(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）
【化１】
0005402413.tif 000029
（式中、Ｒa、Ｒbは−ＡＲ1又は−ＯＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4であり、Ｒaが−ＡＲ1のときは、Ｒbが−ＯＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4であり、Ｒaが−ＯＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4のときは、Ｒbが−ＡＲ1である。Ｒ1は炭素数１〜１８の、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、芳香族炭化水素基、アシル基もしくはスルフィド基で置換された又は非置換の１価炭化水素基である。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は炭素数１〜１０の非置換の１価炭化水素基で、各々同一又は異なっていてもよい。Ａは−Ｏ−、−ＯＣＯ−又は炭素数１〜１０の非置換の２価炭化水素基であり、Ｂは炭素数１〜１０の非置換の２価炭化水素基又は−ＣＨ2−Ｏ−（ＣＨ2）3−である。ｎは０〜２の整数である。）
で示される保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物。
【請求項２】
上記一般式（１）において、Ａが−Ｏ−である請求項１記載の保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物。
【請求項３】
上記一般式（１）において、Ａが−ＯＣＯ−である請求項１記載の保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物。
【請求項４】
下記一般式（２）
【化２】
0005402413.tif 000030
（式中、Ｒa、Ｒbは−ＡＲ1又は−ＯＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4であり、Ｒaが−ＡＲ1のときは、Ｒbが−ＯＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4であり、Ｒaが−ＯＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4のときは、Ｒbが−ＡＲ1である。Ｒ1は炭素数１〜１８の、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、芳香族炭化水素基、アシル基もしくはスルフィド基で置換された又は非置換の１価炭化水素基である。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は炭素数１〜１０の非置換の１価炭化水素基で、各々同一又は異なっていてもよい。Ａは−Ｏ−、−ＯＣＯ−又は炭素数１〜１０の非置換の２価炭化水素基であり、Ｂ’は炭素数１〜８の非置換の２価炭化水素基又は−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−である。）
で示される化合物と、下記一般式（３）
ＨＳｉＲ5n（ＯＲ6）3-n          （３）
（式中、Ｒ5及びＲ6は炭素数１〜１０の非置換の１価炭化水素基で、各々同一又は異なっていてもよい。ｎは０〜２の整数である。）
で示されるハイドロジェンシラン化合物とを反応させることを特徴とする下記一般式（４）
【化３】
0005402413.tif 000031
（式中、Ｒa、Ｒb、Ｒ5、Ｒ6及びｎは上記の通りであり、Ｂ”は炭素数３〜１０の非置換の２価炭化水素基又は−ＣＨ2−Ｏ−（ＣＨ2）3−である。）
で示される保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか１項記載の有機ケイ素化合物を用いることを特徴とする無機材料の表面改質方法。
【請求項６】
請求項５記載の表面改質方法により表面改質された無機材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面処理剤、繊維処理剤、塗料添加剤、高分子変性剤等に有用な、保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法に関するものである。また、本発明は、該有機ケイ素化合物を用いた無機材料等の表面改質方法及びこれによって得られた無機材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、アルキルオルガノキシシラン化合物やパーフルオロアルキルオルガノキシシラン化合物といった有機ケイ素化合物は、表面処理剤、繊維処理剤、塗料添加剤等に有用であることが知られている。特に、表面の撥水性や撥油性を制御する目的で無機材料（例えばガラス、金属、酸化物）の表面を処理する場合、上記オルガノキシシラン化合物を用いることで、無機材料の表面水酸基と共有結合することで強固に結合することができ、改質された表面特性の耐候性や持続性が改良されることが知られている（非特許文献１：「シリコーンハンドブック」、日刊工業新聞社、伊藤邦雄著、ｐ．７９，９行目〜ｐ．８０，５行目）。
【０００３】
しかしながら、アルキルオルガノキシシラン化合物を用いた場合、撥水性は向上するものの撥油性が充分ではなかった。また、パーフルオロアルキルオルガノキシシラン化合物に関しては、撥水性、撥油性は改良されているものの、転落角等の表面滑り性が充分ではなかった。
【０００４】
また、アルキルオルガノキシシラン化合物やフルオロアルキルオルガノキシシラン化合物を用いて表面処理する場合、通常加水分解を行い、無機表面の水酸基と反応しやすくする方法が用いられるが、親水性が非常に低いために水との反応性に乏しく、加水分解処理に長時間を要することがあった。これを改善するために分子内に水酸基を含有することが有効であるが、水酸基とオルガノキシ基の両方を有する場合、分子間の水酸基とオルガノキシ基との間で反応を起こし、高分子化してしまうために、安定な状態で存在することができない（非特許文献２：「ＯＲＧＡＮＯＨＡＬＯＳＩＬＡＮＥＳ  Ｐｒｅｃｕｒｓｏｒｓ  ｔｏ  Ｓｉｌｉｃｏｎｅ」、（オランダ）、ＥＬＳＥＶＩＥＲ  ＰＵＢＬＩＳＨＩＮＧ  ＣＯＭＰＡＮＹ、ｐ．３５０，７〜１５行目）という問題があった。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】「シリコーンハンドブック」、日刊工業新聞社、伊藤邦雄著、ｐ．７９，９行目〜ｐ．８０，５行目
【非特許文献２】「ＯＲＧＡＮＯＨＡＬＯＳＩＬＡＮＥＳ  Ｐｒｅｃｕｒｓｏｒｓ  ｔｏ  Ｓｉｌｉｃｏｎｅ」、（オランダ）、ＥＬＳＥＶＩＥＲ  ＰＵＢＬＩＳＨＩＮＧ  ＣＯＭＰＡＮＹ、ｐ．３５０，７〜１５行目
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、安定に精製、保存が可能で、撥水性、撥油性、表面滑り性といった表面の制御を可能にし、加水分解による表面処理を容易にする、トリオルガノシリル基で保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、この有機ケイ素化合物を用いた無機材料等の表面改質方法及びこれによって得られる表面改質された無機材料を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、下記一般式（１）
【化１】
0005402413.tif 000002
（式中、Ｒa、Ｒbは−ＡＲ1又は−ＯＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4であり、Ｒaが−ＡＲ1のときは、Ｒbが−ＯＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4であり、Ｒaが−ＯＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4のときは、Ｒbが−ＡＲ1である。Ｒ1は炭素数１〜１８の、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、芳香族炭化水素基、アシル基もしくはスルフィド基で置換された又は非置換の１価炭化水素基である。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は炭素数１〜１０の非置換の１価炭化水素基で、各々同一又は異なっていてもよい。Ａは−Ｏ−、−ＯＣＯ−又は炭素数１〜１０の非置換の２価炭化水素基であり、Ｂは炭素数１〜１０の非置換の２価炭化水素基又は−ＣＨ2−Ｏ−（ＣＨ2）3−である。ｎは０〜２の整数である。）で示される保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物が、トリオルガノシリル基により水酸基を保護しているため、蒸留や保存中も高分子化せず安定であり、使用時には脱シリル化することにより任意に水酸基を発生することができ、これを用いて無機材料等を表面処理することで、表面の撥水性、撥油性、表面滑り性の制御が可能であることを知見し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
即ち、本発明は下記有機ケイ素化合物及びその製造方法を提供する。また、本発明は、下記の表面改質方法及びそれによって得られる無機材料を提供する。
請求項１：
下記一般式（１）
【化１】
0005402413.tif 000003
（式中、Ｒa、Ｒbは−ＡＲ1又は−ＯＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4であり、Ｒaが−ＡＲ1のときは、Ｒbが−ＯＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4であり、Ｒaが−ＯＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4のときは、Ｒbが−ＡＲ1である。Ｒ1は炭素数１〜１８の、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、芳香族炭化水素基、アシル基もしくはスルフィド基で置換された又は非置換の１価炭化水素基である。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は炭素数１〜１０の非置換の１価炭化水素基で、各々同一又は異なっていてもよい。Ａは−Ｏ−、−ＯＣＯ−又は炭素数１〜１０の非置換の２価炭化水素基であり、Ｂは炭素数１〜１０の非置換の２価炭化水素基又は−ＣＨ2−Ｏ−（ＣＨ2）3−である。ｎは０〜２の整数である。）
で示される保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物。
請求項２：
上記一般式（１）において、Ａが−Ｏ−である請求項１記載の保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物。
請求項３：
上記一般式（１）において、Ａが−ＯＣＯ−である請求項１記載の保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物。
請求項４：
下記一般式（２）
【化２】
0005402413.tif 000004
（式中、Ｒa、Ｒbは−ＡＲ1又は−ＯＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4であり、Ｒaが−ＡＲ1のときは、Ｒbが−ＯＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4であり、Ｒaが−ＯＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4のときは、Ｒbが−ＡＲ1である。Ｒ1は炭素数１〜１８の、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、芳香族炭化水素基、アシル基もしくはスルフィド基で置換された又は非置換の１価炭化水素基である。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は炭素数１〜１０の非置換の１価炭化水素基で、各々同一又は異なっていてもよい。Ａは−Ｏ−、−ＯＣＯ−又は炭素数１〜１０の非置換の２価炭化水素基であり、Ｂ’は炭素数１〜８の非置換の２価炭化水素基又は−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−である。）
で示される化合物と、下記一般式（３）
ＨＳｉＲ5n（ＯＲ6）3-n          （３）
（式中、Ｒ5及びＲ6は炭素数１〜１０の非置換の１価炭化水素基で、各々同一又は異なっていてもよい。ｎは０〜２の整数である。）
で示されるハイドロジェンシラン化合物とを反応させることを特徴とする下記一般式（４）
【化３】
0005402413.tif 000005
（式中、Ｒa、Ｒb、Ｒ5、Ｒ6及びｎは上記の通りであり、Ｂ”は炭素数３〜１０の非置換の２価炭化水素基又は−ＣＨ2−Ｏ−（ＣＨ2）3−である。）
で示される保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物の製造方法。
請求項５：
請求項１〜３のいずれか１項記載の有機ケイ素化合物を用いることを特徴とする無機材料の表面改質方法。
請求項６：
請求項５記載の表面改質方法により表面改質された無機材料。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物は、精製、保存中も安定に存在し、加水分解時は脱保護されることで加水分解も容易に行われる。また、これを用いて無機材料等の表面処理を行うことで、親水性を付与したり、表面の撥水性、撥油性、転落角や転落速度等、表面滑り性の制御をすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】合成例１で得られた有機ケイ素化合物の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図２】合成例１で得られた有機ケイ素化合物のＩＲスペクトルである。
【図３】実施例１で得られた有機ケイ素化合物の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図４】実施例１で得られた有機ケイ素化合物のＩＲスペクトルである。
【図５】合成例２で得られた有機ケイ素化合物の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図６】合成例２で得られた有機ケイ素化合物のＩＲスペクトルである。
【図７】実施例２で得られた有機ケイ素化合物の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図８】実施例２で得られた有機ケイ素化合物のＩＲスペクトルである。
【図９】合成例３で得られた有機ケイ素化合物の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図１０】合成例３で得られた有機ケイ素化合物のＩＲスペクトルである。
【図１１】実施例３で得られた有機ケイ素化合物の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図１２】実施例３で得られた有機ケイ素化合物のＩＲスペクトルである。
【図１３】合成例４で得られた有機ケイ素化合物の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図１４】合成例４で得られた有機ケイ素化合物のＩＲスペクトルである。
【図１５】実施例４で得られた有機ケイ素化合物の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図１６】実施例４で得られた有機ケイ素化合物のＩＲスペクトルである。
【図１７】合成例５で得られた有機ケイ素化合物の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図１８】合成例５で得られた有機ケイ素化合物のＩＲスペクトルである。
【図１９】実施例５で得られた有機ケイ素化合物の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図２０】実施例５で得られた有機ケイ素化合物のＩＲスペクトルである。
【図２１】実施例６で得られた有機ケイ素化合物の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図２２】実施例６で得られた有機ケイ素化合物のＩＲスペクトルである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の有機ケイ素化合物は、下記一般式（１）
【化５】
0005402413.tif 000006
（式中、Ｒa、Ｒbは−ＡＲ1又は−ＯＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4であり、Ｒaが−ＡＲ1のときは、Ｒbが−ＯＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4であり、Ｒaが−ＯＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4のときは、Ｒbが−ＡＲ1である。Ｒ1は炭素数１〜１８の、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、芳香族炭化水素基、アシル基もしくはスルフィド基で置換された又は非置換の１価炭化水素基である。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は炭素数１〜１０の非置換の１価炭化水素基で、各々同一又は異なっていてもよい。Ａは−Ｏ−、−ＯＣＯ−又は炭素数１〜１０の非置換の２価炭化水素基であり、Ｂは炭素数１〜１０の非置換の２価炭化水素基又は−ＣＨ2−Ｏ−（ＣＨ2）3−である。ｎは０〜２の整数である。）
で示される保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物である。
【００１２】
上記一般式（１）中、Ｒ1は炭素数１〜１８、好ましくは１〜１０の置換又は非置換の１価炭化水素基である。例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ｎ−ノニル基、イソノニル基、ｎ−デシル基、イソデシル基、ｎ−ウンデシル基、イソウンデシル基、ｎ−ドデシル基、イソドデシル基等の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基又はシクロアルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基；ベンジル基、メチルベンジル基、フェネチル基、メチルフェネチル基、フェニルベンジル基等のアラルキル基が挙げられる。また、これらの炭化水素基の水素原子の一部又は全部が置換基で置換されていてもよく、該置換基としては、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、（イソ）プロポキシ基等のアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子からなる基、シアノ基、アミノ基、芳香族炭化水素基、エステル基、エーテル基、アシル基、スルフィド基等が挙げられ、これらのうちの１種又は２種以上を組み合わせて用いることもできる。これらの置換基の置換位置は特に限定されず、置換基数も限定されない。特に、撥水性、撥油性、表面滑り性を要する場合は、炭化水素基の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換される方が好ましい。
【００１３】
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は炭素数１〜１０、好ましくは１〜６の１価炭化水素基であり、直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基等が挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ビニル基、アリル基、メタリル基、ブテニル基、フェニル基等が例示され、特に、メチル基、エチル基、イソプロピル基等が好ましい。
【００１４】
Ａは２価の連結基で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＯ−又は炭素数１〜１０、特に１〜６の置換又は非置換の２価有機基、好ましくは２価の炭化水素基であり、炭素原子の１個以上がＯ及び／又はＳで置き換えられていてもよい。例えば、エーテル基、チオエーテル基、アルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基等が挙げられ、具体的には、メチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、イソブチレン基等が例示され、これらの基がエーテル基（−Ｏ−）、カルボニル基（−ＣＯ−）、エステル基（−ＣＯＯ−）、スルフィド基（−Ｓ−）、ジスルフィド基（−Ｓ−Ｓ−）等を含んでもよい。特に、−Ｏ−、−ＯＣＯ−が好ましい。
【００１５】
Ｂは炭素数１〜１０、特に３〜１０の直鎖状又は分岐状の２価有機基、好ましくは２価炭化水素基であり、炭素原子の１個以上がＯ及び／又はＳで置き換えられていてもよい。例えば、アルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基等が挙げられ、具体的には、メチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、イソブチレン基等が例示され、これらの基がエーテル基（−Ｏ−）、カルボニル基（−ＣＯ−）、エステル基（−ＣＯＯ−）、スルフィド基（−Ｓ−）、ジスルフィド基（−Ｓ−Ｓ−）等を含んでもよい。より具体的には、−（ＣＨ2）4−、−（ＣＨ2）6−、−（ＣＨ2）8−、−ＣＨ2−Ｏ−（ＣＨ2）3−等が挙げられ、特に、−ＣＨ2−Ｏ−（ＣＨ2）3−が好ましい。
【００１６】
本発明の保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物を具体的に例示すると、下記化合物αや化合物βが例示されるが、本発明はこの例示により制限されるものではない。
【００１７】
【化６】
0005402413.tif 000007
【００１８】
但し、化合物α及び化合物β中のＲa、Ｒb及びＲcとしては、下記表１〜３の基が例示されるが、Ｒaが表１記載の基から選ばれる置換基であるときＲbは表２記載の基から選ばれる置換基であり、Ｒaが表２記載の基から選ばれる置換基であるときＲbは表１記載の基から選ばれる置換基である。なお、下記表中、iＰｒはイソプロピル基、tＢｕはｔｅｒｔ−ブチル基である。
【００１９】
【表１】
0005402413.tif 000008
【００２０】
【表２】
0005402413.tif 000009
【００２１】
【表３】
0005402413.tif 000010
【００２２】
一般式（１）で示される保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物の製造方法は、例えば、下記一般式（２）
【化７】
0005402413.tif 000011
（式中、Ｒa、Ｒbは上述した通りである。Ｂ’は炭素数１〜８の置換又は非置換の２価有機基であり、炭素原子の１個以上がＯ及び／又はＳで置き換えられていてもよい。）
で示される化合物と、下記一般式（３）
ＨＳｉＲ5n（ＯＲ6）3-n          （３）
（式中、Ｒ5、Ｒ6及びｎは上述した通りである。）
で示されるハイドロジェンシラン化合物を反応させる。上記反応により、例えば、下記一般式（４）
【化８】
0005402413.tif 000012
（式中、Ｒa、Ｒb、Ｒ5、Ｒ6及びｎは上記の通りであり、Ｂ”は炭素数３〜１０の置換又は非置換の２価有機基であり、炭素原子の１個以上がＯ及び／又はＳで置き換えられていてもよい。）
で示される保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物を得ることができる。反応は、遷移金属触媒の存在下で行うのが好ましく、遷移金属触媒としては白金触媒が好ましい。
【００２３】
Ｂ’は炭素数１〜８の直鎖状又は分岐状の２価有機基、好ましくは２価炭化水素基であり、炭素原子の１個以上がＯ及び／又はＳで置き換えられていてもよい。例えば、アルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基等が挙げられ、具体的には、メチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、イソブチレン基等が例示され、エーテル基（−Ｏ−）、カルボニル基（−ＣＯ−）、エステル基（−ＣＯＯ−）、スルフィド基（−Ｓ−）、ジスルフィド基（−Ｓ−Ｓ−）等を含んでもよい。具体的には、−（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）4−、−（ＣＨ2）6−、−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−等が挙げられ、特に、−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−が好ましい。
【００２４】
Ｂ”は炭素数３〜１０の直鎖状又は分岐状の２価有機基、好ましくは２価炭化水素基であり、炭素原子の１個以上がＯ及び／又はＳで置き換えられていてもよい。例えば、アルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基等が挙げられ、具体的には、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、イソブチレン基等が例示され、これらの基がエーテル基（−Ｏ−）、カルボニル基（−ＣＯ−）、エステル基（−ＣＯＯ−）、スルフィド基（−Ｓ−）、ジスルフィド基（−Ｓ−Ｓ−）等を含んでもよい。より具体的には、−（ＣＨ2）4−、−（ＣＨ2）6−、−（ＣＨ2）8−、−ＣＨ2−Ｏ−（ＣＨ2）3−等が挙げられ、特に、−ＣＨ2−Ｏ−（ＣＨ2）3−が好ましい。
【００２５】
上記一般式（２）で示される化合物としては、具体的には、下記化合物γ、化合物δが例示されるが、本発明はこの例示により制限されるものではない。
【化９】
0005402413.tif 000013
【００２６】
但し、化合物γ及び化合物δ中のＲa及びＲbは、化合物α，β中のＲa及びＲbと同様の組み合わせが例示される。
【００２７】
上記反応で用いられる一般式（３）で示されるハイドロジェンシラン化合物としては、具体的には、トリメトキシシラン、メチルジメトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン等が例示される。
【００２８】
上記一般式（４）で示される化合物の具体例は、化合物α，βと同様のものが挙げられる。
【００２９】
一般式（２）で示される化合物と、一般式（３）で示されるハイドロジェンシラン化合物の配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、一般式（２）で示される化合物１モルに対し、一般式（３）で表されるハイドロジェンシラン化合物０．５〜２モル、特に０．７〜１．２モルの範囲が好ましい。
【００３０】
上記反応で用いられる白金触媒としては、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン又はキシレン溶液、テトラキストリフェニルホスフィン白金、ジクロロビストリフェニルホスフィン白金、ジクロロビスアセトニトリル白金、ジクロロビスベンゾニトリル白金、ジクロロシクロオクタジエン白金等が例示される。
【００３１】
白金触媒の使用量は特に限定されないが、反応性、生産性の点から一般式（２）で示される化合物１モルに対し、０．０００００１〜０．０１モル、特に０．００００１〜０．００１モルの範囲が好ましい。
【００３２】
上記反応の反応温度は特に限定されないが、０〜１２０℃、特に２０〜１００℃が好ましく、反応時間は１〜２０時間、特に１〜１０時間が好ましい。
【００３３】
なお、上記反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。用いられる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒等が例示される。これらの溶媒は１種を単独で使用してもよく、あるいは２種以上を混合して使用してもよい。
【００３４】
また、本発明における上記一般式（１）で示される保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物の製造法として、下記一般式（５）
【化１０】
0005402413.tif 000014
（式中、Ｒa'及びＲb'は−ＡＲ1又は−ＯＨであり、それぞれ異なる。Ｒ1は炭素数１〜１８の置換又は非置換の１価炭化水素基であり、Ａは２価の連結基で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−又は炭素数１〜１０の置換又は非置換の２価有機基、好ましくは２価炭化水素基であり、エーテル基、カルボニル基、エステル基、スルフィド基又はジスルフィド基を含んでもよい。Ｒ5及びＲ6は炭素数１〜１０の置換又は非置換の１価炭化水素基で、各々同一又は異なっていてもよい。Ｂは炭素数１〜１０の置換又は非置換の２価有機基、好ましくは２価炭化水素基であり、炭素原子の１個以上がＯ及び／又はＳで置き換えられていてもよい。ｎは０〜２の整数である。）
で示される化合物を、下記トリオルガノシリル基
−ＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4
（Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は炭素数１〜１０の置換又は非置換の１価炭化水素基で、各々同一又は異なっていてもよい。）
を有するシリル化剤によってシリル化する方法も例示される。
この場合、Ａ、Ｂ及びＲ1〜Ｒ6の具体例は上述した通りである。
【００３５】
上記一般式（５）で示される化合物としては、具体的には、下記化合物ε、化合物ζが例示されるが、本発明はこの例示により制限されるものではない。
【化１１】
0005402413.tif 000015
【００３６】
但し、化合物ε及び化合物ζ中、Ｒa'及びＲb'は−ＡＲ1又は−ＯＨであり、Ａ、Ｒ1及びＲcとしては、上述した通りであり、−ＡＲ1及びＲcの具体例としてはそれぞれ表１，３に記載の基が例示される。
【００３７】
上記反応で用いられるシリル化剤としては、トリメチルクロロシラン、トリメチルブロモシラン、トリメチルヨードシラン、トリエチルクロロシラン、ｔ−ブチルジメチルクロロシラン、トリイソプロピルクロロシラン等のＲ2Ｒ3Ｒ4ＳｉＸ（Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は上記の通りであり、Ｘは塩素原子等のハロゲン原子である。）で表されるトリオルガノハロシラン化合物；ヘキサメチルジシラザン、ヘキサエチルジシラザン等の（Ｒ2Ｒ3Ｒ4Ｓｉ）2ＮＨ（Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は上記の通りである。）で表されるジシラザン、その他のシラザン化合物；ビス（トリメチルシリル）アセトアミド、ビス（トリエチルシリル）アセトアミド、ビス（トリメチルシリル）トリフルオロアセトアミド等のＣＲ3Ｃ（−ＯＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4）＝ＮＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4（Ｒは水素原子又はフッ素原子、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は上記の通りである。）等で示されるシリルアミド化合物等が例示される。
【００３８】
一般式（５）で示される化合物と、シリル化剤との配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、一般式（５）で示される化合物１モルに対し、シリル化剤を、シリル基のモル数で１〜４モル、特に１〜２モルの範囲が好ましい。
【００３９】
上記反応の反応温度は特に限定されないが、０〜１５０℃、特に２０〜１３０℃が好ましく、反応時間は１〜２０時間、特に１〜１０時間が好ましい。
【００４０】
上記反応は、無触媒でも進行するが、触媒を用いることもできる。用いられる触媒としては、４級アンモニウム塩や、硫酸、スルホン酸といった酸及びその誘導体やその無機塩が例示される。
【００４１】
なお、上記反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。用いられる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒等が例示される。これらの溶媒は１種を単独で使用してもよく、あるいは２種以上を混合して使用してもよい。
【００４２】
本発明の製造方法による有機ケイ素化合物は、その目的品質に応じて、蒸留、ろ過、洗浄、カラム分離、固体吸着剤等の各種の精製法によって更に精製して使用することもできる。触媒等微量不純物を取り除き、高純度にするためには、蒸留による精製が好ましい。
【００４３】
得られた有機ケイ素化合物は、シランカップリング剤、ガラス、シリコンウェハ、金属等の無機材料等の表面処理剤、高分子変性剤等として有用である。この場合、かかる用途に使用する前又は使用した後において、トリオルガノシリル基（−ＳｉＲ2Ｒ3Ｒ4基）を加水分解又は加アルコール分解等の常法によって、脱離させ、それまで該トリオルガノシリル基によって保護していた水酸基を脱保護して水酸基を顕出させることができる。
【００４４】
本発明の有機ケイ素化合物は、そのまま使用しても問題ないが、溶媒に希釈して用いた方が簡便で好ましい。溶媒としては、水、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒等が例示され、特に水、アルコール系溶媒が好ましい。用いる濃度としては、有機ケイ素化合物が、０．００１〜５０質量％となるように希釈して用いるとよい。
【００４５】
本発明の有機ケイ素化合物には、本発明の効果を損なわない範囲であれば、顔料、消泡剤、潤滑剤、防腐剤、ｐＨ調節剤、フィルム形成剤、帯電防止剤、抗菌剤、界面活性剤、染料等から選択される他の添加剤の１種又は２種以上を添加してもよい。
【００４６】
本発明の有機ケイ素化合物の用途は特に限定されるものではないが、例えば、無機材料等の表面処理剤、液状封止剤、鋳物用鋳型、樹脂の表面改質剤、高分子変性剤及び水系塗料の添加剤等を挙げることができる。
【００４７】
本発明の有機ケイ素化合物を用いることで、無機材料の表面処理（表面改質）をすることが可能である。無機材料としては、金属板、ガラス板、金属繊維、ガラス繊維、粉末シリカ、粉末アルミナ、粉末タルク、粉末炭酸カルシウム等が挙げられる。また、該ガラス繊維の材料としては、Ｅガラス、Ｃガラス等の一般的に用いられる種類のガラスを用いることができる。該ガラス繊維は、その製品形態に限定されない。ガラス繊維製品は多岐にわたるが、例えば、繊維径が３〜３０μｍのガラス糸（フィラメント）の繊維束、撚糸、織物を挙げることができる。
【００４８】
無機材料を本発明の有機ケイ素化合物を用いて処理する方法としては、一般的に用いられる方法が採用できる。即ち、本発明の有機ケイ素化合物をそのままもしくは希釈して用い、これに前記無機材料を浸漬させた後、無機材料を引き上げて乾燥する方法や、本発明の有機ケイ素化合物をそのままもしくは希釈したものを無機材料表面にスプレーした後、無機材料を乾燥する方法等が挙げられる。
【実施例】
【００４９】
以下、合成例、実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。なお、下記例中、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基を示す。
【００５０】
［合成例１］
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、プロピオン酸３０ｇ（０．４０ｍｏｌ）、トリエチルアミン２．０ｇ（０．０２ｍｏｌ）を仕込み、アリルグリシジルエーテル４６ｇ（０．４０ｍｏｌ）を内温９０〜９５℃で６時間かけて滴下し、その温度で３時間撹拌した。室温まで冷却後、塩化アンモニウム０．４４ｇ（０．００８３ｍｏｌ）を加え、ヘキサメチルジシラザン３９ｇ（０．２４ｍｏｌ）を内温６０〜７０℃で２時間かけて滴下し、その温度で２時間撹拌した。得られた反応液を蒸留することで、沸点７５〜７６℃／０．３ｋＰａの無色透明の留分７２ｇを得た。
得られた留分の1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）、ＩＲスペクトルを測定した。図１には1Ｈ−ＮＭＲスペクトルのチャート、図２にはＩＲスペクトルのチャートを示した。また、質量スペクトルの結果を下記に示す。
質量スペクトル
ｍ／ｚ  ２４５，２０３，１８７，１４５，１３１，７３
以上の結果より、得られた化合物は下記式（６）、（７）の混合物であることを確認した。また、1Ｈ−ＮＭＲの結果より混合物の比は式（６）：式（７）＝６６：３４であった。
【化１２】
0005402413.tif 000016
【００５１】
［実施例１］
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、合成例１の留分５２ｇ（０．２０ｍｏｌ）、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含量３質量％）０．１３ｇを仕込み、７０℃に加熱した。内温が安定した後、トリメトキシシラン２０ｇ（０．１６ｍｏｌ）を７０〜８０℃で４時間かけて滴下し、その温度で２時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点１２７〜１２８℃／０．３ｋＰａの無色透明留分を４１ｇ得た。
得られた留分の1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）、ＩＲスペクトルを測定した。図３には1Ｈ−ＮＭＲスペクトルのチャート、図４にはＩＲスペクトルのチャートを示した。また、質量スペクトルの結果を下記に示す。
質量スペクトル
ｍ／ｚ  ３６７，２９３，２４７，２０３，１６３，１２１
以上の結果より、得られた化合物は下記式（８）、（９）の混合物であることを確認した。また、1Ｈ−ＮＭＲの結果より混合物の比は式（８）：式（９）＝６６：３４であった。
【化１３】
0005402413.tif 000017
【００５２】
［合成例２］
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、ペンタン酸３２ｇ（０．３１ｍｏｌ）、トリエチルアミン１．２ｇ（０．０１２ｍｏｌ）を仕込み、アリルグリシジルエーテル３６ｇ（０．３１ｍｏｌ）を内温９０〜９５℃で６時間かけて滴下し、その温度で３時間撹拌した。室温まで冷却後、塩化アンモニウム０．３４ｇ（０．００６４ｍｏｌ）を加え、ヘキサメチルジシラザン３１ｇ（０．１９ｍｏｌ）を内温６０〜７０℃で２時間かけて滴下し、その温度で２時間撹拌した。得られた反応液を蒸留することで、沸点１０１〜１０２℃／０．３ｋＰａの無色透明の留分７１ｇを得た。
得られた留分の1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）、ＩＲスペクトルを測定した。図５には1Ｈ−ＮＭＲスペクトルのチャート、図６にはＩＲスペクトルのチャートを示した。また、質量スペクトルの結果を下記に示す。
質量スペクトル
ｍ／ｚ  ２７３，２３１，２１５，１９９，１５９，１３１
以上の結果より、得られた化合物は下記式（１０）、（１１）の混合物であることを確認した。また、1Ｈ−ＮＭＲの結果より混合物の比は式（１０）：式（１１）＝６８：３２であった。
【化１４】
0005402413.tif 000018
【００５３】
［実施例２］
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、合成例２の留分１９ｇ（０．０７１ｍｏｌ）、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含量３質量％）０．０４６ｇを仕込み、７０℃に加熱した。内温が安定した後、トリメトキシシラン７．７ｇ（０．０６３ｍｏｌ）を７０〜８０℃で４時間かけて滴下し、その温度で２時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点１４３〜１４４℃／０．３ｋＰａの無色透明留分を１４ｇ得た。
得られた留分の1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）、ＩＲスペクトルを測定した。図７には1Ｈ−ＮＭＲスペクトルのチャート、図８にはＩＲスペクトルのチャートを示した。また、質量スペクトルの結果を下記に示す。
質量スペクトル
ｍ／ｚ  ３９５，３２１，２７５，２３１，１６３，１２１
以上の結果より、得られた化合物は下記式（１２）、（１３）の混合物であることを確認した。また、1Ｈ−ＮＭＲの結果より混合物の比は式（１２）：式（１３）＝６９：３１であった。
【化１５】
0005402413.tif 000019
【００５４】
［合成例３］
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、ノナフルオロペンタン酸５１ｇ（０．１９ｍｏｌ）、トリエチルアミン１．０ｇ（０．０１０ｍｏｌ）を仕込み、アリルグリシジルエーテル２２ｇ（０．１９ｍｏｌ）を内温９０〜９５℃で５時間かけて滴下し、その温度で２時間撹拌した。室温まで冷却後、ビス（トリメチルシリル）トリフラート５９ｇ（０．２３ｍｏｌ）を内温２２〜３０℃で２時間かけて滴下し、その温度で１時間撹拌した。得られた反応液を蒸留することで、沸点７２〜７３℃／０．３ｋＰａの無色透明の留分４５ｇを得た。
得られた留分の1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）、ＩＲスペクトルを測定した。図９には1Ｈ−ＮＭＲスペクトルのチャート、図１０にはＩＲスペクトルのチャートを示した。また、質量スペクトルの結果を下記に示す。
質量スペクトル
ｍ／ｚ  ４３５，３７９，３０４，２１９，１３１，７３
以上の結果より、得られた化合物は下記式（１４）、（１５）の混合物であることを確認した。また、1Ｈ−ＮＭＲの結果より混合物の比は式（１４）：式（１５）＝７８：２２であった。
【化１６】
0005402413.tif 000020
【００５５】
［実施例３］
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、合成例３の留分３６ｇ（０．０８０ｍｏｌ）、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含量３質量％）０．０５２ｇを仕込み、７０℃に加熱した。内温が安定した後、トリメトキシシラン７．８ｇ（０．０６４ｍｏｌ）を７０〜８０℃で３時間かけて滴下し、その温度で２時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点１２５〜１２７℃／０．３ｋＰａの無色透明留分を２７ｇ得た。
得られた留分の1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）、ＩＲスペクトルを測定した。図１１には1Ｈ−ＮＭＲスペクトルのチャート、図１２にはＩＲスペクトルのチャートを示した。また、質量スペクトルの結果を下記に示す。
質量スペクトル
ｍ／ｚ  ５４１，４３７，３９３，３５３，２２１，１６３，１２１
以上の結果より、得られた化合物は下記式（１６）、（１７）の混合物であることを確認した。また、1Ｈ−ＮＭＲの結果より混合物の比は式（１６）：式（１７）＝７８：２２であった。
【化１７】
0005402413.tif 000021
【００５６】
［合成例４］
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、ノナフルオロ−１−ヘキサノール２５ｇ（０．０９５ｍｏｌ）、トリエチルアミン０．５０ｇ（０．００４０ｍｏｌ）を仕込み、アリルグリシジルエーテル１１ｇ（０．０９５ｍｏｌ）を内温９０〜１００℃で５時間かけて滴下し、その温度で１２時間撹拌した。室温まで冷却後、塩化アンモニウム０．２１ｇ（０．００４０ｍｏｌ）を加え、ヘキサメチルジシラザン９．２ｇ（０．０５７ｍｏｌ）を内温６０〜７０℃で２時間かけて滴下し、その温度で１時間撹拌した。得られた反応液を蒸留することで、沸点９１〜９３℃／０．４ｋＰａの無色透明の留分３４．６ｇを得た。
得られた留分の1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）、ＩＲスペクトルを測定した。図１３には1Ｈ−ＮＭＲスペクトルのチャート、図１４にはＩＲスペクトルのチャートを示した。また、質量スペクトルの結果を下記に示す。
質量スペクトル
ｍ／ｚ  ４３５，３９３，３７９，２２７，１７３，７３
以上の結果より、得られた化合物は下記式（１８）、（１９）の混合物であることを確認した。また、1Ｈ−ＮＭＲの結果より混合物の比は式（１８）：式（１９）＝９９：１であった。
【化１８】
0005402413.tif 000022
【００５７】
［実施例４］
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、合成例４の留分２３ｇ（０．０５２ｍｏｌ）、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含量３質量％）０．０３６ｇを仕込み、７０℃に加熱した。内温が安定した後、トリメトキシシラン５．２ｇ（０．０４１ｍｏｌ）を７０〜８０℃で３時間かけて滴下し、その温度で２時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点１２６〜１２７℃／０．２ｋＰａの無色透明留分を１７ｇ得た。
得られた留分の1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）、ＩＲスペクトルを測定した。図１５には1Ｈ−ＮＭＲスペクトルのチャート、図１６にはＩＲスペクトルのチャートを示した。また、質量スペクトルの結果を下記に示す。
質量スペクトル
ｍ／ｚ  ５４１，４３７，３７９，２６３，１６３，１２１，７３
以上の結果より、得られた化合物は下記式（２０）、（２１）の混合物であることを確認した。また、1Ｈ−ＮＭＲの結果より混合物の比は式（２０）：式（２１）＝９９：１であった。
【化１９】
0005402413.tif 000023
【００５８】
［合成例５］
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、ヘキサフルオロ−２−プロパノール３４ｇ（０．２０ｍｏｌ）、トリエチルアミン０．８０ｇ（０．００７９ｍｏｌ）を仕込み、アリルグリシジルエーテル２３ｇ（０．２０ｍｏｌ）を還流条件下で内温６１〜９５℃で８時間かけて滴下し、内温９０〜９５℃で８時間撹拌した。室温まで冷却後、塩化アンモニウム０．４４ｇ（０．００８３ｍｏｌ）を加え、ヘキサメチルジシラザン１９．４ｇ（０．１２ｍｏｌ）を内温６０〜７０℃で２時間かけて滴下し、その温度で２時間撹拌した。得られた反応液を蒸留することで、沸点７８〜７９℃／０．９ｋＰａの無色透明の留分５２ｇを得た。
得られた留分の1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）、ＩＲスペクトルを測定した。図１７には1Ｈ−ＮＭＲスペクトルのチャート、図１８にはＩＲスペクトルのチャートを示した。また、質量スペクトルの結果を下記に示す。
質量スペクトル
ｍ／ｚ  ３３９，２９７，２５５，１７１，７３
以上の結果より、得られた化合物は下記式（２２）、（２３）の混合物であることを確認した。また、1Ｈ−ＮＭＲの結果より混合物の比は式（２２）：式（２３）＝９９：１であった。
【化２０】
0005402413.tif 000024
【００５９】
［実施例５］
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、合成例５の留分４０ｇ（０．１１ｍｏｌ）、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含量３質量％）０．０７６ｇを仕込み、７０℃に加熱した。内温が安定した後、トリメトキシシラン１１ｇ（０．０９０ｍｏｌ）を７０〜８０℃で３時間かけて滴下し、その温度で２時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点１２１〜１２２℃／０．３ｋＰａの無色透明留分を３３ｇ得た。
得られた留分の1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）、ＩＲスペクトルを測定した。図１９には1Ｈ−ＮＭＲスペクトルのチャート、図２０にはＩＲスペクトルのチャートを示した。また、質量スペクトルの結果を下記に示す。
質量スペクトル
ｍ／ｚ  ４０３，３４１，２９７，２２１，１６３，１２１，７３
以上の結果より、得られた化合物は下記式（２４）、（２５）の混合物であることを確認した。また、1Ｈ−ＮＭＲの結果より混合物の比は式（２４）：式（２５）＝９９：１であった。
【化２１】
0005402413.tif 000025
【００６０】
［実施例６］
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、合成例１の留分２６ｇ（０．１０ｍｏｌ）、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含量３質量％）０．１１ｇを仕込み、７０℃に加熱した。内温が安定した後、メチルジエトキシシラン１１ｇ（０．０８０ｍｏｌ）を７０〜８０℃で４時間かけて滴下し、その温度で２時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点１３１〜１３２℃／０．３ｋＰａの無色透明留分を２３ｇ得た。
得られた留分の1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）、ＩＲスペクトルを測定した。図２１には1Ｈ−ＮＭＲスペクトルのチャート、図２２にはＩＲスペクトルのチャートを示した。また、質量スペクトルの結果を下記に示す。
質量スペクトル
ｍ／ｚ  ３７９，３４９，２３１，２０３，１７５，１３３，７３
以上の結果より、得られた化合物は下記式（２６）、（２７）の混合物であることを確認した。また、1Ｈ−ＮＭＲの結果より混合物の比は式（２６）：式（２７）＝６６：３４であった。
【化２２】
0005402413.tif 000026
【００６１】
［実施例７〜１０、比較例１〜４］
〈表面処理用有機ケイ素化合物溶液の調製と表面処理ガラス基板の作製〉
あらかじめ混合したエタノール４４ｇ、８０ｐｐｍ希硝酸水１３ｇの溶液を室温で撹拌しながら、実施例１，３〜５で合成した有機ケイ素化合物Ａ〜Ｄ又は下記化合物ａ〜ｄ０．０１ｍｏｌを徐々に添加し、室温で２時間撹拌した。得られた有機ケイ素化合物溶液中に、スライドグラスを１〜２時間浸漬し、７０℃の乾燥機で２時間乾燥することで、表面処理ガラス基板を得た。
〈接触角、転落角の測定〉
傾斜法接触角計Ｄｒｏｐ  Ｍａｓｔｅｒ  ５００（協和界面科学社製）を用いて、上記方法で作製した表面処理ガラス基板を水平に保ち、水接触角の場合は、純水１μＬを滴下し、油接触角の場合は、テトラデカン５μＬを滴下し、形成した液滴の接触角を測定した。
転落角の場合は、水１５μＬを滴下し、液滴を形成した後、表面処理ガラス基板を徐々に傾斜させ、液滴が転落し始める基板の傾斜角度（転落角）を測定した。
【００６２】
実施例１，３〜５の有機ケイ素化合物Ａ〜Ｄ及び下記シランカップリング剤ａ，ｂ，ｃ，ｄを用いた表面処理剤で表面処理したガラス基板を用いて測定した。試験結果を表４，５に示す。
実施例７〜１０及び比較例１〜４に用いられた有機ケイ素化合物Ａ〜Ｄ及びａ〜ｄは次の通りである。
Ａ：実施例１で得られた化合物
Ｂ：実施例３で得られた化合物
Ｃ：実施例４で得られた化合物
Ｄ：実施例５で得られた化合物
ａ：ｎ−ブチルトリメトキシシラン
ｂ：ｎ−デシルトリメトキシシラン
ｃ：３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン
ｄ：３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシルトリメトキシシラン
【００６３】
【表４】
0005402413.tif 000027
【００６４】
【表５】
0005402413.tif 000028
【００６５】
表４の結果から、本発明の有機ケイ素化合物を用いた場合、特に、化合物Ａのような末端アルキル鎖の短い化合物では、無機化合物の親水化が可能であった。一方、表５の結果から、化合物Ｂ〜Ｄのようなフルオロアルキル基が末端にある場合では、無機化合物に撥水性、撥油性を付与でき、かつ、転落角が低いことから表面滑り性が向上することが確認できた。
【図１】
0005402413.tif 000032
【図２】
0005402413.tif 000033
【図３】
0005402413.tif 000034
【図４】
0005402413.tif 000035
【図５】
0005402413.tif 000036
【図６】
0005402413.tif 000037
【図７】
0005402413.tif 000038
【図８】
0005402413.tif 000039
【図９】
0005402413.tif 000040
【図１０】
0005402413.tif 000041
【図１１】
0005402413.tif 000042
【図１２】
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【図１３】
0005402413.tif 000044
【図１４】
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【図１５】
0005402413.tif 000046
【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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