(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を一方向に搬送する搬送装置と、
この基板の搬送方向に離隔して、２個設けられた露光ユニットと、
を有するスキャン露光装置において、
前記各露光ユニットは、
前記基板の搬送方向に垂直の方向に配列された複数個のマスクと、
前記マスクに対して、垂直方向に傾斜する方向に露光光を照射する光源と、
を有し、
一方の露光ユニットのマスクと、他方の露光ユニットのマスクとは、スキャン方向に直角な方向に関して、互い違いに配置されており、
前記一方の露光ユニットは、更に、前記露光光を対応するマスクに向けて反射する反射部材を有し、この反射部材で反射した露光光が、前記他方の露光ユニットの前記光源から出射した露光光と、平行になって、それらの対応するマスクに入射するものであり、
前記一方の露光ユニットの露光光の出射方向と、前記他方の露光ユニットの露光光の出射方向とは相対するものであることを特徴とするスキャン露光装置。
【請求項２】
前記一方の露光ユニットは、前記基板の搬送方向における上流側に配置され、その光源は露光光を、前記基板の搬送方向の後方側に向けて垂直から傾斜するように出射し、前記反射部材により、反射した露光光は、前記基板の搬送方向の前方側に向けて垂直から傾斜する方向に向かうことを特徴とする請求項１に記載のスキャン露光装置。
【請求項３】
前記一方の露光ユニットは、前記基板の搬送方向における下流側に配置され、その光源は露光光を、前記基板の搬送方向の前方側に向けて垂直から傾斜するように出射し、前記反射部材により、反射した露光光は、前記基板の搬送方向の後方側に向けて垂直から傾斜する方向に向かうことを特徴とする請求項１に記載のスキャン露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光対象の基板を一方向に搬送しつつ、搬送方向に直角の方向に複数個配列された２列のマスクに対し、複数個の光源から鉛直方向に対して傾斜する方向に露光光を照射して、各マスクを透過した露光光を基板に照射するスキャン露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、小型のマスクを複数列に並べ、各マスクに対して光源から露光光を照射することにより、１枚の基板に対して、その全体の領域を露光する露光装置がある（特許文献１）。図４は、その露光装置の平面配置を示す模式図である。基板１は、白抜き矢印にて示す方向に搬送される。この基板搬送域の途中に、第１露光領域２と第２露光領域３とが基板搬送方向にこの順に配置されており、第１露光領域２には、例えば、３個のマスク２ａ、２ｂ、２ｃが、スキャン方向に直角の方向に配列されており、第２露光領域３には、例えば、２個のマスク３ａ，３ｂが、スキャン方向に直角の方向に配列されている。各マスクには、露光光を透過する開口部４が形成されている。第１露光領域２のマスク２ａ、２ｃは、基板１のスキャン方向に直交する方向（以下，基板幅方向という）の両端部までの領域を露光するためのものであり、マスク２ｂは、基板１の基板幅方向の中央の領域を露光するためのものである。第２露光領域３のマスク３ａは、マスク２ａとマスク２ｂとの間の隙間の領域を露光するためのものであり、マスク３ｂは、マスク２ｂとマスク２ｃとの間の隙間の領域を露光するためのものである。これらのマスク２ａ〜２ｃ、マスク３ａ、３ｂにより、基板１の基板幅方向の全域が露光される。
【０００３】
従来の複数個のマスクを複数列に配列したスキャン露光装置においては、図５に示すように、マスク２ａ〜２ｃ、マスク３ａ，３ｂは、ホルダ６に支持されており、各マスク２ａ〜２ｃ，３ａ，３ｂは、制御ユニット５により、マスクの位置及び姿勢が制御されている。そして、第１の露光領域２においては、各マスク２ａ〜２ｃに対し、夫々光源７から垂直方向に対して傾斜した方向に露光光９が照射され、第２の露光領域３においては、各マスク３ａ、３ｂに対して、夫々光源８から垂直方向に対して傾斜した方向に露光光１０が照射される。
【０００４】
基板１は、白抜き矢印にて示す方向に搬送され、この搬送の過程で、第１の搬送領域１１にて、光源７から露光光９が出射され、第１露光領域のマスク２ａ〜２ｃを介して、露光光９が照射される。また、第２の搬送領域１２にて、光源８から露光光１０が出射され、第２露光領域のマスク３ａ、３ｂを介して、露光光１０が照射される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】ＷＯ２００７／１１３９３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、この従来のスキャン露光装置においては、基板搬送方向に、複数列、例えば２列に複数個のマスクを配置して、第１露光領域２及び第２露光領域３の２段に分けて基板を露光しており、各マスクに対して露光光を照射するための光源７，８を、相互に干渉しないように、設ける必要があることから、第１搬送領域１１及び第２搬送領域１２の長さが長くなり、装置全体として、大きなスペースが必要になるという問題点がある。
【０００７】
特に、図５に示すように、光源７，８から垂直方向に対して傾斜した方向に露光光を出射して、マスク又は基板に対して光軸を傾斜させて露光光を照射する露光装置においては、マスク２ａ〜２ｃ、３ａ、３ｂ及びそのホルダ６のスペースと、光源７，８のスペースとが必要であり、第１搬送領域１１及び第２搬送領域１２の長さが夫々例えば４ｍと、著しく長くなる。
【０００８】
このため、平面視で見て、第１露光領域２及び第２露光領域３の他に、光源７及び光源８を配置するスペースが必要となり、第１露光領域２と第２露光領域３とを、大きく離隔させる必要があり、装置全体が大型化してしまうという問題点がある。また、第１搬送領域１１と第２搬送領域１２の長さが長いために、第１搬送領域１１用の搬送装置と、第２搬送領域１２用の搬送装置とを、別個に設けて、搬送系をつなぐ必要が生じ、装置構成が煩雑である。
【０００９】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、装置全体の大きさを小さくすることができ、基板搬送系の長さを短くすることができ、これにより、搬送系を単独の装置で組み立てることができるスキャン露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係るスキャン露光装置は、
基板を一方向に搬送する搬送装置と、
この基板の搬送方向に離隔して、２個設けられた露光ユニットと、
を有するスキャン露光装置において、
前記各露光ユニットは、
前記基板の搬送方向に直角の方向に配列された複数個のマスクと、
前記マスクに対して、垂直方向に傾斜する方向に露光光を照射する光源と、
を有し、
一方の露光ユニットのマスクと、他方の露光ユニットのマスクとは、スキャン方向に直角な方向に関して、互い違いに配置されており、
前記一方の露光ユニットは、更に、前記露光光を対応するマスクに向けて反射する反射部材を有し、この反射部材で反射した露光光が、前記他方の露光ユニットの前記光源から出射した露光光と、平行になって、それらの対応するマスクに入射するものであり、
前記一方の露光ユニットの露光光の出射方向と、前記他方の露光ユニットの露光光の出射方向とは相対するものであることを特徴とする。
【００１１】
このスキャン露光装置において、例えば、前記一方の露光ユニットが、前記基板の搬送方向における上流側に配置された場合、その光源は露光光を、前記基板の搬送方向の後方側に向けて垂直から傾斜するように出射し、前記反射部材により、反射した露光光は、前記基板の搬送方向の前方側に向けて垂直から傾斜する方向に向かうように構成することができる。
【００１２】
また、例えば、前記一方の露光ユニットが、前記基板の搬送方向における下流側に配置された場合は、その光源は露光光を、前記基板の搬送方向の前方側に向けて垂直から傾斜するように出射し、前記反射部材により、反射した露光光は、前記基板の搬送方向の後方側に向けて垂直から傾斜する方向に向かうように構成することができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、基板搬送方向に離隔する２個の露光ユニットは、その光源から露光光を相対する方向に出射し、一方の露光装置の露光光を反射部材で反射させて、他方の露光装置の露光光と平行にした後、各対応するマスクに入射させ、基板に照射するので、従来同様に、垂直方向から同一方向に傾斜した露光光をマスク及び基板に照射できると共に、搬送領域の長さを短縮することができる。これにより、装置全体の小型化が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の第１実施形態に係るスキャン露光装置を示す正面模式図である。
【図２】本発明の第２実施形態に係るスキャン露光装置を示す正面模式図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係るスキャン露光装置の平面模式図である。
【図４】従来のスキャン露光装置を示す平面模式図である。
【図５】従来のスキャン露光装置の正面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態について、添付の図面を参照して具体的に説明する。図１は本発明の第１実施形態に係るスキャン露光装置を示す正面模式図、図３は同じくその平面模式図である。基板１の搬送方向（白抜き矢印にて示す）に、第１露光領域２２と第２露光領域２３とがこの順に配置されており、第１露光領域２２においては、露光光の光源３７と、反射部材３３と、マスク３１とが配置されている。また、第２露光領域２３においては、露光光の光源３８と、マスク３２とが配置されている。マスク３１及び３２は、ホルダ３６に支持されており、マスク３１及び３２の近傍には、マスクの位置及び姿勢を制御する制御ユニット３５が設置されている。
【００１６】
第１露光領域２２の光源３７は、露光光２５を、垂直方向から、基板搬送方向の順方向側に向けて傾斜させて、出射する。そして、この露光光の光軸の途中に、反射部材３３として、例えば、平面鏡が配置されており、この反射部材３３で反射した露光光は、この反射部材３３よりも、基板搬送方向の上流側に配置されたマスク３１に、垂直方向に対し、基板搬送方向の上流側に向けて傾斜した光として、照射される。なお、露光光は、通常、紫外光であるが、反射部材３３で反射した後の紫外光の偏光特性は維持される。即ち、反射部材３３で反射した後のＰ波とＳ波の消光比は維持される。
【００１７】
一方、第２露光領域２３の光源３８は、露光光２６を、垂直方向から、基板搬送方向の逆方向に向けて傾斜させて、出射する。そして、露光光２５は反射部材３３により反射してマスク３１に対して基板搬送方向の逆方向に向けて傾斜して入射するので、光源３７から出射したときの露光光の光軸の垂直方向となす角度を、光源３８から出射した露光光の光軸の垂直方向となす角度に一致させ、反射部材３３をその面が垂直の平面鏡とすると、マスク３１に入射する露光光の垂直方向から傾斜する角度と、マスク３２に入射する露光光の垂直方向から傾斜する角度とを一致させることができ、マスク３１に対する露光光とマスク３２に対する露光光を平行光とすることができる。
【００１８】
上述の構成とすることにより、露光工程で、基板を搬送する搬送領域２４の長さは、従来よりも著しく短くすることができる。
【００１９】
このマスク３１、光源３７及び反射部材３３は、１個の露光ヘッドＡ１（又はＡ２，ＡＡ３，Ａ４）を構成し、マスク３２及び光源３８は、１個の露光ヘッドＢ１（又はＢ２，Ｂ３，Ｂ４）を構成する。そして、全ての露光ヘッドＡ１〜Ａ４により、基板搬送方向上流側の露光ユニット４３が構成され、全ての露光ヘッドＢ１〜Ｂ４により、基板搬送方向下流側の露光ユニット４４が構成される。そして、各露光ヘッドには、１個のマスクが設けられており、露光ヘッドＡ１〜Ａ４のマスク３１と、露光ヘッドＢ１〜Ｂ４のマスク３２とは、基板搬送方向に直角の方向について、互い違いになるように配置されている。これらの露光ヘッドＡ１〜Ａ４及びＢ１〜Ｂ４は、基板１の幅寸法に応じて適宜選択されて、露光に使用される。
【００２０】
そして、露光ヘッドＡ１〜Ａ４と、露光ヘッドＢ１〜Ｂ４との間に、マスク交換用の軸４０が配置されており、この軸４０の一方の端部に、交換用の第１露光領域用マスク３１ａと、交換用の第２露光領域用マスク３２ａとが設置されている。そして、第１露光領域用マスク３１ａは、経路４１と軸４０を介して、露光ヘッドＡ１〜Ａ４に送出されて、その露光ヘッドに装着されていたマスクと交換され、第２露光領域用マスク３２ａは、経路４２と軸４０を介して、露光ヘッドＢ１〜Ｂ４に送出されて、その露光ヘッドに装着されていたマスクと交換される。
【００２１】
次に、上述のごとく構成されたスキャン露光装置の動作について説明する。図１に示すように、基板１は、白抜き矢印方向に搬送され、第１露光領域２２において、光源３７から出射した露光光が反射部材３３で反射してマスク３１に入射し、マスク３１を透過した露光光が基板１に照射される。また、第２露光領域２３において、光源３８から出射した露光光が直接マスク３２に入射して、マスク３２を透過した露光光が基板１に照射される。これにより、図５に示す従来技術と同様に、基板１に対して、基板搬送方向に向かう方向に垂直方向から傾斜する露光光が、相互に平行光となって、照射される。本実施形態においては、光源３７と光源３８とを対向させて配置し、相互に近づく方向に露光光を出射するので、第１露光領域２２と第２露光領域２３との間隔を近接したものとすることができる。このため、露光時の基板の搬送領域２４の長さを、従来の搬送領域１１，１２の長さよりも著しく短縮することができ、この搬送領域２４において、基板１を単独の搬送装置で搬送することができる。
【００２２】
従って、本実施形態においては、装置全体の大きさを小さくすることができ、設置スペースの削減が可能である。また、本実施形態においては、単独の搬送装置で、露光領域を基板搬送することができるので、装置の設置コストも低減することができる。
【００２３】
また、図３に示すように、各露光ヘッドにおけるマスクの交換を、１本の軸４０で行うことができ、このマスク交換用の装置も削減することができる。
【００２４】
次に、本発明の第２実施形態について、図２を参照して説明する。図２に示すように、本実施形態は、基板１の搬送方向の下流側に設けられた光源３８からの露光光２６を、反射部材３３により反射して、反射後の露光光２６をマスク３２を介して、基板１に照射するものである。光源３７からの露光光２５は、そのまま、マスク３１を介して基板１に照射する。この場合に、露光光２５、２６は、マスク３１，３２及び基板１に対して、垂直方向から傾斜して照射されるが、その傾斜する方向は、図１に示す第１実施形態と異なり、垂直方向から、基板１の搬送方向の下流側に向かう方向に傾斜するものである。
【００２５】
本実施形態においても、光源３８は、露光光２６を、基板１の搬送方向の前方側に向けて垂直から傾斜するように出射する。この露光光２６は、反射部材３３により反射して、基板１の搬送方向の後方側に向けて垂直から傾斜する方向に進行する。光源３７からの露光光２５は、基板１の搬送方向の後方側に向けて垂直から傾斜する方向に出射する。そして、露光光２５，２６は相互に平行になってマスク３１，３２及び基板１に入射する。従って、本実施形態も第１実施形態と同様に、装置全体が小型化し、設置スペースが小さくて済むと共に、露光領域における基板搬送系も単独の搬送装置で足りる。
【符号の説明】
【００２６】
１：基板
２，２２：第１露光領域
３，２３：第２露光領域
２ａ〜２ｃ、３ａ、３ｂ、３１，３２：マスク
４：開口部
７，８，３７，３８：光源
９，１０，２５，２６：露光光
３３：反射部材
４３，４４：露光ユニット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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