(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、レーザビームの照射によって情報を記録及び／又は再生し得る記録層と、透過率調整層とを、レーザビーム入射側からこの順で含んでおり、
前記透過率調整層がＢｉ、Ｔｉ及びＯを含み、且つ、
前記透過率調整層に含まれるＢｉ、Ｔｉ及びＯの組成を、原子数比でＢｉxＴｉyＯzと表したとき、ｘ、ｙ及びｚが、０．１６≦ｘ≦０．２９、０．０９≦ｙ≦０．２０、０．６１≦ｚ≦０．６５、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１を満たす、光学的情報記録媒体。
【請求項２】
Ｎ個の情報層（ＮはＮ≧２を満たす整数）を備え、
前記Ｎ個の情報層を、レーザビーム入射側から順に第１情報層〜第Ｎ情報層とした場合、前記Ｎ個の情報層に含まれる第Ｌ情報層（Ｌは、１≦Ｌ≦Ｎー１を満たす少なくとも１つの整数）は、前記記録層と、前記透過率調整層とを、レーザビーム入射側からこの順で含んでいる、請求項１に記載の光学的情報記録媒体。
【請求項３】
前記透過率調整層に含まれるＢｉ、Ｔｉ及びＯの組成を、原子数比でＢｉxＴｉyＯzと表したとき、ｘ、ｙ及びｚが、０．１６５≦ｘ≦０．２５５、０．１２０≦ｙ≦０．１９５、０．６２５≦ｚ≦０．６４０、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１を満たす、請求項１に記載の光学的情報記録媒体。
【請求項４】
前記透過率調整層が、Ｍ（ただし、ＭはＣ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｙ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｃｏ、Ｉｎ、Ｔａ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｇｅ、Ｓｂ、Ｔｅ及びＣｅから選ばれる少なくとも１つの元素）をさらに含み、
前記透過率調整層に含まれるＢｉ、Ｔｉ、Ｏ及びＭの組成を、原子数比でＢｉaＴｉbＯcＭdと表したとき、ａ、ｂ、ｃ及びｄが、０．１６≦ａ≦０．２９、０．０９≦ｂ≦０．２０、０．６１≦ｃ≦０．６４、０＜ｄ≦０．０５、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１を満たす、請求項１に記載の光学的情報記録媒体。
【請求項５】
少なくとも、レーザビームの照射によって情報を記録及び／又は再生し得る記録層と、透過率調整層とを、レーザビーム入射側からこの順で含んでおり、
前記透過率調整層がＢｉ2Ｏ3及びＴｉＯ2を含み、且つ、
前記透過率調整層に含まれるＢｉ2Ｏ3及びＴｉＯ2の組成を、モル比で（Ｂｉ2Ｏ3）α（ＴｉＯ2）βと表したとき、α及びβが、０．２≦α≦０．７、０．３≦β≦０．８、α＋β＝１を満たす、光学的情報記録媒体。
【請求項６】
Ｎ個の情報層（ＮはＮ≧２を満たす整数）を備え、
前記Ｎ個の情報層を、レーザビーム入射側から順に第１情報層〜第Ｎ情報層とした場合、前記Ｎ個の情報層に含まれる第Ｌ情報層（Ｌは、１≦Ｌ≦Ｎー１を満たす少なくとも１つの整数）は、前記記録層と、前記透過率調整層とを、レーザビーム入射側からこの順で含んでいる、請求項５に記載の光学的情報記録媒体。
【請求項７】
前記透過率調整層に含まれるＢｉ2Ｏ3及びＴｉＯ2の組成を、モル比で（Ｂｉ2Ｏ3）α（ＴｉＯ2）βと表したとき、α及びβが、０．３≦α≦０．６５、０．３５≦β≦０．７、α＋β＝１を満たす、請求項５に記載の光学的情報記録媒体。
【請求項８】
前記透過率調整層に含まれるＢｉ2Ｏ3及びＴｉＯ2の組成を、モル比で（Ｂｉ2Ｏ3）α（ＴｉＯ2）βと表したとき、α及びβが、０．３０≦α≦０．５０、０．５０≦β≦０．７０、α＋β＝１を満たす、請求項７に記載の光学的情報記録媒体。
【請求項９】
前記透過率調整層の膜厚が、３ｎｍ以上４０ｎｍ以下、又は、６０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下である、請求項１又は５に記載の光学的情報記録媒体。
【請求項１０】
請求項１又は５に記載の光学的情報記録媒体を製造する方法であって、
前記透過率調整層を成膜する工程を含み、
前記透過率調整層を成膜する工程はスパッタリングにより実施され、且つ、ＢｉとＴｉとＯとを含むターゲットが用いられる、光学的情報記録媒体の製造方法。
【請求項１１】
前記ターゲットに含まれるＢｉ、Ｔｉ及びＯの組成を、原子数比でＢｉpＴｉqＯrと記したとき、ｐ、ｑ及びｒが、０．１６≦ｐ≦０．２９、０．０９≦ｑ≦０．２０、０．６１≦ｒ≦０．６５、ｐ＋ｑ＋ｒ＝１を満たす、請求項１０に記載の光学的情報記録媒体の製造方法。
【請求項１２】
前記透過率調整層を成膜する工程において、前記透過率調整層は直流パルス放電により形成される、請求項１０に記載の光学的情報記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザビームの照射によって情報の記録及び／又は再生を行う光学的情報記録媒体と、その製造方法とに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
カルコゲン材料等の薄膜にレーザビームを照射して局所的な加熱を行い、照射条件の違いにより光学定数の異なる状態間で相変化させて信号を記録・消去する情報記録媒体が、広く研究開発・商品化されている。
【０００３】
相変化を利用した情報記録媒体の中でも、光学的情報記録媒体の場合は、レーザビームの出力を少なくとも２種類のパワーレベル間で変調することによって、信号を記録することができる。パワーレベルを適当に選べば、すでに記録されている信号を消去しつつ、同時に新しい信号を記録できる。
【０００４】
片側から入射するレーザビームによって相変化を起こす相変化型記録膜を含む構成層（以下、情報層と称す）を多層積層して、情報の記録・再生・消去を行う光学的情報記録媒体が、活発に研究・開発されている。例えば、すでに商品化されている、記録及び再生可能な情報層を２つ備えた光学的情報記録媒体においては、入射側から遠い情報層（以下、第２情報層）の記録及び再生は、入射側の情報層（以下、第１情報層）を透過したレーザビームによって行われる。したがって、第１情報層はできるだけ高い透過率をもつことが好ましい。
【０００５】
高い透過率を得る為のひとつの方法として、第１情報層を構成する材料層（透過率調整層）に、使用するレーザビームの波長に対して透明で且つ屈折率が高い材料を使用することが提案されている。例えば、近年発表した青色レーザを用いた２層書換型光記録媒体では、上記の透過率調整層にＴｉＯ2を使用することが提案されている（国際公開第０３／０２５９２２号参照）。
【０００６】
また、記録層を直接被覆する保護層の材料として、ＴｉＯ2を主成分としてＮｂ2Ｏ5を２．５重量％〜１１重量％（≒４ｍｏｌ％、又はＮｂ原子が３原子％以下）の範囲で添加した材料が開示されている（特開２００３−０１３２０１号公報参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】国際公開第０３／０２５９２２号パンフレット
【特許文献２】特開２００３−０１３２０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、透過率調整層の材料として従来用いていたＴｉＯ2は、スパッタ時の成膜レートが低く、また、水分によるレート変動が大きいため、情報記録媒体の製造時間が長くなる、及び、ＴｉＯ2の厚さを一定に保つことが難しい、という問題を有していた。
【０００９】
また、ＴｉＯ2を主成分としてＮｂ2Ｏ5を添加した材料では、屈折率を十分に高くすることが困難であり、第１情報層の透過率調整層に用いた場合に第１情報層の透過率を高めることが困難であった。
【００１０】
本発明は、上記問題点を解決するものであり、高い屈折率と安定した高い成膜レートとを併せ持つ優れた透過率調整層を備え、さらに記録再生特性及び耐食性に優れた光学的情報記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の第１の光学的情報記録媒体は、少なくとも、レーザビームの照射によって情報を記録及び／又は再生し得る記録層と、透過率調整層とを、レーザビーム入射側からこの順で含んでおり、前記透過率調整層がＢｉ、Ｔｉ及びＯを含み、且つ、前記透過率調整層に含まれるＢｉ、Ｔｉ及びＯの組成を、原子数比でＢｉxＴｉyＯzと表したとき、ｘ、ｙ及びｚが、０．０７≦ｘ≦０．３５、０．０７≦ｙ≦０．２８、０．５６≦ｚ≦０．７０、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１を満たす。
【００１２】
また、本発明の第１の光学的情報記録媒体は、複数の情報層が設けられている多層の光学的情報記録媒体にも適用できる。この場合、本発明の第１の光学的情報記録媒体は、Ｎ個の情報層（ＮはＮ≧２を満たす整数）を備え、前記Ｎ個の情報層を、レーザビーム入射側から順に第１情報層〜第Ｎ情報層とした場合、前記Ｎ個の情報層に含まれる第Ｌ情報層（Ｌは、１≦Ｌ≦Ｎー１を満たす少なくとも１つの整数）が、前記記録層と、前記透過率調整層とを、レーザビーム入射側からこの順で含んでいる。
【００１３】
本発明の第２の光学的情報記録媒体は、少なくとも、レーザビームの照射によって情報を記録及び／又は再生し得る記録層と、透過率調整層とを、レーザビーム入射側からこの順で含んでおり、前記透過率調整層がＢｉ2Ｏ3及びＴｉＯ2を含み、且つ、前記透過率調整層に含まれるＢｉ2Ｏ3及びＴｉＯ2の組成を、モル比で（Ｂｉ2Ｏ3）α（ＴｉＯ2）βと表したとき、α及びβが、０．２≦α≦０．７、０．３≦β≦０．８、α＋β＝１を満たす。
【００１４】
また、本発明の第２の光学的情報記録媒体は、複数の情報層が設けられている多層の光学的情報記録媒体にも適用できる。この場合、本発明の第２の光学的情報記録媒体は、Ｎ個の情報層（ＮはＮ≧２を満たす整数）を備え、前記Ｎ個の情報層を、レーザビーム入射側から順に第１情報層〜第Ｎ情報層とした場合、前記Ｎ個の情報層に含まれる第Ｌ情報層（Ｌは、１≦Ｌ≦Ｎー１を満たす少なくとも１つの整数）が、前記記録層と、前記透過率調整層とを、レーザビーム入射側からこの順で含んでいる。
【００１５】
本発明の光学的情報記録媒体の製造方法は、上記の本発明の第１の光学的情報記録媒体又は第２の光学的情報記録媒体を製造する方法であって、前記透過率調整層を成膜する工程を含み、前記透過率調整層を成膜する工程はスパッタリングにより実施され、且つ、ＢｉとＴｉとＯとを含むターゲットが用いられる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の光学的情報記録媒体及びその製造方法によれば、安定して高い成膜レートで透過率調整層を形成でき、当該透過率調整層を含む情報層の透過率を高くすることができる。これにより、記録再生特性が良好であり、耐食性に優れ、且つ、量産性に優れた光学的情報記録媒体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の実施の形態における光学的情報記録媒体の一部断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明の第１の光学的情報記録媒体は、少なくとも、レーザビームの照射によって情報を記録及び／又は再生し得る記録層と、透過率調整層とを、レーザビーム入射側からこの順で含んでおり、前記透過率調整層がＢｉ、Ｔｉ及びＯを含み、且つ、前記透過率調整層に含まれるＢｉ、Ｔｉ及びＯの組成を、原子数比でＢｉxＴｉyＯzと表したとき、ｘ、ｙ及びｚが、０．０７≦ｘ≦０．３５、０．０７≦ｙ≦０．２８、０．５６≦ｚ≦０．７０、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１を満たす。また、本発明の第１の光学的情報記録媒体は、多層の光学的情報記録媒体であってもよい。その場合、本発明の第１の光学的情報記録媒体は、Ｎ個の情報層（ＮはＮ≧２を満たす整数）を備えた光学的情報記録媒体であって、前記Ｎ個の情報層を、レーザビーム入射側から順に第１情報層〜第Ｎ情報層とした場合、前記Ｎ個の情報層に含まれる第Ｌ情報層（Ｌは、１≦Ｌ≦Ｎー１を満たす少なくとも１つの整数）が、レーザビームの照射によって情報を記録及び／又は再生し得る記録層と、透過率調整層とを、レーザビーム入射側からこの順で含んでおり、前記透過率調整層がＢｉ、Ｔｉ及びＯを含み、且つ、前記透過率調整層に含まれるＢｉ、Ｔｉ及びＯの組成を、原子数比でＢｉxＴｉyＯzと表したとき、ｘ、ｙ及びｚが、０．０７≦ｘ≦０．３５、０．０７≦ｙ≦０．２８、０．５６≦ｚ≦０．７０、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１を満たす。さらに、本発明の第１の光学的情報記録媒体において、ｘ、ｙ及びｚが、０．１６≦ｘ≦０．２９、０．０９≦ｙ≦０．２０、０．６１≦ｚ≦０．６５及びｘ＋ｙ＋ｚ＝１を満たすことが好ましく、ｘ、ｙ及びｚが、０．１６５≦ｘ≦０．２５５、０．１２０≦ｙ≦０．１９５、０．６２５≦ｚ≦０．６４０及びｘ＋ｙ＋ｚ＝１を満たすことがより好ましい。
【００１９】
本発明の第１の光学的情報記録媒体において、前記透過率調整層が、Ｍ（ただし、ＭはＣ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｙ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｃｏ、Ｉｎ、Ｔａ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｇｅ、Ｓｂ、Ｔｅ及びＣｅから選ばれる少なくとも１つの元素）をさらに含んでいてもよい。この場合、前記透過率調整層に含まれるＢｉ、Ｔｉ、Ｏ及びＭの組成を、原子数比でＢｉaＴｉbＯcＭdと表したとき、ａ、ｂ、ｃ及びｄが、０．０７≦ａ≦０．３５、０．０７≦ｂ≦０．２８、０．６１≦ｃ≦０．６５、０＜ｄ≦０．０５、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１を満たすことが好ましい。さらに、ａ、ｂ、ｃ及びｄが、０．１６≦ａ≦０．２９、０．０９≦ｂ≦０．２０、０．６１≦ｃ≦０．６４、０＜ｄ≦０．０５、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１を満たすことがより好ましい。
【００２０】
本発明の第２の光学的情報記録媒体は、少なくとも、レーザビームの照射によって情報を記録及び／又は再生し得る記録層と、透過率調整層とを、レーザビーム入射側からこの順で含んでおり、前記透過率調整層がＢｉ2Ｏ3及びＴｉＯ2を含み、且つ、前記透過率調整層に含まれるＢｉ2Ｏ3及びＴｉＯ2の組成を、モル比で（Ｂｉ2Ｏ3）α（ＴｉＯ2）βと表したとき、α及びβが、０．２≦α≦０．７、０．３≦β≦０．８、α＋β＝１を満たす。また、本発明の第２の光学的情報記録媒体は、多層の光学的情報記録媒体であってもよい。その場合、本発明の第２の光学的情報記録媒体は、Ｎ個の情報層（ＮはＮ≧２を満たす整数）を備えた光学的情報記録媒体であって、前記Ｎ個の情報層を、レーザビーム入射側から順に第１情報層〜第Ｎ情報層とした場合、前記Ｎ個の情報層に含まれる第Ｌ情報層（Ｌは、１≦Ｌ≦Ｎー１を満たす少なくとも１つの整数）は、レーザビームの照射によって情報を記録及び／又は再生し得る記録層と、透過率調整層とを、レーザビーム入射側からこの順で含んでおり、前記透過率調整層がＢｉ2Ｏ3及びＴｉＯ2を含み、且つ、前記透過率調整層に含まれるＢｉ2Ｏ3及びＴｉＯ2の組成を、モル比で（Ｂｉ2Ｏ3）α（ＴｉＯ2）βと表したとき、α及びβが、０．２≦α≦０．７、０．３≦β≦０．８、α＋β＝１を満たす。さらに、本発明の第２の光学的情報記録媒体において、α及びβが、０．３≦α≦０．６５、０．３５≦β≦０．７及びα＋β＝１を満たすことが好ましく、α及びβが、０．３０≦α≦０．５０、０．５０≦β≦０．７０及びα＋β＝１を満たすことがより好ましい。
【００２１】
なお、本発明の光学的情報記録媒体における透過率調整層は、本発明が目的としている特性を備えた透過率調整層が得られる限り、上記成分以外の他の成分を少量含んでもよいが、実質的に上記成分からなる材料が好適に用いられる。なお、透過率調整層が実質的に上記成分のみによって形成されるとは、透過率調整層が上記成分のみからなる材料（Ｂｉ、Ｔｉ及びＯからなる材料や、Ｂｉ、Ｔｉ、Ｏ及びＭからなる材料）によって形成されている場合はもちろん、上記成分のみからなる材料に他の成分が不可避に混入した材料によって形成されている場合も含む意味である。
【００２２】
本発明の第１の光学的情報記録媒体及び第２の光学的情報記録媒体において、前記透過率調整層の膜厚が３ｎｍ以上４０ｎｍ以下、又は、６０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下であることが好ましい。これにより、透過率調整層を含む情報層の透過率を向上させることができる。
【００２３】
次に、本発明の光学的情報記録媒体の製造方法は、上記の本発明の第１の光学的情報記録媒体又は第２の光学的情報記録媒体を製造する方法であって、前記透過率調整層を成膜する工程を含んでいる。前記透過率調整層を成膜する工程はスパッタリングにより実施され、且つ、ＢｉとＴｉとＯとを含むターゲットが用いられる。この場合、前記ターゲットに含まれるＢｉ、Ｔｉ及びＯの組成を、原子数比でＢｉpＴｉqＯrと記したとき、ｐ、ｑ及びｒが、０．０７≦ｐ≦０．３５、０．０７≦ｑ≦０．２８、０．５６≦ｒ≦０．７０、ｐ＋ｑ＋ｒ＝１を満たすことが好ましい。
【００２４】
本発明の光学的情報記録媒体の製造方法では、前記透過率調整層を成膜する工程において、前記透過率調整層を直流パルス放電により形成することが好ましい。
【００２５】
次に、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施の形態は本発明の一例であり、本発明は以下の実施の形態に限定されない。また、以下の実施の形態では、同一の部分については同一の符号を付して、重複する説明を省略する場合がある。
【００２６】
本実施の形態の光学的情報記録媒体１００について、一部断面図を図１に示す。光学的情報記録媒体１００では、レーザビーム３０の照射によって記録再生が行われる。本実施の形態の光学的情報記録媒体１００は、本発明の光学的情報記録媒体においてＮ＝２、すなわち２個の情報層を備えた構成であり、第１の情報層１０が本発明における第Ｌ情報層に該当する。
【００２７】
光学的情報記録媒体１００は、光学分離層（第２の基板を兼ねる。以下、光学分離層とのみ記載する。）２１と、光学分離層２１を挟むように配置された第１の情報層１０及び第２の情報層２０とを備える。第１の情報層１０は、第２の情報層２０よりもレーザビーム３０の入射側に配置されている。
【００２８】
第１の情報層１０は、レーザビーム３０の入射側から順に配置されたカバー層１、第１の下側保護層２、第１の下側界面層３、第１の記録層４、第１の上側保護層５、第１の反射層６、及び透過率調整層７を備える。なお、図示されていないが、必要に応じて、第１の記録層４と第１の上側保護層５との間に、第１の上側界面層をさらに設けてもよい。
【００２９】
第２の情報層２０は、レーザビーム３０の入射側から順に配置された第２の下側保護層１２、第２の下側界面層１３、第２の記録層１４、第２の上側界面層１５、第２の上側保護層１６、第２の反射層１７、及び第１の基板１８を備える。なお、本明細書における界面層及び保護層の名称について、下側とは記録層に対してレーザビーム３０の入射側に配置されていることを意味し、上側とは記録層に対してレーザビーム３０の入射側と反対側に配置されていることを意味する。さらに、本実施の形態の光学的情報記録媒体１００において、同様の機能を有する層が複数設けられている場合は、説明の便宜上、レーザビーム３０の入射側から順に第１、第２、…として区別する。
【００３０】
レーザビーム３０は、カバー層１側から入射する。第２の情報層２０は、第１の情報層１０及び光学分離層２１を透過したレーザビーム３０によって記録再生が行われる。
【００３１】
第１の基板１８は、たとえば、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィン及びＰＭＭＡ（polymethylmethacrylate）等の樹脂、又はガラスを用いて形成できる。
【００３２】
第１の基板１８の内側（光学分離層２１側）の表面には、必要に応じて、レーザビーム３０を導くための案内溝が形成されていてもよい。第１の基板１８の外側の表面は、平滑であることが好ましい。第１の基板１８は、短波長域において光学的に複屈折が小さいことが好ましい。第１の基板１８の材料としては、転写性・量産性に優れ、低コストであることから、ポリカーボネートが特に有用である。カバー層１の厚さは、たとえば１０μｍ〜８００μｍ（好ましくは、５０μｍ〜１５０μｍ、又は５５０μｍ〜６５０μｍ）の範囲内である。第１の基板１８の厚さは、たとえば４００μｍ〜１３００μｍ（好ましくは、５５０μｍ〜６５０μｍ、又は１０５０μｍ〜１１５０μｍ）の範囲内である。
【００３３】
第１の下側保護層２、第１の上側保護層５、第２の下側保護層１２及び第２の上側保護層１６は、いずれも誘電体材料からなる。これらの保護層は、光学距離を調整して記録層の光吸収効率を高める働きと、記録前後の反射光量の変化を大きくして信号振幅を大きくする働きとを有する。これらの保護層には、たとえばＳｉＯx（ｘは０．５〜２．５）、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＺｒＯ2、ＺｎＯ、Ｃｒ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、Ｂｉ2Ｏ3、Ｂｉ4Ｔ3Ｏ12、ＣｅＯ2、Ｃｕ2Ｏ、Ｉｎ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＭｇＳｉＯ3、Ｎｂ2Ｏ5、ＳｎＯ2、ＷＯ3、Ｙ2Ｏ3、ＺｒＳｉＯ4及びＴｅ−Ｏ等の酸化物を用いることができる。また、Ｓｉ−Ｎ、Ａｌ−Ｎ、Ｔｉ−Ｎ、Ｔａ−Ｎ、Ｚｒ−Ｎ及びＧｅ−Ｎ等の窒化物を用いることもできる。また、ＺｎＳ等の硫化物や、ＳｉＣ等の炭化物を用いることもできる。また、上記材料の混合物を用いることもできる。
【００３４】
第１の下側保護層２及び第１の上側保護層５の厚さは、第１の記録層４が結晶相である場合とそれが非晶質相である場合とで反射光量の変化が大きく、且つ第１の情報層１０の透過率が大きく、且つ第１の記録層４の光吸収効率が大きくなるように、厳密に決定することができる。具体的には、これらの厚さは、たとえばマトリクス法に基づく計算を用いて決定できる。
【００３５】
例えばレーザビーム３０として波長４０５ｎｍのレーザビームを用いた場合、第１の下側保護層２に、例えば屈折率が２．２、消衰係数０．０の材料（例えばＺｎＳ−２０ｍｏｌ％ＳｉＯ2（８０ｍｏｌ％のＺｎＳと２０ｍｏｌ％のＳｉＯ2の混合物。以下、同様の表記方法を同様の意味で用いることがある。））を用いた時の膜厚は、２０ｎｍ以上、６０ｎｍ以下が好ましい。第１の上側保護層５の膜厚は、例えば屈折率２．３、消衰係数が０．０の材料（例えば（ＺｒＯ2）25（ＳｉＯ2）25（Ｃｒ2Ｏ3）50（ｍｏｌ％）（２５ｍｏｌ％のＺｒＯ2と２５ｍｏｌ％のＳｉＯ2と５０ｍｏｌ％のＣｒ2Ｏ3との混合物。以下、同様の表記方法を同様の意味で用いることがある。））を用いた場合には、３ｎｍ以上、３０ｎｍ以下が好ましい。
【００３６】
第２の下側保護層１２及び第２の上側保護層１６の厚さも、同様に、第２の記録層１４が結晶相である場合とそれが非晶質相である場合とで反射光量の変化が大きく、且つ第２の記録層１４の光吸収効率が大きくなるように、厳密に決定することができる。
【００３７】
例えばレーザビーム３０として波長４０５ｎｍのレーザを用いた場合、第２の下側保護層１２に、例えば屈折率が２．２、消衰係数０．０の材料（例えばＺｎＳ−２０ｍｏｌ％ＳｉＯ2）を用いた時の膜厚としては、２０ｎｍ以上、６０ｎｍ以下が好ましい。第２の上側保護層１６の膜厚は、例えば屈折率２．３、消衰係数が０．０の材料（例えば（ＺｒＯ2）25（ＳｉＯ2）25（Ｃｒ2Ｏ3）50（ｍｏｌ％））を用いた場合には、１ｎｍ以上、１０ｎｍ以下が好ましい。
【００３８】
第１の下側保護層２、第１の上側保護層５、第２の下側保護層１２及び第２の上側保護層１６は、それぞれ異なる材料・組成で形成してもよいし、同一の材料・組成で形成してもよい。これらの保護層は、例えばスパッタリングにより形成することができる。
【００３９】
第１の下側保護層２及び第２の下側保護層１２としては、数十ｎｍの厚膜を高速に成膜でき、量産性に優れ、高屈折率を有する材料が好ましく、例えばＺｎＳとＳｉＯ2を混合させた材料が好適に用いられる。
【００４０】
第１の上側保護層５及び第２の上側保護層１６としては、繰り返し記録によって生じる物質移動を防止するために、酸化物材料が好ましい。例えば、ＺｒＯ2とＳｉＯ2とＣｒ2Ｏ3との混合材料が好適に用いられる。
【００４１】
第１の下側界面層３、第２の下側界面層１３及び第２の上側界面層１５は、それぞれ、第１の下側保護層２と第１の記録層４との間、第２の下側保護層１２と第２の記録層１４との間、及び、第２の上側保護層１６と第２の記録層１４との間で、物質が移動することを防止する働きがある。これらの界面層は、特に、繰り返し記録によって生じる物質移動を防止する。これらの界面層には、たとえばＳｉＯx（ｘは０．５〜２．５）、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＺｒＯ2、ＺｎＯ、Ｃｒ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ3、Ｂｉ2Ｏ3、Ｂｉ4Ｔ3Ｏ12、ＣｅＯ2、Ｃｕ2Ｏ、Ｉｎ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＭｇＳｉＯ3、Ｎｂ2Ｏ5、ＳｎＯ2、ＷＯ3、Ｙ2Ｏ3、ＺｒＳｉＯ4及びＴｅ−Ｏ等の酸化物を用いることができる。また、Ｓｉ−Ｎ、Ａｌ−Ｎ、Ｔｉ−Ｎ、Ｔａ−Ｎ、Ｚｒ−Ｎ及びＧｅ−Ｎ等の窒化物、これらを含む窒化酸化物を用いることもできる。また、ＳｉＣ等の炭化物を用いることもできる。また、これらの混合物を用いることもできる。なお、第１の上側界面層として、第１の上側保護層５と第１の記録層４との間に界面層を設ける場合、当該第１の上側界面層も上記界面層３、１３、１５と同様に形成できる。
【００４２】
界面層が厚いと、情報層の反射率や吸収率が大きく変化して記録・消去性能に影響を与える。したがって、界面層の厚さは、１ｎｍ〜１０ｎｍの範囲内であることが望ましく、２ｎｍ〜５ｎｍの範囲内であることがより好ましい。
【００４３】
第１の下側界面層３、第２の下側界面層１３及び第２の上側界面層１５は、それぞれ互いに異なる材料・組成で形成してもよいし、同一の材料・組成で形成してもよい。これらの界面層は、例えばスパッタリングにより形成することができる。
【００４４】
第１の記録層４及び第２の記録層１４は、レーザビーム３０の照射によって情報を記録及び／又は再生し得る記録層であり、レーザビーム３０の照射によって結晶相と非晶質相との間で可逆的な相変化を起こす材料からなる。第１の記録層４は、たとえばＧｅとＳｂとＴｅとを含む材料で形成できる。ここで、第２の記録層１４は、第１の記録層４の材料とは異なる材料で形成されることが好ましい。第２の記録層１４は、第１の記録層４の材料よりも融点が低い材料からなることが好ましい。
【００４５】
第１の記録層４の厚さは、第１の情報層１０の透過率を高くして、第２の情報層２０の記録再生の際に必要なレーザ光量を第２の情報層２０に到達させるために、９ｎｍ以下であることが好ましく、５ｎｍ〜７ｎｍの範囲内であることがより好ましい。
【００４６】
第２の記録層１４の厚さは、第２の情報層２０の記録感度を高くするため、６ｎｍ〜１５ｎｍの範囲内であることが好ましい。第２の記録層１４が厚い場合における熱の面内方向への拡散による隣接領域（レーザビーム照射によって記録を行っている領域に隣接している領域）への熱的影響と、第２の記録層１４が薄い場合における第２の情報層２０の反射率の低下とを考慮すると、第２の記録層１４の厚さは８ｎｍ〜１２ｎｍの範囲内であることがより好ましい。
【００４７】
第１の記録層４及び第２の記録層１４は、それぞれ異なる材料・組成で形成してもよいし、同一の材料・組成で形成してもよい。これらの記録層は、例えばスパッタリングにより形成することができる。
【００４８】
第１の反射層６及び第２の反射層１７は、第１の記録層４又は第２の記録層１４に吸収される光量を増大させるという光学的な機能を有する。また、これらの反射層は、記録層（第１の記録層４及び第２の記録層１４）で生じた熱を速やかに拡散させ、記録層を非晶質化しやすくするという熱的な機能も有する。さらに、これらの反射層は、光学的情報記録媒体１００を構成している多層膜を、使用する環境から保護するという機能も有する。
【００４９】
第１の反射層６及び第２の反射層１７の材料には、たとえばＡｌ、Ａｕ、Ａｇ及びＣｕ等の熱伝導率が高い単体金属を用いることができる。また、これらの金属元素の１つ又は複数を主成分とし、耐湿性の向上又は熱伝導率の調整等のために１つ又は複数の他の元素を添加した合金を用いることもできる。具体的には、Ａｌ−Ｃｒ、Ａｌ−Ｔｉ、Ａｕ−Ｐｄ、Ａｕ−Ｃｒ、Ａｇ−Ｐｄ、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ、Ａｇ−Ｐｄ−Ｔｉ、Ａｇ−Ｒｕ−Ａｕ及びＣｕ−Ｓｉ等の合金を用いることができる。これらの合金は、いずれも耐食性に優れ且つ急冷条件を満足する優れた材料である。特にＡｇ合金は、熱伝導率が大きく、光の透過率も高いため、第１の反射層６の材料として好ましい。
【００５０】
第１の反射層６の屈折率ｎ２及び消衰係数ｋ２は、第１の情報層１０の透過率をより大きくするため、ｎ２≦２．０且つ１．０≦ｋ２を満たすことが好ましく、０．１≦ｎ２≦１．０且つ１．５≦ｋ２≦４．０を満たすことがより好ましい。
【００５１】
第１の情報層１０の透過率Ｔｃ（％）及びＴａ（％）をできるだけ高くするため、第１の反射層６の厚さは、５ｎｍ〜１５ｎｍの範囲内であることが好ましく、８ｎｍ〜１２ｎｍの範囲内であることがより好ましい。第１の反射層６が５ｎｍよりも薄い場合には、その熱拡散機能が不十分となり、且つ第１の情報層１０の反射率が低下する場合がある。また、第１の反射層６が１５ｎｍよりも厚い場合には、第１の情報層１０の透過率が不十分となる場合がある。なお、本明細書において、透過率Ｔｃ（％）は、第１の記録層４が結晶相である場合の第１情報層１０の透過率を示し、透過率Ｔａ（％）は、第１の記録層４が非晶質相である場合の第１情報層１０の透過率を示す。
【００５２】
一方、第２の情報層２０は、高い透過率を必要としない。そのため、第２の反射層１７の厚さは、３０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内であることが好ましく、７０ｎｍ〜９０ｎｍの範囲内であることがより好ましい。第２の反射層１７が３０ｎｍよりも薄い場合には、その熱拡散機能が不十分となり、第２の記録層１４が非晶質化しにくくなる場合がある。また、第２の反射層１７が１５０ｎｍよりも厚い場合には、その熱拡散機能が大きくなりすぎて、第２の情報層２０の記録感度が低下する場合がある。
【００５３】
第１の反射層６及び第２の反射層１７は、それぞれ異なる材料・組成で形成してもよいし、同一の材料・組成で形成してもよい。これらの反射層は、例えばスパッタリングにより形成することができる。
【００５４】
本実施の形態の光学的情報記録媒体において、透過率調整層７は、第１の情報層１０の透過率を調整する機能を有する。この透過率調整層７によって、第１の記録層４が結晶相である場合の第１の情報層１０の透過率Ｔｃ（％）と、記録層が非晶質相である場合の第１の情報層１０の透過率Ｔａ（％）とを共に高くすることができる。
【００５５】
具体的には、透過率調整層７を備える第１の情報層１０では、透過率調整層が無い場合に比べて、２％〜１０％程度透過率が上昇する。また、透過率調整層７は、第１の記録層４で発生した熱を効果的に拡散させる効果も有する。
【００５６】
透過率調整層７の屈折率ｎ１及び消衰係数ｋ１は、第１の情報層１０の透過率Ｔｃ及びＴａを高める作用をより大きくするため、２．０≦ｎ１≦３．０且つｋ１≦０．１を満たすことが好ましく、２．５≦ｎ１≦３．０且つｋ１≦０．０８を満たすことがより好ましい。透過率調整層７の膜厚ｄ１は、（１／３２）λ／ｎ１≦ｄ１≦（３／１６）λ／ｎ１又は（１７／３２）λ／ｎ１≦ｄ１≦（１１／１６）λ／ｎ１の範囲内であることが好ましく、（１／１６）λ／ｎ１≦ｄ１≦（５／３２）λ／ｎ１又は（９／１６）λ／ｎ１≦ｄ１≦（２１／３２）λ／ｎ１の範囲内であることがより好ましい。なお、上記の範囲は、レーザビーム３０の波長λと透過率調整層７の屈折率ｎ１とを、例えば３５０ｎｍ≦λ≦４５０ｎｍ、２．０≦ｎ１≦３．０の範囲内で選択する場合、３ｎｍ≦ｄ１≦４０ｎｍ又は６０ｎｍ≦ｄ１≦１３０ｎｍの範囲内であることが好ましく、７ｎｍ≦ｄ１≦３０ｎｍ又は６５ｎｍ≦ｄ１≦１２０ｎｍの範囲内であることがより好ましいことになる。ｄ１をこの範囲内で選ぶことによって、第１の情報層１０の透過率Ｔｃ及びＴａを共に高くすることができる。
【００５７】
透過率調整層７には、屈折率が大きく、消衰係数が小さく、成膜レートが速く、且つ、安定な材料を用いることが好ましく、本実施の形態ではＢｉとＴｉとＯとを含む材料を用いる。ＢｉとＴｉとＯを含む材料としては、例えば、Ｂｉ2Ｏ3とＴｉＯ2の混合物が挙げられる。Ｂｉ2Ｏ3とＴｉＯ2との混合比を適宜調整することで、屈折率を大きく（ｎ１＝２．７〜２．８）、且つ消衰係数を小さく（ｋ１＝０．０〜０．１０）することができ、第１の情報層１０の透過率を高める作用が大きくなる。透過率調整層７には、Ｂｉ、Ｔｉ及びＯ以外の元素が含まれていてもよいが、透過率調整層７に含まれる原子数の合計を１００原子％とした場合に、Ｂｉ、Ｔｉ及びＯの原子の合計が９０原子％以上、好ましくは９５原子％以上含まれることが望ましい。透過率調整層７が、Ｂｉ、Ｔｉ及びＯから形成されていてもよい。透過率調整層７がその他の元素（Ｍ）を含む場合、元素Ｍは、例えばＣ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｙ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｃｏ、Ｉｎ、Ｔａ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｇｅ、Ｓｂ、Ｔｅ及びＣｅから選ばれる少なくとも１つの元素である。
【００５８】
また、ＢｉとＴｉとＯとを含む材料によれば、光学的情報記録媒体の量産性を高めることができる。すなわち、ＢｉとＴｉとＯとを含む材料からなるスパッタリングターゲットは、例えば、高屈折率及び低消衰係数を有するＴｉＯ2薄膜を形成する為のＴｉＯ2ターゲットよりもスパッタ時の成膜レート（以下、スパッタリングレートということもある）が速く、また、ＴｉＯ2ターゲットに比べて不純物ガスに対してスパッタリングレートが変動しにくいため、高速で安定したスパッタリングを実現できる。上記不純物ガスとしては、例えば、ポリカーボネート基板からの脱した水等が挙げられる。
【００５９】
透過率調整層７に含まれるＢｉとＴｉとＯについて、その組成を原子数比でＢｉxＴｉyＯzと表した場合、ｘ、ｙ及びｚは、０．０７≦ｘ≦０．３５、０．０７≦ｙ≦０．２８、０．５６≦ｚ≦０．７０、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１を満たす。さらに、ｘ、ｙ及びｚは、０．１６≦ｘ≦０．２９、０．０９≦ｙ≦０．２０、０．５６≦ｚ≦０．７０及びｘ＋ｙ＋ｚ＝１を満たすことが好ましい。より好ましくは、ｘ、ｙ及びｚが、０．１６５≦ｘ≦０．２５５、０．１２０≦ｙ≦０．１９５、０．６２５≦ｚ≦０．６４０及びｘ＋ｙ＋ｚ＝１を満たすことである。
【００６０】
透過率調整層７に含まれるＢｉ、Ｔｉ及びＯについて、その組成を上記のようにＢｉxＴｉyＯzと表した場合、ｘが０．０７以上（Ｂｉ量が７原子％以上）、及び／又は、ｙが０．２８以下（Ｔｉ量が２８原子％以下）とすることにより、透過率調整層７を形成する際に用いられるターゲットのスパッタリングレートを、ＴｉＯ2材をターゲットとした場合に比べて、より高めることができる。また、スパッタリング中に不純物ガスが混在しても、スパッタリングレートを比較的安定に保つことができる。
【００６１】
また、ｘを０．３５以下（Ｂｉ量を３５原子％以下）、及び／又は、ｙを０．０７以上（Ｔｉ量を７原子％以上）とすることにより、膜中に含まれるＢｉ2Ｏ3の割合が減少するため、薄膜の消衰係数を１．０以下とすることができ、第１の情報層１０の透過率を高めることができる。また、膜中のＢｉ2Ｏ3の割合が減少することにより、記録媒体の耐食性能を十分に確保することができる。
【００６２】
薄膜中に含まれる酸素量については、膜中にＢｉとＴｉとが化学的に安定なＢｉ2Ｏ3、ＴｉＯ2の結合状態で主成分として含まれることが好ましい。ＢｉxＴｉyＯzと表した場合に、ｘが０．０７≦ｘ≦０．３５（７原子％≦Ｂｉ≦３５原子％）を満たし、ｙが０．０７≦ｙ≦０．２８（７原子％≦Ｔｉ≦原子２８％）を満たす範囲においては、酸素量を５６原子％以上（ｚが０．５６以上）とすることが、消衰係数を０．１以下とする点で好ましい。より好ましくは、酸素量を６１原子％以上（ｚが０．６１以上）とすることである。
【００６３】
透過率調整層７は、一般的にアルゴンガス、もしくはアルゴンガスと酸素ガスとの混合ガスによりスパッタリング形成されるが、酸素を過剰に含むガス雰囲気でスパッタリングを行うと、適正な酸素濃度でスパッタリングした場合に比べて、スパッタリングレートが遅くなる。また、このとき薄膜中に含まれる酸素量は、Ｂｉ2Ｏ3、ＴｉＯ2に含まれる酸素以上の過度な酸素が存在することとなる。したがって、薄膜中に含まれる酸素量の上限としては、スパッタリングレートをより高める上で、７０％以下（ｚが０．７０以下）が好ましく、より好ましくは６５％（ｚが０．６５以下）以下が好ましい。
【００６４】
透過率調整層７は、例えばＢｉ2Ｏ3粉とＴｉＯ2粉とを適宜混合させ焼結させたターゲット材をスパッタリングすることによって形成できる。しかし、このようなターゲットは抵抗値が高いため、放電電極としては高周波（ＲＦ）電極を使用する。
【００６５】
一方で、例えばＢｉ2Ｏ3粉とＴｉＯ2粉と、ＴｉＯ2の酸素を欠損させたＴｉＯx粉（ｘは例えば１．６〜１．８）とを適宜混合して焼結させたターゲットは、抵抗値が小さいので、直流（ＤＣ）パルス電極を使用することが可能となる。したがって、このようなターゲットを用いた場合、スパッタリング中のガスとして例えばアルゴンガスに適量の酸素を混合させて、ＤＣパルス放電させることによって、例えばＢｉ2Ｏ3とＴｉＯ2で示される安定な酸化物を主成分として含む透過率調整層７を形成することができる。
【００６６】
同じ組成の薄膜を形成する場合、ＤＣパルス放電の方が、ＲＦ放電よりもスパッタリングレートを高めることができるため、ＤＣパルス放電によって薄膜を形成する方が好ましい。したがって、透過率調整層７を形成する際には、ＤＣパルス放電を用いることが好ましい。
【００６７】
また、ＤＣパルス放電中に導入する酸素ガス量は、ターゲット組成により適宜調整することが好ましい。ＤＣパルス放電中に酸素ガスを導入することによって、形成される薄膜の消衰係数を小さくすることができる。一方で、スパッタリング中に過剰に酸素を導入すると、スパッタリングレートが低下するだけでなく、形成される薄膜の屈折率が小さくなるため、酸素量としては薄膜の消衰係数が最低となる量で調整することが好ましい。
【００６８】
スパッタリング中の酸素ガス濃度としては、例えばアルゴンガスと酸素ガスとの混合ガスを用いて、モル分率で酸素１％以上１０％以下が好ましい。スパッタリング中のガスとして、酸素ガスを１０％以上必要とするような酸素欠損材料のターゲットを用いて薄膜を形成することもできるが、ＤＣパルス放電の長所である高スパッタリングレートと薄膜の安定性のメリットが薄れるため、酸素ガス濃度が１０％以下でスパッタリング可能なターゲット組成を用いることが好ましい。
【００６９】
以下に、透過率調整層７の形成方法と、薄膜（透過率調整層）の光学定数及び薄膜中のＢｉ、Ｔｉ、Ｏの組成比の測定方法について詳細に説明する。
【００７０】
透過率調整層７の形成に用いるターゲットには、Ｂｉ2Ｏ3と、ＴｉＯ2及び／又はＴｉＯx（ｘ＝１．６〜１．８）とを主成分とするターゲット材を使用することが好ましい。ターゲット材の成分としてＴｉＯxを用いる理由は、ターゲットの抵抗値を下げてＤＣパルス放電を可能とするためである。なお、ＴｉＯxの他に、ＴｉＯ、Ｔｉをターゲットに含ませてもよい。ターゲットの表面抵抗としては、５Ω／ｃｍ2以下が好ましい。
【００７１】
ターゲットの密度とは、粉末の充填率を示し、全く隙間無く粉末が充填されている状態を１００％と定義した場合に、密度８０％以上が成膜レートを高める点で好ましい。また、ターゲットの密度が高いほど、大気圧からスパッタリング可能な圧力まで真空引きに要する時間を短縮できる点で好ましい。
【００７２】
ターゲットの作製方法としては、上記それぞれの材料を粉末から焼結させることによって形成することが一般的であるが、焼結法とは別の作製方法でターゲットを形成しても、ターゲット組成が同一のものであるならば、スパッタリングレート、薄膜の光学定数及び薄膜中のＢｉ、Ｔｉ、Ｏの組成比は、焼結法で作製したターゲットを用いた場合とほぼ同等と考えられる。したがって、ターゲットの作製方法が本発明を制約することはない。また、ターゲット作製時に極微量の添加剤を加えることで、焼結法とは別の方法でターゲットを作製できたとしても、このターゲットを用いて形成される薄膜がＢｉ、Ｔｉ、Ｏを本発明で規定する組成比で含むことには相違がない。そのため、ターゲットの作製方法によって本発明が制約されることはない。
【００７３】
ターゲットの放電は、ＤＣパルス放電とすることが、放電を安定化させる上で好ましい。スパッタリングレートをより高くするには、例えばＤＣ放電等のスパッタリングが好ましい方法ではあるが、本実施の形態における透過率調整層７を構成する材料を用いて薄膜を形成する場合においては、例えば多くのＴｉ材料を混合する必要があり、スパッタ時に多くの酸素を導入する必要がある。一般に、ＤＣスパッタリングを用いて、酸素と結合する材料を反応性スパッタリングすると、ターゲット表面に非導電性の酸化膜が形成されるため、放電が持続されにくい。このため、ＤＣパルス放電とすることが好ましい。
【００７４】
ＤＣパルス放電におけるパルス周波数は、ターゲット表面の導電性に応じて適宜調整して決めることが好ましい。周波数を低くするほど、ターゲットが０電位から負電荷に移行して再度０電位になるまでの時間が長くなる、すなわち局所的にみて放電時間が長くなる。このため、ターゲット表面の抵抗値が高い場合には、表面が帯電しやすく、このことがスパッタを不安定にしやすい。一方、周波数を高くしすぎると、局所的にみて放電時間が短くなるため、スパッタリングレートが遅くなる。したがって、パルス周波数は、ターゲットの導電性に最適となるようにする必要がある。
【００７５】
パルスリバースタイム（電位が０Ｖとなる時間）もまた、ターゲットの導電性及びパルス周波数に依存して、最適化する必要がある。
【００７６】
スパッタリングレートは、スパッタパワーがより高い方がスパッタリングレートを高める上で好ましいが、あまり高くするとターゲットに熱が溜まりやすくなり、熱歪みによってターゲットが損傷する可能性が高くなる。なお、スパッタリングにはマグネトロンスパッタリングを用いることが、プラズマを収束させてスパッタリングレートを高めることができるため、好ましい。
【００７７】
スパッタリング時における導入ガスとしては、Ａｒ、Ｘｅ等の希ガスを主成分として、例えば酸素、窒素等の反応性ガスを添加することが好ましい。
【００７８】
スパッタリングレートは、例えば、石英基板上に薄膜を一定厚みに形成して、その膜厚を、例えば分光エリプソメータによって求めてスパッタ時間で割ることにより、スパッタリングレートを求めることができる。
【００７９】
また、薄膜の光学定数は、例えばスパッタリングレートを調べたサンプルを用いて、同様に分光エリプソメータによって任意波長において調べることができる。
【００８０】
薄膜中のＢｉ、Ｔｉ、Ｏの組成比は、例えば、Ｓｉ基板上に約１μｍの膜厚で薄膜を形成したサンプルを作製し、このサンプルを用いて波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーにより分析できる。
【００８１】
次に、光学分離層２１について説明する。光学分離層２１は、第１の情報層１０のフォーカス位置と第２の情報層２０のフォーカス位置とを区別するために設けられる。光学分離層２１の材料としては、光硬化性樹脂又は遅効性熱硬化型樹脂を用いることができる。光学分離層２１の材料は、記録再生に用いられるレーザビーム３０の波長における光吸収が小さいことが好ましい。光学分離層２１の厚さは、対物レンズの開口数ＮＡとレーザビーム３０の波長λによって決定される焦点深度ΔＺ以上であることが必要である。焦点の光強度の基準を無収差の場合の８０％と仮定した場合、焦点深度ΔＺは、ΔＺ＝λ／｛２（ＮＡ）2｝で近似できる。λ＝４００ｎｍ、ＮＡ＝０．６のとき、ΔＺ＝０．５５６μｍとなり、±０．６μｍ以内は焦点深度内となる。そのため、この場合には、光学分離層２１の厚さは１．２μｍ以上であることが必要である。第１の情報層１０と第２の情報層２０との間の距離は、対物レンズを用いてレーザビーム３０を集光可能な範囲内にあることが必要である。したがって、光学分離層２１の厚さとカバー層１の厚さとの合計は、対物レンズが許容できる基板厚さの公差内にすることが好ましい。このため、光学分離層２１の厚さは、１．２μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましい。
【００８２】
光学分離層２１の形成は、例えば、第２の情報層２０の第２の下側保護層１２上に光硬化性樹脂又は遅効性熱硬化型樹脂をスピンコートした後、樹脂を硬化させることによって形成できる。なお、光学分離層２１がレーザビーム３０の入射側の表面に案内溝を備える場合には、溝が形成された基板（型）を硬化前の樹脂に密着させた後、樹脂を硬化させ、その後、基板（型）をはがすことによって案内溝を形成できる。
【００８３】
カバー層１は、第１の下側界面層２から透過率調整層７までの薄膜材料、及び、第２の下側保護層１２から第２の反射層１７までの薄膜材料を保護する機能を有する。ポリエステルアクリレート系等の紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布した後、この樹脂を紫外線硬化させて形成することができる。
【００８４】
図示されていないが、カバー層１の代わりに、光学分離層として機能する基板を配置し、そのレーザビーム入射側に、透過率調整層を有する情報層がさらに設けられてもよい。すなわち、図１には情報層を２層備えた光学的情報記録媒体を示したが、情報層が３層以上設けられた場合であっても本発明の構成を適用できる。具体的には、Ｎ個の情報層（Ｎは、Ｎ≧２を満たす整数）を備え、Ｎ個の情報層を、レーザビーム入射側から順に第１情報層〜第Ｎ情報層とした場合、Ｎ個の情報層に含まれる第Ｌ情報層（Ｌは、１≦Ｌ≦Ｎー１を満たす少なくとも１つの整数）が前記レーザビームの入射側からみて、少なくとも記録層、透過率調整層をこの順に備えており、前記透過率調整層が本実施の形態中で説明した透過率調整層７と同様の構成である光学的情報記録媒体とすることもできる。このような複数の情報層を備えた多層光学的情報記録媒体の場合であっても、本発明の効果は損なわれることはなく、本発明の構成を適用できることは言うまでもない。また、本実施の形態では、情報層が２層設けられた光学的情報記録媒体を例に挙げて説明したが、情報層が１層のみ設けられている場合であっても、本発明の構成を適用可能である。
【実施例】
【００８５】
以下に、本発明の光学的情報記録媒体について、実施例を用いてさらに詳細に説明する。
【００８６】
（実施例１）
実施例１の光学的情報記録媒体は、以下のようにして製造した。なお、本実施例で作製した光学的情報記録媒体は、第１の記録層４と第１の上側保護層５との間に第１の上側界面層をさらに設けた以外は、図１に示した光学的情報記録媒体１００と同様の膜構成を有する。以下、図１に示した符号を用いながら、本実施例の光学的情報記録媒体について説明する。
【００８７】
まず、第１の基板１８として、案内溝が転写された厚さ１．１ｍｍのポリカーボネート基板（直径１２０ｍｍ、厚さ１１００μｍ）を用いた。
【００８８】
そして、そのポリカーボネート基板上に、第２の情報層２０を順次スパッタリングにより形成した。第２の反射層１７としてＡｇ−Ｐｄ−Ｃｕ層（厚さ：１００ｎｍ）、第２の上側保護層１６としてＺｒＯ2−Ｃｒ2Ｏ3層（厚さ：１２ｎｍ）、第２の上側界面層１５としてＺｒＯ2−ＳｉＯ2−Ｃｒ2Ｏ3層（厚さ：２ｎｍ）、第２の記録層１４としてＳｂ80Ｇｅ7Ｔｅ13層（厚さ：１０ｎｍ）、第２の下側界面層１３としてＺｒＯ2−ＳｉＯ2−Ｃｒ2Ｏ3層（厚さ：５ｎｍ）、第２の下側保護層１２としてＺｎＳ−ＳｉＯ2層（厚さ：４０ｎｍ、ＺｎＳ：８０ｍｏｌ％、ＳｉＯ2：２０ｍｏｌ％）を順次スパッタリング法によって積層した。
【００８９】
次いで、光学分離層２１を形成するために、第２の下側保護層１２上にスピンコート法によって紫外線硬化性樹脂を塗布した後、溝が形成された基板（型）を硬化前の樹脂に密着させたのち、樹脂を硬化させた。その後、基板（型）をはがすことによって、案内溝が設けられた光学分離層２１が形成された。
【００９０】
次いで、光学分離層２１を形成した媒体を、８０℃、相対湿度１％ＲＨ（relative humidity）に保たれたオーブンに４時間投入した後、上記媒体を真空装置に投入して、第１の情報層１０を構成する各膜をスパッタリングにより形成した。
【００９１】
第１の情報層１０としては、順次、透過率調整層７（厚さ：１４ｎｍ〜２５ｎｍ）、第１の反射層６としてＡｇ−Ｐｄ−Ｃｕ層（厚さ：１０ｎｍ）、第１の上側保護層５としてＺｒＯ2−Ｃｒ2Ｏ3層（厚さ：１２ｎｍ）、第１の上側界面層としてＺｒＯ2−ＳｉＯ2−Ｃｒ2Ｏ3層（厚さ：２ｎｍ）、第１の記録層４としてＧｅ12Ｂｉ2Ｔｅ15層（厚さ：７ｎｍ）、第１の下側界面層３としてＺｒＯ2−Ｃｒ2Ｏ3層（厚さ：５ｎｍ）、第１の下側保護層２としてＺｎＳ−ＳｉＯ2層（厚さ：４５ｎｍ、ＺｎＳ：８０ｍｏｌ％、ＳｉＯ2：２０ｍｏｌ％）を積層した。最後に、紫外線硬化性樹脂を第１の下側保護層２上に塗布し、ポリカーボネート基板（直径１２０ｍｍ、厚さ９０μｍ）を第１の下側保護層２に密着させてスピンコートした後、紫外線を照射して樹脂を硬化させることによって、カバー層１（７５ｍμｍ）を形成した。
【００９２】
第１の反射層６、及び第２の反射層１７としてはＡｇ97Ｐｄ2Ｃｕ1（ｗｔ％）（９７ｗｔ％のＡｇと、２ｗｔ％のＰｄと、１ｗｔ％のＣｕとの混合物）材料を用いて、Ａｒガスを導入してＤＣスパッタリングにより形成した。
【００９３】
第２の上側保護層１５、第１の上側保護層５、第１の下側界面層３は、（ＺｒＯ2）50（Ｃｒ2Ｏ3）50（ｍｏｌ％）材料を用いて、Ａｒガスを導入してＲＦスパッタリングにより形成した。
【００９４】
第２の上側界面層１７、第２の下側界面層１３、第１の上側界面層は、（ＺｒＯ2）50（Ｃｒ2Ｏ3）50（ｍｏｌ％）の材料を用いて、Ａｒガスを導入してＲＦスパッタリングにより形成した。
【００９５】
第２の記録層１４としては、Ｓｂ80Ｇｅ7Ｔｅ13（原子％）の混合材料とし、Ａｒガスを導入してＤＣスパッタリングにより形成した。なお、「Ｓｂ80Ｇｅ7Ｔｅ13（原子％）」とは、「Ｓｂ」原子と「Ｇｅ」原子と「Ｔｅ」原子を合わせた数を基準（１００％）として表された組成式であることを示している。
【００９６】
第１の記録層４としては、ＧｅＴｅとＳｎＴｅとＢｉ2Ｔｅ3をそれぞれ１０：２：１（モル比）の混合材料とし、Ａｒガスを導入してＤＣスパッタリングにより形成した。
【００９７】
第１の下側保護層２は、ＺｎＳとＳｉＯ2を４：１（モル比）で混合した材料を用いて、Ａｒガスを導入してＲＦスパッタリングにより形成した。
【００９８】
カバー層１は、ポリエステルアクリレート系材料を用いて形成した。
【００９９】
本実施例の透過率調整層７は、スパッタリングを用いて形成し、ターゲットのサイズはφ２００ｍｍ×厚さ６ｍｍとした。パルス周波数を１２０Ｈｚとし、パルスリバースタイムを０．４μｓとすることで、スパッタリングレートを遅くすることなく、且つ放電が安定となることが確認できた。
【０１００】
透過率調整層７としては、ターゲット材としてＢｉ2Ｏ3粉を２０ｍｏｌ％、ＴｉＯx（ｘ＝１．６〜１．８）粉を８０ｍｏｌ％の割合で混合したターゲットを用い、厚さ１８ｎｍに形成した。本実施ではスパッタリング電力を２．５ｋＷとした。また、スパッタリングにはマグネトロンスパッタを用いた。
【０１０１】
本実施例では、安価なＡｒガスを主成分として、ターゲットから薄膜を形成する際に酸化をより促進させるために酸素ガスを導入した。Ａｒガス流量を３．３×１０-7ｍ3／ｓ（２０ｓｃｃｍ）と一定にし、スパッタリング時における酸素濃度が３ｖｏｌ％となるように酸素ガスを導入して、薄膜（透過率調整層７）を形成した。このときの成膜室の真空度はおおよそ２×１０-1Ｐａであった。
【０１０２】
このように作製した本実施例の光学的情報記録媒体において、第１の情報層１０の記録再生特性を評価した。評価方法を以下に示す。
【０１０３】
記録再生装置としては、光学的情報記録媒体を回転させるためのスピンドルモータと、半導体レーザを備える光学ヘッドと、半導体レーザから出射されるレーザビームを集光する対物レンズとを備える記録再生装置を用いた。
【０１０４】
まず、光学的情報記録媒体への情報の記録、消去及び上書き記録の一般的な方法について、簡単に説明する。光学的情報記録媒体への情報の記録、消去及び上書き記録は、レーザビームのパワーを、高パワーのピークパワー（Ｐｐ（ｍＷ））と低パワーのバイアスパワー（Ｐｂ（ｍＷ））とに変調させることによって行われる。ピークパワーのレーザビームを照射することによって、記録層の局所的な一部分に非晶質相が形成され、その非晶質相が記録マークとなる。記録マーク間では、バイアスパワーのレーザビームが照射され、結晶相（消去部分）が形成される。なお、ピークパワーのレーザビームを照射する場合には、パルスの列で形成する、いわゆるマルチパルスとするのが一般的である。なお、マルチパルスはピークパワー、バイアスパワーのパワーレベルだけで変調されてもよいし、０ｍＷ〜ピークパワーの範囲のパワーレベルによって変調されてもよい。
【０１０５】
また、ピークパワー、バイアスパワーのいずれのパワーレベルよりも低く、そのパワーレベルでのレーザビームの照射によって記録マークの光学的な状態が影響を受けず、且つ光学的情報記録媒体から記録マーク再生のための十分な反射光量が得られるパワーを再生パワー（Ｐｒ（ｍＷ））とし、再生パワーのレーザビームを照射することによって得られる光学的情報記録媒体からの信号を検出器で読みとることにより、情報信号の再生が行われる。
【０１０６】
対物レンズの開口数ＮＡは、レーザビームのスポット径を０．４μｍ〜０．７μｍの範囲内に調整するため、０．５〜１．１の範囲内（より好ましくは、０．６〜１．０の範囲内）であることが好ましい。レーザビーム３０の波長は、４５０ｎｍ以下（より好ましくは、３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内）であることが好ましい。情報を記録する際の光学的情報記録媒体の線速度は、再生光による結晶化が起こりにくく、且つ十分な消去率が得られる３ｍ／秒〜２０ｍ／秒の範囲内（より好ましくは、４ｍ／秒〜１５ｍ／秒の範囲内）であることが好ましい。
【０１０７】
本実施例での記録再生特性の評価は、レーザビームの波長を４０５ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡを０．８５、測定時のサンプルの線速度を９．８ｍ／ｓ、最短マーク長（２Ｔ）を０．１４９μｍ、光学分離層２１に形成された案内溝のトラックピッチを０．３２μｍとし、情報をグルーブに記録して行った。
【０１０８】
第１の情報層１０に対して記録を行う際には、レーザビームの焦点を第１の記録層４に合わせ、カバー層１を透過したレーザビームによって第１の記録層４に情報を記録した。再生は、第１の記録層４によって反射され、カバー層１を透過してきたレーザビームを用いて行った。
【０１０９】
記録性能は、１−７ｐｐ変調方式で２Ｔ長さのマークを記録し、この振幅対雑音比（Carrier to Noise Ratio：ＣＮＲ）をスペクトラムアナライザーで測定することによって評価した。消去性能は、１−７ｐｐ変調方式で２Ｔ長さのマークを記録して振幅をスペクトラムアナライザーで測定し、その上から９Ｔ長さのマークをオーバーライトして再度２Ｔ信号の振幅を測定し、２Ｔ信号の減衰率を計算することによって評価した。以下、この２Ｔ信号の減衰率を消去率という。
【０１１０】
実施例１の第１の情報層１０における記録性能は、Ｐｐ＝１２．０ｍＷ、Ｐｂ＝５．２ｍＷのときＣＮＲが４６ｄＢ、消去率が２８ｄＢであった。
【０１１１】
一方、光学的情報記録媒体の耐食性能は、まず光学的情報記録媒体を８５℃、相対湿度８５％ＲＨの環境下とした恒温槽に投入して加速試験を１００時間行い、その後、光学顕微鏡にて１００倍の倍率で媒体全面（ディスク半径２１ｍｍからディスク最外周までの領域）を観察して、腐食・剥離を調べることによって評価した。本実施例の光学的情報記録媒体では腐食・剥離は観察されず、良好な耐食性能が得られた。
【０１１２】
別途、本実施例の透過率調整層７作製時と同様のスパッタリング条件を用いて、スパッタリングレート測定用のサンプルを１０個作製した。具体的には、石英基板上に、本実施例の透過率調整層７と同様のターゲットを用いて薄膜を１８ｍｍ厚みに形成したものを１０個作製し、スパッタリングレート測定用のサンプルとした。各サンプルにおける薄膜の膜厚を分光エリプソメータ（ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社製「Ｍ−２０００」）によって測定し、その膜厚をスパッタ時間で割ることにより、スパッタリングレートを求めた。スパッタリングレートは４．１ｎｍ／ｓ（１０個のサンプルの平均）であった。なお、スパッタリングレートに関しては、１０個のサンプルについての変動量も調べた。最大のレート値と最小のレート値との差を、平均値で割った値（％）をレート変動率として求めた。実施例１でのレート変動率は４．８％であった。
【０１１３】
また、スパッタリングレートを調べたサンプルを用いて、分光エリプソメータ（ジェー・エー・ウーラムジャパン株式会社製「Ｍ−２０００」）によって波長４０５ｎｍにおける薄膜（透過率調整層７）の光学定数を測定したところ、屈折率ｎ１が２．７５、消衰係数ｋ１が０．０３であった。
【０１１４】
また、本実施例の透過率調整層７作製時と同様のスパッタリング条件を用いて、薄膜（透過率調整層７）の組成を測定するためのサンプルも別途作製した。具体的には、Ｓｉ基板上に、本実施例の透過率調整層７と同様のターゲットを用いて約１μｍの膜厚で薄膜を形成したサンプルを作製し、このサンプルを用いて波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーにより薄膜の組成を分析した。その結果、本実施例の薄膜（透過率調整層７）の組成は、原子％で示して、Ｂｉが１１．８％、Ｔｉが２３．５％、Ｏが６４．７％であった。これを原子比で示す組成で表すとＢｉ0.118Ｔｉ0.235Ｏ0.647となり、酸化物（Ｂｉ2Ｏ3、ＴｉＯ2）のモル比で表すと（Ｂｉ2Ｏ3）0.2（ＴｉＯ2）0.8となる。
【０１１５】
（実施例２）
透過率調整層７を形成するターゲット材として、Ｂｉ2Ｏ3粉を３０ｍｏｌ％、ＴｉＯx（ｘ＝１．６〜１．８）粉を７０ｍｏｌ％の割合で混合したターゲットを用いた以外は、実施例１と同様にして光学的情報記録媒体を形成した。実施例２の光学的情報記録媒体についても、実施例１と同様の方法で各物性を測定し、各特性の評価を行った。
【０１１６】
実施例２では、スパッタリングレートは５．８ｎｍ／ｓ（１０個のサンプルの平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．７７、消衰係数ｋ１が０．０３であった。このときのレート変動率は４．５％であった。
【０１１７】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｂｉが１６．６％、Ｔｉが１９．３％、Ｏが６４．１％であった。これを原子比で示す組成で表すとＢｉ0.166Ｔｉ0.193Ｏ0.641となり、酸化物（Ｂｉ2Ｏ3、ＴｉＯ2）のモル比で表すと（Ｂｉ2Ｏ3）0.3（ＴｉＯ2）0.7となる。
【０１１８】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１２．１ｍＷ、Ｐｂ＝５．２ｍＷのときＣＮＲが４７ｄＢ、消去率が２８ｄＢであった。
【０１１９】
耐食性能の評価では、腐食・剥離は観察されなかった。
【０１２０】
（実施例３）
透過率調整層７を形成するターゲット材として、Ｂｉ2Ｏ3粉を４０ｍｏｌ％、ＴｉＯx（ｘ＝１．６〜１．８）粉を６０ｍｏｌ％の割合で混合したターゲットを用い、スパッタリング時における酸素濃度を２．５ｖｏｌ％とした以外は、実施例１と同様に光学的情報記録媒体を形成した。実施例３の光学的情報記録媒体についても、実施例１と同様の方法で各物性を測定し、各特性の評価を行った。
【０１２１】
実施例３では、スパッタリングレートは７．６５ｎｍ／ｓ（１０個のサンプルの平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．７７、消衰係数ｋ１が０．０５であった。このときのレート変動率は４．０％であった。
【０１２２】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｂｉが２１．０％、Ｔｉが１６．０％、Ｏが６３．０％であった。これを原子比で示す組成で表すとＢｉ0.21Ｔｉ0.16Ｏ0.63となり、酸化物（Ｂｉ2Ｏ3、ＴｉＯ2）のモル比で表すと（Ｂｉ2Ｏ3）.0.4（ＴｉＯ2）0.6となる。
【０１２３】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１２．０ｍＷ、Ｐｂ＝５．２ｍＷのときＣＮＲが４７ｄＢ、消去率が２８ｄＢであった。
【０１２４】
耐食性能の評価では、腐食・剥離は観察されなかった。
【０１２５】
（実施例４）
透過率調整層７を形成するターゲット材として、Ｂｉ2Ｏ3粉を５０ｍｏｌ％、ＴｉＯx（ｘ＝１．６〜１．８）粉を５０ｍｏｌ％の割合で混合したターゲットを用い、スパッタリング時における酸素濃度を２．５ｖｏｌ％とした以外は、実施例１と同様に光学的情報記録媒体を形成した。実施例４の光学的情報記録媒体についても、実施例１と同様の方法で各物性を測定し、各特性の評価を行った。
【０１２６】
実施例４では、スパッタリングレートは９．２４ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率が２．７７、消衰係数が０．０６であった。このときのレート変動率は３．５％であった。
【０１２７】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｂｉが２５．３％、Ｔｉが１２．４％、Ｏが６２．３％であった。これを原子比で示す組成で表すとＢｉ0.253Ｔｉ0.124Ｏ0.623となり、酸化物（Ｂｉ2Ｏ3、ＴｉＯ2）のモル比で表すと（Ｂｉ2Ｏ3）0.5（ＴｉＯ2）0.5となる。
【０１２８】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１１．９ｍＷ、Ｐｂ＝５．２ｍＷのときＣＮＲが４７ｄＢ、消去率が２８ｄＢであった。
【０１２９】
耐食性能の評価では、腐食・剥離は観察されなかった。
【０１３０】
（実施例５）
透過率調整層７を形成するターゲット材として、Ｂｉ2Ｏ3粉を５０ｍｏｌ％、ＴｉＯ2粉を４５ｍｏｌ％、Ｔｉ粉を５ｍｏｌ％の割合で混合したターゲットを用い、スパッタリング時における酸素濃度を２．５ｖｏｌ％とした以外は、実施例１と同様に光学的情報記録媒体を形成した。実施例５の光学的情報記録媒体についても、実施例１と同様の方法で各物性を測定し、各特性の評価を行った。
【０１３１】
実施例５では、スパッタリングレートは９．１５ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．７４、消衰係数ｋ１が０．０７であった。このときのレート変動率は３．５％であった。
【０１３２】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｂｉが２５．２％、Ｔｉが１２．３％、Ｏが６２．５％であった。これを原子比で示す組成で表すとＢｉ0.252Ｔｉ0.123Ｏ0.625となり、酸化物（Ｂｉ2Ｏ3、ＴｉＯ2）のモル比で表すと（Ｂｉ2Ｏ3）0.51（ＴｉＯ2）0.49となる。
【０１３３】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１２．０ｍＷ、Ｐｂ＝５．２ｍＷのときＣＮＲが４７ｄＢ、消去率が２８ｄＢであった。
【０１３４】
耐食性能の評価では、腐食・剥離は観察されなかった。
【０１３５】
（実施例６）
透過率調整層７を形成するターゲット材として、Ｂｉ2Ｏ3粉を５０ｍｏｌ％、ＴｉＯ2粉を４０ｍｏｌ％、ＴｉＯ粉を１０ｍｏｌ％の割合で混合したターゲットを用い、スパッタリング時における酸素濃度を２．５ｖｏｌ％とした以外は、実施例１と同様に光学的情報記録媒体を形成した。実施例６の光学的情報記録媒体についても、実施例１と同様の方法で各物性を測定し、各特性の評価を行った。
【０１３６】
実施例６では、スパッタリングレートは９．２２ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．７８、消衰係数ｋ１が０．０５であった。このときのレート変動率は３．５％であった。
【０１３７】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｂｉが２５．４％、Ｔｉが１２．５％、Ｏが６２．１％であった。これを原子比で示す組成で表すとＢｉ0.254Ｔｉ0.125Ｏ0.621となり、酸化物（Ｂｉ2Ｏ3、ＴｉＯ2）のモル比で表すと（Ｂｉ2Ｏ3）0.5（ＴｉＯ2）0.5となる。
【０１３８】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１２．０ｍＷ、Ｐｂ＝５．２ｍＷのときＣＮＲが４７ｄＢ、消去率が２８ｄＢであった。
【０１３９】
耐食性能の評価では、腐食・剥離は観察されなかった。
【０１４０】
（実施例７）
透過率調整層７を形成するターゲット材として、Ｂｉ2Ｏ3粉を６０ｍｏｌ％、ＴｉＯx（ｘ＝１．６〜１．８）粉を４０ｍｏｌ％の割合で混合したターゲットを用い、スパッタリング時における酸素濃度を２．０ｖｏｌ％とした以外は、実施例１と同様に光学的情報記録媒体を形成した。実施例７の光学的情報記録媒体についても、実施例１と同様の方法で各物性を測定し、各特性の評価を行った。
【０１４１】
実施例７では、スパッタリングレートは１０．８ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．８０、消衰係数ｋ１が０．０７であった。このときのレート変動率は３．０％であった。
【０１４２】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｂｉが２８．５％、Ｔｉが９．５％、Ｏが６２．０％であった。これを原子比で示す組成で表すとＢｉ0.285Ｔｉ0.095Ｏ0.62となり、酸化物（Ｂｉ2Ｏ3、ＴｉＯ2）のモル比で表すと（Ｂｉ2Ｏ3）0.6（ＴｉＯ2）0.4となる。
【０１４３】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１１．８ｍＷ、Ｐｂ＝５．０ｍＷのときＣＮＲが４７ｄＢ、消去率が２８ｄＢであった。
【０１４４】
耐食性能の評価では、腐食・剥離は観察されなかった。
【０１４５】
（実施例８）
透過率調整層７を形成するターゲット材として、Ｂｉ2Ｏ3粉を６０ｍｏｌ％、ＴｉＯ2粉を３５ｍｏｌ％、Ｔｉ粉を５ｍｏｌ％の割合で混合したターゲットを用い、スパッタリング時における酸素濃度を２．０ｖｏｌ％とした以外は、実施例１と同様に光学的情報記録媒体を形成した。実施例８の光学的情報記録媒体についても、実施例１と同様の方法で各物性を測定し、各特性の評価を行った。
【０１４６】
実施例８では、スパッタリングレートは１０．３ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．８２、消衰係数ｋ１が０．０６であった。このときのレート変動率は３．０％であった。
【０１４７】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｂｉが２８．６％、Ｔｉが９．５％、Ｏが６１．９％であった。これを原子比で示す組成で表すとＢｉ0.286Ｔｉ0.095Ｏ0.619となり、酸化物（Ｂｉ2Ｏ3、ＴｉＯ2）のモル比で表すと（Ｂｉ2Ｏ3）0.6（ＴｉＯ2）0.4となる。
【０１４８】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１１．８ｍＷ、Ｐｂ＝５．０ｍＷのときＣＮＲが４７ｄＢ、消去率が２８ｄＢであった。
【０１４９】
耐食性能の評価では、腐食・剥離は観察されなかった。
【０１５０】
（実施例９）
透過率調整層７を形成するターゲット材として、Ｂｉ2Ｏ3粉を６０ｍｏｌ％、ＴｉＯ2粉を３０ｍｏｌ％、ＴｉＯ粉を１０ｍｏｌ％の割合で混合したターゲットを用い、スパッタリング時における酸素濃度を２．０ｖｏｌ％とした以外は、実施例１と同様に光学的情報記録媒体を形成した。実施例９の光学的情報記録媒体についても、実施例１と同様の方法で各物性を測定し、各特性の評価を行った。
【０１５１】
実施例９では、スパッタリングレートは１０．５ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．８１、消衰係数ｋ１が０．０７であった。このときのレート変動率は３．０％であった。
【０１５２】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｂｉが２８．７％、Ｔｉが９．４％、Ｏが６１．９％であった。これを原子比で示す組成で表すとＢｉ0.287Ｔｉ0.094Ｏ0.619となり、酸化物（Ｂｉ2Ｏ3、ＴｉＯ2）のモル比で表すと（Ｂｉ2Ｏ3）0.6（ＴｉＯ2）0.4となる。
【０１５３】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１１．７ｍＷ、Ｐｂ＝４．９ｍＷのときＣＮＲが４７ｄＢ、消去率が２８ｄＢであった。
【０１５４】
耐食性能の評価では、腐食・剥離は観察されなかった。
【０１５５】
（実施例１０）
透過率調整層７を形成するターゲット材として、Ｂｉ2Ｏ3粉を７０ｍｏｌ％、ＴｉＯx（ｘ＝１．６〜１．８）粉を３０ｍｏｌ％の割合で混合したターゲットを用い、スパッタリング時における酸素濃度を２．０ｖｏｌ％とした以外は、実施例１と同様に光学的情報記録媒体を形成した。実施例１０の光学的情報記録媒体についても、実施例１と同様の方法で各物性を測定し、各特性の評価を行った。
【０１５６】
実施例１０では、スパッタリングレートは１２．４ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．８５、消衰係数ｋ１が０．１０であった。このときのレート変動率は２．５％であった。
【０１５７】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｂｉが３１．６％、Ｔｉが７．０％、Ｏが６１．４％であった。これを原子比で示す組成で表すとＢｉ0.316Ｔｉ0.07Ｏ0.614となり、酸化物（Ｂｉ2Ｏ3、ＴｉＯ2）のモル比で表すと（Ｂｉ2Ｏ3）0.69（ＴｉＯ2）0.31となる。
【０１５８】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１１．６ｍＷ、Ｐｂ＝４．８ｍＷのときＣＮＲが４７ｄＢ、消去率が２８ｄＢであった。
【０１５９】
耐食性能の評価では、１０μｍ角程度の３個の腐食が観察された。
【０１６０】
（実施例１１）
透過率調整層７を形成するターゲット材として、Ｂｉ2Ｏ3粉を３８．５ｍｏｌ％、ＴｉＯx（ｘ＝１．６〜１．８）粉を５７．９ｍｏｌ％、ＳｉＯ2粉、ＺｒＯ2粉、Ｃｒ2Ｏ3粉をそれぞれ１．２ｍｏｌ％の割合で混合したターゲットを用い、スパッタリング時における酸素濃度を２．５ｖｏｌ％とした以外は、実施例１と同様に光学的情報記録媒体を形成した。実施例１１の光学的情報記録媒体についても、実施例１と同様の方法で各物性を測定し、各特性の評価を行った。
【０１６１】
実施例１１では、スパッタリングレートは７．５０ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．７０、消衰係数ｋ１が０．０６であった。このときのレート変動率は４．０％であった。
【０１６２】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｂｉが１９．８％、Ｔｉが１４．２％、Ｏが６２．０％であった。
【０１６３】
また、ＢｉとＴｉとＯ以外の元素としては、Ｓｉが１．０％、Ｚｒが１．１％、Ｃｒが１．９％検出された。これを原子比で示す組成で表すとＢｉ0.198Ｔｉ0.142Ｏ0.62Ｍ0.04（Ｍ＝Ｓｉ＋Ｚｒ＋Ｃｒ）となる。
【０１６４】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１２．０ｍＷ、Ｐｂ＝５．２ｍＷのときＣＮＲが４７ｄＢ、消去率が２８ｄＢであった。
【０１６５】
耐食性能の評価では、腐食・剥離は観察されなかった。
【０１６６】
（比較例１）
透過率調整層を形成するターゲット材として、ＴｉＯ2ターゲットを用いた。本ターゲットをＲＦカソードに設置し、ＲＦ２．５ｋＷでスパッタした。スパッタ時の導入ガスとしてはＡｒを用い、厚さ１８ｎｍに形成した以外は、実施例１と同様の方法で媒体を形成した。比較例１の光学的情報記録媒体についても、実施例１と同様の方法で各物性を測定し、各特性の評価を行った。
【０１６７】
比較例１では、スパッタリングレートは１．７ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．７１、消衰係数ｋ１が０．０３であった。このときのレート変動率は７．０％であった。
【０１６８】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｔｉが３３．６％、Ｏが６６．４％であった。
【０１６９】
記録特性については、Ｐｐ＝１２．０ｍＷ、Ｐｂ＝５．２ｍＷのときＣＮＲが４６ｄＢ、消去率が２８ｄＢであった。
【０１７０】
耐食性能の評価では、腐食・剥離は観察されなかった。
【０１７１】
（比較例２）
透過率調整層の形成の際に、スパッタ時の導入ガスにＡｒと酸素の混合ガスを用い、酸素濃度を１．５ｖｏｌ％とした以外は、比較例１と同様の方法で光学的情報記録媒体を形成した。比較例２の光学的情報記録媒体についても、実施例１と同様の方法で各物性を測定し、各特性の評価を行った。
【０１７２】
比較例２では、スパッタリングレートは１．５ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．７０、消衰係数ｋ１が０．０２であった。このときのレート変動率は７．０％であった。
【０１７３】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｔｉが３３．３％、Ｏが６６．７％であった。
【０１７４】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１２．０ｍＷ、Ｐｂ＝５．２ｍＷのとき、ＣＮＲが４６ｄＢ、消去率が２８ｄＢであった。
【０１７５】
耐食性能の評価では、腐食・剥離は観察されなかった。
【０１７６】
（比較例３）
透過率調整層を形成するターゲット材としてＢｉ2Ｏ3ターゲットを用い、本ターゲットをＲＦカソードに設置し、ＲＦ２．５ｋＷでスパッタした以外は、比較例１と同様の方法で光学的情報記録媒体を形成した。比較例３の光学的情報記録媒体についても、実施例１と同様の方法で各物性を測定し、各特性の評価を行った。
【０１７７】
比較例３では、スパッタリングレートは１５．０ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．９２、消衰係数ｋ１が０．３３であった。このときのレート変動率は０．５％であった。
【０１７８】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｂｉが４０．２％、Ｏが５９．８％であった。
【０１７９】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１１．４ｍＷ、Ｐｂ＝４．３ｍＷのとき、ＣＮＲが４３ｄＢ、消去率が２３ｄＢであった。
【０１８０】
耐食性能の評価では、媒体全面に腐食・剥離が観察された。
【０１８１】
（比較例４）
透過率調整層の形成に、スパッタ時の導入ガスとしてＡｒと酸素の混合ガスを用い、酸素濃度を１．０ｖｏｌ％とした以外は、比較例３と同様の方法で光学的情報記録媒体を形成した。比較例４の光学的情報記録媒体についても、実施例１と同様の方法で各物性を測定し、各特性の評価を行った。
【０１８２】
比較例４では、スパッタリングレートは１４．８ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．９３、消衰係数ｋ１が０．３０であった。このときのレート変動率は０．５％であった。
【０１８３】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｔｉが４０．２％、Ｏが５９．８％であった。
【０１８４】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１１．４ｍＷ、Ｐｂ＝４．３ｍＷのとき、ＣＮＲが４３ｄＢ、消去率が２３ｄＢであった。
【０１８５】
耐食性能の評価では、媒体全面に腐食・剥離が観察された。
【０１８６】
（比較例５）
透過率調整層の形成に、スパッタ時の導入ガスとしてＡｒと酸素の混合ガスを用い、酸素濃度を２．０ｖｏｌ％とした以外は、比較例３と同様の方法で光学的情報記録媒体を形成した。比較例５の光学的情報記録媒体についても、実施例１と同様の方法で各物性を測定し、各特性の評価を行った。
【０１８７】
比較例５では、スパッタリングレートは１４．４ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．８２、消衰係数ｋ１が０．３４であった。このときのレート変動率は０．５％であった。
【０１８８】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｔｉが４０．２％、Ｏが５９．８％であった。
【０１８９】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１１．４ｍＷ、Ｐｂ＝４．３ｍＷのとき、ＣＮＲが４２ｄＢ、消去率が２１ｄＢであった。
【０１９０】
耐食性能の評価では、媒体全面に腐食・剥離が観察された。
【０１９１】
比較例３〜５に記載したように、Ｂｉ2Ｏ3のみをターゲット材に用いて形成した薄膜については、スパッタリングレートはＴｉＯ2を用いた場合に比べて速く、薄膜の屈折率も大きいが、消衰係数が大きく、また、媒体の耐食性能も媒体全面に腐食・剥離が観測された。
【０１９２】
（比較例６）
透過率調整層を形成するターゲット材として、ＴｉＯx（ｘ＝１．６〜１．８）ターゲットを用い、ＤＣｐ（Direct Current Pulse）カソードに設置し、ＤＣｐ２．５ｋＷでスパッタした以外は、比較例１と同様の方法で光学的情報記録媒体を形成した。比較例６の光学的情報記録媒体についても、実施例１と同様の方法で各物性を測定し、各特性の評価を行った。
【０１９３】
比較例６では、スパッタリングレートは２．７ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．５８、消衰係数ｋ１が０．１５であった。このときのレート変動率は７．５％であった。
【０１９４】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｔｉが３５．２％、Ｏが６４．８％であった。
【０１９５】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１１．６ｍＷ、Ｐｂ＝４．６ｍＷのとき、ＣＮＲが４４ｄＢ、消去率が２５ｄＢであった。
【０１９６】
耐食性能の評価では、腐食・剥離は観察されなかった。
【０１９７】
（比較例７）
透過率調整層の形成に、スパッタ時の導入ガスとしてＡｒと酸素の混合ガスを用い、酸素濃度を３．０ｖｏｌ％とした以外は、比較例６と同様の方法で光学的情報記録媒体を形成した。比較例７の光学的情報記録媒体についても、実施例１と同様の方法で各物性を測定し、各特性の評価を行った。
【０１９８】
比較例７では、スパッタリングレートは２．３５ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．７２、消衰係数ｋ１が０．０３であった。このときのレート変動率は７．５％であった。
【０１９９】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｔｉが３３．３％、Ｏが６６．７％であった。
【０２００】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１２．２ｍＷ、Ｐｂ＝５．３ｍＷのとき、ＣＮＲが４６ｄＢ、消去率が２８ｄＢであった。
【０２０１】
耐食性能の評価では、腐食・剥離は観察されなかった。
【０２０２】
（比較例８）
透過率調整層の形成に、スパッタ時の導入ガスとしてＡｒと酸素の混合ガスを用い、酸素濃度を５．０ｖｏｌ％とした以外は、比較例６と同様の方法で薄膜と光学的情報記録媒体を形成した。比較例８の光学的情報記録媒体についても、実施例１と同様の方法で各物性を測定し、各特性の評価を行った。
【０２０３】
比較例８では、スパッタリングレートは１．６０ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．６５、消衰係数ｋ１が０．０２であった。このときのレート変動率は７．５％であった。
【０２０４】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｔｉが３３．３％、Ｏが６６．７％であった。
【０２０５】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１２．２ｍＷ、Ｐｂ＝５．３ｍＷのとき、ＣＮＲが４６ｄＢ、消去率が２８ｄＢであった。
【０２０６】
耐食性能の評価では、腐食・剥離は観察されなかった。
【０２０７】
以上、比較例６〜８に記したように、ＴｉＯx（ｘ＝１．６〜１．８）をターゲット材としてＤＣｐ放電によりスパッタした場合では、薄膜（透過率調整層）の光学定数ならびに媒体の耐食性は良好であった。しかし、スパッタリングレートは、ＲＦ放電させた場合（比較例１、２）に比べてやや速くなるものの、媒体の量産性を充分に確保するまでのスパッタリングレートには至っていない。
【０２０８】
（比較例９）
透過率調整層を形成するターゲット材として、Ｂｉ2Ｏ3粉を１０ｍｏｌ％、ＴｉＯx（ｘ＝１．６〜１．８）粉を９０ｍｏｌ％の割合で混合したターゲットを用い、スパッタリング時における酸素濃度を３．０ｖｏｌ％とした以外は、比較例６と同様の方法で薄膜と光学的情報記録媒体を形成した。比較例９の光学的情報記録媒体についても、実施例１と同様の方法で各物性を測定し、各特性の評価を行った。
【０２０９】
比較例９では、スパッタリングレートは２．９４ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．７１、消衰係数ｋ１が０．０３であった。このときのレート変動率は６．５％であった。
【０２１０】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｂｉが６．３％、Ｔｉが２８．１％、Ｏが６５．６％であった。これを原子比で示す組成で表すとＢｉ0.063Ｔｉ0.281Ｏ0.656となり、酸化物（Ｂｉ2Ｏ3、ＴｉＯ2）のモル比で表すと（Ｂｉ2Ｏ3）0.1（ＴｉＯ2）0.9となる。
【０２１１】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１２．２ｍＷ、Ｐｂ＝５．３ｍＷのとき、ＣＮＲが４６ｄＢ、消去率が２８ｄＢであった。
【０２１２】
耐食性能の評価では、腐食・剥離は観察されなかった。
【０２１３】
本比較例の場合では、薄膜（透過率調整層）の光学定数ならびに媒体の耐食性は良好であった。しかし、スパッタリングレートは、比較例６〜８の場合よりやや速くなるものの、媒体の量産性を充分に確保するまでスパッタリングレートには至っていない。
【０２１４】
（比較例１０）
透過率調整層を形成するターゲット材として、Ｂｉ2Ｏ3粉を８０ｍｏｌ％、ＴｉＯx（ｘ＝１．６〜１．８）粉を１０ｍｏｌ％、ＴｉＯ粉を１０ｍｏｌ％の割合で混合したターゲットを用い、スパッタリング時における酸素濃度を３．５ｖｏｌ％とした以外は、比較例６と同様の方法で薄膜と光学的情報記録媒体を形成した。比較例１０の光学的情報記録媒体についても、実施例１と同様の方法で各物性を測定し、各特性の評価を行った。
【０２１５】
比較例１０では、スパッタリングレートは１４．３ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．９０、消衰係数ｋ１が０．１４であった。このときのレート変動率は１．５％であった。
【０２１６】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｂｉが３５．１％、Ｔｉが４．２％、Ｏが６０．７％であった。これを原子比で示す組成で表すとＢｉ0.351Ｔｉ0.042Ｏ0.607となり、酸化物（Ｂｉ2Ｏ3、ＴｉＯ2）のモル比で表すと（Ｂｉ2Ｏ3）0.81（ＴｉＯ2）0.19となる。
【０２１７】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１１．８ｍＷ、Ｐｂ＝４．９ｍＷのとき、ＣＮＲが４４ｄＢ、消去率が２６ｄＢであった。
【０２１８】
耐食性能の評価では、媒体全面に腐食・剥離が観測された。
【０２１９】
本比較例の場合では、薄膜（透過率調整層）の屈折率が、ＴｉＯx（ｘ＝１．６〜１．８）をターゲット材として用いた比較例６〜８の薄膜よりも高くなり、また、スパッタリングレートも速いが、消衰係数が０．１以上と高くなり、媒体の耐食性が悪いことがわかった。
【０２２０】
以上に述べた実施例１〜１１の結果、ならびに比較例１〜１０の結果を、表１にまとめる。
【０２２１】
【表１】
0005386374.tif 000002
【０２２２】
表１に示した評価について説明する。
【０２２３】
スパッタリングレートが比較例７に示す２．３５ｎｍ／ｓ以下、及びその１．５倍に満たないものは×、１．５倍以上のものは○とした。また、スパッタリングレートの変動率が５％未満のものを○、５％以上のものを×とした。
【０２２４】
薄膜（透過率調整層）の光学定数のうち、消衰係数が０．１未満のものを○、０．１であったものを△、０．１よりも大きかったものを×とした。
【０２２５】
媒体の耐食性能に関し、腐食が無かったもの、腐食の個数が１０個未満であったものには○、媒体全面に腐食が観察されたものには×とした。
【０２２６】
媒体特性に関しては、ＣＮＲが４５ｄＢ以上であり、且つ、消去率が２５ｄＢ以上であるのものを○、ＣＮＲが４５ｄＢ未満、又は、消去率が２５ｄＢ未満のものは△、ＣＮＲが４５ｄＢ未満であり、且つ、消去率が２５ｄＢ未満であるものは×、とした。
【０２２７】
総合評価では、全項目の評価が○又は△であれば○とし、一つでも×と評価されている項目が含まれていれば×とした。
【０２２８】
表１に示したように、実施例１〜１１に用いた透過率調整層７については、スパッタリングレートならびに薄膜（透過率調整層）の光学定数、及びスパッタ変動率は全て○であり、また、光学的情報記録媒体の記録再生特性ならびに耐食性能も全て○であった。また、媒体の特性についても、○又は△であった。
【０２２９】
一方、比較例１〜１０に用いた透過率調整層では、上記項目が全て○となるものが無く、本発明の効果を確認することができた。
【０２３０】
なお、波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーの分析での信頼性について以下に述べる。
【０２３１】
今回測定サンプルとしたＳｉウエハ上の薄膜に関しては、全元素に関して±０．５原子％の測定精度を確認している。また、分析サンプルとしては、光学的情報記録媒体の断面を厚さ１００ｎｍでスライスしたサンプルにおいても定性的な分析が可能である。その場合には、ＢｉとＴｉとＯのそれぞれの元素の定量化は困難ではあるものの、酸素が±８原子％程度の精度で測定でき、ＢｉとＴｉの比率については、±５原子％の精度で測定できることを確認した。
【０２３２】
表１に示す結果から、透過率調整層７の組成を原子数比でＢｉxＴｉyＯzと表したとき、ｘ、ｙ及びｚが０．０７≦ｘ≦０．３５、０．０７≦ｙ≦０．２８、０．５６≦ｚ≦０．７０、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１を満たす透過率調整層を用いた光学的情報記録媒体、もしくは、透過率調整層７の組成をモル比で（Ｂｉ2Ｏ3）α（ＴｉＯ2）βと表したとき、α及びβが０．２≦α≦０．７、０．３≦β≦０．８、α＋β＝１を満たす透過率調整層を用いた光学的情報記録媒体は、透過率調整層の成膜レート、透過率調整層の光学特性、媒体の記録再生特性及び耐食性が良好な、特性のバランスが良い光学的情報記録媒体であることが確認された。
【０２３３】
ここで、実施例１〜１１の光学的情報記録媒体のうち、成膜レート、レート変動率、耐食性及び媒体特性の全てのバランスが最も良い光学的情報記録媒体は、実施例３で作製した光学的情報記録媒体であった。
【０２３４】
そこで、実施例３で作製した光学的情報記録媒体の透過率調整層７の組成を中心として、透過率調整層７の組成を細かく変化させた光学的情報記録媒体を作製し、成膜レート、レート変動率、耐食性及び媒体特性を評価した。ここで、耐食性に関しては、前述した加速試験条件よりも更に厳しい条件とし、光学的情報記録媒体を８５℃、８５％ＲＨの環境下とした恒温槽に投入して加速試験を２００時間行い、その後、腐食・剥離を観察した。また、各特性の評価判定の指標を、実施例１〜１１及び比較例１〜１０の場合よりも厳しいものとした。
【０２３５】
また、成膜レート及びレート変動率に関しては、前述した評価方法で評価を行い、判定の指標を、以下のとおりより厳しいものとした。
【０２３６】
評価判定の指標として、薄膜形成時のスパッタリングレートの評価としては、スパッタリングレートが６．０ｎｍ／ｓ以上のものを○とし、５．０ｎｍ／ｓ以上６．０ｎｍ／ｓ未満のものを△とし、５．０ｎｍ／ｓ未満のものを×とした。
【０２３７】
レート変動率については、変動率が４．５％未満のものを○とし、４．５％以上５．０％未満のものを△とし、５．０％以上のものを×とした。
【０２３８】
耐食性に関しては、腐食が無かったものを○とし、腐食の個数が１０個未満であったものを△とし、腐食の個数が１０個以上であったものを×とした。
【０２３９】
薄膜の光学定数に関しては、消衰係数ｋ１が０．０５以下のものを○とし、０．０５より大きく０．０８未満のものを△とし、０．０８以上のものを×とした。
【０２４０】
媒体特性に関しては、ＣＮＲが４５ｄＢ以上であり、且つ、消去率が２５ｄＢ以上であるのものを○とし、それ以外は×とした。
【０２４１】
以下、実施例３で作製した透過率調整層７の組成、すなわちＢｉ2Ｏ3：ＴｉＯx（ｘ＝１．６〜１．８）＝４：６（モル比）となる組成を中心としてＢｉ2Ｏ3とＴｉＯxの比率を変えた以外は、実施例１と同様に光学的情報記録媒体を形成し（実施例１２〜１５）、上記の新たな評価指標で評価を行った。
【０２４２】
以下に、実施例１２〜１５として新たに作製した光学的情報記録媒体の作製方法と、その評価結果を示す。
【０２４３】
（実施例１２）
透過率調整層７を形成するターゲット材として、Ｂｉ2Ｏ3粉を２５ｍｏｌ％、ＴｉＯx（ｘ＝１．６〜１．８）粉を７５ｍｏｌ％の割合で混合したターゲットを用い、スパッタリング時における酸素濃度を３．０ｖｏｌ％とした以外は、実施例１と同様に光学的情報記録媒体を形成した。
【０２４４】
実施例１２では、スパッタリングレートは４．９５ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．７７、消衰係数ｋ１が０．０３であった。このときのレート変動率は４．７％であった。
【０２４５】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｂｉが１４．２％、Ｔｉが２１．４％、Ｏが６４．４％であった。これを原子比で示す組成で表すとＢｉ0.142Ｔｉ0.214Ｏ0.644となり、酸化物（Ｂｉ2Ｏ3、ＴｉＯ2）のモル比で表すと（Ｂｉ2Ｏ3）0.25（ＴｉＯ2）0.75となる。
【０２４６】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１２.１ｍＷ、Ｐｂ＝５．２ｍＷのときＣＮＲが４７ｄＢ、消去率が２８ｄＢであった。
【０２４７】
８５℃、８５％ＲＨ、２００時間の環境下での加速試験条件における耐食性能については、腐食・剥離は観察されなかった。
【０２４８】
（実施例１３）
透過率調整層７を形成するターゲット材として、Ｂｉ2Ｏ3粉を３５ｍｏｌ％、ＴｉＯx（ｘ＝１．６〜１．８）粉を６５ｍｏｌ％の割合で混合したターゲットを用い、スパッタリング時における酸素濃度を２．５ｖｏｌ％とした以外は、実施例１と同様に光学的情報記録媒体を形成した。
【０２４９】
実施例１３では、スパッタリングレートは６．７０ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．７７、消衰係数ｋ１が０．０５であった。このときのレート変動率は４．２％であった。
【０２５０】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｂｉが１９．０％、Ｔｉが１７．５％、Ｏが６３．５％であった。これを原子比で示す組成で表すとＢｉ0.19Ｔｉ0.175Ｏ0.635となり、酸化物（Ｂｉ2Ｏ3、ＴｉＯ2）のモル比で表すと（Ｂｉ2Ｏ3）0.35（ＴｉＯ2）0.65となる。
【０２５１】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１２.０ｍＷ、Ｐｂ＝５．２ｍＷのときＣＮＲが４７ｄＢ、消去率が２８ｄＢであった。
【０２５２】
８５℃、８５％ＲＨ、２００時間の環境下での加速試験条件における耐食性能については、腐食・剥離は観察されなかった。
【０２５３】
（実施例１４）
透過率調整層７を形成するターゲット材として、Ｂｉ2Ｏ3粉を４５ｍｏｌ％、ＴｉＯx（ｘ＝１．６〜１．８）粉を５５ｍｏｌ％の割合で混合したターゲットを用い、スパッタリング時における酸素濃度を２．５ｖｏｌl％とした以外は、実施例１と同様に光学的情報記録媒体を形成した。
【０２５４】
実施例４では、スパッタリングレートは８．４５ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．７７、消衰係数ｋ１が０．０５であった。このときのレート変動率は３．８％であった。
【０２５５】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｂｉが２３．０％、Ｔｉが１４．０％、Ｏが６３．０％であった。これを原子比で示す組成で表すとＢｉ0.23Ｔｉ0.14Ｏ0.63となり、酸化物（Ｂｉ2Ｏ3、ＴｉＯ2）のモル比で表すと（Ｂｉ2Ｏ3）0.45（ＴｉＯ2）0.55となる。
【０２５６】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１２.０ｍＷ、Ｐｂ＝５．２ｍＷのときＣＮＲが４７ｄＢ、消去率が２８ｄＢであった。
【０２５７】
８５℃、８５％ＲＨ、２００時間の環境下での加速試験条件における耐食性能については、腐食・剥離は観察されなかった。
【０２５８】
（実施例１５）
透過率調整層７を形成するターゲット材として、Ｂｉ2Ｏ3粉を５５ｍｏｌ％、ＴｉＯx（ｘ＝１．６〜１．８）粉を４５ｍｏｌ％の割合で混合したターゲットを用い、スパッタリング時における酸素濃度を２．５ｖｏｌ％とした以外は実施例１と同様に光学的情報記録媒体を形成した。
【０２５９】
実施例１５では、スパッタリングレートは１０．２０ｎｍ／ｓ（１０個サンプル平均）であり、別途調べた薄膜（透過率調整層）の光学定数は、屈折率ｎ１が２．７７、消衰係数ｋ１が０．０６であった。このときのレート変動率は３．２％であった。
【０２６０】
波長分散型Ｘ線マイクロアナライザーで調べた薄膜（透過率調整層）の組成は、原子％で示して、Ｂｉが２６．８％、Ｔｉが１１．０％、Ｏが６２．２％であった。これを原子比で示す組成で表すとＢｉ0.268Ｔｉ0.11Ｏ0.622となり、酸化物（Ｂｉ2Ｏ3、ＴｉＯ2）のモル比で表すと（Ｂｉ2Ｏ3）0.55（ＴｉＯ2）0.45となる。
【０２６１】
光学的情報記録媒体の記録性能は、Ｐｐ＝１２.１ｍＷ、Ｐｂ＝５．２ｍＷのときＣＮＲが４７ｄＢ、消去率が２８ｄＢであった。
【０２６２】
８５℃、８５％ＲＨ、２００時間の環境下での加速試験条件における耐食性能については、媒体全面中に腐食・剥離が１００個以上観察された。
【０２６３】
また、実施例３の光学的情報記録媒体と、実施例３の光学的情報記録媒体の透過率調整層７と近い組成の透過率調整層を有する実施例２及び実施例４の光学的情報記録媒体とについても、その耐食性能を８５℃、８５％ＲＨ、２００時間の環境下で再評価した。その結果を以下に示す。
【０２６４】
実施例２の光学的情報記録媒体を、８５℃、８５％ＲＨ、２００時間の環境下で再評価した結果、腐食・剥離は観察されなかった。
【０２６５】
実施例３の光学的情報記録媒体を、８５℃、８５％ＲＨ、２００時間の環境下で再評価した結果、腐食・剥離は観察されなかった。
【０２６６】
実施例４の光学的情報記録媒体を、８５℃、８５％ＲＨ、２００時間の環境下で再評価した結果、８個の腐食・剥離が観察された。
【０２６７】
実施例２〜４及び実施例１２〜１５の結果をまとめて表２に示す。なお、表２に示された実施例２〜４の光学的情報記録媒体の各特性の評価結果は、実施例１２〜１５と同様の評価判定の指標を用いて再評価した結果である。
【０２６８】
【表２】
0005386374.tif 000003
【０２６９】
また、表２中の総合評価としては、レート判定、レート変動、光学定数の判定、媒体の耐食性、媒体の特性の評価結果のうち、ひとつでも×があったものは総合評価を×とし、ひとつでも△があったものは総合評価を△とし、すべて○であったものは総合評価を○とした。
【０２７０】
表２に示すように、光学的情報記録媒体に用いた透過率調整層７の組成がＢｉ2Ｏ3：ＴｉＯx（ｘ＝１．６〜１．８）＝４：６（モル比）となる光学的情報記録媒体（実施例３）と、実施例１３及び１４の光学的情報記録媒体とは、総合評価が○となった。また、実施例２及び４の総合評価は△であり、実施例１２及び１５の総合評価は×となった。なお、表２に示す評価結果は、一般的な評価条件よりも厳しい条件で評価した結果である。したがって、表２では実施例１２及び１５の総合判定が×、実施例２及び４の総合判定が△となっているが、これらの実施例を一般的な評価条件で評価すると、実施例１２及び１５、さらに実施例２及び４は、総合判定で○と表される良好な特性を備えている。
【０２７１】
表２に示す結果から、透過率調整層７の組成を原子数比でＢｉxＴｉyＯzと表したとき、ｘ、ｙ及びｚが０．１６５≦ｘ≦０．２５５、０．１２０≦ｙ≦０．１９５、０．６２５≦ｚ≦０．６４０、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１を満たす透過率調整層を用いた光学的情報記録媒体、もしくは、透過率調整層７の組成をモル比で（Ｂｉ2Ｏ3）α（ＴｉＯ2）βと表したとき、α及びβが０．３０≦α≦０．５０、０．５０≦β≦０．７０、α＋β＝１を満たす透過率調整層を用いた光学的情報記録媒体は、量産性、媒体特性及び耐食性について、特に優れた性能を示すことが判明した。
【０２７２】
なお、本実施例では、第１の情報層と第２の情報層を有する２層媒体を例にとって説明したが、情報層が３層以上設けられた光学的情報記録媒体についても本発明の構成を適用できることは言うまでもない。
【産業上の利用可能性】
【０２７３】
本発明の光学的情報記録媒体によれば、複数の情報層を備える多層光学的情報記録媒体であっても、記録再生特性ならびに耐食性に優れた光学的情報記録媒体を、安定に、且つ効率よく提供できる。
【図１】
0005386374.tif 000004