(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の基板と、第二の基板と、前記第一の基板と第二の基板間に挟持された液晶組成物層と、ブラックマトリックス及び少なくともＲＧＢ三色画素部から構成されるカラーフィルタと、画素電極と共通電極とを備え、
前記液晶組成物層が一般式（Ｉ）
【化１】
0005561451.tif 000069
（式中、Ｒ３１は炭素原子数１から１０のアルキル基、炭素原子数１から１０のアルコキシ基、炭素原子数２から１０のアルケニル基又は炭素原子数２から１０のアルケニルオキシ基を表し、Ｍ３１〜Ｍ３３はお互い独立してトランス−１，４−シクロへキシレン基又は１，４−フェニレン基を表し、該トランス−１，４−シクロへキシレン基中の１つ又は２つの−ＣＨ２−は酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−で置換されていてもよく、該フェニレン基中の１つ又は２つの水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく、Ｘ３１及びＸ３２はお互い独立して水素原子又はフッ素原子を表し、Ｚ３１はフッ素原子、トリフルオロメトキシ基又はトリフルオロメチル基を表し、ｎ３１は及びｎ３２はお互い独立して０、１又は２を表し、ｎ３１＋ｎ３２は０、１又は２を表し、Ｍ３１及びＭ３３が複数存在する場合には同一であっても異なっていても良い。）で表される化合物を一種又は二種以上含有し、一般式（ＩＩ−ａ）から一般式（ＩＩ−ｆ）
【化２】
0005561451.tif 000070
（式中、Ｒ１９〜Ｒ３０はお互い独立して炭素原子数１から１０のアルキル基、炭素原子数１から１０のアルコキシ基又は炭素原子数２から１０のアルケニル基を表し、Ｘ２１は水素原子又はフッ素原子を表す。）で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を一種又は二種以上含有する液晶組成物から構成され、
前記カラーフィルタが、有機顔料を含有するカラーフィルタであって、
超小角エックス線散乱法に基づき、カラーフィルタ中の有機顔料の超小角エックス線プロファイルを測定する工程（Ａ）と、該散乱プロファイル上で湾曲点を算出する工程（Ｂ）と、該湾曲点から設定される解析領域（ｃ１）を算出する工程（Ｃ）と、解析領域ｃ１での傾きパラメータを算出する工程（Ｄ）とを有する、有機顔料の散乱プロファイル解析において、解析領域（ｃ１）での傾きパラメータが２以下であることを特徴とするカラーフィルタである液晶表示装置。
【請求項２】
上記カラーフィルタが、上記有機顔料の散乱プロファイル解析において、解析領域（ｃ１）での傾きパラメータが１．５以下である、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
上記カラーフィルタが、有機顔料の全粒子のうち粒子径が１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の粒子の占める体積分率が７％以下である、請求項１または２に記載の液晶表示装置
【請求項４】
上記有機顔料の極大透過波長が６００ｎｍ以上７００ｎｍ以下である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
上記有機顔料の極大透過波長が５００ｎｍ以上６００ｎｍ以下である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記有機顔料の極大透過波長が４００ｎｍ以上５００ｎｍ以下である、請求項１〜３の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記有機顔料が、ガラス基板上で形成された塗膜に分散されたものである、請求項１〜６の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
一般式（Ｉ）で表される化合物が、一般式（Ｉ−ａ）から一般式（Ｉ−ｆ）
【化３】
0005561451.tif 000071
（式中、Ｒ３２は炭素原子数１から１０のアルキル基、炭素原子数１から１０のアルコキシ基、炭素原子数２から１０のアルケニル基又は炭素原子数２から１０のアルケニルオキシ基を表し、Ｘ３１〜Ｘ３８はお互い独立して水素原子又はフッ素原子を表し、Ｚ３１はフッ素原子、トリフオロメトキシ基又はトリフルオロメチル基を表す。）で表される化合物である請求項１〜７の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記液晶組成物層に、更に一般式（ＩＩＩ−ａ）から一般式（ＩＩＩ−ｆ）
【化４】
0005561451.tif 000072
（式中、Ｒ４１は炭素原子数１から１０のアルキル基、炭素原子数１から１０のアルコキシ基、炭素原子数２から１０のアルケニル基又は炭素原子数２から１０のアルケニルオキシ基を表し、Ｘ４１〜Ｘ４８はお互い独立して水素原子又はフッ素原子を表し、Ｚ４１はフッ素原子、トリフオロメトキシ基又はトリフルオロメチル基を表す。）で表される化合物群から選ばれる化合物を一種又は二種以上含有する請求項１〜８の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記液晶組成物層に、重合性化合物を一種又は二種以上含有する液晶組成物を重合してなる重合体により構成される請求項１〜９の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記液晶組成物層に、一般式（V）
【化５】
0005561451.tif 000073
（式中、Ｘ５１及びＸ５２はそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、
Ｓｐ１及びＳｐ２はそれぞれ独立して、単結合、炭素原子数１〜８のアルキレン基又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｓ−（式中、ｓは２から７の整数を表し、酸素原子は芳香環に結合するものとする。）を表し、Ｚ５１は−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＹ１＝ＣＹ２−（式中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表す。）、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、
Ｍ５１は１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基又は単結合を表し、式中の全ての１，４−フェニレン基は、任意の水素原子がフッ素原子により置換されていても良い。）で表される二官能モノマーを含有する請求項１〜１０の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、時計、電卓をはじめとして、家庭用各種電気機器、測定機器、自動車用パネル、ワープロ、電子手帳、プリンター、コンピューター、テレビ等に用いられるようになっている。液晶表示方式としては、その代表的なものにＴＮ（捩れネマチック）型、ＳＴＮ（超捩れネマチック）型、ＤＳ（動的光散乱）型、ＧＨ（ゲスト・ホスト）型、ＩＰＳ（インプレーンスイッチング）型、ＯＣＢ（光学補償複屈折）型、ＥＣＢ（電圧制御複屈折）型、ＶＡ（垂直配向）型、ＣＳＨ（カラースーパーホメオトロピック）型、あるいはＦＬＣ（強誘電性液晶）等を挙げることができる。また駆動方式としても従来のスタティック駆動からマルチプレックス駆動が一般的になり、単純マトリックス方式、最近ではＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）等により駆動されるアクティブマトリックス（ＡＭ）方式が主流となっている。【０００３】
一般的なカラー液晶表示装置は、図１に示すように、それぞれ配向膜（４）を有する２枚の基板（１）の一方の配向膜と基板の間に、共通電極となる透明電極層（３ａ）及びカラーフィルタ層（２）を備え、もう一方の配向膜と基板の間に画素電極層（３ｂ）を備え、これらの基板を配向膜同士が対向するように配置し、その間に液晶層（５）を挟持して構成されている。
前記カラーフィルタ層は、ブラックマトリックスと赤色着色層（Ｒ）、緑色着色層（Ｇ）、青色着色層（Ｂ）、及び必要に応じて黄色着色層（Ｙ）から構成されるカラーフィルタにより構成される。
液晶層を構成する液晶材料は、材料中に不純物が残留すると表示装置の電気的特性に大きな影響を及ぼすことから不純物についての高度な管理がなされてきた。又、配向膜を形成する材料に関しても配向膜は液晶層が直接接触し、配向膜中に残存した不純物が液晶層に移動することにより、液晶層の電気的特性に影響を及ぼすことは既に知られており、配向膜材料中の不純物に起因する液晶表示装置の特性についての検討がなされつつある。【０００４】
一方、カラーフィルタ層に用いられる有機顔料等の材料についても、配向膜材料と同様に含有する不純物による、液晶層への影響が想定される。しかし、カラーフィルタ層と液晶層の間には、配向膜と透明電極が介在するため、液晶層への直接的な影響は配向膜材料と比較して大幅に少ないものと考えられていた。しかし、配向膜は通常０．１μｍ以下の膜厚に過ぎず、透明電極もカラーフィルタ層側に用いられる共通電極は導電率を上げるために膜厚を上げたものでも通常０．５μｍ以下である。従って、カラーフィルタ層と液晶層は完全に隔離された環境におかれているとは言えず、カラーフィルタ層が、配向膜及び透明電極を介してカラーフィルタ層に含まれる不純物により、液晶層の電圧保持率（ＶＨＲ）の低下、イオン密度（ＩＤ）の増加による白抜け、配向むら、焼き付きなどの表示不良を発現する可能性がある。
カラーフィルタを構成する顔料に含まれる不純物に起因した表示不良を解決する方法として、顔料の蟻酸エチルによる抽出物の割合を特定値以下とした顔料を用いて、不純物の液晶への溶出を制御する方法（特許文献１）や青色着色層中の顔料を特定することで不純物の液晶への溶出を制御する方法（特許文献２）が検討されてきた。しかしながら、これらの方法では顔料中の不純物を単純に低減することと大きな差異はなく、近年、顔料の精製技術が進歩している現状においても表示不良を解決するための改良としては不十分なものであった。【０００５】
一方、カラーフィルタ中に含まれる有機不純物と液晶組成物の関係に着目し、この有機不純物の液晶層への溶解しにくさを液晶層に含まれる液晶分子の疎水性パラメーターによって表し、この疎水性パラメーターの値を一定値以上とする方法やこの疎水性パラメーターと液晶分子末端の−ＯＣＦ３基に相関関係があることから、液晶分子末端に−ＯＣＦ３基を有する液晶化合物を一定割合以上含有する液晶組成物とする方法（特許文献３）が開示されている。
しかしながら、当該引用文献の開示においても顔料中の不純物による液晶層への影響を抑えることが発明の本質となっており、カラーフィルタに使用される染顔料等の色材自体の性質と液晶材料の構造との直接的な関係については検討が行われておらず、高度化する液晶表示装置の表示不良問題の解決には至っていなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−１９３２１号公報
【特許文献２】特開２００９−１０９５４２号公報
【特許文献３】特開２０００−１９２０４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、特定の液晶組成物と有機顔料の凝集程度を示す特定の傾きパラメータを有するカラーフィルタを用いることで、液晶層の電圧保持率（ＶＨＲ）の低下、イオン密度（ＩＤ）の増加を防止し、白抜け、配向むら、焼き付けなどの表示不良の問題を解決する液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本願発明者らは、上記課題を解決するために有機顔料を含有するカラーフィルタ及び液晶層を構成する液晶材料の構造の組み合わせについて鋭意検討した結果、特定の液晶材料及び特定の傾きパラメータを有するカラーフィルタを用いた液晶表示装置が、液晶層の電圧保持率（ＶＨＲ）の低下、イオン密度（ＩＤ）の増加を防止し、白抜け、配向むら、焼き付きなどの表示不良の問題を解決することを見出し本願発明の完成に至った。
即ち、本発明は、
第一の基板と、第二の基板と、前記第一の基板と第二の基板間に挟持された液晶組成物層と、ブラックマトリックス及び少なくともＲＧＢ三色画素部から構成されるカラーフィルタと、画素電極と共通電極とを備え、
前記液晶組成物層が一般式（Ｉ）【０００９】
【化１】
0005561451.tif 000002
【００１０】
（式中、Ｒ３１は炭素原子数１〜１０のアルキル基、アルコキシ基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基又はアルケニルオキシ基を表し、Ｍ３１〜Ｍ３３はお互い独立してトランス−１，４−シクロへキシレン基又は１，４−フェニレン基を表し、該トランス−１，４−シクロへキシレン基中の１つ又は２つの−ＣＨ２−は酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−で置換されていてもよく、該フェニレン基中の１つ又は２つの水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく、Ｘ３１及びＸ３２はお互い独立して水素原子又はフッ素原子を表し、Ｚ３１はフッ素原子、トリフルオロメトキシ基又はトリフルオロメチル基を表し、ｎ３１は及びｎ３２はお互い独立して０、１又は２を表し、ｎ３１＋ｎ３２は０、１又は２を表し、Ｍ３１及びＭ３３が複数存在する場合には同一であっても異なっていても良い。）で表される化合物を一種又は二種以上含有し、一般式（ＩＩ−ａ）から一般式（ＩＩ−ｆ）【００１１】
【化２】
0005561451.tif 000003
【００１２】
（式中、Ｒ１９〜Ｒ３０はお互い独立して炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基又は炭素原子数２〜１０のアルケニル基を表し、Ｘ２１は水素原子又はフッ素原子を表す。）で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を一種又は二種以上含有する液晶組成物から構成され、
前記カラーフィルタが、有機顔料を含有するカラーフィルタであって、
超小角エックス線散乱法に基づき、カラーフィルタ中の有機顔料の超小角エックス線プロファイルを測定する工程（Ａ）と、該散乱プロファイル上で湾曲点を算出する工程（Ｂ）と、該湾曲点から設定される解析領域（ｃ１）を算出する工程（Ｃ）と、解析領域ｃ１での傾きパラメータを算出する工程（Ｄ）とを有する、有機顔料の散乱プロファイル解析において、解析領域（ｃ１）での傾きパラメータが２以下であることを特徴とする、カラーフィルタである液晶表示装置を提供する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の液晶表示装置は、特定の液晶組成物と有機顔料の凝集程度を示す特定の傾きパラメータを有するカラーフィルタを用いることで、液晶層の電圧保持率（ＶＨＲ）の低下、イオン密度（ＩＤ）の増加を防止することができ、白抜け、配向むら、焼き付けなどの表示不良の発生を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】従来の一般的な液晶表示装置の一例を示す図である。
【図２】本発明の液晶表示装置の一例を示す図である。
【図３】カラーフィルタの透過スペクトルである。
【図４】カラーフィルタの透過スペクトルである。
【符号の説明】
【００１５】
１    基板
２    カラーフィルタ層
２ａ  特定の傾きパラメータを有するカラーフィルタ層
３ａ  透明電極層（共通電極）
３ｂ  画素電極層
４    配向膜
５    液晶層
５ａ  特定の液晶組成物を含有する液晶層
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の液晶表示装置の一例を図２に示す。配向膜（４）を有する第一の基板と第二の基板の２枚の基板（１）の一方の配向膜と基板の間に、共通電極となる透明電極層（３ａ）及び特定の傾きパラメータを有するカラーフィルタ層（２ａ）を備え、もう一方の配向膜と基板の間に画素電極層（３ｂ）備え、これらの基板を配向膜同士が対向するように配置し、その間に特定の液晶組成物を含有する液晶層（５ａ）を挟持して構成されている。
前記表示装置における２枚の基板は、周辺領域に配置されたシール材及び封止材によって貼り合わされていて、多くの場合その間には基板間距離を保持するために粒状スペーサーまたはフォトリソグラフィー法により形成された樹脂からなるスペーサー柱が配置されている。
【００１７】
（液晶層）
本発明の液晶表示装置における液晶層は、一般式（Ｉ）
【００１８】
【化３】
0005561451.tif 000004
【００１９】
（式中、Ｒ３１は炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基又は炭素原子数２〜１０のアルケニルオキシ基を表し、Ｍ３１〜Ｍ３３はお互い独立してトランス−１，４−シクロへキシレン基又は１，４−フェニレン基を表し、該トランス−１，４−シクロへキシレン基中の１つ又は２つの−ＣＨ２−は酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−で置換されていてもよく、該フェニレン基中の１つ又は２つの水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく、Ｘ３１及びＸ３２はお互い独立して水素原子又はフッ素原子を表し、Ｚ３１はフッ素原子、トリフルオロメトキシ基又はトリフルオロメチル基を表し、ｎ３１は及びｎ３２はお互い独立して０、１又は２を表し、ｎ３１＋ｎ３２は０、１又は２を表し、Ｍ３１及びＭ３３が複数存在する場合には同一であっても異なっていても良い。）で表される化合物を一種又は二種以上含有し、一般式（ＩＩ−ａ）から一般式（ＩＩ−ｆ）
【００２０】
【化４】
0005561451.tif 000005
【００２１】
（式中、Ｒ１９〜Ｒ３０はお互い独立して炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基又は炭素原子数２〜１０のアルケニル基を表し、Ｘ２１は水素原子又はフッ素原子を表す。）で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を一種又は二種以上含有する液晶組成物から構成される。
【００２２】
一般式（Ｉ）において、Ｒ３１はそれが結合する環構造がフェニル基（芳香族）である場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４（またはそれ以上）のアルコキシ基及び炭素原子数４〜５のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４（またはそれ以上）のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
熱や光に対する化学的安定性が良いことを重視すれば、Ｒ３１はアルキル基が好ましい。また、粘度が小さく応答速度が速い液晶表示素子を作ることが重視されるならば、Ｒ３１はアルケニル基が好ましい。さらに、粘度が小さくかつネマチック−等方相転移温度（Ｔｎｉ）が高く、応答速度の更なる短縮を目的とするならば、末端が不飽和結合ではないアルケニル基を用いることが好ましく、アルケニル基の隣にメチル基が末端としてあることが特に好ましい。また、低温での溶解度が良いことを重視するならば、一つの解決策としては、Ｒ３１はアルコキシ基とすることが好ましい。また、他の解決策としては、多種類のＲ３１を併用することが好ましい。例えば、Ｒ３１として、炭素原子数２、３及び４のアルキル基またはアルケニル基を持つ化合物を併用することが好ましく、炭素原子数３及び５の化合物を併用することが好ましく、炭素原子数３、４及び５の化合物を併用することが好ましい。
Ｍ３１〜Ｍ３３は、
【００２３】
【化５】
0005561451.tif 000006
であることが好ましい。
Ｍ３１は、
【００２４】
【化６】
0005561451.tif 000007
であることが好ましく、
【００２５】
【化７】
0005561451.tif 000008
であることが更に好ましい。
Ｍ３２は、
【００２６】
【化８】
0005561451.tif 000009
であることが好ましく、
【００２７】
【化９】
0005561451.tif 000010
であることがより好ましく、
【００２８】
【化１０】
0005561451.tif 000011
であることが更に好ましい。
Ｍ３３は、
【００２９】
【化１１】
0005561451.tif 000012
であることが好ましく、
【００３０】
【化１２】
0005561451.tif 000013
であることがより好ましく、
【００３１】
【化１３】
0005561451.tif 000014
であることが更に好ましい。
【００３２】
Ｘ３１及びＸ３２は、少なくともどちらか一つはフッ素原子が好ましく、二つともフッ素原子であることが更に好ましい。
Ｚ３１は、フッ素原子またはトリフルオロメトキシ基であることが好ましい。
Ｘ３１、Ｘ３２およびＺ３１の組み合わせとしては、一つの実施形態ではＸ３１＝Ｆ、Ｘ３２＝ＦおよびＺ３１＝Ｆである。さらに別の実施形態では、Ｘ３１＝Ｆ、Ｘ３２＝ＨおよびＺ３１＝Ｆである。またさらに別の実施形態では、Ｘ３１＝Ｆ、Ｘ３２＝ＨおよびＺ３１＝ＯＣＦ３である。またさらに別の実施形態では、Ｘ３１＝Ｆ、Ｘ３２＝ＦおよびＺ３１＝ＯＣＦ３である。またさらに別の実施形態では、Ｘ３１＝Ｈ、Ｘ３２＝ＨおよびＺ３１＝ＯＣＦ３である。
ｎ３１は１又は２が好ましく、ｎ３２は０又は１が好ましく、０が更に好ましく、ｎ３１＋ｎ３２は１又は２が好ましく、２がさらに好ましい。
【００３３】
一般式（Ｉ）で表される化合物は、より具体的には、下記の一般式（Ｉ−ａ）から一般式（Ｉ−ｆ）で表される化合物が好ましい。
【００３４】
【化１４】
0005561451.tif 000015
【００３５】
（式中、Ｒ３２は炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基又は炭素原子数２〜１０のアルケニルオキシ基を表し、Ｘ３１〜Ｘ３８はお互い独立して水素原子又はフッ素原子を表し、Ｚ３１はフッ素原子、トリフオロメトキシ基又はトリフルオロメチル基を表す。）
一般式（Ｉａ）〜一般式（Ｉｆ）において、Ｒ３２はそれが結合する環構造がフェニル基（芳香族）である場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４（またはそれ以上）のアルコキシ基及び炭素原子数４〜５のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４（またはそれ以上）のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
【００３６】
熱や光に対する化学的安定性が良いことを重視すれば、Ｒ３１はアルキル基が好ましい。また、粘度が小さく応答速度が速い液晶表示素子を作ることが重視されるならば、Ｒ３１はアルケニル基が好ましい。さらに、粘度が小さくかつネマチック−等方相転移温度（Ｔｎｉ）が高く、応答速度の更なる短縮を目的とするならば、末端が不飽和結合ではないアルケニル基を用いることが好ましく、アルケニル基の隣にメチル基が末端としてあることが特に好ましい。また、低温での溶解度が良いことを重視するならば、一つの解決策としては、Ｒ３１はアルコキシ基とすることが好ましい。また、他の解決策としては、多種類のＲ３１を併用することが好ましい。例えば、Ｒ３１として、炭素原子数２、３及び４のアルキル基またはアルケニル基を持つ化合物を併用することが好ましく、炭素原子数３及び５の化合物を併用することが好ましく、炭素原子数３、４及び５の化合物を併用することが好ましい。
【００３７】
Ｘ３１及びＸ３２は、少なくともどちらか一つはフッ素原子が好ましく、二つともフッ素原子であることが更に好ましい。
Ｚ３１は、フッ素原子またはトリフルオロメトキシ基であることが好ましい。
Ｘ３１、Ｘ３２およびＺ３１の組み合わせとしては、一つの実施形態ではＸ３１＝Ｆ、Ｘ３２＝ＦおよびＺ３１＝Ｆである。さらに別の実施形態では、Ｘ３１＝Ｆ、Ｘ３２＝ＨおよびＺ３１＝Ｆである。またさらに別の実施形態では、Ｘ３１＝Ｆ、Ｘ３２＝ＨおよびＺ３１＝ＯＣＦ３である。またさらに別の実施形態では、Ｘ３１＝Ｆ、Ｘ３２＝ＦおよびＺ３１＝ＯＣＦ３である。またさらに別の実施形態では、Ｘ３１＝Ｈ、Ｘ３２＝ＨおよびＺ３１＝ＯＣＦ３である。
ｎ３１は１又は２が好ましく、ｎ３２は０又は１が好ましく、０が更に好ましく、ｎ３１＋ｎ３２は１又は２が好ましく、２がさらに好ましい。
Ｘ３３及びＸ３４は、少なくともどちらか一つはフッ素原子が好ましく、二つともフッ素原子であることが更に好ましい。
【００３８】
Ｘ３５及びＸ３６は、少なくともどちらか一つはフッ素原子が好ましく、二つともフッ素原子であることはΔεを大きくする場合は効果があるが、Ｔｎｉ、低温での溶解性や液晶表示素子にしたときの化学的安定性の観点から好ましくない。
Ｘ３７及びＸ３８は、少なくともどちらか一つは水素原子が好ましく、二つとも水素原子であることが好ましい。Ｘ３７及びＸ３８のうち少なくともどちらか一つがフッ素原子である場合、Ｔｎｉ、低温での溶解性や液晶表示素子にしたときの化学的安定性の観点から好ましくない。
一般式（Ｉ）で表される化合物群は１種〜８種含有することが好ましく、１種〜５種含有することが特に好ましく、その含有量は３〜５０質量％であるのが好ましく、５〜４０質量％であることがより好ましい。
【００３９】
一般式（ＩＩａ）〜一般式（ＩＩｆ）において、Ｒ１９〜Ｒ３０はそれが結合する環構造がフェニル基（芳香族）である場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４（またはそれ以上）のアルコキシ基及び炭素原子数４〜５のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４（またはそれ以上）のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
【００４０】
熱や光に対する化学的安定性が良いことを重視すれば、Ｒ１９〜Ｒ３０はアルキル基が好ましい。また、粘度が小さく応答速度が速い液晶表示素子を作ることが重視されるならば、Ｒ１９〜Ｒ３０はアルケニル基が好ましい。さらに、粘度が小さくかつネマチック−等方相転移温度（Ｔｎｉ）が高く、応答速度の更なる短縮を目的とするならば、末端が不飽和結合ではないアルケニル基を用いることが好ましく、アルケニル基の隣にメチル基が末端としてあることが特に好ましい。また、低温での溶解度が良いことを重視するならば、一つの解決策としては、Ｒ１９〜Ｒ３０はアルコキシ基とすることが好ましい。また、他の解決策としては、多種類のＲ１９〜Ｒ３０を併用することが好ましい。例えば、Ｒ１９〜Ｒ３０として、炭素原子数２、３及び４のアルキル基またはアルケニル基を持つ化合物を併用することが好ましく、炭素原子数３及び５の化合物を併用することが好ましく、炭素原子数３、４及び５の化合物を併用することが好ましい。
【００４１】
Ｒ１９〜Ｒ２０はアルキル基またはアルコキシ基が好ましく、少なくとも一方はアルコキシ基であることが好ましい。Ｒ１９がアルキル基でありＲ２０がアルコキシ基であることがより好ましい。Ｒ１９が炭素原子数３〜５のアルキル基でありＲ２０が炭素原子数１〜２のアルコキシ基であることがさらに好ましい。
Ｒ２１〜Ｒ２２はアルキル基またはアルケニル基が好ましく、少なくとも一方はアルケニル基であることが好ましい。両方ともアルケニル基の場合は応答速度を早くする場合に好適に用いられるが、液晶表示素子の化学的安定性を良くしたい場合は好ましくない。
Ｒ２３〜Ｒ２４の少なくとも一方は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基または炭素原子数４〜５のアルケニル基が好ましい。応答速度とＴｎｉのバランスが良いことを求めれば、Ｒ２３〜Ｒ２４の少なくとも一方はアルケニル基であることが好ましく、応答速度と低温での溶解性のバランスが良いことを求めれば、Ｒ２３〜Ｒ２４の少なくとも一方はアルコキシ基であることが好ましい。
【００４２】
Ｒ２５〜Ｒ２６の少なくとも一方は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。応答速度とＴｎｉのバランスが良いことを求めれば、Ｒ２５〜Ｒ２６の少なくとも一方はアルケニル基であることが好ましく、応答速度と低温での溶解性のバランスが良いことを求めれば、Ｒ２５〜Ｒ２６の少なくとも一方はアルコキシ基であることが好ましい。Ｒ２５はアルケニル基でありＲ２６はアルキル基であることがより好ましい。また、Ｒ２５はアルキル基でありＲ２６はアルコキシ基であることも好ましい。
Ｒ２７〜Ｒ２８の少なくとも一方は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。応答速度とＴｎｉのバランスが良いことを求めれば、Ｒ２７〜Ｒ２８の少なくとも一方はアルケニル基であることが好ましく、応答速度と低温での溶解性のバランスが良いことを求めれば、Ｒ２７〜Ｒ２８の少なくとも一方はアルコキシ基であることが好ましい。Ｒ２７はアルキル基またはアルケニル基でありＲ２８はアルキル基であることがより好ましい。また、Ｒ２７はアルキル基でありＲ２８はアルコキシ基であることも好ましい。さらに、Ｒ２７はアルキル基でありＲ２８はアルキル基であることが特に好ましい。
Ｘ２１はフッ素原子であることが好ましい。
【００４３】
Ｒ２９〜Ｒ３０の少なくとも一方は、炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数４〜５のアルケニル基が好ましい。応答速度とＴｎｉのバランスが良いことを求めれば、Ｒ２９〜Ｒ３０の少なくとも一方はアルケニル基であることが好ましく、信頼性が良いことを求めれば、Ｒ２９〜Ｒ３０の少なくとも一方はアルキル基であることが好ましい。Ｒ２９はアルキル基またはアルケニル基でありＲ３０はアルキル基またはアルケニル基であることがより好ましい。また、Ｒ２９はアルキル基でありＲ３０はアルケニル基であることも好ましい。さらに、Ｒ２９はアルキル基でありＲ３０はアルキル基であることも好ましい。
一般式（ＩＩ−ａ）から一般式（ＩＩ−ｆ）で表される化合物群は１種〜１０種含有することが好ましく、１種〜８種含有することが特に好ましく、その含有量は５〜８０質量％であるのが好ましく、１０〜７０質量％であることがより好ましく、２０〜６０質量％であることが特に好ましい。
【００４４】
本発明の液晶表示装置における液晶組成物層は、更に、一般式（ＩＩＩ−ａ）から一般式（ＩＩＩ−ｆ）
【００４５】
【化１５】
0005561451.tif 000016
【００４６】
（式中、Ｒ４１は炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基又は炭素原子数２〜１０のアルケニルオキシ基を表し、Ｘ４１〜Ｘ４８はお互い独立して水素原子又はフッ素原子を表し、Ｚ４１はフッ素原子、トリフオロメトキシ基又はトリフルオロメチル基を表す。）で表される化合物群から選ばれる化合物を一種又は二種以上含有することができる。
一般式（ＩＩＩａ）〜一般式（ＩＩＩｆ）において、Ｒ４１はそれが結合する環構造がフェニル基（芳香族）である場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４（またはそれ以上）のアルコキシ基及び炭素原子数４〜５のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４（またはそれ以上）のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
【００４７】
熱や光に対する化学的安定性が良いことを重視すれば、Ｒ４１はアルキル基が好ましい。また、粘度が小さく応答速度が速い液晶表示素子を作ることが重視されるならば、Ｒ４１はアルケニル基が好ましい。さらに、粘度が小さくかつネマチック−等方相転移温度（Ｔｎｉ）が高く、応答速度の更なる短縮を目的とするならば、末端が不飽和結合ではないアルケニル基を用いることが好ましく、アルケニル基の隣にメチル基が末端としてあることが特に好ましい。また、低温での溶解度が良いことを重視するならば、一つの解決策としては、Ｒ４１はアルコキシ基とすることが好ましい。また、他の解決策としては、多種類のＲ４１を併用することが好ましい。例えば、Ｒ４１として、炭素原子数２、３及び４のアルキル基またはアルケニル基を持つ化合物を併用することが好ましく、炭素原子数３及び５の化合物を併用することが好ましく、炭素原子数３、４及び５の化合物を併用することが好ましい。
【００４８】
Ｘ４１及びＸ４２は、少なくともどちらか一つはフッ素原子が好ましく、二つともフッ素原子であることが更に好ましい。
Ｚ４１は、フッ素原子またはトリフルオロメトキシ基であることが好ましい。
Ｘ４１、Ｘ４２およびＺ４１の組み合わせとしては、一つの実施形態ではＸ４１＝Ｆ、Ｘ４２＝ＦおよびＺ４１＝Ｆである。さらに別の実施形態では、Ｘ４１＝Ｆ、Ｘ４２＝ＨおよびＺ４１＝Ｆである。またさらに別の実施形態では、Ｘ４１＝Ｆ、Ｘ４２＝ＨおよびＺ４１＝ＯＣＦ３である。またさらに別の実施形態では、Ｘ４１＝Ｆ、Ｘ４２＝ＦおよびＺ４１＝ＯＣＦ３である。またさらに別の実施形態では、Ｘ４１＝Ｈ、Ｘ４２＝ＨおよびＺ４１＝ＯＣＦ３である。
Ｘ４３及びＸ４４は、少なくともどちらか一つはフッ素原子が好ましく、二つともフッ素原子であることは大きなΔεを得るために好ましいが、反対に、低温での溶解性を良くする場合には好ましくない。
【００４９】
Ｘ４５及びＸ４６は、少なくともどちらか一つは水素原子が好ましく、二つとも水素原子であることが好ましい。フッ素原子を多用することは、Ｔｎｉ、低温での溶解性や液晶表示素子にしたときの化学的安定性の観点から好ましくない。
Ｘ４７及びＸ４８は、少なくともどちらか一つは水素原子が好ましく、二つとも水素原子であることが好ましい。Ｘ４７及びＸ４８のうち少なくともどちらか一つがフッ素原子である場合、Ｔｎｉ、低温での溶解性や液晶表示素子にしたときの化学的安定性の観点から好ましくない。
一般式（ＩＩＩ−ａ）から一般式（ＩＩＩ−ｆ）で表される化合物群から選ばれる化合物は、１種〜１０種含有することが好ましく、１種〜８種含有することがより好ましく、その含有量は５〜５０質量％であることが好ましく、１０〜４０質量％であることがより好ましい。
【００５０】
本発明の液晶表示装置における液晶組成物層の液晶組成物は、２５℃におけるΔεが＋１．５以上であるのが好ましい。高速応答を目的とする場合は、＋１．５〜＋４．０であるのが好ましく、＋１．５〜＋３．０がより好ましい。低電圧駆動を目的とする場合は、＋８．０〜＋１８．０が好ましく、＋１０．０〜＋１５．０がより好ましい。また、２５℃におけるΔｎが０．０８〜０．１４であるのが好ましく、０．０９〜０．１３であるのがより好ましい。更に詳述すると、薄いセルギャップに対応する場合は０．１０〜０．１３であることが好ましく、厚いセルギャップに対応する場合は０．０８〜０．１０であることが好ましい。２０℃におけるηが５〜４５ｍＰａ・ｓであるのが好ましく、５〜２５ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、１０〜２０ｍＰａ・ｓであることが特に好ましい。また、Ｔｎｉが６０℃〜１２０℃であるのが好ましく、７０℃〜１００℃がより好ましく、７０℃〜８５℃が特に好ましい。
【００５１】
本発明における液晶組成物は、上述の化合物以外に、通常のネマチック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶などを含有してもよい。
本発明における液晶組成物には、ＰＳモード、横電界型ＰＳＡモード又は横電界型ＰＳＶＡモードなどの液晶表示素子を作製するために、重合性化合物を一種又は二種以上含有することができる。使用できる重合性化合物として、光などのエネルギー線により重合が進行する光重合性モノマーなどが挙げられ、構造として、例えば、ビフェニル誘導体、ターフェニル誘導体などの六員環が複数連結した液晶骨格を有する重合性化合物などが挙げられる。更に具体的には、一般式（V）
【００５２】
【化１６】
0005561451.tif 000017
【００５３】
（式中、Ｘ５１及びＸ５２はそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、
Ｓｐ１及びＳｐ２はそれぞれ独立して、単結合、炭素原子数１〜８のアルキレン基又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｓ−（式中、ｓは２から７の整数を表し、酸素原子は芳香環に結合するものとする。）を表し、Ｚ５１は−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＹ１＝ＣＹ２−（式中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表す。）、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、
Ｍ５１は１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基又は単結合を表し、式中の全ての１，４−フェニレン基は、任意の水素原子がフッ素原子により置換されていても良い。）で表される二官能モノマーが好ましい。
【００５４】
Ｘ５１及びＸ５２は、何れも水素原子を表すジアクリレート誘導体、何れもメチル基を有するジメタクリレート誘導体の何れも好ましく、一方が水素原子を表しもう一方がメチル基を表す化合物も好ましい。これらの化合物の重合速度は、ジアクリレート誘導体が最も早く、ジメタクリレート誘導体が遅く、非対称化合物がその中間であり、その用途により好ましい態様を用いることができる。ＰＳＡ表示素子においては、ジメタクリレート誘導体が特に好ましい。
Ｓｐ１及びＳｐ２はそれぞれ独立して、単結合、炭素原子数１〜８のアルキレン基又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｓ−を表すが、ＰＳＡ表示素子においては少なくとも一方が単結合であることが好ましく、共に単結合を表す化合物又は一方が単結合でもう一方が炭素原子数１〜８のアルキレン基又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｓ−を表す態様が好ましい。この場合１〜４のアルキル基が好ましく、ｓは１〜４が好ましい。
【００５５】
Ｚ５１は、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−又は単結合が好ましく、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合がより好ましく、単結合が特に好ましい。
Ｍ５１は任意の水素原子がフッ素原子により置換されていても良い１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基又は単結合を表すが、１，４−フェニレン基又は単結合が好ましい。Ｃが単結合以外の環構造を表す場合、Ｚ５１は単結合以外の連結基も好ましく、Ｍ５１が単結合の場合、Ｚ５１は単結合が好ましい。
【００５６】
これらの点から、一般式（V）において、Ｓｐ１及びＳｐ２の間の環構造は、具体的には次に記載する構造が好ましい。
一般式（V）において、Ｍ５１が単結合を表し、環構造が二つの環で形成される場合において、次の式（Va-1）〜式（Va-5）を表すことが好ましく、式（Va-1）〜式（Va-3）を表すことがより好ましく、式（Va-1）を表すことが特に好ましい。
【００５７】
【化１７】
0005561451.tif 000018
【００５８】
（式中、両端はＳｐ１又はＳｐ２に結合するものとする。）
これらの骨格を含む重合性化合物は重合後の配向規制力がＰＳＡ型液晶表示素子に最適であり、良好な配向状態が得られることから、表示ムラが抑制されるか、又は、全く発生しない。
以上のことから、重合性化合物としては、一般式（V-1）〜一般式（V-4）が特に好ましく、中でも一般式（V-2）が最も好ましい。
【００５９】
【化１８】
0005561451.tif 000019
【００６０】
（式中、Ｓｐ２は炭素原子数２から５のアルキレン基を表す。）
本発明における液晶組成物に重合性化合物を添加する場合において、重合開始剤が存在しない場合でも重合は進行するが、重合を促進するために重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。
【００６１】
本発明における重合性化合物を含有した液晶組成物は、これに含まれる重合性化合物が紫外線照射により重合することで液晶配向能が付与され、液晶組成物の複屈折を利用して光の透過光量を制御する液晶表示素子に使用される。液晶表示素子として、ＡＭ−ＬＣＤ（アクティブマトリックス液晶表示素子）、ＴＮ（ネマチック液晶表示素子）、ＳＴＮ−ＬＣＤ（超ねじれネマチック液晶表示素子）、ＯＣＢ−ＬＣＤ及びＩＰＳ−ＬＣＤ（インプレーンスイッチング液晶表示素子）に有用であるが、ＡＭ−ＬＣＤに特に有用であり、透過型あるいは反射型の液晶表示素子に用いることができる。
【００６２】
（カラーフィルタ）
本発明におけるカラーフィルタとは、有機顔料を含有することで、ある特定の波長を吸収することで、それ以外の特定の波長の光を透過するものをいう。
基材としては、光を透過するものであればよく、用途によって適時選択すればよい。例えば樹脂や無機材料が挙げられ、ガラスが特に好ましい。
【００６３】
上記カラーフィルタは、基材と有機顔料を有し、有機顔料は基材中に分散していてもよいし、基材の表面にのみ存在していてもかまわない。樹脂中に有機顔料を分散し、成形してもよく、基材の表面に塗膜として分散させてもよい。
【００６４】
カラーフィルタの形状は任意であり、板状、フィルム状、レンズ状、球体、一部に三次元の凹凸を有するものや、表面に微細な凹凸加工をしたものなど、どのような形状でも構わない。
【００６５】
〔有機顔料〕
本発明の有機顔料としては、フタロシアニン系、不溶性アゾ系、アゾレーキ系、アントラキノン系、キナクリドン系、ジオキサジン系、ジケトピロロピロール系、アントラピリミジン系、アンザンスロン系、インダンスロン系、フラバンスロン系、ペリノン系、ペリレン系、チオインジゴ系、トリアリールメタン系、イソインドリノン系、イソインドリン系、金属錯体系、キノフタロン系、染付レーキ系等が挙げられる。
透過したい波長に合わせて、顔料種は適時選択すればよい。
【００６６】
赤色カラーフィルタの場合、赤色系顔料を用いればよく、具体的には６００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の透過波長における透過度が高い顔料が挙げられる。当該顔料は、１種のみであってもよいし、２種以上を併用してもよい。好ましく使用できる顔料の具体例として、例えば、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ８１、同  １２２、同  １７７，同  ２０９，同  ２４２，同  ２５４，Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  １９が挙げられる。中でもＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２５４が特に好ましく、その極大透過波長は、６６０ｎｍから７００ｎｍの間にある。
また、前記赤色カラーフィルタは、調色用として更に、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ３８、同７１、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １５０、同２１５、同１８５、同１３８、同１３９からなる群から選ばれる少なくとも１種の有機顔料を含有することも可能である。
【００６７】
緑色カラーフィルタの場合、緑色系顔料を用いればよく、５００ｎｍ以上６００ｎｍ以下に極大透過波長を持つ顔料が挙げられる。当該顔料は、１種のみであってもよいし、２種以上を併用してもよい。好ましく使用できる顔料の具体例として、例えば、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ７、同  ３６、同  ５８が挙げられる。中でも同  ５８が特に好ましく、その極大透過波長は、５１０ｎｍから５５０ｎｍの間にある。
前記緑色カラーフィルタは、調色用として更に、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １５０、同２１５、同１８５、同１３８からなる群から選ばれる少なくとも１種の有機顔料を含有することも可能である。
【００６８】
青色カラーフィルタの場合、青色系顔料を用いればよく、４００ｎｍ以上５００ｎｍ以下に極大透過波長を持つ顔料が挙げられる。当該顔料は、１種のみであってもよいし、２種以上を併用してもよい。好ましく使用できる顔料の具体例として、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５：３，同１５：６，トリアリールメタン顔料として、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １，及び／又は下記一般式（１）（式中、Ｒ１〜Ｒ６は各々独立して水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基を表す。Ｒ１〜Ｒ６が置換基を有していてもよいアルキル基を表す場合、隣接するＲ１とＲ２、Ｒ３とＲ４、Ｒ５とＲ６が結合して環構造を形成してもよい。Ｘ１及びＸ２は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基を示す。Ｚ−は（Ｐ２ＭｏｙＷ１８−ｙＯ６２）６−／６で表され、ｙ＝０、１、２または３の整数であるヘテロポリオキソメタレートアニオンか、（ＳｉＭｏＷ１１Ｏ４０）４−／４であるヘテロポリオキソメタレートアニオンか、欠損ドーソン型リンタングステン酸ヘテロポリオキソメタレートアニオンから選ばれる少なくとも一種のアニオンである。１分子中に複数の式（１）が含まれる場合、それらは同じ構造であっても異なる構造であってもよい。）で表されるトリアリールメタン顔料が挙げられる。
一般式（１）において、Ｒ１〜Ｒ６は同一でも異なるものであってもよい。従って、−ＮＲＲ（ＲＲは、Ｒ１Ｒ２、Ｒ３Ｒ４、及びＲ５Ｒ６のいずれかの組み合わせを表す。）基は対称であっても非対称であってもよい。
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５：３の極大透過波長は、４４０ｎｍから４８０ｎｍの間にあり，同１５：６の極大透過波長は、４３０ｎｍから４７０ｎｍの間にあり、トリアリールメタン顔料の極大透過波長は、４１０ｎｍから４５０ｎｍの間にある。
前記青色カラーフィルタは、調色用として更にＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ２３、同３７、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５、同１５：１、同１５：２、同１５：４からなる群から選ばれる少なくとも１種の有機顔料を含有することも可能である。  
【００６９】
【化１９】
0005561451.tif 000020
【００７０】
上記有機顔料を、顔料分散体とした上で基材に塗布する方法で、カラーフィルタを製造することができる場合、顔料分散体としては、有機顔料のほかに公知の顔料分散剤や溶媒等を含有してもかまわない。有機顔料を予め溶剤や顔料分散剤で分散させた分散液を調整し、得られた分散液を基材に塗布すればよく、塗布方法としては例えば、スピンコート法、ロールコート法、インクジェット法等、スプレーコート法、印刷法等が挙げられる。  
【００７１】
有機顔料を基材に塗布して乾燥させた状態でカラーフィルタとしてもよいし、顔料分散体に硬化性樹脂が含まれる場合、熱や活性エネルギー線により硬化することでカラーフィルタとしてもよい。また、ホットプレート、オーブン等の加熱装置により、１００〜２８０℃で、所定時間加熱処理（ポストベーク）することによって、塗膜中の揮発性成分を除去する工程を行ってもかまわない。
【００７２】
〔カラーフィルタにおける顔料の粒子状態〕
本発明のカラーフィルタは、有機顔料の凝集程度の指標となる傾きパラメータが２以下であることを特徴とするものである。カラーフィルタにおいて、カラーフィルタの状態での有機顔料の状態が、もっとも白抜け、配向むら、焼き付けなどの表示不良の抑制に貢献する。カラーフィルタとなった状態での有機顔料粒子の凝集程度の指標となる傾きパラメータを規定することで、上記の表示不良を防止するカラーフィルタとなる。傾きパラメータが小さい値ほど凝集程度は小さくなるので、より好ましくは傾きパラメータが１．５以下である。
【００７３】
上記有機顔料において、１０００ｎｍより大きいような粗大粒子は表示状態に悪影響を及ぼし好ましくないため、１％以下である必要がある。これは、カラーフィルタ表面を適当な光学顕微鏡等で観察すればよい。
【００７４】
〔超小角エックス線散乱プロファイル〕
有機顔料の凝集程度を示す傾きパラメータを算出するには、超小角エックス線散乱法に基づいた超小角Ｘ線散乱プロファイルを解析することで求めることができる。
具体的には、超小角エックス線散乱法に基づき、有機顔料の超小角エックス線散乱プロファイル（測定散乱プロファイル）を測定する工程（Ａ）と、該散乱プロファイル上で湾曲点を算出する工程（Ｂ）と、該湾曲点から設定される解析領域（ｃ１）を決定する工程（Ｃ）と、解析領域ｃ１での傾きパラメータを算出する工程（Ｄ）とを有する測定方法である。
【００７５】
超小角エックス線散乱法（Ｕｌｔｒａ−Ｓｍａｌｌ  Ａｎｇｌｅ  Ｘ−ｒａｙ  Ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ：ＵＳＡＸＳ）とは、散乱角が０．１＜（２θ）＜１０℃である小角領域だけでなく、０°＜（２θ）≦０．１°という超小角領域で生じる散漫な散乱・回折も同時に測定する方法である。小角エックス線散乱法では、物質中に１〜１００ｎｍ程度の大きさの電子密度の異なる領域があると、その電子密度差によりエックス線の散漫散乱を計測することができるが、この超小角エックス線散乱法では、物質中に１〜１０００ｎｍ程度の大きさの電子密度の異なる領域があると、その電子密度差によりエックス線の散漫散乱が計測される。この散乱角と散乱強度に基づいて測定対象物の傾きパラメータを求める。
【００７６】
超小角エックス線散乱法を実現する主要技術は、入射Ｘ線の波長幅やビーム径を絞り超小角領域のバックグラウンド散乱強度を低減する高度な光学系制御技術を用い、できるだけサンプルから検出器までの距離、いわゆるカメラ長を長くして散乱角の小さい部分を高精度に測定する２つの技術で達成される。実験室用の小型の装置では主に前者の技術で達成される。
【００７７】
また、Ｘ線小角散乱プロファイルから傾きパラメータを求めるためのプログラムとしては、汎用の微分計算やデータ補間処理ができるプログラムを用いることができるが、例えばＭＡＴＬＡＢ（ＭａｔｈＷｏｒｋｓ社）等のプログラムを用いることが好ましい。傾きパラメータを算出するための最小自乗法によるフィッティングには上記プログラムに加え、Ｅｘｃｅｌ（マイクロソフト社製）などのプログラムを用いることができる。  
【００７８】
有機顔料の散乱プロファイルを測定する場合、エックス線散乱装置の入射エックス線の輝度が１０６Ｂｒｉｌｌｉａｎｃｅ（ｐｈｏｔｏｎｓ／ｓｅｃ／ｍｍ２／ｍｒａｄ２／０．１％ｂａｎｄｗｉｄｔｈ）以上であれば、十分な散乱強度を測定することが可能であり、好ましくは１０７Ｂｒｉｌｌｉａｎｃｅ以上である。塗膜の基板がガラスなどの場合、エックス線を吸収しやすいため、入射エックス線の輝度が著しく不足するので、有機顔料の散乱プロファイルを精度よく測定するには、入射Ｘ線の輝度が１０１６Ｂｒｉｌｌｉａｎｃｅ以上であることが好ましく、より好ましくは１０１８Ｂｒｉｌｌｉａｎｃｅ以上である。
【００７９】
１０１６Ｂｒｉｌｌｉａｎｃｅ以上の高輝度エックス線源を得るために、前記の大型放射光施設、たとえば兵庫県のＳＰｒｉｎｇ−８や茨城県のＰｈｏｔｏｎ  Ｆａｃｔｏｒｙ等の光源を用いることができる。このような設備では、任意のカメラ長を選択することで目的の散乱領域を設定できる。また、十分な散乱強度を得るためや、試料ダメージを防ぐため、さらには検出器の保護のために入射側にアテネーターと呼ばれる数種の金属製の吸収板を使用したり、露光時間を０．５〜６０秒程度で任意で調整することにより、最適な測定条件を広範囲の目的から選択することができる。アテネーターは、例えばＡｕ、Ａｇ、モリブデン製の薄膜などが挙げられる。
【００８０】
測定の具体的な手順としては、まず、工程（Ａ）で、カラーフィルタを市販のエックス線回折装置の試料ホルダー、試料台等に設置した後、散乱角（２θ）が１０°未満の範囲の各散乱角（２θ）における散乱強度Ｉを測定して、小角エックス線散乱プロファイル（測定散乱プロファイル）を測定する。
【００８１】
基板がガラスである塗膜の場合に用いる放射光による超小角散乱装置は、蓄積リングと呼ばれる円形加速器から取り出した白色光を二結晶分光器で単色化し、Ｘ線領域の波長（例えば１Å）を線源とし、試料台に設置した塗膜に入射させ、散乱光を２次元検出器で一定時間露光し、同心円状に得られた散乱プロファイルを１次元に平均化し、散乱角（２θ）が１０°未満の範囲の各散乱角（２θ）における散乱強度Ｉに変換し、小角エックス線散乱プロファイル（測定散乱プロファイル）を得る作業を工程（Ａ）とする。
【００８２】
次いで、工程（Ｂ）では、得られた測定散乱プロファイルにおいて散乱ベクトルｑ＜０．５［ｎｍ−１］以下の領域における湾曲点を算出する。ここで言う湾曲点とは、散乱ベクトルｑと散乱強度Ｉをそれぞれ両対数プロットしたグラフであらわされる散乱プロファイルにおける、上に凸で現れる湾曲部分を意味している。
【００８３】
まず、散乱ベクトルｑおよび散乱強度Ｉのそれぞれを基数１０の対数Ｌｏｇ（ｑ）およびＬｏｇ（Ｉ）となる値に変換する。ここで便宜上、ｘとｙ座標のグラフにおける関数ｙ＝ｆ（ｘ）を考えたときの散乱プロファイルをＬｏｇ（Ｉ）  ＝Ｆ（Ｌｏｇ（ｑ））という関数で表されると仮定する。ここでさらに、Ｌｏｇ（ｑ）＝Ｑ、およびＬｏｇ（Ｉ）＝Ｊと表記すると、Ｊ＝Ｆ（Ｑ）という形で散乱プロファイルが表記されこれを散乱プロファイル関数と呼ぶことにする。
【００８４】
Ｊ＝Ｆ（Ｑ）であらわされる散乱プロファイル関数をスプライン関数によるスムージングを行い、さらにスムージング処理後の関数Ｇ（Ｑ）について１次微分関数Ｇ′（Ｑ）＝ｄＧ（Ｑ）／ｄＱを求める。前記スプライン関数によるスムージング処理後の関数Ｇ（Ｑ）および１次微分関数Ｇ′（Ｑ）の導出は例えば非特許文献１に記載されている手法を用いる。
【００８５】
次に、前記１次微分関数Ｇ′（Ｑ）において、Ｑ＝０からＱマイナス方向に向けて極小値Ｇ′ｍｉｎとそのｘ座標Ｘ＿ｇｍｉｎを求める。さらに同マイナス方向に向けて極大値Ｇ′ｍａｘとそのｘ座標Ｘ＿ｇｍａｘを求める。
次に、前記極大値Ｇ′ｍａｘと前記極小値Ｇ′ｍｉｎとの半値Ｇ′ｃ＝（Ｇ′ｍａｘ−Ｇ′ｍｉｎ）／２を求める。
前記Ｘ＿ｇｍａｘと前記Ｘ＿ｇｍｉｎの間のｘ座標範囲において、この半値Ｇ′ｃを示す点が、もとの散乱プロファイル関数Ｆ（Ｑ）における湾曲点に相当する。このときの湾曲点のｘ座標についてＱ＝Ｑ０と表す。湾曲点のｘ座標を散乱ベクトルｑで表記すると、Ｌｏｇ（ｑ０）＝Ｑ０の関係式からｑ＝ｑ０が散乱プロファイル上の湾曲点のｘ座標となる。
【００８６】
次いで、工程（Ｃ）では、まず散乱プロファイルの傾きを求めるための解析領域（ｃ１）を算出する。湾曲点のｘ座標Ｑ０よりも小さいＱの領域、つまりＱ＜Ｑ０の領域において、１次微分関数Ｇ′（Ｑ）がほぼ平坦になる領域を解析領域ｃ１とする。
このとき、微分していないもとの散乱プロファイル関数Ｆ（Ｑ）においては解析領域ｃ１である一定の傾きをもった直線に近似できるプロファイル部分となる。
【００８７】
解析領域ｃ１は、端点１と端点２で区切られた領域となるように、端点１と端点２を決定する。それぞれの端点でのｘ軸の値は、端点１ではＱ＝Ｑ１となりＬｏｇ（ｑ）＝Ｌｏｇ（ｑ１），端点２ではＱ＝Ｑ２となりＬｏｇ（ｑ）＝Ｌｏｇ（ｑ２）で表されるとする。
まず、解析領域ｃ１の端点１は以下のように決定する。前記最大値Ｇ′ｍａｘと、端点１に設定したい点での値Ｇ′（Ｑ１）との値の差分Δ＝Ｇ′ｍａｘ−Ｇ′（Ｑ１）を計算し、湾曲点ｘ座標Ｑ０からＱが小さくなる方向へ順にデータを着目したときに差分Δ＜０．１となる最初の点を端点１とする。この端点１のｘ座標がＱ＝Ｑ１となりｑ＝ｑ１である。
【００８８】
端点２の決め方については、測定データによって最適な値を決める必要がある。具体的には、小さいｑの領域では実験時に用いたビームストッパー近傍における寄生散乱などの影響が強くなり散乱強度が大きくなってしまい顔料粒子に由来する散乱とは別の要因で散乱プロファイルの傾きが変化してしまう。つまり、端点２をＱが十分小さい超小角域側に決めて解析領域ｃ１を広くとるのは必ずしも適さない。一方で、端点２を端点１の近い位置にとってしまうのはデータのノイズの影響などが大きくなり最終的に次の工程（Ｄ）で解析領域ｃ１における傾きパラメータを最小自乗法で算出する解析上、意味を為さなくなる。
【００８９】
これらを考慮し、端点２のｘ座標を決定する必要がある。端点２のｘ座標の値はＱ２＝Ｌｏｇ（ｑ２）である。ｑ２の値の決定には先に決定したｑ１の値を用いて  ｑ２＝ｑ１／２  〜  ｑ１／３の範囲でできるだけ広く散乱プロファイルが直線で近似できるようにとるのが望ましい。
【００９０】
次に、工程（Ｄ）では、端点１と端点２で決定した解析領域ｃ１における散乱プロファイルの傾きパラメータを算出する。この解析領域ｃ１では散乱強度Ｉと散乱ベクトルｑが  Ｉ（ｑ）∝ｑ−ｄＭ  の関係にある。よって、両対数プロットで散乱プロファイルを表した散乱プロファイル関数Ｌｏｇ（Ｉ）  ＝Ｆ（Ｌｏｇ（ｑ））は解析領域ｃ１での理論相関関数として下記式（１）のように表される。
【００９１】
Ｌｏｇ（Ｉ）＝−ｄＭ×Ｌｏｇ（ｑ）＋Ｃ（Ｃ：定数）  ・・・（１）
【００９２】
上記式（１）において、ｄＭが解析領域ｃ１における傾きパラメータとなり、Ｃは定数である。
上記式（１）で表される理論相関関数と解析領域ｃ１における散乱プロファイルとの関数フィッティングを最小自乗法により実行することで傾きパラメータｄＭを算出する。
【００９３】
関数フィッティングにおける変数は上記のｄＭおよびＣである。関数フィッティングは理論相関関数と散乱プロファイル関数との残差二乗和Ｚ値が最小自乗法により最小となるよう実行され、この残差二乗和Ｚ値が小さいほどフィッティングの精度は高いとされる。一般にＺ値は２％未満になればフィッティングが収束したと判断してよい。好ましくはＺ値が１％未満であり、よりこのましくは０．５％未満である。
【００９４】
本工程における関数フィッティングが良好に収束しない場合、すなわちＺ値が２％以上である場合は解析領域ｃ１内のデータにばらつきが多いか、もしくは直線形状から大きく外れていることを意味する。この原因のひとつとして解析領域ｃ１が適切でないことが考えられる。とくに解析領域ｃ１を広くとりすぎて不要な散乱寄与を含んだデータになっている場合が考えられ、その場合は工程（Ｃ）で求めた端点２を端点１に近いところに調整してもよく、そのうえで工程（Ｄ）を繰り返す。
【００９５】
もう１つの原因としては、十分な強度のないエックス線で測定した場合において得られた散乱強度データが大きくばらついていることが原因として考えられる。その場合は、Ｓ／Ｎ比が良好な散乱強度データが得られるような、より強力なエックス線を照射できる実験施設での超小角散乱実験によって測定データを得る必要がある。
【００９６】
ここで、散乱プロファイルにおいて明瞭な湾曲部分が見られない場合、つまり前記極大値Ｇ′ｍａｘと前記極小値Ｇ′ｍｉｎの差分△Ｇ′ｍａｘ−ｍｉｎ＜０．１の場合には、仮想的に湾曲点Ｑ０（またはｑ０）を決める必要が生じる。もしこのとき、同じ顔料を用いている別のカラーフィルタ試料で散乱プロファイルに湾曲部が明瞭に現れている場合には、そのときの湾曲点Ｑ０を、湾曲部が明瞭に現れていない試料の湾曲点Ｑ０に代用することができる。散乱プロファイルにおいて明瞭な湾曲部分がみられず、代用できるＱ０が得られない場合には、ｑ＜０．５の範囲、Ｑ＜Ｌｏｇ（０．５）の範囲において散乱プロファイル上の任意の部分を解析領域ｃ１と設定することができる。その解析領域ｃ１において最小自乗法により傾きパラメータｄＭを求めればよい。
【００９７】
なお、この傾きパラメータｄＭは、物理的には質量フラクタル次元数と呼ばれることがあり、解析領域ｃ１で精度良く傾きパラメータｄＭが求められるということは散乱光強度Ｉが  Ｉ（ｑ）∝ｑ−ｄＭで表されて散乱ベクトルｑのべき乗則に従っていることを示している。そのため、原理的にはｄＭは３以上の値をとらない。もし、ｄＭが３以上の値になった場合は、先述のような不適切な解析領域ｃ１やノイズの多いデータの原因が考えられるので、解析領域ｃ１の見直しや高強度エックス線による再実験を行い、あらためて工程（Ａ）から工程（Ｄ）を実施することで散乱プロファイルの傾きパラメータを解析結果として得られる。
【００９８】
以上のように解析領域ｃ１で精度良く傾きパラメータｄＭが求められるということはすなわち質量フラクタル次元数が明確に決定できていることであり、原理的、物理的にはカラーフィルタに含まれる有機顔料の凝集構造がフラクタル的な自己相似的構造をとっていることを示している。ｄＭで表される傾きパラメータが大きい値であるほど自己相似的凝集構造が大きいことを意味し、凝集程度が大きいことを示している。よって、このｄＭをカラーフィルタにおける顔料凝集程度の定量的指標とすることができる。
（配向膜）
本発明の液晶表示装置において、第一の基板と、第二の基板上の液晶組成物と接する面には液晶組成物を配向させるため、配向膜を必要とする液晶表示装置においてはカラーフィルタと液晶層間に配置するものであるが、配向膜の膜厚が厚いものでも１００ｎｍ以下と薄く、カラーフィルタを構成する顔料等の色素と液晶層を構成する液晶化合物との相互作用を完全に遮断するものでは無い。
又、配向膜を用いない液晶表示装置においては、カラーフィルタを構成する顔料等の色素と液晶層を構成する液晶化合物との相互作用はより大きくなる。
【００９９】
配向膜材料としては、ポリイミド、ポリアミド、ＢＣＢ（ペンゾシクロブテンポリマー）、ポリビニルアルコールなどの透明性有機材料を用いることができ、特に、ｐ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフエニルメタンなどの脂肪族または脂環族ジアミン等のジアミン及びブタンテトラカルボン酸無水物や２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸無水物等の脂肪族又は脂環式テトラカルボン酸無水物、ピロメリット酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸無水物から合成されるポリアミック酸をイミド化した、ポリイミド配向膜が好ましい。この場合の配向付与方法は、ラビングを用いることが一般的であるが、垂直配向膜等に使用する場合は配向を付与しないで使用することもできる。
配向膜材料としては、カルコン、シンナメート、シンナモイル又はアゾ基等を化合物中に含む、材料を使用することができ、ポリイミド、ポリアミド等の材料と組み合わせて使用してもよく、この場合配向膜はラビングを用いてもよく光配向技術を用いてもよい。
配向膜は、基板上に前記配向膜材料をスピンコート法などの方法により塗布して樹脂膜を形成することが一般的であるが、一軸延伸法、ラングミュア・ブロジェット法等を用いることもできる。
【０１００】
（透明電極）
本発明の液晶表示装置において、透明電極の材料としては、導電性の金属酸化物を用いることができ、金属酸化物としては酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化インジウムスズ（Ｉｎ２Ｏ３―ＳｎＯ２）、酸化インジウム亜鉛（Ｉｎ２Ｏ３―ＺｎＯ）、ニオブ添加二酸化チタン（Ｔｉ1-xＮｂxＯ２）、フッ素ドープ酸化スズ、グラフェンナノリボン又は金属ナノワイヤー等が使用できるが、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化インジウムスズ（Ｉｎ２Ｏ３―ＳｎＯ２）又は酸化インジウム亜鉛（Ｉｎ２Ｏ３―ＺｎＯ）が好ましい。これらの透明導電膜のパターニングには、フォト・エッチング法やマスクを用いる方法などを使用することができる。
【０１０１】
本発明の液晶表示装置は、特にアクティブマトリックス駆動用液晶表示装置に有用であり、ＴＮモード、ＩＰＳモード、高分子安定化ＩＰＳモード、ＦＦＳモード、ＯＣＢモード、ＶＡモード又はＥＣＢモード用液晶表示装置に適用できる。
本液晶表示装置と、バックライトを組み合わせて、液晶テレビ、パソコンのモニター、携帯電話、スマートフォンのディスプレイや、ノート型パーソナルコンピューター、携帯情報端末、デジタルサイネージ等の様々な用途で使用される。バックライトとしては、冷陰極管タイプバックライト、無機材料を用いた発光ダイオードや有機ＥＬ素子を用いた、２波長ピークの擬似白色バックライトと３波長ピークのバックライト等がある。
【実施例】
【０１０２】
以下に実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は『質量％』を意味する。
実施例中、測定した特性は以下の通りである。
Ｔｎｉ ：ネマチック相−等方性液体相転移温度（℃）
Δｎ  ：２５℃における屈折率異方性
Δε  ：２５℃における誘電率異方性
η    ：２０℃における粘度（ｍＰａ・ｓ）
γ１  ：２５℃における回転粘性（ｍＰａ・ｓ）
ＶＨＲ：７０℃における電圧保持率（％）
（セル厚３．５μｍのセルに液晶組成物を注入し、５Ｖ印加、フレームタイム２００ｍｓ、パルス幅６４μｓの条件で測定した時の測定電圧と初期印加電圧との比を％で表した値）
ＩＤ  ：７０℃におけるイオン密度（ｐＣ／ｃｍ２）
（セル厚３．５μｍのセルに液晶組成物を注入し、ＭＴＲ−１（株式会社東陽テクニカ製）で２０Ｖ印加、周波数０．０５Ｈｚの条件で測定した時のイオン密度値）
焼き付き：
液晶表示素子の焼き付き評価は、表示エリア内に所定の固定パターンを１０００時間表示させた後に、全画面均一な表示を行ったときの固定パターンの残像のレベルを目視にて以下の４段階評価で行った。
◎残像無し
○残像ごく僅かに有るも許容できるレベル
△残像有り許容できないレベル
×残像有りかなり劣悪
尚、実施例において化合物の記載について以下の略号を用いる。
（環構造）【０１０３】
【化２０】
0005561451.tif 000021
（側鎖構造及び連結構造）【０１０４】
【表１】
0005561451.tif 000022
【０１０５】
［カラーフィルタの製造］
［顔料分散液の製造］
〈合成例１〉  共重合体ａの合成
キシレン１００部を、窒素気流中８０℃に保ち、攪拌しながらメタクリル酸エチル６８部、メタクリル酸２−エチルヘキシル２９部、チオグリコール酸３部、および重合開始剤（「パーブチル（登録商標）Ｏ」〔有効成分ペルオキシ２−エチルヘキサン酸ｔ−ブチル、日本油脂（株）製〕）０．２部からなる混合物を４時間かけて滴下した。滴下終了後、４時間ごとに「パーブチル（登録商標）Ｏ」０．５部を添加し、８０℃で１２時間攪拌した。反応終了後不揮発分調整のためキシレンを加え、不揮発分５０％の共重合体ａのキシレン溶液を得た。【０１０６】
〈合成例２〉  共重合体ｂの合成
キシレン１００部を、窒素気流中８０℃に保ち、攪拌しながらメタクリル酸エチル６６部、メタクリル酸２−エチルヘキシル２８部、チオグリコール酸６部、および重合開始剤（「パーブチル（登録商標）Ｏ」〔有効成分ペルオキシ２−エチルヘキサン酸ｔ−ブチル、日本油脂（株）製〕）０．３部からなる混合物を４時間かけて滴下した。滴下終了後、４時間ごとに「パーブチル（登録商標）Ｏ」０．５部を添加し、８０℃で１２時間攪拌した。反応終了後、不揮発分調整のため適宜量のキシレンを添加し、不揮発分５０％の、共重合体ｂのキシレン溶液を得た。【０１０７】
〈合成例３〉  ポリマーＰの合成
撹拌機、還流冷却器、窒素吹込み管、温度計を備えたフラスコに、キシレン５４．５部、合成例２で得た共重合体ａを１９．０部、共重合体ｂを３８．０部、およびポリアリルアミン１５％水溶液（日東紡績（株）製「ＰＡＡ−０５」、数平均分子量約５，０００）７．５部からなる混合物を仕込み、窒素気流下撹拌しながら１４０℃で撹拌し、分離装置を使用して水を溜去すると共に、キシレンを反応溶液に返流しながら８時間１４０℃で反応を行った。
反応終了後、不揮発分調整のため適宜量のキシレンを添加し、不揮発分４０％の、変性ポリアミンであるポリマーＰを得た。該樹脂の重量平均分子量は１１０００、アミン価は１６．０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。【０１０８】
〈製造例１〉  粉末顔料１の製造
ＤＩＣ株式会社製のＦＡＳＴＯＧＥＮ  Ｇｒｅｅｎ  Ａ１１０（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ５８、臭素化塩素化亜鉛フタロシアニン）を、粉末顔料１とした。【０１０９】
〈製造例２〉  粉末顔料２の製造
製造例１で得た粉末顔料１を１００部、ヘプタンを３００部、ポリマーＰを１０部混合し、１．２５ｍｍジルコニアビーズを３００部加えて、ペイントシェーカー（東洋精機株式会社製）で常温にて、１時間撹拌したのち、ヘプタン２００部で希釈し、ジルコニアビーズを濾別し、顔料混合液を得た。
得られた顔料混合液の４００部を温度計、攪拌機、還流冷却器および窒素ガス導入管を備えたセパラブルフラスコに仕込んだ後、メタクリル酸メチルの５部およびエチレングリコールジメタクリレートの５部の重合性単量体組成物に２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）の２部を溶解したものを加えた。室温で３０分間攪拌を続けた後、８０℃に昇温し、同温度で１５時間反応を続けた。降温後、濾過を行い、得られたウエットケーキを熱風乾燥機により１００℃で５時間乾燥後、粉砕機にて粉砕を行い、粉末顔料２を得た。【０１１０】
〈製造例３〉  粉末顔料３の製造
製造例１で得た粉末顔料１を１０部、粉砕した塩化ナトリウムを１００部、ジエチレングリコール１０部を双腕型ニーダーで１００℃８時間混練した。混練後、８０℃の水１０００部を加え、一時間撹拌後、濾過、湯洗、乾燥、粉砕し、粉末顔料３を得た。【０１１１】
〈製造例４〉  分散液１の製造
製造例１で得た粉末顔料１を５部、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＡ）を３３．３部、ポリマーＰを３部混合し、０．５ｍｍセプラビーズを６５部加えて、ペイントシェーカー（東洋精機株式会社製）で４時間撹拌した。得られた混合液からセプラビーズを濾別し、分散液１を得た。【０１１２】
〈製造例５〉  分散液２の製造
製造例４において、粉末顔料１を粉末顔料２に、ポリマーＰをアジスパーＰＢ８２１（味の素ファインテクノ株式会社製）に変更し、更にキノリンを０．１部添加した以外は同様にして、分散液２を得た。【０１１３】
〈製造例６〉  分散液３の製造
製造例５において、粉末顔料２を５部、ＰＧＭＡを３３．３部、アジスパーＰＢ８２１を３部、キノリンをピロールに変更した以外は同様にして、分散液３を得た。【０１１４】
〈製造例７〉  分散液４の製造
製造例６において、ピロールをオキサゾールに変更した以外は同様にして、分散液４を得た。【０１１５】
〈製造例８〉  分散液５の製造
製造例７において、オキサゾールをピロリジンに変更した以外は同様にして、分散液５を得た。【０１１６】
〈製造例９〉  粉末顔料４及び分散液６の製造
ε型銅フタロシアニン顔料（ＤＩＣ株式会社製「ファストゲン  ブルー  ＥＰ−１９３」）を粉末顔料４とし、粉末顔料４を５部、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＡ）を３３．３部、ポリマーＰを３部混合し、０．５ｍｍセプラビーズを６５部加えて、ペイントシェーカー（東洋精機株式会社製）で４時間撹拌した。得られた混合液からセプラビーズを濾別し、分散液６を得た。
【０１１７】
〈製造例１０〉  粉末顔料５及び分散液７の製造
ジケトピロロピロール系赤色顔料ＰＲ２５４（チバスペシャリティケミカルズ社製「イルガフォアレッドＢ-ＣＦ」；Ｒ−１）を粉末顔料５とし、粉末顔料５を５部、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＡ）を３３．３部、ポリマーＰを３部混合し、０．５ｍｍセプラビーズを６５部加えて、ペイントシェーカー（東洋精機株式会社製）で４時間撹拌した。得られた混合液からセプラビーズを濾別し、分散液７を得た。【０１１８】
［カラーフィルタの製造］
〈製造例１１〉  カラーフィルタ１の製造
カバーガラス（東京硝子器械社製、硼珪酸製カバーガラス）をスピンコーター（ミカサ（株）社製、Ｏｐｔｉｃｏａｔ  ＭＳ−Ａ１００）にセットし、製造例４で得た分散液１を１．５ｍｌ供し、６００ｒｐｍで塗工した。得られた塗工物を恒温機中で９０℃３分間乾燥させ、続けて２３０℃３時間加熱処理してカラーフィルタ１を得た。カラーフィルタ１の極大透過波長は、５２３ｎｍであった。透過スペクトルを図３に示す。【０１１９】
〔ＵＳＡＸＳでのカラーフィルタ１の測定〕
カラーフィルタをアルミ製試料ホルダーに固定した。その後、ホルダーを透過測定用試料台にセットした。以下の条件で超小角エックス線散乱測定および傾きパラメータ算出を行い、結果を表２に示した。【０１２０】
測定機器、測定方法は以下の通り。
測定装置：大型高輝度放射光施設：ＳＰｒｉｎｇ−８内のフロンティアソフトマター開発産学連合体が所有するビームライン：ＢＬ０３ＸＵ  第２ハッチ
測定モード：超小角Ｘ線散乱（ＵＳＡＸＳ）
測定条件：波長０．１ｎｍ、カメラ長６ｍ、ビームスポットサイズ  １４０μｍ×８０μｍ、アテネーターなし、露光時間  ３０秒、２θ＝  ０．０１〜１．５°
解析ソフト：２次元データの画像化と１次元散乱プロファイル化をＦｉｔ２Ｄ  （Ｅｕｒｏｐｅａｎ  Ｓｙｎｃｈｒｏｔｒｏｎ  Ｒａｄｉａｔｉｏｎ  Ｆａｃｉｌｉｔｙのホームページ［ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｅｓｒｆ．ｅｕ／ｃｏｍｐｕｔｉｎｇ／ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ／ＦＩＴ２Ｄ／］より入手）
散乱プロファイルの微分計算およびスムージング処理の解析をＭａｔｈＷｏｒｋｓ製ソフトＭＡＴＬＡＢで行った。次いでマイクロソフト社製ソフトウェアＥｘｃｅｌを用いて湾曲点の算出、解析領域の算出を経て傾きパラメータを得た。
Ｚ値：直線性の判断として２％以内とした。【０１２１】
〈製造例１２〉  カラーフィルタ２の製造
実施例１において、分散液１を分散液２に変更した以外は同様にして、カラーフィルタ２を得た。カラーフィルタ２の極大透過波長は、５２２ｎｍであった。透過スペクトルを図３に示す。得られたカラーフィルタ２については、製造例１１と同様に、超小角エックス線散乱測定および傾きパラメータ算出を行い、表２に示した。【０１２２】
〈製造例１３〉  カラーフィルタ３の製造
製造例１１において、分散液１を分散液３に変更した以外は同様にして、カラーフィルタ３を得た。カラーフィルタ３の極大透過波長は、５２３ｎｍであった。透過スペクトルを図３に示す。得られたカラーフィルタ３については、製造例１１と同様に、超小角エックス線散乱測定および傾きパラメータ算出を行い、表２に示した。【０１２３】
〈製造例１４〉  カラーフィルタ４の製造
製造例１１において、分散液１を分散液４に変更した以外は同様にして、カラーフィルタ４を得た。カラーフィルタ４の極大透過波長は、５２３ｎｍであった。透過スペクトルを図４に示す。得られたカラーフィルタ４については、製造例１１と同様に、超小角エックス線散乱測定および傾きパラメータ算出を行い、表２に示した。【０１２４】
〈製造例１５〉  カラーフィルタ５の製造
製造例１１において、分散液１を分散液５に変更した以外は同様にして、カラーフィルタ５を得た。得られたカラーフィルタ５については、製造例１１と同様に、超小角エックス線散乱測定および傾きパラメータ算出を行い、表２に示した。【０１２５】
〈製造例１６〉  カラーフィルタ６の製造
カバーガラス（東京硝子器械社製、硼珪酸製カバーガラス）をスピンコーター（ミカサ（株）社製、Ｏｐｔｉｃｏａｔ  ＭＳ−Ａ１００）にセットし、製造例６で得た分散液３を１．５ｍｌ供し、６００ｒｐｍで塗工した。得られた塗工物を恒温機中で９０℃３分間乾燥させ、カラーフィルタ６を得た。カラーフィルタ６の極大透過波長は、５１５ｎｍであった。透過スペクトルを図４に示す。得られたカラーフィルタ６については、製造例１１と同様に、超小角エックス線散乱測定および傾きパラメータ算出を行い、表２に示した。【０１２６】
〈製造例１７〉  カラーフィルタ７の製造
製造例１１において、分散液１を分散液６に変更した以外は同様にして、カラーフィルタ７を得た。カラーフィルタ７の極大透過波長は、４３５ｎｍであった。得られたカラーフィルタ７について、製造例１１と同様に、超小角エックス線散乱測定および傾きパラメータ算出を行い、表２に示した。【０１２７】
〈製造例１８〉  カラーフィルタ８の製造
製造例１６において、製造例６で得た分散液３を製造例１０で得た分散液６に変えた以外は同様にして、カラーフィルタ８を得た。カラーフィルタ８の極大透過波長は、４３５ｎｍであった。得られたカラーフィルタ８について、製造例１１と同様に超小角エックス線散乱測定および傾きパラメータ算出を行い、表２に示した。【０１２８】
〈製造例１９〉  カラーフィルタ９の製造
製造例１１において、分散液１を分散液７に変更した以外は同様にして、カラーフィルタ９を得た。得られたカラーフィルタ９について、製造例１１と同様に、超小角エックス線散乱測定および傾きパラメータ算出を行い、表２に示した。【０１２９】
〈製造例２０〉  カラーフィルタ１０の製造
製造例１６において、製造例６で得た分散液３を製造例１０で得た分散液７に変えた以外は同様にして、カラーフィルタ１０を得た。得られたカラーフィルタ１０について、実施例１と同様に、超小角エックス線散乱測定および傾きパラメータ算出を行い、表２に示した。【０１３０】
【表２】
0005561451.tif 000023
【０１３１】
（実施例１〜７）
電極構造を第一及び第二の基板の少なくとも一方に作成し、各々の対向側に水平配向性の配向膜を形成したのち弱ラビング処理を行い、ＩＰＳセルを作成し、第一の基板と第二の基板の間に以下に示す液晶組成物１を挟持した。液晶組成物１の物性値を表３に示す。次に、表２に示すカラーフィルタ１〜５、７、９を用いて実施例１〜７の液晶表示装置を作成した（ｄｇａｐ＝４．０μｍ、配向膜ＡＬ−１０５１）。得られた液晶表示装置のＶＨＲ及びＩＤを測定した。また、得られた液晶表示装置の焼き付き評価を行った。その結果を表４に示す。【０１３２】
【化２１】
0005561451.tif 000024
【０１３３】
【表３】
0005561451.tif 000025
【０１３４】
【表４】
0005561451.tif 000026
【０１３５】
液晶組成物１は、ＴＶ用液晶組成物として実用的な７５．８℃の液晶層温度範囲を有し、大きい誘電率異方性の絶対値を有し、低い粘性及び最適なΔｎを有していることがわかる。
実施例１〜７の液晶表示装置は、高いＶＨＲ及び小さいＩＤを実現できた。また、焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。【０１３６】
（実施例８〜２１）
実施例１と同様に表５に示す液晶組成物２〜３を狭持し、表２に示すカラーフィルタ１〜５、７、９を用いて実施例８〜２１の液晶表示装置を作成し、そのＶＨＲ及びＩＤを測定した。また、その液晶表示装置の焼き付き評価を行った。その結果を表６〜７に示す。【０１３７】
【表５】
0005561451.tif 000027
【０１３８】
【表６】
0005561451.tif 000028
【０１３９】
【表７】
0005561451.tif 000029
実施例８〜２１の液晶表示装置は、高いＶＨＲ及び小さいＩＤを実現できた。また、焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。【０１４０】
（実施例２２〜４２）
実施例１と同様に表８に示す液晶組成物４〜６を狭持し、表２に示すカラーフィルタ１〜５、７、９を用いて実施例２２〜４２の液晶表示装置を作成し、そのＶＨＲ及びＩＤを測定した。また、その液晶表示装置の焼き付き評価を行った。その結果を表９〜１１に示す。【０１４１】
【表８】
0005561451.tif 000030
【０１４２】
【表９】
0005561451.tif 000031
【０１４３】
【表１０】
0005561451.tif 000032
【０１４４】
【表１１】
0005561451.tif 000033
実施例２２〜４２の液晶表示装置は、高いＶＨＲ及び小さいＩＤを実現できた。また、焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。【０１４５】
（実施例４３〜６３）
電極構造を第一及び第二の基板に作成し、各々の対向側に水平配向性の配向膜を形成したのち弱ラビング処理を行い、ＴＮセルを作成し、第一の基板と第二の基板の間に表１２に示す液晶組成物７〜９を挟持した。次に、表２に示すカラーフィルタ１〜５、７、９を用いて実施例４３〜６３の液晶表示装置を作成した（ｄｇａｐ＝３．５μｍ、配向膜ＳＥ−７４９２）。得られた液晶表示装置のＶＨＲ及びＩＤを測定した。また、得られた液晶表示装置の焼き付き評価を行った。その結果を表１３〜１５に示す。【０１４６】
【表１２】
0005561451.tif 000034
【０１４７】
【表１３】
0005561451.tif 000035
【０１４８】
【表１４】
0005561451.tif 000036
【０１４９】
【表１５】
0005561451.tif 000037
【０１５０】
実施例４３〜６３の液晶表示装置は、高いＶＨＲ及び小さいＩＤを実現できた。また、焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。【０１５１】
（実施例６４〜７７）
電極構造を第一及び第二の基板の少なくとも一方に作成し、各々の対向側に水平配向性の配向膜を形成したのち弱ラビング処理を行い、ＦＦＳセルを作成し、第一の基板と第二の基板の間に表１６に示す液晶組成物１０〜１１を挟持した。次に、表２に示すカラーフィルタ１〜５、７、９を用いて実施例６４〜７７の液晶表示装置を作成した（ｄｇａｐ＝４．０μｍ、配向膜ＡＬ−１０５１）。得られた液晶表示装置のＶＨＲ及びＩＤを測定した。また、得られた液晶表示装置の焼き付き評価を行った。その結果を表１７〜１８に示す。【０１５２】
【表１６】
0005561451.tif 000038
【０１５３】
【表１７】
0005561451.tif 000039
【０１５４】
【表１８】
0005561451.tif 000040
【０１５５】
実施例６４〜７７の液晶表示装置は、高いＶＨＲ及び小さいＩＤを実現できた。また、焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。【０１５６】
（実施例７８〜９１）
実施例６４と同様に表１９に示す液晶組成物１２〜１３を狭持し、表２に示すカラーフィルタ１〜５、７、９を用いて実施例７８〜９１の液晶表示装置作成し、そのＶＨＲ及びＩＤを測定した。また、その液晶表示装置の焼き付き評価を行った。その結果を表２０〜２１に示す。【０１５７】
【表１９】
0005561451.tif 000041
【０１５８】
【表２０】
0005561451.tif 000042
【０１５９】
【表２１】
0005561451.tif 000043
【０１６０】
実施例７８〜９１の液晶表示装置は、高いＶＨＲ及び小さいＩＤを実現できた。また、焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。【０１６１】
（実施例９２〜９８）
実施例６４で用いた液晶組成物１０にビスメタクリル酸ビフェニル‐４，４’‐ジイルを０．３質量％混合し液晶組成物１４とした。ＴＮセルにこの液晶組成物１４を挟持し、電極間に駆動電圧を印加したまま、紫外線を６００秒間照射（３．０Ｊ／ｃｍ２)し、重合処理を行い、次に、表２に示すカラーフィルタ１〜５、７，９を用いて実施例９２〜９８の液晶表示装置を作成し、そのＶＨＲ及びＩＤを測定した。また、その液晶表示装置の焼き付き評価を行った。その結果を表２２に示す。【０１６２】
【表２２】
0005561451.tif 000044
【０１６３】
実施例９２〜９８の液晶表示装置は、高いＶＨＲ及び小さいＩＤを実現できた。また、焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。【０１６４】
（実施例９９〜１０５）
実施例５０で用いた液晶組成物８にビスメタクリル酸ビフェニル‐４，４’‐ジイルを０．３質量％混合し液晶組成物１５とした。ＩＰＳセルにこの液晶組成物１５を挟持し、電極間に駆動電圧を印加したまま、紫外線を６００秒間照射（３．０Ｊ／ｃｍ２)し、重合処理を行い、次に、表２に示すカラーフィルタ１〜５、７、９を用いて実施例９９〜１０５の液晶表示装置を作成し、そのＶＨＲ及びＩＤを測定した。また、その液晶表示装置の焼き付き評価を行った。その結果を表２３に示す。【０１６５】
【表２３】
0005561451.tif 000045
【０１６６】
実施例９９〜１０５の液晶表示装置は、高いＶＨＲ及び小さいＩＤを実現できた。また、焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。【０１６７】
（実施例１０６〜１１２）
実施例３６で用いた液晶組成物６にビスメタクリル酸  ３‐フルオロビフェニル‐４，４’‐ジイルを０．３質量％混合し液晶組成物１６とした。ＦＦＳセルにこの液晶組成物１６を挟持し、電極間に駆動電圧を印加したまま、紫外線を６００秒間照射（３．０Ｊ／ｃｍ２)し、重合処理を行い、次に、表２に示すカラーフィルタ１〜５、７、９を用いて実施例１０６〜１１２の液晶表示装置を作成し、そのＶＨＲ及びＩＤを測定した。また、その液晶表示装置の焼き付き評価を行った。その結果を表２４に示す。【０１６８】
【表２４】
0005561451.tif 000046
【０１６９】
実施例１０６〜１１２の液晶表示装置は、高いＶＨＲ及び小さいＩＤを実現できた。また、焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。【０１７０】
（実施例１１３〜１１９）
実施例６４と同様に表２５に示す液晶組成物１７を狭持し、表２に示すカラーフィルタ１〜５、７、９を用いて実施例１１３〜１１９の液晶表示装置を作成し、そのＶＨＲ及びＩＤを測定した。また、その液晶表示装置の焼き付き評価を行った。その結果を表２６に示す。【０１７１】
【表２５】
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【０１７２】
【表２６】
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【０１７３】
実施例１１３〜１１９の液晶表示装置は、高いＶＨＲ及び小さいＩＤを実現できた。また、焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。
（比較例１〜７）
実施例１で用いたＩＰＳセルに以下に示す比較液晶組成物１を挟持した。比較液晶組成物の物性値を表２７に示す。表２に示すカラーフィルタ１〜５、７、９を用いて比較例１〜７の液晶表示装置を作製し、そのＶＨＲ及びＩＤを測定した。また、その液晶表示装置の焼き付き評価を行った。その結果を表２８に示す。【０１７４】
【化２２】
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【０１７５】
【表２７】
0005561451.tif 000050
【０１７６】
【表２８】
0005561451.tif 000051
【０１７７】
比較例１〜７の液晶表示装置は、本願発明の液晶表示装置と比較して、ＶＨＲは低く、ＩＤも大きくなってしまった。また、焼き付き評価においても残像の発生が認められ許容できるレベルではなかった。【０１７８】
（比較例８〜２１）
実施例１と同様に表２９に示す比較液晶組成物２及び３を狭持し、表２に示すカラーフィルタ１〜５、７、９を用いて比較例８〜２１の液晶表示装置を作製し、そのＶＨＲ及びＩＤを測定した。また、その液晶表示装置の焼き付き評価を行った。その結果を表３０〜３１に示す。【０１７９】
【表２９】
0005561451.tif 000052
【０１８０】
【表３０】
0005561451.tif 000053
【０１８１】
【表３１】
0005561451.tif 000054
【０１８２】
比較例８〜２１の液晶表示装置は、本願発明の液晶表示装置と比較して、ＶＨＲは低く、ＩＤも大きくなってしまった。また、焼き付き評価においても残像の発生が認められ許容できるレベルではなかった。【０１８３】
（比較例２２〜３５）
実施例１と同様に表３２に示す比較液晶組成物４〜５を狭持し、表２に示すカラーフィルタ１〜５、７、９を用いて比較例２２〜３５の液晶表示装置を作製し、そのＶＨＲ及びＩＤを測定した。また、その液晶表示装置の焼き付き評価を行った。その結果を表３３〜３４に示す。【０１８４】
【表３２】
0005561451.tif 000055
【０１８５】
【表３３】
0005561451.tif 000056
【０１８６】
【表３４】
0005561451.tif 000057
【０１８７】
比較例２２〜３５の液晶表示装置は、本願発明の液晶表示装置と比較して、ＶＨＲは低く、ＩＤも大きくなってしまった。また、焼き付き評価においても残像の発生が認められ許容できるレベルではなかった。【０１８８】
（比較例３６〜５６）
実施例１と同様に表３５に示す比較液晶組成物６〜８を狭持し、表２に示すカラーフィルタ１〜５、７、９を用いて比較例３６〜５６の液晶表示装置を作製し、そのＶＨＲ及びＩＤを測定した。また、その液晶表示装置の焼き付き評価を行った。その結果を表３６〜３８に示す。【０１８９】
【表３５】
0005561451.tif 000058
【０１９０】
【表３６】
0005561451.tif 000059
【０１９１】
【表３７】
0005561451.tif 000060
【０１９２】
【表３８】
0005561451.tif 000061
【０１９３】
比較例３６〜５６の液晶表示装置は、本願発明の液晶表示装置と比較して、ＶＨＲは低く、ＩＤも大きくなってしまった。また、焼き付き評価においても残像の発生が認められ許容できるレベルではなかった。【０１９４】
（比較例５７〜７７）
実施例１と同様に表３９に示す比較液晶組成物９〜１１を狭持し、表２に示すカラーフィルタ１〜５、７、９を用いて比較例５７〜７７の液晶表示装置を作製し、そのＶＨＲ及びＩＤを測定した。また、その液晶表示装置の焼き付き評価を行った。その結果を表４０〜４２に示す。【０１９５】
【表３９】
0005561451.tif 000062
【０１９６】
【表４０】
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【０１９７】
【表４１】
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【０１９８】
【表４２】
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【０１９９】
比較例５７〜７７の液晶表示装置は、本願発明の液晶表示装置と比較して、ＶＨＲは低く、ＩＤも大きくなってしまった。また、焼き付き評価においても残像の発生が認められ許容できるレベルではなかった。【０２００】
（比較例７８〜１０１）
実施例８、２２、２９、４３、６４、７８、９９及び１０６において、カラーフィルタ１に代えて表２に示すカラーフィルタ６、８、１０を用いた以外は同様にして比較例７８〜１０１の液晶表示装置を作製し、そのＶＨＲ及びＩＤを測定した。また、その液晶表示装置の焼き付き評価を行った。その結果を表４３〜４５に示す。【０２０１】
【表４３】
0005561451.tif 000066
【０２０２】
【表４４】
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【０２０３】
【表４５】
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【０２０４】
比較例７８〜１０１の液晶表示装置は、本願発明の液晶表示装置と比較して、ＶＨＲは低く、ＩＤも大きくなってしまった。また、焼き付き評価においても残像の発生が認められ許容できるレベルではなかった。
【要約】
本発明は、特定の液晶組成物と有機顔料の凝集程度を示す特定の傾きパラメータを有するカラーフィルタを用いた液晶表示装置に関する。
本発明は、液晶層の電圧保持率（ＶＨＲ）の低下、イオン密度（ＩＤ）の増加を防止し、白抜け、配向むら、焼き付けなどの表示不良の問題を解決する液晶表示装置を提供するものである。
本発明の液晶表示装置は液晶層の電圧保持率（ＶＨＲ）の低下、イオン密度（ＩＤ）の増加を防止し、焼き付き等の表示不良の発生を抑制する特徴を有することから、特に、アクティブマトリックス駆動用のＩＰＳモード、ＦＦＳモード液晶表示装置に有用であり、液晶ＴＶ、モニター、携帯電話、スマートフォン等の液晶表示装置に適用できる。【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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