(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式Ｉ
【化１】
0005519680.tif 000179
（式中、Ｒ１はメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ハロメチル、ハロエチル、ハロゲン、ビニル、エチニル、メトキシ、エトキシ、ハロメトキシ又はハロエトキシであり；
Ｒ２及びＲ３は、独立して、水素、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニルオキシ、Ｃ３〜Ｃ６ハロアルケニルオキシ、Ｃ３〜Ｃ６アルキニルオキシ、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシスルホニル、シアノ、ニトロ；フェニル又は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ-Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、アミノカルボニル、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニルもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたフェニル；又は、隣接する２つの炭素原子が−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−もしくは−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−基により架橋されているフェニル；あるいは、ヘテロアリール又は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、シクロプロピル-Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニルもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたヘテロアリールであり；
Ｒ４は水素、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、ハロメチル、ハロエチル、ハロゲン、ビニル、エチニル、メトキシ、エトキシ、ハロメトキシ又はハロエトキシであり；
Ｒ５は水素又はメチルであり；
Ｒ６及びＲ７は独立して、水素、メチル、エチル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、ハロゲン、ハロメチル、ハロエチル、ハロゲン、メトキシ、ハロメトキシ、ハロエトキシであり、あるいは、Ｒ６及びＲ７は一緒になって、それらが結合している炭素原子とともに３〜７員環、又は、１個もしくは２個のメチル基で置換された３〜７員環を形成し；そして
ＱはＯ、Ｎ及びＳ（Ｏ）ｐから選ばれる少なくとも1個のヘテロ原子を含む３〜８員の飽和もしくは一価不飽和複素環であるか；
又は、ＱはＯ、Ｎ及びＳ（Ｏ）ｐから選ばれる少なくとも1個のヘテロ原子を含む３〜８員の飽和もしくは一価不飽和複素環であって、＝Ｏ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ-Ｃ１〜Ｃ２アルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルもしくはＣ３〜Ｃ６シクロアルキル−Ｃ１〜Ｃ３アルキルにより置換され、又は、Ｏ及びＮから選ばれる少なくとも１個のヘテロ原子を含む３〜６員ヘテロサイクリルにより置換され、又は、Ｏ及びＮから選ばれる少なくとも１個のヘテロ原子を含む３〜６員ヘテロサイクリル−Ｃ１〜Ｃ３アルキルにより置換され、又は、スピロ-Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルもしくはＯ、Ｎ及びＳ（Ｏ）ｐから選ばれる少なくとも1個のヘテロ原子を含むスピロ-３〜８員飽和複素環により置換され、又は、−Ｏ−ＣＨ２−基により架橋されたものであるか；
又は、ＱはＯ、Ｎ及びＳ（Ｏ）ｐから選ばれる少なくとも1個のヘテロ原子を含む６〜１０員二環式複素環であり；そして
ｐは０、１又は２であり；そして
Ｇは水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル、アルカリ金属、アルカリ土類金属、スルホニウム、アンモニウム又は潜伏基であり；
Ｇが潜伏基である場合、Ｇは−Ｃ（Ｘ１）−Ｒ６、Ｃ（Ｘ２）−Ｘ３−Ｒ７、−Ｃ（Ｘ４）−ＮＲ８Ｒ９、−ＳＯ２Ｒ１０、Ｐ（Ｘ５）Ｒ１１Ｒ１２及びＣＨ２−Ｘ６−Ｒ１３からなる群より選ばれ；
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５及びＸ６は互いに独立して酸素又は硫黄であり；
Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は各々互いに独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルケニル、Ｃ２〜Ｃ１０アルキニル、Ｃ１〜Ｃ１０ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０ニトロアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０アミノアルキル、Ｃ１〜Ｃ５アミノアルキルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルコキシアルキル、Ｃ４〜Ｃ１０アルケニルオキシアルキル、Ｃ４〜Ｃ１０アルキニルオキシアルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルキルチオアルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ８アルキリデンアミノオキシＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルアミノカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルカルボニルアミノＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｎ−Ｃ１〜Ｃ５アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ２〜Ｃ５アルキルアミノアルキル、Ｃ３〜Ｃ６トリアルキルシリルＣ１〜Ｃ５アルキル、フェニルＣ１〜Ｃ５アルキル、ヘテロアリールＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ５アルケニル、Ｃ２〜Ｃ５ハロアルケニル、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル；フェニル又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたフェニル；あるいは、ヘテロアリール又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたヘテロアリールアミノ；あるいは、ジヘテロアリールアミノ又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたジヘテロアリールアミノ；フェニルアミノ又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたフェニルアミノ；ジフェニルアミノ又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたジフェニルアミノ；あるいは、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルアミノ、ジＣ３〜Ｃ７シクロアルキルアミノ又はＣ３〜Ｃ７シクロアルコキシであり；
Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２は水素、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルケニル、Ｃ２〜Ｃ１０アルキニル、Ｃ１〜Ｃ１０ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０ニトロアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０アミノアルキル、Ｃ１〜Ｃ５アミノアルキルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルコキシアルキル、Ｃ４〜Ｃ１０アルケニルオキシアルキル、Ｃ４〜Ｃ１０アルキニルオキシアルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルキルチオアルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ８アルキリデンアミノオキシＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アミノカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルカルボニルアミノＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｎ−Ｃ１〜Ｃ５アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ２〜Ｃ５アルキルアミノアルキル、Ｃ３〜Ｃ６トリアルキルシリルＣ１〜Ｃ５アルキル、フェニルＣ１〜Ｃ５アルキル、ヘテロアリールＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ５アルケニル、Ｃ２〜Ｃ５ハロアルケニル、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル；フェニル又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたフェニル；ヘテロアリール又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたヘテロアリール；ジヘテロアリールアミノ又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロによって置換されたジヘテロアリールアミノ；フェニルアミノ又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたフェニルアミノ；ジフェニルアミノ又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたジフェニルアミノ；あるいは、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルアミノ、ジＣ３〜Ｃ７シクロアルキルアミノ、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ１０ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５アルキルアミノ、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノ；あるいは、ベンジルオキシ又はフェノキシであり、ここで、ベンジル又はフェニル基はＣ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されていてよく；そして
Ｒ１３はＣ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルケニル、Ｃ２〜Ｃ１０アルキニル、Ｃ１〜Ｃ１０ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０ニトロアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０アミノアルキル、Ｃ１〜Ｃ５アミノアルキルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルコキシアルキル、Ｃ４〜Ｃ１０アルケニルオキシアルキル、Ｃ４〜Ｃ１０アルキニルオキシアルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルキルチオアルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ８アルキリデンアミノオキシＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アミノカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルカルボニルアミノＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｎ−Ｃ１〜Ｃ５アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ２〜Ｃ５アルキルアミノアルキル、Ｃ３〜Ｃ６トリアルキルシリルＣ１〜Ｃ５アルキル、フェニルＣ１〜Ｃ５アルキル、ヘテロアリールＣ１〜Ｃ５アルキル、フェノキシＣ１〜Ｃ５アルキル、ヘテロアリールオキシＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ５アルケニル、Ｃ２〜Ｃ５ハロアルケニル、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル；フェニル又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲンもしくはニトロによって置換されたフェニル；あるいは、ヘテロアリールもしくはヘテロアリールアミノ；あるいは、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたヘテロアリールもしくはヘテロアリールアミノ；ジヘテロアリールアミノ又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたジヘテロアリールアミノ、フェニルアミノ又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたフェニルアミノ；ジフェニルアミノ又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたジフェニルアミノ；あるいは、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルアミノ、ジＣ３〜Ｃ７シクロアルキルアミノ、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルコキシ又はＣ１〜Ｃ１０アルキルカルボニルであり；
ここで、「ヘテロアリール」は、チエニル、フリル、ピロリル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、ピラゾリル、イミダゾリル、トリアゾリル、テトラアゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアジニル、オキサジアゾリル又はチアジアゾリル、あるいは、必要に応じて、そのＮ−オキシド又は塩を意味する）
の化合物。
【請求項２】
Ｒ１はメチル、エチル、シクロプロピル又はメトキシである、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ２及びＲ３は独立して、水素、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル、フェニル、又は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、シアノ、ニトロ、ハロゲンもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルによって置換されたフェニルである、請求項１記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ２及びＲ３は独立して水素、塩素、臭素、メチル、メトキシ、エチル、エトキシ、エテニル、エチニル；フェニル、又は、メチル、トリフルオロメチル、シアノ、ニトロ、フッ素、塩素もしくはメチルスルホニルにより置換されたフェニルである、請求項３記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ４は水素、メチル、エチル、塩素、臭素、ビニル、エチニル又はメトキシである、請求項１記載の化合物。
【請求項６】
Ｒ５は水素である、請求項１記載の化合物。
【請求項７】
Ｒ６及びＲ７の１つは水素であり、又は、Ｒ６及びＲ７の両方は水素である、請求項１記載の化合物。
【請求項８】
Ｇが潜伏基である場合、Ｇが−Ｃ（Ｘ１）−Ｒ６又は−Ｃ（Ｘ２）−Ｘ３−Ｒ７であり、Ｘ１、Ｒ６、Ｘ２、Ｘ３及びＲ７の意味は請求項１に規定されるとおりである、請求項１記載の化合物。
【請求項９】
Ｇは水素、アルカリ金属又はアルカリ土類金属である、請求項１記載の化合物。
【請求項１０】
Ｑは下記式
【化２】
0005519680.tif 000180
【化３】
0005519680.tif 000181
（式中、ＲはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシＣ１〜Ｃ２アルキル又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキルであり、ｎは０〜４であり、そして
−Ａは、メチレン部分−ＣＲ５Ｒ６−への結合の位置を表す）の基である、請求項１記載の化合物。
【請求項１１】
ＱはＱ１、Ｑ２、Ｑ５、Ｑ６、Ｑ７、Ｑ２５、Ｑ２６、Ｑ２７、Ｑ２８、Ｑ２９、Ｑ３４、Ｑ４２又はＱ４３の基である、請求項１０記載の化合物。
【請求項１２】
Ｒはメチル又はエチルである、請求項１０記載の化合物。
【請求項１３】
ｎは０、１又は２である、請求項１０記載の化合物。
【請求項１４】
Ｒ１はメチル、エチル又はメトキシであり、
Ｒ２及びＲ３は独立して、水素、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、フェニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ-Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、アミノカルボニル、シアノもしくはハロゲンにより置換されたフェニル、又は、隣接する２つの炭素原子が−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−もしくは−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−基により架橋されているフェニル、又は、ヘテロアリールもしくは、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシもしくはシクロプロピル-Ｃ１〜Ｃ３アルコキシにより置換されたヘテロアリールであり、
Ｒ４は水素、メチル又はエチルであり、
Ｒ５は水素であり、
Ｒ６及びＲ７は独立して水素又はメチルであり、そして
ＱはＯ及びＳ（Ｏ）ｐから選ばれる少なくとも1個のヘテロ原子を含む５〜７員の飽和複素環であるか、
又は、ＱはＯ及びＳ（Ｏ）ｐから選ばれる少なくとも1個のヘテロ原子を含む５〜７員の飽和もしくは一価不飽和複素環であって、Ｃ１〜Ｃ４アルキルもしくはＣ１〜Ｃ４アルコキシ-Ｃ１〜Ｃ２アルキルにより置換され、又は、少なくとも１個のＯ原子を含む５〜６員ヘテロサイクリルにより置換され、又は、少なくとも１個のＯ原子を含む５〜６員ヘテロサイクリル−Ｃ１〜Ｃ３アルキルにより置換され、又は、スピロ-Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルもしくは少なくとも１個のＯ原子を含むスピロ-５〜６員飽和複素環により置換されたものであるか、
又は、Ｑは少なくとも1個のＯ原子を含む８〜１０員二環式複素環であり、
ｐは０、１又は２であり、
Ｇは水素である、請求項１記載の化合物。
【請求項１５】
Ｇが水素である、請求項１記載の式Ｉの化合物の製造方法であって、式（ＡＧ）
【化４】
0005519680.tif 000182
（式中、Ａｒは任意に置換されたフェニル基であり、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は請求項１に規定されるとおりである）のヨードニウムイリド及び式（ＡＨ）
【化５】
0005519680.tif 000183
（式中、Ｒ１〜Ｒ４は請求項１に規定されるとおりである）のアリールボロン酸を、パラジウム触媒、塩基の存在下に、溶剤中で反応させることを含む、方法。
【請求項１６】
Ｇが水素である、請求項１記載の式Ｉの化合物の製造方法であって、式（Ｑ）
【化６】
0005519680.tif 000184
（式中、Ｒ５〜Ｒ７は請求項１に規定されるとおりである）の化合物を、式（ＡＲ）
【化７】
0005519680.tif 000185
（式中、Ｒ１〜Ｒ４は請求項１に規定されるとおりである）の化合物と、リガンドの存在下に、溶剤中で反応させることを含む、方法。
【請求項１７】
有用な植物の作物において野草及び雑草を防除する方法であって、前記植物に又はその所在地に、除草有効量の、請求項１〜１４のいずれか１項に規定されている式Ｉの化合物、又は、かかる化合物を含む組成物を施用することを含む、方法。
【請求項１８】
除草有効量の、請求項１〜１４のいずれか１項に規定されている式Ｉの化合物を含み、そして任意に、混合パートナーとしてさらなる除草剤、又は、セーフナー、あるいは、その両方を含む、除草剤組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は新規の除草活性環式ジオン及びその誘導体、その調製方法、その化合物を含む組成物、ならびに、雑草の抑制、特に有用植物の作物における雑草の抑制又は植物成長の阻害におけるその使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
除草活性を有する環式ジオンは、たとえば、ＷＯ０８／１１０３０８に記載されている。
【発明の概要】
【０００３】
今回、除草特性及び成長阻害特性を有する新規のシクロヘキサンジオン化合物を発見した。
【０００４】
したがって、本発明は式Ｉの化合物に関する。
【０００５】
【化１】
0005519680.tif 000002
【０００６】
（式中、Ｒ１はメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ハロメチル、ハロエチル、ハロゲン、ビニル、エチニル、メトキシ、エトキシ、ハロメトキシ又はハロエトキシであり、
Ｒ２及びＲ３は、独立して、水素、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニルオキシ、Ｃ３〜Ｃ６ハロアルケニルオキシ、Ｃ３〜Ｃ６アルキニルオキシ、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシスルホニル、シアノ、ニトロ、フェニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ-Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、アミノカルボニル、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニルもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたフェニル、又は、隣接する２つの炭素原子が−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−もしくは−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−基により架橋されているフェニル、又は、ヘテロアリールもしくは、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、シクロプロピル-Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニルもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたヘテロアリールであり、
Ｒ４は水素、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、ハロメチル、ハロエチル、ハロゲン、ビニル、エチニル、メトキシ、エトキシ、ハロメトキシ又はハロエトキシであり、
Ｒ５は水素又はメチルであり、
Ｒ６及びＲ７は独立して、水素、メチル、エチル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、ハロゲン、ハロメチル、ハロエチル、ハロゲン、メトキシ、ハロメトキシ、ハロエトキシであり、あるいは、Ｒ６及びＲ７は一緒になって、それらが結合している炭素原子とともに３〜７員環、又は、１個もしくは２個のメチル基で置換された３〜７員環を形成し、
ＱはＯ、Ｎ及びＳ（Ｏ）ｐから選ばれる少なくとも1個のヘテロ原子を含む３〜８員の飽和もしくは一価不飽和複素環であるか、又は、ＱはＯ、Ｎ及びＳ（Ｏ）ｐから選ばれる少なくとも1個のヘテロ原子を含む３〜８員の飽和もしくは一価不飽和複素環であって、＝Ｏ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ-Ｃ１〜Ｃ２アルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルもしくはＣ３〜Ｃ６シクロアルキル−Ｃ１〜Ｃ３アルキルにより置換され、又は、Ｏ及びＮから選ばれる少なくとも１個のヘテロ原子を含む３〜６員ヘテロサイクリルにより置換され、又は、Ｏ及びＮから選ばれる少なくとも１個のヘテロ原子を含む３〜６員ヘテロサイクリル−Ｃ１〜Ｃ３アルキルにより置換され、又は、スピロ-Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルもしくはＯ、Ｎ及びＳ（Ｏ）ｐから選ばれる少なくとも1個のヘテロ原子を含むスピロ-３〜８員飽和複素環により置換され、又は、−Ｏ−ＣＨ２−基により架橋されたものであるか、又は、ＱはＯ、Ｎ及びＳ（Ｏ）ｐから選ばれる少なくとも1個のヘテロ原子を含む６〜１０員二環式複素環であり、
ｐは０、１又は２であり、
Ｇは水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル、アルカリ金属、アルカリ土類金属、スルホニウム、アンモニウム又は潜伏基である）
【０００７】
式Ｉの化合物の置換基の定義において、１〜６個の炭素原子を有する、アルキル置換基及び、アルコキシ、アルキルスルホニルなどの中のアルキル部分は、好ましくは、メチル、エチル、ならびに、直鎖又は枝分かれ鎖異性体の形態で、プロピル、ブチル、ペンチル及びヘキシルである。２〜６個の炭素原子を有するアルケニル及びアルキニル基ならびに１０個以下の炭素原子を有するアルケニル及びアルキニル基は直鎖又は枝分かれ鎖であることができ、そして１個より多くの二重結合又は三重結合を含むことができる。その例は、ビニル、アリル、プロパルギル、ブテニル、ブチニル、ペンテニル及びペンチニルである。適切なシクロアルキル基は３〜７個の炭素原子を含み、そしてたとえば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル及びシクロヘプチルである。シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル及びシクロヘキシルは好ましい。好ましいハロゲンは塩素及び臭素である。ヘテロアリールの好ましい例は、チエニル、フリル、ピロリル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、ピラゾリル、イミダゾリル、トリアゾリル、テトラアゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアジニル、オキサジアゾリル及びチアジアゾリルであり、そして適切な場合には、そのＮ−オキシド及び塩である。これらのアリール及びヘテロアリールは１個以上の置換基によって置換されていてよく、ここで、好ましい置換基はＣ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニル及びＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルである。Ｒ６及びＲ７によってそれらが結合している炭素原子とともに形成される３〜７員環は好ましくは飽和であり、そして好ましくは１又は２個のメチル基によって置換されていてよい炭素環である。
【０００８】
好ましい飽和もしくはモノ不飽和環Ｑの例は下記の基Ｑ１〜Ｑ８５として見いだすことができる。基Ｇは水素、ナトリウム又はカリウムなどのアルカリ金属カチオン、カルシウムなどのアルカリ土類金属カチオン、スルホニウムカチオン（好ましくは−Ｓ（Ｃ１〜Ｃ６アルキル３）＋）又はアンモニウムカチオン（好ましくは、−ＮＨ４＋、又は−Ｎ（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）４＋）、又は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニルもしくはＣ３〜Ｃ６アルキニル又は潜伏基である。潜伏基Ｇは好ましくは−Ｃ（Ｘ１）−Ｒ６、Ｃ（Ｘ２）−Ｘ３−Ｒ７、−Ｃ（Ｘ４）−ＮＲ８Ｒ９、−ＳＯ２Ｒ１０、Ｐ（Ｘ５）Ｒ１１Ｒ１２又はＣＨ２−Ｘ６−Ｒ１３からなる群より選ばれ、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５及びＸ６は互いに独立して水素又は硫黄である。
【０００９】
Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は各々互いに独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルケニル、Ｃ２〜Ｃ１０アルキニル、Ｃ１〜Ｃ１０ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０ニトロアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０アミノアルキル、Ｃ１〜Ｃ５アミノアルキルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルコキシアルキル、Ｃ４〜Ｃ１０アルケニルオキシアルキル、Ｃ４〜Ｃ１０アルキニルオキシアルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルキルチオアルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ８アルキリデンアミノオキシＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルアミノカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルカルボニルアミノＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｎ−Ｃ１〜Ｃ５アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ２〜Ｃ５アルキルアミノアルキル、Ｃ３〜Ｃ６トリアルキルシリルＣ１〜Ｃ５アルキル、フェニルＣ１〜Ｃ５アルキル、ヘテロアリールＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ５アルケニル、Ｃ２〜Ｃ５ハロアルケニル、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル、フェニル又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたフェニル、あるいは、ヘテロアリール又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたヘテロアリールアミノ、あるいは、ジヘテロアリールアミノ又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたジヘテロアリールアミノ、フェニルアミノ又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたフェニルアミノ、ジフェニルアミノ又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたジフェニルアミノ、あるいは、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルアミノ、ジＣ３〜Ｃ７シクロアルキルアミノ又はＣ３〜Ｃ７シクロアルコキシである。
【００１０】
Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２は水素、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルケニル、Ｃ２〜Ｃ１０アルキニル、Ｃ１〜Ｃ１０ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０ニトロアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０アミノアルキル、Ｃ１〜Ｃ５アミノアルキルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルコキシアルキル、Ｃ４〜Ｃ１０アルケニルオキシアルキル、Ｃ４〜Ｃ１０アルキニルオキシアルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルキルチオアルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ８アルキリデンアミノオキシＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アミノカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルカルボニルアミノＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｎ−Ｃ１〜Ｃ５アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ２〜Ｃ５アルキルアミノアルキル、Ｃ３〜Ｃ６トリアルキルシリルＣ１〜Ｃ５アルキル、フェニルＣ１〜Ｃ５アルキル、ヘテロアリールＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ５アルケニル、Ｃ２〜Ｃ５ハロアルケニル、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル、フェニル又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたフェニル、ヘテロアリール又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたヘテロアリール、ジヘテロアリールアミノ又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロによって置換されたジヘテロアリールアミノ、フェニルアミノ又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたフェニルアミノ、ジフェニルアミノ又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたジフェニルアミノ、あるいは、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルアミノ、ジＣ３〜Ｃ７シクロアルキルアミノ、あるいは、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ１０ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５アルキルアミノ、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノ、ベンジルオキシ又はフェノキシであり、ここで、ベンジル又はフェニル基はＣ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されていてよく、そして
【００１１】
Ｒ１３はＣ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルケニル、Ｃ２〜Ｃ１０アルキニル、Ｃ１〜Ｃ１０ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０ニトロアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０アミノアルキル、Ｃ１〜Ｃ５アミノアルキルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルコキシアルキル、Ｃ４〜Ｃ１０アルケニルオキシアルキル、Ｃ４〜Ｃ１０アルキニルオキシアルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルキルチオアルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ８アルキリデンアミノオキシＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アミノカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノカルボニルＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルキルカルボニルアミノＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｎ−Ｃ１〜Ｃ５アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ２〜Ｃ５アルキルアミノアルキル、Ｃ３〜Ｃ６トリアルキルシリルＣ１〜Ｃ５アルキル、フェニルＣ１〜Ｃ５アルキル、ヘテロアリールＣ１〜Ｃ５アルキル、フェノキシＣ１〜Ｃ５アルキル、ヘテロアリールオキシＣ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ５アルケニル、Ｃ２〜Ｃ５ハロアルケニル、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル、フェニル又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲンもしくはニトロによって置換されたフェニル、あるいは、ヘテロアリールもしくはヘテロアリールアミノ、又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたヘテロアリールもしくはヘテロアリールアミノ、あるいは、ヘテロアリールもしくはヘテロアリールアミノ又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたヘテロアリールもしくはヘテロアリールアミノ、ジヘテロアリールアミノ又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたジヘテロアリールアミノ、フェニルアミノ又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたフェニルアミノ、ジフェニルアミノ又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロによって置換されたジフェニルアミノ、あるいは、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルアミノ、ジＣ３〜Ｃ７シクロアルキルアミノ又はＣ３〜Ｃ７シクロアルコキシ又はＣ１〜Ｃ１０アルキルカルボニルである。
【００１２】
特に、潜伏基Ｇは基−Ｃ（Ｘ１）−Ｒ６又は−Ｃ（Ｘ２）−Ｘ３−Ｒ７であり、Ｘ１、Ｒ６、Ｘ２、Ｘ３及びＲ７は上記のとおりである。
【００１３】
これらの潜伏基Ｇは生化学、化学もしくは物理プロセスのいずれか又はそれらの組み合わせによりその除去が可能であり、それにより、処理される領域又は植物への施用の前、その間又はその後にＧがＨである式Ｉの化合物を提供することができるように選択される。これらのプロセスの例としては、酵素開裂、化学的加水分解又は光分解が挙げられる。このような基Ｇを有する化合物は、処理される植物のクチクラの浸入性を改良し、作物の耐久性を向上し、他の除草剤、除草剤セーフナー、植物成長調節剤、殺真菌剤又は殺虫剤を含む製剤混合物中での相溶性又は安定性を向上し、あるいは、土壌中への浸透性を低下させるなどの特定の利点を提供することができる。
【００１４】
式Ｉの化合物の好ましい群において、Ｒ１はメチル、エチル、シクロプロピル又はメトキシである。
【００１５】
好ましくは、式Ｉの化合物中のＲ２及びＲ３は独立して、水素、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニルオキシ、Ｃ３〜Ｃ６ハロアルケニルオキシ、Ｃ３〜Ｃ６アルキニルオキシ、Ｃ３〜Ｃ３シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシスルホニル、シアノ、ニトロ、フェニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニルもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたフェニル、チエニル、又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニルもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたチエニル、フリル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニルもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたフリル、ピラゾリル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニルもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたピラゾリル、チアゾリル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニルもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたチアゾリル、オキサゾリル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニルもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたオキサゾリル、イソチアゾリル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニルもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたイソチアゾリル、イソオキサゾリル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニルもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたイソオキサゾリル、トリアゾリル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニルもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたトリアゾリル、オキサジアゾリル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニルもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたオキサジアゾリル、チアジアゾリル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニルもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたチアジアゾリル、テトラアゾリル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニルもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたテトラアゾリル、ピリジル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニルもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたピリジル、ピリミジニル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニルもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたピリミジニル、ピリダジニル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニルもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたピリダジニル、ピラジニル、又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニルもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたピラジニル、トリアジニル、又は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルフィニルもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたトリアジニルである。
【００１６】
より好ましくは、Ｒ２及びＲ３は独立して水素、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル、フェニル、又は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、シアノ、ニトロ、ハロゲンもしくはＣ１〜Ｃ３アルキルスルホニルにより置換されたフェニルである。
【００１７】
式Ｉのさらにより好ましい化合物において、Ｒ２及びＲ３は独立して水素、塩素、臭素、メチル、メトキシ、エチル、エトキシ、エテニル、エチニル、フェニル、又は、メチル、トリフルオロメチル、シアノ、ニトロ、フッ素、塩素もしくはメチルスルホニルにより置換されたフェニルである。
【００１８】
好ましくは、Ｒ４は水素、メチル、エチル、塩素、臭素、ビニル、エチニル又はメトキシである。
【００１９】
Ｒ５が水素である式Ｉの化合物は好ましい。
【００２０】
式Ｉの化合物の別の好ましい群において、Ｒ６及びＲ７の１つは水素である。
【００２１】
Ｒ６及びＲ７が両方とも水素であることも好ましい。
【００２２】
好ましくは、Ｇは水素、アルカリ金属又はアルカリ土類金属であり、ここで、水素は特に好ましい。
【００２３】
好ましい基Ｑは、下記式
【化２】
0005519680.tif 000003
【００２４】
【化３】
0005519680.tif 000004
【００２５】
のものであり、式中、ＲはＣ１−４アルキル、Ｃ１−４ハロアルキル、Ｃ１−４アルコキシＣ１−２アルキル又はＣ３−６シクロアルキルであり、ｎは０〜４であり、そして−Ａはメチレン部分−ＣＲ５Ｒ６−への結合の位置を表す。
【００２６】
基Ｑ１、Ｑ２、Ｑ５、Ｑ６、Ｑ７、Ｑ２５、Ｑ２６、Ｑ２７、Ｑ２８、Ｑ２９、Ｑ３４、Ｑ４２及びＱ４３はさらに好ましく、Ｑ２、Ｑ７、Ｑ２５、Ｑ２７、Ｑ３４、Ｑ４２及びＱ４３は特に好ましい。
【００２７】
好ましくは、Ｒはメチル又はエチルである。
【００２８】
ｎで好ましいのは０、１及び２である。
【００２９】
式Ｉの好ましい化合物の別の群において、Ｑは６〜１０員二環式複素環、たとえば、Ｑ７３及びＱ８６、特にＱ８６である。
【００３０】
式Ｉの化合物の特に好ましい群において、Ｒ１はメチル、エチル又はメトキシであり、Ｒ２及びＲ３は独立して水素、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、フェニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ-Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシ、アミノカルボニル、シアノもしくはハロゲンにより置換されたフェニル、隣接する２つの炭素原子が−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−もしくは−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−基により架橋されているフェニル、又は、ヘテロアリールもしくは、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシもしくはシクロプロピル-Ｃ１〜Ｃ３アルコキシにより置換されたヘテロアリールであり、
Ｒ４は水素、メチル又はエチルであり、
Ｒ５は水素であり、
Ｒ６及びＲ７は独立して水素又はメチルであり、
ＱはＯ及びＳ（Ｏ）ｐから選ばれる少なくとも1個のヘテロ原子を含む５〜７員の飽和複素環であるか、又は、ＱはＯ及びＳ（Ｏ）ｐから選ばれる少なくとも1個のヘテロ原子を含む５〜７員の飽和もしくは一価不飽和複素環であって、Ｃ１〜Ｃ４アルキルもしくはＣ１〜Ｃ４アルコキシ-Ｃ１〜Ｃ２アルキルにより置換され、又は、少なくとも１個のＯ原子を含む５〜６員ヘテロサイクリルにより置換され、又は、少なくとも１個のＯ原子を含む５〜６員ヘテロサイクリル−Ｃ１〜Ｃ３アルキルにより置換され、又は、スピロ-Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルもしくは少なくとも１個のＯ原子を含むスピロ-５〜６員飽和複素環により置換されたものであるか、又は、Ｑは少なくとも1個のＯ原子を含む８〜１０員二環式複素環であり、
ｐは０、１又は２であり、
Ｇは水素である。
【００３１】
本発明は、また、式Ｉの化合物がアミン、アルカリ金属及びアルカリ土類金属塩基又は第四級アンモニウム塩基と形成することができる塩に関する。塩形成剤としてのアルカリ金属及びアルカリ土類金属水酸化物の中で、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム及びカルシウムの水酸化物が特に挙げられるべきであるが、ナトリウム及びカリウムの水酸化物が特に挙げられるべきである。本発明に係る式Ｉの化合物は、また、塩形成の間に生成されうる水和物も含む。
【００３２】
アンモニウム塩形成に適するアミンの例としては、アンモニア、ならびに、第一級、第二級及び第三級Ｃ１〜Ｃ１８アルキルアミン、Ｃ１〜Ｃ４ヒドロキシアルキルアミン及びＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルアミン、たとえば、メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、４つのブチルアミン異性体、ｎ−アミルアミン、イソアミルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ペンタデシルアミン、ヘキサデシルアミン、ヘプタデシルアミン、オクタデシルアミン、メチルエチルアミン、メチルイソプロピルアミン、メチルヘキシルアミン、メチルノニルアミン、メチルペンタデシルアミン、メチルオクタデシルアミン、エチルブチルアミン、エチルへプチルアミン、エチルオクチルアミン、ヘキシルヘプチルアミン、ヘキシルオクチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｎ−アミルアミン、ジイソアミルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、エタノールアミン、ｎ−プロパノールアミン、イソプロパノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエタノールアミン、Ｎ−エチルプロパノールアミン、Ｎ−ブチルエタノールアミン、アリルアミン、ｎ−ブト−２−エニルアミン、ｎ−ペント−２−エニルアミン、２，３−ジメチルブト−２−エニルアミン、ジブト−２−エニルアミン、ｎ−へキス−２−エニルアミン、プロピレンジアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリ-sec-ブチルアミン、トリ−ｎ―アミルアミン、メトキシエチルアミン及びエトキシエチルアミン、複素環式アミン、たとえば、ピリジン、キノリン、イソキノリン、モルホリン、ピペリジン、ピロリジン、インドーリン、キヌクリジン及びアゼピン、第一級アリールアミン、たとえば、アニリン、メトキシアニリン、エトキシアニリン、o-、m-及びp-トルイジン、フェニレンジアミン、ベンジジン、ナフチルアミン及び、o-、m-及びp-クロロアニリンが挙げられるが、特に、トリエチルアミン、イソプロピルアミン及びジイソプロピルアミンが挙げられる。
【００３３】
塩形成に適切な好ましい第四級アンモニウム塩基は、たとえば、［Ｎ（ＲａＲｂＲｃＲｄ）］ＯＨ（Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ及びＲｄは互いに独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキルである）に対応する。他のアニオンとともにさらなる適切なテトラアルキルアンモニウム塩基を得ることができ、たとえば、アニオン交換反応によって得ることができる。
【００３４】
置換基の性質により、式Ｉの化合物は異なる異性体形態で存在しうる。たとえば、Ｇが水素であるときには、式Ｉの化合物は異なる互変異性形態で存在しうる。本発明はこのような異性体及び互変異性体ならびにそのすべての割合での混合物のすべてを網羅する。また、置換基が二重結合を含むときには、シス−及びトランス−異性体が存在しうる。これらの異性体も特許請求された式Ｉの化合物の範囲に入る。
【００３５】
式Ｉの化合物でＧがＣ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルケニル、Ｃ３〜Ｃ８アルキニル、Ｃ（Ｘ１）−Ｒ２０、Ｃ（Ｘ２）−Ｘ３−Ｒ２１、Ｃ（Ｘ４）−Ｎ（Ｒ２２）−Ｒ２３、−ＳＯ２−Ｒ２４、−Ｐ（Ｘ５）（Ｒ２５）−Ｒ２６又はＣＨ２−Ｘ−Ｒ２７（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６及びＲ２７は上記のとおり）であるものは、ＧがＨである式Ｉの化合物である式（Ａ）の化合物を、好ましくは少なくとも１当量の塩基の存在下に、アルキル化剤、たとえば、アルキルハロゲン化物（アルキルハロゲン化物の定義は単純なアルキルハロゲン化物、たとえば、メチルヨ−ジド及びエチルヨージド、置換されたアルキルハロゲン化物、たとえば、クロロメチルアルキルエーテル、Ｃｌ−ＣＨ２−Ｘ−Ｒ２７（Ｘは酸素である）、及び、クロロメチルアルキルスルフィド、Ｃｌ−Ｓ−ＣＨ２−Ｘ−Ｒ２７（Ｘは硫黄である）を含む）、アルキルスルホネート、又はジアルキルスルフェートによって処理するか、アルケニルハロゲン化物によって処理するか、又は、アルキニルハロゲン化物によって処理するか、又は、アシル化剤、たとえば、カルボン酸、ＨＯ−Ｃ（Ｘ１）Ｒ２０（Ｘ１は酸素である）、酸塩化物、Ｃｌ−Ｃ（Ｘ１）Ｒ２０（式中、Ｘ１は酸素である）、又は酸無水物、[Ｒ２０Ｃ（Ｘ１）]２Ｏ（Ｘ１は酸素である）、又は、イソシアネート、Ｒ２２Ｎ＝Ｃ＝Ｏ、又は塩化カルバモイル、Ｃｌ−Ｃ（Ｘ４）−Ｎ（Ｒ２２）−Ｒ２３（Ｘ４は酸素であり、ただし、Ｒ２２とＲ２３とが両方とも水素でない）、又は塩化チオカルバモイル、Ｃｌ−Ｃ（Ｘ４）−Ｎ（Ｒ２２）−Ｒ２３（Ｘ４は硫黄であり、ただし、Ｒ２２とＲ２３とが両方とも水素でない）、又はクロロホルメート、Ｃｌ−Ｃ（Ｘ２）−Ｘ３−Ｒ２１（Ｘ２とＸ３が酸素である）、又はクロロチオホルメート、Ｃｌ−Ｃ（Ｘ２）−Ｘ３−Ｒ２１（Ｘ２が酸素であり、Ｘ３が硫黄である）、又はイソチオシアネート、Ｒ２２Ｎ＝Ｃ＝Ｓによって処理するか、又は、二硫化炭素及びアルキル化剤で順次に処理するか、又は、リン酸化剤、たとえば、塩化ホスホリル、Ｃｌ−Ｐ（Ｘ５）（Ｒ２５）−Ｒ２６で処理するか、又は、スルホニル化剤、たとえば、塩化スルホニル、Ｃｌ−ＳＯ２−Ｒ２４によって処理することによって調製されることができる。
【００３６】
【化４】
0005519680.tif 000005
【００３７】
環式１，３−ジオンのＯ−アルキル化は知られている：適切な方法は、たとえば、米国特許第４，４３６，６６６号に記載されている。別の方法は、M. T. Pizzorno及びS. M. Albonico, Chem. Ind. (London), 1972, 425; H. Bornら, J. Chem. Soc, 1953, 1779; M. G. Constantinoら, Synth. Commun., 1992, 22 (19), 2859; Y. Tianら, Synth. Commun., 1997, 27 (9), 1577;及び S. Chandra Royら, Chem. Lett. 2006, 35 (No.1), 16に報告されている。
【００３８】
２−アリールシクロキサン−３，５−ジオンのアシル化は、たとえば、米国特許第４，１７５，１３５号、第４，４２２，８７０号、第４，６５９，３７２号及び第４，４３６，６６６号に記載されている方法と同様の方法によって行うことができる。典型的には、少なくとも１当量の適切な塩基の存在下に、任意に適切な溶剤の存在下において、式（Ａ）のジオンをアシル化剤で処理する。その塩基は、無機、たとえば、アルカリ金属炭酸塩又はアルカリ金属水酸化物、又は、金属水素化物、又は、有機塩基、たとえば、第三級アミン又は金属アルコキシドであってよい。適切な無機塩基の例としては、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム、水素化ナトリウムが挙げられ、適切な有機塩基としてはトリアルキルアミン、たとえば、トリメチルアミン及びトリエチルアミン、ピリジン又はその他のアミン塩基、たとえば、１，４−ジアゾビシクロ[２．２．２]オクタン及び１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]ウンデス−７−エンが挙げられる。好ましい塩基としてはトリエチルアミン及びピリジンが挙げられる。この反応に適切な溶剤は試薬と適合するように選択され、そしてエーテル、たとえば、テトラヒドロフラン及び１，２−ジメトキシエタン、及びハロゲン化溶剤、たとえば、ジクロロメタン及びクロロホルムが挙げられる。特定の塩基、たとえば、ピリジン及びトリエチルアミンは塩基及び溶剤の両方としてうまく用いることができる。アシル化剤がカルボン酸である場合には、アシル化は好ましくは、カップリング剤、たとえば、２−クロロ−１−メチルピリジニウムヨ−ジド、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシカルボジイミド、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド及びＮ，Ｎ’−カルボジイミダゾールの存在下に、そして、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン又はアセトニトリルなどの適切な溶剤中のトリエチルアミン又はピリジンなどの塩基の存在下に行われる。適切な手順は、たとえば、W. Zhang及びG. Pugh, Tetrahedron Lett., 1999, 40 (43), 7595-7598及びT. Isobe 及びT. Ishikawa, J. Org. Chem., 1999, 64 (19), 6984に記載されている。
【００３９】
２−アリールシクロヘキサン−３，５−ジオンのリン酸化は米国特許第４，４０９，１５３号に記載されるのと類似の手順によって行える。
【００４０】
式（Ａ）の化合物のスルホニル化は、ハロゲン化アルキルスルホニルもしくはハロゲン化アリールスルホニルを用いて、好ましくは少なくとも１当量の塩基の存在下に、たとえば、C. Kowalski及びK. Fields, J. Org. Chem., 1981, 46, 197の手順によって行える。
【００４１】
式（Ａ）の化合物はＲが水素又はアルキル基である式（Ｂ）の化合物の環化によって、好ましく酸又は塩基の存在下に、任意に、適切な溶剤の存在下に、米国特許第４，２０９，５３２号に記載される方法と類似の方法によって調製されうる。式（Ｂ）の化合物は式Ｉの化合物の合成における中間体として特に設計されている。Ｒが水素である式（Ｂ）の化合物は、酸性条件下に、好ましくは強酸、たとえば、硫酸、ポリリン酸、又は、イートン（Ｅａｔｏｎ）試薬の存在下に、任意に酢酸、トルエン又はジクロロメタンなどの適切な溶剤の存在下において環化されうる。
【００４２】
【化５】
0005519680.tif 000006
【００４３】
Ｒがアルキル（好ましくはメチル又はエチル）である式（Ｂ）の化合物は塩基性条件下に、好ましくは少なくとも１当量の強塩基、たとえば、カリウムtert-ブトキシド、リチウムジイソプロピルアミド又は水素化ナトリウムの存在下において、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどの溶剤中で環化されうる。
【００４４】
ＲがＨである式（Ｂ）の化合物は、たとえば、米国特許第４，２０９，５３２号に記載される方法と同様の方法によって、Ｒ’がアルキル（好ましくはメチル又はエチル）である式（Ｃ）の化合物を標準的な条件下にけん化し、次いで、反応混合物を酸性化して脱カルボキシル化を行うことで調製されうる。
【００４５】
【化６】
0005519680.tif 000007
【００４６】
ＲがＨである式（Ｂ）の化合物は既知の条件下において、たとえば、酸触媒の存在下に、アルキルアルコール、ＲＯＨとともに加熱することにより、Ｒがアルキルである式（Ｂ）の化合物へとエステル化されうる。
【００４７】
Ｒがアルキルである式（Ｃ）の化合物は塩基条件下で、式（Ｅ）の適切なカルボン酸塩化物で式（Ｄ）の化合物を処理することで調製されうる。適切な塩基としてはカリウムtert-ブトキシド、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド及びリチウムジイソプロピルアミドが挙げられ、反応は好ましくは適切な溶剤（たとえば、テトラヒドロフラン又はトルエン）中において−８０℃〜３０℃の温度で行われる。または、ＲがＨである式（Ｃ）の化合物は適切な溶剤（たとえば、テトラヒドロフラン又はトルエン）中で、適切な温度（−８０℃〜０℃）で、適切な塩基（たとえば、カリウムtert-ブトキシド、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド及びリチウムジイソプロピルアミド）によって式（Ｄ）の化合物を処理し、そして得られるアニオンを式（Ｆ）の適切な酸無水物と反応させることで調製されうる。
【００４８】
【化７】
0005519680.tif 000008
【００４９】
式（Ｄ）の化合物は既知の化合物であり、又は、既知の化合物から既知の方法によって製造されうる。
【００５０】
式（Ｅ）の化合物はアルコール、ＲＯＨで処理し、次いで得られた酸を既知の条件下に塩化オキサリル又は塩化チオニルなどの塩素化剤で処理することにより式（Ｆ）の化合物から調製されうる（たとえば、C. S. Rouvier. Tetrahedron Lett., 1984, 25 (39), 4371 ; D.M. Walba及びM. M.Wand, Tetrahedron Lett., 1982, 23, 4995; J. Cason, Org. Synth. Coll. Vol. III, 169, 1955を参照されたい)。
【００５１】
【化８】
0005519680.tif 000009
【００５２】
式（Ｆ）の化合物は酸無水物などの脱水剤により式（Ｇ）の化合物を処理することによって調製されうる(たとえば、J. Cason, Org. Synth. Coll. Vol. IV, 630, 1963に記載されるとおりに）。好ましい酸無水物は無水酢酸である。
【００５３】
【化９】
0005519680.tif 000010
【００５４】
式（Ｇ）の化合物はＲ”及びＲ”’が適切なアルキル基である式（Ｈ）のエステルを加水分解し、次いで、得られた酸を脱カルボキシル化することにより調製されうる。適切なアルキル基は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基であり、特にメチル又はエチルである。加水分解を行うための適切な方法は知られており、たとえば、式（Ｈ）のエステルを、水酸化ナトリウム又は水酸化リチウムなどの適切な塩基の水溶液によって処理し、そして反応混合物を塩酸などの酸によって酸性化して脱カルボキシル化を促進することが挙げられる。
【００５５】
【化１０】
0005519680.tif 000011
【００５６】
式（Ｈ）の化合物は式（Ｊ）の化合物をジアルキルマロネート、たとえば、ジメチルマロネート又はジエチルマロネートと、塩基性条件下に反応させることにより調製されうる。好ましい塩基としては、ナトリウムメトキシド又はナトリウムエトキシドなどのナトリウムアルコキシドが挙げられ、そして反応は好ましくメタノール、エタノール又はトルエンなどの溶剤中で行われる。
【００５７】
【化１１】
0005519680.tif 000012
【００５８】
式Ｊの化合物は既知の化合物であり、又は、既知の方法により既知の化合物から調製されうる。
【００５９】
Ｒ及びＲ５が両方ともＨである式（Ｂ）の化合物は、また、式（Ｋ）の化合物の加水分解及び脱カルボキシル化によっても調製でき、式（Ｋ）の化合物は、ナトリウムメトキシド又はナトリウムエトキシドなどの適切な塩基の存在下に、メタノール、エタノール又はトルエンなどの適切な溶剤中で、ジアルキルマロネート（好ましくはジメチルマロネート又はジエチルマロネート）を、式（Ｌ）の化合物に付加させることにより調製される。式（Ｌ）の化合物は、既知の手順により、式（Ｎ）のβ−ケトエステルと式（Ｍ）のアルデヒドとのクネーファナーゲル縮合によって調製されうる。式Ｎの化合物は文献に記載された方法（たとえば、J. Wempleら, Synthesis, 1993, 290-292;J. Browman, J. Chem. Soc., 1950, 322 を参照されたい）により、ＲがＨである式（Ｄ）の化合物から、対応する酸塩化物への転化及び続く反応により、式（Ｎ）のβ−ケトエステルを提供することにより調製できる。
【００６０】
【化１２】
0005519680.tif 000013
【００６１】
式（Ｍ）の化合物は既知の化合物であり、又は、既知の方法によって既知の化合物から調製されうる。
【００６２】
式（Ａ）のさらなる化合物は、式（Ｏ）の２−ジアゾシクロヘキサン−１，３−ジオンを式（Ｐ）の化合物と既知の条件下に反応させることにより調製されうる。適切な方法としては、ジアゾケトンの光増感分解（たとえば、T.N. Wheeler, J. Org. Chem., 44, 4906, 1979を参照されたい）、又は、既知の条件下に適切な溶剤中で酢酸ロジウム、塩化銅又は銅トリフラートなどの適切な金属触媒を用いること（たとえば、M. OdaらChem. Lett.1263, 1987を参照されたい）が挙げられる。式（Ｐ）の化合物が室温で液体である場合には、これらの反応は溶剤が全く存在しないで行ってよい。式Ｐの化合物は既知であるか、又は、既知の方法によって既知の化合物から調製されうる。
【００６３】
【化１３】
0005519680.tif 000014
【００６４】
式（Ｏ）の化合物は、ジアゾ転位試薬、たとえば、アジ化トシル又はアジ化メシル及び塩基により式（Ｑ）の化合物を処理することにより調製でき、たとえば、T. Ye及びM.A. McKervey (Chem. Rev., 1994, 94, 1091-1160)、H. Stetter及びK. Kiehs (Chem. Ber., 98, 1181 , 1965)及びD. F. Taberら(J. Org. Chem., 1986, 51 , 4077)により記載されるとおりである。
【００６５】
【化１４】
0005519680.tif 000015
【００６６】
式（Ｑ）の化合物は式（Ｉ）の化合物の合成のための中間体として特に設計された。
【００６７】
式（Ｑ）の化合物は、式（Ｒ）（式中、Ｒ””はアルキルである）の化合物を既知の条件下に加水分解しそして脱カルボキシル化することにより調製されうる。好ましくは、Ｒ””はメチル又はエチルである。
【００６８】
【化１５】
0005519680.tif 000016
【００６９】
式（Ｒ）の化合物は、式（Ｓ）の化合物をジアルキルマロネートと塩基性条件下に反応させることにより調製されうる。好ましくは、ジアルキルマロネートはジメチルマロネート又はジエチルマロネートであり、塩基はナトリウムメトキシド又はナトリウムエトキシドなどの金属アルコキシドであり、そして反応はメタノール、エタノール又はトルエンなどの適切な溶剤中で行われる。
【００７０】
【化１６】
0005519680.tif 000017
【００７１】
式（Ｓ）の化合物は既知の化合物であり、又は、既知の方法によって既知の化合物から調製されうる。
【００７２】
Ｒ５がＨである式（Ｑ）のさらなる化合物は、式（Ｔ）の化合物を還元し、次いで、得られた式（Ｕ）のエノールエーテルを酸触媒加水分解することにより調製されうる。式（Ｔ）の化合物の還元を行うための好ましい方法は、アルコール（たとえば、メタノール、エタノール又はtert-ブタノール）の存在下での適切なアミン溶剤（たとえば、アンモニア）中でのアルカリ金属（たとえば、リチウム又はナトリウム）の使用によるものであり、たとえば、E. M. Kaiser (Synthesis, 1972, 391及びその中の参考文献)及びC. F. Masauger及びE Ravina (Tetrahedron Lett., 1996, 37 (No 29), 5171)に記載された方法によるものである。
【００７３】
【化１７】
0005519680.tif 000018
【００７４】
Ｒ７が水素である式（Ｔ）の化合物は、既知の条件下での式（Ｖ）の化合物の還元、たとえば、接触水素化により調製されうる。式（Ｖ）の化合物は、また、アルコール（たとえば、メタノール又はエタノール）の存在下で適切なアミン溶剤（たとえば、アンモニア）中でアルカリ金属（たとえば、リチウム又はナトリウム）を使用して、Ｒ７が水素である式（Ｕ）の化合物に転化されうる。
【００７５】
【化１８】
0005519680.tif 000019
【００７６】
式（Ｖ）の化合物は、式（Ｗ）（式中、Ｈａｌは塩素、臭素又はヨウ素である）のグリニャール試薬を式（Ｘ）の化合物に適切な溶剤中で付加することにより調製されうる。好ましくは、グリニャール試薬は３，５−ジメトキシフェニルマグネシウムクロリドであり、溶剤はテトラヒドロフラン又はジエチルエーテルである。
【００７７】
【化１９】
0005519680.tif 000020
【００７８】
式（Ｖ）の化合物は、また、オルガノ-リチウム化合物Ｑ−Ｌｉ又はオルガノ-マグネシウム試薬Ｑ−Ｍｇ−Ｈａｌ（式中、Ｈａｌは塩素、臭素又はヨウ素である）を式（Ｙ）の化合物と、テトラヒドロフラン又はジエチルエーテルなどの適切な溶剤中で反応させることにより調製されうる。
【００７９】
式（Ｘ）の化合物及び式（Ｙ）の化合物は既知の化合物であり、又は、既知の方法によって既知の化合物から調製されうる。
【００８０】
Ｒ７が水素である式（Ｔ）の化合物は、また、Ａ１及びＡ２が一緒に適切な複素環を形成している式（Ｚ）のスチレンを還元することにより調製されうる。スチレンを還元するための好ましい方法は、既知の条件での適切なパラジウム触媒上での水素化によるものである。
【００８１】
【化２０】
0005519680.tif 000021
【００８２】
Ｒ７がＨである式（Ｕ）の化合物は、また、メタノール、エタノール又はtert-ブタノールなどのアルコールの存在下で適切なアミン溶剤、好ましくはアンモニア中でアルカリ金属（たとえば、リチウム又はナトリウム）による還元により、式（Ｚ）の化合物から調製されうる。
【００８３】
式（Ｚ）の化合物は、好ましくは酸性条件下に、式（ＡＡ）の化合物を脱水することにより調製されうる。式（ＡＡ）の化合物は、式（ＡＢ）の化合物を、式（Ｗ）（式中、Ｈａｌは塩素、臭素又はヨウ素であり、好ましくは塩素である）のグリニャール試薬と、ジエチルエーテル又はテトラヒドロフランなどの適切な溶剤中で反応させることにより調製されうる。
【００８４】
【化２１】
0005519680.tif 000022
【００８５】
式（ＡＢ）の化合物は既知の化合物であり、又は、既知の方法によって既知の化合物から調製されうる。
【００８６】
Ｒ６が水素である式（Ｚ）の化合物は、また、式（ＡＣ）の化合物と、式（ＡＤ）（式中、Ｒ””はアルキル（好ましくはメチル又はエチル）である）のホスホネートとの反応を、水素化ナトリウム、リチウムヘキサメチルシラジド又はｎ−ブチルリチウムなどの適切な塩基及びテトラヒドロフラン又はトルエンなどの適切な溶剤の存在下に行うことにより調製されうる。
【００８７】
【化２２】
0005519680.tif 000023
【００８８】
式（ＡＢ）のさらなる化合物は、式（ＡＥ）（式中、Ｈａｌは塩素、臭素又はヨウ素である）を式（ＡＣ）の化合物と、テトラヒドロフラン又はジエチルエーテルなどの適切な溶剤中で反応させ、次いで、得られた式（ＡＦ）のアルコールを脱水することにより調製されうる。
【００８９】
【化２３】
0005519680.tif 000024
【００９０】
式（ＡＣ）の化合物、式（ＡＤ）の化合物及び式（ＡＥ）の化合物は既知の化合物であり、又は、既知の方法によって既知の化合物から調製されうる。
【００９１】
式（Ａ）のさらなる化合物は、式（ＡＧ）（式中、Ａｒは任意に置換されたフェニル基である）のヨードニウムイリド、及び、式（ＡＨ）のアリールボロン酸を、適切なパラジウム触媒、塩基の存在下に、適切な溶剤中で反応させることにより調製されうる。
【００９２】
【化２４】
0005519680.tif 000025
【００９３】
適切なパラジウム触媒は、一般に、パラジウム（ＩＩ）及びパラジウム（０）錯体であり、たとえば、パラジウム（ＩＩ）ジハリド、パラジウム（ＩＩ）アセテート、パラジウム（ＩＩ）スルフェート、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）又はテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）である。パラジウム触媒は、また、所望のリガンドで錯化することでパラジウム（ＩＩ）又はパラジウム（０）化合物から「現場で」製造することができ、たとえば、錯化されるべきパラジウム（ＩＩ）塩、たとえば、パラジウム（ＩＩ）ジクロリド（ＰｄＣｌ２）又はパラジウム（ＩＩ）アセテート（Ｐｄ（ＯＡｃ）２）と、所望のリガンド、たとえば、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、トリシクロペンチルホスフィン又はトリシクロヘキシルホスフィン及び選ばれた溶剤とを、式（ＡＧ）の化合物、式（ＡＨ）のアリールボロン酸及び塩基とともに混合することで製造することができる。また、二座リガンド、たとえば、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン又は１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタンも適切である。反応媒体を加熱することで、Ｃ−Ｃカップッリング反応に望ましいパラジウム（ＩＩ）錯体又はパラジウム（０）錯体がこのように「現場で」形成され、次いで、Ｃ−Ｃカップリング反応を開始する。
【００９４】
パラジウム触媒は式（ＡＧ）の化合物を基準として、０．００１〜５０モル％の量で使用され、好ましくは０．１〜１５モル％の量で使用される。反応は他の添加剤、たとえば、テトラアルキルアンモニウム塩、たとえば、テトラブチルアンモニウムブロミドの存在下に行ってもよい。好ましくは、パラジウム触媒はパラジウムアセテートであり、塩基は水酸化リチウムであり、溶剤は水性１，２−ジメトキシエタンである。
【００９５】
式（ＡＧ）の化合物はK. Schank及びC. Lick, Synthesis, (1983), 392(1983)又はZ Yangら, Org. Lett., 2002, 4 (No 19), 3333の手順に従って、（ジアセトキシ）ヨードベンゼン及び水性炭酸ナトリウム、水酸化リチウム又は水酸化ナトリウムなどの塩基によって水又は水性エタノールなどの水性アルコールなどの溶剤中で処理することによって式（Ｑ）の化合物から調製されうる。
【００９６】
式（ＡＨ）のアリールボロン酸は、式（ＡＪ）（式中、Ｈａｌは臭素又はヨウ素である）のアリールハリドから既知の方法により調製されうる（たとえば、W.J. Thompson及びJ.Gaudino, J.Org.Chem, 1984, 49, 5237及びR.T. Hawkinsら, J.Am.Chem.Soc., 1960, 82, 3053を参照されたい）。たとえば、式（ＡＪ）のアリールハリドは、適切な溶剤中で、好ましくはジエチルエーテル又はテトラヒドロフラン中で、−８０℃〜３０℃の温度で、アルキルリチウムもしくはアルキルマグネシウムハリドによって処理されてよく、そして得られたアリールマグネシウムもしくはアリールリチウム試薬を、その後、トリアルキルボレート（好ましくはトリメチルボレート）と反応させ、アリールジアルキルボロネートを提供し、それを、酸性条件下に式（ＡＨ）の所望のボロン酸に加水分解することができる。
【００９７】
【化２５】
0005519680.tif 000026
【００９８】
式（ＡＬ）のアリールハリドは式（ＡＫ）のアニリンから既知の方法、たとえば、サンドマイヤ反応により、対応するジアゾニウム塩を経て調製されうる。式（ＡＫ）のアニリンは既知の化合物であり、又は、既知の方法によって既知の化合物から調製されうる。
【００９９】
【化２６】
0005519680.tif 000027
【０１００】
式（Ａ）（式中、Ｒ２は任意に置換されていてよいアリールもしくはヘテロアリールである）のさらなる化合物は、式（ＡＬ）（式中、Ｘ’はアリール−もしくはヘテロアリールボロン酸とクロスカップリングするのに適する原子又は基である）の化合物から、適切なパラジウム触媒及び塩基の存在下に既知の条件下で調製されうる（たとえば、F. Bellina, A.Carpita及びR.Rossi, Synthesis 2004, 15, 2419-2440及びA. Suzuki, Journal of Organometallic Chemistry, 2002, 653, 83を参照されたい）。適切な原子又は基Ｘ’としては、トリフレート、特に、トリフルオロメタンスルホニルオキシ−及びハロゲン、特に、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられる。
【０１０１】
【化２７】
0005519680.tif 000028
【０１０２】
同様に、式（Ａ）（式中、Ｒ３は任意に置換されていてよいアリールもしくはヘテロアリールである）の化合物は式（ＡＭ）（式中、Ｘ’は上記に規定されるとおりである）の化合物及び適切なアリールもしくはヘテロアリールボロン酸からパラジウム触媒条件下に調製されうる。
【０１０３】
【化２８】
0005519680.tif 000029
【０１０４】
式（ＡＬ）の化合物及び式（ＡＭ）の化合物はそれぞれ式（ＡＮ）及び式（ＡＯ）の化合物から、上記の１つ以上の手順により調製されうる。
【０１０５】
【化２９】
0005519680.tif 000030
【０１０６】
式（ＡＮ）及び式（ＡＯ）の化合物は既知の方法によって既知の化合物から調製されうる。
【０１０７】
式（ＡＬ）の化合物は、また、式（Ｏ）の化合物を式（Ａ）の化合物に転化させるための上記の条件と同様の条件下に、式（Ｏ）の化合物を式（ＡＰ）の化合物と反応させることにより調製されうる。
【０１０８】
【化３０】
0005519680.tif 000031
【０１０９】
同様に、式（ＡＭ）の化合物は式（Ｏ）の化合物及び式（ＡＱ）の化合物から同一の条件下に調製されうる。
【０１１０】
さらなるアプローチにおいて、式（Ａ）の化合物は、適切なリガンドの存在下に、適切な溶剤中で、アリール鉛トリカルボキシレートによって処理することにより、化合物（Ｑ）から調製されうる。同様の反応は文献に記載されている（たとえば、J. Pinhey, B. Rowe, Aust. J. Chem., (1979), 32, 1561-6; J. Morgan, J. Pinhey, J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1, (1990), 3, 715-20を参照されたい）。好ましくは、アリール鉛トリカルボキシレートは式（ＡＲ）のアリール鉛トリアセテートである。
【０１１１】
【化３１】
0005519680.tif 000032
【０１１２】
好ましくは、リガンドは窒素含有複素環であり、たとえば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、１，１０−フェナントロリンピリジン、ビピリジン又はイミダゾールであり、そして、式（Ｊ）の化合物に対して１〜１０当量のリガンドが好ましくは用いられる。最も好ましくは、リガンドはＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンである。溶剤は好ましくはクロロホルム、ジクロロメタン又はトルエンであり、最も好ましくはクロロホルム又はクロロホルムとトルエンとの混合物である。好ましくは、反応は−１０℃〜１００℃の温度、最も好ましくは４０〜９０℃で行われる。
【０１１３】
式（ＡＲ）の化合物は、文献（たとえば、K. Shimi, G. Boyer, J-P. Finet及びJ-P. Galy, Letters in Organic Chemistry, (2005), 2, 407-409; J. Morgan及びJ. Pinhey, J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1 ; (1990), 3, 715-720を参照されたい）に記載される手順により、２５℃〜１００℃（好ましくは２５℃〜５０℃）で、適切な溶剤（たとえば、クロロホルム）中にて、任意に二酢酸水銀などの触媒の存在下に、四酢酸鉛によって処理することにより化合物（ＡＨ）の化合物から調製されうる。
【０１１４】
【化３２】
0005519680.tif 000033
【０１１５】
同様に、式（ＡＬ）の化合物は、式（ＡＳ）のアリール鉛トリアセテートにより式（Ｑ）の化合物を処理することにより調製されうる。式（ＡＳ）のアリール鉛トリアセテートは式（ＡＴ）のアリールボロン酸から誘導される。
【０１１６】
【化３３】
0005519680.tif 000034
【０１１７】
式（ＡＭ）の化合物は式（ＡＵ）のアリールボロン酸から式（ＡＶ）のアリール鉛トリアセテートを経て同様に調製されうる。
【０１１８】
【化３４】
0005519680.tif 000035
【０１１９】
式（ＡＴ）及び式（ＡＵ）のアリールボロン酸は既知の化合物であり、又は、既知の方法によって既知の化合物から調製されうる。
【０１２０】
本発明に係る式Ｉの化合物は合成において得られたままの未変性の形態で除草剤として使用することができるが、一般には、製剤補助剤、たとえば、キャリア、溶剤及び界面活性物質を用いた種々のやり方で除草剤組成物中に配合される。その製剤は種々の物理形態であってよく、たとえば、散布用粉末、ゲル、湿潤可能な粉末、水分散性粒剤、水分散性タブレット、発泡性圧縮タブレット、乳化可能な濃厚物、ミクロエマルジョン化可能な濃厚物、水中油型エマルジョン、油性流動物、水性分散体、油性分散体、サスポエマルジョン、カプセルサスペンション、乳化可能な粒剤、可溶性液体、水溶性濃厚物（キャリアとして水又は水混和性有機溶剤を用いる）、含浸ポリマーフィルム又は、たとえば、the Manual on Development and Use of FAO Specifications for Plant Protection Products, 5th Edition, 1999から知られているような他の形態であってよい。このような製剤は直接的に使用されても、又は、使用前に希釈されてもよい。希釈された製剤は、たとえば、水、液体肥料、微量栄養素、生物有機体、油又は溶剤とともに調製されうる。
【０１２１】
製剤は、たとえば、活性成分を製剤補助剤と混合し、微細分割された固形分、粒剤、溶液、分散体又はエマルジョンの形態の組成物を得ることで調製されうる。活性成分は、また、他の補助剤、たとえば、微細分割された固形分、鉱油、植物油、変性植物油、有機溶剤、水、界面活性物質又はその組み合わせと配合されてもよい。活性成分は、ポリマーからなる非常に微細なマイクロカプセル中に閉じ込められてもよい。マイクロカプセルは多孔性キャリア中に活性成分を含む。これにより、活性成分を制御された量で周囲に放出させることができる（たとえば、徐放）。マイクロカプセルは、通常、０．１〜５００ミクロンの直径を有する。マイクロカプセルはカプセル質量のおよそ２５〜９５質量％の量で活性成分を含む。活性成分は、一体の固体の形態、固体もしくは液体分散体中の微細な粒子の形態、又は、適切な溶液の形態で存在することができる。カプセル封入膜は、たとえば、天然及び合成ガム、セルロース、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリアクリロニトリル、ポリアクリレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレア、ポリウレタン又は化学変性ポリマー及びデンプンキサンテート又は他のポリマーであってこの関係の当業者に知られたものを含む。又は、活性成分がベース物質の固体マトリックス中の微細分割された粒子の形態として存在する、非常に微細なマイクロカプセルを形成させることができるが、その場合、マイクロカプセルは封入されない。
【０１２２】
本発明に係る組成物を調製するのに適する製剤補助剤は、それ自体は知られている。液体キャリアとしては、水、トルエン、キシレン、石油エーテル、植物油、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酸無水物、アセトニトリル、アセトフェノン、酢酸アミル、２−ブタノン、ブチレンカーボネート、クロロベンゼン、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、酢酸のアルキルエステル、ジアセトンアルコール、１，２−ジクロロプロパン、ジエタノールアミン、ｐ−ジエチルベンゼン、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールアビエテート、ジエチレングリコールブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、１，４−ジオキサン、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールジベンゾエート、ジプロキシトール、アルキルピロリドン、酢酸エチル、２−エチルヘキサノール、エチレンカーボネート、１，１，１−トリクロロエタン、２−ヘプタノン、α−ピネン、ｄ−リモネン、乳酸エチル、エチレングリコール、エチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、γ−ブチロラクトン、グリセロール、グリセロールアセテート、グリセロールジアセテート、グリセロールトリアセテート、ヘキサデカン、ヘキシレングリコール、イソアミルアセテート、イソボルニルアセテート、イソオクタン、イソホロン、イソプロピルベンゼン、イソプロピルミリステート、乳酸、ラウリルアミン、メシチルオキシド、メトキシプロパノール、メチルイソアミルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルラウレート、メチルオクタノエート、メチルオレエート、塩化メチレン、ｍ−キシレン、ｎ−ヘキサン、ｎ−オクチルアミン、オクタデカン酸、オクチルアミンアセテート、オレイン酸、オレイルアミン、 ｏ−キシレン、フェノール、ポリエチレングリコール（PEG400）、プロピオン酸、乳酸プロピル、プロピレンカーボネート、プロピレングリコール、プロピレングリコールメチルエーテル、ｐ−キシレン、トルエン、トリエチルホスフェート、トリエチレングリコール、キシレンスルホン酸、パラフィン、鉱油、トリクロロエチレン、パークロロエチレン、酢酸エチル、酢酸アミル、酢酸ブチル、プロピレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、及び高分子量アルコール、たとえば、アミルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ヘキサノール、オクタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセロール、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどを使用することができる。濃厚物の希釈のためのキャリアの選択として水は一般的である。適切な固体キャリアは、たとえば、タルク、二酸化チタン、パイロフィライトクレー、シリカ、アタパルジャイトクレー、珪藻土、石灰石、炭酸カルシウム、ベントナイト、カルシウムモンモリロナイト、綿実殻、ホイートミール、大豆粉、軽石、木粉、粉砕クルミ殻、リグニン及び類似材料であり、たとえば、CFR 180.1001. (c) & (d)に記載されている。
【０１２３】
多数の界面活性物質は固体製剤及び液体製剤の両方で有利に使用されることができ、特に、使用前にキャリアにより希釈されうる製剤に有利に使用されうる。界面活性物質はアニオンであっても、カチオンであっても、非イオン性であっても、又は、ポリマー性であってもよく、乳化剤、湿潤剤又は懸濁剤として使用でき、あるいは、他の目的で使用できる。典型的な界面活性物質としては、たとえば、ジエタノールアンモニウムラウリルスルフェートなどのアルキルスルフェートの塩、カルシウムドデシルベンゼエンスルホネートなどのアルキルアリールスルホネートの塩、ノニルフェノールエトキシレートなどのアルキルフェノールアルキレンオキシド付加物、トリデシルアルコールエトキシレートなどのアルコール−アルキレンオキシド付加物、ステアリン酸ナトリウムなどの石けん、ナトリウムジブチルナフタレンスルホネートなどのアルキルナフタレンスルホネートの塩、ナトリウムジ（２−エチルヘキシル）スルホスクシネートなどのスルホスクシネート塩のジアルキルエステル、ソルビトールオレエートなどのソルビトールエステル、ラウリルトリメチルアンモニウムクロリドなどの第四級アミン、ポリエチレングリコールステアレートなどの脂肪酸ポリエチレングリコールエステル、エチレンオキシドとプロピレンオキシドとのブロックコポリマー、モノ−及びジアルキルホスフェートエステルの塩が挙げられ、さらに、たとえば、"McCutcheon's Detergents and Emulsifiers Annual", MC Publishing Corp., Ridgewood, New Jersey, 1981に記載された物質も挙げられる。
【０１２４】
農薬製剤中に通常に使用されうるさらなる補助剤としては、結晶化抑制剤、粘度調節物質、懸濁剤、染料、酸化防止剤、気泡形成剤、光吸収剤、混合助剤、消泡剤、錯化剤、中性化又はｐＨ 調節物質及び緩衝剤、腐食防止剤、香料、湿潤剤、吸収性向上剤、微量栄養素、可塑剤、流動促進剤、潤滑剤、分散剤、増粘剤、凍結防止剤、殺微生物剤、ならびに、液体及び固体肥料が挙げられる。
【０１２５】
製剤は、また、追加の活性物質、たとえば、さらなる除草剤、除草剤セーフナー、植物成長調節剤、殺真菌剤、又は殺虫剤を含んでよい。
【０１２６】
本発明に係る組成物はさらに添加剤を含むことができ、そのような添加剤は植物もしくは動物由来の油、鉱油、このような油のアルキルエステル、又は、このような油及び油の誘導体の混合物を含む。本発明に係る組成物中の油添加剤の使用量はスプレイ混合物を基準として、一般に０．０１〜１０％である。たとえば、スプレイ混合物を調製した後に、所望の濃度でスプレイタンクに油添加剤を添加することができる。好ましい油添加剤は鉱油又は植物由来の油を含み、たとえば、ナタネ油、オリーブ油又はヒマワリ油、乳化植物油、たとえば、ＡＭＩＧＯ（登録商標）（Rhone-Poulenc Canada Inc.）、植物由来の油のアルキルエステル、たとえば、メチル誘導体、あるいは、動物由来の油、たとえば、魚油又は牛脂を含む。好ましい添加剤は、たとえば、活性成分として、本質的に８０質量％の魚油アルキルエステル及び１５質量％のメチル化ナタネ油を含み、さらに、５質量％の慣用の乳化剤及びｐＨ調節剤を含む。特に好ましい油添加剤はＣ８〜Ｃ２２脂肪酸アルキルエステル、特に、Ｃ１２〜Ｃ１８脂肪酸のメチル誘導体を含み、たとえば、ラウリン酸、パルミチン酸及びオレイン酸のメチルエステルが重要である。これらのエステルは、メチルラウレート（ＣＡＳ−１１１−８２−０）、メチルパルミテート（ＣＡＳ−１１２−３９−０）及びメチルオレエート（ＣＡＳ−１１２−６２−９）として知られている。好ましい脂肪酸メチルエステル誘導体はＥｍｅｒｙ（登録商標）２２３０及び２２３１（Ｃｏｇｎｉｓ，ＧｍｂＨ）である。これら及び他の油誘導体もthe Compendium of Herbicide Adjuvants, 5th Edition, Southern Illinois University, 2000から知られている。
【０１２７】
油添加剤の有用性及び作用は、該油添加剤を、界面活性物質、たとえば、ノニオン、アニオン又はカチオン界面活性剤と組み合わせることでさらに改良されうる。適切なアニオン、ノニオン及びカチオン界面活性剤の例はWO 97/34485の第７及び８頁にリストされている。好ましい界面活性物質はドデシルベンゼンスルホネートタイプのアニオン界面活性剤であり、特にそのカルシウム塩であり、また、脂肪族アルコールエトキシレートタイプのノニオン界面活性剤である。特に好ましいのは５〜４０のエトキシル化度を有するエトキシル化Ｃ１２〜Ｃ２２脂肪族アルコールである。市販の界面活性剤の例はGenapolタイプ (Clariant AG)である。シリコーン界面活性剤も好ましく、特に、Silwet L-77（登録商標）として市販されているポリアルキルオキシド変性ヘプタメチルトリシロキサンが好ましく、また、ペルフルオロ化界面活性剤も好ましい。添加剤の総量に対する界面活性物質の濃度は、一般に１〜３０質量％である。油もしくは鉱油又はその誘導体と界面活性剤との混合物からなる油添加剤の例はEdenor ME SU（登録商標）、Turbocharge（登録商標）(Syngenta AG, CH)及びActipron（登録商標）(BP Oil UK Limited, GB)である。
【０１２８】
上記の界面活性物質は製剤中に単独で、すなわち、油添加剤を伴わずに使用されてもよい。
【０１２９】
さらに、油添加剤／界面活性剤混合物への有機溶剤の添加は作用のさらなる向上に寄与することがある。適切な溶剤は、たとえば、Solvesso（登録商標） (ESSO) 及びAromatic Solvent（登録商標）(Exxon Corporation)である。このような溶剤の濃度は合計質量の１０〜８０質量％であることができる。溶剤との混合物であることができる、このような油添加剤は、たとえば、米国特許第４，８３４，９０８号に記載されている。その中に開示された市販の油添加剤はMERGE（登録商標） (BASF Corporation)の名称で知られている。本発明に係る好ましいさらなる油添加剤はSCORE（登録商標） (Syngenta Crop Protection Canada)である。
【０１３０】
上記の油添加剤に加えて、本発明に係る組成物の活性を向上させるために、スプレイ混合物にアルキルピロリドンの製剤（たとえば、Agrimax（登録商標））を添加することもできる。たとえば、ポリアクリルアミド、ポリビニル化合物又はポリ−１−ｐ−メンテンなどの合成ラテックスの製剤（たとえば、Bond（登録商標）、 Courier（登録商標）又はEmerald（登録商標））も使用できる。プロピオン酸を含む溶液、たとえば、Eurogkem Pen-e-trate（登録商標）は活性向上剤としてスプレイ混合物中に混合されうる。
【０１３１】
除草剤製剤は一般に０．１〜９９質量％、特に０．１〜９５質量％の式Ｉの化合物、及び、１〜９９．９質量％の製剤補助剤を含み、その製剤補助剤は好ましくは０〜２５質量％の界面活性物質を含む。市販品は好ましくは濃厚物として配合されるであろうが、最終使用者は通常、希釈製剤を使用するであろう。
【０１３２】
式Ｉの化合物の施用率は広い範囲で変更することができ、土壌の性質、施用の方法（発芽前又は発芽後、種子への被覆、種子溝への施用、無耕地への施用など）、作物植物、防除されるべき野草又は雑草類、支配している気候条件、及び施用方法により支配される他の要因、施用時間及び目標作物によって決まる。本発明に係る式Ｉの化合物は、一般に、１〜４０００ｇ／ha、特に、５〜１０００ｇ／haの施用率で施用される。
【０１３３】
好ましい製剤は特に以下の組成を有する。
（％は質量百分率）
【０１３４】
【表１】
0005519680.tif 000036
【０１３５】
次の例は、限定するわけではないが、本発明をさらに説明する。
【表２】
0005519680.tif 000037
【０１３６】
水で希釈することによりこのような濃厚物から、あらゆる所望の濃度のエマルジョンを調製することができる。
【表３】
0005519680.tif 000038
【０１３７】
この溶液は微細液滴の形態での施用に適する。
【表４】
0005519680.tif 000039
【０１３８】
活性成分を補助剤と徹底的に混合し、その混合物を適切なミル中で徹底的に粉砕して湿潤化可能な粉末を生じ、その粉末は水で希釈されて、あらゆる所望の濃度の懸濁液を提供することができる。
【表５】
0005519680.tif 000040
【０１３９】
活性成分を塩化メチレン中に溶解させ、その溶液をキャリア上にスプレイし、次いで、減圧下で溶剤を蒸発させる。
【表６】
0005519680.tif 000041
【０１４０】
微細に粉砕された活性成分を、ミキサー中で、ポリエチレングリコールで湿潤化されたキャリアに均一に塗布する。このようにして、埃の立たない被覆粒剤を得る。
【表７】
0005519680.tif 000042
【０１４１】
活性成分を補助剤と混合し、そして粉砕し、その混合物を水で湿潤化させる。得られた混合物を押出し、次いで、空気流の中で乾燥させる。
【表８】
0005519680.tif 000043
【０１４２】
すぐに使用できる準備がなされた粉末は活性成分をキャリアと混合し、適切なミル中で混合物を粉砕することで得られる。
【表９】
0005519680.tif 000044
【０１４３】
微細に粉砕した活性成分を補助剤と密に混合し、懸濁液濃厚物を得て、この懸濁液濃厚物から、水による希釈によってあらゆる所望の濃度の懸濁液を調製することができる。
【０１４４】
本発明は、また、有用な植物の作物において野草及び雑草類を選択的に防除する方法であって、式Ｉの化合物で有用な植物を処理し、又は栽培下の領域又はその位置を処理することを含む方法にも関する。
【０１４５】
本発明に係る組成物を使用することができる有用な植物の作物としては、穀物、綿、大豆、テンサイ、サトウキビ、プランテーション作物、ナタネ、トウモロコシ及びコメが挙げられ、雑草の非選択的防除のために使用される。用語「作物」とは、遺伝子工学又は従来の育種方法の結果として、除草剤又は除草剤クラス（たとえば、ＡＬＳ、ＧＳ、ＥＰＳＰＳ、ＰＰＯ、ＡＣＣアーゼ(ase)及びＨＰＰＤ抑制剤）に耐性となった作物をも含むと理解されるべきである。従来の育種方法によって、たとえば、イマザモックスなどのイミダゾリノンに耐性となった作物の例はClearfield（登録商標）サマーレープ（ summer rape） (Canola)である。遺伝子工学方法によって除草剤に耐性となった作物の例は、たとえば、RoundupReady（登録商標）及びLibertyLink（登録商標）の商品名で市販されているグリホサート及びグルホシネート耐性トウモロコシ変種を含む。防除される雑草は、単子葉植物性雑草及び双子葉植物性雑草の両方であることができ、たとえば、ハコベ（Stellaria）、ハコベ（Nasturtium）、ヌカボ（Agrostis）、メヒシバ（Digitaria）、カラスムギ（Avena）、エノコログサ（Setaria）、カラシ（Sinapis）、ライグラス（Lolium）、ナス（Solanum）、ヒエ（Echinochloa）、フトイ（Scirpus）、ミズアオイ（Monochoria）、クワイ（Sagittaria）、イヌムギ（Bromus）、アロペクルス（Alopecurus）、ジョンソングラス（Sorghum）、ロトボエリア（Rottboellia）、カヤツリグサ（Cyperus）、イチビ（Abutilon）、シダ（Sida）、オナモミ（Xanthium）、ヒユ（Amaranthus）、ケノポジ（Chenopodium）、イポメア（Ipomoea）、キク（Chrysanthemum）、ヤエムグラ（Galium）、スミレ（Viola）、及びクワガタソウ（Veronica）がある。
【０１４６】
作物はまた、遺伝子工学法により有害な昆虫に対して耐性にされた作物として理解され、たとえば、Btトウモロコシ（ヨーロッパコーンボーラー（European corn borer）に対して耐性）、Bt綿（コトンメキシコワタノミゾウムシ（cotton boll weevil）に対して耐性）、およびBtバレイショ（コロラドビートル（Colorado beetle）に対して耐性）がある。Btトウモロコシの例は、Bt176トウモロコシ交配種であるNK（登録商標）（Syngenta Seeds）である。Bt毒素は、バシラス・ツリンギエンシス（Baccillus thuringiensis）土壌細菌により天然に生成されるタンパク質である。毒素、又はそのような毒素を合成することができるトランスジェニック植物の例は、EP-A-451 878、EP-A-374 753、WO93/07278、WO95/34656、WO03/052073及びEP-A-427 529に記載されている。昆虫耐性のためのコード化を行いそして１つ以上の毒素を発現する１つ以上の遺伝子を含むトランスジェニック植物の例はKnockOut（登録商標） (トウモロコシ)、Yield Gard（登録商標） (トウモロコシ)、NuCOTIN33B（登録商標） (綿)、Bollgard（登録商標） (綿)、NewLeaf（登録商標） (バレイショ)、NatureGard（登録商標）及びProtexcta（登録商標）である。植物作物及びその種子材料は、除草剤耐性で、同時に昆虫の採餌に対して耐性であることもできる（「多重（stacked）」トランスジェニックイベント）。種子は、たとえば、昆虫活性Ｃｒｙ３タンパク質を発現し、同時にグリホサート耐性を発現することができる。用語「作物」は、いわゆる産出特性（たとえば、改良された風味、貯蔵安定性、栄養分）を含む、従来の育種法又は遺伝子工学の結果として得られた作物も含むものと理解されるべきである。
【０１４７】
耕作領域は作物植物がすでに成長している土地とともに、作物植物の耕作を予定している土地をも含むものと理解されるべきである。
【０１４８】
本発明に係る式Ｉの化合物は他の除草剤との組み合わせで使用することもできる。以下の式Ｉの化合物の混合物は特に重要である。好ましくは、これらの混合物において、式Ｉの化合物は下記の表１〜８１にリストされた化合物の１つである。
【０１４９】
式Ｉの化合物＋アセトクロール、式Ｉの化合物＋アシフルオルフェン、式Ｉの化合物＋アシフルオルフェンナトリウム塩、式Ｉの化合物＋アクロニフェン、式Ｉの化合物＋アクロレイン、式Ｉの化合物＋アラクロール、式Ｉの化合物＋アロキシジム、式Ｉの化合物＋アリルアルコール、式Ｉの化合物＋アメトリン、式Ｉの化合物＋アミカルバゾン、式Ｉの化合物＋アミドスルフロン、式Ｉの化合物＋アミノピラリド、式Ｉの化合物＋アミトロール、式Ｉの化合物＋スルファミン酸アンモニウム、式Ｉの化合物＋アニロホス、式Ｉの化合物＋アシュラム、式Ｉの化合物＋アトラジン、式Ｉの化合物＋アジムスルフロン、式Ｉの化合物＋BCPC、式Ｉの化合物＋ベフルブタミド、式Ｉの化合物＋ベナゾリン、式Ｉの化合物＋ベンフルラリン、式Ｉの化合物＋ベンフレセート、式Ｉの化合物＋ベンスルフロン、式Ｉの化合物＋ベンスルフロンメチル、式Ｉの化合物＋ベンスリド、式Ｉの化合物＋ベンタゾン、式Ｉの化合物＋ベンズフェンジゾン、式Ｉの化合物＋ベンゾビシクロン、式Ｉの化合物＋ベンゾフェナップ、式Ｉの化合物＋ビフェノックス、式Ｉの化合物＋ビラナフォス、式Ｉの化合物＋ビスピリバック、式Ｉの化合物＋ビスピリバックナトリウム、式Ｉの化合物＋ボラックス、式Ｉの化合物＋ブロマシル、式Ｉの化合物＋ブロモブチド、式Ｉの化合物＋ブロモオキシニル、式Ｉの化合物＋ブタクロール、式Ｉの化合物＋ブタフェナシル、式Ｉの化合物＋ブタミフォス、式Ｉの化合物＋ブトラリン、式Ｉの化合物＋ブトロキシジム、式Ｉの化合物＋ブチレート、式Ｉの化合物＋カコジル酸、式Ｉの化合物＋塩素酸カルシウム、式Ｉの化合物＋カフェンストロール、式Ｉの化合物＋カルベタミド、式Ｉの化合物＋カルフェントラゾン、式Ｉの化合物＋カルフェントラゾンエチル、式Ｉの化合物＋CDEA、式Ｉの化合物＋CEPC、式Ｉの化合物＋クロロフルレノール、式Ｉの化合物＋クロロフルレノールメチル、式Ｉの化合物＋クロリダゾン、式Ｉの化合物＋クロリムロン、式Ｉの化合物＋クロリムロンエチル、式Ｉの化合物＋クロロ酢酸、式Ｉの化合物＋クロロトルロン、式Ｉの化合物＋クロルプロファム、式Ｉの化合物＋クロロスルフロン、式Ｉの化合物＋クロルタール、式Ｉの化合物＋クロルタールジメチル、式Ｉの化合物＋シニドンエチル、式Ｉの化合物＋シンメチリン、式Ｉの化合物＋シノスルフロン、式Ｉの化合物＋シスアニリド、式Ｉの化合物＋クレトジム、式Ｉの化合物＋クロジナフォプ、式Ｉの化合物＋クロジナフォププロパルギル、式Ｉの化合物＋クロマゾン、式Ｉの化合物＋クロメプロップ、式Ｉの化合物＋クロピラリド、式Ｉの化合物＋クロランスラム、式Ｉの化合物＋クロランスラムメチル、式Ｉの化合物＋ CMA、式Ｉの化合物＋4-CPB、式Ｉの化合物＋CPMF、式Ｉの化合物＋4-CPP、式Ｉの化合物＋CPPC、式Ｉの化合物＋クレゾール、式Ｉの化合物＋クミルロン、式Ｉの化合物＋シアナミド、式Ｉの化合物＋シアナジン、式Ｉの化合物＋シクロエート、式Ｉの化合物＋シクロスルファムロン、式Ｉの化合物＋シクロキシジム、式Ｉの化合物＋シハロフォプ、式Ｉの化合物＋シハロフォプブチル、式Ｉの化合物＋2,4-D、式Ｉの化合物＋3,4-DA、式Ｉの化合物＋ジアムロン、式Ｉの化合物＋ダラポン、式Ｉの化合物＋ダゾメト、式Ｉの化合物＋2,4-DB、式Ｉの化合物＋3,4-DB、式Ｉの化合物＋2,4-DEB、式Ｉの化合物＋デスメジファム、式Ｉの化合物＋ジカムバ、式Ｉの化合物＋ジクロベニル、式Ｉの化合物＋ortho-ジクロロベンゼン、式Ｉの化合物＋para-ジクロロベンゼン、式Ｉの化合物＋ジクロルプロプ、式Ｉの化合物＋ジクロルプロプ-P、式Ｉの化合物＋ジクロフォップ、式Ｉの化合物＋ジクロフォップメチル、式Ｉの化合物＋ジクロスラム、式Ｉの化合物＋ジフェンゾコート、式Ｉの化合物＋ジフェンゾコートメチルスルフェート、式Ｉの化合物＋ジフルフェニカン、式Ｉの化合物＋ジフルフェンゾピル 、式Ｉの化合物＋ジメフロン、式Ｉの化合物＋ジメピペレート、式Ｉの化合物＋ジメタクロール、式Ｉの化合物＋ジメタメトリン、式Ｉの化合物＋ジメセンアミド、式Ｉの化合物＋ジメセンアミド-P、式Ｉの化合物＋ジメシピン、式Ｉの化合物＋ジメチルアルシン酸、式Ｉの化合物＋ジニトラミン、式Ｉの化合物＋ジノテルブ、式Ｉの化合物＋ジフェンアミド、式Ｉの化合物＋ジコート、式Ｉの化合物＋ジコートジブロミド、式Ｉの化合物＋ジチオピル、式Ｉの化合物＋ジウロン、式Ｉの化合物＋DNOC、式Ｉの化合物＋3,4-DP、式Ｉの化合物＋DSMA、式Ｉの化合物＋EBEP、式Ｉの化合物＋エンドタール、式Ｉの化合物＋EPTC、式Ｉの化合物＋エスプロカルブ、式Ｉの化合物＋エタルフルラリン、式Ｉの化合物＋エタメトスルフロン、式Ｉの化合物＋エタメトスルフロンメチル、式Ｉの化合物＋エトフメセート、式Ｉの化合物＋エトキシフェン、式Ｉの化合物＋エトキシスルフロン、式Ｉの化合物＋エトベンズアニド、式Ｉの化合物＋フェノキサプロップ-P、式Ｉの化合物＋フェノキサプロップ-P-エチル、式Ｉの化合物＋フェントラズアミド、式Ｉの化合物＋硫酸第一鉄、式Ｉの化合物＋フラムプロップ-M、式Ｉの化合物＋フラザスルフロン、式Ｉの化合物＋フロラスラム、式Ｉの化合物＋フルアジフォップ、式Ｉの化合物＋フルアジフォップブチル、式Ｉの化合物＋フルアジフォップ-P、式Ｉの化合物＋フルアジフォップ-P-ブチル、式Ｉの化合物＋フルカルバゾン、式Ｉの化合物＋フルカルバゾンナトリウム、式Ｉの化合物＋フルセトスルフロン、式Ｉの化合物＋フルクロラリン、式Ｉの化合物＋フルフェナセト、式Ｉの化合物＋フルフェンピル、式Ｉの化合物＋フルフェンピルエチル、式Ｉの化合物＋フルメトスラム、式Ｉの化合物＋フルミクロラック、式Ｉの化合物＋フルミクロラックペンチル、式Ｉの化合物＋フルミオキサジン、式Ｉの化合物＋フルオメツロン、式Ｉの化合物＋フルオログリコフェン、式Ｉの化合物＋フルオログリコフェンエチル、式Ｉの化合物＋フルプロパネート、式Ｉの化合物＋フルピルスルフロン、式Ｉの化合物＋フルピルスルフロンメチルナトリウム、式Ｉの化合物＋フルレノール、式Ｉの化合物＋フルリドン、式Ｉの化合物＋フルロクロリドン、式Ｉの化合物＋フルロキシピル、式Ｉの化合物＋フルルタモン、式Ｉの化合物＋フルチアセト、式Ｉの化合物＋フルチアセトメチル、式Ｉの化合物＋フォメサフェン、式Ｉの化合物＋フォルアムスルフロン、式Ｉの化合物＋フォサミン、式Ｉの化合物＋グルホシネート、式Ｉの化合物＋グルホシネートアンモニウム、式Ｉの化合物＋グリホサート、式Ｉの化合物＋ハロスルフロン、式Ｉの化合物＋ハロスルフロンメチル、式Ｉの化合物＋ハロオキシホップ、式Ｉの化合物＋ハロオキシホップ-P、式Ｉの化合物＋HC-252、式Ｉの化合物＋ヘキサジノン、式Ｉの化合物＋イマザメタベンズ、式Ｉの化合物＋イマザメタベンズメチル、式Ｉの化合物＋イマザモックス、式Ｉの化合物＋イマザピック、式Ｉの化合物＋イマザピル、式Ｉの化合物＋イマザキン、式Ｉの化合物＋イマゼタピル、式Ｉの化合物＋イマゾスルフロン、式Ｉの化合物＋インダノファン、式Ｉの化合物＋ヨードメタン、式Ｉの化合物＋ヨードスルフロン、式Ｉの化合物＋ヨードスルフロンメチルナトリウム、式Ｉの化合物＋イオキシニル、式Ｉの化合物＋イソプロツロン、式Ｉの化合物＋イソウロン、式Ｉの化合物＋イソキサベン、式Ｉの化合物＋イソキサクロルトール、式Ｉの化合物＋イソキサフルトール、式Ｉの化合物＋カルブチレート、式Ｉの化合物＋ラクトフェン、式Ｉの化合物＋レナシル、式Ｉの化合物＋リヌロン、式Ｉの化合物＋MAA、式Ｉの化合物＋MAMA、式Ｉの化合物＋MCPA、式Ｉの化合物＋MCPA-チオエチル、式Ｉの化合物＋MCPB、式Ｉの化合物＋メコプロプ、式Ｉの化合物＋メコプロプ-P、式Ｉの化合物＋メフェナセト、式Ｉの化合物＋メフルイジド、式Ｉの化合物＋メソスルフロン、式Ｉの化合物＋メソフルスロンメチル、式Ｉの化合物＋メソトリオン、式Ｉの化合物＋メタム、式Ｉの化合物＋メタミホップ、式Ｉの化合物＋メタミトロン、式Ｉの化合物＋メタザクロール、式Ｉの化合物＋メタベンズチアズロン、式Ｉの化合物＋メチル亜ヒ酸、式Ｉの化合物＋メチルジムロン、式Ｉの化合物＋メチルイソチオシアネート、式Ｉの化合物＋メトベンズロン、式Ｉの化合物＋メトラクロール、式Ｉの化合物＋S-メトラクロール、式Ｉの化合物＋メトスラム、式Ｉの化合物＋メトキシウロン、式Ｉの化合物＋メトリブジン、式Ｉの化合物＋メトスルフロン、式Ｉの化合物＋メトスルフロンメチル、式Ｉの化合物＋MK-616、式Ｉの化合物＋モリネート、式Ｉの化合物＋モノリヌロン、式Ｉの化合物＋MSMA、式Ｉの化合物＋ナプロアニリド、式Ｉの化合物＋ナプロパミド、式Ｉの化合物＋ナプタラム、式Ｉの化合物＋ネブロン、式Ｉの化合物＋ニコスルフロン、式Ｉの化合物＋ノナン酸、式Ｉの化合物＋ノルフルザゾン、式Ｉの化合物＋オレイン酸（脂肪酸）、式Ｉの化合物＋オルベンカルブ、式Ｉの化合物＋オルトスルファムロン、式Ｉの化合物＋オリザリン、式Ｉの化合物＋オキサジアルギル、式Ｉの化合物＋オキサジアゾン、式Ｉの化合物＋オキサスルフロン、式Ｉの化合物＋オキサジクロメホン、式Ｉの化合物＋オキシフルオルフェン、式Ｉの化合物＋パラコート、式Ｉの化合物＋パラコートジクロリド、式Ｉの化合物＋ペブレート、式Ｉの化合物＋ペンジメタリン、式Ｉの化合物＋ペノキシスラム、式Ｉの化合物＋ペンタクロロフェノール、式Ｉの化合物＋ペンタノクロール、式Ｉの化合物＋ペントオキサゾン、式Ｉの化合物＋ペトキサミド、式Ｉの化合物＋石油（petrolium oils）、式Ｉの化合物＋フェンメジファム、式Ｉの化合物＋フェンメジファムエチル、式Ｉの化合物＋ピクロラム、式Ｉの化合物＋ピコリナフェン、式Ｉの化合物＋ピノキサデン、式Ｉの化合物＋ピペロホス、式Ｉの化合物＋亜ヒ酸カリウム、式Ｉの化合物＋アジ化カリウム、式Ｉの化合物���プレチラクロール、式Ｉの化合物＋プリミスルフロン、式Ｉの化合物＋プリミスルフロンメチル、式Ｉの化合物＋プロジアミン、式Ｉの化合物＋プロフルアゾール、式Ｉの化合物＋プロホキシジム、式Ｉの化合物＋プロメトン、式Ｉの化合物＋プロメトリン、式Ｉの化合物＋プロパクロール、式Ｉの化合物＋プロパニル、式Ｉの化合物＋プロパキザホップ、式Ｉの化合物＋プロパジン、式Ｉの化合物＋プロファム、式Ｉの化合物＋プロピソクロール、式Ｉの化合物＋プロポキシカルバゾン、式Ｉの化合物＋プロポキシカルバゾンナトリウム、式Ｉの化合物＋プロピズアミド、式Ｉの化合物＋プロスルホカルブ、式Ｉの化合物＋プロスルフロン、式Ｉの化合物＋ピラクロニル、式Ｉの化合物＋ピラフルフェン、式Ｉの化合物＋ピラフルフェンエチル、式Ｉの化合物＋ピラゾリネート、式Ｉの化合物＋ピラゾスルフロン、式Ｉの化合物＋ピラゾスルフロンエチル、式Ｉの化合物＋ピラゾオキシフェン、式Ｉの化合物＋ピリベンゾオキシム、式Ｉの化合物＋ピリブチカルブ、式Ｉの化合物＋ピリダホル、式Ｉの化合物＋ピリデート、式Ｉの化合物＋ピリフタリド、式Ｉの化合物＋ピリミノバック、式Ｉの化合物＋ピリミノバックメチル、式Ｉの化合物＋ピリミスルファン、式Ｉの化合物＋ピリチオバック、式Ｉの化合物＋リチオバックナトリウム、式Ｉの化合物＋キンクロラック、式Ｉの化合物＋キンメラック、式Ｉの化合物＋キノクラミン、式Ｉの化合物＋キザロホップ、式Ｉの化合物＋キザロホップ-P、式Ｉの化合物＋リムスルフロン、式Ｉの化合物＋セトキシジム、式Ｉの化合物＋シズロン、式Ｉの化合物＋シマジン、式Ｉの化合物＋シメトリン、式Ｉの化合物＋SMA、式Ｉの化合物＋亜ヒ酸ナトリウム、式Ｉの化合物＋アジ化ナトリウム、式Ｉの化合物＋塩素酸ナトリウム、式Ｉの化合物＋スルコトリオン、式Ｉの化合物＋スルフェントラゾン、式Ｉの化合物＋スルホメツロン、式Ｉの化合物＋スルホメツロンメチル、式Ｉの化合物＋スルホサート、式Ｉの化合物＋スルホスルフロン、式Ｉの化合物＋硫酸、式Ｉの化合物＋タールオイル、式Ｉの化合物＋2,3,6-TBA、式Ｉの化合物＋TCA、式Ｉの化合物＋TCA-ナトリウム、式Ｉの化合物＋テブチウロン、式Ｉの化合物＋テプラルオキシジム、式Ｉの化合物＋テルバシル、式Ｉの化合物＋テルブメトン、式Ｉの化合物＋テルブチルアジン、式Ｉの化合物＋テルブトリ
ン、式Ｉの化合物＋テニルクロール、式Ｉの化合物＋チアゾピル、式Ｉの化合物＋チフェンスルフロン、式Ｉの化合物＋チフェンスルフロンメチル、式Ｉの化合物＋チオベンカルブ、式Ｉの化合物＋チオカルバジル、式Ｉの化合物＋トプラメゾン、式Ｉの化合物＋トラコキシジム、式Ｉの化合物＋トリアレート、式Ｉの化合物＋トリアスルフロン、式Ｉの化合物＋トリアジフラム、式Ｉの化合物＋トリベンウロン、式Ｉの化合物＋トリベンウロンメチル、式Ｉの化合物＋トリカムバ、式Ｉの化合物＋トリクロピル、式Ｉの化合物＋トリエタジン、式Ｉの化合物＋トリフロキシスルフロン、式Ｉの化合物＋トリフロキシスルフロンナトリウム、式Ｉの化合物＋トリフルラリン、式Ｉの化合物＋トリフルスルフロン、式Ｉの化合物＋トリフルスルフロンメチル、式Ｉの化合物＋トリヒドロキシトリアジン、式Ｉの化合物＋トリトスルフロン、式Ｉの化合物＋[3-[2-クロロ-4- フルオロ-5-(1-メチル-6-トリフルオロメチル-2,4-ジオキソ-1,2,3,4-テトラヒドロピリミジン-3-イル)フェノキシ]-2- ピリジルオキシ]酢酸エチルエステル (CAS RN 353292-31-6)、式Ｉの化合物＋4-[(4,5-ジヒドロ-3-メトキシ-4-メチル-5-オキソ)-1H-1,2,4-トリアゾール-1-イルカルボニルスルファモイル]-5-メチルチオフェン-3-カルボン酸(BAY636)、式Ｉの化合物＋BAY747 (CAS RN 335104-84-2)、式Ｉの化合物＋トプラメゾン (CAS RN 210631-68-8)、式Ｉの化合物＋4-ヒドロキシ-3-[[2-[(2-メトキシエトキシ)メチル]-6-(トリフルオロメチル)-3-ピリジニル]カルボニル]-ビシクロ[3.2.1]オクト-3-エン-2-オン (CAS RN 352010-68-5)、及び、式Ｉの化合物＋4-ヒドロキシ-3-[[2-(3-メトキシプロピル)-6-(ジフルオロメチル)-3-ピリジニル]カルボニル]-ビシクロ[3.2.1]オクト-3-エン-2-オン。
【０１５０】
式Ｉの化合物の混合パートナーは、また、たとえば、The Pesticide Manual, Twelfth Edition British Crop Protection Council 2000に記載されているとおり、エステル又は塩の形態であってもよい。
【０１５１】
式Ｉの化合物／混合パートナーの混合比は好ましくは１：１００〜１０００：１である。
【０１５２】
混合物は、有利には、上記の製剤中で使用できる（この場合に、「活性成分」は式Ｉの化合物と混合パートナーとのそれぞれの混合物に関する）。
【０１５３】
本発明に係る式Ｉの化合物は、また、セーフナーと組み合わせて使用できる。好ましくは、これらの混合物中で、式Ｉの化合物は下記の表１〜表８１にリストした化合物の１つである。セーフナーとの以下の混合物が特に考えられる：式Ｉの化合物＋クロキントセットメキシル、式Ｉの化合物＋クロキントセット酸及びその塩、式Ｉの化合物＋フェンクロラゾールエチル、式Ｉの化合物＋フェンクロラゾール酸及びその塩、式Ｉの化合物＋メフェンピルジエチル、式Ｉの化合物＋メフェンピル二酸、式Ｉの化合物＋イソオキサジフェンエチル、式Ｉの化合物＋イソキサジフェン酸、式Ｉの化合物＋フリルアゾール、式Ｉの化合物＋フリルアゾールＲ異性体、式Ｉの化合物＋ベノキサコール、式Ｉの化合物＋ジクロルミド、式Ｉの化合物＋AD-67、式Ｉの化合物＋オキサベトリニル、式Ｉの化合物＋シオメトリニル、式Ｉの化合物＋シオメトリニルＺ異性体、式Ｉの化合物＋フェンクロリム、式Ｉの化合物＋シプロスルファミド、式Ｉの化合物＋ナフタル酸無水物、式Ｉの化合物＋フルアゾール、式Ｉの化合物＋CL 304,415、式Ｉの化合物＋ジサイクロノン、式Ｉの化合物＋フルクソフェニム、式Ｉの化合物＋DKA-24、式Ｉの化合物＋R29148、及び、式Ｉの化合物＋PPG-1292。セーフニング効果は、また、式Ｉの化合物＋ダイムロン、式Ｉの化合物＋MCPA、式Ｉの化合物＋メコプロップ及び式Ｉの化合物＋メコプロップ−Ｐの混合物についても観測されうる。
【０１５４】
上記のセーフナー及び除草剤は、たとえば、the Pesticide Manual, Twelfth Edition, British Crop Protection Council, 2000に記載されている。R-29148は、たとえば、P. B. Goldsbroughらの Plant Physiology, (2002), Vol. 130 pp. 1497-1505及びその中の参考文献に記載されており、そしてPPG-1292はWO09211761から知られている。
【０１５５】
除草剤に対するセーフナーの施用率は施用の形態に大きく依存する。用地処理の場合には、一般に、０．００１〜５．０ｋｇセーフナー／ｈａ、好ましくは０．００１〜０．５ｋｇセーフナー／ｈａ、そして一般に、０．００１〜２ｋｇ除草剤／ｈａであるが、好ましくは０．００５〜１ｋｇ／ｈａが施用される。
混合物は、有利には、上記の製剤中で使用できる（この場合に、「活性成分」は式Ｉの化合物と混合パートナーとのそれぞれの混合物に関する）。
【実施例】
【０１５６】
以下の実施例は本発明を例示するが、本発明を限定しない。
調製例
例１：２−（２，４，６−トリメチルフェニル）−５−（テトラヒドロフラン−３−イルメチル）シクロヘキサン−１，３−ジオンの調製
【化３５】
0005519680.tif 000045
【０１５７】
工程１
（３，５−ジメトキシフェニル）（テトラヒドロフラン−３−イル）メタノールの調製
【化３６】
0005519680.tif 000046
【０１５８】
マグネシウム削状物（８．５ｇ、０．３５モル）をアルゴン下に室温で一晩攪拌することで活性化し、そして、無水テトラヒドロフラン（６０ｍｌ）中で懸濁させる。３，５−ジメトキシクロロベンゼン（６０．４ｇ、０．３５モル）の無水テトラヒドロフラン（７５ｍｌ）中の溶液１０ｍｌを添加し、その後、ヨウ素の結晶を添加し、そして混合物を超音波浴に１０分間入れる。テトラヒドロフラン中の３，５−ジメトキシクロロベンゼンの溶液をさらに１０ｍＬ添加し、そして反応物を８０℃で１時間加熱する。出発材料の残りを８０℃で５０分にわたって滴下して加え、その後、８０℃でさらに３０分間加熱を続ける。反応混合物を氷／水浴中で室温未満に冷却し、そしてテトラヒロドロフラン−３−カルボアルデヒド（３５ｇ、０．３５モル）の無水テトラヒドロフラン（３５ｍＬ）中の溶液を３０分にわたって反応混合物に滴下して加える。一度添加が完了すると、反応混合物を室温で一晩攪拌する。反応混合物をデカントし、そして反応混合物のｐＨが１に達するまで、２Ｍの塩酸水溶液をデカントされた溶液に注意深く添加する。反応混合物を酢酸エチルで抽出し（４×１００ｍＬ）、そして有機抽出物を合わせ、ブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で濃縮する。この残留物を、シリカゲル上でカラムクロマトグラフィーにより精製し、（３，５−ジメトキシフェニル）（テトラヒドロフラン−３−イル）メタノールを黄色オイルとして提供する。
1H NMR (CDCl3, ppm) δ 6.51 (dd, 2H), 6.39 (q, 1H), 4.46 (dd, 1H), 3.98-3.84 (m, 2H), 3.80 (s, 3H), 3.79 (s, 3H), 3.77-3.47(m, 2H), 2.65-2.55 (m, 1H), 2.12-1.96 (m, 2H)
【０１５９】
工程２
５−（テトラヒドロフラン−３−イルメチル）シクロヘキサン−１，３−ジオンの調製
【化３７】
0005519680.tif 000047
【０１６０】
液体アンモニア（約３００ｍＬ）を、コールドフィンガーを装備した冷たい（−７８℃）５００ｍＬ３つ口丸底フラスコに窒素ブランケット下に添加する。（３，５−ジメトキシフェニル）（テトラヒドロフラン−３−イル）メタノール（１０．０ｇ、４２ミリモル）のエタノール（１０ｍＬ）中の溶液を添加する。青色が数分間持続するまでリチウムワイヤを約１００ｍｇ片で添加する。青色が消えたときに、さらなるエタノール（５ｍＬ）をさらなるリチウムワイヤ部分（約１００ｍｇ部分）とともに添加し、反応が完了したと判断されるまで（便利にはマススペクトル分析により）、このプロセスを繰り返す。反応混合物を、室温に温め、そして一旦、アンモニアが蒸発されたら、塩化アンモニウムの飽和水溶液（１５０ｍＬ）を添加し、次いで、酢酸エチル（１５０ｍＬ）を添加し、オフホワイトの固形分が溶解するまで混合物を攪拌する。反応混合物を分液漏斗中に注ぎ、層を分離し、そして水性層を酢酸エチルで抽出する。有機抽出物を合わせ、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で濃縮する。残留物をテトラヒドロフラン（１００ｍＬ）及び２Ｍ塩酸水溶液（１００ｍＬ）の混合物中で室温で一晩攪拌し、その後、酢酸エチル中に抽出する。有機抽出物をブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で濃縮し、５−（テトラヒドロフラン−３−イルメチル）シクロヘキサン−１，３−ジオンをオフホワイトの固形分として提供し、それをさらなる精製を行うことなく次の工程で使用する。
【０１６１】
２−（２，４，６−トリメチルフェニル）−５−テトラヒドロフラン−３−イルメチル）シクロヘキサン−１，３−ジオンの調製
【化３８】
0005519680.tif 000048
【０１６２】
工程３ａ
ヨードベンゼンジアセテート（１１．５ｇ、３５．６ミリモル）及び炭酸ナトリウム（３．８ｇ、３５．６ミリモル）を水（７０ｍＬ）中で懸濁させ、そして室温で３０分間攪拌する。一方、炭酸ナトリウム（３．８ｇ、３５．６ミリモル）の水（７０ｍＬ）中の溶液を５−（テトラヒドロフラン−３−イルメチル）シクロヘキサン−１，３−ジオン（７．０ｇ、３５．６ミリモル）に添加し、この混合物を２０分間攪拌し、わずかに可溶性のオレンジ懸濁液を生じる。これら２つの反応混合物を、その後、合わせ、そして混合物を室温で３時間攪拌する。固形分沈殿物をろ過により除去し、ろ液をジクロロメタンで抽出する。有機抽出物を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で濃縮し、黄色のオイルを提供する。オイルをエーテルとともにすり潰し、そしてろ過して、所望のヨードニウムイリドを黄色固形分として提供する。
1H NMR (CDCl3, ppm) δ 7.84 (dd, 2H), 7.53 (m, 1H), 7.36 (t, 2H), 3.89 (t, 1H), 3.83 (m, 1H), 3.73 (q, 1H), 3.29 (t, 1H), 2.76-2.71 (m, 2H), 2.37-2.24 (m, 3H), 2.12-2.00 (m, 2H), 1.51-1.42 (m, 3H)
【０１６３】
工程３ｂ
工程３ａにおいて調製したヨードニウムイリド（１．５ｇ、３．７７ミリモル）を１，２−ジメトキシエタン（４０ｍｌ）及び水（１０ｍＬ）の混合物中に懸濁させる。２，４，６−トリメチルフェニルボロン酸（０．５４ｇ、４．１４ミリモル）を添加し、次いで、水酸化リチウム一水和物（０．４８ｇ、１１．３ミリモル）、テトラブチルアンモニウムブロミド（１．２５ｇ、３．７７ミリモル）及びパラジウム（ＩＩ）アセテート（０．０４２ｇ、０．２１ミリモル）を添加し、そして混合物を５０〜５２℃で６時間３０分加熱し、その後、室温に冷却する。反応混合物を２Ｎ塩酸水溶液で酸性化し、その後、酢酸エチル中に抽出する。有機抽出物を合わせ、０．５Ｍ炭酸カリウム水溶液で分離させる。有機相を捨てる。水性相を濃塩酸でｐＨ１に酸性化し、酢酸エチルで抽出する。有機抽出物を合わせ、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で濃縮する。残留物をシリカゲル上でカラムクロマトグラフィーにより精製し、２−（２，４，６−トリメチルフェニル）−５−テトラヒドロフラン−３−イルメチル）シクロヘキサン−１，３−ジオンを淡黄色固形分として提供する。ｍ．ｐ．６２〜６４℃。
1H NMR (CDCl3, ppm) δ 6.94 (s, 2H), 5.50 (br s, 1H), 3.96 (br t, 1H), 3.89 (m, 1H), 3.78 (q, 1H), 3.36 (t, 1H), 2.71-2.66 (br m, 2H), 2.44-2.22 (m, 7H), 2.09-2.03 (m, 7H), 1.60-1.50 (br m, 3H)
【０１６４】
例２
２−（２，６−ジエチル−４−メチルフェニル）−５−（テトラヒドロピラン−４−イルメチル）シクロヘキサン−１，３−ジオンの調製
【化３９】
0005519680.tif 000049
【０１６５】
工程１
４−（メトキシメチレン）テトラヒドロピランの調製
【化４０】
0005519680.tif 000050
【０１６６】
メトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロリド（８１．８ｇ）を乾燥ＴＨＦ（２００ｍｌ）中に懸濁させ、そして窒素下に０℃で攪拌する。ＴＨＦ（２３９ｍｌ）中のリチウムビス（トリメチルシリル）アミドの１モル濃度溶液を、カニューレにより窒素下に滴下漏斗に移し、そして２０分にわたって添加する。得られた赤褐色の溶液を０〜２０℃で１時間攪拌する。その後、混合物を２５℃に冷却し、テトラヒドロ−４Ｈ−ピラン−４−オン（２０ｍｌ）を１０分にわたり添加する。冷却浴を取り外し、混合物を室温に到達させ、その後、２２時間攪拌する。反応混合物を水（４００ｍｌ）中に注ぎ、エーテル（２×４００ｍｌ）中に抽出する。有機抽出物を合わせ、水（２×４００ｍｌ）で洗浄し、そしてブライン（４００ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で濃縮する。残留物を８００ｍｌのエーテル：ヘキサン（１：１）で処理し、１５分間攪拌し、その後、アイスバス中で１０分間冷却し、そして真空下でろ過し、沈殿したトリフェニルホスフィンオキシドを除去する。ろ液を濃縮し、４００ｍｌのエーテル：ヘキサン（１：１）で再び処理し、１５分間攪拌し、その後、アイスバス中で冷却し、追加の沈殿物をろ過により除去する。ろ液を濃縮し、２５．３７１ｇの褐色オイルを提供し、それを、真空蒸留によりさらに精製し、４−（メトキシメチレン）−テトラヒドロピラン（ｂ．ｐ.６６℃／２０ｍｍＨｇ）を提供する。
1H NMR (CDCl3, ppm) δ 5.82 (s, 1H), 3.61 (m, 4H), 3.53 (s, 3H), 2.28 (t, 2H), 2.04 (t, 2H)
【０１６７】
工程２
テトラヒドロピラン−４−カルボキシアルデヒドの調製
【化４１】
0005519680.tif 000051
【０１６８】
水（９０ｍｌ）及びＴＨＦ（９０ｍｌ）の混合物中の４−（メトキシメチレン）テトラヒドロピラン（１７．１８ｇ、１３４ミリモル）及びトルエン−４−スルホン酸水和物（３５．７６ｇ、１８８ミリモル）の混合物を室温で４．５時間攪拌する。その混合物をＮａＨＣＯ３の飽和水溶液（３００ｍｌ）で処理し、そして発泡が止むまで攪拌する。混合物を分液漏斗に移し、ブライン（１００ｍｌ）を添加し、そして混合物をジクロロメタン（４×１５０ｍｌ）で分ける。有機抽出物を合わせ、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で濃縮し、テトラヒドロピラン−４−カルボキシアルデヒドを提供する。
1H NMR (CDCl3, ppm) δH 9.61 (s, 1H), 3.92 (m, 2H), 3.45 (m, 2H), 2.50-2.43 (m, 1H), 1.85-1.79 (m, 2H), 1.70-1.61 (m, 2H)
【０１６９】
工程３
（３，５−ジメトキシフェニル）（テトラヒドロピラン−４−イル）メタノールの調製
【化４２】
0005519680.tif 000052
【０１７０】
テトラヒドロピラン−４−カルボキシアルデヒド（１６．０ｇ、０．１４モル）のテトラヒドロフラン（６０ｍｌ）中の溶液を、テトラヒドロフラン（１４０ｍｌ）中の３，５−ジメトキシフェニルマグネシウムクロリドの１Ｍ溶液に、１時間にわたって滴下して加え、外部冷却により反応を還流下又はそれ以下に維持する。一旦、添加が完了し、そして発熱が収まったら、反応混合物を室温で一晩攪拌する。希塩酸水溶液（３００ｍｌ）を注意深く添加し、そして反応混合物を酢酸エチルで抽出する。有機抽出物を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で蒸発させる。シリカゲル上でカラムクロマトグラフィーによる精製により、（３，５−ジメトキシフェニル）（テトラヒドロピラン−４−イル）メタノールがクリーム色の固形分として提供される。
1H NMR (CDCl3, ppm) δ 6.47 (d, 2H), 6.38 (t, 1H), 4.29 (d, 1H), 4.01 (dd, 1H), 3.90 (dd, 1H), 3.36 (m, 1H), 3.29 (m, 1H), 1.96 (br s, 1H), 1.92-1.87 (m, 1H), 1.83-1.77 (m, 1H), 1.51-1.18 (m, 3H)
【０１７１】
５−（テトラヒドロピラン−４−イルメチル）シクロヘキサン−１，３−ジオンの調製
【化４３】
0005519680.tif 000053
【０１７２】
エタノール（２ｍＬ）中の（３，５−ジメトキシフェニル）（テトラヒドロピラン−４−イル）メタノール（３０８ｍｇ、１．３ミリモル）を含むフラスコに、アンモニア（ナトリウム及び鉄（ＩＩＩ）クロリドを用いて予備乾燥）（約２００ｍＬ）を蒸留して入れ、そして反応混合物が青色を維持するまで、リチウムワイヤを小分けして反応混合物に添加する。その後、さらなる量のエタノール（約２ｍＬ）を添加し、次いで、さらに少量のリチウムを添加し、青色が数分間持続するまで反応混合物を攪拌する。アンモニアを蒸発させ、得られた白色溶液を飽和塩化アンモニウム水溶液中に吸収させ、そして酢酸エチルで抽出する。有機抽出物をブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で濃縮する。
【０１７３】
残留物を、テトラヒドロフラン及び希塩酸水溶液の１：１混合物（５０ｍｌ）中に溶解させ、反応混合物を室温で一晩攪拌する。反応物を酢酸エチルで抽出し、そして有機抽出物を合わせ、ブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で濃縮し、白色固形分を提供する。酢酸エチル／ヘキサンからの再結晶により、５−（テトラヒドロピラン−４−イルメチル）シクロヘキサン−１，３−ジオンが白色固形分として提供される。ｍ．ｐ．１２９〜１３０℃。
【０１７４】
工程５
【化４４】
0005519680.tif 000054
の調製
【０１７５】
工程５ａ
ヨードベンゼンジアセテート（１８４ｍｇ、０．５７ミリモル）及び炭酸ナトリウム（６０ｍｇ、０．５７ミリモル）を水（２０ｍＬ）中で懸濁させ、そして混合物を室温で３０分間攪拌し、淡黄色懸濁液を提供する。一方、炭酸ナトリウム（６０ｍｇ、０．５７ミリモル）の水（１０ｍＬ）及びエタノール（１０ｍＬ）中の溶液を、５−（テトラヒドロピラン−４−イルメチル）シクロヘキサン−１，３−ジオン（１２０ｍｇ、０．５７ミリモル）に添加し、この反応物を室温にて２０分間攪拌する。それから、２つの混合物を合わせ、反応混合物を室温にて１時間攪拌する。その後、反応混合物をブラインとジクロロメタンとの間で分離させ、有機抽出物を合わせ、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で蒸発させ、所望のヨードニウムイリドを提供し、それを、さらなる精製を行わずに次の工程において用いる。
1H NMR (CDCl3, ppm) δH 7.79-7.76 (m, 2H), 7.46 (m, 1H), 7.33-7.24 (m, 2H), 3.86 (dd, 2H), 3.28 (m, 2H), 2.63 (dd, 2H), 2.26-2.11 (m, 3H), 1.56-1.47 (m, 3H), 1.23 (t, 2H), 1.21-1.11 (m, 2H)
【０１７６】
工程５ｂ
工程５ａにおいて調製したヨードニウムイリド（１９３ｍｇ、０．４７ミリモル）を、２，６−ジエチル−４−メチルフェニルボロン酸（９０ｍｇ、０．４７ミリモル）、テトラブチルアンモニウムブロミド（１５１ｍｇ、０．４７ミリモル）、水酸化リチウム一水和物（６０ｍｇ、１．４ミリモル）及びパラジウム（ＩＩ）アセテート（触媒量）の水性１，２−ジメトキシエタン中の混合物に添加し、この反応混合物を５０℃で３時間加熱する。その後、反応物を冷却し、希塩酸水溶液を添加し、そして混合物を酢酸エチルで抽出する。有機抽出物を合わせ、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で濃縮する。残留物をシリカゲル上でカラムクロマトグラフィーにより精製し、２−（２，６−ジエチル−４−メチルフェニル）−５−（テトラヒドロピラン−４−イルメチル）シクロヘキサン−１，３−ジオンを提供する。
1H NMR (CDCl3, ppm) δ 7.0 (s, 2H), 5.50 (br s, 1H), 3.98 (br dd, 2H), 3.40 (br t, 2H), 2.68-2.63 (m, 2H), 2.45-2.25 (m, 10H), 1.69-1.55 (m, 3H), 1.44 (br t, 2H), 1.35-1.20 (m, 2H), 1.08 (q, 6H)
【０１７７】
例３
２−（２，６−ジエチル−４−メチルフェニル）−５−（[１，３]ジオキソラン−２−イルメチル）シクロヘキサン−１，３−ジオン（化合物Ａ−６）の調製
【化４５】
0005519680.tif 000055
【０１７８】
工程１
２−（３，５−ジメトキシ−シクロヘキサ−２，５−ジエニルメチル）−[１，３]−ジオキソランの調製
【化４６】
0005519680.tif 000056
【０１７９】
エタノール（３ｍＬ）中の２−（３，５−ジメトキシベンジル）−[１，３]−ジオキソラン（１．０ｇ、４．４６ミリモル）を含むフラスコに、アンモニア（ナトリウム及び鉄（ＩＩＩ）クロリドを用いて予備乾燥）（約６０ｍＬ）を蒸留して入れ、そして反応混合物が１０分間、青色を維持するまで、リチウムワイヤを小分けにして反応混合物に添加する。エタノール（１ｍＬ）を、その後、添加し、そして−３３℃で２０〜２５分間混合物を攪拌する。アンモニアを蒸発させ、得られた混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液（２０ｍｌ）中に吸収させ、そして酢酸エチル（３×２５ｍｌ）で抽出する。有機抽出物をブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で濃縮し、２−（３，５−ジメトキシ−シクロヘキサ−２，５−ジエニルメチル）−[１，３]−ジオキソランを提供する。
1H NMR (CDCl3, ppm) δ 5.00 (t, 1H), 4.70 (m, 2H), 4.01及び3.89 (2 X m, 4H), 3.58 (s, 6H), 3.20, (m, 1H), 2.79 (m, 2H), 1.79 (m, 2H)
【０１８０】
工程２
５−（[１，３]−ジオキソラン−２−イルメチル）−シクロヘキサン−１，３−ジオンの調製
【化４７】
0005519680.tif 000057
【０１８１】
１０％塩酸水溶液（２．９ｍｌ）及びテトラヒドロフラン（２９ｍｌ）の混合物中の２−（３，５−ジメトキシシクロヘキサ−２，５−ジエニルメチル）−[１，３]−ジオキソラン（７３０ｍｇ、３．２ミリモル）の溶液を室温にて３／４時間攪拌する。反応混合物を飽和炭酸カリウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機抽出物を捨てる。水性抽出物を希塩酸水溶液で酸性化し、そして酢酸エチルで抽出する。有機抽出物を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、その後、ろ液を真空中で蒸発させ、５−（[１，３]−ジオキソラン−２−イルメチル）−シクロヘキサン−１，３−ジオンを白色固形分として提供し、それを、さらなる精製を行わずに次の工程で使用する。
【０１８２】
工程３
２−（２，６−ジエチル−４−メチルフェニル）−５−（[１，３]ジオキソラン−２−イルメチル）シクロヘキサン−１，３−ジオンの調製
【化４８】
0005519680.tif 000058
【０１８３】
工程３ａ
ヨードベンゼンジアセテート（４５４ｍｇ、１．４ミリモル）及び炭酸ナトリウム（１４８ｍｇ、１．４ミリモル）を水（６．５ｍＬ）中で懸濁させ、そして混合物を室温で３０分間攪拌する。一方、炭酸ナトリウム（１４８ｍｇ、１．４ミリモル）の水（６．５ｍＬ）中の溶液を、５−（[１，３]−ジオキソラン−２−イルメチル）シクロヘキサン−１，３−ジオン（２８０ｍｇ、１．４ミリモル）に添加し、この混合物を室温にて２０分間攪拌する。それから、２つの混合物を合わせ、反応混合物を室温にて２時間攪拌する。反応混合物をジクロロメタンで抽出し、そして有機抽出物を合わせ、ブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で蒸発させ、所望のヨードニウムイリドを提供し、それを、さらなる精製を行わずに次の工程において用いる。
【０１８４】
工程３ｂ
工程３ａにおいて調製したヨードニウムイリド（４７７ｍｇ、１．１９ミリモル）を、１，２−ジメトキシエタン（１０．８ｍｌ）と水（２．７ｍｌ）との混合物中の２，６−ジエチル−４−メチルフェニルボロン酸（３４３ｍｇ、１．７９ミリモル）、テトラブチルアンモニウムブロミド（３８５ｍｇ、１．１９ミリモル）、水酸化リチウム一水和物（１５１ｍｇ、３．５７ミリモル）及びパラジウム（ＩＩ）アセテート（１３ｍｇ）の混合物に添加し、この反応混合物を５５℃で５時間加熱する。その後、反応物を冷却し、希塩酸水溶液を添加し、そして混合物を酢酸エチルで抽出する。有機抽出物を合わせ、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で濃縮する。残留物をシリカゲル上でカラムクロマトグラフィーにより精製し、２−（２，６−ジエチル−４−メチルフェニル）−５−（[１，３]ジオキソラン−２−イルメチル）シクロヘキサン−１，３−ジオンを提供する。
1H NMR (CDCl3, ppm) δH 6.98 (br s, 2H), 4.98 (t, 1H), 4.01-3.88 (2 X m, 4H), 2.75 (m, 2H), 2.60-2.25 (m, 10H), 1.85 (m, 2H), 1.05 (m, 6H)
【０１８５】
例４
２−（４’−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−５−[１，３]ジオキソラン−２−イルメチルシクロヘキサン−１，３−ジオンの調製
【化４９】
0005519680.tif 000059
【０１８６】
工程１
２−（４’−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−５−[１，３]ジオキソラン−２−イルメチルシクロヘキサン−１，３−ジオンの調製
【化５０】
0005519680.tif 000060
【０１８７】
５−[１，３]ジオキソラン−２−イルメチルシクロヘキサン−１，３−ジオン（１．４３ｇ、７．２２ミリモル）の、クロロホルム（７２ｍｌ）及びトルエン（１８ｍｌ）の混合溶剤系中の溶液に、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（４．４０ｇ、３６．０８ミリモル）を添加し、溶液を室温にて１０分間攪拌する。この混合物に、その後、４’−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル鉛トリアセテート（WO2008/071405に記載）（４．９５ｇ、７．９１ミリモル）を一回で添加し、次いで、８０℃で２時間加熱する。室温に冷却した後に、溶液をジクロロメタン（９０ｍｌ）で希釈し、そして１Ｍ塩酸（９０ｍｌ）でクエンチする。得られた沈殿物をセライトをとおしてろ過し、残留物をさらなるジクロロメタン（２０ｍｌ）で洗浄する。二相溶液を分離し、有機層を１Ｍ塩酸（４５ｍｌ）でさらに洗浄する。有機物を最終的に相分離器を通過させ、その後、真空中で濃縮し、未精製生成物を黄色のオイルとして提供する。シリカ上でのフラッシュクロマトグラフィー処理（７：１酢酸エチル／ヘキサン溶離液）の後に、２−（４’−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−５−[１，３]ジオキソラン−２−イルメチルシクロヘキサン−１，３−ジオンがクリーム色の固形分として提供される。
【０１８８】
例５
２−（４’−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−５−[１，３]ジオキサン−２−イルメチルシクロヘキサン−１，３−ジオンの調製
【化５１】
0005519680.tif 000061
【０１８９】
工程１
[４−（４’−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−３，５−ジオキソシクロヘキシル]−アセトアルデヒドの調製
【化５２】
0005519680.tif 000062
【０１９０】
２−（４’−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−５−[１，３]ジオキソラン−２−イルメチルシクロヘキサン−１，３−ジオン（０．２７５ｇ、０．６９ミリモル）のテトラヒドロフラン（５ｍｌ）中の溶液に、６Ｍ塩酸（２ｍｌ）を添加し、そして反応混合物を室温にて１．５時間攪拌する。さらなる６Ｍ塩酸（１ｍｌ）を添加し、溶液を５０℃にてさらに２時間加熱する。室温に冷却した後に、反応混合物を濃縮し、そして残留物を蒸留水（２０ｍｌ）とジクロロメタン（２０ｍｌ）との間で分離する。水性相をジクロロメタン（３×１０ｍｌ）で抽出した後に、すべての有機部分を合わせ、その後、相分離器に通す。ろ液を真空中で濃縮し、[４−（４’−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−３，５−ジオキソシクロヘキシル]−アセトアルデヒドを白色フォームとして提供する。
1H NMR (CDCl3): δ 9.84 (m, 1H), 7.49 (m,3H), 7.38 (m 3H), 7.24 (m 1H), 5.60-5.65 (m,1H), 2.33-2.90 (m,5H), 1.88 (m,1H), 1.71 (m,1H), 1.27 (s, 3H)
【０１９１】
工程２
２−（４’−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−５−[１，３]ジオキサン−２−イルメチルシクロヘキサン−１，３−ジオンの調製
【化５３】
0005519680.tif 000063
【０１９２】
[４−（４’−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−３，５−ジオキソシクロヘキシル]−アセトアルデヒド（０．０８０ｇ、０．２３ミリモル）及びプロパン−１，３−ジオール（０．０２１ｇ、０．２７ミリモル）の無水トルエン（４ｍｌ）中の溶液に、パラ−トルエンスルホン酸の単結晶を添加し、そしてこの混合物を８０℃で４５分間攪拌する。室温に冷却した後に、溶液を真空中で濃縮し、未精製生成物を提供し、それをシリカ上でのフラッシュカラムクロマトグラフィー処理（酢酸エチル溶離液）により精製し、２−（４’−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−５−[１，３]ジオキサン−２−イルメチルシクロヘキサン−１，３−ジオンを白色フォームとして提供する。
【０１９３】
下記の表１００の化合物を、適切な出発材料を用いて同様の方法により調製した。
【０１９４】
【表１０】
0005519680.tif 000064
【０１９５】
【表１１】
0005519680.tif 000065
【０１９６】
【表１２】
0005519680.tif 000066
【０１９７】
【表１３】
0005519680.tif 000067
【０１９８】
【表１４】
0005519680.tif 000068
【０１９９】
【表１５】
0005519680.tif 000069
【０２００】
【表１６】
0005519680.tif 000070
【０２０１】
【表１７】
0005519680.tif 000071
【０２０２】
【表１８】
0005519680.tif 000072
【０２０３】
【表１９】
0005519680.tif 000073
【０２０４】
【表２０】
0005519680.tif 000074
【０２０５】
【表２１】
0005519680.tif 000075
【０２０６】
例６
２，２−ジメチルプロピオン酸３−オキソ−５−（テトラヒドロフラン−３−イルメチル）−２−（２，４，６−トリメチルフェニル）シクロヘキス−１−エニルエステルの調製
【化５４】
0005519680.tif 000076
【０２０７】
トリメチルアセチルクロリド（５５ｍｇ、０．４５７ミリモル）のジクロロメタン（２ｍｌ）中の溶液を、２−（２，４，６−トリメチルフェニル）−５−（テトラヒドロフラン−３−イルメチル）−シクロヘキサン−１，３−ジオン（１２０ｍｇ、０．３８ミリモル）のジクロロメタン（２ｍｌ）中の溶液に滴下して加え、そして混合物をアイスバス中で冷却し、そして０℃で２分間攪拌する。トリエチルアミン（４６ｍｇ、０．４５７ミリモル）のジクロロメタン（１ｍｌ）中の溶液を添加し、そして、一旦、添加が完了すると、冷却浴を取り除き、反応混合物を室温にて２時間攪拌する。混合物をジクロロメタン（２０ｍｌ）で希釈し、そして重炭酸ナトリウム飽和水溶液（３×２０ｍｌ）で洗浄する。有機相を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で濃縮する。残留物をシリカゲル上でカラムクロマトグラフィーにより精製し、２，２−ジメチルプロピオン酸３−オキソ−５−（テトラヒドロフラン−３−イルメチル）−２−（２，４，６−トリメチルフェニル）シクロヘキス−１−エニルエステルを白色固形分として提供する。ｍ．ｐ．１０８〜１１０℃。
1H NMR (CDCl3, ppm) δ 6.81 (s, 2H), 3.94 (q, 1H), 3.88 (m, 1H), 3.77 (m, 1H), 3.35 (m, 1H), 2.77-2.66 (m, 2H), 2.62-2.52 (m, 1H), 2.40-2.29 (m, 3H), 2.22 (s, 3H), 2.15-2.05 (m, 1H), 2.03 (s, 3H), 1.99 (s, 3H), 1.61-1.53 (m, 3H), 0.88 (s, 9H)
【０２０８】
重要な中間体を得るための実権手順
例１Ａ
５−（４−クロロフェニル）−２−メチルフェニルボロン酸の調製
工程１
４−クロロフェニルボロン酸（２０．２ｇ、０．１３ミリモル）及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（３．７ｇ、０．００３モル）を、５−ブロモ−２−メチルアニリン（２０ｇ、０．１モル）の１，２−ジメトキシエタン（２００ｍｌ）中の溶液に添加する。反応混合物を２０℃で１５分間攪拌した後に、２０％炭酸ナトリウム水溶液（３００ｍｌ）を混合物に添加し、得られた混合物を２４時間還流させる。反応混合物を室温に冷却し、水（６００ｍｌ）で希釈し、そして酢酸エチルを用いて抽出する。合わせた抽出物を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で蒸発させる。残留物を、ヘキサン中の７％酢酸エチルで溶離して、シリカゲル上でカラムクロマトグラフィーによりさらに精製し、５−（４−クロロフェニル）−２−メチルアニリン（２１．０ｇ）を提供する。
【０２０９】
工程２
臭化水素酸（４８質量％、水中、１２０ｍｌ）を、５−（４−クロロフェニル）−２−メチルアニリン（２１ｇ、０．０９モル）の水中（８０ｍｌ）の懸濁液に滴下して加え、固形分が溶解するまで混合物を攪拌する。混合物を−５℃に冷却し、亜硝酸ナトリウム（１０．１２ｇ、０．１４モル）の水（５０ｍｌ）中の溶液を滴下して加え、温度を０〜５℃に維持する。反応混合物を１時間攪拌し、その後、臭化水素酸（４８質量％、水中、１２０ｍｌ）中の臭化第一銅（１７．９ｇ、０．１２モル）の予備冷却された溶液に、０℃で添加する。反応混合物を攪拌し、一晩室温まで温める。混合物を酢酸エチルで抽出し、有機抽出物を合わせ、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で濃縮する。残留物を、ヘキサン中の２％酢酸エチルで溶離してシリカゲル上でカラムクロマトグラフィーによりさらに精製し、５−（４−クロロフェニル）−２−メチル−１−ブロモベンゼン（１５．０ｇ）を提供する。
【０２１０】
工程３
５−（４−クロロフェニル）−２−メチル−１−ブロモベンゼン（５．０ｇ、０．０２モル）をＴＨＦ（１２５ｍｌ）中に溶解し、温度を−７８℃にする。ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．３３モル濃度溶液、１７．３ｍｌ）を３０分にわたって滴下して加え、およそ−７８℃の温度に維持する。反応混合物を−７８℃で１時間半攪拌し、その後、トリメチルボレート（２．５８ｇ、０．０２４モル）を滴下して加え、そして反応混合物を３時間半攪拌し、０℃に温める。２Ｎ塩酸水溶液（５０ｍｌ）を、その後、滴下して加え、そして一旦、添加が完了したら、混合物を２時間攪拌する。混合物を真空中で濃縮し、テトラヒドロフランのほとんどを除去し、その後、水（約８０ｍｌ）で希釈し、ジエチルエーテルで抽出する。有機抽出物を合わせ、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で蒸発させる。残留物を、ヘキサン中の７％酢酸エチルで溶離してシリカゲル上でフラッシュカラムクロマトグラフィーによりさらに精製し、５−（４−クロロフェニル）−２−メチルフェニルボロン酸（２．５ｇ）を提供する。
【０２１１】
例１Ｂ
５−（４−クロロフェニル）−２−エチルフェニルボロン酸の調製
工程１
亜硝酸アンモニウム（３９．６ｇ、０．４９モル）を小分けにして、濃硫酸（１００ｍｌ）中の４−エチルアニリン（２０ｇ、０．１６モル）の冷却された（アイスバス）溶液に添加し、外部冷却により温度を１０℃〜０℃に維持する。反応混合物を２時間攪拌し、その後、粉砕した氷上に注ぎ、そしてろ過により沈殿物を回収する。この固形分を水中に吸収させ、溶液を希水酸化ナトリウム水溶液の添加により中性とし、酢酸エチルで抽出する。有機抽出物を合わせ、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で蒸発させ、４−エチル−３−ニトロアニリン（２０ｇ）を提供する。
【０２１２】
工程２
臭化水素酸（４８質量％、水中、２４０ｍｌ）を、４−エチル−３−ニトロアニリン（２０ｇ、０．１２モル）の水中（８０ｍｌ）の懸濁液に滴下して加え、固形分が溶解するまで混合物を攪拌する。混合物を−５℃に冷却し、亜硝酸ナトリウム（１９．８ｇ、０．２８モル）の水（１００ｍｌ）中の溶液を滴下して加え、温度を０〜５℃に維持する。一旦、添加が完了したら、冷却浴を取り外し、反応混合物を室温で１時間攪拌する。この混合物を、臭化水素酸（４８質量％、水中、１２０ｍｌ）中の臭化第一銅（２２．４ｇ、０．１６モル）の予備冷却された溶液に、０℃で添加する。反応混合物を攪拌し、３時間にわたって室温まで温める。混合物をジエチルエーテルで抽出し、有機抽出物を合わせ、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で濃縮する。残留物を、ヘキサンで溶離してシリカゲル上でカラムクロマトグラフィーによりさらに精製し、４−ブロモ−１−エチル−２−ニトロベンゼン（１８ｇ）を提供する。
【０２１３】
工程３
塩化アンモニウム（１２．５ｇ、０．２モル）の水（３０ｍｌ）中の溶液を、亜鉛ダスト（３５．７ｇ、０．５モル）及び４−ブロモ−１−エチル−２−ニトロベンゼン（１８ｇ、０．０７ミリモル）のメタノール（７２０ｍｌ）及び水（１８０ｍｌ）中の混合物に添加する。反応混合物を１時間還流させ、その後、室温に冷却し、そして珪藻土のプラグをとおしてろ過する。ろ液を真空中で濃縮し、その後、水で希釈し、そして酢酸エチルで抽出する。合わせた有機抽出物を水及びブラインで洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、ろ過し、ろ液を真空中で濃縮し、５−ブロモ−２−エチルアニリン（１４ｇ）を生じ、それをさらなる精製を行うことなく次の工程において用いる。
【０２１４】
工程４
４−クロロフェニルボロン酸（１３．２ｇ、０．０８ミリモル）及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（２．４ｇ、０．００２モル）を、５−ブロモ−２−エチルアニリン（１４．１ｇ、０．０７モル）の１，２−ジメトキシエタン（１４０ｍｌ）中の溶液に添加する。反応混合物を２０℃で１５分間攪拌した後に、２０％炭酸ナトリウム水溶液（３００ｍｌ）を混合物に添加し、得られた混合物を２４時間還流させる。反応混合物を室温に冷却し、水で希釈し、そして酢酸エチルを用いて抽出する。合わせた抽出物を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で蒸発させる。残留物を、ヘキサン中の５％酢酸エチルで溶離して、シリカゲル上でカラムクロマトグラフィーによりさらに精製し、５−（４−クロロフェニル）−２−エチルアニリン（１４．３ｇ）を提供する。
【０２１５】
工程５
臭化水素酸（４８質量％、水中、８５ｍｌ）を、５−（４−クロロフェニル）−２−エチルアニリン（１４．３ｇ、０．０５モル）の水中（５７ｍｌ）の懸濁液に滴下して加え、混合物を攪拌する。混合物を−５℃に冷却し、亜硝酸ナトリウム（５．０７ｇ、０．０７２モル）の水（２５ｍｌ）中の溶液を滴下して加え、温度を０〜５℃に維持する。反応混合物を１時間攪拌し、その後、臭化水素酸（４８質量％、水中、６４ｍｌ）中の臭化第一銅（９ｇ、０．０６２モル）の予備冷却された溶液に、０℃で添加する。反応混合物を攪拌し、一晩室温まで温める。混合物を水で希釈し、ジエチルエーテルで抽出し、有機抽出物を合わせ、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で濃縮する。残留物を、ヘキサン中の２％酢酸エチルで溶離してシリカゲル上でカラムクロマトグラフィーによりさらに精製し、５−（４−クロロフェニル）−２−エチル−１−ブロモベンゼン（１０ｇ）を提供する。
【０２１６】
工程６
５−（４−クロロフェニル）−２−エチル−１−ブロモベンゼン（１０ｇ、０．０３モル）をＴＨＦ（２５０ｍｌ）中に溶解し、温度を−７８℃にする。ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．３３モル濃度溶液、３４．６ｍｌ）を３０分にわたって滴下して加え、およそ−７８℃の温度に維持する。反応混合物を１時間半攪拌し、その後、トリメチルボレート（４．９ｇ、０．０５モル）を滴下して加え、そして反応混合物を２時間攪拌する。２Ｎ塩酸水溶液（１００ｍｌ）を滴下して加え、そして一旦、添加が完了したら、混合物を２時間攪拌する。混合物を濃縮してテトラヒドロフランのほとんどを除去し、その後、水で希釈し、ジエチルエーテルで抽出する。有機抽出物を水及びブラインで洗浄し、合わせ、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液を真空中で蒸発させる。残留物を、ヘキサン中の７％酢酸エチルで溶離してシリカゲル上でフラッシュカラムクロマトグラフィーによりさらに精製し、５−（４−クロロフェニル）−２−メチルフェニルボロン酸（５．４ｇ）を提供する。
【０２１７】
本発明の化合物の特定の例として、表１〜表８１に詳述する化合物が挙げられる。
【０２１８】
表１は下記のタイプ
【化５５】
0005519680.tif 000077
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は下記の表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２１９】
【表２２】
0005519680.tif 000078
【０２２０】
【表２３】
0005519680.tif 000079
【０２２１】
【表２４】
0005519680.tif 000080
【０２２２】
【表２５】
0005519680.tif 000081
【０２２３】
【表２６】
0005519680.tif 000082
【０２２４】
【表２７】
0005519680.tif 000083
【０２２５】
【表２８】
0005519680.tif 000084
【０２２６】
【表２９】
0005519680.tif 000085
【０２２７】
【表３０】
0005519680.tif 000086
【０２２８】
表２は下記のタイプ
【化５６】
0005519680.tif 000087
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２２９】
表３は下記のタイプ
【化５７】
0005519680.tif 000088
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２３０】
表４は下記のタイプ
【化５８】
0005519680.tif 000089
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２３１】
表５は下記のタイプ
【化５９】
0005519680.tif 000090
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２３２】
表６は下記のタイプ
【化６０】
0005519680.tif 000091
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２３３】
表７は下記のタイプ
【化６１】
0005519680.tif 000092
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２３４】
表８は下記のタイプ
【化６２】
0005519680.tif 000093
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２３５】
表９は下記のタイプ
【化６３】
0005519680.tif 000094
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２３６】
表１０は下記のタイプ
【化６４】
0005519680.tif 000095
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２３７】
表１１は下記のタイプ
【化６５】
0005519680.tif 000096
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２３８】
表１２は下記のタイプ
【化６６】
0005519680.tif 000097
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２３９】
表１３は下記のタイプ
【化６７】
0005519680.tif 000098
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２４０】
表１４は下記のタイプ
【化６８】
0005519680.tif 000099
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２４１】
表１５は下記のタイプ
【化６９】
0005519680.tif 000100
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２４２】
表１６は下記のタイプ
【化７０】
0005519680.tif 000101
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２４３】
表１７は下記のタイプ
【化７１】
0005519680.tif 000102
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２４４】
表１８は下記のタイプ
【化７２】
0005519680.tif 000103
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２４５】
表１９は下記のタイプ
【化７３】
0005519680.tif 000104
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２４６】
表２０は下記のタイプ
【化７４】
0005519680.tif 000105
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２４７】
表２１は下記のタイプ
【化７５】
0005519680.tif 000106
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２４８】
表２２は下記のタイプ
【化７６】
0005519680.tif 000107
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２４９】
表２３は下記のタイプ
【化７７】
0005519680.tif 000108
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２５０】
表２４は下記のタイプ
【化７８】
0005519680.tif 000109
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２５１】
表２５は下記のタイプ
【化７９】
0005519680.tif 000110
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２５２】
表２６は下記のタイプ
【化８０】
0005519680.tif 000111
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２５３】
表２７は下記のタイプ
【化８１】
0005519680.tif 000112
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２５４】
表２８は下記のタイプ
【化８２】
0005519680.tif 000113
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２５５】
表２９は下記のタイプ
【化８３】
0005519680.tif 000114
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２５６】
表３０は下記のタイプ
【化８４】
0005519680.tif 000115
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２５７】
表３１は下記のタイプ
【化８５】
0005519680.tif 000116
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２５８】
表３２は下記のタイプ
【化８６】
0005519680.tif 000117
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２５９】
表３３は下記のタイプ
【化８７】
0005519680.tif 000118
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２６０】
表３４は下記のタイプ
【化８８】
0005519680.tif 000119
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２６１】
表３５は下記のタイプ
【化８９】
0005519680.tif 000120
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２６２】
表３６は下記のタイプ
【化９０】
0005519680.tif 000121
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２６３】
表３７は下記のタイプ
【化９１】
0005519680.tif 000122
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２６４】
表３８は下記のタイプ
【化９２】
0005519680.tif 000123
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２６５】
表３９は下記のタイプ
【化９３】
0005519680.tif 000124
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２６６】
表４０は下記のタイプ
【化９４】
0005519680.tif 000125
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２６７】
表４１は下記のタイプ
【化９５】
0005519680.tif 000126
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２６８】
表４２は下記のタイプ
【化９６】
0005519680.tif 000127
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２６９】
表４３は下記のタイプ
【化９７】
0005519680.tif 000128
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２７０】
表４４は下記のタイプ
【化９８】
0005519680.tif 000129
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２７１】
表４５は下記のタイプ
【化９９】
0005519680.tif 000130
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２７２】
表４６は下記のタイプ
【化１００】
0005519680.tif 000131
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２７３】
表４７は下記のタイプ
【化１０１】
0005519680.tif 000132
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２７４】
表４８は下記のタイプ
【化１０２】
0005519680.tif 000133
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２７５】
表４９は下記のタイプ
【化１０３】
0005519680.tif 000134
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２７６】
表５０は下記のタイプ
【化１０４】
0005519680.tif 000135
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２７７】
表５１は下記のタイプ
【化１０５】
0005519680.tif 000136
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２７８】
表５２は下記のタイプ
【化１０６】
0005519680.tif 000137
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２７９】
表５３は下記のタイプ
【化１０７】
0005519680.tif 000138
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２８０】
表５４は下記のタイプ
【化１０８】
0005519680.tif 000139
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２８１】
表５５は下記のタイプ
【化１０９】
0005519680.tif 000140
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２８２】
表５６は下記のタイプ
【化１１０】
0005519680.tif 000141
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２８３】
表５７は下記のタイプ
【化１１１】
0005519680.tif 000142
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２８４】
表５８は下記のタイプ
【化１１２】
0005519680.tif 000143
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２８５】
表５９は下記のタイプ
【化１１３】
0005519680.tif 000144
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２８６】
表６０は下記のタイプ
【化１１４】
0005519680.tif 000145
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２８７】
表６１は下記のタイプ
【化１１５】
0005519680.tif 000146
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２８８】
表６２は下記のタイプ
【化１１６】
0005519680.tif 000147
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２８９】
表６３は下記のタイプ
【化１１７】
0005519680.tif 000148
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２９０】
表６４は下記のタイプ
【化１１８】
0005519680.tif 000149
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２９１】
表６５は下記のタイプ
【化１１９】
0005519680.tif 000150
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２９２】
表６６は下記のタイプ
【化１２０】
0005519680.tif 000151
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２９３】
表６７は下記のタイプ
【化１２１】
0005519680.tif 000152
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２９４】
表６８は下記のタイプ
【化１２２】
0005519680.tif 000153
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２９５】
表６９は下記のタイプ
【化１２３】
0005519680.tif 000154
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２９６】
表７０は下記のタイプ
【化１２４】
0005519680.tif 000155
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２９７】
表７１は下記のタイプ
【化１２５】
0005519680.tif 000156
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２９８】
表７２は下記のタイプ
【化１２６】
0005519680.tif 000157
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０２９９】
表７３は下記のタイプ
【化１２７】
0005519680.tif 000158
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０３００】
表７４は下記のタイプ
【化１２８】
0005519680.tif 000159
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０３０１】
表７５は下記のタイプ
【化１２９】
0005519680.tif 000160
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０３０２】
表７６は下記のタイプ
【化１３０】
0005519680.tif 000161
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０３０３】
表７７は下記のタイプ
【化１３１】
0005519680.tif 000162
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０３０４】
表７８は下記のタイプ
【化１３２】
0005519680.tif 000163
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０３０５】
表７９は下記のタイプ
【化１３３】
0005519680.tif 000164
（式中、Ｇ、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はすべて水素であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０３０６】
表８０は下記のタイプ
【化１３４】
0005519680.tif 000165
（式中、Ｇ、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０３０７】
表８１は下記のタイプ
【化１３５】
0005519680.tif 000166
（式中、Ｇ及びＲ５は水素であり、Ｒ６及びＲ７はメチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は表１に記載されるとおりである）の２３２種の化合物を網羅する。
【０３０８】
生物学的実施例
例Ａ
種々の試験種の種子を鉢の中の標準土壌に撒いた。温室内の制御条件下において１日の培養後（発芽前）又は１０日の培養後（発芽後）に、０．６ｍｌのアセトン中の技術活性成分の製剤、及び、１０．６％のEmulsogen EL(登録番号６１７９１−１２−６)、４２．２％のＮ−メチルピロリドン、４２．２％のジプロピレングリコールモノメチルエーテル（登録番号３４５９０−９４−８）及び０．２％のＸ−７７（登録番号１１０９７−６６−８）を含む４５ｍｌの製剤溶液から得られた水性スプレイ溶液を植物にスプレイした。その後、試験植物を最適条件下に温室中で、発芽後については１５日後まで、そして発芽前については２０日後まで成長させ、試験評価した（１００＝植物への総合的な損傷、０＝植物へ損傷なし）。
試験植物
ノスズメノテッポウ(Alopecurus myosuroides）（ＡＬＯＭＹ）、カラスムギ（Avena fatua）(ＡＶＥＦＡ)、ホソムギ(Lolium perenne)（ＬＯＬＰＥ）、アキノエノコログサ（Setaria faberi）(ＳＥＴＦＡ)、オニメヒシバ(Digitaria sanguinalis)（ＤＩＧＳＡ）、ヒエ（Echinochloa crus-galli）(ＥＣＨＣＧ)。
【０３０９】
【表３１】
0005519680.tif 000167
【０３１０】
【表３２】
0005519680.tif 000168
【０３１１】
【表３３】
0005519680.tif 000169
【０３１２】
【表３４】
0005519680.tif 000170
【０３１３】
【表３５】
0005519680.tif 000171
【０３１４】
【表３６】
0005519680.tif 000172
【０３１５】
例Ｂ
種々の試験種の種子を鉢の中の標準土壌に撒いた。温室内の制御条件下（２４℃／１６℃、日中／夜間、１４時間の光、６５％湿度）において１日の培養後（発芽前）又は８日の培養後（発芽後）に、技術活性成分の製剤であって、０．５％Tween 20（ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ＣＡＳ  ＲＮ  ９００５−６４−５）を含むアセトン／水（５０：５０）溶液中の製剤から得られた水性スプレイ溶液を植物にスプレイした。その後、試験植物を最適条件下（２４℃／１６℃、日中／夜間、１４時間の光、６５％湿度）に温室中で成長させ、そして水を１日２回与えた。発芽前及び発芽後について、１３日後に、試験評価した（１００＝植物への総合的な損傷、０＝植物へ損傷なし）。
試験植物
ノスズメノテッポウ(Alopecurus myosuroides）（ＡＬＯＭＹ）、カラスムギ（Avena fatua）(ＡＶＥＦＡ)、アキノエノコログサ（Setaria faberi）(ＳＥＴＦＡ)、ヒエ（Echinochloa crus-galli）(ＥＣＨＣＧ)、イヌホオズキ(Solanum nigrum) (ＳＯＬＮＩ)、アオビユ (Amaranthus retroflexus) （ＡＭＡＲＥ）。
【０３１６】
【表３７】
0005519680.tif 000173
【０３１７】
【表３８】
0005519680.tif 000174
【０３１８】
【表３９】
0005519680.tif 000175
【０３１９】
【表４０】
0005519680.tif 000176
【０３２０】
【表４１】
0005519680.tif 000177
【０３２１】
【表４２】
0005519680.tif 000178