(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭素質吸着材が充填される複数の吸着塔と、
前記複数の吸着塔それぞれの上部に接続され、前記炭素質吸着材を分配して前記吸着塔に供給する分配ホッパと、
を備える排ガス処理装置であって、
前記分配ホッパ内の前記炭素質吸着材のレベルを検出するレベル検出手段と、
前記レベル検出手段によって検出された前記分配ホッパ内の前記炭素質吸着材のレベルと目標レベルとの差に基づいて、前記分配ホッパに対する前記炭素質吸着材の供給を、順次前記各分配ホッパごとに制御する供給制御手段と、
を備えることを特徴とする排ガス処理装置。
【請求項２】
前記レベル検出手段によって検出された前記炭素質吸着材のレベルと、目標レベルとの差とに基づいて、前記分配ホッパに供給する前記炭素質吸着材の供給量を決定する供給量決定手段と、
前記吸着塔における前記炭素質吸着材の滞留時間に基づいて、前記分配ホッパに供給する前記炭素質吸着材の供給速度を決定する供給速度決定手段と、
前記供給量決定手段によって決定された前記炭素質吸着材の前記供給量と、前記供給速度決定手段によって決定された前記炭素質吸着材の前記供給速度とに基づいて、前記分配ホッパに前記炭素質吸着材を供給する供給時間を決定する供給時間決定手段と、
前記供給時間決定手段により決定された前記供給時間だけ前記分配ホッパに前記炭素質吸着材を供給する供給手段と、
を備える請求項１に記載の排ガス処理装置。
【請求項３】
複数の吸着塔に炭素質吸着材を充填し、
前記複数の吸着塔それぞれの上部に分配ホッパを接続し、前記吸着塔に前記炭素質吸着材を分配して供給する排ガス処理方法であって、
前記分配ホッパ内の前記炭素質吸着材のレベルを検出するレベル検出ステップと、
前記レベル検出ステップにおいて検出された前記分配ホッパ内の前記炭素質吸着材のレベルと目標レベルとの差に基づいて、前記分配ホッパに対する前記炭素質吸着材の供給を、順次前記各分配ホッパごとに制御する供給制御ステップと、
を備えることを特徴とする排ガス処理方法。
【請求項４】
前記レベル検出ステップにおいて検出された前記炭素質吸着材のレベルと、目標レベルとの差とに基づいて、前記分配ホッパに供給する前記炭素質吸着材の供給量を決定する供給量決定ステップと、
前記吸着塔における前記炭素質吸着材の滞留時間に基づいて、前記分配ホッパに供給する前記炭素質吸着材の供給速度を決定する供給速度決定ステップと、
前記供給量決定ステップにおいて決定された前記炭素質吸着材の前記供給量と、前記供給速度決定ステップにおいて決定された前記炭素質吸着材の前記供給速度とに基づいて、前記分配ホッパに前記炭素質吸着材を供給する供給時間を決定する供給時間決定ステップと、
前記供給時間決定ステップにおいて決定された前記供給時間だけ前記分配ホッパに前記炭素質吸着材を供給する供給ステップと、
を備える請求項３に記載の排ガス処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、排ガス処理装置及び排ガス処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、排ガスを活性炭等の炭素質吸着材が充填された吸着塔に導入して、排ガスからＮＯｘやＳＯ２を除去する排ガス処理装置が知られている。吸着塔においては、炭素質吸着材は上方から充填され、吸着塔内にて移動層を形成しながら下方へと移動し、吸着塔の下端から排出され、一方、排ガスは炭素質吸着材の移動層を横切るように通過し、炭素質吸着材によって脱硫脱硝処理される。
【０００３】
このような排ガス処理装置において、吸着塔内の粒度分布を均一化してガス偏流の発生を防止し脱硝率を高めるために、炭素質吸着材を吸着塔に充填する際に、吸着塔の上部に複数のホッパ室を設けると共に、その上方に分配ホッパを設け、この分配ホッパから複数のホッパ室に炭素質吸着材を分配して供給する技術が知られている（例えば特許文献１参照）。
【０００４】
また、吸着塔においては、排ガスが吸着塔の上部からリークするのを防ぐために、炭素質吸着材のレベルを制御して、炭素質吸着材によるシール効果を一定に保つ必要がある。炭素質吸着材のレベルを制御するための方法として、複数の吸着塔を設けた乾式脱硫装置において、各吸着塔内の炭素質吸着材の充填レベルを測定するためのレベル計を各吸着塔に設け、各吸着塔内の炭素質吸着材のレベルを、基準レベルに対して高、低、正常の３状態のいずれにあるか判定し、その結果に応じて各吸着塔への炭素質吸着材の供給量を制御する方法が知られている（例えば特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平８−３３２３４７号公報
【特許文献２】特開昭６３−１６０２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１のように、分配ホッパを有する排ガス処理装置においては、分配ホッパの断面積が吸着塔の断面積と比べて小さくなり、その結果、分配ホッパ内の炭素質吸着材のレベルの変動が大きくなる。このため、特許文献２のように、吸着塔に設けられたレベル計により炭素質吸着材のレベルを３段階のいずれにあるか判定し、その結果に応じて吸着塔への炭素質吸着材の供給量を制御する方法では、炭素質吸着材のレベル変動が大きい分配ホッパにおいて、炭素質吸着材の過不足が生じやすく、炭素質吸着材のレベル制御を安定して行えなくなるという問題があった。特に、特許文献２のように、複数の吸着塔を備え、それぞれの吸着塔が分配ホッパを有する排ガス処理装置においては、各吸着塔の各分配ホッパへの炭素質吸着材の供給を順番に制御していくことになり、各分配ホッパで炭素質吸着材の過不足が生じやすいため、各分配ホッパの炭素質吸着材のレベル制御を安定して行うことは困難であった。
【０００７】
本発明はこのような課題を解決するためになされたものであり、複数の吸着塔のそれぞれに分配ホッパを設けた排ガス処理装置において、分配ホッパに充填される炭素質吸着材のレベルの変動を小さくし、炭素質吸着材のレベル制御を安定して行えるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る排ガス処理装置は、炭素質吸着材が充填される複数の吸着塔と、複数の吸着塔それぞれの上部に接続され、炭素質吸着材を分配して吸着塔に供給する分配ホッパと、を備える排ガス処理装置であって、分配ホッパ内の炭素質吸着材のレベルを検出するレベル検出手段と、レベル検出手段によって検出された分配ホッパ内の炭素質吸着材のレベルと目標レベルとの差に基づいて、分配ホッパに対する炭素質吸着材の供給を、順次各分配ホッパごとに制御する供給制御手段と、を備えることを特徴とする。
【０００９】
また、本発明に係る排ガス処理方法は、複数の吸着塔に炭素質吸着材を充填し、複数の吸着塔それぞれの上部に分配ホッパを接続し、吸着塔に炭素質吸着材を分配して供給する排ガス処理方法であって、分配ホッパ内の炭素質吸着材のレベルを検出するレベル検出ステップと、レベル検出ステップにおいて検出された分配ホッパ内の炭素質吸着材のレベルと目標レベルとの差に基づいて、分配ホッパに対する炭素質吸着材の供給を、順次各分配ホッパごとに制御する供給制御ステップと、を備えることを特徴とする。
【００１０】
これらによれば、分配ホッパ内の炭素質吸着材のレベルと目標レベルとの差に基づいて、分配ホッパに対する炭素質吸着材の供給が、順次各分配ホッパごとに制御されるため、分配ホッパでの炭素質吸着材の過不足が防止され、炭素質吸着材のレベル制御を安定して行うことができる。
【００１１】
本発明に係る排ガス処理装置においては、レベル検出手段によって検出された炭素質吸着材のレベルと、目標レベルとの差とに基づいて、分配ホッパに供給する炭素質吸着材の供給量を決定する供給量決定手段と、吸着塔における炭素質吸着材の滞留時間に基づいて、分配ホッパに供給する炭素質吸着材の供給速度を決定する供給速度決定手段と、供給量決定手段によって決定された炭素質吸着材の供給量と、供給速度決定手段によって決定された炭素質吸着材の供給速度とに基づいて、分配ホッパに炭素質吸着材を供給する供給時間を決定する供給時間決定手段と、供給時間決定手段により決定された供給時間だけ分配ホッパに炭素質吸着材を供給する供給手段と、を備えることが好ましい。
【００１２】
また、本発明に係る排ガス処理方法においては、レベル検出ステップにおいて検出された炭素質吸着材のレベルと、目標レベルとの差とに基づいて、分配ホッパに供給する炭素質吸着材の供給量を決定する供給量決定ステップと、吸着塔における炭素質吸着材の滞留時間に基づいて、分配ホッパに供給する炭素質吸着材の供給速度を決定する供給速度決定ステップと、供給量決定ステップにおいて決定された炭素質吸着材の供給量と、供給速度決定ステップにおいて決定された炭素質吸着材の供給速度とに基づいて、分配ホッパに炭素質吸着材を供給する供給時間を決定する供給時間決定ステップと、供給時間決定ステップにおいて決定された供給時間だけ分配ホッパに炭素質吸着材を供給する供給ステップと、を備えることが好ましい。
【００１３】
これらによれば、分配ホッパ内の炭素質吸着材のレベルと目標レベルとの差に基づいて炭素質吸着材の供給量が決定され、また、吸着塔における炭素質吸着材の滞留時間に基づいて炭素質吸着材の供給速度が決定され、炭素質吸着材の供給量と供給速度とに基づいて炭素質吸着材の供給時間が決定され、決定された供給時間だけ分配ホッパに炭素質吸着材が供給されるため、分配ホッパ内の炭素質吸着材のレベルを精度よく制御することができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、複数の吸着塔のそれぞれに分配ホッパを設けた排ガス処理装置において、分配ホッパに充填される炭素質吸着材のレベルの変動を小さくし、炭素質吸着材のレベル制御を安定して行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本実施形態に係る排ガス処理装置を示す図である。
【図２】本実施形態に係る排ガス処理装置の吸着塔を示す図である。
【図３】本実施形態に係る炭素質吸着材のレベル制御を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明による排ガス処理装置の好適な実施形態について、図１〜図３を参照しながら説明する。なお、図面の説明において、同一または相当要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
【００１７】
図１は、本実施形態に係る排ガス処理装置１００を示す図である。排ガス処理装置１００は、吸着塔１、再生塔２、第一のコンベア（供給手段）３、第二のコンベア４、分配ホッパ５、レベル計６及び供給制御手段９を備えている。
【００１８】
吸着塔１は、排ガスを脱硫脱硝処理するための塔である。吸着塔１には、上部から、例えば活性炭、活性チャー、活性コークス等の炭素質吸着材が充填される。充填された炭素質吸着材は、排ガス中のＳＯ２を吸着すると共にＮＯｘをＮ２に還元しながら吸着塔１内を上方から下方へと移動層を形成しつつ移動し、吸着塔１の下端から排出される。また、吸着塔１において、排ガスは水平方向から導入され、炭素質吸着材によってＮＯｘやＳＯ２、ダスト等を除去された後、水平方向に導出される。この吸着塔１は、モジュール化されており、排ガス流量に応じて、複数、具体的には３塔〜８塔程度設けられる。そして、排ガスは、各吸着塔１を紙面垂直方向に流れるように分配される。本実施形態においては、吸着塔１の数を５塔として、以下の説明を進める。
【００１９】
再生塔２は、吸着塔１においてＳＯ２を吸着した炭素質吸着材を４００°Ｃ以上に加熱して再生するための塔である。再生された炭素質吸着材は、１５０°Ｃ以下に冷却された後、割れ及び磨耗等により発生した細粒及び粉や捕集ダストを篩い分け器で分離・除去した後、再び吸着塔１へ搬送され、再利用される。
【００２０】
第一のコンベア３は、再生塔２で再生された炭素質吸着材を吸着塔１の上部へ搬送するためのコンベアである。第一のコンベア３としては、例えば反転装置付きのバケットコンベアを用いることができる。第二のコンベア４は、吸着塔１の下部から排出された炭素質吸着材を再生塔２へ搬送するためのコンベアである。
【００２１】
分配ホッパ５は、吸着塔１それぞれの上部に接続され、炭素質吸着材を分配して吸着塔１に供給するためのものである。レベル計（レベル検出手段）６は、分配ホッパ５内の炭素質吸着材のレベルを検出するための計測器である。
【００２２】
次に、図２を用いて、吸着塔１をより詳細に説明する。図２は、吸着塔１を示す図である。吸着塔１は、上部ホッパ室１１、排ガス通路部１２、下部室１３、ロールフィーダ１４、下部ホッパ１５及び下部ロータリーバルブ１６を有している。
【００２３】
上部ホッパ室１１は、吸着塔１の上部に複数設けられている。上部ホッパ室１１は、それぞれ、分配シュート７を介して、分配ホッパ５と接続されている。また、これらの上部ホッパ室１１は、図１においては、紙面垂直方向に並設されている。
【００２４】
排ガス通路部１２は、炭素質吸着材が充填されると共に排ガスの通路となる部分であり、この排ガス通路部１２において炭素質吸着材が上から下へ移動する移動層を形成し、排ガスの脱硫脱硝処理を行う。排ガスは、矢印Ｇで示すように、排ガス通路部１２の側方から水平方向に導入される。
【００２５】
下部室１３は、排ガス通路部１２の下部に設けられる部分であり、その形状は、たとえば逆角錐状である。
【００２６】
ロールフィーダ１４は、所定の速度で回転することにより、下部室１３から炭素質吸着材を排出するためのものである。
【００２７】
下部ホッパ１５は、ロールフィーダ１４を覆うように設けられ、ロールフィーダ１４から排出された炭素質吸着材を貯留するものである。
【００２８】
下部ロータリーバルブ１６は、下部ホッパ１５に貯留された炭素質吸着材を吸着塔１から排出するためのものである。
【００２９】
ここで、排ガスが排ガス通路部１２から吸着塔１の上部や下部へリークすると、装置内部の金物の腐食につながるため、排ガス通路部１２からの排ガスのリークを防止することが必要である。このため、排ガス通路部１２の上下の上部ホッパ室１１及び下部室１３に炭素質吸着材を充填し、上部ホッパ室１１及び下部室１３を、排ガス通路部１２から排ガスのリークを防ぐためのマテリアルシール部としている。下部室１３においては、常に一定の高さの炭素質吸着材が充填されているため、常に一定のシール効果を期待することができる。一方、上部ホッパ室１１においては、炭素質吸着材の充填レベルが変動し得る。この炭素質吸着材の充填レベルが変動すると、シール効果が変動する。さらに、炭素質吸着材の充填レベルが不足してシール効果がなくなると、排ガスが排ガス通路部１２から上部ホッパ室１１を通り抜けて上方へリークしてしまう。このため、後述の制御方法を用いて、上部ホッパ室１１における炭素質吸着材の充填レベルを一定に保ち、シール効果を一定に保つことが必要となる。
【００３０】
次に、分配ホッパ５をより詳細に説明する。分配ホッパ５の上部には上部ロータリーバルブ８が設けられている。上部ロータリーバルブ８は、吸着塔１の上方から矢印ＡＣで示すように供給される炭素質吸着材を吸着塔１内に導入するためのものである。また、分配ホッパ５の下部には複数本の分配シュート７が設けられている。複数本の分配シュート７は、それぞれ上部ホッパ室１１と接続されている。分配ホッパ５に供給される炭素質吸着材は、複数本の分配シュート７に分配されて、それぞれの分配シュート７に接続される上部ホッパ室１１から吸着塔１に充填される。このように分配ホッパ５から複数の上部ホッパ室１１に炭素質吸着材を分配して供給しているのは、分配ホッパ５による上部ホッパ室１１への炭素質吸着材の分配により、吸着塔１内の粒度分布を均一化してガス偏流の発生を防止するためである。なお、分配ホッパ５の断面積は、吸着塔１の断面積と比べると小さい。
【００３１】
以上のように構成される排ガス処理装置１００においては、再生塔２から第一のコンベア３によって炭素質吸着材が分配ホッパ５に供給され、分配ホッパ５に供給された炭素質吸着材は複数の分配シュート７を介して吸着塔１に充填され、炭素質吸着材は、排ガスの脱硫脱硝処理を行いながら、吸着塔１の下方に移動し、下部ロータリーバルブ１６によって排出された後、第二のコンベア４によって再生塔２に搬送され、再生塔２において再生処理を受け、このような処理が繰り返される。
【００３２】
ここで、このような複数の吸着塔１を備える排ガス処理装置において、複数の吸着塔１に炭素質吸着材を供給するための制御方法として、従来はタイムシーケンスによる制御が行われていた。すなわち、複数の吸着塔のそれぞれに対し、順番に一定時間だけ炭素質吸着材の供給が行われていた。このような制御方法においては、ある吸着塔に炭素質吸着材が供給されてから、次に炭素質吸着材が供給される順番が到来するまでの間に待ち時間が相応にあり、特に吸着塔の数が多くなると、この待ち時間も長くなる。また、前述のように、分配ホッパ５の断面積は、吸着塔１の断面積と比べると小さいため、炭素質吸着材の過不足が生じやすい。このように、分配ホッパ５では炭素質吸着材の過不足が生じやすく、しかも、制御待ちの時間が長いため、分配ホッパ５での炭素質吸着材の充填レベルの変動が非常に大きくなるという問題があった。
【００３３】
そのような問題を解決する、分配ホッパ５における炭素質吸着材の充填レベルの供給制御手段９による制御方法について、図３を用いて具体的に説明する。供給制御手段９は、レベル計６からの炭素質吸着材の充填レベル情報に基づいて、分配ホッパ５での過不足が生じないように、第一のコンベア３の駆動を制御し、炭素質吸着材のレベルを制御する。具体的には、レベル計６によって検出された分配ホッパ５内の炭素質吸着材のレベルと所定の目標レベルとの差に基づいて、分配ホッパ５に対する炭素質吸着材の供給を、順次各分配ホッパ５ごとに制御する。より具体的には、供給制御手段９は、レベル計６によって検出された炭素質吸着材のレベルと、所定の目標レベルとの差に基づいて、分配ホッパ５に供給する炭素質吸着材の供給量を決定する供給量決定手段と、吸着塔１における炭素質吸着材の滞留時間に基づいて、分配ホッパ５に供給する炭素質吸着材の供給速度を決定する供給速度決定手段と、供給量決定手段によって決定された炭素質吸着材の供給量と供給速度決定手段によって決定された炭素質吸着材の供給速度とに基づいて、分配ホッパ５に炭素質吸着材を供給する供給時間を決定する供給時間決定手段と、を有している。
【００３４】
図３は、本実施形態に係る炭素質吸着材のレベル制御を示すフローチャートである。
【００３５】
まず、ステップＳ１において、炭素質吸着材を供給する対象となる分配ホッパ５を示す分配ホッパの番号ｎ（吸着塔の数が５塔の場合、ｎは１から５までの整数値）を１に設定する。
【００３６】
次に、ステップＳ２において、現状の分配ホッパｎにおける充填レベルである現状レベルｘが検出され（レベル検出ステップ）、この現状レベルｘが下限値ＬＬ以下であるか否かを判定する。
【００３７】
ステップＳ２において現状レベルｘが下限値ＬＬ以下であると判定した場合は、ステップＳ３において、現状レベルｘが異常値であると判断し、インターロック機構を作動して設備を停止する。
【００３８】
一方、ステップＳ２において、現状レベルｘが下限値ＬＬ以下でないと判定した場合は、ステップＳ４において、現状レベルｘが上限値ＨＨ以上であるか否かを判定する。
【００３９】
ステップＳ４において現状レベルｘが上限値ＨＨ以上であると判定した場合は、充分に炭素質吸着材が充填されているとして、当該分配ホッパｎへの炭素質吸着材の供給をスキップし、ステップＳ５において、分配ホッパの番号ｎに１を加算し、次の制御対象となる分配ホッパ（ｎ＋１）の制御に移行すべく、ステップＳ２に戻る。
【００４０】
一方、ステップＳ４において現状レベルｘが上限値ＨＨ以上でないと判定した場合は、ステップＳ６において、分配ホッパｎへの炭素質吸着材の供給量を、以下の式（１）により決定する（供給量決定ステップ）。
【００４１】
Ｖｎ＝（ＬＦｎ−ＬＰｎ）×πＤ２／４  …（１）
【００４２】
なお、Ｖｎは分配ホッパｎへの炭素質吸着材の供給量（ｍ３）、ＬＦｎは分配ホッパｎへの炭素質吸着材を投入すべき目標レベル（ｍ）、ＬＰｎは分配ホッパｎの炭素質吸着材の現在のレベル（ｍ）、Ｄは分配ホッパｎの内径（ｍ）である。
【００４３】
続いて、ステップＳ７において、分配ホッパｎへの炭素質吸着材の供給速度を、以下の式（２）により決定する（供給速度決定ステップ）。
【００４４】
ＶＦ＝Ｎ×ＶＡ／ＲＴ  …（２）
【００４５】
なお、ＶＦは各塔への投入流量（ｍ３／分）、ＶＡは吸着塔１塔あたりの有効容積（ｍ３）、ＲＴは有効吸着層における活性炭滞留時間（分）、Ｎは、炭素質吸着材の供給をスキップされた分配ホッパを除く分配ホッパの数である。活性炭滞留時間ＲＴは、例えばロールフィーダ１４の回転数や、ロールフィーダ１４の単位時間当たりの排出量から求める。
【００４６】
続いて、ステップＳ８において、分配ホッパｎへの炭素質吸着材の供給時間を、以下の式（３）及び式（４）により決定する（供給時間決定ステップ）。
【００４７】
Ｔｓｎ＝Ｖｎ／ＶＦ  …（３）
【００４８】
ここで、Ｔｓｎは、炭素質吸着材の供給時間（分）である。
【００４９】
続いて、ステップＳ９において、上記の計算で求められた供給時間Ｔｓｎだけ、第一のコンベア３によって、分配ホッパｎに炭素質吸着材を供給する（供給ステップ）。
【００５０】
続いて、ステップＳ１０において、分配ホッパの番号ｎが５より小さいか否かを判定する。すなわち、１番目から５番目までの全ての分配ホッパに対して処理を行ったか否かを判定する。
【００５１】
ステップＳ１０において、分配ホッパの番号ｎが５より小さければ、ステップＳ５に進み、分配ホッパの番号ｎに１を加算し、次の分配ホッパ（ｎ＋１）の制御に移行すべく、ステップＳ２に戻る。
【００５２】
一方、ステップＳ１０において、分配ホッパの番号ｎが５以上であれば、ステップＳ１１に進み、ｎを再び１に戻し、１番目の分配ホッパの制御に移行し、前述した処理を繰り返す。
【００５３】
なお、前述した供給量決定ステップ、供給速度決定ステップ、供給時間決定ステップ及び供給ステップをまとめて供給制御ステップと称する。
【００５４】
このように、本実施形態に係る排ガス処理装置及び排ガス処理方法においては、レベル計６によって検出された炭素質吸着材のレベルと、所定の目標レベルとの差に基づいて分配ホッパ５に対する炭素質吸着材の供給が、順次各分配ホッパ５ごとに制御されるため、分配ホッパ５での炭素質吸着材の過不足が防止され、炭素質吸着材のレベル制御を安定して行うことができる。
【００５５】
また、分配ホッパ５内の炭素質吸着材のレベルと目標レベルとの差に基づいて炭素質吸着材の供給量が決定され、また、吸着塔１における炭素質吸着材の滞留時間に基づいて炭素質吸着材の供給速度が決定され、炭素質吸着材の供給量と供給速度とに基づいて炭素質吸着材の供給時間が決定され、決定された供給時間だけ分配ホッパ５に炭素質吸着材が供給されるため、分配ホッパ５内の炭素質吸着材のレベルを精度よく制御することができる。
【００５６】
以上、本発明をその実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、例えば、排ガスの流れ方向に対して排ガス通路部１２が複数の部屋に分割され、排ガスが各々の部屋を順次通過することによって排ガスの脱硫脱硝処理を行う吸着塔に対しても適用可能である。
【符号の説明】
【００５７】
１…吸着塔、３…第一のコンベア（供給手段）、５…分配ホッパ、６…レベル計（レベル検出手段）、１００…排ガス処理装置。
【図１】
0005558439.tif 000002
【図２】
0005558439.tif 000003
【図３】
0005558439.tif 000004