(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶表示装置に用いられる基板を製造する複数の処理ラインに配置されている基板投入装置および基板回収装置に対し、前記処理ラインに投入する基板（仕掛り基板）を収納した仕掛りカセットおよび処理ラインで処理された基板を収納するカセット（空カセット）を一時的に保管するストッカ設備から、選択して搬送制御するシステムであって、
前記仕掛り基板が収納されているカセットを前記ストッカ設備から選択する手順が、
（１）前記基板投入装置からカセットの搬送要求があった時、前記ストッカ設備内に存在する空カセット数Ｃを算出し、予め設定した空カセットの運用数Ｄと比較し、
（２）前記Ｃの値が前記Ｄの値以上であった場合、カセット搬送要求した処理ラインの対象品種基板を収納した仕掛りカセットの内、処理されてから経過時間が最も長い仕掛りカセットを選択し、
（３）前記Ｃの値が前記Ｄの値より小さい場合、さらに各処理ラインの基板投入装置に存在する基板枚数Ｅを基準値Ｆと比較し、前記Ｅの値が前記Ｆの値以下の場合、複数の前記処理ラインの仕掛りカセットの内、処理されてから経過時間が最も長いカセットを選択し、
（４）前記Ｃの値が前記Ｄの値より小さく、かつ、前記Ｅの値が前記Ｆの値より大きい場合、ストッカ設備に存在する仕掛りカセットの内、最も収納枚数が少ないカセットを選択し、
上記、（２）から（４）で選択したカセットを前記基板投入装置に搬送することを特徴とする仕掛りカセット搬送制御システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ製造工程、液晶表示装置製造工程、半導体製造工程において仕掛り中のガラス基板を収納するカセットを搬送制御する仕掛りカセット搬送制御システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
カラーフィルタ製造工程や液晶表示装置製造工程ならびに半導体製造工程において用いられるガラス基板（以下、基板）として、カラーフィルタ基板を例として説明する。
【０００３】
図１は基板の一例としてカラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基板の断面を示した図である。カラーフィルタ１は、基板２上にブラックマトリックス（以下、ＢＭ）３、レッドＲの着色画素（以下、Ｒ画素）４−１、グリーンＧの着色画素（以下、Ｇ画素）４−２、ブルーＢの着色画素（以下、Ｂ画素）４−３、透明電極５、及びフォトスペーサー（Ｐｈｏｔｏ  Ｓｐａｃｅｒ）（以下、ＰＳ）６、バーティカルアライメント（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）（以下、ＶＡ）７が順次形成されたものである。
【０００４】
上記構造のカラーフィルタの製造方法は、フォトリソグラフィー法、印刷法、インクジェット法が知られているが、図２は一般的に用いられているフォトリソグラフィー法の工程を示すフロー図である。カラーフィルタは、先ず、基板上にＢＭを形成処理する工程（Ｋ１）、基板を洗浄処理する工程（Ｋ２）、着色フォトレジストを塗布および予備乾燥処理する工程（Ｋ３）、着色フォトレジストを乾燥、硬化処理するプリベーク工程（Ｋ４）、露光処理する工程（Ｋ５）、現像処理する工程（Ｋ６）、着色フォトレジストを硬化処理する工程（Ｋ７）、透明電極（例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ））を成膜処理する工程（Ｋ８）、ＰＳ、ＶＡを形成処理する工程（Ｋ９）がこの順に行われ製造される。
【０００５】
例えば、Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素の順に画素が形成される場合には、カラーフィルタ用基板を洗浄処理する工程（Ｋ２）から、着色フォトレジストを硬化処理する工程間（Ｋ７）ではレッドＲ、グリーンＧ、ブルーＢの順に着色レジストを変更して３回繰り返されてＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素が形成される。
【０００６】
上記各処理工程を例えば、ＢＭを形成処理（Ｋ１）する処理ライン、Ｒ画素を形成処理（Ｋ２〜Ｋ７）する処理ライン、Ｇ画素を形成処理（Ｋ２〜Ｋ７）する処理ライン、Ｂ画素を形成処理（Ｋ２〜Ｋ７）する処理ライン、透明電極を成膜処理する（Ｋ８）処理ライン、ＰＳ／ＶＡを形成処理（Ｋ９）形成処理する処理ラインで構成した場合には、各処理ライン間の基板搬送は、次の処理ラインに直接搬送される場合や、仕掛り基板として一時的に保管する設備（以下、ストッカ設備）に保管され場合がある。この場合のストッカ設備は、各処理ラインと連結された構成を有している。
【０００７】
図３にカラーフィルタ製造工程におけるストッカ設備と処理ラインの間の基板投入、回収装置の構成の一例を示す。カラーフィルタ製造工程は、ＢＭ形成処理ライン（処理ラインＡ）、Ｒ／Ｇ／Ｂ着色画素形成処理ライン（処理ラインＢ）、透明電極形成処理ライン（処理ラインＣ）、ＰＳ形成処理ライン（処理ラインＤ）があり、これらの処理ラインで処理を行うために、処理用基板は各処理ラインに搬送される。
【０００８】
図３においてＢＭ形成処理ライン（処理ラインＡ）に投入される基板は、ストッカ設備１１のカセット（図示せず）に保管されている。これらのカセットは、ストッカ設備１１
からＢＭ形成処理ラインの基板投入装置１２に搬送される。基板投入装置１２は、搬送されたカセットから基板を一枚ずつ抜き取り、ＢＭ膜塗布装置１３へと搬送する。ＢＭ膜塗布装置１３で処理された基板は、露光装置１４、現像装置１５、及びオーブン１６などの処理装置で処理された後、基板回収装置１７でカセットに一旦収納される。基板回収装置１７は、回収用カセット（図示せず）の基板収納枚数が上限値に達した後、カセットをストッカ設備１１に搬送する。ストッカ設備１１に搬送されたカセットは、次処理ラインであるＲ／Ｇ／Ｂ着色画素形成処理ライン（処理ラインＢ）の仕掛りカセットとしてストッカ設備１１に一時保管される。
【０００９】
Ｒ／Ｇ／Ｂ着色画素形成処理ラインの前記仕掛りカセットは、ストッカ設備１１からＲ／Ｇ／Ｂ着色画素形成処理ライン（処理ラインＢ）の基板投入装置２２に搬送される。基板投入装置２２は、搬送されたカセットから基板を一枚ずつ抜き取り、Ｒ／Ｇ／Ｂ膜塗布装置２３へ搬送する。Ｒ／Ｇ／Ｂ膜塗布装置２３で処理された基板は、露光装置２４、現像装置２５、及びオーブン２６で処理された後、基板回収装置２７で回収用カセット（図示せず）に一旦収納される。基板回収装置２７は、回収用カセットの基板収納枚数が上限値に達した後、カセットをストッカ設備１１に搬送する。ストッカ設備に搬送されたカセットは、次処理ラインである透明電極形成処理ライン（処理ラインＣ）の仕掛りカセットとしてストッカ設備１１で、一時保管される。
【００１０】
以降、処理ライン（Ｃ）、処理ライン（Ｄ）においても同様に、各処理ラインで処理を行うため処理ラインに搬送された仕掛カセットは処理された後、基板回収装置にて回収用カセットに収納され、次の処理ラインへ搬送されるまでの間、ストッカ設備にて一旦保管される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００４−５４０１４号公報
【特許文献２】特願２０１０−３９９１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
上記スタッカ設備に保管されている仕掛りカセットを次の処理ラインに投入する場合の仕掛りカセットの選択や、各処理ラインで処理された基板を基板回収装置で回収する場合のカセットの選択は、スタッカ設備の効率的な運用と各処理ラインの処理装置の効率的な稼働のためには重要なことであるが、従来から行われている方法は、（１）システム化されたカセット搬送システム、あるいは（２）処理ライン運用者の判断によって行われていた。
【００１３】
前記（１）システム化されたカセット搬送システムは、基板が投入される対象処理ラインに対して、現在処理中のロットを選択し、選択ロットに紐付く仕掛りカセットをカセット搬送システムが自動選択し、対象処理ラインへ仕掛りカセットを搬送する方法が一般的に用いられている。その際、工場内の工程管理の考え方として、同一ロットの処理基板は、前工程処理ラインで処理された経過時間が長い基板（より古い基板）ほど次の処理ラインへ早く搬送する（Ｆｉｒｓｔ−Ｉｎ  Ｆｉｒｓｔ−Ｏｕｔ：フィフォ）が一般的である。
【００１４】
前記（２）処理ライン運用者によって判断される場合は、運用者が工程管理システムを用い、搬送したいカセットを選択し、対象処理ラインへ仕掛りカセットを搬送する方法が一般的に用いられている。
【００１５】
しかしながら、上記従来行われているカセット搬送シテムや処理ライン運用者による方法では、各処理ライン単位で搬送対象とする仕掛りカセットをシステムならびに運用者にて決定しており、全ての処理ラインの稼動状況及びストッカ設備内のカセット管理状況を取得して仕掛りカセットの搬送制御を行っていないため、「ストッカ設備内に基板回収用空カセットが不足」することに起因する処理ライン停止が発生する。
【００１６】
上記処理ライン停止は、（ａ）処理装置が処理基板を待つ間に発生による稼動率低下や、（ｂ）処理装置が処理基板を待つ間に発生する材料費の消費（待ち時間のメンテナンス処理に消費する）の増加や、（ｃ）仕掛カセット保管のためのストッカ設備容積増加に伴う、設備導入や維持費用の増加といった問題の発生原因となる。
【００１７】
上記（ｂ）を更に詳しく述べると、カラーフィルタ並びに半導体製造ラインには、主だった処理装置として基板あるはウエハー上に塗布液を供給する塗布装置が存在する。これらの塗布装置は、上流装置から基板の供給が一定時間以上停止した場合、その塗布液が乾燥し、異物となって塗布部に付着する恐れがある。これを防ぐために、装置停止時には、塗布部に溶剤を吹き付けて乾燥することを防いでいる。（また、装置停止後の基板処理前には、塗布部に浸透した溶剤を取り除くため、塗布液による溶剤の押し出し処理をおこなっている。）一旦、処理装置への基板供給が途絶えると、このようなメンテナンス動作を行う必要があり、（ｂ）処理装置の処理基板待ち発生による溶剤や塗布液の材料消費が増加する問題が発生する。
【００１８】
また、近年の液晶表示装置の大型化に伴い、「仕掛り基板」及び「基板回収用空カセット」を一時的に保管するストッカ設備の容積は著しく増大している。ストッカ設備容積の増大は、導入設備費用や維持費用が増加する原因となる。
【００１９】
本発明は係る問題に鑑みて、カラーフィルタ製造工程、液晶表示パネル製造工程、及び半導体製造工程におけるストッカ設備の容積の増大を抑制し、前記各製造工程に置ける処理装置の基板待ち時間を減らし、設備費用や材料費を削減する仕掛りカセット搬送制御システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
本発明の請求項１に係る発明は、液晶表示装置に用いられる基板を製造する複数の処理ラインに配置されている基板投入装置および基板回収装置に対し、前記処理ラインに投入する基板（仕掛り基板）を収納した仕掛りカセットおよび処理ラインで処理された基板を収納するカセット（空カセット）を一時的に保管するストッカ設備から、選択して搬送制御するシステムであって、前記仕掛り基板が収納されているカセットを前記ストッカ設備から選択する手順が、（１）前記基板投入装置からカセットの搬送要求があった時、前記ストッカ設備内に存在する空カセット数Ｃを算出し、予め設定した空カセットの運用数Ｄと比較し、（２）前記Ｃの値が前記Ｄの値以上であった場合、カセット搬送要求した処理ラインの対象品種基板を収納した仕掛りカセットの内、処理されてから経過時間が最も長い仕掛りカセットを選択し、（３）前記Ｃの値が前記Ｄの値より小さい場合、さらに各処理ラインの基板投入装置に存在する基板枚数Ｅを基準値Ｆと比較し、前記Ｅの値が前記Ｆの値以下の場合、複数の前記処理ラインの仕掛りカセットの内、処理されてから経過時間が最も長いカセットを選択し、（４）前記Ｃの値が前記Ｄの値より小さく、かつ、前記Ｅの値が前記Ｆの値より大きい場合、ストッカ設備に存在する仕掛りカセットの内、最も収納枚数が少ないカセットを選択し、上記、（２）から（４）で選択したカセットを前記基板投入装置に搬送することを特徴とする仕掛りカセット搬送制御システムである。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の仕掛りカセット搬送制御システムによれば、処理装置の稼働率向上が可能となり、また処理装置の処理基板の待ち時間による材料消費のムダを防ぐことができ、更には、仕掛カセット保管のためのストッカ設備容積の増大を防ぎ、その結果、設備費用の増大を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】カラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を断面で示した図。
【図２】一般的に用いられているフォトリソグラフィー法の処理ラインフロー図。
【図３】カラーフィルタ製造処理ラインにおける処理装置と、ストッカ設備と、処理装置とストッカ設備と処理装置の間の基板投入、回収装置の構成の一例を示す図。
【図４】本発明の仕掛りカセット搬送制御システムが適用されるカラーフィルタ製造工程に設けられる処理装置の構成例を示す図。
【図５】本発明の実施環境例を示す図。
【図６】本発明の仕掛りカセット搬送制御システムにおける回収用カセットを選択し、搬送する全体フローを示す図。
【図７】本発明の仕掛りカセット搬送制御システムにおける対象処理ラインの基板回収装置に搬送するカセットを選択するステップ（Ｒ３）を詳細に示したフロー図。
【図８】本発明の仕掛りカセット搬送制御システムにおける対象処理ラインの基板投入装置に搬送する投入用カセットを選択し、搬送する全体フローを示す図。
【図９】本発明の仕掛りカセット搬送制御システムにおける対象処理ラインの基板投入装置に搬送するカセットを選択するステップ（Ｔ３）の詳細フローを示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、図面を参照して本発明の仕掛りカセット搬送制御システムを実施するための形態を説明する。
【００２６】
図４に本発明の仕掛りカセット搬送制御システムが適用されるカラーフィルタ製造工程に設けられる処理装置の構成例を示す。処理ライン（１）には、基板投入装置３２と、塗布装置３３、露光装置３４、現像装置３５、オーブン３６といった処理装置と、検査装置３７と、基板回収装置３８と、が配置されている。各装置は連結されて１つの処理ラインを構成している。処理ライン（２）においても処理ライン（１）と同様の装置（４２〜４８）が配置されている。ストッカ設備３１に保管されている処理基板は、基板投入装置３２に搬送された仕掛りカセットその１（ＣＳ−１）３９−１から基板投入装置３２によって処理ライン（１）に投入され、各処理装置で処理された後、処理ライン（１）に配置された検査装置３７で、基板の良／不良が判定される。良品と判定された基板は、次処理ラインの仕掛りとして基板回収装置３８で基板回収用カセットその２（ＣＳ−２）４０−１に回収され管理される。一方、不良品と判定された基板は、基板回収用カセットその３（ＣＳ−３）４０−２に回収される。このように基板回収装置３８には、良品、不良品、その他の選別目的に応じて使用される複数の基板回収用カセットポートが備えられる。
【００２７】
上記良品と判定された基板は、次の処理ラインの仕掛りとして基板回収装置３８で基板
回収用カセットその２（ＣＳ−２）４０−１に回収され管理されるが、次の処理ラインである処理ライン（２）に投入されるか、あるいはストッカ設備３１に一時保管される。
【００２８】
図４に示されるカラーフィルタ製造工程は処理ラインが２ラインの場合を例示したが、ライン数は適宜設けられる。
【００２９】
図５に、本発明の実施環境例を示す。基板投入装置／基板回収装置／各処理装置の各装置が持つコントローラ（即ちＰＬＣ：ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ  ｌｏｇｉｃ  ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）と、工程管理システムと、ストッカ設備を管理するストッカ設備管理システムと、がイーサネット（登録商標）により構築されたローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）を介して接続され、ＴＣＰ／ＩＰやＵＤＰ／ＩＰといった通信規格により各装置／工程管理システム／ストッカ設備管理システム間のデータの送受信が行われる。このようなネットワーク環境下において、各システムと装置は互いに管理する情報を送受信し、物流制御を実現する。上記ストッカ設備管理システム及び工程管理システムは、ネットワークを介した信号を受信、送信することによって、各制御装置に動作指示を与え、また自ら、その履歴情報をデータとしてデータベース（以下、ＤＢ）に保持する機能を備えている。
【００３０】
本発明の複数の各処理ラインで処理された基板を収納するカセットをスタッカ設備内から選択し基板回収装置に搬送する手段その１である各処理ラインの基板回収装置へ搬送する回収用カセットを選択するフローを、図４に示される処理ライン（１）で処理された基板を回収するためのカセット（ＣＳ−２）４０−１を選択する場合を例として説明する。
【００３１】
図６は回収用カセットを選択し、搬送する全体フローを示す。開始後（Ｒ１）、工程管理システムは、基板回収装置（この場合は、基板回収装置３８を指す）からカセット搬送要求を受信し（Ｒ２）、受信したカセット搬送要求に対して対象処理ライン（この場合は、処理ライン（１））に搬送するカセットを選択し（Ｒ３）、選択されたカセットを基板回収装置３８へ搬送し（Ｒ４）、終了する（Ｒ５）。
【００３２】
対象処理ラインの基板回収装置に搬送するカセットを選択するステップ（Ｒ３）を詳しく説明する。図７は、対象処理ラインの基板回収装置に搬送するカセットを選択するステップ（Ｒ３）を詳細に示したフロー図である。
前提として
Ｘ：ストッカ設備に存在する基板回収用空カセット数その１
α：任意の設定数（予め設定された空カセット運用数その１）とする。
【００３３】
工程管理システムは、上記ステップ（Ｒ２）でカセット搬送要求を受信した後、ストッカ設備内に存在する空カセット数Ｘを算出する（Ｓ１）。ここで、算出したストッカ設備内に存在する空カセット数Ｘが設定値αよりも大きな値であった場合（Ｓ２のＹＥＳ）、ストッカ設備には空カセットが十分に存在すると判断し、ストッカ設備に存在する任意の空カセットを基板回収用カセットとして選択する（Ｓ３）。ストッカ設備に存在する空カセット数が設定値α以下であった場合（Ｓ２のＮＯ）には、ストッカ設備内には処理ラインを運用する上で十分な空カセットが存在しないと判断し、ステップ（Ｓ４）に進む。ステップ（Ｓ４）では工程管理システムは、ストッカ設備に存在するカセットのうち、各処理ラインで製造されている処理中の仕掛り基板を収納していないカセットを検索し（Ｓ４）、現在の処理ラインで使用されていない／使用されない見込みのカセットを絞り込む。更に、絞り込んだカセットの中から、空き段数の最大のカセットを基板回収用カセットとして選択する（Ｓ５）。選択された基板回収用カセットは、対象処理ラインの基板回収装置３８に搬送される。この場合の設定値αはストッカ設備に存在する運用上必要な回収用カセット数を設定すれば良い。
【００３４】
このように対象処理ラインの基板回収装置に搬送するカセットを選択することによって、ストッカ設備内の回収用空カセット数を増加させることが可能となる。
【００３５】
次に、複数の各処理ラインで処理するための基板が収納されているカセットをスタッカ設備内から選択し、各処理ラインの基板投入装置に搬送する手段その２である各対象処理ラインの基板投入装置に搬送するカセットを選択するフローを図４に示される処理ライン（２）の基板投入装置４２に搬送するカセットＣＳ−４（４９−１）を選択する場合を例として説明する。
【００３６】
図８は対象処理ラインの基板投入装置４２に搬送する投入用カセットを選択し、搬送する全体フローを示す。開始後（Ｔ１）、工程管理システムは、基板投入装置（この場合は、基板投入装置４２を指す）からカセット搬送要求を受信し（Ｔ２）、受信したカセット搬送要求に対して対象処理ライン（この場合は、処理ライン（２）を指す）の基板投入装置４２に搬送するカセットを選択し（Ｔ３）、選択されたカセットを基板投入装置４２へ搬送し（Ｔ４）、終了する（Ｔ５）。
【００３７】
対象処理ラインの基板投入装置に搬送するカセットを選択するステップ（Ｔ３）を詳しく説明する。図９は、対象処理ラインの基板投入装置に搬送するカセットを選択するステップ（Ｔ３）の詳細フローを示す図である。
前提として
Ｙ：ストッカ設備内に存在する空カセット数その２
Ｆ｛Ｌｏａｄ（ｎ）｝：処理ラインｎの基板投入装置付属ポートのカセットに存在する基板枚数（ｎは処理ライン番号を示す（ｎ＝１〜ｎ））。
β：任意の設定数（予め設定された空カセット運用数その２）
γ（ｎ）：任意の設定数（ｎは処理ライン番号を示す（ｎ＝１〜ｎ））とする。
【００３８】
工程管理システムは、上記Ｙ、Ｆ｛Ｌｏａｄ（ｎ）｝、β、γ（ｎ）の情報をもとに、ストッカ設備及び各処理ラインにおける処理装置の稼働状況を判断し、回収用空カセットが不足しないようカセットの搬送を制御する。尚、本発明では、基板投入装置からカセット搬送要求を受信した際、ストッカ設備にその対象処理ラインの仕掛りカセットが存在する場合を対象とする。
【００３９】
ここで、カセット搬送要求を送信した処理ラインの製造品種基板が、前製造処理ライン（この場合は、処理ライン（１）を指す）の基板回収装置（この場合は、基板回収装置３８を指す）によって回収された場合、そのカセットも搬送対象に含まれるものとする。
【００４０】
工程管理システムは、上記ステップ（Ｔ２）でカセット搬送要求を受信した後、ストッカ設備内に存在する空カセット数Ｙを算出する（Ｕ１）。ここで、「ストッカ設備内に存在する空カセット数」が予め設定した設定値βよりも大きな値であった場合（（Ｕ２）のＹＥＳ）、ストッカ設備には空カセットが十分に存在すると判断し、ストッカ設備に存在する処理ラインｎ（この場合は、処理ライン（１）を指す）の処理ラインの仕掛りカセットの内、処理ラインｎ（この場合は、処理ライン（１）を指す）で処理されてから経過時間が最も長いカセットを選択し基板投入装置（この場合は、基板投入装置４２を指す）へ搬送する（Ｕ３）。
【００４１】
一方、ストッカ設備に存在する空カセット数Ｙが以下であった場合（（Ｕ２）のＮＯ）、ストッカ設備内には処理ラインを運用するうえで十分な空カセットが存在しないと判断し、各処理ラインの基板投入装置に存在する基板枚数“Ｆ｛Ｌｏａｄ（ｎ）｝”を算出する（Ｕ４）。ここで、「いずれかの処理ラインの基板投入装置に存在する基板枚数」が設定値γよりも小さな値であった場合（（Ｕ５のＹＥＳ）、まもなく、いずれかの処理ラインの基板投入装置に存在する投入中カセットが、基板を全て払い出し、空カセットとしてストッカ設備に戻ると判断し、ステップ（Ｕ３）へ進む。この場合の設定値βはストッカ設備に存在する運用上必要な回収用カセット数を設定すれば良く、上記αと同じ設定値としても良い。
【００４２】
一方、各処理ラインの基板投入装置に存在する基板枚数Ｆ｛Ｌｏａｄ（ｎ）｝が設定値γよりも大きな値であった場合（（Ｕ５）のＮＯ）、ストッカ設備に空カセットが増加しないと判断し、ステップ（Ｕ６）に進む。ステップ（Ｕ６）では、ストッカ設備に存在する処理ラインｎ（この場合は、処理ライン（１）を指す）の仕掛りカセットの内、最も収納枚数が少ないカセットを選択し基板投入装置（この場合は、基板投入装置４２を指す）へ搬送する（Ｕ６）。この場合の設定値γは、１枚の基板の処理速度に基いて基板投入装置に存在する基板を設定すれば良い。
【００４３】
このように対象処理ラインの基板投入装置に搬送するカセットを選択することによって、処理ラインｎに搬送されたカセットが、基板投入設備から基板の投入を終え、空カセットとなってストッカ設備に戻るまでの時間を最短にすることが出来、その結果、ストッカ設備内の回収用空カセット数を増加させることが可能となる。
【００４４】
尚、本発明を実施するための形態をカラーフィルタ基板を例示したが、カラーフィルタ基板に限定されず、本発明は広くカラーフィルタ製造ラインや半導体製造ラインにおいて仕掛り中の基板を収納するカセットを選択する場合に適用される。
【００４５】
このようにして、本発明による仕掛りカセット搬送制御システムによれば、仕掛カセット保管のためのストッカ設備容積の増大を防ぎ、その結果、設備費用の増大を防ぐことができる。また、処理装置の稼働率を向上させることが可能となり、また処理装置の処理基板の待ち時間による材料消費のムダを防ぐことが可能となる。
【符号の説明】
【００４６】
１・・・カラーフィルタ
２・・・基板
３・・・ブラックマトリックス（ＢＭ）
４−１・・・レッドＲの着色画素（Ｒ画素）
４−２・・・グリーンＧの着色画素（Ｇ画素）
４−３・・・ブルーＢの着色画素（Ｂ画素）
５・・・透明電極
６・・・フォトスペーサー（ＰＳ）
７・・・バーティカルアライメント（ＶＡ）
１１・・・ストッカ設備
１２・・・ＢＭ形成処理ラインの基板投入装置
１３・・・ＢＭ膜塗布装置
１４・・・露光装置
１５・・・現像装置
１６・・・オーブン
１７・・・基板回収装置
２２・・・処理ラインＢの基板投入装置
２３・・・Ｒ／Ｇ／Ｂ膜塗布装置
２４・・・露光装置
２５・・・現像装置
２６・・・オーブン
２７・・・基板回収装置
３１・・・ストッカ設備
３２・・・基板投入装置
３３・・・塗布装置
３４・・・露光装置
３５・・・現像装置
３６・・・オーブン
３７・・・検査装置
３８・・・基板回収装置
４２〜４８・・・基板投入装置〜基板回収装置
３９−１・・・仕掛りカセットその１（ＣＳ−１）
４０−１・・・基板回収用カセットその２（ＣＳ−２）
４０−２・・・基板回収用カセットその３（ＣＳ−３）
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１】
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