(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体素子が形成された基板の上において、エアブリッジの下方に位置すべき構成を覆うように、前記エアブリッジ下方の空間が伸びる方向である幅方向の幅および前記エアブリッジが前記基板上において前記エアブリッジの下方に位置すべき前記構成を跨ぐ方向である長さ方向の第１の長さを有する第１スペーサ層を設ける第１スペーサ工程と、
前記第１スペーサ層の上に、前記第１スペーサ層の前記第１の長さよりも小さい第２の長さを有する第２スペーサ層を、当該第１スペーサ層と当該第２スペーサ層の積層構造の前記エアブリッジの前記幅方向に見た断面形状が段状となるように設ける第２スペーサ工程と、
前記積層構造を変形させる熱処理を行うことなく、前記構成を跨ぐ立体的な配線を形成するように前記エアブリッジを形成するための導電性材料の層を前記段状の形状の前記積層構造の上に積層するエアブリッジ材料積層工程と、
前記エアブリッジを形成する前記導電性材料を設けた後、前記段状の形状の前記積層構造を除去するスペーサ除去工程と、
を有し、
前記第１スペーサ層よりも前記第２スペーサ層のほうが薄いことを特徴とするエアブリッジの製造方法。
【請求項２】
前記エアブリッジの下方に位置すべき前記構成が、前記半導体素子を含むことを特徴とする請求項１記載のエアブリッジの製造方法。
【請求項３】
前記半導体素子は、コレクタ電極を有するトランジスタを含み、前記コレクタ電極と前記トランジスタの半導体材料とのオーミック特性を調節するための熱処理を経て形成されたものであることを特徴とする請求項１または２に記載のエアブリッジの製造方法。
【請求項４】
前記トランジスタは、ＩｎＰ系ヘテロ接合バイポーラトランジスタであることを特徴とする請求項３に記載エアブリッジの製造方法。
【請求項５】
前記エアブリッジの下方に位置すべき前記構成が、前記半導体素子を含み、
前記第１スペーサ層は、前記半導体素子の活性領域全体を覆い、
前記エアブリッジの前記長さ方向に見たときに、前記第２スペーサ層の寸法は、前記第１スペーサ層よりも小さく、
前記エアブリッジの前記幅方向に見たときに、前記第２スペーサ層の寸法は、前記エアブリッジ材料積層工程における前記導電性材料の層の寸法以上であり、
前記エアブリッジ材料積層工程で形成される前記導電性材料の層は、前記活性領域全体を覆う程度の面積を有し、開口の無い連続した表面を有し、かつ前記第１スペーサ層と前記第２スペーサ層の前記積層構造上に形成されることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項記載のエアブリッジの製造方法。
【請求項６】
前記第２スペーサ層は、前記長さ方向の寸法が前記第１スペーサ層から上の層ほど小さくなり、かつ前記第１スペーサ層から上の層ほど薄い層となるように形成された複数の層からなることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項記載のエアブリッジの製造方法。
【請求項７】
前記エアブリッジ材料積層工程は、前記第１スペーサ層および前記第２スペーサ層の前記積層構造における前記エアブリッジの前記幅方向に沿う方向の少なくとも一端について、前記エアブリッジの開口断面積を相対的に大きくするように当該一端の縁部を形成する縁部形成工程を含むことを特徴とする請求項１〜６の何れか１項記載のエアブリッジの製造方法。
【請求項８】
前記縁部形成工程は、
前記エアブリッジにおける前記少なくとも一端の開口断面積が前記エアブリッジの中央部の開口断面積よりも大きくなるように、前記積層構造における前記少なくとも一端の側の端部を、前記積層構造の中央部よりも幅広に又は／および高くすることを特徴とする請求項７に記載のエアブリッジの製造方法。
【請求項９】
前記縁部形成工程は、前記第１スペーサ層および前記第２スペーサ層の前記積層構造における前記エアブリッジの前記幅方向の両端の開口断面積を、前記エアブリッジの前記幅方向の中央部における開口断面積よりも大きくするように当該両端の縁部を形成することを特徴とする請求項７または８に記載のエアブリッジの製造方法。
【請求項１０】
前記スペーサ除去工程は、
前記第１スペーサ層および前記第２スペーサ層を除去するための除去剤を前記第１スペーサ層と前記第２スペーサ層の前記積層構造に供給する工程と、
前記除去剤の供給の際に前記基板を当該エアブリッジの前記幅方向に振る工程と、
を含むことを特徴とする請求項７〜９のいずれか１項に記載のエアブリッジの製造方法。
【請求項１１】
前記第１スペーサ工程および前記第２スペーサ工程は、フォトレジストを前記第１スペーサ層および前記第２スペーサ層の材料として用いることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載のエアブリッジの製造方法。
【請求項１２】
前記エアブリッジにおける前記基板と接続する部分にリブを設ける工程を有することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載のエアブリッジの製造方法。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項にかかるエアブリッジの製造方法によりエアブリッジを製造する工程を有する半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、エアブリッジの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば下記の各特許文献に開示されているように、各種の形状を有するエアブリッジが知られている。エアブリッジは、一般に、基板上における空気を絶縁体とした立体的配線構造として用いられる。すなわち、基板上における配線や半導体素子等の各種構成が形成された位置を跨ぐように、導電性材料によるブリッジ状の配線構造が形成される。
【０００３】
エアブリッジの形成の際には、例えば特開昭６１−１９４８５１号公報に記載されているように、エアブリッジ下方に位置すべき各種構成の上にスペーサ材料（具体的には、例えばレジスト）の層を設ける。このレジスト層上にエアブリッジ形成用導電性材料を積層した後、当該レジスト層を除去するという工程を経る。このとき、当該レジスト層が、エアブリッジ下方の空間を形成するためのスペーサとしての役割を果たす。このレジスト層の形状、サイズに応じて、エアブリッジ自身の幅、エアブリッジが跨ぐ２つの地点の距離（或いはエアブリッジの長さ）、およびエアブリッジの高さが定まる。
【０００４】
従来の典型的なエアブリッジ形状としては、その断面形状が、矩形状（より具体的には、基板側に開口するコ型状）のものが知られている。また、断面形状が矩形状となるエアブリッジ形状に対し、例えば、特開平１０−６５００６号公報や特開２００８−２７０６１７号公報には、その断面形状が曲線を含む（つまりエアブリッジが曲面を有する）各種のエアブリッジ形状も提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１０−６５００６号公報
【特許文献２】特開平８−１０７１２０号公報
【特許文献３】特開２００８−２７０６１７号公報
【特許文献４】特開昭６１−１９４８５１号公報
【特許文献５】特開平８−２８８３８４号公報
【特許文献６】特開平８−８３４０号公報
【特許文献７】特開平３−１０５９４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
エアブリッジ構造によって得られるメリットの１つに、エアブリッジ下方の構成（例えば、トランジスタ等の半導体能動素子）についての耐湿性を確保できるという点がある。エアブリッジの幅（ここでは、エアブリッジの奥行方向の寸法を、幅と称している）を大きくすることによって、エアブリッジがエアブリッジ下方の構成を覆う度合（「被覆面積」とも称す）を大きくすることができる。エアブリッジがそれら半導体能動素子等をより広範囲にわたって覆うことによって、覆われた半導体能動素子等について一層良好な耐湿性を確保することができる。
【０００７】
しかしながら、エアブリッジの幅を大きくするにあたり、エアブリッジの製造工程でエアブリッジ形成材料の幅を単純に大きくしようとすると不都合を生ずる。すなわち、上記従来の矩形状のエアブリッジを前提とする場合、エアブリッジ形成時にスペーサとして用いられたレジストを当該レジスト上へのエアブリッジ形成材料の積層後に除去するときに、矩形のエアブリッジの隅の部分（角の部分の内面）にそのレジストが残り易くなってしまう。エアブリッジ自体の幅が増大することで、その幅に沿って長く形成されたレジストが、除去され難く（つまりエアブリッジから抜け難く）なるからである。このようなスペーサ材料残りを防ぐためには、エアブリッジの開口断面積を大きくすることが１つの方法として考えられる。しかし、単に矩形状エアブリッジのサイズを大きくして開口断面積を大きくすると、今度はエアブリッジ自体の強度の低下が懸念される。
【０００８】
一方、そのようなエアブリッジの隅の部分のスペーサ材料残りを避け、かつエアブリッジ自体の強度低下を避けるために、上記従来の曲面を含むエアブリッジを用いることも考えられる。しかしながら、上記従来の曲面を含むエアブリッジを作成するに当たっては、実際上、上記特開平１０−６５００６号公報で開示されるように、熱変形により曲面を含むレジストを形成する加熱工程を不可避的に伴うと考えられる。その結果、このレジストを変形させるための加熱処理が、エアブリッジの周辺構成に対して影響を及ぼすという問題が生じてしまう。具体的には、トランジスタの製造工程において既に最適化、好適化されたトランジスタ特性が熱によって変化してしまい、悪影響を受けるおそれがある。
【０００９】
このように、従来の技術によっては、強度等のエアブリッジ構造自体の性能やその製造過程における様々な要求を満たしつつ被覆面積の大きなエアブリッジを製造することが難しかった。
【００１０】
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたもので、エアブリッジの強度低下抑制、半導体素子の特性悪化抑制およびスペーサ材料残りの問題の回避を達成しつつ、被覆面積の大きなエアブリッジを製造することができるエアブリッジの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、上記の目的を達成するため、エアブリッジの製造方法であって、
半導体素子が形成された基板の上において、エアブリッジの下方に位置すべき構成を覆うように、前記エアブリッジ下方の空間が伸びる方向である幅方向の幅および前記エアブリッジが前記基板上において前記エアブリッジの下方に位置すべき前記構成を跨ぐ方向である長さ方向の第１の長さを有する第１スペーサ層を設ける第１スペーサ工程と、
前記第１スペーサ層の上に、前記第１スペーサ層の前記第１の長さよりも小さい第２の長さを有する第２スペーサ層を、当該第１スペーサ層と当該第２スペーサ層の積層構造の前記エアブリッジの前記幅方向に見た断面形状が段状となるように設ける第２スペーサ工程と、
前記積層構造を変形させる熱処理を行うことなく、前記構成を跨ぐ立体的な配線を形成するように前記エアブリッジを形成するための導電性材料の層を前記段状の形状の前記積層構造の上に積層するエアブリッジ材料積層工程と、
前記エアブリッジを形成する前記導電性材料を設けた後、前記段状の形状の前記積層構造を除去するスペーサ除去工程と、
を有し、
前記第１スペーサ層よりも前記第２スペーサ層のほうが薄いことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、エアブリッジの強度低下抑制、半導体素子の特性変化抑制およびスペーサ残り抑制を達成しつつ、被覆面積の大きなエアブリッジを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施の形態１にかかるエアブリッジの構成を示す図である。
【図２】本発明の実施の形態１にかかるエアブリッジの構成を示す図である。
【図３】本発明の実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法を説明するための図である。
【図４】本発明の実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法を説明するための図である。
【図５】本発明の実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法を説明するための図である。
【図６】本発明の実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法を説明するための図である。
【図７】本発明の実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法を説明するための図である。
【図８】本発明の実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法を説明するための図である。
【図９】本発明の実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法を説明するための図である。
【図１０】本発明の実施の形態２にかかるエアブリッジの構成を示す図である。
【図１１】本発明の実施の形態３にかかるエアブリッジの構成を示す図である。
【図１２】本発明の実施の形態３にかかるエアブリッジの構成を示す図である。
【図１３】本発明の実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法の効果を説明するために示す比較例の構成を示す図である。
【図１４】本発明の実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法の効果を説明するために示す比較例の構成を示す図である。
【図１５】本発明の実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法の効果を説明するために示す比較例の構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
実施の形態１．  
［実施の形態１の構成］
図１は、本発明の実施の形態１にかかるエアブリッジ１０の構成を示す図である。図１は、基板２に設けられたエアブリッジ１０を奥行方向に見た図であり、基板２およびエアブリッジ１０の断面形状を示す図である。エアブリッジ１０は図１に示す如く紙面左右対称の形状である。エアブリッジ１０は、図１の断面が図１の紙面貫通方向に連続的に延びた構造を有している。実施の形態１では、エアブリッジ１０を形成するためのエアブリッジ形成用導電性材料としてＡｕ（金）を用いるものとする。
【００１５】
図１に模式的に示すように、基板２上にはトランジスタ素子２０が設けられている。トランジスタ素子２０とエアブリッジ１０との間には、図１の紙面奥行方向に延びる中空空間が形成されている。図１に示すように、エアブリッジ１０は、寸法Ｗを有し、高さｄを有している。寸法Ｗは、エアブリッジ１０の橋脚部１２ａから橋脚部１２ｂまでの長さであるものとし、高さｄは、トランジスタ素子２０の表面からエアブリッジ１０の上方内面との距離であるものとする。
【００１６】
エアブリッジ１０は、その内面に、階段状の凹凸を有している。本実施形態では、この凹凸が、基板２から上方に向かって順次小さな横方向寸法（順次Ｗ方向寸法が小さくなる形状）を有する階段状の形状を備えている。また、本実施形態では、この凹凸は、基板２から上方の段であるほど高さ方向の寸法が小さい。このような構成によれば、エアブリッジ１０の内側の凹凸面をアーチ状に近似したものとすることができる。
【００１７】
図２は、本発明の実施の形態１にかかるエアブリッジ１０の構成を示す平面図である。図２は、図１の構成を図１の紙面上方から紙面下方に見下ろした図である。ただし、図２では、説明の便宜上、エアブリッジ１０で覆われる構成（ドレイン２４、ソース２６）を透視して示している。
【００１８】
図１において模式的に示したトランジスタ素子２０は、図２ではより具体的に記載されており、ゲート２２、ドレイン２４、ソース２６を含むトランジスタ素子２０に対して、ドレイン２４とソース２６を全体的に覆うように、エアブリッジ１０が設けられている。このようにエアブリッジ１０がトランジスタ素子２０をより広範囲にわたって覆うことによって、トランジスタ素子２０について一層良好な耐湿性を確保することができる。
【００１９】
図２に示すように、エアブリッジ１０は、寸法Ｌを有している。この寸法Ｌは、エアブリッジ１０を図１の奥行方向に見た時における、エアブリッジ１０の一端から他端までの幅であるものとする。
【００２０】
エアブリッジ１０は、距離ｄを大きく確保することによる容量低下効果、ひいては高周波特性の改善効果を発揮することができる。例えば、配線厚みを８ｕｍとし、ｄが６ｕｍから１２ｕｍになることで、容量がおよそ０．６倍に小さくなるという効果がある。なお、この容量は次の計算により求めた。まず、半径ａの一本の軸（エアブリッジ内部の配線等の厚さがａとなる）を考える。軸の単位長あたりの電荷がＱであるとき、ガウスの定理から軸の単位長からＱ／ε本（ε：真空の誘電率）の電気力線が出ている。よって、軸より距離ｒでの電気力線密度はＱ／２πｒεとなる。これより、軸より距離ｒの点での電界ＥはＥ＝Ｑ／２πｒε［Ｖ／ｍ］となる。次に、軸からの距離がｒ１とｒ２との電位差を求めると、
0005578012.tif 000002
となる。これより、容量Ｃ＝２πε／（ｌｏｇ  ｒ２／ｒ１）となる。２πε＝２４．１、ｒ１＝８ｕｍ、ｒ２＝１４ｕｍあるいはｒ２＝２０ｕｍを代入し、比を取ればおおよそ０．６倍となる。
【００２１】
エアブリッジ１０は、その断面形状が矩形からアーチ形状へと近づけられている。この場合、矩形状と比べて、上部からの圧力（図１紙面上方側からの圧力）に強くなる。すなわち、アーチ形状に近い断面形状を有するエアブリッジ１０では、上部から下方にかかる力が圧縮力としてブリッジ端まで力が加わるようになるため、上部からの力を横方向に分散させることができる。
【００２２】
また、エアブリッジ１０の内表面が凹凸の段差を有することによって、このような凹凸がない場合に比して、エアブリッジ１０の表面積は大きくなっている。このように表面積を増加させることにより、エアブリッジ１０の放熱性を向上させることができる。
【００２３】
［実施の形態１の製造方法］
以下、図３乃至９を用いて、本発明の実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法を説明する。この実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法により、エアブリッジ１０を製造することができる。
【００２４】
まず、図３に示すように、基板２上に一層目となるレジスト層１００を塗布する。なお、図３では簡略化のためトランジスタ素子２０の図示を省略している。このレジストの厚さが、後に形成するエアブリッジ１０の橋脚部１２ａ、１２ｂの高さに相当する。
【００２５】
次に、図４に示すように、一部の領域のレジスト層１００を残すように露光現像を行う。具体的には、基板２上に、レジスト層１００がエアブリッジ１０の下方に位置すべきトランジスタ素子２０を覆うように、かつ、エアブリッジ１０の幅方向に応じた幅（つまり寸法Ｌ）およびエアブリッジ１０の長さ方向に応じた長さ（つまり寸法Ｗ）を有するレジスト層１００を残すように、露光現像を行う。
特に、実施の形態１では、エアブリッジの下方に位置すべきトランジスタ素子２０の活性領域全体を覆うように（具体的には、図２に示したように、ドレイン２４とソース２６を覆うように）、レジスト層１００をパターニングする。
【００２６】
次に、図５に示すように、レジスト層１００の上に、二層目のレジスト層であるレジスト層１０２を塗布する。なお、実施の形態１では、図示するように、レジスト層１０２をレジスト層１００よりも相当程度薄く（半分以下の厚さ）に形成している。
【００２７】
次に、図６に示すように、レジスト層１０２についても、一層目（レジスト層１００）と同様に、所定の幅を残すように露光現像を行い、その後、三層目のレジスト（レジスト層１０４）を塗布する。なお、実施の形態１では、図示するように、レジスト層１０４をレジスト層１０２に比して若干薄い厚さ（あるはほぼ同じ）に形成している。
実施の形態１においては、レジスト層１０２についての露光現像を、レジスト層１０２がレジスト層１００の上にレジスト層１００の寸法Ｗよりも小さい寸法Ｗ２となるように、レジスト層１００とレジスト層１０２の積層構造のエアブリッジの長さ方向についての断面形状が段状となるように、行うものとする。なお、実施の形態１では、この露光現像の工程において、エアブリッジ１０の幅方向の寸法Ｌについてはエアブリッジ材料積層工程においてエアブリッジ１０を形成する材料の層１０６と同じ位置となるように、レジスト層１０２をパターニングする。パターニング後、レジスト層１０２の上にレジスト層１０４を塗布する。
【００２８】
次に、図７に示すように、三層目（レジスト層１０４）においても所定の寸法Ｗ３を残すように露光現像を行う。
【００２９】
次に、図８に示すように、形作られたレジスト層１０２、１０４、１０６の積層構造上に、エアブリッジ１０を形成する材料の層１０６を積層することにより、エアブリッジ１０の形成を行う。なお、実施の形態１では、層１０６として、Ａｕを蒸着およびメッキ成長させる。このとき、実施の形態１では、レジスト層１０２、１０４、１０６の積層構造を変形させる熱処理（つまり、当該積層構造の段差が曲面形状となるような熱変形を生じさせるための熱処理）を行うことなく、段状の形状の当該積層構造の上にエアブリッジを形成する材料の層１０６を積層する。特に、実施の形態１では、この工程は、トランジスタ素子２０の活性領域全体を覆う程度の面積を有し、かつ、開口の無い連続した表面を有する層１０６を、レジスト層１００とレジスト層１０２の積層構造上に形成する。
【００３０】
その後、図９に示すように、レジスト層１００、１０２、１０４の積層構造に対してレジスト除去を行うことにより、断面形状が階段形状であるエアブリッジ１０が完成する。レジスト除去までの上記工程では、熱処理が行われていない。
なお、これ以降は、各種の半導体装置の製造工程に従って最終工程（パッケージ等）までの一連の製造工程が進められる。
【００３１】
以上説明した本発明の実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法によれば、エアブリッジ１０の強度低下抑制、トランジスタ素子２０の特性変化抑制およびレジスト残り抑制を達成しつつ、被覆面積の大きなエアブリッジ１０を製造することができる。
【００３２】
実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法によれば、レジスト層１００とレジスト層１０２とが段状をなした積層構造に対してエアブリッジ形成材料を積層している。具体的には、実施の形態１では、レジスト層１００、１０２、１０４が、基板２の上方の層ほど寸法Ｗ方向が小さくかつ薄い層となるように積層されている。この積層構造によって、エアブリッジ１０の断面形状を矩形からアーチ状へと近づけることができる。アーチ状の断面形状に近づけることに伴い、レジスト層１００のみの場合に比して、エアブリッジ１０下方の開口断面積（中空部分の断面積）を大きくし、レジスト除去性を向上することができる。また、アーチ状に近づくほど、エアブリッジ自身の強度および電気容量確保を両立するという面で優れている。このように、実施の形態１によれば、エアブリッジ１０の強度および電気容量確保を両立させ、かつ、レジスト除去性を向上させることによりエアブリッジ１０自身の幅寸法Ｌを大きくしてエアブリッジ１０の被覆面積を増大させることができる。レジスト残りの抑制により、エアブリッジ１０およびこれを含む装置全体の歩留まりを向上させることもできる。
【００３３】
また、実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法によれば、レジストを熱変形させる熱処理を伴わないことにより、同一基板上に形成されたトランジスタ素子２０の特性が変化することを防ぐことができる。すなわち、エアブリッジ自身の幅寸法（実施の形態１における寸法Ｌに相当）を大きくすればするほど、その幅方向に沿ってレジスト層（実施の形態１のレジスト層１００、１０２に相当）を大きく形成することになる。仮に、加熱処理を行うことを前提とした場合には、このように大きく形成されたレジスト層を所望の曲面形状に変形させるための熱量が必要である。その結果、熱処理によって半導体素子の特性が所望値から大きく変化し、結果的に悪影響を及ぼすおそれが高まる。この点、実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法は、そのような熱による悪影響を避けることができる。
【００３４】
以上のように、実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法によれば、エアブリッジ１０の断面形状をアーチ状に近づけることによりエアブリッジ１０の強度低下を抑制し、加熱処理を伴わないことでトランジスタ素子２０の特性変化を避け、かつ、エアブリッジ１０下方の開口断面積を広げてレジスト材料が残ることを抑制することができる。このように各種利点を享受しつつ、エアブリッジ１０の幅方向寸法Ｌの増大を可能として被覆面積の大きなエアブリッジ１０を製造することができる。
【００３５】
また、実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法によれば、レジスト層１００の直下に半導体素子が位置している場合（つまりエアブリッジ１０が半導体素子上に形成される場合）にも、その半導体素子の特性が熱により変化してしまうことを避けつつ、被覆面積の大きなエアブリッジを製造することができる。
【００３６】
また、実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法によれば、トランジスタ活性領域全体を連続的に覆うことが可能なエアブリッジ１０を、エアブリッジ１０の強度低下抑制、トランジスタ素子２０の特性変化抑制およびスペーサ材料残り抑制（レジスト層１００、１０２、１０４が残ることの抑制）を達成しつつ、製造することができる。エアブリッジ１０のようにトランジスタ活性領域全体を開口の無いエアブリッジで連続的に覆うことで、高い耐湿性を得ることができる。
【００３７】
なお、エアブリッジ１０は、例えば、ＭＭＩＣなど各種の高周波半導体デバイス技術分野における半導体装置に搭載することができる。例えば、無線通信システムを利用している携帯電話（および基地局）、人工衛星、レーダー（例えば船や航空機用など）、ＷｉＭＡＸ（登録商標、Worldwide Interoperability for Microwave Access）やＬＴＥ（long Term Evolution）、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）などの各種通信規格に対応する各種機器が挙げられる。
【００３８】
尚、上述した実施の形態１においては、トランジスタ素子２０が、上記「課題を解決するための手段」の欄に記載した発明（以下、「上記本発明」と称す）における「エアブリッジの下方に位置すべき構成」に、寸法Ｌの方向が、上記本発明における「前記エアブリッジ下方の空間が伸びる方向である幅方向に、寸法Ｗの方向が、上基本発明における「前記エアブリッジが前記基板上において前記エアブリッジの下方に位置すべき前記構成を跨ぐ方向である長さ方向」に、寸法Ｗが、上基本発明における「第１の長さ」に、寸法Ｗ２が、上基本発明における「第２の長さ」に、それぞれ相当している。
【００３９】
［実施の形態１の効果、比較例］
図１３乃至１５は、実施の形態１の効果を説明するための比較例を示す図である。図１３は、矩形状のエアブリッジ５１０を示している。このような矩形状（直方形状）では、上部から下方にかかる力が曲げモーメント（たわみ）やせん断力としてかかる。これに対し、エアブリッジ１０はよりアーチ形状に近い断面形状を有している。アーチ形状に近い断面形状を有するエアブリッジ１０では、上部から下方にかかる力が圧縮力としてブリッジ端まで力が加わるようになるため、上部からの力を横方向に分散させることができる。
【００４０】
図１４は、エアブリッジを複数に分割した例を示す図である。実施の形態１において述べたように、矩形状のエアブリッジを奥行方向に長い構成（つまり図２における寸法Ｌを長大にした構成）とした場合、製造プロセス上でのレジスト残りが問題となる。図１４の比較例では、この問題を回避するために、寸法Ｌの短いエアブリッジ５１０、５１２を並べて形成することによって、寸法Ｌの長大なエアブリッジと同様の目的を達成しようとしている。しかしながら、図１４に示した構成では、エアブリッジ５１０とエアブリッジ５１２の間に、エアブリッジ下方の構成が露出する剥き出し領域５３０が発生してしまう。この剥き出し領域５３０を介してトランジスタ領域（ドレイン２４およびソース２６）が剥き出しの状態になるため、当該トランジスタ領域のための耐湿性確保機能が低下してしまう。これに対し、実施の形態１によれば、エアブリッジ１０が長大な寸法Ｌを有し、エアブリッジ１０下方の構成を連続的に覆うことができるため、高い耐湿性を得ることができる。
【００４１】
図１５は、曲面形状を有するエアブリッジ５５０を示す。このようなエアブリッジの構成については、特開平１０−０６５００６号公報あるいは特開２００８−２７０６１７号公報にも記載されている。このような曲線形状の断面構造を有するエアブリッジを作製する場合、レジストを塗布し加熱（例えば、３００℃以下の所定温度）を行い、レジストを曲面形状、半球形状などに形成することで曲線形状のエアブリッジを得る。この場合、加熱処理によってトランジスタ特性に悪影響を及ぼすおそれがある。この点、実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法によれば、熱処理を伴わないので、そのような熱による悪影響を抑制することができる。
【００４２】
［実施の形態１の変形例］
実施の形態１では、トランジスタ素子２０を跨ぐようにエアブリッジ１０を製造した。しかしながら本発明はこのようなエアブリッジ構造に限られるものではない。実施の形態１にかかるトランジスタ素子２０は、電界効果トランジスタ（ＦＥＴ）以外の様々な構成に変更されることができる。すなわち、本発明においてエアブリッジ１０の下方に位置すべき構成は、種々の半導体能動素子（ＦＥＴ以外のトランジスタや、ダイオードを含む）や、受動素子、あるいは配線であってもよい。この受動素子は、例えば、エアブリッジをＭＩＭ（Metal Insulation Metal）キャパシタと配線の接続用に用いた場合におけるＭＩＭキャパシタの一部でもよい。配線の場合は、基板２表面において、橋脚部１２ａ直下と橋脚部１２ｂ直下のそれぞれの位置に、配線が延びていてもよい。
【００４３】
エアブリッジ１０の下方に位置すべき半導体能動素子は、ヘテロ接合バイポーラトランジスタ（Heterojunction Bipolar Transistor、以下単に「ＨＢＴ」とも称す）であってもよい。
ＨＢＴは、エミッタ電極、ベース電極、コレクタ電極の３端子で構成されている。例えば、ＩｎＰ系ＨＢＴのコレクタ電極材料には、ＡｕＧｅ／Ｎｉ／Ａｕが使われる。この電極材料をＩｎＰ半導体と馴染ませる（熱処理）ことにより、電流を流しやすくなる特性（オーミック特性）が得られる。このオーミック特性の付与により、電極に電圧を印加したとき、電流が半導体能動素子に流れるようになる。
しかし、熱処理のパラメータ（熱処理時間や温度）が過剰になりすぎると馴染みすぎてしまい、反対に特性の悪化（例えば、十分な増幅作用が得られないなど）を招く。このことから、最適な熱処理パラメータの範囲を超えるような加熱などの熱処理プロセスは、半導体能動素子の信頼性を悪化させる可能性がある。
以上のことから、ＩｎＰ系ＨＢＴについてコレクタ電極を形成した後にエアブリッジを形成するというプロセスを踏む場合、コレクタ電極形成時には最適なオーミック特性が得られていたのにエアブリッジ形成時の熱処理によって多少なりとも特性が悪化する、という事態が発生するおそれがある。この点、本実施形態によれば、そのような事後的なオーミック特性の変化を避けつつ、被覆面積の大きなエアブリッジを製造することができる。
【００４４】
実施の形態１では、エアブリッジ１０が、半導体素子の直上を跨ぐように設けられている。しかしながら、本発明はこれに限られるものではない。すなわち、エアブリッジ１０の下方ではなく、エアブリッジ１０の外周に半導体素子が存在しても良い。このような場合でも仮にエアブリッジの製造工程において熱処理を行ったとすれば半導体素子の特性変化を引き起こすおそれがあるため、熱処理を伴わない実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法の技術的な利益を得ることができる。
【００４５】
実施の形態１では、エアブリッジ１０の寸法Ｌを、ドレイン２４等を完全に覆う程度に大きくしている。半導体能動素子の具体的な設計内容に応じて活性層（活性領域）等の具体的寸法は様々に異なるが、例えば、実施の形態１にかかるエアブリッジ１０は、トランジスタ活性層が３００μｍである場合にこれを覆うように３２０μｍという寸法Ｌを有する。しかしながら、本発明はこれに限られるものではない。実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法によれば、レジスト残りの抑制が可能となっているため、矩形形状のエアブリッジの場合と比べて、寸法Ｌの制約が緩和されている。従って、実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法によれば、より緩和された設計条件のもとで、エアブリッジ下方の構成を完全に覆うかどうかに関わらずエアブリッジ１０の寸法Ｌを長大化することができる。
【００４６】
半導体素子が熱処理により電気的特性の調節が行われたものである場合に、実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法を好適に用いることができる。既に最適化、好適化された半導体素子の特性に変動をあたえることなく、実施の形態１にかかる被覆面積の大きなエアブリッジ１０を製造することができるからである。具体的には、例えば、半導体能動素子が、コレクタ電極を有するトランジスタを含み、コレクタ電極とトランジスタの半導体材料との電気的特性を調節するための熱処理を経て形成されたものである場合に、実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法を好適に用いることができる。コレクタ電極と半導体材料との間の電気的特性が、事前の熱処理で最適化された特性から変化してしまうことを避けることができるからである。
【００４７】
実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法は、「レジスト層１００、１０２、１０６が加熱により変形する温度」が「半導体素子の特性が加熱により特性の本来の設計範囲を逸脱して変化する温度以上の温度」である場合に、好適に用いることができる。
例えば、特開平１０−０６５００６号公報あるいは特開２００８−２７０６１７号公報などに記載されているような、曲線形状を有する断面構造を作製する場合、レジストを塗布し加熱（例えば、３００℃以下の所定温度）を行い、レジストを曲面形状、半球形状などに形成することで曲線形状のエアブリッジを得る。
エアブリッジを製造する際に用いるレジスト（スペーサ材料）の決定の際に、加熱変形を前提とする場合には、そうでない場合と比較してレジストの材料選択の幅が不可避的に狭まる。これに対し、実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法によれば、レジストの熱変形の温度によらないため、レジスト材料の選択の自由度つまりスペーサ材料の選択の自由度が高い。
【００４８】
実施の形態１にかかるエアブリッジ１０は、３段のレジスト積層構造（レジスト層１００、１０２、１０４）をスペーサとして形成され、左右対称のエアブリッジとして作成された。しかしながら本発明はこれに限られるものではない。例えば、二層のレジスト積層構造や、四層以上のレジスト積層構造を、スペーサとして形成してもよい。また、レジストの各層の厚さは、実施の形態１のように、必ずしも、上の層ほど順次薄くなるようにしなくともよい。また、エアブリッジ１０は必ずしも左右対称形状にしなくともよいし、左右の橋脚部が同じ高さ寸法を有していなくとも良い。具体的には、例えば、ＭＩＭキャパシタと配線の接合用に用いられるエアブリッジとして、エアブリッジ１０を用いてもよい。この場合、基板２上におけるエアブリッジ１０の橋脚部の片側（例えば橋脚部１２ｂ）位置に、一定の厚さを有するＭＩＭキャパシタ構造が形成されており、このＭＩＭキャパシタ表面のメタル層に橋脚部１２ｂが乗るようにしてもよい。この場合、橋脚部１２ｂの高さ寸法が、橋脚部１２ａよりもＭＩＭキャパシタの厚さだけ短くなる。
【００４９】
なお、実施の形態１では、エアブリッジを形成するためのスペーサ材料として、フォトレジストを用いた。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではない。エアブリッジ材料（実施の形態１では金）の積層後に除去可能であるなど、実施の形態１でレジストが果たしていたスペーサ材料としての役割を担うことができる材料であれば、フォトレジスト以外の材料をスペーサとして用いても良い。
【００５０】
実施の形態２．
図１０は、本発明の実施の形態２にかかるエアブリッジの製造方法を説明するために示す模式図である。実施の形態２にかかるエアブリッジ３１０は、実施の形態１にかかるエアブリッジ１０と同様の構成を備えるのに加えて、ひさし部３１２、３１４を有している。なお、図１０では便宜上エアブリッジ３１０の内表面の段状の凹凸（段差）は図示を省略している。また、図１０ではエアブリッジ３１０の下方の構成は詳細に図示していないが、実施の形態２にかかるエアブリッジ３１０の下方の構成も実施の形態１又は実施の形態１の変形例と同様の構成であるものとする。
【００５１】
ひさし部３１２、３１４は、エアブリッジ３１０の開口断面積を相対的に大きくするようにエアブリッジ両端の縁部を形成している。ひさし部３１２、３１４があることによって、エアブリッジ３１０の強度向上とともに、レジスト除去工程においてエアブリッジ３１０下方へのレジスト除去材の流れ込みを誘導することができる。
【００５２】
図１０は模式的に示しているが、ひさし部３１２、３１４は、エアブリッジ３１０の端部から外側に向かって所定の角度で広がりを有している。この広がりの角度は製造プロセス上の制約等との関係も含めて所望の角度に設計すればよいが、一例として４５度〜６０度などとしてもよい。
【００５３】
なお、ひさし部３１２、３１４を形成する工程は、下記のようにしてもよい。先ず、実施の形態１におけるレジスト層１００、１０２、１０４の積層構造におけるエアブリッジ３１０の幅方向に沿う方向（寸法Ｌの方向）の少なくとも一端について、この積層構造の長さ方向（寸法Ｌの方向）の中央部と比べて端部を相対的に幅広に又は／および高くする。つまり、端部側に他のレジスト層を積層したり、あるいは実施の形態１におけるレジスト層１００、１０２、１０４積層構造における中央側を小さく加工する。次いで、この積層構造に、エアブリッジを形成する材料（たとえば金）を積層する。その後、レジストを除去する工程において、レジスト除去材を供給する際に、基板２（ウェハ）をエアブリッジ３１０の奥行方向に振る（往復させる）ことが好ましい。この製造方法に従って形成されるひさし部は、実際上、図１０に記載するような滑らかな曲面状ではなく、エアブリッジ端部から外部に向かって広がる複数段の凹凸形状となる。
【００５４】
あるいは、レジスト層におけるひさし部の形成のための位置を、レジスト層端部から外側に徐々に広がる斜めの平面に加工して、図１０により近い形状のひさし部を設けてもよい。
【００５５】
なお、実施の形態２では、エアブリッジ３１０の両端についてひさし部３１２、３１４が形成されたが、本発明はこれに限られるものではなく、ひさし部３１２とひさし部３１４のうち一方のみを備えても良い。
【００５６】
実施の形態３．
図１１および図１２は、本発明の実施の形態３にかかるエアブリッジの構成を説明するための図である。本発明の実施の形態３にかかるエアブリッジ４１０は、図１１に示すように、エアブリッジ１０と同様の構成に対して、外表面にリブ４１２を備えている。また、図１２は、エアブリッジ４１０の変形例を示す図である。図１２にかかる変形例では、図１１とは異なり、内表面にリブ４１４を備えている。これらのリブにより、エアブリッジ４１０の強度を高めることができる。
【００５７】
リブ４１２を有するエアブリッジ４１０は、例えば、次の手順で製造することができる。先ず、実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法に従ってエアブリッジを形成する。次に、このエアブリッジ上にレジストを塗布し、リブを形成する領域だけレジストを抜き取る。次いで、蒸着等によりリブ領域を形成した後に、最終的にレジストの除去を行う。一方、リブ４１４を有するエアブリッジ４１０は、例えば、レジストの形成段階でリブとなる部分のレジスト除去（露光による除去や機械的方法など）を行い、その上部にエアブリッジを形成することにより、製造することができる。
【００５８】
なお、上述した実施の形態２には、実施の形態１において説明された発明のほか、「エアブリッジにひさし部を設ける」という技術的思想が含まれている。この後者の技術的思想を、実施の形態１にかかる構成とは別に、単独で、実施しても良い。すなわち、実施の形態１で述べたエアブリッジ以外のエアブリッジ（従来技術も含む）に対して、ひさし部３１２、３１４を形成してもよい。
実施の形態３についても、実施の形態１にかかるエアブリッジの製造方法の発明のほか、「エアブリッジにリブを設ける」という技術的思想が含まれている。実施の形態３についても、上記と同様に、この後者の技術的思想を、実施の形態１にかかる構成とは別に、単独で、実施しても良い。すなわち、実施の形態１で述べたエアブリッジ以外のエアブリッジ（従来技術も含む）に対して、リブ４１２、４１４を形成してもよい。
【符号の説明】
【００５９】
２  基板
１０、３１０、４１０、５１０、５１２  エアブリッジ
１２ａ  橋脚部
１２ｂ  橋脚部
２０  トランジスタ素子
２２  ゲート
２４  ドレイン
２６  ソース
１００、１０２、１０４  レジスト層
１０６  エアブリッジ形成材料の層
３１２、３１４  ひさし部
４１２、４１４  リブ
５３０  剥き出しのトランジスタ領域
５５０  エアブリッジ
【図１】
0005578012.tif 000003
【図２】
0005578012.tif 000004
【図３】
0005578012.tif 000005
【図４】
0005578012.tif 000006
【図５】
0005578012.tif 000007
【図６】
0005578012.tif 000008
【図７】
0005578012.tif 000009
【図８】
0005578012.tif 000010
【図９】
0005578012.tif 000011
【図１０】
0005578012.tif 000012
【図１１】
0005578012.tif 000013
【図１２】
0005578012.tif 000014
【図１３】
0005578012.tif 000015
【図１４】
0005578012.tif 000016
【図１５】
0005578012.tif 000017