(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の厚さの熱収縮層、及び前記熱収縮層の一面に形成されたバリア層を含み、前記熱収縮層の厚さが、０．１〜１０μｍの範囲であり、前記バリア層の厚さが、１００〜２０００Åの範囲であり、前記熱収縮層の最小厚さを、前記バリア層の厚さより厚く形成することを特徴とする、前記バリア層の表面に画像が表示されうる表示装置に用いられるバリア・フィルム複合体を準備する段階と、
基板上に発光素子を形成する段階と、
前記発光素子が形成された基板に、前記熱収縮層が前記発光素子に接触するように前記バリア・フィルム複合体をアラインし、前記熱収縮層に所定の熱を加える段階と、を含み、
前記熱収縮層に所定の熱を加える段階において、前記熱収縮層が、前記発光素子と熱収縮層との間に形成された空隙を埋め合わせ、前記発光素子と接触する面に、前記発光素子の表面形状に整合された表面が形成されるように収縮されることを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記バリア・フィルム複合体を前記発光素子にアラインする時に、所定の圧力を加えることを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記熱収縮層および前記バリア層は、複数の層が交互に積層されることを特徴とする請求項１または２に記載の表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記発光素子は、有機発光素子であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、バリア・フィルム複合体、これを含む表示装置及び表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
バリア（ｂａｒｒｉｅｒ）層とデカップリング（ｄｅｃｏｕｐｌｉｎｇ）層とが交互に積層された構造を有する薄膜のバリア・フィルム複合体が知られている。かようなバリア・フィルム複合体は、典型的には、気相蒸着のように、バリア材料とデカップリング材料とを交互に層状に蒸着することによって形成される。デカップリング層は、一般的には、数十μｍ以下の厚みを有するが、バリア層は典型的には、数百Åの厚さを有する。
【０００３】
フィルム上に多層のバリア層がコーティングされたバリア・フィルム複合体は、例えば、特許文献１〜９に開示されているように、非常に優れたバリア性能を有する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】米国特許第６，２６８，６９５号明細書
【特許文献２】米国特許第６，５２２，０６７号明細書
【特許文献３】米国特許第６，５７０，３２５号明細書
【特許文献４】米国特許第６，８６６，９０１号明細書
【特許文献５】米国特許第７，１９８，８３２号明細書
【特許文献６】米国特許出願第１１／０６８，３５６号明細書
【特許文献７】米国特許出願第１１／６９３，０２０号明細書
【特許文献８】米国特許出願第１１／６９３，０２２号明細書
【特許文献９】米国特許出願第１１／７７６，６１６号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１〜９に記載のような、フィルム上に多層のバリア層がコーティングされたバリア・フィルム複合体においては、物体や基板とバリア・フィルム複合体との間に空隙（欠陥）を生じる場合がある（図１０Ａ、図１１Ａ参照）。
【０００６】
そこで、本発明は、物体や基板とバリア・フィルム複合体との間に生じた空隙（欠陥）を、バリア・フィルム複合体の持つ特性を利用することによって、バリア・フィルム複合体の平らな（平坦な）外表面を維持したまま、埋め込む（除く、除去する）ことのできる、収縮可能な（収縮性の）（ｓｈｒｉｎｋａｂｌｅ）バリア・フィルム複合体、これを含む表示装置、前記バリア・フィルム複合体の製造方法、及びこれを含む表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明は、物体と接触する一面は、前記物体の表面形状に整合（一致）された表面を有し、他面は、平らに（平坦に）形成された熱収縮層と、前記熱収縮層の他面に平らに（平坦に）形成されたバリア層と、を含むバリア・フィルム複合体を提供する。
【０００８】
本発明の一実施形態によれば、前記熱収縮層の最小厚さは、前記バリア層の厚さより厚い。
【０００９】
本発明の他の実施形態によれば、前記熱収縮層は、物体と熱収縮層との間に形成された空隙を埋め合わせ（除き、ないし除去し）、前記物体と接触する面に、前記物体の表面形状に整合（一致）された表面を有するように、所定温度で（好ましくは、更には所定圧力を負荷して）熱収縮されうる。
【００１０】
本発明の他の実施形態によれば、前記熱収縮層の最小厚さは、前記物体と前記熱収縮層との間に形成された空隙の最大サイズよりも厚い。
【００１１】
本発明の他の実施形態によれば、前記熱収縮層は、有機高分子を含むことができる。
【００１２】
本発明の他の実施形態によれば、前記バリア層は、単一の金属、２以上の金属を含む金属混合物、金属間化合物、合金、金属酸化物、混合金属酸化物、金属フッ化物、混合金属フッ化物、金属窒化物、混合金属窒化物、金属炭化物、混合金属炭化物、金属炭窒化物、混合金属炭窒化物、金属酸窒化物、混合金属酸窒化物、金属ホウ化物、混合金属ホウ化物、金属酸ホウ化物、混合金属酸ホウ化物、金属シリサイド、混合金属シリサイド、及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも一つを含むことができる。
【００１３】
本発明の他の実施形態によれば、前記熱収縮層および前記バリア層は、複数の層が交互に積層されうる。
【００１４】
本発明の他の実施形態によれば、基板；前記基板上に位置した発光素子；前記発光素子と接触する一面は、前記発光素子の表面形状に整合（一致）された表面を有し、他面は、平らに（平坦に）形成された熱収縮層と、前記熱収縮層の他面に平らに（平坦に）形成されたバリア層と、を含むバリア・フィルム複合体；を含む表示装置を提供する。
【００１５】
本発明の他の実施形態によれば、前記熱収縮層の最小厚さは、前記バリア層の厚さより厚い。
【００１６】
本発明の他の実施形態によれば、前記熱収縮層は、前記発光素子と熱収縮層との間に形成された空隙を埋め合わせ（除き、ないし除去し）、前記発光素子と接触する面に、前記発光素子の表面形状に整合（一致）された表面を有するように、所定温度で（好ましくは、更には所定圧力を負荷して）収縮されうる。
【００１７】
本発明の他の実施形態によれば、前記熱収縮層の最小厚さは、前記発光素子との間に形成された空隙の最大サイズより厚い。
【００１８】
本発明の他の実施形態によれば、前記熱収縮層および前記バリア層は、複数の層が交互に積層されうる。
【００１９】
本発明の他の実施形態によれば、前記熱収縮層は、前記発光素子から発生した光を透過できる。
【００２０】
本発明の他の実施形態によれば、前記バリア層の表面に画像が表示されうる。
【００２１】
本発明の他の実施形態によれば、前記発光素子は、有機発光素子でありうる。
【００２２】
本発明の他の実施形態は、所定厚さの熱収縮層、及び前記熱収縮層の一面に形成されたバリア層を含むバリア・フィルム複合体を準備する段階と、基板上に発光素子を形成する段階と、前記発光素子が形成された基板に、前記熱収縮層が前記発光素子に接触する（向かう）ように前記バリア・フィルム複合体をアラインし、前記熱収縮層に所定の熱を加える段階と、を含む表示装置の製造方法を提供する。
【００２３】
本発明の他の実施形態によれば、前記熱収縮層の最小厚さは、前記バリア層の厚さより厚く形成されうる。
【００２４】
本発明の他の実施形態によれば、前記熱収縮層に所定の熱を加える段階において、前記熱収縮層が、前記発光素子と熱収縮層との間に形成された空隙を埋め合わせ（除き、ないし除去し）、前記発光素子と接触する面に、前記発光素子の表面形状に整合（一致）された表面が形成されるように収縮されうる。
【００２５】
本発明の他の実施形態によれば、前記バリア・フィルム複合体を前記発光素子にアラインする時に、所定の圧力を加えることができる。
【００２６】
本発明の他の実施形態によれば、前記熱収縮層および前記バリア層は、複数の層が交互に積層されうる。
【００２７】
本発明の他の実施形態によれば、前記発光素子は、有機発光素子である。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、対象物体の表面に整合される熱収縮層と平坦なバリア層とを含むバリア・フィルム複合体、これを含む表示装置、及びその製造方法が提供される。
【００２９】
本発明では、物体（有機発光素子など）や基板とバリア・フィルム複合体との間に生じた空隙（欠陥）を、本発明のバリア・フィルム複合体の持つ特性を利用することによって、当該バリア・フィルム複合体の平らな（平坦な）外表面を維持したまま、埋め込む（除く、除去する）ことができる。その結果、本発明のバリア・フィルム複合体を含む、有機発光素子を備えた表示装置では、有機発光素子から放出される光が、空隙（欠陥）の通過なしに直接熱収縮層とバリア層とを通過させることができるため、光効率の低下を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１Ａ】バリア・フィルム複合体及びその製造方法を示す概略図である。
【図１Ｂ】バリア・フィルム複合体及びその製造方法を示す概略図である。
【図１Ｃ】バリア・フィルム複合体及びその製造方法を示す概略図である。
【図２】図１Ｃのバリア・フィルム複合体が適用された有機発光表示装置の概略図である。
【図３Ａ】バリア・フィルム複合体及びその製造方法を示す概略図である。
【図３Ｂ】バリア・フィルム複合体及びその製造方法を示す概略図である。
【図３Ｃ】バリア・フィルム複合体及びその製造方法を示す概略図である。
【図４】バリア・フィルム複合体の概略図である。
【図５Ａ】バリア・フィルム複合体の概略図である。
【図５Ｂ】バリア・フィルム複合体の概略図である。
【図６】バリア・フィルム複合体の概略図である。
【図７】バリア・フィルム複合体の概略図である。
【図８】図７のバリア・フィルム複合体が適用された有機発光表示装置の概略図である。
【図９】バリア・フィルム複合体の概略図である。
【図１０Ａ】本発明の一実施形態によるバリア・フィルム複合体及びその製造方法を示す概略図である。
【図１０Ｂ】本発明の一実施形態によるバリア・フィルム複合体及びその製造方法を示す概略図である。
【図１１Ａ】有機発光素子にバリア・フィルム複合体が適用された有機発光表示装置の概略図である。
【図１１Ｂ】有機発光素子にバリア・フィルム複合体が適用された有機発光表示装置の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
本発明の一実施形態は、物体と接触する一面は、前記物体の表面形状に整合（一致）された表面を有し、他面は、平らに（平坦に）形成された熱収縮層と、前記熱収縮層の他面に平らに（平坦に）形成されたバリア層と、を含むことを特徴とするバリア・フィルム複合体である。
【００３２】
フィルム上に多層のバリア層がコーティングされた既存のバリア・フィルム複合体では、例えば、特許文献１〜９に開示されているように、非常に優れたバリア性能を有することから、本発明では、こうした文献に開示されているバリア・フィルム複合体に関する技術を適宜利用することができるものである。
【００３３】
バリア層の数は、特に制限されない。必要なバリア層の数は、使われる基板の材料と、必要な透過抵抗（ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ  ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ）の程度とに依存する。応用によっては、１つまたは２つのバリア層であれば、十分なバリア特性を提供できる。最も厳しい応用においては、５つまたはそれ以上のバリア層を含むバリア・フィルム複合体が要求されうる。
【００３４】
前記バリア・フィルム複合体は、１層またはそれ以上のデカップリング層、及び１層またはそれ以上のバリア層を有することができる。１層のデカップリング層と１層のバリア層とが位置したり、１層またはそれ以上のバリア層の一面に、１層またはそれ以上のデカップリング層が位置したり、１層またはそれ以上のバリア層の両面に、１層またはそれ以上のデカップリング層が位置したり、１層またはそれ以上のデカップリング層の両面に、１層またはそれ以上のバリア層が位置しうる。重要な特徴は、前記バリア・フィルム複合体が少なくとも１層のデカップリング層と、少なくとも１層のバリア層とを有するということである。前記バリア・フィルム複合体に含まれるバリア層は、互いに同じ材料または異なる材料から構成されうる。同様に、デカップリング層も互いに同じ材料または異なる材料から構成されうる。
【００３５】
バリア層は、典型的には、約１００Åないし約２，０００Åの厚さを有する。望ましくは、最初のバリア層は、後続のバリア層よりさらに厚い。例えば、最初のバリア層は、約１，０００Åないし約１，５００Åの範囲の厚さである。後続のバリア層は、約４００Åないし約５００Åの範囲の厚さでありうる。一実施形態によれば、最初のバリア層は、後続のバリア層より薄い。例えば、最初のバリア層が、約１００Åないし約４００Åの範囲の厚さであり、後続のバリア層は、約４００Åないし約５００Åの範囲の厚さでありうる。デカップリング層は、典型的には、約０．１μｍないし約１０μｍの厚さでありうる。望ましくは、最初のデカップリング層は、後続のデカップリング層より厚い。例えば、最初のデカップリング層は、約３μｍないし５μｍの範囲の厚さである。後続のデカップリング層は、約０．１μｍないし２μｍの範囲の厚さでありうる。
【００３６】
前記バリア・フィルム複合体は、同一の層または異なる層を有することができ、前記層は、同一順序、あるいは異なる順序によって形成されうる。
【００３７】
上記の少なくとも１つのデカップリング層は、同一のデカップリング材料、または異なるデカップリング材料から形成されうる。前記デカップリング層は、例えば、有機高分子、無機元素を含む高分子、有機金属高分子、有機／無機ハイブリッド（ｈｙｂｒｉｄ）高分子系、及びこれらの組み合わせから選択される任意の適切なデカップリング材料から構成されうるが、これらに限定されるものではない。有機高分子としては、例えば、ポリウレタン（ウレタン樹脂）、ポリアミド、ポリイミド、ポリブチレン、ポリイソブチレン、ポリイソプレン、ポリオレフィン、ポリエポキシ（エポキシ樹脂）、パリレン（パラキシリレン系ポリマーの総称）、ベンゾシクロブタジエン（重合体；ベンゾシクロブテン樹脂）、ポリノルボルネン、ポリアリールエーテル、ポリカーボネート、アルキド（アルキド樹脂）、ポリアニリン、エチレンビニルアセテート、エチレンアクリル酸共重合体、及びこれらの組み合わせから選択される材料が用いられうるが、これらに限定されるものではない。無機元素を含む高分子としては、例えば、ポリシリコン（シリコン樹脂）、ポリホスファゼン、ポリシラザン、ポリカルボシラン、ポリカルボラン、ポリ（カルボランシロキサン）、ポリシラン、ポリ（ホスホニトリル）、窒化硫黄ポリマー（ｓｕｌｆｕｒ  ｎｉｔｒｉｄｅ  ｐｏｌｙｍｅｒ）、ポリシロキサン（シリコーン樹脂）、及びこれらの組み合わせから選択される材料が用いられうるが、これらに限定されるものではない。有機金属高分子としては、例えば、典型元素（主族）金属（ｍａｉｎ  ｇｒｏｕｐ  ｍｅｔａｌ）、遷移金属、ランタノイド／アクチノイド金属、またはこれらの組み合わせから選択される金属を含む有機金属高分子でありうるが、これらに限定されるものではない。有機／無機ハイブリッド高分子系は、有機的に修飾されたケイ酸塩（ｏｒｇａｎｉｃａｌｌｙ  ｍｏｄｉｆｉｅｄ  ｓｉｌｉｃａｔｅ）、プレセラミックポリマー（ｐｒｅｃｅｒａｍｉｃ  ｐｏｌｙｍｅｒｓ）、ポリイミド−シリカ・ハイブリッド、（メタ）アクリレート−シリカ・ハイブリッド、ポリジメチルシロキサン−シリカ・ハイブリッド、及びこれらの組み合わせから選択されうるが、これらに限定されるものではない。
【００３８】
上述の少なくとも１つのバリア層は、同一のバリア材料、または異なるバリア材料によって形成されうる。前記バリア層は、任意の適切なバリア材料から構成されうる。前記バリア材料としては、金属を含む適切な無機材料、ｐ型半導体及び非金属を含む適切な無機材料が挙げられる。このうち、前記金属を含む適切な無機材料としては、例えば、単一の金属、２以上の金属を含む金属混合物、金属間化合物、合金、金属酸化物、混合金属酸化物、金属フッ化物、混合金属フッ化物、金属窒化物、混合金属窒化物、金属炭化物、混合金属炭化物、金属炭窒化物、混合金属炭窒化物、金属酸窒化物、混合金属酸窒化物、金属ホウ化物、混合金属ホウ化物、金属酸ホウ化物、混合金属酸ホウ化物、金属シリサイド、混合金属シリサイド、及びこれらの組み合わせから選択される材料が用いられるが、これらに限定されるものではない。前記金属としては、例えば、遷移（ｄ−ブロック）金属、ランタン系（ｆ−ブロック）金属、アルミニウム、インジウム、ゲルマニウム、スズ、アンチモン、ビスマス、及びこれらの組み合わせから選択されうるが、これらに限定されるものではない。これらの金属を含む材料の多くは、導体または半導体でありうる。前記金属フッ化物及び酸化物は、特に制限されないが、誘電体（絶縁体）、半導体及び金属導電体から選択される１以上でありうる。前記金属導電体酸化物は、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ａｌｕｍｉｎｕｍ  ｄｏｐｅｄ  ｚｉｎｃ  ｏｘｉｄｅ）、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化アンチモンスズ（ＡＴＯ）、酸化チタン（ＴｉＯｘ、ここで０．８≦ｘ≦１）、及び酸化タングステン（ＷＯｘ、ここで２．７≦ｘ＜３．０）から選択される１以上でありうるが、これらに限定されるものではない。また、ｐ型半導体及び非金属を含む適切な無機材料としては、例えば、ケイ素、ケイ素化合物、ホウ素、ホウ素化合物、非晶質炭素およびダイアモンドライクカーボンなどの炭素化合物、及びこれらの組み合わせから選択されうるが、これらに限定されるものではない。前記ケイ素化合物としては、例えば、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ、ここで１≦ｘ≦２）、ポリケイ酸（ｐｏｌｙｓｉｌｉｃｉｃ  ａｃｉｄ）、アルカリケイ酸（ａｌｋａｌｉ  ｓｉｌｉｃａｔｅ）、アルカリ土類ケイ酸塩（ａｌｋａｌｉｎｅ  ｅａｒｔｈ  ｓｉｌｉｃａｔｅｓ）、ケイ酸アルミニウム（ＡｌｘＳｉＯｙ）、シリコン窒化物（ＳｉＮｘＨｙ、ここで０≦ｙ＜１）、シリコン酸窒化物（ＳｉＮｘＯｙＨｚ、ここで０≦ｚ＜１）、シリコン炭化物（ＳｉＣｘＨｙ、ここで０≦ｙ＜１）、及びシリコンアルミニウム酸窒化物（ＳｉＡｌＯＮｓ）から選択されうるが、それらに限定されるものではない。前記ホウ素化合物としては、例えば、ホウ素炭化物、ホウ素窒化物、ホウ素酸窒化物、ホウ素炭窒化物、及びこれらの組み合わせから選択されうるが、これらに限定されるものではない。
【００３９】
前記バリア層は、例えば、一般的な真空工程であるスパッタリング、蒸着、昇華、化学気相蒸着（ＣＶＤ）、プラズマ強化化学気相蒸着（ＰＥＣＶＤ）、電子サイクロトロン共鳴−プラズマ強化化学気相蒸着（ＥＣＲ−ＰＥＣＶＤ）、及びこれらの組み合わせから選択される適切な工程によって蒸着されうるが、これらに限定されるものではない。
【００４０】
前記デカップリング層は、平坦度の高い表面を与えうる、大気工程及び真空工程を含む任意の公知工程で作製されうる。前記デカップリング層は、液体の層をデポジットした後、前記液体の層を固体フィルムに処理する工程によって形成されうる。前記デカップリング層を液体としてデポジットすると、液体が基板や下層に存在するデフェクト（欠陥）上に流れ、低い領域を満たし、かつ高い位置の点を覆うため、非常に改善された平坦度を有する表面を提供できる。前記デカップリング層が固体フィルムに処理される際、改善された表面の平坦度は維持されうる。液体材料で層をデポジットし、その液体の層を固体フィルムに処理する適切な工程は、真空工程及び大気工程を含みうるが、これらに限定されるものではない。適切な真空工程としては、例えば、米国特許第５，２６０，０９５号、同第５，３９５，６４４号、同第５，５４７，５０８号、同第５，６９１，６１５号、同第５，９０２，６４１号、同第５，４４０，４４６号及び同第５，７２５，９０９号に開示された工程が用いられうるが、これらに限定されるものではない。米国特許第５，２６０，０９５号、同第５，３９５，６４４号及び同第５，５４７，５０８号に開示された液体拡散装置（ｌｉｑｕｉｄ  ｓｐｒｅａｄｉｎｇ  ａｐｐａｒａｔｕｓ）によれば、液体状の単量体（ｍｏｎｏｍｅｒ）を受け基板上に離れて位置する領域に正確に印刷することができる。
【００４１】
適切な大気工程としては、例えば、スピンコーティング、印刷法、インクジェット印刷法及び／またはスプレー法などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。大気工程は、周辺大気を利用できる約１大気圧下で進められる工程を意味する。大気工程の利用は、バリア層を蒸着する真空環境下の操作と、デカップリング層に係わる周辺条件下の操作とを繰り返さなければならない問題、及び環境に敏感な素子を、酸素及び水分のような環境的な混入物質にさらす問題などを含み、困難である。かような問題点を緩和するための１つの方法は、大気工程の間、受け基板の環境的な混入物質に対する露出を調節するために、特別のガス（パージガス）を使用する方法である。例えば、前記工程は、バリア層蒸着のための真空環境と、大気工程のための周辺圧力（ａｍｂｉｅｎｔ  ｐｒｅｓｓｕｒｅ）窒素環境との間を交互に繰り返すことを含む。インクジェット印刷法などの印刷法によれば、マスクを使用せずに、デカップリング層を正確な領域にデポジットすることができる。
【００４２】
前記デカップリング層を設ける１つの方法は、高分子前駆体を含む（メタ）アクリレートのような高分子前駆体をデポジットし、前記高分子前駆体をインサイチュ（ｉｎ  ｓｉｔｕ）で重合してデカップリング層を形成することである。本明細書中、高分子前駆体という用語は、重合して、高分子を形成できる材料を意味し、単量体、オリゴマー、および樹脂などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。デカップリング層を設ける他の方法として、プレセラミック前駆体を、液体としてスピンコーティングでデポジットした後、固体層に変換する方法が挙げられる。ガラスまたは酸素コーティングされた基板の上に直接形成されたかようなタイプのフィルムは、全熱変換（ｆｕｌｌ  ｔｈｅｒｍａｌ  ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎ）が可能である。一部の柔軟性基板と相溶性を有する温度で、セラミックに全部が変換されるわけではないが、架橋ネットワーク構造（ｃｒｏｓｓ−ｌｉｎｋｅｄ  ｎｅｔｗｏｒｋ  ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）への部分的な変換で十分である。かようなタイプの高分子の一部の架橋および／または高密度化に電子ビーム法が用いられうる。基板が電子ビームの露出下で取り扱い可能であれば、基板の熱的制限を克服するために、熱的手法と組み合わせて電子ビーム法が用いられうる。デカップリング層を設けるさらに他の方法として、高分子前駆体のような材料を液体状態で、融点（ｍｅｌｔｉｎｇ  ｐｏｉｎｔ）以上の温度でデポジットし、連続してデポジットされた高分子前駆体を適所で冷却する方法が挙げられる。
【００４３】
バリア・フィルム複合体を設ける方法は、特に制限されないが、例えば、基板を提供し、バリア蒸着ステーションで、前記基板に隣接してバリア層を蒸着することを含む方法が用いられうる。バリア層が形成された基板は、デカップリング材料デポジットステーションに移動する。開口の備わったマスクが提供され、これによって前記バリア層によって覆われた領域内に前記領域よりも小さな領域に、デカップリング層がデポジットされるようにする。最初に形成される層は、バリア・フィルム複合体の設計に応じて、バリア層またはデカップリング層でありうる。
【００４４】
このように形成されたバリア・フィルム複合体は、それぞれ相対的に柔軟である。前記バリア・フィルム複合体は、典型的には７ｍｍ半径スピンドルに巻いた場合にはじめて、クラッキング（ｃｒａｃｋｉｎｇ）が始まる。現段階で、薄い（約６０ｎｍ）アルミニウム酸化物バリア層を有するバリア・フィルム複合体は、約０．７５％の引っ張り歪み（ｔｅｎｓｉｌｅ  ｓｔｒａｉｎ）の付近でクラックを示し始める。材料や接着性の最適化によって、クラックが生じ始める閾値をさらに高い値に移動させることができると考えられるが、数パーセントの延伸率までは伸長しないであろう。
【００４５】
本発明のバリア・フィルム複合体は、ほぼ無応力（ｓｔｒｅｓｓ  ｆｒｅｅ）（酸化アルミニウム層の引っ張りストレス（ｔｅｎｓｉｌｅ  ｓｔｒｅｓｓ）は、わずか４７１ＭＰａであり、高分子層の引っ張りストレスは、これよりはるかに低い）であることがわかり、結果的に、平坦であり、熱処理下で、カール（ｃｕｒｌ）が生じないフィルムが得られうる。
【００４６】
本発明のバリア・フィルム複合体のバリア特性は、好ましくは、１×１０−６ｇ／ｍ２／ｄａｙの水蒸気透過速度（ＷＶＴＲ；ｗａｔｅｒ  ｖａｐｏｒ  ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ  ｒａｔｅ）を示す。
【００４７】
伸長自在なバリア・フィルム複合体は、環境に配慮した材料と部材とに適用され、フレキシブルディスプレイや太陽電池から、自動車のバンパー、腐食防止のための医療的適用に至るまで、広い範囲で適用することができる。
【００４８】
三次元構造体に、例えば塗料を湿式またはスプレーコーティングする代わりに、次第に多くの産業で、環境を破壊する化学物質を用いた湿式工程や、結果として生じる混入物質及び流出廃棄物の処理を回避することができ、例えば、自動車のバンパーのような対象にラッピング可能であり、かつモールディング可能なコーティングが要求されている。
【００４９】
伸長自在なバリア・フィルム複合体は、例えば、前記バリア・フィルム複合体をモールドに入れ、プラスチックを前記モールドに注入することによって、外側にバリア・フィルム複合体のコーティングが形成された三次元構造体を作製することに適用されうる。
【００５０】
伸長自在なバリア・フィルム複合体は、錠剤個別包装のための医療用包装にも潜在的に適用されうる。
【００５１】
上記のような構造体を実現する数多くの方法がある。かような方法は、前記バリア層の柔軟性を使用したり、前記バリア層が伸長時に壊れることを考慮する。
【００５２】
本発明の目的は、物体や基板とバリア・フィルム複合体との間に生じた空隙（欠陥）を、熱収縮層とバリア層とを有するバリア・フィルム複合体の持つ特性を利用することによって、バリア・フィルム複合体の平らな（平坦な）外表面を維持した状態で、埋め込む（除く、除去する）ことである。
【００５３】
また、本発明の他の目的は、熱収縮層とバリア層とを有するバリア・フィルム複合体を含み、有機発光素子を備えた表示装置において、有機発光素子と熱収縮層との間の空隙（欠陥）を埋め込む（除く、除去する）ことによって、有機発光素子から放出される光を空隙（欠陥）部分の通過なしに直接熱収縮層とバリア層とを通過させることによって、光効率（発光効率）の低下を防止することである。
【００５４】
また本発明の他の目的は、バリア層のクラッキングを防止したり、クラックを最小化して補償することである。得られたバリア層は、１×１０−６ｇ／ｍ２／ｄａｙのＷＶＴＲを充足しない場合もあるが、依然としてポリクロロトリフルオレン・フィルム（Ｈｏｎｅｙｗｅｌｌ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ，Ｉｎｃ．から購入可能なＡＣＬＡ（登録商標)フィルム）のような均一構造のバリア・フィルムより１００倍高いＷＶＴＲを有しうる。
【００５５】
図１Ａないし図１Ｃは、バリア・フィルム複合体及びその製造方法を示す概略図である。
【００５６】
図１Ａを参照すれば、はじめに、波状またはバブル状の表面１１０を備えたモールド１０５を準備する。上述のように、波状またはバブル状の表面１１０を設けるために、モールド１０５は、エンボス加工されたり、あるいはフォトリソグラフィ法で形成されうる。
【００５７】
前記モールド１０５の表面１１０に整合（一致）するように、デカップリング層１１５及びバリア層１２０が形成される。従って、デカップリング層１１５及びバリア層１２０は、非常に柔軟であり、かつ弾性の波状構造を形成する。結果として、デカップリング層１１５及びバリア層１２０は、伸長自在な（ｓｔｒｅｔｃｈａｂｌｅ）構造となる。好ましくは、デカップリング層１１５がモールド１０５の表面１１０上にコーティングされ、その後、バリア層１２０がデカップリング層１１５上に、デカップリング層１１５に沿ってスパッタリングされる。図１では、デカップリング層１１５がモールド１０５の表面１１０に直接形成されているが、上述のように、これは例示であり、デカップリング層１１５とバリア層１２０との積層順序は変わりうる。デカップリング層１１５としては、例えば、低いガラス転移温度（Ｔｇ）（例えば、約−８０℃ないし約４０℃）を有する架橋アクリレートが用いられうるが、それに限定されるものではない。この工程は、必要な場合、複数回反復され、デカップリング層１１５とバリア層１２０とが互いに追従した、交互になった層を設けることができる。
【００５８】
図１Ｂを参照すれば、好ましくは、デカップリング層１１５とバリア層１２０とが交互に積層された層の一面に、フィルム１２５が積層される。フィルム１２５には、デカップリング層１１５とバリア層１２０との波状が転写されて一面が波状を形成する。フィルム１２５は、好ましくは、伸長自在な材料から形成されている。従って、フィルム１２５は、伸長自在な構造となる。かようなフィルム１２５としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも一つが用いられうるが、これらに限定されるものではない。
【００５９】
図１Ｃを参照すれば、デカップリング層１１５とバリア層１２０とが交互になった層、及びフィルム１２５から構成されたバリア・フィルム複合体１から、モールド１０５が剥離（ｒｅｌｅａｓｅ）される。モールド１０５のバリア・フィルム複合体１からの剥離を円滑に行うために、モールド１０５の表面１１０と、前記表面１１０に直接形成される層との接着力は、フィルム１２５とデカップリング層１１５およびバリア層１２０が交互に積層された層との接着力より小さいことが望ましい。
【００６０】
結果として、モールド１０５が剥離されて、残ったデカップリング層１１５とバリア層１２０とが交互に積層された層と、フィルム１２５から構成されたバリア・フィルム複合体１は、非常に柔軟であり、かつ弾性の高分子波状構造体を提供できる。また、湿式またはスプーコーティングの代わりに、前述のように、モールド１０５を利用したモールディング方法を利用し、波状構造体を形成することによって、環境汚染問題を低減することができる。
【００６１】
図２は図１Ｃのバリア・フィルム複合体が適用された有機発光表示装置の概略図である。
【００６２】
前述のように、バリア・フィルム複合体は、環境に配慮した材料および部材と共に用いられ、またフレキシブル表示装置に適用されうる。有機発光表示装置は、酸素と水分とに弱い有機発光層を有し、次世代表示装置として、フレキシブル表示装置への要求が高い。
【００６３】
図２を参照すれば、有機発光表示装置１００は、基板１０の一面に、有機発光素子２０を備え、有機発光素子２０をバリア・フィルム複合体１を用いて封止している。図２には、バリア・フィルム複合体１が有機発光素子２０の封止部材として使われている例が示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。バリア・フィルム複合体１は、基板１０としても用いられうる。バリア・フィルム複合体１が封止部材としてのみ用いられる場合、基板１０は、例えば、プラスチック、ポリイミドのようなフレキシブル材料を含みうる。
【００６４】
有機発光素子２０は、第１電極層２１、有機発光層２３及び第２電極層２５を含む。
【００６５】
第１電極層２１及び第２電極層２５は、それぞれアノード及びカソードのうち一つとして用いられ、好ましくは、反射電極、透明電極または半透明電極でありうる。
【００６６】
有機発光層２３は、好ましくは、低分子有機材料または高分子有機材料を含みうる。有機発光層２３が低分子有機材料を含む場合、好ましくは、有機発光層２３上に、正孔輸送層（ＨＴＬ）および正孔注入層（ＨＩＬ）が順に積層され、有機発光層２３の反対側の表面に電子輸送層（ＥＴＬ）及び電子注入層（ＥＩＬ）が順に積層される。それら以外にも、必要に応じて多様な層が積層されうる。使用可能な低分子有機材料としては、例えば、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ’−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ、Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＢ）、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）などが挙げられるがこれらに制限されない。一方、有機発光層２３が高分子有機材料を含む場合、有機発光層２３以外に、正孔輸送層（ＨＴＬ）が含まれうる。正孔輸送層としては、例えば、ポリ−（２，４）−エチレン−ジヒドロキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）や、ポリアニリン（ＰＡＮＩ）などが使用できる。使用可能な高分子有機材料としては、例えば、ポリフェニレンビニレン（ＰＰＶ）系高分子及びポリフルオレン系高分子などが使用できるがこれらに限定されない。
【００６７】
前述のように、バリア・フィルム構造体１を含む有機発光表示装置１００は、柔軟であって弾性の構造を有し、フレキシブルディスプレイを具現できる。また、バリア・フィルム構造体１は、クラックが発生しない、または発生しにくく、したがって外部の水分と酸素とから有機発光層を保護することができる。
【００６８】
前述の説明は、有機発光表示装置を中心にして記述したが、それに限定されるものではない。すなわち、本実施形態によるバリア・フィルム複合体は、多様な表示装置に適用されうる。
【００６９】
図３Ａないし図３Ｃは、バリア・フィルム複合体２及びその製造方法を示す概略図である。
【００７０】
図３Ａを参照すれば、第１層１４０、及び第１層上の第２層１４５が形成され、前記第２層１４５上に、局所的に第１光照射Ｌ１が実施される。第１層１４０は、例えば、柔軟性材料のプラスチックを含みうる。第２層は、例えば、低いガラス転移温度（Ｔｇ）を有するソフト・モノマーを含みうる。ソフト・モノマーは、好ましくは、ｎ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート及びイソオクチルアクリレートなどの長鎖アルキルアクリレート（ｌｏｎｇｅｒ  ｃｈａｉｎ  ａｌｋｙｌ  ａｃｒｙｌａｔｅ）から選択される。第１光照射Ｌ１は、例えば、レーザ・ライティング（ｌａｓｅｒ  ｗｒｉｔｉｎｇ）、またはマスクを介した照射によって行なわれうる。
【００７１】
図３Ｂを参照すれば、第１光照射Ｌ１によって、第２層１４５の一面に、波状の表面１５０が形成される。第１光照射Ｌ１によって、局所的に照射された第２層１４５の一面は、収縮されたり拡張されて波状を形成し、第２光照射（図示せず）によって、波状が固定される。
【００７２】
図３Ｃを参照すれば、第２層１４５の波状の表面１５０上に、前述の実施形態と同様に、デカップリング層１１５とバリア層１２０とを積層する。第２層１４５上には、デカップリング層１１５とバリア層１２０との波状が転写され、一面が波状を形成する。
【００７３】
前述のように第１層１４０、前記第１層１４０上に一面が波状に形成された第２層１４５、及び波状のデカップリング層１１５とバリア層１２０とが交互に積層された層から構成されたバリア・フィルム複合体２は、非常に柔軟であり、かつ波状の表面を有し、伸縮性を示す、高分子を基材とする構造（弾性の高分子波状構造体）を提供できる。また、湿式またはスプーコーティングの代わりに、前述のように、光照射を利用して波状構造体を形成することによって、環境汚染問題を低減することができる。
【００７４】
図４は、三次元構造のバリア・フィルム複合体３の概略図である。
【００７５】
２００７年１月２６日付けで、題目「Ｔｈｒｅｅ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌ  Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ  Ｂａｒｒｉｅｒ  ａｎｄ  Ｍｅｔｈｏｄ  ｏｆ  Ｍａｋｉｎｇ」で提出された米国特許出願第１１／６２７５８３号に記載された三次元バリアの製造方法が参照されうる。
【００７６】
図４を参照すれば、デカップリング層としての高分子材料のバブル３１０は、バリア材料で形成されたバリア層３１５によって覆い包まれる。高分子材料のバブル３１０は、柔軟であって伸長自在である。伸長されるときに、ほとんどのバブルは、延びるものの破損されない。一部のバブルが破損されても、その破損された部分は、他のバブルによって覆われるために、その外側に直接通じる経路を提供しない。
【００７７】
図５Ａ及び図５Ｂは、バリア・フィルム複合体４−１、４−２の概略図である。
【００７８】
図５Ａを参照すれば、バリア・フィルム複合体４−１は、二重のバリア層４０５、４１０を含む。単層のバリア層の代わりに、バリア層４０５、４１０は、ゴムのように伸長可能な薄膜状（約１０ｎｍないし約１００ｎｍ）の高分子薄膜層４１５によって分離される２層のバリア層４０５、４１０からなる。ここで、前記高分子薄膜層４１５は、デカップリング層として作用しうる。ゴムのように伸長自在な高分子は、好ましくは、低いガラス転移温度（Ｔｇ）を有する架橋アクリレートを含みうるが、これに限定されるものではない。
【００７９】
図５Ｂを参照すれば、バリア・フィルム複合体４−２の高分子薄膜層４１５は、好ましくは、ゲッタ（ｇｅｔｔｅｒ）材料４２０を含む。ゲッタ材料４２０の粒子サイズは、ナノメートルスケール（例えば、約１ｎｍないし約１００ｎｍ）でありうる。前記ゴムのように伸長可能な高分子薄膜層４１５は、好ましくは、無機酸化物または窒化物の粒子を含み、水分が蛇行するような経路（ｔｏｒｔｕｏｕｓ  ｐａｔｈ）を与えうる。
【００８０】
図６は、バリア・フィルム複合体５の概略図である。
【００８１】
図６を参照すれば、バリア・フィルム複合体５は、バリア層（無機バリア層）５０５とデカップリング層５１０とを交互に積層した層を有する。各無機バリア層５０５は、ゲッタ材料の薄膜層５１５によって覆われている。バリア・フィルム複合体５が伸長されるとき、無機バリア層５０５にクラックが生じうるが、ゲッタ層５１５は、前記クラックの影響を減らすことが可能である。
【００８２】
バリア・フィルム複合体を設ける他の方法として、スズのように延性（ｄｕｃｔｉｌｅ）の柔軟な金属または金属合金からバリア層を設けることを含む方法が用いられうる。かような多層の構造体は、使われた層の数と厚みとによって、半透明または不透明となりうる。透明なバリア層を必要としない場合であれば、かようなバリア・フィルム複合体が適用されうる。
【００８３】
バリア・フィルム複合体を設ける他の方法として、無機酸化物または窒化物のナノ粒子の薄膜層でバリア層を覆う方法が用いられうる。前記バリア層は、伸長されるときにクラックが生じることがあるが、ナノ粒子は、経路長を蛇行させつつ延長させることによって、生成されたクラックの効果を低減させるものである。
【００８４】
図７は、バリア・フィルム複合体６の概略図である。
【００８５】
図７を参照すれば、バリア・フィルム複合体６は、交互に積層された複数のバリア層６０５とデカップリング層６１０とを含む。
【００８６】
バリア層６０５は、無機材料を含むことができ、上述のように、好ましくは、単一の金属、２以上の金属を含む金属混合物、金属間化合物、合金、金属酸化物、混合金属酸化物、金属フッ化物、混合金属フッ化物、金属窒化物、混合金属窒化物、金属炭化物、混合金属炭化物、金属炭窒化物、混合金属炭窒化物、金属酸窒化、混合金属酸窒化物、金属ホウ化物、混合金属ホウ化物、金属酸ホウ化物、混合金属酸ホウ化物、金属シリサイド、混合金属シリサイド、及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも一つを含む。
【００８７】
バリア層６０５は、第１部分６１５と、前記第１部分６１５より薄い第２部分６２０とを含む。従って、第２部分６２０は、第１部分６１５より小さい力学的強度を有する。従って、バリア・フィルム複合体６に引っ張り力が加えられると、第２部分６２０は、応力を緩和させて、バリア・フィルム複合体６が伸長可能となる。なお、バリア・フィルム複合体６が複数のバリア層６０５を有する場合、少なくとも１層のバリア層６０５が第１部分６１５と、前記第１部分６１５より薄い第２部分６２０とを含む。
【００８８】
第１部分６１５及び第２部分６２０は、同一材料から形成されうる。または、第１部分６１５と第２部分６２０は、異なる材料から形成されてもよく、この際、第２部分６２０を形成する材料は、第１部分６１５を形成する材料よりも力学的強度が低い材料でありうる。
【００８９】
第２部分６２０の厚みは、可変でありうる。例えば、図７に示されているように、第２部分６２０の厚みは、エッジから中央部へ行くほど薄くなるクサビ状でありうるが、これに限定されるものではない。
【００９０】
１層のバリア層６０５に、複数個の第２部分６２０が形成されうる。このとき、複数個の第２部分６２０のピッチＰ（ｐｉｔｃｈ）は、同一でありうるが、これに限定されるものではない。前記のような複数個の第２部分６２０は、例えば、シャドーマスクを使用することによって、形成されうるが、それに限定されるものではない。
【００９１】
バリア・フィルム複合体６は、好ましくは、複数のバリア層６０５を備え、このとき、各バリア層６０５に形成された各第２部分６２０の位置は、好ましくは、デカップリング層６１０を挟んで隣接するバリア層の第２部分の位置と重畳しないように形成されうる。１層のバリア層６０５に複数の第２部分６２０が存在する場合、少なくとも１つの第２部分の位置が他の層の第２部分の位置と重ならないことが好ましい。このようにすることによって、バリア・フィルム複合体６が伸長されて、バリア層６０５の内部にクラックが発生しても、各バリア層６０５に位置した第２部分６２０間の間隔は、さらに広くなり、第２部分６２０によって生じる外部混入経路が長くなるために、前記クラックによる影響を減らすことができる。
【００９２】
図８は、図７のバリア・フィルム複合体６が適用された有機発光表示装置２００の概略図である。
【００９３】
図８を参照すれば、本実施形態による有機発光表示装置２００は、基板１０の一面に有機発光素子２０が備えられ、有機発光素子２０をバリア・フィルム複合体６が封止している。図８には、バリア・フィルム複合体６が有機発光素子２０の封止部材として用いられている例が示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。バリア・フィルム複合体６は、基板１０としても用いられうる。バリア・フィルム複合体６が封止部材としてのみ使われる場合、基板１０は、例えば、プラスチック、ポリイミドのようなフレキシブル材料を含む。
【００９４】
有機発光素子２０は、好ましくは、第１電極層２１、有機発光層２３及び第２電極層２５を含む。前述の有機発光表示装置１００を参照し、有機発光素子２０に係わる詳細な説明は省略する。
【００９５】
前述のようにバリア・フィルム複合体６を含む有機発光表示装置２００は、結果として柔軟であり、かつ弾性の構造体を形成することによって、フレキシブルディスプレイを具現できる。また、クラック発生を抑制したり、クラックが発生しても、第２部分６２０間の間隔が広くなって外部混入経路が長くなるために、前記クラックによる影響を低減し、外部の水分と酸素とから有機発光層を保護することができる。
【００９６】
図９は、本発明の他の実施形態によるバリア・フィルム複合体７の概略図である。
【００９７】
図９を参照すれば、バリア・フィルム複合体７は、基板７０５上に、交互に積層されたバリア層７１０とデカップリング層７１５とを有する。部分的な透明度のロスが許容されるならば、前記バリア層７１０の内部に、第２部分として、金属リブ７２０が位置しうる。この際、金属リブ７２０の部分以外の部分を第１部分とする。金属リブ７２０は、例えば、軽金属またはその合金、スズ、インジウム及びこれらの組み合わせから選択される材料でありうるが、これらに限定されるものではない。金属リブ７２０は、破損することなく伸長しうる。前記金属リブ７２０は、二次元的でありうる。
【００９８】
図１０Ａ及び図１０Ｂは、本発明の一実施形態によるバリア・フィルム複合体８及びその製造方法の概略図である。
【００９９】
図１０Ａ及び図１０Ｂを参照すれば、バリア・フィルム複合体８は、熱収縮層８１０とバリア層８１５とを含む。
【０１００】
熱収縮層８１０は、所定の厚みを有し、熱収縮層８１０の一面には、バリア層８１５が平らに（平坦に）形成される。このとき、熱収縮層８１０は、バリア層８１５より厚く形成する。望ましくは、熱収縮層８１０の最小厚さ（図１０Ａ中のｄ１）は、バリア層８１５の厚さ（図１０Ａ中のｄ２）より厚く形成する。このように、バリア層８１５が備わった熱収縮層８１０を含むバリア・フィルム複合体８は、熱収縮層８１０が対象物体Ｏに接触する（向かう）ように覆われる。バリア・フィルム複合体８が対象物体Ｏを覆うとき、対象物体Ｏと熱収縮層８１０との間には、空隙Ｇが形成されうる。
【０１０１】
図１０Ｂを参照すれば、バリア・フィルム複合体８に、所定温度と所定圧力とが加えられれば、バリア・フィルム複合体８が対象物体Ｏに付着され、熱収縮層８１０が収縮されつつ、対象物体Ｏと熱収縮層８１０との間に形成された空隙Ｇが押し出され埋められる（除かれる、ないし除去される）。すなわち、熱収縮層８１０が収縮されつつ、熱収縮層８１０の対象物体Ｏとの接触面８０５は、対象物体Ｏの表面形状に整合（一致）された表面を有するように形成される。このとき、熱収縮層８１０は、相当な厚みを有するために、熱収縮層８１０の対象物体Ｏに接触しない（向かわない）反対側の他面（バリア層８１５との接触面）は、平面（平坦面）を維持し、他面上に形成されたバリア層８１５も、平らな（平坦な）状態を維持する。熱収縮層８１０の最小厚み（ｄ１）は、対象物体Ｏとの間に形成された空隙Ｇの最大サイズ（図１０Ａ中のｄ３）より厚く形成されることが望ましい。このように、本発明のバリア・フィルム複合体８は、物体Ｏと接触する一面は、前記物体Ｏの表面形状に整合（一致）される表面８０５を有し、他面（バリア層８１５との接触面）は、平らに（平坦に）形成された熱収縮層８１０と、前記熱収縮層８１０の他面（バリア層８１５との接触面）に平らに（平坦）形成されたバリア層８１５と、を含むものである。
【０１０２】
ここで、バリア・フィルム複合体８に、所定温度と所定圧力とを加える際に必要な所定温度としては、熱収縮層に用いる熱収縮性の高分子材料の熱収縮温度などに応じて適宜決定すればよい。すなわち、上記したように、空隙Ｇを埋め合わせ対象物体Ｏの表面形状に整合（一致）された表面を有するように形成することができ、尚且つ熱収縮層８１０の対象物体Ｏに接触しない（向かわない）反対側の他面（バリア層８１５との接触面）は、平面（平坦面）を維持し、他面上に形成されたバリア層８１５も、平らな（平坦な）状態を維持し得るという本発明の所望の作用効果（図１０Ｂ、図１１Ｂ参照）を奏し得る範囲内であれば特に制限されるものではない。
【０１０３】
また、バリア・フィルム複合体８に、所定温度と所定圧力とが加える際に必要な所定圧力としては、空隙Ｇの大きさなどに応じて適宜決定すればよい。すなわち、上記したように、空隙Ｇを埋め合わせ対象物体Ｏの表面形状に整合（一致）された表面を有するように形成することができ、尚且つ熱収縮層８１０の対象物体Ｏに接触しない（向かわない）反対側の他面（バリア層８１５との接触面）は、平面（平坦面）を維持し、他面上に形成されたバリア層８１５も、平らな（平坦な）状態を維持し得るという本発明の所望の作用効果（図１０Ｂ、図１１Ｂ参照）を奏し得る範囲内であれば特に制限されるものではない。
【０１０４】
熱収縮層８１０の厚さは、後続の熱収縮層より厚く、熱収縮してもなお、熱収縮層８１０の対象物体Ｏに接触しない（向かわない）反対側の他面（バリア層８１５との接触面）が、平面（平坦面）維持することができる相当の厚さを有することが必要である。また、熱収縮層８１０の厚さは、熱収縮させる際に、所定温度と所定圧力とが加えることで、対象物体Ｏと熱収縮層８１０との間に形成された空隙Ｇが埋められること、すなわち、熱収縮層８１０が収縮されつつ、熱収縮層８１０の対象物体Ｏとの接触面８０５は、対象物体Ｏの表面形状に整合（一致）された表面を有するように形成し得る程度の厚さを有することも必要である。かかる観点から、熱収縮層８１０の厚さとしては、０．１〜１０μｍの範囲である。但し、本発明は、これらの範囲に何ら制限されるものではない。
【０１０５】
バリア層８１５の厚さ（図１０Ａ中のｄ２）としては、既存のバリア・フィルム複合体と同様に優れたバリア性能を有効に発現し得るのに必要な厚さであり、好ましくは透明性を有効に発現し得るのに必要な厚さを保持していることが望ましいことから、通常１００〜２０００Åの範囲、好ましくは１００〜１５００Åの範囲の範囲である。但し、本発明は、これらの範囲に何ら制限されるものではない。
【０１０６】
また、熱収縮層８１０の最小厚み（ｄ１）は、バリア層８１５の厚み（ｄ２）より厚ければよい。好ましくは、熱収縮層８１０の最小厚み（ｄ１）は、対象物体Ｏとの間に形成された空隙Ｇの最大サイズ（ｄ３）より厚いのが望ましい。すなわち、熱収縮層８１０の最小厚み（ｄ１）は、ｄ１＞ｄ２の関係を満足した上で、さらにｄ１＞ｄ３の関係も満足するのが望ましい。但し、本発明は、これらの範囲に何ら制限されるものではない。
【０１０７】
対象物体Ｏとの間に形成された空隙Ｇの最大サイズ（ｄ３）は、対象物体Ｏの表面の形状などによっても異なることから、一義的に規定するのは困難である。
【０１０８】
熱収縮層８１０の対象物体Ｏに接触しない（向かわない）反対側の他面（バリア層８１５との接触面）の平面度（凹凸の差）は、例えば、有機発光素子から放出される光を、空隙Ｇを通過することなく直接熱収縮層８１０とバリア層８１５とを通過させることによって、光効率（発光効率）の低下を防止することができ、透明性を有効に発現し、平らな（平坦な）バリア層８１５が、表示される画像の歪曲を低減することができる得る範囲内であればよい。
【０１０９】
熱収縮層８１０は、所定温度で収縮される有機高分子を含むことができる。熱収縮は、三次元的に起こりうるが、少なくとも１次元収縮、望ましくは、熱収縮層８１０の厚み方向の収縮が起こりうる。所定温度で収縮される（熱収縮性の）有機高分子としては、熱収縮した際に熱収縮層８１０の外表面（他面；バリア層８１５との接触面）が平らな（平坦な）状態を維持しつつ、空隙Ｇを埋める（除く、ないし除去する）ことができればよく、特に制限されるものではなく、既存（従来公知）の多様な熱収縮性の有機高分子の中から適宜選択して用いることができるものである。
【０１１０】
バリア層８１５は、単一の金属、２以上の金属を含む金属混合物、金属間化合物、合金、金属酸化物、混合金属酸化物、金属フッ化物、混合金属フッ化物、金属窒化物、混合金属窒化物、金属炭化物、混合金属炭化物、金属炭窒化物、混合金属炭窒化物、金属酸窒化物、混合金属酸窒化物、金属ホウ化物、混合金属ホウ化物、金属酸ホウ化物、混合金属酸ホウ化物、金属シリサイド、混合金属シリサイド、及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも一つを含むことができる。バリア層８１５は、熱収縮層８１０の一面に、始めから形成されたままで（バリア層８１５が熱収縮層８１０の一面に形成された状態で）対象物体Ｏを（所定温度と所定圧力とを加えて熱収縮させて空隙Ｇを埋める（除く、ないし除去する）ように、すなわち、熱収縮層８１０が収縮されつつ、熱収縮層８１０の対象物体Ｏとの接触面８０５が、対象物体Ｏの表面形状に整合（一致）された表面を有するように）覆うことができるが、これに限定されるものではない。すなわち、バリア層８１５は、熱収縮層８１０が対象物体Ｏを（所定温度と所定圧力とを加えて熱収縮させて空隙Ｇを埋める（除く、ないし除去する）ように、すなわち、熱収縮層８１０が収縮されつつ、熱収縮層８１０の対象物体Ｏとの接触面８０５が、対象物体Ｏの表面形状に整合（一致）された表面を有するように）覆った後で、熱収縮層８１０に蒸着されうる。ただし、いずれの場合にも、バリア層８１５は、熱収縮層８１０上で平坦な（平らな）状態を維持できる。
【０１１１】
なお、図１０Ａ、Ｂでは、１つの熱収縮層８１０と１つのバリア層８１５とを有するバリア・フィルム複合体８の例を示したが、本発明の他の実施形態では、熱収縮層およびバリア層は、複数の層が交互に積層されていてもよい。こうした多層構造とすることで、バリア・フィルム複合体の最外層の表面を、非常に平らな（平坦な）状態にすることができる点で優れている。
【０１１２】
図１１Ａ及び図１１Ｂは、有機発光素子（ＯＬＥＤ）に、バリア・フィルム複合体８が適用された有機発光表示装置３００の例を図示している。
【０１１３】
図１１Ａ及び図１１Ｂを参照すれば、基板１０上に有機発光素子２０が配され、前記有機発光素子２０を熱収縮層８１０とバリア層８１５とを有するバリア・フィルム複合体８が覆う。
【０１１４】
上述したように熱収縮層８１０は、所定の厚みを有し、熱収縮層８１０の一面には、バリア層８１５が平らに（平坦に）形成される。このとき、熱収縮層８１０は、バリア層８１５より厚く形成する。望ましくは、熱収縮層８１０の最小厚さ（図１１Ａ中のｄ１）は、バリア層８１５の厚さ（図１１Ａ中のｄ２）より厚く形成する。こうした熱収縮層８１０とバリア層８１５とを有するバリア・フィルム複合体８に、所定温度と所定圧力とを加えれば、バリア・フィルム複合体８は、有機発光素子２０を覆って基板１０に付着し、熱収縮層８１０が収縮されつつ有機発光素子２０と熱収縮層８１０との間に形成された空隙Ｇを埋め込む（除く、ないし除去する）。すなわち、熱収縮層８１０が収縮されつつ、有機発光素子２０の表面形状に整合（一致）された表面８０５を有するように形成される。このとき、熱収縮層８１０の最小厚さ（図１１Ａ中のｄ１）は、少なくとも空隙Ｇの初期サイズ（好ましくは、空隙Ｇの最大サイズ；図１１Ａ中のｄ３）より厚い相当な厚みを有するために、熱収縮層８１０の有機発光素子２０に接触しない（向かわない）反対側の他面（バリア層８１５との接触面）は、平面（平坦面）を維持し、他面上に形成されたバリア層８１５も、平らな（平坦な）状態を維持する。
【０１１５】
有機発光素子２０は、第１電極層２１と第２電極層２５との間に、水分及び酸素に弱い有機発光層２３が配される（備えられている）。図１１Ａ、図１１Ｂには詳細に図示されていないが、一般的に、有機発光素子２０の表面は、多様な屈曲を有する。熱収縮層８１０は、前記多様な屈曲を有する表面を持つ有機発光素子２０と熱収縮層８１０との間の空隙Ｇを埋め込む（除く、ないし除去する）ことができる。このように熱収縮層８１０は、有機発光素子２０と熱収縮層８１０との間の空隙Ｇを埋め込む（除く、ないし除去する）ことによって、有機発光素子２０から放出される光を、空隙Ｇを通過することなく直接熱収縮層８１０とバリア層８１５とを通過させることによって、光効率（発光効率）の低下を防止することができる。
【０１１６】
また、バリア層８１５は、優れたバリア性能により、水分と酸素とに弱い有機発光素子２０を保護することができる。またバリア層８１５が、熱収縮層８１０上に平坦に形成されれば、バリア層８１５に画像が表示されうる前面発光の場合、平らな（平坦な）バリア層８１５は、表示される画像の歪曲を低減することができる。かような熱収縮層８１０とバリア層８１５は、交互に複数の層を形成できることは、いうまでもない。
【０１１７】
バリア層８１５を設ける他の方法は、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、及び酸素または類似混合物をバリア・フィルム複合体８のバリア層８１５として使用することである。前記バリア層８１５は、プラズマ強化化学気相蒸着（ＰＥＣＶＤ）またはオプショナル（選択的）プラズマ硬化と共に、スピンオン（ｓｐｉｎ−ｏｎ）工程で蒸着されうる。このように、炭素リッチ（ｃａｒｂｏｎ−ｒｉｃｈ）な材料の弾性は、純粋な無機物よりはるかに優れている。
【０１１８】
本発明は、図面に図示された実施形態を参考にして説明したが、それらは例示的なものに過ぎず、当技術分野で当業者であるならば、それらから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解することが可能であろう。従って、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によってのみ決まるものである。
【符号の説明】
【０１１９】
１、２、３、４−１、４−２、５、６、７、８  バリア・フィルム複合体、
１０、７０５  基板、
２０  有機発光素子、
２１  第１電極層、
２３  有機発光層、
２５  第２電極層、
１００、２００、３００  有機発光表示装置、
１０５  モールド、
１１０、１５０  表面、
１２５  フィルム、
１４０  第１層、
１４５  第２層、
３１０  バブル、
４１５  高分子薄膜層、
４２０  ゲッタ材料、
５１５  ゲッタ材料の薄膜層（ゲッタ層）、
６１５  第１部分、
６２０  第２部分、
７２０  金属リブ、
８０５  接合面、
１１５、５０５、５１０、６１０、７１５、８１０  熱収縮層、
１２０、３１５、４０５、４１０、６０５、７１０、８１５  バリア層、
Ｌ１  第１光照射、
Ｐ  ピッチ、
Ｇ  空隙、
Ｏ  対象物体。
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
0005611812.tif 000003
【図１Ｃ】
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【図２】
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【図３Ａ】
0005611812.tif 000006
【図３Ｂ】
0005611812.tif 000007
【図３Ｃ】
0005611812.tif 000008
【図４】
0005611812.tif 000009
【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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