(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属板の表裏面にレジスト層を設け、露光現像して鍍金を施す必要のある部分のみ該レジスト層を除去する工程と、
次に、鍍金槽に入れて、前記金属板の、半導体素子が搭載されるパッド部分と、ボンディングされるリード部表面部分と、基板実装面側の半田で接合される部分と、にのみニッケル鍍金、パラジウム鍍金、金鍍金を順次形成する工程と、
次に、前記レジスト層を剥離し、鍍金を施した部分に再びリードフレーム形状のレジスト層を設置する工程と、
次に、前記金属板の表裏面に、エッチング液を吹き付けてエッチング処理を行う工程と、
次に、前記リードフレーム形状のレジスト層を剥離する工程を経て、
リードフレーム素材の、ボンディングされる部分以外のリード部表面部分と、半田接合部分以外のリード部裏面と、リード部の側面及びパッド部分の側面と、には鍍金を施さないようにしたことを特徴とするリードフレームの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置に用いられるリードフレームとその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、リードフレームは、金属板からエッチング加工やプレス加工によってリードフレーム形状に成形され、全面にパラジウム鍍金をした後所定位置に半導体素子を搭載し、これを樹脂封止した後金型等を用いて個片にカットされ、ＩＣチップ等の電子部品として実用に供されていた。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
近年、リードフレームの仕様は、環境への影響を考慮して、鉛が含まれる外装半田鍍金を止めてリードフレーム全面にパラジウム鍍金を施したものとなっている。しかし、パラジウムは高価な金属材料であるため、全面にパラジウム鍍金を施すことにより、製品コストを上昇させてしまうという問題点があった。
【０００４】
本発明は、従来技術の有するこのような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、パラジウムの使用量を最少に抑えて安価なリードフレームを提供すると共に、不具合をなくしたリードフレームの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の目的を達成するため、本発明によるリードフレームの製造方法は、
金属板の表裏面にレジスト層を設け、露光現像して鍍金を施す必要のある部分のみ該レジスト層を除去する工程と、
次に、鍍金槽に入れて、前記金属板の、半導体素子が搭載されるパッド部分と、ボンディングされるリード部表面部分と、基板実装面側の半田で接合される部分と、にのみニッケル鍍金、パラジウム鍍金、金鍍金を順次形成する工程と、
次に、前記レジスト層を剥離し、鍍金を施した部分に再びリードフレーム形状のレジスト層を設置する工程と、
次に、前記金属板の表裏面に、エッチング液を吹き付けてエッチング処理を行う工程と、
次に、前記リードフレーム形状のレジスト層を剥離する工程を経て、
リードフレーム素材の、ボンディングされる部分以外のリード部表面部分と、半田接合部分以外のリード部裏面と、リード部の側面及びパッド部分の側面と、には鍍金を施さないようにしたことを特徴としている。
【０００７】
これにより、パラジウム鍍金が施される面積は最少限となるので、全面にパラジウム鍍金を施していた従来のリードフレームに比べて、安価なリードフレームを提供できる。
【発明の効果】
【００１５】
上述の如く本発明によれば、従来方法による場合に比べて遥かに安価なリードフレームを提供できるばかりか、リード抜けや樹脂破損などの不具合を生じないリードフレームを提供することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明に係るリードフレームの製造方法の一実施例を示す工程図である。
【図２】本発明に係るリードフレームの製造方法の他の実施例を示す工程図である。
【図３】本発明に係るリードフレームの製造方法の更に他の実施例を示す工程図である。
【図４】本発明に係るリードフレームの製造方法の更に他の実施例を示す工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態を図示した実施例に基づき説明する。
実施例１
図１は、本発明に係るリードフレームの製造方法の一実施例を示す工程図である。図中、１はリードフレームを形成すべき銅板等の金属板、２は金属板１の表裏面上に設置されたドライフィルム、３は金属板１の表面上に設置されたドライフィルム２上に被せられていて遮光剤を用いてリードフレームパターン３ａを形成してなるガラスマスク、４は金属板１の裏面上に設置されたドライフィルム２上に被せられていて金属板１を挟んでリードフレームパターン３ａと対称に遮光剤を用いてリードフレームパターン４ａを形成してなるガラスマスク、５，６は所要の遮光パターンを成形してなるガラスマスク、７は金属板１を挟んで対向設置された複数のエッチング液噴射ノズルである。
【００１８】
次にリードフレームの製造工程を順を追って説明する。先ず、図１（ａ）に示すように、金属板１の表裏面全面にフォトレジストとしての役目をするドライフィルム２を設置した後、リードフレームパターン３ａ，４ａを有するガラスマスク３，４をパターンを位置合わせした状態で表裏面上に被せて、この両面をガラスマスク３，４を介して紫外光で露光する。
【００１９】
露光後ガラスマスク３，４を外してドライフィルム付金属板１を現像液に漬けて現像すれば、図１（ｂ）に示すように紫外光の当たった部分即ち金線接合部や半導体素子搭載部などパラジウム鍍金を施す必要のある部分のドライフィルム２のみが除去される。
【００２０】
次に、これを鍍金槽に入れて図１（ｃ）に拡大して示すようにニッケル（Ni）,パラジウム（Pd）,金（Au）など順次必要な部分に必要な鍍金を行う。かくして、ドライフィルム２を剥離することにより、図１（ｄ）に示すような断面形状の鍍金層１ａ付き金属板１を得ることが出来る。
【００２１】
このようにして得られた鍍金層１ａ付き金属板１の表裏面全体に再びドライフィルム２を設置し、これに、図１（ｅ）に示すように、鍍金を施した部分のみが遮光されるようにパターンを形成したガラスマスク５，６を被せて、両面を再び紫外光で露光する。そして、図１（ｂ）で説明したのと同様にして現像を行い、図１（ｆ）に示したような断面形状を有する鍍金層１ａ付き金属板１を得る。
【００２２】
この鍍金層１ａ付き金属板１の両表面に、図１（ｇ）に示す如く、噴射ノズル７によりエッチング液を吹き付けてエッチング処理を行う。このエッチング処理により、鍍金の施されていない部分の金属は溶解除去されて、最後にドライフィルム２を剥離することにより、図１（ｈ）に示すような断面形状を有する即ち必要最少限の部分のみに鍍金の施された一駒分のリードフレームが得られる。
【００２３】
図１（ａ）〜（ｈ）に至る各工程は、リードフレームの何駒分かを含む長さの金属板が適宜のコンベアーで搬送されることにより連続的に実行され、工程の最後で裁断されて個々のリードフレームが完成する。この説明から明らかなように、各リードフレームには表裏面の必要個所にのみパラジウム鍍金が施される結果となる。
【００２４】
実施例２
図２は、本発明に係るリードフレームの製造方法の他の実施例を示す工程図である。図中、図１で用いたのと実質上同一の部材及び部分には同一符号が付されており、それらについての説明は省略されている。図１との比較で明らかなように、図２（ａ）,（ｂ）,（ｃ）及び（ｄ）で示される各工程は、図１のそれらと同じであるので説明は省略し、図２（ｅ）以降に示されている工程について説明する。
【００２５】
図２（e）に示されるように、鍍金層１ａ付き金属板１の両面には、噴射ノズル７によりエッチング液を吹き付けられてエッチング処理が行なわれる。このエッチング処理は、鍍金の施されていない部分の金属が殆ど溶解除去されて極薄となる程度まで行われる。
【００２６】
かくして得られた鍍金層１ａ付き金属板１の一側全面に、図２（ｆ）に示すようにテープ８を貼着した後、図２（ｇ）に示すようにテープ８の貼着されていない側から、再び噴射ノズル７によりエッチング液を吹き付けてエッチング処理を行ない、極薄にされた鍍金の施されていない金属部分（リード部を繋ぐタイバーや吊りリード部等の組み立て後切断される不要部分）を完全に溶解除去する。この場合、残った鍍金の施されている金属部分即ち半導体素子が搭載されるパッド部やリード部等の必要部分は、図２（ｈ）に示されるように、テープ８により相対位置関係が崩れることなく確実に保持される。
【００２７】
実施例３
図３は、本発明に係るリードフレームの製造方法の更に他の実施例を示す工程図である。図中、図１で用いたのと実質上同一の部材及び部分には同一符号が付されており、それらについての説明は省略されている。図１との比較で明らかなように、図３（ａ）及び（ｂ）で示される各工程は、図１のそれらと同じであるので説明は省略し、図３（ｃ）以降に示されている工程について説明する。
【００２８】
図３（ｃ）に示されるように、リードフレームパターンに対応してドライフィルム２が残された金属板１の両面には、噴射ノズル７によりエッチング液が吹き付けられてエッチング処理が行なわれる。このエッチング処理は、ドライフィルム２の存在しない部分の金属が溶解除去されて、図３（ｄ）に示されるように金属板１が穴明きの状態になるまで行われる。このようにして穴明き状態にされた金属板１の両表面からドライフィルム２が剥離されて、図３（ｄ）に示された如き横断面を有するリードフレーム素材が製作される。
【００２９】
かくして得られたリードフレーム素材（金属板１）の表裏面の必要個所に、図３（ｅ）に拡大して示したようにニッケル（Ni）鍍金，パラジウム（Pd）鍍金及び金（Au）鍍金が夫々施されて、リードフレームが完成する。即ち、図３（ｆ）に示したように、先ずリードフレーム表裏面全体に下地層としてニッケル（Ni）鍍金が施され、次に図３（ｇ）に示したように、半導体搭載部分と金線ボンディング部分と基板実装面側の半田接合部分との必要最小限個所にのみパラジウム（Pd）鍍金が施され、最後に図３（ｈ）に示したように、リードフレーム表裏面全体に金（Au）が施されて、リードフレームが完成する。このように、リードフレームの完成品は高価なパラジウムの使用量が最小限に抑えられており、従来のリードフレームに比べて安価となる。
【００３０】
実施例４
図４は、本発明に係るリードフレームの製造方法の更に他の実施例を示す工程図である。図中、図１で用いたのと実質上同一の部材及び部分には同一符号が付されており、それらについての説明は省略されている。図１との比較で明らかなように、図４（ａ）乃至（ｄ）で示される各工程は、図１のそれらと同じであるので説明は省略し、図４（ｅ）以降に示されている工程について説明する。
【００３１】
この実施例は、２回目の露光及び現像を行わずに、図４（ｅ）に示されたように、図４（ｄ）で得られた鍍金処理済みの金属板１の両面に噴射ノズル７でエッチング液を吹き付けてエッチング処理することにより製品を得るようにした点で、第１実施例とは異なる。この実施例によれば、より安価に製品を提供することが出来る。
【符号の説明】
【００３２】
１                   金属板
１ａ                 鍍金層
２                   ドライフィルム
３，４，５，６       ガラスマスク
３ａ                 リードフレームパターン
７                   エッチング液噴射ノズル
８                   テープ
【図１】
0005531172.tif 000002
【図２】
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【図３】
0005531172.tif 000004
【図４】
0005531172.tif 000005