(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板の一方の主面上に、配線導体を有するタッチパネルセンサ部を形成し、前記透明基板の他方の主面上に、遮光体を有するカラーフィルタ部を形成するタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法において、
前記タッチパネルセンサ部側の透明基板上にアライメントマークを形成し、
その後、前記カラーフィルタ部側の透明基板上に、前記カラーフィルタ部の遮光体を構成する膜を、前記タッチパネルセンサ部側に形成された前記アライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域を除く領域に形成し、
次いで、前記アライメントマークを用いて、前記透明基板を通して前記カラーフィルタ部側から位置合わせを行って、前記カラーフィルタ部を形成することを特徴とするタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記アライメントマークが、前記タッチパネルセンサ部を構成する配線導体と同じ材料からなり、前記配線導体を形成する工程で同時に形成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネルセンサ一体型のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記カラーフィルタ部の遮光体を構成する膜が、少なくとも、１種類の金属、金属酸化物、または金属窒化物を真空成膜した薄膜であり、真空成膜する領域をメタルマスクで規定することにより、前記タッチパネルセンサ部側に形成された前記アライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域を除く領域に、前記薄膜を形成することを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載のタッチパネルセンサ一体型のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記カラーフィルタ部の遮光体を構成する膜が、少なくとも、遮光性粒子を含有させた樹脂を塗布成膜した薄膜であり、塗布成膜する領域を規定することにより、前記タッチパネルセンサ部側に形成された前記アライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域を除く領域に、前記薄膜を形成することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のタッチパネルセンサ一体型のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記遮光性粒子を含有させた樹脂が、感光性樹脂であることを特徴とする請求項４に記載のタッチパネルセンサ一体型のカラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法に関し、より詳しくは、透明基板を挟んで、その一方の面にタッチパネルセンサ部が形成され、他方の面にカラーフィルタ部が形成され、前記カラーフィルタ部は、前記タッチパネルセンサ部が形成された側の透明基板の面に設けられたアライメントマークを用いて位置合わせを行うことによりパターン加工されたことを特徴とするタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
今日、タッチパネル装置は、携帯電話、ゲーム機、タブレットＰＣ、カーナビゲーション、自動券売機、ＡＴＭ装置などへの入力手段として広く用いられてきている。タッチパネル装置は液晶ディスプレイやＣＲＴ等の表示装置の表示面上に組み込まれ、操作者は、指またはタッチペンを用いて、表示面上でのカーソル移動、選択などの入力操作を行うことが出来る。このタッチパネル装置は、タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサへの接触位置を検出する制御回路、配線等を含んでいる。
【０００３】
タッチパネルセンサは、操作者の入力操作、即ち、人の指やタッチペンの接近、接触を感知する面を備えた透明のパネルである。このタッチパネルセンサは、接近、接触感知面が表示装置の表示エリアを覆うように配置されており、操作者の指またはタッチペンの接近、接触の事象を検出し、これらの信号を制御装置へ送る。制御装置は、これらの信号を処理し、表示装置にて入力操作に対応した表示を行う様に、表示装置側の制御装置へ所定の信号を出力する。
【０００４】
タッチパネル装置には、抵抗式、静電容量式、赤外線式、表面弾性波式、電磁式、近接場イメージング式などを含むいくつかのタイプがあるが、昨今では、タッチパネルセンサ上の複数の指等の接近、接触（マルチタッチ）を検出できる方式として、静電容量式のタッチパネル装置が注目されている。
静電容量式のタッチパネル装置においては、配列された透明電極と、操作者の指の間での静電気結合による静電容量の変化、並びに、それにより発生する誘導電流を利用してタッチパネル上の位置座標を検知する。
典型的には、静電容量式タッチパネルセンサは、Ｘ軸透明電極及びＹ軸透明電極により構成され、Ｘ、Ｙ軸透明電極は互いに絶縁されてタッチパネルセンサ内に設置され、各々制御回路に接続される。
【０００５】
従前のタッチパネルセンサでは、Ｘ軸透明電極とＹ軸透明電極が別々の２枚の基板上に形成され、絶縁材料を挟んで２枚の基板を貼り合わせて作成されていたが、この方式ではタッチパネルセンサの薄型化に不利であり、また、Ｘ軸、Ｙ軸透明電極間の位置合わせを高精度に行うことも困難なため、タッチセンサの感度や位置精度の点でも不利であった。
そこで、このような欠点を解消するため、Ｘ軸、Ｙ軸の透明電極を同一平面上に配列した構造の静電容量式タッチパネルセンサが提案されている（例えば特許文献１）。
【０００６】
図７は上述の静電容量式タッチパネルセンサの例を示す概略平面図である。
タッチパネルセンサ１００は、ガラス基板や透明樹脂フィルム等からなる透明基板１０１、タッチパネルの表示領域に相当する有効領域１０２に配置される複数のＸ軸透明電極１０３およびＹ軸透明電極１０４、Ｘ軸透明電極１０３とＹ軸透明電極１０４を絶縁する絶縁層（図示せず）、有効領域１０２の外側に配設され、Ｘ軸透明電極１０３およびＹ軸透明電極１０４と制御回路（図示せず）とを接続する配線導体１０５を少なくとも含んで構成される。
なお、図７において、Ｙ軸透明電極１０４は同一平面上で連結されているが、Ｘ軸透明電極１０３は、Ｙ軸透明電極１０４との短絡を避けるためにＹ軸透明電極１０４と交差する部位で分断されており、連結透明電極１０６により連結されている。
ここで、Ｘ軸透明電極１０３およびＹ軸透明電極１０４と、絶縁層（図示せず）、配線導体１０５、連結透明電極１０６の形成には、相互に位置合わせが必要であり、通常、タッチパネルセンサ１００の外周部にはアライメントマーク１０９が形成される。典型的には、配線導体１０５の形成工程で、同時に上記アライメントマーク１０９が形成される。
【０００７】
図８は、図７に示すタッチパネルセンサのＡ−Ａ断面図である。ただし、煩雑となるのを避けるため、左側の作図は省略している。上述のように、Ｘ軸透明電極１０３は、Ｙ軸透明電極１０４と交差する部位で分断されており、Ｘ軸透明電極１０３とＹ軸透明電極１０４の間には、短絡防止のために第１絶縁層１０７が形成されている。第１絶縁層１０７は、Ｙ軸透明電極１０４と交差する部位に、Ｙ軸透明電極１０４を覆うように形成される。そして、連結透明電極１０６は、第１絶縁層１０７を跨ぐように形成され、分断されたＸ軸透明電極１０３を電気的に接続する。連結透明電極１０６は、通常、Ｘ軸透明電極１０３およびＹ軸透明電極１０４と同じ材料、典型的には、結晶化したＩＴＯ（インジウム錫酸化物）により形成される（特許文献２、３）。
【０００８】
なお、図８における第２絶縁層１０８は、通常、第１絶縁層１０７と同じ材料であって、第１絶縁層１０７の形成工程で同時に形成されるものであり、Ｘ軸透明電極１０３およびＹ軸透明電極１０４を覆うように形成される。この第２絶縁層１０８は、除去されていても良い。
【０００９】
タッチパネルセンサ１００の外周部にはアライメントマーク１０９が形成される。典型的には、配線導体１０５の形成工程で、同時にアライメントマーク１０９が形成される。
例えば、まず、透明基板１０１上にスパッタリング法等により金属薄膜を成膜し、フォトリソグラフィ法等により所望の配線導体１０５とアライメントマーク１０９を形成する。
【００１０】
次に、上記の配線導体１０５を形成した面に、多結晶ＩＴＯ薄膜をスパッタリング法により成膜し、アライメントマーク１０９を用いて位置合わせしてフォトリソグラフィ法でパターンを形成後、王水等の強酸で不要ＩＴＯをエッチングする方法により、所望のＸ軸透明電極１０３およびＹ軸透明電極１０４を形成する。
また、この工程において、Ｘ軸透明電極１０３およびＹ軸透明電極１０４と同じ多結晶ＩＴＯ薄膜を用いて透明な保護膜１１０を設けても良い。
【００１１】
次に、上記のＸ軸透明電極１０３およびＹ軸透明電極１０４を被覆するように、ＵＶ硬化性のアクリル樹脂等からなる絶縁膜を成膜し、アライメントマーク１０９を用いて位置合わせし、フォトリソグラフィ法でパターン加工して所望の第１絶縁層１０７および第２絶縁層１０８を形成する。
【００１２】
次に、上記の第１絶縁層１０７および第２絶縁層１０８を形成した面に、多結晶ＩＴＯからなる連結透明電極１０６を形成する。
連結透明電極１０６は、上述のＸ軸透明電極１０３と同様に、多結晶ＩＴＯ薄膜をスパッタリング法により成膜し、アライメントマーク１０９を用いて位置合わせしてフォトリソグラフィ法でパターンを形成後、王水等の強酸で不要ＩＴＯをエッチングする方法により、形成することができる。
以上の方法により、従来のタッチパネルセンサ１００を形成することができる。
【００１３】
次に、カラーフィルタについて説明する。図９は従来のカラーフィルタの例を示す概略断面図である。
図９に示すように、カラーフィルタ２００は、ガラス基板や透明樹脂フィルム等からなる透明基板２０１、その上にマトリックス状に配設される遮光体（ブラックマトリックス）２０２、遮光体２０２の間に配設される複数色の着色体２０３、着色体２０３を被覆するように配設される透明電極２０４を、少なくとも含んで構成される。
なお、着色体２０３と透明電極２０４の間には、各種プロセスにおいて着色体２０３を保護するための透明な保護膜が設けられていても良い（図示せず）。
【００１４】
遮光体２０２は、液晶表示装置のバックライトの光もれや着色体２０３の混色防止のために形成される。着色体２０３は、画素として、液晶を通過したバックライトの色を調整するものであり、通常、赤色、青色、緑色の３種の着色体が形成される。
透明電極２０４は、液晶分子の配列を変更させて光の透過率を調節するための共通電極として機能するものである。典型的には、透明電極２０４は、結晶化して低抵抗となった多結晶ＩＴＯが用いられている。
【００１５】
ここで、遮光体２０２、着色体２０３、透明電極２０４の形成には、相互に位置合わせが必要であり、通常、カラーフィルタ２００の外周部にはアライメントマーク２０５が形成される。典型的には、アライメントマーク２０５は、遮光体２０２の形成工程で同時に形成される（特許文献４）。
【００１６】
例えば、図１０に示すように、まず、透明基板２０１上にスパッタリング法等によりクロム等からなる金属薄膜２０２ａを成膜し（図１０（ａ））、フォトリソグラフィ法等により所望の遮光体２０２とアライメントマーク２０５を形成する（図１０（ｂ））。
次に、上記の遮光体２０２の間に、複数色の着色体２０３を形成する（図１０（ｃ））。着色体２０３を形成する方法は、例えば、各色の顔料を含んだ着色感光性樹脂を塗布し、アライメントマーク２０５を用いて位置合わせしてフォトリソグラフィ法でパターンを露光し、現像、ベークして、所望の着色体３２を形成することができる。赤色、青色、緑色の３種の着色体を形成する場合は、上記の工程を３回行う。
次に、上記の着色体２０３を被覆するように、多結晶ＩＴＯ薄膜をスパッタリング法により成膜し、透明電極２０４を形成する（図１０（ｄ））。
以上により、従来のカラーフィルタ２００を得ることが出来る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１７】
【特許文献１】実用新案登録第３１４４２４１号公報
【特許文献２】特開２００１−３１１９５４号公報
【特許文献３】特開２００５−２９０４５８号公報
【特許文献４】特開平８−５０２０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
ここで、上述のタッチパネルセンサとカラーフィルタは、それぞれ個別の透明基板に形成して重ね合わせる場合、タッチパネル装置全体の薄型化や軽量化に対し不利である。
それゆえ、共通する透明基板を挟んで、その一方の面にタッチパネルセンサ部が形成され、他方の面にカラーフィルタ部が形成されているタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタが用いられてきている。
【００１９】
ただし、共通する透明基板を挟んで、その一方の面にタッチパネルセンサ部を形成し、次に、他方の面にカラーフィルタ部を形成する場合、カラーフィルタ部を形成するための第一工程である遮光体の形成時に、タッチパネルセンサ部との位置合わせが必要となる。
【００２０】
すなわち、タッチパネルセンサ部に対してカラーフィルタ部を位置合わせする際、タッチパネルセンサ部側の透明基板上に形成されたアライメントマークを識別する必要がある。
しかしながら、従来の製造方法では、前記アライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域は、透過率が低い遮光膜（例えば、図１０（ａ）に示す金属薄膜２０２ａ）により覆われてしまうため、この遮光膜に覆われた透明基板を通して、カラーフィルタ部側からタッチパネルセンサ部側の透明基板上に形成されたアライメントマークを識別することは難しく、その結果、カラーフィルタ部をタッチパネルセンサ部に対して正確に位置合わせすることが困難となる。
【００２１】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、カラーフィルタ部側から透明基板を通して、タッチパネルセンサ部側の透明基板上に形成されたアライメントマークを識別することを容易にし、タッチパネルセンサ部に対してカラーフィルタ部を精度良く位置合わせ形成することができるタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
本発明者は、種々研究した結果、タッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法において、カラーフィルタ部の遮光体を構成する膜を形成する際に、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域が遮光体を構成する膜によって覆われないようにすることで、上記課題を解決できることを見出して本発明を完成したものである。
【００２３】
すなわち、本発明の請求項１に係る発明は、透明基板の一方の主面上に、配線導体を有するタッチパネルセンサ部を形成し、前記透明基板の他方の主面上に、遮光体を有するカラーフィルタ部を形成するタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法において、前記タッチパネルセンサ部側の透明基板上にアライメントマークを形成し、その後、前記カラーフィルタ部側の透明基板上に、前記カラーフィルタ部の遮光体を構成する膜を、前記タッチパネルセンサ部側に形成された前記アライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域を除く領域に形成し、次いで、前記アライメントマークを用いて、前記透明基板を通して前記カラーフィルタ部側から位置合わせを行って、前記カラーフィルタ部を形成することを特徴とするタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法である。
【００２４】
また、本発明の請求項２に係る発明は、前記アライメントマークが、前記タッチパネルセンサ部を構成する配線導体と同じ材料からなり、前記配線導体を形成する工程で同時に形成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネルセンサ一体型のカラーフィルタの製造方法である。
【００２５】
また、本発明の請求項３に係る発明は、前記カラーフィルタ部の遮光体を構成する膜が、少なくとも、１種類の金属、金属酸化物、または金属窒化物を真空成膜した薄膜であり、真空成膜する領域をメタルマスクで規定することにより、前記タッチパネルセンサ部側に形成された前記アライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域を除く領域に、前記薄膜を形成することを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載のタッチパネルセンサ一体型のカラーフィルタの製造方法である。
【００２６】
また、本発明の請求項４に係る発明は、前記カラーフィルタ部の遮光体を構成する膜が、少なくとも、遮光性粒子を含有させた樹脂を塗布成膜した薄膜であり、塗布成膜する領域を規定することにより、前記タッチパネルセンサ部側に形成された前記アライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域を除く領域に、前記薄膜を形成することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のタッチパネルセンサ一体型のカラーフィルタの製造方法である。
【００２７】
また、本発明の請求項５に係る発明は、前記遮光性粒子を含有させた樹脂が、感光性樹脂であることを特徴とする請求項４に記載のタッチパネルセンサ一体型のカラーフィルタの製造方法である。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、タッチパネルセンサ部側の透明基板上に形成されたアライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域が遮光体を構成する膜によって覆われないため、カラーフィルタ部側からタッチパネルセンサ部側の透明基板上に形成されたアライメントマークを識別することが容易となり、その結果、カラーフィルタ部をタッチパネルセンサ部に対して精度良く位置合わせして形成することができる。
それゆえ、共通する透明基板を挟んで、その一方の面にタッチパネルセンサ部が形成され、他方の面にカラーフィルタ部が形成されているタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタにおいて、タッチパネルセンサ部とカラーフィルタ部との位置合わせが正確なタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタを容易に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの例を示す概略断面図である。
【図２】本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタにおけるタッチパネルセンサ部の製造方法の一例を示す模式的工程図である。
【図３】本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタにおけるカラーフィルタ部の製造方法の一例を示す模式的工程図である。
【図４】タッチパネルセンサ部とメタルマスクの関係を示す説明図であり、（ａ）はタッチパネルセンサ部の例を示す概略図であり、（ｂ）はメタルマスクの例を示す概略図である。
【図５】アライメント露光装置の例を示す概略図である。
【図６】本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタにおけるカラーフィルタ部の製造方法の他の例を示す説明図であり、（ａ）はダイコータを用いた塗布成膜を示す概略図であり、（ｂ）は塗布成膜後のカラーフィルタ部の例を示す概略図であり、（ｃ）はタッチパネルセンサ部の例を示す概略図である。
【図７】従来のタッチパネルセンサの例を示す概略平面図である。
【図８】図７に示すタッチパネルセンサのＡ−Ａ断面図である。
【図９】従来のカラーフィルタの例を示す概略断面図である。
【図１０】従来のカラーフィルタの製造方法の一例を示す模式的工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下、本発明のタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタおよびその製造方法について詳細に説明する。
【００３１】
［タッチパネルセンサ一体型カラーフィルタ］
まず、本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタについて説明する。
図１は、本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの例を示す概略断面図である。図１に示されるタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタ１においては、ガラス基板等からなる透明基板２を挟んで、その一方の面にタッチパネルセンサ部２０が形成され、他方の面にカラーフィルタ部３０が形成されている。
【００３２】
［タッチパネルセンサ部］
タッチパネルセンサ部２０の構成は、従来のタッチパネルセンサの構成と同じ構成を用いることができる。ここでは、Ｘ軸透明電極に相当する第１透明電極とＹ軸透明電極に相当する第２透明電極の透明電極を同一平面上に配列した構造の静電容量式タッチパネルセンサの例に基づいて説明する。この場合、タッチパネルセンサ部側の平面図は図７に示したものと同様であってよい。
タッチパネルセンサ部２０は、図１に示すように、例えばＸ軸透明電極に相当する第１透明電極２２、および、例えばＹ軸透明電極に相当する第２透明電極２３、第１透明電極２２と第２透明電極２３を絶縁する第１絶縁層２４、第１透明電極２２および第２透明電極２３と制御回路（図示せず）とを接続する配線導体２１、および、タッチパネルセンサ部２０の外周部に配設されたアライメントマーク２７を少なくとも含んで構成される。
【００３３】
第１透明電極２２は、第２透明電極２３と交差する部位で分断されており、第１透明電極２２と第２透明電極２３の間には、短絡防止のために第１絶縁層２４が形成されている。第１絶縁層２４は、第１透明電極２２と第２透明電極２３が交差する部位に、第２透明電極２３を覆うように形成される。そして、連結透明電極２６は、第１絶縁層２４を跨ぐように形成され、分断された第１透明電極２２を電気的に接続する。
なお、図１における第２絶縁層２５は、第１絶縁層２４と同じ材料であって、第１絶縁層２４の形成工程で同時に形成されるものであり、第１透明電極２２および第２透明電極２３を覆うように形成される。この第２絶縁層２５は、除去されていても良い。
【００３４】
［配線導体］
配線導体２１は、第１透明電極２２および第２透明電極２３と制御回路とを電気的に接続するためのものであり、表示領域外の透明基板２の周辺部に配設される。
配線導体２１は表示領域外に形成されるので透明性は必要ないが、抵抗値の小さい材料から形成される必要がある。それゆえ、配線導体２１の材料として、好ましくは、前述の透明電極材料より高い導電性を有する材料が用いられる。例えば、配線導体２１は、アルミニウム、銀や銅またはそれらの合金等による金属薄膜や、銀ペースト等の導電性ペーストにより形成される。
【００３５】
［アライメントマーク］
アライメントマーク２７は、第１透明電極２２および第２透明電極２３、第１絶縁層２４、第２絶縁層２５、連結透明電極２６の形成に際し、相互に位置合わせを行うために設けられる。
また、アライメントマーク２７は、後述するカラーフィルタ部の形成に際しても、位置合わせに用いられるものである。
アライメントマーク２７は、配線導体２１と同じ材料を用いて、配線導体２１の形成工程で、配線導体２１と同時に形成されることが、工程簡略化の面から好ましい。
アライメントマーク２７の形状は、上述の位置合わせを行うことが出来るものであれば良く、特に限定されないが、例えば、十字型であり、その線幅は１０〜１００μｍであり、長さは０．５〜３．０ｍｍである。
アライメントマーク２７の配設位置は、タッチパネルの表示領域の外側であって、上述の位置合わせを行うことが出来る位置であれば良く、特に限定されないが、例えば、タッチパネルセンサ部２０の外周部の左右両端近傍である。
アライメントマーク２７の配設数も特に限定されないが、例えば、タッチパネルセンサ部２０の外周部の左右両端に、１個以上である。また、遮光体や着色体（典型的には、３色）の各アライメント露光工程に応じて、配設位置や、形状の異なるアライメントマークを設けても良い。
【００３６】
［第１及び第２透明電極、連結透明電極］
第１透明電極２２、第２透明電極２３、連結透明電極２６は、通常、同じ材料により形成される。第１透明電極２２と第２透明電極２３は同一平面に同時に形成されるため同じ材料であることが好ましく、また、均一な透明性や導電性を得るために、連結透明電極２６も、第１透明電極２２、第２透明電極２３と同じ材料であることが好ましいからである。
【００３７】
上記の材料としては、透明性を有するとともに、所要の導電性を有する材料が用いられる。例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化インジウム、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、カリウム添加酸化亜鉛、シリコン添加酸化亜鉛や、酸化亜鉛−酸化錫系、酸化インジウム−酸化錫系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などの金属酸化物や、これらの金属酸化物が２種以上複合された材料が挙げられる。
【００３８】
第１透明電極２２、第２透明電極２３、連結透明電極２６の形成方法は、特に限定されず、公知の方法を用いることが出来る。例えば、２００℃〜２５０℃に基板加熱しながら、アルゴンと酸素の混合ガスを用いたスパッタリング法を用いて多結晶ＩＴＯ薄膜を成膜し、アライメントマーク２７を用いて位置合わせしてフォトリソグラフィ法により所望のパターンを形成後、王水で不要ＩＴＯをエッチングする方法により、第１透明電極２２、第２透明電極２３、連結透明電極２６が形成される。
【００３９】
［第１及び第２絶縁層］
第１絶縁層２４は、第１透明電極２２と、第２透明電極２３および連結透明電極２６を絶縁するために設けられるものである。第１絶縁層２４は、第１透明電極２２と第２透明電極２３が交差する部位に、第２透明電極２３を覆うように形成される。そして、連結透明電極２６は、第１絶縁層２４を跨ぐように形成され、分断された第１透明電極２２を電気的に接続する。
【００４０】
第２絶縁層２５は、第１絶縁層２４と同じ材料であって、第１絶縁層２４の形成工程で同時に形成されるものであり、第１透明電極２２および第２透明電極２３を覆うように形成される。そして、第２絶縁層２５は、連結透明電極２６が第２透明電極２３と接する面積を規定し、連結透明電極２６同士の短絡を防ぐ機能を有する。なお、この第２絶縁層２５は、最終形態において除去されていても良い。
【００４１】
第１絶縁層２４及び第２絶縁層２５は、透明性および電気絶縁性を有する樹脂材料やＳＯＧ（塗布型のＳｉＯ2系材料）等の無機材料を用いて、スクリーン印刷法やフォトリソグラフィ法で形成される。例えば、ＵＶ硬化性のアクリル樹脂を用い、塗布、マスク露光、現像、ベーク等の工程を行うことで形成される。
【００４２】
［保護膜］
保護膜２９は、アライメントマーク２７を保護するために形成されるものであり、通常、第１透明電極２２および第２透明電極２３と同時に形成されるものである。
例えば、第１透明電極２２および第２透明電極２３を形成するための多結晶ＩＴＯ薄膜は、通常、アライメントマーク２７の上にも成膜される。そして、アライメントマーク２７を王水等から保護するために、フォトリソグラフィ法によりアライメントマーク２７の上に所望のパターンを形成後、王水で不要ＩＴＯをエッチングすることにより、保護膜２９が形成される。
【００４３】
［カラーフィルタ部］
次にカラーフィルタ部３０について説明する。
カラーフィルタ部３０は、図１に示すように、透明基板２を挟んで、タッチパネルセンサ部２０が形成された面とは反対側の面に形成されており、マトリックス状に配設される遮光体３１、遮光体３１の間に配設される複数色の着色体３２、着色体３２を覆うように形成された第３透明電極３３を、少なくとも含んで構成される。
カラーフィルタ部３０の各構成要素は、従来のカラーフィルタの構成要素と同じ材料を用いることができる。
ただし、タッチパネルセンサ部２０側に形成されたアライメントマーク２７の位置に相当するカラーフィルタ部３０側の透明基板２上には、遮光体３１は存在しない。
それゆえ、カラーフィルタ部３０側から透明基板２を通して、タッチパネルセンサ部２０側に形成されたアライメントマークを識別することが容易となり、その結果、カラーフィルタ部３０をタッチパネルセンサ部２０に対して精度良く位置合わせして形成することができる。
なお、図１には示していないが、着色体３２と第３透明電極３３の間には、透明な保護膜が設けられていても良い。保護膜の材料としては、珪素、アルミニウム、亜鉛またはスズの酸化物または酸窒化物からなる透明材料、あるいはアクリル樹脂等の有機絶縁膜を挙げることができる。
【００４４】
［遮光体］
遮光体３１は、液晶表示装置のバックライトの光もれや着色体３２の混色防止のために設けられるものである。
遮光体３１は、スパッタリング法、真空蒸着法等の真空成膜法により厚み１００〜２００ｎｍ程度のクロム等の金属薄膜等を形成し、この薄膜をパターニングして形成したものや、カーボン微粒子や金属酸化物等の遮光性粒子を含有させたポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂層を形成し、この樹脂層をパターニングして形成したもの、および、カーボン微粒子や金属酸化物等の遮光性粒子を含有させた感光性樹脂層を形成し、この感光性樹脂層をパターニングして形成したもの等、遮光性を有するものを用いることができる。
【００４５】
［着色体］
着色体３２は、カラーフィルタ画素として、液晶を通過したバックライトの色を調整するものであり、通常、赤色、青色、緑色の３種の着色体が形成される。
赤色の着色体に用いられる着色剤としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
青色の着色体に用いられる着色剤としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
緑色の着色体に用いられる着色剤としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
【００４６】
［第３透明電極］
第３透明電極３３は、液晶分子の配列を変更させて光の透過率を調節するための共通電極として機能するものである。
第３透明電極３３は、例えば、２００℃〜２５０℃に基板加熱しながら、アルゴンと酸素の混合ガスを用いたスパッタリング法を用いて多結晶ＩＴＯを成膜することにより形成することができる。
【００４７】
［タッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法］
次に、本発明のタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法について説明する。本発明のタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法は、カラーフィルタ部の遮光体を構成する材料を成膜する工程において、タッチパネルセンサ部側の透明基板上に形成されたアライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域が、遮光体を構成する膜によって覆われないようにしたことを特徴とするものであり、このことにより、カラーフィルタ部側から透明基板を通して、タッチパネルセンサ部側の透明基板上に形成されたアライメントマークを識別することが容易となり、その結果、カラーフィルタ部をタッチパネルセンサ部に対して精度良く位置合わせ形成することができるものである。
その他の構成要素の製造方法については、上述した構成を有するタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタを得ることができる方法であれば、特に限定されるものではない。
【００４８】
［タッチパネルセンサ部の製造方法］
本発明においては、まず、タッチパネルセンサ部を形成し、続いてカラーフィルタ部を形成して、本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタを得る。
図２に、本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタにおけるタッチパネルセンサ部の製造方法の一例を示す。まず、ガラス等の材料からなる透明基板２を準備し、その一方の面に金属材料からなる配線導体２１、およびアライメントマーク２７を同時に形成する（図２（ａ））。配線導体２１およびアライメントマーク２７を形成する方法は、特に限定されず公知の方法を用いることができ、例えば、透明基板２上にスパッタリング法により金属薄膜を成膜し、フォトリソグラフィ法により所望の形状の配線導体２１およびアライメントマーク２７を形成する。
【００４９】
次に、図２（ｂ）に示すように、上記の配線導体２１およびアライメントマーク２７を形成した面に、多結晶ＩＴＯからなる第１透明電極２２および第２透明電極２３を同時に形成する。
第１透明電極２２、第２透明電極２３を形成する多結晶ＩＴＯは、２００℃〜２５０℃に基板加熱しながら、アルゴンと酸素の混合ガスを用いたスパッタリング法により成膜される。そして、フォトリソグラフィ法でアライメントマーク２７を用いてアライメント露光し、パターンを形成後、王水等の強酸で不要ＩＴＯをエッチングする方法により、所望の形状に加工される。
【００５０】
次に、上記の第１透明電極２２および第２透明電極２３を被覆するように、第１絶縁層２４および第２絶縁層２５を形成するための絶縁膜を成膜し（図２（ｃ））、アライメントマーク２７を用いて位置合わせしてパターン加工し、所望の形状の第１絶縁層２４および第２絶縁層２５を形成する（図２（ｄ））。
第１透明電極２２および第２透明電極２３を形成する方法は、特に限定されず公知の方法を用いることができ、例えば、ＵＶ硬化性のアクリル樹脂を塗布し、フォトリソグラフィ法により所望の形状の第１絶縁層２４および第２絶縁層２５を形成することができる。
【００５１】
次に、図２（ｅ）に示すように、上記の第１絶縁層２４および第２絶縁層２５を形成した面に、多結晶ＩＴＯからなる連結透明電極２６を形成する。
連結透明電極２６を形成する多結晶ＩＴＯは、２００℃〜２５０℃に基板加熱しながら、アルゴンと酸素の混合ガスを用いたスパッタリング法により成膜される。そして、フォトリソグラフィ法でアライメントマーク２７を用いてアライメント露光し、パターンを形成後、王水等の強酸で不要なＩＴＯをエッチングする方法により、所望の形状に加工される。
以上の工程により、本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタのタッチパネルセンサ部２０が形成される。
【００５２】
［カラーフィルタ部の製造方法］
次に、上記のタッチパネルセンサ部を形成した面とは反対側の透明基板２の面に、カラーフィルタ部を形成する。
ここで、本発明に係るカラーフィルタ部の遮光体３１を形成する方法は、遮光体３１を構成する材料に応じて、以下の２つの実施形態がある。すなわち、クロム等の金属薄膜からなる遮光体を形成する形態（第１の実施形態）と、カーボン微粒子等の遮光性粒子を含有させた樹脂からなる遮光体を形成する形態（第２の実施形態）である。
【００５３】
（第１の実施形態）
第１の実施形態の例として、クロム等の金属薄膜からなる遮光体を形成する形態について説明する。
まず、図３（ａ）に示すように、上記のタッチパネルセンサ部２０を形成した面とは反対側の透明基板２の面に、メタルマスク４０を用いたスパッタリング法により、厚み１００〜２００ｎｍ程度のクロム等の金属薄膜３１ａを真空成膜する。
【００５４】
ここで、メタルマスク４０について説明する。図４に、本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタのタッチパネルセンサ部２０とメタルマスク４０の関係を示す。
図４（ｂ）に示すように、メタルマスク４０は、少なくとも、タッチパネルセンサ部２０側に形成されたアライメントマーク２７の位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域を遮蔽するように作用する遮蔽部４１と、タッチパネルセンサ部２０の有効領域２８を含む開口部４１を有している。
【００５５】
上記の真空成膜の工程で、このメタルマスク４０を、クロム等の金属ターゲットと透明基板２の間に介在させることにより、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマーク２７の位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域には、クロム等の金属はスパッタ成膜されないことになる。
このことにより、カラーフィルタ部側から透明基板を通して、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマークを識別することが容易になる。
【００５６】
次に、図３（ｂ）に示すように、金属薄膜３１ａにフォトレジストを塗布し、アライメント露光、現像、エッチングを行なって、所望の形状の遮光体３１を形成する。アライメント露光は、例えば、以下のように行われる。
【００５７】
図５に、アライメント露光に用いる露光装置の例を示す。図５に示すように、透明基板２は、そのカラーフィルタ部側が遮光体用フォトマスク６０と対向するように露光装置５０に保持される。ここで、本発明においては、タッチパネルセンサ部が接触による汚染を受けないように、基板保持手段５１により透明基板２の端部で保持されることが好ましい。
遮光体用フォトマスク６０はマスク保持手段５２により、透明基板２の上方に保持されている。そして、遮光体用フォトマスク６０に設けられたマスク側アライメントマーク６１と、透明基板２のタッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマーク２７を用いて、透明基板２と遮光体用フォトマスク６０との位置合わせが行なわれる。
【００５８】
上記の位置合わせは、例えば、次のように行われる。
まず、アライメント用光源５３を備えたＣＣＤカメラ５４により、遮光体用フォトマスク６０に設けられたマスク側アライメントマーク６１と、透明基板２のタッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマーク２７とが撮像される。
ここで、アライメントマーク２７はカラーフィルタ部側とは反対側の透明基板２上に設けられているが、カラーフィルタ部側のアライメントマーク２７の位置に相当する領域は遮光体によって覆われていないため、カラーフィルタ部側から透明基板２を通してアライメントマーク２７を容易に識別することができる。
【００５９】
撮像された画像信号は、ＣＣＤカメラ５４に接続された制御手段５５に送られる。この画像信号からマスク側アライメントマーク６１と透明基板２に形成されたアライメントマーク２７との間の配置誤差が求められ、制御手段５５は、この配置誤差に基づいて移動手段５６を駆動制御する。
そして、移動手段５６により基板保持手段５１とともに透明基板２が移動し、マスク側アライメントマーク６１と透明基板２に形成されたアライメントマーク２７の位置合わせが行なわれる。以上により、遮光体用フォトマスク６０を透明基板２に対して精度良く確実に位置合わせすることができる。
最後に、露光装置５０の露光光源５７により、遮光体用フォトマスク６０を介して金属薄膜３１ａ上のフォトレジストが露光される。
【００６０】
次に、図３（ｃ）に示すように、上記の遮光体３１の間に、複数色の着色体３２を形成する。
着色体３２を形成するためのアライメント露光は、上述の遮光体３１を形成するためにアライメント露光した方法と同様に、透明基板２のタッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマーク２７を用いて行うことができる。
ここで、遮光体と各着色体（典型的には、３色）のアライメントマークは、異なる位置に設けておくこともできる。各着色塗布工程により、マーク領域が被覆されてしまうことを避けるためである。また、遮光体と各着色体（典型的には、３色）のアライメントマークは、異なる形状のマークとしてもよい。形成する着色体の色を間違えたりすることを防止できるからである。
上述のアライメント露光工程以外の着色体３２を形成する工程は、特に限定されず公知の方法を用いることができ、例えば、各色の顔料を含んだ着色感光性樹脂を塗布し、露光、現像、ベークして、所望の着色体３２を形成することができる。赤色、青色、緑色の３種の着色体を形成する場合は、上記の工程を３回行う。
【００６１】
最後に、図３（ｄ）に示すように、上記の着色体３２を被覆するように、多結晶ＩＴＯ薄膜をスパッタリング法により成膜し、第３透明電極３３を形成する。
以上により、本発明に係る第１の実施形態のタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタを得ることが出来る。
なお、上述の説明では、遮光体の形成後に各着色体（典型的には、３色）を形成する製造方法を説明したが、例えば、先に各着色体（典型的には、３色）を形成し、その後遮光体を形成しても良い。
【００６２】
（第２の実施形態）
次に、第２の実施形態の例として、カーボン微粒子等の遮光性粒子を含有させた感光性の樹脂からなる遮光体を形成する形態について説明する。
図６は、本発明に係る第２の実施形態のタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタにおけるカラーフィルタ部の製造方法の一例を示す説明図であり、（ａ）はダイコータを用いた塗布成膜を示す概略図であり、（ｂ）は塗布成膜後のカラーフィルタ部の例を示す概略図であり、（ｃ）はタッチパネルセンサ部の例を示す概略図である。
まず、図６（ａ）に示すように、上記のタッチパネルセンサ部のアライメントマーク２７を形成した面とは反対側の透明基板２の面に、ダイコータを用いた塗布成膜により、厚み１〜３μｍ程度のカーボン微粒子等の遮光性粒子を含有させた感光性の樹脂層３１ｂを形成する。
ここで、ダイコータのダイノズル７０は、タッチパネルセンサ部２０の有効領域２８の幅に規定された開口部を有しており、それゆえ、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域に対しては、樹脂層３１ｂは塗布されないことになる（図６（ｂ）、（ｃ））。
このような塗布成膜方法を用いることにより、カラーフィルタ部側から透明基板を通して、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマークを識別することが容易になる。
【００６３】
なお、カーボン微粒子等の遮光性粒子を含有させた感光性の樹脂からなる遮光体を形成する方法としては、上述のダイコータを用いる方法の他に、インクジェット法、スクリーン印刷法、ドライフィルムをラミネートする方法等があり、いずれもタッチパネルセンサ部２０の有効領域２８の幅に規定された範囲内にカーボン微粒子等の遮光性粒子を含有させた感光性の樹脂層を形成することで、上述のダイコータを用いた場合と同様に、カラーフィルタ部側から透明基板を通して、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマークを識別することが可能になる。
【００６４】
次に、アライメント露光、現像、ベーク等を行なって、所望の形状の遮光体３１を形成する。
アライメント露光は、上述の第１の実施形態において、遮光体３１を形成するためにアライメント露光した方法と同様に、透明基板２のタッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマーク２７を用いて行うことができる。それゆえ、ここでの詳述は省略する。
【００６５】
次に、上記の遮光体３１の間に、複数色の着色体３２を形成する。
着色体３２を形成するためのアライメント露光は、上述の第１の実施形態において説明した方法と同様に、透明基板２のタッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマーク２７を用いて行うことができる。それゆえ、ここでの詳述は省略する。
【００６６】
次に、上記の着色体３２を被覆するように、多結晶ＩＴＯ薄膜をスパッタリング法により成膜し、第３透明電極３３を得る。
以上により、本発明に係る第２の実施形態のタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタを得ることが出来る。
なお、上述の説明では、遮光体の形成後に各着色体（典型的には、３色）を形成する製造方法を説明したが、先に各着色体（典型的には、３色）を形成し、その後遮光体を形成しても良い。
【００６７】
本発明によれば、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域が遮光体を構成する膜によって覆われないため、カラーフィルタ部側からタッチパネルセンサ部側の透明基板上に形成されたアライメントマークを識別することが容易となり、その結果、カラーフィルタ部をタッチパネルセンサ部に対して精度良く位置合わせ形成することができる。
それゆえ、共通する透明基板を挟んで、その一方の面にタッチパネルセンサ部が形成され、他方の面にカラーフィルタ部が形成されているタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタにおいて、タッチパネルセンサ部とカラーフィルタ部との位置合わせが正確なタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタを容易に製造することができる。
【００６８】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００６９】
以下、実施例を用いて、本発明をさらに具体的に説明する。
（実施例１）
上述で説明した第１の実施形態の製造方法に従って、本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタを製造した。
まず、透明基板２として、３５０ｍｍ×３００ｍｍの旭硝子株式会社製ＡＮガラスを準備し、その一方の面にアルミニウムをスパッタリング法により成膜し、フォトリソグラフィ法でパターン形成後、燐酸、酢酸、水を４：１：４：４の割合で配合してなる燐硝酢酸水でエッチング加工して、配線導体２１およびアライメントマーク２７を形成した。アライメントマーク２７は、線幅２０μｍ、長さ１．０ｍｍの十字型のマークとした。
【００７０】
次に、上記の配線導体２１およびアライメントマーク２７を形成した面に、基板温度２３０℃で、アルゴンと酸素の混合ガスを用いたスパッタリング法により、２０ｎｍ厚さの多結晶ＩＴＯ薄膜を形成し、フォトリソグラフィ法で所望のパターンを作り、王水で不要なＩＴＯをエッチングして第１透明電極２２および第２透明電極２３を形成した。
【００７１】
次に、上記の第１透明電極２２および第２透明電極２３を被覆するように、住友化学株式会社製ポジ型感光性材料ＰＦＩ−２７を塗布し、フォトリソグラフィ法により所望の形状の第１絶縁層２４および第２絶縁層２５を形成した。
【００７２】
次に、上記の第１絶縁層２４および第２絶縁層２５を形成した面に、基板温度２３０℃で、アルゴンと酸素の混合ガスを用いたスパッタリング法により、２０ｎｍ厚さの多結晶ＩＴＯ薄膜を形成し、フォトリソグラフィ法で所望のパターンを作り、王水で不要ＩＴＯをエッチングして連結透明電極２６を形成した。
【００７３】
次に、透明基板２の反対側の面に、メタルマスク４０を用いたスパッタリング法により、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマーク２７の位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域以外の所定の領域に１５０ｎｍ厚さのクロムからなる金属薄膜３１ａを成膜した。
次に、金属薄膜３１ａに住友化学株式会社製ポジ型感光性材料ＰＦＩ−２７を塗布し、透明基板２のタッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマーク２７を用いてアライメント露光し、現像、エッチングを行なって、所望の形状の遮光体３１を形成した。
続いて、赤色顔料を含んだ着色感光性樹脂を塗布し、アライメント露光、現像、ベークして、赤色の着色体３２を形成した。青色、緑色の着色体３２も同様に形成した。
【００７４】
最後に、上記の着色体３２を被覆するように、１３０ｎｍ厚さの多結晶ＩＴＯ薄膜をスパッタリング法により成膜して第３透明電極３３を形成し、本発明に係る第１の実施形態のタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタを得た。
【００７５】
（実施例２）
上述で説明した第２の実施形態の製造方法に従って、本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタを製造した。
まず、透明基板２として旭硝子株式会社製ＡＮガラスを準備し、その一方の面に実施例１と同様にして、本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタのタッチパネルセンサ部を形成した。
【００７６】
次に、透明基板２の反対側の面に、遮光体３１を必要とする領域の幅に規定された開口部を有するダイノズル７０を用いたダイコート法により、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマーク２７の位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域以外の所定の領域に２μｍ厚さのカーボンブラックからなる感光性の樹脂層３１ｂを塗布成膜した。
次に、透明基板２のタッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマーク２７を用いてアライメント露光し、現像、ベークを行なって、所望の形状の遮光体３１を形成した。
続いて、赤色顔料を含んだ着色感光性樹脂を塗布し、アライメント露光、現像、ベークして、赤色の着色体３２を形成した。青色、緑色の着色体３２も同様に形成した。
【００７７】
最後に、上記の着色体３２を被覆するように、１３０ｎｍ厚さの多結晶ＩＴＯ薄膜をスパッタリング法により成膜して第３透明電極３３を形成し、本発明に係る第２の実施形態のタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタを得た。
【００７８】
実施例１、２のいずれの工程においても、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域は、遮光体によって覆われないようになっており、カラーフィルタ部側から透明基板を通して、タッチパネルセンサ部側の透明基板上に形成されたアライメントマークを容易に識別でき、タッチパネルセンサ部に対して位置精度良く、カラーフィルタ部を製造することができた。
【符号の説明】
【００７９】
１  タッチパネルセンサ一体型カラーフィルタ
２  透明基板
２０  タッチパネルセンサ部
２１  配線導体
２２  第１透明電極
２３  第２透明電極
２４  第１絶縁層
２５  第２絶縁層
２６  連結透明電極
２７  アライメントマーク
２８  有効領域
２９  保護膜
３０  カラーフィルタ部
３１  遮光体
３１ａ  金属薄膜
３１ｂ  樹脂層
３２  着色体
３３  第３透明電極
４０  メタルマスク
４１  遮蔽部
４２  開口部
５０  露光装置
５１  基板保持手段
５２  マスク保持手段
５３  アライメント用光源
５４  ＣＣＤカメラ
５５  制御手段
５６  移動手段
５７  露光光源
６０  遮光体用フォトマスク
６１  マスク側アライメントマーク
７０  ダイノズル
１００  タッチパネルセンサ
１０１  透明基板
１０２  有効領域
１０３  Ｘ軸透明電極
１０４  Ｙ軸透明電極
１０５  配線導体
１０６  連結透明電極
１０７  第１絶縁層
１０８  第２絶縁層
１０９  アライメントマーク
１１０  保護膜
２００  カラーフィルタ
２０１  透明基板
２０２  遮光体
２０２ａ  金属薄膜
２０３  着色体
２０４  透明電極
２０５  アライメントマーク
【図１】
0005428933.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
0005428933.tif 000008
【図８】
0005428933.tif 000009
【図９】
0005428933.tif 000010
【図１０】
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