(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式
【化１】
0005528663.tif 000041
「式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４およびＲ５は、水素原子で、Ｒ３は、保護されていてもよいヒドロキシル基で置換されているエチル基を示す。」で表されるブロモベンゼン誘導体またはその塩を、塩基およびパラジウム触媒の存在下、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンの存在下、２−メチル−２−プロパンチオールまたはその塩とクロスカップリング反応に付すこと特徴とする、一般式
【化２】
0005528663.tif 000042
「式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、前記と同様の意味を有する。」で表されるチオエーテル誘導体またはその塩の製造法。
【請求項２】
一般式
【化１】
0005528663.tif 000043
「式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４およびＲ５は、水素原子で、Ｒ３は、保護されていてもよいヒドロキシル基で置換されているエチル基を示す。」で表されるブロモベンゼン誘導体またはその塩を、塩基およびパラジウム触媒の存在下、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンの存在下、２−メチル−２−プロパンチオールまたはその塩とクロスカップリング反応に付し、一般式
【化２】
0005528663.tif 000044
「式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、前記と同様の意味を有する。」で表されるチオエーテル誘導体またはその塩とし、得られたチオエーテル誘導体またはその塩を酸の存在下、一般式
【化３】
0005528663.tif 000045
「式中、Ｒ６は、メチル基を示す。」で表される酸無水物との反応に付し、一般式
【化４】
0005528663.tif 000046
「式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、前記と同様の意味を有する。」で表されるチオエステル誘導体またはその塩とし、得られたチオエステル誘導体またはその塩を、塩基の存在下、脱アシル化反応に付すこと特徴とする、一般式
【化５】
0005528663.tif 000047
「式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、前記と同様の意味を有する。」で表される芳香族チオール誘導体またはその塩の製造法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、医薬および農薬などの製造中間体として重要な、置換基を有する芳香族チオール誘導体またはその中間体の新規製造法に関する。
【背景技術】
【０００２】
置換基を有する芳香族チオール誘導体は、医薬および農薬などの製造中間体として広く用いられている重要な化合物である。たとえば、神経変性疾患治療薬として開発されている１−（３−（２−（１−ベンゾチオフェン−５−イル）エトキシ）プロピル）−３−アゼチジノール＝マレイン酸塩は、２−（４−メルカプトフェニル）エタノール誘導体から容易に誘導できる、２−（１−ベンゾチオフェン−５−イル）−１−エタノールを原料として製造されている（特許文献１）。
【０００３】
このような置換基を有する芳香族チオール誘導体の製造法としては、いくつかの方法が提案されている。
【０００４】
置換基を有するアニリン誘導体に亜硝酸塩を作用させ、次いでＯ−エチルジチオ炭酸カリウムと反応させた後、加水分解する方法が開示されている（特許文献２および非特許文献１）。しかし、この方法では、（１）反応操作が煩雑である、（２）ジアゾニウム塩を扱うため危険が伴う、（３）その反応の条件から置換基の種類が限定されるなどの問題があり、種々の置換基を有する芳香族チオール類の製造法としては満足できるものではない。
【０００５】
置換基を有するハロゲノベンゼン誘導体と硫化水素ナトリウム、硫化ナトリウムおよび硫化カリウムなどの硫化物を反応させ、芳香族チオール誘導体を製造する方法が開示されている（特許文献３〜６）。しかし、この方法では、（１）使用できるハロゲノベンゼン誘導体は、メタ位にハロゲン原子を有する化合物およびオルト位またはパラ位にニトロ基、ホルミル基またはシアノ基を有する化合物に限定される、（２）反応が複雑であるため、安定性に欠けるチオール誘導体での精製が必要であるなどの問題があり、種々の置換基を有する芳香族チオール誘導体の製造法としては満足できるものではない。
【０００６】
置換基を有するブロモベンゼン誘導体に金属マグネシウムを作用させ、グリニャール（Ｇｒｉｇｎａｒｄ）試薬とした後、硫黄と反応させる方法が報告されている（非特許文献２）。しかし、この方法では、（１）グリニャール試薬を扱うための反応装置および反応の操作に注意が必要である、（２）その反応性から置換基の種類が限定されるなどの問題があり、種々の置換基を有する芳香族チオール誘導体の製造法としては満足できるものではない。
【０００７】
置換基を有するベンゼンスルホニルクロリド誘導体を、亜鉛末を用いて還元し、芳香族チオール誘導体を製造する方法が開示されている（特許文献７および８）。しかしながら、この方法では、亜鉛末還元を行うため（１）特殊な装置が必要である、（２）後処理に特別な操作が必要であり、多くの廃棄物を排出する、（３）原料であるベンゼンスルホニルクロリド誘導体は汎用性が低く製造できる置換基の種類も限定されるなどの問題があり、種々の置換基を有する芳香族チオール誘導体の製造法としては満足できるものではない。
【０００８】
ヨードベンゼン誘導体をニッケル触媒存在下、チオ尿素を作用させた後、アルカリ処理して芳香族チオール誘導体を製造する方法が開示されている（特許文献９）。しかし、この方法では、ヨードベンゼン誘導体は、汎用性が低く、置換基の種類が限定されているため、種々の置換基を有する芳香族チオール誘導体の製造法としては満足できるものではない。
【０００９】
置換基を有するハロゲノベンゼン誘導体にヒドロカルビルメルカプタンのアルカリ金属塩を作用させ、チオエーテル誘導体とした後、脱アルキル化して芳香族チオール誘導体を製造する方法が提案されている（特許文献１０）。しかし、ハロゲノベンゼン誘導体のアルキルメルカプタンとの置換反応は、置換基の種類およびその置換位置によりハロゲノベンゼン誘導体の反応性が異なるため、当該文献に開示されている実施例は、メタ位にハロゲン原子を有する多ハロゲン化ベンゼンおよびｐ−ニトロクロロベンゼンのみに限定されている。そのため、種々の置換基を有する芳香族チオール誘導体の製造法としては満足できるものではない。
【００１０】
一方、ｔｅｒｔ−ブチルチオベンゼン誘導体を製造する方法としては、パラジウム触媒存在下、置換ハロゲン化ベンゼン誘導体に、２−メチル−２−プロパンチオールおよびその塩を反応させる方法が報告されている（非特許文献３〜５）。しかし、これらの方法では、それぞれ（１）入手が困難な配位子（たとえば、１，１−ビス−（ジイソプロピルホスホノ）フェロセン）が必要である（非特許文献３）、（２）毒性の高い２−メチル−２−プロパンチオールのスズ塩を使用する（非特許文献４）、（３）汎用性が低く、製造できる置換基の種類が限定されるヨードベンゼン誘導体を原料として使用する（非特許文献５）などの問題があるため、種々の置換基を有するｔｅｒｔ−ブチルチオベンゼン誘導体を製造する方法としては満足できるものではない。
【００１１】
また、ｔｅｒｔ−ブチルチオベンゼン誘導体から芳香族チオール誘導体を製造する方法としては、トルエン中、三臭化ホウ素または塩化アルミニウムなどのルイス酸を作用させる方法が報告されている（特許文献１１）。しかし、これらの方法では、ルイス酸を使用するため（１）後処理に特別な操作が必要であり、多くの廃棄物を排出する、（２）その反応性から反応できる化合物の置換基の種類が制限されるなどの問題があり、種々の置換基を有する芳香族チオール誘導体の製造法としては満足できるものではない。
【００１２】
さらに、ｔｅｒｔ−ブチルチオベンゼン誘導体からチオエステル誘導体を製造する方法としては、塩化アセチルの存在下、三臭化ホウ素または塩化アルミニウムなどのルイス酸を作用させる方法が報告されている（非特許文献６および７）。しかしこれらの方法も、ルイス酸を使用するため（１）後処理に特別な操作が必要であり、多くの廃棄物を排出する、（２）その反応性から反応できる化合物の置換基の種類が制限されるなどの問題があり、種々の置換基を有するチオエステル誘導体の製造法としては満足できるものではない。
【００１３】
【特許文献１】国際公開第０３／０３５６４７号パンフレット
【特許文献２】特開昭５９−２０５３５６号公報
【特許文献３】特開２００１−１７２２５４号公報
【特許文献４】特開平７−５３５０７号公報
【特許文献５】特開平５−１５５８８１号公報
【特許文献６】特開平３−２５５０６４号公報
【特許文献７】特開２０００−２５６３０６号公報
【特許文献８】特開平６−１２８２１８号公報
【特許文献９】特開昭６２−２０１８６３号公報
【特許文献１０】特開２０００−１４３６１６号公報
【特許文献１１】特開２０００−１９１６３６号公報
【非特許文献１】ジャーナル・オブ・オルガニック・ケミストリー（J. Org. Chem.）、1999年、第64巻、p.9646−9652
【非特許文献２】ブルテイン・オブ・ザ・ケミカル・ソサエティ・オブ・ジャパン（Bulletin of the Chemical Society of Japan）、2003年、第76巻、p.1043−1054
【非特許文献３】テトラへドロン（Tetrahedron）、2004年、第60巻、p.7397−7403
【非特許文献４】ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイアティー（J. Am. Chem. Soc.）、2002年、第124巻、p.4874−4880
【非特許文献５】シンセティク・コミュニケーションズ（Synthetic Communications）、1996年、第26巻、p.1431−1440
【非特許文献６】ジャーナル・オブ・オルガニック・ケミストリー（J. Org. Chem.）、2003年、第68巻、p.1275−1282
【非特許文献７】サルファー・レターズ（Sulfur Letters）、1991年、第12巻、p.123−132
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
安価で容易に入手可能な化合物を原料とし、人体に対して安全で環境負荷が少なく、大量製造が可能な、高収率で簡便な芳香族チオール誘導体の製造法が強く望まれている。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
このような状況下、本発明者らは、鋭意検討を行った結果、次の一般式［２］
【化１】
0005528663.tif 000002
「式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、同一または異なって、水素原子、フッ素原子、塩素原子、置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アリール、アルアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アミノ、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アシル、アロイルおよび複素環式基、保護されていてもよいアミノ、ヒドロキシル、メルカプトおよびカルボキシル基、ニトロ基ならびにシアノ基から選ばれる基で、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の内、少なくとも一つは、水素原子以外の基を示す。」で表されるブロモベンゼン誘導体またはその塩を、塩基およびパラジウム触媒の存在下、２−メチル−２−プロパンチオールまたはその塩とクロスカップリング反応に付し、一般式［３］
【化２】
0005528663.tif 000003
「式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、前記と同様の意味を有する。」で表されるチオエーテル誘導体またはその塩とし、酸の存在下、一般式［５］
【化３】
0005528663.tif 000004
「式中、Ｒ６は、アルキル基を示す。」で表される酸無水物との反応に付し、一般式［４］
【化４】
0005528663.tif 000005
「式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、前記と同様の意味を有する。」で表されるチオエステル誘導体またはその塩へ誘導し、次いで、塩基の存在下、脱アシル化反応することにより、一般式［１］
【化５】
0005528663.tif 000006
「式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、前記と同様の意味を有する。」で表される芳香族チオール誘導体またはその塩を、製造できることを見出し、本発明を完成させた。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の新規な製造法は、医薬および農薬などの製造中間体として重要な、置換基を有する芳香族チオール誘導体またはその塩を短い工程数で、より簡便に、かつ高収率で大量に製造できるという優れた効果が奏される。
本発明の第一工程であるブロモベンゼン誘導体またはその塩の２−メチル−２−プロパンチオールまたはその塩とのクロスカップリング反応は、置換基の種類および置換基の位置による制約がないため、種々の置換基を有するチオエーテル誘導体またはその塩を製造することが可能である。
本発明の第二工程であるチオエステル誘導体またはその塩の製造では、三臭化ホウ素または塩化アルミニウムなどのルイス酸を使用しないため、種々の置換基を有するチオエステル誘導体またはその塩を製造することが可能であり、しかも、後処理に特別な操作を必要とせず、多くの廃棄物を排出することもない。
さらに、最終工程が、チオエステル誘導体またはその塩の脱アシル化反応であるため、不安定なチオール誘導体またはその塩の煩雑な精製操作が必要なく、また、副生成物のジスルフィド体の生成を抑えることが可能である。
本発明の製造法は、（１）危険を伴うジアゾニウム塩を経由しない、（２）取り扱いに注意が必要な金属試薬を使用しない、（３）毒性の高い試薬（有機スズ化合物、三臭化ホウ素など）を使用しない、（４）後処理に特別な操作が必要で、多くの廃棄物を排出する試薬（塩化アルミニウム）を使用しない、（５）反応操作が簡便で収率が高い、（６）容易に入手が可能なブロモベンゼン誘導体またはその塩を原料とすることができる、（７）種々の置換基を有するチオエーテル誘導体またはその塩を製造することが可能であるなどの特徴を有している。すなわち、本発明の製造法は、人体に対して安全で環境負荷が少なく、簡便かつ高収率で大量製造が可能な一般式［１］で表される置換基を有する芳香族チオール誘導体またはその塩の製造法として有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明を詳細に説明する。
本明細書において、特にことわらない限り、ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を；アルキル基とは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチルおよびヘキシル基などのＣ１−６アルキル基を；アルケニル基とは、ビニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニルおよびヘキセニル基などのＣ２−６アルケニル基を；アルコキシ基とは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシおよびヘキシルオキシ基などのＣ１−６アルキルオキシ基を；アルキルチオ基とは、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチオ、ペンチルチオおよびヘキシルチオなどのＣ１−６アルキルチオ基を；アリール基とは、フェニル、ナフチル、インダニルまたはインデニル基などを；アリールオキシ基とは、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、インダニルオキシまたはインデニルオキシ基などを；アリールチオ基とは、フェニルチオ、ナフチルチオ、インダニルチオまたはインデニルチオ基などを；アルアルキル基とは、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチルおよびフェネチル基などのアルＣ１−６アルキル基を；アシル基とは、ホルミル基またはアセチル、ブチリルおよびエチルカルボニル基などのＣ２−６アルカノイル基を；アシルオキシ基とは、ホルミルオキシ基またはアセチルオキシ、ブチリルオキシおよびエチルカルボニルオキシ基などのＣ２−６アルカノイル−Ｏ−基を；アロイル基とは、ベンゾイルおよびナフチルカルボニル基などのアリールカルボニル基を；アロイルオキシ基とは、ベンゾイルオキシおよびナフチルカルボニルオキシ基などのアリールカルボニル−Ｏ−基を；アルキルスルホニル基とは、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、ｓｅｃ−ブチルスルホニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニルおよびペンチルスルホニルなどのＣ１−６アルキルスルホニル基を；アリールスルホニル基とは、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニルおよびナフチルスルホニル基などのアリール−ＳＯ２−基を；アルキルオキシカルボニル基とは、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、１，１−ジメチルプロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルおよびｔｅｒｔ−ペンチルオキシカルボニルなどの直鎖状または分枝鎖状のＣ１−６アルキルオキシカルボニル基を；アルアルキルオキカルボニル基とは、ベンジルオキシカルボニルおよびフェネチルオキシカルボニル基などのアルＣ１−６アルキルオキシカルボニル基を意味する。
【００１８】
複素環式基とは、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ホモピペラジニル、ホモピペリジニル、モルホリル、チオモルホリル、テトラヒドロキノリニル、テトラヒドロイソキノリル、キヌクリジニル、イミダゾリニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリミジル、キノリル、キノリジニル、チアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、ピロリニル、ピラゾリニル、ピラゾリジニル、プリニル、フリル、チエニル、ベンゾチエニル、ピラニル、イソベンゾフラニル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ベンゾフラニル、インドリル、ベンズイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、キノキサリル、ジヒドロキノキサリル、２,３−ジヒドロベンゾチエニル、２,３−ジヒドロベンゾピロリル、２,３−４Ｈ−１−チアナフチル、２,３−ジヒドロベンゾフラニル、ベンゾ[ｂ]ジオキサニル、イミダゾ[２,３−ａ]ピリジル、ベンゾ[ｂ]ピペラジニル、クロメニル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル、ピリダジニル、イソインドリル、イソキノリル、１,３−ベンゾジオキソニルおよび１,４−ベンゾジオキサニル基などの該環を形成する異項原子として一つ以上の酸素原子もしくは硫黄原子を含んでいてもよい、窒素、酸素もしくは硫黄原子から選ばれる少なくとも一つ以上の異項原子を含有する５員もしくは６員環、縮合環または架橋環の複素環式基を意味する。
【００１９】
カルボキシル基の保護基としては、通常のカルボキシル基の保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、１,１−ジメチルプロピル、ブチルおよびｔｅｒｔ−ブチルなどのアルキル基；フェニルおよびナフチルなどのアリール基；ベンジル、ジフェニルメチル、トリチル、４−ニトロベンジル、４−メトキシベンジルおよびビス（４−メトキシフェニル）メチルなどのアルアルキル基；アセチルメチル、ベンゾイルメチル、４−ニトロベンゾイルメチル、４−ブロモベンゾイルメチルおよび４−メタンスルホニルベンゾイルメチルなどのアシル−アルキル基；２−テトラヒドロピラニルおよび２−テトラヒドロフラニルなどの含酸素複素環式基；２,２,２−トリクロロエチルなどのハロゲノ−アルキル基；２−（トリメチルシリル）エチルなどのアルキルシリル−アルキル基；アセトキシメチル、プロピオニルオキシメチルおよびピバロイルオキシメチルなどのアシルオキシ−アルキル基；フタルイミドメチルおよびスクシンイミドメチルなどの含窒素複素環式−アルキル基；シクロヘキシルなどのシクロアルキル基；メトキシメチル、メトキシエトキシメチルおよび２−（トリメチルシリル）エトキシメチルなどのアルコキシ−アルキル基；ベンジルオキシメチルなどのアルアルコキシ−アルキル基；メチルチオメチルおよび２−メチルチオエチルなどのアルキルチオ−アルキル基；フェニルチオメチルなどのアリールチオ−アルキル基；１,１−ジメチル−２−プロペニル、３−メチル−３−ブテニルおよびアリルなどのアルケニル基；ならびにトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ジエチルイソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、ジフェニルメチルシリルおよびｔｅｒｔ−ブチルメトキシフェニルシリルなどの置換シリル基などが挙げられる。
【００２０】
ヒドロキシル基の保護基としては、通常のヒドロキシル基の保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、ベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニル、４−ブロモベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、３,４−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、１,１−ジメチルプロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、ジフェニルメトキシカルボニル、２,２,２−トリクロロエトキシカルボニル、２,２,２−トリブロモエトキシカルボニル、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル、２−（フェニルスルホニル）エトキシカルボニル、２−（トリフェニルホスホニオ）エトキシカルボニル、２−フルフリルオキシカルボニル、１−アダマンチルオキシカルボニル、ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、４−エトキシ−１−ナフチルオキシカルボニル、８−キノリルオキシカルボニルおよびＳ−ベンジルチオカルボニルなどのアルコキシ−およびアルキルチオ−カルボニル基；アセチル、ホルミル、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、メトキシアセチル、フェノキシアセチル、ピバロイルおよびベンゾイルなどのアシル基；メチル、ｔｅｒｔ−ブチル、２,２,２−トリクロロエチルおよび２−トリメチルシリルエチルなどのアルキル基；アリルなどのアルケニル基；プロパギルなどのアルキニル基；ベンジル、４−メトキシベンジル、３,４−ジメトキシベンジル、ジフェニルメチルおよびトリチルなどのアルアルキル基；テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニルおよびテトラヒドロチオピラニルなどの含酸素および含硫黄複素環式基；メトキシメチル、メチルチオメチル、ベンジルオキシメチル、２−メトキシエトキシメチル、２,２,２−トリクロロエトキシメチル、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル、１−エトキシエチルおよび１−メチル−１−メトキシエチルなどのアルコキシ−およびアルキルチオ−アルキル基；メタンスルホニルおよびｐ−トルエンスルホニルなどのアルキル−およびアリール−スルホニル基；ならびにトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ジエチルイソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、ジフェニルメチルシリルおよびｔｅｒｔ−ブチルメトキシフェニルシリルなどの置換シリル基などが挙げられる。
【００２１】
メルカプト基の保護基としては、通常のメルカプト基の保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、ベンジル、４−メトキシベンジル、４−ニトロベンジル、ジフェニルメチル、ジ（４−メトキシフェニル）メチル、トリチルおよび９−フルオレニルメチルなどのアルアルキル基；フェニルおよび２，４−ジニトロフェニルなどのアリール基；ｔｅｒｔ−ブチルおよび１−アダマンチルなどのアルキル基；メトキシメチル、イソブチルオキシメチル、ベンジルオキシメチル、ベンジルチオメチルおよびフェニルチオメチル基などのアルコキシ−、アルキルチオ−およびアリールチオメチル基；アセトアミドメチルおよびベンズアミドメチルなどのアシルアミノメチル基；アセチルおよびベンゾイルなどのアシル基；２,２,２−トリクロロエトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルおよび４−メトキシベンジルオキシカルボニルなどのアルコキシカルボニル基；ならびにテトラヒドロピラニルなどの含酸素複素環式基などが挙げられる。
【００２２】
アミノ基の保護基としては、通常のアミノ保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、メトキシカルボニル、２,２,２−トリクロロエトキシカルボニル、２,２,２−トリブロモエトキシカルボニル、２−トリメチルシリルエトキシカルボニル、１,１−ジメチルプロポキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、１−アダマンチルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニル、２−ブロモベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、２,４−ジクロロベンジルオキシカルボニル、ジフェニルメトキシカルボニル、４−（フェニルアゾ）ベンジルオキシカルボニル、２−フルフリルオキシカルボニルおよび８−キノリルオキシカルボニルなどのアルコキシカルボニル基；（モノ−、ジ−、トリ−）クロロアセチル、トリフルオロアセチル、フェニルアセチル、ホルミル、アセチル、ベンゾイル、フタロイル、スクシニル、アラニルおよびロイシルなどのアシル基；ベンジル、ジフェニルメチルおよびトリチルなどのアルアルキル基；２−ニトロフェニルチオおよび２,４−ジニトロフェニルチオなどのアリールチオ基；メタンスルホニルおよびｐ−トルエンスルホニルなどのアルキル−およびアリール−スルホニル基；Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノメチレンなどのジアルキルアミノ−アルキリデン基；ベンジリデン、２−ヒドロキシベンジリデン、２−ヒドロキシ−５−クロロベンジリデンおよび２−ヒドロキシ−１−ナフチルメチレンなどのアル−アルキリデン基；３−ヒドロキシ−４−ピリジルメチレンなどの含窒素複素環式アルキリデン基；シクロヘキシリデン、２−エトキシカルボニルシクロヘキシリデン、２−エトキシカルボニルシクロペンチリデン、２−アセチルシクロヘキシリデンおよび３,３−ジメチル−５−オキシシクロヘキシリデンなどのシクロアルキリデン基；ジフェニルホスホリルおよびジベンジルホスホリルなどのジアリール−およびジアル−アルキルホスホリル基；５−メチル−２−オキソ−２Ｈ−１,３−ジオキソール−４−イル−メチルなどの含酸素複素環式アルキル基；ならびにトリメチルシリルなどの置換シリル基などが挙げられる。
【００２３】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５のアルキル、アルケニル、アリール、アルアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アミノ、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アシル、アロイルおよび複素環式基は、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アシルオキシ基、アロイル基、アロイルオキシ基、アルキルオキシカルボニル、アルアルキルオキシカルボニル基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよいヒドロキシル基、保護されていてもよいカルボキシル基、複素環式基、ニトロ基およびシアノ基から選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
【００２４】
本発明において、好ましい製造法としては、以下の方法が挙げられる。
【００２５】
本発明の、一般式［２］
【化６】
0005528663.tif 000007
「式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、前記と同様の意味を有する。」で表されるハロゲノベンゼン誘導体またはその塩を、塩基およびパラジウム触媒の存在下、２−メチル−２−プロパンチオールまたはその塩とクロスカップリング反応に付し、一般式［３］
【化７】
0005528663.tif 000008
「式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、前記と同様の意味を有する。」で表されるチオエーテル誘導体またはその塩を製造する方法おいて、Ｒ１、Ｒ３およびＲ５が、同一または異なって、水素原子、フッ素原子、塩素原子、置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アリール、アルアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アミノおよび複素環式基ならびに保護されていてもよいアミノ、ヒドロキシルおよびメルカプト基から選ばれる基、Ｒ２およびＲ４が、同一または異なって、水素原子、置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アリール、アルアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アミノ、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アシル、アロイルおよび複素環式基、保護されていてもよいアミノ、ヒドロキシル、メルカプトおよびカルボキシル基、ニトロ基ならびにシアノ基から選ばれる基、但し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の内、少なくとも一つは、水素原子以外の基である化合物を用いる方法が好ましく、Ｒ１、Ｒ３およびＲ５の内、いずれか一つが、フッ素原子、塩素原子、置換されていてもよいアルキル、アリール、アルコキシおよびアルキルチオ基ならびに保護されていてもよいアミノ、ヒドロキシルおよびメルカプト基から選ばれる基で、他が水素原子、Ｒ２およびＲ４が、水素原子である化合物、または、Ｒ１、Ｒ３およびＲ５が、水素原子、Ｒ２およびＲ４の内、いずれか一つが、置換されていてもよいアルキル、アリール、アルコキシ、アルキルチオおよびアシル基、保護されていてもよいアミノ、ヒドロキシル、メルカプトおよびカルボキシル基、ニトロ基ならびにシアノ基から選ばれる基で、他が水素原子である化合物を用いる方法がより好ましい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の内、いずれか一つが、置換されていてもよいアルキル基で、他が水素原子である化合物を用いる方法が好ましく、Ｒ３が、置換されていてもよいアルキル基、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４およびＲ５が、水素原子である化合物を用いる方法がより好ましく、Ｒ３が、保護されていてもよいヒドロキシル基で置換されているエチル基、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４およびＲ５が、水素原子である化合物を用いる方法がさらに好ましい。
【００２６】
本発明の、一般式［３］
【化８】
0005528663.tif 000009
「式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、前記と同様の意味を有する。」で表されるチオエーテル誘導体またはその塩を酸の存在下、一般式［５］
【化９】
0005528663.tif 000010
「式中、Ｒ６は、アルキル基を示す。」で表される酸無水物との反応に付し、一般式［４］
【化１０】
0005528663.tif 000011
「式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、前記と同様の意味を有する。」で表されるチオエステル誘導体またはその塩とし、得られたチオエステル誘導体またはその塩を、塩基の存在下、脱アシル化反応に付し、一般式［１］
【化１１】
0005528663.tif 000012
「式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、前記と同様の意味を有する。」で表される芳香族チオール誘導体またはその塩を製造する方法おいて、Ｒ１、Ｒ３およびＲ５が、同一または異なって、水素原子、フッ素原子、塩素原子、置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アリール、アルアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アミノおよび複素環式基ならびに保護されていてもよいアミノ、ヒドロキシルおよびメルカプト基から選ばれる基、Ｒ２およびＲ４が、同一または異なって、水素原子、置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アリール、アルアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アミノ、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アシル、アロイルおよび複素環式基、保護されていてもよいアミノ、ヒドロキシル、メルカプトおよびカルボキシル基、ニトロ基ならびにシアノ基から選ばれる基、但し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の内、少なくとも一つは、水素原子以外の基である化合物を用いる方法が好ましく、Ｒ１、Ｒ３およびＲ５の内、いずれか一つが、フッ素原子、塩素原子、置換されていてもよいアルキル、アリール、アルコキシおよびアルキルチオ基ならびに保護されていてもよいアミノ、ヒドロキシルおよびメルカプト基から選ばれる基で、他が水素原子、Ｒ２およびＲ４が、水素原子である化合物、または、Ｒ１、Ｒ３およびＲ５が、水素原子、Ｒ２およびＲ４の内、いずれか一つが、置換されていてもよいアルキル、アリール、アルコキシ、アルキルチオおよびアシル基、保護されていてもよいアミノ、ヒドロキシル、メルカプトおよびカルボキシル基、ニトロ基ならびにシアノ基から選ばれる基で、他が水素原子である化合物を用いる方法がより好ましい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の内、いずれか一つが、置換されていてもよいアルキル基で、他が水素原子である化合物を用いる方法が好ましく、Ｒ３が、置換されていてもよいアルキル基、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４およびＲ５が、水素原子である化合物を用いる方法がより好ましく、Ｒ３が、保護されていてもよいヒドロキシル基で置換されていてもよいエチル基、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４およびＲ５が、水素原子である化合物を用いる方法がさらに好ましい。
Ｒ６が、メチル、エチルまたはプロピル基である化合物を用いる方法が好ましく、メチル基である化合物を用いる方法がより好ましい。
次に、本発明の製造方法について説明する。
【００２７】
［第一工程］
0005528663.tif 000013
「式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、前記と同様の意味を有する。」
【００２８】
一般式［２］の化合物として、たとえば、１−ブロモ−２−エチルベンゼン、１−ブロモ−３−エチルベンゼン、１−ブロモ−４−エチルベンゼン、１−ブロモ−４−メトキシベンゼン、２−ブロモベンゾニトリル、３−ブロモベンゾニトリル、４−ブロモベンゾニトリル、１−（ベンジルオキシ）−４−ブロモベンゼン、１−ブロモ−４−クロロベンゼン、４−ブロモベンズアルデヒド、１−ブロモ−４−（メチルチオ）ベンゼン、４−ブロモ−１，１’−ビフェニル、１−ブロモ−３−ニトロベンゼン、１−ブロモ−４−ニトロベンゼン、３−ブロモ安息香酸、エチル＝４−ブロモベンゾアート、４−ブロモ−３−クロロアニリン、４−ブロモフェニル酢酸および２−（４−ブロモフェニル）エタノールなどが市販されている。
【００２９】
一般式［３］の化合物は、塩基およびパラジウム触媒の存在下、配位子の存在下または不存在下、一般式［２］の化合物を２−メチル−２−プロパンチオールまたはその塩とのクロスカップリング反応に付すことにより製造することができる。
この反応は、通常、溶媒の存在下に実施され、この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類；ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミドおよび１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類；酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエステル類；アセトンおよび２−ブタノンなどのケトン類；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、２−プロパノールおよび２−メチル−２−プロパノールなどのアルコール類；ならびにアセトニトリルなどのニトリル類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。好ましい溶媒としては、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；ならびにＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミドおよび１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類が挙げられ、トルエン、キシレンおよび１−メチル−２−ピロリドンがより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、好ましくは、一般式［２］の化合物に対して1〜20倍量（v/w）、より好ましくは、1〜10倍量（v/w）である。
【００３０】
この反応に使用される塩基としては、たとえば、ナトリウム＝メトキシド、ナトリウム＝エトキシド、カリウム＝ｔｅｒｔ−ブトキシドおよびナトリウム＝ｔｅｒｔ−ブトキシドなどの金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸バリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、水素化ナトリウムおよび水素化カリウムなどの無機塩基；ならびにトリエチルアミン、Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンおよびピリジンなどの有機塩基などが挙げられる。好ましい塩基としては、カリウム＝ｔｅｒｔ−ブトキシド、炭酸カリウム、リン酸カリウムなどのカリウム塩の塩基およびトリエチルアミンなどの有機塩基が挙げられ、カリウム＝ｔｅｒｔ−ブトキシド、炭酸カリウムおよびトリエチルアミンがより好ましい。
塩基の使用量は、一般式［２］の化合物に対して1倍モル以上あればよく、好ましくは、1〜5倍モル、より好ましくは、1〜2倍モルである。
【００３１】
この反応に使用されるパラジウム触媒としては、たとえば、パラジウム−炭素およびパラジウム黒などの金属パラジウム；塩化パラジウムなどの無機パラジウム塩；酢酸パラジウムなどの有機パラジウム塩；テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）クロリド、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンパラジウム（II）クロリドおよびトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）などの有機パラジウム錯体；ならびにポリマー担持ビス（アセタート）トリフェニルホスフィンパラジウム（II）およびポリマー担持ジ（アセタート）ジシクロヘキシルホスフィンパラジウム（II）などのポリマー固定化有機パラジウム錯体などが挙げられる。好ましいパラジウム触媒としては、塩化パラジウムなどの無機パラジウム塩；酢酸パラジウムなどの有機パラジウム塩；ならびにテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）クロリド、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンパラジウム（II）クロリドおよびトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）などの有機パラジウム錯体が挙げられ、酢酸パラジウムなどの有機パラジウム塩がより好ましい。
パラジウム触媒の使用量は、一般式［２］の化合物に対して、0.00001〜1倍モル、好ましくは、0.0005〜0.1倍モルである。
【００３２】
この反応に所望により使用される配位子としては、たとえば、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパンおよび１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタンなどのビス（ジフェニルホスフォノ）アルキレン類；１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン；ならびに２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチルなどが挙げられる。好ましい配位子としては、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパンおよび１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタンなどのビス（ジフェニルホスフォノ）アルキレン類；ならびに１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンおよび２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチルなどのホスフィン系二座配位子類が挙げられ、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタンおよび１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンがより好ましい。
配位子の使用量は、一般式［２］の化合物に対して、0.00001〜2倍モル、好ましくは、0.0005〜0.2倍モルである。
【００３３】
この反応で使用される２−メチル−２−プロパンチオールまたはその塩の量は、一般式［２］の化合物に対して1倍モル以上用いればよく、好ましくは、1〜5倍モル、より好ましくは、1〜2倍モルである。
この反応で所望により使用される２−メチル−２−プロパンチオールの塩としては、たとえば、ナトリウム、カリウムおよびセシウムなどのアルカリ金属との塩；カルシウムおよびマグネシウムなどのアルカリ土類金属との塩；アンモニウム塩；トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ジエチルアミンおよびジシクロヘキシルアミンなどの含窒素有機塩基との塩が挙げられる。
この反応は、0〜200℃、好ましくは、50〜150℃で1分間〜24時間実施すればよい。
得られた一般式［３］の化合物は、単離せずに、そのまま次の反応に用いてもよい。
【００３４】
［第二工程］
0005528663.tif 000014
「式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、前記と同様の意味を有する。」
【００３５】
一般式［４］の化合物は、一般式［３］の化合物を酸の存在下、一般式［５］の酸無水物との反応に付すことにより製造することができる。
この反応は、通常、溶媒の存在下に実施され、使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類；ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類；酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエステル類；酢酸およびプロピオン酸などの有機カルボン酸などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。好ましい溶媒としては、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；酢酸およびプロピオン酸などの有機カルボン酸；ならびに芳香族炭化水素類と有機カルボン酸の混合溶媒などが挙げられ、トルエンと酢酸の混合溶媒がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、好ましくは、一般式［３］の化合物に対して1〜50倍量（v/w）、より好ましくは、3〜15倍量（v/w）である。
【００３６】
この反応に使用される酸としては、たとえば、塩酸、硫酸、リン酸、塩化水素および臭化水素などの無機酸ならびにメタンスルホン酸およびｐ−トルエンスルホン酸などの有機スルホン酸が挙げられる。好ましい酸としては、メタンスルホン酸およびｐ−トルエンスルホン酸などの有機スルホン酸が挙げられ、メタンスルホン酸がより好ましい。
酸の使用量は、一般式［３］の化合物に対して、1倍モル以上用いればよく、好ましくは、2〜5倍モルである。また、酸を溶媒として用いてもよい。
この反応で使用される一般式［５］の酸無水物の量は、一般式［３］の化合物に対して1倍モル以上用いればよく、好ましくは、1〜5倍モル、より好ましくは、1〜3倍モルである。
この反応は、0〜200℃、好ましくは、50〜130℃で1分間〜24時間実施すればよい。
得られた一般式［４］の化合物は、単離せずに、そのまま次の反応に用いてもよい。
【００３７】
［第三工程］
0005528663.tif 000015
「式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、前記と同様の意味を有する。」
【００３８】
一般式［１］の化合物は、塩基の存在下、一般式［４］の化合物を脱アシル化反応に付すことにより製造することができる。
この反応は、通常、溶媒の存在下に実施され、この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；塩化メチレンおよびクロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミドおよび１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、２−プロパノールおよびｔｅｒｔ−ブタノールなどのアルコール類；ならびに水などが挙げられ、これらの溶媒は、混合して使用してもよい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、好ましくは、一般式［４］の化合物に対して0.5〜20倍量（v/w）、より好ましくは、1〜10倍量（v/w）である。
【００３９】
この反応で使用される塩基としては、たとえば、ナトリウム＝メトキシド、ナトリウム＝エトキシド、カリウム＝ｔｅｒｔ−ブトキシドおよびナトリウム＝ｔｅｒｔ−ブトキシドなどの金属アルコキシド；ならびに水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムなどの無機塩基が挙げられる。好ましい塩基としては、無機塩基が挙げられ、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムがより好ましい。
塩基の使用量は、一般式［４］の化合物に対して、1倍モル以上用いればよく、好ましくは、1〜3倍モルである。
この反応は、水を添加して行ってもよい。添加する水の量は、一般式［４］の化合物に対して1倍モル以上用いればよく、好ましくは、溶媒としての機能をもたせるため0.1〜10倍量（v/w）、より好ましくは、0.2〜2倍量（v/w）である。
反応温度は、特に限定されないが、0℃から溶媒の沸点以下であればよく、0〜40℃が好ましい。
反応時間は、特に限定されないが、1分間〜50時間であればよく、10分間〜24時間が好ましい。
【００４０】
上記で述べた製造法により得られた、一般式［１］、［３］および［４］の化合物は、抽出、晶出、蒸留およびカラムクロマトグラフィーなどの常法によって単離精製することができる。また、塩として単離精製することもでき、その塩としては、たとえば、ナトリウム、カリウムおよびセシウムなどのアルカリ金属との塩；カルシウムおよびマグネシウムなどのアルカリ土類金属との塩；アンモニウム塩；トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ジエチルアミンおよびジシクロヘキシルアミンなどの含窒素有機塩基との塩；塩酸、臭化水素酸、硝酸および硫酸などの鉱酸との塩；ギ酸、酢酸、クエン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、コハク酸、リンゴ酸、酒石酸、アスパラギン酸、トリクロロ酢酸およびトリフルオロ酢酸などの有機カルボン酸との塩；ならびにメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸およびナフタレンスルホン酸などのスルホン酸との塩などの塩基性基および酸性基における塩などが挙げられる。
また、上記で述べた製造法における一般式［２］、［３］および［４］の化合物において、異性体（たとえば、光学異性体、幾何異性体および互変異性体など）が存在する場合、これらすべての異性体を使用することができる。また、塩、水和物、溶媒和物およびすべての結晶形を使用することができ、その塩としては、一般式［１］の化合物と同様の塩などが挙げられる。
【００４１】
次に、本発明の製造方法の有用性を明らかにするため、本発明の実施例および先行技術による比較例における目的物の生成率（％）を比較する。結果を表１に示す。
【表１】
0005528663.tif 000016
【００４２】
実施例における目的物の生成率は、比較例における目的物の生成率よりも優れていた。
【実施例】
【００４３】
次に、本発明を実施例および参考例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
溶離液における混合比は、容量比である。特に記載のない場合、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにおける担体は、富士シリシア化学株式会社、Ｂ．Ｗ．シリカゲル、ＢＷ−１２７ＺＨまたはＰＳＱ１００Ｂである。
各実施例において各略号は、以下の意味を有する。
Ｅｔ：エチル、Ｐｈ：フェニル、Ｂｚ：ベンゾイル
ＨＰＬＣ：高速液体クロマトグラフィー
【００４４】
目的物の生成率は、以下の手順で求めた。
少量の反応混合物を70％アセトニトリル水溶液に加えて溶解した。その溶解液の一部をＨＰＬＣに付し、以下の計算式で目的物の生成率を求めた。
目的物の生成率（％）＝（目的物のピーク面積）／（全ピーク面積）×１００
【００４５】
実施例１
0005528663.tif 000017
第一工程
（１）１−ブロモ−２−エチルベンゼン3.0gのトルエン30mL溶液に窒素雰囲気下、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム2.55g、酢酸パラジウム（II）18mg、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン45mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール2.19mLを加え、80℃で7時間攪拌した。次いで、酢酸パラジウム（II）18mg、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン45mgを加え、80℃で1時間、100℃で4時間攪拌した。さらに、酢酸パラジウム（II）18mg、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン45mgを加え、100℃で3時間攪拌した（反応液をＨＰＬＣ分析した結果、目的物の生成率は、96％であった）。冷却後、反応混合物に水を加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去後、残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン）で精製し、無色油状の１−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−２−エチルベンゼン2.98gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.19(3H,t,J=7.6Hz),1.29(9H,s),2.96(2H,q,J=7.6Hz),7.11-7.18(1H,m),7.26-7.32(2H,m),7.54(1H,d,J=7.6Hz).
【００４６】
（２）１−ブロモ−２−エチルベンゼン1.0gの１−メチル−２−ピロリドン10mL溶液に窒素雰囲気下、炭酸カリウム1.05g、酢酸パラジウム（II）24mg、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン46mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール0.73mLを加え、80℃で3時間、100℃で3時間攪拌した。反応液をＨＰＬＣ分析した結果、１−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−２−エチルベンゼンの生成率は、72％であった。
【００４７】
第二工程
１−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−２−エチルベンゼン0.43gのトルエン4.3mL溶液に酢酸0.86mL、メタンスルホン酸0.29mLおよび無水酢酸0.42mLを加え、100℃で1時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水およびトルエンを加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１００：１）で精製し、黄色油状のＳ−（２−エチルフェニル）＝エタンチオアート0.30gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.18(3H,t,J=7.6Hz),2.42(3H,s),2.72(2H,q,J=7.6Hz),7.20-7.26(1H,m),7.30-7.40(3H,m).
【００４８】
第三工程
Ｓ−（２−エチルフェニル）＝エタンチオアート0.28gのエタノール2.8mL溶液に氷冷下、2mol/L水酸化ナトリウム水溶液1.2mLを加え、同温度で30分間攪拌した。反応混合物に水および酢酸エチルを加え、2mol/L塩酸でpH2.0に調整し、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、黄色油状の２−エチルベンゼンチオール0.20gを得た。
1H-NMR(CDCl3/D2O)δ値：1.25(3H,t,J=7.6Hz),2.69(2H,q,J=7.6Hz),7.05(1H,dt,J=1.7,7.3Hz),7.09-7.17(2H,m),7.24-7.28(1H,m).
【００４９】
実施例２
0005528663.tif 000018
第一工程
（１）３−ブロモベンゾニトリル5.0gの１−メチル−２−ピロリドン25mL溶液に窒素雰囲気下、炭酸カリウム5.32g、酢酸パラジウム（II）123mg、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン234mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール3.72mLを加え、80℃で1時間攪拌した（反応液をＨＰＬＣ分析した結果、目的物の生成率は、99％であった）。冷却後、反応混合物を水および酢酸エチルの混液に加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製し、無色油状の３−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）ベンゾニトリル5.20gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.30(9H,s),7.45(1H,t,J=7.8Hz),7.64-7.67(1H,m),7.75-7.78(1H,m),7.82-7.83(1H,m).
【００５０】
（２）３−ブロモベンゾニトリル3.0gのトルエン30mL溶液に窒素雰囲気下、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム2.59g、酢酸パラジウム（II）19mg、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン46mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール2.23mLを加え、80℃で1時間、100℃で2時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水を加え、不溶物を濾去し、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製し、黄色油状の３−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）ベンゾニトリル2.33gを得た。
CDCl3中における1H-NMRスペクトルのケミカルシフト値は、（１）で得られた３−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）ベンゾニトリルの値と一致した。
【００５１】
第二工程
３−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）ベンゾニトリル2.10gのトルエン21mL溶液に酢酸4.2mL、メタンスルホン酸1.42mLおよび無水酢酸2.07mLを加え、100℃で3時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水を加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製後、黄色固体のＳ−（３−シアノフェニル）＝エタンチオアート0.94gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.47(3H,s),7.53(1H,t,J=7.9Hz),7.64(1H,td,J=1.4,7.9Hz),7.67-7.72(2H,m).
【００５２】
第三工程
Ｓ−（３−シアノフェニル）＝エタンチオアート0.40gのエタノール4mL懸濁液に氷冷下、2mol/L水酸化ナトリウム水溶液1.69mLを加え、1時間攪拌した。反応混合物に水および酢酸エチルを加え、2mol/L塩酸でpH2.0に調整し、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、無色油状の３−メルカプトベンゾニトリル0.30gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.61(1H,s),7.34(1H,t,J=7.8Hz),7.44(1H,td,J=1.3,7.8Hz),7.46-7.51(1H,m),7.53-7.56(1H,m).
【００５３】
実施例３
0005528663.tif 000019
第一工程
（１）１−ブロモ−３−ニトロベンゼン2.00gの１−メチル−２−ピロリドン10mL溶液に窒素雰囲気下、炭酸カリウム3.28g、酢酸パラジウム（II）44mg、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン110mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール1.34mLを加え、100〜105℃で2時間攪拌した（反応液をＨＰＬＣ分析した結果、目的物の生成率は、78％であった）。冷却後、反応混合物に水および酢酸エチルを加え、不溶物を濾去した後、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製し、淡黄色油状の１−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−３−ニトロベンゼン0.97gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.33(9H,s),7.52(1H,t,J=8.1Hz),7.83-7.87(1H,m),8.22(1H,ddd,J=1.0,2.3,8.1Hz),8.38-8.41(1H,m).
【００５４】
（２）１−ブロモ−３−ニトロベンゼン2.00gの１−メチル−２−ピロリドン10mL溶液に窒素雰囲気下、炭酸カリウム3.28g、酢酸パラジウム（II）44mg、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン84mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール1.34mLを加え、100〜105℃で5時間攪拌した。反応液をＨＰＬＣ分析した結果、原料の残存率は、34％、１−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−３−ニトロベンゼンの生成率は、43％であった。
【００５５】
第二工程
１−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−３−ニトロベンゼン0.50gのトルエン5mL溶液に酢酸1mL、メタンスルホン酸0.31mLおよび無水酢酸0.45mLを加え、100℃で6時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水およびトルエンを加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製し、黄色油状のＳ−（３−ニトロフェニル）＝エタンチオアート0.21gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.50(3H,s),7.62(1H,t,J=7.8Hz),7.73-7.77(1H,m),8.26-8.31(2H,m).
【００５６】
第三工程
Ｓ−（３−ニトロフェニル）＝エタンチオアート0.20gのエタノール2mL溶液に氷冷下、2mol/L水酸化ナトリウム水溶液0.76mLを加え、5〜10℃で30分間攪拌した。反応混合物に水および酢酸エチルを加え、2mol/L塩酸でpH2.0に調整し、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、橙色油状の３−ニトロベンゼンチオール0.16gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.71(1H,s),7.41(1H,t,J=7.9Hz),7.55-7.58(1H,m),7.98-8.02(1H,m),8.13(1H,t,J=2.0Hz).
【００５７】
実施例４
0005528663.tif 000020
第一工程
３−ブロモ安息香酸2.00gの１−メチル−２−ピロリドン10mL溶液に窒素雰囲気下、炭酸カリウム3.30g、酢酸パラジウム（II）45mg、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン85mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール1.35mLを加え、80℃で1時間、100℃で8時間攪拌した（反応液をＨＰＬＣ分析した結果、目的物の生成率は、74％であった）。冷却後、反応混合物に水および酢酸エチルを加え、6mol/L塩酸でpH2.0に調整した。不溶物を濾去後、有機層を分取し、水および飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製し、白色固体の３−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）安息香酸0.92gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.31(9H,s),7.46(1H,t,J=7.8Hz),7.79(1H,td,J=1.5,7.8Hz),8.12(1H,td,J=1.5,7.8Hz),8.29(1H,t,J=1.5Hz).
【００５８】
第二工程
３−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）安息香酸0.50gのトルエン5mL溶液に酢酸1mL、メタンスルホン酸0.31mLおよび無水酢酸0.45mLを加え、100℃で1.5時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水およびトルエンを加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製後、ヘキサン／酢酸エチル（１０／１）混液で洗浄し、黄色固体の３−（アセチルチオ）安息香酸0.25gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.46(3H,s),7.54(1H,t,J=7.9Hz),7.66(1H,td,J=1.5,7.9Hz),8.14-8.17(2H,m).
【００５９】
第三工程
３−（アセチルチオ）安息香酸0.21gのエタノール2.1mL懸濁液に2mol/L水酸化ナトリウム水溶液1.3mLを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に水および酢酸エチルを加え、2mol/L塩酸でpH2に調整し、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、黄色固体の３−メルカプト安息香酸0.17gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.58(1H,s),7.36(1H,t,J=7.8Hz),7.51(1H,ddd,J=1.1,2.0,7.8Hz),7.87-7.91(1H,m),8.01-8.03(1H,m).
【００６０】
実施例５
0005528663.tif 000021
第一工程
４−ブロモ−２−クロロアニリン2.00gの１−メチル−２−ピロリドン10mL溶液に窒素雰囲気下、炭酸カリウム1.87g、酢酸パラジウム（II）109mg、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン207mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール1.31mLを加え、100〜105℃で4時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水および酢酸エチルを加え、不溶物を濾去し、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製し、白色固体の４−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−２−クロロアニリン1.74gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.25(9H,s),4.08-4.22(2H,broad),6.70(1H,d,J=8.2Hz),7.21(1H,dd,J=2.0,8.2Hz),7.42(1H,d,J=2.0Hz).
【００６１】
第二工程
４−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−２−クロロアニリン1.0gのトルエン10mL溶液に酢酸2mL、メタンスルホン酸0.6mLおよび無水酢酸1.3mLを加え、100℃で1.5時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水およびトルエンを加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製し、黄色固体のＳ−（４−（アセチルアミノ）−３−クロロフェニル）＝エタンチオアート0.75gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.25(3H,s),2.42(3H,s),7.29(1H,ddd,J=0.5,2.0,8.5Hz),7.44(1H,d,J=2.0Hz),7.65-7.73(1H,broad),8.48(1H,d,J=8.5Hz).
【００６２】
第三工程
Ｓ−（４−（アセチルアミノ）−３−クロロフェニル）＝エタンチオアート0.73gのエタノール7.3mL懸濁液に2mol/L水酸化ナトリウム水溶液3.7mLを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に水、クロロホルムおよび食塩を加え、2mol/L塩酸でpH6に調整し、有機層を分取した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、黄色固体のＮ−（２−クロロ−４−メルカプトフェニル）アセトアミド0.59gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.23(3H,s),3.47(1H,s),7.19(1H,dd,J=2.1,8.5Hz),7.32(1H,d,J=2.1Hz),7.47-7.58(1H,broad),8.25(1H,d,J=8.5Hz).
【００６３】
実施例６
0005528663.tif 000022
第一工程
１−ブロモ−４−クロロベンゼン2.00gの１−メチル−２−ピロリドン10mL溶液に窒素雰囲気下、炭酸カリウム2.02g、酢酸パラジウム（II）47mg、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン89mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール1.41mLを加え、80〜85℃で4時間攪拌した（反応液をＨＰＬＣ分析した結果、目的物の生成率は、96％であった）。冷却後、反応混合物に水および酢酸エチルを加え、不溶物を濾去し、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン）で精製し、無色油状の１−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−４−クロロベンゼン2.10gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.28(9H,s),7.28-7.32(2H,m),7.42-7.48(2H,m).
【００６４】
第二工程
１−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−４−クロロベンゼン1.0gのトルエン10mL溶液にメタンスルホン酸0.65mL、酢酸2mLおよび無水酢酸0.94mLを加え、100℃で1.5時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水およびトルエンを加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝５０：１）で精製し、黄色油状のＳ−（４−クロロフェニル）＝エタンチオアート0.62gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.42(3H,s),7.31-7.35(2H,m),7.36-7.41(2H,m).
【００６５】
第三工程
Ｓ−（４−クロロフェニル）＝エタンチオアート0.56gのメタノール5.6mL溶液に2mol/L水酸化ナトリウム水溶液3mLを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に水および酢酸エチルを加え、2mol/L塩酸でpH2に調整した後、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去し、黄色固体の４−クロロベンゼンチオール0.41gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.45(1H,s),7.20(4H,s).
【００６６】
実施例７
0005528663.tif 000023
第一工程
４−ブロモ−１，１’−ビフェニル2.00gの１−メチル−２−ピロリドン10mL溶液に窒素雰囲気下、炭酸カリウム1.66g、酢酸パラジウム（II）39mg、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン73mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール1.16mLを加え、80〜85℃で6時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水および酢酸エチルを加え、不溶物を濾去し、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製し、白色固体の４−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−１，１’−ビフェニル1.78gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.32(9H,s),7.33-7.38(1H,m),7.42-7.47(2H,m),7.53-7.62(6H,m).
【００６７】
第二工程
４−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−１，１’−ビフェニル1.0gのトルエン10mL溶液に酢酸2mL、メタンスルホン酸0.54mLおよび無水酢酸0.78mLを加え、100℃で1.5時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水およびトルエンを加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１００：１）で精製し、黄色固体のＳ−１，１’−ビフェニル−４−イル＝エタンチオアート0.49gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.45(3H,s),7.34-7.40(1H,m),7.42-7.50(4H,m),7.57-7.65(4H,m).
【００６８】
第三工程
Ｓ−１，１’−ビフェニル−４−イル＝エタンチオアート0.45gのエタノール4.5mL懸濁液に2mol/L水酸化ナトリウム水溶液2.5mLを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に水および酢酸エチルを加え、2mol/L塩酸でpH2に調整した後、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去し、黄色固体の１，１’−ビフェニル−４−チオール0.37gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.49(1H,s),7.31-7.36(3H,m),7.40-7.49(4H,m),7.53-7.57(2H,m).
【００６９】
実施例８
0005528663.tif 000024
第一工程
４−ブロモベンゾニトリル4.00gのトルエン40mL溶液に窒素雰囲気下、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム3.36g、酢酸パラジウム（II）29mg、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン71mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール2.90mLを加え、80℃で2時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水を加え、不溶物を濾去し、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：アセトン＝１００：１）で精製し、黄色固体の４−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）ベンゾニトリル3.75gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.32(9H,s),7.59-7.64(4H,m).
【００７０】
第二工程
４−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）ベンゾニトリル3.63gのトルエン36mL溶液に酢酸7.3mL、メタンスルホン酸2.47mLおよび無水酢酸3.59mLを加え、100℃で3時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水を加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：アセトン＝１０：１）で精製し、黄色固体のＳ−（４−シアノフェニル）＝エタンチオアート1.45gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.47(3H,s),7.51-7.55(2H,m),7.67-7.71(2H,m).
【００７１】
第三工程
Ｓ−（４−シアノフェニル）＝エタンチオアート0.80gのエタノール8mL溶液に2mol/L水酸化ナトリウム水溶液5.64mLを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に水および酢酸エチルを加え、2mol/L塩酸でpH1に調整した後、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去し、油状の４−メルカプトベンゾニトリル0.96gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.67(1H,s),7.30-7.34(2H,m),7.48-7.52(2H,m).
【００７２】
実施例９
0005528663.tif 000025
第一工程
１−ブロモ−４−メトキシベンゼン3.0gのトルエン30mL溶液に窒素雰囲気下、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム2.50g、酢酸パラジウム（II）43mg、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン106mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール2.16mLを加え、80℃で2時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水を加え、不溶物を濾去し、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；トルエン）で精製し、黄色油状の１−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−４−メトキシベンゼン3.00gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.26(9H,s),3.81(3H,s),6.84-6.88(2H,m),7.42-7.46(2H,m).
【００７３】
第二工程
１−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−４−メトキシベンゼン2.9gのトルエン29mL溶液に酢酸5.8mL、メタンスルホン酸1.92mLおよび無水酢酸2.79mLを加え、100℃で4時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水を加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：トルエン＝５：１〜２：１）で精製し、黄色油状のＳ−（４−メトキシフェニル）＝エタンチオアート1.02gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.39(3H,s),3.82(3H,s),6.91-6.96(2H,m),7.29-7.34(2H,m).
【００７４】
第三工程
Ｓ−（４−メトキシフェニル）＝エタンチオアート0.65gのエタノール6.5mL溶液に氷冷下、2mol/L水酸化ナトリウム水溶液2.50mLを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に水および酢酸エチルを加え、2mol/L塩酸でpH1.6に調整した後、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去し、油状の４−メトキシベンゼンチオール0.52gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.36(1H,s),3.78(3H,s),6.77-6.83(2H,m),7.24-7.28(2H,m).
【００７５】
実施例１０
0005528663.tif 000026
第一工程
１−ブロモ−４−（メチルチオ）ベンゼン2.00gの１−メチル−２−ピロリドン10mL溶液に窒素雰囲気下、炭酸カリウム1.91g、酢酸パラジウム（II）111mg、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン210mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール1.33mLを加え、100〜105℃で1時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水および酢酸エチルを加え、不溶物を濾去し、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製し、無色油状の１−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−４−（メチルチオ）ベンゼン2.09gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.27(9H,s),2.49(3H,s),7.16-7.21(2H,m),7.41-7.45(2H,m).
【００７６】
第二工程
１−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−４−（メチルチオ）ベンゼン1.0gのトルエン10mL溶液に酢酸2mL、メタンスルホン酸0.61mLおよび無水酢酸0.89mLを加え、100℃で1時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水およびトルエンを加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝５０：１）で精製し、黄色油状のＳ−（４−（メチルチオ）フェニル）＝エタンチオアート0.66gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.41(3H,s),2.49(3H,s),7.24-7.27(2H,m),7.28-7.32(2H,m).
【００７７】
第三工程
Ｓ−（４−（メチルチオ）フェニル）＝エタンチオアート0.61gのエタノール6.1mL溶液に2mol/L水酸化ナトリウム水溶液3.1mLを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に水および酢酸エチルを加え、2mol/L塩酸でpH2に調整した後、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去し、黄色油状の４−（メチルチオ）ベンゼンチオール0.48gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.45(3H,s),3.41(1H,s),7.11-7.16(2H,m),7.19-7.23(2H,m).
【００７８】
実施例１１
0005528663.tif 000027
第二工程
１−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−４−（メチルチオ）ベンゼン1.00gのトルエン10mL溶液に酪酸2mL、メタンスルホン酸0.61mLおよび無水酪酸1.54mLを加え、100℃で1.5時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水およびトルエンを加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝５０：１）で精製し、黄色油状のＳ−（４−（メチルチオ）フェニル）＝ブタンチオアート0.45gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：0.99(3H,t,J=7.3Hz),1.74(2H,sext,J=7.3Hz),2.49(3H,s),2.62(2H,t,J=7.3Hz),7.23-7.27(2H,m),7.28-7.32(2H,m).
【００７９】
第三工程
Ｓ−（４−（メチルチオ）フェニル）＝ブタンチオアート0.40gのエタノール4mL溶液に氷冷下、2mol/L水酸化ナトリウム水溶液1.8mLを加え、5〜10℃で30分間攪拌した。反応混合物に水およびトルエンを加え、2mol/L塩酸でpH2.0に調整した後、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去し、黄色油状の４−（メチルチオ）ベンゼンチオール0.27gを得た。
CDCl3中における1H-NMRスペクトルのケミカルシフト値は、実施例１０で得られた４−（メチルチオ）ベンゼンチオールの値と一致した。
【００８０】
実施例１２
0005528663.tif 000028
第一工程
（１）１−ブロモ−４−エチルベンゼン2.23mLのトルエン30mL溶液に窒素雰囲気下、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム2.50g、酢酸パラジウム（II）22mg、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン53mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール2.16mLを加え、80〜95℃で1時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水を加え、不溶物を濾去し、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン）で精製し、無色油状の１−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−４−エチルベンゼン2.96gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.26(3H,t,J=7.6Hz),1.29(9H,s),2.67(2H,q,J=7.6Hz),7.17(2H,d,J=7.9Hz),7.46(2H,d,J=7.9Hz).
【００８１】
（２）１−ブロモ−４−エチルベンゼン2.00gの１−メチル−２−ピロリドン10mL溶液に窒素雰囲気下、炭酸カリウム2.09g、酢酸パラジウム（II）49mg、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン92mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール1.46mLを加え、80〜85℃で7時間、100〜105℃で1時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水および酢酸エチルを加え、不溶物を濾去し、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン〜ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製し、無色油状の１−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−４−エチルベンゼン1.46gを得た。
CDCl3中における1H-NMRスペクトルのケミカルシフト値は、（１）で得られた１−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−４−エチルベンゼンの値と一致した。
【００８２】
第二工程
１−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−４−エチルベンゼン1.90gのトルエン19mL溶液に酢酸3.8mL、メタンスルホン酸1.27mLおよび無水酢酸1.85mLを加え、100℃で4時間30分間攪拌した。冷却後、反応混合物に水を加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：アセトン＝１００：１）で精製し、黄色油状のＳ−（４−エチルフェニル）＝エタンチオアート1.33gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.24(3H,t,J=7.6Hz),2.40(3H,s),2.67(2H,q,J=7.6Hz),7.22-7.27(2H,m),7.29-7.33(2H,m).
【００８３】
第三工程
Ｓ−（４−エチルフェニル）＝エタンチオアート0.42gのエタノール4.2mL溶液に氷冷下、2mol/L水酸化ナトリウム水溶液1.7mLを加え、5〜10℃で30分間攪拌した。反応混合物に水および酢酸エチルを加え、2mol/L塩酸でpH2.0に調整した後、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去して黄色油状の４−エチルベンゼンチオール0.32gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.21(3H,t,J=7.6Hz),2.60(2H,q,J=7.6Hz),3.39(1H,s),7.07(2H,d,J=8.0Hz),7.21(2H,d,J=8.0Hz).
実施例１３
0005528663.tif 000029
第一工程
４−ブロモフェニル酢酸1.0gの１−メチル−２−ピロリドン10mL溶液にアルゴン雰囲気下、炭酸カリウム1.61g、酢酸パラジウム（II）52mg、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン129mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール0.629mLを加え、80〜90℃で2時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水および酢酸エチルを加え、水層を分取した。水層に酢酸エチルを加え、2mol/L塩酸でpH5に調整し、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、活性炭0.20gを加え、10分間攪拌した。次いで、無水硫酸マグネシウムを加え、不溶物を濾去した。減圧下に溶媒を留去し、残留物にヘキサンを加え、固形物を濾取し、淡黄色固体の（４−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）フェニル）酢酸0.88gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.28(9H,s),3.66(2H,s),7.25(2H,d,J=8.2Hz),7.49(2H,d,J=8.2Hz).
【００８４】
第二工程
（４−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）フェニル）酢酸0.50gのトルエン2.5mL溶液に酢酸2.5mL、メタンスルホン酸0.29mLおよび無水酢酸0.42mLを加え、90〜100℃で2時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水およびトルエンを加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；クロロホルム：メタノール＝３０：１）で精製後、ジイソプロピルエーテルおよびヘキサンを加え、固形物を濾取し、黄色固体の（４−（アセチルチオ）フェニル）酢酸0.20gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.42(3H,s),3.68(2H,s),7.34(2H,d,J=8.3Hz),7.39(2H,d,J=8.3Hz).
【００８５】
第三工程
（４−（アセチルチオ）フェニル）酢酸0.15gのエタノール1.5mL溶液に2mol/L水酸化ナトリウム水溶液1.5mLを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に、水および酢酸エチルを加え、6mol/L塩酸でpH1に調整し、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、残留物にヘキサンを加え、固形物を濾取し、淡黄色固体の（４−メルカプトフェニル）酢酸60mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.43(1H,s),3.60(2H,s),7.15(2H,d,J=8.3Hz),7.25(2H,d,J=8.3Hz).
【００８６】
実施例１４
第一工程
0005528663.tif 000030
（１）２−（４−ブロモフェニル）エタノール0.86gのトルエン10mL溶液にアルゴン雰囲気下、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム0.67g、酢酸パラジウム（II）48mg、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン91mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール0.58mLを加え、80〜90℃で5時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水および酢酸エチルを加え、不溶物を濾去し、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、活性炭0.20gを加え、10分間攪拌した。次いで、無水硫酸マグネシウムを加え、不溶物を濾去した。減圧下に溶媒を留去し、残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製し、無色油状の２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェニル）エタノール890mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.28(9H,s),2.88(2H,t,J=6.6Hz),3.84-3.93(2H,broad),7.20(2H,d,J=7.9Hz),7.47(2H,d,J=7.9Hz).
【００８７】
（２）２−（４−ブロモフェニル）エタノール17.3gのトルエン140mL溶液に窒素雰囲気下、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム12.5g、酢酸パラジウム（II）10mg、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン26mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール11.5mLを加え、80〜90℃で5時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水を加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１〜３：１）で精製し、黄色油状の２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェニル）エタノール16.7gを得た。
CDCl3中における1H-NMRスペクトルのケミカルシフト値は、（１）で得られた２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェニル）エタノールの値と一致した。
【００８８】
第二工程
２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェニル）エタノール3.0gのトルエン30mL溶液に酢酸6mL、メタンスルホン酸1.85mLおよび無水酢酸4.04mLを加え、100〜105℃で1時間攪拌した。冷却後、反応混合物を氷水中に加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製し、黄色油状の２−（４−（アセチルチオ）フェニル）エチル＝アセタート2.72gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.04(3H,s),2.41(3H,s),2.96(2H,t,J=7.1Hz),4.29(2H,t,J=7.1Hz),7.25-7.29(2H,m),7.33-7.37(2H,m).
【００８９】
第三工程
２−（４−（アセチルチオ）フェニル）エチル＝アセタート0.50gのメタノール5mL溶液に水酸化ナトリウム0.18gおよび水0.5mLを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物を減圧下に濃縮し、水および酢酸エチルを加え、2mol/L塩酸でpH1.5に調整した後、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、黄色油状の２−（４−メルカプトフェニル）エタノール0.32gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.81(2H,t,J=6.6Hz),3.41(1H,s),3.83(2H,t,J=6.6Hz),7.10(2H,d,J=8.2Hz),7.23(2H,d,J=8.2Hz).
【００９０】
実施例１５
0005528663.tif 000031
第一工程
（１）２−（４−ブロモフェニル）エチル＝ベンゾアート1.0gの１−メチル−２−ピロリドン10mL溶液に窒素雰囲気下、トリエチルアミン1.10mL、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンパラジウム（II）クロリド48mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール0.44mLを加え、80℃で3時間攪拌した。次いで、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンパラジウム（II）クロリド24mgを加え、80℃で1時間攪拌した（反応液をＨＰＬＣ分析した結果、目的物の生成率は、92％であった）。冷却後、反応混合物に水および酢酸エチルを加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去後、残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝３０：１〜２０：１）で精製し、２−（４−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）フェニル）エチル＝ベンゾアート0.95gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.27(9H,s),3.09(2H,t,J=6.8Hz),4.54(2H,t,J=6.8Hz),7.23-7.27(2H,m),7.40-7.46(2H,m),7.46-7.50(2H,m),7.53-7.58(1H,m),7.97-8.02(2H,m).
【００９１】
（２）２−（４−ブロモフェニル）エチル＝ベンゾアート1.0gの１−メチル−２−ピロリドン10mL溶液に窒素雰囲気下、トリエチルアミン1.10mL、酢酸パラジウム（II）37mg、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン91mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール0.44mLを加え、80℃で4時間攪拌した（反応液をＨＰＬＣ分析した結果、目的物の生成率は、93％であった）。冷却後、反応混合物に水および酢酸エチルを加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去後、残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝３０：１）で精製し、２−（４−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）フェニル）エチル＝ベンゾアート0.98gを得た。
CDCl3中における1H-NMRスペクトルのケミカルシフト値は、（１）で得られた２−（４−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）フェニル）エチル＝ベンゾアートの値と一致した。
【００９２】
（３）２−（４−ブロモフェニル）エチル＝ベンゾアート1.00gのトルエン10mL溶液に窒素雰囲気下、ｔｅｒｔ−ブトキシナトリウム0.44g、酢酸パラジウム（II）73mg、（Ｓ）２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル204mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール0.52mLを加え、80℃で5時間、100℃で1時間攪拌した（反応液をＨＰＬＣ分析した結果、目的物の生成率は、61％であった）。冷却後、反応混合物に水および酢酸エチルを加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去後、残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製し、２−（４−ブロモフェニル）エチル＝ベンゾアートおよび２−（４−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）フェニル）エチル＝ベンゾアートの混合物0.90gを得た。この混合物のCDCl3中における1H-NMRスペクトルからの収率は、60％であった。
（４）２−（４−ブロモフェニル）エチル＝ベンゾアート1.00gの１−メチル−２−ピロリドン10mL溶液に窒素雰囲気下、リン酸三カリウム0.97g、酢酸パラジウム（II）37mg、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン70mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール0.44mLを加え、80℃で8時間攪拌した（反応液をＨＰＬＣ分析した結果、目的物の生成率は、69％であった）。冷却後、反応混合物に水および酢酸エチルを加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去後、残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２５：１〜２０：１）で精製し、２−（４−ブロモフェニル）エチル＝ベンゾアートおよび２−（４−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）フェニル）エチル＝ベンゾアートの混合物1.06gを得た。この混合物のCDCl3中における1H-NMRスペクトルからの収率は、72％であった。
【００９３】
（５）２−（４−ブロモフェニル）エチル＝ベンゾアート13.0gの１−メチル−２−ピロリドン65mL溶液に窒素雰囲気下、トリエチルアミン14.3mL、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）390mg、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン472mgおよび２−メチル−２−プロパンチオール5.76mLを加え、90℃で9時間攪拌した（反応液をＨＰＬＣ分析した結果、目的物の生成率は、98％であった）。冷却後、反応混合物に水および酢酸エチルを加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、活性炭2.60gを加え、10分間攪拌した。次いで、無水硫酸マグネシウムを加え、不溶物を濾去し、減圧下に溶媒を留去した。残留物にヘキサンを加え、固形物を濾取し、淡褐色固体の２−（４−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）フェニル）エチル＝ベンゾアート10.6gを得た。
CDCl3中における1H-NMRスペクトルのケミカルシフト値は、（１）で得られた２−（４−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）フェニル）エチル＝ベンゾアートの値と一致した。
【００９４】
第二工程
２−（４−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）フェニル）エチル＝ベンゾアート2.3gのトルエン23mL溶液に酢酸4.6mL、メタンスルホン酸0.949mLおよび無水酢酸1.38mLを加え、100℃で2時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水および酢酸エチルを加え、有機層を分取した。有機層に水を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH7に調整後、有機層を分取した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１〜５：１）で精製し、淡黄色固体の２−（４−（アセチルチオ）フェニル）エチル＝ベンゾアート1.92gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.41(3H,s),3.11(2H,t,J=6.8Hz),4.55(2H,t,J=6.8Hz),7.32-7.35(2H,m),7.36-7.39(2H,m),7.41-7.46(2H,m),7.53-7.58(1H,m),7.99-8.02(2H,m).
【００９５】
第三工程
２−（４−（アセチルチオ）フェニル）エチル＝ベンゾアート2.0gのメタノール7mL懸濁液に氷冷下、28％ナトリウム＝メトキシド／メタノール溶液1.28gのメタノール3mL溶液を加え、同温度で30分間攪拌した。反応混合物に水を滴下し、2mol/L塩酸でpH2.0に調整した。固形物を濾取し、淡黄色固体の２−（４−メルカプトフェニル）エチル＝ベンゾアート1.49gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.02(2H,t,J=7.0Hz),3.42(1H,s),4.50(2H,t,J=7.0Hz),7.16(2H,d,J=8.2Hz),7.24(2H,d,J=8.2Hz),7.43(2H,t,J=7.6Hz),7.53-7.58(1H,m),7.98-8.02(2H,m).
【００９６】
参考例１
0005528663.tif 000032
２−（４−メルカプトフェニル）エチル＝ベンゾアート2.00gのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド10mL溶液に炭酸カリウム1.60g、２−ブロモ−１，１−ジエトキシエタン1.28mLおよび水素化ホウ素ナトリウム60mgを加え、45〜55℃で2時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水およびトルエンを加え、有機層を分取した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）で精製し、無色油状の２−（４−（（２，２−ジエトキシエチル）チオ）フェニル）エチル＝ベンゾアート2.60gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.18(6H,t,J=7.1Hz),3.04(2H,t,J=6.8Hz),3.11(2H,d,J=5.5Hz),3.49-3.57(2H,m),3.61-3.70(2H,m),4.51(2H,t,J=6.8Hz),4.63(1H,t,J=5.5Hz),7.19-7.22(2H,m),7.33-7.37(2H,m),7.41-7.45(2H,m),7.53-7.58(1H,m),7.99-8.03(2H,m).
【００９７】
参考例２
0005528663.tif 000033
２−（４−（（２，２−ジエトキシエチル）チオ）フェニル）エチル＝ベンゾアート1.05gをトルエン10mLに溶解し、85％リン酸0.3mLを加え、加熱還流下、2時間30分間共沸脱水した。反応液を冷却し、水、セライトおよび活性炭を加え、撹拌した後、不溶物を濾去した。有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：トルエン＝１：１）で精製し、淡黄色固体の２−（１−ベンゾチオフェン−５−イル）エチル＝ベンゾアート0.67gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.20(2H,t,J=7.0Hz),4.58(2H,t,J=7.0Hz),7.25-7.35(2H,m),7.40-7.45(3H,m),7.50-7.60(1H,m),7.74(1H,s),7.83(1H,d,J=8.3Hz),8.00-8.05(2H,m)
【００９８】
参考例３
0005528663.tif 000034
２−（１−ベンゾチオフェン−５−イル）エチル＝ベンゾアート46.0gをイソプロピルアルコール70mL、水70mLおよび水酸化ナトリウム9.77g混液に加え、50〜60℃で3時間攪拌した。反応液を冷却後、トルエンおよび水を加えた。有機層を分取し、水洗後、活性炭処理し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にシクロヘキサンを加え、析出物を濾取し、白色固体の２−（１−ベンゾチオフェン−５−イル）−１−エタノール26.9gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.40-1.55(1H,m),2.98(2H,t,J=6.5Hz),3.90(2H,t,J=6.5Hz),7.21(1H,dd,J=1.5,8.3Hz),7.29(1H,dd,J=0.7,5.4Hz),7.43(1H,d,J=5.4Hz),7.65-7.70(1H,m),7.82(1H,d,J=8.3Hz).
【００９９】
比較例１  （特許文献１０の方法）
0005528663.tif 000035
（１）水酸化カリウム0.37gのジメチルスルホキシド6mLの懸濁液に窒素雰囲気下、２−メチル−２−プロパンチオール0.62mLを加え、50〜55℃で30分間攪拌した。反応液に３−ブロモベンゾニトリル1.00gを加え、50〜55℃で4時間攪拌した。反応液をＨＰＬＣ分析した結果、原料の残存率は、15％、３−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）ベンゾニトリルの生成率は、31％、不明物は、47％以上であった。
（２）ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム0.74gのジメチルスルホキシド6mLの懸濁液に２−メチル−２−プロパンチオール0.68mLを加え、28〜37℃で30分間攪拌した。反応液に３−ブロモベンゾニトリル1.00gを加え、50〜55℃で3時間攪拌した。反応液をＨＰＬＣ分析した結果、原料の残存率は、30％、３−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）ベンゾニトリルの生成率は、49％、不明物は、19％以上であった。
【０１００】
比較例２（特許文献１０の方法）
0005528663.tif 000036
３−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）ベンゾニトリル1.00gのトルエン10mL溶液に窒素雰囲気下、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物0.99gを加え、3時間共沸脱水した。反応液をＨＰＬＣ分析した結果、原料の残存率は、21％、３−メルカプトベンゾニトリルの生成率は、3％、不明物は、71％以上であった。
【０１０１】
比較例３  （特許文献１０の方法）
0005528663.tif 000037
水酸化カリウム0.33gのジメチルスルホキシド6mLの懸濁液に窒素雰囲気下、２−メチル−２−プロパンチオール0.56mLを加え、50〜55℃で30分間攪拌した。冷却後、反応混合物に１−ブロモ−３−ニトロベンゼン1.00gを加え、室温で3時間、50〜55℃で30分間攪拌した。反応液をＨＰＬＣ分析した結果、原料の残存率は、47％、１−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−３−ニトロベンゼンの生成率は、8％、その他は不明物であった。
【０１０２】
比較例４  （特許文献１０の方法）
0005528663.tif 000038
水酸化カリウム0.61gのジメチルスルホキシド6mLの懸濁液に窒素雰囲気下、２−メチル−２−プロパンチオール0.56mLを加え、50〜55℃で30分間攪拌した。冷却後、反応混合物に３−ブロモ安息香酸1.00gを加え、50〜55℃で30分間、80〜85℃で1時間、100〜105℃で1時間、120〜125℃で2時間攪拌した。反応液をＨＰＬＣ分析した結果、原料の残存率は、93％、３−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）安息香酸の生成率は、2％未満であった。
【０１０３】
比較例５  （特許文献１０の方法）
0005528663.tif 000039
水酸化カリウム0.35gのジメチルスルホキシド6mLの懸濁液に窒素雰囲気下、２−メチル−２−プロパンチオール0.59mLを加え、50〜55℃で30分間攪拌した。冷却後、反応混合物に１−ブロモ−４−クロロベンゼン1.00gを加え、80〜85℃で1時間、100〜105℃で10時間攪拌した。反応液をＨＰＬＣ分析した結果、原料の残存率は、45％、１−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）−４−クロロベンゼンの生成率は、39％、不明物は、13％以上であった。
【０１０４】
比較例６  （非特許文献５の方法）
0005528663.tif 000040
（１）トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）45mgのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド10mL溶液に窒素雰囲気下、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン120mgを加え、25℃で10分間攪拌した。反応混合物に、２−（４−ブロモフェニル）エチル＝ベンゾアート1.00gおよびトリエチルアミン1.00mLを加え、25℃で10分間攪拌した後、２−メチル−２−プロパンチオール0.41mLを加え、70〜75℃で20時間攪拌した。反応液をＨＰＬＣ分析した結果、原料の残存率は、37％、２−（４−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）フェニル）エチル＝ベンゾアートの生成率は、50％、その他は不明物であった。
【０１０５】
（２）トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）45mgのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド10mL溶液に窒素雰囲気下、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン92mgを加え、25℃で10分間攪拌した。反応混合物に、２−（４−ブロモフェニル）エチル＝ベンゾアート1.00gおよびトリエチルアミン1.00mLを加え、25℃で10分間攪拌した後、２−メチル−２−プロパンチオール0.41mLを加え、70〜75℃で20時間攪拌した。反応液をＨＰＬＣ分析した結果、原料の残存率は、44％、２−（４−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）フェニル）エチル＝ベンゾアートの生成率は、48％、その他は不明物であった。