(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被露光体を一定方向に一定速度で搬送する搬送手段と、
前記被露光体の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで一列に並べられた複数の光スイッチにより、一方向に拡幅されたレーザ光を一定の配列ピッチで一列に並んだ複数のレーザビームに分割して射出するパターンジェネレータと、
前記パターンジェネレータから射出し、前記被露光体に照射する前記複数のレーザビームを互いに隣接する前記レーザビームの間の領域を同時に往復走査する光走査手段と、
前記往復走査される複数のレーザビームを前記被露光体上に集光するｆθレンズと、
前記パターンジェネレータの前記複数の光スイッチのオン・オフ駆動を制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記パターンジェネレータの各光スイッチは、電気光学結晶材料からなる角柱状のスイッチング素子の長軸に平行な対向面に夫々電極を設けると共に、前記スイッチング素子の長軸方向の両端面側に一対の偏光素子をクロスニコルに配置して構成したものであることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記光走査手段は、前記ｆθレンズと、前記パターンジェネレータと前記ｆθレンズとの間に該ｆθレンズとミラー対称に対向配置された別のｆθレンズとの間に配置された光偏向ミラーであることを特徴とする請求項１又は２記載の露光装置。
【請求項４】
前記光偏向ミラーは、ガルバノミラーであることを特徴とする請求項３記載の露光装置。
【請求項５】
前記光偏向ミラーは、ポリゴンミラーであることを特徴とする請求項３記載の露光装置。
【請求項６】
前記光走査手段は、前記ｆθレンズと前記搬送手段との間に配置された音響光学素子であることを特徴とする請求項１又は２記載の露光装置。
【請求項７】
前記光走査手段は、前記ｆθレンズと、前記パターンジェネレータと前記ｆθレンズとの間に該ｆθレンズとミラー対称に対向配置された別のｆθレンズとの間に配置され、角型ブロック状の電気光学結晶材料の対向面に光軸に対して傾斜した辺を有する三角形の電極を設けた電気光学素子であることを特徴とする請求項１又は２記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被露光体を一定方向に搬送しながら該被露光体の搬送方向と交差する方向に光ビームを走査して露光する露光装置に関し、特に被露光体上を走査する光ビームの走査距離を短くして露光工程のタクトを短縮しようとする露光装置に係るものである。
【背景技術】
【０００２】
従来のこの種の露光装置は、被露光体を一定方向に搬送しながら、光スイッチによりオン・オフ変調されて射出する一本のレーザビームを、ポリゴンミラーにより被露光体の搬送方向と交差する方向に往復走査し、ｆθレンズにより被露光体上に集光して露光するものとなっていた（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−３１７８００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、このような従来の露光装置においては、一本の光ビームが被露光体上の露光領域の全幅を往復走査するものであるので、光ビームの走査距離が長くなっていた。したがって、被露光体の搬送方向において未露光部が生じないようにするためには、被露光体の搬送速度を遅くしなければならず、露光工程のタクトが長くなるという問題があった。
【０００５】
そこで、本発明は、このような問題点に対処し、被露光体上を走査する光ビームの走査距離を短くして露光工程のタクトを短縮しようとする露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明による露光装置は、被露光体を一定方向に一定速度で搬送する搬送手段と、前記被露光体の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで一列に並べられた複数の光スイッチにより、一方向に拡幅されたレーザ光を一定の配列ピッチで一列に並んだ複数のレーザビームに分割して射出するパターンジェネレータと、前記パターンジェネレータから射出し、前記被露光体に照射する前記複数のレーザビームを互いに隣接する前記レーザビームの間の領域を同時に往復走査する光走査手段と、前記往復走査される複数のレーザビームを前記被露光体上に集光するｆθレンズと、前記パターンジェネレータの前記複数の光スイッチのオン・オフ駆動を制御する制御手段と、を備えたものである。
【０００７】
このような構成により、搬送手段で被露光体を一定方向に一定速度で搬送しながら、制御手段で制御して被露光体の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで一列に並べられたパターンジェネレータの複数の光スイッチをオン・オフ駆動し、複数の光スイッチにより、一方向に拡幅されたレーザ光を一定の配列ピッチで一列に並んだ複数のレーザビームに分割してパターンジェネレータから射出し、光走査手段で被露光体に照射する複数のレーザビームを互いに隣接するレーザビームの間の領域を同時に往復走査し、ｆθレンズで往復走査される複数のレーザビームを露光体上に集光する。
【０００８】
また、前記パターンジェネレータの各光スイッチは、電気光学結晶材料からなる角柱状のスイッチング素子の長軸に平行な対向面に夫々電極を設けると共に、前記スイッチング素子の長軸方向の両端面側に一対の偏光素子をクロスニコルに配置して構成したものである。これにより、電気光学結晶材料からなる角柱状のスイッチング素子の長軸に平行な対向面に夫々電極を設けると共に、前記スイッチング素子の長軸方向の両端面側に一対の偏光素子をクロスニコルに配置して構成したパターンジェネレータの各光スイッチで各レーザビームの射出をオン・オフする。
【０００９】
さらに、前記光走査手段は、前記ｆθレンズと、前記パターンジェネレータと前記ｆθレンズとの間に該ｆθレンズとミラー対称に対向配置された別のｆθレンズとの間に配置された光偏向ミラーである。これにより、ｆθレンズと、パターンジェネレータとｆθレンズとの間に該ｆθレンズとミラー対称に対向配置された別のｆθレンズとの間に配置された光偏向ミラーで複数のレーザビームを同時に往復走査する。
【００１０】
また、前記光偏向ミラーは、ガルバノミラーである。これにより、ガルバノミラーで複数のレーザビームを同時に往復走査する。
【００１１】
さらに、前記光偏向ミラーは、ポリゴンミラーである。これにより、ポリゴンミラーで複数のレーザビームを同時に往復走査する。
【００１２】
さらにまた、前記光走査手段は、前記ｆθレンズと前記搬送手段との間に配置された音響光学素子である。これにより、ｆθレンズと搬送手段との間に配置された音響光学素子で複数のレーザビームを同時に往復走査する。
【００１３】
そして、前記光走査手段は、前記ｆθレンズと、前記パターンジェネレータと前記ｆθレンズとの間に該ｆθレンズとミラー対称に対向配置された別のｆθレンズとの間に配置され、角型ブロック状の電気光学結晶材料の対向面に光軸に対して傾斜した辺を有する三角形の電極を設けた電気光学素子である。これにより、ｆθレンズと、パターンジェネレータとｆθレンズとの間に該ｆθレンズとミラー対称に対向配置された別のｆθレンズとの間に配置され、角型ブロック状の電気光学結晶材料の対向面に光軸に対して傾斜した辺を有する三角形の電極を設けた電気光学素子で複数のレーザビームを同時に往復走査する。
【発明の効果】
【００１４】
請求項１に係る発明によれば、光ビームを複数のレーザビームに分割して同時に往復走査し、被露光体の露光領域の全幅を露光するようにしているので、１本当たりのレーザビームの走査距離を短くすることができ、レーザビームの走査周波数をあげることができる。したがって、被露光体の搬送速度を速くすることができ、露光工程のタクトを短縮することができる。
【００１５】
また、請求項２に係る発明によれば、パターンジェネレータの光スイッチを電気光学結晶材料で形成しているので、エネルギーの高いレーザ光を使用することができる。したがって、レーザビームの走査速度をより速くして露光工程のタクトをより短縮することができる。
【００１６】
さらに、請求項３に係る発明によれば、一対のｆθレンズの間にて複数のレーザビームが光軸側に絞られた位置に光偏向ミラーを配置することができ、光偏向ミラーのミラー形状を小さくすることができる。したがって、光偏向ミラーの慣性モーメントを小さくして駆動周波数をより高くことができる。これにより、被露光体の搬送速度をより速くして露光工程のタクトを一層短縮することができる。
【００１７】
また、請求項４に係る発明によれば、光偏向ミラーの製造コストを安価にすることができる。
【００１８】
さらに、請求項５に係る発明によれば、往復走査する光ビームの復路の走査時間を短縮することができ、レーザビームの走査周波数をなお一層高くすることができる。
【００１９】
そして、請求項６又は７に係る発明によれば、光走査手段の経時的変化が少なくレーザビームを長時間安定して走査することができる。したがって、露光装置の信頼性を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明による露光装置の第１の実施形態を示す概要図である。
【図２】本発明の露光装置に使用する光スイッチの構成を示す斜視図である。
【図３】本発明の露光装置の制御手段の概略構成を示すブロック図である。
【図４】本発明の露光装置に使用するガルバノミラーの往復動作を示す説明図である。
【図５】上記光スイッチのオン・オフ駆動を説明する図であり、（ａ）はオン状態を示し、（ｂ）はオフ状態を示す。
【図６】本発明の露光装置における１つのレーザビームの往復動作による露光を示す説明図である。
【図７】本発明による露光装置の第２の実施形態を示す概略構成図である。
【図８】本発明による露光装置の第３の実施形態を示す概略構成図である。
【図９】上記第３の実施形態の光走査手段の一構成例を示す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明による露光装置の第１の実施形態を示す概要図である。この露光装置は、被露光体を一定方向に搬送しながら該被露光体の搬送方向と交差する方向に光ビームを走査して露光するもので、搬送手段１と、露光光学系２と、制御手段３と、を備えてなる。
【００２２】
上記搬送手段１は、被露光体４を一定方向に一定速度で搬送するものであり、ステージ５の上面５ａにエアの噴出口及び吸引口を備え、エアの噴出力及び吸引力を調整して被露光体４をステージ５の上面５ａに一定量だけ浮上させた状態で図示省略の搬送機構により被露光体４の両端縁部を保持して搬送するようになっている。なお、図１において被露光体４の搬送方向は、同図に正対して手前から奥に向かう方向（矢印Ａ方向）である。
【００２３】
上記搬送手段１の上方には、露光光学系２が配設されている。この露光光学系２は、レーザビームＬbを被露光体４の搬送方向と交差する方向（矢印Ｂ，Ｃ方向）に走査して矢印Ａ方向に移動中の被露光体４表面に照射し、被露光体４面に塗布された感光材を露光するもので、レーザビームＬbの進行方向上流から下流に向かってパターンジェネレータ６と、光走査手段７と、第１のｆθレンズ８とをこの順に配置して備えたものである。
【００２４】
ここで、パターンジェネレータ６は、被露光体４の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで一列に並べられた複数の光スイッチ９（図２参照）により、一方向に拡幅されたレーザ光Ｌを一定の配列ピッチで一列に並んだ複数のレーザビームＬbに分割して射出するものであり、図２に示すように、各光スイッチ９は、電気光学結晶材料からなる角柱状の複数のスイッチング素子１０の長軸に平行な対向面に夫々電極１１ａ，１１ｂを設けると共に、複数のスイッチング素子１０の長軸方向の両端面側に一対の偏光素子をクロスニコルに配置して構成されている。そして、上記複数のスイッチング素子１０は、図１に示すように、それらの長軸方向を光の通路として透明な配線基板１２上に上記一対の電極１１ａ，１１ｂが配線基板１２の各配線に接続された状態で一列に並べて形成され、スイッチング素子組立体１３を構成している。
【００２５】
なお、本第１の実施形態においては、上記一対の偏光素子は、図２に示すように、一例として電気光学結晶材料の光入射端面１０ａ側に配置された第１の偏光ビームスプリッタ１４と、光射出端面１０ｂ側に配置された第２の偏光ビームスプリッタ１５とを、互いに光軸を中心に９０°回転した関係に設けたもので示しているが、一対の偏光素子は一対の偏光板であってもよい。また、第１及び第２の偏光ビームスプリッタ１４，１５は、スイッチング素子組立体１３の全体に亘って共通したものであってもよい。さらに、本第１の実施形態においては、第１の偏光ビームスプリッタ１４とスイッチング素子組立体１３との間に、複数のマイクロレンズを上記複数のスイッチング素子１０の配列ピッチと同じピッチで一列に並べて設けたレンズアレイ１６を配置し、拡幅されたレーザ光Ｌを複数のマイクロレンズにより複数のレーザビームＬbに分割し、上記各スイッチング素子１０上に集光させている。これにより、光利用効率を向上させることができる。
【００２６】
また、上記パターンジェネレータ６に入射するレーザ光Ｌは、レーザ光源１７から放射され、光ファイバ１８によって板状のロッドレンズ１９まで導かれ、このロッドレンズ１９により光強度分布が均一化された後、ビームエキスパンダ２０によりロッドレンズ１９の端面の長軸方向に拡幅されるようになっている。したがって、上記レンズアレイ１６の各マイクロレンズの配列方向及び複数の光スイッチ９の配列方向がレーザ光Ｌの拡幅方向に一致するようにパターンジェネレータ６は、配置されることになる。
【００２７】
上記光走査手段７は、パターンジェネレータ６から射出し、被露光体４に照射する複数のレーザビームＬbを互いに隣接するレーザビームＬbの間の領域を同時に往復走査するもので、後述の第１のｆθレンズ８と、パターンジェネレータ６と第１のｆθレンズ８との間に第１のｆθレンズ８とミラー対称に対向配置された第２のｆθレンズ２１との間に配置された光偏向ミラーであり、ガルバノミラー又はポリゴンミラーである。以下の説明においては、光偏向ミラーがガルバノミラー２２である場合について述べる。なお、第２のｆθレンズ２１は上述のように配置されているので、通常の使用状態と反対となり、通常使用における物体面側が光射出側となる。
【００２８】
上記第１のｆθレンズ８は、上記ガルバノミラー２２で往復走査される複数のレーザビームＬbを被露光体４上で等速スキャンさせるものであり、像面側の焦点位置を被露光体４表面に略合致させ、物体面側の焦点位置を第２のｆθレンズ２１の物体面側焦点位置に略合致させて配置されている。
【００２９】
上記搬送手段１と、パターンジェネレータ６と、ガルバノミラー２２と、レーザ光源１７と、に電気的に接続して制御手段３が設けられている。この制御手段３は、パターンジェネレータ６の複数の光スイッチ９のオン・オフ駆動を制御するものであり、図３に示すように、搬送手段駆動部２３と、パターンジェネレータ駆動部２４と、ミラー駆動部２５と、レーザ光源駆動部２６と、演算部２７と、メモリ２８と、制御部２９と、を備えている。
【００３０】
ここで、上記搬送手段駆動部２３は、搬送手段１の駆動を制御して図示省略の搬送機構を一定速度で移動させるものである。また、パターンジェネレータ駆動部２４は、後述のメモリ２８に予め記憶されたＣＡＤデータに基づいてパターンジェネレータ６の各光スイッチ９のオン・オフ駆動を制御するものであり、往復走査するレーザビームＬbの往路において各光スイッチ９をオン・オフ駆動し、復路においては常にオフ駆動するように制御する。さらに、ミラー駆動部２５は、ガルバノミラー２２を一定周波数Ｆmで駆動するものであり、例えば図４に示すようにレーザビームＬbの往路走査時間に相当する立上がり時間がＴ1及び復路走査時間に相当する立下り時間がＴ2である鋸歯状波で駆動される。また、レーザ光源駆動部２６は、レーザ光源１７を予め設定された出力で駆動させるものである。さらに、演算部２７は、予め設定された初期設定値に基づいて例えば被露光体４の搬送速度Ｖや、光スイッチ９の切換周波数Ｆs等を演算するものである。また、メモリ２８は、各要素の初期設定値を記憶すると共に露光パターンのＣＡＤデータを記憶するものである。そして、制御部２９は、各要素が適切に駆動するように装置全体を統合して制御するものである。
【００３１】
次に、このように構成された露光装置の動作について説明する。
先ず、被露光体４の搬送方向（矢印Ａ方向）の露光ピッチＰ1、レーザビームＬbの走査方向の露光ピッチＰ2、ガルバノミラー２２の駆動周波数（レーザビームＬbの走査周波数に相当）Ｆm、レーザビームＬbの走査幅Ｗ、レーザ光源１７のパワー等の初期設定値、及び露光パターンのＣＡＤデータをメモリ２８に記憶する。
【００３２】
この場合、被露光体４の搬送速度Ｖは、被露光体４の搬送方向の露光ピッチＰ1とガルバノミラー２２の駆動周波数Ｆmとに基づいて演算部２７においてＶ＝Ｐ1・Ｆmの関係式を演算することにより算出することができる。また、光スイッチ９の切換周波数Ｆsは、レーザビームＬbの走査方向の露光ピッチＰ2、レーザビームＬbの走査幅Ｗ、レーザビームＬbの往路走査時間Ｔ1（図４参照）に基づいて演算部２７においてＦs＝Ｗ／（Ｐ2・Ｔ1）の関係式を演算することによって算出される。なお、被露光体４の搬送速度Ｖ及び光スイッチ９の切換周波数Ｆsを初期設定値として直接入力してもよい。
【００３３】
次に、搬送手段１上に被露光体４が載置される。そして、露光開始スイッチが投入されると、搬送手段１のステージ５の上面５ａと被露光体４との間に空気層が形成され、被露光体４が一定量だけ浮上された状態で図示省略の搬送機構によって両端縁部が保持されて速度Ｖで搬送される。
【００３４】
また、レーザ光源１７からはレーザ光Ｌが放射され、光ファイバ１８によってパターンジェネレータ６側に導かれる。そして、ロッドレンズ１９によって光強度分布が均一化された後、ビームエキスパンダ２０によって一定方向（被露光体４の搬送方向と交差する方向）に拡幅されてパターンジェネレータ６に入射する。
【００３５】
パターンジェネレータ６においては、入射したレーザ光Ｌは、先ず第１の偏光ビームスプリッタ１４によって偏光面１４ａ（図２参照）を透過するＰ偏光と偏光面１４ａで反射されるＳ偏光に分離される。なお、以下の説明においては、Ｐ偏光を露光に使用する場合について述べるが、Ｓ偏光を使用してもよい。
【００３６】
第１の偏光ビームスプリッタ１４の偏光面１４ａを透過したＰ偏光のレーザ光Ｌは、レンズアレイ１６の複数のマイクロレンズによって複数のレーザビームＬbに分割されて、それぞれ後段のスイッチング素子組立体１３の対応するスイッチング素子１０に入射する。
【００３７】
各スイッチング素子１０は、パターンジェネレータ駆動部２４によりＣＡＤデータに基づいて切換周波数Ｆsでオン・オフ駆動される。そして、各スイッチング素子１０を通過したレーザビームＬbは、第２の偏光ビームスプリッタ１５によって偏光面１５ａ（図２参照）の透過が制限される。例えば、図５（ａ）に示すように、スイッチング素子１０がオン駆動されている場合には、スイッチング素子１０に入射したＰ偏光のレーザビームＬbは、スイッチング素子１０内を通過中に偏波面が９０°回転されてＳ偏光となる。このとき、第１の偏光ビームスプリッタ１４と第２の偏光ビームスプリッタ１５とは、光軸を中心に互いに９０°回転した状態に配置されているため、スイッチング素子１０を射出したＳ偏光は、第２の偏光ビームスプリッタ１５の偏光面１５ａに対してはＰ偏光の関係となり、この偏光面１５ａを透過して被露光体４上に到達することができる。
【００３８】
一方、図５（ｂ）に示すように、スイッチング素子１０がオフ駆動されている場合には、スイッチング素子１０に入射したＰ偏光のレーザビームＬbは、スイッチング素子１０内で偏波面が回転されずＰ偏光のままである。したがって、このＰ偏光は、第２の偏光ビームスプリッタ１５の偏光面１５ａに対してはＳ偏光の関係となり、この偏光面１５ａで反射されて被露光体４上に到達することができない。
【００３９】
パターンジェネレータ６を射出した複数のレーザビームＬbは、第２のｆθレンズ２１により光軸側に絞られた後、ガルバノミラー２２のミラー面に入射する。そして、駆動周波数Ｆmの鋸歯状波によって駆動されるガルバノミラー２２のミラー面によって反射され、第１のｆθレンズ８を介して被露光体４上を走査幅Ｗで被露光体４の搬送方向（矢印Ａ方向）と交差する方向（矢印Ｂ，Ｃ方向）に等速走査される。
【００４０】
これにより、図６に示すように、矢印Ａ方向に搬送中の被露光体４上をレーザビームＬbが矢印Ｂ方向に走査されている間にスイッチング素子１０が切換周波数Ｆsでオン・オフ駆動される。したがって、被露光体４の搬送方向と交差する方向に露光ピッチＰ2で１ライン分の露光が実行される。また、レーザビームＬbが矢印Ｃ方向へ走査されている間は、スイッチング素子１０は全てオフ駆動されるため、この間の露光は停止される。そして、レーザビームＬbの１回目の往復走査が終了すると、レーザビームＬbの照射位置は、被露光体４が矢印Ａ方向に速度Ｖで搬送されているため、先の照射位置から露光ピッチＰ1だけ後方にずれた位置となる。これにより、レーザビームＬbの２回目の往復走査中に上記先の１ライン分の露光に続いて、次の１ライン分の露光が実行される。以下、同様にしてレーザビームＬbを往復走査しながら、未露光部を生じさせることなく、被露光体４上の露光領域内を均一に露光することができる。この場合、光スイッチ９をＣＡＤデータに基づいて適切に駆動すると、被露光体４上に緻密な露光パターンを形成することができる。なお、同図において、破線は、隣接するレーザビームＬbによる隣接する露光領域の露光を示している。
【００４１】
なお、ガルバノミラー２２に替えてポリゴンミラーを使用すれば図４に示すレーザビームＬbの復路走査時間Ｔ2を短縮することができる。したがって、レーザビームＬbの走査周波数を上げて被露光体４の搬送速度をより速くすることができる。これにより、露光工程のタクトをより向上することができる。
【００４２】
図７は、本発明の露光装置による第２の実施形態を示す概略構成図である。以下、第１の実施形態と異なる部分について説明する。なお、図７においては、制御手段３は図示省略されている。
この第２の実施形態は、第１のｆθレンズ８と搬送手段１との間に光走査手段としての音響光学素子（ＡＯＤ）３０を配置したものである。なお、図７において符号３１は全反射ミラーである。
【００４３】
このような第２の実施形態によっても、被露光体４上を走査する光ビームの走査距離を短くして露光工程のタクトを短縮するという本発明の目的を達成することができる。また、光走査手段７が第１の実施形態におけるような機械的動作の光偏向ミラーではなく、電子的動作の音響光学素子３０であるため、経時的変化が少なくレーザビームＬbを長時間安定して走査することができる。したがって、露光装置の信頼性を向上することができる。
【００４４】
図８は、本発明の露光装置による第３の実施形態を示す概略構成図である。以下、第１及び第２の実施形態と異なる部分について説明する。なお、図８においては、制御手段３は図示省略されている。
この第３の実施形態は、第１のｆθレンズ８の物体側焦点位置に光走査手段７として電気光学素子３２を配置したものである。この電気光学素子３２は、図９に示すように角型ブロック状の電気光学結晶材料３３の対向面に該対向面の光軸に平行な軸対して傾斜した辺３４を有する三角形の一対の電極３５Ａ，３５Ｂを設けた構成を成している。
【００４５】
この場合、上記一対の電極３５Ａ，３５Ｂ間に印加する電圧を変化させると、該一対の電極３５Ａ，３５Ｂに挟まれた電気光学結晶材料３３の屈折率が変化する。したがって、電気光学素子３２に入射したレーザビームＬbは、電極３５Ａ，３５Ｂの傾斜した辺３４に対応する境界面において屈折することになる。それ故、レーザビームＬbは、上記印加電圧の変化に応じて、図９に示す矢印Ｂ，Ｃ方向に走査される。なお、図９においては、複数のレーザビームＬbに対応して複数の電極３５Ａ，３５Ｂを設けた場合について示している。
【００４６】
このような第３の実施形態によっても、被露光体４上を走査する光ビームの走査距離を短くして露光工程のタクトを短縮するという本発明の目的を達成することができる。また、レーザビームＬbが第１の実施形態におけるような機械的に走査されるのではなく、電子的に走査されるため、光走査手段７の経時的変化が少なくレーザビームＬbを長時間安定して走査することができる。したがって、露光装置の信頼性を向上することができる。
【００４７】
なお、上記第３の実施形態においては、電気光学素子３２を第１のｆθレンズ８の物体側焦点位置に配置した場合について説明したが、第１のｆθレンズ８の光射出側に配置してもよい。だだ、第１のｆθレンズ８の物体側焦点位置に配置した方が、レーザビームＬbの走査角度が小さくてすむ。
【００４８】
また、以上の説明においては、光スイッチ９が電気光学結晶材料を用いたものである場合について述べたが、本発明はこれに限られず、光スイッチ９は、オン・オフ駆動するマイクロミラーであってもよい。したがって、パターンジェネレータ６は、複数のマイクロミラーを一定の配列ピッチで一列に並べたマイクロミラーアレイであってもよい。
【符号の説明】
【００４９】
１…搬送手段
３…制御手段
６…パターンジェネレータ
７…光走査手段
８…第１のｆθレンズ（ｆθレンズ）
９…光スイッチ
１０…スイッチング素子
１１ａ，１１ｂ…電極
１４…第１の偏光ビームスプリッタ（偏光素子）
１５…第２の偏光ビームスプリッタ（偏光素子）
２１…第２のｆθレンズ（別のｆθレンズ）
２２…ガルバノミラー
３０…音響光学素子（光走査手段）
３２…電気光学素子（光走査手段）
３３…電気光学結晶材料
３５Ａ，３５Ｂ…電極
【図１】
0005604745.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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