(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光線を出射する光源と、
移動平面に沿って前記光線が移動するように、前記光線を反射させる反射機構と、
前記移動平面上に配設され、前記反射機構によって反射された前記光線の受光に応じて、前記光線の照射タイミングを調整するための受光信号を出力する受光素子と、
前記受光素子の前記移動平面に対して直交する方向の変位を規制する規制機構と、
前記受光信号に応じて前記光源を制御する制御基板と、を備え、
前記規制機構は、前記光源を保持する保持部と、前記移動平面を横切る凹状の第１切欠部と、を有する保持板を含み、
前記受光素子は、前記制御基板に搭載され、
前記受光素子が前記第１切欠部内の底部に接触するように、前記制御基板は、前記保持板に接続され、
前記保持板は、前記制御基板に形成された貫通穴に挿入されるボスを含み、
前記制御基板が前記ボス周りに回転するならば前記受光素子が挿入されるように、前記第１切欠部が形成されていることを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記第１切欠部は、前記移動平面に対して交差する一対の第１交差面と、前記一対の第１交差面の間で前記受光素子と接触する第１接触面と、を含むことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記規制機構は、前記第１接触面に前記受光素子を押しつける第１押圧部を含むことを特徴とする請求項２に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記保持板は、前記移動平面を横切る凹状の第２切欠部を含み、
前記光源が前記第２切欠部内の底部に接触するように、前記制御基板は前記保持板に接続されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項５】
前記第２切欠部は、前記移動平面に対して交差する一対の第２交差面と、前記一対の第２交差面の間で前記光源と接触する第２接触面と、を含むことを特徴とする請求項４に記載の光走査装置。
【請求項６】
前記規制機構は、前記第２接触面に前記光源を押しつける第２押圧部を含むことを特徴とする請求項５に記載の光走査装置。
【請求項７】
前記制御基板が前記ボス周りに回転するならば前記光源が挿入されるように前記第２切欠部が形成されていることを特徴とする請求項４乃至６のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項８】
前記反射機構が収容される収容空間を規定する内面と、前記内面とは反対側の外面と、を有する筐体を更に備え、
前記制御基板は、前記外面に対向して配設され、
前記筐体は、前記保持板を含むことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項９】
前記ボス周りの前記制御基板の回転を制限するように、前記制御基板を前記保持板に対して固定する固定具を更に備えることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の光走査装置を備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光線を照射する光走査装置及び光線の照射によって形成された静電潜像を用いて画像を形成する画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリンターや複写機といった画像形成装置は、多くの場合、トナー画像を担持する周面を有する感光体ドラムと、感光体ドラムの周面に光線を照射する光走査装置と、を備える。光走査装置が光線を感光体ドラムの周面に照射するならば、感光体ドラムの周面には、光走査装置が光線を照射した領域と光線が照射されていない領域との間で電位差が生ずる。したがって、光走査装置が、画像データに従って、光線を出射するならば、感光体ドラムの周面には、画像データに対応した静電潜像が形成される。静電潜像が形成された感光体ドラムの周面にトナーが供給されるならば、トナーは、感光体ドラム上の電位差に従って分布する。この結果、トナー画像が感光体ドラムの周面に形成される。感光体ドラム上のトナー画像は、その後、シートに静電気的に転写される。
【０００３】
光走査装置は、典型的には、レーザー光線を出射するレーザー光源と、レーザー光源を主走査方向の移動させるように回転するポリゴンミラーと、を有する。ポリゴンミラーの回転角度に応じて、感光体ドラムの周面上におけるレーザー光線の照射点の位置が主走査方向に定められる。
【０００４】
静電潜像の形成のために、感光体ドラムも回転する。この結果、感光体ドラムの周面上におけるレーザー光線の照射点の位置が副走査方向に定められる。
【０００５】
レーザー光線の出射タイミングは、ポリゴンミラー及び感光体ドラムの回転位置に応じて調整される。光走査装置は、典型的には、ポリゴンミラーによって反射されたレーザー光線を受光する受光素子を備える（特許文献１及び２を参照）。ポリゴンミラーが所定の回転位置にあるならば、受光素子は、レーザー光線を受光する。レーザー光源は、受光素子の受光タイミングと画像データとに応じて、適時に、レーザー光線を出射する。
【０００６】
受光素子が適切にレーザー光線を受光するならば、画像の形成のために、副走査方向に概念的に並べられた書込ラインの開始位置は、副走査方向に揃う。特許文献１は、受光素子へ向かうレーザー光線の光軸に対して受光素子を位置決めする技術を開示する。特許文献２は、主走査方向における受光素子の位置決め技術を開示する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平２−１１８６１２号公報
【特許文献２】特開平１１−２３９８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ポリゴンミラーの回転に応じて移動する光線によって規定される移動平面上に受光素子が存在するならば、受光素子は、レーザー光線を受光することができる。一方、受光素子が移動平面から外れるならば、受光素子はレーザー光線を全く受信できなくなる。受光素子がレーザー光線を受光しないならば、画像形成装置の画像形成機能は完全に損なわれる。この結果、例えば、画像形成装置は、白紙のままシートを出力する。或いは、画像形成装置は、全体的に黒色の画像が形成されたシートを出力する。
【０００９】
上述の開示技術は、画像形成機能を完全に損なう受光素子の位置決めに係る課題に取り組むものではない。
【００１０】
本発明は、静電潜像の形成に用いられる光線の照射タイミングを調整するための受光素子が適切に光線を受光することができるように、受光素子を位置決めする構造を有する光走査装置及び当該光走査装置が組み込まれた画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の一実施形態に係る光走査装置は、移動平面に沿って光線が移動するように、前記光線を反射させる反射機構と、前記移動平面上に配設され、前記反射機構によって反射された前記光線の受光に応じて、前記光線の照射タイミングを調整するための受光信号を出力する受光素子と、前記移動平面に対する前記受光素子の変位を規制する規制機構と、を備えることを特徴とする。
【００１２】
上記構成によれば、反射機構は、移動平面に沿って光線が移動するように、光線を反射させる。移動平面状に配設された受光素子は、反射機構によって反射された光線の受光に応じて、光線の照射タイミングを調整するための受光信号を出力する。規制機構は、移動平面に対する受光素子の変位を規制する。規制機構は、受光素子を移動平面から外れにくくするので、受光素子は、反射機構によって反射された光線を適切に受光することができる。
【００１３】
上記構成において、前記規制機構によって規制される前記受光素子の前記変位は、前記移動平面に対して直交する方向であることが好ましい。
【００１４】
上記構成によれば、規制機構は、受光素子を、移動平面に対して直交する方向に規制するので、受光素子は、移動平面から外れにくくなる。したがって、受光素子は、反射機構によって反射された光線を適切に受光することができる。
【００１５】
上記構成において、前記光走査装置は、前記光線を出射する光源と、前記受光信号に応じて前記光源を制御する制御基板と、を更に備え、前記規制機構は、前記光源を保持する保持部と、前記制御基板に対向する対向面と、該対向面から突出する突出部と、を有する保持板を含み、前記制御基板に搭載された前記受光素子が前記移動平面に対して変位するならば、前記突出部は、前記受光素子に接触することが好ましい。
【００１６】
上記構成によれば、制御基板は、受光素子からの受光信号に応じて、光源を制御するので、光線の照射タイミングは適切に調整される。制御基板に搭載された受光素子が移動平面に対して変位するならば、制御基板に対向する対向面から突出する突出部は、受光素子に接触する。したがって、受光素子は、移動平面から外れにくくなる。
【００１７】
上記構成において、前記突出部は、前記受光素子を挟む一対の瘤部を含むことが好ましい。
【００１８】
上記構成によれば、制御基板に搭載された受光素子が移動平面に対して変位するならば、受光素子を挟む一対の瘤部のうち一方は、受光素子に接触する。したがって、受光素子は、移動平面から外れにくくなる。
【００１９】
上記構成において、前記保持板は、前記受光素子への前記光線の通過を許容する透光部を含み、該透光部は、前記一対の瘤部の間に形成されることが好ましい。
【００２０】
上記構成によれば、反射機構によって反射された光線は、一対の瘤部の間に形成された透光部を通じて、受光素子へ到達する。したがって、受光素子は、反射機構によって反射された光線を適切に受光することができる。
【００２１】
上記構成において、前記光走査装置は、前記光線を出射する光源と、前記受光信号に応じて前記光源を制御する制御基板と、を更に備え、前記規制機構は、前記光源を保持する保持部と、前記移動平面を横切る第１切欠部を規定する第１切欠面と、を有する保持板を含み、前記受光素子は、前記制御基板に搭載され、前記受光素子が前記第１切欠面に接触するように、前記制御基板は、前記保持板に接続されることが好ましい。
【００２２】
上記構成によれば、制御基板は、受光素子からの受光信号に応じて、光源を制御するので、光線の照射タイミングは適切に調整される。光源を保持する保持板には、移動平面を横切る第１切欠部が形成される。制御基板に搭載された受光素子が第１切欠部を規定する第１切欠面に接触するように、制御基板は、保持板に接続される。したがって、受光素子は、移動平面から外れにくくなる。
【００２３】
上記構成において、前記第１切欠面は、前記移動平面に対して交差する一対の第１交差面と、該一対の第１交差面の間で前記受光素子と接触する第１接触面と、を含み、前記規制機構は、前記第１接触面に前記受光素子を押しつける第１押圧部を含むことが好ましい。
【００２４】
上記構成によれば、第１接触面は、移動平面に対して交差する一対の第１交差面の間で受光素子と接触する。また、第１押圧部は、第１接触面に受光素子を押しつける。したがって、受光素子は、移動平面から外れにくくなる。
【００２５】
上記構成において、前記保持板は、前記移動平面を横切る第２切欠部を規定する第２切欠面を含み、前記光源は、前記制御基板に搭載され、前記光源が前記第２切欠面に接触するように、前記制御基板は前記保持板に接続されることが好ましい。
【００２６】
上記構成によれば、制御基板に搭載された光源が第２切欠部を規定する第２切欠面に接触するように、制御基板は、保持板に接続される。したがって、光源は、適切に位置決めされる。
【００２７】
上記構成において、前記第２切欠面は、前記移動平面に対して交差する一対の第２交差面と、該一対の交差面の間で前記光源と接触する第２接触面と、を含み、前記規制機構は、前記第２接触面に前記光源を押しつける第２押圧部を含むことが好ましい。
【００２８】
上記構成によれば、第２接触面は、移動平面に対して交差する一対の第２交差面の間で光源と接触する。また、第２押圧部は、第２接触面に光源を押しつける。したがって、光源は、適切に固定される。
【００２９】
上記構成において、前記保持板は、前記制御基板に形成された貫通穴に挿入されるボスを含み、前記制御基板が前記ボス周りに回転するならば前記第１切欠部に前記受光素子が挿入されるように、前記第１切欠部が形成されることが好ましい。
【００３０】
上記構成によれば、ボスは、制御基板に形成された貫通穴に挿入される。制御基板がボス周りに回転するならば第１切欠部に受光素子が挿入されるように、第１切欠部が形成されるので、保持板と制御基板との接続が簡便に行われる。
【００３１】
上記構成において、前記制御基板が前記ボス周りに回転するならば前記第２切欠部に前記光源が挿入されるように、前記第２切欠部が形成されることが好ましい。
【００３２】
上記構成によれば、制御基板がボス周りに回転するならば第２切欠部に光源が挿入されるように、第２切欠部が形成されるので、保持板と制御基板との接続が簡便に行われる。
【００３３】
上記構成において、前記光走査装置は、前記ボス周りの前記制御基板の回転を制限するように、前記制御基板を前記保持板に対して固定する固定具を更に備えることが好ましい。
【００３４】
上記構成によれば、固定具は、ボス周りの制御基板の回転を制限するように、制御基板を保持板に対して固定するので、受光素子は、移動平面から外れにくくなる。
【００３５】
上記構成において、前記光走査装置は、前記反射機構が収容される収容空間を規定する内面と、該内面とは反対側の外面と、を有する筐体を更に備え、前記制御基板は、前記外面に対向して配設され、前記筐体は、前記保持板を含むことが好ましい。
【００３６】
上記構成において、筐体の内面は、反射機構が収容される収容空間を規定する。制御基板は、内面とは反対側の外面に対向する。筐体は、保持板を含む。したがって、受光素子は、筐体を用いて、適切に位置決めされる。
【００３７】
本発明の他の実施形態に係る画像形成装置は、上述の光走査装置を備えることを特徴とする。
【００３８】
上記構成によれば、画像形成装置は、上述の光走査装置を備えるので、受光素子は適切に位置決めされる。
【発明の効果】
【００３９】
本発明に従う画像形成装置及び光走査装置は、受光素子が適切に光線を受光することができるように、受光素子を位置決めすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】画像形成装置として例示されるプリンターの概略的な断面図である。
【図２】図１に示されるプリンターの概略的な斜視図である。
【図３】図１に示されるプリンターが実行する静電潜像の形成工程を表す概略図である。
【図４】図１に示されるプリンターの光走査装置の概略的な斜視図である。
【図５】図４に示される光走査装置の概略的な平面図である。
【図６Ａ】第１実施形態に従う規制機構として用いられる保持板の概略的な平面図である。
【図６Ｂ】図６Ａに示される保持板の外面の概略図である。
【図７】図４に示される光走査装置のレーザー光源の概略的な斜視図である。
【図８Ａ】図７に示されるレーザー光源が取り付けられた保持板の概略的な平面図である。
【図８Ｂ】図７に示されるレーザー光源を制御する制御基板が取り付けられた保持板の概略的な平面図である。
【図９】図４に示される光走査装置の受光素子の変位を規制する規制機構を表す保持板の概略的な縦断面図である。
【図１０】第２実施形態に従う規制機構とともに利用される制御基板の概略的な斜視図である。
【図１１】第２実施形態に従う規制機構として用いられる保持板の概略的な平面図である。
【図１２】図１１に示される保持板の内面の概略図である。
【図１３】図１１に示される保持板の概略的な拡大斜視図である。
【図１４】第３実施形態に従う規制機構として用いられる保持板の概略図である。
【図１５】図１４に示される保持板の概略的な平面図である。
【図１６】図１４に示される保持板に取り付けられる制御基板の概略図である。
【図１７】図１４に示される保持板の概略的な拡大斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００４１】
以下、添付の図面を参照しつつ、例示的な画像形成装置及び光走査装置が説明される。尚、以下において用いられる「上」、「下」、「左」や「右」などの方向を表す用語は、単に、説明の明瞭化を目的とする。したがって、図面或いは以下の説明の詳細は、画像形成装置及び光走査装置の原理を何ら限定するものではない。
【００４２】
＜画像形成装置＞
図１は、画像形成装置として例示されるプリンター１００の概略的な断面図である。図２は、プリンター１００の概略的な斜視図である。図１及び図２を用いて、プリンター１００が説明される。
【００４３】
プリンター１００は、矩形箱状の主筐体２００を備える。主筐体２００内には、画像を形成するための様々な装置（後述される）が収容される。
【００４４】
主筐体２００は、直立した正面壁２１０と、正面壁２１０とは反対側の背面壁２２０と、正面壁２１０と背面壁２２０との間で直立した左壁２３０と、左壁２３０とは反対側の右壁２４０と、を備える。主筐体２００は、正面壁２１０、背面壁２２０、左壁２３０及び右壁２４０の上縁で囲まれた領域を閉塞する上壁２５０と、上壁２５０とは反対側の下壁２６０と、を更に備える。
【００４５】
正面壁２１０は、上壁２５０の正面縁に隣接する前カバー２１１と、前カバー２１１の左右に配設された直立板２１２と、を含む。前カバー２１１は、上壁２５０の正面縁に沿って水平に延びる。一方、直立板２１２は、上壁２５０の正面縁から下方に延びる。したがって、正面壁２１０は、門型に形成され、主筐体２００の下部に開口部２１３を規定する。
【００４６】
プリンター１００は、シートを収容するカセット３００を備える。カセット３００は、正面壁２１０が規定する開口部２１３を通じて、主筐体２００内に挿入される。カセット３００は、シートを支持するリフト板３１０を備える。リフト板３１０は、シートの先頭縁を押し上げる。
【００４７】
プリンター１００は、リフト板３１０によって押し上げられたシートの先頭縁に当接する給紙ローラー３２０と、給紙ローラー３２０に隣接する分離板３２１と、を備える。給紙ローラー３２０は、カセット３００からシートを引き出すように回転する。分離板３２１は、シートの下面に摩擦力を加える。給紙ローラー３２０が複数枚のシートをカセット３００から引き出すならば、複数枚のシートは、分離板３２１の摩擦力によって、分離される。給紙ローラー３２０が１枚のシートをカセット３００から引き出すならば、給紙ローラー３２０は、分離板３２１の摩擦力に打ち勝って、シートを下流へ送り出す。この結果、シートは、１枚ずつ下流へ送り出される。シートは、その後、主筐体２００の背面壁２２０に沿って形成された搬送経路を通じて、上方へ移動する。
【００４８】
プリンター１００は、給紙ローラー３２０から送り出されたシートを受けるレジストローラー対３３０と、シートに画像を形成する画像形成部４００と、を更に備える。レジストローラー対３３０は、画像形成部４００の画像形成工程（後述される）に合わせて、シートを画像形成部４００に供給する。
【００４９】
画像形成部４００は、静電潜像及びトナー画像が形成される周面４１１を含む感光体ドラム４１０と、感光体ドラム４１０の周面４１１を一様に帯電させる帯電器４２０と、帯電した感光体ドラム４１０の周面４１１にレーザー光線ＬＢを照射する光走査装置５００と、を備える。感光体ドラム４１０の回転に伴って、感光体ドラム４１０の周面４１１には、静電潜像が形成され、その後、トナー画像が形成される。トナー画像は、最終的に、感光体ドラム４１０の周面４１１から、レジストローラー対３３０によって送り出されたシートに転写される。
【００５０】
プリンター１００は、外部装置（例えば、パーソナルコンピューター（図示せず））から画像データを受信する。光走査装置５００は、画像データに従って、レーザー光線ＬＢを出射する。この結果、感光体ドラム４１０の周面４１１には、レーザー光線ＬＢの照射点ＩＰが現れる。
【００５１】
光走査装置５００は、画像データに従って、レーザー光線ＬＢを主走査方向に移動させ、感光体ドラム４１０の周面４１１を走査する。この結果、照射点ＩＰは、主走査方向に移動する。
【００５２】
感光体ドラム４１０が回転によって、レーザー光線ＬＢが照射される周面４１１が移動する。この結果、感光体ドラム４１０の周面４１１における照射点ＩＰの副走査方向（主走査方向に対して略直交する方向）の位置が定められる。プリンター１００は、画像データに応じて、主走査方向及び副走査方向におけるレーザー光線ＬＢの照射領域を定める。光走査装置５００は、照射領域内において照射点ＩＰが現れるように、感光体ドラム４１０の回転角度及び画像データに応じて適切に定められた出射タイミングでレーザー光線ＬＢを出射する。この結果、感光体ドラム４１０の周面４１１上に静電潜像が形成される。本実施形態において、感光体ドラム４１０は、像担持体として例示される。感光体ドラム４１０の周面４１１は、像担持面として例示される。レーザー光線ＬＢは、光線として例示される。
【００５３】
画像形成部４００は、静電潜像が形成された感光体ドラム４１０の周面４１１にトナーを供給する現像装置４３０と、現像装置４３０にトナーを供給するトナーコンテナー４４０と、を更に備える。現像装置４３０からのトナーの供給によって、静電潜像に合致するトナー画像が感光体ドラム４１０の周面４１１に形成される。現像装置４３０中のトナーが不足しないように、トナーコンテナー４４０からトナーが随時供給される。
【００５４】
画像形成部４００は、感光体ドラム４１０と協働して、レジストローラー対３３０から送られたシートを受ける転写ローラー４５０を更に備える。シートが感光体ドラム４１０と転写ローラー４５０との間を通過する間、転写ローラー４５０は、感光体ドラム４１０の周面４１１のトナー画像をシートに引きつける。この結果、トナー画像は、シートに転写される。感光体ドラム４１０及び転写ローラー４５０は、その後、シートを上方へ送り出す。
【００５５】
プリンター１００は、トナー画像をシートに定着させる定着装置６００を更に備える。定着装置６００は、シート上のトナーを溶融させるための熱を発生させる加熱ローラー６１０と、トナー画像が形成されたシートの面を加熱ローラー６１０に押しつける加圧ローラー６２０と、を備える。感光体ドラム４１０と転写ローラー４５０とによって送り出されたシートは、加熱ローラー６１０と加圧ローラー６２０との間を通過する。この間、加熱ローラー６１０によって溶融されたトナーはシートに浸透し、トナー画像がシートに定着される。定着装置６００は、その後、シートを更に上方へ送り出す。
【００５６】
プリンター１００は、排紙ローラー３４０を更に備える。定着装置６００は、排紙ローラー３４０へシートを送り出す。排紙ローラー３４０は、主筐体２００からシートを排出する。
【００５７】
図３は、光走査装置５００による静電潜像の形成工程を表す概略図である。図１及び図３を用いて、静電潜像の形成工程が説明される。
【００５８】
図３に示される如く、光走査装置５００は、レーザー光線ＬＢを出射するレーザー光源５２１と、レーザー光線ＬＢを受けるポリゴンミラー５２３と、を備える。図１に示される如く、光走査装置５００は、ポリゴンミラー５２３を回転させるモーター５２４と、ポリゴンミラー５２３が収容される収容空間５０１を規定する筐体５１０と、を更に備える。本実施形態において、レーザー光源５２１は、光源として例示される。
【００５９】
図３に示される如く、レーザー光源５２１から出射されたレーザー光線ＬＢは、ポリゴンミラー５２３へ向かう。ポリゴンミラー５２３は、感光体ドラム４１０に向けて、レーザー光線ＬＢを反射させる。
【００６０】
モーター５２４がポリゴンミラー５２３を回転させると、感光体ドラム４１０の周面４１１上に現れるレーザー光線ＬＢの照射点ＩＰは、主走査方向へ移動する。図３において、感光体ドラム４１０の周面４１１上における照射点ＩＰの移動軌跡（以下、「描画ラインＲＬ」と称される）は、点線で表されている。本実施形態において、ポリゴンミラー５２３及びモーター５２４は、反射機構として例示される。
【００６１】
レーザー光源５２１からのレーザー光線ＬＢを受け、感光体ドラム４１０へレーザー光線ＬＢを反射させる点は、以下の説明において、「反射点ＲＰ」と称される。図３には、反射点ＲＰから放射状に拡がる移動平面ＭＰが示されている。移動平面ＭＰは、主走査方向に移動するレーザー光線ＬＢによって規定される。尚、「移動平面ＭＰ」は、ポリゴンミラー５２３によって反射されたレーザー光線ＬＢが実際に移動する軌跡平面（図３に示される三角形状の領域）だけでなく、軌跡平面と同一レベルで拡がる無限平面を意味する。
【００６２】
レーザー光線ＬＢは、移動平面ＭＰに沿って、主走査方向に移動する。感光体ドラム４１０が回転すると、感光体ドラム４１０の周面４１１上の新たな描画ラインＲＬ上で、照射点ＩＰが移動する。この結果、静電潜像が形成される。
【００６３】
＜光走査装置＞
図４は、光走査装置５００の概略的な斜視図である。図１及び図４を用いて、光走査装置５００が説明される。
【００６４】
上述の如く、光走査装置５００は、筐体５１０を備える。筐体５１０は、上方に開口した箱体５１１と、箱体５１１の開口部を閉塞する蓋体５１２と、を備える。
【００６５】
図５は、光走査装置５００の概略的な平面図である。図１、図３乃至図５を用いて、光走査装置５００が更に説明される。尚、図５に示される光走査装置５００から蓋体５１２は除去されている。
【００６６】
光走査装置５００は、筐体５１０、レーザー光源５２１、ポリゴンミラー５２３及びモーター５２４に加えて、レーザー光線ＬＢの特性（例えば、ビーム径）を調整する光学素子群５２２と、感光体ドラム４１０の周面４１１上でレーザー光線ＬＢを結像させるｆθレンズ５２９と、を備える。
【００６７】
箱体５１１は、光学素子群５２２、ポリゴンミラー５２３、モーター５２４及びｆθレンズ５２９が据え付けられる支持板５１３と、支持板５１３の周縁から直立した周壁５１８と、を含む。周壁５１８は、ポリゴンミラー５２３及びｆθレンズ５２９が収容される収容空間５０１を規定する内面５０２と、内面５０２とは反対側の外面５０３と、を含む。
【００６８】
周壁５１８は、感光体ドラム４１０とポリゴンミラー５２３との間に配設された開口板５１５を含む。開口板５１５には、主走査方向に延びる開口部５１６が形成される。レーザー光源５２１から出射されたレーザー光線ＬＢは、光学素子群５２２を通過し、ポリゴンミラー５２３に到達する。図３に関連して説明された如く、レーザー光線ＬＢは、その後、ポリゴンミラー５２３によって反射され、主走査方向に移動する。ポリゴンミラー５２３によって反射されたレーザー光線ＬＢは、ｆθレンズ５２９を通過する。その後、レーザー光線ＬＢは、開口部５１６を通じて、感光体ドラム４１０の周面４１１に到達する。
【００６９】
周壁５１８は、レーザー光源５２１を保持する保持板５１４を更に含む。光走査装置５００は、開口板５１５とｆθレンズ５２９との間において、支持板５１３によって支持される反射鏡５２５を備える。本実施形態において、保持板５１４の内面５０２は、収容空間５０１の右側境界を規定する。反射鏡５２５は、収容空間５０１の左角隅部に配設される。ポリゴンミラー５２３が所定の回転角度にあるとき、ポリゴンミラー５２３によって反射されたレーザー光線ＬＢは、反射鏡５２５に向かう。反射鏡５２５は、右方にレーザー光線ＬＢを反射する。尚、反射鏡５２５によって反射されたレーザー光線ＬＢが、図３に関連して説明された移動平面ＭＰに沿って伝搬するように、反射鏡５２５は光学的に適切に設定される。本実施形態において、ポリゴンミラー５２３、モーター５２４及び反射鏡５２５は、反射機構として例示される。
【００７０】
光走査装置５００は、保持板５１４の外面５０３に対向して配設された制御基板５３０を更に備える。レーザー光源５２１は、制御基板５３０に電気的に接続される。制御基板５３０は、レーザー光源５２１を制御し、レーザー光線ＬＢの出射タイミングを適切に調整する。
【００７１】
光走査装置５００は、制御基板５３０に搭載された受光素子５４０を更に備える。受光素子５４０は、移動平面ＭＰ上に配設され、反射鏡５２５によって反射されたレーザー光線ＬＢを受光する。受光素子５４０は、レーザー光線ＬＢの受光に応じて、受光信号を出力する。制御基板５３０は、受光素子５４０からの受光信号に応じて、レーザー光源５２１からのレーザー光線ＬＢの照射タイミングを調整する。
【００７２】
受光素子５４０は、ポリゴンミラー５２３が所定の回転角度にあるとき、レーザー光線ＬＢを受光する。したがって、制御基板５３０は、受光信号を基準に、主走査方向における照射点ＩＰの移動の開始位置を見極めることができる。
【００７３】
＜規制機構＞
以下、様々な実施形態に係る規制機構が説明される。規制機構は、移動平面ＭＰに対する受光素子５４０の変位を規制するために用いられる。
【００７４】
（第１実施形態）
図６Ａは、第１実施形態に従う規制機構として用いられる保持板５１４Ａの概略的な平面図である。図６Ｂは、図６Ａに示される保持板５１４Ａの外面５０３の概略図である。尚、保持板５１４Ａは、図５に関連して説明された光走査装置５００の保持板５１４として用いられる。図５乃至図６Ｂを用いて、保持板５１４Ａが説明される。尚、図１乃至図５に関連して説明された要素と共通する要素に対して、同一の符号が用いられている。共通する要素に関する詳細な説明は省略される。
【００７５】
保持板５１４Ａには、貫通穴５５１が形成される。レーザー光源５２１は、貫通穴５５１に挿入される。この結果、レーザー光源５２１は、保持板５１４Ａによって適切に保持される。本実施形態において、貫通穴５５１は、保持部として例示される。
【００７６】
図７は、レーザー光源５２１の概略的な斜視図である。図５、図６Ｂ及び図７を用いて、レーザー光源５２１が説明される。
【００７７】
レーザー光源５２１は、略２段円筒形状に形成された本体部５６１備える。本体部５６１は、貫通穴５５１に挿入される挿入部５６２と、挿入部５６２より大きな基端部５６３と、を備える。挿入部５６２の端面５６５には、レーザー光線ＬＢが出射される出射口５６４が形成される。
【００７８】
レーザー光源５２１は、挿入部５６２の端面５６５とは反対側の基端部５６３の端面５６６から延びるリード線５６７を更に備える。レーザー光源５２１は、リード線５６７を介して、制御基板５３０に電気的に接続される。
【００７９】
図８Ａは、レーザー光源５２１が取り付けられた保持板５１４Ａの概略的な平面図である。図８Ｂは、制御基板５３０が更に取り付けられた保持板５１４Ａの概略的な平面図である。図６Ｂ乃至図８Ｂを用いて、保持板５１４Ａに対するレーザー光源５２１及び制御基板５３０の取付が説明される。
【００８０】
本実施形態において、レーザー光源５２１の挿入部５６２は、保持板５１４Ａの貫通穴５５１に挿入される。このとき、レーザー光源５２１の基端部５６３とリード線５６７は、保持板５１４Ａの外面５０３から突出する。
【００８１】
制御基板５３０は、保持板５１４Ａに隣接して配設される。その後、リード線５６７は、制御基板５３０に半田付けされる。この結果、レーザー光源５２１と制御基板５３０は、電気的に接続される。
【００８２】
図９は、移動平面ＭＰに対する受光素子５４０の変位を規制する規制機構を表す保持板５１４Ａの概略的な縦断面図である。尚、図９において、移動平面ＭＰは、一点鎖線を用いて概略的に示されている。図５、図８Ｂ及び図９を用いて、規制機構が説明される。
【００８３】
保持板５１４Ａの外面５０３は、制御基板５３０に対向する。本実施形態において、外面５０３は、対向面として例示される。
【００８４】
保持板５１４Ａは、外面５０３から制御基板５３０に向けて突出する一対の瘤部５５２を備える。本実施形態において、一対の瘤部５５２は、突出部として例示される。
【００８５】
制御基板５３０に搭載された受光素子５４０は、保持板５１４Ａの外面５０３に向けて突出し、一対の瘤部５５２に挟まれる。移動平面ＭＰは、一対の瘤部５５２の間を通過する。したがって、受光素子５４０が移動平面ＭＰに対して、直交する方向に変位するならば、一対の瘤部５５２のうち一方に受光素子５４０が接触する。この結果、移動平面ＭＰに対する受光素子５４０の変位が規制される。
【００８６】
保持板５１４Ａには、一対の瘤部５５２の間において、貫通穴５５３が形成される。移動平面ＭＰは、貫通穴５５３を通過する。したがって、レーザー光源５２１から出射されたレーザー光線ＬＢは、反射鏡５２５によって反射された後、貫通穴５５３を通じて、受光素子５４０に到達する。本実施形態において、貫通穴５５３は、透光部として例示される。
【００８７】
一対の瘤部５５２の間に受光素子５４０が配設された後、制御基板５３０は適切な固定具（例えば、ビス）を用いて、保持板５１４Ａに接続される。
【００８８】
（第２実施形態）
図１０は、第２実施形態に従う規制機構とともに利用される制御基板５３０Ｂの概略的な斜視図である。尚、制御基板５３０Ｂは、図５に関連して説明された光走査装置５００の制御基板５３０として用いられる。図５及び図１０を用いて、制御基板５３０Ｂが説明される。尚、図１乃至図５に関連して説明された要素及び第１実施形態に関連して説明された要素と共通する要素に対して、同一の符号が用いられている。共通する要素に関する詳細な説明は省略される。
【００８９】
制御基板５３０Ｂには、受光素子５４０が搭載される。制御基板５３０Ｂは、受光素子５４０が出力する受光信号に応じて、レーザー光源５２１からのレーザー光線ＬＢの照射タイミングを制御する。
【００９０】
図１１は、第２実施形態に従う規制機構として用いられる保持板５１４Ｂの概略的な平面図である。尚、保持板５１４Ｂは、図５に関連して説明された光走査装置５００の保持板５１４として用いられる。図６Ｂ、図１０及び図１１を用いて、保持板５１４Ｂが説明される。尚、図１乃至図５に関連して説明された要素及び第１実施形態に関連して説明された要素と共通する要素に対して、同一の符号が用いられている。共通する要素に関する詳細な説明は省略される。
【００９１】
第１実施形態に関連して説明された保持板５１４Ａと同様に、保持板５１４Ｂには、貫通穴が形成される。レーザー光源５２１は、保持板５１４Ｂの貫通穴に挿入される。この結果、保持板５１４Ｂは、レーザー光源５２１を適切に保持することができる。本実施形態において、保持板５１４Ｂに形成された貫通穴は、保持部として例示される。
【００９２】
図１１に示される如く、保持板５１４Ｂは、外面５０３から突出するボス５５４を備える。図１０に示される如く、制御基板５３０Ｂには、第１貫通穴５３１及び第２貫通穴５３２が形成される。ボス５５４は、第１貫通穴５３１に挿入される。第２貫通穴５３２には、適切な固定具（例えば、ビス）が挿入され、制御基板５３０Ｂは、保持板５１４Ｂに適切に固定される。第２貫通穴５３２に固定具が挿入される前において、制御基板５３０Ｂは、ボス５５４周りに回動可能である。本実施形態において、第１貫通穴５３１は、貫通穴として例示される。
【００９３】
図１２は、図１１に示される保持板５１４Ｂの内面５０２の概略図である。図５、図１１及び図１２を用いて、保持板５１４Ｂが説明される。
【００９４】
保持板５１４Ｂに形成された貫通穴５５１を通じて、レーザー光源５２１の出射口５６４が現れる。したがって、レーザー光源５２１は、光走査装置５００の収容空間５０１内にレーザー光線ＬＢを出射することができる。
【００９５】
図１２には、出射口５６４を横切る移動平面ＭＰが一点鎖線で表されている。保持板５１４Ｂには、切欠部５５５が形成される。切欠部５５５は、保持板５１４Ｂの上縁５５６から下方に延出し、移動平面ＭＰを横切る。
【００９６】
保持板５１４Ｂは、上縁５５６から下方に延びる一対の垂直面５５７と、一対の垂直面５５７の間で水平に延びる水平面５５８と、を備える。一対の垂直面５５７及び水平面５５８は、切欠部５５５を規定する。本実施形態において、一対の垂直面５５７及び水平面５５８は、第１切欠面として例示される。切欠部５５５は、第１切欠部として例示される。
【００９７】
図１３は、切欠部５５５の周囲における保持板５１４Ｂの概略的な拡大斜視図である。図１０乃至図１３を用いて、保持板５１４Ｂが説明される。
【００９８】
図１２に示される如く、一対の垂直面５５７は、下方に延び、移動平面ＭＰと交差する。水平面５５８は、移動平面ＭＰの下方に位置する。本実施形態において、一対の垂直面５５７は、第１交差面として例示される。
【００９９】
図１１に関連して説明された如く、制御基板５３０Ｂは、保持板５１４Ｂに固定される前において、ボス５５４周りに回転可能に保持板５１４Ｂに接続される。ボス５５４が制御基板５３０Ｂの第１貫通穴５３１に挿入された後、制御基板５３０Ｂが下方に回転されるならば、制御基板５３０Ｂに搭載された受光素子５４０は、切欠部５５５に挿入される。受光素子５４０が水平面５５８に接触するまで、制御基板５３０Ｂはボス５５４周りに下方に回動される。本実施形態において、水平面５５８は、第１接触面として例示される。
【０１００】
受光素子５４０が水平面５５８に接触した後、板バネ５５９が保持板５１４Ｂの上縁５５６に取り付けられる。板バネ５５９は、切欠部５５５内の受光素子５４０に接触する。この結果、受光素子５４０は、水平面５５８に押しつけられる。したがって、受光素子５４０は、移動平面ＭＰ上に安定的に保持される。本実施形態において、板バネ５５９は、第１押圧部として例示される。代替的に、受光素子５４０を水平面５５８に押しつけるための他の適切な部材が第１押圧部として用いられてもよい。
【０１０１】
板バネ５５９が取り付けられた後、制御基板５３０Ｂの第２貫通穴５３２に挿通された適切な固定具によって、制御基板５３０Ｂは、保持板５１４Ｂに適切に固定される。この結果、保持板５１４Ｂに対する制御基板５３０Ｂの回転は制限される。
【０１０２】
（第３実施形態）
図１４は、第３実施形態に従う規制機構として用いられる保持板５１４Ｃの概略図である。尚、保持板５１４Ｃは、図５に関連して説明された光走査装置５００の保持板５１４として用いられる。図５、図７及び図１４を用いて、保持板５１４Ｃが説明される。尚、図１乃至図５に関連して説明された要素及び第２実施形態に関連して説明された要素と共通する要素に対して、同一の符号が用いられている。共通する要素に関する詳細な説明は省略される。
【０１０３】
保持板５１４Ｃには、第２実施形態に関連して説明された切欠部５５５に加えて、切欠部５７０が形成される。切欠部５７０は、切欠部５５５と同様に、保持板５１４Ｃの上縁５５６から下方に延出する。後述されるように、切欠部５７０には、レーザー光源５２１が挿入される。
【０１０４】
図１４には、移動平面ＭＰが一点鎖線で表されている。レーザー光源５２１が切欠部５７０内に適切に設置されるならば、移動平面ＭＰは、レーザー光源５２１の出射口５６４を横切る。切欠部５７０は、切欠部５５５と同様に、移動平面ＭＰを横切る。本実施形態において、切欠部５７０は、第２切欠部として例示される。
【０１０５】
保持板５１４Ｃは、上縁５５６から下方に延びる一対の垂直面５７１と、一対の垂直面５７１の間で水平に延びる水平面５７２と、を備える。一対の垂直面５７１及び水平面５７２は、切欠部５７０を規定する。本実施形態において、一対の垂直面５７１及び水平面５７２は、第２切欠面として例示される。
【０１０６】
受光素子５４０が挿入される切欠部５５５を規定する垂直面５５７と同様に、切欠部５７０を規定する一対の垂直面５７１は、移動平面ＭＰを横切る。切欠部５５５を規定する水平面５５８と同様に、切欠部５７０を規定する水平面５７２は、移動平面ＭＰの下方に位置する。本実施形態において、一対の垂直面５７１は、第２交差面として例示される。
【０１０７】
図１５は、保持板５１４Ｃの概略的な平面図である。図１６は、保持板５１４Ｃに取り付けられる制御基板５３０Ｂの概略図である。図１５及び図１６を用いて、保持板５１４Ｃが更に説明される。
【０１０８】
保持板５１４Ｃは、ボス５５４を備える。ボス５５４は、制御基板５３０Ｂに形成された第１貫通穴５３１に挿入される。
【０１０９】
第２実施形態と異なり、レーザー光源５２１は、保持板５１４Ｃに接続される前の制御基板５３０Ｂに搭載される。第２実施形態と同様に、受光素子５４０は、制御基板５３０Ｂに搭載されている。
【０１１０】
図１７は、切欠部５７０の周囲における保持板５１４Ｃの概略的な拡大斜視図である。図１５乃至図１７を用いて、保持板５１４Ｃが更に説明される。
【０１１１】
ボス５５４が制御基板５３０Ｂの第１貫通穴５３１に挿入された後、制御基板５３０Ｂが下方に回転されるならば、制御基板５３０Ｂに搭載された受光素子５４０は、切欠部５５５に挿入される。また、制御基板５３０Ｂに搭載された受光素子５４０は、切欠部５７０に挿入される。受光素子５４０が水平面５５８に接触するまで、制御基板５３０Ｂはボス５５４周りに下方に回動される。受光素子５４０が水平面５５８に接触したときにレーザー光源５２１が切欠部５７０の水平面５７２に接触するように、切欠部５７０の深さが設定される。本実施形態において、水平面５７２は、第２接触面として例示される。
【０１１２】
レーザー光源５２１が水平面５７２に接触した後、板バネ５７３が保持板５１４Ｃの上縁５５６に取り付けられる。板バネ５７３は、切欠部５７０内のレーザー光源５２１に接触する。この結果、レーザー光源５２１は、水平面５７２に押しつけられる。したがって、レーザー光源５２１は、切欠部５７０内で安定的に保持される。本実施形態において、板バネ５７３は、第２押圧部として例示される。代替的に、レーザー光源５２１を水平面５７２に押しつけるための他の適切な部材が第２押圧部として用いられてもよい。
【０１１３】
板バネ５７３が取り付けられた後、制御基板５３０Ｂの第２貫通穴５３２に挿通された適切な固定具によって、制御基板５３０Ｂは、保持板５１４Ｃに適切に固定される。この結果、保持板５１４Ｃに対する制御基板５３０Ｂの回転は制限される。
【産業上の利用可能性】
【０１１４】
本実施形態の原理は、受光素子を用いて、動作制御を行う装置に好適に適用される。
【符号の説明】
【０１１５】
１００・・・・・プリンター（画像形成装置）
４１０・・・・・感光体ドラム（像担持体）
４１１・・・・・周面（像担持面）
５００・・・・・光走査装置
５０１・・・・・収容空間
５０２・・・・・内面
５０３・・・・・外面（対向面）
５１０・・・・・筐体
５１４・・・・・保持板（規制機構）
５１４Ａ・・・・保持板（規制機構）
５１４Ｂ・・・・保持板（規制機構）
５１４Ｃ・・・・保持板（規制機構）
５２１・・・・・レーザー光源（光源）
５２３・・・・・ポリゴンミラー（反射機構）
５２４・・・・・モーター（反射機構）
５２５・・・・・反射鏡（反射機構）
５３０・・・・・制御基板
５３０Ｂ・・・・制御基板
５３１・・・・・第１貫通穴（貫通穴）
５４０・・・・・受光素子
５５１・・・・・貫通穴（保持部）
５５２・・・・・瘤部（突出部）
５５３・・・・・貫通穴（透光部）
５５４・・・・・ボス
５５５・・・・・切欠部（第１切欠部）
５５７・・・・・垂直面（第１切欠面：第１交差面）
５５８・・・・・水平面（第１切欠面：第１接触面）
５５９・・・・・板バネ（第１押圧部）
５７０・・・・・切欠部（第２切欠部）
５７１・・・・・垂直面（第２切欠面：第２交差面）
５７２・・・・・水平面（第２切欠面：第２接触面）
５７３・・・・・板バネ（第２押圧部）
ＩＰ・・・・・・照射点
ＬＢ・・・・・・レーザー光線（光線）
ＭＰ・・・・・・移動平面
【図１】
0005514848.tif 000002
【図２】
0005514848.tif 000003
【図３】
0005514848.tif 000004
【図４】
0005514848.tif 000005
【図５】
0005514848.tif 000006
【図６Ａ】
0005514848.tif 000007
【図６Ｂ】
0005514848.tif 000008
【図７】
0005514848.tif 000009
【図８Ａ】
0005514848.tif 000010
【図８Ｂ】
0005514848.tif 000011
【図９】
0005514848.tif 000012
【図１０】
0005514848.tif 000013
【図１１】
0005514848.tif 000014
【図１２】
0005514848.tif 000015
【図１３】
0005514848.tif 000016
【図１４】
0005514848.tif 000017
【図１５】
0005514848.tif 000018
【図１６】
0005514848.tif 000019
【図１７】
0005514848.tif 000020