(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体上に感光層を有し、
最表面層が、同一分子内に電荷輸送性骨格及び２つ以上のＲ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”（ここで、Ｒ及びＲ’のいずれか一方が前記電荷輸送性骨格と結合し、Ｒが前記電荷輸送性骨格と結合する場合には、Ｒは単結合又は置換基を有してもよい二価の連結基を表し、Ｒ’は水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基を表す。Ｒ’が前記電荷輸送性骨格と結合する場合には、Ｒ’は置換基を有してもよい二価の連結基を表し、Ｒは水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基を表す。Ｒ”は水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基を表す。前記二価の連結基は、アルキレン基、アリーレン基、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−基、及びこれらの組合せからなる群より選択される基を表す。前記置換基は、アルキル基、アルコキシ基、エステル基、及びアシル基からなる群より選択される基を表す。）で表される構造を有する電荷輸送性化合物（ａ）の少なくとも１種、及びポリカーボネート樹脂として、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂、ビスフェノールＡポリカーボネート樹脂、ビスフェノールＣポリカーボネート樹脂及びビスフェノールＰポリカーボネート樹脂からなる群より選択されるポリカーボネート樹脂の１〜４種のみを含有する組成物の硬化膜であり、
前記最表面層は、赤外吸収スペクトルにおける前記ポリカーボネート樹脂に由来するカルボニル基の伸縮振動の吸収ピーク強度（ＩＣ）と、前記電荷輸送性化合物（ａ）の前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ” で表される構造に由来するカルボニル基の伸縮振動の吸収ピーク強度（ＩＡ）との比（ＩＡ／ＩＣ）が、０．５以上１０以下の範囲にあり、且つ前記吸収ピーク強度（ＩＡ）の吸収ピークの半値幅が２５ｃｍ−１以上である電子写真感光体。
【請求項２】
前記最表面層が、電荷輸送性骨格を有さず且つ前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造を２つ以上有する化合物（ｃ）を含有しない請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
前記電荷輸送性化合物（ａ）が、同一分子中に３つ以上の前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造を有する請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
前記電荷輸送性化合物が、同一分子中に４つ以上の前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造を有する請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項５】
前記最表面層が、更に、電荷輸送性骨格を有し且つラジカル重合可能な不飽和二重結合を有さない電荷輸送性化合物（ｂ）を少なくとも１種含有する請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項６】
前記電荷輸送性化合物（ａ）が、下記一般式（Ａ）で表される化合物である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【化１】
0005560755.tif 000037
〔上記一般式（Ａ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、各々独立に、置換又は未置換のアリール基を表し、Ａｒ５は置換又は未置換のアリール基又はアリーレン基を表し、Ｄは末端に前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ” で表される構造を有する基を表し、ｃ１乃至ｃ５は各々独立に０、１又は２を表し、ｋは０又は１を表し、Ｄの総数は２以上である。〕
【請求項７】
請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電装置と、
帯電された前記電子写真感光体の表面を露光して該表面に静電潜像を形成する露光装置と、
前記静電潜像を現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置と、
前記トナー像を被転写媒体に転写する転写装置と、
を備える画像形成装置。
【請求項８】
請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の電子写真感光体を有し、画像形成装置本体に着脱されるプロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、アクリル系材料による保護層が注目されている。例えば、特許文献１には光硬化型アクリル系モノマーを含有する液を塗布し硬化した膜が、特許文献２には炭素−炭素二重結合を有するモノマー、炭素−炭素二重結合を有する電荷移動材及びバインダー樹脂の混合物を熱、あるいは光のエネルギーによって前記モノマーの炭素−炭素二重結合と前記電荷移動材の炭素−炭素二重結合とを反応させることにより形成された膜が開示され、特に、単官能メタクリル変性した電荷移動材と、電荷輸送性を有さないメタクリルモノマーと、ポリカーボネート樹脂とを、有機過酸化物を用いて硬化したものが開示されている。
また、特許文献３には同一分子内に二つ以上の連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物を重合した化合物からなる膜が開示されている。
【０００３】
また、特許文献４には、上記アクリル系材料を含有する保護層は、真空中又は不活性ガス中で放射線照射後に加熱して形成することが、特許文献５には不活性ガス中で加熱硬化することが開示されている。
【０００４】
また、電荷輸送材料自身をアクリル変性し、架橋可能とするとともに、電荷輸送性を有さない反応性モノマーを添加し、膜強度を向上させることが開示されている（例えば、特許文献２及び６参照）。
一方、特許文献７には電荷輸送材料自身を３官能以上の多官能に変性することが開示されている。
さらに、特許文献８には、連鎖重合性官能基を有する電荷輸送物質の重合物を保護層に使用する技術が開示されており、また、摩擦特性を向上させるために、潤滑剤としてフッ素原子含有化合物を保護層中に含有する技術が開示されている。
【０００５】
また、特許文献９には、同一分子内にトリフェニルアミン骨格と、４つメタクリル基を有する化合物を使用する感光体が開示されている。特許文献９に記載の感光体では、該化合物とともに電荷輸送性を有さない化合物との併用が必須となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平５−４０３６０号公報
【特許文献２】特開平５−２１６２４９号公報
【特許文献３】特開２０００−２０６７１５号公報
【特許文献４】特開２００４−１２９８６号公報
【特許文献５】特開平７−７２６４０号公報
【特許文献６】特開２００４−３０２４５０号公報
【特許文献７】特開２０００−２０６７１７号公報
【特許文献８】特開２００１−１７５０１６号公報
【特許文献９】特開２００７−８６５２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の課題は、最表面層において赤外吸収スペクトルでのポリカーボネート樹脂由来のカルボニル基（ＣＯ基）の伸縮振動の吸収ピーク強度（ＩＣ）と電荷輸送性化合物（ａ）由来のＣＯ基の伸縮振動の吸収ピーク強度（ＩＡ）との比及び該吸収ピーク強度（ＩＡ）の吸収ピークの半値幅が特定の範囲内にない場合に比べ、繰り返し使用後の画質の低下を抑えた電子写真感光体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
請求項１に係る発明は、
導電性基体上に感光層を有し、
最表面層が、同一分子内に電荷輸送性骨格及び２つ以上のＲ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”（ここで、Ｒ及びＲ’のいずれか一方が前記電荷輸送性骨格と結合し、Ｒが前記電荷輸送性骨格と結合する場合には、Ｒは単結合又は置換基を有してもよい二価の連結基を表し、Ｒ’は水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基を表す。Ｒ’が前記電荷輸送性骨格と結合する場合には、Ｒ’は置換基を有してもよい二価の連結基を表し、Ｒは水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基を表す。Ｒ”は水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基を表す。前記二価の連結基は、アルキレン基、アリーレン基、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−基、及びこれらの組合せからなる群より選択される基を表す。前記置換基は、アルキル基、アルコキシ基、エステル基、及びアシル基からなる群より選択される基を表す。）で表される構造を有する電荷輸送性化合物（ａ）の少なくとも１種、及びポリカーボネート樹脂として、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂、ビスフェノールＡポリカーボネート樹脂、ビスフェノールＣポリカーボネート樹脂及びビスフェノールＰポリカーボネート樹脂からなる群より選択されるポリカーボネート樹脂の１〜４種のみを含有する組成物の硬化膜であり、
前記最表面層は、赤外吸収スペクトルにおける前記ポリカーボネート樹脂に由来するカルボニル基の伸縮振動の吸収ピーク強度（ＩＣ）と、前記電荷輸送性化合物（ａ）の前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ” で表される構造に由来するカルボニル基の伸縮振動の吸収ピーク強度（ＩＡ）との比（ＩＡ／ＩＣ）が、０．５以上１０以下の範囲にあり、且つ前記吸収ピーク強度（ＩＡ）の吸収ピークの半値幅が２５ｃｍ−１以上である電子写真感光体である。
【０００９】
請求項２に係る発明は、
前記最表面層が、電荷輸送性骨格を有さず且つ前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造を２つ以上有する化合物（ｃ）を含有しない請求項１に記載の電子写真感光体である。
【００１０】
請求項３に係る発明は、
前記電荷輸送性化合物（ａ）が、同一分子中に３つ以上の前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造を有する請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体。
【００１１】
請求項４に係る発明は、
前記電荷輸送性化合物が、同一分子中に４つ以上の前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造を有する請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体である。
【００１２】
請求項５に係る発明は、
前記最表面層が、更に、電荷輸送性骨格を有し且つラジカル重合可能な不飽和二重結合を有さない電荷輸送性化合物（ｂ）を少なくとも１種含有する請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の電子写真感光体である。
【００１３】
請求項６に係る発明は、
前記電荷輸送性化合物（ａ）が、下記一般式（Ａ）で表される化合物である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体である。
【００１４】
【化１】
0005560755.tif 000002
【００１５】
上記一般式（Ａ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、各々独立に、置換又は未置換のアリール基を表し、Ａｒ５は置換又は未置換のアリール基又はアリーレン基を表し、Ｄは末端に前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ” で表される構造を有する基を表し、ｃ１乃至ｃ５は各々独立に０、１又は２を表し、ｋは０又は１を表し、Ｄの総数は２以上である。
【００１６】
請求項７に係る発明は、
請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電装置と、
帯電された前記電子写真感光体の表面を露光して該表面に静電潜像を形成する露光装置と、
前記静電潜像を現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置と、
前記トナー像を被転写媒体に転写する転写装置と、
を備える画像形成装置である。
【００１７】
請求項８に係る発明は、
請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の電子写真感光体を有し、画像形成装置本体に着脱されるプロセスカートリッジである。
【発明の効果】
【００１８】
請求項１に係る発明によれば、最表面層が、同一分子内に電荷輸送性骨格及び２つ以上のＲ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造を有する電荷輸送性化合物（ａ）と、ポリカーボネート樹脂とを含有する組成物の硬化膜でなく、又は最表面層の赤外吸収スペクトルにおいて、ポリカーボネート樹脂のＣＯ基由来の伸縮振動の吸収ピーク強度（ＩＣ）と電荷輸送性化合物（ａ）のＣＯ基由来の伸縮振動の吸収ピーク強度（ＩＡ）との比（ＩＡ／ＩＣ）及び該吸収ピーク強度（ＩＡ）の吸収ピークの半値幅が上記特定の範囲内にない場合に比べ、繰り返し使用後における画質の低下を抑えた電子写真感光体が提供される。
【００１９】
請求項２に係る発明によれば、電荷輸送性骨格を有さず且つ前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造を２つ以上有する化合物（ｃ）を含有する場合に比べて、電気特性が向上する。
【００２０】
請求項３に係る発明によれば、同一分子中に２つ以下の前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ” で表される構造を有する電荷輸送性化合物（ａ）を用いる場合に比べて、繰り返し使用後での画質の低下がより抑えられる。
請求項４に係る発明によれば、同一分子中に３つ以下の前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ” で表される構造を有する電荷輸送性化合物（ａ）を用いる場合に比べて、繰り返し使用後での画質の低下が更に抑えられる。
【００２１】
請求項５に係る発明によれば、最表面層が、電荷輸送性骨格を有し且つラジカル重合可能な不飽和二重結合を有さない電荷輸送性化合物（ｂ）を含有しない場合に比べて、電気特性が向上する。
【００２２】
請求項６に係る発明によれば、電荷輸送性化合物（ａ）として一般式（Ａ）で表される化合物を用いない場合に比べて、電気特性が向上する。
【００２３】
請求項７に係る発明によれば、電子写真感光体の最表面層が、同一分子内に電荷輸送性骨格及び２つ以上のＲ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造を有する電荷輸送性化合物（ａ）と、ポリカーボネート樹脂とを含有する組成物の硬化膜でなく、又は最表面層において赤外吸収スペクトルでのポリカーボネート樹脂のＣＯ基由来の伸縮振動の吸収ピーク強度（ＩＣ）と電荷輸送性化合物（ａ）のＣＯ基由来の伸縮振動の吸収ピーク強度（ＩＡ）との比（ＩＡ／ＩＣ）及び該吸収ピーク強度（ＩＡ）の吸収ピークの半値幅が上記特定の範囲内にない場合に比べ、繰り返し使用後の画質の低下を抑えた画像形成装置が提供される。
【００２４】
請求項８に係る発明によれば、電子写真感光体の最表面層が、同一分子内に電荷輸送性骨格及び２つ以上のＲ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造を有する電荷輸送性化合物（ａ）と、ポリカーボネート樹脂とを含有する組成物の硬化膜でなく、又は最表面層の赤外吸収スペクトルにおいて、ポリカーボネート樹脂のＣＯ基由来の伸縮振動の吸収ピーク強度（ＩＣ）と電荷輸送性化合物（ａ）のＣＯ基由来の伸縮振動の吸収ピーク強度（ＩＡ）との比（ＩＡ／ＩＣ）及び該吸収ピーク強度（ＩＡ）の吸収ピークの半値幅が上記特定の範囲内にない場合に比べ、繰り返し使用後の画質の低下を抑えたプロセスカートリッジが提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す概略部分断面図である。
【図２】本発明の電子写真感光体の他の好適な一実施形態を示す概略部分断面図である。
【図３】本発明の電子写真感光体の他の好適な一実施形態を示す概略部分断面図である。
【図４】本発明のプロセスカートリッジの概略断面図である。
【図５】本発明のタンデム型画像形成装置の概略断面図である。
【図６】（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）はそれぞれゴースト評価の基準を示す説明図である。
【図７】実施例１の表面層の赤外吸収スペクトルである。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
〔電子写真感光体〕
本実施形態の電子写真感光体は、導電性基体上に感光層を有する電子写真感光体の最表面層が、同一分子内に電荷輸送性骨格及び２つ以上の前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ” で表される構造を有する電荷輸送性化合物（ａ）の少なくとも１種と、ポリカーボネート樹脂の少なくとも１種とを含有する組成物の硬化膜である。ポリカーボネート樹脂として、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂、ビスフェノールＡポリカーボネート樹脂、ビスフェノールＣポリカーボネート樹脂及びビスフェノールＰポリカーボネート樹脂からなる群より選択されるポリカーボネート樹脂の１〜４種のみを含む。そして、前記最表面層は、赤外吸収スペクトルにおける前記ポリカーボネート樹脂に由来するカルボニル基の伸縮振動の吸収ピーク強度（ＩＣ）と、前記電荷輸送性化合物（ａ）の前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ” で表される構造に由来するカルボニル基の伸縮振動の吸収ピーク強度（ＩＡ）との比（ＩＡ／ＩＣ）が、０．５以上１０以下であり、且つ前記吸収ピーク強度（ＩＡ）の吸収ピークの半値幅が２５ｃｍ−１以上である。
【００２７】
このような態様によれば、電気特性と膜強度とを兼ね備えた最表面層の形成、特に１０μｍ程度以上の厚膜化が可能となり、繰り返し使用後での画質の低下が抑えられる。感光体寿命は、高強度の表面層が摩滅したときの状態に起因するため、厚膜化は長寿命化に極めて有効である。
また有機感光体は放電により帯電して使用されるが、その際に電気的ストレス、オゾンなどの放電ガスによるストレスにより、表面材料の劣化が起こり、結果として放電生成物と呼ばれる硝酸アンモニウムなどのイオン性物質を吸着しやすくなる。そのために、特に高湿下で水分を吸着し、表面抵抗が低下し、潜像にじみを生じ、結果としてプリント画像の画像流れを生じやすい。これを抑制するためには、一般的に、最表面層を適度に磨耗させて、潜像のにじみを抑制している。この磨耗量は、帯電方式、クリーニング方式、トナー形状などの影響を受けることから、採用する方式によって左右される。よって、感光体の最表面層の強度は、採用した方式に合わせて調整可能であることが望まれる。ここで、最表面層として前記電荷輸送性化合物（ａ）にポリカーボネート樹脂を併用し、且つ赤外吸収スペクトルの伸縮振動の吸収ピーク強度が上記範囲内となるようにすると、最表面層の強度を調整することが可能となる。電気特性と強度を備えた最表面層が得られる理由については、以下のように推測されるが、当該推測によって本発明は限定されない。
【００２８】
ポリカーボネート樹脂は、キャリア輸送を妨げる極性基が比較的少ないため、電気特性に優れる。このような特性を有するポリカーボネート樹脂を電荷輸送性化合物（ａ）とともに最表面層中に含有させ、前記ＩＡ／ＩＣの値が０．５以上１０以下の範囲内となるようにポリカーボネート樹脂と電荷輸送性化合物（ａ）の配合比を調整し、且つ電荷輸送性化合物（ａ）のカルボニル基に由来する伸縮振動の吸収ピーク強度（ＩＡ）の吸収ピークの半値幅が２５ｃｍ−１以上となるように調製することで、ポリカーボネート樹脂と電荷輸送性化合物（ａ）との相溶性が向上する。その結果、最表面層を形成するための溶液の粘度の調整がしやすくなり、厚膜に層が形成される。それにより、電気特性との強度を兼ね備えた最表面層が得られる。
【００２９】
特に、前記吸収ピーク強度（ＩＡ）の吸収ピークの半値幅が広がるほど、最表面層中での他の官能基との相互作用が強くなり、電荷輸送性化合物（ａ）の混合状態に優れるため、電気特性と強度に優れた膜となることが明らかとなった。具体的には、前記吸収ピーク強度（ＩＡ）の吸収ピークの半値幅が２５ｃｍ−１以上となると、電気特性及び機械強度に優れた膜が得られる。前記吸収ピーク強度（ＩＡ）の吸収ピークの半値幅は、反応性官能基を有する電荷輸送性化合物の構造、ポリカーボネート樹脂との量比、重合開始剤種、重合条件の制御により調節される。これらの制御により、カルボニル基の硬化膜中での状態が変化して、半値幅が広がるものと推測される。
【００３０】
また、電荷輸送性化合物（ａ）の少なくとも１種以上と、ポリカーボネート樹脂の少なくとも１種以上を用いることで、電荷輸送性化合物（ａ）とポリカーボネート樹脂が入り組んだ、いわゆる相互侵入網目構造状態（ＩＰＮ状態）が形成され、層形成時の硬化反応において体積収縮が効果的に抑制され、これにより表面の粗さが抑えられた電子写真感光体が得られる。
【００３１】
さらに、上記条件を満たす場合には、電荷輸送性化合物（ａ）とポリカーボネート樹脂とが相溶性に優れるため、更に、第三成分として反応性基を有さない電荷輸送性化合物（ｂ）の混合も可能となり、よりいっそうの電気特性向上が可能となる。
【００３２】
また、上記条件を満たす場合には、電荷輸送性化合物（ａ）とポリカーボネート樹脂とが相溶性に優れるため、更に、ポリカーボネート樹脂以外のバインダー樹脂の混合も可能となりガスバリア性や接着性の向上が図られる。
【００３３】
以下、同一分子内に電荷輸送性骨格及び前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ” で表される構造を２つ以上有する電荷輸送性化合物（ａ）を、反応性の電荷輸送性材料（ａ）と称して説明する場合がある。
【００３４】
本実施形態に係る電子写真感光体では、前述の通り、反応性の電荷輸送材料（ａ）とポリカーボネート樹脂とを含有する組成物の硬化膜からなる最表面層を有するものであるが、当該最表面層は電子写真感光体自体の最上面を形成していればよく、保護層として機能する層、又は、電荷輸送層として機能する層として設けられる。
なお、最表面層が保護層として機能する層である場合、この保護層の下層には、電荷輸送層及び電荷発生層からなる感光層、又は単層型感光層を有することとなる。
【００３５】
最表面層が保護層として機能する層の場合、導電性基体上に、感光層、及び最表面層として保護層を有し、該保護層が反応性の電荷輸送材料（ａ）とポリカーボネート樹脂とを含有する組成物の硬化膜で構成される形態が挙げられる。
一方、最表面層が電荷輸送層として機能する層の場合、導電性基体上に、電荷発生層、及び最表面層として電荷輸送層を有し、該電荷輸送層が反応性の電荷輸送材料（ａ）とポリカーボネート樹脂とを含有する組成物の硬化膜で構成される形態が挙げられる。
【００３６】
以下、最表面層が保護層として機能する層の場合の、本実施形態に係る電子写真感光体について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。
【００３７】
図１は、本実施形態に係る電子写真用感光体の好適な一例を示す模式断面図である。図２乃至図３はそれぞれ他の実施形態に係る電子写真感光体を示す模式断面図である。
【００３８】
図１に示す電子写真感光体７Ａは、いわゆる機能分離型感光体（又は積層型感光体）であり、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に電荷発生層２、電荷輸送層３、及び保護層５が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体７Ａにおいては、電荷発生層２及び電荷輸送層３により感光層が構成されている。
【００３９】
図２に示す電子写真感光体７Ｂは、図１に示す電子写真感光体７Ａと同様に電荷発生層２と電荷輸送層３とに機能が分離された機能分離型感光体である。
図２に示す電子写真感光体７Ｂにおいては、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に、電荷輸送層３、電荷発生層２、及び保護層５が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体７Ｂにおいては、電荷輸送層３及び電荷発生層２により感光層が構成されている。
【００４０】
図３に示す電子写真感光体７Ｃは、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層（単層型感光層６）に含有するものである。図３に示す電子写真感光体７Ｃにおいては、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に単層型感光層６、保護層５が順次形成された構造を有するものである。
【００４１】
そして、上記図１、図２及び図３に示す電子写真感光体７Ａ、７Ｂ及び７Ｃにおいて、保護層５が、導電性基体２から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記所定の構成となっている。
なお、図１、図２及び図３に示す電子写真感光体において、下引層１は設けてもよいし、設けなくてもよい。
【００４２】
以下、代表例として図１に示す電子写真感光体７Ａに基づいて、各要素について説明する。
【００４３】
＜保護層＞
まず、電子写真感光体７Ａにおける最表面層である保護層５について説明する。
保護層５は、電子写真感光体７Ａにおける最表面層であり、反応性の電荷輸送材料（ａ）とポリカーボネート樹脂とを含有する組成物の硬化膜である。
まず、反応性の電荷輸送材料（ａ）について説明する。
【００４４】
（反応性の電荷輸送材料（ａ））
保護層（最表面層）５に用いられる反応性の電荷輸送材料（ａ）は、同一分子内に電荷輸送性骨格及び２つ以上のＲ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造を有する化合物であり、この構造上の条件を満たしていれば如何なるものでもかまわない。
【００４５】
Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造について説明する。
Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”において、Ｒ及びＲ’のいずれか一方が前記電荷輸送性骨格と結合する。Ｒが前記電荷輸送性骨格と結合する場合には、Ｒは単結合又は置換基を有してもよい二価の連結基を表し、Ｒ’は水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基を表す。他方、Ｒ’が前記電荷輸送性骨格と結合する場合には、Ｒ’は置換基を有してもよい二価の連結基を表し、Ｒは水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基を表す。Ｒ”は水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基を表す。
【００４６】
前記Ｒ又はＲ’で表される二価の連結基は、アルキレン基、アリーレン基、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−基、及びこれらの組合せからなる群より選択される基を表す。
【００４７】
Ｒ又はＲ’で表されるアルキレン基は、炭素数１以上１２以下であることが望ましく、炭素数１以上１０以下であることがより望ましい。
Ｒ又はＲ’で表されるアリーレン基は、炭素数６以上２０以下であることが望ましく、炭素数６以上１５以下であることがより望ましい。具体的には、フェニレン、ナフタレンジイル、アントラセンジイルなどが挙げられる。
【００４８】
Ｒ又はＲ’で表される前記二価の連結基は置換基を有していてもよく、該置換基は、アルキル基、アルコキシ基、エステル基（−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−）、及びアシル基からなる群より選択される基を表す。
二価の連結基の置換基としてのアルキル基、アルコキシ基及びアシル基は、炭素数が炭素数１以上１２以下であることが望ましく、炭素数１以上１０以下であることがより望ましい。
【００４９】
Ｒ又はＲ’で表される二価の連結基が、アルキレン基、アリーレン基、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、及び−ＣＯ−基からなる群より選択される２つ以上の組み合わせであるとき、例えば、−Ｏ−Ｒ１−、−Ｒ１−Ｏ−Ｒ１−、−ＣＯ−Ｒ１−、−Ｒ１−ＣＯ−Ｒ１−、−ＣＯＯ−Ｒ１−、−Ｒ１−ＣＯＯ−Ｒ１−、−ＯＣＯ−Ｒ１−、−Ｒ１−ＯＣＯ−Ｒ１−などが挙げられる。ここでＲ１は、各々独立に、前記アルキレン基又はアリーレン基を表す。
【００５０】
Ｒ、Ｒ’又はＲ”で表されるアルキル基は、炭素数が炭素数１以上１２以下であることが望ましく、炭素数１以上１０以下であることがより望ましい。
Ｒ、Ｒ’又はＲ”で表されるアルキル基は置換基を有していてもよく、該置換基は、アルキル基、アルコキシ基、エステル基（−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−）、及びアシル基からなる群より選択される基を表す。
【００５１】
好適には、Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”は、Ｒが前記電荷輸送性骨格と結合し、Ｒは単結合又は置換基を有してもよい二価の連結基を表し、Ｒ’は水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基を表す場合である。より好適には、Ｒが置換基を有してもよい二価の連結基を表し、Ｒ’は置換基を有してもよいアルキル基を表す場合である。更に好適には、Ｒが置換基を有してもよい二価の連結基を表し、Ｒ’は置換基を有してもよい炭素数１以上１０以下のアルキル基を表す場合である。
【００５２】
特に、Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”は、メタクリロイル基を有する構造であることが望ましい。即ち、Ｒが前記電荷輸送性骨格と結合し、Ｒ”が水素原子であって、Ｒ’がメチル基の場合が望ましい。その理由は明確ではないが、以下のように推測される。
【００５３】
通常、硬化反応には反応性の高いアクリル基が用いられることが多いが、嵩高い電荷輸送性骨格に置換基として反応性の高いアクリロイル基を用いた場合、不均一な硬化反応が起きやすくなりミクロ（若しくはマクロ）的な海島構造ができやすくなると考えられる。このような海島構造は電子分野以外では特に問題となることは少ないが、電子写真感光体として用いた場合には、最表面層のムラ・シワを発生しやすく、電荷輸送性が異なる部分がマクロに生じ、結果として、画像ムラなどの問題を生じる。なお、このような海島構造の形成は、一つの電荷輸送性骨格に複数の官能基がついている場合に、特に顕著になると考えられる。
そこで、メタクリロイル基を有する反応性の電荷輸送材料（ａ）を用いることで、上記のような海島構造の形成が抑えられることから、この望ましい態様の反応性の電荷輸送材料（ａ）を含有する組成物の硬化膜からなる最表面層を有する電子写真用感光体は、電気特性及び画像特性がより安定して得られるものと推測される。
【００５４】
また、Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”は、Ｒにおいて電荷輸送性骨格と結合し、且つＲは単結合ではなく、置換基を有してもよい二価の連結基であることが望ましい。特に、Ｒで表される二価の連結基がアルキレン基又はアルキレン基と−Ｏ−との組み合わせであることが望ましく、アルキレン基であることが更に望ましい。
【００５５】
上記の態様が望ましい理由としては、必ずしも明らかではないが、以下の理由が考えられる。
即ち、電子吸引性のメタクリロイル基が電荷輸送性骨格に近すぎると、電荷輸送性骨格の電荷密度が低下し、イオン化ポテンシャルが上昇することにより、下層からのキャリア注入が円滑に進行しにくくなることがある。また、メタクリロイル基のようなラジカル重合性の置換基を重合させる場合、重合時に生成するラジカルが電荷輸送性骨格に移動しやすい構造であると、生成したラジカルが電荷輸送の機能を劣化させてしまうため、電気特性の悪化を招いてしまうと考えられる。更に、最表面層における機械強度については、嵩高い電荷輸送性骨格と重合部位（前記−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ” で表される構造）が近くリジッドであると重合部位同士が動き難くなり、反応する確率が低下してしまうおそれがあるものと考えられる。
これらのことから、電荷輸送性骨格と前記−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ” で表される構造との間に柔軟性に富む炭素鎖であるＲを介在させる構造が望ましいものとなる。
【００５６】
次に、電荷輸送性骨格について説明する。
反応性の電荷輸送材料（ａ）中の電荷輸送性骨格としては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が電荷輸送性骨格に相当する。また、電荷輸送性骨格において、複数の窒素原子間で共役が切れている場合には、複数の窒素原子と共役している構造とその構造を結合する部位とを合わせて電荷輸送性骨格とする。
【００５７】
反応性の電荷輸送材料（ａ）は、上記のような電荷輸送性骨格に対し、前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ” で表される構造が２つ以上導入されたものである。
【００５８】
更に、反応性の電荷輸送材料（ａ）は、同一分子内にトリフェニルアミン骨格と３つ以上、より望ましくは、４つ以上のメタクリロイル基と、を有する構造の化合物であることが望ましい態様である。この態様とすることで、合成時の化合物の安定性が確保でき、工業的なスケールで生産されうると言った優れた利点を有する。また、この態様とすることで、架橋密度が高く、十分な機械的強度を有する最表面層を形成しうるため、電荷輸送性を有さない多官能モノマーを必ずしも添加する必要がなくなり、多官能モノマーの添加による電気特性の低下を起こさせることなく、最表面層の厚膜化が図れる。その結果として、この最表面層を有する電子写真用感光体は、寿命が延び、長期間の利用に耐え得るものとなる。
【００５９】
また、十分な電気特性及び強度を有する最表面層が形成しうることにより、最表面層には、更にポリカーボネート樹脂以外のバインダー樹脂の添加も可能となり、ガスバリア性や接着性の向上が図られる。
【００６０】
更に、反応性の電荷輸送材料（ａ）は電荷輸送性骨格を有することから、反応性基を有さない従来の電荷輸送材料との相溶性に優れるため、反応性基を持たない従来の電荷輸送材料の添加が可能となり、よりいっそうの電気特性の向上が図られる。
【００６１】
硬化方法としては、熱、光、又は放射線などによるラジカル重合が可能である。反応が早く進行しすぎると膜のムラやシワを発生しやすくなるため、ラジカル発生が比較的ゆっくりと起こる条件下で重合させることが望ましい。この点からは、重合速度を調整しやすい熱重合が好適である。
更に、反応性のより低いメタクリロイル基を有する電荷輸送材料（ａ）を用い、且つ熱重合を行うことで、熱による構造的な緩和の促進が図られ、均質性の高い膜が得られる。
【００６２】
本実施態様において、反応性の電荷輸送材料（ａ）としては、下記一般式（Ａ）で表される化合物であることが、電荷輸送性に優れることから、望ましい。
【００６３】
【化２】
0005560755.tif 000003
【００６４】
上記一般式（Ａ）中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３及びＡｒ４は、各々独立に、置換又は未置換のアリール基を表し、Ａｒ５は置換又は未置換のアリール基又はアリーレン基を表し、Ｄは末端に前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ” で表される構造を有する基を表し、ｃ１、ｃ２、ｃ３、ｃ４及びｃ５は各々独立に０、１又は２を表し、ｋは０又は１を表し、Ｄの総数は２以上である。
【００６５】
一般式（Ａ）において、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３及びＡｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３及びＡｒ４は、それぞれ、同一でもあってもよいし、異なっていてもよい。
ここで、置換アリール基における置換基としては、Ｄ（末端に前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造を有する基）以外のものとして、炭素数１以上４以下のアルキル基若しくはアルコキシ基、炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のアリール基等が挙げられる。
【００６６】
Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３及びＡｒ４としては、下記式（１）乃至（７）のうちのいずれかであることが望ましい。なお、下記式（１）乃至（７）は、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３及びＡｒ４の各々に連結され得る「−（Ｄ）Ｃ１」乃至「−（Ｄ）Ｃ４」を総括的に示した「−（Ｄ）Ｃ」と共に示す。
【００６７】
【化３】
0005560755.tif 000004
【００６８】
上記式（１）乃至（７）中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基若しくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、及び炭素数７以上１０以下のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表し、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ａｒは置換又は未置換のアリーレン基を表し、Ｄは末端に前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ” で表される構造を有する基を表し、ｃは０、１又は２を表し、ｓは０又は１を表し、ｔは０以上３以下の整数を表し、Ｚ’は２価の有機連結基を示す。
【００６９】
ここで、式（７）中のＡｒとしては、下記構造式（８）又は（９）で表されるものが望ましい。
【００７０】
【化４】
0005560755.tif 000005
【００７１】
上記式（８）及び（９）中、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、ｔはそれぞれ０以上３以下の整数を表す。
【００７２】
また、前記式（７）中、Ｚ’は、下記式（１０）乃至（１７）のうちのいずれかで表されるものが望ましい。また、ｓはそれぞれ０又は１を表す。
【００７３】
【化５】
0005560755.tif 000006
【００７４】
上記式（１０）乃至（１７）中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基若しくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ｗは２価の基を表し、ｑ及びｒはそれぞれ独立に１以上１０以下の整数を表し、ｔ”はそれぞれ０以上３以下の整数を表す。
【００７５】
前記式（１６）乃至（１７）中のＷとしては、下記（１８）乃至（２６）で表される２価の基のうちのいずれかであることが望ましい。但し、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を表す。
【００７６】
【化６】
0005560755.tif 000007
【００７７】
また、一般式（Ａ）中、Ａｒ５は、ｋが０のときは置換若しくは未置換のアリール基であり、このアリール基としては、Ａｒ１乃至Ａｒ４の説明で例示されたアリール基と同様のものが挙げられる。また、Ａｒ５は、ｋが１のときは置換若しくは未置換のアリーレン基であり、このアリーレン基としては、Ａｒ１乃至Ａｒ４の説明で例示されたアリール基から所定の位置の水素原子を１つ除いたアリーレン基が挙げられる。
【００７８】
上記一般式（Ａ）中、Ｄは、末端に前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造を有する基を表す。Ｄとしては、Ｒが電荷輸送性骨格と結合する部位であって、炭素原子を１つ以上有する二価の連結基であり、Ｒを介して末端の前記−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造と結合する基である場合が好適であり、より好適にはＲがアルキレン基であって、該Ｒで表されるアルキレン基を介して末端の前記−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造と結合する基であり、更に好適にはアルキレン基を介して末端のメタクリロイル基（つまりＲがアルキレン基であり、Ｒ''が水素原子であり、Ｒ’がメチル基である）と結合する基である。
【００７９】
一般式（Ａ）におけるＤとしては、具体的には、−（ＣＨ２）ｄ−（Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２）ｅ−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２であることが好適である。ここでｄは１以上５以下の整数を表し、１以上４以下であることがより好適であり、１以上３以下であることが更に好適である。ｅは０又は１を表す。
【００８０】
上記一般式（Ａ）中、ｃ１乃至ｃ５は各々独立に０、１又は２を表し、Ｄの総数は２以上である。得られる硬化膜の強度を高め、繰り返し使用後の画質の低下を抑える観点からは、Ｄの総数は３以上であることが好適であり、４以上であることが更に好適である。
【００８１】
以下に、反応性の電荷輸送材料（ａ）の具体例を、前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造の官能基数毎に示す。なお、反応性の電荷輸送材料（ａ）は、これらにより何ら限定されるものではない。具体例中、Ｍｅはメチル基を意味し、Ｅｔはエチル基を意味し、Ｐｒはプロピル基を意味し、Ｂｕはブチル基を意味する。
まず、反応性の電荷輸送材料（ａ）において、前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ” で表される構造の官能基数が４つ以上有するものの具体例（化合物Ａ−１乃至Ａ−３２）を示す。
【００８２】
【化７】
0005560755.tif 000008
【００８３】
【化８】
0005560755.tif 000009
【００８４】
【化９】
0005560755.tif 000010
【００８５】
【化１０】
0005560755.tif 000011
【００８６】
【化１１】
0005560755.tif 000012
【００８７】
【化１２】
0005560755.tif 000013
【００８８】
【化１３】
0005560755.tif 000014
【００８９】
反応性の電荷輸送材料（ａ）において、前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ” で表される構造の官能基数を２つ有するものの具体例（化合物Ａ−４６乃至Ａ−６７）を示す。
【００９０】
【化１４】
0005560755.tif 000015
【００９１】
【化１５】
0005560755.tif 000016
【００９２】
【化１６】
0005560755.tif 000017
【００９３】
【化１７】
0005560755.tif 000018
【００９４】
【化１８】
0005560755.tif 000019
【００９５】
反応性の電荷輸送材料（ａ）において、前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ” で表される構造の官能基数を３つ有するものの具体例（化合物Ａ−６８乃至Ａ−８０）を示す。
【００９６】
【化１９】
0005560755.tif 000020
【００９７】
【化２０】
0005560755.tif 000021
【００９８】
【化２１】
0005560755.tif 000022
【００９９】
本実施形態では、反応性の電荷輸送材料（ａ）として、前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ” で表される構造の基を２つ以上有するものを最表面層に含有していれば、前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ” で表される構造を１つ有する化合物を併用してもよい。
このような前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ” で表される構造を１つ有する化合物の具体例を下記（化合物Ａ−３３乃至Ａ−４５）に示す。
【０１００】
【化２２】
0005560755.tif 000023
【０１０１】
【化２３】
0005560755.tif 000024
【０１０２】
一般式（Ａ）で表される化合物は、以下のようにして合成される。
即ち、一般式（Ａ）で表される化合物は、前駆体であるアルコールを、対応するメタクリル酸、或いはメタクリル酸ハロゲン化物と縮合させるか、前駆体であるアルコールがベンジルアルコール構造の場合には、ヒドロキシエチルメタクリレートのような水酸基を有するメタクリル酸誘導体との脱水エーテル化などにより合成される。
【０１０３】
本実施形態で用いる化合物Ａ−４及びＡ−２９の合成経路を一例として以下に示す。
【０１０４】
（化合物Ａ−４の合成経路）
【化２４】
0005560755.tif 000025
【０１０５】
（化合物Ａ−２９の合成経路）
【化２５】
0005560755.tif 000026
【０１０６】
反応性の電荷輸送材料（ａ）の総含有量は、保護層（最表面層）５を形成する際に用いられる組成物の全固形分に対して、２５質量％以上９５質量％以下が望ましく、より好ましくは２５質量％以上８０質量％以下、更に好ましくは、４０質量％以上６０質量％以下である。
この範囲とすることで、硬化膜（最表面層）の強度、電気特性に優れ、硬化膜の厚膜化が可能となる。
【０１０７】
（ポリカーボネート樹脂）
保護層（最表面層）５を構成する硬化膜は、ポリカーボネート樹脂を含有する。ポリカーボネート樹脂の種類としては特に限定されず、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂、ビスフェノールＡポリカーボネート樹脂、ビスフェノールＣポリカーボネート樹脂、ビスフェノールＰポリカーボネート樹脂、などが用いられ、溶解性、塗布液ポットライフの観点から、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂、ビスフェノールＰポリカーボネート樹脂が好適であり、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂がより好適である。
ポリカーボネート樹脂は１種を単独で又は２種以上で用いる。
【０１０８】
ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量は、溶液粘度、相溶性、塗膜表面の平滑性の観点から、１万以上１０万以下であることが好ましく、２万以上９万以下であることがより好ましく、２．５万以上８万以下であることが更に好ましい。
【０１０９】
ポリカーボネート樹脂の総含有量は、保護層（最表面層）５を形成する際に用いられる組成物の全固形分に対して、５質量％以上７０質量％以下が望ましく、より望ましくは５質量％以上６５質量％以下、更に望ましくは５質量％以上６０質量％以下である。
【０１１０】
電荷輸送性を有する化合物（電荷輸送材料（ａ）（ｂ）を含む）とポリカーボネート樹脂との配合比は質量比で、９５：５以上４０：６０以下が望ましく、９５：５以上４５：５５以下がより望ましく、９５：５以上５０：５０以下が更に望ましい。
【０１１１】
（非反応性の電荷輸送材料（ｂ））
保護層（最表面層）５を構成する硬化膜は、前述した反応性の電荷輸送材料（ａ）の他に、電荷輸送性骨格を有し且つラジカル重合可能な不飽和二重結合を有さない非反応性の電荷輸送材料（ｂ）を併用してもよい。非反応性の電荷輸送材料（ｂ）は電荷輸送を担っていない反応性基を有さないため、非反応性の電荷輸送材料（ｂ）を保護層（最表面層）５に用いた場合には実質的に電荷輸送成分の濃度が高まり、電気特性を更に改善するのに有効である。また、非反応性の電荷輸送材料（ｂ）を添加して架橋密度を減じ、強度を調整してもよい。
【０１１２】
非反応性の電荷輸送材料（ｂ）における電荷輸送性骨格としては、前記反応性の電荷輸送材料（ａ）で説明した電荷輸送性骨格を用いてよい。特に、非反応性の電荷輸送材料（ｂ）は、反応性の電荷輸送材料（ａ）と同じ電荷輸送性骨格を有することが、反応性の電荷輸送材料（ａ）と非反応性の電荷輸送材料（ｂ）との相溶性を高め、よりいっそうの電荷輸送性の向上と膜の強度の向上が図られ、望ましい。
【０１１３】
なお、非反応性の電荷輸送材料（ｂ）において、反応性の電荷輸送材料（ａ）と同じ電荷輸送性骨格を有するとは、その骨格構造が同じであることを意味し、その電荷輸送性骨格上には、メチル基、エチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基等の置換基を有していてもよい。
【０１１４】
非反応性の電荷輸送材料（ｂ）としては、公知の電荷輸送材料を用いてもよく、具体的には、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等が用いられる。
なかでも、モビリティー、相溶性など点から、トリフェニルアミン骨格を有するものが望ましい。
【０１１５】
非反応性の電荷輸送材料（ｂ）は、層形成のための塗布液中の全固形分に対して２質量％以上５０質量％以下で用いられることが望ましく、より望ましくは５質量％以上４５質量％以下であり、更に望ましくは１０質量％以上４０質量％以下である。
【０１１６】
（電荷輸送性骨格を有さない反応性化合物（ｃ））
保護層（最表面層）５を構成する硬化膜は、前述した反応性の電荷輸送材料（ａ）の他に、電荷輸送性骨格を有さず且つ前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造を２つ以上有する反応性化合物（ｃ）を含有して、架橋密度を向上させて膜強度を高めてもよい。しかしながらこの反応性化合物（ｃ）は電荷輸送性骨格を有さないので、電荷輸送性を低下させないためには、保護層（最表面層）５を構成する硬化膜に含有させないことが望ましい。
【０１１７】
保護層（最表面層）５を構成する硬化膜に用いる反応性化合物（ｃ）は、モノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれの形態であってもよい。
反応性化合物（ｃ）としての１官能のモノマーは、例えば、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルｏ−フェニルフェノールアクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート、などが挙げられる。
【０１１８】
反応性化合物（ｃ）としての２官能のモノマーは、例えば、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
反応性化合物（ｃ）としての３官能のモノマーは、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、脂肪族トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
反応性化合物（ｃ）としての４官能のモノマーは、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、脂肪族テトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
反応性化合物（ｃ）としての５官能以上のモノマーは、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の他、ポリエステル骨格、ウレタン骨格、フォスファゼン骨格を有する（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１１９】
また、反応性化合物（ｃ）としてのポリマーは、例えば、特開平５−２１６２４９号公報、特開平５−３２３６３０号公報、特開平１１―５２６０３号公報、特開２０００−２６４９６１号公報などに開示されたものが挙げられる。
【０１２０】
反応性化合物（ｃ）を用いる場合には、単独又は２種以上の混合物として使用される。反応性化合物（ｃ）は、電荷輸送性を有する化合物の全量に対し１００質量％以下、好ましくは５０質量％以下、より好ましくは３０質量％以下で用い、更に好ましくは保護層（最表面層）５を構成する硬化膜に含有させない場合である。
【０１２１】
（その他の樹脂）
上記条件を満たす保護層（最表面層）５を構成する硬化膜の場合には、電荷輸送性化合物（ａ）とポリカーボネート樹脂との相溶性に優れるため、更に、前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造を有さない非反応性のバインダー樹脂の混合も可能となる。よって、放電ガス耐性、接着性、機械強度、耐傷性、粒子分散性、粘度コントロール、トルク低減、磨耗量コントロール、ポットライフの延長などの目的で、非反応性のバインダー樹脂を添加してもよい。非反応性のバインダー樹脂を用いることで、組成物の粘度が向上し、表面性状に優れた保護層５（最表面層）が形成されると共に、最表面中のガスの混入を防止するガスバリア性の向上が図られ、また、下層との接着性の向上にも寄与しうる。
【０１２２】
非反応性のバインダー樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂など公知のものが挙げられる。
また、保護層（最表面層）５の放電ガス耐性、機械強度、耐傷性、粒子分散性、粘度コントロール、トルク低減、磨耗量コントロール、ポットライフの延長などの目的でアルコールに溶解する樹脂を添加してもよい。
【０１２３】
非反応性のバインダー樹脂は、電荷輸送性を有する化合物の全量に対し１００質量％以下、好ましくは５０質量％以下、より好ましくは３０質量％以下で用いられる。
【０１２４】
（熱重合開始剤）
保護層（最表面層）５の形成には、光硬化触媒又は熱重合開始剤を用いてもよい。この硬化触媒及び熱重合開始剤としては、公知の光硬化触媒や熱重合開始剤を用いてもよい。
【０１２５】
−光硬化触媒−
光硬化触媒としては、分子内開裂型、水素引抜型などが挙げられる。
分子内開裂型としては、ベンジルケタール系、アルキルフェノン系、アミノアルキルフェノン系、ホスフィンオキサイド系、チタノセン系、オキシム系などが挙げられる。
より具体的には、ベンジルケタール系として、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンが挙げられる。
また、アルキルフェノン系としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、アセトフェノン、２−フェニル−２−（ｐ−トルエンスルフォニルオキシ）アセトフェノンが挙げられる。
アミノアルキルフェノン系としては、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１，２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モリホニル）フェニル］−１−ブタノンなどが挙げられる。
ホスフィノキサイド系としては、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンキサイドなどが挙げられる。
チタノセン系としては、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムなどが挙げられる。
オキシム系としては、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）などが挙げられる。
【０１２６】
水素引抜型としては、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンジル系、ミヒラーケトン系などが挙げられる。より具体的には、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンジル系、ミヒラーケトン系などが挙げられる。
より具体的には、ベンゾフェノン系としては、２−ベンゾイル安息香酸、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド、ｐ，ｐ’−ビスジエチルアミノベンゾフェノンなどが挙げられる。
チオキサントン系としては、２，４−ジエチルチオキサンテン−９−オン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。
ベンジル系としては、ベンジル、（±）−カンファーキノン、ｐ−アニシルなどが挙げられる。
【０１２７】
これらの光重合開始剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用られる。
【０１２８】
−熱重合開始剤−
熱重合開始剤の市販品としては、V-30、V-40、V-59、V601、V65、V-70、VF-096、VE-73、Vam-110、Vam-111（和光純薬製）、OTAzo-15、OTazo-30、AIBM、AMBN、ADVN、ACVA（大塚化学）等のアゾ系開始剤；パーテトラA、パーヘキサHC、パーヘキサC、パーヘキサV、パーヘキサ22、パーヘキサMC、パーブチルH，パークミルH、パークミルP、パーメンタH、パーオクタH、パーブチルC、パーブチルD、パーヘキシルD、パーロイル IB、パーロイル 355、パーロイル L、パーロイル SA、ナイパー BW、ナイパー BMT-K40/M、パーロイル IPP、パーロイル NPP、パーロイル TCP、パーロイル OPP、パーロイル SBP、パークミル ND、パーオクタ ND、パーヘキシル ND、パーブチル ND、パーブチル NHP、パーヘキシル PV、パーブチル PV、パーヘキサ 250、パーオクタ O、パーヘキシル O、パーブチル O、パーブチル L、パーブチル 355、パーヘキシル I、パーブチル I、パーブチル E、パーヘキサ 25Z、パーブチル A、パーへヘキシル Z、パーブチル ZT、パーブチル Z（日油化学社製）、カヤケタール AM-C55、トリゴノックス 36-C75、ラウロックス、パーカドックス L-W75、パーカドックス CH-50L、トリゴノックス TMBH、カヤクメン H、カヤブチル H-70、ペルカドックス BC-FF、カヤヘキサ AD、パーカドックス 14、カヤブチル C、カヤブチル D、カヤヘキサ YD-E85、パーカドックス 12-XL25、パーカドックス 12-EB20、トリゴノックス 22-N70、トリゴノックス 22-70E、トリゴノックス D-T50、トリゴノックス 423-C70、カヤエステル CND-C70、カヤエステル CND-W50、トリゴノックス 23-C70、トリゴノックス 23-W50N、トリゴノックス 257-C70、カヤエステル P-70、カヤエステル TMPO-70、トリゴノックス 121、カヤエステル O、カヤエステル HTP-65W、カヤエステル AN、トリゴノックス 42、トリゴノックス F-C50、カヤブチル B、カヤカルボン EH-C70、カヤカルボン EH-W60、カヤカルボン I-20、カヤカルボン BIC-75、トリゴノックス 117、カヤレン6-70（化薬アクゾ社製）、ルペロックス610、ルペロックス188、ルペロックス844、ルペロックス259、ルペロックス10、ルペロックス701、ルペロックス11、ルペロックス26、ルペロックス80、ルペロックス7、ルペロックス270、ルペロックスP、ルペロックス546、ルペロックス554、ルペロックス575、ルペロックスTANPO、ルペロックス555、ルペロックス570、ルペロックスTAP、ルペロックスTBIC、ルペロックスTBEC、ルペロックスJW、ルペロックスTAIC、ルペロックスTAEC、ルペロックスDC、ルペロックス101、ルペロックスF、ルペロックスDI、ルペロックス130、ルペロックス220、ルペロックス230、ルペロックス233、ルペロックス531（アルケマ吉富社製）などが挙げられる。
【０１２９】
これらのうち、分子量２５０以上のアゾ系重合開始剤を用いると、低い温度で均質な反応が進行することから、反応性の電荷輸送材料（ａ）とポリカーボネート樹脂との相溶性に優れた高強度の膜の形成が図れる。より好適には、アゾ系重合開始剤の分子量は、２５０以上であり、３００以上が更に好適である。
【０１３０】
光硬化触媒又は熱重合開始剤の総含有量は、層形成のための塗布液中の全固形分に対して０．１質量％以上１０質量％以下、好ましくは０．１質量％以上８質量％以下、より好ましくは０．１質量％以上５質量％以下の範囲である。
【０１３１】
（その他の添加剤）
保護層（最表面層）５を構成する硬化膜は、更に成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、他のカップリング剤、特にフッ素含有のカップリング剤と混合して用いてもよい。このような化合物として、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。
【０１３２】
シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、等が挙げられる。
市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−８２３９（以上、信越化学工業社製）、ＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等が挙げられる。
【０１３３】
また、撥水性等の付与のために、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン、等の含フッ素化合物を加えてもよい。
【０１３４】
シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、架橋膜の成膜性の観点から、フッ素を含まない化合物に対して質量で０．２５倍以下とすることが望ましい。更に、特開２００１−１６６５１０号公報などに開示されている反応性のフッ素化合物などを混合してもよい。
【０１３５】
保護層（最表面層）５を構成する硬化膜には、帯電装置で発生するオゾン等の酸化性ガスによる劣化を防止する目的で、劣化防止剤を添加することが好ましい。感光体表面の機械的強度を高め、感光体が長寿命になると、感光体が酸化性ガスに長い時間接触することになるため、従来より強い酸化耐性が要求される場合がある。
劣化防止剤としては、ヒンダードフェノール系あるいはヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。
劣化防止剤の添加量としては２０質量％以下が望ましく、１０質量％以下がより望ましい。
【０１３６】
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、イルガノックス1076、イルガノックス1010、イルガノックス1098、イルガノックス245、イルガノックス1330、イルガノックス3114、イルガノックス1076、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシビフェニル等が挙げられる。
ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、サノールLS2626、サノールLS765、サノールLS770、サノールLS744、チヌビン144、チヌビン622LD、マークLA57、マークLA67、マークLA62、マークLA68、マークLA63が挙げられ、チオエーテル系として、スミライザ−TPS、スミライザーTP-Dが挙げられ、ホスファイト系として、マーク2112、マークPEP-8、マークPEP-24G、マークPEP-36、マーク329K、マークHP-10等が挙げられる。
【０１３７】
更に、保護層（最表面層）５を構成する硬化膜には残留電位を下げるため、あるいは強度を上げるために導電性粒子や、有機又は無機粒子を添加してもよい。
この粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、好ましくは１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下のシリカを、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、あるいはアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれる。該粒子としては一般に市販されているものを使用してもよい。
【０１３８】
表面層中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、製膜性、電気特性、強度の面から、保護層５の全固形分全量を基準として、０．１質量％以上５０質量％以下、好ましくは０．１質量％以上３０質量％以下の範囲で用いられる。
【０１３９】
ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。
これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は好ましくは１ｎｍ以上５００ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。シリコーン粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、さらに十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、電子写真感光体の表面性状が改善される。すなわち、強固な架橋構造中に均一に取り込まれた状態で、電子写真感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期間にわたって良好な耐磨耗性、耐汚染物付着性が維持される。
表面層中のシリコーン粒子の含有量は、保護層５の全固形分全量を基準として、好ましくは０．１質量％以上３０質量％以下、より好ましくは０．５質量％以上１０質量％以下である。
【０１４０】
また、その他の粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系粒子や“第８回ポリマー材料フォーラム講演予稿集、８９頁”に示されるような、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂で構成される粒子、ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、ＺｎＯ２−ＴｉＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＦｅＯ−ＴｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物が挙げられる。さらに、微粒子を分散させるために公知の種々の分散剤、分散助剤を用いることができる。
【０１４１】
また、同様な目的でシリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。
シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル；アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル；ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類；１，３，５−トリメチル−１．３．５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類；ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類；３−（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類；メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類；ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。
【０１４２】
また、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀及びステンレス等、又はこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ及びアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。
これらは単独で、又は２種以上を組み合わせて用いる。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着での混合でもよい。導電性粒子の平均粒径は保護層の透明性の点で０．３μｍ以下、特に０．１μｍ以下が好ましい。
【０１４３】
（組成物）
保護層５を形成するために用いる、反応性の電荷輸送材料（ａ）及びポリカーボネート樹脂を含有する組成物は、保護層形成用塗布液として調製されることが望ましい。
この保護層形成用塗布液は、無溶媒であってもよいし、必要に応じて、トルエン、キシレンなどの芳香族、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのセロソルブ系、イソプロピルアルコール、ブタノールなどのアルコール系等の溶媒などの単独又は混合溶媒を用いて調製される。
【０１４４】
また、前述の成分を反応させて塗布液を得るときには、各成分を単純に混合、溶解させるだけでもよいが、望ましくは室温以上１００℃以下、より望ましくは３０℃以上８０℃以下で、望ましくは１０分以上１００時間以下、より望ましくは１時間以上５０時間以下の条件で加温する。また、この際に超音波を照射することも望ましい。これにより、塗布液の均一性が高まり、塗膜欠陥を抑えた膜が得られやすくなる。
【０１４５】
（保護層５の作製）
反応性の電荷輸送材料（ａ）及びポリカーボネート樹脂を含有する組成物からなる保護層形成用塗布液は、被塗布面を形成する電荷輸送層３の上に、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法により塗布される。
その後、得られた塗膜に対して、光、電子線又は熱を付与してラジカル重合を生起させて、該塗膜を重合、硬化させる。
【０１４６】
熱により塗膜を重合、硬化させる際、加熱条件は５０℃以上であることが望ましい。この温度以下であると硬化膜の寿命が短く望ましくない。特に、加熱温度としては、１００℃以上１８０℃以下が、強度、電気特性、感光体の表面均一性の点から望ましい。
【０１４７】
光により塗膜を重合、硬化させる際、水銀灯、メタルハライドなどの公知の方法で照射して硬化膜を得る。
【０１４８】
上記のような、重合、硬化反応の際には、光、電子線又は熱によって発生したラジカルが失活することなく連鎖反応を行えるよう、真空又は不活性ガス雰囲気下で、酸素濃度が望ましくは１０％以下、より望ましくは５％以下、更に望ましくは２％以下、最も望ましくは５００ｐｐｍ以下の低酸素濃度で行われる。
【０１４９】
本実施態様では、反応が早く進行しすぎると架橋により塗膜の構造緩和ができ難くなり、膜のムラやシワを発生しやすくなるといった理由から、ラジカルの発生が比較的ゆっくりと起こる熱による硬化方法が採用される。特に、アクリロイル基よりも反応性の低いメタクリロイル基を有する反応性の電荷輸送材料（ａ）の場合、このメタクリロイル基と熱による硬化とを組み合わせることで、塗膜の構造緩和の促進が図られ、表面性状に優れた高い保護層５（最表面層）が得られる。
【０１５０】
保護層５の膜厚は５μｍ以上４０μｍ以下程度が好ましく、７μｍ以上３５μｍ以下とするのがさらに好ましい。
【０１５１】
（物性値）
本実施形態において、保護層（最表面層）５を赤外吸収スペクトルで測定したとき、前記ポリカーボネート樹脂に由来するカルボニル基の伸縮振動の吸収ピーク強度（ＩＣ）と、反応性の電荷発生材料（ａ）の前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造に由来するカルボニル基の伸縮振動の吸収ピーク強度（ＩＡ）との比（ＩＡ／ＩＣ）は、０．５以上１０以下である。
【０１５２】
吸収ピーク強度比（ＩＡ／ＩＣ）が上記範囲内にあると、ポリカーボネート樹脂と電荷輸送性化合物（ａ）との相溶性が向上し、電気特性との強度を兼ね備えた最表面層が得られる。
【０１５３】
吸収ピーク強度比（ＩＡ／ＩＣ）の範囲は、電気特性との強度を兼ね備えて、繰り返し使用後の画質の低下を抑える観点から、０．５以上１０以下の範囲であることが好適であり、０．５以上９以下の範囲であることがより好適であり、０．５以上８以下の範囲であることが更に好適である。
【０１５４】
吸収ピーク強度比（ＩＡ／ＩＣ）の調整は、保護層（最表面層）５を形成するための組成物における電荷輸送性化合物（ａ）とポリカーボネート樹脂との配合比を調節することで行う。この配合比率は、電荷輸送性化合物（ａ）が有するカルボニル基の個数、及びポリカーボネート樹脂が有するカルボニル基の個数によって変動するため一概に定められないが、一般的には質量比で、電荷輸送性化合物（ａ）：ポリカーボネート樹脂＝９５：５から４０：６０までの範囲とすることが望ましく、９５：５から４５：５５までの範囲とすることがより望ましく、９５：５から５０：５０までの範囲とすることが更に望ましい。
【０１５５】
また、保護層（最表面層）５の赤外吸収スペクトルは、反応性の電荷発生材料（ａ）の前記Ｒ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造に由来するカルボニル基の伸縮振動の吸収ピーク強度（ＩＡ）の吸収ピークの半値幅が、２５ｃｍ−１以上である。吸収ピーク強度（ＩＡ）の吸収ピークの半値幅が広くなるほど望ましく、２６ｃｍ−１以上が好適であり、２７ｃｍ−１以上がより好適である。
【０１５６】
前記吸収ピーク強度（ＩＡ）の吸収ピークの半値幅が広がるほど最表面層中での他の官能基との相互作用が強くなり、電荷輸送性材料（ａ）の混合状態に優れ、電気特性及び機械強度に優れた膜が得られる。
【０１５７】
前記吸収ピーク強度（ＩＡ）の吸収ピークの半値幅は、反応性の電荷輸送性材料（ａ）の構造、ポリカーボネート樹脂との量比、重合開始剤種、重合条件の制御により調節される。
具体的には、反応性の電荷輸送性材料（ａ）とポリカーボネート樹脂の構造が、相溶しやすくなるように組み合わせると、吸収ピーク強度（ＩＡ）の吸収ピークの半値幅が広くなりやすい。
【０１５８】
また、反応性の電荷輸送材料（ａ）及びポリカーボネート樹脂を含有する組成物を塗布し形成した塗膜の重合及び硬化を１００℃以上１８０℃以下の温度条件で行うと、緩やかに反応が進行するため、ＩＡの吸収ピークの半値幅が広がる。特に、分子量２５０以上のアゾ系重合開始剤を用いて塗膜を重合、硬化させると、低い温度で均質な反応が進行することから、吸収ピーク強度（ＩＡ）の吸収ピークの半値幅を広げるのに効果的である。
【０１５９】
なお、分子量２５０未満の重合開始剤を用いる場合には、塗膜の重合及び硬化の際の温度を高めると、吸収ピーク強度（ＩＡ）の吸収ピークの半値幅が広がる。よって、分子量２５０未満の重合開始剤を用いる場合には、１２０℃以上１８０℃以下の温度で塗膜の重合及び硬化を行うことが望ましい。
【０１６０】
更に、重合の際、酸素濃度を低くすると、吸収ピーク強度（ＩＡ）の吸収ピークの半値幅が広くなる。具体的には、酸素濃度は１０％以下が望ましく、５％以下がより望ましく、２％以下が更に望ましく、更に望ましくは５００ｐｐｍ以下である。
【０１６１】
ここで、赤外吸収スペクトルの吸収ピーク強度ＩＡ，ＩＣの求め方について説明する。
フーリエ変換赤外分光装置を用いて、ＡＴＲプリズムにＧｅを用いた顕微ＡＴＲ法にて保護層（最表面層）５の赤外吸収スペクトルを測定する。得られた赤外吸収スペクトルのスペクトル処理をアドバンストＡＴＲにて補正し、水蒸気ノイズを除去する。スペクトルのベースラインは、測定するスペクトルピークから隣り合うピークに至るまでの間で吸収強度が最小値となる点どうしを結んだ線である。このベースラインを規準に吸収ピーク強度ＩＡ，ＩＣを求める。また、前記ベースラインを規準に、吸収強度が半分となる位置での吸収スペクトルの幅を吸収ピークの半値幅として求める。
【０１６２】
保護層（最表面層）５の膜厚は５μｍ以上４０μｍ以下程度が望ましく、７μｍ以上３５μｍ以下とするのがより望ましい。
【０１６３】
以上、図１に示される電子写真感光体７Ａを参照し、機能分離型の感光層の例を説明したが、図２に示される機能分離型の電子写真感光体７Ｂも同様である。また、図３に示される電子写真感光体７Ｃの単層型感光層６の場合、以下の態様であることが望ましい。
【０１６４】
即ち、単層型感光層６中の反応性の電荷発生材料（ａ）の含有量は、膜強度の観点から、保護層（最表面層）５を形成する際に用いられる組成物の全固形分に対して５質量％以上５０質量％以下、望ましくは１０質量％以上４０質量％以下、より望ましくは１５質量％以上３５質量％以下で使用される。
【０１６５】
電荷発生材料（ａ）を含めた電荷発生材料の総含有量は、保護層（最表面層）５を形成する際に用いられる組成物の全固形分に対して１０質量％以上８５質量％以下程度、望ましくは２０質量％以上５０質量％以下である。また、電荷輸送材料の含有量は５質量％以上５０質量％以下とすることが好ましい。
【０１６６】
単層型感光層６の形成方法は、電荷発生層２や電荷輸送層３の形成方法と同様である。単層型感光層６の膜厚は５μｍ以上５０μｍ以下程度が望ましく、１０μｍ以上４０μｍ以下とするのが更に望ましい。
【０１６７】
また、上述の実施形態では、反応性の電荷輸送材料（ａ）とポリカーボネート樹脂とを含有する組成物の硬化膜からなる最表面層が保護層５である形態を説明したが、保護層５がない層構成の場合には、その層構成において最表面に位置する電荷輸送層が該最表面層となる。
最表面層が電荷輸送層である場合、この層の厚みは、７μｍ以上７０μｍ以下が望ましく、１０μｍ以上６０μｍ以下がより望ましい。
【０１６８】
＜導電性基体＞
導電性基体４としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属又は合金を用いて構成される金属板、金属ドラム、及び金属ベルトが挙げられる。また、導電性基体４としては、導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等も挙げられる。
ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【０１６９】
電子写真感光体７Ａがレーザープリンターに使用される場合、レーザー光を照射する際に生じる干渉縞を防止するために、導電性基体４の表面は、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化することが望ましい。Ｒａが上記範囲内にあると、干渉防止効果が十分であり、画質の粗さが抑えられる傾向がある。なお、非干渉光を光源に用いる場合には、干渉縞防止の粗面化は特に必要なく、導電性基体４表面の凹凸による欠陥の発生が防げるため、より長寿命化に適する。
【０１７０】
粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、又は回転する砥石に支持体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が望ましい。
【０１７１】
また、他の粗面化の方法としては、導電性基体４表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、支持体表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も望ましく用いられる。
【０１７２】
ここで、陽極酸化による粗面化処理は、アルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが望ましい。
【０１７３】
陽極酸化膜の膜厚については、０．３μｍ以上１５μｍ以下が望ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
【０１７４】
また、導電性基体４には、酸性水溶液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。リン酸、クロム酸及びフッ酸からなる酸性処理液による処理は以下のようにして実施される。先ず、酸性処理液を調整する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲が好ましい。処理温度は４２℃以上４８℃以下が好ましいが、処理温度を高く保つことにより、一層速く、かつ厚い被膜が形成される。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。皮膜の膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
【０１７５】
ベーマイト処理は、９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【０１７６】
＜下引層＞
下引層１は、例えば、結着樹脂に無機粒子を含有して構成される。
無機粒子としては、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ω・ｃｍ以上１０１１Ω・ｃｍ以下のものが望ましく用いられる。これは、下引層１はリーク耐性、キャリアブロック性獲得のために適切な抵抗を得ることが必要であるためである。なお、上記範囲内に無機粒子の抵抗値があると、十分なリーク耐性と、残留電位上昇の抑制が図られる。
【０１７７】
なかでも上記抵抗値を有する無機粒子としては、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の無機粒子を用いるのが望ましく、特に、酸化亜鉛は望ましく用いられる。
【０１７８】
また、無機粒子は表面処理を行ったものでもよく、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものなど２種以上混合して用いてもよい。
無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、１０ｍ２／ｇ以上が望ましい。比表面積値が１０ｍ２／ｇ以上のものは帯電性低下を抑える。
無機粒子の体積平均粒径は５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（望ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）の範囲であることが望ましい。
【０１７９】
更に、無機粒子と共にアクセプター性化合物を含有させることで電気特性の長期安定性、キャリアブロック性に優れた下引層が得られる。
アクセプター性化合物としては、上記特性が得られるものであれば限定されず、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質などが望ましく、特にアントラキノン構造を有する化合物が望ましい。更にヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物等、アントラキノン構造を有するアクセプター性化合物が望ましく用いられ、具体的にはアントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が挙げられる。
【０１８０】
これらのアクセプター性化合物の含有量は上記特性が得られる範囲であれば限定されないが、望ましくは無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下の範囲で含有される。更に電荷蓄積防止と無機粒子の凝集を防止する観点から０．０５質量％以上１０質量％以下の範囲で添加されることが望ましい。無機粒子の凝集を抑えることで、導電路形成のバラツキを抑制し、繰り返し使用時に残留電位の上昇など維持性の悪化を抑えるだけでなく、黒点などの画質欠陥の発生も抑える。
【０１８１】
アクセプター化合物は、下引層形成用塗布液に添加するだけでもよいし、無機粒子表面にあらかじめ付着させておいてもよい。
無機粒子表面にアクセプター化合物を付与させる方法としては、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。
【０１８２】
乾式法にて表面処理を施す場合には、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させたアクセプター化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによってバラツキが生じることなく処理される。添加又は噴霧する際には溶剤の沸点以下の温度で行われることが望ましい。溶剤の沸点以下の温度で噴霧すると、アクセプター化合物が局部的に偏在するのを抑える。添加又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施される。
【０１８３】
また、湿式法としては、無機粒子を溶剤中で攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて分散し、アクセプター化合物を添加し攪拌又は分散した後、溶剤除去することでバラツキが生じることなく処理される。溶剤除去方法はろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては表面処理剤を添加する前に無機粒子含有水分を除去することもでき、その例として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法を用いてもよい。
【０１８４】
また、無機粒子にはアクセプター化合物を付与する前に表面処理を施してもよい。表面処理剤としては、所望の特性が得られるものであればよく、公知の材料から選択される。例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性材等が挙げられる。特に、シランカップリング剤は良好な電子写真特性を与えるため望ましく用いられる。更にアミノ基を有するシランカップリング剤は下引層１に良好なブロッキング性を与えるため望ましく用いられる。
【０１８５】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、電子写真感光体特性が得られればいかなるものを用いてもよく、具体的例としては、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１８６】
また、シランカップリング剤は２種以上混合して使用してもよい。前記アミノ基を有するシランカップリング剤と併用して用いてもよいシランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１８７】
また、これらの表面処理剤を用いた表面処理方法は公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法が用いられる。また、アクセプター化合物の付与と、カップリング剤等の表面処理剤による表面処理と、を同時に行ってもよい。
【０１８８】
下引層１中の無機粒子に対するシランカップリング剤の量は電子写真特性が得られる量であれば限定されず、分散性向上の観点からは、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が望ましい。
【０１８９】
また、下引層１には結着樹脂が含有されてもよい。
下引層１に含有される結着樹脂としては、良好な膜が形成されるもので、かつ、所望の特性が得られるものであれば公知のいかなるものを使用してもよく、例えば、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が用いられる。
また、下引層１に含有される結着樹脂として、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等を用いてもよい。なかでも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が好適である。これらを２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【０１９０】
下引層形成用塗布液中の、表面にアクセプター化合物を付与させた無機粒子（アクセプター性を付与した金属酸化物）とバインダー樹脂、又は、無機粒子とバインダー樹脂との比率は電子写真感光体特性が得られる範囲で設定される。
【０１９１】
また、下引層１中には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加物を用いてもよい。
添加物としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が用いられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層形成用塗布液に添加してもよい。
【０１９２】
添加剤としてのシランカップリング剤の具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
また、ジルコニウムキレート化合物の例としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【０１９３】
チタニウムキレート化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【０１９４】
アルミニウムキレート化合物の例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【０１９５】
これらの化合物は単独に若しくは複数の化合物の混合物又は重縮合物として用いてもよい。
【０１９６】
下引層形成用塗布液を調製するための溶媒としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択される。
溶媒として、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いられる。
【０１９７】
また、これらの溶剤は単独又は２種以上混合して用いてもよい。混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤として結着樹脂を溶かし得る溶剤であれば、いかなるものでも使用される。
【０１９８】
下引層形成用塗布液を調製する際の無機粒子の分散方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法を用いられる。
更に、下引層１を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。
【０１９９】
このようにして得られた下引層形成用塗布液を用い、導電性基体上に下引層１が成膜される。
【０２００】
また、下引層１は、ビッカース硬度が３５以上とされていることが望ましい。
更に、下引層１は、所望の特性が得られるのであれば、いかなる厚さに設定されてもよいが、厚さ１５μｍ以上が望ましく、更に望ましくは１５μｍ以上５０μｍ以下とされていることが望ましい。
下引層１の厚さが上記範囲内にあると、充分な耐リーク性能が向上し、長期使用したときの残留電位の残存を低減して画像濃度の異常発生が抑えられる。
【０２０１】
また、下引層１の表面粗さ（十点平均粗さ）はモアレ像防止のために、使用される露光用レーザー波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）から１／２λまでに調整される。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂などの粒子を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等を用いられる。
また、表面粗さ調整のために下引層表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等を用いられる。
【０２０２】
下引層１は、導電性基体４上に塗布した前述の下引層形成用塗布液を乾燥させることで得られるが、通常、乾燥は、溶剤を蒸発させうる、製膜可能な温度で行われる。
【０２０３】
＜電荷発生層＞
電荷発生層２は、電荷発生材料及び結着樹脂を含有する層である。
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料、酸化亜鉛、三方晶系セレン等が挙げられる。これらの中でも、近赤外域のレーザー露光に対応させるためには、電荷発生材料として、金属フタロシアニン顔料、及び無金属フタロシアニン顔料を用いることが望ましく、特に、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１１１７２号公報、特開平５−１１１７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平４−１８９８７３号公報、特開平５−４３８２３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより望ましい。また、近紫外域のレーザー露光に対応させるためには、電荷発生材料として、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、チオインジゴ系顔料、ポルフィラジン化合物、酸化亜鉛、三方晶系セレン、特開２００４−７８１４７号公報、特開２００５−１８１９９２号公報に開示されたビスアゾ顔料等を用いることがより望ましい。
【０２０４】
電荷発生層２に使用される結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。望ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。電荷発生材料と結着樹脂の配合比は質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが望ましい。ここで、「絶縁性」とは、ここで、「絶縁性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。
【０２０５】
電荷発生層２は、上述の電荷発生材料及び結着樹脂を所定の溶剤中に分散した電荷発生層形成用塗布液を用いて形成される。
【０２０６】
分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等が挙げられ、これらは１種を単独で又は２種以上を混合して用いる。
【０２０７】
また、電荷発生材料及び結着樹脂を溶剤中に分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法を用いられる。これらの分散方法により、分散による電荷発生材料の結晶型の変化が防止される。
更にこの分散の際、電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、望ましくは０．３μｍ以下、更に望ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
【０２０８】
また、電荷発生層２を形成する際には、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。
【０２０９】
このようにして得られる電荷発生層２の膜厚は、望ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、更に望ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下である。
【０２１０】
＜電荷輸送層＞
電子写真感光体が、前記電荷輸送材料（ａ）とポリカーボネート樹脂を含む保護層を備える場合には、電荷輸送層３は、電荷輸送材料と結着樹脂を含有して、又は高分子電荷輸送材を含有して形成される。
【０２１１】
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物や、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物が挙げられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独で又は２種以上で用いられるが、これらに限定されるものではない。
【０２１２】
電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体が望ましい。
【０２１３】
【化２６】
0005560755.tif 000027
【０２１４】
上記構造式（ａ−１）中、Ｒ９は、水素原子又はメチル基を示す。ｌは１又は２を示す。Ａｒ６及びＡｒ７は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｒ１０）＝Ｃ（Ｒ１１）（Ｒ１２）、又は−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ１３）（Ｒ１４）を示し、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を表す。
ここで、上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、又は炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。
【０２１５】
【化２７】
0005560755.tif 000028
【０２１６】
上記構造式（ａ−２）中、Ｒ１５及びＲ１５’は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を示す。Ｒ１６、Ｒ１６’、Ｒ１７、及びＲ１７’は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ１８）＝Ｃ（Ｒ１９）（Ｒ２０）、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ２１）（Ｒ２２）を示し、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｍ及びｎは各々独立に０以上２以下の整数を示す。
【０２１７】
ここで、前記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び前記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ１３）（Ｒ１４）」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ２１）（Ｒ２２）」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度、保護層との接着性、前画像の履歴が残ることで生じる残像（以下「ゴースト」と言う場合がある）などの観点で優れ望ましい。
【０２１８】
電荷輸送層３に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。特開平８−１７６２９３号公報及び特開平８−２０８８２０号公報に開示されているポリエステル系の高分子電荷輸送材料等を用いてもよい。これらのうち、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が、電荷輸送性材料又は電荷輸送材料との相溶性に優れ、好適である。
これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上で用いる。電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は質量比で１０：１から１：５までが望ましい。
【０２１９】
特に、電荷輸送層３上に、反応性の電荷輸送材料（ａ）とポリカーボネート樹脂とを含有する組成物の硬化膜からなる保護層（最表面層）を備える場合、電荷輸送層３に用いる結着樹脂としては、粘度平均分子量５００００以上のものが望ましく、５５０００以上のものがより望ましい。このような分子量の結着樹脂を用いることで、接着性、保護層（最表面層）形成時の耐クラック性などに優れる。
なお、電荷輸送層３に用いる結着樹脂の粘度平均分子量の上限値としては、塗布膜の均一性（液ダレ）の点から、１０００００以下が望ましい。
ここで、本実施形態における結着樹脂の粘度平均分子量は、毛細管粘度計によって測定した値である。
なお、同様の理由から、最表層が電荷輸送層である場合には、その下層中に含まれる結着樹脂の粘度平均分子量が上記の範囲であることが望ましい。
【０２２０】
また、電荷輸送材料として高分子電荷輸送材を用いてもよい。高分子電荷輸送材としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものを用いられる。特に、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は、他種に比べ高い電荷輸送性を有しており、特に望ましいものである。高分子電荷輸送材はそれだけでも成膜可能であるが、前述の結着樹脂と混合して成膜してもよい。
【０２２１】
電荷輸送層３は、上記構成材料を含有する電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。
電荷輸送層形成用塗布液に用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状若しくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独又は２種以上混合して用いられる。また、上記各構成材料の分散方法としては、公知の方法が使用される。
【０２２２】
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層２の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【０２２３】
電荷輸送層３の膜厚は、望ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より望ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下である。
電荷輸送層として本実施形態の表面層材料を使用してもよい。
【０２２４】
〔画像形成装置／プロセスカートリッジ〕
図４は、本実施形態に係る画像形成装置１００を示す概略構成図である。
図４に示される画像形成装置１００は、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置（静電潜像形成手段）９と、転写装置（転写手段）４０と、中間転写体５０と、を備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光可能な位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。
【０２２５】
図４におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置（帯電手段）８、現像装置（現像手段）１１、及びクリーニング装置１３を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材）を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性或いは絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、或いは、ブレードと併用してもよい。
【０２２６】
また、図４では、クリーニング装置１３として、潤滑材１４を感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）を備え、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を用いた例を示してあるが、これらは必要に応じて使用される。
【０２２７】
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、帯電ローラを感光体７近傍で用いる非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等を使用してもよい。
また、スコロトロン帯電器を使用する場合には、帯電器に付着した放電生成物が電子写真感光体に放出されるのを防ぐため、帯電器の不使用時に電子写真感光体との間に遮蔽物を設ける機構を有してもよい。
【０２２８】
なお、図示しないが、画像の安定性を高める目的で、電子写真感光体７の周囲には、電子写真感光体７の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための感光体加熱部材を設けてもよい。
【０２２９】
露光装置９としては、例えば、感光体７表面に、半導体レーザー光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、所望の像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。半導体レーザーの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザーや青色レーザーとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下近傍に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビーム出力が可能なタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。
【０２３０】
現像装置１１としては、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤又は二成分系現像剤等を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置を用いて行ってもよい。その現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、上記一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。
【０２３１】
以下、現像装置１１に使用されるトナーについて説明する。
かかるトナーとしては、平均形状係数（（ＭＬ２／Ａ）×（π／４）×１００、ここでＭＬはトナー粒子の最大長を表し、Ａはトナー粒子の投影面積を表す）が１００以上１５０以下であることが望ましく１０５以上１４５以下であることがより望ましく、１１０以上１４０以下であることが更に望ましい。
更に、トナーとしては、体積平均粒子径が３μｍ以上１２μｍ以下であることが望ましく、３．３μｍ以上１０μｍ以下であることがより望ましく、３．５μｍ以上９μｍ以下であることが更に望ましい。この如く平均形状係数及び体積平均粒子径を満たすトナーを用いることにより、他のトナーと比べ、高い現像、転写性、及び高画質の画像が得られる。
【０２３２】
トナーは、上記平均形状係数及び体積平均粒子径を満足する範囲のものであれば特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法；混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力又は熱エネルギーにて形状を変化させる方法；結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法；結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法；結着樹脂と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナーが使用される。
【０２３３】
また、上記方法で得られたトナーをコアにして、更に凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造を形成する製造方法等、公知の方法を使用してもよい。なお、トナーの製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が望ましく、乳化重合凝集法が特に望ましい。
【０２３４】
トナー母粒子は、結着樹脂、着色剤及び離型剤からなり、必要であれば、シリカや帯電制御剤を含有して構成される。
【０２３５】
トナー母粒子に使用される結着樹脂としては、スチレン、クロロスチレン等のスチレン類、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等のモノオレフィン類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類；ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類；等の単独重合体及び共重合体、ジカルボン酸類とジオール類との共重合によるポリエステル樹脂等が挙げられる。
【０２３６】
特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル樹脂等が挙げられる。更に、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等が挙げられる。
【０２３７】
また、着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３等を代表的なものとして例示される。
【０２３８】
離型剤としては、低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロピィシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして例示される。
【０２３９】
また、帯電制御剤としては、公知のものが使用され、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプの帯電制御剤が挙げられる。湿式製法でトナーを製造する場合、イオン強度の制御と廃水汚染の低減の点で水に溶解しにくい素材を使用することが望ましい。また、トナーとしては、磁性材料を内包する磁性トナー及び磁性材料を含有しない非磁性トナーのいずれであってもよい。
【０２４０】
現像装置１１に用いるトナーとしては、上記トナー母粒子及び上記外添剤をヘンシェルミキサー又はＶブレンダー等で混合することによって製造される。また、トナー母粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添してもよい。
【０２４１】
現像装置１１に用いるトナーは、フッ素元素を有する粒子を含有してもよい。
フッ素元素を有する粒子としては、黒鉛やグラファイトにフッ素が結合したフッ化炭素、ポリ四フッ化エチレン樹脂（ＰＴＦＥ）、パーフルオロアルコキシ・フッ素樹脂（ＰＦＡ）、四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体（ＦＥＰ）、エチレン・四フッ化エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、ポリクロロ三フッ化エチレン（ＰＣＴＦＥ）、フッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル（ＰＶＦ）等が挙げられる。
フッ素元素を有する粒子の平均粒径は、０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲が望ましく、上記化学構造のものを粉砕して、粒径をそろえてもよい。
トナー中のフッ素元素を有する粒子の添加量は、０．０５質量％以上２．０質量％以下の範囲が望ましく、０．０５質量％以上１．５質量％以下の範囲がより望ましい。上記範囲内にあると、好適な摩擦係数の範囲にありゴーストの発生が抑えられ、また適切なトナー帯電特性から逆極性トナーの生成が抑えられる。
【０２４２】
現像装置１１に用いるトナーには滑性粒子を添加してもよい。滑性粒子としては、グラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸、脂肪酸金属塩等の固体潤滑剤や、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類、加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等の如く脂肪族アミド類やカルナウバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等の如く植物系ワックス、ミツロウの如く動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等の如く鉱物、石油系ワックス、及びそれらの変性物が使用される。これらは、１種を単独で、又は２種以上を併用して使用される。
滑性粒子の体積平均粒径は、０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲が望ましく、上記化学構造のものを粉砕して、粒径をそろえてもよい。トナー中の滑性粒子の添加量は、望ましくは０．０５質量％以上２．０質量％以下、より望ましくは０．１質量％以上１．５質量％以下の範囲である。
【０２４３】
現像装置１１に用いるトナーには、電子写真感光体表面の付着物、劣化物除去の目的等で、無機粒子、有機粒子、該有機粒子に無機粒子を付着させた複合粒子等を加えてもよい。
無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が好適に使用される。
【０２４４】
また、上記無機粒子を、テトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス（ジオクチルパイロフォスフェート）オキシアセテートチタネート等のチタンカップリング剤、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトエリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ｏ−メチルフェニルトリメトキシシラン、ｐ−メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤等で処理を行ってもよい。また、シリコーンオイル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩によって疎水化処理したものも望ましく使用される。
【０２４５】
有機微粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレンアクリル樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子、ウレタン樹脂粒子、ポリ四フッ化エチレン樹脂（ＰＴＦＥ）、パーフルオロアルコキシ・フッ素樹脂（ＰＦＡ）、四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体（ＦＥＰ）、エチレン・四フッ化エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、ポリクロロ三フッ化エチレン（ＰＣＴＦＥ）、フッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル（ＰＶＦ）等等が挙げられる。
【０２４６】
粒子径としては、個数平均粒子径で望ましくは５ｎｍ以上１０００ｎｍ以下、より望ましくは５ｎｍ以上８００ｎｍ以下、更に望ましくは５ｎｍ以上７００ｎｍ以下のものが使用される。個数平均粒子径が、上記範囲内にあると、研磨能力に優れ、電子写真感光体の表面における傷の発生の抑制に効果的である。また、上述した粒子と滑性粒子との添加量の和が０．６質量％以上であることが好ましい。
【０２４７】
トナーに添加されるその他の無機酸化物としては、粉体流動性、帯電制御等のため、１次粒径が４０ｎｍ以下の小径無機酸化物を用い、更に付着力低減や帯電制御のため、それより大径の無機酸化物を添加することが望ましい。これらの無機酸化物粒子は公知のものを使用してもよいが、精密な帯電制御を行うためにはシリカと酸化チタンを併用することが望ましい。
【０２４８】
また、小径無機粒子については表面処理することにより、分散性が高くなり、粉体流動性を上げる効果が大きくなる。更に、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の炭酸塩や、ハイドロタルサイト、酸化セリウムの無機鉱物を添加することも放電精製物を除去するために望ましい。
【０２４９】
また、電子写真用カラートナーはキャリアと混合して使用されるが、キャリアとしては、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉、又はそれらの表面に樹脂コーティングを施したものが使用される。また、キャリアとの混合割合は、任意に設定される。
【０２５０】
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０２５１】
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体５０の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものが用いられる。
【０２５２】
画像形成装置１００は、上述した各装置の他に、例えば、感光体７に対して光除電を行う光除電装置を備えていてもよい。
【０２５３】
図５は、他の実施形態に係る画像形成装置１２０を示す概略断面図である。
図５に示される画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式のフルカラー画像形成装置である。
画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【０２５４】
タンデム型の画像形成装置に本実施形態の電子写真感光体を用いた場合、４本の感光体の電気特性が安定することから、より長期に渡ってカラーバランスの優れた画質が得られる。
【実施例】
【０２５５】
以下実施例によって本発明をさらに具体的に説明するが，本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２５６】
（合成例１：化合物Ａ−４の合成）
【化２８】
0005560755.tif 000029
【０２５７】
２００ｍｌフラスコに、上記化合物（１）を１０ｇ、ヒドロキシエチルメタクリレート５０ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍｌ、アンバーリスト１５Ｅ（オルガノ社製）０．５ｇを加え、室温で２４時間攪拌した。反応終了後、メタノール１００ｍｌを加え、析出した油状物をデカントで取り出した。この油状物をシリカゲルカラムクロマトにより精製して、油状の（Ａ−４）を１２ｇ得た。
【０２５８】
（合成例２：化合物Ａ−１７の合成）
【化２９】
0005560755.tif 000030
【０２５９】
５００ｍｌフラスコに、上記化合物（２）を３６ｇ、メタクリル酸７５ｇ、トルエン３００ｍｌ、ｐ−トルエンスルホン酸２ｇを加え、１０時間加熱還流した。反応後、冷却し、水２０００ｍｌにあけ、洗浄を行い、さらに水で洗浄を行った。トルエン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、シリカゲルカラムクロマトにより精製して、（Ａ−１７）を３０ｇ得た。
【０２６０】
（合成例３：化合物Ａ−１８の合成）
【化３０】
0005560755.tif 000031
【０２６１】
５００ｍｌフラスコに、上記化合物（３）を５０ｇ、メタクリル酸１０７ｇ、トルエン３００ｍｌ、ｐ−トルエンスルホン酸２ｇを加え、１０時間加熱還流した。反応後、冷却し、水２０００ｍｌにあけ、洗浄を行い、さらに水で洗浄を行った。トルエン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、シリカゲルカラムクロマトにより精製して、（Ａ−１８）を３８ｇ得た。
【０２６２】
［実施例１］
＜感光体の作製＞
（下引層の作製）
酸化亜鉛：（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ２／ｇ）１００質量部をテトラヒドロフラン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ５０３：信越化学工業社製）１．３質量部を添加し、２時間攪拌した。その後溶剤を減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間）焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
前記表面処理を施した酸化亜鉛１１０質量部を５００質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン１．０質量部を５０質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛を濾別し、さらに６０℃で減圧乾燥を行いアリザリン付与酸化亜鉛を得た。
【０２６３】
このアリザリン付与酸化亜鉛６０質量部と硬化剤（ブロック化イソシアネート、スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部とブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水化学社製）１５質量部をメチルエチルケトン８５質量部に溶解した溶液３８質量部とメチルエチルケトン２５質量部とを混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い分散液を得た。
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５質量部、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４５質量部を添加し、下引層塗布用液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ１８μｍの下引層を得た。
【０２６４】
（電荷発生層の作製）
電荷発生物質としてのＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、ｎ−酢酸ブチル２００質量部からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にｎ−酢酸ブチル１７５質量部、メチルエチルケトン１８０質量部を添加し、攪拌して電荷発生層用の塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、常温で乾燥して、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０２６５】
（電荷輸送層の作製）
感光体１の電荷輸送層をＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ）４５質量部及びビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（ＰＣ（Ｚ）：粘度平均分子量：６万）５５質量部をクロルベンゼン８００質量部に加えて溶解し，電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、１３０℃、４５分の乾燥を行って膜厚が１５μｍの電荷輸送層を形成した。
【０２６６】
（表面層の作製）
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ）２０質量部及びビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（ＰＣ（Ｚ））（粘度平均分子量：３万）２０質量部、化合物Ａ−１７を６０質量部、ＯＴａｚｏ−１５（大塚化学、分子量３５４．４）２質量部をモノクロロベンゼン５００質量部に溶解し、スプレーコートにて電荷輸送層上に塗布した。室温で３０分風乾した後、酸素濃度２００ｐｐｍの窒素下で室温から１０℃/分の速度で１５０℃まで昇温し、１５０℃で１時間加熱処理して硬化させ、膜厚約１５μｍの表面層を形成して実施例１の感光体を作製した。
【０２６７】
Ｎｉｃｏｌｅｔ６７００フーリエ変換赤外分光装置を用い、ＡＴＲプリズムにＧｅを用いた顕微ＡＴＲ法にて表面層の赤外吸収スペクトルを測定し、スペクトル処理をアドバンストＡＴＲ補正、水蒸気ノイズ除去にて行った結果、ＩＡ／ＩＣ＝１．３５、伸縮振動の吸収ピークの半値幅は２５ｃｍ−１であった。
図７に表面層の硬化前後の赤外吸収スペクトルを示す。ＩＡ、ＩＣはそれぞれ上記で定義したベースラインからの吸収強度、吸収ピークの半値幅により求めた。
【０２６８】
＜画質の評価＞
上述のようにして作製した電子写真感光体を富士ゼロックス社製、ＡｐｅｏｓＰｏｒｔ−ＩＩＩ  Ｃ４４００に装着し、低温低湿（８℃、２０％ＲＨ）及び高温高湿（２８℃、８５％ＲＨ）において、以下の評価を連続して行なった。
低温低湿（８℃、２０％ＲＨ）の環境下にて１００００枚の画像形成テストを行い、１００００枚目の画質評価（下記ゴースト、カブリ、スジ、画像流れ）を実施した後、低温低湿（８℃、２０％ＲＨ）環境下で２４時間放置した後の最初の１枚目の画質について画質評価を行った。
その結果を表４に示した。
【０２６９】
この低温低湿環境下での画質評価に続いて、高温高湿（２８℃、８５％ＲＨ）の環境下にて１００００枚の画像形成テストを行なった。１００００枚目の画質評価を実施した後、高温高湿（２８℃、８５％ＲＨ）環境下で２４時間放置した後の最初の１枚目の画質について画質評価を行った。
その結果を表５に示した。
【０２７０】
（ゴースト評価）
ゴーストは、図６（Ａ）に示したＧと画像濃度５０％の灰色領域を有するパターンのチャートをプリントし、５０％の灰色部分にＧの文字の現れ具合を目視にて評価した。
Ａ：図６（Ａ）のように良好又は軽微である。
Ｂ：図６（Ｂ）のように若干目立つ程度である
Ｃ：図６（Ｃ）のようにはっきり確認される。
【０２７１】
（カブリ評価）
カブリ評価は上述のゴースト評価と同じサンプルを用いて白地部のトナー付着程度を目視にて観察し判断した。
Ａ：良好。
Ｂ：うっすらとカブリあり。
Ｃ：画質上問題となるカブリあり。
【０２７２】
（スジ評価）
スジ評価は上述のゴースト評価と同じサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：良好。
Ｂ：部分的にスジの発生あり。
Ｃ：画質上問題となるスジ発生。
【０２７３】
（画像流れ評価）
画像流れは上述のゴースト評価と同じサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：良好。
Ｂ：連続的にプリントテストしている時は問題ないが、１日（２４時間）放置後に発生。
Ｃ：連続的にプリントテストしている時にも発生。
【０２７４】
＜表面層の接着性の評価＞
表面層の接着性は、画像形成テスト後の感光体に２ｍｍ角で５×５個の切れ目をカッターナイフで付け、３Ｍ社製メンディングテープを貼り付け、剥離した時の残存数で評価した。
その結果を表４及び５に示した。
Ａ：２１個以上残存。
Ｂ：１１個以上２０個以下残存。
Ｃ：１０個以下残存。
【０２７５】
＜表面層の磨耗量の評価＞
初期の感光体膜厚と、画像形成テストを終了した後の膜厚とを渦電流測定装置（フィッシャースコープＭＭＳ）にて測定し、磨耗量を評価した。
【０２７６】
［比較例１］
表面層にビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（ＰＣ（Ｚ））を加えなかった以外は実施例１と同様に感光体を作製した。これは、ＩＡ／ＩＣは無限大に相当する。
得られた膜は、部分的に結晶化を生じ、均一な層が形成されなかった。評価結果を表４及び５に示す。
【０２７７】
［比較例２、３］
表面層の作製において、重合開始剤としてＯＴａｚｏ−１５（大塚化学製、分子量３５４．４）の代わりにＡＩＢＮ（和光純薬製、分子量１６４．２）、又はＶ−６０１（和光純薬製、分子量２３０．３）２質量部を用いた以外は実施例１と同様に感光体を作製し、評価した。結果を表４及び５に示す。
【０２７８】
［実施例２］
表面層の作製において、重合開始剤としてＯＴａｚｏ−１５（大塚化学製、分子量３５４．４）の代わりにＶＥ−７３（和光純薬製、分子量３１０．４）２質量部を用いた以外は実施例１と同様に感光体を作製し、評価した。結果を表４及び５に示す。
【０２７９】
［実施例３から１４］
表面層の作製において、電荷輸送材料（ａ）（ｂ）、ポリカーボネート樹脂、重合開始剤を表１に示すように変更した以外は実施例１と同様に感光体を作製し、同様の評価を行った。結果を表４及び５に示す。
【０２８０】
［実施例１５、１６］
表面層の作製において、重合開始剤としてＯＴａｚｏ−１５（大塚化学製、分子量３５４．４）の代わりにＡＩＢＮ（和光純薬製、分子量１６４．２）、又はＶ−６０１（和光純薬製、分子量２３０．３）２質量部を用い、室温から２℃/分の速度で１７０℃まで昇温し、硬化温度を１７０℃とした以外は実施例１と同様に感光体を作製し、評価した。結果を表４及び５に示す。
【０２８１】
［実施例１７］
実施例１の電荷輸送層を形成せず、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン２５質量部及びビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：３万）１５質量部、化合物Ａ−１７を６０質量部、ＯＴａｚｏ−１５（大塚化学、分子量３５４．４）２質量部をモノクロロベンゼン２００質量部に溶解し、浸漬塗布にて電荷発生層上に塗布した。室温で３０分風乾した後、酸素濃度２００ｐｐｍの窒素下、室温から１０℃/分の速度で１５０℃まで昇温し、１５０℃で１時間加熱処理して硬化させ、膜厚約２５μｍの表面層を形成して感光体を作製した。評価結果を表４及び５に示す。
【０２８２】
［実施例１８乃至２２］
表面層の作製において、室温から１℃/分の速度で１５０℃まで昇温し、１５０℃で１時間加熱処理した以外は実施例１乃至５と同様に同様に感光体を作製し、評価した。結果を表４及び５に示す。
【０２８３】
［実施例２３乃至２７］
表面層の作製において、室温から１℃/分の速度で１６５℃まで昇温し、１６５℃で１時間加熱処理した以外は実施例１乃至５と同様に同様に感光体を作製し、評価した。結果を表４及び５に示す。
【０２８４】
［実施例２８、２９］
表面層の作製において、電荷輸送材料電荷輸送材料（ａ）（ｂ）、ポリカーボネート樹脂、重合開始剤を表２に示すように変更した以外は実施例２３と同様に感光体を作製し、同様の評価を行った。結果を表４及び５に示す。
【０２８５】
［比較例４、５］
表面層の作製において、重合時の酸素濃度を７００ｐｐｍ、１０００ｐｐｍとした以外は実施例１と同様に感光体を作製し、評価した。結果を表４及び５に示す。
【０２８６】
［比較例６、７］
表面層の作製において、電荷輸送材料電荷輸送材料（ａ）（ｂ）、ポリカーボネート樹脂、重合開始剤を表３に示すように変更した以外は実施例１と同様に感光体を作製し、同様の評価を行った。結果を表４及び５に示す。一部結晶化が観察された。
【０２８７】
［比較例８］
表面層の作製において、電荷輸送材料電荷輸送材料（ａ）を表３に示すように変更した以外は実施例１と同様に感光体を作製し、同様の評価を行った。結果を表４及び５に示す。
【０２８８】
［比較例９］
表面層の作製において、電荷輸送材料電荷輸送材料（ａ）を表３に示すように変更した以外は実施例２３と同様に感光体を作製し、同様の評価を行った。結果を表４及び５に示す。
【０２８９】
【表１】
0005560755.tif 000032
【０２９０】
【表２】
0005560755.tif 000033
【０２９１】
【表３】
0005560755.tif 000034
【０２９２】
【表４】
0005560755.tif 000035
【０２９３】
【表５】
0005560755.tif 000036
【０２９４】
上記表４及び５に示すように、反応性電荷輸送材料（ａ）の種類やポリカーボネートの添加量、重合開始剤の種類や添加量、重合条件を変えても、最表面層が、同一分子内に電荷輸送性骨格及び２つ以上のＲ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ’＝ＣＨ−Ｒ”で表される構造を有する電荷輸送性化合物（ａ）の少なくとも１種と、ポリカーボネート樹脂の少なくとも１種とを含有する組成物の硬化膜であり、且つ、最表面層の赤外吸収スペクトルにおいてＩＡ／ＩＣが０．５以上１０以下で、ＩＡの吸収ピークの半値幅が２５ｃｍ−１以上の範囲内にある実施例１乃至２９では、比較例１乃至９に比べて、繰り返し使用後における画質の低下が抑えられている。
【符号の説明】
【０２９５】
１…下引層、２…電荷発生層、３…電荷輸送層、４…導電性基体、５…保護層（最表面層）、６…単層型感光層、７Ａ，７Ｂ，７Ｃ，７…電子写真感光体、８…帯電装置、９…露光装置、１１…現像装置、１３…クリーニング装置、１４…潤滑材、４０…転写装置、５０…中間転写体、１００…画像形成装置、１２０…画像形成装置、３００…プロセスカートリッジ
【図４】
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【図５】
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【図７】
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【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図６】
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