(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）で表される重合性液晶化合物：
0005556069.tif 000076
ここに、Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、またはフルオレン−２，７−ジイルであり；この１，４−シクロへキシレンにおいて、１つまたは隣り合わない２つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて、任意の水素はフッ素、塩素、シアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；
Ｚ１およびＺ３は単結合であり、Ｚ２は独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ≡ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ≡ＣＨ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；
ｍは１〜５の整数であり；ｍが２以上であるとき、複数のＺ２はそれぞれ異なる基であってもよく、複数のＺ２のうちの少なくとも２つが同一の基であってもよく、複数のＡ２はそれぞれ異なる環であってもよく、複数のＡ２のうちの少なくとも２つが同一の環であってもよく；
Ｑ１およびＱ２は独立して、−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２−または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１−であり；ｎ１およびｎ２は独立して０〜５の整数であって、ｎ１とｎ２の合計は２〜５であり；そして、Ｐ１およびＰ２は独立して式（２−１）〜式（２−３）のいずれか１つで表される重合性基である。
0005556069.tif 000077
（ここに、Ｒは独立して水素、ハロゲン、または炭素数１〜５のアルキルである。）
【請求項２】
Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり；この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおける１つまたは２つの水素がフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよい、請求項１に記載の重合性液晶化合物。
【請求項３】
Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり；この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおける１つまたは２つの水素がフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１およびＺ３が単結合であり；Ｚ２が独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−であり；そして、ｍが１〜３の整数である、請求項１に記載の重合性液晶化合物。
【請求項４】
請求項１に記載の式（１）において、Ｚ１およびＺ３が単結合であり；Ｚ２が独立して単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；そして、ｍが１または２である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
【請求項５】
請求項１に記載の式（１）において、Ｑ１およびＱ２が独立して−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１−または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２−であり；そして、ｎ１およびｎ２が独立して２〜５の整数である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
【請求項６】
ｎ１およびｎ２が独立して２または３である、請求項５に記載の重合性液晶化合物。
【請求項７】
請求項１に記載の式（２−１）〜式（２−３）において、Ｒが独立して水素、メチルまたはエチルである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
【請求項８】
Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて任意の水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１およびＺ３が単結合であり；Ｚ２が独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｍが１〜３の整数であり；Ｑ１およびＱ２が独立して−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２−、−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３−、−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２−、または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３−であり；そして、Ｐ１およびＰ２が独立して式（２−１）〜式（２−３）のいずれか１つで表される重合性基であって、Ｒが独立して水素、メチルまたはエチルである、請求項１に記載の重合性液晶化合物。
【請求項９】
Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；そして、ｍが１または２である、請求項８に記載の重合性液晶化合物。
【請求項１０】
Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；そして、Ｐ１およびＰ２が式（２−１）で表される重合性基であってＲが水素である、請求項８に記載の重合性液晶化合物。
【請求項１１】
Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；そして、Ｐ１およびＰ２が式（２−２）で表される重合性基であってＲが水素である、請求項８に記載の重合性液晶化合物。
【請求項１２】
Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおいて１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；そして、Ｐ１およびＰ２が式（２−３）で表される重合性基であってＲがメチルまたはエチルである、請求項８に記載の重合性液晶化合物。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の化合物を少なくとも１つ含有する重合性液晶組成物。
【請求項１４】
式（１）で表される化合物の少なくとも１つと式（Ｍ１）、式（Ｍ２）、式（Ｍ３）、および式（Ｍ４）のそれぞれで表される化合物の群から選ばれる少なくとも１つの化合物とを含有する重合性液晶組成物：
0005556069.tif 000078
ここに、Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、またはフルオレン−２，７−ジイルであり；この１，４−シクロへキシレンにおいて、１つまたは隣り合わない２つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて、任意の水素はフッ素、塩素、シアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；
Ｚ１およびＺ３は単結合であり、Ｚ２は独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ≡ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ≡ＣＨ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；
ｍは１〜５の整数であり；ｍが２以上であるとき、複数のＺ２はそれぞれ異なる基であってもよく、複数のＺ２のうちの少なくとも２つが同一の基であってもよく、複数のＡ２はそれぞれ異なる環であってもよく、複数のＡ２のうちの少なくとも２つが同一の環であってもよく；
Ｑ１およびＱ２は独立して、−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２−または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１−であり；このアルキレンにおける任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく；ｎ１およびｎ２は独立して０〜５の整数であって、ｎ１とｎ２の合計は２〜５であり；そして、Ｐ１およびＰ２は独立して式（２−１）〜式（２−３）のいずれか１つで表される重合性基である：
0005556069.tif 000079
（ここに、Ｒは独立して水素、ハロゲン、または炭素数１〜５のアルキルである。）
0005556069.tif 000080
ここに、Ａ３は独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり；この１，４−フェニレンにおいて、任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく、そして１つまたは２つの水素はシアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチル、またはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ４およびＺ５は独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ≡ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ≡ＣＨ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、または−Ｃ≡Ｃ−であり；Ｌは独立して２〜２０の整数であり；Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３、Ｗ４およびＷ５は独立して水素、フッ素、塩素、メチルまたはトリフルオロメチルであり；Ｗ６は−ＣＮ、−ＯＣＦ３、炭素数１〜１０のアルキル、または炭素数１〜１０のアルコキシであり；そして、Ｐ３およびＰ４は独立して前記の式（２−１）〜式（２−３）のいずれか１つで表される重合性基である。
【請求項１５】
式（１）において、Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて任意の水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１およびＺ３が単結合であり；Ｚ２が独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｍが１〜３の整数であり；Ｑ１およびＱ２が独立して−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２−、−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３−、−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２−、または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３−であり；Ｐ１およびＰ２が独立して式（２−１）〜式（２−３）のいずれか１つで表される重合性基であって、Ｒが独立して水素、メチルまたはエチルであり：
式（Ｍ１）、式（Ｍ２）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）において、Ａ３が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ４およびＺ５が独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−であり；Ｌが独立して２〜８の整数であり；Ｗ１およびＷ２が独立して水素またはメチルであり；Ｗ３およびＷ４が独立して水素、フッ素、メチルまたはトリフルオロメチルであり；Ｗ５が水素、フッ素またはトリフルオロメチルである、請求項１４に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１６】
式（１）において、Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２が独立して単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり：
式（Ｍ１）、式（Ｍ２）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）において、Ａ３が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ４およびＺ５が独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−であり；Ｗ１およびＷ２が独立して水素またはメチルであり；Ｗ３およびＷ４が独立して水素、フッ素、メチルまたはトリフルオロメチルであり；Ｗ５が水素、フッ素またはトリフルオロメチルである、請求項１５に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１７】
請求項１４に記載の式（１）で表される化合物と式（Ｍ１）、式（Ｍ２）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）のそれぞれで表される化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される化合物の割合が５〜９５重量％であり、式（Ｍ１）、式（Ｍ２）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）のそれぞれで表される化合物の群から選ばれる化合物の割合が５〜９５重量％である、請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１８】
請求項１４に記載の式（１）で表される化合物と式（Ｍ１）、式（Ｍ２）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）のそれぞれで表される化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される化合物の割合が１０〜９０重量％であり、式（Ｍ１）、式（Ｍ２）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）のそれぞれで表される化合物の群から選ばれる化合物の割合が１０〜９０重量％である、請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１９】
請求項１４に記載の式（１）で表される化合物と式（Ｍ１）、式（Ｍ２）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）のそれぞれで表される化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される化合物の割合が２０〜７０重量％であり、式（Ｍ１）、式（Ｍ２）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）のそれぞれで表される化合物の群から選ばれる化合物の割合が３０〜８０重量％である、請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項２０】
その他の重合性化合物をさらに含有する、請求項１４〜１９のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項２１】
その他の重合性の光学活性化合物をさらに含有する、請求項１４〜２０のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項２２】
非重合性の液晶性化合物をさらに含有する、請求項１４〜２１のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項２３】
非重合性の光学活性化合物をさらに含有する、請求項１４〜２２のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項２４】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つを重合させて得られる光学異方性フィルム。
【請求項２５】
請求項１４〜２３のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物を重合させて得られる光学異方性フィルム。
【請求項２６】
Ａプレートの光学特性を有する、請求項２４または２５に記載の光学異方性フィルム。
【請求項２７】
Ｃプレートの光学特性を有する、請求項２４または２５に記載の光学異方性フィルム。
【請求項２８】
ネガティブＣプレートの光学特性を有する、請求項２４または２５に記載の光学異方性フィルム。
【請求項２９】
Ｏプレートの光学特性を有する、請求項２４または２５に記載の光学異方性フィルム。
【請求項３０】
請求項２４〜２９のいずれか１項に記載の光学異方性フィルムを含有する液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、重合性の液晶化合物、この化合物を含む液晶組成物およびこの化合物またはこの化合物を含む液晶組成物の重合体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、偏光板、位相差板などの光学異方性体に重合性の液晶化合物が利用されている。この化合物が液晶状態において光学異方性を示し、重合によりこの異方性が固定化されるためである。光学異方性を有する成形体に必要な光学的特性は目的によって異なるので、目的にあった特性を有する化合物が必要である。このような目的に使用される化合物は、前記の異方性に加えて重合体に関する特性も重要である。この特性は、重合速度、重合体の透明性、機械的強度、塗布性、溶解度、結晶化度、収縮性、透水度、吸水度、融点、ガラス転移点、透明点、耐薬品性、耐熱性などである。
【０００３】
重合性液晶化合物の中でも、重合性基としてアクリロイルオキシ基を有する化合物はこのような目的に広く用いられる（特許文献１および２）。これらのアクリレートは反応性が高く、また得られる重合体の透明性が高い。しかしながら、重合様式がラジカル重合反応であるため、不活性ガス中で反応を行うことや、紫外線照射エネルギーを多くすることなどが必要である。そのため、空気中での硬化による作業性の向上や、さらには重合体の耐熱性、収縮性、接着性、密着性および機械的強度等の特性の改良なども求められている。また、塗工性を調節する目的で有機溶剤を加えたインキとして使用する。重合性液晶化合物（組成物）を使用して光学異方性を有するフィルムを製造するには、重合性液晶化合物（組成物）、光重合開始剤、界面活性剤などを有機溶剤に溶解させて溶液粘度、レベリング性などを調整したインキを調製する。このインキを配向処理した透明基板フィルムに塗工し、溶剤を乾燥させ、重合性液晶化合物（組成物）を基板フィルム上に配向させる。次に紫外線照射または熱により重合させ、配向状態を固定化させる。しかし非特許文献１および２にあるような化合物は環境への負荷、安全性（変異原性、毒性）などの問題から、より環境への負荷が少ない、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）などの安全性の高い有機溶剤に対する溶解性が低く、十分な濃度のインキを調製できない問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平７−１７９１０号公報
【特許文献２】特開平９−３１６０３２号公報
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】Polymer Chemistry, 1993, 31(9), 2249-60.
【非特許文献２】Polymer, 1994, 35(3), 622-9.
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の第１の目的は、室温を中心とした広範囲な液晶相発現領域を有し、他の重合性液晶化合物との優れた相溶性を示し、有機溶剤に対する溶解性が良く、空気中においても熱および光により重合することが出来る重合性液晶化合物を提供することである。第２の目的は、透明性、機械的強度、収縮性、透水度、吸水度、融点、ガラス転移点、透明点、耐薬品性、耐熱性などのうち、複数の優れた特性を有する光学異方性を示す重合体を提供することである。第３の目的は、この光学異方性を示す重合体を含有する液晶表示素子を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の重合性の液晶化合物は次の［１］項に示される。
［１］  式（１）で表される重合性液晶化合物：
0005556069.tif 000002
ここに、Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、またはフルオレン−２，７−ジイルであり；この１，４−シクロへキシレンにおいて、１つまたは隣り合わない２つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて、任意の水素はフッ素、塩素、シアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ≡ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ≡ＣＨ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；
ｍは１〜５の整数であり；ｍが２以上であるとき、複数のＺ２はそれぞれ異なる基であってもよく、複数のＺ２のうちの少なくとも２つが同一の基であってもよく、複数のＡ２はそれぞれ異なる環であってもよく、複数のＡ２のうちの少なくとも２つが同一の環であってもよく；
Ｑ１およびＱ２は独立して炭素数１〜２０のアルキレン、−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２−または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１−であり；このアルキレンにおける任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく；このアルキレンにおいて、炭素数が２以上であるとき、１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、１つまたは隣り合わない２つの−ＣＨ２−は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；ｎ１およびｎ２は独立して０〜５の整数であって、ｎ１とｎ２の合計は２〜５であり；Ｑ１およびＱ２の少なくとも一方は−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２−または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１−であって、Ｑ１が−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２−または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１−であるときＺ１は単結合であり、Ｑ２が−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２−または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１−であるときＺ３は単結合であり；そして、Ｐ１およびＰ２は独立して式（２−１）〜式（２−３）のいずれか１つで表される重合性基である。
0005556069.tif 000003
（ここに、Ｒは独立して水素、ハロゲン、または炭素数１〜５のアルキルである。）
【発明の効果】
【０００８】
本発明の重合性液晶化合物は、ポリエーテル鎖を有し、室温を中心とした広範囲な液晶相発現領域を有し、他の重合性液晶化合物との優れた相溶性を示し、有機溶剤に対する溶解性が良く、室温で重合する、空気中でも重合する、熱により重合する、重合しやすい、化学的に安定である、無色である、などの特性において複数の特性を充足する。特にインキとして使用する時に安全性の高い溶剤への溶解性に優れている点が挙げられる。また、この重合性液晶化合物を原料として用いて得られる重合体は、光学異方性を有する、支持基板から剥離しにくい、充分な硬度を有する、無色透明である、耐熱性が大きい、耐候性が大きい、光弾性が小さい、などの特性において複数の特性を充足する。従って、本発明の重合体は、例えば、液晶表示素子の構成要素である位相差板、偏光素子、反射防止膜、選択反射膜、輝度向上フィルムおよび視野角補償膜などに利用することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
最初に本発明で用いる用語について説明する。用語「液晶性」の意味は、液晶相を有することだけに限定されない。それ自体は液晶相を持たなくても、他の液晶化合物と混合したときに、液晶組成物の成分として使用できる特性も、液晶性の意味に含まれる。式（１）で表わされる化合物を化合物（１）と表記することがある。他の式で表される化合物についても同様にして称することがある。化学構造式を説明する際に用いる用語「任意の」は、位置だけでなく個数についても任意であることを意味する。そして、例えば、「任意のＡはＢ、ＣまたはＤで置き換えられてもよい」という表現は、少なくとも１つのＡがＢで置き換えられてもよく、少なくとも１つのＡがＣで置き換えられてもよく、少なくとも１つのＡがＤで置き換えられてもよく、そして更に複数のＡがＢ〜Ｄの少なくとも２つで置き換えられてもよいことを意味する。しかしながら、本発明においては、任意の−ＣＨ２−が他の基で置き換えられてもよいとするとき、連続する複数の−ＣＨ２−が同じ基で置き換えられることは好ましくない。
【００１０】
環を構成する炭素との結合位置が明確でない置換基は、その結合位置が化学的に問題のない範囲内で自由であることを意味する。複数の式において同じ記号が用いられている場合は、その基が同じ定義範囲を有することを意味するが、すべての式において同時に同じ基でなければならないことを意味しない。複数の式において同じ基であってもよいし、式ごとに異なる基であってもよい。なお、実施例においては、電子天秤の表示データを質量単位であるｇ（グラム）を用いて示した。重量％や重量部はこのような数値に基づくデータである。
【００１１】
本発明は上記の［１］項と下記の［２］〜［３１］項とで構成される。
［２］  Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり；この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおける１つまたは２つの水素がフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよい、［１］項に記載の重合性液晶化合物。
【００１２】
［３］  Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり；この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおける１つまたは２つの水素がフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１およびＺ３が独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；Ｚ２が独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−であり；そして、ｍが１〜３の整数である、［１］項に記載の重合性液晶化合物。
【００１３】
［４］  ［１］項に記載の式（１）において、Ｚ１およびＺ３が独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；Ｚ２が独立して単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；そして、ｍが１または２である、［１］〜［３］のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
【００１４】
［５］  ［１］項に記載の式（１）において、Ｑ１およびＱ２が独立して−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２−または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１−である、［１］〜［４］のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
【００１５】
［６］  ［１］項に記載の式（１）において、Ｑ１およびＱ２が独立して−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１−または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２−であり；そして、ｎ１およびｎ２が独立して２〜５の整数である、［１］〜［４］のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
【００１６】
［７］  ｎ１およびｎ２が独立して２または３である、［６］項に記載の重合性液晶化合物。
【００１７】
［８］  ［１］項に記載の式（２−１）〜式（２−３）において、Ｒが独立して水素、メチルまたはエチルである、［１］〜［７］のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
【００１８】
［９］Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて任意の水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１およびＺ３が単結合であり；Ｚ２が独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｍが１〜３の整数であり；Ｑ１およびＱ２が独立して−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２−、−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３−、−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２−、または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３−であり；そして、Ｐ１およびＰ２が独立して式（２−１）〜式（２−３）のいずれか１つで表される重合性基であって、Ｒが独立して水素、メチルまたはエチルである、［１］項に記載の重合性液晶化合物。
【００１９】
［１０］  Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；そして、ｍが１または２である、［９］項に記載の重合性液晶化合物。
【００２０】
［１１］  Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；そして、Ｐ１およびＰ２が式（２−１）で表される重合性基であってＲが水素である、［９］項に記載の重合性液晶化合物。
【００２１】
［１２］  Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；そして、Ｐ１およびＰ２が式（２−２）で表される重合性基であってＲが水素である、［９］項に記載の重合性液晶化合物。
【００２２】
［１３］  Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおいて１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；そして、Ｐ１およびＰ２が式（２−３）で表される重合性基であってＲがメチルまたはエチルである、［９］項に記載の重合性液晶化合物。
【００２３】
［１４］  ［１］〜［１３］のいずれか１項に記載の化合物を少なくとも１つ含有する組成物。
【００２４】
［１５］  式（１）で表される化合物の少なくとも１つと式（Ｍ１）、式（Ｍ２）、式（Ｍ３）、および式（Ｍ４）のそれぞれで表される化合物の群から選ばれる少なくとも１つの化合物とを含有する重合性液晶組成物：
0005556069.tif 000004
ここに、Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、またはフルオレン−２，７−ジイルであり；この１，４−シクロへキシレンにおいて、１つまたは隣り合わない２つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて、任意の水素はフッ素、塩素、シアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ≡ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ≡ＣＨ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；
ｍは１〜５の整数であり；ｍが２以上であるとき、複数のＺ２はそれぞれ異なる基であってもよく、複数のＺ２のうちの少なくとも２つが同一の基であってもよく、複数のＡ２はそれぞれ異なる環であってもよく、複数のＡ２のうちの少なくとも２つが同一の環であってもよく；
Ｑ１およびＱ２は独立して炭素数１〜２０のアルキレン、−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２−または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１−であり；このアルキレンにおける任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく；このアルキレンにおいて、炭素数が２以上であるとき、１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、１つまたは隣り合わない２つの−ＣＨ２−は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；ｎ１およびｎ２は独立して０〜５の整数であって、ｎ１とｎ２の合計は２〜５であり；Ｑ１およびＱ２の少なくとも一方は−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２−または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１−であって、Ｑ１が−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２−または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１−であるときＺ１は単結合であり、Ｑ２が−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２−または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１−であるときＺ３は単結合であり；そして、Ｐ１およびＰ２は独立して式（２−１）〜式（２−３）のいずれか１つで表される重合性基である：
0005556069.tif 000005
（ここに、Ｒは独立して水素、ハロゲン、または炭素数１〜５のアルキルである。）
0005556069.tif 000006
ここに、Ａ３は独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり；この１，４−フェニレンにおいて、任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく、そして１つまたは２つの水素はシアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチル、またはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ４およびＺ５は独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ≡ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ≡ＣＨ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、または−Ｃ≡Ｃ−であり；Ｌは独立して２〜２０の整数であり；Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３、Ｗ４およびＷ５は独立して水素、フッ素、塩素、メチルまたはトリフルオロメチルであり；Ｗ６は−ＣＮ、−ＯＣＦ３、炭素数１〜１０のアルキル、または炭素数１〜１０のアルコキシであり；そして、Ｐ３およびＰ４は独立して前記の式（２−１）〜式（２−３）のいずれか１つで表される重合性基である。
【００２５】
［１６］  式（１）において、Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて任意の水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１およびＺ３が単結合であり；Ｚ２が独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｍが１〜３の整数であり；Ｑ１およびＱ２が独立して−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２−、−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３−、−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２−、または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３−であり；Ｐ１およびＰ２が独立して式（２−１）〜式（２−３）のいずれか１つで表される重合性基であって、Ｒが独立して水素、メチルまたはエチルであり：
式（Ｍ１）、式（Ｍ２）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）において、Ａ３が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ４およびＺ５が独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−であり；Ｌが独立して２〜８の整数であり；Ｗ１およびＷ２が独立して水素またはメチルであり；Ｗ３およびＷ４が独立して水素、フッ素、メチルまたはトリフルオロメチルであり；Ｗ５が水素、フッ素またはトリフルオロメチルである、［１５］項に記載の重合性液晶組成物。
【００２６】
［１７］  式（１）において、Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２が独立して単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり：
式（Ｍ１）、式（Ｍ２）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）において、Ａ３が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ４およびＺ５が独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−であり；Ｗ１およびＷ２が独立して水素またはメチルであり；Ｗ３およびＷ４が独立して水素、フッ素、メチルまたはトリフルオロメチルであり；Ｗ５が水素、フッ素またはトリフルオロメチルである、［１６］項に記載の重合性液晶組成物。
【００２７】
［１８］  ［１５］項に記載の式（１）で表される化合物と式（Ｍ１）、式（Ｍ２）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）のそれぞれで表される化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される化合物の割合が５〜９５重量％であり、式（Ｍ１）、式（Ｍ２）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）のそれぞれで表される化合物の群から選ばれる化合物の割合が５〜９５重量％である、［１５］〜［１７］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００２８】
［１９］  ［１５］項に記載の式（１）で表される化合物と式（Ｍ１）、式（Ｍ２）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）のそれぞれで表される化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される化合物の割合が１０〜９０重量％であり、式（Ｍ１）、式（Ｍ２）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）のそれぞれで表される化合物の群から選ばれる化合物の割合が１０〜９０重量％である、［１５］〜［１７］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００２９】
［２０］  ［１５］項に記載の式（１）で表される化合物と式（Ｍ１）、式（Ｍ２）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）のそれぞれで表される化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される化合物の割合が２０〜７０重量％であり、式（Ｍ１）、式（Ｍ２）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）のそれぞれで表される化合物の群から選ばれる化合物の割合が３０〜８０重量％である、［１５］〜［１７］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００３０】
［２１］  その他の重合性化合物をさらに含有する、［１５］〜［２０］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００３１】
［２２］  その他の重合性の光学活性化合物をさらに含有する、［１５］〜［２１］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００３２】
［２３］  非重合性の液晶性化合物をさらに含有する、［１５］〜［２２］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００３３】
［２４］  非重合性の光学活性化合物をさらに含有する、［１５］〜［２３］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００３４】
［２５］  ［１］〜［１３］のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つを重合させて得られる光学異方性フィルム。
【００３５】
［２６］  ［１５］〜［２４］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物を重合させて得られる光学異方性フィルム。
【００３６】
［２７］  Ａプレートの光学特性を有する、［２５］項または［２６］項に記載の光学異方性フィルム。
【００３７】
［２８］  Ｃプレートの光学特性を有する、［２５］項または［２６］項に記載の光学異方性フィルム。
【００３８】
［２９］  ネガティブＣプレートの光学特性を有する、［２５］項または［２６］項に記載の光学異方性フィルム。
【００３９】
［３０］  Ｏプレートの光学特性を有する、［２５］項または［２６］項に記載の光学異方性フィルム。
【００４０】
［３１］  ［２５］〜［３０］のいずれか１項に記載の光学異方性フィルムを含有する液晶表示素子。
【００４１】
本発明の化合物（１）は、通常使用される条件下において物理的および化学的に極めて安定であり、極性溶剤への溶解性がよいことを特徴とする。本発明の化合物を構成する環、結合基、側鎖を適切に選ぶことによって、高い光学異方性、低い光学異方性、低い粘性などに調整することができる。本発明の化合物を構成する原子がその同位体であっても同様の特性を示すので好ましく用いることができる。
【００４２】
化合物（１）は重合様式がカチオン重合反応であるため空気中硬化が容易であり、また、２官能性化合物は単官能性化合物に比べてその重合体は、強固なクロスリンク構造が得られることから、耐熱性がより高く、吸水性、透水性およびガス透過性がより低く、機械的強度（特に硬度）がより高い。さらに側鎖に、ポリエーテル鎖を有する重合性液晶化合物であるため安全性溶剤への溶解性が高い特徴を有する。
【００４３】
本発明の重合性液晶化合物は、式（１）で表される。
0005556069.tif 000007
【００４４】
Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、またはフルオレン−２，７−ジイルである。そして、この１，４−シクロへキシレンにおいては１つまたは隣り合わない２つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおける任意の水素はフッ素、塩素、シアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよい。
【００４５】
Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、またはフルオレン−２，７−ジイルであることが好ましく、このとき１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおける１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよい。
【００４６】
Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであることがより好ましく、このとき１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよい。
【００４７】
即ち、Ａ１およびＡ３の好ましい例は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレン、２−クロロ−１，４−フェニレン、３−クロロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、および２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２−メチル−１，４−フェニレン、３−メチル−１，４−フェニレン、２，３−ジメチル−１，４−フェニレンである。Ａ１およびＡ２が共に１，４−フェニレンの場合、融点が高く、透明点が高くなり液晶相の温度領域が広くなる傾向があり、Ａ１およびＡ２の少なくとも一方が１，４−シクロへキシレンの場合、液晶相の温度領域は狭くなる傾向があるが、光学異方性が小さくなる傾向がある。
【００４８】
結合基Ｚ２が単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−（ＣＨ２）４−の場合、粘度が小さい。結合基Ｚ２が単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−（ＣＨ２）４−の場合、粘度がより小さい。結合基Ｚ２が−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＦ＝ＣＦ−の場合、液晶相の温度範囲が広く、弾性定数比が大きい。結合基Ｚ２が−Ｃ≡Ｃ−の場合、光学異方性が大きい。
【００４９】
結合基Ｚ１およびＺ３が−Ｏ−の場合、液晶相の温度範囲が広く、有機溶剤に溶解しやすい傾向がある。結合基Ｚ１およびＺ３が−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−の場合は融点が高くなるが傾向があるがＮＩ点も高くなる傾向がある。
【００５０】
ｍは１〜５の整数であり、好ましくは１〜３の整数であり、より好ましくは１または２である。ｍが２以上であるとき、複数のＺ２はそれぞれ異なる基であってもよく、複数のＺ２のうちの少なくとも２つが同一の基であってもよい。このとき、複数のＡ２もそれぞれ異なる環であってもよく、複数のＡ２のうちの少なくとも２つが同一の環であってもよい。
【００５１】
スペーサーであるＱ１およびＱ２は、独立して炭素数１〜２０のアルキレン、−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２−または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１−である。Ｑ１およびＱ２の少なくとも一方は−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２−または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１−であり、Ｑ１およびＱ２が独立して−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２−または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１−であることが好ましい。ｎ１およびｎ２は独立して０〜５の整数であって、ｎ１とｎ２の合計は２〜５である。炭素数１〜２０のアルキレンにおいて、任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく、炭素数が２以上であるとき１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、１つまたは隣り合わない２つの−ＣＨ２−は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよい。このアルキレンの好ましい例は、水素や−ＣＨ２−が他の基で置き換えられることのない、炭素数２〜１０のアルキレンである。Ｑ１またはＱ２がこのような好ましいアルキレンであるとき、化合物（１）の液晶相の温度範囲が広くなる傾向にある。Ｑ１およびＱ２が独立して−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２−または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１−であるとき、化合物（１）は極性のある有機溶剤、とくに安全性溶剤への溶解性がよくなる傾向にある。Ｑ１およびＱ２は独立して−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１−または−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２−であることがより好ましい。このときｎ１およびｎ２は独立して２〜５の整数であり、好ましくは独立して２または３である。
【００５２】
Ｐ１およびＰ２は独立して式（２−１）〜式（２−３）のいずれか１つで表される重合性の基である。Ｐ１およびＰ２は式（２−１）〜式（２−３）のいずれか１つで表される同じ基であることが好ましい。Ｐ１およびＰ２が式（２−２）で表される基であるとき、化合物（１）の重合物は硬化性に優れる。Ｐ１およびＰ２が式（２−３）で表される基であるときは、化合物（１）の融点やＮＩ点が低温で発現する傾向がある。
0005556069.tif 000008
（ここに、Ｒは独立して水素、ハロゲン、または炭素数１〜５のアルキルである。）
【００５３】
以上のように、重合性基、スペーサー、環および結合基の種類や、環の数を適切に選択することにより、目的の物性を有する化合物（１）を得ることができる。化合物（１）は、有機合成化学の手法を組み合わせることにより合成できる。出発物質に目的の末端基、環および結合基を導入する方法は、ホーベン−ワイル（Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｙｌｅ，  Ｍｅｔｈｏｄｓ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  Ｇｅｏｒｇ  Ｔｈｉｅｍｅ  Ｖｅｒｌａｇ，  Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ）、オーガニック・シンセシーズ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ，  Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，  Ｉｎｃ．）、オーガニック・リアクションズ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ，  Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｙ  ＆  Ｓｏｎｓ  Ｉｎｃ．）、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス（Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，  Ｐｅｒｇａｍｏｎ  Ｐｒｅｓｓ）、新実験化学講座（丸善）等の成書に記載されている。以下に示すスキームにおいて、特に説明していない記号の意味は前記の通りである。
【００５４】
結合基Ｚ２の合成について、スキーム１〜１１で説明する。このスキームにおいて、ＭＳＧ１およびＭＳＧ２は少なくとも一つの環を有する１価の有機基である。複数のＭＳＧ１（またはＭＳＧ２）は同一でも異なってもよい。化合物（１Ａ）〜（１Ｍ）は、本発明の化合物（１）に相当する。
【００５５】
＜結合基Ｚ２が単結合の化合物の合成＞
スキーム１に示すように、アリールホウ酸（Ｓ１）と公知の方法で合成される化合物（Ｓ２）とを、炭酸塩水溶液中、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムなどの触媒の存在下で反応させることにより化合物（１Ａ）を合成できる。この化合物（１Ａ）は、公知の方法で合成される化合物（Ｓ３）にｎ−ブチルリチウムを、次いで塩化亜鉛を反応させた後、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムなどの触媒の存在下で化合物（Ｓ２）とさらに反応させることによっても合成できる。
＜スキーム１＞
0005556069.tif 000009
【００５６】
＜結合基Ｚ２が−ＣＨ＝ＣＨ−の化合物の合成＞
スキーム２に示すように、公知の方法で合成されるホスホニウム塩（Ｓ５）にカリウムｔ−ブトキシドなどの塩基を添加して発生させたリンイリドを、アルデヒド（Ｓ４）に反応させることにより化合物（１Ｂ）を合成できる。反応条件や基質によってはシス体が生成するので、必要に応じて公知の方法によりシス体をトランス体に異性化する。
＜スキーム２＞
0005556069.tif 000010
【００５７】
＜結合基Ｚ２が−（ＣＨ２）２−の化合物の合成＞
スキーム３に示すように、化合物（１Ｂ）をパラジウム炭素などの触媒の存在下で水素化することにより、化合物（１Ｃ）を合成できる。
＜スキーム３＞
0005556069.tif 000011
【００５８】
＜結合基Ｚ２が−（ＣＦ２）２−の化合物の合成＞
スキーム４に示すように、Ｊ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．，  ２００１，  １２３，  ５４１４  に記載された方法に従い、フッ化水素触媒の存在下、ジケトン（Ｓ６）を四フッ化硫黄でフッ素化することにより、−（ＣＦ２）２−を有する化合物（１Ｄ）を合成できる。
＜スキーム４＞
0005556069.tif 000012
【００５９】
＜結合基Ｚ２が−（ＣＨ２）４−の化合物の合成＞
スキーム５に示すように、スキーム２の方法に従って、ホスホニウム塩（Ｓ５）の代わりにホスホニウム塩（Ｓ７）を用いて−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨ−を有する化合物を合成し、これを接触水素化することにより化合物（１Ｅ）を合成できる。
＜スキーム５＞
0005556069.tif 000013
【００６０】
＜結合基Ｚ２が−ＣＨ２Ｏ−または−ＯＣＨ２−の化合物の合成＞
スキーム６に示すように、まず、化合物（Ｓ４）を水素化ホウ素ナトリウム等の還元剤で還元して化合物（Ｓ８）を得る。これを臭化水素酸等でハロゲン化して化合物（Ｓ９）を得る。次いで、炭酸カリウム等の存在下で、化合物（Ｓ９）を化合物（Ｓ１０）と反応させることにより化合物（１Ｆ）を合成できる。この方法によって−ＣＨ２Ｏ−を有する化合物も合成できる。
＜スキーム６＞
0005556069.tif 000014
【００６１】
＜結合基Ｚ２が−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−の化合物の合成＞
＜スキーム７＞に示すように、化合物（Ｓ３）にｎ−ブチルリチウムを、次いで二酸化炭素を反応させてカルボン酸（Ｓ１１）を得る。化合物（Ｓ１１）とフェノール（Ｓ１０）とをＤＣＣ（１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド）およびＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）の存在下で脱水させることにより、−ＣＯＯ−を有する化合物（１Ｇ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＯ−を有する化合物も合成できる。また、（Ｓ１１）に塩化チオニルまたはオキザリルクロリドなどを作用させ、酸クロリド化合物に誘導し、ピリジンまたはトリエチルアミンなどの塩基存在下、（Ｓ１０）を作用させることにより（１Ｇ）を合成することもできる。
＜スキーム７＞
0005556069.tif 000015
【００６２】
＜結合基Ｚ２が−ＣＦ＝ＣＦ−の化合物の合成＞
＜スキーム８＞に示すように、まず、化合物（Ｓ３）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、テトラフルオロエチレンを反応させて化合物（Ｓ１２）を得る。次いで、化合物（Ｓ２）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、化合物（Ｓ１２）と反応させことにより化合物（１Ｈ）を合成できる。合成条件を選択することで、シス体の化合物（１Ｈ）を製造することもできる。
＜スキーム８＞
0005556069.tif 000016
【００６３】
＜結合基Ｚ２が−Ｃ≡Ｃ−の化合物の合成＞
下記に示すように、ジクロロパラジウムおよびハロゲン化銅の触媒存在下、化合物（Ｓ１２）を化合物（Ｓ２）と反応させることにより、化合物（１Ｉ）を合成できる。
＜スキーム９＞
0005556069.tif 000017
【００６４】
＜結合基Ｚ２が−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−の化合物の合成＞
＜スキーム１０＞に示すように、まず、化合物（Ｓ１２）をｎ−ブチルリチウムでリチオ化した後、二酸化炭素を作用させてカルボン酸（Ｓ１３）を得る。次いで、カルボン酸（Ｓ１３）とフェノール（Ｓ１０）とを、ＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下で脱水させることにより、−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−を有する化合物（１Ｊ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＯ−Ｃ≡Ｃ−を有する化合物も合成できる。また、スキーム７において（Ｓ１１）から（１Ｇ）に誘導したように、酸クロリド化合物経由で（１Ｊ）を合成することもできる。
＜スキーム１０＞
0005556069.tif 000018
【００６５】
＜Ｚが−ＣＦ２Ｏ−または−ＯＣＦ２−の化合物の合成＞
＜スキーム１１＞に示すように、まず、化合物（１Ｇ）をローソン試薬などの硫黄化剤で処理して化合物（Ｓ１４）を得る。次いで、フッ化水素ピリジン錯体およびＮＢＳ（Ｎ−ブロモスクシンイミド）を用いて化合物（Ｓ１４）をフッ素化することにより、−ＣＦ２Ｏ−を有する化合物（１Ｋ）を合成できる。また、化合物（Ｓ１４）を（ジエチルアミノ）サルファートリフルオリド（ＤＡＳＴ）でフッ素化することによっても化合物（１Ｋ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＦ２−を有する化合物も合成できる。Ｐ．  Ｋｉｒｓｃｈ  ｅｔ  ａｌ．，  Ａｎｇｅｗ．  Ｃｈｅｍ．  Ｉｎｔ．  Ｅｄ．  ２００１，  ４０，  １４８０．に記載の方法によって、これらの結合基を生成させることも可能である。
＜スキーム１１＞
0005556069.tif 000019
【００６６】
重合基の導入法において、スキーム１２〜１３で説明する。これらのスキームにおいて、ＭＳＧは少なくとも一つの環を有する１価の有機基である。複数のＭＳＧは同一でも異なってもよい。Ｙは炭素数１〜２１のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素がフッ素または塩素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよい。Ｐは式（２−１）〜式（２−３）のいずれか１つで表される重合性基である。
0005556069.tif 000020
（ここに、Ｒは独立して水素、ハロゲンまたは炭素数１〜５のアルキルである。）
化合物（１Ｌ）は本発明の化合物（１）に相当する。これらの方法は、光学活性な化合物（１）および光学的に不活性な化合物（１）に適用できる。
【００６７】
＜重合性基を先に導入する場合＞
＜スキーム１２＞に示すように、ジオール（Ｔ１）と公知の方法で合成される化合物（Ｔ２）とを水素化ナトリウムなどの塩基をもちいて反応させることによりモノエーテル体（Ｔ３）を合成できる。これをｐ−トルエンスルホン酸クロライド等でトシル化し（Ｔ４）を得る。次いで炭酸カリウム等の塩基を用いトシレート（Ｔ４）と（Ｓ１０）とを反応させることにより化合物（１Ｌ）を合成できる。この化合物は、公知の方法で合成される化合物（Ｔ５）と重合基のアルコール体（Ｔ６）とを水酸化ナトリウムなどの塩基をもちいて反応させることによりモノエーテル体（Ｔ７）を得、次いで炭酸カリウム等の塩基を用いてモノエーテル誘導体（Ｔ７）と（Ｓ１０）とを反応させることによっても合成できる。
＜スキーム１２＞
0005556069.tif 000021
【００６８】
＜重合性基を後で導入する場合＞
＜スキーム１３＞に示すように、（Ｓ１０）と公知の方法で合成される化合物（Ｔ８）とを炭酸カリウムなどの塩基をもちいて反応させることによりモノエーテル体（Ｔ９）を合成できる。次いでモノエーテル体（Ｔ９）と（Ｔ２）とを水酸化ナトリウムなどの塩基をもちいて反応させることにより化合物（１Ｌ）を合成できる。
＜スキーム１３＞
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【００６９】
上記の方法を適切に組み合わせることにより本発明化合物を製造することができるが、上記の方法に必ずしも制限されない。上記のような方法で合成される化合物（１）の例を以下に示す。なお、上記のようにして合成された化合物の構造は、たとえば、プロトンＮＭＲスペクトルなどにより確認することができる。
【００７０】
0005556069.tif 000023
【００７１】
0005556069.tif 000024
【００７２】
0005556069.tif 000025
【００７３】
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【００７４】
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【００７５】
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【００７６】
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【００７７】
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【００７８】
0005556069.tif 000031
【００７９】
0005556069.tif 000032
【００８０】
0005556069.tif 000033
【００８１】
0005556069.tif 000034
【００８２】
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【００８３】
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【００８４】
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【００８５】
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【００８６】
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【００８７】
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【００８８】
0005556069.tif 000041
【００８９】
次に、本発明の重合性液晶組成物について説明する。本発明の組成物は化合物（１）の少なくとも１つと式（Ｍ１）、式（Ｍ２）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）のそれぞれで表される化合物の群から選ばれる少なくとも１つの化合物を含有する。化合物（Ｍ１）、（Ｍ２）および（Ｍ３）は、広い液晶相発現性を示すとともに、構造中に２つの重合性基を有するため、３次元網目構造を形成することができ、高い機械的強度を有する重合体の形成が可能となる。化合物（Ｍ４）は単官能性であり、分子長軸方向において重合性基の反対側に極性基などの置換基を導入することができ、液晶状態での配向制御の調整が可能となる。化合物（Ｍ１）〜（Ｍ４）のいずれにおいても、環構造Ａ３が１，４−フェニレンの場合は高いΔｎを有する組成物を、１，４−シクロヘキシレンの場合は低いΔｎを有する組成物を調製することができる。
【００９０】
化合物（Ｍ１）、化合物（Ｍ２）、化合物（Ｍ３）および化合物（Ｍ４）の好ましい例として、それぞれ以下に示す化合物（Ｍ１−１）〜化合物（Ｍ１−８）、化合物（Ｍ２−１）〜化合物（Ｍ２−１８）、化合物（Ｍ３−１）〜化合物（Ｍ３−４）および化合物（Ｍ４−１）〜化合物（Ｍ４−１８）が挙げられる。
【００９１】
0005556069.tif 000042
【００９２】
0005556069.tif 000043
【００９３】
0005556069.tif 000044
【００９４】
0005556069.tif 000045
【００９５】
0005556069.tif 000046
【００９６】
0005556069.tif 000047
【００９７】
これらの化合物において、Ｚ５およびＬは上記式（Ｍ１）〜（Ｍ４）中のＺ５およびＬと同義であり、Ｐ３およびＰ４は式（２−１）〜式（２−３）のいずれか１つで表される基である。
0005556069.tif 000048
（ここに、Ｒは独立して水素、ハロゲン、または炭素数１〜５のアルキルである。）
【００９８】
以下の説明においては、化合物（Ｍ１）、化合物（Ｍ２）、化合物（Ｍ３）および化合物（Ｍ４）を総称して化合物（Ｍ）と表記する。本発明の重合性液晶組成物は、前記の通り、化合物（１）の少なくとも１つと化合物（Ｍ）の少なくとも１つとを含有する。本発明の重合性液晶組成物における化合物（１）の好ましい含有割合は、化合物（１）と化合物（Ｍ）の合計量を基準として５〜９５重量％である。この割合のより好ましい範囲は１０〜９０重量％であり、さらに好ましい範囲は２０〜７０重量％である。化合物（Ｍ）の好ましい含有割合は、化合物（１）と化合物（Ｍ）の合計量を基準として５〜９５重量％である。この割合のより好ましい範囲は１０〜９０重量％であり、さらに好ましい範囲は３０〜８０重量％である。本発明の重合性液晶組成物は、化合物（１）と化合物（Ｍ）とからなることが好ましいが、他の成分を含有してもよい。
【００９９】
本発明の重合性液晶組成物には、皮膜形成性、機械的強度などを調整する目的で非液晶性の重合性化合物を添加することもできる。好ましい非液晶性の重合性化合物の例は、（メタ）アクリレート化合物、ビニル化合物、スチレン化合物、ビニルエーテル化合物、アリルエーテル化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物である。
【０１００】
本発明の液晶組成物に添加できる好ましい非液晶性の重合性化合物は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、塩化ビニル、フッ化ビニル、酢酸ビニル、ピバリン酸ビニル、２，２−ジメチルブタン酸ビニル、２，２−ジメチルペンタン酸ビニル、２−メチル−２−ブタン酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、２−エチル−２−メチルブタン酸ビニル、Ｎ−ビニルアセトアミド、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸ビニル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸ビニル、安息香酸ビニル、スチレン、ｏ−、ｍ−またはｐ−クロロメチルスチレン、α−メチルスチレン、テトラフルオロエチレン、およびヘキサフルオロプロペンであり、さらに、エチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルモノビニルエーテル、ｔ−アミルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールメチルビニルエーテル、あるいは、組成物の粘度調整あるいは硬化収縮を小さくする目的で３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、ジ（３−エチル−オキセタ−３−イルメチル）、３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタンを添加することができる。
【０１０１】
重合体の被膜形成能をより高めるために、多官能アクリレートを組成物に添加することもできる。好ましい多官能アクリレートは、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールＥＯ付加トリアクリレート、ペンタエリストールトリアクリレート、トリスアクリロキシエチルフォスフェート、ビスフェノールＡ  ＥＯ付加ジアクリレート、ビスフェノールＡグリシジルジアクリレート（大阪有機化学株式会社製、商品名：ビスコート７００）、およびポリエチレングリコールジアクリレートである。
【０１０２】
重合体の被膜形成能をより高めるために、多官能カチオン重合性の化合物を組成物に添加することもできる。好ましい化合物の例として下記の化合物（３−１）〜（３−１０）なども挙げることができる。これらの化合物は本発明の重合性液晶組成物に添加して粘度の調整、配向の調整、または重合体の硬度をより大きくするために用いられることがある。
【０１０３】
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【０１０４】
0005556069.tif 000050
【０１０５】
これらの化合物において、ｋは２〜１０の整数であり、Ｐ５は前記の式（２−１）〜式（２−３）のいずれか１つで表される基である。その他の重合性化合物の例としては、重合性基を１つ有するエポキシ系化合物、および重合性基を２つ以上有するエポキシ系化合物も挙げることができる。併用することができるエポキシ樹脂として、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、カテコール型エポキシ樹脂、ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂等の２価のフェノール類から誘導されるエポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−  フェノール変性型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型エポキシ樹脂、ビフェニル変性ノボラック型エポキシ樹脂等の３  価以上のフェノール類から誘導されるエポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ  型エポキシ樹脂、ブロム化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪酸系エポキシ樹脂、脂環式系エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。またこれらのエポキシ樹脂は単独で用いてもよく、２種以上を混合してもよい。
【０１０６】
エポキシ系化合物の具体的な例は、炭素数２〜２５のアルキルモノグリシジルエーテル（例えば、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジルエーテルなど）、ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ドデカンジオールジグリシジルエーテル、ペンタエチルトリオールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｓｅｃ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、レゾルシングリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、テトラフルオロプロピルグリシジルエーテル、オクタフルオロプロピルグリシジルエーテル、ドデカフルオロペンチルグリシジルエーテル、スチレンオキシド、１，７−オクタジエンジエポキシド、リモネンジエポキシド、リモネンモノオキシド、α−ピネンエポキシド、β−ピネンエポキシド、シクロヘキセンエポキシドシクロオクテンエポキシド、ビニルシクロヘキセンオキシド、ブトキシポリエチレングリコールグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、３，４−エポキシシクロヘキセニルエチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン、ビニルシクロヘキセンジオキシド、アリルシクロヘキセンジオキシド、１−エポキシエチル３，４−エポキシシクロヘキサン、３，４−エポキシ−４−メチルシクロヘキシル−２−プロピレンオキシド、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）エーテル、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、フタル酸ジグリシジルエステル、テレフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒロフタル酸ジグリシジルエステル、トリス（２，３−エポキシプロピル）イソシアヌレート、３−エチルー３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（フェノキシメチル）オキセタン、ジ（１−エチル（３−オキセタニル））メチルエーテル、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、ジ（３−エチル−オキセタ−３−イルメチル）、３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタンである。さらに、上記のエポキシ系化合物の他に、エチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルモノビニルエーテル、ｔ−アミルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールメチルビニルエーテルなどのビニル系化合物も挙げることができる。
【０１０７】
次に非イオン性界面活性剤について説明する。非イオン性界面活性剤の好ましい例はフッ素系の非イオン性界面活性剤、シリコーン系の非イオン性界面活性剤および炭化水素系の非イオン性界面活性剤である。フッ素系の非イオン性界面活性剤の例は、ＢＹＫ−３４０、フタージェント２５１、フタージェント２２１ＭＨ、フタージェント２５０、ＦＴＸ−２１５Ｍ、ＦＴＸ−２１８Ｍ、ＦＴＸ−２３３Ｍ、ＦＴＸ−２４５Ｍ、ＦＴＸ−２９０Ｍ、ＦＴＸ−２０９Ｆ、ＦＴＸ−２１３Ｆ、フタージェント２２２Ｆ、ＦＴＸ−２３３Ｆ、ＦＴＸ−２４５Ｆ、ＦＴＸ−２０８Ｇ、ＦＴＸ−２１８Ｇ、ＦＴＸ−２４０Ｇ、ＦＴＸ−２０６Ｄ、フタージェント２１２Ｄ、ＦＴＸ−２１８、ＦＴＸ−２２０Ｄ、ＦＴＸ−２３０Ｄ、ＦＴＸ−２４０Ｄ、ＦＴＸ−７２０Ｃ、ＦＴＸ−７４０Ｃ、ＦＴＸ−２０７Ｓ、ＦＴＸ−２１１Ｓ、ＦＴＸ−２２０Ｓ、ＦＴＸ−２３０Ｓ、ＫＢ−Ｌ８２、ＫＢ−Ｌ８５、ＫＢ−Ｌ９７、ＫＢ−Ｌ１０９、ＫＢ−Ｌ１１０、ＫＢ−Ｆ２Ｌ、ＫＢ−Ｆ２Ｍ、ＫＢ−Ｆ２Ｓ、ＫＢ−Ｆ３Ｍ、およびＫＢ−ＦａＭである。
【０１０８】
シリコーン系の非イオン性界面活性剤の例は、ポリフローＡＴＦ―２、グラノール１００、グラノール１１５、グラノール４００、グラノール４１０、グラノール４３５、グラノール４４０、グラノール４５０、グラノールＢ−１４８４、ポリフローＫＬ−２５０、ポリフローＫＬ−２６０、ポリフローＫＬ−２７０、ポリフローＫＬ−２８０、ＢＹＫ−３００、ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３１０、ＢＹＫ−３１５、ＢＹＫ−３２０、ＢＹＫ−３２２、ＢＹＫ−３２３、ＢＹＫ−３２５、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３３７、ＢＹＫ−３４１、ＢＹＫ−３４４、ＢＹＫ−３４５、ＢＹＫ−３４６、ＢＹＫ−３４７、ＢＹＫ−３４８、ＢＹＫ−３７０、ＢＹＫ−３７５、ＢＹＫ−３７７、ＢＹＫ−３７８、ＢＹＫ−３５００、ＢＹＫ−３５１０、およびＢＹＫ−３５７０である。炭化水素系の非イオン性界面活性剤の例は、アクリル系ポリマーを主成分としたポリフローＮｏ．３、ポリフローＮｏ．５０ＥＨＦ、ポリフローＮｏ．５４Ｎ、ポリフローＮｏ．７５、ポリフローＮｏ．７７、ポリフローＮｏ．８５ＨＦ、ポリフローＮｏ．９０、ポリフローＮｏ．９５、ＢＹＫ−３５０、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５４、ＢＹＫ−３５５、ＢＹＫ−３５８Ｎ、ＢＹＫ−３６１Ｎ、ＢＹＫ−３８０Ｎ、ＢＹＫ−３８１、ＢＹＫ−３９２、およびＢＹＫ−Ｓｉｌｃｌｅａｎ３７００である。なお、上記のポリフローおよびグラノールはどちらも共栄社化学（株）から販売されている商品の名称である。ＢＹＫはビックケミー・ジャパン（株）から販売されている商品の名称である。フタージェント、ＦＴＸおよびＫＢは（株）ネオスから販売されている商品の名称である。
【０１０９】
界面活性剤は、前記以外のタイプの界面活性剤を必要に応じて併用してもよい。具体的には、ポリエーテル系、アクリル酸共重合物系、チタネート系化合物、イミダゾリン、４級アンモニウム塩、アルキルアミンオキサイド、ポリアミン誘導体、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物、ポリエチレングリコールおよびそのエステル、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸アミン類、アルキル置換芳香族スルホン酸塩、アルキルリン酸塩、脂肪族または芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物、ラウリルアミドプロピルベタイン、ラウリルアミノ酢酸ベタイン、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩等の種々の化合物を用いることができる。これらの界面活性剤は、組成物を支持基板などに塗布するのを容易にするなどの効果を有する。
【０１１０】
本発明の組成物は通常の光カチオン重合開始剤を添加して使用する。光カチオン重合開始剤には、ジアリールヨードニウム塩（以下ＤＡＳと略す）、トリアリールスルホニウム塩（以下ＴＡＳと略す）などがあげられる。ＤＡＳとしては、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホネート、ジフェニルヨードニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムジフェニルヨードニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロアセテート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムｐ−トルエンスルホネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムジフェニルヨードニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレートがあげられる。
【０１１１】
ＤＡＳには、チオキサントン、フェノチアジン、クロロチオキサントン、キサントン、アントラセン、ジフェニルアントラセン、ルブレンなどの光増感剤を添加することで高感度化することもできる。
【０１１２】
ＴＡＳとしては、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフェニルスルホニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。
【０１１３】
光カチオン重合開始剤の具体的な商品名として、ＵＣＣの製品のサイラキュアーＵＶＩ−６９９０、サイラキュアーＵＶＩ−６９７４およびサイラキュアーＵＶＩ−６９９２、（株）アデカの製品のアデカオプトマーＳＰ−１５０、ＳＰ−１５２、ＳＰ−１７０およびＳＰ−１７２、ローディア（株）の製品のＰＨＯＴＯＩＮＩＴＩＡＴＯＲ２０７４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）の製品のイルガキュアー２５０、ＧＥシリコンズの製品のＵＶ−９３８０Ｃ、サンアプロ（株）の製品のＣＰＩシリーズの他、みどり化学（株）のＴＰＳシリーズ、ＴＡＺシリーズ、ＤＰＩシリーズ、ＢＰＩシリーズ、ＭＤＳシリーズ、ＤＴＳシリーズ、ＳＩシリーズ、ＰＩシリーズ、ＮＤＩシリーズ、ＰＡＩシリーズ、ＮＡＩシリーズ、ＮＩシリーズ、ＤＡＭシリーズ、ＭＢＺシリーズ、ＰＹＲシリーズ、ＤＮＢシリーズ、ＮＢシリーズ等を挙げることができる。
【０１１４】
本発明の組成物は光カチオン重合開始剤と併用して通常の光ラジカル重合開始剤を添加してハイブリッド硬化することもできる。光ラジカル重合開始剤の例は、チバ・スペシャリティー・ケミカル（株）の製品のうちから、ダロキュアー１１７３（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン）、イルガキュアー１８４（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）、イルガキュアー６５１（２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン）、イルガキュアー５００、イルガキュアー２９５９、イルガキュアー９０７、イルガキュアー３６９、イルガキュアー１３００、イルガキュアー８１９、イルガキュアー１７００、イルガキュアー１８００、イルガキュアー１８５０、ダロキュアー４２６５、イルガキュアー７８４などである。
【０１１５】
光ラジカル重合開始剤のその他の例は、ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン混合物、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール混合物、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４−ジエチルキサントン／ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル混合物、ベンゾフェノン／メチルトリエタノールアミン混合物などである。
【０１１６】
本発明では、熱重合開始剤を併用してもよい。具体的な商品名の例は、三新化学工業（株）の製品のサンエイド（主剤）  ＳＩ−６０、ＳＩ−８０、ＳＩ−１００、ＳＩ−１１０、ＳＩ−１４５、ＳＩ−１５０、ＳＩ−１６０、ＳＩ−１８０、およびサンエイド（助剤）ＳＩである。これらは光ラジカル開始剤および光カチオン重合開始剤と併用、あるいは光ラジカル開始剤と併用してもよい。
【０１１７】
本発明の重合性液晶組成物は、光増感剤を含有してもよい。光増感剤の例はチオキサントン誘導体、アントラキノン誘導体およびナフトキノン誘導体であり、好ましい例は次に示す化合物（Ｚ−１）〜化合物（Ｚ−６）である。特に好ましい光増感剤は化合物（Ｚ−１）および化合物（Ｚ−２）である。光増感剤は１種類で用いても、２種類以上を混合して用いてもよい。
0005556069.tif 000051
ここに、ＲＺは独立して炭素数１〜１０の直鎖状のアルキルである。
【０１１８】
化合物（Ｚ−１）においてＲＺがｎ−ブチルである化合物は、川崎化成工業（株）のＡＮＴＨＲＡＣＵＲＥ  ＵＶＳ−１３３１として入手できる。化合物（Ｚ−２）は川崎化成工業（株）のＡＮＴＨＲＡＣＵＲＥ  ＥＴ−２１１１として入手できる。化合物（Ｚ−３）はＬａｍｂｓｏｎのＳｐｅｅｄｃｕｒｅ  ＣＴＸとして入手できる。化合物（Ｚ−４）はシェル化学（株）のＱｕａｎｔａｃｕｒｅ  ＩＴＸとして入手できる。化合物（Ｚ−５）は日本化薬（株）のＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＤＥＴＸ−Ｓとして入手できる。化合物（Ｚ−６）はＬａｍｂｓｏｎのＳｐｅｅｄｃｕｒｅ  ＣＰＴＸとして入手できる。
【０１１９】
ＤＡＳと光増感剤を併用して用いることにより、光に対する感度が向上する。ＤＡＳと光増感剤の好ましい混合比は、ＤＡＳ１００重量部に対して光増感剤１０〜２００重量部である。さらに好ましい混合比はＤＡＳ１００重量部に対して光増感剤２０〜１００重量部である。
【０１２０】
重合性液晶組成物の耐候性を更に向上させるために、紫外線吸収剤、光安定剤（ラジカル捕捉剤）および酸化防止剤等を添加してもよい。紫外線吸収剤の例は、チヌビンＰＳ、チヌビンＰ、チヌビン９９−２、チヌビン１０９、チヌビン２１３、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２８、チヌビン３２９、チヌビン３８４−２、チヌビン５７１、チヌビン９００、チヌビン９２８、チヌビン１１３０、チヌビン４００、チヌビン４０５、チヌビン４６０、チヌビン４７９、チヌビン５２３６、アデカスタブＬＡ−３２、アデカスタブＬＡ−３４、アデカスタブＬＡ−３６、アデカスタブＬＡ−３１、アデカスタブ１４１３、およびアデカスタブＬＡ−５１である。「チヌビン」はチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社の商品名であり、「アデカスタブ」は（株）アデカの商品名である。
【０１２１】
光安定剤の例は、チヌビン１１１ＦＤＬ、チヌビン１２３、チヌビン１４４、チヌビン１５２、チヌビン２９２、チヌビン６２２、チヌビン７７０、チヌビン７６５、チヌビン７８０、チヌビン９０５、チヌビン５１００、チヌビン５０５０、５０６０、チヌビン５１５１、キマソーブ１１９ＦＬ、キマソーブ９４４ＦＬ、キマソーブ９４４ＬＤ、アデカスタブＬＡ−５２、アデカスタブＬＡ−５７、アデカスタブＬＡ−６２、アデカスタブＬＡ−６７、アデカスタブＬＡ−６３Ｐ、アデカスタブＬＡ−６８ＬＤ、アデカスタブＬＡ−７７、アデカスタブＬＡ−８２、アデカスタブＬＡ−８７、サイテック社製のサイアソーブＵＶ−３３４６、およびグッドリッチ社のグッドライトＵＶ−３０３４である。「キマソーブ」はチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社の商品名である。
【０１２２】
酸化防止剤の例は、（株）アデカのアデカスタブＡＯ−２０、ＡＯ−３０、ＡＯ−４０、ＡＯ−５０、ＡＯ−６０、ＡＯ−８０、住友化学（株）から販売されているスミライザーＢＨＴ、スミライザーＢＢＭ−Ｓ、およびスミライザーＧＡ−８０、並びにチバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）から販売されているＩｒｇａｎｏｘ１０７６、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、Ｉｒｇａｎｏｘ３１１４、およびＩｒｇａｎｏｘ２４５である。これらの市販品を用いてもよい。
【０１２３】
本発明の組成物の硬化には光による塩基増殖反応を利用して硬化することもできる（Ｋ．Ａｒｉｍｉｔｓｕ，  Ｍ．Ｍｉｙａｍｏｔｏ，  Ｋ．Ｉｃｈｉｍｕｒａ，  Ａｎｇｅｗ．  Ｃｈｅｍ．  Ｉｎｔ．  Ｅｄ，  ２０００，  ３９，  ３４２５）。
【０１２４】
本発明の重合性液晶組成物は、前記のように溶剤を含有してもよい。通常は、上記で説明した各成分を溶剤に溶解して重合性液晶組成物を調製する。塗布を容易にするために、この重合性液晶組成物をさらに溶剤で希釈して、重合性液晶組成物の粘度を調整してもよい。溶剤は単独でも使用できるし、２つ以上を混合して使用してもよい。溶剤の例はエステル系溶剤、アミド系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、グリコールモノアルキルエーテル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、ハロゲン化芳香族炭化水素系溶剤、脂肪族炭化水素系溶剤、ハロゲン化脂肪族炭化水素系溶剤および脂環式炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、およびアセテート系溶剤である。
【０１２５】
エステル系溶剤の好ましい例は、酢酸アルキル（例：酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸３−メトキシブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチルおよび酢酸イソペンチル）、トリフルオロ酢酸エチル、プロピオン酸アルキル（例：プロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピルおよびプロピオン酸ブチル）、酪酸アルキル（例：酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸イソブチルおよび酪酸プロピル）、マロン酸ジアルキル（例：マロン酸ジエチル）、グリコール酸アルキル（例：グリコール酸メチルおよびグリコール酸エチル）、乳酸アルキル（例：乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸イソプロピル、乳酸ｎ−プロピル、乳酸ブチルおよび乳酸エチルヘキシル）、モノアセチン、γ−ブチロラクトンおよびγ−バレロラクトンである。
【０１２６】
アミド系溶剤の好ましい例は、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドジメチルアセタール、Ｎ−メチルカプロラクタムおよびジメチルイミダゾリジノンである。
【０１２７】
アルコール系溶剤の好ましい例は、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ブタノール、２−エチルブタノール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−ヘプタノール、ｎ−オクタノール、１−ドデカノール、エチルヘキサノール、３、５、５−トリメチルヘキサノール、ｎ−アミルアルコール、ヘキサフルオロ−２−プロパノール、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ヘキシレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，４−ペンタンジオール、２，５−ヘキサンジオール、３−メチル−３−メトキシブタノール、シクロヘキサノールおよびメチルシクロヘキサノールである。
【０１２８】
エーテル系溶剤の好ましい例は、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ビス（２−プロピル）エーテル、１，４−ジオキサンおよびテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）である。
【０１２９】
グリコールモノアルキルエーテル系溶剤の好ましい例は、エチレングリコールモノアルキルエーテル（例：エチレングリコールモノメチルエーテルおよびエチレングリコールモノブチルエーテル）、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル（例：ジエチレングリコールモノエチルエーテル）、トリエチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル（例：プロピレングリコールモノブチルエーテル）、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル（例：ジプロピレングリコールモノメチルエーテル）、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート）、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート）、トリエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートおよびプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート）、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）、およびジエチレングリコールメチルエチルエーテルである。
【０１３０】
芳香族炭化水素系溶剤の好ましい例は、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、ｉ−プロピルベンゼン、ｎ−プロピルベンゼン、ｔ−ブチルベンゼン、ｓ−ブチルベンゼン、ｎ−ブチルベンゼン、およびテトラリンである。ハロゲン化芳香族炭化水素系溶剤の好ましい例はクロロベンゼンである。脂肪族炭化水素系溶剤の好ましい例は、ヘキサンおよびヘプタンである。ハロゲン化脂肪族炭化水素系溶剤の好ましい例は、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエチレンおよびテトラクロロエチレンである。脂環式炭化水素系溶剤の好ましい例は、シクロヘキサンおよびデカリンである。
【０１３１】
ケトン系溶剤の好ましい例は、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、およびメチルプロピルケトンである。
【０１３２】
アセテート系溶剤の好ましい例は、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、アセト酢酸メチル、および１−メトキシ−２−プロピルアセテートである。
【０１３３】
重合性液晶化合物の溶解性の観点からは、アミド系溶剤、芳香族炭化水素系、ケトン系溶剤の使用が好ましく、溶剤の沸点を考慮すると、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、グリコールモノアルキルエーテル系溶剤の併用も好ましい。溶剤の選択に関して特に制限はないが、支持基材としてプラスチック基板を用いる場合は、基板の変形を防ぐために乾燥温度を低くすること、および溶剤が基板を侵食しないようにする必要がある。このような場合に好ましく用いられる溶剤の例は、芳香族炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、アルコール系溶剤、アセテート系溶剤、およびグリコールモノアルキルエーテル系溶剤である。
【０１３４】
本発明の重合性液晶組成物における溶剤の割合は０〜９５重量％であるが、重合性液晶化合物の溶解性およびこの溶液を塗布する際のその最適粘度を考慮し、さらに溶剤コストおよび溶剤を蒸発させる際の時間や熱量といった経済的観点を考慮すると、４０〜９５重量％であることが好ましい。この割合のより好ましい範囲は４５〜９０％であり、さらに好ましい範囲は５０〜８５％である。
【０１３５】
次に、本発明の組成物の重合条件について説明する。本発明の重合性液晶組成物を重合させることによって重合体が得られる。優れた配向の重合体を得るときは、熱重合よりも光重合触媒を用いた重合が好ましい。組成物が液晶である条件下で、重合を行わせるのが容易だからである。
【０１３６】
光重合に用いられる好ましい光の種類は、紫外線、可視光線、赤外線などである。電子線、Ｘ線などの電磁波を用いてもよい。通常は、紫外線または可視光線が好ましい。好ましい波長の範囲は１５０〜５００ｎｍである。さらに好ましい範囲は２５０〜４５０ｎｍであり、最も好ましい範囲は３００〜４００ｎｍである。光源は、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、ショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）などである。好ましい光源は超高圧水銀ランプである。光源からの光はそのまま組成物に照射してもよい。フィルターによって選択した特定の波長（または特定の波長領域）を組成物に照射してもよい。好ましい照射エネルギー密度は、２〜５０００ｍＪ／ｃｍ２である。さらに好ましい範囲は１０〜３０００ｍＪ／ｃｍ２である。特に好ましい範囲は１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ２である。好ましい照度は０．１〜５０００ｍＷ／ｃｍ２である。さらに好ましい照度は１〜２０００ｍＷ／ｃｍ２である。組成物が液晶相を有するように、光を照射するときの温度を設定する。好ましい照射温度は１００℃以下である。１００℃以上の温度では熱による重合が起こりうるので、良好な配向が得られないときがある。
【０１３７】
重合体の形状は、フィルム、板、粒、粉末などである。重合体は成形されてもよい。フィルムの重合体を得るには、支持基板が一般的に用いられる。支持基板の上に組成物を塗布し、液晶相を有している塗膜（ｐａｉｎｔ  ｆｉｌｍ）を重合させるとフィルムが得られる。好ましい重合体の厚さは、重合体の光学異方性の値および用途に依存する。従って、その範囲を厳密に決定することはできないが、好ましい厚さは０．０５〜５０μｍの範囲である。さらに好ましい厚さは０．１〜２０μｍの範囲である。特に好ましい厚さは０．５〜１０μｍの範囲である。これらの重合体のヘイズ値（ｈａｚｅ  ｖａｌｕｅ；曇り度）は、概して１．５％以下である。これらの重合体の透過率は、可視光領域において一般的に８０％以上である。このような重合体は液晶表示素子に用いる光学異方性の薄膜として適している。
【０１３８】
支持基板の例は、トリアセチルセルロース（ＴＡＣと表記することがある）、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリエステル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどである。商品名の例は、ＪＳＲ（株）の「アートン」、日本ゼオン（株）の「ゼオネックス」および「ゼオノア」、三井化学（株）の「アペル」などである。支持基板は一軸延伸フィルム、二軸延伸フィルムなどである。好ましい支持基板はトリアセチルセルロースフィルムである。このフィルムを前処理することなくそのまま用いてもよい。このフィルムは、必要に応じて、ケン化処理、コロナ放電処理、ＵＶ−オゾン処理、プラズマ処理などの表面処理を行ってもよい。その他の例は、アルミニウム、鉄、銅などの金属製の支持基板、アルカリガラス、ホウ珪酸ガラス、フリントガラスなどのガラス製の支持基板などである。
【０１３９】
支持基板上の塗膜は、組成物をそのまま塗布することによって調製される。塗膜は、組成物を適切な溶剤に溶かして塗布したあと、溶剤を除去することによっても調製される。塗布の方法は、スピンコート、ロールコート、カーテンコート、フローコート、プリント、マイクログラビアコート、グラビアコート、ワイヤーバーコート、デップコート、スプレーコート、メニスカスコート、流延成膜法などである。
【０１４０】
本発明の重合性液晶組成物において、液晶分子の配向を決定する因子は、１）組成物に含有される化合物の種類、２）支持基板の種類、３）配向処理の方法、などである。好ましい配向処理の方法は酸化ケイ素を斜方蒸着させる、スリット状にエッチング加工する、などの方法である。特に好ましい配向処理の方法はレーヨン布などで一方向にこする（ラビング）処理である。ラビング処理においては、支持基板を直接的にラビングしてもよい。支持基板をポリイミド、ポリビニルアルコールなどの薄膜でコーティングし、この薄膜をラビングしてもよい。ラビング処理をしなくても良好な配向を与える特殊な薄膜も知られている。あるいは側鎖型の液晶ポリマーを支持基板にコーティングしてもよい。
【０１４１】
液晶分子における配向の分類は、ホモジニアス（ｈｏｍｏｇｅｎｅｏｕｓ；平行）、ホメオトロピック（ｈｏｍｅｏｔｒｏｐｉｃ；垂直）、ハイブリッド（ｈｙｂｒｉｄ）などである。ホモジニアスは、配向ベクトルが基板に平行で、かつ一方向にある状態をいう。ホメオトロピックは、配向ベクトルが基板に垂直である状態をいう。ハイブリッドは、配向ベクトルが基板から離れるにしたがって、平行から垂直に立ちあがっている状態をいう。これらの配向は、ネマチック相などを有する組成物で観察される。
【０１４２】
本発明の重合性液晶組成物は光学活性化合物を含有してもよい。光学活性化合物を適当量含有した組成物を、配向処理した基板上に塗布して重合させることによって、らせん構造（ツイスト構造）が固定化された位相差フィルムが得られる。得られた光学異方性を有する成形体の特性は、得られたらせん構造のらせんピッチに依存する。このらせんピッチ長は、光学活性化合物の種類および添加量により調整できる。添加する光学活性化合物は１つでもよいが、らせんピッチの温度依存性を相殺する目的で複数の光学活性化合物を用いてもよい。
【０１４３】
上記のような光学異方性を有する成形体の特性である可視光の選択反射は、らせん構造が入射光に作用し、円偏光や楕円偏光を反射させるものである。選択反射特性はλ＝ｎ・Ｐｉｔｃｈ（λは選択反射中心波長、ｎは平均屈折率、Ｐｉｔｃｈはらせんピッチ）で表されるため、ｎまたはＰｉｔｃｈによりλおよびその帯域（Δλ）を適切に調整することができる。らせんのピッチが光の波長の１／ｎ（ｎは得られる光学異方性薄膜における平均屈折率）であれば、その波長を有する光のうち、らせんの向きに応じて左右いずれかの円偏光をブラッグの法則に従い選択的に反射することができる。これは、例えば、円偏光分離機能素子として使用できる。らせんの向きは光学活性化合物の立体配置に依存する。光学性化合物の立体配置を適時選択することで所望のらせん方向を誘起できる。例えば特開平６−２８１８１４公報などに開示された方法に従えば、らせんピッチが光学異方性を有する成形体の厚さ方向に連続的に変化する成形体が得られ、ピッチに応じた広い波長領域の光を反射することができる。そして、色純度を良くするにはΔλを小さくすればよいし、広帯域の反射を所望する際にはΔλを大きくすればよい。さらにこの選択反射はセル厚の影響も大きく受ける。色純度を保つためには、セル厚が小さくなりすぎないようにしなければならない。配向の均一性を保つためには、セル厚が大きくなりすぎないようにしなければならない。したがって、適度なセル厚の調整が必要であり、０．５〜２５μｍが好ましく、０．５〜５μｍがより好ましい。
【０１４４】
らせんピッチを可視光よりさらに短くすることで、Ｗ．  Ｈ．  ｄｅ  Ｊｅｕ，  Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ  ｏｆ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，  Ｇｏｒｄｏｎ  ａｎｄ  Ｂｒｅａｃｈ，  Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ（１９８０）に記載のネガティブ型ｃプレート（ｃ−ｐｌａｔｅ）を調製できる。らせんピッチを短くするためには、ねじり力（ＨＴＰ：ヘリカル・ツイスティング・パワー）の大きな光学活性化合物を用い、さらにその添加量を増やすことで達成できる。具体的にはλを３５０ｎｍ以下、好ましくは２００ｎｍ以下とすることで、ネガティブ型ｃプレートを調製できる。このネガティブ型ｃプレートは液晶表示素子のうちＶＡＮ型、ＶＡＣ型、ＯＣＢ型等の表示素子に適した光学補償膜となる。
【０１４５】
上記光学活性化合物は、らせん構造を誘起し、ベースとなる重合性液晶組成物と適切に混合できれば、いずれの光学活性化合物を用いてもよい。また、重合性化合物でも非重合性化合物のいずれでもよく、目的に応じて最適な化合物を添加することができる。耐熱性および耐溶剤性を考慮した場合、重合性化合物の方が好適である。上記光学活性を発現する骨格として不斉炭素を１つもしくは複数有するアルキレン、アルケニレンまたは、以下の構造を有するものなどがある。
0005556069.tif 000052
さらに上記光学活性化合物の中でも、ねじり力（ＨＴＰ：ヘリカル・ツイスティング・パワー）が大きいものは、らせんピッチを短くする上では好適である。ねじり力の大きな化合物の代表例が、ＧＢ２２９８２０２号公報、ＤＥ１０２２１７５１号公報で開示されている。
【０１４６】
次に、本発明の重合体について説明する。この重合体は本発明の重合性液晶組成物を重合させて得られる。この重合体は、無色透明である、光弾性（ｐｈｏｔｏｅｌａｓｔｉｃｉｔｙ）が小さい、支持基板から剥離しにくい、充分な硬度を有する、耐熱性が大きい、耐候性が大きい、などの特性において、複数の特性を充足する。
【０１４７】
重合体の用途は次のとおりである。この重合体は、光学異方性を有する成形体として使用できる。この重合体の用途の例は、位相差板（１／２波長板、１／４波長板など）、反射防止膜、選択反射膜、視野角補償膜などの光学フィルムである。ホモジニアス、ハイブリット、ホメオトロピック、ツイストなどの配向を有する重合体は、位相差板、偏光素子、液晶配向膜、反射防止膜、選択反射膜、視野角補償膜、などに利用できる。このような重合体は、液晶表示素子の位相差板や視野角補償膜などに、光学補償を目的として用いられる。産業上の重要な用途の例は、ＶＡモード、ＩＰＳモード、ＴＮモード、ＭＶＡモードなどの液晶表示素子における視野角補償である。この重合体は、高熱伝導性エポキシ樹脂、接着剤、機械的異方性を持つ合成高分子、化粧品、装飾品、非線型光学材料、情報記憶材料などにも利用できる。
【０１４８】
重合体の用途の一例である位相差板は偏光の状態を変換する機能を有する。１／２波長機能板は、直線偏光の振動方向を９０度回転させる機能を有する。ｄ＝λ／２×Δｎの式を満たすように組成物を支持基板上に塗布する。ここで、ｄは組成物の厚さ、λは波長、Δｎは光学異方性である。この組成物の配向させたあと、光重合させることによって１／２波長機能板が得られる。一方、１／４波長機能板は、直線偏光を円偏光に、または円偏光を直線偏光に変換する機能を有する。この場合には、ｄ＝λ／４×Δｎの条件を満たすように組成物の塗膜を調製すればよい。重合体の厚さ（ｄ）は次のように調整される。組成物を溶剤で希釈したあと、支持基板上に塗布する方法では、組成物の濃度、塗布する方法、塗布する条件などを適切に選択することによって、目的とする厚さの塗膜を得ることができる。液晶セルを利用する方法も好ましい。液晶セルはポリイミドなどの配向膜を有しているので都合がよい。この液晶セルに組成物を注入する場合には、液晶セルの間隔によって塗膜の厚さを調整することができる。
【０１４９】
実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明は以下の実施例により制限されない。化合物の構造は核磁気共鳴スペクトル、赤外吸収スペクトル、質量スペクトルなどで確認した。相転移温度の単位は℃であり、Ｃは結晶を、Ｉは等方性液体相を示す。括弧内はモノトロピックの液晶相を示す。なお、実施例においては、容量の単位であるリットルを記号Ｌで表記した。以下に、物性値の測定法を示す。
【０１５０】
＜化合物の構造確認＞
５００ＭＨｚのプロトンＮＭＲ（ブルカー：ＤＲＸ−５００）の測定により合成した化合物の構造を確認した。記載した数値はｐｐｍを表し、ｓはシングレット、ｄはダブレット、ｔはトリプレット、ｍはマルチプレットを表す。
【０１５１】
＜相転移温度＞
偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、３℃／分の速度で昇温した。液晶相が別の液晶相に転移する温度を測定した。Ｃは結晶、Ｎはネマチック相、Ｉは等方性液体を意味する。ＮＩ点は、ネマチック相の上限温度またはネマチック相から等方性液体への転移温度である。「Ｃ  ５０  Ｎ  ６３  Ｉ」は、５０℃で結晶からネマチック相に転移し、６３℃でネマチック相から等方性液体へ転移したことを示す。
【０１５２】
＜液晶分子の配向＞
重合体フィルム（液晶配向フィルム）は、ラビング処理したポリイミド配向膜付きガラス基板上に調製した。重合体の配向は、透過光強度の角度依存性に基づいて、次に示す方法により目視で決定した。
（目視による観察方法）：クロスニコルに配置した２枚の偏光板の間に重合体フィルムを狭持して、フィルム面に垂直方向（傾き角は０度）から光を照射した。照射の傾き角を０度から例えば５０度に増大させながら透過光の変化を観察した。照射を傾ける方向は、ラビングの方向（液晶分子の長軸方向）に一致させた。垂直方向からの透過光が最大であるとき、配向はホモジニアスであると判断した。ホモジニアス配向では、液晶分子の配向ベクトルがガラス基板と平行であるからであり、Ａ−プレートとして機能する。一方、垂直方向からの透過光が最小であり、傾き角を増大させるにしたがって透過光が増大するとき、配向はホメオトロピックであると判断した。ホメオトロピック配向では液晶分子の配向ベクトルがガラス基板に垂直であるからであり、Ｃ−プレートとして機能する。
（偏光解析装置による測定）  ：シンテック（株）製のＯＰＴＩＰＲＯ偏光解析装置を用いた。重合体フィルムに波長が５５０ｎｍの光を照射した。この光の入射角度をフィルム面に対して９０度から減少させながらレタデーション（Δｎ×ｄ）を測定した。
【実施例１】
【０１５３】
＜化合物（１−２−１４）の合成＞
（第１段階）
窒素雰囲気下、ジエチレングリコール（３９．５ｇ）、アセトン（２００ｍｌ）の混合物に水素化ナトリウム（１０．８ｇ）を加え室温で攪拌する。反応溶液へアリルブロマイド（３０．０ｇ）を滴下し３時間加熱還流下攪拌した。析出した塩を減圧ろ過により除去した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合溶液（容量比：トルエン／酢酸エチル＝１／２））によって精製し、無色の液体［Ｈ１］（２３．０ｇ）を得た。
0005556069.tif 000053
【０１５４】
化合物［Ｈ１］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：５．９９−５．９０（ｍ，１Ｈ），５．３１（ｄ，１Ｈ），５．２２（ｄ，１Ｈ），４．０６（ｄ，２Ｈ），３．７９−３．７４（ｍ，２Ｈ），３．７３−３．７０（ｍ，２Ｈ），３．６６−３．６２（ｍ，４Ｈ）．
【０１５５】
（第２段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ１］（２３．０ｇ）、ピリジン（４０ｍｌ）、トルエン（１００ｍｌ）の混合物に冷却させながらｐ−トルエンスルホン酸クロライド（４５．０ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した塩を減圧ろ過により除去した。ろ液に水（１００ｍｌ）、ピリジン（４０ｍｌ）を加え４０℃で２時間攪拌した。有機層を抽出し、得られた有機層を２Ｎ塩酸、飽和重曹水および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去し、粗製の無色の液体［Ｈ２］（５７．５ｇ）を得た。
0005556069.tif 000054
【０１５６】
（第３段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ２］（２７．０ｇ）、４−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル（２９．９ｇ）、炭酸カリウム（３７．３ｇ）、アセトン（２００ｍｌ）の混合溶液を６時間加熱還流下攪拌した。析出した塩を減圧ろ過により除去した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮して得られた残渣にトルエン（２００ｍｌ）、水（２００ｍｌ）を加え有機層を抽出した。得られた有機層を飽和重曹水および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去し、粗製の無色の液体［Ｈ３］（１９．７ｇ）を得た。
0005556069.tif 000055
【０１５７】
（第４段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ３］（１９．７ｇ）、水酸化ナトリウム（５．４ｇ）、水（１５０ｍｌ）、エタノール（１５０ｍｌ）の混合物溶液を６時間加熱還流下攪拌した。溶剤を減圧留去して得られた残渣を３Ｎ塩酸に注ぎ込んだ。酢酸エチル（２００ｍｌ）を加え有機層を抽出した。得られた有機層を水を用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。再結晶（トルエン）によって精製して、無色結晶の化合物（Ｈ４）（１４．６ｇ）を得た。
0005556069.tif 000056
【０１５８】
化合物［Ｈ４］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１０（ｄ，２Ｈ），７．２０（ｄ，２Ｈ），６．０５−５．９８（ｍ，１Ｈ），５．４１（ｄ，１Ｈ），５．２８（ｄ，１Ｈ），４．０４（ｄ，２Ｈ），３．８２−３．７６（ｍ，２Ｈ），３．７４−３．７１（ｍ，２Ｈ），３．６８−３．６３（ｍ，４Ｈ）．
【０１５９】
（第５段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ４］（３０．０ｇ）、メチルヒドロキノン（６．８ｇ）、ジメチルアミノピリジン（２．８ｇ）、ジクロロメタン（３００ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（２５．６ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不要物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合溶液（容量比：トルエン／酢酸エチル＝１／１））、および再結晶（メタノール）によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ５］（２８．０ｇ）を得た。
0005556069.tif 000057
【０１６０】
化合物［Ｈ５］の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ ５３ Ｎ ５９ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１６（ｄ，２Ｈ），８．１４（ｄ，２Ｈ），７．１７（ｄ，１Ｈ），７．１３（ｄ，１Ｈ），７．１０−７．０６（ｍ，１Ｈ），７．０２（ｄ，２Ｈ），７．００（ｄ，２Ｈ），５．９８−５．８９（ｍ，１Ｈ），５．２９（ｄ，２Ｈ），５．２０（ｄ，２Ｈ），４．２６−４．２２（ｍ，４Ｈ），４．０５（ｄ，４Ｈ），３．９２（ｔ，４Ｈ），３．７８−３．７４（ｍ，４Ｈ），３．６７−３．６３（ｍ，４Ｈ），２．２４（ｍ，３Ｈ）．
【０１６１】
（第６段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ５］（２３．０ｇ）、ジクロロメタン（２３０ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（２１．６ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合溶液（容量比：トルエン／酢酸エチル＝１／２））、および再結晶（エタノール）によって精製して、無色結晶の化合物（１−２−１４）（１６．８ｇ）を得た。
0005556069.tif 000058
【０１６２】
化合物（１−２−１４）の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ ６８ Ｎ ４２ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１６（ｄ，２Ｈ），８．１４（ｄ，２Ｈ），７．１７（ｄ，１Ｈ），７．１３（ｓ，１Ｈ），７．０８（ｄ，１Ｈ），７．０２（ｄ，２Ｈ），７．００（ｄ，２Ｈ），４．２８−４．２０（ｍ，４Ｈ），３．９５−３．８７（ｍ，４Ｈ），３．８３（ｄ，２Ｈ），３．８０−３．６６（ｍ，８Ｈ），３．４７−３．４１（ｍ，２Ｈ），３．２０−３．１５（ｍ，２Ｈ），２．８０（ｔ，２Ｈ），２．６３−２．６０（ｍ，２Ｈ），２．２４（ｓ，３Ｈ）．
【実施例２】
【０１６３】
＜化合物（１−２−２７）の合成＞
（第１段階）
化合物［Ｈ２］（１５．０ｇ）、４，４’−ビフェノール（２７．９ｇ）、炭酸カリウム（３１．１ｇ）、ＤＭＦ（２００ｍｌ）の混合物溶液を９０℃で６時間攪拌した。酢酸エチル（５００ｍｌ）を加え不溶物を減圧ろ過により除去した。ろ液に水（３００ｍｌ）を加え有機層を抽出した。得られた有機層を２Ｎ塩酸、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合溶液（容量比：トルエン／酢酸エチル＝２／１））によって精製し、無色の液体［Ｈ６］（２４．９ｇ）を得た。
0005556069.tif 000059
【０１６４】
化合物［Ｈ６］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：７．６８−７．６２（ｍ，４Ｈ），７．０５（ｄ，２Ｈ），６．８６（ｄ，２Ｈ），６．０６−５．９９（ｍ，１Ｈ），５．４２（ｄ，１Ｈ），５．２８（ｄ，１Ｈ），４．０８（ｄ，２Ｈ），３．７９−３．７４（ｍ，２Ｈ），３．７２−３．６９（ｍ，２Ｈ），３．６５−３．５９（ｍ，４Ｈ）．
【０１６５】
（第２段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ４］（６．４ｇ）、化合物［Ｈ６］（７．５ｇ）、ジメチルアミノピリジン（０．３ｇ）、ジクロロメタン（６０ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（５．２ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不要物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合溶液（容量比：トルエン／酢酸エチル＝４／１））、および再結晶（メタノール）によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ７］（１０．３ｇ）を得た。
0005556069.tif 000060
【０１６６】
化合物［Ｈ７］の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ ８７ Ｎ １０２ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１１（ｄ，２Ｈ），７．８６（ｄ，２Ｈ），７．６８（ｄ，２Ｈ），７．２３（ｄ，２Ｈ），７．１８−７．０２（ｍ，４Ｈ），６．２１−５．９８（ｍ，２Ｈ），５．４２（ｄ，２Ｈ），５．２８（ｄ，２Ｈ），４．３１（ｔ，４Ｈ），４．０４（ｄ，４Ｈ），３．７９（ｔ，４Ｈ），３．５８−３．５０（ｍ，８Ｈ）．
【０１６７】
（第３段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ７］（１０．３ｇ）、ジクロロメタン（１００ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（２９．２ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合溶液（容量比：トルエン／酢酸エチル＝２／１））、および再結晶（エタノール）によって精製して、無色結晶の化合物（１−２−２７）（３．８ｇ）を得た。
0005556069.tif 000061
【０１６８】
化合物（１−２−２７）の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ ８９ Ｎ １０２ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１９（ｄ，２Ｈ），７．６１（ｄ，２Ｈ），７．５４（ｄ，２Ｈ），７．２８（ｄ，２Ｈ），７．０３（ｔ，４Ｈ），４．２６（ｔ，２Ｈ），４．２２（ｔ，２Ｈ），３．９６−３．９１（ｍ，４Ｈ），３．８８−３．８３（ｍ，２Ｈ），３．８１−３．７０（ｍ，８Ｈ），３．５０−３．４３（ｍ，２Ｈ），３．２３−３．１８（ｍ，２Ｈ），２．８５−２．８１（ｍ，２Ｈ），２．６７−２．６３（ｍ，２Ｈ）．
【実施例３】
【０１６９】
＜化合物（１−２−２４）の合成＞
（第１段階）
窒素雰囲気下、ヒドロキノン（８２．５ｇ）、水酸化カリウム（８４．１ｇ）、ＭｅＯＨ（５００ｍｌ）の混合物を５０℃で攪拌しながら、化合物［Ｈ２］（４５．０ｇ）を加え加熱還流下で３時間攪拌した。溶剤を減圧留去して得られた残渣を２Ｎ塩酸を加え中和し、トルエンを加え有機層を抽出した。得られた有機層を水を用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合溶液（容量比：トルエン／酢酸エチル＝２／１））によって精製し、無色の液体［Ｈ８］（１２．８ｇ）を得た。
0005556069.tif 000062
【０１７０】
化合物［Ｈ８］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：７．００（ｄ，２Ｈ），６．８２（ｄ，２Ｈ），６．０６−５．９９（ｍ，１Ｈ），５．４１（ｄ，１Ｈ），５．２５（ｄ，１Ｈ），４．０８（ｄ，２Ｈ），３．７９−３．７４（ｍ，２Ｈ），３．７２−３．６９（ｍ，２Ｈ），３．６５−３．５９（ｍ，４Ｈ）．
【０１７１】
（第２段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ８］（１０．０ｇ）、シクロヘキサンジカルボン酸（３．５ｇ）、ジメチルアミノピリジン（０．３ｇ）、ジクロロメタン（９０ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（８．７ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不要物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合溶液（容量比：トルエン／酢酸エチル＝２／１））、および再結晶（メタノール）によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ９］（１２．１ｇ）を得た。
0005556069.tif 000063
【０１７２】
化合物［Ｈ９］の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ ５９ Ｎ ７８ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：６．９６（ｔ，４Ｈ），６．８８（ｄ，４Ｈ），６．１１−６．０２（ｍ，２Ｈ），５．４２（ｄ，２Ｈ），５．２８（ｄ，２Ｈ），４．３１（ｔ，４Ｈ），４．０４（ｄ，４Ｈ），３．７９（ｔ，４Ｈ），３．５６−３．５１（ｍ，８Ｈ），２．２８−２．１７（ｍ，２Ｈ），１．８４−１．７６（ｍ，４Ｈ），１．５９−１．５０（ｍ，４Ｈ）．
【０１７３】
（第３段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ９］（１０．０ｇ）、ジクロロメタン（１００ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（３３．８ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合溶液（容量比：トルエン／酢酸エチル＝１／４））、および再結晶（エタノール）によって精製して、無色結晶の化合物（１−２−２４）（３．７ｇ）を得た。
0005556069.tif 000064
【０１７４】
化合物（１−２−２４）の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ ６８ Ｎ ７２ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：６．９９（ｔ，４Ｈ），６．９３（ｄ，４Ｈ），４．１５（ｔ，４Ｈ），３．８８（ｔ，４Ｈ），３．８６−３．８１（ｍ，２Ｈ），３．７９−３．３．６８（ｍ，８Ｈ），３．４９−３．３．４３（ｍ，２Ｈ），３．２２−３．１７（ｍ，２Ｈ），２．８２（ｔ，２Ｈ），２．６５−２．５５（ｍ，４Ｈ），２．２９（ｄ，４Ｈ），１．７３−１．６２（ｍ，６Ｈ）．
【実施例４】
【０１７５】
＜化合物（１−２−３３）の合成＞
（第１段階）
化合物［Ｈ４］と同様の手法で化合物［Ｈ１０］を合成した。
0005556069.tif 000065
【０１７６】
（第２段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ１０］（６．０ｇ）、化合物［Ｈ５］（９．８ｇ）、ジメチルアミノピリジン（０．４ｇ）、ジクロロメタン（７０ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（６．４ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不要物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合溶液（容量比：トルエン／酢酸エチル＝４／１））、および再結晶（メタノール）によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ１１］（１３．７ｇ）を得た。
0005556069.tif 000066
【０１７７】
化合物［Ｈ１１］の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ １１７ Ｎ １５４ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１４（ｄ，２Ｈ），７．８６（ｄ，２Ｈ），７．７２（ｄ，２Ｈ），７．２３（ｄ，２Ｈ），７．１４（ｄ，２Ｈ），７．０５（ｄ，２Ｈ），６．０９−６．０１（ｍ，１Ｈ），５．８４−５．７５（ｍ，１Ｈ），５．４５−５．２６（ｍ，２Ｈ），５．１１−５．００（ｍ，２Ｈ），４．３１（ｔ，２Ｈ），４．０８−３．９４（ｍ，４Ｈ），３．７９（ｔ，２Ｈ），３．５９−３．５２（ｍ，４Ｈ），２．４５−２．３９（ｍ，２Ｈ）．
【０１７８】
（第３段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ１１］（１３．７ｇ）、ジクロロメタン（１２０ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（５９．６ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合溶液（容量比：トルエン／酢酸エチル＝１／１））、および再結晶（エタノール）によって精製して、無色結晶の化合物（１−２−３３）（０．７ｇ）を得た。
0005556069.tif 000067
【０１７９】
化合物（１−２−３３）の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ １１８ Ｎ １６０ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１８（ｄ，２Ｈ），７．５８（ｄ，２Ｈ），７．５１（ｄ，２Ｈ），７．２５（ｄ，２Ｈ），７．０３−６．９８（ｍ，４Ｈ），４．２７−４．１７（ｍ，４Ｈ），３．９０（ｔ，２Ｈ），３．８５−３．８１（ｍ，１Ｈ），３．７９−３．６８（ｍ，４Ｈ），３．４８−３．４２（ｍ，１Ｈ），３．２１−３．１６（ｍ，２Ｈ），２．８６（ｔ，１Ｈ），２．８０（ｔ，１Ｈ），２．６４−２．５９（ｍ，２Ｈ），２．２４−２．１６（ｍ，１Ｈ），２．０１−１．９３（ｍ，１Ｈ）．
【実施例５】
【０１８０】
＜化合物（１−２−３２）の合成＞
（第１段階）
化合物［Ｈ６］と同様の手法で化合物［Ｈ１２］を合成した。
0005556069.tif 000068
【０１８１】
化合物［Ｈ１２］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：７．６８（ｍ，２Ｈ），７．６２（ｍ，２Ｈ），７．０５（ｄ，２Ｈ），６．８６（ｄ，２Ｈ），５．８６−５．８２（ｍ，１Ｈ），５．０７（ｄ，１Ｈ），５．０２（ｄ，１Ｈ），３．９８（ｔ，２Ｈ），２．４５−２．３９（ｍ，２Ｈ）．
【０１８２】
（第２段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ１２］（５．５ｇ）、化合物［Ｈ４］（６．７ｇ）、ジメチルアミノピリジン（０．３ｇ）、ジクロロメタン（６０ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（５．５ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不要物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合溶液（容量比：トルエン／酢酸エチル＝５／１））、および再結晶（メタノール）によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ１３］（１０．５ｇ）を得た。
0005556069.tif 000069
【０１８３】
化合物［Ｈ１３］の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ １０２ Ｎ １５４ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１１（ｄ，２Ｈ），７．７９（ｄ，２Ｈ），７．６８（ｄ，２Ｈ），７．２６（ｄ，２Ｈ），７．０９−７．０２（ｍ，４Ｈ），６．１１−６．０２（ｍ，１Ｈ），５．８７−５．７８（ｍ，１Ｈ），５．４８−５．４２（ｍ，２Ｈ），５．１４−５．０５（ｍ，２Ｈ），４．３１（ｔ，２Ｈ），４．０８−３．９４（ｍ，４Ｈ），３．７９（ｔ，２Ｈ），３．５８−３．５４（ｍ，４Ｈ），２．３８−２．３４（ｍ，２Ｈ）．
【０１８４】
（第３段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ１３］（１０．５ｇ）、ジクロロメタン（１００ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（３４．２ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合溶液（容量比：トルエン／酢酸エチル＝３／２））、および再結晶（エタノール）によって精製して、無色結晶の化合物（１−２−３２）（３．５ｇ）を得た。
0005556069.tif 000070
【０１８５】
化合物（１−２−３２）の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ １０２ Ｎ １５７ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１９（ｄ，２Ｈ），７．６１（ｄ，２Ｈ），７．５５（ｄ，２Ｈ），７．２７（ｄ，２Ｈ），７．０６−６．９９（ｍ，４Ｈ），４．２６（ｔ，２Ｈ），４．２３−４．１５（ｍ，２Ｈ），３．９４（ｔ，２Ｈ），３．８８−３．８４（ｍ，１Ｈ），３．８２−３．６９（ｍ，４Ｈ），３．４９−３．４４（ｍ，１Ｈ），３．２３−３．１８（ｍ，２Ｈ），２．８７（ｔ，１Ｈ），２．８３（ｔ，１Ｈ），２．６６−２．６２（ｍ，２Ｈ），２．２１−２．１３（ｍ，１Ｈ），２．０４−１．９６（ｍ，１Ｈ）．
【実施例６】
【０１８６】
＜化合物（１−３−５５）の合成＞
（第１段階）
窒素雰囲気下、２−ブロモエチルエーテル（５０．０ｇ）、トルエン（２００ｍｌ）、水（２００ｍｌ）、エチルオキセタンメタノール（１６．７ｇ）、水酸化ナトリウム（２８．７ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロミド（４．６ｇ）の混合物を１００℃で３時間攪拌した。有機相を分離し、得られた有機層を飽和重曹水および飽和食塩水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤をロータリーエバポレーターで濃縮して、粗製の無色の液体［Ｈ１４］（１６．３ｇ）を得た。
0005556069.tif 000071
【０１８７】
（第２段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ１４］（１６．３ｇ）、４−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル（１３．２ｇ）、炭酸カリウム（１０．１ｇ）、ＤＭＦ（２００ｍｌ）の混合溶液を６時間８０℃で攪拌した。反応溶液へ酢酸エチル（２００ｍｌ）と水（２００ｍｌ）を加え有機層を分離した。得られた有機層を飽和重曹水および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去し、粗製の無色の液体［Ｈ１５］（１７．９ｇ）を得た。
0005556069.tif 000072
【０１８８】
（第３段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ１５］（１７．９ｇ）、水酸化ナトリウム（２．９ｇ）、水（１００ｍｌ）、メタノール（１００ｍｌ）の混合物溶液を３時間加熱還流下攪拌した。溶剤を減圧留去して得られた残渣を３Ｎ塩酸に注ぎ込んだ。酢酸エチル（２００ｍｌ）を加え有機層を抽出した。得られた有機層を水を用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。再結晶（ヘプタン）によって精製して、無色結晶の化合物（Ｈ１６）（１４．７ｇ）を得た。
0005556069.tif 000073
【０１８９】
化合物［Ｈ１６］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１０（ｄ，２Ｈ），７．２０（ｄ，２Ｈ），４．３９−４．３１（ｍ，４Ｈ），４．１４（ｓ，２Ｈ），３．８２−３．７６（ｍ，４Ｈ），３．５８−３．５２（ｍ，４Ｈ），１．６９（ｍ，２Ｈ），１．０３（ｔ，３Ｈ）．
【０１９０】
（第４段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ１６］（１４．７ｇ）、ビフェノール（４．２ｇ）、ジメチルアミノピリジン（１．１ｇ）、ジクロロメタン（１５０ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（１０．３ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不要物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合溶液（容量比：トルエン／酢酸エチル＝１／１））、および再結晶（メタノール）によって精製して、無色結晶の化合物（１−３−５５）（４．２ｇ）を得た。
0005556069.tif 000074
【０１９１】
化合物（１−３−５５）のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１１（ｄ，４Ｈ），７．８６（ｄ，４Ｈ），７．２３（ｄ，４Ｈ），７．１４（ｄ，４Ｈ），４．３９−４．３１（ｍ，８Ｈ），４．１４（ｓ，４Ｈ），３．４１−３．７５（ｍ，８Ｈ），３．６２−３．５６（ｍ，８Ｈ），１．７８（ｍ，４Ｈ），１．０５（ｔ，６Ｈ）．
【０１９２】
以下の重合性液晶組成物の実施例において使用した、化合物（１）以外の構成成分である化合物を示す。
0005556069.tif 000075
【実施例７】
【０１９３】
化合物（１−２−１４）と化合物（Ｍ３−１−１）を重量比７０／３０で混合し、これをＰＧＭＥＡ／ＭＭＰ＝５／５の混合溶剤に溶解させて、化合物濃度が３０重量％の溶液を調製した。この組成物を室温で放置したところ、５日以上結晶の析出などは見られなかった。
【実施例８】
【０１９４】
化合物（１−２−３２）と化合物（１−３−５５）と化合物（Ｍ３−１−１）を重量比２５／２５／５０で混合し、これをシクロペンタノンに溶解させて、化合物濃度が２５重量％の溶液を調製した。この組成物を室温で放置したところ、５日以上結晶の析出などは見られなかった。
【０１９５】
［比較例１］
化合物（１−２−１４）を化合物（Ｍ２−２−１）に置き換えた以外は実施例７と同様にして溶液の調製を行った。この組成物を室温で放置したところ、１日で結晶の析出が見られた。
【実施例９】
【０１９６】
実施例７で得られた組成物に、この組成物に対する重量比０．００２のフッ素系の非イオン性界面活性剤ＦＴＸ−２１８（（株）ネオス製）、重量比０．０２の重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐ（サンアプロ製）を添加した。この溶液をラビング処理したポリイミド配向膜を有するガラス基板にスピンコーターで塗布した。このガラス基板を７０℃に加熱したホットプレート上に１２０秒間置いて、溶剤を蒸発させた。
次に、大気下、室温で２５０Ｗの超高圧水銀灯を用いて、３０ｍＷ／ｃｍ２（中心波長３６５ｎｍ）の強度の光を３０秒間照射して重合させた。得られた薄膜はホモジニアス配向が固定化されており、Ａプレート光学特性を示した。
【実施例１０】
【０１９７】
化合物（１−２−２７）／（Ｍ−１−１−１）／（Ｍ３−１−１）を重量比３０／３０／４０で混合し、これをＰＧＭＥＡ／ＭＭＰ＝５／５の混合溶剤に溶解させて、化合物濃度が２０重量％の溶液を調製した。この組成物に対して重量比０．００２のフッ素系の非イオン性界面活性剤ＦＴＸ−２１８（（株）ネオス製）、重量比０．０２の重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐ（サンアプロ製）を添加した。この溶液を用い、実施例９に準じて薄膜を作成したところ、Ａプレート光学特性を示した。
【実施例１１】
【０１９８】
化合物（１−２−２４）／（Ｍ−１−１−２）／（Ｍ４−８−１）を重量比３０／１０／６０で混合し、これをシクロペンタノンに溶解させて、化合物濃度が２０重量％の溶液を調製した。この組成物に対して重量比０．０２の重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐ（サンアプロ製）を添加した溶液をガラス基板にスピンコーターで塗布し薄膜を作成した。このガラス基板を７０℃に加熱したホットプレート上に１２０秒間置いて、溶剤を蒸発させた。
次に、大気下、室温で２５０Ｗの超高圧水銀灯を用いて、３０ｍＷ／ｃｍ２（中心波長３６５ｎｍ）の強度の光を３０秒間照射して重合させた。得られた薄膜はホモジニアス配向が固定化されており、Ｃプレート光学特性を示した。
【実施例１２】
【０１９９】
化合物（１−２−３３）／化合物（Ｍ１−１−１）／化合物（Ｍ−２−２−１）／化合物（Ｍ３−１−１）／化合物（Ｏｐ−１）を重量比１０／１０／１０／６０／１０で混合し、これをＰＧＭＥＡ／シクロペンタノン＝３／７の混合溶剤に溶解させて、化合物濃度が２０重量％の溶液を調製した。この組成物に対して重量比０．００２のフッ素系の非イオン性界面活性剤ＦＴＸ−２１８（（株）ネオス製）、重量比０．０２の重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐ（サンアプロ製）を添加した。この溶液を用い、実施例９に準じて薄膜を作成したところ、ネガティブＣプレート光学特性を示した。
【実施例１３】
【０２００】
化合物（１−２−１４）／化合物（１−３−５５）／化合物（Ｍ−２−２−１）／化合物（Ｍ３−１−１）／化合物（Ｏｐ−１）を重量比１０／１０／１０／６５／５で混合し、これをメチルエチルケトンに溶解させて、化合物濃度が２０重量％の溶液を調製した。この組成物に対して重量比０．００２のポリフローＮｏ．７５（共栄社化学（株）製）、重量比０．０２の重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐ（サンアプロ製）を添加した。この溶液を用い、実施例９に準じて薄膜を作成したところ、可視光選択反射を示した。
【実施例１４】
【０２０１】
化合物（１−２−３３）／化合物（Ｍ−２−２−２）／化合物（Ｍ４−８−１）／化合物（Ｍ３−１−１）を重量比２０／１０／５／６５で混合し、これをトルエンに溶解させて、化合物濃度が２０重量％の溶液を調製した。この組成物に対して重量比０．０２の重合開始剤ＤＴＳ−１０２（みどり化学製）を添加した。この溶液を用い、実施例９に準じて薄膜を作成したところ、Ｏプレート光学特性を示した。
【産業上の利用可能性】
【０２０２】
本発明の化合物は、重合性の液晶性化合物であり、重合性液晶組成物の構成成分として使用できる。本発明の重合体は、例えば、液晶表示素子の構成要素である位相差板、偏光素子、選択反射膜、輝度向上フィルムおよび視野角補償膜などに利用することができる。