(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
機能性成分を含有し、活性光線の照射によって硬化する作用をもつ液体を吐出するインクジェットヘッドと、
前記インクジェットヘッドから吐出された液滴を付着させる非浸透性の媒体と前記インクジェットヘッドとを相対移動させる移動手段と、
前記インクジェットヘッドからの打滴を制御する制御手段と、
前記媒体上に付着させた前記液体に前記活性光線を照射して、当該媒体上の液体を硬化させる活性光照射手段と、を備え、
前記制御手段は、前記活性光照射手段による照射前に、前記インクジェットヘッドから前記媒体に向けて順次吐出を行うことにより、これら着弾時間差のある液滴同士を前記媒体上で合一させて線状パターンを形成するにあたり、先に着弾している液滴群の集合体が当該媒体上で平衡状態に達する前に、前記集合体と更に合一させる次滴を着弾させるように打滴の制御を行い、
前記活性光照射手段は、前記媒体に対する前記液体の接触角をθ［ｒａｄ］とするとき、前記線状パターンを構成する最終着弾滴の着弾時から当該線状パターンを硬化させるまでの時間Ｔ［ｓ］が次式
【数１】
0005460172.tif 000016
を満たすことを特徴とする線描画装置。
【請求項２】
請求項１に記載の線描画装置において、
前記制御手段は、前記媒体上で隣接する液滴の着弾時間間隔ｔ［ｓ］が次式
【数２】
0005460172.tif 000017
を満たすように打滴を制御することを特徴とする線描画装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の線描画装置において、
前記制御手段は、前記媒体に着弾する前の前記液滴の体積を真球換算したときの直径をｄ［μｍ］とするとき、前記媒体上において隣接する前記液滴のドットピッチｐが次式
【数３】
0005460172.tif 000018
の条件を満たすように打滴を制御することを特徴とする線描画装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の線描画装置において、
前記移動手段として、前記媒体を一定速度で搬送する媒体搬送手段を備え、
前記媒体搬送手段による媒体搬送方向について前記インクジェットヘッドの下流側に前記活性光照射手段が配置されていることを特徴とする線描画装置。
【請求項５】
請求項４に記載の線描画装置において、
前記移動手段として、前記インクジェットヘッドを前記媒体搬送方向と平行な方向に移動させるヘッド移動手段を備え、
前記ヘッド移動手段は、前記媒体搬送手段による前記一定速度をｖ［ｍ／ｓ］とするとき、前記媒体搬送方向と平行な方向についての前記インクジェットヘッドと前記活性光照射手段との距離ｄＨ［ｍ］が次式
【数４】
0005460172.tif 000019
を満たすように前記インクジェットヘッドの可動範囲が制限されていることを特徴とする線描画装置。
【請求項６】
請求項４又は５に記載の線描画装置において、
前記インクジェットヘッドと前記活性光照射手段との間に活性光線の伝搬を防止する遮光部材が設けられていることを特徴とする線描画装置。
【請求項７】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の線描画装置において、
前記活性光照射手段は、前記媒体に向けてレーザー光を照射するものであり、
当該活性光照射手段は前記インクジェットヘッドに取り付けられ、これらが一体的に前記媒体に対して相対移動する構成であることを特徴とする線描画装置。
【請求項８】
請求項７に記載の線描画装置において、
前記インクジェットヘッドに対する前記活性光照射手段の相対的な位置関係の下で前記活性光照射手段が取り付けられている方向から前記インクジェットヘッドが存在する方向に向かって前記インクジェットヘッドを前記媒体に対して相対移動させるときに限り、前記インクジェットヘッドからの打滴を行うことを特徴とする線描画装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の線描画装置において、
前記活性光線は紫外線であることを特徴とする線描画装置
【請求項１０】
機能性成分を含有し、活性光線の照射によって硬化する作用をもつ液体を非浸透性の媒体に向けてインクジェットヘッドから順次吐出して、該吐出された液滴群を前記媒体に付着させ、これら着弾時間差のある液滴同士を前記媒体上で合一させて線状パターンを形成する線描画方法であって、
前記活性光線の照射前に、前記インクジェットヘッドから前記媒体に向けて順次吐出を行うことにより、前記媒体上に先に着弾している液滴群の集合体が当該媒体上で平衡状態に達する前に、
前記集合体と更に合一させる次滴を着弾させるように前記インクジェットヘッドからの打滴の制御を行い、
前記媒体上に付着させた前記液体に前記活性光線を照射して当該媒体上の液体を硬化させるに際し、前記媒体に対する前記液体の接触角をθ［ｒａｄ］とするとき、前記線状パターンを構成する最終着弾滴の着弾時から当該線状パターンを硬化させるまでの時間Ｔ［ｓ］が次式
【数５】
0005460172.tif 000020
を満たすように前記活性光線の照射を行うことを特徴とする線描画方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は線描画装置及び線描画方法に係り、特に、インクジェットヘッドを用いて非浸透性媒体の表面上に線状のパターンを形成するのに好適な線描画技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、リールに巻回されたテープ形状基板をリール・ツー・リール方式で移動させながら、インクジェットヘッド群によって該テープ形状基板の上に配線パターンを描画するパターン形成システムが開示されている。同文献１によれば、テープ形状基板に吐出された液状体（導電性微粒子を含有した分散液）が流動性を失う程度に液状体を仮乾燥させてからテープ形状基板を巻き取ることにより、液状体の流動による変形を防止する旨の記載がある。
【０００３】
特許文献２では、インクジェット方式によって基板上に略円形の膜を形成することを目的として、略正方形状の領域（例えば、３×３のピクセル）に打滴を行い、液滴の表面張力の作用によって基板上で液滴同士を一体化させている。この場合の各ピクセルへの打滴は、基板上で液滴が流動性を有する間に液滴同士が一部重なるように配置される。
【０００４】
特許文献３には、導電性微粒子などの機能性成分を含有した液体をインクジェット法によって基板上に吐出して機能性膜パターンを形成する方法において、基板着弾後の液滴の過剰な濡れ広がりを抑制し、パターンの不具合を防止する観点から、液体に対する接触角が３０［ｄｅｇ］以上６０［ｄｅｇ］以下の膜形成面を有する基板上に、該液体を付与する構成が開示されている。
【０００５】
また、インクジェット描画におけるバルジ（液だまり）やジャギー（輪郭のギザギザ）を抑制する技術に関連して、非特許文献１には、所定温度でゲル化するポリマーをインクジェットで線描画するときに、基板がゲル化温度（転移温度）以上の場合にバルジが発生しなかった旨の記載がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第４１６１９６４号公報
【特許文献２】特開２００６−９５３８１号公報
【特許文献３】特開２００３−８０６９４号公報
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】J.Mater.Chem.“Geometric control of inkjetprinted features using gelating polymer”,2007,17,677-683
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
液体が染み込まない（浸透しない）基板の上に、インクジェットにより液体を吐出して線を描画する場合、基板上に打滴された液滴の間隔や量によっては、線の一部にコブ状の液だまりによる膨らみ（バルジ）ができたり、線の輪郭が滑らかな線にならずに、ギザキザの凹凸（ジャギー）ができたりすることがある。
【０００９】
特許文献１は、乾燥による流動性除去について記載があるが、液滴の着弾時間間隔について記載がなく、このままでは周期的なバルジ及びジャギーの発生を抑制できない。一方、特許文献２の技術は、円形、或いは楕円形状のパターンを形成する際の課題を解決するものであり、特許文献２に示された技術内容のままでは、線描時において大きなバルジが発生することを抑制できない。
【００１０】
また、特許文献３に記載のパターン形成装置は、インクジェットヘッドによる着弾位置（吐出方向）の精度、液滴量の精度、基板の搬送位置の精度により、ドットピッチのばらつきが生じ得る。このため、特許文献３に記載の方法では、必ずしもジャギーの発生を抑止できず、均一な幅の線を安定的に描画することは困難である。
【００１１】
非特許文献１においても、液滴の着弾時間間隔に関する記載がなく、必ずしも周期的なバルジ及びジャギーの発生を抑制できない。
【００１２】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、バルジ及びジャギーの発生を抑止し、均一な幅の線状パターンを安定的に形成することができる線描画装置及び線描画方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記目的を達成するために以下の発明態様を提供する。
【００１４】
（発明１）：発明１に係る線描画装置は、機能性成分を含有し、活性光線の照射によって硬化する作用をもつ液体を吐出するインクジェットヘッドと、前記インクジェットヘッドから吐出された液滴を付着させる非浸透性の媒体と前記インクジェットヘッドとを相対移動させる移動手段と、前記インクジェットヘッドからの打滴を制御する制御手段と、前記媒体上に付着させた前記液体に前記活性光線を照射して、当該媒体上の液体を硬化させる活性光照射手段と、を備え、前記制御手段は、前記活性光照射手段による照射前に、前記インクジェットヘッドから前記媒体に向けて順次吐出を行うことにより、これら着弾時間差のある液滴同士を前記媒体上で合一させて線状パターンを形成するにあたり、先に着弾している液滴群の集合体が当該媒体上で平衡状態に達する前に、前記集合体と更に合一させる次滴を着弾させるように打滴の制御を行い、前記活性光照射手段は、前記媒体に対する前記液体の接触角をθ［ｒａｄ］とするとき、前記線状パターンを構成する最終着弾滴の着弾時から当該線状パターンを硬化させるまでの時間Ｔ［ｓ］が次式
【００１５】
【数１】
0005460172.tif 000002
【００１６】
を満たすことを特徴とする。
【００１７】
本発明によれば、非浸透性の媒体上に順次着弾した液滴群がまとまり、やがて平衡状態に達して線状のパターンが形成される。このとき、先着弾に係る液滴群の集合体が濡れ広がりきる前（平衡状態に達する前）に、次の液滴を着弾させ、その集合体と合一させることにより、ジャギーの発生を抑止できる。また、線状パターンを打滴後、短時間内に硬化処理を行うため、バルジの発生を抑止できる。このように、本発明によれば、バルジやジャギーの発生を防止して、均一な線幅の線分を形成することができる。
【００１８】
実験的知見によれば、着弾液滴群が媒体上で線状に合一した集合体（かたまり）をそのまま長時間放置すると、線形状の一部分が膨らみ、やがて表面張力による圧力差で次第にその膨らみが成長して大きなバルジとなる。この現象において、描画後に線形状の一部分が膨らみ始める時間は、接触角の３乗に反比例し、接触角３０°（π／６［ｒａｄ］）のときに１秒程度である。よって、接触角３０°（π／６［ｒａｄ］）の場合で描画後１秒以内に硬化させることが好ましい。なお、活性光線としては、紫外線、可視光、赤外線、或いはこれらの適宜の組み合わせが可能である。
【００１９】
（発明２）：発明２に係る線描画装置は、発明１に記載の線描画装置において、前記制御手段は、前記媒体上で隣接する液滴の着弾時間間隔ｔ［ｓ］が次式
【００２０】
【数２】
0005460172.tif 000003
【００２１】
を満たすように打滴を制御することを特徴とする。
【００２２】
実験的知見によれば、着弾滴が平衡状態に達するまでに要する時間は接触角の３乗に反比例し、接触角３０°（π／６［ｒａｄ］）のときに隣接間画素の着弾時間差（打滴時間間隔）を１μｓ以内とすることが好ましい。
【００２３】
（発明３）：発明３に係る線描画装置は、発明１又は２に記載の線描画装置において、前記制御手段は、前記媒体に着弾する前の前記液滴の体積を真球換算したときの直径をｄ［μｍ］とするとき、前記媒体上において隣接する前記液滴のドットピッチｐが次式
【００２４】
【数３】
0005460172.tif 000004
【００２５】
の条件を満たすように打滴を制御することを特徴とする。
【００２６】
この条件を満たす打滴を行うことにより、ジャギーの発生を抑止することができる。
【００２７】
（発明４）：発明４に係る線描画装置は、発明１乃至３のいずれか１項に記載の線描画装置において、前記移動手段として、前記媒体を一定速度で搬送する媒体搬送手段を備え、前記媒体搬送手段による媒体搬送方向について前記インクジェットヘッドの下流側に前記活性光照射手段が配置されていることを特徴とする。
【００２８】
かかる態様によれば、インクジェットヘッドにより描画が行われた媒体は、媒体搬送手段によって活性光照射手段の位置へと搬送されて硬化処理が行われる。
【００２９】
（発明５）：発明５に係る線描画装置は、発明４に記載の線描画装置において、前記移動手段として、前記インクジェットヘッドを前記媒体搬送方向と平行な方向に移動させるヘッド移動手段を備え、前記ヘッド移動手段は、前記媒体搬送手段による前記一定速度をｖ［ｍ／ｓ］とするとき、前記媒体搬送方向と平行な方向についての前記インクジェットヘッドと前記活性光照射手段との距離ｄＨ［ｍ］が次式
【００３０】
【数４】
0005460172.tif 000005
【００３１】
を満たすように前記インクジェットヘッドの可動範囲が制限されていることを特徴とする。
【００３２】
かかる態様によれば、インクジェットヘッドが移動しても必ず［数１］に記載の条件を満たす時間内に硬化を行うことができる。
【００３３】
（発明６）：発明６に係る線描画装置は、発明４又は５に記載の線描画装置において、前記インクジェットヘッドと前記活性光照射手段との間に活性光線の伝搬を防止する遮光部材が設けられていることを特徴とする。
【００３４】
かかる態様によれば、インクジェットヘッドのノズル内の液が活性光線によって硬化してしまうことを防止することができ、ノズル詰まり（不吐）や吐出不良の発生を予防することができる。
【００３５】
（発明７）：発明７に係る線描画装置は、発明１乃至３のいずれか１項に記載の線描画装置において、前記活性光照射手段は、前記媒体に向けてレーザー光を照射するものであり、当該活性光照射手段は前記インクジェットヘッドに取り付けられ、これらが一体的に前記媒体に対して相対移動する構成であることを特徴とする。
【００３６】
かかる態様によれば、インクジェットヘッドによる描画の直後にレーザー光を照射することができる。また、レーザー光は直進性が高く、インクジェットヘッドのノズルに光が入り込み難いため、インクジェットヘッドの近くに活性光照射手段を配置する形態にあっては、活性光照射手段としてレーザー光を照射するものが好ましい。
【００３７】
（発明８）：発明８に係る線描画装置は、発明７に記載の線描画装置において、前記インクジェットヘッドに対する前記活性光照射手段の相対的な位置関係の下で前記活性光照射手段が取り付けられている方向から前記インクジェットヘッドが存在する方向に向かって前記インクジェットヘッドを前記媒体に対して相対移動させるときに限り、前記インクジェットヘッドからの打滴を行うことを特徴とする。
【００３８】
インクジェットヘッドと活性光照射手段とを組み合わせたユニットを一体的に走査させる構成の場合、打滴後短時間内に活性光線を照射するためには、媒体上から見た際にユニットの移動方向に向かってインクジェットヘッドが先行し、活性光照射手段が後を追うような位置関係でユニットを移動させることが好ましい。
【００３９】
すなわち、前記活性光照射手段が取り付けられている方向（ヘッド移動方向に向かって後方側）から前記インクジェットヘッドが存在する方向（ヘッド移動方向に向かって前方側）にインクジェットヘッドを媒体に対して相対移動させるときに打滴を行うことにより、打滴後の位置に活性光線を照射することができる。
【００４０】
（発明９）：発明９に係る線描画装置は、発明１乃至８のいずれか１項に記載の線描画装置において、前記活性光線は紫外線であることを特徴とする。
【００４１】
例えば、紫外線の照射によって重合硬化するモノマー（いわゆるＵＶ硬化性モノマー）等を用いた機能性液に対して、ＵＶランプやＵＶレーザーなどの紫外線照射手段を適用することができる。
【００４２】
（発明１０）：発明１０に係る線描画方法は、機能性成分を含有し、活性光線の照射によって硬化する作用をもつ液体を非浸透性の媒体に向けてインクジェットヘッドから順次吐出して、該吐出された液滴群を前記媒体に付着させ、これら着弾時間差のある液滴同士を前記媒体上で合一させて線状パターンを形成する線描画方法であって、前記活性光線の照射前に、前記インクジェットヘッドから前記媒体に向けて順次吐出を行うことにより、前記媒体上に先に着弾している液滴群の集合体が当該媒体上で平衡状態に達する前に、前記集合体と更に合一させる次滴を着弾させるように前記インクジェットヘッドからの打滴の制御を行い、前記媒体上に付着させた前記液体に前記活性光線を照射して当該媒体上の液体を硬化させるに際し、前記媒体に対する前記液体の接触角をθ［ｒａｄ］とするとき、前記線状パターンを構成する最終着弾滴の着弾時から当該線状パターンを硬化させるまでの時間Ｔ［ｓ］が次式
【００４３】
【数５】
0005460172.tif 000006
【００４４】
を満たすように前記活性光線の照射を行うことを特徴とする。
【発明の効果】
【００４５】
本発明によれば、非浸透性の媒体上に着弾した液が平衡状態に達するまでの時間内に次滴を着弾させる打滴制御を行うと共に、線状パターンの描画後の短時間内に活性光線の照射による硬化を行うことにより、ジャギー及びバルジの発生を抑止でき、均一の太さ（線幅）の線状パターンを形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の第１実施形態に係る線描画装置の構成を示す側視図
【図２】図１に示した線描画装置の平面図
【図３】記録ヘッドにおける液滴吐出素子の立体的構成を示す断面図
【図４】本例に係る線描画装置の制御系を示すブロック図
【図５】基板上に直線状のパターンＬを描画するときの手順を模式的に示す図
【図６】基板上に打滴された液滴の経時変化を模式的に示す図
【図７】印字周波数の違いによる線幅の安定性を示した図
【図８】接触角の違いによる液滴の濡れ広がり挙動を示したグラフ
【図９】線状パターンを描画した後に硬化処理を行う時間の違いによるバルジ発生の有無を比較した図
【図１０】印字後の時間経過とバルジ部幅の関係を調べたグラフ
【図１１】本例の線描画装置における記録ヘッドの移動範囲の制限を説明するための平面図
【図１２】多ノズルを有する記録ヘッドと基板とを相対的に走査してパターンＬを描画するときの走査制御の手順を模式的に示す図
【図１３】本発明の第２実施形態に係る線描画装置の構成を示す側視図
【図１４】図１３に示した線描画装置の平面図
【図１５】記録ヘッドとＵＶレーザー照射装置の位置関係と打滴時のヘッド移動方向を示す模式図
【図１６】記録ヘッドとＵＶレーザー照射装置の位置関係と打滴時のヘッド移動方向を示す模式図
【発明を実施するための形態】
【００４７】
以下、添付図面に従って本発明の実施形態について詳細に説明する。
【００４８】
＜第１実施形態＞
〔線描画装置の構成〕
図１は本発明の第１実施形態に係る線描画装置の構成を示す側視図、図２はその平面図である。これらの図面に示したとおり、本実施形態に係る線描画装置１０は、基板１２（「非浸透性の媒体」に相当）を搬送するベルト１４（「移動手段」、「媒体搬送手段」に相当）と、基板１２に向けて機能性液（ここでは、紫外線によって硬化する作用を持つ液体であり、説明の便宜上、以下「ＵＶインク」という。）１６を吐出するインクジェットヘッド（以下、「記録ヘッド」という。）１８と、ＵＶ光照射装置２０（「活性光照射手段」に相当）とを含んでいる。
【００４９】
基板１２は、記録ヘッド１８から吐出したＵＶインク１６を付着させる被描画媒体である。基板１２は、樹脂に代表される非浸透性の媒体、或いは、浸透時間が十分に長い低浸透性の媒体が用いられる。本明細書ではこれらを包括して「非浸透性媒体」という。例えば、基板１２は、ポリイミド、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ガラスエポキシ、シリコン、ガラス、金属など、様々な材質が可能である。
【００５０】
ベルト１４は、図示せぬローラ間に巻き掛けられた無端状のベルトであり、図示せぬモータによって駆動される。ベルト１４上に保持された基板１２は、図１、図２の右方向（＋ｙ方向；副走査方向）に搬送される。描画時において、基板１２の搬送速度は一定に制御される。なお、本例では、基板１２の搬送手段としてベルト１４を採用しているが、基板１２を保持、搬送する手段はベルト１４に限定されない。例えば、平板状のプレートに基板１２を載せてプレートとともに基板１２を移動させる形態や、基板１２の柔軟性が許せば、ドラム（胴）の周面に基板１２を巻き付けてドラムを回転させることにより、基板１２を移動させるなどの形態も可能である。
【００５１】
ＵＶインク１６は、グラフィック印刷の用途に適した着色インクに限らず、プリント配線用のレジストインク（耐熱性被覆材料）、導電性微粒子を分散媒に分散させた分散液、カラーフィルターの製造に用いるインクなど、様々な形態があり得る。
【００５２】
記録ヘッド１８は、基板１２の表面と平行な面内で基板１２の搬送方向（＋ｙ方向）と直交する方向（ｘ軸方向；主走査方向）及び基板１２の搬送方向と平行な方向（ｙ軸方向）に移動可能に支持されている。記録ヘッド１８を移動させるための駆動機構（ｘ方向移動手段、ｙ方向移動手段）の詳細な構成は図示しないが、ボールネジ、リニアレールなど、周知の手段を適用できる。記録ヘッド１８について、ｘ軸方向への移動とｙ軸方向への移動を同時に行うことにより、ｘｙ面内で任意の方向（斜め方向）の移動も可能である。
【００５３】
また、記録ヘッド１８をｘｙ平面内で回転させる機構（回転手段）や、基板１２の法線方向（ｚ軸方向）に移動させる機構（ｚ方向移動手段）を設けてもよい。
【００５４】
描画時には、ベルト１４と記録ヘッド１８の間のクリアランス（すなわち、ベルト１４上の基板１２面と記録ヘッド１８の間のクリアランス）が所定値になるようにｚ方向のヘッド位置が調整され、この一定のクリアランスを保って記録ヘッド１８がｘ軸方向）及びｙ軸方向に走査される。記録ヘッド１８を±ｘ方向、±y方向に移動させることによって、基板１２上の描画位置を変更することができ、基板１２の描画領域の任意の位置に液滴を着弾させることが可能である。
【００５５】
本例では、ベルト１４によって基板１２を一定の速度で搬送しつつ、記録ヘッド１８をｘ軸方向及びｙ軸方向に移動させながら、記録ヘッド１８のノズル（図３の符号３２）からＵＶインク１６を吐出することにより、基板１２面上で任意の方向の直線を描画することができる。
【００５６】
記録ヘッド１８の速度は、基板１２の搬送方向と同じ方向（図１，図２において＋ｙ方向）に移動させる場合には、その最大値を基板１２の搬送速度とする。つまり、記録ヘッド１８は、基板１２の搬送速度を上限として＋ｙ方向に移動することができる。
【００５７】
ＵＶ光照射装置２０は、基板１２の搬送方向について記録ヘッド１８の下流側に配置されている。記録ヘッド１８によって打滴（描画）が行われた基板１２はベルト搬送によってｙ方向に搬送され、ＵＶ光照射装置２０の位置へと送られる。この基板１２がＵＶ光照射装置２０の下を通過する際に、当該ＵＶ光照射装置２０によって基板１２の描画面に紫外線２２が照射される。これにより、基板１２上のＵＶインクが硬化（固化）する。
【００５８】
なお、ＵＶ光照射装置２０から照射されるＵＶ光が基板１２やベルト１４等で反射し、その反射光が記録ヘッド１８の吐出面（ノズル面）１８Ａに届くと、ノズル内のインクを硬化させ、ノズル詰まり（不吐）の原因となりうる。このような問題に対処するため、ＵＶ光照射装置２０と記録ヘッド１８との間にＵＶ光を遮断するための遮光板２４（「遮光部材」に相当）を設置することが好ましい。
【００５９】
また、インクジェット方式の記録ヘッド１８は、インクを吐出しない状態が長く続くと、ノズル内のインクの溶媒が蒸発して高粘度し、吐出不良や不吐が生じる。かかる問題に対処するため、基板１２上への描画開始前、或いは、描画途中に、描画領域外で予備吐出（「パージ」、「空吐出」、「唾吐き」、「ダミー吐出」とも呼ばれる。）を行うことが望ましい。このため、線描画装置１０において、描画領域の外側に予備吐出領域（「パージゾーン」ともいう。）２６，２７を設ける態様が好ましい。
【００６０】
予備吐出を行ってから基板１２への描画を開始するまでの時間を短縮する観点から、予備吐出領域２６，２７は基板１２の近くに設置することが望ましい。予備吐出後１秒以内に基板１２上への印字を開始することが特に好ましいため、図２に示したように、ベルト１４の両脇に予備吐出領域２６，２７を設ける態様が望ましい。かかる構成により、基板１２への描画開始前、或いは、必要に応じて、描画中に記録ヘッド１８を予備吐出領域２６，２７に移動させて、ここに予備吐出を行う。
【００６１】
図３は、記録ヘッド１８における記録素子単位となる１チャンネル分の液滴吐出素子３０（１つのノズル３２に対応したインク室ユニット）の立体的構成を示す断面図である。
【００６２】
ノズル３２に対応して設けられている圧力室３４は、供給口３６を介して共通流路３８と連通している。共通流路３８は液体の供給源たるタンク（不図示）と連通しており、タンクから供給される液体は共通流路３８を介して圧力室３４に供給される。
【００６３】
圧力室３４の一部の面（図３における天面）を構成している加圧板（共通電極と兼用される振動板）４０には個別電極４２を備えた圧電素子４４が接合されている。なお、圧電素子４４の材料としては、例えば、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）又はチタン酸バリウムのような圧電体を用いることができる。
【００６４】
個別電極４２と共通電極間に駆動信号が印加されると、圧電素子４４が変形して圧力室３４の容積が変化する。この容積変化に伴う圧力変化によりノズル３２からインクが吐出される。インク吐出後、圧電素子４４の変位が元に戻ると、共通流路３８から供給口３６を通って新しいインクが圧力室３４に再充填される。
【００６５】
なお、本実施形態では、インクの吐出力発生手段として圧電素子４４を適用したが、このような吐出方式（ピエゾジェット方式）に代えて、圧力室３４内にヒータを備え、ヒータの加熱による膜沸騰の圧力を利用してインクを吐出させるサーマル方式を適用することも可能である。
【００６６】
また、本発明の実施に際して記録ヘッド１８におけるノズル３２の個数及びその配列形態は特に限定されず、１ノズルのみの構成でもよいし、複数のノズルを一次元配列又は二次元配列した構成であってもよい。
【００６７】
図４は、線描画装置１０の制御系を示すブロック図である。
【００６８】
線描画装置１０は、通信インターフェース５０、システムコントローラ５２、プログラム格納部５４、メモリ５６、モータドライバ５８、ＵＶ光源ドライバ６０、打滴制御部６２、バッファメモリ６４、ヘッドドライバ６６を備えている。
【００６９】
通信インターフェース５０は、ホストコンピュータ７０から送られてくる打滴データを受信するインターフェース部である。通信インターフェース５０としては、ＵＳＢ（Universal Serial Bus）、ＩＥＥＥ１３９４、イーサネット（登録商標）、無線ネットワークなどのシリアルインターフェース、又はセントロニクスなどのパラレルインターフェースを適用することができる。なお、この部分には、通信を高速化するためのバッファメモリを搭載してもよい。
【００７０】
システムコントローラ５２は、中央演算処理装置（ＣＰＵ）及びその周辺回路を含んでおり、線描画装置１０の各部を制御する制御部であるとともに、各種の演算処理を行う演算処理部である。システムコントローラ５２は、ホストコンピュータ７０との間の通信制御、メモリ５６の読み書き制御等をするとともに、搬送駆動系やヘッド走査系のモータ７２及びＵＶ光源７４の発光を制御する制御信号を生成する。
【００７１】
プログラム格納部５４には、線描画装置１０の制御に必要なプログラムや各種データが格納されている。システムコントローラ５２は、プログラム格納部５４に格納されている種々の制御プログラムを適宜読み出し、プログラムを実行する。
【００７２】
メモリ５６は、データの一時記憶領域、及びシステムコントローラ５２が各種の演算を行うときの作業領域として使用される記憶手段である。メモリ５６としては、半導体素子からなるメモリのほか、ハードディスクなどの磁気媒体を用いることができる。
【００７３】
モータ７２は、本装置内に設けられた各種モータを示しており、図１、図２で説明したベルト１４の駆動機構に動力を与えるモータの他、記録ヘッド１８の移動機構に動力を与えるモータが含まれる。モータドライバ５８は、システムコントローラ５２からの制御信号に従ってモータ７２を駆動する。
【００７４】
ＵＶ光源７４は、図１，図２で説明したＵＶ光照射装置２０に含まれるものであり、ＵＶランプやレーザダイオードなどで構成される。光源ドライバ６０は、システムコントローラ５２からの制御信号に従ってＵＶ光源７４のオン（発光）／オフ（消灯）や発光量の調整を行う。
【００７５】
ホストコンピュータ７０から送出された打滴データは、通信インターフェース５０を介して線描画装置１０に取り込まれ、メモリ５６に一時記憶される。打滴制御部６２は、システムコントローラ５２の制御に従い、メモリ５６内の打滴データから吐出制御用の信号を生成するための各種加工、補正などの処理を行う信号処理機能を有し、生成した吐出制御信号（吐出データ）をヘッドドライバ６６に供給する制御部である。打滴制御部６２において所要の信号処理が施され、該打滴データに基づいてヘッドドライバ６６を介して記録ヘッド１８の液体の吐出量や吐出タイミングの制御が行われる。
【００７６】
打滴制御部６２には、バッファメモリ６４が備えられており、打滴制御部６２における打滴データ処理時に打滴データやパラメータなどのデータがバッファメモリ６４に一時的に格納される。なお、バッファメモリ６４は、メモリ５６と兼用することも可能である。また、打滴制御部６２とシステムコントローラ５２とを統合して１つのプロセッサで構成する態様も可能である。本例のシステムコントローラ５２及び打滴制御部６２の組み合わせが「制御手段」に相当している。
【００７７】
ヘッドドライバ６６は、打滴制御部６２から与えられる吐出データに基づいて記録ヘッド１８の圧電素子４４（図３参照）を駆動する。ヘッドドライバ６６は、ヘッドの駆動条件を一定に保つためのフィードバック制御系を備えていてもよい。
【００７８】
また、図示は省略するが、線描画装置１０は、記録ヘッド１８に液体を供給するための供給系や、記録ヘッド１８のメンテナンス（ノズル吸引やノズル面のワイピングなど）を行うメンテナンス部を備えている。
【００７９】
［液滴の吐出条件について］
図５は、記録ヘッド１８をｘ方向に走査して基板１２上に直線状のパターンＬを描画するときの手順を模式的に示す図である。ここでは、説明の便宜上、記録ヘッド１８は１ノズルのみを有するものとして説明する。
【００８０】
図５に示すように、記録ヘッド１８をｘ方向に走査しながら、ノズル３２よりＵＶインクを順次吐出して、その着弾液滴８０を基板１２上で合一させることにより基板１２上に直線状のパターンＬを描画する。以下、このような線描画においてジャギー及びバルジの発生を防止するための条件を検討する。
【００８１】
［液体の吐出条件１（ドットピッチｐ）］
図６は、基板１２の表面に打滴された液滴の経時変化を模式的に示す図（断面図及び平面図）である。図６（ａ）に示すように、記録ヘッド１８から吐出されて基板１２の表面に着弾した液滴Ｄ１ｅｑｍは、着弾当初はそれぞれ略円形であり、隣接する液滴と接触する。そして、図６（ｂ）に示すように、各液滴Ｄが濡れ広がってパターンＬが形成される。
【００８２】
液滴同士が合一して最終的な線状のパターンＬが形成された際には、パターンＬの輪郭は理想的には滑らかな直線となり、その合一体の形状は、全体的には概ね半円柱形状（円柱を軸と平行な面で切断した部分円柱形状）となる。このため、パターンＬの線分の両端を除き、線分の中で個々の着弾液滴の部分に注目すると、着弾直後の半球型の形状（図６（ａ））から、濡れ広がり後には半円柱型の形状（図６（ｂ））に変化したものと見なすことができる。
【００８３】
ここで、基板１２は、液滴Ｄが染み込まない（浸透しない）媒体であり、基板１２に着弾する前後で液滴の体積は保存されるとする（仮定１）。また、液滴Ｄの基板１２に対する接触角θ［ｒａｄ］が一定であるとする（仮定２）。
【００８４】
このとき、基板１２に着弾したときの液滴Ｄ１ｅｑｍの直径ｄｅｑｍ［μｍ］と着弾前の液滴Ｄの直径ｄ［μｍ］との比（拡がり率）βｅｑｍは下記の式（１）により表される。ここで、直径ｄは、着弾前の液滴Ｄを真球換算したときの直径である。
【００８５】
【数６】
0005460172.tif 000007
【００８６】
パターンＬの幅をｗ［μｍ］とすると、図６（ｂ）における液体Ｄ２ｅｑｍを、液体Ｄ２ｅｑｍの中心を通りｚｙ平面に平行な面で切ったときの断面積Ｓ１［μｍ２］は下記の式（２）により表される。
【００８７】
【数７】
0005460172.tif 000008
【００８８】
したがって、基板１２上において隣接する液滴の中心間の距離（ノズルピッチ）をｐ［μｍ］とすると、液体Ｄ２ｅｑｍの体積Ｖａ［μｍ３］は下記の式（３）により表される。
【００８９】
【数８】
0005460172.tif 000009
【００９０】
一方、着弾前の液滴の直径がｄであることから、着弾前の液滴Ｄの体積Ｖｂ［μｍ３］は下記の式（４）により表される。
【００９１】
【数９】
0005460172.tif 000010
【００９２】
上記仮定１により着弾の前後で液滴Ｄの体積は不変である。Ｖａ＝Ｖｂを線幅ｗについて解くと、下記の式（５）が得られる。
【００９３】
【数１０】
0005460172.tif 000011
【００９４】
ここで、ジャギーが発生しないためには、着弾径ｄより線幅ｗが広くなることが必要との観点から、ｗ≧ｄｅｑｍ＝βｅｑｍｄであることから、ドットピッチｐを変数として式（５）を解くと、ドットピッチｐの条件式（６）が得られる。
【００９５】
【数１１】
0005460172.tif 000012
【００９６】
上記の式（６）の条件を満たすようにドットピッチｐを制御することにより、パターンＬの輪郭のギザギザ（ジャギー）が発生するのを防止することができる。
【００９７】
［液体の吐出条件２（打滴の時間間隔）］
次に、打滴の時間間隔について説明する。図７は、上記の式（６）を満たす条件の下で、接触角θ＝３０［°］、着弾径ｄｅｑｍ＝５５［μｍ］、ドットピッチ２０［μｍ］として、１秒間に液滴Ｄを打滴する回数（印字周波数）を変えて線を描画したときの線幅ｗの安定性を示している。図７中の（ａ）は印字周波数１０Ｈｚの場合、（ｂ）は１ｋＨｚの場合、（ｃ）は１０ｋＨｚの場合の描画結果である。
【００９８】
この結果から、接触角３０°程度では印字周波数が１ｋＨｚ以上の高周波印字を行うことにより、バルジの発生が抑制できる。
【００９９】
接触角の条件を更に変えて、同様の実験を行ったところ、接触角が小さい条件では、印字周波数がより低い条件でもバルジの発生が抑制された。逆に、接触角が大きい条件では、印字周波数をより高い条件にすることにより、バルジの発生が抑制された。かかる知見から、バルジの発生は接触角によって決まる濡れ広がりにかかる時間が影響していると考えられる。
【０１００】
図８は、接触角の違いによる液滴の濡れ広がりの挙動を比較したグラフである。接触角３０°の場合と、接触角７５°の場合とでそれぞれ、濡れ広がりによって平衡に達するまでの時間を調べた。図８の横軸は時間（ただし、スケールは対数）、縦軸は着弾直後の着弾径と最終着弾径の比（「着弾径／最終着弾径」）である。つまり、縦軸は、着弾径を最終着弾径で規格化したものである。
【０１０１】
接触角７５°の条件では、最終着弾径の近くまでほぼ広がりきるまでの時間がｔ1（約０．２［ｍｓ］）であるのに対し、接触角３０°の条件では最終着弾径の近くまでほぼ広がりきるまでの時間がｔ2（約２［ｍｓ］）である。つまり、接触角３０°の方が接触角７５°よりも平衡に達するまでの時間が約１０倍長い。
【０１０２】
このように、接触角の違いで液滴が濡れ広がりきるまでの時間（平衡状態に達するまでに要する時間）が大きく異なる。実験に基づく経験的な知見から、濡れ広がりきるまでに要する時間は接触角の約３乗に反比例すると考えられる。よって、バルジ抑制の観点から、着弾液滴群が濡れ広がりきるまでの間に（平衡に達するまでの時間内に）隣接する液滴を次々に着弾させることが望ましい。このため、接触角が大きい条件の場合ほど、印字周波数を高くする（打滴時間間隔を短くする）ことが望ましい。
【０１０３】
実験によれば、接触角３０°の場合に、着弾時間差（打滴時間間隔）を１μｓ以内とすることが好ましい。したがって、接触角をパラメータとして一般化すると、下記［数１２］の条件となる。
【０１０４】
【数１２】
0005460172.tif 000013
【０１０５】
すなわち、接触角に応じて［数１２］の条件を満たす着弾時間間隔を実現する高周波印字（打滴）を行うことにより、着弾液滴群が基板上でまとまった状態で平衡状態を作成する。これにより、低周波印字時のときに着弾液滴群が基板上で小さなまとまりの集合体として発生する周期的な小さいバルジ及びジャギーの発生を抑止することができる。
【０１０６】
［打滴後に硬化処理を実施するまでの時間間隔について］
図９（ａ）は記録ヘッド１８にて基板１２上に線状のパターンを描画した後約２分後にＵＶ光照射装置２０からＵＶ光を照射して硬化処理を行った場合に得られた線状パターンの例である。図９（ｂ）は記録ヘッド１８にて基板１２上に線状のパターンを描画した後約１秒後にＵＶ光照射装置２０からＵＶ光を照射して硬化処理を行った場合に得られた線状パターンの例である。
【０１０７】
なお、いずれの場合も打滴条件は既述した式（６）の条件を満たすものであり、ここでは、接触角３０°、ドットピッチ５μｍ、印字周波数４ｋＨｚとした。また、図９（ａ）、（ｂ）はそれぞれ約１ｃｍの長さの線分を描画した線状パターンを４つに分割して並べた図である。
【０１０８】
図９（ａ）、（ｂ）の両者を比較すると明らかなように、印字後約２分後に硬化処理を実施した場合には、線分中に大きな液たまり（バルジ８４）が成長しているのに対し（図９（ａ））、印字後約１秒後に硬化処理を実施した場合にはバルジが発生していない。このように、打滴直後に硬化処理を実施し、基板１２上における液の流動性を失わせることにより、バルジの発生を抑制することができる。
【０１０９】
図１０は、印字後の時間経過とバルジ部幅の関係を調べたグラフである。なお、ここで言う「バルジ部幅」とは、図９のｗｂで示したように、線状パターンＬの線の太さ方向の幅を指す。
【０１１０】
図１０において横軸は印字後の経過時間（単位［秒］）を表し、縦軸はバルジ部幅（単位［μｍ］）を表す。なお、図１０は図９と同等の条件で打滴したものである。図１０に示すように、印字後１．５秒後からバルジが成長し始め、時間経過とともに次第に大きく膨らんでいく様子が把握できる。
【０１１１】
バルジは打滴後のインクが基板１２上で流動性を有していることによって成長することから、１秒以内にＵＶ光を照射してインクを硬化させることが好ましい。
【０１１２】
上記の知見から、本実施形態に係る線描画装置１０における記録ヘッド１８の打滴位置と、ＵＶ光照射装置２０のＵＶ照射位置との間の距離、並びに、基板１２の搬送速度について制約が設けられる。
【０１１３】
すなわち、図１１に示すように、記録ヘッド１８のｙ軸方向の移動可能範囲は、記録ヘッド１８が基板搬送方向に対してＵＶ光照射装置２０から最も離れる位置（符号８６で示した破線の位置）からＵＶ光照射装置２０までの距離ｄＨ［ｍ］が、基板１２の搬送速度ｖ［ｍ／ｓ］×１秒（［ｓ］）の距離以内とする。
【０１１４】
[数１３]
ｄＨ［ｍ］＜１［ｓ］×ｖ［ｍ／ｓ］
このような条件を満たすように、記録ヘッド１８の可動範囲を規制（制限）するとともに、ＵＶ光照射装置２０の設置位置と、基板１２の搬送速度（ベルト１４の線速度）を制御する。
【０１１５】
なお、ベルト１４によって一定速度ｖ［ｍ／ｓ］で搬送される基板１２上に、当該基板搬送速度方向に垂直な線（図１１におけるｘ方向と平行な線）を描画する際は、記録ヘッド１８も基板搬送速度と同じ速度で移動させる（ｙ方向の相対速度を０とする）。
【０１１６】
また、基板搬送速度方向に平行な線を描画する場合は、印字周波数とドットピッチの条件から記録ヘッド１８の移動速度が決定される。基板搬送速度方向に対して斜めに交差する斜め線を描画する場合は、その斜め線の方向に記録ヘッド１８が基板１２に対して相対的に移動するように記録ヘッド１８の速度を決定する。
【０１１７】
基板搬送速度方向に対して垂直な線、平行な線、或いは斜めに交差する斜め線のいずれを描画する場合であっても、図１１のように最大離間距離ｄＨ［ｍ］と基板搬送速度ｖ［ｍ／ｓ］について、［数１３］の条件を満たすことにより、バルジ発生前に硬化させることができる。
【０１１８】
また、実験によれば、描画後に線形状の一部分が膨らみ始める時間は、接触角の約３乗に反比例する。よって、接触角をパラメータとして、硬化までの時間を規定すると、描画後に線形状の一部分が膨らみ始める時間については、接触角の３乗に反比例することから、接触角をパラメータとして一般化すると、下記［数１４］の条件となる。
【０１１９】
【数１４】
0005460172.tif 000014
【０１２０】
そして、［数１３］と同様の観点について［数１４］の条件を適用して一般化すると下記［数１５］の条件となる。
【０１２１】
【数１５】
0005460172.tif 000015
【０１２２】
すなわち、接触角に応じて［数１５］の条件を満たす印字後の即時硬化を行うことにより、バルジの発生・成長を抑止することができる。
【０１２３】
＜マルチノズルヘッドを利用する形態＞
図５では１ノズルで線描画する場合を例に説明したが、記録ヘッド１８の構成として複数のノズルを有する形態も可能である。例えば、図１２に示すように、複数のノズル３２を一定のノズル間隔Ｎpで１列に並べた記録ヘッド１８’（ラインヘッド）を用いることができる。
【０１２４】
図１２は、記録ヘッド１８’と基板１２とをｙ方向に相対的に走査してパターンＬを描画するときの走査制御の手順を模式的に示す図である。図１２において、基板１２の搬送方向をｙ方向（副走査方向）、基板１２の面に平行でｙ方向に垂直な方向（主走査方向）をｘ方向とする。また、ｘｙ平面に垂直な方向をｚ方向、直線状のパターンＬが形成される方向（パターン形成方向、印字方向）をＵ方向、基板１２に平行で、Ｕ方向に垂直な方向をＶ方向とする。
【０１２５】
図１２に示すように、１つの線状のパターンＬを形成する時に少なくとも２つ以上のノズル３２が用いられている。記録ヘッド１８’は、ｘｙ面内で回転させる回転機構によって、ノズル３２の中心を結ぶ直線（ノズルラインＮＬ）が印字方向（Ｕ方向）に対してなす角がφ［°］（０°＜φ＜９０°）となるように保持される。ノズルラインＮＬとＵ軸のなす角がφ［°］の状態を保ったまま、記録ヘッド１８と基板１２とが副走査方向（ｙ方向）に相対的に走査され、各ノズル３２から順次打滴を行うことにより、Ｕ方向に延びる線状の（例えば、直線の）パターンＬが描画される。なお、記録ヘッド１８’のノズルラインＮＬをｘ方向と平行に設置し、基板１２側をｘ方向に対して角度φだけ傾けるようにｘｙ面内で回転させる態様も可能である。
【０１２６】
図１２の形態の場合、基板１２上でＵ方向に並ぶ着弾液滴８０の着弾時間差について［数１２］の条件を満たすように打滴を制御する。図１２の形態によれば、記録ヘッド１８’の吐出周波数と基板１２の搬送速度との組み合わせによって着弾時間間隔（基板１２上への印字周波数）を制御できる。
【０１２７】
＜第２実施形態＞
図１３は本発明の第２実施形態に係る線描画装置１１０の構成を示す側視図であり、図１４はその平面図である。これらの図面中、図１、図２で説明した構成と同一又は類似する要素には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【０１２８】
図１３、図１４に示した第２実施形態に係る線描画装置１１０は、基板１２の搬送手段として、支持プレート１１４が用いられている。この支持プレート１１４は図示せぬ移動機構（例えば、ｘｙテーブルなど）によって、ｘ方向及びこれに直交するｙ方向に移動可能である。なお、支持プレート１１４はｘｙ面内で回転させる機構を備えても良い。
【０１２９】
また、記録ヘッド１８にはＵＶレーザー照射装置１２０が取り付けられている。記録ヘッド１８とＵＶレーザー照射装置１２０は一体的に移動可能であり、図示せぬヘッド移動機構によって、ｘ方向及びｙ方向に移動可能である。なお、記録ヘッド１８及びＵＶレーザー照射装置１２０をｘｙ面内で回転させる機構を備えても良い。
【０１３０】
記録ヘッド１８の近くに設置するＵＶ光照射手段としては、ビームの広がり角の小さいレーザーが好適である。
【０１３１】
図１４に示すように、ＵＶレーザー照射装置１２０は、記録ヘッド１８から見てｘ方向に配置される第１のＵＶレーザー照射装置１２０Ａと、記録ヘッド１８から見てｙ方向に配置される第２のＵＶレーザー照射装置１２０Ｂとを組み合わせたユニットとして構成されている。
【０１３２】
なお、図１４において、記録ヘッド１８の周囲４面を全て取り囲むようにＵＶレーザー照射装置を取り付ける態様も可能であるが、必ずしも４面全周にＵＶレーザー照射装置を取り付けることは必要なく、少なくとも１つの方向にＵＶレーザー照射装置を設置すればよい。
【０１３３】
図１４では、ｘ方向とｙ方向にそれぞれ１つずつＵＶレーザー照射装置（１２０Ａ、１２０）を設けており、記録ヘッド１８を挟んで第１のＵＶレーザー照射装置１２０Ａと反対側にはＵＶレーザー照射装置は取り付けられておらず、記録ヘッド１８を挟んで第２のＵＶレーザー照射装置１２０Ｂと反対側にはＵＶレーザー照射装置は取り付けられていない。
【０１３４】
このような記録ヘッド１８とＵＶレーザー照射装置（１２０Ａ，１２０Ｂ）との配置関係から、基板１２に対して記録ヘッド１８が、図中の白抜き矢印１２３、１２４の方向へと相対的に移動する際に印字（打滴）を行うものとする。或いはまた、記録ヘッド１８に対して基板１２が図中の白抜き矢印１３３、１３４の方向へと相対的に移動する際に、記録ヘッド１８から打滴を行うものとする。
【０１３５】
図１５は、記録ヘッド１８とＵＶレーザー照射装置（１２０Ａ、１２０Ｂ）の配置関係と、打滴時の記録ヘッド１８の移動方向を示した模式図である。図示のように、矢印１２３又は１２４の方向に記録ヘッド１８を移動させるときに打滴を行う。これにより、記録ヘッド１８が打滴した直後に第１のＵＶレーザー照射装置１２０Ａ又は第２のＵＶレーザー照射装置１２０Ｂを照射して基板１２上の液滴を硬化させることが可能である。
【０１３６】
ＵＶレーザー照射装置を１つのみ取り付ける場合について図１６に示す。この場合も図１５と同様に、記録ヘッド１８とＵＶレーザー照射装置１２０Ａ（又は１２０Ｂ）との配置関係において、記録ヘッド１８が移動方向に向かって先頭側、ＵＶレーザー照射装置１２０Ａ（又は１２０Ｂ）が移動方向に向かって後方側となる移動方向（白抜き矢印１２３，１２４）に当該ユニットが移動するときのみ印字（打滴）を行うものとする。
【０１３７】
また、記録ヘッド１８による打滴制御に連動してＵＶレーザー照射装置（１２０Ａ，１２０Ｂ）のレーザー照射タイミング、照射時間等が制御される。この場合、基板１２上に着弾したＵＶインクに対して重合（硬化）に必要なエネルギー量の紫外線を照射する観点から、照射継続時間が決定される。例えば、吐出信号が記録ヘッド１８のある吐出ノズルのどれか１つに入ってから少なくとも３秒間はＵＶレーザーが照射されるような構成とすることが好ましい。
【０１３８】
＜ＵＶインクの例について＞
配線描画に用いる機能性液体として、導電性微粒子を分散媒に分散させた分散液を用いることができる。導電性微粒子としては、例えば、銀ナノ粒子が用いられ、分散媒としては、例えば水又はテトラデカンが用いられる。なお、導電性微粒子は、銀に限らず、金、銅、パラジウム、ニッケルなどでもよい。
【０１３９】
また、液体中にＵＶ硬化性モノマーを含有させ、着弾液に対して紫外線を照射することにより、液中のＵＶ硬化性モノマーを硬化重合させることができる。
【０１４０】
ＵＶ硬化性モノマーは、重合開始剤などから発生するラジカルなどの開始種により重合または架橋反応を生起し、これらを含有する組成物を硬化させる機能を有するものである。
【０１４１】
ＵＶ硬化性モノマーは、ラジカル重合反応、二量化反応など公知の重合又は架橋反応を生起する重合性又は架橋性材料を適用することができる。例えば、少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物、マレイミド基を側鎖に有する高分子化合物、芳香核に隣接した光二量化可能な不飽和二重結合を有するシンナミル基、シンナミリデン基やカルコン基等を側鎖に有する高分子化合物などが挙げられる。中でも、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物がより好ましく、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、より好ましくは２個以上有する化合物（単官能又は多官能化合物）から選択されるものであることが特に好ましい。具体的には、本発明に係る産業分野において広く知られるものの中から適宜選択することができ、例えば、モノマー、プレポリマー（すなわち２量体、３量体及びオリゴマー）及びそれらの混合物、並びにそれらの共重合体などの化学的形態を持つものが含まれる。
【０１４２】
ＵＶ硬化性モノマーは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１４３】
本発明の実施に用いることができるＵＶ硬化性モノマーとしては、特に、ラジカル開始剤から発生する開始種により重合反応を起こさせる各種公知のラジカル重合性のモノマーを用いることが好ましい。
【０１４４】
ラジカル重合性モノマーとしては、（メタ）アクリレート類、（メタ）アクリルアミド類、芳香族ビニル類、ビニルエーテル類及び内部二重結合を有する化合物（マレイン酸など）等が挙げられる。ここで、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」、「メタクリレート」の双方又はいずれかをさし、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」、「メタクリル」の双方又はいずれかをさす。
【０１４５】
＜装置応用例＞
上述した実施形態の線描画装置は、電子回路基板の配線描画装置、各種デバイスの製造装置、吐出用の機能性液体として樹脂液を用いるレジスト印刷装置、微細構造物形成装置など、線状の画像パターンを形成し得る様々な装置に適用可能である。
【符号の説明】
【０１４６】
１０…線描画装置、１２…基板、１４…ベルト、１６…ＵＶインク、１８…記録ヘッド（インクジェットヘッド）、２０…ＵＶ光照射装置、２４…遮光板、３２…ノズル、５２…システムコントローラ、６２…打滴制御部、７２…モータ、８０…着弾液滴、８４…バルジ、１１０…線描画装置、１２０…ＵＶレーザー照射装置
【図１】
0005460172.tif 000021
【図２】
0005460172.tif 000022
【図３】
0005460172.tif 000023
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図８】
0005460172.tif 000027
【図１０】
0005460172.tif 000028
【図１１】
0005460172.tif 000029
【図１２】
0005460172.tif 000030
【図１３】
0005460172.tif 000031
【図１４】
0005460172.tif 000032
【図１５】
0005460172.tif 000033
【図１６】
0005460172.tif 000034
【図７】
0005460172.tif 000035
【図９】
0005460172.tif 000036