(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
重量平均分子量５０００以上で、かつ官能基数が４以下のウレタン（メタ）アクリレート、重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート、及び、光透過性基材に対して溶解性又は膨潤性を有する溶剤を含有するコーティング組成物を前記光透過性基材上に塗布する工程を有し、
前記工程において、前記（メタ）アクリレートを前記光透過性基材に浸透させ、前記光透過性基材を構成する材料と前記（メタ）アクリレートとが渾然一体となった浸透層と、前記光透過性基材上に前記ウレタン（メタ）アクリレートが偏在した皮膜を形成し、
前記溶剤は、メチルエチルケトンを８０質量％以上含有する
ことを特徴とする光学積層体の製造方法。
【請求項２】
（メタ）アクリレートは、官能基数が３以上である請求項１記載の光学積層体の製造方法。
【請求項３】
コーティング組成物におけるウレタン（メタ）アクリレートと（メタ）アクリレートとの固形分質量比は、０．１／９９．９〜５／５である請求項１又は２記載の光学積層体の製造方法。
【請求項４】
光透過性基材は、トリアセチルセルロースである請求項１、２又は３記載の光学積層体の製造方法。
【請求項５】
更に、低屈折率層を形成する工程を含む請求項１、２、３又は４記載の光学積層体の製造方法。
【請求項６】
低屈折率層は、中空シリカを含む請求項５記載の光学積層体の製造方法。
【請求項７】
請求項１、２、３、４、５又は６記載の光学積層体の製造方法により得られる光学積層体。
【請求項８】
最表面に請求項７記載の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置。
【請求項９】
偏光素子を備えてなる偏光板であって、
前記偏光板は、偏光素子表面に請求項７記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。
【請求項１０】
最表面に請求項７記載の光学積層体、又は、請求項９記載の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学積層体の製造方法、光学積層体、偏光板及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等の画像表示装置においては、一般に最表面には反射防止性、ハード性、帯電防止性や防眩性等の種々の機能を有する機能層からなる光学積層体が設けられている（特許文献１〜３）。
【０００３】
そのような機能層の一つとして、異なる屈折率を有する層を備えることにより、外光の反射等を防止し得る低屈折率層が知られている。このような低屈折率層の形成方法としては、中空シリカを添加して層形成する方法が知られている。
【０００４】
一方、光学積層体は、製品として一定の硬度が必要とされており、製造された光学積層体のハード性を評価するために、ＪＩＳ  Ｋ５６００に準じた鉛筆硬度試験が一般的に行われる。しかし、上記中空シリカを含む低屈折率層を有する光学積層体の場合、上記鉛筆硬度試験を行うと、中空シリカがつぶれてしまい、その結果、その部分の色再現性が低下したり、表面の形状が変化したままで外観不良となってしまう。このため、試験後の光学積層体は、製品として使用できないものとなってしまうといった問題があった。
【０００５】
従って、鉛筆試験を行った後も、変形を生じることなく外観が良好であり、かつ光学特性にも影響がなく、製品として使用できる光学積層体の製造方法が必要とされていた。
【特許文献１】特開２００６−１２６８０８号公報
【特許文献２】特開２００５−１０７００５号公報
【特許文献３】特開２００４−６９８６７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記現状に鑑みて、鉛筆試験を行っても外観や光学特性等が変化しない光学積層体を低コストで得るための光学積層体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、重量平均分子量５０００以上でかつ官能基数が４以下のウレタン（メタ）アクリレート、重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート、及び、光透過性基材に対して溶解性又は膨潤性を有する溶剤を含有するコーティング組成物を光透過性基材上に塗布する工程を有し、上記工程において、上記（メタ）アクリレートを上記光透過性基材に浸透させ、上記光透過性基材を構成する材料と上記（メタ）アクリレートとが渾然一体となった浸透層と、上記光透過性基材上に上記ウレタン（メタ）アクリレートが偏在した皮膜を形成し、上記溶剤は、メチルエチルケトンを８０質量％以上含有することを特徴とする光学積層体の製造方法である。
【０００８】
上記（メタ）アクリレートは、官能基数が３以上であることが好ましい。
上記コーティング組成物におけるウレタン（メタ）アクリレートと（メタ）アクリレートとの固形分質量比は、０．１／９９．９〜５／５であることが好ましい。
上記光透過性基材は、トリアセチルセルロースであることが好ましい。
上記光学積層体の製造方法は、更に、低屈折率層を形成する工程を含むものであることが好ましい。
上記低屈折率層は、中空シリカを含有するものであることが好ましい。
【０００９】
本発明はまた、上述の光学積層体の製造方法により得られる光学積層体でもある。
本発明はまた、最表面に上述の記載の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置でもある。
本発明はまた、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光板は、偏光素子表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明はまた、最表面に上述の光学積層体、又は、上述の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置でもある。
以下に、本発明を詳細に説明する。
【００１０】
本発明は、重量平均分子量５０００以上で、かつ官能基数が４以下のウレタン（メタ）アクリレート、重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート、及び、光透過性基材に対して溶解性又は膨潤性を有する溶剤を含有するコーティング組成物を光透過性基材上に塗布する工程を有することを特徴とする光学積層体の製造方法であるため、鉛筆硬度試験を行った後でも、光学特性や外観が良好に維持される光学積層体を形成することができるものである。
【００１１】
本発明の光学積層体の製造方法では、光透過性基材の低屈折率層側界面付近、又は、光透過性基材の低屈折率層側界面付近とその上に形成されるハードコート性を有する層と低屈折率層との間にクッション性を有する層が形成されることによって、上述した問題が解決されるものと推測される。従来のようにハードコート層と低屈折率層が隣接する光学積層体の場合、鉛筆硬度試験等において力を加えられると、硬度が高いハードコート層によって、低屈折率層に含まれる中空シリカはつぶれてしまい、力を加えられた箇所は形状が変化したままとなったり（図１）、ハードコート層が傷付いたりして、外観や光学特性を低下させてしまう。本発明の製造方法によって得られた光学積層体は、ハードコート性を有する層と低屈折率層との間に比較的柔らかいクッション性を有する層を設けることで、最表面からの押込みによる低屈折率層の変形を、クッション性を有する層によって吸収することで中空シリカのつぶれ現象を抑制し（図２）、また、ハードコート性を有する層の傷付きを防止し、試験後の表面形状や光学特性を良好に維持することができると推測される。
【００１２】
図４は、本発明の光学積層体の製造方法の説明図である。
本発明の光学積層体の製造方法では、図４（ａ）に示すように、特定のコーティング組成物６を光透過性基材５上に塗工すると、分子量の小さな（メタ）アクリレートが光透過性基材５に浸透して該光透過性基材５を構成する材料と（メタ）アクリレートとが渾然一体となった浸透層８と、光透過性基材５上に皮膜７とが形成される（図４（ｂ））。この皮膜７においては、分子量の大きなウレタン（メタ）アクリレートが偏在するようになる。このような浸透層８と皮膜７とを硬化させると、浸透層８が硬化することで、ハードコート性を有する層３が形成され、皮膜７が硬化することで、クッション性を有する層２が形成されると推測される。このため、一層塗工によりそのようなハードコート性を有する層とクッション性を有する層（以下、これらをまとめてハードコート層ともいう）が形成されるので、製造工程が簡便になり低コストで光学積層体を形成することができるものである。なお、図４（ｂ）においては、光透過性基材５と浸透層８との界面、及び、浸透層８と皮膜７との界面を明確に示しているが、後述するように、これらの界面は実際には明確には存在していない。
ただし、光透過性基材上に塗工したコーティング組成物に含まれる（メタ）アクリレートのうち、光透過性基材に浸透しきれなかった（メタ）アクリレートが存在する場合、上記皮膜の光透過性基材側に（メタ）アクリレートが偏在した層が形成され、他方にウレタン（メタ）アクリレートが偏在した層が形成される。この場合、上記浸透層及び皮膜を硬化させると、上記浸透層と皮膜の（メタ）アクリレートが偏在した層とが一体的に硬化することで、ハードコート性を有する層が形成され、上記皮膜のウレタン（メタ）アクリレートが偏在した層が硬化することで、クッション性を有する層が形成されると推測される。
【００１３】
更に、本発明の光学積層体の製造方法で使用するコーティング組成物は、光透過性基材に対して溶解性又は膨潤性を有する溶剤を含むものであるため、クッション性を有する層とハードコート性を有する層を、界面を有することなく形成することができると共に、光透過性基材とも界面を有することなくハードコート層を形成することができるので、干渉縞が発生せず、光学特性が良好な光学積層体を得ることができる。また、上記光学積層体は、各層間に界面を有さないことから、各層間の密着性にも優れるものである。
【００１４】
本発明の光学積層体の製造方法は、重量平均分子量５０００以上で、かつ官能基数が４以下のウレタン（メタ）アクリレート及び重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート、及び、光透過性基材に対して溶解性又は膨潤性を有する溶剤を含有するコーティング組成物を光透過性基材上に塗布する工程を有する。
すなわち、本発明の光学積層体の製造方法では、特定のコーティング組成物を光透過性基材に１層塗工することにより、ハードコート性を有する層とクッション性を有する層とを同時に形成することができる。このため、製造工程が簡便になり、低コストで光学積層体を形成することができる。
【００１５】
上記コーティング組成物は、重量平均分子量５０００以上で、かつ官能基数が４以下のウレタン（メタ）アクリレート、及び、重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレートを含有する。
分子量の異なる２種の樹脂を含むことで、１層塗工によりハードコート性を有する層とクッション性を有する層を形成することができ、かつ光学特性や層間密着性にも優れる光学積層体を得ることができる。
【００１６】
上記ウレタン（メタ）アクリレートは、多価アルコールと有機ポリイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物との反応によって得られる。なお、本明細書では、（メタ）アクリレートは、アクリレート又はメタクリレートを表す。
【００１７】
上記多価アルコールとして、例えば、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリシクロデカンジメチロール、ビス−［ヒドロキシメチル］−シクロヘキサン等、また上記多価アルコールと多塩基酸（例えば、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、テトラヒドロ無水フタル酸等）との反応によって得られるポリエステルポリオール、及び上記多価アルコールとε−カプロラクトンとの反応によって得られるカプロラクトンアルコール、及びポリカーボネートポリオール（例えば、１，６−ヘキサンジオールとジフェニルカーボネートとの反応によって得られるポリカーボネートジオール等）、及びポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ等が挙げられる。
【００１８】
上記有機ポリイソシアネートとしては、例えばイソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルイソシアネート等が挙げられる。
【００１９】
上記ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物としては、例えばヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチロールシクロヘキシルモノ（メタ）アクリレート、ヒドロキシカプロラクトン（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２０】
上記ウレタン（メタ）アクリレートは、重量平均分子量５０００以上である。
５０００未満であると、光透過性基材へ浸透しやすくなり、目的とするクッション性を有する層の形成が困難となる。上記重量平均分子量は、６０００〜５００００であることがより好ましい。
なお、本明細書において、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算にて得られる値である。
【００２１】
上記ウレタン（メタ）アクリレートは、官能基数が４以下のものである。官能基数が４を超えるものを使用すると、ハードコート性能が高くなり、目的とするクッション性を有する層の形成が困難となる。つまりこの場合には、低屈折率層が、鉛筆硬度試験等において力を加えられると、硬度が高いハードコート層によって、低屈折率層に含まれる中空シリカはつぶれてしまい、力を加えられた箇所は形状が変化したままで、外観や光学特性を低下させてしまうので好ましくない。上記ウレタン（メタ）アクリレートは、官能基数が２以下のものであることがより好ましい。
上記ウレタン（メタ）アクリレートの市販品としては、日本化薬社製の、ＵＸ８１０１Ｄ、ＵＸ５００３Ｄ、ＵＸ６１０１Ｄ等が挙げられる。
なお、上記官能基とは、上記紫外線又は熱にて架橋反応を起こす官能基を意味する。このような官能基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、エポキシ基等が挙げられる。
上記コーティング組成物における上記ウレタン（メタ）アクリレートの含有量としては、好ましい下限が１０質量％、好ましい上限が９０質量％であり、より好ましい下限は１５質量％、より好ましい上限は８０質量％である。上記官能基数が４以下のウレタン（メタ）アクリレートは、目的とするクッション性を有する層を形成させるために使用しており、１０質量％未満の場合には、目的とするクッション性が得られにくくなる恐れがある。９０質量％を超える場合には、ハードコート層自身の硬度が低下する恐れがある。
【００２２】
上記コーティング組成物は、更に、重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレートを含有する。
上記（メタ）アクリレートの重量平均分子量が１０００を超えると、光透過性基材へ浸透性が低下し、上記重量平均分子量５０００以上のウレタン（メタ）アクリレートとの混合層ができやすくなるため、目的とするクッション性を有する層の形成が困難となる。上記重量平均分子量は、２００〜１０００であることが好ましく、２００〜６００であることがより好ましい。
上記重量平均分子量の値は、上記ウレタン（メタ）アクリレートの重量平均分子量の測定方法と同様の方法にて得ることができる。
【００２３】
上記（メタ）アクリレートは、アクリレート又はメタクリレートのモノマー、オリゴマーであり、例えば、官能基数が１のものとして、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレートが挙げられ、官能基数が２のものとして、エチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられ、官能基数が３以上のものとして、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、イソシアヌル酸変性トリアクリレート等が挙げられる。なかでも、光学積層体全体の硬度（特に鉛筆試験による硬度）を満足するためには、官能基数が３以上のアクリレートであることが好ましい。なお、上記官能基とは、上述したウレタン（メタ）アクリレートにおいて説明した官能基と同様のものが挙げられる。
【００２４】
また、上記（メタ）アクリレートは、上記の重量平均分子量を満たすものであれば、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリブタジエン（メタ）アクリレート、シリコン（メタ）アクリレート等のオリゴマーであってもよい。これらは、２種以上を併用してもよい。
【００２５】
上記コーティング組成物における重量平均分子量５０００以上で、かつ官能基数が４以下のウレタン（メタ）アクリレートと重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレートとの混合比は、固形分質量比で０．１／９９．９〜５／５であることが好ましい。０．１／９９．９未満であると、クッション性を有する層が薄くなってしまうために、目的とする性能を得ることができない。つまり、鉛筆硬度試験により低屈折率層に含まれる中空シリカがつぶれてしまうおそれがある。５／５を超えると、上記低屈折率層に含まれる中空シリカがつぶれることはないが、光学積層体全体の硬度（特に鉛筆試験による硬度）低下が起こり、深い傷が残ってしまうおそれがある。上記混合比は、０．１／９．９〜５／５であることがより好ましい。
【００２６】
上記コーティング組成物は、更に、光透過性基材に対して溶解性又は膨潤性を有する溶剤を含む。
上記光透過性基材に対して溶解性又は膨潤性を有する溶剤としては、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）等を挙げることができる。なかでも、クッション層をより効率よく形成することができる点で、ケトン系溶剤又はエステル系溶剤であることがより好ましく、メチルエチルケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、アノン、ＰＧＭＥ又はメチルイソブチルケトンであることが更に好ましい。
【００２７】
上記コーティング組成物は、更に、光重合開始剤を含むものであることが好ましい。
上記光重合開始剤としては、アセトフェノン類（例えば、商品名イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製として市販されている１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン）、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。これらは、単独で使用するか又は２種以上を併用してもよい。
上記光重合開始剤の添加量は、上記コーティング組成物樹脂固形分１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましい。
【００２８】
上記コーティング組成物は、上述した成分以外に、更にその他の成分を含むことができる。上記その他の成分としては、上述した以外の樹脂、防眩剤、帯電防止剤、界面活性剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、顔料又は染料等の着色剤、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤等を挙げることができる。これらは、光学積層体の製造に通常使用される公知のものを使用することができる。
【００２９】
上記コーティング組成物は、上述した成分、及び、その他の成分を上記溶剤と混合して分散処理することにより得ることができる。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等を使用するとよい。
【００３０】
本発明の光学積層体の製造方法は、上述したコーティング組成物を光透過性基材に塗布する工程を有するものである。
上記光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れ、かつ上記コーティング組成物中の成分が浸透し得るものがよく、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）であることが好ましい。上記コーティング組成物が浸透しやすく、密着性に優れる層を形成することができるからである。
【００３１】
上記光透過性基材の厚みは、２０〜３００μｍであることが好ましく、３０〜２００μｍであることがより好ましい。光透過性基材が板状体の場合には、厚み３００μｍ〜５０００μｍであってもよい。また、上記光透過性基材は、その上に上記コーティング組成物を塗布するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。
【００３２】
上記塗布は、特に限定されず、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の各種方法を用いることができる。
【００３３】
上記コーティング組成物の塗布量は、１〜３０ｇ／ｃｍ２（乾燥重量）であることが好ましい。上記範囲の塗布量でコーティング組成物の塗布を行うことにより、ハードコート性を有する層とクッション性を有する層を一層塗工により好適に形成することができる。１ｇ／ｃｍ２未満であると、ハードコート性が低下してしまうおそれがある。３０／ｃｍ２を超えると、形成される層の硬度が大きくなりすぎて、少し折り曲げるだけでクラックが入りやすくなるおそれがある。上記塗布量は、３〜２０ｇ／ｃｍ２であることがより好ましい。
【００３４】
上記塗布した後、皮膜を必要に応じて乾燥させた後、電子線又は紫外線の照射によって硬化させる。電子線硬化の場合には、１００ＫｅＶ〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等を使用する。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。
【００３５】
本発明の光学積層体の製造方法は、更に、低屈折率層を形成する工程を有することが好ましい。
図４に示すように、光透過性基材５上にコーティング組成物６を塗布して（図４（ａ））上述した浸透層８と皮膜７とを形成し（図４（ｂ））、浸透層８と皮膜７とを硬化させてハードコート性を有する層３とクッション性を有する層２を形成した後、更に低屈折率層９を形成することにより（図４（ｃ））、層間の相互作用による着色等を防止し、反射防止性能を向上させることができる。
【００３６】
上記低屈折率層は、クッション性を有する層の表面に形成されてなり、その屈折率がクッション性を有する層又はハードコート性を有する層より低いものである。本発明の好ましい態様によれば、クッション性を有する層又はハードコート性を有する層の屈折率が１．５以上であり、低屈折率層の屈折率が１．５未満であり、好ましくは１．４５以下で構成されてなるものが好ましい。このように、屈折率の異なる層を積層することにより、光学積層体は低反射となるため反射防止性能を向上させることができる。
【００３７】
本発明の光学積層体の製造方法は、シリカを含有する低屈折率層を有する光学積層体の形成に使用することが好ましい。
上記低屈折率層は、１）シリカを含有する樹脂、２）シリカを含有するフッ素系樹脂等のいずれかで構成されているとよい。
【００３８】
上記シリカとしては、中空シリカであることが好ましい。上記中空シリカは製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダー樹脂と混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０〜１．４５程度の範囲内に調整することを可能とする。
上記中空シリカとしては、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に記載された方法によって調製されたシリカ微粒子を挙げることができる。特開平７−１３３１０５、特開２００２−７９６１６号公報、特開２００６−１０６７１４号公報等に記載された製法によって得られるシリカ微粒子等も挙げることができる。
また、上記中空シリカは、上記シリカ微粒子の表面を更に処理したものであってもよい。上記処理としては、表面の疎水化、親水化、又は紫外線反応基を付加する等の処理が挙げられる。上記処理の方法としては、特に限定されず、シランカップリング剤を使用する処理方法等、目的に応じて任意の方法で行うとよい。
このような中空シリカとしては、例えば、触媒化成工業社製の中空シリカを用いることができる。
【００３９】
上記中空シリカの平均粒径は、５ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましく、８ｎｍ〜１００ｎｍであることがより好ましく、１０ｎｍ〜８０ｎｍであることが更に好ましい。上記中空シリカの平均粒径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。なお、上記平均粒径は、動的光散乱法等という方法によって測定した値である。上記中空シリカの含有量は、上記低屈折率層中にバインダー樹脂１００質量部に対して、通常０．１〜５００質量部であることが好ましく、１０〜２００質量部とするのがより好ましい。
上記中空シリカの屈折率としては、１．２０〜１．４０程度であることが好ましい。また、上記中空シリカの空隙率としては、１０〜９０％程度であることが好ましい。
【００４０】
上記バインダー樹脂としては、透明性のものが好ましく、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂（熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）との混合物、又は、熱硬化型樹脂を挙げることができる。なかでも、電離放射線硬化型樹脂であることが好ましい。なお、上記樹脂は、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分も包含する概念である。
【００４１】
上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能化合物と（メタ）アルリレート等の反応生成物（例えば多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）、等を挙げることができる。
【００４２】
上記フッ素系樹脂とは、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物またはその重合体である。重合性化合物は、特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基（電離放射線硬化性基）や熱で硬化する極性基（熱硬化性極性基）等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。
【００４３】
フッ素原子を含有する電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ‐２，２‐ジメチル‐１，３‐ジオキソール等）を例示することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとして、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物；分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物等もある。
【００４４】
フッ素原子を含有する熱硬化性極性基を有する重合性化合物としては、例えば、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品等を例示することができる。上記熱硬化性極性基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基が好ましく挙げられる。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカ等の無機超微粒子との親和性にも優れている。
【００４５】
電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物（フッ素系樹脂）としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類、完全または部分フッ素化ビニルエステル類、完全または部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。
【００４６】
フッ素原子を含有する上記重合性化合物の重合体としては、例えば、上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等の分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体；等が挙げられる。
【００４７】
また、これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も、上記重合性化合物の重合体として用いることができる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサンや、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が例示できる。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
【００４８】
上述したほか、さらには、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等のイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオール等のフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物；等も、フッ素系樹脂として用いることができる。
【００４９】
低屈折率層の形成にあっては、例えば、上記樹脂若しくはフッ素系樹脂、及び、中空シリカを含む低屈折率層形成用組成物を用いて形成することができる。より具体的には、原料成分（樹脂等）及び必要に応じて添加剤（例えば、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等）を溶媒に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、低屈折率層形成用組成物として用い、上記組成物を上記クッション層上に塗布して、皮膜を硬化させることにより低屈折率層を得ることができる。なお、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等の添加剤は、例えば、光学積層体の製造で使用される公知のものを挙げることができる。
【００５０】
上記溶媒としては、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、ＰＧＭＥＡ）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）等を挙げることができる。なかでも、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ＰＧＭＥ、ＰＧＭＥＡが好ましい。
【００５１】
上記低屈折率層形成用組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、上記コーティング組成物で上述した公知の装置を使用して混合することができる。
【００５２】
低屈折率層の形成においては、上記低屈折率層形成用組成物の粘度を好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｃｐｓ（２５℃）の範囲のものとすることが好ましい。上記粘度は、より好ましくは０．７〜３ｃｐｓ（２５℃）である。可視光線の優れた反射防止膜を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ基材に対する密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。
【００５３】
上記塗布の方法は、公知の方法に従えば良い。例えば、上記コーティング組成物と同様の各種方法を用いることができる。
【００５４】
上記硬化の方法は、上記コーティング組成物の硬化方法と同様であってよい。硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加されることが好ましい。
【００５５】
低屈折率層の膜厚（ｎｍ）ｄＡは、下記式（Ｉ）：
ｄＡ＝ｍλ／（４ｎＡ）    （Ｉ）
（上記式中、
ｎＡは低屈折率層の屈折率を表し、
ｍは正の奇数を表し、好ましくは１を表し、
λは波長であり、好ましくは４８０〜５８０ｎｍの範囲の値である）
を満たすものが好ましい。
【００５６】
また、本発明にあっては、低屈折率層は下記数式（ＩＩ）：
１２０＜ｎＡｄＡ＜１４５        （ＩＩ）
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
【００５７】
本発明により製造される光学積層体は、光透過性基材及びハードコート層を有するものであるが、上述した低屈折率層の他にも必要に応じて、任意の層として、帯電防止層、防眩層、防汚染層、高屈折率層又は中屈折率層等を備えているものであってよい。上記帯電防止層、防眩層、防汚染層、高屈折率層、中屈折率層は、一般に使用される帯電防止剤、防眩剤、防汚染剤、高屈折率剤、中屈折率剤及び樹脂等を添加した組成物を調製し、それぞれの層を公知の方法により形成するとよい。
【００５８】
上記光学積層体の全光線透過率は、９０％以上であることが好ましい。９０％未満であると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性を損なうおそれがある。上記全光線透過率は、９５％以上であることがより好ましく、９８％以上であることが更に好ましい。
【００５９】
上記光学積層体のヘイズ値は、１０％以下であることが好ましい。１０％を超えると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性を損なうおそれがある。上記ヘイズ値は、５％以下であることがより好ましい。
【００６０】
本発明の光学積層体の製造方法により形成される光学積層体の一態様について、図を用いて説明する。上記光学積層体は、例えば、図３のように、中空シリカ４を含む低屈折率層１、ハードコート性を有する層３、光透過性基材５を備えたものであり、低屈折率層１とハードコート性を有する層３との間にクッション性を有する層２が形成されていると推測される。このような本発明の光学積層体の製造方法により得られる光学積層体もまた、本発明の一つである。本発明の光学積層体は、図３に示した如くクッション性を有する層上に低屈折率層を有する構造であることが好ましい。本発明の光学積層体は、このような態様の他に、目的に応じて任意の層からなるものであってもよく、また、上述した態様に限定されないものである。
【００６１】
本発明の光学積層体は、偏光素子の表面に、本発明による光学積層体を、上記光学積層体におけるハードコート層が存在する面と反対の面に設けることによって、偏光板とすることができる。このような偏光板も、本発明の一つである。
【００６２】
上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材（好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム）にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
【００６３】
本発明は、最表面に上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置でもある。上記画像表示装置は、ＬＣＤ等の非自発光型画像表示装置であっても、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ等の自発光型画像表示装置であってもよい。
【００６４】
上記非自発光型の代表的な例であるＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は本発明の偏光板が形成されてなるものである。
【００６５】
本発明が上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。
【００６６】
上記自発光型画像表示装置であるＰＤＰは、表面ガラス基板（表面に電極を形成）と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板（電極および、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成）とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した光学積層体を備えるものでもある。
【００６７】
上記自発光型画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴ等の画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。
【００６８】
本発明の画像表示装置は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサ等のディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＦＥＤ等の高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。
【発明の効果】
【００６９】
本発明の光学積層体の製造方法は、上述した構成からなるものであるため、鉛筆試験等の後も、外観や光学特性を良好に維持することができる光学積層体を製造することができる。従って、本発明の光学積層体の製造方法により得られる光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等に好適に適用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００７０】
以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明する。
【実施例】
【００７１】
以下に実施例及び比較例を示し、本発明の特徴をより具体的に説明する。ただし、本発明の範囲は、実施例に限定されない。
【００７２】
＜製造例１  コーティング組成物１の調製＞
下記に示す組成からなるコーティング組成物１を調製した。
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製、１０官能、重量平均分子量（Ｍｗ）２０００）                                                          ４質量部
ウレタンアクリレート（ＵＸ８１０１Ｄ；日本化薬社製、２官能、Ｍｗ５０００以上）
１質量部
ポリエステルアクリレート（Ｍ９０５０；東亞合成社製、３官能、Ｍｗ４００〜４３０）
５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【００７３】
＜製造例２  コーティング組成物２の調製＞
下記に示す組成からなるコーティング組成物２を調製した。
ウレタンアクリレート（ＤＰＨＡ４０Ｈ；日本化薬社製、８官能、Ｍｗ７０００）
４質量部
ウレタンアクリレート（ＵＸ５００３Ｄ；日本化薬社製、２官能、Ｍｗ５０００以上）
１質量部
イソシアヌル酸変性トリアクリレート（アロニックスＭ３１５；東亞合成社製、３官能、Ｍｗ４２３）                                                            ５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【００７４】
＜製造例３  コーティング組成物３の調製＞
下記に示す組成からなるコーティング組成物３を調製した。
ウレタンアクリレート（ビームセット５７７；荒川化学社製、Ｍｗ１０００）  ４質量部
ウレタンアクリレート（ＵＸ６１０１Ｄ；日本化薬社製、２官能、Ｍｗ５０００以上）
１質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ；日本化薬社製、６官能、Ｍｗ５２４）                                                                  ５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【００７５】
＜製造例４  コーティング組成物４の調製＞
下記に示す組成からなるコーティング組成物４を調製した。
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製、１０官能、Ｍｗ２０００）
４．９質量部
ウレタンアクリレート（ＵＸ８１０１Ｄ；日本化薬社製、２官能、Ｍｗ５０００以上）
０．１質量部
ポリエステルアクリレート（Ｍ９０５０；東亞合成社製、３官能、Ｍｗ４００〜４３０）
５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【００７６】
＜製造例５  コーティング組成物５の調製＞
下記に示す組成からなるコーティング組成物５を調製した。
ウレタンアクリレート（ＵＸ８１０１Ｄ；日本化薬社製、２官能、Ｍｗ５０００以上）
５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ；日本化薬社製、６官能、Ｍｗ５２４）                                                                  ５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【００７７】
＜製造例６  コーティング組成物６の調製＞
下記に示す組成からなるコーティング組成物６を調製した。
ウレタンアクリレート（ＵＸ５００３Ｄ；日本化薬社製、２官能、Ｍｗ５０００以上）
３質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ；日本化薬社製、６官能、Ｍｗ５２４）                                                                  ６質量部
Ｎ，Ｎ−ジメチルモノエタノールアミノメタクリレート（塩酸塩、単官能、Ｍｗ１９４）
１質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン                                                      ８質量部
Ｎブタノール                                                            ２質量部
【００７８】
＜製造例７  コーティング組成物７の調製＞
下記に示す組成からなるコーティング組成物７を調製した。
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製、１０官能、Ｍｗ２０００）
５質量部
ポリエステルアクリレート（Ｍ８０３０；東亞合成社製、３官能、Ｍｗ４００〜４３０）
５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【００７９】
＜製造例８  コーティング組成物８の調製＞
下記に示す組成からなるコーティング組成物８を調製した。
ウレタンアクリレート（ＵＸ８１０１Ｄ；日本化薬社製、２官能、Ｍｗ５０００以上）
１０質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【００８０】
＜製造例９  コーティング組成物９の調製＞
下記に示す組成からなるコーティング組成物９を調製した。
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製、１０官能、Ｍｗ２０００）
４質量部
ウレタンアクリレート（ＵＸ８１０１Ｄ；日本化薬社製、２官能、Ｍｗ５０００以上）
１質量部
ポリエステルアクリレート（Ｍ９０５０；東亞合成社製、３官能、Ｍｗ４００〜４３０）
５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
トルエン                                                              １０質量部
【００８１】
＜製造例１０  コーティング組成物１０の調製＞
下記に示す組成からなるコーティング組成物１０を調製した。
ウレタンアクリレート（ＵＮ９０２；根上工業社製、９官能、Ｍｗ５９００）  ５質量部
ポリエステルアクリレート（Ｍ９０５０；東亞合成社製、３官能、Ｍｗ４００〜４３０）
５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【００８２】
低屈折率層形成用組成物の調製
低屈折率層形成用組成物として、下記に示す組成をそれぞれ調製した。
表面処理した「空隙を有する」シリカ微粒子（該シリカ微粒子の固形分は２０質量％溶液；メチルイソブチルケトン、粒径５０ナノメートル）                  １４．３質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）                  １．９５質量部
重合開始剤（イルガキュア１２７；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．１質量部
変性シリコーンオイル（Ｘ２２１６４Ｅ；信越化学工業社製）          ０．１５質量部
メチルイソブチルケトン                                            ８３．５質量部
【００８３】
（実施例１）
光学積層体の形成
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（富士写真フィルム製、ＴＦ８０ＵＬ、厚さ８０ミクロン）を用意し、このフィルムの表面に製造例１のコーティング組成物１を、湿潤重量２０ｇ／ｍ２（乾燥重量１０ｇ／ｍ２）塗布（バーコーティング）し、次いで、５０℃にて乾燥することにより溶剤を除去した。その後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン（株））を用いて、照射線量５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行うことにより、組成物を硬化させて、ハードコート層を形成させた。次にハードコート層の表面に、上記低屈折率層用組成物を乾燥重量０．１ｇ／ｍ２塗布（バーコーティング）し、次いで、４０℃にて乾燥することにより溶剤を除去した。その後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン（株））を用いて、照射線量２００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行い、実施例１の光学積層体を製造した。膜厚は、反射率の極小値が波長５５０ｎｍ付近になるように（膜厚０．１μｍ）形成させた。
【００８４】
（実施例２〜６）
実施例１において、コーティング組成物１の代わりに、上記コーティング組成物２〜６を使用した以外は、実施例１と同様にして、実施例２〜６の光学積層体を製造した。
【００８５】
（比較例１〜４）
実施例１において、コーティング組成物１の代わりに、上記コーティング組成物７〜１０を使用した以外は、実施例１と同様にして、比較例１〜５の光学積層体を製造した。
【００８６】
上記より得られた各光学積層体について、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４に準じた鉛筆硬度試験を行い、試験後の低屈折率層の傷（変色）、ハードコート層の傷、及び干渉縞について、下記の方法にて評価した。結果を表１に示す。
【００８７】
低屈折率層の傷（変色）
鉛筆引っ掻き試験の硬度は、作製した光学積層体を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験用鉛筆（硬度３Ｈ）を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−５６００が規定する鉛筆硬度評価方法に従い、４．９Ｎの荷重にて実施した。光学積層体のハードコート層と逆の面に、裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、ハードコート層の面から光学積層体を目視しで観察し、光学積層体の低屈折率層の傷の有無を、目視にて、下記の基準で評価した。
○：変色なし
×：変色あり
【００８８】
ハードコート層の傷
鉛筆引っ掻き試験の硬度は、作製した光学積層体を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験用鉛筆（硬度３Ｈ）を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−５６００が規定する鉛筆硬度評価方法に従い、４．９Ｎの荷重にて実施した。光学積層体のハードコート層と逆の面に、裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、ハードコート層の面から光学積層体を目視しで観察し、光学積層体のハードコート層の傷の有無を、目視にて、下記の基準で評価した。
○：傷なし
×：傷あり
【００８９】
干渉縞の有無
光学積層体のハードコート層と逆の面に、裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、ハードコート層の面から光学積層体を目視しで観察し、下記評価基準にて評価した。
評価基準
評価○：干渉縞の発生はなかった。
評価×：干渉縞の発生があった。
【００９０】
【表１】
0005412735.tif 000002
【００９１】
表１より、比較例の光学積層体は、鉛筆試験後、低屈折率層やハードコート層に傷が発生したり、干渉縞が発生しているものがあるのに対し、実施例の光学積層体は、鉛筆試験後も傷や変色、干渉縞が発生せず、良好な光学特性や外観を維持しているものであることが分かった。
【産業上の利用可能性】
【００９２】
本発明の光学積層体の製造方法により得られる光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等に好適に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９３】
【図１】従来技術の光学積層体の一部の概要図の一例である。
【図２】本発明の光学積層体の一部の概要図の一例である。
【図３】本発明の光学積層体の概要図の一例である。
【図４】本発明の光学積層体の製造方法の説明図である。
【符号の説明】
【００９４】
１、９  低屈折率層
２  クッション性を有する層
３  ハードコート性を有する層
３’  ハードコート層
４  中空シリカ
５  光透過性基材
６  コーティング組成物
７  皮膜
８  浸透層
【図１】
0005412735.tif 000003
【図２】
0005412735.tif 000004
【図３】
0005412735.tif 000005
【図４】
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