(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物を収納する一つの処理室と、
前記処理室において少なくともマイクロ波により対象とする被処理物を加熱するマイクロ波加熱機能とを有するマイクロ波加熱装置において、
前記処理室内にマイクロ波加熱機能を実行するための第一処理空間とこの第一処理空間よりもマイクロ波が少ない第二処理空間を配置し、
前記第二処理空間へのマイクロ波の伝搬を抑制するためのマイクロ波伝搬抑制手段を前記処理室の壁面に設け、
前記マイクロ波伝搬抑制手段は、前記第二処理空間を形成する前記処理室壁面に設けた開孔と、前記開孔を前記処理室の外側から覆う所定形状の溝部とで構成したマイクロ波加熱装置。
【請求項２】
前記マイクロ波伝搬抑制手段は、前記第二処理空間を形成する前記処理室壁面に複数配置した請求項１に記載のマイクロ波加熱装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、開閉扉を引き出すことで、被処理物を加熱処理する処理室から処理室外に引き出すことができるマイクロ波加熱装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来この種の引出し式のマイクロ波加熱装置として、引出し様式に関わるものや加熱手段の配設位置に関わるものがいろいろ提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
また、この種のマイクロ波加熱装置を冷蔵庫に組み込み、冷却装置と組合せて被処理物である食材を誘電加熱させながら冷却して凍結したり、凍結状態から解凍するものが提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００４】
また、マイクロ波の加熱を阻止させるためにマイクロ波を遮断する物質を付設したシートを備え、このシートで被処理物のマイクロ波加熱を阻止したい領域を覆うものがある（例えば、特許文献３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−１６４０９１号公報
【特許文献２】特開２００９−２２９０３７号公報
【特許文献３】特開平１０−０５６９８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、前記従来の特許文献１や特許文献２のマイクロ波加熱装置は処理室内に収納した被処理物を均一に加熱させるためのマイクロ波給電口の配置とか、マイクロ波を反射攪拌する手段を設け処理室内全体にマイクロ波を伝搬させるものであり、処理室内にはマイクロ波加熱処理を行うものだけが収納されることを前提としたものであった。
【０００７】
また、特許文献３は、シートがアタッチメントであり、処理都度、それを最適な場所に配設するわずらわしさがあった。
【０００８】
これに対しこの種の装置の構造である引き出し様式は、処理室の奥側に収納したものを引き出して容易に取り出すことが可能な構造であり、処理室内に多数の処理物を混在収納貯蔵することができる。たとえば、この種の装置を冷蔵庫に組み込む形態においては、処理室を冷凍空間として利用することで複数の冷凍食材を混在収納貯蔵させることになる。
【０００９】
このような状況下で、特定の被処理物を解凍処理する場合は、混在収納していた他の食材を取り出さなければ対象の被処理物の解凍処理がうまくできないし、また混在させたままで被処理物の食材を解凍処理しようとすると処理対象外の食材がマイクロ波により解凍処理が進行してしまう課題を有していた。
【００１０】
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、被処理物を収納する一つの処理室においてマイクロ波加熱機能を実行するための第一処理空間と第一処理空間よりマイクロ波の少ない第二処理空間を形成させて、一つの処理室に処理対象物と処理非対象物との複数の処理物を混在させたままで、所望の処理対象物をマイクロ波加熱処理するマイクロ波加熱装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記従来の課題を解決するために、本発明のマイクロ波加熱装置は、被処理物を収納する一つの処理室と、前記処理室において少なくともマイクロ波により対象とする被処理物を加熱するマイクロ波加熱機能とを有するマイクロ波加熱装置において、前記処理室内にマイクロ波加熱機能を実行するためにマイクロ波放射手段を有する第一処理空間と、この第一処理空間からのマイクロ波の伝搬を抑制するために第二処理室壁面に設けた開孔と、前記開孔を処理室の外側から覆う所定形状の溝部とで構成したマイクロ波伝搬抑制手段を設け、第一処理空間よりもマイクロ波を少なくした第二処理空間を形成する構成している。
【００１２】
この構成において処理室壁面に設けた開孔は開孔を覆う溝部の奥行き方向の形状に基くマイクロ波作用により開孔のインピーダンスが規定され、この開孔のインピーダンスを大きく（理想的には無限大）することができる。この大きなインピーダンスを有する開孔の存在によって処理室壁面に流れる高周波電流が遮断されるため、処理室空間を伝搬するマイクロ波は開孔の近傍に伝搬されにくくなる。この結果、第一処理空間から伝搬するマイクロ波は、開孔の存在により第二処理空間への伝搬が抑制され、第一処理空間よりもマイクロ波が少ない第二処理空間を形成させることができる。
【００１３】
この第二処理空間の存在により、第一処理空間において対象の被処理物をマイクロ波加熱処理しているときに第二処理空間に処理非対象の処理物を収納貯蔵させることができる。
【００１４】
これは、たとえば冷蔵庫に本装置を組み込んだ場合、第二処理空間に冷凍食材を収納貯蔵したままで、処理対象の食材をマイクロ波加熱処理でき、貯蔵食材を取り出す必要がない多大な利便性を提供することができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のマイクロ波加熱装置は、被処理物を収納する一つの処理室においてマイクロ波加熱機能を実行するための第一処理空間と第一処理空間よりマイクロ波の少ない第二処理空間を形成させたマイクロ波加熱装置としたものであり、第二処理空間に複数の処理物を貯蔵させたままで、第一処理空間において所望の被処理物をマイクロ波加熱処理でき、第二処理空間に貯蔵した食材を取り出す必要がない利便性を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施の形態１に関わるマイクロ波加熱装置を示す斜視図
【図２】本発明の実施の形態１に関わるマイクロ波加熱装置を示す主要断面図
【図３】本発明の実施の形態１に関わるマイクロ波加熱装置に使用可能な収納容器を示す斜視図
【図４】本発明の実施の形態１に関わるマイクロ波加熱装置に適用可能なマイクロ波伝搬抑制手段を示す構成図
【図５】本発明の実施の形態１に関わるマイクロ波加熱装置のマイクロ波作用に係る概略構成図
【図６】本発明の実施の形態２に関わるマイクロ波加熱装置を示す斜視図
【図７】本発明の実施の形態３に関わるマイクロ波加熱装置を示す主要断面図
【発明を実施するための形態】
【００１７】
第１の発明は、被処理物を収納する一つの処理室と、前記処理室において少なくともマイクロ波により対象とする被処理物を加熱するマイクロ波加熱機能とを有するマイクロ波加熱装置において、前記処理室内にマイクロ波加熱機能を実行するための第一処理空間と、この第一処理空間よりもマイクロ波が少ない第二処理空間を配置し、前記第二処理空間へのマイクロ波の伝搬を抑制するためのマイクロ波伝搬抑制手段を前記処理室の壁面に設け、前記マイクロ波伝搬抑制手段は、前記第二処理空間を形成する前記処理室壁面に設けた開孔と、前記開孔を前記処理室の外側から覆う所定形状の溝部とで構成したものであり、これにより第二処理空間の存在により、第一処理空間において対象の被処理物をマイクロ波加熱処理しているときに第二処理空間に処理非対象の処理物を収納貯蔵させることができる。
【００１８】
これは、たとえば冷蔵庫に本装置を組み込んだ場合、第二処理空間に冷凍食材を収納貯蔵したままで、処理対象の食材をマイクロ波加熱処理でき、貯蔵食材を取り出す必要がない多大な利便性を提供することができる。
また、処理室壁面に設けた開孔は開孔を覆う溝部の奥行き方向の形状に基くマイクロ波作用により開孔のインピーダンスが規定され、この開孔のインピーダンスを大きく（理想的には無限大）することができる。この大きなインピーダンスを有する開孔の存在によって処理室壁面に流れる高周波電流が遮断されるため、処理室空間を伝搬するマイクロ波は開孔の近傍に伝搬されにくくなる。この結果、第一処理空間から伝搬するマイクロ波は、開孔の存在により第二処理空間への伝搬が抑制され、第一処理空間よりもマイクロ波が少ない第二処理空間を形成させることができる。
この第二処理空間の存在により、第一処理空間において対象の被処理物をマイクロ波加熱処理しているときに第二処理空間に処理非対象の処理物を収納貯蔵させることができる。
【００２１】
第４の発明は、特に第１乃至第３の少なくとも一つの発明の第一処理空間は、マイクロ波放射手段を有し、収納容器が処理室に収納された状態において、マイクロ波加熱される被処理物の収納領域がマイクロ波放射手段に対面する構造としたものであり、第一処理空間に収納された被処理物に対面させた位置からマイクロ波を放射させるので、被処理物にマイクロ波エネルギを効率よく吸収させることで、マイクロ波発生手段の発生電力を最も効率よく被加熱物に供給させることができる。また被処理物に直接入射するマイクロ波を多くでき、被処理物での損失量を大きくし、処理室全体を伝搬するマイクロ波のエネルギ量を減少させることができ、マイクロ波伝搬抑制手段との相乗作用で、第二処理空間のマイクロ波を第一処理空間のマイクロ波に対してさらに少なくさせることができる。
【００２５】
第２の発明は、特に第５の発明のマイクロ波伝搬抑制手段は、第二処理空間を形成する処理室壁面に複数配置したものであり、マイクロ波伝搬抑制手段の配設場所を増すことで、第一処理空間のマイクロ波に対して第二処理空間のマイクロ波をさらに少なくさせることができる。
【００２８】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。尚、本実施の形態によって本発明が限定されるものではない。
【００２９】
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１に関わるマイクロ波加熱装置を示す斜視図、図２は、本発明の実施の形態１に関わるマイクロ波加熱装置を示す主要断面図、図３は、本発明の実施の形態１に関わるマイクロ波加熱装置に使用可能な収納容器を示す斜視図、図４は、本発明の実施の形態１に関わるマイクロ波加熱装置に適用可能なマイクロ波伝搬抑制手段を示す構成図、図５は、本発明の実施の形態１に関わるマイクロ波加熱装置のマイクロ波作用に係る概略構成図である。
【００３０】
図１〜図５において、本実施の形態のマイクロ波加熱装置は、被処理物を収納する一つの空間から構成した処理室１０、処理室１０に対して引出し様式によって開閉する開閉扉１１、その引出し操作をする開閉扉取っ手１１ａ、処理室１０に供給するマイクロ波を発生するマイクロ波発生手段１２、マイクロ波発生手段１２が発生したマイクロ波を処理室１０内に放射するマイクロ波放射手段１３、マイクロ波発生手段１２が発生したマイクロ波をマイクロ波放射手段入力部１３ａを介してマイクロ波放射手段１３に伝送する同軸伝送線路１４、マイクロ波発生手段１２の駆動電源１５、マイクロ波発生手段１２の出力側に配設した電力検出部１６、マイクロ波発生手段１２およびその駆動電源１５の動作を制御する制御部１７を備える。
【００３１】
開閉扉１１の内面（処理室１０側）は金属材料で構成し、閉成時に処理室１０の内壁面に対向する内面周縁に電波漏洩防止部（図示していない）を設けている。開閉扉１１の内面周縁が内接する処理室１０の壁面は、楕円形状の断面構成とし、電波漏洩防止部と処理室１０の内壁面との隙間は全周にわたってほぼ等間隙となるように構成している。
【００３２】
また、電波漏洩防止部の外周縁は、低誘電損失誘電材料からなるカバーを配設し、電波漏洩防止へ異物が入らないようにしている。
【００３３】
また開閉扉１１の内面には被処理物を収納載置する収納容器１８の底面の左右と奥側を下方から支持する金属材料からなる収納容器支持部１９（図１には左右２本のうち右側を示す）の一端を連接固定している。この収納容器支持部１９は電波漏洩防止部とともに樹脂材料で構成した開閉扉１１の本体に固定される。
【００３４】
収納容器１８は、内底に区分部１８ａを設け、２つの収納領域１８ｂ、１８ｃに区分している。収納領域１８ｂにはこの領域に置かれた処理物をマイクロ波加熱処理することを明示した図柄あるいは文言からなるマイクロ波処理物収納領域の明示１８ｄを設けている。
【００３５】
この収納容器１８を収納容器支持部１９に載置し、開閉扉１１を閉成した状態において、収納容器１８のマイクロ波処理物収納領域の明示１８ｄを設けた収納領域１８ｂが置かれた処理室１０内の空間を第一処理空間１０ａとし、第一処理空間１０ａ以外の処理室１０の空間を第二処理空間１０ｂとする。
【００３６】
そして、第一処理空間１０ａにおいてマイクロ波処理物収納領域１８ｂに対面する処理室１０の壁面（図２における処理室１０の上壁面）にマイクロ波放射手段１３を設けている。またマイクロ波放射手段１３が配設された処理室１０壁面と同一壁面の第二処理空間１０ｂには、マイクロ波放射手段１３に対する最短の位置にマイクロ波伝搬抑制手段２０を設けている。
【００３７】
このマイクロ波伝搬抑制手段２０は、処理室１０の壁面に設けた開孔２０ａとこの開孔２０ａを処理室１０の外側から覆う溝部２０ｂとで構成し、溝部２０ｂの形状を所定形状に構成することで開孔２０ａのインピーダンスが極めて大きい値（理想的には無限大）を採るように作用させている。
【００３８】
このマイクロ波伝搬抑制手段２０の詳細について、図４を参照して以下に説明する。
【００３９】
図４は、マイクロ波伝搬抑制手段２０の構成と作用を説明する図である。処理室１０の壁面に設けた開孔２０ａは、矩形形状とし、短い方の寸法Ｌａは５ｍｍから１５ｍｍ、長い方の寸法Ｌｂは８０ｍｍから１２０ｍｍの中から選択された寸法とする。また溝部２０ｂは略直方体形状とし、３辺の寸法はそれぞれ開孔２０ａの長い方の寸法Ｌｂ、使用するマイクロ波の周波数に依存し、そのマイクロ波が溝部２０ｂ内を伝送する際の伝送波長の略１／４の波長相当の寸法Ｌｃ、および１０ｍｍから２０ｍｍの値より選択される寸法とする。
【００４０】
このような各寸法の作用について以下に説明する。処理室１０の壁面に設けた開孔２０ａの寸法Ｌａは、処理室１０内を伝搬するマイクロ波が処理室１０内に形成したマイクロ波電界分布によって処理室１０の壁面を流れる高周波電流の流れを遮断させるように作用するもので、最低寸法として５ｍｍ以上が望ましく、１０ｍｍ程度が構成寸法として有効である。
【００４１】
開孔２０ａの寸法Ｌｂは、開孔２０ａから溝部２０ｂ内に入射したマイクロ波の伝搬波長を決定するものであり、マイクロ波発生手段１２の発振周波数帯として２４５０ＭＨｚ帯を採用した場合は、８０ｍｍから１波長未満の１２０ｍｍから選択する。この寸法を選択することで、溝部２０ｂの伝搬モードをＴＥ１０モードに規定させる。
【００４２】
溝部２０ｂの終端２０ｃから開孔２０ａに至る寸法Ｌｃは、９０度の電気長とする。これにより、終端２０ｃの短絡インピーダンス（Ｚ＝０）を起点して開孔２０ａのインピーダンスを極めて大きい値に設定させることができる。
【００４３】
溝部２０ｂ内のマイクロ波の伝送波長はマイクロ波工学において周知の関係式によって算出し、図４に図示したように溝部２０ｂ内空間の中央部を包絡した寸法Ｌｃが使用するマイクロ波の周波数に対して９０度電気長になるように構成する。たとえば、周波数が２４５０ＭＨｚ、Ｌｂを８０ｍｍとした場合、Ｌｃは約４７．５ｍｍとする。
【００４４】
次にマイクロ波発生手段１２について図５を用いて説明する。
【００４５】
マイクロ波発生手段１２は、周波数が可変制御されるマイクロ波発振器３０、マイクロ波発振器３０の出力を増幅する２段の増幅器３１、３２から構成し、その出力側に電力検出部１６を配した構成からなる。
【００４６】
そして、マイクロ波発生手段１２の出力は同軸伝送線路１４を介してマイクロ波放射手段１３に伝送され、処理室１０内に収納された被加熱物３３に供給される。
【００４７】
マイクロ波放射手段１３は、空気層を利用したいわゆるパッチアンテナ構成とし、処理室１０の左右方向の中央であって、収納容器１８に指定したマイクロ波処理物収納領域１８ｂの中心に対向する処理室１０の上壁面側に配設している。またマイクロ波放射手段１３は、低誘電損失材料から構成したアンテナカバー（図示していない）で覆っている。
【００４８】
また、開閉扉１１を閉成することで接点が導通するドアスイッチ（図示していない）を設けている。
【００４９】
次に以上の構成からなる本実施の形態のマイクロ波加熱装置の動作と作用について説明する。
【００５０】
処理室１０には、マイクロ波処理対象の被処理物のほかにマイクロ波処理非対象の処理物が第二処理空間１０ｂに位置づけされる収納容器１８のマイクロ波非処理物収納領域１８ｃに収納されていてもよい。このような状態において、被処理物をマイクロ波加熱処理を実行するときには、その被処理物を収納容器１８のマイクロ波処理物収納領域１８ｂに載置した後、開閉扉１１を閉成する。この閉成状態において被処理物はマイクロ波放射手段１３のほぼ直下に収納される。また閉成状態において、ドアスイッチ（図示していない）の接点が閉じられ制御部１７に電力供給が行われる。
【００５１】
そしてマイクロ波処理内容４０を入力すると制御部１７は、駆動電源１５を動作させてマイクロ波発生手段１２を動作スタンバイ状態にする。
【００５２】
その後、制御部１７は、マイクロ波発生手段１２の発振部３０に制御信号を送り、予め決めた周波数帯域の下限から上限に亘って所定の周波数ステップでもって発振周波数を変化させる。発振周波数をセットすることでマイクロ波発生手段１２は所定のマイクロ波信号を出力し、処理室１０内にそのマイクロ波が供給される。
【００５３】
このとき発振周波数のそれぞれの周波数に対して処理室１０からマイクロ波発生手段１２側に戻ってくるマイクロ波の反射電力を電力検出部１６が検出し、その検出信号が制御部１７に送られる。予め決めた周波数帯域の上限まで周波数を変化した後、制御部１７は、反射電力が最小となる発振周波数を選択し、その周波数を被処理物の処理周波数に設定し、発振部３０に制御信号を送る。この後、マイクロ波発生手段１２は、この処理周波数のマイクロ波を所定の時間の間、連続的あるいは間欠的に出力させて被処理物をマイクロ波加熱する。
【００５４】
処理室１０に供給されるマイクロ波は、マイクロ波放射手段１３から処理室１０内に放射され、処理室１０全体を伝搬しようとするが、マイクロ波伝搬抑制手段２０の構成要素である開孔２０ａの存在によって、マイクロ波は開孔２０ａから遠ざかる。これは、開孔２０ａのインピーダンスを極めて大きく構成したことにより、開孔２０ａを横切って流れようとする高周波電流の流れが阻止されるので、マイクロ波の伝搬の連続性が阻止されるためである。
【００５５】
この結果、処理室１０は、マイクロ波放射手段１３から放射されたマイクロ波を多く滞在させる第一処理空間１０ａと第一処理空間１０ａのマイクロ波よりも少ない第二処理空間１０ｂが形成され、第一処理空間１０ａに収納したマイクロ波加熱処理すべき被処理物には効率よくマイクロ波が吸収されてその被処理物の加熱が進む。また、第二処理空間１０ｂに収納貯蔵されたマイクロ波処理の非対象処理物には、ほとんどマイクロ波が吸収できず、処理室１０にマイクロ波を供給前の貯蔵状態とほぼ同様の貯蔵状態となる。
【００５６】
すなわち、第二処理空間１０ｂの存在により、第一処理空間１０ａにおいて対象の被処理物をマイクロ波加熱処理しているときに第二処理空間１０ｂに処理非対象の処理物を収納貯蔵させることができる。
【００５７】
これは、たとえば冷蔵庫に本装置を組み込んだ場合、第二処理空間に冷凍食材を収納貯蔵したままで、処理対象の食材をマイクロ波加熱処理でき、貯蔵食材を取り出す必要がない多大な利便性を提供することができる。
【００５８】
なお、マイクロ波発生手段１２の動作制御は、入力した条件あるいは規定した条件（温度、被処理物の重量に基く加熱時間など）が満たされることにより動作を停止して加熱を終了させてもよい。また、マイクロ波発生手段１２が動作中に、処理周波数の選択を適宜実行して、そのタイミングでの最適な処理周波数に周波数を再設定する制御を行ってもよい。
【００５９】
またマイクロ波放射手段１３は、空気層を用いたパッチアンテナとしている。これにより、処理室１０内でマイクロ波放射手段１３が占める空間を極力小さくできる。また、マイクロ波発生手段１２の出力側に設けた電力検出部１６とマイクロ波放射手段入力部１３ａとの間を接続する同軸伝送線路１４は、その伝送損失量を利用することで、処理室１０に供給するマイクロ波供給電力が１００％反射した場合でもマイクロ波発生手段１２側に戻ってくるマイクロ波電力量を規定以下にすることができる。たとえば、伝送損失が１．５ｄＢの同軸伝送線路１４を用いることで、マイクロ波発生手段１２の出力電力に対して、マイクロ波発生手段１２が受け取るマイクロ波反射電力は出力電力の約５０％となる。この作用を利用することで、マイクロ波発生手段１２には反射電力から保護するアイソレータなどの保護部品を削除でき、マイクロ波発生手段１２をコンパクトに構成できる。
【００６０】
処理室１０内へマイクロ波を放射するマイクロ波放射手段１３は、被処理物の収納位置を規定したマイクロ波処理物収納領域の明示１８ｄの中央に対向する位置としたことにより、被処理物に直接入射するマイクロ波を多くでき、被処理物での損失量を大きくし、処理室１０全体を伝搬するマイクロ波のエネルギ量を減少させることができ、マイクロ波伝搬抑制手段２０との相乗作用で、第二処理空間１０ｂのマイクロ波を第一処理空間１０ａのマイクロ波に対してさらに少なくさせることができる。
【００６１】
また収納容器１８は処理室に対して引出し様式によって出し入れされる構成を採用することにより、引出し様式とすることで処理室１０の奥行きが大きい形状の処理室１０に対しても処理物の収納と取り出しを容易に行うことができる。
【００６２】
（実施の形態２）
次に図６を用いて本発明の他の実施の形態のマイクロ波加熱装置について説明する。
【００６３】
図６が実施の形態１と相違する構成は、マイクロ波伝搬抑制手段を複数個設けた構成にある。
【００６４】
すなわち、図６において処理室１０の開閉扉１１に形成した第一処理空間にはマイクロ波放射手段入力部１３ａを介してマイクロ波放射手段（図示していない）を配し、開閉扉１１と反対側の処理室１０の奥側に形成した第二処理空間のマイクロ波放射手段が設けられた処理室壁面と同一壁面に二つのマイクロ波伝搬抑制手段５０、５１を設けている。このマイクロ波伝搬抑制手段５０、５１は実施の形態１の説明中にて記述した作用を呈するものであり、それぞれの構成要素である開孔（図示していない）のインピーダンスが極めて大きくなるように構成している。
【００６５】
そしてそれぞれの開孔は、マイクロ波放射手段入力部１３ａからほぼ等しい距離に直線状に配置している。またそれぞれの開孔の間隔Ｌｄは、使用するマイクロ波の波長の略１／４の間隔で設けている。すなわち、周波数帯域として２４５０ＭＨｚ帯を用いると間隔Ｌｄは約３０ｍｍで構成している。
【００６６】
この構成により、処理室１０内を伝搬するマイクロ波は、それぞれの開孔間の隙間の伝搬も抑制させているので、処理室１０のマイクロ波放射手段が設けられる壁面では第二処理空間側で流れようとする高周波電流をほぼ完全に遮断するので、第二処理空間へのマイクロ波の伝搬がさらに抑制され、第一処理空間のマイクロ波に対し第二処理空間のマイクロ波は実施の形態１よりもさらに少なくさせることができる。
【００６７】
（実施の形態３）
次に図７を用いて本発明のさらに他の実施の形態のマイクロ波加熱装置について説明する。図７が実施の形態１および実施の形態２と相違する構成は、マイクロ波伝搬抑制手段６０、６１を対向させて第二処理空間に設けた構成にある。
【００６８】
すなわち、図７において処理室１０の開閉扉１１に形成した第一処理空間１０ａにはマイクロ波放射手段１３を配し、開閉扉１１と反対側の処理室１０の奥側に形成した第二処理空間１０ｂのマイクロ波放射手段が設けられた処理室壁面と同一壁面に設けたマイクロ波伝搬手段６０を設けている。そしてこのマイクロ波伝搬手段６０の開孔６０ａに対向する位置の第二処理空間１０ｂの壁面に開孔６１ａを配しその開孔６１ａを第二処理空間１０ｂの外側から覆う溝部６１ｂを配する。このマイクロ波伝搬抑制手段６０、６１は実施の形態１の説明中にて記述した作用を呈するものであり、それぞれの構成要素である開孔（図示していない）のインピーダンスが極めて大きくなるように構成している。
【００６９】
この構成により、マイクロ波放射手段１３から放射され処理室１０内を伝搬するマイクロ波は、第二処理空間１０ｂの対向する壁面に設けたそれぞれの開孔により第二処理空間１０ｂを形成する対向した処理室壁面を流れようとする高周波電流を遮断するので、第二処理空間へのマイクロ波の伝搬がさらに抑制され、第一処理空間のマイクロ波に対し第二処理空間のマイクロ波は実施の形態１よりもさらに少なくさせることができる。
【００７０】
なお、上記の各実施の形態で説明したマイクロ波伝搬抑制手段は組合せで実施させてもよい。たとえば、対向する壁面にそれぞれ複数配設してもよい。また実施例では図示してない処理室壁面に設けてもよい。
【００７１】
また、マイクロ波放射手段は、第一処理空間１０ａの上壁面配置に限るものでなく、さ
らには複数のマイクロ波放射手段を配置させてもよい。
【００７２】
また、同軸伝送線路は導波管構造としてもよい。この場合、パッチアンテナとしたマイクロ波放射手段は、導波管の壁面に開口を設けて構成するスロットアンテナ構成としてもよい。
【００７３】
また、本発明の装置を冷蔵庫に組み込む場合は、マイクロ波発生手段、その駆動電源及び電力検出部は、冷凍空間に配置せず、たとえば、冷蔵庫の背面に実装させてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００７４】
以上のように本発明にマイクロ波加熱装置は、引出し式様式の収納容器が収納される処理室を備え、その処理室内にマイクロ波処理する第一処理空間と第一処理空間に対してマイクロ波が少ない第二処理空間をマイクロ波伝搬抑制手段を利用して形成したものであり、第一処理空間において対象の被処理物をマイクロ波加熱処理しているときに第二処理空間に処理非対象の処理物を収納貯蔵させることができるので、冷蔵庫に搭載した場合、冷凍食材を多数貯蔵させたままで対象の被食材にマイクロ波を照射して過冷却状態をつくったら被冷凍食材の解凍を実行できる。また台所のシステムキッチンの引出し部への実装や自販機に一体組立実装できる。
【符号の説明】
【００７５】
１０  処理室
１０ａ  第一処理空間
１０ｂ  第二処理空間
１１  開閉扉
１２  マイクロ波発生手段
１３  マイクロ波放射手段
１６  電力検出部
１７  制御部
１８  収納容器
１８ａ  収納容器の区分部
１８ｂ  マイクロ波処理物収納領域
１８ｃ  マイクロ波非処理物収納領域
１８ｄ  マイクロ波処理物収納領域の明示
２０、５０、５１、６０、６１  マイクロ波伝搬抑制手段
２０ａ、６０ａ、６１ａ  開孔
２０ｂ、６０ｂ、６１ｂ  溝部
【図３】
0005548959.tif 000002
【図１】
0005548959.tif 000003
【図２】
0005548959.tif 000004
【図４】
0005548959.tif 000005
【図５】
0005548959.tif 000006
【図６】
0005548959.tif 000007
【図７】
0005548959.tif 000008