(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ彫刻により凸版印刷版を作成する凸版印刷版の製造方法であって、
印刷画像を表す多値画像データに基づいて２値画像データを生成する２値画像データ生成工程と、
前記２値画像データから彫刻目標となる目標立体形状データを生成する彫刻目標形状データ生成工程と、
前記目標立体形状データに基づいてレーザ彫刻機によるレーザ光の出力を制御するための露光量データを算出する露光量データ生成工程と、
前記２値画像データの画像部に対応するＯＮ画素に近接する所定画素の範囲の画像外近接画素に所定の露光量を与えるエッジ露光量設定工程と、
前記露光量データに基づいて、版上における前記２値画像データの非画像部に対応するＯＦＦ画素の領域にレーザ光を照射して前記画像部として前記版上に残す領域の外側部分を彫刻するとともに、前記エッジ露光量設定工程で設定された前記所定の露光量に基づいて版上における前記画像外近接画素にレーザ光を照射することにより前記画像部に対応したレリーフの頂面の縁部のうち少なくとも一部の角部が前記頂面から深さ方向に面取りされた凸部形状を有するレリーフを形成するレーザ彫刻工程と、
を含むことを特徴とする凸版印刷版の製造方法。
【請求項２】
前記レーザ彫刻工程における前記画像外近接画素へのレーザ光の照射により、前記２値画像データにおけるＯＮ画素の面積よりも、前記版上における前記レリーフの頂面の面積を小さくすることを特徴とする請求項１に記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項３】
前記非画像部に対応するＯＦＦ画素の領域に対して付与する露光量に比べて、前記画像外近接画素に付与する露光量は少量であることを特徴とする請求項１又は２に記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項４】
前記版上に照射されるレーザ光のビーム径は、前記２値画像データの１画素の幅よりも大きいことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項５】
前記画像外近接画素は、前記ＯＮ画素に隣接する周囲１画素の範囲であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項６】
版材の種類に応じて、前記頂面の縁部の面取りに必要な露光量のパラメータを保持しておき、
使用される版材の種類に対応して、前記所定の露光量のデータが可変設定されることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項７】
版材の種類と被印刷体の種類の組み合わせに応じて、前記頂面の縁部の面取りに必要な露光量のパラメータを保持しておき、
使用される版材の種類と被印刷体の種類の組み合わせに対応して、前記所定の露光量のデータが可変設定されることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項８】
前記レリーフは、前記頂面を有するキャップ部と、前記キャップ部を支える土台となる台部とを有し、
前記キャップ部は、前記頂面を上に向けた状態とした場合に重力方向と直交する水平面に平行な平坦面を有する前記頂面と、前記頂面の縁の少なくとも一部が前記頂面から深さ方向に面取りされ、前記頂面に対して非垂直な曲面が形成されたキャップ面取り部と、前記キャップ面取り部から前記重力方向の下方に、前記頂面に対して垂直に近い急峻な角度で形成されたキャップ急峻部と、を備え、
前記台部は、前記キャップ急峻部よりも太く、当該台部の横断面の断面積は前記レリーフの底に向かって次第に大きくなる形状を有することを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項９】
前記レリーフの頂面に対応する画素領域に対してランダムに露光量を与えるランダム露光量付与工程と、
前記ランダムに付与された露光量に従い、前記レリーフの頂面にレーザ光を照射して当該レリーフの頂面の不規則な位置に不規則な深さの窪みを複数形成するランダム凹凸形成工程と、を含むことを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項１０】
前記頂面にランダムに付与される露光量は、前記画像外近接画素に付与される露光量よりも少量であることを特徴とする請求項９に記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項１１】
レーザ彫刻により凸版印刷版を作成する凸版印刷版作成装置であって、
印刷画像を表す多値画像データに基づいて２値画像データを生成する２値画像データ生成手段と、
前記２値画像データから彫刻目標となる目標立体形状データを生成する彫刻目標形状データ生成手段と、
前記目標立体形状データに基づいてレーザ彫刻機によるレーザ光の出力を制御するための露光量データを算出する露光量データ生成手段と、
前記２値画像データの画像部に対応するＯＮ画素に近接する所定画素の範囲の画像外近接画素に所定の露光量を与えるエッジ露光量設定手段と、
前記露光量データに基づいて、版上における前記２値画像データの非画像部に対応するＯＦＦ画素の領域にレーザ光を照射して前記画像部として前記版上に残す領域の周囲を彫刻するとともに、前記エッジ露光量設定手段で設定された前記所定の露光量に基づいて版上における前記画像外近接画素にレーザ光を照射することにより前記画像部に対応したレリーフの頂面の縁部のうち少なくとも一部の角部が前記頂面から深さ方向に面取りされた凸形状を有するレリーフを形成するレーザ彫刻手段と、
を備えることを特徴とする凸版印刷版作成装置。
【請求項１２】
前記レーザ彫刻手段における前記画像外近接画素へのレーザ光の照射によって、前記２値画像データにおけるＯＮ画素の面積よりも、前記版上における前記レリーフの頂面の面積を小さくすることを特徴とする請求項１１に記載の凸版印刷版作成装置。
【請求項１３】
前記非画像部に対応するＯＦＦ画素の領域に対して付与する露光量に比べて、前記画像外近接画素に付与する露光量は少量であることを特徴とする請求項１１又は１２に記載の凸版印刷版作成装置。
【請求項１４】
前記版上に照射されるレーザ光のビーム径は、前記２値画像データの１画素の幅よりも大きいことを特徴とする請求項１１から１３のいずれか１項に記載の凸版印刷版作成装置。
【請求項１５】
前記画像外近接画素は、前記ＯＮ画素に隣接する周囲１画素の範囲であることを特徴とする請求項１１から１４のいずれか１項に記載の凸版印刷版作成装置。
【請求項１６】
版材の種類に応じて、前記頂面の縁部の丸め又は面取りに必要な露光量のパラメータを記憶しておくパラメータ記録手段を備え、
使用される版材の種類に対応して、前記所定の露光量のデータが可変設定されることを特徴とする請求項１１から１５のいずれか１項に記載の凸版印刷版作成装置。
【請求項１７】
版材の種類と被印刷体の種類の組み合わせに応じて、前記頂面の縁部の丸め又は面取りに必要な露光量のパラメータを記憶しておくパラメータ記録手段を備え、
使用される版材の種類と被印刷体の種類の組み合わせに対応して、前記所定の露光量のデータが可変設定されることを特徴とする請求項１１から１６のいずれか１項に記載の凸版印刷版作成装置。
【請求項１８】
前記レリーフは、前記頂面を有するキャップ部と、前記キャップ部を支える土台となる台部とを有し、
前記キャップ部は、前記頂面を上に向けた状態とした場合に重力方向と直交する水平面に平行な平坦面を有する前記頂面と、前記頂面の縁の少なくとも一部が前記頂面から深さ方向に面取りされ、前記頂面に対して非垂直な曲面が形成されたキャップ面取り部と、前記キャップ面取り部から前記重力方向の下方に、前記頂面に対して垂直に近い急峻な角度で形成されたキャップ急峻部と、を備え、
前記台部は、前記キャップ急峻部よりも太く、当該台部の横断面の断面積は前記レリーフの底に向かって次第に大きくなる形状を有することを特徴とする請求項１１から１７のいずれか１項に記載の凸版印刷版作成装置。
【請求項１９】
前記レリーフの頂面に対応する画素領域に対してランダムに露光量を与えるランダム露光量付与手段を備え、
前記レーザ彫刻手段は、前記ランダムに付与された露光量に従い、前記レリーフの頂面にレーザ光を照射して当該レリーフの頂面の不規則な位置に不規則な深さの窪みを複数形成することを特徴とする請求項１１から１８のいずれか１項に記載の凸版印刷版作成装置。
【請求項２０】
前記頂面にランダムに付与される露光量は、前記画像外近接画素に付与される露光量よりも少量であることを特徴とする請求項１９に記載の凸版印刷版作成装置。
【請求項２１】
コンピュータに、
印刷画像を表す多値画像データに基づいて２値画像データを生成する２値画像データ生成工程と、
前記２値画像データから彫刻目標となる目標立体形状データを生成する彫刻目標形状データ生成工程と、
前記目標立体形状データに基づいてレーザ彫刻機によるレーザ光の出力を制御するための露光量データを算出する露光量データ生成工程と、
前記２値画像データの画像部に対応するＯＮ画素に近接する所定画素の範囲の画像外近接画素に所定の露光量を与えるエッジ露光量設定工程と、
を実行させるためのプログラムであって、
前記露光量データに基づいて、版上における前記２値画像データの非画像部に対応するＯＦＦ画素の領域にレーザ光を照射して前記画像部として前記版上に残す領域の外側部分が彫刻されるとともに、前記エッジ露光量設定工程で設定された前記所定の露光量に基づいて版上における前記画像外近接画素にレーザ光を照射することにより前記画像部に対応したレリーフの頂面の縁部のうち少なくとも一部の角部が前記頂面から深さ方向に面取りされた凸部形状を有するレリーフが形成されることを特徴とするプログラム。
【請求項２２】
コンピュータに、
前記画像部に対応したレリーフの頂面に対応する画素領域に対してランダムに露光量を与えるランダム露光量付与工程を実行させるための請求項２１に記載のプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は凸版印刷版の製造方法、凸版印刷版作成装置、並びにプログラムに係り、特にフレキソ印刷に好適な凸版印刷版の構造及びその製版技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
凸版印刷に分類されるフレキソ印刷では、ゴムシートや光硬化性樹脂シートなど、柔軟な弾力性のある版材が使用され、版材表面に印刷画像の内容に対応した網点印刷用の凸形状を成す突起部（レリーフ）が形成される。フレキソ印刷版のレリーフの頂部に、アニロックスローラからインキが付与され、このレリーフ頂部に付与されたインキが被印刷体に転写されて印刷が行われる。フレキソ印刷は、版材に弾力性があるため、被印刷体の表面に多少の凹凸のある材料（例えば、段ボールなど）の印刷にも適しているという利点がある。
【０００３】
その一方で、版材が柔らかいことから、印圧によってレリーフが変形し、ドットが太る（ドットゲインが大きい）という問題や、レリーフの頂面から余剰インキが周囲に押し出されてドットが太る（マージナル）という問題がある。また、ドットの太りによって粒状性（画像のざらつきを表す濃度の揺らぎ）が悪化するという問題がある。特に、細線の再現性や文字の太り、ハイライト領域における階調再現性、網点部やベタ部における印刷濃度ムラの発生などが問題となる。
【０００４】
特許文献１では、版上における凸部を高精細にレーザ彫刻することを目的として、凸状に残す凸部の隣接領域を彫刻する光パワーを抑えて、凸部上面の彫刻を抑制するとともに、その外側の近接領域に対して光パワーを上げることによって凸部側面の傾きを急峻化させる方法を提案している。
【０００５】
特許文献２、３では、ベタ部におけるインキ転写性、マージナル軽減の観点から、レリーフの頂面に窪みを設ける構成を提案している。
【０００６】
特許文献４では、ベタ部のインキ転写性を改善する観点から、版表面の平均粗さを０．１〜０．６μｍとすることを開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００９−２３４２５５号公報
【特許文献２】特開２００２−１７８６５４号公報
【特許文献３】特開２００９−２８６１１３号公報
【特許文献４】特開２００３−４３６７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１の技術ではレリーフを急峻化することを開示しているが、急峻化させるだけでは、圧力に対する耐性が弱くなり、細線が歪んだり、小さな網点のドットゲインがかえって増大したりするという問題がある。
【０００９】
特許文献２は、レリーフの頂面に形成された窪みに余剰インキが入るため、被印刷体へのインキ転写時に余剰インキが周囲に広がらない（マージナル抑制）という効果は得られるものの、ドットゲインを改善するという点では不十分である。特許文献３は、ベタ部のかすれに対して効果のある方法であるが、ドットゲインの軽減にはならない。
【００１０】
特許文献４は、ベタ部におけるムラを改善する効果はあるが、ドットゲインの改善には至らない。
【００１１】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、ドットゲインの軽減、マージナル抑制により高精細・高画質の印刷を実現できる凸版印刷版をレーザ彫刻によって作成するための製造方法及び凸版印刷版作成装置並びにプログラムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記目的を達成するために、本発明に係る凸版印刷版の製造方法は、レーザ彫刻により凸版印刷版を作成する凸版印刷版の製造方法であって、印刷画像を表す多値画像データに基づいて２値画像データを生成する２値画像データ生成工程と、前記２値画像データから彫刻目標となる目標立体形状データを生成する彫刻目標形状データ生成工程と、前記目標立体形状データに基づいてレーザ彫刻機によるレーザ光の出力を制御するための露光量データを算出する露光量データ生成工程と、前記２値画像データの画像部に対応するＯＮ画素に近接する所定画素の範囲の画像外近接画素に所定の露光量を与えるエッジ露光量設定工程と、前記露光量データに基づいて、版上における前記２値画像データの非画像部に対応するＯＦＦ画素の領域にレーザ光を照射して前記画像部として前記版上に残す領域の外側部分を彫刻するとともに、前記エッジ露光量設定工程で設定された前記所定の露光量に基づいて版上における前記画像外近接画素にレーザ光を照射することにより前記画像部に対応したレリーフの頂面の縁部のうち少なくとも一部の角部が前記頂面から深さ方向に面取りされた凸部形状を有するレリーフを形成するレーザ彫刻工程と、を含む。
【００１３】
本発明に係る凸版印刷版の製造方法によれば、レリーフ頂面の縁部の少なくとも一部が面取りされた凸部形状を有するレリーフを得ることができる。本発明により製造される凸版印刷版は、ドットゲインを抑えることができるとともに、マージナルによるインキの広がりを軽減することができ、さらに、印圧によるレリーフの倒れも抑制できる。これにより、高精細・高画質の印刷を実現できる。
【００１４】
なお、「面取り」という用語は、角部を平坦な斜面で切り取る「Ｃ面取り（４５度面取り）」に限定するものではなく、面取り角度は適宜設計することができ、また、「Ｒ面取り（丸み面取り）」に代表されるように、角部を滑らかな曲面（上に凸の曲面、或いは、下に凸の曲面、若しくはこれらの組み合わせも含む）で丸めたものも包含されるものである。
【００１５】
頂面の縁の全周にわたって面取りされた形状であってもよいし、頂面の縁の一部について面取りされた形状であってもよい。
【００１６】
本発明の一態様として、前記レーザ彫刻工程における前記画像外近接画素へのレーザ光の照射により、前記２値画像データにおけるＯＮ画素の面積よりも、前記版上における前記レリーフの頂面の面積を小さくすることが好ましい。
【００１７】
頂面の面積が小さくなることで、頂面に付与されたイングがキャップ面取り部に逃げ、マージナルによるインキの広がり（ドットの太り）を抑制できる。
【００１８】
本発明の他の態様として、前記非画像部に対応するＯＦＦ画素の領域に対して付与する露光量に比べて、前記画像外近接画素に付与する露光量は少量である構成とすることが好ましい。
【００１９】
非画像部を彫刻するために必要なレーザ露光量に比べて、キャップ面取り部の形成に必要なレーザ露光量は少ない露光量で足りる。
【００２０】
本発明の他の態様として、前記版上に照射されるレーザ光のビーム径は、前記２値画像データの１画素の幅よりも大きい構成とすることができる。
【００２１】
彫刻用のレーザ光として、２値画像データの１画素よりも広い範囲を露光できるビーム断面積を有するビームを用いることができる。レーザ光のビーム径に応じて画像外近接画素の範囲を定めることができる。
【００２２】
本発明における前記画像外近接画素は、前記ＯＮ画素に隣接する周囲１画素の範囲であるとすることができる。
【００２３】
本発明の他の態様として、版材の種類に応じて、前記頂面の縁部の面取りに必要な露光量のパラメータを保持しておき、使用される版材の種類に対応して、前記所定の露光量のデータが可変設定される構成を採用することができる。
【００２４】
かかる態様によれば、様々な種類の版材に対して適切なパラメータを設定することができる。
【００２５】
本発明の他の態様として、版材の種類と被印刷体の種類の組み合わせに応じて、前記頂面の縁部の面取りに必要な露光量のパラメータを保持しておき、使用される版材の種類と被印刷体の種類の組み合わせに対応して、前記所定の露光量のデータが可変設定される構成を採用することができる。
【００２６】
かかる態様によれば、版材と被印刷体（メディア）の組み合わせに対して適切なパラメータを設定することができる。
【００２７】
本発明の他の態様に係る凸版印刷版の製造方法は、前記レリーフの頂面に対応する画素領域に対してランダムに露光量を与えるランダム露光量付与工程と、前記ランダムに付与された露光量に従い、前記レリーフの頂面にレーザ光を照射して当該レリーフの頂面の不規則な位置に不規則な深さの窪みを複数形成するランダム凹凸形成工程と、を含む。
【００２８】
かかる態様によれば、レーザ彫刻によって、レリーフ頂面にランダムな凹凸を形成することができる。この態様によって作成される凸版印刷版は、網点部やベタ部のムラが改善されたものとなる。
【００２９】
また、かかる態様において前記頂面にランダムに付与される露光量は、前記画像外近接画素に付与される露光量よりも少量である構成とすることが好ましい。
【００３０】
頂面にランダムな凹凸を形成するためのレーザ露光量は、キャップ面取り部を形成するための露光量よりも少量とすることができる。
【００３１】
また、前記目的を達成するために、本発明に係る凸版印刷版作成装置は、レーザ彫刻により凸版印刷版を作成する凸版印刷版作成装置であって、印刷画像を表す多値画像データに基づいて２値画像データを生成する２値画像データ生成手段と、前記２値画像データから彫刻目標となる目標立体形状データを生成する彫刻目標形状データ生成手段と、前記目標立体形状データに基づいてレーザ彫刻機によるレーザ光の出力を制御するための露光量データを算出する露光量データ生成手段と、前記２値画像データの画像部に対応するＯＮ画素に近接する所定画素の範囲の画像外近接画素に所定の露光量を与えるエッジ露光量設定手段と、前記露光量データに基づいて、版上における前記２値画像データの非画像部に対応するＯＦＦ画素の領域にレーザ光を照射して前記画像部として前記版上に残す領域の周囲を彫刻するとともに、前記エッジ露光量設定手段で設定された前記所定の露光量に基づいて版上における前記画像外近接画素にレーザ光を照射することにより前記画像部に対応したレリーフの頂面の縁部のうち少なくとも一部の角部が前記頂面から深さ方向に面取りされた凸形状を有するレリーフを形成するレーザ彫刻手段と、を備える。
【００３２】
本発明の一態様として、版材の種類に応じて、前記頂面の縁部の丸め又は面取りに必要な露光量のパラメータを記憶しておくパラメータ記録手段を備え、使用される版材の種類に対応して、前記所定の露光量のデータが可変設定される構成とすることができる。
【００３３】
また、本発明の他の態様として、版材の種類と被印刷体の種類の組み合わせに応じて、前記頂面の縁部の丸め又は面取りに必要な露光量のパラメータを記憶しておくパラメータ記録手段を備え、使用される版材の種類と被印刷体の種類の組み合わせに対応して、前記所定の露光量のデータが可変設定される構成とすることができる。
【００３４】
本発明の他の態様として、前記レリーフの頂面に対応する画素領域に対してランダムに露光量を与えるランダム露光量付与手段を備え、前記レーザ彫刻手段は、前記ランダムに付与された露光量に従い、前記レリーフの頂面にレーザ光を照射して当該レリーフの頂面の不規則な位置に不規則な深さの窪みを複数形成する構成とすることができる。
【００３５】
前記目的を達成するために、コンピュータに、印刷画像を表す多値画像データに基づいて２値画像データを生成する２値画像データ生成工程と、前記２値画像データから彫刻目標となる目標立体形状データを生成する彫刻目標形状データ生成工程と、前記目標立体形状データに基づいてレーザ彫刻機によるレーザ光の出力を制御するための露光量データを算出する露光量データ生成工程と、前記２値画像データの画像部に対応するＯＮ画素に近接する所定画素の範囲の画像外近接画素に所定の露光量を与えるエッジ露光量設定工程と、を実行させるためのプログラムであって、前記露光量データに基づいて、版上における前記２値画像データの非画像部に対応するＯＦＦ画素の領域にレーザ光を照射して前記画像部として前記版上に残す領域の外側部分が彫刻されるとともに、前記エッジ露光量設定工程で設定された前記所定の露光量に基づいて版上における前記画像外近接画素にレーザ光を照射することにより前記画像部に対応したレリーフの頂面の縁部のうち少なくとも一部の角部が前記頂面から深さ方向に面取りされた凸部形状を有するレリーフが形成されることを特徴とするプログラムを提供する。
【発明の効果】
【００３６】
本発明に係る凸版印刷版の製造方法、凸版印刷版作成装置並びにプログラムによれば、高精細・高画質の印刷を実現できる凸版印刷版をレーザ彫刻によって作成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の実施形態に係るフレキソ印刷版の版上に形成されるレリーフ（浮き彫りとして形成される凸部分）のイメージを模式的に表した斜視図
【図２】図１に示したレリーフの縦断面図
【図３】本実施形態におけるレリーフ（凸部）の各部の名称について整理するための模式図
【図４】本実施形態によるフレキソ印刷版の縦断面の一例を示す図
【図５】本実施形態に係るフレキソ彫刻ＣＴＰシステムの全体構成を示すブロック図
【図６】３Ｄ彫刻形状変換部の処理ブロック図
【図７】距離計算部にて計算される距離の一例を示す説明図
【図８】形状設定パラメータを説明するための模式図
【図９】距離計算の結果から３次元彫刻形状を決定する処理の概念図
【図１０】露光量変換部の処理ブロック図
【図１１】３Ｄ彫刻形状データから露光量データに変換する際の変換処理の説明図
【図１２】レーザ光のビーム径と２値画像データの画素の関係を例示した説明図
【図１３】平面視で矩形の網点凸部を形成する場合の光パワー制御の説明図
【図１４】図１４の（ａ）は、レーザビームの画素の露光量信号を示し、図１４の（ｂ）は、（ａ）に示した露光量信号にしたがって版材上に照射されるレーザビームの図１３中Ａ−Ａ線に沿った断面の光パワーの積算エネルギーを示すグラフ、図１４の（ｃ）は版上に形成される凸点の図１３中Ａ−Ａ線に沿った断面形状を模式的に示す図
【図１５】本実施形態に用いられる製版装置の構成を示す斜視図
【図１６】光ファイバーアレイ部の構成図
【図１７】光ファイバーアレイ部の光出射部の拡大図
【図１８】光ファイバー端部の配置位置と走査線を説明するための説明図
【図１９】光ファイバーアレイ部の結像系の概要図
【図２０】製版装置における走査露光系の概要を示す平面図
【図２１】製版装置の制御系の構成を示すブロック図
【図２２】製版装置によって画像記録（フレキソ印刷版の製版）を行う際の処理の流れを示すフローチャート
【図２３】製版装置による彫刻プロセスの説明図
【図２４】マルチビームによる微細加工方式の具体例を示す説明図
【図２５】第２実施形態に係るフレキソ印刷版の版上に形成されるレリーフのイメージを模式的に表した要部斜視図
【図２６】図２５に示したレリーフの縦断面図
【図２７】第２実施形態のレリーフを形成する際に用いる露光量変換部の構成例を示すブロック図
【図２８】フレキソ印刷機の要部構成図
【図２９】平網５０％の印刷結果のＬ＊（明るさ）の印圧変動を示すグラフ
【図３０】平網５０％の印刷結果についての粒状性Ｌ＊の印圧変動を示すグラフ
【図３１】小点用のレリーフ形状の説明図
【発明を実施するための形態】
【００３８】
以下、添付図面にしたがって本発明の実施形態について詳細に説明する。
【００３９】
まず、ドットゲインの軽減、マージナル抑制により高精細・高画質の印刷を実現するために好ましい凸版印刷版の形態について説明する。
【００４０】
＜第１実施形態＞
図１は本発明の実施形態に係るフレキソ印刷版の版上に形成されるレリーフ（浮き彫りとして形成される凸部分）のイメージを模式的に表した斜視図である。本実施形態によるフレキソ印刷版１０の版上には浮き彫りの凸部分として、図示のような３次元形状を有するレリーフ１２が形成される。このレリーフ１２は、頂面１４にインキが付与されるキャップ部１６と、該キャップ部１６を支える土台となる台部１８と、を有する。図１では円錐台形状の台部１８の上に、略円柱形状のキャップ部１６が形成されている例を示したが、台部１８及びキャップ部１６の立体形状については、図示の例に限定されない。なお、本実施形態の説明においては、図１のように、レリーフ１２の頂面１４を「上」側、レリーフ１２のボトム２４の面を「下」側として、上下の方向を表現する。また、フレキソ印刷版１０は、重力方向に対して直交する水平面と平行な支持面(不図示)の上に支持されているものとして説明する。
【００４１】
図１に示したように、レリーフ１２におけるキャップ部１６の頂面１４の部分は、水平面と平行なフラット部として形成されている。キャップ部１６の頂面１４の形状（平面視による形状）は円形に限らず、楕円形、多角形など、任意の形状とすることができる。キャップ部１６の頂面１４のエッジ（縁）部分は面取りされ、滑らかな傾斜面（符号２０）となっている。本明細書では、この符号２０で示す面取り部分を「キャップ面取り部」と呼ぶことにする。
【００４２】
図１では、頂面１４のエッジ全周が面取りされている例を示すが、必ずしも全周に限らず、エッジの一部分のみを面取りし、一部を面取りせずに残す形態も可能である。
【００４３】
キャップ部１６は、キャップ面取り部２０よりも下方の部分は、頂面１４に対して垂直に近い急峻な勾配の側面を有する形状となっている。すなわち、キャップ部１６は、キャップ面取り部２０を除いて、その水平断面の断面積が切断面高さによらず概ね一定となっている。この水平面（頂面１４）に対して垂直に近い急峻な角度で起立する側面を有する部分（符号２２）を本明細書では「キャップ急峻部」と呼ぶことにする。
【００４４】
「垂直に近い急峻な角度」とは、例えば、７０°以上９０°以下の範囲の角度である。垂直（９０°）に近い角度であるほど好ましいものであるが、実際の加工プロセス等の制約により、必ずしも厳密に垂直（９０°）となることまで要求されず、実用上、同等程度の作用効果が得られる範囲で許容範囲がある。垂直に近い急峻な角度として、好ましくは、７５°以上９０°以下、より好ましくは８０°以上９０°以下である。
【００４５】
一方、キャップ部１６を支える台部１８は、キャップ部１６の基部（根本）からレリーフ１２のボトム（底部）に向かって全体的に末広がり型の形状を有しており（ボトムからキャップ部１６に向かって先細り型）の形状を有しており、水平断面の断面積が下に行くほど大きい（水平断面の断面積が上に行くほど小さい）。例えば、楕円錐台、角錐台などの形態の土台部分も可能である。
【００４６】
図２は、図１に示したレリーフ１２の縦断面図（頂面１４と垂直に交差する切断面で切った断面形状を示す断面図）である。図１のレリーフ１２を縦断面の断面形状で見ると、図２に示すように、キャップ部１６は略矩形の形状である。キャップ部１６は、水平な頂面１４と、この頂面１４に対して垂直に近い急峻な角度の側面を形成するキャップ急峻部２２を有する。また、キャップ部１６の頂面１４のエッジは、面取りされた傾斜面（符号２０）となっている。
【００４７】
フレキソ印刷版の場合、レリーフ１２の頂面１４からボトム２４までの深さｄの最大値（最大深度ｄmax）は、概ね５００μｍ程度であり、キャップ部１６の高さ（頂面１４からの深さｄｃ）はおよそ４０μｍ程度（最大深度ｄmaxの約１０％前後）であることが好ましい。
【００４８】
キャップ部１６を支える台部１８の縦断面形状は台形形状を有する。台部１８の側面２８は、キャップ急峻部２２と比較して緩やかな勾配の傾斜面となっている。台部１８の斜面部分（符号２８）の傾斜角度ｘは、適宜の角度に設計することができる。ここでは、ボトム２４の底面を基準として斜面の仰角を傾斜角度ｘとしているが、頂面１４に垂直な鉛直面を基準として傾斜角度ｙを定義してもよい。頂面の面積が小さいほど、勾配（傾斜角度ｘ）を小さくする（スロープを緩やかにする）ことで、凸部の倒れを効果的に防止できる。なお、台部１８の縦断面における側面部分（符号２８）は、斜めの直線となる形態に限らず、曲線となる形態も可能である。
【００４９】
図３は、本実施形態におけるレリーフ（凸部）の各部の名称について整理するための模式図である。図３の［１］で示した部分は、キャップ部１６の頂面１４部分を表している。このように頂面１４部分を水平に形成したことにより、インキを凸版に転写させるためのローラ（アニロックスローラ）からのインキの転写が一様になり、インキ付与用が安定するという効果がある。
【００５０】
図３の［２］で示した部分は、キャップ面取り部（図１、図２の符号２０参照）である。キャップ部１６の頂面１４のエッジを面取りしない構成の場合、印刷でキャップ部が変形して印刷後の線や点が太るという問題がある。この点、本実施形態のようにキャップ部１６の頂面１４のエッジを面取りする構成を採用することにより、印圧でキャップ部１６が変形しても被印刷体に転写されたインキによる画像線や画像点（網点）が太らないという作用効果が得られる。
【００５１】
キャップ面取り部２０は、頂面１４から深さ方向に５μｍ以上２０μｍ以下の範囲で形成されることが好ましい。
【００５２】
図３の［３］で示した部分は、キャップ垂直部分（図１、図２の符号２２参照）である。レリーフ１２の頂面１４として残す領域Ａ（面取り後の頂面の領域、以下「頂面領域」という。）に比べて、キャップ急峻部２２の太さ（水平断面形状の領域Ｂ）は大きいものとなっている。
【００５３】
図３の［２］で示したキャップ面取り部と、［３］で示したキャップ急峻部とを合わせたキャップ部１６は、頂面１４から深さ方向に１０μｍ以上４０μｍ以下の範囲で形成されることが好ましい。
【００５４】
このようなキャップ急峻部２２を設ける理由は次のとおりである。例えば、キャップ部１６として、錐台形のように傾斜のある山形の形状を採用すると、印圧の大小によって垂直方向への押し込み量が異なり、その押し込み量の大小（印圧の大小）に応じてドットの太り方が異なる。特に、印刷機、基材の種類や印刷条件などによって印圧が異なるため、キャップ部１６は、頂面１４から垂直に近い急峻な角度で形成されたキャップ急峻部２２を有する構成が好ましい。
【００５５】
図３の［４］で示した部分は、台部（図１、図２の符号１８参照）である。台部１８の側面が垂直のままだと、版上のレリーフが印圧で倒れやすいという問題がある。このような凸部の倒れを防止する観点から、台部１８はボトム２４に向かって末広がりの傾斜形状とすることが好ましい。台部１８の側面の勾配は５０度以上７０度以下の範囲であることが好ましい。
【００５６】
図４は、フレキソ印刷版１０の断面の一例を示す。図示のように、フレキソ印刷版１０には、多数の凸部が形成されている。各凸部の頂面１４のエッジは面取りされている。
【００５７】
このような印刷版を用いることにより、印圧によるドットの太りが軽減される。また、印圧により頂面１４から周囲に押し出されるインキは、キャップ面取り部２０の面取り斜面に沿って部分に流れるため、マージナルも抑制される。
【００５８】
＜フレキソ印刷版の製造方法について＞
次に、上述したフレキソ印刷版１０（「凸版印刷版」に相当）を作成するための作成装置（製版装置）及び製造方法について説明する。
【００５９】
＜フレキソ彫刻ＣＴＰシステムの構成＞
図５は、フレキソ彫刻ＣＴＰシステムの全体構成を示すブロック図である。この製版システム１００（「凸版印刷版作成装置」に相当）は、主として、ＲＩＰ（Raster Image Processor）装置１０２と、凸版作成装置（セッター装置）１０４とから構成される。
【００６０】
ＲＩＰ装置１０２は、ＲＩＰ処理部１１２とスクリーニング処理部（２値画像データ生成部）１１４とを備える。ＲＩＰ処理部１１２は、コンピュータ等を用いて編集された印刷原稿のベクトル画像を表現するＰＤＦ(Portable Document Format)データやＰＳ(Post Script;登録商標)データ等のページ記述言語(Page Description Language)データ（以下、「ページデータ」という。）１２０をラスタ画像データIrに変換する変換処理部である。
【００６１】
ラスタ画像データIrを構成する各画像データIi（各画素データ)は、階調値として、通常、例えば、ＣＭＹＫの4チャンネルで各8ビット、すなわち２５６ (0〜２５５)階調等を採り得るが、本実施形態では、理解の便宜のために、 ２５６(０〜２５５)階調は、対応する網点面積率Ｈarで０〜１００[%]に変換されているものとする。すなわち、網点面積率に変換された画像データIiは、 階調値として０〜１００の値を採るものとなる。この場合、画像データIiの値がＩi=100の場合、ベタ部が形成される。また、画像データＩiの値がＩｉ=0の場合、非画像部となり、網点突起部(網点印刷用突起部、又は、単に突起部という)は、形成されない。
【００６２】
スクリーニング処理部１１４は、ＲＩＰ処理部１１２で生成されたラスタ画像データを２値の網点画像データ（「２値網点画像データ」という。）に変換する変換処理部である。スクリーニング処理部１１４は、予め指定された網（例えば、ＡＭ網点、ＦＭ網点、或いは、これらを組み合わせたハイブリッド網）、スクリーン角度とスクリーン線数などの条件の下に、ラスタ画像データＩｒに対してスクリーニング処理を行い、２値網点画像データを生成する。スクリーニング処理には、ＡＭスクリーニング、ＦＭスクリーニング、ハイブリッドスクリーニングなど、各種のスクリーニング技術を適用できる。
【００６３】
セッター装置１０４は、ＲＩＰ装置１０２で生成された２値網点画像データを３次元（３Ｄ）の彫刻形状データ（「３Ｄ彫刻形状データ」という。）に変換する３Ｄ彫刻形状変換部１４２と、３Ｄ彫刻形状データからレーザ彫刻用の露光量データに変換する露光量変換部１４４と、を有する画像処理回路１４６を備える。また、セッター装置１０４は、画像処理回路１４６で生成された露光量データに基づいてレーザ光の出力が制御される彫刻型ＣＴＰ描画部１４８を備えている。
【００６４】
３Ｄ彫刻形状変換部１４２は、網点や文字など非露光領域の外側に、レリーフの形状を指定するパラメータに従い、３Ｄ形状を作成する。ＲＩＰ装置１０２で生成される２値網点画像データは、インキを付与する部分（画像部）の画素が黒、インキを付与しない部分（非画像部）の画素が白と、というような白（０）／黒（１）の２値データとなる。この２値網点の画像内容を反映した凸版をレーザ彫刻によって作成する場合、版材の白地部となる非画像部（白画素の部分）にレーザ光を照射して除去加工が行われ、画像部（黒画素の部分）は非露光領域として残される。
【００６５】
本実施形態における「２値網点画像データ」が請求項で言う「２値画像データ」に相当し、「３Ｄ彫刻形状データ」が「目標立体形状データ」に相当する。  
【００６６】
図６は、３Ｄ彫刻形状変換部１４２の処理ブロック図である。３Ｄ彫刻形状変換部１４２は、白地部の各画素から最短の黒画素までの距離を計算する距離計算部１５２と、形状設定パラメータを記憶した記憶部１５４と、距離計算部１５２にて算出された距離の値に応じて、指定されたパラメータにより計算される彫刻深さを求める深さ計算部１５６と、を備える。
【００６７】
図７は、距離計算部１５２にて計算される距離の一例である。図７における黒塗り斜線で示した画素が２値画像データにおけるＯＮ画素（「黒画素」とも言う。）であり、当該ＯＮ画素の領域が画像部に相当する。当該ＯＮ画素の領域（画像部）の外側の周囲の画素は白地部に対応する非画像部である。白地部の各画素から最短の黒画素までの距離を画素単位で示した数字が各画素のセルに示されている。黒画素に隣接する白画素の距離は「１」として表した。距離の計算に際しては、ユークリッド距離変換を含む公知の距離変換アルゴリズムを用いることができる。
【００６８】
図８は、形状設定パラメータの模式図である。図８のように、レリーフ凸部の形状モデルが定められている。レリーフの凸形状を特定するパラメータには、例えば、２次元面内における黒画素の端からの距離ｒ、レリーフの深さｄ、キャップの高さ（頂面からの深さ）ｈ、キャップ下の土台部分における肩の張り出し量ｕ、土台部分の傾斜角ｘ、などがある。
【００６９】
これら各パラメータに関する数値を設定することによって、目的の３次元形状が得られる。実際の彫刻に際しては、距離ｒと深さｄの関係を規定することによって、レリーフの形状を特定することができる。
【００７０】
このような形状設定パラメータは、版材の種類に関連して複数種類のデータ群が保持されている。或いはまた、版材の種類と被印刷体（メディア）の種類との組み合わせに関連して複数種類のデータ群が保持されている。使用する版材に応じて、若しくは使用する版材と被印刷体の組み合わせに応じて、製版用のプログラムによって自動的に適切なパラメータが選択される。また、ユーザーインターフェース（不図示）を介してオペレータ（ユーザ）が所望のパラメータを選択したり、入力、編集することも可能である。
【００７１】
図９は、距離計算の結果から３次元彫刻形状を決定する処理の概念図である。図９の横軸は２次元空間（画像面）内で最も近い黒画素（２値画像のＯＮ部分）からの距離を示し、縦軸は２値画像の信号値並びに彫刻深さを表している。２値網点画像の元のデジタル信号は、図９の太線で示したように、画像部と非画像部が離散的に（ステップ状に）切り替わるものである。
【００７２】
これに対して、２次元空間における白地部分（白画素）について、最も近いＯＮ領域（黒画素）からの距離ｒに応じて、彫刻深さを変化させるように、彫刻形状データが修正される（図９の破線）。この破線で示した彫刻深さデータは、図８で説明した形状設定パラメータにしたがって決定される。図９では、円弧状の破線による彫刻形状を図示したが、形状パラメータに規定される距離ｒと深さｄの関係に対応した彫刻形状データが生成される。
【００７３】
図１０は、露光量変換部１４４の処理ブロック図である。露光量変換部１４４は、３Ｄ彫刻データの彫刻深さ情報から彫刻に必要なレーザ露光量のデータに変換する処理部（露光量算出処理部）１６２と、レリーフ頂面から所定距離の画像外近接画素に対して、エッジ部の面取り用の露光量を与えるエッジ部露光量設定部１６４と、エッジ部の面取り露光に必要なパラメータのデータを保持する記憶部（面取り用露光パラメータ保持部１６６）を備える。
【００７４】
面取り用露光パラメータ保持部１６６には、版材の種類に関連して複数種類の面取り用露光パラメータが保持されている。或いはまた、版材の種類と被印刷体（メディア）の種類との組み合わせに関連して複数種類の面取り用露光パラメータが保持されている。使用する版材に応じて、若しくは使用する版材と被印刷体の組み合わせに応じて、製版用のプログラムによって自動的に適切なパラメータが選択される。また、ユーザーインターフェースを介してオペレータ（ユーザ）が所望のパラメータを選択したり、入力、編集することも可能である。図１０の符号１６８は、ユーザーインターフェースとしての入力装置である。入力装置１６８には、例えば、キーボード、マウス、タッチパネル、操作ボタン、或いはこれらの適宜の組み合わせなど、各種の構成を採用し得る。ユーザは、入力装置１６８から各種の指示を入力することができ、その指示内容は図示せぬディスプレイ（表示装置）を通じて確認することができる。
【００７５】
図１１は、３Ｄ彫刻形状データから露光量データに変換する際の変換処理の説明図である。最も単純な変換処理の方法としては、例えば、図１１のように、彫刻深さに対して露光量を定めるルックアップテーブルにより変換するものである。図１０で説明した露光量算出処理部１６２において、図１１のようなルックアップテーブを用いた変換処理が行われる。
【００７６】
なお、上記の説明では、黒画素からの距離→彫刻深さ→露光量という段階的な処理ステップで変換処理を行う場合を説明したが、実際の演算処理においては、距離と露光量の関係を規定したテーブルを予め求めておき、そのテーブルを用いて距離から露光量へ一回の変換処理で目的の変換結果を得ることができる。
【００７７】
〔エッジ部の面取り露光量の設定について〕
図１０に示したエッジ部露光量設定部１６４の処理は次のとおりである。本実施形態では、画像部（２値網点画像のＯＮ領域）のエッジ部分を面取りするため、黒画素に隣接する白画素（最も近いＯＮ領域からの距離が、画素単位で「１」の範囲）に対して、パラメータとして指定した所定露光量を与える。具体的に例示すると、図７で説明した周囲１画素の範囲（距離「１」の画素）が「画像外近接画素」に相当しており、この周囲１画素に対して、パラメータとして指定した露光量を与える。ここで言う所定露光量は、目的の面取り量を実現する彫刻量となる露光量であり、キャップ急峻部２２や台部１８を削り出すための露光量よりも少量の露光量が設定される。
【００７８】
こうして、ＯＮ領域のエッジ部の露光量、並びに非画像部の露光量のデータを含んだ露光量データが生成され、この露光量データに基づいて彫刻型ＣＴＰ描画部１４８（図５参照）による彫刻動作が制御される。
【００７９】
図５から図１１で説明した信号処理は、ハードウエア及びソフトウエアの組み合わせによって実現することができる。例えば、図５で説明した画像処理回路１４６の機能をコンピュータによって実現することも可能である。この場合、画像処理回路１４６の処理機能（図６や図１０で説明した処理機能を含む）をコンピュータによって実現するためのプログラムがコンピュータに組み込まれる。
【００８０】
＜彫刻型ＣＴＰ描画部の構成例＞
本実施形態のセッター装置１０４は、例えば、２次元平面内において2400dpiの描画（加工）解像度を有するレーザ彫刻機が採用されている。つまり、セッター装置１０４は、2400ｄpiに対応する解像度の３Ｄ彫刻データと露光量データを生成する。この場合、版データ上の１画素は１辺が約10.6μｍのセルとなる。
【００８１】
図１２は、レーザ彫刻機によって版材上に照射されるレーザ光のビーム径と、２値画像データの画素の関係を例示した説明図である。レーザ光のビーム径Ｄは、当該レーザ彫刻機の描画解像度で規定される画素の１辺の長さ（例えば、ａｘ＝ａｙ＝10．6μｍ）よりも大きいものを用いることができる。一例として、レーザ彫刻機から版材上に照射されるレーザ光のビーム径Ｄはおよそ35μｍである。2400dpiの場合、１画素の画素サイズは一辺が約10.6μｍになる。つまり、描画彫刻に用いるレーザ光のビーム径Ｄは、１画素の範囲よりも大きく、図１２のように、中心画素に隣接する周囲１画素分を含む範囲にわたって、レーザ光による露光が行われることになる。なお、図１２の下段に示したように、ビーム径Ｄの範囲内においては、当該レーザ光のパワー分布は概ね一定なものである。
【００８２】
ビーム径と画素の大きさの関係は、上記に例示したものに限定されない。ビーム径は１画素の面積よりも大きいものを用いることができるが、ビーム径と１画素のサイズの大きさの関係に応じて、面取り用の露光量を付与する画像外近接画素の範囲が決定される。
【００８３】
＜露光制御方法について＞
次に、本実施形態によるレーザ露光制御の方法を説明する。図１３では、平面視で矩形の網点凸部を形成する場合の光パワー制御の説明図である。ここでは、露光量データ上において中央の隣接４画素（Ｑ１，Ｑ２，Ｑ３，Ｑ４）を２値画像のＯＮ画素（黒画素）として矩形の凸点を形成する場合を例に説明する。
【００８４】
本例ではこの４画素からなる矩形凸点の全周にわたって隣接する１画素分の画像外エッジ範囲（図中符号１８０で示した淡いドットスクリーンで示した１２画素からなる最隣接領域）について、相対的に少量の露光パワー（面取り加工に対応した微量の所定露光量）を与える。そして、この画像外エッジ範囲のさらにその外側の全周にわたって隣接する周囲１画素分の範囲（図中符号１８２で示した濃いドットスクリーンで示した２０画素からなる隣接領域）について、相対的に光パワーを上げて彫刻を行う。
【００８５】
図１４の（ａ）は、レーザビームの画素の露光量信号を示し、図１４の（ｂ）は、（ａ）に示した露光量信号にしたがって版材上に照射されるレーザビームの図１３中Ａ−Ａ線に沿った断面の光パワーの積算エネルギーを示すグラフ、図１４の（ｃ）は版上に形成される凸点の図１３中Ａ−Ａ線に沿った断面形状を模式的に示す図である。
【００８６】
図１４の（ａ）に示すように、黒画素Ｑ１，Ｑ２，Ｑ３，Ｑ４に接する最近接エッジ領域（図１３の符号１８０で示した周囲１画素範囲）について少量の露光量を与えることにより、頂面のエッジ部分に面取り形状を形成できる（図１４の（ｃ）参照）。彫刻用のレーザ光のビーム径は１画素よりも大きいことから、黒画素Ｑ１，Ｑ２，Ｑ３，Ｑ４の矩形領域の内側にもビーム径の範囲でレーザ光が照射される。このため、元々のＯＮ領域（矩形領域）の縁から内側の一部分も露光されて除去される。したがって、本来のＯＮ領域の面積よりも小さい頂部面積が実現される（図１４の（ｃ）参照）。
【００８７】
また、図１３の符号１８２で示した画素領域について、相対的に大きな露光量で彫刻を行うことにより、キャップ急峻部２２に相当する急峻な側面が形成される。さらに、図１３において符号１８２で示した画素領域のさらに外側の符号１８４で示した周囲画素の範囲については、符号１８２の画素領域よりも相対的に光パワーの小さい露光量で彫刻が行われ、台部１８に相当する部分が形成される（図１４の（ｃ）参照）。
【００８８】
＜レーザ彫刻機の構成例＞
次に、彫刻型ＣＴＰ描画部１４８の一例として、マルチビーム走査露光方式のレーザ彫刻機を用いた製版装置の構成例について説明する。
【００８９】
図１５は、本実施形態に用いられる製版装置２００の構成を示す斜視図である。本例の製版装置２００は、円筒形を有するドラム２５０の外周面にシート状の版材Ｆ（「記録プレート」とも言う。）を固定し、該ドラム２５０を図１５中の矢印Ｒ方向（主走査方向）に回転させるとともに、版材Ｆに向けてレーザ記録装置２１０の露光ヘッド２３０から、該版材Ｆに彫刻（記録）すべき画像の画像データに応じた複数のレーザビームを射出し、露光ヘッド２３０を主走査方向と直交する副走査方向（図１５中の矢印Ｓ方向）に所定ピッチで走査させることで、版材Ｆの表面に２次元画像を高速で彫刻（記録）し、凸版印刷版を製版するものである。ここでは、フレキソ印刷用のゴム版又は樹脂版を彫刻する場合を例に説明する。
【００９０】
本例の製版装置２００に用いられるレーザ記録装置２１０は、複数のレーザビームを生成する光源ユニット２２０と、光源ユニット２２０で生成された複数のレーザビームを版材Ｆに照射する露光ヘッド２３０と、露光ヘッド２３０を副走査方向に沿って移動させる露光ヘッド移動部２４０と、を含んで構成されている。なお、ドラム２５０の回転方向Ｒが主走査方向とされ、矢印Ｓで示すドラム５０の軸方向（長手方向）に沿って露光ヘッド３０が移動する方向が副走査方向とされる。
【００９１】
光源ユニット２２０は、複数の半導体レーザ２２１Ａ、２２１Ｂ（ここでは合計６４個）を備えており、各半導体レーザ２２１Ａ、２２１Ｂの光は、それぞれ個別に光ファイバー２２２Ａ、２２２Ｂ、２７０Ａ、２７０Ｂを介して露光ヘッド２３０の光ファイバーアレイ部３００へと伝送される。
【００９２】
本例では、半導体レーザ２２１Ａ、２２１Ｂとしてブロードエリア半導体レーザ（波長:９１５ｎｍ）が用いられ、これら半導体レーザ２２１Ａ、２２１Ｂはそれぞれ光源基板２２４Ａ、２２４Ｂ上に並んで配置されている。各半導体レーザ２２１Ａ、２２１Ｂは、それぞれ個別に光ファイバー２２２Ａ、２２２Ｂの一端部にカップリングされ、光ファイバー２２２Ａ、２２２Ｂの他端はそれぞれＳＣ型光コネクタ２２５Ａ、２２５Ｂのアダプタに接続されている。
【００９３】
ＳＣ型光コネクタ２２５Ａ、２２５Ｂを支持するアダプタ基板２２３Ａ、２２３Ｂは、光源基板２２４Ａ、２２４Ｂの一方の端部に垂直に取り付けられている。また、光源基板２２４Ａ、２２４Ｂの他方の端部には、半導体レーザ２２１Ａ、２２１Ｂを駆動するＬＤドライバー回路（図１５中不図示、図２１の符号２２６）を搭載したＬＤドライバー基板２２７Ａ、２２７Ｂが取り付けられている。各半導体レーザ２２１Ａ、２２１Ｂは、それぞれ個別の配線部材２２９Ａ、２２９Ｂを介して、対応するＬＤドライバー回路に接続されており、各々の半導体レーザ２２１Ａ、２２１Ｂは個別に駆動制御される。
【００９４】
なお、本実施の形態では、レーザビームを高出力とするために、コア径の比較的大きな、多モード光ファイバーを光ファイバー２７０Ａ、２７０Ｂに適用している。具体的には、本実施形態においては、コア径が１０５μｍの光ファイバーが用いられている。また、半導体レーザ２２１Ａ、２２１Ｂには、最大出力が１０Ｗ程度のものを使用している。具体的には、例えば、ＪＤＳユニフェーズ社から販売されているコア径１０５μｍで出力８．５Ｗ(６３９７−Ｌ３)のものなどを採用することができる。
【００９５】
一方、露光ヘッド２３０には、複数の半導体レーザ２２１Ａ、２２１Ｂから射出された各レーザビームを取り纏めて射出するファイバーアレイ部３００（図１６参照）が備えられている。このファイバーアレイ部３００には、各々アダプタ基板２２３Ａ、２２３Ｂに接続されたＳＣ型光コネクタ２２５Ａ、２２５Ｂに接続された複数の光ファイバー２７０Ａ、２７０Ｂによって、各半導体レーザ２２１Ａ、２２１Ｂから射出されたレーザビームが伝送される。
【００９６】
また、露光ヘッド２３０内には、光ファイバーアレイ部３００の光出射部側より、コリメータレンズ２３２、開口部材２３３、及び結像レンズ２３４が、順番に並んで配設されている。コリメータレンズ２３２と結像レンズ２３４の組み合わせによって結像光学系が構成されている。開口部材２３３は、光ファイバーアレイ部３００側から見て、その開口がファーフィールド（Far Field）の位置となるように配置されている。これによって、光ファイバーアレイ部３００から射出された全てのレーザビームに対して同等の光量制限効果を与えることができる。
【００９７】
露光ヘッド移動部２４０には、長手方向が副走査方向に沿うように配置されたボールネジ２４１及び２本のレール２４２が備えられており、ボールネジ２４１を回転駆動する副走査モータ（図１５中不図示、図２１の符号２４３）を作動させることによってボールネジ２４１上に配置された露光ヘッド２３０をレール２４２に案内された状態で副走査方向に移動させることができる。また、ドラム２５０は主走査モータ（図１５中不図示、図２１の符号２５１）を作動させることによって、図１５の矢印Ｒ方向に回転駆動させることができ、これによって主走査がなされる。
【００９８】
図１６は光ファイバーアレイ部３００の構成図であり、図１７はその光出射部２８０の拡大図（図１５の矢印Ａ方向から見た図）である。図１７に示すように、ファイバーアレイ部３００の光出射部２８０は、２枚の基台３０２Ａ、３０２Ｂを有している。基台３０２Ａ、３０２Ｂには各々片面に半導体レーザ２２１Ａ、２２１Ｂと同数の、すなわち夫々３２個のＶ字溝２８２Ａ、２８２Ｂが所定の間隔で隣接するように形成されている。そして、基台３０２Ａ、３０２Ｂは、Ｖ字溝２８２Ａ、２８２Ｂが対向するように配置されている。
【００９９】
基台３０２Ａの各Ｖ字溝２８２Ａには、光ファイバー２７０Ａの他端部の光ファイバー端部２７１Ａが１本ずつ嵌め込まれている。同様に基台３０２Ｂの各Ｖ字溝２８２Ｂに各光ファイバー２７０Ｂの他端部の光ファイバー端部７１Ｂが１本ずつ嵌め込まれている。したがって、ファイバーアレイ部３００の光出射部２８０から、各半導体レーザ２２１Ａ、２２１Ｂから射出された複数の、本実施形態では６４本（３２本×２）のレーザビームを同時に射出させることができる。
【０１００】
すなわち、本実施の形態のファイバーアレイ部３００は、複数（本実施形態では３２本×２＝合計６４個）の光ファイバー端部２７１Ａ、２７２Ｂが所定方向に沿った直線状に配置されて構成された光ファイバー端部群３０１Ａ、３０１Ｂが、上記所定方向と直交する方向に平行に２列設けられて構成されている。
【０１０１】
そして、図１５及び図１７に示すように、本実施形態に係るレーザ記録装置２１０では、以上のように構成されたファイバーアレイ部３００（露光ヘッド３０）が、上記所定方向が副走査方向に対して傾斜された状態とされている。また、図１７と図１８とに示すように、ファイバーアレイ部３００を主走査方向に見て、副走査方向に光ファイバー端部群３０１Ａと光ファイバー端部群３０１Ｂとが重ならないで並ぶように配設されている。光ファイバー端部群３０１Ａのファイバー配列（並び順）における端の（図１８において左端の）光ファイバー端部２７１ＡＴの次に、光ファイバー端部群３０１Ｂのファイバー配列における端の（図１８において右端の）光ファイバー端部２７１ＢＴが並ぶ構成とされている。なお、図１８では判りやすくするため、光ファイバー端部２７１Ａ，２７１Ｂの数を実際よりも少なく図示している。
【０１０２】
図１９は、光ファイバーアレイ部３００の結像系の概要図である。図１９に示すように、コリメータレンズ２３２及び結像レンズ２３４で構成される結像手段によって、レーザビームは版材Ｆの露光面（表面）ＦＡの近傍に結像される。なお、図１９においては、図１５で説明した開口部材３３は図示を省略した。
【０１０３】
本実施形態では、結像位置（結像位置）Ｘは、露光面ＦＡ上に設定することが、細線再現性等の観点から望ましい。光ファイバー端部２７１Ａ（光ファイバー端部群３０１Ａ）から射出されたレーザビームがレーザビームＬＡとされ、光ファイバー端部２７２Ｂ（光ファイバー端部群３０１Ｂ）から射出されたレーザビームがレーザビームＬＢとされる。これらのレーザビームを、特に区別する必要がない場合は、単に「レーザビーム」、或いは「レーザ光」と記載する。
【０１０４】
図１９に示した光学系により、光ファイバーアレイ部３００の光出射部２８０を所定の結像倍率で版材Ｆの露光面（表面）ＦＡの近傍に結像させる。本実施形態では、結像倍率は１／３倍とされており、これにより、コア径１０５μｍの光ファイバー端部２７１Ａ、２７１Ｂから出射されたレーザビームのスポット径は概ねφ３５μｍとなる。
【０１０５】
このような結像系を有する露光ヘッド２３０において、図１７で説明した光ファイバーアレイ部３００の隣接ファイバー間隔（図１７中のＬ１）及び光ファイバーアレイ部３００を固定するときの光ファイバー端部群３０１Ａ、３０１Ｂの配列方向（アレイ方向）の傾斜角度（図１８中の角度θ）を適宜設計することにより、図１８に示すように、隣り合う位置に配置される光ファイバーから射出されるレーザビームで露光する走査線（主走査ライン）Ｋの間隔Ｐ１を10.58μｍ（副走査方向の解像度2400dpi相当）に設定することができる。
【０１０６】
上記構成の露光ヘッド２３０を用いることにより、６４ラインの範囲（１スワス分）を同時に走査して露光することができる。
【０１０７】
図２０は、図１５に示した製版装置２００における走査露光系の概要を示す平面図である。露光ヘッド２３０は、ピント位置変更機構２６０と、副走査方向への間欠送り機構２９０を備えている。
【０１０８】
ピント位置変更機構２６０は、露光ヘッド２３０をドラム２５０面に対して前後移動させるモータ２６１とボールネジ２６２を有し、モータ２６１の制御により、レーザビームのピント位置を移動させることができる。間欠送り機構２９０は、図１５で説明した露光ヘッド移動部２４０を構成するものであり、図２０に示すように、ボールネジ２４１とこれを回転させる副走査モータ２４３を有する。露光ヘッド２３０は、ボールネジ２４１上のステージ２４４に固定されており、副走査モータ２４３の制御により、露光ヘッド２３０をドラム２５０の軸線２５２方向に、１スワス分（2400dpiの場合、10．58μｍ×64チャンネル＝677．3μｍ）の間欠送りができる。
【０１０９】
なお、図２０において、符号２４６、２４７は、ボールネジ２４１を回動自在に支持するベアリングである。符号２９８はドラム２５０上で版材Ｆをチャックするチャック部材である。ドラム２５０の回転軸方向を長手方向とした帯状とされたチャック部材２９８によって、ドラム２５０の外周面に版材（記録プレート）Ｆが装着される。シート状の版材を用いる場合、版材Ｆの端部ＦＴ同士の合わせ部分の上を押さえるようにドラム２５０にチャック部材２９８を取り付けることで、版材Ｆがドラム２５０の外周面に装着される。このチャック部材２９８の部分は、露光ヘッド２３０による露光（記録）を行わない非記録領域となる。
【０１１０】
ドラム２５０を回転させながら、この回転するドラム２５０上の版材Ｆに対し、露光ヘッド２３０から６４チャンネルのレーザビームを照射することで、６２チャンネル分（１スワス分）の露光範囲を隙間なく露光し、版材Ｆの表面に１スワス幅の彫刻（画像記録）を行う。そして、ドラム２５０の回転により、露光ヘッド２３０の前をチャック部材２９８が通過するときに（版材Ｆの非記録領域のところで）、副走査方向に間欠送りを行い、次の１スワス分を露光する。このような副走査方向の間欠送りによる露光走査を繰り返すことにより、版材Ｆの全面に所望の画像を形成する。
【０１１１】
本例では、シート状の版材Ｆ（記録媒体）を用いているが、円筒状記録媒体（スリーブタイプ）を用いることも可能である。
【０１１２】
＜制御系の構成＞
次に、本実施形態に係る製版装置２００の制御系の構成について説明する。
【０１１３】
図２１は、製版装置２００の制御系の構成を示すブロック図である。図２１に示すように、製版装置２００は、彫刻すべき２次元の画像データに応じて各半導体レーザ２２１Ａ、２２１Ｂを駆動するＬＤドライバー回路２２６と、ドラム２５０を回転させる主走査モータ５１と、主走査モータ２５１を駆動する主走査モータ駆動回路３３１と、副走査モータ２４３を駆動する副走査モータ駆動回路３３３と、制御回路３３０と、を備えている。制御回路３３０は、ＬＤドライバー回路２２６、及び各モータ駆動回路（２８１、２８２）を制御する。
【０１１４】
制御回路３３０には、版材Ｆに彫刻（記録）する画像を示す画像データが供給される。制御回路３３０は、この画像データに基づき、主走査モータ２５１及び副走査モータ２４３の駆動を制御するとともに、各半導体レーザ２２１Ａ、２２１Ｂについて個別にその出力（オン・オフの制御並びにレーザビームのパワー制御）を制御する。
【０１１５】
図２２は、製版装置２００によって画像記録（フレキソ印刷版の製版）を行う際の処理の流れを示すフローチャートである。図２２に示すように、まず、版材Ｆに彫刻（記録）する画像の画像データを時的に記憶する不図示の画像メモリから制御回路３３０に転送する（ステップＳ１１０）。制御回路３３０は、転送されてきた画像データ、及び記録画像の予め定められた解像度を示す解像度データ、浅彫り及び深彫り等を示すデータに基づいて、調整された信号をＬＤドライバー回路２２６、主走査モータ駆動回路３３１、副走査モータ駆動回路３３３に供給する。
【０１１６】
次に、主走査モータ駆動回路３３１は、制御回路３３０から供給された信号に基づいて回転速度でドラム２５０を回転させるように主走査モータ２５１を制御する（ステップＳ１１２）。副走査モータ駆動回路３３３は、副走査モータ２４３による露光ヘッド２３０の副走査方向に対する送り間隔を設定する（ステップＳ１１４）。
【０１１７】
次いで、ＬＤドライバー回路２２６は、画像データに応じて各半導体レーザ２２１Ａ、２２１Ｂの駆動を制御する（ステップＳ１１６）。
【０１１８】
各半導体レーザ２２１Ａ，２２１Ｂから射出されたレーザビームＬＡ，ＬＢは、図１５で説明したように、光ファイバー２２２Ａ，２２２Ｂ、ＳＣ型光コネクタ２２５Ａ、２２５Ｂ、及び光ファイバー２７０Ａ、７０Ｂを介してファイバーアレイ部３００の光ファイバー端部２７１Ａ，２７１Ｂから射出される。ファイバーアレイ部３００から射出された光は、コリメータレンズ２３２によって略平行光束とされた後、開口部材２３３によって光量が制限され、結像レンズ３４を介してドラム５０上の版材Ｆの露光面ＦＡの近傍（結像面ＸとＦＡが一致してもよい）に結像される（集光される）。
【０１１９】
この場合、版材Ｆには、各半導体レーザ２１から射出されたレーザビームＬＡ，ＬＢに応じてビームスポットが形成される。これらのビームスポットにより、露光ヘッド２３０が前述したステップＳ１１４で設定された送り間隔のピッチで副走査方向に送られるとともに、前述したステップＳ１１２により開始されたドラム２５０の回転によって、解像度が解像度データによって示される解像度となる２次元画像が、版材Ｆ上に彫刻（形成）される（ステップＳ１１８）。
【０１２０】
なお、版材Ｆ上への２次元画像の彫刻（記録）が終了すると、主走査モータ駆動回路３３１は主走査モータ２５１の回転駆動を停止し（ステップＳ１２０）、その後に本処理を終了する。
【０１２１】
＜彫刻領域におけるビーム制御＞
次に、マルチビーム露光系によって印刷版を製造する際の露光走査工程について説明する。図２３は、本例の製版装置２００による多重露光彫刻プロセスの説明図である。本例の製版装置２００は、版材Ｆの表面に残すべき平面形状（印刷面の形状）に対し、その近接周辺部分（周囲領域）を精密彫刻領域とし、さらにその外側の周辺部分を粗彫刻領域とする。
【０１２２】
本実施形態においては、各副走査位置で露光ヘッド２３０を移動させずに、４回ずつ主走査（露光走査）を行う。また、精密彫刻領域は走査線間隔の２倍の間隔のビームを用いてインターレース露光し、粗彫刻領域は全ビームを用いて同時に露光する。
【０１２３】
図２３は、同一副走査位置における１〜４回目の露光走査について示した図である。図２３の（ａ）は彫刻された版材Ｆの断面を示しており、図２３の（ｂ）は、各走査線４１１０Ａ〜４１０Ｈに対して照射されるレーザビーム４００Ａ〜４００Ｈの露光制御を示している。ここでは、説明のためレーザビームの数を減じて示しており、また、版材Ｆに対して各レーザビーム４００Ａ〜４００Ｈが相対的に図の上方向に主走査される形態で例示している。
【０１２４】
なお、版材Ｆの断面は、厳密にはレーザビーム４００Ａ〜４００Ｄのどの走査線における断面かによって彫刻深さの程度が異なってくるが、ここでは各走査線における断面の平均的な彫刻深さを示すものとする。
【０１２５】
当該副走査位置における１回目の主走査は、粗彫刻領域に対してレーザビーム４００Ａ〜４００Ｈの全てを用いてノンインターレース露光を行い、各走査線４１０Ａ〜４１０Ｈを彫刻する。斜め方向に配列された複数のビームにより露光すると、先に走査したビームの熱により、次に走査されるビームによる彫刻の深さの比率が大きくなる。したがって、このように彫刻することで、近接ビームの熱の流入を促進し、彫刻効率の向上を図ることができる。
【０１２６】
また、粗彫刻領域において、精密彫刻領域に近づくほどレーザビーム４００Ａ〜４００Ｈの出力を線形に下げるように制御することにより、精密彫刻領域への熱の流入による不必要な彫刻を防止している。
【０１２７】
さらに、精密彫刻領域においては、隣接ビームの間隔を走査線間隔の２倍とするビーム群を用いてインターレース露光することで、１列おきの走査線を彫刻する。主走査方向に直交する方向（副走査方向）に同時に射出されるレーザビームは相互の熱の干渉を受けないため、このように制御することで、精密彫刻領域においてインターレース露光した走査線だけを精密に彫刻することができる。
【０１２８】
また、精密彫刻領域においても、印刷面に近づくほどレーザビームの出力を線形に下げるように制御する。このように制御することにより、印刷面への熱の流入による不必要な彫刻を防止する。
【０１２９】
２回目の主走査は、粗彫刻領域においてはレーザビーム４００Ａ〜４００Ｈの全てを用いてノンインターレース露光を行い、近接ビームの熱の流入を促進して彫刻効率の向上を図りながら、走査線４１０Ａ〜４１０Ｈを彫刻する。また、１回目の主走査と同様に、精密彫刻領域に近づくほどレーザビーム４００Ａ〜４００Ｈの出力を線形に下げるように制御する。
【０１３０】
さらに、精密彫刻領域においては、隣接ビームの間隔を走査線間隔の２倍とするビーム群であって、１回目に使用されていなかったビーム群を用いてインターレース露光することで、１回目に彫刻されていない走査線を彫刻する。精密彫刻領域においても、印刷面に近づくほどレーザビームの出力を線形に下げるように制御する。このように制御することにより、印刷面への熱の流入による不必要な彫刻を防止する。
【０１３１】
３回目の主走査は、粗彫刻領域においては１回目、２回目と同様にレーザビーム４００Ａ〜４００Ｈによりノンインターレース露光を行い、走査線１１０Ａ〜１１０Ｈを彫刻する。また、精密彫刻領域においては、隣接ビームの間隔を走査線間隔の２倍とするビーム群を用いてインターレース露光（重ね露光）をすることで、１列おきの走査線を彫刻する。ここでは１回目の露光走査と同じ第１のビーム群を用いて露光走査する。
【０１３２】
その結果、粗彫刻領域は２回目の断面よりもさらに深く彫刻され、精密彫刻領域は第１のビーム群で走査した走査線が、深く彫刻される。
【０１３３】
同様に、４回目の主走査は、粗彫刻領域においてはレーザビーム４００Ａ〜４００Ｈにより４回目のノンインターレース露光を行い、走査線４１０Ａ〜４１０Ｈを彫刻する。また、精密彫刻領域においては、隣接ビームの間隔を走査線間隔の２倍とするビーム群であって、３回目に使用されていなかったビーム群を用いてインターレース露光（重ね露光）することで、３回目に彫刻されていない走査線を彫刻する。２回目の主走査と同じ第２のビーム群だけを用いて露光走査する。
【０１３４】
その結果、粗彫刻領域は３回目の断面よりもさらに深く彫刻され、精密彫刻領域に近づくにつれて彫刻深さが浅くなっている。また、精密彫刻領域は、３回目の主走査及び４回目の主走査により副走査位置の全ての走査線が均等に彫刻される。さらに精密彫刻領域は、最終的には印刷面に対して急峻なキャップ急峻部が形成されるように彫刻される。
【０１３５】
このようにドラム２５０の４回転で１スワス分の彫刻を完成させた後、非記録領域たるチャック部材２９８が露光ヘッド２３０の前を横切るときに、露光ヘッド２３０を副走査方向に間欠送りし、隣接する次の１スワス分の彫刻を行う位置に移動させる。そして、当該位置において、露光走査を同様に行う。以後、上記の工程を繰り返し、版材Ｆ上の全面を露光する。
【０１３６】
以上のように、最終的に凸平面部として残す表面形状に対し、その周辺部（精密彫刻領域）においては隣接ビームの間隔を走査線間隔の２倍とするビーム群を用い、複数回の走査により露光する走査線を異ならせて露光済み走査線の間の未露光走査線を順次露光する。
【０１３７】
このようなインターレース露光を４回繰り返し行うことで、目的の平面形状とその周囲の傾斜部の形状を適切に彫刻することができる。また、重ね露光を繰り返すことで、近接ビームの熱の影響や、ドラム回転時の主走査方向と副走査方向の振動、露光ヘッドの位置静定精度や副走査の送り精度、アレイの副走査方向のピッチ間隔誤差に伴う誤差などによる周期ムラ、振動ムラの低減が可能となる。
【０１３８】
さらにその周辺部（粗密彫刻領域）においては全ての段の出射口列から同時にビームを射出することで近接ビームの熱の流入を促進させることにより彫刻効率を向上させることができる。
【０１３９】
なお、上述の説明では、精密彫刻領域に対しては、隣接ビームの間隔を走査線間隔の２倍とするビーム群を用いたインターレース露光を４回繰り返し行うことで各走査線を２回ずつ露光し、粗彫刻領域に対しては、隣接ビームの間隔を走査線間隔と同じとするビーム群を用いてノンインターレース露光を４回行ったが、これらの数値は適宜決めることができる。すなわち、精密彫刻領域に対しては、隣接ビームの間隔を走査線間隔のＮ倍（Ｎは２以上の整数）とするビーム群を用いたインターレース露光をＮ×ｍ回（ｍは２以上の整数）繰り返し行うことで各走査線をｍ回ずつ露光し、粗彫刻領域に対しては、隣接ビームの間隔を走査線間隔と等しいビーム群を用いたノンインターレース露光をＮ×ｍ回行うように構成すればよい。このＮとｍは、それぞれ２以上の整数であれば、所望の数字を適宜組み合わせることができる。
【０１４０】
＜マルチビームによる微細加工方式の具体例＞
図２４は、精密彫刻領域（「微細彫刻エリア」とも言う。）について４ライン置きに露光する例を示したものである。図２４は横方向が主走査方向であり、ドラムの回転に伴い、レーザ光が図２４の左から右に向かって相対的に移動するものとなる。
【０１４１】
図２４において、中央の黒塗りで示した画素が２値網点画像データにおける黒画素（画像領域）である。この画像領域に接する外側周囲１画素の範囲（図２４において白抜きで示した画素）の範囲が画像外エッジの領域である。当該画像外エッジの画素に対して面取り用露光量が与えられる。
【０１４２】
版表面は精密彫刻領域と粗彫刻領域（「粗彫刻エリア」とも言う。）に分けられる。精密彫刻領域は、画像領域に近接する周囲数画素の範囲として設定される。精密彫刻領域は、隣接するビームを同時に点灯しないインターレース測光が行われる領域である。図２４の例では、４ライン置きに露光する（点灯させるビーム本数を１／４に間引いて露光する）。
【０１４３】
粗彫刻領域は、隣接するビームを同時に点灯して彫刻効率を高める。図２４において「Ａ」の符号が付された画素領域が「粗彫刻領域」である。当該粗彫刻領域内の画素については、１回目から５回目までの各回全てで露光が行われる。図２４において「１」〜「４」の符号が付された画素の領域が「精密彫刻領域」である。図２４において、「１」が付された画素については、２回目の走査時のみ露光が行われる。同様に、「２」が付された画素は３回目のみ露光され、「３」が付された画素は４回目のみ露光され、「４」が付された画素は５回目のみ露光される。
【０１４４】
画像外エッジの画素（図２４において白抜き□で示した画素）に対しては、同走査線上の画素の露光時に、微量の露光パワー（面取り用露光量）が与えられる。
【０１４５】
このようなマルチビームインターレース露光走査を採用することにより、高精度の微細彫刻が可能である。
【０１４６】
＜第２実施形態＞
図２５は本発明の第２実施形態に係るフレキソ印刷版の版上に形成されるレリーフ（浮き彫りとして形成される凸部分）のイメージを模式的に表した要部斜視図である。図２６は、その縦断面図である。図２５及ぶ図２６に示す第２実施形態において、図１〜図４で説明した第１実施形態の構成と同一又は類似の要素には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【０１４７】
第２実施形態によるフレキソ印刷版の版上には浮き彫りの凸部分として、図２５及び図２６に示すような３次元形状を有するレリーフ１２が形成される。すなわち、第２実施形態によるレリーフ１２の頂面１４には、不規則な位置に、不規則な大きさ／深さの窪み１５が複数形成されている。窪み１５の深さは、０μｍより大きく２０μｍ以下の範囲であることが好ましい。また、これらランダムに形成される複数の窪み１５の深さの平均は、概ね１０μｍ程度であることが好ましい。レリーフ頂面１４にランダムな窪み１５を複数形成することにより、印刷物における濃度ムラを防止できる。
【０１４８】
頂面１４にランダムな凹凸を彫刻するための手段として、例えば、図２７に示すような構成を採用することができる。図２７は、図５で説明した露光量変換部１４４として適用されるものであり、図１０で説明した構成に代えて、図２７の構成を採用し得る。
【０１４９】
なお、図２７中、図１０と同一又は類似する要素には同一の符号を付し、その説明や省略する。図２７では、図示を簡略化するために、図１０で説明した面取り用露光パラメータ保持部１６６及び入力装置１６８の図示を省略したが、図２７の例においてもこれら要素を具備している。
【０１５０】
図２７に示す露光量変換部１４４は、２次元の乱数テーブル１７０と、当該テーブルに基づいて画像領域の各画素にランダム露光量を与えるランダム露光量データ生成部１７２と、を備えている。
【０１５１】
例えば、５１２×５１２画素程度の２次元の乱数表をテーブルとしてメモリ等の記憶部に保持する。乱数の値に対応した深さが計算される。深さ範囲は０〜２０μｍの範囲であることが好ましく、平均が１０μｍ程度であることが望ましい。
【０１５２】
さらに、露光量と彫刻深さの関係テーブルを参照し、乱数から計算された深さの値を露光量のデータに変換し、これを２次元テーブル（例えば、５１２×５１２画素程度のサイズ）として保持する。
【０１５３】
ランダム露光量データ生成部１７２では、画像領域（２値画像データ内のＯＮ画素）の各画素の座標（ｘ，ｙ）に対応して、２次元乱数テーブル１７０を参照して露光量を与える。乱数表のテーブルサイズが５１２×５１２画素の場合、座標（ｘ、ｙ）に対応して、５１２の剰余で当該乱数表を参照する。つまり、５１２×５１２画素のテーブルを繰り返して適用する。
【０１５４】
これにより、画像領域の各画素に対し、２次元乱数テーブル１７０に従い、ランダムな露光量が付与される。当該ランダム露光量にしたがって画像領域内の画素に対して微量な露光パワーが与えられ、頂面１４における不規則な位置に不規則な大きさ、深さの窪み１５が形成される。なお、ここで付与されるランダムな露光量は、エッジ部の面取り用の露光量よりも少ない露光量であることが好ましい。
【０１５５】
ランダムパターンは、ブルーノイズに基づくものであることが好ましい。ブルーノイズ特性を持つランダムパターンで頂面に窪み１５を形成することにより、ムラの視認性を低減することができる。
【０１５６】
第２実施形態で説明したとおり、レリーフ頂面にランダムな凹凸（窪み１５）を形成したことにより、網点とのビートを抑えた、ムラの少ない滑らかな階調を得ることができる。また、被印刷体（印刷メディア）の凹凸によるムラを抑えることができる。
【０１５７】
このような頂面の窪み１５は、ベタ部に設けることも有効である。ベタ部の頂面にランダムな窪み１５を形成することで、ベタ部のかくれを防止することができるとともに、マージナルを低減することができる。このようにランダムな凹凸を彫刻するには、必ずしも高精細なビームでなくてもよい。
【０１５８】
なお、版上におけるベタ部の印刷面は網点凸部の頂面１４と同様に、非露光領域として構成され、網点凸部の頂面１４と同じ高さに形成される。
【０１５９】
＜フレキソ印刷の印刷プロセスについて＞
第１実施形態又は第２実施形態で説明したフレキソ印刷版は、フレキソ印刷機に装着され、印刷に使用される。図２８はフレキソ印刷機の要部構成図である。図２８に示したように、フレキソ印刷機４４０は、主としてフレキソ印刷版（樹脂製のシート上に網点となるレリーフが形成された凸版）４４２と、このフレキソ印刷版４４２が両面テープ等のクッションテープ４４４を介して取り付けられる版胴４４６と、ドクターチャンバ４４８によりインキが供給されるアニロックスローラ４５０と、圧胴４５２とから構成される。
【０１６０】
フレキソ印刷版４４２として、第１実施形態や第２実施形態で説明したレリーフ形状を有する凸版印刷版（フレキソ印刷版１０）が適用される。フレキソ印刷版４４２の各レリーフの頂部（印刷面）には、アニロックスローラ４５０によりインキが転写され、このインキは、フレキソ印刷版４４２が取り付けられた版胴４４６と圧胴４５２との間で挟持されて搬送される被印刷体４５４に転写される。このようにして印刷物が得られる。
【０１６１】
＜印刷物の画質評価結果＞
図２９は、平網５０％の印刷結果のＬ＊（明るさ）の印圧変動を示すグラフである。横軸は印圧を表しており、ここでは押し込み量をμｍ単位で示している。縦軸はＬ＊を示している。印刷物としては、Ｌ＊が大きく（明るく）、印圧に対してなるべく変化が少ないもの（一定に近いもの）であることが望ましい。
【０１６２】
図２９では、レリーフの傾斜角が４５°のもの（エッジ部の面取り無し）、傾斜角が６０°のもの（エッジ部の面取り無し）、傾斜角が７５°のもの（エッジ部の面取り無し）、エッジ部を面取りしたもの（傾斜角６０°）、頂面を表面加工（規則的な線による凹凸を形成したもの）、頂面を表面加工（ランダムノイズによるランダム露光による窪みを形成したもの）の各印刷版による印刷物の画質を評価した。
【０１６３】
図２９に示すように、エッジ部を面取りしたものがドットゲインの軽減に効果が高いことが解る。
【０１６４】
図３０は、平網５０％の印刷結果についての粒状性の印圧変動を示すグラフである。ここでは、Ｌ＊粒状度を指標としているが、画質の評価に関しては、Ｌ＊粒状度に限らず、他の指標（例えば、濃度など）を用いても良い。
【０１６５】
Ｌ＊粒状度は、次式により定義される。
【０１６６】
【数１】
0005496162.tif 000002
【０１６７】
印刷物としては、Ｌ＊粒状度が小さく、印圧に対してなるべく変化がすくないもの（一定に近いもの）であることが望ましい。図３０に示すように、頂面に凹凸を形成したものがムラや粒状性に対して効果が高いことが解る。
【０１６８】
図２９及び図３０の結果から、キャップ部のエッジを面取りし、さらに頂面にランダムな窪みを形成する態様が特に好ましいものであることが解る。
【０１６９】
＜変形例＞
上述した実施形態では、ビーム径と１画素の大きさとの関係から、画素値が「１」（ＯＮ）の黒画素に隣接する周囲１画素の範囲に面取り用の微小露光量を与える構成を採用したが、本発明の実施に際しては本例に限定されない。
【０１７０】
例えば、ビーム径が１画素に比べて大きい場合、黒画素に隣接する白画素のさらに外側の周囲画素（最も近いＯＮ画素までの距離が「２」画素となる画素）を「画像外近接画素」とし、黒画素に隣接しない周囲画素について、面取り用の露光量を与えても良い。
【０１７１】
画像外近接画素に与える面取り用の露光量データにしたがってレーザ光が照射されることにより、元の２値画像における黒画素の領域（ＯＮ領域）の内側にレーザ光が照射される。この面取り露光によって本来の黒画素の領域から削られることになる範囲は１画素未満の範囲であることが好ましい。
【０１７２】
＜小点のレリーフ形状について＞
<<課題>>
フレキソ印刷の場合、通常、中間調網％のドットなどでは、キャップ部の頂面は印圧によって４０μｍ程度まで押し込まれる。しかし、ドットの直径として３５μｍ程度のものが求められる小点の場合、レリーフが細いために印圧によってさらに押し込まれてしまう。つまり、小点の場合、印圧に対してキャップ部の頂面が押し込まれる量がより大きくなる。そして、そのときに台部に付着した余分のインキが印刷紙に転写されてしまい、汚れなどの原因になる。
【０１７３】
<<解決手段>>
このような問題を解決するために、小点のレリーフにかかる印圧を中間調網％のドットの場合よりも軽減させる必要がある。そこで、小点用レリーフについて、キャップ部の急峻部（キャップ急峻部）をさらに深く彫刻する構成を採用する。
【０１７４】
図３１にその例を示す。図３１は、直径３５μｍ程度の小点用の凸部（レリーフ）形状を示す縦断面図である。図３１において、図１及び図２で説明した構成と同一又は類似する要素には同一の符号を付した。図３１に示す小点用のレリーフ５１２は、キャップ部１６と台部１８を有する。キャップ急峻部２２を支える台部１８の側面の勾配（傾斜角度ｘ）は５０度以上７０以下の範囲で形成される。キャップ急峻部２２の側面の勾配（傾斜角度ｚ）は、台部１８の勾配（傾斜角度ｘ）よりも大きく、例えば、７５度以上８５度以下の範囲で形成される。
【０１７５】
キャップ部１６の急峻部（キャップ急峻部２２）は、当該レリーフ５１２が形成される凸版印刷版の版上における最も高いレリーフ（不図示）の頂面を基準として、１００μｍ程度の深さ（符号ｈｃ）まで彫刻される。版上における「最も高いレリーフの頂面」としては、ベタ濃度のレリーフがある。
【０１７６】
図３１では、最も高いレリーフの頂面（基準面）の位置（高さ）を符号Ｓで表し、キャップ急峻部２２と台部１８との境界（急峻部２２の最下端）の位置を符号Ｂで表した。基準面Ｓからキャップ急峻部２２の最下端Ｂまでの深さｈｃが１００μｍ程度に形成される。
【０１７７】
ここでいう深さｈｃが１００μｍ程度とは、１００μｓをおよその目安とし、その前後に適当な許容範囲があることを意味している。深さｈｃの目安及び許容範囲については、台部１８に付着した余分のインキが印刷紙に転写されないという作用効果が得られる範囲で適宜定められる。例えば、印圧による押し込み量が４０μｍである場合に、その押し込み量の２倍以上の値が好ましい深さｈｃであるとすると、深さｈｃは８０μｍ以上にする構成が好ましい。深さｈｃが深いほど汚れ防止効果は高くなる。ただし、過剰に深く掘り下げ過ぎると、レリーフの形状安定性や倒れ等の問題も生じ得るため、そのような問題が生じない範囲で深さｈｃの上限値が規定される。
【０１７８】
印圧によって押し込まれる部分（符号Ｍ）は、基準面Ｓから深さ方向に４０μｍ程度の範囲であるため、この印圧による押し込み量（４０μｍ程度）に対応して、キャップ急峻部２２の基準面Ｓから４０μｍ程度の深さ位置における太さ（外径）Ｇが３５μｍ程度（ドットの直径程度）に形成される。
【０１７９】
また、小点でのドットの太りを抑えるために、キャップ部１６の頂面１４を「最も高いレリーフの頂面」（基準面Ｓ）の高さよりも低く形成する低層化部５１４を設けてもよい。低層化部５１４は、最も高いレリーフの頂面（基準面Ｓ）を基準として、所定の深さ（低層化量ｂｓ）まで彫刻した部分を指す。低層化量ｂｃは２０〜３０μｍ程度であることが好ましい。このような構成によって、キャップ部１６の頂面１４にかかる印圧がさらに抑えられ、ドットの太りを抑制することができる。
【０１８０】
図３１で説明したように、小点用のレリーフに関して、キャップ部１６を基準面Ｓから１００μｍ程度まで深く掘り下げる構成としたことにより、基準面Ｓから台部１８までの十分な距離が確保され、印圧による押し込み量を考慮しても、台部１８に付着した余分のインキが印刷紙に転写されなくなり、汚れを防止することができる。
【０１８１】
なお、図３１ではキャップ部１６の頂面１４を平坦面に描き、キャップ面取り部２０は丸みを帯びた曲面として描いたが、頂面１４自体が丸みを帯びた曲面として構成される形態も可能であり、頂面とキャップ面取り部とが一体的に滑らかな曲面を構成する形態も可能である。
【０１８２】
＜他の応用例＞
上記の説明ではフレキソ印刷を例に説明したが、本発明は、樹脂やゴムなど弾力性のある版材を使った凸版印刷に広く適用することができる。
【０１８３】
本発明の適用範囲は、上記説明した実施形態には限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変形を行ってもよいのはもちろんである。本発明の技術的思想内で当該分野の通常の知識を有するものにより、多くの変形が可能である。
【０１８４】
＜開示する他の発明態様について＞
上記に詳述した発明の実施形態についての記載から把握されるとおり、本明細書は以下に示す発明の開示も含んでいる。
【０１８５】
（発明１）：版材の表面に形成されたレリーフの頂面にインキが付与され、当該インキを被印刷体に転写するための凸版印刷版であって、前記レリーフは、前記頂面を有するキャップ部と、前記キャップ部を支える土台となる台部とを有し、前記キャップ部は、前記頂面を上に向けた状態とした場合に重力方向と直交する水平面に平行な平坦面を有する前記頂面と、前記頂面の縁部の少なくとも一部が面取りされ、前記頂面に対して非垂直な曲面が形成されたキャップ面取り部と、前記キャップ面取り部から前記重力方向の下方に、前記頂面に対して垂直に近い急峻な角度で形成されたキャップ急峻部と、を備え、前記台部は、前記キャップ急峻部よりも太く、当該台部の横断面の断面積は前記レリーフの底に向かって次第に大きくなる形状を有することを特徴とする凸版印刷版。
【０１８６】
レリーフ頂面を構成するキャップ部の頂面が水平な平坦面を有することにより、アニロックスローラなど当該凸版印刷版にインキを付与するためのローラからのインキ転写が安定する。頂面の縁部にキャップ面取り部を設けたことにより、印圧によって頂面のインキが適度にキャップ面取り部に逃げるため、マージナルによるインキの広がりを軽減できる。また、太さが一定のキャップ垂直部を有することにより、印圧が変動して垂直方向の押し込み量が変動しても、キャップ部の変形によるドットの太り方が概ね一定である。さらに、キャップ部を支える台部は、安定した末広がり形状となっているため、印圧によるレリーフの倒れを防止することができる。
【０１８７】
（発明２）：発明１に記載の凸版印刷版において、前記キャップ面取り部は、前記頂面から深さ方向に５μｍ以上２０μｍ以下の範囲で形成される凸版印刷版。
【０１８８】
（発明３）：発明１又は２に記載の凸版印刷版において、前記キャップ部は、前記頂面から深さ方向に１０μｍ以上４０μｍ以下の範囲で形成される凸版印刷版ことが好ましい。
【０１８９】
頂面から深さ１０〜４０μｍの範囲でキャップ部が形成される場合、キャップ面取り部の深さは、キャップ部の深さ（厚さ）の半分程度を上限とすることが好ましい。例えば、キャップ部の深さが頂面から３０μｍであった場合、キャップ面取り部の深さ（面取り部の下端までの深さ）は、１５μｍ以下とすることが好ましい。
【０１９０】
（発明４）：発明１から３のいずれか１項に記載の凸版印刷版において、前記台部の側面の勾配が５０度以上７０度以下の範囲である凸版印刷版。
【０１９１】
台部の斜面部分を緩やかに形成することにより、頂面の面積が小さい場合でもレリーフの倒れを効果的に防止できる。
【０１９２】
（発明５）：発明１から４のいずれか１項に記載の凸版印刷版において、前記頂面の面積は、印刷すべき画像内容を表すデジタルの２値画像におけるＯＮ部分に対応した版上の画素のＯＮ領域よりも小さい面積となっている凸版印刷版。
【０１９３】
頂面の縁部が面取りされることにより、２値画像のＯＮ部分に相当する面積のエッジ付近の一部が削られ、頂面の面積はＯＮ領域の面積よりも小さくなり得る。これにより、インキの広がりによる太りを抑制でき、被印刷体に対して目的の画像範囲にインキを転写できる。
【０１９４】
（発明６）：発明１から５のいずれか１項に記載の凸版印刷版において、前記頂面には、不規則な位置に、不規則な深さの窪みが複数形成されている凸版印刷版。
【０１９５】
かかる態様によれば、被印刷体上に転写されるインキのムラを抑制することができる。
【０１９６】
（発明７）：発明６に記載の凸版印刷版において、前記不規則な深さを有する複数の窪みの深さは、０μｍよりも大きく、２０μｍ以下の範囲内である凸版印刷版。
【０１９７】
０〜２０μｍの範囲に分布する様々な深さの窪みをランダムに形成することにより、網点部やベタ部のムラを改善することができる。
【０１９８】
（発明８）：発明１から７のいずれか１項に記載の凸版印刷版において、前記レリーフは、レーザ彫刻によって版材上に彫刻されたものである凸版印刷版。
【０１９９】
レーザ彫刻は、深さ方向の形状をコントロールしやすいため、本発明で特定する立体形状を持つレリーフを形成する手段としてレーザ彫刻手段を用いることが好ましい。
【符号の説明】
【０２００】
１０…フレキソ印刷版、１２…レリーフ、１４…頂面、１５…窪み、１６…キャップ部、１８…台部、２０…キャップ面取り部、２２…キャップ急峻部、１００…製版システム、１０２…ＲＩＰ装置、１０４…セッター装置、１１２…ＲＩＰ処理部、１１４…スクリーニング処理部、１４２…３Ｄ彫刻形状変換部、１４４…露光量変換部、１４６…画像処理回路部、１４８…彫刻型ＣＴＰ描画部、１５２…距離計算部、１５４…深さ計算部、１６２…露光量算出処理部、１６４…エッジ部露光量設定部、１６６…面取り用露光パラメータ保持部、１７２…ランダム露光量データ生成部、２００…製版装置、２３０…露光ヘッド、２５０…ドラム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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