(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
縫合糸ストランドを熱溶接するためのヒーター装置であって、
Ａ．基体軸線に沿って第１端から第２端へと延びる細長い非導電性の基体にして、実質的に平面のヒーター支持面を有する基体と、
Ｂ．３００〜５００オングストロームの厚さを有しかつ前記ヒーター支持面上に配置される導電性接合層と、
Ｃ．導電性のヒーター要素にして、ヒーター軸線に沿って該ヒーター要素の第１端から第２端へと延びて細長くかつ前記接合層上に配置され、かつ、前記接合層によって前記支持面に結合される層であるヒーター要素と、
Ｄ．前記ヒーター要素の第１端に結合される第１導電性要素と、前記ヒーター要素の第２端に結合される第２導電性要素とを含む電気的インターフェースとを備え、
前記基体は、
前記支持面から延びかつ支持面に対し少なくとも部分的に直交する、基体の第１端における第１表面開放溝と、
前記支持面から延びかつ支持面に対し少なくとも部分的に直交する、基体の第２端における第２表面開放溝とを含み、
前記第１溝及び第２溝各々は、これら溝上に少なくとも部分的に配置される金属層を含み、
前記第１ワイヤー及び第２ワイヤーは、前記第１溝の金属層及び第２溝の金属層にそれぞれ結合され、
前記電気的インターフェースは、
ｉ．基体の第１端から延びる第１ワイヤーと、
ｉｉ．基体の第２端から延びる第２ワイヤーと、
ｉｉｉ．基体及び接合層上に配置される第１導電性層にして、前記第１ワイヤーとヒーター要素の第１端とを電気的に接続する第１導電性層と、
ｉｖ．基体及び接合層上に配置される第２導電性層にして、前記第２ワイヤーとヒーター要素の第２端とを電気的に接続する第２導電性層とを含むヒーター装置。
【請求項２】
前記第１及び第２ワイヤーは、基体の各端から、前記支持面に対し少なくとも部分的に直交する方向に延びる請求項１のヒーター装置。
【請求項３】
前記ヒーター要素は、２０００〜３０００オングストロームの範囲の厚さを有する請求項１のヒーター装置。
【請求項４】
前記ヒーター要素は金である請求項３のヒーター装置。
【請求項５】
前記接合層はタングステン合金である請求項４のヒーター装置。
【請求項６】
前記金属層は金である請求項１のヒーター装置。
【請求項７】
前記金属層は９００〜１１００オングストロームの範囲の厚さを有する請求項６のヒーター装置。
【請求項８】
前記第１及び第２ワイヤーと前記第１及び第２溝の金属層との間の結合は無はんだである請求項１のヒーター装置。
【請求項９】
前記結合は、少なくとも一部が熱圧縮溶接である請求項８のヒーター装置。
【請求項１０】
前記第１及び第２溝は部分円錐外形を有し、前記結合は少なくとも一部が締まりばめである請求項８のヒーター装置。
【請求項１１】
前記ヒーター要素は、事前に設定された操作温度範囲にわたって温度により単調に変化する比抵抗を有する抵抗温度装置（ＲＴＤ）である請求項１のヒーター装置。
【請求項１２】
前記ヒーター要素を所望温度ＴDへと加熱するため、該所望温度ＴDを表す入力信号に応答するヒーターコントローラを更に備え、該ヒーターコントローラは、前記第１及び第２ワイヤーに接続され、かつ第１及び第２ワイヤーに電流を適用するために適合され、該電流は、前記ヒーター要素を通過する際、ヒーター要素において抵抗ロスをもたらし、ヒーター要素を温度Ｔにする請求項１１のヒーター装置。
【請求項１３】
前記ヒーターコントローラは、前記第１及び第２ワイヤー間におけるヒーター要素の検出抵抗に閉ループで応答し、前記操作範囲にわたって前記温度ＴがＴDと実質的に等しいように前記電流を加減制御する請求項１２のヒーター装置。
【請求項１４】
前記ヒーターコントローラはブリッジ回路を含み、前記ヒーター要素が該ブリッジ回路のアームを形成する請求項１３のヒーター装置。
【請求項１５】
前記第１及び第２溝各々は、これら溝内に前記第１及び第２ワイヤーを少なくとも部分的にそれぞれ受け入れる請求項２のヒーター装置。
【請求項１６】
前記第１及び第２ワイヤー各々は、ヒーター要素とは反対側の基体の側部に沿って、それぞれ第１及び第２溝に直交しかつ隣接して配置され、該第１及び第２ワイヤーは、前記基体軸線に対し少なくも部分的に直交する方向に延びる請求項１のヒーター装置。
【請求項１７】
前記第１及び第２ワイヤー各々は、ヒーター要素とは反対側の基体の側部に沿って、前記基体の各端に隣接して配置される請求項１のヒーター装置。
【請求項１８】
前記第１及び第２ワイヤー各々に隣接する領域から前記第１及び第２導電性層へとそれぞれ延びる、基体の表面上の導電性材料を更に含み、
前記導電性材料は、第１及び第２ワイヤー各々を第１及び第２導電性層それぞれに電気的に接続する請求項１７のヒーター装置。
【請求項１９】
前記電気的インターフェースは、操作中、ヒーター要素と第１及び第２ワイヤーとの間を流れる電流が基体の外側面に沿う通路に限定されるように構成される請求項１のヒーター装置。
【請求項２０】
前記基体は、セラミック材料又はポリイミド材料から成る請求項１のヒーター装置。
【請求項２１】
縫合糸を溶接するための装置であって、
請求項１〜２０のいずれか１項に記載したヒーター装置である第１ヒーター装置と、第２ヒーター装置を備え、該第１及び第２ヒーター装置各々は、熱を発生すると同時に温度を検出するように適合され、
前記第２ヒーター装置は、
Ａ．基体軸線に沿って第１端から第２端へと延びる非導電性の基体にして、実質的に平面のヒーター支持面を有する基体と、
Ｂ．前記ヒーター支持面上に配置される導電性接合層と、
Ｃ．２０００〜３０００オングストロームの範囲の厚さを有する導電性のヒーター要素にして、ヒーター軸線に沿って該ヒーター要素の第１端から第２端へと延びかつ前記接合層上に配置され、かつ、前記接合層によって前記支持面に結合される層であるヒーター要素と、
Ｄ．前記ヒーター要素の第１端に結合される第１導電性要素と、前記ヒーター要素の第２端に結合される第２導電性要素とを含む電気的インターフェースとを備え、
溶接操作中、第１及び第２ヒーター装置は、繰り返しインターバルで交互に動作し、一つおきのインターバル中、第１ヒーター装置がオンとなる一方、第２ヒーター装置がオフとなり、前記一つおきのインターバルの次の各インターバル中、第１ヒーター装置がオフとなる一方、第２ヒーター装置がオンとなる装置。
【請求項２２】
前記繰り返しインターバル各々は、約２０ミリ秒の間隔である請求項２１の装置。
【請求項２３】
前記第１及び第２ヒーター装置は、溶接操作中、総時間約１０秒未満の間、繰り返しインターバルで交互に動作する請求項２２の装置。
【請求項２４】
縫合糸を溶接するための装置であって、
請求項１に記載したヒーター装置である第１ヒーター装置と、第２ヒーター装置とを備え、該第１及び第２ヒーター装置各々は、熱を発生すると同時に温度を検出するように適合され、
溶接操作中、第１及び第２ヒーター装置は、繰り返しインターバルで交互に動作し、一つおきのインターバル中、第１ヒーター装置がオンとなる一方、第２ヒーター装置がオフとなり、前記一つおきのインターバルの次の各インターバル中、第１ヒーター装置がオフとなる一方、第２ヒーター装置がオンとなる装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本出願は、２００６年１２月２０日付け出願の米国仮出願通し番号第６０／８７６，４５８号及び２００６年１２月２０日付け出願の米国仮出願通し番号第６０／８７６，１９６号からの優先権を主張する。これら各文献は、参照によりここにそっくりそのまま組み込まれる。
【０００２】
本開示は、縫合（糸）及び縫合技術の改良に関する。
【背景技術】
【０００３】
外科手術において、縫合糸は、組織の複数縁を共に縫うかもしくは留め、これらを近接させて維持するために一般的に使用される。縫合糸は、一般に、接合される組織の複数部分を通って誘導され、単一のループもしくはステッチ（ひと縫いもしくは縫い目）に形成される。次いで、該縫合糸は、治癒が生じるように、傷の複数縁を互いに適切な関係で維持するために結ばれる。この態様において、実質的に均一な張力の一連の複数ステッチが組織に形成され得る。該複数ステッチは個々別々であるため、一つのステッチの除去は、ステッチすべての取り除きを必要とせず、又は、残りのステッチを緩めない。しかしながら、個々のステッチは、傷の周りにステッチを固定するため、個々の結び又は他のあるステッチ閉じデバイスを必要とする。
【０００４】
例えば、デリケートな器官又は組織の外科的修復等において（ここで、該修復部位は比較的小さいか又は限定的である）、時には、縫合糸に結びを形成するか又はループ閉じデバイスを組み込む必要なしに縫合糸で傷部位を閉じることが必要であるか又は望ましい。そのため、縫合糸複数ループを融合させるための装置及び方法も提供されている。融合された縫合糸ループは、傷の複数縁に対し適切な張力を提供すると共に、治癒が生じることを可能にするのに十分な時間、該傷の複数縁を十分に近接させて維持するために適切な強さを与えなければならない。
【０００５】
高分子縫合糸は、例えば溶接等の種々の融合プロセス又は接合プロセスに特に適している。そのため、縫合糸の複数区域は、該複数区域に十分な熱が適用され次第、共に融合され得、該複数区域の部分的な融解もしくは融合を引き起こす。例えば、米国特許第５，８９３，８８０号は、外科縫合糸等の細長い材料からなる融合されたループ、及び該ループを形成するための装置を開示する。共に接合される一つ又は複数のセグメントの複数部分は、溶接プロセスにおいて融合され、溶接接合部を形成する。該接合部の融合部分のせん断面積は、該接合部の強度を決定し、そのため、好ましくは比較的大きい。溶接装置のための種々の構成は、該装置の複数溶接部材の少なくとも一つと、接合される複数セグメントの少なくとも一つとの間の接触を最大にすることにより、接合部の比較的大きい融合部分の生成を助長する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許第５，８９３，８８０号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本開示は、確実な縫合糸溶接を作り出すため、外科縫合糸材料に信頼でき管理された熱を供給するためのヒーター装置に向けられ、これは、内視鏡手術中に固定された縫合糸を作り出すための使用に特に適している。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
一側面において、縫合糸ストランド（より糸）を熱溶接するためのヒーター装置が開示される。該ヒーター装置は、基体軸線に沿って第１端から第２端へと延びる基体にして、実質的に平面のヒーター支持面を有する基体と、前記ヒーター支持面上に配置される接合層と、ヒーター要素にして、ヒーター軸線に沿って該ヒーター要素の第１端から第２端へと延びかつ前記接合層上に配置され、かつ、前記接合層によって前記支持面に結合される層であるヒーター要素と、前記ヒーター要素の第１端に結合される第１導電性要素、及び前記ヒーター要素の第２端に結合される第２導電性要素とを含む電気的インターフェースとを含む。いくつかの実施形態において、ヒーター要素はヒーター軸線に沿って細長い。いくつかの実施形態において、第１及び第２ワイヤー各々は、前記支持面に対し少なくとも部分的に直交する方向に基体の各端から延びる。
【０００９】
いくつかの実施形態において、前記基体は前記基体軸線に沿って細長く、前記電気的インターフェースは、第１ワイヤーと第２ワイヤーを含む。基体及び接合層上に第１導電性層が配置され、第１導電性層は前記第１ワイヤーとヒーター要素の第１端とを電気的に接続する。また、基体及び接合層上に第２導電性層が配置され、第２導電性層は、前記第２ワイヤーとヒーター要素の第２端とを電気的に接続する。
【００１０】
いくつかの実施形態において、前記基体は、前記支持層から延びかつ支持層に対し少なくとも部分的に直交する、基体の第１端における第１表面開放溝と、前記支持層から延びかつ支持層に対し少なくとも部分的に直交する、基体の第２端における第２表面開放溝とを含む。該第１溝及び第２溝各々は、これら溝上に少なくとも部分的に配置される金属層を含み、また、前記第１ワイヤー及び第２ワイヤーは、前記第１溝の金属層及び第２溝の金属層にそれぞれ結合される。
【００１１】
いくつかの実施形態において、前記ヒーター要素層は、２０００〜３０００オングストロームの範囲の厚さを有する。いくつかの実施形態において、前記ヒーター要素は金である。いくつかの実施形態において、前記接合層は、３００〜５００オングストロームの範囲の厚さを有する。いくつかの実施形態において、前記接合層はタングステン合金である。いくつかの実施形態において、前記金属層は金である。いくつかの実施形態において、前記金属層９００〜１１００オングストロームの範囲の厚さを有する。
【００１２】
いくつかの実施形態において、前記第１及び第２ワイヤーと前記第１及び第２溝の金属層との間の結合は無はんだである。いくつかの実施形態において、前記結合は、少なくとも一部が熱圧縮溶接である。いくつかの実施形態において、前記第１及び第２溝は部分円錐外形（輪郭）を有し、前記結合は少なくとも一部が締まりばめである。
【００１３】
いくつかの実施形態において、前記ヒーター要素は、事前に設定された操作温度範囲にわたって温度により単調に変化する比抵抗を有する抵抗温度装置（ＲＴＤ）である。
【００１４】
いくつかの実施形態において、前記ヒーター要素を所望温度ＴDへと加熱するため、該所望温度ＴDを表す入力信号に応答するヒーターコントローラを更に備え、該ヒーターコントローラは、前記第１及び第２ワイヤーに接続され、かつ第１及び第２ワイヤーに電流を適用するために適合され、該電流は、前記ヒーター要素を通過する際、ヒーター要素において抵抗ロスをもたらし、ヒーター要素を温度Ｔにする。いくつかの実施形態において、前記ヒーターコントローラは、前記第１及び第２ワイヤー間におけるヒーター要素の検出抵抗に閉ループで応答し、前記操作範囲にわたって前記温度ＴがＴDと実質的に等しいように前記電流を加減制御する。いくつかの実施形態において、前記ヒーターコントローラはブリッジ回路を含み、前記ヒーター要素が該ブリッジ回路のアームを形成する。
【００１５】
いくつかの実施形態において、前記第１及び第２溝各々は、これら溝内に前記第１及び第２ワイヤーを少なくとも部分的にそれぞれ受け入れる。
【００１６】
いくつかの実施形態において、前記第１及び第２ワイヤー各々は、ヒーター要素とは反対側の基体の側部（もしくは側面）に沿って、それぞれ第１及び第２溝に直交しかつ隣接して配置される。
【００１７】
いくつかの実施形態において、前記電気的インターフェースは、操作中、ヒーター要素と第１及び第２ワイヤーとの間を流れる電流が基体の外側面に沿う通路に限定されるように構成される。
【００１８】
いくつかの実施形態において、前記第１及び第２ワイヤー各々は、ヒーター要素とは反対側の基体の側部に沿って、それぞれ第１及び第２溝に直交しかつ隣接して配置され、前記第１及び第２ワイヤーは、基体軸線に対し少なくとも部分的に直交する方向に延びる。
【００１９】
いくつかの実施形態において、前記第１及び第２ワイヤー各々は、ヒーター要素とは反対側の基体の側部に沿って、前記基体の各端に隣接して配置される。いくつかの実施形態において、前記第１及び第２ワイヤー各々に隣接する領域から前記第１及び第２導電性層へとそれぞれ延びる、基体の表面上の導電性材料を更に含む。該導電性材料は、第１及び第２ワイヤー各々を第１及び第２導電性層それぞれに電気的に接続する。
【００２０】
いくつかの実施形態において、前記基体は、セラミック材料又はポリイミド材料から成る。
【００２１】
別の側面において、縫合糸を溶接するための装置が開示される。該装置は、第１ヒーター装置と第２ヒーター装置を備え、該第１及び第２ヒーター装置各々は、熱を発生すると同時に温度を検出するように適合される。溶接操作中、第１及び第２ヒーター装置は、繰り返しインターバルで交互に動作し、一つおきのインターバル中、第１ヒーター装置がオンとなる一方、第２ヒーターがオフとなり、前記一つおきのインターバルの次の各インターバル中、第１ヒーター装置がオフとなる一方、第２ヒーターがオンとなる。
【００２２】
いくつかの実施形態において、前記第１及び第２ヒーター装置の少なくとも一方は上述したタイプのヒーター装置を含む。いくつかの実施形態において、前記繰り返しインターバル各々は、約２０ミリ秒の間隔である。いくつかの実施形態において、前記第１及び第２ヒーター装置は、溶接操作中、総時間約１０秒未満の間、約２０ミリ秒の繰り返しインターバルで交互に動作する。
【００２３】
種々の実施形態が上述した特徴のいずれかを単独で又は組合せで含み得る。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】図１は、模範的なヒーター装置の概略図である。
【図２】図２は、ヒーター装置の別の実施形態の概略図である。
【図３】図３は、ヒーター装置の別の実施形態の概略図である。
【図４ａ】図４ａは、二つのヒーター装置を備える縫合糸溶接装置のブロック図である。
【図４ｂ】図４ｂは、図４ａに示す二つのヒーター装置の切り換えを例示する。
【００２５】
図中、同じ参照番号は同じ構成要素を指す。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
図１に示すように、模範的なヒーター装置１０は、基体軸線ＳAに沿って延びる、事前に設定された望ましい長さ（縦）及び幅（横）の基体１２を好ましく含む。基体の具体的な寸法は、ヒーター装置１０が共に使用され得る熱縫合糸溶接装置の寸法に基づいて選択され得る。典型的な実施形態において、該寸法は、内視鏡外科装置との使用に適した範囲内にある。
【００２７】
基体１２は、任意の実質的非導電材料、例えば、非導電セラミックもしくはポリイミド等から製造され得る。基体１２は、事前に設定された形状及び大きさに形成され、基体軸線ＳAに沿う基体１２の各端部に凹溝１４Ａ、１４Ｂを含む。凹溝１４Ａ及び１４Ｂは、基体軸線ＳAに対し直交して延びる。溝１４Ａ、１４Ｂは、好ましくは、ワイヤー１６Ａ、１６Ｂを少なくとも部分的にそれぞれ受け入れる形状にされる。好ましくは、凹部１４Ａ、１４Ｂの大きさ及び形状は、凹部１４Ａ、１４Ｂ内に配置されたワイヤー１６Ａ、１６Ｂが凹部１４Ａ、１４Ｂ内の壁に対し確実に連結されるような形状とされる。
【００２８】
図１に示すように、基体１２の表面は、好ましくは、接合層２０を該表面上に受けるために平面であり、そのため、ヒーター支持面１８を形成する。いくつかの実施形態において、ヒーター支持面１８は、溶接又は加熱される凸受け面に対して配置されるように凹形状である。更に別の実施形態において、支持面１８は、特定用途に要求され得るように、凸状であり得る。
【００２９】
図１に示すように、導電性接合層２０は、ヒーター支持面１８上に配置される。一実施形態において、接合層２０は、３００〜５００オングストロームの厚さを有する、チタンタングステン等のタングステン合金からなる層である。この実施形態において、スパッタ堆積（めっき）等の薄膜製造技術を用いて適用（塗布）される。接合層２０のそのようなスパッタの適用は、接合層２０と隣接するヒーター支持面１８との主として機械的な結合を作り出す。導電性層Ｌは、溝１４Ａ及び１４Ｂ各々からヒーター２２の各端部まで延びる。該導電性層は、凹部１４Ａ、１４Ｂへと少なくとも部分的に延びる。次に、ヒーター要素２２は、導電性材料（金属元素等）からなる層の形態であり得、堆積技術を用いて適用される。ヒーター２２のこの実施形態において、該層すなわち要素は、厚さが２００〜３０００オングストロームの範囲、好ましくは約２５００オングストロームの金であり、また、ヒーター２２と接合層２０間に主として機械的な結合を形成する。
【００３０】
別の実施形態において、接合層２０は、厚膜技術を用いてヒーター支持面１８上に配置され得る。この実施形態において、接合層２０は、金属等の導電性材料と接合材料とを混合することによって基体上に配置される。この混合物は、その際、ヒーター支持面１８上に適用される。該導電性材料は、金、銀及びチタン（これらに限定はしない）を含むいかなる導電性元素金属材料をも含み得る。該接合材料は、エポキシ、及びポリイミド、又は、導電性金属と混合可能でかつ接合層２０上に機械的に又は他の態様で確実に適用可能な任意の他の材料を含み得る。元素金属材料と接合材料の混合物は、溶射、ブラッシング（はけ塗り）、及びドリップコーティング等によって接合層２０に機械的に適用される。この接合材料は、当業者にはよく知られている適切な硬化技術を用いて硬化される。実施形態において、接合材料は、接合材料の成分によって決定される、当業者には既知の時間及び温度で加熱硬化される。この実施形態において、ヒーター要素２２は、抵抗（エポキシ）材料と組み合わされた金属（導電性）材料の存在のため、接合層２０と同じである。
【００３１】
ヒーター装置１０のある様相は、電気ワイヤー１６Ａ、１６Ｂが導電性層Ｌと接触することを可能なように導電性層Ｌが溝１４Ａ、１４Ｂへと十分な距離延びることである。一実施形態において、図１に示すように、ワイヤー１６Ａ、１６Ｂは、締まりばめを少なくとも部分的に作り出すような態様で溝１４Ａ、１４Ｂ内に配置される。あるいは、又は締まりばめに加えて、ワイヤー１６Ａ、１６Ｂは、熱圧縮溶接を用いて溝１４Ａ、１４Ｂ内の所定の位置に保持され得る。電流のいかなる途絶をも回避すると共に、ワイヤーと接合層との間の接触の信頼性を高めるため、ワイヤーと接合層間の接触は無はんだ接触であることが好ましい。
【００３２】
別の実施形態において、図２に示すように、電気ワイヤー１６Ａ、１６Ｂは、ヒーター２２とは反対側の基体１２の側面に沿って、溝１４Ａ、１４Ｂに対し直交しかつ隣接して配置される。この実施形態において、導電性層Ｌとワイヤー１６Ａ、１６Ｂ間に電気的接触がなされるように、導電性層Ｌは、溝１４Ａ、１４Ｂを完全に通って延びるか又は溝１４Ａ、１４Ｂと一体である。
【００３３】
別の実施形態において、図３に示すように、基体１２は溝を含まない。二つのワイヤー１６Ａ、１６Ｂは、基体１２の低側面に沿って配置され、基体軸線ＳAに対し実質的に直交する。図２の実施形態のように、導電性層Ｌは、ワイヤー１６Ａ、１６Ｂと導電性層Ｌ間に電気的接触を可能にする態様で基体の両端に沿って延び、又は基体と一体である。
【００３４】
更に別の実施形態において、溝１４Ａ、１４Ｂは、金属材料等の導電性材料でコーティングされ得、これは、電流が電気ワイヤー１６Ａ、１６Ｂから該金属材料を通って導電性層Ｌへと流れることを可能にする。
【００３５】
図３の実施形態において、金属材料は、ワイヤー１６Ａ、１６Ｂに隣接して配置され得、また、基体を通って延びるか、又は基体の一部に沿ってワイヤーから導電性層Ｌへと延び得る。この実施形態において、電気ワイヤー１６Ａ、１６Ｂは、導電性層Ｌ又は金属材料に無はんだ結合で結合され得る。
【００３６】
次の点に留意すべきである。すなわち、図３に示す実施形態等のいくつかの実施形態において、ワイヤー１６Ａ、１６Ｂからヒーター２２を通って流れる電流は、基体１２の外側面に限定される通路に沿って進み得、基体１２を貫かない点である。
【００３７】
図示のように、ヒーター要素２２は、好ましくは、ヒーター要素軸線ＨAが基体軸線ＳAと平行となるように接合層２０に結合される。ヒーター要素２２は、電流が導電性層Ｌからヒーター要素２２を通って流れるように、ヒーター要素２２の軸線ＨAに沿う該要素の少なくとも各端に電気的接触を含む。好ましくは、ヒーター要素２２は、事前に設定された温度範囲又は操作（動作）範囲にわたって温度により単調に変化する比抵抗（抵抗率）を有する抵抗温度装置（ＲＴＤ）である。ヒーター要素２２は、化学的、分子的もしくは機械的結合、又は当技術分野で一般に利用可能な他の結合手段を用いて接合層２０に結合され得る。
【００３８】
ワイヤー１６Ａ、１６Ｂを通って入ってくる電流は、各ワイヤー１６Ａ、１６Ｂの一端に取り付けられるヒーターコントローラ２４の使用により変更され得る。いくつかの実施形態において、ヒーターコントローラ２４は、ユーザが設定する所望温度ＴDを表す入力信号に反応する。この実施形態において、ヒーターコントローラ２４は、ワイヤー１６Ａ、１６Ｂに対し電圧を印加し、ヒーター２２を通る電流を駆動する。事前に設定された電流がヒーター要素２２に流れる際、これはヒーター要素２２において抵抗ロスをもたらし、該ヒーターが温度Ｔに達するようにする。好ましくは、ヒーターコントローラ２４は、ヒーター要素２４の検出された抵抗に閉ループ態様で応答し、電流を加減制御してヒーター要素温度Ｔを、ユーザが設定した温度ＴDと実質的に同じ温度に維持する。この態様において、ユーザは、外科縫合糸溶接に最適な望ましい温度を、そのような溶接に使用される特定の材料に応じて設定することができる。ヒーターコントローラ２４は、好ましくはブリッジ回路を含み、ヒーター要素２２が該ブリッジ回路におけるアームを形成する。別の実施形態において、温度ＴDは一定であり得、又は時間と共に変化し得る。
【００３９】
種々の実施形態において、ワイヤー及びヒーターを通って進行する電流の通路の少なくとも一部は、当分野に知られている適切な方法を用いて絶縁（誘電体）コーティングで覆われ得る。
【００４０】
図４ａに示すように、一実施形態において、二つのヒーター１００Ａ、１００Ｂが熱溶接をもたらすために使用される。各ヒーター１００Ａ、１００Ｂは、上述したタイプのものであり得る。いくつかの実施形態において、各ヒーター１００Ａ、１００Ｂは、熱を発生させると同時に温度を感知し得る。ヒーター１００Ａ、１００Ｂは交互に操作され（例えば、制御ユニット１１０によって制御され）、ここで各ヒーターは、典型的な応用例おいて、約１０秒までの時間、例えば３秒間にわたる総操作に対し、それぞれオンが２０ミリ秒でかつオフが２０ミリ秒である。図４ｂは、二つのヒーター（「ヒーターＡ」及び「ヒーターＢ」）のこの交互操作を例示し、これらは、交互繰り返し間隔ｔ1・・・ｔnの間、オンとオフが切り換えられる。更なる実施形態において、二つを上回るヒーターが使用され得る。該ヒーターは、順次又は熱溶接をもたらす他の適切なパターンで動作し得る。
【００４１】
上述した一つ又は複数の技術又は技術のいかなる部分（例えば、温度検出／制御）も、コンピュータハードウェアもしくはソフトウェア又はこれら両方の組合せによって実行され得る。該方法は、ここに記述した方法及び図面に従う標準プログラミング技術を用いたコンピュータプログラムで実行され得る。プログラムコードは、ここに記述した機能を実行する入力データに適用され、出力情報を生成する。該出力情報は、一つ又は複数の出力装置、例えばディスプレイモニタ等に適用される。各プログラムは、コンピュータシステムと対話するための高レベル手続きプログラミング言語又はオブジェクト指向プログラミング言語で実現され得る。しかしながら、プログラムは、所望によりアセンブリ又は機械語で実現され得る。いずれの場合も、言語は、コンパイル型又はインタープリタ型言語であり得る。更に、プログラムは、その目的のために事前にプログラムされた専用集積回路で実行可能である。
【００４２】
そのような各コンピュータプログラムは、好ましくは、汎用又は専用プログラマブルコンピュータによって読取り可能な記録媒体又は記録デバイス（例えば、ＲＯＭもしくは磁気ディスケット）に格納され、そこに記述された手順を実行するために記録媒体又は記録デバイスがコンピュータによって読み取られた際に、コンピュータを構成して動作させる。コンピュータプログラムはまた、プログラム実行中にキャッシュ又はメインメモリに存在することができる。該分析方法は、コンピュータプログラムにより構成されるコンピュータ可読記憶媒体として実現され得る。ここで、記録媒体は、ここに記述した機能を実行するため、コンピュータを特定の事前に設定された態様で動作させるように構成される。
【００４３】
本開示は、その精神又は本質的特性から逸脱することなく、他の特定の形態に組み込まれ得る。そのため、本実施形態は、あらゆる点で例示的なものであって限定的なものではないと考えられるべきであり、本開示の範囲は、上述した説明ではなく特許請求の範囲によって示される。従って、特許請求の範囲の均等の意味及び範囲内に入るすべての変更は、特許請求の範囲に含まれることが企図される。
【符号の説明】
【００４４】
１０  ヒーター装置
１２  基体
１４Ａ、１４Ｂ  凹溝
１６Ａ、１６Ｂ  ワイヤー
１８  ヒーター支持面
２０  接合層
２２  ヒーター要素
２４  ヒーターコントローラ
Ｌ  導電性層
ＳA  基体軸線
ＨA  ヒーター要素の軸線
【図１】
0005425638.tif 000002
【図２】
0005425638.tif 000003
【図３】
0005425638.tif 000004
【図４ａ】
0005425638.tif 000005
【図４ｂ】
0005425638.tif 000006