(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）主鎖にマレイミド骨格を有する（メタ）アクリルポリマー、（Ｂ）重合性化合物、及び（Ｃ）重合開始剤を含む光導波路形成用樹脂組成物であって、
（Ｂ）重合性化合物が、下記一般式（２）で表されるイソシアヌレート骨格を有する化合物を含み、
（Ａ）主鎖にマレイミド骨格を有する（メタ）アクリルポリマーが下記一般式（３）〜（６）で表される少なくとも１種の繰り返し単位を有し、
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、下記一般式（３）で表される繰り返し単位の含有率は１〜７０モル％であり、下記一般式（４）で表される繰り返し単位の含有率は２０〜９０モル％であり、下記一般式（５）で表される繰り返し単位の含有率は１〜６０モル％であり、
（Ｃ）重合開始剤がα−ヒドロキシケトン、グリオキシエステル、オキシムエステル、及びホスフィンオキシドから選択される少なくとも１つを含み、
（Ａ）主鎖にマレイミド骨格を有する（メタ）アクリルポリマーの配合量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して１０〜８５質量％であり、
（Ｂ）重合性化合物の配合量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して１５〜９０質量％であり、
（Ｃ）重合開始剤の配合量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部である光導波路形成用樹脂組成物。
【化１】
0005515219.tif 000017
（式中、Ｒ4は、水素原子又はメチル基を示す。Ｒ5及びＲ6は、各々独立にアクリロイル基、メタクリロイル基、又はヒドロキシル基のいずれかを示す。Ｘ1〜Ｘ3は、各々独立に炭素数１〜１５の２価の有機基を示す。）。
【化２】
0005515219.tif 000018
（式中、Ｒ7は水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示す。）
【化３】
0005515219.tif 000019
（式中、Ｒ8は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ9は炭素数１〜２０の有機基を示す。）
【化４】
0005515219.tif 000020
（式中、Ｒ10〜Ｒ12は、各々独立に水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｘ4は単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【化５】
0005515219.tif 000021
（式中、Ｒ13及びＲ14は、各々独立に水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｘ5は単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【請求項２】
前記光導波路形成用樹脂組成物を重合、硬化してなる硬化フィルムの、温度２５℃における波長８３０ｎｍでの屈折率が、１．４００〜１．７００である請求項１に記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項３】
前記光導波路形成用樹脂組成物を重合、硬化してなる厚み５０μｍの硬化フィルムの、温度２５℃における波長４００ｎｍでの透過率が８０％以上である請求項１又は２に記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項４】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、前記一般式（６）で表される繰り返し単位の含有率は、３〜６０モル％であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項５】
前記（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーの重量平均分子量は、１，０００〜３，０００，０００であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物を用いた光導波路形成用樹脂フィルム。
【請求項７】
下部クラッド層、コア部、上部クラッド層の少なくとも１つを請求項１〜５のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物を用いて形成した光導波路。
【請求項８】
下部クラッド層、コア部、上部クラッド層の少なくとも１つを請求項６に記載の光導波路形成用樹脂フィルムを用いて形成した光導波路。
【請求項９】
光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下である請求項７又は８に記載の光導波路。
【請求項１０】
温度８５℃、湿度８５％の高温高湿放置試験を１０００時間実施後の光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下である請求項７〜９のいずれかに記載の光導波路。
【請求項１１】
温度−５５℃と１２５℃の間の温度サイクル試験を１０００サイクル実施後の光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下である請求項７〜１０のいずれかに記載の光導波路。
【請求項１２】
最高温度２６５℃のリフロー試験を３回実施後の光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下である請求項７〜１１のいずれかに記載の光導波路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路形成用樹脂組成物、光導波路形成用樹脂フィルム、及びこれらを用いた光導波路に関し、特に、透明性及び耐熱性に優れ、かつ強靭性を有する光導波路形成用樹脂組成物、該光導波路形成用樹脂組成物を用いた光導波路形成用樹脂フィルム、並びにこれらを用いた透明性、信頼性、及び耐熱性に優れ、かつ強靭性を有する光導波路に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子素子間や配線基板間の高速・高密度信号伝送において、従来の電気配線による伝送では、信号の相互干渉や減衰が障壁となり、高速・高密度化の限界が見え始めている。これを打ち破るため電子素子間や配線基板間を光で接続する技術、いわゆる光インタコネクションが検討されている。光の伝送路として加工の容易さ、低コスト、配線の自由度が高く、かつ高密度化が可能な点からポリマー光導波路が注目を集めている。
ポリマー光導波路の形態として、光電気混載基板への適用を想定したガラスエポキシ樹脂基板上に作製するタイプや、ボード同士の接続を想定した硬い支持基板を持たないフレキシブルタイプが好適と考えられる。
【０００３】
ポリマー光導波路には、適用される機器の使用環境や部品実装などの観点から、透明性（低光伝搬損失）と共に信頼性及び耐熱性も要求されるが、このような光導波路材として、（メタ）アクリル重合体（例えば、特許文献１〜４参照）が知られている。
しかしながら、特許文献１〜３に記載の（メタ）アクリル重合体は波長８５０ｎｍにおいて透明性を有するものの、信頼性の評価、例えば、高温高湿放置試験や温度サイクル試験後の光伝搬損失などの具体的な試験結果に関する記述はなく、明らかではない。同様に、耐熱性の評価、例えば、はんだリフロー試験後の光伝搬損失などの具体的な試験結果に関する記述もなく、明らかではない。
また、特許文献４に記載の（メタ）アクリル重合体は波長８５０ｎｍにおいて透明性を有し、かつ高温高湿放置試験後の光伝搬損失も良好であるものの、耐熱性の評価、例えば、はんだリフロー試験後の光伝搬損失などの具体的な試験結果に関する記述はなく、明らかではない。
さらに、フレキシブル光導波路において、用途によっては強靭性も要求され、上記透明性、信頼性及び耐熱性に加えて、強靭性も兼ね備える光学材料用樹脂組成物が望まれていた。
【０００４】
【特許文献１】特開昭６３−８１３０１号公報
【特許文献２】特開平０６−２５８５３７号公報
【特許文献３】特開２００３−１９５０７９号公報
【特許文献４】特開２００６−１４６１６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、前記の課題を解決するためになされたもので、透明性及び耐熱性に優れ、かつ強靭性を有する光導波路形成用樹脂組成物、該光導波路形成用樹脂組成物を用いた光導波路形成用樹脂フィルム、並びにこれらを用いた透明性、信頼性、及び耐熱性に優れ、かつ強靭性を有する光導波路を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、（Ａ）主鎖にマレイミド骨格を有する（メタ）アクリルポリマー、特定の（Ｂ）重合性化合物、及び（Ｃ）重合開始剤を含有してなる光導波路形成用樹脂組成物を用いて光導波路を製造することにより、上記問題を解決することができることを見出した。
すなわち、本発明は、（Ａ）主鎖にマレイミド骨格を有する（メタ）アクリルポリマー、（Ｂ）重合性化合物、並びに（Ｃ）重合開始剤を含む光学材料用樹脂組成物であって、（Ｂ）重合性化合物が、下記一般式（１）で表されるイソシアヌレート骨格を有する化合物を含む光導波路形成用樹脂組成物。
【０００７】
【化１】
0005515219.tif 000002
【０００８】
（式中、Ｒ1〜Ｒ3は、各々独立に炭素数１〜２０の有機基を示す。）、該光学材料用樹脂組成物を用いた光学材料用樹脂フィルム、下部クラッド層、コア部、上部クラッド層の少なくとも１つを該光学材料用樹脂組成物、又は該光学材料用樹脂フィルムを用いて形成した光導波路を提供するものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の光導波路形成用樹脂組成物及び該光導波路形成用樹脂組成物を用いた光導波路形成用樹脂フィルムは、透明性及び耐熱性に優れており、かつ強靭性を有するため、これらを用いて製造した光導波路は透明性、信頼性、及び耐熱性に優れ、かつ強靭性を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の光学材料用樹脂組成物（光導波路形成用樹脂組成物）は、（Ａ）主鎖にマレイミド骨格を有する（メタ）アクリルポリマー、（Ｂ）重合性化合物、及び（Ｃ）重合開始剤を含んでおり、活性光線の照射によって又は加熱によって硬化する樹脂組成物であることが好ましい。
【００１１】
本発明では、（Ｂ）成分である重合性化合物として、上記一般式（１）で表わされるイソシアヌレート骨格を有する化合物を含有することを特徴とする。式中、Ｒ1〜Ｒ3は、各々独立に炭素数１〜２０の有機基を示す。
また、（Ｂ）成分である重合性化合物としては、イソシアヌレート骨格にさらに重合性基として少なくとも１つのエチレン性不飽和基を有する化合物を含むことが好ましく、特にエチレン性不飽和基がアクリロイル基及び／又はメタクリロイル基であることが好ましい。その中でも特に下記一般式（２）で表わされるイソシアヌレート骨格を有する化合物であることが好ましい。
このようなイソシアヌレート骨格を有する化合物を含有することで、樹脂組成物の耐熱性、耐湿性及び強靭性が高まり、例えばこの樹脂組成物を光導波路用として用いることで、光導波路に耐熱性と耐湿性を付与することができる。従って、リフロープロセスによる部品実装が可能になるとともに、ヒートショック耐性や耐湿熱性といった信頼性が得られる。さらに、この樹脂組成物を、クラッド層の材料として用いることで、クラッド層に強靭性を付与し、光導波路に耐屈曲性を付与することができる。従って、光導波路を小径で曲げて使用するような場合や小径で繰り返し曲げて使用する場合にも、光導波路に強靭性があって、割れや剥がれなどの問題が生じない。
【００１２】
【化２】
0005515219.tif 000003
【００１３】
式中、Ｒ4は、水素原子又はメチル基を示す。Ｒ5及びＲ6は、各々独立にアクリロイル基、メタクリロイル基、又はヒドロキシル基のいずれかを示す。また、Ｘ1〜Ｘ3は、各々独立に炭素数１〜１５の２価の有機基を示す。
【００１４】
また、（Ｂ）成分の重合性化合物としては、上記一般式（１）で表わされる化合物以外に、他の重合性化合物を含有していてもよく、特に、（メタ）アクリレート、ビニルエーテル、ビニルエステル、ビニルアミド、アリール化ビニル、ビニルピリジン、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化ビニリデンなどの、その分子中にエチレン性不飽和基を有する化合物を含有していることが好ましい。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、（メタ）アクリレートやアリール化ビニルが好適に挙げられる。
（メタ）アクリレートとして、単官能のもの、２官能のもの又は３官能以上の多官能のもののいずれも用いることができる。
【００１５】
単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチルヘプチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、モノ（２-（メタ）アクリロイルオキシエチル）スクシネートなどの脂肪族（メタ）アクリレート；シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、モノ（２-（メタ）アクリロイルオキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２-（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロフタレートなどの脂環式（メタ）アクリレート；フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ｏ−ビフェニル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、１−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（１−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（２−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレートなどの芳香族（メタ）アクリレート；２−テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−Ｎ−カルバゾールなどの複素環式（メタ）アクリレート、これらのカプロラクトン変性体などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記脂環式（メタ）アクリレート；上記芳香族（メタ）アクリレート；上記複素環式（メタ）アクリレートであることが好ましい。
【００１６】
２官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化２−メチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート；シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、プロポキシ化シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレートなどの脂環式（メタ）アクリレート；エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレートなどの芳香族（メタ）アクリレート；エトキシ化イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレートなどの複素環式（メタ）アクリレート；これらのカプロラクトン変性体；ネオペンチルグリコール型エポキシ（メタ）アクリレートなどの脂肪族エポキシ（メタ）アクリレート；シクロヘキサンジメタノール型エポキシ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレートなどの脂環式エポキシ（メタ）アクリレート；レゾルシノール型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、フルオレン型エポキシ（メタ）アクリレートなどの芳香族エポキシ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記脂環式（メタ）アクリレート；上記芳香族（メタ）アクリレート；上記複素環式（メタ）アクリレート；上記脂環式エポキシ（メタ）アクリレート；上記芳香族エポキシ（メタ）アクリレートであることが好ましい。
【００１７】
３官能以上の多官能（メタ）アクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート；エトキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレートなどの複素環式（メタ）アクリレート；これらのカプロラクトン変性体；フェノールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレートなどの芳香族エポキシ（メタ）アクリレートが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、複素環式（メタ）アクリレート；芳香族エポキシ（メタ）アクリレートであることが好ましい。
これらの化合物は、単独又は２種類以上組み合わせて用いることができ、さらにその他の重合性化合物と組み合わせて用いることもできる。
【００１８】
前記（メタ）アクリレート以外に好ましい（Ｂ）成分の重合性化合物として、（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーとの相溶性の観点から、分子内に環状エーテル基を有する化合物も挙げられる。環状エーテル基としては、特に制限はなく、例えば、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。
【００１９】
分子内にエポキシ基を有する化合物としては、特に制限はなく、例えば、ヒドロキノン型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、カテコール型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂などの２官能フェノールグリシジルエーテル型；水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、水添２，２’−ビフェノール型エポキシ樹脂、水添４，４’−ビフェノール型エポキシ樹脂などの水添２官能フェノールグリシジルエーテル型；フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−クレゾール型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂などの３官能以上の多官能フェノールグリシジルエーテル型；ポリエチレングリコール型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコール型エポキシ樹脂、ネオペンチルグリコール型エポキシ樹脂、１，６−ヘキサンジオール型エポキシ樹脂などの２官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル型；シクロヘキサンジオール型エポキシ樹脂、シクロヘキサンジメタノール型エポキシ樹脂、トリシクロデカンジメタノール型エポキシ樹脂などの２官能脂環式アルコールグリシジルエーテル型；トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、ソルビトール型エポキシ樹脂、グリセリン型エポキシ樹脂などの３官能以上の多官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル型；フタル酸ジグリシジルエステルなどの２官能芳香族グリシジルエステル；テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステルなどの２官能脂環式グリシジルエステル；Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルトリフルオロメチルアニリンなどの２官能芳香族グリシジルアミン；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４−ジアミノジフェニルメタン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−グリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，ｏ−トリグリシジル−ｐ−アミノフェノールなどの３官能以上の多官能芳香族グリシジルアミン；アリサイクリックジエポキシアセタール、アリサイクリックジエポキシアジペート、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシドなどの２官能脂環式エポキシ樹脂；２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加体などの３官能以上の多官能脂環式エポキシ樹脂；トリグリシジルイソシアヌレートなどの３官能以上の多官能複素環式エポキシ樹脂；オルガノポリシロキサン型エポキシ樹脂などのケイ素含有２官能又は３官能以上の多官能エポキシ樹脂などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、ヒドロキノン型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、カテコール型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂などの２官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記各種の水添２官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記各種の多官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記各種の２官能脂環式アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記２官能芳香族グリシジルエステル；上記２官能脂環式グリシジルエステル；上記２官能脂環式エポキシ樹脂；上記３官能以上の多官能脂環式エポキシ樹脂；上記３官能以上の多官能複素環式エポキシ樹脂；上記ケイ素含有２官能又は３官能以上の多官能エポキシ樹脂であることが好ましい。
【００２０】
分子内にオキセタニル基を有する化合物としては、特に制限はなく、例えば、ヒドロキノン型オキセタン樹脂、レゾルシノール型オキセタン樹脂、カテコール型オキセタン樹脂、ビスフェノールＡ型オキセタン樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ型オキセタン樹脂、ビスフェノールＦ型オキセタン樹脂、ビスフェノールＡＦ型オキセタン樹脂、ビスフェノールＡＤ型オキセタン樹脂、ビフェニル型オキセタン樹脂、ナフタレン型オキセタン樹脂、フルオレン型オキセタン樹脂などの２官能フェノールオキセタニルエーテル型；水添ビスフェノールＡ型オキセタン樹脂、水添ビスフェノールＦ型オキセタン樹脂、水添２，２’−ビフェノール型オキセタン樹脂、水添４，４’−ビフェノール型オキセタン樹脂などの水添２官能フェノールオキセタニルエーテル型；フェノールノボラック型オキセタン樹脂、クレゾールノボラック型オキセタン樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール型オキセタン樹脂、ジシクロペンタジエン−クレゾール型オキセタン樹脂、テトラフェニロールエタン型オキセタン樹脂などの３官能以上の多官能フェノールオキセタニルエーテル型；ポリエチレングリコール型オキセタン樹脂、ポリプロピレングリコール型オキセタン樹脂、ネオペンチルグリコール型オキセタン樹脂、１，６−ヘキサンジオール型オキセタン樹脂などの２官能脂肪族アルコールオキセタニルエーテル型；シクロヘキサンジオール型オキセタン樹脂、シクロヘキサンジメタノール型オキセタン樹脂、トリシクロデカンジメタノール型オキセタン樹脂などの２官能脂環式アルコールオキセタニルエーテル型；トリメチロールプロパン型オキセタン樹脂、ソルビトール型オキセタン樹脂、グリセリン型オキセタン樹脂などの３官能以上の多官能脂肪族アルコールオキセタニルエーテル型；フタル酸ジオキセタニルエステルなどの２官能芳香族オキセタニルエステル；テトラヒドロフタル酸ジオキセタニルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジオキセタニルエステルなどの２官能脂環式オキセタニルエステル；Ｎ，Ｎ−ジオキセタニルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジオキセタニルトリフルオロメチルアニリンなどの２官能芳香族オキセタニルアミン；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラオキセタニル−４，４−ジアミノジフェニルメタン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−オキセタニルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，ｏ−トリグリシジル−ｐ−アミノフェノールなどの３官能以上の多官能芳香族オキセタニルアミン；トリオキセタニルイソシアヌレートなどの３官能以上の多官能複素環式オキセタン樹脂；オルガノポリシロキサン型オキセタニル樹脂などのケイ素含有２官能又は３官能以上の多官能オキセタン樹脂などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、ヒドロキノン型オキセタン樹脂、レゾルシノール型オキセタン樹脂、カテコール型オキセタン樹脂、ビスフェノールＡ型オキセタン樹脂、ビスフェノールＦ型オキセタン樹脂、ビスフェノールＡＦ型オキセタン樹脂、ビスフェノールＡＤ型オキセタン樹脂、ビフェニル型オキセタン樹脂、ナフタレン型オキセタン樹脂、フルオレン型オキセタン樹脂などの２官能フェノールオキセタニルエーテル型オキセタン樹脂；上記各種の水添２官能フェノールオキセタニルエーテル型オキセタン樹脂；上記各種の多官能フェノールオキセタニルエーテル型オキセタン樹脂；上記各種の２官能脂環式アルコールオキセタニルエーテル型オキセタン樹脂；上記２官能芳香族オキセタニルエステル；上記２官能脂環式オキセタニルエステル；上記３官能以上の多官能複素環式オキセタン樹脂；上記ケイ素含有２官能又は３官能以上の多官能オキセタン樹脂であることが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができ、さらにその他の重合性化合物と組み合わせて用いることもできる。
【００２１】
（Ｂ）成分の重合性化合物の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して、１５〜９０質量％であることが好ましい。１５質量％以上であると、上述したように樹脂組成物に十分な強靭性を付与することができ、また、後述する（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーを絡みこんで硬化することが容易で、耐現像液性が不足することがない。一方、９０質量％以下であると、硬化フィルムのフィルム強度や可撓性が十分である。以上の観点から、（Ｂ）成分の配合量は２０〜８０質量％であることがさらに好ましく、２５〜７５質量％であることが特に好ましい。
【００２２】
次に、本発明に用いられる（Ａ）成分について説明する。
本発明の（Ａ）成分における（メタ）アクリルポリマーとは、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、及びこれらの誘導体を単量体とし、これを重合してなるポリマーをいう。該（メタ）アクリルポリマーは、上記単量体の単独重合体であってもよいし、また、これらのモノマーの２種以上を重合させた共重合体であってもよい。さらには、本発明の効果を阻害しない範囲で、上記のモノマーと、上記以外のモノマーとを含む共重合体であってもよい。また、複数の（メタ）アクリルポリマーの混合物であってもよい。
本発明の（Ａ）成分は主鎖にマレイミド骨格を有することを特徴とし、種々の化合物が挙げられるが、透明性及び耐熱性の観点から、下記一般式（３）及び（４）で表される繰り返し単位を有する（メタ）アクリルポリマーを用いることが好ましい。
【００２３】
【化３】
0005515219.tif 000004
【００２４】
式中、Ｒ7は水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示す。
【００２５】
【化４】
0005515219.tif 000005
【００２６】
式中、Ｒ8は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ9は炭素数１〜２０の有機基を示す。
【００２７】
一般式（３）及び（４）における有機基（Ｒ1及びＲ3）としては、炭素数１〜２０の有機基であれば特に制限はないが、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基、エステル基、カルバモイル基などの１価の有機基が挙げられ、それらは、さらに、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基、ホルミル基、エステル基、カルバモイル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、シリル基、シリロキシ基などで置換されていてもよい。
【００２８】
（Ａ）成分の主鎖にマレイミド骨格を有する（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（３）で表される繰り返し単位の原料となる化合物として、特に制限はなく、例えば、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−２，２−ジメチルプロピルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−イソブチルマレイミド、Ｎ−ｓｅｃ-ブチルマレイミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルマレイミド、Ｎ−２−メチル−２−ブチルマレイミド、Ｎ−ペンチルマレイミド、Ｎ−２−ペンチルマレイミド、Ｎ−３−ペンチルマレイミド、Ｎ−ヘキシルマレイミド、Ｎ−２−ヘキシルマレイミド、Ｎ−３−ヘキシルマレイミド、Ｎ−２−エチルヘキシルマレイミド、Ｎ−ヘプチルマレイミド、Ｎ−オクチルマレイミド、Ｎ−ノニルマレイミド、Ｎ−デシルマレイミド、Ｎ−ヒドロキシメチルマレイミド、Ｎ−２−ヒドロキシエチルマレイミド、Ｎ−２−ヒドロキシプロピルマレイミドなどのアルキルマレイミド；Ｎ−シクロペンチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−シクロヘプチルマレイミド、Ｎ−シクロオクチルマレイミド、Ｎ−２−メチルシクロヘキシルマレイミド、Ｎ−２−エチルシクロヘキシルマレイミド、Ｎ−２−クロロシクロヘキシルマレイミドなどのシクロアルキルマレイミド；Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−２−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−２−エチルフェニルマレイミド、Ｎ−２−クロロフェニルマレイミドなどのアリールマレイミドなどが挙げられる。
【００２９】
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−イソブチルマレイミド、Ｎ−ｓｅｃ-ブチルマレイミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルマレイミドなどのアルキルマレイミド；上記シクロアルキルマレイミド；上記アリールマレイミドを用いることが好ましく、Ｎ−シクロペンチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−２−メチルシクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミドを用いることがさらに好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３０】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（３）で表される繰り返し単位の含有率は、１〜７０モル％であることが好ましい。１モル％以上であればマレイミド骨格に由来する耐熱性が得られ、７０モル％以下であれば透明性が十分であり、かつ得られる硬化物が脆くなることがない。以上の観点から、一般式（３）で表される繰り返し単位の含有率は、３〜６０モル％がさらに好ましく、５〜５０モル％であることが特に好ましい。
【００３１】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（４）で表される繰り返し単位の原料となる化合物として、特に制限はないが、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチルヘプチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート；シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレートなどの脂環式（メタ）アクリレート；フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ｏ−ビフェニル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、１−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（１−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（２−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレートなどの芳香族（メタ）アクリレート；２−テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−Ｎ−カルバゾールなどの複素環式（メタ）アクリレート、これらのカプロラクトン変性体などが挙げられる。
【００３２】
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート；上記脂環式（メタ）アクリレート；上記芳香族（メタ）アクリレート；上記複素環式（メタ）アクリレートであることが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３３】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（４）で表される繰り返し単位の含有率は、２０〜９０モル％であることが好ましい。２０モル％以上であれば（メタ）アクリレートに由来する透明性が得られ、９０モル％以下であれば耐熱性が十分である。以上の観点から、一般式（４）で表される繰り返し単位の含有率は、２５〜８５モル％がさらに好ましく、３０〜８０モル％であることが特に好ましい。
【００３４】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーは、硬化性、得られる硬化物の強度、及び耐熱性の観点から、必要に応じてさらに下記一般式（５）で表される繰り返し単位を有していてもよい。
【００３５】
【化５】
0005515219.tif 000006
【００３６】
式中、Ｒ10〜Ｒ12は、各々独立に水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｘ4は単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。
【００３７】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（５）で表される繰り返し単位の導入方法としては種々の方法を用いることができ、特に制限はないが、例えば、共役ジエンを共重合させる方法や、エチレン性不飽和エポキシド、エチレン性不飽和オキセタン、エチレン性不飽和イソシアネート、エチレン性不飽和カルボン酸、エチレン性不飽和フェノール、エチレン性不飽和アルコール、及びエチレン性不飽和アミンなどを共重合させた後に、エチレン性不飽和エポキシド、エチレン性不飽和オキセタン、エチレン性不飽和イソシアネート、エチレン性不飽和カルボン酸、エチレン性不飽和フェノール、エチレン性不飽和アルコール、及びエチレン性不飽和アミンなどを付加反応させる方法などが挙げられる。
【００３８】
上述の方法により、一般式（５）で表される繰り返し単位を導入するに際して、具体的に用いられる化合物としては、例えば、ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、クロロプレンなどの共役ジエン；グリシジル（メタ）アクリレート、α−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、α−プロピルグリシジル（メタ）アクリレート、α−ブチルグリシジル（メタ）アクリレート、２−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、２−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、２−プロピルグリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシヘプチル（メタ）アクリレート、α−エチル−６，７−エポキシヘプチル（メタ）アクリレート、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレートなどのエチレン性不飽和エポキシド；（２−メチル−２−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、（２−エチル−２−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、２−（２−メチル−２−オキセタニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（２−エチル−２−オキセタニル）エチル（メタ）アクリレート、３−（２−メチル−２−オキセタニル）プロピル（メタ）アクリレート、３−（２−エチル−２−オキセタニル）プロピル（メタ）アクリレートなどのエチレン性不飽和オキセタン；Ｎ−（メタ）アクリロイルイソシアネート、（メタ）アクリロイルオキシメチルイソシアネート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシエチルイソシアネート、１，１−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネートなどのエチレン性不飽和イソシアネート；（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）スクシネート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）フタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）テレフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロイソフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロテレフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、ｏ−ビニル安息香酸、ｍ−ビニル安息香酸、ｐ−ビニル安息香酸などのエチレン性不飽和カルボン酸；ｏ−ビニルフェノール、ｍ−ビニルフェノール、ｐ−ビニルフェノール、ｏ−ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、ｍ−ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、ｏ−��ドロキシベンジル（メタ）アクリレート、ｍ−ヒドロキシベンジル（メタ）アクリレート、ｐ−ヒドロキシベンジル（メタ）アクリレートなどのエチレン性不飽和フェノール；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートなどのエチレン性不飽和アルコール；２−アミノエチル（メタ）アクリレート、２−Ｎ−メチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−Ｎ−エチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−アミノプロピル（メタ）アクリレート、２−Ｎ−メチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、２−Ｎ−エチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、２−アミノブチル（メタ）アクリレート、２−Ｎ−メチルアミノブチル（メタ）アクリレート、２−Ｎ−エチルアミノブチル（メタ）アクリレートなどのエチレン性不飽和アミンなどが挙げられる。
【００３９】
これらの中でも、透明性、耐熱性、及び反応性の観点から、ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン；グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレートなどのエチレン性不飽和エポキシド；上記エチレン性不飽和オキセタン；上記エチレン性不飽和イソシアネート；（メタ）アクリル酸、クロトン酸、２−ヘキサヒドロフタロイルエチル（メタ）アクリレートなどのエチレン性不飽和カルボン酸；上記エチレン性不飽和アルコールであることが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００４０】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（５）で表される繰り返し単位を有する場合、その含有率は１〜６０モル％であることが好ましい。１モル％以上であれば硬化性、得られる硬化物の強度、及び耐熱性が十分で、６０モル％以下であれば、得られる硬化物が脆くなることがない。以上の観点から、一般式（５）で表される繰り返し単位の含有率は、３〜５０モル％がさらに好ましく、５〜４０モル％であることが特に好ましい。
【００４１】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーは、アルカリ性現像液による現像性の観点から、また、ガラス転移温度（Ｔｇ）の調整のため、及び密着性を向上させるなどの観点から、必要に応じてさらに下記一般式（６）で表される繰り返し単位を有していてもよい。
【００４２】
【化６】
0005515219.tif 000007
【００４３】
式中、Ｒ13及びＲ14は、各々独立に水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｘ5は単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。
【００４４】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（６）で表される繰り返し単位の原料となる化合物として、特に制限はないが、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）スクシネート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）フタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）テレフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロイソフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロテレフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、ｏ−ビニル安息香酸、ｍ−ビニル安息香酸、ｐ−ビニル安息香酸などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及びアルカリ性現像液による現像性の観点から（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）スクシネート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロイソフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロテレフタレートであることが好ましい。
また、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水イタコン酸を原料として用いて、共重合後にメタノール、エタノール、プロパノールなどの適当なアルコールによって開環し、一般式（６）で表される繰り返し単位に変換してもよい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００４５】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（６）で表される繰り返し単位を有する場合、その含有率は３〜６０モル％であることが好ましい。３モル％以上であると、アルカリ性現像液による現像が容易であり、かつ、ガラス転移温度（Ｔｇ）の調整や密着性の向上が十分行え、一方、６０モル％以下であると、耐現像液性（現像により除去されずにパターンとなる部分が、現像液によって侵されない性質）及び耐湿性が良好である。以上の観点から、一般式（６）で表される繰り返し単位の含有率は、５〜５０モル％がさらに好ましく、７〜４０モル％であることが特に好ましい。
【００４６】
また、（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーは、硬化性、得られる硬化物の強度、及び耐熱性の観点から、必要に応じてさらに、下記一般式（７）〜（９）で表される繰り返し単位を有していてもよい。
【００４７】
【化７】
0005515219.tif 000008
【００４８】
【化８】
0005515219.tif 000009
【００４９】
【化９】
0005515219.tif 000010
【００５０】
式中、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17及びＲ18は、水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｘ6、Ｘ7及びＸ8は単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。
なお、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17及びＲ18における炭素数１〜２０の有機基としては、上記一般式（３）及び（４）における有機基として記載したものと同様のものが例示される。
【００５１】
上記一般式（７）で表される繰り返し単位の原料となる化合物としては、特に制限はなく、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、α−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、α−プロピルグリシジル（メタ）アクリレート、α−ブチルグリシジル（メタ）アクリレート、２−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、２−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、２−プロピルグリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシヘプチル（メタ）アクリレート、α−エチル−６，７−エポキシヘプチル（メタ）アクリレート、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテルなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性、耐熱性、及び反応性の観点から、グリシジル（メタ）アクリレートが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００５２】
上記一般式（８）で表される繰り返し単位の原料となる化合物としては、特に制限はなく、例えば、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性、耐熱性、及び反応性の観点から、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレートであることが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００５３】
上記一般式（９）で表される繰り返し単位の原料となる化合物として、特に制限はなく、例えば、（２−メチル−２−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、（２−エチル−２−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、２−（２−メチル−２−オキセタニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（２−エチル−２−オキセタニル）エチル（メタ）アクリレート、３−（２−メチル−２−オキセタニル）プロピル（メタ）アクリレート、３−（２−エチル−２−オキセタニル）プロピル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性、耐熱性、及び反応性の観点から、（２−メチル−２−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、（２−エチル−２−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレートであることが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００５４】
上記、一般式（７）、（８）及び（９）で表される繰り返し単位を有する場合、その含有率は、それぞれ１〜６０モル％であることが好ましい。１モル％以上であれば硬化性、得られる硬化物の強度、及び耐熱性が十分で、６０モル％以下であれば、得られる硬化物が脆くなることがない。以上の観点から、一般式（７）、（８）及び（９）で表される繰り返し単位の含有率は３〜５０モル％がさらに好ましく、５〜４０モル％であることが特に好ましい。また、これら一般式（７）、（８）及び（９）で表される繰り返し単位は、それぞれ単独で又はこれらが組み合わされて導入されていてもよい。
【００５５】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーは、必要に応じてさらに一般式（３）〜（９）で表される繰り返し単位以外のその他の繰り返し単位を有していてもよい。
このようなその他の繰り返し単位を構成するのに用いられる原料として、例えばエチレン性不飽和基を有する化合物が挙げられ、具体的には、スチレン、α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、α，２−ジメチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、２，５−ジメチルスチレン、（メタ）アクリロニトリル、ビニルシクロヘキシルエーテル、ビニルフェニルエーテル、ビニルベンジルエーテル、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、ビニルピリジン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点からスチレン、α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、α，２−ジメチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、２，５−ジメチルスチレン、（メタ）アクリロニトリル、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルカルバゾールが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００５６】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーは、その合成方法に特に制限はないが、例えば、一般式（３）及び（４）で表される繰り返し単位の原料となる化合物、必要に応じてさらに一般式（５）〜（９）で表される繰り返し単位の原料となる化合物、及び一般式（３）〜（９）で表される繰り返し単位以外のその他の繰り返し単位の原料となる化合物と、適切な熱ラジカル重合開始剤を用いて、加熱しながら共重合させることにより得ることができる。このとき、必要に応じて有機溶剤及び／又は水を反応溶媒として用いることができる。また、必要に応じて適切な連鎖移動剤、分散剤、界面活性剤、乳化剤などを組み合わせて用いることもできる。
【００５７】
熱ラジカル重合開始剤として、特に制限はなく、例えば、メチルエチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、メチルシクロヘキサノンパーオキシドなどのケトンパーオキシド；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−２−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンなどのパーオキシケタール；ｐ−メンタンヒドロパーオキシドなどのヒドロパーオキシド；α、α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキシド、ｔ−ブチルクミルパーオキシド、ジ−ｔ−ブチルパーオキシドなどのジアルキルパーオキシド；オクタノイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ステアリルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシドなどのジアシルパーオキシド；ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−３−メトキシブチルパーオキシカーボネートなどのパーオキシカーボネート；ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ヘキシルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシラウリレート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ヘキシルパーオキシベンゾエート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシアセテートなどのパーオキシエステル；２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２’−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合物が挙げられる。
【００５８】
反応溶媒として用いる有機溶剤として、（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーを溶解しえるものであれば、特に制限はなく、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、ｐ−シメンなどの芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジブチルエーテルなどの鎖状エーテル；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどの環状エーテル；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトンなどのエステル；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどの炭酸エステル；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどの多価アルコールアルキルエーテル；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどの多価アルコールアルキルエーテルアセテート；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミドなどが挙げられる。
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００５９】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーの重量平均分子量は、１，０００〜３，０００，０００であることが好ましい。１，０００以上であれば分子量が大きいため樹脂組成物とした場合の硬化物の強度が十分で、３，０００，０００以下であれば、現像液に対する溶解性や（Ｂ）重合性化合物との相溶性が良好である。以上の観点から、（Ａ）成分の重量平均分子量は３，０００〜２，０００，０００とすることがさらに好ましく、５，０００〜１，０００，０００であることが特に好ましい。
なお、本発明における重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定し、標準ポリスチレン換算した値である。
【００６０】
（Ａ）成分のマレイミド−（メタ）アクリル共重合体は、一般式（６）で表される繰り返し単位を有する場合、アルカリ性現像液により現像可能となるように酸価を規定することができる。例えば、現像液としてアルカリ性水溶液を用いる場合、酸価が２０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であれば現像が容易で、３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であれば耐現像液性が低下することがない。以上の観点から、３０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましく、４０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。
現像液としてアルカリ性水溶液と１種以上の有機溶剤からなるアルカリ性水系現像液を用いる場合、酸価が１０〜２６０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であれば現像が容易で、２６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であれば耐現像液性が低下することがない。以上の観点から、２０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましく、３０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。
【００６１】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーの配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して、１０〜８５質量％であることが好ましい。１０質量％以上であれば、光学材料用樹脂組成物の硬化物の強度や可撓性が十分で、８５質量％以下であれば、硬化時に（Ｂ）成分によって絡め込まれて容易に硬化し、耐現像液性が不足することがない。以上の観点から、（Ａ）成分の配合量は２０〜８０質量％であることがさらに好ましく、２５〜７５質量％であることが特に好ましい。
【００６２】
以下、本発明に用いられる（Ｃ）成分について説明する。
（Ｃ）成分の重合開始剤として、加熱又は紫外線、可視光線などの活性光線の照射によって重合を開始させるものであれば特に制限はなく、例えば、（Ｂ）成分の重合性化合物としてエチレン性不飽和基を有する化合物を用いる場合、熱ラジカル重合開始剤、光ラジカル重合開始剤などが挙げられ、（Ｂ）成分の重合性化合物として分子内に環状エーテル基を有する化合物を用いる場合、熱カチオン重合開始剤、光カチオン重合開始剤などが挙げられる。
【００６３】
熱ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、前述の（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーを合成する際に用いられる熱ラジカル重合開始剤と同様のものを用いることができる。
それらの中で、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、ジアシルパーオキシド、パーオキシエステル、及びアゾ化合物であることが好ましい。
【００６４】
光ラジカル重合開始剤として、特に制限はなく、例えば、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンなどのベンゾインケタール；１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オンなどのα−ヒドロキシケトン；フェニルグリオキシル酸メチル、フェニルグリオキシル酸エチル、オキシフェニル酢酸２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル、オキシフェニル酢酸２−（２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ）エチルなどのグリオキシエステル；２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリン−４−イルフェニル）−ブタン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イルフェニル）−ブタン−１−オン、１，２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−（４−モルフォリン）−２−イルプロパン−１−オンなどのα−アミノケトン；１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ），２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］，１−（Ｏ−アセチルオキシム）などのオキシムエステル；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドなどのホスフィンオキシド；２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体などの２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン化合物；２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルアントラキノンなどのキノン化合物；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテルなどのベンゾインエーテル；ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾインなどのベンゾイン化合物；ベンジルジメチルケタールなど��ベンジル化合物；９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９、９’−アクリジニルヘプタン）などのアクリジン化合物：Ｎ−フェニルグリシン、クマリンなどが挙げられる。
また、前記２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体において、２つのトリアリールイミダゾール部位のアリール基の置換基は、同一で対称な化合物を与えてもよく、相違して非対称な化合物を与えてもよい。
これらの中で、硬化性及び透明性の観点から、上記α−ヒドロキシケトン；上記グリオキシエステル；上記オキシムエステル；上記ホスフィンオキシドであることが好ましい。
以上の熱及び光ラジカル重合開始剤は、単独で又は２種類以上組み合わせて用いることができる。さらに、適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
【００６５】
熱カチオン重合開始剤として、特に制限はないが、例えば、ｐ−アルコキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのベンジルスルホニウム塩；ベンジル−ｐ−シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、１−ナフチルメチル−ｏ−シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、シンナミル−ｏ−シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのピリジニウム塩；ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのベンジルアンモニウム塩などが挙げられる。
これらの中でも、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、上記ベンジルスルホニウム塩であることが好ましい。
【００６６】
光カチオン重合開始剤としては、特に制限はなく、例えばｐ−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェートなどのアリールジアゾニウム塩、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのジアリールヨードニウム塩；トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムペンタフルオロヒドロキシアンチモネートなどのトリアリールスルホニウム塩；トリフェニルセレノニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルセレノニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルセレノニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのトリアリールセレノニウム塩；ジメチルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジエチルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのジアルキルフェナシルスルホニウム塩；４−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−ヒドロキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのジアルキル−４−ヒドロキシ塩；α−ヒドロキシメチルベンゾインスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシイミドスルホネート、α−スルホニロキシケトン、β−スルホニロキシケトンなどのスルホン酸エステルなどが挙げられる。
これらの中でも、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、上記トリアリールスルホニウム塩であることが好ましい。
これらの熱及び光カチオン重合開始剤は、単独で又は２種類以上組み合わせて用いることができる。さらに、適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
【００６７】
（Ｃ）成分の重合開始剤の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部であることが好ましい。０．０１質量部以上であれば、硬化が十分であり、１０質量部以下であれば十分な光透過性が得られる。以上の観点から、０．０５〜７質量部であることがさらに好ましく、０．１〜５質量部であることが特に好ましい。
【００６８】
また、必要に応じて本発明の光学材料用樹脂組成物中には、酸化防止剤、黄変防止剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、着色剤、可塑剤、安定剤、充填剤などのいわゆる添加剤を本発明の効果に悪影響を与えない割合で添加してもよい。
【００６９】
本発明の（Ａ）主鎖にマレイミド骨格を有する（メタ）アクリルポリマー、（Ｂ）重合性化合物、及び（Ｃ）重合開始剤を含有してなる光学材料用樹脂組成物において、該光学材料用樹脂組成物を重合、硬化してなる硬化フィルムの温度２５℃における波長８３０ｎｍでの屈折率が、１．４００〜１．７００であることが好ましい。１．４００〜１．７００であれば、通常の光学樹脂との屈折率が大きく異ならないため、光学材料としての汎用性が損なわれることがない。以上の観点から、該硬化フィルムの屈折率は１．４２５〜１．６７５であることがさらに好ましく、１．４５０〜１．６５０であることが特に好ましい。
【００７０】
また、本発明の（Ａ）主鎖にマレイミド骨格を有する（メタ）アクリルポリマー、（Ｂ）重合性化合物、及び（Ｃ）重合開始剤からなる光学材料用樹脂組成物を重合、硬化してなる厚み５０μｍの硬化フィルムの波長４００ｎｍでの透過率は８０％以上であることが好ましい。該透過率が８０％以上であれば、光の透過量が十分である。以上の観点から、該透過率は８５％以上であることがさらに好ましい。なお、透過率の上限については特に制限されない。
【００７１】
本発明の光学材料用樹脂組成物は、好適な有機溶剤を用いて希釈し、光学材料用樹脂ワニスとして使用してもよい。ここで用いる有機溶剤として、該樹脂組成物を溶解しえるものであれば特に制限はなく、前述の（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーを溶解し得る反応溶媒として用いる有機溶剤と同様のものを用いることができる。
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。また、樹脂ワニス中の固形分濃度は、通常１０〜８０質量％であることが好ましい。
【００７２】
本発明の光学材料用樹脂組成物を調合する際は、撹拌により混合することが好ましい。撹拌方法には特に制限はないが、撹拌効率の観点からプロペラを用いた撹拌が好ましい。撹拌する際のプロペラの回転速度には特に制限はないが、１０〜１，０００ｒｐｍであることが好ましい。１０ｒｐｍ以上であれば、各成分が十分に混合され、１，０００ｒｐｍ以下であればプロペラの回転による気泡の巻き込みが少なくなる。以上の観点から５０〜８００ｒｐｍであることがさらに好ましく、１００〜５００ｒｐｍであることが特に好ましい。撹拌時間には特に制限はないが、１〜２４時間であることが好ましい。１時間以上であれば、各成分が十分に混合され、２４時間以下であれば、ワニス調合時間を短縮することができ、生産性を向上させることができる。
【００７３】
調合した光学材料用樹脂組成物は、孔径５０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのが好ましい。孔径５０μｍ以下であれば、大きな異物などが除去されて塗布時にはじきなどを生じることがなく、光の散乱が抑制されて透明性が損なわれることがない。以上の観点から、孔径３０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのがさらに好ましく、孔径１０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのが特に好ましい。
【００７４】
また、調合した光学材料用樹脂組成物又は樹脂ワニスは、減圧下で脱泡することが好ましい。脱泡方法には特に制限はないが、例えば、真空ポンプとベルジャー、真空装置付き脱泡装置を用いる方法が挙げられる。減圧時の圧力には特に制限はないが、樹脂組成物に含まれる低沸点成分が沸騰しない圧力が好ましい。減圧脱泡時間には特に制限はないが、３〜６０分であることが好ましい。３分以上であれば、樹脂組成物内に溶解した気泡を取り除くことができ、６０分以下であれば、樹脂組成物に含まれる有機溶剤が揮発することがなく、かつ脱泡時間を短縮することができ、生産性を向上させることができる。
【００７５】
本発明の光学材料用樹脂組成物は、透明性及び耐熱性に優れており、光導波路形成用樹脂組成物として好適である。
【００７６】
以下、本発明の光学材料用樹脂フィルムについて説明する。
本発明の光学材料用樹脂フィルムは、前記光学材料用樹脂組成物を用いており、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有する光学材料用樹脂組成物を好適な支持フィルムに塗布することにより容易に製造することができる。また、前記光学材料用樹脂組成物が前記有機溶剤で希釈されている場合、樹脂組成物を支持フィルムに塗布し、有機溶剤を除去することにより製造することができる。
【００７７】
支持フィルムとして、特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン；ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン、液晶ポリマーなどが挙げられる。これらの中で、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホンであることが好ましい。
なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物などにより離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
【００７８】
支持フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、３〜２５０μｍであることが好ましい。３μｍ以上であるとフィルム強度が十分であり、２５０μｍ以下であると十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、支持フィルムの厚みは５〜２００μｍであることがさらに好ましく、７〜１５０μｍであることが特に好ましい。
【００７９】
支持フィルム上に光学材料用樹脂組成物を塗布して製造した光学材料用樹脂フィルムは、必要に応じて保護フィルムを樹脂層上に貼り付け、支持フィルム、樹脂層、及び保護フィルムからなる３層構造としてもよい。
【００８０】
保護フィルムとしては、特に制限はないが、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィンなどが好適に用いられる。なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物などにより離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
【００８１】
保護フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、１０〜２５０μｍであることが好ましい。１０μｍ以上であるとフィルム強度が十分であり、２５０μｍ以下であると十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、保護フィルムの厚みは１５〜２００μｍであることがさらに好ましく、２０〜１５０μｍであることが特に好ましい。
【００８２】
本発明の光学材料用樹脂フィルムの樹脂層の厚みについては、特に限定されないが、乾燥後の厚みで、通常は５〜５００μｍであることが好ましい。５μｍ以上であると、厚みが十分であるため樹脂フィルム又は樹脂フィルムの硬化物の強度が十分であり、５００μｍ以下であると、乾燥が十分に行えるため樹脂フィルム中の残留溶剤量が増えることなく、樹脂フィルムの硬化物を加熱したときに発泡することがない。
【００８３】
このようにして得られた光学材料用樹脂フィルムは、例えばロール状に巻き取ることによって容易に保存することができる。また、ロール状のフィルムを好適なサイズに切り出して、シート状にして保存することもできる。
【００８４】
本発明の光学材料用樹脂フィルムは、透明性及び耐熱性に優れており、光導波路形成用樹脂フィルムとして好適である。
【００８５】
以下、本発明の光学材料用樹脂フィルムを最も好適な用途である光導波路形成用樹脂フィルムとして用いた場合の適用例について説明する。
光導波路形成用樹脂フィルムも、前記光学材料用樹脂フィルムと同様の方法によって製造することができる。
なお、コア部形成用樹脂フィルムの製造過程で用いる支持フィルムとしては、コアパターン形成に用いる露光用活性光線が透過するものであれば特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン；ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン、液晶ポリマーなどが挙げられる。
これらの中で、露光用活性光線の透過率、柔軟性、及び強靭性の観点から、上記ポリエステル及び上記ポリオレフィンであることが好ましい。さらに、露光用活性光線の透過率向上及びコアパターンの側壁荒れ低減の観点から、高透明タイプな支持フィルムを用いることがさらに好ましい。このような高透明タイプの支持フィルムとして、東洋紡績株式会社製コスモシャインＡ１５１７、コスモシャインＡ４１００が挙げられる。
なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物などにより離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
【００８６】
コア部形成用樹脂フィルムの支持フィルムの厚みは、５〜５０μｍであることが好ましい。５μｍ以上であれば、支持体としての強度が十分であり、５０μｍ以下であれば、コアパターン形成時にフォトマスクとコア部形成用樹脂層のギャップが大きくならず、パターン解像度が良好である。以上の観点から、支持フィルムの厚みは１０〜４０μｍであることがさらに好ましく、１５〜３０μｍであることが特に好ましい。
【００８７】
上記支持フィルム上に光導波路形成用樹脂組成物を塗布して製造した光導波路形成用樹脂フィルムは、必要に応じて前記保護フィルムを樹脂層上に貼り付け、支持フィルム、樹脂層、及び保護フィルムからなる３層構造としてもよい。
【００８８】
このようにして得られた光導波路形成用樹脂フィルムは、例えばロール状に巻き取ることによって容易に保存することができる。また、ロール状のフィルムを好適なサイズに切り出して、シート状にして保存することもできる。
【００８９】
以下、本発明の光導波路について説明する。
図１の（ａ）に光導波路の断面図を示す。光導波路１は基材５上に形成され、高屈折率であるコア部形成用樹脂組成物からなるコア部２、並びに低屈折率であるクラッド層形成用樹脂組成物からなる下部クラッド層４及び上部クラッド層３で構成されている。
本発明の光導波路形成用樹脂組成物及び光導波路形成用樹脂フィルムは、光導波路１の下部クラッド層４、コア部２、及び上部クラッド層３のうち、少なくとも１つに用いることが好ましい。
【００９０】
光導波路形成用樹脂フィルムを用いることによって、各層の平坦性、クラッドとコアの層間密着性、及び光導波路コアパターン形成時の解像度（細線又は狭線間対応性）をより向上させることができ、平坦性に優れ、線幅や線間の小さい微細パターンの形成が可能となる。
【００９１】
光導波路１において、基材５の材質としては、特に制限はなく、例えば、ガラスエポキシ樹脂基板、セラミック基板、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板、金属基板、樹脂層付き基板、金属層付き基板、プラスチックフィルム、樹脂層付きプラスチックフィルム、金属層付きプラスチックフィルムなどが挙げられる。
【００９２】
光導波路１は、基材５として柔軟性及び強靭性のある基材、例えば前記光導波路形成用樹脂フィルムの支持フィルムを基材として用い、フレキシブル光導波路としてもよい。また、このとき基材５を光導波路１の保護フィルムとして機能させてもよい。基材５として支持フィルム基材を用いることにより、柔軟性及び強靭性を光導波路１に付与することが可能となる。さらに、基材５を保護フィルムとして機能させることにより、光導波路１が汚れや傷を受けなくなるため、取り扱いやすさが向上する。
以上の観点から、図１の（ｂ）のように上部クラッド層３の外側に保護フィルムとしての機能を有する基材５が配置されていたり、図１の（ｃ）のように下部クラッド層４及び上部クラッド層３の両方の外側に保護フィルムとしての機能を有する基材５が配置されていたりしてもよい。
なお、光導波路１に柔軟性や強靭性が十分に備わっているならば、図１の（ｄ）のように、保護フィルムとしての機能を有する基材５が配置されていなくてもよい。
【００９３】
下部クラッド層４の厚みは、特に制限はないが、２〜２００μｍであることが好ましい。２μｍ以上であると、伝搬光をコア内部に閉じ込めるのが容易となり、２００μｍ以下であると、光導波路１全体の厚みが大きすぎることがない。なお、下部クラッド層４の厚みとは、コア部２と下部クラッド層４との境界から下部クラッド層４の下面までの値である。
下部クラッド層形成用樹脂フィルムの厚みについては特に制限はないが、硬化後の下部クラッド層４の厚みが上記の範囲となるように厚みが調整される。
【００９４】
コア部２の高さについては、特に制限はないが、１０〜１５０μｍであることが好ましい。コア部の高さが１０μｍ以上であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において位置合わせトレランスが小さくなることがなく、１５０μｍ以下であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において、結合効率が小さくなることがない。以上の観点から、コア部の高さは、１５〜１３０μｍであることがさらに好ましく、２０〜１２０μｍであることが特に好ましい。なお、コア部形成用樹脂フィルムの厚みについては特に制限はないが、硬化後のコア部の高さが上記の範囲となるように厚みが調整される。
【００９５】
上部クラッド層３の厚みは、コア部２を埋め込むことができる範囲であれば、特に制限はないが、乾燥後の厚みで、１２〜５００μｍであることが好ましい。上部クラッド層３の厚みは、最初に形成される下部クラッド層４の厚みと同一であっても異なってもよいが、コア部２を埋め込むという観点から、下部クラッド層４の厚みよりも厚くすることが好ましい。なお、上部クラッド層３の厚みとは、コア部２と下部クラッド層４との境界から上部クラッド層３の上面までの値である。
【００９６】
本発明の光導波路において、光伝搬損失は０．３ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．３ｄＢ／ｃｍ以下であれば、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分である。以上の観点から０．２ｄＢ／ｃｍ以下であることがさらに好ましい。
【００９７】
本発明の光導波路において、温度８５℃、湿度８５％の高温高湿放置試験を１０００時間実施後の光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．３ｄＢ／ｃｍ以下であれば、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分である。以上の観点から０．２ｄＢ／ｃｍ以下であることがさらに好ましい。このような、高い耐湿熱性が得られる本発明の光導波路は、電子素子間や配線基板間の接続に使用したときに、使用環境中で光損失が増大することがないので、信頼性の点で有利である。
なお、温度８５℃、湿度８５％の高温高湿放置試験とはＪＰＣＡ規格（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０１Ｓ）に準じた条件で実施する高温高湿放置試験のことを意味する。
【００９８】
本発明の光導波路において、温度−５５℃と１２５℃の間の温度サイクル試験を１０００サイクル実施後の光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．３ｄＢ／ｃｍ以下であれば、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分である。以上の観点から０．２ｄＢ／ｃｍ以下であることがさらに好ましい。このような、ヒートショックに対して、高い耐性が得られる本発明の光導波路は、電子素子間や配線基板間の接続に使用したときに、使用環境中で光損失が増大することがないので、信頼性の点で有利である。
なお、温度−５５℃と１２５℃の間の温度サイクル試験とはＪＰＣＡ規格（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０１Ｓ）に準じた条件で実施する温度サイクル試験のことを意味する。
【００９９】
本発明の光導波路において、最高温度２６５℃のリフロー試験を３回実施後の光伝搬損失は、０．３ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．３ｄＢ／ｃｍ以下であれば、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分であれば同時に、リフロープロセスによる部品実装が行えるために、適用範囲が広くなる。以上の観点から０．２ｄＢ／ｃｍ以下であることがさらに好ましい。
なお、最高温度２６５℃のリフロー試験とはＪＥＤＥＣ規格（ＪＥＤＥＣ  ＪＥＳＤ２２Ａ１１３Ｅ）に準じた条件で実施する鉛フリーはんだリフロー試験のことを意味する。
【０１００】
本発明の光導波路は、透明性、信頼性、及び耐熱性に優れており、光モジュールの光伝送路として用いることもできる。光モジュールの形態としては、例えば、光導波路の両端に光ファイバを接続した光ファイバ付き光導波路、光導波路の両端にコネクタを接続したコネクタ付き光導波路、光導波路とプリント配線板とを複合化した光電気複合基板、光導波路と光信号と電気信号を相互に変換する光／電気変換素子を組み合わせた光電気変換モジュール、光導波路と波長分割フィルタを組み合わせた波長合分波器などが挙げられる。
なお、光電気複合基板において、複合化するプリント配線板として、特に制限はなく、例えば、ガラスエポキシ基板、セラミック基板などのリジッド基板、ポリイミド基板、ポリエチレンテレフタレート基板などのフレキシブル基板などが挙げられる。
【０１０１】
以下、本発明の光導波路形成用樹脂組成物及び／又は光導波路形成用樹脂組成物を用いて光導波路１を形成するための製造方法について説明する。
本発明の光導波路１を製造する方法として、特に制限はなく、例えば、光導波路形成用樹脂組成物又は光導波路形成用樹脂フィルムを用いて、基材上に光導波路形成用樹脂層を形成して製造する方法などが挙げられる。
【０１０２】
本発明に用いられる基材としては、特に制限はないが、ガラスエポキシ樹脂基板、セラミック基板、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板、金属基板、樹脂層付き基板、金属層付き基板、プラスチックフィルム、樹脂層付きプラスチックフィルム、金属層付きプラスチックフィルムなどが挙げられる。
【０１０３】
光導波路形成用樹脂層を形成する方法としては、特に制限はなく、例えば、光導波路形成用樹脂組成物を用いて、スピンコート法、ディップコート法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、カーテンコート法、グラビアコート法、スクリーンコート法、インクジェットコート法などにより塗布する方法などが挙げられる。
光導波路形成用樹脂組成物が、好適な有機溶剤で希釈されている場合、必要に応じて樹脂層を形成後に、乾燥する工程を入れてもよい。乾燥方法としては、加熱乾燥、減圧乾燥などが挙げられる。また、必要に応じてこれらを併用してもよい。
【０１０４】
光導波路形成用樹脂層を形成するその他の方法として、光導波路形成用樹脂組成物を用いた光導波路形成用樹脂フィルムを用いて、積層法により形成する方法が挙げられる。
これらの中で、平坦性に優れ、線幅や線間の小さい微細パターンを有する光導波路が形成能という観点から、光導波路形成用樹脂フィルムを用いて積層法により製造する方法が好ましい。
【０１０５】
以下、光導波路形成用樹脂フィルムを下部クラッド層、コア部、及び上部クラッド層に用いて光導波路１を形成するための製造方法について説明するが、本発明はこれに制限されるものではない。
まず、第１の工程として下部クラッド層形成用樹脂フィルムを基材５上に積層する。第１の工程における積層方法としては、特に制限はなく、例えば、ロールラミネータ又は平板型ラミネータを用いて加熱しながら圧着することにより積層する方法などが挙げられる。なお、本発明における平板型ラミネータとは、積層材料を一対の平板の間に挟み、平板を加圧することにより圧着させるラミネータのことを指し、例えば、真空加圧式ラミネータを好適に用いることができる。ここでの加熱温度は、２０〜１３０℃であることが好ましく、圧着圧力は、０．１〜１．０ＭＰａであることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。下部クラッド層形成用樹脂フィルムに保護フィルムが存在する場合、保護フィルムを除去した後に積層する。
【０１０６】
真空加圧式ラミネータを用いて積層する場合、ロールラミネータを用いて、あらかじめ下部クラッド層形成用樹脂フィルムを基材５上に仮貼りしておいてもよい。ここで、密着性及び追従性向上の観点から、圧着しながら仮貼りすることが好ましく、圧着する際、ヒートロールを有するラミネータを用いて加熱しながら行ってもよい。ラミネート温度は、２０〜１３０℃であることが好ましい。２０℃以上であると、下部クラッド層形成用樹脂フィルムと基材５との密着性が向上し、１３０℃以下であると、樹脂層がロールラミネート時に流動しすぎることがなく、必要とする膜厚が得られる。以上の観点から、ラミネート温度は４０〜１００℃であることがさらに好ましい。また、ラミネート時の圧力は０．２〜０．９ＭＰａであることが好ましく、ラミネート速度は０．１〜３ｍ／ｍｉｎであることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
【０１０７】
基材５上に積層された下部クラッド層形成用樹脂層を光及び／又は熱により硬化し、下部クラッド層４を形成する。なお、下部クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムの除去は、硬化前及び硬化後のどちらで行ってもよい。
下部クラッド層形成用樹脂層を光により硬化する際の活性光線の照射量は、０．１〜５Ｊ／ｃｍ2とすることが好ましいが、この条件には特に制限はない。また、活性光線が基材を透過する場合、効率的に硬化させるために、両面から同時に活性光線を照射可能な両面露光機を使用することができる。また、加熱をしながら活性光線を照射してもよい。なお、光硬化後の処理として、必要に応じて５０〜２００℃の加熱処理を行ってもよい。
下部クラッド層形成用樹脂層を熱により硬化する際の加熱温度は、５０〜２００℃とすることが好ましいが、この条件には特に制限はない。
【０１０８】
下部クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムを、光導波路１の保護フィルム５として機能させる場合、下部クラッド層形成用樹脂フィルムを積層することなく、光及び／又は熱により前記と同様な条件で硬化し、下部クラッド層４を形成してもよい。
なお、下部クラッド層形成用樹脂フィルムの保護フィルムは、硬化前に除去しても、硬化後に除去してもよい。
【０１０９】
第２の工程として、第１の工程と同様な方法で、下部クラッド層４上にコア部形成用樹脂フィルムを積層する。ここで、コア部形成用樹脂層は下部クラッド層形成用樹脂層より高屈折率であるように設計され、活性光線によりコアパターンを形成し得る感光性樹脂組成物からなることが好ましい。
【０１１０】
第３の工程として、コア部２（コアパターン）を露光する。コア部２を露光する方法として、特に制限はないが、例えば、アートワークと呼ばれるネガマスクパターンを通して活性光線を画像状に照射する方法、レーザ直接描画を用いてフォトマスクを通さずに直接活性光線を画像上に照射する方法などが挙げられる。
活性光線の光源として、例えば、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、水銀蒸気アークランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプなどの紫外線を有効に放射する光源が挙げられる。また、他にも写真用フラッド電球、太陽ランプなどの可視光線を有効に放射する光源が挙げられる。
【０１１１】
コア部２を露光する際の活性光線の照射量は、０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましい。０．０１Ｊ／ｃｍ2以上であると、硬化反応が十分に進行し、現像によりコア部２が流失することがなく、１０Ｊ／ｃｍ2以下であると、露光量過多によりコア部２が太ることがなく、微細なパターンが形成でき好適である。以上の観点から、活性光線の照射量は０．０３〜５Ｊ／ｃｍ2であることがさらに好ましく、０．０５〜３Ｊ／ｃｍ2であることが特に好ましい。
コア部２の露光は、コア部形成用樹脂フィルムの支持フィルムを介して行ってもよいし、また支持フィルムを除去してから行ってもよい。
【０１１２】
また、露光後に、コア部２の解像度及び密着性向上の観点から、必要に応じて露光後加熱を行ってもよい。紫外線照射から露光後加熱までの時間は、１０分以内であることが好ましいが、この条件には特に制限はない。露光後加熱温度は４０〜１６０℃であることが好ましく、時間は３０秒〜１０分であることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
【０１１３】
第４の工程として、コア部形成用樹脂フィルムの支持フィルムを介して露光した場合、これを除去し、コア部形成用樹脂層の組成に適した現像液を用いて現像する。
現像方法としては、特に制限はないが、例えば、スプレー法、ディップ法、パドル法、スピン法、ブラッシング法、スクラッピング法などが挙げられる。また、必要に応じてこれらの現像方法を併用してもよい。
現像液としては、特に制限はなく、有機溶剤又は有機溶剤と水からなる準水系現像液などの有機溶剤系現像液；アルカリ性水溶液、アルカリ性水溶液と１種類以上の有機溶剤からなるアルカリ性準水系現像液などのアルカリ性現像液などが挙げられる。などを用いることができる。また、現像温度は、コア部形成用樹脂層の現像性に合わせて調節される。
【０１１４】
有機溶剤としては、特に制限はなく、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、ｐ−シメンなどの芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジブチルエーテルなどの鎖状エーテル；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどの環状エーテル；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトンなどのエステル；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどの炭酸エステル；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどの多価アルコールアルキルエーテル；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどの多価アルコールアルキルエーテルアセテート；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミドなどが挙げられる。
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。また、有機溶剤中には、表面活性剤、消泡剤などを混入させてもよい。
【０１１５】
準水系現像液として、１種類以上の有機溶剤と水からなるものであれば特に制限はない。
有機溶剤の濃度は、通常、２〜９０質量％であることが好ましい。また、準水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤などを少量混入させてもよい。
【０１１６】
アルカリ性水溶液の塩基としては、特に制限はないが、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属重炭酸塩；リン酸カリウム、リン酸ナトリウムなどのアルカリ金属リン酸塩；ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウムなどのアルカリ金属ピロリン酸塩；四ホウ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどのナトリウム塩；炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウムなどのアンモニウム塩；水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール、１，３−ジアミノプロパノール−２−モルホリンなどの有機塩基などが挙げられる。
これらの塩基は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
現像に用いるアルカリ性水溶液のｐＨは９〜１４であることが好ましい。また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤などを混入させてもよい。
【０１１７】
アルカリ性準水系現像液として、アルカリ性水溶液と１種類以上の前記有機溶剤からなるものであれば特に制限はない。アルカリ性準水系現像液のｐＨは、現像が十分にできる範囲でできるだけ小さくすることが好ましく、ｐＨ８〜１３であることが好ましく、ｐＨ９〜１２であることがさらに好ましい。
有機溶剤の濃度は、通常、２〜９０質量％であることが好ましい。また、アルカリ性準水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤などを少量混入させてもよい。
【０１１８】
現像後の処理として、必要に応じて前記有機溶剤、前記有機溶剤と水からなる準水系洗浄液、又は水を用いて洗浄してもよい。
洗浄方法として、特に制限はないが、例えば、スプレー法、ディップ法、パドル法、スピン法、ブラッシング法、スクラッピング法などが挙げられる。また、必要に応じてこれらの洗浄方法を併用してもよい。
前記有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。準水系洗浄液において、有機溶剤の濃度は通常、２〜９０質量％とすることが好ましい。また、洗浄温度はコア部形成用樹脂層の現像性に合わせて調節される。
【０１１９】
現像又は洗浄後の処理として、コア部２の硬化性及び密着性向上の観点から、必要に応じて露光及び／又は加熱を行ってもよい。加熱温度は４０〜２００℃であることが好ましく、活性光線の照射量は、０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
【０１２０】
第５の工程として、第１及び第２の工程と同様の方法で、下部クラッド層４及びコア部２上に上部クラッド層形成用樹脂フィルムを積層する。ここで、上部クラッド層形成用樹脂層は、コア部形成用樹脂層よりも低屈折率になるように設計されている。また、上部クラッド形成用樹脂層の厚みは、コア部２の高さより大きくすることが好ましい。
【０１２１】
次いで、第１の工程と同様な方法で上部クラッド層形成用樹脂層を光及び／又は熱により硬化し、上部クラッド層３を形成する。
上部クラッド層形成用樹脂層を光により硬化する際の活性光線の照射量は、０．１〜３０Ｊ／ｃｍ2とすることが好ましいが、この条件には特に制限はない。また、活性光線が基材を透過する場合、効率的に硬化させるために、両面から同時に活性光線を照射可能な両面露光機を使用することができる。また、必要に応じて加熱をしながら活性光線を照射してもよく、光硬化後の処理として加熱処理を行ってもよい。活性光線照射中及び／又は照射後の加熱温度は５０〜２００℃であることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
上部クラッド層形成用樹脂層を熱により硬化する際の加熱温度は、５０〜２００℃とすることが好ましいが、この条件には特に制限はない。
なお、上部クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムの除去が必要な場合、硬化前に除去しても、硬化後に除去してもよい。
以上の工程で、光導波路１を作製することができる。
【実施例】
【０１２２】
以下、本発明の実施例をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら制限されるものではない。
製造例１
［主鎖にマレイミド骨格を有する（メタ）アクリルポリマーＡ−１の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１０８質量部及び乳酸メチル２７質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を８０℃に上昇させ、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド２０質量部、ジシクロペンタニルメタクリレート４７質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート５９質量部、メタクリル酸２２質量部、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル１質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７２質量部、及び乳酸メチル１８質量部の混合物を３時間かけて滴下後、８０℃で３時間撹拌し、さらに１２０℃で１時間撹拌を続けて、室温まで冷却した。
続いて、ジブチルスズジラウリレート０．０７質量部を加え、撹拌を行った。液温を５０℃に上昇させ、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート２３質量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１４質量部の混合物を３０分かけて滴下後、５０℃で３時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマーＡ−１溶液（固形分４２質量％）を得た。
【０１２３】
［重量平均分子量の測定］
Ａ−１の重量平均分子量（標準ポリスチレン換算）をＧＰＣ（東ソー株式会社製ＳＤ−８０２２／ＤＰ−８０２０／ＲＩ−８０２０）を用いて測定した結果、５４，０００であった。なお、カラムは日立化成工業株式会社製Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ａ１５０−Ｓ／ＧＬ−Ａ１６０−Ｓを使用した。
【０１２４】
［酸価の測定］
Ａ−１の酸価を測定した結果、７０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。なお、酸価はＡ−１溶液を中和するのに要した０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウム水溶液量から算出した。このとき、指示薬として添加したフェノールフタレインが無色からピンク色に変色した点を中和点とした。
【０１２５】
製造例２
［主鎖にマレイミド骨格を有する（メタ）アクリルポリマーＡ−２の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１０８質量部及び乳酸メチル２７質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を８０℃に上昇させ、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド２０質量部、ベンジルメタクリレート７９質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１９質量部、メタクリル酸３１質量部、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル１質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７２質量部、及び乳酸メチル１８質量部の混合物を３時間かけて滴下後、８０℃で３時間撹拌し、さらに１２０℃で１時間撹拌を続けて、室温まで冷却した。
続いて、ジブチルスズジラウリレート０．０７質量部を加え、撹拌を行った。液温を５０℃に上昇させ、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート２３質量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１４質量部の混合物を３０分かけて滴下後、５０℃で３時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマーＡ−２溶液（固形分４２質量％）を得た。
製造例１と同様な方法で、Ａ−２の重量平均分子量及び酸価を測定した結果、それぞれ５０，０００、９７ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【０１２６】
製造例３
［主鎖にマレイミド骨格を有する（メタ）アクリルポリマーＡ−３の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１０８質量部及び乳酸メチル２７質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を８０℃に上昇させ、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド２０質量部、ベンジルメタクリレート９０質量部、メタクリル酸３９質量部、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル１質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７２質量部、及び乳酸メチル１８質量部の混合物を３時間かけて滴下後、８０℃で３時間撹拌し、さらに１２０℃で１時間撹拌を続けて、室温まで冷却した。
続いて、ジブチルスズジラウリレート０．０７質量部を加え、撹拌を行った。液温を５０℃に上昇させ、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート２３質量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１４質量部の混合物を３０分かけて滴下後、５０℃で３時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマーＡ−３溶液（固形分４２質量％）を得た。
製造例１と同様な方法で、Ａ−３の重量平均分子量及び酸価を測定した結果、それぞれ４５，０００、１００ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【０１２７】
製造例４
［（メタ）アクリルポリマーＡ−４の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１０８質量部及び乳酸メチル２７質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を８０℃に上昇させ、シクロヘキシルメタクリレート２０質量部、ベンジルメタクリレート９０質量部、メタクリル酸３９質量部、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル１質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７２質量部、及び乳酸メチル１８質量部の混合物を３時間かけて滴下後、８０℃で３時間撹拌し、さらに１２０℃で１時間撹拌を続けて、室温まで冷却した。
続いて、ジブチルスズジラウリレート０．０７質量部を加え、撹拌を行った。液温を５０℃に上昇させ、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート２３質量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１４質量部の混合物を３０分かけて滴下後、５０℃で３時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマーＡ−４溶液（固形分４２質量％）を得た。
製造例１と同様な方法で、Ａ−４の重量平均分子量及び酸価を測定した結果、それぞれ５９，０００、１００ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【０１２８】
製造例５
［（メタ）アクリルポリマーＡ−５の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１０８質量部及び乳酸メチル２７質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を８０℃に上昇させ、シクロヘキシルメタクリレート２０質量部、２−エチルヘキシルメタクリレート４７質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート５９質量部、メタクリル酸２２質量部、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル１質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７２質量部、及び乳酸メチル１８質量部の混合物を３時間かけて滴下後、８０℃で３時間撹拌し、さらに１２０℃で１時間撹拌を続けて、室温まで冷却した。
続いて、ジブチルスズジラウリレート０．０７質量部を加え、撹拌を行った。液温を５０℃に上昇させ、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート２３質量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１４質量部の混合物を３０分かけて滴下後、５０℃で３時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマーＡ−５溶液（固形分４２質量％）を得た。
製造例１と同様な方法で、Ａ−５の重量平均分子量及び酸価を測定した結果、それぞれ５６，０００、７０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【０１２９】
実施例１
［コア部形成用樹脂ワニスＣＯＶ−１の調合］
（Ａ）主鎖にマレイミド骨格を含む（メタ）アクリルポリマーとして、前記Ａ−１溶液（固形分４２質量％）１４３質量部（固形分６０質量部）、（Ｂ）重合性化合物として、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＢＰＥ−６）２０質量部、ｐ−クミルフェノキシエチルアクリレート（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＣＭＰ−１Ｅ）２０質量部及び（Ｃ）重合開始剤として、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製イルガキュア２９５９）１質量部、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製イルガキュア８１９）１質量部を広口のポリ瓶に秤量し、撹拌機を用いて、温度２５℃、回転数４００ｒｐｍの条件で、６時間撹拌して、コア部形成用樹脂ワニスを調合した。その後、孔径２μｍのポリフロンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製ＰＦ０２０）及び孔径０．５μｍのメンブレンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製Ｊ０５０Ａ）を用いて、温度２５℃、圧力０．４ＭＰａの条件で加圧濾過した。続いて、真空ポンプ及びベルジャーを用いて減圧度２００ｍｍＨｇの条件で１５分間減圧脱泡し、コア部形成用樹脂ワニスＣＯＶ−１を得た。
【０１３０】
［コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１の作製］
上記コア部形成用樹脂ワニスＣＯＶ−１を、ＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製Ａ１５１７、厚み１６μｍ）の非処理面上に塗工機（株式会社ヒラノテクシード製マルチコーターＴＭ−ＭＣ）を用いて塗布し、８０℃で１０分及び１００℃で１０分乾燥し、次いで保護フィルムとして離型ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製Ａ３１、厚み２５μｍ）を貼付け、コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１を得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であるが、本実施例では硬化後の膜厚が、５０μｍとなるように調節した。
【０１３１】
［クラッド層形成用樹脂ワニスＣＬＶ−１の調合］
（Ａ）主鎖にマレイミド骨格を含む（メタ）アクリルポリマーとして、前記Ａ−１溶液（固形分４２質量％）１４３質量部（固形分６０質量部）、（Ｂ）重合性化合物として、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＢＰＥ−６）２０質量部、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（新中村化学工業株式会社製Ａ−９３００）２０質量部、エトキシ化シクロヘキサンジメタノールジアクリレート（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＣＨＤ−４Ｅ）２０質量部及び（Ｃ）重合開始剤として、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製イルガキュア２９５９）１質量部、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製イルガキュア８１９）１質量部を広口のポリ瓶に秤量し、撹拌機を用いて、温度２５℃、回転数４００ｒｐｍの条件で、６時間撹拌して、コア部形成用樹脂ワニスを調合した。その後、孔径２μｍのポリフロンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製ＰＦ０２０）及び孔径０．５μｍのメンブレンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製Ｊ０５０Ａ）を用いて、温度２５℃、圧力０．４ＭＰａの条件で加圧濾過した。続いて、真空ポンプ及びベルジャーを用いて減圧度２００ｍｍＨｇの条件で１５分間減圧脱泡し、クラッド層形成用樹脂ワニスＣＬＶ−１を得た。
【０１３２】
［クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１の作製］
上記クラッド層形成用樹脂ワニスＣＬＶ−１を、ＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製Ａ４１００、厚み５０μｍ）の非処理面上に、コア層形成用樹脂フィルムと同様な方法で塗布乾燥し、クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１を得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であるが、本実施例では硬化後の膜厚が、下部クラッド層形成用樹脂フィルムでは２５μｍ、上部クラッド形成用樹脂フィルムでは７５μｍ、並びに屈折率及び透過率測定用硬化フィルムでは５０μｍとなるように調節した。
【０１３３】
［各種物性測定用硬化フィルムの作製］
前記コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１及びクラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１に、紫外線露光機（大日本スクリーン株式会社製ＭＡＰ−１２００−Ｌ）を用い、紫外線（波長３６５ｎｍ）を２０００ｍＪ／ｃｍ2照射した。続いて、保護フィルム（Ａ３１）を除去し、１３０℃で１時間乾燥を行った後、支持フィルム（Ａ１５１７又はＡ４１００）を除去して厚み５０μｍの硬化フィルムを得た。
【０１３４】
［屈折率の測定］
得られた硬化フィルムの温度２５℃における波長８３０ｎｍでの屈折率をプリズムカプラ（ＳＡＩＲＯＮ  ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ社製、ＳＰＡ−４０００）を用いて測定した。
【０１３５】
［透過率の測定］
得られた硬化フィルムの温度２５℃における波長４００ｎｍでの透過率を分光光度計（株式会社日立製作所製Ｕ−３４１０  Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）を用いて測定した。以下の基準で評価した。
○：８０％以上
×：８０％未満
【０１３６】
［５％質量減温度の測定］
得られた硬化フィルムの５％質量減温度を、熱重量−示差熱分析（Ｔｈｅｒｍｏｇｒａｖｉｍｅｔｒｙ−Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ  Ｔｈｅｒｍａｌ  Ａｎａｌｙｓｉｓ：ＴＧ−ＤＴＡ）装置（セイコーインスツル株式会社製  ＥＸＳＴＡＲ６０００  ＴＧ／ＤＴＡ６３００）を用いて、空気中で測定温度範囲３０〜６００℃、昇温速度１０℃／ｍｉｎで測定した。以下の基準で評価した。
○：２５０℃以上
×：２５０℃未満
【０１３７】
［引張り破断伸び率の測定］
得られた硬化フィルム（幅１０ｍｍ、長さ７０ｍｍ、つかみ具間距離５０ｍｍ）のフィルム引張り試験を、引張り試験機（株式会社オリエンテック製  ＲＴＭ−１００）を用いて、温度２５℃、引張り速度５ｍｍ／ｍｉｎで、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２７に準拠して行い、以下に示す式により引張り破断伸び率を求めた。また、評価は以下の基準により行った。
引張り破断伸び率（％）＝（破断時のつかみ具間距離−初期のつかみ具間距離）／初期のつかみ具間距離×１００
○：５％以上
×：５％未満
【０１３８】
［光導波路の作製］
紫外線露光機（大日本スクリーン株式会社製ＭＡＰ−１２００−Ｌ）を用い、下部クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１に紫外線（波長３６５ｎｍ）を２０００ｍＪ／ｃｍ2照射し、保護フィルム（Ａ３１）を除去することによって、下部クラッド層４を形成した。
【０１３９】
続いて、ロールラミネータ（日立化成テクノプラント株式会社製ＨＬＭ−１５００）を用い、保護フィルム（Ａ３１）を除去したコア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１を、下部クラッド層４上に、圧力０．４ＭＰａ、温度８０℃、速度０．４ｍ／ｍｉｎの条件で積層した。さらに、真空加圧式ラミネータ（株式会社名機製作所製ＭＶＬＰ−５００／６００）を用い、圧力０．４ＭＰａ、温度８０℃及び加圧時間３０秒の条件で圧着した。
次いで、幅５０μｍのネガ型フォトマスクを介し、前記紫外線露光機で紫外線（波長３６５ｎｍ）を２００ｍＪ／ｃｍ2照射して、コア部２（コアパターン）を露光した。８０℃で５分間露光後加熱を行った後、支持フィルム（Ａ１５１７）を除去し、１質量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を用いて現像した。続いて、０．３質量％硫酸水溶液を用いて洗浄した後、さらに純水を用いて洗浄し、１００℃で１時間加熱乾燥した。
【０１４０】
次に、前記真空加圧式ラミネータを用い、保護フィルム（Ａ３１）を除去した上部クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１を、コア部２及び下部クラッド層４上に、圧力０．４ＭＰａ、温度８０℃及び加圧時間３０秒の条件で積層した。紫外線（波長３６５ｎｍ）を２０００ｍＪ／ｃｍ2照射し、下部クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１の基材フィルム（Ａ４１００）を除去した後、１３０℃で１時間加熱処理することによって、上部クラッド層３を形成した。続いて、上部クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１を除去し、図１（ｄ）に示す光導波路１を得た。その後、ダイシングソー（株式会社ディスコ製ＤＡＤ−３４１）を用いて導波路長１０ｃｍの光導波路を切り出した。
【０１４１】
実施例２〜６及び比較例１
表１に示す配合比に従ってコア部形成用感光性樹脂ワニスＣＯＶ−２〜５を調合した。同様に、表２に示す配合比に従ってクラッド層形成用感光性樹脂ワニスＣＬＶ−２〜５を調合した。実施例１と同様な方法で、コア部形成用感光性樹脂フィルムＣＯＦ−２〜５及びクラッド層形成用感光性樹脂フィルムＣＬＦ−２〜５を作製した。これらの硬化フィルムの屈折率、透過率、５％質量減温度、及び引張り破断伸び率を測定した結果を表１及び表２に示す。
続いて、これらの光導波路形成用樹脂フィルムを用いて、実施例１と同様な方法で、光導波路を作製した。光導波路の作製に用いたコア部形成用樹脂フィルム及びクラッド層形成用樹脂フィルムの組合せを表３に示す。
【０１４２】
【表１】
0005515219.tif 000011
【０１４３】
＊１：製造例１で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液
＊２：製造例２で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液
＊３：製造例３で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液
＊４：製造例４で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液
＊５：エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（新中村化学工業株式会社製）
＊６：エトキシ化イソシアヌル酸ジアクリレート（東亞合成株式会社製）
＊７：ｐ−クミルフェノキシエチルアクリレート（新中村化学工業株式会社製）
＊８：１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）
＊９：ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）
＊１０：波長８３０ｎｍ、２５℃、フィルム厚み５０μｍの条件で測定
＊１１：○…８０％以上、×…８０％未満、波長４００ｎｍ、２５℃、フィルム厚み５０μｍの条件で測定
＊１２：○…２５０℃以上、×…２５０℃未満
＊１３：○…５％以上、×…５％未満
【０１４４】
【表２】
0005515219.tif 000012
【０１４５】
＊１：製造例１で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液
＊１４：製造例５で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液
＊１５：エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（新中村化学工業株式会社製）
＊１６：カプロラクトン変性エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（東亞合成株式会社製）
＊６：エトキシ化イソシアヌル酸ジアクリレート（東亞合成株式会社製）
＊１７：エトキシ化シクロヘキサンジメタノールジアクリレート（新中村化学工業株式会社製）
＊１８：水添ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（新中村化学工業株式会社製）
＊８：１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）
＊９：ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）
＊１０：波長８３０ｎｍ、２５℃、フィルム厚み５０μｍの条件で測定
＊１１：○…８０％以上、×…８０％未満、波長４００ｎｍ、２５℃、フィルム厚み５０μｍの条件で測定
＊１２：○…２５０℃以上、×…２５０℃未満
＊１３：○…５％以上、×…５％未満
【０１４６】
【表３】
0005515219.tif 000013
【０１４７】
［光伝搬損失の測定］
実施例１〜６及び比較例１で得られた光導波路（導波路長１０ｃｍ）の光伝搬損失を、光源に波長８５０ｎｍの光を中心波長とするＶＣＳＥＬ（ＥＸＦＯ社製ＦＬＳ−３００−０１−ＶＣＬ）、受光センサ（株式会社アドバンテスト製Ｑ８２２１４）、入射ファイバ（ＧＩ−５０／１２５マルチモードファイバ、ＮＡ＝０．２０）及び出射ファイバ（ＳＩ−１１４／１２５、ＮＡ＝０．２２）を用いて、カットバック法（測定導波路長１０、５、３、２ｃｍ）により測定し、以下の基準で評価した。
○：０．３ｄＢ／ｃｍ以下
×：０．３ｄＢ／ｃｍより大きい
【０１４８】
［高温高湿放置試験］
実施例１〜６及び比較例１で得られた光導波路（導波路長１０ｃｍ）を、高温高湿試験機（エスペック株式会社製ＰＬ−２ＫＴ）を用いて、ＪＰＣＡ規格（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０１Ｓ）に準じた条件で温度８５℃、湿度８５％の高温高湿放置試験を１０００時間実施した。
高温高湿放置試験実施後の光導波路の光伝搬損失を、前記と同様の光源、受光素子、入射ファイバ及び出射ファイバを用いて測定し、以下の基準で評価した。
○：０．３ｄＢ／ｃｍ以下
×：０．３ｄＢ／ｃｍより大きい
【０１４９】
［温度サイクル試験］
実施例１〜６及び比較例１で得られた光導波路（導波路長１０ｃｍ）を、温度サイクル試験機（楠本化成株式会社製ＥＴＡＣ  ＷＩＮＴＥＣＨ  ＮＴ１０１０）を用いて、ＪＰＣＡ規格（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０１Ｓ）に準じた条件で温度−５５℃と１２５℃の間の温度サイクル試験を１０００サイクル実施した。詳細な温度サイクル試験条件を表４に示す。
【０１５０】
【表４】
0005515219.tif 000014
【０１５１】
温度サイクル試験実施後の光導波路の光伝搬損失を前記と同様の光源、受光素子、入射ファイバ及び出射ファイバを用いて測定し、以下の基準で評価した。
○：０．３ｄＢ／ｃｍ以下
×：０．３ｄＢ／ｃｍより大きい
【０１５２】
［リフロー試験］
実施例１〜６及び比較例１で得られた光導波路（導波路長１０ｃｍ）を、リフロー試験機（古河電気工業株式会社製サラマンダＸＮＡ−６４５ＰＣ）を用いて、ＩＰＣ／ＪＥＤＥＣ  Ｊ−ＳＴＤ−０２０Ｂに準じた条件で最高温度２６５℃のリフロー試験を３回実施した。詳細なリフロー条件を表５、リフロー炉内の温度プロファイルを図２に示す。
【０１５３】
【表５】
0005515219.tif 000015
【０１５４】
リフロー試験実施後の光導波路の光伝搬損失を前記と同様の光源、受光素子、入射ファイバ及び出射ファイバを用いて測定し、以下の基準で評価した。
○：０．３ｄＢ／ｃｍ以下
×：０．３ｄＢ／ｃｍより大きい
【０１５５】
［屈曲耐久試験］
実施例１〜６及び比較例１で得られた（導波路長１０ｃｍ）を、屈曲耐久試験機（株式会社大昌電子製）を用い、曲げ角度０〜１８０°、曲げ半径２ｍｍ、屈曲速度０．５秒の条件で屈曲耐久試験を行った後に、光導波路の破断の有無を観察し、以下の基準で評価した。
○：破断せず
×：破断
以上の結果を表６に示す。
【０１５６】
【表６】
0005515219.tif 000016
【０１５７】
＊１９：○…０．３ｄＢ／ｃｍ以下、×…０．３ｄＢ／ｃｍより大きい
＊２０：○…破断せず、×…破断
【０１５８】
表１、表２及び表６から、本発明の光学材料用樹脂組成物は、透明性、耐熱性、耐湿性及び強靭性に優れており、これらを用いて製造した光導波路は透明性、耐熱性、信頼性、及び強靭性に優れていることがわかる。一方、本発明に属さない光学材料用樹脂組成物を用いて製造した光導波路は、耐熱性、信頼性、及び強靭性に劣っていることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０１５９】
本発明の光学材料用樹脂組成物は、透明性、耐熱性、耐湿性及び強靭性に優れており、これらを用いて製造した光導波路は透明性、耐熱性、信頼性、及び強靭性に優れたものである。また、該光学材料用樹脂組成物を用いた光学材料用樹脂フィルムは、光導波路の製造過程において、各層の平坦性、クラッドとコアの層間密着性、及び光導波路コアパターン形成時の解像度（細線又は狭線間対応性）をより向上させ、平坦性に優れ、線幅や線間の小さい微細パターンの形成を可能とするものである。
【図面の簡単な説明】
【０１６０】
【図１】本発明の光導波路の形態を説明する断面図である。
【図２】本発明で実施したリフロー試験におけるリフロー炉内の温度プロファイルを示すグラフである。
【符号の説明】
【０１６１】
１．光導波路
２．コア部
３．上部クラッド層
４．下部クラッド層
５．基材及び／又は保護フィルム
【図１】
0005515219.tif 000022
【図２】
0005515219.tif 000023