(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体撮像素子の光電変換素子に対応した各々平面視四角形状の着色フィルタをネガタイプのレジストを用いたフォトリソグラフィー法にて作製するために使用するフォトマスクであって、前記フォトマスクは、第２色、もしくは第３色フィルタの４辺に接するように市松模様状に配置された第１色フィルタを作製するための第１色フィルタ用フォトマスクであり、前記第１色フィルタに対応するように配置された四角形状の第１色フィルタ形成用パターンの４隅の連結部に四角形の補正パターンを設けたことにより、前記第１色フィルタ形成用パターンの面積が、前記補正パターンなしの単純な市松模様状の場合と比較して、小さくなることを特徴とするオンチップカラーフィルタ用フォトマスク。
【請求項２】
前記補正パターンが、露光機の解像限界、現像機の解像限界、フォトレジストの解像限界、第１色フィルタ用材料を溶解させるエッチング装置の加工限界のうち、少なくともいずれか一つの限界を超える微細なパターンを有することを特徴とする請求項１に記載のオンチップカラーフィルタ用フォトマスク。
【請求項３】
前記補正パターンが、四角形パターンの組合せ、重ね合せのいずれか、又は組合せ及び重ね合せからなることを特徴とする請求項１又は２に記載のオンチップカラーフィルタ用フォトマスク。
【請求項４】
前記補正パターンが、１辺０．１〜０．４マイクロメートルの四角形パターンの組合せ、重ね合せのいずれか、又は組合せ及び重ね合せからなることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか1項に記載のオンチップカラーフィルタ用フォトマスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ製造用のフォトマスクに関する。特に本発明が有用な分野は、固体撮像素子の光電変換素子に対応した着色フィルタをフォトリソグラフィー法にて作製するために使用するオンチップカラーフィルタ製造用フォトマスクと、それを用いたオンチップカラーフィルタの製造方法に関する分野である。中でも、市松模様状に配置された四角形状の第１色フィルタ用パターンの各４隅が相接する連結部に補正パターンを設けたオンチップカラーフィルタ製造用フォトマスクに関する分野である。
【背景技術】
【０００２】
固体撮像素子の光電変換素子に対応した青色、緑色、赤色等の着色フィルタは、パターン精度及びパターン再現性の点から、通常、フォトリソグラフィー法にて作製されるのが一般的で、図１（ａ）〜（ｆ）に示すような工程で作製される。ここに示したカラーフィルタは、カラー固体撮像素子等に用いられるカラーフィルタの構成事例で、個々の着色フィルタ間にブラックマトリクスを設けない場合の事例である。
【０００３】
まず、アクリル系の感光性樹脂に緑色顔料を分散した緑色感光性樹脂溶液を光電変換素子及び平坦化層が形成された半導体基板１１上にスピンナー等を用いて塗布し、緑色感光層２４を形成する（図１（ａ）参照）。さらに、所定のフォトマスクを使ってパターン露光し、現像、ポストベーク等の一連のパターニング処理を行って、緑色フィルタ２４Ｇを形成する（図１（ｂ）参照）。
【０００４】
次に、アクリル系の感光性樹脂に青色顔料を分散した青色感光性樹脂溶液を緑色フィルタ２４Ｇが形成された半導体基板１１上にスピンナー等を用いて塗布し、青色感光層２５を形成する（図１（ｃ）参照）。
【０００５】
次に、所定のフォトマスクを使ってパターン露光し、現像、ポストベーク等の一連のパターニング処理を行って、青色フィルタ２５Ｂを形成する（図１（ｄ）参照）。
【０００６】
次に、アクリル系の感光性樹脂に赤色顔料を分散した赤色感光性樹脂溶液を緑色フィルタ２４Ｇ及び青色フィルタ２５Ｂが形成された半導体基板上１１にスピンナー等を用いて塗布し、赤色感光層２６を形成する（図１（ｅ）参照）。
【０００７】
次に、所定のフォトマスクを使ってパターン露光し、現像、ポストベーク等の一連のパターニング処理を行って、赤色フィルタ２６Ｒを形成する（図１（ｆ）参照）。
【０００８】
以上の工程で固体撮像素子基板上１１上に緑色フィルタ２４Ｇ、青色フィルタ２５Ｂ、赤色フィルタ２６Ｒのオンチップカラーフィルタを作製することができる。
【０００９】
ここで、上記オンチップカラーフィルタの平面視でのカラーフィルタ配列の一例を図２に示す。図２では、便宜上６行６列の部分しか示していないが、全体ではｎ行ｍ列（ｎ、ｍは任意の自然数）である。このカラーフィルタ配列では、例えば、四角形状の青色フィルタＢの４辺に接するように市松模様状に四角形状の緑色フィルタＧが配置されている。のみならず、四角形状の赤色フィルタＲの４辺に接するようにも市松模様状に四角形状の緑色フィルタＧが配置されている。
【００１０】
ここで、図２のカラーフィルタ配列で、第２行第３列目の青色フィルタＢ周辺のカラー
フィルタ配列を部分的に取り出したのが図３である。四角形状の青色フィルタＢの４辺に接するように市松模様状に四角形状の緑色フィルタＧが配置されており、青色フィルタＢの対角に赤色フィルタＲが配置されている。
【００１１】
先に記した図１の製造方法で、平面視で市松模様状とした単純な四角形状のパターンを有するフォトマスクで作製した緑色フィルタ２４Ｇ、青色フィルタ２５Ｂ、赤色フィルタ２６Ｒ等のオンチップカラーフィルタは、図４に示すように、緑色フィルタ２４Ｇの各パターンのコーナー部同士が相互に連結し（この連結部分を、本件特許出願では「ブリッジ」と称することとする。）、青色フィルタ２５Ｂ、赤色フィルタ２６Ｒの各パターンは、周囲を緑色フィルタ２４Ｇのパターンに包囲された形とすることができる。
【００１２】
このような、緑色フィルタ２４Ｇの各４隅がブリッジで連結した形状のオンチップカラーフィルタは、剥がれに強く下地となる層への密着性が高いという特長があるとされている（例えば、特許文献１参照）。また、カラーフィルタパターンが微細になると角部が解像せず、また現像の際に角部が削られ、パターンの角部が丸みをおびやすい。そのため、緑色フィルタ２４Ｇ、青色フィルタ２５Ｂ、赤色フィルタ２６Ｒが相互に接するコーナー部には、隙間が生じ易くなってしまう。その隙間を模式的に表現したのが、図５である。各コーナー部に隙間が生じると、この隙間から白色光が入り込むので、カラー固体撮像素子の色再現性を悪化させるという問題が発生する。そこで、ブリッジを形成することは、オンチップカラーフィルタの製造上又、固体撮像素子の性能を上げる上で望ましいことである。
【００１３】
ただし、先に記した図１の製造方法で、平面視で市松模様とした単純な四角形状のパターンを有するフォトマスクで作製した緑色フィルタ２４Ｇ、青色フィルタ２５Ｂ、赤色フィルタ２６Ｒ等のオンチップカラーフィルタは、このブリッジの形状にやや問題が残っている。図６の写真は、先に記した図１の製造方法によりカラーフィルタを作製した場合の代表的な例を示している。図６における［Ｇ］の印は、緑色フィルタ２４Ｇに対応する部分であることを示す。この写真に見られるように、単純な四角形状のパターンを有するフォトマスクで作製するとブリッジが太くなり過ぎ、緑色フィルタ２４Ｇ、青色フィルタ２５Ｂ、赤色フィルタ２６Ｒの各パターンの出来上がり形状が悪化してしまうのである。また、ブリッジが太くなった緑色フィルタ２４Ｇに対して、青色フィルタ２５Ｂと赤色フィルタ２６Ｒの各パターンを引き続き形成すると、青色フィルタ、赤色フィルタの出来上がり面積が過度に小さくなってしまう。よって、これもカラー固体撮像素子の色再現性を悪化させることにつながり問題である。
【特許文献１】特開２０００−２４１６１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は上記問題点に鑑み創案されたものであり、固体撮像素子の光電変換素子に対応した着色フィルタをフォトリソグラフィー法にて作製するにあたり、第１色（例えば、緑色）のブリッジの出来上がり形状を好ましい形状とし、第２色（例えば、青色）フィルタ及び第３色（例えば、赤色）フィルタの開口（画素）領域を最大限に確保できるカラーフィルタ用フォトマスク及びそれを用いたカラーフィルタの製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本件特許出願において請求項１に記載の発明は、固体撮像素子の光電変換素子に対応した各々平面視四角形状の着色フィルタをネガタイプのレジストを用いたフォトリソグラフィー法にて作製するために使用するフォトマスクであって、前記フォトマスクは、第２色、もしくは第３色フィルタの４辺に接するように市松模様状に配置された第１色フィルタを作製するための第１色フィルタ用フォトマスクであり、前記第１色フィルタに対応するように配置された四角形状の第１色フィルタ形成用パターンの４隅の連結部に四角形の補正パターンを設けたことにより、前記第１色フィルタ形成用パターンの面積が、前記補正パターンなしの単純な市松模様状の場合と比較して、小さくなることを特徴とするオンチップカラーフィルタ用フォトマスクである。
【００１７】
本件特許出願において請求項２に記載の発明は、前記補正パターンが、露光機の解像限界、現像機の解像限界、フォトレジストの解像限界、第１色フィルタ用材料を溶解させるエッチング装置の加工限界のうち、少なくともいずれか一つの限界を超える微細なパターンを有することを特徴とする請求項１に記載のオンチップカラーフィルタ用フォトマスクである。
【００１９】
本件特許出願において請求項３に記載の発明は、前記補正パターンが、四角形パターンの組合せ、重ね合せのいずれか、又は組合せ及び重ね合せからなることを特徴とする請求項１又は２に記載のオンチップカラーフィルタ用フォトマスクである。
【００２０】
本件特許出願において請求項４に記載の発明は、前記補正パターンが、１辺０．１〜０．４マイクロメートルの四角形パターンの組合せ、重ね合せのいずれか、又は組合せ及び重ね合せからなることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか1項に記載のオンチップカラーフィルタ用フォトマスクある。
【発明の効果】
【００２３】
本発明のオンチップカラーフィルタ用フォトマスクを使用してカラーフィルタを製造すると、第１色フィルタと第２色フィルタとの間、第１色フィルタと第３色フィルタとの間に、特に対向する角部間に隙間を発生させないことから、剥れに強く、また、白色光が漏れ入らないため感度特性に優れた固体撮像素子を得ることができる。しかも、第１色フィルタのブリッジが所望される精度の良い形状（図７）に形成されるため、第２色フィルタや第３色フィルタが小さくなってしまったり、或いは逆に、ブリッジが断線状態になったりといった不具合の発生も防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明の実施の形態につき説明する。
【００２５】
課題を解決するために本件特許出願の発明者は、最初に図９に示すようなネガ型の緑感光性レジストに露光を行うための緑色フィルタ用フォトマスク使用して、緑色フィルタ２４Ｇを作製してみた。図９は、緑色フィルタ形成用の各四角形パターンの各コーナー部分（４隅）をカットすることで、緑色フィルタ２４Ｇのブリッジを細くすることを狙っているフォトマスクの例を示している。なお、図９におけるＧＰが、緑色フィルタ２４Ｇ形成用の各四角形パターンを示している。
【００２６】
しかし、このフォトマスクの使用は一つの解決方法例ではあるが、最良の解決方法とは言えなかった。すなわちコーナー部分をカットしてもカット面積が大きい（つまり、図９におけるｄ１が大きい）とブリッジは細くならず、逆にカットする大きさを小さくすると、しばしばブリッジが断線状態になってしまった。図８に、このフォトマスクの使用によりカラーフィルタを作製したときの代表例（コーナーカットが小さい場合）の写真を示す。図８における［Ｇ］の印は、緑色フィルタ２４Ｇに対応する部分であることを示す。この写真に見られるように、ブリッジが断線状態となり易い。ブリッジが断線したところは隙間となることから、隙間から白色光が入り込んでカラー固体撮像素子の色再現性に支障が出ることを回避したり剥れに強くなったりという、既に述べたようなブリッジの特長を喪失してしまい問題である。
【００２７】
この事実を基に本件特許出願の発明者は、緑色フィルタ２４Ｇの各四角形パターンのコーナー部分（４隅）をカットするだけではなく、ブリッジが断線状態となり難いような補正部を有するフォトマスクを使用して、緑色フィルタ２４Ｇを作製するのが、最良であることを見出した。
【００２８】
この補正部を有するフォトマスクの、部分平面模式図が図１０である。本発明のオンチップカラーフィルタ用フォトマスク３０は、第１色（例えば、緑色）フィルタ形成用のパターン３３（開口部）と、第１色（例えば、緑色）フィルタ形成用の各パターン３３の各四隅に位置する連結部の補正部３２と、ブランクパターン３１（遮光部）とで構成されている。ブランクパターン３１は、後に第２色（例えば、青色）や第３色（例えば、赤色）カラーフィルタを形成する場所に、第１色（例えば、緑色）フィルタを形成せずに空隙とするためのパターンである。
【００２９】
なお、以後では、カラーフィルタ形成用の着色レジストとして、ネガタイプのレジストを使用するものとする。すると第１色（例えば、緑色）フィルタ形成用のパターン３３は開口部（光透過部）となり、ブランクパターン３１は遮光部となる。もっとも本発明はレジストがネガタイプの場合に限定されるものではない。図１０の開口部と遮光部とを入換えれば、ポジタイプのレジストの場合に使用することができる。また、カラーフィルタ自体、着色レジストで形成される場合に限定されない。レジストではない樹脂等の他の材料により形成されてもよい（別途レジスト材料を上から塗布した上で、露光描画、現像、パターニング、形成したパターンへの染色という手順を踏めば、着色レジストで形成する以下の実施例の場合と同様の実行ができる）。
【００３０】
補正部３２は平面形状として様々なものがあり得るが、その具体的な一例を図１１に示す。
【００３１】
ここで補正部３２に形成されるパターン（以下「補正パターン」ということもある）の大きさは、パターン露光されたレジストを現像した際、露光されたレジストを現像した際、露光された通りのパターンが得られる大きさよりも小さくする、いわゆる、解像限界の大きさよりも小さくする。そのため、カラーフィルタ形成用の着色レジストを、露光、現像しても、その解像限界を超えるために補正部に設けたパターン（補正パターン）通りに現像されず角が完全に丸め込まれる。なお、解像限界を超えるのは、必ずしもレジストの解像限界についてである必要はなく、場合によっては、露光機の解像限界や、現像機の解像限界、エッチング装置の解像限界などで定めてもよい。結果的に、現像後のカラーフィルタ材料の形状が、補正部に形成したパターンと全く同一にはならず、角が丸め込まれるように形成されればよい。
【００３２】
なお、以下にネガ型のレジスト材料にパターンを行うマスクのパターンにつき説明を行うが、説明の都合上、遮光部を白で、開口部を黒で図示している。すなわち、実際のマスクでは図１１中の３３部位（黒部）は光透過部を、３１部位（白部）は遮光部である。
【００３３】
図１１の補正部３２は、１辺ａ＝０．２μｍ正方形の遮光パターンと、それに重なる１辺ｂ＝０．１μｍ正方形の島状開口パターンで構成されている。このような補正部３２を、第１色（例えば、緑色）フィルタ形成用の各開口パターン３３の四隅の連結部に配置する。これにより当該連結部での遮光部の面積は、この補正部３２がない単純な市松模様状の場合のよりも０．０１μｍ2大きい。したがって、前記補正パターンを設けたことにより、前記第１色フィルタ形成用パターンの面積が、前記補正パターンなしの単純な市松模様状の場合と比較して、小さくなる。よって、補正部３２により、第１色（例えば、緑色）フィルタ形成用の四隅の連結部は、遮光率が上昇し、カラーフィルタ形成用着色レジストは残り難くなる。すなわち、ブリッジは細くなる。
【００３４】
しかし他方で図１１の補正部３２がある場合を、単純なコーナーカットの場合（図１２、ａ＝０．２μｍの場合。この場合も遮光部の面積が、単純な市松模様状の場合のよりも０．０１μｍ2大きい。）と比べると、１辺ｂ＝０．１μｍ正方形の島状開口パターンが連結部中央に存在することから、ブリッジが断線状態になり難くなっている。
【００３５】
なお、図１１の補正部３２における、ａ、ｂの各値は、前掲の値に限られる訳ではない。本件特許出願の発明者の実験によれば、例えば、ａ＝０．４μｍ、ｂ＝０．１５μｍの場合においても、現在使用しているカラーフィルタ形成用着色レジストには、十分な効果が認められた。このように実際には、解像限界値により、ａ、ｂの各値のとり得る値の範囲は決まる。
【００３６】
オンチップカラーフィルタ用フォトマスク３０は、低反射クロムブランクスを用い、電子ビームによりレジストに露光後、現像、エッチングを行うフォトエッチング法にて作製することができる。よって、補正部３２内に０．１〜０．４μｍのパターンを精度良く作製できる。
【００３７】
以下、オンチップカラーフィルタの、オンチップカラーフィルタ用フォトマスクを用いた製造方法について説明する。図１３（ａ）〜（ｆ）は、本発明のオンチップカラーフィルタ用フォトマスクを用いて、オンチップカラーフィルタを製造する方法の実施例の一つを示す構成断面模式図である。ここで、緑色フィルタＧ、青色フィルタＢ及び赤色フィルタＧのカラーフィルタ平面視配列は図３に示す配列とする。
【００３８】
まず、光電変換素子及び平坦化層が形成された半導体基板１１上に、ネガ型感光性樹脂に着色顔料（例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６及びＣ．Ｉ．ピグメントグリーン７）と、シクロヘキサノンやＰＧＭＥＡなどの有機溶剤と、酸分解性樹脂と、光酸発生剤と、分散剤とをロールミル等で混練して作製したネガ型緑色レジストをスピンコート等で塗布し、緑色感光層２１を形成する（図１３（ａ）参照）。
【００３９】
次に、図１３に示す、ガラス等の透明基板上に第１色（例えば、緑色）フィルタ形成用
の開口パターン３３と、遮光パターン３１とが形成されたオンチップカラーフィルタ用フォトマスク３０を用いてパターン露光、現像等のパターニング処理を行って、半導体基板１１上の所定位置に緑色フィルタ２１Ｇを形成する（図１３（ｂ）及び図１４参照）。
【００４０】
次に、ネガ型感光性樹脂に青色顔料（例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３）と、分散剤等とをロールミル等で混練して作製したネガ型青色レジストをスピンコート等で塗布し、青色感光層２２を形成する（図１３（ｃ）参照）。
【００４１】
次に、四角形状のパターンが形成された青色フィルタ用露光マスクを用いてパターン露光し、現像等の一連のパターニング処理を行って、青色フィルタ２２Ｂを形成する（図１３（ｄ）及び図１５参照）。
【００４２】
ここで、青色フィルタ２２Ｂのコーナー部は、緑色フィルタ２１Ｇの四隅に設けられた連結部２１ｃとオーバーラップされた状態で形成されるので、緑色フィルタ２１Ｇと青色フィルタ２２Ｂとの間で隙間が発生しない。また、緑色フィルタが基板に強く密着しているため、緑色フィルタにオーバーラップし、緑色フィルタに支えられる青色フィルタの基板への密着性も向上する。
【００４３】
次に、ネガ型感光性樹脂に赤色顔料（例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド４８：１及びＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９）と、分散剤等とをロールミル等で混練して作製したネガ型赤色レジストをスピンコート等で塗布し、赤色感光層２３を形成する（図１３（ｅ）参照）。
【００４４】
次に、四角形状のパターンが形成された赤色フィルタ用露光マスクを用いてパターン露光し、現像等の一連のパターニング処理を行って、赤色フィルタ２３Ｒを形成する（図５（ｆ）及び図２１参照）。
【００４５】
ここで、赤色フィルタ２３Ｒのコーナー部は、緑色フィルタ２１Ｇの四隅に設けられた連結部２１ｃとオーバーラップされた状態で形成されるので、緑色フィルタ２１Ｇと赤色フィルタ２３Ｒとの間で隙間が発生しない。また、上述したのと同様に、緑色フィルタに支えられる赤色フィルタの基板への密着性は向上する。
【００４６】
以上の工程で、光電変換素子及び平坦化層が形成された半導体基板１１上に、緑色フィルタ２１Ｇと、青色フィルタ２２Ｂと、赤色フィルタ２３Ｒとからなる固体撮像素子カラーフィルタを形成することができる。
【００４７】
本発明のオンチップカラーフィルタ用フォトマスクを用いた固体撮像素子カラーフィルタの製造方法では、第２色、もしくは第３色フィルタの４辺に接するように市松模様状に配置された第１色フィルタを作製するための第１色フィルタ用フォトマスクであって、前記第１色フィルタに対応するように配置された四角形状の第１色フィルタ形成用パターンの４隅が相接する連結部に補正パターンを設けたオンチップカラーフィルタ用フォトマスクを用いて第１色（緑色）フィルタを作製するため、第２色（青色）、第３色（赤色）フィルタ寸法を均一に作製することができ、第１色（緑色）フィルタと第２色（青色）フィルタとの間、第１色（緑色）フィルタと第３色（赤色）フィルタとの間で隙間が発生せず、感度特性に優れた固体撮像素子を得ることができる。
【実施例１】
【００４８】
以下の実施例では、補正部の具体的な他の例を挙げてみる。以下の例でもカラーフィルタ形成用の着色レジストとしてはネガタイプのレジストを使用するものとするが、説明の
都合上、マスクパターンの遮光部と開口部は色逆煮表示している。すなわち、図１６ないし図２０において黒部は光透過部を、白部は遮光部を示している。なお、着色レジストとしてポジタイプのものを用いる場合には、２２のパターンの白黒は図１６から図２０の白黒と同じになる。
【００４９】
図１６は、他の補正の第一の例を示す部分平面模式図である。（以下では「第一」「第二」等は便宜上番号を付したものであり、効果の大小等に直接関係しない。）
ここで補正部３２に形成するパターンは、カラーフィルタ形成用の着色レジストを、露光、現像しても、その解像限界を超えるために開口パターン通りに現像されず角が完全に丸め込まれてしまう、極めて微細な形状のパターンである。なお、解像限界を超えるのは、必ずしもレジストの解像限界についてである必要はなく、場合によっては、露光機の解像限界や、現像機の解像限界、エッチング装置の解像限界などでもよい。結果的に、現像後のカラーフィルタ材料の形状が、補正部３２に形成したパターンと全く同一にはならず、角が丸め込まれるように形成されればよい。
【００５０】
図１６の補正部３２は、１辺ａ＝０．３μｍ正方形の遮光パターンと、２個の１辺ｂ＝０．１μｍ正方形の開口パターンで構成されている。このような補正部３２を、第１色（例えば、緑色）フィルタ形成用の各開口パターンの四隅の連結部に配置する。これにより当該連結部での遮光部の面積は、この補正部３２がない単純な市松模様状の場合よりも０．０３μｍ2大きい。したがって、前記補正部にパターンを設けたことにより、前記第１色フィルタ形成用パターンの面積が、前記補正パターンなしの単純な市松模様状の場合と比較して、小さくなる。よって、補正部３２のパターンにより、第１色（例えば、緑色）フィルタ形成用の各開口パターン３１四隅の連結部は遮光率が上昇し、カラーフィルタ形成用着色レジストは残り難くなる。すなわち、ブリッジは細くなる。
【００５１】
しかし他方で図１６の補正部３２がある場合を、単純なコーナーカットの場合（図１２。ａの値は、開口部の面積が図１６の場合と等しくなるような値（ａ＞０．３μｍ）である。）と比べると、２個の１辺ｂ＝０．１μｍの正方形の開口パターンが存在することから開口部間の最短距離は短くなり、ブリッジが断線状態になり難くなっている。
【００５２】
なお、図１６の補正部３２における、ａ、ｂの各値は、前掲の値に限られる訳ではない。本件特許出願の発明者の実験によれば、例えば、ａ＝０．６μｍ、ｂ＝０．２５μｍの場合においても、現在使用しているカラーフィルタ形成用着色レジストには、十分な効果が認められた。このように実際には、解像限界値により、ａ、ｂの各値のとり得る値の範囲は決まる。
【実施例２】
【００５３】
図１７は、他の補正パターンの第二の例を示す部分平面模式図である。
【００５４】
ここで補正部３２に形成するパターンは、カラーフィルタ形成用の着色レジストを、露光、現像しても、その解像限界を超えるために開口パターン通りに現像されず角が完全に丸め込まれてしまう、極めて微細な形状のパターンである。なお、解像限界を超えるのは、必ずしもレジストの解像限界についてである必要はなく、場合によっては、露光機の解像限界や、現像機の解像限界、エッチング装置の解像限界などでもよい。結果的に、現像後のカラーフィルタ材料の形状が、補正部３２に形成したパターンと全く同一にはならず、角が丸め込まれるように形成されればよい。
【００５５】
図１７の補正部３２は、１辺ａ＝０．４５μｍの正方形の遮光パターンと、３個の正方形（１個の１辺ｂ＝０．１５μｍ正方形と２個の１辺ｃ＝０．１５μｍ正方形）の開口パターンで構成されている。このような補正部３２を、第１色（例えば、緑色）フィルタ形
成用の各開口パターンの四隅の連結部に配置する。これにより当該連結部での遮光部の面積は、この補正部３２がない単純な市松模様状の場合よりも０．０１５μｍ2大きい。したがって、前記補正パターンを設けたことにより、前記第１色フィルタ形成用パターンの面積が、前記補正パターンなしの単純な市松模様状の場合と比較して、小さくなる。よって、補正部３２により、第１色（例えば、緑色）フィルタ形成用の各開口パターン３３の四隅の連結部は、遮光率が上昇し、カラーフィルタ形成用着色レジストは残り難くなる。すなわち、ブリッジは細くなる。
【００５６】
しかし他方で図１７の補正部３２がある場合を、単純なコーナーカットの場合（図１２。ａの値は、開口部の面積が図１７の場合と等しくなるような値（０．２＜ａ＜０．３μｍ）である。）と比べると、３個の１辺ｂ＝０．１５μｍ正方形の開口パターンが連結部中央付近に斜めに並んで存在することから、ブリッジが断線状態になり難くなっている。
【００５７】
なお、図１７の補正部３２における、ａ、ｂの各値は、前掲の値に限られる訳ではない。実際には、解像限界値により、ａ、ｂ、ｃの各値のとり得る値の範囲は決まる。ｂ＝ｃであるとも限らない。
【実施例３】
【００５８】
図１８は、他の補正パターンの第三の例を示す部分平面模式図である。
【００５９】
ここで補正部３２に形成するパターンは、カラーフィルタ形成用の着色レジストを、露光、現像しても、その解像限界を超えるために開口パターン通りに現像されず角が完全に丸め込まれてしまう、極めて微細な形状のパターンである。なお、解像限界を超えるのは、必ずしもレジストの解像限界についてである必要はなく、場合によっては、露光機の解像限界や、現像機の解像限界、エッチング装置の解像限界などでもよい。結果的に、現像後のカラーフィルタ材料の形状が、補正部３２に形成したパターンと全く同一にはならず、角が丸め込まれるように形成されればよい。
【００６０】
図１８の補正部３２は、１辺ａ＝０．２μｍ正方形の遮光パターンで構成されている。また、ｂ＝ａ／２となっている。このような補正部３２を、第１色（例えば、緑色）フィルタ形成用の各開口パターンの四隅の連結部に配置する。これにより当該連結部での遮光部の面積は、この補正部３２がない単純な市松模様状の場合よりも０．０２μｍ2大きい。したがって、前記補正パターンを設けたことにより、前記第１色フィルタ形成用パターンの面積が、前記補正パターンなしの単純な市松模様状の場合と比較して、小さくなる。よって、補正部３２により、第１色（例えば、緑色）カラーフィルタ形成用の各開口パターン３３四隅の連結部は、遮光率が上昇し、カラーフィルタ形成用着色レジストは残り難くなる。すなわち、ブリッジは細くなる。
【００６１】
しかし他方で図１８の補正部３２がある場合を、単純なコーナーカットの場合（図１２。ａの値は、開口部の面積が図１８の場合と等しくなるような値（０．２＜ａ＜０．３μｍ）である。）と比べると、遮光パターンの形状の違いから開口部間の最短距離は短くなっており、ブリッジが断線状態になり難くなっている。
【００６２】
なお、図１８の補正部３２における、ａ、ｂの各値は、前掲の値に限られる訳ではない。実際には、解像限界値により、ａ、ｂの各値のとり得る値の範囲は決まる。
【実施例４】
【００６３】
図１９は、他の補正パターンの第四の例を示す部分平面模式図である。
【００６４】
ここで補正部３２に形成するパターンは、カラーフィルタ形成用の着色レジストを、露
光、現像しても、その解像限界を超えるために開口パターン通りに現像されず角が完全に丸め込まれてしまう、極めて微細な形状のパターンである。なお、解像限界を超えるのは、必ずしもレジストの解像限界についてである必要はなく、場合によっては、露光機の解像限界や、現像機の解像限界、エッチング装置の解像限界などでもよい。結果的に、現像後のカラーフィルタ材料の形状が、補正部３２に形成したパターンと全く同一にはならず、角が丸め込まれるように形成されればよい。
【００６５】
図１９の補正部３２は、１辺ａ＝０．３μｍ正方形の遮光パターンと、２個の１辺ｂ＝０．１μｍ正方形の開口パターンで構成されている。このような補正部３２を、第１色（例えば、緑色）フィルタ形成用の各開口パターンの四隅の連結部に配置する。これにより当該連結部での遮光部の面積は、この補正部３２がない単純な市松模様状の場合よりも大きい。したがって、前記補正部にパターンを設けたことにより、前記第１色フィルタ形成用パターンの面積が、前記補正パターンなしの単純な市松模様状の場合と比較して、小さくなる。よって、補正部３２のパターンにより、第１色（例えば、緑色）カラーフィルタ形成用の各開口パターン３３四隅の連結部は、遮光率が上昇し、カラーフィルタ形成用着色レジストは残り難くなる。すなわち、ブリッジは細くなる。
【００６６】
しかし他方で図１９の補正部３２がある場合を、単純なコーナーカットの場合（図１２。ａの値は、開口部の面積が図１９の場合と等しくなるような値である。）と比べると、２個の１辺ｂ＝０．１μｍ正方形の開口パターンが連結部中央付近に存在することから、ブリッジが断線状態になり難くなっている。
【００６７】
なお、図１９の補正部３２における、ａ、ｂの各値は、前掲の値に限られる訳ではない。実際には、解像限界値により、ａ、ｂ、ｃの各値のとり得る値の範囲は決まる。ｂ＝ｃであるとも限らないし、前記遮光パターンは正方形でなくてもよい。
【実施例５】
【００６８】
図２０は、他の補正パターンの第五の例を示す部分平面模式図である。
【００６９】
ここで補正部３２に形成するパターンは、カラーフィルタ形成用の着色レジストを、露光、現像しても、その解像限界を超えるために開口パターン通りに現像されず角が完全に丸め込まれてしまう、極めて微細な形状のパターンである。なお、解像限界を超えるのは、必ずしもレジストの解像限界についてである必要はなく、場合によっては、露光機の解像限界や、現像機の解像限界、エッチング装置の解像限界などでもよい。結果的に、現像後のカラーフィルタ材料の形状が、補正部３２に形成したパターンと全く同一にはならず、角が丸め込まれるように形成されればよい。
【００７０】
図２０の補正部３２は、８個の１辺ａ＝０．１μｍの正方形の遮光パターンで構成されている。このような補正パターン３２を、第１色（例えば、緑色）フィルタ形成用の各開口パターンの四隅の連結部に配置する。これにより当該連結部での遮光部の面積は、この補正部３２がない単純な市松模様状の場合よりも大きい。したがって、前記補正パターンを設けたことにより、前記第１色フィルタ形成用パターンの面積が、前記補正パターンなしの単純な市松模様状の場合と比較して、小さくなる。よって、補正部３２により、第１色（例えば、緑色）フィルタ形成用の各開口パターン３３四隅の連結部は、遮光率が上昇し、カラーフィルタ形成用着色レジストは残り難くなる。すなわち、ブリッジは細くなる。
【００７１】
しかし他方で図２０の補正部３２がある場合を、単純なコーナーカットの場合（図１２。ａの値は、開口部の面積が図２０の場合と等しくなるような値である。）と比べると、ブリッジが断線状態になり難くなっている。
【００７２】
なお、図２０の補正部３２における、ａの各値は、前掲の値に限られる訳ではない。実際には、解像限界値により、ａの各値のとり得る値の範囲は決まる。
【図面の簡単な説明】
【００７３】
【図１】固体撮像素子カラーフィルタの製造工程の例を示す説明図である。
【図２】緑色フィルタＧと、青色フィルタＢと、赤色フィルタＲのカラーフィルタ配列の一例を示す配置図である。
【図３】緑色フィルタＧと、青色フィルタＢと、赤色フィルタＲのカラーフィルタ配列の一例を示す配置図である。
【図４】各コーナー部にブリッジがある場合の緑色フィルタ２４Ｇと、青色フィルタ２５Ｂと、赤色フィルタ２６Ｒのカラーフィルタの平面模式図である。
【図５】各コーナー部に隙間がある場合の緑色フィルタ２４Ｇと、青色フィルタ２５Ｂと、赤色フィルタ２６Ｒのカラーフィルタの平面模式図である。
【図６】ブリッジが太いカラーフィルタ（従来技術によるもの）の写真である。
【図７】ブリッジが細く好ましい出来上がり形状となっているカラーフィルタ（本発明の技術によるもの）の写真である。
【図８】ブリッジが断線状態となっているカラーフィルタの写真である。
【図９】市松模様配置された四角形状の各第１色フィルタ形成用パターンの四隅をカットしたフォトマスクの平面模式図である。
【図１０】市松模様配置された四角形状の各第１色フィルタ形成用パターンの四隅に補正パターンを設けた、本発明のフォトマスクの平面模式図である。
【図１１】本発明のフォトマスクにおける、補正部の一例を示す平面模式図である。
【図１２】本発明のフォトマスクにおける補正部が、単純なコーナーカット型の場合の例を示す平面模式図である。
【図１３】本発明のフォトマスク製造工程の例を説明する断面模式図である。
【図１４】本発明のフォトマスク製造工程の例を説明する平面模式図である。
【図１５】本発明のフォトマスク製造工程の例を説明する平面模式図である。
【図１６】本発明のフォトマスクにおける、補正部の一例を示す平面模式図である。
【図１７】本発明のフォトマスクにおける、補正部の一例を示す平面模式図である。
【図１８】本発明のフォトマスクにおける、補正部の一例を示す平面模式図である。
【図１９】本発明のフォトマスクにおける、補正部の一例を示す平面模式図である。
【図２０】本発明のフォトマスクにおける、補正部の一例を示す平面模式図である。
【図２１】本発明のフォトマスク製造工程の例を説明する平面模式図である。
【符号の説明】
【００７４】
１１……半導体基板
２１、２４……緑色感光層
２１ｃ……連結部
２１Ｇ、２４Ｇ、Ｇ……緑色フィルタ
２２、２５……青色感光層
２２Ｂ、２５Ｂ、Ｂ……青色フィルタ
２３、２６……赤色感光層
３３Ｒ、２６Ｒ、Ｒ……赤色フィルタ
３０……緑色フィルタ用フォトマスク
３１……ブランクパターン（例えば、ネガレジスト使用の場合は遮光部、ポジレジスト使用の場合は開口部である）
３２……補正部
３３……第１色フィルタ形成用パターン（例えば、ネガレジスト使用の場合は開口部、ポジレジスト使用の場合は遮光部である）
ＧＰ……緑色フィルタ形成用パターン
【図１】
0005446098.tif 000002
【図２】
0005446098.tif 000003
【図３】
0005446098.tif 000004
【図４】
0005446098.tif 000005
【図５】
0005446098.tif 000006
【図６】
0005446098.tif 000007
【図７】
0005446098.tif 000008
【図８】
0005446098.tif 000009
【図９】
0005446098.tif 000010
【図１０】
0005446098.tif 000011
【図１１】
0005446098.tif 000012
【図１２】
0005446098.tif 000013
【図１３】
0005446098.tif 000014
【図１４】
0005446098.tif 000015
【図１５】
0005446098.tif 000016
【図１６】
0005446098.tif 000017
【図１７】
0005446098.tif 000018
【図１８】
0005446098.tif 000019
【図１９】
0005446098.tif 000020
【図２０】
0005446098.tif 000021
【図２１】
0005446098.tif 000022