(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクを保持するマスクステージと、該マスクステージの下方に位置する露光位置に基板を保持可能な基板ステージと、前記基板ステージの露光位置に保持された基板に、パターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、前記基板ステージに供給されるのに先立って、前記マスクに対する前記基板の位置が所定の位置となるようにプリアライメントを行うプリアライメントユニットと、プリアライメントされた前記基板を、前記プリアライメントユニットから前記基板ステージに搬送する基板ローダと、を備える近接露光方法であって、
前記基板が存在しないプリアライメントユニットからの検出信号、又は前記基板ローダからの検出信号によって、露光されるべき基板が前記基板ステージに供給されるかどうかを検出する工程と、
前記露光されるべき基板の供給が停止したとき、少なくとも前記基板ステージの空運転を行う工程と、
を有し、
前記基板ステージの空運転は、前記基板を露光する際のステップ移動と同じ動作を行うことを特徴とする近接露光方法。
【請求項２】
露光を行った後、露光すべき次の前記基板があるかどうか確認することを特徴とする請求項１に記載の近接露光方法。
【請求項３】
マスクを保持するマスクステージと、
該マスクステージの下方に位置する露光位置に基板を保持可能な基板ステージと、
前記基板ステージの露光位置に保持された基板に、パターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、
前記基板ステージに供給されるのに先立って、前記マスクに対する前記基板の位置が所定の位置となるようにプリアライメントを行うプリアライメントユニットと、
プリアライメントされた前記基板を、前記プリアライメントユニットから前記基板ステージに搬送する基板ローダと、
前記基板が存在しないプリアライメントユニットからの検出信号、又は前記基板ローダからの検出信号によって、露光されるべき基板が前記基板ステージに供給されるかどうかを検出し、露光されるべき基板の前記基板ステージへの供給が停止したとき、少なくとも前記基板ステージの空運転を行う制御部と、
を有することを特徴とする近接露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近接露光装置及び近接露光方法に関し、より詳細には、半導体や、液晶ディスプレイパネルやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイを製造する場合に用いられる近接露光装置及び近接露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の近接露光装置では、マスクと基板を接近させた状態で、マスクを介して基板にパターン露光用の光を照射し、これにより、基板にマスクのパターンを露光転写する（例えば、特許文献１参照。）。例えば、特許文献１に記載の露光装置では、高精度な画像露光を実現するため、発熱部品となる露光ヘッド、駆動モータ、ステージなどの周辺に温度センサーを配置し、温度センサーが測定した温度が安定していない箇所で、発熱部品を空運転することで、露光室内の温度を安定させるようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−３３０１６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、液晶用のカラーフィルターを製造する場合には、複数の近接露光装置がインラインに並べられ、上流側のラインのコンベアや、基板ローダからワーク（ガラス基板）の供給を受けて、露光動作を行っている。このため、上流側のラインからワークの供給が止まると、近接露光装置は停止したままとなる。具体的に、図１０に示すように、近接露光装置は、通常露光時には装置は安定した状態が保たれるが、装置の運転開始時と、上流からのワークの供給が停止した時には、温度等の影響により装置が安定領域から外れてしまい、この状態で露光されるワークは露光精度が不安定になる虞がある。
【０００５】
また、特許文献１に記載の温度制御によって上記課題を解消しようとした場合、温度センサーに基づく制御であるため、装置が停止した後、温度変化が生じた段階で発熱部品の空運転を行うことから、温度が安定するまでワークを供給することができず、タクトロスが発生する可能性がある。
【０００６】
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、タクトロスの発生を抑制しながら、装置を安定した状態に容易に保つことができ、安定した露光精度を提供することができる近接露光装置及び近接露光方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の上記目的は、下記の構成及び方法により達成される。
（１）  マスクを保持するマスクステージと、該マスクステージの下方に位置する露光位置に基板を保持可能な基板ステージと、前記基板ステージの露光位置に保持された基板に、パターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、前記基板ステージに供給されるのに先立って、前記マスクに対する前記基板の位置が所定の位置となるようにプリアライメントを行うプリアライメントユニットと、プリアライメントされた前記基板を、前記プリアライメントユニットから前記基板ステージに搬送する基板ローダと、を備える近接露光方法であって、
前記基板が存在しないプリアライメントユニットからの検出信号、又は前記基板ローダからの検出信号によって、露光されるべき基板が前記基板ステージに供給されるかどうかを検出する工程と、
前記露光されるべき基板の供給が停止したとき、少なくとも前記基板ステージの空運転を行う工程と、
を有し、
前記基板ステージの空運転は、前記基板を露光する際のステップ移動と同じ動作を行うことを特徴とする近接露光方法。
（２）  露光を行った後、露光すべき次の前記基板があるかどうか確認することを特徴とする（１）に記載の近接露光方法。
（３）  マスクを保持するマスクステージと、
該マスクステージの下方に位置する露光位置に基板を保持可能な基板ステージと、
前記基板ステージの露光位置に保持された基板に、パターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、
前記基板ステージに供給されるのに先立って、前記マスクに対する前記基板の位置が所定の位置となるようにプリアライメントを行うプリアライメントユニットと、
プリアライメントされた前記基板を、前記プリアライメントユニットから前記基板ステージに搬送する基板ローダと、
前記基板が存在しないプリアライメントユニットからの検出信号、又は前記基板ローダからの検出信号によって、露光されるべき基板が前記基板ステージに供給されるかどうかを検出し、露光されるべき基板の前記基板ステージへの供給が停止したとき、少なくとも前記基板ステージの空運転を行う制御部と、
を有することを特徴とする近接露光装置。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の近接露光装置及び近接露光方法によれば、露光されるべき基板が基板ステージに供給されるかどうかを検出し、露光されるべき基板の供給が停止したとき、少なくとも基板ステージの空運転を行うようにしたので、装置の状態変化に関わらず基板ステージの空運転を行うことができ、装置を安定した状態に容易に保つことができ、タクトロスの発生を防止しつつ、安定した露光精度を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の露光装置の全体構成を概略示す平面図である。
【図２】露光装置の要部正面図である。
【図３】基板ステージの側面図である。
【図４】図１における照射装置の模式図である。
【図５】１枚目の基板が露光されると同時に、２枚目の基板が基板ステージに搬送され、且つ３枚目の基板がプリアライメントユニットに搬送される状態を示す説明図である。
【図６】２枚目の基板が露光されると同時に、露光転写された１枚目の基板が排出され、３枚目の基板が基板ステージに搬送され、且つ４枚目の基板がプリアライメントユニットに搬送される状態を示す説明図である。
【図７】本実施形態の自動運転開始からの露光装置の状態を示すグラフである。
【図８】本実施形態の制御を示すフローチャートである。
【図９】変形例の近接露光装置を概略示す正面図である。
【図１０】従来の自動運転開始からの露光装置の状態を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明に係る近接露光装置及び近接露光方法の一実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【００１１】
図１は本発明の近接露光装置の全体構成を概略示す平面図、図２は近接露光装置の要部正面図、図３は基板ステージの側面図である。図１〜図３に示すように、近接露光装置ＰＥは、マスクステージ１０、第１基板ステージ１１、第２基板ステージ１２、照射装置１３、プリアライメントユニット１４、第１基板ローダ１５、第２基板ローダ１６、マスクローダ１７、及びマスクアライナ１８を備え、それぞれ基台２１上に載置されている。また、これら各部材１０〜１８は、基台２１上のカバー１によって形成された露光室内に収容されている。
【００１２】
マスクステージ１０は、基台２１上に配置された長方形のステージベース２３に設けられた複数の支柱２２に支持されて、ステージベース２３の上方に配設されている。複数の支柱２２は、第１及び第２基板ステージ１１，１２がＹ方向（図１中左右方向）に移動してマスクステージ１０の下方に進出可能なようにステージベース２３の上方にスペースを
形成している。マスクステージ１０は、中央に矩形の開口２５ａを有して、マスクステージ１０に対してＸ，Ｙ，θ方向に位置調整可能に支持されたマスク保持部２５を備え、露
光すべきパターンを有するマスクＭがこの開口２５ａに臨むようにしてマスク保持部２５
に保持されている。また、マスクステージ１０には、マスク保持部２５に対するマスクＭの位置を検出するマスク用アライメントカメラ（図示せず）と、マスクＭと基板Ｗとの間のギャップを検出するギャップセンサ（図示せず）とが設けられている。
【００１３】
図２及び図３に示すように、第１及び第２基板ステージ１１，１２は、被露光材としての基板Ｗを保持する基板保持部３１ａ，３１ｂを上面にそれぞれ有する。また、第１及び第２基板ステージ１１，１２の下方には、Ｙ軸テーブル３３、Ｙ軸送り機構３４、Ｘ軸テーブル３５、Ｘ軸送り機構３６、及びＺ−チルト調整機構３７を備える基板ステージ移動機構３２，３２がそれぞれ設けられる。各基板ステージ移動機構３２，３２は、ステージベース２３に対して第１及び第２基板ステージ１１，１２をＸ方向及びＹ方向に送り駆動するとともに、マスクＭと基板Ｗとの間の隙間を微調整するように、第１及び第２基板ステージ１１，１２をＺ軸方向に微動且つチルトする。
【００１４】
具体的に、Ｙ軸送り機構３４は、ステージベース２３とＹ軸テーブル３３との間に、リニアガイド３８とＹ軸送り駆動機構３９とを備える。ステージベース２３上には２本の案内レール４０がＹ軸方向に沿って平行に配置されており、Ｙ軸テーブル３３の裏面に取り付けられたスライダ４１が転動体（図示せず）を介して跨架されている。これにより、２台のＹ軸テーブル３３，３３が、２本の案内レール４０に沿ってＹ軸方向に沿って移動可能に支持される。
【００１５】
また、ステージベース２３上には、モータ４２によって回転駆動されるボールねじ軸４３が、第１及び第２基板ステージ１１，１２に対応してそれぞれ設けられており、ボールねじ軸４３には、Ｙ軸テーブル３３の裏面に取り付けられたボールねじナット４４が螺合されている。
【００１６】
また、Ｘ軸送り機構３６も、図３に示すように、Ｙ軸テーブル３３とＸ軸テーブル３５間に、リニアガイド４５とＸ軸送り駆動機構４６とが設けられている。Ｙ軸テーブル３３上には２本の案内レール４７がＸ軸方向に沿って平行に配置されており、Ｘ軸テーブル３５の裏面に取り付けられたスライダ４８が転動体（図示せず）を介して跨架される。さらに、Ｙ軸テーブル３３上には、モータ４９によって回転駆動されるボールねじ軸５０が設けられており、ボールねじ軸５０には、Ｙ軸テーブル３５の裏面に取り付けられたボールねじナット５１が螺合されている。
【００１７】
一方、Ｚ−チルト調整機構３７は、モータとボールねじとくさびとを組み合わせてなる可動くさび機構を備えており、Ｘ軸テーブル３５の上面に設置したモータ５２によってボールねじ軸５３を回転駆動するとともに、ボールねじナット５４をくさび状の移動体に組み付け、このくさびの斜面を基板ステージ１１，１２の下面に突設したくさび５５の斜面と係合させている。
【００１８】
そして、このボールねじ軸５３を回転駆動させると、ボールねじナット５４がＸ軸方向に水平微動し、この水平微動運動が組みつけられたくさび状の移動体の斜面により高精度の上下微動運動に変換される。この可動くさび機構は、Ｘ軸方向の一端側に２台、他端側に１台（図示せず）合計３台設置され、それぞれが独立に駆動制御される。
【００１９】
これにより、Ｙ軸送り機構３４は、各基板ステージ１１，１２の基板保持部３１ａ，３１ｂに保持された基板Ｗを個別にマスクステージ１０の下方に配置された露光位置ＥＰに
配置すべく、第１基板ステージ１１を第１待機位置ＷＰ１と露光位置ＥＰ間で案内レール４０に沿ってＹ軸方向に移動させ、第２基板ステージ１２を第２待機位置ＷＰ２と露光位置ＥＰ間で案内レール４０に沿ってＹ軸方向に移動させる。また、Ｘ軸送り機構３６及びＹ軸送り機構３４は、露光位置ＥＰにある基板保持部３１ａ，３１ｂをマスクＭに対してＸ、Ｙ方向にステップ移動させるように第１及び第２基板ステージ１１，１２を移動させる。
なお、Ｙ軸送り駆動機構３９、Ｘ軸送り駆動機構４６、及び可動くさび機構は、モータとボールねじ装置とを組み合わせているが、ステータと可動子とを有するリニアモータによって構成されてもよい。
【００２０】
また、図１〜図３に示すように、第１及び第２基板ステージ１１，１２には、各基板保持部３１ａ，３１ｂのＸ方向側部とＹ方向側部にそれぞれバーミラー６１，６２が取り付けられており、また、ステージベース２３のＹ軸方向の両側と、ステージベースのＸ軸方向の一側には、３台のレーザー干渉計６３，６４，６５が設けられている。これにより、レーザー干渉計６３，６４，６５からレーザー光をバーミラー６１，６２に照射し、バーミラー６１，６２により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光とバーミラー６１，６２により反射されたレーザー光との干渉を測定し、第１及び第２ステージ１１，１２の位置を検出する。
【００２１】
照明装置１３はマスク保持部２５の開口２５ａ上方に配置され、図４に示すように、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ８１、凹面鏡８２、オプチカルインテグレータ８５、平面ミラー８３、８６、球面ミラー８７、及び露光制御用のシャッター８４等を備えて構成される。照明装置１３は、露光位置に移動した第１及び第２基板ステージ１１，１２の基板保持部３１ａ，３１ｂに保持された基板Ｗに、パターン露光用の光をマスクＭを介して照射する。これにより、基板Ｗには、マスクＭのマスクパターンＰが露光転写される。
なお、光源としては、単一の高圧水銀ランプ８１と凹面鏡８２の代わりに、高圧水銀ランプとリフレクタとをそれぞれ有する複数の光源部からなるマルチランプユニットによって構成されてもよい。
【００２２】
プリアライメントユニット１４は、基台２１の外側に設置されたコンベア７０Ａ，７０Ｂから搬送された基板Ｗが、第１基板ステージ１１または第２基板ステージ１２に供給されるのに先立って、マスクＭに対する基板Ｗの位置が所定の位置となるようにプリアライメントを行うものであり、図中、マスクステージ１０の手前側に配置されている。プリアライメントユニット１４は、図示しないＸ軸送り機構、Ｙ軸送り機構、および回転機構を備え、プリアライメントユニット１４上に載置された基板Ｗの位置を所定の位置に調整する。
【００２３】
第１基板ローダ１５は、図１中プリアライメントユニット１４の右側方に配置され、第２基板ステージ１２に供給される基板Ｗを保持してプリアライメントユニット１４へ搬送
し、またプリアライメントされた基板Ｗをプリアライメントユニット１４から第１基板ステージ１１に搬送するようになっている。
【００２４】
第２基板ローダ１６は、プリアライメントユニット１４に対して第１基板ローダ１５と対向配置、即ち、図中プリアライメントユニット１４の左側に配置され、第１基板ステージ１１に供給される基板Ｗを保持してプリアライメントユニット１４へ搬送し、またプリアライメントされた基板Ｗをプリアライメントユニット１４から第２基板ステージ１２に
搬送するようになっている。
【００２５】
そして、第１基板ローダ１５は、コンベア７０Ａに載置された基板Ｗを搬出してプリアライメントユニット１４へ搬送し、プリアライメントされた基板Ｗを搬出してプリアライメントユニット１４から第１基板ステージ１１に搬送し、さらに、第１待機位置ＷＰ１に位置する第１基板ステージ１１上の露光転写後の基板Ｗを搬出してコンベア７０Ａへ搬送する。
【００２６】
第２基板ローダ１６は、コンベア７０Ｂに載置された基板Ｗを搬出してプリアライメントユニット１４へ搬送し、プリアライメントされた基板Ｗを搬出してプリアライメントユニット１４から第２基板ステージ１２に搬送し、さらに、第２待機位置ＷＰ２に位置する第２基板ステージ１２上の露光転写後の基板Ｗを搬出してコンベア７０Ｂへ搬送する。
【００２７】
また、マスクローダ１７及びマスクアライナ１８は、第１基板ステージ１１に対して第１基板ローダ１５と対向配置されている。マスクローダ１７は、基台２１の外側に設けられたマスクカセット９１からマスクＭを搬入し、マスクアライナ１８でプリアライメントされたマスクＭをマスクステージ１０に供給する。尚、マスクステージ１０へのマスクＭの供給は、マスクローダ１７によりマスクアライナ１８から直接、マスクステージ１０へ供給してもよいが、マスクローダ１７によりマスクアライナ１８から第１基板ステージ１１へ一度搬送し、次いで第１基板ステージ１１によってマスクステージ１０へ供給するようにしてもよい。
【００２８】
次に、本発明の露光装置ＰＥによる露光方法について、図５から図７を参照して詳細に説明する。尚、説明の都合上、第１基板ステージ１１は基板Ｗを保持し、且つプリアライメントユニット１４にはプリアライメントされた基板Ｗが、既に載置されているものとして説明する。
【００２９】
図５に示すように、１枚目の基板Ｗを保持して第１待機位置ＷＰ１にある第１基板ステージ１１（図中一点鎖線で示す。）は、Ｙ軸送り機構３４を作動させることにより、露光位置ＥＰに移動する（矢印Ａ）。そして、図示しないギャップカメラを用いてマスクＭと基板Ｗとの間のギャップ調整を行った後、照明装置１３から１ショット目のパターン露光用の光がマスクＭを介して基板Ｗに照射され、マスクＭに形成されたマスクパターンＰが基板Ｗに露光転写される。さらに、第１基板ステージ１１をステップ移動させ、バーミラー６１，６２とレーザー干渉計６３，６４，６５を用いてアライメント調整を行うとともに、ギャップ調整を行った後、２ショット目のパターン露光用の光によりマスクパターンＰを基板Ｗに露光転写し、以後、同様にしてステップ露光を行う。（第１露光工程）。
【００３０】
なお、ギャップ調整後のマスクＭと基板Ｗの位置合わせをする場合は、バーミラー６１，６２とレーザー干渉計６３，６４を用いる代わりに、アライメントカメラを用いて行ってもよい。この場合、１ショット目の露光転写の際にも、ギャップ調整後、このアライメントカメラを用いて位置合わせをする場合がある。
【００３１】
上記露光転写が行われている間、プリアライメントされてプリアライメントユニット１４に載置されている２枚目の基板Ｗは、第２基板ローダ１６により矢印Ｂ方向に搬送されて第２待機位置ＷＰ２にある第２基板ステージ１２に保持される（第１搬送工程）。更に、第１基板ローダ１５は、コンベア７０Ａに載置された３枚目の基板Ｗを受け取り、矢印Ｃ方向に搬送してプリアライメントユニット１４に供給し、基板Ｗの位置を所定の位置となるように調整する（第１プリアライメント工程）。
【００３２】
図６に示すように、１枚目の基板Ｗの露光転写完了後、第１基板ステージ１１は、露光位置ＥＰから第１待機位置ＷＰ１に移動し、第１基板ローダ１５は、第１基板ステージ１１から基板Ｗを受け取って、矢印Ｄ方向に搬送してコンベア７０Ａに基板Ｗを排出する（第１排出工程）。
【００３３】
また、上記第１排出工程が開始するのと同時に、２枚目の基板Ｗの露光工程を開始する。即ち、第１基板ステージ１１が露光位置ＥＰから第１待機位置ＷＰ１に移動するのと同期して、２枚目の基板Ｗを保持している第２基板ステージ１２（図中一点鎖線で示す。）が、Ｙ軸送り機構３４を作動させることにより、第２待機位置ＷＰ２から露光位置ＥＰに移動する（矢印Ｅ）。その後、第１露光工程と同様に、図示しないギャップセンサを用いてマスクＭと基板Ｗとの間のギャップ調整を行った後、照明装置１３から１ショット目のパターン露光用の光がマスクＭを介して基板Ｗに照射され、マスクＭに形成されたマスクパターンＰが第２基板ステージ１２に保持された基板Ｗに露光転写される。さらに、第２基板ステージ１２をステップ移動させ、バーミラー６１，６２とレーザー干渉計６３，６４，６５を用いてアライメント調整を行うとともに、ギャップ調整を行った後、２ショット目のパターン露光用の光によりマスクパターンＰを基板Ｗに露光転写し、以後、同様にしてステップ露光を行う。（第２露光工程）。
【００３４】
また、第２露光工程が行われている間、既にプリアライメントされてプリアライメントユニット１４に載置されている３枚目の基板Ｗは、第１基板ローダ１５により矢印Ｆ方向に搬送されて第１待機位置ＷＰ１にある第１基板ステージ１１に保持される（第２搬送工程）。更に、第２基板ローダ１６は、コンベア７０Ｂに収容された４枚目の基板Ｗを受け取り、矢印Ｇ方向に搬送してプリアライメントユニット１４に供給し、基板Ｗの位置が所定の位置となるように調整する（第２プリアライメント工程）。
【００３５】
そして、２枚目の基板Ｗの露光転写完了後、第２基板ステージ１２は、露光位置ＥＰから第２待機位置ＷＰ２に移動し、第２基板ローダ１６は、第２基板ステージ１２から基板Ｗを受け取って、コンベア７０Ｂに排出する（第２排出工程）。また、この第２排出工程の開始と同時に、第２基板ステージ１２と同期させながら、第１基板ステージ１１を第１待機位置ＷＰ１から露光位置ＥＰへと移動して、第１露光工程を行う。その後、上述したように、第１露光工程が行われている間に、第２排出工程、第１搬送工程、第１プリアライメント工程が行われる。
【００３６】
以後、同様の操作を繰り返し行うことにより、複数の基板Ｗを順次搬送しながらマスクパターンＰが基板Ｗに露光転写される。
【００３７】
ここで、図示しないコーターによるレジスト塗布等、該近接露光装置ＰＥの上流側の工程において遅れが生じ、プリアライメントユニット１４に基板Ｗが載置されていなかったため、第１露光工程が行われている間、第２基板ローダ１６がプリアライメントユニット１４から第２待機位置ＷＰ２にある第２基板ステージ１２に基板Ｗを搬送できない場合が生じる。
【００３８】
このため、本実施形態では、基板Ｗが存在しないプリアライメントユニット１４からの検出信号或いは第２基板ローダ１６からの検出信号によって、第２の露光工程で露光されるべき基板である第２の基板Ｗが第２の基板ステージ１２へ供給できないことが検出される。これにより、第２露光工程によって第２の基板Ｗを露光することはできないが、少なくとも第２基板ステージ１２は第２露光工程を行う際のステップ移動と同じように動作する空運転を実行する。従って、第２基板ステージ１２を空運転することで、基板の露光の有無に関わらず、露光装置ＰＥを安定した状態、例えば、温度や湿度等を所定の範囲内に保つことができ、安定した露光精度を得ることができる。特に、このような制御は、高い露光精度が要求されるブラックマトリクスの露光において有効である。
【００３９】
なお、露光されるべき基板Ｗの供給が停止したことを検出したときには、照射装置１３のシャッター８４の動作等、その他の通常露光時の各部材の動作は、露光装置ＰＥが安定した状態に保たれるように任意に制御される。
【００４０】
また、第１及び第２基板ステージ１１，１２の空運転を含む、通常露光時の各部材の空運転は、露光装置ＰＥの運転開始時にも一定時間行なうことで、露光装置ＰＥの安定した状態へ早く移行させ、基板Ｗの受け入れを露光装置ＰＥの運転開始から早く開始することができる。
【００４１】
このように制御することで、図７に示すように、露光装置の運転開始時や基板Ｗの供給停止時においても露光装置ＰＥを安定した状態に移行、また維持することができ、空運転後に露光される基板Ｗは装置が安定した状態で露光されることから、高い露光精度が得られる。  
【００４２】
図８は、上述した制御を示すフローチャートである。即ち、露光装置の自動運転を開始した際には（ステップＳ１０１）、第１及び第２基板ステージ１１，１２の空運転を所定時間行って（ステップＳ１０２）、露光装置を安定した状態へ移行させる。その後、上流側の工程での基板Ｗを確認し（ステップＳ１０３）、基板Ｗが予定通り第１又は第２の基板ステージ１１，１２に搬送された場合には、露光動作を実行する（ステップＳ１０４）。一方、基板Ｗの供給が停止したことを検出した場合には、ステップＳ１０５にて、少なくとも第１又は第２基板ステージ１１，１２の空運転を行う。そして、上流側の工程から次の基板Ｗの供給があった場合には（ステップＳ１０６）、ステップＳ１０４に移行して、露光動作を実行し、次の基板Ｗの供給も停止している場合には、ステップＳ１０５に戻って、少なくとも第１又は第２基板ステージ１１，１２の空運転を続ける。ステップＳ１０４にて露光動作を行った後は、ステップＳ１０７にて、露光すべき次の基板Ｗがあるかどうか確認し、露光すべき基板がある場合にはステップＳ１０３に戻って上記処理を実行し、露光すべき基板がない場合には、自動運転を終了する（ステップＳ１０８）。
【００４３】
以上説明したように、本実施形態の近接露光装置ＰＥ及び近接露光方法によれば、露光されるべき基板Ｗが第１又は第２基板ステージ１１，１２に供給されるかどうかを検出し、露光されるべき基板Ｗの供給が停止したとき、少なくとも第１又は第２基板ステージ１１，１２の空運転を行うようにしたので、基板Ｗの供給が停止した場合にも、装置を安定した状態に容易に保つことができ、高い露光精度を得ることができる。また、温度センサが装置の温度変化を検出した後に装置の空運転を行う従来の方法に比べて、基板ステージ１１，１２の空運転を早いタイミングで行うことができ、タクトロスの発生を抑えることができる。
【００４４】
また、第１又は第２基板ステージ１１，１２の空運転は、基板Ｗを露光する際のステップ移動と同じ動作を行うので、別途制御プログラムを設けることなく、露光装置を安定した状態に容易に保つことができる。
【００４５】
なお、第１又は第２基板ステージ１１，１２の空運転は、第１又は第２基板ステージ１１，１２自体が基板Ｗの供給予定タイミングから所定時間経過した際に基板Ｗの供給が停止したと判断するようにしてもよい。
【００４６】
本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。
【００４７】
例えば、上記実施形態では、本発明が２つの基板ステージを有する近接露光装置に適用される場合を説明したが、図９に示すような１つの基板ステージのみを有する近接露光装置に適用されてもよい。この場合、基板ステージ１１への基板Ｗの供給が停止された場合には、基板ステージ１１が一枚の基板Ｗを露光する際のステップ移動と同じ動作の空運転を行い、露光装置を安定した状態に保つようにすればよい。
【００４８】
また、本実施形態では、基台２１上にプリアライメントユニット１４や基板ローダ１５，１６を配置しているが、プリアライメントユニット１４や基板ローダ１５，１６を基台２１の外側に配置するような近接露光装置ＰＥにおいて、プリアライメント工程に遅れが生じた場合には、上述したように基板ステージ１１，１２に検出部を設け、基板供給予定タイミングから所定時間経過した時に基板Ｗの供給が停止したと判断して、基板ステージ１１，１２の空運転を行うようにしてもよい。
【符号の説明】
【００４９】
１０  マスクステージ
１１  第１基板ステージ
１２  第２基板ステージ
１３  照明装置
１４  プリアライメントユニット
１５  第１基板ローダ
１６  第２基板ローダ
７０Ａ，７０Ｂ  コンベア
ＰＥ  露光装置
Ｍ  マスク
Ｐ  マスクパターン
Ｗ  基板
ＥＰ  露光位置
ＷＰ１  第１待機位置
ＷＰ２  第２待機位置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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