(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体に、酸性処理液を供給する酸性処理液供給部と、アルカリ性処理液を供給するアルカリ性処理液供給部とを有する液処理部と、
前記液処理部に連結された主排気ダクトと、
前記主排気ダクトに排気方向下流側から順にそれぞれ連結され、前記液処理部内の雰囲気を排出する複数の個別排気ダクトと、
前記主排気ダクトと、前記複数の個別排気ダクトの各々との間に設けられた複数の排気開閉弁であって、前記複数の排気開閉弁のうち一の排気開閉弁は、前記被処理体に酸性処理液が供給されている際に開となり、他の一の排気開閉弁は、前記被処理体にアルカリ性処理液が供給されている際に開となるような、前記複数の排気開閉弁と、を備え、
前記主排気ダクトは、前記複数の個別排気ダクトのうち排気方向最上流側に位置する個別排気ダクトへ分岐する分岐部を有し、
前記液処理部と前記主排気ダクトの前記分岐部との間に、洗浄流体を噴出する洗浄流体噴出部が設けられ、
前記液処理部と前記主排気ダクトの前記分岐部との間に主排気開閉弁が設けられ、
前記洗浄流体噴出部は、前記液処理部と前記主排気開閉弁との間に設けられた第１洗浄流体ノズルと、前記主排気開閉弁と前記主排気ダクトの前記分岐部との間に設けられた第２洗浄流体ノズルと、を有し、
前記第１洗浄流体ノズルおよび前記第２洗浄流体ノズルは、前記複数の個別排気ダクトのうち排気方向最下流側に位置する個別排気ダクトに対応する排気開閉弁を開くと共に他の排気開閉弁を閉じた状態で、洗浄流体を噴出することを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
前記洗浄流体噴出部は、洗浄流体として、ミスト状の洗浄液を噴出することを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項３】
排気方向最下流側に位置する前記個別排気ダクトに、液体と気体とを分離する気液分離部が設けられていることを特徴とする請求項２に記載の液処理装置。
【請求項４】
前記液処理部に前記被処理体を搬入出する搬送機構を更に備え、
前記洗浄流体噴出部は、前記液処理部において前記搬送機構により前記被処理体を搬入出する際に、洗浄流体を噴出することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の液処理装置。
【請求項５】
被処理体に、酸性処理液を供給する酸性処理液供給部と、アルカリ性処理液を供給するアルカリ性処理液供給部とを有する液処理部と、前記液処理部に連結された主排気ダクトと、前記主排気ダクトに排気方向下流側から順にそれぞれ連結され、前記液処理部内の雰囲気を排出する複数の個別排気ダクトと、前記主排気ダクトと、前記複数の個別排気ダクトの各々との間に設けられた複数の排気開閉弁であって、前記複数の排気開閉弁のうち一の排気開閉弁は、前記被処理体に酸性処理液が供給されている際に開となり、他の一の排気開閉弁は、前記被処理体にアルカリ性処理液が供給されている際に開となるような、前記複数の排気開閉弁と、を備え、前記主排気ダクトは、前記複数の個別排気ダクトのうち排気方向最上流側に位置する個別排気ダクトへ分岐する分岐部を有し、前記液処理部と前記主排気ダクトの前記分岐部との間に、洗浄流体を噴出する洗浄流体噴出部が設けられた液処理装置を用いて前記被処理体を処理する液処理方法において、
前記酸性処理液供給部から前記被処理体に酸性処理液を供給する工程と、
前記アルカリ性処理液供給部から前記被処理体にアルカリ性処理液を供給する工程と、
前記複数の個別排気ダクトのうち排気方向最下流側に位置する個別排気ダクトに対応する排気開閉弁を開くと共に他の排気開閉弁を閉じて、前記洗浄流体噴出部から洗浄流体を噴出する工程と、を備え、
前記液処理部と前記主排気ダクトの前記分岐部との間に主排気開閉弁が設けられ、
前記洗浄流体噴出部は、前記液処理部と前記主排気開閉弁との間に設けられた第１洗浄流体ノズルと、前記主排気開閉弁と前記主排気ダクトの前記分岐部との間に設けられた第２洗浄流体ノズルと、を有し、
前記洗浄流体を噴出する工程において、排気方向最下流側に位置する前記個別排気ダクトに対応する前記排気開閉弁を開くと共に前記他の排気開閉弁を閉じて、前記第１洗浄流体ノズルおよび前記第２洗浄流体ノズルから洗浄流体が噴出されることを特徴とする液処理方法。
【請求項６】
前記洗浄流体を噴出する工程において、洗浄流体として、ミスト状の洗浄液が噴出されることを特徴とする請求項５に記載の液処理方法。
【請求項７】
排気方向最下流側に位置する前記個別排気ダクトに、液体と気体とを分離する気液分離部が設けられており、
前記洗浄流体噴出部から噴出された洗浄流体は、前記気液分離部において、液体と気体とに分離されることを特徴とする請求項６に記載の液処理方法。
【請求項８】
前記液処理部において前記被処理体を搬入出する際に、前記洗浄流体を噴出する工程が行われることを特徴とする請求項５乃至７のいずれかに記載の液処理方法。
【請求項９】
被処理体に、酸性処理液を供給する酸性処理液供給部と、アルカリ性処理液を供給するアルカリ性処理液供給部とを有する液処理部と、前記液処理部に連結された主排気ダクトと、前記主排気ダクトに排気方向下流側から順にそれぞれ連結され、前記液処理部内の雰囲気を排出する複数の個別排気ダクトと、前記主排気ダクトと、前記複数の個別排気ダクトの各々との間に設けられた複数の排気開閉弁であって、前記複数の排気開閉弁のうち一の排気開閉弁は、前記被処理体に酸性処理液が供給されている際に開となり、他の一の排気開閉弁は、前記被処理体にアルカリ性処理液が供給されている際に開となるような、前記複数の排気開閉弁と、を備え、前記主排気ダクトは、前記複数の個別排気ダクトのうち排気方向最上流側に位置する個別排気ダクトへ分岐する分岐部を有し、前記液処理部と前記主排気ダクトの前記分岐部との間に、洗浄流体を噴出する洗浄流体噴出部が設けられた液処理装置を用いて前記被処理体を処理する液処理方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体であって、
この液処理方法は、
前記酸性処理液供給部から前記被処理体に酸性処理液を供給する工程と、
前記アルカリ性処理液供給部から前記被処理体にアルカリ性処理液を供給する工程と、
前記複数の個別排気ダクトのうち排気方向最下流側に位置する個別排気ダクトに対応する排気開閉弁を開くと共に他の排気開閉弁を閉じて、前記洗浄流体噴出部から洗浄流体を噴出する工程と、を備え、
前記液処理部と前記主排気ダクトの前記分岐部との間に主排気開閉弁が設けられ、
前記洗浄流体噴出部は、前記液処理部と前記主排気開閉弁との間に設けられた第１洗浄流体ノズルと、前記主排気開閉弁と前記主排気ダクトの前記分岐部との間に設けられた第２洗浄流体ノズルと、を有し、
前記洗浄流体を噴出する工程において、排気方向最下流側に位置する前記個別排気ダクトに対応する前記排気開閉弁を開くと共に前記他の排気開閉弁を閉じて、前記第１洗浄流体ノズルおよび前記第２洗浄流体ノズルから洗浄流体が噴出されることを特徴とする記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理体を処理する液処理装置、液処理方法、およびこの液処理方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、半導体デバイスの製造プロセスにおいては、ウエハ（被処理体）をスピンチャックによって保持し、ウエハを回転させながら、ウエハに複数の処理液を順次吐出してウエハを洗浄処理する液処理装置が用いられている。
【０００３】
このような液処理装置を用いてウエハを洗浄処理する場合、まず、スピンチャックに保持されたウエハを回転させながら、酸性の処理液（例えば、ＳＰＭ液（硫酸と過酸化水素水の混合溶液））がウエハに吐出されてＳＰＭ液による処理が行われる。続いて、ウエハにリンス処理液（例えば、純水）が吐出されてウエハがリンス処理される。次に、アンモニア成分を有するアルカリ性の処理液（例えば、アンモニア過水（ＳＣ１液））がウエハに吐出されてＳＣ１液による処理が行われ、その後、ウエハに純水が吐出されてウエハがリンス処理される。次に、ウエハに、有機性の処理液（例えば、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ））が吐出されてウエハが処理され、ウエハを乾燥させる。
【０００４】
上述のようにしてウエハを処理している間、回転しているウエハに吐出された処理液は、ウエハの周辺にミスト状になって飛散し、ウエハの周囲の気体と共に、排気ダクトを通って、処理液毎に回収または排液される。この場合、排気ダクト内を、酸性のＳＰＭ液のミストと、アルカリ性のＳＣ１液のミストが流れるため、ＳＰＭ液とＳＣ１液とが反応して、排気ダクト内に生成物が付着するという問題がある。
【０００５】
ところで、排気ダクト内に水スプレーノズルを設け、排気ダクト内に詰まった薬品の結晶を取り除く排気システムが開示されている（例えば、特許文献１参照）。ここでは、排気ダクト内を流れる薬品の蒸気が、冷却コイルによって冷却されることにより付着した結晶を洗浄する排気システムについて記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平８−１０７０９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上述したように、複数の処理液を用いてウエハを処理する液処理装置においては、排気ダクトに、ミスト状の酸性のＳＰＭ液と、ミスト状のアルカリ性のＳＣ１液とが流れる。このため、排気ダクト内に、ＳＰＭ液とＳＣ１液とにより生成された生成物が付着し、排気ダクトの流路断面積が減少し、排気効率が低下するという問題がある。また、このような生成物は、ダンパー等の開閉弁にも付着し、開閉弁の開閉動作に支障をきたすという問題もある。
【０００８】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、酸性処理液とアルカリ性処理液とにより生成される生成物が付着することを防止し、排気効率を向上させることができる液処理装置、液処理方法、およびこの液処理方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、被処理体に、酸性処理液を供給する酸性処理液供給部と、アルカリ性処理液を供給するアルカリ性処理液供給部とを有する液処理部と、前記液処理部に連結された主排気ダクトと、前記主排気ダクトに排気方向下流側から順にそれぞれ連結され、前記液処理部内の雰囲気を排出する複数の個別排気ダクトと、前記主排気ダクトと、前記複数の個別排気ダクトの各々との間に設けられた複数の排気開閉弁であって、前記複数の排気開閉弁のうち一の排気開閉弁は、前記被処理体に酸性処理液が供給されている際に開となり、他の一の排気開閉弁は、前記被処理体にアルカリ性処理液が供給されている際に開となるような、前記複数の排気開閉弁と、を備え、前記主排気ダクトは、前記複数の個別排気ダクトのうち排気方向最上流側に位置する個別排気ダクトへ分岐する分岐部を有し、前記液処理部と前記主排気ダクトの前記分岐部との間に、洗浄流体を噴出する洗浄流体噴出部が設けられ、前記洗浄流体噴出部は、前記複数の個別排気ダクトのうち排気方向最下流側に位置する個別排気ダクトに対応する排気開閉弁を開くと共に他の排気開閉弁を閉じた状態で、洗浄流体を噴出することを特徴とする液処理装置を提供する。
【００１０】
なお、上述した液処理装置において、前記液処理部と前記主排気ダクトの前記分岐部との間に主排気開閉弁が設けられ、前記洗浄流体噴出部は、前記液処理部と前記主排気開閉弁との間に設けられた第１洗浄流体ノズルと、前記主排気開閉弁と前記主排気ダクトの前記分岐部との間に設けられた第２洗浄流体ノズルと、を有し、前記第１洗浄流体ノズルおよび前記第２洗浄流体ノズルは、排気方向最下流側に位置する前記個別排気ダクトに対応する前記排気開閉弁を開くと共に前記他の排気開閉弁を閉じた状態で、洗浄流体を噴出する、ことが好ましい。
【００１１】
また、上述した液処理装置において、前記洗浄流体噴出部は、洗浄流体として、ミスト状の洗浄液を噴出する、ことが好ましい。
【００１２】
また、上述した液処理装置において、排気方向最下流側に位置する前記個別排気ダクトに、液体と気体とを分離する気液分離部が設けられている、ことが好ましい。
【００１３】
また、上述した液処理装置において、前記液処理部に前記被処理体を搬入出する搬送機構を更に備え、前記洗浄流体噴出部は、前記液処理部において前記搬送機構により前記被処理体を搬入出する際に、洗浄流体を噴出する、ことが好ましい。
【００１４】
本発明は、被処理体に、酸性処理液を供給する酸性処理液供給部と、アルカリ性処理液を供給するアルカリ性処理液供給部とを有する液処理部と、前記液処理部に連結された主排気ダクトと、前記主排気ダクトに排気方向下流側から順にそれぞれ連結され、前記液処理部内の雰囲気を排出する複数の個別排気ダクトと、前記主排気ダクトと、前記複数の個別排気ダクトの各々との間に設けられた複数の排気開閉弁であって、前記複数の排気開閉弁のうち一の排気開閉弁は、前記被処理体に酸性処理液が供給されている際に開となり、他の一の排気開閉弁は、前記被処理体にアルカリ性処理液が供給されている際に開となるような、前記複数の排気開閉弁と、を備え、前記主排気ダクトは、前記複数の個別排気ダクトのうち排気方向最上流側に位置する個別排気ダクトへ分岐する分岐部を有し、前記液処理部と前記主排気ダクトの前記分岐部との間に、洗浄流体を噴出する洗浄流体噴出部が設けられた液処理装置を用いて前記被処理体を処理する液処理方法において、前記酸性処理液供給部から前記被処理体に酸性処理液を供給する工程と、前記アルカリ性処理液供給部から前記被処理体にアルカリ性処理液を供給する工程と、前記複数の個別排気ダクトのうち排気方向最下流側に位置する個別排気ダクトに対応する排気開閉弁を開くと共に他の排気開閉弁を閉じて、前記洗浄流体噴出部から洗浄流体を噴出する工程と、を備えたことを特徴とする液処理方法を提供する。
【００１５】
なお、上述した液処理方法において、前記液処理部と前記主排気ダクトの前記分岐部との間に主排気開閉弁が設けられ、前記洗浄流体噴出部は、前記液処理部と前記主排気開閉弁との間に設けられた第１洗浄流体ノズルと、前記主排気開閉弁と前記主排気ダクトの前記分岐部との間に設けられた第２洗浄流体ノズルと、を有し、前記洗浄流体を噴出する工程において、排気方向最下流側に位置する前記個別排気ダクトに対応する前記排気開閉弁を開くと共に前記他の排気開閉弁を閉じて、前記第１洗浄流体ノズルおよび前記第２洗浄流体ノズルから洗浄流体が噴出される、ことが好ましい。
【００１６】
また、上述した液処理方法において、前記洗浄流体を噴出する工程において、洗浄流体として、ミスト状の洗浄液が噴出される、ことが好ましい。
【００１７】
また、上述した液処理方法において、排気方向最下流側に位置する前記個別排気ダクトに、液体と気体とを分離する気液分離部が設けられており、前記洗浄流体噴出部から噴出された洗浄流体は、前記気液分離部において、液体と気体とに分離される、ことが好ましい。
【００１８】
また、上述した液処理方法において、前記液処理部において前記被処理体を搬入出する際に、前記洗浄流体を噴出する工程が行われる、ことが好ましい。
【００１９】
本発明は、被処理体に、酸性処理液を供給する酸性処理液供給部と、アルカリ性処理液を供給するアルカリ性処理液供給部とを有する液処理部と、前記液処理部に連結された主排気ダクトと、前記主排気ダクトに排気方向下流側から順にそれぞれ連結され、前記液処理部内の雰囲気を排出する複数の個別排気ダクトと、前記主排気ダクトと、前記複数の個別排気ダクトの各々との間に設けられた複数の排気開閉弁であって、前記複数の排気開閉弁のうち一の排気開閉弁は、前記被処理体に酸性処理液が供給されている際に開となり、他の一の排気開閉弁は、前記被処理体にアルカリ性処理液が供給されている際に開となるような、前記複数の排気開閉弁と、を備え、前記主排気ダクトは、前記複数の個別排気ダクトのうち排気方向最上流側に位置する個別排気ダクトへ分岐する分岐部を有し、前記液処理部と前記主排気ダクトの前記分岐部との間に、洗浄流体を噴出する洗浄流体噴出部が設けられた液処理装置を用いて前記被処理体を処理する液処理方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体であって、この液処理方法は、前記酸性処理液供給部から前記被処理体に酸性処理液を供給する工程と、前記アルカリ性処理液供給部から前記被処理体にアルカリ性処理液を供給する工程と、前記複数の個別排気ダクトのうち排気方向最下流側に位置する個別排気ダクトに対応する排気開閉弁を開くと共に他の排気開閉弁を閉じて、前記洗浄流体噴出部から洗浄流体を噴出する工程と、を備えたことを特徴とする記録媒体を提供する。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、複数の個別排気ダクトのうち排気方向最下流側に位置する個別排気ダクトに対応する排気開閉弁を開くと共に、他の排気開閉弁を閉じた状態で、主排気ダクトの分岐部の液処理部側において洗浄流体噴出部から洗浄流体が噴出される。このことにより、噴出された洗浄流体は、主排気ダクトを通って排気方向最下流側の個別排気ダクトに排出される。このため、洗浄流体を、主排気ダクト、当該排気方向最下流側の個別排気ダクト、各排気開閉弁に行き渡らせることができ、これらの部分に酸性処理液とアルカリ性処理液とにより生成される生成物が付着することを防止することができる。この結果、主排気ダクト内の流路断面積が減少することを防止すると共に、各排気開閉弁の動作不良を防止することができ、液処理部の排気効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】図１は、本発明の実施の形態における液処理装置の構成の一例を示す平面断面図。
【図２】図２は、本発明の実施の形態における液処理装置において、液処理部の構成を示す概略面図。
【図３】図３は、本発明の実施の形態における液処理装置において、排気機構の構成を示す概略図。
【図４】図４は、本発明の実施の形態における液処理方法のフローチャートを示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態における液処理装置、液処理方法、およびこの液処理方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体について説明する。
【００２３】
まず、図１により、液処理装置１０の全体構成について説明する。
【００２４】
図１に示すように、液処理装置１０は、複数の被処理体（例えば、半導体ウエハ、以下単にウエハＷと記す）を水平状態で収容するウエハキャリアＣが載置され、ウエハＷの搬入および搬出を行う搬入出ステーション２０と、搬入出ステーション２０に隣接して設けられ、ウエハＷを処理する処理ステーション３０とを備えている。
【００２５】
搬入出ステーション２０は、ウエハキャリアＣを載置するキャリア載置部２１と、ウエハＷを搬送する搬送部２２と、ウエハＷを処理ステーション３０に受け渡す受渡部２３とを有している。このうち搬送部２２には、キャリア載置部２１と受渡部２３との間でウエハＷを搬送するキャリア側搬送機構２４が設けられている。受渡部２３には、ウエハＷを載置する受渡棚２５が設けられており、この受渡棚２５にウエハＷを載置することにより、処理ステーション３０にウエハＷを受け渡すようになっている。
【００２６】
処理ステーション３０は、ウエハＷを処理する複数の液処理部４０と、受取棚２５と液処理部４０との間でウエハＷを搬送し、各液処理部４０にウエハＷを搬入出する液処理部側搬送機構（搬送機構）３１とを有している。複数の液処理部４０は、並列する２つの列をなすように配置されており、液処理部４０の列の間に液処理部側搬送機構３１が配置されている。このようにして、各液処理部４０において、ウエハＷが処理されるようになっている。また、液処理部側搬送機構３１は、各々がウエハＷを保持可能な２つの保持アーム３１ａを有している。２つの保持アーム３１ａは、上下方向に配置されており、図１においては、上側の保持アーム３１ａのみを示している。
【００２７】
各液処理部４０の下方には、液処理部４０に酸性処理液、アルカリ性処理液、有機性処理液、およびリンス処理液を供給する供給源（図示せず）が、それぞれ設けられている。また、各液処理部４０の下方には、各液処理部４０内の雰囲気を排出する排気機構６０（図３参照）が設けられている。
【００２８】
次に、図２を用いて、液処理部４０について説明する。
【００２９】
図２に示すように、液処理部４０は、枚葉式にウエハＷが搬入出されて処理される液処理室４１と、液処理室４１内に設けられ、ウエハＷが保持される回転自在な回転プレート４２とを有している。この回転プレート４２には、回転駆動軸４３を介して、回転モータ４４が連結されており、ウエハＷは、回転プレート４２の周縁部において保持部材４２ａにより保持され、回転モータ４４を駆動することによって水平面内で回転するようになっている。
【００３０】
また、液処理部４０は、回転プレート４２に保持されたウエハＷにＳＰＭ液（酸性処理液）を吐出（供給）する酸ノズル（酸性処理液供給部）４５と、ＳＣ１液（アルカリ性処理液）を吐出するアルカリノズル（アルカリ性処理液供給部）４６とを有している。このうち酸ノズル４５には、ＳＰＭ液の供給源（図示せず）が連結され、アルカリノズル４６には、ＳＣ１液の供給源（図示せず）が連結されている。また、液処理部４０は、純水（リンス処理液）を吐出するリンスノズル（リンス液供給部）４７を有しており、リンスノズル４７には、純水の供給源（図示せず）が連結されている。さらに、液処理部４０は、図示しないが、ＩＰＡ液（有機性処理液）を吐出する有機ノズル（有機性処理液供給部）が設けられており、有機ノズルには、ＩＰＡ液の供給源が連結されている。
【００３１】
なお、図２に示すように、回転駆動軸４３には、回転プレート４２に保持されたウエハＷの裏面に純水およびＮ２ガスをそれぞれ供給可能な供給管４８が設けられていても良い。この場合、ウエハＷの裏面を洗浄することができる。
【００３２】
回転プレート４２の周辺には、ウエハＷに吐出されて飛散した処理液や、それらのミストを案内するための案内カップ５０が設けられている。この案内カップ５０には、シリンダ等の昇降駆動部４９が連結されており、案内カップ５０は、回転プレート４２に保持されたウエハＷに対して、昇降自在になっている。また、案内カップ５０は、三段構成となっており、ウエハＷをＳＰＭ液により処理する際に、ウエハＷから飛散したＳＰＭ液を案内する下段カップ部５１と、ウエハＷをＳＣ１液により処理する際に、ウエハＷから飛散したＳＣ１液を案内する中段カップ部５２と、ウエハＷをＩＰＡ液により処理する際に、ウエハＷから飛散したＩＰＡ液を案内する上段カップ部５３とを有している。下段カップ部５１には、下段排液管５４が連結されており、下段カップ部５１内のＳＰＭ液は、図示しないポンプにより下段排液管５４を通って回収されるようになっている。同様に、中段カップ部５２および上段カップ部５３に、中段排液管５５、上段排液管５６がそれぞれ連結され、各処理液は各排液管５５、５６から排液されるようになっている。また、回転プレート４２の下方には、回転プレート４２の下方に回り込んだ処理液を排液する下方排液管５７が設けられている。
【００３３】
また、液処理部４０には、液処理部４０内の雰囲気を排出する排気機構６０が連結されている。この排気機構６０について、図３を用いて、以下に詳細に説明する。
【００３４】
図３に示すように、排気機構６０は、液処理部４０に連結された主排気ダクト６４と、主排気ダクト６４に、（図３中の矢印で示す）排気方向下流側から順にそれぞれ連結された複数の個別排気ダクト（酸排気ダクト６１、アルカリ排気ダクト６２、および有機排気ダクト６３）と、を有している。このうち酸排気ダクト６１は、液処理部４０（あるいは液処理室４１）内の主に酸処理時の雰囲気を排出し、アルカリ排気ダクト６２は、液処理部４０内のアルカリ処理時の雰囲気を排出するようになっている。また、有機排気ダクト６３は、液処理部４０内の乾燥処理時の雰囲気を排出するようになっている。なお、酸排気ダクト６１の上方に、アルカリ排気ダクト６２が配置され、アルカリ排気ダクト６２の上方に、有機排気ダクト６３が配置されている。すなわち、図３に示す本実施の形態においては、排気方向最下流側に酸排気ダクト６１が位置すると共に、排気方向最上流側に有機排気ダクト６３が位置している。
【００３５】
主排気ダクト６４は、アルカリ排気ダクト６２へ分岐する第１分岐部６４ａと、有機排気ダクト６３へ分岐する第２分岐部６４ｂと、を有している。すなわち、第２分岐部６４ｂにおいて、主排気ダクト６４内の排気の流路は、第１分岐部６４ａへの流路と、有機排気ダクト６３への流路とに分岐され、第１分岐部６４ａにおいて、酸排気ダクト６１への流路とアルカリ排気ダクト６２への流路とに分岐されるようになっている。
【００３６】
主排気ダクト６４と、各排気ダクト６１、６２、６３との間には、複数の排気開閉弁（ダンパー）７１、７２、７３が設けられている。すなわち、主排気ダクト６４と酸排気ダクト６１との間には、回転しているウエハＷにＳＰＭ液が供給されている際（酸性処理時）に開となる酸ダンパー７１が設けられている。同様に、主排気ダクト６４とアルカリ排気ダクト６２との間には、回転しているウエハＷにＳＣ１液が供給されている際（アルカリ性処理時）に開となるアルカリダンパー７２が設けられると共に、主排気ダクト６４と有機排気ダクト６３との間には、回転しているウエハＷにＩＰＡ液が供給されている際（乾燥処理時）に開となる有機ダンパー７３が設けられている。なお、酸ダンパー７１、アルカリダンパー７２、有機ダンパー７３には、後述する制御部９０が接続されており、各ダンパー７１、７２、７３は、制御部９０からの制御信号に基づいて、それぞれ、開閉するようになっている。
【００３７】
液処理部４０と主排気ダクト６４の第２分岐部６４ｂとの間に、主排気ダンパー（主排気開閉弁）７７が設けられている。この主排気ダンパー７７は、処理に用いられる処理液の種類にかかわらず、ウエハＷを処理している間には開となるように設定されている。また、液処理部４０と主排気ダンパー７７との間には、主排気連結管７８が介在されている。なお、主排気ダンパー７７には、後述する制御部９０が接続されており、主排気ダンパー７７は、制御部９０からの制御信号に基づいて、開閉するようになっている。
【００３８】
図３に示すように、酸排気ダクト６１には、液処理装置１０の各液処理部４０内の主に酸性処理時の雰囲気を排出する酸排気共通ダクト７４が連結され、液処理部４０内の雰囲気が酸排気ダクト６１を通って酸排気共通ダクト７４に排出されるようになっている。同様に、アルカリ排気ダクト６２には、各液処理部４０内のアルカリ処理時の雰囲気を排出するアルカリ排気共通ダクト７５が連結され、液処理部４０内の雰囲気がアルカリ排気ダクト６２を通ってアルカリ排気共通ダクト７５に排出されるようになっている。また、有機排気ダクト６３には、各液処理部４０内の乾燥処理時の雰囲気を排出する有機排気共通ダクト７６が連結され、液処理部４０内の雰囲気が有機排気ダクト６３を通って有機排気共通ダクト７６に排出されるようになっている。
【００３９】
このような酸排気共通ダクト７４、アルカリ排気共通ダクト７５、および有機排気共通ダクト７６は、図１に示す処理ステーション３０の液処理部４０の下方において、液処理部４０の列の方向に延び、各液処理部４０内の雰囲気をそれぞれ排出するようになっている。なお、酸排気共通ダクト７４、アルカリ排気共通ダクト７５、および有機排気共通ダクト７６は、図３において、酸排気ダクト６１、アルカリ排気ダクト６２、および有機排気ダクト６３の奥側に配置されている。
【００４０】
酸排気共通ダクト７４、アルカリ排気共通ダクト７５、および有機排気共通ダクト７６には、処理液のミストを含む排気から、液体と気体とを分離するミストトラップ（気液分離部）６５、６６、６７がそれぞれ設けられている。ミストトラップ６５において分離されたＳＰＭ液は、ドレイン６８を通って回収され、ミストトラップ６６、６７において分離された処理液は、ドレイン６９、７０を通ってそれぞれ排液される。
【００４１】
また、酸排気共通ダクト７４、アルカリ排気共通ダクト７５、および有機排気共通ダクト７６には、吸引駆動部７９ａ、７９ｂ、７９ｃがそれぞれ設けられており、酸排気共通ダクト７４、アルカリ排気共通ダクト７５、有機排気共通ダクト７６内が吸引されて、各液処理部４０内の雰囲気が排出されるようになっている。
【００４２】
液処理部４０と主排気ダクト６４の第２分岐部６４ｂとの間には、洗浄流体を噴出する洗浄流体噴出部８０が設けられている。すなわち、図３に示すように、洗浄流体噴出部８０は、液処理部４０と主排気ダンパー７７との間（すなわち、主排気連結管７８）に設けられた第１洗浄流体ノズル８１と、主排気ダンパー７７と主排気ダクト６４の第２分岐部６４ｂとの間に設けられた第２洗浄流体ノズル８２と、を有している。第１洗浄流体ノズル８１および第２洗浄流体ノズル８２は、主排気ダクト６４内を洗浄する洗浄液体に気体を混合して、洗浄流体として、ミスト状の洗浄液（微小な粒径を有する洗浄液滴）を噴出する２流体ノズルとしてそれぞれ構成されている。このような第１洗浄流体ノズル８１および第２洗浄流体ノズル８２には、図示しない純水の供給源から純水が供給されると共に、図示しない不活性ガスの供給源から不活性ガスとしてのＮ２ガスが供給され、純水とＮ２ガスとが混合されて噴出されるようになっている。なお、第１洗浄流体ノズル８１および第２洗浄流体ノズル８２には、後述する制御部９０が接続されており、各洗浄流体ノズル８１、８２は、制御部９０からの制御信号に基づいて、それぞれ、洗浄流体を噴出するようになっている。
【００４３】
液処理装置１０は、第１洗浄流体ノズル８１、第２洗浄流体ノズル８２、酸ダンパー７１、アルカリダンパー７２、有機ダンパー７３、および主排気ダンパー７７を制御する制御部９０を有している。この制御部９０は、酸ダンパー７１および主排気ダンパー７７を開くと共に、アルカリダンパー７２および有機ダンパー７３を閉じた状態で、第１洗浄流体ノズル８１および第２洗浄流体ノズル８２から洗浄流体を噴出するように、各ダンパー７１、７２、７３、７７、および各洗浄流体ノズル８１、８２を制御する。また、制御部９０は、液処理部４０において液処理部側搬送機構３１によりウエハＷを搬入出する際に、第１洗浄流体ノズル８１および第２洗浄流体ノズル８２から洗浄流体を噴出させるように、各洗浄流体ノズル８１、８２を制御する。
【００４４】
ところで、図３に示すように、制御部９０には、工程管理者等が液処理装置１０を管理するために、コマンドの入力操作等を行うキーボードや、液処理装置１０の稼働状況等を可視化して表示するディスプレイ等からなる入出力装置９１が接続されている。また、制御部９０は、液処理装置１０で実行される処理を実現するためのプログラム等が記録された記録媒体９２にアクセス可能となっている。記録媒体９２は、ＲＯＭおよびＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、およびフレキシブルディスク等のディスク状記録媒体等、既知の記録媒体から構成され得る。このようにして、制御部９０が、記録媒体９２に予め記録されたプログラム等を実行することによって、液処理装置１０においてウエハＷの処理が行われるようになっている。
【００４５】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用、すなわち本実施の形態による液処理方法について説明する。なお、以下に説明する液処理方法を実行するための各構成要素の動作は、予め記録媒体９２に記録されたプログラムに基づいた制御部９０からの制御信号によって制御される。
【００４６】
まず、図４に示すように、液処理部４０内にウエハＷが搬入される（ステップＳ１）。この場合、まず、図１に示すように、搬入出ステーション２０のキャリア載置部２１に、処理前のウエハＷが収容されたウエハキャリアＣが載置され、キャリア側搬送機構２４により、このウエハキャリアＣから受渡部２３にウエハＷが搬送されて、受渡棚２５に載置される。続いて、処理ステーション３０の液処理部側搬送機構３１により、ウエハＷは、受渡部２３から液処理部４０に搬送されて、液処理部４０内に搬入される。搬入されたウエハＷは、図２に示す液処理部４０の回転プレート４２に保持部材４２ａによって保持される。なお、吸引駆動部７９ａ、７９ｂ、７９ｃは予め駆動されているが、液処理部４０にウエハＷを搬入している間、図３に示す排気機構６０の酸ダンパー７１および主排気ダンパー７７が開き、アルカリダンパー７２および有機ダンパー７３は閉じられる。このようにして、液処理部４０内の雰囲気が、主排気ダクト６４および酸排気ダクト６１を通って酸排気共通ダクト７４に排出される。
【００４７】
続いて、回転モータ４４により、ウエハＷを保持した回転プレート４２が回転駆動される（ステップＳ２）。
【００４８】
次に、ウエハＷが、ＳＰＭ液を用いて薬液処理（酸性処理）される（ステップＳ３）。この場合、図示しないＳＰＭ液の供給源から酸ノズル４５にＳＰＭ液が供給され、酸ノズル４５から、回転しているウエハＷの表面にＳＰＭ液が吐出されて、ウエハＷがＳＰＭ液により薬液処理される。この間、ウエハＷに対向する位置に、下段カップ部５１が位置付けられており、ウエハＷの表面に吐出されたＳＰＭ液は、遠心力を受けて、下段カップ部５１に飛散する。下段カップ部５１に飛散したＳＰＭ液は、下段排液管５４を通って回収される。また、この間、酸ダンパー７１が開いているため、液処理部４０内の雰囲気が、主排気ダクト６４および酸排気ダクト６１を通って酸排気共通ダクト７４に排出される。所定時間経過した後、ＳＰＭ液の吐出が止められ、ウエハＷ上のＳＰＭ液が、遠心力を受けて振り切られる。
【００４９】
ウエハＷのＳＰＭ液による処理が終了した後、ウエハＷがリンス処理される（ステップＳ４）。この場合、図示しない純水の供給源からリンスノズル４７に純水が供給され、リンスノズル４７から、回転しているウエハＷの表面に純水が吐出されて、ウエハＷが純水によりリンス処理される。ウエハＷがリンス処理されている間、ウエハＷに対向する位置に、下段カップ部５１が対向しているため、ウエハＷの表面に吐出された純水は、ＳＰＭ液と同様に、下段カップ部５１に飛散し、下段排液管５４を通って回収される。また、この間、酸ダンパー７１が開いているため、液処理部４０内の雰囲気が、主排気ダクト６４および酸排気ダクト６１を通って酸排気共通ダクト７４に排出される。
【００５０】
次に、ウエハＷが、ＳＣ１液を用いて薬液処理（アルカリ性処理）される（ステップＳ５）。この場合、まず、昇降駆動部４９により、案内カップ５０が下降し、ウエハＷに対向する位置に中段カップ部５２が位置付けられる。また、酸ダンパー７１が閉じられると共に、アルカリダンパー７２が開く。続いて、図示しないＳＣ１液の供給源からアルカリノズル４６にＳＣ１液が供給され、アルカリノズル４６から、回転しているウエハＷの表面にＳＣ１液が吐出されて、ウエハＷがＳＣ１液により薬液処理される。この間、ウエハＷの表面に吐出されたＳＣ１液は、ウエハＷの遠心力を受けて、中段カップ部５２に飛散する。中段カップ部５２に飛散したＳＣ１液は、中段排液管５５を通って排液される。また、この間、アルカリダンパー７２が開いているため、液処理部４０内の雰囲気が、主排気ダクト６４およびアルカリ排気ダクト６２を通ってアルカリ排気共通ダクト７５に排出される。
【００５１】
ウエハＷのＳＣ１液による処理が終了した後、ウエハＷがリンス処理される（ステップＳ６）。この場合、図示しない純水の供給源からリンスノズル４７に純水が供給され、リンスノズル４７から、回転しているウエハＷの表面に純水が吐出されて、ウエハＷが純水によりリンス処理される。ウエハＷがリンス処理されている間、ウエハＷに、中段カップ部５２が対向しているため、ウエハＷの表面に吐出された純水は、ＳＣ１液と同様に、中段カップ部５２に飛散し、中段排液管５５を通って排液される。また、この間、アルカリダンパー７２が開いているため、液処理部４０内の雰囲気が、主排気ダクト６４およびアルカリ排気ダクト６２を通ってアルカリ排気共通ダクト７５に排出される。
【００５２】
次に、ウエハＷが、ＩＰＡ液を用いて乾燥処理される（ステップＳ７）。この場合、まず、昇降駆動部４９により、ウエハＷに対向する位置に上段カップ部５３が位置付けられる。また、アルカリダンパー７２が閉じられると共に、有機ダンパー７３が開く。続いて、図示しないＩＰＡ液の供給源から有機ノズル（図示せず）にＩＰＡ液が供給され、有機ノズルから、回転しているウエハＷの表面にＩＰＡ液が吐出されて、ウエハＷがＩＰＡ液により乾燥処理される。この間、ウエハＷの表面に吐出されたＩＰＡ液は、ウエハＷの遠心力を受けて、上段カップ部５３に飛散する。上段カップ部５３に飛散したＩＰＡ液は、上段排液管５６を通って排液される。また、この間、有機ダンパー７３が開いているため、液処理部４０内の雰囲気が、主排気ダクト６４および有機排気ダクト６３を通って有機排気共通ダクト７６に排出される。
【００５３】
このようにして、ウエハＷの処理が終了する。
【００５４】
その後、ウエハＷが、液処理室４１から搬出される（ステップＳ８）。この場合、まず、図１に示すように、処理ステーション３０の液処理部側搬送機構３１により、処理が終了したウエハＷが液処理部４０から搬出されて搬入出ステーション２０の受渡部２３に搬送され、受渡棚２５に載置される。続いて、搬入出ステーション２０のキャリア側搬送機構２４により、受渡棚２５からキャリア載置部２１に載置されたウエハキャリアＣに収容される。その後、処理済みのウエハＷが収容されたウエハキャリアＣがキャリア載置部２１から搬出される。液処理部４０からウエハＷを搬出している間、排気機構６０の酸ダンパー７１が開き、アルカリダンパー７２および有機ダンパー７３が閉じられる。このことにより、液処理部４０内の雰囲気が、主排気ダクト６４および酸排気ダクト６１を通って酸排気共通ダクト７４に排出される。
【００５５】
ところで、ステップＳ８とＳ１とにより、液処理室４１に対してウエハＷの搬入出を行っている間、排気機構６０、すなわち、主排気ダクト６４、酸排気ダクト６１、酸排気共通ダクト７４、および各ダンパー７１、７２、７３、７７の洗浄が行われる（ステップＳ９）。なお、ウエハＷの搬入出を行う際、上述したように、液処理部側搬送機構３１が２つの保持アーム３１ａを有しているため、液処理部側搬送機構が液処理部４０にアクセスした後、液処理部側搬送機構３１の２つの保持アーム３１ａのうちの一方の保持アーム３１ａが、処理済みのウエハＷを液処理部４０から搬出すると共に、他方の保持アーム３１ａが、処理前のウエハＷを液処理部４０に搬入することができる。このことにより、液処理部４０に対するウエハＷの搬入出を迅速に行うことができる。
【００５６】
排気機構６０の洗浄を行う場合、まず、第１洗浄流体ノズル８１および第２洗浄流体ノズル８２に、図示しない純水の供給源から純水が供給されると共に、図示しない不活性ガスの供給源からＮ２ガスが供給され、純水とＮ２ガスが混合されて、第１洗浄流体ノズル８１および第２洗浄流体ノズル８２から噴出される。この間、酸ダンパー７１が開いているため、第１洗浄流体ノズル８１から噴出された洗浄流体は、主排気ダンパー７７を通って、主排気ダクト６４に流れる。この第１洗浄流体ノズル８１からの洗浄流体は、第２洗浄流体ノズル８２から噴出された洗浄流体と共に、主排気ダクト６４および酸ダンパー７１を通って、酸排気ダクト６１、酸排気共通ダクト７４に順次流れていく。このことにより、各ダクト６４、６１、７４内および各ダンパー７１、７２、７３、７７に付着したＳＰＭ液およびＳＣ１液、更にはＳＰＭ液とＳＣ１液とが反応して生成された生成物を洗い流すことができ、各ダクト６４、６１、７４内および各ダンパー７１、７２、７３、７７を洗浄することができる。
【００５７】
なお、アルカリダンパー７２および有機ダンパー７３は、閉じてはいるが、完全に閉塞していることはなく、微小な流路が形成されている。このため、第１洗浄流体ノズル８１および第２洗浄流体ノズル８２から噴出された洗浄流体の一部は、アルカリ排気ダクト６２および有機排気ダクト６３にも流れる。このため、アルカリ排気ダクト６２、アルカリ排気共通ダクト７５、有機排気ダクト６３、および有機排気共通ダクト７６をも洗浄することができる。
【００５８】
酸排気共通ダクト７４、アルカリ排気共通ダクト７５、および有機排気共通ダクト７６に流れた洗浄流体は、ミストトラップ６５、６６、６７において、液体と気体とに分離され、ミストトラップ６５において分離されたＳＰＭ液は、ドレイン６８を通って回収され、ミストトラップ６６、６７において分離された処理液は、ドレイン６９、７０を通ってそれぞれ排液される。
【００５９】
上述したようなステップＳ１〜Ｓ９を繰り返すことにより、ウエハＷを順次処理すると共に、排気機構６０を洗浄することができる。
【００６０】
このように本実施の形態によれば、酸ダンパー７１を開くと共に、アルカリダンパー７２および有機ダンパー７３を閉じた状態で、主排気ダクト６４の第２分岐部６４ｂの液処理部４０側において、第１洗浄流体ノズル８１から洗浄流体が噴出される。このことにより、噴出された洗浄流体は、主排気ダクト６４を通って排気方向の最下流側の酸排気ダクト６１に排出される。このため、洗浄流体を、主排気ダクト６４、酸排気ダクト６１、酸排気共通ダクト７４、酸ダンパー７１、アルカリダンパー７２、および有機ダンパー７３に行き渡らせることができ、ＳＰＭ液とＳＣ１液とにより生成される生成物が、各ダクト６４、６１、７４および各ダンパー７１、７２、７３に付着することを防止することができる。この結果、各ダクト６４、６１、７４内の流路断面積が減少することを防止すると共に、各ダンパー７１、７２、７３の動作不良を防止することができ、液処理部４０の排気効率を向上させることができる。また、上述したように、アルカリダンパー７２および有機ダンパー７３は、完全に閉塞してはいないため、アルカリ排気ダクト６２、アルカリ排気共通ダクト７５、有機排気ダクト６３、有機排気共通ダクト７６をも洗浄することができる。
【００６１】
また、本実施の形態によれば、液処理部４０と主排気ダンパー７７との間において、第２洗浄流体ノズル８２から洗浄流体が噴出され、主排気ダンパー７７および主排気ダクト６４を通って、酸排気ダクト６１に排出される。このことにより、主排気連結管７８および主排気ダンパー７７に、洗浄流体を行き渡らせることができ、ＳＰＭ液とＳＣ１液とにより生成される生成物が、主排気連結管７８および主排気ダンパー７７に付着することを防止することができる。このため、主排気連結管７８内の流路断面積が減少することを防止すると共に、主排気ダンパー７７の動作不良を防止することができ、液処理部４０の排気効率を向上させることができる。
【００６２】
また、本実施の形態によれば、第１洗浄流体ノズル８１および第２洗浄流体ノズル８２は、２流体ノズルとして構成されていることにより、ミスト状に噴出される洗浄流体の粒子を細かくすることができる。このため、洗浄流体を、各洗浄流体ノズル８１、８２から排気方向下流側に、より一層広範囲に行き渡らせることができ、各ダクト６４、６１、６２、６３、７４、７５、７６、および各ダンパー７１、７２、７３、７７を、より一層確実に洗浄することができる。
【００６３】
さらに、本実施の形態によれば、液処理部４０においてウエハＷを搬入出する際に、第１洗浄流体ノズル８１および第２洗浄流体ノズル８２から洗浄流体が噴出される。このことにより、ウエハＷを薬液処理、リンス処理、乾燥処理している間に、各排気ダクト６１、６２、６３の排気に影響を及ぼすことを防止すると共に、ウエハＷの処理工程が遅延することを防止し、各ダクト６４、６１、６２、６３、７４、７５、７６、各ダンパー７１、７２、７３、７７を効率良く洗浄することができる。
【００６４】
以上、本発明による実施の形態について説明してきたが、当然のことながら、本発明の要旨の範囲内で、種々の変形も可能である。以下、代表的な変形例について説明する。
【００６５】
すなわち、本実施の形態においては、液処理部４０と主排気ダクト６４の第２分岐部６４ｂとの間に主排気ダンパー７７が設けられ、洗浄流体噴出部８０が、液処理部４０と主排気ダンパー７７との間に設けられた第１洗浄流体ノズル８１と、主排気ダンパー７７と主排気ダクト６４の第２分岐部６４ｂとの間に設けられた第２洗浄流体ノズル８２とを有している例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、液処理部４０と主排気ダクト６４との間に主排気ダンパー７７が設けられていない場合には、洗浄流体噴出部８０は、第２洗浄流体ノズル８２のみからなっていても良い。
【００６６】
また、本実施の形態においては、第１洗浄流体ノズル８１および第２洗浄流体ノズル８２が、２流体ノズルとして構成されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、第１洗浄流体ノズル８１および第２洗浄流体ノズル８２は、洗浄流体として、ミスト状の洗浄液を噴出することができれば、２流体ノズルとして構成されていることに限られることはない。また、第１洗浄流体ノズル８１および第２洗浄流体ノズル８２は、純水とＮ２ガスとを混合して噴出する例について述べたが、洗浄流体として用いる液体、気体は、このことに限られることはない。
【００６７】
また、本実施の形態においては、液処理部４０においてウエハＷを搬入出する度に、第１洗浄流体ノズル８１および第２洗浄流体ノズル８２から洗浄流体を噴出させる例について述べた。しかしながら、このことに限られることはなく、複数枚のウエハＷを順次処理した後に、第１洗浄流体ノズル８１および第２洗浄流体ノズル８２から洗浄流体を噴出させても良い。
【００６８】
また、本実施の形態においては、案内カップ５０が、回転プレート４２に保持されたウエハＷに対して昇降自在になっている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、回転プレート４２の周辺に、案内カップ５０が固定され、回転プレート４２が、液処理室４１内で昇降し、下段カップ部５１、中段カップ部５２、および上段カップ部５３に、処理液がそれぞれ案内されるようにしても良い。
【００６９】
また、本実施の形態においては、主排気ダクト６４のうち排気方向の最下流側に、酸排気ダクト６１が連結され、酸ダンパー７１を開くと共にアルカリダンパー７２および有機ダンパー７３を閉じた状態で洗浄流体が噴出される例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、主排気ダクト６４のうち排気方向の最下流側に、アルカリ排気ダクト６２が連結されるようにしても良い。この場合、アルカリダンパー７２を開く共に酸ダンパー７１および有機ダンパー７３を閉じた状態で洗浄流体を噴出させれば良い。あるいは、同様にして、主排気ダクト６４のうち排気方向の最下流側に、有機ダクト６３が連結されるようにしても良い。この場合においても、主排気ダクト６４と共に、各ダンパー７１、７２、７３を洗浄することができる。
【００７０】
さらに、本実施の形態においては、酸性処理液としてＳＰＭ液を用い、アルカリ性処理液としてＳＣ１液を用い、リンス処理液として純水を用い、有機性処理液としてＩＰＡ液を用いる例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、酸性処理液としてＨＦ（フッ化水素）やＳＣ２（塩酸と過酸化水素水の混合溶液）等を用いても良く、アルカリ性処理液としてアンモニア水等を用いても良い。また、リンス処理液および有機性処理液を含め、各処理液には一般に使用されている処理液を用いても良い。
【００７１】
なお、以上の説明においては、本発明による液処理装置、液処理方法、およびこの液処理方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体を、半導体ウエハＷの洗浄処理に適用した例を示している。しかしながらこのことに限られることはなく、ＬＣＤ基板またはＣＤ基板等、種々の基板（被処理体）等の洗浄に本発明を適用することも可能である。
【符号の説明】
【００７２】
１０    液処理装置
３１    液処理部側搬送機構
４０    液処理部
４５    酸ノズル
４６    アルカリノズル
６１    酸排気ダクト
６２    アルカリ排気ダクト
６３    有機排気ダクト
６４    主排気ダクト
６４ａ  第１分岐部
６４ｂ  第２分岐部
６５、６６、６７  ミストトラップ
７１    酸ダンパー
７２    アルカリダンパー
７３    有機ダンパー
７７    主排気ダンパー
８０    洗浄流体噴出部
８１    第１洗浄流体ノズル
８２    第２洗浄流体ノズル
Ｗ      ウエハ
【図１】
0005425745.tif 000002
【図２】
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【図３】
0005425745.tif 000004
【図４】
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