(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
紙基材上に形成され、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含む下地凹凸層と、
該下地凹凸層上であって、原画の絵柄に同調して形成されるＵＶインキ層と、
該ＵＶインキ層上に形成され、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含む隠蔽層と、
少なくとも該隠蔽層上に形成される受容層と、
該受容層上に形成される絵柄層と、
を有することを特徴とする複製画。
【請求項２】
紙基材上に形成され、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含む下地凹凸層と、
該下地凹凸層上であって、原画の絵柄に同調して形成されるＵＶインキ層と、
該ＵＶインキ層上に形成され、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含む隠蔽層と、
該下地凹凸層と該隠蔽層とを覆うように形成され、炭酸カルシウム粉を含む補助隠蔽層と、
該補助隠蔽層のうち、少なくとも該隠蔽層を覆う補助隠蔽層上に形成される受容層と、
該受容層上に形成される絵柄層と、
を有することを特徴とする複製画。
【請求項３】
紙基材上に、水性エマルジョンと、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含有する下地凹凸層形成用インキを用いて、下地凹凸層を形成する工程と、
前記下地凹凸層上に、ＵＶインキを用いてＵＶインキ層を形成する工程と、
前記ＵＶインキ層上に、水性エマルジョンと、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含有する隠蔽層形成用インキを用いて、隠蔽層を形成する工程と、
少なくとも前記隠蔽層上に、受容層形成用インキを用いて、受容層を形成する工程と、
前記受容層上に、インクジェットプリンターによって絵柄層を形成する工程と、を有し、
前記ＵＶインキ層を形成する工程が、前記原画の表面の凹凸形状に関するデータに基づいてスクリーン版を作製する工程と、該スクリーン版を使用して前記原画の表面の凹凸形状に同調するように前記ＵＶインキ層を形成する工程と、を有することを特徴とする複製画の製造方法。
【請求項４】
紙基材上に、水性エマルジョンと、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含有する下地凹凸層形成用インキを用いて、下地凹凸層を形成する工程と、
前記下地凹凸層上に、ＵＶインキを用いてＵＶインキ層を形成する工程と、
前記ＵＶインキ層上に、水性エマルジョンと、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含有する隠蔽層形成用インキを用いて、隠蔽層を形成する工程と、
前記隠蔽層上及び前記下地凹凸層上に、水性エマルジョンと、炭酸カルシウム粉とを含有する補助隠蔽層形成用インキを用いて、補助隠蔽層を形成する工程と、
前記補助隠蔽層のうち、少なくとも前記隠蔽層を覆っている補助隠蔽層上に、受容層形成用インキを用いて、受容層を形成する工程と、
前記受容層上に、インクジェットプリンターによって絵柄層を形成する工程と、を有し、
前記ＵＶインキ層を形成する工程が、前記原画の表面の凹凸形状に関するデータに基づいてスクリーン版を作製する工程と、該スクリーン版を使用して前記原画の表面の凹凸形状に同調するように前記ＵＶインキ層を形成する工程と、を有することを特徴とする複製画の製造方法。
【請求項５】
前記隠蔽層を形成する工程において、前記ＵＶインキ層を形成する工程で使用したスクリーン版と同一の版を使用することを特徴とする請求項３又は４に記載の複製画の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複製画、特には岩絵の具調の日本画の複製画及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
岩絵の具は粒状、粉状の原料鉱物を膠水等を用いて彩色するものであり、この岩絵の具を用いて描いた日本画は表面が粗面状の微小な多数の凹凸を有する。
【０００３】
岩絵の具調の日本画には独特の色調があるほか、前記の粗面状の表面形状が特殊な風合を醸成し、これが絵画の美しさを創成する一要素となっている。このため、岩絵の具調の日本画の複製に当たっては、その絵画の色調の他に粗面状の表面状態も再現する必要がある。
【０００４】
ここで、特許文献１では、岩絵の具特有の粗面状の微小な多数の凹凸を再現することを目的として、紙基材上に、下地凹凸層、受容層及び絵柄層がこの順に形成されている複製画が開示されている。具体的には、寒水粉と炭酸カルシウム粉とを含む下地凹凸層を形成し、この下地凹凸層により凸部と凹部との平均高度差、並びに凸部又は／及び凹部の形成密度を所定の範囲に制御した複製画が開示されている。
【０００５】
また、特許文献２では、オフセット印刷やプロセス印刷等の安価な印刷技法をベースとし、図柄に視覚的な立体感を有する印刷物を製造する方法が開示されている。具体的には、図柄を印刷材上に印刷して平坦な印刷面を形成する工程、及び、この印刷面上の少なくとも一部に図柄上で表現しようとする立体形状とほぼ相似する表面形状を有する厚みで透明インキ層を形成する工程を含む印刷物の製造方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−３１２３０６号公報
【特許文献２】特開２００３−３４１２１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、特許文献１にて開示される方法では、形成される凸部と凹部との高度差は、下地凹凸層に依存し所定の範囲に制限される。従って、下地凹凸層によってもたらされる凸部と凹部との高度差の範囲を超える凹凸をつけることは困難であった。
【０００８】
一方、特許文献２にて開示されている発明によれば、高度差が数百μｍ程度の大きな凹凸を付けることは可能である。しかし、特許文献２の方法で形成される透明インキ層の表面には照りがあり、この照りによって、本物の日本画の風合いを損ねるという問題があった。
【０００９】
本発明は、上述した課題を解決するためになされるものであり、その目的は、より本物に近い岩絵の具独特の凹凸感を有する質感の高い複製画を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題を解決すべく成された本発明の構成は以下の通りである。
【００１１】
即ち、本発明の第１の複製画は、紙基材上に形成され、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含む下地凹凸層と、
該下地凹凸層上であって、原画の絵柄に同調して形成されるＵＶインキ層と、
該ＵＶインキ層上に形成され、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含む隠蔽層と、
少なくとも該隠蔽層上に形成される受容層と、
該受容層上に形成される絵柄層と、を有することを特徴とする。
【００１２】
また本発明の第２の複製画は、紙基材上に形成され、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含む下地凹凸層と、
該下地凹凸層上であって、原画の絵柄に同調して形成されるＵＶインキ層と、
該ＵＶインキ層上に形成され、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含む隠蔽層と、
該下地凹凸層と該隠蔽層とを覆うように形成され、炭酸カルシウム粉を含む補助隠蔽層と、
該補助隠蔽層のうち、少なくとも該隠蔽層を覆う補助隠蔽層上に形成される受容層と、
該受容層上に形成される絵柄層と、を有することを特徴とする。
【００１３】
また本発明の第１の複製画の製造方法は、紙基材上に、水性エマルジョンと、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含有する下地凹凸層形成用インキを用いて下地凹凸層を形成する工程と、
前記下地凹凸層上に、ＵＶインキを用いてＵＶインキ層を形成する工程と、
前記ＵＶインキ層上に、水性エマルジョンと、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含有する隠蔽層形成用インキを用いて隠蔽層を形成する工程と、
少なくとも前記隠蔽層上に、受容層形成用インキを用いて受容層を形成する工程と、
前記受容層上に、インクジェットプリンターによって絵柄層を形成する工程と、を有し、
前記ＵＶインキ層を形成する工程が、前記原画の表面の凹凸形状に関するデータに基づいてスクリーン版を作製する工程と、該スクリーン版を使用して前記原画の表面の凹凸形状に同調するように前記ＵＶインキ層を形成する工程と、を有することを特徴とする。
【００１４】
また本発明の第２の複製画の製造方法は、紙基材上に、水性エマルジョンと、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含有する下地凹凸層形成用インキを用いて、下地凹凸層を形成する工程と、
前記下地凹凸層上に、ＵＶインキを用いてＵＶインキ層を形成する工程と、
前記ＵＶインキ層上に、水性エマルジョンと、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含有する隠蔽層形成用インキを用いて、隠蔽層を形成する工程と、
前記隠蔽層上及び前記下地凹凸層上に、水性エマルジョンと、炭酸カルシウム粉とを含有する補助隠蔽層形成用インキを用いて、補助隠蔽層を形成する工程と、
前記補助隠蔽層のうち、少なくとも前記隠蔽層を覆っている補助隠蔽層上に、受容層形成用インキを用いて、受容層を形成する工程と、
前記受容層上に、インクジェットプリンターによって絵柄層を形成する工程と、を有し、
前記ＵＶインキ層を形成する工程が、前記原画の表面の凹凸形状に関するデータに基づいてスクリーン版を作製する工程と、該スクリーン版を使用して前記原画の表面の凹凸形状に同調するように前記ＵＶインキ層を形成する工程と、を有することを特徴とする。
【００１５】
また本発明の複製画の製造方法においては、前記隠蔽層を形成する工程において、前記ＵＶインキ層を形成する工程で使用したスクリーン版と同一の版を使用することが好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、ＵＶインキ層によってもたらされる立体感を生かしつつ、ＵＶインキ層由来の照りを隠蔽することができるので、さらに本物に近い岩絵の具独特の凹凸感を有する質感の高い複製画と提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の複製画における実施形態の例を示す断面概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。
【００１９】
図１は、本発明の複製画における実施形態の例を示す断面概略図である。図１の複製画１は、紙基材１０、ホワイトインキ層１１、下地凹凸層１２、ＵＶインキ層１３、隠蔽層１４、補助隠蔽層１５、受容層１６、及び絵柄層１７から構成されている。
【００２０】
以下、図１の複製画１を構成する各部材及びその形成方法について説明する。
【００２１】
図１の複製画１の基材となる紙基材１０としては、画材紙（上質紙）、和紙等の絵画を作成する際に使用する紙が使用される。紙基材１０として使用される紙について、その坪量は特に限定されないが、好ましくは、２５０ｇ／ｍ2〜３２０ｇ／ｍ2である。尚、紙基材の坪量が２５０ｇ／ｍ2以上である場合、吸水によって紙基材がカールする現象が起こりにくくなる。このため紙基材の坪量が２５０ｇ／ｍ2以上である場合、後述するホワイトインキ層１１の形成を省略して紙基材１０上に下地凹凸層１２を直接形成することができる。
【００２２】
ホワイトインキ層１１は、紙基材１０の表面の目止めをするために紙基材１０上に形成される層である。このホワイトインキ層１１は、下地凹凸層１２等を形成する際に使用する水性インキが紙基材１０に浸透することで紙基材１０が撓むのを防ぐ役割を果たす。ホワイトインキ層１１は、具体的には、油性の白色インキを塗布して形成される層である。ホワイトインキ層１１の形成に使用される油性の白色インキとしては、紙基材１０への水分の浸透を防ぐ役割を果たすものを用いればよく、例えば、白色顔料を含有した油性インキ等が挙げられる。そして、ホワイトインキ層１１を形成する際には、公知の方法、例えば、オフセット印刷方式、グラビア印刷方式、フレキソ印刷方式、スクリーン印刷方式等を用いることができる。ここでホワイトインキ層１１を形成する際には、上述した目止めの効果を奏するために複数回、例えば、２回程度ホワイトインキを塗布するのが望ましい。
【００２３】
また、ホワイトインキ層１１の厚さは、３５μｍ〜４８μｍの範囲内であることが好ましい。厚さをこの範囲にすることにより、ホワイトインキ層１１が防水壁としての役割を果たし、紙基材１０が各層から流入する水分を吸収しなくなる。一方、ホワイトインキ層１１は、下地凹凸層１２を形成する領域、又はこの領域よりも広めに形成するのが好ましい。こうすることで、後述する下地凹凸層１２等が紙基材１０に直接接触した時に生じ得る紙基材１０の撓みを防ぐことができる。
【００２４】
ホワイトインキ層１１上に形成される下地凹凸層１２、ＵＶインキ層１３、隠蔽層１４、補助隠蔽層１５及び受容層１６の形成方法は、特に限定されない。具体的にはスクリーン印刷方式、グラビア印刷方式等を採用することができる。これらの方式の中でも、インキを厚く盛って厚盛り印刷を行ったり、寒水粉のような粒径が大きい粒子を含む顔料が配合されたインキを印刷することができ、下地の凹凸に影響されることなく印刷ができるという理由から、スクリーン印刷方式が好ましい。特に、ＵＶインキ層１３においては、厚盛り印刷を可能にするスクリーン印刷方式が望ましい。
【００２５】
ホワイトインキ層１１上には下地凹凸層１２が形成されている。下地凹凸層１２は、本発明の複製画において、岩絵の具独特の凹凸感を発現させるための基礎となる層であり、所定の高低差を有する凹部と凸部とからなる層である。ここでいう高度差とは、特に限定されないが、好ましくは、１００μｍ〜１２０μｍである。
【００２６】
下地凹凸層１２は、少なくとも水性エマルジョンと、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含む下地凹凸層形成用インキを用いて形成される層である。尚、下地凹凸層形式用インキは水系のインキであることが好ましい。下地凹凸層１２は、少なくとも原画中であって岩絵の具による彩色が施されている領域に対応するように設けられているが、紙基材１０又はホワイトインキ層１１上の全面にわたって設けてもよい。
【００２７】
下地凹凸層形成用インキにおいて、水性エマルジョンは接着剤としての機能を有し、ホワイトインキ層１１への下地凹凸層１２の密着性を高めるためのものである。水性エマルジョンとして、具体的には、アクリルエマルジョン、酢酸ビニルエマルジョン、エチレン酢酸ビニルエマルジョン、ウレタンエマルジョン等が挙げられる。この水性エマルジョンは、下地凹凸層形成用インキに２０重量％〜２５重量％含有せしめるのが好ましく、２１重量％〜２３重量％が特に好ましい。水性エマルジョンの含有量が２０重量％未満であると、十分な密着性が得られずに、下地凹凸層が剥離し易くなったり、下地凹凸層に掠れが生じ易くなったりすることがある。一方、水性エマルジョンの含有量が２５重量％を超えると、下地凹凸層に所望の凹凸を付けるのが難しくなり、岩絵の具独特の凹凸感を有する質感を得ることが難しい。
【００２８】
寒水粉（方解石の粉）及び炭酸カルシウム粉（胡粉：牡蠣や帆立貝の粉）は、それぞれ岩絵の具独特の凹凸感を得るために必要な材料である。岩絵の具（天然岩絵の具、新岩絵の具、合成岩絵の具）には、方解石や胡粉などの粒状、粉状の原料鉱物が含有されており、本発明ではこのような実際に使われている岩絵の具材を下地凹凸層に含有せしめることにより、岩絵の具調の絵肌を美しく再現することができる。
【００２９】
寒水粉は、下地凹凸層形成用インキに４４重量％〜４６重量％含有せしめるのが好ましい。４４重量％未満であると、岩絵の具調が弱く、岩絵の具独特の凹凸感を有する質感を得ることが難しい。一方、４６重量％を超えると、凹凸が目立ち過ぎてしまい満足できる岩絵の具調を得ることが難しくなると共に、インキの印刷適性が悪化する。
【００３０】
前記寒水粉の最大粒径は、３００μｍ以下が好ましい。岩絵の具に実際に含有されている方解石の粒径は概ね２００μｍ以下であり、前記寒水粉の最大粒径が３００μｍを超えると、十分満足できる岩絵の具調を得るのが難しくなる。
【００３１】
また、前記寒水粉は、その粒度分布において、粒径５０μｍ〜８０μｍの範囲内に第一のピークを有し、粒径１７０μｍ〜２３０μｍの範囲内に第二のピークを有するものが好ましい。尚、寒水粉の粒径は、原画に現れている凹凸に応じて適宜選択することができる。
【００３２】
前記炭酸カルシウム粉の平均粒径は、３μｍ〜５μｍが好ましい。岩絵の具に実際に含有されている胡粉（日本画の白色画材）の粒径は概ね５μｍ前後であり、前記炭酸カルシウム粉の平均粒径が５μｍを超えると、十分満足できる岩絵の具調を得るのが難しくなる。また、前記炭酸カルシウム粉は、白色度が高い高純度のものが好ましい。
【００３３】
岩絵の具画材の胡粉は、盛り上げたり、白色の下地を作る目的で使用されており、本発明の実施例で用いている炭酸カルシウム粉（商品名：シェルライム、北海道共同石灰（株）製）は、帆立貝殻を原料とし、平均粒径が３μｍ〜５μｍ、白色度が９８％の高純度であることから、胡粉の質感を表現するのに最適である。
【００３４】
下地凹凸層１２上の所定の領域には、ＵＶインキ層１３が設けられている。このＵＶインキ層１３は、原画の絵柄に同調して形成され複製画に立体感（凹凸感）を与える層である。ここで、同調して形成されるとは、原画の表面に現れている凹凸の調子に合わせるようにＵＶインキ層１３が選択的に形成されていることをいう。より具体的には、原画の絵柄のうち凸状に浮き上がって山になっている領域にＵＶインキ層１３が選択的に形成されていることをいう。
【００３５】
ＵＶインキ層１３を形成する際に使用されるＵＶインキは、紫外光を照射することで硬化し、かつ厚盛塗装が可能な油性のインキである。具体的には、塩化ビニル系樹脂含有インキ、ウレタン系樹脂含有インキ、ポリエステル系樹脂含有インキ、アクリル系樹脂含有インキ等が挙げられる。
【００３６】
上述したように、原画の絵柄に同調してＵＶインキ層１３が形成されるので、ＵＶインキ層１３は、例えば、所望の領域（具体的には、原画の絵柄の凸状の領域）に孔を有するスクリーン版を使用して、原画の表面の凹凸形状に同調するように形成される。
【００３７】
このスクリーン版は、原画の絵柄に基づいて作製される。具体的には、下記に示されるプロセスで行うのが好ましい。下記のプロセス（（ａ）〜（ｄ））で行うことにより、原画に忠実なスクリーン版を作製することができる。
（ａ）原画の表面形状を撮影（スキャニング）して撮影画像を得る
（ｂ）得られた画像を原画の表面の凹凸形状の３Ｄデータに変換する
（ｃ）上記３Ｄデータをグレースケール画像に変換する
（ｄ）上記グレースケール画像に基づいて、凸状領域に該当する部分について孔（開口）を有するスクリーン版を作製する
【００３８】
また岩絵の具調の立体感を出すという観点から、ＵＶインキ層１３の厚さは、１６０μｍ〜２３０μｍの範囲内であることが好ましい。尚、ＵＶインキ層１３を形成する際に、上述のプロセスにより作製したスクリーン版（階調版）を使用している。このため、上述したＵＶインキを１回塗布すると、原画の表面に現れる凹凸の調子に合うように厚さが調整されたＵＶインキ層１３を形成することができる。尚、部分的に凹凸をさらに強調させる目的でＵＶインキを複数回（例えば、２回）塗布してもよい。
【００３９】
ＵＶインキ層１３上には隠蔽層１４が形成されている。ＵＶインキ層１３は、岩絵の具の絵画では見られない質感、即ち、表面の滑らかさ及び表面の照りがある。そこで、ＵＶインキ層１３が形成されている領域に、岩絵の具調の質感（ざらざら感、凹凸感）を付加させつつ、上記照りを隠蔽する目的で隠蔽層１４を設ける。
【００４０】
このように、図１の複製画１は、下地凹凸層１２上の所定の領域に、ＵＶインキ層１３と隠蔽層１４とからなる積層体が設けられている。この積層体により図１の複製画１は、岩絵の具特有の凹凸感を有することができる。また上記積層体は原画の絵柄に同調して形成されるので、原画に現れている凹凸感をより忠実に再現することができる。
【００４１】
また隠蔽層１４は、下地凹凸層１２を形成する際に使用されるインキと同様に、少なくとも水性エマルジョンと、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含む隠蔽層形成用インキを塗布して形成される層である。尚、隠蔽層形成用インキは、水系のインキであることが好ましい。また水性エマルジョンは、下地凹凸層形成用インキに含まれる水性エマルジョンと同様のものを使用することができる。ただし、隠蔽層形成用インキの組成は、必ずしも下地凹凸層形成用インキと同じにする必要はない。例えば、水性エマルジョンと、炭酸カルシウム粉と、寒水粉とを、それぞれ２０重量％〜２５重量％、１０重量％〜１２重量％、４４重量％〜４６重量％としてもよい。また隠蔽層形成用インキに含まれる寒水粉は、下地凹凸層形成用インキに含まれる寒水粉と同じでもよいが、上述した粒径の範囲内であれば、下地凹凸層形成用インキに含まれる寒水粉とは異なる寒水粉を使用してもよい。同様に、隠蔽層形成用インキに含まれる炭酸カルシウム粉は、下地凹凸層形成用インキに含まれる炭酸カルシウム粉と同じでもよいが、上述した粒径の範囲内であれば、下地凹凸層形成用インキに含まれる炭酸カルシウム粉とは異なる炭酸カルシウム粉を使用してもよい。
【００４２】
一方、ＵＶインキ層１３上に選択的に隠蔽層１４が形成されるために、隠蔽層１４を形成する際には、ＵＶインキ層１３を形成する際に使用する版と同一の版を使用するのが望ましい。同一の版を使用することにより、印刷の見当合わせが容易となるので、原画が有する凹凸感を忠実に再現することができる。
【００４３】
隠蔽層１４の厚さは、好ましくは、６０μｍ〜１３０μｍ程度である。尚、隠蔽層１４は、ＵＶインキ層１３を形成する際に使用したスクリーン版（階調版）を使用するので、ＵＶインキ層１３と同様に原画の表面に現れる凹凸の調子に合うように厚さが調整された隠蔽層１４が形成される。
【００４４】
隠蔽層１４上、及び隠蔽層１４が形成されていない下地凹凸層１２上には、これらの層を覆うように補助隠蔽層１５が形成されている。
【００４５】
補助隠蔽層１５は、少なくとも水性エマルジョンと、炭酸カルシウム粉とを含む補助隠蔽層形成用インキを塗布して形成される層である。尚、補助隠蔽層形成用インキは、水系のインキであることが好ましい。また水性エマルジョンは、下地凹凸層形成用インキに含まれる水性エマルジョンと同様のものを使用することができる。補助隠蔽層形成用インキに含まれる水性エマルジョン及び炭酸カルシウム粉の含有量は、それぞれ３５重量％〜４０重量％、１８重量％〜２０重量％が好ましい。ただし、炭酸カルシウム粉の含有量を多くすると、炭酸カルシウム粉の粒子によって隠蔽層１４や下地凹凸層１２によって形成された凹凸が埋まる場合がある。このため、炭酸カルシウム粉の含有量は適宜調整する必要がある。ここで補助隠蔽層形成用インキに含まれる炭酸カルシウム粉は、下地凹凸層形成用インキや隠蔽層形成用インキに含まれる炭酸カルシウム粉と同じであってもよい。また、下地凹凸層形成用インキや隠蔽層形成用インキに含まれる炭酸カルシウム粉よりも粒径が小さい炭酸カルシウム粉を使用してもよいし、粒径が大きい炭酸カルシウム粉を使用してもよい。ただし、その粒径が、寒水粉の粒径よりも小さい炭酸カルシウム粉を使用する。尚、補助隠蔽層１５の膜厚は特に限定されないが、隠蔽層１４や下地凹凸層１２の形成によってもたらされる凹凸を埋めないように適宜調整される。
【００４６】
ここで、補助隠蔽層１５は、必ず設ける必要はないが、隠蔽層１４と同様にＵＶインキ層１３によってもたらされる立体感を生かしつつ、ＵＶインキ層１３に由来する照りを見えなくすることができることから、設けるのが好ましい。
【００４７】
上述したように、隠蔽層１４は、ＵＶインキ層１３を形成するときに使用されるスクリーン版と同一の版を使用して、下地凹凸層１２上の所定の領域に形成される。ただし、隠蔽層１４を形成する際に、印刷の検討のずれ等からＵＶインキ層１３の端部等に印刷ムラが生じる場合がある。この印刷ムラが生じると、当該印刷ムラからＵＶインキ層１３由来の照りが見えてしまう。
【００４８】
ここで、上記隠蔽層形成用インキを複製画の全面に亘って塗布すれば、上述した印刷ムラが生じることなく、ＵＶインキ層１３上に隠蔽層形成用インキを塗布することができるので、上述した照りの問題は解消できる。しかし隠蔽層形成用インキを塗布する際に、当該インキの一部がＵＶインキ層１３が形成されていない領域まで入り込み、下地凹凸層１２及びＵＶインキ層１３によってもたらされた凹凸を埋めることになる。この結果、下地凹凸層１２及びＵＶインキ層１３によってもたらされる立体感が損なわれることとなる。
【００４９】
そこで、隠蔽層１４をＵＶインキ層１３上に選択的に形成した後、隠蔽層１４上及び下地凹凸層１２上に補助隠蔽層１５を形成する。ここで補助隠蔽層形成用インキを塗布すると、補助隠蔽層用インキが上記印刷ムラに入り込んで、上記印刷ムラを埋めることができる。このためＵＶインキ層１３由来の照りを確実に隠蔽することができる。また上述したように、補助隠蔽層形成用インキは、寒水粉のような粒径が大きい材料が含まれていないので、下地凹凸層１２及びＵＶインキ層１３によってもたらされた凹凸を埋めることはない。
【００５０】
一方で、補助隠蔽層形成用インキに含まれる炭酸カルシウム粉は、ＵＶインキ層１３由来の照りを隠蔽する力が弱いので、隠蔽層１４を設けないでＵＶインキ層１３上に補助隠蔽層用インキを塗布したとしても、ＵＶインキ層１３由来の照りを隠蔽することができない。
【００５１】
補助隠蔽層１５上には、受容層１６が形成されている。尚、受容層１６は、補助隠蔽層１５上の全面において形成させる必要はない。原画となる日本画が、岩絵の具を重ね塗りしながら完成させることを考慮すると、受容層１６は、少なくとも補助隠蔽層１５のうち隠蔽層１４を覆う補助隠蔽層１５ａ上に受容層１６を設ける必要がある。
【００５２】
本発明では凹凸形状を有する面にオリジナル画像に対応した絵柄層１７を形成するが、この絵柄層１７の形成には非接触型のインクジェット方式が好適である。このため、前記下地凹凸層１２上及び隠蔽層１４上には、インクジェットプリンターによる印刷適性を有する受容層１６が形成されている。
【００５３】
従来よりインクジェットプリンターによる印刷適性を持つ受容層１６には、インキ発色性、インキ吸収性に優れ、高精細な画質・高い印字濃度を発現するために、シリカや炭酸カルシウム等の顔料を利用することは広く知られている。
【００５４】
しかしながら、本発明では凹凸形状を有する補助隠蔽層１５上に受容層１６を設けるため、従来の受容層の組成では十分な密着性が得られず、表面剥離し易くなるという問題がある。
【００５５】
このため本発明においては、従来の受容層の組成に加え、さらに硬化剤を含有する受容層形成用インキを用いて受容層１６を形成するのが好ましい。また受容層形成用インキは水系のインキであることが好ましい。
【００５６】
前記硬化剤としては水酸基と架橋反応する例えばイソシアネート等が適宜用いられる。この硬化剤は、受容層形成用インキに６．５〜１１．５重量％の割合で含有せしめるのが好ましい。６．５重量％未満であると、硬化剤による十分な効果が得られず、密着性が不十分となり易い。一方、１１．５重量％を超えると、十分な密着性が得られるものの、絵柄層１７を形成した際に色の鮮やかさが劣る結果となり易い。
【００５７】
また、受容層形成用インキには、岩絵の具画材の胡粉の質感を十分に表現するために、平均粒径が３μｍ〜５μｍであり、白色度が高く、白色度９８％以上の高純度の炭酸カルシウム粉を含有せしめるのが好ましい。
【００５８】
受容層１６の厚さは１２μｍ〜２５μｍ程度であり、その表面は前述のような岩絵の具調の凹凸を有する下地凹凸層１２、又は下地凹凸層１２、ＵＶインキ層１３及び隠蔽層１４からなる積層体によってもたらされる凹凸形状を反映したものとなる。
【００５９】
受容層１６上には絵柄層１７が形成される。絵柄層１７は、受容層１６上にインクジェットプリンターによって形成される。岩絵の具調の凹凸を有する下地凹凸層１２及び同調岩絵具様凹凸層１４によって形成される凹凸形状を反映した受容層１６の表面に形成される絵柄層１７は、それ自体が岩絵の具調の凹凸を表現でき、より本物に近い岩絵の具独特の凹凸感を有し、質感の高い複製画が得られる。
【実施例】
【００６０】
［実施例１］
図１に示される複製画を、以下に示す方法により作製した。
【００６１】
［ホワイトインキ層の形成］
紙基材１０である画材紙（商品名：ロベールホワイト、共同印刷製、坪量：２７６ｇ／ｍ2）上に、シルクインキ（商品名：ＪＲＰホワイト、株式会社小林美研製）を塗布して、ホワイトインキ層１１を形成した。尚、ホワイトインキ層１１は、下記に示す条件下で形成した。
印刷方式：シルクスクリーン
版・感材膜厚：８μｍ
版・メッシュ：２００メッシュ
版・網：ベタ（１００％）
【００６２】
［下地凹凸層の形成］
次に、ホワイトインキ層１１上に、下地凹凸層用インキ（桜宮化学株式会社製、エチレン酢酸ビニルエマルジョン含有）を塗布して下地凹凸層１２を形成した。尚、下地凹凸層１２は、下記に示す条件下で形成した。
印刷方式：シルクスクリーン
版・感材膜厚：８μｍ
版・メッシュ：８０メッシュ
版・網：ベタ（１００％）
【００６３】
［ＵＶインキ層の形成］
次に、下地凹凸層１２上であって、塩化ビニル系透明インキ（商品名：ＵＶ４７００クリアー、株式会社小林美研製）を塗布してＵＶインキ層１３を形成した。尚、ＵＶインキ層１３は、原画のスキャニングによる原画の凹凸の評価に基づいて凸部に該当する領域に孔を有するスクリーンを使用し、かつ下記に示す条件下で形成した。
印刷方式：シルクスクリーン
版・感材膜厚：６０〜７０μｍ
版・メッシュ：８０メッシュ
版・網：網点階調（６０〜７０線）
【００６４】
［隠蔽層の形成］
次に、ＵＶインキ層１３上に、隠蔽層用インキ（桜宮化学株式会社製、エチレン酢酸ビニルエマルジョン含有）を塗布して隠蔽層１４を形成した。尚、隠蔽層１４は、ＵＶインキ層１３を形成する際に使用したスクリーンと同じスクリーンを使用し、下記に示す条件下で形成した。
印刷方式：シルクスクリーン
版・感材膜厚：６０〜７０μｍ
版・メッシュ：８０メッシュ
版・網：網点階調（６０〜７０線）
【００６５】
［補助隠蔽層の形成］
隠蔽層１４を形成した後、下地凹凸層１２及び隠蔽層１４を覆うように、方解石（寒水石）の粉末が含まれていない補助隠蔽層用インキ（桜宮化学株式会社製、エチレン酢酸ビニルエマルジョン含有）を塗布して補助隠蔽層１５を形成した。尚、補助隠蔽層１５は、下記に示す条件下で形成した。
印刷方式：シルクスクリーン
版・感材膜厚：８μｍ
版・メッシュ：８０メッシュ
版・網：ベタ（１００％）
【００６６】
［受容層の形成］
次に、補助隠蔽層１５上に、受容層用インキ（商品名：ＫＰ−０２コート（白）、桜宮化学株式会社製）を塗布して受容層１６を形成した。尚、受容層１６は、下記に示す条件下で形成した。
印刷方式：シルクスクリーン
版・感材膜厚：８μｍ
版・メッシュ：１５０メッシュ
版・網：ベタ（１００％）
【００６７】
［絵柄層の形成］
次に、受容層１６上にインクジェットプリンターによって絵柄層１７を形成した。以上により複製画を作製した。
【００６８】
［複製画の評価］
作製した複製画を目視し、下記に示される項目の評価を行った。
（１）原画が有する質感（凹凸）の再現性
○：岩絵の具調が忠実に再現されている
△：岩絵の具調が少し再現されている
×：岩絵の具調が全く再現されていない
（２）照りの評価
○：照りがほとんど見られない
△：一部照りが見られる
×：ＵＶインキ層を形成した領域の大半に照りが見られる
【００６９】
評価結果を表１に示す。
【００７０】
［実施例２］
実施例１において、補助隠蔽層１５の形成を省略したことを除いては実施例１と同様の方法により複製画を得た。
【００７１】
作製した複製画について、実施例１と同様に評価した。評価結果を表１に示す。
【００７２】
［比較例１］
実施例１において、隠蔽層１４を形成する際に、隠蔽層用インキを全面（ＵＶインキ層１３上及び下地凹凸層１２上）に亘って塗布した。また補助隠蔽層１５の形成を省略した。これらを除いては、実施例１と同様の方法により複製画を得た。
【００７３】
作製した複製画について、実施例１と同様に評価した。評価結果を表１に示す。
【００７４】
［比較例２］
実施例１において、隠蔽層１４の形成を省略したことを除いては、実施例１と同様の方法により複製画を得た。
【００７５】
作製した複製画について、実施例１と同様に評価した。評価結果を表１に示す。
【００７６】
［比較例３］
実施例１において、ＵＶインキ層１３、隠蔽層１４及び補助隠蔽層１５の形成を省略したことを除いては、実施例１と同様の方法により複製画を得た。
【００７７】
作製した複製画について、実施例１と同様に評価した。評価結果を表１に示す。
【００７８】
［比較例４］
実施例１において、隠蔽層１４及び補助隠蔽層１５の形成を省略したことを除いては、実施例１と同様の方法により複製画を得た。
【００７９】
作製した複製画について、実施例１と同様に評価した。評価結果を表１に示す。
【００８０】
【表１】
0005437860.tif 000002
【００８１】
上記表より、本発明の複製画は、原画が有する岩絵の具調の質感の再現性がよく、かつＵＶインキ層１３由来の照りを隠蔽していることがわかった。
【符号の説明】
【００８２】
１  複製画
１０  紙基材
１１  ホワイトインキ層
１２  下地凹凸層
１３  ＵＶインキ層
１４  隠蔽層
１５  補助隠蔽層
１６  受容層
１７  絵柄層
【図１】
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