(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
スリットバルブアセンブリに結合されるチャンバを密閉する方法であって、前記チャンバは、基板が通過可能な大きさに作られる開口を有し、前記方法は、
スリットバルブドアをスリットバルブアセンブリ本体内で、前記基板が移動する方向に実質的に垂直な第１方向に、前記開口からより遠くに位置する第１位置から、前記開口により近くに位置する第２位置まで作動させるステップを含み、前記スリットバルブドアは、１以上のＯリングが結合され、前記スリットバルブアセンブリ本体は、壁によって画定される内部容積を有し、前記スリットバルブアセンブリ本体は、前記チャンバの前記開口と整列する前記スリットバルブアセンブリ本体を通って延びる開口を有し、
前記方法は、前記スリットバルブドアの少なくとも第１部分を、前記基板が移動し前記第１方向と実質的に垂直な第２方向に、第１時間間隔、第１距離、及び約１２ｍｍ／秒から約１８ｍｍ／秒の間の第１速度で作動させるステップと、
前記１以上のＯリングが、前記壁の内面に接触する時間を検出するステップと、
前記検出に応じて、前記スリットバルブドアの前記第１部分を、前記第２方向に、第２時間間隔、第２距離、及び第２速度で作動させるステップを更に含み、ここで前記第２距離は前記第１距離未満であり、前記第２速度は約０．５ｍｍ／秒と約０．７ｍｍ／秒の間であり、前記第２時間間隔は前記第１時間間隔未満である方法。
【請求項２】
前記第２方向への前記作動の間、前記スリットバルブドアの内部容積を増加させるステップを更に含む請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記１以上のＯリングは、前記第２時間間隔の間、前記壁の内面に対して圧縮する請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記１以上のＯリングが、前記壁の内面に最初に接触した時間を検出するステップを更に含む請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記第２方向への前記作動は、前記スリットバルブドアの内部へガスを流すステップ及び前記スリットバルブドアを拡張するステップを更に含む請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記第２方向への前記作動は、前記スリットバルブドアの前記第１部分を前記第２方向へ拡張するステップ及び同時に前記スリットバルブドアの第２部分を前記第２方向と反対の第３方向へ前記第１距離と実質的に等しい距離移動させるステップを更に含む請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記スリットバルブドアは、サポートシャフト及びコントロールパネルに結合され、前記サポートシャフト及び前記コントロールパネルは、前記第２部分が前記第３方向に移動するとき、前記第３方向へ移動する請求項６記載の方法。
【請求項８】
前記壁の内面を前記第２部分と接触させるステップを更に含む請求項６記載の方法。
【請求項９】
前記第２部分は、１以上の第２Ｏリングに結合され、
前記方法は、前記１以上の第２Ｏリングが前記内面に接触する時間を検出するステップを更に含む請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記第２方向への前記作動の間、前記１以上の第２Ｏリングを前記内面に対して圧縮するステップを更に含む請求項９記載の方法。
【請求項１１】
前記第２方向への前記作動と同時に、前記スリットバルブドア内の１以上のばねを圧縮するステップを更に含む請求項１記載の方法。
【請求項１２】
前記スリットバルブドアの内部容積内へガスを流すステップを更に含む請求項１記載の方法。
【請求項１３】
基板が通過可能な大きさに作られる開口を有するチャンバを密閉する方法であって、
スリットバルブドアの内部にガスを流すステップを含み、これによって前記スリットバルブドアの前記内部を第１圧力に加圧し、前記スリットバルブドアは、前記チャンバと結合されるスリットバルブアセンブリ本体内に配置され、前記スリットバルブアセンブリ本体は、貫通する開口を有し、前記開口は、前記チャンバの前記開口と整列し、前記スリットバルブドアは、内部容積を密閉する壁を有し、
前記方法は、前記スリットバルブドアに結合される１以上のＯリングが前記壁の内面に接触し、前記スリットバルブドアが前記壁の前記内面から第１距離の間隔となるまで前記スリットバルブドアを拡張するステップであって、前記拡張は約１２ｍｍ／秒〜約１８ｍｍ／秒の間の第１速度で起こるステップと、
前記ガスを前記スリットバルブドアの前記内部へ流し、これによって前記スリットバルブドアの前記内部を第２圧力まで加圧するステップと、
前記スリットバルブドアと前記壁の前記内面の間で前記１以上のＯリングを圧縮し、これによって前記スリットバルブドアが前記壁の前記内面から前記第１距離未満の第２距離の間隔にするステップであって、前記圧縮は約０．５ｍｍ／秒〜約０．７ｍｍ／秒の間の第２速度で起こるステップを含む方法。
【請求項１４】
前記１以上のＯリングが前記壁の前記内面に接触する時間を検出するステップを更に含む請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
前記検出に応じて前記スリットバルブドアの前記内部への前記ガスの流れを制御するステップを更に含む請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
前記開口の下の位置から前記スリットバルブドアを上昇させるステップを更に含む請求項１３記載の方法。
【請求項１７】
前記スリットバルブドアの前記内部へ前記ガスを流しながら、前記スリットバルブドア内で１以上のばねを圧縮するステップを更に含む請求項１３記載の方法。
【請求項１８】
前記スリットバルブドアの前記内部へ前記ガスを流しながら、前記スリットバルブドア内に配置される１以上のばねを圧縮するステップを更に含む請求項１３記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【発明の背景】
【０００１】
（発明の分野）
本発明の実施形態は、概して、スリットバルブドア及びスリットバルブドアでチャンバを密閉するための方法に関する。
【０００２】
（関連技術の説明）
半導体、フラットパネルディスプレイ、光起電性／ソーラーパネル、及び他の基板処理システムにおいて、基板を処理するために、クラスタ配置、インライン配置、又はクラスタ／インライン配置の組み合わせで真空チャンバ（すなわち、ロードロックチャンバ、搬送チャンバ、プロセスチャンバ）を配置するのは一般的である。これらのシステムは、シングル又はバッチ基板方式で基板を処理するかもしれない。処理の間、真空を維持又は確立しなければならないチャンバへ及びチャンバから基板を搬送するかもしれない。チャンバの内部へのアクセスを可能にするために、及び真空運転を可能にするために、チャンバ壁を貫通するスリット形の開口がしばしば提供され、これによって処理される基板が収容される。
【０００３】
２つの真空チャンバの間における夫々のインタフェースには、スリットバルブアセンブリが存在してもよい。スリットバルブドアは、スリットバルブ通路を開く又は閉じるために可動に作動されるかもしれない。スリットバルブ通路が開くと、１以上の基板は、スリットを通って２つの真空チャンバの間に搬送されることが可能となる。スリットバルブ通路がスリットバルブドアによって閉じられると、基板はスリットバルブ通路を通って２つの真空チャンバの間に搬送されないかもしれず、２つの真空チャンバは互いに離間される。例えば、真空チャンバのうちの１つは、他のチャンバ（他のプロセスチャンバ又は搬送チャンバ等）から離間を必要とするプロセスチャンバであってもよい。
【０００４】
フラットパネルディスプレイの製造用の基板サイズが増大するにつれて、これらの基板用の製造設備のサイズもまたより大きくなる。従って、２つのチャンバ間のスロット開口部は、スロット開口部を基板が通過する大きな幅を収容するために、より長くなければならないので、１つの真空チャンバ（又は、ロードロックチャンバ）を別のチャンバから離間するドア又はゲートは、より大きく、又はより具体的には、より長くなる。
【０００５】
従って、大面積基板を処理するために使用されるチャンバを密閉可能なスリットバルブドアに対する必要性がある。
【発明の概要】
【０００６】
本明細書内で開示される実施形態は、概して、スリットバルブドアで処理チャンバを密閉する方法に関する。ドアは、最初に、処理チャンバ用開口の下方の位置から上昇位置まで持ち上げられる。その後、ドアは、ドア表面にあるシール部材がシール面にちょうど接触するまで、約１２ｍｍ／秒から約１８ｍｍ／秒の間の第１速度で拡張する。そして、ドアは、シール面に対してシール部材を圧縮するために、約０．５ｍｍ／秒から約０．７ｍｍ／秒の間の第２速度で再び拡張する。ドアは、ドアの内部容積内にガスを流すことによって拡張する。ドア内の圧力蓄積を制御することによって、ドアが拡張する速度は制御され、これによってドアが静かにシール面に接触し、その後、素早くシール面に対して圧縮することを保証する。従って、処理チャンバに衝撃を与える又は振動させ、プロセスを汚染する可能性のある望まれない粒子を生成するかもしれない過大な力でシール面にドアが接触することを防ぐかもしれない。
【０００７】
一実施形態では、スリットバルブアセンブリに結合されるチャンバを密閉する方法が開示される。チャンバは、基板が通過可能な大きさに作られる開口を有する。この方法は、スリットバルブドアをスリットバルブアセンブリ本体内で第１位置から第２位置まで第１方向に垂直に作動させるステップと、スリットバルブドアの少なくとも第１部分を第１時間間隔、第１距離、及び第１速度で、垂直作動と実質的に直角方向に直線的に作動させるステップと、その後、スリットバルブドアの第１部分を第２時間間隔、第２距離、及び第２速度で、直線的に作動させるステップを含む。スリットバルブドアは、それに結合される１以上のシール部材を有する。スリットバルブアセンブリ本体は、壁と、スリットバルブアセンブリ本体を貫通して延びる開口とによって画定される内部容積を有し、開口はチャンバの開口と整列している。第２距離は第１距離未満であり、第２速度は第１速度未満であり、第２時間間隔は第１時間間隔の約４分の１である。
【０００８】
別の一実施形態では、基板が通過可能な大きさに作られる開口を有するチャンバを密閉する方法が開示される。この方法は、スリットバルブドアの内部へガスを流し、これによってスリットバルブドアの内部を第１圧力へ加圧するステップを含む。スリットバルブドアは、チャンバと結合されるスリットバルブアセンブリ本体内に配置される。スリットバルブアセンブリ本体は、チャンバの開口と整列し、貫通する開口を有する。スリットバルブドアは、内部容積を密閉する壁を有する。また、この方法は、スリットバルブドアに結合される１以上のシール部材が壁の内面に接触し、スリットバルブドアが壁の内面から第１距離離間されるまで、スリットバルブドアを拡張するステップを含む。また、この方法は、スリットバルブドアの内部にガスを流し、これによってスリットバルブドアの内部を第１圧力より大きい第２圧力まで加圧するステップを含む。また、この方法は、スリットバルブドアと壁の内面との間の１以上のシール部材を圧縮し、これによってスリットバルブドアが壁の内面から第１距離より小さい第２距離離間されるステップを含む。
【０００９】
別の一実施形態では、スリットバルブドアアセンブリが開示される。このアセンブリは、基板が通過可能な大きさに作られる少なくとも１つの開口を有するスリットバルブチャンバ本体を含む。スリットバルブチャンバ本体は、壁によって画定される第１内部容積を有する。また、このアセンブリは、スリットバルブドアチャンバ本体内に配置されるスリットバルブドアを含む。スリットバルブドアは拡張可能であり、第２容積を有する。また、このアセンブリは、スリットバルブドアと結合される１以上のシール部材と、第２内部容積内に配置される１以上のばねと、スリットバルブドアと結合される１以上のサポートシャフトを含む。アクチュエータが、１以上のシャフトと結合され、スリットバルブドアチャンバ本体内でシャフト及びスリットバルブドアを上下動可能にする。このアクチュエータは、少なくとも１つの開口の下方にある第１位置から、第１位置の上方にある第２位置までスリットバルブドアを移動できる。また、このアセンブリは、アクチュエータ、スリットバルブドア、及びスリットバルブドアチャンバ本体と結合されるコントロールボックスを含む。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
本発明の上述した構成を詳細に理解することができるように、上記に簡単に要約した本発明のより具体的な説明を実施形態を参照して行う。実施形態のいくつかは添付図面に示されている。しかしながら、添付図面は本発明の典型的な実施形態を示しているに過ぎず、従ってこの範囲を制限されていると解釈されるべきではなく、本発明は他の等しく有効な実施形態を含み得ることに留意すべきである。
【００１１】
【図１】スリットバルブアセンブリと結合される２つのチャンバの概略図である。
【図２Ａ】本発明の一実施形態に係るスリットバルブアセンブリ２００の等角図である。
【図２Ｂ】底部から見た図２Ａのコントロールボックス２０４の等角図である。
【図３Ａ】スリットバルブドア３０６が下降位置にあるスリットバルブドアアセンブリ３００の概略断面図である。
【図３Ｂ】スリットバルブドア３０６が上昇位置にある図３Ａのスリットバルブドアアセンブリ３００の概略断面図である。
【図３Ｃ】スリットバルブドア３０６が閉鎖位置にある図３Ａのスリットバルブドアアセンブリ３００概略断面図である。
【図４Ａ】スリットバルブドア４０２が拡張前に上昇位置にある別の一実施形態に係るスリットバルブドアアセンブリ４００を示す図である。
【図４Ｂ】スリットバルブドア４０２が閉鎖位置に拡張された図４Ａのスリットバルブドアアセンブリ４００を示す図である。
【図５】別の一実施形態に係るスリットバルブアセンブリ５００の概略断面図である。
【図６】スリットバルブドアを閉じるための手順を示すグラフである。
【００１２】
理解を促進するために、図面に共通する同一の要素を示す際には可能な限り同一の参照番号を使用している。一実施形態で開示される要素を更なる説明なしに他の実施形態に有益に組み込んでもよいと理解される。
【詳細な説明】
【００１３】
本明細書内で開示される実施形態は、概して、スリットバルブドアで処理チャンバを密閉する方法に関する。ドアは、最初に、処理チャンバ用開口の下方の位置から上昇位置まで持ち上げられる。その後、ドアは、ドア表面にあるシール部材がシール面にちょうど接触するまで、約１２ｍｍ／秒から約１８ｍｍ／秒の間の第１速度で拡張する。そして、ドアは、シール面に対してシール部材を圧縮するために、約０．５ｍｍ／秒から約０．７ｍｍ／秒の間の第２速度で再び拡張する。ドアは、ドアの内部容積内にガスを流すことによって拡張する。ドア内の圧力蓄積を制御することによって、ドアが拡張する速度は制御され、これによってドアが静かにシール面に接触し、その後、素早くシール面に対して圧縮することを保証する。従って、処理チャンバに衝撃を与える又は振動させ、プロセスを汚染する可能性のある望まれない粒子を生成するかもしれない過大な力でシール面にドアが接触することを防ぐかもしれない。
【００１４】
本発明は、カリフォルニア州サンタクララにあるアプライドマテリアルズ社（Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  Ｉｎｃ．）の子会社であるＡＫＴアメリカ社（ＡＫＴ  Ａｍｅｒｉｃａ  Ｉｎｃ．）から入手可能なスリットバルブアセンブリ及びチャンバに関して以下で説明されるだろう。本発明は、他のメーカーから販売される他のスリットバルブアセンブリ及び他のチャンバを使用するユーティリティを含むことが理解されるべきである。
【００１５】
図１は、スリットバルブアセンブリに結合される２つのチャンバの概略図である。図１に示されるように、２つのチャンバ１０２、１０４は、夫々貫通する開口１０８、１１０を有し、これによって基板はチャンバ１０２、１０４に出入り可能となる。チャンバ１０２、１０４は、チャンバ１０２、１０４を密閉するスリットバルブアセンブリ１０６によって共に結合されてもよく、これはチャンバ１０２、１０４を互いに周囲から隔離する。スリットバルブアセンブリ１０６は、開口１０８、１１０を密閉可能な１以上のドア１１２、１１４を有してもよい。
【００１６】
図２Ａは、本発明の一実施形態に係るスリットバルブアセンブリ２００の等角図である。アセンブリ２００は、チャンバと連結するシール面２１２を有する上側本体を含む。Ｏリング２１０が、良好な真空密閉を確実にするために存在してもよい。Ｏリング２１０は、基板が通過可能な大きさに作られる本体２０２内の開口２１４を囲む。
【００１７】
アセンブリ２００は、コントロールボックス２０４によって制御される。図２Ｂは、底部から見られた図２Ａのコントロールボックス２０４の等角図である。コントロールボックス２０４は、コントロールボックス２０４が他の部品に結合可能にする多数のカップリング２０６、２０８、２１８、２２０を有する。
【００１８】
以下で議論されるように、スリットバルブドアは、下降位置から上昇し、その後、アセンブリのシール面２１２の内面に対して押し付けるために拡張する。スリットバルブドアを上昇させるために、垂直シリンダは、スリットバルブドア及びコントロールボックス２０４の両方に結合されてもよい。垂直シリンダは、カバー２１６の内側にあってもよい。カバーは、コントロールボックス２０４から本体２０２を隔てている。処理の間、本体２０２は、摂氏１５０度を超える温度に達するかもしれない。そのような温度は、コントロールボックス２０４の電気部品の故障の原因となるかもしれない。従って、カバー２１６は、コントロールボックス２０４に対して断熱を提供する。追加的な熱的分離を提供するために、コントロールボックス２０４は、１以上のスペーサー２２２によってカバー２１６から隔てられてもよい。一実施形態では、スペーサー２２２はセラミックを含んでもよい。
【００１９】
カップリング２０６は、窒素ガス源がアセンブリ２００に結合されるのを可能にするかもしれない。窒素ガスは、スリットバルブドアの内部に流れることによってスリットバルブドアを拡張するために使用されるかもしれない。カップリング２１８は、スリットバルブドアが開けられるとき、窒素ガスがスリットバルブドアから漏出可能にするバルブに結合されてもよい。窒素は、スリットバルブドアから排出可能であってもよく、これによってスリットバルブドアは大気圧に達する。真空ポンプは、スリットバルブドアの内部を排気し、拡張したスリットバルブドアを収縮させるために、カップリング２０８に結合されてもよい。清浄乾燥空気が、カップリング２２０を通してアクチュエータに提供されてもよい。清浄乾燥空気は、垂直シリンダを動かすアクチュエータに供給されてもよい。
【００２０】
図３Ａは、スリットバルブドア３０６が下降位置にあるスリットバルブドアアセンブリ３００の概略断面図である。図３Ｂは、スリットバルブドア３０６が上昇位置にある図３Ａのスリットバルブドアアセンブリ３００の概略断面図である。図３Ｃは、スリットバルブドア３０６が閉鎖位置にある図３Ａのスリットバルブドアアセンブリ３００の概略断面図である。スリットバルブドア３０６は、アセンブリ本体３０２内に配置される。本体３０２は、基板を１つのチャンバから別のチャンバまで通過可能にする貫通する２つの開口３０４Ａ、３０４Ｂを有する。
【００２１】
スリットバルブドア３０６は、下降位置から上昇位置まで動くものとして図示され説明されているが、スリットバルブドアがスリットバルブ開口の上の上昇位置からスリットバルブ開口の前の下降位置まで作動するスリットバルブドアを使用してもよいと理解される。
【００２２】
スリットバルブドア３０６は、垂直シャフト３０８によって下降位置から上昇位置まで上昇する。垂直シャフト３０８は、コントロールボックス３１０によって制御される。垂直シャフト３０８は、カバー３１２内に配置される。垂直シャフト３０８が上へ移動するとき、スリットバルブドア３０６も上へ移動する。更に、垂直シャフト３０８が上へ移動するとき、カバー３１２は圧縮する。
【００２３】
一旦上昇位置へ移動すると、スリットバルブドア３０６の内部容積３３２内にガスが導入されてもよい。一実施形態では、ガスは窒素を含んでもよい。スリットバルブドア３０６を拡張するために十分なガスがスリットバルブドア３０６の内部容積３３２内に導入されてもよく、これによってＯリング３１４、３１６は本体３０２の内面３１８、３２０にちょうど接触する。スリットバルブドア３０６が拡張することによって、スリットバルブドア３０６の第1側３２８が本体３０２の内面３１８に向かって移動可能となる。また、スリットバルブドアの拡張によって、スリットバルブドア３０６の第２側３３０は、内面３１８と対向する本体の内面３２０に向かって移動可能となる。
【００２４】
スリットバルブドア３０６の第２側３３０が動くとき、コントロールボックス３１０及び垂直シャフト３０８は、第２側３３０と共に横へ動く。しかしながら、カバー３１２は、接続点３２２Ａ〜Ｄで旋回する。一実施形態では、垂直シャフト３０８及びコントロールボックス３１０は、横移動の間に起こる鉛直変位がほとんど又は全く無く、横に移動してもよい。
【００２５】
１以上の検出器３２４は、Ｏリング３１４、３１６が最初に内面３１８、３２０に接触する時間を検出するために存在してもよい。検出器３２４は、シャフト３０８の垂直移動のみならず、スリットバルブドア３０６内へのガスの流れも制御可能な信号をコントロールボックス３１０に送ってもよい。ガスの流れは、検出器３２４からのフィードバックに基づいて制御されてもよい。その後、スリットバルブドア３０６の内部へのガスの流量を変えてもよく、これによって内面３１８、３２０に対してＯリング３１４、３１６を圧縮し、真空密閉を提供する。
【００２６】
従って、スリットバルブドア３０６を閉じるために、２段階のプロセスが行われてもよい。第１ステップでは、スリットバルブドア３０６の内部容積３３２内にガスが第１流量で導入され、これによってスリットバルブドア３０６が第１距離拡張可能となるので、スリットバルブドアのＯリング３１４、３１６は最初、スリットバルブドア本体３０２の内面３１８、３２０に接触する。そして、スリットバルブドア３０６の内部容積３３２内にガスが第２流量で導入され、これによってスリットバルブドア３０６の内部の圧力が増加し、従って本体３０２の内面３１８、３２０に対してＯリング３１４、３１６を圧縮し、その結果有効な密閉を提供する。圧縮は、第１距離より短い第２距離、スリットバルブドア３０６を拡張することを含む。
【００２７】
Ｏリング３１４、３１６が本体３０２の内面３１８、３２０にちょうど接触するまでスリットバルブドア３０６を拡張することによって、スリットバルブドア３０６は過大な力で本体３０２の内面３１８、３２０に接触するのを防ぐかもしれない。もしも、スリットバルブドア３０６が拡張し、過大な力で本体３０２の内面３１８、３２０に接触するならば、スリットバルブアセンブリ３００及びそれに結合されるどんなチャンバも、粒子が生成され、チャンバ内の基板を汚染する、又はスリットバルブアセンブリ３００を通過する原因となるかもしれない衝撃が与えられるかもしれない。
【００２８】
一実施形態では、第１ステップを約１秒から約２秒の間実行し、スリットバルブドア３０６を約１５ｍｍから約２０ｍｍの間拡張してもよい。別の一実施形態では、第２ステップを約１秒から約２秒の間実行し、スリットバルブドア３０６を約１ｍｍから約１．２５ｍｍの間拡張してもよい。
【００２９】
スリットバルブドア３０６を開けるために、スリットバルブドア３０６の内部容積３３２を大気に通気してもよい。しかしながら、スリットバルブドア３０６は、完全には収縮しないかもしれない。従って、スリットバルブドア３０６の内部容積３３２は、スリットバルブドア３０６に結合するかもしれない真空ポンプによって排気されてもよい。スリットバルブドア３０６の内部容積３３２内を真空に引くことによって、スリットバルブドア３０６はその元の位置に収縮して戻るかもしれない。そして、一旦完全に収縮すると、スリットバルブドア３０６は下降するかもしれない。
【００３０】
一実施形態では、スリットバルブドア３０６、垂直シャフト３０８、及びコントロールボックス３１０は、スリットバルブドア３０６が上昇した後に、横に移動してもよい。この横移動は、スリットバルブドア３０６の拡張がほとんど又は全く無く行われ、これによってＯリング３１４は本体３０２の内面３２０にただ接触するだけであってもよい。その後、スリットバルブドア３０６は、スリットバルブドア３０６の内部容積３３２内にガスを導入することによって拡張され、これによってＯリング３１６はただ本体３０２の内面３１８に接触するだけであってもよい。そして、より多くのガスがスリットバルブドア３０６の内部容積３３２内に導入され、これによって本体３０２の内面３１８、３２０に対してＯリング３１４、３１６を圧縮してもよい。スリットバルブドア３０６を開けるために、内部容積３３２は、大気に通気され、次に、排気されてもよい。その後、スリットバルブドア３０６は下降されてもよい。
【００３１】
別の一実施形態では、スリットバルブドア３０６は上昇する前に真空下にあってもよい。スリットバルブドア３０６が下降位置にあるとき、スリットバルブドア３０６は、内部容積３２２を排気してもよい。そして、スリットバルブドア３０６が上昇するとき、Ｏリング３１４、３１６がスリットバルブアセンブリ本体３０２の内面３１８、３２０に接触できるのに十分な時間、スリットバルブドア３０６の内部容積３３２を大気に通気してもよい。そして、スリットバルブドア３０６の内部容積３３２を大気に通気し、これによってＯリング３１４、３１６がスリットバルブドアアセンブリ３００の内部に対して圧縮可能とし、その結果、真空密閉を提供してもよい。スリットバルブドア３０６は、圧縮位置から拡張位置まで拡張し、これによってスリットバルブドア３０６を押し出す又は拡張することを可能とする圧縮機構（ばね等）によって拡張してもよい。スリットバルブドア３０６を開けるために、スリットバルブドア３０６の内部容積３３２を排気してもよく、及び／又は、圧縮機構を圧縮してもよい。
【００３２】
図４Ａは、スリットバルブドア４０２が拡張前に上昇位置にある本発明の別の一実施形態に係るスリットバルブドアアセンブリ４００を示す。図４Ｂは、スリットバルブドア４０２が閉鎖位置に拡張された図４Ａのスリットバルブドアアセンブリ４００を示す。スリットバルブドア４０２の拡張を助長するために、１以上のばね４０４がスリットバルブドア４０２内の容積４０６内に配置されてもよい。容積４０６内にガスを導入し、これによってばね４０４を圧縮し、スリットバルブドア本体内部のシール面に対してＯリングを押し付けてもよい。容積４０６は真空ポンプに結合され、これによって容積４０６を排気し、ばね４０４が通常位置に拡張して戻ることを可能にしてもよい。ばね４０４が図示され説明されているが、圧縮に抵抗可能な他の部材が利用されてもよいことが理解される。
【００３３】
スリットバルブドア４０２は、下降位置から上昇位置まで動くものとして図示され説明されているが、スリットバルブドアがスリットバルブ開口の上の上昇位置からスリットバルブ開口の前の下降位置まで作動するスリットバルブドアを使用してもよいと想倒されることが理解される。
【００３４】
図５は、本発明の別の一実施形態に係るスリットバルブドア５００の概略断面図である。スリットバルブドア５００は、スリットバルブドア５００が拡張するとき、スリットバルブドア５００内の開口を閉じてチャンバを密閉する２つのドア面５０２、５０４及び２つのＯリング５０６、５０８を含む。スリットバルブドア５００の内部容積５１０は、スリットバルブドア５００を拡張する処理ガスによって満たされてもよい。ベローズ５１８は、容積５１０を密閉し、容積５１０内の圧力を上昇可能にするために存在してもよい。容積は、必要に応じて開閉する複数のバルブ５１２、５１４、５１６を通って、大気、ガス源、及び真空に結合されてもよい。
【００３５】
また、追加ベローズ５２０が存在してもよい。ベローズ５２０は、スリットバルブドア５００の片側又は両側に結合されてもよい。一実施形態では、ベローズ５２０は、接触部５２２に結合される。スリットバルブドア５００に衝撃が加わり、基板を汚染するかもしれない粒子が発生するのを防ぐために、スリットバルブドアが収縮するとき、ベローズ５２０及び接触部５２２は緩衝器として機能する。スリットバルブドア５００の収縮の間、接触部５２２は、スリットバルブドアの内面に静かに接触し、その後、スリットバルブドア５００が圧縮するのに伴い、ベローズ５２０は徐々に圧縮する。ベローズ５２０が説明されているが、他の圧縮抵抗要素（ばね等）が利用されてもよいことが理解される。
【００３６】
スリットバルブドア５００を閉じるとき、内部容積５１０内にガスが導入され、これによって容積５１０内の圧力を増加させてもよい。ガスを連続して導入して、スリットバルブドア５００が閉じるときに粒子を発生させないことを保証してもよい。図６は、本発明の実施形態に係るスリットバルブドアを閉じるための手順を示すグラフである。スリットバルブドア５００が閉じる間、大気及び真空に開放されているバルブ５１２、５１６は閉じられてもよい。スリットバルブドア５００は、第１時間間隔、上昇してもよい。図６では、スリットバルブドア５００を上昇させる時間間隔として１秒が例示されている。その後、スリットバルブドア５００を拡張してもよい。Ｏリング５０６、５０８が拡張の第１ステップにおいてスリットバルブドア本体の壁に接触するまで、スリットバルブドア５００を拡張してもよい。
【００３７】
図６では、スリットバルブドア５００を約１８ｍｍ拡張する第１拡張が、線Ａによって示される。第１拡張は、バルブ５２４を開けることによって行われてもよく、これにより、コントローラで流れを制御することによって、ガスが内部容積５１０に高速に入ることを可能にする。実施例１では、拡張は約０．１秒で行われ、一方、実施例２では、拡張は約０．５秒で行われる。その後、Ｏリング５０６、５０８が、スリットバルブドア本体に対して圧縮される。圧縮は、バルブ５２４を閉じて、バルブ５２６を開けることによって、内部容積５１０内の圧力を増加させることによって行われる。その後、ガスが内部容積に流され、これによって内部容積５１０はゆっくりとより高い圧力に加圧される。実施例１では、Ｏリング５０６、５０８の圧縮は、約１．９秒で行われる。実施例２では、Ｏリングの圧縮は、約１．５秒で行われる。実施例１か実施例２のいずれかにおいて、圧縮ステップは、初期拡張よりも長い間、行われる。更に、圧縮ステップは、スリットバルブドア５００の上昇時間よりも長い間、継続される。実施例１及び２で使用された時間間隔は、単なる例であり、本発明を制限しないことが理解される。技術者によって決定されるような他の時間間隔が利用されてもよい。例えば、時間間隔はより長くてもよいが、基板スループットが落ちるかもしれない。圧縮時間対初期拡張時間の比は、約３：１と約１９：１の間であってもよい。
【００３８】
２段階プロセスでスリットバルブドアを拡張することによって、スリットバルブアセンブリ又はそれに取り付けられているチャンバの不要な衝撃又は振動が減少するかもしれない。２段階プロセスによって、処理される基板、又は後で処理される基板を汚染するかもしれない粒子を発生させずにチャンバを密閉することが可能になるかもしれない。
【００３９】
上記は本発明の実施形態を対象としているが、本発明の他の及び更なる実施形態は本発明の基本的範囲を逸脱することなく創作することができ、その範囲は以下の特許請求の範囲に基づいて定められる。
【図１】
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【図２Ｂ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図４Ａ】
0005543463.tif 000006
【図４Ｂ】
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【図５】
0005543463.tif 000008
【図６】
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【図２Ａ】
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【図３Ａ】
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