(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
スピンレス法の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、
１回分のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第１の工程と、
前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液を乾燥させて乾燥膜とする第２の工程と、
別の１回分のプライミング処理のために、前記乾燥膜を外して前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記乾燥膜とは異なる領域で前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第３の工程と、
前記プライミングローラを回転させながら、前記プライミングローラの外周面の前記塗布液を巻き取った各領域に多孔質の樹脂からなる洗浄パッドを接触させて粗洗浄を施す第４の工程と、
前記プライミングローラを回転させながら、前記粗洗浄を施された前記プライミングローラの外周面に洗浄液を供給して仕上げ洗浄を施す第５の工程と、
前記プライミングローラを回転させながら、前記仕上げ洗浄を施された前記プライミングローラの外周面を乾燥させる第６の工程と
を有するプライミング処理方法。
【請求項２】
スピンレス法の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、
所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、
前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、
前記プライミングローラの外周面に粗洗浄を施すための多孔質の樹脂からなる洗浄パッドを有し、前記プライミングローラの外周面に接触する第１の位置と前記プライミングローラの外周面から退避した第２の位置との間で前記洗浄パッドの位置を切り換える粗洗浄処理部と、
前記プライミングローラの外周面に洗浄液を供給して仕上げ洗浄を施すための仕上げ洗浄処理部と、
前記プライミングローラの外周面を強制的に乾燥させるための乾燥処理部と、
前記回転機構、前記粗洗浄処理部、前記仕上げ洗浄処理部および前記乾燥処理部の各動作を制御する制御部と
を有し、
１回分のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、
前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液を乾燥させて乾燥膜とし、
別の１回分のプライミング処理のために、前記乾燥膜を外して前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記乾燥膜とは異なる領域で前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、
前記プライミングローラを回転させながら、前記プライミングローラの外周面の前記塗布液を巻き取った各領域に多孔質の樹脂からなる洗浄パッドを接触させて粗洗浄を施し、
前記プライミングローラを回転させながら、前記粗洗浄を施された前記プライミングローラの外周面に洗浄液を供給して仕上げ洗浄を施し、
前記プライミングローラを回転させながら、前記仕上げ洗浄を施された前記プライミングローラの外周面を乾燥させる、
プライミング処理装置。
【請求項３】
前記プライミングローラの周囲で発生するミストを強制排気によって除去するための排気機構を有する、請求項２に記載のプライミング処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スピンレス法の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理方法およびプライミング処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程には、スリット状の吐出口を有する長尺形のスリットノズルを走査してガラス基板等の被処理基板上にレジスト液を塗布するスピンレス法が多く用いられている。
【０００３】
このようなスピンレス法においては、レジスト塗布膜の膜厚の不均一性や塗布ムラを防止するうえで、塗布走査中に基板上に吐出されたレジスト液が走査方向においてスリットノズルの背面側に回って形成されるメニスカスがノズル長手方向で水平一直線に揃うのが望ましく、そのためには塗布走査の開始直前にスリットノズルの吐出口と基板との間の塗布ギャップが隙間なく適量のレジスト液で塞がることが必要条件となっている。この要件を満たすために、塗布走査の下準備としてスリットノズルの吐出口から背面下端部にかけてレジスト液の液膜を形成するプライミング処理が行われている。
【０００４】
代表的なプライミング処理法は、スリットノズルと同等またはそれ以上の長さを有する円筒状のプライミングローラを塗布処理部の近くで水平に設置し、微小なギャップを介してプライミングローラの頂部と対向する位置までスリットノズルを近づけてレジスト液を吐出させ、その直後にプライミングローラを所定方向に回転させる。そうすると、プライミングローラの頂部付近に吐出されたレジスト液がスリットノズルの背面下部に回り込むようにしてプライミングローラの外周面上に巻き取られ、スリットノズル側とプライミングローラ側とに分かれる形でレジスト液の液膜が切り離される。スリットノズルには、ノズル吐出口から背面下端部にかけてレジスト液が残る。
【０００５】
従来一般のプライミング処理装置は、たとえば特許文献１に示すように、プライミングローラを回転駆動する回転機構だけでなく、プライミングローラをクリーニングするためのスキージ（またはスクレーパ）や洗浄ノズルおよび乾燥ノズル等を備えており、１回のプライミング処理が終了すると、その後処理として、回転機構によりプライミングローラを連続回転させ、スキージでプライミングローラの外周面からレジスト液を掻き落とし、洗浄ノズルおよび乾燥ノズルより洗浄液および乾燥ガスをそれぞれプライミングローラの外周面に噴き付けるようにしている。
【０００６】
この種のスキージは、プライミングローラと同等またはそれ以上の長さを有する長尺状の板体からなり、その長手方向に延びる一辺のエッジ部がプライミングローラの回転方向に逆らう斜めの角度でプライミングローラの外周面に常時接触するように配置され、その接触圧力はスキージを取付するネジ部材の締め込み量によって調整されるようになっている。
【０００７】
しかしながら、１回のプライミング処理でスリットノズルより吐出されるレジスト液を受けて巻き取るために使用されるプライミングローラ上の領域は、スリットノズルやプライミングローラのサイズによって異なるが、プライミングローラの全周（３６０°）を必要とするものではなく、通常は半周（１８０°）以下であり、１／４周（９０°）以下あるいは１／５周（７２°）以下で済ますことも可能である。しかるに、従来一般のプライミング処理装置は、プライミング処理を実行する度毎に後処理として上記のようにプライミングローラを連続回転させてプライミングローラの外周面全体（全周）に洗浄液を噴き付けるため、洗浄液（通常シンナー）を多量に使用するという問題があった。
【０００８】
また、プライミングローラの外周面上に巻き取られたレジスト液を掻き落とすために用いられているスキージは、掻き落としたレジストを周囲に散らかしたり、スキージ自体に付着させて蓄積しやすく、洗浄後の乾燥処理の際にプライミングローラの清浄な外周面にレジストのパーティクルを転移させてしまうことや、プライミングローラとの接触圧力を最適に調整ないし維持することが困難であること、消耗劣化が早くて寿命が短いこと等が問題となっている。
【０００９】
本出願人は、この問題を解決するために、特許文献２において、１回のプライミング処理のために、スリットノズルの吐出口とプライミングローラの上端とを所定のギャップを隔てて対向させ、スリットノズルより一定量の処理液または塗布液（たとえばレジスト液）を吐出させるとともにプライミングローラを所定の回転角だけ回転させて、プライミングローラの半周以下の部分的表面領域を当該プライミング処理に使用し、連続した所定回数のプライミング処理が終了した後にプライミングローラの外周面を全周に亘ってまとめて洗浄するプライミング処理法を開示している。
【００１０】
このプライミング処理法は、プライミングローラの外周面をその周回方向に複数に分割してそれらの分割領域（部分的表面領域）を連続する所定回数のプライミング処理に順次割り当てて使用し、その後にプライミングローラの外周面を全周に亘って一括洗浄する。この一括洗浄処理は、回転機構によりプライミングローラを連続回転させながら洗浄機構と乾燥部とを作動させてプライミングローラの外周面を全周に亘ってまとめて洗浄するものであり、各プライミング処理の際にプライミングローラの表面に巻き取られた塗布液を掻き落とすためのスキージは不要であり、プライミング処理後の洗浄処理で消費する洗浄液を節減できるとともに、洗浄ないし乾燥処理の際にパーティクルの発生を防止することもできる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００４−１６７４７６
【特許文献２】特開２００７−２３７０４６
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、本出願人が上記特許文献２で開示したプライミング処理法の改良版であるとともに、独自の観点から、プライミング処理で使用する洗浄液の更なる節減を実現し、更には乾燥処理時間の短縮化および洗浄処理用ツールおよび／または乾燥処理用ツールの長寿命化を図るプライミング処理方法およびプライミング処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明のプライミング処理方法は、スピンレス法の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、１回分のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第１の工程と、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液を乾燥させて乾燥膜とする第２の工程と、別の１回分のプライミング処理のために、前記乾燥膜を外して前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記乾燥膜とは異なる領域で前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第３の工程と、前記プライミングローラを回転させながら、前記プライミングローラの外周面の前記塗布液を巻き取った各領域に多孔質の樹脂からなる洗浄パッドを接触させて粗洗浄を施す第４の工程と、前記プライミングローラを回転させながら、前記粗洗浄を施された前記プライミングローラの外周面に洗浄液を供給して仕上げ洗浄を施す第５の工程と、前記プライミングローラを回転させながら、前記仕上げ洗浄を施された前記プライミングローラの外周面を乾燥させる第６の工程とを有する。
【００１４】
上記プライミング処理方法においては、複数回のプライミング処理が済んだ後、最初に粗洗浄工程（第４の工程）で、多孔質樹脂の洗浄パッドを回転するプライミングローラの外周面に押し付けて、そこに付着している塗布液の液膜を洗浄パッドとの弾力的な面接触の擦れ合いによって均一かつ効率よく洗い落とす。そして、粗洗浄処理の直後に、仕上げ洗浄工程（第５の工程）において、プライミングローラ上に残っている薄い液膜を洗浄液できれいに洗い落とす。このような２段階（粗洗浄／仕上げ洗浄）の洗浄処理方式によれば、粗洗浄工程の介在によって仕上げ洗浄工程の負担が著しく軽減されるだけでなく、粗洗浄工程で使用する洗浄液は再利用のもので済むため、トータルの洗浄液使用量を従来よりも大幅に低減することができる。
【００１５】
さらに、上記プライミング処理方法においては、プライミングローラの外周面をその周回方向に複数に分割して各分割領域を連続する所定回数のプライミング処理に割り当てて使用してから、プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜をまとめて一括洗浄処理および一括乾燥処理に附するので、洗浄液使用量の更に大幅な節減を図ることができる。
【００１６】
上記プライミング処理方法においては、プライミングローラの外周面上の所望の領域を使用して実施された１回分のプライミング処理の結果として該領域内に残存（付着）する塗布液の液膜を乾燥させて乾燥膜とし、さらにプライミングローラの外周面上の乾燥膜とは異なる領域を使用して後続のプライミング処理を実施する。乾燥膜は所定の領域内に固定されてそこに保持されるため、その近くで後続のプライミング処理を実施しても乾燥膜からの影響（干渉）を受けることはない。
【００１７】
好適には、乾燥膜は、自然乾燥により半乾きの状態で形成される。このために、プライミングローラ上に塗布液の一部を巻き取った後も、プライミングローラの回転をそのまま継続させて、塗布液の自然乾燥を行うのが好ましい。このような自然乾燥法により、各々の乾燥膜を半乾きの状態で一括洗浄に附することが可能であり、乾燥膜の洗い落としを容易にし、洗浄液の使用量を削減することができる。
【００２３】
本発明のプライミング処理装置は、スピンレス法の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、前記プライミングローラの外周面に粗洗浄を施すための多孔質の樹脂からなる洗浄パッドを有し、前記プライミングローラの外周面に接触する第１の位置と前記プライミングローラの外周面から退避した第２の位置との間で前記洗浄パッドの位置を切り換える粗洗浄処理部と、前記プライミングローラの外周面に洗浄液を供給して仕上げ洗浄を施すための仕上げ洗浄処理部と、前記プライミングローラの外周面を強制的に乾燥させるための乾燥処理部と、記回転機構、前記粗洗浄処理部、前記仕上げ洗浄処理部および前記乾燥処理部の各動作を制御する制御部とを有し、１回分のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液を乾燥させて乾燥膜とし、別の１回分のプライミング処理のために、前記乾燥膜を外して前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記乾燥膜とは異なる領域で前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、前記プライミングローラを回転させながら、前記プライミングローラの外周面の前記塗布液を巻き取った各領域に多孔質の樹脂からなる洗浄パッドを接触させて粗洗浄を施し、前記プライミングローラを回転させながら、前記粗洗浄を施された前記プライミングローラの外周面に洗浄液を供給して仕上げ洗浄を施し、前記プライミングローラを回転させながら、前記仕上げ洗浄を施された前記プライミングローラの外周面を乾燥させる。
【００２４】
上記プライミング処理装置によれば、上記の構成により上記第１の観点におけるプライミング処理方法を実施することが可能であり、それによって上記第１の観点におけるプライミング処理方法と同様の作用効果を奏することができる。
【００２７】
上記プライミング処理装置において、好ましくは、プライミングローラの周囲で発生するミストを強制排気によって除去するための排気機構が設けられる。
【発明の効果】
【００２８】
本発明のプライミング処理方法またはプライミング処理装置によれば、上記のような構成および作用により、プライミング処理で使用する洗浄液の更なる節減を実現できるとともに、乾燥処理時間の短縮化および洗浄処理用ツールおよび／または乾燥処理用ツールの長寿命化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の一実施形態におけるプライミング処理装置の構成を示す図である。
【図２】第１の実施例において１回分のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図３】粗洗浄処理部において、洗浄パッドが吸い取った塗布液を外に吐き出させる動作を示す部分拡大断面図である。
【図４】乾燥処理部の構成および作用を示す部分拡大断面図である。
【図５】第２の実施例において、第１回および第２回のプライミング処理およびその後処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図６】第２の実施例において、第４回（最終回）のプライミング処理およびその後処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図７】仕上げ洗浄処理部で使用した洗浄液を回収して粗洗浄処理部で再利用する構成の一変形例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下、添付図を参照して本発明の好適な実施の形態を説明する。
［プライミング処理装置の構成］
【００３１】
図１に、本発明の一実施形態におけるプライミング処理装置の構成を示す。このプライミング処理装置は、たとえばＬＣＤ製造プロセス用のフォトリソグラフィー工程においてスピンレス法のレジスト塗布処理を行うレジスト塗布装置（図示せず）に組み込まれ、レジスト塗布処理のために被処理基板を載置あるいは浮上搬送する塗布ステージ（図示せず）の近くに配置される。
【００３２】
図示のプライミング処理装置において、ハウジング１０は、上面にスリット状の開口部１２を有する長尺形の筐体からなり、中に収容するプライミングローラ１４をその頂部が開口部１２を介して上方に露出するように軸受（図示せず）で水平かつ回転可能に支持している。
【００３３】
プライミングローラ１４は、たとえばステンレス鋼からなる円筒状または円柱状のローラであり、一定の外径と後述するスリットノズル９８の全長をカバーする長さを有している。ハウジング１０も、たとえばステンレス鋼で作られてよい。
【００３４】
プライミングローラ１４を回転させるためのローラ回転機構１６は、図示省略するが、モータ、回転制御部およびエンコーダ等を備えている。モータは、好ましくはサーボモータからなり、その回転駆動軸はたとえばプーリや伝動ベルト等の伝動機構を介してプライミングローラ１４の回転軸に接続されている。回転制御部は、モータの基本動作（回転、停止、速度制御等）だけでなく、エンコーダを通じてモータの回転量および回転角度位置を任意に制御できるようになっている。
【００３５】
ハウジング１０内には、プライミングローラ１４の頂部（最上部）から底部（最下部）まで正の回転方向（図面では反時計回り）に沿って向う途中に、好ましくは回転角９０・付近の位置に、粗洗浄処理部１８の洗浄パッド２０が配置されている。
【００３６】
この洗浄パッド２０は、多孔質の樹脂（好ましくは耐薬品性に優れたフッ素系樹脂）からなり、水平方向でプライミングローラ１４の一端から他端までカバーする長さと矩形の横断面形状とを有し、少なくともプライミングローラ１４と対向する面が開口している箱状のパッド保持部２２に保持されている。洗浄パッド移動機構２４は、図示省略するが、モータ、回転制御部およびエンコーダ等を備えており、ラック＆ピニオン２６およびパッド保持部２２を介して、洗浄パッド２０をプライミングローラ１４のラジアル方向で移動させ、洗浄パッド２０の位置をプライミングローラ１４の外周面に所望の圧力で接触する第１の位置（接触洗浄位置）とプライミングローラ１４の外周面から離間した第２の位置（退避位置）との間で切り換えられるようになっている。
【００３７】
洗浄パッド２０の近傍たとえば真上に、洗浄液補給ノズル２８が配置されている。この洗浄液補給ノズル２８は、洗浄パッド２０と同等の長さを有する長尺状のスリットノズルからなり、その吐出口を上記第１の位置（接触洗浄位置）における洗浄パッド２０の前部（接触部）２０ａに向けて、あるいは周回方向においてその少し上流側に位置するプライミングローラ１４の外周面に向けて、配置されている。粗洗浄処理が行われる際には、送液ポンプ３０により洗浄液タンク３２から汲み出された洗浄液（たとえばシンナー液）が配管３４を介して洗浄液補給ノズル２８に送られ、洗浄液補給ノズル２８が洗浄液を吐出して洗浄パッド２０による接触洗浄をアシストするようになっている。配管３４の途中には、洗浄液からゴミ等の不純物を除去するためのフィルタ３６および開閉弁３７が設けられている。
【００３８】
ハウジング１０内には、プライミングローラ１４を中心にして粗洗浄処理部１６の反対側に、仕上げ洗浄処理部３８および乾燥処理部４０が設けられている。仕上げ洗浄処理部３８は、プライミングローラ１４の頂部（最上部）から正の回転方向に沿って好ましくは回転角１８０°〜２７０°の区間内に、洗浄ノズル４２を配置している。この洗浄ノズル４２は、好ましくは長尺形の２流体ジェットノズルからなり、プライミングローラ１４の全長をカバーする長さでそれと平行に配置され、配管４４を介して洗浄液／ガス供給部４６に接続されている。配管４４の途中には開閉弁４５が設けられている。
【００３９】
乾燥処理部４０は、プライミングローラ１４の頂部（最上部）から正の回転方向に沿って好ましくは回転角２７０°〜３６０°の区間内に、液滴除去部４８と乾燥ブロー部５０とを設けている。
【００４０】
液滴除去部４８は、プライミングローラ１４の外周面から液滴を拭い取るための拭いパッド５２と、拭いパッド５２を回動可能に支持するパッド支持部５４と、プライミングローラ１４の外周面に接触する第１の位置（液滴除去位置）とプライミングローラ１４の外周面から離間した第２の位置（退避位置）との間で拭いパッド５２の位置を切り換える拭いパッド移動機構５６とを有している。
【００４１】
拭いパッド５２は、非多孔質の材質たとえば合成ゴムからなる長尺状の板体であり、プライミングローラ１４と同等の長さを有し、上記第１の位置（ぬぐい取り位置）ではその長手方向に延びる一辺のエッジ部がプライミングローラ１４の回転方向に倣う斜めの角度（接線となす角度が好ましくは４５°以下、最も好ましくは約３０°）でプライミングローラ１４の外周面に所望の圧力で接触するようになっている。
【００４２】
乾燥ブロー部５０は、正の回転方向に沿って液滴除去部４８よりも下流側に設定された一定の区間内にわたりプライミングローラ１４の周囲に形成された隙間５８と、プライミングローラ１４の回転方向に逆らう方向で該隙間５８の中を鋭利に吹き抜けるように乾燥ガスたとえばドライエアを噴出するガスノズル６０とを備えている。このガスノズル６０は、プライミングローラ１４と同等の長さを有するスリットノズルであり、隙間５８の下流側端部付近にてハウジング１０の上壁部に組み込まれている。ガスノズル６０は、配管６２を介して乾燥ガス供給部６４に接続されている。配管６２の途中には開閉弁６５が設けられている。
【００４３】
プライミングローラ１４から見て仕上げ洗浄処理部３８および乾燥処理部４０の背後に吸引口６６が設けられている。この吸引口６６は、バキューム通路６８およびミストトラップ７０を介してバキューム装置７２に通じている。バキューム装置７２は、たとえば真空ポンプあるいは吸気ファンで構成されている。ミストトラップ７０は、吸引口６６からバキューム通路６８を通って送られてくるミストをトラップする。ミストトラップ７０で回収された液（洗浄液）は、配管７４を介して洗浄液タンク３２へ送られるようになっている。
【００４４】
ハウジング１０の底には、プライミングローラ１４の真下の位置にドレイン口７６が形成されている。このドレイン口７６は排液管７８を介してドレインタンク８０に通じている。このドレインタンク８０に回収された洗浄液は、ポンプ８２によって随時または定期的に洗浄液タンク３２へ移されるようになっている。好ましくは、洗浄液と一緒に送られてきたレジストを分別する装置がドレインタンク８０の中またはその回りに装備されてよい。
【００４５】
洗浄液タンク３２には、上記のようにミストトラップ７０およびドレインタンク８０に回収された使用済みの洗浄液だけでなく、必要に応じて開閉弁８１を開けて新洗浄液供給源８４より未使用の新洗浄液（シンナー）も補充されるようになっている。ドレインタンク８０および洗浄液タンク３２内の液は、それぞれのドレイン口側の開閉弁８６，８８を開けると、廃液管９０，９２を介して廃液タンク（図示せず）へ送られるようになっている。
【００４６】
洗浄液タンク３２、ミストトラップ７０、ドレインタンク８０およびその回りのポンプ類、配管類によって、回収された使用済みの洗浄液を粗洗浄処理部１８に再利用させるための洗浄液再利用システム９４が構築されている。
【００４７】
主制御部９６は、所定のソフトウェアにしたがって動作するマイクロコンピュータを含み、このプライミング処理装置内のローラ回転機構１６、粗洗浄処理部１８、仕上げ洗浄処理部３８、乾燥処理部４０、バキューム装置７２、洗浄液再利用システム９４および開閉弁（３７，４５，６５等）の各動作を統括して制御する。
【００４８】
また、主制御部９６は、このプライミング処理装置内の全体のシーケンスを統括して制御するとともに、少なくともプライミング処理に関しては、当該レジスト塗布装置に備わっているレジスト塗布処理用のスリットノズル９８の一切の動作を制御するようになっている。
【００４９】
すなわち、当該レジスト塗布装置において、スリットノズル９８は、ノズル移動機構１００によって支持され、かつ予め設定されたスペース内で任意の位置に搬送され、任意の場所に位置決めされるようになっている。また、スリットノズル９８には、レジスト供給部１０２よりレジスト供給管１０４を介してレジスト液が供給される。レジスト供給管１０４には開閉弁１０６が設けられている。プライミング処理に関しては、主制御部９６が、ノズル移動機構１００、レジスト供給部１０２、開閉弁１０６を通じて、スリットノズル９８の移動や位置決め、およびレジスト液吐出動作を制御するようになっている。
［プライミング処理方法の第１の実施例］
【００５０】
次に、図２〜図４につき、このプライミング処理装置で実施可能なプライミング処理方法の第１の実施例を説明する。
【００５１】
このプライミング処理装置が組み込まれる当該レジスト塗布装置においては、塗布ステージ上で基板一枚分の塗布処理が終了する度毎に次の塗布処理の下準備としてこのプライミング処理装置で１回分のプライミング処理が行われる。
【００５２】
図２に、この実施例において１回のプライミング処理が行われるときの各段階を示す。
【００５３】
プライミング処理が行われる直前、プライミングローラ１４の外周面は全周にわたり清浄な状態になっている。この状態の下で、先ず、図１に示すように、スリットノズル９８の吐出口がプライミングローラ１４の頂部と所定のギャップ（たとえば数１００μｍ）を隔てて平行に対向するように、ノズル移動機構１００を通じてスリットノズル９８を位置決めする。
【００５４】
次に、図２のＳ1（吐出）に示すように、プライミングローラ１４を静止させたままで、レジスト供給部１０２を通じてスリットノズル９８に一定量のレジスト液Ｒを吐出させる。
【００５５】
このレジスト液吐出の動作は、一定時間内に行われる。スリットノズル９８の吐出口より吐出されたレジスト液Ｒは、プライミングローラ１４の頂部付近に着液してから周回方向で周囲に広がる。
【００５６】
次いで、ローラ回転機構１６により所定のタイミングでプライミングローラ１４に回転動作を開始させ、図２のＳ2（巻き取り）に示すように、レジスト液Ｒをスリットノズル９８の背面下部９８ａに回り込ませるようにして、プライミングローラ１４の外周面上にレジスト液Ｒを巻き取る。ここで、レジスト液Ｒを巻き取るときの回転速度は、レジスト液Ｒの液膜を早急に断ち切ってしまわないような比較的低い速度が好ましい。
【００５７】
次いで、所定のタイミングでプライミングローラ１４の回転速度を一気に上げる。これによって、図２のＳ3（切り離し）に示すように、レジスト液Ｒの液膜が切り離されて、スリットノズル９８側とプライミングローラ１４側とに分かれる。この際、スリットノズル９８を上昇させると、レジスト液膜の分離を所定の部位でより円滑かつ確実に行うことができる。こうして、スリットノズル９８には、ノズル吐出口から背面下端部９８ａにかけてレジスト液の液膜ＲＦが残る。一方、プライミングローラ１４の外周面上には、上記のようにして巻き取られたレジスト液の液膜ＲＭが残る。このレジスト液膜ＲＭの周回方向巻き取りサイズは、回転角度の大きさでたとえば７０°〜７５°に設定することができる。
【００５８】
この実施例では、レジスト液膜ＲＭを切り離した直後に、プライミングローラ１４をいったん停止させ、粗洗浄処理部１８の洗浄パッド２０をそれまでの退避位置（第２の位置）から接触洗浄位置（第１の位置）へ往動させてプライミングローラ１４の外周面に所望の圧力で接触させる。これと略同時に、洗浄液補充ノズル２８より接触洗浄位置付近に向けて洗浄液を吐出させてよい。レジスト液膜ＲＭは、接触洗浄位置に差し掛かる直前の位置（ローラ周回方向の少し上流側の位置）で停止しているのが望ましい。
【００５９】
次いで、プライミングローラ１４の回転を再開させて、図２のＳ4（粗洗浄）に示すように、プライミングローラ１４の外周面上に巻き取られているレジスト液膜ＲＭを接触洗浄位置へ送り込む。洗浄パッド２０は、接触洗浄位置を通過するレジスト液膜ＲＭを適度な加圧の面接触で擦り取る。擦り取られたレジスト液膜ＲＭの一部はプライミングローラ１４の外周面から落ちてドレイン口７６側に送られ、他の一部は洗浄パッド（多孔質樹脂）２０の中へ吸い取られる。もっとも、レジスト液膜ＲＭの中には、擦り取られずにプライミングローラ１４の外周面上に残存するもの（ＲＭ'）もあり、この残存液膜ＲＭ'はプライミングローラ１４の回転に伴って周回方向の下流側へ向かって移動する。
【００６０】
このように、プライミング処理でプライミングローラの頂部付近で巻き取られたレジスト液の液膜が半回転するまでの間に上記のような粗洗浄処理を受けることによって、プライミングローラ上で塗布液の液膜が不所望に広がるのを防止することができる。
【００６１】
この実施例では、図３に示すように、残存液膜ＲＭ'が接触洗浄位置から抜け出た直後にプライミングローラ１４を一時停止させ、粗洗浄処理部１８において洗浄パッド移動機構２４が洗浄パッド２０を更に往動駆動してプライミングローラの外周面に一段と大きな押圧力で押し付けて、洗浄パッド２０を押し潰し、洗浄パッド２０がそれまで吸い取ったレジスト液Ｒを外に吐き出させる。この時、洗浄液補充ノズル２８より洗浄液を洗浄パッド２０に供給してもよい。
【００６２】
その後、洗浄パッド移動機構２４が洗浄パッド２０を復動させて、押圧力を解除し、さらに洗浄パッド２０をプライミングローラ１４から離して退避位置（第２の位置）へ戻す。これと略同時に、ローラ回転機構１６がプライミングローラ１４の回転を再開させる。
【００６３】
プライミングローラ１４の回転によって、上記残存液膜ＲＭ'が仕上げ洗浄処理部３８に差し掛かると、２流体ジェットノズル４２が作動して未使用の新洗浄液（シンナー）に圧縮ガス（エアまたは窒素）を混合した２流体のジェット流を残存液膜ＲＭ'に噴き付ける。主制御部９６は、プライミングローラ１４の外周面上で残存液膜ＲＭ'が付着している領域（つまり今回のプライミング処理でレジスト液膜ＲＭの巻き取りに充てられた領域）を管理しており、その領域の現時の位置（周回方向の位置）もローラ回転機構１６を通じて把握できる。したがって、残存液膜ＲＭ'が付着している領域が仕上げ洗浄処理部３８付近の所定の区間を通過する間だけ２流体ジェットノズル４２に２流体ジェット流を噴射させ、当該領域の通過後に２流体ジェット流の噴射を停止させることができる。なお、仕上げ洗浄処理部３８と略同時にバキューム装置７２がオンになる。
【００６４】
もっとも、上記のように粗洗浄処理部１８において粗洗浄処理の直後に洗浄パッド２０のクリーニング（液の吐き出し）を行う場合は、そのパッドクリーニングに使用されたプライミングローラ１４の外周面の領域（残存液膜ＲＭ'の後に続く領域）が幾らか汚れるので、その汚れた領域も仕上げ洗浄処理部３８が２流体ジェット流できれいにしておくのが好ましい。また、洗浄パッド２０のクリーニング（液の吐き出し）は、プライミング処理の度に毎回ではなく、定期的に行ってもよい。
【００６５】
こうして、２流体ジェットノズル４２より噴射される２流体ジェット流の強い衝撃力により、図２のＳ5（仕上げ洗浄）に示すように、プライミングローラ１４の外周面上に付着していた残存液膜ＲＭ'は容易かつ十全に洗い落とされ、その多くは洗浄液に混じってドレイン口７６へ流れ落ち、残りはミストに変じて付近に飛散する。飛散したミストは、吸気口６６の方へ引き込まれ、そこからバキューム通路６８に排出される。なお、仕上げ洗浄処理部３８と吸気口６６との間に存在する部材、すなわち拭いパッド５２、パッド支持部５４およびブランケット５５等にはミストを通す流通孔（図示せず）が設けられてよい。
【００６６】
仕上げ洗浄処理部３８が上記のような仕上げ洗浄の動作を開始した直後に、乾燥処理部４０も乾燥処理動作を開始する。すなわち、図２のＳ6（液滴除去／乾燥ブロー）に示すように、液滴除去部４８が拭いパッド５２を回動させてそれまでの退避位置（第２の位置）から液滴除去位置（第１の位置）へ切り換える。また、乾燥ブロー部５０はガスノズル６０にドライエアを噴射させる。
【００６７】
これにより、仕上げ洗浄によってプライミングローラ１４の外周面上に付着した洗浄液の多くは、乾燥処理部４０において最初に通過する液滴除去部４８の拭いパッド５２で拭い取られる。図４に示すように、拭い取られた洗浄液の液滴ｑａのうち、一部は拭いパッド５２およびパッド支持部５４の下面を伝ってドレイン口７６側へ落下し、残りはミストと一緒に吸引口６６へ引き込まれる。
【００６８】
拭いパッド５２の拭い取りによっても除去できなかったプライミングローラ１４上の薄い液膜は、図４に示すように、拭いパッド５２を通り抜けた直後に乾燥ブロー部５０において隙間５８の中を回転方向と逆向きに鋭利に吹き抜けるガスノズル６０からのドライエアのブローによって均一かつ効率よく飛散ないし揮発させられ、ミストｍａとなって吸引口６６へ引き込まれる。
【００６９】
なお、乾燥ブロー部５０によるドライエアのブローが無くても、バキューム装置７２がオンしている限りは、プライミングローラ１４上の液膜は隙間５８の中で逆風を受け、揮発を促進させられる。しかし、プライミングローラ１４と平行な長手方向において隙間５８のギャップサイズに僅かでもばらつきがあると、液膜の揮発性に強弱分布が生じて、乾燥処理時間が揮発の弱い場所の所要乾燥時間によって律速され、長引いてしまうという問題がある。
【００７０】
この実施例においては、隙間５８のギャップサイズにばらつきが在っても、乾燥ブロー部５０によるドライエアのブローによりギャップサイズのばらつきの影響を補償して隙間５８内の揮発レートを均一化することが可能であり、ひいては乾燥処理時間の短縮化を促進できる。
【００７１】
液滴除去部４８においては、プライミングローラ１４の外周面上の仕上げ洗浄処理を施された領域が通り過ぎた直後に、拭いパッド５２をプライミングローラ１４から離して退避位置（第２の位置）へ戻しておく。
【００７２】
一方、乾燥ブロー部５０の方は、図２のＳ7（乾燥ブロー）に示すように、そのままドライエアの噴射を継続し、所定時間（たとえば１０秒程度）の経過後にドライエアの噴射を停止する。また、乾燥ブロー部５０がオフした直後あるいはそれから所定時間の経過後にバキューム装置７２をオフにする。
【００７３】
上記した一連の動作は、プライミング処理直後の後処理として、プライミングローラ１４を１回転させる間に、粗洗浄処理部１８による粗洗浄と、仕上げ洗浄処理部３８による仕上げ洗浄と、乾燥処理部４０の液滴除去部４８による液滴除去処理とをそれぞれ１回実施する最短のサイクルであり、通常はこれでプライミングローラ１４の外周面を十全にクリーニングすることができる。もっとも、上記プライミングローラ１回転のクリーニングサイクルを複数回繰り返すことも可能である。
【００７４】
上記したように、この実施例においては、プライミング処理直後の後処理として、最初に粗洗浄処理部１８が多孔質樹脂の洗浄パッド２０を回転するプライミングローラ１４の外周面に押し付けて、そこに付着しているレジスト液の液膜ＲＭを洗浄パッド２０との弾力的な面接触の擦れ合いによって均一かつ効率よく洗い落とすようにしている。そして、粗洗浄処理の直後に、仕上げ洗浄処理部３８が、プライミングローラ１４上に残っている薄い残存液膜ＲＭ'を２流体ジェット流の仕上げ洗浄によって容易かつ十全に洗い落とすようにしている。
【００７５】
このような２段階（粗洗浄／仕上げ洗浄）の洗浄処理方式によれば、粗洗浄処理部１８の働きによって仕上げ洗浄処理部３８の負担が大きく軽減されるだけでなく、粗洗浄処理部１８で使用する洗浄液は再利用のもので済むため、トータルの洗浄液使用量を従来よりも大幅に低減することができる。
【００７６】
また、粗洗浄処理部１８においては、洗浄パッド２０が多孔質樹脂からなり、面接触の擦り合いの際に吸い取ったレジスト液を図３に示すような押し潰しによって速やかに外へ吐き出せるので、レジストの汚れを溜めずに済み、粗洗浄処理の性能を安定に維持することができる。
【００７７】
さらに、洗浄パッド２０は、粗洗浄処理を行う時だけ第１の位置（接触洗浄位置）でプライミングローラ１４の外周面に接触し、原則としてそれ以外の時はプライミングローラ１４から離れて退避する。これによって、プライミングローラ１４の外周面のうちプライミング処理に充てられていない清浄な領域が洗浄パッド２０との接触によってレジストの汚れを受け取るような事態（それによって仕上げ洗浄および乾燥処理の負担ないし処理時間が増大する）を回避できるとともに、洗浄パッド２０の消耗劣化を少なくし、長寿命化を図ることができる。
【００７８】
また、この実施例においては、洗浄処理によってプライミングローラ１４の外周面に付着した洗浄液を除去して乾燥させるために、乾燥処理部４０の液滴除去部４８がプライミングローラ１４の外周面に非多孔質の拭いパッド５２を接触させて液滴を拭い取ってから、乾燥処理部４０の乾燥ブロー部５０がガスノズル６０にローラ回転方向とは逆向きにドライエアを噴射させ、隙間５８の中およびその出口付近で逆向きの鋭利なドライエアのブローをプライミングローラ１４の外周面に当てるようにしている。
【００７９】
このような２段階（拭い取り／エアブロー）の乾燥処理方式によれば、液滴除去部４８の働きによって乾燥ブロー部５０の負担が大きく軽減されるだけでなく、乾燥ブロー部５０自体の乾燥処理効率が高いので、トータルの乾燥処理時間を従来よりも大幅に低減することができる。
【００８０】
また、液滴除去部４８の拭いパッド５２は仕上げ洗浄後の液滴を拭い取る時だけ第１の位置（液滴除去位置）でプライミングローラ１４の外周面に接触し、原則としてそれ以外の時はプライミングローラ１４から離れて退避する。これによって、プライミングローラ１４の外周面上の乾いている領域に拭いパッド５２を通じて液滴が不所望に及ぶ事態（それによって乾燥ブローの負担ないし処理時間が増大する）を回避できるだけでなく、拭いパッド２０の汚れおよび消耗劣化を少なくして長寿命化を図ることができる。
［プライミング処理方法の第２の実施例］
【００８１】
次に、図５および図６につき、このプライミング処理装置で実施可能なプライミング処理方法の第２の実施例を説明する。
【００８２】
この第２の実施例でも、プライミング処理装置が組み込まれる当該レジスト塗布装置においては、塗布ステージ上で基板一枚分の塗布処理が終了する度毎に次の塗布処理の下準備としてこのプライミング処理装置で１回分のプライミング処理が行われる。
【００８３】
図５に、第２の実施例においてプライミングローラ１４の外周面が全周にわたり清浄な状態にリセットされてから１回目および２回目のプライミング処理が行われるときの各段階を示す。
【００８４】
１回目のプライミング処理では、先ず、図１に示すように、スリットノズル９８の吐出口がプライミングローラ１４の頂部と所定のギャップ（たとえば数１００μｍ）を隔てて平行に対向するように、ノズル移動機構１００を通じてスリットノズル９８を位置決めする。
【００８５】
次に、図５のＳ1-1（吐出）に示すように、プライミングローラ１４を静止させたままで、レジスト供給部１０２を通じてスリットノズル９８に一定量のレジスト液Ｒを吐出させる。
【００８６】
このレジスト液吐出の動作は、一定時間内に行われる。スリットノズル９８の吐出口より吐出されたレジスト液Ｒは、プライミングローラ１４の頂部付近に着液してから周回方向で周囲に広がる。
【００８７】
次いで、ローラ回転機構１６により所定のタイミングでプライミングローラ１４に回転動作を開始させ、図２のＳ1-2（巻き取り）に示すように、レジスト液Ｒをスリットノズル９８の背面下部９８ａに回り込ませるようにして、プライミングローラ１４の外周面上にレジスト液Ｒを巻き取る。ここで、レジスト液Ｒを巻き取るときの回転速度は、レジスト液Ｒの液膜を早急に断ち切ってしまわないような比較的低い速度が好ましい。
【００８８】
次いで、所定のタイミングでプライミングローラ１４の回転速度を一気に上げる。これによって、図２のＳ1-3（切り離し）に示すように、レジスト液Ｒの液膜が切り離されて、スリットノズル９８側とプライミングローラ１４側とに分かれる。この際、スリットノズル９８を上昇させると、レジスト液膜の分離を所定の部位でより円滑かつ確実に行うことができる。こうして、スリットノズル９８には、ノズル吐出口から背面下端部９８ａにかけてレジスト液の液膜ＲＦが残る。一方、プライミングローラ１４の外周面上には、上記のようにして巻き取られたレジスト液の液膜ＲＭ1が残る。このレジスト液膜ＲＭ1の周回方向巻き取りサイズは、回転角度範囲でたとえば７０°〜７５°のサイズに設定することができる。
【００８９】
この実施例では、レジスト液膜ＲＭ1を切り離した後も、図５のＳ1-4（自然乾燥）に示すようにプライミングローラ１４の回転をそのまま継続させる。この際、プライミングローラ１４の回転速度は、レジスト液膜を切り離した直後の速度をそのまま維持してもよく、あるいは異なる速度に切り換えてもよい。なお、この自然乾燥（Ｓ1-4）の間も、バキューム装置７２はオフにしておく。また、粗洗浄処理部１８、仕上げ洗浄処理部３８、乾燥処理部４０（液滴除去部４８、乾燥ブロー部５０）もそれまでの全工程Ｓ1-1〜Ｓ1-4を通じて全てオフにしておく。
【００９０】
この実施例では、このようにプライミングローラ１４上に巻き取られたレジスト液膜ＲＭ1を切り取った後もプライミングローラ１４の回転をそのまま継続させる動作によって、注目すべき２つの効果が奏される。
【００９１】
第１の効果は、プライミングローラ１４上に巻き取られたレジスト液膜ＲＭ1の液垂れを防止できることである。すなわち、巻き取り（Ｓ1-22）および切り離し（Ｓ1-3）の動作中に、プライミングローラ１４上のレジスト液膜ＲＭ1は、プライミングローラ１４の頂部から底部に向って周回方向に移動する。
【００９２】
仮に、ここでプライミングローラ１４の回転を止めたならば、レジスト液膜ＲＭ1には重力によって周回方向下向きの力が持続的に働いて、プライミングローラ１４の外周面上でレジスト液膜ＲＭ1が下に垂れる（広がる）。スリットノズルを使用するスピンレス塗布法では、通常２０ｃｐ以下の低粘度レジスト液が使用されるため、プライミングローラ上で上記のようなレジスト液膜の液垂れが生じやすい。
【００９３】
しかるに、この実施例では、プライミングローラ１４の回転を止めずにそのまま継続させることによって、レジスト液膜ＲＭ1に働く重力の作用（液垂れを誘引する力）を実質的にキャンセルし、プライミングローラ１４上に巻き取ったレジスト液膜ＲＭ1を液垂れで広げることなく表面張力で所定の領域（分割領域）内に止めておくことができる。
【００９４】
第２の効果として、排気機構つまりバキューム装置７２をオフしたまま、プライミングローラ１４の回転を継続させることにより、プライミングローラ１４上に巻き取られたレジスト液膜ＲＭ1を短時間で効率よく自然乾燥させることができる。
【００９５】
すなわち、バキューム装置７２をオンにしてプライミングローラ１４を回転させると、乾燥ブロー部５０のガスノズル６０を止めていてもプライミングローラ１４上のレジスト液膜ＲＭ1が隙間５８の中で逆風による大きなストレスを受けて、膜厚均一性を低下させやすい。特に、隙間５８のギャップサイズのばらつきに起因してレジスト液膜ＲＭ1に加わる逆風の圧力に軸方向でばらつきがあると、レジスト液膜ＲＭ1の表面に周回方向に延びる筋状の凹凸が付きやすい。バキューム装置７２を止めておけば、プライミングローラ１４の回転中にその外周面上のレジスト液膜ＲＭ1は隙間５８を通過する時でも逆風の圧力を受けることはなく、大気中に静止状態で放置されていた場合と同等の自然乾燥を受ける。
【００９６】
こうして、プライミングローラ１４上のレジスト液膜ＲＭ1は、自然乾燥によって、膜の内部は液状のままで膜の表層部が乾燥固化した半乾きまたは生乾きの状態になる。このような半乾きの状態に至ると、プライミングローラ１４の回転を止めても、レジスト液膜ＲＭ1の液垂れは生じない。
【００９７】
この実施形態では、自然乾燥工程後の半乾き状態になったレジスト液膜ＲＭi（ｉ＝１，２，３・・）を、自然乾燥工程前の完全な液状態の液膜と区別するために、レジスト乾燥膜［ＲＭi］と称する。
【００９８】
上記のようなプライミングローラ１４の回転によるレジスト液膜ＲＭ1の自然乾燥（Ｓ1-4）は、一定の時間をかけて行われる。この間に、スリットノズル９８は、ノズル移動機構１００によって塗布ステージへ送られ、そこで基板一枚分のレジスト塗布処理に供される。そして、レジスト塗布処理を終えると、スリットノズル９８は、再びこのプライミング処理装置へ戻ってきて、図１に示すように、その吐出口がプライミングローラ１４の頂部に対して所定のギャップを隔てて平行に対向するように位置決めされる。
【００９９】
２回目のプライミング処理では、図５のＳ2-1（吐出）に示すように、前回（１回目）のプライミング処理でプライミングローラ１４に巻き取られている第１のレジスト乾燥膜［ＲＭ1］を外してプライミングローラ１４の頂部をスリットノズル９８の吐出口に対向させた状態で、スリットノズル９８に一定量のレジスト液Ｒを吐出させる。
【０１００】
次いで、１回目のプライミング処理のときと同じ動作およびタイミングでレジスト液Ｒの巻き取り（Ｓ2-2）、切り離し（Ｓ2-3）、自然乾燥（Ｓ2-4）の工程が順次行われる。
【０１０１】
この場合も、１回目のプライミング処理のときと同様に、巻き取り（Ｓ2-2）および切り離し（Ｓ2-3）の工程により、プライミングローラ１４の外周面上に所定の周回方向サイズ（回転角度範囲で７０°〜７５°）でレジスト液Ｒが巻き取られてレジスト液膜ＲＭ2が形成される。そして、プライミングローラ１４の回転をそのまま継続して切り離し（Ｓ2-3）から自然乾燥（Ｓ2-4）の動作に移行し、液垂れを起こさずに所定の領域内でレジスト液膜ＲＭ2を自然乾燥させる。こうして、プライミングローラ１４の外周面上には、第１レジスト乾燥膜［ＲＭ1］とは異なる領域に、通常は回転方向において下流側の隣に設定された分割領域内に、今回（２回目）のプライミング処理に付随した残存物として第２レジスト乾燥膜［ＲＭ2］が所定の周回方向サイズ（７０°〜７５°）で形成される。
【０１０２】
３回目のプライミング処理も、図示省略するが、上述した１回目および２回目のプライミング処理と同じ手順および動作で行われる。結果として、第１および第２のレジスト乾燥膜［ＲＭ1］，［ＲＭ2］とは異なる領域に、通常は回転方向において第２レジスト乾燥膜［ＲＭ2］の下流側の隣に設定された分割領域内に、３回目のプライミング処理に付随した残存物として第３レジスト乾燥膜［ＲＭ3］が所定の周回方向サイズ（７０°〜７５°）で形成される。
【０１０３】
なお、３回目のプライミング処理が終了した時点で、第３レジスト乾燥膜［ＲＭ3］は上述したように自然乾燥により半乾き状態になっているが、第１および第２レジスト乾燥膜［ＲＭ1］，［ＲＭ2］も依然として半乾き状態を保っている。すなわち、第１および第２レジスト乾燥膜［ＲＭ1］，［ＲＭ2］は、プライミングローラ１４上で強制乾燥処理や加熱処理を一切受けていないので、自然乾燥の時間が数倍長くてもまだ半乾き状態のままでいる。
【０１０４】
この第２の実施例では、プライミングローラ１４の外周面が全周にわたり清浄な状態にリセットされてから連続して所定回数たとえば４回のプライミング処理を行った直後に、プライミングローラ１４の一括洗浄（外周面全周の清浄化）を行うようにしている。
【０１０５】
図６に、プライミングローラ１４の一周内で最後（４回目）のプライミング処理および直後の一括洗浄／乾燥処理が行われるときの各段階を示す。
【０１０６】
最後（４回目）のプライミング処理でも、図６に示すように、レジスト液Ｒの吐出（Ｓ4-1）、巻き取り（Ｓ4-2）および切り離し（Ｓ4-3）の各工程は１回目〜３回目の各プライミング処理のときと同じであり、プライミングローラ１４の外周面上には回転方向において第３レジスト乾燥膜［ＲＭ3］の下流側隣の分割領域内にレジスト液膜ＲＭ4が巻き取られる。
【０１０７】
しかし、切り離し（Ｓ4-3）の直後に、自然乾燥の工程をスキップして、粗洗浄（Ｓ4-5）の工程に移行する。この粗洗浄（Ｓ4-5）の工程では、上述した第１の実施例と同様に洗浄パッド２０の位置をそれまでの退避位置（第２の位置）から切り換える。
【０１０８】
そして、洗浄パッド２０を接触洗浄位置（第１の位置）に保持したまま、プライミングローラ１４を回転させる。１回転の間に、プライミングローラ１４上に付着しているレジスト乾燥膜［ＲＭ1］，［ＲＭ2］，［ＲＭ3］およびレジスト液膜ＲＭ4は、ＲＭ4→［ＲＭ3］→［ＲＭ2］→［ＲＭ1］の順序で接触洗浄位置（第１の位置）へ送り込まれる。洗浄パッド２０は、接触洗浄位置を通過するレジスト液膜ＲＭおよびレジスト乾燥膜［ＲＭ3］，［ＲＭ2］，［ＲＭ1］を適度な加圧下の弾力的な面接触で擦り取る。
【０１０９】
ここで、プライミングローラ１４の外周面上に付着したばかりのレジスト液膜ＲＭ4はもちろん半乾き状態のレジスト乾燥膜［ＲＭ3］，［ＲＭ2］，［ＲＭ1］も容易に擦り取られる。擦り取られたレジスト液膜ＲＭ4またはレジスト乾燥膜［ＲＭ3］，［ＲＭ2］，［ＲＭ1］の一部はプライミングローラ１４の外周面から落ちてドレイン口７６側に送られ、他の一部は洗浄パッド（多孔質樹脂）２０の中へ吸い取られる。
【０１１０】
また、レジスト液膜ＲＭ4またはレジスト乾燥膜［ＲＭ3］，［ＲＭ2］，［ＲＭ1］の中には、擦り取られずにプライミングローラ１４の外周面上に残存するもの（ＲＭ'）もある。それらの残存液膜ＲＭ4'，ＲＭ3'， ＲＭ2'，ＲＭ1'はプライミングローラ１４の回転に伴って周回方向の下流側へ向かって移動する。粗洗浄処理部１８においては、最後のレジスト乾燥膜［ＲＭ1］に対する粗洗浄を終えてから、洗浄パッド２０を退避位置へ戻してよい。
【０１１１】
プライミングローラ１４の回転によって、各残存液膜ＲＭi'が仕上げ洗浄処理部３８に差し掛かると、図６のＳ4-6（粗洗浄／仕上げ洗浄）に示すように、２流体ジェットノズル４２が２流体ジェット流を残存液膜ＲＭ'に噴き付ける。主制御部９６の制御の下で、２流体ジェット流をプライミングローラ１４の外周面上で各残存液膜ＲＭ'が付着している領域に限定して噴き付けることも可能であるが、最初の残存液膜ＲＭ4'が差し掛かった時から最後の残存液膜ＲＭ1'が通り過ぎるまで２流体ジェット流を中断なく持続させてもよい。なお、仕上げ洗浄処理部３８で２流体ジェット流の噴射を開始するのと略同時にバキューム装置７２をオンにする。
【０１１２】
こうして、２流体ジェットノズル４２より噴射される２流体ジェット流の強い衝撃力により、プライミングローラ１４の外周面上に付着していた残存液膜ＲＭ'は容易かつ十全に洗い落とされ、その多くは洗浄液に混じってドレイン口７６へ流れ落ち、残りはミストに変じて付近に飛散する。飛散したミストは、吸気口６６の方へ引き込まれ、そこからバキューム通路６８に排出される。
【０１１３】
仕上げ洗浄処理部３８が上記のような仕上げ洗浄の動作を開始した直後に、乾燥処理部４０も乾燥処理動作を開始する。図６のＳ4-7（仕上げ洗浄／液滴除去／乾燥ブロー）に示すように、仕上げ洗浄によってプライミングローラ１４の外周面上に付着した洗浄液の液滴は、直後に乾燥処理部４０においてその大部分が液滴除去部４８の拭いパッド５２で拭い取られ、拭いパッド５２を通り抜けた直後に隙間５８の中を逆向きに鋭利に吹き抜けるドライエアのブローによって均一かつ効率よく揮発させられ、ミストｍａとなって吸引口６６から排出される。
【０１１４】
液滴除去部４８においては、最初の残存液が差し掛かった時から少なくとも１回転の間は拭いパッド５２を液滴除去位置（第１の位置）でプライミングローラ１４の外周面に接触させたままにしておくのが望ましい。
【０１１５】
この第２の実施例においても、上述した第１の実施例と同様に、液滴除去部４８が拭いパッド５２を退避させた後も、図６のＳ4-8（乾燥ブロー）に示すように、乾燥ブロー部５０の方はそのまましばらくドライエアの噴射を継続し、所定時間の経過後にドライエアの噴射を停止してよい。また、乾燥ブロー部５０をオフにした直後あるいはそれから所定時間の経過後にバキューム装置７２をオフにする。
【０１１６】
このように、この第２の実施例によれば、プライミングローラ１４の外周面をその周回方向に複数（たとえば４つ）に分割して各分割領域を連続する所定回数（４回）のプライミング処理に割り当てて使用し、最後（４回目）のプライミング処理を除く各プライミング処理においては、レジスト液の液膜ＲＭiを巻き取った後もプライミングローラ１４の回転をそのまま継続させる動作によって、レジスト液膜ＲＭiの液垂れを防止してレジスト液膜ＲＭiを各分割（割当）領域内に保持できるとともに、レジスト液膜ＲＭiを短時間で効率よく自然乾燥させて半乾き状態のレジスト乾燥膜［ＲＭi］とすることができる。
【０１１７】
このように、プライミングローラ１４上で、レジスト液膜ＲＭiの液垂れを防止できるので、隣の未使用分割領域を汚すおそれはなく、したがって後続のプライミング処理が前のプライミング処理によって影響を受けることはなく、プライミング処理の再現性および信頼性を向上させることができる。
【０１１８】
また、プライミングローラ１４上に付着した各レジスト液膜ＲＭiは自然乾燥による半乾き状態のレジスト乾燥膜［ＲＭi］として、あるいは完全な液状の状態で洗浄されるので、洗い落としが容易であり、洗浄機構（粗洗浄処理部１８、仕上げ洗浄処理部３８）の負担を軽減し、洗浄液の使用量を少なくすることができる。
【０１１９】
さらに、複数回のプライミング処理によってプライミングローラ１４の外周面上に所望の間隔を空けて形成されたレジスト乾燥膜または液膜を一括洗浄処理および一括乾燥処理によって一度に除去するクリーニング法であるから、上述した第１の実施例と比較しても洗浄液の使用量を一層削減することができる。
【０１２０】
なお、図示の例では、プライミングローラ１４の外周面を４分割し、１回のプライミング処理における周回方向のレジスト液巻き取りサイズを７０°〜７５°とした。しかし、任意の分割数および巻き取りサイズが可能であり、たとえば１回当たりの周回方向巻き取りサイズを７０°以下で済まし、プライミングローラ１４の外周面を５分割して５回連続使用することも可能である。また、プライミングローラ１４の外周面上に一周に亘って設定される複数の分割領域の間でプライミング処理に使用される順序は任意（順不同）であり、配列順序に一致させなくてもよい。
［他の実施例］
【０１２１】
粗洗浄処理部１６で使用する再利用の洗浄液は、ドレインタンク８０やミストトラップ７０で回収する方法の他に、図７に示すような方法も可能である。すなわち、仕上げ洗浄処理部３８による仕上げ洗浄（新液洗浄）に用いた洗浄液（シンナー）をドレインに流す代わりに、洗浄ノズル４２の下方に設置したトレイ１１０に集めて回収し、トレイ１１０から粗洗浄処理部１６へ転送するように構成することができる。この場合、粗洗浄処理部１８の洗浄パッド２０およびパッド保持部２２をトレイ１１０よりも低い位置に設置することで、ポンプを使わずに重力を利用して再利用洗浄液の転送を自動的に行うことができる。
【０１２２】
プライミング処理装置内の他の処理部の構成または機能も上述した実施形態のものに限定されない。たとえば、粗洗浄処理部１８においてパッド保持部２２、パッド移動機構２４、運動変換機構２６の構成または機能も種種の変形が可能である。仕上げ乾燥処理部３８においては２流体ジェットノズル以外の洗浄ツールも使用可能である。
【０１２３】
本発明における塗布液としては、レジスト液以外にも、たとえば層間絶縁材料、誘電体材料、配線材料等の塗布液も可能であり、各種薬液、現像液やリンス液等も可能である。本発明における被処理基板はＬＣＤ基板に限らず、他のフラットパネルディスプレイ用基板、半導体ウエハ、ＣＤ基板、フォトマスク、プリント基板等も可能である。
【符号の説明】
【０１２４】
１０   プライミング処理装置
１２   開口部
１４   プライミングローラ
１６   ローラ回転機構
１８   粗洗浄処理部
２０   洗浄パッド
２８   洗浄液補充ノズル
３８   仕上げ洗浄処理部
４０   乾燥処理部
４２   ２流体ジェットノズル
５２   拭いパッド
５８   隙間
６０   ガスノズル
７２   バキューム装置
９８   主制御部
１００   ノズル移動機構
１０２   レジスト供給部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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