(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される化合物あるいはその縮合物（Ａ）と、ヒドロキシを有する重合性モノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含む光硬化性組成物を用いた、インクジェット用インク。
【化１】
0005540463.tif 000008
（式（１）中、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立して、置換されていてもよいアミノ、または置換されていてもよいフェニルである。）
【請求項２】
Ｒ１〜Ｒ３の少なくとも１つが下記一般式（２）で表される基である、請求項１に記載のインクジェット用インク。
【化２】
0005540463.tif 000009
（式（２）中、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立して、水素、炭素数１〜５のアルキル、アクリロイル、メタクリロイル、または置換されていてもよいフェニルである。）
【請求項３】
Ｒ１〜Ｒ３の全てが上記一般式（２）で表される基であり、かつＲ４、Ｒ５は、それぞれ独立して、水素、またはメチルである、請求項２に記載のインクジェット用インク。
【請求項４】
Ｒ４、Ｒ５がともにメチルである、請求項３に記載のインクジェット用インク。
【請求項５】
光重合開始剤（Ｃ）が、下記一般式（３）または下記一般式（４）で表される化合物である、請求項１〜４のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【化３】
0005540463.tif 000010
（式（３）又は（４）中、Ｒ１１〜Ｒ２５は、それぞれ独立して、水素、炭素数１〜５のアルキルまたは置換されていてもよいフェニルである。）
【請求項６】
ヒドロキシを有する重合性モノマー（Ｂ）が、単官能重合性モノマーである、請求項１〜５のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項７】
ヒドロキシを有する重合性モノマー（Ｂ）が、下記一般式（５）で表される化合物である、請求項１〜６のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【化４】
0005540463.tif 000011
（式（５）中、Ｒ６は水素または炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ７は環状構造を有していてもよい炭素数２〜１２のアルキレンであり、ｎは１〜３０の整数である。）
【請求項８】
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートおよび１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる１以上であるヒドロキシを有する重合性モノマー（Ｂ）と、下記一般式（３）または下記一般式（４）で表される光重合開始剤（Ｃ）とを含む、請求項７に記載のインクジェット用インク。
【化５】
0005540463.tif 000012
（式（３）中、Ｒ１１、Ｒ１３、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１８およびＲ２０がメチルであり、Ｒ１２、Ｒ１４、Ｒ１７、Ｒ１９およびＲ２１〜Ｒ２５が水素である。また、式（４）中、Ｒ１６、Ｒ１８およびＲ２０がメチルであり、Ｒ１１〜Ｒ１５、Ｒ１７、Ｒ１９およびＲ２１〜Ｒ２５が水素である。）
【請求項９】
さらに、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）を含む、請求項１〜８のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項１０】
さらに、エポキシ樹脂（Ｅ）を含む、請求項１〜９のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載されたインクジェット用インクをインクジェット法によって塗布する工程と、当該塗膜に光を照射することによって硬化膜を形成する工程とを含む、硬化膜形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光硬化性組成物、及び該組成物を用いた光硬化性インクジェット用インクに関し、具体的には、液晶表示素子、ＥＬ表示素子、プリント配線基板などを製造するために用いられる光硬化性インクジェット用インクに関する。さらに本発明は、光硬化性組成物及び光硬化性インクジェット用インクにより得られる硬化膜（パターン化された硬化膜を含む）、硬化膜形成方法、および、硬化膜が形成された電子回路基板、表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
パターン化された硬化膜は、例えば、スペーサー、絶縁膜、保護膜など液晶表示素子の多くの部分で使用されており、これまでに多くの光硬化性組成物がこの用途に提案されてきた。近年は、硬化膜に要求される特性の高度化が進み、例えば液晶表示素子に使用されるスペーサーにおいては、荷重をかけたときのパターンの縮み具合と荷重を除去したときの復元率（以後、この特性を圧縮特性と呼ぶ）が、液晶ディスプレイの不良と大きくかかわっていることが明らかになってきた。このため、よく縮み、復元率の高い、つまり圧縮特性が良好である材料が求められるようになっている。（例えば、特許文献１：特開２００４−２８７２３２公報、特許文献２：特開２００６−１２６３９７公報、特許文献３：特開２００４−２６４３８４公報を参照）
【０００３】
これらの光硬化性組成物を用いてパターン化された硬化膜を作成する方法は、所望のパターンを有するマスクを介して紫外線を照射し、紫外線の当たっていない部分を現像により除去する、フォトリソグラフィ法である。しかしながら、この方法では露光機、現像機等を備えた専用ラインが必要であり、設備投資も大きな金額になる。また、現像処理の精度などが原因で、高精細なパターンが得られないなどの問題もある。
【０００４】
このような状況の下、近年では設備投資金額が少ない、現像液を使用しない、材料の使用効率が高い等の長所を持つインクジェット法が提案され、これに使用する組成物（インクジェット用インク）も提案されている（例えば、特開２００３−３０２６４２号公報（特許文献４）を参照）。また、インクジェット法に使用される光硬化性インクジェト用インクも提案されている（例えば、ＷＯ２００４／０９９２７２号パンフレット（特許文献５）、特開２００６−２８２７５７号公報（特許文献６）、特開２００６−３０７１５２号公報（特許文献７）等を参照）。
【０００５】
しかしながら、これらの光硬化性インクジェット用インクで形成されたパターンでは復元率が低いため、液晶表示素子に使用されるスペーサーとしての圧縮特性を満足させることはできなかった。
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−２８７２３２号公報
【特許文献２】特開２００６−１２６３９７号公報
【特許文献３】特開２００４−２６４３８４号公報
【特許文献４】特開２００３−３０２６４２号公報
【特許文献５】ＷＯ２００４／０９９２７２号パンフレット
【特許文献６】特開２００６−２８２７５７号公報
【特許文献７】特開２００６−３０７１５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記の状況の下、インクジェット法で高精細なパターンの形成が可能で、得られるパターンの圧縮特性が液晶表示素子に用いられるスペーサーとしての特性を満足することができる光硬化性インクジェット用インクが求められている。また、光硬化性インクジェット用インクを用いて、フレキシブル基板上にも形成できる柔軟性を有する膜を形成することが求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者等は、特定の構造を有する化合物またはその縮合物とヒドロキシを有する重合性モノマーと光重合開始剤を含む光硬化性組成物及びこれを用いたインクジェット用インクを見出し、この知見に基づいて本発明を完成させた。
本発明は以下のような光硬化性組成物等を提供する。なお、本明細書中、アクリレートとメタクリレートの両者を示すために「（メタ）アクリレート」のように表記することがある。
【０００９】
［１］  下記一般式（１）で表される化合物あるいはその縮合物（Ａ）と、ヒドロキシを有する重合性モノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含む光硬化性組成物。
【化６】
0005540463.tif 000002
（式（１）中、Ｒ1〜Ｒ3は、それぞれ独立して、置換されていてもよいアミノ、または置換されていてもよいフェニルである。）
【００１０】
［２］  Ｒ1〜Ｒ3の少なくとも１つが下記一般式（２）で表される基である、上記［１］に記載の光硬化性組成物。
【化７】
0005540463.tif 000003
（式（２）中、Ｒ4、Ｒ5は、それぞれ独立して、水素、炭素数１〜５のアルキル、アクリロイル、メタクリロイル、または置換されていてもよいフェニルである。）
【００１１】
［３］  Ｒ1〜Ｒ3の全てが上記一般式（２）で表される基であり、かつＲ4、Ｒ5は、それぞれ独立して、水素、またはメチルである、上記［２］に記載の光硬化性組成物。
【００１２】
［４］  Ｒ4、Ｒ5がともにメチルである、上記［３］に記載の光硬化性組成物。
【００１３】
［５］  光重合開始剤（Ｃ）が、下記一般式（３）または下記一般式（４）で表される化合物である、上記［１］〜［４］のいずれかに記載の光硬化性組成物。
【化８】
0005540463.tif 000004
（式（３）又は（４）中、Ｒ11〜Ｒ25は、それぞれ独立して、水素、炭素数１〜５のアルキルまたは置換されていてもよいフェニルである。）
【００１４】
［６］  ヒドロキシを有する重合性モノマー（Ｂ）が、単官能重合性モノマーである、上記［１］〜［５］のいずれかに記載の光硬化性組成物。
【００１５】
［７］  ヒドロキシを有する重合性モノマー（Ｂ）が、下記一般式（５）で表される化合物である、上記［１］〜［６］のいずれかに記載の光硬化性組成物。
【化９】
0005540463.tif 000005
（式（５）中、Ｒ6は水素または炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ7は環状構造を有していてもよい炭素数２〜１２のアルキレンであり、ｎは１〜３０の整数である。）
【００１６】
［８］  ２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートおよび１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる１以上であるヒドロキシを有する重合性モノマー（Ｂ）と、下記一般式（３）または下記一般式（４）で表される光重合開始剤（Ｃ）とを含む、上記［７］に記載の光硬化性組成物。
【化１０】
0005540463.tif 000006
（式（３）中、Ｒ11、Ｒ13、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ18およびＲ20がメチルであり、Ｒ12、Ｒ14、Ｒ17、Ｒ19およびＲ21〜Ｒ25が水素である。また、式（４）中、Ｒ16、Ｒ18およびＲ20がメチルであり、Ｒ11〜Ｒ15、Ｒ17、Ｒ19およびＲ21〜Ｒ25が水素である。）
【００１７】
［９］  さらに、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）を含む、上記［１］〜［８］のいずれかに記載の光硬化性組成物。
【００１８】
［１０］  さらに、エポキシ樹脂（Ｅ）を含む、上記［１］〜［９］のいずれかに記載の光硬化性組成物。
【００１９】
［１１］  インクジェット用インクである、上記［１］〜［１０］のいずれかに記載の光硬化性組成物。
【００２０】
［１２］  上記［１］〜［１１］のいずれかに記載の光硬化性組成物を用いて形成された硬化膜。
【００２１】
［１３］  所定のパターンで形成されている、上記［１２］に記載の硬化膜。
【００２２】
［１４］  スペーサーである、上記［１３］に記載の硬化膜。
【００２３】
［１５］  基板上に、上記［１２］〜［１４］のいずれかに記載された硬化膜を有する、電子回路基板。
【００２４】
［１６］  上記［１５］に記載された電子回路基板を有する電子部品。
【００２５】
［１７］  上記［１２］〜［１４］のいずれかに記載された硬化膜を有する、表示素子。
【００２６】
［１８］  上記［１１］に記載された光硬化性インクジェット用インク組成物をインクジェット法によって塗布する工程と、当該塗膜に光を照射することによって硬化膜を形成する工程とを含む、硬化膜形成方法。
【発明の効果】
【００２７】
本発明の好ましい態様に係る光硬化性組成物は、例えばインクジェット用インクとして応用することができ、該インクジェット用インクは、例えば、インクジェット法で高精細なパターンの形成が可能である。また、得られるパターンの圧縮特性が優れているため、例えば液晶表示素子に用いられるスペーサーとして用いることができる。また、本発明の好ましい態様に係るインクジェット用インクを用いると、フレキシブル基板上にも形成できる柔軟性を有する硬化膜を形成できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
１  光硬化性組成物及び光硬化性インクジェット用インク
本発明の光硬化性組成物は、少なくとも上記一般式（１）で表される化合物あるいはその縮合物（Ａ）と、ヒドロキシを有する重合性モノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含む光硬化性組成物である。
上記光硬化性組成物は、上記一般式（１）で表される化合物あるいはその縮合物（Ａ）と、ヒドロキシを有する重合性モノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含めば特に限定されないが、さらに、たとえば多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、エポキシ樹脂（Ｅ）、溶媒、重合禁止剤、アルカリ可溶性ポリマー、着色剤等を添加することができる。
【００２９】
上記光硬化性組成物を構成するいずれかの成分は、その合成時に溶媒を用いる場合がある。また、上記光硬化性組成物を構成する各成分の混合状態を均一にするため、一度、溶媒に各成分を溶解又は分散させる場合がある。これらの場合には、使用した溶媒をそのまま残してハンドリング性等を考慮した液状やゲル状の組成物としてもよいし、この溶剤を除去して運搬性などを考慮した固形状の組成物としてもよい。
【００３０】
光硬化性インクジェット用インクは、無色であっても、有色であってもよい。一般的に「インク」とは、筆記や印刷などに用いる有色の液体を意味することが多く、本発明の光硬化性インクジェット用インクもこの意味の用途として用いてもよいが、例えば、スペーサーを形成する用途に用いる場合には、特に有色である必要はなく無色であってもよい。上記光硬化性組成物の粘度をインクジェットヘッドからの吐出に適した粘度に調整することで得ることができる。
光硬化性インクジェット用インクのインクジェットヘッドからの吐出時の粘度は、吐出を安定させるため、好ましくは２〜５０ｍＰａ・ｓであり、より好ましくは３〜３０ｍＰａ・ｓであり、さらに好ましくは４〜２５ｍＰａ・ｓである。室温での光硬化性インクジェット用インクの粘度が例えば５０ｍＰａ・ｓ以上などの不適当な粘度である場合は、インクジェットヘッドを加温してインクの粘度を下げ、２〜５０ｍＰａ・ｓの範囲又は上記各好ましい範囲に入るように調整するのがよい。
また、インクジェットヘッドを加温した場合は、乾燥によるインクジェットヘッドの詰まりを防止するために、溶媒を使わないか、あるいは沸点２００℃以上の高沸点溶媒を光硬化性インクジェット用インクの２０重量％以下（好ましくは１０重量％以下、より好ましくは５重量％以下）で使用するとよい。
上記光硬化性インクジェット用インクは、−２０〜２０℃（好ましくは−１０〜１０℃であり、より好ましくは０〜５℃である）で保存すると粘度変化が小さく、保存安定性が良好である。
以下に本発明の光硬化性組成物を構成する各成分について説明する。
【００３１】
１．１  上記一般式（１）で表される化合物またはその縮合物（Ａ）
光硬化性組成物は、少なくとも上記一般式（１）で表される化合物またはその縮合物（Ａ）を含む。上記一般式（１）で表される化合物またはその縮合物（Ａ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。上記一般式（１）で表される化合物の縮合物とは、例えば、Ｒ1〜Ｒ3の少なくとも１つが、例として上記一般式（２）で表されるような縮合性官能基（一般式（２）ではアルコキシ）を有していて、該官能基が縮合反応してできた縮合物である。したがって、Ｒ1〜Ｒ3のいずれもが縮合性官能基を有さない場合には、「縮合物」との選択肢は除かれる。
【００３２】
上記一般式（１）のＲ1〜Ｒ3における、「置換されていてもよいアミノ」とは、アミノの任意の水素が独立に、置換基で置き換えられていてもよいものをいう。置換基が２個である場合、各置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【００３３】
「置換されていてもよいアミノ」における置換基の例としては、制限するわけではないが、炭素数１〜１０の炭化水素（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、フェニル、ナフチル、インデニル、トリル、キシリル、ベンジル等）、炭素数１〜１０のアルコキシ（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等）、炭素数６〜１０のアリールオキシ（例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、ビフェニルオキシ等）、末端以外の任意のメチレンが酸素原子に置き換わった炭素数１〜１０の炭化水素、ヒドロキシを有する炭素数１〜１０の炭化水素、ヒドロキシ、ハロゲン（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）又はシリルなどを挙げることができる。
【００３４】
上記一般式（１）のＲ1〜Ｒ3における、「置換されていてもよいフェニル」とは、フェニルの任意の水素が独立に、置換基で置き換えられていてもよいものをいう。水素が置換基で置き換えられている場合、好ましい置換基数は１〜４であり、より好ましい置換基数は２〜３であり、置換基数が２以上である場合、各置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【００３５】
「置換されていてもよいフェニル」における置換基の例としては、制限するわけではないが、炭素数１〜１０の炭化水素（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、フェニル、ナフチル、インデニル、トリル、キシリル、ベンジル等）、炭素数１〜１０のアルコキシ（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等）、炭素数６〜１０のアリールオキシ（例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、ビフェニルオキシ等）、アミノ、ヒドロキシ、ハロゲン（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）又はシリルなどを挙げることができる。
【００３６】
上記式（１）のＲ1〜Ｒ3における「置換されていてもよいアミノ」として、好ましいものは、「末端以外の任意のメチレンが酸素原子に置き換わった炭素数１〜１０の炭化水素」で置換されたアミノであり、中でも、上記一般式（２）で表されるアミノである。
【００３７】
上記一般式（２）のＲ4，Ｒ5における「炭素数１〜５のアルキル」の例としては、制限するわけではないが、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル等を挙げることができる。
【００３８】
上記一般式（２）のＲ4，Ｒ5における「置換されていてもよいフェニル」とは、上記式（１）のＲ1〜Ｒ3における「置換されていてもよいフェニル」と同じものがあげられ、同じものが好ましい。
【００３９】
上記一般式（１）で表される化合物またはその縮合物（Ａ）の具体例としては、メラミン、メチロールメラミン、エーテル化メチロールメラミン、ベンゾグアナミン、メチロールベンゾグアナミン、エーテル化メチロールベンゾグアナミン、およびそれらの縮合物を挙げることができる。中でも、得られる硬化膜の圧縮特性が良好であることから、エーテル化メチロールメラミンが好ましく、さらに、上記一般式（１）においてＲ1〜Ｒ3の全てが上記一般式（２）で表される基であり、かつＲ4、Ｒ5がともにメチルである化合物が特に好ましい。本化合物およびその縮合物の混合物は、三和ケミカル（株）製のニカラック（商品名）ＭＷ−３０Ｍとして市販されている。
【００４０】
上記一般式（１）で表される化合物またはその縮合物（Ａ）は、光硬化性組成物中に２〜４０重量％含まれると、得られる硬化膜の復元率が高いので好ましく、５〜３０重量％であるとより好ましい。
【００４１】
１．２  ヒドロキシを有する重合性モノマー（Ｂ）
ヒドロキシを有する重合性モノマー（Ｂ）は、ヒドロキシを有する重合性の化合物であれば特に限定されない。ヒドロキシは加熱により上記化合物（Ａ）と反応して硬化膜の復元率を高める効果を有する。
ヒドロキシを有する重合性モノマー（Ｂ）は、重合性官能基（炭素間二重結合、炭素間三重結合を含む）を少なくとも１つ有することが好ましい（１つ有する場合を単官能重合性モノマーという）。ヒドロキシを有する重合性モノマー（Ｂ）の好ましい例としては、ヒドロキシと１つの炭素間二重結合を有する重合性モノマー、ヒドロキシと２つの炭素間二重結合を有する重合性モノマー、ヒドロキシと３つ以上の炭素間二重結合を有する重合性モノマーを挙げることができる。ヒドロキシを有する重合性モノマー（Ｂ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００４２】
ヒドロキシを有する重合性モノマー（Ｂ）は、上記一般式（５）で表される化合物であることが好ましい。
上記一般式（５）のＲ7における「環状構造を有していてもよい炭素数２〜１２のアルキレン」としては、エチレン、プロピレン、ブチレン又は下記式の構造があげられる。また、上記一般式（５）のｎは１〜３０の整数であり、好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜３、さらに好ましくは１である。
【化１１】
0005540463.tif 000007
【００４３】
ヒドロキシと１つの炭素間二重結合を有する重合性モノマーの具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
ヒドロキシと２つの炭素間二重結合を有する重合性モノマーの具体例としては、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、グリセロールジアクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
ヒドロキシと３つ以上の炭素間二重結合を有する重合性モノマーの具体例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００４４】
これらの中でも、光硬化性インクジェット用インクに応用した場合の吐出安定性の観点から、ヒドロキシを有する重合性モノマー（Ｂ）は、ヒドロキシと１つの炭素間二重結合を有する重合性モノマーが好ましく、特に、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレートが好ましい。
【００４５】
ヒドロキシを有する重合性モノマー（Ｂ）は、光硬化性組成物中に２０〜９０重量％含まれると、光硬化性インクジェット用インクとした場合のインクジェットヘッドからの吐出が安定するので好ましく、３０〜８０重量％であるとより好ましい。
【００４６】
１．３  光重合開始剤（Ｃ）
光重合開始剤（Ｃ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００４７】
光重合開始剤（Ｃ）の具体例としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−エチルアントラキノン、アセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−４’−イソプロピルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４，４’−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２−（４’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４’−ペンチルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−［ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）］−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４’−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズチアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、３−（２−メチル−２−ジメチルアミノプロピオニル）カルバゾール、３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノプロピオニル）−９−ｎ−ドデシルカルバゾール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（η5−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム等を挙げることができる。
【００４８】
また、光重合開始剤（Ｃ）の具体例としては、上記一般式（３）で表される化合物、上記一般式（４）で表される化合物を挙げることができる。
上記一般式（３）又は（４）のＲ11〜Ｒ25における「炭素数１〜５のアルキル」及び「置換されていてもよいフェニル」としては、上記一般式（１）及び（２）における説明を援用することができる。
【００４９】
これらの中でも、紫外線の照射量が少なくても十分硬化する（高感度である）点から、上記一般式（３）で表される化合物および上記一般式（４）で表される化合物が好ましく、特にビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド［（チバスペシャリティーケミカルズ（株）製）ＩＲＧＡＣＵＲＥ（商品名）８１９、以下、「Ｉ−８１９」という］、および２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド［（チバスペシャリティーケミカルズ（株）製）ＤＡＲＯＣＵＲ（商品名）ＴＰＯ、以下、「ＴＰＯ」という］が好ましい。
ここで、「Ｉ−８１９」は上記一般式（３）において、Ｒ11、Ｒ13、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ18およびＲ20がメチルであり、Ｒ12、Ｒ14、Ｒ17、Ｒ19およびＲ21〜Ｒ25が水素である化合物であり、「ＴＰＯ」は上記一般式（４）において、Ｒ16、Ｒ18およびＲ20がメチルであり、Ｒ11〜Ｒ15、Ｒ17、Ｒ19およびＲ21〜Ｒ25が水素である化合物である。
【００５０】
光重合開始剤（Ｃ）は、光硬化性組成物中に０．２〜２０重量％含まれると、光硬化性インクジェット用インクとした場合に高感度となるから好ましく、０．５〜１５重量％であるとより好ましい。
また、光重合開始剤（Ｃ）において、上記一般式（３）および上記一般式（４）で表される化合物の割合が２０重量％以上であると高感度となるので好ましく、上記割合が５０重量％以上であると、さらに好ましい。
【００５１】
１．３  多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）
光硬化性組成物には、光感度を高める観点から多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）を含んでもよく、特にヒドロキシを有しない多官能（メタ）アクリレートであるとよい。多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００５２】
ヒドロキシを有しない多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）の具体例としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、およびカプロラクトン変性トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート等である。
【００５３】
これらの中でも、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、およびカプロラクトン変性トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレートから選ばれる１つ以上を含有していると、照射光に対して高感度であるので好ましい。
【００５４】
多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）は、光硬化性組成物中に２〜４０重量％含まれると、光硬化性インクジェット用インクとした場合に光に対して高感度であるため好ましく、５〜２０重量％であるとより好ましい。
【００５５】
１．５  エポキシ樹脂（Ｅ）
光硬化性組成物は、さらにエポキシ樹脂（Ｅ）を含んでもよい。エポキシ樹脂（Ｅ）を含むと、得られた硬化膜の耐久性が向上するため好ましい。エポキシ樹脂（Ｅ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。エポキシ樹脂（Ｅ）は、オキシランを有すれば特に限定されないが、オキシランを２つ以上有する化合物が好ましい。
【００５６】
エポキシ樹脂（Ｅ）の具体例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂等が挙げられる。
これらのエポキシ樹脂の具体例としては、商品名「エピコート８０７」、「エピコート８１５」、「エピコート８２５」、「エピコート８２７」、「エピコート８２８」、「エピコート１９０Ｐ」、「エピコート１９１Ｐ」（以上、油化シェルエポキシ（株）製）、商品名「エピコート１００４」、「エピコート１２５６」（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、商品名「アラルダイトＣＹ１７７」、「アラルダイトＣＹ１８４」（日本チバガイギー（株）製）、商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」、「ＥＨＰＥ−３１５０」（ダイセル化学工業（株）製）、［商品名「テクモアＶＧ３１０１Ｌ」（三井化学（株）製）］などを挙げることができる。
【００５７】
これらの中でも、「エピコート１００４」、「アラルダイトＣＹ１８４」、「セロキサイド２０２１Ｐ」、「テクモアＶＧ３１０１Ｌ」を用いると、光硬化性組成物から得られる硬化膜の耐久性が高いので好ましい。
【００５８】
エポキシ樹脂（Ｅ）は、光硬化性組成物中に０．５〜３０重量％含まれると、得られる硬化膜の耐久性が高いので好ましく、１〜２０重量％であるとより好ましい。
【００５９】
１．６  その他の成分
光硬化性組成物は、インクジェット用インクとした場合のインクの吐出特性、保存安定性や、形成される膜の耐久性等を向上させるために、溶媒、重合禁止剤、アルカリ可溶性ポリマー、着色剤等を含むことができる。これらの成分は１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００６０】
１．６．１  溶媒
光硬化性組成物は、インクジェット用インクとした場合のインクの吐出特性を向上させるために溶媒を含んでもよい。この溶媒としては沸点が１００℃以上の溶媒が好ましい。
室温でのインクジェット用インクの粘度が５０ｍＰａ・ｓ以上である場合には、ジェッティング温度を高くすることが好ましいが、この場合には含まれる溶媒の沸点は２００℃以上であることが好ましい。
【００６１】
沸点が１００℃以上である溶媒の具体例としては、水、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トルエン、キシレン、アニソール、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルイミダゾリジノン等が挙げられる。
【００６２】
これらの溶媒の中でも、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等を用いると、インクの吐出が安定するので好ましい。
【００６３】
溶媒は、光硬化性組成物中に０〜５０重量％含まれると、光硬化性インクジェット用インクとした場合の吐出が安定するので好ましく、より好ましくは０〜２０重量％である。
【００６４】
１．６．２  重合禁止剤
光硬化性組成物は、保存安定性を向上させるために重合禁止剤を含んでもよい。
重合禁止剤の具体例としては、４−メトキシフェノール、ヒドロキノン、フェノチアジン等を挙げることができる。これらの中でも、ジェッティング時にインクジェットヘッドを加熱した場合のインクの粘度変化を最小にする観点から、重合禁止剤としてフェノチアジンを用いることが好ましい。
【００６５】
重合禁止剤は、光硬化性組成物をインクジェット用インクとした場合の保存安定性と光に対する高感度性とを両立させるという観点から、光硬化性組成物中に０．０１〜１重量％含まれることが好ましい。
【００６６】
１．６．３  アルカリ可溶性ポリマー
光硬化性組成物は、アルカリ可溶性ポリマーを含んでもよい。
アルカリ可溶性ポリマーを含む光硬化性組成物をインクジェット用インクとした場合には、例えば、パターニングをインクジェットで行い、パターン以外の部分をエッチング等で処理した後に、パターンをアルカリで剥離する使用方法（エッチングレジスト）として使用することができる。
【００６７】
アルカリ可溶性ポリマーは、５重量％のＮａＯＨ水溶液１００ｇ（５０℃）に０．１ｇ以上溶解するポリマーであれば特に限定しないが、カルボキシルを有するラジカル重合性モノマーの重合体、または、カルボキシルを有するラジカル重合性モノマーと他のラジカル重合性モノマーの共重合体が好ましい。
【００６８】
アルカリ可溶性ポリマーの具体例としては、ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、ベンジルメタクリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、ベンジルメタクリレート／５−テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチル（メタ）アクリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、スチレン／無水マレイン酸共重合体の開環物等が挙げられる。これらの中でも、ベンジルメタクリレート／５−テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチル（メタ）アクリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体を添加した光硬化性組成物は、このインクジェット用インクから形成される硬化膜の耐酸性が高く、かつ、アルカリ液で容易に除去可能であるから、電子回路基板を製作するためのエッチングレジスト用のインクジェット用インクとして好ましい。
【００６９】
得られる硬化膜の耐酸性が高く、かつ、アルカリ液で除去可能とする性質を付与するためには、アルカリ可溶性ポリマーは光硬化性組成物中に１〜２０重量％含まれることが好ましい。
【００７０】
１．６．４  着色剤
光硬化性組成物は、着色剤を含んでいてもよく、この場合、例えば、得られる硬化膜の状態を検査する際に基板との識別を容易にすることができる。着色剤は、光硬化性組成物中に０．１〜１０重量％程度、好ましくは０．２〜５重量％程度含んでもよい。形成される硬化膜の耐熱性の観点から、着色剤は顔料であることが好ましい。
【００７１】
２  インクジェット方法によるインクジェット用インクの塗布
本発明の光硬化性インクジェット用インクは、公知のインクジェット方法で塗布する工程を有するインクジェット塗布方法に用いることができる。インクジェット塗布方法としては、例えば、インクに力学的エネルギーを作用させてインクを塗布させる方法（いわゆるピエゾ方式）、および、インクに熱エネルギーを作用させてインクを塗布させる塗布方法（いわゆるバブルジェット（登録商標）方式）等がある。
インクジェット塗布方法を用いることにより、インクジェット用インクを予め定められたパターン状に塗布することができる。これによって、必要な箇所だけにインクを塗布でき、フォトリソグラフィ法に比べて、コストの削減となる。
【００７２】
本発明の光硬化性インクジェット用インクを用いて塗布を行うのに好ましい塗布ユニットは、例えば、これらのインクを収容するインク収容部と、塗布ヘッドとを備えた塗布ユニットが挙げられる。塗布ユニットとしては、例えば、塗布信号に対応した熱エネルギーをインクに作用させ、前記エネルギーによりインク液滴を発生させる塗布ユニットが挙げられる。
塗布ヘッドとしては、例えば、金属および／または金属酸化物を含有する発熱部接液面を有するものである。前記金属および／または金属酸化物の具体例は、例えば、Ｔａ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ａｌ等の金属、および、これらの金属の酸化物等が挙げられる。
【００７３】
本発明の光硬化性インクジェット用インクを用いて塗布を行うのに好ましい塗布装置としては、例えば、インクが収容されるインク収容部を有する塗布ヘッドの室内のインクに、塗布信号に対応したエネルギーを与え、前記エネルギーによりインク液滴を発生させる装置が挙げられる。
【００７４】
インクジェット塗布装置は、塗布ヘッドとインク収容部とが分離されているものに限らず、それらが分離不能に一体になったものを用いるものでもよい。また、インク収容部は塗布ヘッドに対し分離可能または分離不能に一体化されてキャリッジに搭載されるもののほか、装置の固定部位に設けられて、インク供給部材、例えばチューブを介して塗布ヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。
【００７５】
３  硬化膜の形成
本発明の硬化膜は、公知のインクジェット塗布方法を用いて上記インクジェット用インクを基板の表面に吐出した後に、インクに紫外線や可視光線等の光を照射して得られる。光が照射された部分のインクはアクリルモノマーの重合により三次元化架橋体となって硬化し、インクの広がりを効果的に抑えられる。したがって、上記インクジェット用インクを用いると、高精細なパターンの描画が可能になる。インクジェット用インクの組成に依存するが、照射する光として紫外線を用いた場合には、照射する紫外線の量は、ウシオ電機（株）製の受光器ＵＶＤ−４０５ＰＤを取り付けた積算光量計ＵＩＴ−２０１で測定して、１０〜１，０００ｍＪ／ｃｍ2程度が好ましい。
また、必要に応じて、光の照射により硬化した上記硬化膜をさらに加熱・焼成してもよく、特に、１２０〜２５０℃で１０〜６０分間加熱することが好ましい。
【００７６】
基板は、上記インクジェット用インクが塗布される対象となり得るものであれば特に限定されず、その形状は平板状に限られず、曲面状であってもよい。
また、基板の材質は特に限定されないが、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリイミド等のプラスチックフィルム、セロハン、アセテート、金属箔、ポリイミドと金属箔の積層フィルム、目止め効果があるグラシン紙、パーチメント紙、あるいはポリエチレン、クレーバインダー、ポリビニルアルコール、でんぷん、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）などで目止め処理した紙、ガラスなどを挙げることができる。
なお、これらの基板を構成する物質には、本発明の効果に悪影響を及ぼさない範囲において、さらに、顔料、染料、酸化防止剤、劣化防止剤、充填剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤及び／又は電磁波防止剤等の添加剤を含んでもよい。
基板の厚さは、特に限定されないが、通常、１０μｍ〜２ｍｍ程度であり、使用する目的により適宜調整されるが、１５〜５００μｍが好ましく、２０〜２００μｍがさらに好ましい。
【００７７】
基板における硬化膜を形成する面には、必要により撥水処理、コロナ処理、プラズマ処理、ブラスト処理等の易接着処理を施したり、表面に易接着層やカラーフィルター用保護膜を設けてもよい。
【００７８】
以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【実施例】
【００７９】
［実施例１］
下記各成分を混合溶解し、０．２μｍのメンブレンフィルターで濾過し、光硬化性インクジェット用インクを調製した。２５℃での該インクの粘度は１９ｍＰａ・ｓであった。
（Ａ）ニカラックＭＷ−３０Ｍ                      ２０．００ｇ
（Ｂ）４−ヒドロキシブチルアクリレート          １１０．００ｇ
（Ｃ）Ｉ−８１９                                    ３．００ｇ
（Ｃ）ＴＰＯ                                        ２．００ｇ
（Ｄ）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート    ２０．００ｇ
（重合禁止剤）フェノチアジン                        ０．０５ｇ
【００８０】
この光硬化性インクジェット用インクをインクジェットカートリッジに注入し、インクジェット装置ＤＭＰ−２８１１（商品名、Ｄｉｍａｔｉｘ社製）に装着し、厚さ１．５μｍのカラーフィルター用保護膜を形成したガラス基板上の５ｍｍ×１０ｍｍの範囲に１００個のドットパターンを形成した。インクジェットヘッドからの１回の吐出量は１０ｐＬ、ドットパターンは１回の吐出で１個形成した。ジェッティング温度は３０℃とした。なお、３０℃での該インクの粘度は１６ｍＰａ・ｓであった。また、使用したカラーフィルター用保護膜は、ガラス基板上に、チッソ（株）製リクソンコートＰＩＧ−７４１４−００５をスピンコーターで８００ｒｐｍ、１０秒間塗布し、オーブンにおいて２２０℃で３０分間焼成することで形成した。
【００８１】
ドットパターンの形成後、この基板を、（株）トプコン製のプロキシミティー露光機ＴＭＥ−４００ＰＲＣを使用して露光した。露光量はウシオ電機（株）製の受光器ＵＶＤ−４０５ＰＤを取り付けた積算光量計ＵＩＴ−２０１で測定して３０ｍＪ／ｃｍ2とした。この基板を２２０℃で３０分間焼成し、高さ６．２１μｍ、直径６３μｍのドットパターンを形成したガラス基板を得た。
【００８２】
このドットパターンに、島津製作所（株）製のダイナミック微小硬度計ＤＵＨ−Ｗ２０１Ｓで、平面圧子を用いて負荷−除荷試験を行った。負荷速度２．２ｍＮ／秒で負荷を増加させ、最大負荷を５０ｍＮ、最大負荷での保持時間を５秒とした後、除荷速度０．４ｍＮ／秒で負荷を減少させ、最終負荷は１ｍＮとした。最初に負荷が１ｍＮとなったときの変位をＬ0、最大負荷５０ｍＮで５秒保持したときの変位をＬ1、最終負荷１ｍＮでの変位をＬ2としたとき、最大変位量ＬMAX（μｍ）と復元率Ｒ（％）は、以下の式で表される。
ＬMAX＝Ｌ1−Ｌ0
Ｒ＝（Ｌ1−Ｌ2）×１００／（Ｌ1−Ｌ0）
実施例１で得られたドットパターンの最大変位量ＬMAXは２．３２μｍ、復元率Ｒは６８％であった。
【００８３】
［比較例１］
下記各成分を混合溶解し、０．２μｍのメンブレンフィルターで濾過し、光硬化性インクジェット用インクを調製した。２５℃での該インクの粘度は１８ｍＰａ・ｓであった。
（Ｂ）４−ヒドロキシブチルアクリレート          １１５．００ｇ
（Ｃ）Ｉ−８１９                                    ３．００ｇ
（Ｃ）ＴＰＯ                                        ２．００ｇ
（Ｄ）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート    ４０．００ｇ
（重合禁止剤）フェノチアジン                        ０．０５ｇ
【００８４】
この光硬化性インクジェット用インクを用いて実施例１と同様にして、高さ６．１８μｍ、直径６４μｍのドットパターンを形成したガラス基板を得た。なお、３０℃での該インクの粘度は１５ｍＰａ・ｓであった。
このドットパターンで、実施例１と同様の負荷−除荷試験を行ったところ、比較例１で得られたドットパターンの最大変位量ＬMAXは１．４７μｍ、復元率Ｒは４２％であった。
【００８５】
実施例１の硬化膜は比較例１の硬化膜に比べ、最大変位量ＬMAXおよび復元率Ｒともに大きいことから、柔軟性に優れていることが判る。
【産業上の利用可能性】
【００８６】
本発明の光硬化性組成物及びこれを用いた光硬化性インクジェット用インクは、例えば、液晶ディスプレイのスペーサーやその保護膜、フレキシブル配線基板用絶縁膜、およびこれらを用いた電子部品に使用することができる。