(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
高圧の領域内をプルーム状に移動する１個以上のイオンを受け入れ、低圧の領域に前記イオンを渡し、前記高圧の領域が第１の壁によって前記低圧の領域から分離されており、前記プルームが第１の軸線を有し、前記低圧の領域内を移動する前記イオンが第２の軸線を有する装置であって、
前記低圧の領域と前記高圧の領域との間の前記第１の壁に取り付けるための、流入ハウジングを備え、前記流入ハウジングが、分岐点と、第１の通路とを有しており、前記流入ハウジングおよび前記壁のうちの少なくとも一方が、第２の通路を有しており、前記第１の通路が、第１の通路軸線、入口および終端を有しており、前記入口が前記高圧の領域と流体連通しており、前記終端が前記分岐点と連通しており、前記分岐点が前記第２の通路と流体連通しており、前記第２の通路が、第２の通路軸線と、出口とを有しており、前記第１の通路がイオンを受け入れ、前記出口がイオンを前記低圧の領域に放出し、前記第１の通路軸線が、前記第１の軸線または前記第１の軸線に平行に延びる直線と１点で交差して、第１の角度を画定しており、前記第１の通路軸線と前記第２の通路軸線が、１点で交差して、第２の角度を画定しており、前記第２の通路軸線が、前記第２の軸線を画定するか、または第２の軸線と平行な直線に沿って延びており、前記流入ハウジングが、高圧でイオンを受け入れ、低圧でイオンを渡し、
前記流入ハウジングが、前記第１の壁上の第１の位置と、前記第１の壁上の第２の位置とをとることが可能であり、前記第１の位置では、前記第１の通路軸線が７５度以下の前記第１の角度を有し、前記第２の位置では、前記第１の通路軸線が１０５度以上の前記第１の角度を有する、装置。
【請求項２】
前記第２の通路が、前記低圧の領域より高い圧力で前記第１の通路および前記第２の通路のうちの少なくとも一方の領域を画定する少なくとも１つの絞り区間を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記絞り区間が絞り直径を有し、前記第１の通路が第１の通路直径を有し、前記第２の通路が第２の通路直径を有し、前記絞り直径が、前記第１の通路直径および前記第２の通路直径のうちの少なくとも一方より小さい直径を有する、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記流入ハウジングが、解除可能な取り付け手段によって前記第１の壁に取り付けられている、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記流入ハウジングが、取り外し可能であり、前記第１の位置および前記第２の位置のうちの少なくとも一方で前記第１の壁に再び取り付け可能である、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記解除可能な取り付け手段が、クリップ、真空保持、カム、急速解除カム、噛み合いフランジ、またはねじを備える、請求項４に記載の装置。
【請求項７】
前記流入ハウジングが、前記第１の位置と前記第２の位置との間で回転可能である、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記流入ハウジングを回転させる動力手段をさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記動力手段と信号伝達し、操作者の命令または運転条件に応答して、前記流入ハウジングを前記第１の位置または前記第２の位置に設定する制御手段をさらに備える、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
隙間を画定するように間隔を置いた関係で前記流入ハウジングを取り囲み、前記第１の通路の入口の周りに、ガスを付与する開口を有するハウジングシュラウドをさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記ハウジングシュラウドが円錐形状を有する、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記第１の通路軸線が、前記プルームと平行に延びる直線と交差する、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
前記第１の通路軸線と前記第２の通路軸線が、１０度と９０度との間の角度を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
前記流入ハウジングを取り囲む高圧領域容器をさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１５】
前記低圧の領域が低圧容器を備え、前記流入ハウジングおよび前記低圧容器が、解除可能な取り付け手段を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項１６】
前記流入ハウジングおよび前記低圧容器が、位置合わせ印を有する、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記高圧の領域に保持された少なくとも１つのプルーム形成手段をさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１８】
前記少なくとも１つのプルーム形成手段がエレクトロスプレーまたはネブライザである、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記高圧容器が、複数のプルーム形成手段を保持する手段を含んでおり、前記流入ハウジングが、前記プルーム形成手段のそれぞれのための１つ以上の位置を有する、請求項１７に記載の装置。
【請求項２０】
イオンの質量電荷比を測定する検出器であって、イオンを生成するための少なくとも１つの高圧容器と、イオンの質量と電荷に対応する信号を生成するための少なくとも１つの低圧容器とを備え、前記高圧容器および前記低圧容器が、少なくとも１つの第１の壁と、前記低圧容器と前記高圧容器との間を流体およびイオンの連通状態にする開口とを有しており、前記高圧容器がプルームを形成する少なくとも１つの手段を有しており、前記高圧容器が、第１の通路軸線を有する手段によって前記低圧容器と流体およびイオンの連通状態にあり、前記低圧容器が第２の軸線を有しており、前記高圧容器が、低圧の領域と高圧の領域との間の前記第１の壁上への取り付け用の、流入ハウジングを有しており、前記流入ハウジングが、分岐点と、第１の通路とを有しており、前記流入ハウジングおよび前記第１の壁のうちの少なくとも一方が第２の通路を有しており、前記第１の通路が、第１の通路軸線、入口および終端を有しており、前記入口が前記高圧の領域と流体連通しており、前記終端が前記分岐点と連通しており、前記分岐点が前記第２の通路と流体連通しており、前記第２の通路が、第２の通路軸線と、出口とを有しており、前記第１の通路がイオンを受け入れ、前記出口がイオンを前記低圧の領域に放出し、前記第１の通路軸線が、前記プルームの第１の軸線または前記第１の軸線と平行に延びる直線と１点で交差して、第１の角度を画定しており、前記第１の通路軸線と前記第２の通路軸線が、１点で交差して、第２の角度を画定しており、前記第２の通路軸線が、前記第２の軸線を画定するか、または前記第２の軸線と平行な直線に沿って延びており、前記流入ハウジングが、高圧でイオンを受け入れて、低圧でイオンを前記低圧容器に渡し、
前記流入ハウジングが、前記第１の壁上の第１の位置と、前記第１の壁上の第２の位置とをとることが可能であり、前記第１の位置では、前記第１の通路軸線が７５度以下の前記第１の角度を有し、前記第２の位置では、前記第１の通路軸線が１０５度以上の前記第１の角度を有する、検出器。
【請求項２１】
前記第２の通路が、前記低圧の領域より高い圧力で前記第１の通路および前記第２の通路のうちの少なくとも一方の領域を画定する少なくとも１つの絞り区間を有する、請求項２０に記載の検出器。
【請求項２２】
前記絞り区間が絞り直径を有し、前記第１の通路が第１の通路直径を有し、前記第２の通路が第２の通路直径を有し、前記絞り直径が、前記第１の通路直径および前記第２の通路直径のうちの少なくとも一方より小さい直径を有する、請求項２１に記載の検出器。
【請求項２３】
前記流入ハウジングが、解除可能な取り付け手段によって前記第１の壁に取り付けられている、請求項２０に記載の検出器。
【請求項２４】
前記流入ハウジングが、取り外し可能であり、第１の位置および第２の位置のうちの少なくとも一方で前記第１の壁に再び取り付け可能である、請求項２３に記載の検出器。
【請求項２５】
前記解除可能な取り付け手段が、クリップ、真空保持、カム、急速解除カム、噛み合いフランジ、またはねじを備える、請求項２３に記載の検出器。
【請求項２６】
前記流入ハウジングが、前記第１の位置と前記第２の位置との間で回転可能である、請求項２０に記載の検出器。
【請求項２７】
前記流入ハウジングを回転させる動力手段をさらに備える、請求項２０に記載の検出器。
【請求項２８】
前記動力手段と信号伝達し、操作者の命令または運転条件に応答して、前記流入ハウジングを前記第１の位置または前記第２の位置に設定する制御手段をさらに備える、請求項２７に記載の検出器。
【請求項２９】
隙間を画定するように間隔を置いた関係で前記流入ハウジングを取り囲み、前記第１の通路の入口の周りに、ガスを付与する開口を有するハウジングシュラウドをさらに備える、請求項２０に記載の検出器。
【請求項３０】
前記ハウジングシュラウドが円錐形状を有する、請求項２９に記載の検出器。
【請求項３１】
前記第１の通路軸線が、前記プルームと平行に延びる直線と交差する、請求項２０に記載の検出器。
【請求項３２】
イオンの質量電荷比を測定する検出器を操作する方法であって、イオンを生成するための少なくとも１つの高圧容器と、イオンの質量と電荷に対応する信号を生成するための少なくとも１つの低圧容器とを設けるステップを含み、前記高圧容器および前記低圧容器が、少なくとも１つの第１の壁と、前記低圧容器と前記高圧容器との間を流体およびイオンの連通状態にする開口とを有しており、前記高圧容器がプルームを形成する少なくとも１つの手段を有しており、前記高圧容器が、第１の通路軸線を有する手段によって前記低圧容器と流体およびイオンの連通状態にあり、前記低圧容器が第２の軸線を有しており、前記高圧容器が、低圧の領域と高圧の領域との間の前記第１の壁上に取り付けるための、流入ハウジングを有しており、前記流入ハウジングが、分岐点と、第１の通路とを有しており、前記流入ハウジングおよび前記第１の壁のうちの少なくとも一方が第２の通路を有しており、前記第１の通路が、第１の通路軸線、入口および終端を有しており、前記入口が前記高圧の領域と流体連通しており、前記終端が前記分岐点と連通しており、前記分岐点が前記第２の通路と流体連通しており、前記第２の通路が、第２の通路軸線と、出口とを有しており、前記第１の通路がイオンを受け入れ、前記出口がイオンを前記低圧の領域に放出し、前記第１の通路軸線が、前記プルームの第１の軸線または前記第１の軸線と平行に延びる直線と１点で交差して、第１の角度を画定しており、前記第１の通路軸線と前記第２の通路軸線が、１点で交差して、第２の角度を画定しており、前記第２の通路軸線が、前記第２の軸線を画定するか、または前記第２の軸線と平行な直線に沿って延びており、前記流入ハウジングが、高圧でイオンを受け入れて、低圧でイオンを前記低圧容器に渡し、
前記流入ハウジングが、前記第１の壁上の第１の位置と、前記第１の壁上の第２の位置とをとることが可能であり、前記第１の位置では、前記第１の通路軸線が７５度以下の前記第１の角度を有し、前記第２の位置では、前記通路軸線が１０５度以上の前記第１の角度を有しており、
前記流入ハウジングの前記第１の位置および前記第２の位置のうちの少なくとも一方を選択するステップを含む、方法。
【請求項３３】
前記流入ハウジングが、解除可能な取り付け手段によって前記第１の壁に取り付けられており、
前記解除可能な取り付け手段によって流入ハウジングを前記第１の壁に固定するステップを含む、請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
前記流入ハウジングが、取り外し可能であり、第１の位置および第２の位置のうちの少なくとも一方で前記第１の壁に再び取り付け可能であって、
前記第１または第２の位置への固定の前に、前記流入ハウジングを点検手入れするステップを含む、請求項３２に記載の方法。
【請求項３５】
前記解除可能な取り付け手段が、クリップ、真空保持、カム、急速解除カム、噛み合いフランジ、およびねじを備える、請求項３３に記載の方法。
【請求項３６】
前記流入ハウジングが、前記第１の位置と前記第２の位置との間で回転可能であって、
前記第１または第２の位置を選択するように前記流入ハウジングを回転させるステップを含む、請求項３２に記載の方法。
【請求項３７】
前記流入ハウジングを回転させる動力手段を提供するステップをさらに含む、請求項３２に記載の方法。
【請求項３８】
前記動力手段と信号伝達し、操作者の命令または動作条件に応答して、前記流入ハウジングを前記第１の位置または前記第２の位置に設定する制御手段を提供するステップをさらに含む、請求項３７に記載の方法。
【請求項３９】
隙間を画定するように間隔を置いた関係で前記流入ハウジングを取り囲み、前記第１の通路の入口の周りに、ガスを付与する開口を有するハウジングシュラウドを提供するステップをさらに含む、請求項３２に記載の方法。
【請求項４０】
前記流入ハウジングが、印と位置合わせされる、請求項３２に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本出願は、２００７年１１月３０日に出願された米国仮特許出願第６０／９９１，２３２号（代理人整理番号Ｗ−４５２−０１）の優先権の利益を主張する。本出願の内容は、参照によりその全てが本明細書に明示的に組み込まれる。
【０００２】
本発明は、質量分析を行うための装置および方法に関する。特に、イオンを相対的に高圧の領域から低圧の領域に導入する質量分析計用装置に関する。
【背景技術】
【０００３】
本明細書中で使用される「質量分析部」または「質量検出器」または「質量分析計」という用語は、アナライトイオンの質量電荷比に基づいて信号または結果を生成する機器、装置または計器を意味する。質量分析部は、例として、限定なしに、四重極質量フィルタ、イオントラップ型質量分析部、扇形磁場型質量分析部、飛行時間型質量分析部、イオン−サイクロトロン共鳴型（ＦＴＭＳ）分析部、キングドントラップ分析部など、いくつかのよくある形をとることがある。
【０００４】
生体分子の分析のために使用される質量分析計は、通常、大気圧イオン化（ＡＰＩ）ソースを使用する。溶液の分析に適切なＡＰＩソースには、エレクトロスプレーイオン化（ＥＳＩ）ソース、大気圧化学イオン化（ＡＰＣＩ）ソース、大気圧光イオン化（ＡＰＰＩ）ソース、気流および／または熱支援エレクトロスプレーソースが含まれる。また、ＡＰＩは、マトリックス支援レーザ脱離法（ＭＡＬＤＩ）、脱離エレクトロスプレーイオン化法（ＤＥＳＩ）、シリコン上脱離イオン化法（ＤＩＯＳ）、「ＤＡＲＴ」（リアルタイム直接分析）などの技術とも共に使用される。
【０００５】
イオンの質量分析は、通常、大気圧以下で実行されるため、全てのＡＰＩ技術は、イオンをソースから、通常１つ以上の排気されたチャンバを経由して、相対的に高真空の領域に移送するインタフェースを必要とする。交流電位が印加される細長いロッド群または開口円板群を一般に備えるイオン移送装置が、効果的になるように十分に圧力が低いチャンバ内に一般に設けられる。しかしながら、ＡＰＩソースと質量分析部の間の大部分のインタフェースは、イオンが通過する必要があってもイオン移送装置のない真空チャンバも含む。次の説明は特にエレクトロスプレーＡＰＩソースに関しているが、記述されるインタフェースが、上記に列挙されたＡＰＩソースの他のタイプ、すなわち実際には、相対的に高圧すなわち大気圧の領域でイオンのプルームまたはスプレーを生成するいかなるイオン化ソースにも同様に適用可能であることは理解される。
【０００６】
エレクトロスプレーイオンソースは、対向電極と溶液（多くの場合、液体クロマトグラフからの溶離液）が流れるキャピラリ管との間に印加された電界によって、溶液から、帯電液滴を含むエアロゾルを生成する。帯電液滴は、溶液に溶解された試料に特有のイオンを含むことができる。これらの帯電液滴は、通常は大気圧に維持されるソースに存在するガス分子との接触を通して、少なくとも部分的に脱溶媒和される。脱溶媒和は、エレクトロスプレーされたエアロゾルに対して１本以上のガス流れを適切に向けることによって、および／またはガスおよび／またはキャピラリ管を加熱することによって支援される場合がある。キャピラリ管をニューマティックネブライザ（通常は同軸型ネブライザ）に差し替えて、脱溶媒和をさらに向上させたり、それに加えて、ソースの許容可能な最大溶液流量を上げたりする場合もある。ネブライザが使用される場合、ネブライザとキャピラリとの間の電界が不要になってもよいように、エレクトロスプレーイオン化法が、コロナ放電（ＡＰＣＩ）または光子ビーム（ＡＰＰＩ）によって置き換えられる（あるいは支援される）場合がある。
【０００７】
いかなるイオン化と脱溶媒和の方法が使用されても、ソースの大気圧部分で生成されるイオンが、ソースと分析計の真空系との間のインタフェースを通過する必要がある。インタフェースは、エアロゾル中に生成されたイオンのできる限り多くを移送し、（例えば、熱分解によって）損失を起こすことなく脱溶媒和を達成するとともに、質量分析部内の圧力がその適正な動作のために十分に低く維持されるように、不活性ガスと溶媒の大部分を同時に分離除去することが望ましい。これらの必要条件は容易には満たされず、多数の様々なソースとインタフェースのデザインが提案されている。
【０００８】
エアロゾルとインタフェースの入口開口との相対的な方向性に関するＡＰＩソースの幾何学的配置が、質量検出器の感度に影響を与える場合がある。インタフェースの開口構造とタイプも性能に影響を及ぼすことが分かった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
インタフェースは、試料の流れにさらされ、小さなオリフィスと通路のせいで、付着物を堆積させる可能性がある。取り外し、洗浄、または代替えインタフェースとの交換が容易にできるインタフェースを有することが望ましい。
【００１０】
本明細書中で使用される「高圧」という用語は、真空条件に近い低圧で動作する質量分析部の部分と比較した相対的な圧力を意味する。その用語には、「大気圧」が含まれるが、それに限定されるものではない。本明細書中で使用される「大気圧」には、かなりの量のガスの存在下での、おそらく大気圧自体のプラスマイナス数百トルの圧力での装置の動作が含まれる。この用語は、大気圧または大気圧周辺における装置とイオン化ソースのタイプを、高真空または中真空で動作するタイプ、例えば、電子衝撃イオン化ソースや化学イオン化ソースと区別するために、当該技術分野で一般に使用されている。
【００１１】
「帯電粒子」および「イオン」という用語は、一価イオン、多価イオン、溶媒和および／または脱溶媒和されたイオン、付加イオン、クラスタイオンなどを含むことが意図されている。イオンおよび／または帯電粒子は、一般に、（上記に定義されたような）大気圧で動作するイオン化ソースで試料から形成され、潜在的に１つ以上の対象アナライト、他の担体または試料分子、溶媒、ガス、溶媒の帯電液滴などを担持することができる。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の実施形態は、質量分析を行うための装置および方法を特徴とする。本発明の一実施形態は、高圧の領域内をプルーム状に移動する１個以上のイオンを受け入れ、低圧の領域にイオンを渡す装置を対象とする。高圧の領域は、第１の壁によって低圧の領域から分離される。プルームは第１の軸線を有し、低圧の領域内を移動するイオンが第２の軸線を有する。装置は、低圧の領域と高圧の領域との間の第１の壁上に取り付けるための流入ハウジングを備える。流入ハウジングは、分岐点と第１の通路とを有し、流入ハウジングおよび壁のうちの少なくとも一方は、第２の通路を有する。第１の通路は、第１の通路軸線、入口および終端を有する。入口は高圧の領域と流体連通しており、終端は分岐点と連通している。分岐点は第２の通路と流体連通している。第２の通路は、第２の通路軸線と出口とを有する。第１の通路は、高圧の領域からのイオンを受け入れるためであり、出口は、イオンを低圧の領域に放出するためである。第１の通路軸線は、第１の軸線または第１の軸線と平行に延びる直線と１点で交差して、第１の角度を画定する。第１の通路軸線と前記第２の通路軸線は、１点で交差して、第２の角度を画定する。第２の通路軸線は、第２の軸線を画定するか、または第２の軸線と平行な直線に沿って延びている。これにより、流入ハウジングは、高圧でイオンを受け入れて、低圧でそのようなイオンを渡す。
【００１３】
本発明の一実施形態は、流入ハウジングが、壁上の第１の位置と壁上の第２の位置をとることが可能な装置を特徴とする。第１の位置では、第１の通路軸線が約７５度以下の第１の角度を有し、第２の位置では、第１の通路軸線が１０５度以上の第１の角度を有する。これにより、本発明の実施形態は、流入ハウジングをプルームに合わせて、すなわち、他のソースによるそれぞれ異なるプルームに合わせて調整することを可能にする。
【００１４】
本発明の一実施形態は、流入ハウジングが、解除可能な取り付け手段によって前記壁に取り付けられている装置を特徴とする。流入ハウジングは、取り外し可能であり、第１の位置および第２の位置のうちの少なくとも一方で前記壁に再び取り付け可能である。これにより、流入ハウジングは、容易に点検手入れ、交換または調整され得る。解除可能な取り付け手段は、クリップ、真空保持、カム、急速解除カム、噛み合いフランジ、またはねじを備える。
【００１５】
本発明の一実施形態は、流入ハウジングが、前記第１の位置と前記第２の位置との間で回転可能である装置を特徴とする。一実施形態は、前記流入ハウジングを回転させる動力手段を特徴とする。このような動力手段には、流入ハウジングの動きを発生させるのに適切な歯車装置を備えたステッパモータなどのモータが含まれる。一実施形態は、動力手段と信号伝達する制御手段をさらに備える。制御手段は、操作者の命令または動作条件に応答して、流入ハウジングを第１の位置または第２の位置に設定する。本明細書で使用される制御手段という用語は、コンピュータ演算処理装置（ＣＰＵ）と、コンピュータ、サーバ、パーソナルコンピュータなど、ＣＰＵを含む機器と、質量分析部自体など、そのような分析機器とを意味する。
【００１６】
好ましくは装置は、流入ハウジングを第１の位置または第２の位置に設定させるように壁上の印と協力する印を有する。例えば、限定されるものではないが、一実施形態は、壁上の目盛りと協力するマークを有する、あるいはその逆を有する装置を特徴とする。
【００１７】
装置の一実施形態は、低圧の領域より高い圧力で第１の通路および第２の通路のうちの少なくとも一方の領域を画定する少なくとも１つの絞り区間を有する第２の通路を特徴とする。好ましくは絞り区間が絞り直径を有し、第１の通路が第１の通路直径を有し、第２の通路が第２の通路直径を有する。絞り直径は、第１の通路直径および第２の通路直径のうちの少なくとも一方より小さい直径を有する。
【００１８】
装置の一実施形態は、ハウジングシュラウドを特徴とする。ハウジングシュラウドは、隙間を画定するように間隔を置いた関係で流入ハウジングを取り囲む。ハウジングシュラウドは、第１の通路の入口の周りに、ガスを付与する開口を有する。ハウジングシュラウドは、好ましくは流入ハウジングの形状および寸法と協力する。流入ハウジングとハウジングシュラウドの両方に関して全体的に円錐形状であることが好ましい。
【００１９】
第１の通路軸線は、プルームとともに延びる、またはプルームと平行に延びる直線と交差するように設定可能である。第１の通路軸線と前記第２の通路軸線は、１０度と９０度との間の角度を有する。この角度は容易には調整可能ではないが、質量分析計が、第１の通路軸線と第２の通路軸線との間の様々な角度、様々な絞り直径、様々な第１の通路直径、様々な第２の通路直径および様々な入口をもつ代替えの流入ハウジングを容易に受け入れることができるように、装置を作製するのは簡単で安価である。
【００２０】
本発明の一実施形態は、高圧領域容器と低圧容器を備える質量分析部の一部として装置を備える。高圧容器は、プルームを含むように流入ハウジングを取り囲んでいる。好ましくは高圧容器と低圧容器とを分離する壁は、解除可能な取り付け手段と位置合わせ印とを有する。
【００２１】
好ましくは高圧の領域は、エレクトロスプレー、ネブライザなどの少なくとも１つのプルーム形成手段、または複数のプルーム形成手段をさらに備える。好ましくは流入ハウジングは、各プルーム形成手段のための１つ以上の位置を有する。
【００２２】
本発明のさらなる実施形態は、イオンの質量電荷比を測定する検出器を操作する方法を特徴とする。方法は、イオンを生成するための少なくとも１つの高圧容器と、イオンの質量と電荷に対応する信号を生成するための少なくとも１つの低圧容器とを設けるステップを含む。高圧容器および低圧容器は、少なくとも１つの第１の壁と、低圧容器と高圧容器との間を流体およびイオンの連通状態にする開口とを有する。高圧容器は、少なくとも１つのプルーム形成手段を有する。高圧容器は、開口によって低圧容器と流体およびイオンの連通状態にある。イオンは、プルームに沿って第１の軸線上を移動し、低圧容器内で第２の軸線上を移動する。高圧容器は、低圧の領域と高圧の領域との間の第１の壁上に取り付けるための流入ハウジングを有する。流入ハウジングは、分岐点と第１の通路とを有し、流入ハウジングおよび第１の壁のうちの少なくとも一方は、第２の通路を有する。第１の通路は、第１の通路軸線、入口および終端を有する。入口は高圧の領域と流体連通しており、終端は分岐点と連通している。分岐点は第２の通路と流体連通しており、第２の通路は、第２の通路軸線と出口とを有する。第１の通路はイオンを受け入れるためであり、出口はイオンを前記低圧の領域に放出するためである。第１の通路軸線は、第１の軸線または第１の軸線と平行に延びる直線と１点で交差して、第１の角度を画定する。第１の通路軸線と前記第２の通路軸線は、１点で交差して、第２の角度を画定する。第２の通路軸線は、第２の軸線を画定するか、または第２の軸線と平行な直線に沿って延びている。方法は、高圧状態で第１の通路の入口にイオンを受け入れ、低圧状態でイオンを出口に向けて前記低圧容器に渡すステップをさらに含む方法。
【００２３】
方法は、好ましくは前記壁上の第１の位置と前記壁上の第２の位置をとることが可能な流入ハウジングを提供する。さらに、方法は、前記流入ハウジングの前記第１の位置および第２の位置のうちの少なくとも一方を選択するステップを含む。好ましくは第１の位置では、第１の通路軸線が約７５度以下の第１の角度を有し、第２の位置では、通路軸線が１０５度以上の第１の角度を有する。
【００２４】
方法は、好ましくは解除可能な取り付け手段によって第１の壁に取り付けられる流入ハウジングを提供する。さらに、方法は、解除可能な取り付け手段によって流入ハウジングを壁に固定することを含む。方法は、流入ハウジングを様々な位置に調整し、点検手入れし、保守し、交換することを提供する。好ましい解除可能な取り付け手段には、クリップ、真空保持、カム、急速解除カム、噛み合いフランジ、およびねじが含まれる。好ましくは流入ハウジングおよび壁は、流入ハウジングの所望の位置への設置を容易にする位置合わせ印を有する。
【００２５】
本発明の１つの方法は、第１の位置と第２の位置との間で回転可能な流入ハウジングを提供する。方法は、位置を選択するように前記流入ハウジングを回転させるステップを含む。
【００２６】
本発明の１つの方法は、前記流入ハウジングを回転させる動力手段を提供する。好ましくは方法は、前記動力手段と信号伝達する制御手段をさらに提供する。制御手段は、操作者の命令、動作条件またはプログラムに応答して、流入ハウジングを第１の位置または第２の位置に設定する。
【００２７】
本発明の１つの方法は、ハウジングシュラウドを提供する。ハウジングシュラウドは、隙間を画定するように間隔を置いた関係で流入ハウジングを取り囲む。ハウジングシュラウドは、第１の通路の入口の周りに、ガスを付与するシュラウド開口を有しており、方法は、シュラウド開口からガスを導入するステップを含む。
【００２８】
好ましい装置は、シュラウドハウジングと流入ハウジングを有し、互いに協力する寸法と形状を有する。好ましい形状は、円錐形であり、操作者が高圧容器内の装置を取り外して調節することができるように寸法設定される。
【００２９】
これらおよび他の特徴と利点は、以下に続く詳細な説明を読み、以下に簡単に説明される図面を見れば、当業者には明白になる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】図１は、本発明に係る装置を内蔵する、エレクトロスプレーイオン化によって帯電粒子を生成する機器の概略図である。
【図２】図２は、本発明に係る装置を内蔵する、大気圧化学イオン化によって帯電粒子を生成する機器の概略図である。
【図３】図３は、本発明に係る装置を内蔵する、大気圧光イオン化によって帯電粒子を生成する機器の概略図である。
【図４】図４は、本発明に係る装置を内蔵する、表面電離によって帯電粒子を生成する機器の概略図である。
【図５】図５は、本発明に係る装置の一部の図である。
【図６】図６は、図５に示す装置の構成部品の更なる詳細を示す図である。
【図７】図７は、図５に示す装置の別の構成部品の更なる詳細を示す図である。
【図８】図８は、本発明に係る装置を有する、イオン化ソースを内蔵する質量分析計の単純化された概略図である。
【図９】図９は、本発明に係る装置の別の実施形態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
本発明の実施形態は、本発明の特徴が他の機器や分析部にも適用されるという理解の下で、質量分析部の流入口に関して説明される。以下の説明は、発明者の好ましい実施形態と、本発明を実行し、使用する最良の形態を対象とする。これらの実施形態は、変化が本発明の一部であると理解される変形および変更を受けることがある。
【００３２】
ここで図１および図５をみると、これらの図は、全体が数字１７によって表された本発明に係る装置の実施形態を示す。装置は、隙間４０が間に存在するように、図示のように設けられた流入ハウジング３２およびシュラウドハウジング３７を備える。図１に示すように、両ハウジングは、以下でより詳細に説明される要素３４、３８、４１、４２を備える壁取り付け手段によって壁１４に取り付けられる。
【００３３】
壁１４は、高ガス圧の領域１を囲んで、より低いガス圧の領域７から分離するとともに、壁開口６９を備える。装置１７は、第１の軸線４に沿って移動する１つ以上の帯電粒子を受け入れ、これら粒子を流入ハウジング３２の第１の通路５に通すために使用され得る。第１の通路５は、第１の通路軸線１８を有し、入口６４および出口６５を備える。装置１７は、第２の通路軸線９を有する第２の通路６６をさらに備える。第２の通路６６は、出口６８（図１）と、分岐点で第１の通路５の出口６５に隣接する入口６７（図５）とをさらに備える。第１の通路軸線１８は、第２の通路軸線９に対して傾斜している。図１の実施形態では、第１および第２の通路の軸線間の角度１２は２０°である。その他の角度が、約１０°から９０°の範囲から選択されることも可能である。これらの他の角度は、交換可能な代替え装置１７において形成されることが可能である。
【００３４】
使用時に、装置１７は、壁開口６９を介して高ガス圧の領域１とより低いガス圧の領域７との間を流体連通させることができる。これらの領域間で相当な圧力差を維持させるために、絞り区間６が、第２の通路軸線９と同一線上に、第２の通路６６の入口６７の位置に組み込まれている。しかしながら、絞り区間６が、第１の通路５内、例えば、その出口６５の近くに同様にうまく組み込まれ得ることは理解される。本発明の一実施形態は、流入ハウジング３２の出口面３４の端ぐり３５に嵌め込まれたインサート３６に形成された絞り区間６を特徴とする。インサート３６は、端ぐり３５への圧入であっても、所定の位置に溶接されてもよい。あるいは、それぞれ異なる絞り区間６を有する様々なインサートを使用可能にするために、インサート３６がすべり嵌めであってもよい。これらインサートは、領域１と領域７との間のガス流れを調整して、より低圧の領域７の圧力を制御するために選択され得る。代替え装置１７は、好ましくは条件と試料によって装置１７が選択されるように、それぞれ異なる絞り区間６を備える。
【００３５】
絞り区間６は、第１の通路５と第２の通路６６のうちのいずれか一方または両方の一部または全体を構成することができる。しかしながら、絞り区間６は、それが含まれる通路より短いこと、少なくとも入口６４に隣接している第１の通路５の部分が高ガス圧の領域１とほぼ同じ圧力になるように設けられることが好ましい。
【００３６】
図６に示すように、流入ハウジング３２の一実施形態は、出口面３４と入口面４６を有するテーパ部材４４を有する。テーパ部材４４は、ほぼ矩形の断面を有するとともに、入口面４６が形成される円形ボス６３を有していてもよい。テーパ部材４４内に形成された第１の通路５は、円形断面を有し、その入口６４が入口面４６に存在していてもよい。壁１４上への取り付けを容易にするため、流入ハウジング３２は、出口面３４が形成されたフランジ部３３をさらに備えていてもよい。入口面４６は、出口面３４より面積が小さい。出口面３４は、壁開口６９と係合する（図１）。第１の通路５は、第１の通路５の直径と絞り区間６のより小さい直径との間で滑らかに移行する内部テーパ部４７を備えていてもよい。
【００３７】
装置１７は、流入ハウジング３２を囲んで、それとの間に隙間４０を画定するように、シュラウドハウジング３７を有する。図７に示すように、シュラウドハウジング３７は、テーパ本体部３９と、壁１４上への取り付けに適したフランジ部３８を備えていてもよい。フランジ部分３８には、壁１４の対応する孔に納まる２本の目釘（ｄｏｗｅｌｓ）４１が装着されており、フランジ部３８は、孔４２にねじによって壁に固定される。装置１７が組み立てられる際に、流入ハウジング３２を壁１４上の所定の位置に保持するために、テーパ本体部上には、スペーサ４３が設けられている。それと同時に、これら部品は、第１の通路５と第２の通路６６とが協力して帯電粒子の少なくとも一部を壁開口６９からより低ガス圧の領域７に渡すように、流入ハウジング３２を壁１４に保持する壁取り付け手段を備える。壁取り付け手段は、第１の通路軸線１８が第１の軸線４に対して傾斜し、両者間に第１の角度１１を画定することをさらに保証する。図示された実施形態では、第１の軸線４と第１の通路軸線１８は同じ平面に存在するが、他の実施形態では、２本の軸線は、第１の通路軸線１８が第１の軸線４と平行に延びる線に対して傾斜するように、異なる平面に存在している場合がある。
【００３８】
壁取り付け手段は、第１の角度１１が７５°未満か、または１０５°より大きいような場合に好都合である。この角度は、装置１７を回動させることによって調整されることが可能である。図１に示すように、装置１７は、所望の位置に装置を合わせるために、壁上の印１０１ｂ、もしくは壁６９と関連付けされた印と協力するマークまたはポインタ１０１ａを有する。
【００３９】
テーパ本体部３９は、流入ハウジング３２との間の隙間４０がほぼ一定の幅を有するように矩形の断面を有する。テーパ本体部３９は、図５に示すようにシュラウドハウジング３７と流入ハウジング３２とが壁１４上に組み立てられた際に、テーパ部材４４の入口面４６に隣接して配置される円形オリフィス４９を備える入口面４８を有する。以下により詳細に説明されるように、ガスを隙間４０に導入させて第１の通路５の入口６４の周りの円形オリフィス４９から流出させるように、ガス流入管４５が設けられている。
【００４０】
次に図１を参照するように、装置１７は、全体が１３で表される、帯電粒子を生成する機器に組み込まれ得る。一般に、機器１３は、質量分析計での使用に適した大気圧イオン化ソース、例えばエレクトロスプレーイオン化ソースであり得る。このような機器では、分析される試料を含む流体（例えば、液体クロマトグラフからの溶離液）が流入導管３を通って高ガス圧の領域１に流入することができる。領域１は、一般に大気圧に維持されるが、上述されたように、他の圧力も本発明の範囲内である。高ガス圧の領域１は、領域１をより低ガス圧の領域７から分離する働きもする壁１４によって囲まれている。２つの領域間には、上述されたように、壁開口６９が設けられている。ガス流入口６０が壁１４に取り付けられており、加熱されたガス（一般に空気または窒素）の流れが領域１に流入され、排気口１５を通って流出する。以前のタイプのエレクトロスプレーイオン化ソースと同様に、流入導管３から流入される試料の溶液からエアロゾルが生成され、帯電粒子のプルーム２が生成される。流入導管３は、対向電極１６に対して高い電位に維持される。帯電粒子のプルーム２は、図１に示すように、第１の軸線４を有する。この実施形態では、第１の軸線４と第１の通路軸線１８との間の角度１１は７５°未満（図１では６０°として示されている）であるが、他の角度が使用されることも可能である。（下記の図２の実施形態の説明を参照）。流入口６０を通して導入されるガスに加えてまたはその代わりに、場合により加熱され、噴霧化を支援するためにも使用され得るガスが、流入導管３と同軸に設けられた導管６１を通って領域１に導入されてもよい。高ガス圧の領域１内を流れるガスは、流入導管３から形成されたエアロゾルに含まれる液滴の脱溶媒和を支援するが、常に必要であるとは限らない。以下に述べられるように、流入導管３をＡＰＣＩイオン化ソースで使用されるものと同様のネブライザと差し替えることによって、脱溶媒和効率のさらなる向上が、特に高流量時において、得られる。
【００４１】
（帯電粒子、中性分子および溶液の液滴を含む）材料は、プルーム２から装置１７の第１通路５に採取され得る。第１の通路５と流体連通している第２の通路６６は、少なくとも一部の帯電粒子を第１の通路５から壁開口６９を介してより低いガス圧の領域７に送る。領域７は、真空ポンプ１０によって領域１の圧力より低い圧力に維持される。上述されたように、第２の通路６６の入口６７に、絞り区間６が設けられている。絞り６は、第１の通路５より低い導電率を有しており、その結果、絞り６が領域１と第２の通路６６との間のガス流れに与えるインピーダンスが、両者間の圧力差の大きな原因となる。このことは、第１の通路５の圧力が実質的に領域１の圧力であることを保証する。
【００４２】
図２は、図１に示すものと同様であるが図１に示すエレクトロスプレーイオン化ソースの代わりに大気圧化学イオン化ソース（ＡＰＣＩ）を有する、本発明の別の実施形態を示す。ＡＰＣＩソースでは、外管２２内に同軸に設けられた試料流入管２１を備えるネブライザ２０が、図１の実施形態の試料流入導管３に取って代わる。試料流入管２１を流れる液体からエアロゾルを生成するために、噴霧化用ガスが外管２２に導入される。他のタイプのネブライザ、例えば、クロスフローニューマティックネブライザも使用される場合がある。放電電極２３（不導体２５内に支持された）と壁１４および／または装置１７との間に維持される電位差によって、領域１に、コロナ放電が確立される。コロナ放電は、ネブライザ２０によって生成されたエアロゾルから、第１の軸線４に沿って方向付けられた帯電粒子のプルーム２を生成する。エアロゾルの脱溶媒和を支援するために、追加の加熱手段（明確にするために図示せず）が使用されてもよい。
【００４３】
図１に示す実施形態と同様に、ガスが、ガス流入口６０を通して領域１に導入され、排気口１５から流出することができ、有利には加熱されることができる。加熱された脱溶媒和用ガスが、第２のガス流入口６２を通して同軸にネブライザ２０の周りに流されてもよい。この配置は、エアロゾルの脱溶媒和を向上させることができるが、常に必要であるとは限らない。
【００４４】
さらに、図１に示す実施形態と同様に、プルーム２内の帯電粒子の一部が、流入ハウジング３２の第１の通路５に入り、絞り６を経て第２の通路６６内を通過する。図２の実施形態では、第１の軸線４と第１の通路軸線１８との間の角度２４が１０５°より大きくなる（図２では１２０°として示されている）ように、第１の通路５が配置されている。この第１の通路５の第１の軸線４に対する配置が図１の実施形態の場合にも使用される場合があること、図１に示す配置が図２の実施形態で使用される場合があることは理解される。使用される角度の選択は、流入口３またはネブライザ２０を流れる試料の流量に応じて行なわれ得る。第１の通路軸線１８をプルーム２内の帯電粒子の移動方向に対して傾斜させる角度がより大きいほど（例えば、図２の角度２４）、より高い流量に最適である。より小さい角度、例えば、図１の角度１１が、より低い流量により適していることが判明した。
【００４５】
エレクトロスプレーイオンソースおよびＡＰＣＩイオンソースの図１および図２における図示と上述の説明が単純化されていることは理解される。このようなソースの詳細設計は十分に確立されており、さらなる詳述は不要である。以前のいかなるタイプのＡＰＣＩまたはエレクトロスプレーイオンソースも、本発明に係る機器での使用に適応される。
【００４６】
図３は、大気圧光イオン化（ＡＰＰＩ）ソースを備える本発明の別の実施形態を示す。図２の実施形態の場合と同様に、ネブライザ２０が、試料を含む液体から領域１でエアロゾルを生成する。領域１は、ガス、一般に（上記に定義されたような）高圧の空気または窒素を含む。一般に、大気圧が使用され得る。ＵＶランプ２６が、エアロゾルを横切る光子ビーム（概略的に２７で示す）を生成する。それにより、図示しないが当該技術分野で知られている手段によるドーパントの導入など、ＡＰＰＩの知られているプロセスに関連する種々の化学プロセスにより、第１の軸線４に沿って方向付けられた帯電粒子のプルーム２が生成される。プルーム内の帯電粒子は、図１または図２に示す位置のいずれかに配置され得る第１の通路５に入ることができる。第１の軸線４と第１の通路軸線１８との間の角度は、７５°未満か、または１０５°より大きい。しかしながら、様々な装置１７が様々な角度で代用されることも可能である。
【００４７】
帯電粒子の通路５内への移送を、例えばランプ電極２８とシュラウドハウジング３７との間への電位差の付与によって支援するために、領域１に、電界がさらに設けられてもよい。絞り６と第２の通路６６が設けられており、図１および図２に示す実施形態に関して説明されたように作用する。
【００４８】
図１に示す実施形態と同様に、ガスが、ガス流入口６０を通して領域１に導入され、排気口１５から流出することができ、有利には加熱されることができる。加熱された脱溶媒和用ガスが、第２のガス流入口６２を通して同軸にネブライザ２０の周りに流されてもよい。この配置は、エアロゾルの脱溶媒和を向上させることができるが、常に必要であるとは限らない。
【００４９】
図４に、領域１に表面２９が設けられた本発明の別の実施形態が示されている。分析される試料が表面２９上に支持され、ソース３１からの一次粒子のビーム３０の衝撃によって、試料から、第１の軸線４に沿って方向付けられた帯電粒子のプルーム２が生成される。図４の実施形態は、（上記に定義されたような）大気圧と等しい第１の圧力で作用するマトリックス支援レーザ脱離（ＭＡＬＤＩ）ソースを備えていてもよい。このようなソースは当該技術分野では知られている。簡単に言えば、試料は、表面２９上に付着される前に適切なマトリックスに溶解されるか、表面２９上に予め付着されたマトリックスに溶解される。ソース３１は、レーザから構成され、一次粒子のビーム３０は、レーザ由来の光子から構成される。これらの光子は、表面２９上に存在するマトリックスと試料に衝撃を加えて、そこから帯電粒子を放出させる。これらの帯電粒子は、第１の軸線４に沿って方向付けられたプルーム２を形成する。上述された実施形態と同様に、プルーム２からの帯電粒子が、流入ハウジング３２の第１の通路５に入ることができる。図１から図３の実施形態に関して説明されたように、第１の通路５は、第１の軸線４に相対的に配置される。帯電粒子の第１の通路５への進入を支援するために、領域１に、電界（図４に示さず）が設けられてもよい。シュラウドハウジング３７、第１の絞り６、および第２の通路６６がさらに設けられ、上述されたように配置されてもよい。囲壁１４にガス流入口６０が設けられ、ガス流入口６０を通じて、領域１を第１の圧力に維持するようにガスが導入されてもよい。このガスを加熱して、その流れの方向を制御することは有用である場合が多い。
【００５０】
本発明の特定の実施形態では、壁取り付け手段は、壁１４上の第１の位置では第１の角度が９０°未満で、第２の位置では第１の角度が９０°より大きくなるように、流入ハウジング３２が第１の位置または第２の位置をとることを可能にするものであってもよい。これらの実施形態では、壁取り付け手段は、ハウジング３２、３７をこれらの２つの位置のみに設置可能にさせるようにするものである。流入ハウジング３２のフランジ部３３が、図５に示すように成形された出口面３４を有していてもよい。この成形された出口面は、同様の形状を有する壁１４の壁開口６９内に位置を定めることができる。この形状は、流入ハウジング３２が図１および図２に示す２つの位置のいずれかに位置決めされることを可能にする。シュラウドハウジング３７のフランジ３８には、壁１４の孔に納まる２本の目釘４１が装着されている。これらの目釘は、流入ハウジング３２の２つの位置に対応してシュラウドハウジング３７が２つの異なる位置に位置できるように、互いに１８０°の位置に配置されている。
【００５１】
図６は、流入ハウジング３２の一実施形態をより詳細に示す。この実施形態は、上述されたように、フランジ３３と、ほぼ矩形の断面を有するテーパ部材４４とを備える。第１の通路５は、入口面４６と直交している。図１に示すように、ハウジング３２が囲壁１４の壁上の所定の位置にあるとき、その出口面３４は、第１の軸線４が位置する平面とほぼ平行な平面に位置している。この配置は、上記に説明されたように、第１の軸線４と第１の通路軸線１８との間の角度が、ハウジング３２を位置決めし直すことによって変更されることを可能にする。第１の通路５は、テーパ部材４４を貫通する円形くり穴を備え、図示されるように、入口面４６を備える円形ボス６３が、テーパ部材４４の細い端部上に形成されている。絞り区間６は、インサート３６に形成された円形断面の小さい管（例えば直径０．０１３５インチ、長さ０．０１６インチ）を備えてもよい。第１の通路５は、直径が０．０６２インチであっていてもよい。これらの寸法は、ポンプ１０が小型回転真空ポンプ（例えば、２０ｆｔ３ｍｉｎ−１）である場合に、領域１がおよそ大気圧のガスを含むとき、第２の通路６６の圧力が約１トルから３トルの圧力に維持されるようにする。
【００５２】
図１から図４に示すように取り付けられるとき、第２の通路軸線９は、絞り区間６から第２の通路自体に沿って延びる。図示されるように、第２の通路軸線９が流入ハウジング３２の出口面３４と直交していると好都合である。
【００５３】
図７に、シュラウドハウジング３７の一実施形態がより詳細に示されている。この実施形態は、フランジ部３８と、矩形断面のテーパ本体部３９とを備える。本体部３９は、テーパ本体部３９の最も細い端部を閉じるとともに円形オリフィス４９を備える入口面４８を有する。テーパ本体部３９は、図示されるように、出口面７０をさらに備える。入口面４８の面積は、出口面７０の面積より小さい。
【００５４】
既に説明されたように、フランジ部３８は、流入ハウジング３２の第１および第２の位置に対応して、第１の位置または第２の位置で孔４２にねじによって壁１４に固定されてもよく、スペーサ４３によって流入ハウジング３２を所定の位置に保持してもよい。あるいは、機械加工された構造要素（例えば「急速掛止」継手）を使用して、ハウジング３７およびハウジング３２の両方を壁１４に固定し、両者間に間隔を設けてもよい。
【００５５】
脱溶媒和用ガス（一般に、加熱された窒素または他の不活性ガスの流れ）が、ハウジング３２のテーパ部材４４の周囲から円形ボス４６の第１の通路５入口の周囲へ、オリフィス４９から領域１内に流入するように、流入口４５から隙間４０に導入されてもよい。このようなガス流は、第１の通路５に進入する際に帯電粒子の脱溶媒和をさらに支援するとともに、高ガス圧の領域１に存在し得る汚染物質の不要な流入を減少させるのに役立つ。
【００５６】
流入ハウジング３２およびシュラウドハウジング３７は、ステンレス鋼、黄銅、チタン、セラミックスなどの金属から製造されてもよい。
【００５７】
図１から図７は、特定の例示の角度１１、１２、２４で描かれているが、指定の範囲内に入る所望の角度であれば、装置１７が構成され得ることは理解される。さらに、図示された実施形態は、囲壁１４の壁上に流入ハウジング３２用の２つの位置を提供しているが、（それぞれ異なる角度１１、１２、２４に対応する）２つ以上の位置を提供することや、１つの位置のみを提供することも本発明の範囲内である。本発明は、いかなる特定の分析の必要条件にも応じて取り付け可能な、それぞれ異なる角度１１、１２、２４を有する複数の異なるハウジングを提供することができる。
【００５８】
図９は、壁取り付け手段が流入ハウジング３２とシュラウドハウジング３７を少なくとも第１と第２の位置との間で回転させる実施形態の図である。ハウジング３２、３７は、差込７４を有する移動板７３に固定されている。壁１４の壁開口６９には、差込７４用の軸受７２が配置されており、移動板７３と壁１４との間には、移動板７３を回転軸８１を中心に自由に回転させるように、スラスト軸受７１が設けられている。壁開口６９の差込の周囲には、Ｏリングシール（図示せず）が設けられている。移動板７３には、その周縁に沿って、シャフト７７に取り付けられたウォーム歯車７５と噛み合う歯７９が設けられている。第１と第２の位置との間で移動板７３（およびそれと共にハウジング３２、３７）を回転させるための動力手段は、シャフト７７を駆動するモータ７６を備える。制御手段７８は、電気接続８０を介してモータ７６を備える動力手段と信号伝達し、操作者の命令に応答して、ハウジングを所望の位置に設定することができる。第１および第２の位置は、図１および図２に示す位置に対応していてもよいが、他の位置も本発明の範囲内である。制御手段７８は、図９に示す機器を備えた質量分析計を制御するために使用されるコンピュータ上で実行するように適応されたソフトウェアで実施されてもよい。制御手段７８は、動作条件または所定の分析のために得られる結果に応答して、実行される分析に最も適正な位置にハウジングを設定してもよい。
【００５９】
図８は、本発明に係る例示の質量分析計の図である。図１に示すように、第２の通路軸線９に沿ってより低ガス圧の領域７に入った帯電粒子は、ポンプ１０に向かって移動する。第２の絞り１９は、領域７を、ターボ分子ポンプ５３によって領域７の圧力より低い圧力に維持されるさらに低圧の領域５２（図８）と接続する。第２の絞り１９に入る帯電粒子は、第２の通路軸線９に対して傾斜している第２の軸線５１に沿って通過する。第２の軸線５１が第２の通路軸線９に直交して配置されていると好都合である。
【００６０】
質量分析部およびインタフェース８（図１から図４および図８）は、第２の軸線５１に沿って移動する帯電粒子を受け入れるように配置されている。質量分析部およびインタフェース８は、帯電粒子またはそれに由来する化学種に関する質量スペクトル情報を生成することができる。
【００６１】
第２の絞り１９（図１から図４および図８）は、第２の軸線５１と同一直線上に配置された中空円錐形部材５０を備えていてもよい。さらに低圧の領域５２は、約１０−２トル未満の圧力に維持されてもよい。質量分析部およびインタフェース８は、適切な交流電圧が印加される環状電極の積層体を備えるイオンガイド５４を備えていてもよく、イオンガイド５４は、オリフィス５５を通じた帯電粒子の分析部真空チャンバ５６への移送を支援するように領域５２に設けられ得る。チャンバ５６は、ターボ分子真空ポンプ５７によって約１０−５トル未満の圧力に維持されてもよい。質量分析部およびインタフェース８は、イオンガイド５４によってオリフィス５５を通じて移送される帯電粒子の少なくとも一部を受け入れる４つの電極（図８には、そのうちの３つが５８で示されている）を備えた従来の四重極質量フィルタをさらに備えていてもよい。帯電粒子検出器５９は、質量フィルタから流出する帯電粒子を受け入れる。
【００６２】
上述され、図８に示された質量分析部およびインタフェース８は、ただの例示である。質量フィルタ、イオンガイドおよび真空チャンバの別の構成を使用することも本発明の範囲内である。例えば、図８に示す１個の四重極質量フィルタは、２個の四重極質量フィルタと１個以上のガス衝突セルを備える従来の三連四重極質量フィルタ、飛行時間型質量分析部、扇型磁場型質量分析部、イオントラップ型質量分析部、フーリエ変換型質量分析部、またはこのような質量分析部および／または衝突セルのあらゆる組合せによって置き換えられてもよい。使用され得るイオントラップ型質量分析部には、以下に限定されるものではないが、三次元四重極イオントラップ（「Ｑｕｉｓｔｏｒ」）、円筒型イオントラップ、「キングドン」軌道トラップ装置（「オービトラップ」としても知られる）などが含まれる。質量分析部と衝突セルとの組合せは、実行される分析の種類によって決定され得る。
【００６３】
同様に、領域５２のイオンガイド５４は、例えば四重極、六重極または八重極のロッド群や、２つ以上の環状電極積層体など、他のいかなるタイプのイオン移送装置によって置き換えられてもよい。あるいは、イオンガイドは、直流電位のみが供給される収束電極によって置き換えられてもよいし、全く省略されてもよい。第２の通路６６と分析部真空チャンバ５６との間に２つ以上の中間真空チャンバを設けることや、第２の通路６６が分析部真空チャンバ５６と直接連通するように領域５２を省略することも本発明の範囲内である。
【００６４】
図８には、第２の絞り１９の下流の機器が、高性能質量分析部の適正な動作に必要となる場合のある多くの特徴を省略して、大いに単純化された形で示されている。しかしながら、このような分析部は、当該技術分野では知られているため、より詳細な説明は必要とされない。
【００６５】
図８には、第２の軸線５１が第２の通路軸線９に直交した配置で示されているが、これは必須の特徴ではない。第２の軸線５１が第２の通路軸線９の延長部分であるような直線配置を含め、これら２軸線間にいかなる角度を提供することも本発明の範囲内である。
【００６６】
このように、本発明の好ましい実施形態が、本説明の特徴が教示から逸脱することなく修正および変更可能であるという理解の下で、詳細に説明された。したがって、本発明は、正確な詳細に限定されるべきではなく、特許請求の範囲とその等価物の主題を包含するべきである。
【００６７】
例えば、要素１０３が十分に大きい場合には、ハウジング３２、３７が、通路７を含む要素１０１に直接取り付けられてもよい。その場合、壁１４は、要素１０１の外側部分に取り付けることができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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