(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれる複数の要素をレイアウト表示する画面と、
上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とが荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、第１要素群の少なくとも一部を画面の表示領域内にレイアウト表示するために１回のみ読み込まれ、１回のみ表示位置計算が行われた下位階層要素に関する下位階層要素データに基づいて、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示すると共に、１回のみ読み込まれ、１回のみ表示位置計算が行われた下位階層要素に関する下位階層要素データに基づいて、１個以上の他の要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理手段と、
荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれる図形に対応するパターンを荷電粒子ビームによって試料上に描画する描画部とを具備し、
上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とが荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素および１個以上の他の要素群の上位階層要素の総面積がゼロより大きい所定の閾値以上になるか否かを判定する判定処理手段と、
画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素および１個以上の他の要素群の上位階層要素の総面積がゼロより大きい所定の閾値以上になる場合に、第１要素群のすべての下位階層要素に関する下位階層要素データを１回のみ読み込む読込処理手段と、
読み込まれた下位階層要素データに基づいて第１要素群全体に対応する画面表示用ピクセルマップを作成して保持する作成保持処理手段とを具備し、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行中に、読み込まれた下位階層要素データに基づいて、表示処理手段によって、第１要素群の下位階層要素の表示位置計算を１回のみ行い、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理を実行し、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行後に、保持されている画面表示用ピクセルマップに基づいて、表示処理手段によって、１個以上の他の要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理を実行することを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項２】
荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれる複数の要素をレイアウト表示する画面と、
上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とが荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、第１要素群の少なくとも一部を画面の表示領域内にレイアウト表示するために１回のみ読み込まれ、１回のみ表示位置計算が行われた下位階層要素に関する下位階層要素データに基づいて、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示すると共に、１回のみ読み込まれ、１回のみ表示位置計算が行われた下位階層要素に関する下位階層要素データに基づいて、１個以上の他の要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理手段と、
荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれる図形に対応するパターンを荷電粒子ビームによって試料上に描画する描画部とを具備し、
上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とが荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素と１個以上の他の要素群の上位階層要素とに共通表示領域が存在するか否かを判定する判定処理手段と、
画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素と１個以上の他の要素群の上位階層要素とに共通表示領域が存在する場合に、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とを画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な下位階層要素に関する下位階層要素データを１回のみ読み込む読込処理手段と、
読み込まれた下位階層要素データに基づいて、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とを画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な下位階層要素に対応する画面表示用ピクセルマップを作成して保持する作成保持処理手段とを具備し、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行中に、読み込まれた下位階層要素データに基づいて、表示処理手段によって、第１要素群の下位階層要素の表示位置計算を１回のみ行い、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理を実行し、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行後に、保持されている画面表示用ピクセルマップに基づいて、表示処理手段によって、１個以上の他の要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理を実行することを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項３】
荷電粒子ビームにより描画されたパターンを検査するためのパターン検査装置用データに含まれる複数の要素をレイアウト表示する画面と、
上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とがパターン検査装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、第１要素群の少なくとも一部を画面の表示領域内にレイアウト表示するために１回のみ読み込まれ、１回のみ表示位置計算が行われた下位階層要素に関する下位階層要素データに基づいて、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示すると共に、１回のみ読み込まれ、１回のみ表示位置計算が行われた下位階層要素に関する下位階層要素データに基づいて、１個以上の他の要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理手段と、
上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とが荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素および１個以上の他の要素群の上位階層要素の総面積がゼロより大きい所定の閾値以上になるか否かを判定する判定処理手段と、
画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素および１個以上の他の要素群の上位階層要素の総面積がゼロより大きい所定の閾値以上になる場合に、第１要素群のすべての下位階層要素に関する下位階層要素データを１回のみ読み込む読込処理手段と、
読み込まれた下位階層要素データに基づいて第１要素群全体に対応する画面表示用ピクセルマップを作成して保持する作成保持処理手段とを具備し、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行中に、読み込まれた下位階層要素データに基づいて、表示処理手段によって、第１要素群の下位階層要素の表示位置計算を１回のみ行い、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理を実行し、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行後に、保持されている画面表示用ピクセルマップに基づいて、表示処理手段によって、１個以上の他の要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理を実行することを特徴とするパターン検査装置。
【請求項４】
荷電粒子ビームにより描画されたパターンを検査するためのパターン検査装置用データに含まれる複数の要素をレイアウト表示する画面と、
上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とがパターン検査装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、第１要素群の少なくとも一部を画面の表示領域内にレイアウト表示するために１回のみ読み込まれ、１回のみ表示位置計算が行われた下位階層要素に関する下位階層要素データに基づいて、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示すると共に、１回のみ読み込まれ、１回のみ表示位置計算が行われた下位階層要素に関する下位階層要素データに基づいて、１個以上の他の要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理手段と、
上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とが荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素と１個以上の他の要素群の上位階層要素とに共通表示領域が存在するか否かを判定する判定処理手段と、
画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素と１個以上の他の要素群の上位階層要素とに共通表示領域が存在する場合に、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とを画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な下位階層要素に関する下位階層要素データを１回のみ読み込む読込処理手段と、
読み込まれた下位階層要素データに基づいて、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とを画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な下位階層要素に対応する画面表示用ピクセルマップを作成して保持する作成保持処理手段とを具備し、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行中に、読み込まれた下位階層要素データに基づいて、表示処理手段によって、第１要素群の下位階層要素の表示位置計算を１回のみ行い、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理を実行し、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行後に、保持されている画面表示用ピクセルマップに基づいて、表示処理手段によって、１個以上の他の要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理を実行することを特徴とするパターン検査装置。
【請求項５】
荷電粒子ビーム描画装置用データまたはパターン検査装置用データに含まれる複数の要素を画面にレイアウト表示するレイアウト表示方法において、
上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とが荷電粒子ビーム描画装置用データまたはパターン検査装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、
第１要素群の少なくとも一部を画面の表示領域内にレイアウト表示するために１回のみ読み込まれ、１回のみ表示位置計算が行われた下位階層要素に関する下位階層要素データに基づいて、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示し、
１回のみ読み込まれ、１回のみ表示位置計算が行われた下位階層要素に関する下位階層要素データに基づいて、１個以上の他の要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示し、
上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とが荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素および１個以上の他の要素群の上位階層要素の総面積がゼロより大きい所定の閾値以上になるか否かを判定し、
画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素および１個以上の他の要素群の上位階層要素の総面積がゼロより大きい所定の閾値以上になる場合に、第１要素群のすべての下位階層要素に関する下位階層要素データを１回のみ読み込み、
読み込まれた下位階層要素データに基づいて第１要素群全体に対応する画面表示用ピクセルマップを作成して保持し、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行中に、読み込まれた下位階層要素データに基づいて、第１要素群の下位階層要素の表示位置計算を１回のみ行い、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理を実行し、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行後に、保持されている画面表示用ピクセルマップに基づいて、１個以上の他の要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理を実行することを特徴とするレイアウト表示方法。
【請求項６】
荷電粒子ビーム描画装置用データまたはパターン検査装置用データに含まれる複数の要素を画面にレイアウト表示するレイアウト表示方法において、
上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とが荷電粒子ビーム描画装置用データまたはパターン検査装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、
第１要素群の少なくとも一部を画面の表示領域内にレイアウト表示するために１回のみ読み込まれ、１回のみ表示位置計算が行われた下位階層要素に関する下位階層要素データに基づいて、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示し、
１回のみ読み込まれ、１回のみ表示位置計算が行われた下位階層要素に関する下位階層要素データに基づいて、１個以上の他の要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示し、
上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とが荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素と１個以上の他の要素群の上位階層要素とに共通表示領域が存在するか否かを判定し、
画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素と１個以上の他の要素群の上位階層要素とに共通表示領域が存在する場合に、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とを画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な下位階層要素に関する下位階層要素データを１回のみ読み込み、
読み込まれた下位階層要素データに基づいて、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とを画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な下位階層要素に対応する画面表示用ピクセルマップを作成して保持し、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行中に、読み込まれた下位階層要素データに基づいて、第１要素群の下位階層要素の表示位置計算を１回のみ行い、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理を実行し、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行後に、保持されている画面表示用ピクセルマップに基づいて、１個以上の他の要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理を実行することを特徴とするレイアウト表示方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれる複数の要素をレイアウト表示する画面を具備する荷電粒子ビーム描画装置、および、荷電粒子ビームにより描画されたパターンを検査するためのパターン検査装置用データに含まれる複数の要素をレイアウト表示する画面を具備するパターン検査装置、並びに、荷電粒子ビーム描画装置用データまたはパターン検査装置用データに含まれる複数の要素を画面にレイアウト表示するレイアウト表示方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、荷電粒子ビームによってパターンを描画するための複数の要素（例えば図形など）を含む荷電粒子ビーム描画装置用データをレイアウト表示（ビューワ処理）する画面を具備する荷電粒子ビーム描画装置が知られている。この種の荷電粒子ビーム描画装置の例としては、例えば特許文献１の図７および段落〔００４１〕に記載されたものがある。特許文献１に記載された荷電粒子ビーム描画装置では、荷電粒子ビーム描画装置用データが、チップ階層、フレーム階層、ブロック階層、セル階層および図形階層を有するように階層化されている。チップ階層、フレーム階層、ブロック階層、セル階層および図形階層については、例えば特許文献２の図２に詳細に記載されている。
詳細には、特許文献１に記載された荷電粒子ビーム描画装置では、荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれる複数の要素（例えばセル、図形など）をレイアウト表示する時に、セルパターンデータファイルに基づくことなく、セル配置データファイルのみに基づいてレイアウト表示すべきセルを選択することができる旨が、特許文献１の段落〔００４１〕に記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−２４４１９６号公報
【特許文献２】特開２００８−４７７２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、画面にレイアウト表示される荷電粒子ビーム描画装置用データには、例えばセルのような上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された例えば図形のような複数の下位階層要素とを有する第１要素群（セルおよび複数の図形の集まり）と、第１要素群と同一構造の第２要素群（セルおよび複数の図形の集まり）とが含まれている場合がある。また、例えばオペレータによって選択されるレイアウト表示位置およびレイアウト表示倍率によっては、第１要素群と第２要素群とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合がある。つまり、例えばオペレータによって選択されるレイアウト表示位置およびレイアウト表示倍率によっては、第１要素群と第２要素群とが画面の表示領域内に同時に含まれる場合がある。
【０００５】
特許文献１および特許文献２には、例えば、上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の第２要素群とが荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれており、かつ、第１要素群と第２要素群とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、どのような手法によってデータファイルから下位階層要素データを読み込むべきであるかについて記載されていない。例えば、上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の第２要素群とが荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれており、かつ、第１要素群と第２要素群とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合、仮に、第１要素群を画面の表示領域内にレイアウト表示するために、第１要素群に関するすべての下位階層要素データが読み込まれ、画面の表示領域内における第１要素群のすべての下位階層要素の表示位置が計算されると共に、第２要素群を画面の表示領域内にレイアウト表示するために、第２要素群に関するすべての下位階層要素データが読み込まれ、画面の表示領域内における第２要素群のすべての下位階層要素の表示位置が計算されると、データファイル上で共通する第１要素群に関する下位階層要素データと第２要素群に関する下位階層要素データとが繰り返して読み込まれたことになってしまい、また、第１要素群の下位階層要素の表示位置計算と第２要素群の下位階層要素の表示位置計算とが別個に行われたことになってしまい、第１要素群および第２要素群の読み込みおよびレイアウト表示に要する時間が長くなってしまう。
【０００６】
上述した問題点に鑑み、本発明は、荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれる複数の要素を高速にレイアウト表示することができる荷電粒子ビーム描画装置を提供することを目的とする。
更に、本発明は、パターン検査装置用データに含まれる複数の要素を高速にレイアウト表示することができるパターン検査装置を提供することを目的とする。
また、本発明は、荷電粒子ビーム描画装置用データまたはパターン検査装置用データに含まれる複数の要素を高速にレイアウト表示することができるレイアウト表示方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様によれば、荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれる複数の要素をレイアウト表示する画面と、
上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とが荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、第１要素群の少なくとも一部を画面の表示領域内にレイアウト表示するために１回のみ読み込まれ、１回のみ表示位置計算が行われた下位階層要素に関する下位階層要素データに基づいて、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示すると共に、１回のみ読み込まれ、１回のみ表示位置計算が行われた下位階層要素に関する下位階層要素データに基づいて、１個以上の他の要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理手段と、
荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれる図形に対応するパターンを荷電粒子ビームによって試料上に描画する描画部とを具備することを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置が提供される。
【０００８】
本発明の別の一態様によれば、荷電粒子ビームにより描画されたパターンを検査するためのパターン検査装置用データに含まれる複数の要素をレイアウト表示する画面と、
上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とがパターン検査装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、第１要素群の少なくとも一部を画面の表示領域内にレイアウト表示するために１回のみ読み込まれ、１回のみ表示位置計算が行われた下位階層要素に関する下位階層要素データに基づいて、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示すると共に、１回のみ読み込まれ、１回のみ表示位置計算が行われた下位階層要素に関する下位階層要素データに基づいて１個以上の他の要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理手段とを具備することを特徴とするパターン検査装置が提供される。
【０００９】
好ましくは、上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とが荷電粒子ビーム描画装置用データまたはパターン検査装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素および１個以上の他の要素群の上位階層要素の総面積がゼロより大きい所定の閾値以上になるか否かを判定する判定処理手段と、
画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素および１個以上の他の要素群の上位階層要素の総面積がゼロより大きい所定の閾値以上になる場合に、第１要素群のすべての下位階層要素に関する下位階層要素データを１回のみ読み込む読込処理手段と、
読み込まれた下位階層要素データに基づいて第１要素群全体に対応する画面表示用ピクセルマップを作成して保持する作成保持処理手段とが設けられており、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行中に、読み込まれた下位階層要素データに基づいて、表示処理手段によって、第１要素群の下位階層要素の表示位置計算を１回のみ行い、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理が実行され、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行後に、保持されている画面表示用ピクセルマップに基づいて、表示処理手段によって１個以上の他の要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理が実行される。
【００１０】
また、好ましくは、上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とが荷電粒子ビーム描画装置用データまたはパターン検査装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素と１個以上の他の要素群の上位階層要素とに共通表示領域が存在するか否かを判定する判定処理手段と、
画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素と１個以上の他の要素群の上位階層要素とに共通表示領域が存在する場合に、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とを画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な下位階層要素に関する下位階層要素データを１回のみ読み込む読込処理手段と、
読み込まれた下位階層要素データに基づいて、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とを画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な下位階層要素に対応する画面表示用ピクセルマップを作成して保持する作成保持処理手段とが設けられており、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行中に、読み込まれた下位階層要素データに基づいて、表示処理手段によって、第１要素群の下位階層要素の表示位置計算を１回のみ行い、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理が実行され、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行後に、保持されている画面表示用ピクセルマップに基づいて、表示処理手段によって１個以上の他の要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理が実行される。
【００１１】
あるいは、好ましくは、上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とが荷電粒子ビーム描画装置用データまたはパターン検査装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素と１個以上の他の要素群の上位階層要素とに共通表示領域が存在するか否かを判定する判定処理手段と、
画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素と１個以上の他の要素群の上位階層要素とに共通表示領域が存在する場合に、第１要素群の少なくとも一部を画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な下位階層要素に関する下位階層要素データを１回のみ読み込む読込処理手段と、
読み込まれた下位階層要素データに基づいて、第１要素群の少なくとも一部を画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な下位階層要素に対応する画面表示用ピクセルマップを作成して保持する作成保持処理手段とが設けられ、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行中に、読み込まれた下位階層要素データに基づいて、表示処理手段によって、第１要素群の下位階層要素の表示位置計算を１回のみ行い、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理が実行され、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行後に、保持されている画面表示用ピクセルマップに基づいて、表示処理手段によって、１個以上の他の要素群の下位階層要素のうち、共通表示領域内に配置された下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理が実行され、
１個以上の他の要素群の少なくとも一部を画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な下位階層要素に関する下位階層要素データであって、まだ読み込まれていない下位階層要素データを１回のみ読み込む読込処理が、読込処理手段によって実行され、
読み込まれた下位階層要素データに基づいて、表示処理手段によって、１個以上の他の要素群の下位階層要素うち、まだレイアウト表示されていない下位階層要素の表示位置計算を１回のみ行い、１個以上の他の要素群の下位階層要素うち、まだレイアウト表示されていない下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理が実行される。
【００１２】
また、好ましくは、上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とが荷電粒子ビーム描画装置用データまたはパターン検査装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素と１個以上の他の要素群の上位階層要素とに共通表示領域が存在するか否かを判定する判定処理手段と、
画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素と１個以上の他の要素群の上位階層要素とに共通表示領域が存在する場合に、第１要素群の少なくとも一部を画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な下位階層要素に関する下位階層要素データを１回のみ読み込む読込処理手段とが設けられており、
画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素と１個以上の他の要素群の上位階層要素とに共通表示領域が存在する場合に、読込処理手段によって読み込まれた下位階層要素データに基づいて、表示処理手段によって、第１要素群の下位階層要素の表示位置計算を１回のみ行い、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理が実行され、
共通表示領域内に配置された第１要素群の下位階層要素が画面の表示領域内にレイアウト表示される時に、表示処理手段によって、共通表示領域内に配置された１個以上の他の要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理が実行され、
１個以上の他の要素群の少なくとも一部を画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な下位階層要素に関する下位階層要素データであって、まだ読み込まれていない下位階層要素データを１回のみ読み込む読込処理が、読込処理手段によって実行され、
読み込まれた下位階層要素データに基づいて、表示処理手段によって、１個以上の他の要素群の下位階層要素うち、まだレイアウト表示されていない下位階層要素の表示位置計算を１回のみ行い、１個以上の他の要素群の下位階層要素うち、まだレイアウト表示されていない下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理が実行される。
【００１３】
本発明の更に別の一態様によれば、荷電粒子ビーム描画装置用データまたはパターン検査装置用データに含まれる複数の要素を画面にレイアウト表示するレイアウト表示方法において、
上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とが荷電粒子ビーム描画装置用データまたはパターン検査装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、
第１要素群の少なくとも一部を画面の表示領域内にレイアウト表示するために１回のみ読み込まれ、１回のみ表示位置計算が行われた下位階層要素に関する下位階層要素データに基づいて、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示し、
１回のみ読み込まれ、１回のみ表示位置計算が行われた下位階層要素に関する下位階層要素データに基づいて、１個以上の他の要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示し、
上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とが荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素および１個以上の他の要素群の上位階層要素の総面積がゼロより大きい所定の閾値以上になるか否かを判定し、
画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素および１個以上の他の要素群の上位階層要素の総面積がゼロより大きい所定の閾値以上になる場合に、第１要素群のすべての下位階層要素に関する下位階層要素データを１回のみ読み込み、
読み込まれた下位階層要素データに基づいて第１要素群全体に対応する画面表示用ピクセルマップを作成して保持し、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行中に、読み込まれた下位階層要素データに基づいて、第１要素群の下位階層要素の表示位置計算を１回のみ行い、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理を実行し、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行後に、保持されている画面表示用ピクセルマップに基づいて、１個以上の他の要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理を実行することを特徴とするレイアウト表示方法が提供される。
或いは、荷電粒子ビーム描画装置用データまたはパターン検査装置用データに含まれる複数の要素を画面にレイアウト表示するレイアウト表示方法において、
上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とが荷電粒子ビーム描画装置用データまたはパターン検査装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、
第１要素群の少なくとも一部を画面の表示領域内にレイアウト表示するために１回のみ読み込まれ、１回のみ表示位置計算が行われた下位階層要素に関する下位階層要素データに基づいて、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示し、
１回のみ読み込まれ、１回のみ表示位置計算が行われた下位階層要素に関する下位階層要素データに基づいて、１個以上の他の要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示し、
上位階層要素と上位階層要素の外枠の内側に配置された複数の下位階層要素とを有する第１要素群と、第１要素群と同一構造の１個以上の他の要素群とが荷電粒子ビーム描画装置用データに含まれており、かつ、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とが画面の表示領域内にレイアウト表示される場合に、画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素と１個以上の他の要素群の上位階層要素とに共通表示領域が存在するか否かを判定し、
画面の表示領域内にレイアウト表示される第１要素群の上位階層要素と１個以上の他の要素群の上位階層要素とに共通表示領域が存在する場合に、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とを画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な下位階層要素に関する下位階層要素データを１回のみ読み込み、
読み込まれた下位階層要素データに基づいて、第１要素群の少なくとも一部と１個以上の他の要素群の少なくとも一部とを画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な下位階層要素に対応する画面表示用ピクセルマップを作成して保持し、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行中に、読み込まれた下位階層要素データに基づいて、第１要素群の下位階層要素の表示位置計算を１回のみ行い、第１要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理を実行し、
画面表示用ピクセルマップの作成保持処理の実行後に、保持されている画面表示用ピクセルマップに基づいて、１個以上の他の要素群の下位階層要素を画面の表示領域内にレイアウト表示する表示処理を実行することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、荷電粒子ビーム描画装置用データまたはパターン検査装置用データに含まれる複数の要素を高速にレイアウト表示することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０の概略的な構成図。
【図２】荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１の一例を概略的に示した図。
【図３】荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１の他の例の一部の概略図。
【図４】４個のセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）のすべてがモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示された状態を示した図。
【図５】セルＣＬＡ全体に対応する画面表示用ピクセルマップを示した図。
【図６】図４よりも高い倍率で４個のセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示された状態を示した図。
【図７】荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１の他の例の一部の概略図。
【図８】２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示された状態を示した図。
【図９】共通表示領域（ＡＮＤ領域）などを示した図。
【図１０】画面表示用ピクセルマップなどを示した図。
【図１１】共通表示領域（ＡＮＤ領域）などを示した図。
【図１２】画面表示用ピクセルマップなどを示した図。
【図１３】荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１の他の例の一部の概略図。
【図１４】２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２’の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示された状態を示した図。
【図１５】共通表示領域（ＡＮＤ領域）を示した図。
【図１６】第１の実施形態のパターン検査装置２０の概略的な構成図。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の荷電粒子ビーム描画装置の第１の実施形態について説明する。図１は第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０の概略的な構成図である。第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０では、図１に示すように、マスク（ブランク）、ウエハなどのような試料Ｍ上に荷電粒子ビーム１０ａ１ｂを照射することによって、試料Ｍ上にパターンを描画するための描画部１０ａが設けられている。第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０では、荷電粒子ビーム１０ａ１ｂとして例えば電子ビームが用いられるが、第２の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０では、代わりに、荷電粒子ビーム１０ａ１ｂとして例えばイオンビーム等の電子ビーム以外の荷電粒子ビームを用いることも可能である。
第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０では、例えば、図１に示すように、荷電粒子銃１０ａ１ａと、荷電粒子銃１０ａ１ａから照射された荷電粒子ビーム１０ａ１ｂを偏向する偏向器１０ａ１ｃ，１０ａ１ｄ，１０ａ１ｅ，１０ａ１ｆと、偏向器１０ａ１ｃ，１０ａ１ｄ，１０ａ１ｅ，１０ａ１ｆによって偏向された荷電粒子ビーム１０ａ１ｂによる描画が行われる試料Ｍを載置する可動ステージ１０ａ２ａとが、描画部１０ａに設けられている。詳細には、例えば、描画部１０ａの一部を構成する描画室１０ａ２に、試料Ｍが載置された可動ステージ１０ａ２ａが配置されている。この可動ステージ１０ａ２ａは、例えば、図１の左右方向および図１の手前側−奥側方向に移動可能に構成されている。更に、例えば、描画部１０ａの一部を構成する光学鏡筒１０ａ１に、荷電粒子銃１０ａ１ａと、偏向器１０ａ１ｃ，１０ａ１ｄ，１０ａ１ｅ，１０ａ１ｆと、レンズ１０ａ１ｇ，１０ａ１ｈ，１０ａ１ｉ，１０ａ１ｊ，１０ａ１ｋと、第１成形アパーチャ１０ａ１ｌと、第２成形アパーチャ１０ａ１ｍとが配置されている。
【００１７】
第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０では、図１に示すように、例えば半導体集積回路などのレイアウトデータ（設計データ、ＣＡＤデータ）を例えば描画データ作成装置（図示せず）によって変換することにより得られた荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１が、例えばディスク形式で入力される。図２は図１に示す荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１の一例を概略的に示した図である。図２に示す例では、第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０に入力される荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１が、チップ階層ＣＰ、チップ階層ＣＰよりも下位のフレーム階層ＦＲ、フレーム階層ＦＲよりも下位のブロック階層ＢＬ、ブロック階層ＢＬよりも下位のセル階層ＣＬ、および、セル階層ＣＬよりも下位の図形階層ＦＧに階層化されている。詳細には、図２に示す例では、荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１のチップ階層ＣＰの要素の一部であるチップＣＰ１が、荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１のフレーム階層ＦＲの要素の一部である３個のフレームＦＲ１，…，ＦＲ３に対応している。また、荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１のフレーム階層ＦＲの要素の一部であるフレームＦＲ２が、荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１のブロック階層ＢＬの要素の一部である１８個のブロックＢＬ００，…，ＢＬ５２に対応している。更に、荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１のブロック階層ＢＬの要素の一部であるブロックＢＬ２１が、荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１のセル階層ＣＬの要素の一部である４個のセルＣＬ１，…，ＣＬ４に対応している。また、荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１のセル階層ＣＬの要素の一部であるセルＣＬ１が、荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１の図形階層ＦＧの要素の一部である多数の図形ＦＧ１，ＦＧ２，…に対応している。
【００１８】
第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０では、例えば、図１に示すように、荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１が、装置内部フォーマットデータ作成部１０ｂによって装置内部フォーマットに変換され、荷電粒子ビーム描画装置用データＤ２が作成される。次いで、例えば、この荷電粒子ビーム描画装置用データＤ２が描画制御部１０ｃに入力され、描画制御部１０ｃによって描画部１０ａが制御される。その結果、荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１に含まれる図形ＦＧ１，ＦＧ２，…に対応するパターンが荷電粒子ビーム１０ａ１ｂによって試料Ｍ上に描画される。また、第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０では、例えば、荷電粒子ビーム描画装置用データＤ２も、荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１と同様に、図２に示すように階層化されている。
更に、第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０では、例えば、図１に示すように、荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１が、装置内部フォーマットデータ作成部１０ｂに入力されるのみならず、レイアウト表示部１０ｄにも入力される。つまり、第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０では、例えば、図２に示すような階層化された荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１が、レイアウト表示部１０ｄのモニタ１０ｄ５の画面にレイアウト表示（ビューワ処理）される。詳細には、第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０では、例えば、階層化された荷電粒子ビーム描画装置用データＤ２も、図１に破線で示すように、レイアウト表示部１０ｄに入力可能に構成されており、モニタ１０ｄ５の画面にレイアウト表示することができる。
【００１９】
図３は図１に示す荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１の他の例の一部の概略拡大図である。詳細には、図３（Ａ）は荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１に含まれるセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）の配置およびそれらに含まれる図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６の配置を示した図、図３（Ｂ）は図３（Ａ）に示すセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）に対応するＣＬＡデータが格納されたセル配置データファイルおよび図３（Ａ）に示す図形ＦＧ０１に対応するＦＧ０１データなどが格納されたセルパターンデータファイルを示した図である。
図３に示す例では、上位階層要素としてのセルＣＬＡ（１，１）（図３（Ａ）参照）とセルＣＬＡ（１，１）の外枠の内側に配置された下位階層要素としての複数の図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６（図３（Ａ）参照）とからなる要素群が荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１に含まれている。更に、荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１には、その要素群と同一構造のセルＣＬＡ（２，１）（図３（Ａ）参照）とセルＣＬＡ（２，１）の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６とからなる要素群と、セルＣＬＡ（１，２）（図３（Ａ）参照）とセルＣＬＡ（１，２）の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６とからなる要素群と、セルＣＬＡ（２，２）（図３（Ａ）参照）とセルＣＬＡ（２，２）の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６（図３（Ａ）参照）とからなる要素群とが含まれている。
【００２０】
また、図３に示す例では、セル配置データファイル（図３（Ｂ）参照）のＣＬＡデータ（図３（Ｂ）参照）に、セルＣＬＡ（１，１）（図３（Ａ）参照）の左下隅の座標（ｘ１，ｙ１）（図３（Ａ）参照）、セルＣＬＡ（１，１）のｘ方向寸法ｗＣＬＡ（図３（Ａ）参照）、セルＣＬＡ（１，１）のｙ方向寸法ｈＣＬＡ（図３（Ａ）参照）、セルＣＬＡのｘ方向の繰り返し配置数Ｎｘ＝２（図３（Ａ）参照）、セルＣＬＡのｙ方向の繰り返し配置数Ｎｙ＝２（図３（Ａ）参照）、セルＣＬＡのｘ方向のピッチΔｘ１（図３（Ａ）参照）、セルＣＬＡのｙ方向のピッチΔｙ１（図３（Ａ）参照）、繰り返し配置される要素がセルＣＬＡである旨、セルパターンデータファイル（図３（Ｂ）参照）にリンクするためのポインタなどが含まれている。更に、セルパターンデータファイル（図３（Ｂ）参照）のＦＧ０１データ（図３（Ｂ）参照）に、図形ＦＧ０１（図３（Ａ）参照）の左下隅の座標、図形ＦＧ０１のｘ方向寸法、図形ＦＧ０１のｙ方向寸法などの図形ＦＧ０１に関する情報が含まれている。同様に、例えば、セルパターンデータファイルのＦＧ０２データ、…、ＦＧ１６データ（図３（Ｂ）参照）のそれぞれに図形ＦＧ０２、…、図形ＦＧ１６（図３（Ａ）参照）のそれぞれに関する情報が含まれている。つまり、図３に示す例では、セルパターンデータファイルに含まれる図形データ（ＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データ）を読み込まなくても、セル配置データファイルに含まれるセルデータ（ＣＬＡデータ）のみを読み込むことにより、４個の同一構造のセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）（図３（Ａ）参照）が繰り返し配置（詳細には、アレイ配置）されていることを把握することができる。
【００２１】
図４は図３（Ａ）に示す４個のセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）のすべてがモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示された状態を示した図である。第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によって図４に示すように４個のセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）のすべてがモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される例を説明する前に、例えば特許文献１に記載された荷電粒子ビーム描画装置のような従来の荷電粒子ビーム描画装置によって図４に示すように４個のセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）のすべてがモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される例について説明する。
【００２２】
従来の荷電粒子ビーム描画装置によって図４に示すように４個のセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）のすべてがモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合には、まず最初に、セル配置データファイル（図３（Ｂ）参照）のＣＬＡデータ（図３（Ｂ）参照）が読み込まれ、セルＣＬＡ（１，１）（図３（Ａ）参照）の左下隅の座標（ｘ１，ｙ１）、セルＣＬＡ（１，１）のｘ方向寸法ｗＣＬＡ、セルＣＬＡ（１，１）のｙ方向寸法ｈＣＬＡなどが把握される。また、セル配置データファイルのＣＬＡデータに含まれるセルパターンデータファイル（図３（Ｂ）参照）にリンクするためのポインタに基づいて、セルパターンデータファイルのＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データ（図３（Ｂ）参照）が読み込まれる。更に、読み込まれたＣＬＡデータおよびＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データに基づいて、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内におけるセルＣＬＡ（１，１）の外枠およびその内側の図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６の表示位置が計算され、図４に示すように、セルＣＬＡ（１，１）とセルＣＬＡ（１，１）の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６とからなる要素群がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
次いで、セル配置データファイルのＣＬＡデータが読み込まれ、セルＣＬＡ（１，１）とセルＣＬＡ（２，１）とが同一構造である旨、セルＣＬＡ（２，１）の配置などが把握される。また、セル配置データファイルのＣＬＡデータに含まれるセルパターンデータファイルにリンクするためのポインタに基づいて、セルパターンデータファイルのＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データが再び読み込まれる。更に、読み込まれたＣＬＡデータおよびＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データに基づいて、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内におけるセルＣＬＡ（２，１）の外枠およびその内側の図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６の表示位置が計算され、図４に示すように、セルＣＬＡ（２，１）とセルＣＬＡ（２，１）の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６とからなる要素群がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
次いで、セル配置データファイルのＣＬＡデータが読み込まれ、セルＣＬＡ（１，１）とセルＣＬＡ（１，２）とが同一構造である旨、セルＣＬＡ（１，２）の配置などが把握される。また、セル配置データファイルのＣＬＡデータに含まれるセルパターンデータファイルにリンクするためのポインタに基づいて、セルパターンデータファイルのＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データが再び読み込まれる。更に、読み込まれたＣＬＡデータおよびＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データに基づいて、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内におけるセルＣＬＡ（１，２）の外枠およびその内側の図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６の表示位置が計算され、図４に示すように、セルＣＬＡ（１，２）とセルＣＬＡ（１，２）の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６とからなる要素群がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
次いで、セル配置データファイルのＣＬＡデータが読み込まれ、セルＣＬＡ（１，１）とセルＣＬＡ（２，２）とが同一構造である旨、セルＣＬＡ（２，２）の配置などが把握される。また、セル配置データファイルのＣＬＡデータに含まれるセルパターンデータファイルにリンクするためのポインタに基づいて、セルパターンデータファイルのＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データが再び読み込まれる。更に、読み込まれたＣＬＡデータおよびＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データに基づいて、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内におけるセルＣＬＡ（２，２）の外枠およびその内側の図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６の表示位置が計算され、図４に示すように、セルＣＬＡ（２，２）とセルＣＬＡ（２，２）の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６とからなる要素群がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
【００２３】
つまり、従来の荷電粒子ビーム描画装置によって図４に示すように４個のセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）のすべてがモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合には、セルパターンデータファイル（図３（Ｂ）参照）のＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データ（図３（Ｂ）参照）が４回繰り返して読み込まれていた。更に、ＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データに基づいて、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６の表示位置の計算が４回繰り返されていた。そのため、従来の荷電粒子ビーム描画装置では、セルパターンデータファイルのＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データの読み込み時間が長くなると共に、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６の表示位置計算時間が長くなってしまい、４個のセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）およびそれらに含まれる図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６を高速にレイアウト表示することができなかった。上述した問題点に鑑み、第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０では、後述するような改良が施されている。
【００２４】
第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によって図４に示すように４個のセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）のすべてがモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合には、まず最初に、例えば、セル配置データファイル（図３（Ｂ）参照）のＣＬＡデータ（図３（Ｂ）参照）が読込処理ユニット１０ｄ１（図１参照）によって読み込まれ、セルＣＬＡ（１，１）（図３（Ａ）参照）の左下隅の座標（ｘ１，ｙ１）、セルＣＬＡ（１，１）のｘ方向寸法ｗＣＬＡ、セルＣＬＡ（１，１）のｙ方向寸法ｈＣＬＡ、セルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）が同一構造である旨、セルＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）の配置などが把握される。
次いで、例えば、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）の総面積が、例えばセルＣＬＡ（１，１）１個分の面積のような所定の閾値以上になるか否かが、判定処理ユニット１０ｄ２（図１参照）によって判定される。モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）の総面積が所定の閾値未満になる場合には、繰り返して読み込まれるセルパターンデータファイル（図３（Ｂ）参照）のＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データ（図３（Ｂ）参照）が殆ど存在しないため、セルパターンデータファイルのＦＧ０１データなどの読み込み時間が長くならないと判断され、上述した従来の荷電粒子ビーム描画装置と同様のレイアウト表示方法が採用される。一方、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）の総面積が所定の閾値以上になる場合には、繰り返して読み込まれるセルパターンデータファイルのＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データが存在するため、セルパターンデータファイルのＦＧ０１データなどの読み込み時間が長くなってしまうおそれがあると判断され、第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０のレイアウト表示方法が採用される。図４に示す例では、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）の総面積が、セルＣＬＡ（１，１）４個分の面積になると判定処理ユニット１０ｄ２によって判定される。
【００２５】
次いで、例えば、セル配置データファイル（図３（Ｂ）参照）のＣＬＡデータ（図３（Ｂ）参照）に含まれるセルパターンデータファイル（図３（Ｂ）参照）にリンクするためのポインタに基づいて、セルパターンデータファイルのすべての図形データ（ＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データ（図３（Ｂ）参照））が読込処理ユニット１０ｄ１（図１参照）によって１回のみ読み込まれる。次いで、例えば、読み込まれたセルパターンデータファイルのすべての図形データ（ＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データ）に基づいて、セルＣＬＡ全体に対応する画面表示用ピクセルマップ（図５（Ｂ）参照）がピクセルマップ作成保持処理ユニット１０ｄ３（図１参照）によって作成されて保持される。
図５は第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０のピクセルマップ作成保持処理ユニット１０ｄ３によって作成されるセルＣＬＡ全体に対応する画面表示用ピクセルマップなどを示した図である。詳細には、図５（Ａ）は図３（Ａ）に示すセルＣＬＡ（１，１）およびそれに含まれる図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６の配置を示した図、図５（Ｂ）は図５（Ａ）に示すセルＣＬＡ（１，１）に含まれる図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６に対応するセルＣＬＡ全体の画面表示用ピクセルマップを示した図である。図４および図５に示す例では、画面表示用ピクセルマップ（図５（Ｂ）参照）が複数の矩形領域に分割され、１個の矩形領域がモニタ１０ｄ５（図１参照）の画面の１ピクセルに相当している。更に、セルＣＬＡ（１，１）内に含まれる図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６をモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内に表示するために必要なモニタ１０ｄ５の画面の各ピクセルの色、透明度などが、画面表示用ピクセルマップ（図５（Ｂ）参照）に記録されている。モニタ１０ｄ５の画面の１個のピクセルに複数個の要素が重複して表示される場合には、透明度を適切な値に設定することにより、複数個の要素が同一箇所に重複して位置している旨を例えばオペレータなどに理解させることができる。
【００２６】
第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によって図４に示すように４個のセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）のすべてがモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合には、例えば、ピクセルマップ作成保持処理ユニット１０ｄ３（図１参照）による画面表示用ピクセルマップ（図５（Ｂ）参照）の作成保持処理の実行中に、読み込まれたセル配置データファイル（図３（Ｂ）参照）のＣＬＡデータ（図３（Ｂ）参照）とセルパターンデータファイル（図３（Ｂ）参照）の図形データ（ＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データ（図３（Ｂ）参照））とに基づいて、表示処理ユニット１０ｄ４（図１参照）によって、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内におけるセルＣＬＡ（１，１）の外枠の内側の図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６の表示位置計算が１回のみ行われ、セルＣＬＡ（１，１）とセルＣＬＡ（１，１）の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６とからなる要素群がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
次いで、例えば、ピクセルマップ作成保持処理ユニット１０ｄ３による画面表示用ピクセルマップ（図５（Ｂ）参照）の作成保持処理の実行後に、読み込まれたセル配置データファイル（図３（Ｂ）参照）のＣＬＡデータ（図３（Ｂ）参照）と、保持されている画面表示用ピクセルマップ（図５（Ｂ）参照）とに基づいて、表示処理ユニット１０ｄ４によって、セルＣＬＡ（２，１）とセルＣＬＡ（２，１）の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６とからなる要素群と、セルＣＬＡ（１，２）とセルＣＬＡ（１，２）の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６とからなる要素群と、セルＣＬＡ（２，２）とセルＣＬＡ（２，２）の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６とからなる要素群とが、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
【００２７】
つまり、第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によって図４に示すように４個のセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）のすべてがモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合には、セルパターンデータファイル（図３（Ｂ）参照）のＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データ（図３（Ｂ）参照）が１回しか読み込まれない。また、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６の表示位置計算が４回繰り返されない。そのため、第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によれば、セルパターンデータファイルのＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データの読み込み時間、および、図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６の表示位置計算時間を短縮することができ、４個のセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）およびそれらに含まれる図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６を高速にレイアウト表示することができる。
【００２８】
図６は図４よりも高い倍率で図３（Ａ）に示す４個のセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示された状態を示した図である。
従来の荷電粒子ビーム描画装置によって図６に示すように４個のセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合には、まず最初に、セル配置データファイル（図３（Ｂ）参照）のＣＬＡデータ（図３（Ｂ）参照）が読み込まれ、セルＣＬＡ（１，１）（図３（Ａ）参照）の左下隅の座標（ｘ１，ｙ１）、セルＣＬＡ（１，１）のｘ方向寸法ｗＣＬＡ、セルＣＬＡ（１，１）のｙ方向寸法ｈＣＬＡなどが把握される。また、セル配置データファイルのＣＬＡデータに含まれるセルパターンデータファイル（図３（Ｂ）参照）にリンクするためのポインタに基づいて、セルパターンデータファイルのＦＧ０６データ、…、ＦＧ０８データ、ＦＧ１０データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データ（図３（Ｂ）参照）が読み込まれる。更に、読み込まれたＣＬＡデータおよびＦＧ０６データ、…、ＦＧ０８データ、ＦＧ１０データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データに基づいて、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６の表示位置が計算され、セルＣＬＡ（１，１）の一部とセルＣＬＡ（１，１）の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６とからなる要素群がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
次いで、セル配置データファイルのＣＬＡデータが読み込まれ、セルＣＬＡ（１，１）とセルＣＬＡ（２，１）とが同一構造である旨、セルＣＬＡ（２，１）の配置などが把握される。また、セル配置データファイルのＣＬＡデータに含まれるセルパターンデータファイルにリンクするためのポインタに基づいて、セルパターンデータファイルのＦＧ０５データ、…、ＦＧ０７データ、ＦＧ０９データ、…、ＦＧ１１データ、ＦＧ１３データ、…、ＦＧ１５データが読み込まれる。詳細には、ＦＧ０６データ、ＦＧ０７データ、ＦＧ１０データ、ＦＧ１１データ、ＦＧ１４データ、ＦＧ１５データの読み込みが２回目になる。更に、読み込まれたＣＬＡデータおよびＦＧ０５データ、…、ＦＧ０７データ、ＦＧ０９データ、…、ＦＧ１１データ、ＦＧ１３データ、…、ＦＧ１５データに基づいて、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０５，…，ＦＧ０７，ＦＧ０９，…，ＦＧ１１，ＦＧ１３，…，ＦＧ１５の表示位置が計算され、セルＣＬＡ（２，１）の一部とセルＣＬＡ（２，１）の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０５，…，ＦＧ０７，ＦＧ０９，…，ＦＧ１１，ＦＧ１３，…，ＦＧ１５とからなる要素群がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
次いで、セル配置データファイルのＣＬＡデータが読み込まれ、セルＣＬＡ（１，１）とセルＣＬＡ（１，２）とが同一構造である旨、セルＣＬＡ（１，２）の配置などが把握される。また、セル配置データファイルのＣＬＡデータに含まれるセルパターンデータファイルにリンクするためのポインタに基づいて、セルパターンデータファイルのＦＧ０２データ、…、ＦＧ０４データ、ＦＧ０６データ、…、ＦＧ０８データ、ＦＧ１０データ、…、ＦＧ１２データが読み込まれる。詳細には、ＦＧ０６データ、ＦＧ０７データ、ＦＧ１０データ、ＦＧ１１データの読み込みが３回目になり、ＦＧ０８データ、ＦＧ１２データの読み込みが２回目になる。更に、読み込まれたＣＬＡデータおよびＦＧ０２データ、…、ＦＧ０４データ、ＦＧ０６データ、…、ＦＧ０８データ、ＦＧ１０データ、…、ＦＧ１２データに基づいて、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０２，…，ＦＧ０４，ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２の表示位置が計算され、セルＣＬＡ（１，２）の一部とセルＣＬＡ（１，２）の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０２，…，ＦＧ０４，ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２とからなる要素群がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
次いで、セル配置データファイルのＣＬＡデータが読み込まれ、セルＣＬＡ（１，１）とセルＣＬＡ（２，２）とが同一構造である旨、セルＣＬＡ（２，２）の配置などが把握される。また、セル配置データファイルのＣＬＡデータに含まれるセルパターンデータファイルにリンクするためのポインタに基づいて、セルパターンデータファイルのＦＧ０１データ、…、ＦＧ０３データ、ＦＧ０５データ、…、ＦＧ０７データ、ＦＧ０９データ、…、ＦＧ１１データが読み込まれる。詳細には、ＦＧ０６データ、ＦＧ０７データ、ＦＧ１０データ、ＦＧ１１データの読み込みが４回目になり、ＦＧ０２データ、ＦＧ０３データ、ＦＧ０５データ、ＦＧ０９データの読み込みが２回目になる。更に、読み込まれたＣＬＡデータおよびＦＧ０１データ、…、ＦＧ０３データ、ＦＧ０５データ、…、ＦＧ０７データ、ＦＧ０９データ、…、ＦＧ１１データに基づいて、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ０７，ＦＧ０９，…，ＦＧ１１の表示位置が計算され、セルＣＬＡ（２，２）の一部とセルＣＬＡ（２，２）の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ０７，ＦＧ０９，…，ＦＧ１１とからなる要素群がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
【００２９】
つまり、従来の荷電粒子ビーム描画装置によって図６に示すように４個のセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合には、セルパターンデータファイル（図３（Ｂ）参照）のＦＧ０２データ、ＦＧ０３データ、ＦＧ０５データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、ＦＧ１５データ（図３（Ｂ）参照）が２回以上繰り返して読み込まれ、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０２，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，ＦＧ１５の表示位置計算が繰り返して行われていた。そのため、従来の荷電粒子ビーム描画装置では、セルパターンデータファイルのＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データの読み込み時間、および、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６の表示位置計算時間が長くなってしまい、４個のセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）の一部およびそれらに含まれる図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６を高速にレイアウト表示することができなかった。
【００３０】
それに対し、第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によって図６に示すように４個のセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合には、まず最初に、例えば、セル配置データファイル（図３（Ｂ）参照）のＣＬＡデータ（図３（Ｂ）参照）が読込処理ユニット１０ｄ１（図１参照）によって読み込まれ、セルＣＬＡ（１，１）（図３（Ａ）参照）の左下隅の座標（ｘ１，ｙ１）、セルＣＬＡ（１，１）のｘ方向寸法ｗＣＬＡ、セルＣＬＡ（１，１）のｙ方向寸法ｈＣＬＡ、セルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）が同一構造である旨、セルＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）の配置などが把握される。
次いで、例えば、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）の総面積が、例えばセルＣＬＡ（１，１）１個分の面積のような所定の閾値以上になるか否かが、判定処理ユニット１０ｄ２（図１参照）によって判定される。図６に示す例では、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）の総面積が、セルＣＬＡ（１，１）の２．２５個分の面積になると判定処理ユニット１０ｄ２によって判定される。
【００３１】
次いで、例えば、セル配置データファイル（図３（Ｂ）参照）のＣＬＡデータ（図３（Ｂ）参照）に含まれるセルパターンデータファイル（図３（Ｂ）参照）にリンクするためのポインタに基づいて、セルパターンデータファイルのすべての図形データ（ＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データ（図３（Ｂ）参照））が読込処理ユニット１０ｄ１（図１参照）によって１回のみ読み込まれる。次いで、例えば、読み込まれたセルパターンデータファイルのすべての図形データ（ＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データ）に基づいて、セルＣＬＡ全体に対応する画面表示用ピクセルマップ（図５（Ｂ）参照）がピクセルマップ作成保持処理ユニット１０ｄ３（図１参照）によって作成されて保持される。
更に、例えば、ピクセルマップ作成保持処理ユニット１０ｄ３による画面表示用ピクセルマップ（図５（Ｂ）参照）の作成保持処理の実行中に、読み込まれたセル配置データファイル（図３（Ｂ）参照）のＣＬＡデータ（図３（Ｂ）参照）とセルパターンデータファイル（図３（Ｂ）参照）の図形データ（ＦＧ０６データ、…、ＦＧ０８データ、ＦＧ１０データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データ（図３（Ｂ）参照））とに基づいて、表示処理ユニット１０ｄ４（図１参照）によって、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６の表示位置計算が１回のみ行われ、セルＣＬＡ（１，１）の一部とセルＣＬＡ（１，１）の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６とからなる要素群がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
次いで、例えば、ピクセルマップ作成保持処理ユニット１０ｄ３による画面表示用ピクセルマップ（図５（Ｂ）参照）の作成保持処理の実行後に、読み込まれたセル配置データファイル（図３（Ｂ）参照）のＣＬＡデータ（図３（Ｂ）参照）と、保持されている画面表示用ピクセルマップとに基づいて、表示処理ユニット１０ｄ４によって、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０５，ＦＧ０９，ＦＧ１３の表示位置計算が１回のみ行われ、セルＣＬＡ（２，１）の一部とセルＣＬＡ（２，１）の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０５，…，ＦＧ０７，ＦＧ０９，…，ＦＧ１１，ＦＧ１３，…，ＦＧ１５とからなる要素群と、セルＣＬＡ（１，２）の一部とセルＣＬＡ（１，２）の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０２，…，ＦＧ０４，ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２とからなる要素群と、セルＣＬＡ（２，２）の一部とセルＣＬＡ（２，２）の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ０７，ＦＧ０９，…，ＦＧ１１とからなる要素群とがモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
【００３２】
つまり、第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によって図６に示すように４個のセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合には、セルパターンデータファイル（図３（Ｂ）参照）のＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データ（図３（Ｂ）参照）が１回しか読み込まれず、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６の表示位置計算が１回しか行われない。そのため、第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によれば、セルパターンデータファイルのＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データの読み込み時間、および、図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６の表示位置計算時間を短縮することができ、４個のセルＣＬＡ（１，１），ＣＬＡ（２，１），ＣＬＡ（１，２），ＣＬＡ（２，２）の一部およびそれらに含まれる図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６を高速にレイアウト表示することができる。
【００３３】
図７は図１に示す荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１の更に他の例の一部の概略拡大図である。詳細には、図７（Ａ）は荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１に含まれるセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の配置およびそれらに含まれる図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６の配置を示した図、図７（Ｂ）は図７（Ａ）に示すセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２に対応するＣＬＡ１データ、ＣＬＡ２データが格納されたセル配置データファイルおよび図７（Ａ）に示す図形ＦＧ０１に対応するＦＧ０１データなどが格納されたセルパターンデータファイルを示した図である。図７に示す例では、上位階層要素としてのセルＣＬＡ１（図７（Ａ）参照）とセルＣＬＡ１の外枠の内側に配置された下位階層要素としての複数の図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６とからなる要素群が荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１に含まれている。更に、荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１には、その要素群と同一構造のセルＣＬＡ２（図７（Ａ）参照）とセルＣＬＡ２の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６とからなる要素群が含まれている。
また、図７に示す例では、例えば、セル配置データファイル（図７（Ｂ）参照）のＣＬＡ１データ（図７（Ｂ）参照）に、セルＣＬＡ１（図７（Ａ）参照）の左下隅の座標（ｘ１，ｙ１）、セルＣＬＡ１のｘ方向寸法ｗＣＬＡ、セルＣＬＡ１のｙ方向寸法ｈＣＬＡ、繰り返し配置される要素がセルＣＬＡである旨、セルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）にリンクするためのポインタなどが含まれている。また、例えば、セル配置データファイルのＣＬＡ２データ（図７（Ｂ）参照）に、セルＣＬＡ２（図７（Ａ）参照）の左下隅の座標（ｘ２，ｙ２）、繰り返し配置される要素がセルＣＬＡである旨、セルパターンデータファイルにリンクするためのポインタなどが含まれている。更に、セルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）が図３に示す例と同様に構成されている。
つまり、図７に示す例では、セルパターンデータファイルに含まれる図形データ（ＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データ）を読み込まなくても、セル配置データファイル（図７（Ｂ）参照）に含まれるセルデータ（ＣＬＡ１データ、ＣＬＡ２データ）のみを読み込むことにより、２個の同一構造のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２（図７（Ａ）参照）が繰り返し配置されていることを把握することができる。
【００３４】
図８は図７（Ａ）に示す２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示された状態を示した図である。
従来の荷電粒子ビーム描画装置によって図８に示すように２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合には、セルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）のＦＧ０６データ、ＦＧ０７データ、ＦＧ１０データ、ＦＧ１１データが２回繰り返して読み込まれ、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０６，ＦＧ０７，ＦＧ１０，ＦＧ１１の表示位置計算が２回行われる。そのため、従来の荷電粒子ビーム描画装置では、セルパターンデータファイルのＦＧ０１データ、…、ＦＧ０３データ、ＦＧ０５データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データの読み込み時間、および、図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６の表示位置計算時間が長くなってしまい、２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部およびそれらに含まれる図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６を高速にレイアウト表示することができなかった。
【００３５】
一方、第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によって図８に示すように２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合には、まず最初に、例えば、セル配置データファイル（図７（Ｂ）参照）のＣＬＡ１データ、ＣＬＡ２データが読込処理ユニット１０ｄ１（図１参照）によって読み込まれ、セルＣＬＡ１（図７（Ａ）参照）の左下隅の座標（ｘ１，ｙ１）、セルＣＬＡ１のｘ方向寸法ｗＣＬＡ、セルＣＬＡ１のｙ方向寸法ｈＣＬＡ、セルＣＬＡ２（図７（Ａ）参照）の左下隅の座標（ｘ２，ｙ２）、セルＣＬＡ１とセルＣＬＡ２とが同一構造である旨などが把握される。
次いで、例えば、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の総面積が、例えばセルＣＬＡ１の１個分の面積のような所定の閾値以上になるか否かが、判定処理ユニット１０ｄ２（図１参照）によって判定される。図８に示す例では、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の総面積が、例えばセルＣＬＡ１の１．１２５個分の面積になると判定処理ユニット１０ｄ２によって判定される。
次いで、例えば、セル配置データファイルのＣＬＡ１データに含まれるセルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）にリンクするためのポインタに基づいて、セルパターンデータファイルのすべての図形データ（ＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データ（図７（Ｂ）参照））が読込処理ユニット１０ｄ１（図１参照）によって１回のみ読み込まれる。次いで、例えば、読み込まれたセルパターンデータファイルのすべての図形データ（ＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データ）に基づいて、画面表示用ピクセルマップ（図５（Ｂ）参照）がピクセルマップ作成保持処理ユニット１０ｄ３（図１参照）によって作成されて保持される。
【００３６】
更に、例えば、ピクセルマップ作成保持処理ユニット１０ｄ３による画面表示用ピクセルマップ（図５（Ｂ）参照）の作成保持処理の実行中に、読み込まれたセル配置データファイル（図７（Ｂ）参照）のＣＬＡ１データとセルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）の図形データ（ＦＧ０６データ、…、ＦＧ０８データ、ＦＧ１０データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データ（図７（Ｂ）参照））とに基づいて、表示処理ユニット１０ｄ４（図１参照）によって、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６の表示位置が計算され、セルＣＬＡ１の一部とセルＣＬＡ１の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６とからなる要素群がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
次いで、例えば、ピクセルマップ作成保持処理ユニット１０ｄ３（図１参照）による画面表示用ピクセルマップ（図５（Ｂ）参照）の作成保持処理の実行後に、読み込まれたセル配置データファイル（図７（Ｂ）参照）のＣＬＡ２データと、保持されている画面表示用ピクセルマップに基づいて、表示処理ユニット１０ｄ４によって、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，ＦＧ０９の表示位置計算が行われ、セルＣＬＡ２の一部とセルＣＬＡ２の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ０７，ＦＧ０９，…，ＦＧ１１とからなる要素群がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
つまり、第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によって図８に示すように２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部がモニタ１０ｄ５（図１参照）の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合には、セルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）のＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データ（図７（Ｂ）参照）が１回しか読み込まれず、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６の表示位置計算が１回しか行われない。そのため、第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によれば、セルパターンデータファイルのＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データの読み込み時間、および、図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６の表示位置計算時間を短縮することができ、２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部およびそれらに含まれる図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６を高速にレイアウト表示することができる。
【００３７】
次に、第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０とほぼ同様に構成された第３の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によって図８に示すように２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合について説明する。第３の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によって図８に示すように２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合には、まず最初に、例えば、セル配置データファイル（図７（Ｂ）参照）のＣＬＡ１データ、ＣＬＡ２データが読込処理ユニット１０ｄ１（図１参照）によって読み込まれ、セルＣＬＡ１（図７（Ａ）参照）の左下隅の座標（ｘ１，ｙ１）、セルＣＬＡ１のｘ方向寸法ｗＣＬＡ、セルＣＬＡ１のｙ方向寸法ｈＣＬＡ、セルＣＬＡ２（図７（Ａ）参照）の左下隅の座標（ｘ２，ｙ２）、セルＣＬＡ１とセルＣＬＡ２とが同一構造である旨などが把握される。
次いで、例えば、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるセルＣＬＡ１とセルＣＬＡ２とに共通表示領域（ＡＮＤ領域）（図９（Ａ）参照）が存在するか否かが、判定処理ユニット１０ｄ２（図１参照）によって判定される。モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるセルＣＬＡ１とセルＣＬＡ２とに共通表示領域（ＡＮＤ領域）が存在しない場合には、上述した従来の荷電粒子ビーム描画装置と同様のレイアウト表示方法が採用される。一方、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるセルＣＬＡ１とセルＣＬＡ２とに共通表示領域（ＡＮＤ領域）が存在する場合には、第３の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０のレイアウト表示方法が採用される。図８に示す例では、セルＣＬＡ１とセルＣＬＡ２とに共通表示領域（ＡＮＤ領域）が存在すると判定処理ユニット１０ｄ２によって判定される。
図９は共通表示領域（ＡＮＤ領域）などを示した図である。詳細には、図９（Ａ）は図７に示す２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部が図８に示すようにモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合におけるセルＣＬＡ１とセルＣＬＡ２との共通表示領域（ＡＮＤ領域）をハッチングで示した図である。図９（Ｂ）は図７に示す２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部が図８に示すようにモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合にセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２をレイアウト表示するのに必要な表示必要領域（ＯＲ領域）をハッチングで示した図である。
【００３８】
次いで、例えば、セル配置データファイル（図７（Ｂ）参照）のＣＬＡ１データに含まれるセルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）にリンクするためのポインタ、および、表示必要領域（ＯＲ領域）（図９（Ｂ）参照）に基づいて、図８に示すように２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部をモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な図形データ（ＦＧ０１データ、…、ＦＧ０３データ、ＦＧ０５データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データ（図７（Ｂ）参照））（つまり、表示必要領域（ＯＲ領域）に含まれる図形に関する図形データ）が読込処理ユニット１０ｄ１（図１参照）によってセルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）から１回のみ読み込まれる。次いで、例えば、読み込まれた図形データ（ＦＧ０１データ、…、ＦＧ０３データ、ＦＧ０５データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データ）に基づいて、表示必要領域（ＯＲ領域）内の図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６に対応する画面表示用ピクセルマップ（図１０（Ｂ）参照）がピクセルマップ作成保持処理ユニット１０ｄ３（図１参照）によって作成されて保持される。
図１０は第３の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０のピクセルマップ作成保持処理ユニット１０ｄ３によって作成される画面表示用ピクセルマップなどを示した図である。詳細には、図１０（Ａ）は表示必要領域（ＯＲ領域）をハッチングで示した図、図１０（Ｂ）は図１０（Ａ）に示す表示必要領域（ＯＲ領域）に対応する画面表示用ピクセルマップを示した図である。
図８、図９および図１０に示す例では、画面表示用ピクセルマップ（図１０（Ｂ）参照）が複数の矩形領域に分割され、１個の矩形領域がモニタ１０ｄ５（図１参照）の画面の１ピクセルに相当している。更に、表示必要領域（ＯＲ領域）（図１０（Ａ）参照）内に含まれる図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６をモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内に表示するために必要なモニタ１０ｄ５の画面の各ピクセルの色、透明度などが、画面表示用ピクセルマップ（図１０（Ｂ）参照）に記録されている。
【００３９】
更に、例えば、ピクセルマップ作成保持処理ユニット１０ｄ３（図１参照）による画面表示用ピクセルマップ（図１０（Ｂ）参照）の作成保持処理の実行中に、読み込まれたセル配置データファイル（図７（Ｂ）参照）のＣＬＡ１データ（図７（Ｂ）参照）とセルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）の図形データ（ＦＧ０６データ、…、ＦＧ０８データ、ＦＧ１０データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データ（図７（Ｂ）参照））とに基づいて、表示処理ユニット１０ｄ４（図１参照）によって、図８に示すように、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６の表示位置が計算され、セルＣＬＡ１の一部とセルＣＬＡ１の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６とからなる要素群がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
次いで、例えば、ピクセルマップ作成保持処理ユニット１０ｄ３による画面表示用ピクセルマップ（図１０（Ｂ）参照）の作成保持処理の実行後に、読み込まれたセル配置データファイル（図７（Ｂ）参照）のＣＬＡ２データ（図７（Ｂ）参照）と、保持されている画面表示用ピクセルマップ（図１０（Ｂ）参照）とに基づいて、表示処理ユニット１０ｄ４（図１参照）によって、図８に示すように、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，ＦＧ０９の表示位置が計算され、セルＣＬＡ２の一部とセルＣＬＡ２の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ０７，ＦＧ０９，…，ＦＧ１１とからなる要素群がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
つまり、第３の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によって図８に示すようにセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合には、セルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）のＦＧ０１データ、…、ＦＧ０３データ、ＦＧ０５データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データが１回しか読み込まれず、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６の表示位置計算が１回しか行われない。そのため、第３の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によれば、セルパターンデータファイルのＦＧ０１データ、…、ＦＧ０３データ、ＦＧ０５データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データの読み込み時間、および、図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６の表示位置計算時間を短縮することができ、セルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部およびそれらに含まれる図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６を高速にレイアウト表示することができる。
【００４０】
次に、第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０とほぼ同様に構成された第４の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によって図８に示すように２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合について説明する。第４の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によって図８に示すように２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合には、まず最初に、例えば、セル配置データファイル（図７（Ｂ）参照）のＣＬＡ１データ、ＣＬＡ２データ（図７（Ｂ）参照）が読込処理ユニット１０ｄ１（図１参照）によって読み込まれ、セルＣＬＡ１（図７（Ａ）参照）の左下隅の座標（ｘ１，ｙ１）、セルＣＬＡ１のｘ方向寸法ｗＣＬＡ、セルＣＬＡ１のｙ方向寸法ｈＣＬＡ、セルＣＬＡ２（図７（Ａ）参照）の左下隅の座標（ｘ２，ｙ２）、セルＣＬＡ１とセルＣＬＡ２とが同一構造である旨などが把握される。
次いで、例えば、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるセルＣＬＡ１とセルＣＬＡ２とに共通表示領域（ＡＮＤ領域）（図１１（Ａ）参照）が存在するか否かが、判定処理ユニット１０ｄ２（図１参照）によって判定される。モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるセルＣＬＡ１とセルＣＬＡ２とに共通表示領域（ＡＮＤ領域）（図１１（Ａ）参照）が存在しない場合には、上述した従来の荷電粒子ビーム描画装置と同様のレイアウト表示方法が採用される。一方、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるセルＣＬＡ１とセルＣＬＡ２とに共通表示領域（ＡＮＤ領域）（図１１（Ａ）参照）が存在する場合には、第４の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０のレイアウト表示方法が採用される。図８に示す例では、セルＣＬＡ１（図７（Ａ）参照）とセルＣＬＡ２（図７（Ａ）参照）とに共通表示領域（ＡＮＤ領域）が存在すると判定処理ユニット１０ｄ２によって判定される。
図１１は共通表示領域（ＡＮＤ領域）などを示した図である。詳細には、図１１（Ａ）は図９（Ａ）と同様の共通表示領域（ＡＮＤ領域）を示した図である。図１１（Ｂ）は図７に示すセルＣＬＡ１の一部が図８に示すようにモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合にセルＣＬＡ１をレイアウト表示するのに必要な表示必要領域をハッチングで示した図である。
【００４１】
次いで、例えば、セル配置データファイル（図７（Ｂ）参照）のＣＬＡ１データに含まれるセルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）にリンクするためのポインタ、および、セルＣＬＡ１をレイアウト表示するのに必要な表示必要領域（図１１（Ｂ）参照）に基づいて、図８に示すようにセルＣＬＡ１の一部をモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な図形データ（ＦＧ０６データ、…、ＦＧ０８データ、ＦＧ１０データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データ（図７（Ｂ）参照））が読込処理ユニット１０ｄ１（図１参照）によってセルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）から１回のみ読み込まれる。次いで、例えば、読み込まれた図形データ（ＦＧ０６データ、…、ＦＧ０８データ、ＦＧ１０データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データ）に基づいて、セルＣＬＡ１の表示必要領域（図１１（Ｂ）参照）内の図形ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６に対応する画面表示用ピクセルマップ（図１２（Ｂ）参照）がピクセルマップ作成保持処理ユニット１０ｄ３（図１参照）によって作成されて保持される。
図１２は第４の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０のピクセルマップ作成保持処理ユニット１０ｄ３によって作成される画面表示用ピクセルマップなどを示した図である。詳細には、図１２（Ａ）はセルＣＬＡ１の表示必要領域をハッチングで示した図である。図１２（Ｂ）は図１２（Ａ）に示すセルＣＬＡ１の表示必要領域に対応する画面表示用ピクセルマップを示した図である。
図８、図１１および図１２に示す例では、画面表示用ピクセルマップ（図１２（Ｂ）参照）が複数の矩形領域に分割され、１個の矩形領域がモニタ１０ｄ５（図１参照）の画面の１ピクセルに相当している。更に、セルＣＬＡ１の表示必要領域（図１２（Ａ）参照）内に含まれる図形ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６をモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内に表示するために必要なモニタ１０ｄ５の画面の各ピクセルの色、透明度などが、画面表示用ピクセルマップ（図１２（Ｂ）参照）に記録されている。
【００４２】
更に、例えば、ピクセルマップ作成保持処理ユニット１０ｄ３（図１参照）による画面表示用ピクセルマップ（図１２（Ｂ）参照）の作成保持処理の実行中に、読み込まれたセル配置データファイル（図７（Ｂ）参照）のＣＬＡ１データ（図７（Ｂ）参照）とセルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）の図形データ（ＦＧ０６データ、…、ＦＧ０８データ、ＦＧ１０データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データ（図７（Ｂ）参照））とに基づいて、表示処理ユニット１０ｄ４（図１参照）によって、図８に示すように、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６の表示位置が計算され、セルＣＬＡ１の一部とセルＣＬＡ１の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６とからなる要素群がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
次いで、例えば、ピクセルマップ作成保持処理ユニット１０ｄ３（図１参照）による画面表示用ピクセルマップ（図１２（Ｂ）参照）の作成保持処理の実行後に、読み込まれたセル配置データファイル（図７（Ｂ）参照）のＣＬＡ２データ（図７（Ｂ）参照）と、保持されている画面表示用ピクセルマップ（図１２（Ｂ）参照）とに基づいて、表示処理ユニット１０ｄ４（図１参照）によって、図８に示すように、セルＣＬＡ２の一部とセルＣＬＡ２の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０６，ＦＧ０７，ＦＧ１０，ＦＧ１１（つまり、共通表示領域（ＡＮＤ領域）（図１１（Ａ）参照）内に配置された図形ＦＧ０６，ＦＧ０７，ＦＧ１０，ＦＧ１１）とがモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
【００４３】
次いで、例えば、図８に示すようにセルＣＬＡ２の一部をモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な図形データであって、まだ読み込まれていない図形データ（ＦＧ０１データ、ＦＧ０２データ、ＦＧ０３データ、ＦＧ０５データ、ＦＧ０９データ（図７（Ｂ）参照））が、読込処理ユニット１０ｄ１（図１参照）によってセルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）から１回のみ読み込まれる。次いで、例えば、読み込まれたセル配置データファイル（図７（Ｂ）参照）のＣＬＡ２データ（図７（Ｂ）参照）とセルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）の図形データ（ＦＧ０１データ、ＦＧ０２データ、ＦＧ０３データ、ＦＧ０５データ、ＦＧ０９データ（図７（Ｂ）参照））とに基づいて、表示処理ユニット１０ｄ４（図１参照）によって、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，ＦＧ０９の表示位置が計算され、セルＣＬＡ２の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ０７，ＦＧ０９，…，ＦＧ１１（図８参照）のうち、まだレイアウト表示されていない図形ＦＧ０１，ＦＧ０２，ＦＧ０３，ＦＧ０５，ＦＧ０９がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
つまり、第４の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によって図８に示すように２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合には、セルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）のＦＧ０１データ、…、ＦＧ０３データ、ＦＧ０５データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データが１回しか読み込まれず、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６の表示位置計算が１回しか行われない。そのため、第４の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によれば、セルパターンデータファイルのＦＧ０１データ、…、ＦＧ０３データ、ＦＧ０５データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データの読み込み時間、および、図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６の表示位置計算時間を短縮することができ、２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部およびそれらに含まれる図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６を高速にレイアウト表示することができる。
【００４４】
次に、第５の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によって図８に示すように２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合について説明する。第１から第４の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０では、ピクセルマップ作成保持処理ユニット１０ｄ３（図１参照）が設けられているが、第５の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０では、ピクセルマップ作成保持処理ユニット１０ｄ３が設けられていない。
第５の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によって図８に示すように２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合には、まず最初に、例えば、セル配置データファイル（図７（Ｂ）参照）のＣＬＡ１データ、ＣＬＡ２データが読込処理ユニット１０ｄ１（図１参照）によって読み込まれ、セルＣＬＡ１（図７（Ａ）参照）の左下隅の座標（ｘ１，ｙ１）、セルＣＬＡ１のｘ方向寸法ｗＣＬＡ、セルＣＬＡ１のｙ方向寸法ｈＣＬＡ、セルＣＬＡ２（図７（Ａ）参照）の左下隅の座標（ｘ２，ｙ２）、セルＣＬＡ１とセルＣＬＡ２とが同一構造である旨などが把握される。
次いで、例えば、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるセルＣＬＡ１とセルＣＬＡ２とに共通表示領域（ＡＮＤ領域）（図１１（Ａ）参照）が存在するか否かが、判定処理ユニット１０ｄ２（図１参照）によって判定される。モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるセルＣＬＡ１とセルＣＬＡ２とに共通表示領域（ＡＮＤ領域）（図１１（Ａ）参照）が存在しない場合には、上述した従来の荷電粒子ビーム描画装置と同様のレイアウト表示方法が採用される。一方、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるセルＣＬＡ１とセルＣＬＡ２とに共通表示領域（ＡＮＤ領域）（図１１（Ａ）参照）が存在する場合には、第５の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０のレイアウト表示方法が採用される。図８に示す例では、セルＣＬＡ１とセルＣＬＡ２とに共通表示領域（ＡＮＤ領域）（図１１（Ａ）参照）が存在すると判定処理ユニット１０ｄ２によって判定される。
【００４５】
次いで、例えば、セル配置データファイル（図７（Ｂ）参照）のＣＬＡ１データに含まれるセルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）にリンクするためのポインタ、および、セルＣＬＡ１をレイアウト表示するのに必要な表示必要領域（図１１（Ｂ）参照）に基づいて、図８に示すようにセルＣＬＡ１の一部をモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な図形データ（ＦＧ０６データ、…、ＦＧ０８データ、ＦＧ１０データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データ（図７（Ｂ）参照））が読込処理ユニット１０ｄ１（図１参照）によってセルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）から１回のみ読み込まれる。次いで、例えば、読み込まれたセル配置データファイル（図７（Ｂ）参照）のＣＬＡ１データとセルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）の図形データ（ＦＧ０６データ、…、ＦＧ０８データ、ＦＧ１０データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データ）とに基づいて、表示処理ユニット１０ｄ４（図１参照）によって、図８に示すように、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６の表示位置が計算され、セルＣＬＡ１の一部とセルＣＬＡ１の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６とからなる要素群がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
更に、例えば、図８に示すように共通表示領域（ＡＮＤ領域）（図１１（Ａ）参照）内に配置されたセルＣＬＡ１の図形ＦＧ０６，ＦＧ０７，ＦＧ１０，ＦＧ１１がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される時に、共通表示領域（ＡＮＤ領域）（図１１（Ａ）参照）内に配置されたセルＣＬＡ２の図形ＦＧ０６，ＦＧ０７，ＦＧ１０，ＦＧ１１がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。具体的には、例えば、セルＣＬＡ１の図形ＦＧ０６，ＦＧ０７，ＦＧ１０，ＦＧ１１とセルＣＬＡ２の図形ＦＧ０６，ＦＧ０７，ＦＧ１０，ＦＧ１１とが同時にレイアウト表示される。あるいは、例えば、セルＣＬＡ１の図形ＦＧ０６、セルＣＬＡ２の図形ＦＧ０６、セルＣＬＡ１の図形ＦＧ０７、セルＣＬＡ２の図形ＦＧ０７、セルＣＬＡ１の図形ＦＧ１０、セルＣＬＡ２の図形ＦＧ１０、セルＣＬＡ１の図形ＦＧ１１、セルＣＬＡ２の図形ＦＧ１１の順に連続的にレイアウト表示される。
【００４６】
次いで、例えば、図８に示すようにセルＣＬＡ２の一部をモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な図形データであって、まだ読み込まれていない図形データ（ＦＧ０１データ、ＦＧ０２データ、ＦＧ０３データ、ＦＧ０５データ、ＦＧ０９データ（図７（Ｂ）参照））が、読込処理ユニット１０ｄ１（図１参照）によってセルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）から１回のみ読み込まれる。次いで、例えば、読み込まれたセル配置データファイル（図７（Ｂ）参照）のＣＬＡ２データ（図７（Ｂ）参照）とセルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）の図形データ（ＦＧ０１データ、ＦＧ０２データ、ＦＧ０３データ、ＦＧ０５データ、ＦＧ０９データ（図７（Ｂ）参照））とに基づいて、表示処理ユニット１０ｄ４によって、図８に示すように、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，ＦＧ０９の表示位置計算が行われ、セルＣＬＡ２の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０１，ＦＧ０２，ＦＧ０３，ＦＧ０５，ＦＧ０６，ＦＧ０７，ＦＧ０９，ＦＧ１０，ＦＧ１１（図８参照）のうち、まだレイアウト表示されていない図形ＦＧ０１，ＦＧ０２，ＦＧ０３，ＦＧ０５，ＦＧ０９が、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
つまり、第５の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によって図８に示すように２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合には、セルパターンデータファイル（図７（Ｂ）参照）のＦＧ０１データ、…、ＦＧ０３データ、ＦＧ０５データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データが１回しか読み込まれず、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６の表示位置計算が１回しか行われない。そのため、第５の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によれば、セルパターンデータファイルのＦＧ０１データ、…、ＦＧ０３データ、ＦＧ０５データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データの読み込み時間、および、図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６の表示位置計算時間を短縮することができ、２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２の一部およびそれらに含まれる図形ＦＧ０１，…，ＦＧ０３，ＦＧ０５，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６を高速にレイアウト表示することができる。
【００４７】
図１３は図１に示す荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１の更に他の例の一部の概略拡大図である。詳細には、図１３（Ａ）は荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１に含まれるセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２’の配置およびそれらに含まれる図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６の配置を示した図、図１３（Ｂ）は図１３（Ａ）に示すセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２’に対応するＣＬＡ１データ、ＣＬＡ２’データが格納されたセル配置データファイルおよび図１３（Ａ）に示す図形ＦＧ０１に対応するＦＧ０１データなどが格納されたセルパターンデータファイルを示した図である。図１３に示す例では、上位階層要素としてのセルＣＬＡ１（図１３（Ａ）参照）とセルＣＬＡ１の外枠の内側に配置された下位階層要素としての複数の図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６とからなる要素群が荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１に含まれている。更に、荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１には、その要素群と同一構造であってミラー反転されたセルＣＬＡ２’（図１３（Ａ）参照）とセルＣＬＡ２’の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０１，…，ＦＧ１６とからなる要素群が含まれている。
また、図１３に示す例では、例えば、セル配置データファイル（図１３（Ｂ）参照）のＣＬＡ１データ（図１３（Ｂ）参照）に、セルＣＬＡ１（図１３（Ａ）参照）の左下隅の座標（ｘ１，ｙ１）、セルＣＬＡ１のｘ方向寸法ｗＣＬＡ、セルＣＬＡ１のｙ方向寸法ｈＣＬＡ、繰り返し配置される要素がセルＣＬＡである旨、セルパターンデータファイル（図１３（Ｂ）参照）にリンクするためのポインタなどが含まれている。また、例えば、セル配置データファイルのＣＬＡ２’データ（図１３（Ｂ）参照）に、セルＣＬＡ２’（図１３（Ａ）参照）の右下隅の座標（ｘ２’，ｙ２’）、セルＣＬＡ２’がミラー反転されている旨、繰り返し配置される要素がセルＣＬＡである旨、セルパターンデータファイルにリンクするためのポインタなどが含まれている。更に、セルパターンデータファイル（図１３（Ｂ）参照）が図３に示す例と同様に構成されている。
つまり、図１３に示す例では、セルパターンデータファイルに含まれる図形データ（ＦＧ０１データ、…、ＦＧ１６データ）を読み込まなくても、セル配置データファイル（図１３（Ｂ）参照）に含まれるセルデータ（ＣＬＡ１データ、ＣＬＡ２’データ）のみを読み込むことにより、２個の同一構造のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２’（図１３（Ａ）参照）がミラー反転されて繰り返し配置されていることを把握することができる。
【００４８】
図１４は図１３（Ａ）に示す２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２’の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示された状態を示した図である。図１５は共通表示領域（ＡＮＤ領域）を示した図である。
従来の荷電粒子ビーム描画装置によって図１４に示すように２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２’の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合には、セルパターンデータファイル（図１３（Ｂ）参照）のＦＧ０６データ、ＦＧ０７データ、ＦＧ０８データ、ＦＧ１０データ、ＦＧ１１データ、ＦＧ１２データが２回繰り返して読み込まれ、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０６，ＦＧ０７，ＦＧ０８，ＦＧ１０，ＦＧ１１，ＦＧ１２の表示位置計算が２回行われる。そのため、従来の荷電粒子ビーム描画装置では、セルパターンデータファイルのＦＧ０２データ、…、ＦＧ０４データ、ＦＧ０６データ、…、ＦＧ０８データ、ＦＧ１０データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データの読み込み時間、および、図形ＦＧ０２，…，ＦＧ０４，ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６の表示位置計算時間が長くなってしまい、２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２’の一部およびそれらに含まれる図形ＦＧ０２，…，ＦＧ０４，ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６を高速にレイアウト表示することができなかった。
【００４９】
それに対し、第１から第５の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０では、図１４に示すように２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２’の一部およびそれらに含まれる図形ＦＧ０２，…，ＦＧ０４，ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６を高速にレイアウト表示することができる。
例えば、第５の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によって図１４に示すように２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２’の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合には、まず最初に、例えば、セル配置データファイル（図１３（Ｂ）参照）のＣＬＡ１データ、ＣＬＡ２’データが読込処理ユニット１０ｄ１（図１参照）によって読み込まれ、セルＣＬＡ１（図１３（Ａ）参照）の左下隅の座標（ｘ１，ｙ１）、セルＣＬＡ１のｘ方向寸法ｗＣＬＡ、セルＣＬＡ１のｙ方向寸法ｈＣＬＡ、セルＣＬＡ２’（図１３（Ａ）参照）の右下隅の座標（ｘ２’，ｙ２’）、セルＣＬＡ２’がミラー反転されている旨、セルＣＬＡ１とセルＣＬＡ２’とが同一構造である旨などが把握される。
次いで、例えば、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるセルＣＬＡ１とセルＣＬＡ２’とに共通表示領域（ＡＮＤ領域）（図１５参照）が存在するか否かが、判定処理ユニット１０ｄ２（図１参照）によって判定される。モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるセルＣＬＡ１とセルＣＬＡ２’とに共通表示領域（ＡＮＤ領域）（図１５参照）が存在しない場合には、上述した従来の荷電粒子ビーム描画装置と同様のレイアウト表示方法が採用される。一方、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるセルＣＬＡ１とセルＣＬＡ２’とに共通表示領域（ＡＮＤ領域）（図１５参照）が存在する場合には、第５の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０のレイアウト表示方法が採用される。図１４に示す例では、セルＣＬＡ１とセルＣＬＡ２’とに共通表示領域（ＡＮＤ領域）（図１５参照）が存在すると判定処理ユニット１０ｄ２によって判定される。
【００５０】
次いで、例えば、セル配置データファイル（図１３（Ｂ）参照）のＣＬＡ１データに含まれるセルパターンデータファイル（図１３（Ｂ）参照）にリンクするためのポインタ、および、セルＣＬＡ１をレイアウト表示するのに必要な表示必要領域（図１１（Ｂ）参照）に基づいて、図１４に示すようにセルＣＬＡ１の一部をモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な図形データ（ＦＧ０６データ、…、ＦＧ０８データ、ＦＧ１０データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データ（図１３（Ｂ）参照））が読込処理ユニット１０ｄ１（図１参照）によってセルパターンデータファイル（図１３（Ｂ）参照）から１回のみ読み込まれる。次いで、例えば、読み込まれたセル配置データファイル（図１３（Ｂ）参照）のＣＬＡ１データとセルパターンデータファイル（図１３（Ｂ）参照）の図形データ（ＦＧ０６データ、…、ＦＧ０８データ、ＦＧ１０データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データ）とに基づいて、表示処理ユニット１０ｄ４（図１参照）によって、図１４に示すように、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６の表示位置が計算され、セルＣＬＡ１の一部とセルＣＬＡ１の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６とからなる要素群がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
更に、例えば、図１４に示すように共通表示領域（ＡＮＤ領域）（図１５参照）内に配置されたセルＣＬＡ１の図形ＦＧ０６，ＦＧ０７，ＦＧ０８，ＦＧ１０，ＦＧ１１，ＦＧ１２がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される時に、共通表示領域（ＡＮＤ領域）（図１５参照）内に配置されたセルＣＬＡ２’の図形ＦＧ０６，ＦＧ０７，ＦＧ０８，ＦＧ１０，ＦＧ１１，ＦＧ１２がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。具体的には、例えば、セルＣＬＡ１の図形ＦＧ０６，ＦＧ０７，ＦＧ０８，ＦＧ１０，ＦＧ１１，ＦＧ１２とセルＣＬＡ２’の図形ＦＧ０６，ＦＧ０７，ＦＧ０８，ＦＧ１０，ＦＧ１１，ＦＧ１２とが同時にレイアウト表示される。あるいは、例えば、セルＣＬＡ１の図形ＦＧ０６、セルＣＬＡ２’の図形ＦＧ０６、セルＣＬＡ１の図形ＦＧ０７、セルＣＬＡ２’の図形ＦＧ０７、セルＣＬＡ１の図形ＦＧ０８、セルＣＬＡ２’の図形ＦＧ０８、セルＣＬＡ１の図形ＦＧ１０、セルＣＬＡ２’の図形ＦＧ１０、セルＣＬＡ１の図形ＦＧ１１、セルＣＬＡ２’の図形ＦＧ１１、セルＣＬＡ１の図形ＦＧ１２、セルＣＬＡ２’の図形ＦＧ１２の順に連続的にレイアウト表示される。
【００５１】
次いで、例えば、図１４に示すようにセルＣＬＡ２’の一部をモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示するために必要な図形データであって、まだ読み込まれていない図形データ（ＦＧ０２データ、ＦＧ０３データ、ＦＧ０４データ（図１３（Ｂ）参照））が、読込処理ユニット１０ｄ１（図１参照）によってセルパターンデータファイル（図１３（Ｂ）参照）から１回のみ読み込まれる。次いで、例えば、読み込まれたセル配置データファイル（図１３（Ｂ）参照）のＣＬＡ２’データ（図１３（Ｂ）参照）とセルパターンデータファイル（図１３（Ｂ）参照）の図形データ（ＦＧ０２データ、ＦＧ０３データ、ＦＧ０４データ（図１３（Ｂ）参照））とに基づいて、表示処理ユニット１０ｄ４によって、図１４に示すように、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０２，ＦＧ０３，ＦＧ０４の表示位置計算が行われ、セルＣＬＡ２’の外枠の内側に配置された図形ＦＧ０２，…，ＦＧ０４，ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２（図１４参照）のうち、まだレイアウト表示されていない図形ＦＧ０２，ＦＧ０３，ＦＧ０４が、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される。
つまり、第５の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によって図１４に示すように２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２’の一部がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示される場合には、セルパターンデータファイル（図１３（Ｂ）参照）のＦＧ０２データ、…、ＦＧ０４データ、ＦＧ０６データ、…、ＦＧ０８データ、ＦＧ１０データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データが１回しか読み込まれず、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内における図形ＦＧ０２，…，ＦＧ０４，ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６の表示位置計算が１回しか行われない。そのため、第５の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によれば、セルパターンデータファイルのＦＧ０２データ、…、ＦＧ０４データ、ＦＧ０６データ、…、ＦＧ０８データ、ＦＧ１０データ、…、ＦＧ１２データ、ＦＧ１４データ、…、ＦＧ１６データの読み込み時間、および、図形ＦＧ０２，…，ＦＧ０４，ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６の表示位置計算時間を短縮することができ、２個のセルＣＬＡ１，ＣＬＡ２’の一部およびそれらに含まれる図形ＦＧ０２，…，ＦＧ０４，ＦＧ０６，…，ＦＧ０８，ＦＧ１０，…，ＦＧ１２，ＦＧ１４，…，ＦＧ１６を高速にレイアウト表示することができる。
【００５２】
上述した例では、第１から第５の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０によって、上位階層要素としてのセルとセルの外枠の内側に配置された下位階層要素としての図形とを有する要素群がモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内に高速にレイアウト表示されるが、第１から第５の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０では、例えばチップ、フレーム、ブロック、セルなどの任意の上位階層要素と、その上位階層要素の外枠の内側に配置された例えばフレーム、ブロック、セル、図形などの下位階層要素とを有する要素群をモニタ１０ｄ５の画面の表示領域内に高速にレイアウト表示することができる。
具体的には、第１から第５の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０では、例えば、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内に同一構造の２個のチップがレイアウト表示される場合に、チップの外枠の内側に配置されたチップよりも下位階層の要素（例えば、フレーム、ブロック、セル、図形）に関するデータが１回のみ読み込まれる。それに対し、従来の荷電粒子ビーム描画装置では、例えば、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内に同一構造の２個のチップがレイアウト表示される場合に、チップの外枠の内側に配置されたチップよりも下位階層の要素（例えば、フレーム、ブロック、セル、図形）に関するデータが２回重複して読み込まれる。
また、第１から第５の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０では、例えば、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるチップの外枠の内側に同一構造の２個のセルが配置される場合に、そのセルの外枠の内側に配置される図形に関する図形データが１回のみ読み込まれる。それに対し、従来の荷電粒子ビーム描画装置では、例えば、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内にレイアウト表示されるチップの外枠の内側に同一構造の２個のセルが配置される場合に、そのセルの外枠の内側に配置される図形に関する図形データが２回重複して読み込まれる。
更に、第１から第５の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０では、例えば、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内に同一構造の２個のチップがレイアウト表示され、各チップの外枠の内側に同一構造の２個のセルが配置される場合に、そのセルの外枠の内側に配置される図形に関する図形データが１回のみ読み込まれる。それに対し、従来の荷電粒子ビーム描画装置では、例えば、モニタ１０ｄ５の画面の表示領域内に同一構造の２個のチップがレイアウト表示され、各チップの外枠の内側に同一構造の２個のセルが配置される場合に、そのセルの外枠の内側に配置される図形に関する図形データが４回重複して読み込まれる。
第６の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０では、第１から第５の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０を適宜組み合わせることも可能である。
【００５３】
以下、本発明のパターン検査装置の第１の実施形態について説明する。図１６は第１の実施形態のパターン検査装置２０の概略的な構成図である。第１の実施形態のパターン検査装置２０では、図１６に示すように、例えば半導体集積回路などのレイアウトデータ（設計データ、ＣＡＤデータ）を例えばパターン検査装置用データ作成装置（図示せず）によって変換することにより得られたパターン検査装置用データＤ３が、例えばディスク形式で入力される。パターン検査装置用データＤ３は、図２に示す荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１と同様に、例えばチップ階層ＣＰ、チップ階層ＣＰよりも下位のフレーム階層ＦＲ、フレーム階層ＦＲよりも下位のブロック階層ＢＬ、ブロック階層ＢＬよりも下位のセル階層ＣＬ、および、セル階層ＣＬよりも下位の図形階層ＦＧに階層化されている。
更に、第１の実施形態のパターン検査装置２０では、図１６に示すように、例えば、第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０の荷電粒子ビーム１０ａ１ｂによって試料Ｍ上に実際に描画されたパターンに基づいて作成されたパターン検査装置用データＤ４が、例えばディスク形式で入力される。詳細には、第１の実施形態のパターン検査装置２０では、図１６に示すように、検査部２０ａに入力されたパターン検査装置用データＤ３，Ｄ４に基づいて、例えば第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０の荷電粒子ビーム１０ａ１ｂによって試料Ｍ上に実際に描画されたパターンなどの検査が行われる。
更に、第１の実施形態のパターン検査装置２０では、図１６に示すように、パターン検査装置用データＤ３が、検査部２０ａに入力されるのみならず、レイアウト表示部２０ｄにも入力される。つまり、第１の実施形態のパターン検査装置２０では、図２に示す荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１と同様に階層化されたパターン検査装置用データＤ３が、モニタ２０ｄ５の画面にレイアウト表示（ビューワ処理）される。
【００５４】
第１の実施形態のパターン検査装置２０の読込処理ユニット２０ｄ１は、図１に示す第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０の読込処理ユニット１０ｄ１と同様に構成されている。また、第１の実施形態のパターン検査装置２０の判定処理ユニット２０ｄ２は、図１に示す第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０の判定処理ユニット１０ｄ２と同様に構成されている。更に、第１の実施形態のパターン検査装置２０のピクセルマップ作成保持処理ユニット２０ｄ３は、図１に示す第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０のピクセルマップ作成保持処理ユニット１０ｄ３と同様に構成されている。また、第１の実施形態のパターン検査装置２０の表示処理ユニット２０ｄ４は、図１に示す第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０の表示処理ユニット１０ｄ４と同様に構成されている。更に、第１の実施形態のパターン検査装置２０のモニタ２０ｄ５は、図１に示す第１の実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０のモニタ１０ｄ５と同様に構成されている。また、第１の実施形態のパターン検査装置２０のレイアウト表示部２０ｄでは、上述した第１から第６のいずれかの実施形態の荷電粒子ビーム描画装置１０のレイアウト表示部１０ｄにおける荷電粒子ビーム描画装置用データＤ１をレイアウト表示するための処理と同様の処理が、パターン検査装置用データＤ３に対して行われる。
【符号の説明】
【００５５】
１０                          荷電粒子ビーム描画装置
１０ａ                        描画部
１０ａ１ｂ                    荷電粒子ビーム
１０ｄ                        レイアウト表示部
Ｄ１，Ｄ２                    データ
【図１】
0005578817.tif 000002
【図２】
0005578817.tif 000003
【図３】
0005578817.tif 000004
【図４】
0005578817.tif 000005
【図５】
0005578817.tif 000006
【図６】
0005578817.tif 000007
【図７】
0005578817.tif 000008
【図８】
0005578817.tif 000009
【図９】
0005578817.tif 000010
【図１０】
0005578817.tif 000011
【図１１】
0005578817.tif 000012
【図１２】
0005578817.tif 000013
【図１３】
0005578817.tif 000014
【図１４】
0005578817.tif 000015
【図１５】
0005578817.tif 000016
【図１６】
0005578817.tif 000017