(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性の基体と、
前記基体上に設けられた感光層と、
前記感光層の表面と、該感光層の側面と、前記基体の表面の少なくとも一部と、を連続して被覆した被覆層と、
を備え、
前記感光層は、電荷発生層と電荷輸送層との積層体とされ、前記被覆層に対して厚み方向に接する該電荷輸送層の弾性変形率と、該被覆層の弾性変形率と、の差が２０％以下であり、
前記被覆層は、グアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも１種と、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨから選択される置換基の少なくとも１つを持つ電荷輸送材料の少なくとも１種と、を用いた架橋物を含む像保持体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真方式の画像形成装置に用いられる像保持体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１〜特許文献５には、電子写真方式の画像形成装置で用いられる像保持体の表面に被覆層を設けることが記載されている。
【０００３】
また、特許文献６には、被覆層が感光層から剥がれることを抑制するために、感光層の内の被覆層に接触する層としての電荷輸送層が含有する結着樹脂を構成する樹脂分子のうち、分子量が１５００以上５５００以下の範囲の樹脂分子には、特定構造の鎖状樹脂分子および特定構造の環状樹脂分子の双方を存在させることが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−８２４６９号公報
【特許文献２】特開昭６２−２５１７５７号公報
【特許文献３】特開２００６−８４７１１公報
【特許文献４】特許第２５７５５３６号明細書
【特許文献５】特開平９−１９０００４号公報
【特許文献６】特開２００５−２１５３０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、被覆層が感光層の表面のみに設けられた構成の場合に比べて、被覆層の端部からの剥がれが抑制された像保持体を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題は、以下の手段により解決された。即ち、
請求項１に係る発明は、導電性の基体と、前記基体上に設けられた感光層と、前記感光層の表面と、該感光層の側面と、前記基体の表面の少なくとも一部と、を連続して被覆した被覆層と、を備え、前記感光層は、電荷発生層と電荷輸送層との積層体とされ、前記被覆層に対して厚み方向に接する該電荷輸送層の弾性変形率と、該被覆層の弾性変形率と、の差が２０％以下であり、前記被覆層は、グアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも１種と、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨから選択される置換基の少なくとも１つを持つ電荷輸送材料の少なくとも１種と、を用いた架橋物を含む像保持体である。
【発明の効果】
【０００９】
請求項１に係る発明によれば、被覆層が感光層の表面のみに設けられた構成である場合に比べて、被覆層の端部からの剥がれの抑制された像保持体が提供される。
また、請求項１に係る発明によれば、感光層の内の被覆層に対して厚み方向に接する層の弾性変形率と被覆層の弾性変形率との差が請求項１で規定される範囲外である場合に比べて、被覆層の感光層からの剥がれが抑制される。
さらに、請求項１に係る発明によれば、被覆層が請求項１に係る構成ではない場合に比べて、像保持体の磨耗が抑制される。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本実施の形態に係る像保持体の一例を模式的に示した斜視図である。
【図２】本実施の形態に係る像保持体の端部を模式的に示した断面図であり、図１の領域Ｐの断面図の一例である。
【図３】本実施の形態に係る像保持体の端部を模式的に示した断面図であり、図１の領域Ｐの断面図の一例である。
【図４】本実施の形態に係る像保持体の端部を模式的に示した断面図であり、図１の領域Ｐの断面図の一例である。
【図５】押し込み深さと荷重との関係を示す図である。
【図６】本実施の形態に係る画像形成装置の一例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本実施の形態の像保持体について、一例を挙げて説明する。
【００１２】
図１に示すように、本実施の形態の像保持体１０は、導電性を有する円筒状の基体１２と、該基体１２上に設けられた感光層２０と、該感光層２０上に設けられた被覆層２２と、の積層体とされている。なお、本実施の形態の像保持体１０は、電子写真方式の画像形成装置（詳細後述）の像保持体として用いられる。
【００１３】
被覆層２２は、感光層２０を保護する機能を備えており、感光層２０の表面と、感光層２０の端面と、基体１２の表面の少なくとも一部と、を連続して被覆するように設けられている。
【００１４】
なお、図１〜図４には、像保持体１０の幅方向の一端部のみを示したが、該幅方向の他端部についても同じ構成とされている。
【００１５】
ここで、従来では、基体１２上に設けられた感光層２０や被覆層２２の積層体の端面がそろった状態とされていた。これは、製造工程の簡略化から、基体１２上に感光層２０や被覆層２２を形成した後に両端部を切断することで像保持体を製造したり、基体１２上に該積層体の各層の形成材料を塗布して拭き取る工程を繰り返すことで像保持体を製造したりすることが一般的であったためと考えられる。また、電子写真方式の画像形成装置に用いられる像保持体としては、該画像形成装置における後述する転写装置や除去装置の接触によって負荷がかかることから、感光層２０の端部には凸部の無い事が要求されるため、基体１２上に設けられた感光層２０や被覆層２２の積層体の端部が揃えられていた。
【００１６】
一方、本発明者らは、感光層２０の表面と、感光層２０の端面と、基体１２の表面の少なくとも一部と、を連続して被覆するように被覆層２２を設けることによって、被覆層２２の端部からの剥がれが抑制されることを見いだした。
【００１７】
この被覆層２２の、基体１２表面に直接接している領域の幅方向の長さ（図２〜図４中、長さＡ参照）としては、感光層２０の厚み（図２〜図４中、長さＢ参照）の９倍以上４０倍以下、または１０倍以上２０倍以下が挙げられる。
なお、被覆層２２の、「基体１２表面に直接接している領域の幅方向の長さ（図２〜図４中、長さＡ参照）」とは、基体１２上に設けられた感光層２０の幅方向の端部から、該基体１２上の被覆層２２の該幅方向の端部までの距離を示しており、図２〜図４では、各々長さＡで示される。
【００１８】
被覆層２２の、基体１２表面に直接接している領域の幅方向の長さ（図２〜図４中、長さＡ参照）が、感光層２０の厚み（図２〜図４中、長さＢ参照）の９倍以上４０倍以下であると、該範囲外である場合に比べて、被覆層２２の端部からの剥がれがより抑制される、と考えられる。
【００１９】
感光層２０は、１層から構成されていてもよく、多層構成であってもよい。例えば、図２に示すように、感光層２０は、下引層１４上に、電荷発生層１６、及び電荷輸送層１８が順次重ねられた積層体として構成されていてもよい。また、感光層２０は、図３に示すように、下引層１４上に、電荷輸送層１８及び電荷発生層１６が順に重ねられた積層体として構成されていてもよい。また、感光層２０は、図４に示すように、下引層１４上に、後述する電荷発生材料及び電荷輸送材料を含む感光層１７の重ねられた積層体として構成されていてもよい。
また、図２〜図４に示す感光層２０は、下引層１４を備えない構成であってもよい。
【００２０】
感光層２０を構成する１または複数の層の内の、少なくとも、被覆層２２に対して厚み方向に接する層の弾性変形率と、被覆層２２の弾性変形率と、の差は、２０％以下１０％以下、または３％以下であることが良い。
【００２１】
感光層２０を構成する１または複数の層の内の、少なくとも被覆層２２に対して厚み方向に接する層の弾性変形率と、被覆層２２の弾性変形率と、が異なる値であるほど、像保持体１０の外側の面に付着した異物による外周面の変形によって、被覆層２２が感光層２０から剥がれやすくなると考えられる。このため、感光層２０を構成する１または複数の層の内の、少なくとも被覆層２２に対して厚み方向に接する層の弾性変形率と、被覆層２２の弾性変形率と、の差が２０％以下であると、異物の付着によって、被覆層２２が該異物の付着した領域から剥がれることが抑制される、と考えられる。このため、被覆層２２の感光層２０からの剥がれが抑制される、と考えられる。なお、「被覆層２２の感光層２０からの剥がれ」とは、被覆層２２の、感光層２０の表面からの剥がれを示している。
【００２２】
この弾性変形率の測定は、フィッシャースコープＨ−１００（フィッシャー・インストルメンツ社製）を用いて、２５℃／５０％ＲＨの条件下で行う。詳細には、ビッカース四角錐ダイヤモンド圧子を用いて、測定対象の層に負荷時間１０ｓｅｃで２ｍＮの負荷をかけ、５ｓｅｃ間保持した後、１０ｓｅｃかけて除荷した時の押し込み深さおよび荷重を測定すると図５（Ａ→Ｂ→Ｃ）のように表される。弾性変形の仕事Ｗｅｌａｓｔは、図５中のＣ−Ｂ−Ｄ−Ｃで囲まれる面積で、塑性変形の仕事量Ｗｐｌａｓｔは、図５中のＡ−Ｂ−Ｃ−Ａで囲まれる面積で表され、弾性変形率（％）は（Ｗｅｌａｓｔ／（Ｗｅｌａｓｔ＋Ｗｐｌａｓｔ））×１００から求められる。
【００２３】
この弾性変形率の調整方法としては、感光層２０を構成する１または複数の層の内の、被覆層２２に対して厚み方向に接する層における、バインダー分子量を調整する方法や、バインダーと電荷輸送材の混合日を調整する方法や成膜時の乾燥温度・乾燥時間を調整する方法が挙げられる。
【００２４】
なお、被覆層２２との弾性変形率の差が上記関係を示す層は、感光層２０を構成する複数の層の内の、少なくとも被覆層２２に対して厚み方向に接する層であればよいが、感光層２０を構成する他の層についても、被覆層２２との弾性変形率の差が上記関係を示すものであってもよい。
【００２５】
さらに、この被覆層２２は、詳細は後述するが、グアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも１種と、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨから選択される置換基の少なくとも１つを持つ電荷輸送材料の少なくとも１種とを含む塗布液を用いた架橋物を含んで構成されることが良い。
【００２６】
なお、以下では、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨから選択される置換基の少なくとも１つを持つ電荷輸送材料を、「特定の電荷輸送材料」と称して説明する場合がある。
【００２７】
被覆層２２が、グアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも１種と、上記の特定の電荷輸送材料の少なくとも１種と、を含む塗布液を用いた架橋物を含んで構成されることで、該構成を用いない場合に比べて、被覆層２２の機械強度が向上し、被覆層２２による感光層２０を保護する機能が向上すると考えられる。
【００２８】
ここで、被覆層２２は、機械的強度が向上するほど硬くなると考えられる。このため、被覆層２２は、上記架橋物を含んだ構成とされることで、感光層２０から剥がれやすくなると考えられる。しかし、本実施の形態の像保持体１０では、上述のように、感光層２０の表面と、感光層２０の端面と、基体１２の表面の少なくとも一部と、を連続して被覆するように被覆層２２を設けた構成とされていることから、被覆層２２の端部からの剥がれが抑制される、と考えられる。
また、被覆層２２を、上記架橋物を含んだ構成とし、更に感光層２０を構成する複数の層の内の、少なくとも被覆層２２に対して厚み方向に接する層の弾性変形率と、被覆層２２との弾性変形率と、の差を、上記関係を示すように調整すれば、被覆層２２による感光層２０の保護機能の向上と、該被覆層２２の感光層２０からの剥がれの抑制と、の両立が図れる、と考えられる。
【００２９】
以下、基体１２及び感光層２０を構成する各層について、詳細に説明する。
【００３０】
＜基体＞
基体１２は、導電性を有している。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
この基体１２としては、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属又は合金を用いて構成される金属板、金属ドラム、及び金属ベルト、又は、導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属又は合金を塗布、蒸着又はラミネートしたベルト等が挙げられる。
【００３１】
像保持体１０が、電子写真方式の画像形成装置としてのレーザープリンターに使用される場合、レーザー光を照射する際に生じる干渉縞を防止するために、基体１２の表面は、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが良い。なお、非干渉光を光源に用いた電子写真方式の画像形成装置に適用する場合には、干渉縞防止の粗面化は特に必要ない。
【００３２】
＜下引層＞
下引層１４は、例えば、結着樹脂に無機粒子を含有して構成されている。
無機粒子としては、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ω・ｃｍ以上１０１１Ω・ｃｍ以下のものが挙げられる。この無機粒子としては、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の無機粒子が挙げられる。
【００３３】
下引層１４に含有される結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等が挙げられる。中でも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が良く、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が良い。
【００３４】
下引層１４中には電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加物を用いてもよい。
【００３５】
下引層１４の厚みとしては、耐リーク性能が得られ且つ残留電位の発生の抑制の観点から１５μｍ以上５０μｍ以下が挙げられる。
【００３６】
＜電荷発生層＞
電荷発生層１６は電荷発生材料及び結着樹脂を含有する層である。
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料、酸化亜鉛、三方晶系セレン等が挙げられる。これらの中でも、近赤外域のレーザー露光に対しては、金属及又は無金属フタロシアニン顔料が良く、特に、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平４−１８９８７３号公報、特開平５−４３８２３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンが良い。また、近紫外域のレーザー露光に対してはジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、チオインジゴ系顔料、ポルフィラジン化合物、酸化亜鉛、三方晶系セレン等が良い。電荷発生材料としては、３８０ｎｍ以上５００ｎｍの露光波長の光源を用いる場合には無機顔料が良く、７００ｎｍ以下８００ｎｍの露光波長の光源を用いる場合には、金属及び無金属フタロシアニン顔料が良い。
【００３７】
電荷発生層１６に使用される結着樹脂としては、絶縁性（体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上）の樹脂から選択され、また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。望ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。電荷発生材料と結着樹脂の配合比としては、質量比で１０：１から１：１０までの範囲内が挙げられる。
【００３８】
電荷発生層１６の厚みとしては、０．０５μｍ以上０．１５μｍ以下、０．１μｍ以上５．０μｍ以下、０．２μｍ以上２．０μｍ以下が挙げられる。  電荷発生層１６の膜厚を０．０５μｍ以上０．１５μｍ以下の範囲とすると、後述する被覆層２２の構成を、グアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも１種と特定の電荷輸送材料とを用いた架橋物を含む被覆層２２（詳細後述）とした組み合わせによって、そのメカニズムは解明されていないが、下引層１４から電荷発生層１６、さらに電荷輸送層１８までの電荷輸送の劣化が抑えられると考えられる。即ち、該組合せによって、残留電位の低減が図れ、長期使用においても、残留電位上昇のない電気特性の安定した像保持体１０が提供されると考えられる。
【００３９】
＜電荷輸送層＞
電荷輸送層１８は、電荷輸送材料と結着樹脂を含有して形成される。なお、電荷輸送層１８は、高分子電荷輸送材料を含有した構成であってもよい。
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物があげられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられるが、これらに限定されるものではない。
【００４０】
電荷輸送層１８に用いられる結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は質量比で１０：１から１：５が挙げられる。
【００４１】
また、結着樹脂としては、粘度平均分子量５００００以上８００００以下のポリカーボネート樹脂、及び粘度平均分子量５００００以上８００００以下のポリアクリレート樹脂の少なくとも１種が良い。電子写真方式の画像形成装置に用いられる像保持体は、光耐性が十分ではないことがある。そこで、上記所定の分子量の樹脂を含む電荷輸送層を用いることで、電子写真感光体への入射光が電荷輸送層へ吸収され、耐光性が向上すると考えられる。
【００４２】
高分子電荷輸送材料としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものが挙げられる。特に、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系の高分子電荷輸送材料は、他種に比べ高い電荷輸送性を有していることから良い。高分子電荷輸送材はそれだけでも電荷輸送層１８として成膜されるが、上記結着樹脂と混合して成膜されてもよい。
【００４３】
電荷輸送層１８の膜厚としては、５μｍ以上５０μｍ以下、１０μｍ以上３０μｍ以下が挙げられる。
【００４４】
＜被覆層＞
被覆層２２は、像保持体１０における最表面層であり、最表面の磨耗、傷などに対する耐性を持たせ、感光層２０を保護するための層である。
【００４５】
被覆層２２としては、上記の特性（最表面の磨耗、傷などに対する耐性を持たせて、感光層２０を保護する特性）を有する層であればよいが、像保持体１０の機械的強度及び電気的安定性の向上の観点から、グアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも１種と、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨから選択される置換基の少なくとも１つを持つ電荷輸送材料（特定の電荷輸送材料）の少なくとも１種とを含む塗布液を用いた架橋物を含んで構成されることが良い。
【００４６】
被覆層２２を、グアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも１種と、特定の電荷輸送材料の少なくとも１種とを含む塗布液を用いた架橋物を含んだ構成とすることで、グアナミン化合物やメラミン化合物と、特定の官能基を有する特定の電荷輸送材料とにより、架橋部位（架橋サイト）が多官能化されて高度に架橋されることから、像保持体１０の機械的強度が増すと考えられる。
【００４７】
なお、被覆層２２に含まれるグアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも１種の、該被覆層２２における含有量は、０．１質量％以上５質量％であることが良い。また、被覆層２２に含まれる上記特定の電荷輸送材料の、該被覆層２２における含有は９５質量％以上９９質量％以下であることが良い。
被覆層２２に含まれるグアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも１種、及び上記特定の電荷輸送材料の各々の、被覆層２２における含有量が上記範囲内であると、電気特性や耐ゴースト性の向上が図れる、と考えられる。
【００４８】
まず、グアナミン化合物について説明する。
グアナミン化合物は、グアナミン骨格（構造）を有する化合物であり、例えば、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、ホルモグアナミン、ステログアナミン、スピログアナミン、シクロヘキシルグアナミンなどが挙げられる。
【００４９】
グアナミン化合物としては、特に下記一般式（Ａ）で示される化合物及びその多量体の少なくとも１種であることが良い。ここで、多量体は、一般式（Ａ）で示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば２以上２００以下（望ましくは２以上１００以下）である。なお、一般式（Ａ）で示される化合物は、一種単独で用いもよりが、２種以上を併用してもよい。特に、一般式（Ａ）で示される化合物は、２種以上混合して用いたり、それを構造単位とする多量体（オリゴマー）として用いたりすると、溶剤に対する溶解性が向上されると考えられる。
【００５０】
【化１】
0005556099.tif 000002
【００５１】
一般式（Ａ）中、Ｒ１は、炭素数１以上１０以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基、炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のフェニル基、又は炭素数４以上１０以下の置換若しくは未置換の脂環式炭化水素基を示す。Ｒ２乃至Ｒ５は、それぞれ独立に水素、−ＣＨ２−ＯＨ、又は−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ６を示す。Ｒ６は、水素、又は炭素数１以上１０以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基を示す。
【００５２】
一般式（Ａ）において、Ｒ１を示すアルキル基は、炭素数が１以上１０以下、１以下８以上、または１以上５以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分鎖状であってもよい。
【００５３】
一般式（Ａ）中、Ｒ１を示すフェニル基は、炭素数６以上１０以下、または６以上８以下である。当該フェニル基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。
【００５４】
一般式（Ａ）中、Ｒ１を示す脂環式炭化水素基は、炭素数４以上１０以下、または５以上８以下である。当該脂環式炭化水素基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。
【００５５】
一般式（Ａ）中、Ｒ２乃至Ｒ５を示す「−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ６」において、Ｒ６を示すアルキル基は、炭素数が１以上１０以下、１以上８以下、または１以上６以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分鎖状であってもよい。望ましくは、メチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる。
【００５６】
一般式（Ａ）で示される化合物としては、特に望ましくは、Ｒ１が炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のフェニル基を示し、Ｒ２乃至Ｒ５がそれぞれ独立に−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ６を示される化合物である。また、Ｒ６は、メチル基又はｎ-ブチル基から選ばれることが良い。
【００５７】
一般式（Ａ）で示される化合物は、例えば、グアナミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法（例えば、実験化学講座第４版、２８巻、４３０ページ）で合成される。
【００５８】
以下、一般式（Ａ）で示される化合物の具体例として、例示化合物：（Ａ）−１乃至例示化合物：（Ａ）−４２を示すが、これらに限られるわけではない。また、以下の具体例は、単量体のものを示すが、これらを構造単位とする多量体（オリゴマー）であってもよい。尚、本実施形態において、「Ｍｅ」はメチル基を、「Ｂｕ」はブチル基を、「Ｐｈ」はフェニル基をそれぞれ示す。
【００５９】
【化２】
0005556099.tif 000003
【００６０】
【化３】
0005556099.tif 000004
【００６１】
【化４】
0005556099.tif 000005
【００６２】
【化５】
0005556099.tif 000006
【００６３】
一般式（Ａ）で示される化合物の市販品としては、例えば、”スーパーベッカミン（Ｒ）Ｌ−１４８−５５、スーパーベッカミン（Ｒ）１３−５３５、スーパーベッカミン（Ｒ）Ｌ−１４５−６０、スーパーベッカミン（Ｒ）ＴＤ−１２６”以上大日本インキ社製、”ニカラックＢＬ−６０、ニカラックＢＸ−４０００”以上日本カーバイド社製、などが挙げられる。
【００６４】
また、一般式（Ａ）で示される化合物（多量体を含む）は、合成後又は市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチル、などの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。
【００６５】
次に、メラミン化合物について説明する。
メラミン化合物としては、メラミン骨格（構造）であり、特に下記一般式（Ｂ）で示される化合物及びその多量体の少なくとも１種であることが良い。ここで、多量体は、一般式（Ａ）と同様に、一般式（Ｂ）で示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば２以上２００以下（望ましくは２以上１００以下）である。なお、一般式（Ｂ）で示される化合物又はその多量体は、一種単独で用いもよりが、２種以上を併用してもよい。また、前記一般式（Ａ）で示される化合物又はその多量体と併用してもよい。特に、一般式（Ｂ）で示される化合物は、２種以上混合して用いたり、それを構造単位とする多量体（オリゴマー）として用いたりすると、溶剤に対する溶解性が向上される。
【００６６】
【化６】
0005556099.tif 000007
【００６７】
一般式（Ｂ）中、Ｒ６乃至Ｒ１１はそれぞれ独立に、水素、−ＣＨ２−ＯＨ、−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ１２を示し、Ｒ１２は炭素数１以上５以下の分岐してもよいアルキル基を示す。当該アルキル基としてはメチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる。
【００６８】
一般式（Ｂ）で示される化合物は、例えば、メラミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法（例えば、実験化学講座第４版、２８巻、４３０ページのメラミン樹脂と同様に合成される）で合成される。
【００６９】
以下、一般式（Ｂ）で示される化合物の具体例として、例示化合物：（Ｂ）−１乃至例示化合物：（Ｂ）−７を示すが、これらに限られるわけではない。を示すが、これらに限られるわけではない。また、以下の具体例は、単量体のものを示すが、これらを構造単位とする多量体（オリゴマー）であってもよい。
【００７０】
【化７】
0005556099.tif 000008
【００７１】
一般式（Ｂ）で示される化合物の市販品としては、例えば、スーパーメラミＮｏ．９０（日本油脂社製）、スーパーベッカミン（Ｒ）ＴＤ−１３９−６０（大日本インキ社製）、ユーバン２０２０（三井化学）、スミテックスレジンＭ−３（住友化学工業）、ニカラックＭＷ−３０（日本カーバイド社製）、などが挙げられる。
【００７２】
また、一般式（Ｂ）で示される化合物（多量体を含む）は、合成後又は市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチル、などの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。
【００７３】
次に、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨから選択される置換基の少なくとも１つを持つ、特定の電荷輸送材料について説明する。
この特定の電荷輸送材料としては、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨから選択される置換基を少なくとも２つ（さらには３つ）持つものが良い。このように、特定の電荷輸送材料に反応性官能基（置換基）が増えることで、架橋密度が上がり、より強度の高い架橋膜が得られ、像保持体１０の表面の磨耗が抑制されると考えられる。この詳細は不明であるが、反応性官能基の数が増すことで、架橋密度の高い硬化膜が得られることから、像保持体１０の極表面の分子運動が抑制されて、電子写真方式の画像形成装置に搭載されたときに像保持体１０に接触する部材の表面分子との相互作用が弱まるためと推測される。
【００７４】
特定の電荷輸送材料としては、下記一般式（Ｉ）で示される化合物が挙げられる。
Ｆ−((−Ｒ１−Ｘ)ｎ１Ｒ２−Ｙ)ｎ２        (Ｉ)
【００７５】
一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基を示し、ｎ１は０又は１を示し、ｎ２は１以上４以下の整数を示す。Ｘは酸素原子、ＮＨ、又は硫黄原子を示し、Ｙは−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、又は−ＣＯＯＨを示す。
【００７６】
一般式（Ｉ）中、Ｆを示す正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基における正孔輸送能を有する化合物としては、アリールアミン誘導体が好適に挙げられる。アリールアミン誘導体としては、トリフェニルアミン誘導体、テトラフェニルベンジジン誘導体が挙げられる。
【００７７】
そして、一般式（Ｉ）で示される化合物は、下記一般式（ＩＩ）で示される化合物であることが望ましい。一般式（ＩＩ）で示される化合物は、特に、電荷移動度、酸化などに対する安定性等に優れると考えられる。
【００７８】
【化８】
0005556099.tif 000009
【００７９】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ｄは−（−Ｒ１−Ｘ）ｎ１Ｒ２−Ｙを示し、ｃはそれぞれ独立に０又は１を示し、ｋは０又は１を示し、Ｄの総数は１以上４以下である。また、該Ｒ１及び該Ｒ２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基を示し、ｎ１は０又は１を示し、Ｘは酸素原子、ＮＨ、又は硫黄原子を示し、Ｙは−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、又は−ＣＯＯＨを示す。
【００８０】
一般式（ＩＩ）中、Ｄを示す「−(−Ｒ１−Ｘ)ｎ１Ｒ２−Ｙ」は、一般式（Ｉ）における「−(−Ｒ１−Ｘ)ｎ１Ｒ２−Ｙ」と同様であり、該Ｒ１及び該Ｒ２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基である。また、ｎ１としては、１が良い。また、Ｘとしては、酸素原子が良い。また、Ｙとしては水酸基が良い。
なお、一般式（ＩＩ）におけるＤの総数は、一般式（Ｉ）におけるｎ２に相当し、２以上４以下や、３以上４以下が良い。つまり、一般式（Ｉ）や一般式（ＩＩ）におけるＤの総数を、１分子中に２以上４以下、または３以上４以下とすると、架橋密度が上がり、より強度の高い架橋膜が得られ、像保持体１０の磨耗が抑制されると考えられる。
【００８１】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１〜Ａｒ４としては、下記式（１）〜（７）のうちのいずれかであることが良い。なお、下記式（１）〜（７）は、各Ａｒ１〜Ａｒ４に連結され得る「−（Ｄ）Ｃ」と共に示す。
【００８２】
【化９】
0005556099.tif 000010
【００８３】
式（１）〜（７）中、Ｒ９は水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基もしくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表し、Ｒ１０乃至Ｒ１２はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ａｒは置換又は未置換のアリーレン基を表し、Ｄ及びｃは一般式（ＩＩ）における「Ｄ」、「ｃ」と同様であり、ｓはそれぞれ０又は１を表し、ｔは１以上３以下の整数を表す。
【００８４】
ここで、式（７）中のＡｒとしては、下記式（８）又は（９）で表されるものが良い。
【００８５】
【化１０】
0005556099.tif 000011
【００８６】
上記式（８）、（９）中、Ｒ１３及びＲ１４はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、ｔは１以上３以下の整数を表す。
【００８７】
また、式（７）中のＺ’としては、下記式（１０）〜（１７）のうちのいずれかで表されるものが良い。
【００８８】
【化１１】
0005556099.tif 000012
【００８９】
式（１０）〜（１７）中、Ｒ１５及びＲ１６はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基もしくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ｗは２価の基を表し、ｑ及びｒはそれぞれ１以上１０以下の整数を表し、ｔはそれぞれ１以上３以下の整数を表す。
【００９０】
上記式（１６）〜（１７）中のＷとしては、下記（１８）〜（２６）で表される２価の基のうちのいずれかであることが良い。但し、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を表す。
【００９１】
【化１２】
0005556099.tif 000013
【００９２】
また、一般式（ＩＩ）中、Ａｒ５は、ｋが０のときはＡｒ１乃至Ａｒ４の説明で例示された上記（１）〜（７）のアリール基であり、ｋが１のときはかかる上記（１）〜（７）のアリール基から水素原子を除いたアリーレン基である。
【００９３】
一般式（Ｉ）で示される化合物の具体例としては、以下に示す例示化合物：Ｉ−１乃至例示化合物：Ｉ−３４が挙げられる。なお、上記一般式（Ｉ）で示される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。
【００９４】
【化１３】
0005556099.tif 000014
【００９５】
【化１４】
0005556099.tif 000015
【００９６】
【化１５】
0005556099.tif 000016
【００９７】
【化１６】
0005556099.tif 000017
【００９８】
【化１７】
0005556099.tif 000018
【００９９】
【化１８】
0005556099.tif 000019
【０１００】
【化１９】
0005556099.tif 000020
【０１０１】
【化２０】
0005556099.tif 000021
【０１０２】
ここで、グアナミン化合物（一般式（Ａ）で示される化合物）及びメラミン化合物（一般式（Ｂ）で示される化合物）から選択される少なくとも１種の塗布液における固形分濃度としては、０．１質量％以上５質量％以下、または１質量％以上３質量％以下が挙げられる。この固形分濃度が、上記範囲内であると、緻密な膜となりやすいため十分な強度が得られやすく、且つ良好な電気特性が得られると考えられる。
【０１０３】
一方、上記特定の電荷輸送材料の少なくとも１種の前記塗布液における固形分濃度としては、９５質量％以上９９質量％以下、または９７質量％以上９９質量％以下が挙げられる。この固形分濃度が、上記範囲内であると、良好な電気特性が得られると考えられる。
【０１０４】
なお、この固形分濃度は、多いほうが良いが、グアナミン化合物（一般式（Ａ）で示される化合物）及びメラミン化合物（一般式（Ｂ）で示される化合物）から選択される少なくとも１種や、他の添加剤が有効に機能する関係上、９９質量％以下となる。
【０１０５】
以下、被覆層２２についてさらに詳細に説明する。
被覆層２２には、グアナミン化合物（一般式（Ａ）で示される化合物）及びメラミン化合物（一般式（Ｂ）で示される化合物）から選択される少なくとも１種と特定の電荷輸送材料（一般式（Ｉ）で示される化合物）との架橋物と共に、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アルキッド樹脂などを混合して用いてもよい。また、強度を向上させるために、スピロアセタール系グアナミン樹脂（例えば「ＣＴＵ−グアナミン」（味の素ファインテクノ（株）））など、一分子中の官能基のより多い化合物を当該架橋物中の材料に共重合させることも効果的である。
【０１０６】
また、被覆層２２には、放電生成ガスを吸着しすぎないように、添加することで放電生成ガスによる酸化を効果的に抑制する目的から、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの他の熱硬化性樹脂を混合して用いてもよい。
【０１０７】
また、被覆層２２には界面活性剤を添加することが良く、用いる界面活性剤としては、フッ素原子、アルキレンオキサイド構造、シリコーン構造のうち少なくとも一種類以上の構造を含む界面活性剤であれば特に制限はないが、上記構造を複数有するものが電荷輸送性有機化合物との親和性・相溶性が高く被覆層用の塗布液の成膜性が向上し、被覆層２２のシワ・ムラが抑制されるため、良い。
【０１０８】
また、被覆層２２には、さらに、膜の成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、他のカップリング剤、フッ素化合物と混合して用いても良い。この化合物としては、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコーン系ハードコート剤が挙げられる。
【０１０９】
また、被覆層２２の放電ガス耐性、機械強度、耐傷性、粒子分散性、粘度コントロール、トルク低減、磨耗量コントロール、ポットライフの延長などの目的でアルコールに溶解する樹脂を加えてもよい。
【０１１０】
ここで、アルコールに可溶な樹脂とは、炭素数５以下のアルコールに１質量％以上溶解する樹脂を意味する。アルコール系溶剤に可溶な樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂などのポリビニルアセタール樹脂（たとえば積水化学社製エスレックＢ、Ｋ等）、ポリアミド樹脂、セルロ−ス樹脂、ポリビニルフェノール樹脂などがあげられる。
【０１１１】
更に、被覆層２２には、残留電位を下げる目的、又は強度を向上させる目的で、各種粒子を添加してもよい。粒子の一例として、構成元素にケイ素を含む粒子が挙げられる。また、被覆層２２には、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等を添加してもよい。
【０１１２】
被覆層２２には、グアナミン化合物（一般式（Ａ）で示される化合物）及びメラミン化合物（一般式（Ｂ）で示される化合物）や、上述の特定の電荷輸送材料の硬化を促進するために硬化触媒として酸触媒を用いて硬化させてもよい。酸触媒としては、酢酸、クロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、マレイン酸、マロン酸、乳酸などの脂肪族カルボン酸、安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸などの芳香族カルボン酸、メタンスルホン酸、ドデシルスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、トルエンスルホン酸などの脂肪族、及び芳香族スルホン酸類などが用いられるが、含硫黄系材料を用いることが良い。
【０１１３】
また、上述の特定の電荷輸送材料の硬化が促進されるという効果が顕著になる点で、前記グアナミン構造あるいはメラミン構造を有する化合物１００質量部に対する前記酸触媒の量としては、０．１質量部以上５０質量部以下、または１０質量部以上３０質量部以下が良い。
【０１１４】
硬化触媒として含硫黄系材料を用いることにより、この含硫黄系材料がグアナミン化合物（一般式（Ａ）で示される化合物）及びメラミン化合物（一般式（Ｂ）で示される化合物）や、特定の電荷輸送材料の硬化触媒として優れた機能を発揮し、硬化反応を促進して得られる被覆層２２の機械的強度がより向上されると考えられる。更に、特定の電荷輸送材料として上記一般式（Ｉ）（一般式（ＩＩ）含む）で表される化合物を用いる場合、含硫黄系材料は、これら電荷輸送材料に対するドーパントとしても優れた機能を発揮し、得られる被覆層２２の電気特性がより向上されると考えられる。その結果、像保持体１０の機械強度、成膜性及び電気特性の全てが高水準で達成されると考えられる。
【０１１５】
硬化触媒としての含硫黄系材料は、常温（例えば２５℃）、又は、加熱後に酸性を示すものが望ましく、接着性、ゴースト、電気特性の観点で有機スルホン酸及びその誘導体の少なくとも１種が良い。被覆層２２中にこれら触媒の存在は、ＸＰＳ等により容易に確認される。
【０１１６】
有機スルホン酸及び／又はその誘導体としては、例えば、パラトルエンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸（ＤＮＮＳＡ）、ジノニルナフタレンジスルホン酸（ＤＮＮＤＳＡ）、ドデシルベンゼンスルホン酸、フェノールスルホン酸等が挙げられる。これらの中でも、触媒能、成膜性の観点から、パラトルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸が望ましい。また、硬化性樹脂組成物中で、ある程度解離可能であれば、有機スルホン酸塩を用いてもよい。
【０１１７】
また、一定以上の温度をかけたときに触媒能力が高くなる、所謂、熱潜在性触媒を用いることで、液保管温度では触媒能が低く、硬化時に触媒能が高くなるため、硬化温度の低下と、保存安定性が両立される。
【０１１８】
熱潜在性触媒として、たとえば有機スルホン化合物等をポリマーで粒子状に包んだマイクロカプセル、ゼオライトの如く空孔化合物に酸等を吸着させたもの、プロトン酸及び／又はプロトン酸誘導体を塩基でブロックした熱潜在性プロトン酸触媒や、プロトン酸及び／又はプロトン酸誘導体を一級もしくは二級のアルコールでエステル化したもの、プロトン酸及び／又はプロトン酸誘導体をビニルエーテル類及び／又はビニルチオエーテル類でブロックしたもの、三フッ化ホウ素のモノエチルアミン錯体、三フッ化ホウ素のピリジン錯体などがあげられる。
【０１１９】
中でも、触媒能、保管安定性、入手性、コストの面でプロトン酸及び／又はプロトン酸誘導体を塩基でブロックしたものが望ましい。
【０１２０】
熱潜在性プロトン酸触媒のプロトン酸として、硫酸、塩酸、酢酸、ギ酸、硝酸、リン酸、スルホン酸、モノカルボン酸、ポリカルボン酸類、プロピオン酸、シュウ酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、フタル酸、マレイン酸、ベンゼンスルホン酸、ｏ、ｍ、ｐ−トルエンスルホン酸、スチレンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンジスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ウンデシルベンゼンスルホン酸、トリデシルベンゼンスルホン酸、テトラデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等が挙げられる。また、プロトン酸誘導体として、スルホン酸、リン酸等のプロトン酸のアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属円などの中和物、プロトン酸骨格が高分子鎖中に導入された高分子化合物（ポリビニルスルホン酸等）等が挙げられる。プロトン酸をブロックする塩基として、アミン類が挙げられる。
【０１２１】
アミン類として、１級、２級又は３級アミンに分類される。特に制限はなく、いずれも使用してもよい。
【０１２２】
１級アミンとして、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、イソブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ヘキシルアミン、２−エチルヘキシルアミン、セカンダリーブチルアミン、アリルアミン、メチルヘキシルアミン等が挙げられる。
【０１２３】
２級アミンとして、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジｎ−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジｔ−ブチルアミン、ジヘキシルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミン、Ｎ−イソプロピルＮ−イソブチルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミン、ジセカンダリーブチルアミン、ジアリルアミン、Ｎ−メチルヘキシルアミン、３−ピペコリン、４−ピペコリン、２，４−ルペチジン、２，６−ルペチジン、３，５−ルペチジン、モルホリン、Ｎ−メチルベンジルアミン等が挙げられる。
【０１２４】
３級アミンとして、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリｎ−ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリｔ−ブチルアミン、トリヘキシルアミン、トリ（２−エチルヘキシル）アミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアリルアミン、Ｎ−メチルジアリルアミン、トリアリルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアリルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’ーテトラメチルー１，２ージアミノエタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’ーテトラメチルー１，３ージアミノプロパン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’ーテトラアリルー１，４ージアミノブタン、Ｎーメチルピペリジン、ピリジン、４ーエチルピリジン、Ｎープロピルジアリルアミン、３−ジメチルアミノプロパノ−ル、２−エチルピラジン、２，３−ジメチルピラジン、２，５−ジメチルピラジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、３，４−ルチジン、３，５−ルチジン、２，４，６−コリジン、２−メチル−４−エチルピリジン、２−メチル−５−エチルピリジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’ −テトラメチルヘキサメチレンジアミン、Ｎ−エチル−３−ヒドロキシピペリジン、３−メチル−４−エチルピリジン、３−エチル−４−メチルピリジン、４−（５−ノニル）ピリジン、イミダゾ−ル、Ｎ−メチルピペラジン等が挙げられる。
【０１２５】
市販品としては、キングインダストリーズ社製の「ＮＡＣＵＲＥ２５０１」（トルエンスルホン酸解離、メタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．２以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２１０７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ８．０以上ｐＨ９．０以下、解離温度９０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５００」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．０以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５３０」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、メタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ５．７以上ｐＨ６．５以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５４７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、水溶液、ｐＨ８．０以上ｐＨ９．０以下、解離温度１０７℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５５８」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、エチレングリコール溶媒、ｐＨ３．５以上ｐＨ４．５以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３５７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、メタノール溶媒、ｐＨ２．０以上ｐＨ４．０以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３８６」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、水溶液、ｐＨ６．１以上ｐＨ６．４以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＣ―２２１１」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、ｐＨ７．２以上ｐＨ８．５以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５２２５」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．０以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５４１４」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、キシレン溶媒、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５５２８」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．０以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５９２５」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、ｐＨ７．０以上ｐＨ７．５以下、解離温度１３０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１３２３」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、キシレン溶媒、ｐＨ６．８以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１４１９」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、キシレン／メチルイソブチルケトン溶媒、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１５５７」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、ブタノール／２−ブトキシエタノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸ４９−１１０」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度９０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ３５２５」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．５以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３８３」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、キシレン溶媒、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ３３２７」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ４１６７」（リン酸解離、イソプロパノール／イソブタノール溶媒、ｐＨ６．８以上ｐＨ７．３以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−２９７」（リン酸解離、水／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度９０℃、「ＮＡＣＵＲＥ４５７５」（リン酸解離、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．０以下、解離温度１１０℃）等が挙げられる。
【０１２６】
これらの熱潜在性触媒は単独又は二種類以上組み合わせても使用される。
【０１２７】
ここで、触媒の配合量としては、耐光性向上の観点から、上記グアナミン化合物（一般式（Ａ）で示される化合物）及びメラミン化合物（一般式（Ｂ）で示される化合物）から選択される少なくとも１種の量（塗布液における固形分濃度）に対し、０．１質量％以上５０質量％以下の範囲、または１０質量％以上３０質量％以下の範囲が挙げられる。
【０１２８】
この被覆層２２の厚みとしては、３μｍ以上１０μｍ以下が挙げられる。
【０１２９】
＜像保持体の作製方法＞
上記構成の像保持体１０は、基体１２上に、感光層２０を形成した後に、被覆層２２を形成することによって作製される。
【０１３０】
この感光層２０の形成は、例えば、図２に示す構成の像保持体１０であれば、下引層１４上に、電荷発生層１６、及び電荷輸送層１８を順に成膜することで形成される。
【０１３１】
下引層１４は、下引層１４の構成材料として説明した、上記結着樹脂、上記無機粒子、及び上記添加物を溶媒に分散した塗布液を、基体１２上に塗布し、乾燥させることで形成される。具体的には、基体１２の幅方向の両端部には下引層１４用の塗膜が形成されない外部に露出した領域が設けられるように、下引層１４用の該塗布液を基体１２の中央部（基体１２の幅方向の両端部以外の領域）に塗布して塗膜を形成する。その後、該塗膜を乾燥させることで、下引層１４が形成される。
【０１３２】
この下引層１４用の塗布液に用いられる溶媒としては、公知の有機溶剤を用いればよい。なお、分散方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法が挙げられる。また、この下引層１４を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１３３】
電荷発生層１６は、電荷発生層１６の構成材料として説明した、上記電荷発生材料及び結着樹脂を溶剤中に分散した塗布液を用いて形成される。具体的には、基体１２上に形成された下引層１４上に該塗布液を塗布して、電荷発生層１６用の塗膜を形成した後に、該電荷発生層１６用の塗膜の幅方向の両端面が上記下引層１４の幅方向（図１〜図４中、矢印Ｘ方向参照）の両端面とそろうように、該塗膜の幅方向の両端部を溶剤と、ブラシやスポンジ・ブレード等の拭き取り部材とによって拭き取る。その後、乾燥させることで形成される。
【０１３４】
この電荷発生層１６用の塗布液に用いられる溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等が挙げられ、これらは１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
また、該塗布液の分散方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等が挙げられる。また、この電荷発生層１６を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の方法が挙げられる。
【０１３５】
電荷輸送層１８は、電荷輸送層１８の構成材料として説明した、上記構成材料を溶剤に分散した塗布液を用いて形成される。具体的には、上記電荷発生層１６上に該塗布液を塗布して、該電荷輸送層１８用の塗膜を形成した後に、該電荷輸送層１８用の塗膜の幅方向（図１〜図４中、矢印Ｘ方向参照）の両端面が、上記下引層１４及び上記電荷発生層１６の幅方向（図１〜図４中、矢印Ｘ方向参照）の両端面とそろうように、該塗膜の幅方向の両端部を溶剤と、ブラシやスポンジ・ブレード等の拭き取り部材とによって拭き取る。その後、乾燥させることで、電荷輸送層１８が形成される。
この電荷輸送層１８用の塗布液に用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられ、これらを単独又は２種以上混合して用いられる。また、上記各構成材料の分散方法としては、公知の方法が使用される。
【０１３６】
電荷輸送層１８の形成用の塗布液を塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
【０１３７】
上記工程によって、感光層２０を構成する各層（図２に示す例では、下引層１４、電荷発生層１６、及び電荷輸送層１８）が、基体１２の幅方向（図１〜図４中、矢印Ｘ方向）の中央部に形成され、且つ、感光層２０を構成する各層の幅方向（図１〜図４中、矢印Ｘ方向）の両端面が揃うように形成される。
なお、図３及び図４に示す感光層２０についても、上記と同様にして作製すればよい。
【０１３８】
次に、この感光層２０上に、被覆層２２が形成される。
被覆層２２は、被覆層２２の構成材料として説明した、上記構成材料を溶剤に分散した被覆層２２用の塗布液を用いて形成される。具体的には、上記感光層２０の表面と、感光層２０の端面と、基体１２の表面（基体１２の外側の面の全領域の内の、外部に露出している領域）の少なくとも一部と、を連続して被覆するように、該被覆層２２用の塗布液を塗布した後に、乾燥させることで、電荷輸送層１８が形成される。
【０１３９】
この被覆層２２の形成される「感光層２０の表面」とは、感光層２０の外側の面の全領域を示しており、図２に示す構成の感光層２０である場合には、電荷輸送層１８の外側の面の全領域を示している。なお、外側とは、基体１２に対して反対側の面を示している。
また、基体１２の表面とは、基体１２の表面の感光層２０によって覆われていない領域を示している。また、この基体１２の表面の少なくとも一部とは、基体１２の表面の感光層２０によって覆われていない領域の内の、感光層２０に連続する領域から幅方向端部に向かう領域を示している。
【０１４０】
この被覆層２２用の塗布液を塗布する方法としては、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。この被覆層２２の、基体１２の表面に直接接している領域の幅方向の長さ（図２〜図４中、長さＡ参照）の調整は、上記塗布方法による塗布領域を調整することで、調整される。
【０１４１】
また、この被覆層２２による塗膜の乾燥は、必要に応じて、例えば温度１００℃以上１７０以下で加熱して硬化させることで、行っても良い。
【０１４２】
上記被覆層２２用の塗布液の調整は、無溶媒で行うか、必要に応じてメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の溶剤を用いて行ってもよい。かかる溶剤は１種を単独で又は２種以上を混合して使用可能であるが、望ましくは沸点が１００℃以下のものである。溶剤としては、特に、少なくとも１種以上の水酸基を持つ溶剤（例えば、アルコール類等）を用いることがよい。
【０１４３】
溶剤量は任意に設定されるが、少なすぎると、構成材料としてグアナミン化合物（一般式（Ａ）で示される化合物）及びメラミン化合物（一般式（Ｂ）で示される化合物）を用いた場合には、これらが析出しやすくなるため、グアナミン化合物（一般式（Ａ）で示される化合物）及びメラミン化合物（一般式（Ｂ）で示される化合物）から選択される少なくとも１種の１質量部に対し０．５質量部以上３０質量部以下、または１質量部以上２０質量部以下で使用される。
【０１４４】
上述のようにして作製される本実施の形態の像保持体１０は、上述のように、基体１２上に、感光層２０が形成され、感光層２０の表面と、感光層２０の幅方向の両端面と、基体１２の表面の少なくとも一部と、を連続して被覆した被覆層２２を設けた構成とされている。
このため、被覆層２２の端部からの剥がれが抑制される、と考えられる。
【０１４５】
本実施の形態の像保持体１０は、電子写真方式の画像形成装置に適用される。
【０１４６】
本実施の形態の画像形成装置の一例としては、図６に示す画像形成装置１００が挙げられる。
画像形成装置１００は、像保持体１０を備えたプロセスカートリッジ３００と、露光装置９と、転写装置４０と、中間転写体５０とを備えている。
【０１４７】
プロセスカートリッジ３００は、筐体内に、像保持体１０、帯電装置８、現像装置１１及び除去装置１３、を含んで構成されている。除去装置１３は、像保持体１０の表面に接触して配置された板状部材１３１を備えている。
【０１４８】
帯電装置８は、像保持体１０の表面を帯電させる装置である。この帯電装置８としては帯電ローラや帯電ブラシ等を用いた接触型帯電器や、コロナ放電を利用した非接触方式の帯電器が挙げられる。
【０１４９】
露光装置９は、帯電装置８によって帯電された像保持体１０の表面に、画像データに応じて変調した光を照射することで、該像保持体１０の表面に静電潜像を形成する装置である。この露光装置９としては、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を露光する光学系機器が挙げられる。
【０１５０】
現像装置１１は、公知の一成分系現像剤又は二成分系現像剤を貯留し、現像剤に含まれるトナーを像保持体１０へ供給することで、像保持体１０上の静電潜像をトナーによって現像してトナー像とする装置である。この現像装置１１としては、目的に応じて選択すればよい。
【０１５１】
転写装置４０は、像保持体１０上に形成されたトナー像を、図示を省略する記録媒体へ転写する装置である。この転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等が挙げられる。
【０１５２】
中間転写体５０は、図示を省略する記録媒体を表面に保持して、像保持体１０と転写装置４０とが向かい合う領域へ搬送した後に、画像形成装置１００の外部へと搬送する。この中間転写体５０としては、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体５０の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いられる。
【０１５３】
このような構成の画像形成装置１００では、像保持体１０が回転され（図６中、矢印Ｙ方向）、帯電装置８によって表面を帯電された像保持体１０に、露光装置９によって静電潜像が形成される。そして、この静電潜像は、現像装置１１によって現像されてトナー像とされる。そして、このトナー像は、中間転写体５０によって転写装置４０と像保持体１０との向かい合う領域に搬送されてきた記録媒体（図示省略）に転写され、図示を省略する定着装置によって該記録媒体に定着される。
【０１５４】
ここで、本実施の形態の像保持体１０は、上述のように、被覆層２２の感光層２０からの剥がれが抑制された構成とされていることから、電子写真方式の画像形成装置１００に適用されたときに、像保持体１０の磨耗が抑制される、と考えられる。
【０１５５】
なお、図６には、電子写真方式の画像形成装置の一例を示したが、本実施の形態の像保持体１０の適用される電子写真方式の画像形成装置としては、図６に示す形態に限られない。例えば、複数の像保持体１０が配列された、所謂タンデム型の電子写真方式の画像形成装置であってもよい。
【実施例】
【０１５６】
以下実施例によって本発明をさらに具体的に説明するが，本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例７及び実施例９は、それぞれ参考例１及び参考例３と読み替えるものとする。
【０１５７】
［像保持体の作製］
−像保持体１Ａの作製−
まず、基体として、直径６０ｍｍ、長さ３５７ｍｍ、肉厚１ｍｍの円筒状のアルミニウム基材を用意した。
【０１５８】
次に、酸化亜鉛：（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ２／ｇ）１００質量部をテトラヒドロフラン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（商品名：ＫＢＭ５０３、信越化学社製）１．３質量部を添加し、２時間攪拌した。その後テトラヒドロフランを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間）焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。この表面処理を施した酸化亜鉛１１０質量部を５００質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン０．６質量部を５０質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに６０℃で減圧乾燥を行い、アリザリン付与酸化亜鉛を得た。そして、このアリザリン付与酸化亜鉛６０質量部と硬化剤（ブロック化イソシアネート  商品名：スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＭ−１、積水化学社製）１５質量部と、をメチルエチルケトン８５質量部に溶解した溶液３８質量部と、メチルエチルケトン：２５質量部と、を混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行って、分散液を得た。
【０１５９】
この分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５質量部、シリコーン樹脂粒子（商品名：トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）：４５質量部を添加し、下引層用の塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて、上記アルミニウム基材の幅方向の中央部に塗布して下引層用の塗膜を形成した後に、１９０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ１８μｍの下引層を得た。
【０１６０】
なお、このアルミニウム基材の幅方向の両端部には、各々、１０ｍｍの露出した領域（下引層の形成されていない領域）が設けられていた。
【０１６１】
次に、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が、７．４°、１６．６°、２５．５°及び２８．３°に強い回折ピークを持つクロロガリウムフタロシアニンを１質量部、ブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）を１質量部、及び酢酸ｎ−ブチルを１００質量部混合し、さらにガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間処理して分散し、電荷発生層用の塗布液を得た。この電荷発生層用の塗布液を、上記下引層上に浸漬塗布して電荷発生層用の塗膜を形成した後に、該電荷発生層用の塗膜の幅方向端面と、下引層の幅方向端面と、が揃うように、テトラヒドロフラン（関東化学社製）と拭き取りスポンジ用いて、該電荷発生層用の塗膜の幅方向の両端部を拭き取った。
【０１６２】
次に、この電荷発生用の塗膜を１００℃で１０分間加熱乾燥し、膜厚約０．１０μｍの電荷発生層を形成した。
【０１６３】
次に下記式（ＣＴ−１）で示される電荷輸送材料：４８質量部と、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量４００００，三菱ガス化学社製、商品名Ｚ４００）：５２質量部と、をテトロヒドロフラン２８０重量部及びトルエン１２０重量部に十分に溶解混合した塗布液を、電荷輸送層用の塗布液として調整した。この塗布液を、電荷発生層まで塗布したアルミニウム支持体上に浸漬塗布して電荷輸送層用の塗膜を形成した後に、該電荷輸送層用の塗膜の幅方向端面と、下引層及び電荷発生層の幅方向端面と、が揃うように、テトラヒドロフラン（関東化学社製）と拭き取りスポンジを用いて、該電荷輸送層用の塗膜の幅方向の両端部を拭き取った。次に、１３５℃、４０分で乾燥することにより、膜厚２５μｍの電荷輸送層を形成し、これによって、基体上に感光層を形成した。なお、感光層の厚みは、４３．１０μｍ（下引層：１８μｍ，電荷発生層：０．１０μｍ，電荷輸送層：２５μｍ）であった。
【０１６４】
この感光層の最も外側の層である電荷輸送層の弾性変形率を求めたところ、表１に示す結果が得られた。
【０１６５】
なお、この弾性変形率の測定は、フィッシャースコープＨ−１００（フィッシャー・インストルメンツ社製）を用いて、２５℃／５０％ＲＨの条件下で行った。詳細には、ビッカース四角錐ダイヤモンド圧子を用いて、測定対象の層に負荷時間１０ｓｅｃで２ｍＮの負荷をかけ、５ｓｅｃ間保持した後、１０ｓｅｃかけて除荷した時の押し込み深さおよび荷重を測定すると図５（Ａ→Ｂ→Ｃ）のように表される。弾性変形の仕事Ｗｅｌａｓｔは、図５中のＣ−Ｂ−Ｄ−Ｃで囲まれる面積で、塑性変形の仕事量Ｗｐｌａｓｔは、図５中のＡ−Ｂ−Ｃ−Ａで囲まれる面積で表され、弾性変形率（％）は（Ｗｅｌａｓｔ／（Ｗｅｌａｓｔ＋Ｗｐｌａｓｔ））×１００から求めた。
【０１６６】
次に、上記感光層上に、被覆層を形成した。
被覆層の形成には、まず、樹脂としてグアナミン樹脂「ニカラックＭＷ−３０（日本カーバイト社製）」０．０９質量部、電荷輸送材料として上記Ｉ−３０で示される化合物９９質量部、及びｐ−トルエンスルホン酸触媒０．１質量部をシクロペンタノールに溶解させ、被覆層用の塗布液を得た。この塗布液を、浸漬塗布法によって、上記感光層及び基体の露出領域上に塗布し、塗布された被覆層用の塗膜の幅方向端部を、基体上の被覆層の幅が０．５ｍｍとなるように、テトラヒドロフラン（関東化学社製）と拭き取りスポンジを用いて拭き取った。このため、感光層の厚みＢ（４３．１０μｍ（０．０４３１ｍｍ））に対する基体上の被覆層の幅Ａ（０．５ｍｍ）は、１１．６倍であった。
【０１６７】
次に、該被覆層用の塗膜を室温で３０分風乾した。その後、１５０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約４．５μｍの被覆層を形成した。これによって像保持体１Ａを作製した。
【０１６８】
この像保持体１Ａの被覆層の弾性変形率を求めたところ、表１に示す結果が得られた。
また、感光層２０の内の被覆層に接する層である電荷輸送層の弾性変形率と、被覆層の弾性変形率と、の差を求め、結果を表１に示した。
【０１６９】
−像保持体１Ｂの作製−
上記像保持体１Ａの作製において、被覆層用の塗膜の幅方向端部を、基体上の被覆層の幅が０．４ｍｍとなるように、テトラヒドロフラン（関東化学社製）と拭き取りスポンジを用いて拭き取った以外は、像保持体１Ａと同じ製法及び同じ条件で、像保持体１Ｂを作製した。
【０１７０】
このため、像保持体１Ｂにおける感光層の厚みＢ（４３．１０μｍ（０．０４３１ｍｍ））に対する基体上の被覆層の幅Ａ（０．４ｍｍ）は、９．３倍であった。
【０１７１】
この像保持体１Ｂにおける感光層の最も外側の層である電荷輸送層の弾性変形率、被覆層の弾性変形率、これらの差を、像保持体１Ａと同じ方法で求めたところ、表１に示す結果が得られた。
【０１７２】
−像保持体１Ｃの作製−
上記像保持体１Ａの作製において、被覆層用の塗膜の幅方向端部を、基体上の被覆層の幅が０ｍｍとなるように、テトラヒドロフラン（関東化学社製）と拭き取りスポンジを用いて拭き取って、被覆層と感光層の幅方向の端面が揃うように調整した以外は、像保持体１Ａと同じ製法及び同じ条件で、像保持体１Ｃを作製した。
【０１７３】
このため、像保持体１Ｃにおける感光層の厚みＢ（４３．１０μｍ（０．０４３１ｍｍ））に対する基体上の被覆層の幅Ａ（０ｍｍ）は、０倍であった。
【０１７４】
この像保持体１Ｃにおける感光層の最も外側の層である電荷輸送層の弾性変形率、被覆層の弾性変形率、これらの差を、像保持体１Ａと同じ方法で求めたところ、表１に示す結果が得られた。
【０１７５】
【化２１】
0005556099.tif 000022
【０１７６】
−像保持体２Ａの作製−
上記像保持体１Ａにおける電荷輸送層の形成において用いた電荷輸送層用の塗布液に変えて、上記式（ＣＴ−１）で示される電荷輸送材料を３８質量部と、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量５００００，帝人化成社製、商品名ＴＳ２０５０）：６２質量部と、をテトロヒドロフラン２８０重量部及びトルエン１２０重量部に十分に溶解混合した塗布液を、電荷輸送層用の塗布液として用いた以外は、像保持体１Ａと同じ製法及び同じ条件で、像保持体２Ａを作製した。
【０１７７】
このため、像保持体２Ａにおける感光層の厚みＢ（４３．１０μｍ（０．０４３１ｍｍ））に対する基体上の被覆層の幅Ａ（０．５ｍｍ）は、像保持体１Ａと同じ１１．６倍であった。
【０１７８】
また、この像保持体２Ａにおける感光層の最も外側の層である電荷輸送層の弾性変形率、被覆層の弾性変形率、これらの差を、像保持体１Ａと同じ方法で求めたところ、表１に示す結果が得られた。
【０１７９】
−像保持体２Ｂの作製−
上記像保持体２Ａの作製において、被覆層用の塗膜の幅方向端部を、基体上の被覆層の幅が０．４ｍｍとなるように、テトラヒドロフラン（関東化学社製）と拭き取りスポンジを用いて拭き取った以外は、像保持体２Ａと同じ製法及び同じ条件で、像保持体２Ｂを作製した。
【０１８０】
このため、像保持体２Ｂにおける感光層の厚みＢ（４３．１０μｍ（０．０４３１ｍｍ））に対する基体上の被覆層の幅Ａ（０．４ｍｍ）は、９．３倍であった。
【０１８１】
この像保持体２Ｂにおける感光層の最も外側の層である電荷輸送層の弾性変形率、被覆層の弾性変形率、これらの差を、像保持体１Ａと同じ方法で求めたところ、表１に示す結果が得られた。
【０１８２】
−像保持体２Ｃの作製−
上記像保持体２Ａの作製において、被覆層用の塗膜の幅方向端部を、基体上の被覆層の幅が０ｍｍとなるように、テトラヒドロフラン（関東化学社製）と拭き取りスポンジを用いて拭き取って、被覆層と感光層の幅方向の端面が揃うように調整した以外は、像保持体２Ａと同じ製法及び同じ条件で、像保持体２Ｃを作製した。
【０１８３】
このため、像保持体２Ｃにおける感光層の厚みＢ（４３．１０μｍ（０．０４３１ｍｍ））に対する基体上の被覆層の幅Ａ（０ｍｍ）は、０倍であった。
【０１８４】
この像保持体２Ｃにおける感光層の最も外側の層である電荷輸送層の弾性変形率、被覆層の弾性変形率、これらの差を、像保持体１Ａと同じ方法で求めたところ、表１に示す結果が得られた。
【０１８５】
−像保持体３Ａの作製−
上記像保持体１Ａにおける電荷輸送層の形成において用いた電荷輸送層用の塗布液に変えて、上記式（ＣＴ−１）で示される電荷輸送材料を４３質量部と、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量５００００，帝人化成社製、商品名ＴＳ２０５０）：５７質量部と、をテトロヒドロフラン２８０重量部及びトルエン１２０重量部に十分に溶解混合した塗布液を、電荷輸送層用の塗布液として用いた以外は、像保持体１Ａと同じ製法及び同じ条件で、像保持体３Ａを作製した。
【０１８６】
このため、像保持体３Ａにおける感光層の厚みＢ（４３．１０μｍ（０．０４３１ｍｍ））に対する基体上の被覆層の幅Ａ（０．５ｍｍ）は、像保持体１Ａと同じ１１．６倍であった。
【０１８７】
また、この像保持体３Ａにおける感光層の最も外側の層である電荷輸送層の弾性変形率、被覆層の弾性変形率、これらの差を、像保持体１Ａと同じ方法で求めたところ、表１に示す結果が得られた。
【０１８８】
−像保持体３Ｂの作製−
上記像保持体３Ａの作製において、被覆層用の塗膜の幅方向端部を、基体上の被覆層の幅が０．４ｍｍとなるように、テトラヒドロフラン（関東化学社製）と拭き取りスポンジを用いて拭き取った以外は、像保持体３Ａと同じ製法及び同じ条件で、像保持体３Ｂを作製した。
【０１８９】
このため、像保持体３Ｂにおける感光層の厚みＢ（４３．１０μｍ（０．０４３１ｍｍ））に対する基体上の被覆層の幅Ａ（０．４ｍｍ）は、９．３倍であった。
【０１９０】
この像保持体３Ｂにおける感光層の最も外側の層である電荷輸送層の弾性変形率、被覆層の弾性変形率、これらの差を、像保持体１Ａと同じ方法で求めたところ、表１に示す結果が得られた。
【０１９１】
−像保持体３Ｃの作製−
上記像保持体３Ａの作製において、被覆層用の塗膜の幅方向端部を、基体上の被覆層の幅が０ｍｍとなるように、テトラヒドロフラン（関東化学社製）と拭き取りスポンジを用いて拭き取って、被覆層と感光層の幅方向の端面が揃うように調整した以外は、像保持体３Ａと同じ製法及び同じ条件で、像保持体３Ｃを作製した。
【０１９２】
このため、像保持体３Ｃにおける感光層の厚みＢ（４３．１０μｍ（０．０４３１ｍｍ））に対する基体上の被覆層の幅Ａ（０ｍｍ）は、０倍であった。
【０１９３】
この像保持体３Ｃにおける感光層の最も外側の層である電荷輸送層の弾性変形率、被覆層の弾性変形率、これらの差を、像保持体１Ａと同じ方法で求めたところ、表１に示す結果が得られた。
【０１９４】
−像保持体４Ａの作製−
上記像保持体１Ａにおける電荷輸送層の形成において用いた電荷輸送層用の塗布液に変えて、上記式（ＣＴ−１）で示される電荷輸送材料を４８質量部と、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量５００００，帝人化成社製、商品名ＴＳ２０５０）：５２質量部と、をテトロヒドロフラン２８０重量部及びトルエン１２０重量部に十分に溶解混合した塗布液を、電荷輸送層用の塗布液として用いた以外は、像保持体１Ａと同じ製法及び同じ条件で、像保持体４Ａを作製した。
【０１９５】
このため、像保持体４Ａにおける感光層の厚みＢ（４３．１０μｍ（０．０４３１ｍｍ））に対する基体上の被覆層の幅Ａ（０．５ｍｍ）は、像保持体１Ａと同じ１１．６倍であった。
【０１９６】
また、この像保持体４Ａにおける感光層の最も外側の層である電荷輸送層の弾性変形率、被覆層の弾性変形率、これらの差を、像保持体１Ａと同じ方法で求めたところ、表１に示す結果が得られた。
【０１９７】
−像保持体４Ｂの作製−
上記像保持体４Ａの作製において、被覆層用の塗膜の幅方向端部を、基体上の被覆層の幅が０．４ｍｍとなるように、テトラヒドロフラン（関東化学社製）と拭き取りスポンジを用いて拭き取った以外は、像保持体４Ａと同じ製法及び同じ条件で、像保持体４Ｂを作製した。
【０１９８】
このため、像保持体４Ｂにおける感光層の厚みＢ（４３．１０μｍ（０．０４３１ｍｍ））に対する基体上の被覆層の幅Ａ（０．４ｍｍ）は、９．３倍であった。
【０１９９】
この像保持体４Ｂにおける感光層の最も外側の層である電荷輸送層の弾性変形率、被覆層の弾性変形率、これらの差を、像保持体１Ａと同じ方法で求めたところ、表１に示す結果が得られた。
【０２００】
−像保持体４Ｃの作製−
上記像保持体４Ａの作製において、被覆層用の塗膜の幅方向端部を、基体上の被覆層の幅が０ｍｍとなるように、テトラヒドロフラン（関東化学社製）と拭き取りスポンジを用いて拭き取って、被覆層と感光層の幅方向の端面が揃うように調整した以外は、像保持体４Ａと同じ製法及び同じ条件で、像保持体４Ｃを作製した。
【０２０１】
このため、像保持体４Ｃにおける感光層の厚みＢ（４３．１０μｍ（０．０４３１ｍｍ））に対する基体上の被覆層の幅Ａ（０ｍｍ）は、０倍であった。
【０２０２】
この像保持体４Ｃにおける感光層の最も外側の層である電荷輸送層の弾性変形率、被覆層の弾性変形率、これらの差を、像保持体１Ａと同じ方法で求めたところ、表１に示す結果が得られた。
【０２０３】
−像保持体５Ａの作製−
上記像保持体１Ａにおける電荷輸送層の形成において用いた電荷輸送層用の塗布液に変えて、上記式（ＣＴ−１）で示される電荷輸送材料を４３質量部と、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量８００００，三菱ガス化学社製、商品名Ｚ８００）：５７質量部と、をテトロヒドロフラン２８０重量部及びトルエン１２０重量部に十分に溶解混合した塗布液を、電荷輸送層用の塗布液として用いた以外は、像保持体１Ａと同じ製法及び同じ条件で、像保持体５Ａを作製した。
【０２０４】
このため、像保持体５Ａにおける感光層の厚みＢ（４３．１０μｍ（０．０４３１ｍｍ））に対する基体上の被覆層の幅Ａ（０．５ｍｍ）は、像保持体１Ａと同じ１１．６倍であった。
【０２０５】
また、この像保持体５Ａにおける感光層の最も外側の層である電荷輸送層の弾性変形率、被覆層の弾性変形率、これらの差を、像保持体１Ａと同じ方法で求めたところ、表１に示す結果が得られた。
【０２０６】
−像保持体５Ｂの作製−
上記像保持体５Ａの作製において、被覆層用の塗膜の幅方向端部を、基体上の被覆層の幅が０．４ｍｍとなるように、テトラヒドロフラン（関東化学社製）と拭き取りスポンジを用いて拭き取った以外は、像保持体５Ａと同じ製法及び同じ条件で、像保持体５Ｂを作製した。
【０２０７】
このため、像保持体５Ｂにおける感光層の厚みＢ（４３．１０μｍ（０．０４３１ｍｍ））に対する基体上の被覆層の幅Ａ（０．４ｍｍ）は、９．３倍であった。
【０２０８】
この像保持体５Ｂにおける感光層の最も外側の層である電荷輸送層の弾性変形率、被覆層の弾性変形率、これらの差を、像保持体１Ａと同じ方法で求めたところ、表１に示す結果が得られた。
【０２０９】
−像保持体５Ｃの作製−
上記像保持体５Ａの作製において、被覆層用の塗膜の幅方向端部を、基体上の被覆層の幅が０ｍｍとなるように、テトラヒドロフラン（関東化学社製）と拭き取りスポンジを用いて拭き取って、被覆層と感光層の幅方向の端面が揃うように調整した以外は、像保持体５Ａと同じ製法及び同じ条件で、像保持体５Ｃを作製した。
【０２１０】
このため、像保持体５Ｃにおける感光層の厚みＢ（４３．１０μｍ（０．０４３１ｍｍ））に対する基体上の被覆層の幅Ａ（０ｍｍ）は、０倍であった。
【０２１１】
この像保持体５Ｃにおける感光層の最も外側の層である電荷輸送層の弾性変形率、被覆層の弾性変形率、これらの差を、像保持体１Ａと同じ方法で求めたところ、表１に示す結果が得られた。
【０２１２】
−像保持体６Ａの作製−
上記像保持体１Ａにおける電荷輸送層の形成において用いた電荷輸送層用の塗布液に変えて、上記式（ＣＴ−１）で示される電荷輸送材料を４８質量部と、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量８００００，三菱ガス化学社製、商品名Ｚ８００）：５２質量部と、をテトロヒドロフラン２８０重量部及びトルエン１２０重量部に十分に溶解混合した塗布液を、電荷輸送層用の塗布液として用いた以外は、像保持体１Ａと同じ製法及び同じ条件で、像保持体６Ａを作製した。
【０２１３】
このため、像保持体６Ａにおける感光層の厚みＢ（４３．１０μｍ（０．０４３１ｍｍ））に対する基体上の被覆層の幅Ａ（０．５ｍｍ）は、像保持体１Ａと同じ１１．６倍であった。
【０２１４】
また、この像保持体６Ａにおける感光層の最も外側の層である電荷輸送層の弾性変形率、被覆層の弾性変形率、これらの差を、像保持体１Ａと同じ方法で求めたところ、表１に示す結果が得られた。
【０２１５】
−像保持体６Ｂの作製−
上記像保持体６Ａの作製において、被覆層用の塗膜の幅方向端部を、基体上の被覆層の幅が０．４ｍｍとなるように、テトラヒドロフラン（関東化学社製）と拭き取りスポンジを用いて拭き取った以外は、像保持体６Ａと同じ製法及び同じ条件で、像保持体６Ｂを作製した。
【０２１６】
このため、像保持体６Ｂにおける感光層の厚みＢ（４３．１０μｍ（０．０４３１ｍｍ））に対する基体上の被覆層の幅Ａ（０．４ｍｍ）は、９．３倍であった。
【０２１７】
この像保持体６Ｂにおける感光層の最も外側の層である電荷輸送層の弾性変形率、被覆層の弾性変形率、これらの差を、像保持体１Ａと同じ方法で求めたところ、表１に示す結果が得られた。
【０２１８】
−像保持体６Ｃの作製−
上記像保持体６Ａの作製において、被覆層用の塗膜の幅方向端部を、基体上の被覆層の幅が０ｍｍとなるように、テトラヒドロフラン（関東化学社製）と拭き取りスポンジを用いて拭き取って、被覆層と感光層の幅方向の端面が揃うように調整した以外は、像保持体６Ａと同じ製法及び同じ条件で、像保持体６Ｃを作製した。
【０２１９】
このため、像保持体６Ｃにおける感光層の厚みＢ（４３．１０μｍ（０．０４３１ｍｍ））に対する基体上の被覆層の幅Ａ（０ｍｍ）は、０倍であった。
【０２２０】
この像保持体６Ｃにおける感光層の最も外側の層である電荷輸送層の弾性変形率、被覆層の弾性変形率、これらの差を、像保持体１Ａと同じ方法で求めたところ、表１に示す結果が得られた。
【０２２１】
―像保持体７Ａの作製―
上記像保持体１Ａにおける電荷輸送層の形成までを像保持体１Ａと同じ製法及び同じ条件で作成した。
被覆層の形成には、まず、樹脂としてフェノール樹脂(商品名：レジトップＰＬ−２２１１、群栄化学社製）３質量部、電荷輸送材料として上記Ｉ−３０で示される化合物３質量部、硬化触媒としてＮａｃｕｒｅ２５００（キングインダストリーズ社製）をイソプロピルアルコール５質量部、メチルイソブチルケトン５質量部に溶解させ、被覆層用の塗布液を得た。この塗布液を、浸漬塗布法によって、上記感光層及び基体の露出領域上に塗布し、塗布された被覆層用の塗膜の幅方向端部を、基体上の被覆層の幅が０．５ｍｍとなるように、テトラヒドロフラン（関東化学社製）と拭き取りスポンジを用いて拭き取った。このため、感光層の厚みＢ（４３．１０μｍ（０．０４３１ｍｍ））に対する基体上の被覆層の幅Ａ（０．５ｍｍ）は、１１．６倍であった。
【０２２２】
次に、該被覆層用の塗膜を室温で３０分風乾した。その後、１５０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約４．５μｍの被覆層を形成した。これによって像保持体７Ａを作製した。
【０２２３】
―像保持体８Ａの作製―
上記像保持体１Ａにおける電荷輸送層の形成までを像保持体１Ａと同じ製法及び同じ条件で作成し、該被覆層用の塗布液を像保持体１Ａと同じ条件で作成し、室温で３０分風乾した。その後、１６０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約４．５μｍの被覆層を形成した像保持体８Ａを作製した。
【０２２４】
このため、像保持体８Ａにおける感光層の厚みＢ（４３．１０μｍ（０．０４３１ｍｍ））に対する基体上被覆層の幅Ａ（０．５ｍｍ）は、像保持体１Ａと同じ１１．６倍であった。
【０２２５】
―像保持体９Ａの作製―
上記像保持体１Ａにおける電荷輸送層の形成までを像保持体１Ａと同じ製法及び同じ条件で作成し、該被覆層用の塗布液を像保持体１Ａと同じ条件で作成し、室温で３０分風乾した。その後、１７０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約４．５μｍの被覆層を形成した像保持体９Ａを作製した。
【０２２６】
このため、像保持体９Ａにおける感光層の厚みＢ（４３．１０μｍ（０．０４３１ｍｍ））に対する基体上の被覆層の幅Ａ（０．５ｍｍ）は、像保持体１Ａと同じ１１．６倍であった。
【０２２７】
＜実施例１〜実施例１５，比較例１〜比較例６＞
上記調整した像保持体の各々を、フルカラーレーザプリンタ（富士ゼロックス社製、「Ｄｏｃｕ  ＣｅｎｔｒｅII  Ｃ７５００」改造機、中間転写体あり）の像保持体として装着した。
そして、一般環境（２２℃、５０％ＲＨ）の環境下で、Ａ４用紙にエリアカバレッジ５％の画像を連続して２００ｋｐｖ（２００×１０３枚）連続プリントする走行試験を行った（合計４００ｋｐｖ）。この走行試験後、各像保持体の表面をＫＥＹＥＮＣＥ社製  ＶＫレーザー顕微鏡にて観察し、像保持体の表面の異物痕による被覆層の感光層からの剥がれの評価を行った。評価結果を表１に示した。
【０２２８】
その後、さらに、Ａ４用紙にエリアカバレッジ５％の画像を連続して２００ｋｐｖ（２００×１０３枚）連続プリントする走行試験を行った。この走行試験の後、再度、各像保持体の表面をＫＥＹＥＮＣＥ社製  ＶＫレーザー顕微鏡にて観察し、像保持体の表面の異物痕による被覆層の感光層からの剥がれの評価、及び、幅方向端部の被覆層の剥がれの評価を行った。評価結果を表１に示した。
【０２２９】
なお、評価基準は、下記評価基準とした。
【０２３０】
＜異物痕による被覆層の感光層からの剥がれの評価基準＞
Ｇ４：異物痕の発生は無く、さらに高画質領域での使用上で問題ない。異物痕による感光層からの剥がれもない。
Ｇ３：異物痕の軽微な発生は有るが、実使用上問題ない。異物痕による感光層からの剥がれもない。
Ｇ２：異物痕の発生が多数有り、問題が確認される。異物痕による感光層からの剥がれもない。
Ｇ１：異物痕より感光層からの軽微な剥がれが有り、実使用上耐えられない。
【０２３１】
＜幅方向端部の被覆層の剥がれの評価基準＞
Ｇ４：被覆層の剥がれの発生は無く、さらに高画質領域での使用上で問題ない。
Ｇ３：基体上において被覆層の剥がれが軽微に有るが、実使用上問題ない。
Ｇ２：被覆層の電荷輸送層からの剥がれが多数有り、問題が確認される。
Ｇ１：広範囲に剥がれが有り、実使用上耐えられない。
【０２３２】
【表１】
0005556099.tif 000023
【０２３３】
表１に示されるように、実施例１〜実施例１５では、比較例１〜比較例６に比べて、被覆層の端部からの剥がれが抑制されていた。
また、被覆層の弾性変形率と、該被覆層に接する電荷輸送層の弾性変形率と、の差が、２０％以下であり、被覆層をグアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも１種と、特定の電荷輸送材料の少なくとも１種と、を用いた架橋物を含む構成とした実施例１〜実施例６、実施例８、実施例１０〜実施例１５では、該被覆層に接する電荷輸送層の弾性変形率と、の差が、２０％以下であり、被覆層をグアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも１種と、特定の電荷輸送材料の少なくとも１種と、を用いた架橋物を含む構成とした実施例９に比べて、異物痕による損傷（ダメージ）が軽度であり、被覆層の感光層からの剥がれが抑制されていた。
また、被覆層をグアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも１種と、特定の電荷輸送材料の少なくとも１種と、を用いた架橋物を含む構成とした実施例１〜６、及び実施例８〜１５では、被覆層を該架橋物を含まない構成とした実施例７に比べて、走行中の異物痕による損傷（ダメージ）が軽減され、走行中の感光層からの剥がれが無く良好な結果が得られた。
【符号の説明】
【０２３４】
１０   像保持体
１２   基体
１７   感光層
２０   感光層
２２   被覆層
【図１】
0005556099.tif 000024
【図２】
0005556099.tif 000025
【図３】
0005556099.tif 000026
【図４】
0005556099.tif 000027
【図５】
0005556099.tif 000028
【図６】
0005556099.tif 000029