(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
矩形格子状又は三角格子状に配列された複数の画素を主面に具備した表示体であって、
前記複数の画素の少なくとも１つは、
前記表示体の主面の法線と交差する斜め方向から観察する条件において所定の色を表示するように構成された少なくとも１つのサブ領域を含む複数の凹部又は凸部からなる第１領域と、前記第１領域とは異なる第２領域とを含むレリーフ構造形成層と、
前記レリーフ構造形成層との材料とは屈折率が異なる第１材料からなり、前記第１領域を被覆し、前記第１領域に対応した部分は前記第１領域の表面形状に対応した表面形状を有しており、前記第２領域の見かけ上の面積に対する前記第２領域の位置における前記第１材料の量の比は、ゼロである第１層と、
前記第１材料とは異なる第２材料からなり、前記第１層を被覆し、前記第２領域の見かけ上の面積に対する前記第２領域の位置における前記第２材料の量の比は、ゼロである第２層と
を備え、
前記表示体は、前記斜め方向から観察する条件において前記第１領域の分布に基づいた画像を表示すると共に前記表示体を透過光によって観察する条件において前記第２領域の分布に基づいた画像を表示する表示体。
【請求項２】
前記第２領域は、前記サブ領域を囲むように配置されたことを特徴とする請求項１記載の表示体。
【請求項３】
前記第２領域は、前記第１領域の見かけ上の面積に対する表面積の比と比較して、当該第２領域の見かけ上の面積に対する表面積の比がより大きい複数の凹部又は凸部からなることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の表示体。
【請求項４】
前記第２領域は、５００ｎｍ以下の中心間距離で二次元的に配置されると共に各々が順テーパ形状を有する複数の凹部又は凸部からなることを特徴とする請求項３記載の表示体。
【請求項５】
前記第１領域は、前記表示体の主面の法線と交差する斜め方向から観察する条件において赤色を表示するように構成された第１サブ領域と、当該条件において緑色を表示するように構成された第２サブ領域と、当該条件において青色を表示するように構成された第３サブ領域とを含むことを特徴とする請求項１記載の表示体。
【請求項６】
前記第２領域は、前記第１サブ領域、前記第２サブ領域及び前記第３サブ領域を個別に囲むように配置されており、
前記複数の画素の少なくとも１つは、赤色表示用画素と、緑色表示用画素と、青色表示用画素とを備え、
前記赤色表示用画素は、前記第１サブ領域と、当該第１サブ領域を囲むように配置された前記第２領域とを備え、
前記緑色表示用画素は、前記第２サブ領域と、当該第２サブ領域を囲むように配置された前記第２領域とを備え、
前記青色表示用画素は、前記第３サブ領域と、当該第３サブ領域を囲むように配置された前記第２領域とを備えたことを特徴とする請求項５記載の表示体。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の表示体と、前記表示体を剥離可能に支持した支持体層とを具備した転写箔。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の表示体と、これを支持した物品とを具備した表示体付き物品。
【請求項９】
矩形格子状又は三角格子状に配列された複数の画素を主面に具備した表示体であって、
前記複数の画素の少なくとも１つは、
前記表示体の主面の法線と交差する斜め方向から観察する条件において所定の色を表示するように構成された少なくとも１つのサブ領域を含む複数の凹部又は凸部からなる第１領域と、平坦な第２領域と、前記第１領域及び前記第２領域とは異なる第３領域とを含むレリーフ構造形成層と、
前記レリーフ構造形成層の材料とは屈折率が異なる第１材料からなり、前記第１領域及び第２領域を被覆し、前記第１領域及び第２領域に対応した部分は前記第１領域及び第２領域の表面形状に対応した表面形状を有しており、前記第３領域の見かけ上の面積に対する前記第３領域の位置における前記第１材料の量の比は、ゼロである第１層と、
前記第１材料とは異なる第２材料からなり、前記第１層を被覆し、前記第３領域の見かけ上の面積に対する前記第３領域の位置における前記第２材料の量の比は、ゼロである第２層と
を備え、
前記表示体は、前記斜め方向から観察する条件において前記第１領域の分布に基づいた画像を表示すると共に前記表示体を透過光によって観察する条件において前記第３領域の分布に基づいた画像を表示する表示体。
【請求項１０】
前記第２領域は、前記サブ領域及び前記第３領域を個別に囲むように配置されたことを特徴とする請求項９記載の表示体。
【請求項１１】
前記第３領域は、前記第１領域の見かけ上の面積に対する表面積の比と比較して、当該第３領域の見かけ上の面積に対する表面積の比がより大きい複数の凹部又は凸部からなることを特徴とする請求項９又は請求項１０記載の表示体。
【請求項１２】
前記第３領域は、５００ｎｍ以下の中心間距離で二次元的に配置されると共に各々が順テーパ形状を有する複数の凹部又は凸部からなることを特徴とする請求項１１記載の表示体。
【請求項１３】
前記第１領域の複数の凹部又は凸部の中心間距離は、５００ｎｍ乃至１０００ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項９又は請求項１０記載の表示体。
【請求項１４】
前記第１領域は、前記表示体の主面の法線と交差する斜め方向から観察する条件において赤色を表示するように構成された第１サブ領域と、当該条件において緑色を表示するように構成された第２サブ領域と、当該条件において青色を表示するように構成された第３のサブ領域とを含むことを特徴とする請求項１３記載の表示体。
【請求項１５】
前記第２領域は、前記第１サブ領域、前記第２サブ領域、前記第３サブ領域及び前記第３領域を個別に囲むように配置されており、
前記複数の画素の少なくとも１つは、赤色表示用画素と、緑色表示用画素と、青色表示用画素と、透かし表示用画素を備え、
前記赤色表示用画素は、前記第１サブ領域と、当該第１サブ領域を囲むように配置された前記第２領域とを備え、
前記緑色表示用画素は、前記第２サブ領域と、当該第２サブ領域を囲むように配置された前記第２領域とを備え、
前記青色表示用画素は、前記第３サブ領域と、当該第３サブ領域を囲むように配置された前記第２領域とを備え、
前記透かし表示用画素は、前記透過光による透かし画像を表示するための前記第３領域と、当該第３領域に囲まれるように配置された前記第２領域とを備えたことを特徴とする請求項１４記載の表示体。
【請求項１６】
前記複数の画素の少なくとも他の１つは、
前記第１領域を含まず、平坦な第２領域と、当該第２領域とは異なる第３領域とを含む他のレリーフ構造形成層と、
前記他のレリーフ構造形成層の材料とは屈折率が異なる第１材料からなり、前記第２領域を被覆し、前記第２領域に対応した部分は前記第２領域の表面形状に対応した表面形状を有しており、前記第３領域の見かけ上の面積に対する前記第３領域の位置における前記第１材料の量の比は、ゼロである他の第１層と、
前記第１材料とは異なる第２材料からなり、前記他の第１層を被覆し、前記第３領域の見かけ上の面積に対する前記第３領域の位置における前記第２材料の量の比は、ゼロである他の第２層と
を備え、
前記複数の画素の少なくとも更に他の１つは、
前記第３領域を含まず、前記第１領域及び前記第２領域を含む、更に他のレリーフ構造形成層と、
前記更に他のレリーフ構造形成層の材料とは屈折率が異なる第１材料からなり、前記第１領域及び第２領域を被覆し、前記第１領域及び第２領域に対応した部分は前記第１領域及び第２領域の表面形状に対応した表面形状を有している、更に他の第１層と、
前記第１材料とは異なる第２材料からなり、前記更に他の第１層を被覆する、更に他の第２層と
を備え、
前記第１領域の分布に基づいた画像と、前記第３領域の分布に基づいた画像とは、互いに異なる画像であることを特徴とする請求項９に記載の表示体。
【請求項１７】
請求項９〜１６のいずれか１項に記載の表示体と、前記表示体を剥離可能に支持した支持体層とを具備した転写箔。
【請求項１８】
請求項９〜１６のいずれか１項に記載の表示体と、これを支持した物品とを具備した表示体付き物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、偽造防止効果、装飾効果、及び／または美的効果を提供する光学技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
有価証券、証明書、ブランド品、電子機器及び個人認証媒体などの物品には、偽造が困難であることが望まれる。そのため、このような物品には、偽造防止効果に優れた表示体を支持させることがある。【０００３】
このような表示体の多くは、回折格子、ホログラム及びレンズアレイ等の微細構造を含んでいる。これらの微細構造は、例えば観察角度の変化に応じて、色の変化を生じる。また、これらの微細構造は、解析及び偽造することが困難である。それゆえ、このような表示体は、比較的高い偽造防止効果を発揮し得る。【０００４】
なお、このような表示体に関する技術として、例えば画素をＲＧＢチャンネルとして３分割し、そのチャンネル内部の面積階調により写真画質のカラー画像を回折構造体で表現する技術がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平８−２１１８２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、現在ではホログラム作製技術が普及したことによって、上記した表示体の偽造防止効果が小さくなりつつある。【０００７】
そこで、本発明の目的は、より高い偽造防止効果を実現することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１局面によると、複数の画素を具備した表示体であって、前記複数の画素の少なくとも１つは、前記表示体の主面の法線と交差する斜め方向から観察する条件において所定の色を表示するように構成された少なくとも１つのサブ領域を含む複数の凹部又は凸部からなる第１領域と、前記第１領域とは異なる第２領域とを含むレリーフ構造形成層と、前記レリーフ構造形成層との材料とは屈折率が異なる第１材料からなり、少なくとも前記第１領域を被覆し、前記第１領域に対応した部分は前記第１領域の表面形状に対応した表面形状を有しており、前記第２領域の見かけ上の面積に対する前記第２領域の位置における前記第１材料の量の比は、ゼロであるか又は前記第１領域の見かけ上の面積に対する前記第１領域の位置における前記第１材料の量の比と比較してより小さい第１層と、前記第１材料とは異なる第２材料からなり、前記第１層を被覆し、前記第２領域の見かけ上の面積に対する前記第２領域の位置における前記第２材料の量の比は、ゼロであるか又は前記第１領域の見かけ上の面積に対する前記第１領域の位置における前記第２材料の量の比と比較してより小さい第２層とを備え、前記表示体は、前記斜め方向から観察する条件において前記第１領域の分布に基づいた画像を表示すると共に前記表示体を透過光によって観察する条件において前記第２領域の分布に基づいた画像を表示する表示体が提供される。【０００９】
本発明の第２局面によると、第１局面に係る表示体と、前記表示体を剥離可能に支持した支持体層とを具備した転写箔が提供される。【００１０】
本発明の第３局面によると、第１局面に係る表示体と、これを支持した物品とを具備した表示体付き物品が提供される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明は、高い偽造防止効果を実現することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る表示体を概略的に示す平面図。
【図２】図１に示す表示体の一部を拡大して示す平面図。
【図３】図１及び図２に示す表示体を構成している画素の一例を示す平面図。
【図４】図３に示す画素のＩＶ−ＩＶ線に沿った断面図。
【図５】表示体１００の製造方法を概略的に示す断面図。
【図６】表示体１００の製造方法を概略的に示す断面図。
【図７】表示体１００の製造方法を概略的に示す断面図。
【図８】表示体１００の製造方法を概略的に示す断面図。
【図９】図３及び図４に示す第２領域Ｒ２に設けられている複数の凹部又は凸部として採用可能な構造の一例を拡大して示す斜視図。
【図１０】図１及び図２に示す表示体を構成している画素の他の例を示す平面図。
【図１１】図１及び図２に示す表示体を構成している画素の他の例を示す平面図。
【図１２】図１及び図２に示す表示体を斜め方向から観察した状態を示す斜視図。
【図１３】本実施形態に係る転写箔を拡大して示す断面図。
【図１４】本実施形態に係る表示体付き物品を概略的に示す平面図。
【図１５】本発明の第２の実施形態に係る表示体の一部を拡大して示す平面図。
【図１６】図１５に示す表示体を構成している画素の一例を示す平面図。
【図１７】図１５に示す表示体を構成している画素の一例を示す平面図。
【図１８】図２に示す画素Ａ−Ａ線に沿った断面図。
【図１９】表示体２００の製造方法を概略的に示す断面図。
【図２０】表示体２００の製造方法を概略的に示す断面図。
【図２１】表示体２００の製造方法を概略的に示す断面図。
【図２２】表示体２００の製造方法を概略的に示す断面図。
【図２３】図１５に示す表示体を構成している画素の他の例を示す平面図。
【図２４】図１５に示す表示体を構成している画素の他の例を示す平面図。
【図２５】本実施形態に係る表示体の一例を示した概略図。
【図２６】本実施形態に係る表示体の一例を示した概略図。
【図２７】本実施形態に係る表示体の一例を示した概略図。
【図２８】光散乱領域の一例を概略的に示す平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の各実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、同様又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
【００１４】
（第１の実施形態）
まず、本発明の第１の実施形態について説明する。図１は、本実施形態に係る表示体を概略的に示す平面図である。図２は、図１に示す表示体の一部を拡大して示す平面図である。図１及び図２では、表示体１００の主面に平行であり且つ互いに直交する軸をＸ軸及びＹ軸とし、表示体１００の主面に垂直な軸をＺ軸としている。
【００１５】
図１に示す表示体１００は、図２に示す通り、複数の画素ＰＥを含んでいる。図２に示す例では、これら画素ＰＥは、Ｘ軸及びＹ軸に沿って矩形格子状に配列している。
【００１６】
図３は、図１及び図２に示す表示体を構成している画素の一例を示す平面図である。図４は、図３に示す画素のＩＶ−ＩＶ線に沿った断面図である。
【００１７】
図３に示すように、画素ＰＥは、赤色表示用画素ＰＥＲと、緑色表示用画素ＰＥＧと、青色表示用画素ＰＥＢとを備えている。これら画素ＰＥＲ、ＰＥＧ及びＰＥＢは、典型的には、面積が互いに等しい。
【００１８】
赤色表示用画素ＰＥＲは、第１サブ領域ＳＲ１と、第２領域Ｒ２とを備えている。なお、この第１サブ領域ＳＲ１は、表示体１００の主面の法線と交差する斜め方向から観察する条件（以下、単に斜め方向から観察する条件と表記）において、赤色を表示するように構成されている。即ち、第１サブ領域ＳＲ１は、斜め方向から観察する条件において、赤色に対応した波長の回折光を射出するように構成された複数の凹部又は凸部を備えている。
【００１９】
緑色表示用画素ＰＥＧは、第２サブ領域ＳＲ２と、第２領域Ｒ２とを備えている。なお、この第２サブ領域ＳＲ２は、斜め方向から観察する条件において、緑色を表示するように構成されている。即ち、第２サブ領域ＳＲ２は、斜め方向から観察する条件において、緑色に対応した波長の回折光を射出するように構成された複数の凹部又は凸部を備えている。
【００２０】
青色表示用画素ＰＥＢは、第３サブ領域ＳＲ３と、第２領域Ｒ２とを備えている。なお、この第３サブ領域ＳＲ３は、斜め方向から観察する条件において、青色を表示するように構成されている。即ち、第３サブ領域ＳＲ３は、斜め方向から観察する条件において、青色に対応した波長の回折光を射出するように構成された複数の凹部又は凸部を備えている。
【００２１】
なお、以下の説明においては、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３を含む領域を便宜的に第１領域と称する。
【００２２】
図４に示すように、画素ＰＥは、レリーフ構造形成層１１０と、第１層１２０´と、第２層１３０´とを備えている。
【００２３】
レリーフ構造形成層１１０の一方の主面には、レリーフ構造が設けられている。第１層１２０´は、レリーフ構造形成層１１０の先の主面を部分的に被覆している。第２層１３０´は、第１層１２０´を被覆している。なお、この画素ＰＥの構造等については、後で詳しく説明する。
【００２４】
次に、図５乃至図８を参照しながら、表示体１００（を構成している画素ＰＥ）の製造方法について説明する。
【００２５】
図５乃至図８は、表示体１００の製造方法を概略的に示す断面図である。この方法では、まず、図５に示すように、互いに隣接した第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２、第３サブ領域ＳＲ３）及び第２領域Ｒ２を含んだ主面を有したレリーフ構造形成層１１０を準備する。
【００２６】
第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２、第３サブ領域ＳＲ３は、凹構造及び／又は凸構造が設けられている。凹構造及び凸構造は、それぞれ、複数の凹部及び複数の凸部からなる。これら凹部又は凸部は、例えばストライプ状に配置されている。これら凹部又は凸部は、典型的には、白色光で照明したときに回折光を射出する回折格子又はホログラムを形成している。
【００２７】
これら複数の凹部又は凸部の長さ方向に垂直な断面の形状は、例えば、Ｖ字形状及びＵ字形状等の先細り形状とするか又は矩形状とする。図５には、一例として、上記の断面形状がＶ字形状である場合を描いている。
【００２８】
第１サブ領域ＳＲ１に設ける複数の凹部又は凸部の中心間距離は、８６０ｎｍ乃至８８０ｎｍの範囲内とする。第２サブ領域ＳＲ２に設ける複数の凹部又は凸部の中心間距離は、７５５ｎｍ乃至７７５ｎｍの範囲内とする。第３サブ領域ＳＲ３に設ける複数の凹部又は凸部の中心間距離は、７３５ｎｍ乃至７５５ｎｍの範囲内とする。
【００２９】
また、これら複数の凹部又は凸部の中心間距離に対する深さ又は高さの比の平均値は、例えば０．５以下とし、典型的には０．０５乃至０．３の範囲内とする。
【００３０】
なお、ここで「中心間距離」とは、隣り合った凹部間の距離、又は、隣り合った凸部間の距離を意味している。
【００３１】
第２領域Ｒ２は、凹構造及び／又は凸構造が設けられている。これら凹構造及び凸構造は、それぞれ、複数の凹部及び複数の凸部からなる。これら複数の凹部又は凸部は、二次元的に配置されると共に各々が順テーパ形状を有する複数の凹部又は凸部を備えている。
【００３２】
第２領域Ｒ２は、第１領域Ｒ１と比較して、見かけ上の面積に対する表面積の比がより大きい。なお、領域の「見かけ上の面積」とは、当該領域に平行な平面への当該領域の正射影の面積、即ち、凹構造及び凸構造を無視した当該領域の面積を意味することとする。また、領域の「表面積」とは、凹構造及び凸構造を考慮した当該領域の面積を意味することとする。
【００３３】
第２領域Ｒ２の複数の凹部又は凸部は、典型的には、第１領域の複数の凹部又は凸部と比較して、凹部又は凸部の中心間距離に対する深さ又は高さの比の平均値がより大きい。図５に示す例では、第２領域Ｒ２に設けられた複数の凹部又は凸部は、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２、第３サブ領域ＳＲ３に設けられた複数の凹部又は凸部と比較して、中心間距離に対する深さ又は高さの比がより大きい。
【００３４】
第２領域Ｒ２に設ける凹部又は凸部の中心間距離は、１００ｎｍ乃至５００ｎｍの範囲内とする。
【００３５】
また、第２領域Ｒ２に設ける複数の凹部又は凸部の中心間距離に対する深さ又は高さの比の平均値は、第１領域に設けられる複数の凹部又は凸部の中心間距離に対する深さ又は高さの比の平均値と比較してより大きくする。第２領域Ｒ２に設ける複数の凹部又は凸部の中心間距離に対する深さ又は高さの比の平均値は、例えば０．８乃至２．０の範囲内とし、典型的には０．８乃至１．２の範囲内とする。この値が過度に大きいと、レリーフ構造形成層１１０の生産性が低下する場合がある。
【００３６】
レリーフ構造形成層１１０は、例えば、微細な凸部を設けた金型を樹脂に押し付けることにより形成することができる。この際、これら凸部の形状は、第１領域及び第２領域Ｒ２の双方に設ける凹部の形状に対応した形状とする。
【００３７】
レリーフ構造形成層１１０は、例えば、基材上に熱可塑性樹脂を塗布し、これに上記の凸部が設けられた原版を、熱を印加しながら押し当てる方法により形成する。この場合、上記の熱可塑性樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂、これらの混合物、又は、これらの共重合物を使用する。
【００３８】
或いは、レリーフ構造形成層１１０は、基材上に熱硬化性樹脂層を塗布し、これに上記の凸部が設けられた原版を押し当てながら熱を印加し、その後、原版を取り除く方法により形成してもよい。この場合、熱硬化性樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール系樹脂、これらの混合物、又は、これらの共重合物を使用する。なお、このウレタン樹脂は、例えば、反応性水酸基を有したアクリルポリオール及びポリエステルポリオール等に、架橋剤としてポリイソシアネートを添加して、これらを架橋させることにより得られる。
【００３９】
或いは、レリーフ構造形成層１１０は、基材上に放射線硬化樹脂を塗布し、これに原版を押し当てながら紫外線等の放射線を照射して上記材料を硬化させ、その後、原版を取り除く方法により形成してもよい。或いは、レリーフ構造形成層１１０は、基材と原版との間に上記組成物を流し込み、放射線を照射して上記材料を硬化させ、その後、原版を取り除く方法により形成してもよい。
【００４０】
放射線硬化樹脂は、典型的には、重合性化合物と開始剤とを含んでいる。
【００４１】
重合性化合物としては、例えば、光ラジカル重合が可能な化合物を使用する。光ラジカル重合が可能な化合物としては、例えば、エチレン性不飽和結合又はエチレン性不飽和基を有したモノマー、オリゴマー又はポリマーを使用する。或いは、光ラジカル重合が可能な化合物として、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールペンタアクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のモノマー、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート及びポリエステルアクリレート等のオリゴマー、又は、ウレタン変性アクリル樹脂及びエポキシ変性アクリル樹脂等のポリマーを使用してもよい。
【００４２】
重合性化合物として光ラジカル重合が可能な化合物を使用する場合、開始剤としては、光ラジカル重合開始剤を使用する。この光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル及びベンゾインエチルエーテル等のベンゾイン系化合物、アントラキノン及びメチルアントラキノン等のアントラキノン系化合物、アセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−アミノアセトフェノン及び２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン等のフェニルケトン系化合物、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン、アシルホスフィンオキサイド、又は、ミヒラーズケトンを使用する。
【００４３】
或いは、重合化合物として、光カチオン重合が可能な化合物を使用してもよい。光カチオン重合が可能な化合物としては、例えば、エポキシ基を備えたモノマー、オリゴマー若しくはポリマー、オキセタン骨格含有化合物、又は、ビニルエーテル類を使用する。
【００４４】
重合性化合物として光カチオン重合が可能な化合物を使用する場合、開始剤としては、光カチオン重合開始剤を使用する。この光カチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ホスホニウム塩又は混合配位子金属塩を使用する。
【００４５】
或いは、重合性化合物として、光ラジカル重合が可能な化合物と光カチオン重合が可能な化合物との混合物を使用してもよい。この場合、開始剤としては、例えば、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤との混合物を使用する。或いは、この場合、光ラジカル重合及び光カチオン重合の双方の開始剤として機能し得る重合開始剤を使用してもよい。このような開始剤としては、例えば、芳香族ヨードニウム塩又は芳香族スルホニウム塩を使用する。
【００４６】
なお、放射線硬化樹脂に占める開始剤の割合は、例えば、０．１乃至１５質量％の範囲内とする。
【００４７】
放射線硬化樹脂は、増感色素、染料、顔料、重合禁止剤、レベリング剤、消泡剤、タレ止め剤、付着向上剤、塗面改質剤、可塑剤、含窒素化合物、エポキシ樹脂等の架橋剤、離型剤又はこれらの組み合わせを更に含んでいてもよい。また、放射線硬化樹脂には、その成形性を向上させるべく、非反応性の樹脂を更に含有させてもよい。この非反応性の樹脂としては、例えば、上記の熱可塑性樹脂及び／又は熱硬化性樹脂を使用することができる。
【００４８】
レリーフ構造形成層１１０の形成に用いる上記の原版は、例えば、電子線描画装置又はナノインプリント装置を用いて製造する。こうすると、上述した複数の凹部又は凸部を高い精度で形成することができる。なお、通常は、原版の凹凸構造を転写して反転版を製造し、この反転版の凹凸構造を転写して複製版を製造する。そして、必要に応じ、複製版を原版として用いて反転版を製造し、この反転版の凹凸構造を転写して複製版を更に製造する。実際の製造では、通常、このようにして得られる複製版を使用する。
【００４９】
レリーフ構造形成層１１０は、典型的には、基材と、その上に形成された樹脂層とを含んでいる。この基材としては、典型的には、フィルム基材を使用する。このフィルム基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム及びポリプロピレン（ＰＰ）フィルム等のプラスチックフィルムを使用する。或いは、基材として、紙、合成紙、プラスチック複層紙又は樹脂含浸紙を使用してもよい。なお、基材は、省略してもよい。
【００５０】
樹脂層は、例えば、上述した方法により形成される。樹脂層の厚みは、例えば０．１μｍ乃至１０μｍの範囲内とする。この厚みが過度に大きいと、加工時の加圧等による樹脂のはみ出し及び／又は皺の形成が生じ易くなる。この厚みが過度に小さいと、所望の凹構造及び／又は凸構造の形成が困難となる場合がある。また、樹脂層の厚みは、その主面に設けるべき凹部又は凸部の深さ又は高さと等しくするか又はそれより大きくする。この厚みは、例えば、凹部又は凸部の深さ又は高さの１乃至１０倍の範囲内とし、典型的には、その３乃至５倍の範囲内とする。
【００５１】
なお、レリーフ構造形成層１１０の形成は、例えば、特許第４１９４０７３号公報に開示されている「プレス法」、実用新案登録第２５２４０９２号公報に開示されている「キャスティング法」、又は、特開２００７−１１８５６３号公報に開示されている「フォトポリマー法」を用いて行ってもよい。
【００５２】
次に、図６に示すように、レリーフ構造形成層１１０の材料とは屈折率が異なる第１材料を、第１領域及び第２領域Ｒ２の全体に対して気相堆積させる。これにより、レリーフ構造形成層１１０の第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２、第３サブ領域ＳＲ３及び第２領域Ｒ２を含んだ主面上に、反射材料層１２０を形成する。
【００５３】
この第１材料としては、例えば、レリーフ構造形成層１１０の材料との屈折率の差が０．２以上である材料を使用する。この差が小さいと、レリーフ構造形成層１１０と後述する第１層１２０´との界面における反射が生じ難くなる場合がある。また、金属材料を用いることができる。
【００５４】
第１材料としては典型的には、Ａｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ及びこれらの合金からなる群より選択される少なくとも１つの金属材料を使用する。
【００５５】
或いは、透明性が比較的高い第１材料として、以下に列挙するセラミック材料又は有機ポリマー材料を使用してもよい。なお、以下に示す化学式又は化合物名の後に記載した括弧内の数値は、各材料の屈折率を意味している。
【００５６】
即ち、セラミック材料としては、例えば、Ｓｂ２Ｏ３（３．０）、Ｆｅ２Ｏ３（２．７）、ＴｉＯ２（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ２（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ２（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ２Ｏ３（５）、ＷＯ３（５）、ＳｉＯ（５）、Ｓｉ２Ｏ３（２．５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ２Ｏ３（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ２（５）、ＭｇＯ（１）、ＳｉＯ２（１．４５）、Ｓｉ２Ｏ２（１０）、ＭｇＦ２（４）、ＣｅＦ３（１）、ＣａＦ２（１．３〜１．４）、ＡｌＦ３（１）、Ａｌ２Ｏ３（１）又はＧａＯ（２）を使用することができる。
【００５７】
有機ポリマー材料としては、例えば、ポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフルオロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）又はポリスチレン（１．６０）を使用することができる。
【００５８】
第１材料の気相堆積は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法又は化学蒸着法（ＣＶＤ法）を用いて行う。
【００５９】
この気相堆積は、レリーフ構造形成層１１０の主面に平行な面内方向について均一な密度で行う。具体的には、この気相堆積は、第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）の見かけ上の面積に対する第１領域の位置における第１材料の量の比と、第２領域Ｒ２の見かけ上の面積に対する第２領域Ｒ２の位置における第１材料の量の比とが、互いに等しくなるようにして行う。
【００６０】
また、この気相堆積では、典型的には、レリーフ構造形成層１１０の主面が平坦面のみからなると仮定した場合の膜厚（以下、設定膜厚という）を、以下のように定める。即ち、この設定膜厚は、反射材料層１２０が以下の要件を満足するようにして定める。
【００６１】
第１に、反射材料層１２０のうち第１領域に対応した部分が、第１領域の表面形状に対応した表面形状を有するようにする。図６に示す例では、この部分は、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３に設けられた複数の凹部又は凸部に対応した表面形状を有した連続膜を形成している。
【００６２】
第２に、反射材料層１２０のうち第２領域Ｒ２に対応した部分が、第２領域Ｒ２の表面形状に対応した表面形状を有するか、又は、第２領域Ｒ２に設けられた複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口しているようにする。図６には、一例として、前者の場合を描いている。即ち、図６に示す例では、この部分は、第２領域Ｒ２に設けられた複数の凹部又は凸部に対応した表面形状を有した連続膜を形成している。
【００６３】
なお、上述したように、第２領域Ｒ２は、第１領域と比較して、見かけ上の面積に対する表面積の比がより大きい。従って、反射材料層１２０が第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２、第３サブ領域ＳＲ３及び第２領域Ｒ２の表面形状に対応した表面形状を有するように上記の設定膜厚を定めた場合、反射材料層１２０のうち第２領域Ｒ２に対応した部分は、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３に対応した部分と比較して、平均膜厚がより小さくなる。
【００６４】
なお、ここでは、層の「平均膜厚」とは、当該層の一方の面上の各点と当該層の他方の面に下ろした垂線の足との間の距離の平均値を意味することとする。
【００６５】
また、上記の設定膜厚を更に小さな値に定めることにより、第１領域に対応した部分では第１領域の表面形状に対応した表面形状を有しており且つ第２領域Ｒ２に対応した部分では複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口した反射材料層１２０を形成することができる。
【００６６】
反射材料層１２０の設定膜厚は、典型的には、第２領域Ｒ２に設けられた複数の凹部又は凸部の深さ又は高さと比較してより小さくする。また、この設定膜厚は、典型的には、第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）に設けられた複数の凹部又は凸部の深さ又は高さと比較してより小さくする。
【００６７】
具体的には、反射材料層１２０の設定膜厚は、例えば５ｎｍ乃至５００ｎｍの範囲内とし、典型的には、３０ｎｍ乃至３００ｎｍの範囲内とする。この設定膜厚が過度に小さいと、レリーフ構造形成層１１０と後述する第１層１２０´との界面における反射が生じ難くなる場合がある。この設定膜厚が過度に大きいと、上記の要件を満足するように反射材料層１２０を形成することが困難となる場合がある。
【００６８】
反射材料層１２０のうち第１領域に対応した部分の平均膜厚は、例えば５ｎｍ乃至５００ｎｍの範囲内とし、典型的には３０ｎｍ乃至３００ｎｍの範囲内とする。この平均膜厚が過度に小さいと、レリーフ構造形成層１１０と後述する第１層１２０´との界面における反射が生じ難くなる場合がある。この平均膜厚が過度に大きいと、表示体１００の生産性が低下する場合がある。
【００６９】
次いで、図７に示すように、反射材料層１２０の材料とは異なる第２材料を、反射材料層１２０に対して気相堆積させる。これにより、反射材料層１２０を間に挟んでレリーフ構造形成層１１０と向き合ったマスク層１３０を形成する。
【００７０】
この第２材料としては、典型的には、無機物を使用する。この無機物としては、例えば、ＭｇＦ２、Ｓｎ、Ｃｒ、ＺｎＳ、ＺｎＯ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ、ＴｉＯ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２及びＡｌ２Ｏ３が挙げられる。特には、第２材料としてＭｇＦ２を使用した場合、基材の曲げや衝撃に対するマスク層１３０及び第２層１３０´の追従性及び耐擦傷性を更に向上させることができる。
【００７１】
或いは、この第２材料として、有機物を使用してもよい。この有機物としては、例えば、重量平均分子量が１５００以下の有機物を使用する。このような有機物としては、例えば、アクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等の重合性化合物と開始剤とを混合し、放射線硬化樹脂と気相堆積した後に、放射線照射によって重合させたものを使用してもよい。
【００７２】
或いは、第２材料として、金属アルコキシドを使用してもよい。或いは、第２材料として、金属アルコキシドを気相堆積した後、これを重合させたものを使用してもよい。この際、気相堆積の後、重合させる前に、乾燥処理を行ってもよい。
【００７３】
第２材料の気相堆積は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法又はＣＶＤ法を用いて行う。
【００７４】
この気相堆積は、レリーフ構造形成層１１０の主面に平行な面内方向について均一な密度で行う。具体的には、この気相堆積は、第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）の見かけ上の面積に対する第１領域の位置における第２材料の量の比と、第２領域Ｒ２の見かけ上の面積に対する第２領域Ｒ２の位置における第２材料の量の比とが、互いに等しくなるようにして行う。
【００７５】
また、この気相堆積では、マスク層１３０の設定膜厚を、以下のように定める。即ち、この設定膜厚は、マスク層１３０が以下の要件を満足するようにして定める。
【００７６】
第１に、マスク層１３０のうち第１領域に対応した部分が、第１領域の表面形状に対応した表面形状を有するようにする。図７に示す例では、この部分は、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３に設けられた複数の凹部又は凸部に対応した表面形状を有した連続膜を形成している。
【００７７】
第２に、マスク層１３０のうち第２領域Ｒ２に対応した部分が、第２領域Ｒ２の表面形状に対応した表面形状を有するか、又は、第２領域Ｒ２に設けられた複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口しているようにする。図７には、一例として、後者の場合を描いている。即ち、図７に示す例では、この部分は、反射材料層１２０の上で、第２領域Ｒ２に設けられた複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口した不連続膜を形成している。
【００７８】
なお、上述したように、第２領域Ｒ２は、第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）と比較して、見かけ上の面積に対する表面積の比がより大きい。従って、マスク層１３０が第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２、第３サブ領域ＳＲ３及び第２領域Ｒ２の表面形状に対応した表面形状を有するように上記の設定膜厚を定めた場合、マスク層１３０のうち第２領域Ｒ２に対応した部分は、第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）に対応した部分と比較して、平均膜厚がより小さくなる。
【００７９】
また、上記の設定膜厚を更に小さな値に定めることにより、第１領域に対応した部分では第１領域の表面形状に対応した表面形状を有しており且つ第２領域Ｒ２に対応した部分では複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口したマスク層１３０を形成することができる。
【００８０】
マスク層１３０の設定膜厚は、典型的には、第２領域Ｒ２に設けられた複数の凹部又は凸部の深さ又は高さと比較してより小さくする。また、この設定膜厚は、典型的には、第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）に設けられた複数の凹部又は凸部の深さ又は高さと比較してより小さくする。そして、マスク層１３０の設定膜厚は、典型的には、反射材料層１２０の設定膜厚と比較してより小さくする。
【００８１】
具体的には、マスク層１３０の設定膜厚は、例えば０．３ｎｍ乃至２００ｎｍの範囲内とし、典型的には、３ｎｍ乃至８０ｎｍの範囲内とする。この設定膜厚が過度に小さいと、マスク層１３０のうち第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）に対応した部分の平均膜厚が過度に小さくなり、反射材料層１２０のうち第１領域に対応した部分のマスク層１３０による保護が不十分となる場合がある。この設定膜厚が過度に大きいと、反射材料層１２０のうち第２領域Ｒ２に対応した部分のマスク層１３０による保護が過剰となる場合がある。
【００８２】
マスク層１３０のうち第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）に対応した部分の平均膜厚は、典型的には、反射材料層１２０のうち第１領域に対応した部分の平均膜厚と比較してより小さくする。
【００８３】
マスク層１３０のうち第１領域に対応した部分の平均膜厚は、例えば０．３ｎｍ乃至２００ｎｍの範囲内とし、典型的には３ｎｍ乃至８０ｎｍの範囲内とする。この平均膜厚が過度に小さいと、反射材料層１２０のうち第１領域に対応した部分のマスク層１３０による保護が不十分となり、後述する第１層１２０´のうち第１領域に対応した部分の平均膜厚が過度に小さくなる場合がある。この設定膜厚が過度に大きいと、反射材料層１２０のうち第２領域Ｒ２に対応した部分のマスク層１３０による保護が過剰となる場合がある。
【００８４】
続いて、マスク層１３０を、反射材料層１２０の材料との反応を生じ得る反応性ガス又は液に曝す。そして、少なくとも第２領域Ｒ２の位置で、反射材料層１２０の材料との上記反応を生じさせる。
【００８５】
ここでは、反応性ガス又は液として、反射材料層１２０の材料を溶解可能なエッチング液を使用する場合について説明する。このエッチング液としては、典型的には、水酸化ナトリウム溶液、炭酸ナトリウム溶液及び水酸化カリウム溶液等のアルカリ性溶液を使用する。或いは、エッチング液として、塩酸、硝酸、硫酸及び酢酸等の酸性溶液を使用してもよい。
【００８６】
図７に示すように、マスク層１３０のうち第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）に対応した部分は連続膜を形成しているのに対し、第２領域Ｒ２に対応した部分は、部分的に開口した不連続膜を形成している。反射材料層１２０のうちマスク層１３０によって被覆されていない部分は、反射材料層１２０のうちマスク層１３０によって被覆された部分と比較して、反応性ガス又は液と接触しやすい。従って、前者は、後者と比較してよりエッチングされ易い。
【００８７】
また、反射材料層１２０のうちマスク層１３０によって被覆されていない部分が除去されると、反射材料層１２０には、マスク層１３０の開口に対応した開口が生じる。エッチングを更に続けると、反射材料層１２０のエッチングは、各開口の位置で面内方向に進行する。その結果、第２領域Ｒ２上では、反射材料層１２０のうちマスク層１３０を支持している部分が、その上のマスク層１３０と共に除去される。
【００８８】
従って、エッチング液の濃度及び温度並びにエッチングの処理時間等を調整することにより、図８に示すように、反射材料層１２０のうち第２領域Ｒ２に対応した部分のみを除去することができる。これにより、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３のみを被覆した第１層１２０´が得られる。
【００８９】
以上のようにして、図３及び図４に示す画素ＰＥから構成される表示体１００を得る。上述した方法によって得られる表示体１００には、以下の特徴がある。
【００９０】
第１層１２０´は、反射層であり、典型的には、上述した第１材料からなる。第１層１２０´は、第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）及び第２領域Ｒ２のうち、第１領域のみを被覆している。即ち、第１層１２０´は、第１領域に対応した位置にのみ設けられている。また、第２領域Ｒ２の見かけ上の面積に対する第２領域Ｒ２の位置における第１材料の量の比は、ゼロである。
【００９１】
第１層１２０´は、第１領域の表面形状に対応した表面形状を有している。図３及び図４に示す例では、第１層１２０´は、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３に設けられた複数の凹部又は凸部に対応した表面形状を有している。これら第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３に設けられた複数の凹部又は凸部は、典型的には、白色光で照明したときに回折光を射出する回折格子又はホログラムを第１層１２０´の表面に形成している。この場合、表示体１００においては、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３において射出される回折光に対応した色を表示し得る。
【００９２】
具体的には、上記した第１サブ領域ＳＲ１は斜め方向から観察する条件において赤色に対応した波長の回折光を射出するように構成されている。第２サブ領域ＳＲ２は斜め方向から観察する条件において緑色に対応した波長の回折光を射出するように構成されている。第３サブ領域ＳＲ３は斜め方向から観察する条件において青色に対応した波長の回折光を射出するように構成されている。即ち、本実施形態に係る表示体１００は、当該表示体１００を斜め方向から観察する条件では、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３（つまり、第１領域）の分布に基づいた画像（フルカラーポジ画像）を表示する。従って、この場合、より優れた偽造防止効果及び装飾効果を達成することができる。
【００９３】
第１層１２０´の輪郭レリーフ構造形成層１１０の主面への正射影は、その全体が第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）の輪郭と重なり合っている。即ち、第１層１２０´は、第１領域の形状に対応してパターニングされている。従って、第１領域及び第２領域Ｒ２を高い位置精度で形成しておくことにより、優れた位置精度で形成された第１層１２０´を得ることができる。
【００９４】
なお、図５乃至図８を参照しながら説明した方法では、反射材料層１２０のうち第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）に対応した部分は、マスク層１３０によって被覆されている。それゆえ、上記のエッチング処理を行った場合でも、当該部分の膜厚は、殆ど又は全く減少しない。従って、第１層１２０´のうち第１領域に対応した部分の平均膜厚は、典型的には、反射材料層１２０のうち第１領域に対応した部分の平均膜厚と等しい。即ち、この平均膜厚は、例えば５ｎｍ乃至５００ｎｍの範囲内にあり、典型的には３０ｎｍ乃至３００ｎｍの範囲内にある。
【００９５】
なお、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３と第２領域Ｒ２との境界と、第１層１２０´の輪郭との最短距離の最大値は、例えば２０μｍ未満とし、好ましくは１０μｍ未満とし、より好ましくは、３μｍ未満とする。
【００９６】
第２層１３０´は、例えば、気相堆積法により形成される層である。第２層１３０´は、第１層１２０´を被覆している。第２層１３０´は、第１層１２０´を間に挟んで、第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）及び第２領域Ｒ２のうち第１領域の全体のみと向き合っている。即ち、第１層１２０´の輪郭のレリーフ構造形成層１１０の主面への正射影は、その全体が第２層１３０´の輪郭の上記主面への正射影と重なり合っている。また、第２領域Ｒ２の見かけ上の面積に対する第２領域Ｒ２の位置における第２材料の量の比は、ゼロである。
【００９７】
第２層１３０´のうち第１領域に対応した部分の平均膜厚は、マスク層１３０のうち第１領域に対応した部分の平均膜厚と等しいか又はより小さい。この平均膜厚は、例えば０．３ｎｍ乃至２００ｎｍの範囲内にあり、典型的には３ｎｍ乃至８０ｎｍの範囲内にある。
【００９８】
第２層１３０´は、例えば、第１層１２０´を保護する役割を担っている。また、第２層１３０´を設けると、第２層１３０´が存在しない場合と比較して、表示体１００の偽造をより困難とすることができる。
【００９９】
上記したように本実施形態に係る表示体１００においては、第２領域Ｒ２（つまり、ＲＧＢを表現する回折素子以外の部分）に対してエッチングを行うことにより、反射層が除去されている。これにより、表示体１００を透過光によって観察する条件においては、第２の領域Ｒ２の分布に基づいた画像（ネガ画像）が表示される。
【０１００】
即ち、本実施形態に係る表示体１００によれば、フルカラーによる表現力を損なうことなく、透過光による観察においてネガ画像を表示することができるため、より高い偽造防止効果を実現することが可能となる。
【０１０１】
なお、上では、反射材料層１２０が第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）及び第２領域Ｒ２の表面形状に対応した表面形状を有しており、マスク層１３０のうち第１領域に対応した部分がこの第１領域の表面形状に対応した表面形状を有しており、マスク層１３０のうち第２領域Ｒ２に対応した部分が第２領域Ｒ２に設けられた複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口している構成について説明したが、これら層の構成はこれには限られない。
【０１０２】
例えば、反射材料層１２０とマスク層１３０との双方が第１領域及び第２領域Ｒ２の表面形状に対応した表面形状を有した構成を採用してもよい。この場合、先に述べたように、反射材料層１２０及びマスク層１３０のうち第２領域Ｒ２に対応した部分は、それぞれ、これら層のうち第１領域に対応した部分と比較して、平均膜厚がより小さい。
【０１０３】
一般に、マスク層１３０のうち平均膜厚がより小さい部分は、平均膜厚がより大きい部分と比較して、反応性ガス又は液を透過させ易い。また、反応性ガス又は液と第２材料とが反応し、この反応の生成物がマスク層１３０から直ちに除去される場合には、第２領域Ｒ２上でのみマスク層１３０を開口させることができる。
【０１０４】
従って、この場合においても、エッチング液の濃度及び温度並びにエッチングの処理時間等を調整することにより、図１乃至図４に示す表示体１００を製造することが可能である。
【０１０５】
或いは、反射材料層１２０とマスク層１３０との双方が、第１領域に対応した部分では第１領域の表面形状に対応した表面形状を有しており、第２領域Ｒ２に対応した部分では第２領域Ｒ２に設けられた複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口している構成を採用してもよい。この場合において、エッチング液の濃度及び温度並びにエッチングの処理時間等を調整することにより、図１乃至図４に示す表示体１００を製造することが可能となる。
【０１０６】
また、上では、反射材料層１２０及びマスク層１３０のうち第２領域Ｒ２に対応した部分を完全に除去する場合について説明したが、これら部分の一部が残存するようにしてもよい。例えば、エッチング処理に供する時間をより短くすることにより、第２領域Ｒ２の見かけ上の面積に対する第２領域Ｒ２の位置における第１材料の量の比が、ゼロより大きく且つ第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）の見かけ上の面積に対する第１領域の位置における第１材料の量の比と比較してより小さくなるようにしてもよい。或いは、同様にして、第２の領域Ｒ２の見かけ上の面積に対する第２領域Ｒ２の位置における第２材料の量の比が、ゼロより大きく且つ第１領域の見かけ上の面積に対する第１領域の位置における第２材料の量の比と比較してより小さくなるようにしてもよい。
【０１０７】
また、上では、反応性ガス又は液としてエッチング液を使用する場合について説明したが、反応性ガス又は液はこれには限られない。例えば、反応性ガス又は液として、反射材料層１２０の材料を気化させ得るエッチングガスを使用してもよい。
【０１０８】
或いは、反応性ガス又は液として、第１材料との反応により、反射材料層１２０の一部を第１材料とは異なる材料からなる層に変化させ得るガス又は液を使用してもよい。この場合、例えば、反射材料層１２０のうち第２領域Ｒ２に対応した部分を除去する代わりに、当該部分を第１材料とは異なる材料からなる層に変化させることが可能となる。
【０１０９】
このような反応性ガス又は液としては、例えば、第１材料を酸化させ得る酸化剤を使用することができる。この酸化剤としては、例えば、酸素、オゾン、若しくはハロゲン、又は、二酸化塩素、次亜ハロゲン酸、亜ハロゲン酸、次ハロゲン酸、過ハロゲン酸、及びその塩などのハロゲン化物、過酸化水素、過硫酸塩類、ペルオキソ炭酸塩類、ペルオキソ硫酸塩類、及びペルオキソリン酸塩類などの無機過酸化物、過酸化ベンゾイル、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ジイソプロピルベンゼンヒドロペルオキシド、過蟻酸、過酢酸、及び過安息香酸などの有機過酸化物、セリウム塩、Ｍｎ（ＩＩＩ）、Ｍｎ（ＩＶ）及びＭｎ（ＶＩ）塩、銀塩、銅塩、クロム塩、コバルト塩、重クロム酸塩、クロム酸塩、過マンガン酸塩、過フタル酸マグネシウム、塩化第二鉄、及び塩化第二銅などの金属又は金属化合物、又は、硝酸、硝酸塩、臭素酸塩、過ヨウ素酸塩、及びヨウ素酸塩などの無機酸若しくは無機酸塩を使用する。
【０１１０】
例えば、反射材料層１２０´の材料としてＣｕを使用した場合、反射材料層１２０´のうち少なくとも第２領域Ｒ２に対応した部分を酸化剤と反応させることにより、当該部分をＣｕ酸化物からなる層に変化させることができる。或いは、反射材料層１２０´の材料としてＡｌを使用した場合、反射材料層１２０´のうち少なくとも第２領域Ｒ２に対応した部分を酸化剤と反応させることにより、当該部分をベーマイト等のＡｌ酸化物からなる層に変化させることができる。
【０１１１】
或いは、上記の反応性ガス又は液として、反射材料層１２０´の材料を還元させ得る還元剤を使用してもよい。この還元剤としては、例えば、硫化水素、二酸化硫黄、フッ化水素、アルコール、カルボン酸、水素ガス、水素プラズマ、遠隔水素プラズマ、ジエチルシラン、エチルシラン、ジメチルシラン、フェニルシラン、シラン、ジシラン、アミノシラン、ボラン、ジボラン、アラン、ゲルマン、ヒドラジン、アンモニア、ヒドラジン、メチルヒドラジン、１，１−ジメチルヒドラジン、１，２−ジメチルヒドラジン、ｔ−ブチルヒドラジン、ベンジルヒドラジン、２−ヒドラジノエタノール、１−ｎ−ブチル−１−フェニルヒドラジン、フェニルヒドラジン、１−ナフチルヒドラジン、４−クロロフェニルヒドラジン、１，１−ジフェニルヒドラジン、ｐ−ヒドラジノベンゼンスルホン酸、１，２−ジフェニルヒドラジン、ｐ−ヒドラジノベンゼンスルホン酸、１，２−ジフェニルヒドラジン、アセチルヒドラジン又はベンゾイルヒドラジンを使用する。
【０１１２】
なお、図５乃至図８を参照しながら説明した方法において、エッチング処理等によって第１層１２０´を形成した後、第２層１３０´を除去してもよい。この第２層１３０´の除去は、例えば、第１材料と第２材料とのイオン化傾向の差異に基づいた第１材料のイオン化が懸念される場合に有効である。
【０１１３】
ここで、図９は、図３及び図４に示す第２領域Ｒ２に設けられている複数の凹部又は凸部として採用可能な構造の一例を拡大して示す斜視図である。
【０１１４】
図９に示す例では、第２領域Ｒ２には、二次元的に配置されると共に各々が順テーパ形状を有する複数の凸部が設けられている。
【０１１５】
なお、第２領域Ｒ２に設けられている複数の凹部又は凸部の中心間距離は、上記したように１００ｎｍ乃至５００ｎｍの範囲内である。つまり、本実施形態においては、第２領域Ｒ２の部分（つまり、エッチングされる部分）に表面積の大きいクロスグレーティングが形成され、上記したように当該クロスグレーティング部分の金属反射層のみが除去される。
【０１１６】
なお、図３を参照しながら説明した画素ＰＥを備えた表示体１００は、サブ領域ＳＲ１乃至ＳＲ３の一部又は全部が省略された画素ＰＥを更に備えていてもよい。
【０１１７】
図１０及び図１１は、図１及び図２に示す表示体を構成している画素の他の例を示す平面図である。
【０１１８】
図１０に示す画素ＰＥでは、赤色表示用画素ＰＥＲは、第１サブ領域ＳＲ１のみからなる。また、緑色表示用画素ＰＥＧ及び青色表示用画素ＰＥＢは、第２領域のみからなる。それゆえ、図１０に示す画素ＰＥは、斜め方向から観察する条件において、赤色の表示に寄与する。
【０１１９】
図１１に示す画素ＰＥでは、画素ＰＥＲ、ＰＥＧ及びＰＥＢは、第２領域Ｒ２のみからなる。この場合、図１１に示す画素ＰＥにおいては、全体的に上記したように金属反射層が取り除かれた状態となっている。
【０１２０】
このように、以上のような構成を採用した場合、第１サブ領域ＳＲ１と第２サブ領域ＳＲ２と第３サブ領域ＳＲ３との面積比に応じて、画素ＰＥに、任意の色を表示させることができる。即ち、このような構成を採用すると、斜めから観察する条件において、フルカラーの像を表示させることが可能となると共に、透過光によって観察する条件において、モノクロネガ画像を表示させることができる。
【０１２１】
図１２は、図１及び図２に示す表示体を斜め方向から観察した状態を示す斜視図である。図１２に示す通り、表示体１００は、斜め方向から観察する条件では、像をフルカラーで表示する。即ち、表示体１００では、観察条件を法線方向から斜め方向へと変えることにより、フルカラーポジ画像を表示することができる。
【０１２２】
なお、図示しないが、表示体１００を透過光によって観察する条件においては、上記したように第２領域Ｒ２の分布に応じた画像（モノクロネガ画像）が現れる。
【０１２３】
これにより、本実施形態に係る表示体１００は、より高い偽造防止効果を得ることができる。
【０１２４】
表示体１００には、種々の変形が可能である。
【０１２５】
例えば、図９には、第２領域Ｒ２が各々が円錐形状からなる複数の凸部を備えている場合を描いているが、当該第２領域Ｒ２に設けられる複数の凹部又は凸部の構成は、これには限られない。
【０１２６】
例えば、第２領域Ｒ２に設けられている複数の凹部又は凸部は、四角錐形状又は三角錐形状を有していてもよい。また、これら複数の凹部又は凸部は、切頭錐形状を有していてもよい。或いは、これら複数の凹部又は凸部は、底面積が異なる複数の四角柱をその底面積が大きなものから順に積み重ねた構造を有していてもよい。なお、四角柱の代わりに、円柱や三角柱などの四角柱以外の柱状体を積み重ねてもよい。
【０１２７】
また、図９には、複数の凸部が正方格子状に配列している場合を描いているが、複数の凹部又は凸部の配列様式は、これには限られない。例えば、これら複数の凹部又は凸部は、矩形格子状又は三角格子状に配列していてもよい。
【０１２８】
また、図２には、複数の画素ＰＥが矩形格子状に配列している場合を描いているが、複数の画素ＰＥの配列様式は、これに限られない。例えば、これら複数の画素ＰＥは、三角格子状に配列していてもよい。
【０１２９】
以上において説明した表示体１００は、例えば、粘着ステッカ、転写箔、又はスレッドの一部として使用してもよい。或いは、この表示体１００は、ティアテープの一部として使用してもよい。
【０１３０】
図１３は、本実施形態に係る転写箔を拡大して示す断面図である。図１３に示す転写箔２００は、先に説明した表示体１００と、表示体１００を剥離可能に支持した支持体層５０とを備えている。図１３には、一例として、表示体１００の前面と支持体層５０との間に剥離層５２が設けられており、表示体１００の背面上に接着層５４が設けられている場合を描いている。
【０１３１】
支持体層５０は、例えば、樹脂からなるフィルム又はシートである。支持体層５０の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、又は塩化ビニル樹脂を使用する。
【０１３２】
剥離層５２は、転写箔２００を被転写体に転写する際の支持体層５０の剥離を容易にする役割を担っている。剥離層５２の材料としては、例えば、樹脂を使用する。剥離層５２は、パラフィンワックス、カルナバワックス、ポリエチレンワックス及びシリコーンなどの添加剤を更に含んでいてもよい。なお、剥離層５２の厚みは、例えば０．５μｍ乃至５μｍの範囲内とする。
【０１３３】
接着層５４の材料としては、例えば、反応硬化型接着剤、溶剤揮散型接着剤、ホットメルト型接着剤、電子線硬化型接着剤及び感熱接着剤などの接着剤を使用する。
【０１３４】
反応硬化性接着剤としては、例えば、ポリエステルウレタン、ポリエーテルウレタン及びアクリルウレタンなどのポリウレタン系樹脂、又は、エポキシ樹脂を使用する。
【０１３５】
溶剤揮散型接着剤としては、例えば、酢酸ビニル樹脂、アクリル酸エステル共重合樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、アイオノマー樹脂及びウレタン樹脂などを含んだ水性エマルジョン型接着剤、天然ゴム、スチレン−ブタジエン共重合樹脂及びアクリロニトリル−ブタジエン共重合樹脂などを含んだラテックス型接着剤を使用する。
【０１３６】
ホットメルト型接着剤としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン−エチルアクリレート共重合樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルエーテル樹脂及びポリウレタン樹脂などをベース樹脂として含んだものを使用する。
【０１３７】
電子線硬化型接着剤としては、例えば、アクリロイル基、アリル基及びビニル基などのビニル系官能基を１個又は複数個有したオリゴマーを主成分として含んだものを使用する。例えば、電子線硬化型接着剤として、ポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレート、エポキシアクリレート、エポキシメタクリレート、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、ポリエーテルアクリレート又はポリエーテルメタクリレートと、接着付与剤との混合物を使用することができる。この接着付与剤としては、例えば、リンを含んだアクリレート若しくはその誘導体、又は、カルボキシ基を含んだアクリレート若しくはその誘導体を使用する。
【０１３８】
感熱接着剤としては、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ゴム系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂又は塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂を使用する。
【０１３９】
接着層５４は、例えば、上述した樹脂を、グラビアコータ、マイクログラビアコータ及びロールコータなどのコータを用いて表示体１００の背面上に塗付することにより得られる。
【０１４０】
この転写箔２００は、例えば、ロール転写機又はホットスタンプによって、被転写体に転写される。この際、剥離層５２において剥離を生じると共に、表示体１００が、被転写体に、接着層５４を介して貼付される。
【０１４１】
図１４は、表示体付き物品の一例を概略的に示す平面図である。図１４には、表示体付き物品の一例として印刷物３００を描いている。この印刷物３００は、磁気カードであって、基材３０１を含んでいる。基材３０１は、例えば、プラスチックからなる。
【０１４２】
基材３０１上には、印刷層３０２が形成されている。基材３０１の印刷層３０２が形成された面には、上述した表示体１００が、例えば粘着層を介して固定されている。表示体１００は、例えば、粘着ステッカとして又は転写箔として準備しておき、これを印刷層３０２に貼り付けることにより、基材３０１に固定する。
【０１４３】
この印刷物３００は、上述した表示体１００を含んでいる。それゆえ、この印刷物３００は、偽造防止効果に優れている。この印刷物３００は、表示体１００に加えて、印刷層３０２を更に含んでいる。従って、表示体１００の光学効果を印刷層３０２のそれと比較することにより、表示体１００の光学効果を際立たせることができる。
【０１４４】
図１４には、表示体１００を含んだ印刷物として磁気カードを例示しているが、表示体１００を含んだ印刷物は、これに限られない。例えば、表示体１００を含んだ印刷物は、ＩＣ（integrated circuit）カード、無線カード及びＩＤ（identification）カードなどの他のカードであってもよい。或いは、表示体１００を含んだ印刷物は、商品券及び株券などの有価証券であってもよい。或いは、表示体１００を含んだ印刷物は、真正品であることが確認されるべき物品に取り付けられるべきタグであってもよい。或いは、表示体１００を含んだ印刷物は、真正品であることが確認されるべき物品を収容する包装体又はその一部であってもよい。
【０１４５】
また、図１４に示す印刷物３００では、表示体１００を基材３０１に貼り付けているが、表示体１００は、他の方法で基材に支持させることができる。例えば、基材として紙を使用した場合、表示体１００を紙に漉き込み、表示体１０に対応した位置で紙を開口させてもよい。
【０１４６】
なお、上記したように本実施形態に係る表示体１００によれば透過光によって観察する条件においてモノクロネガ画像が表示される構成であるため、基材として光透過性の材料を使用するのが好ましい。この場合、その内部に表示体１００を埋め込んでもよく、基材の裏面、即ち表示面とは反対側の面に表示体１００を固定してもよい。
【０１４７】
また、ラベル付き物品は、印刷物でなくてもよい。即ち、印刷層を含んでいない物品に表示体１００を支持させてもよい。例えば、表示体１００は、美術品などの高級品に支持させてもよい。
【０１４８】
表示体１００は、偽造防止以外の目的で使用してもよい。例えば、表示体１００は、玩具、学習教材、及び装飾品などとしても利用することができる。
【０１４９】
（実施例）
以下のようにして、図３、図１０及び図１１を参照しながら説明した画素ＰＥを備えた転写箔２００を製造した。そして、これを用いてこれら画素ＰＥを備えた表示体１００を支持した表示体付き物品を製造した。
【０１５０】
まず、斜め方向から観察する条件及び透過光によって観察する条件の各々において所望の像を表示可能とする描画データを作成した。なお、ＲＧＢを表現する回折構造以外の部分（つまり、第２領域Ｒ２）については２０００本／ｍｍのクロスグレーティングで描画するデータを作成した。そして、電子線レジスト上に、上記データに対応した形状を、電子線を用いて描画した。このレジストを現像し、所望の凹部又は凸部を形成した。その後、気相堆積法により導電層を成膜し、ニッケルスパッタで各凹部又は凸部の表面に導通をとり、ニッケル電鋳により金型を作製した。このようにして、版を作製した。
【０１５１】
次に、ポリエチレンテレフタレート樹脂からなるレリーフ構造形成層１１０の上に、アクリル樹脂からなる剥離層５２を塗付した。この剥離層５２の厚みは、１μｍであった。次いで、その上に、成形加工用の樹脂からなる層を塗付した。この層の厚みは、１μｍであった。このようにして、原反を作製した。
【０１５２】
続いて、上記原反の樹脂からなる層側の面に、例えば１００℃の熱及び１ＭＰａの圧力で加熱及び加圧しながら版を押し付けた。このようにして、一方の主面に複数の凹部又は凸部を備えたレリーフ構造形成層１１０を得た。
【０１５３】
なお、第１サブ領域ＳＲ１に対応した部分では、複数の凹部又は凸部の中心間距離を８７０ｎｍとした。第２サブ領域ＳＲ２に対応した部分では、複数の凹部又は凸部の中心間距離を７６５ｎｍとした。第３サブ領域ＳＲ３に対応した部分では、複数の凹部又は凸部の中心間距離を７４５ｎｍとした。そして、第２領域Ｒ２に対応した部分では、複数の凹部又は凸部の中心間距離を２５０ｎｍとした。
【０１５４】
次いで、レリーフ構造形成層１１０の上に、アルミニウムを蒸着させた。このようにして、反射材料層１２０を得た。この反射材料層１２０の厚みは、５０ｎｍであった。
【０１５５】
続いて、反射材料層１２０の上に、ＭｇＦ２を蒸着させた。このようにして、マスク層１３０を得た。このマスク層１３０の厚みは、２０ｎｍであった。
【０１５６】
次に、ＮａＯＨ（５％、５０℃）溶液中に浸漬して、エッチングを行った。このようにして、第１層１２０´及び第２層１３０´を得た。
【０１５７】
その後、アクリル系樹脂からなる接着剤を、グラビアコーティング法でアルミニウムの蒸着面に２μｍの厚さで塗付した。このようにして、接着層５４を形成した。以上のようにして、転写箔２００を得た。
【０１５８】
次いで、この転写箔２００を用いて、表示体１００の被転写体への転写を行った。この被転写体としては、光透過性のある被転写用紙を用いた。また、転写は、１５０℃の温度及び１０ＭＰａの圧力で行った。このようにして、表示体付き物品として、表示体１００が貼付された紙を得た。
【０１５９】
この紙について、斜め方向から観察を行った。その結果、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３からの回折光により、写真画質のフルカラーホログラム画像を観察することができた。続いて、この紙について、透過光による観察を行った。その結果、第２領域Ｒ２の分布に基づいたモノクロネガ画像を観察することができた。
【０１６０】
即ち、この表示体１００を用いると、斜め方向から観察する条件においてはフルカラーホログラム画像を観察することができると共に、透過光によって観察する条件においてモノクロネガ画像を観察することができるため、より高い偽造防止効果を実現することができた。
【０１６１】
（第２の実施形態）
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。図１５は、本実施形態に係る表示体の一例の一部を拡大して示す平面図である。図１５では、表示体２００の主面に平行であり且つ互いに直交する軸をＸ軸及びＹ軸とし、表示体２００の主面に垂直な軸をＺ軸としている。
【０１６２】
本実施形態に係る表示体２００は、図１５に示す通り、複数の画素ＰＥを含んでいる。図１５に示す例では、これら画素ＰＥは、Ｘ軸及びＹ軸に沿って矩形格子状に配列している。
【０１６３】
図１６及び図１７は、本実施形態に係る表示体２００を構成している画素の一例を示す平面図である。図１８は、図１６に示す画素のＡ−Ａ線に沿った断面図である。
【０１６４】
画素ＰＥは、少なくとも表示体２００の主面の法線と交差する斜め方向から観察する条件（以下、単に斜め方向から観察する条件と表記）において、１つの所定の色を表示する画素を含むサブ領域を有する。具体的には例えば図１６、図１７に示すように、画素ＰＥは、サブ画素として赤色表示用画素ＰＥＲと、緑色表示用画素ＰＥＧと、青色表示用画素ＰＥＢとを備えている。これら画素ＰＥＲ、ＰＥＧ及びＰＥＢは、典型的には、面積が互いに等しい。
【０１６５】
赤色表示用画素ＰＥＲは、第１サブ領域ＳＲ１と、第２領域Ｒ２とを備えている。なお、この第１サブ領域ＳＲ１は、斜め方向から観察する条件において、赤色を表示するように構成されている。即ち、第１サブ領域ＳＲ１は、斜め方向から観察する条件において、赤色に対応した波長の回折光を射出するように構成された複数の凹部又は凸部を備えている。
【０１６６】
緑色表示用画素ＰＥＧは、第２サブ領域ＳＲ２と、第２領域Ｒ２とを備えている。なお、この第２サブ領域ＳＲ２は、斜め方向から観察する条件において、緑色を表示するように構成されている。即ち、第２サブ領域ＳＲ２は、斜め方向から観察する条件において、緑色に対応した波長の回折光を射出するように構成された複数の凹部又は凸部を備えている。
【０１６７】
青色表示用画素ＰＥＢは、第３サブ領域ＳＲ３と、第２領域Ｒ２とを備えている。なお、この第３サブ領域ＳＲ３は、斜め方向から観察する条件において、青色を表示するように構成されている。即ち、第３サブ領域ＳＲ３は、斜め方向から観察する条件において、青色に対応した波長の回折光を射出するように構成された複数の凹部又は凸部を備えている。
【０１６８】
なお、以下の説明においては、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３を含む領域を便宜的に第１領域と称する。また、光透過領域ＳＲＷを含む領域を便宜的に第３領域と称する。
【０１６９】
図１８に示すように、画素ＰＥは、レリーフ構造形成層１１０と、第１層１２０´と、第２層１３０´とを備えている。
【０１７０】
レリーフ構造形成層１１０の一方の主面には、レリーフ構造が設けられている。第１層１２０´は、レリーフ構造形成層１１０の先の主面を部分的に被覆している。第２層１３０´は、第１層１２０´を被覆している。なお、この画素ＰＥの構造等については、後で詳しく説明する。
【０１７１】
次に、図１９乃至図２２を参照しながら、表示体２００（を構成している画素ＰＥ）の製造方法について説明する。
【０１７２】
図１９乃至図２２は、表示体２００の製造方法を概略的に示す断面図である。この方法では、まず、図１９に示すように、互いに隣接した第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２、第３サブ領域ＳＲ３）及び第２領域Ｒ２及び第３領域Ｒ３（ＳＲＷ）を含んだ主面を有したレリーフ構造形成層１１０を準備する。
【０１７３】
第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２、第３サブ領域ＳＲ３は、凹構造及び／又は凸構造が設けられている。凹構造及び凸構造は、それぞれ、複数の凹部及び複数の凸部からなる。これら凹部又は凸部は、例えばストライプ状に配置されている。これら凹部又は凸部は、典型的には、白色光で照明したときに回折光を射出する回折格子又はホログラムを形成している。
【０１７４】
これら複数の凹部又は凸部の長さ方向に垂直な断面の形状は、例えば、Ｖ字形状及びＵ字形状等の先細り計上とするか又は矩形状とする。図１９には、一例として、上記の断面形状がＶ字形状である場合を描いている。
【０１７５】
サブ領域の凹部又は凸部の中心間距離は、所望の回折光の色に応じて、５００〜１０００ｎｍの範囲内で適宜設定できる。
【０１７６】
具体的には例えば、第１サブ領域ＳＲ１に設ける複数の凹部又は凸部の中心間距離は、８６０ｎｍ乃至８８０ｎｍの範囲内とする。第２サブ領域ＳＲ２に設ける複数の凹部又は凸部の中心間距離は、７５５ｎｍ乃至７７５ｎｍの範囲内とする。第３サブ領域ＳＲ３に設ける複数の凹部又は凸部の中心間距離は、７３５ｎｍ乃至７５５ｎｍの範囲内とする。
【０１７７】
また、これら複数の凹部又は凸部の中心間距離に対する深さ又は高さの比の平均値は、例えば０．５以下とし、典型的には０．０５乃至０．３の範囲内とする。
【０１７８】
なお、ここで「中心間距離」とは、隣り合った凹部間の距離、又は、隣り合った凸部間の距離を意味している。
【０１７９】
第２領域Ｒ２は、凹構造及び／又は凸構造がない、平坦な構造である。
【０１８０】
第３領域Ｒ３は、凹構造及び／又は凸構造が設けられている。これら凹構造及び凸構造は、それぞれ、複数の凹部及び複数の凸部からなる。これら複数の凹部又は凸部は、二次元的に配置されると共に各々が順テーパ形状を有する複数の凹部又は凸部を備えている。
【０１８１】
第３領域Ｒ３は、第１領域Ｒ１と比較して、見かけ上の面積に対する表面積の比がより大きい。なお、領域の「見かけ上の面積」とは、当該領域に平行な平面への当該領域の正射影の面積、即ち、凹構造及び凸構造を無視した当該領域の面積を意味することとする。また、領域の「表面積」とは、凹構造及び凸構造を考慮した当該領域の面積を意味することとする。
【０１８２】
第３領域Ｒ３の複数の凹部又は凸部は、典型的には、第１領域の複数の凹部又は凸部と比較して、凹部又は凸部の中心間距離に対する深さ又は高さの比の平均値がより大きい。図５に示す例では、第３領域Ｒ３に設けられた複数の凹部又は凸部は、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２、第３サブ領域ＳＲ３に設けられた複数の凹部又は凸部と比較して、中心間距離に対する深さ又は高さの比がより大きい。
【０１８３】
第３領域Ｒ３に設ける凹部又は凸部の中心間距離は、１００乃至５００ｎｍの範囲内とする。
【０１８４】
また、第３領域Ｒ３に設ける複数の凹部又は凸部の中心間距離に対する深さ又は高さの比の平均値は、第１領域に設けられる複数の凹部又は凸部の中心間距離に対する深さ又は高さの比の平均値と比較してより大きくする。第３領域Ｒ３に設ける複数の凹部又は凸部の中心間距離に対する深さ又は高さの比の平均値は、例えば０．８乃至２．０の範囲内とし、典型的には０．８乃至１．２の範囲内とする。この値が過度に大きいと、レリーフ構造形成層１１０の生産性が低下する場合がある。
【０１８５】
レリーフ構造形成層１１０は、例えば、微細な凸部を設けた金型を樹脂に押し付けることにより形成することができる。この際、これら凸部の形状は、第１領域及び第３領域Ｒ３の双方に設ける凹部の形状に対応した形状とする。
【０１８６】
レリーフ構造形成層１１０は、例えば、基材上に熱可塑性樹脂を塗布し、これに上記の凸部が設けられた原版を、熱を印加しながら押し当てる方法により形成する。この場合、上記の熱可塑性樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂、これらの混合物、又は、これらの共重合物を使用する。
【０１８７】
或いは、レリーフ構造形成層１１０は、基材上に熱硬化性樹脂層を塗布し、これに上記の凸部が設けられた原版を押し当てながら熱を印加し、その後、原版を取り除く方法により形成してもよい。この場合、熱硬化性樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール系樹脂、これらの混合物、又は、これらの共重合物を使用する。なお、このウレタン樹脂は、例えば、反応性水酸基を有したアクリルポリオール及びポリエステルポリオール等に、架橋剤としてポリイソシアネートを添加して、これらを架橋させることにより得られる。
【０１８８】
或いは、レリーフ構造形成層１１０は、基材上に放射線効果樹脂を塗布し、これに原版を押し当てながら紫外線等の放射線を照射して上記材料を硬化させ、その後、原版を取り除く方法により形成してもよい。或いは、レリーフ構造形成層１１０は、基材と原版との間に上記組成物を流し込み、放射線を照射して上記材料を硬化させ、その後、原版を取り除く方法により形成してもよい。
【０１８９】
放射線硬化樹脂は、典型的には、重合性化合物と開始剤とを含んでいる。
【０１９０】
重合性化合物としては、例えば、光ラジカル重合が可能な化合物を使用する。光ラジカル重合が可能な化合物としては、例えば、エチレン性不飽和結合又はエチレン性不飽和基を有したモノマー、オリゴマー又はポリマーを使用する。或いは、光ラジカル重合が可能な化合物として、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールペンタアクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のモノマー、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート及びポリエステルアクリレート等のオリゴマー、又は、ウレタン変性アクリル樹脂及びエポキシ変性アクリル樹脂等のポリマーを使用してもよい。
【０１９１】
重合性化合物として光ラジカル重合が可能な化合物を使用する場合、開始剤としては、光ラジカル重合開始剤を使用する。この光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル及びベンゾインエチルエーテル等のベンゾイン系化合物、アントラキノン及びメチルアントラキノン等のアントラキノン系化合物、アセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−アミノアセトフェノン及び２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン等のフェニルケトン系化合物、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン、アシルホスフィンオキサイド、又は、ミヒラーズケトンを使用する。
【０１９２】
或いは、重合化合物として、光カチオン重合が可能な化合物を使用してもよい。光カチオン重合が可能な化合物としては、例えば、エポキシ基を備えたモノマー、オリゴマー若しくはポリマー、オキセタン骨格含有化合物、又は、ビニルエーテル類を使用する。
【０１９３】
重合性化合物として光カチオン重合が可能な化合物を使用する場合、開始剤としては、光カチオン重合開始剤を使用する。この光カチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ホスホニウム塩又は混合配位子金属塩を使用する。
【０１９４】
或いは、重合性化合物として、光ラジカル重合が可能な化合物と光カチオン重合が可能な化合物との混合物を使用してもよい。この場合、開始剤としては、例えば、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤との混合物を使用する。或いは、この場合、光ラジカル重合及び光カチオン重合の双方の開始剤として機能し得る重合開始剤を使用してもよい。このような開始剤としては、例えば、芳香族ヨードニウム塩又は芳香族スルホニウム塩を使用する。
【０１９５】
なお、放射線硬化樹脂に占める開始剤の割合は、例えば、０．１乃至１５質量％の範囲内とする。
【０１９６】
放射線硬化樹脂は、増感色素、染料、顔料、重合禁止剤、レベリング剤、消泡剤、タレ止め剤、付着向上剤、塗面改質剤、可塑剤、含窒素化合物、エポキシ樹脂等の架橋剤、離型剤又はこれらの組み合わせを更に含んでいてもよい。また、放射線硬化樹脂には、その成形性を向上させるべく、非反応性の樹脂を更に含有させてもよい。この非反応性の樹脂としては、例えば、上記の熱可塑性樹脂及び／又は熱硬化性樹脂を使用することができる。
【０１９７】
レリーフ構造形成層１１０の形成に用いる上記の原版は、例えば、電子線描画装置又はナノインプリント装置を用いて製造する。こうすると、上述した複数の凹部又は凸部を高い精度で形成することができる。なお、通常は、原版の凹凸構造を転写して反転版を製造し、この反転版の凹凸構造を転写して複製版を製造する。そして、必要に応じ、複製版を原版として用いて反転版を製造し、この反転版の凹凸構造を転写して複製版を更に製造する。実際の製造では、通常、このようにして得られる複製版を使用する。
【０１９８】
レリーフ構造形成層１１０は、典型的には、基材と、その上に形成された樹脂層とを含んでいる。この基材としては、典型的には、フィルム基材を使用する。このフィルム基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム及びポリプロピレン（ＰＰ）フィルム等のプラスチックフィルムを使用する。或いは、基材として、紙、合成紙、プラスチック複層紙又は樹脂含浸紙を使用してもよい。なお、基材は、省略してもよい。
【０１９９】
樹脂層は、例えば、上述した方法により形成される。樹脂層の厚みは、例えば０．１μｍ乃至１０μｍの範囲内とする。この厚みが過度に大きいと、加工時の加圧等による樹脂のはみ出し及び／又は皺の形成が生じ易くなる。この厚みが過度に小さいと、所望の凹構造及び／又は凸構造の形成が困難となる場合がある。また、樹脂層の厚みは、その主面に設けるべき凹部又は凸部の深さ又は高さと等しくするか又はそれより大きくする。この厚みは、例えば、凹部又は凸部の深さ又は高さの１乃至１０倍の範囲内とし、典型的には、その３乃至５倍の範囲内とする。
【０２００】
なお、レリーフ構造形成層１１０の形成は、例えば、特許第４１９４０７３号公報に開示されている「プレス法」、実用新案登録第２５２４０９２号公報に開示されている「キャスティング法」、又は、特開２００７−１１８５６３号公報に開示されている「フォトポリマー法」を用いて行ってもよい。
【０２０１】
次に、図２０に示すように、レリーフ構造形成層１１０の材料とは屈折率が異なる第１材料を、第１領域及び第２領域Ｒ２及び第３領域Ｒ３の全体に対して気相堆積させる。これにより、レリーフ構造形成層１１０の第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２、第３サブ領域ＳＲ３及び第２領域Ｒ２及び第３領域Ｒ３を含んだ主面上に、反射材料層１２０を形成する。
【０２０２】
この第１材料としては、例えば、レリーフ構造形成層１１０の材料との屈折率が異なる材料を用いる。具体的にはレリーフ構造形成層１１０との界面において光を反射することができるものであればよく、金属材料を使用する。また屈折率の実数部分の差が０．２以上である材料を使用する。この差が小さいと、レリーフ構造形成層１１０と後述する第１層１２０との界面における反射が生じ難くなる場合がある。
【０２０３】
第１材料としては典型的には、Ａｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ及びこれらの合金からなる群より選択される少なくとも１つの金属材料を使用する。
【０２０４】
或いは、透明性が比較的高い第１材料として、以下に列挙するセラミック材料又は有機ポリマー材料を使用してもよい。なお、以下に示す化学式又は化合物名の後に記載した括弧内の数値は、各材料の代表的な屈折率の値を意味している。
【０２０５】
即ち、セラミック材料としては、例えば、Ｓｂ２Ｏ３（３．０）、Ｆｅ２Ｏ３（２．７）、ＴｉＯ２（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ２（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ２（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、ＷＯ３（２．２）、ＳｉＯ２（１．４５）、Ｓｉ２Ｏ３（２．５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ２Ｏ３（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ２（２．４）、ＭｇＯ（１．７２）、ＭｇＦ２（１．３７）、又はＡｌ２Ｏ３（１．６〜１．８）等を使用することができる。
【０２０６】
有機ポリマー材料としては、例えば、ポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフルオロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）又はポリスチレン（１．６０）を使用することができる。
【０２０７】
第１材料の気相堆積は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法又は化学蒸着法（ＣＶＤ法）を用いて行う。
【０２０８】
この気相堆積は、レリーフ構造形成層１１０の主面に平行な面内方向について均一な密度で行う。具体的には、この気相堆積は、第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）の見かけ上の面積に対する第１領域の位置における第１材料の量の比と、第３領域Ｒ３の見かけ上の面積に対する第３領域Ｒ３の位置における第１材料の量の比とが、互いに等しくなるようにして行う。
【０２０９】
また、この気相堆積では、典型的には、レリーフ構造形成層１１０の主面が平坦面のみからなると仮定した場合の膜厚（以下、設定膜厚という）を、以下のように定める。即ち、この設定膜厚は、反射材料層１２０が以下の要件を満足するようにして定める。
【０２１０】
第１に、反射材料層１２０のうち第１領域に対応した部分が、第１領域の表面形状に対応した表面形状を有するようにする。図２０に示す例では、この部分は、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３に設けられた複数の凹部又は凸部に対応した表面形状を有した連続膜を形成している。
【０２１１】
第２に、反射材料層１２０のうち第２領域Ｒ２に対応した部分が、平坦な第２領域Ｒ２の表面形状に対応した表面形状を有するようにする。
【０２１２】
第３に、反射材料層１２０のうち第３領域Ｒ３に対応した部分が、第３領域Ｒ３の表面形状に対応した表面形状を有するか、又は、第３領域Ｒ３に設けられた複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口しているようにする。図２０には、一例として、前者の場合を描いている。即ち、図２０に示す例では、この部分は、第３領域Ｒ３に設けられた複数の凹部又は凸部に対応した表面形状を有した連続膜を形成している。
【０２１３】
なお、上述したように、第３領域Ｒ３は、第１領域と比較して、見かけ上の面積に対する表面積の比がより大きい。従って、反射材料層１２０が第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２、第３サブ領域ＳＲ３及び第３領域Ｒ３の表面形状に対応した表面形状を有するように上記の設定膜厚を定めた場合、反射材料層１２０のうち第３領域Ｒ３に対応した部分は、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３に対応した部分と比較して、平均膜厚がより小さくなる。
【０２１４】
なお、ここでは、層の「平均膜厚」とは、当該層の一方の面上の各点と当該層の他方の面に下ろした垂線の足との間の距離の平均値を意味することとする。
【０２１５】
また、上記の設定膜厚を更に小さな値に定めることにより、第１領域に対応した部分では第１領域の表面形状に対応した表面形状を有しており且つ第３領域Ｒ３に対応した部分では複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口した反射材料層１２０を形成することができる。
【０２１６】
反射材料層１２０の設定膜厚は、典型的には、第３領域Ｒ３に設けられた複数の凹部又は凸部の深さ又は高さと比較してより小さくする。また、この設定膜厚は、典型的には、第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）に設けられた複数の凹部又は凸部の深さ又は高さと比較してより小さくする。
【０２１７】
具体的には、反射材料層１２０の設定膜厚は、例えば５ｎｍ乃至５００ｎｍの範囲内とし、典型的には、３０ｎｍ乃至３００ｎｍの範囲内とする。この設定膜厚が過度に小さいと、レリーフ構造形成層１１０と後述する第１層１２０との界面における反射が生じ難くなる場合がある。この設定膜厚が過度に大きいと、反射材料層１２０を上記の要件を満足するように形成することが困難となる場合がある。
【０２１８】
反射材料層１２０のうち第１領域及び第１領域Ｒ２に対応した部分の平均膜厚は、例えば５ｎｍ乃至５００ｎｍの範囲内とし、典型的には３０ｎｍ乃至３００ｎｍの範囲内とする。この平均膜厚が過度に小さいと、レリーフ構造形成層１１０と後述する第１層１２０との界面における反射が生じ難くなる場合がある。この平均膜厚が過度に大きいと、表示体１００の生産性が低下する場合がある。
【０２１９】
次いで、図２１に示すように、反射材料層１２０の材料とは異なる第２材料を、反射材料層１２０に対して気相堆積させる。これにより、反射材料層１２０を間に挟んでレリーフ構造形成層１１０と向き合ったマスク層としての第２層１３０を形成する。
【０２２０】
この第２材料としては、典型的には、無機物を使用する。この無機物としては、例えば、ＭｇＦ２、Ｓｎ、Ｃｒ、ＺｎＳ、ＺｎＯ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ、ＴｉＯ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２及びＡｌ２Ｏ３が挙げられる。特には、第２材料としてＭｇＦ２を使用した場合、基材の曲げや衝撃に対する第２層（マスク層）１３０の追従性及び耐擦傷性を更に向上させることができる。
【０２２１】
或いは、この第２材料として、有機物を使用してもよい。この有機物としては、例えば、重量平均分子量が１５００以下の有機物を使用する。このような有機物としては、例えば、アクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等の重合性化合物と開始剤とを混合し、放射線硬化樹脂と気相堆積した後に、放射線照射によって重合させたものを使用してもよい。
【０２２２】
或いは、第２材料として、金属アルコキシドを使用してもよい。或いは、第２材料として、金属アルコキシドを気相堆積した後、これを重合させたものを使用してもよい。この際、気相堆積の後、重合させる前に、乾燥処理を行ってもよい。
【０２２３】
第２材料の気相堆積は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法又はＣＶＤ法を用いて行う。
【０２２４】
この気相堆積は、レリーフ構造形成層１１０の主面に平行な面内方向について均一な密度で行う。具体的には、この気相堆積は、第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）の見かけ上の面積に対する第１領域の位置における第２材料の量の比と、第３領域Ｒ３の見かけ上の面積に対する第３領域Ｒ３の位置における第２材料の量の比とが、互いに等しくなるようにして行う。
【０２２５】
また、この気相堆積では、マスク層１３０の設定膜厚を、以下のように定める。即ち、この設定膜厚は、マスク層１３０が以下の要件を満足するようにして定める。
【０２２６】
第１に、マスク層１３０のうち第１領域に対応した部分が、第１領域の表面形状に対応した表面形状を有するようにする。図２１に示す例では、この部分は、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３に設けられた複数の凹部又は凸部に対応した表面形状を有した連続膜を形成している。
【０２２７】
第２に、マスク層１３０のうち第２領域Ｒ２に対応した部分が、平坦な第２領域Ｒ２の表面形状に対応した表面形状を有するようにする。
【０２２８】
第３に、マスク層１３０のうち第３領域Ｒ３に対応した部分が、第３領域Ｒ３の表面形状に対応した表面形状を有するか、又は、第３領域Ｒ３に設けられた複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口しているようにする。図２１には、一例として、後者の場合を描いている。即ち、図２１に示す例では、この部分は、反射材料層１２０の上で、第３領域Ｒ３に設けられた複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口した不連続膜を形成している。
【０２２９】
なお、上述したように、第３領域Ｒ３は、第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）と比較して、見かけ上の面積に対する表面積の比がより大きい。従って、マスク層１３０が第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２、第３サブ領域ＳＲ３及び第３領域Ｒ３の表面形状に対応した表面形状を有するように上記の設定膜厚を定めた場合、マスク層１３０のうち第３領域Ｒ３に対応した部分は、第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）に対応した部分と比較して、平均膜厚がより小さくなる。
【０２３０】
また、上記の設定膜厚を更に小さな値に定めることにより、第１領域に対応した部分では第１領域の表面形状に対応した表面形状を有しており且つ第３領域Ｒ３に対応した部分では複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口したマスク層１３０を形成することができる。
【０２３１】
マスク層１３０の設定膜厚は、典型的には、第３領域Ｒ３に設けられた複数の凹部又は凸部の深さ又は高さと比較してより小さくする。また、この設定膜厚は、典型的には、第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）に設けられた複数の凹部又は凸部の深さ又は高さと比較してより小さくする。そして、マスク層１３０の設定膜厚は、典型的には、反射材料層１２０の設定膜厚と比較してより小さくする。
【０２３２】
具体的には、マスク層１３０の設定膜厚は、例えば０．３ｎｍ乃至２００ｎｍの範囲内とし、典型的には、３ｎｍ乃至８０ｎｍの範囲内とする。この設定膜厚が過度に小さいと、マスク層１３０のうち第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）に対応した部分の平均膜厚が過度に小さくなり、反射材料層１２０のうち第１領域に対応した部分のマスク層１３０による保護が不十分となる場合がある。この設定膜厚が過度に大きいと、反射材料層１２０のうち第３領域Ｒ３に対応した部分のマスク層１３０による保護が過剰となる場合がある。
【０２３３】
マスク層１３０のうち第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）に対応した部分の平均膜厚は、典型的には、反射材料層１２０のうち第１領域に対応した部分の平均膜厚と比較してより小さくする。
【０２３４】
マスク層１３０のうち第１領域及び第２領域Ｒ２に対応した部分の平均膜厚は、例えば０．３ｎｍ乃至２００ｎｍの範囲内とし、典型的には３ｎｍ乃至８０ｎｍの範囲内とする。この平均膜厚が過度に小さいと、反射材料層１２０のうち第１領域に対応した部分のマスク層１３０による保護が不十分となり、後述する第１層１２０のうち第１領域に対応した部分の平均膜厚が過度に小さくなる場合がある。この設定膜厚が過度に大きいと、反射材料層１２０のうち第２領域Ｒ２に対応した部分のマスク層１３０による保護が過剰となる場合がある。
【０２３５】
続いて、マスク層１３０を、反射材料層１２０の材料との反応を生じ得る反応性ガス又は液に曝す。そして、少なくとも第３領域Ｒ３の位置で、反射材料層１２０の材料との上記反応を生じさせる。
【０２３６】
ここでは、反応性ガス又は液として、反射材料層１２０の材料を溶解可能なエッチング液を使用する場合について説明する。このエッチング液としては、典型的には、水酸化ナトリウム溶液、炭酸ナトリウム溶液及び水酸化カリウム溶液等のアルカリ性溶液を使用する。或いは、エッチング液として、塩酸、硝酸、硫酸及び酢酸等の酸性溶液を使用してもよい。
【０２３７】
図２１に示すように、マスク層１３０のうち第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）及び第１領域Ｒ２に対応した部分は連続膜を形成しているのに対し、第３領域Ｒ３に対応した部分は、部分的に開口した不連続膜を形成している。反射材料層１２０のうちマスク層１３０によって被覆されていない部分は、反射材料層１２０のうちマスク層１３０によって被覆された部分と比較して、反応性ガス又は液と接触しやすい。従って、前者は、後者と比較してよりエッチングされ易い。
【０２３８】
また、反射材料層１２０のうちマスク層１３０によって被覆されていない部分が除去されると、反射材料層１２０には、マスク層１３０の開口に対応した開口が生じる。エッチングを更に続けると、反射材料層１２０のエッチングは、各開口の位置で面内方向に進行する。その結果、第３領域Ｒ３上では、反射材料層１２０のうちマスク層１３０を支持している部分が、その上のマスク層１３０と共に除去される。
【０２３９】
従って、エッチング液の濃度及び温度並びにエッチングの処理時間等を調整することにより、図２２に示すように、反射材料層１２０のうち第３領域Ｒ３に対応した部分のみを除去することができる。これにより、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３及びＲ２のみを被覆した第１層１２０´が得られる。
【０２４０】
以上のようにして、図１６、図１７及び図１８に示す画素ＰＥから構成される表示体２００を得る。上述した方法によって得られる表示体２００には、以下の特徴がある。
【０２４１】
第１層１２０´は、反射層であり、典型的には、上述した第１材料からなる。第１層１２０´は、第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）及び第２領域Ｒ２及び第３領域Ｒ３のうち、第１領域及び第２領域のみを被覆している。即ち、第１層１２０´は、第１領域及び第２領域に対応した位置にのみ設けられている。また、第３領域Ｒ３の見かけ上の面積に対する第３領域Ｒ３の位置における第１材料の量の比は、ゼロである。
【０２４２】
第１層１２０´は、第１領域及び第２領域の表面形状に対応した表面形状を有している。図１６、図１７及び図１８に示す例では、第１層１２０´は、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３に設けられた複数の凹部又は凸部に対応した表面形状及び平坦なＲ２に対応した表面形状を有している。これら第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３に設けられた複数の凹部又は凸部は、典型的には、白色光で照明したときに回折光を射出する回折格子又はホログラムを第１層１２０´の表面に形成している。この場合、表示体２００においては、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３において射出される回折光に対応した色を表示し得る。
【０２４３】
具体的には、上記した第１サブ領域ＳＲ１は斜め方向から観察する条件において赤色に対応した波長の回折光を射出するように構成されている。第２サブ領域ＳＲ２は斜め方向から観察する条件において緑色に対応した波長の回折光を射出するように構成されている。第３サブ領域ＳＲ３は斜め方向から観察する条件において青色に対応した波長の回折光を射出するように構成されている。即ち、本実施形態に係る表示体２００は、当該表示体２００を斜め方向から観察する条件では、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３（つまり、第１領域）の分布に基づいた画像（フルカラーポジ画像）を表示する。従って、この場合、より優れた偽造防止効果及び装飾効果を達成することができる。
【０２４４】
第１層１２０´の輪郭レリーフ構造形成層１１０の主面への正射影は、その全体が第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）の輪郭と重なり合っている。即ち、第１層１２０´は、第１領域の形状に対応してパターニングされている。従って、第１領域及び第２領域Ｒ２及び第３領域Ｒ３を高い位置精度で形成しておくことにより、優れた位置精度で形成された第１層１２０´を得ることができる。
【０２４５】
なお、図１９乃至図２２を参照しながら説明した方法では、反射材料層１２０のうち第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）及び第２領域に対応した部分は、マスク層１３０によって被覆されている。それゆえ、上記のエッチング処理を行った場合でも、当該部分の膜厚は、殆ど又は全く減少しない。即ち、この平均膜厚は、例えば５ｎｍ乃至５００ｎｍの範囲内にあり、典型的には３０ｎｍ乃至３００ｎｍの範囲内にある。
【０２４６】
なお、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３と第２領域Ｒ２との境界と、第１層１２０´の輪郭との最短距離の最大値は、例えば２０μｍ未満とし、好ましくは１０μｍ未満とし、より好ましくは、３μｍ未満とする。
【０２４７】
第２層１３０´は、例えば、気相堆積法により形成される層である。第２層１３０´は、第１層１２０´を被覆している。第２層１３０´は、第１層１２０´を間に挟んで、第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）及び第２領域Ｒ２及び第３領域Ｒ３のうち第１領域及び第２領域の全体のみと向き合っている。即ち、第１層１２０´の輪郭のレリーフ構造形成層１１０の主面への正射影は、その全体が第２層１３０´の輪郭の上記主面への正射影と重なり合っている。また、第３領域Ｒ３の見かけ上の面積に対する第３領域Ｒ３の位置における第２材料の量の比は、ゼロである。
【０２４８】
第２層１３０´のうち第１領域及び第２領域に対応した部分の平均膜厚は、マスク層１３０のうち第１領域及び第２領域に対応した部分の平均膜厚と等しいか又はより小さい。この平均膜厚は、例えば０．３ｎｍ乃至２００ｎｍの範囲内にあり、典型的には３ｎｍ乃至８０ｎｍの範囲内にある。
【０２４９】
第２層１３０´は、例えば、第１層１２０´を保護する役割を担っている。また、第２層１３０´を設けると、第２層１３０´が存在しない場合と比較して、表示体２００の偽造をより困難とすることができる。
【０２５０】
上記したように本実施形態に係る表示体２００においては、第３領域Ｒ３に対してエッチングを行うことにより、反射層が除去されている。すなわち、表示体２００を透過光によって観察する条件において、反射層を有する部分と反射層が除去された部分により、透かし画像（Ｗａｔｅｒｍａｒｋ  ｐｉｃｔｕｒｅ）が表示される。また、透かし画像を表示するための第３領域Ｒ３は、フルカラー画像を表示するための第１領域とはそれぞれ別の画像を表示するように形成することができるため、回折光によるフルカラー画像と透かしによる透過画像で、異なる画像を表示することができる表示体とすることができ、より高い偽造防止効果を実現することが可能となる。
【０２５１】
より具体的な例として、図１６、図１７では画素ＰＥに、サブ画素として赤色の回折光を表示するＳＲ１を含む赤色表示用画素ＰＥＲ、緑色の回折光を表示するＳＲ２を含む緑色表示用画素ＰＥＧ、青色の回折光を表示するＳＲ１を含む青色表示用画素ＰＥＢ及び光透過領域ＳＲＷ（Ｒ２）を有する透かし表示用画素ＰＥＷを有する。すなわち、１画素ＰＥ中のＳＲ１、ＳＲ２、ＳＲ３の割合でその画素の回折光の色味が決まり、また、ＳＲＷの割合でその画素の透過光の量が決まる。
【０２５２】
画素ＰＥの各サブ画素のサブ領域ＳＲ１、ＳＲ２、ＳＲ３、ＳＲＷはそれぞれ任意の面積で形成することができ、一部又は全部省略してもよい。
【０２５３】
例えばある画素において図２３に示すように赤色表示用画素ＰＥＲにＳＲ１が形成され、緑色表示用画素ＰＥＧ、青色表示用画素ＰＥＢ、光透過領域ＳＲＷにはＲ２しかない場合、この画素は斜め方向から観察する条件において赤い回折光を表示すると共に光は透過しないものとなる。図２４の例では、赤色表示用画素ＰＥＲ、緑色表示用画素ＰＥＧ、青色表示用画素ＰＥＢに、それぞれＳＲ１、ＳＲ２、ＳＲ３が略等しい面積で全面に形成され、透かし表示用画素ＰＥＷの全面に光透過領域ＳＲＷが形成されており、この画素では斜め方向から観察する条件において最大輝度の白色回折光を表示すると共に、比較的多くの光を透過するものとなる。
【０２５４】
このようにすることで、例えば図２５の表示においては、ＳＲ１、ＳＲ２、ＳＲ３とＳＲＷを独立して制御できるため、図２６に示す回折光による画像と図２７に示す透かしによる画像で異なる画像を表示することができる。なお図２６の画像が形成されている部分の画素ＰＥには画像に対応したＳＲ１、ＳＲ２、ＳＲ３による回折構造が形成されており、それ以外の部分の画素ＰＥにはＳＲ１、ＳＲ２、ＳＲ３は形成されていない。そして図２７の画像が形成されている部分の画素ＰＥにはＳＲＷは形成されておらず、それ以外の部分の画素ＰＥにはＳＲＷを形成しているため、透かした時に光が遮蔽される画素による画像が確認できる。
【０２５５】
なお、上では、反射材料層１２０が第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）及び第２領域Ｒ２及び第３領域Ｒ３の表面形状に対応した表面形状を有しており、マスク層１３０のうち第１領域に対応した部分がこの第１領域及び第２領域の表面形状に対応した表面形状を有しており、マスク層１３０のうち第３領域Ｒ３に対応した部分が第３領域Ｒ３に設けられた複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口している構成について説明したが、これら層の構成はこれには限られない。
【０２５６】
例えば、反射材料層１２０とマスク層１３０との双方が第１領域及び第２領域Ｒ２及び第３領域Ｒ３の表面形状に対応した表面形状を有した構成を採用してもよい。この場合、先に述べたように、反射材料層１２０及びマスク層１３０のうち第３領域Ｒ３に対応した部分は、それぞれ、これら層のうち第１領域に対応した部分と比較して、平均膜厚がより小さい。
【０２５７】
一般に、マスク層１３０のうち平均膜厚がより小さい部分は、平均膜厚がより大きい部分と比較して、反応性ガス又は液を透過させ易い。また、反応性ガス又は液と第２材料とが反応し、この反応の生成物がマスク層１３０から直ちに除去される場合には、第３領域Ｒ２上でのみマスク層１３０を開口させることができる。
【０２５８】
従って、この場合においても、エッチング液の濃度及び温度並びにエッチングの処理時間等を調整することにより、図１６乃至図１８に示す表示体２００を製造することが可能である。
【０２５９】
或いは、反射材料層１２０とマスク層１３０との双方が、第１領域及び第２領域Ｒ２に対応した部分では第１領域及び第２領域Ｒ２の表面形状に対応した表面形状を有しており、第３領域Ｒ３に対応した部分では第３領域Ｒ３に設けられた複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口している構成を採用してもよい。この場合において、エッチング液の濃度及び温度並びにエッチングの処理時間等を調整することにより、図１６乃至図１８に示す表示体２００を製造することが可能となる。
【０２６０】
また、上では、反射材料層１２０及びマスク層１３０のうち第３領域Ｒ３に対応した部分を完全に除去する場合について説明したが、これら部分の一部が残存するようにしてもよい。例えば、エッチング処理に供する時間をより短くすることにより、第３領域Ｒ３の見かけ上の面積に対する第３領域Ｒ３の位置における第１材料の量の比が、ゼロより大きく且つ第１領域（第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３）の見かけ上の面積に対する第１領域の位置における第１材料の量の比と比較してより小さくなるようにしてもよい。或いは、同様にして、第３の領域Ｒ３の見かけ上の面積に対する第３領域Ｒ３の位置における第２材料の量の比が、ゼロより大きく且つ第１領域の見かけ上の面積に対する第１領域の位置における第２材料の量の比と比較してより小さくなるようにしてもよい。
【０２６１】
また、上では、反応性ガス又は液としてエッチング液を使用する場合について説明したが、反応性ガス又は液はこれには限られない。例えば、反応性ガス又は液として、反射材料層１２０の材料を気化させ得るエッチングガスを使用してもよい。
【０２６２】
或いは、反応性ガス又は液として、第１材料との反応により、反射材料層１２０の一部を第１材料とは異なる材料からなる層に変化させ得るガス又は液を使用してもよい。この場合、例えば、反射材料層１２０のうち第３領域Ｒ３に対応した部分を除去する代わりに、当該部分を第１材料とは異なる材料からなる層に変化させることが可能となる。
【０２６３】
このような反応性ガス又は液としては、例えば、第１材料を酸化させ得る酸化剤を使用することができる。この酸化剤としては、例えば、酸素、オゾン、若しくはハロゲン、又は、二酸化塩素、次亜ハロゲン酸、亜ハロゲン酸、次ハロゲン酸、過ハロゲン酸、及びその塩などのハロゲン化物、過酸化水素、過硫酸塩類、ペルオキソ炭酸塩類、ペルオキソ硫酸塩類、及びペルオキソリン酸塩類などの無機過酸化物、過酸化ベンゾイル、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ジイソプロピルベンゼンヒドロペルオキシド、過蟻酸、過酢酸、及び過安息香酸などの有機過酸化物、セリウム塩、Ｍｎ（ＩＩＩ）、Ｍｎ（ＩＶ）及びＭｎ（ＶＩ）塩、銀塩、銅塩、クロム塩、コバルト塩、重クロム酸塩、クロム酸塩、過マンガン酸塩、過フタル酸マグネシウム、塩化第二鉄、及び塩化第二銅などの金属又は金属化合物、又は、硝酸、硝酸塩、臭素酸塩、過ヨウ素酸塩、及びヨウ素酸塩などの無機酸若しくは無機酸塩を使用する。
【０２６４】
例えば、反射材料層１２０の材料としてＣｕを使用した場合、反射材料層１２０のうち少なくとも第３領域Ｒ３に対応した部分を酸化剤と反応させることにより、当該部分をＣｕ酸化物からなる層に変化させることができる。或いは、反射材料層１２０の材料としてＡｌを使用した場合、反射材料層１２０のうち少なくとも第３領域Ｒ３に対応した部分を酸化剤と反応させることにより、当該部分をベーマイト等のＡｌ酸化物からなる層に変化させることができる。
【０２６５】
或いは、上記の反応性ガス又は液として、反射材料層１２０の材料を還元させ得る還元剤を使用してもよい。この還元剤としては、例えば、硫化水素、二酸化硫黄、フッ化水素、アルコール、カルボン酸、水素ガス、水素プラズマ、遠隔水素プラズマ、ジエチルシラン、エチルシラン、ジメチルシラン、フェニルシラン、シラン、ジシラン、アミノシラン、ボラン、ジボラン、アラン、ゲルマン、ヒドラジン、アンモニア、ヒドラジン、メチルヒドラジン、１，１−ジメチルヒドラジン、１，２−ジメチルヒドラジン、ｔ−ブチルヒドラジン、ベンジルヒドラジン、２−ヒドラジノエタノール、１−ｎ−ブチル−１−フェニルヒドラジン、フェニルヒドラジン、１−ナフチルヒドラジン、４−クロロフェニルヒドラジン、１，１−ジフェニルヒドラジン、ｐ−ヒドラジノベンゼンスルホン酸、１，２−ジフェニルヒドラジン、ｐ−ヒドラジノベンゼンスルホン酸、１，２−ジフェニルヒドラジン、アセチルヒドラジン又はベンゾイルヒドラジンを使用する。
【０２６６】
なお、図１９乃至図２２を参照しながら説明した方法において、エッチング処理等によって第１層１２０´を形成した後、第２層１３０´を除去してもよい。この第２層１３０´の除去は、例えば、第１材料と第２材料とのイオン化傾向の差異に基づいた第１材料のイオン化が懸念される場合に有効である。
【０２６７】
ここで、図１６、図１７及び図１８に示す第３領域Ｒ３に設けられている複数の凹部又は凸部として採用可能な構造は、前述した第１の実施形態において説明した図９に示す構造と同様である。
【０２６８】
即ち、第３領域Ｒ３には、二次元的に配置されると共に各々が順テーパ形状を有する複数の凸部が設けられている。
【０２６９】
なお、第３領域Ｒ３に設けられている複数の凹部又は凸部の中心間距離は、上記したように１００乃至５００ｎｍの範囲内である。つまり、本実施形態においては、第３領域Ｒ３の部分（つまり、エッチングされる部分）に表面積の大きいクロスグレーティングが形成され、上記したように当該クロスグレーティング部分の金属反射層のみが除去される。
【０２７０】
表示体２００には、種々の変形が可能である。
【０２７１】
例えば、図９には、第３領域Ｒ３が各々が円錐形状からなる複数の凸部を備えている場合を描いているが、当該第３領域Ｒ３に設けられる複数の凹部又は凸部の構成は、これには限られない。
【０２７２】
例えば、第３領域Ｒ３に設けられている複数の凹部又は凸部は、四角錐形状又は三角錐形状を有していてもよい。また、これら複数の凹部又は凸部は、切頭錐形状を有していてもよい。或いは、これら複数の凹部又は凸部は、底面積が異なる複数の四角柱をその底面積が大きなものから順に積み重ねた構造を有していてもよい。なお、四角柱の代わりに、円柱や三角柱などの四角柱以外の柱状体を積み重ねてもよい。
【０２７３】
また、図９には、複数の凸部が正方格子状に配列している場合を描いているが、複数の凹部又は凸部の配列様式は、これには限られない。例えば、これら複数の凹部又は凸部は、矩形格子状又は三角格子状に配列していてもよい。
【０２７４】
また、図１５には、複数の画素ＰＥが矩形格子状に配列している場合を描いているが、複数の画素ＰＥの配列様式は、これに限られない。例えば、これら複数の画素ＰＥは、三角格子状に配列していてもよい。
【０２７５】
以上において説明した表示体２００は、例えば、粘着ステッカ、転写箔、又はスレッドの一部として使用してもよい。或いは、この表示体２００は、ティアテープの一部として使用してもよい。
【０２７６】
転写箔としては、例えば表示体２００を剥離可能に支持した支持体層とを備えている。一例として、表示体２００の前面と支持体層との間に剥離層が設けられており、表示体２００の背面上に接着層が設けられているものが挙げられる。
【０２７７】
支持体層は、例えば、樹脂からなるフィルム又はシートである。支持体層の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、又は塩化ビニル樹脂を使用する。
【０２７８】
剥離層は、転写箔を被転写体に転写する際の支持体層の剥離を容易にする役割を担っている。剥離層の材料としては、例えば、樹脂を使用する。剥離層は、パラフィンワックス、カルナバワックス、ポリエチレンワックス及びシリコーンなどの添加剤を更に含んでいてもよい。なお、剥離層の厚みは、例えば０．５μｍ乃至５μｍの範囲内とする。
【０２７９】
接着層の材料としては、例えば、反応硬化型接着剤、溶剤揮散型接着剤、ホットメルト型接着剤、電子線硬化型接着剤及び感熱接着剤などの接着剤を使用する。
【０２８０】
反応硬化性接着剤としては、例えば、ポリエステルウレタン、ポリエーテルウレタン及びアクリルウレタンなどのポリウレタン系樹脂、又は、エポキシ樹脂を使用する。
【０２８１】
溶剤揮散型接着剤としては、例えば、酢酸ビニル樹脂、アクリル酸エステル共重合樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、アイオノマー樹脂及びウレタン樹脂などを含んだ水性エマルジョン型接着剤、天然ゴム、スチレン−ブタジエン共重合樹脂及びアクリロニトリル−ブタジエン共重合樹脂などを含んだラテックス型接着剤を使用する。
【０２８２】
ホットメルト型接着剤としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン−エチルアクリレート共重合樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルエーテル樹脂及びポリウレタン樹脂などをベース樹脂として含んだものを使用する。
【０２８３】
電子線硬化型接着剤としては、例えば、アクリロイル基、アリル基及びビニル基などのビニル系官能基を１個又は複数個有したオリゴマーを主成分として含んだものを使用する。例えば、電子線硬化型接着剤として、ポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレート、エポキシアクリレート、エポキシメタクリレート、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、ポリエーテルアクリレート又はポリエーテルメタクリレートと、接着付与剤との混合物を使用することができる。この接着付与剤としては、例えば、リンを含んだアクリレート若しくはその誘導体、又は、カルボキシ基を含んだアクリレート若しくはその誘導体を使用する。
【０２８４】
感熱接着剤としては、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ゴム系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂又は塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂を使用する。
【０２８５】
接着層は、例えば、上述した樹脂を、グラビアコータ、マイクログラビアコータ及びロールコータなどのコータを用いて表示体２００の背面上に塗付することにより得られる。
【０２８６】
この転写箔は、例えば、ロール転写機又はホットスタンプによって、被転写体に転写される。この際、剥離層において剥離を生じると共に、表示体２００が、被転写体に、接着層を介して貼付される。
【０２８７】
また本実施形態に係る表示体２００は、物品に組み込み、表示体付き物品として用いることができる。例えば、表示体付き物品の一例として、カード基材を含むカードがある。
【０２８８】
基材は、例えば、プラスチックや紙基材からなるが、本実施形態では透過光によっても観察するため、少なくとも一部または全部が光透過性の基材を用いることが好ましい。
【０２８９】
基材上には、印刷層が形成されている。基材の印刷層が形成された面には、上述した表示体２００が、例えば粘着層を介して固定されている。表示体２００は、例えば、粘着ステッカとして又は転写箔として準備しておき、これを印刷層に貼り付けることにより、基材に固定する。
【０２９０】
このカードは、上述した表示体２００を含んでいる。それゆえ、このカードは、偽造防止効果に優れている。このカードは、表示体２００に加えて、印刷層を更に含んでいる。従って、表示体２００の光学効果を印刷層のそれと比較することにより、表示体２００の光学効果を際立たせることができる。
【０２９１】
カードとしては磁気カードや、ＩＣ（integrated circuit）カード、無線カード及びＩＤ（identification）カードなどの他のカードであってもよい。
【０２９２】
また或いは、カード以外の商品券及び株券などの有価証券からなる表示体付き物品であってもよい。或いは、真正品であることが確認されるべき物品に取り付けられるべきタグ、ラベルであってもよい。或いは、真正品であることが確認されるべき物品を収容する包装体又はその一部であってもよい。
【０２９３】
また、表示体２００は基材に貼り付けてもよいが、例えば、基材として紙を使用した場合、表示体２００を紙に漉き込み、表示体２００に対応した位置で紙を開口させてもよい。
【０２９４】
なお、本実施形態では透過光によっても観察するため、基材として光透過性の材料を使用するのが好ましい。この場合、その内部に表示体２００を埋め込んでもよく、基材の裏面、即ち表示面とは反対側の面に表示体２００を固定してもよい。
【０２９５】
表示体２００は、偽造防止以外の目的で使用してもよい。例えば、表示体２００は、玩具、学習教材、及び装飾品などとしても利用することができる。
【０２９６】
（実施例）
まず、斜め方向から観察する条件及び透過光によって観察する条件の各々において所望の像を表示可能とする描画データを作成した。なお、透かし部分（つまり、第３領域Ｒ３）については２０００本／ｍｍのクロスグレーティングで描画するデータを作成した。そして、電子線レジスト上に、上記データに対応した形状を、電子線を用いて描画した。このレジストを現像し、所望の凹部又は凸部を形成した。その後、気相堆積法により導電層を成膜し、ニッケルスパッタで各凹部又は凸部の表面に導通をとり、ニッケル電鋳により金型を作製した。このようにして、版を作製した。
【０２９７】
次に、ポリエチレンテレフタレート樹脂からなるレリーフ構造形成層１１０の上に、アクリル樹脂からなる剥離層を塗付した。この剥離層の厚みは、１μｍであった。次いで、その上に、成形加工用の樹脂からなる層を塗付した。この層の厚みは、１μｍであった。このようにして、原反を作製した。
【０２９８】
続いて、上記原反の樹脂からなる層側の面に、例えば１００℃の熱及び１ＭＰａの圧力で加熱及び加圧しながら版を押し付けた。このようにして、一方の主面に複数の凹部又は凸部を備えたレリーフ構造形成層１１０を得た。
【０２９９】
なお、第１サブ領域ＳＲ１に対応した部分では、複数の凹部又は凸部の中心間距離を８７０ｎｍとした。第２サブ領域ＳＲ２に対応した部分では、複数の凹部又は凸部の中心間距離を７６５ｎｍとした。第３サブ領域ＳＲ３に対応した部分では、複数の凹部又は凸部の中心間距離を７４５ｎｍとした。また、第２領域Ｒ２に対応する部分では平坦な形状とした。そして、第３領域Ｒ３に対応した部分では、複数の凹部又は凸部の中心間距離を２５０ｎｍとした。
【０３００】
次いで、レリーフ構造形成層１１０の上に、アルミニウムを蒸着させた。このようにして、反射材料層１２０を得た。この反射材料層１２０の厚みは、５０ｎｍであった。
【０３０１】
続いて、反射材料層１２０の上に、ＭｇＦ２を蒸着させた。このようにして、マスク層１３０を得た。このマスク層１３０の厚みは、２０ｎｍであった。
【０３０２】
次に、ＮａＯＨ（５％、５０℃）溶液中に浸漬して、エッチングを行った。このようにして、第１層１２０´及び第２層１３０´を得た。
【０３０３】
その後、アクリル系樹脂からなる接着剤を、グラビアコーティング法でアルミニウムの蒸着面に２μｍの厚さで塗付した。このようにして、接着層５４を形成した。以上のようにして、転写箔を得た。
【０３０４】
次いで、この転写箔を用いて、表示体２００の被転写体への転写を行った。この被転写体としては、光透過性のある被転写用紙を用いた。また、転写は、１５０℃の温度及び１０ＭＰａの圧力で行った。このようにして、表示体付き物品として、表示体２００が貼付された紙を得た。
【０３０５】
この紙について、斜め方向から観察を行った。その結果、第１サブ領域ＳＲ１、第２サブ領域ＳＲ２及び第３サブ領域ＳＲ３からの回折光により、写真画質のフルカラーホログラム画像を観察することができた。続いて、この紙について、透過光による観察を行った。その結果、第３領域Ｒ３の分布に基づいた透かし画像を観察することができた。
【０３０６】
即ち、この表示体２００を用いると、斜め方向から観察する条件においてはフルカラーホログラム画像を観察することができると共に、透過光によって観察する条件において別の透かし画像を観察することができるため、より高い偽造防止効果を実現することができた。
【０３０７】
なお、上述した第１及び第２の実施形態に係る表示体において、他のパターンが同一面に更に形成されるような構成とすることも可能である。具体的には、レリーフ型の回折格子からなる回折格子パターンを更に形成することができる。この回折格子パターンは、照明光を照射することにより回折波を生じる構造である。
【０３０８】
また、光散乱により像を表示するパターン（以下、光散乱パターンと表記）を更に形成しても構わない。この光散乱パターンでは、レリーフ構造形成層１１０と反射材料層１２０との界面に、方向の揃った複数の直線状の凸部及び／又は凹部が各々に形成され、当該方向が互いに異なる複数の領域（以下、光散乱領域と表記）を含むパターンが形成される。この複数の領域を法線方向から照明した場合、この領域は、直線状の凸部及び／又は凹部の長手方向に垂直な面内には最も広い射出範囲で散乱光を射出し、直線状の凸部及び／又は凹部の長手方向に平行であり且つ先の領域の主面に垂直な面内には最も狭い射出各範囲で散乱光を射出する。
【０３０９】
ここで、図２８を参照して、複数の光散乱領域で得られる視覚効果について説明する。図２８は、光散乱領域の一例を概略的に示す平面図である。図２８に示す光散乱領域３００は、複数の光散乱構造３１０を含んでいる。これら光散乱構造３１０は、各々が直線状であり、各光散乱領域３００内で方向が揃った複数の凸部及び／又は凹部である。すなわち、各光散乱領域３００において、光散乱構造３１０はほぼ平行に配列している。
【０３１０】
なお、各光散乱領域３０において、光散乱構造３１０は完全に平行に配列していなくてもよい。光散乱領域３００が十分な光散乱能異方性を有している限り、その光散乱領域３００において、例えば、一部の光散乱構造３１０の長手方向と他の一部の光散乱構造３１０の長手方向とが交差していても良い。以下、光散乱領域３００の主面に平行な方向のうち、光散乱領域３００が最小の光散乱能を示す方向を「配向方向」と呼び、光散乱領域３００が最大の光散乱能を示す方向を「光散乱軸」と呼ぶ。
【０３１１】
図２８に示す光散乱領域３００では、矢印３２０で示す方向は配向方向であり、矢印３３０で示す方向は光散乱軸である。例えば配向方向３２０に垂直な斜め方向から光散乱領域３００を証明して、光散乱領域３００を正面から観察すると、光散乱領域３００は、その高い光散乱能に起因して、比較的明るく見える。一方、光散乱軸３３０に垂直な斜め方向から光散乱領域３００を証明して、光散乱領域３００を正面から観察すると、光散乱領域３００は、その低い光散乱能に起因して、比較的暗く見える。
【０３１２】
これから明らかなように、例えば、光散乱領域３００を斜め方向から照明して、これを正面から観察した場合、光散乱領域３００をその法線方向の周りで回転させると、その明るさが変化する。それゆえ、例えば、上記した複数の光散乱領域（例えば、２つの光散乱領域）に同一の構造を採用し、それらの領域間で光散乱軸３３０の方向のみを異ならしめた場合、一方の領域が最も明るく見えるときには他方の領域は比較的暗く見え、当該一方の領域が最も暗く見えるときには当該他方の領域は比較的明るく見える。
【０３１３】
すなわち、２つの光散乱領域で光散乱軸３３０を異ならしめることにより、それらの間に明るさの差を生じさせることができる。したがって、これにより、像を表示することができる。特に、２つの光散乱領域の光散乱軸３３０の角度差を十分とする（例えば、３０°以上）、あるいはそれぞれの光散乱異方性を十分大きくすることにより、それぞれの領域で表示された像をそれぞれ別の観察条件で観察することができる。
【０３１４】
なお、ここでは簡単に説明したが、上記した光散乱パターンとしては特開２００８−１０７４７２号公報に公開されているものを用いることができる。
【０３１５】
更に、上面が基材面と略平行である複数の凸部、又は底面が基材面と略平行である複数の凹部と、基材面と略平行な平坦部が配置されて構成されたパターン（以下、構造色ＯＶＤパターンと表記）が更に形成されても構わない。このパターンによれば、照明光の入射に応じて複数の波長の光から構成される色を表示可能である。つまり、レリーフ型の回折格子パターンのように照明の位置や観察者の位置の変化に応じて虹色に色変化することがなく、当該回折格子を利用した偽造防止媒体とは異なる視覚効果を実現できる。
【０３１６】
ここで、表示体の印刷層はインキやトナーにより形成されており、インキやトナーに固有の色相、明度、彩度の発色を成し、照明光の入射角度や観察角度によってその色合いが大きく変化することはない。一方で、構造色ＯＶＤパターンが形成された領域は、通常の照明条件下において固有の色を表示でき、条件が変化した際には色変化を呈することができる。機能が異なるこれら２つの層が表示体内に形成されていることで通常の印刷層だけでは実現不可能な特有の視覚効果を付与することができる。
【０３１７】
なお、ここでは簡単に説明したが、上記した構造色ＯＶＤパターンとしては特開２０１１−２１８６４８号公報に公開されているものを用いることができる。
【０３１８】
更に、上述したクロスグレーティングを更に形成することも可能である。このクロスグレーティングによれば、表示体をその法線方向から観察した場合は黒色に見えるが、深い角度では回折光が射出される。このため、通常は黒色に表示された画像が観察角度を変えていくことによって突然光って見えるような特有の視覚効果を付与することができる。なお、クロスグレーティングとしては特開２００９−０８６６４８号公報に公開されているものを用いることができる。
【０３１９】
このように上述した第１及び第２の実施形態に係る表示体に上記したような他のパターンを組み合わせることによってより高い偽造防止効果を実現することができる。
【符号の説明】
【０３２０】
５０…樹脂層、５２…剥離層、５４…接着層、１００，２００…表示体、１１０…レリーフ構造形成層、１２０…反射材料層、１２０´…第１層、１３０…マスク層、１３０´…第２層、２００…転写箔、３００…印刷物、３０１…基材、３０２…印刷層、ＰＥ…画素、ＰＥＢ…青色表示用画素、ＰＥＧ…緑色表示用画素、ＰＥＲ…赤色表示用画素、Ｒ２…第２領域、ＳＲ１…第１サブ領域、ＳＲ２…第２サブ領域、ＳＲ３…第３サブ領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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