩ）塩と組み合わせる。特に好ましくは、パラジウム（ＩＩ）塩に基づいて、１モル当量の錯体配位子を用いる。
【００３６】
パラジウム源は、化合物ＩＶａまたはＩＶｂに基づき、０．００１〜５．０モル％、好ましくは０．１〜１．０モル％、特別には０．１〜０．５モル％という低い割合で、本発明による方法で使用される。
【００３７】
本発明による方法に好適な有機溶媒は、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、３−メチルテトラヒドロフラン、ジオキサン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびｔｅｒｔ−ブチルエチルエーテルなどのエーテル類、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ヘプタン異性体混合物、シクロヘキサン、石油エーテル、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの炭化水素類、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、エチレングリコール、１−ブタノール、２−ブタノールおよびｔｅｒｔ−ブタノールなどのアルコール類、アセトン、エチルメチルケトンおよびイソブチルメチルケトンなどのケトン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドおよびＮ−メチルピロリドンなどのアミド類、ならびにジメチルスルホキシドであり、各場合で単独または混合物で使用される。
【００３８】
好ましい溶媒は、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、３−メチルテトラヒドロフランおよびジオキサンなどのエーテル類、シクロヘキサン、トルエンおよびキシレンなどの炭化水素類、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノールおよびｔｅｒｔ−ブタノールなどのアルコール類であり、各場合で単独または混合物で使用される。
【００３９】
特に好ましい変法では、本発明による方法において、水、１以上の水不溶性および１以上の水溶性の溶媒を用いる。例えば水とジオキサン、または水とテトラヒドロフラン、または水、ジオキサンとエタノール、または水、テトラヒドロフランとメタノール、または水、トルエンとテトラヒドロフラン、好ましくは水とテトラヒドロフラン、または水、テトラヒドロフランとメタノールの混合物である。好ましくは、水およびテトラヒドロフラン中で反応を実施する。
【００４０】
溶媒の総量は、１モルの化合物ＩＩ当たり、通常は３０００〜１００ｇ、好ましくは２０００〜１５０ｇである。
【００４１】
適切には、本方法を実施するため、化合物ＩＩ、フェニルボロン酸ＩＶａもしくはジフェニルボリン酸ＩＶｂまたはその二つの混合物、塩基および触媒量のパラジウム源を、水および１以上の不活性有機溶媒の混合物に加え、５０℃〜１４０℃、好ましくは７０℃〜１１０℃、より好ましくは９０℃〜１１０℃の温度で１〜５０時間、好ましくは２〜２４時間にわたって撹拌する。
【００４２】
使用される溶媒および温度に従い、１バール〜６バール、または好ましくは１バール〜４バールの圧力が確立される。
【００４３】
そのような方法に好適な一般的な装置で、本方法を実施することができる。
【００４４】
反応が終了した後、固体形態で得られるパラジウム触媒を、例えば濾過によって除去することができ、粗生成物から溶媒または複数の溶媒を除去することができる。
【００４５】
その後、当業者には公知であり、特定の生成物に適切である方法、例えば再結晶、蒸留、昇華、帯溶融（zone melting）、溶融結晶化またはクロマトグラフィーによってさらに精製することが可能である。
【００４６】
本発明による方法によって、定量的収率までの非常に高い収率で、しかも非常に良好な純度で化合物Ｉが得られる。
【００４７】
ハロベンゼンＩＩは公知であるか、またはそれ自体公知の方法によって製造することができる。
【００４８】
フェニルボロン酸ＩＶａおよびジフェニルボリン酸ＩＶｂも同様に公知であるか、またはそれ自体公知の方法で製造することができる（例えばＷＯ２００６／０９２４２９参照）。
【００４９】
本発明による方法によって得ることができるＲ１＝ニトロである置換ビフェニルＩ（ビフェニルＩａ）、例えば３，４−ジフルオロ−２′−ニトロビフェニル、２，４−ジクロロ−２′−ニトロビフェニル、３，４−ジクロロ−２′−ニトロビフェニルおよび３，４，５−トリフルオロ−２′−ニトロビフェニルを、水素化によるそれ自体公知の方法で、対応する形で置換されたビフェニルＩ（Ｒ１＝アミノである）（ビフェニルＩｂ）に変換することができる。そして置換ビフェニルＩｂは、作物保護有効成分、例えば殺菌活性のピラゾールカルボキサミド類Ｖ：
【化８】
0005481476.tif 000009
【００５０】
（式中、Ｒ６はメチルまたはジフルオロメチルもしくはトリフルオロメチルなどのハロメチルである。）
を得る上での重要な中間体である（例えばＥＰ−Ａ５８９３０１またはＷＯ２００６０８７３４３参照）。
【実施例】
【００５１】
製造例：３，４，５−トリフルオロ−２′−ニトロビフェニルの合成
ａ）３，４，５−トリフルオロフェニルボロン酸の製造
窒素またはアルゴンで不活性化したリアクターに、最初にマグネシウム削片８３．２ｇ（３．４２ｍｏｌ）を入れ、次に安定剤を含まない乾燥テトラヒドロフラン１６４６．２ｇを加えた。３，４，５−トリフルオロブロモベンゼン３０ｇ（０．１４ｍｏｌ）を、撹拌しながら２５℃で滴下し、グリニャル反応の開始を待った。約３２℃までの自然昇温によって、グリニャル反応の開始を知ることができた。次に、追加の３，４，５−トリフルオロブロモベンゼン５７１．９ｇ（２．７１ｍｏｌ）を、２５〜３５℃で５時間以内に計量して入れた。反応を完結させるため、混合物を２５〜３０℃でさらに２時間撹拌した。第２のリアクターに、予め−５℃まで冷却しておいたホウ酸トリメチル３２８．０ｇ（３．１６ｍｏｌ）および安定剤を含まない乾燥テトラヒドロフラン４５２ｇの溶液を最初に入れた。その後、グリニャル溶液を、第１のリアクターから２．５時間以内に計量して加えた。過剰のマグネシウムは第１のリアクターに残った。計量添加が終了した後、混合物を２０〜２５℃でさらに２時間撹拌した。加水分解を行うため、７．６％塩酸１３２６．１ｇ（２．７６ｍｏｌ）を２５℃で計量して加え、その後、混合物をさらに１時間、２５℃で撹拌した。混合物を加熱して５０℃とし、相を分離した。その後、有機相を水６０３．９ｇで５０℃にて再抽出し、洗浄水相を再度除去した。その後、テトラヒドロフラン／水混合物の留去によって有機相を濃縮した。これにより、４０％の３，４，５−トリフルオロフェニルボロン酸のテトラヒドロフラン溶液１０３２．６ｇ（８２％）を得て、それを以降の反応に直接用いた。
【００５２】
ｂ）３，４，５−トリフルオロフェニルボロン酸の２−ニトロクロロベンゼンとのスズキカップリングによる３，４，５−トリフルオロ−２′−ニトロビフェニルの製造
十分に不活性化した圧力容器に、前段階ａ）から得た４０％の３，４，５−トリフルオロフェニルボロン酸のテトラヒドロフラン溶液４９．６ｇ（０．１１３ｍｏｌ）と、１０％水酸化ナトリウム溶液１２１．６ｇ（０．３０４ｍｏｌ）および２−ニトロクロロベンゼン１９．７ｇ（０．１２４ｍｏｌ）との混合物を最初に入れた。次に、室温で特定の配位子を加え、混合物を撹拌し、最後に塩化パラジウム（ＩＩ）を加えた。次に、反応混合物を１０５℃に加熱した。これによって、約３〜４バールの圧力が確立された。約１２時間の反応時間後、圧力容器を除圧して標準気圧とし、３０℃に冷却して、反応混合物を取り出した。後処理を行うため、反応混合物をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル中に入れ、相を分離し、水相をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで２回再抽出した。溶媒を減圧下で完全に留去し、最終重量を測定し、定量的ＨＰＬＣにより、粗３，４，５−トリフルオロ−２′−ニトロビフェニルの含有量を分析した。所望に応じて、粗３，４，５−トリフルオロ−２′−ニトロビフェニルは、例えばイソブタノールからの結晶化によってさらに精製することができる。
【００５３】
イソブタノールからの結晶化の後、融点７９℃を有する純粋な３，４，５−トリフルオロ−２’−ニトロビフェニルが得られる。
【表１】
0005481476.tif 000010
【００５４】
ＰｄＣｌ２および配位子のモルパーセントは、３，４，５−トリフルオロフェニルボロン酸に基づく。