(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一回の引張処理を行った導電膜に第二回の引張処理を行うことを提供するステップと、
基板を提供するステップと、
前記導電膜を前記基板に被覆するステップと、を含むことを特徴とする導電板の製造方法。
【請求項２】
前記導電膜は、複数のナノユニットビームを有し、各々のナノユニットビームは、複数のナノユニットがそれぞれに端と端とが連接して形成されることを特徴とする請求項１に記載の導電板の製造方法。
【請求項３】
前記複数のナノユニットビームは、所定方向に沿って配列されて特定の配列配向を形成することを特徴とする請求項２に記載の導電板の製造方法。
【請求項４】
前記導電膜を熱処理することを特徴とする請求項１に記載の導電板の製造方法。
【請求項５】
前記導電膜をレーザー処理することを特徴とする請求項１に記載の導電板の製造方法。
【請求項６】
第二回の引張処理は、機械で引張処理するか、又は延伸性材料で引張処理することを特徴とする請求項１に記載の導電板の製造方法。
【請求項７】
複数のナノユニットからなるナノ構造体を形成するステップと、
前記ナノ構造体に対して引張処理して、前記ナノ構造体を特定の配列配向を有する膜構造に変換してから、前記特定の配列配向の設置方向と異なる特定の方向に沿って前記膜構造を延伸するステップと、
を含むことを特徴とする導電膜の製造方法。
【請求項８】
前記ナノ構造体は、長さと幅が異なる複数のナノユニットからなることを特徴とする請求項７に記載の導電膜の製造方法。
【請求項９】
前記ナノ構造体は、複数のカーボンナノチューブからなることを特徴とする請求項７に記載の導電膜の製造方法。
【請求項１０】
前記膜構造を延伸するステップは、前記特定の配列配向の設置方向に略直交する特定の方向に沿って前記膜構造を延伸することを特徴とする請求項７に記載の導電膜の製造方法。
【請求項１１】
基板と、
前記基板に設置されている２回引張処理された導電膜と、
を備え、
前記導電膜は、その第一寸法方向で第一引張処理され、その第二寸法方向で第二引張処理され、前記第一寸法方向は、第二寸法方向に直交し、
前記導電膜は熱処理またはレーザー処理されることを特徴とする導電板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電板及びその製造方法に関し、特に導電板における導電膜の引張方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
透明導電板は、液晶パネルの必要な部品として使用され、且つその寸法は液晶パネルの寸法より大きい。半導体技術の進歩及び設備の改善に伴い、液晶パネルの寸法が次第に大きくなるため、前記透明導電板の寸法も次第に大きくなる。一般的に、透明導電板は、基板に透明導電膜を被覆することによって形成される。
【０００３】
透明導電膜（Ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ  Ｃｏｎｄｕｃｔｉｎｇ  Ｆｉｌｍ、ＴＣＦ）は、一般的に透明であり且つ導電性を有するため、種々の平面パネルディスプレイ（Ｆｌａｔ  Ｐａｎｅｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ、ＦＰＤ）、タッチ感知パネル（Ｔｏｕｃｈ  Ｐａｎｅｌ）、電磁波の防護、太陽電池（Ｓｏｌａｒ  Ｃｅｌｌ）などに広く用いられる。
【０００４】
現在、主に用いられている透明導電膜は、インジウム・スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ、ＩＴＯ）、酸化スズ（Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ、ＳｎＯ２）及び酸化亜鉛（Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ、ＺｎＯ）等を主要材料としている。ＩＴＯは、高透光性及び優れた導電性を有するため、大多数の透明導電板は、基板にＩＴＯ透明導電膜を形成したものであり、且つＩＴＯ透明導電膜を有する基板は、導電板と呼ばれる。
【０００５】
ＩＴＯ透明導電膜は、真空スパッタリング法によって、ガラス又はポリエチレンテレフタレート（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）などの基板にＩＴＯを成膜したものである。しかし、基板の寸法が大きければ大きいほど、使用される真空スパッタリング設備の価格も高くなるとともに、基板に形成されるＩＴＯ透明導電膜の均一性を制御し難い。このため、大きい寸法の導電板のコストを制御し難い。従って、前記ＩＴＯに代わる透明導電性材料を探索する必要がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、前記問題を解決するために、寸法が大きく、コストが低い導電板及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成するため、本発明に係る導電板の製造方法は、少なくとも一回の引張処理を行った導電膜を提供するステップと、基板を提供するステップと、前記導電膜を前記基板に被覆するステップと、を含む。
【発明の効果】
【０００８】
本発明に係る導電板及びその製造方法において、２回の引張処理によって、前記導電膜の面積を増加させる一方、その光透過率を向上させる。引張処理された導電膜が前記基材に設置されて、大きい面積及び高光透過率を有する導電板を形成する。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１Ａ】本発明に係る導電板の製造方法の各ステップを示す図である。
【図１Ｂ】本発明に係る導電板の製造方法の各ステップを示す図である。
【図２Ａ】本発明の第一実施形態に係る導電膜の製造方法の各ステップを示す図である。
【図２Ｂ】本発明の第一実施形態に係る導電膜の製造方法の各ステップを示す図である。
【図２Ｃ】本発明の第一実施形態に係る導電膜の製造方法の各ステップを示す図である。
【図２Ｄ】本発明の第二実施形態に係る導電膜の製造方法の各ステップを示す図である。
【図２Ｅ】本発明の第二実施形態に係る導電膜の製造方法の各ステップを示す図である。
【図２Ｆ】本発明の第二実施形態に係る導電膜の製造方法の各ステップを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。
【００１１】
図１Ａを参照すると、本発明に係る導電板の製造方法の第一ステップは、基板１００を提供する。本実施形態において、前記基板１００は、ガラス基板及び高分子透明材料基板のような透明材料からなる基板である。高分子透明材料基板は、ポリメタクリル酸メチル（Ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ、ＰＭＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）、又はポリカーボネート樹脂（Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ、ＰＣ）を含む基板である。勿論、高分子透明材料は、以上の種類に限定されるものではない。
【００１２】
図１Ｂを参照すると、本発明に係る導電板の製造方法の第二ステップは、引張処理された導電膜２００を提供し、且つ前記導電膜２００を前記基板１００に設置する。具体的に説明すると、予め前記導電膜２００に対して一回又は一回以上の引張処理を行い、且つ少なくとも一回の引張処理を行った導電膜２００を前記基板１００の片側に被覆する。
【００１３】
図２Ａ乃至図２Ｃは、本発明の第一実施形態に係る導電膜の製造方法の各ステップを示す図である。
【００１４】
図２Ａを参照すると、本実施形態に係る導電膜の製造方法の第一ステップは、複数のナノユニット２０１からなるナノ構造体２１０を形成する。前記ナノ構造体２１０は、アーク放電法（Ａｒｃ  Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ）、レーザー蒸発法（Ｌａｓｅｒ  Ｖａｐｏｒｉｚａｔｉｏｎ）又は化学蒸着法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）などによって基材３００に形成される。前記基材３００は、ウェハ、黒鉛又は石英からなる。前記ナノユニット２０１は、異方性の形状を有する。異方性の形状を有するナノユニットとは、カーボンナノチューブやカーボンナノ粒子などのような長さと幅が異なるナノユニットである。
【００１５】
図２Ｂと図２Ｃを参照すると、本実施形態に係る導電膜の製造方法の第二ステップは、引張処理によって、前記ナノ構造体２１０を特定の配列配向を有する膜構造に変換する。
【００１６】
具体的に説明すると、前記複数のナノユニット２０１の中の１つのナノユニット２０１が外部の引張力を受けて前記基材３００から離れる場合、前記ナノユニット２０１に隣接する他のナノユニット２０１もファンデルワールス力によって前記ナノユニット２０１と一緒に前記基材３００から離れる。前記基材３００の上に位置する複数のナノユニット２０１が外部の引張力を受けて前記基材３００から離れる場合、前記複数のナノユニット２０１はそれぞれに端と端とが連接してナノユニットビーム２２０を形成する。このため、前記基材３００の複数のナノユニット２０１は、第一回の引張処理によって複数のナノユニットビーム２２０を形成し、これらのナノユニットビーム２２０は所定方向に沿って配列されて特定の配列配向を形成し、例えば、図２Ｃに示すように、前記複数のナノユニットビーム２２０は、略平行に配列される。
【００１７】
前記導電膜２００は、所定方向に沿って配列される複数の構成ユニットを有し、且つ複数の構成ユニットの配列配向は、前記導電膜２００の第一寸法方向Ａに平行する。即ち、前記複数のナノユニットビーム２２０は、特定の配列配向を有する導電膜２００を形成することができる。図２Ｅを参照すると、前記導電膜２００は、第一寸法方向Ａ及び前記第一寸法方向Ａに直交する第二寸法方向Ｂを有する。前記導電膜２００の複数のナノユニットビーム２２０の配列配向の設置方向Ｘは、前記第一寸法方向Ａに略平行する。前記基材３００上の複数のナノユニット２０１を引張処理して導電膜２００を形成する過程において、第一回の引張処理を必要とする。相対的に、前記導電膜２００は、前記第一寸法方向Ａで第一回の引張処理が施される。
【００１８】
複数のナノユニットビーム２２０はそれぞれに複数の接続部が延伸して連接される。特定の配列配向を有する導電膜２００にとって、複数のナノユニットビーム２２０が所定方向に沿って配列されて特定の配列配向を形成する際、前記導電膜２００における前記特定の配列配向の設置方向Ｘの抵抗が小さく、前記導電膜２００における前記特定の配列配向の設置方向Ｘと異なる方向の抵抗が大きい。このため、特定の配列配向を有する導電膜２００は、異なる方向で異なる導電性質又は抵抗性質を有する。
【００１９】
前記導電膜２００は、複数のナノユニットビーム２２０を含むので、前記導電膜２００の厚さを薄くする場合、図１Ｂに示すステップを行う前に、まず前記導電膜２００に対して熱処理又はレーザー処理して、前記導電膜２００の厚さを薄くする。
【００２０】
図２Ａ乃至図２Ｆは、本発明の第二実施形態に係る導電膜の製造方法の各ステップを示す図である。
【００２１】
前記図２Ａ乃至図２Ｃに示すステップを行ってから、図２Ｄ乃至図２Ｆに示すように、前記導電膜２００を前記特定の配列配向の設置方向Ｘと異なる特定方向に沿って延伸する。
【００２２】
本実施形態において、まず、互いに平行する２つの弾性材料４００を引張って設置する。前記弾性材料４００を引張ってその張力を保持するため、前記弾性材料４００は懸垂下降できない。前記弾性材料４００は、シリカゲルやゴムなどのような力を受けると変形し且つ力を失うと復元するものである。次に、特定の配列配向を有する導電膜２００の一部分又は全部を前記２つの弾性材料４００に固定する。
【００２３】
前記２つの弾性材料４００は、所定方向に沿って配列されて特定の配列配向を形成し、前記２つの弾性材料４００の配列配向の設置方向Ｙと前記導電膜２００の複数のナノユニットビーム２２０の特定の配列配向の設置方向Ｘとの間の角度は、０°より大きく且つ９０°以下である。前記２つの弾性材料４００の特定の配列配向の設置方向Ｙと前記導電膜２００の複数のナノユニットビーム２２０の特定の配列配向の設置方向Ｘとの間の角度が略９０°である場合、前記２つの弾性材料４００の特定の配列配向の設置方向Ｙは、前記導電膜２００の第二寸法方向Ｂに略平行する。
【００２４】
前記導電膜２００を２つの弾性材料４００に固定する場合、前記弾性材料４００にワセリン又はアルコール等を塗ることにより、前記弾性材料４００と前記導電膜２００の接触面との接着性を増加させる。
【００２５】
前記導電膜２００を前記２つの弾性材料４００に固定した後に、前記２つの弾性材料４００の両端を前記特定の配列配向の設置方向Ｙに沿って引張ることにより、前記弾性材料４００に固定される導電膜２００は、前記弾性材料４００が引張られることによって前記第二寸法方向Ｂに沿って第二回の引張処理を施されて、その面積が増加される。
【００２６】
前記導電膜２００に対する第二回の引張処理は、機械などによって直接に力を加えて前記導電膜２００を引張ることができ、又は前記導電膜２００を延伸可能な材料に設置してから、前記延伸可能な材料を引張ることによって、前記導電膜２００を引張ることができる。
【００２７】
第一回の引張処理と第二回の引張処理の引張速度は、略０．１ｃｍ／ｓ〜５ｃｍ／ｓであり、０．５ｃｍ／ｓであることが好ましい。
【００２８】
２回の引張処理によって、前記導電膜２００の面積を増加させる一方、その光透過率を向上させる。引張処理された導電膜２００が前記基板１００に設置されて、大きな面積及び高光透過率を有する導電板を形成する。
【００２９】
以上、本発明を実施形態に基づいて具体的に説明したが、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において、種々の変更が可能であることは勿論であって、本発明の保護範囲は、添付の特許請求の範囲によって決まる。
【符号の説明】
【００３０】
１００  基板
２００  導電膜
２０１  ナノユニット
２１０  ナノ構造体
２２０  ナノユニットビーム
３００  基材
４００  弾性材料
【図１Ａ】
0005572452.tif 000002
【図１Ｂ】
0005572452.tif 000003
【図２Ａ】
0005572452.tif 000004
【図２Ｂ】
0005572452.tif 000005
【図２Ｃ】
0005572452.tif 000006
【図２Ｄ】
0005572452.tif 000007
【図２Ｅ】
0005572452.tif 000008
【図２Ｆ】
0005572452.tif 000009