(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯状の可撓性基板を搬送する搬送装置であって、
前記可撓性基板の幅方向の片端部が上側に位置する縦姿勢で前記可撓性基板を搬送する基板搬送手段と、
前記可撓性基板の搬送高さを維持するための基板保持装置とを備え、
前記基板保持装置が、
前記可撓性基板の少なくとも上側端部を挟持する一対のグリップローラと、
前記一対のグリップローラが回転可能なように支持するとともに、前記一対のグリップローラを互いに接離可能に支持する支持機構と、
該支持機構に連結され、一方のグリップローラを他方のグリップローラに圧接するための力を伝達する伝達機構と、
該伝達機構に連結され、前記伝達機構との連結箇所を角変位させることにより前記一対のグリップローラの圧接力を調節するように構成された第１の駆動手段と、
前記支持機構に連結され、支軸を支点として回動することにより前記一対のグリップローラを前記可撓性基板の搬送方向に対して傾斜させるように構成された角度調整機構と、
該角度調整機構に連結され、前記角度調整機構との連結箇所を角変位させることにより前記一対のグリップローラの前記可撓性基板の搬送方向に対する傾斜角度を調節するように構成された第２の駆動手段と
を備え、
前記第１の駆動手段は、縦姿勢の前記可撓性基板の幅方向に延びる軸心周りの回転運動を、前記伝達機構との前記連結箇所の角変位により、前記可撓性基板と交差する回動運動に変換し、
前記第２の駆動手段は、縦姿勢の前記可撓性基板の幅方向に延びる軸心周りの回転運動を、前記角度調整機構との前記連結箇所の角変位により、前記可撓性基板に直交する軸心周りの回動運動に変換する
ことを特徴とする搬送装置。
【請求項２】
前記基板保持装置が、
前記可撓性基板の下側端部を挟持する一対の下側グリップローラと、
前記一対の下側グリップローラを回転可能に支持するとともに、前記一対の下側グリップローラを互いに接離可能に支持する下側支持機構と、
該下側支持機構に連結され、一方の下側グリップローラを他方の下側グリップローラに圧接するための力を伝達する下側伝達機構と、
該下側伝達機構に連結され、前記下側伝達機構との連結箇所を角変位させることにより前記一対の下側グリップローラの圧接力を調節するように構成された第１の下側駆動手段と、
前記下側支持機構に連結され、支軸を支点として回転することにより前記一対の下側グリップローラを前記可撓性基板の搬送方向に対して傾斜させるように構成された下側角度調整機構と、
該下側角度調整機構に連結され、前記下側角度調整機構との連結箇所を角変位させることにより前記一対の下側グリップローラの前記可撓性基板の搬送方向に対する傾斜角度を調節するように構成された第２の下側駆動手段と
を備え、
前記第１の下側駆動手段は、縦姿勢の前記可撓性基板の幅方向に延びる軸心周りの回転運動を、前記下側伝達機構との前記連結箇所の角変位により、前記可撓性基板と交差する回動運動に変換し、
前記第２の下側駆動手段は、縦姿勢の前記可撓性基板の幅方向に延びる軸心周りの回転運動を、前記下側角度調整機構との前記連結箇所の角変位により、前記可撓性基板に直交する軸心周りの回動運動に変換する
ことを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
【請求項３】
前記可撓性基板の表面に複数の薄膜を積層して薄膜積層体を形成するための複数の成膜室を前記可撓性基板の搬送方向に沿って配置し、
前記基板保持装置が、前記複数の成膜室の間に少なくとも１つ配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の搬送装置。
【請求項４】
前記伝達機構と前記第１の駆動手段とが、隣接する成膜室における一方の成膜室に配置され、前記角度調整機構と前記第２の駆動手段とが、隣接する成膜室における他方の成膜室に配置され、前記一対のグリップローラと前記支持機構とが隣接する成膜室の境界部分に配置されていることを特徴とする請求項３に記載の搬送装置。
【請求項５】
前記支持機構（２５）は、
前記一対のグリップローラ（２３，２４）の各々を支持する２つのローラ用支持部材（２７，２８）と、
前記２つのローラ用支持部材の一方のグリップローラを前記可撓性基板に対して接離できるように、前記一方のローラ用支持部材を回転させるための軸部（５５）と、
前記伝達機構（５０）に連結され、前記軸部を支持する連結部（２９）と
を備えている請求項１又は２に記載の搬送装置。
【請求項６】
前記支持機構（２５）は、前記一対のグリップローラ（２３，２４）の一方を前記可撓性基板に対して接離できるように軸部（５５）を中心に回転するローラ用支持部材（２７）を備え、
前記伝達機構（５０）は、
前記ローラ用支持部材に連結され、前記ローラ用支持部材と同期して回転するアーム（５４）と、
前記第１の駆動手段（６０）と係合するように前記アームの先端に取付けられ、前記アームの回転軸と平行な軸で回転可能に支持されたローラ（５６）と
を備えている請求項１又は２に記載の搬送装置。
【請求項７】
前記伝達機構（５０）は、
前記第１の駆動手段（６０）に連結され、前記一対のグリップローラを圧接させる付勢力を発生させるスプリング（５９）と、
前記スプリングの付勢力を受けて回転する第１のアーム（５１）と、
前記第１のアームとともに回転し、前記回転に応じた力を前記支持機構（２５）にトルクとして伝達する前記第２のアーム（５３）と、
前記第１のアームと前記第２のアームとを連結する軸（５２）を回転支持する軸支持部（５７）と
を備え、
前記第１の駆動手段（６０）が、
前記スプリングに連結され、前記伝達機構の前記軸（５２）と平行な軸を中心として回転する駆動アーム（６３）と、
前記一対のグリップローラの圧接力を調整すべく、前記駆動アームの前記スプリングの支持点を、前記スプリングの弾性変位を一定に維持した状態で角変位させる駆動手段（６１）と
を備えている請求項１又は２の記載の搬送装置。
【請求項８】
前記角度調整機構（７０）は、
前記一対のグリップローラ（２３，２４）の前記搬送方向に対する傾斜角度を増加又は減少できるように、前記支持機構（２５）を回転可能に支持する支軸（７６）と、
前記一対のグリップローラの前記搬送方向に対する傾斜角度を増加又は減少できるように、前記支持機構の回転方向に対して付勢する付勢手段（７７）と、
前記支持機構を前記支軸を中心に回転させる力を伝達し、前記一対のグリップローラと同期して回転するリンク（７２）と、
前記第２の駆動手段（８０）と係合するように前記リンクの先端に軸支されたローラ（７５）と
を備えている請求項１又は２に記載の搬送装置。
【請求項９】
前記第２の駆動手段（８０）は、
一端が回動軸（８２）に連結され、他端が前記角度調整機構（７０）と係合している駆動アーム（８３）と、
前記駆動アームの前記回動軸を回転支持する軸支持部（８５）と、
前記一対のグリップローラの前記搬送方向に対する傾斜角度を調整すべく、前記駆動アームを前記回動軸を中心に回転させる動力手段（８１）と
を備えている請求項１又は２の記載の搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、帯状の可撓性基板を搬送する搬送装置に関し、詳しくは、可撓性基板上に複数の薄膜を形成して薄膜光電変換素子などの薄膜積層体を製造する装置に対して用いられる搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体薄膜などの薄膜積層体の基板には、通常、剛性基板が用いられるが、ロールを介した取り扱いによる生産性向上やコスト低減を目的として、プラスチックフィルムなどの可撓性基板が用いられる場合がある。
例えば、特許文献１には、巻出ロールから供給される帯状の可撓性基板を所定のピッチで搬送しながら、複数の成膜室によって可撓性基板上に性質の異なる複数の薄膜を積層する装置が開示されている。【０００３】
このような可撓性基板の搬送装置には、可撓性基板の幅方向を水平方向に一致させた状態で搬送を行うタイプと、可撓性基板の幅方向の片端部を上側に位置する縦姿勢で搬送を行うタイプがある。後者は前者に比べて設置面積が小さく、可撓性基板の表面が汚染されにくい等の利点がある。
しかし、可撓性基板の搬送スパンが長くなると、重力に抗して可撓性基板の搬送高さを一定に維持するのが困難になり、可撓性基板が垂れ下がったり、可撓性基板の表面に皺が発生する傾向が顕著になる。
したがって、従来より、可撓性基板の搬送高さを維持するための基板保持装置が提案されている。【０００４】
図１４は、従来の可撓性基板の搬送装置における基板保持装置の一例を示している。
図１４に示すように、従来の基板保持装置９０は、可撓性基板９３の上側の端部を挟持する一対のグリップローラ９１，９２と、これら一対のグリップローラ９１，９２を固定するローラ固定部９４とを備えている。【０００５】
一対のグリップローラ９１，９２の表面は、それぞれ弾性体９１ａ，９２ａで覆われている。ローラ固定部９４には、一対のローラ固定用軸９５，９６が取付けられており、一対のグリップローラ９１，９２は、ローラ固定用軸９５，９６の下部９５ａ，９６ａにそれぞれ回転可能に取付けられている。また、一方のローラ固定用軸９５の上端９５ｂは、ローラ固定部９４に固定されており、他方のローラ固定用軸９６の上端９６ｂは、ヒンジ９７を介してローラ固定部９４に回転可能に取付けられている。これにより、一対のグリップローラ９１，９２は、ローラ固定用軸９６をヒンジ９７を中心に回動させることにより接離可能に構成されている。【０００６】
また、双方のローラ固定用軸９５，９６の上面には、バネ取付部９５ｃ，９６ｃがそれぞれ設けられており、これらバネ取付部９５ｃ，９６ｃの間は、引張バネ９８で連結されている。この引張バネ９８は、一対のグリップローラ９１，９２の圧接方向に付勢力を生じさせるようになっている。また、引張バネ９８の一端は、付勢力調整用ネジ９９を介して一方のバネ取付部９５ｃに取付けられている。基板保持装置９０は、付勢力調整用ネジ９９を回転させることにより一対のグリップローラ９１，９２間に生じる加圧力を調整できるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−７２４０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上述の従来の基板保持装置９０においては、時間が経つにつれてグリップローラ９１，９２の表面の弾性体９１ａ，９２ａの摩擦力が低下して、グリップローラ９１，９２のグリップ力が低下してしまうおそれがあった。このような場合、可撓性基板９３に弛みが発生し、一対のグリップローラ９１，９２から可撓性基板９３が垂れ下がる可能性があった。【０００９】
また、上述の従来の基板保持装置９０においては、グリップローラ９１，９２間に大きな加圧力を印加し続けると、グリップローラ９１，９２の径が変形してしまうおそれもあった。このような場合、可撓性基板９３に対する持上力が低下して、可撓性基板９３の搬送高さを一定に維持することができないという問題もあった。【００１０】
本発明はこのような実情に鑑みてなされたものであって、その目的は、グリップローラの摩擦力の低下や径の変化の影響を受けにくく、可撓性基板の搬送高さを一定に維持することが可能な可撓性基板の搬送装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記従来技術の有する課題を解決するために、本発明によれば、帯状の可撓性基板を搬送する搬送装置であって、前記可撓性基板の幅方向の片端部が上側に位置する縦姿勢で前記可撓性基板を搬送する基板搬送手段と、前記可撓性基板の搬送高さを維持するための基板保持装置とを備え、前記基板保持装置が、前記可撓性基板の少なくとも上側端部を挟持する一対のグリップローラと、前記一対のグリップローラが回転可能なように支持するとともに、前記一対のグリップローラを互いに接離可能に支持する支持機構と、該支持機構に連結され、一方のグリップローラを他方のグリップローラに圧接するための力を伝達する伝達機構と、該伝達機構に連結され、前記伝達機構との連結箇所を角変位させることにより前記一対のグリップローラの圧接力を調節するように構成された第１の駆動手段と、  前記支持機構に連結され、支軸を支点として回動することにより前記一対のグリップローラを前記可撓性基板の搬送方向に対して傾斜させるように構成された角度調整機構と、該角度調整機構に連結され、前記角度調整機構との連結箇所を角変位させることにより前記一対のグリップローラの前記可撓性基板の搬送方向に対する傾斜角度を調節するように構成された第２の駆動手段とを備え、前記第１の駆動手段は、縦姿勢の前記可撓性基板の幅方向に延びる軸心周りの回転運動を、前記伝達機構との前記連結箇所の角変位により、前記可撓性基板と交差する回動運動に変換し、前記第２の駆動手段は、縦姿勢の前記可撓性基板の幅方向に延びる軸心周りの回転運動を、前記角度調整機構との前記連結箇所の角変位により、前記可撓性基板に直交する軸心周りの回動運動に変換することを特徴とする装置が提供される。
【００１２】
また、本発明の別の形態によれば、前記基板保持装置が、前記可撓性基板の下側端部を挟持する一対の下側グリップローラと、前記一対の下側グリップローラを回転可能に支持するとともに、前記一対の下側グリップローラを互いに接離可能に支持する下側支持機構と、該下側支持機構に連結され、一方の下側グリップローラを他方の下側グリップローラに圧接するための力を伝達する下側伝達機構と、該下側伝達機構に連結され、前記下側伝達機構との連結箇所を角変位させることにより前記一対の下側グリップローラの圧接力を調節するように構成された第１の下側駆動手段と、前記下側支持機構に連結され、支軸を支点として回転することにより前記一対の下側グリップローラを前記可撓性基板の搬送方向に対して傾斜させるように構成された下側角度調整機構と、該下側角度調整機構に連結され、前記下側角度調整機構との連結箇所を角変位させることにより前記一対の下側グリップローラの前記可撓性基板の搬送方向に対する傾斜角度を調節するように構成された第２の下側駆動手段とを備え、前記第１の下側駆動手段は、縦姿勢の前記可撓性基板の幅方向に延びる軸心周りの回転運動を、前記下側伝達機構との前記連結箇所の角変位により、前記可撓性基板と交差する回動運動に変換し、前記第２の下側駆動手段は、縦姿勢の前記可撓性基板の幅方向に延びる軸心周りの回転運動を、前記下側角度調整機構との前記連結箇所の角変位により、前記可撓性基板に直交する軸心周りの回動運動に変換する。
【００１３】
また、本発明の別の形態によれば、前記可撓性基板の表面に複数の薄膜を積層して薄膜積層体を形成するための複数の成膜室を前記可撓性基板の搬送方向に沿って配置し、前記基板保持装置が、前記複数の成膜室の間に少なくとも１つ配置されている。【００１４】
また、本発明の別の形態によれば、前記伝達機構と前記第１の駆動手段とが、隣接する成膜室における一方の成膜室に配置され、前記角度調整機構と前記第２の駆動手段とが、隣接する成膜室における他方の成膜室に配置され、前記一対のグリップローラと前記支持機構とが隣接する成膜室の境界部分に配置されている。
【発明の効果】
【００１５】
また、本発明に係る帯状の可撓性基板を搬送する搬送装置によれば、前記可撓性基板の幅方向の片端部が上側に位置する縦姿勢で前記可撓性基板を搬送する基板搬送手段と、前記可撓性基板の搬送高さを維持するための基板保持装置とを備え、前記基板保持装置が、前記可撓性基板の少なくとも上側端部を挟持する一対のグリップローラと、前記一対のグリップローラが回転可能なように支持するとともに、前記一対のグリップローラを互いに接離可能に支持する支持機構と、該支持機構に連結され、一方のグリップローラを他方のグリップローラに圧接するための力を伝達する伝達機構と、該伝達機構に連結され、前記伝達機構との連結箇所を角変位させることにより前記一対のグリップローラの圧接力を調節するように構成された第１の駆動手段と、前記支持機構に連結され、支軸を支点として回動することにより前記一対のグリップローラを前記可撓性基板の搬送方向に対して傾斜させるように構成された角度調整機構と、該角度調整機構に連結され、前記角度調整機構との連結箇所を角変位させることにより前記一対のグリップローラの前記可撓性基板の搬送方向に対する傾斜角度を調節するように構成された第２の駆動手段とを備えているので、グリップローラの摩擦力の低下やグリップローラの径の変化により持上力が低下した場合においても、角度調整機構によって一対のグリップローラの角度を調節することにより持上力を増加させることができる。これにより、可撓性基板の搬送高さが一定に維持され、可撓性基板の垂れ下がりを抑制することができる。
また、本発明に係る搬送装置によれば、一対のグリップローラ間の加圧力だけでなく、一対のグリップローラの角度も調節しながら可撓性基板の搬送を行えるので、可撓性基板の搬送高さの制御をより高精度に行うことができる。【００１６】
また、本発明に係る帯状の可撓性基板を搬送する搬送装置によれば、前記基板保持装置が、前記可撓性基板の下側端部を挟持する一対の下側グリップローラと、前記一対の下側グリップローラを回転可能に支持するとともに、前記一対の下側グリップローラを互いに接離可能に支持する下側支持機構と、該下側支持機構に連結され、一方の下側グリップローラを他方の下側グリップローラに圧接するための力を伝達する下側伝達機構と、該下側伝達機構に連結され、前記下側伝達機構との連結箇所を角変位させることにより前記一対の下側グリップローラの圧接力を調節するように構成された第１の下側駆動手段と、前記下側支持機構に連結され、支軸を支点として回転することにより前記一対の下側グリップローラを前記可撓性基板の搬送方向に対して傾斜させるように構成された下側角度調整機構と、該下側角度調整機構に連結され、前記下側角度調整機構との連結箇所を角変位させることにより前記一対の下側グリップローラの前記可撓性基板の搬送方向に対する傾斜角度を調節するように構成された第２の下側駆動手段とを備えているので、一対のグリップローラによる持上力と一対の下側グリップローラの引下力とによって可撓性基板が幅方向に展張されることになり、可撓性基板における皺の発生をより効果的に防止することができる。【００１７】
また、本発明に係る帯状の可撓性基板を搬送する搬送装置によれば、前記可撓性基板の表面に複数の薄膜を積層して薄膜積層体を形成するための複数の成膜室を前記可撓性基板の搬送方向に沿って配置し、前記基板保持装置が、前記複数の成膜室の間に少なくとも１つ配置されているので、可撓性基板上に性質の異なる複数の薄膜を積層する薄膜積層体の製造装置において可撓性基板の搬送高さが一定に維持され、可撓性基板の垂れ下がりを抑制することができる。【００１８】
また、本発明に係る帯状の可撓性基板を搬送する搬送装置によれば、前記伝達機構と前記第１の駆動手段とが、隣接する成膜室における一方の成膜室に配置され、前記角度調整機構と前記第２の駆動手段とが、隣接する成膜室における他方の成膜室に配置され、前記一対のグリップローラと前記支持機構とが隣接する成膜室の境界部分に配置されているので、基板保持装置が隣接する成膜室の間の僅かなスペースに設置されることになり、成膜室における設備スペースを節減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施形態に係る搬送装置の全体構成を示す概略平面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る搬送装置に沿って配置された１つの成膜室を示す概略平面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ線断面図である。
【図４】本発明の実施形態に係る搬送装置の基板保持装置の拡大断面図である。
【図５】図４のＡ−Ａ線断面図である。
【図６】図４の基板保持装置を上方から見た図である。
【図７】図４のＢ−Ｂ線断面図である。
【図８】図４のＣ−Ｃ線断面図である。
【図９】本発明の実施形態に係る搬送装置における基板保持装置の拡大断面図であり、一対のグリップローラの角度を調節した一例を示した図である。
【図１０】図９のＡ−Ａ線断面図である。
【図１１】本発明の実施形態に係る搬送装置における基板保持装置の拡大断面図であり、一対のグリップローラの角度を調節した別の例を示した図である。
【図１２】図１１のＡ−Ａ線断面図である。
【図１３】一対のグリップローラに生じる加圧力（Ｎ）と、一対のグリップローラの角度（度）と、可撓性基板に生じる持上力（Ｎ）との関係を示した図である。
【図１４】（ａ）は、従来の搬送装置における基板保持装置を可撓性基板の搬送方向から見た図であり、（ｂ）は、従来の搬送装置の基板保持装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の実施形態に係る可撓性基板を搬送する搬送装置を、図面を参照しながら説明する。図１は、本発明の実施形態に係る搬送装置１００の全体構成を示す概略平面図である。
【００２１】
図１に示すように、本実施形態に係る可撓性基板を搬送する搬送装置１００は、帯状の可撓性基板１を送り出す巻出部１０と、薄膜積層体が形成された可撓性基板１を巻き取る巻取部３０とを備えている。なお、可撓性基板１は、その幅方向の片端部が上側に位置する縦姿勢で搬送されている。なお、本実施形態では、可撓性基板１は、その幅方向が上下方向となる搬送状態を図示して説明するが、これに限定されない。
【００２２】
例えば、本実施形態に係る搬送装置１００は、可撓性基板１上に複数の薄膜を形成して薄膜光電変換素子などの薄膜積層体を製造する装置に対して用いられる。図１に示すように、搬送装置１００は、巻出部１０と巻取部３０との間に、可撓性基板１上に複数の薄膜を積層する成膜部２０を更に備えている。ここで、巻出部１０と成膜部２０と巻取部３０とは、相互に気密に連結されており、搬送装置１００の全体が所定の真空度に維持されている。また、搬送装置１００は、２系統の製造ラインが平行にレイアウトされている。巻出部１０と巻取部３０とについては、製造ラインの各系統にそれぞれ配設されているが、成膜部２０については、２系統が共通の室構造を用いるように構成されている。
【００２３】
図１に示すように、巻出部１０は、可撓性基板１を送り出す巻出ロール１１と、この巻出ロール１１から送り出された可撓性基板１を成膜部２０に向かって送出する巻出側フィードローラ１２と、巻出ロール１１から送り出された可撓性基板１の張力を検出する巻出側張力検出ローラ１３ａ，１３ｂと、成膜部２０の上流側で可撓性基板１を成膜部２０へ案内する巻出側ガイドローラ１４とを備えている。
【００２４】
巻出ロール１１、巻出側フィードローラ１２、巻出側張力検出ローラ１３ａ，１３ｂ、及び巻出側ガイドローラ１４は、軸方向が可撓性基板１の幅方向になるようにそれぞれ設置されている。なお、以下に説明する各ローラも、特に言及しない限り、軸方向が可撓性基板１の幅方向（本実施形態では可撓性基板１の幅方向が上下方向）になるように設置されている。
【００２５】
図１に示すように、巻取部３０は、可撓性基板１を巻き取る巻取ロール３１と、可撓性基板１を巻取ロール３１に向かって送り出す巻取側フィードローラ３２と、成膜部２０から送り出された可撓性基板１の張力を検出する巻取側張力検出ローラ３３ａ，３３ｂと、成膜部２０の下流側で可撓性基板１を案内する巻取側ガイドローラ３４と、この巻取側ガイドローラ３４における可撓性基板１の幅方向の位置を制御する側端位置制御（ＥＰＣ）ローラ３５と、アイドルローラ３６とから構成されている。
【００２６】
なお、側端位置制御ローラ３５は、その軸方向を上下方向に対して傾動可能に構成されており、巻取側ガイドローラ３４における可撓性基板１の搬送高さの検出値に基づいて回転軸（図示せず）を傾動させて可撓性基板１の送出方向を上方又は下方に微調整できるようになっている。
【００２７】
図１に示すように、成膜部２０は、巻出部１０から巻取部３０へと搬送される可撓性基板１上に薄膜を積層するための複数の成膜室４０（ａ，・・・，ｊ）を備えている。この複数の成膜室４０（ａ，・・・，ｊ）は、巻出部１０と巻取部３０との間における可撓性基板１の直線的な経路に沿って所定のピッチで配列されている。また、各成膜室４０は、プラズマＣＶＤなどの化学蒸着（ＣＶＤ）や、スパッタなどの物理蒸着（ＰＶＤ）を行うための真空蒸着ユニットで構成されている。
【００２８】
例えば、搬送装置１００が、可撓性基板１に光電変換素子を積層した薄膜太陽電池を製造する装置の場合、搬送装置１００は、ｐｉｎ構造の光電変換層をプラズマＣＶＤにより積層する複数の成膜室４０（ａ，ｂ・・・）と、その光電変換層の表面及び可撓性基板１の裏面にそれぞれ電極層をスパッタリングにより積層する２つの成膜室４０（ｉ，ｊ）とから構成されることになる。
【００２９】
図２は、プラズマＣＶＤ用の１つの成膜室４０を概略的に示している。また、図３は、図２のＡ−Ａ線断面図である。
図２に示すように、成膜室４０は、２つの製造ラインに対応した２つの成膜ユニット４１を備えている。成膜ユニット４１は、固定チャンバ４２と、流体圧シリンダなどの進退駆動手段（図示せず）により固定チャンバ４２に対して接離可能に構成された可動チャンバ４３とを備えている。
【００３０】
図２に示すように、固定チャンバ４２には、ヒータ４４ａを内蔵した接地電極４４が配設されている。一方、可動チャンバ４３には、表面に多数のガス噴出孔（図示せず）を有する高周波電極４５が配設されている。なお、この高周波電極４５は、成膜室４０の外部にある高周波電源（図示せず）に接続されている。
【００３１】
図２及び図３に示すように、成膜室４０は、その周辺部に配設された主構造材４６と、この主構造材４６に対して開閉可能に設けられている側壁４７と、主構造材４６の上部に固定された天井パネル４８とを更に備えている。高周波電極４５を含む可動チャンバ４３は、各側壁４７に取付けられている。各成膜室４０の間の境界部分には、可撓性基板１を通過させるための開口４６０が主構造材４６を貫通して設けられている。
【００３２】
このような成膜室４０において薄膜を形成する場合、まず、可撓性基板１の間欠的な搬送サイクルの停止期間中において、可動チャンバ４３と固定チャンバ４２とを（図２中の矢印方向に）圧接して、可撓性基板１を可動チャンバ４３と固定チャンバ４２とで挟んだ状態にする。次に、ガス導入管４５ａを通じて薄膜成分を含む原料ガスを成膜室４０内に導入し、高周波電極４５に電圧を印加してプラズマを発生させる。これにより、可撓性基板１の表面に原料ガスの化学反応により薄膜が形成される。
【００３３】
また、本実施形態に係る搬送装置１００は、図２及び図３に示すように、複数の成膜室４０における可撓性基板１の搬送高さを維持するための基板保持装置２１，２２を備えている。基板保持装置２１，２２は、各成膜室４０の間の境界部分に配置されている。
また、基板保持装置２１，２２は、可撓性基板１の幅方向（上下方向）の両端を保持するように各成膜室４０の間で上下にそれぞれ設置されている（図３参照）。なお、以下では、上側に配置された基板保持装置２１について説明し、下側に配置された基板保持装置２２については同様の構成であるため説明を省略する。
【００３４】
図２及び図３に示すように、基板保持装置２１は、可撓性基板１の上下方向上側の端部を挟持する一対のグリップローラ２３，２４と、可撓性基板１の搬送方向の上流側で可撓性基板１の搬送高さを検知する検知センサ４９と、一対のグリップローラ２３，２４が回転可能なように支持するとともに一対のグリップローラ２３，２４を互いに接離可能に支持する支持機構２５と、一方のグリップローラ２３を他方のグリップローラ２４に圧接するための力を伝達する伝達機構５０と、検知センサ４９の検出値に基づいて一対のグリップローラ２３，２４の圧接力を調節するように構成された加圧力調整用駆動手段（第１の駆動手段）６０とを備えている。
【００３５】
図４は、図３の基板保持装置２１の拡大断面図である。図５は、図４のＡ−Ａ線断面図である。
図４及び図５に示すように、一対のグリップローラ２３，２４は、固定側ローラ２３と可動側ローラ２４とから構成されている。固定側ローラ２３は、金属製のローラ本体２３ａと、このローラ本体２３ａの周面に被着された耐熱性のゴム被覆２３ｂとを備えている。また、可動側ローラ２４も同様に、金属製のローラ本体２４ａと、このローラ本体２４ａの周面に被着された耐熱性のゴム被覆２４ｂとを備えている。
【００３６】
図４及び図５に示すように、支持機構２５は、板状のブラケット２６と、ブラケット２６の下面に取付けられた可動側ローラ用支持部材２７及び固定側ローラ用支持部材２８とから構成されている。可動側ローラ用支持部材２７の上端２７ａには、伝達機構５０が連結される連結部２９が設けられている。可動側ローラ用支持部材２７の下端２７ｂには、ベアリング（図示せず）を介して可動側ローラ２４のローラ本体２４ａが回転自在に取付けられている。また、固定側ローラ用支持部材２８の下端２８ｂにも、ベアリングを介して固定側ローラ２３のローラ本体２３ａが回転自在に取付けられている。
【００３７】
図４及び図５に示すように、伝達機構５０は、加圧力調整用駆動手段６０に連結される第１アーム５１と、第１アーム５１から下方に延びる回動軸５２と、回動軸５２に取付けられた第２アーム５３と、第２アーム５３と支持機構２５の連結部２９とを接続する延長アーム５４とから構成されている。
【００３８】
図４及び図５に示すように、延長アーム５４は、第２アーム５３から成膜室４０の主構造材４６を迂回して支持機構２５の連結部２９に向かうように形成されている。延長アーム５４の下端部５４ａには、軸部５５が設けられており、この軸部５５が、支持機構２５の連結部２９にベアリング（図示せず）を介して回動自在に取付けられている。
また、延長アーム５４の軸部５５は、可動側ローラ用支持部材２７の上端部２７ａに止めネジ（図示せず）により固定されている。これにより、可動側ローラ用支持部材２７が、軸部５５を中心として延長アーム５４と一体的に回動し、可動側ローラ２４と固定側ローラ２３とが接離できるようになっている。また、延長アーム５４の上端部５４ｂには、可撓性基板１の搬送方向を軸心とするローラ５６が回動自在に取付けられている。さらに、延長アーム５４の中間部には、後述する一対のグリップローラ２３，２４の解除操作のための操作板５４ｃが取付けられている。
【００３９】
図４及び図５に示すように、第２アーム５３は、成膜室４０の内部に位置した回動軸５２の下端部５２ａに取付けられている。第２アーム５３は、延長アーム５４と係合する第１及び第２の係合部５３ａ，５３ｂを備えている。第１の係合部５３ａと第２の係合部５３ｂとの間には、延長アーム５４のローラ５６が配置されている。第１の係合部５３ａと第２の係合部５３ｂとは、ローラ５６の直径よりも広い間隔をおいて対向配置されている。
【００４０】
図４に示すように、回動軸５２は、成膜室４０の天井パネル４８を貫通して上下方向に延びており、シール軸受５７を介して成膜室４０の天井パネル４８に取付けられている。そして、成膜室４０の外部に位置した回動軸５２の上端部５２ｂには、第１アーム５１が固定されている。シール軸受５７は、プレート５７ａやＯリングなどを介して成膜室４０の開口部４８０ａに取付けられており、回動軸５２を気密かつ回動自在に支持している。なお、シール軸受５７及び回動軸５２が設置されない他の開口部は、耐熱ガラスなどの透明部材が装着され、成膜室４０内を観察するための観察窓となっている。
【００４１】
図４に示すように、第１のアーム５１の先端部５１ａには、連結ピン５８が上向きに突設されている。連結ピン５８は、第１アーム５１の先端部５１ａを上下に貫通する支持孔（図示せず）に回動可能に支持されている。また、連結ピン５８には、スプリング５９の一端が連結されている。このスプリング５９は、引張バネであり、その他端は、加圧力調整用駆動手段６０に連結されている。
【００４２】
図４に示すように、加圧力調整用駆動手段６０は、アクチュエータ６１と、アクチュエータ６１から延びる駆動軸６２と、駆動軸６２に固定された駆動アーム６３とから構成されている。
アクチュエータ６１は、サーボモータなどのロータリーアクチュエータである。アクチュエータ６１は、支持フレーム（図示せず）を介して固定されたアッパープレート６４上に配置されている。そして、アクチュエータ６１の駆動軸６２は、第１アーム５１の連結ピン５８と対向しかつ軸心が一致するような位置に設けられている。
【００４３】
図４に示すように、駆動アーム６３の先端部６３ａには、支持ピン６５が下向きに突設されている。支持ピン６５は、駆動アーム６３の先端部６３ａを上下に貫通する支持孔（図示せず）に回動可能に支持されている。そして、駆動アーム６３の支持ピン６５には、スプリング５９の他端が調節ネジ６６を介して連結されている。
【００４４】
スプリング５９は、第１アーム５１の連結ピン５８と駆動アーム６３の支持ピン６５との間で予め伸長された状態で取付けられており、調節ネジ６６で伸長度を調整することにより張力Ｆを調節できるようになっている。また、図５に示すように、駆動アーム６３の基端部には、セクタープレート６７が同軸に取付けられている。このセクタープレート６７の外周には、オーバートラベルセンサ６８が近接して配置されている。
【００４５】
次に、加圧力調整用駆動手段６０のアクチュエータ６１を用いて一対のグリップローラ２３，２４の加圧力を調整する手順を説明する。図６は、本実施形態に係る基板保持装置２１を上方から見た図である。
【００４６】
アクチュエータ６１は、検知センサ（図３参照）４９の検出値に基づいて出力された制御信号によって駆動されるように構成されている。アクチュエータ６１は、図６に示すように、駆動アーム６３を最小加圧位置６３ｘと最大加圧位置６３ｙとの間で所定の角位置に回動変位させるようになっている。これにより、駆動アーム６３の角変位に応じた付勢力が、伝達機構５０の第１アーム５１に負荷されることになる。
【００４７】
図６に示すように、駆動アーム６３が、角変位がゼロである最小加圧位置６３ｘにある場合、第１アーム５１を図６中の反時計方向に回動させる直交成分（Ｆｙ＝Ｆ・ｓｉｎθ）はゼロとなる。したがって、第１アーム５１を回動軸５２を中心として図６中の反時計方向に回動するような付勢力が作用しないことになる。
【００４８】
この状態から、駆動アーム６３が角変位θまで回動されると、角変位に応じて、スプリング５９の張力の直交成分（Ｆｙ＝Ｆ・ｓｉｎθ）が、第１アーム５１を図６中の反時計方向に回動させる付勢力として作用することになる。
この付勢力は、回動軸５２を介して第２アーム５３に伝達される。そして、図５に示すように、第２アーム５３の第１係合部５３ａと延長アーム５４のローラ５６とが当接した状態で、延長アーム５４のローラ５６が第１係合部５３ａによって可撓性基板１とは反対方向に押されることになる。その結果、延長アーム５４及び可動側支持部材２７が、軸部５５を中心に回動して、可動側ローラ２４が付勢力にレバー比を乗じた加圧力で固定側ローラ２３に圧接することになる。
【００４９】
図６に示すように、駆動アーム６３が第１アーム５１と直交する最大加圧位置６３ｙに回動されると、スプリング５９の張力Ｆの全てが、第１アーム５１を回動軸５２を中心として図６中の反時計方向に回動させる付勢力として作用することになる。その結果、可動側ローラ２４がこの付勢力にレバー比を乗じた加圧力で固定側ローラ２３に圧接することになる。
【００５０】
次に、図４〜図６を用いて一対のグリップローラ２３，２４の解除操作の手順について説明する。
未処理の巻出ロール１１から引き出された可撓性基板１を成膜室４０に導入する場合、一対のグリップローラ２３，２４の圧接状態を解除する必要がある。この際、まず、図示しない解除スイッチ等を操作してアクチュエータ６１に解除信号を送る。解除信号が送られると、図６に２点鎖線で示されるように、駆動アーム６３が、最大加圧位置６３ｙを越えて６３’の位置まで角変位される。
【００５１】
その後、作業者は、延長アーム５４の操作板５４ｃを可撓性基板１側に向かって動かす。この際、第２アーム５３の第２係合部５３ｂと延長アーム５４のローラ５６とが当接した状態で、延長アーム５４が図５中の５４´まで移動することになる。同時に、可動側支持部材２７及び延長アーム５４は、軸部５５を中心に図５中の時計方向に回動して、可動側ローラ２４が、図５中の２４´まで移動して固定側ローラ２３から離れることになる。
【００５２】
また、延長アーム５４が５４´まで移動すると、第２アーム５３が図５中の５３´の位置まで回動する。これに伴い、回動軸５２に連結された第１アーム５１が図６中の時計方向に回動し、５１´の位置まで回動する。そうすると、第１アーム５１に対するスプリング５９の付勢方向が反転し、第１アーム５１は図６中の５１´の位置に保持されることになる。また同時に、第２アーム５３及び延長アーム５４もそれぞれ図中の５３´及び５４´の位置に保持される。これにより、可動側ローラ２４が固定側ローラ２３から離れた状態で保持され、可動側ローラ２４と固定側ローラ２３との間に可撓性基板１を導入することができる。
【００５３】
なお、可撓性基板１を導入した後は、作業者が、延長アーム５４の操作板５４ｃを押圧して延長アーム５４を元の位置に戻すと、第１アーム５１も元の位置に回動することになる。これにより、スプリング５９の付勢方向が加圧側に反転し、可動側ローラ２４と固定側ローラ２３との間で可撓性基板１が挟持されることになる。
【００５４】
次に、図を用いて本実施形態における角度調整機構７０について説明する。図４は、図３の基板保持装置２１の拡大断面図である。図７は図４のＢ−Ｂ線断面図であり、図８は、図４のＣ−Ｃ線断面図である。
【００５５】
図４に示すように、基板保持装置２１は、一対のグリップローラ２３，２４を可撓性基板１の搬送方向に対して傾斜させるように構成された角度調整機構７０と、一対のグリップローラ２３，２４の可撓性基板１の搬送方向に対する傾斜角度を調節するように構成された角度調整用駆動手段（第２の駆動手段）８０とを備えている。
【００５６】
図７及び図８に示すように、角度調整機構７０は、角度調整用駆動手段８０と接続する第１リンク７１と、第１リンク７１から水平方向に延びる第２リンク７２と、第２リンク７２から成膜室４０の主構造材４６に沿って下方に延びるとともに支持機構２５のブラケット２６に連結されたフレーム７３と、成膜室４０の主構造材４６上に配置されたベースプレート７４とから構成されている。
【００５７】
図７及び図８に示すように、第１リンク７１の一端７１ａには、上下方向を軸心とするローラ７５が回動自在に取付けられている。また、第１リンク７１の他端７１ｂには、第２リンク７２が固定されている。第２リンク７２は、第１リンクから水平方向に延びてフレーム７３の上端部７３ａに連結されている。
【００５８】
図４及び図７に示すように、フレーム７３は、支持機構２５のブラケット２６の近傍位置において支軸７６を介してベースプレート７４に回転可能に取付けられている。また、フレーム７３は、支軸７６よりも上方の位置にばね支持部７３ｂを備えている。ばね支持部７３ｂには、支持ばね７７の一端が取付けられている。この支持ばね７７は、圧縮ばねであり、その他端は、ベースプレート７４に取付けられている。
【００５９】
図４に示すように、角度調整用駆動手段８０は、アクチュエータ８１と、アクチュエータ８１から延びる駆動軸８２と、駆動軸８２に固定された駆動アーム８３とから構成されている。
アクチュエータ８１は、サーボモータなどのロータリーアクチュエータである。アクチュエータ８１は、支持フレームを介して固定されたアッパープレート８４上に配置されている。
【００６０】
図４に示すように、アクチュエータ８１の駆動軸８２は、成膜室４０の天井パネル４８を貫通して上下方向に延びており、シール軸受８５を介して成膜室４０の天井パネル４８に取付けられている。シール軸受８５は、プレートやＯリングなどを介して成膜室４０の開口部４８０ｂに取付けられており、駆動軸８２を気密かつ回動自在に支持している。
【００６１】
図７に示すように、駆動アーム８３は、駆動軸８２の先端部８２ａに取付けられており、アクチュエータ８１の駆動軸８２から第１リンク７１へ向かって水平方向に延びている。図８に示すように、駆動アーム８３の先端部８３ａには、一対のローラ挟持部８６ａ，８６ｂが設けられており、一対のローラ挟持部８６ａ，８６ｂは、第１リンク７１のローラ７５の直径よりも広い間隔をおいて対向配置されている。
【００６２】
次に、図９〜図１２を用いて角度調整用駆動手段８０のアクチュエータ８１を用いて一対のグリップローラ２３，２４の角度を調整する手順を説明する。
角度調整用駆動手段８０のアクチュエータ８１は、検知センサ（図３参照）４９の検出値に基づいて出力された制御信号によって駆動されるように構成されている。アクチュエータ８１は、駆動軸８２を回転させることにより駆動アーム８３を所定の角位置に回動変位させるようになっている。
【００６３】
図９及び図１０は、一対のグリップローラ２３，２４の角度を調節した一例を示した図である。
図１０に示すように、駆動アーム８３が、図８の基準位置から反時計方向に回動されると、駆動アーム８３の角変位に応じて第１及び第２リンク７１，７２が可撓性基板１の搬送方向に動くことになる。これに伴い、図９に示すように、フレーム７３が支軸７６を支点として反時計方向に回動し、支持機構２５のブラケット２６が可撓性基板１の搬送方向に対して下向きに傾斜することになる。これにより、一対のグリップローラ２３，２４も可撓性基板１の搬送方向に対して下向きに角度θ１だけ傾斜することになる。
【００６４】
図１１及び図１２は、一対のグリップローラ２３，２４の角度を調節した別の例を示した図である。
図１２に示すように、駆動アーム８３が、図８の基準位置から時計方向に回動されると、駆動アーム８３の角変位に応じて第１及び第２リンク７１，７２が可撓性基板１の搬送方向とは反対方向に動くことになる。これに伴い、図１１に示すように、フレーム７３が支軸７６を支点として時計方向に回動し、支持機構２５のブラケット２６が可撓性基板１の搬送方向に対して上向きに傾斜することになる。これにより、一対のグリップローラ２３，２４も可撓性基板１の搬送方向に対して上向きに角度θ２だけ傾斜することになる。
【００６５】
上述では、図４〜１２を用いて可撓性基板１の上側に配置された基板保持装置２１についてのみ説明したが、可撓性基板１の下側に配置された基板保持装置２２も、上下が逆になるが、同様の構成である。
【００６６】
図１３は、一対のグリップローラ２３，２４に生じる加圧力（Ｎ）と、一対のグリップローラ２３，２４の角度（ｄｅｇ）と、可撓性基板１に生じる持上力（Ｎ）との関係を示している。なお、図１３における一対のグリップローラ２３，２４の角度については、可撓性基板１の搬送方向に対して上向きに傾斜させた角度である。すなわち、図１３は、図１１におけるθ２を変化させた場合を示している。
【００６７】
図１３に示すように、一対のグリップローラ２３，２４に生じる加圧力が２５Ｎを超えてくると、持上力の上昇が収束する傾向にある（特に、角度が１．０°や１．５°の場合等）。つまり、一対のグリップローラ２３，２４に生じる加圧力を増加させるだけでは、グリップローラ２３，２４と可撓性基板１との最大摩擦力の影響などにより、一定以上の持上力が得られないと考えられる。
しかし、図１３に示すように、一対のグリップローラ２３，２４の角度を増加させることにより持上力が向上させることができる。つまり、一対のグリップローラ２３，２４に生じる加圧力と一対のグリップローラ２３，２４の角度の両方を制御することによって、より大きな持上力が得られることになる。
【００６８】
なお、本実施形態に係る搬送装置１００においては、一対のグリップローラ２３，２４の角度θ１，θ２を０．１°〜６°の範囲で設定することができる。
また、可撓性基板１およびグリップローラ２３，２４の表面性状や接圧などにもよるが、一対のグリップローラ２３，２４を上向きに傾斜させる場合、角度が概ね６°を超えると、動摩擦が主体的になり、持上力が向上しない傾向にある。
【００６９】
次に、搬送装置１００における可撓性基板１の搬送高さを維持する手順を図面を参照しながら説明する。
【００７０】
図１に示すように、可撓性基板１は、巻出部１０から成膜部２０を経て巻取部３０へと所定のサイクルタイムで搬送される。このサイクルタイムの搬送期間においては、成膜ユニット４１における可動チャンバ４３は固定チャンバ４２から離れた状態にある。この搬送期間においては、可撓性基板１は、可動チャンバ４３と固定チャンバ４２との間を成膜室１つ分の長さだけ搬送される。
【００７１】
可撓性基板１の搬送が終了すると、サイクルタイムにおける停止期間となり、成膜ユニット４１の可動チャンバ４３と固定チャンバ４２とが閉鎖された状態になる。この際、可撓性基板１の搬送方向の下流側に配置された検知センサ４９が、可撓性基板１の上下方向の上端部の位置（搬送高さ）を検知する。
ここで、基準ラインから上方または下方に偏位が生じている場合には、偏位方向や偏位量に応じた検出値が加圧力調整用駆動手段６０及び角度調整用駆動手段８０に送られる。
【００７２】
加圧力調整用駆動手段６０及び角度調整用駆動手段８０は、この検出値に基づいてアクチュエータ６１，８１をそれぞれ制御する。例えば、図１３で示したように、一対のグリップローラ２３，２４に生じる加圧力を増加させるだけでは、得られる持上力に限界があるので、加圧力調整用駆動手段６０により一対のグリップローラ２３，２４の加圧力を増加させつつ、角度調整用駆動手段８０により一対のグリップローラ２３，２４の角度を調整することにより、持上力を増加させる。
また、一対のグリップローラ２３，２４の加圧力を増加させても所望の持上力が得られない場合（グリップローラ２３，２４の摩擦力が低下した場合など）は、角度調整用駆動手段８０により一対のグリップローラ２３，２４の角度のみを調整して、持上力を増加させる。
【００７３】
次いで、成膜室４０における成膜工程が終了し、成膜ユニット４１の可動チャンバ４３と固定チャンバ４２とが離れた状態になる。そして、サイクルタイムにおける搬送期間となり、可撓性基板１は、可動チャンバ４３と固定チャンバ４２との間を成膜室１つ分の長さだけ搬送される。このとき、一対のグリップローラ２３，２４による持上力が増加した状態で可撓性基板１が搬送されるので、可撓性基板１が上方に移動し、可撓性基板１の偏位が補正される。
【００７４】
このように、サイクルタイムにおける停止期間において搬送高さの検知と持上力の調整を行うことと、サイクルタイムにおける搬送期間において搬送高さの補正を行うこととが交互に実行される。これにより、可撓性基板１の搬送高さが一定または所定の交差以内に維持されることになる。
【００７５】
本実施形態に係る搬送装置１００によれば、基板保持装置２１が、可撓性基板１の上下方向の少なくとも上側端部を挟持する一対のグリップローラ２３，２４と、一対のグリップローラ２３，２４が回転可能なように支持するとともに一対のグリップローラ２３，２４を互いに接離可能に支持する支持機構２５と、一方のグリップローラ２４を他方のグリップローラ２３に圧接するための力を伝達する伝達機構５０と、伝達機構５０との連結箇所を角変位させることにより一対のグリップローラ２３，２４の圧接力を調節するように構成された加圧力調整用駆動手段６０と、支軸７６を支点として回動することにより一対のグリップローラ２３，２４を可撓性基板１の搬送方向に対して傾斜させるように構成された角度調整機構７０と、角度調整機構７０との連結箇所を角変位させることにより一対のグリップローラ２３，２４の可撓性基板１の搬送方向に対する傾斜角度を調節するように構成された角度調整用駆動手段８０とを備えているので、グリップローラ２３，２４の摩擦力の低下やグリップローラ２３，２４の径の変化により持上力が低下した場合においても、角度調整機構７０によって一対のグリップローラ２３，２４の角度を調節することにより持上力を増加させることができる。これにより、可撓性基板１の搬送高さが一定に維持され、可撓性基板１の垂れ下がりを抑制することができる。
【００７６】
また、本発明に係る搬送装置１００によれば、一対のグリップローラ２３，２４間の加圧力だけでなく、一対のグリップローラ２３，２４の角度も調節しながら可撓性基板１の搬送を行えるので、可撓性基板１の搬送高さの制御をより高精度に行うことができる。
【００７７】
また、本実施形態に係る搬送装置１００によれば、伝達機構５０と加圧力調整用駆動手段６０とが、隣接する成膜室４０における一方の成膜室４０に配置され、角度調整機構７０と角度調整用駆動手段８０とが、隣接する成膜室４０における他方の成膜室４０に配置され、一対のグリップローラ２３，２４と支持機構２５とが隣接する成膜室４０の境界部分に配置されているので、基板保持装置２１が隣接する成膜室４０の間の僅かなスペースに設置されることになり、成膜室４０における設備スペースを節減することができる。
【００７８】
また、本実施形態に係る搬送装置１００によれば、一対のグリップローラ２３，２４の加圧力を調整するために、スプリング５９の支持点を伝達機構５０との連結点の周りで角変位させるような構成としているので、スプリング５９の弾性変位を一定に維持した状態でも、一対のグリップローラ２３，２４の加圧力に寄与する力（スプリング５９の張力の直交成分）を、スプリング５９の支持点の角変位に応じて漸次増減させることができる。このような構成により、スプリングの支持点を付勢力の作用方向に進退変位させる従来の構成と比較して、制御に要する駆動力が小さくて済み、機構が簡素化され、高精度の制御が行える利点がある。
【００７９】
また、本実施形態に係る搬送装置１００によれば、一対のグリップローラ２３，２４、支持機構２５、伝達機構５０、及び角度調整機構７０が成膜室４０内に配置され、加圧力調整用駆動手段６０及び角度調整用駆動手段８０が成膜室４０の外部に配設されている。
成膜室４０内は、所定の真空度まで減圧され、かつ、比較的高い温度に維持されるので、モータや流体圧シリンダなどのアクチュエータを含む駆動手段を設置することは種々の困難を伴う。そこで、本実施形態に係る搬送装置１００では、成膜室４０の外部に設置した２つの駆動手段６０，８０により、一対のグリップローラ２３，２４の加圧力及び角度を遠隔的に操作する構成としているので、駆動手段６０，８０等への負担も小さく、しかも、駆動力を成膜室４０内に効率良く伝達することができる。
【００８０】
また、本実施形態に係る搬送装置１００によれば、基板保持装置２１，２２が、可撓性基板１の幅方向（上下方向）の両端を保持するように各成膜室４０の間で上下にそれぞれ設置されているので、上側の基板保持装置２１の一対のグリップローラ２３，２４による持上力と、下側の基板保持装置２２の一対の下側グリップローラの引下力とによって可撓性基板１が幅方向に展張されることになり、可撓性基板１における皺の発生等をより効果的に防止することができる。
【００８１】
以上、本発明の実施の形態につき述べたが、本発明は既述の実施形態に限定されるものでなく、本発明の技術的思想に基づいて各種の変形及び変更が可能である。
【００８２】
上述した実施形態では、上側と下側の両方にグリップローラが配置した構成となっているが、上側のみにグリップローラを配置する構成としてもよい。このように上側のみにグリップローラを配置する構成とした場合、可撓性基板１は幅方向の片端部を上側とした縦姿勢となる状態で搬送される。
また、上側と下側の両方にグリップローラが配置した構成の場合、可撓性基板１は、幅方向の片端部を上側に位置し且つ上下方向に対して可撓性基板１が傾斜するような状態で搬送されてもよい。
【００８３】
上述した実施形態では、可撓性基板１の長手方向が水平になる状態で搬送されているが、可撓性基板１の長手方向が水平方向に対して傾斜していてもよい。
【００８４】
上述した実施形態では、可撓性基板１を所定のサイクルタイムで搬送しながらその停止期間中に成膜室４０で成膜工程を実行する場合に持上力の調整を実施している。本発明はこれに限定されるものでなく、可撓性基板１を連続的に搬送しながら成膜を行う場合にも実施可能である。この場合、検知センサ４９によって可撓性基板１の搬送高さを常時監視して、持上力の調整を行うことができる。
【００８５】
成膜室４０の数が少なく、搬送スパンが比較的短距離の場合には、上側の基板保持装置２１のみで可撓性基板１の搬送高さを維持するようにしてもよい。この場合、可撓性基板１に作用する重力と、上側の基板保持装置２１の一対のグリップローラ２３，２４の持上力とを平衡させることにより、可撓性基板１の搬送高さを一定に維持することができる。
【符号の説明】
【００８６】
１  可撓性基板
１０  巻出部
２０  成膜部
３０  巻取部
４０  成膜室
４１  成膜ユニット
５０  伝達機構
５１  第１アーム
５２  回動軸
５３  第２アーム
５４  延長アーム
５５  延長アームの軸部
５６  延長アームのローラ
５７  シール軸受
５８  第１アームの連結ピン
５９  スプリング
６０  加圧力調整用駆動手段
６１  アクチュエータ
６２  駆動軸
６３  駆動アーム
７０  角度調整機構
７１  第１リンク
７２  第２リンク
７３  フレーム
７４  ベースプレート
７５  第１リンクのローラ
７６  支軸
８０  角度調整用駆動手段
８１  アクチュエータ
８２  駆動軸
８３  駆動アーム
１００  搬送装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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