(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光導波路形成用の感光性樹脂組成物であって、（Ａ）官能基を２つ以上有する脂環式エポキシモノマーと、（Ｂ）シルセスキオキサンと、（Ｃ）酸発生剤とを含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。
【請求項２】
前記（Ａ）官能基を２つ以上有する脂環式エポキシモノマーは、（３'−４'−Ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅ）ｍｅｔｈｙｌ  ３'−４'−Ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ−ｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ、（３'−４'−Ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅ）ｍｅｔｈｙｌ  ３'−４'−Ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ−ｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ  ｍｏｄｉｆｉｅｄ  −ｃａｐｒｏｌａｃｔｏｎｅからなる群より選ばれるものである請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記シルセスキオキサンは、下記式（２４）で表されるものである請求項１または２に記載の感光性樹脂組成物。
【化１】
0005560846.tif 000039
【請求項４】
前記（Ａ）官能基を２つ以上有する脂環式エポキシモノマーと前記（Ｂ）官能基を２つ以上有するオキセタンモノマーの重量比（Ａ）／（Ｂ）は、９９／１〜２０／８０である請求項１乃至３のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の感光性樹脂組成物が用いられることを特徴とする光導波路形成用フィルム。
【請求項６】
請求項５に記載の光導波路形成用フィルムを用いて形成されることを特徴とする光導波路。
【請求項７】
環状オレフィン樹脂を用いて形成されるコア部を有するものである請求項６に記載の光導波路。
【請求項８】
前記環状オレフィン樹脂は、ノルボルネン樹脂である請求項７に記載の光導波路。
【請求項９】
前記ノルボルネン樹脂は、下記式（１０）で表されるものである請求項８に記載の光導波路。
【化２】
0005560846.tif 000040
【請求項１０】
請求項６乃至９のいずれかに記載の光導波路を備えたことを特徴とする光配線。
【請求項１１】
電気配線と、請求項１０に記載の光配線とを有することを特徴とする光電気混載基板。
【請求項１２】
請求項６乃至１１のいずれかに記載の光導波路を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂組成物、光導波路形成用フィルム、光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、データ通信量の増大に伴い、従来の電気伝送で問題となる信号の干渉や減衰を解決する手段として光通信が注目されている。光輸送媒体として最も頻繁に使用されているのはガラス光ファイバーであるが、回路の高密度化によって使用上の問題を引き起こしたり、高コストになったりするので、煩雑な高密度回路には好ましくない。一方で、光輸送媒体にポリマー材料を利用した光導波路は、合理的コストで、信頼性があり、実用的なコンポーネントを作成することができ、しかも集積光学に必要な機能が実行できる点で、有望視されている。
【０００３】
光導波路は光を伝送するコア部と、コア部より低屈折率な材料から成り立つクラッド部で構成されている（特許文献１参照）。光導波路は光損失を少なくする必要があり、材料には透明性が高く、光散乱の原因となる不純物やコア・クラッド界面の凹凸が無い、さらにコア・クラッド密着性が高いことなどが求められる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許公開２００５−２２１５５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記事情を鑑み、生産性が高く、光損失の少ない感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
また、前記感光性樹脂組成物を用いることにより、生産性が高く、光損失の少ない光導波路形成用フィルム、光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような目的は、下記（１）〜（１２）に記載の本発明により達成される。
（１）光導波路形成用の感光性樹脂組成物であって、（Ａ）官能基を２つ以上有する脂環式エポキシモノマーと、（Ｂ）シルセスキオキサンと、（Ｃ）酸発生剤とを含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。
（２）前記（Ａ）官能基を２つ以上有する脂環式エポキシモノマーは、（３'−４'−Ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅ）ｍｅｔｈｙｌ  ３'−４'−Ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ−ｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ、（３'−４'−Ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅ）ｍｅｔｈｙｌ  ３'−４'−Ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ−ｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ  ｍｏｄｉｆｉｅｄ  −ｃａｐｒｏｌａｃｔｏｎｅからなる群より選ばれるものである前記（１）に記載の感光性樹脂組成物。
（３）前記シルセスキオキサンは、下記式（２４）で表されるものである前記（１）または（２）に記載の感光性樹脂組成物。
【０００７】
【化１】
0005560846.tif 000002
【０００８】
（４）前記（Ａ）官能基を２つ以上有する脂環式エポキシモノマーと前記（Ｂ）官能基を２つ以上有するオキセタンモノマーの重量比（Ａ）／（Ｂ）は、９９／１〜２０／８０である前記（１）乃至（３）のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
（５）前記（１）乃至（４）のいずれかに記載の感光性樹脂組成物が用いられることを特徴とする光導波路形成用フィルム。
（６）前記（５）に記載の光導波路形成用フィルムを用いて形成されることを特徴とする光導波路。
（７）環状オレフィン樹脂を用いて形成されるコア部を有するものである前記（６）に記載の光導波路。
（８）前記環状オレフィン樹脂は、ノルボルネン樹脂である前記（７）に記載の光導波路。
（９）前記ノルボルネン樹脂は、下記式（１０）で表されるものである前記（８）に記載の光導波路。
【０００９】
【化２】
0005560846.tif 000003
【００１０】
（１０）前記（６）乃至（９）のいずれかに記載の光導波路を備えたことを特徴とする光配線。
（１１）電気配線と、前記（１０）に記載の光配線とを有することを特徴とする光電気混載基板。
（１２）前記（６）乃至（１１）のいずれかに記載の光導波路を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、生産性が高く、光損失が少ない感光性樹脂組成物を提供することができる。
また、前記感光性樹脂組成物を用いることにより、生産性が高く、光損失が少ない光導波路形成用フィルム、光配線、光電気混載基板および電子機器を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の光導波路の一例を示す断面図である。
【図２】本発明の光導波路を製造する工程の一例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の感光性樹脂組成物、光導波路形成用フィルム、光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器について説明する。
【００１４】
本発明の感光性樹脂組成物は、光導波路形成用の感光性樹脂組成物であって、（Ａ）官能基を２つ以上有する脂環式エポキシモノマー及び／又は（Ｂ）官能基を２つ以上有するオキセタンモノマーと、（Ｃ）酸発生剤とを含むことを特徴とする。
本発明の光導波路形成用フィルムは前記感光性樹脂組成物が用いられることを特徴とする。
本発明の光導波路は前記光導波路形成用フィルムを用いて形成されることを特徴とする。
本発明の光配線は、前記光導波路を備えたことを特徴とする。
本発明の光電気混載基板は、電気配線と、前記光配線とを有することを特徴とする。
本発明の電子機器は、前記光導波路を備えたことを特徴とする。
【００１５】
初めに、感光性樹脂組成物について説明する。
光導波路形成用の感光性樹脂組成物であって、（Ａ）官能基を２つ以上有する脂環式エポキシモノマー及び／又は（Ｂ）官能基を２つ以上有するオキセタンモノマーと、（Ｃ）酸発生剤とを含む。
【００１６】
まず、（Ａ）官能基を２つ以上有する脂環式エポキシモノマーについて説明する。
前記脂環式エポキシモノマーは他のエポキシモノマーに比べ構造上ひずみが大きいことから反応性に富む。前記（Ａ）官能基を２つ以上有する脂環式エポキシモノマーは特に限定はされないが、１，２：脂環式エポキシ８，９ジエポキシリモネン（ダイセル化学工業株式会社  ＣＥＬ３０００）、３'−４'−Ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅ）ｍｅｔｈｙｌ  ３'−４'−Ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ−ｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ（ダイセル化学工業株式会社  ＣＥＬ２０２１）、（３'−４'−Ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅ）ｍｅｔｈｙｌ  ３'−４'−Ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ−ｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ  ｍｏｄｉｆｉｅｄ  −ｃａｐｒｏｌａｃｔｏｎｅ（ダイセル化学工業株式会社  ＣＥＬ−２０８１）、１，４−Ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｄｉｍｅｔｈａｎｏｌ  ｂｉｓ（３，４−ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ）（北村産業化学株式会社  ＥＲＬＸ−４３６０）などがあげられ、特に（３'−４'−Ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅ）ｍｅｔｈｙｌ  ３'−４'−Ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ−ｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ（ダイセル化学工業株式会社  ＣＥＬ２０２１）、（３'−４'−Ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅ）ｍｅｔｈｙｌ  ３'−４'−Ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ−ｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ  ｍｏｄｉｆｉｅｄ  −ｃａｐｒｏｌａｃｔｏｎｅ（ダイセル化学工業株式会社  ＣＥＬ−２０８１）、１，４−Ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｄｉｍｅｔｈａｎｏｌ  ｂｉｓ（３，４−ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ）（Ｓｙｎａｓｉａ社  ＥＲＬＸ−４３６０）が好ましい。これにより、反応性が高く、柔軟性に優れ、透明性の高い感光性樹脂組成物を得ることができる。
【００１７】
次に（Ｂ）官能基を２つ以上有するオキセタンモノマーについて説明する。前記オキセタンモノマーは、４,４‘−ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシメチル］ビフェニル（宇部興産株式会社  ＥＴＥＲＮＡＣＯＬＬ  ＯＸＢＰ）、３−エチルー３｛［（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ］メチル｝オキセタン（東亜合成株式会社  ＤＯＸ）、ポリ［［３−［（３-エチル−３−オキセタニル）メトキシ］プロピル］シラセスキオキサン］誘導体（東亜合成  ＯＸ−ＳＱ−Ｈ）などが上げられるが、特にシルセスキオキサン構造をもつものが有用であり、例えば、前記脂環式エポキシモノマーとの相溶性が高いポリ［［３−［（３-エチル−３−オキセタニル）メトキシ］プロピル］シラセスキオキサン］誘導体などが好ましい。このような無機・有機複合材料を用いることにより、前記感光性樹脂組成物の成形体（本発明の光導波路形成用フィルム等）に、高い架橋密度と適度な柔軟性を付与することができる。
【００１８】
また、本発明の感光性樹脂組成物の成形物は高い架橋密度を有するため、後述する本発明の光導波路形成用フィルム上にモノマー等のサイズの小さい化合物を含む材料を塗布しても、前記光導波路形成用フィルムに浸透することを防ぐことができる。
【００１９】
前記（Ａ）官能基を２つ以上有する脂環式エポキシモノマーと前記（Ｂ）官能基を２つ以上有するオキセタンモノマーの重量比（Ａ）／（Ｂ）は、９９／１〜２０／８０が好ましく、特に９５／５〜３０／７０が好ましい。さらに好ましくは８０／２０〜４０／６０である。このような重量比にすることにより、前記樹脂組成物の成形体は、（Ａ）官能基を２つ以上有する脂環式エポキシモノマーに由来する高い柔軟性と（Ｂ）官能基を２つ以上有するオキセタンモノマーに由来する高い架橋密度の両方の特性を得ることができる。さらに、開始反応の速い（Ａ）官能基を２つ以上有する脂環式エポキシモノマーと、成長反応の速い（Ｂ）官能基を２つ以上有するオキセタンモノマーを混合して重合することで、反応速度を高めることができ、生産性に優れる。
【００２０】
前記（Ｃ）酸発生剤としては、酸を発生するものであれば良く、光または熱により酸を発生させる酸発生剤が挙げられる。その中でも特に、光照射により光のエネルギーを吸収してブレンステッド酸あるいはルイス酸を生成する光酸発生剤は、任意の場所のみを硬化させることができるため、作業性が高く好ましい。
例えば、トリフェニルスルフォニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリス（４−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウム−トリフルオロメタンスルホネートなどのスルホニウム塩類、ｐ−ニトロフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェートなどのジアゾニウム塩類、アンモニウム塩類、ホスホニウム塩類、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、（トリキュミル）ヨードニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどのヨードニウム塩類、キノンジアジド類、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタンなどのジアゾメタン類、１−フェニル−１−（４−メチルフェニル）スルホニルオキシ−１−ベンゾイルメタン、Ｎ−ヒドロキシナフタルイミド−トリフルオロメタンサルホネートなどのスルホン酸エステル類、ジフェニルジスルホンなどのジスルホン類、トリス（２，４，６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４−メチレンジオキシフェニル）−４，６−ビス−（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのトリアジン類などの化合物を挙げることができる。これらの光酸発生剤は、単独、または複数を組み合わせて使用することができる。
【００２１】
前記（Ａ）官能基を２つ以上有する脂環式エポキシモノマーと、前記（Ｂ）官能基を２つ以上有するオキセタンモノマーと、前記（Ｃ）酸発生剤を含むことで、透明性が高く、光散乱の原因となる不純物の無い光導波路を形成するのに好ましい感光性樹脂組成物が得られる。本発明の感光性樹脂組成物は、光導波路を形成するにあたって、コア層の材料（以下、コア材とする）とクラッド部の材料（以下、クラッド材とする）の両方に使用することができる。
【００２２】
前記感光性樹脂組成物は、必要により溶剤を加えても良い。前記溶媒としてトルエン、キシレン、メシチレン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、シクロペンタン、シクロペンタノン、メチルエチルケトン、２−ヘプタノン、リモネン、デカリン等が挙げられる。その中でも、特にトルエン、メチルエチルケトンが好ましい。これらの溶剤は、（Ａ）官能基を２つ以上有する脂環式エポキシモノマー、（Ｂ）官能基を２つ以上有するオキセタンモノマーの溶解性に優れ、前記感光性樹脂組成物を均一なものとすることができる。また、前記樹脂組成物中における前記溶媒の含有量は、５〜７０重量％が好ましく、特に、２０〜５０重量％が好ましい。これにより、塗布性が高くなり、後述する光導波路形成用フィルムを所望の厚みに容易に成形することができる。
本発明の感光性樹脂組成物は、前記（Ａ）官能基を２つ以上有する脂環式エポキシモノマー、前記（Ｂ）官能基を２つ以上有するオキセタンモノマー、前記（Ｃ）酸発生剤および溶剤の他に、増感剤、シランカップリング剤等の添加物を必要に応じて添加しても良い。
【００２３】
本発明の光導波路形成用フィルムは、前記感光性樹脂組成物を用いて形成されるものである。
本発明の感光性樹脂組成物は、柔軟性を付与する前記（Ａ）官能基を２つ以上有する脂環式エポキシモノマーを含むことから、基材上に塗布することによって容易に柔軟性を有する光導波路形成用フィルムを得ることができる。本発明の感光性樹脂組成物は架橋密度が高いため、他の材料を前記光導波路形成用フィルムに密着させた場合に、その界面において一方の材料の一部（例えば、モノマー等の分子量の小さい化合物）が他方に浸透することがない。したがって、例えば、本発明の光導波路形成用フィルムを第一クラッド層とし、異なる組成の樹脂組成物を用いたコア層を前記第一クラッド層上において直接形成しても、前記コア層の機能を損なわず、高い光伝搬性能を有する光導波路を形成することが出来る。
【００２４】
次に、本発明の光導波路について説明する。
図１は、本発明の光導波路の一例を示す断面図である。
図１に示すように、光導波路１０は、第１クラッド層１と、第１クラッド層よりも屈折率の高いコア層２と、コア層２よりも屈折率の低い第２クラッド層３とが積層されている。
コア層２は、コア部２１と、コア部２１よりも屈折率が低い側面クラッド部２２とで構成されている。なお、コア部２１の屈折率は、第１クラッド層１および第２クラッド層３よりも高くなっている。
このような構成を有することにより、コア部２１の一端側に入射された光信号は、コア部２１と第１クラッド層１、第２クラッド層３および側面クラッド部２２との界面で全反射し、他端側に伝達され、光通信が可能となる。
【００２５】
本発明の光導波路形成用フィルムは、上述した光導波路１０の第一クラッド層１および／または第２クラッド層３や、コア層２にも用いることができる。この中でも、特に第一クラッド層１及び第２クラッド層３に好適に用いることができるものである。
【００２６】
本発明の光導波路形成用フィルムを第一クラッド層１及び第２クラッド層３として用いる場合、コア層２に用いられる材料は特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン樹脂のような各種樹脂材料の他、石英ガラス、ホウケイ酸ガラスのようなガラス材料等である。この中でも、特に環状オレフィン樹脂をコア層２として用いることが好ましい。本発明の感光性樹脂フィルムは、特に環状オレフィン脂を含む材料との密着性（濡れ性）に優れている。
【００２７】
前記環状オレフィン樹脂は、コア材のフィルム成形性を確保するために添加されるものであり、ベースポリマーとなるものである。
ここで、環状オレフィン樹脂は、無置換のものであってもよいし、水素が他の基により置換されたものであってもよい。環状オレフィン樹脂としては、たとえばノルボルネン系樹脂や、ベンゾシクロブテン系樹脂である。
なかでも、耐熱性、透明性等の観点からノルボルネン系樹脂を使用することが好ましい。
【００２８】
ノルボルネン系樹脂としては、例えば、
（１）ノルボルネン型モノマーを付加（共）重合して得られるノルボルネン型モノマーの付加（共）重合体、
（２）ノルボルネン型モノマーとエチレンやα−オレフィン類との付加共重合体、
（３）ノルボルネン型モノマーと非共役ジエン、および必要に応じて他のモノマーとの付加共重合体のような付加重合体、
（４）ノルボルネン型モノマーの開環（共）重合体、および必要に応じて該（共）重合体を水素添加した樹脂、
（５）ノルボルネン型モノマーとエチレンやα−オレフィン類との開環共重合体、および必要に応じて該（共）重合体を水素添加した樹脂、
（６）ノルボルネン型モノマーと非共役ジエン、または他のモノマーとの開環共重合体、および必要に応じて該（共）重合体を水素添加したポリマーのような開環重合体が挙げられる。これらの重合体としては、ランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体等が挙げられる。
【００２９】
これらのノルボルネン系樹脂は、例えば、開環メタセシス重合（ＲＯＭＰ）、ＲＯＭＰと水素化反応との組み合わせ、ラジカルまたはカチオンによる重合、カチオン性パラジウム重合開始剤を用いた重合、これ以外の重合開始剤（例えば、ニッケルや他の遷移金属の重合開始剤）を用いた重合等、公知のすべての重合方法で得ることができる。
【００３０】
これらの中でも、ノルボルネン系樹脂としては、付加（共）重合体が好ましい。付加（共）重合体は、透明性、耐熱性および可撓性に富むことからも好ましい。たとえば、光導波路を形成した後、電気部品等を、半田を介して実装することがある。このような場合において、高い耐熱性、すなわち、耐リフロー性を有することが必要となるため、付加（共）重合体が好ましい。また、光導波路を形成し、製品に組み込んだ際に、たとえば、８０℃程度の環境下にて使用される場合がある。このような場合においても、耐熱性を有することが必要となるため、付加（共）重合体が好ましい。
【００３１】
なかでも、ノルボルネン系樹脂は、重合性基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位や、アリール基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位を含むものが好ましい。
【００３２】
重合性基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位としては、エポキシ基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位、（メタ）アクリル基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位、および、アルコキシシリル基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位がのうちの少なくとも１種が好適である。これらの重合性基は、各種重合性基の中でも、反応性が高いことから好ましい。
【００３３】
また、このような重合性基を含むノルボルネンの繰り返し単位を、２種以上含むものを用いれば、可撓性と耐熱性の両立を図ることが出来る。
【００３４】
一方、アリール基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位を含むことにより、アリール基は、疎水性が極めて高いため、吸水による寸法変化等をより確実に防止することができる。
【００３５】
さらに、ノルボルネン系ポリマーは、アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むものが好ましい。なお、アルキル基は、直鎖状または分岐状のいずれであってもよい。
【００３６】
アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むことにより、ノルボルネン系ポリマーは、柔軟性が高くなるため、高いフレキシビリティ（可撓性）を付与することができる。
【００３７】
また、アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むノルボルネン系ポリマーは、特定の波長領域（特に、８５０ｎｍ付近の波長領域）の光に対する透過率が優れることからも好ましい。
【００３８】
このようなことから、ノルボルネン系樹脂としては、以下の式（１）、（３）〜（５）、（９）〜（１２）で表されるものが好適である。
【００３９】
【化３】
0005560846.tif 000004
【００４０】
式（１）のノルボルネン系樹脂は、以下のようにして製造することができる。
側鎖にＲ１を有するノルボルネンと、側鎖にエポキシ基を有するノルボルネンとをトルエンに溶かし、Ｎｉ化合物（式（２））を触媒に用いて溶液重合させることで式（１）のノルボルネン系樹脂を得ることができる。
【００４１】
【化４】
0005560846.tif 000005
【００４２】
なお、側鎖にエポキシ基を有するノルボルネンの製造方法は、たとえば、下記（i）（ii）の通りである。
（i）ノルボルネンメタノール（ＮＢ−ＣＨ２−ＯＨ）の合成
ＤＣＰＤ（ジシクロペンタジエン）のクラッキングにより生成したＣＰＤ（シクロペンタジエン）とαオレフィン（ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−ＯＨ）を高温高圧下で反応させる。
【００４３】
【化５】
0005560846.tif 000006
【００４４】
（ii）エポキシノルボルネンの合成
ノルボルネンメタノールとエピクロルヒドリンとの反応により生成する。
【００４５】
【化６】
0005560846.tif 000007
【００４６】
なお、式（１）において、ｂが２もしくは３の場合には、エピクロルヒドリンのメチレン基がエチレン基、プロピレン基等になったものを使用する。
式（１）で表されるノルボルネン系樹脂の中でも、可撓性と耐熱性の両立を図ることが可能との観点から、特に、Ｒ１が炭素数４〜１０のアルキル基であり、ａおよびｂがそれぞれ１である化合物、例えば、ブチルボルネンとメチルグリシジルエーテルノルボルネンとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとメチルグリシジルエーテルノルボルネンとのコポリマー、デシルノルボルネンとメチルグリシジルエーテルノルボルネンとのコポリマー等が好ましい。
【００４７】
【化７】
0005560846.tif 000008
【００４８】
式（３）のノルボルネン系樹脂は、Ｒ２を有するノルボルネンと、側鎖にアクリルおよびメタクリル基を有するノルボルネンとをトルエンに溶かし、上述したＮｉ化合物（式（２））を触媒に用いて溶液重合させることで得ることができる。
【００４９】
なお、式（３）で表されるノルボルネン系ポリマーの中でも、可撓性と耐熱性との両立の観点から、特に、Ｒ２が炭素数４〜１０のアルキル基であり、ｃが１である化合物、例えば、ブチルボルネンとアクリル酸２−（５−ノルボルネニル）メチルとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとアクリル酸２−（５−ノルボルネニル）メチルとのコポリマー、デシルノルボルネンとアクリル酸２−（５−ノルボルネニル）メチルとのコポリマー等が好ましい。
【００５０】
【化８】
0005560846.tif 000009
【００５１】
式（４）の樹脂は、Ｒ４を有するノルボルネンと、側鎖にアルコキシシリル基を有するノルボルネンとをトルエンに溶かし、上述したＮｉ化合物（式（２））を触媒に用いて溶液重合させることで得ることができる。
【００５２】
なお、式（４）で表されるノルボルネン系ポリマーの中でも、特に、Ｒ４が炭素数４〜１０のアルキル基であり、ｄが１または２、Ｘ３がメチル基またはエチル基である化合物、例えば、ブチルボルネンとノルボルネニルエチルトリメトキシシランとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとノルボルネニルエチルトリメトキシシランとのコポリマー、デシルノルボルネンとノルボルネニルエチルトリメトキシシランとのコポリマー、ブチルボルネンとトリエトキシシリルノルボルネンとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとトリエトキシシリルノルボルネンとのコポリマー、デシルノルボルネンとトリエトキシシリルノルボルネンとのコポリマー、ブチルボルネンとトリメトキシシリルノルボルネンとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとトリメトキシシリルノルボルネンとのコポリマー、デシルノルボルネンとトリメトキシシリルノルボルネンとのコポリマー等が好ましい。
【００５３】
【化９】
0005560846.tif 000010
【００５４】
Ｒ５を有するノルボルネンと、側鎖にＡ１およびＡ２を有するノルボルネンとをトルエンに溶かし、Ｎｉ化合物（式（２））を触媒に用いて溶液重合させることで式（５）のノルボルネン樹脂を得る。
【００５５】
【化１０】
0005560846.tif 000011
【００５６】
【化１１】
0005560846.tif 000012
【００５７】
【化１２】
0005560846.tif 000013
【００５８】
なお、式（５）で表されるノルボルネン系ポリマーとしては、例えば、ブチルノルボルネン、ヘキシルノルボルネンまたはデシルノルボルネンのいずれかと、アクリル酸２−（５−ノルボルネニル）メチルと、ノルボルネニルエチルトリメトキシシラン、トリエトキシシリルノルボルネンまたはトリメトキシシリルノルボルネンのいずれかとのターポリマー、ブチルボルネン、ヘキシルノルボルネンまたはデシルノルボルネンのいずれかと、アクリル酸２−（５−ノルボルネニル）メチルと、メチルグリシジルエーテルノルボルネンとのターポリマー、ブチルボルネン、ヘキシルノルボルネンまたはデシルノルボルネンのいずれかと、メチルグリシジルエーテルノルボルネン、ノルボルネニルエチルトリメトキシシラン、トリエトキシシリルノルボルネンまたはトリメトキシシリルノルボルネンのいずれかとのターポリマー等が挙げられる。
【００５９】
【化１３】
0005560846.tif 000014
【００６０】
側鎖にＲ７を有するノルボルネンと、側鎖に−(ＣＨ２)−Ｘ１−Ｘ２（Ｒ８）３−ｊ（Ａｒ）ｊを含むノルボルネンとをトルエンに溶かし、Ｎｉ化合物を触媒に用いて溶液重合させることで式（９）のノルボルネン樹脂を得る。
【００６１】
なお、式（９）で表されるノルボルネン系ポリマーの中でも、Ｘ１が酸素原子、Ｘ２がシリコン原子、Ａｒがフェニル基であるものが好ましい。
さらには、可撓性、耐熱性および屈折率制御の観点から特に、Ｒ７が炭素数４〜１０のアルキル基であり、Ｘ１が酸素原子、Ｘ２がシリコン原子、Ａｒがフェニル基、Ｒ８がメチル基、ｉが１、ｊが２である化合物、例えば、ブチルボルネンとジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランとのコポリマー、デシルノルボルネンとジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランとのコポリマー等が好ましい。
【００６２】
具体的には、以下のようなノルボルネン系樹脂を使用することが好ましい。
【００６３】
【化１４】
0005560846.tif 000015
【００６４】
また、可撓性と耐熱性および屈折率制御の観点から、式（９）において、Ｒ７が炭素数４〜１０のアルキル基であり、Ｘ１がメチレン基、Ｘ２が炭素原子、Ａｒがフェニル基、Ｒ８が水素原子、ｉが０、ｊが１である化合物、例えば、ブチルボルネンとフェニルエチルノルボルネンとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとフェニルエチルノルボルネンとのコポリマー、デシルノルボルネンとフェニルエチルノルボルネンとのコポリマー等であってもよい。
さらに、ノルボルネン系樹脂として、次のようなものを使用してもよい。
【００６５】
【化１５】
0005560846.tif 000016
【００６６】
式（１１）において、ｐ６／ｑ６は、２０以下であればよいが、１５以下であるのが好ましく、０．１〜１０程度がより好ましい。これにより、複数種のノルボルネンの繰り返し単位を含む効果が如何なく発揮される。
【００６７】
以上のようなノルボルネン系樹脂は、脱離性基を有するものであることが好ましい。ここで、脱離性基とは、酸の作用により離脱するものである。
具体的には、分子構造中に、−Ｏ−構造、−Ｓｉ−アリール構造および−Ｏ−Ｓｉ−構造のうちの少なくとも１つを有するものが好ましい。かかる酸離脱性基は、カチオンの作用により比較的容易に離脱する。
【００６８】
このうち、離脱により樹脂の屈折率に低下を生じさせる離脱性基としては、−Ｓｉ−ジフェニル構造および−Ｏ−Ｓｉ−ジフェニル構造の少なくとも一方が好ましい。
たとえば、式（９）で表されるノルボルネン系ポリマーの中で、Ｘ１が酸素原子、Ｘ２がシリコン原子、Ａｒがフェニル基であるものが脱離性基を有するものとなる。
また、式（４）においては、アルコキシシリル基のＳｉ−Ｏ−Ｘ３の部分で脱離する場合がある。
【００６９】
たとえば、式（１０）のノルボルネン系樹脂を使用した場合、光酸発生剤（ＰＡＧと表記
）から発生した酸により、以下のように反応が進むと推測される。なお、ここでは、脱離性基の部分のみを示し、また、ｉ＝１の場合で説明している。
【００７０】
【化１６】
0005560846.tif 000017
【００７１】
さらに、式（１０）の構造に加えて、側鎖にエポキシ基を有するものであってもよい。このようなものを使用することで密着性に優れたフィルムが形成可能という効果がある。具体例として以下のようなものとなる。
【００７２】
【化１７】
0005560846.tif 000018
【００７３】
式（１２）で示される化合物は、たとえば、ヘキシルノルボルネンと、ジフェニルメチル
ノルボルネン  メトキシシラン（側鎖に−ＣＨ２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）（Ｐｈ）２を含むノルボルネン）およびエポキシノルボルネンをトルエンに溶かし、Ｎｉ化合物を触媒に用いて溶液重合させることで得ることができる。
【００７４】
前記環状オレフィン樹脂をコア材として用いる場合、特に限定されないが、環状エーテル基を有するモノマーおよび環状エーテル基を有するオリゴマーのうち少なくともいずれか一方と、光酸発生剤とを、併用して用いることが好ましい。これにより、前記コア材の屈折率を変化させることができる。
【００７５】
コア材として、前述した環状オレフィン樹脂をベースポリマーとして用いる場合、環状エーテル基を有するモノマーおよび環状エーテル基を有するオリゴマーを併用して用いることが好ましい。前記環状エーテル基を有するモノマーおよび環状エーテル基を有するオリゴマーは、環状オレフィン樹脂とは屈折率が異なり、かつ、前記環状オレフィン樹脂と相溶性のあるものが好ましい。また、前記環状エーテル基を有するモノマーおよび環状エーテル基を有するオリゴマーと、前記環状オレフィン樹脂との屈折率差は、０．０１以上であることが好ましい。
なお、前記環状エーテル基を有するモノマーおよび環状エーテル基を有するオリゴマーの屈折率は、前記環状オレフィン樹脂よりも高いものであってもよいが、前記環状オレフィン樹脂よりも屈折率が低いことが好ましい。これにより、前述した離脱により樹脂の屈折率を低下させる離脱性基を有するノルボルネン樹脂と併用することにより、その相乗効果によってコア部と側面クラッド部の屈折率差をより大きくし、光伝搬性能に優れる光導波路を製造することができる。
【００７６】
前記環状エーテル基を有するモノマーおよび環状エーテル基を有するオリゴマーは、酸の存在下において開環により重合するものが好ましい。モノマー、オリゴマーの拡散性を考慮すると、このモノマーの分子量（重量平均分子量）、オリゴマーの分子量（重量平均分子量）は、それぞれ１００以上、４００以下であることが好ましい。
前記環状エーテル基は、たとえば、オキセタニル基あるいは、エポキシ基を有する。このような環状エーテル基は、酸により開環しやすいため、好ましい。
【００７７】
オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーとしては、下記式（１３）〜（２２）の群から選ばれるものが好ましい。これらを使用することで波長８５０ｎｍ近傍での透明性に優れ、可撓性と耐熱性の両立が可能という利点がある。また、これらを単独でも混合して用いても良い。
【００７８】
【化１８】
0005560846.tif 000019
【００７９】
【化１９】
0005560846.tif 000020
【００８０】
【化２０】
0005560846.tif 000021
【００８１】
【化２１】
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【００８２】
【化２２】
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【００８３】
【化２３】
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【００８４】
【化２４】
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【００８５】
【化２５】
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【００８６】
【化２６】
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【００８７】
【化２７】
0005560846.tif 000028
【００８８】
なかでも、前記環状オレフィン樹脂との屈折率差を確保する観点から式（１５）、（１７）、（１８）、（１９）、（２２）を使用することが好ましい。
【００８９】
さらには、前記環状オレフィン樹脂との屈折率差がある点、分子量が小さく、モノマーの運動性が高い点、モノマーが容易に揮発しない点を考慮すると、式（２２）、式（１７）を使用することがとくに好ましい。
また、オキセタニル基を有する化合物としては、以下の式（２３）、式（２４）を使用することもできる。式（２３）は、ＴＥＳＯＸ（東亞合成）等、式（２４）は、ＯＸ−ＳＱ（東亞合成）等を使用することができる。
【００９０】
【化２８】
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【００９１】
【化２９】
0005560846.tif 000030
【００９２】
一方、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーとしては、たとえば、以下のようなものがあげられる。このエポキシ基を有するモノマー、オリゴマーは、酸の存在下において開環により重合するものである。
エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーとしては、下記式（２５）〜（３０）に示すものを使用することができる。なかでも、エポキシ環のひずみエネルギーが大きく反応性に優れるという観点から脂環式エポキシモノマー（２７）〜（３０）を使用することが好ましい。
なお、式（２５）は、エポキシノルボルネンであり、たとえば、ＥｐＮＢ（プロメラス）を使用することができる。式（２６）は、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランであり、たとえば、Ｚ−６０４０（東レ・ダウコーニング・シリコーン）を使用することができる。また、式（２７）は、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランであり、たとえば、Ｅ０３２７（東京化成）を使用することができる。
さらに、式（２８）は、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチルー３、‘４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレートであり、たとえば、ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル化学工業）を使用することができる。また、式（２９）は、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサンであり、ＣＥＬ２０００（ダイセル化学工業）を使用することができる。
さらに、式（３０）は、１，２：８，９ジエポキシリモネンであり、たとえば、ＣＥＬ３０００（ダイセル化学工業）を使用することができる。
【００９３】
【化３０】
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【００９４】
【化３１】
0005560846.tif 000032
【００９５】
【化３２】
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【００９６】
【化３３】
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【００９７】
【化３４】
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【００９８】
【化３５】
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【００９９】
さらに、前記環状エーテル基を有するモノマー、環状エーテル基を有するオリゴマーとして、オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーと、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーとが併用されていてもよい。
オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーは重合を開始する開始反応が遅いが、生長反応が速い。これに対し、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーは、重合を開始する開始反応が速いが、生長反応が遅い。そのため、オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーと、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーとを併用することで、光を照射した際に、光照射部分と、未照射部分との屈折率差を確実に生じさせ、１枚のフィルム中にコア部と側面クラッド部を形成することができる。
【０１００】
この前記環状エーテル基を有するモノマー、環状エーテル基を有するオリゴマーは、前記環状オレフィン樹脂１００重量部に対し１重量部以上、５０重量部以下であることが好ましい。なかでも２重量部以上、２０重量部以下が好ましい。これにより、コア／クラッド間の屈折率変調を可能にし、可撓性と耐熱性との両立が図れるという効果がある。
【０１０１】
前記光酸発生剤 としては、光のエネルギーを吸収してブレンステッド酸あるいはルイス酸を生成するものであれば良く、例えば、トリフェニルスルフォニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリス（４−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウム−トリフルオロメタンスルホネートなどのスルホニウム塩類、ｐ−ニトロフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェートなどのジアゾニウム塩類、アンモニウム塩類、ホスホニウム塩類、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、（トリキュミル）ヨードニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどのヨードニウム塩類、キノンジアジド類、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタンなどのジアゾメタン類、１−フェニル−１−（４−メチルフェニル）スルホニルオキシ−１−ベンゾイルメタン、Ｎ−ヒドロキシナフタルイミド−トリフルオロメタンサルホネートなどのスルホン酸エステル類、ジフェニルジスルホンなどのジスルホン類、トリス（２，４，６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３．４−メチレンジオキシフェニル）−４，６−ビス−（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのトリアジン類などの化合物を挙げることができる。これらの光酸発生剤は、単独、または複数を組み合わせて使用することができる。
【０１０２】
光酸発生剤 の含有量は、前記環状オレフィン樹脂１００重量部に対し０．０１重量部以上、０．３重量部以下であることが好ましい。なかでも、０．０２重量部以上、０．２重量部以下が好ましい。これにより、反応性の向上という効果がある。
【０１０３】
なお、コア材は、前述した環状オレフィン樹脂、環状エーテル基を有するモノマー、環状エーテル基を有するオリゴマーおよび光酸発生剤の成分に加えて、増感剤等の添加剤を含有していてもよい。
【０１０４】
増感剤は、光に対する光酸発生剤の感度を増大して、光酸発生剤の活性化（反応または分解）に要する時間やエネルギーを減少させる機能や、光酸発生剤の活性化に適する波長に活性放射線の波長を変化させる機能を有するものである。
このような増感剤としては、光酸発生剤の感度や増感剤の吸収のピーク波長に応じて適宜選択され、特に限定されないが、たとえば、９，１０−ジブトキシアントラセン（ＣＡＳ番号第７６２７５−１４−４番）のようなアントラセン類、キサントン類、アントラキノン類、フェナントレン類、クリセン類、ベンツピレン類、フルオラセン類（ｆｌｕｏｒａｎｔｈｅｎｅｓ）、ルブレン類、ピレン類、インダンスリーン類、チオキサンテン−９−オン類（ｔｈｉｏｘａｎｔｈｅｎ−９−ｏｎｅｓ）が挙げられ、これらを単独または混合物として用いられる。
【０１０５】
増感剤の具体例としては、２−イソプロピル−９Ｈ−チオキサンテン−９−オン、４−イソプロピル−９Ｈ−チオキサンテン−９−オン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、フェノチアジン（ｐｈｅｎｏｔｈｉａｚｉｎｅ）またはこれらの混合物が挙げられる。増感剤の含有量は、感光性樹脂組成物中で、０．０１重量％以上であるのが好ましく、０．５重量％以上であるのがより好ましく、１重量％以上であるのがさらに好ましい。なお、上限値は、５重量％以下であるのが好ましい。
【０１０６】
前記環状オレフィン樹脂を用いたコア材を、適当な溶媒を用いて希釈し、樹脂ワニスを得て、この樹脂ワニスを基板上に塗布・乾燥してコア層を得ることができる。
前記溶媒は、特に限定されないが、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、シクロペンタン、シクロペンタノン、メチルエチルケトン、２−ヘプタノン、リモネン、デカリン等が挙げられる。これらの溶媒を１種又は２種以上混合して使用してもよい。前記樹脂ワニスにおける前記環状オレフィン系共重合体の含有量は、前記樹脂ワニス中で５〜５０重量％であることが好ましい。これにより、前記樹脂ワニスに、塗布に適した粘性を付与して塗布性能を向上させることができる。なかでも、１０〜３０重量％であることがさらに好ましい。これにより、前記コア材を基材等に塗布する際に、気泡の巻き込みが防止され、かつ、一定の厚みを得るために適した粘度を得ることが出来る。
【０１０７】
本発明の一実施形態として、以下に本発明の感光性樹脂組成物を第一クラッド層１、前記環状オレフィン樹脂を用いたコア材をコア層２として用いた光導波路の製造方法について説明する。
本発明の感光性樹脂組成物を基材６上に塗布し、感光により硬化させ、第１クラッド層１を得る。このとき、基材は特に限定はしないが、Ｓｉ−ウェハ、ポリイミドなどのプラスチックフィルム、ガラスなどが用いられる。
この第一クラッド層１の上に光導波路形成用フィルムを積層、もしくはコア材を塗布してコア層２を形成する。例えば、上述した環状オレフィン樹脂を用いたコア材を用いると、以下のような原理で光導波路を発生させることができる。
上述の第一クラッド層１に環状オレフィン樹脂を含むコア材を塗布し、乾燥させて溶剤を除去しコア層２ａを形成する。さらに図２に示すようにコア層２ａに、マスク４を用いて光５を照射する。これにより、コア層２ａに選択的に光５を照射することにより、照射領域に側面クラッド部２２を形成し、未照射領域にコア部２１を形成することができる。
照射領域（側面クラッド部２２）では、光導波路形成用フィルムを構成している感光性樹脂組成物中の酸発生剤が光照射により酸を発生し、これにより第１モノマーが開環してカチオン重合を開始する。これにより、マトリクス中の未反応モノマーの濃度勾配を解消する力が働き、未照射領域（コア部２１）から第一モノマーが一部照射領域へ拡散して重合するために、照射領域（側面クラッド部２２）の屈折率が相対的に未照射領域よりも低くなる。
また、光照射により酸発生剤から発生した酸が、前記環状オレフィン樹脂の側鎖の一部である脱離性基の脱離を促進する。これにより、高屈折率部分が脱離するために照射領域（側面クラッド部２２）の屈折率がさらに低くなる。
以上のような原理でコア層２が作製され、光５の照射領域が側面クラッド部２２になり、未照射領域がコア部２１となる。
さらに、このコア層２の上に第２クラッド層３を積層させる。第２クラッド層３は低屈折率材料であれば制約は無く、本発明の感光性樹脂組成物及び光導波路形成用フィルムを用いることも出来る。第２クラッド層３は、ラミネート、塗布などの一般的な方法によって形成することができる。
【０１０８】
このようにして得られた光導波路１０は、コア部２１と、第１クラッド層１、第２クラッド層３および側面クラッド部２２との屈折率差を大きくすることができるので光損失を低減することができるものであり、それによって性能に優れる光導波路１０を得ることができる。
【０１０９】
以上ここでは本発明の感光性樹脂組成物、光導波路形成用フィルムをクラッド材として用いる光導波路について説明したが、本発明の感光性樹脂組成物、光導波路形成用フィルムはコア材としても用いることができ、クラッド材に限定するものではない。
【０１１０】
次に、光配線、光電気混載基板、電子機器について簡単に説明する。
本発明の光配線は、上述したような光導波路１０を有している。これにより、導波路製造プロセスにおいて現像やＲＩＥ（リアクティブイオンエッチング）などを経る必要がないために加工の自由度を向上することができる。
また、本発明の光電気混載基板は、電気配線と、上述したような光導波路１０を有する光配線とを有している。これにより、従来の電気配線で問題となっていたＥＭＩ（電磁波障害）の改善が可能となり、従来よりも信号伝達速度を大幅に向上することができる。
また、本発明の電子機器は、上述したような光導波路１０を有している。これにより、省スペース化を図ることができる。
このような電子機器としては、具体的にはコンピューター、サーバー、携帯電話、ゲーム機器、メモリーテスター、外観検査ロボット等を挙げることができる。
【実施例】
【０１１１】
以下、本発明を実施例および比較例に基づいて詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１１２】
（実施例１）
（１）感光性樹脂組成物の調製  
ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル化学工業）４８ｇ、ＯＳ−ＳＱ−Ｈ（東亞合成）１２ｇ、アデカオプトマーＳＰ−１７０（ＡＤＥＫＡ）１．８ｇを均一に溶解させた後、孔径０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄なクラッド層用の感光性樹脂組成物１を調製した。また感光性樹脂組成物１の屈折率は、ＭＥＴＲＩＣＯＮ  モデル２０１０（セキテクノトロン株式会社製）を用いて測定したところ、１．５２（測定波長；６３３ｎｍ）であった。
【０１１３】
（２）環状オレフィン樹脂の合成
水分および酸素濃度がいずれも１ｐｐｍ以下に制御され、乾燥窒素で充満されたグローブボックス中において、ヘキシルノルボルネン（ＨｘＮＢ）７．２ｇ（４０．１ｍｍｏｌ）、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン１２．９ｇ（４０．１ｍｍｏｌ）を５００ｍＬバイアル瓶に計量し、脱水トルエン６０ｇと酢酸エチル１１ｇを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。
次に、１００ｍＬバイアルビン中に下記式（２）で表わされるＮｉ触媒１．５６ｇ（３．２ｍｍｏｌ）と脱水トルエン１０ｍＬを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。
この下記式（２）で表わされるＮｉ触媒溶液１ｍＬをシリンジで正確に計量し、上記２種のノルボルネンを溶解させたバイアル瓶中に定量的に注入し室温で１時間撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認された。この時点で栓を抜き、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｇを加えて撹拌を行い、反応溶液を得た。
１００ｍＬビーカーに無水酢酸９．５ｇ、過酸化水素水１８ｇ（濃度３０％）、イオン交換水３０ｇを加えて撹拌し、その場で過酢酸水溶液を調製した。次にこの水溶液全量を上記反応溶液に加えて１２時間撹拌してＮｉの還元処理を行った。
次に、処理の完了した反応溶液を分液ロートに移し替え、下部の水層を除去した後、イソプロピルアルコールの３０％水溶液を１００ｍＬ加えて激しく撹拌を行った。静置して完全に二層分離が行われた後で水層を除去した。この水洗プロセスを合計で３回繰り返した後、油層を大過剰のアセトン中に滴下して生成したポリマーを再沈殿させ、ろ過によりろ液と分別した後、６０℃に設定した真空乾燥機中で１２時間加熱乾燥を行うことにより、側鎖に脱離性基を有するノルボルネン系樹脂を得た。ノルボルネン系樹脂の分子量は、ＧＰＣ測定によりＭｗ＝１０万、Ｍｎ＝４万、ノルボルネン系樹脂中の各構造単位のモル比は、ＮＭＲによる同定により、ヘキシルノルボルネン構造単位が５０ｍｏｌ％、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が５０ｍｏｌ％であった。また、前記ノルボルネン系樹脂の屈折率は、ＭＥＴＲＩＣＯＮ  モデル２０１０（セキテクノトロン株式会社製）を用いて測定したところ、により１．５５（測定波長；６３３ｎｍ）であった。
【０１１４】
【化３６】
0005560846.tif 000037
【０１１５】
（３）コア層用樹脂ワニスの調製
精製したノルボルネン系樹脂１０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（チバガイギー）０．０１ｇ、シクロヘキシルオキセタンモノマー（前記式（２２）で示した第１モノマー、ＣＨＯＸ（東亞合成））、ＣＡＳ＃４８３３０３−２５−９、分子量１８６、沸点１２５℃／１．３３ｋＰａ）２ｇ、光酸発生剤ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃  １７８２３３−７２−２）（１．３６Ｅ−２ｇ、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加え均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄なコア層用樹脂ワニスを調製した。
【０１１６】
（４）光導波路の製造
（第一クラッド層の作製）
シリコンウエハ上に感光性樹脂組成物１をドクターブレードにより均一に塗布した後、塗布された全面に紫外線を７００ｍＪ照射し、乾燥機中１５０℃で１０分間加熱して、塗膜を硬化させて、第一クラッド層を形成させた。形成された第一クラッド層１は、厚みが２０μｍであり、無色透明であり、屈折率は１．５２（測定波長；６３３ｎｍ）であった。
【０１１７】
（コア部、側面クラッド部の作製）
上記第一クラッド層上に、調製して得られた上述のコア層用樹脂ワニスをドクターブレードによって均一に塗布した後、４５℃の乾燥機に１５分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２で選択的に照射した。マスクを取り去り、乾燥機中４５℃で３０分間、８５℃で３０分間、１５０℃で１時間と三段階で加熱を行った。加熱後、非常に鮮明な導波路パターンが現れたコア層が確認された。
【０１１８】
（第２クラッド層の作製）
上記コア層上に、感光性樹脂組成物１をドクターブレードにより均一に塗布した後、塗布された全面に紫外線を７００ｍＪ照射し、乾燥機中１５０℃で１０分間加熱して、塗膜を硬化させて、第２クラッド層を形成させた。
【０１１９】
（５）評価
（光導波路の損失評価）
８５０ｎｍＶＣＳＥＬ（面発光レーザー）より発せられた光を５０μｍφの光ファイバーを経由して、得られた光導波路に導入し、２００μｍφの光ファイバーで受光を行って光の強度を測定した。尚、測定にはカットバック法を採用した。導波路長を横軸にとり、挿入損失を縦軸にプロットしていったところ、測定値はきれいに直線上に並び、その傾きから伝搬損失は０．０３９ｄＢ／ｃｍと算出することができた。
【０１２０】
（近視野像）
前記光導波路の任意のコア部に光が入射するように光軸を調芯後、光を入射させ、前記光導波路の出射側において、対物レンズを通して赤外ビジコンカメラにより、コア部と前記コア部の両隣のコア部が含まれる範囲の近視野像を撮影した。前記近視野像において、出射した伝搬光は可視化され、出射光の強度が高い部分ほど明度が高く白色に近くなり、一方、出射光の強度が低いほど明度が低く、全く光が伝搬しなかった部分は黒色で示されている。
>前記近視野像により、前記光導波路は、伝搬光を入射させたコア部にのみ出射光を確認し、両隣のコア部及び隣接する側面クラッド部に伝搬光の漏れが無いことが確認された。
【０１２１】
（実施例２）
感光性樹脂組成物の調製において、ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル化学工業）５７ｇ、ＯＳ−ＳＱ（東亞合成）３ｇ、アデカオプトマーＳＰ−１７０（ＡＤＥＫＡ）１．８ｇを均一に溶解させた後、孔径０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄なクラッド層用の感光性樹脂組成物２を調製した。前記感光性樹脂組成物２の屈折率は、ＭＥＴＲＩＣＯＮ  モデル２０１０（セキテクノトロン株式会社製）を用いて測定したところ、１．５２（測定波長；６３３ｎｍ）であった。
感光性樹脂組成物１に代わり、感光性樹脂組成物２を用いる以外は実施例１と同様にした。得られた光導波路の伝搬損失は０．０５１ｄＢ／ｃｍであった。また、近視野像を確認したところ、伝搬光を入射させたコア部にのみ出射光を確認し、両隣のコア部及び隣接する側面クラッド部に伝搬光の漏れが無いことを確認した。
【０１２２】
（実施例３）
感光性樹脂組成物の調製において、ＥＲＬＸ−４３６０（Ｓｙｎａｓｉａ）５７ｇ、ＯＳ−ＳＱ（東亞合成）３ｇ、アデカオプトマーＳＰ−１７０（ＡＤＥＫＡ）１．８ｇを均一に溶解させた後、孔径０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄なクラッド層用の感光性樹脂組成物３を調製した。前記感光性樹脂組成物３の屈折率は、ＭＥＴＲＩＣＯＮ  モデル２０１０（セキテクノトロン株式会社製）を用いて測定したところ、１．５２（測定波長；６３３ｎｍ）であった。
感光性樹脂組成物１に代わり、感光性樹脂組成物３を用いる以外は実施例１と同様にした。得られた光導波路の伝搬損失は０．０５３ｄＢ／ｃｍであった。また、近視野像を確認したところ、伝搬光を入射させたコア部にのみ出射光を確認し、両隣のコア部及び隣接する側面クラッド部に伝搬光の漏れが無いことを確認した。
【０１２３】
（比較例１）  
感光性樹脂組成物の調製において、ＣＥＬ２０８１（ダイセル化学工業）４８ｇ、ＯＳ−ＳＱ（東亞合成）１２ｇ、アデカオプトマーＳＰ−１７０（ＡＤＥＫＡ）１．８ｇを均一に溶解させた後、孔径０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄なクラッド層用の感光性樹脂組成物４を調製した。また前記感光性樹脂組成物４の屈折率は、ＭＥＴＲＩＣＯＮ  モデル２０１０（セキテクノトロン株式会社製）を用いて測定したところ、１．５２（測定波長；６３３ｎｍ）であった。
感光性樹脂組成物１に代わり、感光性樹脂組成物４を用いる以外は実施例１と同様にした。得られた光導波路の伝搬損失は０．１５２ｄＢ／ｃｍと光学特性が悪いことが分かった。これは、近視野像に示されるように得られた光導波路は側面クラッド部への光の漏れが著しく、コア部と側面クラッド部との界面における屈折率差が十分にではないと考えられる。コア層用樹脂ワニスが、感光性樹脂組成物４で作製された第一クラッド層に浸透してしまい、側面クラッド部とコア部の屈折率差が小さくなり、結果的に伝搬損失が悪化したと考えられる。
【０１２４】
（比較例２）  
感光性樹脂組成物の調製において、ＥＭＩ−３５８０（ユーヴィックス株式会社）を感光性樹脂組成物５として用いた。この感光性樹脂組成物の屈折率は、ＭＥＴＲＩＣＯＮ  モデル２０１０（セキテクノトロン株式会社製）を用いて測定したところ、１．４８（測定波長；６３３ｎｍ）であった。
感光性樹脂組成物１に代わり、感光性樹脂組成物５を用いる以外は実施例１と同様にした。得られた光導波路の伝搬損失は０．１３６ｄＢ／ｃｍと光学特性が悪いことが分かった。近視野像により、得られた導波路のコア層下部に光の漏れが確認されたことから、比較例１と同様にコア層用樹脂ワニスが、感光性樹脂組成物５で作製された第一クラッド層に浸透してしまい、側面クラッド部とコア部の屈折率差が小さくなり、結果的に伝搬損失が悪化したと考えられる。
【０１２５】
（比較例３）
感光性樹脂組成物の調製において、Ｖ−９５２０（ＤＩＣ株式会社）をメシチレンを溶剤にＲＣ＝２０％に希釈して、感光性樹脂組成物６として用いた。この感光性樹脂組成物の屈折率は、ＭＥＴＲＩＣＯＮ  モデル２０１０（セキテクノトロン株式会社製）を用いて測定したところ、１．４８（測定波長；６３３ｎｍ）であった。
感光性樹脂組成物１に代わり、感光性樹脂組成物６を用いる以外は実施例１と同様にした。その結果、得られた光導波路の伝搬損失は０．５７３ｄＢ／ｃｍと光学特性が非常に悪いことが分かった。比較例１と同様にコア層用樹脂ワニスが、感光性樹脂組成物６で作製された第一クラッド層に浸透してしまい、側面クラッド部とコア部の屈折率差が小さくなったためと考えられる。または、感光性樹脂組成物６に、コア層の酸を補足する成分が含まれていたため、側面クラッド部の屈折率が十分に低下せず、光導波路の発現が阻害されたと考えられる。
【０１２６】
各実施例および比較例で得られた光導波路について、得られた結果を表１に示す。
【０１２７】
【表１】
0005560846.tif 000038
【０１２８】
表１から明らかなように実施例１〜３は、光損失が低く、光導波路の性能が優れている
ことが示された。一方、比較例１〜３は、実施例１〜３に比べ、伝搬損失において劣る結果となった。これは、実施例１〜３のクラッド層の架橋密度が高かったために、コア層に含まれる成分（酸、モノマー等）がクラッド層に浸透することを防ぎ、側面クラッド部とコア部の屈折率差を十分に生じさせることが出来たためと考えられる。
【符号の説明】
【０１２９】
１      第１クラッド層
２      コア層
２ａ    コア層（光５照射前）
２１    コア部
２２    側面クラッド部
３      第２クラッド層
４      マスク
５      光
６      基板
１０    光導波路
【図１】
0005560846.tif 000041
【図２】
0005560846.tif 000042