(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
球体を研磨する球体研磨装置であって、
前記球体研磨装置は、固定盤、回転盤、複数の投入口、複数の排出口、複数の連絡通路、および、同時投入装置を有し、
前記固定盤は、固定研磨面および複数の固定溝を有し、
前記固定溝は、前記固定研磨面に形成され、断面形状が半円形であり、前記固定研磨面上における形状が略円形であり、
前記複数の固定溝は、同心円状に形成され、
前記回転盤は、回転研磨面および複数の回転溝を有し、前記固定盤に対して回転し、
前記回転溝は、前記回転研磨面に形成され、断面形状が半円形であり、前記回転研磨面上における形状が略円形であり、
前記複数の回転溝は、同心円状に形成され、
前記固定盤および前記回転盤は、前記固定研磨面および前記回転研磨面が互いに対向しているとき、互いに対向する前記固定溝および前記回転溝のそれぞれにより複数の研磨溝を形成し、
前記複数の投入口のそれぞれは、前記複数の研磨溝のうちの対応する１の研磨溝に球体を投入し、
前記複数の排出口のそれぞれは、前記複数の研磨溝のうちの対応する１の研磨溝から前記球体を排出し、
前記複数の連絡通路は、隣り合う２つの研磨溝の一方から前記球体を排出する前記排出口と、前記隣り合う２つの研磨溝の他方に前記球体を投入する前記投入口とを互いに接続し、前記複数の研磨溝のうちの最も外周の研磨溝および最も内周の研磨溝の一方から前記球体を排出する前記排出口と、前記複数の研磨溝のうちの前記最も外周の研磨溝および前記最も内周の研磨溝の他方に前記球体を投入する前記投入口とを互いに接続し、これらの接続構造により、１の前記研磨溝から排出された前記球体を排出された順に次の前記研磨溝に投入し、前記複数の研磨溝の全部を順に通過させ、
前記同時投入装置は、ローラーおよびローラー制御装置を有し、前記複数の投入口に同時に前記球体を投入し、
前記ローラーは、軟質材により形成され、前記ローラーの外周部を前記球体に接触させて回転することにより、前記球体を前記投入口に投入し、
前記ローラー制御装置は、前記ローラーの回転数を制御することにより、前記複数の研磨溝に保持される前記球体の数を制御する
球体研磨装置。
【請求項２】
前記複数の連絡通路のそれぞれは、少なくとも一部に搬送管を有し、
前記搬送管は、内部がオイルにより満たされている
請求項１に記載の球体研磨装置。
【請求項３】
前記球体研磨装置は、研磨屑剥離装置を有し、
前記研磨屑剥離装置は、前記球体に付着した研磨屑を前記球体から剥離させる
請求項１または２に記載の球体研磨装置。
【請求項４】
前記連絡通路は、前記球体との接触部分がフッ素コーティングされている
請求項１〜３のいずれか一項に記載の球体研磨装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、球体研磨装置に係り、詳しくは球体供給方法に特徴を有する球体研磨装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ボールベアリングに使用される球体は、例えば、特許文献１に提示された球体研磨装置によって研磨される。この球体研磨装置は、図７（ａ）〜（ｃ）に示すように、固定研磨面１１０を備える固定盤１０１および回転研磨面１２０を備える回転盤１０２を備えている。固定研磨面１１０には断面が半円形であるとともに全体として略円形の固定溝１１１が複数同心円状に配設されており、一方回転研磨面１２０には固定溝１１１と同型の複数の回転溝１２１が、固定溝１１１とそれぞれ対向するように配設されている。これら複数の固定溝１１１と複数の回転溝１２１とが互いに対向しているため、両者により複数の研磨溝が形成されている。固定盤１０１には切り欠きが設けられているため固定溝１１１も一部が途切れている。そのため研磨溝も一部が開放されており、その開放部分の一方の端部に球体を投入する投入口Ｉ１〜Ｉ７を設け、他方の端部に球体を排出する排出口Ｏ１〜Ｏ７を設けている。
【０００３】
回転盤１０２を回転させた状態で投入口Ｉ１〜Ｉ７から球体を投入すると、球体は、研磨溝内に保持された状態で、研磨溝の内壁面、即ち、固定溝１１１および回転溝１２１の内壁面と球体とが摩擦することにより球体が研磨される。回転盤１０２の回転に伴い、研磨されつつ球体が排出口Ｏ１〜Ｏ７へと移動し、やがて排出口Ｏ１〜Ｏ７から排出される。
【０００４】
ところで、この球体研磨装置は、排出口Ｏ１〜Ｏ７から排出された球体を再び投入口Ｉ１〜Ｉ７に供給する球体供給装置１０３を更に備えている。図８も併せて参照して、この供給装置は略有底短円筒状の底部に回転するコンベア１３１が配設されており、排出口Ｏ１〜Ｏ７から延設された排出シュート１０４から供給された球体をコンベア１３１によって移動させることにより、投入口Ｉ１〜Ｉ７から延設された投入シュート１０５を介して球体を再び投入口Ｉ１〜Ｉ７に供給する。球体研磨装置はこの球体供給装置１０３を備えているため、球体を必要回数だけ連続的に研磨することができる。
【０００５】
ところで、この球体供給装置によると、排出口Ｏ１〜Ｏ７から排出された球体はコンベア１３１上で互いに交じり合った状態で投入口Ｉ１〜Ｉ７に供給されるため、各々の球体の研磨の程度にバラつきが生じる。特許文献１によると、図９に示すように、シュート（投入シュート１０５に該当）の一部に凹部１４１を設けて、そこに球体をプールして溝付きシュートの溝に流すようにしたものであり、凹部１４１によってコンベアから流れて来た球体にブレーキがかかり多く流れて来た側の球体が少ない側に移動してシュートの幅全体に平均し、均一に１列に並ぶようになるため、各球体の盤を通過する回数のバラツキが小さくなり、ロットの相互差を小さくすることが出来る旨、記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−３１８８１４
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、「シュートの幅全体に平均し、均一に１列に並ぶようになる」としても、既にコンベア上で投入回数の異なる球体が交じり合う以上、ばらつきは生じることとなり、「球体の盤を通過する回数のバラツキが小さく」なる効果は不十分である。
【０００８】
本発明は、かかる状態を鑑みてなされたものであり、上記従来に比して、一層球体間の研磨ばらつきを抑制することができる球体研磨装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
〔１〕本球体研磨装置の独立した一形態は、次の事項を有する。前記球体研磨装置は、固定盤、回転盤、複数の投入口、複数の排出口、複数の連絡通路、および、同時投入装置を有し、前記固定盤は、固定研磨面および複数の固定溝を有し、前記固定溝は、前記固定研磨面に形成され、断面形状が半円形であり、前記固定研磨面上における形状が略円形であり、前記複数の固定溝は、同心円状に形成され、前記回転盤は、回転研磨面および複数の回転溝を有し、前記固定盤に対して回転し、前記回転溝は、前記回転研磨面に形成され、断面形状が半円形であり、前記回転研磨面上における形状が略円形であり、前記複数の回転溝は、同心円状に形成され、前記固定盤および前記回転盤は、前記固定研磨面および前記回転研磨面が互いに対向しているとき、互いに対向する前記固定溝および前記回転溝のそれぞれにより複数の研磨溝を形成し、前記複数の投入口のそれぞれは、前記複数の研磨溝のうちの対応する１の研磨溝に球体を投入し、前記複数の排出口のそれぞれは、前記複数の研磨溝のうちの対応する１の研磨溝から前記球体を排出し、前記複数の連絡通路は、隣り合う２つの研磨溝の一方から前記球体を排出する前記排出口と、前記隣り合う２つの研磨溝の他方に前記球体を投入する前記投入口とを互いに接続し、前記複数の研磨溝のうちの最も外周の研磨溝および最も内周の研磨溝の一方から前記球体を排出する前記排出口と、前記複数の研磨溝のうちの前記最も外周の研磨溝および前記最も内周の研磨溝の他方に前記球体を投入する前記投入口とを互いに接続し、これらの接続構造により、１の前記研磨溝から排出された前記球体を排出された順に次の前記研磨溝に投入し、前記複数の研磨溝の全部を順に通過させ、前記同時投入装置は、ローラーおよびローラー制御装置を有し、前記複数の投入口に同時に前記球体を投入し、前記ローラーは、軟質材により形成され、前記ローラーの外周部を前記球体に接触させて回転することにより、前記球体を前記投入口に投入し、前記ローラー制御装置は、前記ローラーの回転数を制御することにより、前記複数の研磨溝に保持される前記球体の数を制御する。
〔２〕前記球体研磨装置に従属する一形態は、次の事項を有する。前記複数の連絡通路のそれぞれは、少なくとも一部に搬送管を有し、前記搬送管は、内部がオイルにより満たされている。
〔３〕前記球体研磨装置に従属する一形態は、次の事項を有する。前記球体研磨装置は、研磨屑剥離装置を有し、前記研磨屑剥離装置は、前記球体に付着した研磨屑を前記球体から剥離させる。
〔４〕前記球体研磨装置に従属する一形態は、次の事項を有する。前記連絡通路は、前記球体との接触部分がフッ素コーティングされている。
【００１０】
〔１〕の球体研磨装置によれば、以下の効果が得られる。
（ａ）１の研磨溝から排出された球体が、同一の研磨溝に繰り返し投入されることがない。
（ｂ）各球体が各研磨溝により研磨される回数が略同じ回数になる。このため、各研磨溝の研磨特性にばらつきが存在している場合においても、球体の研磨状態が平均化されやすくなる。
（ｃ）球体が研磨溝に投入される回数、すなわち、研磨が研磨溝により研磨される回数を制御することが可能になる。このため、球体の研磨状態のばらつきをより小さくすることが可能になる。
（ｄ）球体が研磨溝に投入されるときに球体にかかる圧力が小さくなる。このため、球体にかかる圧力に起因して、球体に瑕が生じることが抑制される。
（ｅ）固定盤および回転盤に一定圧力がかけられた場合において、球体が研磨されるときに１つの球体あたりにかかる圧力が一定になる。このため、研磨される全ての球体が同じ圧力を受ける。このため、球体の研磨状態のばらつきがより小さくなる。
【００１１】
〔３〕の球体研磨装置によれば、以下の効果が得られる。
球体が研磨溝に投入される前に研磨屑が除去されるため、研磨により球体が傷つくことが抑制される。
【００１２】
〔４〕の球体研磨装置によれば、以下の効果が得られる。
球体が排出口から投入口に輸送されるときの摩擦抵抗が小さいため、球体がスムーズに輸送される。また、連絡通路内において球体が傷つきにくくなる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、上記従来に比して、一層球体間の研磨ばらつきを抑制することができる球体研磨装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】実施形態の球体研磨装置の斜視図。
【図２】実施形態の同時投入装置の斜視図。
【図３】図２のＡ−Ａ線の断面図。
【図４】変形例のシュートの断面図。
【図５】実施例１の検査結果であって、相互差および直径不同を示すグラフ。
【図６】比較例１の検査結果であって、相互差および直径不同を示すグラフ。
【図７】（ａ）従来の球体研磨装置の斜視図。（ｂ）固定盤の固定研磨面を示す平面図。（ｃ）回転盤の回転研磨面を示す平面図。
【図８】従来の球体研磨装置の平面図。
【図９】従来の投入シュートの斜視図。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明を具体化した球体研磨装置の一実施形態を図１〜図４にしたがって説明する。
この球体研磨装置は、図１に示すように、固定研磨面１０を備える固定盤１および回転研磨面２０を備える回転盤２を備えている。固定研磨面１０には断面が半円形であるとともに全体として略円形の固定溝１１が複数同心円状に配設されており、一方回転研磨面２０には固定溝１１と同型の複数の回転溝が、固定溝１１とそれぞれ対向するように配設されている。これら複数の固定溝１１と複数の回転溝とが互いに対向しているため、両者により複数の研磨溝が形成されている。固定盤１には切り欠きが設けられているため固定溝１１も一部が途切れている。そのため研磨溝も一部が開放されており、その開放部分の一方の端部に球体を投入する投入口Ｉ１〜Ｉ７を設け、他方の端部に球体を排出する排出口Ｏ１〜Ｏ７を設けている。
【００２２】
回転盤２を回転させた状態で投入口Ｉ１〜Ｉ７から球体を投入すると、球体は、研磨溝内に保持された状態で、研磨溝の内壁面、即ち、固定溝１１および回転溝の内壁面と球体とが摩擦することにより球体が研磨される。回転盤２の回転に伴い、研磨されつつ球体が排出口Ｏ１〜Ｏ７へと移動し、やがて排出口Ｏ１〜Ｏ７から排出される。
【００２３】
更に、この球体研磨装置は、複数の研磨溝のうちの１の溝から排出口Ｏ１〜Ｏ７を介して排出された球体が、投入口Ｉ１〜Ｉ７を介して複数の研磨溝の他の溝に投入されるように排出口Ｏ１〜Ｏ７と投入口Ｉ１〜Ｉ７を連絡する複数の連絡通路３を更に備えている。また、複数の連絡通路３は、球体が、複数の研磨溝の全てを順に通過するようにそれぞれ配されていることを特徴とする。
【００２４】
より具体的には、固定盤１の切欠き部の１方端に設けられた排出口Ｏ１〜Ｏ７の各々から搬送管３１を延設する。この搬送管３１内はオイルで満たされているため、搬送管３１内で球体同士がぶつかり合うことにより傷つくことが抑制されている。また、この搬送管３１の内部はフッ素コーティングされているため、摩擦抵抗が小さく、球体が管壁との摩擦により傷つくことをも防止されている。この搬送管３１はエレベータ３２にそれぞれ接続されており、搬送された球体は各々所定の高さまで、上昇させられる。なお、研磨溝内部に供給され、球体とともに搬送管３１内部に流入した切削液はこのエレベータ３２により球体が上昇させられる過程において自然落下するが、エレベータ３２の上昇経路上に圧搾空気を球体に吹き付けることができる空気吹付装置３４が備えられており、空気を吹き付けることにより研磨屑を球体から剥離させる。即ち、この空気吹付装置３４が、研磨屑剥離装置として機能する。
【００２５】
エレベータ３２の上部からは各々の球体を投入口Ｉ１〜Ｉ７へ供給する供給管３３が、投入口Ｉ１〜Ｉ７に向って各々延設されており、投入口Ｉ１〜Ｉ７では、各々の供給管３３は同時投入装置を介して各々研磨溝に接続されている。この供給管３３内もオイルで満たされているため、供給管３３内で球体同士がぶつかり合うことにより傷つくことも抑制されている。また、供給管３３の内周面もフッ素コーティングされている。このように、上述の連絡通路３は搬送管３１、エレベータ３２および供給管３３から構成されている。
【００２６】
同時投入装置５０は複数の研磨溝の各溝に同時に球体を投入するための装置であって、より具体的には、図２に示すように、一方の端部を各々の研磨溝に、他方の端部を各々の供給管３３に接続された複数の溝５１を備えるシュート５とローラー５２とを備えている。このローラー５２は、図３に示すように、複数の溝５１に各々供給された球体に外周部を接触させて回転することにより球体を投入口Ｉ１〜Ｉ７から投入する。このローラー５２は溝５１の幅方向に１列に並んだ球体を同時に各々の研磨溝に投入するため、球体の投入時に各々の球体に掛る圧力を最小にすることができる。従って投入時に球体に過剰な圧力が掛ることによって生じる瑕の発生を抑制することができる。また、ローラー５２は少なくとも外周部がウレタンで形成されているため、ローラー５２の外周部が球体に接触することにより球体が傷つくことも防止される。またこのローラー５２はローラー制御装置５３によりその回転を制御されているため、複数の研磨溝に保持される球体の数を容易に制御することができる。つまりこのローラー５２とローラー制御装置５３とによって、複数の研磨溝に保持された前記球体の数を所望の一定数に制御する球体数制御機構が構成されている。
【００２７】
上述のように、搬送管３１、エレベータ３２、供給管３３によって、複数の連絡通路３が形成されている。この複数の連絡通路３は研磨溝と同数設けられる。そして、複数の研磨溝の１の溝から排出口Ｏ１〜Ｏ７を介して排出された球体が、投入口Ｉ１〜Ｉ７を介して複数の研磨溝の他の溝に投入されるように排出口Ｏ１〜Ｏ７と投入口Ｉ１〜Ｉ７とを連絡している。更に、複数の連絡通路３は、球体が、複数の研磨溝の全てを順に通過するようにそれぞれ配されている。具体的に説明する。例えば、研磨溝が７本ある場合、外周側から順にＬ１〜Ｌ７とする。同様にＬ１〜Ｌ７に対応する投入口を、図１に示すように、各々Ｉ１〜Ｉ７、排出口をＯ１〜Ｏ７とする。ここで、一端（搬送管３１側）を排出口Ｏ１に接続された1の連絡通路３は、他端（供給管３３側）をシュート５を介して投入口Ｉ
２に接続されている。同様に、一端（搬送管３１側）を排出口Ｏ２に接続された1の連絡
通路３は、他端（供給管３３側）をシュート５を介して投入口Ｉ３に接続されている。以後、他の連絡通路３も同様に接続されており、一端（搬送管３１側）を排出口Ｏ７に接続された１の連絡通路３は他端（供給管３３側）をシュート５を介して投入口Ｉ１に接続さ
れている。このように、球体が複数の研磨溝の全てを順に通過するように、複数の連絡通路３は、それぞれ配設されている。
【００２８】
ここで、研磨溝は上述のように固定盤１に設けられた固定溝１１と回転盤２に設けられた回転溝とによって形成されているため、固定溝１１および回転溝が同心円状に配設されている関係上、外周側から内周側に向うにつれて、即ちＬ１からＬ７に向うにつれて、短くなる。従来においては、各球体がいずれの研磨溝を通過するかについては偶然に任されていたため、長い研磨溝を通過した球体は研磨の程度が大きく、短い研磨溝を通過した球体は研磨の程度が小さい結果であった。研磨を繰り返すことによって平均値としては、一定の研磨程度の球体が得られるとしても、全体としてばらつきが大きくなっていた。本実施形態においては、研磨する全ての球体が研磨溝の全てを順に通過するため、研磨程度のばらつきを小さくすることが可能となる。また、研磨溝の長さの長短以外のばらつきがあった場合においても同様の効果が得られる。
【００２９】
上記実施形態の球体研磨装置によれば、以下のような効果を得ることができる。
（１）上記実施形態では、複数の研磨溝のうちの１の溝（例えば、研磨溝Ｌ１）から排出口（例えば、排出口Ｏ１）を介して排出された球体が、投入口（例えば、投入口Ｉ２）を介して複数の研磨溝の他の溝（例えば、研磨溝Ｌ２）に投入されるように排出口と投入口を連絡する複数の連絡通路３を備える。従って、ある研磨溝（例えば、研磨溝Ｌ１）から出た球体は、確実に他の研磨溝（例えば、研磨溝Ｌ２）に投入され、同一の研磨溝（例えば、研磨溝Ｌ１）に繰り返し投入され、研磨されることはない。また、複数の連絡通路３は、球体が、複数の研磨溝の全てを順に通過するようにそれぞれ配されているため、どの球体も、全部の研磨溝Ｌ１〜Ｌ７に略同一回数保持されることにより研磨される。そのため、各々の研磨溝の研磨特性にばらつきがあった場合においても、研磨回数を増やすことにより全ての球体を平均的な研磨状態とすることができる。また、球体が、複数の研磨溝Ｌ１〜Ｌ７の全てを順に通過するようにそれぞれ配されているため、球体の投入回数、即ち、研磨回数も完全に制御することができるので、球体の研磨状態のばらつきを一層小さくすることが可能となる。
【００３０】
（２）上記実施形態では、投入口Ｉ１〜Ｉ７には複数の研磨溝の各溝に同時に球体を投入するための同時投入装置５０が設けられているため、球体の投入時に各々の球体に掛る圧力を最小にすることができる。従って投入時に球体に過剰な圧力が掛ることによって生じる瑕の発生を抑制することができる。
【００３１】
（３）上記実施形態では、複数の研磨溝に保持された球体の数を所望の一定数に制御する球体数制御機構を備えるため、研磨溝に保持された球体の数を研磨時に一定数に保つことができる。従って、固定盤１と回転盤２とに一定圧力をかけた場合において、球体１つあたりに掛かる圧力が研磨時において同一となる。その結果、研磨される全ての球体が常に同一圧力を受けつつ研磨されるため、球体の研磨状態のばらつきをより一層小さくすることが可能となる。
【００３２】
（４）上記実施形態では、球体に外周部を接触させて回転することにより球体を投入口Ｉ１〜Ｉ７から投入するローラー５２を備えるため、ローラー５２の回転により容易に球体を同時投入できる。またローラー５２の回転数を制御することにより、複数の研磨溝に保持された球体の数を容易に所望の一定数に制御できる。
【００３３】
（５）上記実施形態では、同時投入装置５０は球体に外周部を接触させて回転することにより球体を投入口Ｉ１〜Ｉ７から投入するローラー５２とローラー５２の回転数を制御するローラー制御装置５３とを備える。そのため、ローラー制御装置５３によりローラー５２の回転数を制御することにより、複数の研磨溝Ｌ１〜Ｌ７に保持された球体の数を容易に所望の一定数に制御できる。
【００３４】
（６）上記実施形態では、連絡通路３中のエレベータ３２には球体に付着した研磨屑を当該球体より剥離させる研磨屑剥離装置として機能する空気吹付装置３４が設けられているため、エレベータ３２を通過した球体は、研磨屑が除かれた状態で再び研磨されるため、研磨屑により球体が傷つくことを防止できる。
【００３５】
（７）上記実施形態では、連絡通路３を構成する搬送管３１および供給管３３の球体と接触する部分はフッ素コーティングされているため、球体を排出口Ｏ１〜Ｏ７から投入口Ｉ１〜Ｉ７へ輸送する際の摩擦抵抗が小さくなり、輸送がスムーズとなる。また、連絡通路３内において球体が傷つくことを防止できる。
【００３６】
なお、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態においては、連絡通路３のうち、搬送管３１および供給管３３の内周面、即ち球体と接触する部分がフッ素コーティングされているが、他の構成であっても良い。要は、鋼球の傷が防止できれば良いのであるから、他の潤滑方法を採っても良いし、一方のみコーティングしても良い。また連絡通路３内において球体に傷がつくことが問題とならなければ、コーティングを割愛し、コストダウンを図っても良い。
【００３７】
・上記実施形態においては、研磨により発生し、前記球体に付着した研磨屑を球体より剥離させる研磨屑剥離装置としての空気吹付装置３４がエレベータ３２に設けられているが、他の構成であっても良い。例えば、設置上問題が生じなければ、エレベータ３２でなくとも連絡通路３上のどこに設けても良い。また、研磨屑を球体より剥離させれば良いのであるから、空気吹付装置３４に換えて、洗油等による洗浄装置等を設けても良い。
【００３８】
・上記実施形態においては、同時投入装置５０は球体に外周部を接触させて回転することにより球体を投入口Ｉ１〜Ｉ７から投入するローラー５２を備えているが、他の構成であっても良い。要は球体を同時投入できれば良いのであるから、例えば、シュート５上に、閉状態において球体の通行を妨げる開閉自在な邪魔板を設け、係る邪魔板の開閉により、球体を同時投入しても良い。
【００３９】
・上記実施形態においては、ローラー５２が球体に接する部分において、溝５１がローラー５２の形状に対応して湾曲しているが、例えば図４に示すように、係る湾曲はなくても良い。ローラー５２が外周部を球体に接触させて回転することにより球体を投入口Ｉ１〜Ｉ７に投入することができれば、形状が特に限定されることはない。
【００４０】
・上記実施形態においては、ローラー５２はウレタンでできているが他の構成であっても良い。球体に傷をつけなければ良いのであるから、ゴム等の他の軟質材を使用しても良い。
・上記実施形態においては、同時投入装置５０は球体に外周部を接触させて回転することにより球体を投入口Ｉ１〜Ｉ７から投入するローラー５２と同ローラーの回転数を制御するローラー制御装置５３とを備え、ローラー制御装置５３によりローラー回転数を制御することにより、複数の研磨溝に保持された球体の数を制御しているが、他の構成であっても良い。複数の研磨溝に保持された球体の数を制御できるのであれば良いので、例えば、投入口Ｉ１〜Ｉ７と排出口Ｏ１〜Ｏ７とにセンサーおよびカウンターをつけての研磨溝に保持された球体の数を算出し、算出結果に基づいて球体の投入数を直接制御しても良い。
【００４１】
上記構成によると、複数の研磨溝に保持された球体の数を所望の一定数に制御する球体数制御機構を備えるため、研磨溝に保持された球体の数を研磨時に一定数に保つことができる。従って、固定盤１と回転盤２とに一定圧力をかけた場合において、球体１つあたりに掛かる圧力が研磨時において同一となる。その結果、研磨される全ての球体が常に同一圧力を受けつつ研磨されるため、球体の研磨状態のばらつきをより一層小さくすることが可能となる。要は、研磨される球体１個当たりが常に同一圧力を受けつつ研磨されれば、球体の研磨状態のばらつきをより一層小さくすることが可能となるのであるから、他の構成であっても良い。例えば、研磨溝に保持された球体の数に対応して、固定盤１と回転盤２とにかける圧力を変動させる構成であっても良い。
【００４２】
・上記実施形態においては、投入口Ｉ１〜Ｉ７には複数の研磨溝の各溝に同時に球体を投入するための同時投入装置５０が設けられているが、他の構成であっても良い。球体の投入時に各々の球体に掛る圧力を最小にし、球体に過剰な圧力が掛ることによって生じる傷の発生を抑制することが目的であるため、かかる傷の発生を抑制できるのであれば他の方法を採っても良い。また、投入時の傷発生が問題とならないのであれば、同時投入装置５０を割愛し、コストダウンを図っても良い。
【実施例１】
【００４３】
上記実施形態において述べた球体研磨装置を用いた球体研磨の実施例を以下に示す。
〔球体研磨装置と研磨方法〕
鋳鉄製の固定盤、砥石材料で形成した回転盤を使用し、それぞれ同心円状に７本の研磨溝を形成した。複数の連絡通路は、球体が、複数の研磨溝の全てを外周側から順に通過するようにそれぞれ配設した。係る球体研磨装置に、研磨する球体として直径が３／８ｉｎｃｈより大きい鋼球を７列同時に投入し、同時に研磨溝内に保持される球体数が一定となるように投入速度を調整した。固定盤と回転盤は一定圧で加圧したため、球体１個当たりに掛かる圧力も一定の状態で研磨された。また回転盤の回転数も研磨工程全般にわたり一定に保たれた。この球体研磨装置によって鋼球の平均直径が基準となる大きさまで研磨された。この過程において１時間ごとに２０個の球体を各列からサンプリングし、以下の測定・算出をした。
【００４４】
〔直径の測定〕
各球体をマイクロメータでランダムに５箇所測定する。
〔最大値〕
上記５箇所の測定結果の平均値を球体の平均直径とする。同時にサンプリングした２０個の球体のうち、平均直径が最も大きい値を最大値とする。
【００４５】
〔最小値〕
上記５箇所の測定結果の平均値を球体の平均直径とする。同時にサンプリングした２０個の球体のうち、平均直径が最も小さい値を最小値とする。
【００４６】
〔平均値〕
上記５箇所の測定結果の平均値を球体の平均直径とする。同時にサンプリングした２０個の球体の平均直径の平均を求め、平均値とする。
【００４７】
〔相互差〕
上記最大値と上記最小値との差を相互差とする。この算出結果を図５に示す。
〔直径不同〕
一つの球体の上記５箇所の直径の測定値のうち、最大直径と最小直径の差分を直径不同とする。更に、同時にサンプリングした２０個の球体の直径不同の平均を求め、平均直径不同とする。この算出結果を図５に示す。
【００４８】
（比較例１）
複数の連絡通路の代わりに従来使用されているコンベアによって移動させることにより、投入口から延設された投入シュートを介して球体を再び投入口に供給する球体供給装置を用いた以外は同構造の球体研磨装置を用いて、球体を研磨した。このときの投入速度は実施例1と同様になるように調整した。また、同時に研磨溝内に保持される球体数も実施例1と同様になるように調整した。固定盤と回転盤は一定圧で加圧したため、球体１個当たりに掛かる圧力も一定の状態で研磨された。また回転盤の回転数も研磨工程全般にわたり一定に保たれた。この球体研磨装置によって鋼球の平均直径が基準となる大きさまで研磨された。この過程において１時間ごとに２０個の球体を各列からサンプリングし、実施例１と同様に〔直径の測定〕、〔最大値〕、〔最小値〕、〔平均値〕、〔相互差〕、〔直径不同〕を測定ないしは算出した。〔相互差〕および〔直径不同〕算出結果を図６に示す。
【００４９】
（比較結果）
図５と図６とを比較すると、相互差、直径不同はいずれも実施例１の方が好転している。特に相互差は比較例１に対して１／２以下となっており、球体同士のばらつきが大きく減少したことがわかる。また、相互差、直径不同のいずれにおいても顕著であった経時的なばらつき（グラフの波うち）も減少している。従って、実施例１と比較例１との比較より、本実施例において比較例に比して、球体間の研磨ばらつきを抑制することができたと言える。
【産業上の利用可能性】
【００５０】
本発明は、球体供給装置に特徴を有する球体研磨装置に関するものであるので、ベアリング等に使用する球体作成用の球体研磨装置として広く利用することが可能である。
【符号の説明】
【００５１】
１・・・固定盤、２・・・回転盤、３・・・連絡通路、５・・・シュート、１０・・・固定研磨面、１１・・・固定溝、２０・・・回転研磨面、３１・・・搬送管、３２・・・エレベータ、３３・・・供給管、３４・・・空気吹付装置、５０・・・同時投入装置、５１・・・溝、５２・・・ローラー、５３・・・ローラー制御装置、１０１・・・固定盤、１０２・・・回転盤、１０３・・・球体供給装置、１０４・・・排出シュート、１０５・・・投入シュート、１１０・・・固定研磨面、１１１・・・固定溝、１２０・・・回転研磨面、１２１・・・回転溝、１３１・・・コンベア、１４１・・・凹部、Ｉ１〜Ｉ７・・・投入口、Ｏ１〜Ｏ７・・・排出口。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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