(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：
【化１】
0005399373.tif 000079
［上記式中、
Ｒ１基およびＲ２基は、水素原子を表すか、あるいはＲ１基およびＲ２基がそれぞれ結合する炭素原子と一緒になってシクロプロパン環を形成し、
Ｒ３基およびＲ４基は、同一または異なっていてもよく、水素原子またはＣ１−６アルキル基を表し、
波線は、Ｒ１基、Ｒ２基、および２位のメチル基が、それぞれ、α配置またはβ配置であることを表す。］
で表される化合物またはその農園芸上許容される塩。
【請求項２】
Ｒ３およびＲ４が、一方が水素原子である場合に、他方がＣ１−６アルキル基である、請求項１に記載の化合物またはその農園芸上許容される塩。
【請求項３】
Ｒ３およびＲ４が、一方が水素原子である場合に、他方がＣ１−４アルキル基である、請求項１に記載の化合物またはその農園芸上許容される塩。
【請求項４】
Ｒ３およびＲ４が、一方が水素原子である場合に、他方がＣ１−２アルキル基である、請求項１に記載の化合物またはその農園芸上許容される塩。
【請求項５】
Ｒ１基およびＲ２基がα配置であり、かつ２位のメチル基がβ配置である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の化合物またはその農園芸上許容される塩。
【請求項６】
Ｒ１およびＲ２が、水素原子であり；Ｒ３およびＲ４が、一方が水素原子である場合に、他方がＣ１−４アルキル基であり；Ｒ１基およびＲ２基がα配置であり；２位のメチル基がβ配置である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の化合物またはその農園芸上許容される塩。
【請求項７】
Ｒ１およびＲ２が、水素原子であり；Ｒ３およびＲ４が、一方が水素原子である場合に、他方がＣ１−２アルキル基であり；Ｒ１基およびＲ２基がα配置であり；２位のメチル基がβ配置である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の化合物またはその農園芸上許容される塩。
【請求項８】
Ｒ１およびＲ２が、それぞれが結合する炭素原子と一緒になってシクロプロパン環を形成し；Ｒ３およびＲ４が、一方が水素原子である場合に、他方がＣ１−４アルキル基であり；Ｒ１基およびＲ２基がα配置であり；２位のメチル基がβ配置である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の化合物またはその農園芸上許容される塩。
【請求項９】
Ｒ１およびＲ２が、それぞれが結合する炭素原子と一緒になってシクロプロパン環を形成し；Ｒ３およびＲ４が、一方が水素原子である場合に、他方がＣ１−２アルキル基であり；Ｒ１基およびＲ２基がα配置であり；２位のメチル基がβ配置である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の化合物またはその農園芸上許容される塩。
【請求項１０】
式（Ｉ）の化合物が、
（２Ｅ，４Ｅ）−５−｛（１Ｓ，４Ｓ，４ａＳ，５Ｓ，６Ｒ，７Ｓ，８ａＲ）−６−［（Ｚ）−ブト−２−エン−２−イル］−デカヒドロ−１−ヒドロキシ−４，７−ジメチルナフタレン−５−イル｝ペンタ−２，４−ジエン酸；
（２Ｅ，４Ｅ）−５−｛（１Ｓ，４Ｓ，４ａＳ，５Ｓ，６Ｒ，７Ｓ，８ａＲ）−６−［（Ｅ）−ブト−２−エン−２−イル］−デカヒドロ−１−ヒドロキシ−４，７−ジメチルナフタレン−５−イル｝ペンタ−２，４−ジエン酸；および
（２Ｅ，４Ｅ）−５−｛（１ａＲ，２Ｒ，３Ｓ，３ａＳ，４Ｓ，７Ｓ，７ａＳ，７ｂＲ）−２−［（Ｅ）−ブト−２−エン−２−イル］−デカヒドロ−７−ヒドロキシ−１ａ，４−ジメチル−１Ｈ−シクロプロパ［ａ］ナフタレン−３−イル｝ペンタ−２，４−ジエン酸
からなる群から選択される、請求項１に記載の化合物またはその農園芸上許容される塩。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の化合物またはその農園芸上許容される塩を有効成分として含んでなる、農園芸用病害防除剤。
【請求項１２】
農園芸用病害防除剤が、農園芸用殺菌剤である、請求項１１に記載の農園芸用病害防除剤。
【請求項１３】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の化合物またはその農園芸上許容される塩の有効量を、植物、種子、または土壌に適用することを含んでなる、植物病原微生物の防除方法。
【請求項１４】
植物病原微生物が、植物病原真菌である、請求項１３に記載の防除方法。
【請求項１５】
農園芸用病害防除剤を製造するための、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の化合物またはその農園芸上許容される塩の使用。
【請求項１６】
農園芸用病害防除剤が、農園芸用殺菌剤である、請求項１５に記載の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規ＭＫ８３８３類縁物質および該類縁物質を有効成分として含んでなる農園芸用病害防除剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
農園芸分野では植物の病害防除に各種殺菌剤が使用されているが、耐性菌の出現等により既存薬剤の使用が制限される等、防除上重要な問題が生じている。【０００３】
微生物により産生されるＭＫ８３８３は、植物病原糸状菌に対して広範囲の抗菌スペクトラムを有しており、糸状菌による広範囲な植物病害に有効であることが知られている（特開平７−１２６２１１号公報）。しかし、一方で、ＭＫ８３８３は光に対して不安定な性質を有することが知られている。従って、優れた病害防除活性を示し、かつ優れた光安定性を有する農園芸用製剤の開発が望まれている。【０００４】
ホモプシジン（phomopsidin）は、ＭＫ８３８３と構造が類似する化合物として知られており（J.Antibitics 1997,50,890-892）、その全合成についても報告されている（Org.Letters 2004,6,553-556）。しかし、ホモプシジンの１，２位二重結合が単結合に変換された化合物はこれまでに報告されていない。
【発明の概要】
【０００５】
本発明者は、ＭＫ８３８３の１，２位二重結合が単結合に変換された新規化合物が、植物病原真菌に対してＭＫ８３８３と同等の防除効果を示し（試験例１、試験例３）、かつ、ＭＫ８３８３と比較して優れた光安定性を有することを見出した（試験例２）。本発明は、これらの知見に基づくものである。
【０００６】
本発明は、植物病害に対して優れた防除効果を示し、かつ優れた光安定性を有する農園芸用病害防除剤の提供を目的とする。
【０００７】
本発明によれば、式（Ｉ）で表される化合物またはその農園芸上許容される塩（以下、「本発明による化合物」ということがある）が提供される：
式（Ｉ）：
【化１】
0005399373.tif 000002
［上記式中、
Ｒ１基およびＲ２基は、水素原子を表すか、あるいはＲ１基およびＲ２基がそれぞれ結合する炭素原子と一緒になってシクロプロパン環を形成し、
Ｒ３基およびＲ４基は、同一または異なっていてもよく、水素原子またはＣ１−６アルキル基を表し、
波線は、Ｒ１基、Ｒ２基、および２位のメチル基が、それぞれ、α配置またはβ配置であることを表す。］。
【０００８】
本発明によれば、本発明による化合物を有効成分として含んでなる、農園芸用病害防除剤が提供される。
【０００９】
本発明によれば、本発明による化合物の有効量を、植物、種子、または土壌に適用することを含んでなる、植物病原微生物の防除方法が提供される。
【００１０】
本発明によれば、農園芸用病害防除剤を製造するための、本発明による化合物の使用が提供される。
【００１１】
本発明による化合物は、植物病原微生物に対してＭＫ８３８３と同等の防除効果を示し、かつ、ＭＫ８３８３と比較して優れた光安定性を有することから、農園芸用病害防除剤として有用である。
【発明の具体的な説明】
【００１２】
本発明による化合物
本願明細書において、「アルキル」とは、基が直鎖または分枝鎖のアルキル基を意味し、「Ｃ１−６アルキル基」としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、iso−プロピル、ｎ−ブチル、iso−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ｎ‐ペンチル、ｎ‐ヘキシル等が挙げられる。
【００１３】
本願明細書において、環に結合した置換基が、環を紙面上に置いたときに紙面の奥に向く場合、このような置換基を「α配置」と表現し、紙面の手前に向く場合、このような置換基を「β配置」と表現する。
【００１４】
式（Ｉ）において、Ｒ１およびＲ２は、好ましくは、水素原子である。
【００１５】
式（Ｉ）において、Ｒ３およびＲ４は、好ましくは、一方が水素原子である場合に、他方がＣ１−６アルキル基である。
【００１６】
ここで、Ｃ１−６アルキルは、好ましくは、Ｃ１−４アルキルであり、より好ましくは、Ｃ１−２アルキルであり、さらに好ましくはメチル基である。
【００１７】
式（Ｉ）において、好ましくは、Ｒ１基およびＲ２基がα配置である。
【００１８】
式（Ｉ）において、好ましくは、２位のメチル基がβ配置である。
【００１９】
式（Ｉ）において、より好ましくは、Ｒ１基およびＲ２基がα配置であり、かつ、２位のメチル基がβ配置であり、化学構造式で示すと以下の通りである。
【化２】
0005399373.tif 000003
【００２０】
本発明による化合物の第一の化合物群として、Ｒ１基およびＲ２基が、水素原子であり；Ｒ３基およびＲ４基が、同一または異なっていてもよく、水素原子またはＣ１−６アルキル基を表す、式（Ｉ）で表される化合物が挙げられる。
【００２１】
本発明による化合物の好ましい第一の化合物群としては、Ｒ１およびＲ２が、水素原子であり；Ｒ３およびＲ４が、一方が水素原子である場合に、他方がＣ１−４アルキル基であり；Ｒ１基およびＲ２基がα配置であり；２位のメチル基がβ配置である、式（Ｉ）で表される化合物が挙げられる。より好ましい態様としては、Ｒ１およびＲ２が、水素原子であり；Ｒ３およびＲ４が、一方が水素原子である場合に、他方がＣ１−２アルキル基であり；Ｒ１基およびＲ２基がα配置であり；２位のメチル基がβ配置である、式（Ｉ）で表される化合物が挙げられる。さらに好ましい態様としては、Ｒ１およびＲ２が、水素原子であり；Ｒ３およびＲ４が、一方が水素原子である場合に、他方がメチル基であり；Ｒ１基およびＲ２基がα配置であり；２位のメチル基がβ配置である、式（Ｉ）で表される化合物（（２Ｅ，４Ｅ）−５−｛（１Ｓ，４Ｓ，４ａＳ，５Ｓ，６Ｒ，７Ｓ，８ａＲ）−６−［（Ｚ）−ブト−２−エン−２−イル］−デカヒドロ−１−ヒドロキシ−４，７−ジメチルナフタレン−５−イル｝ペンタ−２，４−ジエン酸、（２Ｅ，４Ｅ）−５−｛（１Ｓ，４Ｓ，４ａＳ，５Ｓ，６Ｒ，７Ｓ，８ａＲ）−６−［（Ｅ）−ブト−２−エン−２−イル］−デカヒドロ−１−ヒドロキシ−４，７−ジメチルナフタレン−５−イル｝ペンタ−２，４−ジエン酸）が挙げられる。
【００２２】
本発明において、第一の化合物群の好適な例としては、以下の化合物が挙げられる。
【表１】
0005399373.tif 000004
0005399373.tif 000005
0005399373.tif 000006
0005399373.tif 000007
【００２３】
本発明による化合物の第二の化合物群として、Ｒ１基およびＲ２基がそれぞれ結合する炭素原子と一緒になってシクロプロパン環を形成し；Ｒ３基およびＲ４基が、同一または異なっていてもよく、水素原子またはＣ１−６アルキル基を表す、式（Ｉ）で表される化合物が挙げられる。
【００２４】
本発明による化合物の好ましい第二の化合物群としては、Ｒ１基およびＲ２基がそれぞれ結合する炭素原子と一緒になってシクロプロパン環を形成し；Ｒ３およびＲ４が、一方が水素原子である場合に、他方がＣ１−４アルキル基であり；Ｒ１基およびＲ２基がα配置であり；２位のメチル基がβ配置である、式（Ｉ）で表される化合物が挙げられる。より好ましい態様としては、Ｒ１基およびＲ２基がそれぞれ結合する炭素原子と一緒になってシクロプロパン環を形成し；Ｒ３およびＲ４が、一方が水素原子である場合に、他方がＣ１−２アルキル基であり；Ｒ１基およびＲ２基がα配置であり；２位のメチル基がβ配置である、式（Ｉ）で表される化合物が挙げられる。さらに好ましい態様としては、Ｒ１基およびＲ２基がそれぞれ結合する炭素原子と一緒になってシクロプロパン環を形成し；Ｒ３およびＲ４が、一方が水素原子である場合に、他方がメチル基であり；Ｒ１基およびＲ２基がα配置であり；２位のメチル基がβ配置である、式（Ｉ）で表される化合物（（２Ｅ，４Ｅ）−５−｛（１ａＲ，２Ｒ，３Ｓ，３ａＳ，４Ｓ，７Ｓ，７ａＳ，７ｂＲ）−２−［（Ｅ）−ブト−２−エン−２−イル］−デカヒドロ−７−ヒドロキシ−１ａ，４−ジメチル−１Ｈ−シクロプロパ［ａ］ナフタレン−３−イル｝ペンタ−２，４−ジエン酸）が挙げられる。
【００２５】
本発明において、第二の化合物群の好適な例としては、以下の化合物が挙げられる。
【表２】
0005399373.tif 000008
0005399373.tif 000009
【００２６】
式（Ｉ）で表される化合物の農園芸上許容される塩としては、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩；マグネシウム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩；アンモニウム塩、メチルアンモニウム塩、ジメチルアンモニウム塩、トリメチルアンモニウム塩、ジシクロヘキシルアンモニウム塩等のアンモニウム塩；トリエチルアミン、トリメチルアミン、ジエチルアミン、ピリジン、エタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、プロカイン、ベンジルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ジエチルアニリン等の有機アミン塩；リジン、アルギニン、ヒスチジン等の塩基性アミノ酸塩等が挙げられるが、好ましくは、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩である。
【００２７】
式（１）で表される化合物は、以下のＡ〜Ｅ工程に従って製造することができる。
【００２８】
Ａ工程：１，２位のシクロプロパン化工程
【化３】
0005399373.tif 000010
【００２９】
Ａ工程は、式（ａ）の化合物の１位二重結合をシクロプロパン化し、式（ｂ）の化合物を製造する工程である。ここで出発物質である式（ａ）の化合物はOrg.Letters 2004, 6, 553-556に記載されている方法により合成することができる。式中のＴＩＰＳはトリイソプロピルシリル基を表し、ＴＢＤＰＳは、tert−ブチルジフェニルシリル基を表す。
【００３０】
Ａ工程で使用される溶媒としては、クロロホルム、ジクロロメタン、１、２−ジクロロエタンが挙げられ、好ましくは１、２−ジクロロエタンである。使用されるシクロプロパン化の反応剤としてはジエチル亜鉛およびジヨードメタンが挙げられる。反応温度は０℃〜５０℃とすることができる。反応時間は１〜２４時間とすることができる。
【００３１】
Ｂ工程：１，２位の還元工程
【化４】
0005399373.tif 000011
【００３２】
Ｂ工程は、式（ａ）の化合物の１位二重結合を水素および接触水素還元触媒により還元し、式（ｃ）あるいは式（ｄ）の化合物を得る工程である。
【００３３】
Ｂ１工程で使用される溶媒としては、クロロホルム、ジクロロメタン、１、２−ジクロロエタンが挙げられ、好ましくは１、２−ジクロロエタンである。使用される接触水素還元触媒としては、［Ｉｒ（ｃｏｄ）ｐｙｒ（ＰＣｙ３）］ＰＦ６(Crabtree’s catalyst、Journal of Organic Chemistry, 51, 2655 (1986))が挙げられる。反応温度は２０℃〜８０℃とすることができる。反応時間は通常１〜８時間とすることができる。
【００３４】
Ｂ２工程で使用される溶媒としては、メタノール、酢酸およびこれらの混合溶媒が挙げられ、好ましくはメタノールと酢酸との混合溶媒である。使用される接触水素還元触媒としては、Ｒｈ−Ａｌ２Ｏ３が挙げられる。反応温度は０℃〜４０℃とすることができる。反応時間は通常１〜８時間とすることができる。
【００３５】
Ｃ工程：３位Ｅ体側鎖構築工程
【化５】
0005399373.tif 000012
【００３６】
Ｃ工程は、Ａ工程で得られた式（ｂ）の化合物またはＢ工程で得られた式（ｃ）もしくは式（ｄ）の化合物（これらの化合物を併せて式（ｅ）で表す）の３位水酸基をアルデヒドに酸化し、次いで三重結合に変換し、さらに２工程を経て二重結合がＥ体である、式（ｊ）の化合物を得る工程である。
【００３７】
Ｃ１工程は、３位の水酸基をアルデヒドに酸化する工程である。溶媒としては、ジクロロメタンが挙げられる。酸化剤としては、１，１，１−トリアセトキシ−１，１−ジヒドロ−１，２−ベンズヨードキソール−３（１Ｈ）−オンが挙げられる。反応温度は０℃〜５０℃とすることができる。反応時間は１〜８時間とすることができる。
【００３８】
Ｃ２工程は、３位をジブロモエテニル化する工程である。溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルムが挙げられ、好ましくはジクロロメタンである。反応剤としては、トリフェニルホスフィン、四臭化炭素が挙げられる。反応温度は０℃〜５０℃とすることができる。反応時間は１〜８時間とすることができる。
【００３９】
Ｃ３工程は、３位をエチニル化する工程である。溶媒としては、テトラヒドロフランが挙げられる。塩基としては、ｎ−ブチルリチウムが挙げられる。反応温度は−７８℃〜−３０℃とすることができる。反応時間は１〜８時間とすることができる。
【００４０】
Ｃ４工程は、３位側鎖三重結合へのカルボメタル化、次いでヨウ素化する工程である。溶媒としては、ジクロロメタンが挙げられる。反応剤としては、ジルコニウム触媒Ｃｐ２ＺｒＣｌ２およびトリメチルアルミニウムの組み合わせが挙げられる。反応温度は−３０℃〜３０℃とすることができる。反応時間は１〜４時間とすることができる。ヨウ素化反応の反応剤としては、ヨウ素が挙げられる。溶媒としては、テトラヒドロフランが挙げられる。反応温度は−５０℃〜３０℃とすることができる。反応時間は１〜４時間とすることができる。
【００４１】
Ｃ５工程は、アルキル化工程および脱保護工程である。アルキル化工程で使用される溶媒としては、テトラヒドロフランが挙げられる。アルキル基を導入する反応剤としては、パラジウム触媒ＰｄＣｌ２（ＰＰｈ３）２および（Ｒ４）２Ｚｎの組み合わせが挙げられる。反応温度は−１０℃〜５０℃とすることができる。反応時間は１〜８時間とすることができる。脱保護工程で使用される溶媒としては、テトラヒドロフランが挙げられる。脱保護剤としては、テトラブチルアンモニウムフルオライドが挙げられる。反応は還流下で行うことができる。反応時間は１〜８時間とすることができる。
【００４２】
Ｄ工程：３位Ｚ体側鎖構築工程
【化６】
0005399373.tif 000013
【００４３】
Ｄ工程は、式（ｆ）の化合物の３位アルデヒドをケトエステルに変換し、エノールリン酸エステルにした後にメチル基を導入し、さらにエステルを還元し、ブロム化した後にアルキル基Ｒ３を導入することにより二重結合がＺ体である、式（ｒ）の化合物を得る工程である。
【００４４】
Ｄ１工程は、３位アルデヒドに酢酸メチルエステルのエノレートアニオンを付加反応させる工程である。溶媒としては、テトラヒドロフランが挙げられる。反応剤としては、酢酸メチルエステルとリチウムジイソプロピルアミドから調製した酢酸メチルエステルのエノレートアニオンが挙げられる。反応温度は−７８℃〜−５０℃とすることができる。反応時間は１〜８時間とすることができる。
【００４５】
Ｄ２工程は、水酸基を酸化する工程である。溶媒としては、ジクロロメタンが挙げられる。酸化剤としては、１，１，１−トリアセトキシ−1，１−ジヒドロ−１，２−ベンズヨードキソール−３（１Ｈ）−オンが挙げられる。反応温度は−１０℃〜３０℃とすることができる。反応時間は１〜８時間とすることができる。
【００４６】
Ｄ３工程は、エノールリン酸エステルを合成する工程である。溶媒としては、ヘキサメチルリン酸トリアミドが挙げられる。塩基としては、トリエチルアミンおよびジメチルアミノピリジンが挙げられる。リン酸化剤としては、ＣｌＰ（Ｏ）（ＯＰｈ）２が挙げられる。反応温度は−１０℃〜４０℃とすることができる。反応時間は１〜８時間とすることができる。
【００４７】
Ｄ４工程は、メチル化工程である。溶媒としては、Ｎ−メチルピロリドンが挙げられる。メチル化剤としては、Ｆｅ（ａｃａｃ）３触媒およびＭｅＭｇＣｌの組み合わせが挙げられる。反応温度は−２０℃〜４０℃とすることができる。反応時間は１〜８時間とすることができる。
【００４８】
Ｄ５工程は、エステルの還元工程である。溶媒としては、ジクロロメタンが挙げられる。還元剤としては、水素化ジイソブチルアルミニウムが挙げられる。反応温度は−７８℃〜−５０℃とすることができる。反応時間は１〜８時間とすることができる。
【００４９】
Ｄ６工程は、ブロム化工程である。溶媒としては、ジエチルエーテルが挙げられる。塩基としては、ピリジンが挙げられる。ブロム化剤としては、三臭化リンが挙げられる。反応温度は−２０℃〜４０℃とすることができる。反応時間は１〜８時間とすることができる。
【００５０】
Ｄ７工程は、アルキル化工程である。Ｒ３がメチル基の場合、溶媒としてはジエチルエーテルが挙げられ、還元剤としては水素化アルミニウムリチウムが挙げられる。この場合、反応温度は−２０℃〜４０℃とすることができ、反応時間は１〜８時間とすることができる。Ｒ３がＣ２〜Ｃ４アルキル基の場合、溶媒としてテトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが挙げられ、アルキル化剤としては、Ｒ３ＭｇＣｌ、Ｒ３ＭｇＢｒ、Ｒ３ＭｇＩが挙げられる。この場合、反応温度は−７８℃〜３０℃とすることができ、反応時間は１〜８時間とすることができる。
【００５１】
Ｄ８工程は、脱保護工程である。溶媒としては、テトラヒドロフランが挙げられる。脱保護剤としては、テトラブチルアンモニウムフルオライドが挙げられる。反応は還流下で行うことができる。反応時間は１〜８時間とすることができる。
【００５２】
Ｅ工程：４位変換工程
【化７】
0005399373.tif 000014
【００５３】
Ｅ工程は、Ｃ工程で得られた式（ｊ）の化合物またはＤ工程で得られた式（ｒ）の化合物（これらの化合物を併せて式（ｓ）で表す）の４位にジエン側鎖を導入し、式（ｗ）の化合物を製造する工程である。
【００５４】
Ｅ１工程は、水酸基を保護する工程である。まず４位水酸基をtert−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ基）で保護する。溶媒としては、ジクロロメタンが挙げられる。塩基としては、イミダゾールが挙げられる。シリル化剤としては、tert−ブチルジメチルシリルクロライドが挙げられる。反応温度は−１０℃〜４０℃とすることができる。反応時間は１〜８時間とすることができる。次いで９位水酸基をベンゾイル基で保護する。溶媒としては、ジクロロメタンが挙げられる。塩基としては、ジメチルアミノピリジンが挙げられる。ベンゾイル化剤としては、安息香酸無水物が挙げられる。反応温度は−１０℃〜４０℃とすることができる。反応時間は１〜８時間とすることができる。
【００５５】
Ｅ２工程は、４位保護基を脱保護し、得られた水酸基を酸化する工程である。脱保護工程の溶媒としては、テトラヒドロフランが挙げられる。脱保護剤としては、テトラブチルアンモニウムフルオライドが挙げられる。反応温度は−１０℃〜４０℃とすることができる。反応時間は１〜８時間とすることができる。次いで生成した４位水酸基を酸化する工程の溶媒としては、ジクロロメタンが挙げられる。酸化剤としては、１，１，１−トリアセトキシ−1，１−ジヒドロ−１，２−ベンズヨードキソール−３（１Ｈ）−オンが挙げられる。反応温度は−１０℃〜３０℃とすることができる。反応時間は１〜８時間とすることができる。
【００５６】
Ｅ３工程は、ジエン側鎖を合成する工程である。溶媒としては、テトラヒドロフランが挙げられる。塩基としては、リチウムヘキサメチルジシラジドが挙げられる。反応剤としては、ホスホン酸エステルが挙げられる。反応温度は−７８℃〜３０℃とすることができる。反応時間は１〜８時間とすることができる。
【００５７】
Ｅ４工程は、脱保護工程である。溶媒としては、エタノールおよび水の混合溶媒が挙げられ、好ましくはエタノール：水＝４：１の比率である。塩基としては、水酸化リチウムが挙げられる。反応温度は−１０℃〜３０℃とすることができる。反応時間は１〜８時間とすることができる。
【００５８】
式（１）の化合物（具体的には、第一の化合物群）は、ＭＫ８３８３物質を出発物質として用いて、以下のＦ工程に従って製造することもできる。
【００５９】
Ｆ工程は、ＭＫ８３８３物質の１位の二重結合を選択的に還元し、式（Ｉ）の化合物を得る工程である。
【００６０】
「ＭＫ８３８３物質」は、フォマ属に属する微生物（例えば、ＦＥＲＭ  ＢＰ−６４６１の受託番号のもと寄託された菌株）を培養することにより得ることができる（特開平７−１２６２１１号公報、ＷＯ９９／１１５９６号公報）。
【００６１】
出発物質としてＭＫ８３８３物質を使用した場合のＦ工程を以下に示す。
【００６２】
Ｆ工程
【化８】
0005399373.tif 000015
【００６３】
Ｆ１工程は、ＭＫ８３８３物質のカルボン酸をエステル化した後、水酸基をトリイソプロピルシリル基で保護し、式(ｘ)の化合物を得る工程である。式（ｘ）中のＲ５は、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基を表す。
【００６４】
エステル化反応は T.W.Greene et. al, Protective groups in organic synthesis、third edition, 369, (1999), wiley-interscience に記載されている方法に従い実施することができる。例えば、メチルエステルを合成する方法として、溶媒としてはメタノールあるいはメタノール/ベンゼン、メタノール/トルエンなどの混合溶媒が挙げられ、反応剤としてはトリメチルシリルジアゾメタンが挙げられる。反応温度は−１０℃〜４０℃とすることができる。反応時間は１０分〜４時間とすることができる。
【００６５】
水酸基をトリイソプロピルシリル基で保護する方法で使用される溶媒としては、ジクロロメタンが挙げられる。塩基としては、２，６−ルチジンが挙げられる。使用されるシリル化剤としては、トリイソプロピルシリルトリフルオロメタンスルホナートが挙げられる。反応温度は−１０℃〜４０℃とすることができる。反応時間は１０分〜８時間とすることができる。
【００６６】
Ｆ２工程は、Ｆ１工程で得られた式（ｘ）の化合物のエステルをアルコールに還元した後、４位のジエンを酸化的に開裂し不飽和アルデヒドに変換し、式（ｙ）の化合物を得る工程である。エステルの還元反応で溶媒としては、ジクロロメタンが挙げられる。還元剤としては、水素化ジイソブチルアルミニウムが挙げられる。反応温度は−７８℃〜３０℃とすることができる。反応時間は５分〜４時間とすることができる。ジエンの不飽和アルデヒドへの変換で溶媒としてはジオキサン、水の混合溶媒が挙げられる。酸化剤としては、触媒量の四酸化オスミウムと過ヨウ素酸ナトリウムの組合せが挙げられる。塩基としては、２，６−ルチジンが挙げられる。反応温度は０℃〜３０℃とすることができる。反応時間は３０分〜４時間とすることができる。
【００６７】
Ｆ３工程は、式（ｙ）の化合物のアルデヒドをアルコールに変換し、式（ｚ）の化合物を得る工程である。溶媒としては、ジクロロメタンが挙げられる。還元剤としては、水素化ジイソブチルアルミニウムが挙げられる。反応温度は−７８℃〜３０℃とすることができる。反応時間は５分〜４時間とすることができる。
【００６８】
Ｆ４工程は、式（ｚ）の化合物の４位二重結合を酸化的に開裂しアルデヒドに変換し、式（ａａ）の化合物に変換する工程である。溶媒としては、ジオキサンと水との混合溶媒が挙げられる。酸化剤としては、触媒量の四酸化オスミウムと過ヨウ素酸ナトリウムとの組合せが挙げられる。塩基として、ピリジンが挙げられる。反応温度は０℃〜３０℃とすることができる。反応時間は１０〜３６時間とすることができる。
【００６９】
Ｆ５工程は、式（ａａ）の化合物のアルデヒドをアルコールに変換し、式（ａｂ）の化合物を得る工程である。溶媒としては、メタノールとテトラヒドロフランとの混合溶媒が挙げられる。還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウムが挙げられる。反応温度は０℃〜３０℃とすることができる。反応時間は５分〜４時間とすることができる。
【００７０】
Ｆ６工程は、式（ａｂ）の化合物の３位二重結合をジオールに変換し、式（ａｃ）の化合物を得る工程である。溶媒としては、ピリジンが挙げられる。酸化剤としては、四酸化オスミウムが挙げられる。反応温度は０℃〜３０℃とすることができる。反応時間は１０分〜４時間とすることができる。
【００７１】
Ｆ７工程は、式（ａｃ）の化合物の１位二重結合を水素および接触水素還元触媒により還元し、式（ａｄ）の化合物を得る工程である。溶媒としては、クロロホルム、ジクロロメタン、１、２−ジクロロエタン等が挙げられ、好ましくはジクロロメタンである。使用される接触水素還元触媒としては、［Ｉｒ（ｃｏｄ）ｐｙｒ（ＰＣｙ３）］ＰＦ６が挙げられる。反応温度は３０℃〜８０℃とすることができる。反応時間は通常３０分〜６時間とすることができる。
【００７２】
Ｆ８工程は、式（ａｄ）の化合物の４位水酸基をベンゾイル基で保護し、式（ａｅ）の化合物を得る工程である。溶媒としては、アセトニトリルが挙げられる。ベンゾイル化の試薬としては、ベンゾイルシアニドが挙げられる。塩基としては、トリエチルアミンが挙げられる。反応温度は−６０℃〜０℃とすることができる。反応時間は通常５分〜２時間とすることができる。
【００７３】
Ｆ９工程は、式（ａｅ）の化合物の３位側鎖のジオールを環状チオカーボネートに変換し、式（ａｆ）の化合物を得る工程である。溶媒としては、トルエンが挙げられる。チオカルボニル化剤としては、チオカルボニルジイミダゾールが挙げられる。反応は還流下で行うことができる。反応時間は１０時間〜２０時間とすることができる。
【００７４】
Ｆ１０工程は、式（ａｆ）の化合物の３位チオカーボネートを還元し、次いで４位水酸基の保護基を還元により脱保護し、式（ａｇ）の化合物を得る工程である。チオカーボネートの還元反応で使用される還元剤としては、トリメチルホスファイトが挙げられる。還元剤を過剰に用いることにより無溶媒で行うことができる。反応は還流下で行うことができる。反応時間は３０時間〜８０時間とすることができる。ベンゾイル基の脱保護反応で使用される溶媒としては、ジクロロメタンが挙げられる。還元剤としては、水素化ジイソブチルアルミニウムが挙げられる。反応温度は−７８℃〜０℃とすることができる。反応時間は５分〜４時間とすることができる。
【００７５】
Ｆ１１工程は、Ｅ２の酸化工程と同様の反応であり、式（ａｇ）の化合物の４位水酸基を酸化し、式（ａｈ）の化合物を得る工程である。溶媒としては、ジクロロメタンが挙げられる。酸化剤としては、Dess-Martin Periodinate（Journal of Organic Chemistry 48, 4155（1983））が挙げられる。反応温度は０℃〜３０℃とすることができる。反応時間は通常１０分〜２時間とすることができる。
【００７６】
Ｆ１２工程は、Ｅ３と同様の反応であり、式（ａｈ）の化合物の４位にジエン側鎖を導入し、式（ａｉ）の化合物を得る工程である。式（ａｉ）中のＲ５はＣ１〜Ｃ４のアルキル基を表す。溶媒としては、テトラヒドロフランが挙げられる。塩基としては、リチウムヘキサメチルジシラジドが挙げられる。反応剤としては、ホスホン酸エステルが挙げられる。反応温度は−７８℃〜３０℃とすることができる。反応時間は３０分〜８時間とすることができる。
【００７７】
Ｆ１３工程は、Ｅ４と同様の反応であり、式（ａｉ）の化合物の２箇所の保護基を脱保護し、式（ａｊ）の化合物（すなわち、実施例３の化合物）を得る工程である。エステルの脱保護反応で使用される溶媒としては、エタノールと水との混合溶媒が挙げられ、好ましくは、エタノール：水＝４：１の比率の混合溶媒である。塩基としては、水酸化リチウムが挙げられる。反応温度は−１０℃〜３０℃とすることができる。反応時間は１０〜６０時間とすることができる。シリル基の脱保護反応で使用される溶媒としては、テトラヒドロフランが挙げられる。脱保護剤としては、テトラブチルアンモニウムフルオライドが挙げられる。反応は０℃〜４０℃とすることができる。反応時間は３０〜９０時間とすることができる。
【００７８】
農園芸用病害防除剤
実施例によれば、本発明による化合物は、植物病原真菌に対しＭＫ８３８３と同等の優れた防除効果を示し（試験例１）、かつ、ＭＫ８３８３にはない優れた光安定性を有する（試験例２）。従って、本発明によれば、本発明による化合物を有効成分として含んでなる農園芸用病害防除剤が提供される。
【００７９】
本願明細書において「農園芸用病害防除剤」とは、植物病害に対し防除効果を示す薬剤を意味し、植物病原微生物を殺滅する薬剤のみならず、植物病原微生物の増殖を抑制する薬剤や植物病原微生物の植物への感染を防御する薬剤も含むものである。
【００８０】
農園芸用病害防除剤は、好ましくは、農園芸用殺菌剤である。
【００８１】
本発明において防除の対象とする植物病原微生物（本発明による化合物が防除効果を示す微生物）は特に限定されるものではないが、例えば、植物病原真菌、植物病原細菌等が挙げられ、好ましくは、植物病原真菌である。
【００８２】
植物病原真菌としては、例えば、ナシ黒斑病菌（Alternaria alternata）、ナシ黒斑病菌（Alternaria kikutiana）、灰色かび病菌（Botrytis cinerea）、イネごま葉枯病菌（Cochliobolus miyabeanus）、ジャガイモ炭疽病菌（Colletotrichum atramentarium）、キュウリ炭疽病菌（Colletotrichum lagenarium）、キュウリつる割病菌（Fusarium oxysporum f. sp. cucumerinum）、トマト萎ちょう病菌（Fusarium oxysporum f. sp. lycopersici）、イネばか苗病菌（Gibberella fujikuroi）、ブドウ晩腐病菌（Glomerella cingulata）、イネいもち病菌（Pyricularia oryzae）、リゾクトニア苗立枯病菌（Rhizoctonia solani）、トマト小粒菌核病菌（Sclerotinia minor）、ジャガイモ半身萎ちょう病菌（Verticillium albo-atrum）、コムギ赤さび病菌（Puccinia recondita）、オオムギうどんこ病菌（Erysiphe graminis）、ジャガイモ疫病菌（Phytophthora infestans）、キュウリべと病菌（Pseudoperonospora cubensis）、キュウリうどんこ病菌（Sphaerotheca fuliginea）、トマト輪紋病菌（Alternaria solani）、野菜類菌核病菌（Sclerotinia sclerotiorum）、リンゴ黒星病菌（Venturia inaequalis）、モモ灰星病菌（Monilinia fructicola）、イチゴ炭疸病菌（Colletotrichum gloeosporioides）、ダイズ紫斑病菌（Cercospora kikuchii）、テンサイ褐斑病菌（Cercospora beticola）、コムギふ枯病菌（Leptosphaeria nodorum）等が挙げられ、好ましくは、灰色かび病菌、テンサイ褐斑病菌、リゾクトニア苗立枯病菌、ナシ黒斑病菌、キュウリ炭疽病菌、イネいもち病菌、コムギふ枯病菌であり、より好ましくは、灰色かび病菌である。
【００８３】
本発明による化合物を、農園芸用病害防除剤の有効成分として用いる場合は、本発明による化合物をそのまま用いても良いが、農園芸用病害防除剤の常法に従って、適当な固体担体、液体担体、ガス状担体、界面活性剤、分散剤、その他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、液剤、懸濁剤、水和剤、粉剤、粒剤、錠剤、油剤、エアゾール、フロアブル剤等の任意の剤型にすることができる。
【００８４】
固体担体としては、例えば、タルク、ベンナイト、クレー、カオリン、ケイソウ土、バーミキュライト、ホワイトカーボン、炭酸カルシウム等が挙げられる。
【００８５】
液体担体としては、例えば、メタノール、ｎ−ヘキサノール、エチレングリコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ｎ−ヘキサン、ケロシン、灯油等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ダイズ油、綿実油等の植物油類、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。
【００８６】
ガス担体としては、例えば、ＬＰＧ、空気、窒素、炭酸ガス、ジメチルエーテル等が挙げられる。
【００８７】
界面活性剤または分散剤としては、例えば、アルキル硫酸エステル類、アルキル（アリール）スルホン酸塩類、ポリオキシアルキレンアルキル（アリール）エーテル類、多価アルコールエステル類、リグニンスルホン酸塩等が挙げられる。
【００８８】
製剤用補助剤としては、例えば、カルボキシメチルセルロース、アラビアガム、ポリエチレングリコール、ステアリン酸カルシウム等が挙げられる。
【００８９】
上記の担体、界面活性剤、分散剤、および補助剤は、必要に応じて各々単独で、あるいは組み合わせて用いることができる。
【００９０】
製剤中の有効成分の含有量は、特に限定されないが、例えば、乳剤では通常１〜５０重量％、水和剤では通常１〜５０重量％、粉剤では通常０．１〜３０重量％、粒剤では通常０．１〜１５重量％、油剤では通常０．１〜１０重量％、エアゾールでは通常０．１〜１０重量％である。
【００９１】
本発明による農園芸用病害防除剤は、そのまま用いてもよいが、必要に応じて希釈して用いることができる。
【００９２】
本発明による農園芸用病害防除剤は、他の有害生物防除剤と共に用いることができ、例えば、混合して散布しても、経時的あるいは同時に散布してもよい。混合可能な他の有害生物防除剤としては、例えば、殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、除草剤、植物成長調節剤、肥料等が挙げられ、具体的には、例えば、ペスティサイド  マニュアル（The Pesticide Manual、第１３版  The British Crop Protection Council 発行）およびシブヤインデックス（SHIBUYA INDEX 第１２版、２００７年、SHIBUYA INDEX RESEARCH GROUP 発行）に記載のものが挙げられる。
【００９３】
混合して使用可能な殺虫剤としては、例えば、アセフェート（acephate）、ジクロルボス（dichlorvos）、EPN、フェニトロチオン（fenitrothion）、フェナミホス（fenamifos）、プロチオホス（prothiofos）、プロフェノホス（profenofos）、ピラクロホス（pyraclofos）、クロルピリホスメチル（chlorpyrifos-methyl）、クロルフェンビンホス（chlorfenvinphos）、デメトン（demeton）、エチオン（ethion）、マラチオン（malathion）、クマホス（coumaphos）、イソキサチオン（isoxathion）、フェンチオン（fenthion）、ダイアジノン（diazinon）、チオジカルブ（thiodicarb）、アルジカルブ（aldicarb）、オキサミル（oxamyl）、プロポキスル（propoxur）、カルバリル（carbaryl）、フェノブカルブ（fenobucarb）、エチオフェンカルブ（ethiofencarb）、フェノチオカルブ（fenothiocarb）、ピリミカーブ（pirimicarb）、カルボフラン（carbofuran）、カルボスルファン（carbosulfan）、フラチオカルブ（furathiocarb）、ヒキンカルブ（hyquincarb）、アラニカルブ（alanycarb）、メソミル（methomyl）、ベンフラカルブ（benfuracarb）、カルタップ（cartap）、チオシクラム（thiocyclam）、ベンスルタップ（bensultap）、ジコホル（dicofol）、テトラジホン（tetradifon）、アクリナトリン（acrinathrin）、ビフェントリン（bifenthrin）、シクロプロトリン（cycloprothrin）、シフルトリン（cyfluthrin）、ジメフルトリン（dimefluthrin）、エンペントリン（empenthrin）、フェンフルトリン（fenfluthrin）、フェンプロパトリン（fenpropathrin）、イミプロトリン（imiprothrin）、メトフルトリン（metofluthrin）、ペルメトリン（permethrin）、フェノトリン（phenothrin）、レスメトリン（resmethrin）、テフルトリン（tefluthrin）、テトラメトリン（tetramethrin）、トラロメトリン（tralomethrin）、トランスフルトリン（transfluthrin）、シペルメトリン（cypermethrin）、デルタメトリン（deltamethrin）、シハロトリン（cyhalothrin）、フェンバレレート（fenvalerate）、フルバリネート（fluvalinate）、エトフェンプロックス（ethofenprox）、フルフェンプロックス（flufenprox）、ハルフェンプロックス（halfenprox）、シラフルオフェン（silafluofen）、シロマジン（cyromazine）、ジフルベンズロン（diflubenzuron）、テフルベンズロン（teflubenzuron）、フルシクロクスロン（flucycloxuron）、フルフェノクスロン（flufenoxuron）、ヘキサフルムロン（hexaflumuron）、ルフェヌロン（lufenuron）、ノバルロン（novaluron）、ペンフルロン（penfluron）、トリフルムロン（triflumuron）、クロルフルアズロン（chlorfluazuron）、ジアフェンチウロン（diafenthiuron）、メトプレン（methoprene）、フェノキシカルブ（fenoxycarb）、ピリプロキシフェン（pyriproxyfen）、ハロフェノジド（halofenozide）、テブフェノジド（tebufenozide）、メトキシフェノジド（methoxyfenozide）、クロマフェノジド（chromafenozide）、ジシクラニル（dicyclanil）、ブプロフェジン（buprofezin）、ヘキシチアゾクス（hexythiazox）、アミトラズ（amitraz）、クロルジメホルム（chlordimeform）、ピリダベン（pyridaben）、フェンピロキシメート（fenpyroxymate）、フルフェネリム（flufenerim）、ピリミジフェン（pyrimidifen）、テブフェンピラド（tebufenpyrad）、トルフェンピラド（tolfenpyrad）、フルアクリピリム（fluacrypyrim）、アセキノシル（acequinocyl）、シフルメトフェン（cyflumetofen）、フルベンジアミド（flubendiamide）、エチプロール（ethiprole）、フィプロニル（fipronil）、エトキサゾール��ethoxazole）、イミダクロプリド（imidacloprid）、ニテンピラム（nitenpyram）、クロチアニジン（c1othianidin）、アセタミプリド（acetamiprid）、ジノテフラン（dinotefuran）、チアクロプリド（thiacloprid）、チアメトキサム（thiamethoxam）、ピメトロジン（pymetrozine）、ビフェナゼート（bifenazate）、スピロジクロフェン（spirodiclofen）、スピロメシフェン（spiromesifen）、フロニカミド（flonicamid）、クロルフェナピル（chlorfenapyr）、ピリプロキシフェン（pyriproxyfene ）、インドキサカルブ（indoxacarb）、ピリダリル（pyridalyl）、スピノサド（spinosad）、アベルメクチン（avermectin）、ミルベマイシン（milbemycin）、アザジラクチン（azadirachtin）、ニコチン（nicotine）、ロテノン（rotenone）、ＢＴ剤、昆虫病原ウイルス剤、エマメクチン安息香酸塩（emamectinbenzoate）、スピネトラム（spinetoram）、ピリフルキナゾン（pyrifluquinazon）、クロルアントラニリプロール（chlorantraniliprole）、シアントラニリプロール(cyantraniliprole)、シエノピラフェン（cyenopyrafen）、スピロテトラマット（spirotetramat）、レピメクチン（lepimectin）、メタフルミゾン（metaflumizone）、ピラフルプロール（pyrafluprole）、ピリプロール（pyriprole）、ジメフルスリン（dimefluthrin）、フェナザフロル（fenazaflor）、ヒドラメチルノン（hydramethylnon）、トリアザメート（triazamate）等が挙げられる。
【００９４】
混合して使用可能な殺菌剤としては、例えば、アゾキシストロビン（azoxystrobin）、クレソキシムメチル（kresoxym-methyl）、トリフロキシストロビン（trifloxystrobin）、オリサストロビン（orysastrobin）、ピコキシストロビン（picoxystrobin）、フロキサストロビン（fuoxastrobin）などのストロビルリン系化合物、メパニピリム（mepanipyrim）、ピリメサニル（pyrimethanil）、シプロジニル（cyprodinil）のようなアニリノピリミジン系化合物、トリアジメホン（triadimefon）、ビテルタノール（bitertanol）、トリフルミゾール（triflumizole）、エタコナゾール（etaconazole）、プロピコナゾール（propiconazole）、ペンコナゾール（penconazole）、フルシラゾール（flusilazole）、ミクロブタニル（myclobutanil）、シプロコナゾール（cyproconazole）、テブコナゾール（tebuconazole）、ヘキサコナゾール（hexaconazole）、プロクロラズ（prochloraz）、シメコナゾール（simeconazole）のようなアゾール系化合物、キノメチオネート（quinomethionate）のようなキノキサリン系化合物、マンネブ（maneb）、ジネブ（zineb）、マンコゼブ（mancozeb）、ポリカーバメート（polycarbamate）、プロビネブ（propineb）のようなジチオカーバメート系化合物、ジエトフェンカルブ（diethofencarb）のようなフェニルカーバメート系化合物、クロロタロニル（chlorothalonil）、キントゼン（quintozene）のような有機塩素系化合物、ベノミル（benomyl）、チオファネートメチル（thiophanate-methyl）、カーベンダジム（carbendazole）のようなベンズイミダゾール系化合物、メタラキシル（metalaxyl）、オキサジキシル（oxadixyl）、オフラセ（ofurase）、ベナラキシル（benalaxyl）、フララキシル（furalaxyl）、シプロフラン（cyprofuram）のようなフェニルアミド系化合物、ジクロフルアニド（dichlofluanid）のようなスルフェン酸系化合物、水酸化第二銅（copper hydroxide）、オキシキノリン銅（oxine-copper）のような銅系化合物、ヒドロキシイソキサゾール（hydroxyisoxazole）のようなイソキサゾール系化合物、ホセチルアルミニウム（fosetyl-aluminium）、トルクロホス−メチル（tolclofos-methyl）のような有機リン系化合物、キャプタン（captan）、カプタホール（captafol）、フォルペット（folpet）のようなＮ−ハロゲノチオアルキル系化合物、プロシミドン（procymidone）、イプロジオン（iprodione）、ビンクロゾリン（vinchlozolin）のようなジカルボキシイミド系化合物、フルトラニル（flutolanil）、メプロニル（mepronil）のようなベンズアニリド系化合物、フェンプロピモルフ（fenpropimorph）、ジメトモルフ（dimethomorph）のようなモルフォリン系化合物、水酸化トリフェニルスズ（fenthin hydroxide）、酢酸トリフェニルスズ（fenthin acetate）のような有機スズ系化合物、フルジオキソニル（fludioxonil）、フェンピクロニル（fenpiclonil）のようなシアノピロール系化合物、その他フサライド（fthalide）、プロベナゾール（probenazole）、アシベンゾラルSメチル（acibenzolar-S-methyl）、チアジニル（tiadinil）、イソチアニル（isotianil）、カルプロパミド（carpropamid）、ジクロシメット（diclocymet）、フェノキサニル（fenoxanil）、トリシクラゾール（tricyclazole）、ピロキロン（pyroquilon）、フェリムゾン（ferimzone）、フルアジナム（fluazinam）、シモキサニル（cymoxanil）、トリホリン（triforine）、 ピリフェノックス（pyrifenox）、フェナリモル（fenarimol）、フェンプロピディン（fenpropidin）、ペン��クロン（pencycuron）、シアゾファミド（cyazofamid）、シフルフェナミド（cyflufenamid）、ボスカリド（boscalid）、ペンチオピラド（penthiopyrad）、プロキナジド（proquinazid）、キノキシフェン（quinoxyfen）、ファモキサドン（famoxadone）、フェナミドン（fenamidone）、イプロバリカルブ（iprovalicarb）、ベンチアバリカルブイソプロピル（benthiavalicarb-isopropyl）、フルオピコリド（fluopicolide）、ピリベンカルブ（pyribencarb）、フルチアニル(flutianil)、イソピラザム(isopyrazam)、カスガマイシン（kasugamycin）、またはバリダマイシン（validamycin）等が挙げられる。
【００９５】
混合して使用可能な殺ダニ剤としては、例えば、ブロモプロピレート（bromopropylate）、テトラジホン（tetradifon）、プロパルギット（propargite）、アミトラズ（amitraz）、フェノチオカルブ（fenothiocarb）、ヘキシチアゾクス（hexythiazox）、フェンブタチンオキシド（fenbutatin oxide）、ジエノクロル（dienochlor）、フェンピロキシメート（fenpyroximate）、テブフェンピラド（tebufenpyrad）、ピリダベン（pyridaben）、ピリミジフェン（pyrimidifen）、クロフェンテジン（clofentezine）、エトキサゾール（etoxazole）、ハルフェンプロックス（halfenprox）、ミルベメクチン（milbemectin）、アセキノシル（acequinocyl）、ビフェナゼート（bifenazate）、フルアクリピリム（fluacrypyrim）、スピロジクロフェン（spirodichlofen）、スピロメシフェン（spiromesifen）、クロルフェナピル（chlorfenapyr）、アベルメクチン（Avermectin）、シエノピラフェン（cyenopyrafen）、シフルメトフェン（cyflumetofen）等が挙げられる。
【００９６】
混合して使用可能な除草剤としては、例えば、シハロホップブチル（cyhalofop-butyl）、2,4-Dのようなフェノキシ酸系化合物、エスプロカルブ（esprocarb）、デスメディファム（desmedipham）のようなカーバメート系化合物、アラクロール（alachlor）、メトラクロール（metolachlor）のような酸アミド系化合物、ジウロン（diuron）、テブチウロン（tebuthiuron）のような尿素系化合物、ハロスルフロンメチル（halosulfuron）、フラザスルフロン（flazasulfuron）のようなスルホニルウレア系化合物、ピリミノバックメチル（pyriminobac-methyl）のようなピリミジルオキシ安息香酸系化合物、グリホサート（glyphosate）、ビアラホス（bilanafos）、グルホシネート（glufosinate-ammonium）、のようなアミノ酸系化合物等が挙げられる。
【００９７】
混合して使用可能な植物成長調節剤としては、例えば、エテホン（ethephon）のようなエチレン剤、インドール酪酸（indolebutyric acid）、エチクロゼート（ethychlozate）のようなオーキシン剤、サイトカイニン剤、ジベレリン剤、オーキシン拮抗剤、矮化剤、蒸散抑制剤等が挙げられる。
【００９８】
混合して使用可能な肥料としては、例えば、尿素、硝酸アンモニウム、硝酸苦土アンモニウム、塩化アンモニウムのような窒素質肥料、過リン酸石灰、リン酸アンモニウム、苦土過リン酸、苦土リン酸のようなリン酸質肥料、塩化カリウム、重炭酸カリウム、硝酸カリ苦土、硝酸カリウム、硝酸カリナトリウムのようなカリウム質肥料、硫酸マンガン、硝酸苦土マンガンのようなマンガン質肥料、ホウ酸、ホウ酸塩のようなホウ素質肥料等が挙げられる。
【００９９】
本発明による農園芸用病害防除剤の施用方法は、農業、園芸において一般的に適用される施用方法であれば特に限定されないが、例えば、茎葉散布、水面施用、土壌処理、育苗箱施用、種子消毒等が挙げられる。
【０１００】
本発明による農園芸用病害防除剤の施用量は、対象病害の種類および発病程度、対象作物の種類および対象部位、農業、園芸において一般的に適用される施用方法の他、航空散布、超微量散布等の施用態様に応じて決定することができる。本発明による農園芸用病害防除剤を植物の茎葉に散布する場合には、乳剤、水和剤、フロアブル剤では、１０アール当たり、製剤１〜１０００ｇを５０〜１０００ｌの水で希釈したものを使用することができ、粉剤では、１０アール当たり１〜１０ｋｇ程度使用することができる。例えば、化合物１を２０重量％含む製剤１００ｇを２００ｌの水で希釈し、その全量を１０アールあたりの畑に散布することができる。本発明による農園芸用病害防除剤を土壌に施用する場合には、粒剤では、１０アール当たり１〜１０ｋｇ程度使用することができる。
【０１０１】
本発明によれば、本発明による化合物の製造方法が提供される。
【０１０２】
本発明によれば、本発明による化合物の中間体が提供される。
【実施例】
【０１０３】
次に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。【０１０４】
実施例１〜３において、１Ｈ−ＮＭＲおよび１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルは、ＢＲＵＫＥＲ  ＡＶＡＮＣＥ  ６００、ＪＥＯＬ  Ｌａｍｂｄａ  ５００、ＪＥＯＬ  ＡＬ  ４００の各スペクトルメーターを用いた。内部標準にはテトラメチルシランを用いた。【０１０５】
マススペクトルは、ＪＥＯＬ  ＪＭＳ−ＳＸ１０２Ａを用いた。【０１０６】
薄層クロマトグラフィーは、ＴＬＣ  ６０Ｆ−２５４（Ｍｅｒｃｋ社製）を用い、検出にはＵＶランプ、リンモリブデン酸を用いた。【０１０７】
シリカゲルクロマトグラフィーは、Ｓｉｌｉｃａ  Ｇｅｌ  ６０Ｎ（ｓｐｈｅｒｉｃａｌ，ｎｅｕｔｒａｌ）６３−２１０μｍ（関東化学社製）、Ｓｉｌｉｃａ  Ｇｅｌ  ６０Ｎ（ｓｐｈｅｒｉｃａｌ，ｎｅｕｔｒａｌ）４０−５０μｍ（関東化学社製）を用いた。【０１０８】
原料１は、Org.Letters,2004,6,553-556の記載に従って合成したものを使用した。原料２は、Ａｌｄｒｉｃｈ社から購入したものを使用した。
【化９】
0005399373.tif 000016
【０１０９】
本願明細書中の構造式に示されるＴＩＰＳはトリイソプロピルシリル基を表し、ＴＢＤＰＳはｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基を表し、ＴＢＳはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基を表し、Ｂｚはベンゾイル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表し、ａｃａｃはアセチルアセトナート基を表し、Ｈｅｘはｎ−ヘキサンを表し、ＡｃＯＥｔは酢酸エチルを表す。また、本願明細書中のＴＩＰＳＯＴｆはトリイソプロピルシリルトリフルオロメタンスルホナートを表し、ＤＩＢＡＬは水素化ジイソブチルアルミニウムを表し、ＴＣＤＩはチオカルボニルジイミダゾールを表し、ＤＭＡＰはＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジンを表し、ＴＢＡＦはテトラブチルアンモニウムフルオライドを表し、ＬｉＨＭＤＳはリチウムヘキサメチルジシラジドを表す。【０１１０】
実施例１：（２Ｅ，４Ｅ）−５−｛（１ａＲ，２Ｒ，３Ｓ，３ａＳ，４Ｓ，７Ｓ，７ａＳ，７ｂＲ）−２−［（Ｅ）−ブト−２−エン−２−イル］−デカヒドロ−７−ヒドロキシ−１ａ，４−ジメチル−１Ｈ−シクロプロパ［ａ］ナフタレン−３−イル｝ペンタ−２，４−ジエン酸の合成
製造工程１−（１）
アルゴン雰囲気下、０℃で原料１（０．０４４３ｇ、０．０６９８ｍｍｏｌ）の（ＣＨ２Ｃｌ）２溶液（１．５ｍｌ）に、Ｅｔ２Ｚｎ（０．４２８ｍｌ、０．４２３ｍｍｏｌ）、ＣＨ２Ｉ２（０．０３９８ｍｌ、０．４７９ｍｍｏｌ）を順次加え、その後３５℃まで昇温し攪拌した。以上の操作を５時間おきにさらに４回繰り返した。ＴＬＣで原料の消失を確認後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液と飽和ＮａＨＣＯ３水溶液を順次加え分液し、水層をＣＨ２Ｃｌ２で抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させた。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝１５：１）で精製し、下記化合物を得た（０．０４２６ｇ、９４％）。
Rf 0.38 (Benzene:AcOEt=100:1, 2 times eluent); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.70-7.59 (4H, m), 7.49-7.35 (6H, m), 4.00-3.85 (1H, m), 3.81-3.65 (2H, m), 3.65-3.57 (1H, m), 3.54-3.40 (1H, m), 3.23 (1H, dd, J=10.7, 2.7 Hz), 2.36-2.25 (1H, m), 2.11-2.00 (1H, m), 1.72-1.58 (5H, m), 1.45-1.28 (2H, m), 1.10-0.89 (33H, m), 0.85 (3H, d, J=6.3 Hz), 0.69-0.61 (1H, m), 0.38-0.31 (1H, m), -0.05- -0.11 (1H, m).
【化１０】
0005399373.tif 000017
【０１１１】
製造工程１−（２）
アルゴン雰囲気下、製造工程１−（１）で得た化合物（０．０４２６ｇ、０．０６５６ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２溶液（１．５ｍｌ）にＤｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ試薬（０．０８５９ｇ、０．２０３ｍｍｏｌ）を加え、室温で攪拌した。反応終了後、反応溶液をＥｔ２Ｏで希釈し、飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液と飽和ＮａＨＣＯ３水溶液を加え分液し、水層をＥｔ２Ｏで抽出し、集めた油層をＭｇＳＯ４で乾燥させた。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝５０：１）で精製し、下記の化合物を得た（０．０３９１ｇ、９２％）。
Rf 0.56 (Hex:AcOEt=4:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 9.75 (1H, d, J=2.4Hz), 7.66-7.56 (4H, m), 7.57-7.33 (6H, m), 3.78-3.69 (1H, m), 3.68-3.58 (1H, m), 3.44-3.37 (1H, m), 2.57-2.47 (1H, m), 1.84-1.76 (1H, m), 1.74-1.57 (2H, m), 1.34-1.24 (1H, m), 1.11-0.93 (37H, m), 0.85 (3H, d, J=6.6 Hz), 0.82-0.74 (1H, m), 0.68-0.61 (1H, m), 0.31-0.25 (1H, m).
【化１１】
0005399373.tif 000018
【０１１２】
製造工程１−（３）
アルゴン雰囲気下、ＣＢｒ４（０．０２８８ｇ、０．０８６８ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２溶液（０．５ｍｌ）にＰＰｈ３（０．０５４０ｇ、０．２０６ｍｍｏｌ）を加え、室温で１０分間攪拌した。製造工程１−（２）で得た化合物（０．０３１６ｇ、０．０４８８ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２溶液（１ｍｌ）を加え、室温で攪拌した。１時間後、この反応溶液に、ＣＢｒ４（０．０２９１ｇ、０．０８７７ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２溶液（０．５ｍｌ）にＰＰｈ３（０．０５４３ｇ、０．２０７ｍｍｏｌ）を加えて室温で１０分間攪拌して調製した溶液を加え、室温で攪拌した。反応終了後、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液を加え分液し、水層をＣＨ２Ｃｌ２で抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させた。濾過した後、溶媒を減圧下除去すると固体が析出するので、これをヘキサンで薄めて固体を濾去した。ヘキサンを減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝１００：１）で精製し、下記の化合物を得た（０．０３０７ｇ、７８％）。
Rf 0.38 (Hex:AcOEt=30:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.69-7.58 (4H, m), 7.48-7.33 (6H, m), 6.18 (1H, d, J=9.3 Hz), 3.89-3.79 (1H, m), 3.56-3.44 (2H, m), 2.79-2.73 (1H, m), 2.37-2.26 (1H, m), 2.10-2.00 (1H, m), 1.80-1.64 (2H, m), 1.47-1.34 (2H, m), 1.02-0.95 (35H, m), 0.95-0.80 (4H, m), 0.43-0.33 (1H, m), 0.45- -0.04 (1H, m).
【化１２】
0005399373.tif 000019
【０１１３】
製造工程１−（４）
アルゴン雰囲気下、−７８℃で製造工程１−（３）で得た化合物（０．０３０７ｇ、０．０３８２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１ｍｌ）にｎ−ＢｕＬｉのヘキサン溶液（０．０７５０ｍｌ、１．５８Ｍ）を加え、１５分間攪拌した。反応終了後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液を加え分液し、水層をＥｔ２Ｏで抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させた。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝１００：１）で精製し、下記の化合物を得た（０．０２４６ｇ、９６％）。
Rf 0.49 (Hex:AcOEt=20:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.72-7.61 (4H, m), 7.45-7.33 (6H, m), 3.94-3.86 (1H, m), 3.83-3.74 (1H, m), 3.65-3.57 (1H, m), 2.98-2.92 (1H, m), 2.12-2.05 (1H, m), 2.05-1.98 (2H, m), 1.73-1.57 (3H, m), 1.16 (3H, s), 1.10-0.98 (33H, m), 0.86-0.79 (1H, m) 0.77 (3H, d, J=6.6 Hz), 0.48-0.42 (1H, m), 0.40-0.32 (1H, m).
【化１３】
0005399373.tif 000020
【０１１４】
製造工程１−（５）
アルゴン雰囲気下、０℃でＣｐ２ＺｒＣｌ２（０．１０７ｇ、０．３６５ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２溶液（０．４ｍｌ）に  Ｍｅ３Ａｌのヘキサン溶液（１．０６ｍｌ、１．０３Ｍ）を加え、室温で３０分間攪拌した。その後−３０℃まで冷却し、Ｈ２Ｏ（０．００６６ｍｌ、０．３６７ｍｍｏｌ）を加え、−１０℃に昇温し１０分間攪拌した。再び−３０℃に冷却し、製造工程１−（４）で得た化合物（０．０２３５ｇ、０．０３６５ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２溶液（１ｍｌ）を加え、１時間攪拌した。ＴＬＣで原料の消失を確認後、Ｉ２（０．１３９ｇ、０．５４６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１ｍｌ）を加え、半日攪拌した。反応終了後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液を加え分液し、水層をＥｔ２Ｏで抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させた。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝１００：１）で精製し、下記の化合物を得た（０．０２６６ｇ、９３％）。
Rf 0.42 (Hex:AcOEt=20:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.65-7.54 (4H, m), 7.46-7.33 (6H, m), 6.12 (1H, s), 3.89-3.78 (1H, m), 3.39 (1H, dd, J=10.2, 10.2 Hz), 3.18 (1H, dd, J=10.2, 3.7 Hz), 2.45 (1H, d, J=6.1 Hz), 2.26-2.13 (1H, m), 2.08-1.95 (1H, m), 1.80-1.45 (9H, m), 1.14-0.99 (30H, m), 0.98 (3H, s), 0.88 (3H, d, J=6.3 Hz), 0.81-0.72 (1H, m), 0.65-0.55 (1H, m), 0.16-0.09 (1H, m).
【化１４】
0005399373.tif 000021
【０１１５】
製造工程１−（６）
アルゴン雰囲気下、ＰｄＣｌ２（ＰＰｈ３）２（０．０２６６ｇ、０．００２５６ｍｍｏｌ）と製造工程１−（５）で得た化合物（０．０２６６ｇ、０．０３３９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１ｍｌ）にＭｅ２ＺｎのＴＨＦ溶液（０．０５０８ｍｌ、１．０Ｍ）を徐々に滴加し、室温で攪拌した。反応終了後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液を加え分液し、水層をＥｔ２Ｏで抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させた。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝１５０：１）で精製し、下記の化合物を得た（０．０２２０ｇ、９６％）。
Rf 0.59 (Hex:AcOEt=30:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.64-7.56 (4H, m), 7.45-7.31 (6H, m), 5.43 (1H, d, J=5.9 Hz), 3.90-3.80 (1H, m), 3.40 (1H, dd, J=10.2, 10.2 Hz), 3.24 (1H,dd, J=10.2, 4.6 Hz), 2.26-2.20 (1H, m), 2.20-2.12 (1H, m), 2.08-2.01 (1H, m), 1.76-1.64 (3H, m), 1.44 (3H, d, J=5.9 Hz), 1.34 (3H, s), 1.13-0.96 (33H, m), 0.95 (3H, s), 0.89 (3H, d, J=6.1 Hz) 0.72-0.64 (1H, m), 0.59-0.51 (1H, m), 0.12-0.08 (1H, m).
【化１５】
0005399373.tif 000022
【０１１６】
製造工程１−（７）
アルゴン雰囲気下、製造工程１−（６）で得た化合物（０．０２２０ｇ、０．０３２７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１ｍｌ）に、ＴＢＡＦのＴＨＦ溶液（０．４９０ｍｌ、１．０Ｍ）を加え、加熱還流下攪拌した。反応終了後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液を加え分液し、水層をＥｔ２Ｏで抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させた。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝１：２）で精製し、下記の化合物を得た（０．００８５ｇ、９３％）。
Rf 0.11 (Hex:AcOEt=1:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 5.72-5.63 (1H, m), 3.84-3.74 (1H, m), 3.53-3.43 (1H, m), 3.36-3.26 (1H, m), 2.35 (1H, d, J=6.8 Hz), 2.24-2.14 (1H, m), 1.98-1.90 (1H, m), 1.81-1.71 (4H, m), 1.69 (3H, s), 1.66 (3H, d, J=6.3 Hz), 1.48-1.36 (1H, m), 1.14-1.03 (1H, m) 1.01 (3H, s), 0.91 (3H, d, J=6.3 Hz) 0.72 (1H, dd, J=8.8, 5.1 Hz), 0.60-0.52 (1H, m), 0.38-0.33 (1H, m).
【化１６】
0005399373.tif 000023
【０１１７】
製造工程１−（８）
アルゴン雰囲気下、製造工程１−（７）で得た化合物（０．００８５ｇ、０．０３１９ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２溶液（１ｍｌ）にイミダゾール（０．００７７ｇ、０．１１３ｍｍｏｌ）、ＴＢＳＣｌ（０．０５２８ｇ、０．３５０ｍｍｏｌ）を順次加え、室温で攪拌した。反応終了後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液を加え分液し、水層をＣＨ２Ｃｌ２で抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させた。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝１０：１）で精製し、下記の化合物を得た（０．００７９ｇ、６５％）。
Rf 0.76 (Hex:AcOEt=1:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 5.61-5.50 (1H, m), 3.82-3.70 (1H, m), 3.31-3.20 (2H, m), 2.36-2.26 (1H, m), 2.19-2.06 (1H, m), 2.02-1.93 (1H, m), 1.80-1.58 (7H, m), 1.45-1.36 (2H, m), 1.00 (3H, s), 0.93-0.79 (15H, m), 0.72-0.62 (1H, m), 0.58-0.49 (1H, m), 0.28-0.21 (1H, m), 0.03- -0.08 (6H, m).
【化１７】
0005399373.tif 000024
【０１１８】
製造工程１−（９）
アルゴン雰囲気下、製造工程１−（８）で得た化合物（０．００７９ｇ、０．０２０１ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２溶液（１ｍｌ）にＤＭＡＰ（０．０２５１ｇ、０．２０５ｍｍｏｌ）、Ｂｚ２Ｏ（０．０２９３ｇ、０．１３０ｍｍｏｌ）を順次加え、室温で攪拌した。反応終了後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液を加え分液し、水層をＣＨ２Ｃｌ２で抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させた。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝５０：１）で精製し、下記の化合物を得た（０．０１０２ｇ、ｑｕａｎｔ．）。
Rf 0.57 (Hex:AcOEt=10:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.13-8.01 (2H, m), 7.60-7.50 (1H, m), 7.49-7.39 (2H, m), 5.60-5.51 (1H, m), 5.16-5.06 (1H, m), 3.29-3.21 (2H, m), 2.35 (1H, d, J=6.3 Hz), 2.23-2.06 (2H, m), 2.01-1.90 (1H, m), 1.87-1.72 (2H, m), 1.69-1.58 (6H, m), 1.56-1.44 (2H, m), 1.30-1.15 (1H, m), 1.04 (3H, s), 0.92 (3H, d, J=5.1 Hz), 0.88-0.82 (9H, m), 0.79-0.71 (1H, m), 0.69-0.62 (1H, m), 0.27-0.19 (1H, m), 0.02- -0.07 (6H, m).
【化１８】
0005399373.tif 000025
【０１１９】
製造工程１−（１０）
アルゴン雰囲気下、製造工程１−（９）で得た化合物（０．０１０２ｇ、０．０２０５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（０．５ｍｌ）にＴＢＡＦのＴＨＦ溶液（０．１８５ｍｌ、１．０Ｍ）を加え、加熱還流下で半日攪拌した。反応終了後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液を加え分液し、水層をＥｔ２Ｏで抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させた。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝４：１）で精製し、下記の化合物を得た（０．００６３、８０％）。
Rf 0.18 (Hex:AcOEt=4:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.12-8.03 (2H, m), 7.60-7.52 (1H, m), 7.49-7.40 (2H, m), 5.71-5.62 (1H, m), 5.17-5.08 (1H, m), 3.54-3.42 (1H, m), 3.36-3.25 (1H, m), 2.37 (1H, d, J=6.8 Hz), 2.37-2.12 (2H, m), 1.98-1.91 (1H, m), 1.89-1.76 (2H, m), 1.69 (3H, s), 1.65 (3H, d, J=6.8 Hz), 1.42-1.35 (1H, m), 1.31-1.18 (2H, m), 1.04 (3H, s), 0.95 (3H, d, J=6.3 Hz), 0.79-0.72 (1H, m), 0.70-0.64 (1H, m), 0.34-0.28 (1H, m).
【化１９】
0005399373.tif 000026
【０１２０】
製造工程１−（１１）
アルゴン雰囲気下、製造工程１−（１０）で得た化合物（０．００６３ｇ、０．０１６５ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２溶液（０．８ｍｌ）にＤｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ試薬（０．０２１１ｇ、０．０４９７ｍｍｏｌ）を加え、室温で攪拌した。反応終了後、反応溶液をＥｔ２Ｏで希釈し、飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液と飽和ＮａＨＣＯ３水溶液を加え分液し、水層をＥｔ２Ｏで抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させた。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝２０：１）で精製し、下記の化合物を得た（０．００６３ｇ、１００％）。
Rf 0.60 (Hex:AcOEt=4:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 9.65 (1H, d, J=1.7 Hz), 8.10-8.01 (2H, m), 7.59-7.51 (1H, m), 7.50-7.40 (2H, m), 5.74 (1H, q, J=6.6 Hz), 5.12 (1H, ddd, J=11.2, 4.9, 4.9 Hz), 2.67-2.57 (2H, m), 2.16-2.08 (1H, m), 2.04-1.94 (1H, m), 1.88-1.72 (3H, m), 1.71 (3H, s), 1.68 (3H, d, J=6.6 Hz), 1.32-1.15 (2H, m), 1.14 (3H, s), 0.91 (3H, d, J=6.3 Hz), 0.87-0.76 (2H, m), 0.10 (1H, dd, J=4.4, 4.4 Hz).
【化２０】
0005399373.tif 000027
【０１２１】
製造工程１−（１２）
アルゴン雰囲気下、−７８℃で原料２（０．０１６９ｇ、０．０６７５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（０．３ｍｌ）に、ＬｉＨＭＤＳのＴＨＦ溶液（０．０３８７ｍｌ、１．０７Ｍ）を徐々に滴加し、３０分間攪拌した。製造工程１−（１１）で得た化合物（０．００６３ｇ、０．０１６６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１ｍｌ）を加え２時間攪拌し、その後０℃に昇温した。反応終了後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液を加え分液し、水層をＥｔ２Ｏで抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させた。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝２０：１）で精製した。１Ｈ−ＮＭＲ測定後、未反応の製造工程１−（１１）で得た化合物が確認されたため、上記操作を再び繰り返し、下記化合物を得た（０．００８０ｇ、９３％）。
Rf 0.60 (Hex:AcOEt=4:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.12-8.02 (2H, m), 7.60-7.51 (1H, m), 7.49-7.40 (2H, m), 7.15 (1H, J=15.4, 9.8 Hz), 6.12-5.97 (2H, m), 5.74 (1H, d, J=15.4 Hz), 5.64 (1H, q, J=6.3 Hz), 5.14-5.02 (1H, m), 4.17 (2H, q, J=7.1Hz), 2.85-2.76 (1H, m), 2.42-2.34 (1H, m), 2.28-2.18 (1H, m), 2.01-1.90 (1H, m), 1.88-1.75 (2H, m), 1.71-1.56 (6H, m), 1.55 (3H, s), 1.27 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.07 (3H, s), 0.97 (3H, d, J=6.8 Hz), 0.84-0.76 (1H, m), 0.74-0.67 (1H, m), 0.41-0.33 (1H, m).
【化２１】
0005399373.tif 000028
【０１２２】
製造工程１−（１３）
アルゴン雰囲気下、製造工程１−（１２）で得た化合物（０．００８０ｇ、０．０１６８ｍｍｏｌ）のＥｔＯＨ／Ｈ２Ｏ（４／１）溶液（０．５ｍｌ）に、ＬｉＯＨ・Ｈ２Ｏ（０．０１０４ｇ、０．２４８ｍｍｏｌ）を加え、室温で１日攪拌した。反応終了後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液を加え分液し、水層をＡｃＯＥｔで抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させた。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝１：３）で精製し、標題の化合物：（２Ｅ，４Ｅ）−５−｛（１ａＲ，２Ｒ，３Ｓ，３ａＳ，４Ｓ，７Ｓ，７ａＳ，７ｂＲ）−２−［（Ｅ）−ブト−２−エン−２−イル］−デカヒドロ−７−ヒドロキシ−１ａ，４−ジメチル−１Ｈ−シクロプロパ［ａ］ナフタレン−３−イル｝ペンタ−２，４−ジエン酸を得た（０．００５８ｇ、１００％）。
Rf 0.44 (Hex:AcOEt=1:10); 1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 7.26 (1H, dd, J=15.4, 7.7 Hz), 6.12-6.08 (2H, m), 5.74 (1H, d, J=15.4 Hz), 5.66 (1H, qt, J=6.7, 1.3 Hz), 3.74 (1H, ddd, J=12.0, 4.6, 4.6 Hz), 2.81-2.76 (1H, m), 2.35 (1H, d, J=6.1 Hz), 2.03-1.97 (1H, m), 1.80-1.69 (2H, m), 1.69-1.57 (4H, m), 1.55 (3H, s), 1.52-1.43 (1H, m), 1.19 (1H, ddd, J=10.8, 3.6, 3.6 Hz), 1.12-1.01 (4H, m), 0.93 (3H, d, J=6.7 Hz), 0.74 (1H,dd, J=9.0, 4.6 Hz), 0.63-0.57 (1H, m), 0.35 (1H, dd, J=4.6, 4.6 Hz);  13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 171.6, 147.6, 147.5, 134.2, 128.3, 120.3, 118.0, 73.3, 47.0, 44.9, 39.8, 38.9, 33.4, 30.3, 28.8, 27.4, 20.5, 18.7, 16.2, 15.8, 15.6, 13.4; FAB-MS : [M+Na]+ calculated for C22H32O3Na : 367.2249, Found : 367.2240.
【化２２】
0005399373.tif 000029
【０１２３】
実施例２：(2E,4E)-5-{(1S,4S,4aS,5S,6R,7S,8aR)-6-[(E)-ブト-2-エン-2-イル]-デカヒドロ-1-ヒドロキシ-4,7-ジメチルナフタレン-5-イル}ペンタ-2,4-ジエン酸の合成
製造工程２−（１）
アルゴン雰囲気下、［Ｉｒ（ｃｏｄ）ｐｙｒ（ＰＣｙ３）］ＰＦ６（Ｃｒａｂｔｒｅｅ’ｓ  ｃａｔａｌｙｓｔ）（０．００８４ｇ、０．０１０４ｍｍｏｌ）を脱気した（ＣＨ２Ｃｌ）２（０．４ｍｌ）に溶かし、この溶液に、脱気した（ＣＨ２Ｃｌ）２（２．５ｍｌ）に原料１（０．０３３０ｇ、０．０５２０ｍｍｏｌ）を溶かした溶液を加えた。Ｈ２ガス（１ａｔｍ）封入後６０℃まで昇温し、２時間攪拌した。反応終了後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液を加え分液し、水層をＣＨ２Ｃｌ２で抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させた。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝２０：１）で精製し、下記の化合物を得た（０．０２７９ｇ、８４％）。
Rf 0.35 (Benzene:AcOEt=100:1, 2 times eluent); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.75-7.66 (4H, m), 7.49-7.33 (6H, m), 4.09 (1H, dd, J=10.2, 9.0 Hz), 3.84-3.76 (1H, m), 3.74-3.66 (1H, m), 3.58-3.49 (2H, m), 3.41 (1H, dd, J=10.5, 2.7 Hz), 2.25-2.18 (1H, br), 1.76-1.42 (8H, m), 1.17-0.86 (36H, m), 0.77 (3H, d, J=6.1 Hz).
【化２３】
0005399373.tif 000030
【０１２４】
製造工程２−（２）
製造工程１−（２）と同様の条件で反応を行い、製造工程２−（１）で得た化合物（０．０６１３ｇ、０．０９６２ｍｍｏｌ）から下記の化合物を得た（０．０６１１ｇ、９５％）。
Rf 0.67 (Hex:AcOEt=4:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 9.70 (1H, d, J=2.7 Hz), 7.68-7.59 (4H, m), 7.46-7.34 (6H, m), 3.86 (1H, dd, J=10.2, 8.3 Hz), 3.68-3.60 (1H, m), 3.54 (1H, dd, J=10.2, 6.3 Hz), 2.51-2.41 (1H, m), 2.09 (1H, ddd, J=11.7, 3.4, 3.4 Hz), 1.99-1.84 (2H, m), 1.78 (1H, ddd, J=17.3, 3.7, 3.7 Hz), 1.74-1.49 (4H, m), 1.15-0.98 (33H, m), 0.96 (3H, d, J=6.1 Hz), 0.84 (3H, d, J=6.1 Hz).
【化２４】
0005399373.tif 000031
【０１２５】
製造工程２−（３）
製造工程１−（３）と同様の条件で反応を行い、製造工程２−（２）で得た化合物（０．０５７８ｇ、０．０９１０ｍｍｏｌ）から下記の化合物を得た（０．０５７２ｇ、７９％）。
Rf 0.64 (Hex:AcOEt=10:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.69-7.62 (4H, m), 7.47-7.36 (6H, m),  6.18 (1H, d, J=8.8 Hz), 3.77-3.66 (3H, m), 2.28-2.19 (2H, m), 2.10-2.00 (1H, m), 1.79-1.66 (3H, m), 1.64-1.48 (1H, m), 1.09-0.98 (35H, m), 0.91 (3H, d, J=6.1 Hz), 0.81 (3H, d, J=6.3 Hz).
【化２５】
0005399373.tif 000032
【０１２６】
製造工程２−（４）
製造工程１−（４）と同様の条件で反応を行い、製造工程２−（３）で得た化合物（０．０５７２ｇ、０．０７２３ｍｍｏｌ）から下記の化合物を得た（０．０４３９ｇ、９６％）。
Rf 0.41 (Hex:AcOEt=20:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.70-7.63 (4H, m), 7.44-7.32 (6H, m), 4.12 (1H, dd, J=9.8, 3.4 Hz), 3.85-3.70 (2H, m), 2.31-2.18 (2H, m), 2.14-2.05 (1H, m), 1.90 (1H, d, J=2.4 Hz), 1.78-1.68 (3H, m), 1.66-1.47 (1H, m), 1.09-1.00 (35H, m), 0.99 (3H, d, J=6.3 Hz), 0.90 (3H, d, J=6.3 Hz).
【化２６】
0005399373.tif 000033
【０１２７】
製造工程２−（５）
製造工程１−（５）と同様の条件で反応を行い、製造工程２−（４）で得た化合物（０．０３２３ｇ、０．０５１２ｍｍｏｌ）から下記の化合物を得た（０．０３９３ｇ、９９％)。
Rf 0.62 (Hex:AcOEt=20:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.67-7.56 (4H, m), 7.46-7.33 (6H, m), 5.66 (1H, s), 3.76 (1H, ddd, J=10.7, 5.4, 5.4 Hz), 3.63 (1H, dd, J=9.8, 9.8 Hz), 3.53 (1H, dd, J=9.8, 3.9 Hz), 2.13-1.97 (3H, m), 1.83-1.67 (3H, m), 1.60 (3H, s), 1.13-0.95 (36H, m), 0.87 (3H, d, J=5.6 Hz), 0.79 (3H, d, J=6.1 Hz).
【化２７】
0005399373.tif 000034
【０１２８】
製造工程２−（６）
製造工程１−（６）と同様の条件で反応を行い、製造工程２−（５）で得た化合物（０．０３９３ｇ、０．０５０８ｍｍｏｌ）から下記の化合物を得た（０．０３０７ｇ、９１％）。
Rf 0.44 (Hex:AcOEt=30:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.68-7.57 (4H, m), 7.45-7.30 (6H, m), 4.92 (1H, q, J=6.6 Hz), 3.82-3.73 (1H, m), 3.65 (1H, dd, J=10.0, 10.0 Hz), 3.57 (1H, dd, J=10.0, 4.4 Hz), 2.18-2.07 (1H, m), 2.06-1.96 (1H, m), 1.82-1.66 (6H, m), 1.66-1.55 (2H, m), 1.40 (3H, d, J=6.6 Hz), 1.37 (3H, s), 1.16-0.95 (32H, m), 0.88 (3H, d, J=4.9 Hz), 0.76 (3H, d, J=6.1 Hz).
【化２８】
0005399373.tif 000035
【０１２９】
製造工程２−（７）
製造工程１−（７）と同様の条件で反応を行い、製造工程２−（６）で得た化合物（０．０３８７ｇ、０．０５８５ｍｍｏｌ）から下記の化合物を得た（０．０１５４ｇ、９９％)。
Rf  0.14 (Hex:AcOEt=1:1)
【化２９】
0005399373.tif 000036
【０１３０】
製造工程２−（８）
製造工程１−（８）と同様の条件で反応を行い、製造工程２−（７）で得た化合物（０．０１５４ｇ、０．０５７８ｍｍｏｌ）から下記の化合物を得た（０．０１６６ｇ、７５％)。
Rf 0.79 (Hex:AcOEt=1:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 5.10 (1H, q, J=6.8 Hz), 3.75-3.66 (1H, m), 3.62-3.53 (2H, m), 2.20-2.07 (1H, m), 1.97-1.88 (1H, m), 1.86-1.56 (14H, m), 1.18-1.00 (2H, m), 0.99-0.85 (12H, m), 0.83 (3H, d, J=6.3 Hz), 0.08-0.00 (6H, m).
【化３０】
0005399373.tif 000037
【０１３１】
製造工程２−（９）
製造工程１−（９）と同様の条件で反応を行い、製造工程２−（８）で得た化合物（０．０１６６ｇ、０．０４３６ｍｍｏｌ）から下記の化合物を得た（０．０２１６ｇ、ｑｕａｎｔ．）。
Rf 0.77 (Hex:AcOEt=4:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.11-8.00 (2H, m), 7.60-7.50 (1H, m), 7.49-7.40 (2H, m), 5.13-5.01 (2H, m), 3.60-3.51 (2H, m), 2.41-2.30 (1H, m), 1.98-1.90 (1H, m), 1.89-1.47 (14H, m), 1.34-1.16 (2H, m), 0.93-0.85 (12H, m), 0.83 (3H, d, J=6.1 Hz), 0.04- -0.04 (6H, m).
【化３１】
0005399373.tif 000038
【０１３２】
製造工程２−（１０）
製造工程１−（１０）と同様の条件で反応を行い、製造工程２−（９）で得た化合物（０．０２１６ｇ、０．０４３５ｍｍｏｌ）から下記の化合物を得た（０．０１６７ｇ、ｑｕａｎｔ．）。
Rf 0.24 (Hex:AcOEt=4:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.07-8.00 (2H, m), 7.60-7.51 (1H, m), 7.48-7.40 (2H, m), 5.22 (1H, q, J=6.1 Hz), 5.10-5.02 (1H, m), 3.86-3.78 (1H, m), 3.52-3.42 (1H, m), 2.26-2.16 (1H, m), 2.13-2.06 (1H, m), 1.90-1.68 (8H, m), 1.67-1.61 (6H, m), 1.41-1.16 (2H, m), 0.93 (3H, d, J=6.3 Hz), 0.88 (3H, d, J=5.9 Hz).
【化３２】
0005399373.tif 000039
【０１３３】
製造工程２−（１１）
製造工程１−（１１）と同様の条件で反応を行い、製造工程２−（１０）で得た化合物（０．０１６７ｇ、０．０４５１ｍｍｏｌ）から下記の化合物を得た（０．０１５１ｇ、９１％）。
Rf 0.56 (Hex:AcOEt=4:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 9.94 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.06-8.00 (2H, m), 7.58-7.50 (1H, m), 7.47-7.40 (2H, m), 5.34 (1H, q, J=5.1 Hz), 5.06 (1H, ddd, J=12.0, 4.9, 4.9 Hz), 2.59-2.55 (1H, m), 2.35-2.26 (1H, m), 2.05-1.71 (8H, m), 1.67-1.58 (6H, m), 1.46-1.16 (2H, m), 0.94 (3H, d, J=5.9 Hz), 0.91 (3H, d, J=5.6 Hz).
【化３３】
0005399373.tif 000040
【０１３４】
製造工程２−（１２）
製造工程１−（１２）と同様の条件で反応を行い、製造工程２−（１１）で得た化合物（０．０１５１ｇ、０．０４１０ｍｍｏｌ）から下記の化合物を得た（０．０１８６ｇ、９８％）。なお、製造工程２−（１１）で得た化合物を用いた場合は、製造工程１−（１１）で得た化合物を用いた場合とは異なり、反応操作を繰り返すことなく１回の反応で全ての製造工程２−（１１）で得た化合物が消費された。
Rf 0.56 (Hex:AcOEt=4:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.06-8.00 (2H, m), 7.60-7.51 (1H, m), 7.48-7.41 (2H, m), 7.31-7.19 (1H, m), 6.43 (1H, dd, J=14.9, 9.1 Hz), 6.07 (1H, dd, J=14.9, 9.1 Hz), 5.77 (1H, d, J=15.1 Hz), 5.15 (1H, q, J=6.3 Hz), 5.00 (1H, ddd, J=10.7, 5.4, 5.4 Hz), 4.24-4.15 (2H, m), 2.64-2.58 (1H, m), 2.44-2.38 (1H, m), 1.95-1.75 (6H, m), 1.63-1.48 (5H, m), 1.45 (3H, s), 1.29 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.25-1.03 (2H, m), 0.95 (3H, d, J=6.3 Hz), 0.85 (3H, d, J=6.1Hz).
【化３４】
0005399373.tif 000041
【０１３５】
製造工程２−（１３）
製造工程１−（１３）と同様の条件で反応を行い、製造工程２−（１２）で得た化合物（０．０１８６ｇ、０．０４００ｍｍｏｌ）から標題の化合物：（２Ｅ，４Ｅ）−５−｛（１Ｓ，４Ｓ，４ａＳ，５Ｓ，６Ｒ，７Ｓ，８ａＲ）−６−［（Ｅ）−ブト−２−エン−２−イル］−デカヒドロ−１−ヒドロキシ−４，７−ジメチルナフタレン−５−イル｝ペンタ−２，４−ジエン酸を得た（０．０１２５ｇ、９４％）。なお、このときの精製操作は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝１：１）を行った。
Rf 0.14 (Hex:AcOEt=1:1); 1H NMR (600 MHz, CD3OD) δ 7.23 (1H, dd, J=15.1, 11.0 Hz), 6.54 (1H, dd, J=14.8, 9.5 Hz), 6.09 (1H, dd, J=14.8, 11.0 Hz), 5.76 (1H, d, J=15.1 Hz), 5.18 (1H, q, J=6.7 Hz), 3.58 (1H, ddd, J=10.2, 5.1, 5.1 Hz), 2.68-2.58 (1H, m), 2.19-2.12 (1H, m), 1.96-1.69 (6H, m),  1.67-1.53 (5H, m), 1.49 (3H, s), 1.30-1.04 (2H, m), 0.91 (3H, d, J=6.4 Hz), 0.84 (3H, d, J=6.1 Hz);  13C NMR (150 MHz, CD3OD) δ 170.9, 148.5, 147.0, 137.8, 129.8, 121.5, 120.5, 73.8, 53.1, 51.5, 46.5, 39.3, 35.1, 30.4, 30.2, 30.0, 28.8, 21.3, 19.7, 15.9, 13.3; FAB-MS : [M+H]+ calculated for C21H33O3 : 333.2430,  Found : 333.2435.
【化３５】
0005399373.tif 000042
【０１３６】
実施例３：（２Ｅ，４Ｅ）−５−｛（１Ｓ，４Ｓ，４ａＳ，５Ｓ，６Ｒ，７Ｓ，８ａＲ）−６−［（Ｚ）−ブト−２−エン−２−イル］−デカヒドロ−１−ヒドロキシ−４，７−ジメチルナフタレン−５−イル｝ペンタ−２，４−ジエン酸の合成（第一の合成方法）
製造工程３−（１）
アルゴン雰囲気下、０℃でｉＰｒ２ＮＨ（０．０３６５ｍｌ、０．２６０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（０．５ｍｌ）にｎ−ＢｕＬｉのヘキサン溶液（０．１４３９ｍｌ、１．６３Ｍ）を加え、１０分間攪拌した。−７８℃まで冷却し、ＡｃＯＭｅ（０．０２０７ｍｌ、０．２６１ｍｍｏｌ）を加え、１０分間攪拌した。製造工程２−（２）で得た化合物（０．０３３１ｇ、０．０５２１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１．２ｍｌ）を加え攪拌した。反応終了後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液を加え、分液し、水層をＥｔ２Ｏで抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させた。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝１０：１）で精製し、下記の化合物を得た（０．０３６５ｇ、９９％）。
Rf 0.40 (Hex:AcOEt=4:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.72-7.60 (4H, m), 7.48-7.31 (6H, m), 4.22-4.10 (1H, m), 4.03-3.94 (1H, m), 3.73-3.66 (3H, m), 3.62-3.54 (1H, m), 3.48-3.40 (1H, m), 2.78-2.62 (1H, m), 2.55-2.39 (1H, m), 2.07-1.94 (1H, m), 1.84-1.34 (9H, m), 1.17-0.85 (35H, m), 0.72 (3H, d, J=6.1 Hz).
【化３６】
0005399373.tif 000043
【０１３７】
製造工程３−（２）
アルゴン雰囲気下、製造工程３−（１）で得た化合物（０．０３６５ｇ、０．０５１５ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２溶液（２ｍｌ）にＤｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ試薬  （０．０４３６ｇ、０．１０３ｍｍｏｌ）を加え、室温で攪拌した。反応終了後、反応溶液をＥｔ２Ｏで希釈し、飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液と飽和ＮａＨＣＯ３水溶液を加え分液し、水層をＥｔ２Ｏで抽出し、集めた油層をＭｇＳＯ４で乾燥させた。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝３０：１）で精製し、下記の化合物を得た（０．０３１０ｇ、８５％）。
Rf 0.27 (Hex:AcOEt=10:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.66-7.57 (4H, m), 7.46-7.31 (6H, m), 3.73-3.67 (1H, m), 3.66 (3H, s), 3.60 (1H, dd, J=10.5, 8.3 Hz), 3.48 (1H, dd, J=10.5, 5.6 Hz), 3.36 (1H, d, J=14.9 Hz), 3.17 (1H, d, J=14.9 Hz), 2.51 (1H, dd, J=11.5, 4.1 Hz), 2.35-2.24 (1H, m),  1.96-1.49 (8H, m), 1.12-0.95 (32H, m), 0.92 (3H, d, J=5.9 Hz), 0.83 (3H, d, J=6.1 Hz).
【化３７】
0005399373.tif 000044
【０１３８】
製造工程３−（３）
アルゴン雰囲気下、０℃で製造工程３−（２）で得た化合物（０．０３１０ｇ、０．０４３８ｍｍｏｌ）のＨＭＰＡ溶液（１．５ｍｌ）にＥｔ３Ｎ（０．０６１１ｍｌ、０．４３８ｍｍｏｌ）を加え、２時間攪拌した。ＣｌＰ（Ｏ）（ＯＰｈ）２（０．０９０７ｍｌ、０．２６０ｍｍｏｌ）とＤＭＡＰ（０．０００５ｇ、０．００４０９ｍｍｏｌ）を加え、室温で攪拌した。反応終了後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液加え分液し、水層をＥｔ２Ｏで抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させた。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝１０：１）で精製し、下記の化合物を得た（０．０４０３ｇ，  ９８％）。
Rf 0.51 (Hex:AcOEt=4:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.65-7.54 (4H, m), 7.44-7.26 (6H, m), 7.23-7.16 (2H, m), 7.16-7.05 (4H, m), 7.01-6.94 (2H, m), 6.91-6.84 (2H, m), 5.90 (1H, s), 3.77-3.55 (6H, m), 2.26-2.17 (1H, m), 1.97-1.88 (1H, m), 1.86-1.69 (3H, m), 1.64-1.51 (3H, m), 1.15-0.97 (34H, m), 0.94 (3H, d, J=5.4 Hz), 0.65 (3H, d, J=5.9 Hz).
【化３８】
0005399373.tif 000045
【０１３９】
製造工程３−（４）
製造工程３−（３）で得た化合物（０．１１１ｇ、０．１１８ｍｍｏｌ）とＦｅ（ａｃａｃ）３（０．２０８ｇ、０．５９１ｍｍｏｌ）を混合し、アルゴン雰囲気下、トルエン共沸した後、ＮＭＰ（４ｍｌ）を加え、溶液を調製した。アルゴン雰囲気下、空のナスフラスコをトルエン共沸し、ＮＭＰ（１ｍｌ）を加え、０℃に冷却した後、ＭｅＭｇＣｌのＴＨＦ溶液（２．３７ｍｌ、３．０Ｍ）を加えた。ここに、前記の調製した溶液を徐々に滴下し、攪拌した。反応終了後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液を加え分液し、水層をＥｔ２Ｏで抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させた。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝５０：１）で精製し、下記の化合物を得た（０．０７６３ｇ、９１％）。
Rf 0.58 (Hex:AcOEt=10:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.68-7.57 (4H, m), 7.45-7.30 (6H, m), 5.60 (1H, s), 3.78-3.59 (6H, m), 2.21-2.14 (1H, m), 2.06-1.97 (1H, m), 1.89-1.71 (2H, m), 1.65 (3H, s), 1.63-1.53 (4H, m), 1.19-1.10 (34H, m), 0.96 (3H, d, J=6.1 Hz), 0.76 (3H, d, J=6.1 Hz).
【化３９】
0005399373.tif 000046
【０１４０】
製造工程３−（５）
アルゴン雰囲気下、−７８℃で製造工程２−（４）で得た化合物（０．０７６３ｇ、０．１０８ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２溶液（３ｍｌ）にＤＩＢＡＬのヘキサン溶液（０．４１４ｍｌ、０．９８Ｍ）を加え、撹拌した。反応終了後、ＭｅＯＨを泡が出なくなるまで加え、室温まで昇温し飽和酒石酸ナトリウムカリウム水溶液を加えた。３０分間撹拌した後分液し、水層をＣＨ２Ｃｌ２で抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させた。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝１０：１）で精製し、下記の化合物を得た（０．０７２０ｇ、９８％）。
Rf 0.17 (Hex:AcOEt=10:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.67-7.56 (4H, m), 7.46-7.30 (6H, m), 5.36-5.28 (1H, m), 4.22-4.12 (1H, m), 4.04-3.95 (1H, m), 3.80-3.68 (2H, m), 3.64 (1H, dd, J=9.5, 5.1 Hz), 2.39-2.30 (1H, m), 2.11-2.02 (1H, m), 1.92-1.66 (4H, m), 1.66-1.50 (4H, m), 1.47 (3H, s), 1.16-0.96 (32H, m), 0.87 (3H, d, J=5.1 Hz), 0.76 (3H, d, J=6.1 Hz).
【化４０】
0005399373.tif 000047
【０１４１】
製造工程３−（６）
アルゴン雰囲気下、０℃で製造工程３−（５）で得た化合物（０．０７２０ｇ、０．１０６ｍｍｏｌ）のＥｔ２Ｏ溶液（３ｍｌ）にｐｙｒｉｄｉｎｅ（０．０２５８ｍｌ、０．３１９ｍｍｏｌ）とＰＢｒ３（０．１１１ｍｌ、１．０６３ｍｍｏｌ）を加え、攪拌した。反応終了後、反応溶液をそのままシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｅｔ２Ｏ）にて粗精製し、下記の粗化合物を得た。これをそのまま次の反応に用いた。
Rf 0.64 (Hex:AcOEt=10:1)
【化４１】
0005399373.tif 000048
【０１４２】
製造工程３−（７）
アルゴン雰囲気下、氷浴下、製造工程３−（６）で得た粗化合物のＥｔ２Ｏ溶液（３ｍｌ）にＬｉＡｌＨ４（０．０２７４ｇ、０．５７８ｍｍｏｌ）を加え、攪拌した。反応終了後、発泡しなくなるまで飽和Ｎａ２ＳＯ４水溶液を加え、析出した固体をｃｅｌｉｔｅ濾過した。溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝１００：１）で精製し、下記の化合物（０．０５１３ｇ、７３％を得た（２工程））。
Rf 0.22 (Hex:AcOEt=30:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.68-7.59 (4H, m), 7.44-7.30 (6H, m), 5.19-5.11 (1H, m), 3.82-3.70 (2H, m), 3.66 (1H, dd, J=9.8, 5.1 Hz), 2.40-2.33 (1H, m), 2.14-1.99 (2H, m), 1.84-1.70 (5H, m), 1.66-1.57 (2H, m), 1.55 (3H, d, J=6.1 Hz), 1.39 (3H, s), 1.14-0.98 (32H, m), 0.89 (3H, d, J=5.6 Hz), 0.75 (3H, d, J=6.1 Hz).
【化４２】
0005399373.tif 000049
【０１４３】
製造工程３−（８）
製造工程１−（７）と同様の条件で反応を行い、製造工程３−（７）で得た化合物（０．０５１３ｇ、０．０７７６ｍｍｏｌ）から下記の化合物（０．０１９０ｇ、９２％）を得た。なお、このときの精製操作は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝１：１）を行った。
Rf 0.21 (Hex:AcOEt=1:1); 1H NMR (400 MHz, CD3OD) δ 4.84 (1H, q, J=6.8 Hz), 3.20-3.05 (3H, m), 2.01-1.90 (1H, m), 1.65-1.54 (1H, m), 1.54-1.42 (1H, m), 1.38-1.18 (7H, m), 1.15 (3H, s), 1.11 (3H, dd, J=6.8, 1.0 Hz), 0.70-0.50 (2H, m), 0.41 (3H, d, J=6.1 Hz), 0.31 (3H, d, J=5.9 Hz).
【化４３】
0005399373.tif 000050
【０１４４】
製造工程３−（９）
製造工程１−（８）と同様の条件で反応を行い、製造工程３−（８）で得た化合物（０．０１９０ｇ、０．０７１３ｍｍｏｌ）から下記の化合物を得た（０．０２６２ｇ、９７％）。
Rf 0.80 (Hex:AcOEt=1:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 5.31 (1H, q, J=6.8 Hz), 3.73-3.53 (3H, m), 2.45-2.36 (1H, m), 2.15-2.05 (1H, m), 1.98-1.88 (1H, m), 1.84-1.71 (2H, m), 1.71-1.48 (9H, m), 1.15-1.01 (2H, m), 0.90-0.84 (12H, m), 0.80 (3H, d, J=6.1 Hz), 0.03-0.00 (6H, m).
【化４４】
0005399373.tif 000051
【０１４５】
製造工程３−（１０）
製造工程１−（９）と同様の条件で反応を行い、製造工程３−（９）で得た化合物（０．００５２ｇ、０．０１３７ｍｍｏｌ）から下記の化合物を得た（０．００６６ｇ、ｑｕａｎｔ．）。
Rf 0.70 (Hex:AcOEt=4:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.10-8.01 (2H, m), 7.61-7.50 (1H, m), 7.50-7.40 (2H, m), 5.32 (1H, q, J=5.9 Hz), 5.12-5.00 (1H, m), 3.70-3.49 (2H, m), 2.52-2.28 (2H, m), 2.02-1.54 (12H, m), 1.40-1.13 (4H, m), 1.01-0.83 (12H, m), 0.82 (3H, d, J=6.1 Hz), 0.09-0.00 (6H, m).
【化４５】
0005399373.tif 000052
【０１４６】
製造工程３−（１１）
製造工程１−（１０）と同様の条件で反応を行い、製造工程３−（１０）で得た化合物（０．００６６ｇ、０．０１３３ｍｍｏｌ）から下記の化合物を得た（０．００５５ｇ、ｑｕａｎｔ．）。なお、このときの精製操作は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝８：１）を行った。
Rf 0.30 (Hex:AcOEt=4:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.12-8.02 (2H, m), 7.63-7.51 (1H, m), 7.51-7.40 (2H, m), 5.36 (1H, q, J=6.9 Hz), 5.07 (1H, ddd, J=10.7, 5.4, 5.4 Hz), 3.77 (1H, dd, J=10.2, 4.9 Hz), 3.65 (1H, dd, J=10.2, 10.2 Hz), 2.54-2.41 (1H, m), 2.39-2.26 (1H, m), 2.14-1.46 (12H, m), 1.42-1.14 (4H, m), 0.96 (3H, d, J=6.1 Hz), 0.84 (3H, d, J=5.9 Hz).
【化４６】
0005399373.tif 000053
【０１４７】
製造工程３−（１２）
製造工程１−（１１）と同様の条件で反応を行い、製造工程３−（１１）で得た化合物（０．００５５ｇ、０．０１４８ｍｍｏｌ）から下記の化合物を得た（０．００４５ｇ、８２％）。
Rf 0.52 (Hex:AcOEt=4:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 10.0 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.09-8.00 (2H, m), 7.60-7.51 (1H, m), 7.49-7.40 (2H, m), 5.42 (1H, q, J=5.9 Hz), 5.08 (1H, ddd, J=11.5, 4.9, 4.9 Hz), 2.68-2.55 (2H, m), 2.47-2.38 (1H, m), 1.98-1.50 (13H, m), 1.47-1.16 (2H, m), 0.94 (3H, d, J=6.3 Hz), 0.89 (3H, d, J=6.1 Hz).
【化４７】
0005399373.tif 000054
【０１４８】
製造工程３−（１３）
製造工程１−（１２）と同様の条件で反応を行い、製造工程３−（１２）で得た化合物（０．００４５ｇ、０．０１２２ｍｍｏｌ）から下記の化合物を得た（０．００５１ｇ，  ８９％）。
Rf 0.52 (Hex:AcOEt=4:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.11-8.00 (2H, m), 7.63-7.51 (1H, m), 7.50-7.40 (2H, m), 7.34-7.18 (1H, m), 6.54 (1H, dd, J=14.6, 10.0 Hz), 6.10 (1H, dd, J=14.6, 11.0 Hz), 5.78 (1H, d, J=15.4 Hz), 5.27 (1H, q, J=6.1 Hz), 5.07-4.95 (1H, m), 4.27-4.11 (2H, m), 2.66-2.35 (3H, m), 2.02-1.66 (7H, m), 1.60 (3H, d, J=6.1 Hz), 1.50 (3H, s), 1.29 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.23-1.09 (2H, m), 0.98 (3H, d, J=6.3 Hz), 0.83 (3H, d, J=5.6 Hz).
【化４８】
0005399373.tif 000055
【０１４９】
製造工程３−（１４）
製造工程１−（１３）と同様の条件で反応を行い、製造工程３−（１３）で得た化合物（０．００５１ｇ、０．０１１０ｍｍｏｌ）から標題の化合物：（２Ｅ，４Ｅ）−５−｛（１Ｓ，４Ｓ，４ａＳ，５Ｓ，６Ｒ，７Ｓ，８ａＲ）−６−［（Ｚ）−ブト−２−エン−２−イル］−デカヒドロ−１−ヒドロキシ−４，７−ジメチルナフタレン−５−イル｝ペンタ−２，４−ジエン酸を得た（０．００３２ｇ、８９％）。なお、このときの精製操作は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝２：１）を行った。
Rf 0.29 (Hex:AcOEt=1:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.35 (1H, dd, J=15.4, 11.0 Hz), 6.63 (1H, dd, J=14.9, 9.8 Hz), 6.13 (1H, dd, J=14.9, 11.0 Hz), 5.79 (1H, d, J=15.4 Hz), 5.27 (1H, qd, J=6.8, 1.0 Hz), 3.67 (1H, ddd, J=11.5, 4.9, 4.9 Hz), 2.58-2.46 (2H, m), 2.24-2.14 (1H, m), 1.93-1.62 (7H, m), 1.59 (3H, dd, J=6.8, 0.7Hz), 1.51 (3H, s), 1.24-1.00 (2H, m), 0.94 (3H, d, J=6.3 Hz), 0.83 (3H, d, J=6.1 Hz); FAB-MS : [M+Na]+ calculated for C21H32O3Na : 355.2249,  Found : 355.2249.
【化４９】
0005399373.tif 000056
【０１５０】
実施例４において、１Ｈ−ＮＭＲは、ＪＥＯＬ  ＡＬ  ４００のスペクトルメーターを用いた。内部標準にはテトラメチルシランを用いた。【０１５１】
薄層クロマトグラフィーは、ＴＬＣ  ６０Ｆ−２５４（Ｍｅｒｃｋ社製）を用い、検出にはＵＶランプ、リンモリブデン酸を用いた。【０１５２】
シリカゲルクロマトグラフィーは、Ｓｉｌｉｃａ  Ｇｅｌ  ６０Ｎ（ｓｐｈｅｒｉｃａｌ，ｎｅｕｔｒａｌ）６３−２１０μｍ（関東化学株式会社製）、Ｓｉｌｉｃａ  Ｇｅｌ  ６０Ｎ（ｓｐｈｅｒｉｃａｌ，ｎｅｕｔｒａｌ）４０−５０μｍ（関東化学株式会社製）を用いた。【０１５３】
ＭＫ８３８３は、特開平７−１２６２１１号公報およびＷＯ９９／１１５９６号公報に記載の方法に従って、ＭＫ８３８３生産菌フォマ  エスピー（Phoma sp.）を培養し、培養液を精製して得られたものを使用した。【０１５４】
実施例４：（２Ｅ，４Ｅ）−５−｛（１Ｓ，４Ｓ，４ａＳ，５Ｓ，６Ｒ，７Ｓ，８ａＲ）−６−［（Ｚ）−ブト−２−エン−２−イル］−デカヒドロ−１−ヒドロキシ−４，７−ジメチルナフタレン−５−イル｝ペンタ−２，４−ジエン酸の合成（第二の合成方法）
製造工程４−（１）
アルゴン雰囲気下、ＭＫ８３８３（０．０４２３ｇ、０．１２８ｍｍｏｌ）のｂｅｎｚｅｎｅ／ＭｅＯＨ（５／１）溶液（１．８ｍｌ）にＴＭＳＣＨＮ２のＥｔ２Ｏ溶液（０．０８３２ｍｌ、２．０Ｍ）を加え、室温で攪拌した。反応終了後、少量の氷酢酸を加え、反応溶液の淡黄色が消失したら、溶媒を減圧下除去した。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝７：１）で精製し、下記化合物を得た（０．０４４０ｇ、ｑｕａｎｔ．）。
Rf 0.65 (Hex:AcOEt = 1:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.26-7.19 (1H, m), 6.21-6.09 (2H, m), 5.78 (1H, d, J=15.4 Hz), 5.62 (1H, s), 5.37 (1H, q, J=5.6 Hz), 3.76-3.69 (4H, m), 3.38-3.22 (1H, m), 2.99-2.78 (1H, m), 2.68-2.51 (1H, m), 1.76-1.57 (15H, m), 0.96 (3H, d, J=6.8 Hz).
【化５０】
0005399373.tif 000057
【０１５５】
製造工程４−（２）
アルゴン雰囲気下、製造工程４−（１）で得た化合物（０．０４４０ｇ、０．１２８ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２溶液（１．３ｍｌ）に２，６−ｌｕｔｉｄｉｎｅ（０．０２９８ｍｌ、０．２５６ｍｍｏｌ）、ＴＩＰＳＯＴｆ（０．０５４９ｍｌ、０．２０４ｍｍｏｌ）を順次加え、室温で攪拌した。反応終了後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（３ｍｌ）を加え分液し、水層をＣＨ２Ｃｌ２（５ｍｌ×３）で抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥した。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝１００：１）で精製し、下記化合物を得た（０．０５７６ｇ、９０％）。
Rf 0.69 (Hex:AcOEt = 4:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.29-7.20 (1H, m), 6.31 (1H, dd, J=15.4, 10.2 Hz), 6.11 (1H, dd, J=15.4, 11.0 Hz), 5.83-5.69 (2H, m), 5.34 (1H, q, J=6.3 Hz), 3.82-3.61 (5H, m), 2.78-2.62 (2H, m), 1.69-1.38 (15H, m), 1.39-1.00 (21H, m), 0.93 (3H, d, J=6.6 Hz).
【化５１】
0005399373.tif 000058
【０１５６】
製造工程４−（３）
アルゴン雰囲気下、−７８℃で製造工程４−（２）で得た化合物（０．０５０４ｇ、０．１０１ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２溶液（２ｍｌ）にＤＩＢＡＬのヘキサン溶液（０．２４７ｍｌ、１．０２Ｍ）を加え、撹拌した。反応終了後、ＭｅＯＨを泡が出なくなるまで加え、室温まで昇温し、飽和酒石酸ナトリウムカリウム水溶液（５ｍｌ）を加えた。３０分間撹拌した後に分液し、水層をＣＨ２Ｃｌ２（５ｍｌ×３）で抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥した。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝１５：１）で精製し、下記化合物を得た（０．０４６１ｇ、９９％）。
Rf 0.38 (Hex:AcOEt = 4:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 6.21 (1H, dd, J=15.1, 10.0 Hz), 5.99 (1H, dd, J=14.9, 10.0 Hz), 5.89 (1H, dd, J=14.9, 9.5 Hz), 5.77-5.68 (2H, m), 5.34 (1H, q, J=6.1 Hz), 4.17 (2H, dd, J=5.9, 5.9 Hz), 3.69 (1H, dt, J=11.0, 4.6 Hz), 2.71-2.57 (2H, m), 1.66-1.24 (16H, m), 1.11-1.01 (21H, m), 0.92 (3H, d, J=6.6 Hz).
【化５２】
0005399373.tif 000059
【０１５７】
製造工程４−（４）
アルゴン雰囲気下、製造工程４−（３）で得た化合物（０．１３６ｇ、０．２８７ｍｍｏｌ）のｄｉｏｘａｎｅ／Ｈ２Ｏ（３／１）溶液（４．８ｍｌ）に２，６−ｌｕｔｉｄｉｎｅ  （０．１３４ｍｌ、１．１５ｍｍｏｌ）、四酸化オスミウム（ＯｓＯ４）のｔ−ＢｕＯＨ／３０％Ｈ２Ｏ２ａｑ（１００／１）溶液（０．２９４ｍｌ、０．０３９Ｍ）、ＮａＩＯ４  （０．５１０ｇ、２．３８ｍｍｏｌ）を順次加え、室温で２時間攪拌した。反応終了後、純水（１０ｍｌ）を加え分液し、水層をＥｔ２Ｏ（１０ｍｌ×３）で抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥した。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝８０：１）で精製し、下記化合物を得た（０．１２３ｇ、９６％）。
Rf 0.65 (Hex:AcOEt = 4:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 9.48 (1H, d, J=7.8 Hz), 7.02 (1H, dd, J=15.4, 10.7 Hz), 6.07 (1H, dd, J=15.4, 7.8 Hz), 5.79 (1H, s), 5.38 (1H, q, J=6.1 Hz), 3.78-3.69 (1H, m), 3.05-2.89 (1H, m), 2.69-2.60 (1H, m), 1.72-1.40 (16H, m), 1.10-1.01 (21H, m), 0.95 (3H, d, J=6.6 Hz).
【化５３】
0005399373.tif 000060
【０１５８】
製造工程４−（５）
アルゴン雰囲気下、−７８℃で製造工程４−（４）で得られた化合物（０．０２８０ｇ、０．０６３０ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２溶液（２ｍｌ）にＤＩＢＡＬのヘキサン溶液（０．１２３ｍｌ、１．０２Ｍ）を加え、撹拌した。反応終了後、ＭｅＯＨを泡が出なくなるまで加え、室温まで昇温し、飽和酒石酸ナトリウムカリウム水溶液（５ｍｌ）を加えた。３０分間撹拌した後に分液し、水層をＣＨ２Ｃｌ２（５ｍｌ×３）で抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥した。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝１５：１）で精製し、下記化合物を得た（０．０２８０ｇ、ｑｕａｎｔ．）。
Rf 0.44 (Hex:AcOEt = 4:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 5.87 (1H, dd, J=14.9, 9.8 Hz), 5.73 (1H, s), 5.58 (1H, dt, J=15.1, 6.1 Hz), 5.35 (1H, q, J=6.6 Hz), 4.07 (2H, dd, J=6.1, 6.1Hz), 3.70 (1H, dt, J=11.0, 5.1 Hz), 2.72-2.56 (2H, m), 1.68-1.36 (16H, m), 1.13-1.01 (21H, m), 0.92 (3H, d, J=6.6 Hz).
【化５４】
0005399373.tif 000061
【０１５９】
製造工程４−（６）
アルゴン雰囲気下、製造工程４−（５）で得られた化合物（０．１２２ｇ、０．２７２ｍｍｏｌ）のｄｉｏｘａｎｅ／Ｈ２Ｏ（６／１）溶液（８．４ｍｌ）にｐｙｒｉｄｉｎｅ（０．０８８０ｍｌ、１．０９ｍｍｏｌ）、ＯｓＯ４のｔ−ＢｕＯＨ／３０％Ｈ２Ｏ２ａｑ（１００／１）溶液（０．２７９ｍｌ、０．０３９Ｍ）、ＮａＩＯ４（０．４６５７ｇ、２．１８ｍｍｏｌ）を順次加え、室温で３６時間攪拌した。反応終了後、反応溶液をそのままシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｅｔ２Ｏ）にて濾過し、白色固体を除去した。濾過後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝８０：１）で精製し、下記化合物を得た（０．０４５０ｇ、３９％）。
Rf 0.73 (Hex:AcOEt = 4:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 9.81 (1H, d, J=3.4 Hz), 5.81 (1H, s), 5.50 (1H, q, J=6.8 Hz), 3.78 (1H, dt, J=11.2, 4.4 Hz), 3.39-3.31 (1H, m), 2.76-2.66 (2H, m), 1.73-1.42 (15H, m), 1.10-1.01 (21H, m), 0.89 (3H, d, J=6.6 Hz).
【化５５】
0005399373.tif 000062
【０１６０】
製造工程４−（７）
アルゴン雰囲気下、０℃で製造工程４−（６）で得られた化合物（０．０３８１ｇ、０．０９１０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ／ＭｅＯＨ（１／２）溶液（１．５ｍｌ）にＮａＢＨ４（０．０５２０ｇ、１．３７ｍｍｏｌ）を加え、その後室温まで昇温し攪拌した。反応終了後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（３ｍｌ）を加え分液し、水層をＥｔ２Ｏ（５ｍｌ×３）で抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥した。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝５０：１）で精製し、下記化合物を得た（０．０３６４ｇ、９５％）。
Rf 0.51 (Hex:AcOEt = 4:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 5.72 (1H, s), 5.48 (1H, q, J=5.9 Hz), 3.83-3.66 (2H, m), 3.58-3.42 (1H, m), 3.34-3.24 (1H, m), 2.64-2.46 (1H, m), 2.36-2.16 (1H, m), 1.77-1.34 (16H, m), 1.12-1.00 (21H, m), 0.91 (3H, d, J=3.9 Hz).
【化５６】
0005399373.tif 000063
【０１６１】
製造工程４−（８）
アルゴン雰囲気下、製造工程４−（７）で得られた化合物（０．０１１６ｇ、０．０２７６ｍｍｏｌ）のｐｙｒｉｄｉｎｅ溶液（０．５ｍｌ）にＯｓＯ４（０．０３００ｇ、０．１１８ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。反応終了後、２０％ＮａＨＳＯ３水溶液（３ｍｌ）を加え、１時間ほど攪拌した後分液し、水層をＥｔ２Ｏ（５ｍｌ×３）で抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥した。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝３：１）で精製し、下記化合物を得た（０．００９８ｇ、７８％）。
Rf 0.42 (Hex:AcOEt = 1:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 5.72 (1H, s), 4.03 (2H, dd, J=10.0, 7.8 Hz), 3.68-3.60 (1H, m), 3.52-3.46 (1H, m), 2.55-2.49 (1H, m), 2.48-2.42 (1H, m), 2.39-2.26 (2H, m), 1.78 (3H, s), 1.45 (3H, s), 1.33-1.17 (10H, m), 1.10-1.02 (21H, m), 0.88 (3H, d, J=6.1 Hz).
【化５７】
0005399373.tif 000064
【０１６２】
製造工程４−（９）
アルゴン雰囲気下、［Ｉｒ（ｃｏｄ）ｐｙｒ（ＰＣｙ３）］ＰＦ６（Ｃｒａｂｔｒｅｅ’ｓ  ｃａｔａｌｙｓｔ）（０．００１８ｇ、０．００２２４ｍｍｏｌ）を、脱気した（ＣＨ２Ｃｌ）２（０．４ｍｌ）に溶かし、この溶液に、製造工程４−（８）で得られた化合物（０．００４５ｇ、０．００９９０ｍｍｏｌ）を脱気した（ＣＨ２Ｃｌ）２（０．８ｍｌ）に溶かした溶液を加えた。Ｈ２ガス（１ａｔｍ）封入後、６０℃まで昇温し、２時間攪拌した。反応終了後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液加え、分液し、水層をＣＨ２Ｃｌ２で抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥した。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝３：１）で精製し、下記化合物を得た（０．００３９ｇ、８７％）。
Rf 0.39 (Hex:AcOEt = 1:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 4.15 (1H, dd, J=10.2, 8.0 Hz), 3.94-3.83 (1H, m), 3.69 (1H, dt, J=10.7, 5.4 Hz), 3.51-3.38 (1H, m), 2.51-2.40 (1H, m), 2.14-1.99 (1H, m), 1.78-1.60 (7H, m), 1.40 (3H, s), 1.29-1.15 (8H, m), 1.09-1.01 (21H, m), 0.99 (3H, d, J=5.1 Hz), 0.85 (3H, d, J=6.1 Hz).
【化５８】
0005399373.tif 000065
【０１６３】
製造工程４−（１０）
アルゴン雰囲気下、−３０℃で製造工程４−（９）で得られた化合物（０．００８４ｇ、０．０１８４ｍｍｏｌ）のＣＨ３ＣＮ溶液（１ｍｌ）にＥｔ３Ｎ（０．０２０４ｍｌ、０．１４６ｍｍｏｌ）、ＢｚＣＮ（０．０１５３ｇ、０．１１７ｍｍｏｌ）を順次加え、１０分間攪拌した。反応終了後、少量のＭｅＯＨを加え、室温まで昇温させてしばらく攪拌した後、溶媒を減圧下除去した。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝５：１）で精製し、下記化合物を得た（０．００８３ｇ、８１％）。
Rf 0.31 (Hex:AcOEt = 3:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.09-8.00 (2H, m), 7.65-7.52 (1H, m), 7.51-7.41 (2H, m), 4.81 (1H, dd, J=11.0, 4.6 Hz), 4.38 (1H, dd, J=11.0, 8.6 Hz), 3.91-3.82 (1H, m), 3.74 (1H, dt, J=10.8, 5.1 Hz), 2.78-2.69 (1H, m), 2.18-2.09 (1H, m), 2.06-1.98 (1H, m), 1.82-1.58 (9H, m), 1.41 (3H, s), 1.24 (3H, d, J=6.0 Hz), 1.09-1.02 (21H, m), 1.00 (3H, d, J=6.0 Hz), 0.83 (3H, d, J=6.2 Hz).
【化５９】
0005399373.tif 000066
【０１６４】
製造工程４−（１１）
アルゴン雰囲気下、製造工程４−（１０）で得られた化合物（０．０１１８ｇ、０．０２１０ｍｍｏｌ）のｔｏｌｕｅｎｅ溶液（１ｍｌ）にＴＣＤＩ（０．０１９８ｇ、０．１１０ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（０．００２６ｇ、０．０２１３ｍｍｏｌ）を順次加え、加熱還流下１７時間攪拌した。反応終了後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（３ｍｌ）を加え分液し、水層をＥｔ２Ｏ（５ｍｌ×３）で抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥した。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝１５：１）で精製し、下記化合物を得た（０．００８７ｇ、６９％）を得た。
Rf 0.60 (Hex:AcOEt = 3:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.13-8.07 (2H, m), 7.61-7.54 (1H, m), 7.50-7.42 (2H, m), 4.67 (1H, q, J=6.3 Hz), 4.59 (1H, dd, J=11.2, 7.3 Hz), 4.52 (1H, dd, J=11.2, 6.1 Hz), 3.71 (1H, dt, J=11.2, 4.6 Hz), 2.84-2.76 (1H, m), 2.17 (1H, dd, J=11.7, 3.9 Hz), 2.14-2.05 (1H, m), 1.89 (1H, dt, J=13.7, 3.9 Hz), 1.85-1.76 (1H, m), 1.76-1.59 (5H, m), 1.57 (3H, s), 1.54-1.50 (2H, m), 1.41 (3H, d, J=6.6 Hz), 1.04-0.97 (21H, m), 0.92 (3H, d, J=6.1 Hz), 0.91 (3H, d, J=5.9 Hz).
【化６０】
0005399373.tif 000067
【０１６５】
製造工程４−（１２）
アルゴン雰囲気下、製造工程４−（１１）で得られた化合物（０．００４３ｇ、０．００７１３ｍｍｏｌ）のＰ（ＯＭｅ）３溶液（０．５ｍｌ）を加熱還流下６７時間攪拌した。反応終了後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝８０：１）で精製し、下記化合物を得た（０．００３７ｇ、９７％）。
Rf 0.78 (Hex:AcOEt = 3:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.03-7.97 (2H, m), 7.60-7.50 (1H, m), 7.48-7.39 (2H, m), 5.34 (1H, q, J=6.8 Hz), 4.46-4.30 (2H,m), 3.76-3.66 (1H, m), 2.58-2.46 (1H, m), 2.35-2.23 (2H, m), 2.15-1.97 (1H, m), 1.92-1.77 (3H, m), 1.71 (3H, s), 1.68-1.58 (8H, m), 1.10-0.96 (21H, m), 0.92 (3H, d, J=6.3 Hz), 0.86 (3H, d, J=6.1 Hz).
【化６１】
0005399373.tif 000068
【０１６６】
製造工程４−（１３）
アルゴン雰囲気下、−７８℃で製造工程４−（１２）で得られた化合物（０．００６１ｇ、０．０１１６ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２溶液（１ｍｌ）にＤＩＢＡＬのヘキサン溶液（０．０２８４ｍｌ、１．０２Ｍ）を加え、撹拌した。反応終了後、ＭｅＯＨを泡が出なくなるまで加え、室温まで昇温し飽和酒石酸ナトリウムカリウム水溶液（５ｍｌ）を加えた。３０分間撹拌した後に分液し、水層をＣＨ２Ｃｌ２（５ｍｌ×３）で抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥した。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝２０：１）で精製し、下記化合物を得た（０．００４１ｇ、８４％）。
Rf 0.71 (Hex:AcOEt = 3:1) 
【化６２】
0005399373.tif 000069
【０１６７】
製造工程４−（１４）
アルゴン雰囲気下、製造工程４−（１３）で得られた化合物（０．００４１ｇ、０．００９７０ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２溶液（１ｍｌ）にＤｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ試薬（０．０１６０ｇ、０．０３７７ｍｍｏｌ）を加え、室温で攪拌した。反応終了後、反応溶液をＥｔ２Ｏ（１ｍｌ）で希釈し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（２ｍｌ）と飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（２ｍｌ）を順次加え分液し、水層をＥｔ２Ｏ（５ｍｌ×３）で抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥した。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝１００：１）で精製し、下記化合物を得た（０．００３４ｇ、８３％）。
Rf 0.49 (Hex:AcOEt = 20:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 10.0 (1H, d, J=2.7 Hz), 5.40 (1H, q, J=6.8 Hz), 3.76 (1H, dt, J=10.7, 4.9 Hz), 2.63-2.52 (2H, m), 2.18-2.08 (1H, m), 1.98-1.59 (15H, m), 1.10-0.99 (21H, m), 0.87 (3H, d, J=6.3 Hz) , 0.87 (3H, d, J=6.1 Hz).
【化６３】
0005399373.tif 000070
【０１６８】
製造工程４−（１５）
アルゴン雰囲気下、−７８℃でホスホネートＡ（０．０１２７ｇ、０．０５０８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（０．３ｍｌ）にＬｉＨＭＤＳのＴＨＦ溶液（０．０１９１ｍｌ、１．０６Ｍ）を徐々に滴加し、３０分間攪拌する。製造工程４−（１４）で得られた化合物（０．００３４ｇ、０．００８０８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（０．９ｍｌ）を加え２時間攪拌し、その後０℃に昇温し１時間攪拌した。反応終了後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（３ｍｌ）を加え分液し、水層をＥｔ２Ｏ（５ｍｌ×３）で抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥した。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝１００：１）で精製した。さらにＰＴＬＣ  （Ｈｅｘ：ｂｅｎｚｅｎｅ＝１：１）で精製を行い、下記化合物を得た（０．００２４ｇ、５７％）。
Rf 0.44 (Hex:AcOEt = 20:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.32-7.21 (1H, m), 6.53 (1H, dd, J=14.6, 9.5 Hz), 6.08 (1H, dd, J=14.6, 11.0 Hz), 5.78 (1H, d, J=15.1 Hz), 5.26 (1H, q, J=6.3 Hz), 4.20 (2H, q, J=7.1 Hz), 3.72-3.64 (1H, m), 2.53-2.43 (2H, m), 2.17-2.07 (1H, m), 1.94-1.78 (2H, m), 1.76-1.46 (13H, m), 1.29 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.08-1.00 (21H, m), 0.91 (3H, d, J=6.3 Hz) , 0.81 (3H, d, J=6.3 Hz).
【化６４】
0005399373.tif 000071
【０１６９】
製造工程４−（１６）
アルゴン雰囲気下、製造工程４−（１５）で得た化合物（０．００３１ｇ、０．００６００ｍｍｏｌ）のＥｔＯＨ／Ｈ２Ｏ（４／１）溶液（０．７５ｍｌ）にＬｉＯＨ・Ｈ２Ｏ（０．０２５２ｇ、０．６００ｍｍｏｌ）を加え、室温で４３時間攪拌した。反応終了後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（３ｍｌ）を加え分液し、水層をＥｔ２Ｏ（５ｍｌ×３）で抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥した。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝４：１）で精製し、下記化合物を得た（０．００２９ｇ、ｑｕａｎｔ．）。
Rf 0.73 (Hex:AcOEt = 1:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.35 (1H, dd, J=15.4, 11.2 Hz), 6.59 (1H, dd, J=15.4, 10.0 Hz), 6.12 (1H, dd, J=15.4, 11.2 Hz), 5.79 (1H, d, J=15.4 Hz), 5.26 (1H, q, J=7.1 Hz), 3.73-3.65 (1H, m), 2.55-2.43 (2H, m), 2.16-2.07 (1H, m), 1.93-1.78 (2H, m), 1.75-1.46 (13H, m), 1.12-0.97 (21H, m), 0.91 (3H, d, J=6.3 Hz) , 0.82 (3H, d, J=6.3 Hz).
【化６５】
0005399373.tif 000072
【０１７０】
製造工程４−（１７）
アルゴン雰囲気下、製造工程４−（１６）で得られた化合物（０．００３１ｇ、０．００６３４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（０．５ｍｌ）にＴＢＡＦのＴＨＦ溶液（０．０６３４ｍｌ、１．０Ｍ）を加え、室温で７６時間攪拌した。反応終了後、１Ｎ−ＨＣｌ水溶液（３ｍｌ）を加え分液し、水層をＥｔ２Ｏ（５ｍｌ×３）で抽出し、集めた油層をＮａ２ＳＯ４で乾燥した。濾過した後、溶媒を減圧下除去し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ：ＡｃＯＥｔ＝３：２）で精製し、標題の化合物を得た（０．００１５ｇ、７１％）。
Rf 0.29 (Hex:AcOEt = 1:1); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.35 (1H, dd, J=15.4, 11.0 Hz), 6.63 (1H, dd, J=14.9, 9.8 Hz), 6.13 (1H, dd, J=14.9, 11.0 Hz), 5.79 (1H, d, J=15.4 Hz), 5.27 (1H, qd, J=6.8, 1.0 Hz), 3.67 (1H, ddd, J=11.5, 4.9, 4.9 Hz), 2.58-2.46 (2H, m), 2.24-2.14 (1H, m), 1.93-1.62 (7H, m), 1.59 (3H, dd, J=6.8, 0.7Hz), 1.51 (3H, s), 1.24-1.00 (2H, m), 0.94 (3H, d, J=6.3 Hz), 0.83 (3H, d, J=6.1 Hz); FAB-MS : [M+Na]+ calculated for C21H32O3Na : 355.2249,  Found : 355.2249.  
【化６６】
0005399373.tif 000073
【０１７１】
試験例１：防除効果の評価
（１）試験溶液の調整
実施例１〜３で得られた各化合物をアセトンに溶解し、１ｍｇ／ｍＬに調製した。得られた溶液２０μＬに１０倍希釈したネオエステリン（クミアイ化学社製）１μＬを添加した。さらに、脱イオン水１８０μＬを加えて１００ｐｐｍに調整し、これを試験溶液とした。【０１７２】
（２）防除効果の測定
防除効果の測定は、各試験溶液の防御価を測定することにより行った。防御価の算出方法は以下の通りである。【０１７３】
まず、キャベツの第三葉、第四葉からリーフパンチを用いてくり抜いた葉を、マルチウェルプレートに静置した。これに適当量の試験溶液を噴霧散布し、自然乾燥させた。【０１７４】
次に、灰色かび病菌（Ｂｏｔｒｙｔｉｓ ｃｉｎｅｒｅａ）の胞子懸濁液（２．０ｘ１０５ｃｅｌｌｓ／ｍＬ）を接種菌液として調製し、７〜１０枚のマルチウェルプレートあたり２０ｍＬで噴霧接種した。これを遮光チャンバー内（温度２１℃、湿度およそ１００％）で感染させ、３日後に防除価を算出した。【０１７５】
防除価は、発病の強さを、以下の基準に従って０〜３の４段階で判定した後、下式を用いて算出した。
０；  発病が認められない
１；  わずかに発病が認められる
２；  発病しているものの、無処理と比較し防除効果が認められる
３；  無処理と同等の発病が認められる
【数１】
0005399373.tif 000074
【数２】
0005399373.tif 000075
【０１７６】
その結果、いずれの試験化合物も、ＭＫ８３８３と同等の防除価を有することが確認された。このことから、各試験化合物はＭＫ８３８３と同等の防除効果を有することが示された。
【表３】
0005399373.tif 000076
【０１７７】
試験例２：光安定性の評価
（１）試験溶液の調整
実施例１〜３で得られた各化合物をアセトンに溶解して２００μｇ／ｍＬに調整し（実施例３の化合物については１００μｇ／ｍＬ）、これを試験溶液とした。【０１７８】
（２）光安定性の測定
光安定性の測定は、光暴露後の残存率を測定することにより行った。残存率の算出は以下の方法で行った。【０１７９】
５００μＬの試験溶液を直径５ｃｍのガラスシャーレに分注し、遮光下で溶媒を蒸発させ、ドライフィルムを形成させた。これをチャンバー内（温度２５℃、湿度６０％）で陽光ランプに暴露し、２４時間後に回収した。これを５００μＬのメタノールで洗い出し、ＨＰＬＣ（ウォターズ社製）で分析した。ピーク面積を化合物の濃度として、残存率（０時間を１００％としたときの各時間後の濃度比）を計算した。なお、暴露した光は、照度およそ３０，０００ｌｕｘ、紫外線強度３００〜４００μＷ／ｃｍ２であった。【０１８０】
その結果、いずれの試験化合物もＭＫ８３８３と比較して残存率が高いことが確認された。このことから、各試験化合物は優れた光安定性を有することが示された。
【表４】
0005399373.tif 000077
【０１８１】
試験例３：抗菌活性試験
（１）試験溶液の調整
実施例３の化合物をＤＭＳＯに溶解し、１．２５ｍｇ／ｍＬに調製し、これを試験溶液とした。【０１８２】
（２）抗菌活性の測定
抗菌活性の測定は菌糸の伸長を指標とすることにより行った。【０１８３】
各植物病原菌を、Ｐｏｔａｔｏ  Ｓｕｃｒｏｓｅ  Ｂｒｏｔｈ（ＰＳＢ）を用いて２１〜２５℃の暗黒下で５日間振とう培養した菌液を、ヒスコトロンで磨砕し、新鮮なＰＳＢで１００倍希釈したものを供試菌液とした。【０１８４】
供試菌液（１００μＬ）と試験溶液（１μＬ）を９６穴プレートで混合し（終濃度１２．５ｐｐｍ）、２１〜２５℃で３日間培養した。【０１８５】
菌糸の伸長は、以下の基準に従って判定した。
＋＋＋；菌糸伸長が認められない
＋＋；わずかに菌糸伸長が認められる
＋；菌糸伸長が認められるがコントロールに比較し阻害が認められる
−；菌糸伸長阻害が認められない【０１８６】
その結果、実施例３の化合物は、各種の真菌に対して抗菌活性を有することが示された。
【表５】
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