(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象皮膚にＲＦ電圧を適用する少なくとも１対の電極が遠位端に取り付けられたアプリケータと、
前記電極にＲＦ電圧を供給するＲＦ電圧発生器と
を含み、
前記ＲＦ電圧発生器の出力段は、インダクタを介して接地された２次センタータップを有する変圧器を含み、前記電極の双方が前記変圧器の２次側に接続されることにより前記電極間のスパンの中央において、接地に対するゼロ電位を得ることができる、個人用皮膚トリートメント装置。
【請求項２】
前記アプリケータの前記遠位端に取り付けられた光源と赤及び赤外放射を伝達する広帯域光フィルタとをさらに含み、前記光源は、前記電極間に配置されて、前記フィルタを通して前記電極間の前記皮膚のセグメントを照射する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記電極は、幅：長さの比が少なくとも１：５の細長い本体を有して前記光フィルタ上に取り付けられる、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記電極は、剛性電流導通体、可撓性電極、又は、表面レリーフを有する電極からなる電極群の少なくとも１つであって、前記電極の少なくとも１つはビルトイン熱電対を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記光源は、白熱ランプ、赤及び赤外放射を放つのに最適化されたランプ、及びリフレクタからなる群の少なくとも１つ、又は少なくとも１つのＬＥＤである、請求項２に記載の装置。
【請求項６】
前記アプリケータは、前記対象皮膚上をスライド移動の態様で動かされる、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
ドッキングスタンドをさらに含み、前記ドッキングスタンドは、前記ドッキングスタンドにおいて前記アプリケータを保持する磁性又は強磁性のインサートと、動作インジケータとを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
熱電対、加速度計、又は皮膚インピーダンスモニタリングからなるセンサ群の少なくとも１つをさらに含む、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記ＲＦ電圧発生器は、前記センサ群の少なくとも１つによって動作するフィードバックループを有し、前記フィードバックループは、前記ＲＦ電圧発生器への定常負荷を維持するべく前記ＲＦ電圧発生器の出力電圧を変化させる、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記ＲＦ電圧発生器は、１Ｗから２０ＷのＲＦパワーを発生する、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
少なくとも１対の電極が遠位端に取り付けられたアプリケータであって、トリートメントを受ける対象皮膚のセグメントに適用されるアプリケータと、
前記電極にＲＦ電圧を供給するＲＦ電圧発生器と
を含み、
前記電極と前記皮膚とを接触させて前記電極を短絡させることで、ＲＦ電流が前記電極間の前記皮膚を通って流れることが可能となり、
前記ＲＦ電圧発生器の出力段は、インダクタを介して接地された２次センタータップを有する変圧器を含み、前記電極の双方が前記変圧器の２次側に接続されることにより前記電極間のスパンの中央において、接地に対するゼロ電位を得ることができる、美容皮膚トリートメント装置。
【請求項１２】
赤及び赤外放射が前記ＲＦ電圧と同時に前記対象皮膚の前記セグメントに適用される、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記ＲＦ電圧発生器は、１Ｗから２０ＷのＲＦパワーを発生する、請求項１１に記載の装置。
【請求項１４】
前記ＲＦ電圧は、連続又は準連続モードの態様で少なくとも０．５秒間適用される、請求項１１に記載の装置。
【請求項１５】
複数のセンサが、電極温度、皮膚温度、及び皮膚インピーダンスからなる群の少なくとも１つを検知し、前記ＲＦ電圧は、前記センサの少なくとも１つの入力に基づいて自動的に変化する、請求項１１に記載の装置。
【請求項１６】
前記ＲＦ電圧の前記自動的な変化は、ＲＦデューティサイクルの変化、前記ＲＦのスイッチオフ、及びスキャン速度の変化の少なくとも１つである、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記ＲＦ電圧の前記自動的な変化は、４４℃を超える第１皮膚温度又は４５℃を超える第２皮膚温度にて生じる、請求項１５に記載の装置。
【請求項１８】
皮膚の事前トリートメント工程に使用される、請求項１１に記載の装置。
【請求項１９】
前記皮膚の事前トリートメント工程は少なくとも、トリートメントを受ける前記セグメント上にゲルを広げることを含み、前記ゲルは、前記トリートメントを受ける皮膚表面よりも高い電気抵抗を有する、請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
本体を有して対象皮膚のセグメントに適用されるアプリケータを含み、
前記本体の一部には少なくとも１対の電極が取り付けられ、
前記電極はＲＦエネルギーを対象皮膚のセグメントに適用し、前記対象皮膚は前記電極を短絡させてＲＦ電流が前記電極間を流れることを可能とし、
前記電極と前記対象皮膚と永続的な接触を維持して前記アプリケータがトリートメントを受ける前記対象皮膚の前記セグメント上でスキャン移動の態様で動かされ、
前記ＲＦエネルギーと同時に前記対象皮膚の前記セグメントに赤及び赤外放射が適用され、
前記ＲＦエネルギーの出力段は、インダクタを介して接地された２次センタータップを有する変圧器を含み、前記電極の双方が前記変圧器の２次側に接続されることにより前記電極間のスパンの中央において、接地に対するゼロ電位を得ることができる、美容皮膚トリートメント装置。
【請求項２１】
前記トリートメントに伴って、１つ以上のセンサが、電極温度、皮膚温度、及び皮膚インピーダンスからなる群の少なくとも１つを検知し、前記センサの少なくとも１つの入力に基づいて前記ＲＦエネルギーが自動的に変化する、請求項２０に記載の美容皮膚トリートメント装置。
【請求項２２】
前記ＲＦエネルギーの自動的な変化は、前記温度が４４℃を超えるときの第１温度において、及び、前記温度が４５℃を超えるときの第２温度において生じる、請求項２１に記載の美容皮膚トリートメント装置。
【請求項２３】
皮膚の事前トリートメント工程に使用される、請求項２１に記載の美容皮膚トリートメント装置。
【請求項２４】
前記事前トリートメント工程は少なくとも、トリートメントを受ける前記皮膚表面上にゲルを広げることを含む、請求項２３に記載の美容皮膚トリートメント装置。
【請求項２５】
保持し易い本体と、
ＲＦ電圧発生器と、
電源と
を含み、
前記本体は、前記保持し易い本体の遠位端に取り付けられた少なくとも１対の電極を含み、前記電極はＲＦ電圧を対象皮膚に適用し、前記ＲＦ電圧発生器は、前記ＲＦ電圧を前記電極に供給し、
前記ＲＦ電圧発生器の出力段は、インダクタを介して接地された２次センタータップを有する変圧器を含み、前記電極の双方が前記変圧器の２次側に接続されることにより前記電極間のスパンの中央において、接地に対するゼロ電位を得ることができる、個人用美容皮膚トリートメント装置。
【請求項２６】
前記本体の前記遠位端に取り付けられた、光源と、赤及び赤外放射を伝達する広帯域光フィルタとをさらに含み、
前記光源は前記電極間に配置され、
前記光源は、前記フィルタを介して前記電極間の前記対象皮膚のセグメントを照射する、請求項２５に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本方法及び装置は、個人用美容処置の分野に関する。特に、しわ除去処置の分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
多くの人にとって外見は重要である。近年、美容トリートメントのための様々な方法及び装置が開発されている。これらの中には、脱毛、血管病変トリートメント、及びスキンリジュベネーションがある。これらのトリートメントにおいては、皮下の所定体積皮膚組織が、所望の表皮効果を達成するのに十分高い温度まで加熱される。当該所望効果を生じさせる温度は３８−６０℃の範囲が典型的である。皮膚の表皮層及び真皮層を加熱するのに使用されている１つの方法は、パルス状の又は連続の高周波（radio-frequency（ＲＦ））エネルギーである。この方法では、皮膚に電極が適用されてＲＦ電圧パルスが電極間に適用される。当該電圧パルスの特性は、当該組織を必要温度まで加熱するＲＦ電流パルスを生成するべく選択される。
【０００３】
現在、皮膚表面又は深い皮膚層の光系トリートメントがいくつか開発されている。これらのトリートメントは典型的には、レーザダイオード、ＬＥＤ、キセノンランプ（超短パルス光（Intense Pulsed LightすなわちＩＰＬ）、又は白熱ランプ放射を使用して、血管病変、静脈瘤、にきび、あざ等の障害が存在する皮膚表面を照射する。光放射は単一の波長又はいくつかの波長を有する。当該波長は、標的皮膚セグメントの対比される要素の色に対して最適となるように選択され、４００から１８００ｎｍの範囲となるのが典型的である。
【０００４】
上述の機器は、コストがかかり、かつ、かさばる。これは、有資格のオペレータによる外来設備にて操作されるのが典型的であり、かかるトリートメント専門の医療従事者の立ち会いが必要となることが多い。ユーザが操作できて、当該ユーザが当該機器を使用してプロフェッショナル機器の皮膚トリートメントにより達成される結果と類似又は同等の結果が得られる、小サイズ、低コスト、かつ、安全使用の装置が市場で求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許第７，２０４，８４６（Ｂ２）号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２００５／０２０９１９３（Ａ１）号明細書
【特許文献３】米国特許第６，３７７，８４８（Ｂ１）号明細書
【特許文献４】米国特許第５，５６２，７０６号明細書
【特許文献５】米国特許第６，８７０，４７５（Ｂ２）号明細書
【特許文献６】米国特許第５，８４４，４７２号明細書
【発明の概要】
【０００６】
ＲＦ発生器と、遠位端に取り付けられた少なくとも１対の電極を備えるアプリケータとを含む個人用美容皮膚トリートメント装置である。電極は、対象皮膚にＲＦ電圧を適用するべく構成される。ＲＦ発生器は、電極にいくつかのＲＦ電圧タイプを供給するべく構成される。光源が複数の電極間に配置され、当該電極間の皮膚セグメントを照射する。アプリケータが皮膚上をスキャン移動の態様で移動して、ＲＦ電圧を当該電極間の皮膚セグメントに適用する。光源は、ＲＦ発生器と同時又はそれに引き続き動作して当該皮膚セグメントを照射する。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
本装置及び本方法は、本明細書の結び部分に具体的に指摘され、かつ、明確に請求される。しかしながら、本装置及び本方法は、動作の構成及び方法の双方について、添付図面とともに読まれる場合の下記の詳細な説明を参照することにより最良の理解が得られる。添付図面では、同様の参照番号は、異なる図面を通して同様の部分を参照する。図面は必ずしも縮尺通りではなく、本方法の原理を説明するに際して強調される。
【０００８】
【図１】合わせて図１とされる図１Ａ及び１Ｂは、個人用皮膚トリートメント装置の実施例の概略図である。
【図２】図１の装置に係るアプリケータの実施例の長手軸方向断面を示す概略図である。
【図３】本アプリケータの遠位端の実施例を示す３次元概略図である。
【図４】合わせて図４とされる図４Ａ及び４Ｂは、本アプリケータのいくつかの例示的な電極・熱電対構成を示す概略図である。
【図５Ａ】合わせて図５とされる図５Ａ、５Ｂ、及び５Ｃは、いくつかの追加の例示的なアプリケータ電極構成を示す概略図である。
【図５Ｂ】合わせて図５とされる図５Ａ、５Ｂ、及び５Ｃは、いくつかの追加の例示的なアプリケータ電極構成を示す概略図である。
【図５Ｃ】合わせて図５とされる図５Ａ、５Ｂ、及び５Ｃは、いくつかの追加の例示的なアプリケータ電極構成を示す概略図である。
【図６】図１のアプリケータの、当該アプリケータの長手軸に垂直な平面での断面を示す概略図である。
【図７】ビルトインのゲルディスペンサを有するアプリケータを示す概略図である。
【図８】皮膚トリートメント装置のドッキングスタンドの断面を示す概略図である。
【図９】皮膚トリートメント装置の電子回路の実施例を示す概略図である。
【図１０】皮膚トリートメント装置の電子回路の他の実施例を示す概略図である。
【図１１】皮膚トリートメント装置の電子回路の追加の実施例を示す概略図である。
【図１２】個人用皮膚トリートメント装置の追加の実施例を示す概略図である。
【図１３】ビルトインのゲル供給構成を有する個人用皮膚トリートメント装置のさらなる実施例を示す概略図である。
【図１４】本アプリケータの典型的な皮膚トリートメントスキャン移動を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
下記の詳細な説明では、その一部をなす添付図面を参照する。この参照は、本装置及び方法が実施できる異なる実施例により示される。本装置の実施例に係る要素はいくつかの異なる配向で配置できるので、方向を示す用語は説明を目的とするものであって、決して限定するものではない。なお、本方法及び装置の範囲を逸脱せずに他実施例を使用し、構造的又は論理的変更をなしてよい。したがって、下記の詳細な説明は、限定の意味にとらえてはならない。本装置及び方法の範囲は添付の特許請求の範囲により画定される。
【００１０】
本明細書で使用する用語である「皮膚トリートメント」は、角質層、真皮、表皮のような様々な皮膚層に係る美容スキントリートメント、スキンリジュベネーション処置、しわ除去、及びコラーゲン収縮又は破壊のような処置を含む。「皮膚表面」という用語は、最外皮膚層を示す。これは角質層であってよい。
【００１１】
個人用皮膚トリートメント装置の実施例を示す概略図である図１を参照する。装置１００（図１Ａ）は、対象皮膚上をスライド移動するべく適合されたアプリケータ１０４と、不使用の場合に（図１Ｂ）当該アプリケータが置かれるドッキングスタンド１０８と、アプリケータ１０４及びスタンド１０８を接続するハーネス１１２とを含む。ハーネス１１２は、アプリケータ１０４とスタンド１０８との電気又は他のタイプの通信を可能にする。操作しない場合、アプリケータ１０４は、スタンド１０８のドッキングベイ１１６（図１Ｂ）に置かれる。装置１００は、標準の給電ネットワークコンセントから又は充電可能若しくは標準のバッテリから電力供給を受ける。ランプ１１８は、スタンド１０８の動作状態を示す。
【００１２】
図２は、本装置に係るアプリケータの長手軸方向断面を示す概略図である。図示されるアプリケータ１０４は、人間工学的形状すなわち手で握られるのに適切な形状の本体すなわちハンドルを有する。アプリケータ１０４は、前方に延びて突出する遠位端１２４及び近位端１２８を有する長手軸１２０を含む。遠位端１２４は典型的には、軸１２０に対して角度α度にて配向される。角度αは、電極１３２と、トリートメントを受ける皮膚又は材料の標的エリアとの適切な接触を、アプリケータ１０４を握るのに便宜な角度で可能とするべく選択される。例えば、角度αは約１１０度である。アプリケータ１０４の遠位端１２４の取り付けられるのは、１つ以上のＲＦ適用電極１３２である。これは、スタンド１０８に配置されたＲＦ電圧源（図示せず）にハーネス１１２を通して接続される。光フィルタ１３６が電極１３２の取り付けベースとして機能する。光フィルタ１３６はまた、アプリケータ１０４の動作インジケータとしても機能する。光フィルタ１３６は典型的には、赤又は赤外波長を伝達する広帯域ガラス又はプラスチックフィルタであり、典型的には赤色調又は第１色の光を発光する。
【００１３】
アプリケータ１０４の遠位端１２４に取り付けられるのは、光源１４０である。光源１４０は、白熱ランプ１４４、又は赤及び赤外放射を放つのに最適化された（ドープされた）白熱ランプである。ランプ１４４の有用なスペクトルは、４００から１８００ｎｍの範囲であり、１Ｗから２０Ｗの範囲の放射光エネルギーである。リフレクタ１４８は、ランプ１４４が放った放射を集めて、トリートメントを受ける皮膚のセグメントに向ける。または、１つ以上の適切な波長を放つＬＥＤ又は半導体レーザをランプ１４４の代わりに使用してよい。複数の放射源として複数のＬＥＤが使用される場合、それらの波長は、それらの１つが、特別のフィルタの必要性をなくす第１色の動作インジケータとして機能するように選択される。残りのＬＥＤが、当該トリートメントに必要な波長を与える。複数のエミッタを有する１つのＬＥＤが使用されてもよい。図示されるのは、磁石２０８（図８）と協働してスタンド１０８のドッキングベイ１１６（図１及び８）にアプリケータ１０４を保持する磁性又は強磁性のインサート１８８である。
【００１４】
図３は、アプリケータ１０４の遠位端１２４の実施例を示す３次元概略図である。図３は、フィルタ１３６に取り付けられた複数の電極１３２と、電極１３２の少なくとも１つにビルトインされた熱電対１６０と、ランプホルダ１４６とを示す。電極１３２は典型的には、少なくとも１：５の比の幅１５２：長さ１５６を有する細長い本体を有する。電極の形状は、当該電極同士の間のエリアにて皮膚を選択的に加熱できるように最適化される。電極１３２は典型的には、丸みのあるエッジを有する。これにより、当該電極のエッジ近傍の皮膚表面上のホットスポットを防止することができる。丸みのある電極はまた、皮膚表面上のアプリケータ１０４（図１）の滑らかな移動を可能とする。図３は、バイポーラ電極システムを示すが、ユニポーラ電極システム（図示せず）も使用できる。または、１つ以上の電極１３２が使用される場合は、当該電極に適切なＲＦ電圧を供給することによりバイポーラ又はユニポーラシステムが作られる。
【００１５】
図４は、本アプリケータのいくつかの電極・熱電対構成を示す概略図である。図４Ａに示す実施例では、１つ以上の電極１３２がビルトイン熱電対１６０を有する。ビルトイン熱電対１６０は、温度検知端１６８とともに電極本体１３２内に存在する。他実施例では、図４Ｂに示すように、熱電対１６０の温度検知端１６８は、皮膚表面１６４と接触する電極１３２と面一である。いくつかの実施例では、熱電対の代わりにサーミスタを使用してよい。サーミスタは、１つ以上の電極に埋め込まれるか、又はトリートメントを受ける皮膚セグメントと接触するスタンドアロンプローブとしてもよい。熱電対１６０は、電極１３２の表面１６４と面一の温度検知端を有する場合は皮膚温度を測定する。電極１３２内に存在する場合は、熱電対１６０の端は電極１３２の温度のみを測定する。熱電対１６０は、測定された温度をＲＦ電圧発生器２００（図８）のフィードバックループへ伝達する。温度値に基づいて、ＲＦ電圧発生器２００は、ＲＦ電圧振幅を増減し、電極１３２に供給されるＲＦ電圧のデューティサイクルを変化させ、又は、ＲＦ電圧発生器をオフに切り換える。
【００１６】
図５は、アプリケータ１０４のいくつかの電極構成を示す概略図である。一実施例では（図５Ａ）、電極１３２は、剛性の電流導通体である。他実施例では（図５Ｂ）、電極１３４は、可撓性の電流導通体である。可撓性電極は、その形状を、トリートメントを受ける対象皮膚の外形に適合することができる。これにより、当該皮膚との良好な接触が可能となる。さらなる実施例では（図５Ｃ）、電極１３８は、皮膚接触表面１６４上にレリーフ１６６を有する。レリーフは、複数のマイクロ電極又は複数のマクロ電極である。
【００１７】
図６は、図１のアプリケータの、当該アプリケータの長手軸に垂直な平面での断面を示す概略図である。これはさらに、光源１４０の構造も実証する。ランプ１４４及びリフレクタ１４８が電極１３２同士の間に配置される。フィルタ１３６がランプ１４４を保護して、当該ランプの放射から、ランプ１４４が放射するスペクトルのうちの所望のスペクトル範囲を除外する。上記要素が、所定のプリント基板サポート１５０上に組み付けられる。本説明に係る実施例は、オプションの加速度計１８４を含むことも示す。
【００１８】
ＲＦ誘導電流の皮膚１７２（図７参照）への結合性を向上させるべく、皮膚１７２をゲル１７６の層で覆うことが望ましい。これにより、電極１３２と皮膚１７２との電気的接触が向上して、電極の皮膚上の滑動が容易になる。典型的には、ゲル１７６は、トリートメントの前に皮膚１７２全体に供給されて、当該トリートメントの間当該皮膚上に存在する。ゲルの供給は、水又はセッケン等の清浄手段により行われる皮膚清浄のほか、皮膚の事前トリートメント動作の意味を有する。一実施例によれば、ゲル１７６は手動で供給される。ユーザが手動で動作させる使い捨て可能な可撓性容器が、ゲル１７６を絞り出して皮膚１７２上に供給する。さらなる実施例では、ゲルディスペンサ１８０が、アプリケータ１０４の一部をなし、使い捨て可能又は充填可能容器からトリートメント中に自動的に動作を受ける。または、ゲルディスペンサはスタンド１０８に配置される。ゲルディスペンサがスタンド１０８に配置される場合、ハーネス１１２（図１）は、電気配線のほかに、アプリケータ１０４の遠位端１２４及び皮膚１７２にゲル１７６を供給する所定の配管も収容する。ゲル１７２は、良好な接触及び容易なトリートメントを可能とするべく、トリートメントを受けている皮膚よりも高い電気抵抗を有する。
【００１９】
アプリケータ１０４は、図６の加速度計と同様の加速度計１８４を含んでよい。当該加速度計は、アプリケータ１０４の移動及び当該移動速度を検知して指示を与える。加速度計１８４はＲＦ電圧発生器２００（図８参照）と通信を行う。アプリケータ１０４の前進速度（加速度）の変化に基づいて、ＲＦ電圧発生器２００は、ＲＦ電圧振幅を増減させる。または、電極１３２に供給されるＲＦ電圧のデューティサイクルを変化させる。これにより、トリートメント温度を最適に維持することができる。
【００２０】
図８は、皮膚トリートメントを与える装置のドッキングスタンドの断面を示す概略図である。スタンド１０８は、美的外観のプラスチック又は金属エンクロージャ１９６である。当該エンクロージャは、ＲＦ電圧発生器２００、動作インジケータ１１８、及び、アプリケータ１０４をドッキングスタンド内の所定位置に保持又は固定する永久又は電気磁石２０８を含む。いくつかの実施例では、ＲＦ電圧発生器はアプリケータ１０４に配置される。動作インジケータ１１８は、ランプ１１８と同様のランプであり、ランプ１４４の第１色とは異なる第２色を有する。動作インジケータ１１８はまた、スタンバイモードインジケータとしても機能する。第２色を与えるランプ又はＬＥＤは、緑色調又は青色調である。単純な白熱ランプをインジケータとして使用するべく、ガラス又はプラスチックフィルタが使用されてよい。スタンド１０８は、電力コード２２２を用いて標準の給電ネットワークコンセントから電力供給を受けるか、又は充電可能バッテリが装備される。
【００２１】
ＲＦ電圧発生器２００は、熱電対１６０（図４参照）から受信する信号により動作する少なくとも１つのフィードバックループを有する。上述と同じ又は追加のフィードバックループが、加速度計１８４（図３及び図６参照）により動作してもよい。または、トリートメントを受ける皮膚セグメントのインピーダンスがモニタされて自動ＲＦパワーコントロール（ＡＰＣ）のために使用されてもよい。ＲＦ発生器出力が負荷に依存することは既知である。動作中に当該負荷をフラット又は均一に維持することが望ましい。しかしながら、これは、トリートメントを受ける皮膚のインピーダンスの所定範囲においてのみ可能であるから、皮膚のインピーダンス変化を最小限にするモードにおいて装置１００を動作させることが望ましい。また、皮膚のパラメータが、トリートメントを受ける対象ごとに大きく変わることも既知である。インピーダンス変化の典型的な範囲は５０から４００オームである。（電極構成がインピーダンス範囲に影響を与え得ることを言及する必要がある。）たとえ同じ人でも、額近傍に位置する皮膚のインピーダンスは頬とは実質的に異なり得る。電極と皮膚との接触のタイプもまたインピーダンス値に影響を与える。電極は、顔セグメントの皮膚レリーフに従って皮膚とその全表面又は一部のみにて接触する。フィードバックループ、詳しくはインピーダンスの基づくループにより、皮膚インピーダンスの全範囲に対して一定のＲＦパワー出力を維持することができる。実際には、トリートメントを受ける皮膚セグメントのインピーダンスは常にモニタされ、それに応じてＲＦパワーが調整される。
【００２２】
図９は、皮膚トリートメント装置１００の電子回路の実施例を示す概略図である。典型的には、トリートメントを受ける対象は電力供給ネットワークのアースから絶縁される。双方のＲＦ電極が対象の皮膚に適用されると、導体である当該皮膚は当該電極を短絡させてＲＦ誘導電流を通過させる。皮膚よりも高い抵抗を有する導体ゲルは、当該電流通過を容易にする。この特定の実施例では、電極の１つは、インダクタＬ３を介して接地される。その結果、バイポーラＲＦ電極は一方の電極にてゼロ電位を生成し、接地に係る他方の電極は最大電位となる。
【００２３】
図１０は、皮膚トリートメント装置の電子回路の他の実施例を示す概略図である。この特定の実施例は、ＲＦ電極が全く接地されない構成を開示する。ＲＦ電極が対象皮膚と接触すると、ＲＦ電流が当該電極間にある皮膚を通って流れる。バイポーラＲＦ電極は、接地に対する当該対象の電位にかかわらず、当該電極間の中央において最小電位を生成する。
【００２４】
図１１は、皮膚トリートメント装置の電子回路の追加の実施例を示す概略図である。この場合、ＲＦ発生器の出力段は、インダクタＬ３を介して接地された２次センタータップを有する変圧器を含む。これにより、当該電極間のスパンの中央において、接地に対するゼロ電位が得ることができる。
【００２５】
上述の開示に係る電子スキームのすべてにより、必要なＲＦパワーを電極に供給すること、及び、対象がアースと接触されている場合であっても当該対象の電気ショックを防止することができる。
【００２６】
図１２は、個人用皮膚トリートメント装置の追加の実施例を示す概略図である。装置２５０は、アプリケータ要素及びスタンド要素を含む、保持し易い本体２５４である。装置２５０は、従来の電力供給ネットワークにプラグ接続されるか又はバッテリ動作する。バッテリは充電可能であってよい。最初に説明した装置１００（図１）の要素すべてが、必要に応じて変更を加えることにより装置２５０に適用可能である。装置２５０の動作は装置１００の動作と同様である。複数のＲＦ電極が対象皮膚と接触すると、装置２５０が動作してＲＦ誘導電流が当該電極間の皮膚を通って流れる。当該電極と皮膚との接触がない場合、装置２５０はスタンバイモードとなる。オプションとして、装置２５０は、完全にオフに切り換えられるようにオン・オフスイッチを有してよい。
【００２７】
図１３は、ビルトインのゲル供給構成を有する個人用皮膚トリートメント装置のさらなる実施例を示す概略図である。一実施例によれば、装置２９０は、使い捨て可能な可撓性ゲル容器２９４のレセプタクルを有する。ゲルは、容器２９４に手動で圧力を適用することにより皮膚上に供給される。さらなる実施例では、ゲルディスペンサ（図示せず）は、トリートメントに必要なゲルを使い捨て可能又は充填可能な容器から押し出す、装置２９０の一部又は所定の自動ディスペンサであってよい。
【００２８】
本装置を用いて皮膚トリートメントを行う方法を以下に説明する。皮膚１７２の標的セグメントに対して清浄してゲルを延ばした後、アプリケータ１０４が皮膚セグメント１７２上に置かれ、複数の電極１３２が皮膚１７２と接触する。実際には、皮膚１７２は、自動的に回路を閉じる導体となり、ＲＦ電流の電極１３２間通過が可能となる。ＲＦ電圧に誘導されて、電流が皮膚１７２を通って流れ、当該皮膚を所望温度まで加熱する。ＲＦ電圧が、連続モード又は準連続モードで、及び少なくとも０．５秒の継続時間で電極１３２に適用される。
【００２９】
図１４は、本アプリケータの典型的な皮膚トリートメントスキャン移動を示す概略図である。アプリケータ１０４は、皮膚１７２上の矢印３００により示されるように所定の往復スキャン動作で動かされて、次の皮膚セグメント３１２がトリートメントを受ける。アプリケータの移動中、当該アプリケータは、複数の電極１３２と皮膚１７２との接触を維持して連続ＲＦパワーを与える。これにより、電極１３２間に配置されてトリートメントを受ける皮膚セグメント３０４−３１２に電流が誘導される。
【００３０】
アプリケータ１０４（又は装置２５０）がトリートメントを受ける皮膚セグメント上を移動して、ＲＦ誘導電流が当該トリートメントを受ける皮膚セグメントを、例えば皮膚にコラーゲンのリモデリング工程をシミュレーションするという所望の皮膚トリートメントを生じさせる温度まで加熱する。典型的には、複数の電極１３２間に適用されるＲＦパワーは１Ｗから２０Ｗであり得るが、他の値及び範囲も適用可能である。当該ＲＦパワーが、非限定例として例えば少なくとも０．５秒の所定時間、連続モード又は準連続モードで適用される。このモードで適用されると、ＲＦパワーは、通常の皮膚温度から約６０℃の温度まで皮膚を加熱することができる。なお、皮膚セグメント当たりの典型的なトリートメント時間は、いくつかの要因に基づく。かかる要因の１つは、トリートメントを受ける皮膚セグメントの特性である。例えば、額（セグメント３０４）のような薄い皮膚の骨張ったエリアは、目の周辺のエリア（セグメント３０８）のような骨張っていないセグメントの厚い皮膚と対立する。他の要因は、セグメント当たりの平均表面積を含む。例えば、頬、下顎の輪郭、及び顎エリア（セグメント３１２）のそれぞれは、各面積がセグメント３１２よりも実質的に小さい他のエリアのいずれと比べても多くの時間が必要となる。例示のトリートメント工程では、各トリートメント領域に対して所望のトリートメント終点に到達するまで必要な時間をかけることが望ましい。トリートメント終点は、とりわけ、紅斑と、浮腫が生じそうで締め付けられる感じを伴う著しい加熱感覚とを特徴とする。トリートメントは、追加の１〜２分続けられてトリートメント効果を安定させることができる。
【００３１】
トリートメントの間、皮膚及び電極の温度センサ若しくは加速度センサ又はインピーダンスのモニタリングがＲＦ電圧発生器２００（図８参照）のフィードバックループへ入力される。当該センサの少なくとも１つの入力フィードバックに基づいて、ＲＦパワーが自動的に変化して最適なトリートメント条件が付与かつ維持される。ＲＦ電圧変化は、振幅変化、電圧適用時間変化、又は電圧適用デューティサイクル変化を含む。例えば、上側及び下側のトリートメント温度制限が設定される。フィードバックが、皮膚温度に設定される第１の又は上側の温度制限が４４℃を超えることを示すと、自動的なＲＦパワー低減又は適用ＲＦパワーデューティサイクル変化が生じる。デューティサイクルは最大動作値の６０％にまで低減される。第２の又は上側の温度制限が、例えば４５℃を超える温度では、ＲＦパワーの完全なスイッチオフが生じる。ＲＦパワーはまた、加速度計１８４から受信した信号により報告又は決定されるアプリケータ１０４のスキャン速度の変化に応じて変動する。所定のＲＦパワー低減にもかかわらず、トリートメントは続けられる。これは、適切なトリートメント結果を得るには、組織にて所定温度に到達することのほかに、所定のしきい時間当該温度を維持することが望ましいからである。この要件を満たすべく、ＲＦパワーの低減は、最大許容ＲＦパワーの３０％又は４０％を超えないのがよい。低減されたＲＦパワーレベルでは、既存の自然な血流が、皮膚の温度に影響を与えるほど十分に分散する。第２の又は上側の温度制限は主に、皮膚へのダメージを防止する安全性限界である。
【００３２】
自身の皮膚を装置１００を用いてトリートメントを行う人は、温度又は加速度フィードバックがＲＦパワーを調整して所望のトリートメント結果が得られる合理的な速度で、アプリケータ１０４（又は装置２５０）を皮膚表面上のトリートメントを受ける皮膚セグメントにおいて移動させるだけでよい。複数の電極１３２間の皮膚インピーダンスをモニタリングしてＲＦパワーの変動が当該電極間の皮膚温度に追従するようにする既知の方法が本トリートメント方法に適用されてもよい。約４０℃以下の温度では所望の皮膚トリートメント効果が生じないことが既知である。ユーザがアプリケータ１０４を所望よりも速く移動させる場合は、温度及び加速度のフィードバックシステムが、所望のトリートメント効果が得られるようにＲＦパワーを調整する。所望の温度及び加速度においてユーザに注意を促す聴覚信号が、スタンド１０８に配置されたブザーによって生成されてよい。
【００３３】
温度及び加速度のフィードバックループが、トリートメントを受ける人の皮膚の電気的特性に対するトリートメントパラメータを自動的に調整する。かかるフィードバックループは、皮膚の望ましくない温度上昇を防止して皮膚加熱に制限を加える。当該ループは、トリートメントが有効でない条件の存在を示す信号をユーザに与える。かかる通知により、ユーザはトリートメントパラメータを修正することができる。かかる特徴のすべて、又は上記特徴の一部を一実施例に含めることは、装置１００を住居アパート等での個人用途に対して理想的となる。
【００３４】
一般にユーザは、スキンリジュベネーション、コラーゲンのリモデリング及び収縮、皮膚の引き締め、しわトリートメント、皮下組織トリートメント、セルライトトリートメント、ポアサイズ低減、皮膚テクスチャ及びトーンの向上、にきびトリートメント、並びに脱毛を目的として本方法に係る装置１００又は装置２５０を使用及び操作することができる。
【００３５】
上述の皮膚トリートメント方法は、ランプ１４４（図２及び６）により生成される赤及び赤外放射を、皮膚１７２のトリートメントを受けるセグメントの表面に適用することにより、さらに改善することができる。これにより、血管病変、静脈瘤、にきび、及びあざのような皮膚標的のトリートメントが可能となる。当該ランプの光エネルギー又は同等の光エネルギー源は、１Ｗから１０Ｗの値を有し、ＲＦアプリケーションと同等の時間適用することができる。実際、皮膚と皮膚表面との同時トリートメントは、互いに有利な効果を有する。これは、光のみに基づくトリートメントに関する副作用のリスクを低減する。また、ＲＦエネルギーの使用は、この形態のエネルギーは皮膚の色素沈着に敏感ではないので、ほとんどのタイプの皮膚のトリートメントにおいて有利である。
【００３６】
皮膚の事後トリートメント工程は、少なくとも皮膚からのゲル除去と、トリートメントを受けた皮膚表面の清浄と、必要に応じて事後トリートメント効果を低減するための保湿クリームの適用とを含む。
【００３７】
いくつかの実施例が説明された。それにもかかわらず、本方法の要旨及び範囲を逸脱することなく様々な変形例が可能である。したがって、他実施例も以下の特許請求の範囲の範囲内にある。
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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