(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）又は（Ｉ’）：
【化１】
0005406524.tif 000037
［式中、
基Ｒ1は、それぞれ相互に独立に、水素原子又はＣ1−Ｃ4−アルキルであり、かつ
Ｒ’1は、Ｃ1−Ｃ4−アルキルであり；
Ｘ1及びＸ2は、それぞれ相互に独立に、第２級ホスフィノ基であり、ここで、第２級ホスフィノ基は、直鎖又は分岐のＣ1−Ｃ12−アルキル；非置換又はＣ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換のＣ5−Ｃ12−シクロアルキル又はＣ5−Ｃ12−シクロアルキル−ＣＨ2−；フェニル、ナフチル、フリル及びベンジル；並びにハロゲン−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−、Ｃ1−Ｃ6−ハロアルキル−、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ−、Ｃ1−Ｃ6−ハロアルコキシ−、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ−、（Ｃ1−Ｃ12−アルキル）3Ｓｉ−、ｓｅｃ−アミノ−若しくは−ＣＯ2−Ｃ1−Ｃ6−アルキル−置換のフェニル及びベンジルよりなる群から選択される、２個の同一であるか又は異なっている炭化水素基を有し；
Ｒ2は、水素であり；
Ｔは、Ｃ結合Ｃ3−Ｃ20−ヘテロアリーレンであり；
ｖは、０又は１〜４の整数であり；
ヘテロアリーレンのヘテロ環中のＸ1は、Ｔ−Ｃ*結合に対してオルト位に結合しており；そして
*は、ラセミ体若しくはエナンチオマーとして純粋なジアステレオマーの混合物、又は純粋なラセミ体若しくはエナンチオマーとして純粋なジアステレオマーを示す］で示される化合物。
【請求項２】
化合物が、式（Ia）又は（Ib）：
【化２】
0005406524.tif 000038
［式中、Ｒ1、Ｘ1、Ｘ2及びＲ2並びに*は、請求項１と同義である］で示されることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ1が、水素原子であることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項４】
第２級ホスフィノ基のＸ1及びＸ2が、それぞれ２個の同一炭化水素基を有することを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項５】
第２級ホスフィノ基のＸ1及びＸ2が、同一であるか又は異なっていることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項６】
式（Ic）、（Id）、（Ie）又は（If）：
【化４】
0005406524.tif 000039
［式中、
Ｒ1は、水素であり、そしてＴ、Ｒ2、Ｘ1及びＸ2は、請求項１と同義である］で示されるジアステレオマー。
【請求項７】
式（Ic）、（Id）、（Ie）及び（If）において、Ｘ1及びＸ2が、−Ｐ（Ｃ1−Ｃ6−アルキル）2、−Ｐ（Ｃ5−Ｃ8−シクロアルキル）2、−Ｐ（Ｃ7−Ｃ8−ビシクロアルキル）2、−Ｐ（Ｃ5−Ｃ8−シクロアルキル）2、−Ｐ（ｏ−フリル）2、−Ｐ（Ｃ6Ｈ5）2、−Ｐ［２−（Ｃ1−Ｃ6−アルキル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（Ｃ1−Ｃ6−アルキル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（Ｃ1−Ｃ6−アルキル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［２−（Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［２−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ1−Ｃ6−アルキル）2Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ）2Ｃ6Ｈ3］2及び−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ1−Ｃ6−アルキル）2−４−（Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ2］2よりなる群から選択される、同一であるか又は異なっている非環状第２級ホスフィノであることを特徴とする、請求項６記載の化合物。
【請求項８】
第２級ホスフィノ基のＸ1及びＸ2が、−Ｐ（ＣＨ3）2、−Ｐ（ｉ−Ｃ3Ｈ7）2、−Ｐ（ｎ−Ｃ4Ｈ9）2、−Ｐ（ｉ−Ｃ4Ｈ9）2、−Ｐ（Ｃ6Ｈ11）2、−Ｐ（ノルボルニル）2、−Ｐ（ｏ−フリル）2、−Ｐ（Ｃ6Ｈ5）2、−Ｐ［２−（メチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（メチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（メチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［２−（メトキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（メトキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（メトキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（メチル）2Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（メトキシ）2Ｃ6Ｈ3］2及び−Ｐ［３，５−ビス（メチル）2−４−（メトキシ）Ｃ6Ｈ2］2であることを特徴とする、請求項６記載の化合物。
【請求項９】
式（Ｆ）〜（Ｆ’）：
【化７】
0005406524.tif 000040
［式中、
Ｔは、Ｃ結合Ｃ3−Ｃ20−ヘテロアリーレンであり；
Ｒ1は、それぞれ相互に独立に、水素原子又はＣ1−Ｃ4−アルキルであり、かつ
Ｒ’1は、Ｃ1−Ｃ4−アルキルであり；
Ｘ2は、第２級ホスフィノ基であり、ここで、第２級ホスフィノ基は、直鎖又は分岐のＣ1−Ｃ12−アルキル；非置換又はＣ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換のＣ5−Ｃ12−シクロアルキル又はＣ5−Ｃ12−シクロアルキル−ＣＨ2−；フェニル、ナフチル、フリル及びベンジル；並びにハロゲン−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−、Ｃ1−Ｃ6−ハロアルキル−、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ−、Ｃ1−Ｃ6−ハロアルコキシ−、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ−、（Ｃ1−Ｃ12−アルキル）3Ｓｉ−、ｓｅｃ−アミノ−若しくは−ＣＯ2−Ｃ1−Ｃ6−アルキル−置換のフェニル及びベンジルよりなる群から選択される、２個の同一であるか又は異なっている炭化水素基を有し；
ｖは、０又は１〜４の整数であり；
Ｒ2は、Ｈであり、Ｘ4は、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩである］
で示される化合物。
【請求項１０】
式（F1）〜（F6）：
【化８】
0005406524.tif 000041
［式中、
Ｒ1は、それぞれ相互に独立に、水素原子又はＣ1−Ｃ4−アルキルであり、
Ｘ2は、第２級ホスフィノ基であり、ここで、第２級ホスフィノ基は、直鎖又は分岐のＣ1−Ｃ12−アルキル；非置換又はＣ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換のＣ5−Ｃ12−シクロアルキル又はＣ5−Ｃ12−シクロアルキル−ＣＨ2−；フェニル、ナフチル、フリル及びベンジル；並びにハロゲン−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−、Ｃ1−Ｃ6−ハロアルキル−、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ−、Ｃ1−Ｃ6−ハロアルコキシ−、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ−、（Ｃ1−Ｃ12−アルキル）3Ｓｉ−、ｓｅｃ−アミノ−若しくは−ＣＯ2−Ｃ1−Ｃ6−アルキル−置換のフェニル及びベンジルよりなる群から選択される、２個の同一であるか又は異なっている炭化水素基を有し；
Ｒ2は、Ｈであり、そしてＸ4は、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩである］で示される化合物。
【請求項１１】
第８族遷移金属から選択される金属と、配位子として請求項１記載の式（Ｉ）又は（Ｉ’）の化合物との錯体であって、
第８族遷移金属が、白金、パラジウム、ロジウム、イリジウム又はルテニウムであることを特徴とする錯体。
【請求項１２】
−第８族遷移金属から選択される金属と、
−配位子として、請求項２記載の式（Ia）及び（Ib）ならびに請求項６〜８のいずれかに記載の式（Ic）〜（If）から選択される化合物との錯体であって、
第８族遷移金属が、白金、パラジウム、ロジウム、イリジウム又はルテニウムであることを特徴とする錯体。
【請求項１３】
これらが、式（II）及び（III）：
【化９】
0005406524.tif 000042
［式中、Ａ1は、式（Ｉ）又は（Ｉ’）の化合物の１つであり、
Ｌは、同一であるか又は異なっている単座のアニオン性又は非イオン性配位子を表し、ここで、単座アニオン性配位子は、ハロゲン化物、擬ハロゲン化物、並びにカルボン酸、スルホン酸及びホスホン酸のアニオンよりなる群から選択され；単座非イオン性配位子は、オレフィン、ニトリル、線状又は環状エーテル、非アルキル化又はＮ−アルキル化アミド及びラクタム、アミン、ホスフィン、アルコール、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル、一酸化窒素及び一酸化炭素よりなる群から選択されるか；あるいは
Ｌ2は、同一であるか又は異なっている二座のアニオン性又は非イオン性配位子を表し、ここで、二座アニオン性配位子は、ジカルボン酸、ジスルホン酸及びジホスホン酸のアニオンよりなる群から選択され；二座非イオン性配位子は、線状又は環状ジオレフィン、ジニトリル、カルボン酸の非アルキル化又はＮ−アルキル化ジアミド、ジアミン、ジホスフィン、ジオール、ジカルボン酸ジエステル及びジスルホン酸ジエステルよりなる群から選択され；
ｎは、Ｌが単座配位子であるとき、２、３又は４であるか、あるいはｎは、Ｌ2が二座配位子であるとき、１又は２であり；
ｚは、１、２又は３であり；
Ｍｅは、Ｒｈ、Ｉｒ及びＲｕよりなる群から選択される金属であり；この金属は酸化状態：０、１、２、３又は４にあり；
Ｅ-は、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＣｌＯ4-、ＣＦ3ＳＯ3-、ＣＨ3ＳＯ3-、ＨＳＯ4-、（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-、（ＣＦ3ＳＯ2）3Ｃ-、テトラアリールボラート、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＳｂＣｌ6-、ＡｓＦ6-及びＳｂＦ6-よりなる群から選択される、オキソ酸又は錯酸のアニオンであり；そして
このアニオン配位子は、金属の酸化状態：１、２、３又は４の電荷と均衡をとっている］に相当することを特徴とする、請求項１１記載の金属錯体。
【請求項１４】
これらが、式（II）及び（III）：
【化９】
0005406524.tif 000043
［式中、Ａ1は、式（Ia）〜（If）の化合物の１つであり、
Ｌは、同一であるか又は異なっている単座のアニオン性又は非イオン性配位子を表し、ここで、単座アニオン性配位子は、ハロゲン化物、擬ハロゲン化物、並びにカルボン酸、スルホン酸及びホスホン酸のアニオンよりなる群から選択され；単座非イオン性配位子は、オレフィン、ニトリル、線状又は環状エーテル、非アルキル化又はＮ−アルキル化アミド及びラクタム、アミン、ホスフィン、アルコール、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル、一酸化窒素及び一酸化炭素よりなる群から選択されるか；あるいは
Ｌ2は、同一であるか又は異なっている二座のアニオン性又は非イオン性配位子を表し、ここで、二座アニオン性配位子は、ジカルボン酸、ジスルホン酸及びジホスホン酸のアニオンよりなる群から選択され；二座非イオン性配位子は、線状又は環状ジオレフィン、ジニトリル、カルボン酸の非アルキル化又はＮ−アルキル化ジアミド、ジアミン、ジホスフィン、ジオール、ジカルボン酸ジエステル及びジスルホン酸ジエステルよりなる群から選択され；
ｎは、Ｌが単座配位子であるとき、２、３又は４であるか、あるいはｎは、Ｌ2が二座配位子であるとき、１又は２であり；
ｚは、１、２又は３であり；
Ｍｅは、Ｒｈ、Ｉｒ及びＲｕよりなる群から選択される金属であり；この金属は酸化状態：０、１、２、３又は４にあり；
Ｅ-は、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＣｌＯ4-、ＣＦ3ＳＯ3-、ＣＨ3ＳＯ3-、ＨＳＯ4-、（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-、（ＣＦ3ＳＯ2）3Ｃ-、テトラアリールボラート、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＳｂＣｌ6-、ＡｓＦ6-及びＳｂＦ6-よりなる群から選択される、オキソ酸又は錯酸のアニオンであり；そして
このアニオン配位子は、金属の酸化状態：１、２、３又は４の電荷と均衡をとっている］に相当することを特徴とする、請求項１２記載の金属錯体。
【請求項１５】
これらが、式（IV）及び（Ｖ）：
【化１０】
0005406524.tif 000044
［式中、
Ａ1は、式（Ｉ）又は（Ｉ’）の化合物の１つであり；
Ｍｅ2は、ロジウム又はイリジウムであり；
Ｙは、２個のオレフィン又は１個のジエンを表し；
Ｚは、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩであり；そして
Ｅ1-は、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＣｌＯ4-、ＣＦ3ＳＯ3-、ＣＨ3ＳＯ3-、ＨＳＯ4-、（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-、（ＣＦ3ＳＯ2）3Ｃ-、テトラアリールボラート、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＳｂＣｌ6-、ＡｓＦ6-及びＳｂＦ6-よりなる群から選択される、オキソ酸又は錯酸のアニオンである］に相当することを特徴とする、請求項１１記載の金属錯体。
【請求項１６】
これらが、式（IV）及び（Ｖ）：
【化１０】
0005406524.tif 000045
［式中、
Ａ1は、式（Ia）〜（Ib）の化合物の１つであり；
Ｍｅ2は、ロジウム又はイリジウムであり；
Ｙは、２個のオレフィン又は１個のジエンを表し；
Ｚは、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩであり；そして
Ｅ1-は、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＣｌＯ4-、ＣＦ3ＳＯ3-、ＣＨ3ＳＯ3-、ＨＳＯ4-、（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-、（ＣＦ3ＳＯ2）3Ｃ-、テトラアリールボラート、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＳｂＣｌ6-、ＡｓＦ6-及びＳｂＦ6-よりなる群から選択される、オキソ酸又は錯酸のアニオンである］に相当することを特徴とする、請求項１２記載の金属錯体。
【請求項１７】
触媒の存在下でのプロキラル有機化合物中の炭素−炭素又は炭素−ヘテロ原子二重結合への水素の不斉付加による、キラル有機化合物の製造方法であって、この付加反応が、触媒量の少なくとも１つの請求項１１〜１６のいずれか１項記載の金属錯体の存在下で行われることを特徴とする方法。
【請求項１８】
プロキラル有機化合物中の炭素−炭素又は炭素−ヘテロ原子二重結合への水素の不斉付加によりキラル有機化合物を製造するための、均一系触媒としての請求項１１〜１６のいずれか１項記載の金属錯体の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属錯体の配位子としての１−ｓｅｃ−ホスフィノ−２−［（２’−ｓｅｃ−ホスフィノ−Ｃ−ヘテロアロマト−１’−イル）ヒドロキシメチル］フェロセン類、遷移金属とこれらの配位子との金属錯体、及び少なくとも１個の炭素−炭素又はヘテロ原子−炭素二重結合を有するプロキラル有機不飽和化合物のエナンチオ選択的水素化のためのこの金属錯体の使用に関する。
【０００２】
キラルなジホスフィン類は、活性化合物又は活性化合物の中間体、例えば、医薬、農薬又は香水を含む香料を製造するための、プロキラル有機化合物のエナンチオ選択的水素化用の均一系触媒反応において使用される触媒活性金属錯体の有用な配位子であることが見い出された。長年の間に、多くの研究によって、光学選択性、活性及び変換に関する触媒の有効性が、配位子に依存し、そして配位子の関数として同じ基質に対しても、程度の差はあれ、大きく変化しうることが証明されている。特定の基質に対して、どの配位子が最適な結果を与えるかを予測することはできない。したがって、特定の基質の水素化に対して、実現しうる最適化された条件を与える配位子を選択することができる、広範囲の配位子を利用できるようにするために、新しい配位子を提供するための努力が続けられている。
【０００３】
フェロセン骨格を有するジホスフィン類の中で、例えば、１−ｓｅｃ−ホスフィノ−２−（２’−ｓｅｃ−ホスフィノ−１’−ベンジル）フェロセン類は、プロキラルなエチレン不飽和化合物のエナンチオ選択的水素化用のロジウム錯体の有用な配位子であることが分かった。これらは、慣用名によりタニアホス（TANIAPHOS）と呼ばれ、WO 00/37478に記載されている。ベンジル基のメチレン基は、例えば、アルコキシ又はアシルオキシにより置換することができる。ヒドロキシルによるメチレン基の置換は、報告されていないし、またヒドロキシル置換配位子に到達できる合成経路の記述も与えられていない。WO 03/093285は、１−ｓｅｃ−ホスフィノ−２−［（２’−ｓｅｃ−ホスフィノフェン−１’−イル）−Ｃ1−Ｃ4−アルコキシメチル］フェロセン類をジアステレオマーの形で記載しているが、この立体異性体の混合物は特定のエナンチオマーが濃縮されている。これらの化合物は、強リチウム塩基の存在下でのモノハロホスフィンによるキラル補助基としてのスルホキシド基の置き換えによって得られる（フェロセンスルホキシドへの１−ｓｅｃ−ホスフィノベンズアルデヒドの付加により形成されるヒドロキシベンジル中間体は、予めアルコキシ誘導体へと変換される）。WO 03/093285に記載された方法は、エナンチオマーの濃縮混合物を製造するのに利用されたが、ヒドロキシル置換誘導体は製造されなかった。ホスフィノ複素環は、WO 03/093285では一般的にはフェロセン置換基としても言及されるが、特定の化合物は製造されず、そして製造経路は示されていない。
【０００４】
Chirals CHIMICA OGGI/chemistry today (2000), pages 48 to 52において、A.Boernerは、ジホスフィン配位子におけるヒドロキシル基の存在が、変換及び光学選択性に関する金属錯体の触媒特性に影響しうることを述べている。
【０００５】
フェロセン類では、面性キラリティーは、メタル化の結果として生み出される。今や、キラルなジアミノホスフィノ基を有するフェロセンを、最初にオルト位でジアステレオ選択的にメタル化し、次にオルト−ｓｅｃ−ホスフィノアルデヒド又はオルト−ハロヘテロアリールアルデヒドと反応させる場合、単純なクロマトグラフィー分離を用いて、１−ｓｅｃ−ホスフィノ−２−［（２’−ｓｅｃ−ホスフィノヘテロアラ−１’−イル）ヒドロキシメチル］フェロセン類が、高収率で、そして場合によっては純粋なエナンチオマーの形で得られることが見い出された。この段階で、必要ならば、ジアステレオマーは、既知の方法を用いる単純なやり方で分離することができる。次に所望のジホスフィン類を形成するための更なる反応は、それ自体既知のやり方で実施することができる。また驚くべきことに、プロキラルなオレフィン類の水素化におけるヒドロキシ配位子の金属錯体の使用が、メトキシ配位子と共に金属錯体を使用するときに得られる結果に匹敵する、高い触媒活性及び非常に高い光学収率を与えることが見い出された。更に、驚くべきことに、有意に高い光学収率は、ヒドロキシ配位子を使用するとき、プロキラルなヘテロ原子−炭素二重結合、例えば、カルボニル基の水素化において達成されることが見い出された。ヒドロキシ配位子の更なる利点は、ヒドロキシル基は単純なやり方でアルキル化又はアシル化して、WO 03/093285の一般用語に提案されるような配位子を製造することができることである。
【０００６】
本発明は先ず、式（Ｉ）又は（Ｉ’）：
【０００７】
【化１１】
0005406524.tif 000002
【０００８】
［式中、
基Ｒ1は、それぞれ相互に独立に、水素原子又はＣ1−Ｃ4−アルキルであり、かつ
Ｒ’1は、Ｃ1−Ｃ4−アルキルであり；
Ｘ1及びＸ2は、それぞれ相互に独立に、ｓｅｃ−ホスフィノ基であり；
Ｒ2は、水素、Ｒ01Ｒ02Ｒ03Ｓｉ−；ハロゲン−、ヒドロキシル−、Ｃ1−Ｃ8−アルコキシ−若しくはＲ04Ｒ05Ｎ−置換Ｃ1−Ｃ18−アシルであるか；又はＲ06−Ｘ01−Ｃ（Ｏ）−であり；
Ｒ01、Ｒ02及びＲ03は、それぞれ相互に独立に、Ｃ1−Ｃ12−アルキル；非置換又はＣ1−Ｃ4−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシ−置換のＣ6−Ｃ10−アリール又はＣ7−Ｃ12−アラルキルであり；
Ｒ04及びＲ05は、それぞれ相互に独立に、水素、Ｃ1−Ｃ12−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ6−Ｃ10−アリール又はＣ7−Ｃ12−アラルキルであるか、あるいはＲ04及びＲ05は、一緒になってトリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン又は３−オキサペンチレンであり；
Ｒ06は、Ｃ1−Ｃ18−アルキル；非置換又はＣ1−Ｃ4−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシ−置換のＣ3−Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ6−Ｃ10−アリール又はＣ7−Ｃ12−アラルキルであり；
Ｘ01は、−Ｏ−又は−ＮＨ−であり；
Ｔは、Ｃ結合Ｃ3−Ｃ20−ヘテロアリーレンであり；
ｖは、０又は１〜４の整数であり；
ヘテロアリーレンのヘテロ環中のＸ1は、Ｔ−Ｃ*結合に対してオルト位に結合しており；そして
*は、ラセミ体若しくはエナンチオマーとして純粋なジアステレオマーの混合物、又は純粋なラセミ体若しくはエナンチオマーとして純粋なジアステレオマーを示す］で示される化合物を提供する。
【０００９】
特に好ましい本発明の化合物は、式（Ia）及び（Ib）：
【００１０】
【化１２】
0005406524.tif 000003
【００１１】
［式中、Ｒ1、Ｘ1、Ｘ2及びＲ2並びに*は、上記と同義である］で示される化合物である。
【００１２】
また好ましいのは、Ｘ1基が、ヘテロ原子に対してオルト位に結合している、本発明の化合物である。
【００１３】
Ｒ1は、シクロペンタジエニル環中に１〜３回又は１〜５回存在することができる。アルキル基のＲ1は、例えば、メチル、エチル、ｎ−又はｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−又はｔ−ブチルであってよく、メチルが好ましい。好ましいのは、Ｒ1が水素原子であることである。
【００１４】
好ましい実施態様において、Ｒ2は、水素原子である。
【００１５】
アルキル基のＲ01、Ｒ02又はＲ03は、直鎖又は分岐であってよく、そしてこのアルキルは、好ましくは１〜８個、そして特に好ましくは１〜４個の炭素原子を含む。アリール基のＲ01、Ｒ02又はＲ03は、例えば、フェニル又はナフチルであってよく、そしてアラルキル基のＲ01、Ｒ02又はＲ03は、ベンジル又はフェニルエチルであってよい。Ｒ01、Ｒ02及びＲ03の幾つかの例は、メチル、エチル、ｎ−又はｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−又はｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、フェニル、ベンジル、メチルフェニル、メチルベンジル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル及びメトキシベンジルである。シリル基のＲ01Ｒ02Ｒ03Ｓｉ−の幾つかの好ましい例は、トリメチルシリル、トリ−ｎ−ブチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、２，２，４，４−テトラメチルブタ−４−イルジメチルシリル及びトリフェニルシリルである。
【００１６】
好ましい実施態様において、Ｒ04及びＲ05は、それぞれ相互に独立に、水素、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ5−Ｃ6−シクロアルキル、フェニル又はベンジルであるか、あるいはＲ04及びＲ05は、一緒になってテトラメチレン、ペンタメチレン又は３−オキサペンチル−１，５−エンである。置換基のＣ1−Ｃ8−アルコキシは、好ましくはメトキシ、エトキシ、プロポキシ又はブトキシのような、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシである。
【００１７】
アシル基のＲ2は、好ましくは１〜１２個、そして特に好ましくは１〜８個の炭素原子を含み、そして特にカルボン酸から誘導される。このようなカルボン酸の例は、１〜１８個、そして好ましくは１〜１２個の炭素原子を有する、脂肪族、脂環式及び芳香族カルボン酸である。置換アシルの幾つかの例は、フェニルスルホニル、トルエンスルホニル、メチルスルホニル、フェニルホスホニル、アセチル、プロパノイル、ブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、ドデカノイル、テトラデカノイル、オクタデカノイル、シクロヘキシルカルボニル、ベンゾイル、メチルベンゾイル、フェニルアセチル、ピリジルカルボニル、ナフチルカルボニルである。置換アシルの幾つかの例は、式：Ｒ07−Ｃ（Ｏ）−［ここで、Ｒ07は、ヒドロキシメチル、メトキシメチル、エトキシメチル、２−ヒドロキシエタ−１−イル、２−メトキシエタ−１−イル、ヒドロキシプロパノイル、フルオロメチル、クロロメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、アミノメチル、メチルアミノメチル、ジメチルアミノメチル、１−アミノエタ−１−イル、１−メチルアミノエタ−１−イル、１−ジメチルアミノエタ−１−イル、２−アミノエタ−１−イル、３−アミノプロパ−１−イル、４−アミノブタ−１−イル、ピロリニル−Ｎ−メチル、ピペリジニル−Ｎ−メチル、モルホリノ−Ｎ−メチル、４−アミノ−シクロヘキサ−１−イル、メトキシフェニル、ヒドロキシフェニル、アミノフェニル、ジメチルアミノフェニル、ヒドロキシベンジル、ｐ−アミノベンジル又はｐ−ジメチルアミノベンジルである］の基である。
【００１８】
アルキル基のＲ06は、１〜１２個、そして特に好ましくは１〜８個の炭素原子を含む。このアルキルは、直鎖であっても分岐していてもよい。シクロアルキル基のＲ06は、好ましくはシクロペンチル又はシクロヘキシルである。アリール基のＲ06は、ナフチル、及び特にフェニルであってよい。アラルキル基のＲ06は、フェニルエチル、及び特にベンジルであってよい。Ｒ06の幾つかの例は、メチル、エチル、ｎ−又はｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−又はｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル、フェニル、ベンジル、メチルフェニル、メチルベンジル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル及びメトキシベンジルである。
【００１９】
ヘテロアリーレン基のＴは、好ましくは４〜１４個、そして特に好ましくは４〜１０個の炭素原子を含む。これは、単環式であっても縮合したヘテロアリーレンであってもよい。ヘテロ原子は、−Ｏ−、−Ｓ−；−ＮＨ−、−ＮＲx−及び−Ｎ＝［ここで、Ｒxは、Ｃ1−Ｃ12−アルキル、Ｃ5−Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ5−Ｃ8−シクロアルキル−Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ6−Ｃ10−アリール、Ｃ6−Ｃ10−アリール−Ｃ1−Ｃ4−アルキル、又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲx、−ＳＯ2Ｒx、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲx、若しくはトリアルキルシリルのような保護基である］よりなる群から選択することができる。このヘテロアリーレンが誘導されるヘテロアリール基の例は、ピロール、Ｎ−メチルピロール、フラン、チオフェン、インドール、Ｎ−メチルインドール、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ピリジン、ピリミジン、及びキノリンである。好ましいのは、ピリジン、ベンゾチオフェン及びインドールである。
【００２０】
第２級ホスフィノ基のＸ1及びＸ2は、それぞれ２個の同一の、又は２個の異なる炭化水素基を有することができる。第２級ホスフィノ基のＸ1及びＸ2は、好ましくはそれぞれ相互に独立に、２個の同一の炭化水素基を有する。更に、この第２級ホスフィノ基のＸ1及びＸ2は、同一であっても異なっていてもよい。
【００２１】
炭化水素基は、非置換であっても置換されていてもよく、かつ／又はＯ、Ｓ及びＮ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）よりなる群から選択されるヘテロ原子を含んでいてもよい。これらは、１〜２２個、好ましくは１〜１２個、そして特に好ましくは１〜８個の炭素原子を含むことができる。好ましい第２級ホスフィノ基は、ホスフィノ基が、直鎖又は分岐のＣ1−Ｃ12−アルキル；非置換又はＣ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換のＣ5−Ｃ12−シクロアルキル又はＣ5−Ｃ12−シクロアルキル−ＣＨ2−；フェニル、ナフチル、フリル及びベンジル；並びにハロゲン−（例えば、Ｆ、Ｃｌ及びＢｒ）、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−、Ｃ1−Ｃ6−ハロアルキル−（例えば、トリフルオロメチル−）、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ−、Ｃ1−Ｃ6−ハロアルコキシ−（例えば、トリフルオロメトキシ−）、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ−、（Ｃ1−Ｃ12−アルキル）3Ｓｉ−、ｓｅｃ−アミノ−又は−ＣＯ2−Ｃ1−Ｃ6−アルキル−（例えば、−ＣＯ2ＣＨ3−）置換のフェニル及びベンジルよりなる群から選択される、２個の同一であるか又は異なっている基を有するものである。
【００２２】
好ましくは１〜６個の炭素原子を含む、Ｐ上のアルキル置換基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、並びにペンチル及びヘキシルの異性体である。Ｐ上の非置換又はアルキル−置換のシクロアルキル置換基の例は、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル及びエチルシクロヘキシル並びにジメチルシクロヘキシルである。Ｐ上のアルキル−、アルコキシ−、ハロアルキル−及びハロアルコキシ−置換のフェニル及びベンジル置換基の例は、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、メチルベンジル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル、トリフルオロメチルフェニル、ビストリフルオロメチルフェニル、トリストリフルオロメチルフェニル、トリフルオロメトキシフェニル、ビストリフルオロメトキシフェニル及び３，５−ジメチル−４−メトキシフェニルである。
【００２３】
好ましい第２級ホスフィノ基は、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、非置換シクロペンチル若しくはシクロヘキシル、又は１〜３個のＣ1−Ｃ4−アルキル若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシ基により置換されているシクロペンチル若しくはシクロヘキシル；ベンジル及び特にフェニル（これらは、非置換であっても、又は１〜３個のＣ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｆ、Ｃｌ、Ｃ1−Ｃ4−フルオロアルキル若しくはＣ1−Ｃ4−フルオロアルコキシ基により置換されていてもよい）よりなる群から選択される、同一の基を有するものである。
【００２４】
第２級ホスフィノ基は、好ましくは式：−ＰＲ3Ｒ4［ここで、Ｒ3及びＲ4は、それぞれ相互に独立に、１〜１８個の炭素原子を有しており、そして非置換であっても、又はハロゲン、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ1−Ｃ6−ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6−ハロアルコキシ、（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2アミノ、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ、（Ｃ1−Ｃ12−アルキル）3Ｓｉ若しくは−ＣＯ2−Ｃ1−Ｃ6−アルキルにより置換されていてもよく、かつ／あるいはヘテロ原子Ｏを含む、炭化水素基である］に相当する。
【００２５】
Ｒ3及びＲ4は、好ましくは、直鎖若しくは分岐のＣ1−Ｃ6−アルキル、非置換シクロペンチル及びシクロヘキシル、又は１〜３個のＣ1−Ｃ4−アルキル若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシ基により置換されているシクロペンチル及びシクロヘキシル；フリル、非置換ベンジル、又は１〜３個のＣ1−Ｃ4−アルキル若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシ基により置換されているベンジル、及び特に非置換フェニル、又は１〜３個のＣ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、−ＮＨ2、ＯＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｃ1−Ｃ4−フルオロアルキル若しくはＣ1−Ｃ4−フルオロアルコキシ基により置換されているフェニルよりなる群から選択される、同一の基である。
【００２６】
Ｒ3及びＲ4は、特に好ましくは、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フリル、並びに非置換フェニル、又は１〜３個のＣ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ及び／若しくはＣ1−Ｃ4−フルオロアルキルにより置換されているフェニルよりなる群から選択される、同一の基である。
【００２７】
第２級ホスフィノ基のＸ1及びＸ2は、環状第２級ホスフィノ、例えば、下記式：
【００２８】
【化１３】
0005406524.tif 000004
【００２９】
で示される基であってもよく、これらは非置換であるか、あるいは−ＯＨ、Ｃ1−Ｃ8−アルキル、Ｃ4−Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ−Ｃ1−Ｃ4−アルキルフェニル、Ｃ1−Ｃ4−アルキルフェニル若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシフェニル、ベンジル、Ｃ1−Ｃ4−アルキルベンジル若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルベンジルオキシ若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシベンジルオキシ、又はＣ1−Ｃ4−アルキリデンジオキシルにより単置換又は多置換されている。
【００３０】
置換基は、キラル炭素原子を導入するために、Ｐ原子に対して一方又は両方のα位に存在することができる。１つ又は２つのα位の置換基は、好ましくはＣ1−Ｃ4−アルキル又はベンジル、例えば、メチル、エチル、ｎ−若しくはｉ−プロピル、ベンジル又は−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ1−Ｃ4−アルキル若しくは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ6−Ｃ10−アリールである。
【００３１】
β、γ位の置換基は、例えば、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、ベンジルオキシ、又は−Ｏ−ＣＨ2−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）−Ｏ−若しくは−Ｏ−Ｃ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2−Ｏ−であってよい。幾つかの例は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、−Ｏ−ＣＨ（メチル）−Ｏ−及び−Ｏ−Ｃ（メチル）2−Ｏ−である。
【００３２】
置換のタイプ及び置換基の数に応じて、環状ホスフィノ基は、Ｃ−キラル、Ｐ−キラル又はＣ−及びＰ−キラルであってよい。
【００３３】
脂肪族５員若しくは６員環又はベンゼンは、上記式の基中の２個の近接炭素原子に縮合していてもよい
【００３４】
環状第２級ホスフィノ基は、例えば、下記式（可能性あるジアステレオマーのうち１つだけが示される）：
【００３５】
【化１４】
0005406524.tif 000005
【００３６】
［式中、
基Ｒ’及びＲ”は、それぞれＣ1−Ｃ4−アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−若しくはｉ−プロピル；ベンジル、又は−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ1−Ｃ4−アルキル若しくは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ6−Ｃ10−アリールであり、そしてＲ’及びＲ”は、同一であるか又は異なっている］に相当してよい。
【００３７】
好ましい実施態様において、本発明の化合物は、式（Ic）、（Id）、（Ie）及び（If）：
【００３８】
【化１５】
0005406524.tif 000006
【００３９】
［式中、
Ｒ1は、水素であり、そしてＴ、Ｒ2、Ｘ1及びＸ2は、好ましいものも含めて上記と同義である］で示されるジアステレオマーに相当する。
【００４０】
式（Ic）、（Id）、（Ie）及び（If）の化合物において、Ｘ1及びＸ2は、好ましくは同一であるか又は異なっており、−Ｐ（Ｃ1−Ｃ6−アルキル）2、−Ｐ（Ｃ5−Ｃ8−シクロアルキル）2、−Ｐ（Ｃ7−Ｃ8−ビシクロアルキル）2、−Ｐ（Ｃ5−Ｃ8−シクロアルキル）2、−Ｐ（ｏ−フリル）2、−Ｐ（Ｃ6Ｈ5）2、−Ｐ［２−（Ｃ1−Ｃ6−アルキル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（Ｃ1−Ｃ6−アルキル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（Ｃ1−Ｃ6−アルキル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［２−（Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［２−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ1−Ｃ6−アルキル）2Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ）2Ｃ6Ｈ3］2及び−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ1−Ｃ6−アルキル）2−４−（Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ2］2よりなる群から選択される、非環状第２級ホスフィノであるか、あるいは非置換であるか、又はＣ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ−Ｃ1−Ｃ2−アルキル、フェニル、ベンジル、ベンジルオキシ及びＣ1−Ｃ4−アルキリデンジオキシルにより単置換若しくは多置換されている、下記式：
【００４１】
【化１６】
0005406524.tif 000007
【００４２】
で示される基よりなる群から選択される、環状ホスフィノである。
【００４３】
幾つかの具体例は、−Ｐ（ＣＨ3）2、−Ｐ（ｉ−Ｃ3Ｈ7）2、−Ｐ（ｎ−Ｃ4Ｈ9）2、−Ｐ（ｉ−Ｃ4Ｈ9）2、−Ｐ（Ｃ6Ｈ11）2、−Ｐ（ノルボルニル）2、−Ｐ（ｏ−フリル）2、−Ｐ（Ｃ6Ｈ5）2、−Ｐ［２−（メチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（メチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（メチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［２−（メトキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（メトキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（メトキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（メチル）2Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（メトキシ）2Ｃ6Ｈ3］2及び−Ｐ［３，５−ビス（メチル）2−４−（メトキシ）Ｃ6Ｈ2］2並びに下記式：
【００４４】
【化１７】
0005406524.tif 000008
【００４５】
［式中、
Ｒ’は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、メトキシメチル、エトキシメチル又はベンジルオキシメチルであり、そしてＲ”は、Ｒ’と同義である］で示される基である。
【００４６】
本発明のフェロセンジホスフィン類は、Ｐ−Ｎ−結合したキラルな基を有するフェロセニルモノホスフィン類の位置選択的及び立体選択的なオルトメタル化が、一連の反応の中で重要な工程を務める、新規なプロセスを利用して調製することができる。このプロセスは、２個のＰ原子上の異なる置換基の提供のためのモジュールであり、高収率を与える。更に、純粋なジアステレオマー又は分離しやすいジアステレオマーの対は、単純なやり方でかつ高収率で直接製造することができる。このプロセスは、工業規模での本発明のジホスフィン類の製造には特に有用である。
【００４７】
この調製方法は、以下の工程を含む。最初の工程では、キラルなアミノ基を含む本質的に光学的に純粋なハロジ（ｓｅｃ−アミノ）ホスフィンが提供される。このようなホスフィン類は、ＰＣｌ3又はＰＢｒ3を約２当量の光学的に純粋なキラルな第２級アミンと、第３級アミン類（トリエチルアミン）のようなハロゲンスカベンジャーの存在下で反応させることにより、単純なやり方で調製することができる。Ｎ原子に対してα位にキラルな炭素原子を有する、環状第２級アミン類を使用するのが有利である。一例として、下記式：
【００４８】
【化１８】
0005406524.tif 000009
【００４９】
で示されるジ［（Ｓ）−又は（Ｒ）−α−メトキシメチルピロリジノ］クロロホスフィンがある。
【００５０】
ハロジ（ｓｅｃ−アミノ）ホスフィン類は、置換されていないか又はＲ1置換されており、そしてメタル化されたフェロセン、例えば、Ｌｉ−フェロセンと反応させることにより、式（Ａ）：
【００５１】
【化１９】
0005406524.tif 000010
【００５２】
で示される化合物が生成するが、単離の前に保護基としてボランを導入する（例えば、ボラン−硫化ジメチルとの反応により）ことができる。この中間体は、工程ａ）において、少なくとも１当量のリチウムアルキル、マグネシウム・グリニャール化合物又は脂肪族Ｌｉ  ｓｅｃ−アミド若しくはＸ3Ｍｇ  ｓｅｃ−アミドと反応させることにより、式（B1）又は（B2）：
【００５３】
【化２０】
0005406524.tif 000011
【００５４】
［式中、
Ｍは、−Ｌｉ又は−ＭｇＸ3であり、そしてＸ3は、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩである］で示される化合物が生成する。この化合物は、中間体の単離なしに次の工程に使用することができる。
【００５５】
工程ｂ）では、式（B1）又は（B2）の化合物は次に、少なくとも１当量の下記式：
【００５６】
【化２１】
0005406524.tif 000012
【００５７】
で示される１−ハロヘテロアレーン−又は１−ｓｅｃ−ホスフィノヘテロアレーン−２−アルデヒドと、更に詳細には下に式（Ｃ）：
【００５８】
【化２２】
0005406524.tif 000013
【００５９】
［式中、
Ｒ1は、上記と同義であり、そしてＸ4は、Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＩ又はｓｅｃ−ホスフィノＸ1である］で示される好ましいピリジンアルデヒドについて示されるように反応させることにより、式（D1）又は（D2）：
【００６０】
【化２３】
0005406524.tif 000014
【００６１】
で示される化合物が生成する。
【００６２】
式（D1）及び（D2）の化合物は、一方が過剰に存在していてもよいジアステレオマーの混合物である。この段階で、式（D3）及び（D4）又は（D5）及び（D6）の純粋なジアステレオマーは、例えば、クロマトグラフィー法（シリカゲルでの分離を利用して）又は結晶化法により、容易に入手することができる。
【００６３】
【化２４】
0005406524.tif 000015
【００６４】
特に好ましいハロヘテロアレーンアルデヒドは、ヘテロ原子に対してオルト位に１個のハロゲン原子を有し、そして順繰りにアルデヒド基はハロゲン原子に対してα位にある。幾つかの例としては、２−クロロピリジン−又は２−ブロモピリジン−３−アルデヒド、２−クロロキノリン−又は２−ブロモキノリン−３−アルデヒド、Ｎ−メチル−２−クロロピロール−又は２−ブロモ−ピロール−３−アルデヒド、２−クロロチオフェン−又は２−ブロモチオフェン−３−アルデヒド、２−クロロフラン−又は２−ブロモフラン−３−アルデヒド、２−クロロベンゾチオフェン−又は２−ブロモベンゾチオフェン−３−アルデヒド、２−クロロベンゾフラン−又は２−ブロモベンゾフラン−３−アルデヒド、Ｎ−メチル−２−クロロインドール−又は２−ブロモインドール−３−アルデヒドがある。
【００６５】
次の工程ｃ）では、存在するならば、ボラン基を式（D1）〜（D6）の化合物のうちの１つから脱離し、次にＨＣｌ又はＨＢｒを用いて第２級アミノ基を分離することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基が生成する。この中間体生成物は、単離することができるか、あるいは直接更に反応させることにより、ＰＣｌ2又はＰＢｒ2基から第２級の非環状又は環状ホスフィノ基を生成することができる。
【００６６】
代替法としては、酸（例えば、ＨＣｌ）、次にアルコール（例えば、メタノール）との反応により第２級アミノ基を式（D1）〜（D6）の化合物から分離することにより、環状化合物を生成することができ、例えば、式（D5）の化合物を式（D'5）：
【００６７】
【化２５】
0005406524.tif 000016
【００６８】
で示される化合物に変換することができ、そしてこれは次に、開環を伴うグリニャール化合物との反応により、直接ホスフィノ基に変換することができる。
【００６９】
この目的で、Ｃｌ又はＢｒ原子又は化合物（D'5）は、それ自体既知のやり方で炭化水素基を導入するために、少なくとも２当量の有機金属化合物又は１当量のビス有機金属化合物（グリニャール試薬）と反応させることにより、工程ｄ）において、式（E1）〜（E6）の非環状又は環状第２級ホスフィンが生成する。
【００７０】
【化２６】
0005406524.tif 000017
【００７１】
Ｘ4が、第２級ホスフィノＸ1であるとき、この工程により直接本発明の化合物が得られる。
【００７２】
ＰＣｌ2及びＰＢｒ2基は、単純なやり方で第１級ホスフィノ基に水素化することができる。第１級ホスフィノ基は、次に環状の硫酸エステル、スルホン酸エステル若しくはホスホン酸エステル又は開鎖二スルホン酸エステルのような、既知のアルキル化剤を利用しての、それ自体既知のやり方で、環状ホスフィノ基に変換することができる。
【００７３】
Ｘ4が、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩであるとき、式（E1）〜（E6）の化合物のうちの１つを、更なる工程ｅ）において、少なくとも１当量のリチウムアルキルと、そして次に少なくとも１当量の第２級ホスフィンハロゲン化物（Ｘ1ハロゲン化物；ハロゲン化物は、例えば、Ｃｌ又はＢｒである）と反応させることにより、本発明の化合物が生成する。代替法としては、式（E1）〜（E6）の化合物はまた、前もって生成したリチウムｓｅｃ−リン化物Ｌｉ−Ｘ1と反応させることができる。これらの反応の前に、例えば、ＬｉＨ、ＮａＨ又はＫＨのような金属水素化物でのメタル化により、ＯＨ基を不活性にする。
【００７４】
工程ａ）のリチウムアルキルは、例えば、Ｌｉ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）又はフェニルＬｉ、例えば、メチルＬｉ、ｎ−ブチルＬｉ、ｓ−ブチルＬｉ又はｔ−ブチルＬｉであってよい。
【００７５】
工程ａ）の脂肪族Ｌｉ  ｓｅｃ−アミド又はＸ3Ｍｇ  ｓｅｃ−アミドは、２〜１８個、好ましくは２〜１２個、そして特に好ましくは２〜１０個の炭素原子を含む第２級アミン類から誘導することができる。Ｎ原子に結合した脂肪族基は、アルキル、シクロアルキル若しくはシクロアルキルアルキル又はＮ−複素環（４〜１２個、そして好ましくは５〜７個の炭素原子を有する）であってよい。Ｎ原子に結合した基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル及びシクロヘキシルメチルである。Ｎ−複素環の例は、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、Ｎ−メチルピペラジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン及びアザノルボルナンである。
【００７６】
好ましい実施態様において、工程ａ）にはアルキルＬｉ又はフェニルＬｉが使用される。
【００７７】
芳香族のメタル化は、例えば、M. Schlosser（編者）によりOrganometallics in Synthesis, Johnson Wiley & Sons(1994)に、又はJonathan Clayden Organolithiums: Selectivity for Synthesis (Tetrahedron Organic Chemistry Series), Pergamon Press (2002)に記載されている既知の反応を伴う。
【００７８】
本発明の目的には、少なくとも１当量とは、シクロペンタジエニル環中の反応＝ＣＨ−基当たり、１〜１．２当量のＬｉアルキル若しくはマグネシウム・グリニャール化合物又は脂肪族Ｌｉ  ｓｅｃ−アミド若しくはＸ3Ｍｇ  ｓｅｃ−アミドの使用を意味する。
【００７９】
この反応は、有利には、低温、例えば、２０〜−１００℃、好ましくは１０〜−５０℃で実施される。反応時間は、約２〜５時間である。本反応は、有利には不活性保護ガス、例えば、窒素又はアルゴンのような希ガス下で実施される。
【００８０】
この反応は、有利には、不活性溶媒の存在下で実施される。このような溶媒は、単独で、又は少なくとも２種の溶媒の組合せとして使用することができる。溶媒の例としては、脂肪族、脂環式及び芳香族炭化水素、更にはまた開鎖又は環状エーテル類がある。具体例には、石油エーテル、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチル又はジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサンがある。
【００８１】
工程ｂ）の反応において、少なくとも当量とは、本発明の目的には、フェロセン中の反応＝ＣＭ−基当たり、１〜１．２当量の式（Ｃ）のアルデヒドの使用を意味する。しかし、最大２．５当量の大過剰を使用することも可能である。
【００８２】
この反応は、有利には、低温、例えば、２０〜−１００℃、好ましくは０〜−８０℃で実施される。この反応は、有利には、不活性保護ガス、例えば、アルゴンのような希ガス、さもなければ窒素下で実施される。化合物（Ｃ）の添加後、反応混合物は、有利には室温まで温まるのを待つか、又は高温、例えば、最高１００℃、そして好ましくは最高５０℃までで加熱し、そしてこのような条件下でしばらく撹拌することにより反応を終了させる。
【００８３】
この反応は、有利には、不活性溶媒の存在下で、例えば、上述の溶媒中で実施される。
【００８４】
式（D1）〜（D6）の化合物の単離は、それ自体既知の方法、例えば、抽出、濾過及び蒸留により実施することができる。単離後、この化合物は、例えば、蒸留、再結晶又はクロマトグラフィー法により精製することができる。
【００８５】
驚くべきことに、メタル化され、そして特にリチオ化されたフェロセンとプロキラル化合物（Ｃ）との反応が、面性キラリティー（フェロセン骨格）に関して非常に高いジアステレオ選択性をもたらし、そして更にプロキラル炭素原子上のキラリティーに関して顕著なジアステレオ選択性をもたらすことが見い出された。化合物（Ｃ）の導入では、面性キラリティーに関して４つの可能性あるジアステレオマーの中で、本質的に１対だけのジアステレオマーが生成し、そしてまた、圧倒的にそのジアステレオマー対の一方のジアステレオマーが優先的に生成することもしばしば観察される。純粋なジアステレオマーは、仮にも必要であれば、この段階で再結晶又は特にクロマトグラフィー法を利用しての分離により、容易に入手することができる。
【００８６】
工程ｃ）〜ｅ）の反応は、それ自体既知であり、そして文献に記載されている。
【００８７】
ボラン基の分離は、例えば、Ｃ1−Ｃ4−アルキル基を有する第２級アミン類、モルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタンのような試薬の添加、２０〜１００℃の温度での充分に長い撹拌、及び有利には減圧下での揮発性成分の除去により、達成することができる。ボラン除去の方法は、例えば、M. OhffらによりSynthesis (1998), page 1391に記載されている。最後の反応工程でのボラン基のみの除去は、反応感受性基が保護されたままという利点がある。
【００８８】
−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基の生成は、同様に既知であり、そして例えば、A. LongeauらによりTetrahedron: Asymmetry, 8 (1997), pages 987-990に記載されている。試薬として、例えば、エーテル中のＨＣｌ又はＨＢｒの有機溶液の使用が有利であり、これを低温（例えば、−２０〜３０℃）で、ボラン基を持つか又は持たない式（VII）、（IX）又は（XI）の溶解化合物に加える。
【００８９】
工程ｄ）に使用されるグリニャール試薬は、Ｌｉ−、ＣｌＭｇ−、ＢｒＭｇ−又はＩＭｇ−炭化水素であってよく、そして一般には例えば、ハロゲン原子当たり最大５当量の過剰で加える。この反応は、溶液中で実施され、そしてメタル化に関しての上述のような溶媒を使用することができる。この反応は−８０〜８０℃の温度で実施することができる。
【００９０】
工程ｅ）において非環状又は環状第２級ホスフィノ基を導入するための反応は、それ自体既知であり、そして実施例に説明されている。
【００９１】
式（E1）〜（E6）の化合物において、ＯＨ基は、所望ならば、例えば、シリルハロゲン化物、エステル及びハロゲン化物のような置換酸誘導体、カルボナート又はイソシアナートを利用して、−ＯＲ2基に変換することができる。これらの基を導入するための多数の試薬が知られている。代替法としては、Ｒ2がＨである、式（Ia）〜（If）の化合物は、Ｒ2が水素を除いて式（Ｉ）と同義である、新しい配位子に同じ方法で変換することができる。Ｒ2がアルキル又は非置換アシルである、既知の配位子は、同様に調製することができる。本発明の化合物を固定化して、分離することができる触媒を製造するために、本化合物は、既知のやり方でＯＨ基（Ｒ2はＨである）を介してポリマーに、直接又は架橋基を介して共有結合させることができる。
【００９２】
本発明はまた、式（Ｆ）及び（Ｆ’）：
【００９３】
【化２７】
0005406524.tif 000018
【００９４】
並びに好ましくは式（F1）〜（F6）：
【００９５】
【化２８】
0005406524.tif 000019
【００９６】
［式中、
Ｔ、Ｒ1、Ｒ’1、Ｘ2及びｖは、上記と同義であり、Ｒ2は、Ｈであり、そしてＸ4は、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩである］で示される中間体を提供する。上述の好ましいものは、ｖ、Ｒ1、Ｒ’1、Ｘ2及びＸ4に当てはまる。
【００９７】
代替プロセスでは、このプロセスは、式（B1）又は（B2）の化合物から出発することができ、そして最初にＬｉアルキルとの反応によりオルト位でリチオ化し、次にジメチルホルムアミドとの反応と、これに続く加水分解により、式（G1）又は（G2）：
【００９８】
【化２９】
0005406524.tif 000020
【００９９】
で示されるフェロセンアルデヒドへと変換する。
【０１００】
次の工程では、式（G1）又は（G2）の化合物は次に、１−ｓｅｃ−ホスフィノ−２−ハロヘテロアレーン（ハロゲン＝Ｃｌ、Ｂｒ又はＩ）のリチオ化により入手することができる、少なくとも当量の１−ｓｅｃ−ホスフィノ−２−リチオヘテロアレーンと反応させるが、下記式：
【０１０１】
【化３０】
0005406524.tif 000021
【０１０２】
で示される好ましいベンゾチオフェンについて例示すると、これを（G1）又は（G2）と反応させることにより、式（H1）及び（H2）：
【０１０３】
【化３１】
0005406524.tif 000022
【０１０４】
で示される化合物を生成することができる。
【０１０５】
ジアステレオマーは、この段階で、又は次の工程で分離することができる。Ｐ（ｓｅｃ−アミノ）2基は次に、式（D1）／（D2）の化合物に関して上述されているように、第２級ホスフィノ基に変換することができる。
【０１０６】
式（Ｉ）及び（Ｉ’）、好ましくは（Ia）〜（If）の本発明の化合物は、第８族遷移金属から選択される、特に好ましくはＰｄ、Ｒｕ、Ｒｈ及びＩｒよりなる群から選択される金属の錯体の配位子であり、そしてこれらは、不斉合成、例えば、プロキラル不飽和有機化合物の不斉水素化のための優れた触媒又は触媒前駆体である。プロキラル不飽和有機化合物が使用されるならば、有機化合物の合成において非常に大過剰の光学異性体を誘導することができ、そして短い反応時間で高い化学変換率を達成することができる。達成可能なエナンチオ選択性及び触媒活性は卓越している。
【０１０７】
本発明は更に、第８族遷移金属から選択される金属と、配位子として式（Ｉ）又は（Ｉ’）そして好ましくは（Ia）〜（If）の化合物のうちの１種との錯体を提供する。
【０１０８】
可能性ある金属は、例えば、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｕ及びＰｔである。好ましい金属は、ロジウム及びイリジウムであり、またルテニウム、白金及びパラジウムである。
【０１０９】
特に好ましい金属は、ルテニウム、ロジウム及びイリジウムである。
【０１１０】
金属原子の酸化数及び配位数に応じて、金属錯体は、更に別の配位子及び／又はアニオンを含むことができる。これらはまた、カチオン性金属錯体であってもよい。類似の金属錯体及びその調製法は、文献に広く記載されている。
【０１１１】
金属錯体は、例えば、一般式（II）及び（III）：
【０１１２】
【化３２】
0005406524.tif 000023
【０１１３】
［式中、Ａ1は、式（Ｉ）又は（Ｉ’）、そして好ましくは（Ia）〜（If）の化合物の１つであり、
Ｌは、同一であるか又は異なっている単座のアニオン性又は非イオン性配位子を表すか、あるいはＬ2は、同一であるか又は異なっている二座のアニオン性又は非イオン性配位子を表し；
ｎは、Ｌが単座配位子であるとき、２、３又は４であるか、あるいはｎは、Ｌ2が二座配位子であるとき、１又は２であり；
ｚは、１、２又は３であり；
Ｍｅは、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｉｒ及びＲｕよりなる群から選択される金属であり；この金属は酸化状態：０、１、２、３又は４にあり；
Ｅ-は、オキソ酸又は錯酸のアニオンであり；そして
このアニオン配位子は、金属の酸化状態：１、２、３又は４の電荷と均衡をとっている］に相当する。
【０１１４】
上述の好ましいもの及び実施態様は、式（Ｉ）及び（Ｉ’）並びに（Ia）〜（If）の化合物に当てはまる。
【０１１５】
単座非イオン性配位子は、例えば、オレフィン類（例えば、エチレン、プロピレン）、溶媒（ニトリル類、線状又は環状エーテル類、非アルキル化又はＮ−アルキル化アミド類及びラクタム類、アミン類、ホスフィン類、アルコール類、カルボン酸エステル類、スルホン酸エステル類）、一酸化窒素及び一酸化炭素よりなる群から選択することができる。
【０１１６】
適切な多座アニオン性配位子は、例えば、アリル類（アリル、２−メチルアリル）又はアセチルアセトナートのような脱プロトン化１，３−ジケト化合物である。
【０１１７】
単座アニオン性配位子は、例えば、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、擬ハロゲン化物（シアン化物、シアナート、イソシアナート）、並びにカルボン酸、スルホン酸及びホスホン酸のアニオン類（カルボナート、ホルマート、アセタート、プロピオナート、メチルスルホナート、トリフルオロメチルスルホナート、フェニルスルホナート、トシラート）よりなる群から選択することができる。
【０１１８】
二座非イオン性配位子は、例えば、線状又は環状ジオレフィン類（例えば、ヘキサジエン、シクロオクタジエン、ノルボルナジエン）、ジニトリル類（マロノジニトリル）、カルボン酸の非アルキル化又はＮ−アルキル化ジアミド類、ジアミン類、ジホスフィン類、ジオール類、ジカルボン酸ジエステル類及びジスルホン酸ジエステル類よりなる群から選択することができる。
【０１１９】
二座アニオン性配位子は、例えば、ジカルボン酸、ジスルホン酸及びジホスホン酸（例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、メチレンジスルホン酸及びメチレンジホスホン酸）のアニオン類よりなる群から選択することができる。
【０１２０】
好ましい金属錯体は、Ｅが、−Ｃｌ-、−Ｂｒ-、−Ｉ-、ＣｌＯ4-、ＣＦ3ＳＯ3-、ＣＨ3ＳＯ3-、ＨＳＯ4-、（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-、（ＣＦ3ＳＯ2）3Ｃ-、テトラアリールボラート類（Ｂ（フェニル）4-、Ｂ［ビス（３，５−トリフルオロメチル）フェニル］4-、Ｂ［ビス（３，５−ジメチル）フェニル］4-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-及びＢ（４−メチルフェニル）4-など）、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＳｂＣｌ6-、ＡｓＦ6-又はＳｂＦ6-であるものを含む。
【０１２１】
水素化に特に適している特に好ましい金属錯体は、式（IV）及び（Ｖ）：
【０１２２】
【化３３】
0005406524.tif 000024
【０１２３】
［式中、
Ａ1は、式（Ｉ）又は（Ｉ’）、そして好ましくは（Ia）〜（If）の化合物の１つであり；
Ｍｅ2は、ロジウム又はイリジウムであり；
Ｙは、２個のオレフィン又は１個のジエンを表し；
Ｚは、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩであり；そして
Ｅ1-は、オキソ酸又は錯酸のアニオンである］に相当する。
【０１２４】
上述の実施態様及び好ましいものは、式（Ｉ）及び（Ｉ’）並びに（Ia）〜（If）の化合物に当てはまる。
【０１２５】
オレフィンＹは、Ｃ2−Ｃ12−、好ましくはＣ2−Ｃ6−そして特に好ましくはＣ2−Ｃ4−オレフィンであってよい。例には、プロペン、１−ブテン及び特にエチレンがある。ジエンは、５〜１２個、そして好ましくは５〜８個の炭素原子を含むことができ、そして開鎖、環状又は多環式のジエンであってよい。ジエンの２個のオレフィン基は、好ましくは１個又は２個のＣＨ2基により連結している。例には、１，４−ペンタジエン、シクロペンタジエン、１，５−ヘキサジエン、１，４−シクロヘキサジエン、１，４−又は１，５−ヘプタジエン、１，４−又は１，５−シクロヘプタジエン、１，４−又は１，５−オクタジエン、１，４−又は１，５−シクロオクタジエン及びノルボルナジエンがある。Ｙは、好ましくは２個のエチレン分子又は１，５−ヘキサジエン、１，５−シクロオクタジエン若しくはノルボルナジエンを表す。
【０１２６】
式（XVI）において、Ｚは、好ましくはＣｌ又はＢｒである。Ｅ1の例には、ＢＦ4-、ＣｌＯ4-、ＣＦ3ＳＯ3-、ＣＨ3ＳＯ3-、ＨＳＯ4-、Ｂ（フェニル）4-、Ｂ［ビス（３，５−トリフルオロメチル）フェニル］4-、ＰＦ6-、ＳｂＣｌ6-、ＡｓＦ6-又はＳｂＦ6-がある。
【０１２７】
本発明の金属錯体は、文献（US-A-5,371,256、US-A-5,446,844、US-A-5,583,241及びE. Jacobsen, A. Pfaltz、H. Yamamoto(編), Comprehensive Asymmetric Catalysis I to III, Springer Verlag, Berlin, 1999、及びこれらに引用される文献を参照のこと）から既知の方法により調製される。
【０１２８】
本発明の金属錯体は、反応条件下で活性化することができ、そしてプロキラル不飽和有機化合物への不斉付加反応に使用することができる、均一系触媒又は触媒前駆体である。
【０１２９】
この金属錯体は、例えば、炭素−炭素又は炭素−ヘテロ原子二重結合を有するプロキラル化合物の不斉水素化（水素の付加）に使用することができる。可溶性均一系金属錯体を用いるこのような水素化は、例えば、Pure and Appl. Chem., Vol. 68, No. 1, pp. 131-138 (1996)に記載されている。水素化される好ましい不飽和化合物は、Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎ及び／又はＣ＝Ｏ基を含む。本発明では、好ましくはルテニウム、ロジウム及びイリジウムの金属錯体が水素化に使用される。
【０１３０】
本発明は更に、プロキラル有機化合物中の炭素−炭素又は炭素−ヘテロ原子二重結合への水素の不斉付加によりキラル有機化合物を調製するための、均一系触媒としての本発明の金属錯体の使用を提供する。
【０１３１】
本発明の更に別の態様は、触媒の存在下で、プロキラル有機化合物中の炭素−炭素又は炭素−ヘテロ原子二重結合への水素の不斉付加により、キラル有機化合物を調製するための方法であって、そしてこれは、この付加反応が、触媒量の少なくとも１種の本発明の金属錯体の存在下で実施されることを特徴とする。
【０１３２】
水素化される好ましいプロキラル不飽和化合物は、開鎖又は環状有機化合物中に１個以上の同一であるか又は異なっているＣ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎ及び／又はＣ＝Ｏ基を含むことができ、Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎ及び／又はＣ＝Ｏ基は、環系の一部であっても、又は環外基であってもよい。プロキラル不飽和化合物は、アルケン類、シクロアルケン類、ヘテロシクロアルケン類、更にまた開鎖又は環状ケトン類、α，β−ジケトン類、α−又はβ−ケトカルボン酸、更にまたこれらのα，β−ケトアセタール類又は−ケタール類、エステル類及びアミド類、ケチミン類及びケトヒドラゾン類であってよい。
【０１３３】
不飽和有機化合物の幾つかの例は、アセトフェノン、４−メトキシアセトフェノン、４−トリフルオロメチルアセトフェノン、４−ニトロアセトフェノン、２−クロロアセトフェノン、対応するアセトフェノンベンジルイミン類及びＮ−置換アセトフェノンベンジルイミン類、非置換又は置換ベンゾシクロヘキサノン又はベンゾシクロペンタノン並びに対応するイミン類、非置換又は置換テトラヒドロキノリン、テトラヒドロピリジン及びジヒドロピロールよりなる群からのイミン類、並びに不飽和カルボン酸、エステル類、アミド類及び塩（α−及びことによるとβ−置換アクリル酸又はクロトン酸など）である。好ましいカルボン酸は、下記式：
【０１３４】
【化３４】
0005406524.tif 000025
【０１３５】
［ここで、Ｒ01は、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル（非置換であっても、又は１〜４個のＣ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ−Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ基により置換されていてもよい）又はＣ6−Ｃ10−アリール、そして好ましくはフェニル（非置換であっても、又は１〜４個のＣ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ−Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ基により置換されていてもよい）であり、そしてＲ02は、直鎖又は分岐のＣ1−Ｃ6−アルキル（例えば、イソプロピル）又はシクロペンチル、シクロヘキシル、フェニル又は保護アミノ（例えば、アセチルアミノ）（それぞれ、非置換であっても、又は上に定義されるように置換されていてもよい）である］で示されるもの、更にまたその塩、エステル類及びアミド類である。
【０１３６】
本発明のプロセスは、低温又は高温、例えば、−２０〜１５０℃、好ましくは−１０〜１００℃、そして特に好ましくは１０〜８０℃で実施することができる。光学収率は、一般には高温よりも低温の方が良好である。
【０１３７】
本発明のプロセスは、大気圧又は超大気圧で実施することができる。この圧力は、例えば、１０5〜２×１０7Pa（パスカル）であってよい。水素化は、大気圧で、又は超大気圧下で実施することができる。
【０１３８】
触媒は、好ましくは、水素化される化合物に基づいて、０．０００１〜１０mol%、特に好ましくは０．００１〜１０mol%、そして更に特に好ましくは０．０１〜５mol%の量で使用される。
【０１３９】
配位子及び触媒の調製並びに水素化は、溶媒なしで、又は不活性溶媒の存在下で実施することができるが、１種の溶媒でも溶媒の混合物でも使用することができる。適切な溶媒は、例えば、脂肪族、脂環式及び芳香族炭化水素（ペンタン、ヘキサン、石油エーテル、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン）、脂肪族ハロゲン化炭化水素（塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン及びテトラクロロエタン）、ニトリル類（アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル）、エーテル類（ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ｔ−ブチル−メチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールモノメチル又はモノエチルエーテル）、ケトン類（アセトン、メチルイソブチルケトン）、カルボン酸エステル類及びラクトン類（酢酸エチル又はメチル、バレロラクトン）、Ｎ−置換ラクタム類（Ｎ−メチルピロリドン）、カルボキサミド類（ジメチルアミド、ジメチルホルムアミド）、非環状尿素（ジメチルイミダゾリン）並びにスルホキシド類及びスルホン類（ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、テトラメチレンスルホキシド、テトラメチレンスルホン）及びアルコール類（メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル）及び水である。溶媒は、単独でも、又は少なくとも２種の溶媒の混合物としても使用することができる。
【０１４０】
この反応は、共触媒、例えば、第４級アンモニウムハロゲン化物（ヨウ化テトラブチルアンモニウム）の存在下で、かつ／又はプロトン酸、例えば、鉱酸の存在下で実施することができる（例えば、US-A-5,371,256、US-A-5,446,844及びUS-A-5,583,241並びにEP-A-0,691,949を参照のこと）。１，１，１−トリフルオロエタノールのようなフッ素化アルコール類の存在は、同様に触媒反応を促進することができる。
【０１４１】
触媒として使用される金属錯体は、別々に調製した単離化合物として加えてもよいし、又は反応の前にインサイチュで生成し、次に水素化すべき基質と混合してもよい。単離金属錯体を使用する反応の場合には、追加的に配位子を加えることが有利であろうし、またインサイチュでの調製の場合には、過剰の配位子を使用することが有利であろう。過剰とは、例えば、調製に使用される金属化合物に基づいて、１〜６mol、そして好ましくは１〜２molであってよい。
【０１４２】
本発明のプロセスは、最初に触媒を荷電し、次に基質及び適宜、反応助剤を加え、そして付加させる化合物を加え、次に反応を開始させることにより、一般には実施される。付加させる気体化合物、例えば、水素又はアンモニアは、好ましくは反応容器を加圧することにより導入する。本プロセスは、種々のタイプの反応器で、連続的に、又はバッチ式に実施することができる。
【０１４３】
本発明により調製することができるキラル有機化合物は、特に香料及び香水、医薬並びに農薬の製造の分野における、活性物質又はこのような物質を調製するための中間体である。
【０１４４】
以下の実施例により本発明を説明する。
【０１４５】
Ａ）中間体の調製
実施例Ａ１：式（A1）：
【０１４６】
【化３５】
0005406524.tif 000026
【０１４７】
で示される化合物の調製
【０１４８】
ａ）下記式：
【０１４９】
【化３６】
0005406524.tif 000027
【０１５０】
で示される化合物の調製
アルゴン注入口付きの５００ml丸底フラスコ中で、アルゴン下でＰＣｌ3（７．３８ｇ、５３．７４mmol）を無水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ、１５０ml）に溶解し、この溶液を氷浴中で０℃まで冷却する。トリエチルアミン（１１．９７ｇ、１１８．２５mmol、２．２０当量）を滴下により加え、そして次に（Ｓ）−メトキシメチルピロリジン（１２．６９ｇ、１１０．１９mmol、２．０５当量）をゆっくり滴下により加える。添加中、白色の沈殿物の生成が観察される。氷浴を除去して、得られた懸濁液を室温（ＲＴ）で一晩（１４時間）撹拌する。生成した白色の沈殿物を、両頭型フリットフィルターを用いてアルゴン下で濾別して、無水ＴＨＦ（２×２５ml）で洗浄する。標題化合物の31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）スペクトルを、得られた帯黄色の濾液について記録する。こうして得られた溶液は、更に精製することなく使用する。31P-NMR (C6D6, 121 MHz): 154.3 (s).
【０１５１】
ｂ）下記式：
【０１５２】
【化３７】
0005406524.tif 000028
【０１５３】
で示される化合物の調製
アルゴン注入口付きの１ｌ丸底フラスコ中で、フェロセン（１０．００ｇ、５３．７５mmol）及びＫ  ｔ−ブトキシド（７５４mg、６．７２mmol、０．１２５当量）を無水ＴＨＦ（１００ml）にアルゴン下で溶解する。この溶液を−７８℃に冷却し、次にｔ−ブチルＬｉ（ヘキサン中１．５Ｍ；７１．６７ml、１０７．５０mmol、２．００当量）を４５分かけて滴下により加える。この溶液を−７８℃で１．５時間撹拌して、ヘプタン（７５ml）と混合する。生成した沈殿物の鎮静化後、上清溶液を−７８℃でアルゴン下カニューレを用いて除去する。沈殿物を−７８℃でヘプタン（６０ml）で洗浄して、カニューレを用いてもう一度洗浄液を除去する。この手順を３回繰り返す。得られた沈殿物を無水ＴＨＦ（５０ml）に溶解して、ＴＨＦ（２００ml）中のａ）に記載されるように調製したハロホスフィン（５３．７５mmol、１．００当量）の溶液を−７８℃で１．５時間かけて滴下により加える。ＲＴまで温めながら、この溶液を一晩（１４時間）撹拌する。続いてボラン−硫化ジメチル錯体（５．１０ml、５３．７５mmol、１．００当量）を滴下により加え、この混合物をＲＴで一晩撹拌する。反応混合物を、飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液（５０ml）を用いて加水分解して、ｔ−ブチルメチルエーテル（ＴＢＭＥ、３×１００ml）で抽出する。合わせた有機相をＮａ2ＳＯ4で乾燥して、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去する。粗生成物（２４．１８ｇ）をカラムクロマトグラフィー（２００ｇのシリカゲル、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、５：１）により精製する。橙色の固体として標題化合物を得る（１７．２３ｇ、３７．６０mmol、７０％）。1H-NMR (C6D6): 4.22 (s, 5H Cp), 3.11 (s, 3H, OMe), 3.04 (s, 3H, OMe); 31P-NMR (C6D6, 121 MHz): 81.7-80.4 (m, br).
【０１５４】
ｃ）下記式：
【０１５５】
【化３８】
0005406524.tif 000029
【０１５６】
で示される化合物の調製
実施例Ａ１ｂに記載されたように調製した化合物１０．６ｇ（２３．０４mmol）をヘキサン１００ml及びＭＴＢＥ  １００mlに溶解して、−３０℃に冷却する。ｓ−ＢｕＬｉ（シクロヘキサン中１．３Ｍ）１８．６ml（２４．１０mmol）を滴下により加え、生じた溶液を−３０℃で２時間撹拌すると、黄色の懸濁液が得られる。２−ブロモピリジン−３−アルデヒド４．５ｇ（２４．１９mmol）をＴＨＦ  ２０mlに溶解し、次に１０分かけて反応混合物に滴下により加え、次いでこの混合物を２０℃に加熱する。次に水１００mlを加え、有機相を分離して、硫酸ナトリウムで乾燥する。これにより、２つのジアステレオマー（比＝１：１）を含む生成物が得られる。カラムクロマトグラフィー（ヘプタン：ＭＴＢＥ、１：１）により標題化合物５．２ｇ（３５％）を黄色の固体として得る。第２のジアステレオマーの画分は単離されない。1H-NMR (300 MHz, CDCl3, ppm): 0.80-1.60 (b, 3H); 1.60-2.10 (m, 8H); 2.83-3.00 (m, 2H); 3.20-3.78 (m, 13H); 4.15-4.38 (m, 4H), 4.40-4.45 (m, 1H); 4.50 (s, 5H); 5.45 (d, 1H); 7.40 (dd, 1H); 8.18 (m, 1H); 8.28 (m, 1H). 31P-NMR (121.5 MHz, CDCl3, ppm): 71.8.
【０１５７】
ｄ）下記式：
【０１５８】
【化３９】
0005406524.tif 000030
【０１５９】
で示される化合物の調製
実施例Ａ１ｃに記載されたように調製した化合物２ｇ（３．１０mmol）をＭＴＢＥ  ２０mlに懸濁して、−３０℃に冷却する。この温度で、ＨＣｌ（ジエチルエーテル中２Ｍ）７．８ml（１５．５２mmol）を加え、この混合物を２０℃に温める。次にメタノール５mlを加えると、清澄な橙色の溶液が生成する。水２０mlを加え、生成物をＭＴＢＥで抽出する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥して、溶媒を留去すると、標題化合物１．６ｇ（１００％）が橙色の固体として得られる。1H-NMR (300 MHz, C6D6, ppm): 1.20-1.73 (m, 4H); 2.75 (m, 1H); 2.94 (m, 1H); 3.17 (m, 4H); 3.18 (dd, 1H); 3.92 (s, 5H); 3.97 (m, 1H); 4.00 (m, 1H); 4.08 (m, 1H); 4.62 (m, 1H); 6.30 (s, 1H); 6.75 (dd, 1H); 7.92 (dd, 1H); 8.30 (m, 1H). 1P-NMR (121.5 MHz, C6D6, ppm): 112.3.
【０１６０】
ｅ）標題化合物（A1）の調製
実施例Ａ１ｄに記載されたように調製した化合物１．６ｇ（３．００mmol）をＴＨＦ  ５mlに溶解して、臭化フェニルマグネシウム（ＴＨＦ中１Ｍ）１８ml（１８．００mmol）に−７８℃で滴下により加える。この混合物をゆっくり２０℃まで温め、この温度で７２時間撹拌する。次に水５０mlを加え、この混合物をＭＴＢＥで抽出する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥して、溶媒を留去する。粗生成物をトルエン１０mlに溶解し、１，５−ジアザ［５．４．０］ウンデカ−５−エン（ＤＢＵ）０．９ml（６mmol）の添加後、９０℃で２時間撹拌する。トルエンを留去して、残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：ＭＴＢＥ、１：１）により精製すると、化合物（A1）３００mg（１８％）が黄色の固体として得られる。1H-NMR (300 MHz, C6D6, ppm): 3.00 (m, 1H); 3.75 (m, 1H); 3.94 (m, 1H); 4.06 (s, 5H); 4.14 (m, 1H); 6.06 (b, 1H); 6.44 (dd, 1H); 6.84-7.20 (m, 8H); 7.53-7.63 (m, 3H); 7.83 (dd, 1H). 31P-NMR (121.5 MHz, C6D6, ppm): -22.4.
【０１６１】
実施例Ａ２：下記式：
【０１６２】
【化４０】
0005406524.tif 000031
【０１６３】
で示される化合物の調製
【０１６４】
ａ）下記式：
【０１６５】
【化４１】
0005406524.tif 000032
【０１６６】
で示される化合物の調製
実施例Ａ１ｂからの化合物１．１ｇ（２．３０mmol）をヘキサン１０ml及びメチルｔ−ブチルエーテル１０mlに溶解して、−３０℃に冷却する。次にｓ−ブチルＬｉ（シクロヘキサン中１．３Ｍ）１．９ml（２．４１mmol）を滴下により加え、そして生じた溶液を−３０℃で２時間撹拌すると、黄色の懸濁液が得られる。次に無水ジメチルホルムアミド０．１８ｇ（２．４１mmol）をテトラヒドロフラン２mlに溶解して、この溶液を、反応混合物に１０分かけて滴下により加えて、次いでこれを２０℃に温める。次に水１００mlを加え、有機相を分離して硫酸ナトリウムで乾燥する。１：１の比で生成した、２つのジアステレオマーは、カラムクロマトグラフィー（ヘプタン：メチルｔ−ブチルエーテル＝１：１）により分離する。これにより、標題化合物０．５ｇ（４３％）を赤色のロウ様固体として得る。1H-NMR (300 MHz, C6D6, ppm): 1.20-2.00 (m, 12H); 2.53-2.66 (m, 2H); 2.88-2.95 (m, 2H); 3.04 (s, 3H); 3.10-3.23 (m, 2H); 3.25 (s, 3H); 3.37-3.57 (m, 2H); 4.25-4.32 (m, 2H); 4.37 (s, 5H); 4.48 (b, 1H); 5.08 (b, 1H); 10.68 (s, 1H). 31P-NMR (121.5 MHz, C6D6, ppm): 73.1.
【０１６７】
ｂ）３−ジフェニルホスフィノ［１，２−ｂ］ベンゾチオフェンの調製
【０１６８】
【化４２】
0005406524.tif 000033
【０１６９】
３−ブロモベンゾ［１，２−ｂ］チオフェン２ｇ（９．３９mmol）をテトラヒドロフラン２０ml中でマグネシウム削り屑２９２mg（１２mmol）と反応させる。次にクロロジフェニルホスフィン１．９９ｇ（９mmol）を０℃で滴下により加え、次いでこの混合物を２時間撹拌する。この混合物を撹拌しながら２Ｍ  ＨＣｌと混合して、酢酸エチルで抽出する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥して、溶媒を留去すると、標題化合物２．１ｇ（７０％）がベージュ色の粉末として得られる。31P-NMR (121.5 MHz, C6D6, ppm): -20.7.
【０１７０】
ｃ）下記式：
【０１７１】
【化４３】
0005406524.tif 000034
【０１７２】
で示される化合物の調製
ジイソプロピルアミン０．２７ml（１．９２mmol）をテトラヒドロフラン２mlに溶解して、−１０℃に冷却する。次に２．５Ｍ  ｎ−ブチルＬｉ  ０．７４ml（１．８５mmol）を加えて、この溶液を０℃で１５分間撹拌する。次に実施例Ａ２ｂからの化合物５８８mg（１．８５mmol）を−１５℃で加えて、この溶液を４５分間撹拌する。実施例Ａ２ａからの化合物９４０mg（１．９２mmol）をテトラヒドロフラン４mlに溶解して、最初の溶液にゆっくり滴下により加える。反応混合物を室温で１２時間撹拌する。溶媒を留去して、この粗生成物をシリカゲルのクロマトグラフィー（溶離液、ヘプタン：メチルｔ−ブチルエーテル＝２：１）により精製すると、標題化合物２６５mg（１８％）が黄色の固体として得られる。1H-NMR (300 MHz, C6D6, ppm): 1.20-2.06 (m, 14H); 2.78-2.88 (m, 1H); 3.04 (s, 3H); 3.05-3.13 (m, 3H); 3.26 (s, 3H); 3.28-3.42 (m, 2H); 3.60 (dd, 1H); 3.84 (t, 1H); 3.90 (b, 1H); 4.24 (b, 1H); 4.35-4.54 (m, 2H); 4.67 (s, 5H); 5.02 (d, 1H); 6.77-7.05 (m, 8H); 7.32-7.72 (m, 6H). 31P-NMR (121.5 MHz, C6D6, ppm): -28.3; 72.1.
【０１７３】
Ｂ）ジホスフィン類の調製
実施例Ｂ１：式（B1）の（Ｓ）−１−ジフェニルホスフィノ−２−［α−（Ｓ）−ヒドロキシ（２−ジフェニルホスフィノ−３−ピリジニル）メチル］フェロセンの調製
【０１７４】
【化４４】
0005406524.tif 000035
【０１７５】
０℃で、ＫＨ懸濁液（油中３５％）０．０５ml（０．４３２mmol）をＴＨＦ  ２mlに懸濁して、ＴＨＦ  ２mlに溶解した化合物（A1）１５０mg（０．２７０mmol）を滴下により加える。この混合物を２０℃で１時間撹拌し、次に０℃に冷却する。クロロジフェニルホスフィン０．０６ml（０．３１６mmol）をゆっくり滴下により加え、この混合物を０℃で１時間撹拌する。この反応混合物を−７８℃に冷却して、ｔ−ブチルリチウム（ペンタン中１．５Ｍ）０．４０ml（０．５９９mmol）を滴下により加える。この混合物を１時間かけて２０℃に温め、次に水と混合する。この混合物をＭＴＢＥで抽出して、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥して、カラムクロマトグラフィー（ヘプタン：ＭＴＢＥ、１：１）により精製すると、化合物（B1）５２mg（２９％）が明黄色の固体として得られる。1H-NMR (300 MHz, C6D6, ppm): 3.10 (m, 1H); 3.80 (m, 1H); 3.96 (m, 1H); 4.07 (s, 5H); 4.13 (m, 1H); 6.50 (dd, 1H); 6.85-7.08 (m, 14H); 7.53-7.73 (m, 8H); 8.24 (m, 1H). 31P-NMR (121.5 MHz, C6D6, ppm): -22.3; -13.0.
【０１７６】
実施例Ｂ２：式（B2）：
【０１７７】
【化４５】
0005406524.tif 000036
【０１７８】
で示される化合物の調製
実施例Ａ２ｃからの化合物２６５mg（０．３３mmol）をメチルｔ−ブチルエーテル３mlに溶解して、−７０℃でジオキサン中のＨＣｌ（４Ｍ）１．５４ml（６．１６mmol）と混合する。３０分後、この懸濁液を濾過して、濾液を−７０℃でＣ6Ｈ5ＭｇＣｌ（テトラヒドロフラン中２Ｍ）２ml（４mmol）と混合する。この混合物を１２時間かけて室温に温め、撹拌しながら２Ｍ塩酸と混合する。生成物をメチルｔ−ブチルエーテルで抽出し、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、次に溶媒を留去する。この粗生成物を、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘプタン：メチルｔ−ブチルエーテル＝２：１）を用いて予備精製する。この粗生成物をトルエン２mlに溶解し、ＤＢＵ  ０．０５mlと混合して、撹拌しながら８０℃で５時間加熱する。この溶液から溶媒を留去し、残渣をメチルｔ−ブチルエーテルにとり、２Ｍ塩酸で抽出する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥して、溶媒を留去する。これにより、標題化合物２０mg（９％）が得られる。31P-NMR (121.5 MHz, C6D6, ppm): -26.7; -21.4. MS (ESI): 717 (M+, 100%).
【０１７９】
Ｃ）金属錯体の調製
一般法：触媒溶液を、アルゴンを充填したシュレンク管内で、例えば、［Ｒｈ（ノルボルナジエン）2］ＢＦ4  ４．７３mg（０．０１２６５mmol）又は別の金属錯体、及びジホスフィン配位子８．９６mg（０．０１３３mmol）を脱気メタノール５mlに溶解することにより調製する。
【０１８０】
Ｄ）使用例
実施例Ｄ１：ｃｉｓ−アセトアミドケイ皮酸メチルの水素化
ｃｉｓ−アセトアミドケイ皮酸メチル０．５５５ｇ（２．５３mmol）及び脱気メタノール５mlを、アルゴンを充填したシュレンク管に続けて導入する。アルゴンを充填した第２のシュレンク管で、［Ｒｈ（ノルボルナジエン）2］ＢＦ4  ４．７３mg（０．０１２６５mmol）、配位子（B1）８．７７mg（０．０１３３mmol）及び脱気メタノール５mlを含む触媒溶液を調製する。この溶液と触媒溶液を次に、鋼製毛細管を用いて、アルゴンを充填した５０mlガラス反応器に続けて移す。基質／触媒の比（ｓ／ｃ）は２００である。反応器を閉じて、４サイクルのフラッシングを利用して１．００barの圧力を設定する（水素１barまで加圧）。オートクレーブを２５℃にサーモスタットで調温して、撹拌器のスイッチを入れることにより反応を開始させる。反応器を１時間撹拌する。反応器を開けた後、帯赤色の反応溶液を単離する。変換は定量的である（ＧＣ及び1Ｈ−ＮＭＲを用いて測定）。ロータリーエバポレーターで溶媒を除去すると、９７．４％ｅｅのエナンチオマー純度を有する定量的収率の（Ｓ）−Ｎ−アセチルフェニルアラニンのメチルエステルが得られる（ＧＣを用いて測定；カラム：キラシル−Ｌ−Ｖａｌ（Chirasil-L-Val））。
【０１８１】
実施例Ｄ２：イタコン酸ジメチルの水素化
出発物質としてイタコン酸ジメチル０．４ｇ（２．５３mmol）及び配位子として化合物（B1）８．７７mg（０．０１３３mmol）を使用して、実施例Ｄ１の手順を繰り返す。変換率は１００％である。ロータリーエバポレーターで溶媒を除去すると、９９．５％ｅｅのエナンチオマー純度を有する定量的収率の（２Ｒ）−コハク酸ジメチルが得られる。
【０１８２】
実施例Ｄ３：３−オキソ吉草酸エチルの水素化
溶媒としてエタノールを使用して、実施例Ｄ１の手順を繰り返す。反応温度は８０℃とし、水素圧は８０barとする。３−オキソ吉草酸エチル０．４ｇ（２．５３mmol）を出発物質として使用し、化合物（B1）８．７７mg（０．０１３３mmol）を配位子として使用し、そして［ＲｕＩ2（ｐ−シメン）］2を金属錯体として使用する。基質対触媒の比（ｓ／ｃ）は４００である。変換率は９０％を超える。ロータリーエバポレーターで溶媒を除去すると、９０．４％ｅｅのエナンチオマー純度を有する（３Ｒ）−ヒドロキシ吉草酸エチルが得られる。
【０１８３】
実施例Ｄ４：３−オキソ−３−フェニルプロピオン酸エチルの水素化
溶媒としてエタノールを使用して、実施例Ｄ１の手順を繰り返す。反応温度は８０℃とし、水素圧は８０barとする。３−オキソ−３−フェニルプロピオン酸エチル０．４ｇ（２．５３mmol）を出発物質として使用し、化合物（B1）８．７７mg（０．０１３３mmol）を配位子として使用し、そして［ＲｕＩ2（ｐ−シメン）］2を金属錯体として使用する。基質対触媒の比（ｓ／ｃ）は４００である。変換率は９０％を超える。ロータリーエバポレーターで溶媒を除去すると、４０．３％ｅｅのエナンチオマー純度を有する（３Ｒ）−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオン酸エチルが得られる。