(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折ピークを示すオキシチタニウムフタロシアニン組成物の製造方法において、原料としてフタロニトリルと四塩化チタンを使用し、反応溶媒としてジフェニルメタンを用いて、機械的磨砕処理により製造することを特徴とする、オキシチタニウムフタロシアニン組成物の製造方法。
【請求項２】
ＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折ピークを示すオキシチタニウムフタロシアニンであって、原料としてフタロニトリルと四塩化チタンを使用し、反応溶媒としてジフェニルメタンを用いて、機械的磨砕処理により製造されたことを特徴とする、オキシチタニウムフタロシアニン組成物。
【請求項３】
導電性支持体上に、感光層を有する電子写真感光体において、該感光層が請求項２に記載のオキシチタニウムフタロシアニン組成物を含有することを特徴とする、電子写真感光体。
【請求項４】
請求項３に記載の電子写真感光体と、該電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、帯電した該電子写真感光体を露光させ静電潜像を形成する露光装置と、該電子写真感光体上に形成された静電潜像を現像する現像装置とを備えることを特徴とする、画像形成装置。
【請求項５】
請求項３に記載の電子写真感光体を、帯電装置、露光装置、現像装置、転写装置、クリーニング装置、及び定着装置のうち１つ又は２つ以上と組み合わせることを特徴とするカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特に電子写真感光体に用いた際に、感度および残留電位に優れたオキシチタニウムフタロシアニン組成物とその製造方法、それを用いた電子写真感光体、および該感光体を用いた画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
長波長の光に対して高感度な光導電特性を有するフタロシアニン類は、優れた光導電性材料として盛んに研究されてきた。特に電子写真用感光体、電子写真方式による製版材料、イメージセンサーなどの光電変換材料に好適に用いることができ、長波長の半導体レーザーや発光ダイオード用の電子写真感光体の電荷発生物質として利用されている。
【０００３】
フタロシアニン類は、中心金属の種類により吸収スペクトルや、光導電性などの物性が異なるだけでなく、結晶型によっても物性が大きく変化することが知られており、フタロシアニン類の中でも特にオキシチタニウムフタロシアニンは、高感度な光導電特性を有し、種々の結晶型のものが知られている。それらの中でも、ＣｕＫα特性Ｘ線に対する回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に明瞭なピークを有する、いわゆるＤ型の結晶型のオキシチタニウムフタロシアニンが特に感度に優れることが知られている（例えば、特許文献１  参照）。
【０００４】
オキシチタニウムフタロシアニンの製造法については様々なものが知られており、アリール基がアルキリデン基により連結された構造を有するジアリールアルカン溶媒中で反応を行なう例としては、ジフェニルメタンを反応溶媒として用いた例もあるが、原料として１，３−ジイミノイソインドリンとチタンテトラブトキシドを用いており、電気特性のうち特に感度の面で十分な性能のものではなかった（例えば、特許文献２  参照）。また、他に知られる製造方法では、原料としてフタロニトリルと四塩化チタンを用いているが、ＣｕＫα特性Ｘ線に対する粉末Ｘ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に明瞭なピークを有する、いわゆるＤ型の結晶型のオキシチタニウムフタロシアニンの製造については記載がなく、記載されるオキシチタニウムフタロシアニンの感度は不十分なものであった（例えば、特許文献３  参照）。また、他にも、原料としてフタロニトリル、四塩化チタン、反応溶媒としてジフェニルメタンを用い、ＣｕＫα特性Ｘ線に対する粉末Ｘ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大ピークを有する結晶型のオキシチタニウムフタロシアニンを製造した例もあるが、非晶質化の際に硫酸を用いたアシッドペースト法を用いており、本発明の非晶質化を機械的磨砕処理によって行う製造方法とは異なる（例えば、特許文献４  参照）。
【特許文献１】特開平２−８２５６号公報
【特許文献２】特許３４６３０３２号公報
【特許文献３】特開２００１−１１５０５４号公報
【特許文献４】特開２００６−１５４７４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
種々の結晶構造が知られているオキシチタニウムフタロシアニンは、光電材料、特に電子写真感光体用の電荷発生物質として有用なものであり、特に、ＣｕＫα特性Ｘ線に対する粉末Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に明瞭な回折ピークを有する結晶構造のオキシチタニウムフタロシアニンは、Ｄ型と呼ばれ、電子写真感光体の感光層に用いた場合特に感度に優れた感光体を与えることが知られているが、近年の画像形成速度の高速化等で感光体に要求される特性の向上要求に際して、その要求を十分に満足することができない場合があった。
【０００６】
本発明の目的は、電子ペーパー、有機電界発光素子、電子写真感光体などに用いる光電材料として適用した場合に好適な性能を有するオキシチタニウムフタロシアニン組成物とその製造方法、電気特性のうち特に感度に優れ、しかも残留電位の低い電子写真感光体、および該感光体を用いた画像形成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、ＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折ピークを示すオキシチタニウムフタロシアニン組成物を、原料としてフタロニトリル、および四塩化チタンを用い、反応溶媒としてアリール基がアルキリデン基により連結された構造を有するジアリールアルカン溶媒を用いて、機械的磨砕処理を行って製造することにより、光電特性に優れたオキシチタニウムフタロシアニンを再現よく製造できることを見いだし、更に、これを用いた電子写真感光体が、特に感度および残留電位に優れていることを見いだし、本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち、本発明の第一の要旨は、ＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折ピークを示すオキシチタニウムフタロシアン組成物の製造方法において、原料としてフタロニトリルと四塩化チタンを使用し、反応溶媒としてアリール基がアルキリデン基により連結された構造を有するジアリールアルカン溶媒を用いて、機械的磨砕処理により製造することを特徴とする、オキシチタニウムフタロシアニン組成物の製造方法に存し、本発明の第二の要旨は、ＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折ピークを示すオキシチタニウムフタロシアニンであって、原料としてフタロニトリルと四塩化チタンを使用し、反応溶媒としてアリール基がアルキリデン基により連結された構造を有するジアリールアルカン溶媒を用いて、機械的磨砕処理により製造されたことを特徴とする、オキシチタニウムフタロシアン組成物に存し、本発明の第三の要旨は、該オキシチタニウムフタロシアニン組成物を用いた電子写真感光体に存し、本発明の第四の要旨は、該電子写真感光体を用いた画像形成装置に存し、本発明の第五の要旨は、該電子写真感光体を用いたカートリッジに存する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明に係るオキシチタニウムフタロシアニンの製造法によれば、電子ペーパー、有機電界発光素子や電子写真感光体などに用いられる光電材料として好適なオキシチタニウムフタロシアニン組成物を、効率よく、再現よく、製造することができる。特に該オキシチタニウムフタロシアニン組成物を電子写真感光体に用いることにより、特に高感度で残留電位の低い電子写真感光体を提供することができ、好適な画像形成が可能な画像形成装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施の形態につき詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は本発明の実施形態の代表例であって、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において適宜変形して実施することができる。
【００１１】
本発明に係るオキシチタニウムフタロシアニン組成物は、ＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折ピークを示すものである。該オキシチタニウムフタロシアニン組成物は、置換基を有するオキシチタニウムフタロシアニンなどの、各種オキシチタニウムフタロシアニン誘導体を含有していてもよい。置換基で置換されたオキシチタニウムフタロシアニンの有する置換基としては、塩素やフッ素などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、スルホン基が挙げられるが、好ましくはハロゲン原子を置換基として有するオキシチタニウムフタロシアニンを含有する組成物であり、特に好ましくは塩素原子を置換基として有するオキシチタニウムフタロシアニンを含有する組成物である。
【００１２】
＜オキシチタニウムフタロシアニン組成物の製造＞
本発明に係るオキシチタニウムフタロシアニン組成物は、原料としてフタロニトリルと四塩化チタンを用いるものであって、反応溶媒としてアリール基がアルキリデン基により連結された構造を有するジアリールアルカン溶媒を用いてジクロロチタニウムフタロシアニンを合成した後、該ジクロロチタニウムフタロシアニンを加水分解し、精製することにより、オキシチタニウムフタロシアニン中間体を製造し、得られたオキシチタニウムフタロシアニン中間体を非晶質化して得られた非晶質化オキシチタニウムフタロシアニンを溶媒中で結晶化することにより製造することができる。
【００１３】
オキシチタニウムフタロシアニンは、通常、下記一般式［１］のような構造を有するが、原料としてフタロニトリルと四塩化チタンを用いた場合、オキシチタニウムフタロシアニンの一部が塩素化された、下記一般式［２］のような塩素化オキシチタニウムフタロシアニンとの組成物とすることもできる。
【００１４】
【化１】
0005459931.tif 000002
【００１５】
この塩素化オキシチタニウムフタロシアニンの含有量は、マススペクトル強度比で測定することができる。この塩素化オキシチタニウムフタロシアニンの含有量は結晶型の制御性や光電特性にも関わりがあり、ＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルにおいて、２７．３°に最大回折ピークを示すオキシチタニウムフタロシアニン組成物の場合、この塩素化オキシチタニウムフタロシアニンの含有量は、０．００７以上０．０７０以下が好適である。このマススペクトル強度比は０．０１５以上が好ましく、さらに好ましくは０．０２０以上である。また同様に０．０６０以下が好ましく、さらに好ましくは０．０５５以下である。マススペクトル強度比が小さすぎるとオキシチタニウムフタロシアニン組成物を製造する際に、本発明の目的とする結晶型とは異なる結晶型が混入する虞があり、そのような場合には当該オキシチタニウムフタロシアニン組成物を電子写真感光体に用いたときに感度低下を引き起こすことがある。またマススペクトル強度比が大きすぎるとオキシチタニウムフタロシアニン組成物中間体の結晶型成長が進み、非晶質化が困難となるために光電材料として好適な結晶型にすることができず、例えば電子写真感光体に用いた場合では高感度な電子写真感光体を得ることができない。
【００１６】
塩素化オキシチタニウムフタロシアニンの含有量が、０．００７以上０．０７０以下であるオキシチタニウムフタロシアニン組成物を製造する方法をより具体的に説明する。原料としては、塩素化オキシチタニウムフタロシアニンの含有量を容易に制御可能であるという点で、フタロニトリルと四塩化チタンを用いる必要がある。まず、これらの原料を高沸点有機溶媒の存在下で加熱し反応させることにより、ジクロロチタニウムフタロシアニンを得る。このときの高沸点溶媒としては、オキシチタニウムフタロシアニン組成物に含まれる塩素化オキシチタニウムフタロシアニンの含有量を制御することができ、ハルツ状生成物の量が少なく、収率良くオキシチタニウムフタロシアニン組成物を得ることができる溶媒を選択することが重要であるが、フェニル基がアルキリデン基により連結された構造を有するジアリールアルカン溶媒である必要がある。アリール基がアルキリデン基により連結された構造を有するジアリールアルカン溶媒としては、反応温度において液体であるものであればどのようなものも使用することができるが、アリール基としては炭素数１４以下のものが好ましく、より好ましくは炭素数１０以下のアリール基であり、特にはフェニル基が好ましい。また、アルキリデン基としては、直鎖であっても枝分れ鎖を有していても構わないが、直鎖のものが好ましく、通常炭素数１２以下であり、好ましくは炭素数６以下、より好ましくは炭素数３以下で、特にはメチレン基が好ましい。中でも、より安価に製造することが可能となる点で、ジフェニルメタンを用いることが特に好ましい。
【００１７】
フタロニトリルと四塩化チタンを原料として、フェニル基がアルキリデン基により連結された構造を有するジアリールアルカン溶媒を用いて合成した場合に、塩素化オキシチタニウムフタロシアニンの含有量を好適な０．００７以上０．０７０以下に制御することができ、反応時のハルツ状生成物の量も少なく、収率良くオキシチタニウムフタロシアニン組成物を得ることができる。そして、当該オキシチタニウムフタロシアニン組成物を電子写真感光体として用いた場合、電気特性のうち、特に感度が向上する。特許第３４６３０３２号には、１，３−ジイミノイソインドリンとチタンテトラブトキシドをジフェニルメタン溶媒中で反応させるオキシチタニウムフタロシアニンの製造例が記載されているが、塩素源が存在しないため、塩素化オキシチタニウムフタロシアニンは存在しない。
【００１８】
原料の四塩化チタンは、通常、原料であるフタロニトリルと反応溶媒との混合体に添加される。この際の添加方法は、四塩化チタンの沸点以下であれば四塩化チタン等は直接添加しても、ジアリールアルカン溶媒と混合して添加しても良く、沸点以上の高温での添加であれば、ジアリールアルカン溶媒と混合して添加する。添加温度は、２５℃から反応温度までが好ましいが、四塩化チタンを１００℃以下の低温と１８０℃以上の高温で分割して添加すると、その添加量比によって、塩素化オキシチタニウムフタロシアニンの無置換オキシチタニウムフタロシアニンに対する割合を制御することができる。高温で添加すると塩素化オキシチタニウムフタロシアニンの含有量は少なくなる。
【００１９】
反応温度は、通常１５０℃以上、好ましくは１８０℃以上、塩素化オキシチタニウムフタロシアニンの含有量を制御するために、より好ましくは１９０℃以上であって、通常３００℃以下、好ましく２５０℃以下、より好ましくは２３０℃以下で行われる。
【００２０】
オキシチタニウムフタロシアニン組成物に含まれる、塩素化オキシチタニウムフタロシアニンの含有量を制御するため、反応温度に到達するための昇温時間は０．５〜４時間が好ましく、より好ましくは０．５〜３時間である。反応継続時間は１〜１０時間が好ましく、より好ましくは２〜８時間であり、さらに好ましくは２〜６時間の範囲である。
【００２１】
得られたジクロロチタニウムフタロシアニンは、加水分解処理を行い、オキシチタニウムフタロシアニン組成物中間体とするが、この際に用いられる溶媒としては、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類、アセトフェノン、シクロヘキサノン、ヘキサンジオン等のケトン類、および水が挙げられ、これらの溶媒の混合物であっても構わない。使用する溶媒は、沸点が１００℃以上であることが好ましく、混合溶媒を用いる場合には用いる溶媒のそれぞれが、沸点１００℃以上であることが好ましいが、該混合溶媒が共沸混合物となる場合には共沸点温度が１００℃以上であれば、沸点が１００℃以下の溶媒との混合物でも好ましいものとなる。加水分解処理は、加熱して行なうことが好ましく、通常５０℃以上、好ましくは７０℃以上、より好ましくは８０℃以上で行なうことが好ましい。
【００２２】
得られるオキシチタニウムフタロシアニン組成物中間体の結晶型は、種々のものが用いられるが、通常ＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）７．６°，２５．５°，２８．６°に強い回折ピークを有する、通常Ｂ型と呼ばれるものである。しかしながら、該Ｂ型オキシチタニウムフタロシアニンには他の結晶型のフタロシアニン類が共存することが多いため、粉末Ｘ線回折スペクトルにおいて、他の結晶型のピークが実質上観察されなくなるまで繰り返し加水分解処理を行うことが好ましい。フタロシアニン類の他の結晶が残存すると、感度低下の要因となる。
【００２３】
得られたオキシチタニウムフタロシアニン組成物中間体を、機械的磨砕方法により非晶質化する。非晶質化は化学的処理方法であるアシッドペースト法、アシッドスラリー法等で行うことも一般的であるが、これらを用いた場合、フタロシアニン化合物に対して化学的反応を起こしたり、フタロシアニン環の開裂による分子の破壊が起こる可能性があり、その影響で得られるオキシチタニウムフタロシアニン組成物の光導電特性に悪影響を及ぼすおそれがある。機械的磨砕は、例えばペイントシェーカー、自動乳鉢、遊星ミル、振動ボールミル、ＣＦミル、ローラーミル、サンドグラインドミル、ニーダー等の装置を用いることができるが、これらに限定されるものではない。磨砕メディアとしては、ガラスビーズ、スチールビーズ、アルミナビーズ、ジルコニアビーズ等の公知の磨砕メディアを用いることができる。また、磨砕時に磨砕メディア以外に磨砕後容易に除去することのできる食塩、ぼう硝等の磨砕助剤を併用して実施することも可能である。また、上記処理法による磨砕は、乾式で磨砕を行っても、溶剤の共存下、湿式で磨砕を行っても良い。
【００２４】
乾式磨砕を行った場合、乾式磨砕後、磨砕メディアから微結晶・アモルファス固体を分離した後、微結晶を溶媒を用い溶媒処理を行うことにより所望の結晶型に変換することができる。結晶型の変換に用いる溶媒には、公知の溶媒のいずれも用いることが可能である。公知の溶媒の例としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、オクタン、ノナン等の飽和脂肪族系溶媒、トルエン、キシレン、メチルナフタレン、ジフェニルメタン、アニソール等の芳香族系溶媒、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロナフタレン等のハロゲン化芳香族系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール系溶媒、グリセリン、ポリエチレングリコール等の脂肪族多価アルコール類、アセトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン等の鎖状、及び環状ケトン系溶媒、ギ酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ等の鎖状、及び環状エーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の非プロトン性極性溶媒、ｎ−ブチルアミン、イソプロパノールアミン、ジエチルアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、トリエチレンジアミン、トリエチルアミン等の含窒素化合物、リグロイン等の鉱油、水などが挙げられ、結晶型の変換時の操作性、制御性を考慮すると、飽和脂肪族系溶媒、芳香族系溶媒、ハロゲン化芳香族系溶媒、アルコール系溶媒、鎖状、及び環状ケトン系溶媒、エステル系溶媒、鎖状、及び環状エーテル系溶媒、非プロトン性極性溶媒、水が好ましい。上記溶剤は、単独で用いても２種以上の混合溶剤として用いても良い。処理温度としては、用いる溶媒、混合溶媒の凝固点以上、沸点以下で行うことが可能であるが、安全性の面から、通常１０℃以上２００℃以下の範囲で行われる。使用溶媒の量としては、フタロシアニン組成物１部に対して、０．１重量部以上５００重量部以下、生産性を考慮すると、１重量部以上２５０重量部以下の範囲で行うのが好ましい。
【００２５】
湿式磨砕装置としては、ボールミル、アトライター、ロールミル、サンドミル、ホモミキサー等を用いることができるが、前記手段等に限定されるものではない。湿式磨砕に用いる溶剤としては、公知の溶媒のいずれも用いることが可能である。公知の溶媒の例としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、オクタン、ノナン等の飽和脂肪族系溶媒、トルエン、キシレン、メチルナフタレン、ジフェニルメタン、アニソール等の芳香族系溶媒、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロナフタレン等のハロゲン化芳香族系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール系溶媒、グリセリン、ポリエチレングリコール等の脂肪族多価アルコール類、アセトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン等の鎖状、及び環状ケトン系溶媒、ギ酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ等の鎖状、及び環状エーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の非プロトン性極性溶媒、ｎ−ブチルアミン、イソプロパノールアミン、ジエチルアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、トリエチレンジアミン、トリエチルアミン等の含窒素化合物、リグロイン等の鉱油、水などが挙げられ、湿式磨砕時の操作性を考慮すると、飽和脂肪族系溶媒、芳香族系溶媒、ハロゲン化芳香族系溶媒、アルコール系溶媒、鎖状、及び環状ケトン系溶媒、エステル系溶媒、鎖状、及び環状エーテル系溶媒、非プロトン性極性溶媒、水が好ましい。上記溶剤は、単独で用いても２種以上の混合溶剤として用いても良い。使用溶剤の量としては、フタロシアニン組成物１部に対し、１重量部以上２００重量部以下、生産性を考慮すると、３重量部以上１００重量部以下が好ましい。処理温度としては、溶剤の凝固点以上、沸点以下で行うことができるが、安全性を考慮すると、１０℃以上１００℃以下が好ましい。湿式磨砕における溶剤処理は、必要に応じてガラスビーズ、アルミナビーズ、スチールビーズ、ジルコニアビーズ等の公知の磨砕メディアを用いてミリング処理を行ってもよい。
【００２６】
湿式磨砕後に行う溶剤処理に用いる溶剤としては、前記乾式磨砕後の結晶変換、結晶制御に用いることが可能である溶剤と同様の溶剤を用いることが可能である。
【００２７】
アモルファス化した後の溶剤処理の方法としては、得られたアモルファス組成物を溶媒中に分散撹拌することにより処理、またはアモルファス組成物を溶媒蒸気に曝すことにより処理を行っても良い。また、溶媒処理は、アモルファス組成物の他に、ガラスビーズ、スチールビーズ、アルミナビーズ等の磨砕メディアと共に溶剤処理をすることも可能である。
【００２８】
＜スペクトル強度比＞
マススペクトルによる塩素化オキシチタニウムフタロシアニンの無置換オキシチタニウムフタロシアニンに対するスペクトル強度比は例えば以下の方法により測定することができる。
【００２９】
・測定用試料の調製；
オキシチタニウムフタロシアニン組成物０．５０ｇをガラスビーズ（粒径φ１．０ｍｍ〜φ１．４ｍｍ）３０ｇ、シクロヘキサノン１０ｇと共に５０ｍｌガラス容器に入れ、ペイントシェーカーで３時間振とうし、オキシチタニウムフタロシアニン分散液を作製する。この分散液１μｌを１０ｍｌサンプルびんに採取し、クロロホルム５ｍｌを加えて１時間超音波発振装置にて分散し、測定用の１０ｐｐｍ分散液を調製する。
【００３０】
・測定装置および測定条件；
マススペクトルの測定装置には、ＪＥＯＬ製  ＪＭＳ−７００を使用し、イオン化モード：ＤＣＩ（−），反応ガス：イソブタン（イオン化室圧力１×１０−５Ｔｏｒｒ），昇温条件：０→０．９５Ａ（１Ａ／ｍｉｎ），加速電圧：８．０ＫＶ，質量分析能：２０００，スキャン法：ＭＦ−Ｌｉｎｅａｒ，スキャン質量範囲：５００〜６８０，全質量範囲スキャン時間：０．８秒，くり返し時間：０．５秒（スキャン時間０．０５秒、待ち時間０．４５秒）の測定条件で測定する。
【００３１】
・塩素化オキシチタニウムフタロシアニンの強度比；
測定用分散液１μｌをＤＣＩプローブのフィラメントに塗布し、マススペクトル測定を上記条件で実施した。得られたマススペクトルにおいて塩素化オキシチタニウムフタロシアニンの分子イオンに相当するｍ／Ｚ：６１０および無置換オキシチタニウムフタロシアニンの分子イオンに相当するｍ／Ｚ：５７６のイオンクロマトから得られるピーク面積の比（［６１０］ピーク面積／［５７６］ピーク面積）をスペクトル強度比として算出する。
【００３２】
本発明のフタロニトリルと四塩化チタンを用い反応溶媒としてジアリールアルカン溶媒を用いた製造方法では、オキシチタニウムフタロシアニン組成物に含まれる塩素化オキシチタニウムフタロシアニンの含有量を好適な０．００７以上０．０７０以下に制御することが容易にできる。
【００３３】
＜Ｘ線回折スペクトル＞
オキシチタニウムフタロシアニン組成物のＣｕＫα特性Ｘ線に対する粉末回折スペクトルは、通常固体の粉末Ｘ線回折測定に用いられる方法に従って測定することができる。得られた本発明のオキシチタニウムフタロシアニン組成物はＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルにおいてブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折スペクトルを示す。これらの中でもブラッグ角（２θ±０．２°）２６．３°には強い回折ピークを有さないものが好ましい。
【００３４】
本発明のオキシチタニウムフタロシアニン組成物を用いた電子写真感光体の感光層のＣｕＫα特性Ｘ線に対する薄膜Ｘ線回折スペクトルは、粉末状態の配向性を維持して、ブラッグ角（２θ±０．２°）９．０°〜９．８°に少なくとも１つの強い回折ピーク、および２７．３°に強い回折ピークを示し、且つ２７．３°のピーク強度が９．０°〜９．８°中の最大ピークのピーク強度より１０％以上大きく、しかも２７．３°のピーク強度が全回折ピーク中で最大の回折ピークである。そして感光層のＣｕＫα特性Ｘ線に対する薄膜Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°のピーク強度が９．０°〜９．８°中の最大ピークのピーク強度の１１５％よりも大きい方が好ましく、より好ましくは、１２５％よりも大きく、さらに好ましくは、１３０％よりも大きい。これは高感度となるからである。しかし、大きすぎると、分散に問題が生じる可能性がある為、２７．３°のピーク強度が９．０°〜９．８°中の最大ピークのピーク強度の３００％よりも小さいものが好ましく、より好ましくは、２５０％よりも小さく、さらに好ましくは２００％よりも小さい。
【００３５】
本発明に係るオキシチタニウムフタロシアニン組成物を、電子写真感光体などの光電デバイスに使用する場合には、オキシチタニウムフタロシアニン組成物は、通常バインダー樹脂により層状に結着される。該層のＣｕＫα特性Ｘ線による回折スペクトルは、該層自体のＸ線回折スペクトルを得ることができる方法であればどのような方法で測定しても構わないが、一例としては、感光層をガラス面上に形成し測定する方法が挙げられる。より具体的に、電子写真感光体の感光層のＣｕＫα特性Ｘ線による回折スペクトルを測定する方法の一例を以下に示す。
【００３６】
１．サンプル作成方法；
無反射カバーガラスに１０μｍ以上の膜厚となるよう感光層形成用塗布液を塗布し乾燥する。
【００３７】
２．測定装置および測定条件；
測定装置としては、人工多層膜ミラーにて単色平行化したＣｕＫα線を線源とした薄膜試料用の回折計（株式会社リガク製  自動Ｘ線回折装置  ＲＩＮＴ２０００）、を用いた。測定条件は、Ｘ線出力５０ｋＶ，２５０ｍＡ、固定入射角（θ）１．０°、走査範囲（２θ）３〜４０°、スキャンステップ幅０．０５°、入射ソーラースリット５．０°、入射スリット０．１ｍｍ、受光ソーラースリット０．１°で回折スペクトルを測定する。
【００３８】
３．ピーク強度について；
ピーク強度とは、得られたスペクトルのチャート上のピークの高さを表す。オキシチタニウムフタロシアニンの結晶構造解析によれば、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°のピークはｃ軸方向に重なり合ったオキシチタニウムフタロシアニンのスタッキング距離を示し、この強度比が大きいほどｃ軸配向性が高いことが示唆されている。したがって、いわゆるＤ型オキシチタニウムフタロシアニンはｃ軸配向性を有する結晶と推定できる。しかしながら、従来知られたＤ型オキシチタニウムフタロシアニンは、層中に分散処理されると９．０゜〜９．８°中のピークが最大ピークとなり、感光層中では等方的な配列を示すものであった。これに対し、本発明のオキシチタニウムフタロシアニン組成物は、層中に分散された後も２７．３゜のピークが最大であって、微細化処理してもｃ軸配向性が保たれる。そのため、従来のフタロシアニンより高感度を示すものと考えられる。
【００３９】
＜電子写真感光体＞
本発明に係るオキシチタニウムフタロシアニン組成物の産業上の利用可能性として、電子写真感光体への適用がある。本発明の電子写真感光体は、導電性支持体上に、本発明に係るオキシチタニウムフタロシアニン組成物を含有する感光層を設けたものであれば、その詳細な構成は制限されない。以下、代表的な構成について説明する。
【００４０】
＜導電性支持体＞
本発明で用いる導電性支持体としては、周知の電子写真感光体に採用されているものがいずれも使用できる。具体的には例えば、アルミニウム、ステンレス鋼、銅、ニッケル等の金属材料からなるドラム、シートあるいはこれらの金属箔のラミネート物、蒸着物、あるいは表面にアルミニウム、銅、パラジウム、酸化すず、酸化インジウム等の導電性層を設けたポリエステルフィルム、紙等の絶縁性支持体が挙げられる。更に、金属粉末、カーボンブラック、ヨウ化銅、高分子電解質等の導電性物質を適当なバインダーとともに塗布して導電処理したプラスチックフィルム、プラスチックドラム、紙、紙管等が挙げられる。また、金属粉末、カーボンブラック、炭素繊維等の導電性物質を含有し、導電性となったプラスチックのシートやドラムが挙げられる。そして、酸化スズ、酸化インジウム等の導電性金属酸化物で導電処理したプラスチックフィルムやベルトが挙げられる。
【００４１】
なかでもアルミニウム等の金属のエンドレスパイプが好ましい支持体である。アルミニウムまたはその合金のエンドレスパイプは、押し出し、引き抜き、しごき等の加工により成形される。成形したものをそのまま用いても良いし、更に切削、研削、研磨などの加工を加えたものでも良い。導電性支持体の表面には、画質に影響のない範囲で、例えば酸化処理や薬品処理等の各種の処理を施すことができる。
【００４２】
＜ブロッキング層＞
導電性基体と感光層との間には、通常使用されるような公知のブロッキング層が設けられていてもよい。ブロッキング層としては、例えばアルミニウムの陽極酸化被膜、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム等の無機層、ポリビニルメチルエーテル、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキシド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリエチレン、ポリエステル、フェノール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂、ポリビニルピリジン、ポリウレタン、ポリグルタミン酸、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、セルロース類、ゼラチン、デンプン、ポリウレタン、ポリイミド、ポリアミド等の有機層が使用される。有機層をブロッキング層として用いる場合には、単独あるいはチタニア、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウム等の金属酸化物あるいは銅、銀、アルミニウム等の金属微粉末を分散させてもよい。
【００４３】
また、ブロッキング層には、特にレーザー露光における干渉縞を防ぐ目的で、アルミナ、チタニア、シリカ等の金属酸化物微粒子や、使用するレーザー光波長を吸収することのできる有機または無機の色素、顔料粒子等を含有させてもよい。
【００４４】
これらのブロッキング層の膜厚は便宜設定できるが、通常０．０５μｍ以上２０μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲である。
【００４５】
バインダー樹脂に対する、金属酸化物粒子または、色素、顔料粒子の含有割合は特に制限はないが、バインダー１００重量部に対して、４０重量部以上４００重量部以下の範囲で使用することが、ブロッキング層を塗布する際の分散安定性、保存安定性、塗布性等の面で好ましい。
【００４６】
＜感光層＞
電子写真感光体の感光層は、電荷発生物質、電荷輸送物質およびバインダー樹脂を単一の層に含むような単層構造（以下、単層型感光体ということがある）でもよいし、電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷輸送物質を含有する電荷輸送層を積層した積層構造（以下、積層型感光体ということがある）でも構わない。該感光層は、本発明に係るオキシチタニウムフタロシアニン組成物を、他の電荷発生物質、電荷輸送物質、バインダー樹脂、溶媒等の他の原料とともに、サンドグラインドミル、ボールミル、アトライター、超音波発信装置等の分散機で分散させる等の公知の分散方法により得られた感光層形成用塗布液を、導電性支持体上に塗布し乾燥することによって形成することができる。特に、オキシチタニウムフタロシアニンとバインダー樹脂を含有する液を、サンドグラインドミル、および／または超音波発振装置により処理することにより得られる前記塗布液を導電性支持体上に塗布し乾燥することによって感光層を形成するのが好ましい。
【００４７】
・電荷発生物質；
電荷発生物質としては、本発明に係るオキシチタニウムフタロシアニン組成物を用いるが、本発明に係るオキシチタニウムフタロシアニン組成物とは異なる、公知の他の電荷発生物質を併用しても構わない。併用する電荷発生物質としては、例えば、フタロシアニン顔料、アゾ顔料、キナクリドン顔料、インジゴ顔料、ペリレン顔料、多環キノン顔料、アントアントロン顔料、ベンズイミダゾール顔料、スクワリウム顔料などの各種光導電性材料が挙げられる。
【００４８】
・電荷輸送物質；
電荷輸送物質としては、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリグリシジルカルバゾール、ポリアセナフチレン等の高分子化合物、またはインドール誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、チアジアゾール誘導体等の複素環化合物、アニリン誘導体、ヒドラゾン誘導体、カルバゾール誘導体、スチルベン誘導体、ブタジエン誘導体、アリールアミン誘導体等の低分子化合物、もしくはこれらが複数結合されたものが使用でき、これらの中でも、ヒドラゾン誘導体、カルバゾール誘導体、スチルベン誘導体、ブタジエン誘導体、アリールアミン誘導体、もしくはこれらが複数結合されたものが好適に用いられる。これらの電荷輸送物質は、単独でも、いくつかを混合して用いてもよい。
【００４９】
・積層型感光体；
積層型感光体の電荷発生層に用いられるバインダー樹脂に制限はなく、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニルアルコール、エチルビニルエーテル等のビニル化合物の重合体または共重合体、ポリビニルアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、セルロースエーテル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。バインダー樹脂は、これらの樹脂の中の１種だけを用いても良いし、２種類以上の混合物であっても構わない。これらの樹脂の中でも、ポリビニルアセタール樹脂、フェノキシ樹脂が好適に用いられる。
【００５０】
電荷発生層形成用塗布液に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノンのようなケトン類、トルエン、キシレンのような炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等の塩素化炭化水素類等が挙げられる。これらの溶媒の中から１種だけを用いても良いし、２種類以上の混合物であっても構わない。これらの溶媒の中でも、１，２−ジメトキシエタン、４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノンが好ましい。本発明のオキシチタニウムフタロシアニン組成物の結晶安定性を高めるからである。
【００５１】
電荷発生物質とバインダー樹脂の割合は、特に制限はないが、一般には電荷発生物質１００重量部に対し、５重量部以上５００重量部以下、好ましくは２０重量部以上３００重量部以下である。
【００５２】
電荷発生層の膜厚は、通常０．０５μｍ以上５μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以上２μｍ以下である。
【００５３】
積層型感光体の電荷輸送層は、前記電荷輸送物質とバインダーポリマーを溶媒に溶解して得られる塗布液を電荷発生層の上に塗布乾燥して得ることができる。
【００５４】
バインダーポリマーとしては、前記電荷輸送物質と相溶性が良く、塗膜形成後に電荷輸送物質が結晶化したり、相分離することのないポリマーが好ましい。それらの例としては、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニルアルコール、エチルビニルエーテル等のビニル化合物の重合体および共重合体、ポリビニルアセタール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリウレタン、セルロースエステル、セルロースエーテル、フェノキシ樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂および、上記記載の低分子化合物の電荷移動材料を主鎖または／および側鎖に導入した重合体等が挙げられる。これらの中でも、耐摩耗性などの機械的特性、溶液中での電荷輸送物質とバインダーポリマーの相溶性の点でポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂が好適に用いられる。
【００５５】
電荷輸送層形成用塗布液に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノンのようなケトン類、トルエン、キシレンのような炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等の塩素化炭化水素類等が挙げられる。これらの溶媒の中から１種だけを用いても良いし、２種類以上の混合物であっても構わない。これらの溶媒の中でも、トルエン、テトラヒドロフランが好ましい。
【００５６】
バインダー樹脂と電荷輸送物質との割合は、バインダー樹脂に対して電荷輸送物質が少なすぎると電気特性が悪化するため、通常１０重量部以上、好ましくは２０重量部以上であり、特に好ましくは３０重量部以上で用いられる。また、電荷輸送物質が多すぎると電荷輸送層の硬度が下がり、使用時の摩耗が大きくなったり、表面が傷つき画像欠陥が発生しやすくなることから、通常２００重量部以下、好ましくは１００重量部以下であり、特に好ましくは８０重量部以下である。
【００５７】
電荷輸送層の膜厚は、通常１０μｍ以上５０μｍ以下、好ましくは１３μｍ以上３５μｍ以下の範囲で使用される。
【００５８】
電荷輸送層は必要に応じて電子吸引性化合物を添加しても良い。電子吸引性化合物としては、テトラシアノキノジメタン、ジシアノキノメタン、ジシアノキノビニル基を有する芳香族エステル類等のシアノ化合物、２，４，６−トリニトロフルオレノン等のニトロ化合物、ペリレン等の縮合多環芳香族化合物、ジフェノキノン誘導体、キノン類、アルデヒド類、ケトン類、エステル類、酸無水物、フタリド類、置換および無置換サリチル酸の金属錯体、置換および無置換サリチル酸の金属塩、芳香族カルボン酸の金属錯体、芳香族カルボン酸の金属塩が挙げられる。好ましくは、シアノ化合物、ニトロ化合物、縮合多環芳香族化合物、ジフェノキノン誘導体、置換および無置換サリチル酸の金属錯体、置換および無置換サリチル酸の金属塩、芳香族カルボン酸の金属錯体、芳香族カルボン酸の金属塩を用いるのがよい。
【００５９】
・単層型感光体；
単層型感光体の場合には、感光材料がバインダーに分散してなる公知のものが使用される。例えば、電荷発生物質を主成分として、バインダー樹脂に分散させたもの、電荷発生物質および電荷輸送物質を主成分として、バインダー樹脂に分散させたものが用いられる。これらの場合、電荷発生物質、電荷輸送物質およびバインダー樹脂には、積層型感光層で使用可能な公知のものが使用でき、中でもポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエステルポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂が好適に用いられる。
【００６０】
また、感光層形成用塗布液の溶媒には、積層型感光層の電荷輸送層形成用に用いることのできる溶媒類を同様に好適に用いることができる。
【００６１】
例えば、電荷発生物質および電荷輸送物質を主成分として、バインダー樹脂に分散させたものの場合には、積層型感光体の電荷輸送層のような配合比の電荷輸送媒体中に、電荷発生物質が分散される。この場合の電荷発生物質の粒子径は充分小さいことが必要であり、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは０．５μｍ以下で使用される。感光層内に分散される電荷発生物質の量は、少な過ぎると充分な感度が得られない一方で、多過ぎると帯電性の低下・感度の低下などの弊害があることから、通常０．５重量％以上、好ましくは１重量％以上、また、通常５０重量％以下、好ましくは２０重量％以下の範囲で使用される。単層型感光層の膜厚は、通常５μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上、また、通常１００μｍ以下、好ましくは５０μｍ以下の範囲である。
【００６２】
本発明の電子写真用感光体の感光層は成膜性、可とう性、塗布性、機械的強度、滑り性、オゾン，ＮＯｘ等の耐ガス特性を向上させるために可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、無機粒子、樹脂粒子、ワックス、シリコーンオイル、レベリング剤を含有していてもよい。
【００６３】
＜その他の機能層＞
感光層の上に、機械的特性の向上およびオゾン，ＮＯｘ等の耐ガス特性向上のために、オーバーコート層を用いても良い。更に必要に応じて、接着層、中間層、透明絶縁層等を有していてもよい。更に、ブロッキング層と感光層の間に更に中間層を設けても良い。
【００６４】
＜層形成法＞
ブロッキング層および感光層は、塗布液をスプレー法、スパイラル法、リング法、浸漬法等により導電性支持体上に塗布して形成させる。
【００６５】
スプレー法に用いるスプレーとしては、エアスプレー、エアレススプレー、静電エアスプレー、静電エアレススプレー、回転霧化式静電スプレー、ホットスプレー、ホットエアレススプレー等が挙げられる。膜厚を均一とするには、再公表平１−８０５１９８号公報に記載されている回転霧化式静電スプレーを用いる方法が好ましい。
【００６６】
スパイラル法としては、特開昭５２−１１９６５１号公報に記載されている注液塗布機又はカーテン塗布機を用いた方法、特開平１−２３１９６６号公報に記載されている微小開口部から塗料を筋状に連続して飛翔させる方法、特開平３−１９３１６１号公報に開示されているマルチノズル体を用いた方法等が挙げられる。
【００６７】
浸漬法を以下に説明する。有機導電性化合物、バインダー、溶媒等を用いて好適な全固形分濃度が１％以上であってより好ましくは４０％以下の、かつ粘度が通常１ｍＰａ・ｓ〜７００ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは１ｍＰａ・ｓ〜５００ｍＰａ・ｓ以下の感光層塗布液を調製する。ここで、実質的に塗布液の粘度はバインダーポリマーの種類及びその分子量により決まるが、あまり分子量が低い場合にはポリマー自身の機械的強度が低下するためこれを損わない程度の分子量を持つバインダーポリマーを使用することが好ましい。この様にして調製された塗布液を用いて浸漬塗布法により感光層が形成される。  その後塗膜を乾燥させ、必要且つ充分な乾燥が行われる様に乾燥温度時間を調整すると良い。乾燥温度は通常１００〜２５０℃好ましくは、１１０〜１７０℃さらに好ましくは、１１５〜１４０℃の範囲である。乾燥方法としては、熱風乾燥機、蒸気乾燥機、赤外線乾燥機及び遠赤外線乾燥機等を用いることができる。
【００６８】
このようにして得られる電子写真用感光体は高感度で、残留電位が低く帯電性が高く、かつ、繰返しによる変動が小さく、特に、マシン内で発生するガスやメンテナンス時の外光による画質低下が少ない、高性能高耐久感光体として用いることができる。又、７５０〜８５０ｎｍあるいは５８０〜７００ｎｍの領域の感度が高いことから、特に該領域の半導体レーザーダイオードによる露光手段を持った半導体レーザープリンター用感光体に適している。
【００６９】
＜画像形成装置＞
次に、本発明の電子写真感光体を用いた画像形成装置（本発明の画像形成装置）の実施の形態について、装置の要部構成を示す図１を用いて説明する。但し、実施の形態は以下の説明に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない限り任意に変形して実施することができる。
【００７０】
図１に示すように、画像形成装置は、電子写真感光体１，帯電装置２，露光装置３及び現像装置４を備えて構成され、更に、必要に応じて転写装置５，クリーニング装置６及び定着装置７が設けられる。
【００７１】
電子写真感光体１は、上述した本発明の電子写真感光体であれば特に制限はないが、図１ではその一例として、円筒状の導電性支持体の表面に上述した感光層を形成したドラム状の感光体を示している。この電子写真感光体１の外周面に沿って、帯電装置２，露光装置３，現像装置４，転写装置５及びクリーニング装置６がそれぞれ配置されている。
【００７２】
帯電装置２は、電子写真感光体１を帯電させるもので、電子写真感光体１の表面を所定電位に均一帯電させる。帯電装置としては、コロトロンやスコロトロン等のコロナ帯電装置、電圧印加された直接帯電部材を感光体表面に接触させて帯電させる直接帯電装置（接触型帯電装置）帯電ブラシ等の接触型帯電装置などがよく用いられる。直接帯電手段の例としては、帯電ローラ、帯電ブラシ等の接触帯電器などが挙げられる。なお、図１では、帯電装置２の一例としてローラ型の帯電装置（帯電ローラ）を示している。直接帯電手段として、気中放電を伴う帯電、あるいは気中放電を伴わない注入帯電いずれも可能である。また、帯電時に印可する電圧としては、直流電圧だけの場合、及び直流に交流を重畳させて用いることもできる。
【００７３】
露光装置３は、電子写真感光体１に露光を行なって電子写真感光体１の感光面に静電潜像を形成することができるものであれば、その種類に特に制限はない。具体例としては、ハロゲンランプ、蛍光灯、半導体レーザーやＨｅ−Ｎｅレーザー等のレーザー、ＬＥＤなどが挙げられる。また、感光体内部露光方式によって露光を行なうようにしてもよい。露光を行なう際の光は任意であるが、例えば波長が７８０ｎｍの単色光、波長６００ｎｍ〜７００ｎｍのやや短波長寄りの単色光、波長３８０ｎｍ〜５００ｎｍの短波長の単色光などで露光を行なえばよい。
【００７４】
現像装置４は、その種類に特に制限はなく、カスケード現像、一成分絶縁トナー現像、一成分導電トナー現像、二成分磁気ブラシ現像などの乾式現像方式や、湿式現像方式などの任意の装置を用いることができる。図１では、現像装置４は、現像槽４１、アジテータ４２、供給ローラ４３、現像ローラ４４、及び、規制部材４５からなり、現像槽４１の内部にトナーＴを貯留している構成となっている。また、必要に応じ、トナーＴを補給する補給装置（図示せず）を現像装置４に付帯させてもよい。この補給装置は、ボトル、カートリッジなどの容器からトナーＴを補給することが可能に構成される。
【００７５】
供給ローラ４３は、導電性スポンジ等から形成される。現像ローラ４４は、鉄、ステンレス鋼、アルミニウム、ニッケルなどの金属ロール、又はこうした金属ロールにシリコン樹脂、ウレタン樹脂、フッ素樹脂などを被覆した樹脂ロールなどからなる。この現像ローラ４４の表面には、必要に応じて、平滑加工や粗面加工を加えてもよい。
【００７６】
現像ローラ４４は、電子写真感光体１と供給ローラ４３との間に配置され、電子写真感光体１及び供給ローラ４３に各々当接している。供給ローラ４３及び現像ローラ４４は、回転駆動機構（図示せず）によって回転される。供給ローラ４３は、貯留されているトナーＴを担持して、現像ローラ４４に供給する。現像ローラ４４は、供給ローラ４３によって供給されるトナーＴを担持して、電子写真感光体１の表面に接触させる。
【００７７】
規制部材４５は、シリコーン樹脂やウレタン樹脂などの樹脂ブレード、ステンレス鋼、アルミニウム、銅、真鍮、リン青銅などの金属ブレード、又はこうした金属ブレードに樹脂を被覆したブレード等により形成されている。この規制部材４５は、現像ローラ４４に当接し、ばね等によって現像ローラ４４側に所定の力で押圧（一般的なブレード線圧は５〜５００ｇ／ｃｍ）される。必要に応じて、この規制部材４５に、トナーＴとの摩擦帯電によりトナーＴに帯電を付与する機能を具備させてもよい。
【００７８】
アジテータ４２は、回転駆動機構によってそれぞれ回転されており、トナーＴを攪拌するとともに、トナーＴを供給ローラ４３側に搬送する。アジテータ４２は、羽根形状、大きさ等を違えて複数設けてもよい。
【００７９】
転写装置５は、その種類に特に制限はなく、コロナ転写、ローラ転写、ベルト転写などの静電転写法、圧力転写法、粘着転写法など、任意の方式を用いた装置を使用することができる。ここでは、転写装置５が電子写真感光体１に対向して配置された転写チャージャー，転写ローラ，転写ベルト等から構成されるものとする。この転写装置５は、トナーＴの帯電電位とは逆極性で所定電圧値（転写電圧）を印加し、電子写真感光体１に形成されたトナー像を記録紙（用紙，媒体）Ｐに転写するものである。
【００８０】
クリーニング装置６について特に制限はなく、ブラシクリーナー、磁気ブラシクリーナー、静電ブラシクリーナー、磁気ローラクリーナー、ブレードクリーナーなど、任意のクリーニング装置を用いることができる。クリーニング装置６は、感光体１に付着している残留トナーをクリーニング部材で掻き落とし、残留トナーを回収するものである。但し、感光体表面に残留するトナーが少ないか、殆ど無い場合には、クリーニング装置６は無くても構わない。
【００８１】
定着装置７は、上部定着部材（定着ローラ）７１及び下部定着部材（定着ローラ）７２から構成され、定着部材７１又は７２の内部には加熱装置７３が備えられている。なお、図１では、上部定着部材７１の内部に加熱装置７３が備えられた例を示す。上部及び下部の各定着部材７１，７２は、ステンレス，アルミニウムなどの金属素管にシリコンゴムを被覆した定着ロール、更にテフロン（登録商標）樹脂で被覆した定着ロール、定着シートなどが公知の熱定着部材を使用することができる。更に、各定着部材７１，７２は、離型性を向上させる為にシリコーンオイル等の離型剤を供給する構成としてもよく、バネ等により互いに強制的に圧力を加える構成としてもよい。
【００８２】
記録紙Ｐ上に転写されたトナーは、所定温度に加熱された上部定着部材７１と下部定着部材７２との間を通過する際、トナーが溶融状態まで熱加熱され、通過後冷却されて記録紙Ｐ上にトナーが定着される。
【００８３】
なお、定着装置についてもその種類に特に限定はなく、ここで用いたものをはじめ、熱ローラ定着、フラッシュ定着、オーブン定着、圧力定着など、任意の方式による定着装置を設けることができる。
【００８４】
以上のように構成された電子写真装置では、次のようにして画像の記録が行なわれる。即ち、まず感光体１の表面（感光面）が、帯電装置２によって所定の電位（例えば−６００Ｖ）に帯電される。この際、直流電圧により帯電させても良く、直流電圧に交流電圧を重畳させて帯電させてもよい。
【００８５】
続いて、帯電された感光体１の感光面を、記録すべき画像に応じて露光装置３により露光し、感光面に静電潜像を形成する。そして、その感光体１の感光面に形成された静電潜像の現像を、現像装置４で行なう。
【００８６】
現像装置４は、供給ローラ４３により供給されるトナーＴを、規制部材（現像ブレード）４５により薄層化するとともに、所定の極性（ここでは感光体１の帯電電位と同極性であり、負極性）に摩擦帯電させ、現像ローラ４４に担持しながら搬送して、感光体１の表面に接触させる。
【００８７】
現像ローラ４４に担持された帯電トナーＴが感光体１の表面に接触すると、静電潜像に対応するトナー像が感光体１の感光面に形成される。そしてこのトナー像は、転写装置５によって記録紙Ｐに転写される。この後、転写されずに感光体１の感光面に残留しているトナーが、クリーニング装置６で除去される。
【００８８】
トナー像の記録紙Ｐ上への転写後、定着装置７を通過させてトナー像を記録紙Ｐ上へ熱定着することで、最終的な画像が得られる。
【００８９】
なお、画像形成装置は、上述した構成に加え、例えば除電工程を行なうことができる構成としても良い。除電工程は、電子写真感光体に露光を行なうことで電子写真感光体の除電を行なう工程であり、除電装置としては、蛍光灯、ＬＥＤ等が使用される。また除電工程で用いる光は、強度としては露光光の３倍以上の露光エネルギーを有する光である場合が多い。
【００９０】
また、画像形成装置は更に変形して構成してもよく、例えば、前露光工程、補助帯電工程などの工程を行なうことができる構成としたり、オフセット印刷を行なう構成としたり、更には複数種のトナーを用いたフルカラータンデム方式の構成としてもよい。
【００９１】
なお、電子写真感光体１を、帯電装置２、露光装置３、現像装置４、転写装置５、クリーニング装置６、及び定着装置７のうち１つ又は２つ以上と組み合わせて、一体型のカートリッジ（以下適宜「電子写真感光体カートリッジ」という）として構成し、この電子写真感光体カートリッジを複写機やレーザービームプリンタ等の電子写真装置本体に対して着脱可能な構成にしてもよい。この場合、例えば電子写真感光体１やその他の部材が劣化した場合に、この電子写真感光体カートリッジを画像形成装置本体から取り外し、別の新しい電子写真感光体カートリッジを画像形成装置本体に装着することにより、画像形成装置の保守・管理が容易となる。
【実施例】
【００９２】
以下、実施例によって、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例によって制限されるものではない。
【００９３】
＜製造例１＞
窒素雰囲気下、フタロニトリル６６．６ｇをジフェニルメタン３５３ｍｌ中に懸濁し、４０℃で四塩化チタン１５．０ｇとジフェニルメタン２５ｍｌの混合液を添加した。約１時間かけて２０５〜２１０℃まで昇温後、四塩化チタン１０．０ｇとジフェニルメタン１６ｍｌの混合液を滴下し、２０５〜２１０℃で５時間反応させた。生成物を１３０〜１４０℃で熱濾過後、Ｎ−メチルピロリドン（以下、ＮＭＰということがある）、ｎ−ブタノールで順次洗浄した。次いで、ｎ−ブタノール６００ｍｌ中にて加熱還流した後、ＮＭＰ、水、メタノール懸洗を行い、乾燥してＢ型オキシチタニウムフタロシアニン４７．０ｇを得た。このＢ型オキシチタニウムフタロシアニン２０．０ｇを、ガラスビーズ（φ１．０ｍｍ〜φ１．４ｍｍ）１２０ｍｌと共にペイントシェーカーにて２５時間振とうし、メタノールでオキシチタニウムフタロシアニンを洗い出し、濾過して無定型のオキシチタニウムフタロシアニンを得た。このオキシチタニウムフタロシアニンを水２１０ｍｌに懸濁させた後、更にトルエン４０ｍｌを添加して６０℃にて１時間撹拌し、水をデカンテーションにて廃棄後、メタノール懸洗を行い、濾過、乾燥する結晶変換操作により、目的のオキシチタニウムフタロシアニン組成物１９．０ｇを得た。
【００９４】
得られたオキシチタニウムフタロシアニン組成物の粉末のＸ線回折スペクトルは、以下のような方法で測定した。測定装置は、ＣｕＫα線を線源とした集中光学系の粉末Ｘ線回折計であるＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ社製のＰＷ１７００を使用した。測定条件は、Ｘ線出力４０ｋＶ，３０ｍＡ、走査範囲（２θ）３〜４０°、スキャンステップ幅０．０５°、走査速度３．０°／ｍｉｎ、発散スリット１．０°、散乱スリット１．０°、受光スリット０．２ｍｍとした。
【００９５】
得られたオキシチタニウムフタロシアニン組成物の、ＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルを図２に示す。このＸ線回折スペクトルでは、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折ピークが観察された。
【００９６】
得られたオキシチタニウムフタロシアニン組成物のマススペクトルを図３に示すが、マススペクトルではｍ／ｚ：５７６に無置換オキシチタニウムフタロシアニンのピーク、ｍ／ｚ：６１０に塩素化オキシチタニウムフタロシアニンのピークが観察され、無置換オキシチタニウムフタロシアニンのピーク強度に対する塩素化オキシチタニウムフタロシアニンのピーク強度比を５回測定したところ、０．０２６〜０．０２９の範囲であった。
【００９７】
＜製造例２＞
４０℃で四塩化チタン１８．８ｇとジフェニルメタン３１ｍｌの混合液を添加し、２０５〜２１０℃での滴下量を四塩化チタン６．２ｇとジフェニルメタン１０ｍｌの混合液にした以外は製造例１と同様に行い、Ｂ型オキシチタニウムフタロシアニン４６．８ｇを得た。このＢ型オキシチタニウムフタロシアニン２０．０ｇを製造例１と同様の結晶変換操作によって、目的のオキシチタニウムフタロシアニン組成物１７．６ｇを得た。製造例１と同様の方法により、該オキシチタニウムフタロシアニン組成物のＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルを得たところ、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折ピークが観察された。該オキシチタニウムフタロシアニン組成物のマススペクトルにおいて、ｍ／Ｚ：５７６の無置換オキシチタニウムフタロシアニンのピーク強度に対する、ｍ／ｚ：６１０の塩素化オキシチタニウムフタロシアニンのピーク強度比を５回測定したところ、０．０３９〜０．０４３の範囲であった。
【００９８】
＜製造例３＞
４０℃で四塩化チタン１２．５ｇとジフェニルメタン２１ｍｌの混合液を添加し、２０５〜２１０℃での滴下量を四塩化チタン１２．５ｇとジフェニルメタン２１ｍｌの混合液にした以外は、製造例１と同様に行い、Ｂ型オキシチタニウムフタロシアニン４４．６ｇを得た。このＢ型オキシチタニウムフタロシアニン２０．０ｇを、製造例１と同様の結晶変換操作によって、目的のオキシチタニウムフタロシアニン組成物１６．１ｇを得た。製造例１と同様の方法により、該オキシチタニウムフタロシアニン組成物のＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルを得たところ、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折ピークが観察された。該オキシチタニウムフタロシアニン組成物のマススペクトルにおいて、ｍ／ｚ：５７６の無置換オキシチタニウムフタロシアニンのピークの強度に対する、ｍ／ｚ：６１０の塩素化オキシチタニウムフタロシアニンのピークの強度比は、５回測定したところ、０．０２０〜０．０２２の範囲であった。
【００９９】
＜製造例４＞
４０℃で四塩化チタン２２．５ｇとジフェニルメタン３７ｍｌの混合液を添加し、２０５〜２１０℃での滴下量を四塩化チタン２．５ｇとジフェニルメタン４ｍｌの混合液にした以外は、製造例１と同様に行い、Ｂ型オキシチタニウムフタロシアニン４８．２ｇを得た。このＢ型オキシチタニウムフタロシアニン２０．０ｇを、製造例１と同様の結晶変換操作によって、目的のオキシチタニウムフタロシアニン組成物１８．３ｇを得た。製造例１と同様の方法により、該オキシチタニウムフタロシアニン組成物のＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルを得たところ、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折ピークが観察された。該オキシチタニウムフタロシアニン組成物のマススペクトルにおいて、ｍ／ｚ：５７６の無置換オキシチタニウムフタロシアニンのピークの強度に対する、ｍ／ｚ：６１０の塩素化オキシチタニウムフタロシアニンのピークの強度比は、５回測定したところ、０．０４９〜０．０５３の範囲であった。
【０１００】
＜製造例５＞
４０℃で四塩化チタン７．５ｇとジフェニルメタン１２ｍｌの混合液を添加し、２０５〜２１０℃での滴下量を四塩化チタン１７．５ｇとジフェニルメタン２９ｍｌの混合液にした以外は製造例１と同様に行い、Ｂ型オキシチタニウムフタロシアニン４２．７ｇを得た。このＢ型オキシチタニウムフタロシアニン２０．０ｇを、製造例１と同様の結晶変換操作により処理し、オキシチタニウムフタロシアニン組成物１８．２ｇを得た。製造例１と同様の方法により、該オキシチタニウムフタロシアニン組成物のＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルを得たところ、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折ピークが観察されたが、２６．２°のピークが２７．３°のピークに対してピーク強度で１１．４％存在した。また、得られたオキシチタニウムフタロシアニン組成物のマススペクトルにおいて、ｍ／ｚ：５７６の無置換オキシチタニウムフタロシアニンのピークの強度に対する、ｍ／ｚ：６１０の塩素化オキシチタニウムフタロシアニンのピークの強度比は、５回測定したところ、０．０１２〜０．０１４の範囲であった。
【０１０１】
＜製造例６＞
４０℃で四塩化チタン２．５ｇとジフェニルメタン４ｍｌの混合液を添加し、２０５〜２１０℃での滴下量を四塩化チタン２２．５ｇとジフェニルメタン３７ｍｌの混合液にした以外は製造例１と同様に行い、Ｂ型オキシチタニウムフタロシアニン３３．５ｇを得た。このＢ型オキシチタニウムフタロシアニン１５．０ｇを製造例１と同様の結晶変換操作により処理し、オキシチタニウムフタロシアニン組成物１２．８ｇを得た。製造例１と同様の方法により得た、該オキシチタニウムフタロシアニン組成物のＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルを図４に示す。このＸ線スペクトルでは、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折ピークが観察されたが、２６．２°のピークも同時に存在した。このオキシチタニウムフタロシアニン組成物の粉末Ｘ線回折スペクトルでは、２６．２°のピークが２７．３°のピークに対してピーク強度で１４．２％存在した。また、得られたオキシチタニウムフタロシアニン組成物のマススペクトルを図５に示す。このマススペクトルでの、ｍ／ｚ：５７６の無置換オキシチタニウムフタロシアニンのピークの強度に対する、ｍ／ｚ：６１０の塩素化オキシチタニウムフタロシアニンのピークの強度比は、５回測定したところ、０．００７１〜０．００８５の範囲であった。
【０１０２】
＜製造例７＞
４０℃で四塩化チタン２５．０ｇとジフェニルメタン４１ｍｌの混合液を添加し、２０５〜２１０℃での滴下を行わない以外は製造例１と同様に行い、Ｂ型オキシチタニウムフタロシアニン４３．７ｇを得た。このＢ型オキシチタニウムフタロシアニン２０．０ｇを製造例１と同様の結晶変換操作によって、目的のオキシチタニウムフタロシアニン組成物１８．９ｇを得た。製造例１と同様の方法により、該オキシチタニウムフタロシアニン組成物のＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルを図６に示す。このＸ線回折スペクトルではブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折ピークが観察された。得られたオキシチタニウムフタロシアニン組成物のマススペクトルを図７に示すが、ｍ／Ｚ：５７６の無置換オキシチタニウムフタロシアニンのピーク強度に対する、ｍ／ｚ：６１０の塩素化オキシチタニウムフタロシアニンのピーク強度比は、５回測定したところ、０．０５９〜０．０６１の範囲であった。
【０１０３】
＜比較製造例１＞
窒素雰囲気下、フタロニトリル６６．６ｇを１−クロロナフタレン４３６ｍｌ中に溶解し、２００℃で四塩化チタン２５．０ｇと１−クロロナフタレン２１ｍｌの混合液を滴下した。２０５〜２１０℃で５時間反応させた後、生成物を１３０〜１４０℃で熱濾過した。次いで、ｎ−ブタノール５８０ｍｌ中にて加熱還流した後、水、ＮＭＰ、メタノール懸洗を行い、乾燥してＢ型オキシチタニウムフタロシアニン４８．７ｇを得た。このＢ型オキシチタニウムフタロシアニン３０．０ｇをガラスビーズ（φ１．０ｍｍ〜φ１．４ｍｍ）２００ｍｌと共にペイントシェーカーにて２０時間振とうし、メタノールでオキシチタニウムフタロシアニンを洗い出し、濾過して無定型のオキシチタニウムフタロシアニンを得た。このオキシチタニウムフタロシアニンを水６２５ｍｌに懸濁させた後、更にオルトジクロロベンゼン４８ｍｌを添加して室温にて１時間撹拌し、水をデカンテーションにて廃棄後、メタノール懸洗を行い、濾過、乾燥する結晶変換操作により、目的のオキシチタニウムフタロシアニン組成物２９．０ｇを得た。製造例１と同様の方法により得た、該オキシチタニウムフタロシアニン組成物のＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルを図８に示す。このＸ線回折スペクトルでは、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折ピークが観察された。このオキシチタニウムフタロシアニン組成物のマススペクトルを図９に示すが、該オキシチタニウムフタロシアニン組成物のマススペクトルにおいて、ｍ／ｚ：５７６の無置換オキシチタニウムフタロシアニンのピークの強度に対する、ｍ／ｚ：６１０の塩素化オキシチタニウムフタロシアニンのピークの強度比は、５回測定したところ、０．０５５〜０．０５７の範囲であった。
【０１０４】
＜比較製造例２＞
窒素雰囲気下、フタロジニトリル６６．６ｇをメチルナフタレン３５３ｍｌ中に懸濁し、室温で四塩化チタン１２．５ｇとメチルナフタレン２０ｍｌの混合液を滴下し、２０５〜２１０℃で四塩化チタン１２．５ｇとメチルナフタレン２０ｍｌの混合液を滴下した以外は製造例１と同様に行い、Ｂ型オキシチタニウムフタロシアニン４５．７ｇを得た。このＢ型オキシチタニウムフタロシアニン２０．０ｇを製造例１と同様の結晶変換操作によって、目的のオキシチタニウムフタロシアニン１９．２ｇを得た。製造例１と同様の方法により得た、該オキシチタニウムフタロシアニン組成物のＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルを図１０に示す。このＸ線回折スペクトルでは、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折ピークが観察された。得られたオキシチタニウムフタロシアニン組成物のマススペクトルを図１１に示すが、ｍ／Ｚ：５７６の無置換オキシチタニウムフタロシアニンのピーク強度に対する、ｍ／ｚ：６１０の塩素化オキシチタニウムフタロシアニンのピークの強度比は５回測定したところ、０．００１〜０．００４の範囲であり、塩素化オキシチタニウムフタロシアニン量は非常に少なかった。
【０１０５】
＜比較製造例３＞
製造例１と同様にして合成したＢ型オキシチタニウムフタロシアニン２５．０ｇを−５℃以下に冷却した９５重量％硫酸６２５ｇ中にゆっくり添加し、撹拌溶解した。添加終了後、−５℃以下で２時間撹拌し、グラスフィルターで濾過して不溶物を濾別した。この硫酸溶液を氷水６２５０ｇ中に放出し、結晶を析出させた。１時間撹拌後、結晶を濾過し、次いで洗浄液が中性になるまで水洗を繰り返し、無定型のオキシチタニウムフタロシアニンのウエットケーキを得た。このウエットケーキを水２６０ｍｌに懸濁させた後、更にトルエン５０ｍｌを添加して６０℃にて１時間撹拌し、水をデカンテーションにて廃棄後、メタノール懸洗を行い、濾過、乾燥して目的のオキシチタニウムフタロシアニン組成物２２．０ｇを得た。製造例１と同様の方法により得た、該オキシチタニウムフタロシアニン組成物のＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルを図１７に示す。このＸ線回折スペクトルでは、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折ピークが観察された。
【０１０６】
＜比較製造例４＞
比較製造例３と同様にして合成した無定型のオキシチタニウムフタロシアニンのウエットケーキに、１，２−ジクロロエタン６２５ｍｌを添加して室温にて２時間撹拌後、更にメタノール１０００ｍｌを添加し、室温にて１時間撹拌後、濾過した。これをメタノール懸洗し、濾過、乾燥して目的のオキシチタニウムフタロシアニン組成物２２．４ｇを得た。製造例１と同様の方法により、該オキシチタニウムフタロシアニン組成物のＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルを得たところ、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折ピークが観察された。
【０１０７】
＜比較製造例５＞
窒素雰囲気下、フタロジニトリル６６．６ｇをジフェニルエーテル３５３ｍｌ中に懸濁し、４０℃で四塩化チタン２５．０ｇを滴下し、２０５〜２１０℃で５時間反応させた。生成物を１３０〜１４０℃で熱濾過したところ、この粗ジクロロチタニウムフタロシアニンの時点で２２．６ｇ、ジフェニルメタン溶媒の半量以下しかなく低収率であった。
【０１０８】
＜比較製造例６＞
窒素雰囲気下、フタロジニトリル６６．６ｇをスルホラン３５３ｍｌ中に懸濁し、４０℃で四塩化チタン２５．０ｇを滴下し、２０５〜２１０℃で５時間反応させた。生成物を１３０〜１４０℃で熱濾過したところ、この粗ジクロロチタニウムフタロシアニンの時点で２２．０ｇ、ジフェニルメタン溶媒の半量以下しかなく低収率であった。
【０１０９】
＜実施例１＞
二軸延伸ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム（厚み７５μｍ）の表面にアルミニウム蒸着層（厚み７０ｎｍ）を形成した導電性支持体を用い、その支持体のアルミニウム蒸着層上に、下記の下引き層用分散液をバーコーターにより、乾燥後の膜厚が１．２５μｍとなるように塗布し、乾燥させて下引き層を形成した。
【０１１０】
下引き層用分散液は、次のようにして製造した。即ち、平均一次粒子径４０ｎｍのルチル型酸化チタン（石原産業社製「ＴＴＯ５５Ｎ」）と、該酸化チタンに対して３重量％のメチルジメトキシシラン（東芝シリコーン社製「ＴＳＬ８１１７」）とを、高速流動式混合混練機（（株）カワタ社製「ＳＭＧ３００」）に投入し、回転周速３４．５ｍ／秒で高速混合して得られた表面処理酸化チタンを、メタノール／１−プロパノールの混合溶媒中でボールミルにより分散させることにより、疎水化処理酸化チタンの分散スラリーとした。該分散スラリーと、メタノール／１−プロパノール／トルエンの混合溶媒、及び、ε−カプロラクタム［下記式（Ａ）で表わされる化合物］／ビス（４−アミノ−３−メチルシクロヘキシル）メタン［下記式（Ｂ）で表わされる化合物］／ヘキサメチレンジアミン［下記式（Ｃ）で表わされる化合物］／デカメチレンジカルボン酸［下記式（Ｄ）で表わされる化合物］／オクタデカメチレンジカルボン酸［下記式（Ｅ）で表わされる化合物］の組成モル比率が、７５％／９．５％／３％／９．５％／３％からなる共重合ポリアミドのペレットとを加熱しながら撹拌、混合してポリアミドペレットを溶解させた後、超音波分散処理を行なうことにより、メタノール／１−プロパノール／トルエンの重量比が７／１／２で、疎水性処理酸化チタン／共重合ポリアミドを重量比３／１で含有する、固形分濃度１８．０％の下引き層用分散液とした。
【０１１１】
【化２】
0005459931.tif 000003
【０１１２】
電荷発生物質として、製造例１で製造した、図２に示すＣｕＫα特性Ｘ線に対する粉末Ｘ線回折スペクトルパターンを有するオキシチタニウムフタロシアニン組成物２０重量部と１，２−ジメトキシエタン２８０重量部を混合し、サンドグラインドミルで２時間分散して分散液を作製した。続いて、前記分散液、ポリビニルブチラール（電気化学工業（株）製、商品名「デンカブチラール」＃６０００Ｃ）の２．５重量％１，２−ジメトキシエタン溶液４００重量部、および１，２−ジメトキシエタン１７０重量部を混合して電荷発生層用塗布液を調製した。
【０１１３】
この電荷発生層用塗布液を無反射カバーガラスに乾燥後の膜厚が１０μｍ以上となるよう塗布し、室温にて乾燥させて、感光層のＸ線回折スペクトル測定用サンプルを作製した。
【０１１４】
測定装置として、人工多層膜ミラーにて単色平行化したＣｕＫα線を線源とした薄膜試料用の回折計（株式会社リガク製  自動Ｘ線回折装置  ＲＩＮＴ２０００）、を用いた。測定条件は、Ｘ線出力５０ｋＶ，２５０ｍＡ、固定入射角（θ）１．０°、走査範囲（２θ）３〜４０°、スキャンステップ幅０．０５°、入射ソーラースリット５．０°、入射スリット０．１ｍｍ、受光ソーラースリット０．１°で、この感光層のＸ線回折スペクトル測定用サンプルのＣｕＫα特性Ｘ線によるＸ線回折スペクトルを測定した。このＸ線回折スペクトルを図１２に示す。このＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°のピーク強度は９．５°のピーク強度に対して７２％大きかった。
【０１１５】
次に、前記下引き層上に、この電荷発生層用塗布液を、乾燥後の膜厚が０．４μmとなるようにバーコーターで塗布し、乾燥して電荷発生層を形成した。
【０１１６】
この電荷発生層上に、電荷輸送物質として以下に示す構造を主体とする、特開２００２−０８０４３２公報記載の組成物（Ａ）を５０重量部、下記構造のバインダー樹脂（Ａ）（粘度平均分子量、４００００）１００重量部、およびレベリング剤としてシリコーンオイル０．０５重量部をテトラヒドロフラン／トルエン（重量比８／２）混合溶媒６４０重量部に溶解させた液を乾燥後の膜厚が２５μmとなるように塗布し、１２５℃で２０分間乾燥して、電荷輸送層を設けて電子写真感光体を作製した。この感光体を感光体１Ａとする。
【０１１７】
【化３】
0005459931.tif 000004
【０１１８】
＜実施例２＞
電荷発生物質として、製造例２で得られたオキシチタニウムフタロシアニン組成物２０重量部を用いた他は実施例１と同様にして電荷発生層用塗布液を作製した。この電荷発生層用塗布液を無反射カバーガラスに乾燥後の膜厚が１０μｍ以上となるよう塗布し、室温にて乾燥させて、感光層のＸ線回折スペクトル測定用サンプルを作製して、実施例１と同様にしてＸ線回折スペクトルを測定した。このＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°のピーク強度は９．６°のピーク強度に対して５６％大きかった。  さらに該電荷発生層用塗布液を用いた他は、実施例１と同様の操作を行い、感光体２Ａを作製した。
【０１１９】
＜実施例３＞
電荷発生物質として、製造例３で得られたオキシチタニウムフタロシアニン組成物２０重量部と、１，２−ジメトキシエタン２８０重量部を混合し、超音波発振装置（ＢＲＡＮＳＯＮ社製ＳＨ１２１６−４０−１８、動作周波数４０ｋＨｚ、超音波出力７５０Ｗ）を用いて１時間分散処理して分散液を作製した。該分散液と、１０重量部のポリビニルブチラール（電気化学工業（株）製、商品名「デンカブチラール」＃６０００Ｃ）、２５３重量部の１，２−ジメトキシエタン、８５重量部の４−メチル−４−メトキシ−２−ペンタノンを混合し、さらに１，２−ジメトキシエタン５２７重量部で希釈し、得られた液を超音波発振装置で１時間分散して電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を無反射カバーガラスに乾燥後の膜厚が１０μｍ以上となるよう塗布し、室温にて乾燥させて、感光層のＸ線回折スペクトル測定用サンプルを作製して、実施例１と同様にしてＸ線回折スペクトルを測定した。このＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°のピーク強度は９．６°のピーク強度に対して１００％大きかった。また、該電荷発生層用塗布液を用いて実施例１と同様の操作を行い、感光体３Ａを作製した。
【０１２０】
＜実施例４＞
電荷発生物質として、製造例４で得られたオキシチタニウムフタロシアニン組成物２０重量部を用いた他は実施例１と同様にして感光層のＸ線回折スペクトルを測定し、感光体４Ａを作製した。このＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°のピーク強度は９．６°のピーク強度に対して３２％大きかった。
【０１２１】
＜実施例５＞
電荷発生物質として、製造例５で得られたオキシチタニウムフタロシアニン組成物２０重量部を用いた他は実施例１と同様にして感光層のＸ線回折スペクトルを測定し、感光体５Ａを作製した。このＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°のピーク強度は９．６°のピーク強度に対して５５％大きかった。２６．２°のピーク強度は製造時の粉末Ｘ線回折スペクトルと比較すると大きくなった。
【０１２２】
＜実施例６＞
電荷発生物質として、製造例６で得られた図４に示すＣｕＫα特性Ｘ線に対する粉末Ｘ線回折スペクトルパターンを有するオキシチタニウムフタロシアニン組成物２０重量部を用いた他は実施例１と同様にして感光層のＸ線回折スペクトルを測定し、感光体６Ａを作製した。このＸ線回折スペクトルを図１３に示す。このＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°のピーク強度は９．６°のピーク強度に対して５２％大きかった。２６．２°のピーク強度は製造時の粉末Ｘ線回折スペクトル図４と比較すると大きくなった。
【０１２３】
＜実施例７＞
電荷発生物質として、製造例７で得られた図５に示すＣｕＫα特性Ｘ線に対する粉末Ｘ線回折スペクトルパターンを有するオキシチタニウムフタロシアニン組成物２０重量部を用いた他は実施例１と同様にして感光層のＸ線回折スペクトルを測定し、感光体７Ａを作製した。このＸ線回折スペクトルを図１４に示す。このＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°のピーク強度は９．６°のピーク強度に対して２７％大きかった。
【０１２４】
＜比較実施例１＞
電荷発生物質として、比較製造例１で得られた図８に示すＣｕＫα特性Ｘ線に対する粉末Ｘ線回折スペクトルパターンを有するオキシチタニウムフタロシアニン組成物２０重量部を用いた他は実施例１と同様の操作を行った。この感光層のＸ線回折スペクトルを図１５に示す。このＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°のピーク強度は９．３°のピーク強度より小さくなり８５％しかなかった。さらに実施例１と同様の操作を行い、感光体１Ｂを作製した。
【０１２５】
＜比較実施例２＞
電荷発生物質として、比較製造例２で得られた図１０に示すＣｕＫα特性Ｘ線に対する粉末Ｘ線回折スペクトルパターンを有するオキシチタニウムフタロシアニン組成物２０重量部を用いた他は実施例１と同様の操作を行った。この感光層のＸ線回折スペクトルを図１６に示す。このＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°のピーク強度は９．３°のピーク強度より小さくなり６６％しかなかった。さらに実施例１と同様の操作を行い、感光体２Ｂを作製した。
【０１２６】
＜比較実施例３＞
電荷発生物質として、比較製造例３で得られた図１７に示すＣｕＫα特性Ｘ線に対する粉末Ｘ線回折スペクトルパターンを有するオキシチタニウムフタロシアニン組成物２０重量部を用いた他は実施例１と同様の操作を行った。この感光層のＸ線回折スペクトルを図１８に示す。このＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°のピーク強度は９．３°のピーク強度より小さくなり６３％しかなかった。さらに実施例１と同様の操作を行い、感光体３Ｂを作製した。
【０１２７】
＜比較実施例４＞
電荷発生物質として、比較製造例４で得られたオキシチタニウムフタロシアニン組成物２０重量部を用いた他は実施例１と同様の操作を行った。この感光層のＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°のピーク強度は９．３°のピーク強度より小さくなり６０％しかなかった。さらに実施例１と同様の操作を行い、感光体４Ｂを作製した。
【０１２８】
＜感光体の電気特性評価＞
得られた感光体１Ａ〜７Ａおよび感光体１Ｂ〜３Ｂを電子写真学会測定標準に従って作製された電子写真特性評価装置（続電子写真技術の基礎と応用、電子写真学会編、コロナ社、４０４〜４０５頁記載）に装着し、帯電、露光、電位測定、除電のサイクルによる電気特性の評価を行った。
【０１２９】
気温２５℃、湿度５０％の条件下で感光体の初期表面電位が−７００Ｖとなるように帯電させ、ハロゲンランプの光を干渉フィルターで７８０ｎｍの単色光とした光を照射して、表面電位が−３５０Ｖとなる時の照射エネルギー（μＪ／cm２）を感度とした。また、除電光に６６０ｎｍのＬＥＤ光を約８μＪ／cm２の強度で照射した時の表面電位を測定し、これを残留電位（−Ｖ）とした。その結果を表１に示す。
【０１３０】
【表１】
0005459931.tif 000005
【０１３１】
表１に示した結果のように、反応溶媒として、アリール基がアルキリデン基により連結された構造を有するジアリールアルカンであるジフェニルメタンを用いて、機械的磨砕処理により製造したオキシチタニウムフタロシアニン組成物を用いて作製した感光体１Ａ〜７Ａは、クロロナフタレンや、メチルナフタレンを反応溶媒として製造したオキシチタニウムフタロシアニン組成物を用いて作製した感光体１Ｂ、２Ｂ、ジフェニルメタンを反応溶媒として酸ペースト処理により製造したオキシチタニウムフタロシアニン組成物を用いて作製した感光体３Ｂ、４Ｂに比べ、感度、残留電位共に、良好な結果が得られた。
【産業上の利用可能性】
【０１３２】
ＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルにおいてブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折ピークを示すオキシチタニウムフタロシアン組成物であって、原料としてフタロニトリルと四塩化チタンを使用し、反応溶媒としてアリール基がアルキリデン基により連結された構造を有するジアリールアルカン溶媒を用いて、機械的磨砕処理により製造したオキシチタニウムフタロシアン組成物を用いることにより、プリンター、ファクシミリ、複写機等の電子写真装置に適用可能で、高感度、低残留電位で高性能な電子写真感光体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１３３】
【図１】本発明の画像形成装置の一実施態様の要部構成を示す概略図である。
【図２】製造例１で得られたＤ型オキシチタニウムフタロシアニン組成物の粉末Ｘ線回折スペクトルである。
【図３】製造例１で得られたＤ型オキシチタニウムフタロシアニン組成物のマススペクトルである。
【図４】製造例６で得られたＤ型オキシチタニウムフタロシアニン組成物の粉末Ｘ線回折スペクトルである。
【図５】製造例６で得られたＤ型オキシチタニウムフタロシアニン組成物のマススペクトルである。
【図６】製造例７で得られたＤ型オキシチタニウムフタロシアニン組成物の粉末Ｘ線回折スペクトルである。
【図７】製造例７で得られたＤ型オキシチタニウムフタロシアニン組成物のマススペクトルである。
【図８】比較製造例１で得られたＤ型オキシチタニウムフタロシアニン組成物の粉末Ｘ線回折スペクトルである。
【図９】比較製造例１で得られたＤ型オキシチタニウムフタロシアニン組成物のマススペクトルである。
【図１０】比較製造例２で得られたＤ型オキシチタニウムフタロシアニン組成物の粉末Ｘ線回折スペクトルである。
【図１１】比較製造例２で得られたＤ型オキシチタニウムフタロシアニン組成物のマススペクトルである。
【図１２】製造例１で得られたＤ型オキシチタニウムフタロシアニン組成物の薄膜Ｘ線回折スペクトルである。
【図１３】実施例６で得られたＤ型オキシチタニウムフタロシアニン組成物の薄膜Ｘ線回折スペクトルである。
【図１４】実施例７で得られたＤ型オキシチタニウムフタロシアニン組成物の薄膜Ｘ線回折スペクトルである。
【図１５】比較実施例１で得られたＤ型オキシチタニウムフタロシアニン組成物の薄膜Ｘ線回折スペクトルである。
【図１６】比較実施例２で得られたＤ型オキシチタニウムフタロシアニン組成物の薄膜Ｘ線回折スペクトルである。
【図１７】比較実施例３で得られたＤ型オキシチタニウムフタロシアニン組成物の粉末Ｘ線回折スペクトルである。
【図１８】比較実施例３で得られたＤ型オキシチタニウムフタロシアニン組成物の薄膜Ｘ線回折スペクトルである。
【符号の説明】
【０１３４】
１  感光体
２  帯電装置（帯電ローラ）
３  露光装置
４  現像装置
５  転写装置
６  クリーニング装置
７  定着装置
４１  現像槽
４２  アジテータ
４３  供給ローラ
４４  現像ローラ
４５  規制部材
７１  上部定着部材（定着ローラ）
７２  下部定着部材（定着ローラ）
７３  加熱装置
Ｔ  トナー
Ｐ  記録紙
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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