(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス状の水素を少なくとも反応器の下部中に含まれている硫黄溶融液（９）中に分配するための分配装置（１５）を含む、Ｈ2Ｓを水素および硫黄から連続的に製造するための反応器（１）において、
分配装置（１５）が硫黄溶融液（９）中に配置されており、縁部範囲（１８）を有する下向きに延在する縁部（１７）を備えた、反応器（１）中に配置された分配板（１６）を有し、この場合水素は、分配板（１６）の下方で形成される水素気泡から縁部範囲（１８）を介して硫黄溶融液（９）中に分配可能であり、
反応器（１）が、反応器（１）中へのガス状の水素のための供給装置（１１）を有し、該供給装置（１１）は、反応器（１）中で垂直に配置された開口管（１３）を備え、この管を通じて、分配板（１６）の下方で水素気泡を形成し、ガス状の水素が分配板（１６）の下方で硫黄溶融液中に導入可能であることを特徴とする、Ｈ2Ｓを水素および硫黄から連続的に製造するための反応器。
【請求項２】
分配板（１６）が通過開口（１９）を有し、この通過開口を通じて水素は水素気泡から分配板（１６）を介して硫黄溶融液（９）中に分配可能である、請求項１記載の反応器（１）。
【請求項３】
分配板（１６）の通過開口（１９）の全開口面積が分配板（１６）の面積に対して０．００１〜５％である、請求項２記載の反応器（１）。
【請求項４】
０．２〜３ｃｍの直径を有する分配板（１６）の円形の通過開口（１９）または０．２〜３ｃｍのスリット幅を有する分配板（１６）のスリット状の通過開口を有する、請求項２または３記載の反応器（１）。
【請求項５】
下向きに延在する縁部（１７）が鋸刃状縁部範囲（１８）を有し、この縁部範囲を介して水素が水素気泡から縁部（１７）と反応器（１）の反応器ジャケット（２５）との間の間隙（２０）を通じて硫黄溶融液中に導入可能である、請求項１から４までのいずれか１項に記載の反応器（１）。
【請求項６】
反応器（１）が少なくとも１つの接触管（２１）を備え、この接触管中でＨ2Ｓへのガス状の硫黄と水素との反応が行なわれ、この場合少なくとも１つの接触管（２１）は、硫黄溶融液（９）と部分的に接触している、請求項１から５までのいずれか１項に記載の反応器（１）。
【請求項７】
少なくとも１つの接触管（２１）が分配装置（１５）の分配板（１６）と結合されている、請求項６記載の反応器（１）。
【請求項８】
少なくとも反応器の下部中に含まれている硫黄溶融液中へのガス状水素の導入を含む、Ｈ2Ｓを水素および硫黄から連続的に製造する方法において、
ガス状の水素を、硫黄溶融液中に配置された、分配板（１６）の下方で水素気泡を形成させるために下向きに延在する縁部（１７）を有する、反応器（１）中に配置された分配板（１６）を備えた分配装置（１５）を介して硫黄溶融液中に分配し、この場合水素は、水素気泡から分配装置（１５）を通じて硫黄溶融液（９）中に分配され、
ここで、水素は、反応器（１）中で垂直方向に配置された、分配装置（１５）の下方にある、水素気泡に向かって突出する開口管（１３）を介して反応器（１）に供給されることを特徴とする、Ｈ2Ｓを水素および硫黄から連続的に製造する方法。
【請求項９】
ガス状の水素を水素気泡から分配板（１６）の下方で分配装置（１５）の下向きに延在する縁部（１７）を介して縁部（１７）と反応器（１）の反応器ジャケット（２５）との間の間隙（２０）を通じて硫黄溶融液（９）中に分配する、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
ガス状の水素を、水素気泡から分配板（１６）の下方で下向きに延在する縁部（１７）の鋸刃状縁部範囲（１８）を介して分配する、請求項８または９記載の方法。
【請求項１１】
ガス状の水素を水素気泡から分配板（１６）の下方で分配板（１６）中に設けられた通過開口（１９）を通じて分配板（１６）の上方に存在する硫黄溶融液（９）中に分配する、請求項８から１０までのいずれか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｈ2Ｓを水素および硫黄から連続的に製造するための反応器および方法に関する。
【０００２】
硫化水素の製造は、公知技術水準で、例えばガードラー（Girdler）によるＨ2Ｓ法によって行なわれる（Ullmann's Encycloaedia of Industrial Chemistry, Sixth Edition, 2003, Vol. 17. 第291頁参照）。この場合、Ｈ2Ｓは、非接触的に元素の硫黄および水素から、取付け物および本質的に水平方向に向いた拡大された塔底部を備えた塔中で製造される。沸騰する硫黄が充填された塔底部中に水素は導入され、この場合この水素は、硫黄を上昇する気相中にストリッピングされる。水素および上昇する硫黄は、塔のガス空間内で反応し、この場合、その際に遊離する反応熱は、液状の硫黄での洗浄によって生成物ガスから取り出される。そのために、塔の塔底部から液状の硫黄は、取り出され、新しい冷たい硫黄と混合され、塔の塔頂部から放出される。十分に硫化水素を含有する生成物ガスは、２つの熱交換器中で冷却される。方法を圧力下で高められた温度で実施しなければならないことは、不利であることが証明された。高められた温度は、反応器の壁面に強化された腐蝕速度および材料の摩滅をまねく。漏れの場合には、高められた圧力のために、大量の有害なＨ2Ｓが発生する。
【０００３】
Ｈ2Ｓの接触的製造は、Angew. Chem. 第74卷 1962; No. 4;第151頁中に記載されている。この場合、水素は、外側から温度調節された硫黄浴に導通される。硫黄蒸気が負荷された水素は、穿孔を通して触媒空間内に侵入する。反応されなかった硫黄は、触媒空間からの流出後にＨ2Ｓ放出管の上部で凝縮され、返送管を経て硫黄浴中に返送される。触媒空間は、Ｈ2Ｓ放出管を中心に同心的に配置されている。前記方法の場合、工業的尺度で反応熱が硫黄熱の加熱のために利用されず、加熱が硫黄浴のジャケットを介して行なわれることは、不利である。
【０００４】
米国特許第２８６３７２５号明細書には、Ｈ2Ｓをモリブデンを含有する触媒上で製造する方法が記載されており、この場合ガス状の水素は、硫黄溶融液を含む反応器中に導入され、硫黄溶融液によってガス気泡の形で上昇する。導入された水素の量および３２６℃未満の温度が記載された、硫黄溶融液の温度は、硫黄溶融液の上方でガス帯域中で形成されるガス混合物が反応体の水素および硫黄を、化学量論的反応比を上廻る水素の過剰量で含有するように調節される。硫化水素への水素と硫黄との発熱反応の反応熱を利用するために、反応は、硫黄溶融液中に位置している反応管中で実施される。遊離する反応熱は、硫黄溶融液の硫黄の蒸発のために利用される。水素の導入は、有孔管を介して硫黄溶融液の下方範囲内で行なわれる。
【０００５】
米国特許第５１７３２８５号明細書には、Ｈ2Ｓを製造するもう１つの方法が記載されており、この場合には、導入された水素が利用され、硫黄は、硫黄溶融液から気相中にストリッピングされる。この方法は、２段階の製造を含み、この場合には、第１段階で導入された水素は、硫黄溶融液中の硫黄と触媒なしに反応され、Ｈ2Ｓに変わり、第２段階で付加的に気相中に導入された水素は、触媒上で反応を完結させる。生成物中に残存する、水素の残分は、不利であることが証明されている。ガス状水素の導入は、硫黄溶融液中に配置された分配装置を介して行なわれ、この分配装置は、硫黄溶融液中に十分に水平方向に配置された、単一かまたは分枝化された、水素のための通過開口を有する管系からなる。Ｈ2Ｓを製造するために反応器の運転を開始させると、液状硫黄は、通過開口中に侵入し相応する低い温度でそこで固化され、それによって通過開口は、閉塞される。
【０００６】
米国特許第２８７６０７０号明細書の記載から、Ｈ2Ｓを、本質的に水平方向の２つの重なり合って存在するセグメントに区分された容器中で非触媒的に製造する方法は、公知である。水素と硫黄との反応は、十分に２つのセグメントのガス空間内で行なわれる。下方の第１セグメントの第１ガス空間は、下向きに開き、下向きに延在する縁部を備えた鐘状物によって制限されている。水素は、鐘状物の下方で部分的に液状硫黄で充填された第１セグメント中に有孔管を介して供給され、水素は、ガス気泡の形で硫黄溶融液のこの部分で上向きに上昇し、鐘状物の水平方向の床板の下方で第１ガス空間内で捕集される。硫黄で負荷された水素は、第１ガス空間内で鐘状物の下方で非触媒的に反応し、Ｈ2Ｓに変わる。更に、ガス混合物は、下向きに鐘状物の鋸刃状縁部を介して第２セグメント中に流入するか、またはこの第２セグメント中に含まれる硫黄溶融液中に流入する。生成物および未反応の反応体を含有するガス混合物は、再びガス状硫黄で飽和され、そこに属する第２ガス空間内でさらに反応し、Ｈ2Ｓに変わる。この根本的に２段階の方法は、或る程度の装置的費用を必要とする。ガス状水素が通過開口を備えた管を介して、鐘状物によって制限された、第１セグメントの硫黄溶融液中に供給され、それによって管の通過開口の閉塞が侵入する硫黄によって、殊に運転開始段階および出発段階中に阻止し得ないことは、不利であることが判明した。ガス混合物を第１セグメントから鐘状物の鋸刃状縁部を介して第２セグメントの硫黄溶融液中に新規に分配することは、縁部の直ぐ上方にだけに存在する硫黄溶融液のガス充填を生じ、したがって不均一である。殊に、反応器の寸法が大きい場合には、このガス充填の形は、不十分であり、殆んど効果的ではない。また、水素を個々の段階で新規に分布させることによって特徴付けられている、多段階の方法は、不利であることが判明した。
【０００７】
これに対して、単一の導入管を供給装置として使用する場合には、水素が不均一に硫黄溶融液中に分配されるという困難が明らかになる。この場合、導入位置から出発して、大きな水素気泡が形成され、この水素気泡は、硫黄溶融液中での上昇の際に硫黄を気相中に殆んどストリッピングしない。この効果を補償するために、硫黄溶融液を通じての水素の通路、ひいては水素を硫黄で負荷するための滞留時間は、延長されることができる。この場合、反応器が必要とする大きな容量は、不利である。
【０００８】
それに応じて、本発明の課題は、公知技術水準の欠点を回避し、殊に導入されたガス状水素と硫黄溶融液との効率的な接触を可能にし、ひいてはＨ2Ｓの効率的で安全で経済的な製造を導く、反応器および方法を提供することである。
【０００９】
この課題の解決は、ガス状水素を少なくとも反応器の下部中に含まれている硫黄溶融液中に分配するための分配装置を含む、Ｈ2Ｓを水素および硫黄から連続的に製造するための反応器から出発する。この分配装置は、硫黄溶融液中に配置されており、反応器中に（特に水平方向に）配置された、下向きに延在する縁部を有する分配板を備えている。水素は、この分配装置により分配板の下方に形成される水素気泡から硫黄溶融液中に分配される。分配は、専らまたは付加的に分配装置の縁部を介して行なうことができる。この場合、分配板の下方に堰き止められた水素は、水素を水素気泡から分配装置と反応器ジャケットとの間の間隙を通じて硫黄溶融液中に分配することにより、下向きに延在する縁部の縁部範囲を介して硫黄溶融液中に分散する。本発明の１つの好ましい実施態様によれば、分配装置の分配板は、通過開口を有する。更に、水素は、この分配装置により、分配板の下方に形成される水素気泡から専らまたは付加的に通過開口を通じて分配板を介して硫黄溶融液中に分配させることができる。
【００１０】
Ｈ2Ｓの連続的な製造は、特に垂直方向に立つ反応器中で行なわれ、この反応器は、両端がそれぞれキャップによって閉鎖されている反応器ジャケットによって包囲された、円筒状またはプリズム状の同心の本体を含む。このキャップは、全ての適当な形を有することができ、例えば半球形または円錐形に構成されていてよい。
【００１１】
反応器は、下部中で硫黄溶融液で充填されている。硫黄溶融液中には、供給装置を介してガス状水素を導入することができ、この場合硫黄溶融液の上方で本質的にガス状硫黄およびガス状水素を含有する反応体混合物は、反応体範囲で捕集され、相境界を経て硫黄溶融液と接触し、上向きに、例えば下部分、例えば底板によって制限される。
【００１２】
反応器には、特に適当な供給装置を介して分配装置の下方でガス状水素および液状硫黄が供給される。生成物の硫化水素は、適当な位置で、例えば上部のキャップで反応器の生成物範囲から導出される。
【００１３】
本発明による反応器の１つの好ましい実施態様において、ガス状水素は、供給装置を経て反応器中の硫黄溶融液中に導入され、本発明による分配装置により硫黄溶融液中に分配される。
【００１４】
供給装置は、例えば反応器中に垂直に配置された、分配装置の下方に配置されている、両端が開いた管を備え、この管の上端は、特に分配板および下向きに延在する縁部によって制限されている空間内に突出し、特に有利に水素気泡中に突出している。分配板の下方での空間内および殊にその下方に形成された水素気泡中への突出によって、有利に硫黄溶融液中への不均一な水素の搬入は、回避される。
【００１５】
供給装置の垂直方向の管中には、特に側方に傾斜して下向きに延在する導入管が開口し、この導入管を通じて水素は、反応器の外側から導入される。供給装置は、有利に垂直方向に配置された管中に流入する硫黄が自由に下向きに導出しうるように形成されており、この場合水素のための供給装置は、閉塞されることはない。水素は、垂直方向に配置された管中で上向きに上昇し、分配装置の下方で捕集される。
【００１６】
本発明による反応器の分配装置は、反応器中にできるだけ水平方向に配置された分配板（特に、通過開口を備えた）および下向きに延在する縁部を備えている。特に平面の分配板は、特に反応器の全体の横断面上に殆んど延在し、この場合反応器ジャケットと分配装置との間には、間隙がそのまま残る。分配装置の縁部と反応器ジャケットとの間の間隙は、特に１〜５０ｍｍ、殊に２〜２５ｍｍ、特に有利に５〜１０ｍｍの幅を有する。分配装置の形状は、この分配装置が配置されている反応器の幾何学的形状により左右される。この分配板は、例えば円形または多角形であることができるか、或いは全ての別の任意の形を有することができる。特に、分配板の外周には、切欠が設けられており、この切欠は、例えば水素導入のための実施開口、硫黄導入管および硫黄返送管を準備する。従って、分配装置と反応器ジャケットとの間の間隙は、僅かな幅を有することができ、したがって反応器中での分配装置の強力な振動は、回避される。
【００１７】
堰き止められた水素は、分配板の下向きに延在する縁部の縁部範囲を経て硫黄溶融液中に分散させることができ、この場合水素気泡からの水素は、さらに分配装置と反応器ジャケットとの間の間隙を通じて硫黄溶融液中に分配される。本発明の１つの好ましい実施態様によれば、分配装置の下向きに延在する縁部は、鋸刃状縁部範囲を有し、この鋸刃状縁部範囲を介して、水素気泡からの水素は、縁部と反応器ジャケットとの間の間隙を通じて硫黄溶融液中に導入される。それによって、分配板の下方で堰き止められた水素は、微細なガス気泡中に分配され、間隙を通じて硫黄溶融液中に分散されることができる。
【００１８】
分配装置の下方で導入される水素は、この分配板の下方で水素気泡に変わり、下向きに延在する縁部および分配板が制限されている空間内で堰き止められる。この場合、水素の十分に関連する集合体は、水素気泡と呼称され、この水素気泡は、反応器中で分配装置の下方で少なくとも反応器の運転が開始される際に多数の水素が供給され、（例えば、端部を介して）硫黄溶融液中に分散され、硫黄溶融液の連続的な製造中に連続的に水素の維持のために供給されることによって形成される。
【００１９】
特に、分配板は、反応器中で水平方向に配置され、したがって分配板の下方で堰き止める水素気泡は、殆んど一定の高さを有する。
【００２０】
特に、分配板は、通過開口を有し、この通過開口を通じて分配板の下方で堰き止められた水素は、分配板上に存在する硫黄溶融液中に分散され、それによって有利に振動は、反応器内で水素の均一な分布によって反応器の断面により回避される。分配板中の通過開口を通じて、堰き止められた水素は、均一に分配されて水素気泡から分配板の上方に存在する硫黄溶融液中に分散される。分配板中の通過開口の数は、なかんずく導入される水素の体積流により左右され、特に１００標準ｍ3／時間当たり特に２〜１００個、殊に４〜５０個、特に有利に８〜２０個である。通過開口は、例えば円形に構成されていてもよいし、スリットとして構成されていてもよく、この場合好ましい直径またはスリット幅は、２〜３０ｍｍ、有利に５〜２０ｍｍ、特に有利に７〜１５ｍｍである。通過開口は、分配板中に特に規則的に配置されている。分配板の面積に対する、全ての通過開口の面積の割合は、特に０．００１〜５％、有利に０．０２〜１％、特に有利に０．０８〜０．５％である。
【００２１】
上昇する水素による硫黄溶融液の良好な混合を達成し、ひいては上昇する水素中への硫黄のできるだけ効率的なストリッピングを保証するために、通過開口を通して分散される水素のガス速度は、特に２０〜４００ｍ／秒、殊に５０〜３５０ｍ／秒、有利に９０〜３５０ｍ／秒、特に有利に１５０〜２５０ｍ／秒である。
【００２２】
本発明による反応器は、下部中で硫黄溶融液で充填されている。硫黄溶融液中には、供給装置を介してガス状の水素が導入され、この場合硫黄溶融液の上方で本質的にガス状硫黄およびガス状水素を含有する反応体混合物は、反応体範囲内で捕集され、この反応体混合物は、相境界を介して硫黄溶融液と接触する。反応体範囲は、上向きに例えば反応器の下部分、例えば底板によって制限される。本発明の１つの好ましい実施態様において、底板は、反応器の上部分で、有利に反応器内部空間の上部の３分の１、特に有利に上部の４分の１で、反応器ジャケットと結合されている。
【００２３】
本発明の１つの実施態様によれば、反応器は、少なくとも１つの接触管を備え、この接触管中でＨ2Ｓへのガス状硫黄と水素との反応は、行なわれる。この場合、少なくとも１つの接触管は、部分的に硫黄溶融液と接触状態にある。
【００２４】
本発明による反応器の好ましい実施態様によれば、反応器中には、少なくとも部分的に硫黄溶融液と接触して存在する、少なくとも１つのＵ字形管が設けられている。従って、反応器は、Ｕ字形の形状を有する接触管を備えた、管束反応器の種類として構成されている。このようなＵ字形管は、下端部で弓形の範囲によって互いに結合されている２つの大腿部を有する。Ｕ字形管は、それぞれ異なる長さの大腿部を有することができるか、または有利に同じ長さの大腿部を有することができる。Ｕ字形管は、例えば２〜２０ｃｍ、殊に２．５〜１５ｃｍ、特に有利に５〜８ｃｍの大腿部の直径を有することができる。少なくとも１つのＵ字形管は、特に反応器中で垂直方向に配置されており、この場合弓形の範囲は、下方に存在し、大腿部の両端部は、上方に存在する。Ｕ字形管内での反応範囲の準備は、反応器の長さに関連して反応器のコンパクトな構造形式を許容し、それというのも、Ｈ2Ｓへの水素と硫黄との反応のために設けられた反応範囲は、それぞれのＵ字形管の２つの大腿部に分割することができるからである。
【００２５】
本発明に関連して、"接触する"とは、硫黄溶融液と管の内部空間との間で管の壁面を介して熱交換を行なうことができることを意味する。少なくとも１つのＵ字形管は、特に部分的に硫黄溶融液中に浸漬されている。
【００２６】
水素を、例えば垂直方向の導入管を介して本発明による分配装置なしに硫黄溶融液中に簡単に導入する場合には、不均一な水素分配が生じうる。導入管の付近では、硫黄溶融液中で水素の大きな気泡が上昇する。硫黄溶融液の別の領域には、殆んど水素は、存在しない。それによって、（特に、Ｕ字形の）接触管の振動を励起させることができる。従って、本発明による反応器中に含まれる、下向きに開いた鐘状物のように形成された分配装置は、管束の接触管を本発明による反応器中で安定化させるためにも使用される。
【００２７】
少なくとも１つの（特に、Ｕ字形の）接触管の内部には、特にＨ2Ｓへの水素および硫黄の反応のための触媒が配置されており、それによって反応範囲は、準備される。本発明に関連して、触媒が存在する、Ｕ字形管の内部の全ての範囲は、反応範囲と呼称される。反応体の反応は、主に触媒を含む反応範囲内で行なわれる。触媒の使用により、Ｈ2Ｓへの反応は、中程度の温度および低い圧力で実施されることができる。触媒は、特に堆積された固定床の形で少なくとも１つのＵ字形管中に配置されている。適当な触媒は、例えば担体上のコバルトおよびモリブデンを含む触媒であり、この触媒は、任意の形状の成形体として使用される。例えば、成形体の直径は、２〜１２ｍｍ、殊に３〜１０ｍｍ、特に有利に４〜８ｍｍであり、長さは、特に２〜１２ｍｍ、殊に３〜１０ｍｍ、特に有利に４〜８ｍｍである。
【００２８】
Ｕ字形管を有する反応器中で硫化水素を製造する場合には、反応体混合物は、反応体範囲から少なくとも１つの入口開口を通じて少なくとも１つのＵ字形管の大腿部中に流入する。入口開口は、特に少なくとも１つのＵ字形管の大腿部中で硫黄溶融液の上方に配置されている。入口開口は、反応体範囲からＵ字形管の１つの大腿部中に開口している。硫黄溶融液の相境界とＵ字形管の入口開口との間の距離は、できるだけ僅かな液状硫黄が小液滴の形でＵ字形管の内部空間内で反応体混合物の流れと連行されるように選択される。入口開口と硫黄溶融液の相境界との距離は、特に０．３〜３ｍ、殊に０．６〜２．５ｍ、特に有利に０．９〜２ｍである。
【００２９】
Ｕ字形管を有する反応器中で硫化水素を製造する場合には、反応体混合物は、Ｕ字形管を流動路に沿って貫流し、即ち反応体混合物は、最初に入口の後方でＵ字形管の大腿部を上向きから下向きに入口開口を貫流し、Ｕ字形管の弓形の範囲を通じて第２の大腿部中に流入し、引続き第２の大腿部を上向きから下向きに貫流する。反応体混合物は、主にＵ字形管内に含まれている反応範囲内でそこに有利に配置された触媒上で反応される。Ｕ字形管の第２の大腿部中の出口開口を通じて、生成物を含むガスは、本発明の１つの好ましい実施態様によれば、（特に、硫黄溶融液の上方および反応器中の反応体範囲の上方に配置された）生成物範囲内に流入し、この場合、この生成物範囲は、反応体範囲と（例えば、底板によって）分離されている。
【００３０】
反応器には、特に適当な供給装置を介してガス状水素および液状硫黄が供給される。生成物の硫化水素は、適当な位置で、例えば上部のキャップで反応器の生成物範囲から導出される。
【００３１】
本発明の１つの好ましい変法によれば、少なくとも１つの接触管は、本発明による反応器中で底板と結合している。Ｕ字形の接触管の場合、Ｕ字形管の２つの大腿部は、特にそれぞれこれらの大腿部の上端部で反応器の底板と結合されており、この底板は、再び反応器の上部で適当な形式で反応器ジャケットに固定されている。底板は、反応器を特に２つの部分範囲に分割し、殊にこの底板は、その上に存在する生成物範囲を規定する。反応器ジャケットと結合された底板での少なくとも１つの（特に、Ｕ字形の）接触管の好ましい固定は、反応器の長手方向の熱変化および接触管の長手方向の熱的変化を互いに無関係に許容し、それというのも、管束は、底板上でのみ反応器のジャケットで固定されており、したがって反応器を構成する場合には、補償装置を省略することができる。接触管をその上端部で底板と結合させることにより、好ましくは、接触管が重力に相応して安定化することが達成される。
【００３２】
本願発明の１つの好ましい実施態様によれば、反応器の上部区間で、特に上部のキャップに隣接して１つの底板が配置されており、この底板は、反応器の内部空間をその下方に存在する下方部分範囲と上方に存在する上方部分範囲とに分割する。
【００３３】
上方部分範囲は、特に反応器の運転中に主に生成物の硫化水素を含む生成物範囲を有している。それぞれＵ字形管の大腿部は、生成物範囲と開放結合状態にある。
【００３４】
反応器の下方部分範囲は、特に底板の直ぐ下方に反応体範囲を有し、その下方に硫黄溶融液を有し、この硫黄溶融液中には、外部の源からの液状硫黄および／または返送流としての液状硫黄が供給される。（有利に、Ｕ字形に構成された）接触管は、特に部分的に硫黄溶融液と熱的接触状態にあり、特にこの接触管は、部分的に直接に硫黄溶融液中に配置されており、即ち硫黄溶融液中に浸漬されている。従って、Ｈ2Ｓへの発熱反応の際に遊離する熱エネルギーの伝達が、少なくとも１つの（特に、Ｕ字形の）接触管を経て周囲の硫黄溶融液中へと行なわれる。反応熱は、硫黄溶融液中に含まれている硫黄の蒸発に利用される。この熱結合は、エネルギー的に有利な方法を可能にし、この場合外部の熱供給は、著しく減少されるかまたは不要となる。同時に、触媒の過熱を回避させることができ、それによって触媒の可使時間は、高められる。
【００３５】
熱エネルギーの良好な伝達のためには、特に触媒堆積物の熱抵抗は、反応範囲内でできるだけ少なくなるように維持される。特に、Ｈ2Ｓへの反応体の反応のためには、多数の触媒を含む（特に、Ｕ字形の）接触管が準備され、したがって触媒堆積物の核から管の壁面へのそれぞれの経路は、僅かである。特に、（特に、円筒状の）反応器本体の横断面積に対する全ての接触管（またはＵ字形接触管の全ての大腿部）の横断面積の総和の割合は、０．０５〜０．９、殊に０．１５〜０．７、特に有利に０．２〜０．５、殊に有利に０．２５〜０．４である。
【００３６】
（特に、Ｕ字形の）接触管から包囲する硫黄溶融液中への熱伝達のための十分な熱的接触が存在するようにするためには、それぞれの（特に、Ｕ字形の）接触管の外側のジャケット面積の２０〜１００％が触媒を含む反応範囲に沿って硫黄溶融液と接触状態にあるように努力される。硫黄溶融液中への熱伝達が良好に機能化されるようにするためには、接触管中で反応が行なわれる場所で、接触管の外側のジャケット面積は、触媒を含む反応範囲に沿って２０％を上廻って、有利に５０％を上廻って、特に有利に８０％を上廻って硫黄溶融液によって包囲されていなければならなかった。反応器中での硫黄溶融液の充填位置が僅かすぎ、ひいては接触管と硫黄溶融液との接触が僅かすぎる場合には、反応熱が十分に導出されないという危険が存在する。
【００３７】
少なくとも１つの（特に、Ｕ字形の）接触管中での反応体混合物の流動方向に、反応体混合物は、接触管中への流入後に最初に不活性堆積物を貫流することができ、この場合には、場合によっては連行される、小液滴の形で含まれる液状硫黄は、前記の不活性堆積物で反応体混合物から分離される。例えば、ガス状水素および硫黄を含有する反応体混合物中での液状硫黄の割合は、１０００００質量ｐｐｍまでであってよい。硫黄液滴の分離のためには、有利に少なくとも１つのＵ字形管中で１〜３０％、殊に２〜２５％、有利に５〜２０％、特に有利に８〜１６％の不活性堆積物と触媒堆積物とからなる全堆積物に対する不活性堆積物の割合が設けられている。不活性堆積物は、任意の形状の物体、例えば鞍状物または特に球状物からなることができ、これらは、適当な材料、例えば酸化ジルコニウムまたは特に酸化アルミニウムから形成されている。
【００３８】
本発明の１つの好ましい変法によれば、少なくとも１つの接触管は、本発明による反応器の分配装置の分配板と結合している。
【００３９】
（特に、Ｕ字形の）接触管のよりいっそう大きな安定性を達成させるために、少なくとも１つの接触管は、その下端部に隣接して、Ｕ字形管の場合には、その下方の弓形の範囲に隣接して分配装置と結合させることができ、この場合この分配装置は、接触管または相応する管束の振動範囲の寸法決定によって水平方向に制限される。この場合、分配装置は、その側で直接に反応器の反応器ジャケットと結合されているのではなく、むしろ間接的に接触管と例えば底板との結合により反応器ジャケットと結合されている。それによって、長手方向の熱的変化によって惹起される、反応器と接触管と分配装置との間での応力に基づく問題は、回避されることができる。
【００４０】
１つの実施態様において、分配板は、Ｕ字形管の下端部に隣接して少なくとも１つのＵ字形管のそれぞれの大腿部と結合され、例えば溶接され、この場合弓形範囲の少なくとも１つの部分を含む、Ｕ字形管の区間は、分配板の下方に存在する。Ｕ字形管の前記区間は、硫黄溶融液と接触して存在するのではなく、むしろ分配装置の下方で堰き止められた水素気泡の範囲内に突出しているので、Ｕ字形管は、この区間で特に触媒堆積物を備えていない。それによって、Ｈ2Ｓへの変換は起こらず、導出すべき発熱反応熱は生じない。少なくとも１つのＵ字形管内には、触媒堆積物の範囲を堆積物なしの範囲と分離する下部分を設けることができるが、しかし、この場合には、Ｈ2Ｓ製造の反応体および生成物のための下部分は、透過性でなければならない。
【００４１】
本発明の場合には、特にガス状水素のための供給装置および分配装置は、反応器の下部区間内に、例えば下部のキャップに隣接して設けられている。供給装置により硫黄溶融液中に導入される水素は、分配装置によって分配されるガス気泡の形で溶融液によって上昇され、それによって硫黄は、溶融液からストリッピングされ、（例えば、反応器の上側底板の下方で）反応器の反応体範囲内で反応体混合物として堰き止められ、この場合この反応体混合物は、相境界の上方で硫黄溶融液と接触している。反応体混合物は、ガス状水素および硫黄を、支配する方法パラメーター、即ち温度、圧力および導入された水素の量によって硫黄の蒸発平衡に相応して生じるモル比で含有する。この場合、方法パラメーターの選択によって過剰量の水素または硫黄または相応するモル比の反応過剰量は、Ｈ2Ｓへの反応の望ましい反応の実施に応じて調節されることができる。好ましくは、本発明の場合、過剰の硫黄は、調節され、Ｈ2Ｓへの水素と硫黄のできるだけ完全な変化を達成することができる。この場合、特に製造されたＨ2Ｓ１ｋｇ当たりの硫黄過剰量は、０．２〜３．０、殊に０．４〜２．２、有利に０．６〜１．６、特に有利に０．９〜１．２である。
【００４２】
本発明による反応器の場合、特に、唯一の分配装置を介するガス状水素の１段階での分配が設けられている。
【００４３】
また、本発明の対象は、少なくとも反応器の下部中に含まれている硫黄溶融液中へのガス状水素の導入を含む、Ｈ2Ｓを水素および硫黄から連続的に製造する方法である。本発明による方法は、水素を水素気泡から硫黄溶融液中に分配板を介して分配するために、分配板の下方で水素気泡を形成させるための下向きに延在する縁部を備えた（および場合によっては通過開口を備えた）、反応器中に（特に、水平方向に）配置された分配板を有する、硫黄溶融液中に配置された分配装置を介してガス状の水素を硫黄溶融液中に分配することを含む。
【００４４】
本発明による方法で導入される水素は、（特に、反応器の下部の区間内に設けられた）分配装置で硫黄溶融液中に分配される。水素は、反応器中にできるだけ水平方向に配置された、分配装置の分配板を介して分配装置の縁部を経て、および／または分配板中に設けられた通過開口を通じてその下方で堰き止められた水素気泡から分配板上に存在する硫黄溶融液中に分配される。
【００４５】
本発明による方法の変法によれば、ガス状の水素は、水素気泡から分配装置の下方で分配装置の下向きに延在する縁部を介して縁部と反応器の反応器ジャケットとの間の間隙を通じて硫黄溶融液中に分配される。特に、このガス状の水素の分配は、水素気泡から分配装置の下方で下向きに延在する縁部の鋸刃状縁部範囲を介して行なわれる。
【００４６】
縁部を介する分配に対して選択可能な場合または付加的に、水素は、特に有利に分配装置の分配板中に設けられた通過開口を通じて分配板の上方に存在する硫黄溶融液中に分散させることができる。このような通過開口を通じての水素の漏出を、例えばこの通過開口中に堆積された硫黄によって抑制するか、または通過開口を通じて導出されるよりも大量の水素が供給されうる場合には、水素気泡は、分配板および分配装置の下向きに延在する縁部によって制限された空間内で堰き止められ、水素は、下向きに延在する縁部の縁部範囲を介してこの縁部範囲を包囲する間隙中に到達し、そこから分配装置を介して硫黄溶融液中に到達する。この場合、水素は、水素気泡から分配装置の下方で分配装置と反応器ジャケットとの間の間隙を通じて分配装置上に存在する硫黄溶融液中に到達する。こうして、水素は、十分な量でＨ2Ｓの連続的な製造中に硫黄溶融液中に分配されることが保証される。
【００４７】
Ｈ2Ｓを合成するための本発明による方法は、有利に３００〜４５０℃、有利に３２０〜４２５℃、特に有利に３３０〜４００℃の反応体混合物の温度および触媒を含む反応範囲の温度で実施され、それによって構成要素の選択された材料の腐蝕負荷は、僅かになるように維持される。特に、硫黄溶融液の温度は、３００〜４５０℃、殊に３２０〜４２５℃、有利に３３０〜４００℃、特に有利に３５０〜３６０℃である。硫黄浴上の反応体空間内の温度は、特に３００〜４５０℃、殊に３２０〜４２５℃、有利に３３０〜４００℃、特に有利に３５０〜３６０℃である。生成物空間内で（特に、Ｕ字形の）接触管から流出する生成物混合物は、特に３００〜４５０℃、殊に３２０℃〜４２５℃、有利に３３０〜４００℃、特に有利に３５０〜３６０℃の温度を有する。反応器のジャケット空間内および（特に、Ｕ字形の）接触管の内部での圧力は、特に０．５〜１０バール、殊に０．７５〜５バール、有利に１〜３バール、特に有利に１．１〜１．４バール（絶対）である。
【００４８】
硫黄の蒸発速度は、本発明の場合には、特に反応体混合物が硫黄の過剰量を含有するように調節される。更に、過剰の硫黄は、生成物と一緒に反応器の生成物範囲から導出され、事後に溶融液として分離される。この液状硫黄は、例えばなかんずく捕集底板およびそれから出発する、硫黄溶融液中に浸漬された返送管を含む、反応器の上方部分範囲内に配置された捕集構造および導出構造を経て、反応器の下方部分範囲内に含まれる硫黄溶融液中に返送されることができる。特に、反応器から流出するＨ2Ｓガスの冷却は、熱交換器中で行なわれ、この場合過剰の硫黄は、凝縮除去され、捕集構造および導出構造を経て硫黄溶融液中に返送される。冷媒として、二次循環路内で熱い加圧水を使用することができる。
【００４９】
本発明を次に図につき詳説する：
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明による反応器の１つの好ましい実施態様を示す長手方向の断面図。
【図２】本発明による反応器の１つの好ましい実施態様で配置された分配装置を示す平面図。
【実施例】
【００５１】
図１は、本発明による反応器の１つの好ましい実施態様を長手方向の断面図で示す。
【００５２】
反応器１は、円筒状の本体２の両側でキャップ３、４により閉鎖されている。上部のキャップ３から生成物を取り出すことができる。下部のキャップ４には、排出管５が存在し、場合によっては反応器１の内容物を完全に排出することができる。反応器１の上部区間には、底板６が設けられており、この底板は、生成物範囲を有する上方部分範囲７を下方部分範囲８と分離する。底板６は、反応器１の反応器ジャケット２５と結合されている。下方部分範囲８は、部分的に硫黄溶融液９で充填されており、この硫黄溶融液は、相境界を介して反応体範囲１０と接触状態にあり、この反応体範囲は、上向きに底板６によって制限されている。反応体範囲１０は、主にガス状の水素および硫黄を含む。
【００５３】
水素は、供給装置１１を介して反応器１の下部区間内、例えば下部のキャップ４内で硫黄溶融液９中に導入される。供給装置１１は、傾斜して延在する導管１２を備え、この導管は、側方に反応器中で垂直方向に配置された、上向きおよび下向きに開いた管１３中に開口する。管１３の上端部は、空間１４内に突入し、この空間は、分配装置１５によって制限されている。
【００５４】
分配装置１５は、反応器１中に水平方向に配置された分配板１６および下向きに延在する縁部１７を備え、この縁部は、特に鋸刃状に構成された縁部範囲１８を有する。供給装置１１を介して導入される水素は、垂直方向の管１３中で上向きに上昇し、分配板１６の下方で堰き止められ、水素気泡に変わる。分配板１６中の通過開口１９を通じて、水素は、その上方に存在する硫黄溶融液９中に分散し、硫黄溶融液９内でガス気泡の形で上向きに上昇し、この場合硫黄は、硫黄溶融液９からストリッピングされる。それによって、硫黄溶融液９の上方で反応体範囲１０内で、ガス状の水素および硫黄を含有する反応体混合物が形成される。
【００５５】
例えば、分配板１６中の通過開口１９が水素の漏出のために遮断されている場合には、水素は、分配板１６の下方で堰き止められた水素気泡からも縁部範囲１８を介して反応器ジャケット２５と分配装置１５の縁部１７との間の間隙２０中で硫黄溶融液９中に分散することができ、この場合この縁部範囲１８は、特に鋸刃状に構成されている。
【００５６】
反応器１の円筒状の本体内には、管２１が配置されており、この管は、本発明によれば、Ｕ字形に構成されている。Ｕ字形管２１は、その２つの大腿部２６、２７で底板６と結合されている。大腿部２６、２７と底板６との結合は、溶接継目によって形成させることができる。Ｕ字形管２１は、部分的に硫黄溶融液９中に浸漬され、それによって管２１の外側ジャケット面２８を介する管２１の内部空間と硫黄溶融液９との間の直接の熱交換の可能性が与えられる。それぞれのＵ字形管２１の内部には、触媒床２２が配置されており、この触媒床は、Ｕ字形管２１の２つの大腿部２６、２７中に設けられている。
【００５７】
図１に示されているように、分配装置１５は、Ｕ字形管２１と結合されており、この場合それぞれのＵ字形管２１の１つの大腿部２６から第２の大腿部２７への一部分、殊に移行部は、分配板１６の下方で空間１４を通じて延在している。Ｕ字形管２１のこの区間は、堰き止められた水素気泡中に突出し、および硫黄溶融液９と直接に接触状態にないので、この区間は、触媒を含まない。分配装置１５と反応器ジャケット２５との間には、間隙２０が位置している。分配装置１５は、直接には反応器ジャケット２５と結合されていない。
【００５８】
反応器１中で、硫化水素の本発明による製造は、次のように進行する。ガス状の水素は、供給装置１１によって分配装置１５の下方で反応器１中の硫黄溶融液９中に導入され、それによって水素気泡は、分配板１６の下方に形成される。水素は、分配装置１５によって水素気泡からその上に存在する硫黄溶融液９中に分配され、硫黄溶融液９中でガス気泡の形で上向きに上昇し、この場合硫黄は、硫黄溶融液９からストリッピングされる。それによって、硫黄溶融液９の上方で反応体範囲１０内で、ガス状の水素および硫黄を含有する反応体混合物が形成される。反応体混合物は、反応体範囲１０からＵ字形管２１のそれぞれの大腿部２６の周囲に配置された１つ以上の入口開口２３を通じてＵ字形管２１の大腿部２６の１つの内部空間内に流入し、その中に含まれている触媒堆積物２２を貫流し、この場合この触媒堆積物は、予め貯蔵された不活性堆積物によって補充されてよく、および流動路に沿って触媒床２２を含む反応範囲内で十分に反応され、硫化水素に変わる。生成物は、第２の大腿部２７から少なくとも１つの出口開口２４を介して生成物範囲７内に流出し、捕集されることができ、そこからキャップ３を介して導出させることができる。Ｕ字形管２１を硫黄溶融液９と直接に接触させることによって、Ｈ2Ｓへの変換の際に遊離する反応熱は、Ｕ字形管の外側ジャケット面２８を介して反応範囲に沿って触媒床２２から硫黄溶融液９中へ放出され、硫黄の蒸発のために利用される。
【００５９】
硫黄溶融液９を反応中に、例えば同じ高さに維持するために、ガス状の水素および液状の硫黄は、相当量で連続的に供給装置１１および硫黄導入管２９を介して反応器１に供給される。生成物から溶融液として分離される過剰の硫黄は、反応器１の上方部分範囲内に配置された捕集構造および導出構造に到達する。この捕集構造および導出構造は、捕集床板３１を有し、この捕集床板上には、生成物を捕集床板３１の下方に存在する生成物範囲７からその上方に存在する生成物範囲７中に導通させるために入口管３４が配置されており、この入口管は、縁部３５によって制限されている。分離された液状の硫黄は、水平方向に反応器１の生成物範囲７内に配置された捕集床板３１上で捕集され、硫黄溶融液９中に浸漬された返送管３２を介して反応器８の下方の部分範囲内に含まれる硫黄溶融液９中に返送される。反応器１は、有利に絶縁されており、したがってエネルギー消費量は、できるだけ僅かである。
【００６０】
図２は、本発明による反応器の１つの好ましい実施態様で配置された分配装置を平面図で示す。
【００６１】
分配装置１５は、反応器１中に水平方向に配置することができる、通過開口１９を備えた分配板１６および下向きに延在する縁部１７を有する。平らな分配板１６は、特に殆んど反応器１の全体の横断面に亘って延在し、この場合反応器ジャケットと縁部１７との間には、間隙が残存する。分配装置１６の形状は、この分配装置が配置されている反応器の幾何学的形状により左右される。この分配装置は、円形で図示されている。分配装置１５の下方で導入される水素は、この分配板１６の下方で水素気泡に変わり、下向きに延在する縁部１７および分配板１６が制限されている空間内で堰き止められる。分配板１６中の通過開口１９を通じて、堰き止められた水素は、均一に分配されて水素気泡から分配板１６の上方に存在する硫黄溶融液中に分散される。
【００６２】
図２には、分配板１６中の通過開口１９の可能な配置が明示されており、この場合この通過開口は、円形に構成され、均一に分配板１６上に分布されている。同様に、分配板１６中には、通過孔３０が図示されており、この通過孔には、本発明による反応器中でＵ字形管２１の大腿部２６、２７が入り込み、例えば溶接継目によって分配板１６と結合されている。分配板１６の円周には、切欠３３が設けられており、水素のための導入管１２、硫黄のための導入管２９および硫黄返送管３２が収容される。
【符号の説明】
【００６３】
１  反応器、  ２  反応器本体、  ３  上部のキャップ、  ４  下部のキャップ、  ５  排出管、  ６  床板、  ７  生成物範囲、  ８  反応器の下方部分範囲、  ９  硫黄溶融液、  １０  反応体範囲、  １１  水素のための供給装置、  １２  導管、  １３  垂直方向に配置された管、  １４  空間、  １５  分配装置、  １６  分配板、  １７  縁部、  １８  縁部範囲、  １９  通過開口、  ２０  間隙、  ２１  管、  ２２  触媒床、  ２３  入口開口、  ２４  出口開口、  ２５  反応器ジャケット、  ２６  第１の大腿部、  ２７  第２の大腿部、  ２８  外側のジャケット面、  ２９  硫黄導入管、  ３０  通過孔、  ３１  捕集底板、  ３２  返送管、  ３３  切欠、  ３４  入口管、  ３５  縁部
【図１】
0005558830.tif 000002
【図２】
0005558830.tif 000003