(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板の一面に透明電極膜、及び絶縁膜を順次成膜する段階と、  前記透明電極膜及び絶縁膜をハーフトーンマスクを利用して同伴パターニングすることによって、第１方向に沿って連結される複数の第１センシングパターン、及び前記第１センシングパターンの間にそれぞれが分離されたパターンを持つ複数の第２センシングパターンとともに、前記第１及び第２センシングパターン上に位置されるが、前記第２センシングパターンの一領域を露出する絶縁膜を形成する段階と、
前記第１及び第２センシングパターンと絶縁膜が形成された前記透明基板上に導電膜を成膜する段階と、
前記導電膜をパターニングすることによって、前記第２センシングパターンの露出された領域を介して前記第２センシングパターンを第２方向に沿って連結する第２連結パターンを形成する段階と、を含むことを特徴とするタッチスクリーンパネルの製造方法。
【請求項２】
前記透明電極膜及び絶縁膜をハーフトーンマスクを利用して同伴パターニングする段階は、
前記ハーフトーンマスクを利用して前記絶縁膜上に第１高さと前記第１高さより低い第２高さを持つフォトレジストを形成する段階と、
前記フォトレジストの下部を除いた残りの領域の透明電極膜及び絶縁膜をエッチング工程によって除去する段階と、
前記第２高さを持つフォトレジストと、その下部の絶縁膜をアッシング及びエッチング工程によって除去し、前記第２センシングパターンの一領域を露出する段階と、
前記絶縁膜上に残されているフォトレジストをアッシング工程によって除去する段階と、を含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンパネルの製造方法。
【請求項３】
前記フォトレジストの下部を除いた残りの領域の透明電極膜及び絶縁膜を、エッチング工程によって除去する段階は、
乾式エッチング工程によって前記絶縁膜を除去した後、湿式エッチング工程によって前記透明電極膜を除去するが、前記透明電極膜が前記絶縁膜より内側に位置するように前記透明電極膜をオーバーエッチングする段階と、を含むことを特徴とする請求項２に記載のタッチスクリーンパネルの製造方法。
【請求項４】
前記透明電極膜及び絶縁膜をハーフトーンマスクを利用して同伴パターニングする段階で、
前記第１センシングパターンを前記第１方向に沿って連結する第１連結パターンを前記第１センシングパターンと一体に形成することを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンパネルの製造方法。
【請求項５】
前記導電膜をパターニングする段階で、
前記第１センシングパターン及び第２センシングパターンを外部の駆動回路と連結するための位置検出ラインを前記第２連結パターンと同時に形成することを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンパネルの製造方法。
【請求項６】
透明基板と、前記透明基板の一面に形成されて、第１連結パターンによって第１方向に沿って連結されるようにパターニングされた複数の第１センシングパターンと、
前記第１センシングパターンの間にそれぞれが分離されたパターンを持つようにパターニングされた複数の第２センシングパターンと、
前記第１及び第２センシングパターンと前記第１連結パターン上に形成され、前記第２センシングパターンの一領域を露出する絶縁膜と、
前記絶縁膜上に形成されて、前記第２センシングパターンの露出された領域を介して前記第２センシングパターンを第２方向に沿って連結する第２連結パターンとを含み、
前記第１連結パターンは、上部の絶縁膜より内側に位置されるようにオーバーエッチングされたパターンを持つことを特徴とするタッチスクリーンパネル。
【請求項７】
前記第２連結パターンは、前記第２センシングパターンとの直接的な接触によって、前記第２センシングパターンを第２方向に沿って連結することを特徴とする請求項６に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項８】
前記第１センシングパターン及び第２センシングパターンを外部の駆動回路と連結するための位置検出ラインをさらに含み、
前記位置検出ラインは、前記第２連結パターンと同一の物質で構成することを特徴とする請求項６に記載のタッチスクリーンパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、映像表示装置などに備えられるタッチスクリーンパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチスクリーンパネルは、映像表示装置などの画面に現われた指示内容を人手または物体で選択して使用者の命令を入力することができるようにした入力装置である。このために、タッチスクリーンパネルは映像表示装置の前面（front  face）に備えられて人手または物体に直接接触された接触位置を電気的信号に変換する。これによって、接触位置で選択された指示内容が入力信号として受け入れられる。
【０００３】
このようなタッチスクリーンパネルは、キーボード及びマウスのように、映像表示装置に連結されて動作する別途の入力装置を代替することができるから、その利用範囲がますます拡張されているのが現状である。
【０００４】
タッチスクリーンパネルを具現する方式では、抵抗膜方式、光感知方式及び静電容量方式などが知られている。このうち、静電容量方式のタッチスクリーンパネルは、人手または物体が接触される時導電性センシングパターンが周辺の他のセンシングパターンまたは接地電極などと形成する静電容量の変化を感知することによって、接触位置を電気的信号に変換する。
【０００５】
このために、静電容量方式のタッチスクリーンパネルは、第１方向に沿って連結されるように形成された複数の第１センシングパターンと、第２方向に沿って連結されるように形成された複数の第２センシングパターンを備えることで、接触位置の座標を把握するようになる。
【０００６】
このような第１センシングパターンと第２センシングパターンは、同一の層に同一の物質で形成され、タッチスクリーンパネルが全般的に均一な反射率を持つようにすることができる。しかし、この場合、第１センシングパターンを第１方向に連結するための第１連結パターンと、第２センシングパターンを第２方向に連結するための第２連結パターンが短絡されることを防止するために、第１連結パターンと第２連結パターンは互いに異なる工程で形成される。
【０００７】
例えば、第１連結パターンは、第１センシングパターン及び第２センシングパターンをパターニングする工程段階で、第１センシングパターンと一体化されて同時形成されて、第２連結パターンは他の工程段階、例えば、位置検出ラインを形成する工程段階で第２センシングパターンを連結するように形成することができる。
【０００８】
しかし、このためには第１及び第２センシングパターンと第１連結パターンのパターニング段階、第２連結パターン及び位置検出ラインのパターニング段階、第１連結パターン及び第２連結パターンを絶縁させるための絶縁膜のパターニング段階などですべてマスク工程を行わなければならないので、工程が複雑になり、これによって製造效率が低下するという問題が生じる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
したがって、本発明は前記問題を鑑みてなされたものであって、その目的は、マスク工数を減少させて工程を単純化するとともに、安全性が確保されるようにしたタッチスクリーンパネル及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記のような目的を果たすために本発明の第１態様は、透明基板の一面に透明電極膜及び絶縁膜を順次成膜する段階と、前記透明電極膜及び絶縁膜をハーフトーンマスクを利用して同伴パターニングすることによって、第１方向に沿って連結される複数の第１センシングパターン及び前記第１センシングパターンの間にそれぞれが分離されたパターンを持つ複数の第２センシングパターンとともに、前記第１及び第２センシングパターン上に位置されるが、前記第２センシングパターンの一領域を露出する絶縁膜を形成する段階と、前記第１及び第２センシングパターンと絶縁膜が形成された前記透明基板上に導電膜を成膜する段階と、前記導電膜をパターニングすることによって、前記第２センシングパターンの露出された領域を介して前記第２センシングパターンを第２方向に沿って連結する第２連結パターンを形成する段階と、を含むタッチスクリーンパネルの製造方法を提供する。
【００１１】
ここで、前記透明電極膜及び絶縁膜をハーフトーンマスクを利用して同伴パターニングする段階は、前記ハーフトーンマスクを利用して前記絶縁膜上に第１高さと前記第１高さより低い第２高さを持つフォトレジストを形成する段階と、前記フォトレジストの下部を除いた残りの領域の透明電極膜及び絶縁膜をエッチング工程によって除去する段階と、前記第２高さを持つフォトレジストとその下部の絶縁膜をアッシング及びエッチング工程によって除去し、前記第２センシングパターンの一領域を露出する段階と、前記絶縁膜上に残されているフォトレジストをアッシング工程によって除去する段階とを含むことができる。
【００１２】
また、前記フォトレジストの下部を除いた残りの領域の透明電極膜及び絶縁膜を、エッチング工程によって除去する段階は、乾式エッチング工程によって前記絶縁膜を除去した後、湿式エッチング工程によって前記透明電極膜を除去するが、前記透明電極膜が前記絶縁膜より内側に位置するように前記透明電極膜をオーバーエッチングする段階と、を含むことができる。
【００１３】
また、前記透明電極膜及び絶縁膜をハーフトーンマスクを利用して同伴パターニングする段階で、前記第１センシングパターンを前記第１方向に沿って連結する第１連結パターンを前記第１センシングパターンと一体に形成することができる。
【００１４】
また、前記導電膜をパターニングする段階で、前記第１センシングパターン及び第２センシングパターンを外部の駆動回路と連結するための位置検出ラインを前記第２連結パターンと同時に形成することができる。
【００１５】
さらに本発明による第２態様は、透明基板と、前記透明基板の一面に形成されて第１連結パターンによって第１方向に沿って連結されるようにパターニングされた複数の第１センシングパターン、及び前記第１センシングパターンの間にそれぞれが分離されたパターンを持つようにパターニングされた複数の第２センシングパターンと、前記第１及び第２センシングパターンと前記第１連結パターン上に形成され、前記第２センシングパターンの一領域を露出する絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成され、前記第２センシングパターンの露出された領域を介して前記第２センシングパターンを第２方向に沿って連結する第２連結パターンとを含み、前記第１連結パターンは上部の絶縁膜より内側に位置されるようにオーバーエッチングされたパターンを持つタッチスクリーンパネルを提供する。
【００１６】
ここで、前記第２連結パターンは、前記第２センシングパターンとの直接的な接触によって、前記第２センシングパターンを第２方向に沿って連結することができる。
【００１７】
また、前記第１センシングパターン及び第２センシングパターンを外部の駆動回路と連結するための位置検出ラインをさらに含み、前記位置検出ラインは前記第２連結パターンと同一の物質で構成することができる。
【発明の効果】
【００１８】
以上のように、本発明によれば、ハーフトーンマスクを利用して透明電極膜及び絶縁膜を同伴パターニングすることによって第１及び第２センシングパターンと絶縁膜を形成する。これによって、マスクの工数が減少して工程が単純化されるという効果を奏する。
【００１９】
また、本発明によれば、第１センシングパターンを第１方向に沿って連結する第１連結パターンが絶縁膜より内側に位置されるように透明電極膜をオーバーエッチングすることによって、タッチスクリーンパネルの電気的安全性を確保することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の実施例によるタッチスクリーンパネルを概略的に示した平面図である。
【図２】図１に示されたセンシングパターン及び連結パターンを示した腰要部平面図である。
【図３】図１に示されたタッチスクリーンパネルの腰要部断面図である。
【図４Ａ】図３に示されたタッチスクリーンパネルの製造方法を順次示した断面図である。
【図４Ｂ】図３に示されたタッチスクリーンパネルの製造方法を順次示した断面図である。
【図４Ｃ】図３に示されたタッチスクリーンパネルの製造方法を順次示した断面図である。
【図４Ｄ】図３に示されたタッチスクリーンパネルの製造方法を順次示した断面図である。
【図４Ｅ】図３に示されたタッチスクリーンパネルの製造方法を順次示した断面図である。
【図４Ｆ】図３に示されたタッチスクリーンパネルの製造方法を順次示した断面図である。
【図４Ｇ】図３に示されたタッチスクリーンパネルの製造方法を順次示した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、添付された図面を参照して本発明の実施例についてより詳細に説明する。図１は、本発明の実施例によるタッチスクリーンパネルを概略的に示した平面図である。そして、図２は図１に示されたセンシングパターン及び連結パターンの一部を示した要部平面図である。
【００２２】
図１ないし図２を参照すれば、本発明の実施例によるタッチスクリーンパネルは、透明基板１０と、透明基板１０上に形成された複数の第１センシングパターン１２a、及び第２センシングパターン１２bと、第１センシングパターン１２a及び第２センシングパターン１２bをパッド部２０を介して外部の駆動回路と連結するための位置検出ライン１５を含む。
【００２３】
第１センシングパターン１２aは、インジウム-スズ-オキサイド（ＩＴＯ）のような透明電極物質を利用して第１方向、例えば列方向に沿って連結されるように形成され、列ライン単位でそれぞれの位置検出ライン１５と連結される。ここで、第１センシングパターン１２aは、パターニング段階から第１方向に沿って連結されるようにパターニングすることができるもので、例えば、図２に示されたように一体に形成された第１連結パターン１２a１によって第１方向に沿って連結されるようにパターニングすることができる。
【００２４】
しかし、本発明がこれに限定されるのではなく、第１センシングパターン１２aは異なる工程段階、例えば、位置検出ライン１５を形成する工程段階で別に形成された第１連結パターン１２aによって第１方向に沿って連結することもできる。
【００２５】
第２センシングパターン１２bは、第１センシングパターン１２aのように透明電極物質を利用して形成されるもので、第１センシングパターン１２aと同一層に配置されるが、第１センシングパターン１２aの間にそれぞれが分離されたパターンを持つようにパターニングされる。第１及び第２センシングパターン１２a、１２bが同一層に位置されれば、タッチスクリーンパネルは全般的に均一な反射率を持つことができる。
【００２６】
このような第２センシングパターン１２bは、図２に示されたような第２連結パターン１２b１によって第１方向と異なる第２方向、例えば、行方向に沿って連結されて、行ライン単位でそれぞれの位置検出ライン１５と連結される。
【００２７】
ここで、第２連結パターン１２b１は、第２センシングパターン１２bを形成する工程段階と異なる工程段階で形成されて、第２センシングパターン１２bを第２方向に沿って連結する。例えば、第２連結パターン１２b１は、位置検出ライン１５を形成する工程段階で位置検出ライン１５と同一の物質で形成されて、第２センシングパターン１２bを第２方向に沿って連結することができる。
【００２８】
位置検出ライン１５は、パッド部２０を介して第１及び第２センシングパターン１２a、１２bを位置検出回路のような外部の駆動回路（図示せず）と連結する。このような位置検出ライン１５は、映像が表示されるタッチ活性領域を避けてタッチスクリーンパネルの外郭に配置されることで、材料選択の幅が広くて第１及び第２センシングパターン１２a、１２bの形成に利用される透明電極物質の外にもモリブデン（Ｍｏ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン/アルミニウム/モリブデン（Ｍｏ/Ａｌ/Ｍｏ）などの低抵抗物質で形成することができる。
【００２９】
前述のようなタッチスクリーンパネルは、静電容量性タッチスクリーンパネルで、人手またはタッチスティックなどのような接触物体が接触されれば、センシングパターン１２a、１２bから位置検出ライン１５及びパッド部２０を経由して駆動回路（図示せず）側に接触位置による静電容量の変化が伝達される。すると、Ｘ及びＹ入力処理回路（図示せず）などによって静電容量の変化が電気的信号に変換されることによって接触位置が把握される。
【００３０】
一方、前述したタッチスクリーンパネルは、独立的な基板に形成されて映像表示装置などの上面に付着されるか、あるいは映像表示装置の表示パネルと一体化されて具現することもできる。例えば、タッチスクリーンパネルは、有機電界発光表示パネルや液晶表示パネルの上部基板の上面に一体化されて具現することができるが、このように表示パネルとタッチスクリーンパネルを一体型で具現すれば薄型の映像表示装置を提供することができる。
【００３１】
図３は、図１に示されたタッチスクリーンパネルの腰部断面図である。図３を図１ないし図２と結付してタッチスクリーンパネルの構造を説明すると、タッチスクリーンパネルは中央部のタッチ活性領域１０１と縁部の配線領域１０２に区分される。便宜上、図３においてタッチ活性領域１０１は、図２のI-I'線による断面を示すことにする。
【００３２】
まず、タッチ活性領域１０１には、透明基板１０の一面に形成された第１及び第２センシングパターン１２a、１２b、及び第１連結パターン１２a１と、第１及び第２センシングパターン１２a、１２b及び第１連結パターン１２a１上に形成されて、第２センシングパターン１２bの一領域を露出する絶縁膜１３と、絶縁膜１３上に形成されて第２センシングパターン１２bの露出された領域を介して第２センシングパターン１２bを第２方向に沿って連結する第２連結パターン１２bが形成される。そして、配線領域１０２には位置検出ライン１５が形成される。
【００３３】
ここで、タッチ活性領域１０１は、タッチスクリーンパネル下部の表示パネル（図示せず）などからの光が透過されることができるように透明に具現される。すなわち、第１及び第２センシングパターン１２a、１２b、及び第１連結パターン１２a１と絶縁膜１３は、所定の透過度以上を持つ透明性材料で形成される。ここで、透明とは１００％の透明さは勿論、高い光透過率を持つ程度の透明さを包括的に意味する。このために、第１及び第２センシングパターン１２a、１２bと第１連結パターン１２a１は、インジウム-スズ-オキサイド（ＩＴＯ）などの透明電極物質で形成され、絶縁膜１３はシリコン酸化膜ＳｉＯ２のような透明性絶縁物質で形成することができる。
【００３４】
ただし、第２連結パターン１２b１は、位置検出ライン１５のように低抵抗金属などで形成することができるが、第２連結パターン１２b１の線幅や長さなどを調節することによって第２連結パターン１２b１が人の目に認識されることを防止することができる。
【００３５】
一方、図３の断面図には示されなかったが、第１センシングパターン１２aは、図１ないし図２に示されたように第１連結パターン１２a１と一体に形成されて第１連結パターン１２a１により、第１方向に沿って連結されるようにパターニングされる。
【００３６】
絶縁膜１３は、第１及び第２センシングパターン１２a、１２b、及び第１連結パターン１２a１の上部に形成されるもので、特に、第１及び第２連結パターン１２a１、１２b１の交差部でこれらの間に介在されて第１及び第２連結パターン１２a１、１２b１の短絡を防止する。
【００３７】
特に、本発明では、第１及び第２連結パターン１２a１、１２b１の短絡をより效果的に防止するために、第１連結パターン１２a１をオーバーエッチングすることによって第１連結パターン１２a１が絶縁膜１３の内側に位置させることにより、タッチスクリーンパネルの電気的安全性を確保する。すなわち、絶縁膜１３は第１連結パターン１２a１と重畳される領域で下端部が第１連結パターン１２a１の上端部より広く形成される。
【００３８】
このような絶縁膜１３は、第２センシングパターン１２bの一領域を露出するが、前記露出した領域を介して第２連結パターン１２b１が第２センシングパターン１２bを第２方向に沿って連結するようになる。
【００３９】
特に、第２連結パターン１２b１は、第２センシングパターン１２bの露出された領域を介して第２センシングパターン１２bと直接的に接触されることにより、第２センシングパターン１２bを第２方向に沿って連結することができる。
【００４０】
このような第２連結パターン１２b１は、配線領域１０２の位置検出ライン１５を形成する工程段階で、位置検出ライン１５と同一の物質を利用して同時に形成することができる。
【００４１】
ただし、本発明では、第１及び第２センシングパターン１２a、１２b及び第１連結パターン１２a１と絶縁膜１３を一つのハーフトーンマスクを利用してパターニングすることによってマスクの工数を低減して工程を単純化することを特徴とし、これに対する詳細な説明は、図４Ａないし図４Ｇを参照して後述する。
【００４２】
また、本発明では、絶縁膜１３が第２連結パターン１２b１が形成される一部領域を除き、第１及び第２センシングパターン１２a、１２bと第１連結パターン１２a１の上部に全般的に形成される。図３では、説明の便宜のために連結パターン１２a１、１２b１の大きさをセンシングパターン１２a、１２bに比べて誇張されるように表現したが、実際には図１のように連結パターン１２a１、１２b１は知覚されにくいほどの大きさで形成される。
【００４３】
すなわち、本発明においてタッチ活性領域１０１の表面大部分は、絶縁膜１３によってカバーされるようになる。これによって、第２連結パターン１２b１が形成された透明基板１０の上部に別途の絶縁膜を追加的に形成しなくとも、表面スクラッチなどによる問題が発生しないという長所がある。
【００４４】
また、第２連結パターン１２bが第１及び第２センシングパターン１２a、１２bと第１連結パターン１２a１の上部に位置されるので、段差による問題を引き起こすことなく、第２連結パターン１２bの厚さ設計が比較的に自由であるという長所がある。
【００４５】
図４Ａないし図４Ｇは、図３に示されたタッチスクリーンパネルの製造方法を順次示した断面図である。図４Ａないし図４Ｇを参照して本発明によるタッチスクリーンパネルの製造方法を説明すると、まず、透明基板１０を準備し、透明基板１０の一面に透明電極膜１２′及び絶縁膜１３を順次成膜する。ここで、透明基板１０は表示パネルの上部基板や、別途のタッチパネル用基板、あるいはウィンドウ基板などを用いることができる。
【００４６】
そして、透明電極膜１２′は、第１及び第２センシングパターン１２a、１２bと第１連結パターン１２a１を形成するためのもので、インジウム-スズ-オキサイド（ＩＴＯ）などのような透明物質を基板１０に全面蒸着することによって形成することができ、絶縁膜１３はシリコン酸化膜ＳｉＯ２のような透明性絶縁物質を透明電極膜１２′上に全面蒸着することによって形成することができる（図４Ａ）。
【００４７】
以後、透明電極膜１２′及び絶縁膜１３をハーフトーンマスクを利用して同伴パターニングすることによって第１及び第２センシングパターン１２a、１２b、及び第１連結パターン１２a１と絶縁膜１３を形成する。
【００４８】
より具体的に、一つのハーフトーンマスク（図示せず）を利用して絶縁膜１３上に互いに異なる高さ、すなわち、第１高さＨ１と前記第１高さＨ１より低い第２高さＨ２を持つフォトレジストＰＲを形成する（図４Ｂ）。そして、フォトレジストＰＲ下部を除いた残りの領域の透明電極膜１２′及び絶縁膜１３をエッチング工程によって除去するようになる。
【００４９】
例えば、乾式エッチング工程によってフォトレジストＰＲ下部を除いた残りの領域の絶縁膜１３を除去した後、湿式エッチング工程をさらに行うことによって露出された領域の透明電極膜１２′を除去することによって第１及び第２センシングパターン１２a、１２bと第１連結パターン１２a１を形成することができる。
【００５０】
ここで、断面図上では図示されなかったが、第１センシングパターン１２aは、第１連結パターン１２a１によって第１方向に連結されるように第１連結パターン１２a１と一体にパターニングされて、第２センシングパターン１２bは第１センシングパターン１２aとの間にそれぞれが分離されたパターンを持つようにパターニングされる。
【００５１】
一方、透明電極膜１２′は湿式エッチング工程のときのみエッチングされることも可能であるが、絶縁膜１３の乾式エッチング工程のときに一部がエッチングされ、湿式エッチング工程のときに追加的にエッチングされることも可能である。
【００５２】
透明電極膜１２′の湿式エッチング工程のときには、透明電極物質エッチング液、例えば、透明電極膜１２′がインジウム-スズ-オキサイド（ＩＴＯ）からなる場合、蓚酸含有エッチング液などの酸性エッチング液を利用することができる。この時、透明電極膜１２′が絶縁膜１３より内側に位置するまで透明電極膜１２′をオーバーエッチングすることで、タッチスクリーンパネルの電気的安全性が確保されるようにする（図４Ｃ）。
【００５３】
そして、後続されるアッシング工程によって第２高さＨ２を持つフォトレジストＰＲを除去する。この時、第１高さＨ１を持つフォトレジストＰＲも上部が除去されて高さが低くなる。
【００５４】
アッシング工程は、高温の雰囲気でフォトレジストを焼いて除去する工程を言い、この時主にプラズマによるイオン效果を排除して、純粋ラジカル（Ｒａｄｉｃａｌ）反応を追求する化学反応の形態で行われる。例えば、酸素ラジカルをフォトレジストの炭素結合と反応させて二酸化炭素を形成することによってフォトレジストを分解させる形態を例として挙げることができる。
【００５５】
第２高さH２を持つフォトレジストＰＲが除去されれば、その下部に位置された絶縁膜１３が露出されるが、ドライエッチング工程やバッファ酸化エッチングＢＯＥなどを利用した湿式エッチング工程をによって絶縁膜１３の露出された部分を除去する。これによって、第２センシングパターン１２bの一領域が露出される。すなわち、第２高さＨ２を持つフォトレジストＰＲとその下部の絶縁膜１３をアッシング及びエッチング工程によって除去し、第２センシングパターン１２bの一領域を露出する（図４Ｄ）。
【００５６】
そして、絶縁膜１３上に残っているフォトレジストＰＲをアッシング工程などを通じて除去することで、第１及び第２センシングパターン１２a、１２b、及び第１連結パターン１２a１と絶縁膜１３のパターニング工程を完了する（図４Ｅ）。
【００５７】
以後、第１及び第２センシングパターン１２a、１２b及び第１連結パターン１２a１と絶縁膜１３が形成された透明基板１０上にスパッタリングなどによって導電膜１４を全面的に形成する（図４Ｆ）。
【００５８】
以後、別途のマスク（図示せず）を利用して導電膜１４をパターニングすることによって、第２センシングパターン１２bの露出された領域を介して第２センシングパターン１２bを第２方向に沿って連結する第２連結パターン１２b１を形成する。この時、導電膜１４をパターニングする過程で、第１及び第２センシングパターン１２a、１２bを外部の駆動回路と連結するための位置検出ライン１５も第２連結パターン１２b１と同一の物質で同時に形成することができる（図４Ｇ）。
【００５９】
前述したようなタッチスクリーンパネルの製造方法によれば、一つのハーフトーンマスクを利用して透明電極膜１２′及び絶縁膜１３を同伴パターニングすることによって第１及び第２センシングパターン１２a、１２bと絶縁膜１３を形成することができる。すなわち、マスク工程は、一つのハーフトーンマスクを利用した第１及び第２センシングパターン１２a、１２bと絶縁膜１３のパターニング段階と、別途のマスクを利用した第２連結パターン１２b及び位置検出ライン１５のパターニング段階で遂行されうるもので、マスクの工数が最小化されて工程が単純化されるという長所がある。
【００６０】
以上のように、本発明の最も好ましい実施形態について説明したが、本発明は、上記記載に限定されるものではなく、特許請求の範囲、又は明細書に開示された発明の要旨に基づき、当業者が様々な変形や変更が可能であり、斯かる変形や変更が、本発明の範囲に含まれることは言うまでもない。
【符号の説明】
【００６１】
１０  透明基板、
１２ａ  センシングパターン
１２ｂ  センシングパターン
１２ａ１  連結パターン
１２ｂ１  連結パターン
１３  絶縁膜、
１５  位置検出ライン
【図１】
0005543300.tif 000002
【図２】
0005543300.tif 000003
【図３】
0005543300.tif 000004
【図４Ａ】
0005543300.tif 000005
【図４Ｂ】
0005543300.tif 000006
【図４Ｃ】
0005543300.tif 000007
【図４Ｄ】
0005543300.tif 000008
【図４Ｅ】
0005543300.tif 000009
【図４Ｆ】
0005543300.tif 000010
【図４Ｇ】
0005543300.tif 000011