(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の発光点を有する光源と、
入力されたデータを処理して画像データを作成する画像処理手段と、
前記光源を前記画像データに基づいて発光駆動する駆動手段と、
前記光源から出力された複数の光ビームを回転多面鏡によって主走査方向に偏向する偏向手段と、を備え、
副走査方向に回転する感光体に対して光ビームを副走査方向に位置差を有して主走査方向に照射する光ビーム走査光学装置において、
前記複数の発光点の数をｎ（ｎ≧２）、前記感光体上で隣接する光ビームの副走査方向の間隔をｄ、前記回転多面鏡による１走査の時間で前記感光体が副走査方向に移動する量をＬとしたとき、Ｌ＝ｎｄ／ｋ（ｋはｎと互いに素である２以上の自然数）の関係にあり、
前記画像処理手段はスクリーンパターンを用いた画像データを生成し、
前記感光体の移動速度を変更することなく、前記回転多面鏡の回転速度を微調整する際に、前記回転多面鏡の回転速度、及び、前記スクリーンパターンが形成する直線と光ビームの走査方向とのなす角度に基づいて、光ビームが前記直線に沿うように主走査方向の画像書出しタイミングを変更すること、
を特徴とする光ビーム走査光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ビーム走査光学装置、特に、複写機やプリンタなどの電子写真法による画像形成装置に搭載される光ビーム走査光学装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、この種の光ビーム走査光学装置の分野においては、画像形成の高速化、高精細化に対応するために、副走査方向に異なる位置で発光する複数の発光点を有する光源、例えば、ＶＣＳＥＬ（面発光型半導体レーザ）が用いられている。このマルチビーム方式では、複数の発光点を近接させる必要があり、現在では１０μｍ程度まで近接させた半導体レーザが試作されている。しかしながら、このような半導体レーザを用いたとしても、感光体上の副走査方向のビームピッチを要求されている高解像度と同等とするにはまだ不足している。これを補うための手段として、飛び越し走査により副走査方向の隙間を埋めていく方式が提案されている。
【０００３】
ここで、感光体上のビーム間隔を走査ライン間隔と同じにした隣接走査の一例を図９に示し、感光体上のビーム間隔を走査ライン間隔より大きくした飛び越し走査を図１０に示す。
【０００４】
図９では４本のレーザビームＬ１〜Ｌ４によって隣接走査を行っており、図１０では同じく４本のレーザビームＬ１〜Ｌ４によって飛び越し走査を行っている。ビーム本数をｎ、感光体上の副走査方向Ｚのビーム間隔をｄ、走査ピッチをｐとすると、１回の主走査で副走査する距離Ｌは、Ｌ＝ｎｄ／ｋ（ｋとｎは互いに素の整数）となっている。
【０００５】
図９に示す隣接走査では、感光体上での副走査方向Ｚのビーム間隔ｄは、走査ピッチｐと同じに調整されている。１回の主走査ごとに４ｄだけ副走査が行われるので、１走査において４本のビームで４本のラインが同時に描かれる。即ち、１回目の走査でビームＬ１により第１走査ラインが描かれ、ビームＬ２により第２走査ラインが描かれ、ビームＬ３により第３走査ラインが描かれ、ビームＬ４により第４走査ラインが描かれる。２回目の走査でビームＬ１により第５走査ラインが描かれ、ビームＬ２により第６走査ラインが描かれ、ビームＬ３により第７走査ラインが描かれ、ビームＬ４により第８走査ラインが描かれる。
【０００６】
図１０に示す飛び越し走査では、感光体上の副走査方向Ｚのビーム間隔ｄは走査ピッチｐの５倍（ｄ＝５ｐ）に調整されている。ここで、ビーム間隔ｄを走査ピッチｐで割った自然数ｉを飛び越し走査周期と定義する。ここでは、飛び越し走査周期ｉは５である。なお、ｉ＝１の場合は図９に示す隣接走査となる。
【０００７】
ｉ＝５の飛び越し走査では、１回目の走査でビームＬ４により第４走査ラインが描かれ、２回目の走査でビームＬ４により第８走査ラインとビームＬ３により第３走査ラインとが描かれ、３回目の走査でビームＬ４により第１２走査ラインとビームＬ３により第７走査ラインとビームＬ２により第２走査ラインが描かれ、４回目の走査でビームＬ４により第１６走査ラインとビームＬ３により第１１走査ラインとビームＬ２により第６走査ラインとビームＬ１により第１走査ラインが描かれる。即ち、各回の走査では副走査方向Ｚに隙間が生じるのであるが、その走査の前後の走査によってその間隔を埋めていくことにより、全体としては隙間なく走査が行われる。
【０００８】
ところで、印字した画像の倍率がずれることがある。その要因としては、両面印字時には片面印字するごとに定着器によりトナーを加熱して用紙に定着させるので、定着器による加熱で用紙が伸び縮みすることが挙げられる。この場合は、両面印字の表面と裏面で印字した画像の倍率がずれることになる。また、印字する用紙の種類や厚みの差による通紙速度のずれにより発生する場合もある。このような副走査方向Ｚの倍率ずれを、ポリゴンミラーの回転速度を微調整することにより補正することは従来から知られている。
【０００９】
前記飛び越し走査と副走査方向Ｚの倍率補正をポリゴンミラーの回転速度の微調整により行う場合の問題点について以下に説明する。
【００１０】
４本のビームで隣接走査する際に、図１１（Ａ）は副走査方向Ｚの倍率補正を行わない場合、図１１（Ｂ）はポリゴンミラーの回転速度を上昇させて副走査方向Ｚの倍率補正を行った場合、図１１（Ｃ）はポリゴンミラーの回転速度を減少させて副走査方向Ｚの倍率補正を行った場合をそれぞれ示している。同様に、ビーム数ｎ＝４、走査周期ｉ＝５で飛び越し走査する際に、図１２（Ａ）は副走査方向Ｚの倍率補正を行わない場合、図１２（Ｂ）はポリゴンミラーの回転速度を上昇させて副走査方向Ｚの倍率補正を行った場合、図１２（Ｃ）はポリゴンミラーの回転速度を減少させて副走査方向Ｚの倍率補正を行った場合をそれぞれ示している。
【００１１】
図１１（Ａ）では、副走査方向Ｚの倍率補正を行っていない。そのため、ビームＬ１とＬ２、Ｌ２とＬ３、Ｌ３とＬ４、Ｌ４とＬ１の間隔は、それぞれ、同じ間隔ｐ０である。図１１（Ｂ）ではポリゴンミラーの回転速度を上昇させているため、ビームＬ４とＬ１との間隔ｐ１はｐ０より縮まっており（ｐ１＜ｐ０）、ビームＬ１とＬ２、Ｌ２とＬ３、Ｌ３とＬ４の間隔は光学系により固定されているためにｐ０である。副走査方向Ｚの倍率補正量をｘ％とすると、そのずれ量は、間隔ｐ１に関して、ｐ１−ｐ０＝４×ｐ０×ｘ％となる。同様に、図１１（Ｃ）ではポリゴンミラーの回転速度を減少させているため、ビームＬ４とＬ１との間隔ｐ２はｐ０より広くなり、ビームＬ１とＬ２、Ｌ２とＬ３、Ｌ３とＬ４の間隔は光学系により固定されているためにｐ０である。
【００１２】
次に、飛び越し走査の場合を説明する。図１２（Ａ）では、副走査方向Ｚの倍率補正を行っていない。そのため、ビームＬ１とＬ２、Ｌ２とＬ３、Ｌ３とＬ４、Ｌ４とＬ１の間隔は、それぞれ、同じ間隔ｐ０である。図１２（Ｂ）ではポリゴンミラーの回転速度を上昇させており、ビームＬ４による走査の１ラインの後にビームＬ３による走査が行われるため、その間隔ｐ３は広くなる（ｐ３＞ｐ０）。同様に、ビームＬ３とＬ２、Ｌ２とＬ１との間隔も広くなる。ビームｐ４とＬ１との間隔ｐ４は、ビームＬ１のラインが先に走査されてからビームＬ４のラインが走査されるため狭くなる（ｐ４＜ｐ０）。副走査方向Ｚの倍率補正量をｘ％とすると、そのずれ量は、間隔ｐ３に関して、ｐ３−ｐ０＝４×ｐ０×ｘ％となり、間隔ｐ４に関して、ｐ４−ｐ０＝４×ｐ０×ｘ％×４となる。同様に、図１２（Ｃ）ではポリゴンミラーの回転速度を減少させているため、ビームＬ４とＬ１との間隔ｐ６はｐ０より広くなり（ｐ６＞ｐ０）、ビームＬ１とＬ２、Ｌ２とＬ３、Ｌ３とＬ４の間隔ｐ５は狭くなる（ｐ５＜ｐ０）。
【００１３】
前述したように、隣接走査と比較して飛び越し走査の場合、隣接するラインを異なる偏向面での走査によって行うため、副走査方向Ｚの倍率補正の影響を強く受け、同一の補正量に対して副走査方向Ｚのビーム間隔のずれは大きくなる。図１１及び図１２でのビームＬ４とＬ１との間隔のずれ量は、隣接走査の場合と比較して飛び越し走査では４倍となっており、その他のラインでも隣接走査では変化していないビームＬ１とＬ２、Ｌ２とＬ３、Ｌ３とＬ４の間隔が飛び越し走査では変動している。
【００１４】
前述したビーム間隔のずれは一定の周期（図１２では４ライン周期）で発生し、特に、網点や画像処理の周期的なパターンと干渉し、モアレや筋などの画像劣化が発生するという問題点がある。
【００１５】
以上の問題点に対して、例えば、特許文献１には、ビーム数をｎ、走査線間隔をｐとした場合に、（１／（ｎ・ｐ）≧４ｌｉｎｅ  ｐａｉｒｓ／ｍｍ）とすることにより、画像の空間周波数が高くなるように設定し、ビーム間隔のずれにより発生するモアレや筋を人間の眼の画像分解能以上に設定することが記載されている。また、特許文献２には、ｎ個の発光源のうち副走査方向Ｚの最下流に位置する発光点が走査するラインを始点として網点を形成することにより、クラスターが発生した場合でも副走査速度の速度誤差によって生じる網点面積の変動を小さくすることが記載されている。
【００１６】
ところが、飛び越し走査でポリゴンミラーの回転速度を微調整して副走査方向Ｚの倍率を補正する場合、ビームの位置ずれと画像処理パターンとが干渉し、画像にむらが発生するという問題点がある。前記特許文献１，２はその対策でもあるが、ビーム数と飛び越し周期に制限を設けたり、網点でしか対応できていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１７】
【特許文献１】特許第３２３７４５２号明細書
【特許文献２】特開平５−２９４００３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
そこで、本発明の目的は、複数のビームによる飛び越し走査において、副走査方向の倍率補正を回転多面鏡の回転速度を微調整して行う場合にあっても、ビームの位置ずれと画像処理手段で用いられるスクリーンパターンとの干渉を抑制できる光ビーム走査光学装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
本発明の一形態である光ビーム走査光学装置は、
複数の発光点を有する光源と、
入力されたデータを処理して画像データを作成する画像処理手段と、
前記光源を前記画像データに基づいて発光駆動する駆動手段と、
前記光源から出力された複数の光ビームを回転多面鏡によって主走査方向に偏向する偏向手段と、を備え、
副走査方向に回転する感光体に対して光ビームを副走査方向に位置差を有して主走査方向に照射する光ビーム走査光学装置において、
前記複数の発光点の数をｎ（ｎ≧２）、前記感光体上で隣接する光ビームの副走査方向の間隔をｄ、前記回転多面鏡による１走査の時間で前記感光体が副走査方向に移動する量をＬとしたとき、Ｌ＝ｎｄ／ｋ（ｋはｎと互いに素である２以上の自然数）の関係にあり、
前記画像処理手段はスクリーンパターンを用いた画像データを生成し、
前記感光体の移動速度を変更することなく、前記回転多面鏡の回転速度を微調整する際に、前記回転多面鏡の回転速度、及び、前記スクリーンパターンが形成する直線と光ビームの走査方向とのなす角度に基づいて、光ビームが前記直線に沿うように主走査方向の画像書出しタイミングを変更すること、
を特徴とする。
【００２２】
前記一形態である光ビーム走査光学装置においては、副走査方向の倍率補正を回転多面鏡の回転速度を微調整して行う場合に、回転多面鏡の回転速度とスクリーンパターンが形成する直線と光ビームの走査方向とのなす角度に基づいて、光ビームが前記直線に沿うように主走査方向の画像書出しタイミングを変更することにより、ビームの副走査方向のずれ量とスクリーンパターンとの干渉が抑制される。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、複数のビームによる飛び越し走査において、副走査方向の倍率補正を回転多面鏡の回転速度を微調整して行う場合にあっても、光ビームのずれ量と画像処理手段で用いられるスクリーンパターンとの干渉を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明に係る光ビーム走査光学装置を搭載した画像形成装置を示す概略構成図である。
【図２】前記光ビーム走査光学装置を示す平面図である。
【図３】前記光ビーム走査光学装置の制御部を示すブロック図である。
【図４】第１実施例における飛び越し走査のビームと画像処理パターンとの関係を示す説明図である。
【図５】第１実施例における制御手順を示すフローチャート図である。
【図６】第１実施例における変更後の画像処理パターンの一例を示すチャート図である。
【図７】第１実施例における変更後の画像処理パターンを概略的に示す説明図である。
【図８】第２実施例におけるビーム位置の変更例を示す説明図である。
【図９】隣接走査の一例を示す説明図である。
【図１０】飛び越し走査の一例を示す説明図である。
【図１１】図９に示す隣接走査において、（Ａ）は副走査方向の倍率補正なしの場合、（Ｂ）はポリゴンミラーの回転速度を上昇させて副走査方向の倍率補正を行った場合、（Ｃ）はポリゴンミラーの回転速度を減少させて副走査方向の倍率補正を行った場合の説明図である。
【図１２】図１０に示す飛び越し走査において、（Ａ）は副走査方向の倍率補正なしの場合、（Ｂ）はポリゴンミラーの回転速度を上昇させて副走査方向の倍率補正を行った場合、（Ｃ）はポリゴンミラーの回転速度を減少させて副走査方向の倍率補正を行った場合の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明に係る光ビーム走査光学装置の実施例について、添付図面を参照して説明する。なお、各図において同じ部材、部分を示す符号は共通して用いている。
【００２６】
（画像形成装置の概略構成、図１参照）
まず、本発明に係る光ビーム走査光学装置が搭載される画像形成装置について、その概略構成を図１を参照して説明する。この画像形成装置は、電子写真方式によるカラープリンタであって、いわゆるタンデム方式で４色（Ｙ：イエロー、Ｍ：マゼンタ、Ｃ：シアン、Ｋ：ブラック）の画像を形成するように構成したものである。画像は、各画像形成ステーション１０１で形成され、中間転写ベルト１１２上で合成される。なお、図１において、参照数字に付されているＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋの文字はそれぞれイエロー、マゼンタ、シアン、ブラック用の部材であることを意味している。
【００２７】
各画像形成ステーション１０１の概略を説明すると、感光体ドラム１０２、光ビーム走査光学装置１、現像器１０４などを含む。各光ビーム走査光学装置１から放射された光ビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫが各感光体ドラム１０２を照射し、各色の画像を形成する。一方、画像形成ステーション１０１の直下には中間転写ベルト１１２がローラ１１３，１１４，１１５にて無端状に張り渡され、矢印Ａ方向に回転駆動され、駆動ローラ１１３を設置した部分であって中間転写ベルト１１２に対向する部分（２次転写部）には２次転写ローラ１１６が配置されている。また、画像形成装置の下段には、積載されている用紙を１枚ずつ給紙する自動給紙部１３０が設置されている。
【００２８】
画像データは図示しない画像読取り装置（スキャナ）あるいはコンピュータなどからＹＭＣＫごとの画像データとして画素クロック生成回路３４（図３参照）に入力され、そこで生成された駆動用の画像データに基づいて光ビーム走査光学装置１が駆動され、それぞれの感光体ドラム１０２上に静電潜像が形成され、その後現像される。このような電子写真プロセスは周知であり、その説明は省略する。
【００２９】
各感光体ドラム１０２上に形成されたトナー画像は、矢印Ａ方向に回転駆動される中間転写ベルト１１２上に１次転写チャージャ１０３から付与される電界にて順次１次転写され、４色の画像が合成される。一方、用紙は１枚ずつ給紙部１３０から上方に給紙され、２次転写部で転写ローラ１１６から付与される電界にて中間転写ベルト１１２から合成画像が２次転写される。その後、用紙は図示しない定着装置に搬送されてトナーの加熱定着が施され、画像形成装置の上面部に排出される。
【００３０】
２次転写部の直前には給紙された用紙を検出するためのＴＯＤセンサ１０６が設置され、用紙と中間転写ベルト１１２上の画像との同期をとっている。また、中間転写ベルト１１２上に形成されたレジスト補正用トナーパターンを検出するためのレジストセンサ１０５が設置されている。ベルト１１２上に各画像形成ステーション１０１ごとにレジスト補正用トナーパターンを形成し、該トナーパターンをセンサ１０５で検出することで、各光ビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫの発光タイミングを調整し、ＹＭＣＫの画像がベルト１１２上で正確に合成されるようにしている。
【００３１】
（光ビーム走査光学装置、図２参照）
次に、光ビーム走査光学装置１について説明する。図２に示すように、それぞれの光ビーム走査光学装置１は、光源部と、ポリゴンミラー４を含む走査部とで構成されている。光源部は、半導体レーザアレイ２（以下、ＬＤアレイとも記す）と、コリメータレンズ３と、スリット板８とで構成されている。走査部は、主走査同期信号を出力するための同期信号検出センサ５と、走査レンズ６ａ，６ｂと、折返しミラー７とで構成されている。ポリゴンミラー４は駆動部１１（図３参照）に入力される駆動信号に基づいて所定の速度で回転駆動される。
【００３２】
ＬＤアレイ２は、副走査方向Ｚに異なる位置で発光する四つの発光点を有するもので、各発光点から放射されたレーザビームは、コリメータレンズ３によって略平行光とされ、ポリゴンミラー４の各反射面にて等角速度で主走査方向Ｙに偏向／走査され、走査レンズ６ａ，６ｂを透過し、折返しミラー７で反射して感光体ドラム１０２上で結像する。このＹ方向の主走査と感光体ドラム１０２の回転による副走査とで感光体ドラム１０２上に２次元の静電潜像が形成されていく。
【００３３】
走査レンズ６ａ，６ｂは、ポリゴンミラー４で等角速度に偏向／走査された光ビームを主走査方向Ｙに等速度に補正するｆθ特性、及び、光ビームを感光体ドラム１０２上で結像させる結像特性を有している。
【００３４】
（光ビーム走査光学装置の制御部、図３参照）
各光ビーム走査光学装置１は図３に示す制御部によって制御される。画素クロック生成回路３４では各発光点に対応したデータクロックＤＣＫａ〜ＤＣＫｄを各変調回路３５ａ〜３５ｄに供給する。変調回路３５ａ〜３５ｄにおいて、各画像データＤａ〜ＤｄとデータクロックＤＣＫａ〜ＤＣＫｄとに基づいた信号が生成される。変調回路３５ａ〜３５ｄから出力された信号は、レーザ駆動回路１０ａ〜１０ｄを介してＬＤアレイ２の各発光点に供給され、レーザビームが出力される。
【００３５】
レーザ駆動回路１０ａ〜１０ｄは、水平及び垂直有効期間のみで駆動状態になるようにＣＰＵ３２からの制御信号で個別に駆動される。さらに、レーザ駆動回路１０ａ〜１０ｄは、ＬＤアレイ２の各発光点から出力された光量をモニタするフォトダイオード１２からのモニタ検出値信号がフィードバックされ、各発光点の発光光量が所定値となるようにＬＤアレイ２の各発光点へ供給する電流を制御する。
【００３６】
ＬＤアレイ２から出力されたレーザビームは、前述のごとく、ポリゴンミラー４によって偏向され、感光体ドラム１０２上を走査／露光する。本実施例では、ポリゴンミラー４の１面での走査による４ビームによる描画を１走査と称する。偏向された光ビームの主走査方向Ｙの書込み位置は、走査領域の先端側に配置された同期信号検出用の光センサ５によって検出されるＳＯＳ信号に基づいて制御される。即ち、センサ５のレーザビーム検出信号は、ＣＰＵ３２を経由して画素クロック生成回路３４に供給され、ＬＤアレイ２の各発光点による画像の書込みタイミングが制御される。ＣＰＵ３２は記憶手段３１を備え、画素クロック生成回路３４には水晶発振器３３が接続されている。
【００３７】
（第１実施例、図４〜図７参照）
隣接走査及び飛び越し走査は図９及び図１０に示したとおりであり、ここでは、飛び越し走査と画像処理パターンの関係の一例を示す。図４に示す画像処理パターン８０は、中間調の濃度画像の再現性を改善するために、一定の間隔の直線Ｄ１となるようにドットの配置を制御している。直線Ｄ１はビームＬ１〜Ｌ４により描画されるドットを配列することにより形成されている。
【００３８】
そのため、ポリゴンミラー４の回転速度を増減させて副走査方向Ｚの倍率補正を行った場合、副走査方向Ｚのビームの位置ずれがビームＬ１，Ｌ２，Ｌ３，Ｌ４とそれぞれ異なったり、形成される直線が周期的にずれ、隣の直線との間隔が周期的に変動する。その結果が画像の粗密として周期的なむらや筋として見えてしまう。
【００３９】
そこで、本第１実施例では、複数の発光点の数をｎ、感光体ドラム１０２上で隣接するビームの副走査方向Ｚの間隔をｄ、ポリゴンミラー４による１走査の時間で感光体ドラム１０２が副走査方向Ｚに移動する量をＬとしたとき、Ｌ＝ｎｄ／ｋ（ｋはｎと互いに素である２以上の自然数）の関係にあり、副走査方向Ｚの倍率を変更に際して、ポリゴンミラー４の回転速度を微調整する場合、画像形成手段をビームの副走査方向Ｚのずれ量に対して干渉が発生しにくいものに変更する。
【００４０】
前記ＣＰＵ３２による制御手順は、図５に示すように、まず、画像処理パターンを選択し（ステップＳ１）、副走査方向Ｚの倍率補正量、補正方向（補正が増加傾向か減少方向か）を設定する（ステップＳ２）。そして、選択された画像処理パターンと補正量及び補正方向から画像処理パターンとの干渉の発生を判断する（ステップＳ３）。干渉が有ると判断された場合には、画像処理パターンを変更し（ステップＳ４）、印字を行う（ステップＳ６）。これにてビームの副走査方向Ｚのずれと画像処理パターンとの干渉の影響が抑制される。干渉が無ければ、画像処理パターンを変更することなく（ステップＳ５）、そのまま印字を行う（ステップＳ６）。
【００４１】
図６に変更後の画像処理パターンの一例を示す。この画像処理パターン８１は、直線Ｄ２の主走査方向Ｙに対する角度が、変更前の画像処理パターン８０（図４参照）における直線Ｄ１の主走査方向Ｙに対する角度よりも大きくなっている。これにて、副走査方向Ｚの倍率補正に基づいて発生するビームのずれ量に対して直線Ｄ２のずれ量の感度が小さくなり、干渉の影響が低減される。つまり、画像形成手段がスクリーンパターンである場合、図７に示すように、変更前のスクリーンパターンの形成する直線Ｄ１と主走査方向Ｙとのなす角度θ１よりも、直線Ｄ２と主走査方向Ｙとのなす角度θ２が大きくなる方向にスクリーンパターンを変更する。
【００４２】
（第２実施例、図８参照）
第２実施例では、複数の発光点の数をｎ、感光体ドラム１０２上で隣接するビームの副走査方向Ｚの間隔をｄ、ポリゴンミラー４による１走査の時間で感光体ドラム１０２が副走査方向Ｚに移動する量をＬとしたとき、Ｌ＝ｎｄ／ｋ（ｋはｎと互いに素である２以上の自然数）の関係にあり、感光体ドラム１０２の移動速度を調整することなく、ポリゴンミラー４の回転速度を微調整する際に、ポリゴンミラー４の回転速度とスクリーンパターンが形成する直線Ｄの角度に基づいて、ビームが直線Ｄに沿うように主走査方向Ｙの画像書出しタイミングを変更する。
【００４３】
第２実施例である補正方法を図８に示す。ＬＢａが副走査方向Ｚにずれの無いビームの理想位置であり、このビームが副走査方向Ｚの倍率補正によりＬＢｂの位置にずれたとする。このずれ量はΔである。スクリーンパターンが形成する直線Ｄの角度はθである。そこで、ＬＢｂの位置にずれているビームを、直線Ｄ上に位置するように、画像書出しタイミングを変更する。
【００４４】
副走査方向Ｚの倍率補正時のずれ量Δは、副走査方向Ｚの倍率補正量とビーム本数、飛び越し走査周期から各ビームごとに計算できる。直線Ｄの角度θも、選択された画像処理パターンによって決まっている。ここでの主走査方向Ｙの補正量はΔ／ｔａｎθである。このように、ビームの副走査方向Ｚのずれに対して主走査方向Ｙのビーム位置を補正することにより、画像処理パターンによって形成される直線Ｄのずれ量を抑制することが可能になる。
【００４５】
（他の実施例）
なお、本発明に係る光ビーム走査光学装置は前記実施例に限定するものではなく、その要旨の範囲内で種々に変更できる。
【００４６】
特に、複数の発光点は一つのＬＤアレイに形成されている必要はなく、単独の発光素子を集合させて光源としてもよい。また、光源に含まれる発光点の数は４に限定されることはない。さらに、光ビーム走査光学装置としては、前記実施例に示したように、４色を四つのポリゴンミラーにより個別に走査して感光体を露光する以外に、一つのポリゴンミラーで４色のビームを走査するものであってもよい。
【産業上の利用可能性】
【００４７】
以上のように、本発明は、光ビーム走査光学装置に有用であり、特に、ビームの位置ずれと画像処理手段との干渉を抑制できる点で優れている。
【符号の説明】
【００４８】
１…光ビーム走査光学装置
２…ＬＤアレイ
４…ポリゴンミラー
１０ａ〜１０ｄ…レーザ駆動回路
３２…ＣＰＵ
１０２…感光体ドラム
Ｌ１〜Ｌ４…レーザビーム
８０，８１…画像処理パターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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