(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の方向の辺と、前記第１の方向の辺より長い第２の方向の辺からなる平面を有するフレキシブル基板と、
前記フレキシブル基板上の表示部と、
前記フレキシブル基板上の前記表示部を駆動するディスプレイドライバ回路であって、薄膜トランジスタを用いて構成したゲートドライバ回路と、半導体基板に形成した集積回路で構成したデータドライバ回路と、を有するディスプレイドライバ回路と、
を有するディスプレイ装置であって、
前記データドライバ回路は、前記フレキシブル基板の前記第１の方向の辺に沿って配置され、且つ、前記ゲートドライバ回路は、前記フレキシブル基板の前記第２の方向の辺に沿って配置されることを特徴とするディスプレイ装置。
【請求項２】
前記薄膜トランジスタは酸化物半導体を用いて形成されることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ装置。
【請求項３】
ディスプレイ装置と、
情報を記録するメモリと、
前記メモリを制御するメモリ制御回路と、
を有し、
前記ディスプレイ装置は、
第１の方向の辺と、前記第１の方向の辺より長い第２の方向の辺からなる平面を有する５０μｍ〜２ｍｍの厚さのフレキシブル基板と、
前記フレキシブル基板上の表示部と、
前記フレキシブル基板上の前記表示部を駆動するディスプレイドライバ回路であって、薄膜トランジスタを用いて構成したゲートドライバ回路と、半導体基板に形成した集積回路で構成したデータドライバ回路と、を有するディスプレイドライバ回路と、
を有し、
前記データドライバ回路は、前記フレキシブル基板の前記第１の方向の辺に沿って配置され、且つ、前記ゲートドライバ回路は、前記フレキシブル基板の前記第２の方向の辺に沿って配置されることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項４】
前記薄膜トランジスタは酸化物半導体を用いて形成されることを特徴とする請求項３に記載の情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はディスプレイ装置に関し、特に、フレキシブルな基板に形成したディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
多様なディスプレイ装置が様々な用途に用いられており、携帯電話に代表される携帯端末においては必須の構成要素となっている。さらに、携帯型デジタル音楽プレイヤーやＩＣカード等にも利用され、さらなる小型化が要求されている。一方、有機ＥＬや電子ペーパー等の新規なディスプレイ装置も実用化され、フレキシブルなディスプレイ装置の開発も進められている。
【０００３】
これに伴い、ディスプレイ装置の表示部のみならず、ディスプレイ駆動回路についても、さらなる小型化、フレキシブルな装置への対応が求められている。例えば、特許文献１には、ディスプレイ装置において、ディスプレイを駆動するため、ドライバＩＣチップを実装する方法が記載されている。また、画素回路と同じ薄膜トランジスタでディスプレイ駆動回路を同一基板上に造り込む取組みが現在行われており、特許文献２には、ドライバＩＣチップをシリコンチップ上に作製して実装するのではなく、直接画素回路と同じ薄膜トランジスタを使用して基板上に直接造り込む技術が記載されている。また、特許文献３には、ＩＣカード上にＩＣチップを実装する場合、ＩＣチップの外形のアスペクト比を、カード上の実装位置の縦横の曲げ応力比に応じて決定することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−３１５７６０号公報
【特許文献２】特許第３９４４３９４号公報
【特許文献３】特開２００５−１６５８１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１は、通常のＰＣ用の液晶ディスプレイや携帯端末用の液晶ディスプレイ等の場合のように、ガラスなどのリジットな基板であれば問題ないが、ＩＣカードのような曲がることのあるアプリケーションにおいては、カードの歪によってＩＣチップが割れる問題があった。また、特許文献２は、ゲートドライバのようにシフトレジスタとバッファドライバのみのシンプルな回路においては問題ないが、データドライバのように、シフトレジスタとバッファドライバ、デコーダー、ＬＡＣＨ、レジスター、コントローラなどを内蔵した複雑な回路の場合、トランジスタが１個でも動作しなくなると、ディスプレイ装置自体動が動作しなくなくなる問題があった。
【０００６】
上記の実情に鑑みて、本発明は、外部からの歪に耐性を有するディスプレイ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一実施形態によると、第１の方向の辺と、前記第１の方向の辺より長い第２の方向の辺からなる平面を有するフレキシブル基板と、前記フレキシブル基板上の表示部と、前記フレキシブル基板上の前記表示部を駆動するディスプレイドライバ回路であって、薄膜トランジスタを用いて構成したゲートドライバ回路と、半導体基板に形成した集積回路で構成したデータドライバ回路と、を有するディスプレイドライバ回路と、を有するディスプレイ装置であって、前記データドライバ回路は、前記フレキシブル基板の前記第１の方向の辺に沿って配置され、且つ、前記ゲートドライバ回路は、前記フレキシブル基板の前記第２の方向の辺に沿って配置されることを特徴とするディスプレイ装置が提供される。
【０００８】
前記薄膜トランジスタは酸化物半導体を用いて形成されてもよい。
【００１０】
また、本発明の一実施形態によると、ディスプレイ装置と、情報を記録するメモリと、前記メモリを制御するメモリ制御回路と、を有し、前記ディスプレイ装置は、第１の方向の辺と、前記第１の方向の辺より長い第２の方向の辺からなる平面を有する５０μｍ〜２ｍｍの厚さのフレキシブル基板と、前記フレキシブル基板上の表示部と、前記フレキシブル基板上の前記表示部を駆動するディスプレイドライバ回路であって、薄膜トランジスタを用いて構成したゲートドライバ回路と、半導体基板に形成した集積回路で構成したデータドライバ回路と、を有するディスプレイドライバ回路と、を有し、前記データドライバ回路は、前記フレキシブル基板の前記第１の方向の辺に沿って配置され、且つ、前記ゲートドライバ回路は、前記フレキシブル基板の前記第２の方向の辺に沿って配置されることを特徴とする情報記録媒体が提供される。また、前記薄膜トランジスタは酸化物半導体を用いて形成されてもよい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によると、外部からの歪に耐性を有するディスプレイ装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】一実施形態に係る本発明のディスプレイ装置１００を説明する上面図である。
【図２】ディスプレイ装置１００の断面図である。
【図３】一実施形態に係る本発明のディスプレイ装置２００の断面図である。
【図４】一実施形態に係る本発明のディスプレイ装置３００の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、図面を参照して本発明に係るディスプレイ装置及びその製造方法について説明する。但し、本発明のディスプレイ装置は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に示す実施の形態及び実施例の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、本実施の形態及び実施例で参照する図面において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
【００１４】
上述の課題を解決すべく鋭意検討した結果、データドライバ回路には集積回路（ＩＣ）を用い、ゲートドライバ回路には薄膜トランジスタを用いてディスプレイ装置を製造することを想到した。すなわち、表示部及びディスプレイ駆動回路を形成する基材を考えると、一般に、第１の方向（短手方向）の辺と、第１の方向より長い第２の方向（長手方向）の辺からなる矩形の平面上にそれらの回路を形成しており、短手方向の辺に比して長手方向の辺は曲がりやすい構造を有する。また、データドライバ回路は、回路構成が複雑なため、画素回路と同じ薄膜トランジスタで形成するよりも、ＩＣチップを用いて形成する方が好ましい。ＩＣチップは、半導体基板に形成されているため、ＩＣチップを用いてデータドライバ回路を形成する場合、基材の短手方向の辺に沿って配置することで、外部からディスプレイ装置に力がかかった場合にも、基材の歪みが基材の長手方向の辺に比して小さいため、ＩＣチップが割れ難くなる。
【００１５】
一方、ゲートドライバ回路は、データドライバ回路に比して、回路構成が簡易であるため、画素回路と同じ薄膜トランジスタで形成することができる。また、データドライバ回路を基材の長手方向の辺に沿って薄膜トランジスタを配置しても、ＩＣチップように割れる心配はない。データドライバ回路を薄膜トランジスタで形成することで、ＩＣチップを用いるよりも安価にディスプレイ装置を製造することができ、ディスプレイ装置の長手方向の辺を別段補強する必要はない。したがって、本発明に係るディスプレイ装置は、同一基材上に、ＩＣチップで形成したデータドライバ回路を基材の短手方向の辺に沿って配置し、薄膜トランジスタで形成したゲートドライバ回路を基材の長手方向の辺に沿って配置する。本発明に係るディスプレイ装置について、以下に例を挙げて、さらに詳細に説明する。
【００１６】
（実施形態１）
本発明の実施形態１に係るディスプレイ装置１００の構造について説明する。図１は本実施形態に係るディスプレイ装置１００の構造について説明する上面図であり、図２はディスプレイ装置１００の断面図である。
【００１７】
本実施形態に係るディスプレイ装置１００は、基材１０１の素子形成面である上部表面に表示部１１０、表示部を駆動するディスプレイドライバ回路が配置され、ディスプレイドライバ回路は、データドライバ回路１２０及びゲートドライバ回路１３０を有する。データドライバ回路１２０は基材１０１に形成したＩＣチップで構成され、基材１０１の第１の方向（短手方向）の辺に沿って配置される。ゲートドライバ回路１３０は薄膜トランジスタで構成され、第２の方向（長手方向）の辺に沿って配置される。データドライバ回路１２０及びゲートドライバ回路１３０は、配線１４０を介して表示部１１０にそれぞれ接続する。なお、電源回路、情報を記録するメモリ及び制御回路（図示せず）などがＩＣチップによって構成され、基材１０１に配置される場合は、基材１０１の第１の方向（短手方向）の辺に沿って配置される。
【００１８】
表示部１１０の形成領域には、基材１０１の上部表面に平坦化層１０、ゲート電極５１、ゲート絶縁膜２０、半導体層５７、ソース電極５３及びドレイン電極５５、層間絶縁膜３０が順次積層されてマトリクス状に薄膜トランジスタを形成し、薄膜トランジスタの上方にドレイン電極５５と接続された透明電極１１１が配置され、さらに、配向膜１１７、液晶層、配向膜１１７、１１３及び透明電極１１５が順次積層されて、液晶表示部を形成する。
【００１９】
データドライバ回路１２０の形成領域には、層間絶縁膜３０の上部表面にパッド１３１、バンプ１３３、電極１３５、ＩＣチップ１３７が順次積層されて、データドライバ回路１２０を形成する。データドライバ回路１２０は、ゲートドライバ回路１３０に比して回路構造が複雑であるため、薄膜トランジスタを形成するよりもＩＣチップ１３７を用いる方が好ましい。データドライバ回路１２０はＩＣチップ１３７を基材１０１の第１の方向（短手方向）の辺に沿って配置することで、外部からディスプレイ装置１００に力がかかった場合にも、基材１０１の第１の方向の歪みが小さいため、ＩＣチップ１３７が破壊することはなく、安定して使用可能である。
【００２０】
ゲートドライバ回路１３０の形成領域には、表示部１１０と同様に薄膜トランジスタが形成され、ゲートドライバ回路１３０を構成する。ゲートドライバ回路１３０は簡易な構造を有し、ディスプレイ装置１００外部から力がかかった場合でも可撓性の基材１０１に追従して撓むことで、回路が破壊することはなく、安定して使用可能である。
【００２１】
基材１０１にはフレキシブル基板を用い、例えば、ポリエチレンテレフタレート（Polyethylene Terephthalate：ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（Polyethylene Naphthalate：ＰＥＮ）、ステンレス鋼（ＳＵＳ）箔にポリイミドを積層したもの等の可撓性を有する材料を用いることができる。基材１０１の厚さは、５０μｍ〜２ｍｍの範囲で適宜選択することができる。基材１０１にフレキシブル基板を用いることにより、ゲートドライバ回路１３０が形成された第２の方向にディスプレイ装置１００を曲げることが可能となる。
【００２２】
ゲート電極５１、ソース電極５３及びドレイン電極５５には、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、ガリウムを添加した酸化亜鉛（ＧＺＯ）等を用いることができる。また、チタン、アルミ、金、銅、チタン及びアルミの積層等を用いることもできる。ゲート電極５１、ソース電極５３及びドレイン電極５５の厚さは、１００ｎｍ〜３００ｎｍが好ましい。
【００２３】
ゲート絶縁膜２０及び層間絶縁膜３０には、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化窒化ケイ素等を用いることができる。また、プラスチック基板のような透明な有機樹脂からなる基板、ポリプロピレン、ポリエステル、ビニル、ポリフッ化ビニル、塩化ビニル、ポリエステル、ポリアミドのような透明なフィルム等を用いてもよい。ゲート絶縁膜２０及び層間絶縁膜３０の厚さは、１００ｎｍ〜３μｍの範囲で適宜選択することができる。
【００２４】
半導体層５７は、酸化物亜鉛（ＺｎＯ）を主成分とする酸化物半導体を用いて形成することができる。ＺｎＯを主成分とする場合には、真性の酸化物亜鉛の他に、必要に応じて、リチウム（Ｌｉ）、ナトリウム（Ｎａ）、窒素（Ｎ）及び炭素（Ｃ）等のｐ型ドーパント及びホウ素（Ｂ）、アルミニウム（Ａｌ）、ガリウム（Ｇａ）、インジウム（Ｉｎ）等のｎ型ドーパントがドーピングされた酸化亜鉛及びマグネシウム（Ｍｇ）、ベリリウム（Ｂｅ）などがドーピングされた酸化亜鉛を加えたものであってもよい。さらに、半導体層５７は、錫を添加した酸化インジウム（インジウム錫オキサイド：ＩＴＯ）、インジウム亜鉛オキサイド（ＩＺＯ）または酸化マグネシウム（ＭｇＯ）などの酸化物半導体から形成されていてもよい。半導体層５７の厚さは、２０ｎｍ〜１００μｍの範囲で適宜選択することができる。酸化物半導体を用いて薄膜トランジスタを形成することにより、ゲートドライバ回路１３０を十分に駆動可能である。
【００２５】
表示部１１０は公知の液晶表示装置と同様の構成であってよく、透明電極１１１及び透明電極１１５には、例えば、酸化スズ（Zinc oxide：ＺｎＯ）、酸化インジウムスズ（tin-doped indium oxide：ＩＴＯ）等を用いることができる。また、必要に応じて偏光膜等の公知の構成を配置することができる。なお、本発明のディスプレイ装置１００に制御回路とメモリ等を同一基材１０１上に配置して、情報記録媒体を構成してもよい。
【００２６】
以上説明したように、本発明の本実施形態に係るディスプレイ装置１００は、複雑な構造を有するデータドライバ回路にはシリコンＩＣチップを用い、簡易な構造のゲートドライバ回路には薄膜トランジスタを用いることにより、ディスプレイ装置１００の歩留まりを向上することができる優れた効果を奏する。また、ＩＣチップを用いたデータドライバ回路をディスプレイ装置１００が曲がり難い可撓性基板の短辺方向に配置することにより、ＩＣチップの破損を抑制することができる。さらに、薄膜トランジスタにより形成したゲートドライバ回路を可撓性基板の長手方向に配置することにより、ディスプレイ装置１００を曲げてもゲートドライバ回路が破損せず歩留まりが安定する。
【００２７】
（実施形態２）
実施形態１においては、液晶表示部１１０は配置したディスプレイ装置１００を例に説明したが、本実施形態においては、エレクトロルミネッセンス（Electro-Luminescence：ＥＬ）表示部２１０を配置したディスプレイ装置２００について説明する。実施形態２においては、有機ＥＬを例に説明するが、ＥＬ表示部２１０は無機ＥＬであってもよい。
【００２８】
ディスプレイ装置２００において、データドライバ回路１２０及びゲートドライバ回路１３０は、実施形態１のディスプレイ装置１００と同様の構成であるため、説明は省略する。ＥＬ表示部２１０の形成領域には、基材１０１の上部表面に平坦化層１０、ゲート電極５１、ゲート絶縁膜２０、半導体層５７、ソース電極５３及びドレイン電極５５、層間絶縁膜３０が順次積層されてマトリクス状に薄膜トランジスタを形成し、薄膜トランジスタの上方にドレイン電極５５と接続された電極２１１が配置され、さらに、発光層２１３及び透明電極２１５が順次積層されて、ＥＬ表示部２１０を形成する。
【００２９】
ＥＬ表示部２１０は公知の有機ＥＬ表示装置と同様の構成であってよく、電極２１１には、電子が注入しやすい導電性材料を用い、金属材料、有機物、無機化合物から適宜選択される。例えば、単体としてＡｌ、Ｃｓ、Ｅｒ等、合金としてＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ、ＡｌＬｉ、ＡｌＭｇ、ＣｓＴｅ等、積層体としてＣａ／Ａｌ、Ｍｇ／Ａｌ、Ｌｉ／Ａｌ、Ｃｓ／Ａｌ、Ｃｓ２Ｏ／Ａｌ、ＬｉＦ／Ａｌ、ＥｒＦ３／Ａｌ等が挙げられる。また、透明電極１１５には、電子が注入しやすい導電性材料を用い、金属材料、有機物、無機化合物から適宜選択される。例えば、酸化スズ（Zinc oxide：ＺｎＯ）、酸化インジウムスズ（tin-doped indium oxide：ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（indium zinc oxide：ＩＺＯ）等を用いることができる。
【００３０】
発光層２１３の材料は、色素系材料としては、例えば、シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、クマリン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマーなどが挙げられる。また、金属錯体系材料としては、例えば、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体、イリジウム金属錯体、プラチナ金属錯体等、中心金属に、Ａｌ、Ｚｎ、Ｂｅ、Ｉｒ、Ｐｔ等、またはＴｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子に、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体等が挙げられる。具体的には、トリス（８−ヒドロキシキノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ3）を用いることができる。また、高分子系材料としては、例えば、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリフルオレノン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリキノキサリン誘導体、ポリジアルキルフルオレン誘導体、およびそれらの共重合体等が挙げられる。また、上記の色素系材料および金属錯体系材料を高分子化したものでもよい。
【００３１】
また、図示しないが、発光層２１３の上面にホール輸送層、下面に電子輸送層を形成してもよい。さらに、ホール輸送層の上面にホール注入層、電子輸送層の下面に電子注入層形成してもよく、これら以外の構成であってもよい。
【００３２】
以上説明したように、本発明の本実施形態に係るディスプレイ装置２００は、ＥＬ表示部２１０を駆動するディスプレイドライバ回路として、複雑な構造を有するデータドライバ回路にはシリコンＩＣチップを用い、簡易な構造のゲートドライバ回路には薄膜トランジスタを用いることにより、ディスプレイ装置２００の歩留まりを向上することができる優れた効果を奏する。また、ＩＣチップを用いたデータドライバ回路をディスプレイ装置２００が曲がり難い可撓性基板の短辺方向に配置することにより、ＩＣチップの破損を抑制することができる。さらに、薄膜トランジスタにより形成したゲートドライバ回路を可撓性基板の長手方向に配置することにより、ディスプレイ装置２００を曲げてもゲートドライバ回路が破損せず歩留まりが安定する。このようなディスプレイドライバ回路の構成は、ディスプレイ装置全体として可撓性を付与しやすい有機ＥＬディスプレイには好適である。なお、本発明のディスプレイ装置２００に制御回路とメモリ等を同一基材１０１上に配置して、情報記録媒体を構成してもよい。
【００３３】
（実施形態３）
本実施形態においては、電子ペーパーへの適用例として、トナーディスプレイ方式の表示部３１０を配置したディスプレイ装置３００について説明する。実施形態３においては、トナーディスプレイ方式を例に説明するが、表示部３１０はマイクロカプセル電気泳動方式ツイストボール方式または電子粉流体方式であってもよい。
【００３４】
ディスプレイ装置３００において、データドライバ回路１２０及びゲートドライバ回路１３０は、実施形態１のディスプレイ装置１００と同様の構成であるため、説明は省略する。表示部３１０の形成領域には、基材１０１の上部表面に平坦化層１０、ゲート電極５１、ゲート絶縁膜２０、半導体層５７、ソース電極５３及びドレイン電極５５、層間絶縁膜３０が順次積層されてマトリクス状に薄膜トランジスタを形成し、薄膜トランジスタの上方にドレイン電極５５と接続された電極３１１が配置され、さらに、絶縁層３１７、トナー層３１３、絶縁層３１７、及び透明電極３１５が順次積層されて、表示部３１０を形成する。また、表示部３１０は、これら以外の構成であってもよい。
【００３５】
表示部３１０は公知の電子ペーパー型と同様の構成であってよく、電極３１１及び透明電極３１５は、透明な導電性材料で形成され、例えば、酸化インジウム、アルミニウム、金、銀、銅等の金属類、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン等の導電性高分子類が挙げられる。
【００３６】
絶縁層３１７には可撓性のある材料が好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリイミド、アクリルなどのポリマーシートが挙げられる。
【００３７】
トナー層３１３に用いる粒子は、帯電性能を有する材料を用い、例えば、樹脂、荷電制御剤、着色剤、無機添加剤等、あるいは、着色剤単独等が挙げられる。樹脂であれば、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アクリルウレタン樹脂、アクリルウレタンシリコーン樹脂、アクリルウレタンフッ素樹脂、アクリルフッ素樹脂、シリコーン樹脂、アクリルシリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレンアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ブチラール樹脂、塩化ビニリデン樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられ、２種以上混合することもできる。また、荷電制御剤であれば、負荷電制御剤としては例えば、サリチル酸金属錯体、含金属アゾ染料、含金属（金属イオンや金属原子を含む）の油溶性染料、４級アンモニウム塩系化合物、カリックスアレン化合物、含ホウ素化合物（ベンジル酸ホウ素錯体）、ニトロイミダゾール誘導体等が挙げられる。正荷電制御剤としては例えば、ニグロシン染料、トリフェニルメタン系化合物、４級アンモニウム塩系化合物、ポリアミン樹脂、イミダゾール誘導体等が挙げられる。その他、超微粒子シリカ、超微粒子酸化チタン、超微粒子アルミナ等の金属酸化物、ピリジン等の含窒素環状化合物及びその誘導体や塩、各種有機顔料、フッ素、塩素、窒素等を含んだ樹脂等も荷電制御剤として用いることができる。また、着色剤であれば、黒色顔料としては、カーボンブラック、酸化銅、二酸化マンガン、アニリンブラック、活性炭等がある。黄色顔料としては、黄鉛、亜鉛黄、カドミウムイエロー、黄色酸化鉄、ミネラルファーストイエロー、ニッケルチタンイエロー、ネーブルイエロー、ナフトールイエローＳ、ハンザイエローＧ、ハンザイエロー１０Ｇ、ベンジジンイエローＧ、ベンジジンイエローＧＲ、キノリンイエローレーキ、パーマネントイエローＮＣＧ、タートラジンレーキ等がある。橙色顔料としては、赤色黄鉛、モリブデンオレンジ、パーマネントオレンジＧＴＲ、ピラゾロンオレンジ、バルカンオレンジ、インダスレンブリリアントオレンジＲＫ、ベンジジンオレンジＧ、インダスレンブリリアントオレンジＧＫ等がある。赤色顔料としては、ベンガラ、カドミウムレッド、鉛丹、硫化水銀、カドミウム、パーマネントレッド４Ｒ、リソールレッド、ピラゾロンレッド、ウォッチングレッド、カルシウム塩、レーキレッドＤ、ブリリアントカーミン６Ｂ、エオシンレーキ、ローダミンレーキＢ、アリザリンレーキ、ブリリアントカーミン３Ｂ等がある。紫色顔料としては、マンガン紫、ファーストバイオレットＢ、メチルバイオレットレーキ等がある。青色顔料としては、紺青、コバルトブルー、アルカリブルーレーキ、ビクトリアブルーレーキ、フタロシアニンブルー、無金属フタロシアニンブルー、フタロシアニンブルー部分塩素化物、ファーストスカイブルー、インダスレンブルーＢＣ等がある。緑色顔料としては、クロムグリーン、酸化クロム、ピグメントグリーンＢ、マラカイトグリーンレーキ、ファイナルイエローグリーンＧ等がある。白色顔料としては、亜鉛華、酸化チタン、アンチモン白、硫化亜鉛等がある。体質顔料としては、バライト粉、炭酸バリウム、クレー、シリカ、ホワイトカーボン、タルク、アルミナホワイト等がある。また、塩基性、酸性、分散、直接染料等の各種染料として、ニグロシン、メチレンブルー、ローズベンガル、キノリンイエロー、ウルトラマリンブルー等がある。これらの着色剤は、単独或いは複数組み合わせて用いてもよい。
【００３８】
以上説明したように、本発明の本実施形態に係るディスプレイ装置３００は、また、表示部３１０を駆動するディスプレイドライバ回路として、複雑な構造を有するデータドライバ回路にはシリコンＩＣチップを用い、簡易な構造のゲートドライバ回路には薄膜トランジスタを用いることにより、ディスプレイ装置３００の歩留まりを向上することができる優れた効果を奏する。また、ＩＣチップを用いたデータドライバ回路をディスプレイ装置３００が曲がり難い可撓性基板の短辺方向に配置することにより、ＩＣチップの破損を抑制することができる。さらに、薄膜トランジスタにより形成したゲートドライバ回路を可撓性基板の長手方向に配置することにより、ディスプレイ装置３００を曲げてもゲートドライバ回路が破損せず歩留まりが安定する。このようなディスプレイドライバ回路の構成は、ディスプレイ装置全体として可撓性を付与しやすい電子ペーパーには好適である。なお、本発明のディスプレイ装置３００に制御回路とメモリ等を同一基材１０１上に配置して、情報記録媒体を構成してもよい。
【符号の説明】
【００３９】
１０  平坦化層、２０  ゲート絶縁膜、３０  層間絶縁膜、５１  ゲート電極、５３  ソース電極、５５  ドレイン電極、５７  半導体層、１００  ディスプレイ装置、１０１  基材、１１０  表示部、１１１  透明電極、１１３  液晶層、１１５  透明電極、１１７  配向膜、１２０  データドライバ回路、１３０  ゲートドライバ回路、１３１  パッド、１３３  バンプ、１３５  電極、１３７  ＩＣチップ、１４０  配線、２００  ディスプレイ装置、２１１  電極、２１３  発光層、２１５  透明電極、３００  ディスプレイ装置、３１１  下部電極、３１３  粒子層、３１５  透明電極、３１７  絶縁層
【図１】
0005556541.tif 000002
【図２】
0005556541.tif 000003
【図３】
0005556541.tif 000004
【図４】
0005556541.tif 000005