(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）樹脂、及び（Ｂ）感放射線酸発生剤を含み、前記（Ａ）樹脂が、有機概念図に基づく無機性値（Ｉ）を有機性値（Ｏ）で除したＩ／Ｏ値が０．４以上０．６未満であり、酸価が４２ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であり、且つ、(A1)酸基、(A2)酸分解性基で保護された酸基、及び(A3)架橋性基を有する樹脂であるポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項２】
前記（Ａ）樹脂が、Ｉ／Ｏ値が０．５以上０．６未満であり、且つ前記酸価が４２ｍｇＫＯＨ／ｇ以上９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下の樹脂である請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記酸分解性基が、酸の作用によりカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生じる酸分解性基である請求項１または請求項２に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項４】
前記(A2)酸分解性基で保護された酸基が、カルボン酸のアセタールエステル構造、カルボン酸のケタールエステル構造、フェノール性水酸基のアセタールエーテル構造、及びフェノール性水酸基のケタールエーテル構造からなる群から選ばれる少なくとも１種の構造である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項５】
前記(A1)酸基が、カルボキシル基又はフェノール性水酸基である請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項６】
前記(A1)酸基が、カルボキシル基であり、且つ酸分解性基で保護された酸基が酸の作用によりカルボキシル基を生じる酸分解性基で保護された酸基である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項７】
前記(A3)架橋性基が、エポキシ基、又はオキセタン基である請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項８】
前記（Ａ）樹脂が、（ａ）酸分解性基で保護された酸基を含有するラジカル重合性化合物、（ｂ）不飽和カルボン酸、及び（ｃ）エポキシ基、又はオキセタン基を含有するラジカル重合性化合物に由来する構造単位を含む共重合体である請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項９】
前記（Ａ）樹脂が、さらに（ｄ）水酸基含有不飽和カルボン酸エステル、脂環構造含有不飽和カルボン酸エステル、スチレン、及びＮ置換マレイミドの群から選ばれる少なくとも１種に由来する構造単位を含む共重合体である請求項８に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項１０】
前記（Ｂ）感放射線酸発生剤が、オキシムスルホネート基を有する化合物である請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項１１】
前記（Ｂ）感放射線酸発生剤が、下記一般式（ＯＳ−３）、一般式（ＯＳ−４）、及び一般式（ＯＳ−５）で表される化合物から選択された少なくとも１種の化合物である請求項１〜請求項１０のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化１】
0005623897.tif 000055
一般式（ＯＳ−３）〜一般式（ＯＳ−５）中、Ｒ１はアルキル基、アリール基、又はヘテロアリール基を表し、複数存在するＲ２はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、又はハロゲン原子を表し、複数存在するＲ６はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基、又はアルコキシスルホニル基を表し、ＸはＯ又はＳを表し、ｎは１又は２を表し、ｍは０〜６の整数を表す。
【請求項１２】
（１）請求項１〜請求項１１のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程、
（２）塗布されたポジ型感光性樹脂組成物から溶剤を除去する溶媒除去工程、
（３）溶剤を除去されたポジ型感光性樹脂組成物を活性放射線で露光する露光工程、
（４）露光されたポジ型感光性樹脂組成物を水性現像液で現像する現像工程、及び、
（５）現像されたポジ型感光性樹脂組成物を熱硬化するポストベーク工程、
を含む硬化膜の形成方法。
【請求項１３】
前記現像工程後、且つポストベーク工程前に、さらに（６）現像されたポジ型感光性樹脂組成物を全面露光する工程を含む請求項１２に記載の硬化膜の形成方法。
【請求項１４】
請求項１２または請求項１３に記載の硬化膜の形成方法により形成された硬化膜。
【請求項１５】
層間絶縁膜である請求項１４に記載の硬化膜。
【請求項１６】
請求項１４または請求項１５に記載の硬化膜を具備する有機ＥＬ表示装置。
【請求項１７】
請求項１４または請求項１５に記載の硬化膜を具備する液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、有機ＥＬ表示装置、及び、液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ表示装置や、液晶表示装置などには、パターン形成された層間絶縁膜が設けられている。この層間絶縁膜の形成には、必要とするパターン形状を得るための工程数が少なく、しかも十分な平坦性が得られるといったことから、感光性樹脂組成物が広く使用されている。
上記表示装置における層間絶縁膜には、絶縁性、耐溶剤性、耐熱性、及び、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）スパッタ適性に優れるといった硬化膜の物性に加えて、高い透明性が望まれている。このため、透明性に優れたアクリル系樹脂を膜形成成分として用いることが試みられている。
【０００３】
このような感光性樹脂組成物として、例えば、特許文献１には、（Ａ）（ａ）不飽和カルボン酸または不飽和カルボン酸無水物、（ｂ）エポキシ基を有するラジカル重合性化合物および（ｃ）他のラジカル重合性化合物の共重合体であるアルカリ水溶液に可溶な樹脂および（Ｂ）感放射線性酸生成化合物を有する感光性樹脂組成物が提案されている。
【０００４】
また、特許文献２には、（Ａ）アセタール構造および／またはケタール構造、ならびにエポキシ構造を有し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算重量平均分子量が２０００以上である高分子量体、ならびに（Ｂ）放射線の照射によりｐＫａが４．０以下の酸を発生する化合物を含有する感放射線性組成物が提案されている。
【０００５】
また、特許文献３には、特定の酸解離性基を有する構成単位と、カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位とを含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、当該酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を少なくとも含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物が記載されている。
【０００６】
一方、ファクシミリ、電子複写機、固体撮像素子等のオンチップカラーフィルターの結像光学系あるいは光ファイバコネクタの光学系材料として３〜１００μｍ程度のレンズ径を有するマイクロレンズ、またはそれらのマイクロレンズを規則的に配列したマイクロレンズアレイが使用されている。
マイクロレンズまたはマイクロレンズアレイの形成には、レンズに相当するレジストパターンを形成した後、加熱処理することによってメルトフローさせ、そのままレンズとして利用する方法や、メルトフローさせたレンズパターンをマスクにしてドライエッチングにより下地にレンズ形状を転写させる方法等が知られている。前記レンズパターンの形成には、感光性樹脂組成物が幅広く使用されている（例えば、特許文献４および特許文献５参照。）。
【０００７】
このように、層間絶縁膜やマイクロレンズを感光性樹脂組成物を用いて形成するにあたっては、感光性樹脂組成物としては高感度であること、かつ保存安定性の良いことが要求される。また、形成工程中の現像工程において未露光部の膜べりが起きないことや現像時間が所定時間より過剰となった場合でもパターンの剥がれが生じずに良好な密着性を示し、コンタクトホール形状が良好であり、且つ形成される層間絶縁膜には高耐熱性、高耐溶剤性、低誘電率、高透過率等が要求される。一方、マイクロレンズを形成する場合にはマイクロレンズとして良好なメルト形状（所望の曲率半径）、高耐熱性、高耐溶剤性、高透過率が要求される。このような要求を満足する感光性樹脂組成物の要件は明らかになっていなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平５−１６５２１４号公報
【特許文献２】特開２００４−２６４６２３号公報
【特許文献３】特開２００９−９８６１６号公報
【特許文献４】特開平６−１８７０２号公報
【特許文献５】特開平６−１３６２３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
前記特許文献１に記載の感光性樹脂組成物は、感度、解像性、経時安定性が十分でなく高品質の液晶表示装置を製造するためには満足できるものではなく、また、露光量の変化に対するパターン形状の変化が大きいという問題があった。
また、前記特許文献２及び３に記載の感光性樹脂組成物には、感度が低いという問題、及び露光量の変化に対するパターン形状の変化が大きいという問題があった。
【００１０】
本発明は上記問題点を解決すべくなされたものである。
本発明の課題は、高い感度を有し、現像工程において未露光部の膜べりが抑制され、かつ、耐熱透明性が良好で、良好なパターン形状を形成できる感光性樹脂組成物を提供することにある。
また、本発明の別の目的は、上記の感光性樹脂組成物を用いて硬化膜を形成する方法、ならびにその方法により形成された硬化膜を提供することにある。該硬化膜を用いた層間絶縁膜を提供することにあり、該硬化膜を具備した有機ＥＬ表示装置および液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記課題は以下の手段で解決される。
＜１＞  （Ａ）樹脂、及び（Ｂ）感放射線酸発生剤を含み、前記（Ａ）樹脂が、有機概念図に基づく無機性値（Ｉ）を有機性値（Ｏ）で除したＩ／Ｏ値が０．４以上０．６未満であり、酸価が４２ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であり、且つ、(A1)酸基、(A2)酸分解性基で保護された酸基、及び(A3)架橋性基を有する樹脂であるポジ型感光性樹脂組成物。
＜２＞  前記（Ａ）樹脂が、Ｉ／Ｏ値が０．５以上０．６未満であり、且つ前記酸価が４２ｍｇＫＯＨ／ｇ以上９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下の樹脂である＜１＞に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【００１２】
＜３＞  前記酸分解性基が、酸の作用によりカルボキシル基またはフェノール性水酸基を生じる酸分解性基である＜１＞または＜２＞に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
＜４＞  前記(A2)酸分解性基で保護された酸基が、カルボン酸のアセタールエステル構造、カルボン酸のケタールエステル構造、フェノール性水酸基のアセタールエーテル構造、及びフェノール性水酸基のケタールエーテル構造からなる群から選ばれる少なくとも１種の構造である＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
＜５＞  前記(A1)酸基が、カルボキシル基又はフェノール性水酸基である＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【００１３】
＜６＞  前記(A1)酸基が、カルボキシル基であり、且つ酸分解性基で保護された酸基が酸の作用によりカルボキシル基を生じる酸分解性基で保護された酸基である＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
＜７＞  前記(A3)架橋性基が、エポキシ基、又はオキセタン基である＜１＞〜＜６＞のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
＜８＞  前記（Ａ）樹脂が、（ａ）酸分解性基で保護された酸基を含有するラジカル重合性化合物、（ｂ）不飽和カルボン酸、及び（ｃ）エポキシ基、又はオキセタン基を含有するラジカル重合性化合物に由来する構造単位を含む共重合体である＜１＞〜＜７＞のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【００１４】
＜９＞  前記（Ａ）樹脂が、さらに（ｄ）水酸基含有不飽和カルボン酸エステル、脂環構造含有不飽和カルボン酸エステル、スチレン、及びＮ置換マレイミドの群から選ばれる少なくとも１種に由来する構造単位を含む共重合体である＜８＞に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
＜１０＞  前記（Ｂ）感放射線酸発生剤が、オキシムスルホネート基を有する化合物である＜１＞〜＜９＞のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【００１５】
＜１１＞  前記（Ｂ）感放射線酸発生剤が、下記一般式（ＯＳ−３）、一般式（ＯＳ−４）、及び一般式（ＯＳ−５）で表される化合物から選択された少なくとも１種の化合物である＜１＞〜＜１０＞のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【００１６】
【化１】
0005623897.tif 000002
【００１７】
一般式（ＯＳ−３）〜一般式（ＯＳ−５）中、Ｒ１はアルキル基、アリール基、又はヘテロアリール基を表し、複数存在するＲ２はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、又はハロゲン原子を表し、複数存在するＲ６はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基、又はアルコキシスルホニル基を表し、ＸはＯ又はＳを表し、ｎは１又は２を表し、ｍは０〜６の整数を表す。
【００１８】
なお、本発明のポジ型感光性樹脂組成物は上記構成としたために、感度が高く、現像工程において未露光部の膜べりが抑制され、かつ、耐熱透明性が良好で、良好な形状のパターンが形成される。さらに、これを用いてマイクロレンズの形成を行う場合にあっては、高い透過率を有するマイクロレンズを形成しうるという利点をも有するものである。
【００１９】
＜１２＞  （１）＜１＞〜＜１１＞のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程、（２）塗布されたポジ型感光性樹脂組成物から溶剤を除去する溶媒除去工程、（３）溶剤を除去されたポジ型感光性樹脂組成物を活性放射線で露光する露光工程、（４）露光されたポジ型感光性樹脂組成物を水性現像液で現像する現像工程、及び、（５）現像されたポジ型感光性樹脂組成物を熱硬化するポストベーク工程、を含む硬化膜の形成方法。
＜１３＞  前記現像工程後、且つポストベーク工程前に、さらに（６）現像されたポジ型感光性樹脂組成物を全面露光する工程を含む＜１２＞に記載の硬化膜の形成方法。
【００２０】
＜１４＞  ＜１２＞または＜１３＞に記載の硬化膜の形成方法により形成された硬化膜。＜１５＞  層間絶縁膜である＜１４＞に記載の硬化膜。
＜１６＞  ＜１４＞または＜１５＞に記載の硬化膜を具備する有機ＥＬ表示装置。
＜１７＞  ＜１４＞または＜１５＞に記載の硬化膜を具備する液晶表示装置。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、高い感度を有し、現像工程において未露光部の膜べりが抑制され、かつ、耐熱透明性が良好で、良好なパターン形状を形成できるポジ型感光性樹脂組成物を提供することができる。また、上記のポジ型感光性樹脂組成物を用いて硬化膜を形成する方法、ならびにその方法により形成された硬化膜を提供することができ、該硬化膜を用いた層間絶縁膜を提供することができ、該硬化膜を具備した有機ＥＬ表示装置および液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の感光性樹脂組成物を用いた有機ＥＬ表示装置の一例の構成概念図を示す。
【図２】本発明の感光性樹脂組成物を用いた液晶表示装置の一例の構成概念図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
＜ポジ型感光性樹脂組成物＞
以下、本発明のポジ型感光性樹脂組成物（以下、適宜「感光性樹脂組成物」と称する。）について詳細に説明する。
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ａ）樹脂、及び（Ｂ）感放射線酸発生剤を含み、前記（Ａ）樹脂が、有機概念図に基づく無機性値（Ｉ）を有機性値（Ｏ）で除したＩ／Ｏ値が０．４以上０．６未満であり、酸価が４２ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であり、且つ、(A1)酸基、(A2)酸分解性基で保護された酸基、及び(A3)架橋性基を有する樹脂（以下、適宜「特定樹脂」と称する。）であることを特徴とする。
【００２４】
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ａ）樹脂、及び（Ｂ）感放射線酸発生剤（以下、適宜「酸発生剤」と称する。）を含有することにより、高い感度を有するとともに、現像工程において未露光部膜べりが少ない感光性樹脂組成物となる。また、耐熱透明性、パターン形状に優れる硬化膜が得られる感光性樹脂組成物を提供することができる。
本発明の感光性樹脂組成物を用いて得られる層間絶縁膜は、透明性が高く、良好なコンタクトホール形状を有することができる。
本発明の感光性樹脂組成物は、化学増幅型のポジ型感光性樹脂組成物（化学増幅ポジ型感光性樹脂組成物）であることが好ましい。
【００２５】
以下、本発明の感光性樹脂組成物を構成する（Ａ）特定樹脂、及び（Ｂ）酸発生剤について説明する。
なお、本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
また、本発明に使用する共重合体が含有する構造単位を導入する方法は、重合法でもよく、高分子反応法でもよい。重合法では、所定の官能基を含有するモノマーを予め合成した後に、これらのモノマーを共重合する。高分子反応法では、重合反応を行った後に、得られた共重合体の構造単位に含まれる反応性基を利用して必要な官能基を構造単位中に導入する。ここで、官能基としては、カルボキシル基またはフェノール性水酸基等の酸基を保護すると同時に強酸の存在下で分解しこれらを遊離するための保護基、エポキシ基又はオキセタニル基などの架橋性基、また、フェノール性水酸基やカルボキシル基のようなアルカリ可溶性基（酸性基）等が例示できる。
【００２６】
（Ａ）特定樹脂
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ａ）特定樹脂を含有する。
本発明の感光性樹脂組成物が含有する（Ａ）特定樹脂は、有機概念図に基づく無機性値（Ｉ）を有機性値（Ｏ）で除したＩ／Ｏ値が０．４以上０．６未満であり、酸価が４２ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であり、且つ、(A1)酸基、(A2)酸分解性基で保護された酸基、及び(A3)架橋性基を有する樹脂である。
ここで、Ｉ／Ｏ値とは、無機性値／有機性値とも称される各種有機化合物の極性を有機概念的に取り扱った値であり、各官能基にパラメータを設定する官能基寄与法の一つである。
【００２７】
前記Ｉ／Ｏ値については、有機概念図（甲田善生  著、三共出版（１９８４））；ＫＵＭＡＭＯＴＯ  ＰＨＡＲＭＡＣＥＵＴＩＣＡＬ  ＢＵＬＬＥＴＩＮ，第１号、第１〜１６項（１９５４年）；化学の領域、第１１巻、第１０号、７１９〜７２５項（１９５７年）；フレグランスジャーナル、第３４号、第９７〜１１１項（１９７９年）；フレグランスジャーナル、第５０号、第７９〜８２項（１９８１年）；などの文献に詳細な説明がある。  Ｉ／Ｏ値の概念は、化合物の性質を、共有結合性を表す有機性基と、イオン結合性を表わす無機性基とに分け、全ての有機化合物を有機軸、無機軸と名付けた直行座標上の１点ずつに位置づけて示すものである。
【００２８】
前記無機性値とは、有機化合物が有している種々の置換基や結合等の沸点への影響力の大小を、水酸基を基準に数値化したものである。具体的には、直鎖アルコールの沸点曲線と直鎖パラフィンの沸点曲線との距離を炭素数５の付近でとると約１００℃となるので、水酸基１個の影響力を数値で１００と定め、この数値に基づいて各種置換基あるいは各種結合などの沸点への影響力を数値化した値が、有機化合物が有している置換基の無機性値となる。例えば、−ＣＯＯＨ基の無機性値は１５０であり、２重結合の無機性値は２である。したがって、ある種の有機化合物の無機性値とは、化合物が有している各種置換基や結合等の無機性値の総和を意味する。
また、前記有機性値とは、分子内のメチレン基を単位とし、そのメチレン基を代表する炭素原子の沸点への影響力を基準にして定めたものである。すなわち、直鎖飽和炭化水素化合物の炭素数５〜１０付近で炭素１個が加わることによる沸点上昇の平均値は２０℃であるから、これを基準に炭素原子１個の有機性値を２０と定め、これを基礎として各種置換基や結合等の沸点への影響力を数値化した値が有機性値となる。例えば、ニトロ基（−ＮＯ２）の有機性値は７０である。 
Ｉ／Ｏ値は、０に近いほど非極性（疎水性、有機性が大きい）の有機化合物であることを示し、値が大きいほど極性（親水性、無機性が大きい）の有機化合物であることを示す。
【００２９】
以下、Ｉ／Ｏ値の計算方法の一例を示す。
メタクリル酸／メタクリル酸メチル／スチレン共重合体（共重合モル比：２／５／３）のＩ／Ｏ値は、以下に示す方法により該共重合体の無機性値及び有機性値を計算し、下記式より求めることができる。
Ｉ／Ｏ値＝（共重合体の無機性値）／（共重合体の有機性値）
【００３０】
前記共重合体の無機性値は、（メタクリル酸の無機性値）×（メタクリル酸のモル比）と、（メタクリル酸メチルの無機性値）×（メタクリル酸メチルのモル比）と、（スチレンの無機性値）×（スチレンのモル比）との合計を求めることにより算出される。
【００３１】
メタクリル酸はカルボキシル基を１個有し、メタクリル酸メチルはエステル基を１個有し、スチレンは芳香環を１個有するため、前記メタクリル酸の無機性値は、１５０（カルボキシル基の無機性値）×１（カルボキシル基の個数）＝１５０、前記メタクリル酸メチルの無機性値は、６０（エステル基の無機性値）×１（エステル基の個数）＝６０、前記スチレンの無機性値は、１５（芳香環の無機性値）×１（芳香環の個数）＝１５である。
よって、前記共重合体の無機性値は、１５０×２（メタクリル酸のモル比）＋６０×５（メタクリル酸メチルのモル比）＋１５×３（スチレンのモル比）より６４５である。
【００３２】
前記共重合体の有機性値は、（メタクリル酸の有機性値）×（メタクリル酸のモル比）と、（メタクリル酸メチルの有機性値）×（メタクリル酸メチルのモル比）と、（スチレンの有機性値）×（スチレンのモル比）との合計を求めることにより算出される。
【００３３】
メタクリル酸は炭素原子４個を有し、メタクリル酸メチルは炭素原子５個を有し、スチレンは炭素原子８個を有するため、前記メタクリル酸の有機性値は、２０（炭素原子の有機性値）×４（炭素原子数）＝８０、前記メタクリル酸メチルの有機性値は、２０（炭素原子の有機性値）×５（炭素原子数）＝１００、前記スチレンの有機性値は、２０（炭素原子の有機性値）×８（炭素原子数）＝１６０である。
よって、前記共重合体の有機性値は、８０×２（メタクリル酸のモル比）＋１００×５（メタクリル酸メチルのモル比）＋１６０×３（スチレンのモル比）より１１４０である。
【００３４】
以上から、前記メタクリル酸／メタクリル酸メチル／スチレン共重合体のＩ／Ｏ値は、６４５（該共重合体の無機性値）／１１４０（該共重合体の有機性値）＝０．５６６である。
このようにＩ／Ｏ値とバインダーを構成するモノマーとその組成比には密接な関係があり、本発明の特定樹脂を用いた感光性樹脂組成物を所望の性能にするためには、(A1)酸基、(A2)酸分解性基で保護された酸基、(A3)架橋基、及びその他の基をそれぞれ有する部分構造の選択と組み合わせには最適なものがあり、それらの組み合わせについて鋭意検討した結果、本発明における特定樹脂のＩ／Ｏ値と酸価の組み合わせに到達した。
【００３５】
すなわち特定樹脂は、Ｉ／Ｏ値が０．４以上０．６未満であり、且つ酸価が４２ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものであり、Ｉ／Ｏ値は０．５以上０．６未満が好ましく、酸価は４２ｍｇＫＯＨ／ｇ以上９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものが好ましく、Ｉ／Ｏ値が０．５以上０．６未満であり、且つ酸価が４２ｍｇＫＯＨ／ｇ以上９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものがより好ましい。Ｉ／Ｏ値が０．４未満の場合は、現像液の浸透が抑制されるため低感度になり、一方、Ｉ／Ｏ値が０．６以上の場合は現像液に溶解しやすくなり現像による膜べりを起こしやすくなる。また酸価が４２ｍｇＫＯＨ／ｇ未満の場合は、特定樹脂に露光後のアルカリ溶解性を持たせることが困難であり、現像可能な酸基の量を得るためには露光量を大きくする必要があり、一方、酸価が１１０ｍｇＫＯＨ／ｇを超える場合は、現像液に溶解しやすく現像による膜べりを起こしやすくなる。
【００３６】
〔(A2)酸分解性基で保護された酸基〕
以下に、本発明における特定樹脂を構成する各構成単位について詳細に説明する。
特定樹脂が有する(A2)酸分解性基で保護された酸基としては、酸によりカルボキシル基を生成する下記一般式（Ｉａ）で表される構造単位または酸によりフェノール性水酸基を生成する下記一般式（Ｉｂ）で表される構造単位の少なくとも一方を有する構造単位（ａ１）（以下、適宜「構造単位（ａ１）」と称する。）、および酸によりカルボキシル基を生成する下記一般式（IIａ）で表される構造単位または酸によりフェノール性水酸基を生成する下記一般式（IIｂ）で表される構造単位の少なくとも一方を有する構造単位（ａ２）（以下、適宜「構造単位（ａ２）」と称する。）が好ましい。
特定樹脂が有する(A2)酸分解性基で保護された酸基としては、前記構造単位（ａ１）および構造単位（ａ２）のいずれか一方を少なくとも１種含むことが好ましく、特に構造単位（ａ１）を含むことが好ましい。また、構造単位（ａ１）および構造単位（ａ２）の両方を含んでいてもよい。
【００３７】
【化２】
0005623897.tif 000003
【００３８】
上記一般式中、Ｒ１はアルキル基又はシクロアルキル基を表し、Ｒ２はアルキル基を表す。Ｒ３は第三級アルキル基又は２−テトラヒドロピラニル基、２−テトラヒドロフラニル基を表し、Ｒ４は第三級アルキル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基又は２−テトラヒドロピラニル基、２−テトラヒドロフラニル基を表す。Ａｒ１及びＡｒ２は、アリール基を表し、波線部分は他の構造との結合箇所を表す。
【００３９】
これらのうち、一般式（Ｉａ）で表される構造単位又は一般式（Ｉｂ）で表される構造単位が好ましく、更に一般式（Ｉａ）で表される構造単位が好ましい。
【００４０】
本発明において、特定樹脂は、アルカリ不溶性であり、かつ、酸分解性基が分解したときにアルカリ可溶性となる樹脂であることが好ましい。
ここで、本発明において「アルカリ可溶性」とは、当該化合物（樹脂）の溶液を基板上に塗布し、９０℃で２分間加熱することによって形成される当該化合物（樹脂）の塗膜（厚さ３μｍ）の、２３℃における０．４質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に対する溶解速度が、０．０１μｍ／秒以上であることをいい、「アルカリ不溶性」とは、当該化合物（樹脂）の溶液を基板上に塗布し、９０℃で２分間加熱することによって形成される当該化合物（樹脂）の塗膜（厚さ３μｍ）の、２３℃における０．４質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に対する溶解速度が、０．０１μｍ／秒未満であることをいう。
本発明における特定樹脂のアルカリ溶解速度は０．００５μｍ／秒未満であることがより好ましい。また、特定樹脂の酸分解性基が分解したときには、アルカリ溶解速度は０．０５μｍ／秒以上であることが好ましい。
【００４１】
本発明における特定樹脂は、アクリル系重合体であることが好ましい。
本発明における「アクリル系重合体」は、付加重合型の樹脂であり、（メタ）アクリル酸及び／又はそのエステルに由来する構造単位を含む重合体であり、（メタ）アクリル酸及び／又はそのエステルに由来する構造単位以外の構造単位、例えば、スチレン類に由来する構造単位やビニル化合物に由来する構造単位等を有していてもよい。
特定樹脂は、（メタ）アクリル酸及び／又はそのエステルに由来する構造単位を、重合体における全構造単位に対し、５０モル％以上であることが好ましく、８０モル％以上であることがより好ましく、（メタ）アクリル酸及び／又はそのエステルに由来する構造単位のみからなる重合体であることが特に好ましい。
なお、「（メタ）アクリル酸及び／又はそのエステルに由来する構造単位」を「アクリル系構造単位」ともいう。また、（メタ）アクリル酸は、メタクリル酸及びアクリル酸を総称するものである。
【００４２】
＜一般式（Ｉａ）で表される構造単位または酸によりフェノール性水酸基を生成する一般式（Ｉｂ）で表される構造単位の少なくとも一方を有する構造単位（ａ１）＞
一般式（Ｉａ）で表される構造単位または酸によりフェノール性水酸基を生成する一般式（Ｉｂ）で表される構造単位の少なくとも一方を有する構造単位（ａ１）＝構造単位（ａ１）についてさらに詳細に説明する。
【００４３】
【化３】
0005623897.tif 000004
【００４４】
一般式（Ｉａ）及び一般式（Ｉｂ）中、Ｒ１はアルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｒ１におけるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐状であってもよい。
Ｒ１におけるアルキル基の好ましい炭素数としては、１〜２０であることが好ましく、１〜１０であることがより好ましく、１〜７であることが更に好ましい。
Ｒ１におけるシクロアルキル基の好ましい炭素数としては、３〜２０であることが好ましく、３〜１０であることがより好ましく、５〜７であることが更に好ましい。
なお、これら炭素数は、置換基を有する場合、置換基の炭素数も含まれる。
【００４５】
Ｒ１におけるアルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等を挙げることができる。
Ｒ１におけるシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基等を挙げることができる。
また、Ｒ１におけるアルキル基及びシクロアルキル基は、置換基を有していてもよい。
前記アルキル基及びシクロアルキル基における置換基としては、炭素数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基等が例示でき、これらの置換基は、上記置換基で更に置換されていてもよい。
また、Ｒ１におけるアルキル基又はシクロアルキル基としては、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数が３〜１０のシクロアルキル基、又は、炭素数が７〜１０のアラルキル基が好ましく、炭素数が１〜７のアルキル基、炭素数が５〜７のシクロアルキル基、又は、ベンジル基がより好ましく、エチル基又はシクロヘキシル基であることが更に好ましく、エチル基であることが特に好ましい。
【００４６】
一般式（Ｉａ）及び一般式（Ｉｂ）中、Ｒ２はアルキル基を表す。Ｒ２におけるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐状であってもよい。
Ｒ２におけるアルキル基の好ましい炭素数としては、１〜２０であり、１〜１０であることがより好ましく、１〜７であることが更に好ましい。なお、これら炭素数は、置換基を有する場合、置換基の炭素数も含まれる。
また、Ｒ２におけるアルキル基としては、メチル基が特に好ましい。
【００４７】
一般式（Ｉｂ）中、Ａｒ１は二価の芳香族基を表す。
Ａｒ１における二価の芳香族基としては、特に制限はなく、フェニレン基、置換フェニレン基、ナフチレン基、及び、置換ナフチレン基等が例示でき、フェニレン基、又は、置換フェニレン基であることが好ましく、フェニレン基であることがより好ましく、１，４−フェニレン基であることが更に好ましい。
また、Ａｒ１における二価の芳香族基は、芳香環上に置換基を有していてもよく、置換基としては、炭素数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基等が例示でき、これらの置換基は、上記置換基で更に置換されていてもよい。
【００４８】
本発明における構造単位（ａ１）では、カルボキシル基又はフェノール性水酸基が保護された構造である前記一般式（Ｉａ）および一般式（Ｉｂ）で表される構造単位の少なくとも一方の構造単位を含有することが好ましい。
カルボキシル基が保護されることにより、前記一般式（Ｉａ）で表される構造単位を有するモノマーを形成しうるカルボン酸モノマーとしては、カルボキシル基が保護されることにより構造単位（ａ１）となり得るものであれば用いることができ、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−メチル−ｐ−カルボキシスチレン等のモノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸を挙げることができる。また、構造単位（ａ１）としては、これらカルボキシル基が保護されたカルボン酸由来の構造単位を好ましいものとして挙げることができる。
【００４９】
フェノール性水酸基が保護されることにより前記一般式（Ｉｂ）で表される構造単位を有するモノマーを形成しうるフェノール性水酸基を有するモノマーとしては、フェノール性水酸基が保護されることにより構造単位（ａ１）となり得るものであれば用いることができ、例えば、ｐ−ヒドロキシスチレン、α−メチル−ｐ−ヒドロキシスチレン等のヒドロキシスチレン類、特開２００８−４０１８３号公報の段落〔００１１〕〜〔００１６〕に記載の化合物、特許第２８８８４５４号公報の段落〔０００７〕〜〔００１０〕に記載の４−ヒドロキシ安息香酸誘導体類、４−ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、４−ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物等を好ましいものとして挙げることができる。
これらの中でも、α−メチル−ｐ−ヒドロキシスチレン、特開２００８−４０１８３号公報の段落〔００１１〕〜〔００１６〕に記載の化合物、特許第２８８８４５４号公報の段落〔０００７〕〜〔００１０〕に記載の４−ヒドロキシ安息香酸誘導体類、４−ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、４−ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物がより好ましい。
【００５０】
これらの中で構造単位（ａ１）として特に好ましいものは、下記一般式（III）で表さ
れる構造単位である。
【００５１】
【化４】
0005623897.tif 000005
【００５２】
一般式（III）中、Ｒ５はアルキル基又はシクロアルキル基を表し、Ｒ５の好ましい態
様は、一般式（Ｉａ）及び一般式（Ｉｂ）におけるＲ１の好ましい態様と同じである。
また、一般式（III）中、Ｒ６は水素原子またはメチル基を表す。
【００５３】
一般式（III）で表される構造単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体
の好ましい具体例としては、例えば、１−エトキシエチルメタクリレート、１−エトキシエチルアクリレート、１−メトキシエチルメタクリレート、１−メトキシエチルアクリレート、１−ｎ−ブトキシエチルメタクリレート、１−ｎ−ブトキシエチルアクリレート、１−イソブトキシエチルメタクリレート、１−イソブトキシエチルアクリレート、１−（２−エチルヘキシルオキシ）エチルメタクリレート、１−（２−エチルヘキシルオキシ）エチルアクリレート、１−ｎ−プロポキシエチルメタクリレート、１−ｎ−プロポキシエチルアクリレート、１−シクロヘキシルオキシエチルメタクリレート、１−シクロヘキシルオキシエチルアクリレート、１−（２−シクロヘキシルエトキシ）エチルメタクリレート、１−（２−シクロヘキシルエトキシ）エチルアクリレート、１−ベンジルオキシエチルメタクリレート、１−ベンジルオキシエチルアクリレートなどを挙げることができ、特に好ましいものとしては、１−エトキシエチルメタクリレート及び１−エトキシエチルアクリレートである。これらのモノマーは、１種単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００５４】
構造単位（ａ１）を形成するために用いられるラジカル重合性単量体は、市販のものを用いてもよいし、公知の方法で合成したものを用いることもできる。例えば、下記に示すように（メタ）アクリル酸を酸触媒の存在下でビニルエーテル化合物と反応させることにより合成することができる。
【００５５】
【化５】
0005623897.tif 000006
【００５６】
ここで、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ、一般式（III）におけるＲ５及びＲ６と同義である。
【００５７】
また、構造単位（ａ１）は、保護されるカルボキシル基又はフェノール性水酸基含有モノマーを後述する構造単位（ａ２）〜（ａ５）やその前駆体と重合した後に、カルボキシル基又はフェノール性水酸基をビニルエーテル化合物と反応させることによっても形成することができる。なお、このようにして形成される好ましい構造単位の具体例は、上記ラジカル重合性単量体の好ましい具体例由来の構造単位と同様である。
【００５８】
構造単位（ａ１）の好ましい具体例としては、下記の構造単位が例示できる。
【００５９】
【化６】
0005623897.tif 000007
【００６０】
【化７】
0005623897.tif 000008
【００６１】
【化８】
0005623897.tif 000009
【００６２】
特定樹脂を構成する全構造単位中、構造単位（ａ１）の含有量は、１０〜８０モル％が好ましく、１５〜７０モル％が更に好ましく、２０〜６０モル％が特に好ましい。構造単位（ａ１）を上記の割合で含有させることにより、高感度でかつ露光ラチチュードが広い感光性樹脂組成物が得られる。
【００６３】
＜酸によりカルボキシル基を生成する下記一般式（IIａ）で表される構造単位または酸によりフェノール性水酸基を生成する下記一般式（IIｂ）で表される構造単位の少なくとも一方を有する構造単位（ａ２）＞
特定樹脂は、酸によりカルボキシル基を生成する下記一般式（IIａ）で表される構造単位または酸によりフェノール性水酸基を生成する下記一般式（IIｂ）で表される構造単位の少なくとも一方を有する構造単位（ａ２）＝構造単位（ａ２）についてさらに詳細に説明する。
【００６４】
【化９】
0005623897.tif 000010
【００６５】
一般式（IIａ）及び一般式（IIｂ）中、Ｒ３は第三級アルキル基又は２−テトラヒドロピラニル基、２−テトラヒドロフラニル基を表し、Ｒ４は第三級アルキル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基又は２−テトラヒドロピラニル基、２−テトラヒドロフラニル基を表し、Ａｒ２は二価の芳香族基を表し、波線部分は他の構造との結合箇所を表す。
【００６６】
Ｒ３及びＲ４における第三級アルキル基としては、炭素数が４〜２０のものが好ましく、炭素数が４〜１４のものがより好ましく、炭素数が４〜８のものが更に好ましい。
Ｒ３における第三級アルキル基及び２−テトラヒドロピラニル基、２−テトラヒドロフラニル基、Ｒ４における第三級アルキル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基又は２−テトラヒドロピラニル基、２−テトラヒドロフラニル基、Ａｒ２における二価の芳香族基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、炭素数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基等が例示できる。これらの置換基は、上記置換基で更に置換されていてもよい。
【００６７】
また、Ｒ３及びＲ４における第三級アルキル基としては、以下に示す一般式（Ｖ）で表される基よりなる群から選ばれる少なくとも１種であることがより好ましい。
−Ｃ（Ｒ９Ｒ１０Ｒ１１）        （Ｖ）
一般式（Ｖ）中、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１はそれぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、又は炭素数７〜１２のアラルキル基を表し、また、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１のいずれか２つが互いに結合してそれらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。
【００６８】
一般式（Ｖ）におけるＲ９、Ｒ１０及びＲ１１の炭素数１〜１２のアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、テキシル基（２，３−ジメチル−２−ブチル基）、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等を挙げることができる。
【００６９】
Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１の炭素数３〜１２のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基等を挙げることができる。
炭素数６〜１２のアリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、１−ナフチル基等を挙げることができる。
炭素数７〜１２のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、α−メチルベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基等を挙げることができる。
【００７０】
また、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は互いに結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成することができる。Ｒ９とＲ１０、Ｒ９とＲ１１、又は、Ｒ１０とＲ１１がそれぞれ結合した場合の環構造としては、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、テトラヒドロフラニル基、アダマンチル基、及び、テトラヒドロピラニル基等を挙げることができる。
【００７１】
また、一般式（IIａ）におけるＲ３は、炭素数４〜１２の第三級アルキル基又は２−テトラヒドロピラニル基、２−テトラヒドロフラニル基であることが好ましく、炭素数４〜８の第三級アルキル基又は２−テトラヒドロピラニル基、２−テトラヒドロフラニル基であることがより好ましく、ｔ−ブチル基又は２−テトラヒドロピラニル基、２−テトラヒドロフラニル基であることが更に好ましく、ｔ−ブチル基、２−テトラヒドロフラニル基が特に好ましい。
また、一般式（IIｂ）におけるＲ４は、炭素数４〜１２の第三級アルキル基、２−テトラヒドロピラニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、２−テトラヒドロフラニル基であることが好ましく、炭素数４〜１２の第三級アルキル基又は２−テトラヒドロピラニル基、２−テトラヒドロフラニル基であることがより好ましく、ｔ−ブチル基又は２−テトラヒドロピラニル基、２−テトラヒドロフラニル基であることが更に好ましく、２−テトラヒドロピラニル基、２−テトラヒドロフラニル基が特に好ましい。
【００７２】
一般式（IIｂ）中、Ａｒ２は、二価の芳香族基を表し、芳香環上にＯＣＨ（ＯＲ１）（Ｒ２）を有している。
一般式（IIｂ）におけるＡｒ２の好ましい態様は、前記一般式（IIａ）におけるＡｒ１の好ましい態様と同様である。
【００７３】
本発明における構造単位（ａ２）では、前記一般式（IIａ）で表される保護されたカルボキシル基、及び／又は、前記一般式（IIｂ）で表される保護されたフェノール性水酸基を含有する。
カルボキシル基が保護されることにより前記一般式（IIａ）で表される構造を有する構造単位を形成することができるカルボン酸モノマーとしては、カルボキシル基が保護されることにより構造単位（ａ２）となり得るものであれば用いることができ、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−メチル−ｐ−カルボキシスチレン等のモノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸を挙げることができる。また、構造単位（ａ２）としては、これらカルボキシル基が保護されたカルボン酸由来の構造単位を好ましいものとして挙げることができる。
【００７４】
フェノール性水酸基が保護されることにより前記一般式（IIｂ）で表される構造を有する構造単位を形成することができるフェノール性水酸基を有するモノマーとしては、フェノール性水酸基が保護されることにより構造単位（ａ２）となり得るものであれば用いることができる。例えば、ｐ−ヒドロキシスチレン、α−メチル−ｐ−ヒドロキシスチレン等のヒドロキシスチレン類、特開２００８−４０１８３号公報の段落００１１〜００１６に記載の化合物、特許第２８８８４５４号公報の段落０００７〜００１０に記載の４−ヒドロキシ安息香酸誘導体類、４−ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、４−ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物等を好ましいものとして挙げることができる。
これらの中でも、α−メチル−ｐ−ヒドロキシスチレン、特開２００８−４０１８３号公報の段落〔００１１〕〜〔００１６〕に記載の化合物、特許第２８８８４５４号公報の段落〔０００７〕〜〔００１０〕に記載の４−ヒドロキシ安息香酸誘導体類、４−ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、４−ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物がより好ましい。
【００７５】
これらの構造の中で、構造単位（ａ２）として特に好ましいものは、下記一般式（IV）で表される構造単位である。
【００７６】
【化１０】
0005623897.tif 000011
【００７７】
一般式（IV）中、Ｒ７は第三級アルキル基又は２−テトラヒドロピラニル基、２−テトラヒドロフラニル基を表し、Ｒ８は水素原子又はメチル基を表す。
なお、一般式（IV）中、Ｒ７の好ましい態様は、一般式（IIａ）におけるＲ３の好ましい態様と同様である。
【００７８】
一般式（IV）で表される構造単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の好ましい具体例としては、例えば、メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、メタクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル、アクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル、メタクリル酸２−メチル−２−アダマンチル、アクリル酸２−メチル−２−アダマンチル、メタクリル酸１−メチルシクロヘキシル、アクリル酸１−メチルシクロヘキシル、メタクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−フラン−２−イル、アクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−フラン−２−イル等を挙げる事ができ、特にメタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、メタクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−フラン−２−イル、アクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−フラン−２−イルが好ましい。これらの構造単位は、１種単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００７９】
構造単位（ａ２）の好ましい具体例としては、下記の構造単位が例示できる。
【００８０】
【化１１】
0005623897.tif 000012
【００８１】
【化１２】
0005623897.tif 000013
【００８２】
【化１３】
0005623897.tif 000014
【００８３】
特定樹脂を構成する全構造単位中、構造単位（ａ２）の含有量は、０〜６０モル％が好ましく、０〜５０モル％が更に好ましく、０〜４０モル％が特に好ましい。構造単位（ａ２）を上記の割合で含有させることにより、高感度でかつ露光ラチチュードが広い感光性樹脂組成物が得られる。
【００８４】
＜(A3)架橋性基＞
特定樹脂は、(A3)架橋性基を含有する。(A3)架橋性基としては、前述した酸基と反応して共有結合を形成するもの、架橋性基同士で熱や光の作用により共有結合を形成するものであればいずれでも良い。
酸基と反応して共有結合を形成するものとしてはエポキシ基又はオキセタニル基を有する構造単位（ａ３）が好ましく、架橋性基同士で熱や光の作用により共有結合を形成するものとしては炭素―炭素二重結合が好ましい。これらの中で酸基と反応して共有結合を形成するものが好ましく、特に、エポキシ基又はオキセタニル基を有する構造単位（ａ３）（以下、適宜「構造単位（ａ３）」と称する。）が好ましい。構造単位（ａ３）としては、エポキシ基とオキセタニル基の両方の基を含んでもよい。
前記エポキシ基又はオキセタニル基を有する構造単位（ａ３）としては、グリシジル基、脂環式エポキシ基又はオキセタニル基を有する構造単位であることが好ましく、グリシジル基又はオキセタニル基を有する構造単位であることがより好ましい。
【００８５】
脂環式エポキシ基は、脂肪族環とエポキシ環とが縮合環を形成している基であり、具体的には例えば、３，４−エポキシシクロヘキシル基、２，３−エポキシシクロヘキシル基、２，３−エポキシシクロペンチル基等が好ましく挙げられる。
オキセタニル基を有する基としては、オキセタン環を有していれば、特に制限はないが、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル基が好ましく例示できる。
エポキシ基又はオキセタニル基を有する構造単位は、１つの構造単位中にエポキシ基又はオキセタニル基を少なくとも１つ有していればよく、１つ以上のエポキシ基と１つ以上のオキセタニル基とを含んでもよく、２つ以上のエポキシ基、又は、２つ以上のオキセタニル基を有していてもよく、特に限定されないが、エポキシ基とオキセタニル基とを合計１〜３つ有することが好ましく、エポキシ基とオキセタニル基とを合計１又は２つ有することがより好ましく、エポキシ基又はオキセタニル基を１つ有することが更に好ましい。
【００８６】
エポキシ基を有する構造単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−３，４−エポキシブチル、メタクリル酸−３，４−エポキシブチル、アクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、メタクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、特許第４１６８４４３号公報の段落〔００３１〕〜〔００３５〕に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物などが挙げられる。
【００８７】
オキセタニル基を有する構造単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の例としては、例えば、特開２００１−３３０９５３号公報の段落〔００１１〕〜〔００１６〕に記載のオキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステルなどを挙げることができる。
【００８８】
エポキシ基又はオキセタニル基を有する構造単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の例としては、メタクリル酸エステル構造を含有するモノマー、アクリル酸エステル構造を含有するモノマーであることが好ましい。
【００８９】
これらのモノマーの中で、更に好ましいものとしては、メタクリル酸グリシジル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、特許第４１６８４４３号公報の段落〔００３４〕〜〔００３５〕に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物及び特開２００１−３３０９５３号公報の段落〔００１１〕〜〔００１６〕に記載のオキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステルであり、特に好ましいものとしてはメタクリル酸グリシジル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、特開２００１−３３０９５３号公報の段落〔００１１〕〜〔００１６〕に記載のオキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステルである。これらの中でも好ましいものは、メタクリル酸グリシジル、アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、アクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル、及び、メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルであり、最も好ましいものはメタクリル酸グリシジル、アクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル、及び、メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルである。これらの構造単位は、１種単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００９０】
構造単位（ａ３）の好ましい具体例としては、下記の構造単位が例示できる。
【００９１】
【化１４】
0005623897.tif 000015
【００９２】
【化１５】
0005623897.tif 000016
【００９３】
特定樹脂を構成する全構造単位中、エポキシ基又はオキセタニル基を有する構造単位（ａ３）の含有率は、１０〜８０モル％が好ましく、１５〜７０モル％が更に好ましく、２０〜６５モル％が特に好ましい。エポキシ基又はオキセタニル基を有する構造単位を上記の割合で含有させることにより、硬化膜の物性が良好となる。
【００９４】
＜(A1)酸基＞
特定樹脂がアルカリ可溶性にならない範囲で、特定樹脂には(A2)酸分解性基で保護された酸基以外に、カルボキシル基、カルボン酸無水物残基およびフェノール性水酸基から選ばれる１種以上の(A1)酸基を有する構造単位（ａ４）（以下、適宜「構造単位（ａ４）」と称する。）を含有することが好ましい。構造単位（ａ４）としては、カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基を有する構造単位を含有することがより好ましい。
【００９５】
カルボキシル基を有する構造単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、スチレンカルボン酸等のモノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸を好ましいものとして挙げることができる。
また、カルボン酸無水物残基を有する構造単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、例えば、無水マレイン酸、無水イタコン酸等を好ましいものとして挙げることができる。
フェノール性水酸基を有する構造単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、例えば、ｐ−ヒドロキシスチレン、α−メチル−ｐ−ヒドロキシスチレン等のヒドロキシスチレン類、特開２００８−４０１８３号公報の段落〔００１１〕〜〔００１６〕に記載の化合物、特許第２８８８４５４号公報の段落〔０００７〕〜〔００１０〕に記載の４−ヒドロキシ安息香酸誘導体類、４−ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、４−ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物等を好ましいものとして挙げることができる。
【００９６】
これらの中でも、メタクリル酸、アクリル酸、スチレンカルボン酸、特開２００８−４０１８３号公報の段落〔００１１〕〜〔００１６〕に記載の化合物、特許第２８８８４５４号公報の段落〔０００７〕〜〔００１０〕に記載の４−ヒドロキシ安息香酸誘導体類、４−ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、４−ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物が更に好ましく、特開２００８−４０１８３号公報の段落〔００１１〕〜〔００１６〕に記載の化合物、特許第２８８８４５４号公報の段落〔０００７〕〜〔００１０〕に記載の４−ヒドロキシ安息香酸誘導体類、４−ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、４−ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物が特に好ましい。これらの構造単位は、１種単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００９７】
構造単位（ａ４）の好ましい具体例としては、下記の構造単位が例示できる。
【００９８】
【化１６】
0005623897.tif 000017
【００９９】
【化１７】
0005623897.tif 000018
【０１００】
特定樹脂を構成する全構造単位中、カルボキシル基、カルボン酸無水物残基およびフェノール性水酸基から選ばれる１種以上の基を有する構造単位（ａ４）含有率は、１２〜３０モル％が好ましく、１２〜２５モル％が更に好ましく、１２〜２０モル％が特に好ましい。カルボキシル基、カルボン酸無水物残基およびフェノール性水酸基から選ばれる１種以上の基を有する構造単位（ａ４）を上記の割合で含有させることにより、高感度が得られ、現像性が良好となる。
【０１０１】
＜その他の構造単位（ａ５）＞
前記（Ａ）重合体は、本発明の効果を妨げない範囲で、構造単位（ａ１）〜（ａ４）以外の構造単位（ａ５）（以下、適宜「（ａ５）成分」又は「構造単位（ａ５）」と称する。）を含有してもよい。
（ａ５）成分を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、例えば、特開２００４−２６４６２３号公報の段落〔００２１〕〜〔００２４〕に記載の化合物を挙げることができる（ただし、前記した構造単位（ａ１）〜（ａ４）を除く。）。
これらの中でも、電気特性向上の観点でメタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２,６］デカン−８−イル、アクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２,６］デカン−８−イル、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２,６］デカン−８−イルオキシエチル、アクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２,６］デカン−８−イルオキシエチル、メタクリル酸イソボロニル、アクリル酸イソボロニル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸２−メチルシクロヘキシル、アクリル酸２−メチルシクロヘキシルのような脂環構造含有のメタクリル酸エステル類、アクリル酸エステル類、又はスチレンのような疎水性のモノマーが好ましい。また、感度の観点でメタクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、Ｎ置換マレイミドが好ましい。これらの中でも、脂環構造含有のメタクリル酸エステル類、アクリル酸エステル類がより好ましい。
これらの（ａ５）成分は、１種単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【０１０２】
特定樹脂を構成する全構造単位中、（ａ５）成分を含有させる場合における（ａ５）成分の含有率は、１〜５０モル％が好ましく、５〜４０モル％が更に好ましく、５〜３０モル％が特に好ましい。
【０１０３】
本発明における特定樹脂の重量平均分子量は、１，０００〜１００，０００であることが好ましく、２，０００〜５０，０００であることがより好ましい。なお、本発明における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算重量平均分子量であることが好ましい。
【０１０４】
また、特定樹脂の合成法については様々な方法が知られているが、一例を挙げると、少なくとも構造単位（ａ１）、構造単位（ａ２）、及び構造単位（ａ３）を形成するために用いられるラジカル重合性単量体を含むラジカル重合性単量体混合物を有機溶剤中、ラジカル重合開始剤を用いて重合することにより合成することができる。
【０１０５】
以下、本発明で用いられる前記（Ａ）重合体として、好ましいものを例示するが、本発明はこれに限定されるものではない。
なお、下記に例示した前記（Ａ）重合体の重量平均分子量は、２，０００〜５０，０００の範囲である。
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：８０／８／１２、Ｉ／Ｏ値：０．５９、酸価：４５．４ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：２５／３３／３０／１２、Ｉ／Ｏ値：０．５９、酸価：４８．３ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：５０／３０／８／１２、Ｉ／Ｏ値：０．５９、酸価：４４．３ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸メチル／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：８０／３／５／１２、Ｉ／Ｏ値：０．５９、酸価：４５．８ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：３０／２４／３０／１６、Ｉ／Ｏ値：０．５５、酸価：５７．３ｍｇＫＯＨ／ｇ）メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸シクロヘキシル／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：３０／２４／３０／１６、Ｉ／Ｏ値：０．５９、酸価：６２．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸ベンジル／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１８／３０／１２、Ｉ／Ｏ値：０．５６、酸価：４５．５ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸２−エチルヘキシル／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１８／３０／１２、Ｉ／Ｏ値：０．５３、酸価：４４．３ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸２−エチルヘキシル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：３５／１０／１０／２５／２０、Ｉ／Ｏ値：０．５８、酸価：７４．８ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／スチレン／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１５／３０／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５７、酸価：６２．６ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／スチレン／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１３／５／３０／１２、Ｉ／Ｏ値：０．５９、酸価：４８．５ｍｇＫＯＨ／ｇ）
【０１０６】
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸グリシジル／４−ビニル安息香酸共重合体（モル比：４０／１５／３０／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５４、酸価：５２．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸グリシジル／４−ヒドロキシスチレン共重合体（モル比：４０／１５／３０／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５０、酸価：５３．６ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸グリシジル／４−ヒドロキシ安息香酸（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エステル共重合体（モル比：３５／２５／２５／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５９、酸価：４４．８ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：５０／３５／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５３、酸価：６２．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：３５／１５／３５／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５５、酸価：５６．４ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：３５／１５／３５／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５６、酸価：５４．９ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸メチル／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１０／３５／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５６、酸価：５７．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：３５／１７／３０／１８、Ｉ／Ｏ値：０．５２、酸価：６２．８ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸シクロヘキシル／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：４５／１０／２０／２５、Ｉ／Ｏ値：９３．２、酸価：０．５８ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸ベンジル／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１０／３０／２０、Ｉ／Ｏ値：０．５６、酸価：７３．８ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸２−エチルヘキシル／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１０／２５／２５、Ｉ／Ｏ値：０．５８、酸価：９２．７ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸２−エチルヘキシル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／５／１０／２５／２０、Ｉ／Ｏ値：０．５３、酸価：７０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／スチレン／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：３５／２０／２９／１６、Ｉ／Ｏ値：０．４８、酸価：６３．７ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／スチレン／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：４８／６／４／２５／１７、Ｉ／Ｏ値：０．５５、酸価：６２．３ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸グリシジル／４−ビニル安息香酸共重合体（モル比：４０／１５／３０／１５、Ｉ／Ｏ値：０．４７、酸価：４８．８ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸グリシジル／４−ヒドロキシスチレン共重合体（モル比：４５／５／３０／２０、Ｉ／Ｏ値：０．４７、酸価：６９．５ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸グリシジル／４−ヒドロキシ安息香酸（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エステル共重合体（モル比：４５／１０／３０／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５７、酸価：４４．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）
【０１０７】
メタクリル酸１−ブチルオキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：４５／１０／３０／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５３、酸価：５２．１ｍｇＫＯＨ／ｇ）
アクリル酸１−ブチルオキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：４５／１０／３０／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５６、酸価：５４．３ｍｇＫＯＨ／ｇ）
４−（１−エトキシエトキシ）スチレン／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：４５／１０／３０／１５、Ｉ／Ｏ値：０．４２、酸価：５１．３ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４５／１０／３０／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５３、酸価：５１．０ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４５／１０／３０／１５、Ｉ／Ｏ値：０．４６、酸価：４７．４ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／４−ビニルベンジルグリシジルエーテル／メタクリル酸共重合体（モル比：４５／１０／３０／１５、Ｉ／Ｏ値：０．４６、酸価：５１．６ｍｇＫＯＨ／ｇ）メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／４−ビニルベンジルグリシジルエーテル／メタクリル酸共重合体（モル比：４５／５／３０／２０、Ｉ／Ｏ値：０．４３、酸価：６６．４ｍｇＫＯＨ／ｇ）
【０１０８】
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：５０／３５／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５６、酸価：５３．８ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１０／３５／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５５、酸価：５４．３ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１０／３５／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５６、酸価：５３．４ｍｇＫＯＨ／ｇ）メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸メチル／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１０／３５／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５７、酸価：５５．９ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：３０／２０／３０／２０、Ｉ／Ｏ値：０．５３、酸価：６８．４ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸シクロヘキシル／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１０／３５／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５４、酸価：５３．４ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸ベンジル／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１０／３５／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５４、酸価：５３．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸２−エチルヘキシル／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１０／３５／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５２、酸価：５２．４ｍｇＫＯＨ／ｇ）
【０１０９】
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸２−エチルヘキシル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１０／１０／２５／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５０、酸価：５１．３ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／スチレン／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１０／３５／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５２、酸価：５５．７ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／スチレン／Ｎ―シクロヘキシルマレイミド／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１０／５／３０／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５６、酸価：５５．８ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／４−ビニル安息香酸共重合体（モル比：４０／１０／３５／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５０、酸価：４８．９ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／４−ヒドロキシスチレン共重合体（モル比：４５／５／３５／１５、Ｉ／Ｏ値：０．４８、酸価：５１．１ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−エトキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／４−ヒドロキシ安息香酸（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エステル共重合体（モル比：４５／１０／３０／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５９、酸価：４４．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：５０／３５／１５、Ｉ／Ｏ値：０．４７、酸価：４９．４ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１０／３５／１５、Ｉ／Ｏ値：０．４８、酸価：５０．７ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１０／３５／１５、Ｉ／Ｏ値：０．４９、酸価：４９．８ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸メチル／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１０／３０／２０、Ｉ／Ｏ値：０．５３、酸価：７１．５ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１０／３０／２０、Ｉ／Ｏ値：０．４９、酸価：６６．４ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸シクロヘキシル／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１０／３０／２０、Ｉ／Ｏ値：０．５１、酸価：６８．５ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸ベンジル／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１０／３０／２０、Ｉ／Ｏ値：０．５０、酸価：６８．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸２−エチルヘキシル／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１０／３０／２０、Ｉ／Ｏ値：０．４９、酸価：６７．３ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸２−エチルヘキシル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／５／５／３０／２０、Ｉ／Ｏ値：０．４９、酸価：６６．８ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／スチレン／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４５／５／３０／２０、Ｉ／Ｏ値：０．５０、酸価：６９．５ｍｇＫＯＨ／ｇ）
【０１１０】
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／スチレン／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／５／５／３０／２０、Ｉ／Ｏ値：０．５４、酸価：６９．６ｍｇＫＯＨ／ｇ）メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／４−ビニル安息香酸共重合体（モル比：４０／１０／３０／２０、Ｉ／Ｏ値：０．４６、酸価：６１．９ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／４−ヒドロキシスチレン共重合体（モル比：４５／５／３０／２０、Ｉ／Ｏ値：０．４２、酸価：６４．４ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／４−ヒドロキシ安息香酸（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エステル共重合体（モル比：４５／５／３０／２０、Ｉ／Ｏ値：０．５８、酸価：５４．４ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸１−ブチルオキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４５／５／３０／２０、Ｉ／Ｏ値：０．５３、酸価：６７．１ｍｇＫＯＨ／ｇ）
アクリル酸１−ブチルオキシエチル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４５／５／３０／２０、Ｉ／Ｏ値：０．５５、酸価：６９．７ｍｇＫＯＨ／ｇ）
４−（１−エトキシエトキシ）スチレン／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４５／５／３０／２０、Ｉ／Ｏ値：０．４２、酸価：６６．０ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−フラン−２−イル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル／メタクリル酸共重合体（モル比：４０／１５／３０／１５、Ｉ／Ｏ値：０．５４、酸価：５１．４ｍｇＫＯＨ／ｇ）
メタクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−フラン−２−イル／メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体（モル比：３５／１５／３０／２０、Ｉ／Ｏ値：０．５８、酸価：５４．６ｍｇＫＯＨ／ｇ）
【０１１１】
また、特定樹脂としては、不飽和多価カルボン酸無水物類を共重合させた前駆共重合体中の酸無水物基に、ビニルエーテル化合物またはビニルチオエーテル化合物を、酸触媒の不存在下、室温〜１００℃程度の温度で付加させることにより得られる共重合体も好ましい。
このような特定樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル酸グリシジル／無水マレイン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にエチルビニルエーテルを酸無水物基に対して１倍モル付加させた共重合体、（メタ）アクリル酸グリシジル／無水マレイン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にイソブチルビニルエーテルを酸無水物基に対して１倍モル付加させた共重合体、が挙げられる。
特定樹脂は、１種単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【０１１２】
本発明の感光性樹脂組成物中の特定樹脂の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、２０〜９９質量％であることが好ましく、４０〜９７質量％であることがより好ましく、６０〜９５質量％であることが更に好ましい。含有量がこの範囲であると、現像した際のパターン形成性が良好となる。なお、感光性樹脂組成物の固形分量とは、溶剤などの揮発性成分を除いた量を表す。
なお、本発明の感光性樹脂組成物中では、本発明の効果を妨げない範囲で特定樹脂以外の樹脂を併用してもよい。ただし、特定樹脂以外の樹脂の含有量は、現像性の観点から特定樹脂の含有量より少ない方が好ましい。
【０１１３】
（Ｂ）感放射線酸発生剤
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｂ）感放射線酸発生剤（以下、適宜「酸発生剤」と称する。）を含有する。
本発明で使用される（Ｂ）酸発生剤としては、波長３００ｎｍ以上、好ましくは波長３００〜４５０ｎｍの活性光線に感応し、酸を発生する化合物が好ましいが、その化学構造に制限されるものではない。また、波長３００ｎｍ以上の活性光線に直接感応しない酸発生剤についても、後述する増感剤と併用することによって波長３００ｎｍ以上の活性光線に感応し、酸を発生する化合物であれば、増感剤と組み合わせて好ましく用いることができる。
本発明で使用される酸発生剤としては、ｐＫａが４以下の酸を発生する酸発生剤が好ましく、ｐＫａが３以下の酸を発生する酸発生剤がより好ましい。
酸発生剤の例として、トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類、スルホニウム塩やヨードニウム塩、第四級アンモニウム塩類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、及び、オキシムスルホネート化合物などを挙げることができる。これらの中でも、高感度である観点から、オキシムスルホネート化合物を用いることが好ましい。これら酸発生剤は、１種単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【０１１４】
これらの具体例としては、以下が例示できる。
トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類として、２−（３−クロロフェニル）−ビス（４，６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−ビス（４，６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メチルチオフェニル）−ビス（４，６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−β−スチリル）−ビス（４，６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−ビス（４，６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−ビス（４，６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−ビス（４，６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル］−ビス（４，６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、又は、２−（４−メトキシナフチル）−ビス（４，６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等。
【０１１５】
ジアリールヨードニウム塩類として、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、フェニル−４−（２’−ヒドロキシ−１’−テトラデカオキシ）フェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−（２’−ヒドロキシ−１’−テトラデカオキシ）フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、又は、フェニル−４−（２’−ヒドロキシ−１’−テトラデカオキシ）フェニルヨードニウムｐ−トルエンスルホナート等。
【０１１６】
トリアリールスルホニウム塩類として、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、又は、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート等。
【０１１７】
第四級アンモニウム塩類として、テトラメチルアンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート等。
【０１１８】
ジアゾメタン誘導体として、ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｔ-ブチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ-トルエンスルホニル）ジアゾメタン等；
【０１１９】
イミドスルホネート誘導体として、トリフルオロメチルスルホニルオキシビシクロ［2.2.1］−ヘプト−５−エン−ジカルボキシイミド、スクシンイミドトリフルオロメチルスルホネート、フタルイミドトリフルオロメチルスルホネート、Ｎ-ヒドロキシナフタルイミドメタンスルホネート、Ｎ-ヒドロキシ-5-ノルボルネン-2,3-ジカルボキシイミドプロパンスルホネート等。
【０１２０】
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｂ）酸発生剤として下記構造（１）で表されるオキシムスルホネート基の少なくとも１つを有するオキシムスルホネート化合物を含むことが好ましい。
【０１２１】
【化１８】
0005623897.tif 000019
【０１２２】
上記構造（１）で表されるオキシムスルホネート基の少なくとも１つを有するオキシムスルホネート化合物は、下記一般式（２）で表される化合物であることが好ましい。
Ｒ１Ａ−Ｃ（Ｒ２Ａ）＝Ｎ−Ｏ−ＳＯ２−Ｒ３Ａ    （２）
【０１２３】
一般式（２）中、Ｒ１Ａは、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン化アルキル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、２−フリル基、２−チエニル基、炭素原子数１〜４のアルコキシ基又はシアノ基を表し、Ｒ１Ａが、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基又はアントラニル基である場合、これらの基は、ハロゲン原子、水酸基、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のアルコキシ基及びニトロ基からなる群から選ばれた置換基によって置換されていてもよい。Ｒ２Ａは、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数１〜５のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜５のハロゲン化アルコキシ基、Ｗで置換されていてもよいフェニル基、Ｗで置換されていてもよいナフチル基又はＷで置換されていてもよいアントラニル基、ジアルキルアミノ基、モルホリノ基、又はシアノ基を表す。Ｒ２ＡとＲ１Ａとは互いに結合して５員環又は６員環を形成してもよく、該５員環又は６員環は１個又は２個の任意の置換基を有してもよいベンゼン環と結合していてもよい。Ｒ３Ａは、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数１〜５のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜５のハロゲン化アルコキシ基、Ｗで置換されていてもよいフェニル基、Ｗで置換されていてもよいナフチル基又はＷで置換されていてもよいアントラニル基を表す。Ｗは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数１〜５のハロゲン化アルキル基又は炭素原子数１〜５のハロゲン化アルコキシ基を表す。
【０１２４】
Ｒ１Ａで表される炭素原子数１〜６のアルキル基は、直鎖又は分岐鎖アルキル基であってよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソアミル基、ｎ−ヘキシル基、又は２−エチルブチル基が挙げられる。
【０１２５】
Ｒ１Ａで表される炭素原子数１〜４のハロゲン化アルキル基としては、例えば、クロロメチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、又は２−ブロモプロピル基が挙げられる。
【０１２６】
Ｒ１Ａで表される炭素原子数１〜４のアルコキシ基としては、メトキシ基又はエトキシ基が挙げられる。
【０１２７】
Ｒ１Ａが、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基又はアントラニル基を表す場合、これらの基は、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、等）、水酸基、炭素原子数１〜４のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基）、炭素原子数１〜４のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基）及びニトロ基からなる群から選ばれた置換基によって置換されていてもよい。
【０１２８】
Ｒ２Ａで表される炭素原子数１〜１０のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｉ−アミル基、ｓ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。
【０１２９】
Ｒ２Ａで表される炭素原子数１〜１０のアルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｎ−アミルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基等が挙げられる。
【０１３０】
Ｒ２Ａで表される炭素原子数１〜５のハロゲン化アルキル基の具体例としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロ−ｎ−プロピル基、パーフルオロ−ｎ−ブチル基、パーフルオロ−ｎ−アミル基等が挙げられる。
【０１３１】
Ｒ２Ａで表される炭素原子数１〜５のハロゲン化アルコキシ基の具体例としては、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオロ−ｎ−プロポキシ基、パーフルオロ−ｎ−ブトキシ基、パーフルオロ−ｎ−アミルオキシ基等が挙げられる。
【０１３２】
Ｒ２Ａで表されるＷで置換されていてもよいフェニル基の具体例としては、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、ｏ−エチルフェニル基、ｍ−エチルフェニル基、ｐ−エチルフェニル基、ｐ−（ｎ−プロピル）フェニル基、ｐ−（ｉ−プロピル）フェニル基、ｐ−（ｎ−ブチル）フェニル基、ｐ−（ｉ−ブチル）フェニル基、ｐ−（ｓ−ブチル）フェニル基、ｐ−（ｔ−ブチル）フェニル基、ｐ−（ｎ−アミル）フェニル基、ｐ−（ｉ−アミル）フェニル基、ｐ−（t−アミル）フェニル基、ｏ−メトキシフェニル基、ｍ−メトキシフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｏ−エトキシフェニル基、ｍ−エトキシフェニル基、ｐ−エトキシフェニル基、ｐ−（ｎ−プロポキシ）フェニル基、ｐ−（ｉ−プロポキシ）フェニル基、ｐ−（ｎ−ブトキシ）フェニル基、ｐ−（ｉ−ブトキシ）フェニル基、ｐ−（ｓ−ブトキシ）フェニル基、ｐ−（ｔ−ブトキシ）フェニル基、ｐ−（ｎ−アミルオキシ）フェニル基、ｐ−（ｉ−アミルオキシ）フェニル基、ｐ−（t−アミルオキシ）フェニル基、ｐ−クロルフェニル基、ｐ−ブロモフェニル基、ｐ−フルオロフェニル基、２，４−ジクロルフェニル基、２，４−ジブロモフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，４，６−ジクロルフェニル基、２，４，６−トリブロモフェニル基、２，４，６−トリフルオロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、ペンタブロモフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、ｐ−ビフェニリル基等が挙げられる。 
【０１３３】
Ｒ２Ａで表されるＷで置換されていてもよいナフチル基の具体例としては、２−メチル−１−ナフチル基、３−メチル−１−ナフチル基、４−メチル−１−ナフチル基、５−メチル−１−ナフチル基、６−メチル−１−ナフチル基、７−メチル−１−ナフチル基、８−メチル−１−ナフチル基、１−メチル−２−ナフチル基、３−メチル−２−ナフチル基、４−メチル−２−ナフチル基、５−メチル−２−ナフチル基、６−メチル−２−ナフチル基、７−メチル−２−ナフチル基、８−メチル−２−ナフチル基等が挙げられる。
【０１３４】
Ｒ２Ａで表されるＷで置換されていてもよいアントラニル基の具体例としては、２−メチル−１−アントラニル基、３−メチル−１−アントラニル基、４−メチル−１−アントラニル基、５−メチル−１−アントラニル基、６−メチル−１−アントラニル基、７−メチル−１−アントラニル基、８−メチル−１−アントラニル基、９−メチル−１−アントラニル基、１０−メチル−１−アントラニル基、１−メチル−２−アントラニル基、３−メチル−２−アントラニル基、４−メチル−２−アントラニル基、５−メチル−２−アントラニル基、６−メチル−２−アントラニル基、７−メチル−２−アントラニル基、８−メチル−２−アントラニル基、９−メチル−２−アントラニル基、１０−メチル−２−アントラニル基等が挙げられる。
【０１３５】
Ｒ２Ａで表されるジアルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジフェニルアミノ基等が挙げられる。
【０１３６】
Ｒ３Ａで表される炭素原子数１〜１０のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｉ−アミル基、ｓ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。
【０１３７】
Ｒ３Ａで表される炭素原子数１〜１０のアルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｎ−アミルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基等が挙げられる。
【０１３８】
Ｒ３Ａで表される炭素原子数１〜５のハロゲン化アルキル基の具体例としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロ−ｎ−プロピル基、パーフルオロ−ｎ−ブチル基、パーフルオロ−ｎ−アミル基等が挙げられる。
【０１３９】
Ｒ３Ａで表される炭素原子数１〜５のハロゲン化アルコキシ基の具体例としては、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオロ−ｎ−プロポキシ基、パーフルオロ−ｎ−ブトキシ基、パーフルオロ−ｎ−アミルオキシ基等が挙げられる。
【０１４０】
Ｒ３Ａで表されるＷで置換されていてもよいフェニル基の具体例としては、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、ｏ−エチルフェニル基、ｍ−エチルフェニル基、ｐ−エチルフェニル基、ｐ−（ｎ−プロピル）フェニル基、ｐ−（ｉ−プロピル）フェニル基、ｐ−（ｎ−ブチル）フェニル基、ｐ−（ｉ−ブチル）フェニル基、ｐ−（ｓ−ブチル）フェニル基、ｐ−（ｔ−ブチル）フェニル基、ｐ−（ｎ−アミル）フェニル基、ｐ−（ｉ−アミル）フェニル基、ｐ−（t−アミル）フェニル基、ｏ−メトキシフェニル基、ｍ−メトキシフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｏ−エトキシフェニル基、ｍ−エトキシフェニル基、ｐ−エトキシフェニル基、ｐ−（ｎ−プロポキシ）フェニル基、ｐ−（ｉ−プロポキシ）フェニル基、ｐ−（ｎ−ブトキシ）フェニル基、ｐ−（ｉ−ブトキシ）フェニル基、ｐ−（ｓ−ブトキシ）フェニル基、ｐ−（ｔ−ブトキシ）フェニル基、ｐ−（ｎ−アミルオキシ）フェニル基、ｐ−（ｉ−アミルオキシ）フェニル基、ｐ−（t−アミルオキシ）フェニル基、ｐ−クロルフェニル基、ｐ−ブロモフェニル基、ｐ−フルオロフェニル基、２，４−ジクロルフェニル基、２，４−ジブロモフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，４，６−ジクロルフェニル基、２，４，６−トリブロモフェニル基、２，４，６−トリフルオロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、ペンタブロモフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、ｐ−ビフェニリル基等が挙げられる。
【０１４１】
Ｒ３Ａで表されるＷで置換されていてもよいナフチル基の具体例としては、２−メチル−１−ナフチル基、３−メチル−１−ナフチル基、４−メチル−１−ナフチル基、５−メチル−１−ナフチル基、６−メチル−１−ナフチル基、７−メチル−１−ナフチル基、８−メチル−１−ナフチル基、１−メチル−２−ナフチル基、３−メチル−２−ナフチル基、４−メチル−２−ナフチル基、５−メチル−２−ナフチル基、６−メチル−２−ナフチル基、７−メチル−２−ナフチル基、８−メチル−２−ナフチル基等が挙げられる。
【０１４２】
Ｒ３Ａで表されるＷで置換されていてもよいアントラニル基の具体例としては、２−メチル−１−アントラニル基、３−メチル−１−アントラニル基、４−メチル−１−アントラニル基、５−メチル−１−アントラニル基、６−メチル−１−アントラニル基、７−メチル−１−アントラニル基、８−メチル−１−アントラニル基、９−メチル−１−アントラニル基、１０−メチル−１−アントラニル基、１−メチル−２−アントラニル基、３−メチル−２−アントラニル基、４−メチル−２−アントラニル基、５−メチル−２−アントラニル基、６−メチル−２−アントラニル基、７−メチル−２−アントラニル基、８−メチル−２−アントラニル基、９−メチル−２−アントラニル基、１０−メチル−２−アントラニル基等が挙げられる。
【０１４３】
Ｗで表される炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数１〜５のハロゲン化アルキル基、及び炭素原子数１〜５のハロゲン化アルコキシの具体例としては、Ｒ２Ａ又はＲ３Ａで表される炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数１〜５のハロゲン化アルキル基、及び炭素原子数１〜５のハロゲン化アルコキシ基の具体例として挙げたものと同様のものが挙げられる。
【０１４４】
Ｒ２ＡとＲ１Ａとは互いに結合して５員環又は６員環を形成してもよい。
Ｒ２ＡとＲ１Ａとが互いに結合して５員環又は６員環を形成する場合、該５員環又は６員環としては、炭素環式基及び複素環式環基が挙げられ、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、ピロール、フラン、チオフェン、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、ピラン、ピリジン、ピラジン、モルホリン、ピペリジン又はピペラジン環であってよい。該５員環又は６員環は、任意の置換基を有してもよいベンゼン環と結合していてもよく、その例としては、テトラヒドロナフタレン、ジヒドロアントラセン、インデン、クロマン、フルオレン、キサンテン又はチオキサンテン環系が挙げられる。該５員環又は６員環は、カルボニル基を含んでもよく、その例としては、シクロヘキサジエノン、ナフタレノン及びアントロン環系が挙げられる。
【０１４５】
一般式（２）で表される化合物の好適な態様の一つは、下記一般式（２−１）で表される化合物である。該一般式（２−１）で表される化合物は、一般式（２）におけるＲ２ＡとＲ１Ａとが結合して５員環を形成している化合物である。
【０１４６】
【化１９】
0005623897.tif 000020
【０１４７】
一般式（２−１）中、Ｒ３Ａは、一般式（２）におけるＲ３Ａと同義であり、Ｘは、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表し、ｔは、０〜３の整数を表し、ｔが２又は３であるとき、複数のＸは同一でも異なっていてもよい。
【０１４８】
Ｘで表されるアルキル基としては、炭素原子数１〜４の、直鎖状又は分岐状アルキル基が好ましい。
Ｘで表されるアルコキシ基としては、炭素原子数１〜４の直鎖状又は分岐状アルコキシ基が好ましい。
Ｘで表されるハロゲン原子としては、塩素原子又はフッ素原子が好ましい。
ｔとしては、０又は１が好ましい。
【０１４９】
一般式（２−１）中、ｔが１であり、Ｘがメチル基であり、Ｘの置換位置がオルト位であり、Ｒ３Ａが炭素原子数１〜１０の直鎖状アルキル基、７，７−ジメチル−２−オキソノルボルニルメチル基、又は、ｐ−トルイル基である化合物が特に好ましい。
【０１５０】
一般式（２−１）で表されるオキシムスルホネート化合物の具体例としては、下記化合物（ｉ）、化合物（ｉｉ）、化合物（ｉｉｉ）、化合物（ｉｖ）等が挙げられ、これらの化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種類以上を併用することもできる。化合物（ｉ）〜（ｉｖ）は、市販品として、入手することができる。
また、他の種類の特定の酸発生剤と組み合わせて使用することもできる。
【０１５１】
【化２０】
0005623897.tif 000021
【０１５２】
一般式（２）で表される酸発生剤の好ましい態様の一つとしては、
Ｒ１Ａが、炭素原子数１〜４のアルキル基、トリフルオロメチル基、フェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェニル基、４−ビフェニル基、ナフチル基又はアントラニル基を表し；
Ｒ２Ａが、シアノ基を表し；
Ｒ３Ａが、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数１〜５のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜５のハロゲン化アルコキシ基、Ｗで置換されていてもよいフェニル基、Ｗで置換されていてもよいナフチル基又はＷで置換されていてもよいアントラニル基を表し、Ｗは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基基、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数１〜５のハロゲン化アルキル基又は炭素原子数１〜５のハロゲン化アルコキシ基を表すものである。
【０１５３】
一般式（２）で表される化合物としては、下記一般式（２−２）で表される化合物であることが好ましい。
【０１５４】
【化２１】
0005623897.tif 000022
【０１５５】
一般式（２−２）中、Ｒ４Ａは、ハロゲン原子、水酸基、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基を表し、ｌは０〜５の整数を表す。Ｒ３Ａは、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数１〜５のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜５のハロゲン化アルコキシ基、Ｗで置換されていてもよいフェニル基、Ｗで置換されていてもよいナフチル基又はＷで置換されていてもよいアントラニル基を表し、Ｗは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数１〜５のハロゲン化アルキル基又は炭素原子数１〜５のハロゲン化アルコキシ基を表す。
【０１５６】
一般式（２−２）におけるＲ３Ａとしては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロ−ｎ−プロピル基、パーフルオロ−ｎ−ブチル基、ｐ−トリル基、４−クロロフェニル基又はペンタフルオロフェニル基が好ましく、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基又はｐ−トリル基であることが特に好ましい。
Ｒ４Ａで表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子が好ましい。
Ｒ４Ａで表される炭素原子数１〜４のアルキル基としては、メチル基又はエチル基が好ましい。
Ｒ４Ａで表される炭素原子数１〜４のアルコキシ基としては、メトキシ基又はエトキシ基が好ましい。
ｌとしては、０〜２が好ましく、０〜１が特に好ましい。
【０１５７】
一般式（２）で表される酸発生剤のうち、一般式（２−２）で表される酸発生剤に包含される化合物の好ましい態様としては、一般式（２）中、Ｒ１Ａが、フェニル基又は４−メトキシフェニル基を表し、Ｒ２Ａがシアノ基を表し、Ｒ３Ａが、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基又は４−トリル基を表す態様である。
【０１５８】
以下、一般式（２）で表される酸発生剤のうち、一般式（２−２）で表される酸発生剤に包含される化合物の特に好ましい例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１５９】
α−（メチルスルホニルオキシイミノ）ベンジル  シアニド（Ｒ１Ａ＝フェニル基、Ｒ２Ａ＝−ＣＮ基、Ｒ３Ａ＝メチル基）
α−（エチルスルホニルオキシイミノ）ベンジル  シアニド（Ｒ１Ａ＝フェニル基、Ｒ２Ａ＝−ＣＮ基、Ｒ３Ａ＝エチル基）
α−（ｎ−プロピルスルホニルオキシイミノ）ベンジル  シアニド（Ｒ１Ａ＝フェニル基、Ｒ２Ａ＝−ＣＮ基、Ｒ３Ａ＝ｎ−プロピル基）
α−（ｎ−ブチルスルホニルオキシイミノ）ベンジル  シアニド（Ｒ１Ａ＝フェニル基、Ｒ２Ａ＝−ＣＮ基、Ｒ３Ａ＝ｎ−ブチル基）
α−（４−トルエンスルホニルオキシイミノ）ベンジル  シアニド（Ｒ１Ａ＝フェニル基、Ｒ２Ａ＝−ＣＮ基、Ｒ３Ａ＝４−トリル基）
α−〔（メチルスルホニルオキシイミノ）−４−メトキシフェニル〕アセトニトリル（Ｒ１Ａ＝４−メトキシフェニル基、Ｒ２Ａ＝−ＣＮ基、Ｒ３Ａ＝メチル基）
α−〔（エチルスルホニルオキシイミノ）−４−メトキシフェニル〕アセトニトリル（Ｒ１Ａ＝４−メトキシフェニル基、Ｒ２Ａ＝−ＣＮ基、Ｒ３Ａ＝エチル基）
α−〔（ｎ−プロピルスルホニルオキシイミノ）−４−メトキシフェニル〕アセトニトリル（Ｒ１Ａ＝４−メトキシフェニル基、Ｒ２Ａ＝−ＣＮ基、Ｒ３Ａ＝ｎ−プロピル基）
α−〔（ｎ−ブチルスルホニルオキシイミノ）−４−メトキシフェニル〕アセトニトリル（Ｒ１Ａ＝４−メトキシフェニル基、Ｒ２Ａ＝−ＣＮ基、Ｒ３Ａ＝ｎ−ブチル基）
α−〔（４−トルエンスルホニルオキシイミノ）−４−メトキシフェニル〕アセトニトリル（Ｒ１Ａ＝４−メトキシフェニル基、Ｒ２Ａ＝−ＣＮ基、Ｒ３Ａ＝４−トリル基）
【０１６０】
前記構造（１）で表されるオキシムスルホネート基を少なくとも１つを有するオキシムスルホネート化合物の好適な他の態様としては、下記一般式（ＯＳ−３）、一般式（ＯＳ−４）、及び、一般式（ＯＳ−５）で表される化合物から選択された少なくとも１種の化合物が挙げられる。
【０１６１】
【化２２】
0005623897.tif 000023
【０１６２】
一般式（ＯＳ−３）〜一般式（ＯＳ−５）中、Ｒ１はアルキル基、アリール基、又はヘテロアリール基を表し、複数存在するＲ２はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、又はハロゲン原子を表し、複数存在するＲ６はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基、又はアルコキシスルホニル基を表し、ＸはＯ又はＳを表し、ｎは１又は２を表し、ｍは０〜６の整数を表す。
【０１６３】
前記一般式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ１で表されるアルキル基、アリール基、又はヘテロアリール基は、置換基を有していてもよい。
前記一般式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ１で表されるアルキル基としては、置換基を有していてもよい総炭素数１〜３０のアルキル基であることが好ましい。
Ｒ１で表されるアルキル基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、及びアミノカルボニル基が挙げられる。
【０１６４】
Ｒ１で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロヘキシル基、ベンジル基、フェノキシエチル基、メチルチオエチル基、フェニルチオエチル基、エトキシカルボニルエチル基、フェノキシカルボニルエチル基、及びジメチルアミノカルボニルエチル基などが挙げられる。
これらの中でも、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロヘキシル基、及びベンジル基が好ましい。
【０１６５】
また、前記一般式（ＯＳ−３）〜一般式（ＯＳ−５）中、Ｒ１で表されるアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数６〜３０のアリール基が好ましい。
Ｒ１で表されるアリール基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、スルホン酸基、アミノスルホニル基、及びアルコキシスルホニル基が挙げられる。
【０１６６】
Ｒ１で表されるアリール基としては、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、ｏ−メトキシフェニル基、ｐ−フェノキシフェニル基、ｐ−メチルチオフェニル基、ｐ−フェニルチオフェニル基、ｐ−エトキシカルボニルフェニル基、ｐ−フェノキシカルボニルフェニル基、及びｐ−ジメチルアミノカルボニルフェニル基などが挙げられる。
これらの中でも、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、ｏ−メトキシフェニル基、及びｐ−フェノキシフェニル基が好ましい。
【０１６７】
また、前記一般式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ1で表されるヘテロアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数４〜３０のヘテロアリール基が好ましい。
Ｒ1で表されるヘテロアリール基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、スルホン酸基、アミノスルホニル基、アルコキシスルホニル基が挙げられる。
【０１６８】
前記一般式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ１で表されるヘテロアリール基は、少なくとも１つの複素芳香環であればよく、例えば、複素芳香環とベンゼン環とが縮環していてもよい。
Ｒ１で表されるヘテロアリール基としては、置換基を有していてもよい、チオフェン環、ピロール環、チアゾール環、イミダゾール環、フラン環、ベンゾチオフェン環、ベンゾチアゾール環、及び、ベンゾイミダゾール環よりなる群から選ばれた環から１つの水素原子を除いた基が挙げられる。
【０１６９】
前記一般式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ２は、水素原子、アルキル基又はアリール基であることが好ましく、水素原子又はアルキル基であることがより好ましい。
前記一般式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、化合物中に複数存在するＲ２のうち、１つ又は２つがアルキル基、アリール基、又はハロゲン原子であることが好ましく、１つがアルキル基、アリール基、又はハロゲン原子であることがより好ましく、１つがアルキル基であり、かつ残りが水素原子であることが特に好ましい。
前記一般式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ２で表されるアルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよい。
Ｒ２で表されるアルキル基又はアリール基が有していてもよい置換基としては、前記Ｒ１におけるアルキル基又はアリール基が有していてもよい置換基と同様の基が例示できる。
【０１７０】
Ｒ２で表されるアルキル基としては、置換基を有してもよい総炭素数１〜１２のアルキル基であることが好ましく、置換基を有してもよい総炭素数１〜６のアルキル基であることがより好ましい。
Ｒ２で表されるアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、アリル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、パーフルオロヘキシル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、メトキシメチル基、ベンジル基、フェノキシエチル基、メチルチオエチル基、フェニルチオエチル基、エトキシカルボニルエチル基、フェノキシカルボニルエチル基、ジメチルアミノカルボニルエチル基などが挙げられる。
これらの中でも、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、アリル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、メトキシメチル基、ベンジル基が好ましく、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基がより好ましく、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。
【０１７１】
Ｒ２で表されるアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数６〜３０のアリール基であることが好ましい。
Ｒ２で表されるアリール基としては具体的には、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ｏ−クロロフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｏ−メトキシフェニル基、ｐ−フェノキシフェニル基、ｐ−メチルチオフェニル基、ｐ−フェニルチオフェニル基、ｐ−エトキシカルボニルフェニル基、ｐ−フェノキシカルボニルフェニル基、ｐ−ジメチルアミノカルボニルフェニル基などが挙げられる。
これらの中でも、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ｏ−クロロフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｏ−メトキシフェニル基、ｐ−フェノキシフェニル基が好ましい。
Ｒ２におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
これらの中でも、塩素原子、臭素原子が好ましい。
【０１７２】
前記一般式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、ＸはＯ又はＳを表し、Ｏであることが好ましい。
一般式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）において、Ｘを環員として含む環は、５員環又は６員環である。
前記一般式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、ｎは１又は２を表し、ＸがＯである場合、ｎは１であることが好ましく、また、ＸがＳである場合、ｎは２であることが好ましい。
【０１７３】
前記一般式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ６で表されるアルキル基及びアルキルオキシ基は、置換基を有していてもよい。
前記式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ６で表されるアルキル基としては、置換基を有していてもよい総炭素数１〜３０のアルキル基であることが好ましい。
Ｒ６で表されるアルキル基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基などが挙げられる。
【０１７４】
Ｒ６で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロヘキシル基、ベンジル基、フェノキシエチル基、メチルチオエチル基、フェニルチオエチル基、エトキシカルボニルエチル基、フェノキシカルボニルエチル基、ジメチルアミノカルボニルエチル基などが挙げられる。
これらの中でも、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロヘキシル基、ベンジル基が好ましい。
【０１７５】
前記一般式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ６で表されるアルキルオキシ基としては、置換基を有してもよい総炭素数１〜３０のアルキルオキシ基であることが好ましい。
Ｒ６におけるアルキルオキシ基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基が挙げられる。
【０１７６】
Ｒ６で表されるアルキルオキシ基としては、メチルオキシ基、エチルオキシ基、ブチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、フェノキシエチルオキシ基、トリクロロメチルオキシ基、エトキシエチルオキシ基、メチルチオエチルオキシ基、フェニルチオエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ基、フェノキシカルボニルエチルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルエチルオキシ基などが挙げられる。
これらの中でも、メチルオキシ基、エチルオキシ基、ブチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、フェノキシエチルオキシ基、トリクロロメチルオキシ基、又は、エトキシエチルオキシ基が好ましい。
前記一般式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ６で表されるアミノスルホニル基としては、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、メチルフェニルアミノスルホニル基、アミノスルホニル基が挙げられる。
前記一般式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ６で表されるアルコキシスルホニル基としては、メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基、プロピルオキシスルホニル基、ブチルオキシスルホニル基が挙げられる。
【０１７７】
また、前記一般式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、ｍは０〜６の整数を表し、０〜２の整数であることが好ましく、０又は１であることがより好ましく、０であることが特に好ましい。
【０１７８】
また、前記一般式（ＯＳ−３）で表される化合物は、下記一般式（ＯＳ−６）、（ＯＳ−１０）又は（ＯＳ−１１）で表される化合物であることが特に好ましく、前記一般式（ＯＳ−４）で表される化合物は、下記一般式（ＯＳ−７）で表される化合物であることが特に好ましく、前記一般式（ＯＳ−５）で表される化合物は、下記一般式（ＯＳ−８）又は（ＯＳ−９）で表される化合物であることが特に好ましい。
【０１７９】
【化２３】
0005623897.tif 000024
【０１８０】
一般式（ＯＳ−６）〜（ＯＳ−１１）中、Ｒ1はアルキル基、アリール基、又はヘテロアリール基を表し、Ｒ7は、水素原子、又は臭素原子を表し、Ｒ8は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、ハロゲン原子、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、メトキシメチル基、フェニル基、又はクロロフェニル基を表し、Ｒ9は水素原子、ハロゲン原子、メチル基、又はメトキシ基を表し、Ｒ10は水素原子、又はメチル基を表す。
【０１８１】
一般式（ＯＳ−６）〜（ＯＳ−１１）におけるＲ1は、前記式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）におけるＲ1と同義であり、好ましい態様も同様である。
一般式（ＯＳ−６）におけるＲ7は、水素原子、又は臭素原子を表し、水素原子であることが好ましい。
一般式（ＯＳ−６）〜（ＯＳ−１１）におけるＲ8は、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、ハロゲン原子、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、メトキシメチル基、フェニル基、又はクロロフェニル基を表し、炭素数１〜８のアルキル基、ハロゲン原子、又はフェニル基であることが好ましく、炭素数１〜８のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜６のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
【０１８２】
一般式（ＯＳ−８）及び一般式（ＯＳ−９）におけるＲ9は、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、又はメトキシ基を表し、水素原子であることが好ましい。
一般式（ＯＳ−８）〜（ＯＳ−１１）におけるＲ10は、水素原子又はメチル基を表し、水素原子であることが好ましい。
また、前記オキシムスルホネート化合物において、オキシムの立体構造（Ｅ，Ｚ）については、どちらか一方であっても、混合物であってもよい。
【０１８３】
前記一般式（ＯＳ−３）〜式（ＯＳ−５）で表されるオキシムスルホネート化合物の具体例としては、下記例示化合物が挙げられるが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【０１８４】
【化２４】
0005623897.tif 000025
【０１８５】
【化２５】
0005623897.tif 000026
【０１８６】
【化２６】
0005623897.tif 000027
【０１８７】
【化２７】
0005623897.tif 000028
【０１８８】
【化２８】
0005623897.tif 000029
【０１８９】
【化２９】
0005623897.tif 000030
【０１９０】
【化３０】
0005623897.tif 000031
【０１９１】
前記構造（１）で表されるオキシムスルホネート基を少なくとも１つを有するオキシムスルホネート化合物の好適な他の態様としては、下記一般式（ＯＳ−１）で表される化合物が挙げられる。
【０１９２】
【化３１】
0005623897.tif 000032
一般式（ＯＳ−１）中、Ｒ1は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホ基、シアノ基、アリール基、又は、ヘテロアリール基を表す。Ｒ2は、アルキル基、又は、アリール基を表す。
【０１９３】
一般式（ＯＳ−１）におけるＸは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ5−、−ＣＨ2−、−ＣＲ6Ｈ−、又は−ＣＲ6Ｒ7−を表し、Ｒ5〜Ｒ7はアルキル基、又はアリール基を表す。
Ｒ21〜Ｒ24は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミド基、スルホ基、シアノ基、又はアリール基を表す。Ｒ21〜Ｒ24のうち２つは、それぞれ互いに結合して環を形成してもよい。
Ｒ21〜Ｒ24としては、水素原子、ハロゲン原子、及び、アルキル基が好ましく、また、Ｒ21〜Ｒ24のうち少なくとも２つが互いに結合してアリール基を形成する態様もまた、好ましく挙げられる。中でも、Ｒ21〜Ｒ24がいずれも水素原子である態様が感度の観点から好ましい。
既述の官能基は、いずれも、更に置換基を有していてもよい。
【０１９４】
前記一般式（ＯＳ−１）で表される化合物は、下記一般式（ＯＳ−２）で表される化合物であることがより好ましい。
【０１９５】
【化３２】
0005623897.tif 000033
【０１９６】
前記一般式（ＯＳ−２）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ21〜Ｒ24は、それぞれ独立に一般式（ＯＳ−１）におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ21〜Ｒ24と同義であり、好ましい例もまた同様である。
これらの中でも、一般式（ＯＳ−１）及び一般式（ＯＳ−２）におけるＲ1がシアノ基、又はアリール基である態様がより好ましく、一般式（ＯＳ−２）で表され、Ｒ1がシアノ基、フェニル基、又はナフチル基である態様が最も好ましい。
【０１９７】
また、前記オキシムスルホネート化合物において、オキシムやベンゾチアゾール環の立体構造（Ｅ，Ｚ等）についてはそれぞれ、どちらか一方であっても、混合物であってもよい。
【０１９８】
以下に、本発明に好適に用いうる一般式（ＯＳ−１）で表される化合物の具体例（例示化合物ｂ−１〜ｂ−３４）を示すが、本発明はこれに限定されない。なお、具体例中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｂｎはベンジル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
【０１９９】
【化３３】
0005623897.tif 000034
【０２００】
【化３４】
0005623897.tif 000035
【０２０１】
【化３５】
0005623897.tif 000036
【０２０２】
【化３６】
0005623897.tif 000037
【０２０３】
上記化合物の中でも、感度と安定性との両立の観点から、ｂ−９、ｂ−１６、ｂ−３１、ｂ−３３が好ましい。
【０２０４】
本発明の感光性樹脂組成物は、活性光線に感応する（Ｂ）酸発生剤として１，２−キノンジアジド化合物を含まないことが好ましい。その理由は、１，２−キノンジアジド化合物は、逐次型光化学反応によりカルボキシル基を生成するが、その量子収率は１以下であり、オキシムスルホネート化合物に比べて感度が低いためである。
これに対してオキシムスルホネート化合物は、活性光線に感応して生成する酸が保護された酸性基の脱保護に対して触媒として作用するので、１個の光量子の作用で生成した酸が、多数の脱保護反応に寄与し、量子収率は１を超え、例えば、１０の数乗のような大きい値となり、いわゆる化学増幅の結果として、高感度が得られるものと推測される。
【０２０５】
本発明の感光性樹脂組成物において、（Ｂ）酸発生剤は、特定樹脂１００質量部に対して、０．１〜１０質量部使用することが好ましく、０．５〜１０質量部使用することがより好ましい。
【０２０６】
＜その他の成分＞
本発明の感光性樹脂組成物には、その他の成分を含有することが好ましい。
その他の成分としては、感度の観点から（Ｎ）増感剤、および（Ｍ）現像促進剤をそれぞれ含有することが好ましく、また、塗布性の観点から（Ｃ）溶剤を含有することが好ましく、膜物性の観点から（Ｅ）架橋剤を含有することが好ましい。
更に、本発明の感光性樹脂組成物は、基板密着性の観点から（Ｆ）密着改良剤を含有することが好ましく、液保存安定性の観点から（Ｇ）塩基性化合物を含有することが好ましく、塗布性の観点から（Ｈ）界面活性剤（フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤など）を含有することが好ましい。
さらに、必要に応じて、本発明の感光性樹脂組成物には、（Ｄ）酸化防止剤、（Ｉ）可塑剤、及び、（Ｊ）熱ラジカル発生剤、（Ｋ）熱酸発生剤、（Ｌ）酸増殖剤、紫外線吸収剤、増粘剤、及び、有機又は無機の沈殿防止剤などの、公知の添加剤を加えることができる。
以下、本発明の感光性樹脂組成物に含むことができるその他の成分を説明する。
【０２０７】
＜（Ｎ）増感剤＞
本発明の感光性樹脂組成物において、前述の（Ｂ）酸発生剤との組み合わせにおいて、その分解を促進させるために（Ｎ）増感剤を添加することが好ましい。増感剤は、活性光線または放射線を吸収して電子励起状態となる。電子励起状態となった増感剤は、酸発生剤と接触して、電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用が生じる。これにより酸発生剤は化学変化を起こして分解し、酸を生成する。
好ましい増感剤の例としては、以下の化合物類に属しており、かつ３５０ｎｍから４５０ｎｍ域に吸収波長を有する化合物を挙げることができる。
【０２０８】
多核芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、アントラセン、９,１０−ジブトキシアントラセン、９,１０−ジエトキシアントラセン，３，７−ジメトキシアントラセン、９,１０−ジプロピルオキシアントラセン）、キサンテン類（例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、キサントン類（例えば、キサントン、チオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン）、シアニン類（例えばチアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、ローダシアニン類、オキソノール類、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アクリドン類（例えば、アクリドン、１０−ブチル−２−クロロアクリドン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム）、スチリル類、ベーススチリル類（例えば、２−[２−[４−（ジメチルアミノ）フェニル]エテニル]ベンゾオキサゾール）、クマリン類（例えば、７−ジエチルアミノ４−メチルクマリン、７−ヒドロキシ４−メチルクマリン、２，３，６，７−テトラヒドロ−９−メチル−１Ｈ,５Ｈ,１１Ｈ[ｌ]ベンゾピラノ[６、７、８−ｉｊ ]キノリジン−１１−ノン）。
これら増感剤の中でも、活性光線または放射線を吸収して電子励起状態となり、酸発生剤への電子移動作用を有する増感剤が好ましく、特に多環芳香族類、アクリドン類、クマリン類、ベーススチリル類が好ましく、多環芳香族類がより好ましい。多核芳香族類の中でもアントラセン誘導体が最も好ましい。
【０２０９】
増感剤は、市販のものを用いてもよいし、公知の合成方法により合成してもよい。
増感剤の添加量は、感度、透明性の両立の観点から、（Ｂ）酸発生剤１００質量部に対して、２０〜３００質量部が好ましく、３０〜２００質量部が特に好ましい。
【０２１０】
＜（Ｃ）溶剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｃ）溶剤を含有することが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、必須成分である（Ａ）特定樹脂、及び（Ｂ）酸発生剤、並びに好ましい成分である各種添加剤の任意成分を、（Ｃ）溶剤に溶解した溶液として調製されることが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物に使用される（Ｃ）溶剤としては、公知の溶剤を用いることができ、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エステル類、ケトン類、アミド類、ラクトン類等が例示できる。
【０２１１】
本発明の感光性樹脂組成物に使用される（Ｃ）溶剤としては、例えば、（１）エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類；（２）エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル等のエチレングリコールジアルキルエーテル類；（３）エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；（４）プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；（５）プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等のプロピレングリコールジアルキルエーテル類；
【０２１２】
（６）プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；（７）ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類；（８）ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；（９）ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；（１０）ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルメチルエーテル等のジプロピレングリコールジアルキルエーテル類；
【０２１３】
（１１）ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；（１２）乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ−プロピル、乳酸イソプロピル、乳酸ｎ−ブチル、乳酸イソブチル、乳酸ｎ−アミル、乳酸イソアミル等の乳酸エステル類；（１３）酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ−アミル、酢酸イソアミル、酢酸ｎ−ヘキシル、酢酸２−エチルヘキシル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ｎ−プロピル、プロピオン酸イソプロピル、プロピオン酸ｎ−ブチル、プロピオン酸イソブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸エチル、酪酸ｎ−プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸ｎ−ブチル、酪酸イソブチル等の脂肪族カルボン酸エステル類；（１４）ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチル酪酸エチル、メトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸エチル、３−メトキシプロピオンメチル、３−メトキシプロピオンエチル、３−エトキシプロピオンメチル、３−エトキシプロピオンエチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、３−メチル−３−メトキシブチルブチレート、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル等の他のエステル類；
【０２１４】
（１５）メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチル−ｎ−ブチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、シクロヘキサノン等のケトン類；（１６）Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類；（１７）γ−ブチロラクトン等のラクトン類等を挙げることができる。
また、これらの溶剤に更に必要に応じて、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナール、ベンジルアルコール、アニソール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン等の溶剤を添加することもできる。
上記した溶剤のうち、特に好ましくはジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートである。
本発明に用いることができる溶剤は、１種単独、又は、２種を併用することが好ましく、２種を併用することがより好ましく、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類とジエチレングリコールジアルキルエーテル類とを併用することが更に好ましい。
【０２１５】
本発明の感光性樹脂組成物における（Ｃ）溶剤の含有量は、（Ａ）特定樹脂１００質量部当たり、５０〜３，０００質量部であることが好ましく、１００〜２，０００質量部であることがより好ましく、１５０〜１，５００質量部であることが更に好ましい。
【０２１６】
＜（Ｍ）現像促進剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｍ）現像促進剤を含有することが好ましい。
（Ｍ）現像促進剤としては、現像促進効果のある任意の化合物を使用できるが、カルボキシル基、フェノール性水酸基、およびアルキレンオキシ基の群から選ばれる少なくとも一種の構造を有する化合物であることが好ましく、カルボキシル基またはフェノール性水酸基を有する化合物がより好ましく、フェノール性水酸基を有する化合物が最も好ましい。
また、（Ｍ）現像促進剤の分子量としては、１００〜２０００が好ましく、１５０〜１５００が更に好ましく、最適には１５０〜１０００である。
【０２１７】
現像促進剤の例として、アルキレンオキシ基を有するものとしては、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールのモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールのジメチルエーテル、ポリエチレングリコールグリセリルエステル、ポリプロピレングリコールグリセリルエステル、ポリプロピレングリコールジグリセリルエステル、ポリブチレングリコール、ポリエチレングリコール−ビスフェノールＡエーテル、ポリプロピレングリコール−ビスフェノールＡエーテル、ポリオキシエチレンのアルキルエーテル、ポリオキシエチレンのアルキルエステル、および特開平９−２２２７２４号公報に記載の化合物等を挙げることができる。
カルボキシル基を有するものとしては、特開２０００−６６４０６号公報、特開平９−６００１号公報、特開平１０−２０５０１号公報、特開平１１−３３８１５０号公報等に記載の化合物を挙げることができる。
フェノール性水酸基を有するものとしては、特開２００５−３４６０２４号公報、特開平１０−１３３３６６号公報、特開平９−１９４４１５号公報、特開平９−２２２７２４号公報、特開平１１−１７１８１０号公報、特開２００７−１２１７６６号公報、特開平９−２９７３９６号公報、特開２００３−４３６７９号公報等に記載の化合物を挙げる事ができる。これらの中でも、ベンゼン環数が２〜１０個のフェノール化合物が好適であり、ベンゼン環数が２〜５個のフェノール化合物が更に好適である。特に好ましいものとしては、特開平１０−１３３３６６号公報に溶解促進剤として開示されているフェノール性化合物を挙げることができる。
【０２１８】
（Ｍ）現像促進剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用することも可能である。
本発明の感光性樹脂組成物における（Ｍ）現像促進剤の添加量は、感度と残膜率の観点から、（Ａ）特定樹脂を１００質量部としたとき、０．１〜３０質量部が好ましく、０．２〜２０質量部がより好ましく、０．５〜１０質量部であることが最も好ましい。
【０２１９】
＜（Ｅ）架橋剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、必要に応じ、（Ｅ）架橋剤を含有することが好ましい。（Ｅ）架橋剤を添加することにより、硬化膜をより強固な膜とすることができる。
（Ｅ）架橋剤としては、例えば、以下に述べる分子内に２個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、アルコキシメチル基含有架橋剤、または、少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を添加することができる。
これらの架橋剤の中で、特に好ましいものは、分子内に２個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物である。
【０２２０】
（分子内に２個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物）
分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物の具体例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等を挙げることができる。
【０２２１】
これらは市販品として入手できる。例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ８２７、ＪＥＲ８２８、ＪＥＲ８３４、ＪＥＲ１００１、ＪＥＲ１００２、ＪＥＲ１００３、ＪＥＲ１０５５、ＪＥＲ１００７、ＪＥＲ１００９、ＪＥＲ１０１０（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８６０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５１、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５５（以上、ＤＩＣ（株）製）等であり、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ８０６、ＪＥＲ８０７、ＪＥＲ４００４、ＪＥＲ４００５、ＪＥＲ４００７、ＪＥＲ４０１０（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８３０、ＥＰＩＣＬＯＮ８３５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＬＣＥ−２１、ＲＥ−６０２Ｓ（以上、日本化薬（株）製）等であり、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ１５２、ＪＥＲ１５４、ＪＥＲ１５７Ｓ７０、ＪＥＲ１５７Ｓ６５（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−７７０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−７７５（以上、ＤＩＣ（株）製）等であり、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６６０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６６５、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６７０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６７３、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６８０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６９０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６９５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＥＯＣＮ−１０２０（以上、日本化薬（株）製）等であり、脂肪族エポキシ樹脂としては、ＡＤＥＫＡ  ＲＥＳＩＮ  ＥＰ−４０８０Ｓ、同  ＥＰ−４０８５Ｓ、同  ＥＰ−４０８８Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＰＯＬＥＡＤ  ＰＢ  ３６００、同  ＰＢ  ４７００（以上、ダイセル化学工業（株）製）等である。その他にも、ＡＤＥＫＡ  ＲＥＳＩＮ  ＥＰ−４０００Ｓ、同  ＥＰ−４００３Ｓ、同  ＥＰ−４０１０Ｓ、同  ＥＰ−４０１１Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＮＣ−２０００、ＮＣ−３０００、ＮＣ−７３００、ＸＤ−１０００、ＥＰＰＮ−５０１、ＥＰＰＮ−５０２（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。これらは１種単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０２２２】
これらの中で好ましいものとしては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、およびフェノールノボラック型エポキシ樹脂が挙げられる。特にビスフェノールＡ型エポキシ樹脂が好ましい。
【０２２３】
分子内に２個以上のオキセタニル基を有する化合物の具体例としては、アロンオキセタンＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ（以上、東亞合成（株）製）を用いることができる。
また、オキセタニル基を含む化合物は、単独で又はエポキシ基を含む化合物と混合して使用することができる。
分子内に２個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物の本発明の感光性樹脂組成物への添加量は（Ａ）特定樹脂の総量を１００質量部としたとき、１〜５０質量部が好ましく、３〜３０質量部がより好ましい。
【０２２４】
（アルコキシメチル基含有架橋剤）
アルコキシメチル基含有架橋剤としては、アルコキシメチル化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリル及びアルコキシメチル化尿素等が好ましい。これらは、それぞれメチロール化メラミン、メチロール化ベンゾグアナミン、メチロール化グリコールウリル、又は、メチロール化尿素のメチロール基をアルコキシメチル基に変換することにより得られる。このアルコキシメチル基の種類については特に限定されるものではなく、例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基等を挙げることができるが、アウトガスの発生量の観点から、特にメトキシメチル基が好ましい。
これらの架橋性化合物のうち、アルコキシメチル化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリルが好ましい架橋性化合物として挙げられ、透明性の観点から、アルコキシメチル化グリコールウリルが特に好ましい。
【０２２５】
これらアルコキシメチル基含有架橋剤は、市販品として入手可能であり、例えば、サイメル３００、３０１、３０３、３７０、３２５、３２７、７０１、２６６、２６７、２３８、１１４１、２７２、２０２、１１５６、１１５８、１１２３、１１７０、１１７４、ＵＦＲ６５、３００（以上、三井サイアナミッド（株）製）、ニカラックＭＸ−７５０、−０３２、−７０６、−７０８、−４０、−３１、−２７０、−２８０、−２９０、ニカラックＭＳ−１１、ニカラックＭＷ−３０ＨＭ、−１００ＬＭ、−３９０、（以上、（株）三和ケミカル製）などを好ましく使用することができる。
【０２２６】
本発明の感光性樹脂組成物にアルコキシメチル基含有架橋剤を用いる場合のアルコキシメチル基含有架橋剤の添加量は、（Ａ）特定樹脂１００質量部に対して、０．０５〜５０質量部であることが好ましく、０．５〜１０質量部であることがより好ましい。この範囲で添加することにより、現像時の好ましいアルカリ溶解性と、硬化後の膜の優れた耐溶剤性が得られる。
【０２２７】
（少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物）
少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、単官能（メタ）アクリレート、２官能（メタ）アクリレート、３官能以上の（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリレート化合物を好適に用いることができる。
【０２２８】
単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレートなどが挙げられる。
【０２２９】
２官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、エチレングリコール（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートなどが挙げられる。
【０２３０】
３官能以上の（メタ）アクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイロキシエチル）フォスフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【０２３１】
これらの少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、１種単独又は２種以上を組み合わせて用いられる。
本発明の感光性樹脂組成物における少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の使用割合は、（Ａ）特定樹脂１００質量部に対して、５０質量部以下であることが好ましく、３０質量部以下であることがより好ましい。このような割合で少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有させることにより、本発明の感光性樹脂組成物から得られる硬化膜の耐熱性及び表面硬度等を向上させることができる。少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を加える場合には、後述の（Ｊ）熱ラジカル発生剤を添加することが好ましい。
【０２３２】
＜（Ｆ）密着改良剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｆ）密着改良剤を含有することが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物に用いることができる（Ｆ）密着改良剤は、基板となる無機物、例えば、シリコン、酸化シリコン、窒化シリコン等のシリコン化合物、金、銅、アルミニウム等の金属と絶縁膜との密着性を向上させる化合物である。具体的には、シランカップリング剤、チオール系化合物等が挙げられる。本発明で使用される（Ｆ）密着改良剤としてのシランカップリング剤は、界面の改質を目的とするものであり、特に限定することなく、公知のものを使用することができる。
【０２３３】
好ましいシランカップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリアコキシシラン、γ−グリシドキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシランが挙げられる。
これらのうち、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、およびγ−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシランがより好ましく、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシランが更に好ましい。
【０２３４】
これらは１種単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。これらは基板との密着性の向上に有効であるとともに、基板とのテーパ角の調整にも有効である。
本発明の感光性樹脂組成物における（Ｆ）密着改良剤の含有量は、（Ａ）特定樹脂１００質量部に対して、０．１〜２０質量部が好ましく、０．５〜１０質量部がより好ましい。
【０２３５】
＜（Ｇ）塩基性化合物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｇ）塩基性化合物を含有することが好ましい。
（Ｇ）塩基性化合物としては、化学増幅レジストで用いられるものの中から任意に選択して使用することができる。例えば、脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環式アミン、第四級アンモニウムヒドロキシド、およびカルボン酸の第四級アンモニウム塩等が挙げられる。
【０２３６】
脂肪族アミンとしては、例えば、トリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミンなどが挙げられる。
芳香族アミンとしては、例えば、アニリン、ベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ジフェニルアミンなどが挙げられる。
【０２３７】
複素環式アミンとしては、例えば、ピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、２−エチルピリジン、４−エチルピリジン、２−フェニルピリジン、４−フェニルピリジン、Ｎ−メチル−４−フェニルピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、ベンズイミダゾール、４−メチルイミダゾール、２−フェニルベンズイミダゾール、２，４，５−トリフェニルイミダゾール、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、８−オキシキノリン、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、４−メチルモルホリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，８−ジアザビシクロ［５．３．０］−７−ウンデセンなどが挙げられる。
【０２３８】
第四級アンモニウムヒドロキシドとしては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウムヒドロキシドなどが挙げられる。
【０２３９】
カルボン酸の第四級アンモニウム塩としては、例えば、テトラメチルアンモニウムアセテート、テトラメチルアンモニウムベンゾエート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムアセテート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムベンゾエートなどが挙げられる。
【０２４０】
本発明に用いることができる塩基性化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよいが、２種以上を併用することが好ましく、２種を併用することがより好ましく、複素環式アミンを２種併用することが更に好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物における（Ｇ）塩基性化合物の含有量は、（Ａ）特定樹脂１００質量部に対して、０．００１〜１質量部であることが好ましく、０．００２〜０．２質量部であることがより好ましい。
【０２４１】
＜（Ｈ）界面活性剤（フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤など）＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｈ）界面活性剤（フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤など）を含有することが好ましい。
界面活性剤（フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤など）としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系、又は、両性のいずれでも使用することができるが、好ましい界面活性剤はノニオン系界面活性剤である。
ノニオン系界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレン高級アルキルエーテル類、ポリオキシエチレン高級アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレングリコールの高級脂肪酸ジエステル類、シリコン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤を挙げることができる。
【０２４２】
界面活性剤としては、下記に示す繰り返し単位Ａと繰り返し単位Ｂとを含む共重合体（３）を好ましい例として挙げることができる。該共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は１０００以上１００００以下であり、１５００以上５０００以下が好ましい。重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィで測定されるポリスチレン換算の値である。
【０２４３】
【化３７】
0005623897.tif 000038
【０２４４】
共重合体（３）中、Ｒ２１及びＲ２３はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２２は炭素数１以上４以下の直鎖アルキレン基を表し、Ｒ２４は水素原子又は炭素数１以上４以下のアルキル基を表し、Ｌは炭素数３以上６以下のアルキレン基を表し、ｐ及びｑは重合比を表す質量百分率であり、ｐは１０質量％以上８０質量％以下の数値を表し、ｑは２０質量％以上９０質量％以下の数値を表し、ｒは１以上１８以下の整数を表し、ｎは１以上１０以下の整数を表す。
【０２４５】
繰り返し単位Ｂ中におけるＬは、下記式（４）で表されるアルキレン基であることが好ましい。
【０２４６】
【化３８】
0005623897.tif 000039
【０２４７】
式（４）中、Ｒ２５は炭素数１以上４以下のアルキル基を表し、相溶性と被塗布面に対する濡れ性の点で、炭素数１以上３以下のアルキル基が好ましく、炭素数２又は３のアルキル基がより好ましい。
また、ｐとｑとの和（ｐ＋ｑ）は、ｐ＋ｑ＝１００、すなわち、１００質量％であることが好ましい。
【０２４８】
フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤の例として具体的には、特開昭62-36663号、特開昭61-226746号、特開昭61-226745号、特開昭62-170950号、特開昭63-34540号、特開平7-230165号、特開平8-62834号、特開平9-54432号、特開平9-5988号、特開2001-330953号等の各公報記載の界面活性剤を挙げることができ、市販の界面活性剤を用いることもできる。使用できる市販の界面活性剤として、例えばエフトップEF301、EF303、(以上、新秋田化成(株)製)、フロラードFC430、431(以上、住友スリーエム(株)製)、メガファックF171、F173、F176、F189、R08（以上、ＤＩＣ（株）製）、サーフロンS−382、SC101、102、103、104、105、106（以上、旭硝子（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘシリーズ（ＯＭＮＯＶＡ社製）等のフッ素系界面活性剤又はシリコン系界面活性剤を挙げることができる。また、ポリシロキサンポリマーKP−341（信越化学工業（株）製）もシリコン系界面活性剤として用いることができる。
【０２４９】
界面活性剤は、１種単独で又は２種以上を混合して使用することができる。また、フッ素系界面活性剤とシリコン系界面活性剤とを併用してもよい。
本発明の感光性樹脂組成物における（Ｈ）界面活性剤（フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤など）の合計の添加量は、（Ａ）特定樹脂１００質量部に対して、１０質量部以下であることが好ましく、０．０１〜１０質量部であることがより好ましく、０．０１〜１質量部であることが更に好ましい。
【０２５０】
＜（Ｄ）酸化防止剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｄ）酸化防止剤を含有してもよい。（Ｄ）酸化防止剤としては、公知の酸化防止剤を含有することができる。（Ｄ）酸化防止剤を添加することにより、硬化膜の着色を防止できる、又は、分解による膜厚減少を低減でき、また、耐熱透明性に優れるという利点がある。
このような酸化防止剤としては、例えば、リン系酸化防止剤、ヒドラジド類、ヒンダードアミン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、アスコルビン酸類、硫酸亜鉛、糖類、亜硝酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩、ヒドロキシルアミン誘導体などを挙げることができる。これらの中では、硬化膜の着色、膜厚減少の観点から特にフェノール系酸化防止剤が好ましい。これらは１種単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【０２５１】
フェノール系酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブＡＯ−６０、アデカスタブＡＯ−８０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、イルガノックス１０９８（チバジャパン（株）製）が挙げられる。
【０２５２】
（Ｄ）酸化防止剤の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、０．１〜６質量％であることが好ましく、０．２〜５質量％であることがより好ましく、０．５〜４質量％であることが特に好ましい。この範囲にすることで、形成された膜の十分な透明性が得られ、且つ、パターン形成時の感度も良好となる。
また、酸化防止剤以外の添加剤として、“高分子添加剤の新展開（（株）日刊工業新聞社）”に記載の各種紫外線吸収剤や、金属不活性化剤等を本発明の感光性樹脂組成物に添加してもよい。
【０２５３】
＜（Ｉ）可塑剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｉ）可塑剤を含有してもよい。
（Ｉ）可塑剤としては、例えば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、ポリエチレングリコール、グリセリン、ジメチルグリセリンフタレート、酒石酸ジブチル、アジピン酸ジオクチル、トリアセチルグリセリンなどが挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物における（Ｉ）可塑剤の含有量は、（Ａ）特定樹脂１００質量部に対して、０．１〜３０質量部であることが好ましく、１〜１０質量部であることがより好ましい。
【０２５４】
＜（Ｊ）熱ラジカル発生剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｊ）熱ラジカル発生剤を含んでいてもよく、前述の少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物のようなエチレン性不飽和化合物を含有する場合、（Ｊ）熱ラジカル発生剤を含有することが好ましい。
本発明における熱ラジカル発生剤としては、公知の熱ラジカル発生剤を用いることができる。
熱ラジカル発生剤は、熱のエネルギーによってラジカルを発生し、重合性化合物の重合反応を開始又は促進させる化合物である。熱ラジカル発生剤を添加することによって、得られた硬化膜がより強靭になり、耐熱性、耐溶剤性が向上する場合がある。
好ましい熱ラジカル発生剤としては、芳香族ケトン類、オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、アゾ系化合物、ビベンジル化合物等が挙げられる。
（Ｊ）熱ラジカル発生剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用することも可能である。
本発明の感光性樹脂組成物における（Ｊ）熱ラジカル発生剤の含有量は、膜物性向上の観点から、（Ａ）特定樹脂を１００質量部としたとき、０．０１〜５０質量部が好ましく、０．１〜２０質量部がより好ましく、０．５〜１０質量部であることが最も好ましい。
【０２５５】
＜（Ｋ）熱酸発生剤＞
本発明では、低温硬化での膜物性等を改良するために、（Ｋ）熱酸発生剤を使用しても良い。
本発明の熱酸発生剤とは、熱により酸が発生する化合物であり、通常、熱分解点が１３０℃〜２５０℃、好ましくは１５０℃〜２２０℃の範囲の化合物であり、例えば、加熱によりスルホン酸、カルボン酸、ジスルホニルイミドなどの低求核性の酸を発生する化合物である。
発生酸としてはｐＫａが２以下と強い、スルホン酸や電子吸引基の置換したアルキル〜はアリールカルボン酸、同じく電子吸引基の置換したジスルホニルイミドなどが好ましい。電子吸引基としてはＦ原子などのハロゲン原子、トリフルオロメチル基等のハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基を挙げることができる。
【０２５６】
また、本発明においては露光光の照射によって実質的に酸を発生せず、熱によって酸を発生するスルホン酸エステルを使用することも好ましい。
露光光の照射によって実質的に酸を発生していないことは、化合物の露光前後でのＩＲスペクトル、ＮＭＲスペクトル測定により、スペクトルに変化がないことで判定することができる。
スルホン酸エステルの分子量は、一般的には２３０〜１０００、好ましくは２３０〜８００である。
【０２５７】
本発明で使用可能なスルホン酸エステルは、市販のものを用いてもよいし、公知の方法で合成したものを用いてもよい。スルホン酸エステルは、例えば、塩基性条件下、スルホニルクロリド乃至はスルホン酸無水物を対応する多価アルコールと反応させることにより合成することができる。
スルホン酸エステルの感光性樹脂組成物への含有量は、（Ａ）特定樹脂を１００質量部としたとき、０．５〜２０質量部が好ましく、特に好ましくは１〜１５質量部である。
【０２５８】
＜（Ｌ）酸増殖剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、感度向上を目的に、（Ｌ）酸増殖剤を用いることができる。本発明において用いる酸増殖剤は、酸触媒反応によって更に酸を発生して反応系内の酸濃度を上昇させることができる化合物であり、酸が存在しない状態では安定に存在する化合物である。このような化合物は、１回の反応で１つ以上の酸が増えるため、反応の進行に伴って加速的に反応が進むが、発生した酸自体が自己分解を誘起するため、ここで発生する酸の強度は、酸解離定数、ｐＫａとして３以下であるのが好ましく、特に２以下であるのが好ましい。
酸増殖剤の具体例としては、特開平１０−１５０８号公報〔０２０３〕〜〔０２２３〕、特開平１０−２８２６４２号公報〔００１６〕〜〔００５５〕、及び特表平９−５１２４９８号公報第３９頁１２行目〜第４７頁２行目に記載の化合物を挙げることができる。
【０２５９】
本発明で用いることができる酸増殖剤としては、酸発生剤から発生した酸によって分解し、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、フェニルホスホン酸などのｐＫａが３以下の酸を発生させる化合物を挙げることができる。
【０２６０】
酸増殖剤の感光性樹脂組成物への含有量は、（Ｂ）酸発生剤１００質量部に対して、１０〜１０００質量部とするのが、露光部と未露光部の溶解コントラストの観点から好ましく、２０〜５００質量部とするのが更に好ましい。
【０２６１】
〔硬化膜の形成方法〕
次に、本発明における硬化膜の形成方法を説明する。
本発明における硬化膜の形成方法は、以下の（１）〜（５）の工程を含むことを特徴とする。
（１）本発明の感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程
（２）塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程
（３）塗布された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する露光工程
（４）露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する現像工程
（５）現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するポストベーク工程
また、ポストベーク工程前に、さらに（６）現像された感光性樹脂組成物を全面露光する工程を含んでいてもよい。
以下に各工程を順に説明する。
【０２６２】
（１）の塗布工程では、本発明の感光性樹脂組成物を基板上に塗布して溶剤を含む湿潤膜とする。
（２）の溶剤除去工程では、塗布された上記の膜から、減圧（バキューム）及び／又は加熱により、溶剤を除去して基板上に乾燥塗膜を形成させる。
【０２６３】
（３）の露光工程では、得られた塗膜に波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の活性光線を照射する。この工程では、（Ｂ）酸発生剤が分解し酸が発生する。発生した酸の触媒作用により、（Ａ）特定樹脂中に含まれる構造単位（ａ１）、構造単位（ａ２）中の酸分解性基が分解されて、カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基が生成する。
【０２６４】
酸触媒の生成した領域において、上記の分解反応を加速させるために、必要に応じて、ＰＥＢ（Post Exposure Bake  露光後加熱処理）を行うことができる。ＰＥＢにより、酸分解性基からのカルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基の生成を促進させることができる。
【０２６５】
本発明における構造単位（ａ１）および構造単位（ａ２）中の酸分解性基は、酸分解の活性化エネルギーが低く、露光による酸発生剤由来の酸により容易に分解し、カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基を生じるため、必ずしもＰＥＢを行うことなく、現像によりポジ画像を形成することもできる。
なお、比較的低温でＰＥＢを行うことにより、架橋反応を起こすことなく、酸分解性基の分解を促進することもできる。ＰＥＢを行う場合の温度は、３０℃以上１３０℃以下であることが好ましく、４０℃以上１１０℃以下がより好ましく、５０℃以上９０℃以下が特に好ましい。
【０２６６】
（４）の現像工程では、遊離したカルボキシル基を有する（Ａ）特定樹脂を、アルカリ性現像液を用いて現像する。アルカリ性現像液に溶解しやすいカルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基を有する感光性樹脂組成物を含む露光部領域を除去することにより、ポジ画像が形成する。
（５）のポストベーク工程において、得られたポジ画像を加熱することにより、構造単位（ａ１）および構造単位（ａ２）中の酸分解性基を熱分解しカルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基を生成させ、構造単位（ａ３）中のエポキシ基及び／又はオキセタニル基と架橋させることにより、硬化膜を形成することができる。この加熱は、１５０℃以上の高温に加熱することが好ましく、１８０〜２５０℃に加熱することがより好ましく、２００〜２５０℃に加熱することが特に好ましい。加熱時間は、加熱温度などにより適宜設定できるが、１０〜９０分の範囲内とすることが好ましい。
【０２６７】
さらに、ポストベーク工程の前に（６）現像された感光性樹脂組成物を全面露光する工程を含むことが好ましく、現像された感光性樹脂組成物のパターンに活性光線、好ましくは紫外線を、全面照射する工程を加えると、活性光線の照射により発生する酸により架橋反応を促進することができる。
次に、本発明の感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法を具体的に説明する。
【０２６８】
〔感光性樹脂組成物の調製方法〕
（Ａ）特定樹脂、および（Ｂ）酸発生剤の必須成分に、必要によって（Ｃ）溶剤を所定の割合でかつ任意の方法で混合し、撹拌溶解して感光性樹脂組成物を調製する。例えば、（Ａ）特定樹脂又は（Ｂ）酸発生剤を、それぞれ予め（Ｃ）溶剤に溶解させた溶液とした後、これらを所定の割合で混合して感光性樹脂組成物を調製することもできる。以上のように調製した感光性樹脂組成物の溶液は、孔径０．１μｍのフィルタ等を用いてろ過した後に、使用に供することもできる。
【０２６９】
＜塗布工程及び溶剤除去工程＞
感光性樹脂組成物を、所定の基板に塗布し、減圧及び／又は加熱（プリベーク）により溶媒を除去することにより、所望の乾燥塗膜を形成することができる。前記の基板としては、例えば液晶表示装置の製造においては、偏光板、さらに必要に応じてブラックマトリックス層、カラーフィルタ層を設け、さらに透明導電回路層を設けたガラス板などが例示できる。基板への塗布方法は特に限定されず、例えば、スリットコート法、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法等の方法を用いることができる。中でもスリットコート法が大型基板に適するという観点で好ましい。ここで大型基板とは、各辺が１ｍ以上の大きさの基板をいう。
【０２７０】
また、（２）溶剤除去工程の加熱条件は、未露光部における（Ａ）特定樹脂中の構造単位（ａ１）および又は構造単位（ａ２）において酸分解性基が分解して、且つ、（Ａ）特定樹脂をアルカリ現像液に可溶性としない範囲であり、各成分の種類や配合比によっても異なるが、好ましくは７０〜１２０℃で３０〜３００秒間程度である。
【０２７１】
＜露光工程＞
（３）露光工程では、感光性樹脂組成物の乾燥塗膜を設けた基板に所定のパターンの活性光線を照射する。露光はマスクを介して行ってもよいし、所定のパターンを直接描画してもよい。波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の波長を有する活性光線が好ましく使用できる。露光工程の後、必要に応じてＰＥＢを行う。
活性光線による露光には、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、ＬＥＤ光源、レーザ発生装置などを用いることができる。
水銀灯を用いる場合には、ｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）などの波長を有する活性光線が好ましく使用できる。水銀灯はレーザに比べると、大面積の露光に適するという点で好ましい。
【０２７２】
レーザを用いる場合には固体（ＹＡＧ）レーザでは３４３ｎｍ、３５５ｎｍが用いられ、エキシマレーザでは３５１ｎｍ(ＸｅＦ）が用いられ、さらに半導体レーザでは３７５ｎｍ、４０５ｎｍが用いられる。この中でも安定性、コスト等の点から３５５ｎｍ、４０５ｎｍがより好ましい。レーザは１回あるいは複数回に分けて、塗膜に照射することができる。
レーザの１パルス当たりのエネルギー密度は０．１ｍＪ／ｃｍ２以上１００００ｍＪ／ｃｍ２以下であることが好ましい。塗膜を十分に硬化させるには、０．３ｍＪ／ｃｍ２以上がより好ましく、０．５ｍＪ／ｃｍ２以上が最も好ましく、アブレーション現象により塗膜を分解させないようにするには、１０００ｍＪ／ｃｍ２以下がより好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２以下が最も好ましい。
【０２７３】
また、パルス幅は０．１ｎｓｅｃ以上３００００ｎｓｅｃ以下であることが好ましい。アブレーション現象により色塗膜を分解させないようにするには、０．５ｎｓｅｃ以上がより好ましく、１ｎｓｅｃ以上が最も好ましく、スキャン露光の際に合わせ精度を向上させるには、１０００ｎｓｅｃ以下がより好ましく、５０ｎｓｅｃ以下が最も好ましい。
【０２７４】
さらに、レーザの周波数は１〜５００００Ｈｚが好ましく、１０〜１０００Ｈｚがより好ましい。レーザの周波数が１Ｈｚ未満では、露光処理時間が多くなり、５００００Ｈｚを超えると、スキャン露光の際に合わせ精度が低下する。
【０２７５】
さらに、レーザの周波数は１Ｈｚ以上５００００Ｈｚ以下であることが好ましい。露光処理時間を短くするには、１０Ｈｚ以上がより好ましく、１００Ｈｚ以上が最も好ましく、スキャン露光の際に合わせ精度を向上させるには、１００００Ｈｚ以下がより好ましく、１０００Ｈｚ以下が最も好ましい。
レーザは水銀灯と比べると、焦点を絞ることが容易であり、露光工程でのパターン形成のマスクが不要でコストダウンできるという点で好ましい。
本発明に使用可能な露光装置としては、特に制限はないが市販されているものとしては、Ｃａｌｌｉｓｔｏ（ブイテクノロジー株式会社製）やＡＥＧＩＳ（ブイテクノロジー株式会社製）やＤＦ２２００Ｇ（大日本スクリーン株式会社製）などが使用可能である。また上記以外の装置も好適に用いられる。
また、必要に応じて長波長カットフィルタ、短波長カットフィルタ、バンドパスフィルタのような分光フィルタを通して照射光を調整することもできる。
【０２７６】
＜現像工程＞
（４）現像工程では、塩基性現像液を用いて露光部領域を除去して画像パターンを形成する。現像液に用いる塩基性化合物としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類；重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムなどのアルカリ金属重炭酸塩類；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリンヒドロキシド等のアンモニウムヒドロキシド類；ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの水溶液を使用することができる。また、上記アルカリ類の水溶液にメタノールやエタノールなどの水溶性有機溶剤や界面活性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用することもできる。
【０２７７】
現像液のｐＨは、好ましくは１０．０〜１４．０である。
現像時間は通常３０〜１８０秒間であり、また、現像の手法は液盛り法、ディップ法、シャワー法等のいずれでもよい。現像後は、流水洗浄を１０〜９０秒間行い、所望のパターンを形成させることができる。
【０２７８】
＜ポストベーク工程（架橋工程）＞
現像により得られた未露光領域に対応するパターンについて、ホットプレートやオーブン等の加熱装置を用いて、所定の温度、例えば１８０〜２５０℃で所定の時間、例えばホットプレート上なら５〜６０分間、オーブンならば３０〜９０分間、加熱処理をすることにより、（Ａ）特定樹脂中の酸分解性基を分解して、カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基を発生させ、（Ａ）特定樹脂中のエポキシ基及び／又はオキセタニル基である架橋性基と反応して、架橋させることにより、耐熱性、硬度等に優れた保護膜や層間絶縁膜を形成することができる。また、加熱処理を行う際は窒素雰囲気下で行うことにより透明性を向上させることもできる。
なお、加熱処理に先立ち、パターンを形成した基板に活性光線により再露光した後、ポストベークすること（再露光／ポストベーク）により未露光部分に存在する（Ｂ）酸発生剤から酸を発生させ、架橋を促進する触媒として機能させることが好ましい。
すなわち、本発明における硬化膜の形成方法は、現像工程とポストベーク工程の間に、活性光線により再露光する前記（６）工程を含むことが好ましい。
再露光工程における露光は、前記露光工程と同様の手段により行えばよいが、前記再露光工程では、基板の本発明の感光性樹脂組成物により膜が形成された側に対し、全面露光を行うことが好ましい。再露光工程の好ましい露光量としては、１００〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２である。
【０２７９】
本発明の感光性樹脂組成物により、高い感度を有し、現像工程において未露光部の膜べりが抑制され、かつ、耐熱透明性が良好で、良好なパターン形状を形成できる硬化膜が得られ、層間絶縁膜として有用である。本発明の感光性樹脂組成物を用いてなる層間絶縁膜は、高い透明性を有し、良好な形状のコンタクトホールが形成できるので、有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置の用途に有用である。
本発明における有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置としては、前記本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜を平坦化膜や層間絶縁膜として用いること以外は、特に制限されず、様々な構造をとる公知の各種有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置を挙げることができる。
【０２８０】
図１は、本発明の感光性樹脂組成物を用いた有機ＥＬ表示装置の一例の構成概念図を示す。ボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置における基板の模式的断面図を示し、平坦化膜４を有している。
ガラス基板６上にボトムゲート型のＴＦＴ１を形成し、このＴＦＴ１を覆う状態でＳｉ３Ｎ４から成る絶縁膜３が形成されている。絶縁膜３に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してＴＦＴ１に接続される配線２（高さ１．０μｍ）が絶縁膜３上に形成されている。配線２は、ＴＦＴ１間又は、後の工程で形成される有機ＥＬ素子とＴＦＴ１とを接続するためのものである。
さらに、配線２の形成による凹凸を平坦化するために、配線２による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜３上に平坦化膜４が形成されている。
平坦化膜４上には、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子が形成されている。すなわち、平坦化膜４上に、ＩＴＯからなる第一電極５が、コンタクトホール７を介して配線２に接続させて形成されている。第一電極５は、有機ＥＬ素子の陽極に相当する。
第一電極５の周縁を覆う形状の絶縁膜８が形成されており、この絶縁膜８を設けることによって、第一電極５とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。
さらに、図１には図示していないが、所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設け、次いで、基板上方の全面にＡｌから成る第二電極を形成し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止し、各有機ＥＬ素子にこれを駆動するためのＴＦＴ１が接続されてなるアクティブマトリックス型の有機ＥＬ表示装置が得られる。
【０２８１】
図２は、アクティブマトリックス方式の液晶表示装置１０の一例を示す概念的断面図である。このカラー液晶表示装置１０は、背面にバックライトユニット１２を有する液晶パネルであって、液晶パネルは、偏光フィルムが貼り付けられた２枚のガラス基板１４，１５の間に配置されたすべての画素に対応するＴＦＴ１６の素子が配置されている。ガラス基板上に形成された各素子には、硬化膜１７中に形成されたコンタクトホール１８を通して、画素電極を形成するＩＴＯ透明電極１９が配線されている。ＩＴＯ透明電極１９の上には、液晶２０の層とブラックマトリックスを配置したＲＧＢカラーフィルタ２２が設けられている。
【実施例】
【０２８２】
次に、実施例により本発明を更に具体的に説明する。ただし、本発明は、これらの実施例によって限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。
【０２８３】
以下の特定樹脂Ａ−１の合成例において、用いている化合物の符号はそれぞれ以下の化合物を表す。
ＭＡｉＢＶＥ：メタクリル酸１−イソブチルオキシエチル
Ｖ−６５：２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）
ＧＭＡ：グリシジルメタクリレート
ＭＡＡ：メタクリル酸
ＤＣＭ：メタクリル酸（トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８−イル）
ＥＤＭ：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
【０２８４】
＜特定樹脂Ａ−１の合成＞
イソブチルビニルエーテル２００．３部（２モル当量）にフェノチアジン０．５部を添加し、反応系中を１０℃以下に冷却しながらメタクリル酸８６．１部（１モル当量）を滴下後、室温（２５℃）で４時間撹拌した。ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム５．０部を添加後、室温で２時間撹拌し、一夜室温放置した。反応液に炭酸水素ナトリウム５部及び硫酸ナトリウム５部を添加し、室温で１時間撹拌し、不溶物を濾過後４０℃以下で減圧濃縮し、残渣の黄色油状物を減圧蒸留して沸点（ｂｐ．）４８〜５０℃／２．２ｍｍＨｇ留分のメタクリル酸１−イソブチルオキシエチル（ＭＡｉＢＶＥ）１４４部を無色油状物として得た。
【０２８５】
得られたＭＡｉＢＶＥ（１３．０４部（０．０７モル当量））、メタクリル酸（３．１０部（０．０３６モル当量））、ＧＭＡ（８．５３部（０．０６モル当量））、ＤＣＭ（７．４９部（０．０３４モル当量））、ラジカル重合開始剤Ｖ−６５（和光純薬工業（株）製、７モル％対全モノマー（３．４８部））、及びＥＤＭ（３５．７部）を混合し、窒素気流下７０℃に加熱撹拌したＥＤＭ（３５．７部）中に、２．５時間かけて滴下した。滴下が終了してから、７０℃で４時間反応させることにより特定樹脂Ａ−１のＥＤＭ溶液（固形分濃度：３０％）を得た。
【０２８６】
＜特定樹脂Ａ−２〜Ａ−２６、Ａ−２８、Ａ−２９、比較樹脂Ｃ−１〜Ｃ−１３の合成＞
特定樹脂Ａ−１の合成で使用した各モノマー種及びその共重合比（表１、２では「比」と記載した。）、溶媒、重合開始剤の使用量を表１、表２に記載のものに変更した以外は、特定樹脂Ａ−１の合成と同様にして、特定樹脂Ａ−２〜Ａ−２６、Ａ−２８〜Ａ−２９、比較樹脂Ｃ−１〜Ｃ−１３をそれぞれ合成した。
【０２８７】
【表１】
0005623897.tif 000040
【０２８８】
【表２】
0005623897.tif 000041
【０２８９】
なお、表１、表２に記載の各モノマーの共重合比はモル比であり、開始剤量は重合開始剤の使用量を表し、各モノマーの合計モル数に対するモル％で示した。また、得られた特定樹脂又は比較樹脂の酸価及びＩ／Ｏ値は計算値を表す。
なお、特定樹脂Ａ−９の合成には、溶剤としてＣ１とＣ２とを質量で等量の混合物を用いた。
【０２９０】
表１、表２中の化合物、および下記の合成例で用いた符号で、重合体Ａ−１の合成で示した以外の化合物の符号は以下の通りである。
ＭＡＥＶＥ：メタクリル酸１−エトキシエチル
ＡＡＥＶＥ：アクリル酸１−エトキシエチル
ＭＡＢＶＥ：メタクリル酸１−ブチルオキシエチル
ＰＨＳ−ＥＶＥ：４−（１−エトキシエトキシ）スチレン
ＭＡＴＨＰ：メタクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル
ＭＡＴＨＦ：メタクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−フラン−２−イル
ＳｔＣＯＯＨ：４−ビニル安息香酸
ＰＨＳ：４−ヒドロキシスチレン
ＯＸＥ−３０：メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル（大阪有機化学工業（株）製）
Ｍ１００：メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（ダイセル化学工業（株）製）
ＶＢｚＧｌｙＥ：４−ビニルベンジルグリシジルエーテル
Ｓｔ：スチレン
ＣｙＨＭＡ：メタクリル酸シクロヘキシル
ＨＥＭＡ：メタクリル酸２−ヒドロキシエチル
ＨＰＭＡ：メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル
ＣｙＨＭＩ：Ｎ−シクロヘキシルマレイミド
Ｃ１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
Ｃ２：ＥＤＭ（ジエチレングリコールエチルメチルエーテル）
【０２９１】
尚、ＭＡＥＶＥ、ＡＡＥＶＥ、ＭＡＢＶＥ、およびＰＨＳ−ＥＶＥは、ＭＡｉＢＶＥと同様な方法で合成した。
＜メタクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−フラン−２−イル（ＭＡＴＨＦ）の合成＞
メタクリル酸（８６ｇ、１mol）を１５℃に冷却しておき、カンファースルホン酸（4.6ｇ, 0.02mol）添加した。その溶液に、２−ジヒドロフラン（７１ｇ、１mol、1.0当量）を滴下した。１時間撹拌した後に、飽和炭酸水素ナトリウム（500ｍL）を加え、酢酸エチル（500ｍL）で抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、不溶物を濾過後４０℃以下で減圧濃縮し、得られた残渣の黄色油状物を減圧蒸留して沸点（ｂｐ．）５４〜５６℃／３．５ｍｍＨｇ留分のメタクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−フラン−２−イル（ＭＡＴＨＦ）１２５ｇを無色油状物として得た（収率８０％）。
【０２９２】
＜４−ビニルベンジルグリシジルエーテル（ＶＢｚＧｌｙＥ）の合成＞
水素化ナトリウム（純度６０％）４．００ｇを石油エーテルで洗浄した後、減圧乾燥し、そこにジメチルホルムアミド２００ｍＬを加え、氷浴にて冷却した。次いで、グリシドール６．６ｍＬを撹拌しながら系中に加え、反応液を室温下にて１時間撹拌反応させた。反応終了後、反応液に４−ビニルベンジルクロリド７ｍＬ及びヨウ化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム１．８４ｇを加え、更に５時間撹拌反応させた。反応終了後、反応液を氷冷し、ジエチルエーテルで希釈した後、これに飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止させた。溶液の有機層を分離した後、水層をジエチルエーテルで抽出し、分離した有機層と合わせて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。乾燥後、これを濾過し、減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフフィーによって精製し、４−ビニルベンジルグリシジルエーテル６．８６ｇを得た（収率７３％）。
【０２９３】
＜特定樹脂Ａ−２７の合成＞
マレイン酸無水物（３．９２部（０．０４モル当量））、ＯＸＥ−３０（８．５３部（０．０６モル当量））、ＤＣＭ（４．４１部（０．０２モル当量））、スチレン（４．１２部（０．０４モル当量））、ラジカル重合開始剤Ｖ−６５（和光純薬工業（株）製、５モル％対全モノマー（１．９９部））、及びＥＤＭ（３５．７部）を混合し、窒素気流下７０℃に加熱撹拌したＥＤＭ（３５．７部）中に、２．５時間かけて滴下した。滴下が終了してから、７０℃で４時間反応させた。その後、エチルビニルエーテル（２．８８部（０．０４モル当量））を滴下し、攪拌しながら２時間反応させることにより特定樹脂Ａ−２６のＥＤＭ溶液（固形分濃度：３０％）を得た。酸価及びＩ／Ｏ値の計算は、マレイン酸無水物単位がすべてエチルビニルエーテルと反応し、１−エトキシエチルエステルとカルボン酸とが等モル生成するとして算出した。特定樹脂Ａ−２７の計算酸価は８２．４ｍｇＫＯＨ／ｇ、計算Ｉ／Ｏ値は０．５４であった。
【０２９４】
＜Ｂ１０の合成＞
２−ナフトール（１０ｇ）、クロロベンゼン（３０ｍＬ）の懸濁溶液に塩化アルミニウム（１０．６ｇ）、２−クロロプロピオニルクロリド（１０．１ｇ）を添加し、混合液を４０℃に加熱して２時間反応させた。氷冷下、反応液に４Ｎ-ＨＣｌ水溶液（６０ｍＬ）を滴下し、酢酸エチル（５０ｍＬ）を添加して分液した。有機層に炭酸カリウム（１９．２ｇ）を加え、４０℃で１時間反応させた後、２Ｎ-ＨＣｌ水溶液（６０ｍＬ）を添加して分液し、有機層を濃縮後、結晶をジイソプロピルエーテル（１０ｍＬ）でリスラリーし、ろ過、乾燥してケトン化合物（６．５ｇ）を得た。
得られたケトン化合物（３．０ｇ）、メタノール（３０ｍＬ）の懸濁溶液に、酢酸（７．３ｇ）、５０質量％のヒドロキシルアミン水溶液（８．０ｇ）を添加し、加熱還流した。放冷後、水（５０ｍＬ）を加え、析出した結晶をろ過、冷メタノール洗浄後、乾燥してオキシム化合物（２．４ｇ）を得た。
【０２９５】
得られたオキシム化合物（１．８ｇ）をアセトン（２０ｍＬ）に溶解させ、氷冷下トリエチルアミン（１．５ｇ）、ｐ−トルエンスルホニルクロリド（２．４ｇ）を添加し、室温に昇温して１時間反応させた。反応液に水（５０ｍＬ）を添加し、析出した結晶をろ過後、メタノール（２０ｍＬ）でリスラリーし、ろ過、乾燥して、Ｂ１０（下記構造  ２．３ｇ）を得た。
なお、Ｂ１０の1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）は、δ＝８．３（ｄ，１Ｈ），８．０（ｄ，２Ｈ），７．９（ｄ，１Ｈ），７．８（ｄ，１Ｈ），７．６（ｄｄ，１Ｈ），７．４（ｄｄ，１Ｈ）７．３（ｄ，２Ｈ），７．１（ｄ．１Ｈ），５．６（ｑ，１Ｈ），２．４（ｓ，３Ｈ），１．７（ｄ，３Ｈ）であった。
【０２９６】
【化３９】
0005623897.tif 000042
【０２９７】
＜Ｂ１１の合成＞
１−１．合成中間体Ｂ１１−Ａの合成
２−アミノベンゼンチオール：３１．３ｇ（東京化成工業（株）製）をトルエン：１００ｍＬ（和光純薬工業（株）製）に室温（２５℃）下溶解させた。次に、フェニルアセチルクロリド：４０．６ｇ（東京化成工業（株）製）を滴下し、室温下１時間、次いで１００℃で２時間撹拌し反応させた。得られた反応液に水５００ｍＬを入れ析出した塩を溶解させ、トルエン油分を抽出、抽出液をロータリエバポレーターで濃縮させ、合成中間体Ｂ１１−Ａを得た。
【０２９８】
１−２．Ｂ１１の合成
前記のようにして得られた合成中間体Ｂ１１−Ａ  ２．２５ｇをテトラヒドロフラン：１０ｍＬ（和光純薬工業（株）製）に混合させた後、氷浴につけ反応液を５℃以下に冷却した。次に、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド：４．３７ｇ（２５質量％メタノール溶液、Alfa Acer社製）を滴下し、氷浴下０．５時間撹拌し反応させた。さらに、亜硝酸イソペンチル：７．０３ｇを内温２０℃以下に保ちながら滴下し、滴下終了後に反応液を室温まで昇温後、一時間撹拌した。
次いで、反応液を５℃以下に冷却し後、ｐ−トルエンスルホニルクロリド（１．９ｇ）（東京化成工業（株）製）を投入し、１０℃以下を保ちながら１時間撹拌した。その後水８０ｍＬを投入し、０℃で１時間撹拌した。得られた析出物を濾過した後、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）６０ｍＬを投入し、５０℃に加熱して１時間撹拌し、熱時濾過、乾燥させることで、Ｂ１１（下記構造  １．８ｇ）を得た。
得られたＢ１１の1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（３００ＭＨｚ、重ＤＭＳＯ（（Ｄ3Ｃ）2Ｓ＝Ｏ））は、δ＝８．２〜８．１７（ｍ，１Ｈ），８．０３〜８．００（ｍ，１Ｈ），７．９５〜７．９（ｍ，２Ｈ），７．６〜７．４５（ｍ，９Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ）であった。
上記の1Ｈ−ＮＭＲ測定結果より、得られたＢ１１は、１種単独の幾何異性体であることが推定される。
【０２９９】
【化４０】
0005623897.tif 000043
【０３００】
＜Ｂ１２の合成＞
Ｂ１０におけるｐ−トルエンスルホニルクロリドの代わりにベンゼンスルホニルクロリドを用いた以外は、Ｂ１０と同様にしてＢ１２（下記構造）を合成した。
なお、Ｂ１２の1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）は、δ＝８．３（ｄ，１Ｈ），８．１（ｄ，２Ｈ），７．９（ｄ，１Ｈ），７．８（ｄ，１Ｈ），７．７−７．５（ｍ，４Ｈ），７．４（ｄｄ，１Ｈ），７．１（ｄ．１Ｈ），５．６（ｑ，１Ｈ），１．７（ｄ，３Ｈ）であった。
【０３０１】
【化４１】
0005623897.tif 000044
【０３０２】
＜Ｂ１３の合成＞
２−ナフトール（２０ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１５０ｍＬ）に溶解させ、炭酸カリウム（２８．７ｇ）、及び２−ブロモオクタン酸エチル（５２．２ｇ）を添加して１００℃で２時間反応させた。反応液に水（３００ｍＬ）、酢酸エチル（２００ｍＬ）を添加して分液し、有機層を濃縮後、４８質量％水酸化ナトリウム水溶液（２３ｇ）、エタノール（５０ｍＬ）、及び水（５０ｍＬ）を添加し、２時間反応させた。反応液を１Ｎ-ＨＣｌ水溶液（５００ｍＬ）にあけ、析出した結晶をろ過、水洗してカルボン酸粗体を得た後、ポリリン酸３０ｇを添加して１７０℃で３０分反応させた。反応液を水（３００ｍＬ）にあけ、酢酸エチル（３００ｍＬ）を添加して分液し、有機層を濃縮した後シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ケトン化合物（１０ｇ）を得た。
得られたケトン化合物（１０．０ｇ）、メタノール（１００ｍＬ）の懸濁溶液に酢酸ナトリウム（３０．６ｇ）、塩酸ヒドロキシルアミン（２５．９ｇ）、及び硫酸マグネシウム（４．５ｇ）を添加し、２４時間加熱還流した。放冷後、水（１５０ｍＬ）、及び酢酸エチル（１５０ｍL）添加して分液し、有機層を水８０ｍＬで４回分液し、濃縮した後シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してオキシム化合物（５．８ｇ）を得た。
【０３０３】
得られたオキシム化合物（３．１ｇ）に対し、Ｂ１０と同様にスルホネート化を行い、Ｂ１３（３．２ｇ）を得た。
なお、Ｂ１３の1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）は、δ＝８．３（ｄ，１Ｈ），８．０（ｄ，２Ｈ），７．９（ｄ，１Ｈ），７．８（ｄ，１Ｈ），７．６（ｄｄ，１Ｈ），７．５（ｄｄ，１Ｈ）７．３（ｄ，２Ｈ），７．１（ｄ．１Ｈ），５．６（ｄｄ，１Ｈ），２．４（ｓ，３Ｈ），２．２（ｄｄｔ，１Ｈ），１．９（ｄｄｔ，１Ｈ），１．４〜１．２（ｍ，８Ｈ），０．８（ｔ，３Ｈ）であった。
【０３０４】
【化４２】
0005623897.tif 000045
【０３０５】
〔実施例１〜４５および比較例１〜１３〕
（１）感光性樹脂組成物の調製
表３、表４に示す各成分を混合して均一な溶液とした後、０．２μｍのポアサイズを有するポリテトラフルオロエチレン製フィルタを用いてろ過して、実施例１〜４５および比較例１〜１３の感光性樹脂組成物をそれぞれ調製した。
なお、表３、表４中で、水準の一部で酸発生剤、溶剤、及び塩基性化合物について、複数の化合物を用いた場合がある。この場合には種類を２種類記載し、量としては「前者の化合物の量＋後者の化合物の量」として記載した。ここで前者とはそれぞれの種類の欄において、先に（左側に）記載の化合物であり、後者とは右側に記載の化合物のことである。
【０３０６】
【表３】
0005623897.tif 000046
【０３０７】
【表４】
0005623897.tif 000047
【０３０８】
なお、表３、表４中の略号は以下の通りである。
Ｂ１：ＣＧＩ１３９７（下記構造、チバジャパン（株）製）
Ｂ２：ＣＧＩ１３２５（下記構造、チバジャパン（株）製）
Ｂ３：ＰＡＩ−１００１（下記構造、みどり化学（株）製）
Ｂ４：ＰＡＩ−１０１（下記構造、みどり化学（株）製）
Ｂ５：α−（４−トルエンスルホニルオキシイミノ）ベンジル  シアニド（下記構造、特表２００２−５２８４５１号公報段落番号〔０１０８〕に記載の方法に従って合成した。）
Ｂ１０：上記で合成したオキシムスルホネート化合物
Ｂ１１：上記で合成したオキシムスルホネート化合物
Ｂ１２：上記で合成したオキシムスルホネート化合物
Ｂ１３：上記で合成したオキシムスルホネート化合物
Ｎ１：ＤＢＡ（９，１０−ジブトキシアントラセン、下記構造、川崎化成工業）
Ｃ１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
Ｃ２：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
Ｄ１：アデカスタブＡＯ−６０（下記構造、（株）ＡＤＥＫＡ製）
Ｅ１：ＪＥＲ−１５７Ｓ７０（多官能ノボラック型エポキシ樹脂（エポキシ当量２００〜２２０ｇ／ｅｑ）、ジャパンエポキシレジン（株）製）
Ｈ１：メガファックＲ−０８（パーフルオロアルキル基含有ノニオン性界面活性剤、ＤＩＣ（株）製）
Ｈ２：Ｗ−３（下記構造）
Ｇ１：４−ジメチルアミノピリジン
Ｇ２：１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン
Ｆ１：ＫＢＭ−４０３（下記構造、信越化学工業（株）製）
【０３０９】
【化４３】
0005623897.tif 000048
【０３１０】
【化４４】
0005623897.tif 000049
【０３１１】
【化４５】
0005623897.tif 000050
【０３１２】
【化４６】
0005623897.tif 000051
【０３１３】
【化４７】
0005623897.tif 000052
【０３１４】
【化４８】
0005623897.tif 000053
【０３１５】
（２）感度の評価
シリコン酸化膜を有するシリコンウエハ上に各実施例、比較例の感光性樹脂組成物をスリット塗布した後、９５℃で９０秒間ホットプレート上においてプリベークして、膜厚３μｍの塗膜を形成した。
次に、ｉ線ステッパー（キャノン（株）製ＦＰＡ−３０００ｉ５＋）を用いて、所定のマスクを介して露光した。露光後、０．４％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により２３℃で８０秒間液盛り法で現像した後、超純水で１分間リンスした。これらの操作により１０μｍのラインアンドスペースを１：１で解像する時の最適露光量を感度とした。感度は、１００ｍＪ／ｃｍ２より低露光量の場合に、高感度であるといえる。
【０３１６】
（３）未露光部残膜率の評価
上記塗膜の現像後における未露光部の膜厚を触針式の膜厚計にて測定し、同様に測定した初期膜厚に対する残存膜厚の比率を残膜率として評価した。すなわち、「未露光部残膜率＝現像後の膜厚（未露光部）÷現像前の膜厚（未露光部）×１００」である。未露光部残膜率が高い方が現像ディスクリが良好である。
【０３１７】
（４）耐熱透明性の評価
ガラス基板「コーニング１７３７（コーニング社製）」上に感光性樹脂組成物溶液をスリット塗布した後、９５℃で９０秒間ホットプレート上においてプリベークして膜厚３μｍの塗膜を形成した。得られた塗膜にキャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）で積算照射量が２００ｍＪ／ｃｍ２（照度：２０ｍＷ／ｃｍ２）となるように露光し、その後、この基板をオーブンにて２３０℃で１時間加熱して硬化膜を得た。
得られた硬化膜をオーブンにて２３０℃で２時間更に加熱した後、光線透過率を分光光度計「１５０−２０型ダブルビーム（（株）日立製作所製）」を用いて４００〜８００ｎｍの範囲の波長で測定した。そのときの最も透過率の低い波長での透過率の評価（耐熱透明性の評価）を表５に示す。この値が８１％以上であれば、耐熱透明性が良好であるといえる。
【０３１８】
（５）コンタクトホールの形成性の評価
シリコン酸化膜を有するシリコンウエハ上に本発明の感光性樹脂組成物をスリットコートした後、真空乾燥して膜厚３μｍの塗膜を形成した。次に、ｉ線ステッパー（キャノン（株）製ＦＰＡ−３０００ｉ５＋）を用いて、所定のマスクを介して、コンタクトホールに相当する直径１０μｍの抜きパターンを有するパターンにて、前記（２）感度の評価で求めた最適露光量で露光した。
上記（４）と同様に現像、リンスし、コンタクトホールパターンを形成した。ここで、形成されたコンタクトホールの下底の径を、電子顕微鏡により測定した。さらに、コンタクトホールが形成された現像後の塗膜に対し、超高圧水銀灯を用いて波長３６５ｎｍにおいて５００ｍＪ／ｃｍ２の光を照射した後、オーブン中にて、２２０℃で６０分間加熱した。ここで、コンタクトホールの下底の径を、上記と同様にして測定した。
本評価では、形成したコンタクトホール下底の径について、加熱前後に測定した２つの測定値の差が、０．５μｍ以下であったものを「○」、０．５μｍ以上であったものを「×」として評価した。加熱前後での径の差が小さいほど、コンタクトホール径の制御が容易になるため、好ましい。
得られた評価結果をまとめて表５に示す。
【０３１９】
【表５】
0005623897.tif 000054
【０３２０】
表５から、本発明における特定樹脂を用いた各実施例は感度が高く、未露光部の残膜率が高く、コンタクトホールの形状が良好で、しかも耐熱透明性が良好であり、層間絶縁膜として用いたとき、好適な性質を発揮することができることがわかった。
これに対して酸分解性の構造単位を有しない樹脂を用いた比較例１はパターン形成ができず、また、使用する樹脂の酸価が本発明の酸価の範囲より小さい比較例３〜５は感度が低く、特に酸価が０の比較例３は感度が低くパターン形状も好ましくなかった。また、酸価が本発明の範囲より大きい比較例６、７は残膜率が小さく、透明耐熱性も低い結果であった。さらに、本発明の樹脂が有するＩ／Ｏ値より小さい樹脂を用いた比較例８〜１０は特に感度が低く、本発明の樹脂が有するＩ／Ｏ値より大きい樹脂を用いた比較例１１は感度が低く、比較例１２は残膜率が小さく、また比較例１３は耐熱透明性が不良であることがわかる。
【０３２１】
（実施例４６）
シリコン酸化膜を有するシリコンウエハ上に実施例４で用いた感光性樹脂組成物溶液をスリット塗布した後、９５℃で９０秒間ホットプレート上においてプリベークして膜厚３μｍの塗膜を形成した。
次に、塗膜から１５０μｍの間隔を介して、所定のフォトマスクをセットし、波長３５５ｎｍのレーザを、露光量１５ｍＪ／ｃｍ２で照射した。尚、レーザ装置は、株式会社ブイテクノロジー社製の「ＡＥＧＩＳ」を使用し（波長３５５ｎｍ、パルス幅６ｎｓｅｃ）、露光量はＯＰＨＩＲ社製の「ＰＥ１０Ｂ-Ｖ２」を用いて測定した。露光後、０．４％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により２３℃で８０秒間液盛り法で現像した後、超純水で１分間リンスした。これらの操作により１０μｍのラインアンドスペースを１：１で解像することができた。
【０３２２】
（実施例４７）
薄膜トランジスター（ＴＦＴ）を用いた有機ＥＬ表示装置を以下の方法で作製した（図１参照）。
ガラス基板６上にボトムゲート型のＴＦＴ１を形成し、このＴＦＴ１を覆う状態でＳｉ３Ｎ４から成る絶縁膜３を形成した。次に、この絶縁膜３に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してＴＦＴ１に接続される配線２（高さ１．０μｍ）を絶縁膜３上に形成した。この配線２は、ＴＦＴ１間又は、後の工程で形成される有機ＥＬ素子とＴＦＴ１とを接続するためのものである。
【０３２３】
さらに、配線２の形成による凹凸を平坦化するために、配線２による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜３上へ平坦化層４を形成した。絶縁膜３上への平坦化膜４の形成は、実施例１２の感光性樹脂組成物を基板上にスピン塗布し、ホットプレート上でプリベーク（９０℃×２分）した後、マスク上から高圧水銀灯を用いてｉ線（３６５ｎｍ）を１５ｍＪ／ｃｍ２（照度２０ｍＷ／ｃｍ２）照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成し、２３０℃で６０分間の加熱処理を行った。該感光性樹脂組成物を塗布する際の塗布性は良好で、露光、現像、焼成の後に得られた硬化膜には、しわやクラックの発生は認められなかった。さらに、配線２の平均段差は５００ｎｍ、作製した平坦化膜４の膜厚は２，０００ｎｍであった。
【０３２４】
次に、得られた平坦化膜４上に、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子を形成した。まず、平坦化膜４上に、ＩＴＯからなる第一電極５を、コンタクトホール７を介して配線２に接続させて形成した。その後、レジストを塗布、プリベークし、所望のパターンのマスクを介して露光し、現像した。このレジストパターンをマスクとして、ＩＴＯエッチャント用いたウエットエッチングによりパターン加工を行った。その後、レジスト剥離液（モノエタノールアミンとジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）との混合液）を用いて該レジストパターンを剥離した。こうして得られた第一電極５は、有機ＥＬ素子の陽極に相当する。
【０３２５】
次に、第一電極５の周縁を覆う形状の絶縁膜８を形成した。絶縁膜８には、実施例７の感光性樹脂組成物を用い、前記と同様の方法で形成した。この絶縁膜８を設けることによって、第一電極５とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。
【０３２６】
さらに、真空蒸着装置内で所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設けた。次いで、基板上方の全面にＡｌから成る第二電極を形成した。得られた上記基板を蒸着機から取り出し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止した。
【０３２７】
以上のようにして、各有機ＥＬ素子にこれを駆動するためのＴＦＴ１が接続してなるアクティブマトリックス型の有機ＥＬ表示装置が得られた。駆動回路を介して電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し、信頼性の高い有機ＥＬ表示装置であることが分かった。
【０３２８】
（実施例４８）
特許第３３２１００３号公報の図１及び図２に記載のアクティブマトリクス型液晶表示装置において、層間絶縁膜として硬化膜１７を以下のようにして形成し、実施例４０の液晶表示装置を得た。
すなわち、実施例１２の感光性樹脂組成物を用い、上記実施例４７における有機ＥＬ表示装置の平坦化膜４の形成方法と同様の方法で、層間絶縁膜として硬化膜１７を形成した。
得られた液晶表示装置に対して、駆動電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し、信頼性の高い液晶表示装置であることが分かった。
【０３２９】
（実施例４９）
実施例２９の感光性樹脂組成物を用い、実施例２９と同様の評価を、超高圧水銀ランプに変えてＵＶ−ＬＥＤ光源露光機を用いて実施した。結果、実施例２９と同様の結果が得られた。
【符号の説明】
【０３３０】
１：ＴＦＴ（薄膜トランジスター）
２：配線
３：絶縁膜
４：平坦化膜
５：第一電極
６：ガラス基板
７：コンタクトホール
８：絶縁膜
１０：液晶表示装置
１２：バックライトユニット
１４，１５：ガラス基板
１６：ＴＦＴ
１７：硬化膜
１８：コンタクトホール
１９：ＩＴＯ透明電極
２０：液晶
２２：カラーフィルタ
【図１】
0005623897.tif 000056
【図２】
0005623897.tif 000057