(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心軸を回転軸として回転可能に支持されるターレットと、
前記ターレットの周方向に複数設けられ、矩形のリッドを水平に保持すると共に搬送してパッケージの上に接触させるリッド保持手段と、
前記ターレットから独立した状態で設けられ、前記リッドの搭載時に搭載位置に進入して、該リッドの一対の対辺に沿って前記ターレットの半径方向に移動しながら通電することでシーム溶接を実行する一対のローラ電極と、
前記リッド保持手段及び前記一対のローラ電極を制御する制御ユニットと、を備え、
前記リッド保持手段は、前記シーム溶接の実行中に前記リッドを保持し続け、
前記一対のローラ電極は、前記リッド保持手段が前記リッドを保持し続けている間に、前記シーム溶接を完了して前記リッドから退避し、
前記制御ユニットは、前記一対のローラ電極を前記リッドから退避させた後に、前記リッド保持手段による前記リッドの保持を解放することを特徴とする、
シーム溶接装置。
【請求項２】
前記リッド保持手段は、前記リッドの上面を吸着して該リッドを保持する吸着ノズルを備えることを特徴とする、
請求項１に記載のシーム溶接装置。
【請求項３】
前記一対のローラ電極は、前記リッドの前記一対の対辺における前記ターレットの前記中心軸寄りの端部から外側に向かって前記シーム溶接を実行することを特徴とする、
請求項１又は２に記載のシーム溶接装置。
【請求項４】
前記一対のローラ電極は、前記リッドの前記一対の対辺における端部に接触し通電することで仮付けを実行してから、該仮付けの後に前記シーム溶接を実行することを特徴とする、
請求項１〜３のいずれかに記載のシーム溶接装置。
【請求項５】
前記一対のローラ電極は、前記リッドの前記一対の対辺における端部を除く一部に接触し通電することで仮付けを実行してから、該仮付けの後に、前記リッドの前記一対の対辺における端部に移動してから前記シーム溶接を実行することを特徴とする、
請求項１〜３のいずれかに記載のシーム溶接装置。
【請求項６】
前記リッド保持手段は、前記リッドを下方に押圧する付勢手段を備えることを特徴とする、
請求項１〜５のいずれかに記載のシーム溶接装置。
【請求項７】
中心軸を回転軸として回転可能に支持されるターレットの周方向に複数設けられたリッド保持手段によって、矩形のリッドを水平に保持してパッケージの上に接触させるリッド供給工程と、
前記ターレットから独立した状態で設けられた一対のローラ電極を、前記リッドの搭載時に搭載位置に進入させて、該リッドの一対の対辺に沿って前記ターレットの半径方向に移動させながら通電させることでシーム溶接を実行するシーム溶接工程と、
前記リッド保持手段が前記リッドを保持し続けている間に、前記シーム溶接を完了させて前記一対のローラ電極を前記リッドから退避させるローラ退避工程と、
前記ローラ退避工程の後に、前記リッド保持手段による前記リッドの保持を解放するリッド解放工程と、を備えることを特徴とする、
シーム溶接方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パッケージにリッドをシーム溶接するシーム溶接方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、リッド（蓋）を吸着する吸着ノズルと、この吸着ノズルの周りに設けられた一対のローラ電極と、を備えたリッドの仮付け装置が開示されている（例えば、特許文献１参照）。このリッドの仮付け装置は、パッケージ（セラミック容器）の縁に銀ろう材などでろう付けされた溶接リング（シールリング）の上にリッドを置いて、当該リッドの一対の対角近傍を溶接する。これにより、パッケージにリッドが仮付けされる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−００１４２８号公報（図５及び図７参照）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
パッケージにリッドをシーム溶接する際にはリッドの位置を修正しながら仮溶接（仮付け）し、その後パッケージの両辺を一辺ずつシーム溶接する必要があった。装置、工程が複数となりコスト高となり、リードタイムが長いという問題がある。
【０００５】
本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、シーム溶接を簡単に実行することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者の鋭意研究により、上記目的は以下の手段によって達成される。
【０００７】
（１）本発明は、中心軸を回転軸として回転可能に支持されるターレットと、前記ターレットの周方向に複数設けられ、矩形のリッドを水平に保持すると共に搬送してパッケージの上に接触させるリッド保持手段と、前記ターレットから独立した状態で設けられ、前記リッドの搭載時に搭載位置に進入して、該リッドの一対の対辺に沿って前記ターレットの半径方向に移動しながら通電することでシーム溶接を実行する一対のローラ電極と、前記リッド保持手段及び前記一対のローラ電極を制御する制御ユニットと、を備え、前記リッド保持手段は、前記シーム溶接の実行中に前記リッドを保持し続け、前記一対のローラ電極は、前記リッド保持手段が前記リッドを保持し続けている間に、前記シーム溶接を完了して前記リッドから退避し、前記制御ユニットは、前記一対のローラ電極を前記リッドから退避させた後に、前記リッド保持手段による前記リッドの保持を解放することを特徴とする、シーム溶接装置である。
【０００８】
本発明によれば、一対のローラ電極がターレットから独立した状態で設けられているので、ターレット式のシーム溶接装置の場合であっても、シーム溶接を簡単に実行することができる。そして、シーム溶接の実行中にリッド及びパッケージが無用に移動することを防止できる。また、一対のローラ電極が退避する際にリッド及びパッケージが無用に移動することを防止できる。
【０００９】
（２）本発明はまた、前記リッド保持手段は、前記リッドの上面を吸着して該リッドを保持する吸着ノズルを備えることを特徴とする、上記（１）に記載のシーム溶接装置である。
（３）本発明はまた、前記一対のローラ電極は、前記リッドの前記一対の対辺における前記ターレットの前記中心軸寄りの端部から外側に向かって前記シーム溶接を実行することを特徴とする、上記（１）又は（２）に記載のシーム溶接装置である。
【００１０】
上記発明によれば、一対のローラ電極が、ターレットの中心軸から離れる当該ターレットの半径方向に移動しながらシーム溶接を実行するので、シーム溶接を実行した後に、一対のローラ電極を速やかに退避させることができる。これにより、シーム溶接を円滑に繰り返すことができる。
【００１１】
（４）本発明はまた、前記一対のローラ電極は、前記リッドの前記一対の対辺における端部に接触し通電することで仮付けを実行してから、該仮付けの後に前記シーム溶接を実行することを特徴とする、上記（１）〜（３）のいずれかに記載のシーム溶接装置である。
【００１２】
（５）本発明はまた、前記一対のローラ電極は、前記リッドの前記一対の対辺における端部を除く一部に接触し通電することで仮付けを実行してから、該仮付けの後に、前記リッドの前記一対の対辺における端部に移動してから前記シーム溶接を実行することを特徴とする、上記（１）〜（３）のいずれかに記載のシーム溶接装置である。
【００１５】
（６）本発明はまた、前記リッド保持手段は、前記リッドを下方に押圧する付勢手段を備えることを特徴とする、上記（１）〜（５）のいずれかに記載のシーム溶接装置である。
【００１６】
上記発明によれば、仮付けせずにいきなりシーム溶接する場合であっても、付勢手段による押圧力でリッドの初期ズレを防止することができる。
【００１９】
（７）本発明はまた、中心軸を回転軸として回転可能に支持されるターレットの周方向に複数設けられたリッド保持手段によって、矩形のリッドを水平に保持してパッケージの上に接触させるリッド供給工程と、前記ターレットから独立した状態で設けられた一対のローラ電極を、前記リッドの搭載時に搭載位置に進入させて、該リッドの一対の対辺に沿って前記ターレットの半径方向に移動させながら通電させることでシーム溶接を実行するシーム溶接工程と、前記リッド保持手段が前記リッドを保持し続けている間に、前記シーム溶接を完了させて前記一対のローラ電極を前記リッドから退避させるローラ退避工程と、前記ローラ退避工程の後に、前記リッド保持手段による前記リッドの保持を解放するリッド解放工程と、を備えることを特徴とする、シーム溶接方法である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、シーム溶接を簡単に行うことができるという優れた効果を奏し得る。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の実施形態に係るシーム溶接装置の上面図である。
【図２】シーム溶接装置の要部拡大図である。
【図３】シーム溶接装置の要部拡大図である。
【図４】（Ａ）及び（Ｂ）は整列手段の一例の構成及び動作を説明する上面図である。
【図５】整列手段の他の例の構成を説明する断面図である。
【図６】シーム溶接装置の動作を説明する要部拡大図であり、（Ａ）はリッドをパッケージの上に接触させた状態を、（Ｂ）は仮付けを実行している状態を、（Ｃ）はシーム溶接を実行している状態を、（Ｄ）は一対のローラ電極をリッドから退避させた状態を、（Ｅ）は吸着ノズルをリッドから退避させた状態を、それぞれ示す。
【図７】シーム溶接装置の別の動作を説明する要部拡大図であり、（Ａ）は仮付けを実行している状態を、（Ｂ）はシーム溶接を実行する開始時の状態を、（Ｃ）はシーム溶接を実行している状態を、それぞれ示す。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態の例について詳細に説明する。
【００２３】
まず、図１、図２及び図３を用いて、シーム溶接装置１の構成について説明する。図１は、シーム溶接装置１の上面図である。図２及び図３は、シーム溶接装置１の要部を示す斜視図である。なお、各図において、一部の構成の図示を適宜省略して、図面を簡略化している。
【００２４】
図１、図２及び図３に示されるシーム溶接装置１は、回転テーブル（ターレット）２２を備えるものであり、図示を省略する窒素室内に配置される。窒素室は、内部に窒素が導入される部屋であり、酸素濃度計で酸素濃度が管理されている。この窒素室は、リッド２や一対のローラ電極４０ａなどの出し入れを行うためのパスボックスが設けられている。
【００２５】
シーム溶接装置１は、矩形のリッド２をパッケージ（セラミック容器）３の上に置いて、仮付け及びシーム溶接を順次実行する。仮付けとは、ｍｓｅｃ単位の電圧パルスを４〜６パルス程度連続して印加して行う、極短時間の作業のことをいう。シーム溶接とは、複数の電圧パルスを次々に印加して行い、例えば、電力値を経時的に滑らかに上昇させ、一定に保ち、滑らかに減少させる作業のことをいう。
【００２６】
具体的に、シーム溶接装置１は、リッド供給装置１０と、リッド搬送装置２０と、パッケージ供給装置３０と、溶接ヘッド４０と、ＮＧボックス（廃棄トレイ）５０と、制御ユニット（図示省略）と、などを備えている。
【００２７】
これらシーム溶接装置１の各部は、制御ユニットによって統括的に制御される。制御ユニットは、ＣＰＵ、ＲＡＭ及びＲＯＭなどから構成され、各種制御を実行する。ＣＰＵは、いわゆる中央演算処理装置であり、各種プログラムが実行されて各種機能を実現する。ＲＡＭは、ＣＰＵの作業領域として使用される。ＲＯＭは、ＣＰＵで実行されるプログラムを記憶する。
【００２８】
リッド供給装置１０は、いわゆるパーツフィーダであり、バルク状態でタンクに投入されたリッド２を、姿勢と方向を整えながらリッド搬送装置２０に一つずつ供給する。リッド搬送装置２０に供給されるリッド２は、姿勢と方向が整えられているので、姿勢制御のための特別な検査装置や駆動装置を設ける必要がなく、設備コストを抑えることができる。また、工程の削減によるサイクルタイムの短縮と製造原価の削減を行うことができる。
【００２９】
リッド搬送装置２０は、いわゆるターレットであり、複数の保持ヘッド２３を備えている。具体的に、リッド搬送装置２０は、基台２１と、回転テーブル２２と、４つ以上（本実施形態では、８つ）の保持ヘッド２３と、センタリング手段（図示省略）と、リッド位置測定手段２５と、を備えている。
【００３０】
基台２１は、略直方体状の部材である。基台２１の内側には、制御ユニット及び電源ユニットなどが設けられている。基台２１の周囲には、リッド供給領域ＰＯ１と、リッド情報取得領域ＰＯ２と、廃棄領域ＰＯ３と、溶接領域ＰＯ４と、が所定の間隔に設定されている。
【００３１】
リッド供給領域ＰＯ１は、リッド供給装置１０からリッド２が一つずつ供給されると共に、当該リッド２が一つずつ水平に保持される領域である。
【００３２】
リッド情報取得領域ＰＯ２は、リッド供給領域ＰＯ１からリッド２が搬送されてきて、当該リッド２がセンタリングされると共に位置（Ｘ、Ｙ、θ）が測定される領域である。
【００３３】
廃棄領域ＰＯ３は、リッド情報取得領域ＰＯ２で認識不良のリッド２が搬送されてきて、ＮＧボックス５０に廃棄される領域である。
【００３４】
溶接領域ＰＯ４は、リッド情報取得領域ＰＯ２から廃棄領域ＰＯ３を経由したリッド２が搬送されてきて、当該リッド２の位置（θ）が補正されると共に、パッケージ供給装置３０によって供給されたパッケージ３の位置（Ｘ、Ｙ）が補正され、その後、仮付け及びシーム溶接が実行される領域である。
【００３５】
回転テーブル２２は、中心軸を回転軸として基台２１に対して回転可能に支持されている。この回転テーブル２２は、略円盤状の部材であり、外周面に８つの保持ヘッド２３を等間隔（略４５度間隔）に備えている。回転テーブル２２は、回転することで、全ての保持ヘッド２３を、リッド供給領域ＰＯ１、リッド情報取得領域ＰＯ２、廃棄領域ＰＯ３、及び溶接領域ＰＯ４の上方を順番に通過させるように構成されている。また、いずれかの保持ヘッド２３がリッド供給領域ＰＯ１に位置する場合に、残りのうちの３つのリッド保持手段２３ａが、リッド情報取得領域ＰＯ２、廃棄領域ＰＯ３、及び溶接領域ＰＯ４に位置するように構成されている。回転テーブル２２の動力源は、中空ＤＤモータであり、ステータ及びその外周を回転する筒状のロータから構成されている。ステータの中心部には軸方向に貫通孔が形成されている。回転テーブル２２は、この貫通孔内に中空軸を挿入した状態でロータに固定されている。
【００３６】
８つの保持ヘッド２３は、回転テーブル２２の周方向に等間隔（略４５度間隔）に設けられている。各保持ヘッド２３は、先端に吸着ノズルが配設された細長い円筒状のリッド保持手段２３ａと、このリッド保持手段２３ａに生じる衝撃を吸収する衝撃吸収手段２３ｂと、を備えている。
【００３７】
リッド保持手段２３ａは、保持ヘッド２３に一つずつ設けられている。リッド保持手段２３ａは、先端の吸着ノズルをリッド２の上面に吸着させて当該リッド２を水平に保持すると共に、当該リッド２を溶接領域ＰＯ４まで搬送してパッケージ３の上に接触させる。このリッド保持手段２３ａは、中心軸回りに回転（自転）自在であると共に、中心軸方向に沿って往復移動自在に構成されている。リッド保持手段２３ａの内部は、吸着ノズルに繋がる吸引通路となっている。この吸引通路は、コネクタを介して回転テーブル２２に配置された切替えバルブに接続されている。吸着ノズルは、基台２１の上面に対向するように設けられている。切替えバルブは、真空ポンプと吸着ノズルの接続・遮断を切り替えると共に、遮断時には、吸着ノズルを大気開放状態とするように構成されている。すなわち、リッド保持手段２３ａは、切替えバルブによって真空ポンプと吸着ノズルが接続された場合に、吸着ノズルによってリッド２を吸着して保持する。そして、リッド保持手段２３ａは、切替えバルブによって真空ポンプと吸着ノズルが遮断された場合に、吸着ノズルに保持していたリッド２を解放する。
【００３８】
衝撃吸収手段２３ｂは、圧縮バネ等により構成され、リッド保持手段２３ａの基端側に設けられる。この衝撃吸収手段２３ｂは、リッド保持手段２３ａの先端の吸着ノズルがリッド２に突き当たる等した際に、リッド保持手段２３ａに生じる衝撃を吸収すると共に、リッド２に加わる衝撃を緩和する。すなわち、リッド保持手段２３ａは、上方向に衝撃による力が加わることで、衝撃吸収手段２３ｂの付勢力に抗して上昇する一方で、上方向に加わる衝撃による力が解除された場合に、衝撃吸収手段２３ｂの復元力によって下降する。
【００３９】
なお、衝撃吸収手段２３ｂは、リッド２を下方に押圧する付勢手段として考えることもできる。すなわち、衝撃吸収手段２３ｂは、リッド２に加わる衝撃を緩和するので、リッド保持手段２３ａは、リッド２に突き当たった後に、さらに下方に変位することができる。リッド保持手段２３ａがリッド２に突き当たった後に、さらに下方に変位した場合、衝撃吸収手段２３ｂは、収縮して復元力をもつ。この復元力がリッド２を下方に押圧する付勢力となる。
【００４０】
センタリング手段は、リッド情報取得領域ＰＯ２に配置されている。このセンタリング手段は、リッド保持手段２３に保持されたリッド２の姿勢を機械的に修正する治具であり、リッド２の外形をかたどった形状を呈する。センタリング手段は、回転テーブル２２の回転途中で、リッド保持手段２３に保持されたリッド２を通過させることで、当該リッド２の姿勢を適正な姿勢に修正する。
【００４１】
リッド位置測定手段２５は、ＣＣＤカメラなどで構成され、リッド情報取得領域ＰＯ２に配置されている。このリッド位置測定手段２５は、センタリング手段で適正な姿勢に修正されたリッド２を下方から撮像する。そして、リッド位置測定手段２５は、制御ユニットと電気的に接続されており、撮像して得られた画像情報を制御ユニットに送信する。制御ユニットに送信された画像情報は、解析される。これにより、リッド２の位置（Ｘ、Ｙ、θ）などが測定される。
【００４２】
パッケージ供給装置３０は、溶接領域ＰＯ４に配置されている。このパッケージ供給装置３０は、溶接領域ＰＯ４の所望の位置に所望のタイミングで、パッケージ３を一つずつ供給する。具体的に、パッケージ供給装置３０は、水平方向（Ｘ方向及びＹ方向）に移動自在で、且つ水平面内で回転自在なテーブルであり、パッケージ３を整列させるトレイ４が載せられる。トレイ４の上面には、複数の凹部がマトリクス状に形成されている。複数のパッケージ３は、トレイ４の凹部に一つずつ配置されている。
【００４３】
そして、パッケージ供給装置３０は、トレイ４に配置された複数のパッケージ３を整列させる整列手段を備えていることが好ましい。
【００４４】
次に、図４及び図５を用いて、パッケージ供給装置３０が備える整列手段の構成及び動作について説明する。図４（Ａ）及び図４（Ｂ）は、整列手段３２の構成及び動作を説明する上面図である。図５は、整列手段３３の構成を説明する断面図である。なお、図４及び図５では、表現の都合、大きさを誇張すると共に、凹部の数を変更している。
【００４５】
図４（Ａ）及び図４（Ｂ）に示される整列手段の一例である３２は、複数のパッケージ３をトレイ４の凹部の角に寄せることで、当該複数のパッケージ３の位置（Ｘ、Ｙ、θ）を、トレイ４の凹部の角を基準に整える。具体的に、整列手段３２は、トレイ４と、駆動機構（図示省略）と、などから構成される。整列手段３２を構成するトレイ４は、上プレート４ａと下プレート４ｂとを備えている。これらのプレート４ａ，４ｂは、上プレート４ａが上で下プレート４ｂが下となるように重ねられ、Ｘ−Ｙ方向に相対的に移動可能に配置されている。上プレート４ａには、複数の貫通孔が形成されている。これら複数の貫通孔は、トレイ４の凹部を構成する。下プレート４ｂには、複数の凹部が形成されている。これら複数の凹部は、上プレート４ａの複数の貫通孔と共に、トレイ４の複数の凹部を構成する。駆動機構は、上プレート４ａ及び下プレート４ｂを相対的に移動させる。
【００４６】
このような整列手段３２は、複数のパッケージ３がトレイ４の凹部に一つずつ配置されている状態（図４（Ａ）参照）から、上プレート４ａ及び下プレート４ｂを、駆動機構によってＸ方向及びＹ方向に相対的に移動させることで（図４（Ｂ）参照）、複数のパッケージ３の位置（Ｘ、Ｙ、θ）を整えることができる。
【００４７】
図５に示される整列手段の他の例である３３は、複数のパッケージ３を磁力で引き寄せることで、当該複数のパッケージ３の位置（Ｘ、Ｙ、θ）を所定の位置に整える。具体的に、整列手段３３は、トレイ４と、このトレイ４の凹部に埋め込まれた磁石４ｃと、などから構成される。
【００４８】
このような整列手段３３は、複数のパッケージ３を磁石４ｃの磁力で当該磁石４ｃに引き寄せることで、複数のパッケージ３の位置（Ｘ、Ｙ、θ）を整えることができる。
【００４９】
なお、本発明の整列手段は、上記整列手段３２及び３３の構成を組み合わせたものであってもよい。この場合、本発明の整列手段は、上プレート及び下プレート（共に図示省略）を相対的に移動させると共に、磁石（図示省略）の磁力で当該磁石に引き寄せることで、複数のパッケージの位置（Ｘ、Ｙ、θ）を、トレイの凹部の角に整えることができる。
【００５０】
図１〜図３に戻って説明する。このようなパッケージ供給装置３０は、パッケージ位置測定手段３１を備えている。パッケージ位置測定手段３１は、ＣＣＤカメラなどで構成されている。このパッケージ位置測定手段３１は、溶接領域ＰＯ４の所望の位置に供給されたパッケージ３を上方から撮像する。そして、パッケージ位置測定手段３１は、制御ユニットと電気的に接続されており、撮像して得られた画像情報を制御ユニットに送信する。制御ユニットに送信された画像情報は、解析される。これにより、パッケージ３の位置（Ｘ、Ｙ、θ）などが測定される。
【００５１】
パッケージ供給装置３０は、リッド２の位置（Ｘ、Ｙ、θ）及びパッケージ３の位置（Ｘ、Ｙ、θ）との相対的な関係に基づいて、溶接領域ＰＯ４の所望の位置に供給されたパッケージ３の位置（Ｘ、Ｙ、θ）を補正することが好ましい。パッケージ３の位置（Ｘ、Ｙ、θ）の補正は、１つ独立して別々に行う。なお、シーム溶接は、全てのパッケージ３の一対の対辺に対して行われた後に、トレイ４を９０度回転させてから、全てのパッケージ３の残りの一対の対辺に対して行われる。このことを考慮すると、トレイ４を９０度回転させる前に行った各パッケージ３の補正の量をメモリ（ＲＡＭなど）に記憶しておき、その補正の量を、トレイ４を９０度回転させた後に行う補正時に順次参照するようにすることが好ましい。
【００５２】
パッケージ供給装置３０による補正と略同時に、リッド保持手段２３ａは、リッド２の位置（θ）及びパッケージ３の位置（θ）との相対的な関係に基づいて、保持しているリッド２の位置（θ）を補正する。
【００５３】
溶接ヘッド４０は、溶接領域ＰＯ４に配置されている。この溶接ヘッド４０は、水平方向（Ｘ方向又はＸ−Ｙ方向）に移動自在で、かつ鉛直方向（Ｚ方向）に移動自在に設けられている。この溶接ヘッド４０は、一対のローラ電極４０ａを備えている。すなわち、一対のローラ電極４０ａは、回転テーブル２２から独立した状態で設けられている。結果、一対のローラ電極４０ａは、リッド保持手段２３ａとは別々に移動する。
【００５４】
そして、一対のローラ電極４０ａは、その回転軸が側面視でハの字になるように、水平方向からわずかに（θ＝５°程度ずつ）傾いて配置されている。なぜならば、一対のローラ電極４０ａの間に、リッド保持手段２３ａを介在させるスペースを確保するためである。その一方で、一対のローラ電極４０ａにおけるリッド２に接触する部分は、互いの間隔を小さくする必要があるからである。また、このようにローラ電極４０ａを傾けて配置することで、リッド２とパッケージ３の角となる一対の対辺部分に、一対のローラ電極４０ａの周面を接触させることができる。なお、一対のローラ電極４０ａは、それぞれ、周面が回転軸と平行となるように形成することができる。すなわち、一対のローラ電極４０ａは、製造が容易である。
【００５５】
一対のローラ電極４０ａは、リッド保持手段２３ａの両脇に進入して、リッド２のパッケージ３への仮付け及びシーム溶接を実行する。具体的に、一対のローラ電極４０ａは、リッド２の一対の対辺における回転テーブル２２の中心軸寄りの端部に接触し通電することで仮付けを実行する（図６（Ｂ）参照）。そして、一対のローラ電極４０ａは、リッド２から離れずに仮付けに連続し、リッド２の一対の対辺に沿って回転テーブル２２の中心軸から離される半径方向に移動しながら通電することでシーム溶接を実行する（図６（Ｃ）参照）。
【００５６】
次に、図１及び図６（Ａ）〜図６（Ｅ）を用いて、シーム溶接装置１の溶接動作を説明する。図６（Ａ）〜図６（Ｅ）は、シーム溶接装置１の動作を説明する要部拡大図である。図６（Ａ）は、リッド２をパッケージ３の上に接触させた状態を示す。図６（Ｂ）は、仮付けを実行している状態を示す。図６（Ｃ）は、シーム溶接を実行している状態を示す。図６（Ｄ）は、一対のローラ電極４０ａをリッド２から退避させた状態を示す。図６（Ｅ）は、リッド保持手段２３ａをリッド２から退避させた状態を示す。
【００５７】
リッド供給領域ＰＯ１に供給されたリッド２は、リッド保持手段２３ａに保持されて、リッド情報取得領域ＰＯ２及び廃棄領域ＰＯ３を経由して溶接領域ＰＯ４に搬送される。リッド２は、リッド情報取得領域ＰＯ２において、センタリング手段２５によって姿勢を修正されると共に、リッド位置測定手段２５によって位置（Ｘ、Ｙ、θ）が測定される。一方、溶接領域ＰＯ４に供給されたパッケージ３は、パッケージ位置測定手段３１によって位置（Ｘ、Ｙ、θ）が測定される。また、溶接領域ＰＯ４では、リッド保持手段２３ａによってリッド２の位置（θ）が補正されると共に、パッケージ供給装置３０によってパッケージ３の位置（Ｘ、Ｙ）が補正される。
【００５８】
その後、図６（Ａ）に示されるように、リッド２は、リッド保持手段２３ａが下降することで、パッケージ３の上に接触させられる。
【００５９】
そして、図６（Ｂ）に示されるように、一対のローラ電極４０ａが、リッド２の搭載時に搭載位置に進入して、当該リッド２の一対の対辺における回転テーブル２２の中心軸寄りの端部に接触し通電することで仮付けを実行する。
【００６０】
また、図６（Ｃ）に示されるように、一対のローラ電極４０ａが、リッド２から離れずに当該リッド２の仮付けに連続し、当該リッド２の当該一対の対辺に沿って回転テーブル２２の中心軸から離れる半径方向に移動しながら通電することでシーム溶接を実行する。
【００６１】
その後、シーム溶接が完了すると、図６（Ｄ）に示されるように、一対のローラ電極４０ａを、リッド保持手段２３ａの吸着ノズルや保持ヘッド２３と干渉させないようにリッド２から退避させ、次のパッケージ３及びリッド２の搬入を待つ。
【００６２】
そして、一対のローラ電極４０ａがリッド２から退避すると、図６（Ｅ）に示されるように、リッド保持手段２３ａによるリッド２の保持を解放すると共に、リッド保持手段２３ａをリッド２から退避させる。
【００６３】
その後、パッケージ供給装置３０を水平面内で９０度回転させてから、リッド２の他方の対辺に沿ってシーム溶接を実行する。
【００６４】
次に、図１及び図７（Ａ）〜図７（Ｅ）を用いて、シーム溶接装置１の別の溶接動作を説明する。図７（Ａ）〜図７（Ｅ）は、シーム溶接装置１の別の溶接動作を説明する要部拡大図である。図７（Ａ）は、仮付けを実行している状態を示す。図７（Ｂ）は、シーム溶接を実行する開始時の状態を示す。図７（Ｃ）は、シーム溶接を実行している状態を示す。なお、ここでは、上述した溶接動作との相違点を中心に説明する。
【００６５】
図７（Ａ）に示されるように、一対のローラ電極４０ａが、リッド２の搭載時に搭載位置に進入して、当該リッド２の一対の対辺における一部（図示は中心）、すなわち、当該リッド２の一対の対辺における回転テーブル２２の中心軸寄りの端部を除く一部に接触し通電することで仮付けを実行する。
【００６６】
そして、図７（Ｂ）に示されるように、一対のローラ電極４０ａが、当該リッド２における回転テーブル２２の中心軸寄りの端部に移動する。
【００６７】
そして、図７（Ｃ）に示されるように、一対のローラ電極４０ａが、当該リッド２の当該一対の対辺に沿って、回転テーブル２２の中心軸寄りの端部から回転テーブル２２の中心軸から離れる半径方向に移動しながら通電することでシーム溶接を実行する。
【００６８】
以上説明したように、本実施形態に係るシーム溶接装置１は、一対のローラ電極４０ａが回転テーブル２２から独立した状態で設けられているので、シーム溶接を簡単に実行することができる。
【００６９】
そして、一対のローラ電極４０ａが、回転テーブル２２の中心軸から離れる当該回転テーブル２２の半径方向に移動しながらシーム溶接を実行するので、シーム溶接を実行した後に、一対のローラ電極４０ａを速やかに退避させることができる。これにより、シーム溶接を円滑に繰り返すことができる。
【００７０】
また、リッド保持手段２３ａは、シーム溶接の実行中にリッド２を保持し続けているので、シーム溶接の実行中にリッド２及びパッケージ３が無用に移動することを防止できる。
【００７１】
さらに、一対のローラ電極４０ａは、リッド保持手段２３ａがリッド２を保持し続けている間に、シーム溶接を完了してリッド２から退避するので、一対のローラ電極４０ａが退避する際にリッド２及びパッケージ３が無用に移動することを防止できる。
【００７２】
本発明は、上記実施形態に限られるものではなく、その趣旨及び技術思想を逸脱しない範囲で種々の変形が可能である。すなわち、上記実施形態において、各構成の位置、大きさ、長さ、形状、材質、向き、数量、温度などは適宜変更できる。
【００７３】
すなわち、上記実施形態において、シーム溶接装置１は、一対のローラ電極４０ａを回転テーブル２２から独立した状態で設け、当該一対のローラ電極４０ａを、リッド２の一対の対辺に沿って回転テーブル２２の半径方向に移動しながら通電することでシーム溶接を実行することができればよく、仮付け及びシーム溶接を順次実行することに限定されるものではない。シーム溶接装置１は、仮付けを実行せずにシーム溶接を実行するものであってもよい。
【００７４】
あるいは、上記実施形態における各溶接動作では、シーム溶接を実行した後に、リッド保持手段２３ａによるリッド２の保持を解放しているが、本発明は、仮付け後であれば、シーム溶接を実行する前やシーム溶接の実行中であっても、リッド保持手段２３ａによるリッド２の保持を解放してもよい。あるいは、本発明は、一部のシーム溶接によってリッド２が固定された状況であれば、シーム溶接の実行中であっても、リッド保持手段２３ａによるリッド２の保持を解放してもよい。なぜならば、通常パッケージ３はマグネット板あるいはキャリアのクランプで固定されており、リッド２の一部が固定された後は安定しているからである。
【産業上の利用可能性】
【００７５】
本発明のシーム溶接装置は、電子機器や電子部品もしくはその他の各種物品の製造の分野において利用できる。
【符号の説明】
【００７６】
１  シーム溶接装置
２  リッド
３  パッケージ
２２  回転テーブル（ターレット）
２３ａ  リッド保持手段
２３ｂ  圧力吸収手段（付勢手段）
４０ａ  一対のローラ電極
【要約】
【課題】シーム溶接を簡単に実行する。
【解決手段】シーム溶接装置１は、中心軸を回転軸として回転可能に支持される回転テーブル２２と、この回転テーブル２２の周方向に複数設けられ、矩形のリッド２を水平に保持してパッケージ３の上に接触させるリッド保持手段２３ａと、回転テーブル２２から独立した状態で設けられ、リッド２の搭載時に搭載位置に進入して、当該リッド２の一対の対辺に沿って回転テーブル２２の半径方向に移動しながら通電することでシーム溶接を実行する一対のローラ電極４０ａと、を備えている。リッド保持手段２３ａは、シーム溶接の実行中にリッド２を保持し続ける。
【選択図】図６【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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