(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
【化２９】
0005519659.tif 000024
【化３０】
0005519659.tif 000025
【化３１】
0005519659.tif 000026
【化３２】
0005519659.tif 000027
【化３３】
0005519659.tif 000028
からなる群より選択されるいずれか一つである、化合物。
【請求項２】
下記の化学式１で示される化合物を含む液晶組成物。
【化２２】
0005519659.tif 000029
前記化学式１中、
Ａ1乃至Ａ12は各々独立的に−Ｈまたは化学式
【化２３】
0005519659.tif 000030
で示される置換基であり、Ａ2、Ａ5、Ａ8およびＡ11のうち少なくとも２以上はｍ≠０である化学式
【化２４】
0005519659.tif 000031
で示される置換基であり；
Ｂは−Ｏ−、−ＮＨ−、−（ＣＨ2）n−、−Ｏ（ＣＨ2）nＯ−、−ＮＨ（ＣＨ2）nＮＨ−、−Ｏ（ＣＨ2）nＮＨ−、−ＮＨ（ＣＨ2）nＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、または−Ｃ（＝Ｏ）−であり、
Ｂ’は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−であり、
ｎは０〜６の整数であり；
環Ｃは
【化２５】
0005519659.tif 000032
であり；
Ｑ1乃至Ｑ12は各々独立的に−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＣＦ3、−ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ12のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ12のアルコキシ基、または化学式−Ｄ3−Ｅ2−Ｄ4−Ｇ2で示される置換基であり；
前記環Ｃ’は
【化２６】
0005519659.tif 000033
であり、
ｍは０〜２の整数であり；
Ｄ1、Ｄ2、Ｄ3、及びＤ4は各々独立的に−Ｏ−、−ＮＨ−、または−（ＣＨ2）p−であり、ｐは０〜５の整数であり；
Ｅ1及びＥ2は各々独立的にＣ1〜Ｃ12のアルキレン、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＣＨ3−、−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）q−、−（ＣＨ2ＣＨＣＨ3Ｏ）q−、または−（ＣＨＣＨ3ＣＨ2Ｏ）q−であり、ｑは１〜５の整数であり；
Ｇ1及びＧ2は各々独立的に−Ｈ、
【化２７】
0005519659.tif 000034
であり；
Ｖは−Ｈ、−ＣＨ3、−ＣＨ2ＣＨ3、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、または−ＣＦ3である。
【請求項３】
前記Ｂは−ＯＣ（＝Ｏ）−であり；
環Ｃは
【化２８】
0005519659.tif 000035
である、請求項２に記載の液晶組成物。
【請求項４】
前記Ａ1＝Ａ7、Ａ2＝Ａ8、Ａ3＝Ａ9、Ａ4＝Ａ10、Ａ5＝Ａ11、Ａ6＝Ａ12である、請求項２に記載の液晶組成物。
【請求項５】
前記Ａ2＝Ａ8、Ａ5＝Ａ11であり、前記Ａ1、Ａ3、Ａ4、Ａ6、Ａ7、Ａ9、Ａ10、Ａ12は−Ｈである、請求項４に記載の液晶組成物。
【請求項６】
前記化学式１で示される化合物が、請求項１に記載の化合物である、請求項２に記載の液晶組成物。
【請求項７】
前記化合物は、液晶組成物全体に対して０．１乃至９９．９重量％で含まれる、請求項２〜６のいずれか一項に記載の液晶組成物。
【請求項８】
前記液晶組成物は、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリル基、及びメタクリル基からなる群より選択される一つ以上の官能基を有する重合性液晶化合物；前記官能基を有する重合性非液晶化合物；及び前記官能基を有するポリマーからなる群より選択される一つ以上の化合物をさらに含む、請求項２〜７のいずれか一項に記載の液晶組成物。
【請求項９】
前記液晶組成物は、ベンゾイルエーテル、ベンゾイルイソブチルエーテル、ベンゾイルイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、アセトフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド、ベンジルメチルケタール、ジメチルアミノメチルベンゾエート、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、メチルベンゾイルホルマート、２−メチル−１−（４−メチルチオ）フェニル−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、及びＩｒｇａｃｕｒｅ系からなる群より選択される一つ以上の光反応開始剤を液晶組成物全体１００重量部に対して０．００１乃至２０重量部で含む、請求項２〜８のいずれか一項に記載の液晶組成物。
【請求項１０】
前記液晶組成物は、有機溶媒、または界面活性剤、または有機溶媒及び界面活性剤の混合物をさらに含む、請求項２〜９のいずれか一項に記載の液晶組成物。
【請求項１１】
請求項２〜１０のいずれか一項による液晶組成物を基材上に塗布する工程；
前記液晶組成物が塗布された基材を乾燥する工程；及び
前記乾燥された基材を硬化処理する工程を含む、光学フィルムの製造方法。
【請求項１２】
請求項２〜１０のいずれか一項による液晶組成物を剥離性フィルム上に塗布する工程；
前記液晶組成物が塗布された剥離性フィルムを乾燥する工程；
前記乾燥された剥離性フィルムを硬化処理して液晶フィルムを形成する工程；及び
前記液晶フィルムを基材に転写する工程；を含む、光学フィルムの製造方法。
【請求項１３】
前記基材は、前記液晶組成物を基材上に塗布する前に配向処理された配向膜を含む、請求項１１または１２に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１４】
前記塗布工程は、スピンコーティング法、ロールコーティング法、印刷法、浸漬引上法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法、ディップコーティング法、またはバーコーティング法で行うものである、請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１５】
前記乾燥工程後に追加的な加熱工程をさらに含む、請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１６】
前記硬化処理工程は、２０ｍＪ／ｃｍ2乃至５０Ｊ／ｃｍ2の強さの紫外線を照射して行ったり、１０乃至２００℃の温度で３秒乃至３０分間熱処理して行うものである、請求項１１〜１５のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１７】
請求項２〜１０のいずれか一項による液晶組成物を利用して製造された、光学フィルム。
【請求項１８】
前記光学フィルムは、液晶ディスプレイ用補償フィルムである、請求項１７に記載の光学フィルム。
【請求項１９】
前記光学フィルムは、偏光測定装置であるアクソスキャンを利用して測定した平均傾斜角βが５°乃至５０°である、請求項１７または１８に記載の光学フィルム。
【請求項２０】
請求項１７〜１９のいずれか一項による光学フィルムを含む、液晶ディスプレイ装置。
【請求項２１】
前記液晶ディスプレイ装置は、ＴＮモードディスプレイ装置、ＳＴＮモードディスプレイ装置、及びＯＣＢモードディスプレイ装置から選択されるものであることを特徴とする、請求項２０に記載の液晶ディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射型液晶化合物、これを含む光学フィルム及び液晶ディスプレイ装置に関するものであって、より詳細には、視野角に応じた色変化を最小化させることができ、コントラスト比が向上して、屈折異方性が高い光学フィルム及び液晶ディスプレイ装置の製造に応用することができる新たな液晶化合物に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ装置（ＬＣＤ）は、重量が軽くて薄いディスプレイ特性を示し、消費電力が少ないため、ノートパソコン、携帯電話機、テレビ、及びモニターなどの製品に多く応用されている。
【０００３】
しかし、液晶ディスプレイ装置は、視野角依存性、つまり見る方向や角度によって色や明暗などが変化する短所がある。また、表示画面が大型化されるほど、視野角がより狭くなる問題がある。既存のＣＲＴ装置の視野角が約１８０°に達するのに比べて、視野角補正が不可能なＴＦＴ−ＬＣＤの場合には±５０°にしかならない。
【０００４】
このような問題を改善する方法としては、液晶セルの内部で画素を分割して配向を制御するマルチドメイン方法、電圧を制御する方法、及び光学補償フィルムを使用する方法などが知られている。
【０００５】
液晶ディスプレイ装置でこのような視野角依存性が発生する原因は、パネルに対して斜めに入射する光の複屈折効果が垂直に入射する光の複屈折効果と異なるためであるが、これを補正するために、パネルと複屈折率が反対の位相差フィルムをパネルの前後に付着して使用する光学補償フィルム法が主に適用されており、ディスプレイパネルの大型化によってより高性能の液晶補償フィルムが要求されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、視野角に応じた色変化を最小化させることができ、コントラスト比が向上して、屈折異方性が高い視野角補償フィルムの素材として使用可能な新たな液晶化合物を提供する。
【０００７】
また、本発明は、前記化合物を含む液晶組成物、前記化合物を利用して製造された液晶ディスプレイ用光学フィルム及び液晶ディスプレイ装置を提供する。
【０００８】
また、本発明は、前記液晶化合物の製造方法及び前記光学フィルムの製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、下記の化学式１で示される化合物を提供する。下記の化学式１で示される化合物は放射型液晶化合物である。
【００１０】
【化１】
0005519659.tif 000002
【００１１】
前記化学式１で、Ａ1乃至Ａ12は各々独立的に−Ｈまたは化学式
【００１２】
【化２】
0005519659.tif 000003
【００１３】
で示される置換基であり、Ａ1乃至Ａ12のうちの一つ以上はｍ≠０である化学式
【００１４】
【化３】
0005519659.tif 000004
【００１５】
で示される置換基であり；
Ｂは−Ｏ−、−ＮＨ−、−（ＣＨ2）n−、−Ｏ（ＣＨ2）nＯ−、−ＮＨ（ＣＨ2）nＮＨ−、−Ｏ（ＣＨ2）nＮＨ−、−ＮＨ（ＣＨ2）nＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、または−Ｃ（＝Ｏ）−であり、ｎは０〜６の整数であり；
環Ｃは
【００１６】
【化４】
0005519659.tif 000005
【００１７】
であり；
Ｑ1乃至Ｑ12は各々独立的に−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＣＦ3、−ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ12のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ12のアルコキシ基、または化学式−Ｄ3−Ｅ2−Ｄ4−Ｇ2で示される置換基であり；
ｍは０〜２の整数であり；
Ｄ1、Ｄ2、Ｄ3、及びＤ4は各々独立的に−Ｏ−、−ＮＨ−、または−（ＣＨ2）ｐ−であり、ｐは０〜５の整数であり；
Ｅ1及びＥ2は各々独立的にＣ1〜Ｃ12のアルキレン、Ｃ2〜Ｃ12のアルケニレン、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）q−、−（ＣＨ2ＣＨＣＨ3Ｏ）q−、または−（ＣＨＣＨ3ＣＨ2Ｏ）q−であり、ｑは１〜５の整数であり；
Ｇ1及びＧ2は各々独立的に−Ｈ、
【００１８】
【化５】
0005519659.tif 000006
【００１９】
であり；
Ｖは−Ｈ、−ＣＨ3、−ＣＨ2ＣＨ3、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、または−ＣＦ3である。
【００２０】
また、本発明は、前記化学式１で示される化合物を含む液晶組成物、及び前記液晶組成物を利用して製造された光学フィルムを提供する。好ましくは、本発明の前記光学フィルムは、液晶ディスプレイ用補償フィルムである。
【００２１】
また、本発明は、前記光学フィルムを含む液晶ディスプレイ装置を提供する。
【００２２】
また、本発明は、前記放射型液晶化合物の製造方法及び前記光学フィルムの製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００２３】
本発明による液晶化合物またはこれを含む液晶組成物を利用して製造された光学フィルムは、偏光測定装置であるアクソスキャン（ａｘｏｓｃａｎ）を利用して測定した平均傾斜角β値が５°乃至５０°であり、視野角に応じた色変化を最小化することができて、液晶ディスプレイ装置の製造に関する産業分野に幅広く応用可能である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、発明の実施形態による放射型液晶化合物などについて、より詳細に説明する。
【００２５】
発明の一実施形態により、前記化学式１で示される化合物は、エチレン基に４個のフェニルが導入されたテトラフェニルエチレンの放射型コア（ｃｏｒｅ）を有し、前記コアのフェニルにはｍ≠０である化学式−［Ｂ−環Ｃ］m−Ｄ1−Ｅ1−Ｄ2−Ｇ1で示される置換基が１個以上導入された放射形態の化合物である。また、本発明の前記実施形態による前記化学式１で示される化合物は、液晶化合物である。
【００２６】
本発明の発明者らは、以下に記載された実施例によっても裏付けられるように、このようなテトラフェニルエチレンの放射型コアを有する液晶化合物の構造的特性によって、前記液晶化合物を利用して製造された光学フィルムが視野角に応じた色変化が最小化され、コントラスト比が向上し、屈折異方性が高いことを確認した。
【００２７】
一方、前記化学式１において、前記Ｅ1及びＥ2におけるＣ2〜Ｃ12のアルケニレンは、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＣＨ3−、−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ2ＣＨ2−
、−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨＣＨ2−、または−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ−であるが、これに限定されない。
【００２８】
好ましくは、前記Ｂは−ＯＣ（＝Ｏ）−であり、環Ｃは
【００２９】
【化６】
0005519659.tif 000007
【００３０】
であるが、化学式１で示される化合物を製造するために、このような置換基を有するコア（ｃｏｒｅ）化合物を利用すれば、ネマチック（ｎｅｍａｔｉｃ）液晶化合物誘導体を多様に合成することができ、また液晶化合物の液晶温度範囲を広くするという点で有利である。つまり、前記置換基を有する化学式１で示される化合物は液晶温度範囲が広い。
【００３１】
また、前記実施形態による液晶化合物は、テトラフェニレンエチレンの放射型コアのエチレンを中心にしてコアのフェニレンを含む置換基の構造が同一であるか、あるいはエチレンを中心にしてトランス（ｔｒａｎｓ）構造である。
【００３２】
つまり、好ましくは、Ａ1＝Ａ7、Ａ2＝Ａ8、Ａ3＝Ａ9、Ａ4＝Ａ10、Ａ5＝Ａ11、Ａ6＝Ａ12であり、より好ましくは、前記Ａ2＝Ａ8、Ａ5＝Ａ11であり、前記Ａ1、Ａ3、Ａ4、Ａ6、Ａ7、Ａ9、Ａ10、Ａ12はＨである。前記のように、液晶化合物のテトラフェニレンエチレンの放射型コアのエチレンを中心にしてコアのフェニレンを含む置換基の構造が同一である場合には、分子構造がエチレンを中心にして対称をなすため、非対称な分子構造より液晶相を現わす確率がより高い。また、反応末端を二つに減少させて、液晶化合物のテトラフェニレンエチレンの放射型コアのエチレンを中心にしてトランス（ｔｒａｎｓ）構造をなすようにする場合には、化合物の安定性を向上させることができ、フィルムの形成により好ましい形態になる。
【００３３】
以下に本発明の前記実施形態による前記化学式１で示される化合物の具体的な例を示すが、本発明は下記の例により限定されない。
【００３４】
【化７】
0005519659.tif 000008
【００３５】
【化８】
0005519659.tif 000009
【００３６】
【化９】
0005519659.tif 000010
【００３７】
【化１０】
0005519659.tif 000011
【００３８】
【化１１】
0005519659.tif 000012
【００３９】
一方、本発明は、他の実施形態により、前記化学式１で示される化合物の製造方法を提供する。
【００４０】
より具体的に、前記化学式１で示される化合物の製造方法は、下記の化学式２で示される化合物２分子を反応させて、下記の化学式３で示される化合物を形成する工程；前記化学式３で示される化合物のアルコキシ基をヒドロキシ基に置換して、下記の化学式４で示されるコア化合物を形成する工程；及び前記下記の化学式４で示されるコア化合物のヒドロキシ基を
【００４１】
【化１２】
0005519659.tif 000013
【００４２】
に置換する工程；を含む。
【００４３】
【化１３】
0005519659.tif 000014
【００４４】
【化１４】
0005519659.tif 000015
【００４５】
【化１５】
0005519659.tif 000016
【００４６】
但し、前記化学式２で、Ｘ1乃至Ｘ6は各々独立的に水素または炭素数１乃至３のアルコキシ基であり、
前記化学式３で、Ｙ1乃至Ｙ12は各々独立的に水素または炭素数１乃至３のアルコキシ基であり、
前記化学式４で、Ｚ1乃至Ｚ12は各々独立的に水素またはヒドロキシ基である。
【００４７】
この時、前記液晶化合物の製造のために使用される化学式２のＸ1乃至Ｘ6は、好ましくは反応の容易性や反応化合物の準備の容易性などのためにメトキシ基である。また、前記化学式１の液晶化合物の製造のための各反応工程は、有機溶媒及び／または触媒の存在下で行われてもよく、前記有機溶媒及び触媒の構成は限定されない。
【００４８】
そして、前記各反応工程は、反応物の種類及びこれから製造しようとする各生成物の種類によって当業者に自明の通常の反応条件下で行われる。例えば、前記化学式２で示される化合物２分子、例えばジメトキシベンゾフェノンを反応させて、化学式３で示される化合物、例えばテトラアルコキシフェニルエチレン（より具体的な例として、テトラメトキシフェニルエチレン）を形成する反応は、四塩化チタン、亜鉛、及びピリジンなどの塩基の存在下で行うことができる。この場合、前記化合物２分子のジアルコキシベンゾフェノンのケトン基が互いに結合してエチレン基を形成することによって、前記テトラアルコキシフェニルエチレンが製造される。また、前記アルコキシ基をヒドロキシ基に置換する反応は、通常の一般的な反応条件によって三臭化ホウ素（ＢＢｒ3）の存在下で行うことができる。
【００４９】
さらに、前記コア化合物のヒドロキシ基のうちの一つ以上を
【００５０】
【化１６】
0005519659.tif 000017
【００５１】
に置換する工程は、−Ｂ−の作用基の種類によって通常のアシル化反応、アルキル化反応、アミン化反応、またはエーテル化反応条件下で行われる。また、前記コア化合物のヒドロキシ基に２種以上の置換基を導入する必要がある場合には、前記
【００５２】
【化１７】
0005519659.tif 000018
【００５３】
への置換反応を２工程に分けて行ったり、あるいは可能であれば２種以上の混合反応物を使用して１工程で行うこともできる。
【００５４】
このような
【００５５】
【化１８】
0005519659.tif 000019
【００５６】
への置換反応まで行えば、前記化学式１の液晶化合物が容易に製造されるが、このような液晶化合物の製造に関するより具体的な例及びその反応条件は以下の実施例に記述する。
【００５７】
一方、本発明は、また他の実施形態により、前記化学式１で示される化合物を液晶化合物として含む液晶組成物を提供する。前記液晶組成物は、前記化学式１で示される液晶化合物１種以上を含み、また、通常の液晶組成物の製造方法によって製造される。典型的に、多様な成分を室温乃至高温で互いに溶解して製造される。
【００５８】
この時、前記液晶組成物に含まれる前記化学式１で示される化合物は、液晶組成物全体に対して０．１乃至９９．９重量％で含まれ、好ましくは１乃至８０重量％で含まれる。
【００５９】
前記実施形態による液晶組成物は、前記化学式１で示される液晶化合物以外に、必要に応じて液晶性を妨害せずに混合することができる各種化合物を含んでもよい。このような化合物の例としては、通常の液晶組成物に使用される重合性液晶化合物、重合性非液晶化合物、及び／またはポリマーなどがあり、その組成比は目的によって変化させることができる。前記重合性化合物は、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリル基、またはメタクリル基などの重合性基を有する化合物が好ましい。
【００６０】
前記実施形態による液晶組成物は、必要に応じて光反応開始剤を含んでもよい。光反応開始剤は、特に限定されず、当業界で公知の通常の物を使用することができる。その非制限的な例としては、ベンゾイルエーテル、ベンゾイルイソブチルエーテル、ベンゾイルイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、アセトフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド、ベンジルメチルケタール、ジメチルアミノメチルベンゾエ−ト、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、メチルベンゾイルホルマート、２−メチル−１−（４−メチルチオ）フェニル−２−モルフォリノプロパン−１−オン（2-methyl-1-(4-methylthio)phenyl)-2-morpholinopropan-1-one）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン（2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one）、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、Ｉｒｇａｃｕｒｅ系などがある。また、光反応開始剤は、液晶組成物全体１００重量部に対して０．００１〜２０重量部、好ましくは０．０１〜１０重量部で添加される。
【００６１】
また、本発明の前記実施形態による液晶組成物は、必要に応じて有機溶媒をさらに含んでもよい。液晶組成物に有機溶媒が含まれることによって、液晶組成物をフィルムなどの基材上に塗布（コーティング）するのが容易になる。
【００６２】
前記有機溶媒は、特に限定されず、当業界で公知の通常の物を使用することができる。その非制限的な例としては、シクロヘキサン、シクロペンタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ブチルベンゼンなどの炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、酢酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ガンマブチロラクトンなどのエステル類；２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、ケトラクロロエチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン類；ｔ−ブチルアルコール、ジアセトンアルコール、グリセリン、モノアセチン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ヘキシレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール類；フェノール、パラクロロフェノールなどのフェノール類；メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールダイメチルエーテル、エチレングリコールダイエチルエーテル、プロピレングリコールダイメチルエーテル、プロピレングリコールダイエチルエーテル、ダイエチレングリコールダイメチルエーテル、ダイエチレングリコールダイエチルエーテル、ダイプロピレングリコールダイメチルエーテル、ダイプロピレングリコールダイエチルエーテルなどのエーテル類；などがある。また、これら有機溶媒は、単独または２種以上混合して使用することができ、使用量は特に限定されない。
【００６３】
本発明の前記実施形態による液晶組成物は、必要に応じて界面活性剤を含んでもよい。また、本発明の液晶組成物は、その他の添加剤として液晶の螺旋構造及び逆方向ねじれを抑制するカイロルドーパント、平滑剤（ｌｅｖｅｌｉｎｇ ａｇｅｎｔ）などを含んでもよい。
【００６４】
一方、本発明は、また他の実施形態により、前記液晶組成物を利用して光学フィルムを製造する方法を提供する。具体的に、前記光学フィルムの製造方法は、前記液晶組成物を基材上に塗布する工程；前記液晶組成物に塗布された基材を乾燥する工程；及び前記乾燥された基材を硬化処理する工程；を含む。
【００６５】
この時、前記光学フィルムは、基材上に光学異方性層である液晶フィルムが形成されたものであって、前記液晶フィルムにおける液晶の配向状態を液晶化合物の種類、その他のさらに含まれる化合物の種類、及び含有量を適切に選択することによって調節することができる。一方、前記基材は、その表面に光学的に異方性の液晶フィルムが形成されるものであれば特に制限されずに使用することができる。このような基材としては、高分子フィルム、金属、またはガラスなどがある。
【００６６】
また、前記基材は、液晶化合物または液晶組成物を利用して塗布する前に配向処理された配向膜を含んでもよい。前記配向膜材料の非制限的な例としては、ポリイミド、ポリアミド、ポリアクリレート、ポリビニルアルコールなどがある。
【００６７】
一方、前記基材のうちの一部は液晶化合物を配向することができる十分な性能を示し、それ自体をそのまま使用することもできるが、配向性能の向上のために液晶化合物または液晶組成物の塗布前に基材の表面をラビング（ｒｕｂｂｉｎｇ）、延伸、偏光照射、またはスキュー光線照射処理した後で使用してもよい。
【００６８】
ここで、ラビング処理は、基材に直接実施したり、基材上に予め配向膜を形成して、その配向膜をラビング処理して実施することができる。
【００６９】
基材上に液晶組成物を塗布する工程は、通常の方法によって行われる。その非制限的な例として、スピンコーティング法（ｓｐｉｎ ｃｏａｔｉｎｇ）、ロールコーティング法（ｒｏｌｌ ｃｏａｔｉｎｇ）、印刷法（ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、浸漬引上法（Ｄｉｐ−Ｄｒａｗｉｎｇ）、カーテンコーティング法（ｃｕｒｔａｉｎ ｃｏａｔｉｎｇ）、ダイコーティング法（ｄｉｅ ｃｏａｔｉｎｇ）、ディップコーティング法（ｄｉｐ ｃｏａｔｉｎｇ）、バーコーティング法（ｂａｒ ｃｏａｔｉｎｇ）などがある。
【００７０】
前記乾燥過程は、通常の方法によって行われ、乾燥時に液晶化合物を配向させたり、または乾燥後に追加的な加熱によって液晶化合物を配向させる。
【００７１】
前記硬化処理過程は、塗布（コーティング）された液晶組成物に光線照射及び／または熱処理して行われる。この過程で重合性化合物の重合性基による重合反応が起こり、液晶化合物は配向が固定された状態で基材に結合されて、光学異方性層である液晶フィルムが形成される。前記硬化処理に使用される光源の種類は特に限定されず、電子線、紫外線、可視光線、赤外線などがある。この時、紫外線を利用するのが好ましく、照射エネルギーは２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2の範囲であるのが好ましい。このような範囲の照射エネルギーで紫外線を照射する場合、照射時間に制約はないが、１分以内に硬化処理が完了する。一方、熱処理条件は特に限定されず、一般に１０乃至２００℃で３秒乃至３０分間行われる。
【００７２】
前記実施形態による製造方法とは異なる方法でも光学フィルムを製造することができ、具体的に、前記液晶組成物を剥離性フィルム上に塗布する工程；前記液晶組成物に塗布された剥離性フィルムを乾燥する工程；前記乾燥された剥離性フィルムを硬化処理して液晶フィルムを形成する工程；及び前記液晶フィルムを基材に転写する工程を含む。
【００７３】
この時、前記方法は、液晶組成物を剥離性フィルム上に塗布した後、これを乾燥、硬化処理して形成された液晶フィルムを粘着剤または接着剤を使用して基材に転写して製造するという点が異なるだけで、基材上に直接塗布して製造する方法及び乾燥、硬化工程は前記方法と同一である。
【００７４】
一方、前記方法で製造された光学フィルムは、光学補償フィルム、または前記光学補償フィルムを使用した偏光板として使用され、それらは液晶ディスプレイ装置に設置される。好ましくは、液晶ディスプレイ用補償フィルムとして使用される。
【００７５】
本願の方法で製造された光学フィルムは、視野角に応じた色変化を最小化させることができ、コントラスト比が向上して、屈折異方性が高い。特に、本発明の発明者が本発明の実施例による液晶化合物（液晶組成物）を利用して製造した光学フィルムを偏光測定装置であるアクソスキャン（ａｘｏｓａｃｎ）を利用して平均傾斜角βを測定した結果、５°乃至５０°であることが確認された。
【００７６】
一方、前記液晶ディスプレイ装置は、ＴＮモードディスプレイ装置、ＳＴＮモードディスプレイ装置、またはＯＣＢモードディスプレイ装置であるが、特にこれに限定されない。
【実施例】
【００７７】
以下、本発明を実施例を通して詳細に説明する。しかし、下記の実施例は本発明を例示するものであって、本発明は下記の実施例によって限定されない。
【００７８】
［合成例：テトラフェニルエチレンの放射型コアの合成］
【００７９】
【化１９】
0005519659.tif 000020
【００８０】
Ｆｌａｍｅ ｄｒｉｅｄ ｔｗｏ−ｎｅｃｋ ｆｌａｓｋに１．１当量のＴｉＣｌ4をＴＨＦに溶解した溶液の温度を０℃に下げて、２．２当量のＺｎ粉末（Ｚｎ ｐｏｗｄｅｒ）、そして０．８９当量のピリジン（ｐｙｒｉｄｉｎｅ）を順次に添加した。この混合溶液に４，４’−ジメトキシベンゾフェノン（ｄｉｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｏｐｈｅｎｏｎｅ）をＴＨＦ及びＤＣＭに溶解した溶液をゆっくり添加して、６０℃で２０時間反応させた。溶液の温度を常温に下げて、１０％のＫ2ＣＯ3、そして水を順次に添加して、ＤＣＭを利用して抽出した。フラッシュクロマトグラフィー（Ｆｌａｓｈ ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）を利用して生成物を精製した。このようにして製造された化合物を再びＤＣＭに溶解して、溶液の温度を−６０℃に下げた。ここに５．０当量のＢＢｒ3をゆっくり添加して、同一な温度で１時間反応させた後、常温で１６時間さらに反応させた。反応が終了した溶液の温度を０℃に下げ、水を一滴づつ添加して、生成された固体を濾過し、水及びＤＣＭを利用して順次に洗浄した。製造された固体をＥｔＯＨ／ｗａｔｅｒで再結晶精製して、コア化合物を製造した。
【００８１】
1ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，アセトン−ｄ６）：δ６．５９（ｄ，８Ｈ）、６．８３（ｄ，８Ｈ）、８．２０（ｓ，４Ｈ）。
【００８２】
［製造例：液晶化合物の合成］
＜製造例１：液晶化合物１の合成＞
【００８３】
【化２０】
0005519659.tif 000021
【００８４】
４−（４−ヒドロキシフェニル）安息香酸（４−（４−Ｈｙｄｒｏｘｙ ｐｈｅｎｙｌ）ｂｅｎｚｏｉｃ ａｃｉｄ）をＥｔＯＨに溶解した溶液に２．５当量のＫＯＨ及び水を添加して、混合溶液の温度を８０℃に合わせた。この溶液に１．２当量の６−ブロモヘキサノール（ｂｒｏｍｏ ｈｅｘａｎｏｌ）をゆっくり添加して、２０時間反応させた。生成された固体を濾過して、ヘキサン（ｈｅｘａｎｅ）で洗浄した。このようにして製造さた化合物をＤＭＡｃ（ジメチルアセトアミド）に溶解して、ここに１．２当量の塩化アクリロイル（ａｃｒｙｌｏｙｌ ｃｈｌｏｒｉｄｅ）を添加して、３時間反応させた。反応が終了した溶液に過剰の水を添加して、生成された固体を濾過して、複数回水で洗浄して乾燥した。製造された固体をＤＣＭ（ジクロロメタン）／ＤＭＦ（ジメチルホルムアミド）（重量比１０：１）に溶解して、ＥＤＣ（１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）−カルボジイミド塩酸塩）、ＤＭＡＰ（４−（ジメチルアミノ）ピリジン）を順次に添加して、３０分間攪拌した。この溶液に合成例１で合成したコア化合物を添加して、１８時間反応させた。反応溶液をＤＣＭを利用して希釈して水で洗浄した後、減圧蒸留器を利用して溶媒を除去した。フラッシュクロマトグラフィー（Ｆｌａｓｈ ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）を利用して精製して、液晶化合物１を製造した。
【００８５】
1ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ１．４５〜１．５８（ｍ、１６Ｈ）、１．７２（ｍ、８Ｈ）、１．８３（ｍ、８Ｈ）、４．０２（ｔ、８Ｈ）、４．１０（ｔ、８Ｈ）、５．８２（ｄｄ、４Ｈ）、６．１４（ｄｄ、４Ｈ）、６．４２（ｄｄ、４Ｈ）、６．９９（ｄ、８Ｈ）、７．０８（ｄ、８Ｈ）、７．１９（ｄ、８Ｈ）、７．５９（ｄ、８Ｈ）、７．６７（ｄ、８Ｈ）、８．２４（ｄ、８Ｈ）。
ネマチック相の温度範囲：１４５℃〜１５６℃。
【００８６】
＜製造例２：液晶化合物２の合成＞
【００８７】
【化２１】
0005519659.tif 000022
【００８８】
２．４当量の４−（４−ヘプチルオキシフェニル）安息香酸（４−（４−ｈｅｐｔｙｌｏｘｙｐｈｅｎｙｌ）ｂｅｎｚｏｉｃ ａｃｉｄ）及び２．４当量の４−（４−アクリロイルオキシヘキシルオキシフェニル）安息香酸（４−（４−ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙｈｅｘｙｌｏｘｙｐｈｅｎｙｌ）ｂｅｎｚｏｉｃ ａｃｉｄ）をＤＭＦに溶解した溶液に５．２当量のＥＤＣ、０．２当量のＤＭＡＰを添加して、３０分間攪拌した。この混合溶液に合成例１で合成したコア化合物を添加して、二日間反応させた。合成例２と同一な方法で精製を経て、液晶化合物２を製造した。
【００８９】
1ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ０．９０（ｔ、６Ｈ）、１．３１〜１．４０（ｍ、１２Ｈ）、１．４７〜１．５６（ｍ、１２Ｈ）、１．７２（ｍ、４Ｈ）、１．８５（ｍ、８Ｈ）、４．０３（ｍ、８Ｈ）、４．２０（ｔ、４Ｈ）、５．８３（ｄｄ、２Ｈ）、６．１４（ｄｄ、２Ｈ）、６．４１（ｄｄ、２Ｈ）、７．００（ｄ、８Ｈ）、７．０８（ｄ、８Ｈ）、７．１９（ｄ、８Ｈ）、７．６０（ｄ、８Ｈ）、７．６８（ｄ、８Ｈ）、８．１３（ｄ、８Ｈ）。
ネマチック相の温度範囲：１７５℃〜１８５℃。
【００９０】
［実施例：光学フィルムの形成］
＜実施例１：製造例１による液晶化合物１を利用した光学フィルムの準備＞
ＬＤＣ ｇｌａｓｓ上にＰＶＡ配向膜をコーティングした後、ｒｕｂｂｉｎｇしてｐｒｅｔｉｌｔされた配向膜を準備した。この配向膜上に製造例１で準備した液晶化合物１及びＩｒｇａｃｕｒｅ６５１をメチルエチルケトンに溶解した溶液をｂａｒコーティングしてフィルムを形成した。このフィルムを１１０℃の条件で１分間乾燥して、光学フィルムを製造した。
【００９１】
＜実施例２：製造例２による液晶化合物２を利用した光学フィルムの準備＞
液晶化合物１の代わりに液晶化合物２を使用したことを除いては、実施例１と同様な方法で実施した。
【００９２】
［実験例：光学フィルムの厚さの測定及び平均傾斜角βの測定］
実施例１及び実施例２によって準備された光学フィルムをＭｉｃｒｏｍｅｔｅｒ（製造会社：Ｍｉｔｕｔｏｙｏ）を利用して厚さを測定し、偏光測定装置であるアクソスキャン（ａｘｏｓｃａｎ）（製造会社：Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ）を利用して平均傾斜角βを測定
した。測定の結果を下記の表１に記載した。
【００９３】
【表１】
0005519659.tif 000023
【００９４】
前記表１に示されたように、本願の液晶化合物またはこれを含む液晶組成物を利用して製造された光学フィルムは、偏光測定装置であるアクソスキャン（ａｘｏｓｃａｎ）を利用して測定した平均傾斜角β値が５°乃至５０°であって、視野角に応じた色変化を最小化することができ、液晶ディスプレイ装置の製造に関する産業分野に幅広く応用することができる。
【００９５】
以上で、本発明の好ましい実施例について説明したが、本発明はこれに限定されず、特許請求の範囲及び発明の詳細な説明の範囲内で多様に変形して実施することが可能であり、これも本発明の範囲に属する。