(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を含有する熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物。
（Ａ）成分：下記式（１）で表される構造単位を含むポリエステルに、グリシジル基及びイソシアナート基から選ばれる官能基を有する化合物を反応させて得られる修飾されたポリエステル
（Ｂ）成分：エポキシ基を２個以上有するエポキシ化合物
（Ｃ）成分：ジアミン化合物とジカルボン酸二無水物とを反応させて得られるアミノ基含有カルボン酸化合物
（Ｄ）成分：１，２−キノンジアジド化合物
【化１】
0005626536.tif 000020
｛式中、Ａは下記式（１Ａ１）、式（１Ａ２）又は式（１Ａ３）で表される基を表し、
【化２】
0005626536.tif 000021
（式（１Ａ１）、（１Ａ２）、及び（１Ａ３）中、Ａ1は環状飽和炭化水素基を表し、Ｒ1は単結合、エーテル結合、カルボニル基、スルホン酸基、炭素原子数１乃至８の飽和炭化
水素基又はフッ素原子で置換された炭素原子数１乃至８の飽和炭化水素基を表す。また、Ｒ2は炭素原子数１乃至８の飽和炭化水素基を表す。）
Ｂは下記式（１Ｂ１）又は式（１Ｂ２）で表される基を表す。
【化３】
0005626536.tif 000022
（式（１Ｂ１）及び（１Ｂ２）中、Ｂ1は環状飽和炭化水素基を表し、Ｂ2はフェニレン基を表す。また、Ｒ3は単結合、エーテル結合、カルボニル基、スルホン酸基、炭素原子数１乃至８の飽和炭化水素基又はフッ素原子で置換された炭素原子数１乃至８の飽和炭化水素基を表し、Ｒ4、Ｒ5はそれぞれ独立して単結合又は炭素原子数１乃至５のアルキレン基を表し、Ｒ6、Ｒ7はそれぞれ独立して炭素原子数１乃至５のアルキレン基を表す。さらに、ｋは０又は１を表す。）｝
【請求項２】
前記式（１）で表わされる構造単位を含むポリエステルが、下記式（ｉ）で表されるテトラカルボン酸二無水物を含むテトラカルボン酸二無水物成分と、下記式（ｉｉ）で表されるジオール化合物を含むジオール成分とを反応させて得られるポリエステルである、請求項１に記載の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物。
【化４】
0005626536.tif 000023
[式（ｉ）及び（ｉｉ）中、Ａ及びＢは前記式（１）における定義と同義である。]
【請求項３】
前記式（１）中、Ａは下記式（Ａ−１）乃至式（Ａ−８）で表される基から選ばれる少なくとも一種の基を表し、Ｂは下記式（Ｂ−１）乃至式（Ｂ−５）で表される基から選ばれる少なくとも一種の基を表す、請求項１又は請求項２に記載の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物。
【化５】
0005626536.tif 000024
【化６】
0005626536.tif 000025
【請求項４】
前記（Ａ）成分の修飾されたポリエステルは、ポリスチレン換算で１，０００乃至３０，０００の重量平均分子量を有する、請求項１乃至請求項３のうちいずれか一項に記載の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物。
【請求項５】
前記（Ｃ）成分が、ジアミン化合物１モルと、ジカルボン酸二無水物１．７乃至２モルとを反応させて得られるアミノ基含有カルボン酸化合物である、請求項１乃至請求項４のうちいずれか一項に記載の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物。
【請求項６】
前記（Ａ）成分の１００質量部に基づいて、３乃至５０質量部の前記（Ｂ）成分、３乃至５０質量部の前記（Ｃ）成分、５乃至８０質量部の前記（Ｄ）成分をそれぞれ含有する、請求項１乃至請求項５のうちいずれか一項に記載の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物。
【請求項７】
更に、（Ｅ）成分としてビスマレイミド化合物を含有する、請求項１乃至請求項５のうちいずれか一項に記載の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物。
【請求項８】
前記（Ａ）成分の１００質量部に基づいて、０．５乃至５０質量部の請求項７記載の（Ｅ）成分を含有する、請求項６に記載の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のうちいずれか一項に記載の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物から形成される硬化膜。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項８のうちいずれか一項に記載の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物を用いて得られる液晶配向層。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物及び該組成物から形成される硬化膜に関する。より詳しくは、高い透明性、平坦化性を有し、液晶配向能、高い溶剤耐性を有する硬化膜を形成することができる熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物及びその硬化膜、並びに該硬化膜の適用に関するものである。この熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物は、特に液晶ディスプレイにおける液晶配向機能を兼ね備えたカラーフィルタオーバーコート剤に好適である。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示素子、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ）素子、固体撮像素子などの光デバイスでは、素子表面が製造工程中に溶剤や熱にさらされるのを防ぐために保護膜が設けられる。この保護膜は保護する基板との密着性が高く溶剤耐性が高いだけでなく、透明性、耐熱性等の性能も要求される。【０００３】
このような保護膜は、カラー液晶表示装置や固体撮像素子に用いられるカラーフィルタの保護膜として使用する場合には、一般にその下地基板のカラーフィルタあるいはブラックマトリックス樹脂を平坦化する性能、すなわち平坦化膜としての性能を有することが要求される。特にＳＴＮ方式やＴＦＴ方式のカラー液晶表示素子を製造する際には、カラーフィルタ基板と対向基板との張り合わせ精度を非常に厳密に行う必要があり、基板間のセルギャップを均一にすることが必要不可欠である。加えてカラーフィルタを透過する光の透過率を維持するため、その保護膜であるこれら平坦化膜には高い透明性が必要となる。【０００４】
一方、近年液晶ディスプレイのセル内に位相差材を導入することで低コスト化、軽量化が検討されており、このような位相差材には液晶モノマーを塗布し配向させた後、光硬化させた材料が一般的に用いられる。この位相差材を配向させるためには下層膜がラビング処理後、配向性を有する材料である必要がある。そのためカラーフィルタのオーバーコート上に液晶配向層を成膜した後、位相差材が形成される（図２（ａ）参照）。この液晶配向層とカラーフィルタのオーバーコートを兼ねる膜（図２（ｂ）参照）を形成できれば、低コスト化、プロセス数の削減等大きなメリットが得られることから、このような材料が強く望まれている。【０００５】
一般にこのカラーフィルタのオーバーコートには、透明性の高いアクリル樹脂が用いられる。このようなアクリル樹脂にはプロピレングリコールモノメチルエーテルやプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートといったグリコール系の溶媒や乳酸エチル、乳酸ブチルといったエステル系溶媒が安全性、ハンドリング性、カラーフィルタからの顔料成分の溶出防止の観点から広く用いられている。このようなアクリル樹脂は熱硬化や光硬化させることで、耐熱性や耐溶剤性が付与されている（特許文献１，２）。しかし、従来の熱硬化性や光硬化性のアクリル樹脂では適当な透明性や平坦化性を示すものの、このような平坦化膜をラビング処理しても十分な配向性を示すことはできなかった。【０００６】
一方、液晶配向層には溶剤可溶性ポリイミドやポリアミック酸からなる材料が通常用いられている。これらの材料はポストベーク時に完全にイミド化させることで耐溶剤性を付与することができ、ラビング処理により十分な配向性を示すことが報告されている（特許文献３）。しかし、これらの材料をカラーフィルタの平坦化膜としてみた場合、平坦化性と透明性が大きく低下してしまうなどの問題があった。【０００７】
また、平坦化性を向上させるためポリエステル−ポリアミド酸やポリエステル−ポリイミド共重合体が報告されている（特許文献４）。しかし、これらのポリエステル−ポリアミド酸やポリエステル−ポリイミド共重合体もポリイミドやポリアミック酸と同様に、Ｎ−メチルピロリドンやγ−ブチロラクトンといった溶剤に可溶であるが、グリコール系の溶剤やエステル系の溶剤に対する溶解性が低く、ポリイミド膜作製時にカラーフィルタから顔料成分や液晶汚染成分の溶出が起こり、平坦化膜作製ラインへの適用は難しかった。【０００８】
また、ＴＦＴアレイ側の基板と張り合わせる際に用いるシール材との密着強度を向上させるためには接着部分の膜を、フォトリソグラフィー工程を用いて除去できることが望まれている。
さらに、これまでに感光性を有し配向性を示す平坦化膜に関しては報告されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０００−１０３９３７号公報
【特許文献２】特開２０００−１１９４７２号公報
【特許文献３】特開２００５−０３７９２０号公報
【特許文献４】特開２００８−０３３２４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記の事情に基づいてなされたものであり、その解決しようとする課題は、アルカリ現像液でパターン形成が可能であり、硬化膜形成後には高い溶剤耐性、液晶配向性、高透明性並びに高平坦化性を示し、しかも硬化膜形成時においては、カラーフィルタの平坦化膜の作製ラインで適用可能なグリコール系溶剤及び乳酸エステル系溶剤に溶解できるところの材料を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は、上記の課題を解決するべく鋭意研究を行った結果、本発明を見出すに至った。
すなわち、第１観点として、
（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を含有する熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物。
（Ａ）成分：下記式（１）で表される構造単位を含むポリエステルに、グリシジル基及びイソシアナート基から選ばれる官能基を有する化合物を反応させて得られる修飾されたポリエステル
（Ｂ）成分：エポキシ基を２個以上有するエポキシ化合物
（Ｃ）成分：ジアミン化合物とジカルボン酸二無水物を反応させて得られるアミノ基含有カルボン酸化合物
（Ｄ）成分：１，２−キノンジアジド化合物
【化１】
0005626536.tif 000002
（式中、Ａは脂環式骨格又は脂肪族骨格に４つの結合手が結合した４価の有機基を表し、Ｂは脂環式骨格又は脂肪族骨格に２つの結合手が結合した２価の有機基を表す。）【００１２】
第２観点として、前記式（１）で表わされる構造単位を含むポリエステルが、下記式（ｉ）で表わされるテトラカルボン酸二無水物を含むテトラカルボン酸二無水物成分と、下記式（ｉｉ）で表わされるジオール化合物を含むジオール成分とを反応させて得られるポリエステルである、第１観点に記載の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物。
【化２】
0005626536.tif 000003
｛式（ｉ）及び（ｉｉ）中、Ａ及びＢは前記式（１）における定義と同義である。｝【００１３】
第３観点として、前記式（１）中、Ａは下記式（Ａ−１）乃至式（Ａ−８）で表される基から選ばれる少なくとも一種の基を表し、Ｂは下記式（Ｂ−１）乃至式（Ｂ−５）で表される基から選ばれる少なくとも一種の基を表す、第１観点又は第２観点に記載の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物。
【化３】
0005626536.tif 000004
【化４】
0005626536.tif 000005
【００１４】
第４観点として、前記（Ａ）成分の修飾されたポリエステルは、ポリスチレン換算で１，０００乃至３，０００の重量平均分子量を有する、第１観点乃至第３観点のうちいずれか一項に記載の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物。
第５観点として、前記（Ｃ）成分が、ジアミン化合物１モルと、ジカルボン酸二無水物１．７乃至２モルとを反応させて得られるアミノ基含有カルボン酸化合物である、第１観点乃至第４観点のうちいずれか一項に記載の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物。
第６観点として、前記（Ａ）成分の１００質量部に基づいて、３乃至５０質量部の前記（Ｂ）成分、３乃至５０質量部の前記（Ｃ）成分、５乃至８０質量部の前記（Ｄ）成分をそれぞれ含有する、第１観点乃至第５観点のうちいずれか一項に記載の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物。
第７観点として、更に、（Ｅ）成分としてビスマレイミド化合物を含有する、第１観点乃至第５観点のうちいずれか一項に記載の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物。
第８観点として、前記（Ａ）成分の１００質量部に基づいて、０．５乃至５０質量部の第７観点記載の（Ｅ）成分を含有する、第６観点に記載の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物。
第９観点として、第１観点乃至第８観点のうちいずれか一項に記載の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物から形成される硬化膜。
第１０観点として、第１観点乃至第８観点のうちいずれか一項に記載の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物を用いて得られる液晶配向層。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物は、感光性を有し、高い平坦化性、高い透明性、高い溶剤耐性、高い耐熱性に加えて、液晶配向能を有する硬化膜を形成できるため、液晶配向膜や平坦化膜の形成材料として用いることができる。特に、従来独立して形成されていた液晶配向膜とカラーフィルタのオーバーコート層を、両者の特性を兼ね備える「液晶配向層」として一度に形成することが可能となり、製造工程の簡略化及びプロセス数低減による低コスト化等を実現できる。
さらに本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物は、グリコール系溶剤及び乳酸エステル系溶剤に可溶であることから、これら溶剤を主として使用する平坦化膜の作製ラインに好適に使用できる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は、段差基板に熱硬化性ポリエステル組成物を塗布した際に形成された硬化膜を示すモデル図である。
【図２】従来技術による液晶配向層（ａ）と本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物を用いた液晶配向層（ｂ）とを対比して示すモデル図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
上述のように、従来提案されているアクリル樹脂系及びポリイミド樹脂系の硬化膜においては、液晶配向膜や平坦化膜に求められる平坦化性、透明性、配向性などの全ての性能を十分に満足できるものはなかった。
また、これまでにも液晶表示素子の配向材料としてポリエステルの使用の提案（特開平５−１５８０５５号公報、特開２００２−２２９０３９号公報参照）がなされたことはあったが、これらはいずれも熱硬化性を有するものではなく、形成した膜の耐溶剤性は劣るものであった。
【００１８】
そこで、本発明は、熱硬化性であるポリエステルを用いて上述の性能向上を図った点に特徴がある。すなわち、本発明は、（Ａ）成分のポリエステルと、（Ｂ）成分のエポキシ基を２個以上有するエポキシ化合物と、（Ｃ）成分のアミノ基含有カルボン酸化合物と、（Ｄ）成分の１，２−キノンジアジド化合物を含有する熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物である。更に本発明は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分に加えて（Ｅ）成分としてビスマレイミド化合物をも含有することのできる熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物である。
以下、各成分の詳細を説明する。
【００１９】
＜（Ａ）成分＞
（Ａ）成分のポリエステルは、下記式（１）で表される構造単位を含むポリエステル（以下、特定重合体ともいう）に、グリシジル基及びイソシアナート基から選ばれる官能基を有する化合物を反応させて得られる修飾されたポリエステルである。好ましくは下記式（１）で表される構造単位からなるポリエステルに、グリシジル基及びイソシアナート基から選ばれる官能基を有する化合物を反応させて得られる修飾されたポリエステルである。
【化５】
0005626536.tif 000006
（式中、Ａは脂環式骨格又は脂肪族骨格に４つの結合手が結合した４価の有機基を表し、Ｂは脂環式骨格又は脂肪族骨格に２つの結合手が結合した２価の有機基を表す。）
【００２０】
前記Ａは、好ましくは下記式（１Ａｌ）、式（１Ａ２）又は式（１Ａ３）で表される基である。
【化６】
0005626536.tif 000007
｛式（１Ａｌ）、（１Ａ２）、及び（１Ａ３）中、Ａ1は環状飽和炭化水素基を表し、Ｒlは単結合、エーテル結合、カルボニル基、スルホン酸基、炭素原子数１乃至８の飽和炭化水素基又はフッ素原子で置換された炭素原子数１乃至８の飽和炭化水素基を表す。また、Ｒ2は炭素原子数１乃至８の飽和炭化水素基を表す。｝
【００２１】
前記式中、Ａ1は好ましくは炭素原子数４乃至８の環状飽和炭化水素基を表し、より好ましくは炭素原子数４乃至６の環状飽和炭化水素基を表す。また、Ａ1基中に含まれる任意の水素原子はそれぞれ独立に脂肪族基で置換されていてもよく、またそれらのうち２つの置換基が互いに結合して４乃至６員環を形成してもよい。
ここで、該置換基である脂肪族基は、炭素原子数１乃至５の脂肪族基が好ましく、より好ましくは炭素原子数１乃至３の脂肪族基である。これら置換基が結合して環を形成する場合は、例えば、ノルボルネン基やアダマンタン基などの橋掛け環式炭化水素基、一部又は全部が水素化された縮合多環式炭化水素基となる。
また、Ｒlは好ましくは単結合、エーテル結合、カルボニル基、スルホン酸基、炭素原子数１乃至５の飽和炭化水素基又はフッ素原子で置換された炭素原子数１乃至５の飽和炭化水素基を表す。
さらに、Ｒ2は好ましくは炭素原子数１乃至５の飽和炭化水素基を表し、より好ましくは炭素原子数１乃至３の飽和炭化水素基を表す。
【００２２】
上記式（１）における４価の有機基であるＡの好ましい具体例を下記式（Ａ−１）乃至式（Ａ−８）に示す。下記式（Ａ−１）乃至式（Ａ−８）で表される基の中でも、Ａは特に下記式（Ａ−１）又は式（Ａ−２）から選択される基であることが好ましい。
【化７】
0005626536.tif 000008
【００２３】
上記式（１）中、Ｂは脂環式骨格又は脂肪族骨格に２つの結合手が結合した２価の有機基を表し、好ましくは下記式（１Ｂｌ）又は式（１Ｂ２）で表される基である。
【化８】
0005626536.tif 000009
｛式（１Ｂｌ）及び（１Ｂ２）中、Ｂ1は環状飽和炭化水素基を表し、Ｂ2はフェニレン基を表す。また、Ｒ3は単結合、エーテル結合、カルボニル基、スルホン酸基、炭素原子数１乃至８の飽和炭化水素基又はフッ素原子で置換された炭素原子数１乃至８の飽和炭化水素基を表し、Ｒ4、Ｒ5はそれぞれ独立して単結合又は炭素原子数１乃至５のアルキレン基を表し、Ｒ6、Ｒ7はそれぞれ独立して炭素原子数１乃至５のアルキレン基を表す。さらに、ｋは０又は１を表す。｝
【００２４】
前記式中、Ｂ1は好ましくは炭素原子数が４乃至８の環状飽和炭化水素基を表し、より好ましくは炭素原子数が４乃至６の環状飽和炭化水素基を表す。また、Ｂ1基中に含まれる任意の水素原子はそれぞれ独立に脂肪族基で置換されていてもよい。
ここで、該置換基である脂肪族基は、炭素原子数１乃至５の脂肪族基が好ましく、より好ましくは炭素原子数１乃至３の脂肪族基である。これら置換基が結合して環を形成する場合は、例えば、ノルボルネン基やアダマンタン基などの橋掛け環式炭化水素基、一部又は全部が水素化された縮合多環式炭化水素基となる。
Ｒ3は好ましくは、単結合、エーテル結合、カルボニル基、スルホン酸基、炭素原子数１乃至５の飽和炭化水素基又はフッ素原子で置換された炭素原子数１乃至５の飽和炭化水素基を表す。
また、Ｒ4、Ｒ5は好ましくは単結合、炭素原子数１乃至３のアルキレン基を表す。
さらに、Ｒ6、Ｒ7は好ましくは炭素原子数１乃至３のアルキレン基を表す。
【００２５】
上記式（１）における２価の有機基であるＢの好ましい具体例を下記式（Ｂ−１）乃至式（Ｂ−５）に示す。下記式（Ｂ−１）乃至式（Ｂ−５）で表される基の中でも、Ｂは特に下記式（Ｂ−１）乃至式（Ｂ−４）から選択される基であることが好ましい。
【化９】
0005626536.tif 000010
【００２６】
特定重合体は、上記式（１）で表される構造単位中、Ａが上記式（１Ａｌ）乃至式（１Ａ３）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも一種の構造を含むことが好ましいが、上記式（１Ａｌ）乃至式（１Ａ３）で表される基以外の構造を含んでいても良い。その際、ポリエステルの構造を形成するのであればその構造は特に限定されないが、下記式（１Ａ４）及び式（１Ａ５）で表される基から選ばれる少なくとも一種の構造であることが好ましい。
【化１０】
0005626536.tif 000011
｛式（１Ａ４）及び式（１Ａ５）中、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10はそれぞれ独立して単結合、エーテル結合、カルボニル基、スルホン酸基、炭素原子数１乃至８の飽和炭化水素基又はフッ素原子で置換された炭素原子数１乃至８の飽和炭化水素基を表す。またｈは０又は１を表す。｝
【００２７】
前記式中、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10は好ましくは単結合、エーテル結合、カルボニル基、スルホン酸基、炭素原子数１乃至５の飽和炭化水素基又はフッ素原子で置換された炭素原子数１乃至５の飽和炭化水素基を表す。
特に、Ｒ8は単結合、エーテル結合、カルボニル基、スルホン酸基、炭素原子数１乃至５の飽和炭化水素基又はフッ素原子で置換された炭素原子数１乃至５の飽和炭化水素基であることが好ましい。
また、Ｒ9はエーテル結合、炭素原子数１乃至５の飽和炭化水素基又はフッ素原子で置換された炭素原子数１乃至５の飽和炭化水素基であることが好ましい。
そして、Ｒ10はエーテル結合、カルボニル基、スルホン酸基、炭素原子数１乃至５の飽和炭化水素基又はフッ素原子で置換された炭素原子数１乃至５の飽和炭化水素基であることが好ましい。
【００２８】
前記式（１Ａ４）乃至式（１Ａ５）の好ましい具体例を下記式（ａｌ）乃至式（ａ７）に示す。
【化１１】
0005626536.tif 000012
【００２９】
特定重合体において、上記式（１）で表される構造単位のＡが上記式（１Ａｌ）乃至式（１Ａ３）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも一種の構造単位を少なくとも６０モル％以上を含むことが好ましい。
（Ａ）成分である修飾されたポリエステルは、後述するように、特定重合体にグリシジル基及びイソシアナート基から選ばれる官能基を有する化合物を反応させることによって得ることができる。
【００３０】
（Ａ）成分の修飾されたポリエステルの重量平均分子量は、ポリスチレン換算で、好ましくは１，０００乃至３０，０００であり、より好ましくは１，５００乃至１０，０００である。このポリエステルの重量平均分子量が前記範囲より小さい場合、本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物から形成される硬化膜の配向性及び溶剤耐性が低下する傾向にあり、前記範囲を超えると平坦化性が低下する場合がある。
【００３１】
＜特定重合体の製造方法＞
本発明において、特定重合体は、下記式（ｉ）で表されるテトラカルボン酸二無水物を含むテトラカルボン酸二無水物成分（以下、酸成分ともいう）と、下記式（ｉｉ）で表されるジオール化合物（以下、ジオール成分ともいう）とを反応させることで得られる。
【化１２】
0005626536.tif 000013
{式（ｉ）及び（ｉｉ）中、Ａ及びＢは、上記式（１）における定義と同義である。}
【００３２】
また、前記Ａ及びＢについて、好ましい形態は上述したものと同じである。
本発明において、前記式（ｉ）で表されるテトラカルボン酸二無水物、前記式（ｉｉ）で表されるジオール化合物はそれぞれ独立に、単独で用いてもよく或いは２種以上を用いることもできる。
【００３３】
前記特定重合体の製造において、酸成分として前記式（ｉ）で表されるテトラカルボン酸二無水物だけでなく、それ以外のテトラカルボン酸二無水物（以下、他の酸二無水物ともいう）を併用することもできる。その際、他の酸二無水物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、特に限定されるものではない。好ましくは下記式（ｉ２）で表されるテトラカルボン酸二無水物である。
【００３４】
【化１３】
0005626536.tif 000014
{式（ｉ２）中、Ｗは、上記式（１）において定義した上記式（１Ａ４）及び式（１Ａ５）で表される基から選ばれる少なくとも一種の構造を表し、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、及びｈは上記定義と同義である。}
【００３５】
加えて、前記式（１Ａ４）及び式（１Ａ５）の好ましい具体例も上記式（ａｌ）乃至式（ａ７）で示される。
本発明においては、上記式（ｉ）で表されるテトラカルボン酸二無水物が酸成分中の少なくとも６０モル％以上を含むことが好ましい。
【００３６】
前記特定重合体において、テトラカルボン酸二無水物の合計量（酸成分の合計量）とジオール化合物の合計量（ジオール成分の合計量）の配合比、即ち〈ジオール化合物の合計モル数〉／〈テトラカルボン酸二無水物化合物の合計モル数〉は０．９５乃至１．５であることが望ましい。通常の重縮合反応同様、このモル比が１に近いほど生成する特定重合体の重合度は大きくなり、分子量が増加する。
【００３７】
前記特定重合体の末端は、酸成分とジオール成分の配合比に依存し変化する。例えば、酸成分を過剰に反応させた場合、末端は酸無水物となりやすい。
また、ジオール成分を過剰に用いて重合した場合には、末端は水酸基になりやすい。この場合、該末端水酸基にカルボン酸無水物を反応させ、末端水酸基を酸無水物で封止することができる。このようなカルボン酸無水物の例としては、フタル酸無水物、トリメリット酸無水物、無水マレイン酸、ナフタル酸無水物、水素化フタル酸無水物、メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、無水イタコン酸、テトラヒドロフタル酸無水物等を挙げることができる。
その後の付加反応でグリシジル基を有する化合物と反応させる場合は、生成する水酸基と酸無水物が反応しゲル化が起こるため、特定重合体の末端を水酸基にするか末端水酸基を酸無水物で封止する必要がある。
【００３８】
特定重合体の製造において、酸成分とジオール成分との反応温度は５０乃至２００℃、好ましくは８０乃至１７０℃の任意の温度を選択することができる。例えば、反応温度は１００乃至１４０℃であり、反応時間２乃至４８時間で特定重合体を得ることができる。
また末端水酸基を酸無水物で保護する場合の反応温度は５０乃至２００℃、好ましくは８０乃至１７０℃の任意の温度を選択することができる。
【００３９】
前記酸成分と前記ジオール成分との反応は、通常、溶剤中で行なわれる（以下、特定重合体を重合する際に用いる溶剤を「重合溶剤」という）。その際に使用できる溶剤としては、水酸基やアミノ基等、酸無水物と反応する官能基を含有しないものなら特に限定されない。例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ジメチルスルホン、ヘキサメチルスルホキシド、ｍ−クレゾール、γ−ブチロラクトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘプタノン、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル等を挙げることができる。
これらの溶媒は単独でも、混合して使用しても良いが、安全性、カラーフィルタのオーバーコート剤のラインへの適用性の点からプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートがより好ましい。
さらに、特定重合体を溶解しない溶剤であっても、重合反応により生成した特定重合体が析出しない範囲で、前記溶剤に混合して使用してもよい。
【００４０】
また前記酸成分（式（ｉ）及び式（ｉ２））と前記ジオール成分（式（ｉｉ））との反応の際には、触媒を用いることもできる。
特定重合体の重合時に用いる触媒の具体例としては、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリプロピルアンモニウムクロリド、ベンジルトリプロピルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムブロミド、テトラプロピルアンモニウムクロリド、テトラプロピルアンモニウムブロミド等の四級アンモニウム塩、テトラフェニルホスホニウムクロリド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、ベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド、ベンジルトリフェニルホスホニウムブロミド、エチルトリフェニルホスホニウムクロリド、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド等の４級ホスホニウム塩を挙げることができる。
【００４１】
＜（Ａ）成分の製造＞
成分（Ａ）のポリエステルは、特定重合体のカルボキシル基に対し、グリシジル基及びイソシアナート基から選ばれる官能基を有する化合物を、１０乃至９０モル％加えて反応させることで得られる。その際、特定重合体の重合溶液をそのまま用いることが可能である。
さらに、アルコール系の溶剤を共存させると反応中のゲル化を抑制することができるので好ましい。そのようなアルコール系溶媒（以下、反応溶媒ともいう）の具体例を挙げると。プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、メチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、乳酸エチル、乳酸ブチル、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、シクロヘキサノール等が挙げられる。これらの溶剤は、単独で又は２種以上の組合せで使用することができる。
【００４２】
特定重合体のカルボキシル基に付加させるグリシジル基を有する化合物の具体例としては、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、グリシジルフェニルエーテル、グリシジル−２−メチルフェニルエーテル、グリシジルプロピルエーテル、グリシジルイソプロピルエーテル、グリシジルブチルエーテル、グリシジル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、２−ビフェニルグリシジルエーテル、グリシジル−４−メトキシフェニルエーテル等が挙げられる。
【００４３】
また、特定重合体のカルボキシル基に付加させるイソシアナート基を有する化合物の具体例としては、メチルイソシアナート、エチルイソシアナート、プロピルイソシアナート、イソプロピルイソシアナート、ブチルイソシアナート、イソブチルイソシアナート、ｔｅｒｔ−ブチルイソシアナート、フェニルイソシアナート、２−トルイルイソシアナート、３−トルイルイソシアナート、４−トルイルイソシアナート、１−ナフチルイソシアナート、シクロヘキシルイソシアナート、ベンジルイソシアナート、２−イソシアナートエチルメタクリレート、２−メトキシフェニルイソシアナート、３−メトキシフェニルイソシアナート、４−メトキシフェニルイソシアナート、ペンチルイソシアナート、ヘキシルイソシアナート等が挙げられる。
【００４４】
特定重合体のカルボキシル基とそれに反応させるグリシジル基及びイソシアナート基から選ばれる官能基を有する化合物との反応温度は、５０乃至１６０℃、好ましくは８０乃至１４０℃の任意の温度を選択することができる。例えば、反応温度は１００至１３０℃、反応時間２乃至４８時間で本発明に用いる成分（Ａ）のポリエステルを得ることが出来る。
【００４５】
このようにして得られた（Ａ）成分のポリエステルを含む溶液は、本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物の調製にそのまま用いることができる。また、ポリエステルを水、メタノール、エタノール、ジエチルエーテル、ヘキサン等の貧溶剤に沈殿単離させて回収して用いることもできる。
【００４６】
＜（Ｂ）成分＞
本発明の（Ｂ）成分であるエポキシ基を２個以上有するエポキシ化合物としては、例えば、トリス（２，３−エポキシプロピル）イソシアヌレート、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，２−エポキシ−４−（エポキシエチル）シクロヘキサン、グリセロールトリグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、２，６−ジグリシジルフェニルグリシジルエーテル、１，１，３−トリス［ｐ−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル］プロパン、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸ジグリシジルエステル、４，４’−メチレンビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、及びペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル等を挙げることができる。
また、入手が容易である点から市販品の化合物を用いてもよい。以下にその具体例（商品名）を挙げるが、これらに限定されるものではない：ＹＨ−４３４、ＹＨ４３４Ｌ（東都化成（株）製）等のアミノ基を有するエポキシ樹脂；エポリードＧＴ−４０１、同ＧＴ−４０３、同ＧＴ−３０１、同ＧＴ−３０２、セロキサイド２０２１、セロキサイド３０００（ダイセル化学工業（株）製）等のシクロヘキセンオキサイド構造を有するエポキシ樹脂；エピコート１００１、同１００２、同１００３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１０、同８２８（油化シェルエポキシ（株）（現ジャパンエポキシレジン（株））製）等のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；エピコート８０７（油化シェルエポキシ（株）（現ジャパンエポキシレジン（株））製）等のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂；エピコート１５２、同１５４（油化シェルエポキシ（株）（現ジャパンエポキシレジン（株））製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（日本化薬（株）製）等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂；ＥＯＣＮ−１０２、ＥＯＣＮ−１０３Ｓ、ＥＯＣＮ−１０４Ｓ、ＥＯＣＮ−１０２０、ＥＯＣＮ−１０２５、ＥＯＣＮ−１０２７（日本化薬（株）製）、エピコート１８０Ｓ７５（油化シェルエポキシ（株）（現ジャパンエポキシレジン（株））製）等のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂；デナコールＥＸ−２５２（ナガセケムテックス（株）製）、ＣＹ１７５、ＣＹ１７７、ＣＹ１７９、アラルダイトＣＹ−１８２、同ＣＹ−１９２、同ＣＹ−１８４（ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ  Ａ．Ｇ製）、エピクロン２００、同４００（大日本インキ化学工業（株）製）、エピコート８７１、同８７２（油化シェルエポキシ（株）（現ジャパンエポキシレジン（株））製）、ＥＤ−５６６１、ＥＤ−５６６２（セラニーズコーティング（株）製）等の脂環式エポキシ樹脂；デナコールＥＸ−６１１、同ＥＸ−６１２、同ＥＸ−６１４、同ＥＸ−６２２、同ＥＸ−４１１、同ＥＸ−５１２、同ＥＸ−５２２、同ＥＸ−４２１、同ＥＸ−３１３、同ＥＸ−３１４、同ＥＸ−３２１（ナガセケムテックス（株）製）等の脂肪族ポリグリシジルエーテル等。
【００４７】
また、少なくとも二つのエポキシ基を有する化合物としてはエポキシ基を有するポリマーを使用することができる。そのようなポリマーとしては、エポキシ基を有するものであれば特に制限なく使用することができる。
前記エポキシ基を有するポリマーは、例えばエポキシ基を有する付加重合性モノマーを用いた付加重合により製造することができる。一例として、ポリグリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートとエチルメタクリレートの共重合体、グリシジルメタクリレートとスチレンと２−ヒドロキシエチルメタクリレートの共重合体等の付加重合ポリマーや、エポキシノボラック等の縮重合ポリマーを挙げることができる。
或いは、前記エポキシ基を有するポリマーは、水酸基を有する高分子化合物とエピクロルヒドリン、グリシジルトシレート等のエポキシ基を有する化合物との反応により製造することもできる
このようなポリマーの重量平均分子量としては、ポリスチレン換算で、例えば、３００乃至２００，０００である。
【００４８】
これらのエポキシ基を２個以上有するエポキシ化合物は、単独で又は２種以上の組合せで使用することができる。
【００４９】
本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物における（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分のポリエステル１００質量部に基づいて３乃至５０質量部であることが好ましく、より好ましくは５乃至４０質量部であり、特に好ましくは１０乃至３０質量部である。この割合が過小である場合には、熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物から形成される硬化膜の溶剤耐性や耐熱性が低下し、他方、過大である場合には溶剤耐性が低下したり保存安定性が低下することがある。
【００５０】
＜（Ｃ）成分＞
（Ｃ）成分は、ジアミン化合物とジカルボン酸二無水物を反応させて得られるアミノ基含有カルボン酸化合物である。詳細には、下記式（ｉｉｉ）で表されるジアミン化合物１モルと下記式（ｉｖ）で表されるジカルボン酸二無水物１．７乃至２モル、好ましくは１．８乃至２モルとを反応させて得られるアミノ基含有カルボン酸化合物である。
【化１４】
0005626536.tif 000015
{式（ｉｉｉ）及び式（ｉｖ）中、Ｐ及びＱはそれぞれ独立して２価の有機基を表す。}
【００５１】
従って、前記式（ｉｉｉ）で表されるジアミン化合物と前記式（ｉｖ）で表されるジカルボン酸を反応させることにより、下記式（２）で表される化合物が得られる。
【化１５】
0005626536.tif 000016
{式中、Ｐ及びＱは前記式（ｉｉｉ）及び式（ｉｖ）における定義と同義である。}
【００５２】
本発明において、ジアミン化合物及びジカルボン酸二無水物は、それぞれ一種類のみの使用でも良いし、複数種を用いても良い。従って本発明の（Ｃ）成分のアミノ基含有カルボン酸化合物としては、前記式（２）で表される化合物を一種のみならず、複数種を用いることができる。
前記Ｐ及びＱは、中でもそれぞれ独立に環構造を有する２価の有機基であることが好ましい。ここで環構造としては、ベンゼン環、脂環、縮合多環式炭化水素が挙げられる。
【００５３】
前記式（ｉｉｉ）中、Ｐが有する環構造としては、ベンゼン環、炭素原子数４乃至８の脂環、炭素原子数７乃至１６の縮合多環式炭化水素が好ましい。
従って、そのような環構造を有するジアミン化合物の具体例としては以下のものが挙げられる：ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、２，５−ジアミノトルエン、２，６−ジアミノトルエン、２，４−ジメチル−１，３−ジアミノベンゼン、２，５−ジメチル−１，４−ジアミノベンゼン、２，３，５，６−テトラメチル−１，４−ジアミノベンゼン、２，４−ジアミノフェノール、２，５−ジアミノフェノール、４，６−ジアミノレゾルシノール、２，５−ジアミノ安息香酸、３，５−ジアミノ安息香酸、Ｎ，Ｎ−ジアリル−２，４−ジアミノアニリン、Ｎ，Ｎ−ジアリル−２，５−ジアミノアニリン、４−アミノベンジルアミン、３−アミノベンジルアミン、２−（４−アミノフェニル）エチルアミン、２−（３−アミノフェニル）エチルアミン、１，５−ナフタレンジアミン、２，７−ナフタレンジアミン、４，４’−ジアミノビフェニル、３，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジヒドロキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジカルボキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジフルオロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’−トリフルオロメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−トリフルオロメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルアミン、３，３’−ジアミノジフェニルアミン、３，４’−ジアミノジフェニルアミン、Ｎ−メチル（４，４’−ジアミノジフェニル）アミン、Ｎ−メチル（３，３’−ジアミノジフェニル）アミン、Ｎ−メチル（３，４’−ジアミノジフェニル）アミン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、３，３’−ジアミノベンゾフェノン、３，４’−ジアミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンズアニリド、１，２−ビス（４−アミノフェニル）エタン、１，２−ビス（３−アミノフェニル）エタン、４，４’−ジアミノトラン、１，３−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、１，３−ビス（３−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−アミノ−４−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−アミノ−４−メチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）プロパン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ブタン、１，５−ビス（４−アミノフェノキシ）ペンタン、１，６−ビス（４−アミノフェノキシ）へキサン、１，７−ビス（４−アミノフェノキシ）ヘプタン、１，８−ビス（４−アミノフェノキシ）オクタン、１，９−ビス（４−アミノフェノキシ）ノナン、１，１０−ビス（４−アミノフェノキシ）デカン、１，１１−ビス（４−アミノフェノキシ）ウンデカン、１，１２−ビス（４−アミノフェノキシ）ドデカン、ビス（４−アミノフェニル）プロパンジオアート、ビス（４−アミノフェニル）ブタンジオアート、ビス（４−アミノフェニル）ペンタンジオアート、ビス（４−アミノフェニル）ヘキサンジオアート、ビス（４−アミノフェニル）ヘプタンジオアート、ビス（４−アミノフェニル）オクタンジオアート、ビス（４−アミノフェニル）ノナンジオアート、ビス（４−アミノフェニル）デカンジオアート、１，４−ビス（４−アミノフェニル）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェニル）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノベンジル）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノベンジル）ベンゼン、ビス（４−アミノフェニル）テレフタラート、ビス（３−アミノフェニル）テレフタラート、ビス（４−アミノフェニル）イソフタラート、ビス（３−アミノフェニル）イソフタラート、１，４−フェニレンビス［（４−アミノフェニル）メタノン］、１，４−フェニレンビス［（３−アミノフェニル）メタノン］、１，３−フェニレンビス［（４−アミノフェニル）メタノン］、１，３−フェニレンビス［（３−アミノフェニル）メタノン］、１，４−フェニレンビス（４−アミノベンゾアート）、１，４−フェニレンビス（３−アミノベンゾアート）、１，３−フェニレンビス（４−アミノベンゾアート）、１，３−フェニレンビス（３−アミノベンゾアート）、Ｎ，Ｎ’−（１，４−フェニレン）ビス（４−アミノベンズアミド）、Ｎ，Ｎ’−（１，３−フェニレン）ビス（４−アミノベンズアミド）、Ｎ，Ｎ’−（１，４−フェニレン）ビス（３−アミノベンズアミド）、Ｎ，Ｎ’−（１，３−フェニレン）ビス（３−アミノベンズアミド）、ビス（４−アミノフェニル）テレフタルアミド、ビス（３−アミノフェニル）テレフタルアミド、ビス（４−アミノフェニル）イソフタルアミド、ビス（３−アミノフェニル）イソフタルアミド、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ジフェニルスルホン、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノ−１，３，５−トリアジン、２，６−ジアミノジベンゾフラン、２，７−ジアミノジベンゾフラン、３，６−ジアミノジベンゾフラン、２，６−ジアミノカルバゾール、２，７−ジアミノカルバゾール、３，６−ジアミノカルバゾール、２，４−ジアミノ−６−イソプロピル−１，３，５−トリアジン、２，５−ビス（４−アミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、１，４−ジアミノシクロヘキサン、１，３−ジアミノシクロヘキサン、ビス（４−アミノシクロヘキシル）メタン、ビス（４−アミノ−３−メチルシクロヘキシル）メタン等が挙げられる。
【００５４】
また、前記式（ｉｖ）中、Ｑが有する環構造としては、ベンゼン環、炭素原子数４乃至８の脂環、炭素原子数７乃至１６の縮合多環式炭化水素が好ましい。より好ましいＱとしては、ベンゼン環、炭素原子数４乃至８の脂環、炭素原子数７乃至１６の縮合多環式炭化水素である。
このような環構造を有するジカルボン酸二無水物の具体例としては、フタル酸無水物、トリメリット酸無水物、無水マレイン酸、ナフタル酸無水物、水素化フタル酸無水物、メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、無水イタコン酸、テトラヒドロフタル酸無水物等を挙げることができる。
【００５５】
上記（Ｃ）成分の化合物の製造において、ジアミン化合物とジカルボン酸二無水物との反応温度は、５乃至８０℃、好ましくは１０乃至５０℃の任意の温度を選択することができる。
【００５６】
前記反応は、通常、溶剤中で行なわれる。その際に使用できる溶剤としては、水酸基やアミノ基等、酸無水物と反応する官能基を含有しないものなら特に限定されない。例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタム、ジメチルイミダゾール、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ジメチルスルホン、ヘキサメチルスルホキシド、ｍ−クレゾール、γ−ブチロラクトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘプタノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、シクロヘキサノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル等を挙げることができる。
これらの溶媒は単独でも、混合して使用しても良いが、溶解性の点からプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルイミダゾールが好ましい。
さらに、アミノ基含有カルボン酸化合物を溶解しない溶剤であっても、重合反応により生成した該化合物が析出しない範囲で、前記溶剤に混合して使用してもよい。
【００５７】
本発明の熱硬化膜形成用ポリエステル組成物における（Ｃ）成分の含有量は、（Ａ）成分のポリエステル１００質量部に基づいて３乃至５０質量部であることが好ましく、より好ましくは５乃至４０質量部である。この割合が過小である場合には、本発明の熱硬化膜形成用ポリエステル組成物から形成される硬化膜の配向性が低下し、他方、過大である場合には透過率が低下したり平坦化性が低下することがある。
【００５８】
＜（Ｄ）成分＞
（Ｄ）成分である１，２−キノンジアジド化合物としては、水酸基又はアミノ基のいずれか一方か、水酸基及びアミノ基の両方を有する化合物であって、これらの水酸基又はアミノ基（水酸基とアミノ基の両方を有する場合は、それらの合計量）のうち、好ましくは１０乃至１００モル％、特に好ましくは２０乃至９５モル％が１，２−キノンジアジドスルホン酸でエステル化、またはアミド化された化合物を用いることができる。
【００５９】
前記水酸基を有する化合物としては、例えば、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ハイドロキノン、レゾルシノール、カテコール、ガリック酸メチル、ガリック酸エチル、１，３，３−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、４，４−イソプロピリデンジフェノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４’−ジヒドロキシフェニルスルホン、４，４−ヘキサフルオロイソプロピリデンジフェノール、４，４’，４’’―トリスヒドロキシフェニルエタン、１，１，１−トリスヒドロキシフェニルエタン、４，４’−［１−［４−［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，３，４，４’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，５−ビス（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）メチルなどのフェノール化合物、エタノール、２−プロパノール、４−ブタノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メトキシエタノール、２−ブトキシエタノール、２−メトキシプロパノール、２−ブトキシプロパノール、乳酸エチル、乳酸ブチルなどの脂肪族アルコール類を挙げることができる。
【００６０】
また、前記アミノ基を含有する化合物としては、例えば、アニリン、ｏ−トルイジン、ｍ−トルイジン、ｐ−トルイジン、４−アミノジフェニルメタン、４−アミノジフェニル、ｏ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、などのアニリン類、アミノシクロヘキサンを挙げることができる。
【００６１】
さらに、前記水酸基及びアミノ基両方を含有する化合物としては、例えば、ｏ−アミノフェノール、ｍ−アミノフェノール、ｐ−アミノフェノール、４−アミノレゾルシノール、２，３−ジアミノフェノール、２，４−ジアミノフェノール、４，４’−ジアミノ−４’’−ヒドロキシトリフェニルメタン、４−アミノ−４’，４’’−ジヒドロキシトリフェニルメタン、ビス（４−アミノ−３−カルボキシ−５−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−アミノ−３−カルボキシ−５−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（４−アミノ−３−カルボキシ−５−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノ−３−カルボキシ−５−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンなどのアミノフェノール類、２−アミノエタノール、３−アミノプロパノール、４−アミノシクロヘキサノールなどのアルカノールアミン類を挙げることができる。
【００６２】
これらの１，２−キノンジアジド化合物は単独で又は２種以上の組合わせで使用することができる。
【００６３】
本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物における（Ｄ）成分の含有量は、（Ａ）成分の１００質量部に対して、好ましくは５乃至８０質量部、より好ましくは８乃至６０質量部、特に好ましくは１０乃至５０質量部である。この割合が過小である場合には、現像液への溶解速度差が小さくなり、現像によるパターニングが困難である場合がある。また、１００質量部を超えると、短時間での露光で１，２−キノンジアジド化合物が十分に分解されないため感度が低下する場合や、（Ｄ）成分が光を吸収してしまい硬化膜の透明性を低下させてしまう場合がある。
【００６４】
＜（Ｅ）成分＞
本発明においては（Ｅ）成分として下記の式（３）で表されるビスマレイミド化合物を含有しても良い。
（Ｅ）成分であるビスマレイミド化合物は、平坦化性を向上させることができる。
【化１６】
0005626536.tif 000017
（式中、Ｍ1は、脂肪族基、環式構造を含む脂肪族基及び芳香族基からなる群から選ばれる有機基又はそれらの群から選ばれる複数の有機基の組合せからなる有機基を表す。そして、Ｍ1には、エステル結合、エーテル結合、アミド結合、ウレタン結合等の結合を含んでいても良い。）
【００６５】
そのようなビスマレイミド化合物としては、例えば、Ｎ，Ｎ’−３，３−ジフェニルメタンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−（３，３−ジエチル−５，５−ジメチル）−４，４−ジフェニル−メタンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−４，４−ジフェニルメタンビスマレイミド、３，３−ジフェニルスルホンビスマレイミド、４，４−ジフェニルスルホンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−ｐ−ベンゾフェノンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルエタンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルエーテルビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−（メチレンジ−ジテトラヒドロフェニル）ビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−（３−エチル）−４，４−ジフェニルメタンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−（３，３−ジメチル）−４，４−ジフェニルメタンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−（３，３−ジエチル）−４，４−ジフェニルメタンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−（３，３−ジクロロ）−４，４−ジフェニルメタンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−イソホロンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−トリジンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルプロパンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−ナフタレンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−ｍ−フェニレンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−５−メトキシ−１，３−フェニレンビスマレイミド、２，２−ビス（４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（３−クロロ−４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（３−エチル−４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（３−プロピル−４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソプロピル−４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブチル−４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メトキシ−４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル）プロパン、１，１−ビス（４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル）エタン、１，１−ビス（３−メチル−４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル）エタン、１，１−ビス（３−クロロ−４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル）エタン、１，１−ビス（３−ブロモ−４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル）エタン、３，３−ビス（４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル）ペンタン、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ビス（４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル）プロパン、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル）プロパン、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル）プロパン、Ｎ，Ｎ’−エチレンジマレイミド、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−ドデカメチレンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシレンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−ｐ−キシレンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−１，３−ビスメチレンシクロヘキサンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−２，４−トリレンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−２，６−トリレンビスマレイミド、等が挙げられる。これらのビスマレイミド化合物は特に上記のものに限定されるものではない。
これらは、単独で又は２種以上の成分を併用することが可能である。
【００６６】
これらのビスマレイミドのうち、２，２−ビス（４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル）プロパン、Ｎ，Ｎ’−４，４−ジフェニルメタンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’−（３，３−ジエチル−５，５−ジメチル）−４，４−ジフェニル−メタンビスマレイミド等の芳香族ビスマレイミドが好ましい。
【００６７】
また、これらの芳香族ビスマレイミドのうち、より高い平坦化性を得るためには分子量１，０００以下のものが好ましい。
【００６８】
本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物における（Ｅ）成分の含有量は、（Ａ）成分のポリエステル１００質量部に対して、０．５乃至５０質量部であることが好ましく、より好ましくは１乃至３０質量部であり、特に好ましくは２乃至２０質量部である。この割合が過小である場合には、本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物から形成される硬化膜の平坦化性が低下し、過大である場合には硬化膜の透過率が低下したり塗膜が荒れたりすることがある。
【００６９】
＜溶剤＞
本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物は、溶剤に溶解した溶液状態で用いられることが多い。その際に用いられる溶剤は、（Ａ）成分乃至（Ｄ）成分、必要に応じて（Ｅ）成分、及び／又は、後述するその他添加剤を溶解するものであり、斯様な溶解能を有する溶剤であれば、その種類及び構造などは特に限定されるものでない。
【００７０】
斯様な溶剤としては、特定重合体の重合に用いた溶剤（重合溶剤）や上述の反応溶剤が挙げられ、加えて、酢酸エチル、酢酸ブチル等が挙げられる。これらの溶剤は、単独で又は二種以上の組合せで使用することができる。
【００７１】
＜その他添加剤＞
更に、本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、界面活性剤、レオロジー調整剤、シランカップリング剤等の接着補助剤、顔料、染料、保存安定剤、消泡剤、多価フェノールや多価カルボン酸等の溶解促進剤等を含有することができる。
【００７２】
＜熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物＞
本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物は、（Ａ）成分のポリエステル、（Ｂ）成分のエポキシ基を２個以上有するエポキシ化合物、（Ｃ）成分のアミノ基含有カルボン酸化合物、（Ｄ）成分の１，２−キノンジアジド化合物を含有し、所望により（Ｅ）成分のビスマレイミド化合物、更にその他添加剤のうち一種以上を含有することができる組成物である。そして、通常は、それらが溶剤に溶解した溶液として用いられることが多い。
【００７３】
中でも、本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物の好ましい例は、以下のとおりである。
［１］：（Ａ）成分１００質量部に基づいて、３乃至５０質量部の（Ｂ）成分、３乃至５０質量部の（Ｃ）成分、５乃至８０質量部の（Ｄ）成分を含有する熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物。
［２］：（Ａ）成分１００質量部に基づいて、３乃至５０質量部の（Ｂ）成分、３乃至５０質量部の（Ｃ）成分、５乃至８０質量部の（Ｄ）成分、溶剤を含有する熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物。
［３］：（Ａ）成分１００質量部に基づいて、３乃至５０質量部の（Ｂ）成分、３乃至５０質量部の（Ｃ）成分、５乃至８０質量部の（Ｄ）成分、０．５乃至５０質量部の（Ｅ）成分を含有する熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物。
［４］：（Ａ）成分１００質量部に基づいて、３乃至５０質量部の（Ｂ）成分、３乃至５０質量部の（Ｃ）成分、５乃至８０質量部の（Ｄ）成分、０．５乃至５０質量部の（Ｅ）成分、溶剤を含有する熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物。
【００７４】
本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物を溶液として用いる場合の配合割合、調製方法等を以下に詳述する。
本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物における固形分の割合は、各成分が均一に溶剤に溶解している限り、特に限定されるものではないが、１乃至８０質量％であり、好ましくは５乃至６０質量％であり、より好ましくは１０乃至５０質量％である。ここで、固形分とは、熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物の全成分から溶剤を除いたものをいう。
【００７５】
本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物の調製方法は、特に限定されないが、その調製方法としては、例えば、（Ａ）成分を溶剤に溶解し、この溶液に（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分、さらには（Ｅ）成分を所定の割合で混合し、均一な溶液とする方法、或いは、この調製方法の適当な段階において、必要に応じてその他添加剤を更に添加して混合する方法が挙げられる。
【００７６】
本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物の調製にあたっては、溶剤中における重合反応によって得られるポリエステルの溶液をそのまま使用することができる。この場合、この（Ａ）成分の溶液に前述と同様に（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分、（Ｅ）成分などを入れて均一な溶液とする際に、濃度調整を目的としてさらに溶剤を追加投入してもよい。このとき、ポリエステルの生成過程で用いられる溶剤と、熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物の調製時に濃度調整のために用いられる溶剤とは同一であってもよいし、異なってもよい。
【００７７】
而して、調製された熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物の溶液は、孔径が０．２μｍ程度のフィルタなどを用いて濾過した後、使用することが好ましい。
【００７８】
＜塗膜、硬化膜及び液晶配向層＞
本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物を基板（例えば、シリコン／二酸化シリコン被覆基板、シリコンナイトライド基板、金属、例えば、アルミニウム、モリブデン、クロムなどが被覆された基板、ガラス基板、石英基板、ＩＴＯ基板等）やフィルム（例えば、トリアセチルセルロースフィルム、ポリエステルフィルム、アクリルフィルム等の樹脂フィルム）等の上に、回転塗布、流し塗布、ロール塗布、スリット塗布、スリットに続いた回転塗布、インクジェット塗布、印刷などによって塗布し、その後、ホットプレート又はオーブン等で予備乾燥（プリベーク）することにより、塗膜を形成することができる。その後、この塗膜を加熱処理することにより、被膜が形成される。
【００７９】
この加熱処理の条件としては、例えば、温度７０乃至１６０℃、時間０．３乃至６０分間の範囲の中から適宜選択された加熱温度及び加熱時間が採用される。加熱温度及び加熱時間は、好ましくは８０乃至１４０℃、０．５乃至１０分間である。
【００８０】
また、熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物から形成される被膜の膜厚は、例えば０．１乃至３０μｍであり、使用する基板の段差や光学的、電気的性質を考慮し適宜選択することができる。
【００８１】
ポストベークとしては、一般に、温度１４０乃至２５０℃の範囲の中から選択された加熱温度にて、ホットプレートを用いる場合には５乃至３０分間、オーブンを用いる場合には３０乃９０分間処理するという方法が採られる。
【００８２】
上記のような条件のもとで、本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物を硬化させることにより、基板の段差を充分に平坦化でき、高透明性を有する硬化膜を形成することができる。
【００８３】
このようにして形成した硬化膜はラビング処理を行うことで液晶材配向層、即ち、液晶性を有する化合物を配向させる層として機能させることができる。
ラビング処理の条件としては、一般に回転速度３００乃至１０００ｒｐｍ、送り速度３乃至２００ｍｍ／秒、押し込み量０．１乃至１ｍｍという条件が用いられる。
その後、純水等を用いて超音波洗浄によりラビングにより生じた残渣が除去される。
【００８４】
このようにして形成された液晶配向層上に、位相差材料を塗布した後、位相差材料を液晶状態として光硬化させ、光学異方性を有する層を形成することができる。
位相差材料としては、例えば、重合性基を有する液晶モノマーやそれを含有する組成物等が用いられる。
【００８５】
そして、液晶配向層を形成する基材がフィルムである場合は、光学異方性フィルムとして有用である。
【００８６】
また、上記のようにして形成された液晶配向層を有する２枚の基板を、スペーサーを介して液晶配向層が向かい合うように張り合わせた後、それらの基板の間に、液晶を注入して、液晶が配向した液晶表示素子とすることができる。
【００８７】
そのため、本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物は、各種光学異方性フィルム、液晶表示素子に好適に用いることができる。
【００８８】
また、本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物は少なくとも必要な水準の平坦化性を有するため、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）型液晶表示素子、有機ＥＬ素子等の各種ディスプレイにおける保護膜、平坦化膜、絶縁膜等の硬化膜を形成する材料としても有用であり、特に、カラーフィルタのオーバーコート材、ＴＦＴ型液晶素子の層間絶縁膜、有機ＥＬ素子の絶縁膜等を形成する材料としても好適である。
【実施例】
【００８９】
以下、実施例を挙げて、本発明を更に詳しく説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものでない。【００９０】
［実施例で用いる略記号］
以下の実施例で用いる略記号の意味は、次のとおりである。
＜ポリエステル原料＞
ＢＰＤＡ：ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
ＨＢＰＤＡ：３，３’−４，４’−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物
ＨＢＰＡ：水素化ビスフェノールＡ
ＴＨＰＡ：１，２，５，６−テトラヒドロフタル酸無水物
ＢＴＥＡＣ：ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド
ＴＰＰＢ：テトラフェニルホスホニウムブロミド
ＧＭＡ：グリシジルメタクリレート
ＧＭＥ：グリシジルメチルエーテル
ＤＴＢＣ：ジ―ｔｅｒｔ―ブチルクレゾール
＜ポリイミド前駆体及びアミノ基含有カルボン酸化合物原料＞
ＣＢＤＡ：シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物
ＤＡ−４Ｐ：１，３−ビス（４−アミノフェニル）ベンゼン
ＤＡ−１Ｍ：４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ジフェニルスルホン
ＴＡ：トリメリット酸無水物
ＤＤＳ：４，４’−ジアミノジフェニルスルホン
ｐＤＡ：ｐ−フェニレンジアミン
＜アクリル共重合体原料＞
ＭＡＡ：メタクリル酸
ＭＭＡ：メチルメタクリレート
ＨＥＭＡ：２−ヒドロキシエチルメタクリレート
ＣＨＭＩ：Ｎ−シクロヘキシルマレイミド
ＡＩＢＮ：アゾビスイソブチロニトリル
＜エポキシ化合物＞
ＣＥＬ：ダイセル化学工業(株)製  セロキサイドＰ−２０２１（製品名）（化合物名：３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３'，４'−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート）
＜ビスマレイミド化合物＞
ＢＭＩ１：Ｎ，Ｎ’−（３，３−ジエチル−５，５−ジメチル）−４，４−ジフェニル−メタンビスマレイミド
＜１，２−キノンジアジド化合物＞
ＱＤ１：１，３，３−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン  １ｍｏｌと１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロリド  ２ｍｏｌとの縮合反応によって合成される化合物。
ＱＤ２：α、α、α’−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１−エチル−４−イソプロピルベンゼン  １ｍｏｌと１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロリド  ２ｍｏｌとの縮合反応によって合成される化合物。
＜溶剤＞
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
ＰＧＭＥ：プロプレングリコールモノメチルエーテル
ＤＭＡｃ：Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド
ＮＭＰ：Ｎ−メチル−２−ピロリドン【００９１】
以下の合成例に従い得られるポリエステル、ポリイミド前駆体及びアクリル共重合体の数平均分子量及び重量平均分子量は、日本分光（株）製ＧＰＣ装置（Ｓｈｏｄｅｘ（登録商標）カラムＫＦ８０３ＬおよびＫＦ８０４Ｌ）を用い、溶出溶媒テトラヒドロフランを流量１ｍｌ／分でカラム中に（カラム温度４０℃）流して溶離させるという条件で測定した。なお、下記の数平均分子量（以下、Ｍｎと称す。）及び重量平均分子量（以下、Ｍｗと称す。）は、ポリスチレン換算値にて表した。【００９２】
＜合成例１＞
ＨＢＰＤＡ  ４０．０ｇ、ＢＰＤＡ  ８．２３ｇ、ＨＢＰＡ  ４９．３ｇ、ＴＨＰＡ  ５．９６ｇ、ＢＴＥＡＣ  ０．１８ｇ、ＴＰＰＢ  ０．３３ｇをＰＧＭＥＡ  ２４１．９６ｇ中にて１２０℃で１７時間反応させることにより、特定重合体の溶液（固形分濃度：３０．０質量％）を得た（Ｐ１）。得られた特定重合体のＭｎは１，５００、Ｍｗは３，４３０であった。【００９３】
＜合成例２＞
合成例１で得られた特定重合体の溶液（Ｐ１）  ２５２．００ｇにＧＭＡ  １８．４２ｇ、ＤＴＢＣ  ０．０５７ｇ、ＰＧＭＥ  ４２．９９ｇを加え１１０℃で９時間反応させることにより、ポリエステル溶液（固形分濃度：３０．０質量％）を得た（Ｐ２）。得られたポリエステルのＭｎは１，２６０、Ｍｗは６，８８０であった。【００９４】
＜合成例３＞
合成例１で得られた特定重合体の溶液（Ｐ１）  ２５２．００ｇにＧＭＥ  １１．１６ｇ、ＰＧＭＥ  ２６．０５ｇを加え１１０℃で９時間反応させることにより、ポリエステル溶液（固形分濃度：３０．０質量％）を得た（Ｐ３）。得られたポリエステルのＭｎは１，４５０、Ｍｗは５，３４０であった。【００９５】
＜合成例４＞
ＤＡ−１Ｍ  １５．１４ｇ、ＴＨＰＡ  １０．６４ｇをＰＧＭＥ  ６０．１５ｇ中にて２３℃で２４時間反応させることにより、アミノ基含有カルボン酸化合物溶液（固形分濃度３０．０質量％）を得た（Ａ１）。得られたアミノ基含有カルボン酸化合物は高速液体クロマトグラフィーを用いてＴＨＰＡが残存していないことを確認した。【００９６】
＜合成例５＞
ＤＡ−４Ｐ  １０．２３ｇ、ＴＨＰＡ  １０．６４ｇをＰＧＭＥ  ４８．７１ｇ中にて２３℃で２４時間反応させることにより、アミノ基含有カルボン酸化合物溶液（固形分濃度３０．０質量％）を得た（Ａ２）。得られたアミノ基含有カルボン酸化合物は高速液体クロマトグラフィーを用いてＴＨＰＡが残存していないことを確認した。【００９７】
＜合成例６＞
ＢＰＤＡ  ４０．０ｇ、ＨＢＰＡ  ３５．３ｇ、ＴＨＰＡ  ３．３１ｇ、ＢＴＥＡＣ  ０．７７ｇをＰＧＭＥＡ  １７５．７ｇ中にて１２０℃で１９時間反応させることにより、特定重合体の溶液（固形分濃度：３０．０質量％）を得た。得られた特定重合体のＭｎは１，１００、Ｍｗは２，５８０であった。この特定重合体の溶液  ２５２．００ｇにＧＭＡ  １８．４２ｇ、ＤＴＢＣ  ０．０５７ｇ、ＰＧＭＥ  ４２．９９ｇを加え１１０℃で９時間反応させることにより、ポリエステル溶液（固形分濃度：３０．０質量％）を得た（Ｐ４）。得られたポリエステルのＭｎは１，５８０、Ｍｗは７，５４０であった。【００９８】
＜合成例７＞
ＣＢＤＡ  １７．７ｇ、ｐＤＡ１０．２ｇをＮＭＰ  ６６．４ｇ中にて２３℃で２４時間反応させることにより、ポリイミド前駆体溶液（固形分濃度：３０．０質量％）を得た（Ｐ５）。得られたポリイミド前駆体のＭｎは５，８００、Ｍｗは１２，５００であった。【００９９】
＜合成例８＞
モノマー成分として、ＭＡＡ  １０．９ｇ、ＣＨＭＩ  ３５．３ｇ、ＨＥＭＡ  ２５．５ｇ、ＭＭＡ  ２８．３ｇを使用し、ラジカル重合開始剤としてＡＩＢＮ  ５ｇを使用し、これらを溶剤ＰＧＭＥＡ  １５０ｇ中において温度６０℃乃至１００℃で重合反応させることにより、アクリル共重合体溶液（固形分濃度：４０．０質量％）を得た（Ｐ６）。得られたアクリル共重合体の溶液のＭｎは３，８００、Ｍｗは６，７００であった。【０１００】
＜実施例１乃至５及び比較例１乃至５＞
表１に示す組成にて実施例１乃至５及び比較例１乃至５の各組成物を調製し、該組成物から得られる硬化膜について、平坦化性、溶剤耐性、配向性、耐熱性、パターン形成性、並びに透過率の評価を行った。【０１０１】
【表１】
0005626536.tif 000018
【０１０２】
［平坦化性の評価］
実施例１乃至実施例５並びに比較例１乃至比較例５の各組成物を高さ０．５μｍ、ライン幅１０μｍ、ライン間スペース５０μｍの段差基板（ガラス製）上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度１１０℃で１２０秒間ホットプレート上においてプリベークを行い、膜厚２．８μｍの塗膜を形成した。膜厚はＦＩＬＭＥＴＲＩＣＳ社製  Ｆ２０を用いて測定した。この塗膜を温度２３０℃で３０分間加熱することによりポストベークを行い、膜厚２．５μｍの硬化膜を形成した。
段差基板ライン上の塗膜とスペース上の塗膜の膜厚差を測定し（図１参照）、平坦化率（ＤＯＰ）＝１００×〔１−｛塗膜の膜厚差（μｍ）／段差基板の高さ（０．５μｍ）｝〕の式を用いて平坦化率を求めた。【０１０３】
［パターン形成性の評価］
実施例１乃至実施例５並びに比較例１乃至比較例５の各組成物をガラス基板上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度１１０℃で１２０秒間ホットプレート上においてプリベークを行い、膜厚２．８μｍの塗膜を形成した。膜厚はＦＩＬＭＥＴＲＩＣＳ社製  Ｆ２０を用いて測定した。この塗膜に１０μｍのライン＆スペースパターンを有するマスクを介し、キヤノン（株）製紫外線照射装置ＰＬＡ−６００ＦＡにより３６５ｎｍにおける光強度が５．５ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ2照射した。その後０．２質量％の水酸化テトラメチルアンモニウム（以下、ＴＭＡＨと称す）水溶液に６０秒間浸漬することで現像を行った後、超純水で２０秒間流水洗浄を行った。得られたライン＆スペースパターンを光学顕微鏡で観察し、マスク設計どおりのパターンが得られているものを○、パターンが解像されていないものや現像時に溶解したものを×とした。【０１０４】
［溶剤耐性の評価］
実施例１乃至実施例５並びに比較例１乃至比較例５の各組成物をシリコンウェハにスピンコーターを用いて塗布した後、温度１００℃で１２０秒間ホットプレート上においてプリベークを行い、膜厚２．８μｍの塗膜を形成した。膜厚はＦＩＬＭＥＴＲＩＣＳ社製  Ｆ２０を用いて測定した。この塗膜を温度２３０℃で３０分間ホットプレート上においてポストベークを行い、膜厚２．５μｍの硬化膜を形成した。
この硬化膜をＰＧＭＥＡ又はＮＭＰ中に６０秒間浸漬させた後、それぞれ温度１００℃にて６０秒間乾燥し、膜厚を測定した。ＰＧＭＥＡ又はＮＭＰ浸漬後の膜厚変化がないものを○、浸漬後に膜厚の減少が見られたものを×とした。【０１０５】
［光透過率（透明性）の評価］
実施例１乃至実施例５並びに比較例１乃至比較例５の各組成物を石英基板上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度１００℃で１２０秒間ホットプレート上においてプリベークを行い、膜厚２．８μｍの塗膜を形成した。膜厚はＦＩＬＭＥＴＲＩＣＳ社製  Ｆ２０を用いて測定した。この塗膜を０．２質量％のＴＭＡＨ水溶液に６０秒間浸漬することで現像を行った後、超純水で２０秒間流水洗浄を行った。その後、キヤノン（株）製紫外線照射装置ＰＬＡ−６００ＦＡにより３６５ｎｍにおける光強度が５．５ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ2照射した。この塗膜を温度２３０℃で３０分間ホットプレート上においてポストベークを行い硬化膜を形成した。
この硬化膜を紫外線可視分光光度計（（株）島津製作所製ＳＨＩＭＡＤＳＵ  ＵＶ−２５５０型番）を用いて波長４００ｎｍ時の透過率を測定した。【０１０６】
［配向性の評価］
実施例１乃至実施例５並びに比較例１乃至比較例５の各組成物をＩＴＯ基板上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度１００℃で１２０秒間ホットプレート上においてプリベークを行い、膜厚２．８μｍの塗膜を形成した。膜厚はＦＩＬＭＥＴＲＩＣＳ社製  Ｆ２０を用いて測定した。この膜を温度２３０℃で３０分間ホットプレート上においてポストベークを行い硬化膜を形成した。
この硬化膜を回転速度３００ｒｐｍ、送り速度１０ｍｍ／秒、押し込み量０．４５ｍｍでラビング処理した。ラビング処理した基板を純水で５分間超音波洗浄した。この基板上に液晶モノマーからなる位相差材料をスピンコーターを用いて塗布した後、１００℃で４０秒間、５５℃で３０秒間ホットプレート上においてプリベークを行い膜厚１．１μｍの塗膜を形成した。この基板を窒素雰囲気下２，０００ｍＪで露光した。作製した基板を偏向板に挟み、配向性を目視にて確認した。基板を４５度に傾けた時と傾けない時で光の透過性が著しく変化するものを○、変化しないものを×とした。【０１０７】
［耐熱性の評価］
実施例１乃至実施例５並びに比較例１乃至比較例５の各組成物を石英基板上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度１００℃で１２０秒間ホットプレート上においてプリベークを行った後、温度２３０℃で３０分間ホットプレート上においてポストベークを行い、硬化膜を形成し、膜厚をＦＩＬＭＥＴＲＩＣＳ社製  Ｆ２０を用いて測定した。その後、さらに硬化膜を温度２３０℃にて６０分間ホットプレート上において焼成し再度膜厚を測定し、ポストベーク後からの膜厚の変化率を算出した。なお、耐熱性を有する硬化膜と認められるには、少なくとも膜厚変化率±５％未満の性能を有するものであることが望まれる。【０１０８】
［評価の結果］
以上の評価を行った結果を、次の表２に示す。【０１０９】
【表２】
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【０１１０】
実施例１乃至実施例５は、パターン形成が可能であり、平坦化率、耐熱性が高く、ＰＧＭＥＡ、ＮＭＰのいずれに対しても耐性がみられた。またいずれも良好な配向性を示し、高温焼成後も高い透過率（透明性）を達成した。【０１１１】
比較例１は、未露光部も現像液に溶解しパターン形成ができなかった。
比較例２は、露光部が現像液に溶解せずパターン形成ができなかった。
比較例３は、耐熱性が低くパターン形成もできなかった。
比較例４は、平坦化率が低くパターン形成もできなかった。
一方、比較例５は、パターン形成が可能であり、平坦化率、耐熱性、溶剤耐性及び透過率は良好とする結果が得られたが、配向性が劣る結果となった。【０１１２】
以上のように、本発明の熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物は、硬化膜形成時にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのグリコール系溶剤の使用が可能である。また、アルカリ現像液でパターン形成が可能であり、しかも得られた硬化膜は、優れた光透過性、溶剤耐性、耐熱性、平坦化性及び配向性のいずれの性能も良好な結果が得られた。
【産業上の利用可能性】
【０１１３】
本発明による熱硬化膜形成用感光性ポリエステル組成物は、光学異方性フィルムや液晶表示素子の液晶配向層として非常に有用であり、更に、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）型液晶表示素子、有機ＥＬ素子等の各種ディスプレイにおける保護膜、平坦化膜、絶縁膜等の硬化膜を形成する材料、特に、ＴＦＴ型液晶素子の層間絶縁膜、カラーフィルタの保護膜、有機ＥＬ素子の絶縁膜等を形成する材料としても好適である。
【図１】
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【図２】
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