(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布対象物に向けて塗布液を液滴として吐出する塗布ヘッドと、
前記塗布対象物と前記塗布ヘッドとを相対移動させる移動機構と、
前記塗布ヘッド及び前記移動機構に対し、前記塗布対象物上の塗布区画における前記液滴の目標塗布位置に関する塗布情報に基づいて、前記塗布対象物と前記塗布ヘッドとを相対移動させながら前記塗布区画に複数の前記液滴を塗布し、複数の前記液滴の集合体である塗布膜を生成する制御を行う手段と、
前記塗布膜の重心位置を求める手段と、
求めた前記重心位置に基づいて、前記塗布区画に対する前記複数の液滴の目標塗布位置を補正する手段と、
を備えることを特徴とする液滴塗布装置。
【請求項２】
前記補正する手段は、前記重心位置と前記塗布区画の中心位置とが一致するように前記複数の液滴の目標塗布位置を補正することを特徴とする請求項１記載の液滴塗布装置。
【請求項３】
塗布対象物と前記塗布対象物に向けて塗布液を液滴として吐出する塗布ヘッドとを前記塗布対象物上の塗布区画における前記液滴の目標塗布位置に関する塗布情報に基づいて相対移動させながら、前記塗布区画に複数の前記液滴を塗布し、複数の前記液滴の集合体である塗布膜を生成する工程と、
前記塗布膜の重心位置を求める工程と、
求めた前記重心位置に基づいて、前記塗布区画に対する前記複数の液滴の目標塗布位置を補正する工程と、
を備えることを特徴とする液滴塗布方法。
【請求項４】
前記補正する工程では、前記重心位置と前記塗布区画の中心位置とが一致するように前記複数の液滴の目標塗布位置を補正することを特徴とする請求項３記載の液滴塗布方法。
【請求項５】
前記重心位置と前記塗布区画の中心位置との位置ずれを求め、求めた位置ずれ分だけ前記複数の液滴の目標塗布位置を補正することを特徴とする請求項４記載の液滴塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布対象物に液滴を吐出して塗布する液滴塗布装置及び液滴塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液滴塗布装置は、液晶表示装置、有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置、電子放出表示装置及びプラズマ表示装置等の表示装置や半導体装置等を製造する場合、例えば、カラーフィルタを形成する場合（例えば、特許文献１参照）、あるいは、ガラス基板や半導体ウェハ等の基板に配向膜やレジスト等の機能性薄膜を形成する場合等に用いられている。
【０００３】
この液滴塗布装置は、基板等の塗布対象物に向けてインク等の塗布液を複数の吐出孔（ノズル）からそれぞれ液滴として吐出（噴射）する塗布ヘッドを備えている。液滴塗布装置は、塗布ヘッドと塗布対象物とを相対移動させながら、その塗布ヘッドにより塗布対象物の塗布面に複数の液滴を順次着弾させ、所定の塗布パターンを形成する。
【０００４】
このような液滴塗布装置を用いてカラーフィルタを製造する場合には、カラーフィルタ製造用の基板に対して液滴が塗布される。すなわち、赤、緑及び青の着色インクが液滴として、カラーフィルタ製造用の基板表面に設けられた格子状の凸部（ブラックマトリクス）により区分された凹部内に塗布され、その凹部内に塗布膜としての着色層が形成される。なお、凹部は平面視において長方形をしており、この凹部が液晶表示パネルにおける一つの画素（サブピクセル）に対応する。
【０００５】
ここで、凹部の容量に対して一つの吐出孔から吐出される一滴の量は少ないため、凹部内に着色層を形成する場合、一つの凹部に対して着色インクの液滴は複数滴塗布される。このとき、着色層を均一な厚さに形成する必要があるため、液滴の目標塗布位置（塗布予定位置）が凹部の長手方向に沿って等間隔に定められており、この目標塗布位置に対して液滴が順次塗布されていく。
【特許文献１】特開平９−２３０１２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、塗布液の塗布動作中、基板と塗布ヘッドとは相対移動しているため、基板上に塗布された液滴は、基板上に着弾した際に相対移動方向の逆方向に流れ、基板上で半球状とならずに相対移動方向に偏心した形状になってしまう。この影響により、各液滴の集合体である塗布膜も半球状とならずに相対移動方向に偏心した形状になってしまう。このため、塗布膜は凹部の長手方向の一方に偏り、塗布膜の厚さが不均一になったり、場合によっては、塗布液が凸部を乗り越えてはみ出したりすることがある。着色層の厚さが不均一になると、画素内で色ムラが生じ、液晶表示パネルの表示品質が低下する。また、塗布液が凸部を乗り越えた場合、隣の画素の着色層が異なる色の着色層であると、色が混ざってしまい、不良品が発生してしまう。
【０００７】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、塗布対象物に対する塗布液の塗布品質を向上させることができる液滴塗布装置及び液滴塗布方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の実施の形態に係る第１の特徴は、液滴塗布装置において、塗布対象物に向けて塗布液を液滴として吐出する塗布ヘッドと、
前記塗布対象物と前記塗布ヘッドとを相対移動させる移動機構と、
前記塗布ヘッド及び前記移動機構に対し、前記塗布対象物上の塗布区画における前記液滴の目標塗布位置に関する塗布情報に基づいて、前記塗布対象物と前記塗布ヘッドとを相対移動させながら前記塗布区画に複数の前記液滴を塗布し、複数の前記液滴の集合体である塗布膜を生成する制御を行う手段と、
前記塗布膜の重心位置を求める手段と、
求めた前記重心位置に基づいて、前記塗布区画に対する前記複数の液滴の目標塗布位置を補正する手段と、
を備えることである。
【０００９】
本発明の実施の形態に係る第２の特徴は、液滴塗布方法において、塗布対象物と前記塗布対象物に向けて塗布液を液滴として吐出する塗布ヘッドとを前記塗布対象物上の塗布区画における前記液滴の目標塗布位置に関する塗布情報に基づいて相対移動させながら、前記塗布区画に複数の前記液滴を塗布し、複数の前記液滴の集合体である塗布膜を生成する工程と、
前記塗布膜の重心位置を求める工程と、
求めた前記重心位置に基づいて、前記塗布区画に対する前記複数の液滴の目標塗布位置を補正する工程と、
を備えることである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、塗布対象物に対する塗布液の塗布品質を向上させることができる液滴塗布装置及び液滴塗布方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の実施の一形態について図面を参照して説明する。
【００１２】
図１に示すように、本発明の実施の形態に係る液滴塗布装置１は、塗布対象物としての基板Ｋが水平状態（図１中、Ｘ軸方向とそれに直交するＹ軸方向に沿う状態）で載置される移動テーブル２と、その移動テーブル２を保持してＹ軸方向に移動させるＹ軸移動機構３と、そのＹ軸移動機構３を介して移動テーブル２をＸ軸方向に移動させるＸ軸移動機構４と、移動テーブル２上の基板Ｋに向けてインク等の塗布液を液滴Ｅ１として吐出する複数の塗布ヘッド５と、移動テーブル２上の基板Ｋに向けて撮像動作を行う撮像部６と、各部を制御する制御部７とを備えている。
【００１３】
移動テーブル２は、Ｙ軸移動機構３上に積層され、Ｙ軸方向に移動可能に設けられている。この移動テーブル２はＹ軸移動機構３によりＹ軸方向に移動する。なお、移動テーブル２には、基板Ｋが自重により載置されるが、これに限るものではなく、例えば、その基板Ｋを保持するため、静電チャックや吸着チャック等の機構を設けるようにしてもよい。このような移動テーブル２の端部には、各塗布ヘッド５の吐出を安定させるための吐出安定部２ａが設けられている。この吐出安定部２ａは、各塗布ヘッド５のダミー吐出用の受皿、及び各塗布ヘッド５の吐出面をワイプするワイプブレード等を有している。
【００１４】
Ｙ軸移動機構３は、移動テーブル２をＹ軸方向に案内して移動させる移動機構である。このＹ軸移動機構３は制御部７に電気的に接続されており、その駆動が制御部７により制御される。なお、Ｙ軸移動機構３としては、例えば、リニアモータを駆動源とするリニアモータ移動機構やモータを駆動源とする送りネジ移動機構等を用いる。
【００１５】
Ｘ軸移動機構４は、Ｙ軸移動機構３をＸ軸方向に案内して移動させる移動機構である。このＸ軸移動機構４は制御部７に電気的に接続されており、その駆動が制御部７により制御される。なお、Ｘ軸移動機構４としては、例えば、リニアモータを駆動源とするリニアモータ移動機構やモータを駆動源とする送りネジ移動機構等を用いる。
【００１６】
塗布ヘッド５は、インク等の塗布液を複数の吐出孔（ノズル）Ｎからそれぞれ液滴Ｅ１として吐出するインクジェットヘッドである。この塗布ヘッド５は、液滴Ｅ１を吐出するための各吐出孔Ｎにそれぞれ対応する複数の圧電素子（図示せず）を内蔵している。各吐出孔Ｎは、所定のピッチ（間隔）で直線状に並べて塗布ヘッド５の吐出面に形成されている。例えば、吐出孔Ｎの数は数十個から数百個程度であり、吐出孔Ｎの直径は数μｍから数十μｍ程度であり、さらに、吐出孔Ｎのピッチは数十μｍから数百μｍ程度である。
【００１７】
この塗布ヘッド５は制御部７に電気的に接続されており、その駆動が制御部７により制御される。塗布ヘッド５は、各圧電素子に対する駆動電圧の印加に応じて各吐出孔Ｎから液滴Ｅ１を吐出する。例えば、塗布ヘッド５は、八滴の液滴Ｅ１により一つの塗布膜Ｅ２を生成する。ここで、塗布液は、その塗布液を収容する液体タンク（図示せず）から供給される。この塗布液は、基板Ｋ上に残留物として残留する溶質と、その溶質を溶解（分散）させる溶媒とにより構成された溶液である。溶媒は例えば揮発性を有している。本発明の実施の形態では、塗布液として、例えば、赤色、緑色及び青色の３種類のインクを用いる。この場合には、液体タンクは、色毎の３つのタンクを有しており、各色の溶液が赤色用、緑色用及び青色用の各々の塗布ヘッド５にそれぞれ供給される。
【００１８】
さらに、塗布ヘッド５は、回転機構（図示せず）によりθ方向（図１中、ＸＹ平面に沿う回転方向）に回転可能に設けられている。この塗布ヘッド５は、回転機構により、相対移動する基板Ｋの相対移動方向に対して所定の傾斜角度だけ傾けられ、その状態で塗布を行う。なお、Ｘ軸方向に相対移動する基板Ｋに対して塗布を行う場合には、塗布ヘッド５の傾斜角度を変更することによって、Ｙ軸方向の液滴Ｅ１の塗布ピッチを調整することができる。また、液滴Ｅ１の吐出周波数（吐出タイミング）を変更することによって、Ｘ軸方向の塗布ピッチＰを調整することができる。
【００１９】
撮像部６は、基板Ｋ上に着弾した各液滴Ｅ１の集合体である複数の塗布膜Ｅ２を撮像するカメラである。なお、一つの塗布膜Ｅ２は例えば八滴の液滴Ｅ１の集合体である。この撮像部６は制御部７に電気的に接続されており、その駆動は制御部７により制御される。なお、撮像部６としては、例えばＣＣＤ（Charge Coupled Device）カメラ等を用いる。この撮像部６は、各塗布膜Ｅ２の形状を検出する検出部として機能する。
【００２０】
制御部７は、各部を集中的に制御するマイクロコンピュータと、塗布に関する塗布情報や各種のプログラム等を記憶する記憶部と（いずれも図示せず）を備えている。塗布情報は、ドットパターン等の所定の塗布パターン（すなわち、液滴Ｅ１の目標塗布位置Ａ１に関する位置情報）、塗布ヘッド５の傾斜角度、塗布ヘッド５の吐出周波数及び基板Ｋの移動速度に関する情報等を含んでいる。
【００２１】
次に、前述の液滴塗布装置１が行う補正動作について説明する。なお、液滴塗布装置１の制御部７が各種のプログラムに基づいて補正処理を実行する。ここでは、液滴塗布装置１を用いて塗布膜Ｅ２としての着色層を製造する場合について説明する。
【００２２】
図２に示すように、制御部７は、塗布情報に基づいて測定用の基板Ｋに対する塗布を行う（ステップＳ１）。すなわち、制御部７は、塗布情報に基づいてＹ軸移動機構３及びＸ軸移動機構４を制御し、塗布ヘッド５を基板Ｋの塗布面Ｋａに対向する塗布開始位置に位置付け、さらに、Ｘ軸移動機構４を制御し、移動テーブル２をＸ軸方向に移動させながら、塗布ヘッド５を制御し、その塗布ヘッド５に塗布液を吐出させ、移動テーブル２上の基板Ｋの塗布面Ｋａに各液滴Ｅ１を塗布する。
【００２３】
ここで、測定用の基板Ｋは、平滑なガラス基板、所謂、素ガラス基板であるから塗布区画Ｇは実際には形成されていないが、以下の説明では、塗布面Ｋａに塗布区画Ｇが形成されていると仮定し、この仮想の塗布区画Ｇに対して液滴Ｅ１の塗布を行うものとして説明する。図３及び図４は、測定用の基板Ｋを示すものであるが、仮想の塗布区画Ｇを一点鎖線で示している。
【００２４】
このとき、塗布ヘッド５は、図３に示すように、Ｘ軸方向（図３中の矢印方向）に移動する基板Ｋの塗布面Ｋａに向けて各液滴Ｅ１を吐出して塗布し、図４に示すように、塗布面Ｋａ上に塗布区画Ｇ毎に塗布膜Ｅ２を生成する。例えば、基板Ｋに赤インクを塗布する場合には、全ての塗布区画Ｇのうち赤インクを塗布すべき塗布区画Ｇに対して液滴Ｅ１をそれぞれ塗布し、その後、同様にして緑インク及び青インクも塗布する。なお、測定用の基板Ｋの塗布面Ｋａには、塗布液をはじく加工（撥インク処理）が施されている。
【００２５】
ここで、各塗布区画Ｇは、カラーフィルタの各画素領域にそれぞれ対応する領域である。すなわち、カラーフィルタ製造用の基板の塗布面には、格子状の凸部としてのブラックマトリクスが形成されている。このブラックマトリクスは、撥インク性を有しており、カラーフィルタの赤色、緑色及び青色の各画素を囲む格子状の黒色部分である。したがって、各塗布区画Ｇは、ブラックマトリクスで囲まれた複数の凹部の各々の底面と同じ面積を有し、同じ場所に位置する領域であり、カラーフィルタ製造用の基板においては各凹部の底面が塗布区画Ｇとなる。なお、カラーフィルタ製造用の基板上におけるブラックマトリクスＢＭ以外の領域は親インク性を有している。
【００２６】
一つの塗布区画Ｇ内には、例えば、八滴の液滴Ｅ１が塗布される（図３参照）。これらの液滴Ｅ１は、目標塗布位置Ａ１を基点に所定の塗布ピッチＰで基板Ｋ上の塗布区画Ｇ内にそれぞれ着弾する。その後、塗布区画Ｇ内に着弾した各液滴Ｅ１は集合して一体となり、塗布膜Ｅ２となる（図４参照）。このように全ての塗布区画Ｇに対して塗布膜Ｅ２が生成される。このとき、測定用の基板Ｋの塗布面Ｋａには撥インク処理が施されているので、液滴の広がりは抑制され、重心位置Ｇの偏心した液滴の集合体は所定の高さを有する略雫形状となる。
【００２７】
八滴の液滴Ｅ１の各々の目標塗布位置の設定は、それらの八滴の液滴Ｅ１内で塗布区画Ｇに最初に着弾する液滴Ｅ１の目標塗布位置Ａ１が決定され、その目標塗布位置Ａ１を基点として所定の塗布ピッチＰ（例えば、２５０〜３００μｍ程度）が決定されることにより行われている。なお、目標塗布位置Ａ１は塗布区画Ｇ毎にＸＹ座標により規定される。これらの目標塗布位置Ａ１や所定の塗布ピッチＰの情報は塗布情報として記憶部に格納されている。また、八滴の液滴Ｅ１の合計量は、塗布液の乾燥後に凹部の容量と略同じになるような所定量（例えば、５０ｐｌ程度）に設定されている。
【００２８】
その後、制御部７は、撮像部６を制御し、基板Ｋ上の各塗布膜Ｅ２を撮像する（ステップＳ２）。すなわち、制御部７は、塗布情報（塗布パターン）に基づいてＹ軸移動機構３及びＸ軸移動機構４を制御し、基板Ｋ上に生成された各塗布膜Ｅ２を撮影可能な位置に撮像部６を移動させ、各塗布膜Ｅ２の画像を撮像する。なお、撮像部６は、その撮像エリア（撮像領域）に応じて所定量だけ移動するように制御される。
【００２９】
次に、制御部７は、撮像した各画像に基づいて各塗布膜Ｅ２の重心位置Ａ２（図４参照）を求める（ステップＳ３）。例えば、塗布膜Ｅ２の画像に基づく塗布膜Ｅ２の形状から、塗布膜Ｅ２の二次元（平面視）における重心位置Ａ２が算出される。なお、この重心位置Ａ２の算出方法としては、様々な方法を用いることが可能である。
【００３０】
次いで、制御部７は、求めた各塗布膜Ｅ２の各々の重心位置Ａ２に基づいて、各目標塗布位置Ａ１を補正する。すなわち、制御部７は、各塗布膜Ｅ２において、重心位置Ａ２と塗布区画Ｇの中心位置Ａ３（図４参照）との位置ずれ量を算出し、算出した位置ずれ量がなくなるように（ゼロになるように）目標塗布位置Ａ１を補正する。例えば、目標塗布位置Ａ１が（ｘ１，ｙ１）であり、重心位置Ａ２が（ｘ２，ｙ２）であり、中心位置Ａ３が（ｘ３，ｙ３）である場合には、位置ずれ量は（ｘ３−ｘ２，ｙ３−ｙ２）となるので、目標塗布位置Ａ１の（ｘ１，ｙ１）は（ｘ３−ｘ２，ｙ３−ｙ２）だけずらされ、塗布区画Ｇ内に塗布膜Ｅ２が形成されたとき、その重心位置Ａ２と中心位置Ａ３とが一致するように補正される。補正された目標塗布位置Ａ１は、制御部７が備えた記憶部に記憶される。
【００３１】
このように制御部７は、各部を制御する手段に加え、塗布膜Ｅ２の重心位置Ａ２を求める手段や、求めた重心位置Ａ２に基づいて塗布区画Ｇに対する目標塗布位置Ａ１を補正する手段、すなわち重心位置Ａ２と塗布区画Ｇの中心位置Ａ３とが一致するように目標塗布位置Ａ１を補正する手段として機能する。その後、制御部７は、補正された塗布情報に基づいて、カラーフィルタ製造用の基板に対して塗布動作を行う。なお、塗布液は、赤色、緑色及び青色の順番で、カラーフィルタ製造用の基板の塗布面、すなわちブラックマトリクスで囲まれた複数の凹部（複数の画素領域）に塗布される。
【００３２】
前述の補正動作では、塗布膜Ｅ２の重心位置Ａ２と塗布区画Ｇの中心位置Ａ３が一致するように目標塗布位置Ａ１が補正される。その後、カラーフィルタ製造用の基板上に液滴Ｅ１の塗布が行われるときには、液滴Ｅ１は、補正された目標塗布位置Ａ１に対して塗布され、塗布膜Ｅ２の重心位置Ａ２と塗布区画Ｇの中心位置Ａ３が一致した塗布膜Ｅ２が着色層としてカラーフィルタ製造用の基板上に生成される。これにより、塗布膜Ｅ２が凹部の長手方向の一方に偏ることがなく、塗布膜Ｅ２の厚さが不均一になったり、あるいは、塗布液が凸部を乗り越えてはみ出したりすることを抑えることが可能になるので、基板に対する塗布液の塗布品質を向上させることができる。特に、塗布膜Ｅ２の厚さの均一性を向上させることができ、その結果、着色層としての塗布膜Ｅ２の厚さが均一になるので、膜厚の不均一に起因する着色ムラ（例えば、筋ムラ）を防止することが可能になり、カラーフィルタを有する表示パネルの品質を向上させることができる。
【００３３】
以上説明したように、本発明の実施の形態によれば、液滴Ｅ１の目標塗布位置Ａ１に関する塗布情報に基づいて、相対移動する基板Ｋ上に複数の液滴Ｅ１を塗布し、複数の液滴Ｅ１の集合体である塗布膜Ｅ２を生成し、生成した塗布膜Ｅ２の形状を撮像して検出し、撮像した画像（検出した塗布膜Ｅ２の形状）に基づいて塗布膜Ｅ２の重心位置Ａ２を求め、さらに、求めた重心位置Ａ２に基づいて、塗布膜Ｅ２の重心位置Ａ２と塗布区画Ｇの中心位置Ａ３とが一致するように目標塗布位置Ａ１を補正することによって、液滴Ｅ１は、補正された目標塗布位置Ａ１に塗布され、塗布膜Ｅ２の重心位置Ａ２と塗布区画Ｇの中心位置Ａ３が一致した塗布膜Ｅ２がカラーフィルタ製造用の基板上に生成される。
【００３４】
これにより、塗布膜Ｅ２の重心位置が凹部の長手方向の一方に偏ることがなく、塗布液が塗布区画Ｇの中心から周辺に向けて広がるから、塗布膜Ｅ２の厚さが不均一になったり、あるいは、塗布液が凸部を乗り越えてはみ出したりすることを抑えることが可能になるので、基板に対する塗布液の塗布品質を向上させることができる。その結果、着色層の厚さの不均一に起因して画素内で色ムラが生じ、表示パネルの表示品質が低下することを防止することができ、加えて、隣の画素の着色層が異なる色の着色層である場合、塗布液が凸部を乗り越えて色が混ざり、不良品が発生してしまうことも防止することができる。
【００３５】
（他の実施の形態）
なお、本発明は、前述の実施の形態に限るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である。
【００３６】
前述の実施の形態においては、塗布膜Ｅ２の重心位置Ａ２が塗布区画Ｇの中心位置Ａ３に一致するように目標塗布位置Ａ１を補正するようにしたが、これに限るものではなく、カラーフィルタ製造用の基板の性情、すなわち、凹部の底面の性情に応じて目標塗布位置Ａ１を補正するようにしてもよい。例えば、図３を借りて説明すれば、凹部の底面（塗布区画Ｇに対応）が長手方向における一方向に比べ他方向へインクが広がり易い性情を有する場合、重心位置Ａ２が中心位置Ａ３に対して長手方向における一方向側にずれた位置となるように目標塗布位置Ａ１を補正するという具合である。
【００３７】
また、前述の実施の形態においては、塗布ヘッド５に対して基板Ｋを移動させるようにしているが、これに限るものではなく、基板Ｋに対して塗布ヘッド５を移動させるようにしてもよく、要は、塗布ヘッド５と基板Ｋとを相対移動させるようにすればよい。
【００３８】
また、本発明の実施の形態においては、撮像部６を検出部として用いているが、これに限るものではなく、例えば、レーザ変位計等の距離測定装置を検出部として用いるようにしてもよい。この場合には、距離測定装置を所定間隔毎に塗布膜Ｅ２を横切るように相対移動させながら順次塗布膜Ｅ２の厚さを計測し、その厚さから塗布膜Ｅ２の全体形状（三次元形状）を求め、三次元における重心位置を求めるようにしてもよい。
【００３９】
さらに、前述の実施の形態においては、赤色、緑色及び青色の全色の塗布液を塗布した後に、撮像部６による撮像動作を行うようにしているが、これに限るものではなく、例えば、赤色、緑色及び青色毎に、塗布液の塗布後、撮像部６による撮像動作を行うようにしてもよい。
【００４０】
加えて、前述の実施の形態においては、カラーフィルタ製造用に液滴塗布装置１を用いているが、これに限るものではなく、カラーフィルタ製造用以外にも液滴塗布装置１を用いてもよい。
【００４１】
最後に、前述の実施の形態においては、各種の数値を挙げているが、それらの数値は例示であり、限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の実施の一形態に係る液滴塗布装置の概略構成を示す模式図である。
【図２】図１に示す液滴塗布装置が行う補正動作の流れを示すフローチャートである。
【図３】図２に示す補正動作を説明するための説明図である。
【図４】図２に示す補正動作を説明するための説明図である。
【符号の説明】
【００４３】
１          液滴塗布装置
３          移動機構（Ｙ軸移動機構）
４          移動機構（Ｘ軸移動機構）
５          塗布ヘッド
Ａ１        目標塗布位置
Ａ２        重心位置
Ａ３        中心位置
Ｅ１        液滴
Ｅ２        塗布膜
Ｇ          塗布区画
Ｋ          塗布対象物（基板）
【図１】
0005384816.tif 000002
【図２】
0005384816.tif 000003
【図３】
0005384816.tif 000004
【図４】
0005384816.tif 000005