(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
矩形状の表示領域の周囲に前記表示領域とは間隔を隔てて形成された閉ループ状のシール材により貼り合わされた一対の基板と、
前記一対の基板間に配置された所定厚さのセルギャップに維持された液晶層と、を備える液晶表示素子であって、
前記表示領域と前記シール材との間には、前記表示領域の前記セルギャップよりも大きいセルギャップを前記一対の基板間に形成するセル厚大領域が形成され、
前記表示領域の中央部分からの距離に応じて前記セル厚大領域の大きさが変えられており、
前記セル厚大領域は、前記シール材の長辺側の幅が広く、短辺側の幅が狭く形成されていることを特徴とする液晶表示素子。
【請求項２】
前記セル厚大領域は、前記シール材の角部分を除いて形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子。
【請求項３】
前記セル厚大領域のセルギャップは、前記表示領域側からシール材側に向かって順次大きくなるように形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示素子。
【請求項４】
前記セル厚大領域は、前記一対の基板の一方又は両方の基板の前記表示領域と前記シール材との間に形成された樹脂層に形成された溝からなることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示素子。
【請求項５】
前記セル厚大領域は、前記一対の基板の少なくとも一方に形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶滴下（One Drop Fill：以下、「ＯＤＦ」という）法を用いて製造される
液晶表示素子に関し、特に、液晶のシール材への差込み及び液晶内の気泡の発生を抑制し
た液晶表示素子に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子に液晶を封入する方法としてＯＤＦ法が知られている。ＯＤＦ法は、各種
配線等が形成された二つの基板、例えばアレイ基板とカラーフィルター基板とを貼り合わ
せる前に、どちらか一方の下側となった基板にシール材を閉ループ状に塗布し、その内側
に液晶を滴下し、その後、もう一方の上側となった基板を覆い被せて貼り合わせ、紫外線
及び熱等によりシール材を硬化させる方法である。
【０００３】
ＯＤＦ法では、シール材が塗布された後に液晶を注入し、その後に一対の基板の貼り合
わせを行うことになるが、このとき、シール材はまだ硬化されていない状態のまま液晶と
接することになる。そうすると、液晶は長時間シール材と接しており、しかも、貼り合わ
せ時に圧力がかかることにより、まだやわらかいシール材に液晶の差し込みが発生し、最
終的には液晶がシール材を通過して液晶漏れを起こすことがあるという課題がある。
【０００４】
一方、液晶表示素子におけるシール材の角部分では、シール材の辺部分と比べて液晶表
示素子の中央部分からの距離が遠いため、液晶材料が足りずに十分に液晶が広がらず、液
晶が充分に届かない部分には気泡が発生するという課題がある。
【０００５】
このような課題を解決するために、下記特許文献１には、基板毎に最適な滴下量で液晶
を滴下できる液晶表示装置の製造方法が開示されている。すなわち、下記特許文献１の液
晶表示装置の製造方法では、基板上に液晶を滴下し、前記基板の液晶滴下面側を対向基板
に対向させて真空中で貼り合わせてから大気圧に戻すことにより液晶注入を行う液晶表示
装置の製造方法において、貼り合わせる２枚の基板間のセル厚を決定するために設けられ
た柱状スペーサーの支柱高さを測定して前記２枚の基板間に封止される最適液晶量を予測
し、予測値に基づいて滴下液晶量を制御している。
【０００６】
下記特許文献１に開示されたＯＤＦ法を用いる液晶表示装置の製造方法によれば、液晶
表示パネル毎に最適な液晶量を滴下でき、液晶量の不足によるいわゆる気泡や液晶量の過
多による表示むらをなくすことができ、安定した液晶表示装置の量産が可能となるとされ
ている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特許３６７８９７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、上記特許文献１に開示されている液晶表示装置の製造方法では、柱状スペーサ
ーの支柱高さを測定する必要があるため、そのための特別な装置を備える必要があり製造
費が高くなるという問題がある。さらに測定のための新たな工程が加わるために製造効率
が悪くなる問題もある。また、柱状スペーサーの支柱高さの測定の精度により、最適な液
晶量を誤るおそれもある。
【０００９】
また、上記特許文献１には液晶を複数個所に滴下する方法も開示されているが、滴下さ
れた液晶は略同心円状に広がるため、辺部分には早く到達してしまうことには変わりがな
い。また、液晶が複数個所に滴下されることとなると、液晶の量も一箇所ごとに少なくな
り、結果として角部分に広がる液晶がより足りなくなるおそれがあるため、上記課題を解
決することは困難となる。
【００１０】
本発明者らは、上記のような従来技術の問題点を解決すべく種々検討を重ねた結果、表
示領域とシール材との間に溝を設けることで、液晶がシール材に接する時間を短くするこ
とができると共に、この溝を液晶が流れることで、液晶が広がり難い角部分にも液晶を行
き渡らせることができることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。すなわち
、本発明は、シール材に液晶が差し込むのが抑制され、角部分での気泡の発生が抑制され
たＯＤＦ法により製造された液晶表示素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するため、本発明の液晶表示素子は、
表示領域の周囲に前記表示領域とは間隔を隔てて形成された閉ループ状のシール材によ
り貼り合わされた一対の基板と、
前記一対の基板間に配置された所定厚さのセルギャップに維持された液晶層と、を備え
る液晶表示素子であって、
前記表示領域と前記シール材との間には、前記表示領域の前記セルギャップよりも大き
いセルギャップが形成されたセル厚大領域が形成されていることを特徴とする。
【００１２】
従来のＯＤＦ技術においての問題として、シール材の辺部分と角部分で、表示領域の中
央部分からの距離が異なることにより、辺部分では液晶が短時間で到達し、接触している
時間が長くなるため、シール材に入り込む差し込みという不具合がある。一方、シール材
の角部分では、液晶が足りず表示領域に気泡が発生する不具合がある。
【００１３】
本発明の液晶表示素子では、表示領域とシール材との間には表示領域のセルギャップよ
りも大きいセルギャップを有するセル厚大領域が形成されている。これにより、ＯＤＦ貼
り合わせ時に、表示領域の中央部分から広がってきた液晶がシール材の辺部分に到達する
と、この部分に形成されたセル厚大領域に流れ込むことで、液晶がシール材と接する時間
を減らすことができ、シール材への液晶の差込を抑制することができる。さらに、液晶が
広がり難かった角部分へも辺部分で流れ込んだ液晶がセル厚大領域に沿って移動すること
で、シール材の角部分へ十分な量の液晶が到達することができるので、液晶が足りなくな
ることによる気泡の発生も抑制することができる。
【００１４】
また、本発明にかかる液晶表示素子においては、前記表示領域は矩形状とすることがで
きる。
【００１５】
一般的に矩形状の液晶表示素子では中央部分と角部分とは距離があり上記課題が最も顕
著にあらわれるものであるが、本発明の液晶表示素子によれば、表示領域が矩形状の液晶
表示素子の角部分の液晶不足を抑制し、それに伴う気泡の発生をも抑制した液晶表示素子
を提供することができる。
【００１６】
また、本発明にかかる液晶表示素子においては、前記セル厚大領域は、前記シール材の
長辺側の幅が広く、短辺側の幅が狭く形成することができる。
【００１７】
通常、長辺側のシール材の方が、短辺側のシール材よりも表示領域の中央部分に近くな
るので、液晶が素早く到達するため、シール材への液晶の差込が起こりやすい。そこで、
本発明の液晶表示素子では、長辺側のセル厚大領域の幅は広く形成され、短辺側のセル厚
大領域の幅は狭く形成されているものとした。そのため、本発明の液晶表示素子によれば
、長辺側へ広がった液晶は、幅の広いセル厚大領域によりシール材側までへ到達するのに
時間がかかるようになるので、シール材への液晶の差込みを抑制することができる。また
、表示領域の中央部分からの距離に応じてセル厚大領域の大きさを変えることにより、効
率よく差込を抑制することができ、さらには角部分へ液晶を到達させやすくなるため液晶
層内に気泡が発生するのを抑制することができる。
【００１８】
また、本発明にかかる液晶表示素子においては、前記セル厚大領域は、前記シール材の
角部分を除いて形成することが好ましい。
【００１９】
本発明の液晶表示素子によれば、液晶の差込みが生じやすいシール材の辺部分にのみセ
ル厚大領域が形成されているものとすることで、シール材への液晶の差込を抑制しつつ、
セル厚大領域が形成されていない角部分では、セル厚大領域に沿って広がる液晶と、セル
厚大領域が形成されていない基板表面を広がる液晶により角部分まで液晶が行き渡りやす
くなり、気泡の発生をさらに抑制することができる。
【００２０】
また、本発明にかかる液晶表示素子においては、前記セル厚大領域は、前記表示領域の
中心部から最も近い位置にある部分の幅が最も大きく、最も遠い位置にある部分の幅が最
も小さくなっており、前記表示領域の距離に応じて連続的ないし断続的に変化するように
形成することができる。
【００２１】
本発明の液晶表示素子では、表示領域の中心部からの距離に応じてセル厚大領域が形成
される幅を変えるように形成されている。このようにすることで、液晶が最も早く到達す
る各辺側の中央部分のセル厚大領域の幅は最も広く形成され、最も遅く到達する角部分の
セル厚大領域は最も小さく形成されるようになる。そのため、本発明の液晶表示素子によ
れば、効率よく液晶によるシール材への差込みを抑制するとともに、角部分の気泡の発生
を抑制することができる。さらに、製造される液晶表示素子に応じて各辺の長辺部と短辺
部によりセル厚大領域の幅を変更することもできる。
【００２２】
また、本発明にかかる液晶表示素子においては、前記セル厚大領域のセルギャップは、
前記表示領域側からシール材側に向かって順次大きくなるように形成することができる。
【００２３】
セル厚大領域のセルギャップを前記表示領域からシール材側に向かって順次大きくなる
ように形成すれば、液晶がよりセル厚大領域に広がりやすくなる。そのため、本発明の液
晶表示素子によれば、より液晶がシール材に液晶が差し込み難くなると共に液晶内に気泡
の発生も少ない液晶表示素子が得られる。
【００２４】
また、本発明にかかる液晶表示素子においては、前記セル厚大領域は、前記一対の基板
の一方又は両方の基板の前記表示領域と前記シール材との間に形成された樹脂層に形成さ
れた溝からなることが好ましい。
【００２５】
本発明の液晶表示素子によれば、従来形成される樹脂層に溝を形成することによってセ
ル厚大領域を形成することができるため、特別な製造工程や材料を用いることなくセル厚
大領域を形成することができるので、安価な液晶表示素子を提供することができる。
【００２６】
また、本発明にかかる液晶表示素子においては、前記セル厚大領域は、前記一対の基板
の少なくとも一方に形成することができる。
【００２７】
本発明の液晶表示素子によれば、液晶を滴下する際の下側になる基板にセル厚大領域を
形成すればよいので、製造される様々な液晶表示素子の基板に対応することができる。さ
らに、一対の基板の両方の基板にセル厚大領域を形成することで、基板を貼り合わせたと
きに、シール材に到達する液晶を両方の基板に形成されたセル厚大領域によって広げるこ
とができるので、シール材の差込み及び角部の気泡の発生をさらに抑制することができる
。また、一対の各基板ごとに形成されるセル厚大領域の形状を変えて形成することもでき
るので、セル厚大領域の形状により液晶の広がる時間や速度を制御することができ、液晶
表示素子の大きさや形状に合わせて設計の幅を広げることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】図１は本発明の実施形態１の液晶表示素子の平面図である。
【図２】実施形態１の液晶表示素子のカラーフィルター基板を透視して示す１サブ画素分の拡大平面図である。
【図３】図２のIII−III線で切断した断面図である。
【図４】図４Ａは図１のVIA−VIA線での断面図であり、図４Ｂは図１のIVB−IVB線での断面図であり、図４Ｃは図１のVIC−VIC線での断面図である。
【図５】図５Ａは実施形態１の液晶表示素子に液晶が広がっていく過程を示した模式平面図であり、図５Ｂは図５ＡのＶＢ−ＶＢ線での断面図であり、図５Ｃは図５ＡのＶＣ−ＶＣ線での断面図である。
【図６】図６Ａは実施形態２に係る液晶表示素子の平面図であり、図６Ｂは図６ＡのVIB−VIB線での断面図であり、図６Ｃは図６ＡのVIC−VIC線での断面図である。
【図７】図７Ａは実施形態３に係る液晶表示素子の平面図であり、図７Ｂは図７ＡのVIIB−VIIB線での断面図であり、図７Ｃは図７ＡのVIIC−VIIC線での断面図である。
【図８】図８Ａは実施形態４に係る液晶表示素子の平面図であり、図８Ｂは図８ＡのVIIIB−VIIIB線での断面図であり、図８Ｃは図８ＡのVIIIC−VIIIC線での断面図である。
【図９】図９Ａ及び図９Ｂは実施形態４に係る液晶表示素子の他の構成を示す平面図である。
【図１０】図１０Ａは実施形態５に係る液晶表示素子の図４Ａに対応する断面図であり、図１０Ｂは実施形態５に係る液晶表示素子の他の構成を示す断面図であり、図１０Ｃは実施形態６に係る液晶表示素子の図４Ａに対応する断面図であり、図１０Ｄは実施形態６に係る液晶表示素子の他の構成を示す断面図である。
【図１１】図１１Ａは従来例の液晶表示素子に液晶が広がっていく過程を示した模式平面図であり、図１１Ｂは図１１ＡのXIA−XIA線での断面図であり、図１１Ｃは図１１ＡのXIC−XIC線での断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、図面を参照して本発明の最良の実施形態を説明する。但し、以下に示す実施形態
は、本発明の技術思想を具体化するための液晶表示素子を例示するものであって、本発明
をこの液晶表示素子に特定することを意図するものではなく、特許請求の範囲に含まれる
その他の実施形態のものも等しく適応し得るものである。なお、この明細書における説明
のために用いられた各図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさ
とするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて表示しており、必ずしも実際の寸法に比
例して表示されているものではない。
【００３０】
ちなみに、以下に述べるアレイ基板及びカラーフィルター基板の「表面」とは各種配線
が形成された面を示すものとする。なお、本発明に於ける液晶表示素子は、ＴＮ（Twiste
d Nematic）モード、ＶＡ（Vertical Alignment）モードあるいはＭＶＡ（Multi-domain 
Vertical Alignment）モードで駆動するいわゆる縦電界方式の液晶表示素子や、ＩＰＳ（
In-Plane Switching）モード、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）モード等の横電界方式
の液晶表示素子にも適用可能であるが、以下においてはＦＳＳモードの液晶表示素子に代
表させて各実施形態の液晶表示素子を説明する。
【００３１】
［実施形態１］
まず、図１を参照して、実施形態１の液晶表示素子１０Ａの構成について説明する。図
１に示すように、実施形態１の液晶表示素子１０Ａは、矩形状のガラス等からなる第１透
明基板１２上に各種配線等を形成したアレイ基板１１（本発明の「一方の基板」に対応）
と、矩形状のガラス等からなる第２透明基板２６にカラーフィルター層等を形成したカラ
ーフィルター基板２５（本発明の「他方の基板」に対応）が対向配置されている。そして
、このアレイ基板１１とカラーフィルター基板２５はシール材３１で貼り合わされており
、このシール材３１で形成された空間内に液晶３５（図３参照）が封入されている。また
、シール材３１で囲まれた領域内であって、後述する複数のサブ画素領域３２が形成され
ている領域（表示に寄与する領域）が表示領域３３となり、この表示領域３３の外側が非
表示領域３４（「額縁領域」とも言う）となっている。
【００３２】
なお、アレイ基板１１はカラーフィルター基板２５と対向配置させたときに所定スペー
スの張出した部分が形成されるようにカラーフィルター基板２５より若干サイズが大きい
ものが使用されている。この張出した部分は、液晶３５を駆動するためのドライバーＩＣ
３６等が配置される実装領域１２ａとなっている。また、実施形態１にかかる液晶表示素
子１０ＡはＯＤＦ法で製造されたものであるため、液晶注入口は形成されていない。なお
、アレイ基板１１の表示領域３３とシール材３１との間には、表示領域３３部分の基板間
の隙間のセルギャップＧ１よりも大きいセルギャップＧ２（図４参照）を有するセル厚大
領域３０Ａが形成されている。このセル厚大領域３０Ａについての詳細は後述する。
【００３３】
次にアレイ基板１１及びカラーフィルター基板２５の構成について、図２ないし図４を
参照して説明する。先ず、アレイ基板１１には、第１透明基板１２の表面に例えばＭｏ／
Ａｌの２層配線からなる複数の走査線１３が互いに平行になるように形成されている。ま
た、この走査線１３が形成された第１透明基板１２の表面全体に亘って窒化ケイ素ないし
は酸化ケイ素等の透明絶縁材料からなるゲート絶縁膜１５が被覆されている。そしてスイ
ッチング素子としての薄膜トランジスター（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）１７が形成
される領域には、このゲート絶縁膜１５の表面に例えばアモルファスシリコン層からなる
半導体層１６が形成されている。この半導体層１６が形成されている位置の走査線１３の
領域がＴＦＴ１７のゲート電極Ｇを形成する。
【００３４】
また、ゲート絶縁膜１５の表面には、例えばＭｏ／Ａｌ／Ｍｏの３層構造の導電性層か
らなるソース電極Ｓを含む信号線１４及びドレイン電極Ｄが形成されている。この信号線
１４のソース電極Ｓ部分及びドレイン電極Ｄ部分は、いずれも半導体層１６の表面に部分
的に重なっている。また、このアレイ基板１１の表面全体に亘って窒化ケイ素ないしは酸
化ケイ素等の透明絶縁材料からなるパッシベーション膜１８が被覆されている。さらに、
このパッシベーション膜１８の表面全体に例えば樹脂材料からなる層間膜１９が被覆され
ており、ドレイン電極Ｄに対応する位置のパッシベーション膜１８及び層間膜１９にはコ
ンタクトホール２４が形成されている。なお、層間膜１９には、後述するシール材３１と
表示領域３３との間には層間膜１９が形成されない溝部分１９ａが設けられている（図４
参照）。
【００３５】
そして、図２に示したパターンとなるように、走査線１３及び信号線１４で囲まれた領
域（以下「サブ画素領域３２」という）の層間膜１９上に、例えばＩＴＯ（Indium Thin 
Oxide）ないしＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）からなる透明導電性材料で下電極２０が形成
されている。この下電極２０はコンタクトホール２４を介してドレイン電極Ｄと電気的に
接続されている。そのため、この下電極２０は画素電極として作動する。さらに、この下
電極２０上には電極間絶縁膜２１が形成されている。この電極間絶縁膜２１には、例えば
窒化ケイ素等の絶縁性が良好な透明絶縁材料が使用される。
【００３６】
そして、この電極間絶縁膜２１上にはサブ画素領域３２に複数の、例えば平面視でバー
状のスリット２３を有するＩＴＯないしＩＺＯからなる透明導電性材料で上電極２２が形
成されている。この上電極２２は、表示領域３３の全体に亘って形成されており、非表示
領域３４において共通配線（図示省略）と電気的に接続されている。そのため、上電極２
２は共通電極として作動する。この後、表示領域３３の上電極２２を含む表面全体に配向
膜（図示省略）が設けられることにより実施形態１の液晶表示素子１０Ａのアレイ基板１
１となる。
【００３７】
このとき、図４に示すように、アレイ基板１１には、前述した層間膜１９が形成されな
い溝部分１９ａが表示領域３３のセルギャップＧ１よりも大きいセルギャップＧ２となる
セル厚大領域３０Ａが形成されている。また、実施形態１の液晶表示素子１０Ａでは、図
４Ａないし図４Ｃに示すように、シール材３１の長辺部分３１ａ、短辺部分３１ｂ及び角
部分３１ｃに形成されるセル厚大領域３０Ａの深さＧ２及び幅ＷＡは同一とされている。
また、図４では、アレイ基板に形成される第１電極、電極間絶縁膜及び第２電極は省略し
てある。
【００３８】
次に、カラーフィルター基板２５は、図３に示すように、ガラス基板等からなる第２透
明基板２６の表面に、アレイ基板１１の走査線１３、信号線１４及びＴＦＴ１７並びに非
表示領域３４に対応する位置を被覆するように遮光層２７が形成されている。そして、遮
光層２７が形成された第２透明基板２６の表面には、複数色、例えば赤、緑、青の３色か
らなるカラーフィルター層２８が形成されている。さらに、遮光層２７及び、カラーフィ
ルター層２８の表面を被覆するように透明樹脂からなるオーバーコート層２９が形成され
ている。また、オーバーコート層２９の表面には、カラーフィルター基板２５の表面全体
に亘り配向膜（図示省略）が形成されている。また、アレイ基板１１及び、カラーフィル
ター基板２５の外面にはそれぞれ偏光板（図示省略）が設けられている。
【００３９】
シール材３１は、専用のシールディスペンサーを用いてアレイ基板１１上に描画される
。本実施形態１にかかる液晶表示素子１０Ａでは、液晶注入口が形成されないので、シー
ル材３１は閉ループ状に塗布される（図１参照）。シール材３１の描画が終了した後、Ｏ
ＤＦ法により液晶３５が滴下され、カラーフィルター基板２５を重ねて圧力を加え、紫外
線又は熱等によりシール材３１が硬化され、両基板１１、２５が貼り合わされる。なお、
シール材３１はアレイ基板１１上に描画しているが、カラーフィルター基板２５上であっ
ても構わない。また液晶が滴下されるのも、必ずしもシール材３１が描画されている基板
というわけではなく、シール材３１が描画されている基板と反対側の基板に滴下して、両
基板を貼り合せてもよい。ただし本発明の特徴であるセル厚大領域３０Ａを形成している
基板側に液晶を滴下した方がより効果的となる。
【００４０】
次に、図４、図５及び図１１を参照して、この液晶３５が塗布され基板同士が貼り合わ
される際の、アレイ基板１１にセル厚大領域３０Ａが形成されたことによる本実施形態１
の効果を、従来例と比較しながら説明する。なお、図１１に示す従来例としての液晶表示
素子１０'は、実施形態１の液晶表示素子１０Ａと対比すると、セル厚大領域が形成され
ていないことが異なるのみなので、その他の共通する構成部分には同一の参照符号を付し
、詳細な説明は省略する。
【００４１】
図１１Ａに示すように、従来の液晶表示素子１０'にＯＤＦ法を用いて液晶３５を滴下
し、封入する場合、シール材３１の辺部分３１ａ、３１ｂと角部分３１ｃとでは、表示領
域３３の中央部分からの距離が異なることにより、辺部分３１ａ、３１ｂでは液晶３５ａ
、３５ｂが短時間で到達することとなり、特に長辺部分３１ａではこの傾向が顕著となる
。さらに、ＯＤＦ法ではシール材３１は未硬化状態で液晶３５と接することとなるため、
図１１Ｂに示すように液晶３５とシール材３１の接触している時間が長くなり、貼り合わ
せ時の圧力がかかると、液晶３５'がシール材３１に差し込み、シール材３１が破れて液
晶漏れを起すことがある。
【００４２】
一方、シール材３１の角部分３１ｃでは、距離があるため、図１１Ｃに示すように、液
晶３５ｃが角部分３１ｃに届くまで時間がかかるので、十分な量の液晶３５がないため、
液晶３５で満たされない部分が発生し、この部分に気泡３７が発生してしまうことがある
。この気泡３７は、ＯＤＦ法により液晶３５を注入して基板１１、２５を貼り合わせると
きには、真空状態にした装置内で行われるため、貼り合わせが完了して再び大気圧に戻さ
れた際に液晶で満たされていない部分、すなわち角部分に発生することとなる。この気泡
３７は、液晶表示素子が傾いたり加速度が加わったりすると移動してしまうことがあり、
表示領域３３に留まると表示不良の原因となる。
【００４３】
そこで、本実施形態１の液晶表示素子１０Ａでは、図４及び図５に示すようにシール材
３１と表示領域３３との間にセル厚大領域３０Ａが形成されている。なお、図５に示すア
レイ基板では、第１電極、電極間絶縁膜及び第２電極は図示を省略してある。
【００４４】
この実施形態１の液晶表示素子１０Ａに対して、ＯＤＦ法により液晶３５を滴下し、貼
り合わせを行う場合、図５Ａに示すようにシール材３１の長辺部分３１ａの液晶３５ａは
、従来例と同様に短時間で到達する。このとき、実施形態１の液晶表示素子１０Ａにはセ
ル厚大領域３０Ａが形成されているため、図５Ｂに示すように、液晶３５ａはこのセル厚
大領域３０Ａに流れ込み、シール材３１と接触するまでに時間を要し、シール材３１と長
時間接することが抑制される。さらに、セル厚大領域３０Ａは閉ループ上に塗布されたシ
ール材３１に沿って形成されているため、図５Ａ，図５Ｃに示すように、セル厚大領域３
０Ａに流れ込んだ液晶３５は、セル厚大領域３０Ａに沿って広がり、角部分３１ｃに到達
することとなる。そのため、従来、液晶３５が広がり難かった角部分３１ｃには、表示領
域３３上を広がる液晶３５ｃとセル厚大領域３０Ａに沿って広がる液晶３５ｄによって、
十分な量の液晶３５で満たされるようになり、液晶不足による気泡の発生を抑制すること
ができる（図４Ａ、図４Ｂ参照）。
【００４５】
そして、アレイ基板１１及びカラーフィルター基板２５の貼り合わせが完了した後、ア
レイ基板１１の実装領域１２ａにドライバーＤｒ等が設置され、本実施形態１にかかる液
晶表示素子１０となる。
【００４６】
以上より、実施形態１にかかる液晶表示素子１０Ａによれば、表示領域３３とシール材
３１との間にセル厚大領域３０Ａが形成されていることにより、ＯＤＦ貼り合わせ時のシ
ール材３１への液晶３５の差し込み、及び、液晶３５が広がり難かった角部分での気泡の
発生を抑制した液晶表示素子を提供することができる。
【００４７】
また、実施形態１の液晶表示素子は矩形状であるので、表示領域３３が矩形の液晶表示
素子の角部分の液晶不足を抑制し、それに伴う気泡の発生をも抑制した液晶表示素子を提
供することができる。なお、表示領域３３が矩形のものについて本実施形態では示してい
るが、表示領域が円形や馬蹄形のようなものであってもよい。特に馬蹄形のような一部に
角部分が存在しているような形状であれば非常に効果的である。
【００４８】
また、実施形態１の液晶表示素子に形成されたセル厚大領域３０Ａは、従来アレイ基板
に形成された層間膜１９（樹脂膜）に溝を形成することによって形成されているため、特
別な製造工程や材料を用いることなくセル厚大領域３０Ａを形成することができるので、
安価な液晶表示素子を提供することができる。
【００４９】
［実施形態２］
次に、図６を参照して、実施形態２にかかる液晶表示素子１０Ｂについて説明する。な
お、実施形態２にかかる液晶表示素子１０Ｂは、実施形態１にかかる液晶表示素子１０Ａ
に比べセル厚大領域３０Ｂの形成パターンが異なるのみなので、実施形態１にかかる液晶
表示素子１０Ａと同一の構成については同一の参照符号を付与してその詳細な説明は省略
する。
【００５０】
実施形態２の液晶表示素子１０Ｂは、図６Ａないし図６Ｃに示すように、シール材の長
辺部分３１ａ側のセル厚大領域３０Ｂ１の幅ＷＢ１が広く形成され、シール材の短辺部分
３１ｂ側のセル厚大領域３０Ｂ２の幅ＷＢ２は狭く形成されている。
【００５１】
液晶３５は、上述したようにシール材３１の辺側に素早く到達することとなるが、特に
シール材の長辺部分３１ａ側の方が、短辺部分３１ｂ側よりも表示領域３３の中央部分に
近くなるので、シール材３１への液晶３５の差込が起こりやすくなる。そのため、本実施
形態２の液晶表示素子１０Ｂでは、長辺部分３１ａ側へ広がった液晶３５ａは、幅の広い
セル厚大領域３０Ｂ１によりシール材３１まで到達するのに時間がかかるようになり、シ
ール材３１への液晶３５の差込みを抑制することができる。また、短辺部分３１ｂ側に広
がった液晶３５ｂは、長辺部分３１ａ側に比べて到達が遅くなるが、角部分３１ｃに比べ
れば早く到達する。そのため、短辺部分３１ｂ側に幅の狭いセル厚大領域３０Ｂ２が形成
されることにより、短辺部分３１ｂ側に効率よく液晶３５を広げることができると共に、
液晶３５がシール材３１と接触する時間を短くし液晶の差込みを抑制しつつ、幅の狭いセ
ル厚大領域３０Ｂ２に液晶を流すことで角部分３１ｃへ液晶３５を効率よく広げることが
でき、気泡の発生を抑制することができる。
【００５２】
［実施形態３］
次に、図７を参照して、実施形態３にかかる液晶表示素子１０Ｃについて説明する。な
お、実施形態３にかかる液晶表示素子１０Ｃは、実施形態１にかかる液晶表示素子１０Ａ
に対してセル厚大領域の形成パターンが異なるのみなので、実施形態１にかかる液晶表示
素子１０Ａと同一の構成については同一の参照符号を付与してその詳細な説明は省略する
。
【００５３】
実施形態３の液晶表示素子１０Ｃは、図７Ａないし図７Ｃに示すように、セル厚大領域
３０Ｃは、アレイ基板１１に形成されたシール材３１の角部分３１ｃを除いた辺部分３１
ａ、３１ｂのみに形成されている。
【００５４】
このような構成とすることで、実施形態３の液晶表示素子１０Ｃによれば、液晶３５の
差込みが生じやすいシール材３１の辺部分３１ａ、３１ｂにのみセル厚大領域３０Ｃが形
成されているので、上述した実施形態１の場合と同様にシール材３１への液晶３５の差込
を抑制することができる。さらに、セル厚大領域が形成されていない角部分３１ｃでは、
液晶がセル厚大領域に流れ込むことがないため、液晶３５は無駄なく広がることができる
。そのため、辺部分３１ａ、３１ｂに形成されたセル厚大領域３０Ｃに沿って広がる液晶
３５と、角部分３１ｃのセル厚大領域が形成されていない基板表面を広がる液晶３５によ
り、角部分３１ｃまで液晶３５が到達しやすくなり、気泡の発生をさらに抑制することが
できるようになる。
【００５５】
なお、実施形態３の液晶表示素子の短辺部分のセル厚大領域３０Ｃの幅を長辺部分のセ
ル厚大領域の幅に比べ狭く形成してもよい。このようにすることで、上記実施形態２の発
明の効果も奏することができる。
【００５６】
［実施形態４］
次に、図８を参照して、実施形態４にかかる液晶表示素子１０Ｄについて説明する。な
お、実施形態４にかかる液晶表示素子１０Ｄは、実施形態１にかかる液晶表示素子１０Ａ
に対してセル厚大領域の形成パターンが異なるのみなので、実施形態１にかかる液晶表示
素子１０Ａと同一の構成については同一の参照符号を付与してその詳細な説明は省略する
。
【００５７】
実施形態４の液晶表示素子１０Ｄでは、図８Ａないし図８Ｃに示すように、セル厚大領
域３０Ｄは、表示領域３３の中心部から最も近い位置にある部分の幅ＷＤ１が最も大きく
、最も遠い位置にある部分の幅ＷＤ２が最も小さくなっており、表示領域３３からの距離
に応じて連続的に変化した、平面視でいわゆる「ひし形状」に形成されている。このよう
な構成とすることで、液晶３５が最も早く到達する各辺部分３１ａ、３１ｂ側の中央部分
のセル厚大領域３０Ｄの幅は最も広く形成され、最も遅く到達する角部分３１ｃのセル厚
大領域３０Ｄは最も小さく形成されるようになる。
【００５８】
そのため、実施形態４の液晶表示素子１０Ｄでは、液晶３５の広がり方に応じて液晶３
５によるシール材３１への差込みを効率よく抑制できる。さらに、角部分３１ｃでは、セ
ル厚大領域３０Ｄの幅が最も狭く形成されるため、液晶３５が基板上を広がるとともに、
辺部分３１ａ、３１ｂのセル厚大領域３０Ｄからも液晶３５を広げることもできるため、
角部分３１ｃに十分に液晶３５を満たすことができ、角部分３１ｃの気泡の発生を抑制す
ることができる。さらに、製造される液晶表示素子の形状に応じて各辺の長辺部分と短辺
部分によりセル厚大領域の幅を変更することもできる。
【００５９】
また、実施形態４の液晶表示素子のセル厚大領域３０Ｄの形状を、連続的ではなく図９
Ａの液晶表示素子１０Ｄ１に示すような断続的なセル厚大領域３０Ｄ１としてもよいし、
さらに、図９Ｂの液晶表示素子１０Ｄ２に示すような楕円状のセル厚大領域３０Ｄ２とし
てもよい。
【００６０】
［実施形態５］
次に、図１０Ａ、図１０Ｂを参照して、実施形態５にかかる液晶表示素子１０Ｅについ
て説明する。なお、実施形態５にかかる液晶表示素子１０Ｅは、実施形態１にかかる液晶
表示素子１０Ａに比べセル厚大領域の形成パターンが異なるのみなので、実施形態１にか
かる液晶表示素子１０Ａと同一の構成については同一の参照符号を付与してその詳細な説
明は省略する。
【００６１】
実施形態５の液晶表示素子１０Ｅでは、セル厚大領域３０ＥのセルギャップＧＥは、表
示領域３３側からシール材３１側に向かって順次大きくなるように傾斜状に形成されてい
る。このような構成とすることで、液晶３５がセル厚大領域３０Ｅに広がりやすくなり、
角部分３１ｃへの液晶３５の供給の効率を上げることができる。また、この形状は図９Ｂ
の液晶表示素子１０Ｅ１に示すようなセル厚大領域３０Ｅ１のようになだらかな曲線状と
なるようなセルギャップＧＥ１としてもよい。
【００６２】
［実施形態６］
次に、図１０Ｃ、図１０Ｄを参照して、実施形態６にかかる液晶表示素子１０Ｆについ
て説明する。なお、実施形態６にかかる液晶表示素子１０Ｆは、実施形態１にかかる液晶
表示素子１０Ａはセル厚大領域がアレイ基板に形成されていたのに対し、カラーフィルタ
ー基板に形成されている。なお、その他の構成については実施形態１の液晶表示素子１０
Ａと共通するので、実施形態１にかかる液晶表示素子１０Ａと同一の構成については同一
の参照符号を付与してその詳細な説明は省略する。
【００６３】
実施形態６の液晶表示素子１０Ｆでは、セル厚大領域３０Ｆはカラーフィルター基板２
５に形成されている。このセル厚大領域３０Ｆの形成は、カラーフィルター基板２５に形
成されるオーバーコート層２９に溝部分２９ａを設けることで形成することができる。実
施形態６の液晶表示素子１０Ｆによれば、液晶３５を滴下する際の下側にカラーフィルタ
ー基板２５を用いることができるようになるので、様々な液晶表示素子に用いられる基板
に対応することができる。
【００６４】
さらに、図１０Ｄに示すように一対の基板１１、２５の両方にセル厚大領域３０Ｆ１を
形成することで、基板を貼り合わせたときに、シール材３１に到達する液晶３５を両方の
基板に形成されたセル厚大領域３０Ｆ１によって広げることができるので、シール材３１
の差込み及び角部分３１ｃの気泡の発生をさらに抑制することができる。
【００６５】
また、一対の各基板ごとに形成されるセル厚大領域の形状を変えて形成することもでき
るので、セル厚大領域の形状により液晶の広がる時間や速度を制御することができ、液晶
表示素子の大きさや形状に合わせて設計の幅を広げることができる。
【符号の説明】
【００６６】
１０Ａ〜１０Ｆ、１０'…液晶表示素子  １１…アレイ基板  １２…第１透明基板  １２
ａ…実装領域  １３…走査線  １４…信号線  １５…ゲート絶縁膜  １６…半導体層  １
７…ＴＦＴ  １８…パッシベーション膜  １９…層間膜  ２０…下電極  ２１…電極間絶
縁膜  ２２…上電極  ２３…スリット  ２４…コンタクトホール  ２５…カラーフィルタ
ー基板  ２６…第２透明基板  ２７…遮光層  ２８…カラーフィルター層  ２９…オーバ
ーコート層  ３０Ａ〜３０Ｆ…セル厚大領域  ３１…シール材  ３１ａ…長辺部分  ３１
ｂ…短辺部分  ３１ｃ…角部分  ３２…サブ画素領域  ３３…表示領域  ３４…非表示領
域  ３５…液晶  ３６…ドライバーＩＣ  ３７…気泡  Ｄ…ドレイン電極  Ｇ…ゲート電
極  Ｓ…ソース電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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