(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板の上側に敷設されて、走査信号が供給されるゲート信号線と、
前記ゲート信号線から、前記ゲート信号線が敷設される方向とは異なる方向に突出して形成されるゲート電極と、
前記ゲート電極の上側に積層されるソース電極及びドレイン電極と、
前記ゲート電極の上側に積層されて、前記ゲート電極が発生させる電界により前記ソース電極及び前記ドレイン電極間の電流を制御する半導体膜と、
前記ゲート電極と前記半導体膜の間にて、前記半導体膜の下面に接して積層されるゲート絶縁膜と、を含み、
前記半導体膜は、前記ゲート電極と平面的に重複する第１の領域と、前記ゲート電極と平面的に重複しない第２の領域とを有する平面的形状で形成され、
前記ソース電極および前記ドレイン電極は、前記ゲート絶縁膜に接するとともに、前記半導体膜の側方から乗り上げて積層され、
前記ゲート電極は、前記第１の領域と平面的に重複する部分を基準として、前記半導体膜と平面的に重複せずに前記ゲート信号線から離れる側に延設される延設部分を有し、
前記ソース電極と前記ドレイン電極は、前記第２の領域において前記半導体膜と接続せず、前記延設部分と平面的に重複する領域から前記第１の領域に延在して前記半導体膜に接続される、
ことを特徴とする薄膜トランジスタを有する液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載された液晶表示装置であって、
前記ソース電極および前記ドレイン電極は、前記ゲート電極に沿うように延伸しつつ、前記延設部分および前記第１の領域と平面的に重複する、
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項２に記載された液晶表示装置であって、
前記ゲート電極は、Ｘ方向に敷設されて走査信号が供給される前記ゲート信号線から、該Ｘ方向に対して垂直となるＹ方向に突出して形成され、
前記延設部分は、前記ゲート電極が突出する方向に、前記半導体膜の前記第１の領域と重複する部分からさらに延設され、
前記ソース電極および前記ドレイン電極は、前記ゲート電極の端部よりも前記ゲート電極が突出する方向に離れた位置から、前記ゲート電極の側に延伸して、前記延設部分及び前記第１の領域と平面的に重複する、
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項２に記載された液晶表示装置であって、
Ｘ方向に敷設されて走査信号が供給される前記ゲート信号線と、
前記Ｘ方向に対して垂直となるＹ方向に敷設されて映像信号が供給されるドレイン信号線と、を前記液晶表示装置は含み、
前記ドレイン電極は、前記ドレイン信号線の一部であって、該ドレイン信号線は、前記ゲート電極および前記半導体膜と平面的に重複する部分を有して形成され、
前記半導体膜の前記第１の領域は、前記ゲート電極の延設部分、および、前記ゲート電極において前記第１の領域と平面的に重複する部分を基準として前記ゲート信号線に近づく側に延設される部分とによって、前記Ｙ方向となる両側の方向からはさまれ、
前記ドレイン信号線は、前記Ｙ方向の両側から前記半導体膜の第１の領域に延伸して、該ドレイン信号線の一部が前記半導体膜に接続される、
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項１に記載された液晶表示装置であって、
前記透明基板の下側にはバックライトが配置されて、
前記第１の領域は、前記ゲート電極によって前記バックライトの光から遮光され、
前記ソース電極および前記ドレイン電極と、前記ゲート電極との間にかけられる電位差によって電界がかかる領域が、前記バックライトからの光から遮光されない前記第２の領域から離れて位置する、
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
請求項１に記載された液晶表示装置であって、
前記ソース電極と前記ドレイン電極は、前記第２の領域と平面的に重複するのを避けて、前記第１の領域において前記半導体膜と接続する、
ことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜トランジスタ（TFT）が形成された基板に、バックライトからの光を透過させることにより画像を表示する液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置には、薄膜トランジスタ（TFT：Thin Film Transistor）を用いたアクティブマトリクス方式により、各画素の表示制御を行うものがある。このような液晶表示装置は、マトリクス状に薄膜トランジスタが形成されたＴＦＴ基板を有する液晶パネルと、当該液晶パネルに光を供給するバックライトとを含んで構成される。
【０００３】
薄膜トランジスタのデバイス構造としては、非晶質シリコン（a‐Si）や多結晶シリコン（poly-si）等から形成される半導体膜の下側にゲート電極を設けたボトムゲート構造がある。ここで、図９Ａは従来のボトムゲート構造の薄膜トランジスタの一例を示す平面図であり、図９Ｂは、その断面図を示す図である。図９Ｂで示すように、透明基板ＧＡの上側にゲート電極ＧＴが配置されて、ゲート電極ＧＴのさらに上側には半導体膜ＡＳが形成される。
【０００４】
また、図１０Ａは、従来のボトムゲート構造の薄膜トランジスタの一例を示す平面図であり、図１０Ｂは、その断面図を示す図である。図１０Ａで示すように、半導体膜ＡＳは、平面的に見てゲート電極ＧＴの内側に形成され、透明基板ＧＡの下側から供給されるバックライトの光から遮光される。このため、同図で示すような薄膜トランジスタにおいては、液晶表示装置の画質不良の原因となる光リーク電流の発生が抑えられる。
【０００５】
なお、特許文献１においては、同文献の図１２等において示されるように、半導体膜の全体がゲート電極によってバックライトから遮光された薄膜トランジスタが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平０５−３１３１９２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ここで、図９Ａ及び図９Ｂのような薄膜トランジスタの場合には、半導体膜がゲート電極によってバックライトからの光が完全には遮光されないこととなるため、光リーク電流が発生して画質不良が生じる場合がある。また、図１０Ａ及び図１０Ｂのような薄膜トランジスタの場合には、光リーク電流の発生は抑制されるが、ゲート電極の内側に半導体膜が配置されるようにするため、位置合わせ要求精度が厳しくなる。この位置合わせ要求精度に対して、例えば、ゲート電極を広く形成することで緩和できるが、この場合には開口率が低下することとなる。
【０００８】
本発明は、上記課題に鑑みて、光リーク電流の発生を抑制しつつ、半導体膜のアライメント要求精度を緩和できる薄膜トランジスタを有する液晶表示装置を、提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明に係る液晶表示装置は、透明基板の上側に積層されたゲート電極と、前記ゲート電極の上側に積層されるソース電極及びドレイン電極と、前記ゲート電極の上側に積層されて、前記ゲート電極が発生させる電界により前記ソース電極及び前記ドレイン電極間の電流を制御する半導体膜とを含み、前記半導体膜は、前記ゲート電極と平面的に重複する第１の領域と、前記ゲート電極と平面的に重複しない第２の領域とを有する平面的形状で形成され、前記ソース電極と前記ドレイン電極は、前記第２の領域において前記半導体膜と接続せず、前記第１の領域において前記半導体膜と接続する、ことを特徴とする薄膜トランジスタを有している。
【００１０】
また、本発明に係る液晶表示装置の一態様では、前記ゲート電極と前記半導体膜の間には、ゲート絶縁膜が積層されて、前記半導体膜は、前記ゲート絶縁膜に接して積層されて、前記ソース電極および前記ドレイン電極は、前記ゲート絶縁膜に接するとともに、前記半導体膜の側方から乗り上げて積層される、ことを特徴としてもよい。
【００１１】
また、本発明に係る液晶表示装置の一態様では、前記ゲート電極は、前記第１の領域と平面的に重複する部分から前記半導体膜と平面的に重複せずに延設される延設部分を有し、前記ソース電極および前記ドレイン電極は、前記延設部分と平面的に重複する領域を経て前記第１の領域で前記半導体膜に接続される、ことを特徴としてもよい。
【００１２】
また、本発明に係る液晶表示装置の一態様では、前記ソース電極および前記ドレイン電極は、前記ゲート電極に沿うように延伸しつつ、前記延設部分および前記第１の領域と平面的に重複する、ことを特徴としてもよい。
【００１３】
また、本発明に係る液晶表示装置の一態様では、前記ゲート電極は、Ｘ方向に敷設されて走査信号が供給されるゲート信号線から、該Ｘ方向に対して垂直となるＹ方向に突出して形成され、前記延設部分は、前記ゲート電極が突出する方向に、前記半導体膜の前記第１の領域と重複する部分からさらに延設され、前記ソース電極および前記ドレイン電極は、前記ゲート電極の端部よりも前記ゲート電極が突出する方向に離れた位置から、前記ゲート電極の側に延伸して、前記延設部分及および前記第１の領域と平面的に重複する、ことを特徴としてもよい。
【００１４】
また、本発明に係る液晶表示装置の一態様では、Ｘ方向に敷設されて走査信号が供給されるゲート信号線と、前記Ｘ方向に対して垂直となるＹ方向に敷設されて映像信号が供給されるドレイン信号線と、を前記液晶表示装置は含み、前記ドレイン電極は、前記ドレイン信号線の一部であって、該ドレイン信号線は、前記ゲート電極および前記半導体膜と平面的に重複する部分を有して形成され、前記半導体膜の前記第１の領域は、前記ゲート電極の延設部分に、前記Ｙ方向となる両側の方向からはさまれ、前記ドレイン信号線は、前記Ｙ方向の両側から前記半導体膜の第１の領域に延伸して、該ドレイン信号線の一部が接続される、ことを特徴としてもよい。
【００１５】
また、本発明に係る液晶表示装置の一態様では、前記透明基板の下側にはバックライトが配置されて、前記第１の領域は、前記ゲート電極によって前記バックライトの光から遮光され、前記ソース電極および前記ドレイン電極と、前記ゲート電極との間にかけられる電位差によって電界がかかる領域が、前記バックライトからの光から遮光されない前記第２の領域から離れて位置する、ことを特徴としてもよい。
【００１６】
また、本発明に係る液晶表示装置の一態様では、前記ソース電極と前記ドレイン電極は、前記第２の領域と平面的に重複するのを避けて、前記第１の領域において前記半導体膜と接続する、ことを特徴としてもよい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、光リーク電流の発生を抑制しつつ半導体膜を形成する際の位置合わせの要求精度を緩和できる薄膜トランジスタを有した液晶表示装置を、提供することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】ＩＰＳ方式の液晶表示装置を構成するＴＦＴ基板の等価回路図である。
【図２】第１実施形態に係るＴＦＴ基板の画素の様子を示す拡大平面図である。
【図３】図２のIII−III線における断面図である。
【図４】図２のIV−IV線における断面図である。
【図５Ａ】第１実施形態に係る表示装置における薄膜トランジスタＴＦＴを製造する様子を示す図である。
【図５Ｂ】第１実施形態に係る表示装置における薄膜トランジスタＴＦＴを製造する様子を示す図である。
【図５Ｃ】第１実施形態に係る表示装置における薄膜トランジスタＴＦＴを製造する様子を示す図である。
【図５Ｄ】第１実施形態に係る表示装置における薄膜トランジスタＴＦＴを製造する様子を示す図である。
【図５Ｅ】第１実施形態に係る表示装置における薄膜トランジスタＴＦＴを製造する様子を示す図である。
【図６】第２実施形態に係るＴＦＴ基板の画素の様子を示す拡大平面図である。
【図７】ＶＡ方式及びＴＮ方式の表示装置を構成するＴＦＴ基板の等価回路図の一例を示す図である。
【図８】ＶＡ方式及びＴＮ方式のＴＦＴ基板に形成される画素の一例を示す拡大平面図である。
【図９Ａ】従来の薄膜トランジスタの一例を示す平面図である。
【図９Ｂ】図９Ａの薄膜トランジスタの断面図である。
【図１０Ａ】従来の薄膜トランジスタの一例を示す平面図である。
【図１０Ｂ】図１０Ａの薄膜トランジスタの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
［第１実施形態］
以下、本発明の第１実施形態について、図面を参照しながら説明する。本実施形態に係る表示装置は、ＩＰＳ（In-Plane Switching）方式の液晶表示装置であって、走査信号線（ゲート信号線）、映像信号線（ドレイン信号線）、薄膜トランジスタ、画素電極、及び対向電極が配置されたＴＦＴ基板と、当該ＴＦＴ基板と対向し、カラーフィルタが設けられたカラーフィルタ基板と、両基板に挟まれた領域に封入された液晶材料と、当該ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板に光を提供するバックライトとを含んで構成される。このＴＦＴ基板は、ガラス等によって形成された透明基板上に、薄膜トランジスタがマトリクス状に配置されている。
【００２０】
図１は、上記の液晶表示装置のＴＦＴ基板ＳＵＢの等価回路図を示している。また、図２は、ＴＦＴ基板ＳＵＢの１つの画素を拡大した様子を示す拡大平面図である。
【００２１】
これらの図において、ＴＦＴ基板ＳＵＢでは、多数の走査信号線ＧＬが互いに等間隔を置いて図中横方向に延びるとともに、多数の映像信号線ＤＬが互いに等間隔をおいて図中縦方向に延びている。そして、これら走査信号線ＧＬ及び映像信号線ＤＬによりマトリクス状に並ぶ画素のそれぞれが区画されている。また、各走査信号線ＧＬと平行に、基準信号線ＣＬが図中横方向に延びている。マトリクス状に画素が区画される領域（画素領域）の周辺には、走査信号線ＧＬに走査信号を提供する走査信号線駆動回路、映像信号線ＤＬに映像信号を提供する映像信号線駆動回路が配置される。
【００２２】
画素領域は、走査信号線ＧＬ及び映像信号線ＤＬが升目状に区画することにより形成される。図２で示すように、各画素の隅には、ＭＩＳ（Metal-Insulator-Semiconductor）構造を有する薄膜トランジスタＴＦＴが形成されており、そのゲート電極ＧＴは走査信号線ＧＬに接続され、ドレイン電極ＤＴは映像信号線ＤＬに接続されている。また、各画素には一対の画素電極ＰＸ及び対向電極ＣＴが形成されており、画素電極ＰＸは薄膜トランジスタＴＦＴのソース電極ＳＴに接続され、対向電極ＣＴは基準信号線ＣＬに接続されている。
【００２３】
以上の回路構成において、各画素の対向電極ＣＴには基準信号線ＣＬを介して基準電圧が印加され、走査信号線ＧＬには走査信号線駆動回路から順次走査信号が提供されることにより、画素行が選択される。そして、画素行の選択のタイミングにおいて、各映像信号線ＤＬに映像信号線駆動回路が映像信号を供給することにより、各画素の画素電極ＰＸに映像信号の電圧が印加される。これにより、画素電極ＰＸと対向電極ＣＴの間に映像信号の電圧に応じた強度の横電解が発生し、この横電解の強度に応じて液晶分子の配向が決まるようになっている。
【００２４】
ここで、図２に示すように、走査信号線ＧＬからゲート電極ＧＴが図中上側に突出するように設けられ、当該ゲート電極ＧＴに交差するように矩形状の半導体膜ＡＳが配置される。そして、映像信号線ＤＬに設けられるドレイン電極ＤＴと、画素電極ＰＸに設けられるソース電極ＳＴとが、ゲート電極ＧＴが突出する方向から延設されて、半導体膜ＡＳに電気的に接続される。半導体膜ＡＳは、ゲート電極ＧＴと平面的に重複する領域（以下、第１の領域）と、ゲート電極ＧＴと平面的に重複しない領域（以下、第２の領域）とを有する平面的形状で形成され、第２の領域においてドレイン電極ＤＴおよびソース電極ＳＴと接続せずに、第１の領域においてドレイン電極ＤＴおよびソース電極ＳＴと接続される。
【００２５】
ドレイン電極ＤＴおよびソース電極ＳＴとゲート電極ＧＴの間には、電界が発生するが、第１の領域においてドレイン電極ＤＴとソース電極ＳＴとが接続されるために、ゲート−ドレイン電界およびゲート−ソース電界が強く発生する部分がバックライトから遮光される。また、半導体膜ＡＳの第２の領域では、ゲート電極ＧＴに遮光されないためホール・エレクトロン対が発生するが、ゲート−ドレイン電界等の影響が生じにくいために再結合し、光リーク電流がドレイン電流として観測されにくくなる。したがって、半導体膜ＡＳがゲート電極ＧＴから一部がはみ出すように形成されていても、第１の領域においてドレイン電極ＤＴおよびソース電極ＳＴが半導体膜ＡＳに接続されることで、光リーク電流の発生が抑制されるので半導体膜ＡＳのアライメント要求精度が緩和される。
【００２６】
ドレイン電極ＤＴおよびソース電極ＳＴは、第２の領域と平面的に重複するのを避けて、ゲート電極ＧＴおよび半導体膜ＡＳが互いに重複する第１の領域において接続する。そして、これらとゲート電極ＧＴとの間にかけられる電位差によって電界がかかる領域が、ホール・エレクトロン対が発生しうる第２の領域から離れて位置することで、光リーク電流の発生が抑制される。
【００２７】
図３は、図２に示すIII−III線の断面を示す図である。同図に示すように、ＴＦＴ基板ＳＵＢ上の薄膜トランジスタＴＦＴでは、ゲート電極ＧＴの上側にゲート絶縁膜ＧＩを介して半導体膜ＡＳが配置される。そしてドレイン電極ＤＴおよびソース電極ＳＴは、ゲート絶縁膜ＧＩ上に形成されるとともに、半導体膜ＡＳの側方から乗り上げるようにして積層される。半導体膜ＡＳの上側には、オーミックコンタクト層ＤＳが形成されて、ソース電極ＳＴやドレイン電極ＤＴとの間に介在する。このオーミックコンタクト層ＤＳは、例えば、不純物が添加されつつ非晶質シリコンが成膜されて形成される層であり、配線層と半導体層の電気的接触部において、電圧−電流特性が直線性を示すように電気的に接続される。そして、ソース電極ＳＴおよびドレイン電極ＤＴ等は、保護絶縁膜ＩＳ１に上側から覆われる。
【００２８】
特に、図２および図３において示されるように、ゲート電極ＧＴは、半導体膜ＡＳに対して延設される延設部分を有している。当該延設部分は、図２で示すように、半導体膜ＡＳの第１の領域から図中上側および下側（Ｙ方向の両側）に形成される。さらに、当該延設部分は、半導体膜ＡＳと平面的に重複せず、ソース電極ＳＴおよびドレイン電極ＤＴは、延設部分と平面的に重複する領域を経て第１の領域に到達する。ソース電極ＳＴおよびドレイン電極ＤＴが乗り上げる半導体膜ＡＳの側面付近においては、ゲート−ドレイン（ソース）電界が発生しうるが、ゲート電極ＧＴの延設部分によって当該側面付近が遮光されるため光リーク電流の発生が抑制される。そして、図２で示すように、ドレイン電極ＤＴおよびソース電極ＳＴは、ゲート電極ＧＴに沿って延伸して、延設部分および第１の領域と平面的に重複するように形成される。第１の領域は、Ｙ方向に所定の長さを有しているので、ドレイン電極ＤＴおよびソース電極ＳＴの延伸方向のレイアウト上の要求精度が緩和されることとなる。
【００２９】
図４は、図２に示すIＶ−IＶ線の断面を示す図である。本実施形態では、同図において示されるように、ゲート電極ＧＴと半導体膜ＡＳが平面的に交差するように形成されるため、図中左右両側にゲート電極ＧＴから遮光されない第２の領域が、第１の領域をはさむように形成されるが、第２の領域は一方の側にのみ形成されてもよい。また、図２で示すように、ゲート電極ＧＴの延設部分は、第１の領域をはさむように形成されているが、当該延設部分は一方の側にのみ形成されてもよい。例えば、ゲート電極ＧＴの延設部分が走査信号線ＧＬの側にのみ存在する場合には、ソース電極ＳＴおよびドレイン電極ＤＴは、走査信号線ＧＬの側から当該延設部分と平面的に重複して半導体膜ＡＳの第１の領域に延伸する。なお、本実施形態のように延設部分が第１の領域をはさむように形成される場合には、ドレイン電極ＤＴおよびソース電極ＳＴが一方の延設部分と重複する領域から第１の領域に到達し、さらに他方の延設部分と重複する領域まで延伸されてもよいため、レイアウト上の要求精度が緩和されることとなる。
【００３０】
本実施形態では、図２で示すように、ゲート電極ＧＴは、図中Ｘ方向に敷設される走査信号線から、当該Ｘ方向に対して垂直となる図中Ｙ方向となる上側に突出して形成される。そして、ソース電極ＳＴおよびドレイン電極ＤＴは、ゲート電極ＧＴの端部よりも上側に離れた位置から、走査信号線ＧＬの側に、ゲート電極ＧＴに沿って平面的に重複しつつ図中下側に延伸する。このとき半導体膜ＡＳは、ゲート電極ＧＴと平面的に重複する第１の領域と、平面的に重複しない第２の領域とを有する。ソース電極ＳＴおよびドレイン電極ＤＴは、第１の領域においてオーミックコンタクト層を介して電気的に接続する。半導体膜ＡＳとソース電極ＳＴおよびドレイン電極ＤＴは、ゲート絶縁膜ＧＩに接して形成される。そして、ソース電極ＳＴおよびドレイン電極ＤＴが第２の領域を避けて、ゲート電極ＧＴと重複し半導体膜ＡＳと重複しない領域（延設部分と平面的に重複する領域）を経て第１の領域に達して接続する。
【００３１】
なお、本実施形態では、図２で示すように半導体膜ＡＳは矩形状であるが、Ｌ字型等の他の形状であってもよいし、ゲート電極ＧＴも走査信号線ＧＬからＬ字型等の他の形状に形成されてもよい。また、ゲート電極ＧＴが走査信号線ＧＬから突出せず、走査信号線ＧＬの一部がゲート電極ＧＴとして機能してもよい。半導体膜ＡＳやゲート電極ＧＴが他の形状で形成される場合においても、ソース電極ＳＴおよびドレイン電極ＤＴが第１の領域において半導体膜ＡＳと接続すればよい。そしてさらに、図３で示すように、半導体膜ＡＳの側方からソース電極ＳＴおよびドレイン電極ＤＴが乗り上げるように積層される場合には、ソース電極ＳＴおよびドレイン電極ＤＴは、第２の領域との重複を避けて、ゲート電極ＧＴの延設部分と平面的に重複する領域を経て第１の領域において半導体膜ＡＳと接続すればよい。
【００３２】
以上では、本実施形態における薄膜トランジスタＴＦＴについて説明した。以下では、かかる薄膜トランジスタＴＦＴを製造する方法について、図５Ａ〜図５Ｅを用いて説明する。
【００３３】
まず、ガラス基板等の透明基板ＧＡ上にゲート電極ＧＴが形成される（図５Ａ）。ゲート電極ＧＴは、例えばモリブデン等の導電性の金属で形成されて、公知のリソグラフィ工程とエッチング工程を経てその形状が同図に示すように加工される。また、透明基板ＧＡ上には、例えばＣＶＤ法により窒化シリコン（ＳｉＮ）が成膜されることにより汚染防止膜が形成されてもよい。
【００３４】
次に、ゲート電極ＧＴを被覆するようにゲート絶縁膜ＧＩが形成されるとともに、半導体膜ＡＳやオーミックコンタクト層ＤＳがゲート絶縁膜ＧＩ上に形成される（図５Ｂ）。ゲート絶縁膜ＧＩは、例えば二酸化シリコンであり、ＣＶＤ法によって成膜される。半導体膜ＡＳは、非晶質シリコンがＣＶＤ法によって成膜されて形成され、さらにオーミックコンタクト層ＤＳは、非晶質シリコンに、リン等の不純物が高濃度に添加されつつ積層される。
【００３５】
本実施形態における半導体膜ＡＳは、非晶質シリコンであるが、微結晶シリコン（μc-Si）や多結晶シリコン等の結晶性シリコンであってもよい。レーザーアニールや、ＲＴＡ（Rapid Thermal Anneal）法等を用いることで、非晶質シリコンが結晶性シリコンに結晶化される。一般に、半導体膜ＡＳにおけるシリコンの結晶性が向上するにつれて、結晶サイズが大きくなるために電子移動度が向上するが、要求されるプロセス温度が高温になるためにプロセスコストが増大することとなる。なお、微結晶シリコンの結晶粒径は、１０ｎｍ以上１００ｎｍ程度以下の範囲であり、多結晶シリコンの結晶粒径は概ね１００ｎｍ以上の大きさとなる。このような結晶粒径は、反射電子線回折やラマン分光法等によって確認される。
【００３６】
そして、半導体膜ＡＳおよびオーミックコンタクト層ＤＳは、リソグラフィ工程とエッチング工程を経てその形状が同図に示すように加工される（図５Ｃ）。その後、ドレイン電極ＤＴ及びソース電極ＳＴを形成する金属膜が成膜される。ドレイン電極ＤＴ及びソース電極ＳＴは、スパッタリング法により、アルミニウムまたはアルミニウムを含む合金によって形成され、ソース電極ＳＴおよびドレイン電極ＤＴの形状がリソグラフィ工程とエッチング工程を経て加工される（図５Ｄ）。なお、ソース電極ＳＴおよびドレイン電極ＤＴには、アルミニウム等によって形成される配線層を保護するように、バリアメタル層やキャップメタル層が形成されてもよい。このとき、バリアメタル層ＭＢおよびキャップメタル層ＭＣは、例えば、チタン、タングステン、クロムやモリブデン等の高融点の金属による導電性の金属薄膜により形成される。そして、上記の構造全体に、保護絶縁膜ＩＳ１が、プラズマＣＶＤ法により窒化シリコンで成膜されて（図５Ｅ）、その後、画素電極等の他の構造が形成される。
【００３７】
なお、本実施形態では、半導体膜ＡＳは、非晶質シリコンで形成されるとともに所定の厚みを有しており、ソース電極ＳＴおよびドレイン電極ＤＴを形成するエッチング（図５Ｄ）において半導体膜ＡＳの一部が浸食されてよい。また、半導体膜ＡＳの上側にエッチングストッパ膜としての絶縁膜が存在してもよい。
【００３８】
以上説明した本発明の実施形態に係る表示装置は、上記の実施形態によっては限定されず、その技術的思想の範囲内において異なる形態にて実施されてよい。
【００３９】
［第２実施形態］
上記の第１実施形態では、図２で示すように、ゲート電極ＧＴが、映像信号線ＤＬの図中右側に離れて形成されて、ドレイン電極ＤＴは、図中右側に映像信号線ＤＬから突出して形成される。映像信号線ＤＬから突出したドレイン電極ＤＴは、ゲート電極ＧＴに沿って延伸するように屈曲して、ゲート電極ＧＴの延設部分を経て半導体膜ＡＳの第１の領域に接続する。しかし、第２実施形態では、ゲート電極ＧＴと映像信号線ＤＬとが平面的に重複する部分を有し、映像信号線ＤＬがドレイン電極ＤＴとして半導体膜ＡＳの第１の領域と接続する点で、第１実施形態とは異なっている。以下において、第２実施形態を説明するが、第１実施形態とほぼ同様となる点については説明を省略する。
【００４０】
図６は、第２実施形態に係るＴＦＴ基板の画素の様子を示す拡大平面図である。同図で示されるように、映像信号線ＤＬは、ゲート電極ＧＴおよび半導体膜ＡＳと平面的に重複する部分を有しており、映像信号線ＤＬの一部がドレイン電極ＤＴとなっている。映像信号線ＤＬ（ドレイン電極ＤＴ）は、半導体膜ＡＳとゲート電極ＧＴとが平面的に重複する第１の領域において半導体膜ＡＳと接続し、図６において示されるように、第１の領域がゲート電極ＧＴの延設部分によってＹ方向（映像信号線ＤＬの敷設方向）から平面的に挟まれるように、半導体膜ＡＳが形成される。したがって映像信号線ＤＬは、図中Ｙ方向の上側および下側の両側から第１の領域に接続するとともに、ゲート電極ＧＴの延設部分を経て第１の領域に延伸している。第２実施形態では、ドレイン電極ＤＴが映像信号線ＤＬから突出せず、ゲート電極ＧＴと映像信号線ＤＬとが重複することにより開口率が向上する。
【００４１】
図６で示されるように、ゲート電極ＧＴは、走査信号線ＧＬと映像信号線ＤＬとが交差する位置から、映像信号線ＤＬに沿って、映像信号線ＤＬよりも幅広に突出している。また、半導体膜ＡＳは、ゲート電極ＧＴや映像信号線ＤＬと交差するように形成される。しかし、例えば、映像信号線ＤＬから一方の側に離れた位置からゲート電極ＧＴが突出して、さらに映像信号線ＤＬの側に屈曲することで映像信号線ＤＬとゲート電極ＧＴとが重複するようにしてもよい。また、半導体膜ＡＳは、ゲート電極ＧＴや映像信号線ＤＬと交差するように形成されるが、半導体膜ＡＳがゲート電極ＧＴと平面的に重複する第１の領域と平面的に重複しない第２の領域を有するように形成されるのは第１実施形態と同様である。そして、映像信号線ＤＬと半導体膜ＡＳは交差せずとも、半導体膜ＡＳの第１の領域において映像信号線ＤＬの一部分が重複していればよい。図６においては、映像信号線ＤＬは、半導体膜ＡＳの第１の領域に図中Ｙ方向の上側および下側から乗り上げて接続するが、例えば、図中Ｙ方向の両側と、図中Ｘ方向の左側との三方向から乗り上げて接続するように、半導体膜ＡＳが形成されていてもよい。この場合には、ゲート電極ＧＴの延設部分が半導体膜ＡＳの第１の領域の三方向（図中Ｙ方向両側と図中Ｘ方向左側）に形成されるようにする。
【００４２】
なお、上記の各実施形態に係る液晶表示装置において、上記では液晶の駆動方式をＩＰＳ方式として説明しているが、本発明は例えばＶＡ（Vertically Aligned）方式やＴＮ（Twisted Nematic）方式等のその他の方式の駆動方式であってもよい。図７は、ＶＡ方式及びＴＮ方式の表示装置を構成するＴＦＴ基板ＳＵＢの等価回路を示す図であり、図８は、これらの方式の表示装置のＴＦＴ基板ＳＵＢにおける１つの画素を示す拡大平面図である。ＶＡ方式及びＴＮ方式の場合には、ＴＦＴ基板ＳＵＢに対向電極ＣＴ及び基準信号線ＣＬが設けられる代わりに、ＴＦＴ基板ＳＵＢと対向してカラーフィルタが設けられた対向基板に、対向電極ＣＴが設けられている。
【００４３】
以上説明した本発明の各実施形態に係る表示装置は、上記の各実施形態によっては限定されず、その技術的思想の範囲内において異なる形態にて実施されてよい。
【符号の説明】
【００４４】
ＳＵＢ  ＴＦＴ基板、ＧＬ  走査信号線、ＣＬ  基準信号線、ＤＬ  映像信号線、ＰＸ  画素電極、ＣＴ  対向電極、ＴＦＴ  薄膜トランジスタ、ＤＴ  ドレイン電極、ＳＴ  ソース電極、ＧＴ  ゲート電極、ＤＳ  オーミックコンタクト層、ＡＳ  半導体膜、ＧＡ  透明基板、ＧＩ  ゲート絶縁膜、ＩＳ１  保護絶縁膜。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図５Ｄ】
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【図５Ｅ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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