(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方の面を転写面として、該転写面の表面形状を転写して光学シートを得るための工程シート原版であって、下記の凹凸パターン形成シートからなり、下記凹凸領域が配置された片面が転写面とされることを特徴とする工程シート原版。
（凹凸パターン形成シート）
平坦な片面に、複数の凹凸領域が分散して配置され、
ガラス転移温度がＴｇ１である加熱収縮性フィルムが熱収縮した第１の樹脂層と、前記凹凸領域のみにおいて前記第１の樹脂層の片面に設けられたガラス転移温度がＴｇ２（但し、Ｔｇ２−Ｔｇ１≧１０℃）である第２の樹脂層とを備え、
前記第２の樹脂層の表面には、前記加熱収縮性フィルムの熱収縮時に、前記第２の樹脂層が折り畳むように変形したことによって形成された複数の凹凸を有する波状の凹凸パターンが形成されている凹凸パターン形成シート。
【請求項２】
一方の面を転写面として、該転写面の表面形状を転写して光学シートを得るための工程シート原版であって、下記の凹凸パターン形成シートからなり、下記凹凸領域が配置された片面が転写面とされることを特徴とする工程シート原版。
（凹凸パターン形成シート）
平坦な片面に、複数の凹凸領域が分散して配置され、
加熱収縮性フィルムが熱収縮した樹脂層と、前記凹凸領域のみにおいて前記樹脂層の片面に設けられた金属層又は金属化合物層とを備え、
前記金属層又は金属化合物層の表面には、前記加熱収縮性フィルムの熱収縮時に、前記金属層又は金属化合物層が折り畳むように変形したことによって形成された複数の凹凸を有する波状の凹凸パターンが形成されている凹凸パターン形成シート。
【請求項３】
一方の面を転写面として、該転写面の表面形状を転写して光学シートを得るための工程シート原版であって、下記の凹凸パターン形成シートからなり、下記凹凸領域が配置された片面が転写面とされることを特徴とする工程シート原版。
（凹凸パターン形成シート）
平坦な片面に、複数の凹凸領域が分散して配置され、
ガラス転移温度がＴｇ１である加熱収縮性フィルムが熱収縮した第１の樹脂層と、前記凹凸領域のみにおいて前記第１の樹脂層の片面に設けられたガラス転移温度がＴｇ２（但し、Ｔｇ２−Ｔｇ１≧１０℃）である第２の樹脂層とを備え、
前記第２の樹脂層の表面には、一方向に沿って蛇行した複数の凹凸を有する波状の凹凸パターンが形成されている凹凸パターン形成シート。
【請求項４】
一方の面を転写面として、該転写面の表面形状を転写して光学シートを得るための工程シート原版であって、下記の凹凸パターン形成シートからなり、下記凹凸領域が配置された片面が転写面とされることを特徴とする工程シート原版。
（凹凸パターン形成シート）
平坦な片面に、複数の凹凸領域が分散して配置され、
加熱収縮性フィルムが熱収縮した樹脂層と、前記凹凸領域のみにおいて前記樹脂層の片面に設けられた金属層又は金属化合物層とを備え、
前記金属層又は金属化合物層の表面には、一方向に沿って蛇行した複数の凹凸を有する波状の凹凸パターンが形成されている凹凸パターン形成シート。
【請求項５】
請求項１または２に記載の工程シート原版の前記転写面の表面形状を転写した転写物であることを特徴とする光学シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光拡散シート等として用いられる光学シートおよびその工程シート原版に関する。
【背景技術】
【０００２】
光拡散性等を有する光学シートとして、表面に凹凸が形成されたシートが知られている。例えば、特許文献１には、ドット状の凸部が基板表面に多数形成された光拡散シートが開示されている。特許文献１に記載の光学シートでは、インクジェットにより基板上にインクを吐出し、これを固着させることによりドット状の凸部を形成している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−１５７４３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
凹凸により光の拡散や反射を制御しようとする場合には、凹凸部同士の間隔が光の波長程度であると、干渉による着色が問題になり、またその間隔が数１０μｍを超えると、輝線等として視認できてしまうおそれがあるため、凹凸部同士の間隔を２０μｍ以下とすることが求められる。しかしながら、特許文献１に記載の光学シートでは、凹凸部同士の間隔が数１０μｍ〜数１００μｍであれば、安定に間隔が形成されるが、２０μｍ以下では所望の間隔を得ることは困難であった。
【０００５】
また、光学シートにおいては、光拡散性等の光学特性を均一にせずに、所定の位置で高くまたは低くなるように不均一にすることがある。例えば、液晶ディスプレイのバックライトユニットに用いられる導光板では、その側端面に配置された線状光源のイメージが導光板表面に映し出されるのを防ぐ目的で、その線状光源に近い出光側表面の光拡散性を高めることがある。また、液晶ディスプレイの中で、複数の線状光源や点状光源を備えた直下型バックライトユニットを用いる場合には、線状光源や点状光源同士の間からその真上に近づくにつれて、光拡散性を高めることがある。
表面に凹凸が形成された光学シートにおいて光学特性が不均一になるように調整するためには、凹凸部同士の間隔を位置によって変化させることが考えられるが、特許文献１に記載の光学シートでは、凹凸部同士の間隔を２０μｍ以下とした上で、間隔を変化させることは困難であった。したがって、特許文献１に記載の光学シートでは、所定の位置で光学特性が高くまたは低くなるように不均一にすることが困難であった。
【０００６】
そこで、本発明は、目的の光学特性（光拡散性等）に優れ、しかも光学特性を容易に不均一にできる光学シートを提供することを目的とする。また、目的の光拡散性に優れ、しかも光拡散性を容易に不均一にできる光拡散シートを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、以下の態様を包含する。
［１］  一方の面を転写面として、該転写面の表面形状を転写して光学シートを得るための工程シート原版であって、下記の凹凸パターン形成シートからなり、下記凹凸領域が配置された片面が転写面とされることを特徴とする工程シート原版。
（凹凸パターン形成シート）
平坦な片面に、複数の凹凸領域が分散して配置され、
ガラス転移温度がＴｇ１である加熱収縮性フィルムが熱収縮した第１の樹脂層と、前記凹凸領域のみにおいて前記第１の樹脂層の片面に設けられたガラス転移温度がＴｇ２（但し、Ｔｇ２−Ｔｇ１≧１０℃）である第２の樹脂層とを備え、
前記第２の樹脂層の表面には、前記加熱収縮性フィルムの熱収縮時に、前記第２の樹脂層が折り畳むように変形したことによって形成された複数の凹凸を有する波状の凹凸パターンが形成されている凹凸パターン形成シート。
［２］  一方の面を転写面として、該転写面の表面形状を転写して光学シートを得るための工程シート原版であって、下記の凹凸パターン形成シートからなり、下記凹凸領域が配置された片面が転写面とされることを特徴とする工程シート原版。
（凹凸パターン形成シート）
平坦な片面に、複数の凹凸領域が分散して配置され、
加熱収縮性フィルムが熱収縮した樹脂層と、前記凹凸領域のみにおいて前記樹脂層の片面に設けられた金属層又は金属化合物層とを備え、
前記金属層又は金属化合物層の表面には、前記加熱収縮性フィルムの熱収縮時に、前記金属層又は金属化合物層が折り畳むように変形したことによって形成された複数の凹凸を有する波状の凹凸パターンが形成されている凹凸パターン形成シート。
［３］  一方の面を転写面として、該転写面の表面形状を転写して光学シートを得るための工程シート原版であって、下記の凹凸パターン形成シートからなり、下記凹凸領域が配置された片面が転写面とされることを特徴とする工程シート原版。
（凹凸パターン形成シート）
平坦な片面に、複数の凹凸領域が分散して配置され、
ガラス転移温度がＴｇ１である加熱収縮性フィルムが熱収縮した第１の樹脂層と、前記凹凸領域のみにおいて前記第１の樹脂層の片面に設けられたガラス転移温度がＴｇ２（但し、Ｔｇ２−Ｔｇ１≧１０℃）である第２の樹脂層とを備え、
前記第２の樹脂層の表面には、一方向に沿って蛇行した複数の凹凸を有する波状の凹凸パターンが形成されている凹凸パターン形成シート。
［４］  一方の面を転写面として、該転写面の表面形状を転写して光学シートを得るための工程シート原版であって、下記の凹凸パターン形成シートからなり、下記凹凸領域が配置された片面が転写面とされることを特徴とする工程シート原版。
（凹凸パターン形成シート）
平坦な片面に、複数の凹凸領域が分散して配置され、
加熱収縮性フィルムが熱収縮した樹脂層と、前記凹凸領域のみにおいて前記樹脂層の片面に設けられた金属層又は金属化合物層とを備え、
前記金属層又は金属化合物層の表面には、一方向に沿って蛇行した複数の凹凸を有する波状の凹凸パターンが形成されている凹凸パターン形成シート。
［５］  ［１］または［２］に記載の工程シート原版の前記転写面の表面形状を転写した転写物であることを特徴とする光学シート。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の光学シートは、目的の光学特性に優れ、しかも光学特性を容易に不均一にできる。
本発明の光拡散シートは、目的の光拡散性に優れ、しかも光拡散性を容易に不均一にできる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の光学シートの第１の実施形態を示す斜視図である。
【図２】図１に示す光学シートの凹凸領域の一部を拡大して示す拡大斜視図である。
【図３】図１に示す光学シートを、凹凸パターンの形成方向と直交方向に切断した際の断面を拡大した図である。
【図４】凹凸パターンの表面を表面光学顕微鏡により撮影して得た画像の、グレースケール変換画像である。
【図５】図４の画像をフーリエ変換した画像である。
【図６】図５の画像における円環の中心からの距離に対する輝度をプロットしたグラフである。
【図７】図５の画像における補助線Ｌ３上の輝度をプロットしたグラフである。
【図８】図１に示す光学シートを製造する際に使用する印刷シートを示す断面図である。
【図９】印刷シートの表面の透過型電子顕微鏡写真像である。
【図１０】光学シートの表面の透過型電子顕微鏡写真像である。
【図１１】本発明の光拡散体を製造する方法の一例を説明する図である。
【図１２】本発明の光学シートの第２の実施形態を示す斜視図である。
【図１３】本発明の光学シートの第３の実施形態を示す斜視図である。
【図１４】本発明の光学シートの第４の実施形態を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
＜第１の実施形態＞
本発明の光学シートの第１の実施形態について説明する。
図１に、本実施形態の光学シートを示す。なお、図１では、説明を容易にするために、凹凸領域１２を拡大し、かつ、その配置をまばらにして示している。
本実施形態の光学シート１０ａは、長手方向の一端αに光源２０を配置させる光拡散シートとして用いられるものであって、平坦な片面１１に、外形が楕円形状の凹凸領域１２が、光学シート１０ａの長手方向の一端αから他端βに向かうにつれて次第に密になるパターンでドット状に分散して配置されているものである。なお、本発明において、平坦とは、ＪＩＳ Ｂ０６０１に記載の中心線平均粗さが０．１μｍ以下のことである。また、凹凸領域は、ＪＩＳ Ｂ０６０１に記載の中心線平均粗さが０．１μｍを超え、特には０．５μｍ以上である。
【００１１】
（凹凸領域）
凹凸領域１２は、凹凸パターンを有する領域である。本実施形態では、図２に示すように、凹凸領域１２の表面に、蛇行した波状の凹凸パターン１２ａが形成されている。
光拡散シートに用いる本実施形態の光学シート１０ａでは、凹凸パターン１２ａの最頻ピッチＡが１μｍを超え２０μｍ以下であることが好ましく、１μｍを超え１０μｍ以下であることがより好ましい。最頻ピッチＡが１μｍ未満であると、可視光の波長以下となり、可視光が凹凸パターン１２ａにて屈折せずに光が透過してしまい、前記上限値を超えると、拡散の異方性が低くなり、輝度にむらが生じやすくなる傾向にある。
【００１２】
凹凸パターン１２ａの最頻ピッチＡに対する凹凸パターンの平均深さＢの比（Ｂ／Ａ、以下、アスペクト比という。）は０．１〜３．０であることが好ましい。アスペクト比が０．１未満であると、目的の光学特性が得られないことがある。一方、アスペクト比が３．０より大きくなると、光学シート１０ａの製造にて凹凸パターン１２ａを形成しにくくなる傾向にある。
ここで、平均深さＢとは、凹凸パターン１２ａの底部１２ｂの平均深さのことである。また、底部１２ｂとは、凹凸パターン１２ａの凹部の極小点であり、平均深さＢは、凹凸領域１２を短径方向に沿って切断した断面（図３参照）を見た際の、光学シート１０ａ全体の面方向と平行な基準線Ｌ１から各凸部の頂部までの長さＢ１，Ｂ２，Ｂ３・・・の平均値（ＢＡＶ）と、基準線Ｌ１から各凹部の底部までの長さｂ１，ｂ２，ｂ３・・・の平均値（ｂＡＶ）との差（ｂＡＶ−ＢＡＶ）のことである。
平均深さＢを測定する方法としては、原子間力顕微鏡により撮影した凹凸パターン１２ａの断面の画像にて各底部１２ｂの深さを測定し、それらの平均値を求める方法などが採られる。
【００１３】
本実施形態のように、凹凸パターン１２ａが一方向に沿っている場合の蛇行とは、以下の方法で求められる凹凸パターンの配向度が０．３以上になっていることである。この配向度は、凹凸パターンの配向のばらつきの指標であり、その値が大きいほど、配向がばらついていることを示す。
配向度を求めるためには、まず、表面光学顕微鏡により凹凸パターンの上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等）に変換する。グレースケールのファイルの画像（図４参照）では、白度が低いところ程、凹部の底部が深い（白度が高いところ程、凸部の頂部が高い）ことを表している。次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換する。図５にフーリエ変換後の画像を示す。図５の画像の中心から両側に広がる白色部分は凹凸パターン１２ａのピッチおよび向きの情報が含まれる。
次いで、図５の画像の中心から水平方向に補助線Ｌ２を引き、その補助線上の輝度をプロット（図６参照）する。図６のプロットの横軸はピッチを、縦軸は頻度を表し、頻度が最大となる値Ｘが凹凸パターン１２ａの最頻ピッチを表す。
次いで、図５において、補助線Ｌ２と値Ｘの部分にて直交する補助線Ｌ３を引き、その補助線Ｌ３上の輝度をプロット（図７参照）する。ただし、図７の横軸は、各種の凹凸構造との比較を可能にするため、Ｘの値で割った数値とする。図７の横軸は、凹凸パターンの形成方向（図４における上下方向）に対する傾きの程度を示す指標（配向性）を、縦軸は頻度を表す。図７のプロットにおけるピークの半値幅Ｗ１（頻度が最大値の半分になる高さでのピークの幅）が凹凸パターン１２ａの配向度を表す。半値幅Ｗ１が大きい程、蛇行して配向がばらついていることを表す。
【００１４】
上記配向度が０．３未満であると、凹凸パターン１２ａの配向のばらつきが小さくなるため、光の拡散性が小さくなる。
また、配向度は１．０以下であることが好ましい。配向度が１．０を超えると、凹凸パターン１２ａの方向がある程度ランダムになるため、光拡散性は高くなるが、異方性が低くなる傾向にある。
配向度を０．３以上にするためには、例えば、後述する製造において、加熱収縮性フィルムと凹凸領域形成用凸部とを適宜選択すればよい。
また、配向度が０．３以上の凹凸パターンが一表面に形成された金型を用いて透明樹脂を成形する方法を採用してもよい。
【００１５】
光学シート１０ａの片面の面積に対する凹凸領域１２の面積割合は、目的の光拡散性にもよるが、３０〜１００％であることが好ましい。凹凸領域１２の面積割合が３０％以上であれば、充分な光拡散性を発揮する。
【００１６】
（光学シートの構成材料）
光学シート１０ａは、可視光の透過率の高い（具体的には、可視光の全光線透過率が８５％以上）透明樹脂により構成される。
また、光学シート１０ａには、耐熱性、耐光性を向上させる目的で、光透過率等の光学特性を損なわない範囲内で、添加剤を含有することができる。添加剤としては、光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、光拡散剤などが挙げられる。中でも、光安定剤を添加することが好ましく、その添加量は、透明樹脂１００質量部に対して０．０３〜２．０質量部であることが好ましい。光安定剤の添加量が０．０３質量部以上であれば、その添加効果を充分に発揮できるが、２．０質量部を超えると、過剰量になり、不要なコストの上昇を招く傾向にある。
【００１７】
また、光学シート１０ａには、より光拡散効果を高める目的で、光透過率等の光学特性を大きく損なわない範囲内で、無機化合物からなる無機光拡散剤、有機化合物からなる有機光拡散剤を含有させることができる。
無機光拡散剤としては、シリカ、ホワイトカーボン、タルク、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化チタン、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、珪酸アルミニウム、珪酸アルミ化ナトリウム、珪酸亜鉛、ガラス、マイカ等が挙げられる。
有機光拡散剤としては、スチレン系重合粒子、アクリル系重合粒子、シロキサン系重合粒子、ポリアミド系重合粒子等が挙げられる。これらの光拡散剤はそれぞれ単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
また、これらの光拡散剤は、優れた光散乱特性を得るために、花弁状又は球晶状等の多孔質構造とすることもできる。
光拡散剤の含有量は、光透過性を損ないにくいことから、透明樹脂１００質量部に対して１０質量部以下であることが好ましい。
【００１８】
さらに、光学シート１０ａには、より光拡散効果を高める目的で、光透過率等の光学特性を大きく損なわない範囲内で、微細気泡を含有させることができる。微細気泡は、光の吸収が少なく光透過率を低下させにくい。
微細気泡の形成方法としては、光学シート１０ａに発泡剤を混入する方法（例えば、特開平５−２１２８１１号公報、特開平６−１０７８４２号公報に開示された方法）や、アクリル系発泡樹脂を発泡処理させて微細気泡を含有する方法（例えば、特開２００４−２８１２号公報に開示された方法）などを適用できる。さらに微細気泡は、より均一な面照射が可能となる点では、特定の位置に不均一に発泡させる方法（例えば、特開２００６−１２４４９９号公報に開示された方法）が好ましい。
なお、前記光拡散剤と微細発泡を併用することもできる。
【００１９】
（光学シートの厚さ）
光学シート１０ａの厚さは０．０２〜３．０ｍｍが好ましく、０．０５〜２．５ｍｍがより好ましく、０．１〜２．０ｍｍが特に好ましい。光学シート１０ａの厚さが０．０２ｍｍ未満であると、凹凸パターン１２ａの深さよりも小さいことがあるため適当でなく、３．０ｍｍよりも厚いと光学シート１０ａの質量が大きくなるため取り扱いにくくなるおそれがある。
光学シート１０ａは２層以上の樹脂層から構成されていてもよい。光学シート１０ａが２層以上の層から構成されている場合も、光学シート１０ａの厚さは０．０２〜３．０ｍｍであることが好ましい。
【００２０】
（使用方法）
上記光学シート１０ａは、光拡散シートとして用いられる。具体的には、光学シート１０ａは、一端αに光源２０を隣接させて使用される。光学シート１０ａの一端αに光源２０を配置させることにより、光学シート１０ａ内を光を伝播させることができる。また、光学シート１０ａ内を伝播した光を凹凸領域１２にて拡散させて、凹凸領域１２が形成された側の面から出射させることができる。さらに、凹凸領域１２は一端αから他端βに向かうにつれて次第に密になるパターンで配置されているため、他端βに向かうにつれて光の出射量を多くできる。一般に、光学シート１０ａ内を伝播する光の強度は光源２０から離れるにつれて弱くなるが、他端βに向かうにつれて光の出射量を多くすることで、光学シート１０ａから出射した光の強度を均一にできる。
光学シート１０ａを使用する際には、光源２０の光の利用効率を高めるために、凹凸領域１２を有しない面に反射板を設置することが好ましい。
【００２１】
以上説明した第１の実施形態の光学シート１０ａでは、凹凸領域１２の表面に形成された凹凸パターン１２ａによって光拡散性を発揮する。また、凹凸領域１２を光学シート１０ａの長手方向の他端β側で密になるパターンで配置して、長手方向の他端β側で光拡散性が高くなるようにしている。このように、光学シート１０ａでは、凹凸領域１２同士の間隔により光拡散性を調整できるため、所望の位置で所望の光拡散性を容易に得ることができる。
【００２２】
（製造方法）
光学シート１０ａを製造する方法の例について説明する。
［第１の製造方法］
第１の製造方法は、加熱収縮性フィルムを用いて、光学シート１０ａを製造する方法である。
すなわち、第１の製造方法は、加熱収縮性フィルムの片面に、表面が平滑な樹脂製の凹凸領域形成用凸部を印刷して印刷シートを形成する工程（以下、第１の工程という。）と、加熱収縮性フィルムを加熱収縮させて印刷シートの少なくとも凹凸領域形成用凸部を折り畳むように変形させる工程（以下、第２の工程という。）とを有して、光学シート１０ａとなる凹凸パターン形成シートを製造する方法である。
【００２３】
・第１の工程
第１の工程にて、図８および図９に示すように、加熱収縮性フィルム１３の片面に凹凸領域形成用凸部１４を印刷する方法としては、例えば、スクリーン印刷、グラビア印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷などを適用することができる。
【００２４】
加熱収縮性フィルム１３としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート系シュリンクフィルム、ポリスチレン系シュリンクフィルム、ポリオレフィン系シュリンクフィルム、ポリ塩化ビニル系シュリンクフィルムなどを用いることができる。
加熱収縮性フィルム１３の中でも、５０〜７０％収縮するものが好ましい。５０〜７０％収縮するシュリンクフィルムを用いれば、変形率を５０％以上でき、凹凸パターン１２ａの最頻ピッチＡが１μｍを超え２０μｍ以下、アスペクト比０．１以上の凹凸パターン形成シートを容易に製造できる。
ここで、変形率とは、（変形前の長さ−変形後の長さ）／（変形前の長さ）×１００（％）のことである。あるいは、（変形した長さ）／（変形前の長さ）×１００（％）のことである。
【００２５】
凹凸領域形成用凸部１４は、蛇行した波状の凹凸パターン１２ａが形成しやすいことから、加熱収縮性フィルム１３を構成する樹脂（第１の樹脂）よりガラス転移温度が１０℃以上高い樹脂（第２の樹脂）で構成する。
第２の樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、フッ素樹脂などを使用することができる。
【００２６】
凹凸領域形成用凸部１４の表面は、所望の凹凸パターン１２ａを容易に形成できることから、ＪＩＳ Ｂ０６０１に記載の中心線平均粗さ０．１μｍ以下にする。
また、凹凸領域形成用凸部１４の厚さは０．０５〜５．０μｍとすることが好ましく、０．１〜１．０μｍとすることがより好ましい。凹凸領域形成用凸部１４の厚さが前記範囲であれば、凹凸パターン１２ａの最頻ピッチＡを、確実に１μｍを超え２０μｍ以下にできる。しかし、凹凸領域形成用凸部１４の厚さを０．０５μｍ未満とすると最頻ピッチＡが１μｍ以下になることがあり、５．０μｍを超えると、最頻ピッチＡが２０μｍを超えることがある。
さらに、凹凸領域形成用凸部１４の厚さは一定でなくてもよく、例えば、一方向に沿って連続的に厚くなってもよいし、薄くなってもよい。
また、蛇行した波状の凹凸パターン１２ａをより容易に形成できることから、凹凸領域形成用凸部１４のヤング率を０．０１〜３００ＧＰａにすることが好ましく、０．１〜１０ＧＰａにすることがより好ましい。
【００２７】
・第２の工程
第２の工程にて、加熱収縮性フィルム１３を熱収縮させることにより、凹凸領域形成用凸部１４に、収縮方向に対して垂直方向に波状の凹凸パターン１２ａを形成させて、凹凸領域１２を得る（図１０参照）。
加熱収縮性フィルム１３を加熱収縮させる際の加熱方法としては、熱風、蒸気または熱水中に通す方法等が挙げられ、中でも、均一に収縮させることができることから、熱水に通す方法が好ましい。
【００２８】
この製造方法では、凹凸領域形成用凸部１４の厚さが薄いほど、凹凸領域形成用凸部１４のヤング率が低いほど、凹凸パターン１２ａの最頻ピッチＡが小さくなり、加熱収縮性フィルムの変形率が高いほど、平均深さＢが深くなる。
【００２９】
上記第１の製造方法では、第１の樹脂のガラス転移温度と第２の樹脂のガラス転移温度の間の温度では、凹凸領域形成用凸部１４のヤング率が加熱収縮性フィルム１３より高くなる。そのため、第１の樹脂のガラス転移温度と第２の樹脂のガラス転移温度の間の温度で加工した際には、凹凸領域形成用凸部１４は厚みを増すよりも、折り畳まれるようになる。さらに、凹凸領域形成用凸部１４は加熱収縮性フィルム１３に積層されているため、加熱収縮性フィルム１３の収縮による応力が全体に均一にかかる。したがって、加熱収縮性フィルム１３を収縮させて、凹凸領域形成用凸部１４を折り畳むように変形させることにより、凹凸領域１２を形成できる。よって、上記製造方法によれば、光学シート１０ａとなる凹凸パターン形成シートを得ることができる。
【００３０】
上記のようにして得た凹凸パターン形成シートはそのまま光学シート１０ａとして用いることができる。その場合、加熱収縮性フィルム１３と凹凸領域形成用凸部１４とによって光学シート１０ａが形成される。
【００３１】
［第２の製造方法］
第２の製造方法は、第１の製造方法で得た凹凸パターン形成シートを工程シート原版として、光学シート１０ａを製造する方法である。
工程シート原版は、枚葉状であってもよいし、連続したシート状であるウェブ状であってもよい。
【００３２】
第２の製造方法の具体的な方法としては、例えば、下記（ａ）〜（ｃ）の方法が挙げられる。
（ａ）工程シート原版の凹凸領域が形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工する工程と、電離放射線を照射して前記硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。ここで、電離放射線とは、通常、紫外線または電子線のことであるが、本発明では、可視光線、Ｘ線、イオン線等も含む。
（ｂ）工程シート原版の凹凸領域が形成された面に、未硬化の液状熱硬化性樹脂を塗工する工程と、加熱して前記液状熱硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。
（ｃ）工程シート原版の凹凸領域が形成された面に、シート状の透明熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該シート状の透明熱可塑性樹脂を工程シート原版に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、その冷却したシート状の透明熱可塑性樹脂を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。
【００３３】
また、工程シート原版を用いて２次工程用成形物を作製し、その２次工程用成形物を用いて光学シート１０ａを製造することもできる。２次工程用成形物を用いる具体的な方法としては、下記（ｄ）〜（ｆ）の方法が挙げられる。
【００３４】
（ｄ）工程シート原版の凹凸領域が形成された面に、ニッケル等の金属めっきを行って、めっき層を積層する工程と、そのめっき層を工程シート原版から剥離して、金属製の２次工程用成形物を作製する工程と、次いで、２次工程用成形物の凹凸領域と接していた側の面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工する工程と、電離放射線を照射して前記硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。
（ｅ）工程シート原版の凹凸領域が形成された面に、めっき層を積層する工程と、そのめっき層を工程シート原版から剥離して、金属製の２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の凹凸領域と接していた側の面に、未硬化の液状熱硬化性樹脂を塗工する工程と、加熱により該樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。
（ｆ）工程シート原版の凹凸領域が形成された面に、めっき層を積層する工程と、そのめっき層を工程シート原版から剥離して、金属製の２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の凹凸領域と接していた側の面に、シート状の透明熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該シート状の透明熱可塑性樹脂を２次工程用成形物に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、その冷却したシート状の透明熱可塑性樹脂を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。
【００３５】
（ａ）の方法の具体例について説明する。図１１に示すように、まず、ウェブ状の工程シート原版１１０の凹凸領域１１２ａが形成された面に、コーター１２０により未硬化の液状電離放射線硬化性樹脂１１２ｃを塗工する。次いで、該硬化性樹脂を塗工した工程シート原版１１０を、ロール１３０を通すことにより押圧して、前記硬化性樹脂を工程シート原版１１０の凹凸領域１１２ａ内部に充填する。その後、電離放射線照射装置１４０により電離放射線を照射して、硬化性樹脂を架橋・硬化させる。そして、硬化後の電離放射線硬化性樹脂を工程シート原版１１０から剥離させることにより、ウェブ状の光学シート１０ａを製造することができる。
【００３６】
（ａ）の方法において、工程シート原版の凹凸領域が形成された面には、離型性を付与する目的で、未硬化の電離放射線硬化性樹脂塗工前に、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等からなる層を１〜１０ｎｍ程度の厚さで設けてもよい。
工程シート原版の凹凸領域が形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工するコーターとしては、Ｔダイコーター、ロールコーター、バーコーター等が挙げられる。
未硬化の電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、エポキシ化油アクリレート、ウレタンアクリレート、不飽和ポリエステル、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニル／アクリレート、ポリエン／アクリレート、シリコンアクリレート、ポリブタジエン、ポリスチリルメチルメタクリレート等のプレポリマー、脂肪族アクリレート、脂環式アクリレート、芳香族アクリレート、水酸基含有アクリレート、アリル基含有アクリレート、グリシジル基含有アクリレート、カルボキシ基含有アクリレート、ハロゲン含有アクリレート等のモノマーの中から選ばれる１種類以上の成分を含有するものが挙げられる。未硬化の電離放射線硬化性樹脂は溶媒等で希釈することが好ましい。
また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂には、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を添加してもよい。
未硬化の電離放射線硬化性樹脂を紫外線により硬化する場合には、未硬化の電離放射線硬化性樹脂にアセトフェノン類、ベンゾフェノン類等の光重合開始剤を添加することが好ましい。
【００３７】
（ｄ）の具体的な方法は、（ａ）の方法における工程シート原版を、該工程シート原版を用いて作製した２次工程用成形物に変更したこと以外は、上記（ａ）の方法と同様である。
【００３８】
（ｂ），（ｅ）の方法において、液状熱硬化性樹脂としては、例えば、未硬化の、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。
また、（ｂ）の方法における硬化温度は、工程シート原版のガラス転移温度より低いことが好ましい。硬化温度が工程シート原版のガラス転移温度以上であると、硬化時に工程シート原版の凹凸パターンが変形するおそれがあるからである。
【００３９】
（ｃ），（ｆ）の方法における透明熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン−メチルメタクリレート共重合体（ＭＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリスチレン（ＰＳ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ＰＥＴ−Ｇ、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの樹脂などが挙げられる。これらの中でも、成形加工の観点からは、ＭＳ、ＰＭＭＡ、ＰＳ、ＣＯＰ、ＰＣが好ましく、吸湿性及びコストの観点からは、ＭＳのうちスチレン含有率が３０〜９０質量％のものがさらに好ましい。
これらの透明熱可塑性樹脂は単層もしくは多層構造とすることもできる。例えば、ＰＳ層の両面にＰＭＭＡ層を設けた３層構造の透明熱可塑性樹脂などを用いることができる。
さらに、前記透明熱可塑性樹脂の表面に、高屈折率の樹脂を設けたものを使用することもできる。高屈折率の樹脂としては、例えば、フルオレン系エポキシ化合物、フルオレン系アクリレート化合物、フルオレン系ポリエステル（ＯＫＰ）、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）、ポリジフェニルシラン（ＰＤＰＳ）などが挙げられる。
【００４０】
（ｃ）の方法において、シート状の熱可塑性樹脂を工程シート原版に押圧する際の圧力、（ｆ）の方法において、シート状の熱可塑性樹脂を２次工程用成形物に押圧する際の圧力は１〜１００ＭＰａであることが好ましい。押圧時の圧力が１ＭＰａ以上であれば、凹凸パターンを高い精度で転写させることができ、１００ＭＰａ以下であれば、過剰な加圧を防ぐことができる。
また、（ｃ）の方法における熱可塑性樹脂の加熱温度は、工程シート原版のガラス転移温度より低いことが好ましい。加熱温度が工程シート原版のガラス転移温度以上であると、加熱時に工程シート原版の凹凸パターンが変形するおそれがあるからである。
加熱後の冷却温度としては、凹凸パターンを高い精度で転写させることができることから、熱可塑性樹脂のガラス転移温度未満であることが好ましい。
【００４１】
［第３の製造方法］
第３の製造方法は、金属製または金属化合物製の凹凸領域が樹脂製の層の表面に設けられた凹凸パターン形成シートを工程シート原版として、光学シート１０ａを製造する方法である。
【００４２】
金属製または金属化合物製の凹凸領域が設けられた凹凸パターン形成シートは、樹脂製の凹凸領域形成用凸部を金属製または金属化合物製の凹凸領域形成用凸部に置き換え、凹凸領域形成用凸部を印刷の代わりに蒸着により形成する以外は第１の製造方法と同様の方法により得ることができる。
すなわち、金属製または金属化合物製の凹凸領域が設けられた凹凸パターン形成シートの製造方法は、加熱収縮性フィルムの片面に金属製または金属化合物製の凹凸領域形成用凸部を真空蒸着して蒸着シートを形成する工程と、加熱収縮性フィルムを加熱収縮させて蒸着シートの少なくとも凹凸領域形成用凸部を折り畳むように変形させる工程とを有する方法である。
この凹凸パターン形成シートの製造方法では、金属製または金属化合物製の凹凸領域形成用凸部のヤング率が加熱収縮性フィルムのヤング率が桁違いに大きいため、熱圧縮した際に厚みを増すよりも、折り畳まれるようになる。その結果、凹凸領域が設けられた凹凸パターン形成シートを得ることができる。なお、この凹凸パターン形成シートの凹凸領域は光学シート１０ａと同様である。
【００４３】
第３の製造方法における凹凸領域形成用凸部を構成する金属としては、より容易に凹凸パターン１２ａが形成することから、金、アルミニウム、銀、炭素、銅、ゲルマニウム、インジウム、マグネシウム、ニオブ、パラジウム、鉛、白金、シリコン、スズ、チタン、バナジウム、亜鉛、ビスマスよりなる群から選ばれる少なくとも１種の金属であることが好ましい。ここでいう金属は、半金属も含む。
金属化合物としては、同様の理由から、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化スズ、酸化銅、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化鉛、酸化ケイ素、フッ化バリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、硫化亜鉛、ガリウムヒ素よりなる群から選ばれる少なくとも１種の金属化合物であることが好ましい。
【００４４】
凹凸領域形成用凸部の表面は、所望の凹凸パターン１２ａを容易に形成できることから、ＪＩＳ Ｂ０６０１に記載の中心線平均粗さ０．１μｍ以下にする。
金属製または金属化合物製の凹凸領域形成用凸部の厚さは０．０１〜０．２μｍとすることが好ましく、０．０５〜０．１μｍとすることがより好ましい。凹凸領域形成用凸部の厚さが前記範囲であれば、凹凸パターン１２ａの最頻ピッチＡを、確実に１μｍを超え２０μｍ以下にできる。しかし、凹凸領域形成用凸部の厚さを０．０１μｍ未満とすると最頻ピッチＡが１μｍ以下になることがあり、０．２μｍを超えると、最頻ピッチＡが２０μｍを超えることがある。
さらに、凹凸領域形成用凸部の厚さは一定でなくてもよく、例えば、一方向に沿って連続的に厚くなってもよいし、薄くなってもよい。
【００４５】
加熱収縮性フィルムに金属または金属化合物製の凹凸領域形成用凸部を蒸着する際には、加熱収縮性フィルムの表面に、形成しようとする凹凸領域形成用凸部と同じパターンで開口したマスクを載せておく。
【００４６】
加熱収縮性フィルムを加熱収縮させる際の加熱方法としては、熱風、蒸気または熱水中に通す方法等が挙げられ、中でも、均一に収縮させることができることから、熱水に通す方法が好ましい。
【００４７】
第３の製造方法の具体的な方法としては、第２の製造方法における（ａ）〜（ｆ）の方法において、工程シート原版として、第２の樹脂製の凹凸領域が設けられた凹凸パターン形成シートに代えて、金属製または金属化合物製の凹凸領域が設けられた凹凸パターン形成シートを用いる方法が挙げられる。
【００４８】
［第４の製造方法］
第４の製造方法は、金型と該金型を加熱冷却する加熱冷却手段と該金型を加圧する加圧手段とを備える成形装置を用いて、未成形の透明熱可塑性樹脂から光学シート１０ａを製造する方法である。第４の製造方法で使用する透明熱可塑性樹脂としては、第２の製造方法で用いたものと同様のものが挙げられる。
【００４９】
具体的に、第４の製造方法では、まず、透明熱可塑性樹脂のペレットまたは粉体を金型内に充填し、加熱冷却手段により金型を加熱すると共に加圧手段により金型内を加圧する。次いで、加熱冷却手段により金型内を冷却し、加圧を停止して、光学シート１０ａを得る。
この製造方法では、金型として、光学シート１０ａの出射面に接する面に蛇行した波状の凹凸パターンを形成したものを用いる。例えば、金型としては、第１〜第３の製造方法における凹凸パターン形成シートを一面に取り付けたもの、レーザー照射等により一面に蛇行した波状の凹凸パターンを形成したものを用いることができる。
【００５０】
第４の製造方法での成形方法としては、例えば、プレス成形法、射出成形法を適用することができる。
【００５１】
上述した第１〜第４の製造方法により得た光学シート１０ａはそのまま用いてもよいし、透明樹脂製またはガラス製の補強用の基板に接着剤を介して貼り合わせて最終的な光学シートとしてもよい。
【００５２】
以上説明した光学シート１０ａの製造方法では、平坦な片面に、凹凸領域１２を光学シート１０ａの長手方向の他端β側で密になるパターンで配置することが容易である。したがって、長手方向の他端β側で光拡散性が高い光学シート１０ａを容易に得ることができる。
【００５３】
＜第２の実施形態＞
本発明の光学シートの第２の実施形態について説明する。
図１２に、本実施形態の光学シートを示す。なお、図１２においても、説明を容易にするために、凹凸領域１５を拡大し、かつ、その配置をまばらにして示している。
本実施形態の光学シート１０ｂは、長手方向の一端αに光源２０を配置させる光拡散シートとして用いられるものであって、平坦な片面１１に、光学シート１０ｂの幅方向に沿って形成された帯状の凹凸領域１５が、光学シート１０ｂの長手方向の一端αから他端βに向かうにつれて次第に密になるパターンで分散して配置されているものである。
このように凹凸領域１５を配置することで、第１の実施形態の光学シート１０ａと同様に、光学シート１０ｂの他端β側で光拡散性を高くすることができる。
【００５４】
第２の実施形態の凹凸領域１５の凹凸パターンは、第１の実施形態の凹凸領域１２の凹凸パターン１２ａと同様である。光学シート１０ｂの片面の面積に対する凹凸領域１５の面積割合も、第１の実施形態での面積割合と同様である。
第２の実施形態の光学シート１０ｂは、第１の実施形態の光学シート１０ａの製造方法と同様の製造方法により製造できる。
【００５５】
＜第３の実施形態＞
本発明の光学シートの第３の実施形態について説明する。
図１３に、本実施形態の光学シートを示す。なお、図１３においても、説明を容易にするために、凹凸領域１６を拡大し、かつ、その配置をまばらにして示している。
本実施形態の光学シート１０ｃは、長手方向の一端αに光源２０を配置させる光拡散シートとして用いられるものであって、平坦な片面１１に、光学シート１０ｃの長手方向に沿った帯状の部分１６ａと幅方向に沿った帯状の部分１６ｂとで構成された網状の凹凸領域１６が分散して配置されているものである。凹凸領域１６の、光学シート１０ｃの幅方向に沿った部分１６ｂは、光学シート１０ｃの長手方向の一端αから他端βに向かうにつれて次第に密になるように配置されている。
【００５６】
第３の実施形態の凹凸領域１６の凹凸パターンは、第１の実施形態の凹凸領域１２の凹凸パターン１２ａと同様である。光学シート１０ｃの片面の面積に対する凹凸領域１６の面積割合も、第１の実施形態での面積割合と同様である。
第３の実施形態の光学シート１０ｃは、第１の実施形態の光学シート１０ａの製造方法と同様の製造方法により製造できる。
【００５７】
＜第４の実施形態＞
本発明の光学シートの第４の実施形態について説明する。
図１４に、本実施形態の光学シートを示す。なお、図１４においても、説明を容易にするために、凹凸領域１７を拡大し、かつ、その配置をまばらにして示している。
本実施形態の光学シート１０ｄは、凹凸領域１７が形成されていない側の面Ｃに線状の光源２０が配置される光拡散シートとして用いられるものである。また、この光学シート１０ｄでは、平坦な片面１１に、光源２０に近い程、楕円形状の凹凸領域１７が密になるように分散して配置されている。
本実施形態では、光源２０からの光が光学シート１０ｄに不均一に入射するが、凹凸領域１７が、強い光が達する部分程、密に配置されているため、光を拡散させながら出射させることができる。そのため、光学シート１０ｄから出射する光の強度を均一化できる。
【００５８】
第４の実施形態の凹凸領域１７の凹凸パターンは、第１の実施形態の凹凸領域１２の凹凸パターン１２ａと同様である。光学シート１０ｄの片面の面積に対する凹凸領域１７の面積割合も、第１の実施形態での面積割合と同様である。
第４の実施形態の光学シート１０ｄは、第１の実施形態の光学シート１０ａの製造方法と同様の製造方法により製造できる。
【００５９】
＜その他の実施形態＞
なお、本発明の光学シートは、上述した実施形態のものに限定されない。
例えば、上述した第１の実施形態、第４の実施形態においては、凹凸領域の外形が楕円形状であったが、円形状、矩形状などであってもよい。
また、本発明の光学シートにおいて、凹凸領域はランダムに形成されていても構わない。
また、凹凸領域の凹凸パターンは蛇行していなくてもよく、直線的であってもよい。
また、凹凸領域は光学シートの両面に形成されていても構わない。
また、光学シートは、補強用基材によって補強されていてもよい。
【実施例】
【００６０】
（実施例１）
一軸方向に熱収縮する厚さ５０μｍでヤング率３ＧＰａのポリエチレンテレフタレート製加熱収縮性フィルム（三菱樹脂株式会社製ヒシペットＬＸ−６０Ｓ、ガラス転移温度７０℃）の片面に、トルエンに希釈したポリスチレン（ポリマーソース株式会社製ＰＳ、ガラス転移温度１００℃）を、グラビア印刷機（松尾産業株式会社製Ｋプリンティングプルーファー）により、直径５０μｍで厚さ５００ｎｍのドット状に印刷して、印刷シートを得た。
ドットのパターンは、幅５ｃｍ×長さ１０ｃｍの範囲にて、その長手方向の一端から他端に向かってドット面積割合が０〜１００％の範囲で１ｃｍ毎に１０％ずつ増加するグラデーションパターンとした。なお、ドット面積割合０％は全く印刷されていないことを示し、１００％は全面印刷されたことを示す。
次いで、その印刷シートを８０℃で１分間加熱することにより、加熱前の長さの４０％に熱収縮させた（すなわち、変形率６０％に変形させた）。８０℃においては、ポリエチレンテレフタレート製加熱収縮性フィルムのヤング率（５０ＭＰａ）より、ポリスチレンのヤング率（１ＧＰａ）の方が高い。そのため、熱収縮の際にドットは折り畳まれるように変形して、収縮方向に対して直交方向に沿って周期を有する波状の凹凸パターンを形成した。これにより、平坦な片面に凹凸領域が形成された凹凸パターン形成シートを得た。
この凹凸パターン形成シートにおける凹凸領域の凹凸パターンの最頻ピッチは５μｍ、アスペクト比は１、配向度は０．３であった。
【００６１】
得られた凹凸パターン形成シートの光拡散性を調べたところ、収縮方向に対して垂直方向よりも平行な方向に、強く光を拡散させる異方拡散性を有していた。また、光拡散性は、凹凸領域の面積割合が大きくなる方向に沿って漸次増加した。このような実施例１の凹凸パターン形成シートは光拡散シートとして利用できるものである。
【００６２】
（実施例２）
三菱樹脂株式会社製ヒシペットＬＸ−６０Ｓの代わりに二軸方向に加熱収縮する厚さ２５μｍでヤング率３ＧＰａのポリエチレンテレフタレートシュリンクフィルム（三菱樹脂株式会社製ヒシペットＰＸ−４０Ｓ）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、凹凸パターン形成シートを得た。この凹凸パターン形成シートの片面には、特定の方向に沿わない波状の凹凸パターンが形成されていた。
この凹凸パターン形成シートにおける凹凸領域の凹凸パターンの最頻ピッチは５μｍ、アスペクト比は１であった。
実施例２の凹凸パターン形成シートの光学特性を調べたところ、等方的な光拡散性を有していた。したがって、実施例２の凹凸パターン形成シートは光拡散シートとして利用できるものである。
【００６３】
（実施例３）
ドットを、インクジェットプリンタ（富士フィルム株式会社ダイマティクスマテリアルプリンターＤＭＰ−２８３１）により印刷したこと以外は実施例１と同様にして凹凸パターン形成シートを得た。この凹凸パターン形成シートにおける凹凸領域の凹凸パターンの最頻ピッチは５μｍ、アスペクト比は１、配向度は０．３であった。
得られた凹凸パターン形成シートの光学特性を調べたところ、実施例１と同様の異方拡散性を有していた。したがって、実施例３の凹凸パターン形成シートは光拡散シートとして利用できるものである。
【００６４】
（実施例４）
実施例１の方法により得た凹凸パターン形成シートを工程シート原版として用いて、以下のようにして光拡散シートを得た。
すなわち、実施例１により得た工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、エポキシアクリレート系プレポリマー、２−エチルヘキシルアクリレートおよびベンゾフェノン系光重合開始剤を含む未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物を塗工した。
次いで、未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の工程シート原版と接していない面に、厚さ５０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを重ね合わせ、押圧した。
次いで、トリアセチルセルロースフィルムの上から紫外線を照射し、未硬化の紫外線硬化性樹脂を硬化させ、その硬化物を工程シート原版から剥離することにより、光拡散シートを得た。
得られた光拡散シートは、実施例１の光拡散シートと同様の凹凸領域を有し、同様の光拡散性を有するものであった。
【００６５】
（実施例５）
実施例１の方法により得た凹凸パターン形成シートを工程シート原版として用いて、以下のようにして光拡散シートを得た。
すなわち、実施例１により得た工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、ニッケルめっきを施し、そのニッケルめっきを剥離することにより、厚さ２００μｍの２次工程シートを得た。この２次工程シートの凹凸パターンが形成された面に、エポキシアクリレート系プレポリマー、２−エチルヘキシルアクリレートおよびベンゾフェノン系光重合開始剤を含む未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物を塗工した。
次いで、未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の２次工程シートと接していない面に、厚さ５０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを重ね合わせ、押圧した。
次いで、トリアセチルセルロースフィルムの上から紫外線を照射し、未硬化の硬化性樹脂を硬化させ、その硬化物を２次工程シートから剥離することにより、光拡散シートを得た。
得られた光拡散シートは、実施例１の光拡散シートと同様の凹凸領域を有し、同様の光拡散性を有するものであった。
【００６６】
（実施例６）
紫外線硬化性樹脂組成物の代わりに熱硬化性エポキシ樹脂を使用し、紫外線を照射する代わりに加熱により該熱硬化性エポキシ樹脂を硬化させた以外は実施例５と同様にして光拡散シートを得た。
得られた光拡散シートは、実施例１の光拡散シートと同様の凹凸領域を有し、同様の光拡散性を有するものであった。
【００６７】
（実施例７）
実施例５と同様にして、厚さ２００μｍの２次工程シートを得た。この２次工程シートの凹凸パターンが形成された面に、厚さ５０μｍのポリメチルメタクリレートフィルムを重ね、加熱した。加熱により軟化したポリメチルメタクリレートフィルムと２次工程シートとを、それらの両側から押圧した後、冷却・固化させ、固化したポリメチルメタクリレートフィルムを２次工程シートから剥離することにより、光拡散シートを得た。
得られた光拡散シートは、実施例１の光拡散シートと同様の凹凸領域を有し、同様の光拡散性を有するものであった。
【００６８】
（実施例８）
一軸方向に熱収縮する厚さ５０μｍでヤング率３ＧＰａのポリエチレンテレフタレート製加熱収縮性フィルム（三菱樹脂株式会社製ヒシペットＬＸ−１０Ｓ、ガラス転移温度７０℃）の片面に、ドット状の開口部（孔径５０μｍ）が多数形成されたマスクを載せた。
マスクの開口部のパターンは、幅５ｃｍ×長さ１０ｃｍの範囲に、その長手方向の一端から他端に向かって開口部面積割合が０〜１００％の範囲で１ｃｍ毎に１０％ずつ増加するグラデーションパターンとした。なお、開口部面積割合０％は開口していないことを示し、１００％は全面開口していることを示す。
次いで、加熱収縮性フィルムの片面にマスクを載せた状態で、ヤング率が７０ＧＰａのアルミニウムを厚さが０．０５μｍになるように真空蒸着させて、蒸着シート得た。
このとき、加熱収縮性フィルムの片面にはアルミニウムのドットが形成される。そのドットのパターンは、幅５ｃｍ×長さ１０ｃｍの範囲に、長手方向の一端から他端に向かってドット面積割合が０〜１００％の範囲で１ｃｍ毎に１０％ずつ増加するグラデーションパターンになる。なお、ドット面積割合０％は全く蒸着されていないことを示し、１００％は全面に蒸着されたことを示す。
次いで、その蒸着シートを１００℃で１分間加熱することにより、加熱前の長さの４０％に熱収縮させた（すなわち、変形率６０％に変形させた）。熱収縮の際にドットは折り畳まれるように変形して、収縮方向に対して直交方向に沿って周期を有する波状の凹凸パターンを形成した。これにより、片面に凹凸領域を有する凹凸パターン形成シートを得た。
この凹凸パターン形成シートにおける凹凸領域の凹凸パターンの最頻ピッチは３μｍ、アスペクト比は１、配向度は０．３であった。
【００６９】
次いで、得られた凹凸パターン形成シートを工程シート原版として用いて、以下のようにして光拡散シートを得た。
すなわち、工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、エポキシアクリレート系プレポリマー、２−エチルヘキシルアクリレートおよびベンゾフェノン系光重合開始剤を含む未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物を塗工した。
次いで、未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の工程シート原版と接していない面に、厚さ５０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを重ね合わせ、押圧した。
次いで、トリアセチルセルロースフィルムの上から紫外線を照射し、未硬化の紫外線硬化性樹脂を硬化させ、その硬化物を工程シート原版から剥離することにより、光拡散シートを得た。
得られた光拡散シートの光学特性を調べたところ、実施例１と同様の異方拡散性を有していた。
【００７０】
（実施例９）
三菱樹脂株式会社製ヒシペットＬＸ−６０Ｓの代わりに二軸方向に加熱収縮する厚さ２５μｍでヤング率３ＧＰａのポリエチレンテレフタレートシュリンクフィルム（三菱樹脂株式会社製ヒシペットＰＸ−４０Ｓ）を用いたこと以外は実施例８と同様にして、凹凸パターン形成シートを得た。この凹凸パターン形成シートにおける凹凸領域の凹凸パターンの最頻ピッチは３μｍ、アスペクト比は１であった。
次いで、この凹凸パターン形成シートを用い、実施例８と同様にして、光拡散シートを得た。実施例９の光拡散シートの光学特性を調べたところ、等方的な光拡散性を有していた。
【００７１】
（実施例１０）
実施例８の方法により得た凹凸パターン形成シートを工程シート原版として用いて、以下のようにして光拡散シートを得た。
すなわち、実施例８により得た工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、ニッケルめっきを施し、そのニッケルめっきを剥離することにより、厚さ２００μｍの２次工程シートを得た。この２次工程シートの凹凸パターンが形成された面に、エポキシアクリレート系プレポリマー、２−エチルヘキシルアクリレートおよびベンゾフェノン系光重合開始剤を含む未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物を塗工した。
次いで、未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の２次工程シートと接していない面に、厚さ５０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを重ね合わせ、押圧した。
次いで、トリアセチルセルロースフィルムの上から紫外線を照射し、未硬化の硬化性樹脂を硬化させ、その硬化物を２次工程シートから剥離することにより、光拡散シートを得た。
得られた光拡散シートは、実施例８の光拡散シートと同様の凹凸領域を有し、同様の光拡散性を有するものであった。
【００７２】
（実施例１１）
紫外線硬化性樹脂組成物の代わりに熱硬化性エポキシ樹脂を使用し、紫外線を照射する代わりに加熱により該熱硬化性エポキシ樹脂を硬化させた以外は実施例１０と同様にして光拡散シートを得た。
得られた光拡散シートは、実施例８の光拡散シートと同様の凹凸領域を有し、同様の光拡散性を有するものであった。
【００７３】
（実施例１２）
実施例１０と同様にして、厚さ２００μｍの２次工程シートを得た。この２次工程シートの凹凸パターンが形成された面に、厚さ５０μｍのポリメチルメタクリレートフィルムを重ね、加熱した。加熱により軟化したポリメチルメタクリレートフィルムと２次工程シートとを、それらの両側から押圧した後、冷却・固化させ、固化したポリメチルメタクリレートフィルムを２次工程シートから剥離することにより、光拡散シートを得た。
得られた光拡散シートは、実施例８の光拡散シートと同様の凹凸領域を有し、同様の光拡散性を有するものであった。
【００７４】
片面に凹凸領域が混在した実施例１〜１２の光学シートでは、凹凸領域の凹凸パターンによって光が拡散するため、光拡散性に優れる。また、上記光学シートでは、凹凸領域が長手方向の他端側で密に配置されていたため、長手方向の他端側で光拡散性が高い。
【符号の説明】
【００７５】
１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ，１０ｅ 光学シート
１１ 平坦な片面
１２，１５，１６，１７，１８ 凹凸領域
１２ａ 凹凸パターン
１２ｂ 底部
１３ 加熱収縮性フィルム
１４ 凹凸領域形成用凸部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図４】
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【図５】
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【図９】
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【図１０】
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