(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
１質量％未満の含水量を有し、原材料を除去加工するための、減少された水吸収を有する研磨材用の加工液を製造するために、式Ｉ
Ｒ1［Ｏ（ＥＯ）x（ＡＯ）yＨ］z
〔式中、
Ｒ1は、ペンチルを表し、
（ＥＯ）は、エチレンオキシ基を表し、
（ＡＯ）は、炭素原子３〜１０個を有するアルキレンオキシ基を表し、
ｘは、３〜１２の数を表し、
ｙは、０〜１０の数を表し、
ｚは、１〜６の数を表す〕で示される化合物を使用する方法。
【請求項２】
ウェハが半導体である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記加工液が、スラリ中で切削粒と共に使用され、その際に切削粒として金属粒、炭化物粒、窒化物粒、金属酸化物粒、ホウ化物粒又はダイヤモンド粒が使用される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記加工液が、前記原材料の除去加工中又は除去加工後に、得られた摩耗物の分離のために後処理される、請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
１質量％未満の含水量を有する、式Ｉ
Ｒ1［Ｏ（ＥＯ）x（ＡＯ）yＨ］z
〔式中、
Ｒ1は、ペンチルであり、
（ＥＯ）は、エチレンオキシ基であり、
（ＡＯ）は、炭素原子３〜１０個を有するアルキレンオキシ基であり、
ｘは、３〜１２の数であり、
ｙは、０．５〜１０の数であり、
ｚは、１〜６の数である〕で示される少なくとも１種の化合物を含有する、加工液。
【請求項６】
２５℃でV2A鋼上の前記加工液の接触角が２５〜５０°である、請求項５記載の加工液。
【請求項７】
ソーを用いて切削粒を使用して被削材から原材料を除去加工するための、請求項５又は６に記載の加工液を使用する方法。
【請求項８】
原材料をポリシングするための、請求項５又は６に記載の加工液を使用する方法。
【請求項９】
切削液と切削粒とを有するスラリを使用してソーを用いて物からウェハを切削する方法であって、前記切削液が、請求項５又は６に記載の切削液であり、前記切削液を、原材料の除去加工中又は除去加工後に、得られた摩耗物を分離するために場合により後処理することを特徴とする、ウェハを切削する方法。
【請求項１０】
加工液と研磨物質とのスラリを使用して、原材料をポリシングする方法であって、加工液として、請求項５又は６に記載の加工液を使用することを特徴とする、原材料をポリシングする方法。
【請求項１１】
請求項９又は１０に記載の方法により得られる、ウェハ。
【請求項１２】
式ＩＩ
Ｒ1Ｏ（ＥＯ）x（ＡＯ）yＨ
〔式中、
Ｒ1は、２−メチルブチル又は３−メチルブチルを表し、かつ
（ＥＯ）、（ＡＯ）、ｘ及びｙは、請求項１に記載された意味を有する〕
で示される化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、研磨材(Abrasiva)用の加工液(Traegerfluessigkeiten)を製造するための変性ポリグリコールの使用、研磨材用の新規加工液、特に切削液（cutting fluids）、原材料を除去加工する際の、特にウェハを切削する際の前記加工液の使用並びに前記切削液の助けをかりて製造されるウェハに関する。
【０００２】
研磨材は、研削剤又は研磨物質とも呼ばれ、原材料の除去加工に利用される物質、好ましくは硬質材料粒である。研磨材を液体中の分散体、例えば研削液又は切削液として使用することは知られている。研磨材はこのようにして、例えばシリコン製の、ウェハのポリシングに、しかしまた例えばレンズ用の、プラスチックのポリシングに使用することができる。更に、研磨材を切削液中でウェハを切削するのに使用することは知られている。ウェハは、半導体からなる薄い円板であり、例えば光起電力装置において使用される。ウェハからは、電子部品、とりわけ集積回路を製造することができる。前記ウェハは通例、脆い材料から、例えばシリコンから、しかしまたヒ化ガリウム又はテルル化カドミウム等からなる。ウェハ製造のためのもとは通例、円柱形の又は立方形の単結晶又は多結晶であり、これらは個々の円板、すなわちウェハへソーイングされる。ソーイング（切削又はラッピングとも呼ばれる）は実地においてワイヤソーイングにより行われる。これは、カッタとして細いワイヤを使用しながら、かつ加工液中の遊離切削粒を使用しながら切り離す方法である。前記ワイヤは通例８０〜１８０μｍの直径を有する。このワイヤを加工液及び切削粒からなるスラリ中へ浸漬し、ワイヤ表面上に付着している切削粒がソーの隙間に入ってくる。前記切削粒により、ソーイング／ラッピングすべき物／シリコンブロック―インゴットと呼ばれる―はウェハへ切断され、その際に粒子は切削すべき固体から除去される。前記切削粒のための加工液は、前記ワイヤが走る浸漬浴を経て、並びに通例、ノズルを経て前記切削粒と一緒にスラリとして、施与される。前記加工液はとりわけ、ワイヤ上での切削粒の付着に配慮し、かつ除去された粒子を切り分けるべき固体から取り除くという課題を有する。更に、前記加工液は、冷却に、及びソーの溝による摩耗物の輸送に配慮するという課題を有する。
【０００３】
欧州特許出願公開(EP-A1)第1 757 419号明細書からは、加工物、例えばウェハを、ワイヤソーイングを用いて切り離す方法が既に知られており、その際に前記ワイヤ上に施与されたスラリが使用され、かつ前記スラリを取り囲む気体状媒体の少なくとも一部の含水量が調整又は制御される。欧州特許出願公開(EP-A1)第1 757 419号明細書からは更に、加工液としてグリコールを使用することは知られている。
【０００４】
独国特許(DE-B4)第199 83 092号明細書及び米国特許(US-B1)第6,383,991号明細書からは、ａ）ポリエーテル化合物及びｂ）シリカ粒子を含む切削油並びにワイヤソーを使用してインゴットを切削するため、特にシリコンインゴットを切削するためのこの切削油組成物の使用が知られている。
【０００５】
欧州特許出願公開(EP-A1)第0 131 657号明細書及び米国特許(US-A)第4,828,735号明細書からは、ポリエーテルをベースとする水系潤滑剤が知られている。中国特許出願公開(CN-A)第101205498明細書からは同様に切削液が知られており、前記明細書ではその際の水吸収の低下は記載されていない。特別に挙げられた化合物は、炭素原子１〜４個を有するアルコールでエーテル化されているポリアルキレンオキシ化合物である。
【０００６】
欧州特許出願公開(EP-A1)第686 684号明細書からは、１種以上の水溶性ポリマーを増粘剤として含有する、水相中の研磨物質からなるソーイング懸濁液が知られている。米国特許出願公開(US-A1)第2007/0010406号明細書からは、とりわけシリコンウェハの製造に使用されることができる水性切削液用の添加剤としてのヒドロキシポリエーテルが知られている。
【０００７】
公知の切削液は一般的に水性又は水溶性の基剤に基づく。しかし水の存在は不利である、それというのも、それにより腐食が引き起こされ、並びに例えばシリコンウェハの切削の場合に水及びシリコンの反応により水素発生が起こりうるからである。この場合に、付加的に、ウェハ上及びスラリ中のケイ酸塩もしくはポリケイ酸塩の形成となるという問題が生じる。
【０００８】
公知の水溶性系も、水を含有していてよく、かつそれらの微視的性質に基づき水を引き寄せるので、水性系の場合と同じ欠点が生じうる。
【０００９】
本発明の課題は、研磨材用の改善された加工液、特に、その水吸収の低下及びソーイングの際に必要なエネルギーの低下を特にもたらす切削液を提供することであった。
【００１０】
本発明は、研磨材用の加工液、特に原材料を除去加工するため、特にワイヤソーでウェハをソーイングするための、減少された水吸収を有する切削液を製造するための、式Ｉ
Ｒ1［Ｏ（ＥＯ）x（ＡＯ）yＨ］z
〔式中、
Ｒ1は、炭素原子１〜２０個を有するｚ価のアルキル基を表し、
（ＥＯ）は、エチレンオキシ基を表し、
（ＡＯ）は、炭素原子３〜１０個を有するアルキレンオキシ基を表し、
ｘは、３〜１２、特に５〜１０の数を表し、
ｙは、０〜１０、特に４〜８の数を表し、
ｚは、１〜６、特に１〜３の数を表す〕
で示される化合物の使用に関する。
【００１１】
本発明は更に、式Ｉ
Ｒ1［Ｏ（ＥＯ）x（ＡＯ）yＨ］z
〔式中、
Ｒ1は、炭素原子５〜１０個を有するｚ価のアルキル基を表し、
（ＥＯ）は、エチレンオキシ基を表し、
（ＡＯ）は、炭素原子３〜１０個を有するアルキレンオキシ基を表し、
ｘは、３〜１２、特に５〜１０の数を表し、
ｙは、０．５〜１０、特に４〜８の数を表し、
ｚは、１〜６、特に１〜３の数を表す〕
で示される少なくとも１種の化合物を含有する、研磨材用の加工液、特に切削液に関する。
【００１２】
本発明は更に、式
Ｒ1Ｏ（ＥＯ）x（ＡＯ）yＨ
〔式中、
Ｒ1は、２−メチルブチル又は３−メチルブチルを表し、
（ＥＯ）は、エチレンオキシ基を表し、
（ＡＯ）は、炭素原子３〜１０個を有するアルキレンオキシ基を表し、
ｘは、３〜１２、特に５〜１０の数を表し、
ｙは、０〜１０、特に４〜８の数を表し、
ｚは、１〜６、特に１〜３の数を表す〕
で示される新規化合物ＩＩに関する。
【００１３】
式ＩＩの好ましい化合物中で、ＰＯ単位と少なくとも同じように多くのＥＯ単位が存在している。式ＩＩの極めて特に好ましい化合物は次の表に示されている：
【表１】
0005543030.tif 000002
【００１４】
好ましい実施態様において、式Ｉ及びＩＩの化合物中のｙに対するｘの比は１以下である。
【００１５】
本発明の範囲内で、式ＩＩの化合物は式Ｉの化合物の特に好ましい実施態様である。
【００１６】
好ましい実施態様において、
式Ｉ中で：Ｒ1は、ペンチル基、好ましくは
Ｈ3Ｃ−ＣＨＣＨ3−ＣＨ2−ＣＨ2−  （３−メチルブチル）及び
Ｈ3Ｃ−ＣＨ2−ＣＨＣＨ3−ＣＨ2−  （２−メチルブチル）、特に少なくとも１０％の３−メチルブチル−を表し、
式Ｉ及びＩＩ中で：ＡＯは、プロピレンオキシ、ブチレンオキシ及びペンチレンオキシ又はそれらの混合物を表す。
【００１７】
式Ｉ及びＩＩの化合物の場合に、繰返し単位（ＥＯ）及び（ＡＯ）は、ブロックとして又はランダム分布で（Random）存在していてよい。好ましい実施態様において、これらはランダム分布で存在する。意外なことに、繰返し単位（ＡＯ）及び（ＥＯ）のランダム分布の場合に前記化合物の粘度が大幅に温度から独立していることが見出された。特に繰返し単位（ＥＯ）及び（ＡＯ）のランダム分布の場合に、本発明により使用すべき式Ｉの化合物は、最大４５％、好ましくは３０％未満、特に２０％未満の、Washington Mills AS社、NO-7300 Orkanger、ノルウェーのタイプCarborex F 800 PVの炭化ケイ素４０質量％を有するスラリ中の粘度指数により特徴付けられ、その際に粘度指数は次のように定義されている：本発明の範囲内での粘度指数は、式Ｉの化合物の５０℃での粘度の、３０℃での粘度と比べた百分率による低下を表す。前記粘度はこの場合に、DIN EN 12092により決定される動的粘度（ブルックフィールド、スピンドルV-73）である。
【００１８】
本発明による加工液は、式Ｉの１種の化合物だけでなく、式Ｉの化合物の混合物も含有していてよい。
【００１９】
式Ｉの化合物の製造はそれ自体として知られている、例えばNonionic Surfactants, Martin J. Schick編, Volume 2, Chapter 4（Marcel Dekker, Inc., New York 1967）を参照。式ＩＩの新規化合物の製造は同様にして行うことができる。
【００２０】
好ましい実施態様において、研磨材用の前記加工液、特に切削液は、式Ｉの化合物からなる。式Ｉの化合物の分子量は好ましくは２００〜１２００ｇ／モルである。更に好ましい実施態様において、式Ｉの化合物に加えて、好ましくは２００〜８００ｇ／モルの分子量を有する、エチレンオキシド、プロピレンオキシド又はエチレンオキシドとプロピレンオキシドとのコポリマーをベースとするアルキレンアルコールが含まれている。式Ｉによる化合物に加えて、前記切削液はソーイングのための使用において研磨材、特に切削粒を含有する。
【００２１】
更に好ましい実施態様において、研磨材用の前記加工液、特に切削液は、少なくとも１種の更なる添加剤と、特に
モノアルキレングリコール、オリゴアルキレングリコール又はポリアルキレングリコール、
湿潤剤、
増粘剤、
分散剤、
腐食抑制剤、
錯化剤及び／又は
その他の添加剤、例えばスケール防止剤
のうちの少なくとも１種と、加工液（carrier fluid）の形成下に組み合わされる。
【００２２】
好ましくは、化合物Ｉ  １００質量部につき、次の添加剤のうちの少なくとも１種が、次の質量部で添加される：
アルキレングリコール：１０〜９０質量部、特に２０〜６０質量部
湿潤剤：１〜１００質量部、特に１０〜４０質量部
増粘剤：０．５〜２０質量部、特に１〜１０質量部
分散剤：０．１〜２０質量部、特に０．５〜１０質量部
腐食抑制剤：０．１〜１０質量部、特に０．１〜３質量部
錯化剤：０．１〜１０質量部、特に１〜５質量部
その他の添加剤：０．０５〜１０質量部、特に０．１〜５質量部。
【００２３】
本発明による組成物の含水量は、全ての前記組成を基準として、最大１０質量％、好ましくは最大５質量％、特に１質量％未満である。
【００２４】
特に好ましい添加剤が以下に示される：
湿潤剤
本発明により使用すべき式Ｉの化合物に加えて、更なる湿潤剤、特に
（１）以下のもののポリ（オキシアルキレン）誘導体
ａ）ソルビタンエステル、例えばポリ（オキシエチレン）ソルビタンモノラウラート、ポリ（オキシエチレン）ソルビタンモノオレアート、（ポリ（オキシエチレン）ソルビタントリオレアート）、
ｂ）脂肪アミン、例えば獣脂アミノオキシエチラート、大豆アミノオキシエチラート、
ｃ）ひまし油、例えばひまし油オキシエチラート、
ｄ）アルカノールアミド、例えばやし油アルカノールアミドオキシエチラート
ｅ）脂肪酸、例えばオレイン酸オキシエチラート、ラウリン酸オキシエチラート、パルミチン酸オキシエチラート、
ｆ）脂肪酸アルコール、
ｇ）線状アルコールオキシエチラート、ノニルフェノールオキシエチラート、オクチルフェノールオキシエチラート、
（２）親水性ポリジメチルシロキサン
ａ）カルボニル末端基少なくとも１個で置換されたポリ（ジメチル）シロキサン、ポリ（ジメチルシロキサン）コポリマー
ｃ）ポリ（ジメチルシロキサン）−ｂ−ポリ（プロピレンオキシド）−ｂ−ポリ（エチレンオキシド）コポリマー
ｄ）ポリ第四級（ジメチルシロキサン）コポリマー
（３）脂肪イミダゾリン
（４）以下のものの脂肪酸エステル
ａ）ホスファート
ｂ）ソルビタン
ｃ）グリセリン化合物、例えば
グリセリルモノオレアート、グリセリルジオレアート、グリセリルトリオレアート、ジラウラート
ｅ）スルホコハク酸
（５）第四級化合物、例えば
第四級アンモニウムエトスルファート
を使用することができる。
【００２５】
適した非イオン性、カチオン性、アニオン性又は両性の更なる湿潤剤は、特に
・アルコキシル化Ｃ4〜Ｃ22−アルコール、例えば脂肪アルコールアルコキシラート又はオキソアルコールアルコキシラートである。これらは、エチレンオキシド、プロピレンオキシド及び／又はブチレンオキシドでアルコキシル化されていてよい。湿潤剤として使用可能であるのは、この場合に、前記で記載されたアルキレンオキシドのうちの一方の少なくとも２分子を付加されて有する全てのアルコキシル化アルコールである。この場合に、エチレンオキシド、プロピレンオキシド及び／又はブチレンオキシドのブロックポリマー、又は前記のアルキレンオキシドをランダム分布で又はブロック分布で含有する付加生成物が考慮に値する。前記非イオン湿潤剤は、アルコール１モルあたり一般的に２〜５０モル、好ましくは３〜２０モルの少なくとも１種のアルキレンオキシドを含有する。前記アルコールは好ましくは炭素原子１０〜１８個を有する。その製造の際に使用されるアルコキシル化触媒、その製造方法及びその後処理に応じて、前記アルコキシラートは、幅広い又は狭いアルキレンオキシド同族体分布を有する；
・アルキルフェノールアルコキシラート、例えばＣ6〜Ｃ14−アルキル鎖及び５〜３０個のアルキレンオキシド単位を有するアルキルフェノールエトキシラート；
・アルキル鎖中に８〜２２個、好ましくは１０〜１８個の炭素原子及び一般的に１〜２０個、好ましくは１．１〜５個のグルコシド単位を有するアルキルポリグルコシド、ソルビタンアルカノアート、アルコキシル化もされる；
・Ｎ−アルキルグルカミド、脂肪酸アルコキシラート、脂肪酸アミンアルコキシラート、脂肪酸アミドアルコキシラート、脂肪酸アルカノールアミドアルコキシラート、アルコキシル化される、エチレンオキシド、プロピレンオキシド及び／又はブチレンオキシドのブロックコポリマー、ポリイソブテンエトキシラート、ポリイソブテン−無水マレイン酸誘導体、場合によりアルコキシル化されたモノグリセリド、グリセリンモノステアリン酸塩、ソルビタンエステル並びにビスグリセリド
である。
【００２６】
特に適した非イオン湿潤剤は、アルキルアルコキシラート又はアルキルアルコキシラートの混合物であり、これらは例えば独国特許出願公開(DE-A)第102 43 363号明細書、独国特許出願公開(DE-A)第102 43 361号明細書、独国特許出願公開(DE-A)第102 43 360号明細書、独国特許出願公開(DE-A)第102 43 365号明細書、独国特許出願公開(DE-A)第102 43 366号明細書、独国特許出願公開(DE-A)第102 43 362号明細書に又は独国特許出願公開(DE-A)第43 25 237号明細書に記載されている。これらは、アルコキシル化触媒の存在下でアルカノールとアルキレンオキシドとの反応により得られたアルコキシル化生成物であるか又はアルコキシル化生成物の混合物である。特に適した開始剤アルコールは、いわゆるゲルベアルコール、特にエチルヘキサノール、プロピルヘプタノール及びブチルオクタノールである。特に好ましいのはプロピルヘプタノールである。好ましいアルキレンオキシドはプロピレンオキシド及びエチレンオキシドであり、その際に、例えば独国特許出願公開(DE-A)第102 43 365号明細書に記載されているような開始剤アルコールへの好ましくは短鎖ポリプロピレンオキシドブロックの直接結合を有するアルキルアルコキシラートは、特にそれらの僅かな残留アルコール含量及びそれらの良好な生分解性に基づき好ましい。
【００２７】
好ましい種類の適した非イオン湿潤剤は、一般式（ＮＩ）
Ｒ1−Ｏ−（ＣＨ2−ＣＨＲ5−Ｏ−）r（ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−）n（ＣＨ2−ＣＨＲ6−Ｏ−）s（ＣＨ2−ＣＨＲ2−Ｏ−）mＨ  （ＮＩ）
〔式中、
Ｒ1は、少なくとも一分枝鎖のＣ4〜22−アルキル又はＣ4〜22−アルキルフェノールを表し、
Ｒ2は、Ｃ3〜4−アルキルを表し、
Ｒ5は、Ｃ1〜4−アルキルを表し、
Ｒ6は、メチル又はエチルを表し、
ｎは、１〜５０の平均値を表し、
ｍは、０〜２０、好ましくは０．５〜２０の平均値を表し、
ｒは、０〜５０の平均値を表し、
ｓは、０〜５０の平均値を表し、
ここに、Ｒ5がメチル又はエチルであるか又はｒが０の値を有する場合には、ｍは少なくとも０．５である〕
で示されるアルコールアルコキシラートである。
【００２８】
更に、少なくとも１種の前記アルコールアルコキシラート２０〜９５質量％、好ましくは３０〜９５質量％と、相応するが、しかしながらＲ1が同じ炭素数を有する非分枝鎖状アルキル基であるアルコールアルコキシラート５〜８０質量％、好ましくは５〜７０質量％との混合物であってよい。
【００２９】
更に、一般式（ＮＩＩ）
Ｒ3−Ｏ−（ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ）p（ＣＨ2−ＣＨＲ4−Ｏ−）qＨ  （ＮＩＩ）
〔式中、
Ｒ3は、分枝鎖状又は非分枝鎖状のＣ4〜22−アルキル又はＣ4〜22−アルキルフェノールを表し、
Ｒ4は、Ｃ3〜4−アルキルを表し、
ｐは、１〜５０、好ましくは４〜１５の平均値を表し、
ｑは、０．５〜２０、好ましくは０．５〜４、より好ましくは０．５〜２の平均値を表す〕で示されるアルコールアルコキシラートであってよい。
【００３０】
更に、直前に記載されているような少なくとも１種の分枝鎖状アルコールアルコキシラート（ＮＩＩ）５〜９５質量％と、相応するが、しかしながら分枝鎖状アルキル基の代わりに非分枝鎖状アルキル基が存在するアルコールアルコキシラート５〜９５質量％との混合物であってよい。
【００３１】
一般式（ＮＩ）のアルコールアルコキシラート中で、Ｒ2は好ましくはプロピル、特にｎ−プロピルである。
【００３２】
好ましくは、一般式（ＮＩＩ）のアルコールアルコキシラート中で、ｎは、４〜１５、特に好ましくは６〜１２、殊に７〜１０の平均値を有する。
【００３３】
好ましくは、ｍは、０．５〜４、特に好ましくは０．５〜２、殊に１〜２の平均値を有する。
【００３４】
基Ｒ1は、少なくとも一分枝鎖である、好ましくはＣ8〜15−、特に好ましくはＣ8〜13−、殊にＣ8〜12−アルキル基である。複数の分枝が存在していてもよい。
【００３５】
Ｒ5は好ましくはメチル又はエチル、特にメチルである。
Ｒ6は好ましくはエチルである。
【００３６】
前記混合物中で、非分枝鎖状アルコール基Ｒ1と分枝鎖状アルコール基Ｒ1とを有する化合物が存在する。これは例えば線状アルコール鎖の含分及び分枝鎖状アルコール鎖の含分を有するオキソアルコールの場合である。例えば、Ｃ13/15−オキソアルコールはしばしば完全に線状のアルコール鎖約６０質量％、しかしそれに加えて、α−メチル分枝鎖状アルコール鎖及びＣ≧2−分枝鎖状アルコール鎖約４０質量％も有する。
【００３７】
一般式（ＮＩＩ）のアルコールアルコキシラート中で、Ｒ3は、好ましくは分枝鎖状又は非分枝鎖状のＣ8〜15−アルキル基、特に好ましくは分枝鎖状又は非分枝鎖状のＣ8〜13−アルキル基及び殊に分枝鎖状又は非分枝鎖状のＣ8〜12−アルキル基である。Ｒ4は好ましくはプロピル、特にｎ−プロピルである。ｐは、好ましくは４〜１５の平均値、特に好ましくは６〜１２の平均値及び殊に７〜１０の平均値を有する。ｑは、好ましくは０．５〜４、特に好ましくは０．５〜２、殊に１〜２の平均値を有する。
【００３８】
一般式（ＮＩ）のアルコールアルコキシラートに相応して、一般式（ＮＩＩ）のアルコールアルコキシラートも非分枝鎖状及び分枝鎖状のアルコール基を有する混合物として存在していてよい。
【００３９】
前記アルコールアルコキシラートの母体となるアルコール成分として、純アルカノールだけでなく、炭素原子の範囲を有する同族体混合物も考慮に値する。例はＣ8/10−アルカノール、Ｃ10/12−アルカノール、Ｃ13/15−アルカノール、Ｃ12/15−アルカノールである。複数のアルカノールの混合物も可能である。
【００４０】
本発明による前記のアルカノールアルコキシラート又は混合物は好ましくは、一般式Ｒ1−ＯＨもしくはＲ3−ＯＨのアルコール又は相応する分枝鎖状及び非分枝鎖状のアルコールの混合物を、場合によりまず最初にＣ3〜6−アルキレンオキシドと、次いでエチレンオキシド及びその後場合によりＣ3〜4−アルキレンオキシドと、次いで相応するＣ5〜6−アルキレンオキシドと反応させることにより製造される。前記アルコキシル化はその際に好ましくはアルコキシル化触媒の存在下で実施される。その際に、特に塩基性触媒、例えば水酸化カリウムが使用される。例えば国際公開(WO)第95/04024号に記載されているように、特別なアルコキシル化触媒、例えば変性されたベントナイト又はハイドロタルサイトにより、組み込まれるアルキレンオキシドの量のランダム分布は著しく狭くことができるので、"ナローレンジ"アルコキシラートが得られる。
【００４１】
本発明の特別な実施態様において、一般式（ＮＩＩＩ）
Ｃ5Ｈ11ＣＨ（Ｃ3Ｈ7）ＣＨ2Ｏ（Ｂ）p（Ａ）n（Ｂ）m（Ａ）qＨ  （ＮＩＩＩ）
〔式中、
Ａは、エチレンオキシを表し、
Ｂはそれぞれ独立して、Ｃ3〜10−アルキレンオキシ、好ましくはプロピレンオキシ、ブチレンオキシ、ペンチレンオキシ又はそれらの混合物を表し、その際に、グループＡ及びＢは、ブロック型で示された順序で存在し、
ｐは、０〜１０の数を表し、
ｎは、０を超え２０までの数を表し、
ｍは、０を超え２０までの数を表し、
ｑは、０を超え１０までの数を表し、
ｐ＋ｎ＋ｍ＋ｑは少なくとも１である〕
で示されるアルコキシラートを含有するアルコキシラート混合物であり、その際に
Ｃ5Ｈ11がｎ−Ｃ5Ｈ11の意味を有するアルコキシラートＡ１  ７０〜９９質量％と、
Ｃ5Ｈ11がＣ2Ｈ5ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2及び／又はＣＨ3ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＣＨ2の意味を有するアルコキシラートＡ２  １〜３０質量％とが、
混合物で存在する。
【００４２】
一般式（ＮＩＩＩ）中で、ｐは、０〜１０、好ましくは０〜５、特に０〜３の数を表す。ブロック（Ｂ）pが存在する場合には、ｐは、好ましくは０．１〜１０、特に好ましくは０．５〜５、殊に１〜３の数である。
【００４３】
一般式（ＮＩＩＩ）中で、ｎは、好ましくは０．２５〜１０、特に０．５〜７の範囲内の数を表し、ｍは、好ましくは２〜１０、特に３〜６の範囲内の数である。Ｂは好ましくはプロピレンオキシ及び／又はブチレンオキシ、特別には両位置でプロピレンオキシである。
【００４４】
ｑは好ましくは１〜５の範囲内、特に好ましくは２〜３の範囲内の数である。
【００４５】
ｐ＋ｎ＋ｍ＋ｑの合計は、少なくとも１、好ましくは３〜２５、特に好ましくは５〜１５、殊に７〜１３である。
【００４６】
前記アルコキシラート中に、好ましくは３又は４個のアルキレンオキシドブロックが存在する。一実施態様によれば、前記アルコール基に引き続きまず最初にエチレンオキシ単位が、それに引き続きプロピレンオキシド単位が、それに引き続きエチレンオキシ単位が存在する。更なる実施態様によれば、前記アルコール基に引き続きまず最初にプロピレンオキシ単位が、次いでエチレンオキシ単位が、次いでプロピレンオキシ単位が、最後にエチレンオキシ単位が存在する。前記プロピレンオキシ単位の代わりに、前記の他のアルキレンオキシ単位が存在していてもよい。
【００４７】
ｐ、ｎ、ｍ及びｑはその際に、アルコキシラートの平均として得られる平均値を表す。ゆえに、ｐ、ｎ、ｍ、ｑは整数の値から逸脱していてもよい。アルカノールのアルコキシル化の際に、一般的に、ある範囲で多様なアルコキシル化触媒の使用により調節されることができるアルコキシル化度の分布が得られる。グループＡ及びＢの適した量の選択により、本発明によるアルコキシラート混合物の特性範囲を、実際の必要条件に応じて適合することができる。
【００４８】
前記アルコキシラート混合物は、母体となるアルコールＣ5Ｈ11ＣＨ（Ｃ3Ｈ7）ＣＨ2ＯＨのアルコキシル化により得られる。前記出発アルコールは、個々の成分から混合することができるので、本発明による比が得られる。これらは、バレルアルデヒドのアルドール縮合及びその後の水素化により製造することができる。バレルアルデヒド及び相応する異性体の製造は、ブテンのヒドロホルミル化により行われ、例えば米国特許(US)第4,287,370号明細書; Beilstein E IV 1、32 68、Ullmanns Encyclopedia of Industrial Chemisty, 第5版, 第A1巻、p.323及び328 fに記載されている。その後のアルドール縮合は、例えば米国特許(US)第5,434,313号明細書及びRoempp, Chemie Lexikon, 第9版, 見出語"Aldol-Addition", p.91に記載されている。アルドール縮合生成物の水素化は一般的な水素化条件に従う。
【００４９】
更に、２−プロピルヘプタノールは、１−ペンタノール（相応するメチルブタノール−１類の混合物として）をＫＯＨの存在下で高められた温度で縮合することにより製造することができる、例えばMarcel Guerbet, CR. Acad Sci Paris 128, 511, 1002 (1899)を参照。更に、Roempp, Chemie Lexikon, 第9版, Georg Thieme Verlag Stuttgartに、及びそこに記載された文献並びにTetrahedron, 第23巻, pp.1723-1733を指摘することができる。
【００５０】
一般式（ＮＩＩＩ）中で、基Ｃ5Ｈ11は、ｎ−Ｃ5Ｈ11、Ｃ2Ｈ5ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2又はＣＨ3ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＣＨ2の意味を有していてよい。前記アルコキシラートは混合物であり、その際に
・Ｃ5Ｈ11がｎ−Ｃ5Ｈ11の意味を有するアルコキシラートＡ１  ７０〜９９質量％、好ましくは８５〜９６質量％と、
・Ｃ5Ｈ11がＣ2Ｈ5ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2及び／又はＣＨ3ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＣＨ2の意味を有するアルコキシラートＡ２  １〜３０質量％、好ましくは４〜１５質量％とが存在する。
【００５１】
基Ｃ3Ｈ7は好ましくはｎ−Ｃ3Ｈ7の意味を有する。
【００５２】
更に、一般式（ＮＶ）
Ｒ−Ｏ−（ＣmＨ2mＯ）x−（ＣnＨ2nＯ）y−Ｈ  （ＮＶ）
〔式中、
Ｒは、イソトリデシル基を表し、
ｍは、２の数を表し、かつ同時にｎは、３又は４の数を表すか、又は
ｍは、３又は４の数を表し、かつ同時にｎは、２の数を表し、かつ
ｘ及びｙは、互いに独立して１〜２０の数を意味し、
ここに、ｍ＝２／ｎ＝３又は４の場合に、変数ｘはｙより大きいか又はｙに等しい〕
で示されるブロック状イソトリデカノールアルコキシラートであってもよい。
これらのブロック状イソトリデカノールアルコキシラートは、例えば独国特許出願公開(DE-A1)第196 21 843号明細書に記載されている。
【００５３】
適した他の種類の非イオン界面活性剤は、末端基キャップされたアルコールアルコキシラート、特に前記のアルコールアルコキシラートのものである。特別な実施態様において、一般式（ＮＩ）、（ＮＩＩ）、（ＮＩＩＩ）及び（ＮＶ）のアルコールアルコキシラートの相応する末端基キャップされたアルコールアルコキシラートである。前記末端基キャップは、例えばジアルキルスルファート、Ｃ1〜10−アルキルハロゲン化物、Ｃ1〜10−フェニルハロゲン化物、好ましくは塩化物、臭化物、特に好ましくはシクロヘキシルクロリド、シクロヘキシルブロミド、フェニルクロリド又はフェニルブロミドで行われることができる。
【００５４】
末端基キャップされたアルコキシラートの例は、独国特許出願公開(DE-OS)第37 26 121号明細書にも記載されており、これに関するその全ての開示は参照により本発明に含まれている。好ましい実施態様において、これらのアルコールアルコキシラートは、一般構造（ＮＶＩ）
ＲI−Ｏ−（ＣＨ2−ＣＨＲII−Ｏ）m′（ＣＨ2−ＣＨＲIIIＯ）n′ＲIV  （ＮＶＩ）
〔式中、
ＲIは、水素又はＣ1〜Ｃ20−アルキルであり、
ＲII及びＲIIIは、同じか又は異なり、かつそれぞれ互いに独立して水素、メチル又はエチルであり、
ＲIVは、Ｃ1〜Ｃ10−アルキル、好ましくはＣ1〜Ｃ4−アルキル、又はシクロヘキシル又はフェニルであり、
ｍ′及びｎ′は、同じか又は異なり、かつ０以上であり、
但し、ｍ′及びｎ′の合計は３〜３００である〕
を有する。
【００５５】
他の種類の非イオン湿潤剤は、アルキル鎖中に炭素原子を好ましくは６〜２２個、特に好ましくは１０〜１８個有するアルキルポリグルコシドである。これらの化合物は一般的に１〜２０個、好ましくは１．１〜５個のグルコシド単位を有する。
【００５６】
考慮に値する更なる非イオン湿潤剤は、国際公開(WO-A)第95/11225号から知られ、一般式
Ｒ1−ＣＯ−ＮＨ−（ＣＨ2）y−Ｏ−（Ａ1Ｏ）x−Ｒ2
〔式中、
Ｒ1は、Ｃ5〜Ｃ21−アルキル基又はアルケニル基を表し、
Ｒ2は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル基を表し、
Ａ1は、Ｃ2〜Ｃ4−アルキレンを表し、
ｙは、２又は３の数を表し、かつ
ｘは、１〜６の値を有する〕
で示される末端基キャップされた脂肪酸アミドアルコキシラートである。
【００５７】
そのような化合物の例は、式Ｈ2Ｎ−（ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ）3−Ｃ4Ｈ9のｎ−ブチルトリグリコールアミンと、ドデカン酸メチルエステルとの反応生成物又は式Ｈ2Ｎ−（ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ）4−Ｃ2Ｈ5のエチルテトラグリコールアミンと、飽和Ｃ8〜Ｃ18−脂肪酸メチルエステルの市販混合物との反応生成物である。
【００５８】
更に、非イオン湿潤剤として、またポリヒドロキシ脂肪酸誘導体又はポリアルコキシ脂肪酸誘導体、例えばポリヒドロキシ脂肪酸アミド、Ｎ−アルコキシポリヒドロキシ脂肪酸アミド又はＮ−アリールオキシポリヒドロキシ脂肪酸アミド、脂肪酸アミドエトキシラート、特に末端基キャップされたもの、並びに脂肪酸アルカノールアミドアルコキシラートが適している。
【００５９】
更に、非イオン湿潤剤として、またエチレンオキシド、プロピレンオキシド及び／又はブチレンオキシドのブロックコポリマー（BASF SEもしくはBASF Corp.のPluronic(登録商標)及びTetronic(登録商標)銘柄）が適している。好ましい実施態様において、ポリエチレン／ポリプロピレン／ポリエチレンブロック及び４ ０００〜１６ ０００の分子量を有するトリブロックコポリマーであり、その際にポリエチレンブロックの質量割合は前記トリブロックコポリマーを基準として５５〜９０％である。特に好ましいのは、８０００を超える分子量及びトリブロックコポリマーを基準として６０〜８５質量％のポリエチレン含量を有するトリブロックコポリマーである。これらの好ましいトリブロックコポリマーは、特に、名称Pluronic F127、Pluronic F108及びPluronic F98でそれぞれBASF Corp.から商業的に入手可能であり、かつ国際公開(WO-A2)第01/47472号に記載されており、これに関するその全ての開示は参照により本発明に含まれている。
【００６０】
更にまた、好ましくはエチレンオキシド、プロピレンオキシド及び／又はブチレンオキシドの片側又は両側でキャップされたブロックコポリマーを使用することもできる。片側のキャップは、例えば、アルキレンオキシドとの反応のための出発化合物として、アルコール、特にＣ1〜22−アルキルアルコール、例えばメタノールを使用することにより達成される。更にまた、―例えば両側の末端基キャップを―、遊離ブロックコポリマーと、ジアルキルスルファート、Ｃ1〜10−アルキルハロゲン化物、Ｃ1〜10−フェニルハロゲン化物、好ましくは塩化物、臭化物、特に好ましくはシクロヘキシルクロリド、シクロヘキシルブロミド、フェニルクロリド又はフェニルブロミドとの反応により生じさせることができる。
【００６１】
付加的に個々の非イオン湿潤剤又は異なる非イオン界面活性剤の組合せを使用することができる。１種類のみの非イオン湿潤剤、特にアルコキシル化Ｃ4〜Ｃ22−アルコールのみを使用することができる。しかし選択的に、異なる種類からなる湿潤剤混合物も使用することができる。
【００６２】
本発明による組成物中の非イオン湿潤剤の濃度は、アルカリ処理条件(Laugereibedingungen)に応じて、特にアルカリ処理すべき材料に応じて、変えることができる。
【００６３】
適したアニオン湿潤剤は、アルカンスルホン酸塩、例えばＣ8〜Ｃ24−、好ましくはＣ10〜Ｃ18−アルカンスルホン酸塩並びにセッケン、例えば飽和及び／又は不飽和のＣ8〜Ｃ24−カルボン酸のＮａ塩及びＫ塩である。
【００６４】
適した更なるアニオン湿潤剤は、線状Ｃ8〜Ｃ20−アルキルベンゼンスルホン酸塩（"ＬＡＳ"）、好ましくは線状Ｃ9〜Ｃ13−アルキルベンゼンスルホン酸塩及びＣ9〜Ｃ13−アルキルトルエンスルホン酸塩である。
【００６５】
増粘剤
増粘剤は、化学組成物の粘度を高める化合物である。限定されない例は、例えば国際公開(WO-A1)第2009/090169号に記載されている：ポリアクリラート及び疎水性に変性されたポリアクリラート。増粘剤の使用の利点は、より高い粘度を有する液体が、より低い粘度を有する液体よりも、斜面又は垂直表面上でより長い滞留時間を有することにある。このことは、組成物と表面との間の相互作用期間を大きくする。
【００６６】
特に適した更なる増粘剤は、例えばベントナイト、キサンタン及びセルロース並びにセルロース誘導体、特にセルロースエーテル及びセルロースエステル、特にメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース及びカルボキシメチルセルロースである。増粘剤の更なる例は、ポリアクリルアミド、ポリエーテル又は会合性ポリウレタン増粘剤、ポリビニルアルコール及びポリビニルピロリドンである。
【００６７】
分散剤／スケール防止剤
更にまた、本発明によれば付加的に、例えばナフタレンスルホン酸の塩、ナフタレンスルホン酸及びホルムアルデヒドの縮合生成物並びにポリカルボキシラートからなる群から選択される少なくとも１種の分散剤を使用することができる。相応する分散剤は、例えばBASF SEの商標名Tamol(登録商標)、Sokalan(登録商標)及びNekal(登録商標)で並びにLubrizolの商標名Solsperse(登録商標)で商業的に入手可能である。これらの分散剤は場合によりスケール防止剤（堆積物）としても作用しうる、それというのも、これらはアルカリ媒体中に形成される炭酸カルシウムＣａＣＯ3を分散させ、こうして例えばノズルの閉塞又は管路中の堆積物形成を防止するからである。これとは独立して、本発明による組成物は付加的に少なくとも１種の更なるスケール防止剤を含有していてよい。適したスケール防止剤は、例えば国際公開(WO)第04/099092号に記載されており、前記明細書には、
（ａ）ポリ（メタ）アクリル酸基本骨格５０〜８０質量％、好ましくは５０〜７５質量％、特に好ましくは５５〜７０質量％、
（ｂ）イソブテン単位、テレラクトン単位及びイソプロパノール単位からなる群から選択される前記基本骨格に結合された及び／又は前記基本骨格へ結合導入された少なくとも１種の単位１〜４０質量％、好ましくは５〜２０質量％、特に好ましくは７〜１５質量％、及び
（ｃ）アミノアルキルスルホン酸をベースとするアミド単位５〜５０質量％、好ましくは５〜４０質量％、特に好ましくは１０〜３０質量％を含む
（メタ）アクリル酸コポリマーが記載されており、その際に、前記（メタ）アクリル酸コポリマー中の前記単位の全質量は１００質量％であり、かつ全ての質量の記載は、前記（メタ）アクリル酸コポリマーを基準としている。
【００６８】
国際公開(WO)第04/099092号により提供される（メタ）アクリル酸コポリマーは、好ましくは１ ０００〜２０ ０００ｇ／モルのスルホン基含有ポリマーの質量平均分子量を有し、かつ好ましくは次の処理工程により製造することができる：
（１）イソプロパノール及び場合により水の存在下での（メタ）アクリル酸のラジカル重合、その際にポリマーＩが生じ、及び
（２）少なくとも１種のアミノアルカンスルホン酸との反応による処理工程（１）に由来するポリマーＩのアミド化。
【００６９】
適した更なるスケール防止剤として、例えば次のものを挙げることができる：
・無水物基を有するポリマー及びアミノ基を有する化合物の反応により得ることができるポリカルボン酸ハーフアミド（独国特許(DE)第195 48 318号明細書による）、
・ビニル乳酸及び／又はイソプロペニル乳酸（独国特許(DE)第197 195 16号明細書による）、
・アクリル酸のホモポリマー（米国特許(US-A)第3 756 257号明細書による）、
・アクリル酸及び／又は（メタ）アクリル酸及びビニル乳酸及び／又はイソプロペニル乳酸のコポリマー、
・スチレン及びビニル乳酸のコポリマー、
・マレイン酸及びアクリル酸のコポリマー、
・（Ｉ）少なくとも１種のモノエチレン系不飽和モノマーを、
（ＩＩ）モノエチレン系不飽和ジカルボン酸又はそれらの無水物の２００〜５０００ｇ／モルのモル質量のポリマー上にラジカルにより開始されるグラフト重合をさせることにより得ることができる、水溶性又は水に分散性のグラフトポリマー、
（ＩＩＩ）その際にグラフトベース（ＩＩ）１００質量部につき５〜２０００質量部の（Ｉ）を使用する（独国特許(DE)第195 03 546号明細書）、
・場合により加水分解されたポリマレイン酸無水物及びそれらの塩（米国特許(US-A)第3 810 834号明細書、英国特許(GB-A)第1 454 657号明細書及び欧州特許出願公開(EP-A)第0 261 589号明細書による）、
・イミノジスクシナート（独国特許(DE)第101 02 209号明細書による）、
・錯化剤、例えばエチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）及び／又はジエチレントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）を有する配合物（米国特許(US)第5,366,016号明細書による）、
・ホスホナート、
・ポリアクリラート、
・ポリアスパラギン酸もしくは独国特許出願公開(DE-A)第44 34 463号明細書により変性されたポリアスパラギン酸、
・ポリアスパラギン酸イミド、
・ヒドロキサム酸基、ヒドロキサム酸エーテル基及び／又はヒドラジド基を有するポリマー（独国特許(DE)第44 27 630号明細書による）、
・場合により加水分解されたマレインイミドのポリマー（独国特許(DE)第43 42 930号明細書による）、
・ナフチルアミンポリカルボキシラート（欧州特許(EP)第0 538 969号明細書による）、
・オキサアルカンポリホスホン酸（欧州特許(EP)第330 075号明細書による）、
・ポリヒドロキシアルカン−アミノ−ビス−メチレンホスホン酸（独国特許(DE)第40 16 753号明細書による）及び
・酸化されたポリグルコサン（独国特許(DE)第43 30 339号明細書による）。
【００７０】
特に好ましい分散剤は、ポリアクリル酸、例えばBASF SEのSokalan(登録商標)タイプ並びに２０００〜１００００ｇ／モルの分子量を有する、ポリアスパラギン酸、特にβ−ポリアスパラギン酸である。ポリマーカルボン酸基含有化合物として好ましいのは、欧州特許出願公開(EP-A1)第2 083 067号明細書に記載されたアクリル酸ホモポリマーである。これらは好ましくは１０００〜５００００、特に好ましくは１５００〜２００００の範囲内の数平均分子量を有する。ポリマーカルボン酸基含有化合物として特に適したアクリル酸のホモポリマーは、BASF SEのSokalan (登録商標) PA銘柄である。
【００７１】
適したポリマーカルボン酸基含有化合物はオリゴマレイン酸でもあり、これらは例えば欧州特許出願公開(EP-A)第451 508号明細書及び欧州特許出願公開(EP-A)第396 303号明細書に記載されている。
【００７２】
ポリマーカルボン酸基含有化合物として好ましいのは、更に、モノマーＡ）として少なくとも１種の不飽和のモノカルボン酸又はジカルボン酸又はジカルボン酸無水物又はそれらの塩並びに少なくとも１種のコモノマーＢ）を重合導入されて含有するコポリマーである。好ましくは、モノマーＡ）は、Ｃ3〜Ｃ10−モノカルボン酸、Ｃ3〜Ｃ10−モノカルボン酸の塩、Ｃ4〜Ｃ8−ジカルボン酸、Ｃ4〜Ｃ8−ジカルボン酸の無水物、Ｃ4〜Ｃ8−ジカルボン酸の塩及びそれらの混合物の中から選択されている。塩型のモノマーＡ）は、好ましくはそれらの水溶性塩型で、特にアルカリ金属塩型、例えばカリウム塩型及びとりわけナトリウム塩型又はアンモニウム塩型で使用される。モノマーＡ）はそれぞれ完全にか又は部分的に無水物型で存在していてよい。もちろん、モノマーＡ）の混合物も使用することができる。
【００７３】
モノマー（Ａ）は好ましくは、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、ビニル酢酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸及びそれらの混合物の中から選択されている。特に好ましいモノマー（Ａ）はアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸及びそれらの混合物である。これらのコポリマーは、好ましくは少なくとも１種のモノマーＡ）を重合に使用されるモノマーの全質量を基準として、５〜９５質量％、特に好ましくは２０〜８０質量％、殊に３０〜７０質量％の量で重合導入されて含有する。
【００７４】
腐食抑制剤
腐食抑制剤として作用するのは、例えば国際公開(WO-A1)第2008/071582号に記載された薬剤、例えばカルボン酸である。これらは直鎖状又は分枝鎖状であってよい。異なるカルボン酸の混合物が特に好まれうる。カプリル酸、エチルヘキサン酸、イソノナン酸及びイソデカン酸は特に好ましいカルボン酸である。防食乳濁液はしばしば中性ないし弱アルカリ性であるので、前記カルボン酸を少なくとも部分的に中和型で、すなわち塩として使用することは有利でありうる。中和のために、特にカセイソーダ及び／又はカセイカリ、同じようにアルカノールアミンが適している。特に好ましいのは、その際にモノアルカノールアミン及び／又はトリアルカノールアミンの使用である。ジアルカノールアミンの使用は、ニトロソアミンが形成する危険のためにあまり好ましくない。にもかかわらず、ジアルカノールアミンも、単独で又はモノアルカノールアミン及び／又はトリアルカノールアミンと一緒に中和に使用することができる。
【００７５】
適した腐食抑制剤は、特に：
炭素原子１４〜３６個を有する脂肪族カルボン酸アミド、例えばミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド及びオレイン酸アミド；炭素原子６〜３６個を有するアルケニルスクシンアミド、例えばオクテニルスクシンアミド、ドデセニルスクシンアミド；メルカプトベンゾチアゾール
である。
【００７６】
特に好ましい腐食抑制剤は、脂肪族アミンとのアルキレンオキシド付加物、殊にトリエタノールアミン及びプロピレンオキシド２〜８モル％とのエチレンジアミン付加物が特に好ましい。
【００７７】
錯化剤
錯化剤は、カチオンを結合させる化合物である。典型的な例は：
ＥＤＴＡ（Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−エチレンジアミン四酢酸）、ＮＴＡ（Ｎ，Ｎ，Ｎ−ニトリロ三酢酸）、ＭＧＤＡ（２−メチル−グリシン−Ｎ，Ｎ−二酢酸）、ＧＬＤＡ（グルタミン酸ジアセタート）、ＡＳＤＡ（アスパラギン酸ジアセタート）、ＩＤＳ（イミノジスクシナート）、ＨＥＩＤＡ（ヒドロキシエチルイミンジアセタート）、ＥＤＤＳ（エチレンジアミンジスクシナート）、クエン酸、オキソジコハク酸及びブタンテトラカルボン酸もしくはそれらの完全に又は部分的に中和されたアルカリ金属塩又はアンモニウム塩
である。
【００７８】
その他の添加剤
適した更なる添加剤は例えば接着促進剤(Haftvermittler)である。適した接着促進剤は、例えば国際公開(WO-A2)第2006/108856号に記載され、一般式ＡＩ
【化１】
0005543030.tif 000003
〔式中、符号は次の意味を有する：
Ｒは、同じか又は異なる、線状又は分枝鎖状のＣ2〜Ｃ6−アルキレン基であり；
Ｂは、分枝であり；
Ｅは、式
【化２】
0005543030.tif 000004
のアルキレンオキシ単位であり；
Ｒ1は、１，２−プロピレン、１，２−ブチレン及び／又は１，２−イソブチレンであり；
Ｒ2は、エチレンであり；
Ｒ3は、１，２−プロピレンであり；
Ｒ4は、同じか又は異なる基：水素；Ｃ1〜Ｃ4−アルキルであり；
ｘ、ｙ、ｚは、それぞれ２〜１５０の数であり、その際にｘ＋ｙ＋ｚの合計は、そのアルコキシル化前のポリアルキレンイミンの３００〜１０ ０００の平均分子量Ｍｗに相当するアルキレンイミン単位の数を意味し；
ｍは、０〜２の有理数であり；
ｎは、６〜１８の有理数であり；
ｐは、３〜１２の有理数であり、ここに、０．８≦ｎ／ｐ≦１．０（ｘ＋ｙ＋ｚ）１／２である〕
で示される両親媒性の水溶性アルコキシル化ポリアルキレンイミンである。
【００７９】
本発明は更に、加工液、特に切削液と、研磨材、特に研削粒及び／又は切削粒と、場合により添加剤とからなるスラリに関する。
【００８０】
常用の研磨材、特に研削粒及び／又は切削粒、例えば金属粒、金属粒又は半金属粒、炭化物粒、窒化物粒、酸化物粒、ホウ化物粒又はダイヤモンド粒を使用することができる。特に好ましい切削粒は、炭化物粒及びホウ化物粒、特に炭化ケイ素（ＳｉＣ）粒である。前記切削粒は、それらの材料及び切削すべきウェハに応じて、好ましくは適合された形状寸法を有し、好ましい粒度は０．５〜５０μｍである。前記切削粒はヘテロ分散型又はホモ分散型で存在していてよい。前記切削粒は前記切削液組成物中に、好ましくは２５〜６０質量％、特に４０〜５０質量％の濃度で含まれている。
【００８１】
特に好ましい実施態様において、前記加工液、特に切削液は、５〜４０°、特に１０〜３０°のV2A鋼に対する接触角を有する。接触角はこの場合に、表面を水及びアセトンですすいだV2A鋼製の鋼プレート上で２５℃で決定される。
【００８２】
更に好ましい実施態様において、本発明による加工液、特に切削液は、名称MDD2、Hermann Reichert Maschinenbau社、Heidenhof Backnangのはかり上で、３００Ｎの荷重及び１１０ｍの距離及び二回の試験反復の場合に、平均して、１２ｍｍの直径を有する名称M1M6/05R、Torringtonの合金鋼円柱上で１分間で最大２０〜６０ｍｇの質量減少となる。
【００８３】
更に好ましい実施態様において、本発明による加工液、特に切削液は、タイプHeraeus BBD 6220のＣＯ2インキュベータ中で、３８℃及び相対大気湿度７８％での貯蔵後に、最大３０％、好ましくは最大１５％の水を１０時間の期間後に吸収する。貯蔵のために、６０ｍｍの内径のペトリ皿中の１ｇの加工液、特に切削液がそれぞれ使用される。それぞれ二重測定の平均値が求められる。極めて特に好ましい実施態様において、この水吸収は更に暴露した場合でももはや増加しない。
【００８４】
本発明による加工液、特に切削液と、以下に記載された研磨材、特に研削粒及び／又は切削粒４０質量％とからなるスラリは、好ましくは、３０℃でブルックフィールドLVDV-III Ultra装置（スピンドルV-73）を用いて測定された１４０〜２００ｍＰａｓ、特に１５０〜１９０ｍＰａｓの粘度を有し、その際にWashington Mills社のタイプCarborex BWF 800 PVの炭化ケイ素粒として使用される。
【００８５】
本発明は更に、ワイヤソーを用いて、本発明による切削液と切削粒とをベースとするスラリの使用下に、特に無機半導体、例えばシリコンインゴット又はシリコンブロックからウェハを切削する方法に関する。
【００８６】
本発明は更に、本発明により使用すべき加工液中に分散されている研磨材の使用下に、例えばケミカルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）による例えばシリコンインゴット又はシリコンブロック製の原材料を研削又はポリシングする方法又は特にレンズ用の、プラスチックを研削する方法に関する。
【００８７】
利点
本発明による加工液、特に切削液及び本発明による切削方法は、特に、単結晶又は多結晶シリコン、単結晶又は多結晶、ＧａＡｓ、ＣｄＴｅ及び他の半導体及びセラミック製のインゴット、ブロック又は円柱（Ingots）のソーイングに適している。
【００８８】
本発明による加工液、特に切削液は、低発泡性又は非発泡性であり、添加剤を必要とせず、ｐＨ中性であり、かつ有毒でないことにより特徴付けられる。更にまた、これらは蒸発可能な有機成分を含有しない。更に、本発明による加工液、特に切削液は、例えば国際公開(WO-A1)第02/40407号及び欧州特許出願公開(EP-A1)第1 390 184号明細書による、化学的工学的な湿式後処理による再生に卓越して適している。
【００８９】
実施例：
ポリエーテルの一般的な製造規定
水を含まない乾燥した１ｌ圧力反応器中に、開始剤アルコールそれぞれ１〜２モルを装入し、ＫＯＨ  ０．２質量％（最終生成物を基準として）と混合し、窒素でフラッシングした。シールした反応器を、次いで３０分にわたって１３０℃に加熱し、窒素で１バールの過圧に調節した。引き続き、第１表に示されたモル量のプロピレンオキシド（以下にＰＯ）及びエチレンオキシド（以下にＥＯ）を並行して（ランダム法）又は連続して（ブロック法）、撹拌しながら計量供給した。ブロック法の場合に、ＰＯを添加し、かつ圧力が一定に達した後でＥＯの添加前に少なくとも１／２時間１３０℃で撹拌し、圧力を１バールに調節した。その反応中に、容器を１３０℃にサーモスタット調節した。圧力が一定に達した後に、さらに約１／２時間後撹拌した。反応が終わった後に、８０℃に冷却し、反応器を放圧し、窒素でフラッシングし、ＫＯＨの中和のために計算した量の氷酢酸を添加し、１／２時間後撹拌した。
【００９０】
ＯＨ価をDIN 51562により、残留アルコールをガスクロマトグラフィーを用いて、色数ＡＰＨＡをEN 1557により（２３℃で）測定した。
【００９１】
第１表：例及び分析特性決定
【表２】
0005543030.tif 000005
【００９２】
例Ｃ６及びＣ７において添加された湿潤剤もしくはアルキレングリコールPluronic(登録商標) PE 6200もしくはPlurafac(登録商標) LF 401は、BASF SE、Ludwigshafenの市販品である。前記の分析データは、本発明による成分であるペンタノール＋１．５ＰＯ＋６ＥＯ、ブロック法を基準としている。
【００９３】
性質／特性値の測定
本発明による切削液の性質は第２表にまとめられている。次の性質を測定した：
・水吸収
前記切削液の水吸収を、タイプHeraeus BBD 6220のＣＯ2インキュベータ中で、３８℃及び相対大気湿度７８％での貯蔵後に１０時間もしくは２４時間の期間の後で測定した。貯蔵のために、６０ｍｍの内径のペトリ皿中の１ｇの切削液をそれぞれ使用した。二重測定の平均値をそれぞれ求めた。水吸収は、秤量分を基準とする増加の質量％でそれぞれ示される。
【００９４】
・スラリ粘度
スラリ粘度を測定するために、ソーイング液６０質量％及びWashington Mills社のタイプCarborex BW F 800 PVのＳｉＣ４０質量％の混合物を製造し、その粘度を３０℃及び場合により５０℃でブルックフィールド社、Modell LVDV-III Ultra（スピンドルV-73）の粘度計で測定した。スラリ粘度はｍＰａｓで示される。
【００９５】
・接触角
前記切削液の接触角を、２５℃で、表面を水及びアセトンですすぎ、引き続き空気中で１ｈ乾燥させたV2A鋼製の鋼プレート上で滴の供給後１秒測定した。測定のために、Dataphysics Instruments GmbH社、Raiffeisenstrasse 34、Filderstadtのビデオを用いた高速接触角測定装置を使用した。接触角の単位は°で示される。
【００９６】
・摩耗
摩耗挙動を、名称MDD2、Hermann Reichert Maschinenbau社、Heidenhof Backnangの摩擦摩耗てんびん上で、３００Ｎの荷重及び１００ｍの距離で１２ｍｍの直径を有する名称M1M6/05R、Torringtonの合金鋼円柱で５４．５秒測定した。それぞれ二重測定を実施し、円柱の質量減少の平均値を決定した。質量減少はｍｇで示される。
【００９７】
第２表
【表３】
0005543030.tif 000006
【００９８】
Pluriol(登録商標) E 200は、BASF SE社、Ludwigshafenの平均モル質量２００のポリエチレングリコールである。前記例は技術水準を表し、かつ本発明によらない。化合物ＩＩ．１及びＩＩ．２を用いて 化合物Ｃ２及びＣ３の場合に匹敵しうる結果が得られた。
【００９９】
実地試験
Meyer Burger AG社、Allmendstrasse 86、CH 3600 ThunのワイヤソーDS 265で、ソーイング液Ｃ１及びＣ３の使用下に多結晶シリコンブロックのソーイング試験を実施した。試験条件はその際に以下のとおりであった：
ウェハの寸法：５″×５″、１５０μｍ
ＳｉＣ品質：Ｆ８８、ｄｓ５０＝６．５μｍ
送り速度：０．６ｍｍ／ｓ
ワイヤ速度：１４ｍ／ｓ
ワイヤ直径：１２０μｍ
ワイヤ張力：２０Ｎ
スラリ温度：２２℃
スラリの組成：ソーイング液６０質量％、ＳｉＣ  ４０質量％。
【０１００】
実地において通常使用されるＰＥＧ２００（Pluriol(登録商標) E 200）と比較して、本発明による切削液について次の改善が見出された：
【表４】
0005543030.tif 000007
【０１０１】
類似の改善は、第１表に示されたその他の本発明による生成物の使用の場合にも見出された。