(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）少なくとも１つのレーザアレイ光源から光路に沿って光を投影する多重レーザを有する前記少なくとも１つのレーザアレイ光源を有する光アセンブリであって、前記投影される光は、合成光ビームを生成するよう前記光路の遠視野照明部分において重なり合わされ、前記光路の前記遠視野照明部分は遠視野距離の外の部分であり、個別のレーザからのレーザ強度パターンは、該レーザ強度パターンの大きさのみが変化し、前記レーザ強度パターンの構造は変わらない遠視野基準を満たす、光アセンブリ；
ｂ）前記遠視野距離から下流の前記光路内にある時間変化光学位相シフト装置；
ｃ）前記時間変化光学位相シフト装置の下流の光学インテグレータ；
ｄ）前記光路内の前記光学インテグレータの下流に位置する空間光変調器；
ｅ）前記光路内の前記空間光変調器の下流に位置する投影光学系であって、該投影光学系は、前記空間光変調器から表示面の方にスペックルが低減された光を方向付ける、投影光学系；
を有するディジタル画像プロジェクタ。
【請求項２】
請求項１に記載のディジタル画像プロジェクタであって：
前記光アセンブリにより投影される前記光は、共通の第１偏光状態を有する偏光光であり、前記光学インテグレータ及び前記空間光変調器は実質的に偏光を保ち；
前記投影される偏光光の光路内にあり、前記第１の偏光状態から第２の偏光状態に前記投影される偏光光の偏光状態を制御可能に回転させるように作動可能である偏光ローテータを更に有する；
ディジタル画像プロジェクタ。
【請求項３】
請求項２に記載のディジタル画像プロジェクタであって：
当該ディジタル画像プロジェクタは、立体画像データを投影する立体ディジタル画像プロジェクタであり；
前記偏光ローテータを前記立体画像データと同期させる同期装置であって、前記偏光ローテータは、左眼立体画像データについての第１偏光状態にある投影される偏光光を提供し、前記偏光ローテータは、右眼立体画像データについての第２偏光状態にある投影される偏光光を提供する、同期装置を更に有する；
ディジタル画像プロジェクタ。
【請求項４】
ａ）多重レーザを有する少なくとも１つのレーザアレイ光源から光路に沿って光を投影する前記少なくとも１つのレーザアレイ光源を有する光アセンブリであって、前記多重レーザからの前記投影される光は、合成光ビームを生成するよう前記光路の遠視野照明部分において重なり合わされ、前記光路の前記遠視野照明部分は遠視野距離の外の部分であり、個別のレーザからのレーザ強度パターンは、該レーザ強度パターンの大きさのみが変化し、前記レーザ強度パターンの構造は変わらないような遠視野基準を満たす、光アセンブリ；
ｂ）角度的又は空間的位置、角度的又は空間的大きさ若しくはそれらの組み合わせを変えることにより光学エテンデューを時間的に変える時間変化光学エテンデューシフト装置であって、該時間変化光学エテンデューシフト装置は遠視野距離から下流の前記光路内に位置付けられる、時間変化光学エテンデューシフト装置；
ｃ）前記時間変化光学エテンデューシフト装置の下流にある光学インテグレータ；
ｄ）前記光路内の前記光学インテグレータの下流に位置する空間光変調器；
ｅ）前記光路内の前記空間光変調器の下流に位置する投影光学系であって、該投影光学系は、前記空間光変調器から表示面の方にスペックルが低減された光を方向付ける、投影光学系；
を有するディジタル画像プロジェクタ。
【請求項５】
レーザにより表示される画像においてレーザスペックルを低減する方法であって：
ａ）光路に沿って多重レーザを有するレーザアレイ光源から光を投影する段階であって、前記多重レーザからの前記投影される光は、合成光ビームを生成するよう前記光路の遠視野照明部分において重なり合わされ、前記光路の前記遠視野照明部分は遠視野距離の外の部分であり、個別のレーザからのレーザ強度パターンは、該レーザ強度パターンの大きさのみが変化し、前記レーザ強度パターンの構造は変わらないような遠視野基準を満たす、段階；
ｂ）前記遠視野距離から下流の前記光路内にあるように構成された時間変化光学シフト装置又は時間変化光学エテンデューシフト装置を用いて前記投影される光を時間的に変える段階；
ｃ）前記投影される光を時間的に変える段階に続いて、前記投影される光を光学的に集積する段階；
ｄ）前記投影される光を光学的に集積する段階に続いて、空間光変調器を用いて前記投影される光を空間的に変調する段階；及び
ｅ）前記投影される光を空間的に変調する段階に続いて、表示表面の方にスペックルが低減された光を光学的に投影する段階；
を有する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディジタル画像を投影する装置に関し、特に、ディジタルシネマ投影のための均一で実質的にスペックルのない画像を生成するように偏光レーザを用いる、改善された装置及び方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
特に広い場所で映画の品質に適合する又はそれを上回る画像を表示する高品質のディジタル投影システムへの関心が高まってきている。マルチカラーのディジタルシネマ投影のためのディジタル投影法のうちの最も有望なものは、画像生成装置として、２つの基本的な種類の空間光変調器（ＳＬＭ）のうちの１つを用いる。第１の種類の空間光変調器は、テキサスインスツルメンツ社（米国テキサス州ダラス市）製のディジタル光プロセッサ（ＤＬＰ）及びディジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）である。ＤＬＰは、ディジタル投影システムで成功裏に採用されてきている。ＤＬＰ装置については、多くの特許文献、例えば、米国特許第４，４４１，７９１号明細書、米国特許第５，５３５，０４７号明細書及び米国特許第５，６００，３８３号明細書（全てＨｏｒｎｂｅｃｋによる）に記載されている。
【０００３】
図１は、ＤＬＰ空間光変調器を用いるプロジェクタ装置１０の簡単なブロック図である。光源１２は、例えば、フィリップス（Ｐｈｉｌｉｐｓ）プリズムのようなプリズムアセンブリ１４に多色非偏光光を供給する。プリズムアセンブリ１４は、多色光を赤色、緑色及び青色成分波長帯域に分割し、対応する空間光変調器２０ｒ、２０ｇ又は２０ｂに各々の帯域を方向付ける。プリズムアセンブリ１４は、その場合、各々のＳＬＭ２０ｒ、２０ｇ又は２０ｂにより変調された光を再結合し、表示スクリーン又は他の適切な面への投影のために投影レンズ３０にこの非偏光光を供給する。
【０００４】
ＤＬＰに基づくプロジェクタは、必要な光スループットと、コントラスト比と、デスクトップから大きいシネマへの殆どの投影アプリケーションのための色域と、を与える能力を示す。しかしながら、既存の装置は、典型的にはたかだか２０４８ｘ１０８０の画素数しか有さないという、解像度の制約が本来備わっている。更に、構成要素及びシステムは高価であるために、より高い品質のディジタルシネマ投影のためのＤＬＰのデザインの適合性は制限されている。更に、フィリップスプリズム又は他の適切な組み合わされるプリズムのコスト、大きさ、重さ及び複雑性は重大な制約である。更に、輝度の要求のために、長い作動距離を有する比較的速い投影レンズの必要性は、それらの装置の受け入れ易さ及び使い易さに負の影響を与える。
【０００５】
ディジタル投影のために用いられる第２の種類の空間光変調器は液晶装置（ＬＣＤ）である。ＬＣＤは、各々の対応する画素について入射光の偏光状態を選択的に変調することにより、複数の画素のアレイとして画像を生成する。ＬＣＤは、高品質のディジタルシネマ投影システムのための空間光変調器としてのある有利点を有するようにみえる。それらの有利点には、比較的大きい装置サイズ、好ましい装置歩留まり、及び高解像度の装置、例えば、４０９６ｘ２１６０の解像度を有する装置（ソニー株式会社及び日本ビクター株式会社製）を製造する能力がある。ＬＣＤの空間光変調器を用いる電子投影装置の例としては、米国特許第５，８０８，７９５号明細書（Ｓｈｉｍｏｍｕｒａ等）等に開示されているものがある。ＬＣＯＳ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｏｎ  Ｓｉｌｉｃｏｎ）装置は、大型画像投影のために特に有望であると考えられている。しかしながら、ＬＣＤの構成要素を用いる場合、熱負荷の大きい高輝度投影はそれらの装置の偏光品質に影響を与えるため、ディジタルシネマ、特に、色及びコントラストについての高品質の要求を維持することは困難である。
【０００６】
照明効率に関する継続的な課題は、エテンデューに関し、又は、同様に、ラグランジェの不変量に関する。従来の光学技術におけるように、エテンデューは、光学システムにより処理されることが可能である光量に関係する。高い可能性を有して、エテンデューが大きくなればなるほど、画像はより高輝度になる。数的に、エテンデューは２つの因子、即ち、画像面積及び開口率の積に比例する。光源１２、光学系１８及び空間光変調器２０を有する図２に示している簡単な光学システムに関しては、エテンデューは光源の面積Ａ１と出力角度θ１との積であり、適切に適合された光学系においては、このエテンデューは、変調器の面積Ａ２と受光角度θ２との積に等しい。高い輝度については、光源１２の面積からできるだけ多くの光を供給することが望ましい。一般原理として、光源におけるエテンデューが変調器におけるエテンデューと最もよく適合するときに、その光学設計は優位性がある。
【０００７】
例えば、開口率が増加すると、その光学系がより多くの光を捕捉するように、エテンデューを高くする。同様に、光がより大きい面積にもたらされるように、ソース画像のサイズを大きくすることにより、エテンデューは大きくなる。照明側で高いエテンデューを用いるためには、そのエテンデューは、照明ソースのエテンデューと等しい又はそれより大きい必要がある。しかしながら、画像サイズが大きくなればなる程、典型的には、より価格の高いシステムになる。このことは、シリコン基板のサイズが大きく、潜在的な欠陥が増加するＬＣＯＳ及びＤＬＰ構成要素のような装置には、特に当て嵌まる。原則として、高いエテンデューは、より複雑で、コストが掛かる光学設計をもたらす。例えば、米国特許第５，９０７，４３７号明細書（Ｓｐｒｏｔｂｅｒｙ等による）で概要が記載されている方法のような従来の方法を用いる場合、光学系のレンズ構成要素は、大きいエテンデューのために設計される必要がある。光学系を通って収束される必要がある光についてのソース画像面積は、赤色、緑井素及び青色光路における空間光変調器の結合された領域の和であり、特に、これは、生成された最終的な変調画像の面積の３倍である。即ち、そのような従来の方法において開示されている構成のためには、赤色、緑色及び青色経路は別個であり、それらは光学的に収束される必要があるため、光学構成要素はかなり大きい画像面積を、従って高いエテンデューを処理する。更に、米国特許第５，９０７，４３７号明細書（Ｓｐｒｏｔｂｅｒｙ等による）において開示されているような構成は、生成された最終的なマルチカラー画像の面積の３倍の面積からの光を処理するが、各々の光路は全体の光レベルの三分の一のみを有するため、この構成は、高い輝度の恩恵を何ら与えるものではない。
【０００８】
光源のエテンデューが空間光変調器のエテンデューとよく適合されるときに、効果は改善される。あまり適合していないエテンデューは、光学系において、光が不足しているか、空間光変調器に十分な光を供給できないか、変調のために生成される光のかなりの部分を非効率的に廃棄されているかの何れかであることを意味する。
【０００９】
受け入れられるシステムコストでディジタルシネマアプリケーションのために十分な輝度を与える目的は、ＬＣＤシステム及びＤＬＰシステムの両方の設計者によって達成されることはなかった。ＬＣＤに基づくシステムは、偏光修復技術が用いられる場合でさえ、偏光光、低い効率及び高いエテンデューについての要求と妥協する必要があった。偏光光を必要としないＤＬＰ装置設計は、幾らか高い効率であることが判明しているが、尚も、高価であり、ランプ寿命は短く、光学エンジンは高価であるために、従来のシネマ投影装置に対して競合するには、それは高価過ぎるのである。
【００１０】
従来のハイエンドのフィルムベースの投影システムと競合し、電子シネマ又はディジタルシネマと称せられているものを提供するためには、ディジタルプロジェクタが、このような初期の装置と匹敵するシネマ輝度レベルを達成する必要がある。規模についてのある考えとして、典型的な映画館は、対角線で４０フィートのオーダーのスクリーンサイズに投影される１００００ルーメンのオーダーを要求する。スクリーンの範囲においては、５０００ルーメン乃至４００００ルーメンの範囲内の何れかが要求される。このような輝度の要求に加えて、それらのプロジェクタはまた、高分解能（２０４８ｘ１０８０画素）を実現し、約２０００：１のコントラスト及び広い色域を提供する必要がある。
【００１１】
一部のディジタルシネマプロジェクタの設計は、このような性能のレベルを達成することが可能であることが判明している。しかしながら、高い装置コスト及び動作コストが障害となってきた。それらの要求に適合する投影装置においては、各々$５０，０００を越える典型的なコストを必要とし、しばしば$１０００を上回る典型的な交換コストを伴って、５００乃至２０００時間の範囲内の間隔での交換を必要とする高消費電力のキセノンアークランプが用いられている。そのキセノンランプの大きいエテンデューは、それらのソースから光を収集して投影するように比較的速い光学系を必要とするために、コスト及び複雑性へのかなりの影響を有する。
【００１２】
ＤＬＰ及びＬＣＯＳ  ＬＣＤ空間光変調器（ＳＬＭ）の両方に共通の１つの短所は、複数のレーザ光源、特に複数のレーザソースを用いる限定された能力であった。それらの光源は、関係スペクトル純度及び潜在的に高い輝度レベルに関して、他の種類の光源に対して優位性を有するが、複数のレーザ光源は、それらの優位性を効率的に用いるために異なる方法を必要とする。過去のディジタルプロジェクタ設計を伴って用いられるカラーソースからの光を条件付けし、再方向付けし、組み合わせる従来の方法及び装置は、どのようにうまくレーザ光源が用いられるかを制約する。
【００１３】
固体レーザにおいては、エテンデュー、寿命並びに全体的なスペクトル及び輝度安定性における改善が見込まれるが、最近まで、ディジタルシネマについて受け入れられるコスト及び十分なレベルの可視光を供給することができなかった。ごく最近の開発においては、レーザアレイが市販化され、それらのレーザアレイは、有望な光源としての見込まれている。しかしながら、輝度はいまだに十分高くなく、各々の色について必要な輝度を与えるように、９個の個別のアレイからの結合された光が必要である。
【００１４】
投影アプリケーションについて特定の関心があるレーザアレイとしては、Ｎｏｖａｌｕｘ社（米国カリフォルニア州Ｓｕｎｎｙｖａｌｅ市）製のＮＥＣＳＥＬ（Ｎｏｖａｌｕｘ  Ｅｘｔｅｎｄｅｄ  Ｃａｖｉｔｙ  Ｓｕｒｆａｃｅ−Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｌａｓｅｒ）及びＶＥＣＳＥＬ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ｅｘｔｅｎｄｅｄ  Ｃａｖｉｔｙ  Ｓｕｒｆａｃｅ−Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｌａｓｅｒ）を含む種々の種類のＶＣＳＥＬアレイがある。しかしながら、それらの装置を用いる従来の解決方法は、多くの問題点を有する傾向にある。１つの制約は装置の歩留まりに関係している。重要な構成要素についての主に熱の問題及びパッケージングの問題のために、市販されているＶＥＣＳＥＬアレイは、長さが長くなるが、高さは制限され、典型的には、ＶＥＣＳＥＬアレイは、２列の発光構成要素のみを有する。３列以上の列を用いると、歩留まりの困難性がかなり高くなる傾向にある。更に、従来のＶＥＣＳＥＬ設計は、電力接続及び放熱に関して困難である傾向にある。それらのレーザは、高電力のものであり、例えば、Ｎｏｖａｌｕｘ社製の２列の装置に周波数を倍加された単独列のレーザ装置は、３Ｗの利用可能な光を生成する。このように、かなりの量の電流が必要であり、使用されない電流からの熱負荷が存在する。寿命及びビーム品質は、安定な温度の維持にかなり依存する。
【００１５】
レーザソースの投影システムへの結合は、従来の装置を用いても適切に対処できない他の困難を与える。例えば、Ｎｏｖａｌｕｘ社製のＮＥＣＳＥＬレーザを用いる場合、殆どの映画館で１０，０００ルーメンの要求に近づけるために、各々の色について約９つの２列ｘ２４レーザのアレイが必要である。投影エンジンの最適な性能を可能にするように、主な熱感応性光学系から、それらのソース、並びに、電子配信、接続及び関連熱を分離することが望ましい。例えば、従来の端面発光型レーザダイオード等の他のレーザソースが可能である。しかしながら、それらは、アレイの形式にパッケージングすることがかなり困難であり、従来、それらの短い寿命はより高い輝度レベルではかなり短い。
【００１６】
一般にレーザソースを用いると、一連のイメージングアーティファクトが現れる。関連する主なアーティファクトは、レーザスペックル及び照明不均一性のアーティファクトである。
【００１７】
スペックルは、光の波長のオーダーにある表面のランダムな粗さによりもたらされる微小な空間的に変化する強度変動である。レーザの高いコヒーレンスは、粗さがランダム位相サブソース干渉を共に生成する場合に、投影システムにかなりの影響をもたらす。このランダム強度変動は、特に“ｓｈｉｍｍｅｒ効果”を本質的に生成する高周波数で、画像の効果的なＭＴＦを小さくするがまた、実際には人工的な強度の鮮鋭さをもたらす。スペックル現象は、多くの研究者により詳細に研究されてきていて、包括的な知識の要約が、文献“Ｓｐｅｃｋｌｅ  Ｐｈｅｎｏｍｅｎｏｎ  ｉｎ  Ｏｐｔｉｃｓ，Ｔｈｅｏｒｙ  ａｎｄ  Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ”，  ｂｙ  Ｊｏｓｅｐｈ  Ｇｏｏｄｍａｎ，Ｒｏｂｅｒｔｓ  ａｎｄ  Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｇｒｅｅｎｗｏｏｄ  Ｖｉｌｌａｇｅ，ＣＯ（２００７）に記載されている。Ｇｏｏｄｍａｎは、フルフレームディスプレイは、変調装置の強度分解能の少なくとも重要なビットの標準偏差強度変動より小さい標準偏差強度変動を少なくとも有する必要があることを示している。ディジタルシネマアプリケーションについては、この制御は１２ビットにおけるものであり、約２０００：１のコントラスト比が一般的である。他のシネマ基準は、スペックルが“可視的であってはならない”ことを表す異なる基準の方に傾き、これは、一般のスクリーンにおける白色光プロジェクタのスペックルと同等であるスペックルのレベルを有するように、定量的に仮定されることが可能である。これは、強度における谷変動に対して約３％のピークであるように測定された。
【００１８】
Ｇｏｏｄｍａｎは、表示アプリケーションにおけるスペックルの低減に対するある一般的な方法の特徴を、次のように示している。
１．偏光ダイバーシティを導入する。
２．移動スクリーンを導入する。
３．スペックルの発生を最小化する特別に設計されたスクリーンを導入する。
４．各々の色について、複数のソースのスペクトルを広げ、又は僅かに異なる周波数で複数のレーザを用い、それにより、照明における波長のダイバーシティを得る。
５．各々の色について、空間的に分離された複数の独立したレーザを用い、それにより、照明における角度ダーバーシティを得る。
６．眼の分解能と比較して、投影光学系を過度に設計する。
７．スクリーン上にランダム位相セルを有する変化ディフューザを画像化する。
【００１９】
それらの方法の各々は、一部の利点及び負の寄与を有する。それらの一部はハイエンドのディジタルシネマ投影を良好に提供する一方、それらの他はそうではない。更に、多くの場合、単独の方法は、受け入れられる閾値以下のスペックルを減少させるには十分に効果的でない可能性がある。光を変調するか又は立体画像化を生成するために偏光を必要とする何れかのプロジェクタは、純粋でない状態がビューアに達しないようにするため、偏光ダイバーシティは、多くの場合、望ましくない。特別に設計されたスクリーン及びスクリーンの揺れは効果的であることが可能であるが、何れかのスクリーンにおける品質を示すことができることは好ましいため、それらは、望ましくない場所に対する修正を必要とする。同様に、偏光保持スクリーンが望ましい場合、付加的な制約又は特徴を付加することは、かなり高価又は困難である可能性がある。大きいスクリーンは、装置が大きく、高価であるために、製造プロセスを改善することは実質的に困難である。
【００２０】
スペクトル的に広くすることは好ましいが、このことは、ディスプレイのアプリケーションのために望ましい可視的な固体ソースを形成する多くの方法が約１ｎｍに波長を制御する周波数２倍結晶を用いるために、レーザ製造において制御することは困難である。複数の独立したレーザを用いることはかなり良好な方法であるが、そのような方法は、スペックルを制御するために用いられる要素の数に依存する。これは、１０００ルーメンのプロジェクタが１００００ルーメンのプロジェクタと同程度にスペックルがないことが必要であるが、ソース数は１０倍程度を必要とするために、高い光レベルの投影システムに対しては低い光レベルの範囲に亘って良好には機能しない。例えば、文献“Ｈｉｇｈ  Ｐｏｗｅｒ  Ｅｘｔｅｎｄｅｄ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ｃａｖｉｔｙ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ  Ｌａｓｅｒｓ  ａｎｄ  Ａｒｒａｙｓ  ａｎｄ  Ｔｈｅｉｒ  Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ”，ｂｙＭｏｏｒａｄｉａｎ  ｅｔ  ａｌ，Ｍｉｃｒｏ−Ｏｐｔｉｃｓ  Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ，Ｔｏｋｙｏ，  Ｊａｐａｎ，  Ｎｏｖｅｍｂｅｒ  ２，  ２００５において、Ｎｏｖａｌｕｘ  Ｅｘｔｅｎｄｅｄ  Ｃａｖｉｔｙ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｌａｓｅｒｓ  （ＮＥＣＳＥＬＳ）における改善されたスペックルの性能について開示されている。この場合、３０乃至４０個の独立した（互いに対してインコヒーレントである）エミッタは数％スペックルを減少させた。スペックルは多数のエミッタにより減少される一方、そのスペックルは、厳しいディジタルシネマの要求により要求される白色光レベルまでは必ずしも減少されない。
【００２１】
変化ディフューザはかなり高価であるが、この変化ディフューザは、付加的角度範囲を生成することによりソースのエテンデューを増加させ、高消費電力のシステムのために耐久性を有するようにガラス表面における比較的高価な且つ制御された表面処理を必要とする。
【００２２】
Ｍｏｏｒａｄｉａｎ等による米国特許第７，２９６，９８７号明細書においては、Ｇｏｏｄｍａｎにより開示された技術と類似する、レーザスペックルを低減する個別の及び組み合わされた技術が開示されている。第１に、互いに対して実質的にインコヒーレントであるレーザの数を増加して用いられる。第２に、レーザのスペクトルを広げることが用いられる。（この後者の技術については、Ｍａｎｎｉ等による米国特許第６，９７５，２９４号明細書にも記載されている。）第３に、アレイにおける個々のレーザは、複数の周波数、位相及び指向性（角度）分布を伴って動作するように設計されることが可能である。最後に、光学要素は、方向、位相及び偏光上方をスクランブルするように用いられることが可能である。上記のように、レーザ数を増加することはスペックルを低減することに効果的であるが、不完全な解決方法である。上記特許文献に記載されている付加的な方法は、実行するのが困難であり、高価であり、又は光学的に好ましくない。
【００２３】
Ｇｏｖｏｒｋｏｖ等による米国特許第７，２４４，１２８号明細書においては、空間光変調器を照明するビームホモジナイザに光を供給するレンズに、レーザビームの発散を時間的に増加させる散乱手段にレーザビームを供給する少なくとも１つのレーザの使用について記載されている。このことは、スペックルを更に低減する少なくとも１つの特徴を有するスクリーンと組み合わされるときに、受け入れられるレベルまでレーザスペックルを低減する。レーザビームの発散を時間的に変化ささえることは、一般に、スペックルを低減する良好な手段であるが、それはまた、完全なスペックル低減のためにはスクリーンの改善を必要とする。このことは、一般の投影目的のためには望ましくない。
【００２４】
Ｊｉ等による米国特許第７，１１６，０１７号明細書においては、レーザとスクリーンとの間の光路に振動ミラーを有する特定の装置について記載されている。このことのみでは、受け入れられるレベルまでスペックルを減少させることはできない。Ｒｏｄｄｙ等による米国特許第６，４４５，４８７号明細書においては、レーザの周波数変調を用い、角度的に同調してビームをずらすように装置と連動する方法であって、全てのレーザソースのために実際的な又は可能なレーザ変調を必要とする、方法について開示している。同様に、そのアプリケーションは、角度ずれについて音響光学変調器を用いることに焦点を当てている。それらの装置はかなり高価であり、特定のレーザの種類及びサイズのみを操作するものである。
【００２５】
従って、均一性及び輝度において略スペックルのない性能のシネマ品質を有するカラーレーザ投影システムを提供するチャレンジがかなえられていないことが理解できる。故に、ハイエンドの投影システムのための均一なスペックルのない画像化を可能にするレーザ照明方法についての要請が存在している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２６】
【特許文献１】米国特許第４，４４１，７９１号明細書
【特許文献２】米国特許第５，５３５，０４７号明細書
【特許文献３】米国特許第５，６００，３８３号明細書
【特許文献４】米国特許第５，８０８，７９５号明細書
【特許文献５】米国特許第５，９０７，４３７号明細書
【特許文献６】米国特許第７，２９６，９８７号明細書
【特許文献７】米国特許第６，９７５，２９４号明細書
【特許文献８】米国特許第７，２４４，１２８号明細書
【特許文献９】米国特許第７，１１６，０１７号明細書
【特許文献１０】米国特許第６，４４５，４８７号明細書
【非特許文献】
【００２７】
【非特許文献１】“Ｓｐｅｃｋｌｅ  Ｐｈｅｎｏｍｅｎｏｎ  ｉｎ  Ｏｐｔｉｃｓ，Ｔｈｅｏｒｙ  ａｎｄ  Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ”，  ｂｙ  Ｊｏｓｅｐｈ  Ｇｏｏｄｍａｎ，Ｒｏｂｅｒｔｓ  ａｎｄ  Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｇｒｅｅｎｗｏｏｄ  Ｖｉｌｌａｇｅ，ＣＯ（２００７）
【非特許文献２】“Ｈｉｇｈ  Ｐｏｗｅｒ  Ｅｘｔｅｎｄｅｄ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ｃａｖｉｔｙ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ  Ｌａｓｅｒｓ  ａｎｄ  Ａｒｒａｙｓ  ａｎｄ  Ｔｈｅｉｒ  Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ”，ｂｙＭｏｏｒａｄｉａｎ  ｅｔ  ａｌ，Ｍｉｃｒｏ−Ｏｐｔｉｃｓ  Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ，Ｔｏｋｙｏ，  Ｊａｐａｎ，  Ｎｏｖｅｍｂｅｒ  ２，  ２００５
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２８】
本発明は、最適化されたコスト、照明均一性、高効率、輝度、最適なエテンデュー、低減されたレーザスペックル、及び立体画像の投影のための偏光光光源を有する高品質のディジタル投影システムを提供する。
【課題を解決するための手段】
【００２９】
本発明の一部の実施形態は、少なくとも１つのレーザアレイ光光源からの光路に沿って光を投影する光アセンブリを有するディジタル画像プロジェクタであって、投影された光は、光路の遠視野照明部分において重なる遠視野照明を有する、ディジタル画像プロジェクタに関する。ディジタル画像プロジェクタはまた、光路内にある時間変化光学位相シフト装置と、光路の遠視野部分にある光学インテグレータとを有する。それらの実施形態に従って、プロジェクタはまた、光路内の光学インテグレータ及び時間変化光学位相シフト装置の下流に位置付けられた空間光変調器を有する。空間光変調器は、光路内の遠視野照明部分に位置付けられる。プロジェクタは更に、光路内の空間光変調器の下流に位置付けられた投影光学系であって、その投影光学系は、表示面の方に空間光変調器から実質的にスペックルのない光を方向付ける、投影光学系を有する。
【００３０】
本発明の、上記の及び他の実施形態、特徴並びに有利点については、図と関連付けて、以下の詳細説明を読むときに、当業者は理解することができる。
【００３１】
本明細書は、本発明の主題を示し、明瞭に記載している請求項により結論付ける一方、本発明は、添付図と関連付けて、以下の説明を読むことにより、よく理解することができると思われる。
【００３２】
添付図は、本発明の概念を例示する目的のためのものであり、スケーリングしていない場合もあることを理解されたい。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】異なる色の光路のために合成プリズムを用いる従来の投影装置の模式図である。
【図２】光学系において適合するエテンデューを示す模式図である。
【図３】本発明を組み込んだ立体画像投影のための照明コンバイナを用いる投影装置の一般構成を示す模式図である。
【図４】大きいアレイを構成するように複数の光アレイを組み合わせるための１つの方法を示す模式図である。
【図５Ａ】異なる偏光状態を有する偏光光を用いる投影装置を示す模式図である。
【図５Ｂ】異なる偏光状態を有する偏光光を用いる投影装置を示す模式図である。
【図６】各々が異なる偏光を有する、レーザ光アレイからの光を各々が供給する、２つの光再方向付けプリズムの使用について示す模式図である。
【図７】両側から光を受け入れる光再方向付けプリズムの実施形態の使用について示す模式側面図である。
【図８】各々の偏光の光について、図７の光再方向付けプリズムを用いる照明装置の模式側面図である。
【図９】光導波路を伴わない、図７の光再方向付けプリズムによる偏光照明を用いる代替の投影装置の模式図である。
【図１０】単独の画素変調器及びその回転軸を示す斜視図である。
【図１１】各々の直交偏光の光を交互に選択するシャッタシステムの模式図である。
【図１２Ａ】一方側からの光を反射し、他方側からの光を透過するシャッタについての正面図である。
【図１２Ｂ】一方側からの光を反射し、他方側からの光を透過するシャッタについての側面図である。
【図１３】２つの直交偏光状態に対して光を交互に変換するリサイクリング照明システムの模式図である。
【図１４】図１３に示すリサイクリング照明システムの代替の実施形態を示す図である。
【図１５】図１４に示す照明システムにより与えられる交互の直交偏光状態を用いる立体投影装置の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
本明細書においては、特に、本発明に従った装置の一部を構成する、又はその装置とより直接協働する要素について説明する。特に示していない又は記載していない要素は、当業者が知っている種々の形態をとることが可能であると理解することができる。
【００３５】
本明細書で示している図は、本発明に従った動作原理を例示するように与えられ、実際の大きさを示すこと又はスケーリングすることを目的として表されていない。本発明のレーザアレイについての複数の構成要素部分の相対的寸法のために、基本的な構造、形状及び動作原理に重点を置くために、一部で誇張を必要としている。
【００３６】
本発明の実施形態は、画像において低くされるスペックルコントラストを伴うレーザ投影表示の必要性に対応している。本発明の実施形態は、立体投影のために用いられる交互の直交偏光状態を可能にする特徴を提供する。本発明の実施形態においては、ＶＥＣＳＥＬレーザアレイ又は他の種類のレーザ光アレイから発せられる光及び独立コヒーレント光の固有偏光をうまく利用している。
【００３７】
レーザアレイは、投影表示アプリケーションで用いる多くの方法で好ましいものである。光の発生は動作する単独の装置機能に依存せず、それにより、装置の信頼性を高くする点で、複数のレーザは有利点を提供する。レーザ装置を独立して動作させることは、付加される光学ダイバーシティの有利点を提供する。このダイバーシティは、表示システムにおいてスペックルコントラストを低減する重要性を有する。多くの投影システムにおいては、上記のように、この目的のために、偏光及び波長ダイバーシティを利用することが可能である。本明細書で開示している実施形態の一部においては、レーザの固有偏光状態を維持する要求が存在している。少しの波長ダイバーシティが有用となることが可能である一方、それはまた、制御するのが困難であり、コストが掛かるものである。この波長ダイバーシティは、スペックル低減の付加的ソースとして、複数の実施形態で受け入れられているが、必要なスペックルの減少を得るためには単独のスペクトル範囲（赤色、緑色又は青色）には依存しない。
【００３８】
投影表示アプリケーションにおいては、レーザのスペクトル純度、増加した色域を与えること、固有偏光、及び最も重要なこととしての低減されたエテンデュー（ソースの角度的広がり及び空間的広がり）のために、レーザを用いることは望ましいことである。図２は、光学系におけるエテンデューの適合について示している。光源１２は、規定された角度的広がり及び空間的広がり（エテンデュー）を有する。この光効率を利用するように、光学系１８は、エテンデューが適合するように、光変調器２０に光を供給する必要がある。エテンデューが適合されていない場合、光は損失されているか又は、光学系の複雑性が不必要に高くなっているかのどちらかである。減少されたレーザのエテンデューは、光学構成要素、光学変調器及び光学コーティングが小さい角度領域に対して機能することを可能にする。このことは、一般に、表示の光学的効率及びコントラスト比を改善する。更に、上記の低減される必要性は、光学要素を単純化し、それにより、システムのコスト及び複雑性を実質的に低減する。レーザのコヒーレンス（特定の位相署名（ｓｉｇｎａｔｕｒｅ）を有する光波の特徴）は、高品質の画像の生成に対して悪影響を及ぼす傾向にある。関連位相の複数のビーム間の干渉は、不所望の強度構造をもたらす。光学系における光学欠陥構造に影響を与える単独のコヒーレントレーザは、スペックルとして知られているランダムな干渉パターンに繋がる。従って、独立した位相パラメータの複数のレーザソースを用いることは、それらのソースの組み合わせが組み合わされたビームの固有位相を低減する点で、有利であることを十分に理解することができる。このことは、本質的に、インコヒーレンスの対策をもたらし、それにより、スペックルを低減することができる。レーザ数を増加させることは、位相構造を減少させ、更にスペックル生成を低減させる。複数のレーザを用いることは、スペックルを実質的に低減するようにレーザの一般的なコヒーレンスを減少させる傾向にある一方、特に、より少ないレーザが用いられる小さいスクリーンの場合には、残りのコヒーレンスが存在し得る。
【００３９】
本発明に従って、スペックルは、スペックル減少の３つの段階により、実質的に除去される。スペックル減少の第１段階は、複数のレーザソースの独立した位相関係と共に、複数のレーザビームの角度的、空間的及び回折的混合を組み合わせる、複数のレーザ光源の遠視野照明を用いる。スペックル減少の第２段階は、偏光保持光学インテグレータに遠視野照明を方向付けるようにする。スペックル減少の第３段階は、時間変化光学位相シフト装置を用いる。
【００４０】
本発明についてよりよく理解するように、本発明の装置及び方法が機能可能である全体的なコンテキストについて述べることは有益である。模式図としての図３は、本発明の実施形態を組み込んだ投影装置１０についての基本的構成を示している。３つの光変調アセンブリ４０ｒ、４０ｇ及び４０ｂが示され、それらの各々は、１つ又はそれ以上のレーザアレイ光源（例えば、図４における参照番号４４）を有することが可能であるレーザに基づく照明コンバイナ４２からの光路４９に沿って原色の赤色、緑色又は青色（ＲＧＢ）の一の光４１を投影する。各々の投影される光４１は、光路４１の遠視野照明部分４７に遠視野照明１００を有し、時間変化光学位相シフト装置１１０を介して、次いで、レンズレットアレイ等の偏光維持光学インテグレータ５１を介して、光学レンズ５０により方向付けられる。この光は、光変調器６０の方にレンズ５４により中継される。光変調器６０は、微小電気機械システム（Ｍｉｃｒｏ−ＥｌｅｃｔｒｏＭｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｓｙｓｔｅｍ（ＭＥＭＳ））装置、液晶装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｅｖｉｃｅ（ＬＣＤ））又は何れかの種類の他の光学変調構成要素である。簡単化目的のために、上記の例示としての実施形態は、ＭＥＭＳ空間光変調器を用い、その場合、装置は“偏光状態がニュートラル”とみなされる。このことは、各々の画素の偏光状態を変調することにより、それらの画素において光を変調しないことを意味している。何れかの画素についての入射光の偏光状態に対する何れかの変化は、不用意であり、そしてその画素についてＭＥＭＳから反射されるときに、その入射角の関数である。ＭＥＭＳ空間光変調器への光の入射角は、マイクロミラー７４の面内にあるか又はその面に対して垂直であるかのどちらかである入力及び出力偏光状態を方向合わせすることにより、図１０に示す何れかの不所望の偏光の影響を最小化するように調節されることが可能である。この実施形態について、変調器は、それぞれの入力状態に対応する２つの直交入力偏光状態（矢印Ｃ１及びＣ２）の光を取り込む必要がある。しかしながら、出力偏光状態は、入力状態に対して回転され得る。
【００４１】
ＤＬＰ装置のような殆どの微小電気機械構造（ＭＥＭＳ）は、典型的には、アルミニウムから成る金属リフレクタを用いる。金属ミラーは、スキュー角からの光を処理するときに、反射時にかなり小さい位相シフトをもたらす。好ましい偏光方向は、ＤＬＰ装置が反射後にその偏光状態を保つ場合に、図１０に示すように、マイクロミラーのヒンジピボット線に沿った（矢印Ｃ１）、又はそのヒンジピボット線に対して垂直な（矢印Ｃ２）、偏光軸を有する。軸Ａは、ＤＬＰマイクロミラーについてのヒンジピボット線を示す。しかしながら、マイクロミラーの面に関して他の軸に沿って方向合わせされた偏光状態は、残りの偏光に対する最小の影響を伴って用いられる。
【００４２】
現状のＤＬＰパッケージに対する修正が、カバープレートハーメチックパッケージに関して必要である。現状のパッケージは、散乱が画像品質に影響しないように、欠陥のない表面及び環境封止を提供するように設計されている。従って、ウィンドウを機械フレームにレーザ溶接する及び熱融着する処理は、各々のパッケージに一貫性のないかなりの複屈折をもたらす。３ｎｍ以上の遅延がある変動がサンプル装置において観測されている。このことは、装置からの偏光状態の維持に悪影響を与える。従って、偏光光と共にＤＬＰ装置を適切に用いるための新しいウィンドウパッケージングは有用である。ＳＦ５７ガラス等の、低い膨張係数の応力又は熱的にもたらされた複屈折を有するガラスを用いることにより、パッケージは改善され得る。代替の方法は、例えば、所定位置にウィンドウを接着するＲＴＶ接着材料を用いて、ウィンドウのウィンドウフレームへの応力のない取り付けを提供するようになっている。ウィンドウフレームの機械的部分はウィンドウに対して硬いが、チップフレームへの接着面に対しては弾力性があるような更なる分離が望まれる。同様に、この方法はその逆にされることが可能である。更に、それは、動作温度差及びパッケージング温度差による応力を回避するように、注意深く管理されたチップ動作温度で実行される場合に、フレームに対してウィンドウを、及び取り付けるチップに対してフレームを接着する手順に役立つ。
【００４３】
共通偏光軸を有する光を投影する偏光レーザ光源を用いることは、立体画像の投影についてかなり有利である。上記の従来の照明ソースに対する効率のよい利得は、従来の２Ｄ投影の輝度に匹敵する輝度を有する画像をプロジェクタがより容易に供給するようにする。
【００４４】
多くの有効な実施形態のために図３に破線で一般に示されている投影光学系７０は、その場合、表示面８０に変調光を方向付ける。図３に示している全体的構成は、その場合、照明コンバイナ４２のために用いられる種々の構成を伴って、本発明の後続の実施形態で用いられる。光変調アセンブリ４０ｒ、４０ｇ及び４０ｂは、その場合、偏光状態ニュートラル光変調器６０に、そしてその後、投影レンズ７０に、偏光光を供給する。
【００４５】
図４は、大きいアレイを構成するように複数のアレイ４４及び４４′を組み合わせる一方法を示している。図４においては、１つ又はそれ以上の散在されたミラー４６が、付加的アレイ４４′の光軸をアレイ４４と合わされて位置付けられるように用いられることが可能である。しかしながら、熱的及び空間的要求は、どれ位の数のアレイ４４がこの方法で並べられるかを制限し得る、ことを理解することができる。随意的に、エテンデューを低減し、光学系を簡単化するように、最も小さい空間的な及び角度的な組み合わせに組み合わされた複数のレーザを有することは、望ましいことである。
【００４６】
典型的なレーザ光学投影表示設計において、組み合わされた複数のレーザアレイは、光集積バーか又は導波路のどちらかにフォーカシングされる。近視野又はフレネル条件合成光は、レンズ５０により、より小さいソースにフォーカシングされ、続いて、この方法により空間的に及び角度的に更に混合される。レーザの発散は典型的には小さいために、この方法においては、合成光源は比較的小さく保たれ、従って、フォーカシング光学系及び集積光学系のサイズを減少させて、コストを低くする且つパッケージングを簡単化することができる。この方法は、集積バー又は光導波路（例えば、光ファイバ）が偏光、位相、角度及び空間的コンテンツを独立して減少させるために、殆どの環境下でレーザスペックルを減少させるのに好ましい。しかしながら、レーザの偏光状態を保つことが好ましい場合には、この方法は好ましくない。一般の光ファイバ及び集積バーは本質的に、光の偏光状態を保たない。更に、この方法は、固有のレーザビーム伝播の性質を、即ち、レーザは、一般に、出射ポイントからの距離が増加するにつれて、それらの回折出力パターンを安定化させることを、利用しない。このフラウンホーファー又は遠視野回折状態は、レーザ強度がもはや変化しない、即ち、その回折出力パターンのサイズのみが変わる、空間内で制御可能な位置を与える。この制御は、一貫性のあるスペックル減少量を保証するのに有用である。
【００４７】
図７は、レーザソースからの光路内の遠視野位置１００が用いられるレーザコンバイナの代替の実施形態を示している。レーザの各々からの合成経路長ｘとして指定される光路は、この遠視野基準と実質的に適合する。アレイの各々のソースの小さい固有レーザ発散、及び製造公差からの装置のライン間の又は特定の装置間のポインティング角度における予測される通常の変動と関連して、照明のこの安定な回折パターンを用いることは、固有擬似ガウシアン遠視野画像を与える。例えば、１４個のレーザの不適合ＮＥＣＳＥＬ（Ｎｏｖａｌｕｘ  Ｅｘｔｅｎｄｅｄ  Ｃａｖｉｔｙ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｅｍｍｉｔｔｉｎｇ  Ｌａｓｅｒｓ）アレイが、ソースから約２４インチ離れて、主ビーム内に約２ｃｍの遠視野円形ガウシアンビームプロファイルを有するように示されている。本発明に従って、レーザの遠視野照明を用いることにより、ソースの各々の独立した位相関係と共に、レーザビームの角度的、空間的及び回折的混合の組み合わせによるスペックル減少の固有の第１段階を与える。この遠視野距離は、典型的な投影システムについての通常の近視野の使用に対して大きい一方、全体的なパッケージサイズを減少させるようにこの経路を折り畳むことが可能である。異なる色の経路の各々からのレーザはまた、空気の空間をより効果的に用いるように重畳された伝播経路を有することが可能である。更に、高電力のディジタルシネマアプリケーションにおいては、小さいパッケージサイズは重要な要件ではなく、この長い距離は、熱を受け易いレーザソースと表示システムの熱感応性光学画像化部との間の実質的な熱バリアを生成する有利点を与える。
【００４８】
スペックル減少の第２段階は、偏光維持光学インテグレータに遠視野照明を方向付けるようになっている。ＬＣＤプロジェクタは通常、この機能のためにレンズレットアレイ又は“フライアイ”を用いる。集積バー又はロッドと異なり、図４に示すように、レンズレットインテグレータ５２においては、偏光スクランブル反射は用いられない。レンズレットインテグレータ５２はまさに、図３に示している光学インテグレータ５１の一例である。そのレンズレットインテグレータは通常、２つのレンズレットアレイ５２ａ及び５２ｂを有し、第１レンズレットアレイ５２ａは、照明される装置（光変調器）のアスペクト比の複数のレンズ要素を有する。第１レンズレットアレイ５２ａは、レーザソース４２の遠視野照明により照明される。光学レンズ５０は、第１レンズレットアレイ５２ａの方に、光を、典型的には、略コリメートされた光を、角度的に処理するように用いられることが可能である。第１レンズレットアレイ５２ａは、第２レンズレットアレイ５２ｂに光を画像化する。このように、第２レンズレットアレイ５２ｂは、レンズ５４と共にフィールドレンズとしての役割を果たし、光変調器６０に第１レンズレットアレイ５２ｂにおけるレンズの各々を重ね合わせて画像化する。そのアレイ内のレンズが多くなればなる程、出力照明の混合性及び均一性が高くなるが、より多いレンズは、レンズレットアレイの不完全性のための光の損失に繋がる。スペックル減少の第２段階においては、入力照明と異なり、光変調器６０に入射する照明は一般に、よりよく空間的に混合され、実質的に均一になり、適切なアスペクト比を有する。
【００４９】
図４に示す構成は、図５Ａ及び５Ｂに示すように、異なる偏光状態を有する偏光光の使用を可能にするように、幾らか変更されることが可能である。光変調アセンブリ４０ｒ、４０ｇ及び４０ｂは、立体視のための左目画像及び右目画像を与えるように２つの直交変更状態間で迅速に変化されることが可能である。ここでは、偏光レーザの２つのバンクが存在する。この実施例においては、固体レーザアレイ４４ａ及び４４ｂが用いられる。変更レーザアレイ４４ａ及び４４ｂは、直交変更状態の光を供給し、例えば、アレイ４４ｂのバンクの一のために１／２波長板６４を用いる。交互照明サイクルの一の半分においては、アレイ４４ａは、図５Ａに示すように、電力供給される。この光は、偏光ビームスプリッタ６２から反射する。交互照明サイクルの他の半分においては、アレイ４４ｂは、図５Ｂに示すように、電力供給される。この光は、偏光ビームスプリッタ６２を透過する。非立体アプリケーションについては、両方の偏光レーザ４４ａ及び４４ｂからの光は、より明るい画像を与えるように共に用いられ、各々のレーザソースの寿命のバランスを保つように半分の電力で用いられることが可能である。
【００５０】
この構成は、有利であることに、どちらかの偏光光を同じ照明軸に入れる。この方法を用いるエテンデューは、図４の単独のチャネルについて上記の構成において示されているものと同じまま保たれる。従って、両方の偏光状態が画像化される非立体アプリケーションにおいては、ソースの輝度は効果的に２倍になる。しかしながら、立体表示が望ましい場合、１つの特定の瞬間に、単独のソースのみが用いられ、それ故、効果的な輝度は、図４におけるものと同様に保たれる。この構成は、その単純さのために好ましく、空間光変調器６０（図３）に交互の直交偏光状態を与える一方、各々の直交動静レーザアレイをオン及びオフに切り換えるように、レーザは必要な周波数領域において常に動作することが必要である。ディジタルシネマアプリケーションについて、この構成は、現状では、設定に依存して、１２０Ｈｚか又は１４４Ｈｚのどちらかにある。しかしながら、多くのレーザにおいては、熱的安定化が困難であり、それにより、この周波数領域で不安定な電力変動がもたらされる。従って、一部の場合には、変調器に達する前に、光の直交状態を間接的に（即ち、ソース変調を介さずに）交互にし、変調器の後に後続してこの状態を変える必要がある。
【００５１】
模式的なブロック図である図６は、交互の偏光状態を用いる実施形態において増加した輝度を与えるように、どのように複数の光再方向付けプリズム３０が用いられるかを示している。図５Ａ及び５Ｂに関連付けて上記しているように、光アレイ４４ａ及び４４ｂからの交互の照明は、偏光ビームスプリッタ６２を介して、立体画像を与えるために空間光変調器６０に直交偏光状態の光を方向付ける。
【００５２】
断面図の図７は、図５Ａ及び図６に示している実施形態に比べて、レーザアレイを用いる照明の更に小型化された構成を与える照明コンバイナ４２における光再方向付けプリズム３０の他の実施形態を示している。この実施形態においては、光再方向付けプリズムは、対向する出射方向Ｄ１及びＤ１′を伴って、互いに対向しているアレイ４４からの光を受け入れる２つの再方向付け面３６を有する。各々の再方向付け面３６は２種類のファセットであって、光再方向付けファセット３８と、対応するアレイ４４からの入射光に対して垂直である入射ファセット２８と、を有する。このことは、レーザの各々に戻るように、ファセット２８における反射防止コーティングされた面からの僅かな残りの光の逆反射による、光再方向付けプリズム３０への種々のレーザモジュールの容易な位置合わせを可能にする。この逆反射は、レーザにモード不安定性をもたらし得る微細な外部キャビティを形成する手段として有用である。そのようなモードホッピングは、典型的なアプリケーションにおけるノイズとみなされる一方、このノイズは、レーザコヒーレンス（レーザ間コヒーレンス）を更に低減させることにより投影における重要性を付加することができ、それにより、画像面において可視的スペックルを低減することができる。更に、このデュアルサイド方法を用いる場合、レーザモジュールは、光が光学系で更に光学的に統合されるときに、更なる空間的混合のソースを与えて、互いに隣接する異なるモジュールからの光によりインターリーブされる。これは、ランダムレーザノイズを生成することにより、スペックルを減少させるのに有用である可能性がある。しかしながら、これは、一貫したスペックル減少のソースとしては、確かなものではなく、それ故、公式の段階としては含まれていない。図８は、ビームスプリッタ６２からレンズ５０の方に直交偏光状態の光を方向付けるために、プリズム３０の対（図７に示す）がどのように用いられるかについて示している。
【００５３】
レーザ４４に対するプリズム３０の方向合わせが好ましいことが理解できる一方、入力面又は出力面に対する直交入射光は、複数の照明ソースを組み合わせるためには必要でない。しかしながら、面３８においてプリズム３０を出る再方向付け光ビームは、互いに実質的に平行であることが必要である。これを達成するためには、複数のファセットについての注意深い考慮が必要である。それらのファクタは、各々の側における入力ファセットに対する各々の側におけるレーザ４４の入射角と材料の屈折率に基づくプリズムにおける屈折との組み合わせ（それらは異なり得るため）を有する。更に、各々の側からの再方向付けファセットの反射（それらはまた、各々の側で異なり得るため）が考慮される必要があり、そのプリズムの屈折との組み合わせは、出射面からの出力光ビームが平行であるように、協働する必要がある。
【００５４】
模式的なブロック図である図９は、各々のカラーチャネルで光再方向付けプリズム３０を用いる投影装置１０の実施形態を示している。各々の光変調アセンブリ４０ｒ、４０ｇ及び４０ｂは、図８に示しているように、類似する偏光−方向付け構成要素の構成を有する光再方向付けプリズムの対３０を有する。各々の光変調モジュールにおいては、一の又は他の光再方向付けプリズム３０からの偏光光は、偏光ビームスプリッタ６２を介して、レンズ５０及び光学インテグレータ５１の方に方向付けられる。空間光変調器６０は、入力光の直交位置合わせに関連する出力光の２つの直交位置合わせを維持しながら、光を変調するディジタルマイクロミラー又は他のＭＥＭＳ装置である。マイクロミラーデバイスの角度変調を用いるように設計された、図示している実施形態においては、薄膜コーティング面６８は、入射角度に従って入射光を反射する又は透過するように処理され、それ故、変調光はダイクロイックコンバイナ８２の方に方向付けられる。ダイクロイックコンバイナ８２は、投影光学系７０を介して単独の光路に対して各々の光変調アセンブリ４０ｒ、４０ｇ及び４０ｂからの変調光を結合させて、波長に従って光を選択的に反射又は透過させるダイクロイック面８４の構成を有する。そのような実施形態については、レンズレットアレイは、変調状態が維持されるために、照明を均一化する有利点を提供する。
【００５５】
本発明においては、本明細書で述べている例示としての実施形態からの多くの変形が可能である。例えば、多様な偏光レーザ光源が、ＶＥＣＳＥＬ及び他のレーザアレイに対する代替として用いられることが可能である。光方向付けプリズム３０は、複数の高透過性材料から成ることが可能である。低電力アプリケーションについては、プラスチックを選択することが可能であり、高電力アプリケーションについては、ガラスがより好適である。
【００５６】
レーザの偏光状態を維持する１つの理由は、シミュレートされた３Ｄ画像を生成するように偏光を利用するためであり、その場合、偏光フィルタリングめがねを介して選択的に供給される偏光の直交状態が各々の眼に画像化される。立体視経験をもたらすように直交偏光を生成する一方法は、図１１に示すように、組み合わされたレーザアセンブリの２つの直交状態間で機械的にシャッタ操作を行うことである。照明コンバイナ４３においては、レーザ４４ｂは、線形偏光状態、即ち、共通の偏光軸を生成するように結合される一方、１／２波長板６４と連動するレーザ４４ａは、レーザ４４ｂの光と直交している線形偏光状態の光を生成する。回転シャッタ６５であることが可能である偏光ローテータは、直交偏光状態間で併合される光軸の経路内に位置している。回転シャッタ６５の位置は、画像データと変更ローテータを同期させるモータ６６を制御する制御論理プロセッサ９０、例えば、同期装置により制御される。回転シャッタ６５及びモータ６６はまさに、図３の時間的変化する光学位相シフト装置１１０の一実施例である。
【００５７】
図１２Ａ及び１２Ｂに平面図及び側面図としてそれぞれ示している回転シャッタ６５は、好適には、少なくとも２つのセグメントを有するガラス製ディスクを有する。第１セグメント６５ａは、入射する光の全てを実質的に透過するように設計されている。代替のセグメント６５ｂは、入射する光の全てを実質的に反射するように設計されている。透過性セグメント６５ａが光軸に沿って位置しているとき、レーザ４４ｂはシステムの方に透過する一方、レーザ４４ａはビームダンプ６９に吸収される。交互に、反射性セグメント６５ｂが光軸に沿って存在するとき、レーザ４４ａからの光はシステムの方に反射され、レーザ４４ｂからの光はビームダンプ６９の方に方向付けられる。このように、空間光変調器における立体画像と同期して、交互の直交偏光の光波、モータ６６により作動されるシャッタ６５を回転させることにより、立体画像を生成する空間光変調器に供給される。図１２Ａに示しているように、偏光状態間に遷移領域７３が存在することに留意する必要がある。ここでは、照明光６７は２つの領域６５ａ及び６５ｂ間に存在し得る。この場合、両方の状態の偏光は、空間光変調器に不用意に供給される。この状態は、ゴーストとして知られている２つの眼の画像間のクロストークをもたらす。クロストークの、ある量は許容される。そのクロストークが過剰である場合には、空間光変調器は、この遷移期間の間、オフ状態に切り換えられ、一部の損失光を犠牲にして、クロストークを排除する。従って、この遷移領域を最小化することは望ましいことである。このことは、照明光のスポットサイズを最小化することにより、又はシャッタホイールを大きくすることにより、照明光をできるだけ外径の方に遠ざけておくことにより、達成される。
【００５８】
図１８の実施形態は、空間光変調器の方に方向付けられた光の偏光状態を交互にするように機能する一方、光の５０％以上がビームバンプ６９で損失される。これは、本質的に、システム効率を従来の方法のシステム効率まで減らす。
【００５９】
スペックル減少方法の第３段階が実行されることが可能であるが、図１１に示す実施形態に限定されるものではない。その方法は、シフトされた位相、空間的照明及び／又は角度的照明を時間的に平均する装置の使用を必要とする。この時間的にシフトさせる装置は、光学インテグレータの前か又は後のどちらかに、光路内に位置付けられることが可能である。好適な実施形態においては、その装置は、レンズレットアレイの前に存在する。このように、最後の照明への装置の何れかの影響は、全体の空間的領域に亘って平均化され、画像における空間的アーティファクトを回避する。この段階のために考慮され得る装置は、ミラー又はプレート等の振動する光学要素であることが可能である。図１１における回転シャッタのようなランダム液晶位相パターンジェネレータ又は回転光学要素が用いられる。回転光学要素は、楔形、分散型又は異常型であることが可能である。各々の場合、時間変化光路差が照明においてもたらされ、それは、必要な偏光解消を伴わずに、残りのスペックルを再び変化させる。これは、眼が平均化することができる期間に亘って存在する。位相シフトは、ビームの光路を変えることによりもたらされることが可能である。回転楔形光学系は、光路に沿って空間的に固定された空間距離変化をもたらすことにより、これを行う。非平坦表面等の異常な表面を形成することは、表面形状に依存するよりランダムなパターンにおいて光路をシフトさせる。研磨又は表面エッチングが十分でないことにより得られる表面のような拡散表面はまた、より規則的にランダム位相シフトを与える。その表面の品質は、もたらされる位相シフトの種類及び量を変える。エッチングされた表面は、あまりはっきりしない表面品質を有し、従って、この処理により散乱損失を減少させる。エッチングされたこの種類のガラスはしばしば、“アンチニュートン”ガラスと呼ばれる。この方法に関連するある光損失が存在するため、表面の劣化を、従って、もたらされる位相を最小化することは望ましいことである。
【００６０】
この回転光学要素、例えば、回転シャッタ６５は、交互の直交偏光状態の生成を支援するのに実質的に利用されることが可能である、これはまた、立体画像を生成するために用いられることが可能である。立体画像を生成するために受け入れられる時間周波数は更に、スペックルを平均するのに十分に速い。どちらの場合も、フリッカ又はスペックル減少方法により、時間平均化が速くなればなる程、一般に、アーティファクトはより少なくなる。
【００６１】
この実施形態は図１３に示され、ビームバンプ６９に予め供給された光を回復するように回転シャッタ６５を用いる．照明コンバイナ４５において、この経路における以前の光は、１／２波長板６４により変換された偏光状態を有する。２つの照明ソースはまた、出力が直交するように、それらのソースの各々を単に回転させることにより直交偏光状態にされることが可能である。どちらの場合も、このことは、光を、回転シャッタ６５により空間光変調器に直接供給される同じ偏光状態に変換する。この変換された光は、続いて、回転シャッタ６５からの光に隣接する経路の方にミラーにより方向付けられる。このとき、同じ偏光状態の、両方のレーザアレイの合成された光は、レンズレット５２及び空間光変調器に供給される。再び、モータ６６を用いて回転シャッタ６５により、光が直交偏光状態で交互に供給される。
【００６２】
図１３の実施形態については、光源のエテンデューは図１１で供給された状態と比較して倍加されたことが観測される。このエテンデューは、２倍の面積を有し、隣り合ったオリジナルの変換されたビームにより、そして同じ角度空間で、光学インテグレータ５１に供給されることが可能である。代替として、光は、各々のレーザソースからある重なり量が与えられることが可能である。角度的重なりは、投影レンズが典型的にはテレセントリックであるので、この空間における混合により全ての画素について均一な照明を達成することが容易であるために、いっそう望ましい。照明経路に続く光学系は、効率的であるようにこの大きいエテンデューを処理するために必要である一方、これは、レーザソースの開始の小さいエテンデューの性質のために、それ程困難な問題ではない。
【００６３】
図１４においては、この回復された偏光光を用いるが、必要な構成要素は少なくて済む代替の実施形態を示している．図１４に示すミラー７１は、１／２波長板６４を有するプリズム７２と置き換えられる。プリズム７２は、光学折り返しを単純化し、２つの光路間の間隔を最小化するように、回転シャッタ６５に近接して位置付けられる。
【００６４】
図１５は、各々のカラーチャネルにおける空間光変調器６０を直接照明し、レンズアセンブリ７０により投影されるようになっているダイクロイックプレート８４と再結合される、図１５に示している交互の直交偏光照明システム４５Ｔ、１５ｇ、４５ｂを組み込んだ偏光システムを示している。
【００６５】
この同じ方法は、遷移領域内でさえ、余分な光損失を伴わずに、非立体投影についても適切に機能する。従って、従来の方法と異なり、従来の画像化についてのスループット効率を改善するように、シャッタホイール又は偏光スイッチを取り除くことは必要ない。この場合、モータ６６は、非立体画像化中、寿命又は消費電力を節約するように停止されることが可能であり、好適には、不必要なコーティングダメージ及び発熱が最小化されるように、光路内に透過性シャッタ領域を有することが可能である。
【００６６】
図１２Ａ及び１２Ｂの回転シャッタ機構は、交互の直交偏光方法を提供することに加えて、第３スペックル減少機能としての役割を果たす。コヒーレンス破壊コーティングが、シャッタの一方側又は両側に適用されることが可能である。図１２Ｂは、接地表面が形成された一方側６５ｃを有する回転シャッタ６５を示し、反対側６５ｄは、１つのセグメントにおける反射防止コーティング及び他のセグメントにおけるミラーコーティングを有する研磨表面を有する。表面粗さは、可視性スペックルを排除するためには十分に大きいが、ソースの角度範囲を実質的に増加させないためには十分に小さい必要がある。基本的に有効な欠陥からの付加的な回折をもたらす、このように比較的粗い表面は、スペックル発生点を移動させる回転ホイール（空間移動）によりランダムに変化する高レベルのスペックルをもたらすが、時間平均化により、より小さいスペックルを有するように現れる。代替として、上記のように、両側６５ｃ及び６５ｄは研磨されることが可能であるが、それらの表面は、光路差の複数波が回転数で変化する光ビームにもたらされるように、光学的に平坦でないことが可能である。このことは、照明光の角度的内容を実質的に増加させず、従って、エテンデューを増加させる点で、非研磨表面に対して好適である。
【００６７】
他の時間的に変化する位相シフト装置又は手段が用いられることが可能である。例えば、光学位相シフトを生成するミラー等の光学要素の位置、チルト、又は位置及びチルトを同調してシフトさせる又は変えることが可能である。同様に、このシフト又はチルトは、光学要素の表面に対して行われることが可能である。他の実施形態は、実質的にランダムな適合光学表面を、従って、光学位相シフト装置を、利用することができる。
【００６８】
光集積（空間混合）と組み合わされた遠視野レーザ照明と共に時間変化光学位相シフト技術を用いる代替の実施形態は、空間光変調器に対して光学エテンデューを時間的に変化させる時間変化光学エテンデューシフト装置を用いるように意図されている。このように、空間光照明は、光路長を変化させるのとは対照的に、角度的寄与（大きさ又は位置）、空間的寄与（大きさ又は位置）若しくは角度的寄与及び空間的寄与の組み合わせにおいて僅かにシフトされる。これは、種々の手段により達成されるが、照明エテンデューを調整するようにシフトされる又はチルトされる光学要素を用いることにより最も容易に達成される。この方法は、時間的にシフトされたエテンデューに相当する角度的光又は空間的光のオーバーフィリング（ｏｖｅｒｆｉｌｌｉｎｇ）を必要とするため、光はまた、この方法により損失される。空間光変調器において照明の均一性を維持すること、又は回転数で時間的にシフトし、それにより、眼が、何らフリッカを伴わずに、シフトされた照明を平均化することは、重要である。後者は、レーザスペックルを減少させる上で最良の結果を有するために、好ましい。
【００６９】
上記の３つのスペックル減少方法は、独立して位相シフト又はエテンデュー（角度的、空間的又はそれら両方）シフトの、又はそれらの組み合わせの時間的平均化及び最小の光学的跳ね返りを有するレンズレットアレイ又は集積バー等の偏光保持光学インテグレータにより空間的に均一化された遠視野において組み合わされたレーザアレイを用いることを含む。この技術の測定は、白色光源に関連して行われた。白色光源、即ち、ディジタルシネマアプリケーションにおいて通常行われるような、複数のレンズレットアレイが光学的に集積されたタングステンソースは、白色モデルボードスクリーンにおいて約２％のスペックル変動を与える。近視野条件で４８個のビームを与えるように頻度倍加された２４個のレーザを有する緑色Ｎｏｖａｌｕｘ  ３Ｗアレイは約１１％のスペックルを有する。遠視野条件においては、スペックルは９％に低下する。レンズレットアレイにより光学的に集積されるとき、スペックルは約８％に低下する。５００ｒｐｍで異常型又は楔形ホイール回転を用いることにより、残りのスペックルは３％に低下する。レンズレットを用いない場合、この回転ディスクはスペックルに殆ど影響しない。スペックル減少は、その回転光学ディスクの位置により影響されないことが判明している。１００００ルーメンのディジタルシネマプロジェクタをポピュレートするために必要な追加のレーザ（約８乃至１０個の一色当たり３Ｗのレーザ）は、更なる独立した位相のレーザが更にコヒーレンスを減少させるために、かなりのレベルの付加的なスペックル減少を提供する。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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