(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
光の照射により情報信号の記録および再生が行われる、上記基板上に形成された情報記録層と、
上記情報記録層上に形成された上記光を透過する光透過層と
を備え、
−５℃における上記光透過層の貯蔵弾性率が、１３００ＭＰａ以下の範囲内である光記録媒体。
【請求項２】
−５℃における上記光透過層の貯蔵弾性率が、２０ＭＰａ以上１３００ＭＰａ以下の範囲内である請求項１記載の光記録媒体。
【請求項３】
上記基板は、ポリカーボネート系樹脂を主成分とする請求項１〜２の何れかに記載の光記録媒体。
【請求項４】
上記光透過層は、紫外線硬化樹脂組成物を主成分とする請求項１〜３の何れかに記載の光記録媒体。
【請求項５】
上記紫外線硬化樹脂組成物は、
硬化反応前の液状状態での２５℃における粘度が３００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下であり、且つ単体硬化物のガラス転移点温度が−５０℃以上１５℃以下であるオリゴマー成分と、
光重合開始剤成分とを含む
請求項４記載の光記録媒体。
【請求項６】
上記紫外線硬化樹脂組成物は、
２官能以上モノマー成分および単官能モノマー成分のうちの少なくとも１種をさらに含む
請求項５記載の光記録媒体。
【請求項７】
上記情報記録層が、光の照射により情報信号を繰り返し記録可能な記録層である
請求項１〜６の何れかに記載の光記録媒体。
【請求項８】
基板上に、光の照射により情報信号の記録および再生が行われる情報記録層を形成する工程と、
上記情報記録層上に、紫外線硬化樹脂組成物を塗布した後硬化させることにより、光透過層を形成する工程と
を有し、
−５℃における上記光透過層の貯蔵弾性率を、１３００ＭＰａ以下の範囲内とする光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光記録媒体に関する。詳しくは、紫外線硬化樹脂で構成された光透過層を有する光記録媒体およびこの光記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光記録媒体の高密度化が進み、例えば従来のＣＤ（Compact Disc）やＤＶＤ（Digital Versatile Disc）に比較して著しい大容量化を実現した高密度光ディスクなどが知られている。
【０００３】
高密度光ディスクでは、情報信号を記録および／または再生するための情報信号部をディスク基板の一主面に形成し、この情報信号部には反射膜が形成される。さらにその上に例えばスピンコート法により光透過層・保護層を形成する。そして、記録再生時には、レーザ光がその光透過層を通して情報信号部に照射され、記録または再生が行われる。
【０００４】
この高密度光ディスクは、片側（レーザ光が入射される情報出面側）にのみ活性化エネルギー線硬化型樹脂で形成した光透過層を有することから、ディスクの厚み方向に非対称である。このような構造上、ＤＶＤなどと比較して元来的に反り易い性質を持つ。
【０００５】
このような高密度光ディスクの反りの問題に対応するため、従来では、様々な技術が提案されている。例えば、特許文献１では、−２０℃と２５℃間における光透過層の引張弾性率の差が１４００ＭＰａ以下である光記録媒体が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−００９６３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１の請求項１に記載の光記録媒体では、光透過層の−２０℃と２５℃間における光透過層の引張弾性率の差が１４００ＭＰａ以下とされている。しかしながら、特許文献１の請求項１に記載の光記録媒体では、−５℃程度の低温下における反りを十分に抑制することができなかった。
【０００８】
また、特許文献１の請求項２に記載の光記録媒体では、２５℃における光透過層の引張弾性率が１００ＭＰａ以上８００ＭＰａ以下とされている。しかしながら、特許文献１の請求項２に記載の光記録媒体では、−５℃程度の低温化における反りを十分に抑制することができなかった。
【０００９】
したがって、この発明の目的は、低温下での光記録媒体の反りを抑制することができる光記録媒体および光記録媒体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上述した課題を解決するために、第１の発明は、基板と、光の照射により情報信号の記録および再生が行われる、基板上に形成された情報記録層と、光を透過する光透過層とを備え、−５℃における光透過層の貯蔵弾性率が、１３００ＭＰａ以下の範囲内である光記録媒体である。
【００１１】
第２の発明は、基板上に、光の照射により情報信号の記録および再生が行われる情報記録層を形成する工程と、情報記録層上に、紫外線硬化樹脂組成物を塗布した後硬化させることにより、光透過層を形成する工程とを有し、−５℃における光透過層の貯蔵弾性率を、１３００ＭＰａ以下の範囲内とする光記録媒体の製造方法である。
【００１２】
第１の発明および第２の発明では、光透過層の−５℃における貯蔵弾性率が、１３００ＭＰａ以下の範囲内に設定されている。これにより、例えば、−５℃程度の低温下における光記録媒体の反りを抑制することができる。
【発明の効果】
【００１３】
この発明によれば、低温下での光記録媒体の反りを抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】この発明の第１の実施の形態による光記録媒体の構成例を示す断面図である。
【図２】この発明の第２の実施の形態による光記録媒体の構成例を示す断面図である。
【図３】この発明の第３の実施の形態による光記録媒体の構成例を示す断面図である。
【図４】この発明の第３の実施の形態による光記録媒体の情報記録層の一構成例を示す断面図である。
【図５】この発明の第４の実施の形態による光記録媒体の情報記録層の一構成例を示す断面図である。
【図６】サンプル１〜サンプル７の貯蔵弾性率の測定結果を示すグラフである。
【図７】−５℃の貯蔵弾性率に対するΔＲ−ｓｋｅｗをプロットしたグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、この発明の実施の形態について図面を参照して説明する。以下に説明する実施の形態は、この発明の具体的な例であり、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、この発明の範囲は、以下の説明において、特にこの発明を限定する旨の記載がない限り、実施の形態に限定されないものとする。なお、説明は、以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態（光記録媒体の第１の例）
２．第２の実施の形態（光記録媒体の第２の例）
３．第３の実施の形態（光記録媒体の第３の例）
４．第４の実施の形態（光記録媒体の第４の例）
５．他の実施の形態（変形例）
【００１６】
１．第１の実施の形態
[光記録媒体の構成]
この発明の第１の実施の形態による追記型光記録媒体について説明する。図１は、この発明の第１の実施の形態による追記型光記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。この追記型光記録媒体１０は、基板１上に、反射層２、第１の保護層３、情報記録層４、第２の保護層５、光透過層６が順次積層された構成を有する。
【００１７】
追記型光記録媒体１０では、光透過層６の側からレーザ光を情報記録層４に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。例えば、４００ｎｍ以上４１０ｎｍ以下の範囲の波長を有するレーザ光を、０．８４以上０．８６以下の範囲の開口数を有する対物レンズにより集光し、光透過層６の側から情報記録層４に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。このような追記型光記録媒体１０としては、例えばＢＤ−Ｒ（Blu-ray Disk Recordable）が挙げられる。
【００１８】
以下、追記型光記録媒体１０を構成する基板１、反射層２、第１の保護層３、情報記録層４、第２の保護層５、光透過層６について順次説明する。
【００１９】
（基板）
基板１は、例えば、中央に開口（以下センターホールと称する）が形成された円環形状を有する。この基板１の一主面は、例えば、凹凸面８となっており、この凹凸面８上に情報記録層４が成膜される。以下では、凹凸面８のうち凹部をイングルーブＧｉｎ、凸部をオングルーブＧｏｎと称する。
【００２０】
このイングルーブＧｉｎおよびオングルーブＧｏｎの形状としては、例えば、スパイラル状、同心円状などの各種形状が挙げられる。また、イングルーブＧｉｎおよび／またはオングルーブＧｏｎが、例えば、アドレス情報を付加するためにウォブル（蛇行）されている。
【００２１】
基板１の径（直径）は、例えば１２０ｍｍに選ばれる。基板１の厚さは、剛性を考慮して選ばれ、好ましくは０．３ｍｍ〜１．３ｍｍ、より好ましくは０．６ｍｍ〜１．３ｍｍ、例えば１．１ｍｍに選ばれる。また、センタホールの径（直径）は、例えば１５ｍｍに選ばれる。
【００２２】
基板１の材料としては、例えばプラスチック材料またはガラスを用いることができ、コストの観点から、プラスチック材料を用いることが好ましい。プラスチック材料としては、例えばポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂などを用いることができる。
【００２３】
（反射層）
反射層２の材料としては、例えばＡｇ合金やＡｌ合金など、従来公知の光ディスクにおいて一般的に使用可能な金属や半金属などをこの反射層２に求められる特性に応じて任意に選択し使用することが可能である。また、反射層２の材料としては、光の反射能に加えてヒートシンク（放熱）能を有するものを用いることが望ましい。こうすることで反射層２に放熱層としての機能を持たせることもできる。
【００２４】
（第１の保護層、第２の保護層）
第１の保護層３、および第２の保護層５は情報記録層４を保護し、記録／再生時の光学特性および熱特性を制御するためのものである。第１の保護層３、および第２の保護層５の材料としては、ＳｉＮ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5など、従来公知の光ディスクにおいて一般的に使用可能な誘電体を用いることができる。
【００２５】
第１の保護層３、および第２の保護層５の少なくとも一方が、インジウムとスズの酸化物（Indium Tin Oxde、以下ＩＴＯと称する）を主成分として含むようにしてもよい。このような構成にすることで、保存信頼性と高い生産性とを両立することができる。特に、第１の保護層３、および第２の保護層５の両方がＩＴＯを主成分としていることが好ましい。保存信頼性をより向上することができるからである。
【００２６】
第１の保護層３の厚さは、適切な反射率を得るために、好ましくは１０ｎｍ〜４０ｎｍ、より好ましくは２０ｎｍ〜３０ｎｍである。第２の保護層５の厚さは、記録パワーマージン向上の観点から、１１ｎｍ〜３４ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１６ｎｍ〜３０ｎｍである。
【００２７】
（情報記録層）
情報記録層４は、追記型の情報記録層である。この情報記録層４は、例えば、ＺｎＳ、ＳｉＯ2およびＳｂを主成分とし、必要に応じてＺｎ、Ｇａ、Ｔｅ、Ｖ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｃｒ、ＳｎおよびＴｂからなる群から選択された少なくとも１つの元素をさらに含み、好適には、以下の式（１）の組成を有する。
［（ＺｎＳ）x（ＳｉＯ2）1-x］y（ＳｂzＸ1-z）1-y・・・・・（１）
ただし、０＜ｘ≦１．０、０．３≦ｙ≦０．７、０．８＜ｚ≦１．０であり、ＸはＧａ、Ｔｅ、Ｖ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｔａ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｃｒ、ＳｎおよびＴｂからなる群から選ばれた少なくとも１つの元素である。
また、情報記録層４の厚さは、良好な記録再生特性を得る観点から、３ｎｍ〜４０ｎｍであることが好ましい。
【００２８】
ＺｎＳ、ＳｉＯ2およびＳｂを主成分とする情報記録層４は、記録前にはＺｎＳ、ＳｉＯ2、Ｓｂがアモルファス状態となっている。このような状態にある情報記録層４に対してレーザ光を照射すると、情報記録層４の中央部分にＳｂの結晶が形成され、その他の原子は界面近傍に集中する。これにより、光学定数（ｎ：屈折率、ｋ：減衰係数）が変化し、情報信号が記録される。このように中央部分にＳｂの結晶が形成された状態にある情報記録層４を、記録前のアモルファス状態に戻すことは困難であるため、上記情報記録層は追記型の情報記録層として用いられる。
【００２９】
このように、情報記録層４がＺｎＳ、ＳｉＯ2およびＳｂを主成分とし、好適には、上記式（１）の組成を有することで、記録された情報が初期のまま長期にわたって安定して保存され、信号再生時に再生用レーザ光によって信号が損なわれず、通常の長期保存によって変質せず書き込み特性が保存され、記録および／または再生用レーザ光に対して十分な感度と反応速度とが得られ、これによって広い線速や記録パワーにわたり良好な記録再生特性を得ることができる。
【００３０】
情報記録層４の材料は、上述の材料に限定されるものではなく、従来公知の追記型光記録媒体において一般的に使用可能な無機記録材料を用いることも可能である。
【００３１】
例えば、情報記録層４としては、例えば、Ｔｅ、ＰｄおよびＯ（酸素）を主成分とする相変化タイプの情報記録層を用いることができ、この情報記録層は、例えば、以下の式（２）の組成を有する。
（ＴｅxＰｄ1-x）yＯ1-y・・・・・（２）
ただし、０．７≦ｘ≦０．９、０．３≦ｙ≦０．７
【００３２】
また、情報記録層４としては、例えば、シリコン（Ｓｉ）膜と銅（Ｃｕ）合金膜を積層してなる合金タイプの情報記録層、もしくは、Ｇｅ、ＢｉおよびＮを主成分とする情報記録層を用いることもできる。
【００３３】
（光透過層）
光透過層６は、紫外線硬化樹脂組成物を硬化することによって、形成されている。この光透過層６の−５℃における貯蔵弾性率は、１５００ＭＰａ以下の範囲内に設定され、より好ましくは、２０ＭＰａ以上１５００ＭＰａ以下の範囲内に設定される。これにより、−５℃程度の低温における追記型光記録媒体１０の反りを著しく低減することができる。
【００３４】
（紫外線硬化樹脂組成物）
紫外線硬化樹脂組成物は、少なくとも、オリゴマー成分および光重合開始剤成分を含む。また、２官能以上モノマー成分および単官能モノマー成分の少なくとも何れかを含んでいてもよい。
【００３５】
例えば、紫外線硬化樹脂組成物は、硬化反応前の液状状態での２５℃における粘度が３００ｍＰａ・ｓ〜３０００ｍＰａ・ｓで、かつ単体硬化物のガラス転移温度が−５０℃〜１５℃以下であるオリゴマー成分と、光重合開始剤成分とを含む。また、この紫外線硬化樹脂組成物は、単体硬化物のガラス転移点温度が−４０℃〜９０℃以下である２官能以上のモノマー成分および単官能モノマー成分の少なくとも何れかを含んでいてもよい。
【００３６】
また、この紫外線硬化樹脂組成物は、硬化反応後において、−５℃における貯蔵弾性率が、１５００ＭＰａ以下の範囲内に設定されたものである。また、この紫外線硬化樹脂組成物は、より好ましくは、２０ＭＰａ以上１５００ＭＰａ以下の範囲内に設定されたものである。また、この紫外線硬化樹脂組成物は、硬化反応後において、ガラス転移点温度が−２０℃以上２０℃以下となるものである。
【００３７】
（オリゴマー成分）
オリゴマー成分としては、例えば、（メタ）アクリレートオリゴマーを用いることができる。ここで、（メタ）アクリレートとは、アクリレートおよびメタアクリレートの何れかを意味するものである。（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、例えば、単体硬化物のガラス転移点温度が−５０℃〜１５℃であるウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレートなどを用いることができる。ウレタン（メタ）アクリレートの市販品の一例としてはＵＶ−６１００Ｂ（日本合成化学（株）製）、ＥＢ２３０、ＥＢ８４０５（ダイセル・サイテック（株）製）、ＣＮ９００４（サートマー・ジャパン（株）製）が挙げられる。エポキシ（メタ）アクリレート市販品の一例としてはＥＢ３５００（ダイセル・サイテック（株）製）が挙げられる。（メタ）アクリレートオリゴマーは、例えば分子（繰り返し単位）中に２〜４個の（メタ）アクリロイル基を有する。ここで、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基およびメタアクリロイル基の何れかを意味する。（メタ）アクリレートオリゴマーの数平均分子量は、５００〜１００００であることが好ましい。（メタ）アクリレートオリゴマーは、１種類で用いてもよく、また、２種類以上併用してもよい。
【００３８】
（光重合開始剤成分）
光重合開始剤成分としては、０．０１％アセトニトリル溶液の紫外−可視吸収スペクトルの長波長側吸収端がλ＝４０５ｎｍ未満になる光重合開始剤を好適に用いることができる。この光重合開始剤としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、２−メチル−１[４−メチルチオ]フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オンなどが挙げられる。１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンの市販品の一例としてはイルガキュア１８４（チバ・ジャパン（株）製）が挙げられる。２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンの市販品の一例としてはダロキュア１１７３（チバ・ジャパン（株）製）が挙げられる。２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンの市販品の一例としてはダロキュア１１７３（チバ・ジャパン（株）製）が挙げられる。２−メチル−１[４−メチルチオ]フェニル−２−モルフォリノプロパン−１−オンの市販品の一例としてはイルガキュア９０７（チバ・ジャパン（株）製）が挙げられる。
【００３９】
（２官能以上モノマー成分）
２官能以上モノマー成分としては、２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを用いることができる。この２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーは、単体硬化物のガラス転移点温度が−４０℃〜９０℃であり、主鎖構造もしくは、および側鎖構造に脂肪族残基、脂環式残基、芳香族残基を有するものである。
【００４０】
２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーとしては、エトキシ化ヘキサンジオールジアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが挙げられる。上記２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーは２種類以上併用することもできる。
【００４１】
カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレートの市販品の一例としてはＨＸ−６２０（日本化薬（株）製）が挙げられる。エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートの市販品の一例としてはＣＤ５６１、ＳＲ９０３５（いずれもサートーマー・ジャパン（株）製）が挙げられる。プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートの市販品の一例としてはＳＲ４９２（サートーマー・ジャパン（株）製）が挙げられる。カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの市販品の一例としてはＤＰＣＡ−１２０（日本化薬（株）製）が挙げられる。
【００４２】
（単官能モノマー成分）
単官能モノマー成分としては、単官能（メタ）アクリレートモノマーを用いることができる。この単官能（メタ）アクリレートモノマーは、単体硬化物のガラス転移点温度が−５０℃〜５０℃であり、主鎖構造もしくは、および側鎖構造に脂肪族残基、脂環式残基、芳香族残基を有するものである。単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては２−フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなどが挙げられる。単官能（メタ）アクリレートモノマーは１種類で用いてもよいし、２種類以上を併用してもよい。
【００４３】
２−フェノキシエチルアクリレートの市販品の一例としては、ライトアクリレートＰＯ−Ａ（共栄化学（株）製）が挙げられる。テトラヒドロフルフリルアクリレートの市販品の一例としては、ＳＲ２８５（サートマー・ジャパン（株）製）が挙げられる。
【００４４】
オリゴマー成分の配合量は、例えば、紫外線硬化樹脂組成物の全量を１００質量部とすると、例えば１０重量部〜８０重量部とされる。光重合開始剤成分の配合量は、例えば０．５質量部〜１０質量部とされる。２官能以上のモノマー成分および単官能モノマー成分を配合する場合は、以下の配合量とされる。２官能以上のモノマー成分の配合量は、２０質量部〜６０質量部とされる。単官能モノマー成分の配合量は、５質量部〜３０質量部とされる。
【００４５】
光透過層６の厚さは、好ましくは１０μｍ〜１７７μｍの範囲内から選ばれ、例えば１００μｍに選ばれる。このような薄い光透過層６と、例えば０．８５程度の高ＮＡ（numerical aperture）化された対物レンズとを組み合わせることによって、高密度記録を実現することができる。
【００４６】
[追記型光記録媒体の製造方法]
上述した追記型光記録媒体１０の製造方法の一例について説明する。
【００４７】
（基板の成形工程）
まず、一主面に凹凸面８が形成された基板１を成形する。基板１の成形の方法としては、例えば射出成形（インジェクション）法、フォトポリマー法（２Ｐ法：Photo Polymerization）などを用いることができる。
【００４８】
（反射層の成膜工程）
次に、基板１を、例えば反射層２となる材料を含むターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスなどのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタリングして、基板１上に反射層２を成膜する。
【００４９】
（第１の保護層の成膜工程）
次に、基板１を、例えば第１の保護層３となる材料を含むターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスやＯ2などのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタリングして、反射層２上に第１の保護層３を成膜する。スパッタリング法として、例えば高周波（ＲＦ）スパッタリング法、直流（ＤＣ）スパッタリング法を用いることができるが、特に直流スパッタリング法が好ましい。直流スパッタ法は高周波スパッタ法に比して成膜レートが高いため、生産性を向上することができるからである。
【００５０】
（情報記録層の成膜工程）
次に、基板１を、例えば、情報記録層４となる材料を含むターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスなどのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタリングして、第１の保護層３上に情報記録層４を成膜する。
【００５１】
（第２の保護層の成膜工程）
次に、基板１を、例えば第２の保護層５となる材料を含むターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスやＯ2などのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタリングして、情報記録層４上に第２の保護層５を成膜する。スパッタリング法として、例えば高周波（ＲＦ）スパッタリング法、直流（ＤＣ）スパッタリング法を用いることができるが、特に直流スパッタリング法が好ましい。直流スパッタ法は高周波スパッタ法に比して成膜レートが高いため、生産性を向上することができるからである。
【００５２】
（光透過層の形成工程）
次に、光透過層６を第２の保護層５上に形成する。光透過層６の形成は、例えば、上述の紫外線硬化樹脂組成物を第２の保護層５上にスピンコート法により塗布した後、紫外線を塗布した紫外線硬化樹脂組成物に照射し硬化させることによって行う。
以上の工程により、図１に示す追記型光記録媒体１０が得られる。
【００５３】
＜効果＞
この発明の第１の実施の形態による光記録媒体では、光透過層６の−５℃における貯蔵弾性率が、１５００ＭＰａ以下の範囲内であり、より好ましくは、２０ＭＰａ以上１５００ＭＰａ以下の範囲内に設定されている。これにより、−５℃程度の低温における追記型光記録媒体１０の反りを著しく低減することができる。
【００５４】
２．第２の実施の形態
[光記録媒体の構成]
この発明の第２の実施の形態による追記型光記録媒体について説明する。図２は、この発明の第２の実施の形態による追記型光記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。この追記型光記録媒体２０は、基板１上に、情報記録層６６、誘電体層６４、光透過層６が順次積層された構成を有する。
【００５５】
この第２の実施形態による追記型光記録媒体２０では、光透過層６の側からレーザ光を情報記録層６６に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。例えば、４００ｎｍ以上４１０ｎｍ以下の範囲の波長を有するレーザ光を、０．８４以上０．８６以下の範囲の開口数を有する対物レンズにより集光し、光透過層６の側から情報記録層６に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。このような追記型光記録媒体１０としては、例えばＢＤ−Ｒ（Blu-ray Disc -Recordable）が挙げられる。
【００５６】
以下、追記型光記録媒体１０を構成する基板１上、情報記録層６６、誘電体層６４および光透過層６について順次説明する。
【００５７】
（基板）
基板１は、第１の実施の形態と同様の構成を有する。
【００５８】
（情報記録層）
情報記録層６６は、基板１の凹凸面８上に順次積層された金属層６２および酸化物層６３からなる。金属層６２は、酸化物層６３に隣接して設けられる隣接層であって、実質的にチタン（Ｔｉ）から構成される。Ｔｉを主たる材料とすれば基本的に良好な記録特性を得ることができる。
【００５９】
また、光学特性、耐久性および記録感度などの向上を目的として、金属層６２に添加物を加えるようにしてもよい。このような添加物としては、例えばアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、パラジウム（Ｐｄ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、ケイ素（Ｓｉ）、スズ（Ｓｎ）、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、マグネシウム（Ｍｇ）、バナジウム（Ｖ）、炭素（Ｃ）、カルシウム（Ｃａ）、ホウ素（Ｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニオブ（Ｎｂ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、硫黄（Ｓ）、セレン（Ｓｅ）、マンガン（Ｍｎ）、ガリウム（Ｇａ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）、テルビウム（Ｔｂ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、ネオジウム（Ｎｄ）、亜鉛（Ｚｎ）、タンタル（Ｔａ）およびストロンチウム（Ｓｒ）からなる群より選ばれた１種以上を用いることができる。
【００６０】
また、金属層６２を構成する材料を酸化するようにしてもよく、このような酸化物としては、例えばＴｉＳｉＯを挙げることができる。このように酸化することで、ジッターを改善することができる。
【００６１】
また、金属層６２を構成する材料を窒化するようにしてもよく、このような窒化物としては、例えばＴｉＳｉ−Ｎを挙げることができる。このように窒化することで、パワーマージンを広げることができる。
【００６２】
酸化物層６３は、実質的にゲルマニウム（Ｇｅ）の酸化物であるＧｅＯから構成される。酸化物層６３の吸収係数ｋは、好ましくは０．１５以上０．９０以下、より好ましくは０．２０以上０．７０以下、更により好ましくは０．２５以上０．６０以下の範囲内である。また、酸化物層６３の層厚は、好ましくは１０ｎｍ以上３５ｎｍ以下の範囲内である。０．１５以上０．９０以下の範囲を満たすことで、例えば良好な変調度およびキャリア対ノイズ比（以下、Ｃ／Ｎ比）を得ることができる。０．２０以上０．７０以下の範囲を満たすことで、例えばより良好な変調度およびＣ／Ｎ比を得ることができる。０．２５以上０．６０以下の範囲を満たすことで、例えば更により良好な変調度およびＣ／Ｎ比を得ることができる。
【００６３】
なお、この明細書における吸収係数は波長４１０ｎｍにおけるものである。また、その測定値は、エリプソメータ（ルドルフ社製、商品名：Auto EL-462P17）により測定されたものである。
【００６４】
また、酸化物層６３に添加物を加えるようにしてもよく、この添加物としては、例えばテルル（Ｔｅ）、クロム（Ｃｒ）、パラジウム（Ｐｄ）、鉛（Ｐｔ）、銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、ケイ素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、スズ（Ｓｎ）およびアンチモン（Ｓｂ）からなる群より選ばれた１種以上を用いることができる。このような添加物を加えることで、耐久性および／または反応性（記録感度）を向上することができる。なお、耐久性を向上させるためには、特にＰｄ、Ｐｔ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｃｒが好ましい。
【００６５】
（誘電体層）
誘電体層６４は、情報記録層６６上に順次積層された第１の誘電体層６４ａおよび第２の誘電体層６４ｂからなる。第１の誘電体層４ａおよび第２の誘電体層４ｂは、情報記録層６の光学的、機械的保護、すなわち耐久性の向上や、記録時の情報記録層６の変形、すなわちふくらみの抑制などを行うためのものである。
【００６６】
第１の誘電体層６４ａは、例えばＺｎＳ−ＳｉＯ2より構成される。この第１の誘電体層６４ａの厚さは、好ましくは１０ｎｍ以上５８ｎｍ以下、より好ましくは２３ｎｍ以上５３ｎｍ以下の範囲内である。層厚を１０ｎｍ以上にすることで、良好なジッターを得ることができ、層厚を５８ｎｍ以下にすることで、良好な反射率を得ることができる。
【００６７】
第２の誘電体層６４ｂは、例えばＺｒＯ2およびＣｒ2Ｏ3からなる。Ｃｒ2Ｏ3の含有量は、４０原子％以上９０原子％以下の範囲内であることが好ましい。４０原子％未満であると、耐久性が低下してしまい、９０原子％を超えると、耐久性が低下すると共に初期の記録特性も低下するからである。第２の誘電体層４ｂが、ＳｉＯ2をさらに含有することが好ましい。ＳｉＯ2を含有することで、記録感度、パワーマージンおよびライトストラテジーといった記録特性の調整が可能となる。第２の誘電体層６４ｂの層厚は、２ｎｍ以上２０ｎｍ以下の範囲内であることが好ましい。２ｎｍ未満であると、第２の誘電体層６４ｂの均一性が低下してしまい、２０ｎｍを越えると、成層時間が長くなるため生産性が低下するからである。
【００６８】
（光透過層）
光透過層６は、第１の実施の形態と同様の構成を有する。
【００６９】
[追記型光記録媒体の製造方法]
次に、上述の構成を有する追記型光記録媒体２０の製造方法の一例について説明する。
【００７０】
まず、例えば射出成形（インジェクション）法またはフォトポリマー法（２Ｐ法：Photo Polymerization）などにより、基板１を成形する。次に、例えば、金属層６２、酸化物層６３、第１の誘電体層６４ａ、第２の誘電体層６４ｂをこの順序で基板１１上に積層する。これらの薄膜の形成方法としては、例えば、スパッタリング法や真空蒸着法などの真空薄膜形成技術を用いることができる。
【００７１】
次に、光透過層６を第２の誘電体層６４ｂ上に形成する。光透過層６の形成は、例えば、上述の紫外線硬化樹脂組成物を第２の誘電体層６４ｂ上にスピンコート法により塗布した後、紫外線を照射し硬化させることにより行う。
以上の工程により、図２に示す光記録媒体２０が得られる。
【００７２】
＜効果＞
この発明の第２の実施の形態による光記録媒体は、第１の実施の形態と同様の効果を有する。
【００７３】
３．第３の実施の形態
［光記録媒体の構成］
図３は、この発明の第３の実施の形態による光記録媒体の一構成例を示す。この光記録媒体は、データの消去や書換が可能である書換型の光記録媒体３０である。図３に示すように、この光記録媒体３０は、情報記録層１４、光透過層１６がこの順序で基板１１上に積層された構成を有する。
【００７４】
この光記録媒体３０では、光透過層１６側から情報記録層１４にレーザー光を照射することによって、情報信号の記録および再生が行われる。例えば、４００ｎｍ〜４１０ｎｍの波長を有するレーザー光が０．８４〜０．８６の開口数を有する対物レンズ４０により集光され、光透過層１６側から情報記録層１４に照射されることで、情報信号の記録または再生が行われる。このような光記録媒体３０としては、例えばＢＤ−ＲＥ（Blu-ray Disk ReWritable）が挙げられる。
【００７５】
以下、光記録媒体３０を構成する基板１１、情報記録層１４、光透過層１６について順次説明する。
【００７６】
（基板）
基板１１は、第１の実施の形態における基板１と同様である。
【００７７】
（情報記録層）
図４は、情報記録層１４の一構成例を示す。図４に示すように、情報記録層１４は、例えば、反射層２２、第２誘電体層２３、第１誘電体層２４、記録層２５、第１誘電体層２６、第２誘電体層２７、第３誘電体層２８をこの順序で基板１１上に積層してなる積層膜である。
【００７８】
（反射層）
反射層２２は、入射されたレーザー光を反射し光学特性を向上させるとともに、記録層２５に吸収された熱を速やかに放熱させる層である。反射層２２を構成する材料としては、例えば、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｃｏ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｇｅなどの単体、またはこれらの合金を主成分とするものを挙げることができる。これらのうち、特にＡｌ系、Ａｇ系、Ａｕ系、Ｓｉ系、Ｇｅ系の材料が実用性の面から好ましい。合金としては、例えばＡｌ−Ｔｉ、Ａｌ−Ｃｒ、Ａｌ−Ｃｕ、Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ、Ａｇ−Ｐｄ−Ｔｉ、Ｓｉ−Ｂなどが好適に用いられる。これらの材料のうちから、光学特性および熱特性を考慮して設定することが好ましい。例えば、単波長領域においても高反射率を有する点を考慮すると、Ａｌ系またはＡｇ系の材料を用いることが好ましい。
【００７９】
第１誘電体層２４、第２誘電体層２３、第１誘電体層２６、第２誘電体層２７および第３誘電体層２８は、記録層２５を保護するとともに、光学的特性および熱的安定性などを制御する層である。これらの誘電体層を構成する誘電体材料としては、例えば、Ｓｉ、Ｉｎ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｔａ、ＡｌもしくはＮｂなどの酸化物、ＳｉもしくはＡｌなどの窒化物、Ｚｎなどの硫化物、またはこれらの誘電体材料を２種以上混合したものを用いることができる。具体的には、ＳｉＮ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＡｌＮ、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、Ｃｒ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＳＣＺ、ＳＩＺ、ＴｉＯ2、Ｎｂ2Ｏ5などを用いることができる。第１誘電体層２４および第１誘電体層２６が、互いに異なる材料から構成されるようにしてもよい。また、第２誘電体層２３および第２誘電体層２７が、互いに異なる材料から構成されるようにしてもよい。
【００８０】
反射層２２に隣接する第２誘電体層２３の熱伝導率は、記録層２５に隣接する第１誘電体層２４の熱伝導率に比べて高く設定されていることが好ましい。これにより、レーザー光の照射により熱せられた記録層２５の熱を速やかにＡｇ合金へと逃がすことが可能となり、第２情報記録層４の繰り返し記録耐久性を向上することができきる。第１誘電体層２４および第２誘電体層２３がＳｉＯ2、Ｉｎ2Ｏ3およびＺｒＯ2を主成分とする場合、それぞれの誘電体層に含まれるＩｎ2Ｏ3の比率が以下の関係を満たすことが好ましい。すなわち、記録層２５に隣接する第１誘電体層２４に含まれるＩｎ2Ｏ3の比率をａ（ｍｏｌ％）、反射層２２に隣接する第２誘電体層２３に含まれるＩｎ2Ｏ3の比率をｂ（ｍｏｌ％）としたとき、ａ＜ｂの関係を満たすことが好ましい。このような関係を満たすことで、第２誘電体層２３の熱伝導率を第１誘電体層２４の熱伝導率に比べて高く設定することができる。ここで、比率は、第１誘電体層２４または第２誘電体層２３に含まれるＳｉＯ2とＩｎ2Ｏ3とＺｒＯ2との総量を１００ｍｏｌ％としている。ここで、熱伝導率は、薄膜の厚さ方向の熱伝導率である。
【００８１】
具体的には、第１誘電体層２４および第２誘電体層２３がＳｉＯ2、Ｉｎ2Ｏ3およびＺｒＯ2を主成分とする場合、第１誘電体層２４が以下の式（１）の組成を有し、第２誘電体層２３が以下の式（２）の組成を有することが好ましい。
（ＳｉＯ2）x1（Ｉｎ2Ｏ3）y1（ＺｒＯ2）z1・・・（１）
（但し、ｘ１＋ｙ１＋ｚ１＝１００、５≦ｘ１≦２０、４０≦ｙ１≦６０、３０≦ｚ１≦５０）
（ＳｉＯ2）x2（Ｉｎ2Ｏ3）y2（ＺｒＯ2）z2・・・（２）
（但し、ｘ２＋ｙ２＋ｚ２＝１００、５≦ｘ２≦２０、６０≦ｙ２≦９０、５≦ｚ２≦２０）
【００８２】
記録層２５は、例えば、レーザー光の照射により情報信号を繰り返し記録可能な記録層である。具体的には、記録層２５は、例えば、レーザー光の照射により非晶質相と結晶相との間を可逆的に変化させることにより、情報信号の記録および書き換えが行われる相変化記録層である。この相変化記録層の材料としては、例えば、共晶系相変化材料または化合物系相変化材料を用いることができる。具体的には、相変化材料としては、例えば、ＧｅＳｂＴｅ、ＳｂＴｅ、ＢｉＧｅＴｅ、ＢｉＧｅＳｂＴｅ、ＡｇＩｎＳｂＴｅまたはＧｅＳｎＳｂＴｅなどを主成分とした相変化材料が挙げられる。これらを主成分とした相変化材料に、必要に応じて、Ａｇ、Ｉｎ、ＣｒおよびＭｎなどの金属材料を１種以上添加するようにしてもよい。
【００８３】
化合物系相変化材料であるＢｉＧｅＴｅ系材料としては、以下の式（３）に示す組成を有するものが好ましい。
ＢｉxＧｅyＴｅz・・・（３）
（但し、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００、２≦ｘ≦１０、３５≦ｙ≦４５、４５≦ｚ≦５５である。）
【００８４】
この情報記録層１４では、反射層２２に隣接する第２誘電体層２３の熱伝導率を、記録層２５に隣接する第１誘電体層２４の熱伝導率よりも高くしている。これにより、レーザー光の照射により熱せられた記録層２５の熱を速やかに反射層２２へと逃がすことが可能となり、情報記録層１４の繰り返し記録耐久性を向上することができる。すなわち、書換型の光記録媒体において、繰り返し記録耐久性を向上することができる。
【００８５】
また、情報記録層１４を透過するレーザー光の透過率を制御するために、反射層２２の膜厚を薄くした場合にも、レーザー光の照射により熱せられた記録層２５の熱を反射層２２へと速やかに逃がすことが可能となる。したがって、書換型の光記録媒体において、繰り返し記録耐久性を向上することができる。
【００８６】
また、ＳｉＯ2とＩｎ2Ｏ3とＺｒＯ2とを主成分とする第１誘電体層２４および第２誘電体層２３を用いた場合には、これら２つの誘電体層におけるＩｎ2Ｏ3の比率を調整することにより、これら２つの誘電体層の熱伝導率を容易に制御することが可能となる。具体的には、それらの誘電体層における比率は、記録層２５に隣接する第１誘電体層２４のＩｎ2Ｏ3の比率をａ（ｍｏｌ％）、反射層２２に隣接する第２誘電体層２３のＩｎ2Ｏ3の比率をｂ（ｍｏｌ％）としたときに、ａ＜ｂの関係を満たすように設定することが好ましい。このように設定することで、反射層２２に隣接する第２誘電体層２３の熱伝導率を、記録層２５に隣接する第１誘電体層２４の熱伝導率よりも高く設定できるからである。
【００８７】
また、第１誘電体層２４および第２誘電体層２３としてＳｉＯ2とＩｎ2Ｏ3とＺｒＯ2とを主成分とするものを用い、記録層２５としてＢｉとＧｅとＴｅを主成分とする記録層２５を用いることが好ましい。このようにすることで、記録層２５の結晶生成を制御し、より良好な信号特性を得ることができる。
【００８８】
（光透過層）
光透過層１６は、第１の実施の形態による追記型光記録媒体１０の光透過層６と同様の構成を有する。
【００８９】
［光記録媒体の製造方法］
次に、上述の構成を有する光記録媒体３０の製造方法の一例について説明する。
【００９０】
まず、例えば射出成形（インジェクション）法またはフォトポリマー法（２Ｐ法：Photo Polymerization）などにより、基板１１を成形する。次に、例えば、反射層２２、第２誘電体層２３、第１誘電体層２３、記録層２５、第１誘電体層２６、第２誘電体層２７、第３誘電体層２８をこの順序で基板１１上に積層する。これにより、基板１１上に情報記録層１４が形成される。これらの薄膜の形成方法としては、例えば、スパッタリング法や真空蒸着法などの真空薄膜形成技術を用いることができる。
【００９１】
次に、光透過層１６を情報記録層１４上に形成する。光透過層１６の形成は、例えば、上述の紫外線硬化樹脂組成物を情報記録層１４上にスピンコート法により塗布した後、紫外線を塗布した紫外線硬化樹脂組成物に照射し硬化させることにより行う。
以上の工程により、図３に示す光記録媒体２０が得られる。
【００９２】
＜効果＞
この発明の第３の実施の形態による光記録媒体３０は、光透過層１６の−５℃における貯蔵弾性率が、１５００ＭＰａ以下の範囲内であり、より好ましくは、２０ＭＰａ以上１５００ＭＰａ以下の範囲内に設定されている。これにより、−５℃程度の低温における書き換え型の光記録媒体３０の反りを著しく低減することができる。
【００９３】
４．第４の実施の形態
この発明の第４の実施の形態による光記録媒体について説明する。図５は、この発明の第４の実施の形態による光記録媒体の情報記録層の一構成例を示す。なお、上述の第３の実施の形態と同様の部分には同一の符号を付して説明を省略する。
【００９４】
この発明の第４の実施の形態による光記録媒体は、情報記録層１４の構成以外第３の実施の形態による光記録媒体と同様である。したがって、以下では情報記録層１４の構成について詳細に説明し、その他については、第３の実施の形態による光記録媒体と同様であるので、詳細な説明を省略する。
【００９５】
[情報記録層]
図５に示すように、第４の実施の形態による光記録媒体は、反射層２２と記録層２５との間に、単層の誘電体層５１が形成された情報記録層１４を有する点において、第３の実施のとは、異なっている。
【００９６】
誘電体層５１は、ＳｉＯ2とＩｎ2Ｏ3とＺｒＯ2を主成分としている。誘電体層５１に含まれるＩｎ2Ｏ3の比率は、４０ｍｏｌ％以上６０ｍｏｌ％以下であることが好ましい。ここで、比率は、誘電体層５１に含まれるＳｉＯ2とＩｎ2Ｏ3とＺｒＯ2との総量を１００ｍｏｌ％としている。より具体的には、誘電体層５１が、以下の式（４）の組成を有していることが好ましい。
（ＳｉＯ2）x1（Ｉｎ2Ｏ3）y1（ＺｒＯ2）z1・・・（４）
（但し、ｘ１＋ｙ１＋ｚ１＝１００、５≦ｘ１≦２０、４０≦ｙ１≦６０、３０≦ｚ１≦５０）
【００９７】
＜効果＞
この発明の第４の実施の形態による光記録媒体は、第３の実施の形態と同様の効果を有する。
【実施例】
【００９８】
＜サンプル１＞
以下の成分の配合量を適宜調整し、図６の線Ｌ1の貯蔵弾性率を示すサンプル１の紫外線硬化樹脂組成物を調製した。
オリゴマー成分
ウレタン（メタ）アクリレート（日本合成化学（株）製  商品名：ＵＶ６１００Ｂ）
光重合開始剤成分
（チバ・ジャパン（株）製  商品名イルガキュア１８４）
２官能以上モノマー成分
プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート（サートーマー・ジャパン（株）製  商品名：ＳＲ９０３５）
カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製  商品名：ＤＰＣＡ−１２０）
【００９９】
なお、図６に示す貯蔵弾性率は、以下のように測定した（以下のサンプル２〜７も同様）。まず、紫外線硬化樹脂組成物を、ＰＥＴフィルムに挟み込み、硬化後膜厚が１００μｍになるよう塗布した後、メタルハライドランプ（ウシオ電機株式会社製  ＵＶＬ−４０００Ｍ３−Ｎ１、ランプ出力１２０Ｗ／ｃｍ）を用いて５００ｍＪ／ｃｍ2で硬化させた。この硬化膜の−２０℃〜１２０℃の温度環境下の貯蔵弾性率を、粘弾性スペクトロメータ（セイコーインスツルメンツ社製ＤＭＳ６１００）で測定した。
【０１００】
＜サンプル２＞
サンプル１における、オリゴマー成分、光重合開始剤成分、２官能以上モノマー成分に用いる材料種、各成分の配合量を適宜変え、また、必要に応じて、上述の単官能モノマー成分を配合し、図６の線Ｌ2の貯蔵弾性率を示すサンプル２の紫外線硬化樹脂組成物を調製した。
【０１０１】
＜サンプル３＞
サンプル１における、オリゴマー成分、光重合開始剤成分、２官能以上モノマー成分に用いる材料種、各成分の配合量を適宜変え、また、必要に応じて、上述の単官能モノマー成分を配合し、図６の線Ｌ3の貯蔵弾性率を示すサンプル３の紫外線硬化樹脂組成物を調製した。
【０１０２】
＜サンプル４＞
サンプル１における、オリゴマー成分、光重合開始剤成分、２官能以上モノマー成分に用いる材料種、各成分の配合量を適宜変え、また、必要に応じて、上述の単官能モノマー成分を配合し、図６の線Ｌ4の貯蔵弾性率を示すサンプル４の紫外線硬化樹脂組成物を調製した。
【０１０３】
＜サンプル５＞
サンプル１における、オリゴマー成分、光重合開始剤成分、２官能以上モノマー成分に用いる材料種、各成分の配合量を適宜変え、また、必要に応じて、上述の単官能モノマー成分を配合し、図６の線Ｌ5の貯蔵弾性率を示すサンプル５の紫外線硬化樹脂組成物を調製した。
【０１０４】
＜サンプル６＞
サンプル１における、オリゴマー成分、光重合開始剤成分、２官能以上モノマー成分に用いる材料種、各成分の配合量を適宜変え、また、必要に応じて、上述の単官能モノマー成分を配合し、図６の線Ｌ6の貯蔵弾性率を示すサンプル６の紫外線硬化樹脂組成物を調製した。
【０１０５】
＜サンプル７＞
サンプル１における、オリゴマー成分、光重合開始剤成分、２官能以上モノマー成分に用いる材料種、各成分の配合量を適宜変え、また、必要に応じて、上述の単官能モノマー成分を配合し、図６の線Ｌ7の貯蔵弾性率を示すサンプル７の紫外線硬化樹脂組成物を調製した。
【０１０６】
＜サンプル８＞
サンプル１における、オリゴマー成分、光重合開始剤成分、２官能以上モノマー成分に用いる材料種、各成分の配合量を適宜変え、また、必要に応じて、上述の単官能モノマー成分を配合し、図６の線Ｌ8の貯蔵弾性率を示すサンプル８の紫外線硬化樹脂組成物を調製した。
【０１０７】
＜サンプル９＞
サンプル１における、オリゴマー成分、光重合開始剤成分、２官能以上モノマー成分に用いる材料種、各成分の配合量を適宜変え、また、必要に応じて、上述の単官能モノマー成分を配合し、図６の線Ｌ9の貯蔵弾性率を示すサンプル９の紫外線硬化樹脂組成物を調製した。
【０１０８】
サンプル１〜サンプル９の紫外線硬化樹脂組成物について、以下の測定を行った。
【０１０９】
（光ディスクの反りの測定）
サンプル１〜サンプル９の紫外線樹脂組成物を用いて光透過層を形成した評価用の光ディスクを、以下のように作製した。
【０１１０】
まず、射出成形法により、一主面にイングルーブおよびオングルーブが設けられた基板を成形した。なお、この基板は、厚さ１．１ｍｍ、トラックピッチ０．３２μｍ、グルーブ深さ２０ｎｍのＢＤ用の基板である。
【０１１１】
次に、スパッタリング法により、以下の膜構成で各膜を基板上に順次成膜した。
【０１１２】
以下に、各膜の材料および膜厚を示す。
金属膜
材料：ＡｇＮｄＣｕ、膜厚：１２３ｎｍ
第１の誘電体膜
材料：Ｓｉ3Ｎ4、膜厚：８ｎｍ
第２の誘電体膜
材料：（ＺｎＳ）80−（ＳｉＯ2）20、膜厚：７ｎｍ
相変化記録膜
材料：Ｇｅ6.5Ｓｂ77.1Ｔｅ16.4、膜厚：１０ｎｍ
第３の誘電体膜
材料：（ＺｎＳ）80−（ＳｉＯ2）20、膜厚：８ｎｍ
第４の誘電体膜
材料：Ｓｉ3Ｎ4、膜厚：５０ｎｍ
第５の誘電体膜
材料：（ＳｉＯ2）20（Ｃｒ2Ｏ3）30（ＺｒＯ2）50、膜厚：５ｎｍ
【０１１３】
次に、紫外線樹脂組成物を上記の膜が形成された基板上にスピンコート法により塗布した。その後、紫外線を照射することによって、紫外線樹脂組成物を硬化させ、厚さ０．１ｍｍの光透過層を形成した。この光透過層は、ＢＤの規格に準拠したものであり、この光透過層側が記録再生光の入射面となる。以上により、評価用光ディスクを作製した。
【０１１４】
この評価用の光ディスクを−５℃の環境下に２４時間以上放置し、その放置前（２５℃の環境下）の光ディスクの反り角（β角）と、放置後の光ディスクの反り角（β角）との差を測定した。光ディスクの反り角の差は、放置前の光ディスクの径方向の反り角Ｒ−ｓｋｅｗ[ｄｅｇ]と、放置後の光ディスクの径方向の反り角Ｒ−ｓｋｅｗ[ｄｅｇ]との差ΔＲ−ｓｋｅｗ[ｄｅｇ]を測定した。測定結果を図７に示す。なお、図７に示すグラフは、−５℃の貯蔵弾性率を横軸、ΔＲ−ｓｋｅｗを縦軸としたグラフである。
【０１１５】
[評価]
図７に示すように、−５℃の貯蔵弾性率が１５００ＭＰａ以下では、ΔＲ−ｓｋｅｗを−０．２[ｄｅｇ]より小さい値に抑制できることが確認できた。一方、−５℃の貯蔵弾性率が１５００ＭＰａを超えると、ΔＲ−ｓｋｅｗが−０．２[ｄｅｇ]より大きくなることが確認できた。すなわち、矢印ｐに示す−５℃の光透過層の貯蔵弾性率が１５００ＭＰａ以下の範囲では、低温における光ディスクの反りを著しく低減できることが確認できた。なお、ΔＲ−ｓｋｅｗ＝−０．２[ｄｅｇ]を判定基準とした理由は、ＢＤ（Blu-ray Disk）の信号特性、信頼性等を考慮すると、Ｒ−ｓｋｅｗが−０．３５〜＋０．３５ｄｅｇであることが求められることに基づくものである。すなわち、−０．３５〜＋０．３５ｄｅｇの０．７ｄｅｇの範囲内に、ｓｋｅｗ経時変化、Ｓｕｄｄｅｎ  ｃｈａｎｇｅ（急な温度環境変化によるｓｋｅｗ変化）、環境変化におけるｓｋｅｗマージン、製造でのｓｋｅｗマージンを含める必要がある。これらのｓｋｅｗ経時変化、Ｓｕｄｄｅｎ  ｃｈａｎｇｅ、環境変化におけるｓｋｅｗマージン、製造でのｓｋｅｗマージンの配分を考慮すると、環境変化におけるｓｋｅｗマージン（すなわち、−５℃の温度環境下でのｓｋｅｗ変化）は、最低でも０．２ｄｅｇ以下にする必要がある。
【０１１６】
この発明は、上述したこの発明の実施の形態に限定されるものでは無く、この発明の要旨を逸脱しない範囲内で様々な変形や応用が可能である。例えば、光透過層上に、保護層としてのハードコート層を形成してもよい。また、例えば、レーザ光の入射側からみて反対側の面（いわゆるレーベル面）には、光ディスクの内容を表示するためのレーベル印刷が施された印刷面を形成してもよい。
【符号の説明】
【０１１７】
１，１１・・・基板
２・・・反射層
３・・・第１の保護層
４，１４・・・情報記録層
５・・・第２の保護層
６，１６・・・光透過層
８・・・凹凸面
１０，２０・・・追記型光記録媒体
１１・・・基板
３０・・・光記録媒体
２２・・・反射層
２３，２７・・・第２誘電体層
２４，２６・・・第１誘電体層
２５・・・記録層
２８・・・第３誘電体層
５１・・・誘電体層
６２・・・金属層
６３・・・酸化物層
【図１】
0005399177.tif 000002
【図２】
0005399177.tif 000003
【図３】
0005399177.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
0005399177.tif 000007
【図７】
0005399177.tif 000008