(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（ＸＩ）化合物を、縮合剤を用いて式（ＸＩＶ）化合物に変換後（工程Ａ）、マグネシウム塩の存在下、式（ＸＩＩＩ）と反応させることにより式（Ｉ）化合物を得る（工程Ｂ）ことを特徴とするアデノシンテトラホスフェート化合物の製造法。
【化１】
0005599078.tif 000026
【請求項３】
Ｒ１がメチル、Ｒ２が水素原子、Ａｒがメトキシフェニル、Ｘは酸素原子で表される化合物である、請求項１に記載の製造法。
【請求項４】
縮合剤がカルボジイミド類である、請求項１に記載の製造法。
【請求項６】
工程Ａと工程Ｂを連続して行う、請求項１に記載の製造法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アデノシンテトラホスフェート化合物の効率的な製造法に関する。
【背景技術】
【０００２】
下記式（１）で表されるアデノシンテトラホスフェート化合物またはその塩は、Ｐ２Ｙプリン受容体のアゴニストであり、嚢胞性線維症、慢性閉塞性肺疾患（ＣＯＰＤ）などの治療薬としての開発が期待されている化合物である。【０００３】
【化１】
0005599078.tif 000002
（式中、Ｍは水素原子またはＮａ+などのイオンを示す。）【０００４】
このようなアデノシンテトラホスフェート化合物の合成法としては、従来、例えば下記［化２］に示したように、式（３）化合物を２工程のリン酸化反応により式（５）で表されるトリリン酸誘導体とし、これを１−メチルアデノシン−５’−リン酸イミダゾリデート（７）と反応させることで目的の式（１）化合物とする方法（従来法１）や、式（４）化合物とアデノシン５’−トリリン酸イミダゾリデート、または式（５）化合物とアデノシン５’−モノリン酸イミダゾリデートから合成される式（１’）化合物をメチル化する方法（従来法２）が報告されている（特許文献１）。【０００５】
【化２】
0005599078.tif 000003
（式中、Ｍは水素原子またはＮａ+などのイオンを示す。）
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】ＷＯ２００８／０６０６３２
【特許文献２】ＷＯ２００８／０１２９４９
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，８，２０７５−２０７７（２００６）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、これらの従来の合成法は、各工程での合成収率が低いために、式（２）化合物から式（１）化合物を得るまでの通算の単離収率は従来法１で０．３％、従来法２で０．０３〜０．０８％程度と、到底実用的な方法とは言えなかった。【０００９】
また、従来法１および２とも、工業的に不利とされる、シリカゲルやイオン交換樹脂を用いたカラムクロマトグラフィーによる精製方法が多用される、立体異性体の混合物として生成する式（３）化合物を分離するための工程が必要である、さらに、式（１）化合物を高純度で得るために分取用ＨＰＬＣのような大量合成には不利な装置が必要になる等、工業的生産に適用するには重大な問題点を多数有していた。【００１０】
より詳細に問題点を分析すれば、式（１）化合物の従来の合成法には、以下（Ａ）〜（Ｃ）に挙げるような大きな問題点があった。【００１１】
（Ａ）目的の式（１）化合物の生産に用いる出発原料の式（３）化合物は、後述の実施例中に示すようにα，β−立体異性体混合物として調製されるため、これらを分離して目的のβ体のみを得るためには、分取用ＨＰＬＣのような大掛かりな精製装置の使用が必須であり、しかも２工程を経た単離収率は２３％と低い。【００１２】
（Ｂ）式（３）化合物を式（４）化合物に、さらに式（４）化合物を式（５）化合物とする工程では、いずれの工程も単離収率が低い上、精製に手間のかかるイオン交換カラムクロマトグラフィーを用いており、収率、精製の簡便さの点で問題がある。【００１３】
（Ｃ）式（５）化合物を式（１）化合物とする工程では、従来、式（５）化合物を水中、塩化マンガンの存在下、１−メチルアデノシン−５’−リン酸イミダゾリデート（式（７）化合物）と反応させていた。しかしながら、ここで用いられている１−メチルアデノシン−５’−リン酸イミダゾリデートの合成には、アデノシン−５’−リン酸（式（６）化合物）から２工程の操作を必要とする上、１−メチルアデノシン−５’−リン酸イミダゾリデートの単離収率も１８％と低収率でしか得られない。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、下記（Ｘ）〜（Ｚ）のような知見を得ると共に、当該方法を用いることで、従来の合成法における手間の掛かる精製操作を大幅に簡略化し、式（１）化合物の収率を公知の方法と比較して格段に向上させることができることを見出した。【００１５】
（Ｘ）式（３）化合物の調製において、後述のように、従来法では１：３．５（α：β）の比で不要なα体が生成する。この問題に対して発明者らは、（ａ）反応系にモレキュラーシーブスを共存させ、ルイス酸を種々検討することにより、目的のβ体の生成比を１：２４〜１：２７にまで改善できること、（ｂ）出発原料に、従来の式（２）化合物に代えて式（８）化合物を用いることで、中間体である式（９）化合物が結晶となるため、この段階で結晶化によって目的とするβ体のみを優先的に得られることを見出した。こうして得られた式（９）化合物を脱保護することにより、式（３）化合物が単一の異性体として得られ、従来法と異なり、工業的に不利なシリカゲルカラムクロマトグラフィーや分取用ＨＰＬＣのような装置を用いることなく、結晶化のみで式（３）化合物を２工程で６９％と高収率で得られることが明らかとなった。【００１６】
【化３】
0005599078.tif 000004
（式中、Ｍｅはメチル基、Ｂｚはベンゾイル基、Ａｃはアセチル基を示す。）【００１７】
（Ｙ）式（４）化合物の調製において、新たに２，３位の水酸基に保護基を導入した式（１０）化合物を中間体として、塩基の存在下でリン酸化反応を行い、また、式（４）化合物をＮ−メチルイミダゾリデート体を中間体として経由させることによって、収率を大きく改善でき、さらに精製も簡便に実施できる活性炭カラムクロマトグラフィーにより行うことによって、式（５）化合物の単離収率、精製の手間を大幅に改善できることを見出した。【００１８】
【化４】
0005599078.tif 000005
（式中、Ｍｅはメチル基、Ｂｚはベンゾイル基を示す。）【００１９】
（Ｚ）式（５）化合物を式（１）化合物とする工程に関連する反応としては、従来、アデノシン５’−環状トリリン酸とアデノシン５’−モノリン酸との反応において、亜鉛塩の存在下反応させる方法（非特許文献１）が知られていた。しかしながら、後述の検討のように、亜鉛塩を用いる方法では、高収率を達成するには保護されたアデノシンヌクレオチド原料が必要であり、本発明のような無保護の原料を用いた場合には、合成収率３０．８％と低いものであった。【００２０】
そこで本発明者らは、当該反応に最適な条件を鋭意検討した結果、特定の金属塩、とくにマグネシウムの塩を存在させるのが、最も好適な条件であることを見出した。【００２１】
従来、マグネシウムの塩の存在下、ジ（ピリミジンヌクレオシド５’−）ポリホスフェートを合成する方法に関してすでに報告されている（特許文献２）。しかし、本発明化合物とより近い化合物の反応であるアデノシン５’−環状トリリン酸とアデノシン５’−モノリン酸との反応においては、マグネシウム塩は亜鉛塩より数段劣り、高収率を達成できないことが報告されており（非特許文献１）、アデノシンテトラホスフェートの合成に亜鉛塩に代えてマグネシウム塩を用いたとしても高収率で目的化合物を得ることができるとは到底考えられず、全くの予想外のことであった。【００２２】
【化５】
0005599078.tif 000006
【００２３】
したがって、本発明は以下の通りである。
［１］  式（ＸＩ）化合物を縮合剤を用いて式（ＸＩＶ）化合物に変換後（工程Ａ）、マグネシウム、マンガンまたは鉄のいずれかより選択された金属塩の存在下、式（ＸＩＩＩ）と反応させることにより式（Ｉ）化合物を得る（工程Ｂ）ことを特徴とするアデノシンテトラホスフェート化合物の製造法。【００２４】
【化６】
0005599078.tif 000007
【００２５】
（式中、Ａｒはアリール基、Ｘは硫黄原子もしくは酸素原子またはイミノ基のいずれかより選ばれる基、Ｒ１とＲ２は水素原子、アルキルまたはアラルキル基のいずれかより選ばれる基、Ｍは水素原子またはイオンを示す。）【００２６】
［２］Ｒ１がアルキル、Ｒ２が水素原子、Ａｒがアルコキシフェニル、Ｘは酸素原子で表される化合物である、［１］に記載の製造法。【００２７】
［３］Ｒ１がメチル、Ｒ２が水素原子、Ａｒがメトキシフェニル、Ｘは酸素原子で表される化合物である、［１］に記載の製造法。【００２８】
［４］縮合剤がカルボジイミド類である、［１］に記載の製造法。
［５］金属塩がマグネシウム塩である、［１］に記載の製造法。
［６］工程Ａと工程Ｂを連続して行う、［１］に記載の製造法。
【発明の効果】
【００２９】
本発明の合成法は、従来法と比較して、式（Ｉ）化合物（出発原料（式（ＸＩ）化合物を含め）に至る各工程の収率が高く、また、精製手段として結晶化を多用することにより、精製が著しく容易になっていることが、最大の特長となっている。【００３０】
すなわち、従来法によると、目的とする式（１）化合物の通算収率は０．０３〜０．３％程度と極めて低いものであったのに対し、本発明では当該化合物を、出発原料（式（ＸＩ）化合物）の原料化合物である式（ＩＩ）化合物から通算した場合であっても、単離収率が約１４％と、きわめて効率よく合成することができる。【００３１】
また、従来法では、工業的に不利なクロマトグラフィー操作を頻繁に行っていたのに対し、本発明では、ほとんどの工程で、精製手段として結晶化を用いており、クロマトグラフィーによる精製は、活性炭カラムクロマトグラフィー、陰イオン交換クロマトグラフィーをそれぞれ１回行うのみで済むため、従来法と比較して大幅に精製法が簡略化されている。【００３２】
従って、本発明は、高収率かつより簡易な方法でアデノシンテトラホスフェート化合物を合成することが可能であり、工業的な大量合成に好適な方法である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
本発明は、下記式（ＸＩ）化合物を縮合剤を用いて式（ＸＩＶ）化合物に変換後（工程Ａ）、金属塩の存在下、式（ＸＩＩＩ）化合物と反応させることにより式（Ｉ）化合物を得る（工程Ｂ）２つの工程からなることを特徴とするアデノシンテトラホスフェート化合物の製造法に関するものである。
【００３４】
【化７】
0005599078.tif 000008
（式中、Ａｒはアリール基、Ｘは硫黄原子もしくは酸素原子またはイミノ基のいずれかより選ばれる基、Ｒ１とＲ２は水素原子、アルキルまたはアラルキル基のいずれかより選ばれる基、Ｍは水素原子、Ｎａ＋などの金属イオン又は置換アンモニウムイオンを示す。）
【００３５】
工程Ａにおいて、式（ＸＩ）化合物を式（ＸＩＶ）化合物へ変換するための縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、水溶性カルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミドといったカルボジイミド類、ジフェニルホスホロクロリデート等のリン酸ハロゲン化物、塩化トルエンスルホニル等のスルホン酸ハロゲン化物、カルボニルジイミダゾール、等の公知の縮合剤を使用することができ、特にカルボジイミド類が好適である。
【００３６】
反応は、使用する縮合剤により異なるもの、たとえば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の単独又は混合溶媒中、式（ＸＩ）化合物１モルに対して縮合剤１〜５モル使用し、０℃〜５０℃、好ましくは１５〜３０℃で１〜２４時間程度反応させることにより実施できる。
【００３７】
より具体的に、縮合剤としてジイソプロピルカルボジイミドを使用する場合、ジメチルホルムアミド中、式（ＸＩ）化合物１モルに対して、ジイソプロピルカルボジイミドを１〜５モル、好ましくは１．２〜２モルを用い、０〜５０℃、好ましくは２０〜３０℃で１〜３時間程度反応させることにより実施できる。
【００３８】
このようにして得られた式（ＸＩＶ）化合物は、単離することなく連続して次の工程Ｂに利用できる。工程Ｂでは、金属塩の存在下、式（ＸＩＩＩ）化合物と反応させて式（Ｉ）化合物を合成する。
【００３９】
反応に共存させる金属塩としては、マグネシウム、マンガン及び鉄のいずれかより選択された金属の塩であれば、特に制限されない。具体的には、フッ化マグネシウム、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、塩化マンガン、塩化第二鉄等の金属ハロゲン化物、マグネシウム、マンガン、鉄の硫酸、硝酸、リン酸、過塩素酸、テトラフルオロホウ酸塩等といった金属無機酸塩、マグネシウム、マンガン、鉄のトリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ステアリン酸、クエン酸塩等を例示することができる。
【００４０】
そのような金属塩の中でも、合成収率及び取扱い易さの点でマグネシウム塩が好ましく、特に塩化マグネシウムなどのマグネシウムのハロゲン化物を好適なものとして例示できる。なお、用いる金属塩は、無水物であっても水和物であっても構わない。
【００４１】
反応は、式（ＸＩＶ）化合物１モルに対し、式（ＸＩＩＩ）化合物を１〜５モル、好ましくは１〜２モル、及び金属塩１〜５モル、好ましくは１〜２モルをそれぞれ添加し、０〜１００℃、好ましくは１５〜３０℃で、１〜２４時間程度反応させることにより実施できる。
【００４２】
反応後、合成目的の式（Ｉ）化合物は、一般のヌクレオチドの単離精製に使用されている方法（例えば、再結晶法、イオン交換カラムクロマトグラフィー、吸着カラムクロマトグラフィー、活性炭カラムクロマトグラフィーなど）を適宜組み合せて分離精製することができ、必要に応じて塩型とすることもできる。
【００４３】
次に、原料化合物である上記式（ＸＩ）で表されるリボーストリリン酸誘導体と式（ＸＩＩＩ）で表されるアデノシン５’−モノリン酸誘導体の調製法に関し、詳細に説明する。最初には、式（ＸＩ）化合物は、好ましくは、以下に説明する３つの工程より調製する。
【００４４】
第１工程；
式（ＩＩ）化合物を、ルイス酸およびモレキュラーシーブスの存在下、フェノール化合物と反応させ、立体異性体混合物である式（ＩＩＩ）化合物を得、得られた式（ＩＩＩ）化合物から結晶化によりβ体（式（ＩＶ）化合物）のみを分離し、該化合物をアルカリ性条件下、脱保護して式（Ｖ）化合物を得る工程。
【００４５】
【化８】
0005599078.tif 000009
（式中、Ａｒはアリール基、Ｘは硫黄原子もしくは酸素原子またはイミノ基のいずれかより選ばれる基、Ｒ３は保護基、Ｒ４はアシル基を示す。）
【００４６】
第２工程；
式（Ｖ）化合物の５位水酸基を選択的に保護し、２，３位水酸基を５位保護基とは除去法の異なる保護基で保護後、５位保護基を選択的に除去することにより、式（ＶＩＩ）化合物を得、該化合物を塩基の存在下、リン酸化して式（ＶＩＩＩ）化合物とし、２，３位の保護基を除去して式（ＩＸ）化合物を得る工程。
【００４７】
【化９】
0005599078.tif 000010
（式中、Ａｒはアリール基、Ｘは硫黄原子もしくは酸素原子またはイミノ基のいずれかより選ばれる基、Ｒ５とＲ６は保護基、Ｍは水素原子またはイオンを示す。）
【００４８】
第３工程；
式（ＩＸ）化合物のリン酸基を式（Ｘ）化合物に変換後、ピロリン酸塩と反応させることにより式（ＸＩ）化合物を得る工程。
【００４９】
【化１０】
0005599078.tif 000011
（ＩＸ）              （Ｘ）                    （ＸＩ）
（式中、Ａｒはアリール基、Ｘは硫黄原子もしくは酸素原子またはイミノ基のいずれかより選ばれる基、Ｒ７はイミダゾリル基またはＮ−メチルイミダゾリル基、Ｍは水素原子またはイオンを示す。）
【００５０】
第１工程は、式（ＩＩ）化合物を、ルイス酸およびモレキュラーシーブスの存在下、フェノール化合物と反応させ、立体異性体混合物である式（ＩＩＩ）化合物を得、得られた式（ＩＩＩ）化合物から結晶化によりβ体（式（ＩＶ）化合物）を分離し、該化合物をアルカリ性条件下、脱保護して式（Ｖ）化合物を得る工程である。
【００５１】
Ｒ３で表される水酸基の保護基としては、水酸基の保護基として常用されているものであればよく、たとえばエーテル系保護基、アシル系保護基、シリル系保護基、アセタール系保護基などを例示することができる。より具体的には、エーテル系保護基としては、メチルエーテル、第３級ブチルエーテル、ベンジルエーテル、メトキシベンジルエーテル、トリチルエーテルなどを、アシル系保護基としてはアセチル、ベンゾイル、ｐ−クロロベンゾイル、ピバロイルなどを、シリル系保護基としてはｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、トリメチルシリル、トリエチルシリルなどを、アセタール系保護基としてはイソプロピリデン、エチリデン、メチリデン、ベンジリデン、テトラヒドロピラニル、メトキシメチルなどをそれぞれ使用することができる。これらの中でも、結晶性の良い、ベンゾイル基等のアシル系保護基が好適である。
【００５２】
Ｒ４は、アシル基であればよく、アセチル、ベンゾイル、ピバロイル基などを例示することができる。
【００５３】
このような原料化合物は、市販品を用いるか、公知の方法（Ｈｅｌｖｅｔｉｃａ  Ｃｈｉｍｉｃａ  Ａｃｔａ，４２，１１７１−１１７３（１９５９）など）により調製することができる。また、公知の方法で調製された式（ＩＩ）を精製することなく、反応に供することもできる。
【００５４】
式（ＩＩ）化合物から式（ＩＩＩ）化合物への反応は、式（ＩＩ）化合物を、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、トルエン等の有機溶媒中、式（ＩＩ）化合物１モルに対して０．０１〜２モルのルイス酸、式（ＩＩ）化合物１ｇに対して２ｇ以上のモレキュラーシーブスの存在下、１〜１０モル、好ましくは１．２当量のフェノール化合物と０〜５０℃、好ましくは２０〜３０℃で１〜２４時間反応させることにより実施できる。
【００５５】
当該反応に使用するルイス酸としては、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル、三フッ化ホウ素エーテル錯体、四塩化すず、塩化亜鉛、ヨウ化亜鉛、無水塩化アルミニウム等が例示されるが、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルが最も好適である。
【００５６】
また、使用するモレキュラーシーブスは、市販のものを適宜用いることができる。中でもモレキュラーシーブ４Ａがとくに好適である。
【００５７】
フェノール化合物としては、フェノール、チオフェノール、および、これらの２位、４位等をＣ１−４アルキル、Ｃ１−４アルコキシ、Ｃ１−４アルキルチオ、Ｃ１−４アルキルアミノ、Ｃ１−４ジアルキルアミノ、Ｃ１−４アルキルスルホニル、ハロゲノ、ニトロ、シアノ、アミノ、ヒドロキシル等の置換基で置換したものが例示される。
【００５８】
式（ＩＩＩ）化合物の異性体混合物を結晶化により単一の異性体（ＩＶ）化合物とするには、得られた式（ＩＩＩ）化合物を、使用した式（ＩＩ）化合物に対してアセトン、２−ブタノン等のケトン系有機溶媒および／またはジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒に溶解させ、これにメタノール、エタノール、イソプロパノールを貧溶媒として加え、晶析させればよい。
【００５９】
式（ＩＶ）化合物の保護基を除去し、式（Ｖ）化合物とする反応では、使用した保護基に応じ、酸性加水分解、アルカリ性加水分解、フッ化テトラブチルアンモニウム処理、接触還元などの通常の処理方法から適宜選択して行えばよい。
【００６０】
第２工程は、式（Ｖ）化合物の５位水酸基を選択的に保護し、２，３位水酸基を５位保護基とは除去法の異なる保護基で保護後、５位保護基を選択的に除去することにより、式（ＶＩＩ）化合物を得、該化合物を塩基の存在下、リン酸化して式（ＶＩＩＩ）化合物とし、２，３位の保護基を除去して式（ＩＸ）化合物を得る工程である。
【００６１】
Ｒ５で表される５位水酸基の保護基は、１級水酸基の選択的な保護基として常用されているものであればよく、具体的には、ジメトキシトリチル、メトキシトリチル、トリチル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基などが例示される。
【００６２】
また、Ｒ６で表される２，３位水酸基の保護基としては、水酸基の保護などで通常使用されるものであればよく、たとえばアシル系保護基、エーテル系保護基、シリル系保護基、アセタール系保護基などを例示することができる。
【００６３】
より具体的には、エーテル系保護基としては、メチルエーテル、第３級ブチルエーテル、ベンジルエーテル、メトキシベンジルエーテル、トリチルエーテルなどを、アシル系保護基としてはアセチル、ベンゾイル、ｐ−クロロベンゾイル、ピバロイルなどを、シリル系保護基としてはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、トリメチルシリル、トリエチルシリルなどを、アセタール系保護基としてはイソプロピリデン、エチリデン、メチリデン、ベンジリデン、テトラヒドロピラニル、メトキシメチルなどをそれぞれ使用することができる。
【００６４】
５位水酸基の保護基の除去は、使用した保護基に応じ、酸性加水分解、アルカリ性加水分解、フッ化テトラブチルアンモニウム処理、接触還元などの通常の処理方法から適宜選択して行えばよい。
【００６５】
得られた式（ＶＩＩ）化合物は、精製することなく次の工程に用いることができる。また、式（ＶＩＩ）化合物を結晶として得たい場合は、Ｒ６で表される保護基としては結晶性の高いｐ−クロロベンゾイル基のようなアシル系保護基を選択し、式（ＶＩＩ）化合物の粗生成物をエタノールといった有機溶媒から結晶化させればよい。
【００６６】
式（ＩＸ）化合物は、式（ＶＩＩ）化合物の５位水酸基をリン酸化後、２，３位の保護基を除去することにより得られる。
【００６７】
式（ＶＩＩ）化合物を式（ＶＩＩＩ）化合物とするには、ピリジン、アセトニトリル、トルエン、リン酸トリアルキル等の有機溶媒中、式（ＶＩＩ）化合物を、式（ＶＩＩ）化合物１モルに対して１〜１０モル、好ましくは１．５モルの塩基の存在下、１〜５モル、好ましくは１．２当量のリン酸化剤と−３０〜３０℃で１〜２４時間反応させればよい。
【００６８】
用いる塩基としては、トリエチルアミン、トリブチルアミン等のトリアルキルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール等の複素環アミンを例示することができ、リン酸化剤として、オキシ塩化リン、テトラクロロピロリン酸等や各種アミダイト試薬を例示することができる。
【００６９】
得られた式（ＶＩＩＩ）化合物を引き続き、脱保護することにより式（ＩＸ）化合物が得られる。
【００７０】
保護基の除去は、使用した保護基に応じ、酸性加水分解、アルカリ性加水分解、フッ化テトラブチルアンモニウム処理、接触還元などの通常の処理方法から適宜選択して行えばよい。
【００７１】
例えば、２，３位の保護基としてベンゾイル基などのアシル系保護基を用いた場合、エタノール中、式（ＶＩＩＩ）化合物を、濃アンモニア水と０℃〜室温で１〜３日処理すればよい。この場合、反応の進行に伴い、生成した式（ＩＸ）化合物が析出するので、これを濾取、乾燥するのみで式（ＩＸ）化合物が得られる。
【００７２】
第３工程は、式（ＩＸ）化合物のリン酸基を式（Ｘ）化合物に変換後、ピロリン酸塩と反応させることにより式（ＸＩ）化合物を得る工程である。
【００７３】
式（ＩＸ）化合物のリン酸基を活性化して式（Ｘ）化合物とするには、Ｎ−メチルイミダゾリデート法（Ｒｕｓｓｉａｎ  Ｊｏｕｎａｌ  ｏｆ  Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  ２２，  ５９９−６０４（１９９６））やイミダゾリデート法（Ｊｏｕｎａｌ  ｏｆ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ，  ８７，  １７８５（１９６５））といった公知の方法を利用することができる。
【００７４】
例えば、活性化の方法にＮ−メチルイミダゾリデート法を用いる場合、アセトニトリル等の有機溶媒中、式（ＩＸ）化合物１モルに対して１〜１０モルのジメチルアニリンおよび１〜１０モルのトリエチルアミン存在下、式（ＩＸ）化合物を１〜１０モルのトリフルオロ酢酸無水物と−２０〜３０℃で１０〜６０分間、１〜１０モルのＮ−メチルイミダゾールと１０〜６０分間反応させることによって活性化させることができる。
【００７５】
また、イミダゾリデート法による活性化は、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の有機溶媒中、式（ＩＸ）化合物を、式（ＩＸ）化合物１モルに対して１〜５モル、好ましくは３モルのカルボニルジイミダゾールと、０〜３０℃で１〜２４時間反応させることで達成できる。得られた式（Ｘ）化合物は、単離することなく次の工程に利用することが可能である。
【００７６】
式（Ｘ）化合物は、式（Ｘ）化合物１モルに対して１〜１０モルのピロリン酸塩と反応させることにより、式（ＸＩ）化合物へと変換できる。たとえば、Ｎ−メチルイミダゾリデート法により活性化した場合には、２モル程度のピロリン酸塩と０℃〜室温で１０〜６０分間、イミダゾリデート化では５モル程度のピロリン酸塩と室温で１〜３日間反応させるのが好ましい。また、ピロリン酸はトリエチルアンモニウム、トリブチルアンモニウム等の３級アンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、ベンジルトリエチルアンモニウム等の４級アンモニウム塩として使用することができる。
【００７７】
次に、もう１つの原料化合物である式（ＸＩＩＩ）で表されるアデノシン５’−モノリン酸酸誘導体は、記式（ＸＩＩ）化合物をアルキル化あるいはアラルキル化することによって調製する。
【００７８】
【化１１】
0005599078.tif 000012
（ＸＩＩ）                                （ＸＩＩＩ）
（式中、Ｒ１、Ｒ２は水素原子、アルキルまたはアラルキルのいずれかより選ばれる基、Ｍは水素原子またはイオンを示す。）
【００７９】
式（ＸＩＩ）化合物を式（ＸＩＩＩ）化合物とするには、式（ＸＩＩ）化合物の水酸基を適当な保護基を用いて保護した後、アルキル化あるいはアラルキル化し、引き続き保護基を除去すればよい。
【００８０】
保護基としては、水酸基の保護で通常使用されるものであればよく、たとえばアシル系保護基、エーテル系保護基、シリル系保護基、アセタール系保護基などを例示することができる。
【００８１】
より具体的には、エーテル系保護基としては、メチルエーテル、第３級ブチルエーテル、ベンジルエーテル、メトキシベンジルエーテル、トリチルエーテルなどを、アシル系保護基としてはアセチル、ベンゾイル、ｐ−クロロベンゾイル、ピバロイルなどを、シリル系保護基としてはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、トリメチルシリル、トリエチルシリルなどを、アセタール系保護基としてはイソプロピリデン、エチリデン、メチリデン、ベンジリデン、テトラヒドロピラニル、メトキシメチルなどをそれぞれ使用することができる。
【００８２】
保護基にて水酸基を保護した式（ＸＩＩ）化合物は、引き続き、アルキル化剤あるいはアラルキル化剤と反応させる。たとえば、上記反応液に対し、１０〜１００モルのヨウ化メチル、硫酸ジメチル、メタンスルホン酸メチル、ジアゾメタン、トリメチルシリルジアゾメタン等のメチル化剤を加え、０〜５０℃で１〜７日間反応させればよい。
【００８３】
水酸基の保護基の除去は、使用した保護基に応じ、酸性加水分解、アルカリ性加水分解、フッ化テトラブチルアンモニウム処理、接触還元などの通常の処理方法から適宜選択して行えばよい。
【００８４】
このようにして得られた式（ＸＩ）化合物および式（ＸＩＩＩ）化合物は、必要により遊離体から塩型（たとえば、ナトリウム塩などの金属塩、テトラブチルアンモニウム塩などの置換アンモニウム塩など）に変換して、原料化合物として使用すればよい。
【実施例】
【００８５】
以下、本発明を実験例及び実施例をあげて具体的に説明するが、本発明はこれらによって何ら限定されるものではない。【００８６】
＜アデノシンテトラホスフェート化合物の合成例＞
Ｐ１−［４−メトキシフェニルβ−Ｄ−リボフラノシド］５−］Ｐ４−（１−メチルアデノシン５’−）テトラリン酸（１）の合成【００８７】
【化１２】
0005599078.tif 000013
【００８８】
化合物５（４．０５ｍｍｏｌ）の水溶液（２５０ｍＬ）を、陽イオン交換樹脂（ＰＫ２１６（三菱化学社製）、プロトン型、３０ｍＬ）に通過させ、通過後の樹脂を脱イオン水で洗浄した。通過液、洗浄液に１Ｎ水酸化テトラｎ−ブチルアンモニウム（８．１０ｍＬ、８．１０ｍｍｏｌ）を加え中和後、濃縮した。残渣をアセトニトリル（２０ｍＬ×３）で共沸し、淡黄色アメ状の化合物５をテトラｎ−ブチルアンモニウム塩として得た。【００８９】
この残渣をジメチルホルムアミド（２０ｍＬ）に溶解し、ジイソプロピルカルボジイミド（９４０μＬ、６．０７ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間撹拌した。ここに、化合物１２のジメチルホルムアミド溶液、塩化マグネシウムのジメチルホルムアミド溶液を加え、室温で１８時間撹拌した。なお、化合物１２のジメチルホルムアミド溶液は、化合物１２（２．６３ｇ、７．２８ｍｍｏｌ）を脱イオン水（５０ｍＬ）に溶解し、氷冷下、１０％水酸化テトラｎ−ブチルアンモニウムでｐＨを８．０としたものを、４０℃で濃縮、残渣をジメチルホルムアミド２０ｍＬで３回共沸した後、ジメチルホルムアミド１０ｍＬに溶解して調製した。また、塩化マグネシウムのジメチルホルムアミド溶液は、塩化マグネシウム６水和物（１．４８ｇ、７．２８ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド２０ｍＬで３回共沸した残渣をジメチルホルムアミド１０ｍＬに溶解して調製した。【００９０】
反応液に冷脱イオン水（３０ｍＬ）を加え撹拌した後、脱イオン水で５００ｍＬとした。ＨＰＬＣによる定量の結果、化合物１の合成収率は７５．６％であった。【００９１】
１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ７．０とした後、ＤＥＡＥセファデックスカラムクロマトグラフィー（ＤＥＡＥセファデックス１５０ｍＬ、０．１０〜０．１５Ｍ塩化リチウムにより溶出）により精製を行った。目的物を含む画分を濃縮後、残渣をメタノール（４０ｍＬ）に溶解し、アセトン（１６０ｍＬ）を加え、生成した沈殿をろ取、乾燥した。得られたリチウム塩を脱イオン水に溶解し、陽イオン交換樹脂カラム（ＰＫ２１６（三菱化学社製）、ナトリウム型、２０ｍＬ）に通過させ、通過後の樹脂を脱イオン水で洗浄した。通過液、洗浄液を合わせ濃縮後、残渣を脱イオン水に溶解、予備凍結後、終夜、凍結乾燥した。白色粉末状の化合物１を得た。【００９２】
１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）：δ８．６５（１Ｈ，ｓ，ａｒｏｍａｔｉｃ），８．４６（１Ｈ，ｓ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．９５（２Ｈ，ｄ，ａｒｏｍａｔｉｃ，Ｊ＝９．５），６．８７（２Ｈ，ｄ，ａｒｏｍａｔｉｃ，Ｊ＝９．５），６．１３（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１’，Ｊ＝５．５），５．４５（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ＝２．０），４．８４（１Ｈ，ｔ，Ｈ−２’  ，Ｊ＝５．０），４．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’  ，Ｊ＝３．５，５．０），４．７４（１Ｈ，ｔ，Ｈ−３，Ｊ＝５．５），４．４１（１Ｈ，ｍ，Ｈ−４’），４．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−２，Ｊ＝２．０，５．０），４．２６（１Ｈ，ｑ，Ｈ−４，Ｊ＝５．０），４．２９（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５’），４．１９（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５ａ），４．１１（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５ｂ），３．７８（３Ｈ，ｓ，ｍｅｔｈｙｌ），３．８６（３Ｈ，ｓ，ｍｅｔｈｙｌ）
３１Ｐ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）：δ−１１．２０（ｍ），−２３．００（ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ）：ｍ／ｚ  ８３８［Ｍ−Ｈ］−，８６０［Ｍ１Ｎａ−Ｈ］−，８８２［Ｍ２Ｎａ−Ｈ］−，９０５［Ｍ３Ｎａ−Ｈ］−，９２６［Ｍ４Ｎａ−Ｈ］−．【００９３】
実験例１：Ｐ１−［４−メトキシフェニルβ−Ｄ−リボフラノシド］５−］Ｐ４−（１−メチルアデノシン５’−）テトラリン酸（１）合成における金属塩の効果の検討【００９４】
【化１３】
0005599078.tif 000014
【００９５】
化合物５（１．００ｍｍｏｌ）にトリエチルアミン（４１８μＬ、３．００ｍｍｏｌ）を加え、ジメチルホルムアミド（１０ｍＬ）で３回共沸した。残渣をジメチルホルムアミド（５ｍＬ）に溶解し、ジイソプロピルカルボジイミド（２３２μＬ、１．５０ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間撹拌した。ここに、化合物１２のジメチルホルムアミド溶液、塩化マグネシウム、または塩化亜鉛のジメチルホルムアミド溶液を加え、室温で２４時間撹拌した。反応液を脱イオン水で２５０ｍＬとし、５μＬをＨＰＬＣ（２６０ｎｍ）で分析し、化合物１の合成収率を算出した。なお、化合物１２のジメチルホルムアミド溶液は、化合物１２（５９２ｍｇ、１．６４ｍｍｏｌ）を脱イオン水（２０ｍＬ）に溶解し、氷冷下、１０％水酸化テトラブチルアンモニウムでｐＨを８．０としたものを、４０℃で濃縮、残渣をジメチルホルムアミド１０ｍＬで３回共沸した後、ジメチルホルムアミド２．５ｍＬに溶解して調製した。また、塩化亜鉛のジメチルホルムアミド溶液は、塩化マグネシウム６水和物（３０５ｍｇ、１．５０ｍｍｏｌ）、または塩化亜鉛（２０４ｍｇ、１．５０ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド１０ｍＬで３回共沸した残渣をジメチルホルムアミド２．５ｍＬに溶解して調製した。その結果を表１に示す。【００９６】
【表１】
0005599078.tif 000015
【００９７】
表１の結果から、金属塩が存在しないときの化合物１の合成収率は４．５９％と極めて低いのに対し、塩化マグネシウムを共存させると合成収率は５３．０％と大きく改善した。一方、塩化亜鉛を用いた場合は合成収率３０．８％と塩化マグネシウムを用いた結果と比較して半分弱で大きく減弱することがわかった。【００９８】
＜原料化合物の合成例１＞
１）２，３、５−トリ−Ｏ−ベンゾイル−１−Ｏ−ｐ−メトキシフェニル−β−Ｄ−リボ−ペントフラノース（９）の合成（方法１：化合物８を出発原料とする方法）【００９９】
【化１４】
0005599078.tif 000016
（式中、Ｂｚはベンゾイル、Ａｃはアセチル、Ｍｅはメチルを示す）【０１００】
化合物（８）（３０．０ｇ、５９．５ｍｍｏｌ）、４−メトキシフェノール（８．８５ｇ、７１．３ｍｍｏｌ）をトルエン（３００ｍＬ）に溶解し、モレキュラーシーブス４Ａ（Ｗａｋｏ、６０ｇ）を加え、室温で１時間撹拌した後、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（１．２ｍＬ、６．６ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時間撹拌した。反応液にトリエチルアミン（６ｍＬ）を加えてろ過した後、ろ液を飽和重曹水（３００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮した。結晶状の残渣を２−ブタノン（６０ｍＬ）に加熱溶解後、エタノール（３００ｍＬ）を添加し、析出した結晶をろ取した。得られた粗結晶（２７．２ｇ）を２−ブタノン（６０ｍＬ）に加熱溶解し、エタノール（３００ｍＬ）を加え再結晶を行い、白色粉末状の化合物９（収量２５．５ｇ、４４．８ｍｍｏｌ、単離収率７５．３％）を得た。【０１０１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ８．０４−７．３２（１５Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．９８（２Ｈ，ｄ，ａｒｏｍａｔｉｃ，Ｊ＝９．０），６．７９（２Ｈ，ｄ，ａｒｏｍａｔｉｃ，Ｊ＝９．０），６．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３，Ｊ＝５．０，７．０）５．９０（１Ｈ，ｄ，Ｈ−２，Ｊ＝５．０），５．８０（１Ｈ，ｓ，Ｈ−１）４．８２（１Ｈ，ｍ，Ｈ−４），４．７３（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−５ａ，Ｊ＝４．５，１２．０），４．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−５ｂ，Ｊ＝４．５，１２．０），３．７６（３Ｈ，ｓ，ｍｅｔｈｙｌ）．【０１０２】
２）２，３、５−トリ−Ｏ−ベンゾイル−１−Ｏ−ｐ−メトキシフェニル−β−Ｄ−リボ−ペントフラノース（９）の合成（方法２：Ｄ−リボースを出発原料とする方法）【０１０３】
【化１５】
0005599078.tif 000017
（式中、Ｂｚはベンゾイル、Ａｃはアセチル、Ｍｅはメチルを示す）【０１０４】
Ｄ−リボース（７．５０ｇ、５０．０ｍｍｏｌ）をメタノール（３５ｍＬ）に懸濁後、濃硫酸（１２５μＬ）を滴下し、室温で２４時間撹拌した。反応液にピリジン（３６０μＬ）を加え濃縮後、残渣をジオキサン（２０ｍＬ）で２回共沸し、粗メチルリボシドを得た。【０１０５】
粗メチルリボシドをピリジン（１５ｍＬ）、トルエン（２５ｍＬ）に溶解後、氷冷下、塩化ベンゾイル（２０．０ｍＬ、１７２ｍｍｏｌ）を滴下し、５０℃で１８時間加熱撹拌した。反応液に脱イオン水（１０ｍＬ）を加え５０℃で１時間撹拌後、濃縮した。残渣に酢酸エチル（３００ｍＬ）を加え、脱イオン水（３００ｍＬ）、次いで飽和重曹水（３００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮した。残渣をジオキサン（２０ｍＬ）で２回共沸し、粗ベンゾイルエステルとした。【０１０６】
粗ベンゾイルエステルをトルエン（２５ｍＬ）に溶解し、無水酢酸（５．７０ｍＬ、６０．３ｍｍｏｌ）を加えた。濃硫酸（１．５ｍＬ）を滴下後、室温で３０分間撹拌した。酢酸ナトリウム（２．５ｇ）、脱イオン水（１０ｍＬ）を加え、室温で３０分間撹拌後、酢酸エチル（３００ｍＬ）を加え、脱イオン水（３００ｍＬ）、ついで飽和重曹水（３００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮した。残渣をジオキサン（２０ｍＬ）で２回共沸し、粗化合物８（粗収量２５．８ｇ、精製することなく次の反応に使用）とした。【０１０７】
粗化合物８（２５．８ｇ）、４−メトキシフェノール（７．４４ｇ、５９．９ｍｍｏｌ）をトルエン（２５０ｍＬ）に溶解し、モレキュラーシーブス４Ａ（５０ｇ）を加え、室温で１時間撹拌した後、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（１．０ｍＬ）を加え、室温で２６時間撹拌した。反応液にトリエチルアミン（６ｍＬ）を加えてろ過した後、ろ液を飽和重曹水（３００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮した。アメ状の残渣をエタノール（２５０ｍＬ）に溶解、撹拌し、析出した結晶をろ取した。結晶をエタノール（５０ｍＬ）で洗浄後、真空乾燥し、褐色粉末状の化合物９（収量１８．７ｇ、３２．９ｍｍｏｌ、Ｄ−リボースからの単離収率６５．８％）を得た。【０１０８】
得られた結晶（１８．７ｇ）を２−ブタノン（４０ｍＬ）に加熱溶解し、エタノール（２００ｍＬ）を加え再結晶（収量１７．０ｇ、２９．９ｍｍｏｌ、再結晶化回収率９０．９％、Ｄ−リボースからの単離収率５９．８％）。【０１０９】
３）１−Ｏ−ｐ−メトキシフェニル−β−Ｄ−リボ−ペントフラノース（３）の合成【０１１０】
【化１６】
0005599078.tif 000018
（式中、Ｂｚはベンゾイル、Ｍｅはメチルを示す）【０１１１】
化合物９（２５．０ｇ、４４．０ｍｍｏｌ）をメタノール（２５０ｍＬ）に懸濁し、ナトリウムメトキシド（１．１９ｇ、２２．０ｍｍｏｌ）を加え、  室温で２２時間撹拌した。反応液に陽イオン交換樹脂（Ｄｏｗｅｘ  ５０ＷＸ８−１００、プロトン型）を加えて中和後、ろ過により樹脂を除去し、ろ液を濃縮した。結晶状の残渣をエタノール（１０ｍＬ）に加熱溶解し、イソプロピルエーテル（２００ｍＬ）を加え、析出した結晶をろ取した。結晶をイソプロピルエーテル（５０ｍＬ）で洗浄後、真空乾燥し、白色粉末状の化合物３（１０．３ｇ、４０．２ｍｍｏｌ、収率９１．４％）を得た。【０１１２】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ６．９１（２Ｈ，ｄ，ａｒｏｍａｔｉｃ，Ｊ＝９．５），６．８４（２Ｈ，ｄ，ａｒｏｍａｔｉｃ，Ｊ＝１０．０），５．３１（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ＝１．０），５．２５（１Ｈ，ｄ，ＯＨ，Ｊ＝５．０），４．９６（１Ｈ，ｄ，ＯＨ，Ｊ＝６．０），４．６６（１Ｈ，ｔ，５−ＯＨ，Ｊ＝５．５），３．９７（２Ｈ，ｍ，Ｈ−２＆３）３．８６（１Ｈ，ｍ，Ｈ−４），４．８２（１Ｈ，ｍ，Ｈ−４），３．５３（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｈ−５ａ，Ｊ＝４．０，５．５，１１．５），３．３７（１Ｈ，ｄｔ，Ｈ−５ｂ，Ｊ＝５．５，１１．５），３．６９（３Ｈ，ｓ，ｍｅｔｈｙｌ）．【０１１３】
４）１−Ｏ−ｐ−メトキシフェニル−β−Ｄ−リボ−ペントフラノース５−モノリン酸（４）の合成（方法１：２，３位の保護基としてベンゾイル基を使用する方法）【０１１４】
【化１７】
0005599078.tif 000019
（式中、Ｂｚはベンゾイル、Ｍｅはメチルを示す）【０１１５】
化合物３（１０．４ｇ、４０．６ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（１００ｍＬ）に溶解し、イミダゾール（６．０８ｇ、８９．３ｍｍｏｌ）、ｔｅｒｔ−ブチルクロロジメチルシラン（６．７３ｇ、４４．５ｍｍｏｌ）を加え、室温で２０時間撹拌した。反応液にメタノール（１０ｍＬ）を加えて濃縮した後、残渣を酢酸エチル（２００ｍＬ）に溶解し、脱イオン水（２００ｍＬ）で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮後、残渣をピリジンで共沸（２０ｍＬ×２）し、粗シリルエーテルを得た。【０１１６】
粗シリルエーテルをピリジン（５０ｍＬ）に溶解し、氷冷下、塩化ベンゾイル（１３．０ｍＬ、１１２ｍｍｏｌ）、ジメチルアミノピリジン（２４８ｍｇ、２．０３ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時間撹拌した。反応液に脱イオン水（２０ｍＬ）を加え、室温で１時間撹拌した後、濃縮し、残渣を酢酸エチル（３００ｍＬ）に溶解した。有機層を水（３００ｍＬ）、飽和重曹水（２００ｍＬ×２）で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮した。残渣をトルエンで共沸（５０ｍＬ×３）し、粗ベンゾイルエステルを得た。【０１１７】
粗ベンゾイルエステルをメタノール（１６０ｍＬ）に溶解し、酸性フッ化アンモニウム（６．４７ｇ、１１３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間撹拌した。反応液を濃縮後、残渣を酢酸エチル（３００ｍＬ）に溶解し、飽和重曹水（３００ｍＬ）で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮した。淡黄色アメ状の粗化合物１０（精製せず、次の反応に使用）を得た。【０１１８】
粗化合物１０をジオキサン（５０ｍＬ×２）で共沸後、リン酸トリエチル（７７ｍＬ）に溶解した。アルゴン雰囲気下、−１０℃でトリブチルアミン（１３．１ｍＬ、５５．０ｍｍｏｌ）、オキシ塩化リン（４．０６ｍＬ、４３．６ｍｍｏｌ）を加え、同温度で３時間撹拌した。冷５０％アセトニトリル（１８０ｍＬ）、トリエチルアミン（３６．５ｍＬ、２６２ｍｍｏｌ）を加え、−１０℃で３０分間、室温で２時間撹拌した後、クロロホルム（３００ｍＬ）、脱イオン水（３００ｍＬ）を加え撹拌した。水層より、クロロホルム（３００ｍＬ×１０）で抽出し、有機層を合わせて濃縮した。残渣をエタノール（３６０ｍＬ）に溶解し、２８％アンモニア水（１８０ｍＬ）を加え、室温で２日間撹拌した。析出した沈殿をろ取し、エタノールで洗浄後、乾燥し、白色粉末状の化合物４（１１．６ｇ、ジアンモニウム塩として３１．３ｍｍｏｌ、化合物３から収率７７．１％）を得た。【０１１９】
１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）：δ７．１０（２Ｈ，ｄ，ａｒｏｍａｔｉｃ，Ｊ＝９．０），７．００（２Ｈ，ｄ，ａｒｏｍａｔｉｃ，Ｊ＝９．０），５．５７（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ＝２．０），４．４４（１Ｈ，ｔ，Ｈ−３，Ｊ＝６．０），４．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−２，Ｊ＝２．０，４．５），４．２２（１Ｈ，ｑ，Ｈ−４，Ｊ＝５．０），３．９５（１Ｈ，ｄｔ，Ｈ−５ａ，Ｊ＝５．０，１１．０），３．８８（１Ｈ，ｄｔ，Ｈ−５ｂ，Ｊ＝５．５，１１．０），３．８２（３Ｈ，ｓ，ｍｅｔｈｙｌ）；３１Ｐ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）：δ３．６６（ｓ）．【０１２０】
５）１−Ｏ−ｐ−メトキシフェニル−β−Ｄ−リボ−ペントフラノース５−モノリン酸（４）の合成（方法２：２，３位の保護基としてｐ−クロロベンゾイル基を使用する方法）【０１２１】
【化１８】
0005599078.tif 000020
（式中、ｐ-Ｃｌ-Ｂｚはｐ−クロロベンゾイル、Ｍｅはメチルを示す）【０１２２】
化合物３（９．００ｇ、３５．１ｍｍｏｌ）をピリジン（５７ｍＬ）に溶解し、氷冷下、ジメチルアミノピリジン（８６ｍｇ）、ｔｅｒｔ−ブチルクロロジメチルシラン（６．３６ｇ、４２．２ｍｍｏｌ）を加え、同温度で１０分間、室温で２０時間撹拌した。氷冷下、塩化ｐ−クロロベンゾイル（１０．８ｍＬ、８４．２ｍｍｏｌ）を滴下後、４０℃で２４時間撹拌した。反応液に脱イオン水（１０ｍＬ）を加え、４０℃で１時間撹拌後、濃縮し、残渣を酢酸エチル（２００ｍＬ）に溶解した。有機層を脱イオン水（２００ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２００ｍＬ×２）で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、濃縮した。残渣をトルエンで共沸（２０ｍＬ×３）し、粗ｐ−クロロベンゾイルエステルを得た。粗ｐ−クロロベンゾイルエステルをメタノール（３０ｍＬ）、アセトニトリル（３０ｍＬ）に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸（２．０ｇ）を加え、室温で５時間撹拌した。反応液にピリジン（１ｍＬ）を加え中和後、濃縮し、残渣を酢酸エチル（２００ｍＬ）に溶解した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２００ｍＬ）で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、濃縮した。残渣をジオキサンで共沸（２０ｍＬ×２）し、粗化合物１０’を得た。【０１２３】
粗化合物１０’（２３．７ｇ）をリン酸トリエチル（６６ｍＬ）に溶解し、０℃でトリブチルアミン（１１．３ｍＬ、４７．４ｍｍｏｌ）、オキシ塩化リン（３．５１ｍＬ、３７．７ｍｍｏｌ）を加え、同温度で３時間撹拌した。反応液に冷５０％アセトニトリル（１５８ｍＬ）、トリエチルアミン（３１．５ｍＬ、２２６ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１０分間、室温で４時間撹拌した後、ｎ−ブタノール：酢酸ブチル（１：１、３００ｍＬ）、脱イオン水（３００ｍＬ）を加え撹拌した。水層より、ｎ−ブタノール：酢酸ブチル（１：１、３００ｍＬ×３）で抽出し、有機層を合わせて濃縮した。残渣をエタノール（２４０ｍＬ）に溶解し、２８％アンモニア水（１２０ｍＬ）を加え、室温で２２時間撹拌した。析出した沈殿をろ取し、エタノール（３０ｍＬ×２）で洗浄後、乾燥し、白色粉末状の化合物４（８．６６ｇ、ジアンモニウム塩として２３．４ｍｍｏｌ、化合物３から６６．７％）を得た。【０１２４】
６）１−Ｏ−ｐ−メトキシフェニル−β−Ｄ−リボ−ペントフラノース５−トリリン酸（５）の合成（方法１：イミダゾリデート法）【０１２５】
【化１９】
0005599078.tif 000021
（式中、Ｍｅはメチルを示す）【０１２６】
化合物４（１３．１ｇ、ジアンモニウム塩として３５．４ｍｍｏｌ）を脱イオン水（８００ｍＬ）に溶解し、陽イオン交換樹脂（ＰＫ２１６（三菱化学社製）、プロトン型、２００ｍＬ）に通過させ、通過後の樹脂を脱イオン水で洗浄した。通過液、洗浄液をトリブチルアミン（１８．５ｍＬ、７７．７ｍｍｏｌ）に受けて中和後、濃縮し、残渣をジメチルホルムアミド（１００ｍＬ×３）で共沸した。【０１２７】
得られた化合物４のトリブチルアミン塩をジメチルホルムアミド（３５０ｍＬ）に溶解し、カルボニルジイミダゾール（１７．３ｇ、１０７ｍｍｏｌ）を加え、アルゴン雰囲気下、室温で３時間撹拌した。反応液にメタノール（２．９ｍＬ）を加えて１０分間撹拌後、ピロリン酸の３トリブチルアミン塩（５当量）のジメチルホルムアミド溶液（７５０ｍＬ）を加え、室温で１５時間撹拌した。反応液をろ過後、ろ液を濃縮した。残渣を脱イオン水に溶解し、全量を８００ｍＬとし、１Ｎ塩酸でｐＨを１．５とした。これを活性炭カラム（１Ｌ）に吸着し、水洗（５Ｌ）の後、０．２Ｎアンモニア水、２０％エタノール−０．２Ｎアンモニア水で溶出した。溶出液を濃縮後、残渣を０．２Ｎアンモニア水に溶解し、室温で終夜処理した。反応液を濃縮後、水を加えて全量を８００ｍＬとし、ＤＥＡＥセファデックスカラム（５００ｃｃ、５０〜７５〜１００〜２００〜３００ｍＭ炭酸水素アンモニウムで溶出）により精製した。化合物５を含む画分を濃縮後、残渣を水（１００ｍＬ×５）で共沸した。残渣に水を加えて全量を６００ｍＬとし、陽イオン交換樹脂カラム（ＰＫ２１６（三菱化学社製）、プロトン型、２００ｍＬ）に通過させ、通過後の樹脂を脱イオン水で洗浄した。通過液、洗浄液をトリエチルアミン（２６．０ｍＬ、１０９ｍｍｏｌ）に受けて中和後、濃縮した。残渣をジオキサン（１００ｍＬ×３）で共沸し、淡黄色アメ状の化合物５（２８３ｎｍでの紫外線吸収より、収量２５．９ｍｍｏｌ、収率７３．２％）をトリエチルアミン塩として得た。【０１２８】
１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）：δ７．１１（２Ｈ，ｄ，ａｒｏｍａｔｉｃ，Ｊ＝９．０），６．９９（２Ｈ，ｄ，ａｒｏｍａｔｉｃ，Ｊ＝９．０），５．５６（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ＝２．０），４．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３，Ｊ＝５．０，６．０），４．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−２，Ｊ＝１．５，５．０），４．２６（１Ｈ，ｑ，Ｈ−４，Ｊ＝５．０），４．１８（１Ｈ，ｄｔ，Ｈ−５ａ，Ｊ＝４．０，１１．５），４．１１（１Ｈ，ｄｔ，Ｈ−５ｂ，Ｊ＝６．０，１２．０），３．８２（３Ｈ，ｓ，ｍｅｔｈｙｌ），３．１９（Ｈ，ｑ，ＴＥＡ，Ｊ＝７．５），１．２７（Ｈ，ｔ，ＴＥＡ，Ｊ＝７．５）；３１Ｐ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）：δ−１０．８２（ｄ），−１１．２１（ｄ），−２３．１７（ｔ）．【０１２９】
＜原料合物の合成例２＞
１−Ｏ−ｐ−メトキシフェニル−β−Ｄ−リボ−ペントフラノース５−トリリン酸（５）の合成（方法２：Ｎ−メチルイミダゾリデート法）【０１３０】
【化２０】
0005599078.tif 000022
（式中、Ｍｅはメチルを示す）【０１３１】
上記で調製した化合物４（１．８５ｇ、ジアンモニウム塩として５．００ｍｍｏｌ）を脱イオン水（５０ｍＬ）に溶解し、陽イオン交換樹脂（ＰＫ２１６（三菱化学社製）、プロトン型、１０ｍＬ）に通過させ、通過後の樹脂を脱イオン水で洗浄した。通過液、洗浄液をトリエチルアミン（１．４０ｍＬ、１０．０ｍｍｏｌ）に受けて中和後、濃縮し、残渣をアセトニトリル（２０ｍＬ×３）で共沸した。【０１３２】
得られた化合物４のトリエチルアミン塩をアセトニトリル（２０ｍＬ）に溶解し、ジメチルアニリン（２．５５ｍＬ）、トリエチルアミン（０．７０ｍＬ、５．０２ｍｍｏｌ）を加え０℃に冷却した。トリフルオロ酢酸無水物（３．５５ｍＬ）のアセトニトリル溶液（５ｍＬ）を５分間かけて滴下し、０℃で５分間、室温で１０分間撹拌した。反応液を減圧下、３０℃で約１５ｍＬを留去後、Ｎ−メチルイミダゾール（１．２０ｍＬ）、トリエチルアミン（３．５０ｍＬ）のアセトニトリル溶液（５ｍＬ）を加え、０℃で１時間撹拌した。ピロリン酸の３トリブチルアミン塩（２当量）のアセトニトリル溶液（１０ｍＬ）を加え、０℃で５分間、室温で１０分間撹拌した。反応液に脱イオン水（１００ｍＬ）を加え撹拌後、７．５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ１０．０に合わせ、クロロホルム（５０ｍＬ）で３回抽出した。水層を１Ｎ塩酸でｐＨ７．０に合わせ濃縮後、脱イオン水で５００ｍＬとした（ＨＰＬＣによる分析では合成収率８１．６％）。この溶液を活性炭カラム（二村化学工業タイコー活性炭３００ｃｃ）に吸着させ、水洗後、０．２Ｎアンモニア水で溶出した。目的物を含む画分を２５０ｍＬに濃縮し、陽イオン交換樹脂（ＰＫ２１６（三菱化学社製）、プロトン型、１０ｍＬ）に通過させ、通過後の樹脂を脱イオン水で洗浄した。通過液、洗浄液をトリエチルアミン（５ｍＬ）に受けて中和後、濃縮した。残渣をアセトニトリル（２０ｍＬ×３）で共沸し、淡黄色アメ状の化合物５（ＨＰＬＣによる定量により、収量３．８６ｍｍｏｌ、収率７７．２％）をトリエチルアミン塩として得た。【０１３３】
＜原料化合物の合成例３＞
１−メチルアデノシン５’−モノリン酸（１２）の合成【０１３４】
【化２１】
0005599078.tif 000023
【０１３５】
化合物６（２０．０ｇ、５７．６ｍｍｏｌ）をジメチルアセトアミド（２００ｍＬ）に懸濁し、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（７０ｍＬ、２８６ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌後、さらにヨウ化メチル（７２ｍＬ、１．１６ｍｏｌ）を加え、室温で４３時間撹拌した。反応液を濃縮後、残渣をエタノール（２９０ｍＬ）に溶解し、トリフルオロ酢酸（２９０μＬ）を加え、氷冷下、３時間撹拌した。生じた沈殿をろ取し、冷エタノール（５０ｍＬ）で洗浄、乾燥した。得られた沈殿を水（２５００ｍＬ）に溶解し、陰イオン交換樹脂カラム（ＩＲＡ６７（ローム＆ハース社製）、ギ酸型、２００ｍＬ）に通過させ、通過後の樹脂を脱イオン水で洗浄した。通過液、洗浄液を合わせて濃縮後、エタノール（３００ｍＬ）を加え、生じた沈殿をろ取、冷エタノール（５０ｍＬ）で洗浄した。真空乾燥後、白色粉末状の化合物１２（１５．４ｇ、遊離酸として４２．６ｍｍｏｌ、収率７４．０％）を得た。【０１３６】
１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）：δ８．６６（１Ｈ，ｓ，ａｒｏｍａｔｉｃ），８．５３（１Ｈ，ｓ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．１９（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１’，Ｊ＝５．５），４．５３（１Ｈ，ｔ，Ｈ−３’，Ｊ＝４．５），４．４１（１Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｈ−４’），４．１４（２Ｈ，ｍ，Ｈ−５’），３．９４（３Ｈ，ｓ，ｍｅｔｈｙｌ）；３１Ｐ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）：δ０．５９（ｓ）．【０１３７】
実験例２：１−Ｏ−ｐ−メトキシフェニル−Ｄ−リボ−ペントフラノース保護体を得る際の反応条件の検討【０１３８】
【化２２】
0005599078.tif 000024
【０１３９】
ルイス酸およびモレキュラーシーブスの存在下、あるいは非存在下、１−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−リボ−ペントフラノース保護体とフェノール化合物と反応させ、立体異性体混合物である１−Ｏ−ｐ−メトキシフェニル−Ｄ−リボ−ペントフラノース保護体を合成し、α、β立体異性体それぞれの存在比を検討した。
エントリー１：
１−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−リボ−ペントフラノース保護体としては、Ｒがアセチルの化合物２を使用し、公知文献（ＷＯ０８／０６０６３２）に記載の方法に従って反応を行った。反応液を希釈した後、ＨＰＬＣにより分析し、α、β立体異性体それぞれの存在比、α：β比を算出した。【０１４０】
エントリー２〜５：
１−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−リボ−ペントフラノース保護体としては、Ｒがベンゾイルの化合物８を使用し、化合物８および４−メトキシフェノール（１．２当量）を有機溶媒（１０ｍＬ／１ｇの化合物８）に溶解し、モレキュラーシーブス４Ａ（Ｗａｋｏ社、２ｇ／１ｇの化合物８、または非存在下）を加え、室温で１時間撹拌した後、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（０．４ｍＬ／１ｇの化合物８）を加え、室温で２４時間撹拌した。反応液を希釈後、ＨＰＬＣにより分析し、エントリー１と同様にα：β比を算出した。【０１４１】
それぞれの条件でのα：β比を表１に示す。なお、表中の「ＴＭＳＯＴｆ」はトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルを、「ＭＳ４Ａ」はモレキュラーシーブス４Ａを示す。【０１４２】
【表２】
0005599078.tif 000025
【０１４３】
従来法（特許文献１：ＷＯ０８／０６０６３２）では、α：β比は１：３．５と、目的としていないα体が大量に生成していたのに対し（エントリー１）、モレキュラーシーブス４Ａの存在下、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルをルイス酸として用いると、その比は１：２４〜１：２７に著しく改善した（エントリー３〜５）。一方、モレキュラーシーブス非存在下では１：２．４に低下したことから（エントリー２）、この反応ではモレキュラーシーブスの存在が重要であることがわかった。