(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
位相差膜を有するカラーフィルタ基板において位相差膜中の欠陥と位相差上の異物を検出する検査装置であって、
前記カラーフィルタ基板の両側に、前記カラーフィルタ基板と平行かつ互いに対向する位置に配置された第１の偏光フィルタおよび第２の偏光フィルタと、
前記第１の偏光フィルタの外側に配置された透過照明光源と、
前記第２の偏光フィルタの外側に配置された撮像手段と、
前記撮像手段が取得した画像データに対して所定の画像処理を行い、欠陥と異物を検出する画像処理手段と、を有し、
前記第１および第２の偏光フィルタはその偏光光軸方向が互いに３５°〜５５°の角度をなす状態で配置されていることを特徴とする、位相差膜を有するカラーフィルタ基板の検査装置。
【請求項２】
位相差膜を有するカラーフィルタ基板において位相差膜中の欠陥と位相差膜上の異物を検出する検査装置であって、
前記カラーフィルタ基板の両側に、前記カラーフィルタ基板と平行かつ互いに対向する位置に配置された第１の偏光フィルタおよび第２の偏光フィルタと、
前記第１の偏光フィルタの外側に配置された第１の透過照明光源と、
前記第２の偏光フィルタの外側に配置された第１の撮像手段と、
前記カラーフィルタ基板の両側に、前記カラーフィルタ基板と平行かつ互いに対向する位置に配置された第３の偏光フィルタおよび第４の偏光フィルタと、
前記第３の偏光フィルタの外側に配置された第２の透過照明光源と、
前記第４の偏光フィルタの外側に配置された第２の撮像手段と、
前記第１の撮像手段および第２の撮像手段がそれぞれ取得した画像データに対して所定の画像処理を行い、欠陥と異物を検出する画像処理手段とを有し、
前記第１の偏光フィルタと第２の偏光フィルタはその偏光光軸方向が互いに平行に配置され、前記第３の偏光フィルタと第４の偏光フィルタはその偏光光軸方向が互いに垂直に配置されていることを特徴とする、位相差膜を有するカラーフィルタ基板の検査装置。
【請求項３】
位相差膜を有するカラーフィルタ基板において位相差膜中の欠陥と位相差膜上の異物を検出する検査方法であって、
前記カラーフィルタ基板の両側に、前記カラーフィルタ基板と平行かつ互いに対向する位置に第１の偏光フィルタおよび第２の偏光フィルタを配置し、
前記第１の偏光フィルタの外側に配置された透過照明光源から前記カラーフィルタ基板に照明光を照射する照明光照射段階と、
前記第２の偏光フィルタの外側に配置された撮像手段により前記カラーフィルタ基板の画像データを取得する撮像段階と、
前記撮像段階で取得した画像データに対して所定の画像処理を行い、欠陥と異物を検出する画像処理段階と、
を有し、
前記第１および第２の偏光フィルタの偏光光軸方向が互いに３５°〜５５°の角度をなす状態で、前記カラーフィルタ基板の画像データを取得する撮像段階と、
前記撮像段階で取得した画像データに対して所定の画像処理を行い、欠陥と異物を検出する画像処理段階と、
を有することを特徴とする、位相差膜を有するカラーフィルタ基板の検査方法。
【請求項４】
位相差膜を有するカラーフィルタ基板において位相差膜中の欠陥と位相差膜上の異物を検出する検査方法であって、
前記カラーフィルタ基板の両側に、前記カラーフィルタ基板と平行かつ互いに対向する位置に配置された第１の偏光フィルタおよび第２の偏光フィルタを配置し、
前記第１の偏光フィルタの外側に配置された第１の透過照明光源から、前記カラーフィルタ基板に照明光を照射する照明光照射段階と、
前記第２の偏光フィルタの外側に配置された第１の撮像手段により、前記カラーフィルタ基板の画像データを取得する撮像段階と、
前記カラーフィルタ基板の両側に、前記カラーフィルタ基板と平行かつ互いに対向する位置に配置された第３の偏光フィルタおよび第４の偏光フィルタを配置し、
前記第３の偏光フィルタの外側に配置された第２の透過照明光源から、前記カラーフィルタ基板に照明光を照射する照明光照射段階と、
前記第４の偏光フィルタの外側に配置された第２の撮像手段により、前記カラーフィルタ基板の画像データを取得する撮像段階と、
前記第１の撮像手段および第２の撮像手段がそれぞれ取得した画像データに対して所定の画像処理を行い、欠陥と異物を検出する画像処理段階とを有し、
前記第１の偏光フィルタと第２の偏光フィルタはその偏光光軸方向が互いに平行に配置され、前記第３の偏光フィルタと第４の偏光フィルタはその偏光光軸方向が互いに垂直に配置されていることを特徴とする、位相差膜を有するカラーフィルタ基板の検査方法。
【請求項５】
請求項４記載の、位相差膜を有するカラーフィルタ基板の検査方法の前記画像処理段階において、
偏光光軸方向が互いに平行な状態である前記第１および第２の偏光フィルタを使用して得た前記カラーフィルタ基板の画像データに対しては、前記位相差膜の位相差領域中のピンホール欠陥および無位相差領域上の異物を検出し、
偏光光軸方向が互いに垂直な状態である前記第３および第４の偏光フィルタを使用して得た前記カラーフィルタ基板の画像データに対しては、前記位相差膜の位相差領域中のピンホール欠陥および位相差膜上の異物を検出することを特徴とする、位相差膜を有するカラーフィルタ基盤の検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、位相差膜を有するカラーフィルタにおける位相差膜中の欠陥と位相差膜上の異物を検査する検査装置および検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルコンピューターの発達、液晶テレビの大型化、携帯電話の普及などに伴い、カラー液晶ディスプレイの需要が増加する傾向にある。基板サイズが大型になり、その設備投資額や必要スペースは莫大なものとなってきている反面、各ディスプレイ部材へのコスト低減要求は大きい。如何に低コストで高付加価値の部材が供給できるかと言う課題は、液晶周辺部材関連各メーカーの生存に関わる問題となってきていると言える。
【０００３】
そこで、液晶ディスプレイの視野角補償用や半透過表示実現のために使用される位相差膜を、液晶ディスプレイを構成するカラーフィルタにインセル化形成する技術が開発された（特許文献１参照）。これにより、パネルの薄型化とコスト低減につなげることができた。
【０００４】
位相差膜はその形成過程において、物理的な原因や露光時のマスク影が原因で、位相差膜にピンホールのような欠陥が現れることがある。しかし、位相差膜は透明であるため、通常のカラーフィルタ欠陥検査方法では位相差膜を可視化できない。すなわち、位相差膜に欠陥部が存在しても、画像上では輝度値などの異常として現れないため、欠陥が検出できない。
【０００５】
しかしながら製品の歩留まりを向上させるためには、カラーフィルタへの位相差膜の形成直後すぐに位相差膜中の欠陥と位相差膜上の異物を検出し、不良箇所のあるカラーフィルタ基板が下流工程に流れることを防止可能な検査方法が必要不可欠である。
【０００６】
【特許文献１】特開２００７−３３２２６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、このような状況に鑑みてなされたものであり、位相差膜を有するカラーフィルタにおける位相差膜欠陥を検出する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するために本発明の請求項１においては、位相差膜を有するカラーフィルタ基板において位相差膜中の欠陥と位相差膜上の異物を検出する検査装置であって、
前記カラーフィルタ基板の両側に、前記カラーフィルタ基板と平行かつ互いに対向する位置に配置された第１の偏光フィルタおよび第２の偏光フィルタと、
前記第１の偏光フィルタの外側に配置された透過照明光源と、
前記第２の偏光フィルタの外側に配置された撮像手段と、
前記撮像手段が取得した画像データに対して所定の画像処理を行い、欠陥と異物を検出する画像処理手段と、を有し、
前記第１および第２の偏光フィルタはその偏光光軸方向が互いに３５°〜５５°の角度をなす状態で配置されていることを特徴とする、位相差膜を有するカラーフィルタ基板の検査装置としたものである。
【００１０】
また、本発明の請求項２においては、位相差膜を有するカラーフィルタ基板において位相差膜中の欠陥と位相差膜上の異物を検出する検査装置であって、
前記カラーフィルタ基板の両側に、前記カラーフィルタ基板と平行かつ互いに対向する位置に配置された第１の偏光フィルタおよび第２の偏光フィルタと、
前記第１の偏光フィルタの外側に配置された第１の透過照明光源と、
前記第２の偏光フィルタの外側に配置された第１の撮像手段と、
前記カラーフィルタ基板の両側に、前記カラーフィルタ基板と平行かつ互いに対向する位置に配置された第３の偏光フィルタおよび第４の偏光フィルタと、
前記第３の偏光フィルタの外側に配置された第２の透過照明光源と、
前記第４の偏光フィルタの外側に配置された第２の撮像手段と、
前記第１の撮像手段および第２の撮像手段がそれぞれ取得した画像データに対して所定の画像処理を行い、欠陥と異物を検出する画像処理手段とを有し、
前記第１の偏光フィルタと第２の偏光フィルタはその偏光光軸方向が互いに平行に配置され、前記第３の偏光フィルタと第４の偏光フィルタはその偏光光軸方向が互いに垂直に配置されていることを特徴とする、位相差膜を有するカラーフィルタ基板の検査装置としたものである。
【００１１】
また、本発明の請求項３においては、位相差膜を有するカラーフィルタ基板において位相差膜中の欠陥と位相差膜上の異物を検出する検査方法であって、
前記カラーフィルタ基板の両側に、前記カラーフィルタ基板と平行かつ互いに対向する位置に第１の偏光フィルタおよび第２の偏光フィルタを配置し、
前記第１の偏光フィルタの外側に配置された透過照明光源から前記カラーフィルタ基板に照明光を照射する照明光照射段階と、
前記第２の偏光フィルタの外側に配置された撮像手段により前記カラーフィルタ基板の画像データを取得する撮像段階と、
前記撮像段階で取得した画像データに対して所定の画像処理を行い、欠陥と異物を検出する画像処理段階とを、有し、
前記第１および第２の偏光フィルタの偏光光軸方向が互いに３５°〜５５°の角度をなす状態で、前記カラーフィルタ基板の画像データを取得する撮像段階と、
前記撮像段階で取得した画像データに対して所定の画像処理を行い、欠陥と異物を検出する画像処理段階と、
を有することを特徴とする、位相差膜を有するカラーフィルタ基板の検査方法としたものである。
【００１４】
また、本発明の請求項４においては、位相差膜を有するカラーフィルタ基板において位相差膜中の欠陥と位相差膜上の異物を検出する検査方法であって、
前記カラーフィルタ基板の両側に、前記カラーフィルタ基板と平行かつ互いに対向する位置に配置された第１の偏光フィルタおよび第２の偏光フィルタを配置し、
前記第１の偏光フィルタの外側に配置された第１の透過照明光源から、前記カラーフィルタ基板に照明光を照射する照明光照射段階と、
前記第２の偏光フィルタの外側に配置された第１の撮像手段により、前記カラーフィルタ基板の画像データを取得する撮像段階と、
前記カラーフィルタ基板の両側に、前記カラーフィルタ基板と平行かつ互いに対向する位置に配置された第３の偏光フィルタおよび第４の偏光フィルタを配置し、
前記第３の偏光フィルタの外側に配置された第２の透過照明光源から、前記カラーフィルタ基板に照明光を照射する照明光照射段階と、
前記第４の偏光フィルタの外側に配置された第２の撮像手段により、前記カラーフィルタ基板の画像データを取得する撮像段階と、
前記第１の撮像手段および第２の撮像手段がそれぞれ取得した画像データに対して所定の画像処理を行い、欠陥と異物を検出する画像処理段階とを有し、
前記第１の偏光フィルタと第２の偏光フィルタはその偏光光軸方向が互いに平行に配置され、前記第３の偏光フィルタと第４の偏光フィルタはその偏光光軸方向が互いに垂直に配置されていることを特徴とする、位相差膜を有するカラーフィルタ基板の検査方法としたものである。
【００１５】
また、本発明の請求項５においては、請求項４記載の、位相差膜を有するカラーフィルタ基板の検査方法の前記画像処理段階において、
偏光光軸方向が互いに平行な状態である前記第１および第２の偏光フィルタを使用して得た前記カラーフィルタ基板の画像データに対しては、前記位相差膜の位相差領域中のピンホール欠陥および無位相差領域上の異物を検出し、
偏光光軸方向が互いに垂直な状態である前記第３および第４の偏光フィルタを使用して得た前記カラーフィルタ基板の画像データに対しては、前記位相差膜の位相差領域中のピンホール欠陥および位相差膜上の異物を検出することを特徴とする、位相差膜を有するカラーフィルタ基盤の検査方法としたものである。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の請求項１〜３のいずれかの装置を利用し、請求項４〜９のいずれかの方法による検査を実施することよって、カラーフィルタへの位相差膜の形成のすぐ後に、位相差膜中の欠陥と位相差膜上の異物を検出することができ、不良な基板が下流工程に流されることを防ぐことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態を図面に基づき詳細に説明する。図１は本発明の実施形態である位相差膜を有するカラーフィルタの位相差膜欠陥検査装置の概略構成を示したものである。
【００１９】
検査対象である位相差膜を有するカラーフィルタ基板３の両側に、基板３と平行にそれぞれ直線偏光の偏光フィルタ２、４を互いに対向するように配置する。偏光フィルタ４の外側には透過照明５を配置し、偏光フィルタ２の外側にはイメージセンサ１を配置する。イメージセンサ１と画像処理部６は信号線で結ぶ。
【００２０】
透過照明５から照射された照明光は偏光フィルタ４によって直線偏光になり、その後、カラーフィルタ基板３のインセル位相差膜内にある位相差領域では楕円偏光に変換し、カラーフィルタ基板３を透過する。カラーフィルタ基板３を透過した照明光は、偏光フィルタ２によって再び直線偏光になり、イメージセンサ１により受光される。
【００２１】
このようにして、偏光フィルタ２、カラーフィルタ基板３、偏光フィルタ４を透過してきた光を、イメージセンサ１は画像データとして取得する。イメージセンサ１で取得した画像データは信号線を通して画像処理部６に送り、所定の画像処理を行い、欠陥を検出する。
【００２２】
検査対象である位相差膜を有するカラーフィルタ基板３の構造は、図６に示したようなもので、図６の〔ａ〕は上面図、〔ｂ〕は断面図である。透明なガラス基板３０６の上にブラックマトリクス３０１が形成され、その上に透明な配向膜３０２が塗布されている。さらにその上に透明な位相差膜３０３が塗布されているが、位相差の異なる２つの領域３０４と３０５に分かれて塗布されている。
【００２３】
位相差領域３０４は直線偏光を、楕円偏光に変換するが、領域３０５は無位相差領域なので、直線偏光を楕円偏光に変換しない。
【００２４】
位相差領域３０４にはピンホール７と異物８、領域３０５には異物９が存在すると仮定する。なお、領域３０５は無位相差領域であるため、ピンホール欠陥が存在しても、カラーフィルタの品質に影響がない。従って、無位相差領域にあるピンホール欠陥は、ここでは検査の対象にしない。
【００２５】
イメージセンサ１としては、ＣＣＤやＣＭＯＳなどの素子を使用したカメラを用いることが可能である。またエリアセンサカメラとラインセンサカメラのどちらを使用するかは適宜選択可能であるが、透過照明５や図示せぬ搬送手段との組み合わせの考慮が必要である。
【００２６】
透過照明５は、一様な明るさの平行光を、偏光フィルタ４を介してカラーフィルタ基板３のイメージセンサ１の撮像領域に照射する照明光源で、例えば伝送ライトが用いられる。照射する光は白色光が好ましいが、可視域にスペクトルを有する光であればよい。
【００２７】
イメージセンサ１がエリアセンサである場合、搬送手段はカラーフィルタ基板３の搬送と停止を繰り返す。すなわち、エリアセンサがカラーフィルタ基板３停止時に所定の撮像領域を撮像したら、搬送手段はその次の撮像対象領域がエリアセンサの撮像位置に来るように搬送を行なう。このような動作が適宜回数繰り返される。後述のように同じ撮像領域を偏光フィルタの偏光方向を変えて２回撮像する場合は、カラーフィルタ基板３停止時に偏光フィルタ２または４の偏光方向を調整した上で２回撮像するようにすればよい。
【００２８】
イメージセンサ１がラインセンサである場合、ラインセンサの１ライン分の撮像に同期して搬送手段がカラーフィルタ基板３の搬送を行なうという動作を繰り返して２次元的な画像を得るようにすれば良い。また、同じ撮像領域を偏光フィルタの偏光方向を変えて２回撮像する場合は、１回目の撮像後にカラーフィルタ基板３をいったん撮像開始位置まで戻して偏光フィルタ２または４の偏光方向を調整した上で２回目の撮像を行うようにすればよい。
【００２９】
イメージセンサ１と透過照明５は基板３を挟んで対向するように配置されているが、基板３の各面はどちら向きであってもよい。すなわち、イメージセンサ１が位相差膜３０３のある側で透過照明５がガラス基板３０６の側に配置されていてもよいし、その逆でイメージセンサ１がガラス基板３０６の側で透過照明５が位相差膜３０３のある側に配置されていてもよいし、どちらでもかまわない。
【００３０】
なお、本発明の欠陥検査装置および欠陥検査方法が検査対象とするカラーフィルタ基板は、位相差膜３０３の上に着色層（ＲＧＢの各画素が形成されている層）を形成する構成となっているもので、検査を行なうのは位相差膜３０３の形成後で着色層の形成前である。
【００３１】
画像データを取得するときの手順について、以下で説明する。図２に模式的に示したように、まず、２枚の偏光フィルタ２および４を、その偏光光軸方向が互いに平行になるような向きに配置して、イメージセンサ１により画像を取得する。このとき、偏光フィルタ４を通ってくる直線偏光は、位相差膜３０３の位相差領域３０４においては、楕円偏光に変換されるため、偏光フィルタ２を通過できないが、領域３０５においては、直線偏光のままであるため、偏光フィルタ２を通過することができる。
【００３２】
カラーフィルタ基板３の位相差膜３０３の位相差領域３０４にピンホール７欠陥、異物８、領域３０５に異物９がある場合、位相差領域３０４においては、ピンホール７欠陥のない部分を透過する直線偏光は楕円偏光に変換されるが、ピンホール７欠陥部分を透過する直線偏光は、直線偏光のまま通過する。また、異物８のある部分は、異物８によって遮光される。領域３０５は、無位相差領域であるため、異物のない部分を透過する直線偏光をそのまま通すが、異物９がある部分は遮光される。
【００３３】
従って、イメージセンサ１で受光して得られる画像データにおいて、欠陥と異物がある部分は正常な部分の輝度値は異なり、ピンホール７欠陥部分は周囲より明るく見え、異物９部分は周囲より暗く見えてくることになる。このような画像データに対して、画像処理部６で適当な閾値で２値化し所定のカラーフィルタ欠陥検査方法の比較処理を用いて処理を行えば、図７のように位相差膜中のピンホール７、位相差膜上の異物９が可視化でき、検出できる。一方、異物８の部分は、位相差領域３０４の欠陥のない部分と同様に遮光状態で、周囲と区別がつかないためこのときは検出されない。
【００３４】
ここで、画像処理部６で行なう２値化の際の閾値は、位相差領域３０４と無位相差領域３０５で異なる値を設定しておく必要がある。また、比較処理とは、カラーフィルタのようなパターン付きの基板の欠陥検査において、パターンピッチの整数倍の距離を移動したところにある正常箇所における画像データと輝度値を比較するというもので、周知の処理方法である。
【００３５】
次に、図３に模式的に示したように、２枚の偏光フィルタ２および４を、その偏光光軸方向が互いに垂直になるような向きに配置して、イメージセンサ１により画像を取得する。このとき、偏光フィルタ４を通ってくる直線偏光は、位相差膜３０３の位相差領域３０４においては、楕円偏光に変換されるため、偏光フィルタ２を通過できるが、領域３０５においては、直線偏光そのままであるため、偏光フィルタ２を通過することができない。
【００３６】
カラーフィルタ基板３の位相差膜３０３の位相差領域３０４にピンホール７欠陥、異物８、領域３０５に異物９がある場合、同じく位相差領域３０４においては、欠陥のない部分を透過する直線偏光は楕円偏光に変換されるが、ピンホール７欠陥部分を透過する直線偏光は直線偏光のまま通過する。また、異物８のある部分は、異物８によって遮光される。領域３０５は、無位相差領域であるため、直線偏光をそのまま通すが、異物９がある場所は遮光される。
【００３７】
従って、イメージセンサ１で受光して得られる画像データにおいて、欠陥や異物がある部分と正常な部分の輝度値は異なり、ピンホール７欠陥部分は周囲より暗く見え、異物８部分も周囲より暗く見えてくることになる。このような画像データに対して、画像処理部６で適当な閾値で２値化し所定のカラーフィルタ欠陥検査方法の比較処理を用いて処理を行えば、図８のように位相差膜中のピンホール７、位相差膜上の異物８を検出することが出来る。一方、異物９の部分は、領域３０５の異物のない部分と同様に遮光状態で、周囲との区別がつかないためこのときは検出されない。
【００３８】
このように２枚の偏光フィルタ２および４の偏光光軸方向を、互いに平行または垂直になるように配置して、カラーフィルタ基板３の画像データを２回取得すれば、位相差膜３０３のピンホール７、異物８、異物９が検出できる。
【００３９】
あるいは、図４のように２枚の偏光フィルタの偏光光軸方向の成す角度を３５°〜５５°程度とした状態で、画像データを取得しても良い。このとき、位相差領域３０４および無位相差領域３０５はともに、正常部においては、透過する光の一部分が偏光フィルタ２で遮光され、残りの一部分は偏光フィルタ２を通過する、半遮光状態となる。ここで、位相差領域３０４および無位相差領域３０５の正常部における遮光量が異なるように、２枚の偏光フィルタの偏光光軸方向の成す角度を調節しておく。例えば図９には、位相差領域３０４の正常部が無位相差領域３０５の正常部よりも暗く見えるように調節した場合の画像の例を示す。
【００４０】
このとき、位相差領域３０４中のピンホール７欠陥は、周囲の正常部よりも多く光を通すので、周囲より明るく見え、また異物８部分は遮光されるので、周囲の正常部より暗く見え、可視化された状態となる。一方で、無位相差領域３０５にある異物９部分は遮光されるので、周囲の正常部よりも暗く見えて、可視化された状態となる。
【００４１】
この図９のような画像データに対して、画像処理部６で適当な閾値で２値化し所定のカラーフィルタ欠陥検査方法の比較処理を用いて処理を行えば、ピンホール７、異物８、異物９を全て検出することが出来る。この方法では、位相差の異なる２種類の領域３０４、３０５を同時に検査可能な図９のような画像を取得することが出来るという利点がある。
【００４２】
なお、位相差領域３０４の正常部が無位相差領域３０５の正常部よりも明るく見えるように、２枚の偏光フィルタの偏光光軸方向の成す角度を調節して撮像した画像の場合でも、同様の処理によりピンホール７、異物８、異物９を検出することが可能である。
【００４３】
以上、図２および図３を用いて説明した画像データの取得手順においては、２枚の偏光フィルタの偏光光軸方向の配置の順序は、どちらが先であってもかまわない。すなわち、先に、２枚の偏光フィルタの偏光光軸方向が垂直な配置での画像データを取得し、後に偏光光軸方向が平行な配置での画像データを取得してもよい。
【００４４】
２枚の偏光フィルタの偏光光軸方向の調整は、片方の偏光フィルタは固定し、もう一方の偏光フィルタに面内回転機構を取り付け、偏光光軸方向が互いに平行、または垂直になるように配置することによって行なう。このとき、面内回転機構を取り付けるのは、どちらの偏光フィルタであってもよい。
【００４５】
あるいは、２枚の偏光フィルタの偏光光軸方向の調整は、次のような方法でも可能である。すなわち、片方の偏光フィルタは前述の方法同様に固定しておくが、もう一方の偏光フィルタとして偏光光軸方向が平行のものと垂直なものを２枚用意しておき、取り替えてから撮像するというものである。偏光フィルタを取り替える機構としては、ターレット機構などを使用することが可能である。
【００４６】
また図５のように、あらかじめ２つの撮像光学系（１、２、４、５、および１’、２’、４’、５’）を用意し、それぞれの２枚の偏光フィルタの偏光光軸が互いに平行、および垂直になるように配置してもよい。すなわち図５において、例えば、偏光フィルタ２、４の偏光光軸を互いに平行な配置とし、偏光フィルタ２’、４’の偏光光軸が互いに垂直な配置とするなどすればよい。
【００４７】
なお、図５のように２つの撮像光学系を有する装置の場合、撮像手段１および１’は撮像対象領域の画像をそれぞれ取得する必要がある。しかし、２つの撮像光学系の配置の都合上、同じ領域を同時に撮像することは一般的にはできないので、検査対象であるカラーフィルタ３を搬送手段などにより移動するか、２つの撮像光学系を移動させる移動手段を用いるかして、それぞれの撮像光学系がともに撮像対象領域の画像を取得できるようにする必要がある。
【００４８】
このように２つの撮像光学系を有する検査装置の場合も、第１の撮像手段１および第２の撮像手段１’がそれぞれ撮像した画像データは、画像処理部６に送られる。画像処理部６は、これら送られてきた画像データそれぞれについて画像処理を行って欠陥の有無を調べ、検査対象のカラーフィルタ基板が良品か不良品かを判定し、判定結果を表示したり他の装置などに送信したりする。
【００４９】
以上のようにして、本発明の検査装置および検査方法は、カラーフィルタへの位相差膜形成のすぐ後に、位相差膜中の欠陥、位相差膜上の異物を検出することができ、不良な基板が下流工程に流されることを防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明の実施形態である、位相差膜を有するカラーフィルタ基板の検査装置の概略構成図。
【図２】２枚の偏光フィルタの偏光光軸方向が互いに平行である場合を示した模式図。
【図３】２枚の偏光フィルタの偏光光軸方向が互いに垂直である場合を示した模式図。
【図４】２枚の偏光フィルタの偏光光軸方向が４５°を成す場合を示した模式図。
【図５】本発明の別の実施形態で、撮像光学系を２つ有する検査装置の概略構成図。
【図６】位相差膜を有するカラーフィルタ基板の構造で（ａ）上面図、（ｂ）断面図。
【図７】２枚の偏光フィルタの偏光光軸方向が互いに平行時、得られる２値化後の画像の模式図。
【図８】２枚の偏光フィルタの偏光光軸方向が互いに垂直時、得られる２値化後の画像の模式図。
【図９】２枚の偏光フィルタの偏光光軸方向が所定角度を成す時、得られる画像の模式図。
【符号の説明】
【００５１】
１、１’…イメージセンサ
２、２’…イメージセンサ側の直線偏光フィルタ
３…位相差膜を有するカラーフィルタ
４、４’…透過照明側の直線偏光フィルタ
５、５’…透過照明
６…画像処理部
７…位相差領域３０４上のピンホール
８…位相差領域３０４上の異物
９…領域３０５上の異物
３０１…ブラックマトリクス
３０２…配向膜
３０３…位相差膜
３０４…直線偏光を、楕円偏光に変換する位相差領域
３０５…直線偏光の偏光状態を変えない無位相差領域
３０６…ガラス基板
【図１】
0005446232.tif 000002
【図２】
0005446232.tif 000003
【図３】
0005446232.tif 000004
【図４】
0005446232.tif 000005
【図５】
0005446232.tif 000006
【図６】
0005446232.tif 000007
【図７】
0005446232.tif 000008
【図８】
0005446232.tif 000009
【図９】
0005446232.tif 000010