(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
チタン又はチタン合金からなる基材と、貴金属又は貴金属合金からなる装飾被覆層と、を有する装飾部材であって、
前記基材は、窒素及び／又は酸素が固溶した硬化層を有し、
前記硬化層の上に直接、前記装飾被覆層が形成されている
ことを特徴とする装飾部材。
【請求項２】
前記装飾被覆層の厚さは、０．００５〜０．１μｍである
ことを特徴とする請求項１に記載された装飾部材。
【請求項３】
チタン又はチタン合金からなる基材の表面から、前記基材に窒素及び／又は酸素を固溶させて硬化層を形成する硬化層形成工程と、
前記硬化層の上に直接、貴金属又は貴金属合金からなる装飾被覆層を形成する被覆層形成工程と、
を含む
ことを特徴とする装飾部材の製造方法。
【請求項４】
前記硬化層形成工程で形成された前記硬化層の表面を研磨する研磨工程をさらに含み、
前記被覆層形成工程において、前記研磨工程で研磨された前記硬化層の表面に直接、前記装飾被覆層を形成する
ことを特徴とする請求項３に記載された装飾部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、装飾部材及びその製造方法に関し、特に、貴金属又は貴金属合金に特有の外観と耐久性とを兼ね備えた装飾部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、特許文献１において、チタン又はチタン合金からなる基材の表面から所定の深さまで窒素及び酸素を固溶して形成された硬化層と、当該硬化層の表面に乾式メッキ法によって形成された下地層（炭化チタン等、金属又は金属と窒素、酸素及び炭素のうち１つ以上との化合物からなる層）と、当該下地層の表面に乾式メッキ法によって形成されたプラチナ又はプラチナ合金からなる装飾被膜層と、を有する白色装飾部材が開示されている。
【０００３】
この白色装飾部材は、基材がチタン又はチタン合金製であるため非常に軽く、且つ、最外層がプラチナ又はプラチナ合金で形成されているため当該プラチナ又はプラチナ合金に特有の高級感のある色調を有している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−１９００４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、本発明者の発明者らが装飾部材に要求される特性を更に追求した結果、上記従来技術においては、装飾被覆層と下地層との密着性が必ずしも十分ではないこと、及び耐傷性を更に高めることが好ましいこと等、耐久性に関する特性を改善する必要性が見出された。
【０００６】
本発明は、上記課題に鑑みて為されたものであり、貴金属又は貴金属合金に特有の優れた外観を有するとともに、耐久性にも優れた装飾部材及びその製造方法を提供することをその目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するための本発明の一実施形態に係る装飾部材は、チタン又はチタン合金からなる基材と、貴金属又は貴金属合金からなる装飾被覆層と、を有する装飾部材であって、前記基材は、窒素及び／又は酸素が固溶した硬化層を有し、前記硬化層の上に直接、前記装飾被覆層が形成されていることを特徴とする。本発明によれば、貴金属又は貴金属合金に特有の優れた外観を有するとともに、耐久性にも優れた装飾部材を提供することができる。
【０００８】
また、前記装飾部材において、前記装飾被覆層の厚さは、０．００５〜０．１μｍであることとしてもよい。
【０００９】
上記課題を解決するための本発明の一実施形態に係る装飾部材の製造方法は、チタン又はチタン合金からなる基材の表面から、前記基材に窒素及び／又は酸素を固溶させて硬化層を形成する硬化層形成工程と、前記硬化層の上に直接、貴金属又は貴金属合金からなる装飾被覆層を形成する被覆層形成工程と、を含むことを特徴とする。本発明によれば、貴金属又は貴金属合金に特有の優れた外観を有するとともに、耐久性にも優れた装飾部材の製造方法を提供することができる。
【００１０】
また、前記製造方法は、前記硬化層形成工程で形成された前記硬化層の表面を研磨する研磨工程をさらに含み、前記被覆層形成工程において、前記研磨工程で研磨された前記硬化層の表面に直接、前記装飾被覆層を形成することとしてもよい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、貴金属又は貴金属合金に特有の優れた外観を有するとともに、耐久性にも優れた装飾部材及びその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一実施形態に係る装飾部材の断面を模式的に示す説明図である。
【図２Ａ】本発明の一実施形態に係る装飾部材の製造方法に使用される基材の断面を模式的に示す説明図である。
【図２Ｂ】本発明の一実施形態に係る装飾部材の製造方法で形成された硬化層の断面を模式的に示す説明図である。
【図２Ｃ】本発明の一実施形態に係る装飾部材の製造方法で製造された装飾部材の断面を模式的に示す説明図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る実施例において比較例として使用した装飾部材の断面を模式的に示す説明図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る実施例において他の比較例として使用した装飾部材の断面を模式的に示す説明図である。
【図５】本発明の一実施形態に係る実施例において装飾部材の明度、耐傷性及び密着性を評価した結果の一例を示す説明図である。
【図６Ａ】本発明の一実施形態に係る実施例において、本発明に係る装飾部材の表面をＸ線回折法により分析して得られたＸ線回折図の一例を示す説明図である。
【図６Ｂ】図６Ａに示すＸ線回折図の角度（２θ）が６０〜９０（ｄｅｇ）の範囲を拡大して示す説明図である。
【図６Ｃ】図６Ａに示すＸ線回折図の角度（２θ）が６８（ｄｅｇ）近傍のピークを拡大して示す説明図である。
【図６Ｄ】図６Ａに示すＸ線回折図の角度（２θ）が８２（ｄｅｇ）近傍のピークを拡大して示す説明図である。
【図７Ａ】本発明の一実施形態に係る実施例において、比較例に係る装飾部材の表面をＸ線回折法により分析して得られたＸ線回折図の一例を示す説明図である。
【図７Ｂ】図７Ａに示すＸ線回折図の角度（２θ）が６０〜９０（ｄｅｇ）の範囲を拡大して示す説明図である。
【図７Ｃ】図７Ａに示すＸ線回折図の角度（２θ）が６８（ｄｅｇ）近傍のピークを拡大して示す説明図である。
【図７Ｄ】図７Ａに示すＸ線回折図の角度（２θ）が８２（ｄｅｇ）近傍のピークを拡大して示す説明図である。
【図８Ａ】本発明の一実施形態に係る実施例において、他の比較例に係る装飾部材の表面をＸ線回折法により分析して得られたＸ線回折図の一例を示す説明図である。
【図８Ｂ】図８Ａに示すＸ線回折図の角度（２θ）が６０〜９０（ｄｅｇ）の範囲を拡大して示す説明図である。
【図８Ｃ】図８Ａに示すＸ線回折図の角度（２θ）が６８（ｄｅｇ）近傍のピークを拡大して示す説明図である。
【図８Ｄ】図８Ａに示すＸ線回折図の角度（２θ）が８２（ｄｅｇ）近傍のピークを拡大して示す説明図である。
【図９】本発明の一実施形態に係る実施例において得られたＸ線回折図に基づき、プラチナに対する金属間化合物のピーク強度比を算出した結果の一例を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下に、本発明の一実施形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、本発明は本実施形態に限られるものではない。
【００１４】
図１は、本実施形態に係る装飾部材１の断面を模式的に示す説明図である。図１に示すように、装飾部材１は、チタン又はチタン合金からなる基材１０と、貴金属又は貴金属合金からなる装飾被覆層２０と、を有する装飾部材であって、当該基材１０は、窒素Ｎ及び酸素Ｏが固溶した硬化層１１を有し、当該硬化層１１の上に直接、当該装飾被覆層２０が形成されている。
【００１５】
また、図２Ａ、図２Ｂ及び図２Ｃは、本実施形態に係る装飾部材１の製造方法（以下、「本方法」という。）の過程を示す説明図である。図２Ａ〜図２Ｃに示すように、本方法は、チタン又はチタン合金からなる基材１０の表面１０ａ（図２Ａ）から、当該基材１０に窒素Ｎ及び酸素Ｏを固溶させて硬化層１１を形成する硬化層形成工程（図２Ｂ）と、当該硬化層１１の上に直接、貴金属又は貴金属合金からなる装飾被覆層２０を形成する被覆層形成工程（図２Ｃ）と、を含む。
【００１６】
本実施形態において、硬化層１１は、窒素Ｎ及び酸素Ｏが固溶したチタン又はチタン合金からなる層である。ただし、硬化層１１は、これに限られず、窒素Ｎ及び／又は酸素Ｏが固溶したチタン又はチタン合金からなる層であればよい。すなわち、硬化層１１には、窒素Ｎ及び酸素Ｏの少なくとも一方が固溶していればよい。より具体的に、硬化層１１には、窒素Ｎ又は酸素Ｏが固溶していればよく、例えば、窒素Ｎが固溶し酸素Ｏが固溶していなくてもよいし、酸素Ｏが固溶し窒素Ｎが固溶していなくてもよい。なお、硬化層１１には、他の元素（例えば、炭素）をさらに固溶していてもよい。
【００１７】
本実施例において、硬化層１１は、窒素Ｎ及び酸素Ｏが固溶している第一硬化層１２と、窒素Ｎは固溶しておらず酸素Ｏが固溶している第二硬化層１３と、を有している。第一硬化層１２は、硬化層１１と装飾被覆層２０との境界部分から所定の深さまでの範囲に形成され、第二硬化層１３は、当該第一硬化層１２からさらに深い所定の深さまでの範囲に形成されている。
【００１８】
硬化層１１、第一硬化層１２及び第二硬化層１３の厚さは、所望の硬度が得られる範囲であれば特に限られず、例えば、第一硬化層１２は、基材１０の深さ５μｍ以内の範囲（例えば、基材１０の表面１０ａから０．５〜５μｍの範囲）に形成することが好ましい。より具体的に、第一硬化層１２の厚さは、０．５〜５μｍとすることが好ましく、２〜５μｍとすることがより好ましい。第一硬化層１２を深さ５μｍ以内の範囲に形成することにより、結晶粒の粗大化によって硬化層１１の表面１１ａが粗くなることを効果的に抑制するとともに、十分な硬度が得られる。
【００１９】
また、例えば、第二硬化層１３は、基材１０の深さ２５μｍ以内の範囲（第一硬化層１２から、基材１０の表面１０ａから２５μｍの深さまでの範囲）に形成することが好ましい。より具体的に、第二硬化層１３の厚さは、２０〜２４．５μｍとすることが好ましい。第二硬化層１３を深さ２５μｍ以内の範囲に形成することにより、硬度を確実に向上させることができる。
【００２０】
また、第一硬化層１２及び第二硬化層１３に固溶可能な窒素Ｎ及び酸素Ｏの量は、所望の硬度が得られる範囲であれば特に限られず、例えば、第一硬化層１１において、窒素Ｎの固溶量が０．６〜８．０ｗｔ％、酸素Ｏの固溶量が１．０〜１４．０ｗｔ％であり、第二硬化層１２において、酸素Ｏの固溶量が０．５〜１４．０ｗｔ％であることが好ましい。
【００２１】
硬化層１１は、チタン又はチタン合金に窒素Ｎ及び酸素Ｏが固溶することにより、当該硬化層１１を形成する前の基材１０（図２Ａ）、及び当該硬化層１１が形成された基材１０のうち窒素Ｎ及び酸素Ｏが固溶していない部分（未硬化層１４）に比べて、その硬度が効果的に高められている。特に、第一硬化層１２は、チタン又はチタン合金に窒素Ｎ及び酸素Ｏが固溶することにより、その硬度が顕著に高められている。このような硬化層１１は、装飾部材１の耐衝撃性を向上させ、傷の形成を効果的に防止する。
【００２２】
硬化層１１は、本方法の硬化層形成工程において、基材１０の表面１０ａ（図２Ａ）と、窒素Ｎ及び酸素Ｏを含むガスと、を接触させて、当該表面１０ａから当該窒素Ｎ及び酸素Ｏを拡散固溶させる（図２Ｂ）ことにより形成する。
【００２３】
より具体的に、硬化層１１の形成方法は、例えば、チタン又はチタン合金からなる基材１０を減圧下で加熱して焼鈍処理する加熱工程と、次いで、当該基材１０を減圧下で加熱しつつ窒素Ｎ及び酸素Ｏを含むガスと接触させて、当該基材１０の表面１０ａから内部へ当該窒素Ｎ及び酸素Ｏを拡散固溶させる固溶工程と、その後、当該基材１０を冷却する冷却工程と、を含む。
【００２４】
加熱工程における焼鈍処理は、例えば、真空加熱炉内を真空排気して形成された減圧状態下で行うことが好ましく、また、真空加熱炉内を真空排気した後、当該真空加熱炉内に不活性ガスを導入した減圧状態下で行うことも好ましい。
【００２５】
固溶工程で基材１０に接触させるガスは、当該基材１０への窒素Ｎ及び酸素Ｏの固溶を達成できるものであれば特に限られず、例えば、微量の酸素成分を含む窒素主体の混合ガスを好ましく使用することができる。
【００２６】
この混合ガスに含まれる酸素成分としては、例えば、酸素ガス、水蒸気、エチルアルコール、メチルアルコール等を使用することができる。また、混合ガスは、例えば、水蒸気とともに二酸化炭素ガス又は一酸化炭素ガスを含むこととしてもよい。
【００２７】
窒素Ｎ及び酸素Ｏを含む混合ガスを使用する場合、固溶工程においては、基材１０の表面１０ａの近傍に窒素Ｎ及び酸素Ｏが固溶した第一硬化層１２を形成するとともに、当該第一硬化層１２よりさらに深い部分に酸素Ｏが固溶した第二硬化層１３を形成する。固溶工程において、基材１０への窒素Ｎ及び酸素Ｏの固溶は、例えば、６００〜８８０℃の温度で行うことが好ましい。
【００２８】
冷却工程は、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。すなわち、冷却工程においては、例えば、固溶処理後の真空加熱炉内を高真空排気して微量の酸素成分を含有する窒素主体の混合ガスを除去し、続いて当該高真空排気により形成された真空雰囲気下、又は当該高真空排気後の真空加熱炉内に不活性ガスを導入した減圧状態下で、基材１０を常温まで冷却する。
【００２９】
装飾被覆層２０は、上述のようにして形成された硬化層１１の上に直接形成されている。本発明の特徴的な点の一つは、硬度が効果的に高められた硬化層１１の上に、貴金属又は貴金属合金からなる装飾被覆層２０が直接形成されていることである。
【００３０】
すなわち、上述のとおり、従来、硬化層と、当該硬化層の上に形成された下地層と、当該下地層の上に形成された装飾被膜層と、を有する白色装飾部材はあった。しかしながら、この従来の白色装飾部材においては、プラチナ又はプラチナ合金に特有の外観を実現することはできるものの、耐傷性や、装飾被覆層と下地層との密着性は十分なものではなかった。
【００３１】
そこで、本発明の発明者らは、独自に鋭意検討を重ね、意外にも、装飾被覆層２０を硬化層１１に直接形成することにより、貴金属又は貴金属合金に特有の外観と、優れた耐傷性と、優れた密着性と、を兼ね備えた装飾部材を実現できることを見出した。
【００３２】
装飾被覆層２０を構成する貴金属又は貴金属合金は、硬化層１１のみでは実現できない当該貴金属又は貴金属合金に特有の外観を実現できるものであれば特に限られず、例えば、プラチナ、金、銀、ロジウム、パラジウム及びイリジウムから選択される１種以上、又は当該１種以上の合金とすることができ、特に、プラチナ又はプラチナ合金とすることが好ましい。
【００３３】
装飾被覆層２０の厚さは、貴金属又は貴金属合金に特有の外観を実現できる範囲であれば特に限られず、例えば、０．００５〜０．１μｍであることとしてもよく、０．００５〜０．０１μｍであることが好ましい。
【００３４】
装飾部材１においては、硬化層１１に装飾被覆層２０が直接形成されることにより、当該装飾被覆層２０の表面２０ａは、当該装飾被覆層２０を構成する貴金属又は貴金属合金に特有の色調を備えることとなる。
【００３５】
すなわち、硬化層１１の表面１１ａは、当該硬化層１１を構成するチタン又はチタン合金に由来する暗い色調を呈するのに対して、当該硬化層１１に直接形成された装飾被覆層２０の表面２０ａは、当該装飾被覆層２０を構成するプラチナ又はプラチナ合金に由来する明るい色調を呈する。
【００３６】
例えば、装飾被覆層２０の明度は、硬化層１１のそれに比べて顕著に高くなる。具体的に、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系（ＣＩＥ表色系）による色評価において、装飾被覆層２０の明度（Ｌ＊値）は、例えば、８２以上であり、好ましくは８３以上であり、より好ましくは８４以上であり、特に好ましくは８５以上である。これに対し、硬化層１１の明度（Ｌ＊値）は、例えば、７７未満に過ぎない。
【００３７】
また、硬化層１１に装飾被覆層２０が直接形成されることにより、当該硬化層１１と当該装飾被覆層２０との境界部分に金属間化合物が形成される。具体的に、例えば、チタンからなる硬化層１１の上に、プラチナからなる装飾被覆層２０を直接形成した場合には、当該硬化層１１と当該装飾被覆層２０との境界部分に金属間化合物Ｐｔ３Ｔｉが生成される。この硬化層１１と装飾被覆層２０との境界部分における適度な量の金属間化合物の生成が、当該装飾被覆層２０と当該硬化層１１との密着性を効果的に高めているものと考えられる。
【００３８】
装飾被覆層２０の形成は、基材１０に形成された硬化層１１の表面１１ａ（図２Ｂ）に直接、貴金属又は貴金属合金からなる被膜を形成することにより行われる（図２Ｃ）。装飾被覆層２０は、乾式メッキ法により形成されることが好ましい。乾式メッキ法としては、例えば、スパッタリング法、アーク法、イオンプレーティング法、イオンビーム等の物理的蒸着法（ＰＶＤ）、ＣＶＤを使用することができ、特に、イオンプレーティング法、スパッタリング法又はアーク法を使用することが好ましい。
【００３９】
また、本方法においては、上述の硬化層形成工程で形成された硬化層１１の表面１１ａを研磨する研磨工程をさらに含み、続く被覆層形成工程において、当該研磨工程で研磨された当該硬化層１１の表面１１ａに直接、装飾被覆層２０を形成することとしてもよい。
【００４０】
この場合、研磨工程において硬化層１１の表面１１ａを研磨する手段は、所望の効果が得られれば特に限られない。すなわち、例えば、バレル研磨、バフ研磨、化学研磨、バレル研磨とバフ研磨と化学研磨との組み合わせ等、公知の研磨手段を使用することができ、特に、ダイヤモンド砥粒を含む研磨剤を使用した研磨を好ましく使用することができる。このような研磨によって、硬化層１１の表面１１ａを、いわゆる鏡面とすることができる。
【００４１】
本方法が研磨工程を含むことにより、硬化層形成工程において硬化層１１の表面１１ａに形成された微細な歪みを除去し、より優れた外観を有する装飾部材１を製造することができる。
【００４２】
このような装飾部材１及びその製造方法は、例えば、時計（腕時計、懐中時計、置時計、掛時計等）、装身具（指輪、ネックレス、ピアス、ペンダント、イヤリング、メガネ等）、携帯機器（カメラ、携帯電話等の携帯通信機器、携帯ラジオや携帯テレビ等の携帯受信機器、携帯音楽再生機器、携帯型コンピュータ、携帯型ゲーム機器等）、ライター等の物品（特に、外装部品、ボディ部分、フレーム部分等）に適用される。その結果、貴金属又は貴金属合金に特有の明るい色調の外観（例えば、高級感のある外観）を有しながら、耐傷性や密着性等の耐久性にも優れた上記物品を提供することができる。
【００４３】
次に、本実施形態に係る具体的な実施例について説明する。
【実施例】
【００４４】
［実施例１：Ｐｔ／Ｔｉ（ＮＯ）］
まず、チタンからなる基材１０を有機溶剤で洗浄し、脱脂した。次に、この洗浄済みの基材１０をガスの導入可能な真空加熱炉に配置し、残留ガス雰囲気の影響が排除される６．６５×１０−３Ｐａ以下の圧力まで高真空排気した。その後、真空加熱炉内の温度を６９０℃まで上げ、基材１０を６９０℃で２０分間保持する焼鈍処理を行った。
【００４５】
次に、真空加熱炉内へ、窒素ガスに微量の水蒸気を添加して調製された混合ガスを導入した。そして、真空加熱炉内の圧力を２６．６Ｐａに調整するとともに、焼鈍処理したときの温度（６９０℃）をほぼ保ちながら３時間の加熱を行った。さらに、混合ガスの供給を停止し、そのままの圧力及び温度を保ちながら、真空加熱炉内にヘリウムガスを供給し、この状態を０．５時間保った。
【００４６】
こうして、基材１０の表面１０ａに窒素Ｎ及び酸素Ｏを吸着、拡散させるとともに、当該基材１０の表面１０ａから内部へ窒素Ｎ及び酸素Ｏを固溶させ、第一硬化層１２と第二硬化層１３とからなる硬化層１１を形成した。その後、加熱を停止し、ヘリウムガスの供給を行いながら、真空加熱炉を常温まで冷却した。こうして硬化層１１（Ｔｉ（ＮＯ））を形成した。
【００４７】
市販の皮膜硬さ計（ＦＩＳＣＨＥＲＳＣＯＰＥ  Ｈ−１００Ｖ、株式会社フィッシャー・インストルメント製）を使用して、荷重５ｍＮ及び保持時間５秒の条件で測定された硬化層１１の表面１１ａのビッカース硬度（Ｈｖ）は、１３００〜１６００であった。
【００４８】
次に、硬化層１１の表面１１ａをバフ研磨で研磨した。すなわち、バフレース機に装着して回転させたバフホイールにダイヤモンド砥粒を含むバフ研磨剤を塗布して、当該バフホイールに基材１０の硬化層１１の表面１１ａを適切な圧力で押し当てて、バフ研磨を行った。バフ研磨を行い、基材１０の硬化層１１の表面１１ａに形成されていた微細な歪みを除去することによって、当該硬化層１１の表面１１ａを円滑に均一化した。こうして、美観の向上した鏡面からなる表面１１ａを有する硬化層１１を形成した。
【００４９】
さらに、バフ研磨を行った基材１０を洗浄し、付着している研磨剤を除去し、乾燥させた。乾燥した基材１０をイオンプレーティング装置内に取り付け、アルゴン雰囲気中で硬化層１１の表面１１ａをボンバードクリーニングした。
【００５０】
そして、硬化層１１の表面１１ａに直接、プラチナからなる装飾被覆層２０を形成した。すなわち、硬化層１１の表面１１ａに、厚み０．００５μｍの白色色調を呈するプラチナ被膜からなる装飾被覆層２０を、イオンプレーティング法（熱陰極法）により、所定の成膜条件（蒸発源：プラチナ、電子銃：１０ｋＶ／５００ｍＡ、ガス：アルゴンガス、成膜圧力：０．２Ｐａ、加速電圧：Ｇｒａｎｄ〜−５０Ｖ、アノード電圧：６０Ｖ、フィラメント電流：７Ａ）で形成した。
【００５１】
こうして、窒素Ｎ及び酸素Ｏが固溶したチタンからなる硬化層１１と、当該硬化層１１の上に直接形成されたプラチナからなる装飾被覆層２０と、を有する装飾部材Ｐｔ／Ｔｉ（ＮＯ）を得た。
【００５２】
［比較例１：Ｐｔ／ＴｉＣ／Ｔｉ／Ｔｉ（ＮＯ）］
図３に示すように、硬化層１１と、当該硬化層１１の上に形成されたチタンからなる第一下地層３０と、当該第一下地層３０の上に形成された炭化チタンからなる第二下地層４０と、当該第二下地層４０の上に形成されたプラチナからなる装飾被覆層５０と、を有する装飾部材を製造した。
【００５３】
すなわち、まず、上述の実施例１と同様にして、基材１０に硬化層１１を形成した。次いで、硬化層１１の表面１１ａに、イオンプレーティング法（熱陰極法）によって、厚み０．０５μｍのチタンからなる第一下地層３０を形成した。さらに、第一下地層３０の表面に、イオンプレーティング法（熱陰極法）によって、厚み０．６０μｍの炭化チタンからなる第二下地層４０を形成した。上述の実施例１と同様に測定された第二下地層４０の表面のビッカース硬度（Ｈｖ）は、１０００〜１２００であった。
【００５４】
そして、第二下地層４０の表面に、上述の実施例１と同様に、イオンプレーティング法（熱陰極法）によって、厚み０．００５μｍのプラチナからなる装飾被覆層５０を形成した。
【００５５】
こうして、窒素Ｎ及び酸素Ｏが固溶したチタンからなる硬化層１１と、当該硬化層１１の上に形成されたチタンからなる第一下地層３０と、当該第一下地層３０の上に形成された炭化チタンからなる第二下地層４０と、当該第二下地層４０の上に形成されたプラチナからなる装飾被覆層５０と、を有する装飾部材Ｐｔ／ＴｉＣ／Ｔｉ／Ｔｉ（ＮＯ）を得た。
【００５６】
［比較例２：Ｐｔ／Ｔｉ］
図４に示すように、チタンからなる基材１０と、当該基材１０の上に形成されたプラチナからなる装飾被覆層６０と、を有する装飾部材を製造した。すなわち、まず、上述の実施例１と同様に、チタンからなる基材１０を準備した。上述の実施例１と同様に測定された基材１０の表面１０ａのビッカース硬度（Ｈｖ）は、１７０〜２００であった。
【００５７】
次いで、この基材１０の表面１０ａに直接、プラチナからなる装飾被覆層２０を形成した。すなわち、基材１０の表面１０ａに、上述の実施例１と同様に、イオンプレーティング法（熱陰極法）によって、厚み０．００５μｍのプラチナからなる装飾被覆層６０を形成した。
【００５８】
こうして、チタンからなる基材１０と、当該基材１０の上に直接形成されたプラチナからなる装飾被覆層６０と、を有する装飾部材Ｐｔ／Ｔｉを得た。
【００５９】
［比較例３：Ｔｉ（ＮＯ）］
上述の実施例１と同様に、硬化層１１を有する基材１０からなる装飾部材Ｔｉ（ＮＯ)を得た。
【００６０】
［明度の評価］
上述のようにして得られた装飾部材の表面の明度（Ｌ＊値）を、市販の分光測色計（ＣＭ−３６００ｄ、コニカミノルタセンシング株式会社製）を使用して測定した。
【００６１】
［耐傷性の評価］
上述のようにして得られた装飾部材の耐傷性を評価した。市販の砂消しゴムの表面をカッターナイフで切断し、未使用面（８ｍｍ×１６ｍｍ）を形成した。そして、上述のようにして得られた装飾部材の表面に、この砂消しゴムの未使用面を荷重２Ｋｇで押し当てた状態で、当該未使用面を３０ｍｍのストロークで６０回（３０往復）、当該装飾部材の表面に擦り付けた。その後、装飾部材の表面において形成された傷の程度を目視で観察した。
【００６２】
［密着性の評価］
上述の実施例１、比較例１及び比較例２で得られた装飾部材における装飾被覆層の密着性を評価した。すなわち、装飾部材からなる陰極と、対向電極からなる陽極と、をアルカリ脱脂液浴中に浸漬した状態で、電圧５Ｖを印加し、直流電流を３０秒間流して電解脱脂した。次いで、装飾部材を中和液に浸漬して中和し、水洗及び乾燥させた。
【００６３】
その後、装飾部材の装飾被覆層の表面に樹脂製の粘着テープを密着させて貼り付けた。次いで、この粘着テープを装飾被覆層の表面から一気に勢いよく剥がした。そして、剥がした粘着テープに付着した、剥がれた装飾被覆層の有無と、装飾部材の装飾被覆層の膨れの有無と、を目視で観察した。
【００６４】
［Ｘ線回折法］
上述の実施例１、比較例１及び比較例２で得られた装飾部材の表面をＸ線回折法（ＸＲＤ）により分析した。すなわち、市販のＸ線回折装置（ＳｍａｒｔＬａｂ（登録商標）、株式会社リガク製）（管球型、管電圧４０ｋＶ、管電流３０ｍＡ、Ｘ線光源：ＣｕＫα線）を用いた薄膜法にてＸ線回折を実施した。そして、得られたＸ線回折図に基づき、ローレンツ法により波形分離を行った。
【００６５】
図５には、明度（Ｌ＊値）、耐傷性及び密着性を評価した結果を示す。図５において、二重丸（◎）は非常に良好、一重丸（○）は良好、三角（△）はやや劣る、バツ（×）は劣る、と評価されたことを示す。また、明度欄におけるかっこ内の数値は、Ｌ＊値を示す。なお、比較例３の密着性欄の印「−」は、当該比較例３の装飾部材は装飾被覆層を有しないため密着性を評価しなかったことを示す。
【００６６】
図５に示すように、実施例１に係る装飾部材Ｐｔ／Ｔｉ（ＮＯ）の明度は高く（Ｌ＊値＝８５．８６）、プラチナに特有の白色の明るい色調を呈する優れた外観を有していた。しかも、この装飾部材Ｐｔ／Ｔｉ（ＮＯ）は、耐傷性及び密着性のいずれにおいても優れていた。
【００６７】
これに対し、比較例３に係る装飾部材Ｔｉ（ＮＯ)は、耐傷性には優れるものの、明度が低く（Ｌ＊値＝７６．８７）、その外観は、チタンに特有の暗い色調を呈するものであった。
【００６８】
また、比較例２に係る装飾部材Ｐｔ／Ｔｉは、実施例１と同様、密着性に優れていた。しかしながら、この装飾部材Ｐｔ／Ｔｉの明度は比較的低く（Ｌ＊値＝８１．７９）、その外観は、基材１０のチタンに特有の色調の影響を受けて暗いものとなった。また、基材１０のチタンが軟質であることから耐傷性に劣るものであった。
【００６９】
また、比較例１に係る装飾部材Ｐｔ／ＴｉＣ／Ｔｉ／Ｔｉ（ＮＯ)の明度は高く（Ｌ＊値＝８４．０４）、実施例１と同様に優れた外観を有していた。しかしながら、この装飾部材Ｐｔ／ＴｉＣ／Ｔｉ／Ｔｉ（ＮＯ)の耐傷性は実施例１に比べて十分とは言えず、密着性に劣るものであった。
【００７０】
このように、実施例１に係る装飾部材Ｐｔ／Ｔｉ（ＮＯ）のみが、プラチナに特有の明るい優れた外観と、優れた耐傷性と、優れた密着性と、を兼ね備えていた。
【００７１】
なお、硬化層１１の明度は、チタンからなる基材１０の明度（Ｌ＊値＝７６．２５）と同程度であり、当該硬化層１１自体は、当該基材１０と同様、暗い外観を示す。しかしながら、意外にも、実施例１に係る装飾部材Ｐｔ／Ｔｉ（ＮＯ）においては、硬化層１１にプラチナからなる装飾硬化層２０を直接形成することで、明度が顕著に高まり、当該プラチナに特有の明るい外観が得られた。このような効果が得られた理由は明らかではないが、上記効果は、チタンに窒素Ｎ及び酸素Ｏを固溶させ、且つ硬化層１１に装飾被覆層２０を直接形成したことによる特有のものと考えられた。
【００７２】
図６Ａ〜図６Ｄ、図７Ａ〜図７Ｄ及び図８Ａ〜図８Ｄには、それぞれ実施例１、比較例１及び比較例２で得られた装飾部材の表面をＸ線回折法で分析して得られたＸ線回折図を示す。
【００７３】
図６Ａには、実施例１に係る装飾部材Ｐｔ／Ｔｉ（ＮＯ）について、角度（２θ）が２０〜１１０（ｄｅｇ）の範囲のＸ線回折図を示し、図６Ｂには、図６Ａにおける角度（２θ）が６０〜９０（ｄｅｇ）の範囲を拡大して示し、図６Ｃには、図６Ａにおける角度（２θ）が６８（ｄｅｇ）近傍のピークを拡大して示し、図６Ｄには、図６Ａにおける角度（２θ）が８２（ｄｅｇ）近傍のピークを拡大して示す。
【００７４】
また、図６Ｃ及び図６Ｄには、角度が６８（ｄｅｇ）近傍のピーク及び８２（ｄｅｇ）近傍のピークをそれぞれプラチナ（Ｐｔ）のピークと金属間化合物（Ｐｔ３Ｔｉ）のピークとに波形分離した結果も示している。さらに、図６Ｃ及び図６Ｄには、この波形分離により得られたプラチナ（Ｐｔ）のピークの高さ（ピーク強度）と金属間化合物（Ｐｔ３Ｔｉ）のピークの高さとの比率（Ｐｔ：Ｐｔ３Ｔｉ）を、当該プラチナ（Ｐｔ）のピークの高さを「１」として算出した結果も示している。図７Ａ〜図７Ｄ及び図８Ａ〜図８Ｄについても同様である。
【００７５】
なお、実施例１、比較例１及び比較例２における装飾被覆層の厚みは、いずれも０．００５μｍで同一であるため、Ｘ線回折図におけるプラチナ（Ｐｔ）のピーク強度に対する金属間化合物（Ｐｔ３Ｔｉ）のピーク強度の比率によって、当該実施例１、比較例１及び比較例２の間で、当該金属間化合物の生成量を比較することができる。
【００７６】
そして、図９には、実施例１、比較例１及び比較例２で得られた装飾部材について、その層構造と、上述のようにして算出された、角度（２θ）が６８（ｄｅｇ）及び８２（ｄｅｇ）のピーク位置におけるピーク強度比（Ｐｔ３Ｔｉ／Ｐｔ）と、を示す。
【００７７】
これらＸ線回折法による解析結果から明らかなように、金属間化合物のピーク強度比（Ｐｔ３Ｔｉ／Ｐｔ）は、Ｘ線回折図の６８（ｄｅｇ）近傍のピーク及び８２（ｄｅｇ）近傍のピークのいずれにおいても、比較例２に係る装飾部材Ｐｔ／Ｔｉが最も大きく、次いで実施例１に係る装飾部材Ｐｔ／Ｔｉ（ＮＯ）が大きく、比較例１に係る装飾部材Ｐｔ／ＴｉＣ／Ｔｉ／Ｔｉ（ＮＯ）が最も小さかった。
【００７８】
すなわち、実施例１に係る装飾部材Ｐｔ／Ｔｉ（ＮＯ）における金属間化合物（Ｐｔ３Ｔｉ）の生成量は、比較例２に係る装飾部材Ｐｔ／Ｔｉには及ばないものの、比較例１に係る装飾部材Ｐｔ／ＴｉＣ／Ｔｉ／Ｔｉ（ＮＯ）に比べて大きかった。
【００７９】
したがって、実施例１に係る装飾部材Ｐｔ／Ｔｉ（ＮＯ）においては、このような適度な量の金属間化合物（Ｐｔ３Ｔｉ）の生成によって、上述したような優れた密着性が実現されたものと考えられた。
【００８０】
なお、金属間化合物の生成量がより大きい比較例２に係る装飾部材Ｐｔ／Ｔｉにおいては、密着性に優れる（装飾被覆層６０が剥れ難い）ものの、上述のとおり、チタンからなる基材１０の硬度が低いため、当該基材１０の塑性変形による圧痕傷が付き易く、耐傷性に極めて劣っていた。
【００８１】
このように、実施例１に係る装飾部材Ｐｔ／Ｔｉ（ＮＯ）は、硬化層１１の上に装飾被覆層２０を直接形成するという簡便な層構造を有することによって、意外にも、当該装飾被覆層２０の貴金属又は貴金属合金に特有の優れた外観と、優れた耐傷性と、優れた密着性と、を兼ね備えることが確認された。
【符号の説明】
【００８２】
１  装飾部材、１０  基材、１０ａ  基材表面、１１  硬化層、１１ａ  硬化層の表面、１２  第一硬化層、１３  第二硬化層、１４  未硬化層、２０  装飾被覆層、２０ａ  装飾被覆層の表面、３０  第一下地層、４０  第二下地層、５０  装飾被覆層、５０ａ  装飾被覆層の表面、６０  装飾被覆層、６０ａ  装飾被覆層の表面、Ｎ  窒素、Ｏ  酸素。
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図６Ｄ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図７Ｄ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図８Ｃ】
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【図８Ｄ】
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【図９】
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