(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂（ａ１）とラジカル重合性不飽和二重結合含有モノカルボン酸（ｘ１）とを反応させて得られる構造を有する重合性化合物（Ａ）と一次平均粒子径が１０〜１００ｎｍのジルコニア粒子（Ｂ）とラジカル重合開始剤（Ｃ）を含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。
【請求項２】
前記重合性化合物（Ａ）が、１、１’−ビ−ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂（ａ１）とラジカル重合性不飽和二重結合含有モノカルボン酸（ｘ１）とを反応させて得られる構造を有する重合性化合物（ａ２）である請求項１記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項３】
前記１、１’−ビ−ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂が、１，１'−ビ−２−ナフトールとエピハロヒドリンとを反応させて得られるものである請求項２記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項４】
前記１、１’−ビ−ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂が、エポキシ当量２００〜５００ｇ／ｅｑ．のものである請求項２又は３記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項５】
前記ジルコニア粒子（Ｂ）が、一次平均粒子径が１０〜５０ｎｍのジルコニア粒子である請求項１記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項６】
更に反応性希釈剤を含有する請求項１〜５のいずれか１項記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項７】
前記反応性希釈剤が下記一般式（４）
【化１】
0005625281.tif 000012
（式中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ水素原子またはアルキル基である。Ｘはそれぞれ水素原子または水酸基である。ｍ、ｎはそれぞれ０〜５である。）で表される２官能（メタ）アクリレートモノマーである請求項６記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項８】
前記重合開始剤（Ｃ）が、光重合開始剤である請求項１〜６のいずれか１つに記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項９】
請求項８記載の硬化性樹脂組成物を活性エネルギー線照射により硬化させてなる硬化物。
【請求項１０】
請求項１〜８の何れか一つに記載の硬化性樹脂組成物を成形、硬化させてなるプラスチックレンズ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、活性エネルギー線照射又は加熱により硬化し、また、硬化後は、屈折率が高く、かつ、高耐熱性及び高耐湿性を兼備した硬化物となるため、光学用オーバーコート剤、ハードコート剤、反射防止膜、眼鏡レンズ、光ファイバー、光導波路、ホログラム等の光学部品、その他プリズムレンズ、フレネルレンズ、レンチキュラーレンズ等のプラスチックレンズに適する硬化性樹脂組成物、及びその硬化物に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学用オーバーコート剤、ハードコート剤、反射防止膜、眼鏡レンズ、光ファイバー、光導波路、ホログラム等の光学部品には、近年、加工・生産性に優れる点から樹脂材料が広く用いられており、また、光学部品の小型化、薄型化といった傾向、或いは、反射防止性の調整といった観点から屈折率の高い樹脂材料が求められている。
【０００３】
従来より、かかる要求に応える屈折率の高い光学材料として、フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂が知られており、例えば、アクリロイル基がアルキレンオキシ基を介してフルオレン骨格に結合した２官能型化合物や（下記特許文献１、特許文献２、特許文献３参照）、フルオレン骨格を含有するジグリシジルエーテルとアクリル酸又はメタクリル酸とを反応させて得られる化合物（下記特許文献４参照）が知られている。
【０００４】
然しながら、前記したフルオレン骨格を有するアクリレート樹脂は、重合性成分としてそれ単独で用いた場合には硬化物の屈折率は高くなるものの、該アクリレート樹脂自体が固形、または常温で３０００Ｐａ・Ｓ以上の高粘度液体であるために、屈折率が低い希釈剤を多量に併用する必要があり、そのため得られる硬化物の屈折率が、結局、低くなってしまうものであった。加えて、フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂の硬化物は、耐熱性、高耐湿性に劣り、光学材料の長期信頼性に劣るものであった。
【０００５】
また、高屈折率の光学材料としてはビナフトール骨格を有するポリエステル樹脂が知られている（下記特許文献５参照）。
然しながら、かかるビナフトール骨格を有するポリエステル樹脂は、重量平均分子量（Ｍｗ）が１０，０００〜１００，０００と高く、常温で固形の熱可塑性樹脂であるため、活性エネルギー線または熱硬化樹脂の用途に適用できるものでなく、更に、耐溶剤性、耐熱性、高耐湿性に劣る他、光学材料の長期信頼性も低いものであった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第３１３０５５５号
【特許文献２】特開２００７−８４８１５号公報
【特許文献３】国際公開番号ＷＯ２００５／０３３０６１
【特許文献４】特開平０３−１０６９１８号公報
【特許文献５】特開２００２−３３２３４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、本発明が解決しようとする課題は、硬化物における屈折率が高く、かつ、硬化物の耐熱性及び耐湿性にも優れる硬化性樹脂組成物、及びかかる性能を兼備した硬化物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を解決するため、鋭意検討した結果、ビナフタレン骨格とラジカル重合性不飽和結合を有する重合性化合物は、屈折率の高い硬化物が得られること、該重合性化合物と特定の無機化合物の微粒子とを組み合わせる事により硬化物の屈折率が更に高くなり、また、該硬化物は、優れた耐熱性・耐湿性を兼備できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
即ち、本発明は、ビナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂（ａ１）とラジカル重合性不飽和二重結合含有モノカルボン酸（ｘ１）とを反応させて得られる構造を有する重合性化合物（Ａ）と一次平均粒子径が１０〜１００ｎｍのジルコニア粒子（Ｂ）とラジカル重合開始剤（Ｃ）を含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物に関する。
本発明は、更に、前記硬化性樹脂組成物を活性エネルギー線照射又は加熱により硬化させてなる硬化物に関する。
本発明は、更に、前記硬化性樹脂組成物を成形、硬化させてなるプラスチックレンズに関する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、低粘度でありながら有機系光学材料として硬化物における屈折率が高く、かつ、硬化物の耐熱性及び耐湿性にも優れる硬化性樹脂組成物、及びかかる性能を兼備した硬化物を提供できる。
【００１１】
従って、本発明の（メタ）アクリレート樹脂は、光学用オーバーコート剤、ハードコート剤、反射防止膜、眼鏡レンズ、光ファイバー、光導波路、ホログラム、プリズムレンズ等の光学部品に広く適用することができ、特に眼鏡レンズ、プリズムレンズ等のプラスチックレンズに好ましく適用できる。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明で用いる重合性化合物（Ａ）は、ビナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂（ａ１）とラジカル重合性不飽和二重結合含有モノカルボン酸（ｘ１）とを反応させて得られる構造を有することを特徴とするものである。このようなビナフタレン骨格を有することから、耐熱性及び耐湿性が良好なものとなると共に、有機材料としては極めて高い１．６０以上の屈折率を有する材料となる。
【００１３】
ここでビナフタレン骨格は、１，１’−ビナフタレン骨格、１，２’−ビナフタレン骨格、２，２’−ビナフタレン骨格、４，４’−ビナフタレン骨格等が挙げられるが、低粘度、高屈折率といった観点から１，１’−ビナフタレン骨格であることが好ましい。
【００１４】
本発明で用いる重合性化合物（Ａ）は、例えば、ビナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂（ａ１）とラジカル重合性不飽和二重結合含有モノカルボン酸（ｘ１）とを反応させて得られる構造を有する重合性化合物（ビニルエステル樹脂）（ａ２）等が挙げられる。
【００１５】
ここで、ビナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂（ａ１）としては、例えば、ビナフトール類とエピハロヒドリン類とを反応させて得られるエポキシ樹脂、或いは、該エポキシ樹脂に更に前記ビナフトール類を反応させて得られるエポキシ樹脂が挙げられる。
【００１６】
前記ビナフトール類としては、１，１'−ビ−２−ナフトール、４，４'−ビ−１−ナフトール等が挙げられる。中でも得られる硬化物の屈折率が高い硬化性樹脂組成物が得られることから１，１'−ビ−２−ナフトールが好ましい。
【００１７】
前記１，１'−ビ−２−ナフトールとしては、具体的には、下記構造式（１）
【００１８】
【化１】
0005625281.tif 000002
（式中、Ｘ１〜Ｘ１２は、各々独立的に水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０の炭化水素基、又は炭素原子数１〜１０のアルコキシ基を表す。）で表されるものが挙げられる。
【００１９】
これらの中でも特に、屈折率と粘度の両特性の両立、合成上の難易度およびコストの面から、上記一般式（１）中の、Ｘ１〜Ｘ１２は、各々独立的に水素原子又は炭素原子数１〜３のアルキル基であることが好ましく、特にその全てが水素原子であることが好ましい。
【００２０】
前記エピハロヒドリン類には、エピクロロヒドリン、エピブロモヒドリン、β−メチルエピクロロヒドリン等が挙げあれるが、入手の容易さや経済性を考慮すればエピクロロヒドリンが好ましい。
【００２１】
本発明では特に硬化物の耐熱性と基板との密着性の点から前記エポキシ樹脂（ａ１）のなかでも１，１'−ビ−２−ナフトールとエピハロヒドリンとを反応させて得られるエポキシ樹脂が好ましい。
【００２２】
また、前記エポキシ樹脂（ａ１）は、エポキシ当量２００〜５００ｇ／ｅｑ．の範囲であるものが硬化物の可撓性、光照射に対する感度が良好となる点から好ましく、特に２００〜３００ｇ／ｅｑ．の範囲であることが好ましい。
【００２３】
一方、前記エポキシ樹脂（ａ１）と反応させるラジカル重合性不飽和二重結合含有モノカルボン酸（ｘ１）としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸などの（メタ）アクリル酸；アクリル酸クロリド、メタクリル酸クロリドなどの（メタ）アクリル酸ハロゲン；アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチルなどの（メタ）アクリル酸アルキルが挙げられる。これらのうち、（メタ）アクリル酸ハロゲンは反応時に塩酸などの酸性物質が副生し反応釜腐食の問題を引き起こす他、（メタ）アクリル酸アルキルを用いた場合には、副生するアルコールを除去するための脱アルコール処理を施す必要があることから（メタ）アクリル酸が好ましい。
【００２４】
前記エポキシ樹脂（ａ１）と、ラジカル重合性不飽和二重結合含有モノカルボン酸（ｘ１）との反応比率は、特に制限されるものではないが、エポキシ樹脂のエポキシ基１当量当たり、アクリル酸類のカルボキシル基が０．４〜１、１当量となる範囲であることが好ましく、なかでも光硬化性及び貯蔵安定性に優れる樹脂が得られる点で０．８〜１．０モルとなる範囲が好ましい。
【００２５】
前記エポキシ樹脂（ａ１）のうち、も１，１'−ビ−２−ナフトールとエピハロヒドリン類とを反応させて得られるエポキシ樹脂、或いはこれに更にも１，１'−ビ−２−ナフトールを反応させて得られるエポキシ樹脂を用い、かつ、ラジカル重合性不飽和二重結合含有モノカルボン酸（ｘ１）として（メタ）アクリル酸を用いた場合、得られる重合性化合物（ａ２）は、具体的には、下記一般式（２）で示されるものが挙げられる。（式中のｎは繰り返し数の平均値を示し０〜１０の範囲であり、Ｒ1は水素原子或いは置換基を有していてもよいアルキル基、またＲ2は水素原子またはメチル基を表す。）
【００２６】
【化２】
0005625281.tif 000003
【００２７】
これらの例としては、下記構造式（２−１）或いは（２−２）が挙げられる。（式中のｎは０〜１０である。）
【００２８】
【化３】
0005625281.tif 000004
【００２９】
本発明で用いる重合性化合物（Ａ）は、２５℃での粘度が３０００Ｐａ・ｓ以下であることが、流動性が良好で各種用途への応用範囲が広がる他、粘度調整に使用する低屈折率物質である希釈剤の使用量を低減できることから好ましい。特にこの効果が顕著なものとなる点から１０００〜１００Ｐａ・ｓの範囲であることが好ましい。
【００３０】
重合性化合物（Ａ）は、上記した通り、それ自体高い屈折率を有するものであり、具体的には、１．５５以上の屈折率、分子構造の選択によっては１．６０以上の屈折率を有する材料となる。
【００３１】
本発明で用いるジルコニア粒子（Ｂ）は一次平均粒子径が１０〜１００ｎｍである。本発明で用いるジルコニア粒子（Ｂ）は一次粒度または結合粒度を有する粒子であってもよい。ナノ粒子は結合していないのが好ましい。本発明において一次平均粒子径は透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により測定された粒子径である。
【００３２】
本発明で用いるジルコニア粒子（Ｂ）は、分散体として用いられ、その平均分散粒子径が１０〜５０ｎｍであることが、屈折率が高く、且つ、透明性に優れる硬化物が得られることから好ましく、さらに１０〜３０ｎｍであることが透明性により優れる硬化物が得られることからより好ましい。本発明で用いるジルコニア微粒子（Ｂ）として、市販のジルコニア分散体、例えば、アメリカ合衆国のイリノイ州、ネーパービルのナルコ・ケミカル・カンパニーから製品名ナルコ ＯＯＳＳＯＯ８として市販されている製品や、スイス国のブーラー・ＡＧ・ウズヴィル（Ｂｕｈｌｅｒ ＡＧ Ｕｚｗｉｌ）から商品名「ブーラー・ジルコニア・Ｚ−ＷＯ・ゾル（Ｂｕｈｌｅｒ ｚｉｒｃｏｎｉａ Ｚ−ＷＯ ｓｏｌ）」として市販されている製品などが利用できる。
【００３３】
あるいはまた、市販のジルコニア粉末、例えば、第一稀元素化学工業株式会社から製品名「ＵＥＰ酸化ジルコニウム」、「ＲＣ−１００酸化ジルコニウム」として市販されている製品などを分散機で分散媒に分散し、分散体として使用することもできる。
【００３４】
前記分散機としては、例えば、ホモジナイザー、サンドミル、超音波分散機、ボールミル、ビーズミル、三本ロール、加圧ニーダー、ビーズミルなどが利用できる。中でも、１５〜１００μｍのビーズを利用し、湿式法で分散できるビーズミルを利用すると、ジルコニアを一次粒子近傍まで分散することができ、より好ましい。
【００３５】
このようなビーズミルとして、例えば、アシザワ・ファインテック株式会社製スターミル、浅田鉄工株式会社製ピコミル、寿工業株式会社製ウルトラアペックスミルなどが挙げられる。
【００３６】
また、前記分散媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類；ジメチルフォルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類を用いることができる。
【００３７】
本発明で用いるジルコニア粒子（Ｂ）は、その表面を改質していなくても改質してあっても良い。また、ジルコニア粒子として表面を改質していないジルコニア粒子を用いる場合、本発明の硬化性組成物中に分散剤、分散助剤を加えることによりジルコニア微粒子の分散安定性が向上した組成物とすることができる。
【００３８】
前記分散剤は、例えば、ノニオン型分散剤を好適に使用できる。好ましくは、ポリオキシエチレンアルキル構造を有するリン酸エステル系ノニオン型分散剤である。
【００３９】
前記分散助剤は、例えば、アセト酢酸メチル、アセチルアセトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアセトアミドから選択される一以上のものを好適に使用できる。アセト酢酸メチルは、変異原性物質であるので、特にアセチルアセトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアセトアミドが好ましい。
【００４０】
本発明の硬化性組成物中の前記ジルコニア粒子（Ｂ）の含有率は、屈折率が高く、且つ、透明な硬化物が得られることから、硬化物の形成成分の質量を基準として１０〜７０質量％が好ましく、２０〜６０質量％がより好ましい。
【００４１】
本発明で用いるジルコニア粒子（Ｂ）は、その粒子表面を修飾したものを用いるのが好ましい。表面を修飾することにより、例えば、親水性であるジルコニア粒子を疎水化し、かつ、前記重合性化合物（Ａ）への分散性を高めることができる。前記表面修飾剤としては、例えば、アルコキシシラン、クロロシラン、アルキルアルコキシシラン、アルキルクロロシラン、シロキサン等のシラン化合物を好ましく用いることができる。
【００４２】
前記アルコキシシラン、クロロシラン、アルキルアルコキシシラン、アルキルクロロシランは、構造式ＳｉＸｍＹ４−ｍであらわされる化合物で、Ｘ基およびＹ基がそれぞれ下記に示されるものの中の１種または２種以上を含むものが好ましい。
【００４３】
Ｘ基としては、ビニル基、アリル基、３−グリシドキシプロピル基、２−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチル基、３−アクリロキシプロピル基、３−メタクリロキシプロピル基、スチリル基、３−アミノプロピル基、Ｎ−２（アミノエチル）３−アミノプロピル基、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピル基、３−メルカプトプロピル基、３−イソシアネートプロピル基、ＣｎＨ２ｎ＋１で現されるアルキル基のうちｎが１〜２０の範囲のもの、フェニル基等が挙げられる。
【００４４】
また、Ｙ基としては、塩素、ヒドロキシ基、ＣｎＨ２ｎ＋１Ｏで現されるアルコキシ基のうちｎが１〜２０の範囲のもの、アセトキシ基等が挙げられる。
【００４５】
前記アルコキシシランまたはクロロシランとしては、特にシランカップリング剤が好ましく、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【００４６】
アルキルクロロシランとしては、例えば、メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、ジエチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、トリエチルクロロシラン等が挙げられる。
【００４７】
シロキサンとしては、変性シリコーンまたはシリコーンレジンが好ましく、変性シリコーンとしては、エポキシ変性シリコーン、エポキシ・ポリエーテル変性シリコーン、アルコール変性シリコーン、メタクリル変性シリコーン、メタクリレート変性シリコーン、フェノール変性シリコーン、メチルスチリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、メチルハイドロジェンシリコーン等が挙げられる。
【００４８】
前記表面修飾剤を用いてジルコニア粒子の表面を修飾する方法としては、湿式法、乾式法等が挙げられる。湿式法とは、表面修飾剤とジルコニア微粒子を溶媒（例えば、前記した分散媒等）に投入し混合することにより、ジルコニア微粒子の表面を修飾する方法である。乾式法とは、表面修飾剤と乾燥したジルコニア微粒子をミキサー等の乾式混合機に投入し混合することにより、ジルコニア微粒子の表面を修飾する方法である。また、表面修飾したジルコニア粒子の市販品をそのまま利用することもできる。更に、本発明で用いる粒子（Ｂ）はその表面に（メタ）アクリロイル基等の重合性不飽和結合を有していても良い。
【００４９】
本発明で用いるラジカル重合開始剤（Ｃ）は、光重合開始剤、及び熱重合開始剤が挙げられる。光重合開始剤としては、具体的には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、２−メチルベンゾイン、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、ベンジルジメチルケタール、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ベンゾイル安息香酸、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオフェニル）〕−２−モルホリノ）プロパン−１、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。
【００５０】
これらの光重合開始剤は、それぞれ単独で用いることができ、また、２種以上の混合物として使用することもできる。その使用量は、重合性化合物（Ａ）の１００質量部に対して光重合開始剤が０．０１〜３０質量部となる割合であることが好ましく、特に好ましくは０．０１〜２０質量部以下である。
【００５１】
また、これらの光重合開始剤には、アミン類等の光重合促進剤を併用することができる。例えば、２−ジメチルアミノエチルベンゾエート、ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられる。これらの光重合促進剤の使用割合は、光重合開始剤１００重量部に対して、０．１〜１００重量部の範囲であることが、重合速度が速く、かつ、硬化物の屈折率が高くなる点から好ましい。
【００５２】
次に、熱重合開始剤としては、公知の過酸化物系開始剤やアゾビス系開始剤を使用することができる。過酸化物系開始剤としては、具体的には、メチルエチルケトンパーオキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサンケトンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド等のケトンパーオキサイド系開始剤、イソブチルパーオキサイド、ｍ−クロロベンゾイルパーオキサイド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、α−メチルベンゾイルパーオキサイド、ビス−３，５，５−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド系開始剤、２，４，４−トリメチルペンチル−２−ハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド系開始剤、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、１，３−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド等のジアルキルパーオキサイド系開始剤、１，１−ジ−ｔ−ブチルパーオキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、２，２−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、４，４−ジ−ｔ−ブチルパーオキシ吉草酸−ｎ−ブチルエステル等のパーオキシケタール系開始剤、２，４，４−トリメチルペンチルパーオキシフェノキシアセテート、α−クミルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ジ−ｔ−ブチルパーオキシトリメチルオジペート等のアルキルパーエステル系開始剤、ジ−ｔ−メチキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート等のパーカーボネート系開始剤、その他のアセチルシクロヘキシルスルフォニルパーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシアリルカーボネート等のものが挙げられ、また、アゾビス系開始剤としては、具体的には、１，１’−アゾビスシクロヘキサン−１−カルボニトリル、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス−（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２'−アゾビス−（メチルイソブチレート）、α，α’−アゾビス−（イソブチロニトリル）、４，４’−アゾビス−（４−シアノバレイン酸）等が挙げられる。
【００５３】
これらの熱重合開始剤は、それぞれ単独で用いることができ、また、２種以上の混合物として使用することもできる。その使用量は、重合性化合物（Ａ）の１００質量部に対して熱重合開始剤が０．１〜１０質量部の範囲となる割合であることが、重合速度が速く、かつ、硬化物の屈折率が高くなる点から好ましい。
【００５４】
本発明の硬化性樹脂組成物には、さらに性能改良のため、本来の特性を変えない範囲で希釈剤、シランカップリング剤、重合禁止剤、レベリング剤等の添加物を添加することができる。
【００５５】
前記希釈剤としては、例えば低粘度の有機化合物、いわゆる有機溶剤が使用できる。有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、カルビトールアセテート、ブチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ソルベントナフサ等が挙げられる。
【００５６】
希釈剤の中でも反応性希釈剤が、硬化性樹脂組成物を、希釈剤を揮発させることなく硬化させることができることからより好ましい。反応性希釈剤としては、例えば、ラジカル重合性単量体が挙げられる。ラジカル重合性単量体としては、例えば、単官能（メタ）アクリレートモノマー、２官能（メタ）アクリレートモノマー、３官能以上の多官能（メタ）アクリレートモノマー等の（メタ）アクリレート系モノマー；スチレン、メチルスチレン、ハロゲン化スチレン、ジビニルベンゼン等のビニル系モノマー等が挙げられる。
【００５７】
ここで単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えば、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメタノールモノ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェニルポリエトキシ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、フェニルフェノールポリエトキシ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００５８】
２官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡポリエトキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡポリプロポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦポリエトキシジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００５９】
３官能以上の多官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヒドロキシビバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００６０】
これらの中でも、特に硬化性樹脂組成物における反応性希釈剤として組成物の粘度低減の効果及び硬化物の屈折率が高く維持できる点からアクリロイルモルホリン、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノールポリエトキシ（メタ）アクリレート等の単官能あるいは２官能（メタ）アクリレートモノマー、ジビニルベンゼンが好ましく、特にフェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェニルフェノールポリエトキシ（メタ）アクリレート、及びジビニルベンゼンから成る群から選択されるものが希釈能に優れると共に硬化物の屈折率が高くなる点から好ましく、フェニルフェノールポリアルコキシ（メタ）アクリレートがより好ましい。
【００６１】
前記フェニルフェノールポリアルコキシ（メタ）アクリレートとしては、例えば、下記一般式（３）
【００６２】
【化４】
0005625281.tif 000005
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基であり、ｎの平均値は１〜５である。）で表される化合物等が挙げられる。
【００６３】
前記一般式（３）で表される化合物は、例えば、Ｐ−フェニルフェノール或いはＯ−フェニルフェノールと、エチレンオキサイド或いはプロピレンオキサイド等のアルキレンオキサイドとの反応物と、（メタ）アクリル酸とを反応させることにより得ることができる。
【００６４】
フェニルフェノールポリアルコキシ（メタ）アクリレートの中でもフェニルフェノールポリエトキシ（メタ）アクリレート〔前記一般式（３）においてＲ１が水素原子〕が好ましい。
【００６５】
前記フェニルフェノールポリアルコキシ（メタ）アクリレートの中でもＯ−フェニルフェノールポリアルコキシ（メタ）アクリレートが好ましく、Ｏ−フェニルフェノールポリエトキシ（メタ）アクリレートがより好ましい。Ｏ−フェニルフェノールポリエトキシ（メタ）アクリレートとしては、例えば、下記一般式（３−１）で表される化合物
【００６６】
【化５】
0005625281.tif 000006
（式中、ｎの平均値は１〜５である。）等が挙げられる。
【００６７】
また、前記反応性希釈剤としては、下記一般式（４）
【００６８】
【化６】
0005625281.tif 000007
【００６９】
（式中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ水素原子またはアルキル基である。Ｘはそれぞれ水素原子または水酸基である。ｍ、ｎはそれぞれ０〜５である。）で表される２官能（メタ）アクリレートモノマーも好ましく用いることができる。
【００７０】
前記Ｒ１、Ｒ２のアルキル基としては、例えば、炭素原子数１〜４の直鎖状または分岐状のアルキル基が好ましい。
【００７１】
Ｒ１、Ｒ２は中でも、それぞれ水素原子又はメチル基がより好ましい。
【００７２】
前記一般式（４）におけるｍ、ｎは、それぞれ１〜３が好ましい。また、ｍとｎの合計は平均０〜４が好ましく、２〜４がより好ましい。
【００７３】
また、一般式（４）の中でも、下記式（４−１）
【００７４】
【化７】
0005625281.tif 000008
で表される化合物、または、式（４−２）
【００７５】
【化８】
0005625281.tif 000009
で表される化合物がより好ましい。
【００７６】
本発明において、反応性希釈剤を使用する場合、その使用量としては、本発明の硬化性組成物の粘度低減の効果を十分に発揮すると共に、硬化物の屈折率を高いレベルに維持できる点から〔重合性化合物（Ａ）／反応性希釈剤〕の質量比率で９０／１０〜３０／７０の割合で用いることが好ましく、なかでも８０／２０〜４０／６０の割合で用いることが好ましい。
【００７７】
前記シランカップリング剤としては、例えば、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００７８】
前記重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノンモノメチルエーテル、メチルハイドロキノン、ｔ−ブチルカテコール、ｐ−ベンゾキノン、２，５−ｔ−ブチル−ハイドロキノン、フェノチアジン等が挙げられる。また、レベリング剤としては、例えば、モンサント社の「モダフロー」等が挙げられる。
【００７９】
詳述した本発明の硬化性樹脂組成物を硬化させる方法は、該硬化性樹脂組成物を目的・用途に応じて基材へ塗布或いは成型した後、活性エネルギー線を照射するか、或いは、加熱する方法が挙げられる。
【００８０】
ここで、活性エネルギー線の照射によって硬化させる場合、かかる活性エネルギー線としては、電子線、紫外線、可視光線等が挙げられる。活性エネルギー線として、電子線を用いる場合には、コックロフトワルトン型加速器、バンデグラフ型電子加速器、共振変圧器型加速器、絶縁コア変圧器型、ダイナミトロン型、リニアフィラメント型および高周波型などの電子線発生装置を用いて本発明の硬化性樹脂組成物を硬化させることができる。また、活性エネルギー線として紫外線を用いる場合は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯等の水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク、メタルハイトランプ等により照射し、硬化させることができる。この際の紫外線の露光量は０．１〜１０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲であることが好ましい。
【００８１】
一方、加熱によって硬化させる場合は、６０〜２５０℃の温度領域に加熱することによって硬化させることができる。
【００８２】
以上詳述した本発明の硬化性樹脂組成物は、高屈折率、高耐熱性、高耐湿性といった性能を有することから、眼鏡レンズ、デジタルカメラ用レンズ、フレネルレンズ、及びプリズムレンズ等のプラスチックレンズ、光学用オーバーコート剤、ハードコート剤、反射防止膜、光ファイバー、光導波路、ホログラム、プリズムレンズ、ＬＥＤ封止材料、太陽光電池用コーティング材等の各種光学材料に適用することができる。
【００８３】
これらのなかでも特に、硬化物における屈折率が高く、かつ、硬化物の耐熱性及び耐湿性にも優れるという特性からプラスチックレンズに好ましく適用でき、特に液晶基板用プリズムレンズとして有用である。
【００８４】
ここで液晶基板用プリズムレンズとは、シート状成形体の片面に微細なプリズム形状部を複数有するものであって、通常、液晶表示素子の背面（光源側）に、該素子側にプリズム面が向くように配設され、更に、その背面に導光シートが配設されるように用いられるシート状レンズ、或いは前記プリズムレンズがこの導光シートの機能を兼ねているシート状レンズである。
【００８５】
ここで該プリズムレンズのプリズム部の形状は、プリズム頂角の角度θが７０〜１１０°の範囲であることが、集光性に優れ輝度が向上する点から好ましく、特に７５〜１００°の範囲、中でも８０〜９５°の範囲であることが特に好ましい。
【００８６】
また、プリズムのピッチは、１００μｍ以下であることが好ましく、特に７０μｍ以下の範囲であることが、画面のモアレ模様の発生防止や、画面の精細度がより向上する点から好ましい。また、プリズムの凹凸の高さは、プリズム頂角の角度θとプリズムのピッチの値によって決定されるが、好ましくは５０μｍ以下の範囲であることが好ましい。さらに、プリズムレンズのシート厚さは、強度面からは厚い方が好ましいが、光学的には光の吸収を抑えるため薄い方が好ましく、これらのバランスの点から５０μｍ〜１０００μｍの範囲であることが好ましい。
【００８７】
本発明の硬化性樹脂組成物から前記したプリズムレンズを製造するには、例えば、該硬化性樹脂組成物をプリズムパターンが形成された金型あるいは樹脂型等の成形型に塗布、樹脂組成物の表面を平滑化し、必要に応じて有機溶媒を揮発させた後、透明基材を重ね合わせ活性エネルギー線を照射、硬化させることによって製造する方法が挙げられる。
【００８８】
ここで、透明基材としては透明性の高いものであれば、活性エネルギー線の透過性や取扱性等を考慮した場合には、厚さ３ｍｍ以下のものが好ましい。また、透明基材の材料としては、例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、これらポリマーの混合物等の合成樹脂あるいはガラス等が挙げられる。
【００８９】
このようにして得られる透明基材上に形成されたプリズムシートは、そのまま使用することもできるが、透明基材を剥離してプリズム部単独の状態として使用してもよい。透明基材上にプリズム部を形成したまま使用する場合には、その界面の接着が十分であることが耐候性および耐久性の点で重要であり、透明基材にプライマー処理等の接着性向上処理を施すことが好ましい。
【００９０】
一方、透明基材を剥離して使用する場合、比較的容易に剥離できるようにすることが好ましく、透明基材の表面をシリコーンやフッ素系の剥離剤で表面処理を施すことが好ましい。
【実施例】
【００９１】
以下本発明の態様を合成例によって更に詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。また例中の「部」及び「％」は特に断わりのない限りすべて質量基準である。尚、１５０℃における溶融粘度及び軟化点測定、ＮＭＲ、ＭＳスペクトルは以下の条件にて測定した。
【００９２】
１）粘度：２５℃にてＥ型粘度計（東機産業（株）製「ＴＶ−２０形」コーンプレートタイプを使用して測定。
２）１３Ｃ−ＮＭＲ：日本電子株式会社製ＮＭＲ「ＧＳＸ２７０」
３）ＦＤ−ＭＳ：日本電子株式会社製  二重収束型質量分析装置「ＡＸ５０５Ｈ（ＦＤ５０５Ｈ）」
【００９３】
合成例１  （重合性化合物（Ａ）の合成）
温度計、滴下ロート、冷却管、撹拌機を取り付けたフラスコに、窒素ガスパージを施しながら、１，１’−ビ−２−ナフトールを１４３ｇ（水酸基１当量）、エピクロロヒドリン４６３ｇ（５．０モル）、ｎ−ブタノール１３９ｇ、テトラエチルベンジルアンモニウムクロライド２ｇを仕込み溶解させた。６５℃に昇温した後、共沸する圧力まで減圧して、４９％水酸化ナトリウム水溶液９０ｇ（１．１モル）を５時間かけて滴下した。その後、同条件で０．５時間撹拌を続けた。この間、共沸によって留出してきた留出分をディーンスタークトラップで分離し、水層を除去し、油層を反応系内に戻しながら、反応を行った。その後、未反応のエピクロロヒドリンを減圧蒸留によって留去させた。それで得られた粗エポキシ樹脂にメチルイソブチルケトン５９０ｇとｎ−ブタノール１７７ｇとを加え溶解した。更にこの溶液に１０％水酸化ナトリウム水溶液１０ｇを添加して８０℃で２時間反応させた後に洗浄液のＰＨが中性となるまで水１５０ｇで水洗を３回繰り返した。次いで共沸によって系内を脱水し、精密濾過を経た後に溶媒を減圧下で留去してエポキシ樹脂を得た。得られたエポキシ樹脂のエポキシ当量は２２５ｇ／ｅｑ、軟化点は６０℃であった。
【００９４】
得られたエポキシ樹脂２２５部とアクリル酸７２部（エポキシ基の数：総カルボキシル基の数＝１：１）とを反応させて樹脂２９７部と得た。その樹脂は、マススペクトルでｎ＝１、ｎ＝２の理論構造に相当するＭ＋＝５４３、Ｍ＋＝８８５のピークが得られたことから構造式（２−１）で表される構造をもつ目的のエポキシアクリレート樹脂であることが確認された。これを重合性化合物（Ａ１）と略記する。
【００９５】
合成例２  （同上）
温度計、滴下ロート、冷却管、撹拌機を取り付けたフラスコに、窒素ガスパージを施しながら、１，１’−ビ−２−ナフトールを１４３ｇ（水酸基１当量）、エピクロロヒドリン１８５ｇ（２．０モル）、ｎ−ブタノール１３９ｇ、テトラエチルベンジルアンモニウムクロライド２ｇを仕込み溶解させた。６５℃に昇温した後、共沸する圧力まで減圧して、４９％水酸化ナトリウム水溶液９０ｇ（１．１モル）を５時間かけて滴下した。その後、同条件で０．５時間撹拌を続けた。この間、共沸によって留出してきた留出分をディーンスタークトラップで分離し、水層を除去し、油層を反応系内に戻しながら、反応を行った。その後、未反応のエピクロロヒドリンを減圧蒸留によって留去させた。それで得られた粗エポキシ樹脂にメチルイソブチルケトン５９０ｇとｎ−ブタノール１７７ｇとを加え溶解した。更にこの溶液に１０％水酸化ナトリウム水溶液１０ｇを添加して８０℃で２時間反応させた後に洗浄液のＰＨが中性となるまで水１５０ｇで水洗を３回繰り返した。次いで共沸によって系内を脱水し、精密濾過を経た後に溶媒を減圧下で留去してエポキシ樹脂を得た。得られたエポキシ樹脂のエポキシ当量は２７０ｇ／ｅｑ、軟化点は７４℃であった。
【００９６】
得られたエポキシ樹脂２７０部とメタクリル酸７２部（エポキシ基の数：総カルボキシル基の数＝１：１）とを反応させて樹脂３４２部と得た。その樹脂は、マススペクトルでｎ＝１、ｎ＝２の理論構造に相当するＭ＋＝５７１、Ｍ＋＝９１３のピークが得られたことから構造式（２−２）で表される構造をもつ目的のエポキシアクリレート樹脂であることが確認された。これを重合性化合物（Ａ２）と略記する。
【００９７】
参考例１〔ジルコニア粒子（Ｂ）の分散体の製造〕
酸化ジルコニウム粉体（商品名：ＲＣ−１００、第一稀元素化学工業（株）製、一次粒径１０ｎｍ）２７ｇ、リン酸エステル系分散剤（商品名：ディスパーＢＹＫ１０６、ビックケミー社製）１．３５ｇ、トルエン２７０ｇを混合し、攪拌しながら超音波を１０分照射して粗分散し、混合液を得た。
【００９８】
得られた混合液を、寿工業（株）製ウルトラアペックスミルＵＡＭ−０１５で分散した。分散は、まず、メディアとして平均粒子径が０．０３ｍｍの安定化ジルコニアビーズ（高周波熱錬（株）製）を４００ｇ用い、ビーズミルのベッセル容積中の充填率を６４容積％、ビーズミルのローター周速は１０ｍ／ｓ、スラリー供給ポンプの循環流量を１０Ｌ／時間とし、分散処理開始直後３０分から１２０分にかけて、β−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン（商品名：ＫＢＭ−３０３、信越化学工業（株）製）１．３５ｇを一定速度で原料スラリータンクに添加した。そして、分散処理開始から１８０分後に分散処理を終了し、分散体を回収した。得られた分散体を濃縮し、１５０℃における乾燥重量比が５０％のジルコニア粒子の分散体を得た。これをジルコニア粒子（Ｂ１）の分散体とする。この分散体を、酸化ジルコニウムの含有率が０．１％となるようにトルエンにて希釈し、メジアン径を堀場製作所（株）社製の粒度分布測定装置ＬＢ−５５０を用いて測定したところ、４０ｎｍであった。
【００９９】
参考例２（同上）
酸化ジルコニウム粉体（商品名：ＲＣ−１００、第一稀元素化学工業（株）製、一次粒径１０ｎｍ）２７ｇ、リン酸エステル系分散剤（商品名：ディスパーＢＹＫ１０６、ビックケミー社製）１．３５ｇ、トルエン２７０ｇを混合し、攪拌しながら超音波を１０分照射して粗分散し、混合液を得た。
【０１００】
得られた混合液を、寿工業（株）製ウルトラアペックスミルＵＡＭ−０１５で分散した。分散は、まず、メディアとして平均粒子径が０．０３ｍｍの安定化ジルコニアビーズ（高周波熱錬（株）製）を４００ｇ用い、ビーズミルのベッセル容積中の充填率を６４容積％、ビーズミルのローター周速は１０ｍ／ｓ、スラリー供給ポンプの循環流量を１０Ｌ／時間とし、分散処理開始直後３０分から１２０分にかけて、β−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン（商品名：ＫＢＭ−３０３、信越化学工業（株）製）１．３５ｇを一定速度で原料スラリータンクに添加した。そして、分散処理開始から１８０分後に分散処理を終了し、分散体を回収した。得られた分散体２００ｇに、共栄社化学（株）製「ライトアクリレートＰＯ−Ａ」２０ｇを加え、減圧濃縮することによって、１５０℃における乾燥重量比が５０％のジルコニア粒子の分散体を得た。これをジルコニア粒子（Ｂ２）の分散体とする。この分散体を、酸化ジルコニウムの含有率が０．１％となるようにトルエンにて希釈し、メジアン径を堀場製作所（株）社製の粒度分布測定装置ＬＢ−５５０を用いて測定したところ、４０ｎｍであった。
【０１０１】
実施例１〜６及び実施例８〜９
下記表１の配合に従い、ワニス状の組成物を調整した。次いで、該組成物をバーコーター（Ｎｏ．２０）を用いてガラス板に塗布、１２０℃で５分間乾燥後、空気雰囲気下で１２０Ｗ／ｃｍ２の高圧水銀灯を用い、５００ｍＪ／ｃｍ２の照射量で照射し、硬化塗膜を得た。この硬化塗膜の下記方法に従って耐溶剤性、耐熱性、耐湿性を評価した。
【０１０２】
［耐溶剤性］
ガラス板上で作成した硬化塗膜を用い、このフィルムをメチルエチルケトンを含ませた綿棒（ジョンソン社製）で５０往復擦った後に塗膜の変化を目視で観察した。評価は以下のように判断した。
評価
○：変化なし
×：曇り、剥がれなどの変化あり
【０１０３】
［耐熱性］
ガラス板上で作成した硬化塗膜を用い、このフィルムを１２５℃の乾燥機に入れ１５０時間保持した。保持後の塗膜の変化を目視で観察した。評価は以下のように判断した。
評価
○：変化なし
△：色相のみ変化、形状変化なし
×：色相および形状が変化
【０１０４】
［耐湿性］
ガラス板上で作成した硬化塗膜を用い、このフィルムを８５℃、湿度８５％の恒温恒湿機に入れ３００時間保持した。保持後の塗膜の変化を目視で観察した。評価は以下のように判断した。
評価
○：変化なし
△：色相のみ変化、形状変化なし
×：色相および形状が変化
【０１０５】
また、各組成物を用いて下記の方法で硬化フィルムＡ及び硬化フィルム付き基板Ｂを製造して、硬化物の屈折率、透明性、密着性を評価した。更に、該組成物を用い下記の方法にて金型からの離型性を評価した。結果を表１に示す。
【０１０６】
［硬化フィルムＡの製造］
下記表１の配合に従って調整した組成物を、クロムメッキ処理金属板上に所定の厚さとなるように流し込み、１２０℃で５分間乾燥後、透明表面未処理ＰＥＴフィルムを貼り合わせ、加圧ロールで厚さを調整後、高圧水銀灯により５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を透明基材側から照射して硬化させ、金属板および透明基材から硬化フィルム（以下、これを「硬化フィルムＡ」と略記する。）を取り出した。
【０１０７】
［硬化フィルム付き基板Ｂの製造］
下記表１の配合に従って調整した組成物を、クロムメッキ処理金属板上に所定の厚さとなるように流し込み、１２０℃で５分間乾燥後、透明表面密着処理ＰＥＴフィルムを貼り合わせ、加圧ロールで厚さを調整後、高圧水銀灯により、５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を透明基材側から照射して硬化させ、金属板のみを剥離し、硬化フィルム付基板（以下、これを「硬化フィルム付き基板Ｂ」と略記する。）を得た。
【０１０８】
［硬化物屈折率］
硬化フィルムＡを、１−ブロモナフタレンにより、アッベ屈折計のプリズムに密着させ、２５℃にて屈折率（５８９．３ｍｍのＤ線）の測定を行った。
【０１０９】
［透明性］
硬化フィルムＡを用い、４００〜９００nmの波長領域の光透過率を測定し、全領域で８５％以上の透過率を示すものを○とし、透過率がそれ未満のものを×とした。
【０１１０】
［密着性］
硬化フィルム付き基板Ｂを用い、基材と硬化フィルム層との密着性をＪＩＳ  Ｋ５４００に準拠して測定し、升目が全て残存する時を○、それ以外を×とした。
【０１１１】
［離型性］
クロムメッキ処理したプリズム金型上に所定の厚さとなるように流し込み、１２０℃で５分間乾燥後、透明表面密着処理PETフィルムを貼り合わせ、加圧ロールで厚さを調整し、高圧水銀灯により５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を透明基材側から照射して硬化させた後、金型から離型する際、金型に組成物が残らないものを○、残るものを×とした。
【０１１２】
実施例７及び比較例１〜２
下記表１の配合に従い、ワニス状の組成物を調整した。次いで、該組成物をバーコーター（Ｎｏ．２０）を用いてガラス板に塗布した。次に、空気雰囲気下で１２０Ｗ／ｃｍ２の高圧水銀灯を用い、５００ｍＪ／ｃｍ２の照射量で照射し、硬化塗膜を得た。この硬化塗膜を用いて実施例１と同様に耐溶剤性、耐熱性、耐湿性を評価した。
【０１１３】
また、各組成物を用いて下記の方法で硬化フィルムＡ及び硬化フィルム付き基板Ｂを製造して、硬化物の屈折率、透明性、密着性を実施例１と同様にして評価した。更に、下記の方法にて金型からの離型性を評価した。結果を表１に示す。
【０１１４】
［硬化フィルムＡの製造］
下記表５の配合に従って調整した組成物を、クロムメッキ処理金属板と透明表面未処理PETフィルムとの間に入れた後に厚さを調整し、高圧水銀灯により５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を透明基材側から照射して硬化させた後、金属板および透明基材から硬化フィルム（以下、これを「硬化フィルムＡ」と略記する。）を取り出した。
【０１１５】
［硬化フィルム付き基板Ｂの製造］
下記表５の配合に従って調整した組成物を、クロムメッキ処理金属板と透明表面密着処理ＰＥＴフィルムとの間に入れた後に厚さを調整し、高圧水銀灯により、５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を透明基材側から照射して硬化させた後、金属板のみを剥離し、硬化フィルム付基板（以下、これを「硬化フィルム付き基板Ｂ」と略記する。）を得た。
【０１１６】
［離型性］
クロムメッキ処理したプリズム金型と透明表面密着処理ＰＥＴフィルムとの間に下記表５の配合に従って調整した組成物を入れた後に厚さを調整し、高圧水銀灯により５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を透明基材側から照射して硬化させた後、金型から離型する際、金型に組成物が残らないものを○、残るものを×とした。
【０１１７】
【表１】
0005625281.tif 000010
【０１１８】
表１中の脚注
ＥＡ−０２００：下記構造式
【０１１９】
【化９】
0005625281.tif 000011
で表されるフルオレン型アクリレート（大阪ガスケミカル社製「オグゾールＥＡ−０２００」）。
フェノキシエチルアクリレート」：共栄社化学（株）製「ライトアクリレートＰＯ−Ａ」
ＯＰＰＥＡ：ｏ−フェニルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレート（東亞合成(株)製「アロニックスＴＯ−１４６３」。エチレンオキサイドの平均付加モル数１）  光開始剤：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製「イルガキュアー１８４」）。
【０１２０】
比較例２において、ワニスの粘度が粘度計の測定上限を超える為、測定できなかった（測定不可）。また、硬化物評価の離型性以外の物性は、硬化塗膜、硬化フィルムＡ及び硬化フィルム付基盤Ｂの製造の際に、硬化塗膜がガラス板またはクロムメッキ処理金属板から剥離できず、硬化フィルムが得られなかった為、評価できなかった。