(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
副産物が含まれた化学式１のアデホビルジピボキシル、その塩またはその複合体を水または水を含む混合溶媒に溶解させるステップと、
生成された溶液を逆相カラムを通じて精製するステップと、
上記精製されたアデホビルジピボキシル溶液に塩基を添加し、有機溶媒で抽出するステップ、及び、
上記有機溶媒で抽出されたアデホビルジピボキシル溶液から有機溶媒を除去し、無定形アデホビルジピボキシルを生成するステップを含む、無定形の化学式１のアデホビルジピボキシルの製造方法を含む、無定形の化学式１のアデホビルジピボキシルの製造方法。
【化１】
0005390617.tif 000016
【請求項２】
前記精製されたアデホビルジピボキシルの純度が９５％以上であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記精製されたアデホビルジピボキシルの純度が９９％以上であることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
上記水または水を含む混合溶媒に酸を添加することによって、水または水を含む混合溶媒のｐＨが０．１〜５であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
上記酸が塩酸、硫酸、硝酸またはメタンスルホン酸であることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
上記逆相カラムの移動相のｐＨが０．１〜５であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
上記有機溶媒がジクロロメタンまたはイソプロピルアセテートであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
上記塩基の添加によってアデホビルジピボキシル水溶液のｐＨが２．５〜１０に調節されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
上記逆相カラムの充填物質がＣ１〜Ｃ１８アルキル結合シリカであることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
逆相カラムの充填物質が炭素数１８のオクタデシル結合シリカであることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
上記副産物が、
【化２】
0005390617.tif 000017
【化３】
0005390617.tif 000018
【化４】
0005390617.tif 000019
【化５】
0005390617.tif 000020
【化６】
0005390617.tif 000021
よりなる群から１つ以上選択されることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
有機溶媒の除去が減圧濃縮によって行われることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
有機溶媒の除去が、炭素数が５〜１２の炭化水素に、濃縮された上記化学式１のアデホビルジピボキシル溶液を滴加して無定形の固体を形成し、これを濾過することによって行われることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、抗ウイルス剤として有用なアデホビルジピボキシルの改善された精製方法に関する。アデホビルジピボキシルは、９−［２−［［ビス｛（ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンであり、米国特許第５，６６３，１５９号などに開示されている。
本発明は、合成により生成された副産物を含有する不純な状態の化学式１で示される９−［２−［［ビス｛（ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニン（「アデホビルジピボキシル」）を少なくとも９９％の高純度に精製する新規な方法に関する。
【０００２】
また、本発明は、上記方法を用いて精製された化学式１で示される高純度のアデホビルジピボキシル溶液から溶媒を除去し、無定形アデホビルジピボキシルを製造する方法に関する。
【０００３】
【化１】
0005390617.tif 000002
【背景技術】
【０００４】
アデホビルジピボキシルは、抗ウイルス治療剤として有用な薬物であり、ヌクレオチド逆転写酵素阻害剤であって、特にＢ型肝炎ウイルスとＨＩＶにインビボでの優れた治療効果を示し、ヘプセラ（Ｈｅｐｓｅｒａ）という商品名で販売されている。
アデホビルジピボキシルの製造方法は、例えば、米国特許第５，６６３，１５９号、同第６，４５１，３４０号、大韓民国特許第６１８６６３号及び同第７０００８７号に開示されている。当該文献には、化学式２のアデホビルを出発物質としてクロロメチルピバレートと反応させて、化学式１のアデホビルジピボキシルを合成する方法が開示されている。
【０００５】
【化２】
0005390617.tif 000003
しかし、上記先行技術の合成過程では、大韓民国特許６２４２１４号に開示されたように、下記のような副産物１〜５が生成される。
【０００６】
【化３】
0005390617.tif 000004
【０００７】
【化４】
0005390617.tif 000005
【０００８】
【化５】
0005390617.tif 000006
【０００９】
【化６】
0005390617.tif 000007
【００１０】
【化７】
0005390617.tif 000008
したがって、アデホビルジピボキシルを合成した後、これら副産物を除去する精製過程が必要である。
【００１１】
また、アデホビルジピボキシルは、無定形または結晶形の固体で製造可能であるが、一般的に無定形の固体は、結晶形の固体より溶解速度が高く生物学的利用度が高い。これは、無定形の固体が結晶形の固体よりさらに可溶性が高いからである。アデホビルジピボキシルの可溶性が増大すると、様々な剤形化がより簡単になるため、効果的な無定形固体の開発が求められる。
【００１２】
アデホビルジピボキシルの精製方法に関する先行技術である米国特許第５，６６３，１５９号には、停止相としてシリカゲルを使用し、移動相としてジクロロメタンとメタノール混合溶媒を使用した正相カラム方法で精製し、化学式１で示される無定形アデホビルジピボキシルを製造する方法が記載されている。しかし、上記方法は、アデホビルジピボキシルの精製容量が大きくなるほど、拡散効果によって精製効果が低下し、カラム時に時間が経過するほど不純物の生成が多くなり、大量生産には適していない。また、上記理由により医薬品として使用するのに適した高純度アデホビルジピボキシルの製造は不可能である。
【００１３】
これを改良した精製方法として大韓民国特許第６１８６６３号には、化学式１で示されるアデホビルジピボキシルを結晶化溶媒と接触させて精製する方法が開示されている。当該方法は、大量生産に適し、また、精製効果に優れているが、結晶化時にｎ−ブチルエーテルなどの高価な結晶化溶媒を大量に使用し、反応後にトリエチルアミン塩酸塩を除去するための追加濾過工程を要する。また、結晶化時の複雑な作業工程に起因し、生産時に製品純度の差異が生じる可能性が高い。更に、上記方法では、結晶形アデホビルジピボキシルが最終産物として得られる為、無定形アデホビルジピボキシルを製造するためには、有機溶媒に結晶形アデホビルジピボキシルを溶解させる工程がさらに必要となる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明の目的は、大量生産が容易であり、且つ高価な有機溶媒の大量使用と追加濾過工程が不要であり、高純度の一定の品質の製品を生産する事が可能なアデホビルジピボキシルの新規な精製方法を提供することにある。本発明によれば、逆相カラムを通じて精製することによって、９９％以上の高純度のアデホビルジピボキシルを提供することができる。さらに、有機溶媒に溶解させる追加工程が必要な従来方法とは異なって、このような追加工程を必要としない無定形アデホビルジピボキシルの製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明によるアデホビルジピボキシルの精製方法は、合成により生成された副産物を含有する不純な状態の化学式１で示されるアデホビルジピボキシル、その塩または複合体を、水または水を含む混合溶媒に溶解させるステップと、アデホビルジピボキシル溶液を逆相カラムを通じて精製するステップと、精製されたアデホビルジピボキシル溶液に塩基を添加し、有機溶媒で抽出するステップとを含む。
【００１６】
また、本発明は、上記方法により得られた化学式１で示される高純度のアデホビルジピボキシル溶液から溶媒を除去し、高純度の無定形アデホビルジピボキシルを製造する方法を含む。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の方法によって精製されたアデホビルジピボキシルは、副産物をほとんど含まず、ＨＬＰＣ分析の結果、少なくとも約９９％の高純度を有する。
【００１８】
また、本発明は、逆相カラムを利用することによって、精製効率が高く、高純度のアデホビルジピボキシルの大量生産が可能であり、従来技術のような高価な結晶化溶媒や追加の濾過工程を必要とせず、比較的簡単な精製工程を通じて約９９％以上の高純度の無定形アデホビルジピボキシルを得られる精製方法を提供する。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施例８で逆相カラムを通じて精製された無定形アデホビルジピボキシルのＨＰＬＣデータであって、当該データは、得られた無定形アデホビルジピボキシルの純度が約９９．８％であることを示す。
【図２】本発明の実施例９で逆相カラムを通じて精製された無定形アデホビルジピボキシルのＨＰＬＣデータであって、当該データは、得られた無定形アデホビルジピボキシルの純度が約９９．７％であることを示す。
【図３】本発明の実施例１０で逆相カラムを通じて精製された無定形アデホビルジピボキシルのＨＰＬＣデータであって、当該データは、得られた無定形アデホビルジピボキシルの純度が９９．７％であることを示す。
【図４】本発明の比較例２で正相カラムを通じて精製された無定形アデホビルジピボキシルのＨＰＬＣデータであって、当該データは、得られた無定形アデホビルジピボキシルの純度が７２．８％であることを示す。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明による精製方法について詳しく説明する。
【００２１】
本発明による精製方法において、合成により生成された不純な状態の化学式１で示されるアデホビルジピボキシルを高純度のアデホビルジピボキシルに精製する工程を、反応式１に示すことができる。
【００２２】
【化８】
0005390617.tif 000009
【００２３】
本発明は、合成反応中に生成された副産物を含有する化学式１のアデホビルジピボキシル、その塩またはその複合体を水または水を含む混合溶媒に溶解させるステップと、生成された溶液を逆相カラムを通じて精製するステップとを含む、化学式１のアデホビルジピボキシルの精製方法に関する。
【００２４】
【化９】
0005390617.tif 000010
【００２５】
本発明による精製方法により精製されたアデホビルジピボキシルの純度は９５％以上であることを特徴とし、さらに好ましくは、９９％以上である。
【００２６】
本発明による精製方法において、上記水または水を含む混合溶媒に酸を添加することによって、水または水を含む混合溶媒のｐＨを０．１〜５、好ましくは１．０〜３に調節する。この時、添加される酸は、無機酸または有機酸のいずれも使用可能であり、例えば、塩酸、硫酸、硝酸またはメタンスルホン酸を使用することができるが、これらに限定されるものではない。
【００２７】
本発明による精製方法において、逆相カラムの移動相のｐＨは、０．１〜５であることが好ましく、さらに好ましくは、１．０〜３．５である。
【００２８】
本発明による精製方法は、上記精製されたアデホビルジピボキシル溶液に塩基を添加し、有機溶媒で抽出するステップをさらに含むことができる。
【００２９】
上記有機溶媒は、好ましくは、ジクロロメタンまたはイソプロピルアセテートが挙げられるが、これらに限定されるものではない。上記塩基の添加によってアデホビルジピボキシル水溶液のｐＨは２．５〜１０に調節される。
【００３０】
本発明の精製に使用される逆相カラムの充填物質は、Ｃ１〜Ｃ１８アルキルが好ましく、さらに特に好ましくは、炭素数１８のオクタデシルである。
【００３１】
本発明による精製方法で除去される副産物は、下記の通りであるが、これらに限定されるものではない。
【００３２】
【化１０】
0005390617.tif 000011
【００３３】
【化１１】
0005390617.tif 000012
【００３４】
【化１２】
0005390617.tif 000013
【００３５】
【化１３】
0005390617.tif 000014
【００３６】
【化１４】
0005390617.tif 000015
【００３７】
また、本発明は、本発明の上記の精製方法によって精製された化学式１のアデホビルジピボキシル溶液から有機溶媒を除去するステップを含む、化学式１の無定形のアデホビルジピボキシルの製造方法に関する。
【００３８】
上記方法において、有機溶媒の除去は、減圧濃縮によって行われることを特徴とする。
上記方法において、有機溶媒の除去は、炭素数が５〜１２の炭化水素に、濃縮された上記化学式１のアデホビルジピボキシル溶液を滴加して無定形の固体を形成し、これを濾過することによって行われることを特徴とする。
【００３９】
以下、本発明のアデホビルジピボキシルの精製方法及び製造方法について詳しく説明する。
【００４０】
合成反応により生成された副産物を含有する不純な状態のアデホビルジピボキシルを有機溶媒に添加し、水で洗浄する。本発明による精製方法は、一般的なアデホビルジピボキシルの精製に使用できるが、副産物１〜５を含むアデホビルジピボキシルの精製に特に効果的である。
【００４１】
ここで使用される有機溶媒の例として、ジクロロメタン、イソプロピルアセテート、トルエンまたはエチルアセテートなどが挙げられ、好ましくは、ジクロロメタンまたはイソプロピルアセテートである。
【００４２】
分離した有機溶媒に水または水を含む混合溶媒を添加し、その後、酸を添加し、水層で抽出する。本発明において使用される水を含む混合溶媒は、少なくとも水が２０重量％以上溶解されている有機溶媒をいい、好適な有機溶媒の例として、炭素数１〜４のアルコール、アセトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどを含むが、これらに限定されない。
【００４３】
酸の添加によって有機溶媒中で副産物を含んだアデホビルジピボキシルは、その塩または複合体状態となり、水または水を含む混合溶媒によって溶解することができる。本発明においてアデホビルジピボキシル塩または複合体は、アデホビルジピボキシルに無機酸または有機酸を添加して形成される化合物を意味する。
【００４４】
ここで使用される酸としては、有機酸、無機酸のいずれも可能であり、アデホビルジピボキシル塩または複合体の形成を考慮し、塩酸、硫酸、硝酸、メタンスルホン酸などを使用することが好ましい。
【００４５】
また、抽出した水溶液のｐＨは、０．１〜５．０であり、好ましくは１．０〜３．０である。
【００４６】
分離した水溶液を逆相カラムに通過させ、得られた液を回収する。その後、必要によってｐＨ０．１〜５．０、好ましくは１．０〜３．５の水溶液（移動相）をさらに逆相カラムに通過させて回収することができる。
【００４７】
ここで使用される逆相カラムの充填物質（停止相）として、Ｃ１〜Ｃ１８アルキルまたはＨＰ２Ｏなどのような水に混和しない高分子物質が挙げられ、好ましくは、炭素数１８のオクタデシルである。
【００４８】
回収した水溶液に有機溶媒を添加し、塩基物質を添加して水溶液のｐＨを２．５〜１０に調整する。その後、有機溶媒を分離する。
【００４９】
ここで使用される有機溶媒として、ジクロロメタン、イソプロピルアセテート、トルエン、エチルアセテートなどが挙げられ、好ましくは、ジクロロメタン、イソプロピルアセテートである。
【００５０】
また、使用される塩基物質は、無機塩基及び有機塩基のいずれも可能であり、関連化合物（不純物）の生成などを考慮すれば、塩基物質が添加された水溶液の好ましいｐＨは、２．５〜６．５である。
【００５１】
その後、回収した有機溶媒を除去し、精製された高純度の無定形アデホビルジピボキシル固体を得る。
【００５２】
ここで有機溶媒を除去する方法として、減圧濃縮方法が挙げられ、濃縮時の内部温度は、３０℃〜９０℃が好ましい。
【００５３】
また、有機溶媒の除去方法として、減圧濃縮方法以外に、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサンまたはｎ−ヘプタンまたはシクロヘキサンなどのような炭素数が５〜１２の炭化水素に、濃縮された化学式１で示されるアデホビルジピボキシルが溶解している有機溶液を滴加して無定形固体を形成し、これを濾過して有機溶媒を除去する方法がある。
【００５４】
本発明によって精製されたアデホビルジピボキシルの純度は、９５％以上、好ましくは、９９％以上である。
【００５５】
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５６】
実施例１：化学式１で示されるアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛ピバロイルオキシ｝−メトキシ］ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンの製造方法
反応器に１００ｇの９−［２−（ホスホノメトキシ）エチル］アデニン（「アデホビル」）と４００ｇのジメチルスルホキシドを投入した。次いで、１４０ｍｇのトリエチルアミンと２５０ｇのクロロメチルピバレートを投入した後、反応温度を４０℃に昇温して５時間撹拌した。
反応温度を１０℃〜２０℃に冷却した後、ジクロロメタン５００ｍＬと精製水１０００ｍＬを投入し、５分間撹拌した後、有機層を分離した。
【００５７】
実施例２：化学式１で示されるアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛ピバロイルオキシ｝−メトキシ］ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンの製造方法
反応器に１００ｇの９−［２−（ホスホノメトキシ）エチル］アデニン（「アデホビル」）と４００ｍＬのＮ−メチル−２−ピロリジノンを投入した。次いで、１８５ｇのトリエチルアミンと２７５ｇのクロロメチルピバレートを投入した後、反応温度を４５℃に昇温して１２時間撹拌した。反応温度を１０℃〜２０℃に冷却した後、イソプロピルアセテート１３７２ｍＬを添加し撹拌した。副産物を濾過して除去し、４５７ｍＬのイソプロピルアセテートで洗浄した。３６０ｍＬの精製水を投入し、５分間撹拌した後、有機層を分離した。分離した有機層を３６０ｍＬの精製水で２回洗浄し、洗浄に利用した精製水を混合して３６０ｍＬのイソプロピルアセテートで逆抽出した。
【００５８】
実施例３：化学式１で示されるアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛（ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンの精製方法
実施例１で得た有機層に精製水３０００ｍＬを投入した。１Ｎ塩酸水溶液を加えて精製水のｐＨを１．８に調整した後、２０〜２５℃で１０分間撹拌した。撹拌を停止した後、水層を分離した。分離した水層をＣ１８逆相カラム（サイズ：４０ｘ１５ｃｍ、充填物質：ＫＰ−Ｃ１８−ＨＳＴＭ３５〜７０ｕｍ、９０Å  Ｃ１８−ｂｏｎｄｅｄ  ｓｉｌｉｃａ、製造元：Ｂｉｏｔａｇｅ）に通過させた。
Ｃ１８逆相カラムを通過させた水溶液を回収し、Ｃ１８逆相カラムは、メタノールとｐＨ２．０の塩酸水溶液を使用して連続して洗浄した。
回収した水溶液をＣ１８逆相カラムにさらに通過させて回収し、回収した水溶液にジクロロメタン５００ｍＬを追加した。反応物を撹拌しながら５％重炭酸ナトリウム水溶液を滴加し、回収した水溶液のｐＨを５．７〜５．８に調節した。
撹拌を停止した後、ジクロロメタンを分離し、硫酸ナトリウムを使用して脱水、濾過した。
濾過したジクロロメタンを減圧濃縮し、化学式１で示される無定形の高純度アデホビルジピボキシルを得た。（収率：４２ｇ（２３．４％）、含量：９９．６％、純度：９９．８％）
【００５９】
実施例４：化学式１で示されるアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛（ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンの精製方法
実施例１で得た有機層に精製水３０００ｍＬを投入した。１Ｎ塩酸水溶液を加えて精製水のｐＨを１．８に調整した後、２０〜２５℃で１０分間撹拌した。撹拌を停止した後、水層を分離した。分離した水層をＣ１８逆相カラム（大きさ：４０ｘ１５ｃｍ、充填物質：ＫＰ−Ｃ１８−ＨＳＴＭ３５〜７０ｕｍ、９Å  Ｃ１８−ｂｏｎｄｅｄ  ｓｉｌｉｃａ、製造元：Ｂｉｏｔａｇｅ）に通過させた。
Ｃ１８逆相カラムを通過させた水溶液を回収し、Ｃ１８逆相カラムをメタノールとｐＨ２．０の塩酸水溶液を使用して連続して洗浄した。
回収した水溶液をＣ１８逆相カラムにさらに通過させて回収し、回収した水溶液にジクロロメタン５００ｍＬを追加した。反応物を撹拌しながら５％重炭酸ナトリウム水溶液を滴加し、回収した水溶液のｐＨを５．５〜５．６に調節した。
撹拌を停止した後、ジクロロメタンを分離し、硫酸ナトリウムを使用して脱水、濾過した。
濾過したジクロロメタンを減圧濃縮した。生成された固体にｎ−ヘキサン５００ｍＬを添加し、撹拌、濾過し、化学式１で示される無定形の高純度アデホビルジピボキシルを得た。（収率：４３ｇ（２３．９％）、含量：９９．７％、純度：９９．８％）
【００６０】
実施例５：化学式１で示されるアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛（ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンの精製方法
実施例１で得た有機層に精製水３０００ｍＬを投入した。メタンスルホン酸を添加して精製水のｐＨを２．２に調整した後、２０〜２５℃で１０分間撹拌した。撹拌を停止した後、水層を分離した。分離した水層をＣ１８逆相カラム（大きさ：４０ｘ１５ｃｍ、充填物質：ＫＰ−Ｃ１８−ＨＳＴＭ３５〜７０ｕｍ、９０Å  Ｃ１８−ｂｏｎｄｅｄ  ｓｉｌｉｃａ、製造元：Ｂｉｏｔａｇｅ）に通過させた。
Ｃ１８逆相カラムを通過させた水溶液を回収し、Ｃ１８逆相カラムは、メタノールとｐＨ２．３の塩酸水溶液を使用して連続して洗浄した。
回収した水溶液をＣ１８逆相カラムにさらに通過させて回収し、回収した水溶液にジクロロメタン５００ｍＬを追加した。反応物を撹拌しながら５％重炭酸ナトリウム水溶液を滴加し、回収した水溶液のｐＨを３．２〜３．３に調節した。
撹拌を停止した後、ジクロロメタンを分離し、硫酸ナトリウムを使用して脱水、濾過した。
濾過したジクロロメタンを減圧濃縮し、化学式１で示される無定形の高純度アデホビルジピボキシルを得た。（収率：４５ｇ（２５．１％）、含量：９９．７％、純度：９９．８％）
【００６１】
実施例６：化学式１で示されるアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛（ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンの精製方法
実施例１で得た有機層に精製水３０００ｍＬを投入した。メタンスルホン酸を添加して精製水をｐＨを２．０に調整した後、２０〜２５℃で１０分間撹拌した。撹拌を停止した後、水層を分離した。分離した水層をＣ１８逆相カラム（大きさ：４０ｘ１５ｃｍ、充填物質：ＫＰ−Ｃ１８−ＨＳＴＭ３５〜７０ｕｍ、９０Å  Ｃ１８−ｂｏｎｄｅｄ  ｓｉｌｉｃａ、製造元：Ｂｉｏｔａｇｅ）に通過させた。
Ｃ１８逆相カラムを通過させた水溶液を回収し、Ｃ１８逆相カラムは、メタノールとｐＨ２．３の塩酸水溶液を使用して連続して洗浄した。
回収した水溶液をＣ１８逆相カラムにさらに通過させて回収し、回収した水溶液にジクロロメタン５００ｍＬを追加した。反応物を撹拌しながら５％重炭酸ナトリウム水溶液を滴加し、回収した水溶液のｐＨを３．５〜３．６に調節した。
撹拌を停止した後、ジクロロメタンを分離し、硫酸ナトリウムを使用して脱水、濾過した。
濾過したジクロロメタンを減圧濃縮し、化学式１で示される無定形の高純度アデホビルジピボキシルを得た。（収率：４４ｇ（２４．５％）、含量：９９．５％、純度：９９．７％）
【００６２】
実施例７：化学式１で示されるアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛（ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンの精製方法
実施例１で得た有機層に精製水３０００ｍＬを投入した。メタンスルホン酸を添加して精製水のｐＨを２．１に調整した後、２０〜２５℃で１０分間撹拌した。撹拌を停止した後、水層を分離した。分離した水層をＣ１８逆相カラム（大きさ：４０ｘ１５ｃｍ、充填物質：ＫＰ−Ｃ１８−ＨＳＴＭ３５〜７０ｕｍ、９０Å  Ｃ１８−ｂｏｎｄｅｄ  ｓｉｌｉｃａ、製造元：Ｂｉｏｔａｇｅ）に通過させた。その後、ｐＨ２．３の塩酸水溶液１０００ｍＬを同一のカラムに通過させて、先程の通過液と混合した。
Ｃ１８逆相カラムを通過させた水溶液を回収し、Ｃ１８逆相カラムは、メタノールとｐＨ２．３の塩酸水溶液を使用して順次に洗浄した。
回収した水溶液をＣ１８逆相カラムにさらに通過させて回収し、その後、ｐＨ２．３の塩酸水溶液１０００ｍＬを同一のカラムに通過させて、混合した。
回収した水溶液にジクロロメタン５００ｍＬを追加した。反応物を撹拌しながら５％重炭酸ナトリウム水溶液を滴加し、回収した水溶液のｐＨを４．８〜５．０に調節した。
撹拌を停止した後、ジクロロメタンを分離し、硫酸ナトリウムを使用して脱水、濾過した。
濾過したジクロロメタンを減圧濃縮し、化学式１で示される無定形の高純度アデホビルジピボキシルを得た。（収率：４７ｇ（２６．２％）、含量：９９．４％、純度：９９．５％）
【００６３】
実施例８：化学式１で示されるアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛（ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンの精製方法
実施例２で得た有機層に精製水３０００ｍＬを投入した。１Ｎ塩酸水溶液を加えて精製水のｐＨを１．８に調整した後、２０〜２５℃で１０分間撹拌した。撹拌を停止した後、水層を分離した。分離した水層をＣ１８逆相カラム（大きさ：４０ｘ１５ｃｍ、充填物質：ＫＰ−Ｃ１８−ＨＳＴＭ３５〜７０ｕｍ、９０Å  Ｃ１８−ｂｏｎｄｅｄ  ｓｉｌｉｃａ、製造元：Ｂｉｏｔａｇｅ）に通過させた。
Ｃ１８逆相カラムを通過させた水溶液を回収し、Ｃ１８逆相カラムは、メタノールとｐＨ２．０の塩酸水溶液を使用して連続して洗浄した。
回収した水溶液をＣ１８逆相カラムにさらに通過させて回収し、回収した水溶液にジクロロメタン５００ｍＬを追加した。反応物を撹拌しながら５％重炭酸ナトリウム水溶液を滴加し、回収した水溶液のｐＨを３．２〜３．３に調節した。
撹拌を停止した後、ジクロロメタンを分離し、硫酸ナトリウムを使用して脱水、濾過した。
濾過したジクロロメタンを減圧濃縮し、化学式１で示される無定形の高純度アデホビルジピボキシルを得た。（収率：３８ｇ（２１．２％）、含量：９９．４％、純度：９９．８％）
【００６４】
実施例９：化学式１で示されるアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛（ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンの精製方法
実施例２で得た有機層に精製水３０００ｍＬを投入した。１Ｎ塩酸水溶液を加えて精製水のｐＨを１．８に調整した後、２０〜２５℃で１０分間撹拌した。撹拌を停止した後、水層を分離した。分離した水層をＣ１８逆相カラム（大きさ：４０ｘ１５ｃｍ、充填物質：ＫＰ−Ｃ１８−ＨＳＴＭ３５〜７０ｕｍ、９０Å  Ｃ１８−ｂｏｎｄｅｄ  ｓｉｌｉｃａ、製造元：Ｂｉｏｔａｇｅ）に通過させた。
Ｃ１８逆相カラムを通過させた水溶液を回収し、Ｃ１８逆相カラムは、メタノールとｐＨ２．０の塩酸水溶液を使用して連続して洗浄した。
回収した水溶液をＣ１８逆相カラムにさらに通過させて回収し、回収した水溶液にジクロロメタン５００ｍＬを追加した。反応物を撹拌しながら５％重炭酸ナトリウム水溶液を滴加し、回収した水溶液のｐＨを３．２〜３．３に調節した。
撹拌を停止した後、ジクロロメタンを分離し、硫酸ナトリウムを使用して脱水、濾過した。
濾過したジクロロメタンを減圧濃縮し、体積１００ｍＬに濃縮した。他の反応器にｎ−ヘキサン１７００ｍＬを−５０℃以下に冷却した後、濃縮したジクロロメタン１００ｍＬを１０分間滴加した後、−５０℃以下で濾過した。濾過物を回収した後、３０℃で１２時間減圧乾燥し、化学式１で示される無定形の高純度アデホビルジピボキシルを得た。（収率：３９ｇ（２１．２％）、含量：９９．４％、純度：９９．７％）
【００６５】
実施例１０：化学式１で示されるアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛（ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンの精製方法
実施例２で得た有機層に精製水３０００ｍＬを投入した。メタンスルホン酸を加えて精製水のｐＨを２．０に調整した後、２０〜２５℃で１０分間撹拌した。撹拌を停止した後、水層を分離した。分離した水層をＣ１８逆相カラム（大きさ：４０ｘ１５ｃｍ、充填物質：ＫＰ−Ｃ１８−ＨＳＴＭ３５〜７０ｕｍ、９０Å  Ｃ１８−ｂｏｎｄｅｄ  ｓｉｌｉｃａ、製造元：Ｂｉｏｔａｇｅ）に通過させた。
Ｃ１８逆相カラムを通過させた水溶液を回収し、Ｃ１８逆相カラムは、メタノールとｐＨ２．０の塩酸水溶液を使用して連続して洗浄した。
回収した水溶液をＣ１８逆相カラムにさらに通過させて回収し、回収した水溶液にジクロロメタン５００ｍＬを追加した。反応物を撹拌しながら５％重炭酸ナトリウム水溶液を滴加し、回収した水溶液のｐＨを３．２〜３．３に調節した。
撹拌を停止した後、ジクロロメタンを分離し、硫酸ナトリウムを使用して脱水、濾過した。
濾過したジクロロメタンを減圧濃縮し、体積１００ｍＬに濃縮した。他の反応器にシクロヘキサン２０００ｍＬを−６０℃以下の温度に冷却した後、濃縮したジクロロメタン１００ｍＬを１０分間滴加し、−５０℃以下で濾過した。濾過物を回収した後、３０℃で１２時間減圧乾燥し、化学式１で示される無定形の高純度アデホビルジピボキシルを得た。（収率：４６ｇ（２５．６％）、含量：９９．５％、純度：９９．７％）
【００６６】
実施例１１：化学式１で示されるアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛（ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンの精製方法
実施例２で得た有機層に精製水３０００ｍＬを投入した。メタンスルホン酸を加えて精製水のｐＨを２．０に調整した後、２０〜２５℃で１０分間撹拌した。撹拌を停止した後、水層を分離した。分離した水層をＣ１８逆相カラム（大きさ：４０ｘ１５ｃｍ、充填物質：ＫＰ−Ｃ１８−ＨＳＴＭ３５〜７０ｕｍ、９０Å  Ｃ１８−ｂｏｎｄｅｄ  ｓｉｌｉｃａ、製造元：Ｂｉｏｔａｇｅ）に通過させた。
Ｃ１８逆相カラムを通過させた水溶液を回収し、Ｃ１８逆相カラムは、メタノールとｐＨ２．０の塩酸水溶液を使用して連続して洗浄した。
回収した水溶液をＣ１８逆相カラムにさらに通過させて回収し、回収した水溶液にジクロロメタン５００ｍＬを追加した。反応物を撹拌しながら５％重炭酸ナトリウム水溶液を滴加し、回収した水溶液のｐＨを３．２〜３．３に調節した。
撹拌を停止した後、ジクロロメタンを分離し、硫酸ナトリウムを使用して脱水、濾過した。
濾過したジクロロメタンを減圧濃縮し、体積１００ｍＬに濃縮した。他の反応器にｎ−ヘプタン１８００ｍＬを−５０℃以下に冷却した後、濃縮したジクロロメタン１００ｍＬを１０分間滴加し、−５０℃以下で濾過した。濾過物を回収した後、３０℃で１２時間減圧乾燥し、化学式１で示される無定形の高純度アデホビルジピボキシルを得た。（収率：４５ｇ（２５．１％）、含量：９９．４％、純度：９９．５％）
【００６７】
実施例１２：化学式１で示されるアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンの精製方法
実施例１で得た有機層に精製水３０００ｍＬを投入した。メタンスルホン酸を加えて精製水のｐＨを２．０に調整した後、２０〜２５℃で１０分間撹拌した。撹拌を停止した後、水層を分離した。分離した水層にＣ１８球形充填粒子１００ｇ（販売元：梨樹化学、製品名：ＯＤＳ−Ｗ）を投入し、３０分間２０〜２５℃で撹拌した後、濾過した。
濾過した水溶液にさらに１５０ｇのＣ１８球形充填粒子１００ｇ（販売元：梨樹化学、製品名：ＯＤＳ−Ｗ）を投入し、３０分間２０〜２５℃で撹拌した後、濾過を２回繰り返した。
回収した水溶液をＣ１８逆相カラムにさらに通過させて回収し、回収した水溶液にジクロロメタン５００ｍＬを追加した。反応物を撹拌しながら５％重炭酸ナトリウム水溶液を滴加し、回収した水溶液のｐＨを３．２〜３．３に調節した。
撹拌を停止した後、ジクロロメタンを分離し、硫酸ナトリウムを使用して脱水、濾過した。
濾過したジクロロメタンを減圧濃縮し、体積１００ｍＬに濃縮した。他の反応器にシクロヘキサン２０００ｍＬを投入し、−６０℃以下に冷却した後、濃縮したジクロロメタン１００ｍＬを１０分間滴加した後、−５０℃以下で濾過した。濾過物を回収した後、３０℃で１２時間減圧乾燥し、化学式１で示される無定形の高純度アデホビルジピボキシルを得た。（収率：４８ｇ（２６．７％）、含量：９９．１％、純度：９９．２％）
【００６８】
実施例１３：化学式１で示されるアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンの精製方法
実施例２で得た有機層に精製水３０００ｍＬを投入した。メタンスルホン酸を加えて精製水のｐＨを２．０に調整した後、２０〜２５℃で１０分間撹拌した。撹拌を停止した後、水層を分離した。分離した水層にＣ１８球形充填粒子１００ｇ（販売元：梨樹化学、製品名：ＯＤＳ−Ｗ）を投入し、３０分間２０〜２５℃で撹拌した後、濾過した。
濾過した水溶液にさらにＣ１８球形充填粒子１００ｇ（販売元：梨樹化学、製品名：ＯＤＳ−Ｗ）を投入し、３０分間２０〜２５℃で撹拌した後、濾過を２回繰り返した。
回収した水溶液をＣ１８逆相カラムにさらに通過させて回収し、回収した水溶液にジクロロメタン５００ｍＬを追加した。反応物を撹拌しながら５％重炭酸ナトリウム水溶液を滴加し、回収した水溶液のｐＨを３．２〜３．３に調節した。
撹拌を停止した後、ジクロロメタンを分離し、硫酸ナトリウムを使用して脱水、濾過した。
濾過したジクロロメタンを減圧濃縮し、体積１００ｍＬに濃縮する。他の反応器にシクロヘキサン２０００ｍＬを投入し−６０℃以下に冷却した後、濃縮したジクロロメタン１００ｍＬを１０分間滴加し、−５０℃以下で濾過する。濾過物を回収した後、３０℃で１２時間減圧乾燥し、化学式１で示される無定形の高純度アデホビルジピボキシルを得た。（収率：４５ｇ（２５．０％）、含量：９９．０％、純度：９９．１％）
【００６９】
実施例１４：化学式１で示されるアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンの精製方法
実施例１で得た有機層に精製水３０００ｍＬを投入した。その後、メタンスルホン酸を加えて精製水のｐＨを２．０に調整した後、２０〜２５℃で１０分間撹拌した。撹拌を停止した後、水層を分離した。分離した水層にＣ１８球形充填粒子１３０ｇ（販売元：梨樹化学、製品名：ＯＤＳ−Ｗ）を投入し、３０分間２０〜２５℃で撹拌した後、濾過した。
濾過した水溶液にさらにＣ１８球形充填粒子１００ｇ（販売元：梨樹化学、製品名：ＯＤＳ−Ｗ）を投入し、３０分間２０〜２５℃で撹拌した後、濾過を２回繰り返した。
回収した水溶液をＣ１８逆相カラムにさらに通過させて回収し、回収した水溶液にジクロロメタン５００ｍＬを追加した。反応物を撹拌しながら５％重炭酸ナトリウム水溶液を滴加し、回収した水溶液のｐＨを３．２〜３．３に調節した。
撹拌を停止した後、ジクロロメタンを分離し、硫酸ナトリウムを使用して脱水、濾過した。
濾過したジクロロメタンを減圧濃縮し、体積１００ｍＬに濃縮した。他の反応器にシクロヘキサン２０００ｍＬを投入し、−６０℃以下に冷却した後、濃縮したジクロロメタン１００ｍＬを１０分間滴加し、−５０℃以下で濾過する。濾過物を回収した後、３０℃で１２時間減圧乾燥し、化学式１で示される無定形の高純度アデホビルジピボキシルを得た。（収率：３８ｇ（２１．１％）、含量：９９．２％、純度：９９．３％）
【００７０】
実施例１５：化学式１で示されるアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンの精製方法
実施例１で得た有機層に精製水３０００ｍＬを投入した。塩酸を加えて精製水のｐＨを２．１に調整した後、２０〜２５℃で１０分間撹拌した。撹拌を停止した後、水層を分離した。分離した水層にＣ１８球形充填粒子１００ｇ（販売元：梨樹化学、製品名：ＯＤＳ−Ｗ）を投入し、３０分間２０〜２５℃で撹拌した後、濾過した。
濾過した水溶液にさらにＣ１８球形充填粒子１３０ｇ（販売元：梨樹化学、製品名：ＯＤＳ−Ｗ）を投入し、３０分間２０〜２５℃で撹拌した後、濾過を２回繰り返した。
回収した水溶液をＣ１８逆相カラムにさらに通過させて回収し、回収した水溶液にジクロロメタン５００ｍＬを追加した。反応物を撹拌しながら５％重炭酸ナトリウム水溶液を滴加し、回収した水溶液のｐＨを３．２〜３．３に調節した。
撹拌を停止した後、ジクロロメタンを分離し、硫酸ナトリウムを使用して脱水、濾過した。
濾過したジクロロメタンを減圧濃縮し、体積１００ｍＬに濃縮した。他の反応器にシクロヘキサン２０００ｍＬを入れ、−６０℃以下に冷却した後、濃縮したジクロロメタン１００ｍＬを１０分間滴加し、−５０℃以下で濾過する。濾過物を回収した後、３０℃で１２時間減圧乾燥し、化学式１で示される無定形の高純度アデホビルジピボキシルを得た。（収率：３６ｇ（２０．０％）、含量：９９．０％、純度：９９．２％）
【００７１】
比較例１：化学式１で示されるアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンの精製方法（正相カラム）
実施例１で得た有機層に精製水３０００ｍＬを投入した。その後、２０〜２５℃で１０分間撹拌した。撹拌を停止した後、有機層を分離した。その後、精製水１０００ｍＬを投入し、２０〜２５℃で１０分間撹拌後、有機層を分離した。分離した有機層に硫酸ナトリウムを添加して脱水した後、濾過した。濾過した有機層を減圧濃縮した後、シリカゲルを停止相として使用し、移動相としてメタノール：ジクロロメタン＝５％：９５％（体積比）を使用して正相カラムを行った。正相カラムを通じて分画した有機溶媒層を硫酸ナトリウムで脱水した後、濾過し、減圧濃縮し、化学式１で示される無定形の高純度アデホビルジピボキシルを得た。（収率：４１ｇ（２２．７％）、含量：５８．１％、純度：５９．３％）
【００７２】
比較例２：化学式１で示されるアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンの精製方法（正相カラム）
実施例２で得た有機層に精製水３０００ｍＬを投入した。その後、２０〜２５℃で１０分間撹拌した。撹拌を停止した後、有機層を分離した。その後、精製水１０００ｍＬを投入し、２０〜２５℃で１０分間撹拌後、有機層を分離した、分離した有機層に硫酸ナトリウムを添加して脱水した後、濾過した。濾過した有機層を減圧濃縮した後、シリカゲルを停止相として使用し、移動相としてメタノール：ジクロロメタン＝５％：９５％（体積比）を使用して正相カラムを行った。正相カラムを通じて分画した有機溶媒層を硫酸ナトリウムを用いて脱水した後、濾過し、減圧濃縮し、化学式１で示される無定形の高純度アデホビルジピボキシルを得た。（収率：４１ｇ（２２．７％）、含量：７２．２％、純度：７２．８％）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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