(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
消弧性ガスが充填されたタンク内に、固定通電接触子および固定アーク接触子を有する固定部と、可動通電接触子および可動アーク接触子を有する可動部とを、接離自在に対向して配置し、前記可動部にパッファシリンダと、このパッファシリンダ内を摺動自在なパッファピストンとを備えるパッファ室を形成し、前記パッファシリンダ先端で、かつ前記可動アーク接触子を包囲する絶縁ノズルを取り付け、遮断動作時に前記パッファシリンダ内の消弧性ガスを、前記パッファピストンにて圧縮して前記固定アーク接触子と前記可動アーク接触子との間に発生したアークに吹き付けるガス遮断器において、
前記固定部の固定支えに形成した小径部の内周面に対して狭い間隔を保持するように、前記絶縁ノズルの先端部に鍔部を形成し、前記小径部における遮断動作完了時に前記鍔部と対向する部分に凹溝部を形成したことを特徴とするガス遮断器。
【請求項２】
消弧性ガスが充填されたタンク内に、固定通電接触子および固定アーク接触子を有する固定部と、可動通電接触子および可動アーク接触子を有する可動部とを、接離自在に対向して配置し、前記可動部にパッファシリンダと、このパッファシリンダ内を摺動自在なパッファピストンとを備えるパッファ室を形成し、前記パッファシリンダ先端で、かつ前記可動アーク接触子を包囲する絶縁ノズルを取り付け、遮断動作時に前記パッファシリンダ内の消弧性ガスを、前記パッファピストンにて圧縮して前記固定アーク接触子と前記可動アーク接触子との間に発生したアークに吹き付けるガス遮断器において、
前記固定部の固定支えに形成した小径部の内周面に対して狭い間隔を保持するように、前記絶縁ノズルの先端部に鍔部を形成し、前記鍔部の前記小径部の内周面に対向する外周面に微小突起を形成したことを特徴とするガス遮断器。
【請求項３】
消弧性ガスが充填されたタンク内に、固定通電接触子および固定アーク接触子を有する固定部と、可動通電接触子および可動アーク接触子を有する可動部とを、接離自在に対向して配置し、前記可動部にパッファシリンダと、このパッファシリンダ内を摺動自在なパッファピストンとを備えるパッファ室を形成し、前記パッファシリンダ先端で、かつ前記可動アーク接触子を包囲する絶縁ノズルを取り付け、遮断動作時に前記パッファシリンダ内の消弧性ガスを、前記パッファピストンにて圧縮して前記固定アーク接触子と前記可動アーク接触子との間に発生したアークに吹き付けるガス遮断器において、
前記固定部の固定支えに形成した小径部の内周面に対して狭い間隔を保持するように、前記絶縁ノズルの先端部に鍔部を形成し、前記小径部における遮断動作完了時に前記鍔部と対向する面に微小突起を形成したことを特徴とするガス遮断器。
【請求項４】
前記微小突起は、円錐状、円筒状に形成され、前記鍔部の外周面または前記小径部の内周面の４５度に少なくとも１つ配置されていることを特徴とする請求項２または３に記載のガス遮断器。
【請求項５】
前記微小突起は、少なくとも１本線状に、前記鍔部の外周面全周または前記小径部の内周面全周の１／３以上に亘って配置されていることを特徴とする請求項２または３に記載のガス遮断器。
【請求項６】
前記固定支えの小径部は、遮断動作途中から前記絶縁ノズルの鍔部と対向することを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一項に記載のガス遮断器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、高電圧の電力系統において消弧性ガスにより高電圧の遮断を可能にするガス遮断器に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、高電圧の電力系統では、ガス遮断器が広く用いられている。このガス遮断器の絶縁媒体および消弧媒体としては、絶縁性および消弧性の高いＳＦ６ガスが主として用いられているものの、このＳＦ６ガス以外のガスや、各種ガスを混合したガスを用いる場合もある。
【０００３】
従来のガス遮断器の一例を図９および図１０に示す。図９はガス遮断器の投入状態を、図１０はガス遮断器の遮断状態をそれぞれ示している。
【０００４】
図９および図１０に示すように、消弧性ガスが充填された図示しないタンク内には、固定部１ａに設けられた固定アーク接触子１および固定通電接触子３と、可動部１ｂに設けられた可動アーク接触子２および可動通電接触子４とがそれぞれ互いに軸方向に対向して配置されている。固定部１ａは、固定アーク接触子１および固定通電接触子３の他、固定支え８を有する一方、可動部１ｂは、可動アーク接触子２および可動通電接触子４の他、パッファシリンダ５、操作ロッド６、絶縁ノズル７およびパッファピストン１３を有している。
【０００５】
可動アーク接触子２、可動通電接触子４および絶縁ノズル７は、それぞれパッファシリンダ５に固定されている。このパッファシリンダ５および操作ロッド６は、図示しない絶縁ロッドを介して操作機構と接続されている。絶縁ノズル７は、可動アーク接触子２の外周に配置されている。そして、パッファシリンダ５、操作ロッド６およびパッファピストン１３は、空間であるパッファ室（圧縮室）１１を形成している。
【０００６】
また、パッファピストン１３は、図示しない固定部材に固定され、パッファシリンダ５と操作ロッド６とが一体となって進退したとき、パッファシリンダ５内のパッファ室１１でＳＦ６ガスを圧縮するように構成されている。
【０００７】
このように構成された従来のガス遮断器は、図９に示す投入状態から開極動作を始めると、可動部１ｂが図示しない操作機構側、すなわち固定部１ａから離反する方向（図９において右方向）に移動する。すると、固定アーク接触子１と可動アーク接触子２との間においてアークが点弧する。このアークは高温であるため、アークから高温のガスが発生するとともに、加熱された周囲の消弧性ガスも高温となる。
【０００８】
さらに、開極動作が進むと、図１０に示すようにパッファ室１１の容積が小さくなり、パッファ室１１内のガスが圧縮され、この圧縮されたガスは、排出口５ａから可動アーク接触子２と絶縁ノズル７との間に形成されるガス流路を通じてアークが点弧している空間に吹き付けられる。アークに吹き付けられたガスは、アークを冷却しながらアークによって高温に過熱されて高温ガスとなる。
【０００９】
そして、図示しない操作機構側、すなわち固定部１ａから離反する方向（図９において右方向）に流れるガスは、図１０に示すように可動アーク接触子２および操作ロッド６の中空部内を通った後、操作ロッド６用の連通孔６ａを通じて図示しないタンク空間へ流れ出す。また、反操作機構側、すなわち固定部１ａに接近する方向（図９において左方向）に流れるガスは、固定支え８内を流れて図示しないタンク空間へと流れ出す。その後、電流零点に向けてアークが小さくなり電流遮断が完了する。この電流遮断が完了すると、直ちに上記各接触子間には高い電圧が印加され、ガス遮断器は、この高い電圧に耐えて絶縁状態を保持する必要がある。
【００１０】
上記のようなガス遮断器の遮断過程で発生した高温ガスのうち、反操作機構側、すなわち固定部１ａに接近する方向に流れる高温ガスは、固定支え８内を流れて図示しないタンク空間内に排出されていくものの、一部が絶縁ノズル７と固定支え８との間を通って固定通電接触子３と可動通電接触子４との間の空間に流れ込むことがある。すると、電流遮断完了後に上記各接触子３，４間に高い電圧が印加されたとき、上記高温ガスのために固定通電接触子３と可動通電接触子４との間で絶縁破壊が発生することがある。このような絶縁破壊は、絶縁状態を保持しなければならない遮断器として回避しなければならない事態である。
【００１１】
この課題を解決するために、例えば特許文献１に記載された技術がある。この技術は、絶縁ノズル７出口付近からガス流路に沿ってカバーを取り付け、固定通電接触子３と可動通電接触子４との間の空間に熱ガスが流入しないようにしたものである。
【００１２】
また、ガス遮断器が電力系統に設置されている場合には、直流電圧が長時間印加される場合が考えられる。この場合、可動部１ｂに固着された絶縁ノズル７が帯電し、かつ図１１に示すように絶縁ノズル７と固定支え８とが微小な隙間を保持していると、絶縁ノズル７の電位と固定支え８の電位との電位差によって高い電界が生じることになり、絶縁破壊に至ることがある。このような絶縁ノズル７の帯電を防止し、かつ熱ガスの流入を防止する方法としては、例えば特許文献２に記載された技術がある。この技術では、絶縁ノズル７と固定支え８との間を摺動可能な状態にするようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特許第３８３３８３９号公報
【特許文献２】特許第４１３１９２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
しかしながら、特許文献１に記載された技術では、遮断過程および遮断状態において絶縁ノズル７とカバーとの間に大きな隙間が形成されているため、そのカバーによって熱ガスをガイドしていても、やはり一部の熱ガスが固定通電接触子３と可動通電接触子４との間の空間に流入する可能性が高い。そのため、絶縁ノズル７とカバー、あるいは図１１に示すように絶縁ノズル７と固定支え８との間を極力狭くすることで、熱ガスの流入を防止することが可能となると考えられる反面、このようにした場合は、上述したように絶縁ノズル７の電位と固定支え８の電位との電位差によって高い電界が生じることになり、絶縁破壊に至ることがある。
【００１５】
また、特許文献２に記載された技術では、構造が複雑で、組立が煩雑となるとともに、固定支え８に対して絶縁ノズル７および可動部１ｂ全体の中心が高精度に一致しないと、摺動部において大きな摩擦となり、可動部１ｂの動作速度が低下し、遮断性能の低下を招く懸念がある。
【００１６】
本発明の実施形態は、上述した課題を解決するためになされたものであり、固定支えに対して絶縁ノズルを摺動させることなく、熱ガスの流入を最小限に抑え、かつ直流電圧による絶縁破壊も防止可能なガス遮断器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本実施形態に係るガス遮断器は、消弧性ガスが充填されたタンク内に、固定通電接触子および固定アーク接触子を有する固定部と、可動通電接触子および可動アーク接触子を有する可動部とを、接離自在に対向して配置し、前記可動部にパッファシリンダと、このパッファシリンダ内を摺動自在なパッファピストンとを備えるパッファ室を形成し、前記パッファシリンダ先端で、かつ前記可動アーク接触子を包囲する絶縁ノズルを取り付け、遮断動作時に前記パッファシリンダ内の消弧性ガスを、前記パッファピストンにて圧縮して前記固定アーク接触子と前記可動アーク接触子との間に発生したアークに吹き付けるガス遮断器において、前記固定部の固定支えに形成した小径部の内周面に対して狭い一定間隔を保持するように、前記絶縁ノズルの先端部に鍔部を形成し、前記小径部における遮断動作完了時に前記鍔部と対向する部分に凹溝部を形成したことを特徴とする。
【００１８】
また、本実施形態に係るガス遮断器は、消弧性ガスが充填されたタンク内に、固定通電接触子および固定アーク接触子を有する固定部と、可動通電接触子および可動アーク接触子を有する可動部とを、接離自在に対向して配置し、前記可動部にパッファシリンダと、このパッファシリンダ内を摺動自在なパッファピストンとを備えるパッファ室を形成し、前記パッファシリンダ先端で、かつ前記可動アーク接触子を包囲する絶縁ノズルを取り付け、遮断動作時に前記パッファシリンダ内の消弧性ガスを、前記パッファピストンにて圧縮して前記固定アーク接触子と前記可動アーク接触子との間に発生したアークに吹き付けるガス遮断器において、前記固定部の固定支えに形成した小径部の内周面に対して狭い一定間隔を保持するように、前記絶縁ノズルの先端部に鍔部を形成し、前記鍔部の前記小径部の内周面に対向する外周面に微小突起を形成したことを特徴とする。
【００１９】
さらに、本実施形態に係るガス遮断器は、消弧性ガスが充填されたタンク内に、固定通電接触子および固定アーク接触子を有する固定部と、可動通電接触子および可動アーク接触子を有する可動部とを、接離自在に対向して配置し、前記可動部にパッファシリンダと、このパッファシリンダ内を摺動自在なパッファピストンとを備えるパッファ室を形成し、前記パッファシリンダ先端で、かつ前記可動アーク接触子を包囲する絶縁ノズルを取り付け、遮断動作時に前記パッファシリンダ内の消弧性ガスを、前記パッファピストンにて圧縮して前記固定アーク接触子と前記可動アーク接触子との間に発生したアークに吹き付けるガス遮断器において、前記固定部の固定支えに形成した小径部の内周面に対して狭い一定間隔を保持するように、前記絶縁ノズルの先端部に鍔部を形成し、前記小径部における遮断動作完了時に前記鍔部と対向する面に微小突起を形成したことを特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明に係るガス遮断器の第１実施形態において遮断器投入状態を示す部分縦断面図である。
【図２】図１において遮断過程前半を示す部分縦断面図である。
【図３】図１において遮断過程後半を示す部分縦断面図である。
【図４】図１において遮断動作完了時の状態を示す部分縦断面図である。
【図５】本発明に係るガス遮断器の第２実施形態の遮断状態を示す部分縦断面図である。
【図６】本発明に係るガス遮断器の第３実施形態の遮断状態を示す部分縦断面図である。
【図７】第３実施形態の微小突起を示す拡大斜視図である。
【図８】本発明に係るガス遮断器の第４実施形態の遮断状態を示す部分縦断面図である。
【図９】従来のガス遮断器において遮断器投入状態を示す部分縦断面図である。
【図１０】図９のガス遮断器において遮断過程を示す部分縦断面図である。
【図１１】従来の他のガス遮断器において遮断過程を示す部分縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下に、本発明に係るガス遮断器の各実施形態について、図面を参照して説明する。
【００２２】
（第１実施形態）
（構  成）
図１は本発明に係るガス遮断器の第１実施形態において遮断器投入状態を示す部分縦断面図である。図２は図１において遮断過程前半を示す部分縦断面図である。図３は図１において遮断過程後半を示す部分縦断面図である。なお、従来のガス遮断器の構成と同一または対応する部分には、図９〜図１１と同一の符号を用いて説明する。
【００２３】
本実施形態では、消弧性ガスが充填された図示しないタンク内に、図１に示すように固定部１ａ側において固定アーク接触子１および固定通電接触子３が同軸状に固定されている。この固定通電接触子３は、固定支え８により支持されている。
【００２４】
一方、可動部１ｂにおける可動アーク接触子２は、固定アーク接触子１に接離自在に対向して配置されるとともに、中空の操作ロッド６が取り付けられている。この操作ロッド６には、操作ロッド６を包囲するようにパッファシリンダ５が同軸状に固定されている。
【００２５】
パッファシリンダ５における固定アーク接触子１側の先端面には、ガス流路を保持しつつ可動アーク接触子２を包囲する絶縁ノズル７と、固定通電接触子３に対して接離自在な可動通電接触子４とが固定されている。
【００２６】
パッファシリンダ５と操作ロッド６との間には、図示しない固定部分に固定されたパッファピストン１３が挿入されている。すなわち、パッファピストン１３のピストンがパッファシリンダ５と操作ロッド６との間に摺動自在に配置されている。パッファシリンダ５および操作ロッド６は、図示しない絶縁ロッドを介して操作機構と接続されている。これらパッファシリンダ５、操作ロッド６およびパッファピストン１３からパッファ室（圧縮室）１１が形成されている。
【００２７】
固定支え８の内周面は、軸方向に沿って順に斜面部２０、小径部９および凹溝部１０が一体に形成されている。斜面部２０は、図示しない操作機構側、すなわち固定支え８の軸方向先端側（図１において右側）に向けて次第に狭くなるように傾斜して形成されている。小径部９は、固定支え８の軸方向先端側に斜面部２０と連続して直線空洞状に形成され、固定アーク接触子１と同軸状であって、固定支え８の軸方向後端側より小径となるように形成されている。凹溝部１０は、固定支え８における軸方向先端部近傍（図１において右側端部近傍）に形成され、かつ小径部９よりも内径が大きく形成されている。
【００２８】
小径部９は、絶縁ノズル７の先端部に対して一定の間隔を保持している。具体的には、図１では、例えば絶縁ノズル７の先端部には、外周方向に張り出す鍔部１２が一体に形成され、この鍔部１２のみが固定支え８の小径部９と狭い一定の間隔を保持する構造をなしている。ここで、鍔部１２と小径部９とは、機械的に摺動しても構わないが、機械的に大きな摩擦が発生しない程度の余裕のある公差が設けられている必要がある。
【００２９】
凹溝部１０は、図４に示すように固定支え８の内周面において遮断動作完了時に鍔部１２と対向する部分に形成されている。また、凹溝部１０は、鍔部１２の肉厚より幅広に形成されている。したがって、固定支え８の内周面に凹溝部１０を形成したことにより、鍔部１２との間隔が拡がっている。なお、凹溝部１０の底面と鍔部１２外周面との間の間隔は、直流電圧が印加された際にも充分に絶縁が保持されるように設定されている。
【００３０】
また、固定支え８の内周面は、先端方向に向けて順に斜面部２０、小径部９を形成したことにより、遮断動作途中から絶縁ノズル７に対して狭い間隔になるようにしている。
【００３１】
（作  用）
投入状態から開極動作を始めると、可動部１ａは図示しない操作機構側、すなわち図１において右方向に移動する。すると、固定アーク接触子１と可動アーク接触子２との間においてアークが点弧する。このアークは高温であるため、アークから高温のガスが発生するとともに、加熱された周囲の消弧性ガスも高温となる。
【００３２】
さらに、開極動作が進むと、図２および図３に示すように徐々にパッファ室１１の容積が小さくなり、パッファ室１１内のガスが圧縮され、圧縮されたガスは、排出口５ａから可動アーク接触子２と絶縁ノズル７とで形成されるガス流路を通じてアークが点弧している空間に吹き付けられる。アークに吹き付けられたガスは、アークを冷却しながらアークによって高温に過熱されて高温ガスとなる。
【００３３】
そして、図示しない操作機構側、すなわち図４で右方向に流れるガスは、可動アーク接触子２および操作ロッド６の中空部内を通った後、操作ロッド６用の連通孔６ａを通じて図示しないタンク空間へ流れ出す。また、反操作機構側、すなわち図４で左方向に流れるガスは、固定支え８内を流れて図示しないタンク空間へと流れ出す。このとき、左方向に流れるガスは、小径部９を経て斜面部２０に沿って徐々に拡がるように流れるため、ガスを円滑に流出させることが可能となる。そして、電流零点に向けてアークが小さくなり電流遮断が完了する。
【００３４】
ところで、本実施形態では、遮断動作とともに絶縁ノズル７から流出する高温の熱ガスは、絶縁ノズル７の鍔部１２と固定支え８の小径部９との隙間が狭いため、遮断動作途中では、固定通電接触子３と可動通電接触子４との間の空間にほとんど流れ込まない。遮断動作完了時には、絶縁ノズル７の鍔部１２が固定支え８の凹溝部１０に達すると、上記熱ガスの一部が流れ込むこととなるものの、この熱ガスは、ごく短期間でしかも鍔部１２と凹溝部１０との間の隙間も過大ではないため、流れ込む熱ガスの総量を少量に抑えることができる。
【００３５】
また、本実施形態では、鍔部１２の外周面と凹溝部１０の底面とは、一定間隔が確保されているため、直流電圧が長時間印加されて絶縁ノズル７が帯電していても、絶縁ノズル７の鍔部１２と凹溝部１０との間の電界は低減されており、絶縁破壊が発生するのを未然に回避することができる。
【００３６】
（効  果）
このように本実施形態によれば、固定支え８の内周面に小径部９が形成され、絶縁ノズル７の先端部と一定の間隔を保ち、絶縁ノズル７の先端部に外径が小径部９と狭い一定の間隔を保持する鍔部１２が形成され、固定支え８の内周面において遮断動作完了時に鍔部１２と対向する部分に小径部９よりも内径が大きい凹溝部１０を形成したことにより、電流遮断直後に固定通電接触子３と可動通電接触子４との間で絶縁破壊が発生することなく、かつ直流電圧が長時間印加されていても、絶縁破壊が起こらない高性能なガス遮断器を実現することができる。
【００３７】
したがって、本実施形態によれば、固定支え８に対して絶縁ノズル７を摺動させることなく、熱ガスの流入を最小限に抑え、かつ直流電圧による絶縁破壊も未然に防止することが可能となる。
【００３８】
（第２実施形態）
図５は本発明に係るガス遮断器の第２実施形態の遮断状態を示す部分縦断面図である。なお、図５では、前記第１実施形態と同一の部分に同一の符号を付して説明を省略し、異なる構成のみを説明する。その他の実施形態も同様とする。
【００３９】
図５に示すように、本実施形態では、遮断動作完了時に絶縁ノズル７の鍔部１２が対向する固定支え８の内面部分から図示しない操作機構側全て、すなわち固定支え８の軸方向における先端部（図５において右方向端部）まで切欠溝１０ａが形成されている。したがって、この切欠溝１０ａは、前記第１実施形態の凹溝部１０と比べて幅広に形成されている。
【００４０】
このように本実施形態によれば、遮断動作完了時に絶縁ノズル７の鍔部１２が対向する固定支え８の内面部分から固定支え８の軸方向における先端部まで切欠溝１０ａを形成したことにより、前記第１実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００４１】
（第３実施形態）
（構  成）
図６は本発明に係るガス遮断器の第３実施形態の遮断状態を示す部分縦断面図である。図７は第３実施形態の微小突起を示す拡大斜視図である。
【００４２】
図６に示すように、本実施形態では、前記第１実施形態とは異なり、絶縁ノズル７と対向する固定支え８の内周面に凹溝部１０を形成せずに、固定支え８の小径部９と絶縁ノズル７の鍔部１２とは狭い間隔を保持している。
【００４３】
また、絶縁ノズル７の鍔部１２の固定支え８の小径部９と対向する面、すなわち鍔部１２の外周面には、周方向に沿って一定間隔をおいて先端を丸めた略円錐状の微小突起１４が形成されている。具体的には、図７に示すように鍔部１２の外周面に略円錐状の微小突起１４が例えば４５度おきに少なくとも１つ配置されている。なお、微小突起１４は、上記のように円錐形の他、円柱形、半球形、あるいは鍔部１２の全周に亘って線状に設けられる形状も考えられる。なお、微小突起１４は、鍔部１２の全周に亘って線状に形成する以外に、全周の１／３（１２０度）以上に亘って分割して形成するようにしてもよい。
【００４４】
ここで、鍔部１２と小径部９とは、完全遮断状態以外では機械的に摺動しても構わないが、機械的に大きな摩擦が発生しない程度の余裕のある公差が設けられている必要がある。
【００４５】
（作用および効果）
本実施形態では、固定支え８の小径部９と絶縁ノズル７の鍔部１２との間を狭い間隔を保持し、絶縁ノズル７の鍔部１２における小径部９と対向する面に微小突起１４を形成したことにより、熱ガスの流入が防止され、固定通電接触子３と可動通電接触子４との間の絶縁破壊を未然に防止することができる。
【００４６】
また、本実施形態では、絶縁ノズル７の鍔部１２の小径部９と対向する面に微小突起１４を形成したことにより、絶縁ノズル７の帯電時に微小突起１４の先端部で電界が高くなって部分放電が起こり、電荷がそれ以上帯電しないため、固定支え８の小径部９と絶縁ノズル７の鍔部１２との間の電界が緩和され、直流電圧が長時間印加されていても絶縁破壊を未然に防止することができる。このように本実施形態によれば、前記第１実施形態と同様な効果を得ることができる。
【００４７】
（第４実施形態）
図８は本発明に係るガス遮断器の第４実施形態の遮断状態を示す部分縦断面図である。
【００４８】
本実施形態では、前記第１実施形態とは異なり、絶縁ノズル７と対向する固定支え８の内周面に凹溝部１０を形成せずに、固定支え８の小径部９と絶縁ノズル７の鍔部１２とは狭い間隔を保持している。
【００４９】
また、本実施形態では、前記第３実施形態と異なり、固定支え８の小径部９における絶縁ノズル７の鍔部１２と対向する面、すなわち小径部９の内周面には、周方向に沿って一定間隔をおいて、例えば４５度おきに略円錐状の微小突起１５が少なくとも１つ以上形成されている。なお、微小突起１５は、前記第３実施形態と同様に略円錐形の他、円柱形、半球形、あるいは小径部９の内周面の全周に亘って少なくとも１本線状に設けられる形状も考えられる。なお、微小突起１５は、小径部９の内周面の全周に亘って線状に形成する以外に、全周の１／３（１２０度）以上に亘って分割して形成するようにしてもよい。
【００５０】
ここで、鍔部１２と小径部９とは、完全遮断状態以外では機械的に摺動しても構わないが、機械的に大きな摩擦が発生しない程度の余裕のある公差が設けられている必要がある。このように本実施形態によれば、前記第３実施形態と同様な作用および効果を得ることができる。
【００５１】
なお、本発明は上記各実施形態に限定されることなく、種々の変更が可能である。上記第３および第４実施形態は、微小突起１４，１５を円錐形の他、円柱形、半球形、あるいは線状に設けられる形状としたが、これ以外に例えば円錐台形、角推形、角推台形などの形状に形成するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００５２】
１…固定アーク接触子
１ａ…固定部
１ｂ…可動部
２…可動アーク接触子
３…固定通電接触子
４…可動通電接触子
５…パッファシリンダ
６…操作ロッド
７…絶縁ノズル
８…固定支え
９…小径部
１０…凹溝部
１０ａ…切欠溝
１１…パッファ室
１２…鍔部
１３…パッファピストン
１４…微小突起
１５…微小突起
２０…斜面部
【図１】
0005422472.tif 000002
【図２】
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【図３】
0005422472.tif 000004
【図４】
0005422472.tif 000005
【図５】
0005422472.tif 000006
【図６】
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【図７】
0005422472.tif 000008
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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