(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＴＦＴ層と、
前記ＴＦＴ層上に形成され、画素単位に複数のコンタクトホールが形成された層間絶縁膜と、
前記画素単位に、前記層間絶縁膜上に形成された複数の第１電極であって前記複数のコンタクトホールの各々を介して前記ＴＦＴ層と導通している複数の第１電極と、
少なくとも色毎に形成された複数の開口部であって、前記画素単位に形成された複数のコンタクトホールを前記複数の開口部の各々の開口領域内に含む複数の開口部を有するバンクと、
前記複数の開口部の中で第１色の画素に対応する開口部に形成された第１有機発光層と、
前記複数の開口部の中で第２色の画素に対応する開口部に形成された第２有機発光層と、
前記第１有機発光層及び第２有機発光層の上方に形成された第２電極と、を具備し、
前記第１有機発光層が形成された開口部に含まれるコンタクトホール及びその上方を含む第１コンタクトホール領域、及び、前記第２有機発光層が形成された開口部に含まれるコンタクトホール及びその上方を含む第２コンタクトホール領域には、前記第１有機発光層と同一材料の層と前記第２有機発光層と同一材料の層とが重畳して形成された、
有機ＥＬ表示パネル。
【請求項２】
前記第１有機発光層が形成された開口部に含まれる第１コンタクトホール領域、及び、前記第２有機発光層が形成された開口部に含まれる第２コンタクトホール領域には、前記第１有機発光層と同一材料の層の上に前記第２有機発光層と同一材料の層が重畳して形成された、
請求項１記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項３】
前記第１有機発光層が形成された開口部の中で、前記コンタクトホール領域に前記第２有機発光層と同一材料の層が重畳して形成された層の膜厚は、前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された前記第１有機発光層の膜厚より厚く、
前記第２有機発光層が形成された開口部の中で、前記コンタクトホール領域に前記第１有機発光層と同一材料の層が重畳して形成された層の膜厚は、前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された前記第２有機発光層の膜厚より厚い、
請求項１記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項４】
前記複数の開口部の中で３色の画素に対応する開口部に形成された第３有機発光層を含み、
前記第２電極は、前記第１有機発光層、前記第２有機発光層、前記第３有機発光層の上方に形成され、
前記第１コンタクトホール領域、前記第２コンタクトホール領域、及び、前記第３有機発光層が形成された開口部に含まれるコンタクトホール及びその上方を含む第３コンタクトホール領域には、前記第１有機発光層と同一材料の層、前記第２有機発光層と同一材料の層、及び前記第３有機発光層と同一材料の層が重畳して形成されている、
請求項１記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項５】
前記第１コンタクトホール領域、前記第２コンタクトホール領域、及び前記第３コンタクトホール領域には、前記第１有機発光層と同一材料の層の上に前記第２有機発光層と同一材料の層が重畳して形成され、前記２有機発光層と同一材料の層の上に前記第３有機発光層と同一材料の層が重畳して形成された、
請求項４記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項６】
前記第１有機発光層が形成された開口部の中で、第１コンタクトホール領域に前記第１有機発光層と同一材料の層、前記第２有機発光層と同一材料の層及び前記第３有機発光層と同一材料の層が重畳して形成された層の膜厚は、第１コンタクトホール領域以外の領域に形成された前記第１有機発光層の膜厚より厚い、
前記第２有機発光層が形成された開口部の中で、第２コンタクトホール領域に前記第１有機発光層と同一材料の層、記第２有機発光層と同一材料の層及び前記第３有機発光層と同一材料の層が重畳して形成された層の膜厚は、第２コンタクトホール領域以外の領域に形成された前記第２有機発光層の膜厚より厚い、
前記第３有機発光層が形成された開口部の中で、第３コンタクトホール領域に前記第１有機発光層と同一材料の層、前記第２有機発光層と同一材料の層及び前記第３有機発光層と同一材料の層が重畳して形成された層の膜厚は、第３コンタクトホール領域以外の領域に形成された前記第３有機発光層の膜厚より厚い、
請求項４記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項７】
前記バンクは、前記色毎にライン状の開口部を複数有する、
請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項８】
前記バンクは、前記色毎に、且つ画素単位に前記複数の第１電極の各々に対応する開口部を複数有する、
請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項９】
前記第１色及び前記第２色の各々は、赤色、緑色及び青色のいずれか一の色である、
請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項１０】
前記第１色、前記第２色及び前記第３色は３色を構成し、
前記第１色、前記第２色及び前記第３色の各々は、赤色、緑色及び青色のいずれか一の色である、
請求項４ないし請求項６のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項１１】
前記層間絶縁膜は、平坦化膜である、
請求項１記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項１２】
請求項１ないし請求項１１のいずれかに記載の有機ＥＬ表示パネルを備えた、
有機ＥＬ表示装置。
【請求項１３】
ＴＦＴ層を形成する第１工程と、
前記ＴＦＴ層上に層間絶縁膜を形成する第２工程と、
画素単位に、複数のコンタントホールを前記層間絶縁膜に形成する第３工程と、
前記画素単位に、前記複数のコンタクトホールの各々を介して前記ＴＦＴ層と導通する複数の第１電極を前記層間絶縁膜上に形成する第４工程と、
前記画素単位に形成された複数のコンタクトホールの各々を前記複数の開口部の各々の開口領域内に含む開口部を少なくとも色毎に複数有するバンクを形成する第５工程と、
前記複数の開口部の中で第１色の画素に対応する開口部に第１有機発光層を形成する第６工程と、
前記複数の開口部の中で第２色の画素に対応する開口部に第２有機発光層を形成する第７工程と、
前記第１有機発光層及び第２有機発光層の上方に第２電極を形成する第８工程と、を具備し、
前記開口部に含まれる前記コンタクトホール及びその上方を含むコンタクトホール領域に、前記第１有機発光層と同一材料の層と前記第２有機発光層と同一材料の層とを重畳して形成する、
有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１４】
前記第２有機発光層と同一材料の層は、前記第１有機発光層と同一材料の層の上に重畳して形成する、
請求項１３記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１５】
前記第１有機発光層が形成された開口部の中で、前記コンタクトホール領域に前記第２有機発光層と同一材料の層を重畳して形成する層の膜厚を、前記コンタクトホール領域以外の領域に形成する前記第１有機発光層の膜厚より厚く形成し、
前記第２有機発光層が形成された開口部の中で、前記コンタクトホール領域に前記第１有機発光層と同一材料の層を重畳して形成する層の膜厚を、前記コンタクトホール領域以外の領域に形成する前記第２有機発光層の膜厚より厚く形成する、
請求項１３記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１６】
前記第６工程における前記第１有機発光層の形成、及び前記第７工程における前記第２有機発光層の形成は、インクジェット法により行う、
請求項１３ないし請求項１５のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１７】
前記第６工程において、前記複数の開口部の中で第２色の画素に対応する開口部に含まれる前記コンタクトホール領域に前記第１色の有機発光材料を含有したインクを塗布し、
前記第７工程において、前記複数の開口部の中で第１色の画素に対応する開口部に含まれる前記コンタクトホール領域に前記第２色の有機発光材料を含有したインクを塗布する、
請求項１６記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１８】
前記第６工程において、前記複数の開口部の中で第２色の画素に対応する開口部に含まれる前記コンタクトホール領域に前記第１色の有機発光材料を含有したインクを塗布した後、前記第７工程の前に、前記第１色の有機発光材料を含有したインクを乾燥し、その後に前記第７工程を実施する、
請求項１７に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１９】
前記第７工程と前記第８工程との間に、前記複数の開口部の中で第３色の画素に対応する開口部に第３有機発光層を形成する第９工程を含み、
前記第８工程において、前記第２電極を、前記第１有機発光層、第２有機発光層、前記第３有機発光層の上方に形成し、
前記第１有機発光層が形成された開口部に含まれる前記コンタクトホール領域、前記第２有機発光層が形成された開口部に含まれる前記コンタクトホール領域、及び前記第３有機発光層が形成された開口部に含まれる前記コンタクトホール領域に、前記第１有機発光層と同一材料の層、前記第２有機発光層と同一材料の層及び前記第３有機発光層と同一材料の層を重畳して形成する、
請求項１３記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項２０】
前記第１有機発光層が形成された開口部の中で、前記コンタクトホール領域に前記第１有機発光層と同一材料の層、前記第２有機発光層と同一材料の層及び前記第３有機発光層と同一材料の層が重畳して形成する層の膜厚を、前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された前記第１有機発光層の膜厚より厚く形成し、
前記第２有機発光層が形成された開口部の中で、前記コンタクトホール領域に前記第１有機発光層と同一材料の層、前記第２有機発光層と同一材料の層及び前記第３有機発光層と同一材料の層が重畳して形成する層の膜厚を、前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された前記第２有機発光層の膜厚より厚く形成し、
前記第３有機発光層が形成された開口部の中で、前記コンタクトホール領域に前記第１有機発光層と同一材料の層、前記第２有機発光層と同一材料の層及び前記第３有機発光層と同一材料の層が重畳して形成する層の膜厚を、前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された前記第３有機発光層の膜厚より厚く形成する、
請求項１９記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項２１】
前記第６工程における前記第１有機発光層の形成、前記第７工程における前記第２有機発光層の形成、前記第８工程における前記第３有機発光層の形成は、インクジェットにより行う、
請求項１９ないし請求項２０のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項２２】
前記第６工程において、前記複数の開口部の中で第２色の画素に対応する開口部に含まれるコンタクトホール上に前記第１色の有機発光材料を含有したインクを塗布し、前記複数の開口部の中で第３色の画素に対応する開口部に含まれるコンタクトホール上に前記第１色の有機発光材料を含有したインクを塗布し、
前記第７工程において、前記複数の開口部の中で第１色の画素に対応する開口部に含まれるコンタクトホール上に前記第２色の有機発光材料を含有したインクを塗布し、前記複数の開口部の中で第３色の画素に対応する開口部に含まれるコンタクトホール上に前記第２色の有機発光材料を含有したインクを塗布し、
前記第８工程において、前記複数の開口部の中で第１色の画素に対応する開口部に含まれるコンタクトホール上に前記第３色の有機発光材料を含有したインクを塗布し、前記複数の開口部の中で第２色の画素に対応する開口部に含まれるコンタクトホール上に前記第３色の有機発光材料を含有したインクを塗布する、
請求項２１に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項２３】
前記バンクは、前記色毎にライン状の開口部を複数有する、
請求項１３ないし請求項２２のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項２４】
前記バンクは、前記色毎に、且つ画素単位に前記複数の第１電極の各々に対応する開口部を複数有する、
請求項１３ないし請求項２２のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項２５】
前記第１色及び前記第２色の各々は、赤色、緑色及び青色のいずれか一の色である、
請求項１３ないし請求項１８のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項２６】
前記第１色、前記第２色及び前記第３色は３色を構成し、
前記第１色、前記第２色及び前記第３色の各々は、赤色、緑色及び青色のいずれか一の色である、
請求項１９ないし請求項２２のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示パネルに関し、特に、開口率を向上させる技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、研究・開発が進んでいる有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬという。）表示パネルは、有機材料の電界発光現象を利用した表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルを構成する各有機ＥＬセルは、陽極と陰極との間に有機発光層が介挿された構造を有する。陽極は、駆動用のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板上に積層された層間絶縁膜の上に積層されており、陽極とＴＦＴの電極とを接続するため、層間絶縁膜の厚み方向に貫通孔（コンタクトホール）が設けられている。このコンタクトホール部分は非発光とするようバンクの下に埋もれさせた構造となっており、この構造が開口率の向上を妨げ、有機ＥＬ表示パネルにおける発光面積の増加、発光効率の向上を妨げる一因となっていた（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−６１６７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
開口率を向上させるために、従来バンクの下に埋もれさせていたコンタクトホールを、単純に、バンクで囲まれた開口部内に設けた場合、有機発光層がコンタクトホールの窪みに追従して凹んだ形状となる。このとき、有機発光層に用いられる発光材料は、粘度があるものの重力の影響によりコンタクトホール底面に向けて流下し、結果として、コンタクトホールの上面外周からコンタクトホールの底面に向かう斜面、特に、コンタクトホール上面外周の内側近辺における有機発光層の膜厚が他の部分よりも薄くなる。この膜厚の薄くなった領域では、陽極と陰極との距離が他の部分よりも短くなるため、電界集中により発光ムラが生じ、有機ＥＬ表示パネルの寿命が短くなるという問題がある。
【０００５】
上記問題に鑑み、本発明は、コンタクトホールをバンク開口部内に配置し開口率を向上させて発光効率を向上させつつ、電界集中を引き起こすことなく短寿命化を防ぐことができる有機ＥＬ表示パネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明の一態様における有機ＥＬ表示パネルは、ＴＦＴ層と、前記ＴＦＴ層上に形成され、画素単位に複数のコンタクトホールが形成された層間絶縁膜と、前記画素単位に、前記層間絶縁膜上に形成された複数の第１電極であって前記複数のコンタクトホールの各々を介して前記ＴＦＴ層と導通している複数の第１電極と、少なくとも色毎に形成された複数の開口部であって、前記画素単位に形成された複数のコンタクトホールを前記複数の開口部の各々の開口領域内に含む複数の開口部を有するバンクと、前記複数の開口部の中で第１色の画素に対応する開口部に形成された第１有機発光層と、前記複数の開口部の中で第２色の画素に対応する開口部に形成された第２有機発光層と、前記第１有機発光層及び第２有機発光層の上方に形成された第２電極と、を具備し、前記第１有機発光層が形成された開口部に含まれるコンタクトホール及びその上方を含む第１コンタクトホール領域、及び、前記第２有機発光層が形成された開口部に含まれるコンタクトホール及びその上方を含む第２コンタクトホール領域には、前記第１有機発光層と同一材料の層と前記第２有機発光層と同一材料の層とが重畳して形成されている。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルは、上述の構成を備えることにより、バンクに画素単位で形成された開口部を、コンタクトホールを含めるように形成することにより、前記開口部をより大きくし開口率を向上させることができる。そのため、発光面積が増大し、発光効率を向上させることができる。より具体的には、前記開口部内の前記コンタクトホール領域には、３色の中の一色の有機発光層の他に、３色の中の他の２色のいずれかの有機発光層を重畳して形成し、前記開口部内の前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された有機発光層の膜厚より厚く形成されている。このため、前記開口部内の前記コンタクトホール領域では、コンタクトホール上面外周からコンタクトホールの底面に向かう斜面、特にコンタクトホール上面外周の内側部分における電界集中の発生を防止できる。
【０００８】
また、前記開口部内の前記コンタクトホール領域に形成された有機発光層は、膜厚が、前記開口部内の前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された有機発光層の膜厚より厚く形成されていることから、前記コンタクトホール領域以外の領域に比較して電界が小さくなる。よって、前記有機発光層は前記コンタクトホール領域以外の領域では発光し、前記コンタクトホール領域では発光しないか又は前記コンタクトホール領域以外の領域よりも低輝度で発光する。しかしながら、前記コンタクトホール領域は、前記開口部の内部のごく小さい領域であるため、発光しなくても又は低輝度で発光しても前記開口部の全体に与える影響は小さい。そのため、全体としては発光輝度を低下させる要因とはならない。従って、バンクに画素単位で形成された開口部にコンタクトホールを含めて開口率を大きくし、発光輝度を増大させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネルの一部を模式的に示す平面図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態に係る第１色の有機ＥＬセルを中心とした有機ＥＬ表示パネルの一部断面を模式的に示す断面図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態に係る有機ＥＬセルのコンタクトホールを示す図である。
【図４】本発明の第１の実施の形態に係る有機ＥＬセルのコンタクトホールを示す図である（図３の続き）。
【図５】本発明の第１の実施の形態に係る第２色の有機ＥＬセルを中心とした有機ＥＬ表示パネルの一部断面を模式的に示す断面図である。
【図６】本発明の第１の実施の形態に係る開口部における発光輝度の分布を表す模式図である。
【図７】本発明の第１の実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法を説明する工程図である。
【図８】本発明の第１の実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法を説明する工程図である（図７の続き）。
【図９】本発明の第２の実施の形態に係る緑色の有機ＥＬセルを中心とした有機ＥＬ表示パネルの一部断面を模式的に示す断面図である。
【図１０】本発明の第２の実施の形態に係る赤色の有機ＥＬセルを中心とした有機ＥＬ表示パネルの一部断面を模式的に示す断面図である。
【図１１】本発明の第２の実施の形態に係る青色の有機ＥＬセルを中心とした有機ＥＬ表示パネルの一部断面を模式的に示す断面図である。
【図１２】本発明の第２の実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法を説明する工程図である。
【図１３】本発明の第２の実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法を説明する工程図である（図１２の続き）。
【図１４】本発明の変形例に係るＩＬ層、電子注入層を設けた場合の有機ＥＬ表示パネルの一部断面を模式的に示す断面図である。
【図１５】本発明の変形例に係るＩＬ層、電子注入層を設けた場合の有機ＥＬ表示パネルの一部断面を模式的に示す断面図である。
【図１６】本発明の変形例に係るラインバンクに係る有機ＥＬ表示パネルの一部を模式的に示す平面図である。
【図１７】本発明の変形例に係るラインバンクに係る緑色の有機ＥＬセルを中心とした有機ＥＬ表示パネルの一部断面を模式的に示す断面図である。
【図１８】本発明の変形例に係るラインバンクに係る第２色の有機ＥＬセルを中心とした有機ＥＬ表示パネルの一部断面を模式的に示す断面図である。
【図１９】本発明の変形例に係るコンタクトホール（角孔）を有する有機ＥＬ表示パネルの一部を模式的に示す平面図である。
【図２０】本発明の変形例に係る表示装置の外観斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
１．発明の態様
本発明の一態様における有機ＥＬ表示パネルは、ＴＦＴ層と、前記ＴＦＴ層上に形成され、画素単位に複数のコンタクトホールが形成された層間絶縁膜と、前記画素単位に、前記層間絶縁膜上に形成された複数の第１電極であって前記複数のコンタクトホールの各々を介して前記ＴＦＴ層と導通している複数の第１電極と、少なくとも色毎に形成された複数の開口部であって、前記画素単位に形成された複数のコンタクトホールを前記複数の開口部の各々の開口領域内に含む複数の開口部を有するバンクと、前記複数の開口部の中で第１色の画素に対応する開口部に形成された第１有機発光層と、前記複数の開口部の中で第２色の画素に対応する開口部に形成された第２有機発光層と、前記第１有機発光層及び第２有機発光層の上方に形成された第２電極と、を具備し、前記第１有機発光層が形成された開口部に含まれるコンタクトホール及びその上方を含む第１コンタクトホール領域、及び、前記第２有機発光層が形成された開口部に含まれるコンタクトホール及びその上方を含む第２コンタクトホール領域には、前記第１有機発光層と同一材料の層と前記第２有機発光層と同一材料の層とが重畳して形成されている。
【００１１】
また、前記第１有機発光層が形成された開口部に含まれる第１コンタクトホール領域、及び、前記第２有機発光層が形成された開口部に含まれる第２コンタクトホール領域には、前記第１有機発光層と同一材料の層の上に前記第２有機発光層と同一材料の層が重畳して形成されてもよい。
【００１２】
本態様によると、コンタクトホール領域における前記第２有機発光層と同一材料の層と、前記第１有機発光層と同一材料の層との位置関係を統一的に規定することができる。
【００１３】
また、前記第１有機発光層が形成された開口部の中で、前記コンタクトホール領域に前記第２有機発光層と同一材料の層が重畳して形成された層の膜厚は、前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された前記第１有機発光層の膜厚より厚く、前記第２有機発光層が形成された開口部の中で、前記コンタクトホール領域に前記第１有機発光層と同一材料の層が重畳して形成された層の膜厚は、前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された前記第２有機発光層の膜厚より厚くてもよい。
【００１４】
本態様によると、コンタクトホール領域の複数色が重畳された有機発光層は、コンタクトホール領域以外の領域より膜厚が厚くなる。そのため、コンタクトホール領域の複数色が重畳された領域では、コンタクトホール領域以外の領域に比較して電界が小さくなるので、コンタクトホール領域以外の領域では発光し、コンタクトホール領域では輝度が低下するか又は発光しない。しかしながら、前記コンタクトホール領域は、前記開口部の内部のごく小さい領域であるため、発光しなくても又は低輝度で発光しても前記開口部の全体に与える影響は小さい。そのため、全体としては発光輝度を低下させる要因とはならない。従って、バンクに画素単位で形成された開口部にコンタクトホールを含めて開口率を大きくし、発光輝度を増大させることができる。
【００１５】
また、前記複数の開口部の中で３色の画素に対応する開口部に形成された第３有機発光層を含み、前記第２電極は、前記第１有機発光層、前記第２有機発光層、前記第３有機発光層の上方に形成され、前記第１コンタクトホール領域、前記第２コンタクトホール領域、及び、前記第３有機発光層が形成された開口部に含まれるコンタクトホール及びその上方を含む第３コンタクトホール領域には、前記第１有機発光層と同一材料の層、前記第２有機発光層と同一材料の層、及び前記第３有機発光層と同一材料の層が重畳して形成されているとしてもよい。
【００１６】
本態様によると、赤色、緑色、青色の各発光色の光を発光する各々の有機発光層を用いて、各画素に含まれる有機発光層を形成することができる。
【００１７】
また、前記第１コンタクトホール領域、前記第２コンタクトホール領域、及び前記第３コンタクトホール領域には、前記第１有機発光層と同一材料の層の上に前記第２有機発光層と同一材料の層が重畳して形成され、前記２有機発光層と同一材料の層の上に前記第３有機発光層と同一材料の層が重畳して形成されているとしてもよい。
【００１８】
本態様によると、全コンタクトホール領域における前記第３有機発光層と同一材料の層と、前記第２有機発光層と同一材料の層と、前記第１有機発光層と同一材料の層の位置関係を統一的に規定することができる。
【００１９】
また、前記第１有機発光層が形成された開口部の中で、第１コンタクトホール領域に前記第１有機発光層と同一材料の層、前記第２有機発光層と同一材料の層及び前記第３有機発光層と同一材料の層が重畳して形成された層の膜厚は、第１コンタクトホール領域以外の領域に形成された前記第１有機発光層の膜厚より厚い、前記第２有機発光層が形成された開口部の中で、第２コンタクトホール領域に前記第１有機発光層と同一材料の層、記第２有機発光層と同一材料の層及び前記第３有機発光層と同一材料の層が重畳して形成された層の膜厚は、第２コンタクトホール領域以外の領域に形成された前記第２有機発光層の膜厚より厚い、前記第３有機発光層が形成された開口部の中で、第３コンタクトホール領域に前記第１有機発光層と同一材料の層、前記第２有機発光層と同一材料の層及び前記第３有機発光層と同一材料の層が重畳して形成された層の膜厚は、第３コンタクトホール領域以外の領域に形成された前記第３有機発光層の膜厚より厚いとしてもよい。
【００２０】
本態様によると、赤色と、緑色と、青色との三色の光を発光する画素の、各々の画素に含まれる前記コンタクトホール領域の複数色が重畳された有機発光層は、コンタクトホール以外の領域より膜厚が厚くなる。そのため、コンタクトホール領域の複数色が重畳された領域では、コンタクトホール領域以外の領域に比較して電界が小さくなるので、コンタクトホール領域以外の領域では発光し、コンタクトホール領域では輝度が低下するか又は発光しない。しかしながら、前記コンタクトホール領域は、前記開口部の内部のごく小さい領域であるため、発光しなくても又は低輝度で発光しても前記開口部の全体に与える影響は小さい。そのため、全体としては発光輝度を低下させる要因とはならない。従って、バンクに画素単位で形成された開口部にコンタクトホールを含めて開口率を大きくし、発光輝度を増大させることができる。
【００２１】
また、前記バンクは、前記色毎にライン状の開口部を複数有するとしてもよい。
【００２２】
本態様によると、ラインバンクに形成された画素単位の開口部を、コンタクトホールを含めるように形成することにより、前記開口部をより大きくし、開口率を向上させることができる。そのため、発光面積が増大し、発光効率を向上させることができる。
【００２３】
また、前記バンクは、前記色毎に、且つ画素単位に前記複数の第１電極の各々に対応する開口部を複数有するとしてもよい。
【００２４】
本態様によると、ピクセルバンクに形成された画素単位の開口部を、コンタクトホールを含めるように形成することにより、前記開口部をより大きくし、開口率を向上させることができる。そのため、発光面積が増大し、発光効率を向上させることができる。
【００２５】
また、前記第１色及び前記第２色の各々は、赤色、緑色及び青色のいずれか一の色であるとしてもよい。
【００２６】
本態様によると、前記第１色及び前記第２色の各々は、赤色、緑色及び青色のいずれか一の色とすることができる。
【００２７】
また、前記第１色、前記第２色及び前記第３色は３色を構成し、前記第１色、前記第２色及び前記第３色の各々は、赤色、緑色及び青色のいずれか一の色であるとしてもよい。
【００２８】
本態様によると、前記第１色、前記第２色及び前記第３色は３色を構成し、前記第１色、前記第２色及び前記第３色の各々は、赤色、緑色及び青色のいずれか一の色とすることができる。
【００２９】
また、前記層間絶縁膜は、平坦化膜であることとしてもよい。
【００３０】
本態様によれば、ＴＦＴ層の表面の段差を平坦化できる。
【００３１】
本発明の一態様における有機ＥＬ表示装置は、前記有機ＥＬ表示パネルを備えた有機ＥＬ表示装置である。
【００３２】
本態様によると、前記有機ＥＬ表示パネルを備えた有機ＥＬ表示装置を実現できる。
【００３３】
本発明の有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、ＴＦＴ層を形成する第１工程と、前記ＴＦＴ層上に層間絶縁膜を形成する第２工程と、画素単位に、複数のコンタントホールを前記層間絶縁膜に形成する第３工程と、前記画素単位に、前記複数のコンタクトホールの各々を介して前記ＴＦＴ層と導通する複数の第１電極を前記層間絶縁膜上に形成する第４工程と、前記画素単位に形成された複数のコンタクトホールの各々を前記複数の開口部の各々の開口領域内に含む開口部を少なくとも色毎に複数有するバンクを形成する第５工程と、前記複数の開口部の中で第１色の画素に対応する開口部に第１有機発光層を形成する第６工程と、前記複数の開口部の中で第２色の画素に対応する開口部に第２有機発光層を形成する第７工程と、前記第１有機発光層及び第２有機発光層の上方に第２電極を形成する第８工程と、を具備し、前記開口部に含まれる前記コンタクトホール及びその上方を含むコンタクトホール領域に、前記第１有機発光層と同一材料の層と前記第２有機発光層と同一材料の層とを重畳して形成する。
【００３４】
本態様によると、３色の中の一色の有機発光層が形成された開口部に含まれるコンタクトホール領域に、３色の中の他の２色のいずれかの有機発光層を重畳して形成する。これにより、コンタクトホール領域に形成される有機発光層の膜厚を厚く形成することができるので、コンタクトホール上面外周からコンタクトホールの底面に向かう斜面における電界集中の発生を防止した有機ＥＬ表示パネルを製造することができる。
【００３５】
また、前記開口部内の前記コンタクトホール領域に形成された有機発光層は、膜厚が、前記開口部内の前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された有機発光層の膜厚より厚く形成されていることから、前記コンタクトホール領域以外の領域に比較して電界が小さくなる。よって、前記有機発光層は前記コンタクトホール領域以外の領域では発光し、前記コンタクトホール領域では発光しないか又は前記コンタクトホール領域以外の領域よりも低輝度で発光する。しかしながら、前記コンタクトホール領域は、前記開口部の内部のごく小さい領域であるため、発光しなくても又は低輝度で発光しても前記開口部の全体に与える影響は小さい。そのため、全体としては発光輝度を低下させる要因とはならない。従って、バンクに画素単位で形成された開口部にコンタクトホールを含めて開口率を大きくし、発光輝度を増大させることができる。
【００３６】
また、前記第２有機発光層と同一材料の層は、前記第１有機発光層と同一材料の層の上に重畳して形成するとしてもよい。
【００３７】
本態様によると、コンタクトホール領域における前記第２有機発光層と同一材料の層と、前記第１有機発光層と同一材料の層との位置関係を統一的に規定することができる。
【００３８】
また、前記第１有機発光層が形成された開口部の中で、前記コンタクトホール領域に前記第２有機発光層と同一材料の層を重畳して形成する層の膜厚を、前記コンタクトホール領域以外の領域に形成する前記第１有機発光層の膜厚より厚く形成し、
前記第２有機発光層が形成された開口部の中で、前記コンタクトホール領域に前記第１有機発光層と同一材料の層を重畳して形成する層の膜厚を、前記コンタクトホール領域以外の領域に形成する前記第２有機発光層の膜厚より厚く形成するとしてもよい。
【００３９】
本態様によると、コンタクトホール領域の複数色が重畳された有機発光層は、コンタクトホール領域以外の領域より膜厚が厚くなる。そのため、コンタクトホール領域の複数色が重畳された領域では、コンタクトホール領域以外の領域に比較して電界が小さくなるので、コンタクトホール領域以外の領域では発光し、コンタクトホール領域では輝度が低下するか又は発光しない。しかしながら、前記コンタクトホール領域は、前記開口部の内部のごく小さい領域であるため、発光しなくても又は低輝度で発光しても前記開口部の全体に与える影響は小さい。そのため、全体としては発光輝度を低下させる要因とはならない。従って、バンクに画素単位で形成された開口部にコンタクトホールを含めて開口率を大きくし、発光輝度を増大させた有機ＥＬ表示パネルの製造方法を実現できる。
【００４０】
また、前記第６工程における前記第１有機発光層の形成、及び前記第７工程における前記第２有機発光層の形成は、インクジェット法により行うとしてもよい。
【００４１】
本態様によると、前記第６工程における前記第１有機発光層の形成、及び前記第７工程における前記第２有機発光層の形成は、インクジェット法により行うことができる。前記インクジェット法は、前記有機ＥＬ発光材料を含むインクを、前記コンタクトホールなどの前記画素の所定の位置に高精度で滴下することができるため、マスクなどの付加部材や製造プロセスを用いず行うことができる。
【００４２】
また、前記第６工程において、前記複数の開口部の中で第２色の画素に対応する開口部に含まれる前記コンタクトホール領域に前記第１色の有機発光材料を含有したインクを塗布し、前記第７工程において、前記複数の開口部の中で第１色の画素に対応する開口部に含まれる前記コンタクトホール領域に前記第２色の有機発光材料を含有したインクを塗布するとしてもよい。
【００４３】
本態様によると、一色の有機発光層が形成された開口部に含まれるコンタクトホール領域に他の色の有機発光層を重畳するために、新たに別のプロセスを追加することなく、一色の有機発光材料を含有したインクを塗布するインクジェトヘッドが、他の色の画素に対応する開口部に含まれるコンタクトホール上を通過する既存のプロセスを利用することで、実現できる。そのため、既存のプロセスを利用した極めて簡易なプロセスにより、バンクの開口部にコンタクトホールを含めて開口率を大きくした場合であっても、コンタクトホールにおける電界集中の発生を防止しつつ、発光効率を増大させることができる。
【００４４】
また、前記第６工程において、前記複数の開口部の中で第２色の画素に対応する開口部に含まれる前記コンタクトホール領域に前記第１色の有機発光材料を含有したインクを塗布した後、前記第７工程の前に、前記第１色の有機発光材料を含有したインクを乾燥し、その後に前記第７工程を実施するとしてもよい。
【００４５】
本態様によると、前記第１色の有機発光材料を含有したインクの塗膜は、乾燥して前記第１有機発光層の固体膜となっているため、前記固体膜となった前記第１有機発光層の上に、前記第７工程で前記第２色の有機発光材料を含有したインクを塗布する。その結果、前記前記固体膜となった前記第１有機発光層と、前記第２色の有機発光材料を含有したインクとは、インク相互としては混合しなくなる。
【００４６】
従って、前記第１有機発光層の有機発光材料と、前記第２色の有機発光材料との混色を防止できる。
【００４７】
また、前記第７工程と前記第８工程との間に、前記複数の開口部の中で第３色の画素に対応する開口部に第３有機発光層を形成する第９工程を含み、前記第８工程において、前記第２電極を、前記第１有機発光層、第２有機発光層、前記第３有機発光層の上方に形成し、前記第１有機発光層が形成された開口部に含まれる前記コンタクトホール領域、前記第２有機発光層が形成された開口部に含まれる前記コンタクトホール領域、及び前記第３有機発光層が形成された開口部に含まれる前記コンタクトホール領域に、前記第１有機発光層と同一材料の層、前記第２有機発光層と同一材料の層及び前記第３有機発光層と同一材料の層を重畳して形成するとしてもよい。
【００４８】
本態様によると、画素に含まれる有機発光層は赤色、緑色、青色の各発光色の光を発光する各々の画素の三色である、有機ＥＬ表示パネルを製造することができる。
【００４９】
また、前記第１有機発光層が形成された開口部の中で、前記コンタクトホール領域に前記第１有機発光層と同一材料の層、前記第２有機発光層と同一材料の層及び前記第３有機発光層と同一材料の層が重畳して形成する層の膜厚を、前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された前記第１有機発光層の膜厚より厚く形成し、前記第２有機発光層が形成された開口部の中で、前記コンタクトホール領域に前記第１有機発光層と同一材料の層、前記第２有機発光層と同一材料の層及び前記第３有機発光層と同一材料の層が重畳して形成する層の膜厚を、前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された前記第２有機発光層の膜厚より厚く形成し、前記第３有機発光層が形成された開口部の中で、前記コンタクトホール領域に前記第１有機発光層と同一材料の層、前記第２有機発光層と同一材料の層及び前記第３有機発光層と同一材料の層が重畳して形成する層の膜厚を、前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された前記第３有機発光層の膜厚より厚く形成するとしてもよい。
【００５０】
本態様によると、画素に含まれる有機発光層は赤色、緑色、青色の各発光色の光を発光する各々の画素の三色である有機ＥＬ表示パネルであって、コンタクトホールにおける電界集中の発生を防止しつつ、発光効率を増大させた有機ＥＬ表示パネルの製造方法を実現できる。
【００５１】
また、前記第６工程における前記第１有機発光層の形成、前記第７工程における前記第２有機発光層の形成、前記第８工程における前記第３有機発光層の形成は、インクジェットにより行うとしてもよい。
【００５２】
本態様によると、前記第６工程における前記第１有機発光層の形成、前記第７工程における前記第２有機発光層の形成は、及び前記第８工程における前記第３有機発光層の形成は、インクジェット法により行うことができる。前記インクジェット法は、前記有機ＥＬ発光材料を含むインクを、前記コンタクトホールなどの前記画素の所定の位置に高精度で滴下することができるため、マスクなどの付加部材や製造プロセスを用いず行うことができる。
【００５３】
また、前記第６工程において、前記複数の開口部の中で第２色の画素に対応する開口部に含まれるコンタクトホール上に前記第１色の有機発光材料を含有したインクを塗布し、前記複数の開口部の中で第３色の画素に対応する開口部に含まれるコンタクトホール上に前記第１色の有機発光材料を含有したインクを塗布し、前記第７工程において、前記複数の開口部の中で第１色の画素に対応する開口部に含まれるコンタクトホール上に前記第２色の有機発光材料を含有したインクを塗布し、前記複数の開口部の中で第３色の画素に対応する開口部に含まれるコンタクトホール上に前記第２色の有機発光材料を含有したインクを塗布し、前記第８工程において、前記複数の開口部の中で第１色の画素に対応する開口部に含まれるコンタクトホール上に前記第３色の有機発光材料を含有したインクを塗布し、前記複数の開口部の中で第２色の画素に対応する開口部に含まれるコンタクトホール上に前記第３色の有機発光材料を含有したインクを塗布するとしてもよい。
【００５４】
本態様によると、前記第１色の有機発光材料を含有したインクを塗布するインクジェトヘッドが、前記複数の開口部の中で第２色の画素に対応する開口部に含まれるコンタクトホール上を通過する際に、前記第２色の画素に対応する開口部に含まれるコンタクトホール上に前記第１色の有機発光材料を含有したインクを塗布する。また、前記第１色の有機発光材料を含有したインクを塗布するインクジェトヘッドが、前記複数の開口部の中で第３色の画素に対応する開口部に含まれるコンタクトホール上を通過する際に、前記第３色の画素に対応する開口部に含まれるコンタクトホール上に前記第１色の有機発光材料を含有したインクを塗布する。
【００５５】
これにより、３色の中の一色の有機発光層が形成された開口部に含まれるコンタクトホールの上方の領域に３色の中の他の２色の有機発光層を重畳するために、新たに別のプロセスを追加することなく、一色の有機発光材料を含有したインクを塗布するインクジェトヘッドが、他の色の画素に対応する開口部に含まれるコンタクトホール上を通過する既存のプロセスを利用することで、実現できる。そのため、既存のプロセスを利用した極めて簡易なプロセスにより、バンクの開口部にコンタクトホールを含めて開口率を大きした場合であっても、コンタクトホールにおける電界集中の発生を防止しつつ、発光効率を増大させることができる。
【００５６】
また、前記バンクは、前記色毎にライン状の開口部を複数有するとしてもよい。
【００５７】
本態様によると、前記バンクは、前記色毎にライン状の開口部を複数有するものとすることができる。
【００５８】
また、前記バンクは、前記色毎に、且つ画素単位に前記複数の第１電極の各々に対応する開口部を複数有するとしてもよい。
【００５９】
本態様によると、前記バンクは、前記色毎に、且つ画素単位に前記複数の第１電極の各々に対応する開口部を複数有するものとすることができる。
【００６０】
また、前記第１色及び前記第２色の各々は、赤色、緑色及び青色のいずれか一の色であるとしてもよい。
【００６１】
本態様によると、前記第１色及び前記第２色の各々は、赤色、緑色及び青色のいずれか一の色とすることができる。
【００６２】
また、前記第１色、前記第２色及び前記第３色は３色を構成し、前記第１色、前記第２色及び前記第３色の各々は、赤色、緑色及び青色のいずれか一の色であるとしてもよい。
【００６３】
本態様によれば、前記第１色、前記第２色及び前記第３色は３色を構成し、前記第１色、前記第２色及び前記第３色の各々は、赤色、緑色及び青色のいずれか一の色とすることができる。
２．第１の実施の形態
＜全体概略構成＞
図１は、本発明の一実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネルの一部を模式的に示す平面図である。
【００６４】
有機ＥＬ表示パネル１は、トップエミッション型の複数の有機ＥＬセル２０がマトリックス状配列で形成されてなり、各有機ＥＬセル２０は、Ｒ（赤色）Ｇ（緑色）Ｂ（青色）いずれかに対応する発光層を具備する。各有機ＥＬセル２０が、１画素（ピクセル）に相当する。各有機ＥＬセル２０（以下、Ｒ、Ｇ、Ｂそれぞれに対応する有機ＥＬセル２０を、有機ＥＬセル２０ａ、有機ＥＬセル２０ｂ、有機ＥＬセル２０ｃという。）に係る開口部３０（以下、Ｒ、Ｇ、Ｂそれぞれに対応する開口部３０を、開口部３０ａ、開口部３０ｂ、開口部３０ｃという。）は、いわゆるピクセルバンク（井桁状バンク）構造のバンク１６で規定されている。
【００６５】
図２は、有機ＥＬセル２０ａを中心とした有機ＥＬ表示パネル１の一部断面（図１のＸａ−Ｘａ’間の断面）を模式的に示す断面図である。
【００６６】
基板１０は、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、又はアルミナ等の絶縁性材料で形成されている。
【００６７】
基板１０上には、給電電極１２を有するＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）層１１が形成され、ＴＦＴ層１１上に層間絶縁膜１３が積層されている。
【００６８】
層間絶縁膜１３は、絶縁性に優れる有機材料で形成されており、その厚みは、４μｍ（マイクロメートル）程度である。層間絶縁膜１３には、厚み方向に貫通孔（コンタクトホール１４）が形成されている。
＜コンタクトホール＞
ここで、コンタクトホール１４について、図３、図４を用いて詳細に説明する。
【００６９】
図３は、図２におけるコンタクトホール１４付近を拡大した図であり、説明の都合上、ＴＦＴ層１１、給電電極１２、層間絶縁膜１３、コンタクトホール１４のみ図示したものである。
【００７０】
コンタクトホール１４は、図３（ａ）に示す、コンタクトホール上面１４ｃ、コンタクトホール斜面１４ｄ、コンタクトホール下面１４ｅで囲まれた空間をいう。なお、上述のようにコンタクトホール１４は貫通孔であり、コンタクトホール上面１４ｃ、コンタクトホール下面１４ｅは、説明上の仮想的な面である。
【００７１】
コンタクトホール上面１４ｃは、略環状のコンタクトホール上面外周１４ａで囲まれた部分であり、コンタクトホール上面外周１４ａは、層間絶縁膜１３の膜厚がコンタクトホール底面１４ｅからコンタクトホール斜面１４ｄ沿いに上方へ向けて増し、その膜厚が極大に達する部分である。ここで、層間絶縁膜１３上面におけるコンタクトホール上面１４ｃの占有面積は極力小さい方が望ましいので、コンタクトホール斜面１４ｄの傾斜角度は大きい方が望ましい。しかしながら、傾斜角度が大き過ぎる（９０度に近づく）と、ＴＦＴ層１１と導通すべき第１電極１５が段切れするという不具合が発生しうる。逆にコンタクトホール斜面１４ｄの傾斜角度をどんどん小さくすれば、第１電極１５とＴＦＴのソース電極、ドレイン電極、ゲート電極、信号配線、電源配線などとの間に発生する寄生容量の面より決定している所定膜厚が得られない領域が大きくなるので特性上の不具合が発生しうる。これらに鑑み、図３（ａ）に示す、コンタクトホール上面外周１４ａにおける層間絶縁膜１３の膜厚ｔと、コンタクトホール下面外周１４ｂとコンタクトホール上面外周１４ａとの平面距離Ｌとは、  Ｌ＜３ｔ  を満たす程度であることが望ましい。しかし、これに限るものではない。
【００７２】
なお、図３（ｂ）に示すように、層間絶縁膜１３の膜厚がコンタクトホール底面１４ｅからコンタクトホール斜面１４ｄ沿いに上方へ向けて増し、その膜厚が極大に達した後膜厚が減少に転じるような場合であっても、コンタクトホール上面外周１４ａは、図３（ａ）と同様層間絶縁膜１３の膜厚が極大に達した部分であることに変わりない。
【００７３】
また、以下の説明において、「コンタクトホール上面外周１４ａの内側付近」との記載があるが、これは図３中１４ｆとして示した部分を指している。
【００７４】
また、図４において破斜線で示す領域、すなわちコンタクトホール１４及びコンタクトホール１４の上方を合わせてコンタクトホール領域１４ｇという。
【００７５】
以上、コンタクトホール１４についての補足説明を終え、図２の説明に戻る。
＜有機ＥＬセル２０の構成＞
層間絶縁膜１３上には、陽極である第１電極１５が積層される。第１電極１５は、コンタクトホール１４を介して、ＴＦＴ層１１に係る給電電極１２と電気的に接続される。
【００７６】
第１電極１５は、Ａｇ（銀）で形成されている。なお、第１電極１５は、例えば、ＡＰＣ（銀、パラジウム、銅の合金）、ＡＲＡ（銀、ルビジウム、金の合金）、ＭｏＣｒ（モリブデンとクロムの合金）、ＮｉＣｒ（ニッケルとクロムの合金）、Ａｌ（アルミニウム）、Ａｌ合金等で形成されていても良い。トップエミッション型の発光素子の場合は、光反射性の材料で形成されていることが好ましい。
【００７７】
層間絶縁膜１３及び給電電極１２の上には、バンク１６（バンク１６ａ、バンク１６ｂ・・・）が形成されている。バンク１６は、樹脂等の有機材料で形成されており絶縁性を有する。有機材料の例には、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等が挙げられる。バンク１６は、有機溶剤耐性を有することが好ましい。さらに、バンク１６は、エッチング処理、ベーク処理等がされることがあるので、それらの処理に対して過度に変形、変質などをしないような耐性の高い材料で形成されることが好ましい。
【００７８】
バンク１６で区画された領域内には、Ｒ（赤）に対応する有機発光層（以下、単に発光層という。）１７ａが積層されている。
【００７９】
発光層１７ａは、例えば、特開平５−１６３４８８号公報に記載のオキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、アンスラセン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、８−ヒドロキシキノリン化合物の金属鎖体、２−ビピリジン化合物の金属鎖体、シッフ塩とＩＩＩ族金属との鎖体、オキシン金属鎖体、希土類鎖体等の蛍光物質で形成されることが好ましい。
【００８０】
発光層１７ａは、コンタクトホール１４による窪みに入り込み、窪みに追従して凹んだ形状となっている。ここで、発光層１７ａを従来のように単純に形成すると、コンタクトホール斜面１４ｄ、特にコンタクトホール上面外周１４ａの内側付近１４ｆ（図３参照）に形成される発光層１７ａの膜厚が他の部分よりも薄くなり、この膜厚の薄くなった領域で電界集中が発生してしまう。しかし、本実施の形態では、発光層１７ａの上に、さらに、Ｇ（緑）に対応する発光層１７ｂを積層している。ここで、コンタクトホール領域１４ｇに積層される発光層１７ａと発光層１７ｂとの膜厚の合計については、コンタクトホール領域１４ｇ以外の領域に積層される発光層１７ａの膜厚より厚くなっていればよい。通常、発光層１７ｂの膜厚は、５〜１００ｎｍ程度が望ましい。以下、各有機ＥＬセル２０のバンクで規定された領域内に形成されている発光層１７ａ、１７ｂ・・・・を合わせて発光層１７という。
【００８１】
発光層１７の上には、陰極である第２電極１８が積層される。
【００８２】
第２電極１８は、例えば、ＩＴＯ、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等で形成される。有機ＥＬセルをトップエミッション型にする場合は、光透過性材料で形成されていることが望ましい。
【００８３】
なお、図示してはいないが、第２電極１８の上には公知の封止層が設けられる。封止層は、例えば、ＳｉＮ（窒化シリコン）、ＳｉＯＮ（酸窒化シリコン）等の材料で形成され、発光層１７が水分や空気等に触れて劣化するのを抑制する。有機ＥＬセルをトップエミッション型にする場合は、封止層も光透過性材料で形成されることが望ましい。
【００８４】
次に、Ｇに対応する有機ＥＬセル２０ｂの構成について説明する。
【００８５】
図５に示すように、有機ＥＬセル２０ｂは、発光層１７ａがコンタクトホール領域１４ｇにのみ形成され、発光層１７ｂがコンタクトホール領域１４ｇ以外の領域に形成されている点が、有機ＥＬセル２０ａと異なっている。
【００８６】
また、Ｂに対応する有機ＥＬセル２０ｃの構成は、図示しないが、有機ＥＬセル２０ｂにおける発光層１７ｂを、Ｂに対応する発光層１７ｃと置き換えた構成となる。
【００８７】
なお、各有機ＥＬセル２０においては、自発光色の発光層に加え、自発光色以外の発光層が積層される構成となっているが、自発光色以外の発光層の発光色はいずれの発光色であってもよい。
＜実施の形態の構成による効果＞
ここで、本実施の形態の上記構成による効果について図６を用いて補足説明する。
【００８８】
図６（ａ）は、本実施の形態における開口部３０ａとその周辺部、図６（ｂ）は、従来の開口部とその周辺部を模式的に表した上面図である。
【００８９】
図６（ａ）の開口部３０ａにおいて、斜線で示した部分は、発光層１７が通常の膜厚で形成されていることから発光輝度の低下がない部分を表している。これに対し、斜線で示さない、コンタクトホール上面外周１４ａの内側部分、すなわちコンタクトホール領域１４ｇに相当する部分は、発光層１７ｂ及び発光層１７ａが積層され、コンタクトホール領域１４ｇ以外の領域に比べて膜厚が厚くなっているため、電界が小さくなり発光輝度が低下する。しかしながら、この開口部３０ａにおけるコンタクトホール領域１４ｇに相当する部分の面積は、コンタクトホール領域１４ｇ以外の領域に相当する部分の面積に比べ微少であり、微少な領域の発光輝度が低下していたとしても発光ムラは目立たない。
【００９０】
また、図６（ａ）の開口部３０ａは、図６（ｂ）に示す従来の開口部に比して、発光輝度が低下しない領域の面積として、図６（ｂ）中に格子１６ｃとして示す分（従来、コンタクトホールを埋もれさせるため、バンクとして占有の必要があった部分から、コンタクトホール相当部分を除いたものに当たる）だけ大きく取ることができる。よって、有機ＥＬ表示パネル１における開口率を従来に比べ向上させることができる。
【００９１】
図６（ｃ）は、本実施の形態を用いず、単にコンタクトホールを開口部内に設けることとした場合の開口部３０とその周辺部を模式的に表した上面図である。
【００９２】
図６（ｃ）において斜線で示した部分は、図３に示したコンタクトホール上面外周１４ａの内側付近１４ｆに相当する部分である。この部分では、上述したように発光層１７ａが通常の膜厚より薄くなっており、電界集中により、通常より発光輝度が上がってしまう。発光輝度が上がっている場合、例え面積が微少であっても視認され易いので、結果的にこの部分は、発光ムラとして目立つことになる。
＜製造方法＞
図７及び図８は、本発明の実施形態に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法を説明する工程図である。
【００９３】
以下では、特に、有機ＥＬ表示パネル１における有機ＥＬセル２０ｂ、有機ＥＬセル２０ａについての説明を中心に行う。
【００９４】
工程は、第１工程〜第８工程から成る。
【００９５】
第１工程〜第５工程までは、有機ＥＬセル２０ａ、有機ＥＬセル２０ｂに共通しており、図７（ａ）〜（ｅ）が、第１工程〜第５工程を表している。また、図８（ａ）〜（ｃ）が有機ＥＬセル２０ａについての第６工程〜第８工程を表し、図８（ｄ）〜（ｆ）が有機ＥＬセル２０ｂについての第６工程〜第８工程を表している。
【００９６】
まず、図７（ａ）に示すように、第１工程として、基板１０上にＴＦＴ層１１を形成する。
【００９７】
次に、図７（ｂ）に示すように、第２工程として、ＴＦＴ層１１上に層間絶縁膜１３を形成する。
【００９８】
次に、図７（ｃ）に示すように、第３工程として、層間絶縁膜１３にエッチングによって画素に対応するコンタクトホール１４を形成する。
【００９９】
次に、図７（ｄ）に示すように、第４工程として、層間絶縁膜１３上に、例えばスパッタリングによりＡｇ薄膜を形成し、Ａｇ薄膜を例えばフォトリソグラフィでパターニングすることにより、画素単位にマトリックス状に第１電極１５を形成する。なお、Ａｇ薄膜は真空蒸着等で形成しても良い。
【０１００】
次に、図７（ｅ）に示すように、第５工程として、第１電極１５、層間絶縁膜１３の上にバンク材料層を形成し、バンク材料層の一部を除去して開口部３０を有するバンク１６を形成する（図７（ｅ））。バンク材料層の形成は、例えば塗布等により行うことができる。バンク材料層の除去は、バンク材料層上にレジストパターンを形成し、その後、エッチングをすることにより行う。
【０１０１】
次に、第６工程として、有機ＥＬセル２０について、バンク１６で規定された領域内に、例えばインクジェット法により有機ＥＬ材料を含む組成物インク（以下、単に「インク」と称する）を滴下する。ここで、有機ＥＬ材料の発光色はＲとする。
【０１０２】
この第６工程で、発光色がＲの有機ＥＬセル２０ａについては、図８（ａ）に示すように、バンクで規定された領域全体にインクを滴下して発光層１７ａを形成している。
【０１０３】
一方、発光色がＧの有機ＥＬセル２０ｂについては、図８（ｄ）に示すように、コンタクトホール領域１４ｇにＲに対応するインクを滴下して発光層１７ａを形成するのみである。
【０１０４】
次に、発光層１７ａのインクを乾燥させ、その後、第７工程として、有機ＥＬセル２０ａについて、図８（ｂ）に示すように、コンタクトホール領域１４ｇにインクを滴下させ発光層１７ｂを形成する。第７工程における、有機ＥＬ材料の発光色はＧとする。
【０１０５】
また、有機ＥＬセル２０ｂについては、図８（ｅ）に示すように、バンクで規定された領域全面にインクを滴下させ発光層１７ｂを形成する。発光層１７の形成には、ディスペンサー法、ノズルコート法、スピンコート法、凹版印刷、凸版印刷等によりインクを滴下しても良い。
【０１０６】
次に、第８工程として、例えばスパッタリングにより第２電極１８となるＩＴＯ薄膜を形成する（図８（ｃ）、図８（ｆ））。
【０１０７】
なお、発光色がＢの有機ＥＬセル２０ｃについては、図示していないが、第６工程で、コンタクトホール領域１４ｇにＲに対応するインクを滴下して発光層１７ａを形成し、第７工程では、Ｇに対応するインクを滴下せず、第７工程の後で、バンクで規定された領域全面にＢに対応するインクを滴下させ発光層１７ｃを形成すればよい。
３．第２の実施の形態
＜構成＞
第１の実施の形態では、各有機ＥＬセルにおける発光層１７（１７ａ、１７ｂ）を、異なる色に係る２層の発光層で構成していた。これに対し、本実施の形態は、発光層を異なる色に係る３層の発光層で構成する点が第１の実施の形態と異なる。
【０１０８】
本実施の形態の有機ＥＬ表示パネルは、平面図については第１の実施の形態と共通する。
【０１０９】
図９は、本実施の形態に係る、Ｒに発光する有機ＥＬセル２０ａを中心とする有機ＥＬ表示パネル１の一部断面（図１のＸａ−Ｘａ’断面）を模式的に示す断面図である。
【０１１０】
また、図１０は、本実施の形態に係る、Ｇに発光する有機ＥＬセル２０ｂを中心とする有機ＥＬ表示パネル１の一部断面（図１のＸｂ−Ｘｂ’断面）を模式的に示す断面図である。
【０１１１】
また、図１１は、本実施の形態に係る、Ｂに発光する有機ＥＬセル２０ｃを中心とした有機ＥＬ表示パネル１の一部断面（図１のＸｃ−Ｘｃ’断面）を模式的に示す断面図である。
【０１１２】
図９、１０、１１における基板１０、ＴＦＴ層１１、給電電極１２、層間絶縁膜１３、コンタクトホール１４、第１電極１５、バンク１６及び第２電極１８については、図２で説明したものと異なるところはない。
【０１１３】
図９、１０、１１では、有機ＥＬセル２０ａ、２０ｂ、２０ｃのいずれについても、発光層１７に関し、第１電極１５に近い側より発光層１７ａ、１７ｂ、１７ｃの順に積層されている（以下、本実施の形態では、バンクで規定された領域に形成されている発光層１７ａ、１７ｂ及び１７ｃを合わせて発光層１７という。）。
【０１１４】
しかし、図９、１０、１１の有機ＥＬセル２０ａ、２０ｂ、２０ｃそれぞれは、発光層１７ａ（Ｒに対応）、１７ｂ（Ｇに対応）、１７ｃ（Ｂに対応）のうち、いずれがバンク１６で規定された領域の全面に渡り積層されている発光層（メイン発光層）であるかが異なる。メイン発光層の発光色が、そのメイン発光層を有する有機ＥＬセルの画素の色となる。有機ＥＬセル２０ａでは、発光層１７ａがメイン発光層であり、有機ＥＬセル２０ｂでは、発光層１７ｂがメイン発光層であり、有機ＥＬセル２０ｃでは、発光層１７ｃがメイン発光層である。発光層１７ａ、１７ｂ、１７ｃのうちメイン発光層以外の発光層（以下、サブ発光層という）は、メイン発光層とは異なり、コンタクトホール領域１４ｇにのみ積層される。ここで、コンタクトホール領域１４ｇに積層される発光層１７ａと発光層１７ｂと発光層１７ｃとの膜厚の合計については、コンタクトホール領域１４ｇ以外の領域に積層される発光層の膜厚より厚くなっていればよい。通常、コンタクトホール領域１４ｇにおける発光層１７の膜厚は、５０〜２００ｎｍ程度が望ましい。
＜実施の形態の構成による効果＞
ここで、本実施の形態の上記構成によっても、第１の実施の形態について図５を用いて説明した効果と同様の効果を奏する。ここで、第１の実施の形態と異なる点は、本実施の形態では、コンタクトホール領域１４ｇに、３色の発光層１７ａ、１７ｂ、１７ｃが積層されることによって、コンタクトホール領域１４ｇ以外の領域に比べてコンタクトホール領域１４ｇの発光層１７の膜厚が厚く形成された点である。
＜製造方法＞
以下に、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル１の製造方法について説明する。
【０１１５】
特に、有機ＥＬ表示パネル１における有機ＥＬセル２０ａ、２０ｂ、２０ｃについての説明を中心に行う。
【０１１６】
本実施の形態に係る製造方法は、第１工程〜第９工程から成る。
【０１１７】
第１工程〜第５工程までは、有機ＥＬセル２０ａ、２０ｂ、２０ｃに共通し、第１の実施の形態で図７（ａ）〜（ｅ）を用いて表したものと同じであるので、説明は省略する。
【０１１８】
図１２（ａ）〜（ｄ）は、有機ＥＬセル２０ａについての第６工程〜第９工程を表し、図１２（ｅ）〜（ｈ）は有機ＥＬセル２０ｂについての第６工程〜第９工程を表し、図１３（ａ）〜（ｄ）は、有機ＥＬセル２０ｃについての第６工程〜第９工程を表している。
【０１１９】
第６工程では、第１電極１５の上にＲ色に係る発光層１７ａが積層される。
【０１２０】
有機ＥＬセル２０ａでは、図１２（ａ）に示すように、Ｒ色に係る発光層１７ａがバンク１６で規定される領域全面にメイン発光層として積層される。一方、有機ＥＬセル２０ｂ、２０ｃでは、発光層１７ａは、図１２（ｅ）、図１３（ａ）に示すように、コンタクトホール領域１４ｇのみにサブ発光層として積層される。
【０１２１】
次に、第７工程では、発光層１７ａの上に発光層１７ｂが積層される。
【０１２２】
有機ＥＬセル２０ａでは、発光層１７ｂが図１２（ｂ）に示すようにコンタクトホール領域１４ｇのみにサブ発光層として積層される。
【０１２３】
有機ＥＬセル２０ｂでは、発光層１７ｂが図１２（ｅ）に示すように、バンクで規定された領域全面にメイン発光層として積層される。
【０１２４】
有機ＥＬセル２０ｃでは、有機ＥＬセル２０ａの場合と同様、発光層１７ｂが図１３（ｂ）に示すようにコンタクトホール領域１４ｇのみにサブ発光層として積層される。
【０１２５】
次に、第８工程では、発光層１７ｂの上に発光層１７ｃが積層される。
【０１２６】
有機ＥＬセル２０ａ、２０ｂでは、発光層１７ｃが図１２（ｃ）、図１２（ｇ）に示すようにコンタクトホール領域１４ｇのみにサブ発光層として積層される。
【０１２７】
有機ＥＬセル２０ｃでは、発光層１７ｃが図１３（ｃ）に示すように、バンクで規定された領域全面にメイン発光層として積層される。
【０１２８】
第８工程終了後、第９工程として、図１２（ｄ）、図１２（ｈ）、図１０（ｄ）それぞれ示すように、発光層１７の上に、例えばスパッタリングにより第２電極１８となるＩＴＯ薄膜を形成する。
【０１２９】
以上で、製造方法の説明を終える。
４．変形例その他
尚、本発明の有機ＥＬ表示パネルは、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
（１）中間層（ＩＬ層）、電子注入層の追加について
各有機ＥＬセルは、上述の実施の形態で説明した構成に加え、第１電極１５と発光層１７との間にＩＬ層４１を設け、発光層１７と第２電極１８との間に電子注入層４２を設けた構成としてもよい。
【０１３０】
図１４は、図２に示した第１の実施の形態の有機ＥＬセル２０ｂに、ＩＬ層４１と、電子注入層４２とを設けた場合の例を示す図である。
【０１３１】
図１５は、図９に示した第２の実施の形態の有機ＥＬセル２０ｂに、ＩＬ層４１と、電子注入層４２とを設けた場合の例を示す図である。
【０１３２】
図１４及び図１５の両図についての説明は共通するので、代表して図１４について説明する。
【０１３３】
ＩＬ層４１は、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）層と、ＩＴＯ層の上に積層されるホール注入層とから成る。
【０１３４】
ＩＴＯ層は、第１電極１５及びホール注入層の間に介在し、両層間の接合性を良好にする機能を有する。
【０１３５】
ホール注入層は、ＷＯｘ（酸化タングステン）又はＭｏｘＷｙＯｚ（モリブデン−タングステン酸化物）で形成されている。ホール注入層を設けることでホールを容易に注入することができ、発光層１７内で電子が有効に発光に寄与するため、良好な発光特性を得ることができる。ホール注入層は、ホール注入機能を果たす金属化合物で形成されていれば良く、そのような金属化合物としては、例えば、金属酸化物、金属窒化物又は金属酸窒化物が挙げられる。
【０１３６】
電子注入層４２は、第２電極１８から注入された電子を発光層１７へ輸送する機能を有し、例えば、バリウム、フタロシアニン、フッ化リチウム、あるいはこれらの組み合わせで形成される。
【０１３７】
製造方法としては、ＩＬ層４１は、第４工程と、第５工程の間に形成される。
【０１３８】
ＩＬ層４１は、例えばスパッタリングによりＩＴＯ薄膜を形成し、ＩＴＯ薄膜を例えばフォトリソグラフィによりパターニングすることによりＩＴＯ層を形成する。続いて、ＷＯｘ又はＭｏｘＷｙＯｚを含む組成物を用いて真空蒸着、スパッタリングなどの技術によりＷＯｘ又はＭｏｘＷｙＯｚの薄膜を形成する。
【０１３９】
また、電子注入層４２は、第７工程と、第８工程の間に形成される（図１５の場合は、第８工程と、第９工程の間に形成される）。
【０１４０】
電子注入層は、第７工程（図１５の場合は、第８工程）の後、例えば真空蒸着により電子注入層７となるバリウム薄膜を形成する。
（２）ラインバンクの採用について
第１及び第２の実施形態並びにこれらの変形例では、バンク１６がピクセルバンクである例で説明したが、図１６に示すようなラインバンクにも本発明は適用できる。
【０１４１】
ラインバンクとは、上記ピクセルバンクのように、発光積層体の周囲を全て囲む形状ではなく、例えば、発光積層体の対向する二辺を規定する形状のものである。ラインバンクの場合、バンク１６は、複数のピクセルを列ごと又は行ごとに区切るように形成される。すなわち、バンク１６は発光層１７の行方向両側又は列方向両側だけに存在し、発光層１７は同列又は同行のものが連続した構成となる。
【０１４２】
図１７は、ラインバンクで構成した場合の、第１の実施の形態に係る有機ＥＬセル２０ｂの断面図を示す。
【０１４３】
図１７では、図２のピクセルバンクに係る有機ＥＬセル２０ｂにおいてバンク１６ａ、１６ｂが存在していた部分（１６ａ’、１６ｂ’）に、バンクが存在しない構成となっている。
【０１４４】
また、図１８は、ラインバンクで構成した場合の、第２の実施の形態に係る有機ＥＬセル２０ｂの断面図を示す。
【０１４５】
図１８では、図９のピクセルバンクに係る有機ＥＬセル２０ｂにおいてバンク１６ａ、１６ｂが存在していた部分（１６ａ’、１６ｂ’）に、バンクが存在しない構成となっている。
（３）上記実施の形態では、トップエミッション型で説明しているが、これに限定されず、ボトムエミッション型であっても良い。
（４）上記実施の形態では、バンクを用いていたが、バンクを用いる場合、第１電極１５の端部に電界が集中し、又は第１電極１５と第２電極１８とがショートするなどの可能性がある。これを避けるため、バンクに代えて、第１電極１５においてバンクが形成されていた部分を絶縁膜で覆う構成としてもよい。
（５）上記実施の形態では、コンタクトホールの形状が丸孔である例で説明したが、これに限らず、貫通孔であればよい。例えば、図１９のコンタクトホール１４’のように角孔であってもよい。
（６）表示装置１００は本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネル１及び変形例に係る有機ＥＬ表示パネルのいずれかを表示装置１００に搭載することとしてもよい。
【０１４６】
図２０は、表示装置１００の外観を示す外観斜視図である。
【０１４７】
これにより、上記と同様の効果が得られる有機ＥＬ表示装置を構成することができる。
（７）上記実施の形態及び上記変形例をそれぞれ組み合わせるとしてもよい。
【産業上の利用可能性】
【０１４８】
本発明の有機ＥＬ表示パネルは、高い光取出し効率を有しており、携帯電話用のディスプレイやテレビなどの表示素子、各種光源などに好適である。
【符号の説明】
【０１４９】
１      有機ＥＬ表示パネル
１１      ＴＦＴ層
１２      給電電極
１３      層間絶縁膜
１４      コンタクトホール
１５      第１電極
１６      バンク
１７      発光層
１８      第２電極
２０      有機ＥＬセル
３０      開口部
４１      ＩＬ層
４２      電子注入層
【図１】
0005519537.tif 000002
【図２】
0005519537.tif 000003
【図３】
0005519537.tif 000004
【図４】
0005519537.tif 000005
【図５】
0005519537.tif 000006
【図６】
0005519537.tif 000007
【図７】
0005519537.tif 000008
【図８】
0005519537.tif 000009
【図９】
0005519537.tif 000010
【図１０】
0005519537.tif 000011
【図１１】
0005519537.tif 000012
【図１２】
0005519537.tif 000013
【図１３】
0005519537.tif 000014
【図１４】
0005519537.tif 000015
【図１５】
0005519537.tif 000016
【図１６】
0005519537.tif 000017
【図１７】
0005519537.tif 000018
【図１８】
0005519537.tif 000019
【図１９】
0005519537.tif 000020
【図２０】
0005519537.tif 000021