(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の一般式を有するポリマーフェナゾニウム化合物を製造する方法であって、
【化１】
0005599515.tif 000013
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８及びＲ９は、同一であるか又は異なっており、水素、低級アルキル、又は置換アリールを表し、Ｒ３は、ＮＨ２として開始し、ジアゾ化された後に重合され、Ｒ５及びＲ８は、モノマー又はポリマーのフェナゾニウム基を表してもよく、Ｒ７は、芳香環中の炭素であり、ＲＸ−Ｎ−ＲＹは、置換アミンを表し、ＲＸ及びＲＹは、ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５、
【化２】
0005599515.tif 000014
及び水素の任意の組合せを表し（但し、ＲＸ及びＲＹのいずれもが水素となることはない）、Ａは、酸基であり、ｎは、２〜１００の整数であり、
ａ）１００ｇ／Ｌ〜２００ｇ／Ｌのアミノ化合物をギ酸溶液に溶解させる工程と、
ｂ）亜硝酸塩を添加して前記アミノ化合物をジアゾ化する工程と、
ｃ）スルファミン酸を添加して工程ｂ）で形成され得る余分な亜硝酸を中和し、ポリマーフェナゾニウム化合物を製造する工程と、
を含む方法。
【請求項２】
ｎが、２〜２０の整数である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
アミノ化合物が、２−メチル−３−アミノ−７−ジメチルアミノ−５−フェニル−フェナゾニウム硫酸塩、３−アミノ−６−メチル−７−ジメチルアミノ−５−フェニル−フェナゾニウム硫酸水素塩、２−メチル−３−アミノ−７−ジエチルアミノ−５−フェニル−フェナゾニウムクロライド、３−アミノ−７−ジメチルアミノ−５−メチルフェナゾニウム酢酸塩、２−メチル−３−アミノ−７−フェニルアミノ−５−フェニル−フェナゾニウム硫酸水素塩、２−メチル−３−アミノ−７−ジメチルアミノ−フェナゾニウム硫酸水素塩、３−アミノ−７−メチルアミノ−５−フェニルフェナゾニウム酢酸塩、２−フェニル−３−アミノ−７−エチルアミノ−５−フェニル−フェナゾニウムクロライド、１，２，６，９−テトラメチル−３−アミノ−７−ジエチルアミノ−５−フェニル−フェナゾニウム硫酸水素塩、２，８−ジメチル−３−アミノ−７−ジエチルアミノ−５−トリル−フェナゾニウムクロライド、及び２，９−ジフェニル−３−アミノ−６−メチル−７−ジメチルアミノ−５−フェニル−フェナゾニウム硫酸水素塩からなる群から選択される請求項１に記載の方法。
【請求項４】
亜硝酸塩が、亜硝酸ナトリウムである請求項１に記載の方法。
【請求項５】
アミノ化合物を、−１０℃〜０℃の間の温度でギ酸に溶解させる請求項１に記載の方法。
【請求項６】
工程ｂ）の後、反応を少なくとも２０℃まで加温する請求項１に記載の方法。
【請求項７】
酸性銅電解槽にポリマーフェナゾニウム化合物を添加する工程を更に含む請求項１に記載の方法。
【請求項８】
ギ酸溶液中のアミノ化合物の濃度が、１２０ｇ／Ｌ〜１８５ｇ／Ｌである請求項１に記載の方法。
【請求項９】
ポリマーフェナゾニウム化合物の製造方法が、塩基でポリマーフェナゾニウム化合物を中和する工程を含まない請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
窒素のガス放出が、発生しない請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
最終生成物中のポリマーフェナゾニウム化合物の濃度が、３０ｇ／Ｌ〜３４ｇ／Ｌである請求項１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本願は、現在係属中である２０１０年９月２４日に出願された米国特許出願第１２／８９０，０１３号の一部継続出願であり、その主題の全体を参照することにより本願に援用する。
【０００２】
本発明は、一般的に、ポリマーフェナゾニウム化合物を製造する改良された方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
結晶性の光沢のない堆積物の代わりに光沢銅層を堆積させるために、例えば硫酸銅電解質を含む酸性銅電解質槽へ有機物質を添加することが、当該技術分野において周知である。これらの添加剤は、例えば、ポリエチレングリコール、チオ尿素、及びそれらの誘導体、チオヒダントイン、チオカルバミン酸エステル、及びチオリン酸エステル、サフラニン、チオ尿素−ホルムアルデヒド縮合物、及び特定のＣ＝Ｓ化合物を含む。前述の添加剤は、光沢のある銅被膜を得るために、硫酸銅電解質を含む酸性銅電解質用の添加剤として従来使用されてきた。これに加え、ポリマーフェナゾニウム化合物もまた、光沢平滑銅被膜を堆積させる酸性銅電解質中での使用のために開発されており、単独又はこれらの他の有機物質と組み合わせて使用することができる。
【０００４】
例えば、その主題の全体が参照することにより本明細書中に援用される特許文献１に記載されているように、ポリマーフェナゾニウム化合物は、アミン溶液を酸溶液中でジアゾ化し、続いて得られたジアゾニウム塩を沸騰させて濃縮することによって調製されてもよい。
【０００５】
アミノ化合物のジアゾ化は、典型的には、硫酸、塩酸、酢酸、フルオロホウ酸、リン酸、及び他の好適な酸の少なくともいずれか等の強酸の溶液中でモノマーを懸濁することによって行われる。前記酸が、ジアゾニウム酸基を形成する。形成されたジアゾニウム塩を沸騰させて濃縮する工程は、典型的には約５℃〜１００℃、好ましくは約１０℃〜２５℃の範囲の温度で行われる。反応生成物は、酸反応溶液から析出するか、又はアンモニア等の塩基や水酸化カリウム等の水酸化物で中和することによって、前記酸反応溶液から析出させることができる。
【０００６】
この方法に従って製造されたポリマーフェナゾニウム化合物は、典型的には、下記一般式を有する：
【化１】
0005599515.tif 000002
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８及びＲ９は、同一であるか又は異なっており、水素、低級アルキル、又は置換アリールを表し、Ｒ３は、ＮＨ２として開始し、ジアゾ化された後に重合され、Ｒ５及びＲ８は、モノマー又はポリマーのフェナゾニウム基を表してもよく、Ｒ７は、芳香環中の炭素であり、ＲＸ−Ｎ−ＲＹは、置換アミンを表し、ＲＸ及びＲＹは、ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５、
【化２】
0005599515.tif 000003
及び水素の任意の組合せを表し（但し、ＲＸ及びＲＹのいずれもが水素となることはない）、Ａは、酸基であり、ｎは、２〜１００の整数である。
【０００７】
低級アルキル基としては、特に、メチル、エチル、及びプロピルを使用してもよい。
【０００８】
アリール基としては、特に、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ等で置換されてもよいフェニルを使用してもよい。
【０００９】
この種のポリマーフェナゾニウム化合物としては、例えば、ポリ（６−メチル−７−ジメチルアミノ−５−フェニルフェナゾニウム硫酸塩）、ポリ（２−メチル−７−ジエチルアミノ−５−フェニルフェナゾニウムクロライド）、ポリ（２−メチル−７−ジメチルアミノ−５−フェニルフェナゾニウム硫酸塩）、ポリ（５−メチル−７−ジメチルアミノフェナゾニウム酢酸塩）、ポリ（２−メチル−７−アニリノ−５−フェニルフェナゾニウム硫酸塩）、ポリ（２−メチル−７−ジメチルアミノフェナゾニウム硫酸塩）、ポリ（７−メチルアミノ−５−フェニルフェナゾニウム酢酸塩）、ポリ（７−エチルアミノ−２，５−ジフェニルフェナゾニウムクロライド）、ポリ（２，８−ジメチル−７−ジエチルアミノ−５−ｐ−トリル−フェナゾニウムクロライド）、ポリ（２，５，８−トリフェニル−７−ジメチルアミノフェナゾニウム硫酸塩）、及びポリ（７−ジメチルアミノ−５−フェニルフェナゾニウムクロライド）等が挙げられるが、これらに限定されない。
【００１０】
従来の製造方法よりも、必要な工程数が少なく、最終生成物に残存する未反応モノマー量が少ない添加剤を製造する、これらのポリマーフェナゾニウム化合物を製造する方法を提供することが望ましい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】米国特許第３，７４３，５８４号明細書（Ｔｏｄｔ等）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の目的は、従来技術の問題点を克服する、フェナゾニウムモノマーを形成する改良された方法を提供することにある。
【００１３】
本発明の別の目的は、ポリマー染料の合成を改良するフェナゾニウムモノマーを形成する方法を提供することにある。
【００１４】
本発明の更に別の目的は、少ない工程数で、ポリマーフェナゾニウム化合物を形成する方法を提供することにある。
【００１５】
本発明の更に別の目的は、従来技術の方法と比較してより高いパーセント濃度の重合材料を最終生成物中に含有する、ポリマーフェナゾニウム化合物を形成する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
この目的のために、本発明は、一般的に、下記一般式を有するポリマーフェナゾニウム化合物を製造する方法であって、
【化３】
0005599515.tif 000004
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８及びＲ９は、同一であるか又は異なっており、水素、低級アルキル、又は置換アリールを表し、Ｒ３は、ＮＨ２として開始し、ジアゾ化された後に重合され、Ｒ５及びＲ８は、モノマー又はポリマーのフェナゾニウム基を表してもよく、Ｒ７は、芳香環中の炭素であり、ＲＸ−Ｎ−ＲＹは、置換アミンを表し、ＲＸ及びＲＹは、ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５、
【化４】
0005599515.tif 000005
及び水素の任意の組合せを表し（但し、ＲＸ及びＲＹのいずれもが水素となることはない）、Ａは、酸基であり、ｎは、２〜１００の整数であり、前記ポリマーフェナゾニウム化合物は、金属めっき浴中の添加剤として使用可能であり、前記方法は、
ａ）有効量のアミノ化合物をギ酸溶液に溶解させる工程と、
ｂ）亜硝酸塩を添加して前記アミノ化合物をジアゾ化する工程と、
ｃ）スルファミン酸を添加して工程ｂ）で形成され得る余分な亜硝酸を中和する工程と、を含み、
ポリマーフェナゾニウム化合物が製造される方法に関する。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明は、例えば特許文献１に記載されたポリマーフェナゾニウム化合物を合成するための従来の方法とは異なる方法をとり、ポリマー染料の合成の容易さにおいて、幾つかの利点を提供する。
【００１８】
本発明は、一般的に、ポリマーフェナゾニウム化合物、及びその改良された製造方法に関する。これらのポリマーフェナゾニウム化合物は、例えば、酸電解質中での光沢平滑化銅被膜の堆積のために使用される。
【００１９】
本発明者らは、驚くべきことに、アミノ化合物と得られた重合フェナゾニウム染料との両方が、ギ酸溶液に極めて溶解し易いことを見出した。特許文献１は、重合フェナゾニウム化合物を製造するための強酸としての酢酸の使用を示しているが、酢酸の使用は、依然として前記特許に記載された多数の工程を必要とする。しかしながら、本発明者らは、ギ酸を使用した場合に、アミノ化合物のギ酸への溶解度によりもたらされる驚くべき結果を見出した。従って、その結果として、本明細書に記載の方法によれば、ポリマーフェナゾニウム化合物を製造するために必要な工程数は遥かに少ない。
【００２０】
特に、アミノ化合物を選択し、前記アミノ化合物をギ酸溶液に溶解し、続いて亜硝酸塩を低温下で通常の方法で添加し、前記アミノ化合物をジアゾ化することが可能である。その後、余分な亜硝酸を中和するためにスルファミン酸が添加される。その結果、酸性銅電解質溶液における使用の前に何ら追加の工程を必要としない、重合フェナゾニウム染料の高濃度の溶液となり、これは次の形態をとる：
【化５】
0005599515.tif 000006
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８及びＲ９は、同一であるか又は異なっており、水素、低級アルキル、又は置換アリールを表し、Ｒ３は、ＮＨ２として開始し、ジアゾ化された後に重合され、Ｒ５及びＲ８は、モノマー又はポリマーのフェナゾニウム基を表してもよく、Ｒ７は、芳香環中の炭素であり、ＲＸ−Ｎ−ＲＹは、置換アミンを表し、ＲＸ及びＲＹは、ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５、
【化６】
0005599515.tif 000007
及び水素の任意の組合せを表し（但し、ＲＸ及びＲＹのいずれもが水素となることはない）、Ａは、酸基であり、ｎは、２〜１００の整数である。
【００２１】
特に、本発明は、一般的に、下記一般式を有するポリマーフェナゾニウム化合物を製造する方法であって、
【化７】
0005599515.tif 000008
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８及びＲ９は、同一であるか又は異なっており、水素、低級アルキル、又は置換アリールを表し、Ｒ３は、ＮＨ２として開始し、ジアゾ化された後に重合され、Ｒ５及びＲ８は、モノマー又はポリマーのフェナゾニウム基を表してもよく、Ｒ７は、芳香環中の炭素であり、ＲＸ−Ｎ−ＲＹは、置換アミンを表し、ＲＸ及びＲＹは、ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５、
【化８】
0005599515.tif 000009
及び水素の任意の組合せを表し（但し、ＲＸ及びＲＹのいずれもが水素となることはない）、Ａは、酸基であり、ｎは、２〜１００の整数であり、前記ポリマーフェナゾニウム化合物は、金属めっき浴中の添加剤として使用可能であり、前記方法は、
ａ）有効量のアミノ化合物を低温でギ酸溶液に溶解させる工程と、
ｂ）亜硝酸塩を添加して前記アミノ化合物をジアゾ化する工程と、
ｃ）スルファミン酸を添加して工程ｂ）で形成され得る余分な亜硝酸を中和する工程と、を含み、
これによってポリマーフェナゾニウム化合物が製造される方法に関する。
【００２２】
本発明の実施において使用可能なアミノ化合物としては、例えば、２−メチル−３−アミノ−７−ジメチルアミノ−５−フェニル−フェナゾニウム硫酸塩、３−アミノ−６−メチル−７−ジメチルアミノ−５−フェニル−フェナゾニウム硫酸水素塩、２−メチル−３−アミノ−７−ジエチルアミノ−５−フェニル−フェナゾニウムクロライド、３−アミノ−７−ジメチルアミノ−５−メチルフェナゾニウム酢酸塩、２−メチル−３−アミノ−７−フェニルアミノ−５−フェニル−フェナゾニウム硫酸水素塩、２−メチル−３−アミノ−７−ジメチルアミノ−フェナゾニウム硫酸水素塩、３−アミノ−７−メチルアミノ−５−フェニルフェナゾニウム酢酸塩、２−フェニル−３−アミノ−７−エチルアミノ−５−フェニル−フェナゾニウムクロライド、１，２，６，９−テトラメチル−３−アミノ−７−ジエチルアミノ−５−フェニル−フェナゾニウム硫酸水素塩、２，８−ジメチル−３−アミノ−７−ジエチルアミノ−５−トリル−フェナゾニウムクロライド、及び２，９−ジフェニル−３−アミノ−６−メチル−７−ジメチルアミノ−５−フェニル−フェナゾニウム硫酸水素塩等が挙げられる。これらの化合物は、最も好ましくは、３位のアミン、及び７位の置換アミンを有する。
【００２３】
好ましい一実施形態においては、前記アミノ化合物は、下記構造を有する２−メチル−３−アミノ−７−ジメチルアミノ−５−フェニル−フェナゾニウムクロライドである。
【化９】
0005599515.tif 000010
【００２４】
別の好ましい実施形態においては、前記アミノ化合物は、下記構造を有する２−メチル−３−アミノ−７−ジエチルアミノ−５−フェニル−フェナゾニウムクロライドである。
【化１０】
0005599515.tif 000011
【００２５】
それに基づけば、本明細書に記載の方法に従ってこれらのアミノ化合物から製造されるポリマーフェナゾニウム化合物としては、例えば、ポリ（６−メチル−７−ジメチルアミノ−５−フェニルフェナゾニウム硫酸塩）、ポリ（２−メチル−７−ジエチルアミノ−５−フェニルフェナゾニウムクロライド）、ポリ（２−メチル−７−ジメチルアミノ−５−フェニルフェナゾニウム硫酸塩）、ポリ（５−メチル−７−ジメチルアミノフェナゾニウム酢酸塩）、ポリ（２−メチル−７−アニリノ−５−フェニルフェナゾニウム硫酸塩）、ポリ（２−メチル−７−ジメチルアミノフェナゾニウム硫酸塩）、ポリ（７−メチルアミノ−５−フェニルフェナゾニウム酢酸塩）、ポリ（７−エチルアミノ−２，５−ジフェニルフェナゾニウムクロライド）、ポリ（２，８−ジメチル−７−ジエチルアミノ−５−ｐ−トリル−フェナゾニウムクロライド）、ポリ（２，５，８−トリフェニル−７−ジメチルアミノフェナゾニウム硫酸塩）、及びポリ（７−ジメチルアミノ−５−フェニルフェナゾニウムクロライド）を含む、この種のポリマーフェナゾニウム化合物からなる群から選択される化合物が挙げられるが、これらに限定されない。
【００２６】
本発明の実施において、様々な亜硝酸塩が使用可能であるが、好ましい亜硝酸塩は、ジアゾ化剤としての亜硝酸ナトリウムである。本発明の実施において使用可能な別のジアゾ化剤は、ニトロシル硫酸である。
【００２７】
反応は、典型的には、完全に反応生成物（ポリマー）を生成するために、少なくとも２０℃まで加温される。
【００２８】
好ましい実施形態においては、金属めっき浴は銅を含む。典型的には、銅は硫酸銅の形態である。但し、他の銅塩を使用してもよい。例えば、一実施形態では、本発明に係るポリマーフェナゾニウム化合物を添加した銅被膜の堆積のための電解質として、以下の組成の硫酸−硫酸銅溶液を用いてもよい。
【００２９】
硫酸銅    ＣｕＳＯ４・５Ｈ２Ｏ    １２５ｇ／Ｌ〜２６０ｇ／Ｌ
硫酸      Ｈ２ＳＯ４              ２０ｇ／Ｌ〜８５ｇ／Ｌ
【００３０】
硫酸銅に代えて、少なくとも一部に他の銅塩を使用してもよい。硫酸は、フルオロホウ酸、リン酸、及び他の好適な酸の少なくともいずれかによって、部分的に又は完全に置き換えられてもよい。電解質は、塩化物を含まなくてもよいし、又は、アルカリ塩化物等の塩化物や塩酸を０．００１ｇ／Ｌから０．２ｇ／Ｌの量で含んでいてもよく、これは光沢及びレベリングを改善するために通常有利である。
【００３１】
ギ酸溶液中のアミノ化合物の濃度は、好ましくは約１００ｇ／Ｌ〜約２００ｇ／Ｌであり、より好ましくは約１１０ｇ／Ｌ〜１８５ｇ／Ｌであり、最も好ましくは約１１０ｇ／Ｌ〜約１２２ｇ／Ｌである。
【００３２】
上述のように、本明細書において請求する方法は、例えば特許文献１に記載されている方法において必要とされる追加の処理工程を必要としない。例えば、本発明の方法は、ポリマーフェナゾニウム化合物を析出させるためのポリマーフェナゾニウム化合物の塩基による中和工程、並びに最終生成物を製造するための追加の精製及び単離工程を必要としないので、これらの工程を含まない。より具体的には、本発明の好ましい実施形態においては、アンモニアガス、水酸化カリウム、又は水酸化ナトリウムによってポリマーフェナゾニウム化合物を中和する必要はない。また、使用前に最終生成物をろ過する必要もない。最後に、ギ酸の使用はまた、著しい窒素ガスの放出を生じることなく、ポリマーフェナゾニウム生成物を製造する。その一方、ポリマーフェナゾニウム生成物の生成における硫酸、塩酸、酢酸等の他の強酸の使用は、著しい窒素ガスの放出を伴う。
【００３３】
特許文献１に記載されている実施例がウェットケーキ収率について報告しており、これらの実施例に従って調製された物質の特性を下記の表１に示した。
【００３４】
特許文献１に記載の物質１〜物質１２の特性
【表１】
0005599515.tif 000012
＊Ｎａ２ＳＯ４が混入している
＊＊（ＮＨ４）２ＳＯ４が混入している
【００３５】
上記物質はいずれも、数種のアルカリ塩（ＫＣｌ、ＮａＣｌ、Ｋ２ＳＯ４、Ｎａ２ＳＯ４、（ＮＨ４）２ＳＯ４、ＮＨ４Ｃｌ等）も含んでいるであろう。
【００３６】
その一方、本明細書に記載されている方法は中和工程を含んでおらず、その結果として無機塩の存在が排除されている。
【００３７】
析出物の塩含有量のため、モノマーの割合を予測することは困難である。しかしながら、本発明者らは、０．１モルのモノマー（３６．４５ｇ）から開始し、本明細書に記載された工程が完了した後に、反応物の全量が、脱イオン水によって１Ｌの使用可能な溶液に希釈されることを見出した。この材料の性能は極めて優れている。モノマーを重合工程のない実行手順で処理する場合、結果が良いということはない。
【００３８】
本明細書に記載されるように、ポリマーフェナゾニウム化合物を銅電解液に添加する場合、通常は結晶性の光沢のない析出物が、広い電流密度の範囲で光沢を有するようになる。好ましくは、電流密度が約０．１ＡＳＤから約８．０ＡＳＤのレベルに維持される。
【００３９】
本発明に従って製造された物質は、他の一般的な光沢形成剤及び湿潤剤の少なくともいずれかと併用し、濁りがなく高光沢の被膜を堆積させるためにも特に適している。特許文献１に記載の光沢形成剤及び湿潤剤の少なくともいずれかもまた、所定の範囲内で本発明の銅電解液に添加することができる。
【００４０】
加えて、銅電解液中の個々の化合物の濃度比は、広い範囲内で変化し得る。
【００４１】
本明細書に記載の方法に従って製造されたポリマーフェナゾニウム化合物は、約０．０００１ｇ／Ｌ〜０．５ｇ／Ｌ、好ましくは約０．００２ｇ／Ｌ〜約０．０１５ｇ／Ｌの濃度で酸性銅電解液に用いることができる。
【実施例】
【００４２】
実施例１
幾つかの染料製造業者から入手可能なアミノ化合物Ｃ２１Ｈ２１Ｎ４Ｃｌ（２−メチル−３−アミノ−５−フェニル−７−ジメチルアミノフェナゾニウムクロライド）３６．４５グラム（０．１モル）を、約３００ｍＬの９０重量％のギ酸に溶解した。次いで、前記溶液を約−１０℃から０℃に冷却し、ジアゾ化溶液（７．５９グラムの亜硝酸ナトリウム（約０．１１モル）を、２５．００ｇの脱イオン水に溶解させたもの）を前記所定の範囲の温度を維持しながらゆっくりと添加した。添加が完了した後、反応物を前記所定の温度で約２時間撹拌した。次いで、１．２０ｇのスルファミン酸を１０ｇの脱イオン水に溶解した溶液を混合することにより、過剰な亜硝酸を除いた。溶液を約２０℃まで加温した場合には、観測されたガス放出は殆ど無いか、又は全く無かった。
【００４３】
反応が完了した後、染料濃縮物を１Ｌの脱イオン水に希釈し、４時間混合した。これは、追加の中間工程なしで酸性銅電解液に直接使用することができる。
【００４４】
比較例
３６．４５ｇ（０．１モル）のアミノ化合物（２−メチル−３−アミノ−５−フェニル−７−ジメチルアミノフェナゾニウムクロライド）を４２３ｍＬの脱イオン水に溶解し、次いで２１０ｍＬの３７％塩酸（１２．０Ｎ溶液）で懸濁した。その後、前記溶液を３５．００ｇの脱イオン水に溶解した７．５９ｇの亜硝酸ナトリウムと混合してジアゾ化した。次いで、前記溶液を１．２０ｇのスルファミン酸を１０．００ｇの脱イオン水に溶解させた溶液と混合することにより、過剰な亜硝酸を除いた。前記溶液を約２０℃まで加温した。
【００４５】
しかしながら、著しいガス放出が観察された。窒素の発生が終了した後、９５．３２ｇの脱イオン水と混合した３１５．００ｇの４５％水酸化カリウムの溶液で染料を中和した。その後、中和された染料を析出物の形で溶液から濾過し、これをオーブン中で乾燥し、次いで粉砕して微粉にした。最後に、得られた染料を硫酸に溶解し、次いで浴を用意するために脱イオン水で希釈した。
【００４６】
乾燥したポリマーフェナゾニウム生成物は、残留無機塩をも含んでいた。従って、塩酸中において目的物を製造した後、ナトリウム又はカリウムで中和して塩化ナトリウム又は塩化カリウムのいずれかを形成する場合は、めっき浴の消費量を超える塩／生成物比を避ける必要がある。
【００４７】
本明細書に記載したように、本発明の方法は、より簡単に製造可能なポリマーフェナゾニウム化合物を製造し、必要な処理工程数が少なく、著しいガス放出を伴わない。
【００４８】
本発明をその特定の実施形態に関して上記で説明したが、本明細書に開示された発明の概念から逸脱することのない多くの変更、修正、及び変形がなされ得ることは明らかである。従って、添付する特許請求の範囲の精神及び広い範囲内に入る全てのそのような変更、修正、及び変形を包含することが意図される。本明細書中で引用した全ての特許出願、特許、及び他の刊行物は、その全体を参照することにより援用する。