(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学式結像装置であって、
光線経路に配置された複数の光学素子と、
開口部、第１領域、および第２領域を有するダイアフラムであり、該ダイアフラムの前記第２領域が、前記ダイアフラムの径方向に沿って前記ダイアフラムの前記第１領域の内側に延在する、ダイアフラムと、
前記ダイアフラムを格納可能な格納部と、を備え、
前記格納部は、前記複数の光学素子の前記光線経路外に配置され、
前記ダイアフラムは、前記格納部内の第１位置と、前記光線経路内の第２位置との間で移動可能であり、
前記ダイアフラムの前記第２領域は、前記ダイアフラムの第１領域に対して、前記ダイアフラムの径方向に対して垂直方向に沿って外側に延在する、
ことを特徴とする光学式結像装置。
【請求項２】
前記ダイアフラムの前記第２領域は前記ダイアフラムの前記開口を画定することを特徴とする、請求項１に記載の光学式結像装置。
【請求項３】
前記ダイアフラムは前記第２位置に位置し、
前記複数の光学素子は、前記ダイアフラムの最も近くに位置する第１光学素子を含み、
前記ダイアフラムの前記第２領域と前記第１光学素子との間の距離は、前記ダイアフラムの前記第１領域と前記第１光学素子との間の距離よりも短いことを特徴とする、請求項１に記載の光学式結像装置。
【請求項４】
前記ダイアフラムは、前記第１および第２領域の間に第３領域を有し、前記ダイアフラムの前記第３領域は、前記ダイアフラムの前記第１および第２領域に対して平行ではないことを特徴とする、請求項１に記載の光学式結像装置。
【請求項５】
前記ダイアフラムの前記第１領域は、前記ダイアフラムの前記第２領域に対して平行であることを特徴とする、請求項１又は４に記載の光学式結像装置。
【請求項６】
前記複数の光学素子は少なくとも１つのミラーを含む、請求項１に記載の光学式結像装置。
【請求項７】
前記複数の光学素子は、極紫外線について使用されるように構成されたことを特徴とする、請求項１に記載の光学式結像装置。
【請求項８】
前記光学式結像装置は、対物レンズを含み、
該対物レンズは、前記光線経路を有する前記複数の光学素子を含むことを特徴とする、請求項１に記載の光学式結像装置。
【請求項９】
前記対物レンズは、さらにハウジングを含み、前記複数の光学素子は前記ハウジング内に配置されることを特徴とする、請求項８に記載の光学式結像装置。
【請求項１０】
前記格納装置は前記ハウジング外に配置されることを特徴とする、請求項９に記載の光学式結像装置。
【請求項１１】
前記ハウジングは、前記ダイアフラムが前記第１位置と前記第２位置との間を移動する際に通過可能に構成された開口を有することを特徴とする、請求項１０に記載の光学式結像装置。
【請求項１２】
前記格納部は複数のダイアフラムを備え、
該複数のダイアフラムは、開口、第１領域および第２領域を有する他のダイアフラムを含み、前記他のダイアフラムの前記第２領域が、前記他のダイアフラムの径方向に沿って前記他のダイアフラムの前記第一領域の内側に延在し、
前記他のダイアフラムは、前記格納部内の第１位置と、前記光線経路内の第２位置との間で移動可能であり、
前記他のダイアフラムの前記第２領域は、前記他のダイアフラムの第１領域に対して、前記他のダイアフラムの径方向に対して垂直方向に沿って外側に延在する、
ことを特徴とする、請求項1に記載の光学式結像装置。
【請求項１３】
光線経路を有し、開口部を有するハウジングおよび前記光線経路内に配置されたミラーを備えるマイクロリソグラフィ対物レンズと、
開口部、第１領域および第２領域を有するダイアフラムであり、該ダイアフラムの前記第２領域が、前記ダイアフラムの径方向に沿って前記ダイアフラムの前記第一領域の内側に延在し、前記ダイアフラムの前記第２領域は前記ダイアフラムの前記開口を画定する、ダイアフラムと、
前記ダイアフラムを格納可能な格納部と、を備え、
前記格納部は前記ハウジング外に配置され、
前記ダイアフラムは、前記ハウジング内の開口部を介して、前記格納部内の第１位置と、前記光線経路内の第２位置との間で移動可能であり、
前記ダイアフラムの前記第２領域は、前記ダイアフラムの第１領域に対して、前記ダイアフラムの径方向に対して垂直方向に沿って外側に延在する、
ことを特徴とする、システム。
【請求項１４】
前記ダイアフラムが前記第２位置にあるときに、前記ミラーは前記ハウジング内において前記ダイアフラムに最も近い光学素子であり、前記ダイアフラムの前記第２領域と前記ミラーとの間の距離は、前記ダイアフラムの前記第１領域と前記ミラーとの間の距離よりも短いことを特徴とする請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記ダイアフラムは、前記第１および第２領域の間に第３領域を有し、前記ダイアフラムの前記第３領域は、前記ダイアフラムの前記第１および第２領域に対して平行ではないことを特徴とする、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１６】
前記ダイアフラムの前記第１領域は、前記ダイアフラムの前記第２領域に対して平行であることを特徴とする、請求項１３又は１５に記載のシステム。
【請求項１７】
マイクロリソグラフィ対物レンズのハウジング外の第１位置から前記マイクロリソグラフィ対物レンズの光線経路内の第２位置にダイアフラムを移動させるステップを含み、
前記ダイアフラムは開口部、第１領域、および前記ダイアフラムの径方向に沿って前記第１領域の内側に延在する第２領域を有し、前記ダイアフラムの前記第２領域は前記ダイアフラムの第１領域に対して、前記ダイアフラムの径方向に対して垂直方向で外側に延在することを特徴とする方法。
【請求項１８】
前記ダイアフラムの前記開口部は前記ダイアフラムの径方向で円形である、請求項１に記載の光学式結像装置。
【請求項１９】
前記ダイアフラムの前記開口部は前記ダイアフラムの径方向で円形である、請求項１３に記載のシステム。
【請求項２０】
前記ダイアフラムの前記開口部は前記ダイアフラムの径方向で円形である、請求項１７に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学式結像装置、特に、半導体素子製造用ＥＵＶＬ分野におけるマイクロリソグラフィを目的とし、光線経路と、複数の光学素子と、調整可能なダイアフラム開口部形状を有するダイアフラム装置とを備えたものに関する。
【背景技術】
【０００２】
光学式結像装置のシステムダイアフラムとして、種々のダイアフラムが利用されていることが一般的に知られている。光学式結像装置の光線経路における光線束の直径は、特に、開口径を変更可能なこれらダイアフラムによって変更することができる。
【０００３】
一般的に鎌形状からなり、一端が固定マウントに回転自在に支持された薄いブレイドを少なくとも４つ、大抵はそれ以上備えた所謂アイリスダイアフラムが特に普及している。この配置では、ブレイドの他端が、回転リングの溝やスロットに挿入されたピンを備えた案内装置として設けられ、回転リングが回転することによって、ブレイドが移動し、ダイアフラムの残存開口径を変更できる。
【０００４】
ドイツ特許公報ＤＥ １０１ １１ ２９９ Ａ１は、そのようなアイリスダイアフラムを開示しており、特に、半導体リソグラフィにおける露光目的のものであって、複数のブレイドを備え、これらのブレイドが案内部材によって案内され、ダイアフラムの開口部を調整する目的で設けられた少なくとも１つの駆動装置によって、これらのブレイドが駆動可能なものを開示している。案内部材は、アイリスダイアフラムの光軸に対する放射方向で少なくともほぼ直線的にブレイドを移動可能に設計されている。
【０００５】
ドイツ特許公報ＤＥ １９９ ５５ ９８４ Ａ１は、光学式結像装置を絞るための更なるダイアフラムを開示している。
既知のダイアフラムのうち、特に、ブレイドによって連続的な調整が可能なアイリスダイアフラムは、主にＥＵＶＬ分野におけるマイクロリソグラフィ用の光学システムを絞る用途には不適合となっている。それは、この分野において、取付可能な空間に関してより厳しい要求がなされ、これらの構造では満たし得なくなっているからである。
【０００６】
そこで、小さな取付空間しか必要としないダイアフラムを用いて絞ることが可能な最初に述べた形式の光学結像装置を開発することを本発明の目的とする。
この目的は、ダイアフラム装置が、複数の異なるダイアフラム開口部を格納したダイアフラム格納部を備え、各ダイアフラム開口部が、固定された形状を有し、光線経路に導入され得るという事実に基づく本発明により達成される。
【０００７】
本発明による方策は、単純且つ有利な方法で、ダイアフラム開口部形状が不変で、非常に小さな空間に格納可能なダイアフラム機構を備えた光学式結像装置を開発することである。ダイアフラム開口部形状の幾何学形状に制限がなく、円形や、楕円形、または他の幾何学形状をダイアフラム開口部に用いることができる。既知のブレイド型アイリスダイアフラムに対して、移動される質量が比較的小さく、光学式結像装置におけるダイアフラムの交換を非常に迅速に行うことができる。最も多彩な形式の複数のダイアフラムが、ダイアフラム開口部を備えた既存のダイアフラム格納部によって使用されるようになる。
【０００８】
ダイアフラム格納部が回転ディスクダイアフラム群として設計される場合、具体的には、ダイアフラム格納部が光学式結像装置の外部に配置される場合、更に、ダイアフラム開口部を設けられた複数の回転ディスクダイアフラムを備え、更に、具体的には、回転ディスクダイアフラムが別体のプラグインユニットに収容される場合に、非常に有利である。
【０００９】
これらの方策によって、具体的には、光学式結像装置外部におけるダイアフラム装置の設計における更なる空間の節約が可能となる。その結果、回転ディスクダイアグラム群に比較的多くの異なる回転ディスクダイアフラムを積み重ねることができる。内部に配置することと対比してみると、光学式結像装置外部にダイアフラム装置を配置することは、更に、ダイアフラム装置による光学式結像装置の汚染を最小限にする。更に、このダイアフラム装置は、光学式結像装置における光学素子にひどい振動を誘発しないように光学式結像装置と力学的に分離することができる。
【００１０】
更に、２つのローラに巻かれて張力がかけられた板金ストリップをダイアフラム格納部として設け、この板金ストリップが複数の固定形状のダイアフラム開口部を備え、具体的には、種々の固定形状のダイアフラム開口部を複数備え、ローラを回転させてダイアフラム開口部を変更することで、ダイアフラムの調整が可能である本発明の一体構造形態を提供できる。
【００１１】
この結果、各種のダイアフラムの非常に高い動的調整が可能となり、各種のダイアフラムを非常に小さな空間に格納することができる。移動される質量が比較的小さく、ダイアフラム開口部の幾何学形状に制限がない。ダイアフラムの交換を迅速に行うことができる。
【００１２】
本発明の有利な改良と展開は、更なる従属請求項に挙げられている。本発明の各実施形態は、図面を用いて以下に概ね説明されている。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１ａ】標準的な光線経路を有した、ＥＵＶＬ分野におけるマイクロリソグラフィを行うための投影対物レンズの詳細を示す。
【図１ｂ】図１ａにおける投影対物レンズに適した回転ディスクダイアフラムの上面図を示す。
【図２】図１ａにおける投影対物レンズの光線経路に導入可能な複数の回転ディスクダイアフラムを備えた回転ディスクダイアフラム群の説明図を示す。
【図３】ａ〜ｃは、回転ディスクダイアフラムの３つの実施形態の側面図を示す。
【図４ａ】回転ディスクダイアフラム群を備えたダイアフラム装置の一実施形態の説明図を示す。
【図４ｂ】回転ディスクダイアフラム群を備えたダイアフラム装置の一実施形態の説明図を示す。
【図４ｃ】回転ディスクダイアフラム群を備えたダイアフラム装置の一実施形態の説明図を示す。
【図５】リフト装置と、保持装置と、回転ディスクダイアフラムの絞りとしてのスプリング部材とを備えたダイアフラム装置の図を示す。
【図６ａ】回転ディスクダイアフラムの位置決めをする電磁保持装置の一実施形態の説明図を示す。
【図６ｂ】回転ディスクダイアフラムの位置決めをする電磁保持装置の一実施形態の説明図を示す。
【図６ｃ】回転ディスクダイアフラムの位置決めをする電磁保持装置の一実施形態の説明図を示す。
【図７ａ】ミラーの汚染監視手段の一実施形態の説明図を示す。
【図７ｂ】ミラーの汚染監視手段の一実施形態の説明図を示す。
【図８】リフト装置を備えた独創的な外部ダイアフラム装置の側面図を示す。
【図９】リスト装置を備えたダイアフラム装置の更なる実施形態の側面図を示す。
【図１０ａ】リフト装置の一実施形態の斜視図を示す。
【図１０ｂ】リフト装置の一実施形態の斜視図を示す。
【図１０ｃ】リフト装置の一実施形態の斜視図を示す。
【図１１】回転ディスクダイアフラム群を降ろすロボット把持アームの斜視図を示す。
【図１２】板金ストリップを巻かれた２つのローラを備えたダイアフラム装置の更なる実施形態の斜視図を示す。
【図１３】図１２のダイアフラム装置の側面図を示す。
【図１４】光源、照明システム、投影対物レンズを備えたＥＵＶ投射露光装置の設計原理を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
図１ａは、ＥＵＶＬ分野で使用される投影対物レンズ１の詳細を示している。投影対物レンズ１は、投影対物レンズ１における破線で描かれたハウジング１ａに付設されたミラー３間に標準的な光線経路２と、対象面４（図１４に詳細を説明する）とを有している。
【００１５】
光線経路２内に配設されているのは、投影対物レンズ１の光線を絞るためのダイアフラム開口部６を有したダイアフラム５である。図に示すように、ここでは、ダイアフラム５の特性と取付空間に関して厳しい要求がなされている。この要求は、主に円で強調されたダイアフラム５の側面５’に対してされている。したがって、図１ｂに図示されているように、ダイアフラム開口部６は、中心からずらされているべきである。ダイアフラム５におけるダイアフラム開口部６のこのような不可欠な配置と、投影対物レンズ１における小さな取付空間とが、従来の連続的に調整可能な（例えば、ブレイドによる）アイリスダイアフラムをこのような投影対物レンズ１、特に、ＥＵＶＬ分野における動作波長に使用することを困難にしている。
【００１６】
図２は、投影対物レンズ１の詳細を示す。投影対物レンズ１は、回転ディスクダイアフラム群７ａ，７ｂを有するダイアフラム装置７を備える。回転ディスクダイアフラム群７ａ，７ｂは、個別のダイアフラム５を備える。ダイアフラム５は、固定された形状を有する（図１ｂ参照）回転ディスクダイアフラムとして設計され、上下に積み重ねられている。ダイアフラム開口部６は、図示された円形状に代えて、楕円形やその他の形状となっていてもよい。回転ディスクダイアフラム５は、好ましくは、ダイアフラム群７ａ，ｂ内の第１位置から、矢印８で示された方向に沿って、投影対物レンズ１の光線経路２内の第２位置へ導入され、作動位置９（点線で示す）へ至る。図１ｂに示すように、回転ディスクダイアフラム５は、光線に隣接する側に幅の狭い縁を備え、残りの外周全体に幅が広い縁を備えるように成形されている。
【００１７】
図３ａ〜図３ｃに示すように、光線方向の上流側に配設されたミラー３に対する回転ディスクダイアフラム５ａ〜５ｃの最適な物理的間隔は、ダイアフラムのサイズの違いによって異なる。これを確実にするため、回転ディスクダイアフラム５ａ〜５ｃをミラー３に対して一定の高さｈに配置する際に、ミラー３には、これらの配置のレンジ１０に対して異なる高さが付与される。ダイアフラム５ｂおよび５ｃは、それぞれ、第１領域Ｉおよび第２領域ＩＩを有し、第２領域Ｉは、ダイアフラム５ｂおよび５ｃの径方向に沿って第１領域Ｉの内側に位置する。さらに、ダイアフラム５ｂおよび５ｃは、第１領域Ｉおよび第２領域ＩＩの間に、第１領域Ｉおよび第２領域ＩＩに対して平行ではない第３領域ＩＩＩを有する。
【００１８】
図４ａに図示するように、回転ディスクダイアフラム群７ａは、複数の回転ディスクダイアフラム５を備え、これら回転ディスクダイアフラム５は、個別のプラグインユニット１１に収容されている。各プラグインユニット１１は、全てのプラグインユニット１１に対して共通な連接部材（図示せず）によって、個別に回し出される（図４ａの矢印１２によって示す）。いずれ後述するように、この回し出されによって、各回転ディスクダイアフラム５が回し出されたのち、投影対物レンズ１の光線経路２を通って作動位置９へとリフトされ得る（図４ａに点線矢印８によって示す）。プラグインユニット１１の回転動作は、歯車駆動部によってなされる。歯車駆動部は、リフト機構もしくはモジュールハウジングに取り付けられ、プラグインユニット１１が通過する際に当該駆動部の歯車の歯を動かすように配置される。あるいは、他の実施形態においては、他の駆動機構、具体的には、摩擦車、電磁クラッチ、あるいはロータが組み込まれた特別なモータをプラグインユニット１１に設けることも可能であると考えられる。
【００１９】
本実施形態では、プラグインユニット１１は全て同一の高さを有している。しかしながら他の実施形態では、種々のサイズのダイアフラム（図３ａ〜３ｃを比較）を使用できるように、これらのプラグインユニット１１は異なる高さを有していてもよい。
【００２０】
回転ディスクダイアフラム５が作動位置９へ到達すると、回転ディスクダイアフラム５は、保持装置もしくは絞り１３に連結する。保持装置１３によって、回転ディスクダイアフラム５を繰り返しマイクロメートル範囲で精密に位置決めできる。これにより、個別のプラグインユニット１１や、全体的なリフト機構（矢印８で示す）の精度要求が削減される。
【００２１】
図４ｂから明らかなように、別の実施形態においては、作動位置９へ回転ディスクダイアフラム５をリフトする代わりに、適切な回転ディスクダイアフラム５が保持装置１３と実質的に同じ高さに到達するまで回転ディスクダイアフラム群７ｂを垂直方向（矢印８’で示す）に移動させたのち、適切な回転ディスクダイアフラム５を収容したプラグインユニット１１を回し出し、更に一可能性として僅かな垂直移動（矢印８）を加えて、保持装置１３に連結することも可能である。この実施形態は、ダイアフラム交換機構がミラー３の前に非常に小さな空間を必要とするだけで、この空間を追加システム（ミラークリーニングシステムなど）のために空けることができるという利点がある。垂直移動可能な回転ディスクダイアフラム群７ｂの作動領域１４は、図４ｃにおいて、破線もしくは点線で図示されている。追加システム１５のための自由領域１５も同様である。
【００２２】
特に、ＥＵＶＬ分野において、投影対物レンズ１は、例えばミラー３といった投影対物レンズ１における個別の光学素子の互いに対する動きとこれらの取付機構に対する動きとの双方に対して非常に敏感である。干渉的な振動の伝達を最小限とするために、投影対物レンズ１は、振動から分離されている。更に、投影対物レンズ１内部の個別の部材は、互いに堅く（高い固有振動数を有するよう）連結されており、通常は低い振動数からなる残留振動によって揺動しても、剛体として互いに動くようになっている。
【００２３】
全体として十分に高い固有振動数を有するダイアフラム装置７の実施形態を開発するのは困難である。そのためには、比較的大きな質量を移動させなければならないとともに、取付空間が制限されているからである。結果として、動力運動（振動）は、ダイアフラム装置７によって投影対物レンズ１全体に伝達される。しかしながら、投影対物レンズ１の他の光学素子に対するダイアフラム５の相対位置は、一般的に、あまり重大ではない。
【００２４】
この問題に対する可能な解決策は、ダイアフラム装置７全体を投影対物レンズ１から力学的に分離した別体の機構に取り付けることである。しかしながら、これでは、投影対物レンズ１にてダイアフラムを正確に位置決めすることがより難しくなる。
【００２５】
別の解決策は、選択された回転ディスクダイアフラム５を保持装置１３とともにダイアフラム装置７の他の部分（回転ディスクダイアフラム群７ａ，７ｂ、プラグインユニット１１、リフト機構、ハウジングなど）から分離して、これらを異なる構造体に配設し、保持装置１３を光学式結像装置もしくは投影対物レンズ１に直接固定することである。ダイアフラム装置７の他の部分は、別体の機構に取り付ければよい。
【００２６】
別の可能な解決策は、保持装置１３とリフト機構１６との双方を投影対物レンズ１に固定するとともに、ダイアフラム装置７の他の部分を別体の構造体に取り付けることである。
保持装置１３によって、回転ディスクダイアフラム５は、確実に、６自由度を有する状態で、投影対物レンズ１に対して精密に位置決めされる。更に、重力や他の干渉力に抗して、回転ディスクダイアフラム５を保持装置３に保持もしくは固定する必要もある。ミラー表面を粒子で汚染してしまうことを防止するために、回転ディスクダイアフラム５は、できる限り静かに固定されるべきである。
【００２７】
図５に描かれているように、回転ディスクダイアフラム５は、リフト装置１６によって離脱位置から作動位置９へと搬送され、そこで保持装置１３に保持される。図５に図示されたダイアフラム装置７の場合、主としてダイアフラム交換機構における回転機構を用いることが好ましい。それは、並進機構に比べ、例えば摩擦力によって生じる、汚染を引き起こす粒子がほとんど発生しないからである。図５に更に図示されているように、保持装置１３において回転ディスクダイアフラム５を保持する実質的に一定の力は、剛性の低いスプリング部材１７による単純且つ有利な方法で発生されている。スプリング部材１７は、回転ディスクダイアフラム５の作動位置９に対してスプリング部材１７が大きな圧縮偏差を生じてしまうことを防止するために、予め圧縮されているべきである。矢印１８は、投影対物レンズ１における分離配置されたハウジング１ａ（破線で示す）と、同様に分離配置された投影対物レンズ１の残りの部分（破線ボックス１９）との力学的な分離もしくは振動の分離を表している。
【００２８】
図６ａ〜６ｃは、回転ディスクダイアフラム５を固定及び／または位置決めする保持装置１３の種々の実施形態を図示している。
【００２９】
図６ａから明らかなように、保持装置１３ａは、永久磁石２０と、コイル巻線２２を施された軟鋼コア２１とを備えている。回転ディスクダイアフラム５（ここでは詳細を図示せず）も同様に、軟鋼コア２１’を対向側に備え、その電磁力によって保持されている。これは、更なる粒子汚染の事例につながり得る、むき出しの機械的可動部品をごく僅かにする、もしくは一切なくすという効果がある。
【００３０】
図６ｂに図示されているように、保持装置１３ｂは、部品２３に設けられ、固定部品２３’と永久磁石２０とを備える。回転ディスクダイアフラム５は、軟鋼コア２１を備え、それによって回転ディスクダイアフラム５は保持装置１３ｂに保持される。加えて、リフト装置１６（図６ｂでは詳細を図示せず）は、切替可能な電磁石２０’を備え、電磁石２０’は、ダイアフラム交換時に保持装置１３ｂからダイアフラムを緩めるように切り替えられる。
【００３１】
図６ｃに図示されているのは、第３実施形態の保持装置１３ｃであり、本質的に図６ｂの保持装置１３ｂに相当している。回転ディスクダイアフラム５の切欠２５に係合した柔軟なスプリング部材２４がこの実施形態では更に挿入されている。
【００３２】
図７ａは、保持装置１３ｄを回転ディスクダイアフラム５ｄとともに示している。ここでは、更にミラー汚染監視手段が設けられている。これは、回転ディスクダイアフラム５の開口部に沿って配設された複数の細いタングステン導線２６によって達成されている。この目的のため、回転ディスクダイアフラム５ｄは、例えばセラミックやこれに類似した絶縁材料から作られている。タングステン導線２６との電気的接続は、回転ディスクダイアフラム５ｄの軸受部位２７上の３つの接点で達成されている。
【００３３】
図７ｂは、汚染監視手段の別実施形態を示している。ここでは、複数のタングステン導線２６は、リフト装置１６に一体化されている。
【００３４】
図８に示されているように、垂直方向に移動可能な回転ディスクダイアフラム群７ｂは、投影対物レンズ１の外部、もしくは、そのハウジング１ａの外部に配設されている。これは、投影対物レンズ１を回転ディスクダイアフラム群７ｂによる汚染から保護するものである。回転ディスクダイアフラム群７ｂは、可動するロボット把持アームとして設計された供給装置２８を設けられている。供給装置２８は、回転ディスクダイアフラム群７ｂから対応する回転ディスクダイアフラム５を取り出し、回転ディスクダイアフラム５を投影対物レンズ１の光線経路２へ挿入するために設けられた開口部２９を介して、回転ディスクダイアフラム５を投影対物レンズ１の光線経路２へ挿入する。追加的なリフト装置１６’（簡略的に図示）は、同様に投影対物レンズ１の外部に配設され、回転ディスクダイアフラム５を保持装置１３へ搬送し、そして、回転ディスクダイアフラム５は、作動位置９に固定される。既に上述したように、ダイアフラム交換機構及びリフト装置１６’は、力学的に分離する方法で異なる構造体に取り付け可能である。リフト装置１６’の柔軟なスプリング１７によって力学的に分離された接続が確保される。投影対物レンズ１もしくはハウジング１ａの開口部２９は、作動中に閉鎖される。
【００３５】
図９では、リフト装置１６’’が、投影対物レンズ１のハウジング１ａ内部へ導入され、取り付けられている。粒子汚染を防止もしくは最小限にするために、互いに摺動もしくは回転する表面は極力最小限に減らされている。これは、固定結合部や適切なアクチュエータ（音声コイルアクチュエータ、ローレンツアクチュエータ）によって実現できる。表面は、分子汚染の発生を防止するために最小限にされ、更に、脱ガス率の低い適切な材質（樹脂や潤滑油が付随していない鋼）のみが使用される。軸受の潤滑は、固体結合部を使用することで省くことができる。投射光学系の構造を力学的に損なわないように、質量は小さく維持され、あるいは、リフト装置１６’’の固有振動数はできるだけ高く維持される。
【００３６】
図９から更に明らかなように、リフト装置１６’’は、回転ディスクダイアフラム５のための保持装置１３を備えている。回転ディスクダイアフラム５は、供給装置２８上に配置される板金として構成されている。供給装置２８は、ミラー３の下の投射光学系へ回転ディスクダイアフラム５を搬送する。回転ディスクダイアフラム５は、リフト装置１６’’が上昇する際に供給装置２８から持ち上げられる。リフト装置１６’’は、内部絞りの反対に駆動する。回転ディスクダイアフラム５は、自重により保持装置１３上に配置される。上方への持ち上がりは、例えば保護カバー（図１０ａと対比）によって防止できる。回転ディスクダイアフラム５は、脱落したり、ミラー３と衝突し得ない。
【００３７】
続く図１０ａ〜１０ｃは、図９のリフト装置１６’’の構造形態１６ａ，１６ｂ，１６ｃを示す。これらは、操作用の音声コイルアクチュエータ（詳細は図示せず）を備えている。回転結合部は、それぞれ固体結合部３０として設計されている。
【００３８】
図１０ａに図示したように、保護カバー３１は、揺動体として構成されたリフト装置１６ａに回転ディスクダイアフラム５を持ち上げさせてしまうことを防止する。リフト装置１６ａ〜１６ｃは、各々の持ち上がり動作の終了位置を規定する内部停止端を備えている。リフト装置１６ａのステアリング動作は、矢印３２によって示されている。
【００３９】
図１０ｂは、リフト装置１６ｂを示している。リフト装置１６ｂは、一組のスケールとして設計され、平行四辺形状のガイドを備えている。この場合、回転ディスクダイアフラム５をほぼ垂直に上方へ移動させることができるという利点がある。
【００４０】
パンタグラフ型リフト装置１６ｃが図１０ｃに描かれている。
【００４１】
図１１は、ロボット把持アームとして設計された供給装置２８を示す。回転ディスクダイアフラム５を供給装置２８のレセプタクルからリフト装置１６ａ，１６ｂ，１６ｃによって下から引き出すことができる。ロック機構３３は、搬送中に回転ディスクダイアフラム５を固定する。他の実施形態において、回転ディスクダイアフラム５は、両側から取り付けることができるように、対照的に成形されていてもよい。加えて、供給装置２８は、二重把持部として、つまり、２つの回転ディスクダイアフラム５を収容するための２つのレセプタクルを備えるように設計されていてもよい（図示せず）。それにより、ダイアフラムの交換に要する時間が実質的に短くなる。交換中、供給装置２８は、回転ディスクダイアフラム５とともに投影対物レンズ１の投射光学系へと移動する。既に投射光学系に配置され、交換される回転ディスクダイアフラム５は、第２の（空の）レセプタクルに置かれる。新たな回転ディスクダイアフラム５は、リフト装置１６ａ，１６ｂ，１６ｃによって運ばれる。それゆえ、ダイアフラムの交換中、供給装置２８の投射光学系への移動が１回少なくて済む。
【００４２】
投影対物レンズ１に用いるダイアフラム装置７’の更なる実施形態は、図１２に図示されている。ここでの大きな利点は、小さな取付空間しか必要としないにもかかわらず、ダイアフラム交換の機構が改善されたことである。図示されているように、投射光線３４は、板金ストリップ７ｃによって絞られる。板金ストリップ７ｃには、開口部３５が設けられ、開口部３５は、光学的要求に応じた最適な固定的幾何学形状を有している。板金ストリップ７ｃ上には、ダイアフラムとして更なる開口部３５が隣接して形成されている。開口部３５の配列は、要件に応じたダイアフラム交換の適切な速度を確保するために変更可能である。
【００４３】
板金ストリップ７ｃは、２つのローラ３６に巻かれている。これらは、板金ストリップ７ｃが折り目を生じないように駆動され、張力がかけられている。２つの追加的な張力案内ローラ３７は、光線方向にダイアフラムが移動することを防止するために設けられている。その結果、特に、ローラ３６（巻かれた板金ストリップ７ｃを含む）の径の変化が、板金ストリップ７ｃの傾いた位置によって顕著に影響されることはない。
【００４４】
ダイアフラム開口部３５の最適な位置は、板金ストリップ７ｃのエッジにあるマーキング３８を介して適切なセンサ（図示せず）を使用することで測定できる。しかしながら、別の実施形態における他の方法も考えられる。
【００４５】
図１２のダイアフラム装置７’の前面図は、図１３に図示されている。
【００４６】
図１４に示すように、ＥＵＶ投射露光装置４０は、光源４１と、パターンベアリングマスクが設けられた対象面４の領域を照射するＥＵＶ照明システムと、ハウジング１ａと対象面４のパターンベアリングマスクを感光性基板４３に結像する光線経路２（破線で示す）とを有する投影対物レンズ１とを備える。投影対物レンズ１を絞るダイアフラム５は、点線で示されている。
【図１ａ】
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【図１ｂ】
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【図２】
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【図３】
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【図４ａ】
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【図４ｂ】
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【図４ｃ】
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【図５】
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【図６ａ】
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【図６ｂ】
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【図６ｃ】
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【図７ａ】
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【図７ｂ】
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【図８】
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【図９】
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【図１０ａ】
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【図１０ｂ】
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【図１０ｃ】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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