(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースゴム層の外周面側に表面改質ゴム層を有するタイヤ製造用ブラダーの製造方法であって、前記表面改質ゴム層の未架橋体を変性ブチルゴム組成物（Ａ）又は（Ｂ）と、有機過酸化物とを含むゴム組成物から成形し、このゴム成形体の表面に（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物を塗布して構成すると共に、前記変性ブチルゴム組成物（Ａ）がブチルゴムに、酸素の存在下の常温で安定なニトロキシドフリーラジカルを分子中に有する化合物（ａ）、ラジカル開始剤（ｂ）及び二官能性以上のラジカル重合性モノマー（ｃ）を反応させた変性ブチルゴム（１）からなり、前記変性ブチルゴム組成物（Ｂ）がブチルゴムに、前記化合物（ａ）及びラジカル開始剤（ｂ）を反応させた変性ブチルゴム（２）に前記モノマー（ｃ）を配合してなり、前記ベースゴム層を前記変性ブチルゴム組成物（Ａ）及び（Ｂ）とは異なるゴム組成物からなる未加硫体又は加硫体で構成し、このベースゴム層の外周面側に前記表面改質ゴム層の未架橋体を積層して加熱処理するようにしたタイヤ製造用ブラダーの製造方法。
【請求項２】
前記（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物が、下記式（１），（２）又は（３）で表されるオルガノポリシロキサン化合物から選ばれる少なくとも１種である請求項１に記載のタイヤ製造用ブラダーの製造方法。
【化１】
0005459042.tif 000020
（式中、Ｒ１はポリアルキレングリコール若しくはアルキル基、Ｒ２は水素若しくはメチル基であり、ｍ及びｎは数平均分子量が１０００〜２００００になり、かつｍ：ｎ＝９８：２〜９０：１０を満たすように決められる整数である。）
【化２】
0005459042.tif 000021
（式中、Ｒ３は水素若しくはメチル基、Ｒ４はアルキル基若しくはアルキレン基であり、ｐは数平均分子量が１００〜２００００になるように決められる整数である。）
【化３】
0005459042.tif 000022
（式中、Ｒ３は水素若しくはメチル基、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立にアルキル基若しくはアルキレン基であり、ｐは数平均分子量が１００〜２００００になるように決められる整数である。）
【請求項３】
前記二官能性以上のラジカル重合性モノマー（ｃ）と共に、アルコキシシリル基を有するラジカル重合性モノマー（ｄ）を、同時に反応又は配合するようにした請求項１又は２に記載のタイヤ製造用ブラダーの製造方法。
【請求項４】
前記ベースゴム層が、ブチルゴム組成物を加硫成形した基礎ブラダーで構成された請求項１，２又は３に記載のタイヤ製造用ブラダーの製造方法。
【請求項５】
前記基礎ブラダーの外周面側に前記表面改質ゴム層の未架橋体を積層した後、この積層体を金型内で加熱処理するようにした請求項４に記載のタイヤ製造用ブラダーの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかの製造方法により製造されたタイヤ製造用ブラダー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タイヤ製造用ブラダーの製造方法に関し、更に詳しくは、タイヤ製造時におけるタイヤとブラダーとの離型性能が優れ、その持続性を向上するようにしたタイヤ製造用ブラダーの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に空気入りタイヤの加硫成形は、未加硫タイヤを加硫金型に装入し、その未加硫タイヤの内腔に挿入したゴム袋状のブラダー内にスチーム等の加熱加圧媒体を圧入して膨張させることにより、未加硫タイヤの外面を加硫金型の内面に押圧しながら加硫を行なう。このブラダーは一般にブチルゴムにより形成されるため、未加硫タイヤの内周面に配置されたハロゲン化ブチルゴム等からなるインナーライナーとの間に加硫接着性を有する。このため、加硫後に空気入りタイヤからブラダーを収縮させて取り出すときの離型性が悪いことから、タイヤ内周面のインナーライナーを損傷することなどが問題になっている。
【０００３】
この対策として、未加硫タイヤの内周面やブラダーの外表面に各種シリコーン等の離型剤を塗布したり、ブラダーの外表面に離型剤を塗布して硬化させることにより離型剤の層を形成したりすることが行われている。しかし、単に離型剤を塗布しただけでは離型効果が長続きしないため、加硫成形の度に離型剤を塗布しなければならず、作業性や作業環境への影響が問題になっていた。また、各種シリコーン等の離型剤をブラダーの外表面に塗布・硬化させ離型剤の層を形成した場合には、離型性能が若干長くなるものの加硫成形でブラダーが膨張と収縮を繰り返すことにより、離型剤の層がひび割れたり剥離したりしてしまうため、離型性能を十分に長続きさせることができなかった。
【０００４】
このため、特許文献１は、ブラダーの外表面にシリコーンゴム層とシリコーン樹脂層の二層からなる離型性潤滑層を形成することを提案している。しかし、この方法では、樹脂架橋したブラダーの外表面に表面処理を施すためブチルゴム分子に対するシリコーンゴムの反応性が低く、加硫成形でブラダーが膨張と収縮を繰り返すことにより、シリコーンゴム層が剥離してしまうため離型効果が十分に持続しないという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第３３１６０３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、タイヤ製造時におけるタイヤとブラダーとの離型性能が優れ、その持続性を向上するようにしたタイヤ製造用ブラダーの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成する本発明のタイヤ製造用ブラダーの製造方法は、ベースゴム層の外周面側に表面改質ゴム層を有するタイヤ製造用ブラダーの製造方法であって、前記表面改質ゴム層の未架橋体を変性ブチルゴム組成物（Ａ）又は（Ｂ）と、有機過酸化物とを含むゴム組成物から成形し、このゴム成形体の表面に（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物を塗布して構成すると共に、前記変性ブチルゴム組成物（Ａ）がブチルゴムに、酸素の存在下の常温で安定なニトロキシドフリーラジカルを分子中に有する化合物（ａ）、ラジカル開始剤（ｂ）及び二官能性以上のラジカル重合性モノマー（ｃ）を反応させた変性ブチルゴム（１）からなり、前記変性ブチルゴム組成物（Ｂ）がブチルゴムに、前記化合物（ａ）及びラジカル開始剤（ｂ）を反応させた変性ブチルゴム（２）に前記モノマー（ｃ）を配合してなり、前記ベースゴム層を前記変性ブチルゴム組成物（Ａ）及び（Ｂ）とは異なるゴム組成物からなる未加硫体又は加硫体で構成し、このベースゴム層の外周面側に前記表面改質ゴム層の未架橋体を積層して加熱処理するようにしたことを特徴とする。
【０００８】
前記（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物としては、下記式（１），（２）又は（３）で表されるオルガノポリシロキサン化合物から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
【０００９】
【化１】
0005459042.tif 000002
（式中、Ｒ１はポリアルキレングリコール若しくはアルキル基、Ｒ２は水素若しくはメチル基であり、ｍ及びｎは、数平均分子量が１０００〜２００００になり、かつｍ：ｎ＝９８：２〜９０：１０を満たすように決められる整数である。）
【００１０】
【化２】
0005459042.tif 000003
（式中、Ｒ３は水素若しくはメチル基、Ｒ４はアルキル基若しくはアルキレン基であり、ｐは数平均分子量が１００〜２００００になるように決められる整数である。）
【００１１】
【化３】
0005459042.tif 000004
（式中、Ｒ３は水素若しくはメチル基、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立にアルキル基若しくはアルキレン基であり、ｐは数平均分子量が１００〜２００００になるように決められる整数である。）
【００１２】
前記二官能性以上のラジカル重合性モノマー（ｃ）は、アルコキシシリル基を有するラジカル重合性モノマー（ｄ）と、同時に反応又は配合することができる。
【００１３】
前記ベースゴム層としては、ブチルゴム組成物を加硫成形した基礎ブラダーを使用することができる。また前記基礎ブラダーの外周面側に前記表面改質ゴム層の未架橋体を積層した後、この積層体を金型内で加熱処理するとよい。
【００１４】
本発明の製造方法により得られたタイヤ製造用ブラダーは、加硫した空気入りタイヤとブラダーとの間の離型性能が優れ、この離型性を長く持続させることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のタイヤ製造用ブラダーの製造方法は、表面改質ゴム層の未架橋体として、上述した変性ブチルゴム組成物（Ａ）又は（Ｂ）と、有機過酸化物とを含むゴム組成物からゴム成形体を成形し、この表面に（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物を塗布して構成する。この表面改質ゴム層の未架橋体を、変性ブチルゴム組成物（Ａ）及び（Ｂ）とは異なるゴム組成物からなる未加硫体又は加硫体で構成したベースゴム層の外周面側に積層し、これを加熱処理するようにしたので、ベースゴム層の外周面側に離型性能が優れた表面改質ゴム層が形成される。この表面改質ゴム層は、変性ブチルゴム組成物（Ａ）又は（Ｂ）からなる未架橋のゴム成形体が有機過酸化物架橋するときに、（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物が変性ブチルゴム組成物と反応するため（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物がゴム成形体の表面に強固に結合し、優れた離型性を付与すると共に、その離型性能の持続性を向上する。また、加熱処理により変性ブチルゴム組成物（Ａ）又は（Ｂ）からなるゴム成形体とベースゴム層とが強く架橋接着するため、加硫成形時にブラダーが膨張と収縮を繰り返しても、ベースゴム層と表面改質ゴム層とが剥離することがなく、耐久性に優れたブラダーを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明で製造されたタイヤ成形用ブラダーの一例を使用して未加硫タイヤを加硫する様子を例示する断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
図１において、未加硫タイヤＴを加硫金型（１１〜１５）に装入し、その未加硫タイヤＴの内腔にゴム袋状のタイヤ製造用ブラダー１を挿入する。このタイヤ製造用ブラダー１内にスチーム等の加熱加圧媒体Ｍを圧入して膨張させることにより、未加硫タイヤＴの外面を加硫金型（１１〜１５）の内面に押圧しながら加硫を行なう。ここで加硫金型は、タイヤのサイドウォール部を成形するための下側サイドプレート１１及び上側サイドプレート１２と、タイヤのビード部を成形するための下側ビードリング１３及び上側ビードリング１４と、タイヤのトレッド部を成形するための複数のセクター１５を備えている。
【００１８】
本発明により製造するタイヤ製造用ブラダー１は、ベースゴム層２の外周面側に表面改質ゴム層３を積層して構成される。表面改質ゴム層３は、その最外層に（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物からなる層を有している。このため、空気入りタイヤの内周面に配置されたハロゲン化ブチルゴム等からなるインナーライナーとの離型性が優れる。また（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物は、表面改質ゴム層３の外表面に強固に化学結合しているので、ブラダーが膨張と収縮を繰り返してもひび割れたり剥がれ落ちたりすることがなく優れた離型性能を長く持続することができる。
【００１９】
ベースゴム層２は、ゴム組成物により構成される。このゴム組成物は、表面改質ゴム層３を構成する変性ブチルゴム組成物（Ａ）及び（Ｂ）とは異なるゴム組成物である。ベースゴム層２を変性ブチルゴム組成物（Ａ）及び（Ｂ）とは異なるゴム組成物で構成することにより、タイヤ製造用ブラダーの製造コストを安くすることができる。ベースゴム層２を構成するゴム組成物としては、例えばブチルゴム、ハロゲン化ブチルゴム、エチレンプロピレンゴム、イソプレンゴム、イソブチレンゴム、ポリブテンゴム、クロロプレンゴム、各種スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソプレン−ブタジエン共重合体、各種ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体等から選ばれる少なくとも１種のゴム成分を含むゴム組成物を例示することができる。なかでもブチルゴム及び／又はハロゲン化ブチルゴムを主成分とするブチルゴム組成物が、加熱加圧媒体の不透過性が優れるため好ましい。
【００２０】
またベースゴム層２を構成するゴム組成物には、カーボンブラック、その他シリカ、タルク、各種クレーなどの補強剤（フィラー）、加硫又は架橋剤、加硫又は架橋促進剤、各種オイル、老化防止剤、可塑剤などのブラダー用ゴム組成物に一般的に配合されている各種添加剤を配合することができる。かかる添加剤は一般的な方法で混練して組成物とし、加硫又は架橋するのに使用することができる。これらの添加剤の配合量は本発明の目的に反しない限り、従来の一般的な配合量とすることができる。
【００２１】
ベースゴム層２を構成するゴム組成物の組成としては、ゴム成分１００重量部に対し、カーボンブラックを好ましくは３０〜８０重量部、より好ましくは４０〜７０重量部配合するとよい。カーボンブラックをこのような組成で配合することにより、熱伝導性と耐久性のバランスが良好になる。またカーボンブラックの配合量が多すぎると耐久性が悪化し、カーボンブラックの配合量が少なすぎると熱伝導率低下するため好ましくない。通常のタイヤ製造用ブラダーに使用する各種配合剤及び充填材を添加することができる。
【００２２】
本発明の製造方法で使用するベースゴム層２は、上述したゴム組成物の未加硫体又は加硫体を使用することができる。ベースゴム層２としてゴム組成物の未加硫体を使用するときは、表面改質ゴム層３の未架橋体を積層して加熱処理することにより、ベースゴム層２の加硫と表面改質ゴム層３の架橋とを同時に行うことができる。また、ベースゴム層２としてゴム組成物の加硫体を使用するときは、予めベースゴム層２を構成するゴム組成物からなる未加硫体（ゴムシート）をグリーン成形し、これを加硫して得られた加硫体（以下、「基礎ブラダー」ということがある。）を使用することができる。このように加硫成形した基礎ブラダーを用いることにより、ベースゴム層２のゲージを均一にすることができる。これにより加熱加圧媒体の圧入時に均一に膨張すると共に、タイヤ製造用ブラダーの耐久性を向上することができる。この基礎ブラダーとしては、ブチルゴム組成物を加硫成形したものが好ましく、通常のタイヤ加硫用ブラダーを使用してもよい。
【００２３】
本発明では、ベースゴム層２としてブチルゴム組成物を加硫成形した基礎ブラダーの外周面側に表面改質ゴム層３の未架橋体を積層した後、この積層体を金型内で加熱処理するとよい。ベースゴム層２と表面改質ゴム層３とを積層し加熱処理する方法は、特に制限されるものではく、任意の方法を用いることができる。例えばベースゴム層２を構成する未加硫体又は加硫体の外側に、シロキサン化合物を塗布した表面改質ゴム層３の未架橋体を、シロキサン化合物が外側になるように配置し、これを加硫又は加熱処理する方法を挙げることができる。このとき通常のブラダー加硫用の金型を使用し、内側及び／又は外側から加熱処理するとよい。
【００２４】
また他の方法としては、未加硫タイヤを通常のタイヤ加硫金型及びベースゴム層２となる基礎ブラダーを使用して加硫成形する工程を利用することができる。この方法は、先ず未加硫タイヤをグリーン成形するときに予めタイヤ成形ドラムにシロキサン化合物を塗布した表面改質ゴム層３の未架橋体を巻きつけてから、その外側にインナーライナー、カーカス層等を巻きつけることにより未加硫タイヤをグリーン成形する。このように成形された未加硫タイヤは、インナーライナーの内周面に表面改質ゴム層３の未架橋体を有する。この未加硫タイヤを、ベースゴム層２を構成する基礎ブラダーを使用して、通常のタイヤ加硫用金型内で加硫成形する。このときの加熱処理により、基礎ブラダーの外周面側に表面改質ゴム層３が張り付くため、ベースゴム層２と表面改質ゴム層３とが架橋接着したタイヤ製造用ブラダー１が得られる。なお加硫タイヤのインナーライナーの内周面と表面改質ゴム層３の外周面とは、シロキサン化合物が介在するので容易に離型する。
【００２５】
本発明の製造方法において、表面改質ゴム層３の未架橋体を構成する変性ブチルゴム組成物（Ａ）及び（Ｂ）は、いずれも有機過酸化物で架橋することができる。このため変性ブチルゴム組成物（Ａ）又は（Ｂ）で成形した未架橋のゴム成形体が過酸化物架橋するときに、予めその表面に塗布した（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物を変性ブチルゴムと反応させ、表面改質ゴム層３を表面改質することができる。
【００２６】
一般に、空気入りタイヤの加硫成型機に取り付けられるタイヤ製造用ブラダーは、ブチルゴムを樹脂架橋することにより成形されるので、予めブチルゴムからなる未架橋のゴム成形体の表面にシロキサン化合物を塗布してから樹脂架橋を行っても、シロキサン化合物がブチルゴム分子と反応することがない。したがって、その離型性能は、架橋したゴム成形体にシロキサン化合物を塗布した場合と比べ大差がない。
【００２７】
本発明では、上述した未架橋の変性ブチルゴム成形体の過酸化物架橋と（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物の反応とを同時に行なうようにしたので、シロキサン化合物が表面改質ゴム層３の表面に強固に結合し、優れた離型性を付与すると共に、その離型性能の持続性を大幅に向上することができる。
【００２８】
変性ブチルゴム組成物（Ａ）は、ブチルゴムに、酸素の存在下の常温で安定なニトロキシドフリーラジカルを分子中に有する化合物（ａ）（以下、「化合物（ａ）」ということがある。）、ラジカル開始剤（ｂ）及び二官能性以上のラジカル重合性モノマー（ｃ）（以下、「モノマー（ｃ）」ということがある。）を反応させた変性ブチルゴム（１）からなる。変性ブチルゴム（１）の製造方法は、特に制限させるものではないが、例えば以下の方法が好ましい。先ずブチルゴムに化合物（ａ）及びラジカル開始剤（ｂ）を反応させることにより、ブチルゴムに化合物（ａ）をグラフトした変性ブチルゴム（２）を得る。この変性ブチルゴム（２）にモノマー（ｃ）を反応させることにより、過酸化物架橋可能な変性ブチルゴム（１）を得る。
【００２９】
また、変性ブチルゴム組成物（Ｂ）は、ブチルゴムに、化合物（ａ）及びラジカル開始剤（ｂ）を反応させた変性ブチルゴム（２）にモノマー（ｃ）を配合した組成物からなる。この変性ブチルゴム組成物（Ｂ）では、変性ブチルゴム（２）及びモノマー（ｃ）を含むゴム組成物を用いて成形した未加硫ゴムの成形体を加熱処理するときに、変性ブチルゴム（２）とモノマー（ｃ）との反応が過酸化物架橋と同時に進行する。
【００３０】
本発明で使用する酸素の存在下の常温で安定なニトロキシドフリーラジカルを分子中に有する化合物（ａ）としては、例えば下記式（４）で表される２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシ（以下、「ＴＥＭＰＯ」ということがある。）や下記式（５）で表される４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシなどが例示される。また、化合物（ａ）として下記式（６）〜（１１）で表されるＴＥＭＰＯの４位に置換基を有する化合物が挙げられる。
【００３１】
【化４】
0005459042.tif 000005
【００３２】
【化５】
0005459042.tif 000006
【００３３】
【化６】
0005459042.tif 000007
（上記式（６）〜（１１）において、Ｒは炭素数１〜３０のアルキル基、アルキレン基、アリール基、アリル基、ビニル基、カルボキシル基、カルボニル基含有基、エステル基、エポキシ基、イソシアネート基、ヒドロキシ基、チオール基、チイラン基、アミノ基、アミド基、イミド基、ニトロ基、ニトリル基、チオシアン基、シリル基、アルコキシシリル基、及びこれらの官能基を含む有機基から選ばれるいずれかを表す。）
【００３４】
ここでカルボニル基含有基としては、例えば無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタル酸、無水フタル酸などの環状酸無水物の残基が例示される。また、上記式（６）において、Ｒは塩素、臭素などのハロゲンであってもよい。
【００３５】
上記式（６）で表される化合物（ａ）としては、４−メチルＴＥＭＰＯ、４−エチルＴＥＭＰＯ、４−フェニルＴＥＭＰＯ、４−クロロＴＥＭＰＯ、４−ヒドロキシＴＥＭＰＯ、４−アミノＴＥＭＰＯ、４−カルボキシルＴＥＭＰＯ、４−イソシアナートＴＥＭＰＯ等が例示される。上記式（７）で表される化合物（ａ）としては、４−メトキシＴＥＭＰＯ、４−エトキシＴＥＭＰＯ、４−フェノキシＴＥＭＰＯ、４−ＴＥＭＰＯ−グリシジルエーテル、４−ＴＥＭＰＯ−チオグリシジルエーテル等が例示される。
【００３６】
上記式（８）で表される化合物（ａ）としては、４−メチルカルボニルＴＥＭＰＯ、４−エチルカルボニルＴＥＭＰＯ、４−ベンゾイルＴＥＭＰＯ等が例示される。上記式（９）で表される化合物（ａ）としては、４−アセトキシＴＥＭＰＯ、４−エトキシカルボニルＴＥＭＰＯ、４−メタクリレートＴＥＭＰＯ、４−ベンゾイルオキシＴＥＭＰＯ等が例示される。
【００３７】
上記式（１０）で表される化合物（ａ）としては、４−（Ｎ−メチルカルバモイルオキシ）ＴＥＭＰＯ、４−（Ｎ−エチルカルバモイルオキシ）ＴＥＭＰＯ、４−（Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）ＴＥＭＰＯ等が例示される。上記式（１１）で表される化合物（ａ）としては、メチル（４−ＴＥＭＰＯ）サルフェイト、エチル（４−ＴＥＭＰＯ）サルフェイト、フェニル（４−ＴＥＭＰＯ）サルフェイト等が例示される。
【００３８】
更に、化合物（ａ）として、下記式（１２）で表される２，２，５，５−テトラメチル−１−ピロリジニルオキシ（以下、「ＰＲＯＸＹＬ」ということがある。）の３位に置換基を有する化合物、下記式（１３）で表される２，２，５，５−テトラメチル−３−ピロリン−１−オキシ（以下、「ＰＲＹＸＹＬ」ということがある。）の３位に置換基を有する化合物が挙げられる。
【００３９】
【化７】
0005459042.tif 000008
（上記式（１２）（１３）において、Ｒは、炭素数１〜３０のアルキル基、アリール基、アリル基、ビニル基、アルコキシ基、カルボキシル基、カルボニル基含有基、エステル基、エポキシ基、グリシジル基、イソシアネート基、ヒドロキシ基、チオール基、チイラン基、チオグリシジル基、アミノ基、アミド基、イミド基、カルバモイル基、ニトロ基、ニトリル基、チオシアン基、シリル基、アルコキシシリル基、及びこれらの官能基を含む有機基から選ばれるいずれかを表す。）
【００４０】
上記式（１２）で表される化合物（ａ）としては、３−アミノ−ＰＲＯＸＹＬ、３−ヒドロキシ−ＰＲＯＸＹＬ、３−イソシアナート−ＰＲＯＸＹＬ、３−カルボキシル−ＰＲＯＸＹＬ、３−ＰＲＯＸＹＬ−グリシジルエーテル、３−ＰＲＯＸＹＬ−チオグリシジルエーテル、３―カルバモイル―ＰＲＯＸＹＬ等が例示される。上記式（１３）で表される化合物（ａ）としては、３−アミノ−ＰＲＹＸＹＬ、３−ヒドロキシ−ＰＲＹＸＹＬ、３−イソシアナート−ＰＲＹＸＹＬ、３−カルボキシル−ＰＲＹＸＹＬ、３−ＰＲＹＸＹＬ−グリシジルエーテル、３−ＰＲＹＸＹＬ−チオグリシジルエーテル、３―カルバモイル―ＰＲＹＸＹＬ等が例示される。またその他の化合物（ａ）の例を挙げれば以下の通りである。
【００４１】
【化８】
0005459042.tif 000009
【００４２】
【化９】
0005459042.tif 000010
【００４３】
【化１０】
0005459042.tif 000011
【００４４】
【化１１】
0005459042.tif 000012
【００４５】
本発明において使用する化合物（ａ）の添加量は、特に制限されるものではないが、ブチルゴム１００ｇに対し、好ましくは０．００１〜０．５モル、より好ましくは０．００５〜０．１モルにするとよい。化合物（ａ）の添加量が少ないとブチルゴムの変性量が低くなるおそれがあり、逆に多いと過酸化物架橋が進行しなくなるおそれがある。
【００４６】
本発明において、ラジカル開始剤（ｂ）を添加することにより、上述した化合物（ａ）をブチルゴムの分子鎖に導入することができる。ラジカル開始剤（ｂ）としては、任意のラジカル開始剤を用いることができ、具体的にはベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ−ｔ−ブチルパーオキシヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ジ−ｔ−ブチルパーオキシ−３−ヘキシン、２，４−ジクロロ−ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキシ−ジ−イソプロピルベンゼン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート、２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ジイソブチルパーオキサイド、クミルパーオキシネオデカネート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボネート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシネオデカネート、ジ（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、１−シクロヘキシル−１−メチルエチルパーオキシネオデカネート、ジ（２−エトキシエチル）パーオキシジカーボネート、ジ（２−エトキシヘキシル）パーオキシジカーボネート、ｔ−ヘキシルパーオキシネオデカネート、ジメトキシブチルパーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカネート、ｔ−ヘキシルパーオキシピパレート、ｔ−ブチルパーオキシピパレート、ジ（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキサイド、ジ−ｎ−オクタノイルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド、ジステアロイルパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ジサクシン酸パーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ヘキシルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ジ（４−メチルベンゾイル）パーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ジ（３−メチルベンゾイル）パーオキサイドとベンゾイル（３−メチルベンゾイル）パーオキサイドとジベンゾイルパーオキサイドの混合物、ジベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレートなどを例示することができる。
【００４７】
また、レドックス触媒の作用により低温で分解が可能なものを使用してもよい。代表的なものとしては、例えばジベンゾイルパーオキサイド、パラメンタンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイドなどを例示することができる。
【００４８】
更にアゾジカーボンアミド、アゾビスイソブチロニトリル、２，２′−アゾビス−（２−アミジノプロパン）ジハイドロクロライド、ジメチル２，２′−アゾビス（イソブチレート）、アゾビス−シアン吉草酸、１，１′−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）、アゾビスメチルブチロニトリル、２，２′−アゾビス−（４−メトキシ−２，４−ジメチルパレロニトリル）などのアゾ系ラジカル開始剤を例示することができる。
【００４９】
これらのラジカル開始剤（ｂ）を反応系（混合系、接触系）に添加することによってブチルゴムに炭素ラジカルを発生させることができ、安定なフリーラジカルを有する化合物（ａ）がその炭素ラジカルと反応することにより、変性ブチルゴムが得られる。
【００５０】
本発明において使用するラジカル開始剤（ｂ）の添加量には特に制限はないが、ブチルゴム１００ｇに対し、好ましくは０．００１〜０．５モル、より好ましくは０．００５〜０．２モルにするとよい。ラジカル開始剤（ｂ）の添加量が少な過ぎるとブチルゴム鎖からの水素原子引抜き量が低くなるおそれがあり、逆に多過ぎるとブチルゴムの主鎖が分解し、分子量が大きく低下するおそれがある。
【００５１】
本発明において、二官能性以上のラジカル重合性モノマー（ｃ）を添加することにより、上述した変性ブチルゴムと反応し、過酸化物架橋時に架橋反応を行なう。二官能性以上のラジカル重合性モノマー（ｃ）は特に制限されるものはないが、例えばエチレンジ（メタ）アクリレート（ここでエチレンジ（メタ）アクリレートという表記はエチレンジメタアクリレート及びエチレンジアクリレートの両方を意味する。以下、同じ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリストールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート、プロポキシ化グリセリル（メタ）アクリレート、ペンタエリストールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ポリシロキサンジ（メタ）アクリレート、各種ウレタン（メタ）アクリレート、各種金属（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ′−フェニレンジマレイミド、ビスマレイミドジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ′−フェニレンジアクリルアミド、ジビニルベンゼン、トリアリルイソシアヌレートなどをあげることができる。これらのうち分子中に電子吸引基（例えばカルボニル基（ケトン、アルデヒド、エステル、カルボン酸、カルボン酸塩、アミド）、ニトロ基、シアノ基などを含むモノマーが変性率を高めるという観点から好ましい。
【００５２】
モノマー（ｃ）の添加量は、特に制限はされるものではないが、例えばブチルゴム１００ｇに対して、好ましくは０．００１〜０．５モル、より好ましくは０．００５〜０．２モルにするとよい。モノマー（ｃ）の添加量が少な過ぎると、変性ブチルゴムの架橋が進行しないおそれがあり、逆に多過ぎると架橋物の物性が悪化するおそれがある。
【００５３】
本発明において、アルコキシシリル基を有するラジカル重合性モノマー（ｄ）（以下、「モノマー（ｄ）」ということがある。）を、二官能性以上のラジカル重合性モノマー（ｃ）と、同時に反応させることにより変性ブチルゴム（１）を調製して変性ブチルゴム組成物（Ａ）を組成することができる。また、変性ブチルゴム（２）に、モノマー（ｃ）及び（ｄ）を同時に配合することにより変性ブチルゴム組成物（Ｂ）を組成することができる。モノマー（ｃ）とモノマー（ｄ）とを、同時に反応又は配合することにより、架橋ゴム成形体のモジュラス及び破断強度を向上することができる。このため、成形体の耐久性が向上する。
【００５４】
アルコキシシリル基を有するラジカル重合性モノマー（ｄ）は、好ましくは下記式（１４）で表される。
【００５５】
Ｓｉ（ＯＲ７）４−ｎ（Ｒ６−Ａ）ｎ        （１４）
（式（１４）中、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に炭化水素基であり、Ｒ７はエーテル結合を有していてもよく、Ａはラジカル重合性基であり、ｎは１〜３の整数であり、ｎが２または３のとき、Ｒ６同士、Ｒ７同士およびＡ同士はそれぞれ異なる基であってもよい。)
【００５６】
炭化水素基Ｒ６としては、例えばメチル、エチル、プロピル、ヘキシル、ドデシル、オクタデシル等のアルキル基、シクロプロピル、シクロヘキシル等のシクロアルキル基、フェニル、ベンジル等のアリール基などを好ましく挙げることができる。
【００５７】
エーテル結合を有し得る炭化水素基Ｒ７としては、例えばメチル、エチル、プロピル、ヘキシル、ドデシル、オクタデシル等のアルキル基、シクロプロピル、シクロヘキシル等のシクロアルキル基、フェニル、ベンジル等のアリール基、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリオキシアルキレン基などを好ましく挙げることができる。
【００５８】
ラジカル重合性基Ａとしては、例えばビニル基、アリル基、スチリル基、（メタ）アクリロキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ハロゲン化ビニル基、アクリロニトリル基などを好ましく挙げることができるが、その中でも電子吸引基（カルボニル基、ハロゲン、シアノ基など）を含むものがより好ましい。さらに、その中でも（メタ）アクリロキシ基が特に好ましい。ここで、(メタ)アクリロキシ基はアクリロキシ基またはメタクリロキシ基を指し、(メタ)アクリルアミド基はアクリルアミド基またはメタクリルアミド基を指している。
【００５９】
アルコキシシリル基を有するラジカル重合性モノマー（ｄ）としては、例えばビニルメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（プロピルトリエトキシシラン）マレイミドなどを好ましく例示することができる。
【００６０】
また、モノマー（ｄ）として、モノマー（ｄ）を加水分解縮合したものを用いてもよい。例えばシロキサン結合の繰り返し単位を２個以上有し、かつアルコキシシリル基を有するシリコーンオイル型カップリング剤でラジカル重合性基を有するオリゴマーなどを用いてもよい。
【００６１】
本発明において、モノマー（ｄ）の添加量は、特に制限されるものではないが、ブチルゴム１００ｇに対し、好ましくは０．０００１〜０．５モル、より好ましくは０．０００３〜０．２モルにするとよい。モノマー（ｄ）の添加量が少ないと架橋ゴム成形体のモジュラス、破断強度の向上効果が得られない。逆にモノマー（ｄ）の添加量が多いと過剰のモノマー（ｄ）がその架橋ゴム成形体の圧縮永久歪に悪影響を及ぼすおそれがあるので好ましくない。
【００６２】
本発明において、変性ブチルゴムは、例えば以下のようにして調製することができる。すなわち、予備混合したブチルゴム、化合物（ａ）及びラジカル開始剤（ｂ）の混合物を、窒素置換した密閉式混練機中で、１５０〜２２０℃の温度に加熱して反応させることにより変性ブチルゴム（２）を調製する。一旦温度を下げた後、変性ブチルゴム（２）にモノマー（ｃ）又はモノマー（ｃ）及び（ｄ）を加えて、再度窒素置換を行い、好ましくは１２０〜２２０℃に加熱して反応させることにより変性ブチルゴム（１）を調製する。このような逐次反応を行なうことによって、モノマー（ｃ）及び（ｄ）のブチルゴムへのグラフト量を高くすることができる。上述した反応は、窒素置換して行なうことが好ましいが、酸素が希薄な条件下でも行なうこともできる。
【００６３】
また、変性ブチルゴム（２）にモノマー（ｃ）、又はモノマー（ｃ）及び（ｄ）を配合することにより、未反応のモノマー（ｃ）、又はモノマー（ｃ）及び（ｄ）を含む変性ブチルゴム組成物（Ｂ）を調製してもよい。
【００６４】
本発明において、モノマー（ｃ）及び（ｄ）の配合及び反応は、一般的な方法で行なうことができ、各種添加剤、補強充填剤、架橋剤と同時に配合して行なってもよい。上述した、変性反応及び配合混合は、密閉式混練機、二軸押出型混練機、一軸押出型混練機、ロール、バンバリー、ニーダーなどを用いて行なうことができる。
【００６５】
本発明では、上述した変性ブチルゴム組成物（Ａ）及び（Ｂ）に有機過酸化物を配合したゴム組成物を調製し、このゴム組成物を用いて表面改質ゴム層３を構成する未架橋のゴム成形体を成形する。有機過酸化物としては、例えばベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ−ｔ−ブチルパーオキシヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ジ−ｔ−ブチルパーオキシ−３−ヘキシン、２，４−ジクロロ−ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキシ−ジ−イソプロピルベンゼン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート、２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタンなどを例示することができる。
【００６６】
有機過酸化物の配合量は、変性ブチルゴム（１）及び（２）を含むゴム成分１００重量部に対し、好ましくは０．０５〜１５重量部、より好ましくは０．１〜１０重量部にするとよい。
【００６７】
本発明において、変性ブチルゴム組成物（Ａ）及び（Ｂ）には、変性ブチルゴム（１）及び（２）以外の他のゴム成分を含むことができる。他のゴム成分として例えば天然ゴム、イソプレンゴム、各種ブタジエンゴム、各種スチレン−ブタジエンゴム、ブチルゴム、ハロゲン化ブチルゴム、クロロプレンゴム、アクリルゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、エピクロロヒドリンゴム、スチレン−イソプレン−ブタジエン共重合体、エチレン−プロピレン−ジエン３元共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−プロピレン−ブテン３元共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレン共重合体、スチレン−エチレン−ブテン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−プロピレン−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、水素化アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリイソブチレン、ポリブテン、スチレン−ｐ−メチルスチレン共重合体、ハロゲン化スチレン−ｐ−メチルスチレン共重合体などを例示することができる。変性ブチルゴム（１）及び（２）の含有量は、ゴム成分中に好ましくは５重量％以上、より好ましくは１０重量％以上、更に好ましくは３０〜１００重量％であるとよい。
【００６８】
変性ブチルゴム組成物（Ａ）及び（Ｂ）には、カーボンブラック、その他シリカ、タルク、各種クレーなどの補強剤（フィラー）、加硫又は架橋剤、加硫又は架橋促進剤、各種オイル、老化防止剤、可塑剤などのゴム組成物に一般的に配合されている各種添加剤を配合することができる。かかる添加剤は一般的な方法で混練して組成物とし、加硫又は架橋するのに使用することができる。これらの添加剤の配合量は本発明の目的に反しない限り、従来の一般的な配合量とすることができる。
【００６９】
本発明の製造方法では、変性ブチルゴム組成物（Ａ）又は（Ｂ）と有機過酸化物とを配合したゴム組成物を用いて成形した表面改質ゴム層３を構成する未架橋のゴム成形体の表面に（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物を塗布し、ベースゴム層１に積層して加熱処理する。（メタ）アクリロイル基は、アクリロイル基及びメタアクリロイル基の少なくとも１つの基であればよい。（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物としては、下記式（１），（２）又は（３）で表されるオルガノポリシロキサン化合物から選ばれる少なくとも１種であるとよい。
【００７０】
【化１２】
0005459042.tif 000013
（式（１）中、Ｒ１はポリアルキレングリコール若しくはアルキル基、Ｒ２は水素若しくはメチル基であり、ｍ及びｎは、数平均分子量が１０００〜２００００になり、かつｍ：ｎ＝９８：２〜９０：１０を満たすように決められる整数である。）
【００７１】
上記式（１）で表される（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物の数平均分子量は１０００〜２００００、好ましくは５０００〜２００００である。ｍ及びｎは、数平均分子量が上記範囲内になるように決められる整数であると共に、ｍ：ｎ＝９８：２〜９０：１０、好ましくは９７：３〜９４：６を満たす必要がある。また、Ｒ１の炭素数は、好ましくは４〜３０、より好ましくは８〜１８であるとよい。なお、本発明において、ポリシロキサン化合物の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定する標準ポリスチレン換算の数平均分子量とした。
【００７２】
このような（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物としては、デグッサ社製有機変性シリコーンアクリレートＴＥＧＯ  ＲＡＤ２７００等が例示される。
【００７３】
【化１３】
0005459042.tif 000014
（式（２）中、Ｒ３は水素若しくはメチル基、Ｒ４はアルキル基若しくはアルキレン基であり、ｐは数平均分子量が１００〜２００００になるように決められる整数である。）
【００７４】
上記式（２）で表される（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物の数平均分子量は１００〜２００００、好ましくは１０００〜１２０００である。ｐは数平均分子量が上記の範囲内になるように決められる整数である。また、Ｒ４の炭素数は、好ましくは１〜３０、より好ましくは３〜１８であるとよい。
【００７５】
このような（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物としては、信越化学工業社製変性シリコーンオイルＸ−２２−１６４Ａ、チッソ社製両末端サイラプレーン等が例示される。
【００７６】
【化１４】
0005459042.tif 000015
（式（３）中、Ｒ３は水素若しくはメチル基、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立にアルキル基若しくはアルキレン基であり、ｐは数平均分子量が１００〜２００００になるように決められる整数である。）
【００７７】
上記式（３）で表される（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物の数平均分子量は１００〜２００００、好ましくは１０００〜１２０００である。ｐは数平均分子量が上記範囲内になるように決められる整数である。また、Ｒ４及びＲ５の炭素数は、それぞれ独立に好ましくは１〜３０、より好ましくは３〜１８であるとよい。
【００７８】
このような（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物としては、信越化学工業社製変性シリコーンオイルＸ−２２−２４２６、チッソ社製片末端サイラプレーン等が例示される。
【００７９】
本発明のタイヤ製造用ブラダーの製造方法は、表面改質ゴム層３の未架橋体として、上述した変性ブチルゴム組成物（Ａ）又は（Ｂ）と、有機過酸化物とを含むゴム組成物からなる未架橋のゴム成形体を成形し、このゴム成形体の表面に（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物を塗布する。この表面改質ゴム層３の未架橋体をベースゴム層１に積層し、これを加熱処理するようにするため、未架橋のゴム成形体の過酸化物架橋と、（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物の反応とを同時に行なうことができる。このためシロキサン化合物が表面改質ゴム層３の表面に強固に化学結合し、優れた離型性を有すると共に、その離型性能の持続性を大幅に向上することができる。また、積層側ではべースゴム層１の加硫・未加硫の状態に関わらず、加硫接着が可能となる。このタイヤ製造用ブラダーは、空気入りタイヤの加硫成型機に用いるブラダーとして好適である。このようなブラダーを使用することにより、未加硫タイヤの内面やブラダーの外表面に各種シリコーン等の離型剤を塗布することなく優れた離型性が得られる。また、この優れた離型性能は、ほぼブラダー寿命に至るまで長期間持続することができる。
【００８０】
以下、実施例によって本発明を更に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
【実施例】
【００８１】
タイヤ製造用ブラダーの製造
表１に示す配合からなる２種類の変性ブチルゴム組成物（組成物１，２）を、１５０ｃｃのニーダーで６分間混練し、更に８インチのオープンロールにて混練し調製した。得られた２種類の変性ブチルゴム組成物を９０℃でプレスし、６インチ×６インチのシートに成形することにより表面改質ゴム層用の未架橋のゴム成形体を作成した。
【００８２】
得られた表面改質ゴム層用の未架橋体を用いて、表２に示すように未架橋体の表面に（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物（表中、「シロキサン化合物」と記載する。）を塗布した。この表面改質ゴム層用の未架橋体を、表３に示すゴム組成物を使用して加硫成形した基礎ブラダーの外周面側に積層し、これをブラダー加硫金型に挿入し、１８０℃、２０分間の条件で加熱処理を行い４種類のタイヤ製造用ブラダー（実施例１〜４）を得た。得られた４種類のタイヤ製造用ブラダーの外表面を、メチルエチルケトン及びキシレンを用いて十分に洗浄し、未反応のシロキサン化合物を取り除いた。
【００８３】
なお、比較例１として表３に示すゴム組成物を使用して加硫成形した基礎ブラダーの外表面に離型剤（タルクを主成分とする水溶液状の離型剤）を塗布したタイヤ製造用ブラダー、比較例２として表３に示すゴム組成物を使用して加硫成形した基礎ブラダーの外表面にシロキサン化合物を主成分とする離型剤（ラインケミー社製レノディブ）を塗布し、１２０℃、１時間の加熱処理を施して硬化させたタイヤ製造用ブラダーを準備した。
【００８４】
タイヤ製造用ブラダーの評価
得られた６種類のタイヤ製造用ブラダー（実施例１〜４、比較例１，２）をそれぞれ使用して、表４に示すゴム組成物からなるインナーライナーを内周面に備えた未加硫タイヤの加硫成形を連続して行い、離型時に張り付き故障が発生するまで連続加硫成形した回数を測定した。なお連続加硫成形の回数の上限は５００回とした。得られた結果を、表２に示した。
【００８５】
【表１】
0005459042.tif 000016
【００８６】
表１において使用した原材料を下記に示す。
変性ＩＩＲ（１）：変性ブチルゴム（１）、以下の方法により調製したもの。
変性ＩＩＲ（２）：変性ブチルゴム（２）、以下の方法により調製したもの。
カーボンブラック：東海カーボン社製ＨＡＦ級カーボンブラック
ステアリン酸：日油社製ビーズステアリン酸ＹＲ
オイル：ひまし油、伊藤製油社製キャスターオイル
亜鉛華：正同化学工業社製亜鉛華３号
有機過酸化物：ジクミルパーオキサイド、日油社製パークミルＤ−４０
モノマー（ｃ）：ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、サートマー社製ＳＲ−３５５
【００８７】
変性ブチルゴム（１）の調製
ブチルゴム（ランクセス社製ＢＵＴＹＬ３０１）を３５０．０ｇ、ＯＨ−ＴＥＭＰＯ（４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニル−１−オキシル、旭電化工業社製ＬＡ７ＲＤ、化合物（ａ））を３２．２ｇ、１，３−ビス−（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン（化薬アクゾ社製パーカドックス１４−Ｇ、ラジカル開始剤（ｂ））を２４．２ｇ秤量し、６０℃に温度を設定した密閉型バンバリーに入れ１０分間混合した。得られた混合物を、１００℃に温度設定した密閉型バンバリー中で混練しながら５分間窒素置換した。混練しながら温度を１６５℃まで上昇させ２０分間混練した。得られたポリマーの一部をトルエンに溶解し、再沈殿操作によりポリマーを単離精製した。精製品を用いて１Ｈ−ＮＭＲにて分析を行なうことにより、ＴＥＭＰＯ部位の導入（アルコキシアミノ基）を確認した。その導入率は０．３６０ｍｏｌ％であった。
【００８８】
一旦反応系を１５０℃にし、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（サートマー社製ＳＲ−３５５、モノマー（ｃ））を１１．２ｇ、およびメタクリルシラン（γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業社製ＫＢＭ５０３、モノマー（ｄ））を５．８ｇ秤量し、添加して混練しながら５分間窒素置換した。混練しながら温度を１８５℃まで上昇させ１５分間混練し、変性ブチルゴム（１）を得た。
【００８９】
得られた変性ブチルゴム（１）の一部をトルエンに溶解し、再沈殿操作によりポリマーを単離精製した。精製品を用いてＩＲ分析ならびに１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。１７２０ｃｍ−１付近にエステルのカルボニル由来の吸収が観測され、１Ｈ−ＮＭＲからは、６．３９、６．１０、５．９６、４．１２ならびに３．３０ｐｐｍ付近にジトリメチロールプロパン由来のシグナルが観測され、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートが３個のオレフィンを残す構造で導入されていることが確認された。その導入率は０．０８４ｍｏｌ％であった。また、３．５５ｐｐｍ付近にメタクリルシラン由来のシグナルが観測され、その導入率は０．０１５ｍｏｌ％であった。
【００９０】
変性ブチルゴム（２）の調製
ブチルゴム（ランクセス社製ＢＵＴＹＬ３０１）を３５０．０ｇ、ＯＨ−ＴＥＭＰＯ（４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニル−１−オキシル、旭電化工業社製ＬＡ７ＲＤ、化合物（ａ））を３２．２ｇ、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド（日油社製パーブチルＤ、ラジカル開始剤（ｂ））を３０．４ｇ秤量し、６０℃に温度を設定した密閉型バンバリーに入れ１０分間混合した。得られた混合物を、１００℃に温度設定した密閉型バンバリー中で混練しながら５分間窒素置換した。混練しながら温度を１８６℃まで上昇させ２０分間混練し、変性ブチルゴム（２）を得た。
【００９１】
得られた変性ブチルゴム（２）の一部をトルエンに溶解し、再沈殿操作によりポリマーを単離精製した。精製品を用いて１Ｈ−ＮＭＲにて分析を行なうことにより、ＴＥＭＰＯ部位の導入（アルコキシアミノ基）を確認した。その導入率は０．３４８ｍｏｌ％であった。
【００９２】
【表２】
0005459042.tif 000017
【００９３】
表２において使用した原材料の種類を下記に示す。
組成物１，２：それぞれ表１に示したゴム組成物
シロキサン化合物Ａ：化学式（２）で表される（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物、数平均分子量１７２０、信越化学工業社製変性シリコーンオイルＸ−２２−１６４Ａ
シロキサン化合物Ｂ：化学式（１）で表される（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物、数平均分子量２００００、デグッサ社製有機変性シリコーンアクリレートＴＥＧＯ  ＲＡＤ２７００
【００９４】
【表３】
0005459042.tif 000018
【００９５】
表３において使用した原材料の種類を下記に示す。
ＩＩＲ：ブチルゴム、ランクセス社製ＢＵＴＹＬ３０１
ＣＲ：クロロプレンゴム、デュポン社製ネオプレンＷ
カーボンブラック（１）：東海カーボン社製ＨＡＦカーボン
オイル（１）：伊藤製油社製ひまし油  キャスターオイル
亜鉛華：正同化学工業社製亜鉛華３号
アルキルフェノール-ホルムアルデヒド樹脂：日立化成工業社製ヒタノール２５０１Ｙ
【００９６】
【表４】
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【００９７】
表４において使用した原材料の種類を下記に示す。
臭素化ＩＩＲ：臭素化ブチルゴム、ランクセス社製ＢＵＴＹＬ３０１
カーボンブラック（２）：東海カーボン社製ＧＰＦ級カーボンブラック
ステアリン酸：日油社製ビーズステアリン酸ＹＲ
オイル（２）：エア・ウォーターＩＮＣ製アロマオイルＦＲ−１２０
亜鉛華：正同化学工業社製亜鉛華３号
酸化マグネシウム：共和化学工業社製キョーマグ１５０
石油樹脂：三井化学社製ハイレッツＧ１００Ｘ
硫黄：軽井沢製作所社製フンマツ  イオウ
加硫促進剤：ＭＢＴＳ、大内新興化学工業社製ノクセラーＤＭ
【００９８】
なお、表４のインナーライナー用ゴム組成物は、硫黄及び加硫促進剤を除く配合成分を秤量し、密閉型バンバリーで混練し、温度１６０℃でマスターバッチを放出し室温冷却した。このマスターバッチを、密閉型バンバリーで硫黄及び加硫促進剤を加え混合することにより調製した。
【符号の説明】
【００９９】
１  タイヤ製造用ブラダー
２  ベースゴム層
３  表面改質ゴム層
Ｍ  加熱加圧媒体
Ｔ  未加硫タイヤ
【図１】
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