(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
３次元構造を有する特定形状構造物を金属溶融液に浸漬して、前記３次元構造を有する特定形状構造物の外表面に金属溶融物質をコーティングさせて金属コーティング基材を形成する金属コーティング段階；
前記金属コーティング基材を陽極酸化加工して、前記金属コーティング基材の外面に複数個の微細ホールを形成する陽極酸化段階；
前記金属コーティング基材の前記酸化された外面に非ぬれ性高分子物質をコーティングして、前記非ぬれ性高分子物質を前記金属コーティング基材の複数個の微細ホールに対応する陰画複製構造物に形成する陰画複製段階；
前記陰画複製構造物の外面を外部形成物質で囲む外部構造物形成段階；及び
前記外部形成物質で囲まれた前記陰画複製構造物から、外面に複数個の微細ホールの形成された前記金属コーティング基材を除去する金属コーティング除去段階；
を含む、浸漬法を利用した疎水性表面を有する３次元形状構造物の製造方法。
【請求項２】
前記金属溶融液はアルミニウムを溶解させて製造したアルミニウム溶融液であることを特徴とする、請求項１に記載の浸漬法を利用した疎水性表面を有する３次元形状構造物の製造方法。
【請求項３】
固体状態の前記アルミニウムを溶融させて前記金属溶融液を用意する金属溶融段階をさらに含むことを特徴とする、請求項２に記載の浸漬法を利用した疎水性表面を有する３次元形状構造物の製造方法。
【請求項４】
前記３次元構造を有する特定形状構造物を電解質溶液内で電解研磨（ｅｌｅｃｔｒｏｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）を実施することによって前記３次元構造を有する特定形状構造物の表面を平坦化させることを特徴とする、請求項１に記載の浸漬法を利用した疎水性表面を有する３次元形状構造物の製造方法。
【請求項５】
前記３次元構造を有する特定形状構造物を前記金属溶融液に浸漬する時間を異なるようにしてコーティング厚さを調節することを特徴とする、請求項１に記載の浸漬法を利用した疎水性表面を有する３次元形状構造物の製造方法。
【請求項６】
前記３次元構造を有する特定形状構造物を金属溶融液から取り出して予め設定された温度で乾燥硬化することを特徴とする、請求項１に記載の浸漬法を利用した疎水性表面を有する３次元形状構造物の製造方法。
【請求項７】
微細粒子を噴射させて前記金属コーティング基材の外面に微細凹凸を形成させる粒子噴射段階をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の浸漬法を利用した疎水性表面を有する３次元形状構造物の製造方法。
【請求項８】
前記陰画複製段階は、前記非ぬれ性高分子物質が前記金属コーティング基材の微細ホールに注入されて、前記陰画複製構造物が前記微細ホールに対応する複数個の柱を備えることを特徴とする、請求項１に記載の浸漬法を利用した疎水性表面を有する３次元形状構造物の製造方法。
【請求項９】
前記非ぬれ性高分子物質は、ＰＴＦＥ（Ｐｏｌｙｔｅｔｒａｈｌｕｏｒｅｔｈｙｌｅｎｅ）、ＦＥＰ（Ｆｌｕｏｒｉｎａｔｅｄ  ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ  ｃｏｐｏｙｍｅｒ）、ＰＦＡ（Ｐｅｒｆｌｕｏｒｏａｌｋｏｘｙ）からなる群より選択された少なくともいずれか一つの物質であることを特徴とする、請求項８に記載の浸漬法を利用した疎水性表面を有する３次元形状構造物の製造方法。
【請求項１０】
前記金属コーティング基材を化学的なエッチングによって除去することを特徴とする、請求項１に記載の金属箔を利用した疎水性表面を有する３次元形状構造物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、疏水性表面を有する３次元形状構造物の製造方法に関するものであって、より詳しくは、金属溶融液に特定形状構造物を浸漬する浸漬法を利用して、３次元形状構造物の表面に疏水特性が与えられるように形成させる３次元形状構造物の製造方法に関わる。
【背景技術】
【０００２】
一般に、金属やポリマーなどの固体基材の表面は固有の表面エネルギーを有している。これは任意の液体が固体基材に接触する時、液体と固体の間の接触角で現れる。ここで、液体は水または油などの種類を通称するが、以下では、液体の中でも最も代表的な水を言及して説明する。接触角度の大きさが９０°より小さい場合には、球形状の水滴が固体表面でその形態を失い、表面を浸す親水性（親水性、ｈｙｄｒｏｐｈｉｌｉｃｉｔｙ）特性を示す。反面、接触角度の大きさが９０°より大きい場合には、球形状の水滴が固体表面で球の形状を維持しつつ、表面を浸さずに外部力によって容易に流れる疏水（疎水、ｈｙｄｒｏｐｈｏｂｉｃｉｔｙ）特性を示す。その例として、ハスの花葉の上に水滴が落ちた場合、ハスの花葉を浸さずに表面を流れる現象が疏水特性である。
【０００３】
固体基材の表面が有する固有の接触角は、その表面が微細な凹凸形状を有するように加工するとその値が変化することができる。つまり、接触角が９０°より小さい親水性表面は、表面加工を通して親水性がもっと大きくなることができ、接触角が９０°より大きい疎水性表面も表面加工を通して疎水性がもっと大きくすることができる。このような固体基材の疎水性表面は多様な応用が可能である。疎水性表面を配管構造物に適用すれば、配管内部を流動する液体の滑りがさらに容易になるので、その流量と流速が増加する。これによって、疎水性表面は水道管またはボイラー配管に適用する際、従来に比べて異物が積もることをより著しく減少させる。そして、疎水性表面は、非ぬれ性高分子物質が利用されれば配管内面での腐蝕が防止されるので、水質汚染も減少させることができる。
【０００４】
しかしながら、任意の用途のために固体表面の接触角を変化させる技術は、現在まで半導体製造技術を応用したＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ  ｅｌｅｃｔｒｏ  ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｓｙｓｔｅｍｓ）工程であって、固体表面をマイクロあるいはナノ単位の微細な凹凸に形成する。このようなＭＥＭＳ工程は半導体技術を機械工学的に応用した先端の技術であるが、半導体工程は非常に高価の費用が所要される。つまり、ＭＥＭＳ工程は固体表面にナノ単位の凹凸を形成しようとする場合、金属表面の酸化、一定の温度と一定の電圧の印加、特殊な溶液での酸化及びエッチングなどの作業を行う。このようなＭＥＭＳ工程は一般的な作業環境で行うことができない作業であるため、特別に製作された清浄室で行わなければならず、これに必要な専用機械も高価の装備であるためである。また、ＭＥＭＳ工程は半導体工程の特性上、広い表面を一回に処理できないという点もまた短所として作用する。
【０００５】
このように従来の存疎水性表面を形成する技術はその工程が非常に複雑であり大量生産が難しく、高い製作費用によりその適用自体が容易ではなかった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、先に説明したように従来の問題点を解決するために提案されたものであって、従来に比べて相対的に単純化された段階から行われることによって大量生産が可能である疎水性表面を有する３次元形状構造物の製造方法を提供することにその目的がある。
【０００７】
また、本発明は、疎水性表面を有する３次元形状構造物を製造するとしても、金属溶融液に特定形状構造物を浸漬する浸漬法を利用して、より容易に疎水性表面を有する３次元形状構造物の製造方法を提供することに他の目的がある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の実施例による疎水性表面を有する３次元形状構造物の製造方法は、３次元構造を有する特定形状構造物を金属溶融液に浸漬して、前記３次元構造を有する特定形状構造物の外表面に金属溶融物質をコーティングさせて金属コーティング基材を形成する金属コーティング段階、前記金属コーティング基材を陽極酸化加工して、前記金属コーティング基材の外面に複数個の微細ホールを形成する陽極酸化段階、前記金属コーティング基材の前記酸化された外面に非ぬれ性高分子物質をコーティングして、前記非ぬれ性高分子物質を前記金属コーティング基材の複数個の微細ホールに対応する陰画複製構造物に形成する陰画複製段階、前記陰画複製構造物の外面を外部形成物質で囲む外部構造物形成段階、及び前記外部形成物質で囲まれた前記陰画複製構造物から、外面に複数個の微細ホールの形成された前記金属コーティング基材を除去する金属コーティング除去段階を含む。
【０００９】
本発明の実施例による前記金属溶融液は、アルミニウムを溶解させて製造したアルミニウム溶融液である。本発明の実施例は、固体状態の前記アルミニウムを溶融させて前記金属溶融液を用意する金属溶融段階をさらに含む。
【００１０】
本発明の実施例は、前記３次元構造を有する特定形状構造物を電解質溶液内で電解研磨（ｅｌｅｃｔｒｏｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）を実施することによって前記３次元構造を有する特定形状構造物の表面を平坦化させる。
【００１１】
本発明の実施例は、前記３次元構造を有する特定形状構造物を前記金属溶融液に浸漬する時間を異なるようにしてコーティング厚さを調節する。
【００１２】
本発明の実施例は、前記３次元構造を有する特定形状構造物を金属溶融液から取り出して予め設定された温度で乾燥硬化する。
【００１３】
本発明の実施例は、微細粒子を噴射させて前記金属コーティング基材の外面に微細凹凸を形成させる粒子噴射段階をさらに含む。
【００１４】
本発明の実施例による前記陰画複製段階は、前記非ぬれ性高分子物質が前記金属コーティング基材の微細ホールに注入されて、前記陰画複製構造物が前記微細ホールに対応する複数個の柱を備える。
【００１５】
本発明の実施例による前記非ぬれ性高分子物質は、ＰＴＦＥ（Ｐｏｌｙｔｅｔｒａｈｌｕｏｒｅｔｈｙｌｅｎｅ）、ＦＥＰ（Ｆｌｕｏｒｉｎａｔｅｄ  ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ  ｃｏｐｏｙｍｅｒ）、ＰＦＡ（Ｐｅｒｆｌｕｏｒｏａｌｋｏｘｙ）からなる群より選択された少なくともいずれか一つの物質である。
【００１６】
本発明の実施例は、前記金属コーティング基材を化学的なエッチングによって除去する。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の実施例による３次元形状構造物の製造方法は、３次元形状構造物の表面に疎水性を付与させると共に従来のＭＥＭＳ工程で必要としていた高価の装備を使用しなくてもよいので、その製作費用も相対的に安く、その工程も単純であるという長所がある。
【００１８】
さらに、本発明の実施例による３次元形状構造物の製造方法は、アルミニウム素材の金属基材を使用せず、浸漬法を利用して金属基材の表面にだけアルミニウムコーティング層を形成して、陽極酸化工程を行う。したがって、本発明の実施例による３次元形状構造物の製造方法は、陽極酸化を行うとしても材料の損失を節減することができ、より廉価の費用で製作できるという長所がある。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の一実施例による疎水性表面を有する３次元形状構造物の製造方法を示したフローチャートである。
【図２】図１に示された疎水性表面を有する３次元形状構造物の製造方法において、各段階をイメージ化して示した概略図であって、特定形状構造物を示した概略図である。
【図３】図２に示された特定形状構造物の表面に金属溶融液をコーティングさせた状態を示した概略図である。
【図４】図３に示された金属コーティング基材の表面に陽極酸化層が形成された状態を示した概略図である。
【図５】図４に示された金属コーティング基材の表面に陰画複製構造物が形成された状態を示した概略図である。
【図６】図５に示された陰画複製構造物の外面に外部形成物質が付着された状態を示した概略図である。
【図７】図６に示された金属コーティング基材と陽極酸化層が除去されて、陰画複製構造物と外部形成物質で形成された状態を示した概略図である。
【図８】図３に示された金属コーティング基材に微細凹凸を形成させる粒子噴射器を示した概略図である。
【図９】図４に示された金属コーティング基材を陽極酸化させる陽極酸化装置を示した概略図である。
【図１０】図９に示された金属コーティング基材を陽極酸化処理した後で陽極酸化層に微細ホールが形成されていることを拡大して示した図である。
【図１１】図５に示された陽極酸化層の微細ホールに対応する陰画形状を複製する陰画複製装置を示した概略図である。
【図１２】図１１に示された線VII−VIIに沿って陰画複製装置を切断して示した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、添付した図面を参照して、本発明の実施例について本発明が属する技術分野にて通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳しく説明する。本発明はの多様な相違した形態に具現でき、ここで説明する実施例に限られない。
【００２１】
図１は、本発明の第１実施例による疎水性表面を有する３次元形状構造物の製造方法を示したフローチャートである。
【００２２】
図１に示されているように、本発明の実施例による疎水性表面を有する３次元形状構造物の製造方法は、金属コーティング段階（Ｓ１）、陽極酸化段階（Ｓ２）、陰画複製段階（Ｓ３）、外部構造物形成段階（Ｓ４）、及び金属コーティング除去段階（Ｓ５）を行う。このような段階を行うことにより、本発明の実施例は従来のＭＥＭＳ工程に比べて単純でありつつ相対的に廉価の製作費用で疎水性表面を有する構造物を製造することができる。さらに、本発明の実施例は、前記のような製造段階によって、３次元形状構造物の内部表面に疏水特性が与えられるように構造物を製造することができる。
【００２３】
図２乃至図７は、図１に示された疎水性表面を有する３次元形状構造物の製造方法によって各段階別製造工程を各々イメージ化して示した概略図であって、図２は、特定形状構造物を示した概略図である。
【００２４】
図２に示されているように、本発明の実施例に使用される特定形状構造物１０１は円筒形状の物体であって、配管（ｐｉｐｅ）構造物の内面に疏水特性を付与するための用途に使用される。本発明の実施例は、事前用意作業として過塩素酸（ｐｅｒｃｈｌｏｒｉ  ｃａｃｉｄ）とエタノール（ｅｔｈａｎｏｌ）を１：４の体積比に混合した溶液に特定形状構造物１０１を浸漬した後で電解研磨（ｅｌｅｃｔｒｏｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）を実施して、特定形状構造物１０１の表面を平坦化させる。
【００２５】
そして、本発明の実施例は、事前用意段階として、ルツボなどの容器に固体状態の金属を溶融させて金属溶融液を用意する。アルミニウムは後述の陽極酸化によって微細ホールが容易に形成されることができる性質があるので、本発明の実施例による金属溶融液はアルミニウムを溶融させて製造したアルミニウム溶融液を使用する。
【００２６】
特定形状構造物１０１は、このような金属溶融液に浸漬されることによってその表面に金属溶融物質がコーティングされることができる。金属溶融物質は、特定形状構造物１０１が金属溶融液に浸漬される時間または特定形状構造物１０１の表面摩擦力などの多様な条件に応じてコーティングされる金属コーティング層１１０の厚さが異なる。したがって、本発明の実施例は特定形状構造物１０１を金属溶融液に浸漬する時間を異なるようにすることによってコーティング厚さを微細に調節する。
【００２７】
金属溶融物質がコーティングされた特定形状構造物１０１は金属溶融液から取り出され、予め設定された温度で乾燥硬化される。そうすれば、特定形状構造物１０１の表面には図３に示された金属コーティング層１１０が形成される。本発明の実施例はこのように金属コーティング層１１０が形成された特定形状構造物１０１を“金属コーティング基材”と称す。
【００２８】
図８は、図３に示された金属コーティング基材に微細凹凸を形成させる粒子噴射器を示した概略図である。
【００２９】
図１、図３、及び図８に示されているように、本発明の実施例は、微細粒子１１を噴射させて金属コーティング基材の外面に微細凹凸１１３を形成させる微細粒子噴射段階を行う。これのために、本発明の実施例は粒子噴射器１０を利用する。粒子噴射器１０は微細粒子１１を任意の速度と圧力で金属コーティング基材の表面に衝突させる。そうすると、金属コーティング基材は微細粒子の衝撃エネルギーによって変形が発生しつつ、金属コーティング層１１０には微細凹凸が形成される。特に、本発明の実施例は、微細粒子１１を噴射する過程で金属コーティング基材を回転させることによって、金属コーティング層１１０の表面にマイクロ単位の微細凹凸が均等に分布するようにする。本発明の実施例に使用される粒子噴射器１０は砂粒子を噴射するサンドブラスターであり、砂粒子の代わりに、金属具などの微細粒子を噴射する微細粒子噴射器が使用されても差し支えない。
ただし、本発明の実施例は、金属コーティング層１１０の厚さが予め設定された厚さ以下であれば、微細粒子噴射段階を行う過程で金属コーティング層１１０が除去されるので、必要に応じて実施しなくてもよい。
【００３０】
図９は、図４に示された金属コーティング基材を陽極酸化させる陽極酸化装置を示した概略図である。
【００３１】
図１、図４、及び図９に示されているように、本発明の実施例は、金属コーティング基材を陽極酸化加工（ａｎｏｄｉｚｉｎｇ）して、金属コーティング基材の外面に微細ホール（ｈｏｌｅ）を形成する陽極酸化段階を行う（Ｓ２）。陽極酸化段階は、金属コーティング基材を電解質溶液２３に浸漬した後で電極を印加させることによって、金属コーティング基材の表面に陽極酸化層１２０を形成する。
【００３２】
このために本発明の実施例は、図９に示された陽極酸化装置２０を利用する。陽極酸化装置２０は、陽極酸化用本体２１の内部受容空間に電解質溶液２３；例えば、０.３Ｍのシュウ酸Ｃ２Ｈ２Ｏ４または燐酸）が一定量満たされ、この電解質溶液２３に金属コーティング基材が入る。陽極酸化装置２０は電源供給部２５を備えるが、金属コーティング基材は電源供給部２５の陽極または陰極のうちのいずれか一つに連結され、白金素材の他の金属基材２６は電源供給部２５の他の残りの極性に連結される。ここで、他の金属基材２６とは、電源印加が可能な伝導体であればその素材が限られない。実験条件として、金属コーティング基材と異なる金属基材２６は設定された距離（例えば、５０ｍｍ）に維持されつつ、電源供給部２５は設定された定電圧（例えば、６０Ｖ）を印加するようになる。この時、電解質溶液２３は一定の温度（例えば、１５°Ｃ）下に維持されるが、溶液濃度の局部的な偏向を防止するために撹拌機（ｓｔｉｒｒｅｒ）で攪拌する。そうすれば、金属コーティング基材の表面には陽極酸化層１２０としてアルミナが形成される。このように陽極酸化を実施した後には金属コーティング基材を電解質溶液２３から取り出し、脱イオン水で洗浄した（例えば、約１５分間）後、設定された温度（例えば、６０°Ｃ）のオーブンで一定時間（例えば、約１時間）乾燥させる。
これにより、金属コーティング基材の陽極酸化層１２０には、図１０に示されたようなナノメートル単位の直径を有する微細ホール１２１が形成される。
【００３３】
図１１は、図５に示された陽極酸化層の微細ホールに対応する陰画形状を複製する陰画複製装置を示した概略図であり、図１２は、図１１に示された線VII−VIIに沿って陰画複製装置を切断して示した断面図である。
【００３４】
図１、図５、図１１、及び図１２に示されているように、本発明の実施例は、金属コーティング基材の外面に相当する陽極酸化層１２０に非ぬれ性高分子物質をコーティングする。そうすれば、非ぬれ性高分子物質は陽極酸化層１２０の微細ホール１２１に対応する陰画複製構造物１３０に形成される。つまり、本発明の実施例は、金属コーティング基材の表面に陰画複製構造物１３０を形成する陰画複製段階を行う（Ｓ３）。
【００３５】
本発明の実施例は、ナノスケールの微細ホール１２１が形成された金属コーティング基材を複製用枠（ｔｅｍｐｌａｔｅ）として備え、陽極酸化段階（Ｓ２）を行うために図１１及び図１２に示された陰画複製装置３０を利用する。陰画複製装置３０は、陰画複製用本体３１と、陰画複製用本体３１内に一定の受容空間を有する受容部３２、受容部３２に受容される非ぬれ性高分子溶液３３、及び陰画複製用本体３１の側面に沿って備えられ、受容部３２の非ぬれ性高分子溶液３３が固体化するように凝固させる冷却部３４を備える。
【００３６】
陰画複製装置３０は、金属コーティング基材が複製用枠として非ぬれ性高分子溶液３３に入られ、このような金属コーティング基材の陽極酸化層１２０に非ぬれ性高分子物質をコーティングさせる。つまり、非ぬれ性高分子溶液３３は陽極酸化層１２０の微細ホール１２１に注入され、陰画複製装置３０の冷却部３４が作動することによって、金属コーティング基材の周縁に接する非ぬれ性高分子物質が凝固する。このように本発明の実施例は、陽極酸化層１２０の外面に非ぬれ性高分子物質をコーティングさせることによって、微細ホール１２１の形状に対応する陰画の形状表面を有する陰画複製構造物１３０を形成させる。つまり、陰画複製構造物１３０は微細ホール１２１に対応する陰画の形状表面であるので、微細ホール１２１に各々対応して複数個の柱を備えるようになる。
ただし、非ぬれ性高分子溶液３３は、ＰＴＦＥ（Ｐｏｌｙｔｅｔｒａｈｌｕｏｒｅｔｈｙｌｅｎｅ）、ＦＥＰ（Ｆｌｕｏｒｉｎａｔｅｄ  ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ  ｃｏｐｏｙｍｅｒ）、ＰＦＡ（Ｐｅｒｆｌｕｏｒｏａｌｋｏｘｙ）からなる群より選択された少なくともいずれか一つの物質からなる。
【００３７】
次の段階として、本発明の実施例は、図６に示されているように陰画複製構造物１３０の外面を外部形成物質１４０で囲む外部構造物形成段階を行う（Ｓ４）。外部形成物質１４０は粘着性を有する素材として、陰画複製構造物１３０の屈曲した外面に付着するように柔軟な（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）特性を有する。特に、本発明の実施例は、疎水性内部表面を有する配管構造物の製作方法を例として説明しているので、配管材料として用いられるアクリルフィルムを円柱形状の金属コーティング基材の円周面に囲む。外部形成物質１４０はアクリルフィルムだけでなく、他の多様な素材のものが用いられることができる。
【００３８】
次の段階として、本発明の実施例は、陰画複製構造物１３０と外部形成物質１４０から陽極酸化層１２０が形成された金属コーティング基材を除去する（Ｓ５）。この時、金属コーティング基材中の特定形状構造物１０１は、非金属材質であれば機械的な方式によって分離除去され、金属材質であればエッチングなどの化学的方式によって除去される。金属コーティング層１１０と陽極酸化層１２０は特定形状構造物１０１を除去した後、湿式エッチングによって除去する。
【００３９】
本発明の実施例はこのような段階を行うことによって、図７に示されているような陰画複製構造物１３０と外部形成物質１４０が残るようになる。前述の通り、陰画複製構造物１３０はその内部表面に複数個の微細な柱が形成されて、ナノスケールの構造を共に有する疎水性表面が形成される。つまり、陰画複製構造物１３０は内部表面がハスの花葉のような断面構造で形成されることによってぬれ性が最小化された疎水性表面性質を有するようになり、これによって液体との接触角が１６０°以上に極度に高くなることができる。
【００４０】
以上、本発明の望ましい実施例について説明したが、本発明はこれに限定されるわけではなく、特許請求の範囲と発明の詳細な説明及び添付した図面の範囲内で多様に変形して実施するのが可能であり、これもまた本発明の範囲に属する。
【符号の説明】
【００４１】
１０  粒子噴射器
２０  陽極酸化装置
３０  陰画複製装置
１００  ３次元形状構造物
１０１  特定形状構造物
１１０  金属コーティング層
１２０  陽極酸化層
１３０  陰画複製構造物
１４０  外部形成物質
【図１】
0005425111.tif 000002
【図２】
0005425111.tif 000003
【図３】
0005425111.tif 000004
【図４】
0005425111.tif 000005
【図５】
0005425111.tif 000006
【図６】
0005425111.tif 000007
【図７】
0005425111.tif 000008
【図８】
0005425111.tif 000009
【図９】
0005425111.tif 000010
【図１１】
0005425111.tif 000011
【図１２】
0005425111.tif 000012
【図１０】
0005425111.tif 000013