(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光軸（ＯＡ）及び偏光影響装置（１０）を備えるマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システムであって、前記装置（１０、４０、５０）は、
第１のくさび板（１１、４１、５１）の厚さの最大変化の方向で光軸（ＯＡ）に垂直に延びる第１のくさび方向を備える第１のくさび板（１１、４１、５１）と、
第２のくさび板（１２、４２、５２）の厚さの最大変化の方向で光軸（ＯＡ）に垂直に延びる第２のくさび方向を備える第２のくさび板（１２、４２、５２）とを含み、
第１のくさび板（１１、４１、５１）と第２のくさび板（１２、４２、５２）は光軸（ＯＡ）に関して互いに独立に回転可能に配置されており、
第１のくさび板（１１、４１、５１）と第２のくさび板（１２、４２、５２）はそれぞれ、それぞれの光学結晶軸（ｏａ−１、ｏａ−２）を有する複屈折結晶材料から作られており、
第１のくさび方向と第２のくさび方向が相互に平行な関係で延びる装置（１０、４０、５０）の開始位置において、第１のくさび板（１１、４１、５１）の光学結晶軸（ｏａ−１）と第２のくさび板（１２、４２、５２）の光学結晶軸（ｏａ−２）は互いに対して４５°±３°の角度で向けられており、前記２本の結晶軸（ｏａ−１、ｏａ−２）の一方は装置（１０）に入射する光の選択偏光方向に垂直又は平行に向けられている、照明システム。
【請求項２】
装置（１０、４０、５０）の開始位置において、第１のくさび板（１１、４１、５１）の光学結晶軸（ｏａ−１）と第２のくさび板（１２、４２、５２）の光学結晶軸（ｏａ−２）は、互いに対して、４５°±２°の角度で向けられていることを特徴とする請求項１に記載の照明システム。
【請求項３】
装置（１０、４０、５０）の開始位置において、第１のくさび板（１１、４１、５１）の光学結晶軸（ｏａ−１）と第２のくさび板（１２、４２、５２）の光学結晶軸（ｏａ−２）は、互いに対して、４５°±１°の角度で向けられていることを特徴とする請求項１に記載の照明システム。
【請求項４】
装置（１０、４０、５０）の開始位置において、第１のくさび板（１１、４１、５１）の光学結晶軸（ｏａ−１）と第２のくさび板（１２、４２、５２）の光学結晶軸（ｏａ−２）は、互いに対して、４５°±０．５°の角度で向けられていることを特徴とする請求項１に記載の照明システム。
【請求項５】
回析光学素子（１３７）を有しており、装置（１０）は光伝搬方向でその回析光学素子（１３７）の下流に直接連続して配置されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の照明システム。
【請求項６】
制御装置とアクチュエータが設けられており、アクチュエータは、開始位置からの第１のくさび板（１１、４１、５１）の第１の回転角度を設定し、かつ開始位置からの第２のくさび板（１２、４２、５２）の第２の回転角度を設定するために制御手段によって作動可能であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の照明システム。
【請求項７】
制御装置は、アクチュエータの作動が照明システムにおいて現在使用されている照明設定に依存して行われるように設計されていることを特徴とする請求項６に記載の照明システム。
【請求項８】
アクチュエータの作動のための制御装置は、照明システムのどこかほかで生じた偏光分布の乱れが偏光影響装置（１０、４０、５０）によって少なくとも部分的に補償されるように設計されていることを特徴とする請求項６又は請求項７に記載の照明システム。
【請求項９】
第１のくさび板（１１）は光軸（ＯＡ）に垂直な平坦な光入射面（１１ａ）と光軸（ＯＡ）に対して傾けられた平坦な光射出面（１１ｂ）とを有しており、第２のくさび板（１２）は光軸（ＯＡ）に対して傾けられた平坦な光入射面（１２ａ）と光軸（ＯＡ）に垂直な平坦な光射出面（１２ｂ）を有しており、開始位置において、第１のくさび板（１１）の光射出面（１１ｂ）は第２のくさび板（１２）の光入射面（１２ａ）と平行関係で向けられていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の照明システム。
【請求項１０】
第１のくさび板（１１）及び／又は第２のくさび板（１２）の複屈折材料は結晶石英又はフッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）であることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の照明システム。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の照明システム（１３９）を有するマイクロリソグラフィ投影露光装置。
【請求項１２】
微細構造化部品のマイクロリソグラフィ製造のためのプロセスであって、
感光性材料の層が少なくとも部分的に施されている基板（１５９）を用意するステップと、
像が生成される構造を有するマスク（１５３）を用意するステップと、
請求項１１に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置（１３３）を用意するステップと、
投影露光装置（１３３）によって層の領域上にマスク（１５３）の少なくとも一部を投影するステップとを含む、プロセス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
多くの用途のそうした照明システムでは、可能な限り非偏光である光の生成が望ましく、その目的でレーザー源から発する直線偏光は減偏光される必要がある。その状況において持ち上がる問題は、偏光依存性透過又はミラーの反射特性の結果として、及びレンズに存在し、強度及びそれぞれ得られる選択偏光方向（preferred polarization direction）に関して、それぞれ使用される照明設定に依存しているＡＲ層のために残留偏光効果が起こるということである。
【０００３】
特許文献１から、照明システムにおいて、偏光度を修正するための装置を使用することが知られており、それは、光学結晶軸の方位の変化によって照明光の偏光度の変更を直線偏光状態と非偏光状態との間で実施するために自由に回転可能である、四分の一波長板、二分の一波長板、くさび形の偏向プリズムを、光伝搬方向内で連続して有する。
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−３３３００１公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、照明設定の変動に際しても不要な選択偏光方向の実質的又は完全な排除を柔軟な様式で可能にする、マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
その目的は独立請求項１の特徴に従って達成される。
【０００７】
本発明に従ったマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システムは、光軸と偏光影響装置を備えており、前記装置は、
第１のくさび板の厚さの最大変化の方向で光軸に垂直に延びる第１のくさび方向を備える第１のくさび板と、
第２のくさび板の厚さの最大変化の方向で光軸に垂直に延びる第２のくさび方向を備える第２のくさび板とを含み、
第１のくさび板と第２のくさび板は光軸に関して回転可能に配置されており、
第１のくさび板と第２のくさび板はそれぞれ、それぞれの光学結晶軸を有する複屈折結晶材料から作られており、
第１のくさび方向と第２のくさび方向が相互に平行な関係で延びる装置の開始位置において、第１のくさび板の光学結晶軸と第２のくさび板の光学結晶軸は互いに対して４５°±３°の角度で向けられており、前記２本の結晶軸の一方は装置に入射する光の選択偏光方向に垂直又は平行に向けられている。
【０００８】
本発明は、所望の指向の程度の残留偏光の極めて柔軟な調整が、前記残留偏光の強さに関してとともに方向に関しても、本発明に従った開始位置からのくさび板の独立した回転可能性によって、より詳細にはほんの数度のくさび板の比較的小さい回転角度により、もたらされるという認識に基づいている。
【０００９】
それに関して、本発明に従って選定されたくさび板の開始位置において、不要なビーム偏向は、各自のビーム偏向に関する２枚のくさび板の相互補正に関して、完全に回避することができ、また、要求される小さい回転角度のために、本発明に従って選定された開始位置からのくさび板の相対回転の場合に低く保つことができる。おそらく依然として残るかもしれないわずかなビーム偏向現象は、レーザービームの以降の調整又はそのポインティングベクトルの再定位によって調整することができる。
【００１０】
強さと選択偏光方向に関して本発明に従った装置によって付与される指向性残留偏光の量的予測又は決定は、その場合、光伝搬方向で下流の位置に配置されたさらなる偏光子を前提としたシミュレーション計算に基づいて容易に得ることができ、その偏光子は本発明に従ったくさび板装置から発する光を解析する。照明システムの光軸に関しての偏光子の回転はその後、本発明に従ったくさび板のそれぞれの回転に依存して異なるレベルの強度変調を付与する。本発明に従った装置から発する光の非偏光状態において、偏光子から発した後に得られる強度信号がその偏光子の回転角度にわたって一定であるのに対し、強度に関する異なる変調構成は、本発明に従った装置から発する光の少なくとも部分的直線偏光状態又は直線残留偏光の場合、前記指向性残留偏光のそれぞれの強さと選択偏光方向に依存して、偏光子の回転角度にわたって生起し、その場合、指向性残留偏光の強さは強度変調の最大と最小の対比関係（＝［ＩMax−ＩMin］／［ＩMax＋ＩMin］）から生じ、そして選択偏光方向はそれぞれの強度変調に関する最大の位置から生じる。
【００１１】
その結果、照明システムのどこかほかで生じた不要な選択偏光方向の完全又は実質的な排除は、本発明に従った装置によって制御された様態で付与される指向性残留偏光が（ミラー、ＡＲ層などによって）照明システムのどこかほかで生じた補償されるべき偏光効果のそれぞれの強さと方向に依存して設定される限りにおいて、柔軟な様態で、そしてそれぞれ使用される照明設定（例えば２極設定、４極設定など）に依存して達成される。それに関して、本発明によれば、くさび板の方位に関して選択偏光方向を調整するための付加的な回転可能な二分の一波長板及び／又は四分の一波長板を省くことが特に可能である。
【００１２】
好ましい実施態様によれば、装置の開始位置において、第１のくさび板の光学結晶軸と第２のくさび板の光学結晶軸は、互いに対して、４５°±２°の角度、好ましくは４５°±１°の角度、よりいっそう好ましくは４５°±０．５°の角度で向けられている。
【００１３】
好ましい実施態様によれば、本発明に従ったくさび板装置は、照明システムの入口領域に、好ましくは一般にそこに存在する回析光学素子（ＤＯＥ）の間近に配設される。それは、比較的わずかなビーム角度と相対的に小さいビームペンシル断面がその後さらにくさび板装置の領域において生じるという利点があり、またそれは、結晶性材料（例えば結晶石英）の限りある入手可能性に鑑みてくさび板のさらに小さい最小寸法に関して有利である。
【００１４】
本発明はさらに、マイクロリソグラフィ投影露光装置、微細構造化部品のマイクロリソグラフィ製造のためのプロセス、微細構造化部品に関する。
【００１５】
本発明のさらなる構成は説明及び添付の請求の範囲に記載されている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明は、添付図面に関して説明としての好ましい実施形態によって以下でさらに詳細に説明する。
【００１７】
図１ａ〜ｃは、本発明に従った偏光影響装置１０の概略図を示している。図１ａに示された断面図において、装置１０は、光軸ＯＡに沿って連続して配置され、そのそれぞれの光入射面がそれぞれ１１ａと１２ａによって識別され、またそのそれぞれの光射出面がそれぞれ１１ｂと１２ｂによって識別されている、２枚のくさび板１１、１２を有する。両方向矢印Ｐ１、Ｐ２によって示された通り、２枚のくさび板１１、１２は、光軸ＯＡに対して互いに独立に回転可能に配置されている。２枚のくさび板１１、１２の間隔は、光軸ＯＡに関するその相対回転に際して、本発明に従って設定される少なくとも一般に小さい回転角度（例えば−２°ないし＋２°の範囲）に対してそれらが互いに衝突しないように選定される。
【００１８】
図１に示された開始位置において、２枚のくさび板１１、１２は、第１のくさび板１１の光射出面１１ｂと第２のくさび板１２の光入射面１２ａが相互に平行な関係で向けられている、すなわちそれらが一定の厚さの隙間によって互いに分離されている平面平行ジオメトリをもたらすために互いに補い合っている。対して、第１のくさび板１１の光入射面１１ａと第２のくさび板１２の光射出面１２ｂはそれぞれ、（ｚ方向に配置された）光軸ＯＡに対し垂直に拡がっている。
【００１９】
一般に、２枚のくさび板は開始位置において、そのくさび方向が相互に平行な関係で向けられるように配置される。それに関して、用語「くさび方向」は各々の場合に、光伝搬方向（すなわち図１ａではｚ方向）に対して垂直であり、当該のくさび板の厚さの変化（すなわち厚さ勾配又は傾斜）が最大である方向を指示するために使用される。図１ａにおいて、両方のくさび板のくさび方向はそれぞれｙ方向に延びる。
【００２０】
２枚のくさび板１１、１２は各々、例えば結晶石英又はフッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）などの複屈折材料から作られる。
【００２１】
図１ｂは、図１ａに示された装置１０の開始位置に対する第２のくさび板１２の平面図を示しており、図１ｃは、図１ａの開始位置に対する第１のくさび板１１の平面図を示す。その場合、対応する複屈折くさび板１１、１２における光学結晶軸の方位が指定されており、図１ｂではｏａ−２によって、図１ｃではｏａ−１によって識別されている。直線偏光がレーザー源（図１には図示せず）（例えば１９３ｎｍの動作波長用のＡｒＦレーザー）から図１ａに示された第１のくさび板１１の光入射面１１ａに入射する。この場合、（Ｅ0によって識別された）電界強度ベクトルの振動方向は例示実施形態によればｙ方向に向いている。図１ｂ〜ｃに示す通り、開始位置において、第１のくさび板１１の光学結晶軸ｏａ−１がその選択偏光方向と平行な関係で延びるのに対し、第２のくさび板１２の光学結晶軸ｏａ−２はその選択偏光方向（すなわちここで小さいｙ軸に対して）に４５°の角度で向けられている。
【００２２】
図３に関して以下で述べるように、装置１０から出る時に、非偏光が図１に関して上に示した開始位置（すなわち、装置１０に入射する光のｙ方向に延びる選択偏光方向に関して互いに対して又は単位として共同でくさび板１１、１２の回転を伴わない）に対して生成される。出願人の以前の特許出願ＷＯ２００６／１３１５１７Ａ２に記載の通り、それは、装置１０に入ろうとする際の（ｙ方向に延びる）ターゲット方位からの直線偏光の方位のわずかなずれに関しても良好な近似で当てはまる。ここで図３の概略図に示された光ビームのうち、ビーム１（その偏光状態は装置１０から出た後も不変のままである）及びビーム３（その偏光方向は装置１０から出た後にビーム１の偏光方向に対し垂直である）は、インコヒーレントに重なり合い、それゆえ互いに打ち消し合って非偏光を与える。２と４によって識別されたビームは、装置１０から出た後にそれぞれ、反対符号の左右像による円偏光を与え、それに関してｘ又はｙ方向の選択方向は、ｙ方向に沿った理想方位からの入射偏光の方位のずれを伴う状況においてのみ残る。
【００２３】
この時、本発明によれば、光軸ＯＡに関するくさび板１１、１２の独立した回転可能性の結果として、入射光の選択偏光方向に関して、互い（それゆえ、入射光の選択偏光方向に関するそれぞれの光学結晶軸ｏａ−１とｏａ−２の方位）に対してとともに、全体の装置１０の方位に対するその相対位置は両方とも、連続的かつ狙い通りに変更することができるということが本質的である。
【００２４】
図２ａ〜ｏに関して以下で述べる通り、装置１０によって生成された指向性残留偏光の著しい変動が、（例えば−２°ないし＋２°の範囲の）くさび板１１、１２のわずかな回転角度によりすでに生じている。その指向性残留偏光は転じて、照明システムのどこかほかに存在する（例えばミラー又はＡＲ層によって生じた）残留偏光の指向性アローアンスを与える働きをし、それに関して、くさび板１１、１２の自在な回転可能性によって、照明設定の変更に際して、補償すべき上述の偏光の変動を特に考慮に入れることが可能である。
【００２５】
図２ａ〜ｏに示された図は各々、本発明に従った装置１０の下流に配置された偏光子が装置１０から出る光の偏光状態の分析の根拠を形成するシミュレーション計算のそれぞれの結果を示している。単位ｒａｄでの光軸ＯＡに関するその偏光子の回転角度は、各々の場合で、それらの図の横軸に指定されている。偏光子から出る光の強度は縦軸にプロットされている。それらの図の各々で正に一番上に指定された値の組はそれぞれ、図１に関して述べた開始位置からのくさび板１１、１２の回転角度を指示しており、それに関して、値のそれぞれの組の第１の角度はそれぞれ第２のくさび板１２の回転角度を指定し、値のそれぞれの組の第２の角度はそれぞれ第１のくさび板１１の回転角度を指示している。こうして図２ｈの図は、前に定義された２つの回転角度が各々、値０°のものであるので、図１に関する開始位置に対応する。
【００２６】
その開始位置について、シミュレーション計算の根拠を形成する偏光子に入る光は選択方向を持たないので、この場合、偏光子の回転角度の範囲全体にわたって一定の強度パターンが存在する。さらに、他の図２ａ〜ｇ及び２ｉ〜ｏからわかるように、くさび板１１、１２の一方又はくさび板１１、１２の両方の最大±２°の範囲の回転は、シミュレーション計算において採用されると仮定される偏光子に入ろうとする光の著しい指向性残留偏光にすでにつながり、その場合、その指向性残留偏光の強さと方向の両方とも、くさび板の指定された比較的小さい回転角度により広範囲にすでに変化している。それに関して、指向性残留偏光の強さはそれぞれ、図２ａ〜ｏの図における強度の最大と最小の対比関係（最大−最小／最大＋最小）から生じるのに対し、選択偏光方向は同じものについての最大の位置から続いており、概念的偏光子又はシミュレーション計算の根拠を形成する偏光子を通る光の通過は最大である。例えば、−２°の第２のくさび板１２の回転角度及び＋１°の第１のくさび板１１の回転角度について、図２ａの図は、強度変調に関する第１の最大の位置をおよそφ＝２ｒａｄと示しており、それはｙ軸（ここでは一般性に関する制限を伴わず、原点を通って延びると仮定される）に関して約１１４．６°の選択偏光方向の角度に対応する。
【００２７】
図４、５は、本発明の別の実施形態に従ったそれぞれの偏光影響装置を説明する概略図を示している。
【００２８】
図４は、図１と同様、光軸ＯＡに関して互いに独立に回転可能に配置され各々複屈折材料（例えば結晶石英又はフッ化マグネシウム）よりなる２枚のくさび板４１、４２で構成される偏光影響装置４０を単に図式的に示している。
【００２９】
しかし図１ａの装置１０とは異なり、図４の装置４０において、その表面が光軸ＯＡに対してそれぞれ傾けられているくさび板４１、４２のくさび表面４１ａ、４２ｂは「外側に」、すなわちそれぞれ他方のくさび板から離れる側に配置されているのに対し、光軸ＯＡに対し垂直であるくさび表面４１ｂ、４２ａは、各々の場合に「内側に」、すなわちそれぞれ他方のくさび板に向いた側に配置されている。光軸ＯＡに関して傾けられた「外側の」くさび表面４１ａ、４２ｂ、すなわち第１のくさび板４１の光入射面と第２のくさび板４２の光射出面は転じて、相互に平行な関係で配置されている。従って、装置４０は容易に補正されるビーム変位を導入するにすぎない。
【００３０】
図１の装置１０に関する説明は、くさび板４１、４２における光学結晶軸の方位に関しても同様に当てはまる。それは、くさび板４１、４２の光学結晶軸がやはり互いに対して４５°の角度で向けられており、それらの２本の光学結晶軸の一方は、（例示実施形態ではｙ方向に延びる）（Ｅ0によって識別された）電界強度ベクトルの振動方向に垂直又は平行のどちらかに向けられていることを意味する。
【００３１】
くさび板５１、５２による装置５０の図５に図式的に例示されたさらなる実施形態において、この場合、光軸ＯＡに関して傾けられたくさび表面５１ａ、５２ｂも「外側に」、すなわちそれぞれ他方のくさび板から遠い側に配置されており、それらの傾斜したくさび表面５１ａ、５２ｂもまた非平行関係で、しかしもっと正確に言えば相互に収束する関係で拡がるようにして設計されている。しかし図４に示された上記装置４０の場合と同様、図５の装置５０は、くさび板５１、５２のくさび方向も相互に平行な関係で延びるように定めている。それに関して、くさび方向は、光軸ＯＡ又は光伝搬方向に対して垂直であり、そして当該くさび板の厚さの変化が最大である、その方向として定義される。図４、５の実施形態において、くさび板４１、４２、５１、５２の全部のくさび方向はそれぞれ、例示された座標系に従ってｙ方向に延びる。
【００３２】
別の点では、図１と図４に関する説明はそれぞれ、図５に示された装置５０のくさび板５１、５２の光学結晶軸の方位に関して同様に当てはまり、言い換えれば、くさび板５１、５２の光学結晶軸はやはり例示された開始位置において互いに対して４５°の角度で向けられており、それらの２本の光学結晶軸の一方は装置５０に入射する光の選択偏光方向に平行又は垂直のどちらかである。
【００３３】
図５の装置５０によって導入されるビーム角度は、レーザーポインティングによって容易に補償することができる。
【００３４】
本発明に従った装置の使用法を説明するために、図６は、光源ユニット１３５、照明システム１３９、構造保持マスク１５３、投影対物レンズ１５５、露光される基板１５９を有するマイクロリソグラフィ投影露光装置１３３を示す概略図である。光源としての光源ユニット１３５は例えば、１９３ｍｍの動作波長用のＡｒＦレーザーとともに、平行光束を生成するビーム形成光学システムを含む。
【００３５】
例示実施形態において、平行光ビームは最初に回析光学素子１３７に入射する。回析光学素子１３７は、それぞれの回析表面構造によって規定された角度反射特性によって瞳平面１４５において、例えば２極又は４極分布といった所望の強度分布を生じる。図６に示す通り、光伝搬方向で回析光学素子１３７の後に、本発明に従った偏光影響装置１０が配設されており、くさび板は互いに独立に回転可能である。それらのくさび板の回転角度は、（好ましくは制御装置（図示せず）と適格なアクチュエータによって）それぞれ現在使用されている照明設定に依存して柔軟に設定することができる。
【００３６】
本発明に従った装置１０のさらなる使用法によれば、最初に、（例えばミラー、ＡＲ層などによって生じた）照明システム１３９のどこかほかに存在し補償されるべき残留偏光をやはり確定することができ、その後、くさび板１１、１２の適切な相対位置が相応に選定され、最後に装置１０は適格な定位置で照明システム１３９に装着される。
【００３７】
光軸ＯＡに沿ってビーム経路で後続する対物レンズ１４０は、可変直径の平行光ビームを生成するズーム対物レンズの形態をしている。平行光ビームは、アキシコン１４３を有する光学ユニット１４２上に偏向ミラー１４１によって誘導される。種々の照明構成が、それぞれのズーム設定とアキシコン素子の位置に応じて瞳平面１４５において、上流に配置されたＤＯＥ１３７及びアキシコン１４３と連係してズーム対物レンズ１４０によって生成される。アキシコン１４３の後に、光学ユニット１４２は、瞳平面１４５の領域に配置され光混合効果を生じるための適格な装置をここではそれ自体既知の様態で有する、（図６では要素１４６、１４７によって表現された）マイクロ光学素子から構成される光ミクサシステム１４８を含む。光ミクサシステムは代替として、例えば石英ガラス又はやはり結晶性フッ化カルシウムといった動作波長で光透過性の材料によるハニカムコンデンサ又はインテグレータロッドを含むこともできる。光学ユニット１４２の後にレチクルマスキングシステム（ＲＥＭＡ）１４９が続き、その像はＲＥＭＡ対物レンズ１５１によって構造保持マスク（レチクル）１５３に形成され、それによってレチクル１５３で照明領域を画成する。構造保持マスク１５３は投影対物レンズ１５５により露光される基板１５９上に投影される。例示実施形態において、投影対物レンズの最終光学素子１５７と感光性基板１５９との間に、空気とは異なる屈折率を備える液浸流体１６１が配置される。
【００３８】
たとえ本発明が特定の実施形態によって説明されたとしても、例えば個別の実施形態の特徴の組合せ及び／又は交換による多数の変種及び代替的な実施形態が当業者には明らかであろう。従って、そのような変種と代替的な実施形態もまた本発明によって包括され、そして本発明の範囲は添付の請求の範囲とその等価物の意味においてのみ限定されることは当業者によって認識されるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明に従った偏光影響装置の概略図を断面図（図１ａ）及び、好ましい実施形態に従ったその２枚のくさび板上の平面図（図１ｂ及び図１ｃ）で示す。
【図２】光伝搬方向で本発明に従った装置の下流に配置され光軸に関して回転する偏光子を前提として確認された、より詳細には本発明に従ったくさび板のそれぞれ異なる回転角度についての、種々の強度変調構成を示す。
【図３】図１の開始位置における本発明に従った装置の動作モードを説明する概略図を示す。
【図４】本発明の別の実施形態に従ったそれぞれの偏光影響装置を説明する概略図を示す。
【図５】本発明の別の実施形態に従ったそれぞれの偏光影響装置を説明する概略図を示す。
【図６】本発明に従った照明システムを有するマイクロリソグラフィ投影露光装置の構造を例示している概略図を示す。
【符号の説明】
【００４０】
１０、４０、５０  偏光影響装置
１１、１２、４１、４２、５１、５２  くさび板
１１ａ、１２ａ  光入射面
１１ｂ、１２ｂ  光射出面
４１ａ、４２ｂ、５１ａ、５２ｂ  くさび表面
ＯＡ  光軸
１３３  マイクロリソグラフィ投影露光装置
１３５  光源ユニット
１３７  回析光学素子
１３９  照明システム
１４０  対物レンズ
１４１  偏向ミラー
１４２  光学ユニット
１４３  アキシコン
１４５  瞳平面
１４８  光ミクサシステム
１４９  レチクルマスキングシステム（ＲＥＭＡ）
１５１  ＲＥＭＡ対物レンズ
１５３  構造保持マスク（レチクル）
１５５  投影対物レンズ
１５７  最終光学素子
１５９  基板
１６１  液浸流体
【図１】
0005561508.tif 000002
【図２】
0005561508.tif 000003
【図３】
0005561508.tif 000004
【図４】
0005561508.tif 000005
【図５】
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【図６】
0005561508.tif 000007