(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
スリット露光によって、基板上に既に形成された第１パターンに対し、第２パターンを位置合わせして形成する露光方法であって、
１）露光装置として、ａ）フォトマスクの上方からフォトマスク上のスリットを照射する光源からの露光光の光軸より、基板の反移動方向に一定距離離れた位置に、基板上の第１パターンの位置合わせマークを撮像し、該第１パターンの位置合わせマークの位置情報を取得する前方撮像カメラが設けられ、
ｂ）また、前記光軸より、基板の移動方向に前記一定距離離れた位置に、基板上の第１パターンの位置合わせマークを撮像し、該第１パターンの位置合わせマークの位置情報を取得する後方撮像カメラが設けられた露光装置を用い、
２）フォトマスクとして、ａ）前記フォトマスク上のスリットのパターン（開口部）の長さ方向中央より、基板の反移動方向に前記一定距離離れた位置に、前方撮像カメラによって基板上の第１パターンの位置合わせマークを撮像するための前方撮像開口部が設けられ、
ｂ）また、前記長さ方向中央より、基板の移動方向に前記一定距離離れた位置に、後方撮像カメラによって基板上の第１パターンの位置合わせマークを撮像するための後方撮像開口部が設けられたフォトマスクを用い、
３）前記基板上に既に形成された第１パターンに対し、第２パターンを位置合わせして形成する際に、ａ）前記フォトマスクの下方を移動してくる基板上の第１パターンの位置合わせマークを、各露光領域の先端部では前方撮像カメラで撮像し、各露光領域の中央部では前方撮像カメラ及び後方撮像カメラの両方で撮像し、各露光領域の末端部では後方撮像カメラで撮像して、第１パターンの位置合わせマークの位置情報を取得し、
ｂ）該取得した第１パターンの位置合わせマークの位置情報と、フォトマスクの位置合わせマークとが位置調整されることにより、第１パターンに対するフォトマスクのパターン（開口部）の位置合わせがなされ、光源からの露光光がフォトマスク上のスリットに照射されることを特徴とする露光方法。
【請求項２】
前記露光装置の前方撮像カメラが、基板の反移動方向に隣接して各々一定距離離れた位置に設けられた複数基の前方撮像カメラで構成され、また、後方撮像カメラが、基板の移動方向に隣接して各々一定距離離れた位置に設けられた複数基の後方撮像カメラで構成されていることを特徴とする請求項１記載の露光方法。
【請求項３】
前記第１パターンがカラーフィルタを構成するブラックマトリックスまたは液晶表示装置を構成する基板上の画素領域のパターンであり、前記第２パターンがカラーフィルタを構成する着色画素であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の露光方法。
【請求項４】
前記第１パターンが液晶表示装置を構成する基板上の画素領域であり、前記第２パターンが該画素領域に設けられた光配向膜領域、或いは該光配向膜領域を分割した分割光配向膜領域であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の露光方法。
【請求項５】
請求項１又は請求項２記載の露光方法に基づいたことを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、スリット露光により基板上に形成されたブラックマトリックスのパターンに対し着色画素を位置合わせして形成する露光方法に関するものであり、特に、位置合わせマークを撮像し位置調整をする撮像カメラが配設された露光装置を用いても、露光領域の移動方向末端部にては位置合わせが良好に行われない、といった現象を発生させない露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置などの表示装置において、カラー表示、反射率の低減、コントラストの調整、分光特性制御などの目的にカラーフィルタを用いることは有用な手段となっている。この表示装置に用いられるカラーフィルタは、多くの場合、画素として形成され用いられる。表示装置に用いられるカラーフィルタの画素を形成する方法として、これまで実用されてきた方法には、印刷法、フォトリソグラフィ法などが挙げられる。
【０００３】
図１は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの画素の一例を拡大して示す平面図である。また、図２は、図１に示すカラーフィルタの画素のＸ−Ｘ線における断面図である。図１、及び図２に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタは、ガラス基板（５０）上にブラックマトリックス（２１）、着色画素（２２）、及び透明導電膜（２３）が順次に形成されたものである。
【０００４】
液晶表示装置に用いられる上記カラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板（５０）上にブラックマトリックス（２１）を形成し、次に、ブラックマトリックス（２１）が形成されたガラス基板上のブラックマトリックスのパターン（開口部）に位置合わせして着色画素（２２）を形成し、更に透明導電膜（２３）を形成するといった方法が広く用いられている。
【０００５】
ブラックマトリックス（２１）は遮光性を有し、その開口部にてガラス基板上での着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。このブラックマトリックス（２１）の形成は、例えば、ガラス基板（５０）上に、黒色フォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜へのフォトマスクを介した露光、現像によってブラックマトリックスを形成するといったフォトリソグラフィ法がとられている。
【０００６】
また、着色画素（２２）は、例えば、赤色、緑色、青色の色再現フィルタの機能を有するものであり、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板（５０）上に、顔料などの色素を分散させたネガ型の着色フォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜へのフォトマスクを介した露光、現像によって着色画素を形成するといったフォトリソグラフィ法がとられている。
また、透明導電膜（２３）の形成は、着色画素が形成されたガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
【０００７】
カラーフィルタを大量に製造する際には、一基の液晶表示装置に対応したサイズのカラーフィルタを大サイズのガラス基板に多面付けした状態で製造することが多い。例えば、対角１７インチのカラーフィルタを６５０ｍｍ×８５０ｍｍ程度の大サイズのガラス基板に４面付けして製造する。
【０００８】
この際の露光は、ガラス基板のサイズと略同程度のサイズのマスク基板に、例えば、対角１７インチのカラーフィルタを形成するためのマスクパターンが４面付けされたフォトマスクを用いて露光する方法が広く採用されている。４面付けされたマスクパターンの４画面全体を１回の露光で一括して行う、所謂、一括露光法である。
この際の多面付けは、例えば、パターンである着色画素のサイズ、カラーフィルタの仕上がりサイズなどが同一の、すなわち、同一品種のカラーフィルタを多面付けする。
【０００９】
マスクサイズの大型化によるコスト高と、マスクの自重による撓みの問題の解決のため、ガラス基板のサイズが、例えば、７３０ｍｍ×９２０ｍｍ程度の第４世代からは、露光方式は一括露光法から１軸ステップ露光方式が採用され始め、また、ガラス基板のサイズが、例えば、１０００ｍｍ×１２００ｍｍ程度の第５世代からは、ＸＹ（２軸）ステップ露光方式（所謂、ステップ・アンド・リピート方式）に移行している。
【００１０】
図３は、ＸＹステップ露光方式によりカラーフィルタを製造する際のステップ露光の一例を説明する平面図である。
図３に示す例は、大サイズのガラス基板（５０）に、第１露光〜第６露光の６回の露光が行われた例である。第１露光から数えて５回のステップ移動（Ｐｙ、Ｐｘ）毎に、第２露光以降の各露光が行われたものである。符号（１Ｅｘ〜６Ｅｘ）は、各々第１露光〜第６露光の領域を表している。
【００１１】
このようなステップ露光方式への移行によって、マスクサイズの大型化によるコスト高は抑制され、自重による撓みの問題は解決された。
しかしながら、ガラス基板のサイズが、例えば、１５００ｍｍ×１８００ｍｍ程度の第６世代、或いは、例えば、２１００ｍｍ×２４００ｍｍ程度の第８世代へと更に大型化へと移行するのに伴い、マスクサイズの大型化も付随し、コスト高と、撓みの問題が再燃している。
【００１２】
そこで、ガラス基板のサイズが更に大型化へと移行した際の、付随するフォトマスクのコスト高を回避するために、マスクサイズを更に大型にすることなく、むしろマスクサイズを小型化にしてカラーフィルタを製造すべく、様々な露光方式が試みられている。
【００１３】
図４は、スリット露光によりカラーフィルタを製造する際のスリット露光の一例を説明する平面図である。図４に示す例は、大サイズのガラス基板（５０）に第１露光と第２露光の２回の露光が行われる例である。図５（ａ）、（ｂ）は、図４のＸ−Ｘ線での断面図である。図５（ａ）は第１露光が開始される状態を、また、（ｂ）は第１露光が終了した状態を表したものである。
【００１４】
図４、図５に示すように、露光ステージ（６０）上に載置されたガラス基板（５０）の上方にフォトマスク（ＰＭ２）が配置されている。フォトマスク（ＰＭ２）は露光装置内で固定されており、Ｘ、Ｙ、Ｚ軸方向には移動しないようになっている。フォトマスク（ＰＭ２）の下方の露光ステージ（６０）は、ガラス基板（５０）を載置した状態で、図中左方、Ｘ軸方向に等速で移動するようになっている。また、Ｙ軸方向ではステップ移動を行うようになっている。
【００１５】
スリット露光とは、露光装置内に、ガラス基板の長さ方向（Ｘ軸方向）に短く、幅方向（Ｙ軸方向）に長いスリット（Ｓ）を設け、スリット（Ｓ）又はガラス基板をガラス基板の長さ方向（Ｘ軸方向）に移動させながらスリット（Ｓ）を介した光をガラス基板（５０）上の塗膜（５４）に与え、ガラス基板の全面を露光する露光方法である。
カラーフィルタを製造する際のスリット露光は、ストライプ状の着色画素を形成するので、上記スリット（Ｓ）は、着色画素のストライプの幅に対応した幅（Ｗｉ）を開口部（５１）とし、他の部分を遮光部（５２）とした構成となる。この開口部（５１）が着色画素の形成に対応したマスクパターンとしてフォトマスク（ＰＭ２）上に設けられている。
【００１６】
図６は、スリット露光に用いられるフォトマスク（ＰＭ２）の一例におけるスリット（Ｓ）の部分を拡大して示す平面図である。このフォトマスク（ＰＭ２）は、ネガ型フォトレジストに対応した例である。
図６に示すように、スリット（Ｓ）の長手方向（Ｌｓ）はＹ軸と平行であり、この長手方向（Ｌｓ）に多数個の開口部（５１）が配設されている。開口部（５１）以外の部分は遮光部（５２）となっている。フォトマスク（ＰＭ２）の下方では、図６中、白太矢印で示す方向に露光ステージ（６０）を移動（Ｘ軸方向）させながら、開口部（５１）を透過した光をガラス基板（５０）上の塗膜（５４）を連続して照射する。尚、符号（Ｐｉ）は開口部（５１）のピッチ、符号（Ｗｉ）は開口部（５１）の幅、符号（Ｌｉ）は開口部（５１）の長さを表している。
【００１７】
図５（ａ）は、ガラス基板（５０）上に塗布されたフォトレジストの塗膜（５４）にフォトマスク（ＰＭ２）のスリットを介した第１露光が開始される状態を表したものである。また、（ｂ）は第１露光が終了した状態を表したものである。図５中、白太矢印で示すように、露光ステージ（６０）を図中左方へ移動（Ｘ軸方向）させながら、フォトマスク（ＰＭ２）のスリットを介し連続して露光光（Ｅ）を与え、図５（ｂ）中、斜線で示す第１露光を終了する。第２露光は図４に示すステップ移動（Ｐｙ）を露光ステージ（６０）に与えた後に行われる。
このように、スリット露光は、マスクサイズを更に大型にすることなく、むしろマスクサイズを小型にして、Ｘ軸方向に長く、大面積の露光を可能とする方式である。
【００１８】
図７は、露光後の現像処理によって得られたストライプパターンの一例を示す平面図である。図７に示すように、ガラス基板（５０）上にピッチ（Ｐｉ）、幅（Ｗｉ）のストライプパターン、例えば、ストライプ状の着色画素（２２）が形成される。
【００１９】
図８は、このようなスリット露光によって製造されたカラーフィルタの一例を示す説明図である。図８に示すように、このカラーフィルタは、ブラックマトリックス（２１）が形成されたガラス基板上に、赤色、緑色、青色の着色画素（２２Ｒ、２２Ｇ、２２Ｂ）が形成された状態のものである。
各色の着色画素は、各々が図８中、Ｘ軸方向に画素間で途切れず、連続したストライプ状のものである。また、Ｙ軸方向には、その各々のストライプ状の着色画素の列が、赤色、緑色、青色の順に繰り返し配設されている。すなわち、スリット露光方式が好適に適用された例である。
【００２０】
図９は、このようなスリット露光によって、１基の液晶表示装置に対応したサイズのカラーフィルタを、大サイズのガラス基板上に多面付けして製造する際の面付け状態を例示したものである。図９中、符号（Ｍ１〜Ｍ６）は、１基の液晶表示装置に対応したサイズのカラーフィルタが形成される第１〜第６露光領域を表している。
また、符号（ｍ１〜ｍ４）は、第１〜第６露光領域間、及び該露光領域外の非露光領域を表している。
【００２１】
図９中、白太矢印は、露光ステージ（６０）上に載置されたガラス基板（５０）が、フォトマスクの下方で移動される方向（Ｘ軸方向）である。従って、図７に示すストライプ状の着色画素（２２）は、図９中、Ｘ軸方向と平行に形成される。第１〜第６露光領域に形成される着色画素（２２）の一部が点線で表わされている。露光領域間及び露光領域外の非露光領域（ｍ１〜ｍ４）には、着色画素（２２）は形成されない。
【００２２】
この際の、ガラス基板（５０）上の塗膜へのフォトマスクを介した露光は、露光ステージ（６０）上に載置されたガラス基板（５０）の移動によって、各露光領域（Ｍ１〜Ｍ６）がフォトマスクの下方を順次に通過するのに同期して、例えば、フォトマスクの上方に設けられたシャッターを開状態とし、光源からの露光光を照射する。
また、各非露光領域（ｍ１〜ｍ４）がフォトマスクの下方を順次に通過するのに同期して、シャッターを閉状態とし、光源からの露光光を遮蔽するといった方法を採用する。
【００２３】
上記のようなスリット露光によってカラーフィルタを製造する方法は、前記ＸＹステップ露光によって製造する方法と比較して、確かに、小型のフォトマスクでストライプパターンを大サイズのガラス基板の全面にカラーフィルタを多面付けで形成することを可能とする。
【００２４】
図１０は、図９に示す第１露光領域（Ｍ１）の近傍を拡大して示す平面図であるが、ガラス基板（５０）上に既に形成された第１露光領域（Ｍ１）のブラックマトリックス（２１）のパターン（図示せず）に、着色画素（２２）を位置合わせして形成する際に、白太矢印で示すガラス基板（５０）の進行方向の先端部（Ａ）及び中央部（Ｂ）にては、その位置合わせが良好に行われる。
しかしながら、図１０中、移動方向の斜線で表す末端部（Ｃ）にては、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対する着色画素（２２）の位置合わせが良好に行われない、といった問題が発生する。この現象は、第１露光領域（Ｍ１）以外の他の露光領域においても同様に発生することが観察されている。
【００２５】
図１１は、スリット露光を採用した露光装置の一例の部分断面図である。図１１は、この一例に示す露光装置を用い、ガラス基板（５０）上に形成されたブラックマトリックス（２１）のパターンに位置合わせして着色画素（２２）を形成する方法の説明図である。図１１は、図１０に示すガラス基板（５０）の移動方向の中央部（Ｂ）におけるＸ２−Ｘ２線での断面を表したものであり、前記図５（ａ）〜（ｂ）間でのガラス基板の移動状態に相当するものである。
【００２６】
図１１に示すように、この露光装置には、フォトマスク（ＰＭ２）の上方に撮像カメラ（ＣＭ）が設けられている。この撮像カメラ（ＣＭ）の位置は、フォトマスク（ＰＭ２）の上方から開口部（５１）に照射する露光光（Ｅ）の光軸から、ガラス基板の移動方向の逆方向（図１１中、Ｘ軸右方向）に距離（Ｌ0 ）離れた位置である。
【００２７】
この撮像カメラ（ＣＭ）は、フォトマスク（ＰＭ２）の上方から、フォトマスク（ＰＭ２）に設けられた撮像開口部（５３）を経て、下方のガラス基板（５０）上に形成された、例えば、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）及びブラックマトリックス（２１）のパターンを撮像するためのものである。
【００２８】
図６に示すように、フォトマスク（ＰＭ２）には、その長手方向をＹ軸と平行にして設けられたスリット（Ｓ）から、Ｘ軸右方向に距離（Ｌ0 ）離れた位置に撮像開口部（５３）が設けられている。撮像開口部（５３）は、その長手方向をスリット（Ｓ）と同様にＹ軸と平行にしている。
撮像開口部（５３）は、開口部（５１）と同様に、フォトマスク基板の表面が露出している透光部である。フォトマスク（ＰＭ２）の上方からの露光光（Ｅ）はスリット（Ｓ）を照射するが、撮像開口部（５３）には照射しないようになっている。
また、フォトマスク（ＰＭ２）には、位置合わせのための、フォトマスクの位置合わせマーク（Ｋ２）が設けられている（図示せず）。
【００２９】
図１１に示すように、露光ステージ（６０）上に載置されたガラス基板（５０）上には、既にブラックマトリックス（２１）が形成されており、このブラックマトリックス（２１）上に着色画素（２２）を形成するための塗膜（５４）が設けられている。
ブラックマトリックス（２１）には、ブラックマトリックス（２１）のパターン（開口部）、及び位置合わせのための、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）が設けられている（図示せず）。
【００３０】
第１露光領域（Ｍ１）への、フォトマスク（ＰＭ２）上の開口部（５１）を介した露光光（Ｅ）の照射に際しての、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスク（ＰＭ２）のパターンの位置合わせは、例えば、撮像カメラ（ＣＭ）が、フォトマスクの下方を移動してくるガラス基板（５０）上のブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）を撮像すると、このブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）と、フォトマスクの位置合わせマーク（Ｋ２）とが、予め設定された所定の位置関係となるように、位置調整されることにより、ブラックマトリックス（２１）のパターンとフォトマスクのパターンが位置合わせされるようになっている。
【００３１】
本発明者は、前記図１０中、斜線で表す末端部（Ｃ）にては、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対する着色画素（２２）の位置合わせが良好に行われない、といった現象を精査した結果、その原因を見出すことができた。
すなわち、図１２は、図１０に示す第１露光領域（Ｍ１）の移動方向の先端部（Ａ）〜末端部（Ｃ）へと、白太矢印で示す方向に露光ステージ（６０）を移動させながら、スリットの開口部（５１）を透過した露光光（Ｅ）をガラス基板（５０）上の塗膜（５４）に連続に照射する状態を説明する断面図である。
【００３２】
図１２（ａ）は、図１０中、Ｘ１−Ｘ１線での断面であり、第１露光領域（Ｍ１）の先端部（Ａ）を露光光（Ｅ）が照射している状態を表したものである。図１２（ｂ）は、Ｘ２−Ｘ２線での断面で、第１露光領域（Ｍ１）の中央部（Ｂ）の状態、また、図１２（ｃ）は、Ｘ３−Ｘ３線での断面で、第１露光領域（Ｍ１）の末端部（Ｃ）の状態を表したものである。
図１２（ａ）に示すように、第１露光領域（Ｍ１）の先端部（Ａ）の、露光光（Ｅ）の照射が開始される部位（ａ）は、露光ステージ（６０）の移動によって、開口部（５１）の下方に達しており、この部位（ａ）から先端部（Ａ）への照射が開始される。
【００３３】
一方、撮像カメラ（ＣＭ）は、この部位（ａ）が開口部（５１）の下方に達する以前に、撮像開口部（５３）の下方を通過するブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）（図示せず）に同期して、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）を撮像しており、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報を取得している。このブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報と、フォトマスクの位置合わせマーク（Ｋ２）とが、予め設定された所定の位置関係となるように、位置調整されることにより、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせがなされる。
【００３４】
この位置合わせは、照射が開始される上記部位（ａ）が開口部（５１）の下方に達する以前に終了している。従って、露光光（Ｅ）の照射が開始される部位（ａ）以降の、図１２（ａ）中、左方の先端部（Ａ）にては、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせは良好に行われて露光光（Ｅ）が照射される。尚、このブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）は、照射が開始される部位（ａ）近傍から、照射が終了される部位近傍までの間、第１露光領域（Ｍ１）の全域に適宜に設けられている。
【００３５】
図１２（ｂ）に示すように、第１露光領域（Ｍ１）の中央部（Ｂ）にては、撮像カメラ（ＣＭ）が取得した、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報によって、上記ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせは常時良好に行われて露光光（Ｅ）が照射される。
【００３６】
しかし、図１２（ｃ）に示すように、第１露光領域（Ｍ１）の末端部（Ｃ）に至ると、末端部（Ｃ）の端末の部位（ｃ）以降は、撮像開口部（５３）の下方を通過するブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）がなくなり、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報に基づいたブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせはされない状態となる。
【００３７】
つまり、末端部（Ｃ）には、撮像カメラ（ＣＭ）の位置情報による、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）と、フォトマスクの位置合わせマーク（Ｋ２）間の位置調整がされない状態で、開口部（５１）を透過した露光光（Ｅ）の照射が行われている。尚、この末端部（Ｃ）の領域は、露光光（Ｅ）の光軸と撮像カメラ（ＣＭ）との距離（Ｌ0 ）に略匹敵することが観察されている。
【００３８】
これにより、前記図１０中、斜線で表す末端部（Ｃ）にては、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対する着色画素（２２）の位置合わせが良好に行われない、といった現象が発生する原因を見出すことができた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００３９】
【特許文献１】特開２００８−２１６５９３号公報
【特許文献２】特開２００７−１２１３４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００４０】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、例えば、既に基板上に形成されたブラックマトリックスのパターンに対し、スリット露光により着色画素を位置合わせして形成する際に、露光装置として、ブラックマトリックスのパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせをするために、ブラックマトリックスの位置合わせマークを撮像し位置調整をする撮像カメラが配設された露光装置を用いても、基板上に多面付けされた露光領域の、基板上の露光領域の移動方向末端部にては、ブラックマトリックスのパターンに対する着色画素を位置合わせが良好に行われない、といった現象を発生させることのない露光方法を提供することを課題とするものである。
また、上記露光方法に基づいた露光装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００４１】
本発明は、スリット露光によって、基板上に既に形成された第１パターンに対し、第２パターンを位置合わせして形成する露光方法であって、
１）露光装置として、ａ）フォトマスクの上方からフォトマスク上のスリットを照射する光源からの露光光の光軸より、基板の反移動方向に一定距離離れた位置に、基板上の第１パターンの位置合わせマークを撮像し、該第１パターンの位置合わせマークの位置情報を取得する前方撮像カメラが設けられ、
ｂ）また、前記光軸より、基板の移動方向に前記一定距離離れた位置に、基板上の第１パターンの位置合わせマークを撮像し、該第１パターンの位置合わせマークの位置情報を取得する後方撮像カメラが設けられた露光装置を用い、
２）フォトマスクとして、ａ）前記フォトマスク上のスリットのパターン（開口部）の長さ方向中央より、基板の反移動方向に前記一定距離離れた位置に、前方撮像カメラによって基板上の第１パターンの位置合わせマークを撮像するための前方撮像開口部が設けられ、
ｂ）また、前記長さ方向中央より、基板の移動方向に前記一定距離離れた位置に、後方撮像カメラによって基板上の第１パターンの位置合わせマークを撮像するための後方撮像開口部が設けられたフォトマスクを用い、
３）前記基板上に既に形成された第１パターンに対し、第２パターンを位置合わせして形成する際に、ａ）前記フォトマスクの下方を移動してくる基板上の第１パターンの位置合わせマークを、各露光領域の先端部では前方撮像カメラで撮像し、各露光領域の中央部では前方撮像カメラ及び後方撮像カメラの両方で撮像し、各露光領域の末端部では後方撮像カメラで撮像して、第１パターンの位置合わせマークの位置情報を取得し、
ｂ）該取得した第１パターンの位置合わせマークの位置情報と、フォトマスクの位置合わせマークとが位置調整されることにより、第１パターンに対するフォトマスクのパターン（開口部）の位置合わせがなされ、光源からの露光光がフォトマスク上のスリットに照射されることを特徴とする露光方法である。
【００４２】
また、本発明は、上記発明による露光方法において、前記露光装置の前方撮像カメラが、基板の反移動方向に隣接して各々一定距離離れた位置に設けられた複数基の前方撮像カメラで構成され、また、後方撮像カメラが、基板の移動方向に隣接して各々一定距離離れた位置に設けられた複数基の後方撮像カメラで構成されていることを特徴とする露光方法である。
【００４３】
また、本発明は、上記発明による露光方法において、前記第１パターンがカラーフィルタを構成するブラックマトリックスまたは液晶表示装置を構成する基板上の画素領域のパターンであり、前記第２パターンがカラーフィルタを構成する着色画素であることを特徴とする露光方法である。
【００４４】
また、本発明は、上記発明による露光方法において、前記第１パターンが液晶表示装置を構成する基板上の画素領域であり、前記第２パターンが該画素領域に設けられた光配向膜領域、或いは該光配向膜領域を分割した分割光配向膜領域であることを特徴とする露光方法である。
【００４５】
また、本発明は、請求項１又は請求項２記載の露光方法に基づいたことを特徴とする露光装置である。
【発明の効果】
【００４６】
本発明は、１）露光装置として、ａ）基板の反移動方向に、第１パターンの位置合わせマークの位置情報を取得する前方撮像カメラが設けられ、ｂ）基板の移動方向に、第１パターンの位置合わせマークの位置情報を取得する後方撮像カメラが設けられた露光装置を用い、２）フォトマスクとして、ａ）前方撮像開口部が設けられ、ｂ）後方撮像開口部が設けられたフォトマスクを用い、３）前記基板上に既に形成された第１パターンに対し、第２パターンを位置合わせして形成する際に、ａ）前記フォトマスクの下方を移動してくる基板上の第１パターンの位置合わせマークを、各露光領域の先端部では前方撮像カメラで撮像し、各露光領域の中央部では前方撮像カメラ及び後方撮像カメラの両方で撮像し、各露光領域の末端部では後方撮像カメラで撮像して、第１パターンの位置合わせマークの位置情報を取得し、ｂ）該取得した第１パターンの位置合わせマークの位置情報と、フォトマスクの位置合わせマークとが位置調整されることにより、第１パターンに対するフォトマスクのパターン（開口部）の位置合わせがなされ、光源からの露光光がフォトマスク上のスリットに照射されるので、例えば、既に基板上に形成されたブラックマトリックスのパターンに対し、スリット露光により着色画素を位置合わせして形成する際に、ガラス基板上に多面付けされた露光領域の先端部から末端部の全領域にわたり、ブラックマトリックスのパターンに対する着色画素を位置合わせが良好に行われる露光方法となる。
【００４７】
本発明は、露光装置の前方撮像カメラが、基板の反移動方向に隣接して各々一定距離離れた位置に設けられた複数基の前方撮像カメラで構成され、また、後方撮像カメラが、基板の移動方向に隣接して各々一定距離離れた位置に設けられた複数基の後方撮像カメラで構成されているので、位置合わせは、Ｘ軸及びＹ軸方向のみでなく、ガラス基板のＺ軸方向を回転軸としたガラス基板の傾き（θ方向）に対応した位置合わせの調整が可能となる。また、Ｘ軸及びＹ軸方向の位置合わせは、より確かなものとなる。
【００４８】
また、本発明は、上記露光方法に基づいた露光装置であるので、スリット露光によって、基板上に既に形成された第１パターンに対し、第２パターンを形成する際に、位置合わせが良好に行われる露光装置となる。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】液晶表示装置のカラーフィルタの画素の一例を拡大して示す平面図である。
【図２】図１に示すカラーフィルタの画素のＸ−Ｘ線における断面図である。
【図３】ＸＹステップ露光の一例を説明する平面図である。
【図４】スリット露光の一例を説明する平面図である。
【図５】（ａ）、（ｂ）は、図４のＸ−Ｘ線での断面図である。
【図６】スリット露光用のフォトマスクの一例のスリットの部分を拡大した平面図である。
【図７】露光後の現像処理によって得られたストライプパターンの一例を示す平面図である。
【図８】スリット露光によって製造されたカラーフィルタの一例を示す説明図である。
【図９】１基の液晶表示装置に対応したサイズのカラーフィルタを、大サイズのガラス基板上に多面付けして製造する際の面付け状態を例示したものである。
【図１０】図９に示す第１露光領域の近傍を拡大して示す平面図である。
【図１１】スリット露光を採用した露光装置の一例の部分断面図である。
【図１２】露光ステージを移動させ第１露光領域に照射する状態を説明する断面図である。
【図１３】本発明による露光装置の一例の部分断面図である。
【図１４】図１３に示す露光装置に用いられるフォトマスク。
【図１５】請求項２に係わる発明による露光装置の一例の部分断面図である。
【図１６】請求項２に係わる発明による露光装置の一例の部分断面図である。
【図１７】図１５及び図１６に示す露光装置に用いられるフォトマスクである。
【発明を実施するための形態】
【００５０】
以下に、本発明による露光方法を、その実施の形態に基づいて詳細に説明する。
図１３は、本発明による露光装置の一例の部分断面図である。図１３は、この一例に示す露光装置を用い、ガラス基板（５０）上に形成されたブラックマトリックス（２１）のパターンに位置合わせして着色画素（２２）を形成する方法を説明するものである。
【００５１】
この露光装置には、フォトマスク（ＰＭ３）の上方に前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ）及び後方撮像カメラ（ＣＭ−Ｂ）が設けられている。この前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ）の位置は、フォトマスク（ＰＭ３）の上方からフォトマスク上のスリット（Ｓ）を照射する光源からの露光光（Ｅ）の光軸より、ガラス基板の反移動方向に一定距離（Ｌ0 ）離れた位置（図１３中、Ｘ軸右方向）である。この前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ）は、フォトマスク（ＰＭ３）の上方から、フォトマスク（ＰＭ３）に設けられた前方撮像開口部（５３−Ａ）を経て、下方のガラス基板（５０）上に形成された第１パターン、例えば、ブラックマトリックスの位置合わせマークを撮像し、ブラックマトリックスの位置合わせマークの位置情報を取得する。
【００５２】
また、後方撮像カメラ（ＣＭ−Ｂ）の位置は、前記露光光（Ｅ）の光軸より、基板の移動方向に一定距離（Ｌ0 ）離れた位置（図１３中、Ｘ軸左方向）である。この後方撮像カメラ（ＣＭ−Ｂ）は、フォトマスク（ＰＭ３）の上方から、フォトマスク（ＰＭ３）に設けられた後方撮像開口部（５３−Ｂ）を経て、下方のガラス基板（５０）上に形成されたブラックマトリックスの位置合わせマークを撮像し、ブラックマトリックスの位置合わせマークの位置情報を取得する。
【００５３】
図１４は、図１３に示す露光装置に用いられるフォトマスクとして例示する、フォトマスク（ＰＭ３）の平面図である。図１４に示すように、フォトマスク（ＰＭ３）には、前方撮像開口部（５３−Ａ）及び後方撮像開口部（５３−Ｂ）が設けられている。その長手方向をＹ軸と平行にして設けられたスリット（Ｓ）の、開口部（５１）の長さ（Ｌｉ）方向中央より、ガラス基板の反移動方向（図１４中、Ｘ軸右方向）に距離（Ｌ0 ）離れた位置に、前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ）によってガラス基板上のブラックマトリックスの位置合わせマークを撮像するための前方撮像開口部（５３−Ａ）が設けられている。
【００５４】
また、前記スリット（Ｓ）の開口部（５１）の長さ（Ｌｉ）方向中央より、基板の移動方向（図１４中、Ｘ軸左方向）に距離（Ｌ0 ）離れた位置に、後方撮像カメラ（ＣＭ−Ｂ）によってガラス基板上のブラックマトリックスの位置合わせマークを撮像するための後方撮像開口部（５３−Ｂ）が設けられている。
【００５５】
前方撮像開口部（５３−Ａ）及び後方撮像開口部（５３−Ｂ）は、その長手方向をスリット（Ｓ）と同様にＹ軸と平行にしており、開口部（５１）と同様に、フォトマスク基板の表面が露出している透光部である。フォトマスク（ＰＭ３）の上方からの露光光（Ｅ）はスリット（Ｓ）を照射するが、前方撮像開口部（５３−Ａ）及び後方撮像開口部（５３−Ｂ）には照射しないようになっている。
また、フォトマスク（ＰＭ３）には、位置合わせのための、フォトマスクの位置合わせマーク（Ｋ２）が設けられている（図示せず）。
【００５６】
図１３に示すように、露光ステージ（６０）上に載置されたガラス基板（５０）上には、既にブラックマトリックス（２１）が形成されており、このブラックマトリックス（２１）上に着色画素（２２）を形成するための塗膜（５４）が設けられている。
ブラックマトリックス（２１）には、ブラックマトリックス（２１）のパターン（開口部）、及び位置合わせのための、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）が設けられている（図示せず）。
【００５７】
以下に、図１３に例示する、本発明による露光装置を用い、前記図１０に示す第１露光領域（Ｍ１）の移動方向の先端部（Ａ）〜末端部（Ｃ）へと、白太矢印で示す方向に露光ステージ（６０）を移動させながら、スリットの開口部（５１）を透過した露光光（Ｅ）をガラス基板（５０）上の塗膜（５４）に連続して照射する露光方法を説明する。
【００５８】
図１３（ａ）は、図１０中、Ｘ１−Ｘ１線での断面であり、第１露光領域（Ｍ１）の先端部（Ａ）を露光光（Ｅ）が照射している状態を表したものである。図１３（ｂ）は、Ｘ２−Ｘ２線での断面で、第１露光領域（Ｍ１）の中央部（Ｂ）の状態、また、図１３（ｃ）は、Ｘ３−Ｘ３線での断面で、第１露光領域（Ｍ１）の末端部（Ｃ）の状態を表したものである。
【００５９】
第１露光領域（Ｍ１）への、フォトマスク（ＰＭ３）上の開口部（５１）を介した露光光（Ｅ）の照射に際しての、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスク（ＰＭ３）のパターンの位置合わせは、例えば、前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ）が、フォトマスクの下方を移動してくるガラス基板（５０）上のブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）を撮像すると、このブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）と、フォトマスクの位置合わせマーク（Ｋ２）とが、予め設定された所定の位置関係となるように、位置調整されることにより、ブラックマトリックス（２１）のパターンとフォトマスクのパターンが位置合わせされるようになっている。
【００６０】
図１３（ａ）に示すように、第１露光領域（Ｍ１）の先端部（Ａ）の、露光光（Ｅ）の照射が開始される部位（ａ）は、露光ステージ（６０）の移動によって、開口部（５１）の下方に達しており、この部位（ａ）から先端部（Ａ）への照射が開始される。
一方、前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ）は、この部位（ａ）が開口部（５１）の下方に達する以前に、前方撮像開口部（５３−Ａ）の下方を通過するブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）（図示せず）に同期して、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）を撮像しており、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報を取得している。
【００６１】
このブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報と、フォトマスクの位置合わせマーク（Ｋ２）とが、予め設定された所定の位置関係となるように、位置調整されることにより、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせがなされる。
【００６２】
この位置合わせは、照射が開始される上記部位（ａ）が開口部（５１）の下方に達する以前に終了している。従って、露光光（Ｅ）の照射が開始される部位（ａ）以降の、図１３（ａ）中、先端部（Ａ）にては、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせは良好に行われて露光光（Ｅ）が照射される。
図１３（ｂ）に示すように、第１露光領域（Ｍ１）の中央部（Ｂ）にては、前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ）が取得した、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報によって、上記ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせは常時良好に行われて露光光（Ｅ）が照射される。
【００６３】
図１３（ｃ）に示すように、第１露光領域（Ｍ１）の末端部（Ｃ）が前方撮像開口部（５３−Ａ）の下方を通過すると、前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ）に代わり後方撮像カメラ（ＣＭ−Ｂ）が取得する。このブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報によって、末端部（Ｃ）の末端の部位（ｃ）まで、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせは良好に行われて露光光（Ｅ）が照射される。
【００６４】
上記のように、本発明による露光方法によれば、第１露光領域（Ｍ１）の先端部（Ａ）〜中央部（Ｂ）にては、前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ）の作動によって、また、第１露光領域（Ｍ１）の末端部（Ｃ）にては、後方撮像カメラ（ＣＭ−Ｂ）の作動によって、すなわち、第１露光領域（Ｍ１）の全面にわたりブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせは良好に行われて露光光（Ｅ）が照射される。      
【００６５】
また、露光ステージ（６０）が、更に移動して、ガラス基板（５０）上の第２露光領域（Ｍ２）が前方撮像開口部（５３−Ａ）の下方に達すると（図示せず）、第２露光領域（Ｍ２）の先端部（Ａ）〜末端部（Ｃ）に対して上記動作が繰り返し行われる。
【００６６】
尚、第１露光領域（Ｍ１）の中央部（Ｂ）においては、例えば、前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ）と後方撮像カメラ（ＣＭ−Ｂ）の両者を作動させることによって、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせが、Ｘ軸とＹ軸方向のみでなく、ガラス基板のＺ軸方向を回転軸としたガラス基板の傾き（θ方向）に対応した位置合わせの調整が可能となる。
【００６７】
図１５及び図１６は、請求項２に係わる発明による露光装置の一例の部分断面図である。図１５及び図１６は、前方撮像カメラが２基と、後方撮像カメラが２基設けられた例であり、この一例に示す露光装置を用い、ガラス基板（５０）上に形成されたブラックマトリックス（２１）のパターンに位置合わせして着色画素（２２）を形成する方法を説明するものである。
【００６８】
図１５及び図１６に示すように、この露光装置には、フォトマスク（ＰＭ４）の上方に第１前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ１）及び第２前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ２）と、第１後方撮像カメラ（ＣＭ−Ｂ１）及び第２後方撮像カメラ（ＣＭ−Ｂ２）が設けられている。この第１前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ１）及び第２前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ２）は、露光光（Ｅ）の光軸より、ガラス基板の反移動方向に一定距離（Ｌ0 ）離れた位置に第１前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ１）が、更に一定距離（Ｌ0 ）離れた位置に第２前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ２）が設けられている。
【００６９】
この第１前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ１）及び第２前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ２）は、各々フォトマスク（ＰＭ４）に設けられた第１前方撮像開口部（５３−Ａ１）及び第２前方撮像開口部（５３−Ａ２）を経て、下方のガラス基板（５０）上に形成されたブラックマトリックスの位置合わせマークを撮像し、ブラックマトリックスの位置合わせマークの位置情報を取得する。
【００７０】
また、第１後方撮像カメラ（ＣＭ−Ｂ１）及び第２後方撮像カメラ（ＣＭ−Ｂ２）は、露光光（Ｅ）の光軸より、ガラス基板の移動方向に一定距離（Ｌ0 ）離れた位置に第１後方撮像カメラ（ＣＭ−Ｂ１）が、更に一定距離（Ｌ0 ）離れた位置に第２後方撮像カメラ（ＣＭ−Ｂ２）が設けられている。
第１後方撮像カメラ（ＣＭ−Ｂ１）及び第２後方撮像カメラ（ＣＭ−Ｂ２）は、各々フォトマスク（ＰＭ４）に設けられた第１後方撮像開口部（５３−Ｂ１）及び第２後方撮像開口部（５３−Ｂ２）を経て、下方のガラス基板（５０）上に形成されたブラックマトリックスの位置合わせマークを撮像し、ブラックマトリックスの位置合わせマークの位置情報を取得する。
【００７１】
図１７は、図１５及び図１６に示す露光装置に用いられるフォトマスクとして例示する、フォトマスク（ＰＭ４）の平面図である。図１７に示すように、フォトマスク（ＰＭ４）には、第１前方撮像開口部（５３−Ａ１）及び第２前方撮像開口部（５３−Ａ２）と、第１後方撮像開口部（５３−Ｂ１）及び第２後方撮像開口部（５３−Ｂ２）が設けられて
いる。
【００７２】
この第１前方撮像開口部（５３−Ａ１）及び第２前方撮像開口部（５３−Ａ２）は、開口部（５１）の長さ（Ｌｉ）方向中央より、ガラス基板の反移動方向に一定距離（Ｌ0 ）離れた位置に第１前方撮像開口部（５３−Ａ１）が、更に一定距離（Ｌ0 ）離れた位置に第２前方撮像開口部（５３−Ａ２）が設けられている。
また、第１後方撮像開口部（５３−Ｂ１）及び第２後方撮像開口部（５３−Ｂ２）は、開口部（５１）の長さ（Ｌｉ）方向中央より、ガラス基板の移動方向に一定距離（Ｌ0 ）離れた位置に第１後方撮像開口部（５３−Ｂ１）が、更に一定距離（Ｌ0 ）離れた位置に第２後方撮像開口部（５３−Ｂ２）が設けられている。
【００７３】
フォトマスク（ＰＭ４）の上方からの露光光（Ｅ）はスリット（Ｓ）を照射するが、上記２基の前方撮像開口部、及び２基の後方撮像開口部には照射しないようになっている。また、フォトマスク（ＰＭ４）には、位置合わせのための、フォトマスクの位置合わせマーク（Ｋ２）が設けられている（図示せず）。
【００７４】
以下に、図１５及び図１６に例示する、請求項２に係わる露光装置を用い、前記図１０に示す第１露光領域（Ｍ１）の移動方向の先端部（Ａ）〜末端部（Ｃ）へと、白太矢印で示す方向に露光ステージ（６０）を移動させながら、スリットの開口部（５１）を透過した露光光（Ｅ）をガラス基板（５０）上の塗膜（５４）に連続に照射する露光方法を説明する。
【００７５】
図１５（ａ）は、前記図１０中、Ｘ１−Ｘ１線での断面であり、第１露光領域（Ｍ１）の先端部（Ａ）を露光光（Ｅ）が照射している状態を表したものである。図１５（ｂ）は、Ｘ２−Ｘ２線での断面で、第１露光領域（Ｍ１）の中央部（Ｂ）の状態、また、図１６は、Ｘ３−Ｘ３線での断面で、第１露光領域（Ｍ１）の末端部（Ｃ）の状態を表したものである。
【００７６】
図１５及び図１６に示すように、この例示する露光方法は、第１露光領域（Ｍ１）の先端部（Ａ）及び中央部（Ｂ）にては、第１前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ１）及び第２前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ２）の２基の撮像カメラにより取得したブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報と、フォトマスクの位置合わせマーク（Ｋ２）とでブラックマトリックス（２１）のパターンとフォトマスクのパターンが位置合わせがなされる。
【００７７】
また、第１露光領域（Ｍ１）の末端部（Ｃ）にては、第１後方撮像カメラ（ＣＭ−Ｂ１）及び第２後方撮像カメラ（ＣＭ−Ｂ２）の２基の撮像カメラにより取得したブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報と、フォトマスクの位置合わせマーク（Ｋ２）とでブラックマトリックス（２１）のパターンとフォトマスクのパターンが位置合わせがなされる。
【００７８】
従って、位置合わせは、Ｘ軸及びＹ軸方向のみでなく、ガラス基板のＺ軸方向を回転軸としたガラス基板の傾き（θ方向）に対応した位置合わせの調整が可能となる。また、Ｘ軸及びＹ軸方向の位置合わせは、より確かなものとなる。
【００７９】
図１５（ａ）に示すように、第１露光領域（Ｍ１）の先端部（Ａ）の、露光光（Ｅ）の照射が開始される部位（ａ）は、露光ステージ（６０）の移動によって、開口部（５１）の下方に達しており、この部位（ａ）から先端部（Ａ）への照射が開始される。
【００８０】
一方、第１前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ１）及び第２前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ２）は、
この部位（ａ）が開口部（５１）の下方に達する以前に、各々第１前方撮像開口部（５３−Ａ１）及び第２前方撮像開口部（５３−Ａ２）の下方を通過するブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）（図示せず）に同期して、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）を撮像しており、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報を取得している。
【００８１】
ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせは、照射が開始される上記部位（ａ）が開口部（５１）の下方に達する以前に終了している。従って、露光光（Ｅ）の照射が開始される部位（ａ）以降の、図１５（ａ）中、先端部（Ａ）にては、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせは良好に行われて露光光（Ｅ）が照射される。
【００８２】
図１５（ｂ）に示すように、第１露光領域（Ｍ１）の中央部（Ｂ）にては、第１前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ１）及び第２前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ２）が取得した、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報によって、上記ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせは常時良好に行われて露光光（Ｅ）が照射される。
【００８３】
図１６に示すように、第１露光領域（Ｍ１）の末端部（Ｃ）が第１前方撮像開口部（５３−Ａ１）及び第２前方撮像開口部（５３−Ａ２）の下方を通過すると、第１前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ１）及び第２前方撮像カメラ（ＣＭ−Ａ２）に代わり、第１後方撮像カメラ（ＣＭ−Ｂ１）及び第２後方撮像カメラ（ＣＭ−Ｂ２）が取得した、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報によって、末端部（Ｃ）の末端の部位（ｃ）まで、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせは良好に行われて露光光（Ｅ）が照射される。
【００８４】
上記のように、本発明による露光方法によれば、第１露光領域（Ｍ１）の先端部（Ａ）〜末端部（Ｃ）の全面にわたりブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせは、傾き（θ方向）に対応した調整が行われ、また、Ｘ軸及びＹ軸方向はより確かに行われて露光光（Ｅ）が照射される。
尚、請求項２に係わる発明は、２基の前方撮像カメラ及び２基の後方撮像カメラを用いるので、取得したブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報を活用する組み合わせには多様なものが挙げられるが、その説明は省略する。
【００８５】
一方、液晶表示装置においては、基板面で液晶分子の方位を一方向に揃え、且つプレチルト角を発現させるために、従来、接触式のラビング法が広く用いられてきた。しかし、ガラス基板のサイズが、例えば、２１００×２４００ｍｍ程度の第８世代へと大型化するに伴い、非接触式の液晶配向が求められている。
従来の非接触式配向法としての光配向法では、基板面に対し斜めにＵＶ光を照射する必要があり、例えば、装置上の制約は大きなものであった。
【００８６】
近年に至り、ガラス基板に対し垂直方向からの光照射によって液晶のプレチルト角を発現させる技法が提案されてきた。例えば、周期的な強度分布をもつ直線偏光を光配向膜上に、ガラス基板を移動させながらスリット露光を与えることにより発現させる技法である。請求項４に係わる発明は、基板上の画素領域に設けられた光配向膜領域にプレチルト角を発現させる際の、或いは該光配向膜領域を分割した分割光配向膜領域（ドメイン）毎に異なるプレチルト角を発現させる際の光照射の手法として好適なものである。
【００８７】
上述するように、本発明による露光方法について、液晶表示装置を構成するカラーフィルタを例に説明し、また、液晶表示装置を構成する基板上の配向膜の、画素に相当する画
素領域への露光を例に説明したが、本発明による露光方法は、液晶表示装置を構成する基板のパターン（画素）形成に限定されるものではなく、スリット露光によってパターンを位置合わせして露光する際に広く適用できる露光方法である。
【符号の説明】
【００８８】
２１・・・ブラックマトリックス
２２・・・着色画素
２２Ｒ・・・赤色の着色画素
２２Ｇ・・・緑色の着色画素
２２Ｂ・・・青色の着色画素
２３・・・透明導電膜
５０・・・基板（ガラス基板）
５１・・・スリットの開口部
５２・・・遮光部
５３・・・撮像開口部
５３−Ａ・・・前方撮像開口部
５３−Ｂ・・・後方撮像開口部
５３−Ａ１、５３−Ａ２・・・第１前方撮像開口部、第２前方撮像開口部
５３−Ｂ１、５３−Ｂ２・・・第１後方撮像開口部、第２後方撮像開口部
５４・・・塗膜
６０・・・露光ステージ
Ａ・・・第１露光領域の先端部
Ｂ・・・第１露光領域の中央部
Ｃ・・・第１露光領域の末端部
ＣＭ・・・撮像カメラ
ＣＭ−Ａ・・・前方撮像カメラ
ＣＭ−Ｂ・・・後方撮像カメラ
ＣＭ−Ａ１、ＣＭ−Ａ２・・・第１前方撮像カメラ、第２前方撮像カメラ
ＣＭ−Ｂ１、ＣＭ−Ｂ２・・・第１後方撮像カメラ、第２後方撮像カメラ
Ｅ・・・露光光
１Ｅｘ〜６Ｅｘ・・・第１露光〜第６露光
Ｌｉ・・・開口部の長さ
Ｌｓ・・・スリットの長手方向
Ｍ１〜Ｍ６・・・カラーフィルタが形成される第１〜第６露光領域
ＰＭ、ＰＭ２、ＰＭ３、ＰＭ４・・・フォトマスク
Ｓ・・・フォトマスク上のスリット
Ｗｉ・・・開口部の幅
ａ・・・露光光の照射が開始される部位
ｃ・・・末端部の端末の部位
ｍ１〜ｍ４・・・非露光領域
Ｐｘ・・・Ｘ軸方向のステップ移動
Ｐｙ・・・Ｙ軸方向のステップ移動
【図１】
0005581017.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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