(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の式（１）で表される、ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物。
【化１】
0005481744.tif 000025
（式（１）中、ｎは１〜６の整数を示し、Ａは下記のＡ１基、Ａ２基およびＡ３基からなる群から選ばれる基を示し、かつ少なくとも一つがＡ３基である。
Ａ１基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が１〜８のアルコキシ基。
Ａ２基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数６〜２０のアリールオキシ基。
Ａ３基：下記のＡ３−１基、Ａ３−２基およびＡ３−３基からなる群から選ばれる少なくとも一種の不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基含有アリールオキシ基。
Ａ３−１基：下記の式（２）で示される不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基含有アリールオキシ基。
【化２】
0005481744.tif 000026
式（２）中、Ｒ１〜Ｒ５は、不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基からなる群から選ばれる基であり、少なくとも１つが不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基である。
Ａ３−２基：下記の式（３）で示される不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基含有アリールオキシ基。
【化３】
0005481744.tif 000027
式（３）中、Ｒ６〜Ｒ８は、水素原子若しくは炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｙは、ビフェニレン基若しくはナフチル基を示す。
Ａ３−３基：下記の式（４）で示される不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基含有アリールオキシ基。
【化４】
0005481744.tif 000028
式（４）中、Ｒ９〜Ｒ１１は、水素原子若しくは炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｚは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨ（ＣＨ３）、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ（ＣＦ３）２、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４ＣＨ２、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４Ｃ（ＣＨ３）２およびＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４ＳＯ２からなる群から選ばれる原子若しくは原子団を示す。）
【請求項２】
式（１）中のＡの一部がグリシジルオキシ基含有基である、請求項１に記載のホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物。
【請求項３】
前記不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基含有アリールオキシ基における不飽和カルボニルオキシ基は、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、チグロイルオキシ基およびクロトイルオキシ基からなる群から選ばれるものである、請求項１または２に記載のホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物。
【請求項４】
式（１）のｎが１若しくは２である、請求項１から３のいずれかに記載のホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物。
【請求項５】
式（１）において、（２ｎ＋４）個のＡのうちの１〜（２ｎ＋２）個がＡ３基である、請求項１から４のいずれかに記載のホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物。
【請求項６】
式（１）のｎが異なる二種以上のものの混合物である、請求項１から５のいずれかに記載のホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物。
【請求項７】
水酸基当量に対して０．０１〜１．２当量の多塩基酸無水物を用いて水酸基が酸変性されている、請求項１から６のいずれかに記載のホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物。
【請求項８】
前記多塩基酸無水物が、芳香族ジカルボン酸無水物、脂肪族ジカルボン酸無水物および脂環式ジカルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも一つである、請求項７に記載のホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物。
【請求項９】
下記の式（５）で示されるグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物と、下記の式（９）で示される不飽和モノカルボン酸とを反応させる工程を含む、
ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造方法。
【化５】
0005481744.tif 000029
（式（１）中、ｎは１〜６の整数を示し、Ｅは下記のＥ１基、Ｅ２基およびＥ３基からなる群から選ばれる基を示し、かつ少なくとも一つがＥ３基である。
Ｅ１基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が１〜８のアルコキシ基。
Ｅ２基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数６〜２０のアリールオキシ基。
Ｅ３基：下記のＥ３−１基、Ｅ３−２基およびＥ３−３基からなる群から選ばれる少なくとも一種のグリシジルオキシ基含有アリールオキシ基。
Ｅ３−１基：下記の式（６）で示されるグリシジルオキシ基含有アリールオキシ基。
【化６】
0005481744.tif 000030
式（６）中、Ｇ１〜Ｇ５は、グリシジルオキシ基、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基からなる群から選ばれる基であり、少なくとも１つがグリシジルオキシ基である。
Ｅ３−２基：下記の式（７）で示されるグリシジルオキシ基含有アリールオキシ基。
【化７】
0005481744.tif 000031
式（７）中、Ｌはビフェニレン基若しくはナフチル基を示す。
Ｅ３−３基：下記の式（８）で示されるグリシジルオキシ基含有アリールオキシ基。
【化８】
0005481744.tif 000032
式（８）中、Ｍは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨ（ＣＨ３）、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ（ＣＦ３）２、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４ＣＨ２、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４Ｃ（ＣＨ３）２およびＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４ＳＯ２からなる群から選ばれる原子若しくは原子団を示す。）
【化９】
0005481744.tif 000033
（式（９）において、Ｒ１２〜Ｒ１４は、水素原子若しくは炭素数１〜６のアルキル基を示す。）
【請求項１０】
請求項１から８のいずれかに記載のホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の少なくとも二種類を含む重合性組成物。
【請求項１１】
請求項１０に記載の重合性組成物を硬化させて得られる樹脂成形体。
【請求項１２】
請求項１１に記載の樹脂成形体を用いた電気・電子部品。
【請求項１３】
請求項１から８のいずれかに記載のホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物と、活性エネルギー線硬化性化合物とを含む重合性組成物。
【請求項１４】
請求項１３に記載の重合性組成物を硬化させて得られる樹脂成形体。
【請求項１５】
請求項１４に記載の樹脂成形体を用いた電気・電子部品。
【請求項１６】
請求項１から８に記載のホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物と、熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂からなる群から選ばれる少なくとも一種の樹脂成分とを含む樹脂組成物。
【請求項１７】
請求項１６に記載の樹脂組成物を硬化させて得られる樹脂成形体。
【請求項１８】
請求項１７に記載の樹脂成形体を用いた電気・電子部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、不飽和カルボキシレート化合物、特に、難燃剤として有用なホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
エポキシアクリレート樹脂やエポキシメタクリレート樹脂等のエポキシカルボキシレート樹脂は、感光材料、光学材料、歯科材料および電子材料等の機能性高分子材料として、産業用および民生用の機器、特に電気製品などにおいて幅広く用いられている。近年、これらの分野において、より高度な、厳しい性能・物性が要求されており、エポキシアクリレート樹脂を用いた樹脂材料は、耐熱性や耐湿性の点において高機能化が望まれていると同時に、燃焼し易い性質を有することから難燃性の付与が求められている。例えば、この樹脂材料は、プリント配線基板の製造におけるフォトソルダーレジストとして使用される場合、ハロゲン化合物やハロゲン含有化合物と酸化アンチモン等のアンチモン化合物との混合物が一般的な難燃剤として添加されている。ところが、このような難燃剤を配合した上記樹脂材料は、燃焼時や成形時等において、電子部品の電気的特性や機械的特性を阻害したり、環境を汚染したりするおそれがあるハロゲン系ガスを発生する可能性がある。そこで、最近では、上記樹脂材料用の難燃剤として、燃焼時や成形時等においてハロゲン系ガスが発生しにくい非ハロゲン系のもの、例えば、水酸化アルミニウムや水酸化マグネシウムなどの金属水和物系難燃剤並びに特許文献１〜３に記載のような赤リン、リン酸エステル系、縮合リン酸エステル系、リン酸アミド系およびポリリン酸アンモニウム系などのリン系難燃剤が多用されるようになっている。
【０００３】
このうち、金属水和物系難燃剤は、脱水熱分解の吸熱反応とそれに伴う水の放出が樹脂材料の熱分解や燃焼開始温度と重複した温度領域で起こることで難燃化効果を発揮するが、その効果を高めるためには樹脂材料に対して多量に配合する必要がある。このため、この種の難燃剤を含む樹脂材料の成形品は、機械的強度が損なわれるという欠点がある。一方、リン系難燃剤のうち、リン酸エステル系および縮合リン酸エステル系のものは、可塑効果を有するため、難燃性を高めるために樹脂材料に対して多量に添加すると、樹脂成形品の機械的強度が低下するなどの欠点が生じる。また、リン酸エステル系、リン酸アミド系およびポリリン酸アンモニウム系のものは、容易に加水分解することから、機械的および電気的な長期信頼性が要求される樹脂成形品の製造用材料においては実質的に使用が困難である。
【０００４】
そこで、樹脂材料用の難燃剤として、例えば特許文献４に記載のように、リン系難燃剤の一つであるホスファゼン系の難燃剤の使用が検討されている。ホスファゼン系の難燃剤は、他のリン系難燃剤に比べ、可塑効果および加水分解性が小さく、樹脂材料に対する添加量を大きくすることができ、それによって樹脂材料に効果的な難燃性を付与することができるものと期待されている。
【０００５】
しかし、ホスファゼン系の難燃剤は、樹脂材料に対する添加量を増やすと耐熱性が低下し、高温下における樹脂成形品の信頼性を低下させる可能性がある。具体的には、熱可塑性樹脂系の樹脂材料の場合は、高温下においてその樹脂成形体からホスファゼン系の難燃剤がブリードアウト（溶出）し易く、また、熱硬化性樹脂系の樹脂材料の場合は、高温下においてその樹脂成形品にフクレ等の変形が発生し、当該樹脂成形品が積層基板等の電気・電子分野において用いられる場合は変形によるショート等の不具合を引き起こす可能性がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平９−２５８４４６号公報
【特許文献２】特開２００１−７２８３５号公報
【特許文献３】特開２００１−１８３８２０号公報
【特許文献４】特開２００１−７５２７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、ホスファゼン系の難燃剤について、樹脂成形体の耐熱性を損なわずに難燃性を高めることができるようにすることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上述の課題を解決すべく研究を重ねた結果、ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物を用いた場合に耐熱性および難燃性に優れた樹脂成形体が得られることを見出した。
【０００９】
本発明は、ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物に関するものであり、より具体的には、下記の式（１）で表される、ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物に関するものである。
【００１０】
【化１】
0005481744.tif 000002
【００１１】
式（１）中、ｎは１〜６の整数を示し、Ａは下記のＡ１基、Ａ２基およびＡ３基からなる群から選ばれる基を示し、かつ少なくとも一つがＡ３基である。
Ａ１基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が１〜８のアルコキシ基。
Ａ２基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数６〜２０のアリールオキシ基。
Ａ３基：下記のＡ３−１基、Ａ３−２基およびＡ３−３基からなる群から選ばれる少なくとも一種の不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基含有アリールオキシ基。
【００１２】
Ａ３−１基：下記の式（２）で示される不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基含有アリールオキシ基。
【化２】
0005481744.tif 000003
【００１３】
式（２）中、Ｒ１〜Ｒ５は、不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基からなる群から選ばれる基であり、少なくとも１つが不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基である。
【００１４】
Ａ３−２基：下記の式（３）で示される不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基含有アリールオキシ基。
【化３】
0005481744.tif 000004
式（３）中、Ｒ６〜Ｒ８は、水素原子若しくは炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｙは、ビフェニレン基若しくはナフチル基を示す。
【００１５】
Ａ３−３基：下記の式（４）で示される不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基含有アリールオキシ基。
【化４】
0005481744.tif 000005
式（４）中、Ｒ９〜Ｒ１１は、水素原子若しくは炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｚは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨ（ＣＨ３）、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ（ＣＦ３）２、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４ＣＨ２、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４Ｃ（ＣＨ３）２およびＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４ＳＯ２からなる群から選ばれる原子若しくは原子団を示す。
【００１６】
本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物は、式（１）中のＡの一部がグリシジルオキシ基含有基であってもよい。
【００１７】
本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物は、式（１）におけるＡ３基である不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基含有アリールオキシ基における不飽和カルボニルオキシ基が、通常、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、チグロイルオキシ基およびクロトイルオキシ基からなる群から選ばれるものである。また、式（１）において、ｎは、通常、１若しくは２が好ましい。さらに、式（１）の化合物は、通常、（２ｎ＋４）個のＡのうちの１〜（２ｎ＋２）個がＡ３基であるものが好ましい。
【００１８】
本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物は、式（１）のｎが異なる二種以上のものの混合物であってもよく、また、水酸基当量に対して０．０１〜１．２当量の多塩基酸無水物を用いて水酸基が酸変性されていてもよい。ここで、酸変性のための多塩基酸無水物は、通常、芳香族ジカルボン酸無水物、脂肪族ジカルボン酸無水物および脂環式ジカルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも一つである。
【００１９】
本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造方法は、下記の式（５）で示されるグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物と、下記の式（９）で示される不飽和モノカルボン酸とを反応させる工程を含んでいる。
【００２０】
【化５】
0005481744.tif 000006
【００２１】
式（１）中、ｎは１〜６の整数を示し、Ｅは下記のＥ１基、Ｅ２基およびＥ３基からなる群から選ばれる基を示し、かつ少なくとも一つがＥ３基である。
Ｅ１基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が１〜８のアルコキシ基。
Ｅ２基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数６〜２０のアリールオキシ基。
Ｅ３基：下記のＥ３−１基、Ｅ３−２基およびＥ３−３基からなる群から選ばれる少なくとも一種のグリシジルオキシ基含有アリールオキシ基。
【００２２】
Ｅ３−１基：下記の式（６）で示されるグリシジルオキシ基含有アリールオキシ基。
【化６】
0005481744.tif 000007
式（６）中、Ｇ１〜Ｇ５は、グリシジルオキシ基、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基からなる群から選ばれる基であり、少なくとも１つがグリシジルオキシ基である。
【００２３】
Ｅ３−２基：下記の式（７）で示されるグリシジルオキシ基含有アリールオキシ基。
【化７】
0005481744.tif 000008
式（７）中、Ｌはビフェニレン基若しくはナフチル基を示す。
【００２４】
Ｅ３−３基：下記の式（８）で示されるグリシジルオキシ基含有アリールオキシ基。
【化８】
0005481744.tif 000009
式（８）中、Ｍは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨ（ＣＨ３）、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ（ＣＦ３）２、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４ＣＨ２、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４Ｃ（ＣＨ３）２およびＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４ＳＯ２からなる群から選ばれる原子若しくは原子団を示す。
【００２５】
【化９】
0005481744.tif 000010
式（９）において、Ｒ１２〜Ｒ１４は、水素原子若しくは炭素数１〜６のアルキル基を示す。
【００２６】
本発明に係る重合性組成物は、本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の少なくとも二種類を含んでいる。また、本発明の他の形態に係る重合性組成物は、本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物と、活性エネルギー線硬化性化合物とを含んでいる。
【００２７】
本発明の樹脂組成物は、本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物と、熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂成分とを含んでいる。
【００２８】
本発明の樹脂成形体は、本発明の重合性組成物または樹脂組成物を硬化させて得られるものである。また、本発明の電気・電子部品は、本発明の樹脂成形体を用いたものである。
【発明の効果】
【００２９】
本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物は、樹脂成形体を形成するための樹脂材料へ混合された場合、樹脂成形体の耐熱性を損なわずに難燃性を高めることができる。また、本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物は、それ自体を硬化することで、または、他の重合性化合物とともに硬化することで、耐熱性および難燃性に優れた樹脂成形体を形成することができる。
【００３０】
本発明の製造方法によると、本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物を製造することができる。
【００３１】
本発明の重合性組成物および樹脂組成物は、電気・電子部品用途において特に有用な、耐熱性および難燃性に優れた樹脂成形体を形成することができる。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物
本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物は、下記の式（１）で表されるものである。
【００３３】
【化１０】
0005481744.tif 000011
【００３４】
式（１）において、ｎは、１から６の整数を示すが、１から４の整数が好ましく、１若しくは２が特に好ましい。すなわち、ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物として特に好ましいものは、ｎが１のシクロトリホスファゼン（３量体）を有する不飽和カルボキシレート化合物およびｎが２のシクロテトラホスファゼン（４量体）を有する不飽和カルボキシレート化合物である。ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物は、ｎが異なる二種以上のものの混合物であってもよい。
【００３５】
また、式（１）において、Ａは、下記のＡ１基、Ａ２基およびＡ３基からなる群から選ばれた基を示している。
【００３６】
［Ａ１基］
炭素数が１〜８のアルコキシ基。このアルコキシ基は、炭素数が１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい。
【００３７】
このようなアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、エテニルオキシ基、１−プロペニルオキシ基、２−プロペニルオキシ基、イソプロペニルオキシ基、３−ブテニルオキシ基、２−メチル−２−プロペニルオキシ基、４−ペンテニルオキシ基、２−ヘキセニルオキシ基、１−プロピル−２−ブテニルオキシ基、５−オクテニルオキシ基、ベンジルオキシ基および２−フェニルエトキシ基等を挙げることができる。このうち、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、２−プロペニルオキシ基およびベンジルオキシ基が好ましく、エトキシ基およびｎ−プロポキシ基が特に好ましい。
【００３８】
［Ａ２基］
炭素数が６〜２０のアリールオキシ基。このアリールオキシ基は、炭素数が１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい。
【００３９】
このようなアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、エチルメチルフェノキシ基、ジエチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、イソプロピルメチルフェノキシ基、イソプロピルエチルフェノキシ基、ジイソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ペンチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、エテニルフェノキシ基、１−プロペニルフェノキシ基、２−プロペニルフェノキシ基、イソプロペニルフェノキシ基、１−ブテニルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブテニルフェノキシ基、１−ペンテニルフェノキシ基、１−ヘキセニルフェノキシ基、フェニルフェノキシ基、ナフチルオキシ基、アントリルオキシ基およびフェナントリルオキシ基等を挙げることができる。このうち、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、ジエチルフェノキシ基、２−プロペニルフェノキシ基、フェニルフェノキシ基およびナフチルオキシ基が好ましく、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基およびナフチルオキシ基が特に好ましい。
【００４０】
［Ａ３基］
下記のＡ３−１基、Ａ３−２基およびＡ３−３基からなる群から選ばれる少なくとも一種の不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基含有アリールオキシ基。
この不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基含有アリールオキシ基における不飽和カルボニルオキシ基は、通常、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、チグロイルオキシ基およびクロトイルオキシ基から選ばれるものである。
【００４１】
Ａ３−１基：下記の式（２）で示される不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基含有アリールオキシ基。
【化１１】
0005481744.tif 000012
式（２）において、Ｒ１〜Ｒ５は、不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基からなる群から選ばれる基であり、少なくとも１つが不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基である。
【００４２】
式（２）で示される不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基含有アリールオキシ基としては、例えば、４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、２−メチル−３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基、３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−メチル−フェニルオキシ基、３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−５−メチル−フェニルオキシ基、３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−６−メチル−フェニルオキシ基、２−メチル−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基、３−メチル−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基、４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基、３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−エチル−フェニルオキシ基、３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−５−エチル−フェニルオキシ基、３−エチル−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、２−メチル−３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基、３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−メチル−フェニルオキシ基、３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−５−メチル−フェニルオキシ基、３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−６−メチル−フェニルオキシ基、２−メチル−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基、３−メチル−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基、４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基、３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−エチル−フェニルオキシ基、３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−５−エチル−フェニルオキシ基および３−エチル−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基等を挙げることができる。
【００４３】
このうち、４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−メチル−フェニルオキシ基、３−メチル−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基、４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基、４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−メチル−フェニルオキシ基、３−メチル−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基および４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基が好ましく、４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基、３−メチル−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基、４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基、４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、３−メチル−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基および４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基が特に好ましい。
【００４４】
Ａ３−２基：下記の式（３）で示される不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基含有アリールオキシ基。
【００４５】
【化１２】
0005481744.tif 000013
式（３）において、Ｒ６〜Ｒ８は水素原子若しくは炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｙはビフェニレン基若しくはナフチル基を示す。
【００４６】
式（３）で示される不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基含有アリールオキシ基としては、例えば、２−（４’−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基、３−（４’−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基、４−（４’−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基、４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基、５−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基、６−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基、２−（４’−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基、３−（４’−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基、４−（４’−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基、４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基、５−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基および６−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基等を挙げることができる。
【００４７】
このうち、３−（４’−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基、４−（４’−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基、４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基、３−（４’−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基、４−（４’−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基および４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基が好ましく、４−（４’−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基、４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基、４−（４’−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基および４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基が特に好ましい。
【００４８】
Ａ３−３基：下記の式（４）で示される不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基含有アリールオキシ基。
【００４９】
【化１３】
0005481744.tif 000014
式（４）において、Ｒ９〜Ｒ１１は、水素原子若しくは炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｚは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨ（ＣＨ３）、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ（ＣＦ３）２、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４ＣＨ２、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４Ｃ（ＣＨ３）２およびＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４ＳＯ２からなる群から選ばれる原子若しくは原子団を示す。
【００５０】
ここで、Ｒ９〜Ｒ１１は、Ｒ９およびＲ１０が水素原子でありかつＲ１１が水素原子若しくは炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、Ｒ９およびＲ１０が水素原子でありかつＲ１１が水素原子若しくは炭素数１のメチル基が特に好ましい。
【００５１】
また、Ｚは、Ｏ、ＳＯ２、ＣＨ２、Ｃ（ＣＨ３）２、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４Ｃ（ＣＨ３）２およびＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４ＳＯ２が好ましく、Ｏ、ＳＯ２、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４およびＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４ＳＯ２が特に好ましい。
【００５２】
式（１）において、Ａは、（２ｎ＋４）個含まれており、このうちの少なくとも一つがＡ３基である。したがって、式（１）で表される本発明のホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物は、次の形態に大別することができる。
【００５３】
［形態１］
（２ｎ＋４）個の全てのＡがＡ３基のものである。この場合、Ａは、全てが同じＡ３基であってもよいし、二種以上のＡ３基であってもよい。
【００５４】
この形態のホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物としては、例えば、式（１）のｎが１であるシクロトリホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物、式（１）のｎが２であるシクロテトラホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物、式（１）のｎが３であるシクロペンタホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物および式（１）のｎが４であるシクロヘキサホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物であって、Ａの全てが、４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、２−メチル−３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基、３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−メチル−フェニルオキシ基、３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−５−メチル−フェニルオキシ基、３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−６−メチル−フェニルオキシ基、２−メチル−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基、３−メチル−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基、４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基、３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−エチル−フェニルオキシ基、３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−５−エチル−フェニルオキシ基、３−エチル−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、２−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基、３−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基、４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基、４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基、５−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基、６−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基、４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ）フェニルオキシ基、４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルチオ）フェニルオキシ基、４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェニルオキシ基、４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェニルオキシ基、４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルエチリデン）フェニルオキシ基、４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェニルオキシ基、４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルヘキサフルオロイソプロピリデン）フェニルオキシ基、４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェニル）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、２−メチル−３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基、３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−メチル−フェニルオキシ基、３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−５−メチル−フェニルオキシ基、３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−６−メチル−フェニルオキシ基、２−メチル−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基、３−メチル−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基、４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基、３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−エチル−フェニルオキシ基、３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−５−エチル−フェニルオキシ基、３−エチル−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、２−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基、３−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基、４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基、４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基、５−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基、６−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基、４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ）フェニルオキシ基、４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルチオ）フェニルオキシ基、４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェニルオキシ基、４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェニルオキシ基、４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルエチリデン）フェニルオキシ基、４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェニルオキシ基、４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルヘキサフルオロイソプロピリデン）フェニルオキシ基、４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基および４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェニル）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基からなるＡ３群基から選ばれた一種のＡ３基であるもの並びにＡの全てが当該Ａ３基群から選ばれた二種以上のＡ３基であるもの並びにこれらの任意の混合物を挙げることができる。
【００５５】
［形態２］
（２ｎ＋４）個のＡのうちの一部（すなわち、少なくとも一つ）がＡ３基であり、他のＡがＡ１基およびＡ２基から選ばれた基のものである。（２ｎ＋４）個のＡのうちの二つ以上がＡ３基の場合、各Ａ３基は同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。また、Ａ３基以外の他のＡは、全てが同じＡ１基若しくはＡ２基であってもよいし、二種以上のＡ１基若しくはＡ２基または一種若しくは二種以上のＡ１基とＡ２基とが混在した状態であってもよい。
【００５６】
この形態のホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物として好ましいものは、（２ｎ＋４）個のＡのうちの１個〜（２ｎ＋２）個がＡ３基のものである。特に、式（１）のｎが１であるシクロトリホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物、式（１）のｎが２であるシクロテトラホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物、式（１）のｎが３であるシクロペンタホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物および式（１）のｎが４であるシクロヘキサホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物であって、（２ｎ＋４）個のＡのうちの１個〜（２ｎ＋２）個がＡ３基のもの並びにこれらの任意の混合物が好ましい。
【００５７】
ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物としてこの種のものを用いると、他のホスファゼン環を有するエポキシ不飽和カルボキシレート化合物を用いた場合に比べ、耐熱性により優れた樹脂成形体（すなわち、ガラス転移温度がより高い樹脂成形体）を実現可能な点において有利である。
【００５８】
なお、（２ｎ＋４）個のＡのうちの１個〜（２ｎ＋２）個がＡ３基であるか否かは、ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物またはその製造過程における中間体のＴＯＦ−ＭＳ分析により確認することができる。
【００５９】
この形態のホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物としては、例えば、式（１）のｎが１であるシクロトリホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物、式（１）のｎが２であるシクロテトラホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物、式（１）のｎが３であるシクロペンタホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物および式（１）のｎが４であるシクロヘキサホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物であって、Ａが、Ａ３基である４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である２−メチル−３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である２−メチル−３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−メチル−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−メチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−メチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−アクリオイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−５−メチル−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−アクリオイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−５−メチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−アクリオイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−５−メチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−６−メチル−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−６−メチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−６−メチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である２−メチル−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である２−メチル−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である２−メチル−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−メチル−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−メチル−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−メチル−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−エチル−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−エチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−エチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−５−エチル−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−５−エチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−５−エチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−エチル−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−エチル−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−エチル−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である５−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である５−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である５−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルチオ）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルチオ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルチオ）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルエチリデン）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルエチリデン）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルエチリデン）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルヘキサフルオロイソプロピリデン）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルヘキサフルオロイソプロピリデン）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルヘキサフルオロイソプロピリデン）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ１基で
あるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である２−メチル−３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である２−メチル−３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−メチル−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−メチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−メチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−５−メチル−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−５−メチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−５−メチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−６−メチル−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−６−メチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−６−メチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である２−メチル−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である２−メチル−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である２−メチル−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−メチル−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−メチル−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−メチル−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−エチル−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−エチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−４−エチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−５−エチル−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−５−エチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−５−エチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−エチル−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−エチル−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−エチル−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である５−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である５−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である５−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ナフチル−１−オキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルチオ）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルチオ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルチオ）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロ
ポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルエチリデン）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルエチリデン）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルエチリデン）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルヘキサフルオロイソプロピリデン）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルヘキサフルオロイソプロピリデン）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルヘキサフルオロイソプロピリデン）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、およびＡ３基である４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの並びにこれらの任意の混合物を挙げることができる。
【００６０】
このうち、式（１）のｎが１であるシクロトリホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物、式（１）のｎが２であるシクロテトラホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物および式（１）のｎが３であるシクロペンタホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物であって、Ａが、Ａ３基である４−（３−アクリロイル−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である２−メチル−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−メチル−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルチオ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルエチリデン）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−メタクリロイル−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である２−メチル−４−（３−メタクリロイル−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−メチル−４−（３−メタクリロイル−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−メタクリロイル−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイル−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイル−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイル−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルチオ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイル−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイル−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイル−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルエチリデン）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイル−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのものおよびＡ３基である４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの並びにこれらの任意の混合物が好ましい。
【００６１】
特に、式（１）のｎが１であるシクロトリホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物および式（１）のｎが２であるシクロテトラホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物であって、Ａが、Ａ３基である２−メチル−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−メチル−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である２−メチル−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である３−メチル−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンジル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの、Ａ３基である４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルイソプロピリデン）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのものおよびＡ３基である４−（３−（４−（４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルスルホニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組合せのもの並びにこれらの任意の混合物が好ましい。
【００６２】
ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造方法
本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物は、前駆体であるグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物と不飽和モノカルボン酸とを反応（付加反応）することで製造することができる。
【００６３】
ここで用いられるグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、下記の式（５）で表される。
【化１４】
0005481744.tif 000015
【００６４】
式（５）において、ｎは１から６の整数を示しているが、１から４の整数が好ましく、１若しくは２が特に好ましい。すなわち、グリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物として特に好ましいものは、ｎが１のグリシジルオキシ基含有シクロトリホスファゼン（３量体）およびｎが２のグリシジルオキシ基含有シクロテトラホスファゼン（４量体）である。グリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、ｎが異なる二種以上のものの混合物であってもよい。
【００６５】
また、式（５）において、Ｅは、下記のＥ１基、Ｅ２基およびＥ３基からなる群から選ばれた基であり、Ｅのうちの少なくとも一つはＥ３基である。
【００６６】
［Ｅ１基］
炭素数が１〜８のアルコキシ基。このアルコキシ基は、炭素数が１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい。このようなアルコキシ基の例およびそのうちの好ましいものとしては、Ａ１基の説明において挙げたものが挙げられる。
【００６７】
［Ｅ２基］
炭素数が６〜２０のアリールオキシ基。このアリールオキシ基は、炭素数が１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい。このようなアリールオキシ基の例およびそのうちの好ましいものとしては、Ａ２基の説明において挙げたものが挙げられる。
【００６８】
［Ｅ３基］
下記のＥ３−１基、Ｅ３−２基、Ｅ３−３基からなる群から選ばれる基。
【００６９】
Ｅ３−１基：下記の式（６）で示されるグリシジルオキシ基含有アリールオキシ基。
【化１５】
0005481744.tif 000016
式（６）において、Ｇ１〜Ｇ５は、グリシジルオキシ基、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基からなる群から選ばれる基であり、少なくとも１つがグリシジルオキシ基である。
【００７０】
式（６）で示されるグリシジルオキシ基含有アリールオキシ基としては、２−グリシジルオキシフェニルオキシ基、３−グリシジルオキシフェニルオキシ基、４−グリシジルオキシフェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−３−メチル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−４−メチル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−５−メチル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−６−メチル−フェニルオキシ基、２−メチル−３−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−４−メチル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−５−メチル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−６−メチル−フェニルオキシ基、２−メチル−４−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、３−メチル−４−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−３，４−ジメチル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−３，６−ジメチル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−４，５−ジメチル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−４，６−ジメチル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−５，６−ジメチル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−２，４−ジメチル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−２，５−ジメチル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−２，６−ジメチル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−４，５−ジメチル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−４，６−ジメチル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−５，６−ジメチル−フェニルオキシ基、４−グリシジルオキシ−２，３−ジメチル−フェニルオキシ基、４−グリシジルオキシ−２，５−ジメチル−フェニルオキシ基、４−グリシジルオキシ−２，６−ジメチル−フェニルオキシ基、４−グリシジルオキシ−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基、４−グリシジルオキシ−３，６−ジメチル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−３，４，５−トリメチル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−３，４，６−トリメチル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−３，５，６−トリメチル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−４，５，６−トリメチル−フェニルオキシ基、２，４，５−トリメチル−３−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、２，５，６−トリメチル−３−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−４，５，６−トリメチル−フェニルオキシ基、２，３，５−トリメチル−４−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、２，３，６−トリメチル−４−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−３，４，５，６−テトラメチル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−２，４，５，６−テトラメチル−フェニルオキシ基、４−グリシジルオキシ−２，３，５，６−テトラメチル−フェニルオキシ基、２，３−ジグリシジルオキシ−４−メチル−フェニルオキシ基、２，３−ジグリシジルオキシ−５−メチル−フェニルオキシ基、２，３−ジグリシジルオキシ−６−メチル−フェニルオキシ基、２，４−ジグリシジルオキシ−３−メチル−フェニルオキシ基、２，４−ジグリシジルオキシ−５−メチル−フェニルオキシ基、２，４−ジグリシジルオキシ−６−メチル−フェニルオキシ基、２，５−ジグリシジルオキシ−３−メチル−フェニルオキシ基、２，５−ジグリシジルオキシ−４−メチル−フェニルオキシ基、２，５−ジグリシジルオキシ−６−メチル−フェニルオキシ基、２，６−ジグリシジルオキシ−３−メチル−フェニルオキシ基、２，６−ジグリシジルオキシ−４−メチル−フェニルオキシ基、２，６−ジグリシジルオキシ−５−メチル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−３−エチル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−４−エチル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−５−エチル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−６−エチル−フェニルオキシ基、２−エチル−３−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−４−エチル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−５−エチル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−６−エチル−フェニルオキシ基、２−エチル−４−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、３−エチル−４−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−３−アリル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−４−アリル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−５−アリル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−６−アリル−フェニルオキシ基、２−アリル−３−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−４−アリル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−５−アリル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−６−アリル−フェニルオキシ基、２−アリル−４−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、３−アリル−４−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−３−フェニル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−４−フェニル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−５−フェニル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−６−フェニル−フェニルオキシ基、２−グリシジルオキシ−３−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−４−フェニル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−５−フェニル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−６−フェニル−フェニルオキシ基、２−フェニル−４−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、３−フェニル−４−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、２−メチル−３−エチル−４−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、２−メチル−４−グリシジルオキシ−５−エチル−フェニルオキシ基、２−メチル−４−グリシジルオキシ−６−エチル−フェニルオキシ基、２−エチル−３−メチル−４−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、２−エチル−４−グリシジルオキシ−５−メチル−フェニルオキシ基および２−エチル−４−グリシジルオキシ−６−メチル−フェニルオキシ基等を挙げることができる。
【００７１】
このうち、３−グリシジルオキシフェニルオキシ基、４−グリシジルオキシフェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−４−メチル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−５−メチル−フェニルオキシ基、２−メチル−４−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、３−メチル−４−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−２，４−ジメチル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−２，５−ジメチル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−４，５−ジメチル−フェニルオキシ基、４−グリシジルオキシ−２，６−ジメチル−フェニルオキシ基、４−グリシジルオキシ−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基、２，３，５−トリメチル−４−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−２，４，５，６−テトラメチル−フェニルオキシ基、４−グリシジルオキシ−２，３，５，６−テトラメチル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−４−エチル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−５−エチル−フェニルオキシ基、３−エチル−４−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−４−アリル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−５−アリル−フェニルオキシ基、３−アリル−４−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−４−フェニル−フェニルオキシ基、３−グリシジルオキシ−５−フェニル−フェニルオキシ基および３−フェニル−４−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基が好ましく、４−グリシジルオキシフェニルオキシ基、３−メチル−４−グリシジルオキシ−フェニルオキシ基、４−グリシジルオキシ−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基および４−グリシジルオキシ−３，５−ジメチル−フェニルオキシ基が特に好ましい。
【００７２】
Ｅ３−２基：下記の式（７）で示されるグリシジルオキシ基含有アリールオキシ基。
【化１６】
0005481744.tif 000017
式（７）において、Ｌは、ビフェニレン基若しくはナフチル基を示す。
【００７３】
式（７）で示されるグリシジルオキシ基含有アリールオキシ基としては、２−（４−グリシジルオキシフェニル）フェニルオキシ基、３−（４−グリシジルオキシフェニル）フェニルオキシ基、４−（４−グリシジルオキシフェニル）フェニルオキシ基、４−グリシジルオキシナフチル−１−オキシ基、５−グリシジルオキシナフチル−１−オキシ基および６−グリシジルオキシナフチル−１−オキシ等を挙げることができる。このうち３−（４−グリシジルオキシフェニル）フェニルオキシ基、４−（４−グリシジルオキシフェニル）フェニルオキシ基、４−グリシジルオキシナフチル−１−オキシ基および５−グリシジルオキシナフチル−１−オキシ基が好ましく、４−（４−グリシジルオキシフェニル）フェニルオキシ基および４−グリシジルオキシナフチル−１−オキシ基が特に好ましい。
【００７４】
Ｅ３−３基：下記の式（８）で示されるグリシジルオキシ基含有アリールオキシ基。
【化１７】
0005481744.tif 000018
【００７５】
式（８）において、Ｍは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨ（ＣＨ３）、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ（ＣＦ３）２、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４ＣＨ２、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４Ｃ（ＣＨ３）２およびＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ６Ｈ４ＳＯ２からなる群から選ばれる原子若しくは原子団を示す。
【００７６】
式（８）で示されるグリシジルオキシ含有アリールオキシ基としては、４−（４−グリシジルオキシフェニルオキシ）フェニルオキシ基、４−（４−グリシジルオキシフェニルチオ）フェニルオキシ基、４−（４−グリシジルオキシフェニルスルホニル）フェニルオキシ基、４−（４−グリシジルオキシベンジル）フェニルオキシ基、４−（４−グリシジルオキシフェニルエチリデン）フェニルオキシ基、４−（４−グリシジルオキシフェニルイソプロピリデン）フェニルオキシ基、４−（４−グリシジルオキシフェニルヘキサフルオロイソプロピリデン）フェニルオキシ基、４−（３−（４−（４−グリシジルオキシフェニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、４−（３−（４−（４−グリシジルオキシベンジル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、４−（３−（４−（４−グリシジルオキシフェニルイソプロピリデン）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基および４−（３−（４−（４−グリシジルオキシフェニルスルホニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基等を挙げることができる。
【００７７】
このうち、４−（４−グリシジルオキシフェニルオキシ）フェニルオキシ基、４−（４−グリシジルオキシフェニルチオ）フェニルオキシ基、４−（４−グリシジルオキシフェニルスルホニル）フェニルオキシ基、４−（４−グリシジルオキシベンジル）フェニルオキシ基、４−（４−グリシジルオキシフェニルイソプロピリデン）フェニルオキシ基、４−（３−（４−（４−グリシジルオキシフェニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、４−（３−（４−（４−グリシジルオキシベンジル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、４−（３−（４−（４−グリシジルオキシフェニルイソプロピリデン）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基および４−（３−（４−（４−グリシジルオキシフェニルスルホニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基が好ましく、４−（４−グリシジルオキシフェニルスルホニル）フェニルオキシ基、４−（４−グリシジルオキシベンジル）フェニルオキシ基、４−（４−グリシジルオキシフェニルイソプロピリデン）フェニルオキシ基、４−（３−（４−（４−グリシジルオキシフェニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、４−（３−（４−（４−グリシジルオキシベンジル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基、４−（３−（４−（４−グリシジルオキシフェニルイソプロピリデン）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基および４−（３−（４−（４−グリシジルオキシフェニルスルホニル）フェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニルオキシ基が特に好ましい。
【００７８】
上述のような各種のグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、各種の文献、例えば、下記の非特許文献１および特許文献５、６に記載の方法に基づいて製造することができる。
【００７９】
【非特許文献１】ＰＨＯＳＰＨＡＺＥＮＥＳ、Ａ  ＷＯＲＬＤＷＩＤＥ  ＩＮＳＩＧＨＴ，Ｍ．ＧＬＥＲＩＡ、Ｒ．ＤＥ  ＪＡＥＧＥＲ著、２００４年刊、ＮＯＶＡ  ＳＣＩＥＮＣＥ  ＰＵＢＬＩＳＨＥＲＳ  ＩＮＣ．社
【特許文献５】特開２００１−３３５７０３号公報
【特許文献６】特開２００７−１５３７４８号公報
【００８０】
一方、本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造において用いられる不飽和モノカルボン酸は、下記の式（９）で示されるものである。
【化１８】
0005481744.tif 000019
式（９）において、Ｒ１２〜Ｒ１４は、水素原子若しくは炭素数１〜６のアルキル基を示す。
【００８１】
なお、式（９）で示される不飽和モノカルボン酸として好ましいものは、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸およびチグル酸である。
【００８２】
グリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物と不飽和モノカルボン酸との反応方法は、多数の公知文献に記載されており、Ｅ３基の種類に応じて適宜選択することができる。例えば、下記の特許文献７に記載されているように、グリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物に含まれるエポキシ基１モルに対して、不飽和基含有モノカルボン酸を０．２〜１．３モルの割合で配合し、溶媒中または無溶媒下において６０〜１５０℃、好ましくは７０〜１３０℃に加熱して反応する。この際、反応中の重合によるゲル化を防止する目的で、ヒドロキノンやｐ−メチルヒドロキノン等のヒドロキノン類のような公知の重合禁止剤を用い、空気の存在下で反応するのが好ましい。また、反応時間を短縮するために、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリドおよびテトラメチルアンモニウムクロリド等の第四級アンモニウム塩、ピリジン、２−ピコリンおよび２，６−ルチジンルチジン等のピリジン類若しくはトリフェニルホスフィンおよびトリブチルホスフィン等のホスフィン類または公知のエステル化促進剤を使用することができる。
【００８３】
【特許文献７】特開昭４４−３１４７２号公報
【００８４】
本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物は、不飽和カルボニルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ基に加え、グリシジルオキシ基を同時に有するものであってもよい。すなわち、本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物は、式（１）中のＡの一部がグリシジルオキシ基含有基であってもよい。このグリシジルオキシ基含有基は、通常、上述の製造方法において用いる式（５）で表されるグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物のグリシジルオキシ基が不飽和モノカルボン酸と反応せずにそのまま残留したものである。より具体的には、Ｅ３−１基のグリシジルオキシ基の一部が未反応のまま残留したもの、未反応のＥ３−２基または未反応のＥ３−３基である。このようなグリシジルオキシ基含有基は、この形態のホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物において、二種類以上のものが含まれていてもよい。
【００８５】
ホスファゼン環を有する酸変性不飽和カルボキシレート化合物
本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物は、多塩基酸無水物を用いて酸変性されていてもよい。ホスファゼン環を有する酸変性不飽和カルボキシレート化合物は、希アルカリ水溶液に対する溶解性が高まるため、後記する重合性組成物または樹脂組成物を回路基板製造用のソルダーレジストとして用いる場合において、希アルカリ水溶液にて現像が可能となり、加工性が向上する。
【００８６】
酸変性のために用いられる多塩基酸無水物は、芳香族ジカルボン酸無水物、脂環式ジカルボン酸無水物および脂肪族ジカルボン酸無水物であり、例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルテトラフタル酸、無水メチルヘキサフタル酸、無水クロレンド酸、無水メチルナジック酸、無水トリメリット酸および無水ピロメリット酸等を挙げることができる。このうち、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルテトラフタル酸、無水メチルヘキサフタル酸、無水トリメリット酸および無水ピロメリット酸が好ましい。
【００８７】
ホスファゼン環を有する酸変性不飽和カルボキシレート化合物は、ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物と多塩基酸無水物とを反応することで製造することができる。このための反応は、水酸基を有する不飽和カルボキシレート化合物と多塩基酸無水物との間での公知の反応方法を参照して実施することができる。
【００８８】
この際、多塩基酸無水物の使用量は、ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の水酸基当量に対して０．０１〜１．２当量に設定するのが好ましく、０．０５〜１．０当量に設定するのがより好ましい。
【００８９】
また、反応は、無溶媒で実施してもよいし、溶媒中で実施してもよい。溶媒を使用する場合、使用可能な溶媒は特に限定されるものではないが、例えば、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンおよびソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテルおよびテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセルソロブアセテート、エチルセルソロブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテートおよびジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類を挙げることができる。また、反応温度は、生成したホスファゼン環を有する酸変性不飽和カルボキシレート化合物が熱重合しない温度であれば特に限定されるものではないが、通常、６０〜１３０℃に設定するのが好ましい。
【００９０】
重合性組成物
本発明の重合性組成物は、本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の少なくとも二種類を含むものである。また、本発明に係る他の形態の重合性組成物は、本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物と、活性エネルギー線硬化性化合物とを含むものである。この形態の重合性組成物において、本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物は、二種以上のものが併用されてもよい。これらの重合性組成物は、必要により重合開始剤を配合して活性エネルギー線を照射することで硬化反応が進行し、樹脂状の硬化物を形成するため、樹脂成形体を形成するための材料として用いることができる。
【００９１】
重合性組成物において使用可能な活性エネルギー線硬化性化合物は、各種のものであって特に限定されるものではないが、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ペンタエリスロトールトリアクリレートおよびジペンタエリスロトール等の水酸基含有アクリレート類、ポリエチレングリコールジアクリレートおよびポリプロピレングリコールジアクリレートなどの水溶性のアクリレート類、トリメチロールプロパントリアクリレートおよびペンタエリスロトールテトラアクリレート等の多官能アルコールの多官能ポリエステルアクリレート類、トリメチロールプロパンおよび水添ビスフェノールＡ等の多官能アルコール若しくはビスフェノールＡおよびビフェノール等の多官能フェノールのエチレンオキサイド付加物またはプロピレンオキサイド付加物のアクリレート類、上記水酸基含有アクリレート類のイソシアネート変性物である多官能若しくは単官能ポリウレタンアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、フェノールノボラック若しくはクレゾールノボラックエポキシ樹脂のアクリル酸付加物であるエポキシアクリレート類並びにこれら各種アクリレート類に対応するメタクリレート類を挙げることができる。これらは単独で用いられてもよいし、二種以上のものが併用されてもよい。
【００９２】
重合性組成物を硬化させる際に配合可能な重合開始剤は、活性エネルギー線を吸収し、アクリロイル基やメタクリロイル基等の不飽和基をラジカル重合させるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテルおよびベンゾインエチルエーテル等のベンゾインとそのアルキルエーテル類、アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノンおよび１，１−ジクロロアセトフェノン等のアセトフェノン類、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノアミノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノンおよびＮ，Ｎ−ジメチルアミノアセトフェノン等のアミノアセトフェノン類、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オンおよび１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン等のα−ヒドロキシケトン類、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノンおよび１−クロロアントラキノン等のアントラキノン類、２，４−ジメチルチオキサントン、２−クロロチオキサントンおよび２，４−ジイソプロピルキサントン等のチオキサントン類、アセトフェノンジメチルケタールおよびベンジルジメチルケタール等のケタール類、ベンゾイルパーオキシドおよびクメンパーオキシド等の有機過酸化物、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体、リボフラビンテトラブチレート、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾールおよび２−メルカプトベンゾチアゾール等のチオール類、２，４，６−トリス−ｓｅｃ−トリアジン、２，２，２−トリブロモエタノールおよびトリブロモメチルフェニルスルホン等の有機ハロゲン化物、ベンゾフェノンおよび４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類並びに２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。このうち、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノアミノ−１−プロパノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノンが特に好ましい。
【００９３】
活性エネルギー線硬化性化合物を含む重合性組成物において、本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の割合は、活性エネルギー線硬化性化合物の種類や重合性組成物の用途等の各種条件に応じて適宜設定することができるが、通常、固形分換算での活性エネルギー線硬化性化合物１００重量部に対して０．１〜２００重量部に設定するのが好ましく、０．５〜１００重量部に設定するのがより好ましく、１〜５０重量部に設定するのがさらに好ましい。ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の使用量が０．１重量部未満の場合は、当該重合性組成物からなる樹脂成形体が十分な難燃性を示さないおそれがある。逆に、２００重量部を超えると、重合性組成物において使用する活性エネルギー線硬化性化合物から期待される特性を有する樹脂成形体が得られにくくなるおそれがある。
【００９４】
上述の重合開始剤は、単独で用いられてもよいし、二種以上のものを混合して用いられてもよい。また、上述の重合開始剤は、必要に応じ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステルおよびＮ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸ペンチル等のエステル類並びにトリエチルアミンおよびトリエタノールアミン等の第３級アミン類等の重合開始助剤を添加して用いることができ、また、可視光領域に吸収のあるチタノセン化合物（例えば、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製の「ＣＧＩ−７８４」）等の重合開始促進剤を添加して用いることもできる。
【００９５】
本発明の重合性組成物は、有機過酸化物やアゾ化合物などの重合開始剤を配合して加熱する加熱重合法、或いは、有機過酸化物と促進剤とを配合する常温重合法などによっても硬化反応が進行し、樹脂状の硬化物を形成することができる。
【００９６】
これらの重合法において使用可能な有機過酸化物は、特に限定されるものではないが、例えば、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ベンゾイルパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイドおよびビス−４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシルパーオキシジカーボネート等が挙げられる。これらは、単独で用いられてもよいし、二種以上のものが併用されてもよい。
【００９７】
また、常温重合法において使用可能な促進剤は、特に限定されるものではないが、例えば、コバルト、鉄およびマンガン等のオクチル酸並びにナフテン酸塩等の多価金属塩類、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、ｐ−トルイジンおよびエタノールアミン等である。これらは、単独で用いられてもよいし、二種以上のものが併用されてもよい。
【００９８】
本発明の重合性組成物は、用途等に応じ、その目的とする物性を損なわない範囲で、各種の添加剤を含んでいてもよい。使用可能な添加剤としては、例えば、天然シリカ、焼成シリカ、合成シリカ、アモルファスシリカ、ホワイトカーボン、アルミナ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、ホウ酸亜鉛、錫酸亜鉛、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化モリブデン、モリブデン酸亜鉛、天然マイカ、合成マイカ、アエロジル、カオリン、クレー、タルク、焼成カオリン、焼成クレー、焼成タルク、ウオラストナイト、ガラス短繊維、ガラス微粉末、中空ガラスおよびチタン酸カリウム繊維等の無機充填剤、アラミド繊維およびポリパラフェニレンベンズビスオキサゾール繊維等の有機繊維、シランカップリング剤などの充填材の表面処理剤、ワックス類、脂肪酸およびその金属塩、酸アミド類およびパラフィン等の離型剤、リン酸エステル、縮合リン酸エステル、リン酸アミド、リン酸アミドエステル、リン酸アンモニウム、赤リン、塩素化パラフィン、メラミン、メラミンシアヌレート、メラム、メレム、メロンおよびサクシノグアナミン等の窒素系難燃剤、シリコーン系難燃剤並びに臭素系難燃剤等の難燃剤、三酸化アンチモン等の難燃助剤、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のドリッピング防止剤、ベンゾトリアゾール等の紫外線吸収剤、ヒンダートフェノールおよびスチレン化フェノールなどの酸化防止剤、チオキサントン系などの光重合開始剤、スチルベン誘導体などの蛍光増白剤、硬化剤、染料、顔料、着色剤、光安定剤、光増感剤、増粘剤、滑剤、消泡剤、レベリング剤、光沢剤、重合禁止剤、チクソ性付与剤、可塑剤並びに帯電防止剤等を挙げることができる。
【００９９】
また、本発明の重合性組成物は、必要により溶剤を添加して溶解することで、各種の基材に対して塗布可能な粘度に調整することができる。ここで使用可能な溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノン等のケトン類、ベンゼン、トルエンおよびキシレン等の芳香族炭化水素類、セルソロブ、メチルセルソロブ、ブチルセルソロブ、カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルおよびトリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セルソロブアセテートおよびメチルセルソロブアセテート等の酢酸エステル類、エタノール、プロパノール、エチレングリコールおよびプロピレングリコール等のアルコール類、オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素、石油エーテル、石油ナフサおよびソルベントナフサ等の石油系溶剤等が挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いられてもよいし、二種以上のものが併用されてもよい。
【０１００】
本発明の重合性組成物は、それ自体について、或いは、上述の重合開始剤等を配合したものについて、活性エネルギー線を照射するか加熱することで硬化反応が進行し、樹脂状の硬化物を形成し得る。この硬化物は、高いガラス転移温度を示すことから高温下での機械的特性、すなわち耐熱性に優れており、また、高い難燃性を示す。このため、本発明の重合性組成物は、各種の用途において用いられる樹脂成形体の製造用材料並びに塗料用、接着剤用およびその他の用途用材料として活用することができる。
【０１０１】
樹脂組成物
本発明の樹脂組成物は、本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物と、熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂成分とを含むものである。ここで、本発明に係るホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物は、二種類以上のものが用いられてもよい。
【０１０２】
この樹脂組成物において使用可能な熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリイソプレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、スチレン樹脂、耐衝撃性ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン樹脂（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（ＡＢＳ樹脂）、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン樹脂（ＭＢＳ樹脂）、メチルメタクリレート−アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（ＭＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−アクリルゴム−スチレン樹脂（ＡＡＳ樹脂）、ポリメチルアクリレート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、脂肪族系ポリアミド樹脂、芳香族系ポリアミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリプロピレンテレフタレート樹脂、ポリトリメチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂およびポリエチレンナフタレート樹脂等のポリエステル樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリエーテルニトリル樹脂、ポリチオエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂並びに液晶ポリマー樹脂等を挙げることができる。このうち、変性ポリフェニレンエーテル樹脂としては、通常、ポリフェニレンエーテル樹脂の一部または全部に、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、水酸基または無水ジカルボキシル基などの反応性官能基を、グラフト反応や共重合などの何らかの方法により導入したものが好ましい。なお、樹脂組成物を電子機器用途、特に、ＯＡ機器、ＡＶ機器、通信機器および家電製品用の筐体や部品用の材料として用いる場合は、熱可塑性樹脂としてポリエステル樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリカーボネート樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂若しくはポリアミド樹脂を用いるのが好ましい。
【０１０３】
一方、この樹脂組成物において使用可能な熱硬化性樹脂としては、例えば、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、マレイミド樹脂、シアン酸エステル樹脂、マレイミド−シアン酸エステル樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、ポリベンズイミダゾール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエステルイミド樹脂、ポリカルボジイミド樹脂並びにエポキシ樹脂等を挙げることができる。このうち、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエステルイミド樹脂、ポリカルボジイミド樹脂、マレイミド樹脂、マレイミド−シアン酸エステル樹脂等のポリイミド系樹脂は、その取り扱い加工性および接着性を向上するために、熱可塑性や溶媒可溶性が付与されたものであってもよい。なお、樹脂組成物を電子部品用途、特に、各種ＩＣ素子の封止材、配線板の基板材料、層間絶縁材料や絶縁性接着材料等の絶縁材料、Ｓｉ基板またはＳｉＣ基板等のＳｉ系絶縁材料、導電材料および表面保護材料として用いる場合は、熱硬化性樹脂として、ポリウレタン、フェノール樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアン酸エステル樹脂、ビスマレイミドーシアン酸エステル樹脂、ポリイミド系樹脂若しくはエポキシ樹脂を用いるのが好ましい。
【０１０４】
本発明の樹脂組成物において、ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の使用量は、樹脂成分の種類や樹脂組成物の用途等の各種条件に応じて適宜設定することができるが、通常、固形分換算での樹脂成分１００重量部に対して０．１〜２００重量部に設定するのが好ましく、０．５〜１００重量部に設定するのがより好ましく、１〜５０重量部に設定するのが特に好ましい。ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の使用量が０．１重量部未満の場合は、当該樹脂組成物からなる樹脂成形体が十分な難燃性を示さない可能性がある。逆に、２００重量部を超えると、樹脂成分本来の特性を損ない、当該特性による樹脂成形体が得られにくい可能性がある。
【０１０５】
本発明の樹脂組成物は、用途や樹脂成分の種類等に応じ、その目的とする物性を損なわない範囲で、本発明の重合性組成物に配合可能なものと同様の各種の添加剤を配合することができる。
【０１０６】
また、本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、熱硬化性樹脂の硬化剤や硬化促進剤を配合することもできる。使用可能な硬化剤や硬化促進剤は、特に限定されるものではないが、通常、アミン化合物、フェノール化合物、酸無水物、イミダゾール類および有機金属塩などである。これらは、二種以上を併用することもできる。
【０１０７】
本発明の樹脂組成物として好ましいものは、樹脂成分としてエポキシ樹脂を用いたものである。使用可能なエポキシ樹脂は、１分子中に２個以上のエポキシ基を有する化合物であれば特に限定されるものではなく、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール−Ａノボラック型エポキシ樹脂およびナフトールノボラック型エポキシ樹脂等のフェノール類とアルデヒド類との反応により得られるノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂、ビスフェノール−Ｆ型エポキシ樹脂、ビスフェノール−ＡＤ型エポキシ樹脂、ビスフェノール−Ｓ型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、シクロペンタジェン型エポキシ樹脂、アルキル置換ビフェノール型エポキシ樹脂、多官能フェノール型エポキシ樹脂、トリス（ヒドロキシフェニル）メタン等のフェノール類とエピクロルヒドリンとの反応により得られるフェノール型エポキシ樹脂、トリメチロールプロパン、オリゴプロピレングリコールおよび水添ビスフェノール−Ａ等のアルコール類とエピクロルヒドリンとの反応により得られる脂肪族エポキシ樹脂、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸若しくはフタル酸とエピクロルヒドリン若しくは２−メチルエピクロルヒドリンとの反応により得られるグリシジルエステル系エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルメタンやアミノフェノール等のアミンとエピクロルヒドリンとの反応により得られるグリシジルアミン系エポキシ樹脂、イソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンとの反応により得られる複素環式エポキシ樹脂、グリシジル基を有するホスファゼン化合物、エポキシ変性ホスファゼン樹脂、イソシアネート変性エポキシ樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂並びにウレタン変性エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの中でも、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、多官能フェノール型エポキシ樹脂およびトリス（ヒドロキシフェニル）メタンとエピクロルヒドリンとの反応により得られるフェノール型エポキシ樹脂が好ましい。これらのエポキシ樹脂は、それぞれ単独で用いられてもよいし、二種以上のものが併用されてもよい。
【０１０８】
エポキシ樹脂を樹脂成分として用いた本発明の樹脂組成物（以下、このような樹脂組成物を「エポキシ樹脂組成物」という場合がある）において、ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物は、エポキシ樹脂のエポキシ基と反応することでエポキシ樹脂の硬化剤として機能し得る。また、エポキシ樹脂組成物は、他の硬化剤を含んでいてもよい。
【０１０９】
ここで用いられる他の硬化剤は、特に限定されるものではないが、例えば、脂肪族ポリアミン、芳香族ポリアミンおよびポリアミドポリアミン等のポリアミン系硬化剤、無水ヘキサヒドロフタル酸および無水メチルテトラヒドロフタル酸等の酸無水物系硬化剤、フェノールノボラックおよびクレゾールノボラック等のフェノール系硬化剤、ヒドロキシ基またはグリシジル基を有するホスファゼン化合物、三フッ化ホウ素等のルイス酸およびそれらの塩類並びにジシアンジアミド類等を挙げることができる。これらは、それぞれ単独で用いられてもよいし、二種以上が併用されてもよい。
【０１１０】
エポキシ樹脂組成物において、ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の含有量またはホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物と他の硬化剤との合計含有量は、樹脂組成物におけるホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の既述の使用量を維持しつつ、通常、エポキシ樹脂の硬化性を高める観点で、エポキシ樹脂のエポキシ基１当量に対して０．５〜１．５当量になるよう設定するのが好ましく、０．６〜１．２当量になるよう設定するのがより好ましい。なお、ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物と他の硬化剤との合計含有量に占めるホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の割合は、０．１〜９９重量％に設定するのが好ましく、０．５〜９０重量％に設定するのがより好ましい。ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の割合が０．１重量％未満の場合は、エポキシ樹脂組成物の硬化物が十分な難燃性を示さない可能性がある。
【０１１１】
エポキシ樹脂組成物は、硬化促進剤を含んでいてもよい。使用可能な硬化促進剤は、種々のものであって特に限定されるものではないが、例えば、２−メチルイミダゾールおよび２−エチルイミダゾール等のイミダゾール系化合物、２−（ジメチルアミノメチル）フェノール等の第３アミン系化合物およびトリフェニルホスフィン化合物等を挙げることができる。硬化促進剤を用いる場合、その使用量は、エポキシ樹脂１００重量部に対して０．０１〜１５重量部に設定するのが好ましく、０．１〜１０重量部に設定するのがより好ましい。
【０１１２】
エポキシ樹脂組成物は、必要に応じて反応性希釈剤や添加剤が配合されていてもよい。使用可能な反応性希釈剤は、特に限定されるものではないが、例えば、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテルおよびアリルグリシジルエーテル等の脂肪族アルキルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレートおよび３級カルボン酸グリシジルエステル等のアルキルグリシジルエステル、スチレンオキサイドおよびフェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、ｐ−ｓ−ブチルフェニルグリシジルエーテルおよびノニルフェニルグリシジルエーテル等の芳香族アルキルグリシジルエーテル等を挙げることができる。これらの反応性希釈剤は、それぞれ単独で用いられてもよいし、二種以上が併用されてもよい。一方、添加剤としては、既述のようなものを用いることができる。
【０１１３】
上述のエポキシ樹脂組成物等の本発明の樹脂組成物は、各成分を均一に混合することで調製することができる。この樹脂組成物は、樹脂成分に応じて１００〜２５０℃程度の温度範囲で１〜３６時間放置すると、充分な硬化反応が進行し、硬化物を形成する。例えば、エポキシ樹脂組成物は、通常、１５０〜２５０℃の温度で２〜１５時間放置すると、充分な硬化反応が進行し、硬化物を形成する。このような硬化過程において、本発明のホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物は、そのヒドロキシ基が樹脂成分と反応し、硬化物中において安定に保持されることになるため、当該硬化物の高温信頼性を損ないにくい。また、本発明のホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物は、そのような硬化物の機械的特性（特に、ガラス転移温度）を損なわずに、当該硬化物の難燃性を高めることができる。したがって、本発明の樹脂組成物により得られる硬化物は、耐熱性および難燃性に優れている。このため、本発明の樹脂組成物は、各種の樹脂成形体の製造用材料並びに塗料用、接着剤用およびその他の用途用材料として活用することができる。
【０１１４】
樹脂成形体
本発明の樹脂成形体は、本発明の重合性組成物または樹脂組成物を用いて形成された硬化物からなるものである。
【０１１５】
この樹脂形成体は、本発明の重合性組成物または樹脂組成物を各種の成形機に仕込んで任意の形状に成形し、加熱したり活性エネルギー線を照射したりすることで硬化させると得られる。また、この樹脂成形体は、本発明の重合性組成物または樹脂組成物を既述の溶剤に溶解させたものを各種の基材、例えば、ガラス繊維、カーボン繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維、アルミナ繊維または紙などからなる基材に含浸させ、それを加熱乾燥することで得たプリプレグを熱プレス成形したり、当該プリプレグに活性エネルギー線を照射することで硬化させたりすることにより得られるものであってもよい。さらに、この樹脂成形体は、本発明の重合性組成物または樹脂組成物を既述の溶剤に溶解させたものをコーティング材や印刷インク等として塗布等の方法により膜状に成形して硬化させたシート状やフイルム状のものであってもよい。
【０１１６】
本発明の樹脂成形体は、本発明に係る重合性組成物または樹脂組成物からなるものであるため、耐熱性および難燃性に優れている。このため、この樹脂成形体は、電気・電子部品において、その構成材料、例えば、半導体封止材、回路基板用要素（特に、金属張り積層板、ビルドアップ配線板、プリント配線板用基板、プリント配線板用接着材、プリント配線板用接着剤シート、プリント配線板用絶縁性回路保護膜、プリント配線板用導電体、多層プリント配線板用封止材、回路保護材、カバーレイフィルムおよびカバーレイインク、ソルダーレジスト）および絶縁体等として用いられるのが特に好ましい。
【実施例】
【０１１７】
以下に実施例等を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。なお、以下において、「ｕｎｉｔ  ｍｏｌ」の「ｕｎｉｔ」は、環状ホスファゼン化合物の最小構成単位、例えば、式（１）については（ＰＮＡ２）を意味する。また、以下においては、特に断りがない限り、「％」および「部」とあるのは、それぞれ「重量％」および「重量部」を意味する。
【０１１８】
以下の合成例で得られた環状ホスファゼン化合物および実施例で得られたホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物等は、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルおよび３１Ｐ−ＮＭＲスペクトルの測定、ＣＨＮＰ元素分析、ＩＲスペクトルの測定、アルカリ溶融後の硝酸銀を用いた電位差滴定法による塩素元素（残留塩素）の分析並びにＴＯＦ−ＭＳ分析の結果に基づいて同定した。
【０１１９】
以下の合成例および実施例等において、水酸基当量は、ＪＩＳ  Ｋ  ００７０−１９９２「化学製品の酸価、けん化価、エステル価、よう素価、水酸基価及び不けん化物の試験方法」において規定された水酸基価測定方法の中和滴定法に従って水酸基価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）を測定し、その値を水酸基当量（ｇ／ｅｑ．）に変換したものである。また、エポキシ当量（ｇ／ｅｑ．：１当量のエポキシ基を含む組成物の質量ｇ）は、ＪＩＳ  Ｋ−７２３６「エポキシ樹脂のエポキシ当量の求め方」において規定された方法に従い測定した。
【０１２０】
合成例１（グリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造）
温度計、撹拌機、冷却管および滴下ロートを取り付けた５リットルの４つ口フラスコに、窒素気流下、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン（１７３．８ｇ、１．５０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）を仕込み、トルエン（２，０００ｍＬ）を加えて溶解した。これにナトリウム４−メトキシフェノキシド（１４６．９ｇ、１．０１ｍｏｌ）のＴＨＦ（４５０ｍＬ）溶液を５時間で滴下した後、２５℃にて２４時間撹拌した。この反応液を予め調製したナトリウムフェノキシド（３３６．７ｇ、２．９０ｍｏｌ）のトルエン（１，２５０ｇ）懸濁液に投入後、１１０℃にて１０時間還流した。反応混合物を室温に冷却後、５％水酸化ナトリウム水溶液にて２回洗浄後、希硝酸にて中和し、さらに水洗した。トルエン層を減圧濃縮し、３７３．２ｇの生成物を得た。この生成物を３リットルの４つ口フラスコに仕込み、トルエン（４００ｍＬ）およびピリジン（１５９．８ｇ、２．０２ｍｏｌ）を加えて撹拌溶解した。これに塩化水素ガス（９７．３ｇ、２．６７ｍｏｌ）を撹拌しながら内温４０℃以下で導入した。その後、加熱を開始してトルエンを留去後、内温２００℃にて加熱撹拌した。１Ｈ−ＮＭＲ測定にて原料物質の消失を確認後、冷却し、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ、１，０００ｍＬ）を加えて希釈した。ＭＩＢＫ層を５％塩酸水溶液、１％塩酸水溶液の順に洗浄後、１％水酸化ナトリウム水溶液にて中和し、さらに水洗した。ＭＩＢＫ層を減圧濃縮し、３４１．３（収率９４．０％）の生成物を得た。この生成物の水酸基当量は３７３ｇ／ｅｑ．であった。
【０１２１】
この生成物を３リットルの４つ口フラスコに仕込み、メタノール（１，５００ｍＬ）およびエピクロロヒドリン（１６９．３ｇ、１．８３ｍｏｌ）、９９％水酸化ナトリウム（３８．８ｇ、０．９６ｍｏｌ）を仕込み、内温６０〜６５℃にて１時間加熱撹拌した。反応混合物を減圧濃縮後、ＭＩＢＫ（１，０００ｍＬ）に希釈し、脱イオン水（５００ｍＬ）にて２回洗浄した。ＭＩＢＫ層を減圧濃縮し、３７２．８ｇ（収率９５．０％）の褐色油状の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下のとおりであった。
【０１２２】
◎１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重アセトン中、δ、ｐｐｍ）：
２．７（１Ｈ）,  ２．９（１Ｈ），  ３．３（１Ｈ），  ３．９（１Ｈ），  ４．２（１Ｈ），  ６．５〜７．３（１４．８Ｈ）
◎３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（重アセトン中、δ、ｐｐｍ）：
三量体（Ｐ＝Ｎ）３  ９．１〜１０．３
◎ＣＨＮＰ元素分析：
理論値  Ｃ：６０．３％，Ｈ：４．６％，Ｎ：５．０％，Ｐ：１１．１％
実測値  Ｃ：６０．１％，Ｈ：４．７％，Ｎ：５．０％，Ｐ：１１．０％
◎ＴＯＦ−ＭＳ（ｍ／ｚ）：
７２６，７５４，７８４
◎残存塩素分析：
＜０．１％
◎エポキシ当量：
４４０ｇ／ｅｑ．
【０１２３】
以上の分析結果から、この生成物は［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４ＯＣ３Ｈ５Ｏ）（ＯＣ６Ｈ５）５］、［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４ＯＣ３Ｈ５Ｏ）２（ＯＣ６Ｈ５）４］、［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４ＯＣ３Ｈ５Ｏ）３（ＯＣ６Ｈ５）３］の混合物であり、その平均組成が［ＮＰ（ＯＣ６Ｈ４ＯＣ３Ｈ５Ｏ）１．３５（ＯＣ６Ｈ５）０．６５］のグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物であることを確認した。
【０１２４】
合成例２（グリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造）
ナトリウム４−メトキシフェノキシドの代わりにナトリウム３−メチル−４−メトキシフェノキシド（１４７．５８ｇ、１．０１ｍｏｌ）を使用した以外は合成例１と同様の操作をし、４０１．１ｇ（収率９３．１％）の褐色油状の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
◎１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
２．１（３Ｈ），  ２．７（１Ｈ），  ２．９（１Ｈ），  ３．３（１Ｈ），  ３．６（１Ｈ），  ３．９（１Ｈ），  ６．７〜７．２（１３Ｈ）
◎３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
三量体（Ｐ＝Ｎ）３  ９．７〜１０．０
◎ＣＨＮＰ元素分析：
理論値  Ｃ：６１．０％，Ｈ：４．９％，Ｎ：４．９％，Ｐ：１０．７％
実測値  Ｃ：６１．１％，Ｈ：４．７％，Ｎ：４．９％，Ｐ：１０．６％
◎ＴＯＦ−ＭＳ（ｍ／ｚ）：
７８０，８６６，９５２
◎エポキシ当量：
４３４ｇ／ｅｑ．
【０１２５】
以上の分析結果から、この生成物は［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ３（ＣＨ３）ＯＣ３Ｈ５Ｏ）（ＯＣ６Ｈ５）５］、［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ３（ＣＨ３）ＯＣ３Ｈ５Ｏ）２（ＯＣ６Ｈ５）４］および［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ３（ＣＨ３）ＯＣ３Ｈ５Ｏ）３（ＯＣ６Ｈ５）３］の混合物であり、その平均組成が［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ３（ＣＨ３）ＯＣ３Ｈ５Ｏ）２．０（ＯＣ６Ｈ５）４．０］であることを確認した。
【０１２６】
合成例３（グリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造）
ナトリウム４−メトキシフェノキシドの代わりにナトリウム４−メトキシ−３，５−ジメチル−フェノキシド（１４７．５８ｇ、１．０１ｍｏｌ）を使用した以外は合成例１と同様の操作をし、４０１．１ｇ（収率９３．１％）の褐色油状の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
【０１２７】
◎１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
２．２（１２．６Ｈ），  ２．７（２．１Ｈ），  ２．９（２．１Ｈ），  ３．３（２．１Ｈ），  ３．６（２．１Ｈ），  ３．９（２．１Ｈ），  ６．７〜７．２（２３．７Ｈ）
◎３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
三量体（Ｐ＝Ｎ）３  ９．４〜９．７
◎ＣＨＮＰ元素分析：
理論値  Ｃ：６１．８％，Ｈ：５．２％，Ｎ：４．７％，Ｐ：１０．３％
実測値  Ｃ：６１．６％，Ｈ：５．３％，Ｎ：４．７％，Ｐ：１０．２％
◎ＴＯＦ−ＭＳ（ｍ／ｚ）：
７９４，８９４，９９３
◎エポキシ当量：
４５３ｇ／ｅｑ．
【０１２８】
以上の分析結果から、この生成物は［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ２（ＣＨ３）２ＯＣ３Ｈ５Ｏ）（ＯＣ６Ｈ５）５］、［Ｎ３Ｐ２（ＯＣ６Ｈ２（ＣＨ３）２ＯＣ３Ｈ５Ｏ）２（ＯＣ６Ｈ５）４］および［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ２（ＣＨ３）２ＯＣ３Ｈ５Ｏ）３（ＯＣ６Ｈ５）３］の混合物であり、その平均組成が［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ２（ＣＨ３）２ＯＣ３Ｈ５Ｏ）２．１（ＯＣ６Ｈ５）３．９］であることを確認した。
【０１２９】
合成例４（グリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造）
温度計、撹拌機、冷却管および滴下ロートを取り付けた５リットルの４つ口フラスコに、窒素気流下、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン（１７３．８ｇ、１．５０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）を仕込み、トルエン（２，０００ｍＬ）を加えて溶解した。これにナトリウム４−（４’−ベンジルオキシフェニルイソプロピリデン）フェノキシド（３４３．８ｇ、１．０１ｍｏｌ）のＴＨＦ（４５０ｍＬ）溶液を５時間で滴下した後、２５℃にて２４時間撹拌した。この反応液を予め調製したナトリウムフェノキシド（３３６．７ｇ、２．９０ｍｏｌ）のトルエン（１，２５０ｇ）懸濁液に投入後、１１０℃にて１５時間還流した。反応混合物を室温に冷却後、５％水酸化ナトリウム水溶液（５００ｍＬ）を加えて分液ロートに移した。水層を分離後、トルエン層を５％水酸化ナトリウム水溶液（５００ｍＬ）にて洗浄後、希硝酸にて中和し、さらに水洗した。トルエン層を減圧濃縮し、濃縮残渣を酢酸エチル（１，０００ｍＬ）に希釈して２リットルのナスフラスコに仕込み、５％パラジウムカーボン触媒（１０ｇ）を投入して水素雰囲気下、内温２０〜３０℃で５時間撹拌した。触媒を濾別後、濾液を減圧濃縮して４７６．８ｇの淡黄色固体の生成物を得た。この生成物の水酸基当量は４８１ｇ／ｅｑ．であった。
【０１３０】
この生成物を３リットルの４つ口フラスコに仕込み、メタノール（２，０００ｍＬ）およびエピクロロヒドリン（１８３．４ｇ、１．９８ｍｏｌ）、９９％水酸化ナトリウム（４２．０ｇ、１．０４ｍｏｌ）を仕込み、内温６０〜６５℃にて１時間加熱撹拌した。反応混合物を減圧濃縮後、ＭＩＢＫ（１，０００ｍＬ）に希釈し、脱イオン水（５００ｍＬ）にて２回洗浄した。ＭＩＢＫ層を減圧濃縮し、３７２．８ｇ（収率９５．０％）の褐色油状の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下のとおりであった。
◎１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
１．８（１０Ｈ），  ２．７（１Ｈ），  ２．９（１Ｈ），  ３．３（１Ｈ），  ３．９（１Ｈ），  ４．２（１Ｈ），  ６．７〜７．２（１８Ｈ）
◎３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
三量体（Ｐ＝Ｎ）３  ９．４〜９．７
◎ＣＨＮＰ元素分析：
理論値  Ｃ：６８．３％，Ｈ：５．７％，Ｎ：３．４％，Ｐ：７．５％
実測値  Ｃ：６８．５％，Ｈ：５．８％，Ｎ：３．３％，Ｐ：７．４％
◎ＴＯＦ−ＭＳ（ｍ／ｚ）：
１０１７，１１８０，１３４３
◎エポキシ当量：
４３２ｇ／ｅｑ．
【０１３１】
以上の分析結果から、この生成物は［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４ＣＨ２Ｃ６Ｈ４ＯＣ３Ｈ５Ｏ）２（ＯＣ６Ｈ５）４］、［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４ＣＨ２Ｃ６Ｈ４ＯＣ３Ｈ５Ｏ）３（ＯＣ６Ｈ５）３］および［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４ＣＨ２Ｃ６Ｈ４ＯＣ３Ｈ５Ｏ）４（ＯＣ６Ｈ５）４］の混合物であり、その平均組成が［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ２（ＣＨ３）２ＯＣ３Ｈ５Ｏ）１．９５（ＯＣ６Ｈ５）４．０５］であることを確認した。
【０１３２】
合成例５（グリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造）
ナトリウム４−（４’−ベンジルオキシフェニルイソプロピリデン）フェノキシドの代わりにナトリウム４−（４’−ベンジルオキシフェニルスルホン）フェノキシド（３６６．０ｇ、１．０１ｍｏｌ）を使用した以外は合成例４と同様に操作し、５３４．１ｇ（収率９５．０％）の淡黄色固体の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
◎１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
２．７（１Ｈ），  ２．９（１Ｈ），  ３．３（１Ｈ），  ３．９（１Ｈ），  ４．２（１Ｈ），６．７〜７．２（９Ｈ），  ７．９（９Ｈ）
◎３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
三量体（Ｐ＝Ｎ）３  ９．４〜９．７
◎ＣＨＮＰ元素分析：
理論値  Ｃ：５７．０％，Ｈ：４．１％，Ｎ：３．２％，Ｐ：７．１％
実測値  Ｃ：５７．２％，Ｈ：４．２％，Ｎ：３．１％，Ｐ：７．０％
◎ＴＯＦ−ＭＳ（ｍ／ｚ）：
１０７４，１２６４，１４５３
◎エポキシ当量：
４５０ｇ／ｅｑ．
【０１３３】
以上の分析結果から、この生成物は［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４ＳＯ２Ｃ６Ｈ４ＯＣ３Ｈ５Ｏ）２（ＯＣ６Ｈ５）４］、［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４ＳＯ２Ｃ６Ｈ４ＯＣ３Ｈ５Ｏ）３（ＯＣ６Ｈ５）３］および［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４ＳＯ２Ｃ６Ｈ４ＯＣ３Ｈ５Ｏ）４（ＯＣ６Ｈ５）２］の混合物であり、その平均組成が［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４ＳＯ２Ｃ６Ｈ４ＯＣ３Ｈ５Ｏ）２．１（ＯＣ６Ｈ５）３．９］であることを確認した。
【０１３４】
合成例６（グリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造）
温度計、撹拌機、冷却管および滴下ロートを取り付けた５リットルの４つ口フラスコに、窒素気流下、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン（１７３．８ｇ、１．５０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）を仕込み、トルエン（２，０００ｍＬ）を加えて溶解した。これにナトリウム４−メトキシフェノキシド（１４６．９ｇ、１．０１ｍｏｌ）のＴＨＦ（４５０ｍＬ）溶液を５時間で滴下した後、２５℃にて２４時間撹拌した。この反応液を予め調製したナトリウムフェノキシド（３３６．７ｇ、２．９０ｍｏｌ）のトルエン（１，２５０ｇ）懸濁液に投入後、１１０℃にて１０時間還流した。反応混合物を室温に冷却後、５％水酸化ナトリウム水溶液（５００ｍＬ）を加えて分液ロートに移した。水層を分離後、トルエン層を５％水酸化ナトリウム水溶液（５００ｍＬ）にて洗浄後、希硝酸にて中和し、さらに水洗した。トルエン層を減圧濃縮し、３７３．２ｇの生成物を得た。
【０１３５】
この生成物を３リットルの４つ口フラスコに仕込み、トルエン（４００ｍＬ）およびピリジン（１５９．８ｇ、２．０２ｍｏｌ）を加えて撹拌溶解した。これに塩化水素ガス（９７．３ｇ、２．６７ｍｏｌ）を撹拌しながら内温４０℃以下で導入した。その後、加熱を開始してトルエンを留去後、内温２００℃にて加熱撹拌した。１Ｈ−ＮＭＲ測定にて原料物質の消失を確認後、冷却し、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ、１，０００ｍＬ）と５％塩酸水溶液（５００ｍＬ）とを加えて分液ロートに移した。水層を分離してＭＩＢＫ層を１％塩酸水溶液（５００ｍＬ）にて洗浄後、希硝酸にて中和し、さらに洗浄した。ＭＩＢＫ層を減圧濃縮し、３４１．３の生成物を得た。この生成物の水酸基当量は３７３ｇ／ｅｑ．であった。
【０１３６】
この生成物を３リットルの４つ口フラスコに仕込み、ＴＨＦ（７００ｍＬ）、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（エポキシ当量：１７０ｇ／ｅｑ．、３８９．３ｇ、２．２９ｍｏｌ）およびジアザビシクロ−［５，４，０］−ウンデセン（１７．１ｇ、０．９６ｍｏｌ）を仕込み、内温６０〜６５℃にて３０時間加熱撹拌した。反応混合物を減圧濃縮後、クロロホルム（１，４００ｍＬ）に希釈して分液ロートに移し、１％硝酸水溶液（７００ｍＬ）にて洗浄した。クロロホルム層を脱イオン水（７００ｍＬ）にて３回洗浄した。クロロホルム層を脱水後、減圧濃縮し、７３０．６ｇ（収率９４％）の褐色固体の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下のとおりであった。
【０１３７】
◎１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
２．２（１２．６Ｈ），  ２．７（２．１Ｈ），  ２．９（２．１Ｈ），  ３．３（２．１Ｈ），  ３．６（２．１Ｈ），  ３．９（２．１Ｈ），  ６．７〜７．２（２３．７Ｈ）
◎３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
三量体（Ｐ＝Ｎ）３  ９．４〜９．７
◎ＣＨＮＰ元素分析：
理論値  Ｃ：６６．５％，Ｈ：５．４％，Ｎ：２．５％，Ｐ：５．５％
実測値  Ｃ：６６．３％，Ｈ：５．３％，Ｎ：２．６％，Ｐ：５．７％
◎エポキシ当量：
７０６ｇ／ｅｑ．
【０１３８】
以上の分析結果から、この生成物は［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２ＯＣ６Ｈ４Ｃ（ＣＨ３）２Ｃ６Ｈ４ＯＣ３Ｈ５Ｏ）（ＯＣ６Ｈ５）５］、［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２ＯＣ６Ｈ４Ｃ（ＣＨ３）２Ｃ６Ｈ４ＯＣ３Ｈ５Ｏ）２（ＯＣ６Ｈ５）４］および［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２ＯＣ６Ｈ４Ｃ（ＣＨ３）２Ｃ６Ｈ４ＯＣ３Ｈ５Ｏ）３（ＯＣ６Ｈ５）３］の混合物であり、その平均組成が［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２ＯＣ６Ｈ４Ｃ（ＣＨ３）２Ｃ６Ｈ４ＯＣ３Ｈ５Ｏ）２．０（ＯＣ６Ｈ５）４．０］であることを確認した。
【０１３９】
合成例７（グリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造）
ビスフェノールＡジグリシジルエーテルの代わりにビスフェノールＦジグリシジルエーテル（エポキシ当量：１５７ｇ／ｅｑ．、３５９．５ｇ、２．２９ｍｏｌ）を使用した以外は合成例６と同様に操作し、７０１ｇ（収率９４％）の褐色固体の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下のとおりであった。
◎１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
２．２（１２．６Ｈ），  ２．７（２．１Ｈ），  ２．９（２．１Ｈ），  ３．３（２．１Ｈ），  ３．６（２．１Ｈ），  ３．９（２．１Ｈ），  ６．７〜７．２（２３．７Ｈ）
◎３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
三量体（Ｐ＝Ｎ）３  ９．４〜９．７
◎ＣＨＮＰ元素分析：
理論値  Ｃ：６５．８％，Ｈ：５．２％，Ｎ：３．１％，Ｐ：６．９％
実測値  Ｃ：６５．８％，Ｈ：５．３％，Ｎ：３．２％，Ｐ：７．０％
◎エポキシ当量：
６８４ｇ／ｅｑ．
【０１４０】
以上の分析結果から、この生成物は、［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２ＯＣ６Ｈ４ＣＨ２Ｃ６Ｈ４ＯＣ３Ｈ５Ｏ）（ＯＣ６Ｈ５）５］、［Ｎ３Ｐ２（ＯＣ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２ＯＣ６Ｈ４ＣＨ２Ｃ６Ｈ４ＯＣ３Ｈ５Ｏ）２（ＯＣ６Ｈ５）４］および［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２ＯＣ６Ｈ４ＣＨ２Ｃ６Ｈ４ＯＣ３Ｈ５Ｏ）３（ＯＣ６Ｈ５）３］の混合物であり、その平均組成が［Ｎ３Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２ＯＣ６Ｈ４ＣＨ２Ｃ６Ｈ４ＯＣ３Ｈ５Ｏ）２．１（ＯＣ６Ｈ５）３．９］であることを確認した。
【０１４１】
合成例８（環状ホスファゼン化合物の製造）
ＰＨＯＳＰＨＯＲＵＳ−ＮＩＴＲＯＧＥＮ ＣＯＭＰＯＵＮＤＳ、Ｈ．Ｒ．ＡＬＬＣＯＣＫ著、１９７２年刊、１５１頁、ＡＣＡＤＥＭＩＣ ＰＲＥＳＳ社に記載されている方法に従い、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン８１％とオクタクロロシクロテトラホスファゼン１９％とのシクロホスファゼン混合物を用いて［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ５）２］３と［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ５）２］４との混合物（白色固体／融点：６５〜１１２℃）を得た。
【０１４２】
実施例１（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
攪拌機、温度計、冷却管および空気導入管を備えた１リットルのフラスコに合成例１で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物（エポキシ当量：４４０ｇ／ｅｑ．）１００．０ｇ、アクリル酸１７．４ｇ、メトキノン１．０ｇ、ベンジルトリエチルアミン塩酸塩０．１ｇおよびエチルカルビトールアセテート１００ｍＬを仕込み、５０ｍＬ／分の割合で空気を導入しながら１１０℃にて７時間加熱撹拌した。反応混合物の酸価が３．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になったのを確認後、冷却し、固形分が５４．０％のホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１４３】
実施例２（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
合成例１で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物に替えて合成例２で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物（エポキシ当量：４３４ｇ／ｅｑ．）９８．５ｇを使用した以外は実施例１と同様の操作をし、固形分が５３．７％のホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１４４】
実施例３（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
合成例１で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物に替えて合成例３で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物（エポキシ当量：４５３ｇ／ｅｑ．）１０２．８ｇを使用した以外は実施例１と同様の操作をし、固形分が５４．０％のホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１４５】
実施例４（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
合成例１で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物に替えて合成例４で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物（エポキシ当量：４３２ｇ／ｅｑ．）９８．１ｇを使用した以外は実施例１と同様の操作をし、固形分が５３．６％のホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１４６】
実施例５（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
合成例１で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物に替えて合成例５で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物（エポキシ当量：４５０ｇ／ｅｑ．）１０２．２ｇを使用した以外は実施例１と同様の操作をし、固形分が５４．４％のホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１４７】
実施例６（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
攪拌機、温度計、冷却管および空気導入管を備えた１リットルのフラスコに合成例６で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物（エポキシ当量：７０６ｇ／ｅｑ．）１００．０ｇ、アクリル酸１０．７ｇ、メトキノン０．５ｇ、ベンジルトリエチルアミン塩酸塩０．０５ｇおよびエチルカルビトールアセテート１００ｍＬを仕込み、５０ｍＬ／分の割合で空気を導入しながら１１０℃にて６時間加熱撹拌した。反応混合物の酸価が１．９ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になったのを確認後、冷却し、固形分が５４．０％のホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１４８】
実施例７（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
合成例６で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物に替えて合成例７で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物（エポキシ当量：６８４ｇ／ｅｑ．）９７．１ｇを使用した以外は実施例６と同様の操作をし、固形分が５４．４％のホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１４９】
実施例８（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
攪拌機、温度計、冷却管および空気導入管を備えた１リットルのフラスコに合成例１で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物（エポキシ当量：４４０ｇ／ｅｑ．）１００．０ｇ、アクリル酸１１．５ｇ、メトキノン０．５ｇ、ベンジルトリエチルアミン塩酸塩０．０５ｇおよびエチルカルビトールアセテート１００ｍＬを仕込み、５０ｍＬ／分の割合で空気を導入しながら１１０℃にて５時間加熱撹拌した。反応混合物の酸価が０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になったのを確認後、冷却し、固形分が５２．５％のホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１５０】
実施例９（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
合成例１で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物に替えて合成例２で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物（エポキシ当量：４３４ｇ／ｅｑ．）９８．５ｇを使用した以外は実施例８と同様の操作をし、固形分が５２．１％のホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１５１】
実施例１０（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
合成例１で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物に替えて合成例３で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物（エポキシ当量：４５３ｇ／ｅｑ．）１０２．８ｇを使用した以外は実施例８と同様の操作をし、固形分が５２．１％のホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１５２】
実施例１１（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
合成例１で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物に替えて合成例４で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物（エポキシ当量：４３２ｇ／ｅｑ．）９８．１ｇを使用した以外は実施例８と同様の操作をし、固形分が５２．０％のホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１５３】
実施例１２（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
合成例１で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物に替えて合成例５で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物（エポキシ当量：４５０ｇ／ｅｑ．）１０２．２ｇを使用した以外は実施例８と同様の操作をし、固形分５２．９％のホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１５４】
実施例１３（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
攪拌機、温度計、冷却管および空気導入管を備えた１リットルのフラスコに合成例６で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物（エポキシ当量：７０６ｇ／ｅｑ．）１００．０ｇ、アクリル酸５．４ｇ、メトキノン０．５ｇ、ベンジルトリエチルアミン塩酸塩０．０５ｇおよびエチルカルビトールアセテート１００ｍＬを仕込み、５０ｍＬ／分の割合で空気を導入しながら１１０℃にて４時間加熱撹拌した。反応混合物の酸価が０．８ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になったのを確認後、冷却し、固形分が５１．５％のホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１５５】
実施例１４（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
合成例６で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物に替えて合成例７で得られたグリシジルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物（エポキシ当量：６８４ｇ／ｅｑ．）９７．１ｇを使用した以外は実施例１３と同様の操作をし、固形分５０．８％のホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１５６】
実施例１５（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
攪拌機、温度計、冷却管および空気導入管を備えた１リットルのフラスコに合成例１で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物（エポキシ当量：４４０ｇ／ｅｑ．）１００．０ｇ、メタクリル酸２０．８ｇ、メトキノン１．０ｇ、ベンジルトリエチルアミン塩酸塩０．１ｇおよびエチルカルビトールアセテート１００ｍＬを仕込み、５０ｍＬ／分の割合で空気を導入しながら１３０℃にて９時間加熱撹拌した。反応混合物の酸価が３．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になったのを確認後、冷却し、固形分５４．７％のホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１５７】
実施例１６（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
合成例１で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物に替えて合成例２で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物（エポキシ当量：４３４ｇ／ｅｑ．）９８．５ｇを使用した以外は実施例１５と同様の操作をし、固形分５４．４％のホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１５８】
実施例１７（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
合成例１で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物に替えて合成例３で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物（エポキシ当量：４５３ｇ／ｅｑ．）１０２．８ｇを使用した以外は実施例１５と同様の操作をし、固形分５５．３％のホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１５９】
実施例１８（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
合成例１で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物に替えて合成例４で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物（エポキシ当量：４３２ｇ／ｅｑ．）９８．１ｇを使用した以外は実施例１５と同様の操作をし、固形分５４．３％のホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１６０】
実施例１９（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
合成例１で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物に替えて合成例５で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物（エポキシ当量：４５０ｇ／ｅｑ．）１０２．２ｇを使用した以外は実施例１５と同様の操作をし、固形分５５．１％のホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１６１】
実施例２０（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
攪拌機、温度計、冷却管および空気導入管を備えた１リットルのフラスコに合成例６で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物（エポキシ当量：７０６ｇ／ｅｑ．）１００．０ｇ、メタクリル酸１０．７ｇ、メトキノン０．５ｇ、ベンジルトリエチルアミン塩酸塩０．０５ｇおよびエチルカルビトールアセテート１００ｍＬを仕込み、５０ｍＬ／分の割合で空気を導入しながら１１０℃にて６時間加熱撹拌した。反応混合物の酸価が１．９ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になったのを確認後、冷却し、固形分５２．９％のホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１６２】
実施例２１（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
合成例６で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物に替えて合成例７で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物（エポキシ当量：６８４ｇ／ｅｑ．）９７．１ｇを使用した以外は実施例２０と同様の操作をし、固形分５２．２％のホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１６３】
実施例２２（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
攪拌機、温度計、冷却管および空気導入管を備えた１リットルのフラスコに合成例１で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物（エポキシ当量：４４０ｇ／ｅｑ．）１００．０ｇ、メタクリル酸１３．７ｇ、メトキノン１．０ｇ、ベンジルトリエチルアミン塩酸塩０．１ｇおよびエチルカルビトールアセテート１００ｍＬを仕込み、５０ｍＬ／分の割合で空気を導入しながら１３０℃にて７時間加熱撹拌した。反応混合物の酸価が０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になったのを確認後、冷却し、固形分５３．０％のホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１６４】
実施例２３（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
合成例１で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物に替えて合成例２で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物（エポキシ当量：４３４ｇ／ｅｑ．）９８．５ｇを使用した以外は実施例２２と同様の操作をし、固形分５２．６％のホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１６５】
実施例２４（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
合成例１で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物に替えて合成例３で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物（エポキシ当量：４５３ｇ／ｅｑ．）１０２．８ｇを使用した以外は実施例２２と同様の操作をし、固形分５３．６％のホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１６６】
実施例２５（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
合成例１で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物に替えて合成例４で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物（エポキシ当量：４３２ｇ／ｅｑ．）９８．１ｇを使用した以外は実施例２２と同様の操作をし、固形分５２．５％のホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１６７】
実施例２６（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
合成例１で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物に替えて合成例５で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物（エポキシ当量：４５０ｇ／ｅｑ．）１０２．２ｇを使用した以外は実施例２２と同様の操作をし、固形分５３．４％のホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１６８】
実施例２７（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
攪拌機、温度計、冷却管および空気導入管を備えた１リットルのフラスコに合成例６で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物（エポキシ当量：７０６ｇ／ｅｑ．）１００．０ｇ、メタクリル酸６．４ｇ、メトキノン０．３ｇ、ベンジルトリエチルアミン塩酸塩０．０５ｇおよびエチルカルビトールアセテート１００ｍＬを仕込み、５０ｍＬ／分の割合で空気を導入しながら１１０℃にて６時間加熱撹拌した。反応混合物の酸価が０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になったのを確認後、冷却し、固形分５１．８％のホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１６９】
実施例２８（ホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物の製造）
合成例６で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物に替えて合成例７で得られたグリシジルオキシ基含有ホスファゼン化合物（エポキシ当量：６８４ｇ／ｅｑ．）９７．１ｇを使用した以外は実施例２７と同様の操作をし、固形分５１．１％のホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１７０】
合成例９（不飽和カルボキシレート化合物の製造）
攪拌機、温度計、冷却管および空気導入管を備えた１リットルのフラスコにビスフェノールＡジグリシジルエーテル（エポキシ当量：１７０ｇ／ｅｑ．）１００．０ｇ、アクリル酸４２．３ｇ、メトキノン０．１ｇ、ベンジルトリエチルアミン塩酸塩０．１ｇおよびエチルカルビトールアセテート１００ｍＬを仕込み、５０ｍＬ／分の割合で空気を導入しながら１１０℃にて７時間加熱撹拌した。反応混合物の酸価が３．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になったのを確認後、冷却し、固形分が５８．５％のビスフェノールＡのアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１７１】
合成例１０（不飽和カルボキシレート化合物の製造）
合成例９で使用したアクリル酸に替えてメタクリル酸５０．６ｇを使用した以外は合成例９と同様の操作をし、固形分が５９．９％のビスフェノールＡのメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１７２】
実施例２９（ホスファゼン環を有する酸変性不飽和カルボキシレート化合物の製造）
攪拌機、温度計、冷却管を備えた２００ミリリットルのフラスコに実施例１で得られたホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液（固形分５４．０％）９４．６ｇおよびテトラヒドロ無水フタル酸１５．２ｇを仕込み、８０℃にて８時間撹拌した。ＩＲ測定にて酸無水物由来のピークが消失したのを確認後に冷却し、固形分が６０．４％のホスファゼン環を有する酸変性アクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１７３】
実施例３０（ホスファゼン環を有する酸変性不飽和カルボキシレート化合物の製造）
実施例１で得られたホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液に替えて実施例２で得られたホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液（固形分５３．７％）９４．６ｇを使用した以外は実施例２９と同様の操作をし、固形分が６０．１％のホスファゼン環を有する酸変性アクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１７４】
実施例３１（ホスファゼン環を有する酸変性不飽和カルボキシレート化合物の製造）
実施例１で得られたホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液に替えて実施例３で得られたホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液（固形分５４．０％）９５．６ｇを使用した以外は実施例２９と同様の操作をし、固形分が６０．８％のホスファゼン環を有する酸変性アクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１７５】
実施例３２（ホスファゼン環を有する酸変性不飽和カルボキシレート化合物の製造）
実施例１で得られたホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液に替えて実施例４で得られたホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液（固形分５３．６％）９３．８ｇを使用した以外は実施例２９と同様の操作をし、固形分が６０．１％のホスファゼン環を有する酸変性アクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１７６】
実施例３３（ホスファゼン環を有する酸変性不飽和カルボキシレート化合物の製造）
実施例１で得られたホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液に替えて実施例５で得られたホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液（固形分５４．４％）９６．１ｇを使用した以外は実施例２９と同様の操作をし、固形分が６０．６％のホスファゼン環を有する酸変性アクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１７７】
実施例３４（ホスファゼン環を有する酸変性不飽和カルボキシレート化合物の製造）
実施例１で得られたホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液に替えて実施例６で得られたホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液（固形分５４．０％）７３．９ｇを使用した以外は実施例２９と同様の操作をし、固形分が６０．５％のホスファゼン環を有する酸変性アクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１７８】
実施例３５（ホスファゼン環を有する酸変性不飽和カルボキシレート化合物の製造）
実施例１で得られたホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液に替えて実施例７で得られたホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液（固形分５４．４％）７２．０ｇを使用した以外は実施例２９と同様の操作をし、固形分が６０．２％のホスファゼン環を有する酸変性アクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１７９】
実施例３６（ホスファゼン環を有する酸変性不飽和カルボキシレート化合物の製造）
実施例１で得られたホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液に替えて実施例８で得られたホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液（固形分５４．７％）９６．０ｇを使用した以外は実施例２９と同様の操作をし、固形分６０．９％のホスファゼン環を有する酸変性エポキシメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１８０】
実施例３７（ホスファゼン環を有する酸変性不飽和カルボキシレート化合物の製造）
実施例１で得られたホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液に替えて実施例９で得られたホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液（固形分５４．４％）９６．１ｇを使用した以外は実施例２９と同様の操作をし、固形分が６０．６％のホスファゼン環を有する酸変性メタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１８１】
実施例３８（ホスファゼン環を有する酸変性不飽和カルボキシレート化合物の製造）
実施例１で得られたホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液に替えて実施例１０で得られたホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液（固形分５５．３％）９７．１ｇを使用した以外は実施例２９と同様の操作をし、固形分が６１．３％のホスファゼン環を有する酸変性メタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１８２】
実施例３９（ホスファゼン環を有する酸変性不飽和カルボキシレート化合物の製造）
実施例１で得られたホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液に替えて実施例１１で得られたホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液（固形分５４．３％）９５．２ｇを使用した以外は実施例２９と同様の操作をし、固形分が６０．６％のホスファゼン環を有する酸変性メタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１８３】
実施例４０（ホスファゼン環を有する酸変性不飽和カルボキシレート化合物の製造）
実施例１で得られたホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液に替えて実施例１２で得られたホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液（固形分５５．１％）９７．５ｇを使用した以外は実施例２９と同様の操作をし、固形分が６１．２％のホスファゼン環を有する酸変性メタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１８４】
実施例４１（ホスファゼン環を有する酸変性不飽和カルボキシレート化合物の製造）
実施例１で得られたホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液に替えて実施例１３で得られたホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液（固形分５２．９％）７４．５ｇを使用した以外は実施例２９と同様の操作をし、固形分が６０．９％のホスファゼン環を有する酸変性メタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１８５】
実施例４２（ホスファゼン環を有する酸変性不飽和カルボキシレート化合物の製造）
実施例１で得られたホスファゼン環を有するアクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液に替えて実施例１４で得られたホスファゼン環を有するメタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液（固形分５２．２％）７２．８ｇを使用した以外は実施例２９と同様の操作をし、固形分６０．５％のホスファゼン環を有する酸変性メタクリレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液を得た。
【０１８６】
実施例４３〜７０（樹脂組成物の調製および樹脂成形体の作製）
実施例１〜２８で得られたホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物、２−メチルイミダゾール（２ＭＺ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）およびオルトクレゾールノボラックエポキシ樹脂（ＥＯＣＮ）（日本化薬株式会社の商品名「ＥＯＣＮ−１０２０−６５」：エポキシ当量１９７ｇ／ｅｑ．）を表１および表２の割合（重量部）で混合、溶解し、ワニス（樹脂組成物）を調製した。このワニスをステンレス製の型に流し込み、１４０℃で２０分加熱して乾燥させた後、２００℃で３時間加熱硬化して硬化物（樹脂成形体）を製造した。ここでは、１／１６インチ厚および５ｍｍ厚の二種類のシート状硬化物を製造した。硬化物は、ＤＳＣ測定により硬化の完了を確認した。
【０１８７】
比較例１、２（樹脂組成物の調製および樹脂成形体の作製）
合成例９および１０で得られた不飽和カルボキシレート化合物、合成例８で得られた環状ホスファゼン化合物、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）およびオルトクレゾールノボラックエポキシ樹脂（ＥＯＣＮ）（日本化薬株式会社の商品名「ＥＯＣＮ−１０２０−６５」：エポキシ当量１９７ｇ／ｅｑ．）を表１および表２の割合（重量部）で混合、溶解し、ワニス（樹脂組成物）を調製した。このワニスをステンレス製の型に流し込み、１４０℃で２０分加熱して乾燥させた後、２００℃で３時間加熱硬化し、硬化物（樹脂成形体）を製造した。ここでは、１／１６インチ厚および５ｍｍ厚の二種類のシート状硬化物を製造した。硬化物は、ＤＳＣ測定により硬化の完了を確認した。
【０１８８】
評価１
実施例４３〜７０および比較例１，２で得られたシート状硬化物について、燃焼性および耐熱性を評価した。燃焼性の評価では、１／１６インチ厚のシート状硬化物を試験片として用いた。また、耐熱性の評価では、５ｍｍ厚のシート状硬化物を試験片として用いた。各項目の評価方法は次の通りである。結果を表１および表２に示す。
【０１８９】
（燃焼性）
アンダーライターズラボラトリーズ（Ｕｎｄｅｒｗｒｉｔｅｒ’ｓ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ Ｉｎｃ．）のＵＬ−９４規格垂直燃焼試験に基づき、１０回接炎時の合計燃焼時間と燃焼時の滴下物による綿着火の有無により、Ｖ−０、Ｖ−１、Ｖ−２および規格外の四段階に分類した。評価基準を以下に示す。難燃性レベルはＶ−０、Ｖ−１、Ｖ−２、規格外の順に低下する。
【０１９０】
Ｖ−０：下記の条件を全て満たす。
（Ａ）試験片５本を１本につき二回ずつ、合計１０回の接炎後からの消炎時間の合計が５０秒以内。
（Ｂ）試験片５本を１本につき二回ずつ接炎を行い、それぞれの接炎後からの消炎時間が５秒以内。
（Ｃ）すべての試験片で滴下物による、３００ｍｍ下の脱脂綿への着火がない。
（Ｄ）すべての試験片で、二回目の接炎後のグローイングは３０秒以内。
（Ｅ）すべての試験片で、クランプまでフレーミングしない。
【０１９１】
Ｖ−１：下記の条件を全て満たす。
（Ａ）試験片５本を１本につき二回ずつ、合計１０回の接炎後からの消炎時間の合計が２５０秒以内。
（Ｂ）試験片５本を１本につき二回ずつ接炎を行い、それぞれの接炎後からの消炎時間が３０秒以内。
（Ｃ）すべての試験片で滴下物による、３００ｍｍ下の脱脂綿への着火がない。
（Ｄ）すべての試験片で、二回目の接炎後のグローイングは６０秒以内。
（Ｅ）すべての試験片で、クランプまでフレーミングしない。
【０１９２】
Ｖ−２：下記の条件を全て満たす。
（Ａ）試験片５本を１本につき二回ずつ、合計１０回の接炎後からの消炎時間の合計が２５０秒以内。
（Ｂ）試験片５本を１本につき二回ずつ接炎を行い、それぞれの接炎後からの消炎時間が３０秒以内。
（Ｃ）試験片５本のうち、少なくとも１本は、滴下物による、３００ｍｍ下の脱脂綿への着火がある。
（Ｄ）すべての試験片で、二回目の接炎後のグローイングは６０秒以内。
（Ｅ）すべての試験片で、クランプまでフレーミングしない。
【０１９３】
（耐熱性）
株式会社島津製作所製のＤＳＣ−６０（商品名）を用い、ＪＩＳ−Ｋ７１２１に規定された測定法によりガラス転移温度（℃）を測定した。測定環境は次のとおりである。ガラス転移温度は、高いほど耐熱性に優れていることを示す。
【０１９４】
【表１】
0005481744.tif 000020
【０１９５】
【表２】
0005481744.tif 000021
【０１９６】
実施例４３〜７０と比較例１、２との結果を対比すると、実施例４３〜７０は比較例１、２に比べて難燃性および耐熱性に優れている。
【０１９７】
実施例７１〜９８（重合性組成物の調製）
実施例１〜２８のホスファゼン環を有する不飽和カルボキシレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液１００部（固形分換算）に、重合開始剤として２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オンを２部添加して重合性組成物を調製した。
【０１９８】
評価２
実施例７１〜９８で得られた重合性組成物をスクリーン印刷機で銅張積層板上に塗布し、送風乾燥機を用いて８０℃で３０分乾燥した後、パターンフィルムを通して、高圧水銀灯にて２０００ｍＪ／ｃｍ２の露光をした。露光後、メチルエチルケトンを用いて現像し、樹脂硬化物による現像パターンを得た。この樹脂硬化物の硬度を鉛筆引っかき硬度（ＪＩＳ  Ｋ５６００）に基づいて評価した。結果を表３および表４に示す。
【０１９９】
評価３
実施例７１〜９８で調製した重合性組成物をステンレス製の型に流し込み、８０℃で３０分乾燥後、高圧水銀灯にて２０００ｍＪ／ｃｍ２の露光をした。その後、２００℃で６時間加熱硬化し、１／１６インチ厚のシート状硬化物を作製した。このシート状硬化物はＤＳＣ測定により硬化の完了を確認した。得られたシート状硬化物について、難燃性および耐熱性を評価１と同様の手法にて評価した。結果を表３および表４に示す。
【０２００】
実施例９９〜１１２（重合性組成物の調製）
実施例２９〜４２のホスファゼン環を有する酸変性不飽和カルボキシレート化合物のエチルカルビトールアセテート溶液１００部（固形分換算）に、重合開始剤として２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オンを２部添加して重合性組成物を調製した。
【０２０１】
評価４
実施例９９〜１１２で得られた重合性組成物をスクリーン印刷機で銅張積層板上に塗布し、送風乾燥機を用いて８０℃で３０分乾燥した後、パターンフィルムを通して、高圧水銀灯にて２０００ｍＪ／ｃｍ２の露光をした。露光後、５％水酸化ナトリウム水溶液を用いて現像し、樹脂硬化物による現像パターンを得た。この樹脂硬化物の硬度を鉛筆引っかき硬度（ＪＩＳ  Ｋ５６００）に基づいて評価した。結果を表５に示す。
【０２０２】
評価５
実施例９９〜１１２で調製した重合性組成物をステンレス製の型に流し込み、８０℃で３０分乾燥後、高圧水銀灯にて２０００ｍJ／ｃｍ２の露光をした。その後、２００℃で６時間加熱硬化し、１／１６インチ厚のシート状硬化物を作製した。このシート状硬化物はＤＳＣ測定により硬化の完了を確認した。得られたシート状硬化物について、難燃性および耐熱性を評価１と同様の手法にて評価した。結果を表５に示す。
【０２０３】
【表３】
0005481744.tif 000022
【０２０４】
【表４】
0005481744.tif 000023
【０２０５】
【表５】
0005481744.tif 000024
【０２０６】
表３、表４および表５から明らかなように、実施例７１〜１１２の硬化物は、プリント基板の製造において用いられるソルダーレジストとして好ましい硬度を有するものであり、また、難燃性および耐熱性も良好である。