(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＤＢＰ吸収量（無水）２１０〜２７０ｇ／１００ｇ、
１分間の超音波の作用後のｄ50値２２０〜４００μｍ、
１分間の超音波の作用後の２００μｍ未満の粒子の割合３５体積％未満
を有する沈降シリカ。
【請求項２】
前記沈降シリカが５．５〜９．５の範囲内のｐＨ値および／または１分間の超音波の作用後のｄ50値２７０〜３６０μｍおよび／または１分間の超音波の作用後の２００μｍ未満の粒子の割合１〜３０体積％を有し、および／または前記沈降シリカがほぼ球状の粒子形を有する、請求項１記載の沈降シリカ。
【請求項３】
以下の工程：
ａ）超音波の作用なしの平均粒度ｄ50２３０〜６００μｍおよび含水率２〜７０質量％を有する沈降シリカを準備し、
ｂ）工程ａ）からの沈降シリカを少なくとも１つの塩基性物質または少なくとも１つの塩基性物質の少なくとも１つの溶液と１分間〜７２時間、接触させ、
ｃ）塩基で処理された沈降シリカを乾燥させること
を含む、沈降シリカの製造法であって、
前記工程ｂ）において、ガス状アルキルアミンおよびアンモニアからなる群から選択された、２３℃および大気圧でガス状の塩基を塩基として使用する、前記製造法。
【請求項４】
前記工程ｂ）における接触を１０℃〜１５０℃の温度で行う、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
工程ａ）で使用される沈降シリカは、ＤＢＰ吸収量（無水）２１０〜３５０ｇ／１００ｇを有する、請求項３又は４に記載の方法。
【請求項６】
工程ａ）で使用された沈降シリカは、工程ａ）の実施前に少なくとも１つの乾燥工程に掛けられ、この場合少なくとも１つの乾燥工程で噴霧塔乾燥が実施されたかまたは工程ａ）で使用された沈降シリカが工程ａ）の実施前に水と接触され、２〜７０質量％の含水量がもたらされた、請求項３から５までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
沈降シリカのｐＨ値は、ガス状の塩基との接触後に８〜１２の範囲内にある、請求項３から６までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
工程ｃ）における乾燥は、空気、水蒸気、希ガスまたは前記ガスの混合物および／または蒸気からなる群から選択された、少なくとも１つのガス／蒸気により水および塩基を駆出させることによって行なわれ、或いは真空乾燥器により行なわれ、或いは流動乾燥機、多段乾燥器、ベルト乾燥器、回転管乾燥器または乾燥キャビネットにより行なわれる、請求項６または７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記ガス／蒸気が２０℃以上の温度を有する、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
工程ｃ）における乾燥は、流動乾燥機、多段乾燥器、ベルト乾燥器、回転管乾燥器または乾燥キャビネットにより行なわれ、工程ｂ）とｃ）との間または工程ｃ）後に沈降シリカのｐＨ値は、酸性化剤との接触によってｐＨ５．５〜８．０を生じる、請求項８又は９に記載の方法。
【請求項１１】
工程ｂ）における塩基として少なくとも１つの塩基を含有する溶液または固体の塩基を使用し、前記塩基は、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、アンモニア、炭酸塩、重炭酸塩およびアミンの溶液からなる群から選択された塩基である、請求項３から６までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
沈降シリカと塩基溶液との接触は、工程ｂ）において沈降シリカ上への塩基溶液の噴霧、沈降シリカ上への塩基溶液の滴加、または塩基溶液中への沈降シリカの攪拌混入または混入によって行なわれるか、或いは塩基溶液中での沈降シリカの懸濁液または分散液の製造によって行なわれる、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
沈降シリカのｐＨ値は、塩基溶液との接触後に８〜１２の範囲内にあり、および／または工程ｂ）とｃ）との間、または工程ｃ）後に沈降シリカのｐＨ値は、酸性化剤との接触によってｐＨ５〜９に調節される、請求項１１または１２記載の方法。
【請求項１４】
吸収体の製造のための請求項１又は２に記載の沈降シリカの使用。
【請求項１５】
請求項１又は２に記載の沈降シリカの少なくとも１つを含む、吸収体。
【請求項１６】
蟻酸、プロピオン酸、乳酸、燐酸、塩化コリン溶液、ビタミンＥアセテートおよびビタミンＥ誘導体、植物エキス、マンジュギクエキス、メラミン樹脂および塗料添加剤からなる群から選択された少なくとも１つの吸収すべき物質が沈降シリカ上に吸収されている、請求項１４記載の吸収体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、キャリヤー材料として使用するための新種の沈降シリカ、その製造および用途に関する。
【０００２】
例えば、植物保護のための製品分野において、製薬学的作用物質の場合に、飼料および飼料添加剤の製造の場合に、または食品産業におけるような数多くの使用分野で、キャリヤー材料は、使用され、例えば液状または樹脂状作用物質は、易流動性および貯蔵安定性の形に変換される。固体の調製物の製造のために、液状または溶融性物質は、部分的に助剤（例えば、界面活性剤および崩壊剤）と一緒にキャリヤー材料上に塗布される。その際、固体物質の場合には、キャリヤー材料は、第１に充填剤として使用され、他面、このキャリヤー材料は、液状または低融点物質の場合には、液体を吸収する。それによって、簡単に取り扱うことができる、外見上乾燥性の吸収材を得ることができ、この吸収材は、さらに粉末（いわゆる、ＷＰ、wettable Powder）として直接に市場で入手可能であるかまたは後加工された形で顆粒／押出品（ＷＧ、Water dispersable Granules）として市場で入手可能である。
【０００３】
キャリヤー材料に対する本質的な要求は、十分に高い吸収能であり、したがってできるだけ少ないキャリヤー材料が使用されなければならない。従来法によれば、十分な流動性を有する、６５％までの吸収率を有する吸収材（１．００ｇ／ｍｌの液体密度に対して）を製造することができる。
【０００４】
作用物質でのキャリヤー材料の高い負荷と共にもう１つの要求は、吸収材が良好な流動能を有し、吸収材の輸送、詰め替えおよび製造の際に殆んど塵埃を生じないことである。従って、流動能を改善するために、例えば欧州特許第０９８４７７２号明細書Ｂ１および欧州特許第０９６６２０７号明細書Ｂ１には、マイクログラニュール状の沈降シリカをほぼ球状の形で１５０μｍを上廻る平均粒度でキャリヤー材料として使用することが提案された。こうして得られた吸収材は、実際に改善された流動能を有する。しかし、加工特性は、最適ではない。それというのも、吸収材を製造する場合、特に液体での高い負荷の場合に、この沈降シリカを用いると、しばしば混合装置中および輸送装置中で焼き付きが観察され、この焼き付きは、収量および製品品質を低下させ、部分的に費用を掛けて除去しなければならない。
【０００５】
従って、依然として、良好に加工可能性を有し、高度に負荷されおよび良好な流動能を有する吸収材を製造することができる安価なキャリヤー材料に対する高い需要が存在する。
【０００６】
従って、本発明の課題は、公知技術水準のキャリヤー材料の吸収材の少なくとも若干の欠点を全く有しないかまたは殆んど有さず、改善された使用技術的性質を有する新種の吸収材を製造することができる新種の沈降シリカを提供することであった。更に、沈降シリカを製造する方法および吸収材を製造する方法が提供されるはずである。
【０００７】
１つの特殊な課題は、極めて良好な流動能および良好な加工可能性を有する吸収材を製造することができる沈降シリカを提供することであった。
【０００８】
この課題およびさらに明示されていない課題は、特許請求の範囲、明細書および実施例において詳細に定義された沈降シリカ、吸収材および製造法によって解決される。
【０００９】
意外なことに、吸収材の製造のために球状の形および平均粒度を有するキャリヤー材料を使用することでは十分ではないことが見い出された。本発明者らは、詳細な試験によって、混合装置中での焼き付きがなかんずく吸収材の製造の際のキャリヤーシリカの機械的負荷による微粒状粒子画分の発生に帰因することを見出した。更に、硬質の沈降シリカが殆んど焼き付きを生じないことを見出した。本発明による沈降シリカの特殊な製造法によって、シリカ粒子の硬度を、このシリカ粒子が吸収材の製造の際に機械的負荷に明らかに良好耐え、ひいては吸収材の製造の際にダスト形成を明らかに減少させることができ、同時に硬化された沈降シリカが十分に高い吸収能を有することも保証されているように上昇させることが達成される。従って、本発明による沈降シリカは、ＤＢＰ数で表わされる高い細孔度および良好に安定化された細孔壁を示す。即ち、機械的安定性の上昇を達成することができ、同時に高い吸収能を得ることができた。
【００１０】
本発明によるシリカのよりいっそう高い機械的安定性によって、混合装置中での微細含分は、減少される。これは、さらに混合装置中で焼き付きを殆んど生じないという利点を有する。
【００１１】
１つの好ましい実施態様において、本発明によるシリカは、ほぼ中性のｐＨ値を有し、したがってこのシリカは、汎用的にキャリヤーとして使用されることができ、吸収された液体の貯蔵安定性に対して不利な作用を全く有しない。
【００１２】
更に、本発明によるシリカは、商業的に使用されるキャリヤーシリカ、例えばＲｈｏｄｉａ  Ｃｈｉｍｉｅ社のＴｉｘｏｓｉｌ  ３８  ＸまたはＨｕｂｅｒｓｉｌ  ５１７０と比較して、硬度からの最適な挙動、即ち機械的安定性および吸収能を有する。
【００１３】
従って、本発明の対象は、
ＤＢＰ吸収量（無水）２１０〜２７０ｇ／１００ｇ、
１分間の超音波の作用後のｄ50値２２０〜４００μｍ、
１分間の超音波の作用後の２００μｍ未満の粒子の割合３５体積％未満を有する沈降シリカである。
【００１４】
その上、本発明の対象は、
ａ）超音波の作用なしの平均粒度ｄ50２５０〜６００μｍおよび含水率２〜７０質量％を有する沈降シリカを準備し、
ｂ）工程ａ）からのシリカを少なくとも１つの塩基性物質または少なくとも１つの塩基性物質の少なくとも１つの溶液と１分間〜７２時間接触させ、
ｃ）工程ｂ）により得られた沈降シリカを乾燥させる工程を含む、本発明による沈降シリカの製造法である。
【００１５】
更に、本発明の対象は、キャリヤー物質としての本発明によるシリカの使用である。
【００１６】
最後に、本発明の対象は、少なくとも１つの本発明によるシリカを含む吸収体である。
【００１７】
本発明の対象を、以下に詳細に説明する。本発明の範囲内で、沈降シリカFaellungskieselsaeure(n)の概念には、同義語の沈降シリカgefaellte Kieselsaeure(n)およびシリカKieselsaeure(n)が使用される。
【００１８】
本発明による沈降シリカは、
ＤＢＰ吸収量（無水）２１０〜２７０ｇ／１００ｇ、
１分間の超音波の作用後のｄ50値２２０〜４００μｍ、
１分間の超音波の作用後の２００μｍ未満の粒子の割合３５体積％未満を示す。
【００１９】
十分に高いＤＢＰ吸収量は、本発明による沈降シリカが十分な量の吸収すべき物質で負荷されることができ、こうして即ちできるだけ僅かなキャリヤー材料でできるだけ高度に負荷される吸収体を製造しうるという課題の１つを解決することができることを証明する。ＤＢＰが高すぎる場合、即ち沈降シリカが多孔質すぎる場合には、機械的安定性をもはや保証することができず、および吸収体の製造の際に微細含分の高められた形成を生じうると思われうる。従って、本発明による沈降シリカは、有利に２２０〜２６５ｇ／１００ｇ、特に有利に２２５〜２６０ｇ／１００ｇのＤＢＰ吸収量（無水）を有する。
【００２０】
更に、本発明による沈降シリカの本質的な性質は、沈降シリカの硬度である。吸収体を製造する際の沈降シリカに対する混合装置の作用による機械的負荷は、１分間の沈降シリカに対する超音波の作用によってシミュレーションされる。本発明による沈降シリカは、特に高い硬度を示し、したがって２５Ｗで１分間の超音波の作用後の平均粒度ｄ50は、２２０〜４００μｍ、有利に２４０〜３８０μｍ、特に有利に２６０〜３６０μｍ、殊に有利に２７０〜３５０μｍの範囲内にある。この粒度は、本発明による沈降シリカを用いて製造された吸収体の十分な流動能を保証するために重要である。この効果は、本発明による沈降シリカができるだけ球状の形を有することが保証される場合になお強化されることができる。従って、１つの好ましい実施態様において、本発明による沈降シリカは、ほぼ球状の形を有し、この場合このほぼ球状の形は、沈降シリカの形状に相当し、この沈降シリカは、典型的には噴霧塔での乾燥処理後に有する形状を有する。ほぼ球状の形を有する沈降シリカの例は、ドイツ連邦共和国特許出願公開第１９８０７７００号明細書Ａ１、図１および図３〜５または米国特許第６０１３２３４号明細書、図１中に見出される。
【００２１】
超音波または機械的負荷による平均粒度と共に、本発明による沈降シリカの硬度は、小さな粒子、即ち１分間の超音波の作用後の２００μｍ未満の粒度を有する粒子の割合が有利に３５体積％未満、特に有利に３２体積％未満、殊に有利に１〜３０体積％、殊に有利に１〜２８体積％、特に有利に１〜２５体積％であるように存在する。それによって、機械的負荷後でさえも、混合装置中での焼き付きの発生は吸収体の製造中に十分ないし完全に阻止されることが達成される。更に、沈降シリカのダスト形成は、輸送後または吸収体の製造後に明らかに減少されることが証明される。
【００２２】
更に、本発明の好ましい実施態様において、本発明による沈降シリカは、５．５〜９．５、有利に５．５〜９、特に有利に５．５〜８．５、殊に有利に６〜８の範囲内のｐＨ値を有する。沈降シリカのこの十分に中性のｐＨ値は、吸収すべき液体に関連して幅広の使用スペクトルを証明する。それというのも、強酸性すぎるかまたは強塩基性すぎるキャリヤー材料は、分解を引き起こしうるかまたは促進しうるか、或いは他の方法で吸収すべき液体の化学的変換を引き起こしうるかまたは促進しうるからである。
【００２３】
本発明による沈降シリカは、次の工程：
ａ）超音波の作用なしの平均粒度ｄ50２３０〜６００μｍおよび含水率２〜７０質量％を有する沈降シリカを準備し、
ｂ）工程ａ）からのシリカを少なくとも１つの塩基性物質または少なくとも１つの塩基性物質の少なくとも１つの溶液と１分間〜７２時間、有利に１０℃〜１５０℃の温度で接触させ、
ｃ）塩基で処理された沈降シリカを乾燥させることを含む１つの方法により製造されてよい。
【００２４】
本発明による方法の工程ａ）で使用される沈降シリカは、平均粒度ｄ50２３０〜６００μｍ、有利に２５０〜５００μｍ、特に有利に２５０〜４００μｍ、殊に有利に２７０〜３８０μｍを有する。それによって、本方法の終結時に得られる沈降シリカは、最適な平均粒度を有することが保証される。
【００２５】
更に、本発明による方法の工程ａ）で使用される沈降シリカは、含水率２〜７０質量％を有しなければならない。特定の理論に結び付けることなしに、本出願人の見解は、使用される沈降シリカの高い分が保証され、工程ｂ）で使用される塩基が十分な深さで沈降シリカの細孔内に侵入し、それによって十分な硬化を生じうることにある。これに対して、少なすぎる含水率は、不十分な硬化が生じることをまねく。従って、本発明による方法の工程ａ）で装入される沈降シリカは、含水率２〜７０質量％を有する。
【００２６】
本発明による方法の工程ｂ）では本質的に沈降シリカの硬度だけが変化されるので、本発明による方法の工程ａ）で装入された沈降シリカは、ＤＢＰ吸収量（無水）特に２１０〜３５０ｇ／１００ｇ、有利に２２０〜３００ｇ／１００ｇ、特に有利に２３０〜２８０ｇ／１００ｇ、殊に有利に２３０〜２７０ｇ／１００ｇ、殊に２４０〜２６０ｇ／１００ｇを有する。
【００２７】
本発明による方法の工程ａ）で使用される沈降シリカは、有利に先に少なくとも１つの乾燥工程に掛けられたが、しかし、場合によっては多数の乾燥工程にも掛けられた。この場合には、原則的に全ての公知の種類の乾燥、例えば流動乾燥機、噴霧乾燥器、多段乾燥器、ベルト乾燥器、回転管乾燥器、フラッシュ乾燥機、スピンフラッシュドラーヤーまたは塔型噴霧乾燥器を用いる乾燥を使用することができる。前記の乾燥変法は、アトマイザ、１成分もしくは２成分ノズルまたは統合型の流動床での作業を含む。この場合、１つの好ましい方法において、少なくとも１つの乾燥工程で塔型噴霧乾燥器による乾燥が実施された。それによって、既に工程ａ）で使用された沈降シリカは、球状の形を有することが達成されうる。
【００２８】
本発明による方法の工程ｂ）において、工程ａ）からのシリカは、少なくとも１つの塩基性物質または少なくとも１つの塩基性物質の少なくとも１つの溶液と１分間〜７２時間、有利に１０℃〜１５０℃の温度で接触される。特定の理論に結び付けることなしに、本出願人の見解は、少なくとも１つの塩基での処理によって、沈降シリカの細孔の内壁が部分的に溶解し、新たに形成され、その際に安定した壁が形成されることにある。使用される塩基および使用される沈降シリカの細孔構造に依存して、接触時間は、１分間〜７２時間、有利に１分間〜４８時間、特に有利に１分間〜２４時間、殊に有利に１分間〜１６時間、殊に有利に６時間未満であることができる。沈降シリカが少なくとも１つの塩基性媒体と接触され、反応器に応じてシリカ床または反応層中で測定される温度は、特に１０℃〜１５０℃、特に有利に１０℃〜１２０℃、殊に有利に１０℃〜１００℃、殊に１０℃〜８０℃、特に好ましくは１０℃〜６０℃である。
【００２９】
沈降シリカと塩基性媒体との接触は、大気圧、減圧された大気圧または０．２〜１０バールの高められた圧力で行なうことができる。
【００３０】
硬化された沈降シリカは、好ましい変法において、工程ｃ）での乾燥の際に熱いガスにより、または真空下で塩基を駆出させることによって中和されるか、或いは、別の好ましい変法において工程ｃ）の前または後で酸性化剤との接触によって中和される。
【００３１】
工程ｃ）での乾燥は、全ての公知の粒子保存乾燥法により、例えば流動乾燥機、多段乾燥器、ベルト乾燥器、回転管乾燥器を用いて行なうことができる。前記の乾燥変法は、アトマイザ、１成分もしくは２成分ノズルまたは統合型の流動床での作業を含む。
【００３２】
更に、ガス状塩基を使用する場合には、工程ｃ）での乾燥は、有利に熱い乾燥空気および／または熱い乾燥ガスによるガス状塩基の駆出と同時に行なうことができる。
【００３３】
本発明による沈降シリカの疎水化を有利にシラン、シロキサン、ポリシロキサンまたはワックスを用いて実施することが可能である。
【００３４】
本発明による方法の第１の好ましい変法において、工程ａ）で使用される沈降シリカは、含水率２〜７０質量％、有利に２〜５０質量％、特に有利に５〜２５質量％、殊に有利に１０〜２０質量％を有する。沈降シリカの含水率は、直接に必要な含水率を有する沈降シリカが得られるように沈殿懸濁液を乾燥させることによって達成されることができるか、或いは望ましい含水率が生じるように僅かな含水率を有する沈降シリカが水と接触されることによって達成されることができる。この接触は、当業者に公知の全ての方法により行なうことができる。
【００３５】
更に、この変法において、ガス状アルキルアミンおよびアンモニアからなる群から選択された、２３℃および大気圧下でガス状の塩基が工程ｂ）で使用されることは、好ましい。この場合、沈降シリカは、沈降シリカのｐＨ値がガス状塩基との接触後に８〜１２、有利に８〜１１、特に有利に８，５〜１１、殊に有利に９〜１１の範囲内にあるようにガス状塩基と接触される。接触は、適当な反応器中、例えば回転管炉中でガス状塩基を沈降シリカ上に通過させるかまたはガスおよび沈降シリカをオートクレーブ中に導入することによって行なうことができる。
【００３６】
前記の実施態様において、接触時間は、１分間〜７２時間、有利に１分間〜４８時間、特に有利に１分間〜２４時間、殊に有利に１分間〜１６時間、殊に有利に６時間未満である。沈降シリカが少なくとも１つのガス状塩基と接触される温度は、１０℃〜１５０℃、有利に１０℃〜１２０℃、特に有利に１０℃〜１００℃、殊に有利に１０℃〜８０℃、殊に１０℃〜６０℃である。
【００３７】
ガス状塩基との沈降シリカの接触は、大気圧で行なうこともできるし、０．２〜１０バールの高められた圧力で行なうこともできる。
【００３８】
この実施態様で使用されるガス状塩基は、塩基を硬化の終結後に簡単に再び沈降シリカから除去することができるという利点を有する。即ち、この実施態様において、工程ｃ）での乾燥は、有利に空気、水蒸気、希ガス、または前記ガスの混合物および／または蒸気からなる群から選択された少なくとも１つのガスにより水および塩基を駆出させることによって行なわれる。乾燥は、水蒸気または空気、特に有利に空気を用いて行なうことが好ましい。同様に、ガスを使用する必要がない真空乾燥器を使用することも可能である。水および塩基の駆出に使用されるガスは、有利に２０℃を上廻る温度、特に有利に２０℃〜７００℃、殊に有利に４０℃〜５００℃、殊に６０℃〜３５０℃、殊に好ましくは８０℃〜２５０℃を有する。
【００３９】
塩基を完全に駆出させることができ、こうして工程ｃ）中に５．５〜８．０のｐＨ値を達成させるために、この実施態様において、沈降シリカを工程ｃ）で３質量％未満の含水率になるまで乾燥させることが必要である。しかし、キャリヤーシリカは、通常、５〜７質量％の含水率を有するので、含水率は、水の添加による塩基の駆出後に相応するように調節されることができる。
【００４０】
水および塩基を熱いガスを用いて、または真空中で工程ｃ）での駆出は、流動乾燥機、多段乾燥器、ベルト乾燥器、回転管乾燥器、渦動床乾燥器、乾燥キャビネットまたは真空乾燥器により行なうことができる。
【００４１】
塩基を熱いガスにより乾燥中に工程ｃ）で駆出させるための他の選択可能な方法によれば、シリカのｐＨ値を減少させるために、工程ｂ）とｃ）との間、または工程ｃ）後に、シリカのｐＨ値が５．５〜８．０に調節されるまで、少なくとも１つの酸性化剤を添加することができる。引続き、中和されたシリカは、直接に乾燥させることができるか、または乾燥には、１つ以上の洗浄工程を前接続することができる。
【００４２】
酸性化剤としては、希釈されたかまたは濃縮された鉱酸、例えばＨＣｌ、ＨＮＯ3、Ｈ3ＰＯ4、有機酸、例えば酢酸、蟻酸またはＣＯ2がガス状または溶液で使用されてよい。
【００４３】
酸性化が工程ｃ）後に行なわれる場合には、もう１つの乾燥工程が必要とされてよい。この場合には、同様に全ての公知の種類の乾燥、例えば流動乾燥機、多段乾燥器、ベルト乾燥器、回転管乾燥器、乾燥キャビネット、渦動床乾燥器を用いるかまたは熱いガスを用いる乾燥が行なわれてよい。
【００４４】
本発明による方法の第２の好ましい実施態様において、沈降シリカは、工程ａ）で７０質量％まで、有利に２〜７０質量％の含水量を有する。沈降シリカの含水率は、直接に必要な含水率を有する沈降シリカが得られるように沈殿懸濁液を乾燥させることによって達成されることができるか、或いは望ましい含水率が生じるように僅かな含水率を有する沈降シリカが水または塩基溶液と接触されることによって達成されることができる。この接触は、当業者に公知の全ての方法により行なうことができる。
【００４５】
更に、この変法において、工程ｂ）での塩基として少なくとも１つの塩基を含有する溶液、以下、塩基性溶液と呼称するものとする、または固体の塩基を使用し、塩基がアルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、アンモニア、炭酸塩、重炭酸塩、水ガラスおよびアミンからなる群から選択されていることは、好ましい。
【００４６】
塩基溶液は、適当な溶剤を用いて製造される。適当な溶剤は、例えば水、１〜１０個の炭素原子を有する分枝鎖状または非分枝鎖状の１価または多価のアルコールである。
【００４７】
前記の実施態様において、沈降シリカは、沈降シリカのｐＨ値が塩基および／または塩基溶液との接触後に８〜１２、有利に８〜１１、特に有利に８．５〜１１、殊に有利に９〜１１の範囲内にあるように塩基および／または塩基溶液と接触される。この接触は、沈降シリカ上への塩基溶液の噴霧、沈降シリカ上への塩基溶液の滴加または塩基溶液中への沈降シリカの攪拌混入または塩基溶液中での沈降シリカの懸濁液または分散液の製造によって行なうことができる。
【００４８】
前記の実施態様において、接触時間は、１分間〜７２時間、有利に１分間〜４８時間、特に有利に１分間〜２４時間、殊に有利に１分間〜１６時間、殊に有利に６時間未満である。沈降シリカが少なくとも１つの塩基と接触され、反応器に応じてシリカ床中または反応層中で測定した温度は、１０℃〜１５０℃、有利に１０℃〜１２０℃、特に有利に１０℃〜１００℃、殊に有利に１０℃〜８０℃、殊に１０℃〜６０℃である。
【００４９】
ガス状塩基との沈降シリカの接触は、大気圧で行なうこともできるし、０．２〜１０バールの高められた圧力で行なうこともできる。
【００５０】
この実施態様において使用される塩基溶液は、第１の好ましい実施態様におけるガス状塩基よりも簡単に取り扱うことができ、それによって、よりいっそう僅かな装置的費用で運転されなければならないという利点を有する。
【００５１】
前記の実施態様において、工程ｃ）での乾燥は、全ての公知の粒子保存乾燥法により、例えば流動乾燥機、多段乾燥器、ベルト乾燥器、回転管乾燥器または真空乾燥器を用いて行なうことができる。前記の乾燥変法は、アトマイザ、１成分もしくは２成分ノズルまたは統合型の流動床での作業を含む。
【００５２】
前記の場合にｐＨ値５．５〜８を有する硬化された沈降シリカを得るために、工程ｂ）とｃ）との間または工程ｃ）の後で酸性化剤との接触によってｐＨ５．５〜８．０の沈降シリカのｐＨ値を生じることができる。引続き、中和されたシリカは、直接に乾燥させることができるか、または乾燥には、１つ以上の洗浄工程を前接続することができる。
【００５３】
酸性化剤としては、希釈されたかまたは濃縮された鉱酸、例えばＨＣｌ、ＨＮＯ3、Ｈ3ＰＯ4、有機酸、例えば酢酸、蟻酸またはＣＯ2がガス状または溶液で使用されてよい。
【００５４】
酸性化を工程ｃ）後に行なうことができる場合には、さらに乾燥工程が必要とされうる。この付加的な乾燥は、全ての公知の粒子保存乾燥法により、例えば流動乾燥機、多段乾燥器、ベルト乾燥器または回転管乾燥器を用いて行なうことができる。前記の乾燥変法は、アトマイザ、１成分もしくは２成分ノズルまたは統合型の流動床での作業を含む。
【００５５】
本発明による沈降シリカは、吸収体の製造のために使用されてよく、この場合吸収される物質は、有利に硬化剤または開始剤、架橋剤、触媒、製薬学的作用物質および製薬学的賦形剤、化粧学的作用物質および化粧学的賦形剤、清浄化剤および／または手入れ剤、風味剤、芳香剤および香水、飼料または飼料添加剤、例えばアミノ酸、ビタミン、鉱物質、食品または食品添加剤、染料および／または顔料、アミノ酸、酸化剤または漂白剤、殺微生物作用、殊に殺真菌作用または殺菌作用を有する添加剤、農業および林業のための化学薬品および／またはコンクリート添加剤である。この場合、キャリヤー上に吸収される物質は、液体、油、樹脂、溶液、分散液、懸濁液または溶融液であることができる。飼料および飼料添加剤の範囲内での吸収体は、例えばビタミン、鉱物質、アミノ酸および芳香剤を含む。この場合、特に好ましいのは、蟻酸、プロピオン酸、乳酸、燐酸、塩化コリン溶液、ビタミンＥアセテートおよび植物エキス、例えばマンジュギクエキス（Tagetesextrakt）である。
【００５６】
農業および林業の範囲内の吸収体は、例えば吸収された飼料、例えば硝酸塩含有飼料および／または燐酸塩含有飼料、植物保護剤、害虫防除剤、例えば除草剤、殺真菌剤、殺虫剤を含む。
【００５７】
化粧製品の範囲内の吸収体は、例えば油、例えば精油、香油、手入れ用オイル、フレグランスオイルおよびシリコーン油、殺菌作用物質、殺ウィルス作用物質または殺真菌作用物質；消毒作用物質および殺微生物作用物質；脱臭剤；酸化防止剤；生物学的作用物質およびビオゲン作用物質；ビタミンおよびビタミン複合体；酵素および酵素学的系、例えばアミラーゼ、セルラーゼ、リパーゼおよびプロテアーゼ；化粧学的活性物質、例えば化粧品の成分およびパーソナル衛生製品；洗浄活性物質および清浄化活性物質、例えば全ての種類の界面活性剤、洗浄活性および／または清浄化活性の無機酸および有機酸、汚れ駆除作用物質および汚れ剥離作用物質、オキシダントおよび漂白剤、漂白活性剤、ビルダーおよびコビルダー、抗再堆積添加剤、灰色化抑制剤および変色抑制剤、色保護のための作用物質、ランドリーでの手入れ物質および手入れ添加剤、蛍光増白剤、消泡剤、ｐＨ変性剤およびｐＨ緩衝剤を含む。
【００５８】
食品または食品添加剤の範囲内の吸収体は、例えば吸収された芳香剤、栄養サプリメント、ビタミン、鉱物質、アミノ酸を含む。
【００５９】
製薬学的作用物質からの吸収体は、全ての種類の製薬学的作用物質、例えばα−プロテイナーゼ抑制剤、アバカビル、アブシキシマブ、アカルボース、アセチルサリチル酸、アシクロビル、アデノシン、アルブテロール、アルデスロイキン、アレンドロネート、アルフゾシン、アロセトロン、アルプラゾラム、アルテプラーゼ、アンブロキソール、アミフォスチン、アミオダロン、アミスルプリド、アムロジピン、アモキシシリン、アンフェタミン、アンホテリシン、アンピシリン、アンプレナビル、アナグレリド、アナストロゾール、アンクロッド、抗ヘモフィリス因子、アプロチニン、アテノロール、アトルバスタチン、アトロピン、アゼラスチン、アジトロミシン、アズレン、バルニジピン、ベクロメタゾン、ベナゼプリル、ベンセラジド、ベラプロスト、ベタメタゾン、ベタキソロール、ベザフィブラート、ビカルタミド、ビサボロール、ビソプロロール、ボツリヌストキシン、ブリモニジン、ブロマゼパム、ブロモクリプチン、ブデソニド、ブピバカイン、ブプロピオン、ブスピロン、ブトルファノール、カベルゴリン、カルシポトリエン、カルシトニン、カルシトリオール、カンファー、カンデサルタン、カンデサルタン・シレキセチル、カプトプリル、カルバマゼピン、カルビドパ、カルボプラチン、カルベジロール、セファクロル、セファドロキシル、セファキシチン、セファゾリン、セフジニル、セフェピム、セフィキシム、セフメタゾール、セフォペラゾン、セフォチアム、セフォキソプラン（Cefoxopran）、セフポドキシム、セフプロジル、セフタジジム、セフチブテン、セフトリアキソン、セフロキシム、セレコキシブ、セリプロロール、セファレキシン、セリバスタチン、セチリジン、クロラムフェニコール、シラスタチン、シラザプリル、シメチジン、シプロフィブラート、シプロフロキサシン、シサプリド、シスプラチン、シタロプラム、クラリロマイシン、クラブラン酸、クリンダマイシン、クロミプラミン、クロナゼパム、クロニジン、クロピドグレル、クロリマゾール、クロザピン、クロモリン、シクロホスファミド、シクロスポリン、シプロテロン、ダルテパリン、デフェロキサミン、デソゲストレル、デキストロアンフェタミン、ジアゼパム、ジクロフェナク、ジダノシン、ジギトキシン、ジゴキシン、ジヒドロエルゴタミン、ジルチアゼム、ジフテリア蛋白質、ジフテリアトキソイド、ジバルプロエクス、ドブタミン、ドセタキセル、ドラセトロン、ドネペジル、ドルナーゼα、ドルゾラミド、ドキサゾシン、ドキシフルリジン、ドキソルビシン、ジドロゲステロン、エカベト、エファビレンツ、エナラプリル、エノキサパリン、エペリゾン、エピナスチン、エピルビシン、エプチフィバチド、エリトロポイエチン−α、エリトロポイエチン−β、エタネルセプト、エチニルエストラジール、エトドラク、エトポシド、因子ＶＩＩＩ、ファムシクロビル、ファモチジン、ファロペネム、フェロジピン、フェノフィブレート、フェノルドパム、フェンタニル、フェキソフェナジン、フィルグラスチム、フィナステリド、フロモキサフ、フルコナゾール、フルダラビン、フルニソリド、フルニトラゼパム、フルオキセチン、フルタミド、フルチカソン、フルバスタチン、フルボキサミン、フォリトロピン−α、フォリトロピン−β、フォルモテロール、フォシノプリル、フロセミド、ガバペンチン、ガドジアミド、ガンシクロビル、ガチフロキサシン、ゲムシタビン、ゲストデン、グラチラマー、グリベンクラミド、グリメピリド、グリピジド、グリブリド、ゴセレリン、グラニセトロン、グリセオフルビン、Ｂ型肝炎抗原、ヒアルロン酸、ヒコシン（Hycosin）、ヒドロクロロチアジド、ヒドロコドン、ヒドロコルチゾン、ヒドロモルホン、ヒドロキシクロロキン、ヒラン（Hylan）Ｇ−Ｆ  ２０、イブプロフェン、イフォスファミド、イミダプリル、イミグルセラーゼ、イミペネム、イムノグロブリン、インジナビル、インドメタシン、インフィリキシマブ、ヒトインスリン、インスリン・リスプロ、インスリン・アルパルト、インターフェロン−β、インターフェロン−α、ヨウ素１２５、イオジキサノール、イオヘキソール、イオメプロール、イオプロミド、イオベルソル、イオキソプロレン、イプラトロピウム、イプリフラボン、イルベサルタン、イリノテカン、イソソルビド、イソトレチノイン、イスラジピン、イトラコナゾール、カリウムクロラゼペート、塩化カリウム、ケトロラク、ケトチフェン、百日咳ワクチン、凝固因子ＩＸ、ラミブジン、ラモトリジン、ランソプラゾール、ランタノプロスト、レフルノミド、レノグラスチム、レトロゾール、レボフロキサシン、レボノルゲストレル、レボチロキシン、リドカイン、リネゾリド、リシノプリル、ロパミドール、ロラカルベフ、ロラタジン、ロラゼパム、ロサルタン、ロバスタチン、リシンアセチルサリチル酸、マニジピン、メコバラミン、メドロキシプロゲステロン、メゲストロール、メロキシカム、メナテトレノン、髄膜炎菌ワクチン、メノトロピン、メロペネム、マサラミン、メタキサロン、メトフォルミン、メチルフェニデート、メチルプレジニソロン、メトプロロール、ミダゾラム、ミルリノン、ミノシクリン、ミルタザピン、ミソプロストール、ミトキサントロン、モクロベミド、モダフィニル、モメタソン、モンテルカスト、モルニフルメート、モルフィウム、モキシフロキサシン、ミコフェノラート、ナブメトン、ナドロパリン、ナプロキセン、ナラトリプタン、ネファゾドン、ネルフィナビル、ネビラピン、ニアシン、ニカルジピン、ニセルゴリン、ニフェジピン、ニルタミド、ニルバジピン、ニモジピン、ニトログリセリン、ニザチジン、ネレチンドロン、ノルフロキサシン、オクトレオチド、オランザピン、オメプラゾール、オンダンセトロン、オルリスタート、オセルタミビル、エストラジール、エストロゲン、オキサリプラチン、オキサプロジン、オキソリン酸、オキシブチニン、パクリタクセル、パリビズマブ、パミドロネート、パンクレリパーゼ、パニペネム、パントプラゾール、パントプラゾール、パラセタモール、パロキセチン、ペントキシフィリン、ペルゴリド、フェニトイン、ピオグリタゾン、ピペラシリン、ピロキシカム、プラミペキソール、プラバスタチン、プラゾシン、プロブコール、プロゲステロン、プロパフェノン、プロポフォル、プロポキシフェン、プロスタグランジン、キエチアピン、キナプリル、ラベプラゾール、ラロキシフェン、ラミプリル、ラニチジン、レパグリニド、レセルピン、リバビリン、リルゾ��ル、リスペリドン、リトナビル、リツキシマブ、リバスチグミン、リザトリプタン、ロフェコキシブ、ロピニロール、ロシグリタゾン、サルメテロール、サキナビル、サルグマモスチム、セラペプターゼ、セルトラリン、セベラミル、シブトラミン、シルデナフィル、シムバスタチン、ソマトロピン、ソマトロピン、ソタロール、スピロノラクトン、スタブジン、スルバクタム、スルファエチドール、スルファメトキサゾール、スルファサラジン、スルピリド、スマトリプタン、タクロリムス、タモキシフェン、タモスロシン、タゾバクタム、テイコプラニン、テモカプリル、テモゾロミド、テネクテプラーゼ、テノキシカム、テプレノン、テラゾシン、テルビナフィン、テルブタリン、テタヌストキソイド、テトラベナジン、テトラザパム、チモール、チアガビン、チボロン、チカルシリン、チクロピジン、チモロール、チロフィバン、チザニジン、トブラマイシン、トコフェリル、ニコチネート、トルテロジン、トピラメート、トポテカン、トラセミド、トラマドール、トランドラプリル、トラスツズマブ、トリアムシノロン、トリアゾラム、トリメブチン、トリメトプリム、トログリタゾン、トロピセトロン、ツロブテロール、ウノプロストン、ウロフォリトロピン、バラシクロビル、パルプロ酸、バルサルタン、バンコマイシン、ベンラファキシン、ベラパミル、ベルテポルフィン、ビガバトリン、ビノレルビン、ビンポセリン、ボグリボース、ワルファリン、ザフィルルカスト、ザレプロン、ザナミビル、ジドブジン、ゾルミトリプタン、ゾルピデム、ゾピクロンおよびこれらの誘導体を含む。しかし、製薬学的作用物質は、別の物質、例えばビタミン、プロビタミン、必須脂肪酸、植物および動物に由来する抽出物、植物および動物に由来する油、植物性医薬調剤およびホメオパシー調剤であってもよい。
【００６０】
本発明による沈降シリカまたはシリカ塩は、殊に飼料添加剤、例えば蟻酸、プロピオン酸、乳酸、燐酸、塩化コリン溶液、ビタミンＥアセテートまたは植物性エキス、例えばマンジュギクエキス（Tagetesextrakt）のためのキャリヤーとして使用されてもよい。
【００６１】
更に、本発明による沈降シリカは、化学的中間生成物、例えばメラミン樹脂または塗料添加剤のためのキャリヤー材料として使用されてよい。
【００６２】
吸収体の製造のために、本発明による沈降シリカは、少なくとも１つの吸収すべき物質と接触され、したがって、この物質は、沈降シリカの細孔内に侵入することができる。このために、当業者に公知の全ての技術、例えば混合床法または渦動床法が使用可能である。有利に沈降シリカは、固体混合ユニット中、例えば混練機、櫂形乾燥機、タンブルミキサー、垂直型ミキサー、櫂形攪拌機、シューギ社のミキサー（Schugi mixer）、セメントミキサー、ゲリケ社の連続ミキサー（Gericke continuous mixer）、アイリッヒ社のミキサー（Eirich mixer）および／またはサイロミキサー中に装入される。方法パラメーターは、吸収すべき物質の種類および組成、装置的特徴および方法への要求に依存して相応するように選択される。相応する技術および方法は、当業者に十分に知られている。
【００６３】
吸収体中の吸収された物質の含量は、５ｍｌ／１００ｇシリカと２３０ｍｌ／１００ｇシリカとの間にある。
【００６４】
本発明による沈降シリカの反応条件および物理／化学的データは、以下の方法で測定される：
ＤＢＰ吸収量の測定
沈降シリカの吸収能のための１つの基準であるＤＢＰ吸収量（ＤＢＰ数）は、規格ＤＩＮ５３６０１に基づき、以下のようにして測定される：
ＤＢＰ吸収量に対して使用されるシリカの含水率は、４〜８質量％である。必要な場合には、この含水率は、乾燥または水での湿潤によって調節されることができる。必要とされる可能な乾燥は、１０５℃で行なうことができる。試料の湿潤は、例えば空気調和されたキャビネット中で薄手の層中に拡散されたシリカを状態調節することによって形成されることができる。液状水での直接の湿潤は、回避させることができる。それというのも、これは、強制的に液体の不均一な分布をまねくからである。含水率４〜８質量％を有する粉末状または球状のシリカ１２．５０ｇは、吸収計の混練機室中に供給される（Absorptometer C der Fa. Brabender mit Sahlkammer (Art. No. 1.2316)またはAbsorptometer der Fa. Hitec (Modell DABS) mit Stahlkammer (Art.No. 1597)）。不断の混合（混練機翼の周速１２５ｒｐｍ）下に、室温で計量供給装置（Dosimat）（吸収計Ｃ：Schott Titronic universal burette, nominal volume 50ml,またはHitec 吸収計: Schott Titronic universal burette, nominal volume 50ml）によって、Ｖｅｓｔｉｎｏｌ  Ｃ（ジブチルフタレート）は、４ｍｌ／分の速度で混合中に滴加される。この混入は、低いトルクで行なわれる。トルクの経過は、制御ＰＣのモニター上で追跡される。測定の終結に向かって、混合物はペースト状となり、このことは、トルクの急激な上昇によって引き起こされる。６００ディジットの表示（０．６Ｎｍのトルク）の場合に、電気接点によって混練機もＤＢＰ配量もスイッチを切る。ＤＢＰ供給のための同期モータは、デジタルカウンターと接続されているので、ＤＢＰの消費をｍｌで読み取ることができる。
【００６５】
ＤＢＰ吸収は、ｇ／（１００ｇ）で示され、以下の式につき計算される：
【数１】
0005518064.tif 000002
【００６６】
この場合、
ＤＢＰ＝ｇ／（１００ｇ）でのＤＢＰ吸収量
Ｖ＝ｍｌでのＤＢＰの消費量
Ｄ＝ｇ／ｍｌでのＤＢＰの密度（２０℃で１．０４７ｇ／ｍｌ）
Ｅ＝ｇでのシリカの出発質量
Ｋ＝ｇ／（１００ｇ）での含水率補正表による補正値。
【００６７】
ＤＢＰ吸収量は、無水の乾燥されたシリカについて定義されている。湿った沈降シリカを使用する場合には、ＤＢＰ吸収量を計算するために補正値Ｋを考慮に入れるべきである。この値は、以下の補正表をもとに算出することができ、例えばシリカの含水率５．８％は、ＤＢＰ吸収量のために３３ｇ／（１００ｇ）の上乗せを意味する。シリカの含水率は、前記の方法"含水率もしくは乾燥減量の測定"に従って測定される。
【００６８】
【表１】
0005518064.tif 000003
【００６９】
レーザ回折による粒径の測定
粒径を測定するためのレーザー回折の使用は、粒子が異なる強度パターンを有する単色光を回折するという現象を基礎とする。この回折は、粒径に依存する。粒子が小さければ小さいほど、回折角度は、ますます大きくなる。
【００７０】
超音波の作用なしのｄ50値および１分間の超音波の作用後のｄ50値の測定
試料の準備および測定（モジュールのすすぎ洗い等）は、親水性（水で湿潤可能な）沈降シリカの場合には、分散液を用いて行なわれる（脱イオン水中のテトラナトリウムジホスフェート０．０５質量％）。疎水性（水で湿潤不可能な）沈降シリカの場合には、これは、エタノール／水混合物（容量比１：１）を用いて行なわれる。
【００７１】
測定の開始前に、ＵＳプロセッサＳｏｎｉｃｓ  Ｖｉｂｒａｃｅｌｌ（Modell VCX 130）を含めて液体モジュール（Small Volume Module Plus, 120ml, 内部ＵＳ-Finger（直径６ｍｍ）を有するBeckman社のCoulter, Art-No.6605210）を備えたレーザー回折計ＬＳ  ２３０（Beckman社のCoulter, Art-No.6605210）を２時間昇温させ、モジュールを３回分散液で洗浄し、および較正する。疎水性の沈降シリカの場合には、３回エタノール／水混合物で洗浄される。
【００７２】
インスツルメントソフトウェア（例えば、Version 3.29）のメニューバーで、メニュー個所"測定"により、ファイルウィンドウ"場合による、モデルの計算"が選ばれ、屈折率は、．ｒｆｄファイルで定義される：液体の屈折率Ｂ．Ｉ．の実数＝１．３３２（エタノールに対して１．３５９）；材料の屈折率の実数＝１．４６；虚数＝０．１；形状因子１。メニューウィンドウ"試料情報"から、試料名は、定義される。更に、この場合、測定を保存するためのファイル名、ならびに分散液を保存するためのファイル名が定められ、"ＯＫ"で確定される。メニューバーでメニューウィンドウ"測定サイクル"が新たに選ばれる。このウィンドウで、"新しい試料"の確定後に次の設定が定められるかまたは起動される："オフセットの測定"、"調整"、"背景の測定"、"試料濃度の設定"、"試料情報の入力"（試料情報で表示された試料をチェックするために使用される）、"１回目の測定の開始"およびＰＩＤＳ機能の停止。更に、"測定情報の入力"を選ぶ場合には、６０秒の測定時間が定められる。この場合には、補足的に光学モデル"Ｆｒａｕｎｈｏｆｅｒ．ｒｆｄ"が選ばれ、"寸法分布"（"測定中"をチェック）ならびに"データの保存"が確定される。ポンプ速度は、計測装置（または小容量のモジュール）で７５％に調節される。
【００７３】
スパチュラを用いて、シリカ試料、即ちスクリーニングされていない元来の材料は、８〜１２％の測定濃度が達成されるまで添加され、この計測装置は、"ＯＫ"を報告する。更に、後分散は、６０秒間、ポンプ循環によって超音波暴露なしに行なわれる。"開始"メニューの選択を確定することによって、測定は、室温で行なわれ、ｄ50値は、超音波処理なしに算出される。引続き、分散液は、パルス化しないで、ＳＶＭモジュール中の内部超音波フィンガーを用いて６０秒間２５ワットに晒され、再び測定され、それによって１分間の超音波処理後にｄ50値が得られる。ｄ50は、それぞれ生データ曲線から容量分布および光学モデルパラメーターを基礎とする機器用ソフトウェア（Fraunhofer.rfdファイル）を用いて算出される。ｄ50値は、中央値である。
【００７４】
１分間の超音波の作用後の２００μｍ未満の粒子の割合の測定
％での超音波暴露後の２００μｍ未満の粒子の割合は、レーザー回折による（Coulter LS230）、１分間の超音波作用後のｄ50の測定について記載された粒径測定から得られる累積容量分布曲線によりグラフで算出される。
【００７５】
（含水率に対する）乾燥減量の測定
シリカの含水率は、ＩＳＯ７８７−２に従って、循環空気乾燥キャビネット中で１０５℃で２時間乾燥させた後に測定する。この乾燥減量は、主に水分からなる。硬化された完成沈降シリカのｐＨ値の測定
全てのｐＨ値測定に対する固体の出発質量は、乾燥された材料に関連する。乾燥されていない元来の材料を使用する場合には、この材料の乾燥減量（含水率）が算出されなければならない。引続き、ｐＨ値の測定に対する出発質量は、乾燥減量の値で補正される。
【００７６】
シリカのｐＨ値は、５％の水性懸濁液中で室温でＤＩＮ  ＥＮ  ＩＳＯ  ７８７−９に基づき測定される。この規格の規定とは異なり、脱イオン水９５ｍｌ中のシリカ５．００ｇの出発質量が選択される。
【００７７】
以下の実施例は、本発明を詳細に説明するが、その範囲を制限するものではない。
【実施例】
【００７８】
沈降シリカの硬化の試験的実施に対する一般的記載
沈降シリカ２５ｇは、２５０ｍｌの容積を有する閉鎖可能なガラス瓶中で０．１ｎのＮａＯＨ水溶液４８．５ｍｌに添加され、手でスパチュラを用いて１分間攪拌された。その後に、この瓶は閉じられ、室温（約２３℃）で１５分間貯蔵された。その後に、ねじ込み蓋付き瓶の内容物は、予熱されたガラス皿（直径３０ｃｍ）上で均一な層厚に広げられ、１７５℃に予熱された乾燥キャビネット中で１５分間乾燥された。引続き、乾燥されおよび硬化された沈降シリカは、ガラス皿（直径３０ｃｍ）中で均一な層厚に広げられ、２３℃および５０％の相対空間湿度で３０分間、空気調和されたキャビネット中で状態調節された。乾燥されおよび状態調節された試料のｐＨ値は、８．６であった。
【００７９】
実施例１
出発シリカとして、３５８μｍの平均粒径ｄ50および５．０質量％の含水量（含水率）を有するＥｖｏｎｉｋ  Ｄｅｇｕｓｓａ  ＧｍｂＨ社のＳｉｐｅｒｎａｔ(登録商標)２２００を使用し、上記の一般的方法により硬化させた。
【００８０】
実施例１による本発明による沈降シリカの物理化学的性質は、次の第２表中に記載されている。
【００８１】
比較例
第２表は、公知技術水準の比較シリカの物理化学的性質を含み、比較例１は、商業的にキャリヤーシリカとして入手可能である、実施例１の出発シリカ、Ｅｖｏｎｉｋ  Ｄｅｇｕｓｓａ  ＧｍｂＨ社のＳｉｐｅｒｎａｔ  ２２００(登録商標)に相当する。比較例２は、Ｒｈｏｄｉａ  Ｃｈｉｍｉｅ社のＴｉｘｏｓｉｌ  ３８Ｘ(登録商標)であり、比較例３は、Ｈｕｂｅｒ社のＨｕｂｅｒｓｉｌ  ５１７０(登録商標)である。
【００８２】
【表２】
0005518064.tif 000004
【００８３】
第２表は、比較例１および２で試験された沈降シリカが実際に十分な吸収能を有するが、しかし、微細粒子の割合が極端に高い。機械的負荷後の平均直径ｄ50（超音波の入力によってシミュレートした）は、本発明による硬化された沈降シリカの場合よりも著しく小さい。同様に、２００μｍ未満の粒子の割合は、本発明による沈降シリカと比較して極めて高く、即ち比較シリカは、吸収体の製造の際に混練機中での焼き付きおよび高められたダスト形成をまねく。比較例３は、実際に硬質であるが、しかし、吸収能が僅かすぎるという欠点を有する。
【００８４】
硬化の効果は、本発明による実施例１と比較例１とを比較した際に特に明らかになる。比較例１の硬化されていない沈降シリカは、機械的負荷後に実施例１と比較して約８８％の低いｄ50値を有する。これとは異なり、比較例１の硬化されていない沈降シリカの機械的負荷後の２００μｍ未満の粒子の割合は、実施例１の場合よりも４倍高い。これは、本発明による沈降シリカがこれまで通常商業的に使用されてきたキャリヤーシリカよりも明らかに硬質であることを証明する。