(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ１）エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールモノヘキシルエーテル、トリプロピレングリコールモノヘキシルエーテル、テトラプロピレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジブチルエーテル、トリプロピレングリコールジブチルエーテルおよびテトラプロピレングリコールジブチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも１種であるグリコールエーテル類３０〜４９重量％、（ａ２）プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルおよびジプロピレングリコールモノブチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも１種であるグリコールエーテル類３〜３０重量％および（ａ３）エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノエチルエーテル、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテルおよびテトラエチレングリコールジメチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも１種であるグリコールエーテル類２１〜６０重量％からなるグリコールエーテル類（Ａ）、一般式（１）：
【化１】
0005556658.tif 000012
（式中、Ｒ1は炭素数１〜７のアルキル基を、Ｙは炭素数１〜７のアルキル基または水素原子を、ａは１〜１５の整数、ｂは０〜１５の整数を表す。）で表わされるポリオキシアルキレンアミン類（Ｂ）ならびに（ｃ１）脂肪族ヒドロキシカルボン酸系キレート剤および（ｃ２）（ポリ）リン酸系キレート剤からなる群から選ばれる少なくとも１種であるキレート剤（Ｃ）を含有する鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物。
【請求項２】
ポリオキシアルキレンアミン類（Ｂ）が、Ｎ−アルキルジアルカノールアミン類である請求項１に記載の鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物。
【請求項３】
Ｎ−アルキルジアルカノールアミン類が、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、Ｎ−プロピルジエタノールアミン、Ｎ−ブチルジエタノールアミン、およびＮ−ｔ−ブチルジエタノールアミンからなる群より選ばれる少なくとも１種である請求項２記載の鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物。
【請求項４】
（ｃ１）脂肪族ヒドロキシカルボン酸系キレート剤が、クエン酸、イソクエン酸およびリンゴ酸からなる群より選ばれる少なくとも１種である請求項１〜３のいずれかに記載の鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物。
【請求項５】
（ｃ２）（ポリ）リン酸系キレート剤が、オルトリン酸、ピロリン酸およびトリリン酸からなる群より選ばれる少なくとも１種である請求項１〜３のいずれかに記載の鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物。
【請求項６】
（ａ１）成分３０〜４９重量部、（ａ２）成分３〜２０重量部、（ａ３）成分３１〜６０重量部、（Ｂ）成分０．０１〜３０重量部、（Ｃ）成分０．０１〜１０重量部および水１〜１０重量部を含有する請求項１〜５のいずれかに記載の鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物を、鉛フリーはんだフラックスが付着した被洗浄物に接触させた後、当該被洗浄物をすすぎ液に接触させ、生じた廃すすぎ液を油層と水層とに分離し、得られた水層を回収及び再使用することを特徴とする鉛フリーはんだフラックス除去システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、鉛フリーはんだフラックス除去用洗浄剤組成物および鉛フリーはんだフラックス除去システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント配線板に電子部品を表面実装する際には一般にはんだ付が行われるが、はんだ付により腐食性のフラックス残渣が生じ、これがプリント配線基板の品質を低下させるので、当該残渣は洗浄除去する必要がある。【０００３】
従来、各種の電子部品や合金製部品単体を洗浄する際は、トリクロロエチレン、パークロロエチレン、塩化メチレン等の塩素系溶剤を主成分とする塩素系洗浄剤が用いられていた。これら塩素系溶剤は、不燃性で乾燥性にも優れるという利点があるが、オゾン層破壊や土壌汚染などの環境問題、人体に対する毒性などの理由から、現在ではその使用が制限されている。また、電子部品等の洗浄において、近年、特に重視される塩素イオン、硫酸イオンなどのイオン性残渣に対しては、塩素系溶剤による洗浄効果がほとんど認められないという問題点があった。【０００４】
また近年、鉛の有害性が認識されるようになると、世界各国で鉛を含むはんだの使用が制限されるようになり、鉛を含有しない鉛フリーはんだが積極的に使用されるようになってきた。鉛フリーはんだは、一部の合金系を除いて、従来の錫、鉛共晶はんだに比べてはんだ付け温度が３０℃以上高くなること、また共晶はんだに比べてはんだ濡れ性が劣るために、従来よりも強い活性剤が多く使用されている。このことから、鉛フリーはんだに使用されるフラックスは、従来の錫、鉛共晶はんだに比較して、はんだ付け工程時に反応生成物を生成しやすいという問題があった。【０００５】
当該反応生成物は、鉛フリーはんだで使用されているフラックスに含まれる活性剤と錫との塩、あるいは樹脂酸と錫との塩などの錫塩化合物である。これら錫塩化合物は、２価又は４価の錫の塩であるため、洗浄剤に対する溶解性が非常に乏しい。それゆえ、鉛フリーはんだを、従来の非ハロゲン系洗浄剤組成物、又は極性若しくは非極性の有機溶剤を用いて洗浄を行った場合、当該錫塩化合物に対する洗浄力不足のために、被洗浄物表面に当該錫塩に由来するフラックス残渣が残ったり、当該錫塩に由来する汚染物質が再付着するという問題が生じていた。【０００６】
なお、被洗浄物が例えば実装基板のように枚葉状の物品である場合には、洗浄工程及び水すすぎ工程の効率の観点より、一般的には洗浄剤及びすすぎ液（通常は水）はいずれもスプレー態様で用いられることが多い。例えば、スプレー態様で用いる洗浄剤として、界面活性剤を含有する洗浄剤を使用する方法が提案されている（特許文献１及び２）。しかし、特許文献１又は２の洗浄剤で洗浄した後に水を吹き付けると、被洗浄物の表面で多量の泡が生じてしまい、水すすぎ工程の管理が煩雑になるという問題があった。この問題を解決するため、例えば消泡剤を使用することも考えられるが、消泡剤のために洗浄不良が生じることがあった。【０００７】
加えて、昨今の環境負荷低減の観点から、洗浄システムには廃液処理量を低減できるものが望まれている。しかし、準水系のフラックス洗浄システムのすすぎ工程で用いられる溜めすすぎ方式においては、洗浄工程から持ち込まれる洗浄液及びフラックスを、プレリンス槽内のプレリンス水の中に蓄積していき、その濃度が被洗浄物の表面品質及び仕上げリンス水の水質へ影響を及ぼす濃度に達すると、その全量を廃棄することが行われている。この段階で発生するプレリンス廃液水の量は、通常スプレー態様での洗浄及び水すすぎ工程における洗浄剤の消費量及び廃棄量よりもむしろ多いことから、大きな環境負荷を与えていた。また、プレリンス水についても、プレリンス廃液水としてすべて廃棄処理されるため、新たに水を補給する必要があった。そのため、プレリンス水から容易に分離できる洗浄剤組成物を用いることができれば、当該洗浄剤組成物のみを除去することによりプレリンス水を再利用できるため、プレリンス水の交換回数を低減でき、環境負荷を低減することができると考えられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平４−５７８９９号公報
【特許文献２】特開平８−７３８９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、鉛フリーはんだフラックスを用いて得られた被洗浄物を洗浄した場合でも、十分な洗浄力を有し、かつ、プレリンス水から容易に分離できる洗浄剤組成物、および廃水発生量を低減可能なプレリンス方法を用いる鉛フリーはんだフラックス除去システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定組成の洗浄剤組成物を用いて洗浄を行うことにより、前記課題を解決できることを見出した。本発明はかかる知見に基づき完成されたものである。【００１１】
すなわち、本発明は、下記の鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物および鉛フリーはんだフラックス除去システムに係る。
１．  （ａ１）２０℃における水に対する溶解度が２％未満であり、比重が０．９８以下であるグリコールエーテル類３０〜４９重量％、（ａ２）２０℃における水に対する溶解度が２〜１０％であり、比重が０．９８以下であるグリコールエーテル類３〜３０重量％および（ａ３）２０℃で水に可溶で、比重が０．９８以下であるグリコールエーテル類２１〜６０重量％からなるグリコールエーテル類（Ａ）、一般式（１）：【００１２】
【化１】
0005556658.tif 000002
【００１３】
（式中、Ｒ1は炭素数１〜７のアルキル基を、Ｙは炭素数１〜７のアルキル基または水素原子を、ａは１〜１５の整数、ｂは０〜１５の整数を表す。）で表わされるポリオキシアルキレンアミン類（Ｂ）ならびに（ｃ１）脂肪族ヒドロキシカルボン酸系キレート剤および（ｃ２）（ポリ）リン酸系キレート剤からなる群から選ばれる少なくとも１種であるキレート剤（Ｃ）を含有する鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物。
２．  （ａ１）成分が、一般式（２）：【００１４】
【化２】
0005556658.tif 000003
【００１５】
（式中、Ｒ2は炭素数１〜１０のアルキル基を、Ｒ3はメチル基または水素原子を、Ｒ4は炭素数１〜１０のアルキル基または水素原子を、ｃは１〜４の整数を表す。）で表わされるグリコールエーテル類、（ａ２）成分が、一般式（３）：【００１６】
【化３】
0005556658.tif 000004
【００１７】
（式中、Ｒ5は炭素数１〜５のアルキル基を、Ｒ6はメチル基または水素原子を、Ｒ7は炭素数１〜５のアルキル基または水素原子を、ｄは１〜４の整数を表す。）で表わされるグリコールエーテル類および（ａ３）成分が、一般式（４）：【００１８】
【化４】
0005556658.tif 000005
【００１９】
（式中、Ｒ8は炭素数１〜５のアルキル基を、Ｒ9はメチル基または水素原子を、Ｒ10は炭素数１〜５のアルキル基または水素原子を、ｅは１〜４の整数を表す。）で表わされるグリコールエーテル類である上記項１記載の鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物。
３．  ポリオキシアルキレンアミン類（Ｂ）が、Ｎ−アルキルジアルカノールアミン類である上記項１または２に記載の鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物。
４．  Ｎ−アルキルジアルカノールアミン類が、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、Ｎ−プロピルジエタノールアミン、Ｎ−ブチルジエタノールアミン、およびＮ−ｔ−ブチルジエタノールアミンからなる群より選ばれる少なくとも１種である上記項３記載の鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物。
５．  （ｃ１）脂肪族ヒドロキシカルボン酸系キレート剤が、クエン酸、イソクエン酸およびリンゴ酸からなる群より選ばれる少なくとも１種である上記項１〜４のいずれかに記載の鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物。
６．  （ｃ２）（ポリ）リン酸系キレート剤が、オルトリン酸、ピロリン酸およびトリリン酸からなる群より選ばれる少なくとも１種である上記項１〜４のいずれかに記載の鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物。
７．  （ａ１）成分３０〜４９重量部、（ａ２）成分３〜２０重量部、（ａ３）成分３１〜６０重量部、（Ｂ）成分０．０１〜３０重量部、（Ｃ）成分０．０１〜１０重量部および水０〜１０重量部を含有する上記項１〜６のいずれかに記載の鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物。
８．  上記項１〜７のいずれかに記載の鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物を、鉛フリーはんだフラックスが付着した被洗浄物に接触させた後、当該被洗浄物をすすぎ液に接触させ、生じた廃すすぎ液を油層と水層とに分離し、得られた水層を回収及び再使用することを特徴とする鉛フリーはんだフラックス除去システム。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の洗浄剤組成物を用いれば、鉛フリーはんだフラックスを洗浄した際に、反応生成物である錫塩化合物由来の残渣を残すことなく、良好にフラックスを除去することができる。【００２１】
更に、プレリンス工程にて生じた廃すすぎ液を容易に油層と水層とに分離できるため、得られた水層を再使用することで廃液発生量が低減でき、環境負荷の観点でも、また廃液処理コストの観点においても有意義である。【００２２】
また、本発明に係る洗浄剤は、界面活性剤を含有しないため、スプレー態様による水すすぎ工程における泡の発生が少なく、水すすぎ工程の管理が容易になる等の利点がある。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明に係る洗浄剤の洗浄対象である「鉛フリーはんだフラックス」とは、具体的には、鉛フリーはんだに由来する錫を含むフラックス残渣を意味し、例えば、（ｉ）粉状の鉛フリーはんだとフラックス組成物とからなるペーストではんだ付した後に生ずるフラックス残渣や、（ii）鉛フリーはんだで形成された電極を、フラックス組成物を介してはんだ付けした後に生ずるフラックス残渣等を含むものである。
【００２４】
なお、「鉛フリーはんだ」としては、例えば、Ｓｎ−Ａｇ系はんだ、Ｓｎ−Ｃｕ系はんだ、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系はんだ、Ｓｎ−Ｚｎ系はんだ、Ｓｎ−Ｓｂ系はんだ等が挙げられる。
【００２５】
また、「フラックス組成物」としては、具体的には、例えば、樹脂酸類（天然ロジン、重合ロジン、α，β不飽和カルボン酸変性ロジン等）や合成樹脂類（アクリル樹脂、ポリアミド樹脂等）などのベース樹脂、活性剤（アジピン酸等の有機酸、ジエチルアミン臭化水素銀等のハロゲン系化合物等）、チキソトロピック剤（硬化ひまし油、ヒドロキシステアリン酸エチレンビスアミド等）、溶剤（ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等）を主成分とする組成物が挙げられる。
【００２６】
本発明の洗浄剤は、（ａ１）２０℃における水に対する溶解度が２％未満であり、比重が０．９８以下であるグリコールエーテル類（以下、「（ａ１）成分」という）３０〜４９重量％、（ａ２）２０℃における水に対する溶解度が２〜１０％であり、比重が０．９８以下であるグリコールエーテル類（以下、「（ａ２）成分」という）３〜３０重量％（好ましくは３〜２０重量％）および（ａ３）２０℃で水に可溶で、比重が０．９８以下であるグリコールエーテル類（以下、「（ａ３）成分」という）２１〜６０重量％（好ましくは３１〜６０重量％）からなるグリコールエーテル類（Ａ）（以下、「（Ａ）成分」という）、一般式（１）：
【００２７】
【化５】
0005556658.tif 000006
【００２８】
（式中、Ｒ1は炭素数１〜７のアルキル基を、Ｙは炭素数１〜７のアルキル基または水素原子を、ａは１〜１５の整数、ｂは０〜１５の整数を表す。）で表わされるポリオキシアルキレンアミン類（Ｂ）（以下、「（Ｂ）成分」という）ならびに（ｃ１）脂肪族ヒドロキシカルボン酸系キレート剤（以下、「（ｃ１）成分」という）および（ｃ２）（ポリ）リン酸系キレート剤（以下、「（ｃ２）成分」という）からなる群から選ばれる少なくとも１種であるキレート剤（Ｃ）（以下、「（Ｃ）成分」という）を含有する点に特徴がある。
【００２９】
（ａ１）成分としては、２０℃における水に対する溶解度が２％未満程度（好ましくは、０．５％以上２％未満）、比重が０．９８以下程度（好ましくは、０．９６以下）を満たすグリコールエーテル類であれば特に限定されず、公知のものを使用することができる。なお、２０℃における水に対する溶解度とは、２０℃で、水１００ｇに溶解することができる溶質の量（ｇ）の割合のことである。これらの例としては、例えば、一般式（２）：
【００３０】
【化６】
0005556658.tif 000007
【００３１】
（式中、Ｒ2は炭素数１〜１０のアルキル基を、Ｒ3はメチル基または水素原子を、Ｒ4は炭素数１〜１０のアルキル基または水素原子を、ｃは１〜４の整数を表す。）で表わされる化合物などが挙げられる。
【００３２】
一般式（２）で表わされる化合物として、好ましくは、一般式（２）中、Ｒ2が炭素数４〜８のアルキル基であり、Ｒ3がメチル基または水素原子であり、Ｒ4が炭素数４のアルキル基または水素原子であり、ｃは１〜４の整数である化合物である。
【００３３】
一般式（２）で表わされる化合物としては、具体的には、例えば、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールモノヘキシルエーテル、トリプロピレングリコールモノヘキシルエーテル、テトラプロピレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジブチルエーテル、トリプロピレングリコールジブチルエーテル、テトラプロピレングリコールジブチルエーテル等のグリコールエーテル類等が挙げられ、これらは１種を単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３４】
また、（ａ２）成分としては、２０℃における水に対する溶解度が２〜１０％程度、比重が０．９８以下程度（好ましくは、０．９５以下程度）を満たすグリコールエーテル類であれば特に限定されず、公知のものを使用することができる。これらの例としては、例えば、一般式（３）：
【００３５】
【化７】
0005556658.tif 000008
【００３６】
（式中、Ｒ5は炭素数１〜５のアルキル基を、Ｒ6はメチル基または水素原子を、Ｒ7は炭素数１〜５のアルキル基または水素原子を、ｄは１〜４の整数を表す。）で表わされる化合物が挙げられる。
【００３７】
一般式（３）で表わされる化合物として、好ましくは、一般式（３）中、Ｒ5が炭素数３〜４のアルキル基であり、Ｒ6がメチル基であり、Ｒ7が水素原子であり、ｄは１〜２の整数である化合物である。
【００３８】
一般式（３）で表わされる化合物としては、具体的には、例えば、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のグリコールエーテル類が挙げられ、これらは１種を単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３９】
また、（ａ３）成分としては、水に可溶で、比重が０．９８以下程度であるグリコールエーテル類であれば特に限定されず、公知のものを使用することができる。これらの例としては、例えば、一般式（４）：
【００４０】
【化８】
0005556658.tif 000009
【００４１】
（式中、Ｒ8は炭素数１〜５のアルキル基を、Ｒ9はメチル基または水素原子を、Ｒ10は炭素数１〜５のアルキル基または水素原子を、ｅは１〜４の整数を表す。）で表わされる化合物が挙げられる。
【００４２】
一般式（４）で表わされる化合物として、好ましくは、一般式（４）中、Ｒ8が炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ9がメチル基または水素原子であり、Ｒ10が炭素数１〜２のアルキル基または水素原子であり、ｅは１〜４の整数である化合物である。
【００４３】
一般式（４）で表わされる化合物としては、具体的には、例えば、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノエチルエーテル、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル類が挙げられ、これらは１種を単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４４】
前記（Ｂ）成分は、前述の一般式（１）で表わされる化合物であれば特に限定されず公知のものを使用することができる。
【００４５】
（Ｂ）成分としては、具体的には、例えば、Ｎ−アルキルジアルカノールアミン類、Ｎ−アルキルモノアルカノールアミン類などが挙げられる。Ｎ−アルキルジアルカノールアミン類としては、例えば、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、Ｎ−プロピルジエタノールアミン、Ｎ−ブチルジエタノールアミン、Ｎ−ｔ−ブチルジエタノールアミン等が挙げられる。Ｎ−アルキルモノアルカノールアミン類としては、例えば、Ｎ−メチルエタノールアミン、Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−プロピルエタノールアミン、Ｎ−ブチルエタノールアミン、Ｎ−ｔ−ブチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエタノールアミン等が挙げられる。これらは１種を単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、安全性や、特に防汚染性および低発泡性の観点より、前記Ｎ−アルキルジアルカノールアミン類が、特にＮ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、Ｎ−プロピルジエタノールアミン、Ｎ−ブチルジエタノールアミン、およびＮ−ｔ−ブチルジエタノールアミンからなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。
【００４６】
（Ｃ）成分としては、分子内にアミノ基を有しないキレート剤であって、（ｃ１）成分および（ｃ２）成分からなる群から選ばれる少なくとも１種であれば、特に限定されず、公知のものを用いることができる。（ｃ１）成分又は（ｃ２）成分を用いることにより、隙間洗浄性や特に防汚染性を向上させることができる。
【００４７】
（ｃ１）成分は、少なくとも１つ以上のカルボキシル基および少なくとも１つ以上の水酸基を有する化合物であり、好ましいものとして、炭素数が２〜５程度の直線状アルキル基を基本骨格とし、これにカルボキシル基が２〜３個程度、および水酸基が１〜３個程度結合したヒドロキシカルボン酸類が挙げられる。具体的には、例えば、クエン酸、イソクエン酸、リンゴ酸、酒石酸、及びこれらの塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、アルカノールアミン塩等をいう。以下、同様。）等を例示できる。これらの中でも、隙間洗浄性や特に防汚染性の観点より、クエン酸、イソクエン酸、及びリンゴ酸からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましく、とりわけクエン酸が好ましい。
【００４８】
（ｃ２）成分としては、隙間洗浄性や特に防汚染性の観点より、オルトリン酸、ピロリン酸およびトリリン酸からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましく、特にピロリン酸が好ましい。
【００４９】
なお、（Ｃ）成分の代わりに分子内にアミノ基を有するキレート剤を用いると、水すすぎ工程時に被洗浄物の再汚染が生じ易くなる。
【００５０】
本発明の洗浄剤組成物に用いられる水としては、特に限定されないが、例えば純水、イオン交換水、精製水等が挙げられる。
【００５１】
本発明の洗浄剤には、本発明の所期の効果を損なわない程度において、各種公知の添加剤、例えば消泡剤、防錆剤、酸化防止剤等を用いることができる。
【００５２】
本発明の洗浄剤組成物に用いられる各成分の使用量は特に限定されないが、本発明の所期の効果を考慮して、通常は、（ａ１）成分３０〜４９重量部、（ａ２）成分３〜２０重量部、（ａ３）成分３１〜６０重量部、（Ｂ）成分０．０１〜３０重量部（好ましくは０．１〜１０重量部）、（Ｃ）成分０．０１〜１０重量部程度（好ましくは０．０２〜１重量部）、水０〜１０重量部程度（好ましくは１〜８重量部）である。また、前記添加剤の含有量は、通常５重量部程度である。なお、当該洗浄剤組成物のｐＨは、特に限定されないが、通常２〜１０程度である。
【００５３】
本発明の鉛フリーはんだフラックス除去システムは、本発明の鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物を、鉛フリーはんだフラックスが付着した被洗浄物に接触させた後、当該被洗浄物をすすぎ液に接触させ、生じた廃すすぎ液を油層と水層とに分離し、得られた水層を回収及び再使用することを特徴とする。
【００５４】
本発明の洗浄剤組成物を鉛フリーはんだフラックスが付着した被洗浄物に接触させる方法としては、特に限定されず、各種公知の方法を採用できる。具体的には、例えば、スプレー装置を使用して当該洗浄剤組成物を鉛フリーはんだフラックスが付着した被洗浄物にスプレー吹き付けする方法、当該洗浄剤組成物に該被洗浄物を浸漬して超音波洗浄する方法、直通式洗浄装置（登録商標「ダイレクトパス」、荒川化学工業（株）製、特許第２６２１８００号等）を用いる方法等が挙げられる。
【００５５】
被洗浄物をすすぎ液に接触させる方法としては特に限定されず、公知の方法を採用できる。具体的には、例えば、上記の洗浄剤組成物を鉛フリーはんだフラックスが付着した被洗浄物に接触させる方法と同等の方法が挙げられる。
【００５６】
すすぎ工程により生じた廃すすぎ液を油層と水層とに分離する方法としては、公知の方法を採用できる。具体的には、例えば、廃すすぎ液を保温・静置できる槽内にて一定時間保持し、生じた油層を排出する方法や、油水分離装置と呼ばれる微小分散した油層成分の粗大化・凝集を加速させる特殊なフィルターを備えた装置をすすぎ槽に連結し、すすぎ槽内のすすぎ廃液を連続的にフィルター循環させることで油水分離装置内に油層を生じさせ逐次排出する方法などが挙げられる。本発明の鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物を含む廃すすぎ液は、４０〜８０℃に保温し上記の分離方法を用いることで水層と油層とに容易に分離し、洗浄剤組成物の大半は比重差により浮上し油層を形成する。また、フラックス残渣等の汚れ成分は油層に溶解しているため、水層は回収後、すすぎ工程に再使用することができる。
【実施例】
【００５７】
以下、実施例および比較例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。【００５８】
〔洗浄剤の調製〕
下記表１に示す各成分を混合し（重量％基準）、実施例および比較例用の洗浄剤を調製した。【００５９】
【表１】
0005556658.tif 000010
【００６０】
表１中、各記号は以下の通りである。
ＨｅＤＧ：ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル
ＨｅＧ：エチレングリコールモノヘキシルエーテル
ＤＢＤＧ：ジエチレングリコールジブチルエーテル
ＰＦＤＧ：ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル
ＢＦＤＧ：ジプロピレングリコールモノブチルエーテル
ＢＦＧ：プロピレングリコールモノブチルエーテル
ＢＤＧ：ジエチレングリコールモノブチルエーテル
ＭＦＤＧ：ジプロピレングリコールモノメチルエーテル
ＰＦＧ：：プロピレングリコールモノプロピルエーテル
ＭＢＤ：Ｎ−ブチルジエタノールアミン
ＭＥＭ：Ｎ−エチルエタノールアミン
ＣＡ：クエン酸
ＭＡ：リンゴ酸
ＰＡ：ピロリン酸
ＥＤＴＡ：エチレンジアミン四酢酸【００６１】
ただし、比較例８はＥＤＴＡが洗浄剤に溶解しなかったため、調製することができなかった。【００６２】
〔鉛フリーはんだフラックスの調製〕
市販の鉛フリーはんだペースト（製品名「ＴＡＳＬＦ−２１９Ｙ」、荒川化学工業（株）製；鉛フリーはんだ粉の組成は、９６．５％がＳｎ、３．０％がＡｇ、０．５％がＣｕである。）をガラス瓶に仕込み、２７０℃のホットプレート上で加熱し、鉛フリーはんだ粉を溶融させた。その後、結果物は、溶融合体して沈降したはんだ合金とフラックス成分とに分離した。当該フラックス成分は、鉛フリーはんだではんだ付した後に生ずるフラックス残渣のモデルであり、以下これを鉛フリーはんだフラックスとして用いた。【００６３】
〔試験１：フラックス溶解性の評価〕
前記モデルフラックス残渣を、６０℃に加温した前記実施例および比較例用の洗浄剤に、１重量％、２重量％、又は３重量％となるよう添加し、２０分間攪拌し試験液を調製した。その際の外観を以下の基準で目視評価した。
○：試験液は透明であった。
×：試験液は白濁していた。あるいは、不溶性の沈降物を生じた。【００６４】
〔試験２：油水分離効率の評価〕
前記洗浄剤（実施例および比較例）の初期液（フラックス濃度０％）、及びフラックス含有液（フラックス濃度１．０％）をそれぞれ調製し、イオン交換水にその濃度が１０重量％となるように添加した。それを攪拌分散させた後６０℃にて２０分間静置し、分離した水層（下層）を採取した。採取した水層の液（モデルすすぎ水）の２０℃での屈折率を計測し（装置名「アッベ屈折率計 ＮＡＲ−１Ｔ」、（株）アタゴ）、検量線を用いて洗浄剤濃度(ｘとする)に換算し、分離効率（ここで  分離効率＝（１０−ｘ）/１０×１００［％］  と定義する）を算出した。分離効率が高いほど、再使用される水層の洗浄剤濃度が低くなり、好ましい。
○：分離効率６０％以上
△：分離効率３０％を超え６０％未満
×：分離効率３０％以下【００６５】
〔試験３：発泡性の評価〕
前記実施例および比較例用の洗浄剤にイオン交換水を加えて、洗浄剤の含有量が３重量％となるまで希釈し、得られた希釈液をガラス製試験管（φ１５ｍｍ×１５０ｍｍ）に５ｍｌ入れ、密栓した。次いで、当該試験管を６０℃に加温した後、１０回激しく振とうし、１０秒間放置した後の泡立ちの高さ（ｍｍ）を測定した。【００６６】
泡立ちの高さは、その値が大きいほど、水すすぎ工程（スプレー態様）において泡が発生しやすいことを意味する。結果を表２に示す。【００６７】
【表２】
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