(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
クリーニングされた版を表面処理することにより初期化（１００）し、両親媒性分子を版の表面に被覆（１１０）し、被覆された版の表面を画像形成（１２０）して、版の表面を画線領域と非画線領域とに構造化し、画像形成された版の表面をゴム引き（１３０）し、ゴムを除去または低減（１４０）し、ゴムを除去または低減（１４０）したあとで、版の表面を、着けローラを転動させることによって乾燥し、湿し媒体および／またはインキを含む平版用の液体を版の表面に付着（１５０）し、着色された表面を有する版を用いて印刷（１６０）し、版の表面をクリーニング（１７０）する、画像形成された版を処理する方法であって、
ゴム引き（１３０）に際して、版の表面に液状のゴムを塗布し、
ゴムの除去または低減（１４０）に際して、ナノメートル範囲のゴム被覆部を除いてゴムを除去または低減（１４０）するものであって、
ゴム引き（１３０）したあとでゴムを除去または低減（１４０）するまでの時間間隔は、ゴムを除去または低減（１４０）したあとで平版用の液体を版の表面に付着（１５０）するまでの時間間隔に対して短く、
ゴム引き（１３０）した直後に、乾燥するまえの液状のゴムを除去または低減（１４０）することを特徴とする、画像形成された版を処理する方法。
【請求項２】
ゴムを、脱塩水による濯ぎによって除去または低減（１４０）する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
ゴムを、版の表面に胴入れされる着けローラを用いて塗布してゴム引き（１３０）する、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
請求項１から３までのいずれか１項記載の画像形成された版を処理する方法に用いる、画像形成された版を処理する装置であって、
多機能で用いられるローラが設けられており、該ローラが、着けローラ（２２０）として機能し、液状のゴムを、版（２１０）の表面（２４０）に塗布するようになっている形式のものにおいて、
前記ローラが、着けローラとして機能する他に追加的にクリーニングローラ（２２０）として機能し、該クリーニングローラ（２２０）を、版（２１０）を備える胴に胴入れすることにより、ゴムを除去または低減（１４０）したあとで平版用の液体を表面に付着するまでの時間間隔に対して短い時間間隔で、ゴム引き（１３０）したあとでナノメートル範囲のゴム被覆部を除いてゴムを除去または低減するようになっていて、
ゴム引き（１３０）した直後に、乾燥するまえの液状のゴムを除去または低減（１４０）することを特徴とする、画像形成された版を処理する装置。
【請求項５】
請求項４記載の、画像形成された版を処理する装置が設けられていることを特徴とする、被印刷物を処理する機械。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像形成された版を処理する方法であって、版の表面に、液状のゴムを塗布する方式のものに関する。
【０００２】
また本発明は、画像再形成可能な版であって、画像形成によって構造化される表面が設けられており、画線領域で、両親媒性分子またはポリマー、特に糖による、表面を化学的に機能化するナノメートル範囲の被覆部が設けられている形式のものに関する。
【０００３】
また本発明は、画像形成された版を処理する装置であって、ローラが設けられており、ローラが、着けローラとして、液状のゴムを、版の表面に塗布するようになっている形式のものに関する。
【背景技術】
【０００４】
このような形式の処理方法、版および処理装置は、特に被印刷物を処理する機械、たとえば紙または厚紙を処理する平版オフセット印刷機の印刷部における、画像形成／画像再形成の分野、ならびに画像形成された／画像再形成された版の処理の分野で用いられる。
【０００５】
たとえばドイツ連邦共和国特許出願公開第１０２２７０５４号明細書から、両親媒性分子で覆われた刷版が公知であり、刷版は、周期的に複数回画像形成され、したがって再利用される。たとえば酸化されたチタンから成る、親水性の印刷面を有する版が開示されており、この場合印刷面は、表面と強く結合する両親媒性の化合物で覆われている。版は、赤外レーザを用いて点状に画像形成することができる。このために外側に向かって疎水性に働く覆いは、非画像領域で、レーザ光線を用いて除去されるか、もしくは取り除かれ、この場合親水性の表面領域が形成される。そのようにして画像形成された版を、画像形成のあとでゴム層を取り付けることによってゴム引きすることも公知である。印刷したあとで、かつ再被覆して画像再形成するまえに、表面のクリーニングおよび場合によっては初期化が必要である。なぜならばゴム膜の残留物が、両親媒性化合物による再被覆を困難にする恐れがあるからである。
【０００６】
ドイツ連邦共和国特許出願公開第１０３４５３８８号明細書には、平版用刷版をゴム引きする方法および組成が記載されている。画像形成に際して画像に応じて露出した支持体、たとえばアルミニウム支持体を、酸化、指紋などから保護するために、版にゴム引きが施される。たとえば調量ローラもしくはドクタローラ（Abquetschwalze）によって画像形成直後に刷版に取り付けられるゴムは、保管および印刷機の長期停止に際して刷版を保護し、印刷時にインキ乗り具合の問題および／または不良な空走挙動が生じることはない。ゴム溶液のｐＨ値は７より大きく、ゴム膜厚は通常３μｍである。
【０００７】
そのようなゴムの製造業者、たとえば「Ｅｇｇｅｎ  Ｃｈｅｍｉｅ社」は、ゴム「ＡｇｕｍＺ」の場合、取り付けられたゴムは、取付直後に、たとえば熱気を吹き付けて乾燥するよう定めている。そのような乾燥は、たとえば「Ｋｏｄａｋ社」の刷版交換機「Ｐｏｌｙｃｈｒｏｍ８５」で行われる。乾燥されたゴム膜は、印刷前に、版から再び除去される。
【０００８】
ドイツ連邦共和国特許出願公開第４０１３４６４号明細書には、印刷機の版の自動的なゴム引きが記載されており、ここではゴム液は、ゴム引き装置によって、給水ローラおよび場合によっては摩擦胴を介して版に取り付けられる。ゴムを自動的に除去するために、版および同時に給水ローラならびに摩擦胴は、洗浄装置によって洗浄される。
【特許文献１】ドイツ連邦共和国特許出願公開第１０２２７０５４号明細書
【特許文献２】ドイツ連邦共和国特許出願公開第１０３４５３８８号明細書
【特許文献３】ドイツ連邦共和国特許出願公開第４０１３４６４号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
したがって本発明の課題は、従来技術に対しして改善された方法を提供して、従来技術における少なくとも１つの欠点を解消することである。
【００１０】
本発明の別の課題は、従来技術に対して改善された、画像形成された版を処理する方法を提供して、版を簡単に何度も再利用できるように、ゴムの除去を行うようにすることである。
【００１１】
本発明の別のまたは選択的な課題は、従来技術に対して改善された、画像形成された版を処理する方法を提供して、再被覆および画像再形成によって版を簡単に何度も再利用できるように、ゴムの除去を行うようにすることである。
【００１２】
本発明の別のまたは選択的な課題は、従来技術に対して改善された、画像形成された版を処理する方法を提供して、版の印刷を僅かな損紙で実現するように、ゴムの除去を行うようにすることである。
【００１３】
本発明の別のまたは選択的な課題は、従来技術に対して改善された、画像再形成可能な版を提供して、版が、簡単な形式で何度も再利用でき、特に再被覆および画像再形成できるようにすることである。
【００１４】
本発明の別のまたは選択的な課題は、従来技術に対して改善された、画像形成された版を処理する装置を提供して、簡単な形式で、ゴム被覆部を形成するために版のゴム引きを実現するようにすることである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
この課題を解決するための本発明の方法によれば、ゴムを、平版用の液体を表面に塗布するまでの時間間隔に対して短い時間間隔で、被覆部を除いて低減する。
【００１６】
この課題を解決するための本発明の別の方法によれば、依然として液状のゴムを、被覆部を除いて低減する。
【００１７】
この課題を解決するための本発明の版によれば、非画線領域で、ゴムによるナノメートル範囲の被覆部が設けられている。
【００１８】
この課題を解決するための本発明の装置によれば、ローラが、クリーニングローラとして、ゴムを、平版用の液体を表面に塗布する時間間隔に対して短い時間間隔で、被覆部を除いて低減するようになっている。
【発明の効果】
【００１９】
本発明による、画像形成された版を処理する方法によれば、版の表面に、液状のゴムを塗布し、ゴムを、平版用の液体を表面に付着するまでの時間間隔に対して短い時間間隔で、被覆部を除いて除去するか、または低減する。
【００２０】
本発明による第１の選択的な方法によれば、ゴムを、塗布した直後に再び除去するか、または低減し、この場合塗布されたゴム層は除去するが、残存するナノメートル範囲のゴム被覆部は除去しない。しかも残存する被覆部は、有利には版を後続処理するのに十分であり、被覆部は、版の画像形成された表面を汚れから満足できる程度に保護し、かつ画線領域と非画線領域との間のコントラストを満足できる程度に改善する。被覆部を除くゴムの低減によって、刷り始め損紙は大幅に減少され、両親媒性分子による再被覆性の改善に基づいて、再利用性も同様に改善される。
【００２１】
本発明による、画像形成された版を処理する方法によれば、版の表面に、液状のゴムを塗布し、依然として液状のゴムを、被覆部を除いて除去するか、または低減する。
【００２２】
本発明による第２の選択的な方法によれば、依然として液状のゴムを、要するに乾燥前に、残存するナノメートル値のゴム被覆部を除いて除去するか、または低減する。ここでは第１の選択的な方法に関して上述したのと同じ利点が得られる。
【００２３】
刷り始め損紙の減少および両親媒性分子による再被覆性に関して有利な、本発明による有利な方法によれば、ゴムを、塗布した直後に低減する。これに関して「直後」の示唆するところによれば、塗布と除去／減少との間の時間間隔は、新たな印刷ジョブのために再利用可能な版を準備する全体時間間隔に対して無視できる程度であり、たとえば装着時間を求める際に考慮する必要はない。
【００２４】
簡単で、化学的に問題のないゴム除去に関して有利な、本発明による有利な別の方法によれば、ゴムを、脱塩水による濯ぎによって除去する。
【００２５】
使用される媒体に関して簡単な、本発明による有利な別の方法によれば、ゴムを、版の表面に胴入れされる着けローラを用いて塗布する。
【００２６】
僅かに使用される媒体で行われる簡単な乾燥に関して有利な、本発明による有利な別の方法によれば、ゴムを、着けローラを転動させることによって乾燥する。
【００２７】
本発明による画像再形成可能な版によれば、画像形成によって構造化される表面が設けられており、画像領域で、両親媒性分子またはポリマー、特に糖による、表面を化学的に機能化するナノメートル範囲の被覆部が設けられており、非画線領域で、ゴムによるナノメートル範囲の被覆部が設けられている。
【００２８】
本発明による版は、従来技術による版に対して、マイクロメートル厚のゴム層を備えるのではなく、専らナノメートル厚のゴム被覆部を備えており、ゴム被覆部によって、版は、満足できる程度に保護され、有利な形式で、刷り始め損紙が僅かになり、両親媒性分子による再被覆性が改善される。
【００２９】
被覆部の僅かな厚さ（または僅かな高さ）に関して有利な、本発明による有利な版によれば、約１００ｎｍを下回る、特に約１０ｎｍを下回る厚さのゴムによる被覆部が設けられている。
【００３０】
本発明による、画像形成された版を処理する装置によれば、ローラが設けられており、ローラが、着けローラとして、液状のゴムを版の表面に塗布するようになっており、ローラが、クリーニングローラとして、ゴムを、平版用の液体を表面に塗布するまでの時間間隔に対して短い時間間隔で、被覆部を除いて除去するかまたは低減するようになっている。
【００３１】
本発明による装置は、多機能で使用されるローラを備えており、ローラは、ゴムを塗布するためにも、除去するかまたは低減するためにも役立つ。装置は、制御装置を備えており、制御装置は、十分にゴムを塗布したあとでゴムの供給を遮断して、ローラは、所定の時間間隔で引き続き版に胴入れすることができるので、ローラを介してゴムの除去／低減が行われる。
【００３２】
本発明による装置を使用する際に、本発明による方法に関して上述したものと同じ利点が得られる。
【００３３】
本発明に関して上述した少なくとも１つの装置を備えた、被印刷物を処理する機械、特に印刷機、または平版オフセット印刷のための、シートを処理する輪転印刷機も本発明の範疇である。
【００３４】
有利には、被印刷物を処理する機械は、平版オフセット印刷、特に湿式オフセット印刷のための、シートを処理する輪転印刷機である。被印刷物は、厚紙、フィルムまたは有利には紙である。印刷機は、片面印刷で、または有利には両面印刷で運転することができる。印刷機は、被印刷物に、単色または有利には多色の印刷画像を所与することができる。印刷機は、被印刷物搬送方向でみて、給紙装置、給紙台、複数の印刷装置、反転装置、別の印刷装置、ラッカ付装置、乾燥装置、パウダー付装置および／または排紙装置を備えている。印刷機は、操作台と制御ユニットとを備えている。
【００３５】
画像形成とゴム塗布とを、別個の機械で行うこともできる。
【００３６】
説明した本発明および本発明の有利な構成から、任意の組み合わせで、本発明の有利な別の構成が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
次に本発明の実施の形態を図示の実施例を用いて詳しく説明する。
【００３８】
図１には、本発明による、画像形成された版を処理する方法の有利な１実施例のフローチャートを示した。そのような版は、たとえば二酸化チタンを含有しているか、または二酸化チタンによって形成されていて、支持体、たとえば金属またはプラスチック上に配置することができる。版は、有利には平版オフセット印刷用の刷版として形成されている。本発明による処理方法では、被印刷物を処理する機械、特に印刷機の内側でも、またそのような機械の外側でも、少なくとも部分的に、つまり少なくとも幾つかの方法ステップ、たとえば初期化、被覆、画像形成、ゴム引きおよび／または除去を行うことができる。
【００３９】
方法ステップ１００（初期化）では、大まかに、かつ選択的には念入りにクリーニングされた表面（後述の方法ステップ１７０参照）が、新たに分子で被覆１１０されるまえに初期化され、初期化流体、特に水、脱塩水または初期化水溶液の付着による表面処理、有利には塗布が行われる。有利には、表面処理は、ミョウバン結晶構造を有する複塩の水溶液、特に有利にはたとえば０．１モルの硫酸カリウムアルミニウム水溶液（ミョウバン溶液、ＫＡｌ（ＳＯ4）2・ｌ２Ｈ2Ｏ）による処理が行われる。初期化によって、表面は、分子で被覆するため、特に均質の疎水化のために準備されるので、分子の密な被覆、つまり高い密度の被覆を達成することができる。したがって版の表面は、分子のための、活性化された十分な程度に多くの連結箇所を有している。新たな均質の被覆にとって十分な現像液除去は、大まかなクリーニングおよび念入りなクリーニングだけでは、多くの場合保証されない。
【００４０】
方法ステップ１１０（被覆）では、版の表面は、ナノメートル範囲で表面変質され、表面の化学的な機能化が、分子による処理、有利には表面の塗布、特に分子の被覆によって行われる。分子は、有利には溶解（たとえば水に）されており、溶液は、直接的に表面に、または間接的に布もしくはブランケットを介して表面に取り付けられ、たとえば噴霧される。被覆のための分子として、有利には両親媒性分子、たとえば水溶液のホスホン酸またはヒドロキサム酸が用いられる。選択的にポリマー、特に糖を用いることもできる。被覆は、表面のナノメートル範囲の変化をもたらし、たとえば１００ｎｍまたは特に有利には１０ｎｍを下回る範囲で変化をもたらす。表面に強く結合する分子も、弱く結合する分子も用いることができる。弱結合分子を用いる場合、分子は、有利には赤外放射の使用することによって表面に固定される。選択的な方法ステップ１１５（濯ぎおよび乾燥）では、表面は、有利には脱塩水で濯がれ、次いで乾燥される。濯ぎ液は、直接的に表面にもたらされるか、または間接的にたとえば布もしくはブランケットを介して表面にもたらされる。
【００４１】
方法ステップ１２０（画像形成）では、被覆された表面は、画像形成されるか、もしくは画線領域と非画線領域とに構造化される。このために表面は、有利には赤外レーザ、もしくはその放射によって処理される。強結合分子を用いる場合、分子は、非画像領域（湿し媒体をガイドする領域）でレーザ放射によって除去される。弱結合分子を用いる場合、分子は、画線領域（インキをガイドする領域）でレーザ放射によって固定されて、非画線領域（湿し媒体をガイドする領域）で除去される。選択的な方法ステップ１２５（濯ぎおよび乾燥）では、濯ぎおよび乾燥は、方法ステップ１１５と同様に行われる（上記参照）。
【００４２】
方法ステップ１３０（ゴム引き）では、版の、画像形成された表面に、液状のゴム、有利にはアラビアゴムの溶液または別のゴム溶液が全面的に取り付けられるか、または表面がゴム引きされる。ゴム引きによって、画線領域と非画線領域との間のコントラストは、非画線領域における親水性の強化によって改善され、同時に表面は、たとえば指紋から保護される（このような理由から望ましくはこの媒体は、本明細書でも「ゴム」と解される）。ゴムは、直接的に表面に取り付けられるか、または間接的にたとえば布もしくはブランケットを介して表面に取り付けられる。
【００４３】
たとえば版に、圧力下で胴入れされる着けローラを介して、１回または有利には複数回、希釈されていないゴム溶液（たとえばＥｇｇｅｎ−Ｃｈｅｍｉｅ社のＡｇｕｍＺ）が設けられ、この場合０．９ｇ／ｍ2〜１．０ｇ／ｍ2のゴム膜が塗布される。直後に脱塩水を用いた濯ぎによる、被覆部を除くゴム膜の除去が行われる。残存するゴム被覆部の量ｇ／ｍ2は、塗布された量に対して無視できる程度である。同様に次いで圧力下で着けローラによる表面の転動が、プロセス流体を添加せずに、有利には複数回行われ、したがって乾燥が行われる。
【００４４】
方法ステップ１４０（除去）では、ゴムは、平版に関する液体、たとえば湿し媒体および／またはインキを表面に付着する（方法ステップ１５０下記参照）までの時間間隔に対して短い時間間隔で、有利には数秒から数分、たとえば最長２分までの時間間隔で、被覆部を除いて再び除去される。これの意味するところによれば、従来技術ではゴムは、平版用液体を付着する直前または付着する際（要するに刷版を保管する場合ゴム引きの時間後）に、その間に乾燥して硬化した状態で、個別的な洗浄装置または湿し装置によって除去されるのに対して、本発明によれば、除去は、既にゴム引きの直後に行われる。ゴムの塗布と除去との間の時間間隔は、有利には、除去と平版用液体の付着との間の時間間隔よりも短くなっている。
【００４５】
有利には（また選択的には）、ゴムは、依然として液状かつ／または未乾燥状態で、つまり乾燥まえに、再び被覆部を除いて除去される。特に有利には、ゴムは、ゴムを塗布した直後に、再び残存する被覆部を除いて除去される。
【００４６】
方法ステップ１４０では、有利にはナノ範囲に、取り付けられたゴム膜の厚さが低減され、その結果塗布された、表面に残存するゴムは、ナノメートル範囲の被覆部として解することができる。そのようなゴム被覆部は、単層として提供される。複数の層を表面に形成することもできる。
【００４７】
ゴムの塗布および除去を１プロセスとみなすと、マイクロメートル範囲で層が取り付けられるのではなく、ナノメートル範囲で被覆部が形成される。しかもここで述べておくと、ゴム被覆部は、版の画像形成された表面のコントラストを満足できる程度に改善し、かつ画像形成された表面を満足できる程度に保護する。さらに述べておくと、本発明によるゴム被覆部を有する版では、インキ乗り具合および湿し媒体ガイドは、有利な形式で、極めて迅速に、つまり刷り始め損紙において既に２枚〜３枚のシート状被印刷物で安定する。この場合本発明によるゴム被覆部を有する版の膜機能は、有利には、ゴムで層形成された従来慣用の版と比べて遜色ない。したがって本発明では、マイクロメートル厚のゴム層は省略することができる。本発明によれば、ナノメートル厚のゴム被覆部は、方法ステップで初期化して、実質的に残らず除去可能で、したがって再被覆性にほとんど影響を及ぼさない。
【００４８】
方法ステップ１５０（付着）では、少なくとも平版用の液体、たとえば湿し媒体および／またはインキが、画像形成されてゴム引きされた表面に付着される。有利には、先ず湿し媒体が、次いで追加的にインキが表面に付着され、つまり表面は、湿され、次いで着色される。弱結合性の両親媒性分子が用いられる場合、両親媒性分子は、非画線領域で、湿し媒体の付着によって除去することができる。
【００４９】
方法ステップ１６０（印刷）では、着色された表面は、有利には、繰り返し被印刷物に印刷され、これによって少なくとも１つの印刷製品が製作される。
【００５０】
方法ステップ１７０（クリーニング）では、表面が処理され、この場合インキおよび／または汚れを除去するための大まかなクリーニング（たとえばマイクロエマルジョン−クリーナまたは慣用のインキクリーナ、たとえばＰｒｉｎｔｃｌｅａｎの使用による）が行われる。選択的な方法ステップ１７５（濯ぎおよび乾燥）では、方法ステップ１１５（上述参照）による濯ぎおよび乾燥が行われる。そのあとで大まかにクリーニングされた表面は、たとえばイソプロピルアルコールまたは有利には界面活性剤を用いて処理され、この場合残留インキおよび／または残留汚れを除去するため、ならびに大まかなクリーニングの、場合によっては生じる残留化学物質を除去するための念入りなクリーニングが行われる。選択的な方法ステップ１７５（濯ぎおよび乾燥）では、方法ステップ１１５（上述参照）による新たな濯ぎおよび乾燥が行われる。
【００５１】
本発明の範囲内で、媒体を取り付け、かつ／または除去する方法ステップは、複数回行うことができ、たとえば印刷技術的な表面を支持する胴が適当な回数で回転され、大まかなクリーニングおよび念入りなクリーニング（たとえば順次４回まで）、濯ぎ／乾燥（たとえば順次４回まで）、初期化（たとえば順次４回まで）、被覆（たとえば順次６回まで）およびゴム引き（たとえば順次６回まで）が行われる。
【００５２】
図２には、本発明による装置の有利な実施例を示した。表面に配置された版２１０を備えた、被印刷物を処理する機械の一部としての胴２００ならびにローラ２２０を図示した。版２１０は、既に画像形成されており（画線領域２５０として図示した）、ローラ２２０は、パン２３０に貯蔵されたゴム液を版２１０の表面２４０に塗布し（非画線領域２６０として図示した）、ゴム液は、第２のモードで、被覆部を除いて再び除去／低減される。ここで述べておくと、ハッチングした画線領域２５０も、波線パターンで示した非画線領域２６０も、実際の版では、裸眼で容易に目視することはできない。選択的に、ローラの代わりに、たとえばゴム液を塗布し、かつ除去／低減するための、布−処理装置、たとえば２つのローラにわたってガイドされた布も考えられる。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明による処理方法の有利な１実施例のフローチャートである。
【図２】本発明による処理装置および本発明による版の有利な実施例を示す概略図である。
【符号の説明】
【００５４】
１００  初期化、  １１０  被覆、  １１５  濯ぎおよび乾燥、  １２０  画像形成、  １２５  濯ぎおよび乾燥、  １３０  ゴム引き、  １４０  除去、  １５０  付着、  １６０  画像形成、  １７０  クリーニング、  １７５  濯ぎおよび乾燥、  ２００  胴、  ２１０  版、  ２２０  ローラ、  ２３０  パン、  ２４０  表面、２５０  画線領域、  ２６０  非画線領域
【図１】
0005473214.tif 000002
【図２】
0005473214.tif 000003