(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホーニング装置用ノズルのノズル先端から研磨材を噴出し、アモルファスシリコン感光体用の円筒状基板を保持するための保持部材のホーニング処理を行うホーニング方法において、
前記ホーニング装置用ノズルとして、
研磨材を噴出するためのノズル先端と、
前記ノズル先端から噴出された研磨材の進行方向を変える機能を有する反射部材と
を備え、
前記反射部材の研磨材のあたり面が、楕円球面形状または球面形状の窪みを持つ
ホーニング装置用ノズルを用い、
前記反射部材により進行方向が変えられた研磨材により前記保持部材をホーニング処理することを特徴とするホーニング方法。
【請求項２】
前記保持部材が、腹部と、前記腹部の内径より狭い内径のかえし部を有する開口部とを有する壺形状のものであり、前記かえし部の内面をホーニング処理する請求項１に記載のホーニング方法。
【請求項３】
前記ノズル先端の軸方向に対して前記反射部材の研磨材のあたり面の角度が、１２０°〜１６０°である請求項１に記載のホーニング方法。
【請求項４】
前記反射部材の材質が、ステンレス鋼である請求項１に記載のホーニング方法。
【請求項５】
前記ステンレス鋼が、ＳＵＳ４４０Ｃを焼き入れ処理したものである請求項４に記載のホーニング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、研磨材を噴出し、アモルファスシリコン感光体用の円筒状基板を保持するための保持部材をホーニング処理するホーニング方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
機械加工後のバリ除去や被処理物表面の粗面加工を行う方法としては、研磨材を高圧の水やエアーと共に被処理物に衝突させて処理を行うホーニング処理が一般的であり、その提案もなされている。
例えば、管材の内部の清掃を効率よく行う方法として、管材の内部に噴射機を挿入し、この噴射機が走行しながら旋回しつつ管材内面の清掃を行える方法が提案されている。（特許文献１参照）
【０００３】
また、こうしたホーニング処理は、電子写真感光体を製造した後に、堆積膜が付着した基板保持部材や炉内構成部品に堆積した膜を除去し、再生処理する際にも使われている。例えば、水漬と液体ホーニング処理を組み合わせ、効率よくホルダーの再生を行う方法が提案されている。（特許文献２参照）
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】実公平０７−０３７７３７
【特許文献２】特開平０１−１４９９６１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、ホーニング装置用ノズルのノズル先端から噴出される研磨材を直接当てることができない複雑な形状の被処理物をホーニング処理することは非常に困難である。
例えば、図１０に示したような壺形状の内面（図中Ａ）の部分をホーニング処理する場合、従来のホーニング装置用ノズルを用いたホーニング方法では非常に困難であることが推察される。例えば、ノズル自体が完全に壺の中に入ってしまえば問題はないが、開口部がノズル部よりも小さい場合は、例えば図１０（ｂ）に示すように、ノズルの先端を曲げる等の工夫が必要である。しかしながら、このようにノズルを曲げて使用した場合、研磨材がノズルの曲げ部分に衝突することにより、例えば図中Ｂの個所が短時間で損耗して破損しまうといった問題点がある。
【０００６】
図３は、アモルファスシリコン材料を用いた電子写真感光体の製造において、円筒状基板に堆積膜形成を行うときに用いる基板保持部材を示す模式断面図である。例えば、このような形状の基板保持部材の図中Ａの個所に付着した堆積膜をホーニング処理により除去することは困難であった。
近年、その普及が目覚しいカラー電子写真装置においては、文字原稿のみならず、写真、絵、デザイン画のコピーも頻繁に成される。そのため、従来以上に、画像上に生じる白点或いは黒点の如き画像欠陥の低減が求められている。
【０００７】
このような画像欠陥は、アモルファスシリコン感光体においては、「球状突起」と呼ばれる堆積膜の異常成長によって生じることが知られている。
球状突起は、堆積膜形成前から基板上に付着したダストの如き異物を起源として堆積膜が異常成長したものである。そのため、堆積膜形成前の基板は厳密に洗浄され、クリーンルームの如きダスト管理された環境で堆積装置内に運搬することにより、基板にダストが付着することを極力避けるようにしてきた。
このため、堆積膜形成に使用する基板保持部材においても高いクリーン度が要求され、前回の使用による堆積膜の残渣が残留したりしていると、ダストの発生要因となってしまう場合があった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明は、ホーニング装置用ノズルのノズル先端から研磨材を噴出し、アモルファスシリコン感光体用の円筒状基板を保持するための保持部材のホーニング処理を行うホーニング方法において、ホーニング装置用ノズルとして、研磨材を噴出するためのノズル先端と、前記ノズル先端から噴出された研磨材の進行方向を変える機能を有する反射部材とを備え、前記反射部材の研磨材のあたり面が、楕円球面形状または球面形状の窪みを持つホーニング装置用ノズルを用い、反射部材により進行方向が変えられた研磨材により保持部材をホーニング処理することを特徴とするホーニング方法に関する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明に係るホーニング装置用ノズル、ホーニング装置およびホーニング方法により、研磨材を直接当てることが困難な形状の被処理物のホーニング処理が容易に行える。
また、本発明に係るホーニング装置用ノズル、ホーニング装置およびホーニング方法を、電子写真感光体の製造装置に用いることで、基板保持部材から発生するダストの飛散を飛躍的に低減することが可能となり、その結果として画像欠陥の原因となる球状突起が低減し、製造物の歩留まりが向上し、従来よりも低コストが実現できる。
また、本発明のホーニング装置用ノズル、ホーニング装置およびホーニング方法は、安価な部材で構成されているため、従来に比べコスト面での改善も可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明のホーニング装置用ノズルを示す模式図
【図２】基板保持部材をホーニングするためのホーニング装置の模式図
【図３】基板保持部材を示す模式的断面図
【図４】把持部材を備えた搬送機構を示す模式図
【図５】把持部材を示す模式図
【図６】成膜装置を示す模式図
【図７】本発明の効果を示すための模式図
【図８】実施例６を説明するための模式図
【図９】実施例７を説明するための模式図
【図１０】本発明が解決する課題を説明するための模式図
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明者らは、堆積膜形成に用いる成膜炉内の部材や基板保持部材に付着した堆積膜をホーニングによって除去する方法を検討してきた。特に、形状が複雑で、研磨材が直接当てられない箇所についていかに効率よく低コストで堆積膜を除去するかを検討してきた。本発明者らは、従来のホーニング処理後に図３に示した基板保持部材の把持開口部の把持用かえし部３０４の内面（図中Ａ部分）をミラーにより観察したところ、部分的に堆積膜の残渣があることを確認した。
把持用かえし部３０４は、把持部材の爪が接触する部分であるため、その部分に堆積膜の残渣があればダストの発生源となり、基板表面に付着する可能性が増加すると考えられる。
【００１２】
本発明者らは、かえし部の内面を十分にクリーニングするための手段を鋭意検討した。その結果、基板保持部材のホーニング処理において、ホーニング装置用ノズル（ノズル）に研磨材の進行方向を変える機能を有する反射部材を備えることで、特に把持開口部の把持用かえし部の内面に付着した堆積膜の除去に優れた効果が得られることが分かった。
これは、従来のノズルを用いた場合、かえし部内面に直接ホーニング装置用ノズルを向けることができず、図７（ａ）に示すように、ノズル先端から噴出され、把持開口部の底面７０３で跳ね返された研磨材により、かえし部内面の堆積膜を除去することとなる。しかし、把持開口部の底面とかえし部内面の距離が離れているため、かえし部内面に研磨材が当たる勢いが落ちてしまう。また、研磨材が拡散するため、堆積膜の除去効率が低下してしまう。
【００１３】
これに対し、本発明のノズルを用いた場合は図７（ｂ）に示すように、膜を落としたい対象物のすぐ近くで研磨材を反射させることができるため、研磨材を勢いよく処理面に当てることができる。また、対象物に集中して研磨材を当てることが可能になる。この結果、直接ノズルを向けることができない箇所であっても、本発明のホーニング装置用ノズルを用いることによりホーニング処理が効率的に行えることとなる。
本発明のホーニング装置用ノズルに用いる反射部材の材質は、硬度、研磨材での損耗に対する耐久性の観点からステンレス鋼（ＳＵＳ）であることが望ましい。特に、ＳＵＳ４４０Ｃを１０１０℃〜１０７０℃で焼き入れ処理したものを用いることが上記観点からより好ましい。
【００１４】
また、本発明のホーニング装置用ノズルに用いる反射部材は、図８に示すように、ノズルから脱着可能な構成であることがより好ましい。図８（ａ）は本発明のホーニング装置用ノズルを示した模式図で、反射部材８０１が取り外せる構成になっている。図８（ｂ）は取り外した反射部材８０１を示している。反射部材８０１は、研磨材が長時間あたることで図８（ａ）の窪み８０３に示すように、反射部材８０１が磨耗する。この場合、反射部材８０１のみを交換すればよいので、コスト面でもメリットがある。
更に、脱着可能な構成の反射部材の場合、両面が使用可能な構成となっていることがコスト面においては更に望ましい。例えば、図８（ｃ）に示すように、裏返しで再度使用する場合は、一方の面（表面）に形成された窪み８０３が他方の面（裏面）に形成される窪み８０３と重ならないように工夫することも望ましい。
【００１５】
本発明のホーニング装置用ノズルの反射部材はノズル先端の軸方向に対する反射部材の研磨材のあたり面の角度（図１中の角θ）が１２０°〜１６０°の範囲であることが好ましい。これは、上記把持用かえし部内面のような複雑な構成の被処理面に研磨材を勢い良く当てることができるため、堆積膜の残渣の除去が効率的に行えるためである。
本発明のホーニング装置用ノズルの反射部材は、平面形状であっても良いが、研磨材のあたり面が楕円球面形状または球面形状の窪みを持つ形状であることが好ましい。これは、研磨材が反射部材にあたった後の研磨材の拡散を少なくし、研磨材がより対象物に集中して当たるようにするためである。
研磨材のあたり面が楕円球面形状または球面形状の窪みを持つ形状の場合においても、本発明のホーニング装置用ノズルの反射部材はノズル先端の軸方向に対して反射部材の研磨材のあたり面の角度が１２０°〜１６０°の範囲であることが好ましい。このときの角度は、図９（ａ）中の角θに示すように、反射部材の基準面との角度となる。
【００１６】
以下に本発明の実施形態について図面を用いて説明する。
図１（ａ）は、本発明のホーニング装置用ノズルを示す模式図である。本発明のホーニング装置用ノズルは、ノズル先端１０５から噴出された研磨材（噴出後の研磨材）の進行方向を変える機能を有する反射部材１０１を備えている。反射部材１０１は固定ガイド１０２により、ノズル先端１０５から所定距離離れた位置に保持される。研磨材は、研磨材ライン１０４から導入され、圧空ライン１０３から導入されるエアー圧によって、ノズル先端１０５より噴出される。
図１（ａ）の矢印に示すように、ノズル先端１０５から噴出された研磨材は、反射部材１０１に衝突することで進行方向が変えられ、目標の被処理部材に当たる構造となっている。図１（ｂ）は、本発明を用いないときのホーニング装置用ノズルを示している。反射部材を用いないでホーニング処理が行えるように、固定ガイド１０２は稼動可能な構成になっている。
【００１７】
図２（ａ）は本発明を用いることが可能なホーニング装置の全体を模式的に示したものである。装置は大別すると処理室２０１と攪拌室２０２に分けられる。攪拌室２０２には研磨材および水が入っており、ポンプ２０３により攪拌され、研磨材ライン２０５を通じて処理室２０１内のホーニング装置用ノズルに供給される。同時に、圧空ライン２０６からは、エアーが供給され、エアー圧によってホーニング装置用ノズルのノズル先端から研磨材が噴出される。
【００１８】
図２（ｂ）は、処理室２０１の内部の一例を示した模式図である。この処理室は、例えば図６に示すような円筒状基板６１１２を保持するための基板保持部材６１２３をホーニング処理する構成になっている。
図２（ｂ）中、２０７は本発明のホーニング装置用ノズルであり、基板保持部材２１１の把持開口部２１２のホーニング処理用となっている。
かえし部内面２１３をホーニングするときは、図１（ａ）の状態でホーニングを行う。かえし部内面２１３以外の把持開口部２１２の内面（底面２１４および側面２１５）をホーニングするときは、図１（ｂ）の状態でホーニングを行ことで、把持開口部２１２の内面の全体をホーニング処理することができる構成になっている。
基板保持部材２１１は回転ローラー２１０の駆動により回転する機構となっている。２０８は基板保持部材２１１の胴体部のホーニング処理用のホーニング装置用ノズルで、レール２０９に沿って自動に移動できる機構となっている。
【００１９】
図３は、アモルファスシリコン感光体（アモルファスシリコン材料からなる堆積膜を有する電子写真感光体）の製造に用いる円筒状基板を保持するための基板保持部材を示した模式断面図である。基板保持部材３０１には搬送機構の把持部材により把持されるための把持開口部３０２を有している。また、把持部材が引っかかり搬送されるためのかえし部３０４を有する構造となっている。把持開口部３０２のかえし部３０４の内径３０５は、腹部の内径３０６より狭い壺形状となっている。
続いて基板保持部材を用いた電子写真感光体の製造過程について説明する。
【００２０】
図４は、基板保持部材を搬送するための把持部材を備えた搬送機構を示す模式図である。図４に示す搬送機構によって基板保持部材および基板が成膜装置内の堆積装置へと搬送される。搬送機構には、移動用レール４０２と搬送容器４０４が備えられている。そして搬送容器４０４の中には、基板４０３が設置された基板保持部材を掴むため把持部材４０１が設けられている。
【００２１】
図５は、図４に示した把持部材４０１を更に詳しく説明した模式図である。基板が設置される基板保持部材５１１は、把持開口部５１２を図５に示す把持部材５００によって把持される。把持部材５００は、少なくともシャフト５０１、ケース５０２、円盤５０３、爪５０４から構成される。２本の爪５０４は、シャフト５０１に対して対称な位置に設けられている。
基板保持部材５１１の把持手順としては、まず、図５（ａ）に示すように爪５０４が閉じた状態で把持開口部５１２の中に入り、次に図５（ｂ）に示すように爪５０４が開き、シャフト５０１が上昇する。これにより、基板保持部材５１１のかえし部５０５は、円盤５０３と爪５０４とによってはさまれた状態になり、保持部材５００が上昇することで基板保持部材５１１は把持され搬送可能となる。
基板保持部材５１１に設置された基板は、図４の搬送機構を用いて基板保持部材５１１と共に成膜装置へと搬送される。そして、基板上に堆積膜を形成することにより電子写真感光体を製造する。
【００２２】
次に、堆積装置内にて行われる基板処理の一例として、アモルファスシリコン感光体を成膜する方法について、図６を用いて更に詳細に説明する。
図６は大別すると、堆積装置６１００、原料ガスの供給装置６２００、堆積装置６１００の中を排気する為の排気装置（図示せず）から構成されている。堆積装置６１００は開閉ゲート６１１０および底板６１２６から絶縁部材６１２１によって絶縁された高周波電極６１１１で構成される。堆積装置６１００の中にはアースに接続された基板保持部材６１２３に設置された基板６１１２、基板の加熱用ヒーター６１１３、原料ガス導入管６１１４、基板保持部材６１２３を受け取るステージ６１２７が設置される。また更に高周波マッチングボックス６１１５を介して高周波電源６１２０が接続されている。
【００２３】
原料ガス供給装置６２００は、ＳｉＨ４、Ｈ２、ＣＨ４、ＮＯ、Ｂ２Ｈ６の如き原料ガスボンベ６２２１〜６２２６とバルブ６２３１〜６２３６、６２４１〜６２４６、６２５１〜６２５６およびマスフローコントローラー６２１１〜６２１６から構成される。各原料ガスのボンベは補助バルブ６２１０を介して堆積装置６１１０の中のガス導入管６１１４に接続されている。
基板６１１２は基板保持部材６１２３の上に設置され、更に基板６１１２の上部にはキャップホルダー６１２５が設置されている。基板保持部材６１２３、キャップホルダー６１２５は導電性部材で構成され、導電性材料からなる基板６１１２は、基板保持部材６１２３を介してアースに接続される。
【００２４】
まず、不図示の排気手段により真空に排気された堆積装置６１００の中に所定の温度に加熱された基板６１１２を装着した基板保持部６１２３を搬送機構（図示せず）により開閉ゲート６１１０を介して設置する。続いて基板加熱用ヒーター６１１３により基板６１１２の温度を２０℃〜５００℃の所望の温度に制御する。次いで、原料ガスを堆積装置６１００の中に流入させるにはガスボンベのバルブ６２３１〜６２３６が閉じられている事を確認する。次いで、流入バルブ６２４１〜６２４６、流出バルブ６２５１〜６２５６、補助バルブ６２１０が開かれている事を確認し、メインバルブ６１１８を開いて堆積装置６１００およびガス供給配管６１１６を排気する。
その後、真空計６１１９の値が所定の圧力になった時点で補助バルブ６２１０、流出バルブ６２５１〜６２５６、流入バルブ６２４１〜６２４６を閉じる。その後、ガスボンベ６２２１〜６２２６より各ガスをバルブ６２３１〜６２３６を開いて導入し圧力調整器６２６１〜６２６６により各ガス圧を所定の圧力に調整する。次に流入バルブ６２４１〜６２４６を徐々に開けて各ガスをマスフローコントローラー６２１１〜６２１６の中に導入する。
【００２５】
以上の手順によって成膜準備を完了した後、基板６１１２の上に、まず電荷注入阻止層を形成する。即ち、基板６１１２が所望の温度になったところで、各流出バルブ６２５１〜６２５６のうちの必要なものと補助バルブ６２１０とを徐々に開き、各ガスボンベ６２２１〜６２２６から所望の原料ガスをガス導入管６１１４を介して堆積装置６１００の中に導入する。次に、各マスフローコントローラー６２１１〜６２１６によって、各原料ガスが所望の流量になるように調整する。その際、堆積装置６１００の中が例えば１３３Ｐａ以下の所望の圧力になる様に、真空計６１１９を見ながらメインバルブ６１１８の開口を調整する。内圧が安定したところで、高周波電源６１２０を所望の電力に設定して、例えば、１３．５６ＭＨｚの高周波電力を高周波マッチングボックス６１１５を介して高周波電極６１１１に供給し高周波グロー放電を生起させる。この放電エネルギーによって堆積装置６１００の中に導入させた各原料ガスが分解され、基板６１１２の上に所望のケイ素原子を主成分とする電荷注入阻止層が堆積される。
所望の膜厚の形成が行われた後は、光導電層の形成に必要な原料ガスに切り換えて所望の膜厚の光導電層を形成する。光導電層の形成が行われた後は、高周波電力の供給を止め、各流出バルブ６２５１〜６２５６を閉じて堆積装置６１００への各原料ガスの流入を止め、光導電層の形成を終える。上記光導電層の上に表面層を形成する場合も基本的には上記の操作を繰り返せばよく堆積装置６１００内の原料ガスを排気した後、表面層に必要な原料ガスに切り換えて堆積装置６１００の中に流す。所定の内圧に調整した後に前層と同様の操作により所望の膜厚の表面層を形成すればよい。
【００２６】
以上のようにして基板処理が行われた後の基板保持部材６１２３は、その表面乃至把持開口部内に膜状の副生成物が堆積している。そのためこの基板保持部材６１２３を再度基板処理に用いる場合は、表面に堆積した膜状の副生成物を除去するクリーニング処理（ホーニング処理）を行う必要がある。
本発明のホーニング方法は、例えばガラス、ＳＵＳ、アルミナの如き研磨剤を、０．１〜１ＭＰａの噴射圧で噴射しながら行う。研磨剤を水と共に噴射する湿式ホーニング、研磨剤を空気と共に噴射する乾式ホーニングのいずれかの手法を適宜選択すれば良い。
【００２７】
このように、研磨材が直接当てられない複雑な形状の被処理物であっても、本発明を用いることによりホーニング処理が可能となる。
また、本発明のホーニング方法を用いることにより、基板保持部材の把持用のかえし部内面のクリーニング状態が大幅に改善される。この結果、搬送工程において把持用のかえし部と把持部材の爪がクランプ、アンクランプを数回繰り返す場合においてもダストの発生を抑制でき、基板表面に球状突起の原因となるダストが付着することを抑制することができる。
【実施例】
【００２８】
以下に、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
（実施例１）
図３に示す基板保持部材に直径８４ｍｍ、長さ３８１ｍｍの円筒状基板を設置し、図６に示す成膜装置を用いて表１に示す条件でアモルファスシリコン感光体を作製した。その後、基板保持部材を図２に示すホーニング装置にて把持開口部のかえし部内面のホーニング処理を行った。研磨剤として中心粒径２３０μｍのガラスビーズ（不二精機製造所社製：ガラスビーズＧＢ−ＡＣ）を用い、噴射圧０．５Ｍｐａでノズル先端より水と共に噴出させた。ビーズの濃度は、水に対して体積比で２５％となるようにした。
このとき、ホーニング装置用ノズルとして、図１に示す本発明の反射部材を設置したノズルを用いる。反射部材は、ＳＵＳ３０４材を加工したものを用い、ノズル先端の軸方向に対して１２０°の角度に調整した。本実施例では図７（ｂ）に示すように、反射部材７０１に研磨材を反射させることにより把持開口部のかえし部内面７０４のホーニング処理を行った。
【００２９】
【表１】
0005561964.tif 000002
【００３０】
（比較例１）
本比較例では、実施例１と同様に図３に示す基板保持部材に直径８４ｍｍ、長さ３８１ｍｍの円筒状基板を設置し、図６に示す成膜装置を用いて表１に示す条件でアモルファスシリコン感光体を作製した。その後、基板保持部材の把持開口部のかえし部内面を図２に示すホーニング装置にてホーニング処理を行った。このとき、ホーニング装置用ノズルとして、反射部材のない通常のものを使用した。本比較例では図７（ａ）に示すように、把持開口部の底面７０３に研磨材を反射させることにより把持開口部のかえし部内面７０４のホーニング処理を行った。
実施例１および比較例１では、１分間処理する毎に把持開口部のかえし部内面のクリーニング性の目視検査を行った。
【００３１】
「目視検査」
ホーニング処理後、把持開口部のかえし部内面の状態をミラー（アズツール社製：チエックライトＰＸ−２ＭＳＷ）を用いて目視確認を行った。
把持開口部のかえし部内面のクリーニング状態を、かえし部内面の堆積膜残渣の状態により以下のランク付けを行った。
ＡＡＡ：堆積膜の残りはまったく無い状態
ＡＡ：僅かに堆積膜の残りがある
Ａ：部分的に堆積膜の残りがある
Ｂ：殆どの部分に堆積膜の残りがある
実施例１および比較例１の結果を表２に示す。
【００３２】
【表２】
0005561964.tif 000003
表２に示すように、本実施例にてホーニング処理を施した基板保持部材は良好な結果が得られた。
【００３３】
（実施例２）
実施例１と同様の手順にてアモルファスシリコン感光体を作製した後の基板保持部材のホーニング処理を行った。本実施例においても、実施例１と同様に図２に示すホーニング装置を用い、把持開口部のかえし部内面のホーニング処理を行う。研磨材およびホーニング条件は実施例１と同様とした。
本実施例においては、反射部材のノズル先端の軸方向に対する角度を変化させる。夫々の角度において把持開口部のかえし部内面のホーニング処理を行い、かえし部内面の膜が完全に除去されるまでの時間を測定した。
【００３４】
（比較例２）
本比較例では、比較例１と同様に把持開口部内のホーニング処理を行った。本比較例においても、かえし部内面の膜が完全に除去されるまでの時間を測定した。
【００３５】
実施例２の結果を表３に示す。
評価ランクは、比較例２の時間を基準（＝１）とし、以下のようにランクをつけて表した。
ＡＡＡ：比較例２に比べ１／４未満の時間であった。
ＡＡ：比較例２に比べ１／４以上１／３未満の時間であった。
Ａ：比較例２に比べ１／３以上１／２未満の時間であった。
Ｂ：比較例２に比べ１／２以上１未満の時間であった。
Ｃ：比較例２と同じかそれ以上であった。
【００３６】
【表３】
0005561964.tif 000004
表３に示すように、比較例２の処理時間と比較して実施例２の処理時間が短縮された。反射部材のノズル先端の軸方向に対する反射部材の研磨材のあたり面の角度が１２０°〜１６０°の範囲では特に良好な結果が得られた。
【００３７】
（実施例３）
本実施例では、搬送時に発生するダスト量の測定を実験的に行った。
本実施例では、基板保持部材の全体のホーニング処理を図２に示すホーニング装置を用いて行った。まず、ホーニング装置用ノズル２０７は、図１（ｂ）の状態にして把持開口部２１２の底面２１４および側面２１５をホーニング処理すると同時に、ホーニング装置用ノズル２０８のノズル先端からも研磨材を噴出させ、胴体部のホーニング処理を行う。その後、ホーニング装置用ノズル２０７を図１（ａ）の状態にして、把持開口部のかえし部内面２１３のホーニング処理を３分間行った。
こうしてホーニング処理した基板保持部材を用い、搬送機構の把持部材のチャッキング時に発生するダスト量測定をクリーンルーム内で行った。把持部材は図５に示したものを用いた。
【００３８】
（比較例３）
実施例３と同様の手順で、把持開口部２１２の底面２１４および側面２１５、胴体部のホーニング処理を行った後、反射部材のない状態のホーニング装置用ノズルにて、図７（ａ）の方法で把持開口部のかえし部内面２１３のホーニング処理を３分間行った。
本比較例にてホーニング処理を行った基板保持部材を用い、実施例３と同様の手順でダスト量の測定を行った。
【００３９】
「ダスト量」
クラス１０００のクリーンルーム内にて、基板保持部材を把持部材にて待ち上げ動作を行う。そのときのダスト量を測定する。ダスト量は、１ＣＦ（キュービックフィート）中の０．５μｍ以上のダスト数で表す。測定には、パーティクルカウンター（リオン株式会社製パーティクルカウンター  ＫＣ−２２）を用いた。測定値は、基板保持部材の持ち上げ動作を１０回行い、１０回測定の平均値とした。
実施例３の手順でホーニング処理を施した基板保持部材を用いた「ダスト量」測定値は、比較例３の手順でホーニング処理を施した基板保持部材を用いた測定値の１０％以下であり、ダスト量の発生が少なく良好な結果が得られた。
【００４０】
（実施例４）
実施例３でホーニング処理を行った基板保持部材に、直径８４ｍｍ、長さ３８１ｍｍの円筒状基板を設置し、図４に示す搬送機構と図５に示す把持部材、図６に示す成膜装置を用いて表１に示す条件でアモルファスシリコン感光体を１０本作製した。
【００４１】
（比較例４）
比較例３でホーニング処理を行った基板保持部材に、直径８４ｍｍ、長さ３８１ｍｍの円筒状基板を設置し、図４に示す搬送機構と図５に示す把持部材、図６に示す成膜装置を用いて表１に示す条件でアモルファスシリコン感光体を１０本作製した。
実施例４および比較例４の条件にて作製した夫々のアモルファスシリコン感光体の球状突起数を測定した。
球状突起の測定方法を以下に示す。
【００４２】
「球状突起」
作製したアモルファスシリコン感光体に対して、光学顕微鏡を用いて全面観察し、アモルファスシリコン感光体表面に存在する２０μｍ以上の球状突起の個数をカウントした。作製した全てのアモルファスシリコン感光体に対して、球状突起の個数をカウントし、得られた２０μｍ以上の球状突起の個数の合計を「球状突起数」とし、比較例４で得られた合計の個数をリファレンスとした場合の相対評価でランク付けを行った。
ＡＡ：リファレンスに比べて５０％未満であり、優秀なレベル
Ａ：リファレンスに比べて５０％以上９０％未満であり、良好なレベル
Ｂ：リファレンスに比べて９０％以上１１０％未満であり、リファレンスと同等レベルＣ：リファレンスに比べて１１０％以上であり、リファレンスに比べ悪化
得られた結果を表４に示す。
【００４３】
【表４】
0005561964.tif 000005
表４に示すように、本発明を用いてホーニング処理を施した基板保持部材を用いたアモルファスシリコン感光体は、球状突起の発生が少なく良好な結果が得られた。
【００４４】
（実施例５）
本実施例では、図１に示すホーニング装置用ノズルの反射部材の材質として、ＳＵＳ３０４材、ＳＵＳ４４０Ｃ、ＳＵＳ４４０Ｃを１０１０℃〜１０７０℃にて焼き入れ処理したもの、鉄を用いた。
各材質で作製した反射部材をホーニング装置用ノズルの反射部材として取り付け、図２に示すホーニング装置を用いて反射部材の磨耗耐久テストを行った。
研磨材としては、中心粒径２３０μｍのガラスビーズ（不二精機製造所社製：ガラスビーズＧＢ―ＡＣ）および中心粒径１２０μｍのＳＵＳビーズ（不二精機製造所社製：ステンレスビーズＳＵＳ３０４―１５０）を用い、夫々についてテストした。噴射圧０．５ＭＰａでノズル先端より水と共に噴出させ、１０時間のテストを行った。
各反射部材の１０時間後の磨耗度合いを測定し、「反射部材の耐久性」の評価を行った。
磨耗度合いは、反射部材の磨耗した深さの最大値を測定し、ＳＵＳ３０４材の反射部材の値をリファレンスとした相対評価でランク付けを行った。
「反射部材の耐久性」
ＡＡ：リファレンスの５０％未満
Ａ：リァレンスの５０％以上８０％未満
Ｂ：リファレンスの８０％以上から同等
Ｃ：  リファレンスに比べて大きい
得られた結果を表５に示す。
【００４５】
【表５】
0005561964.tif 000006
表５に示すように、反射部材の材質は、ＳＵＳ４４０Ｃを焼き入れしたもの、ＳＵＳ４４０Ｃ、ＳＵＳ３０４、鉄の順で耐久性が優れていた。鉄を用いた反射部材は、研磨材にＳＵＳビーズを用いたときの磨耗がひどく、破損してしまっていた。
【００４６】
（実施例６）
本実施例で用いるホーニング装置用ノズルを図８を用いて説明する。
反射部材としては、図８（ａ）に示すように、反射部材８０１が、ノズル本体に固定されている固定ガイド８０２に、ビス等で固定されるものを用いた。反射部材８０１は取り外し可能な構成となっている。図８（ｂ）は、反射部材８０１のみを取り外した状態である。このようなホーニング装置用ノズルを用い、実施例１と同様のホーニング条件にて連続１０時間研磨材をノズル先端８０４から吹きつけた。
図８（ａ）の窪み８０３は、１０時間の研磨材吹き付けによる反射部材８０１の磨耗跡を示している。このあと、反射部材８０１を固定ガイド８０２から取り外し、反射部材８０１を裏返して固定ガイド８０２に再び取り付けた。
反射部材８０１を裏返して取り付けたホーニング装置用ノズルを用いて、実施例１と同様のホーニング条件にて、連続１０時間研磨材をノズル先端８０４から吹きつけて、基板保持部材の把持開口部のかえし部内面のホーニング処理を３分間行った。実施例１と同様に「目視検査」を行った結果は、ＡＡＡランクと良好であった。
図８（ｃ）は、反射部材８０１の研磨材による磨耗個所を模式的に示した反射部材８０１の断面図である。本実施例では、図８（ｃ）で示すように、研磨材があたる箇所を工夫する（裏面を使用するときに表面に形成された窪みと裏面に形成される窪みを干渉させないようにする）ことで、裏返しても使用できる構成とした。
このような構成とすることで、反射部材１個あたりの使用時間が倍となり、運用コストが１／２になる効果があった。
【００４７】
（実施例７）
実施例１と同様の手順にてアモルファスシリコン感光体を作製した後の基板保持部材のホーニング処理を行った。
本実施例では、図９（ａ）に示すような反射部材９０１を用いる。本実施例で用いる反射部材は、研磨材のあたる箇所に楕円球面形状または球面形状の窪み加工を施してある。その他の条件は実施例１と同じとする。
本実施例にて２分間のホーニング処理を行った後、把持開口部のかえし部内面の目視検査を行ったところ、堆積膜は完全に除去されており、目視検査レベルＡＡＡであった。
図９（ｂ）に示すように、研磨材のあたり面が平面である場合は、反射した研磨材は拡散してしまう。これに対し、楕円球面形状または球面形状の窪みをつけた場合は反射後の研磨材の拡散が図９（ａ）に示すように拡散しにくくなる。つまり、図９（ａ）に示す拡散幅９０５は、図９（ｂ）に示す拡散幅９０５よりも狭くなる。このことにより、集中的に研磨材が被処理物にあたり、ホーニング効率が向上する。
【符号の説明】
【００４８】
２０７、２０８  ホーニング装置用ノズル
１０１、７０１、８０１、９０１  反射部材
１０２  固定ガイド
１０３  圧空ライン
１０４  研磨材ライン
１０５、８０４、９０４  ノズル先端
【図１】
0005561964.tif 000007
【図２】
0005561964.tif 000008
【図３】
0005561964.tif 000009
【図４】
0005561964.tif 000010
【図５】
0005561964.tif 000011
【図６】
0005561964.tif 000012
【図７】
0005561964.tif 000013
【図８】
0005561964.tif 000014
【図９】
0005561964.tif 000015
【図１０】
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