(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路の異なる領域内における非対称的なフレアの変動に対して、集積回路レイアウトを処理する方法であって、
前記方法は、
前記集積回路の層に形成される特徴を定義する集積回路レイアウトの少なくとも一部を受信することと、
前記集積回路レイアウトの複数の領域における第１の配向を有する特徴に対する第１のセットのフレア・インテンシティ値、および、前記集積回路レイアウトの前記複数の領域における第２の配向を有する特徴に対する第２のセットのフレア・インテンシティ値を評価することと、
前記特徴のうちの第１のセットの１つ以上の特徴を、前記第１のセットの評価されたフレア・インテンシティ値の範囲と関連付けることと、
前記特徴のうちの第２のセットの１つ以上の特徴を、前記第２のセットの評価されたフレア・インテンシティ値の範囲と関連付けることと、
前記第１のセットの関連付けられた特徴に関連付けられたフレア・インテンシティ値の範囲に対して選択または調整される解像度向上技術を用いて、前記集積回路レイアウトを処理することと
を包含する、方法。
【請求項２】
前記第２のセットの関連付けられた特徴に関連付けられたフレア・インテンシティ値の範囲に対して選択または調整される解像度向上技術を用いて、前記集積回路レイアウトを処理することをさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１の配向は、水平方向であり、前記第２の配向は、垂直方向である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記解像度向上技術を用いて処理することは、前記解像度向上技術を選択的に適用するために前記第１のセットの特徴の少なくとも１つのライン・エンドまたは最小の寸法の特徴をタグ付けすることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記解像度向上技術は、光学近接効果補正（ＯＰＣ）特徴を挿入することを含み、
前記集積回路レイアウトを処理することは、前記ＯＰＣ特徴に対応する領域に対する前記評価されたフレア・インテンシティ値に基づいて、前記ＯＰＣ特徴をバイアスすることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記解像度向上技術は、前記第１のセットの評価されたフレア・インテンシティ値に従って特定の範囲に対して定義されるエアリアル画像モジュールを調整することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記解像度向上技術は、前記第１のセットの評価されたフレア・インテンシティ値のうちの特定の１つ以上の値を有する前記関連付けられた特徴に対する特定のサイズまたは位置のサブ解像度特徴を挿入することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記フレア・インテンシティ値のそれぞれの範囲に対する前記第１のセットの関連付けられた特徴の各々は、関連するデータ層に割り当てられる、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記集積回路の層の領域における第１のセットのフレア・インテンシティ値は、
前記集積回路レイアウトの層のエリアを前記複数の領域に分割することと、
前記複数の領域の各々における特徴の明るさの値を評価することと、
各区画の明るさの値を点像分布関数を用いて畳み込むことにより、その領域における第１のセットのフレア・インテンシティ値を評価することと
によって評価される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記処理された集積回路レイアウトに対するデータをコンピュータ読み取り可能な格納媒体に格納することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記処理された集積回路レイアウトに基づいてマスクまたはレチクルを生成することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記処理された集積回路レイアウトに基づいて集積回路を生成することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
コンピュータ実行可能な命令を格納した１つ以上のコンピュータ読み取り可能な格納媒体であって、前記コンピュータ実行可能な命令は、コンピュータにより実行されると、請求項１〜４および６〜１２のいずれか一項に記載の方法を前記コンピュータに実行させる、コンピュータ読み取り可能な格納媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトリソグラフィ処理に対する解像度向上技術に関し、特に集積回路の層にわたるロングレンジ（ｌｏｎｇ  ｒａｎｇｅ）の変動を補償する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
集積回路上に形成される回路エレメントの個数がますます増加し、各エレメントのサイズが対応するように小さくなるにつれ、そのような回路をフォトリソグラフィ処理を介して形成する際の各ステップは、起こり得る処理のひずみの源を決定するために、解析されるようになっている。例えば、フォトリソグラフィ処理の間に発生すると予期される光学的なひずみを補償する光学近接効果補正（ＯＰＣ；ｏｐｔｉｃａｌ  ａｎｄ  ｐｒｏｃｅｓｓ  ｃｏｒｒｅｃｔｉｏｎ）のような１つ以上の解像度向上技術（ＲＥＴ；ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ  ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ  ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ）を回路設計に適用することは、一般的に行なわれている。軽減され得るが消去されないエラー源の１つは、フォトリソグラフィ印刷システム自身からのフレアのような、ロングレンジのインテンシティの変動である。印刷システムのレンズ上の欠陥または汚れを原因として、照明光の散乱により、フレアが引き起こされ得る。典型的に、集積回路のレイアウト上でのフレアの影響は、所与の領域に印刷される特徴の個数に反比例し得る。すなわち、集積回路のエリアに印刷される特徴がだんだんと密集していくのに伴い、フレアの影響は低減される。フレアを消去することができないにも関わらず、集積回路の表面にまたがるフレア・インテンシティ（ｆｌａｒｅ  ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ）の差異は、処理の変動を形成する。一般に、所与の領域におけるフレアの増加は、集積回路のその部位において、全体照明を増加させ得る。このことは、限界寸法（ｃｒｉｔｉｃａｌ  ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ）または半導体ウエハーの上に印刷され得る最小の特徴に対し、悪影響を与え得る。
【０００３】
フォトリソグラフィ印刷システムからフレアを消去することはできないものの、集積回路の各領域が同様に処理されるような、フレアの変動を補償するための機構を有していることが望ましい。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００４】
（発明の概要）
上記の問題およびその他を取り扱うために、本発明は、集積回路の層におけるフレアのようなロングレンジの変動を補償する方法を提供する。集積回路のレイアウト、またはその一部は、コンピュータシステムによって受信される。レイアウトまたはその一部は、隣接し合う複数のタイルのような、多数の領域に分割される。各領域におけるフレアの評価が決定され、決定されたフレア値は、多数の範囲に分割される。集積回路の領域に形成される特徴に適用される解像度向上技術は、該領域に発生するように評価されたフレアにしたがい、選択または調整される。
【０００５】
一実施形態において、フレア値は、各領域における特徴の明るさの値を決定することによって評価される。各領域における予期されるフレアを評価するために、明るさの値は、数学的関数に使用される。一実施形態において、数学的関数は、点像分布関数を用いた明るさの値の配列の畳み込みであり、これは、フォトリソグラフィ印刷システムにおけるフレアをモデル化する。
【０００６】
本発明の実施形態において、レイアウト記述における複数の追加的なデータ層は、複数のフレア値の各範囲に関連している。追加的なデータ層は、上記範囲に存在するフレア値を有している、集積回路の領域に形成される特徴に関連している。例えば、ＯＰＣのような解像度向上技術は、追加的なデータ層の各々に関連する特徴に対して、選択または調整され得る。
【０００７】
上記の局面および本発明に付随する多数の利点は、以下の詳細な記述を参照することによってさらに良く理解され得るのと同様に、添付の図面を参酌したときに、さらに容易に理解され得る。
【０００８】
例えば、本願発明は以下の項目を提供する。
（項目１）
集積回路の異なる領域内におけるフレア・インテンシティの変動に対して、該集積回路のレイアウトを補償する方法であって、
該集積回路の層に形成される特徴を定義する多数のデータ層を有する集積回路のレイアウトの少なくとも一部を受信することと、
該集積回路の多数の領域におけるフレア・インテンシティを評価することと、
多数の追加的なデータ層を形成することであって、その各々は、複数のフレア・インテンシティ値の異なる範囲と、１つ以上の追加的なデータ層を用いて該集積回路の層に形成される関連的特徴とに関連している、ことと、
該追加的なデータ層に関連する複数のフレア・インテンシティ値の範囲に対して選択または調整される解像度向上技術を用いることにより、複数の追加的なデータ層の各々に関連する複数の特徴を処理することと
を包含する、方法。
（項目２）
前記集積回路の層の領域における複数のフレア・インテンシティ値は、
該集積回路の層のエリアを多数の区画に分割することと、
各区画における特徴の明るさの値を評価することと、
各区画の明るさの値を点像分布関数を用いて畳み込むことにより、その区画におけるフレアを評価することと
によって評価される、項目１に記載の方法。
（項目３）
前記明るさの値は、各区画の特徴の濃度を決定することによって評価される、項目２に記載の方法。
（項目４）
前記明るさの値は、１−各区画の特徴の濃度の結果を計算することによって評価される、項目２に記載の方法。
（項目５）
前記区画は、前記集積回路の隣接タイル領域に存在する、項目２に記載の方法。
（項目６）
評価された複数のフレア・インテンシティ値を、計算された最小のインテンシティ値と計算された最高のインテンシティ値との間の多数の範囲に分割することであって、前記複数の追加的なデータ層の各々は、複数のフレア値の範囲に関連している、こと
をさらに包含する、項目１に記載の方法。
（項目７）
追加的なデータ層における各特徴に対して選択または調整される前記解像度向上技術は、該追加的なデータ層に関連する複数のフレア・インテンシティ値の範囲にしたがって選択されるバイアス値を適用することを包含する、項目１に記載の方法。
（項目８）
追加的なデータ層における各特徴に対して選択または調整される前記解像度向上技術は、該追加的なデータ層に関連する複数のフレア・インテンシティ値にしたがって選択される光学的モデルまたは処理モデルを適用することを包含する、項目１に記載の方法。
（項目９）
追加的なデータ層における各特徴に対して選択または調整される前記解像度向上技術は、計算された局所的なフレア・インテンシティ値に基づいて、局所的なエアリアル画像を調整することを包含する、項目１に記載の方法。
（項目１０）
集積回路の異なる領域内におけるフレア・インテンシティの変動に対して、該集積回路を補償する方法であって、
該集積回路の層に形成される特徴を定義する多数のデータ層を有する集積回路のレイアウトの少なくとも一部を受信することと、
該レイアウトの各領域における特徴の明るさの値を決定することによって、該集積回路の多数の領域におけるフレア・インテンシティを評価して、各領域に対して決定された該明るさの値を点像分布関数を用いて畳み込むことと、
該領域における該フレア・インテンシティにしたがって選択または調整される解像度向上技術を用いることにより、該集積回路のレイアウトの領域の複数の特徴を処理することと
を包含する、方法。
（項目１１）
多数の追加的なデータ層を形成することであって、その各々は、複数のフレア・インテンシティ値の異なる範囲と、１つ以上の追加的なデータ層を用いて該集積回路の層に形成される関連的特徴に関連している、ことと、
該追加的なデータ層に関連する複数のフレア・インテンシティ値の範囲に対して選択または調整される解像度向上技術を用いることにより、複数の追加的なデータ層の各々に関連する複数の特徴を処理することと
を包含する、項目１０に記載の方法。
（項目１２）
追加的なデータ層における各特徴に対して選択または調整される前記解像度向上技術は、該追加的なデータ層に関連する複数のフレア・インテンシティ値の範囲にしたがって選択されるバイアス値を適用することを包含する、項目１０に記載の方法。
（項目１３）
追加的なデータ層における各特徴に対して選択または調整される前記解像度向上技術は、該追加的なデータ層に関連する複数のフレア・インテンシティ値にしたがって選択される光学的モデルまたは処理モデルを適用することを包含する、項目１０に記載の方法。
（項目１４）
追加的なデータ層における各特徴に対して選択または調整される前記解像度向上技術は、計算された局所的なフレア・インテンシティ値に基づいて、局所的なエアリアル画像を調整することを包含する、項目１０に記載の方法。
（項目１５）
コンピュータシステムによって実行されたときに該コンピュータシステムに項目１の方法を実行させる複数の命令のセットを格納する、コンピュータ読み取り可能な媒体。
（項目１６）
コンピュータシステムによって実行されたときに該コンピュータシステムに項目１０の方法を実行させる複数の命令のセットを格納する、コンピュータ読み取り可能な媒体。
（項目１７）
集積回路の異なる領域内のフレア・インテンシティの変動に対して、該集積回路のレイアウトを補償する方法であって、
該集積回路の層に形成される特徴を定義する多数のデータ層を有する集積回路のレイアウトの少なくとも一部を、以下の方法：
該集積回路の多数の領域におけるフレア・インテンシティを評価すること；
多数の追加的なデータ層を形成することであって、その各々は、複数のフレア・インテンシティ値の異なる範囲と、１つ以上の追加的なデータ層を用いて該集積回路の層に形成される関連的特徴とに関連している、こと；および、
該追加的なデータ層に関連する複数のフレア・インテンシティ値の範囲に対して選択または調整される解像度向上技術を用いることにより、複数の追加的なデータ層の各々に関連する複数の特徴を処理すること
を包含する方法を実行する遠隔コンピュータシステムに伝送すること
を包含する、方法。
（項目１８）
集積回路の異なる領域内におけるフレア・インテンシティの変動に対して、該集積回路のレイアウトを補償する方法であって、
該集積回路の層に形成される特徴を定義する多数のデータ層を有する集積回路のレイアウトの少なくとも一部を、以下の方法：
該レイアウトの各領域における特徴の明るさの値を決定することによって、該集積回路の多数の領域におけるフレア・インテンシティを評価して、各領域に対して決定された濃度を点像分布関数を用いて畳み込むこと；および、
該領域における該フレア・インテンシティにしたがって選択または調整される解像度向上技術を用いることにより、該集積回路のレイアウトの領域の複数の特徴を処理すること
を包含する方法を実行する遠隔コンピュータシステムに伝送すること
を包含する、方法。
（項目１９）
集積回路の複数の異なる領域内における指定された属性のロングレンジの変動に対して、該集積回路のレイアウトを補償する方法であって、
該集積回路の層に形成される特徴を定義する多数のデータ層を有する集積回路のレイアウトの少なくとも一部を受信することと、
該集積回路の多数の領域における指定された属性の値を評価することと、
多数の追加的なデータ層を形成することであって、その各々は、指定された属性の値の異なる範囲と、１つ以上の追加的なデータ層を用いて該集積回路の層に形成される関連的特徴とに関連している、ことと、
該追加的なデータ層に関連するロングレンジの指定された属性の値の範囲に対して選択または調整される解像度向上技術を用いることにより、複数の追加的なデータ層の各々に関連する複数の特徴を処理することと
を包含する、方法。
（項目２０）
前記指定された属性は、電子ビーム放射システムにおける電子線量である、項目１９に記載の方法。
（項目２１）
前記指定された属性は、プラズマエッチングシステムにおけるエッチローディングである、項目１９に記載の方法。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】フォトリソグラフィ印刷システムの簡略化された図である。
【図２】本発明の実施形態にしたがう、集積回路のレイアウトにおけるフレア・インテンシティの変動を補償する１つの方法を示す流れ図である。
【図３】本発明の実施形態にしたがう、集積回路におけるフレア・インテンシティの変動を補償する方法を示す流れ図である。
【図４】本発明を実施するように用いられるコンピュータシステムの一実施形態を示している。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
（好ましい実施形態に関する詳細な記述）
上記で示唆されたように、本発明は、フォトリソグラフィ処理を用いて形成される、集積回路の層にまたがるフレア・インテンシティ、または、その他のデバイスにまたがるフレア・インテンシティのような、ロングレンジの変動を補償する方法に関する。
【００１１】
図１は、フォトリソグラフィ画像化システムの簡略化された図である。光源１０は、照射光または電磁的エネルギーを提供し、上記照射光または電磁的エネルギーは、半導体ウエハー２０の上に画像化される特徴のパターン１４を含んだマスクまたはレチクル１２を介して送達される。半導体ウエハーをマスク１２を介して照射光に露光する際、ウエハー上に存在する感光性の薬品の選択エリアは、露光される。その後、これら露光されたエリアは、化学的および機械的に処理され、回路エレメントの所望のパターンをウエハー上に生成するために、研磨される。
【００１２】
照射システムが完璧であるとき、光源１０から発生する単一点（ｓｉｎｇｌｅ  ｐｏｉｎｔ）の光は、マスク１２とレンズシステム１６とを通過して、ウエハー２０上の対応する単一点に配向される。しかしながら、光源とウエハーとの間の経路に配置されたレンズ１６およびその他の物体の表面上における不完全部分は、照明光の散乱を引き起こし、その結果、照明光は、ウエハー２０上の幅広い領域内に落ち込む。このプロセスは、しばしばフレアと呼称され、ウエハー２０上に落ち込む背景光のインテンシティの全体レベルを増大化させる。ウエハー上でのフレアの影響は、限界寸法（すなわち、ウエハー上に存在する解像（ｒｅｓｏｌｖｅ）され得る最小の特徴）を変動させる。例えば、大量のフレア照射光を受信するウエハーのエリアは、少量のフレアを受信するエリアよりも、しばしば大きな限界寸法を有する。一般に、上記で示唆されたように、集積回路のエリアが受信するフレア光の大きさは、マスク１２における対応するエリア上での特徴の濃度に反比例する。すなわち、少ない特徴を有するマスクのエリアは、より多くの光にマスクを通過させ、その結果、より多くのフレアを生成することを可能にする。濃い特徴の濃度を有するマスクのエリアは、より少ない光を通過させ、対応するように、より少ないフレアを生成することを可能にする。
【００１３】
過去において、同等な量のフレア光が集積回路の表面にわたって落ち込むようにするために、ダミーパターンまたはサブ解像度をマスクレイアウトに挿入することによって、フレアの効果を軽減する試みがなされてきた。しかしながら、典型的に、そのようなダミーパターンは、マスク上の特徴のパターンをウエハー自身の上に画像化する全パターン忠実度（ｏｖｅａｒｌｌ  ｐａｔｔｅｒｎ  ｆｉｄｅｌｉｔｙ）を増加させることにおいては、有用ではない。代替的に、フレアは、マスク上の特徴のエッジをバイアスすることにより、補償され得る。しかしながら、この技術は、メモリ配列に見出され、かつ変動性の特徴のパターンを有し得る一般には回路設計に適用可能でないような繰り返しパターンに対して、最も有用である。
【００１４】
限界寸法と、集積回路の表面にわたるフレアの変動によるその他のアーチファクトとの変動性を減少させる一方で、ウエハー上に印刷されるマスクパターンの性能を向上させるために、本発明は、集積回路の領域上に発生するように評価された量のフレアにしたがう光学近接補正（ＯＰＣ）のような解像度向上技術を、選択または調整する。
【００１５】
図２は、本発明の実施形態にしたがう、様々なフレア・インテンシティを補償するための、１つの方法を示している。集積回路３０またはその一部は、データベースまたはコンピュータ読み取り可能な媒体によって読み取られる。典型的に、集積回路のレイアウトは、例えばＧＤＳＩＩ，ＯＡＳＩＳ等のようなレイアウト記述言語を用いて定義される。ほとんどのレイアウト記述において、集積回路上に形成される特徴は、層の上に形成される。集積回路の各物理層（例えば、ポリレイヤー、メタル１、メタル２、等）は、複数のレイアウト記述層で定義される特徴によって形成され得る。レイアウト記述が階層的に定義されるとき、集積回路上の１つ以上の場所に用いられる各特徴または特徴のグループは、その層自身において定義され得る。
【００１６】
いくつかの実施形態において、空（ｂｌａｎｋ）のエリアを充填し、集積回路のレイアウトに発生し得るフレアの変動を低減するためには、ダミー特徴３２とサブ解像度特徴３４とを、レイアウト記述に追加することが賢明である。しかしながら、ダミー特徴３２とサブ解像度特徴３４との追加は、本発明を実施する上では必要ではない。次に、評価されたフレア・インテンシティは、集積回路レイアウトの層にわたって計算される。本発明の一実施形態において、フレア・インテンシティは、集積回路の各領域におけるフレア・インテンシティを評価するように定義されるダブル・ガウシアン（ｄｏｕｂｌｅ  ｇａｕｓｓｉａｎ）のような点像分布関数を用いて畳み込むことによって、計算される。
【００１７】
実際面において、使用される特定の点像分布関数は、使用されるフォトリソグラフィ印刷システムの特性に依存する。現在のところ、点像分布関数が好適であるが、フラクタル、級数、トップハット関数（ｔｏｐ−ｈａｔ  ｆｕｎｃｔｉｏｎ）等のその他の関数が集積回路にわたるフレア・インテンシティを評価するために用いられ得ることが理解され得る。
【００１８】
フレア・インテンシティの評価は、フレア・インテンシティマップ５０を生成し、これにより、集積回路レイアウトの各領域におけるインテンシティが定義される。一旦、集積回路の各領域において局所的なフレア・インテンシティが定義されると、局所的なフレア・インテンシティの変動が、限界寸法または集積回路にわたるその他のアーチファクトにおいて、最小の影響を有するように、レイアウト記述が補償され得る。例えば、集積回路の所与の領域において計算された、フレア・インテンシティとは独立なＯＰＣモデルを選択することにより、フレア補正がなされ得る。代替的に、マスクの特徴がウエハー上にどのように印刷され得るかを評価するように使用されるエアリアル・インテンシティ画像（ａｅｒｉａｌ  ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ  ｉｍａｇｅ）が、上記特徴の領域内の評価されたインテンシティにしたがって、調整され得る。さらに別の実施形態においては、評価されたフレア値にしたがって、マスク特徴が選択的にバイアスされるか、または、計算されたフレア値にしたがって、サブ解像度のような追加的な特徴が追加され得る。
【００１９】
図３は、本発明の実施形態にしたがう、集積回路にわたるフレア・インテンシティの変動を補償するための１つの方法に関する流れ図である。１００において開始し、レイアウト記述またはその一部は、コンピュータシステムによって受信される。１０４において、レイアウトは、多数のセクションに分割される。一実施形態において、上記セクションは、隣接し合う複数のタイルを備える。これらタイルのサイズは、好適には集積回路の格子のレイアウトよりも大きい。例えば、集積回路が０．５ｎｍ〜５ｎｍの格子に置かれている場合、各タイルは、１辺が数十ナノメートルから数十ミクロンで他辺が１ミクロンの四角形を備える。タイルのサイズは、レイアウト記述を処理することに要する時間と望ましい精度との間の折り合い（ｃｏｍｐｒｏｍｉｓｅ）にしたがって選択される。ステップ１０６において、各タイルにおける特徴の明るさの値が決定される。明るさの値は、タイルの領域において定義された個々の特徴の代わりとしての役割を果たし得る。明るさの値は、各タイルにおける特徴の濃度の結果を計算することによって決定され得る。
【００２０】
１０８において、各タイル領域におけるフレアが評価される。上述のように、本発明の１つの方法では、タイル領域に対する所望のフレア値は、明るさの値の配列と共に点像分布関数を畳み込み、フレア・インテンシティ値を生成することによって、評価される。一実施形態において、畳み込みは、回路レイアウトのエッジとしての計算を簡略化するために、回路レイアウトの無限繰り返しパターンを備える。しかしながら、集積回路の領域におけるフレアを評価する代替的な方法もまた、使用され得る。開示された本発明に関する実施形態は、フレア・インテンシティを評価するために、関数（１−濃度）を使用しているが、濃度の値が単独で使用されることも理解され得る。濃度は、所与のエリアにおいてレイアウトがどれだけ暗いかを近似し、（１−濃度）は、所与のエリアにおいてレイアウトがどれだけ明るいかを近似する。
【００２１】
１１０において、フレア値は、多数のビン（ｂｉｎ）または範囲に分割される。例えば、計算されたフレア値は、評価されたフレア値の最小値から、評価されたフレア値の最高値までの、５つのビンに分割され得る。さらに、多数のビンまたはフレア領域が、
必要な処理時間と、望ましい結果の精度との間の折り合いとして選択される。
【００２２】
本発明の一実施形態では、追加的なデータ層は、レイアウト記述で定義され、特定のフレア値を有する領域に形成される各特徴への参照は、関連するデータ層に関連している。このため、１１２において、レイアウト記述におけるデータ層は、フレア値の各ビンまたは各範囲に対して、定義されている。各フレア領域に関連する集積回路のエリアに印刷される特徴は、追加的なデータ層に定義および／またはコピーされる。ある特徴が、２つ以上の異なるフレア値を有する集積回路の一部に形成される場合、上記特徴は、異なるフレア値に関連する追加的なデータ層の各々において、平らにされなければならない（すなわち、別々に指定されなければならない）。
【００２３】
１１４において、追加的なデータ層の各々における特徴が定義され、データ層に関連するフレア値によって影響され得る方法で、または影響され得ない方法により、処理される。例えば、特定のインテンシティを有するフレア値は、データ層に関連する特徴のＯＰＣ補正が、例えば追加的な分量または少ない分量の特徴をバイアスすることによって調整されることを要求し得る。代替的に、フレア値の特定の範囲に対して定義されるエアリアル画像モデルは、計算されたフレア値にしたがって調整され得る。代替的に、特定のサイズまたは特定の一部のサブ解像度特徴が、特定のフレア値等を有する特徴に対するレイアウトモデルに挿入され得る。記述された本発明に関する実施形態において、特定の範囲のフレア値に対して定義されるデータ層に関連した各特徴が、同様に処理される。
【００２４】
図４は、本発明のフレア補償システムを実施するコンピュータシステムの一実施形態を示している。コンピュータシステム１５０は、レイアウト設計の一部またはレイアウト設計自身を、レイアウトデータベース１６０から受信する。レイアウトデータベース１６０は、コンピュータ読み取り可能媒体に格納されるか、無線データ通信ネットワークから受信される。コンピュータシステム１５０は、コンピュータ読み取り可能な媒体に格納されるか、メモリに格納されるか、有線または無線の通信ネットワーク１７０において受信される、一連の命令を実行し得る。上記命令は、コンピュータシステム１５０に上記のフレア補正システムを実施させ得る。コンピュータシステム１５０は、集積回路の多数の領域におけるフレア値を評価し、各領域における予期されるフレアに対して、例えばＯＰＣのような解像度向上技術を選択または調整する。ＲＥＴの結果は、マスク書き込みツール１８０に提供されたレイアウト記述を改変させる。改変されたレイアウト記述は、マスク書き込みツールに運ぶためにコンピュータ読み取り可能な媒体１９０に書き込まれるか、有線または無線通信ネットワーク介することにより、マスク書き込みツールに伝送され得る。マスク書き込みツールは、予期されるフレアの変動に対して補償される集積回路上における特徴のパターンを有する、１つ以上のマスクを生成し得る。
【００２５】
代替的に、コンピュータシステム１５０は、遠隔的に配置されたコンピュータ２００に対して、レイアウト記述を伝送し得る。コンピュータ２００は、米国の内部または外部に存在し、評価されたフレア計算を実行して、フレアの変動を補償するために、レイアウト記述を調整することを目的としたものであり得る。遠隔的に配置されたコンピュータ２００は、レイアウト記述を改変し、それをコンピュータシステム１５０に返すか、それを直接的にマスク書き込みツール１８０に供給し得る。
【００２６】
本発明は、光学的なフレアに対してＩＣレイアウトを補償する方法として提供されてきたが、当業者は、本発明が、光学的なフレアに使用される方法に類似した方法で評価され得るロングレンジの任意の影響に対して、レイアウトを補償するために使用され得ることを理解し得る。そのような数学的類似点は、ガウシアン関数、ダブル・ガウシアン関数を用いた畳み込み、いくつかのガウシアン関数、ローレンツ関数、エアリー関数、ベッセル関数の総和（ｓｕｍｍａｔｉｏｎ）、ベッセル関数、またはその他類似の関数の総和であり得るが、それらには限定されない。
【００２７】
考えられ得るいくつかの効果は、マスクへの書き込み、またはウエハー上への直接的な書き込みに対する、電子ビーム・リソグラフィの間に発生する電子による、例えば２次電子からの、追加的な露光を含む。追加的な電子散乱から発生する追加的な「フォギング（ｆｏｇｇｉｎｇ）」が、露光チャンバにおいて、電子ビームリソグラフィの間に発生する。濃度に依存するエッチローディングが、プラズマエッチングの間に発生する。濃度に依存する研磨効果は、化学機械研磨（ＣＭＰ；ｃｈｅｍｉｃａｌ−ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）の間に行なわれる。畳み込みは、問題となっている処理に関する特定の幾何学に依存して、１次元、または２つの直交する次元、またはいくつかの軸に沿ったものであることが望ましい。
【００２８】
異なるフレア値が複数の特徴（例えば、水平方向の特徴と鉛直方向の特徴）の異なるサブセットに適用されるように、畳み込みと複数の特徴の異なるデータ層への構文解析（ｐａｒｓｉｎｇ）とが、適合し得ることにも注意されたい。このことは、いくつかの超紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィ・ツールに見出されるような非対称的なフレアを補償するために、使用され得る。例えば米国特許第６，４７６、０７６号において記述されているような、ライン・エンド（ｌｉｎｅ−ｅｎｄ）または最小の寸法の特徴のような、個々の特徴へのタグ付けもまた、特定の理由で選択された特徴に関する適切なサブセットに対してフレア計算を選択的に適用するために、使用され得る。
【００２９】
本発明の好適な実施形態が図示され記述されてきたが、本発明の範囲から逸れることなしに、様々な変更が名され得ることが理解される。したがって、本発明の範囲は、以下の請求の範囲とその等価物とから、決定され得る。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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