(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と第２基板との間に液晶層が挟持された液晶装置であって、
前記第１基板の前記液晶層の側の面に配置された第１電極と、
前記第２基板の前記液晶層の側の面に配置された第２電極と、
前記第１電極を前記液晶層の側から覆うように配置された第１膜と、
前記第２電極を前記液晶層の側から覆うように配置された第２膜と、
前記第１膜と前記液晶層との間に配置された第１無機配向膜と、
前記第２膜と前記液晶層との間に配置された第２無機配向膜と、
を備え、
前記第１膜及び前記第２膜は、アルカンチオールを含み、
前記アルカンチオールは、メチレン鎖の長さが８またはそれ以上であることを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
前記第１膜及び前記第２膜は、自己組織化単分子膜であることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
第１基板と第２基板との間に液晶層が挟持された液晶装置の製造方法であって、
前記第１基板の前記液晶層の側の面に第１電極を形成する工程と、
前記第２基板の前記液晶層の側の面に第２電極を形成する工程と、
前記第１電極が形成された前記第１基板を溶液の中に浸漬させて、前記第１電極を覆うように第１膜を形成する工程と、
前記第２電極が形成された前記第２基板を溶液の中に浸漬させて、前記第２電極を覆うように第２膜を形成する工程と、
前記第１膜を覆うように無機材料を蒸着し、第１無機配向膜を形成する工程と、
前記第２膜を覆うように無機材料を蒸着し、第２無機配向膜を形成する工程と、
を備え、
前記第１膜及び前記第２膜は、アルカンチオールを含み、
前記アルカンチオールは、メチレン鎖の長さが８またはそれ以上であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項４】
請求項１または２に記載の液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置及びその製造方法、並びに該液晶装置を備えた、例えば液晶プロジェクター等の電子機器の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の液晶装置として、例えば無機配向膜間に液晶層を挟持してなるものがある。このような液晶装置では、無機配向膜の間隙部に液晶と電極とが互いに直接接触する部位が存在するため、液晶及び電極の界面間で電荷の移動が起こり、電気非対称性が顕著に表れてしまう。電気非対称性は、例えばフリッカーや焼き付きといった表示不良の原因となるため、これを抑制する様々な技術が提案されている。
【０００３】
例えば特許文献１では、画素電極に標準電極電位の符号が反対である金属を被覆することで、電気的非対称性を抑制するという技術が開示されている。また特許文献２では、画素電極上に対向電極と同じ材料の層を形成することで、上下電極の仕事関数差を小さくするという技術が開示されている。特許文献３では、電極からの電子放出を抑制するために、電極材料より電気陰性度の大きな材料からなる電子放出抑制層を設けるという技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−５７６７４号公報
【特許文献２】特開２００６−３３０５２７号公報
【特許文献３】特開２００７−３３４１１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に開示された技術のように、画素電極表面に異なる材質の層を形成して電気的なバランスをとるためには、高精度の膜厚及び膜質調整が求められてしまう。また、特許文献２に開示された技術のように、電極の最表面を同じ材料で揃えたとしても、成膜履歴などの影響で電気的な非対称性が生じてしまう。更に、特許文献３に開示されているような電荷の移動を抑制する層は、真空成膜法では緻密で均一なものを再現性よく形成するのが極めて困難である。即ち、上述した技術においては、装置の製造が高度複雑化してしまうことに加え、確実に電気的非対称性を抑制することができないおそれがあるという技術的問題点がある。
【０００６】
本発明は、例えば上述した問題点に鑑みなされたものであり、電極表面で起こる電荷の移動を容易且つ確実に抑制可能な液晶装置及びその製造方法、並びに電子機器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の液晶装置の一態様は、第１基板と第２基板との間に液晶層が挟持された液晶装置であって、前記第１基板の前記液晶層の側の面に配置された第１電極と、前記第２基板の前記液晶層の側の面に配置された第２電極と、前記第１電極を前記液晶層の側から覆うように配置された第１膜と、前記第２電極を前記液晶層の側から覆うように配置された第２膜と、前記第１膜と前記液晶層との間に配置された第１無機配向膜と、前記第２膜と前記液晶層との間に配置された第２無機配向膜と、を備え、前記第１膜及び前記第２膜は、アルカンチオールを含み、前記アルカンチオールは、メチレン鎖の長さが８またはそれ以上であることを特徴とする。
上記の本発明に係る液晶装置は、第１基板と第２基板との間に液晶層が挟持された液晶装置であって、前記第１基板の前記液晶層の側の面に配置された第１電極と、前記第２基板の前記液晶層の側の面に配置された第２電極と、前記第１電極を前記液晶層の側から覆うように配置された第１膜と、前記第２電極を前記液晶層の側から覆うように配置された第２膜と、前記第１膜と前記液晶層との間に配置された第１無機配向膜と、前記第２膜と前記液晶層との間に配置された第２無機配向膜と、を備え、前記第１膜及び前記第２膜は、アルカンチオールを含むことを特徴とする。
上記の本発明に係る液晶装置は、一対の基板間に液晶層が挟持されてなる液晶装置であって、前記一対の基板における前記液晶層と対向する側の面に夫々設けられた電極と、前記電極を前記液晶層側から覆うように設けられた自己組織化膜と、前記自己組織化膜及び前記液晶層間に設けられた無機配向膜とを備える。
【０００８】
本発明の液晶装置によれば、一対の基板間に液晶層が挟持されており、この液晶層における液晶分子の配向方向が制御されることにより、様々な階調を表示することが可能である。一対の基板の液晶層と対向する側の面には、液晶層に電圧を印加するための電極が夫々設けられている。具体的には、例えばＴＦＴアレイ基板の表面には、画素毎に所定のパターンで画素電極が設けられており、ＴＦＴアレイ基板に対向する対向基板の表面には、ベタ状の対向電極が設けられている。
【０００９】
一対の基板に設けられた電極上には、液晶層側から該電極を覆うように、自己組織化膜が設けられている。また、自己組織化膜と液晶層との間には、無機材料からなる無機配向膜が設けられている。即ち、一対の基板に設けられた電極と液晶層との間には、自己組織化膜及び無機配向膜が存在する。
【００１０】
ここで仮に、上述した自己組織化膜が設けられていないとすると、無機配向膜の間隙部において液晶と電極とが互いに直接接触する部位が存在することになるため、液晶及び電極の界面間で電荷の移動が起こり、電気的非対称性から例えばフリッカーや焼き付きといった表示不良が発生してしまう。
【００１１】
しかるに本発明では特に、電極を覆うように自己組織化膜が設けられているため、液晶及び電極の界面間が絶縁された状態とされている。よって、液晶及び電極の界面間で電荷の移動が起こることを抑制することができる。従って、上述したような表示不良が発生してしまうことを防止することができる。更に、自己組織化膜は、成膜の際に膜厚を均一とすることが容易である。よって、膜厚が不均一になってしまうことで、不具合が生じてしまうことも防止することが可能である。
【００１２】
以上説明したように、本発明の液晶装置によれば、電極表面で起こる電荷の移動を容易且つ確実に抑制できる。従って、高品質な画像を表示させることが可能である。
【００１３】
本発明の液晶装置の一態様では、前記自己組織化膜は、単分子膜である。
【００１４】
この態様によれば、自己組織化膜が単分子膜であるため、膜厚が分子の大きさ（言い換えれば、長さ）に応じた厚さとなる。従って、極めて容易に自己組織化膜の膜厚を均一とすることができる。
【００１５】
本発明の液晶装置の他の態様では、前記自己組織化膜は、アルカンチオールを含んでいる。
【００１６】
この態様によれば、自己組織化膜にアルカンチオールが含まれているため、容易に成膜が行えると共に、膜厚の制御がメチレン鎖の長さによって制御できるため、極めて容易に自己組織化膜の膜厚を均一とすることができる。
【００１７】
本発明の液晶装置の他の態様では、前記自己組織化膜は、長さが８以上のメチレン鎖を有する材料を含んでいる。
【００１８】
この態様によれば、自己組織化膜が長さ８以上のメチレン鎖を有する材料を含んで構成されるため、自己組織化膜の絶縁性が極めて良好なものとされる。よって、液晶及び電極の界面間で電荷の移動が起こることを効果的に抑制することができる。
【００１９】
尚、本願発明者の研究によれば、自己組織化膜におけるメチレン鎖の長さが８以上となると、メチレン鎖７以下である場合と比べて格段に表示不良が低減可能であることが判明している。
【００２０】
本発明の一態様の液晶装置の製造方法は、第１基板と第２基板との間に液晶層が挟持された液晶装置の製造方法であって、前記第１基板の前記液晶層の側の面に第１電極を形成する工程と、前記第２基板の前記液晶層の側の面に第２電極を形成する工程と、前記第１電極が形成された前記第１基板を溶液の中に浸漬させて、前記第１電極を覆うように第１膜を形成する工程と、前記第２電極が形成された前記第２基板を溶液の中に浸漬させて、前記第２電極を覆うように第２膜を形成する工程と、前記第１膜を覆うように無機材料を蒸着し、第１無機配向膜を形成する工程と、前記第２膜を覆うように無機材料を蒸着し、第２無機配向膜を形成する工程と、を備え、前記第１膜及び前記第２膜は、アルカンチオールを含み、前記アルカンチオールは、メチレン鎖の長さが８またはそれ以上であることを特徴とする。
上記の本発明に係る液晶装置の製造方法は、第１基板と第２基板との間に液晶層が挟持された液晶装置の製造方法であって、前記第１基板の前記液晶層の側の面に第１電極を形成する工程と、前記第２基板の前記液晶層の側の面に第２電極を形成する工程と、前記第１電極が形成された前記第１基板を溶液の中に浸漬させて、前記第１電極を覆うように第１膜を形成する工程と、前記第２電極が形成された前記第２基板を溶液の中に浸漬させて、前記第２電極を覆うように第２膜を形成する工程と、前記第１膜を覆うように無機材料を蒸着し、第１無機配向膜を形成する工程と、前記第２膜を覆うように無機材料を蒸着し、第２無機配向膜を形成する工程と、を備え、前記第１膜及び前記第２膜は、アルカンチオールを含むことを特徴とする。
上記の本発明に係る液晶装置の製造方法は、一対の基板間に液晶層が挟持されてなる液晶装置の製造方法であって、前記一対の基板における前記液晶層と対向する側の面に、電極を夫々形成する電極形成工程と、前記電極が形成された一対の基板の各々を、自己組織化膜を形成する材料を含む溶液中に浸漬させて、前記電極を覆うように前記自己組織化膜を形成する自己組織化膜形成工程と、前記自己組織化膜上に無機材料を蒸着することで、無機配向膜を形成する無機配向膜形成工程とを備える。
【００２１】
本発明の液晶装置の製造方法によれば、先ず液晶装置を構成する一対の基板上に、画素電極や対向電極等の電極が夫々形成される。これらの電極は、例えば基板表面全体を覆うように導電膜を成膜した後に、エッチング等によるパターニングを行うことで形成される。尚、基板における電極の下層側には、典型的には、複数の導電膜及び絶縁膜による積層構造が形成される。
【００２２】
続いて、電極が形成された一対の基板の各々が、自己組織化膜を形成する材料を含む溶液中に浸漬される。これにより、基板表面（即ち、電極の表面）に電極を覆うような自己組織化膜が形成される。自己組織化膜が形成された後には、例えば溶媒を用いた洗浄や窒素による乾燥が行われる。
【００２３】
自己組織化膜上には、例えばＳｉＯ２等の無機材料が真空蒸着され、無機配向膜が形成される。無機配向膜が形成された後には、無機配向膜が液晶層を介して対向するように、一対の基板がシール剤等で貼り合わせられる。
【００２４】
以上説明したように、本発明の液晶装置の製造方法によれば、自己組織化膜を容易に成膜できる。これにより、電極表面で起こる電荷の移動を容易且つ確実に抑制可能な液晶装置を製造できる。即ち、高品質な画像を表示させることが可能な液晶装置を製造できる。
【００２５】
尚、本発明の液晶装置の製造方法においても、上述した本発明の液晶装置における各種態様と同様の各種態様を採ることが可能である。
【００２６】
本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の液晶装置（但し、その各種態様も含む）を備える。
【００２７】
本発明の電子機器によれば、上述した本発明に係る液晶装置を具備してなるので、高品質な表示を行うことが可能な、投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサー、ビューファインダー型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダー、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。
【００２８】
本発明の作用及び他の利得は次に説明する発明を実施するための形態から明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】実施形態に係る液晶装置の全体構成を示す平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【図３】自己組織化膜の構成を概念的に示す側面図である。
【図４】電極間における印加電圧と電流との関係を示すグラフである。
【図５】通電３０分後のフリッカー目視レベルを示す表である。
【図６】実施形態に係る液晶装置の製造方法の流れを示すフローチャートである。
【図７】液晶装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクターの構成を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下では、本発明の実施形態について図を参照しつつ説明する。
【００３１】
＜液晶装置＞
先ず、本実施形態に係る液晶装置について、図１から図５を参照して説明する。以下の実施形態では、本発明の液晶装置の一例として、駆動回路内蔵型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）アクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を挙げて説明する。
【００３２】
本実施形態に係る液晶装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。ここに図１は、本実施形態に係る液晶装置の全体構成を示す平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【００３３】
図１及び図２において、本実施形態に係る液晶装置では、本発明の「一対の基板」の一例であるＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とが対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０は、例えば石英基板、ガラス基板等の透明基板や、シリコン基板等である。対向基板２０は、例えば石英基板、ガラス基板等の透明基板である。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間には、液晶層５０が封入されている。液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、一対の配向膜間で所定の配向状態をとる。
【００３４】
ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、複数の画素電極が設けられた画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材５２により、相互に接着されている。
【００３５】
シール材５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。シール材５２中には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（即ち、基板間ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバー或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されている。尚、ギャップ材を、シール材５２に混入されるものに加えて若しくは代えて、画像表示領域１０ａ又は画像表示領域１０ａの周辺に位置する周辺領域に、配置するようにしてもよい。
【００３６】
シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。尚、このような額縁遮光膜５３の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。
【００３７】
周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿い、且つ、額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。更に、このように画像表示領域１０ａの両側に設けられた二つの走査線駆動回路１０４間をつなぐため、ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺に沿い、且つ、額縁遮光膜５３に覆われるようにして複数の配線１０５が設けられている。
【００３８】
ＴＦＴアレイ基板１０上における対向基板２０の４つのコーナー部に対向する領域には、両基板間を上下導通材１０７で接続するための上下導通端子１０６が配置されている。これらにより、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。
【００３９】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、駆動素子である画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。この積層構造の詳細な構成については図２では図示を省略してあるが、この積層構造の上に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明材料からなる画素電極９ａが、画素毎に所定のパターンで島状に形成されている。画素電極９ａは、対向電極２１に対向するように、ＴＦＴアレイ基板１０上の画像表示領域１０ａに形成されている。尚、画素電極９ａ及び対向電極２１は、本発明の「電極」の一例である。
【００４０】
ＴＦＴアレイ基板１０における画素電極９ａ上には、画素電極９ａを覆うように自己組織化膜２０１が形成されている。自己組織化膜２０１は、例えば単分子によって構成される膜であり、絶縁性を有している。自己組織化膜２０１の具体的な構成及び効果については後述する。
【００４１】
ＴＦＴアレイ基板１０における液晶層５０の面する側の表面、即ち画素電極９ａ及び自己組織化膜２０１上には、無機材料からなる無機配向膜１６が形成されている。
【００４２】
対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０との対向面上には、遮光膜２３が形成されている。遮光膜２３は、例えば対向基板２０における対向面上に平面的に見て、格子状に形成されている。対向基板２０において、遮光膜２３によって非開口領域が規定され、遮光膜２３によって区切られた領域が、例えばプロジェクター用のランプや直視用のバックライトから出射された光を透過させる開口領域となる。尚、遮光膜２３をストライプ状に形成し、該遮光膜２３と、ＴＦＴアレイ基板１０側に設けられたデータ線等の各種構成要素とによって、非開口領域を規定するようにしてもよい。
【００４３】
遮光膜２３上には、ＩＴＯ等の透明材料からなる対向電極２１が複数の画素電極９ａと対向するように形成されている。また遮光膜２３上には、画像表示領域１０ａにおいてカラー表示を行うために、開口領域及び非開口領域の一部を含む領域に、図２には図示しないカラーフィルターが形成されるようにしてもよい。
【００４４】
対向基板２０における対向電極２１上には、ＴＦＴアレイ基板１０側と同様に、対向電極２１を覆うように自己組織化膜２０２が形成されている。また、対向電極２１及び自己組織化膜２０２上には、無機配向膜２２が形成されている。
【００４５】
尚、図１及び図２に示したＴＦＴアレイ基板１０上には、上述したデータ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４等の駆動回路に加えて、画像信号線上の画像信号をサンプリングしてデータ線に供給するサンプリング回路、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該電気光学装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。
【００４６】
次に、本実施形態に係る液晶装置に設けられた自己組織化膜の具体的な構成及び効果について、図３から図５を参照して説明する。ここに図３は、自己組織化膜の構成を概念的に示す側面図である。また図４は、電極間における印加電圧と電流との関係を示すグラフであり、図５は、通電３０分後のフリッカー目視レベルを示す表である。
【００４７】
図３において、自己組織化膜２０１及び２０２は、アルカンチオール（Ｒ（ＣＨ２）ｎＳＨ）によって構成されている。尚、Ｒの具体例としては、例えばＨ、ＮＨ２、ＣＨ３ＣＯ、ＣＨ３ＣＯＯ等が挙げられる。
【００４８】
自己組織化膜２０１は、アルカンチオールのＳＨ部分が、画素電極９ａと結合することによって形成されている。この際、結合したアルカンチオールは、図３に示すように規則的に並ぶため、形成された自己組織化膜２０１の膜厚は、アルカンチオールにおけるメチレン鎖（即ち、（ＣＨ２）ｎ）の長さに依存することとなる。言い換えれば、メチレン鎖の長さｎを調整することで、形成される自己組織化膜２０１の膜厚を制御できる。従って、自己組織化膜２０１の膜厚を均一なものとすることが極めて容易である。対向基板２１側上の自己組織化膜２０２（図２参照）についても同様のことが言える。
【００４９】
図４において、画素電極９ａ及び対向電極２１間に印加される電圧Ｖと流れる電流Ｉとの関係は、自己組織化膜２０１及び２０２の有無によって大きく異なる。
【００５０】
具体的には、自己組織化膜２０１及び２０２が設けられない場合（即ち、画素電極９ａ及び対向電極２１上に直接無機配向膜１６及び２２を設ける場合）は、液晶層へ電荷が注入されてしまうことによる大きなピークが観察される。これは、無機配向膜１６及び２２の間隙部において液晶層５０と画素電極９ａ及び対向電極２１とが互いに直接接触する部位が存在するためであり、例えばフリッカーや焼き付きといった表示不良の原因となってしまう。
【００５１】
一方で、本実施形態のように自己組織化膜２０１及び２０２が設けられる場合には、上述したような大きなピークは観察されず、電流も極めて小さな値となる。これは、自己組織化膜２０１及び２０２が良好な絶縁性を示していることに起因している。自己組織化膜２０１及び２０２が絶縁性を有することにより、液晶層５０と画素電極９ａ及び対向電極２１と界面間で電荷の移動が起こることを抑制できる。従って、フリッカーや焼き付き等の表示不良が発生してしまうことを防止できる。
【００５２】
図５において、本願発明者の研究によれば、上述したような効果は、自己組織化膜２０１及び２０２を構成するアルカンチオールのメチレン鎖の長さによって変化することが判明している。
【００５３】
例えば、液晶装置に通電して３０分後のフリッカーを目視レベルで確認すると、ＲがＨ（水素）であるアルカンチオールの場合、メチレン鎖の長さが７になると、フリッカーが表示パターンによっては認識できる程度の弱いものとなり、メチレン鎖の長さが８になると、表示パターンによらずに認識できなくなる。また、ＲがＮＨ２（アミノ基）であるアルカンチオールの場合、メチレン鎖の長さが８になると、フリッカーが表示パターンによっては認識できる程度の弱いものとなり、メチレン鎖の長さが９になると、表示パターンによらずに認識できなくなる。
【００５４】
以上の結果、メチレン鎖の長さを８以上、好ましくは９以上とすることで、より確実にフリッカーや焼き付き等の表示不良を防止できることが分かる。これは、自己組織化膜２０１及び２０２がアルカンチオール以外の材料から構成される場合でも同様である。
【００５５】
以上説明したように、本実施形態に係る液晶装置によれば、電極表面で起こる電荷の移動を容易且つ確実に抑制できる。従って、高品質な画像を表示させることが可能である。
【００５６】
尚、上述した実施形態では、透過型の液晶装置について説明したが、反射型の液晶装置についても、自己組織化膜２０１及び２０２を設けることで、同様の効果を得ることができる。
【００５７】
＜液晶装置の製造方法＞
次に、本実施形態に係る液晶装置の製造方法について、図６を参照して説明する。ここに図６は、本実施形態に係る液晶装置の製造方法の流れを示すフローチャートである。尚、図６では、説明の便宜上、液晶装置の製造工程のうち本実施形態に関係のある工程のみを示しており、他の工程については省略してある。
【００５８】
図６において、本実施形態に係る液晶装置の製造方法では、先ずＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０上に、画素電極９ａ及び対向電極２１が夫々形成される（ステップＳ１）。画素電極９ａ及び対向電極２１は、例えばＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の表面全面に導電膜を成膜した後に、エッチング等によるパターニングを行うことで形成される。
【００５９】
続いて、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の各々が、Ｒ＝ＣＨ３、ｎ＝９のアルカンチオールを１×１０−３ｍｏｌ／ｌのエタノール溶液としたものに、約２４時間浸漬される（ステップｓ２）。これにより、画素電極９ａ及び対向電極２１上に、アルカンチオールの自己組織化膜２０１及び２０２が夫々形成される。
【００６０】
自己組織化膜２０１及び２０２が形成された後には、例えばエタノール等の溶媒を用いてＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０が洗浄され（ステップＳ３）、窒素による乾燥が行われる（ステップＳ４）。
【００６１】
自己組織化膜２０１及び２０２上には、例えばＳｉＯ２等の無機材料が真空蒸着され、無機配向膜１６及び２２が夫々形成される（ステップＳ５）。無機配向膜１６及び２２が形成された後には、無機配向膜１６及び２２が液晶層５０を介して対向するように、一対の基板がシール剤５２で貼り合わせられる。
【００６２】
以上説明したように、本実施形態に係る液晶装置の製造方法によれば、自己組織化膜２０１及び２０２を容易に成膜できる。これにより、電極表面で起こる電荷の移動を容易且つ確実に抑制可能な液晶装置を製造できる。即ち、高品質な画像を表示させることが可能な液晶装置を製造できる。
【００６３】
＜電子機器＞
次に、上述した液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。ここに図７は、プロジェクターの構成例を示す平面図である。以下では、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクターについて説明する。
【００６４】
図７に示されるように、プロジェクター１１００内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット１１０２が設けられている。このランプユニット１１０２から射出された投射光は、ライトガイド１１０４内に配置された４枚のミラー１１０６及び２枚のダイクロイックミラー１１０８によってＲＧＢの３原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇに入射される。
【００６５】
液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇの構成は、上述した液晶装置と同等であり、画像信号処理回路から供給されるＲ、Ｇ、Ｂの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズム１１１２に３方向から入射される。このダイクロイックプリズム１１１２においては、Ｒ及びＢの光が９０度に屈折する一方、Ｇの光が直進する。従って、各色の画像が合成される結果、投射レンズ１１１４を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。
【００６６】
ここで、各液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇによる表示像について着目すると、液晶パネル１１１０Ｇによる表示像は、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂによる表示像に対して左右反転することが必要となる。
【００６７】
尚、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇには、ダイクロイックミラー１１０８によって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルターを設ける必要はない。
【００６８】
尚、図７を参照して説明した電子機器の他にも、モバイル型のパーソナルコンピュータや、携帯電話、液晶テレビや、ビューファインダー型、モニタ直視型のビデオテープレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャー、電子手帳、電卓、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等が挙げられる。
【００６９】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う液晶装置及びその製造方法、並びに該液晶装置を備えた電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【符号の説明】
【００７０】
９ａ…画素電極、１０…ＴＦＴアレイ基板、１０ａ…画像表示領域、１６，２２…無機配向膜、２０…対向基板、２１…対向電極、５０…液晶層、５２…シール材、１０１…データ線駆動回路、１０２…外部回路接続端子、１０４…走査線駆動回路、２０１，２０２…自己組織化膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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