(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面に複数の電極パッドを有する半導体素子と、
前記半導体素子の下面に、それぞれ、分離部にて分離して設けられた複数の薄膜端子と、
前記半導体素子および前記各薄膜端子との間に設けられた絶縁層と、
前記各半導体素子の電極パッドと前記各薄膜端子とを接続する接続部材と、
前記半導体素子、前記半導体素子から露出した前記複数の薄膜端子、前記分離部上および前記接続部材を覆って設けられた樹脂層と、を具備し、
前記各薄膜端子は、前記半導体素子の下面に積層される内側領域と、前記半導体素子の外側に対応する外側領域とを有し、前記半導体素子の前記外側領域には変形部が形成され、
前記変形部は、前記薄膜端子の前記外側領域内に前記変形部を複数個配置できる面積を有し、かつ、前記半導体素子とは反対面側に突き出すほぼ半球状の突出部と、前記突出部の中央部において、前記突出部の底部から、前記半導体素子側に立ち上がる支持部とを有し、
前記接続部材の一端は前記変形部の前記支持部の上面に接続され、
前記各薄膜端子の変形部内に前記樹脂層の一部が充填されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体装置において、前記各薄膜端子は、前記樹脂層との接面側に微細な凹凸を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の半導体装置において、前記変形部の前記支持部は、ほぼ円錐台形状を有し、前記支持部の外面側に導電材が充填可能とされていることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の半導体装置において、前記変形部は、前記薄膜端子の前記内側領域に形成されており、前記薄膜端子の前記内側領域に形成された前記変形部内に前記絶縁層が充填されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の半導体装置において、前記薄膜端子の前記外側領域に複数個の前記変形部が形成されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の半導体装置において、前記分離部から前記絶縁層が露出していることを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項６に記載の半導体装置において、前記絶縁層から露出された前記絶縁層に前記半導体素子の底部を露出する開口部が形成されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の半導体装置において、前記薄膜端子は、厚さ３０〜２００μｍであることを特徴とする半導体装置。
【請求項９】
電極パッドを有する半導体素子を準備する工程と、
前記半導体素子より大きい面積の金属薄膜を準備し、前記半導体素子を前記金属薄膜上に、絶縁層を介して固定する工程と、
前記電極パッドと前記金属薄膜とを接続部材により電気的に接続する工程と、
前記金属薄膜上に前記半導体素子および前記接続部材を覆う樹脂層を形成する工程と、
前記金属薄膜を所定形状の薄膜端子に形成する工程と、を具備し、
前記半導体素子より大きい面積の金属薄膜を準備する工程は、前記金属薄膜における前記半導体素子の外側領域に複数の変形部を形成する工程を含み、
前記各変形部を形成する工程は、前記半導体素子とは反対側に突き出すほぼ半球状の突出部と、前記突出部の中央部において、前記突出部の底部から、前記半導体素子側に立ち上がる支持部とを形成する工程を含み、
前記電極パッドと前記金属薄膜とを接続部材により電気的に接続する工程は、前記接続部材の一端を前記変形部の前記支持部の上面に接続する工程を含み、
前記金属薄膜上に前記半導体素子および前記接続部材を覆う樹脂層を形成する工程は、前記各変形部内に前記樹脂層を充填する工程を含み、
前記金属薄膜を所定形状の薄膜端子に形成する工程は、前記各薄膜端子が、前記半導体素子の下面に積層される内側領域と、前記半導体素子の外側に対応する外側領域とを有するように分離する工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の半導体装置の製造方法において、前記金属薄膜を準備する工程は、前記半導体素子に対応する領域に開口部を形成する工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項９または１０に記載の半導体装置の製造方法において、前記半導体素子より大きい面積の金属薄膜を準備する工程は、絶縁薄膜層を介して基台上に前記金属薄膜を接着する工程を含み、前記金属薄膜に前記変形部を形成する工程は、プレスにより前記金属薄膜を前記絶縁薄膜層側に変形させて形成する工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項９乃至１１のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法において、前記金属薄膜上に前記半導体素子および前記接続部材を覆う絶縁膜を形成する工程の後、前記金属薄膜を所定形状の薄膜端子に形成する工程の前に、前記基台を除去する工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体装置および半導体装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子を、リードフレームを用いることなくパッケージ化した半導体装置が知られている。このような半導体装置は、予め、リードフレームに電極パッドの数に対応した数の凹部を形成しておき、凹部内にめっき層を形成して、電極パッドとめっき層とをワイヤボンディングし、成形により樹脂封止をした後、リードフレームを除去する。（例えば、特許文献１参照）
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】日本特許第３１８１２２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記の方法では、工程数が多いので、生産性が低下する。また、半導体素子の電極パッドの数や位置は半導体素子の機能・用途・サイズによって異なるため、リードフレームの数および配置、さらには、リードフレームに形成するめっき層形成用の溝の位置を半導体素子ごとに設計し、形成する必要があり、開発効率が極めて悪い。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の半導体装置は、上面に複数の電極パッドを有する半導体素子と、半導体素子の下面に、それぞれ、分離部にて分離して設けられた複数の薄膜端子と、半導体素子および各薄膜端子との間に設けられた絶縁層と、各半導体素子の電極パッドと各薄膜端子とを接続する接続部材と、半導体素子、半導体素子から露出した複数の薄膜端子、分離部上および接続部材を覆って設けられた樹脂層と、を具備し、各薄膜端子は、半導体素子の下面に積層される内側領域と、半導体素子の外側に対応する外側領域とを有し、半導体素子の外側領域には変形部が形成され、変形部は、薄膜端子の外側領域内に変形部を複数個配置できる面積を有し、かつ、半導体素子とは反対面側に突き出すほぼ半球状の突出部と、突出部の中央部において、突出部の底部から、半導体素子側に立ち上がる支持部とを有し、接続部材の一端は変形部の支持部の上面に接続され、各薄膜端子の変形部内に樹脂層の一部が充填されていることを特徴とする。
【０００６】
また、本発明の半導体装置の製造方法は、電極パッドを有する半導体素子を準備する工程と、半導体素子より大きい面積の金属薄膜を準備し、半導体素子を金属薄膜上に、絶縁層を介して固定する工程と、電極パッドと金属薄膜とを接続部材により電気的に接続する工程と、金属薄膜上に半導体素子および接続部材を覆う樹脂層を形成する工程と、金属薄膜を所定形状の薄膜端子に形成する工程と、を具備し、半導体素子より大きい面積の金属薄膜を準備する工程は、金属薄膜における半導体素子の外側領域に複数の変形部を形成する工程を含み、各変形部を形成する工程は、半導体素子とは反対面側に突き出すほぼ半球状の突出部と、突出部の中央部において、突出部の底部から、半導体素子側に立ち上がる支持部とを形成する工程を含み、電極パッドと金属薄膜とを接続部材により電気的に接続する工程は、接続部材の一端を変形部の支持部の上面に接続する工程を含み、金属薄膜上に半導体素子および接続部材を覆う樹脂層を形成する工程は、各変形部内に樹脂層を充填する工程を含み、金属薄膜を所定形状の薄膜端子に形成する工程は、各薄膜端子が、半導体素子の下面に積層される内側領域と、半導体素子の外側に対応する外側領域とを有するように分離する工程を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
この発明によれば、半導体素子の電極パッドに接続される薄膜端子を形成するに際し、リードフレームを用いる必要がなく、それゆえに、リードフレームに加工を施す必要がないので、開発効率および生産性を向上することができる。また、薄膜端子に変形部を設け、変形部内に半導体素子を覆う樹脂層の一部が充填されるので、樹脂層が収縮することにより、薄膜端子と樹脂層の固着力が補強されるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】この発明の半導体装置の第1の実施形態を示す拡大斜視図。
【図２】図１の半導体装置の製造方法を説明するための斜視図。
【図３】図２に続く工程を説明するための斜視図。
【図４】図３に続く工程を説明するための斜視図。
【図５】図４に続く工程を説明するための斜視図。
【図６】図５に続く工程を説明するための斜視図。
【図７】図６に続く工程を説明するための斜視図。
【図８】図７に続く工程を説明するための斜視図であり、図２〜図７に対し表裏面を反転して裏面側からみたものである。
【図９】図１の半導体装置の製造方法を説明するための拡大断面図であり、図２に示す工程において、１個の半導体装置形成領域内を図示した図面である。
【図１０】図９に続く工程を説明するための拡大断面図であり、図３に示す工程に対応する。
【図１１】図１０に続く工程を説明するための拡大断面図であり、図４に示す工程に対応する。
【図１２】図１１に続く工程を説明するための拡大断面図であり、図５に示す工程に対応する。
【図１３】図１２に続く工程を説明するための拡大断面図であり、図６に示す工程に対応する。
【図１４】図１３に続く工程を説明するための拡大断面図であり、図７に示す工程に対応する。
【図１５】金属薄膜の変形部を詳細に説明するための拡大断面図。
【図１６】本発明の半導体装置を回路基板に実装した状態を示す拡大断面図。
【図１７】本発明の半導体装置およびその製造方法の第２の実施形態を説明するための拡大断面図。
【図１８】図１７に続く工程を説明するための拡大断面図。
【図１９】図１８に続く工程を説明するための拡大断面図。
【図２０】図１９に続く工程を説明するための拡大断面図。
【図２１】図２０に続く工程を説明するための拡大断面図。
【図２２】本発明の半導体装置の第１の変形例を示す拡大断面図。
【図２３】本発明の半導体装置の第２の変形例を示す拡大断面図。
【図２４】本発明の半導体装置の製造方法の別の例を示す拡大斜視図。
【図２５】本発明の半導体装置の製造方法に関し、図２４とは異なる別の例を示す拡大斜視図。
【図２６】本発明の半導体装置の第３の実施形態を説明するための図であり、図２６(Ａ)は上面図であり、図２６（Ｂ）は図２６（Ａ）のＸＸＶＩB−ＸＸＶＩB線切断断面図であり、図２６（Ｃ）は、下面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
（実施形態１）
以下、この発明の半導体装置の第１の実施形態について説明する。
図１は、本発明の半導体装置の拡大斜視図である。半導体装置１０は、半導体素子１１の下面に、分離部１６で分離された複数の薄膜端子３０Ａを有する。半導体素子１１は、集積回路が形成された半導体ウエハをダイシングすることにより得られる。半導体素子１１は、表面が露出された複数の電極パッド１２を有する。電極パッド１２の周囲には、図示はしないが、酸化シリコン、あるいは、さらにその上にポリイミド膜等の保護膜が形成されている。図１において、電極パッド１２はバンプ状とされているが、必ずしも、上面から突き出しておく必要はない。
【００１０】
薄膜端子３０Ａは半導体素子１１の周囲から突き出す部分を有しており、この突き出した部分において、ワイヤ(接続部材)１３の一端がボンディングされている。電極パッド１２にはワイヤ１３の他端がボンディングされている。したがって、各薄膜端子３０Ａは対応する電極パッド１２に、ワイヤ１３により電気的に接続されている。
【００１１】
そして、半導体素子１１、半導体素子１１の外形から突き出した薄膜端子３０Ａおよび分離部１６およびワイヤ１３は、エポキシ樹脂等の熱硬化型の樹脂層１５により覆われている。
なお、図１の半導体装置１０は、半導体素子１１の電極パッド１２および薄膜端子３０Ａを、それぞれ、４個有する例として図示されているが、これは、図示の都合であって、実際には、半導体素子１１の上面に多数の電極パッド１２が形成され、半導体素子１１の下面側には、電極パッド２０に対応する数の薄膜端子３０Ａが形成されている。
【００１２】
薄膜端子３０Ａはアルミニウム等の金属箔により形成されており、限定する意味ではないが、その厚さは３０〜１００μｍ程度と大変薄く形成されている。
各薄膜端子３０Ａは、変形部２０を有する。図１５は変形部２０の拡大断面図である。
変形部２０は、樹脂層１５に対向する面側から外面側（換言すれば、図１５の上面側から下面側）に向かって突き出されており、大略、外形が半球形状とされ、その中央部に陥没部を有する形状を有する。
【００１３】
より詳細には、変形部２０の半球状の突出部２２の内側は、最深部２３ａを有する溝２３とされており、溝２３の最深部２３ａから内側に向かって直線状に立ち上がる斜面部２３ｂを有する。
変形部２０の中央部分は、上面２１ａが、変形部２０の周囲の２０ａと同一面とされた平坦な接続部２１を有しており、この接続部２１を溝２３の斜面部２３ｂが支持している。接続部２１の上面２１ａにおいて、前述のワイヤ１３の一端がボンディングされる。２点鎖線は、ワイヤ１３のボンディング状態を示す。
接続部２１および溝２３の斜面部２３ｂは、外側からみると、円錐体形状の陥没部２４を形成しており、後述するが、この陥没部２４内に、外部端子に接続するための導電性の接続材料が充填される。
【００１４】
図１に戻って、樹脂層１５は、変形部２０の溝２３内にも充填されており、後述する如く、樹脂層１５の硬化に伴い各薄膜端子３０Ａを確実に保持する構成となっている。
半導体装置１０の外形サイズは、２〜５ｍｍ（長さ)×２〜５ｍｍ(幅)×０．３〜０．８ｍｍ（厚さ）とすることが可能であり、このように小さいサイズの半導体装置１０を、生産効率および信頼性が高く、且つ、効率的に生産することが可能である。
以下、第１実施形態の半導体装置の製造方法の一例を説明する。
【００１５】
図２〜図８は、本発明の半導体装置の製造方法の一例を説明するための拡大斜視図であり、図９〜図１４は、それぞれ、図２〜図７対応する拡大断面図である。但し、図２〜図８が多数の半導体装置を同時に形成する方法を図示しているに対し、図９〜図１４は、説明の都合上、１個の半導体装置について、その製造過程を説明するための断面図を図示している。
【００１６】
先ず、図２に図示されているように、多数の半導体装置１０を形成することができるサイズの金属薄膜３０を準備し、同様なサイズを有するステンレス（ＳＵＳ）等からなる基台４１に、接着性を有する絶縁層４２により接着する。
図９に図示される通り、基台４１、絶縁層４２、金属薄膜３０が、この順に密着して積層される。
【００１７】
次に、プレスにより、金属薄膜３０に多数の変形部２０を形成する(図３、図１０参照)。各変形部２０は、前述した如く、図１５に図示される断面形状を有しており、突出部２２の中央に接続部２１を有する形状を有する。変形部２０は、その全体が絶縁層４２内に収まるように形成される。すなわち、変形部２０の高さＨは、絶縁層４２の厚さＴよりも小さい。
一例として、変形部２０の高さＨを３０〜７０μｍ、直径Ｄを２００〜３００μｍとし、絶縁層４２の厚さＴを５０〜２００μｍとすることができる。但し、上記したＴ＞Ｈの条件付きである。
【００１８】
次に、図４に図示されるように、金属薄膜３０の各半導体装置形成領域内に、上面に電極パッド１２を有する半導体素子１１を固着する。半導体素子１１と金属薄膜３０との固着はダイアタッチ材等の絶縁材４３を両部材の間に介在して行う(図１１参照)。絶縁材４３は、予め、各半導体素子１１の下面に接着しておいても良いし、金属薄膜３０の上面に接着しておいてもよい。
【００１９】
次に、半導体素子１１の各電極パッド１２を金属薄膜３０にワイヤボンディングでする（図５および図１２参照）。
キャピラリ(図示せず)によりワイヤを加熱して、ワイヤの一端を球状に成形して、金属薄膜３０の変形部２０の接続部２１にボンディングし、他端を電極パッド１２にボンディングする。これにより、ワイヤ１３により電極パッド１２と金属薄膜３０が電気的に接続される。
【００２０】
前述した通り、ワイヤ１３の一端が接続される変形部２０の接続部２１は、金属薄膜３０の任意の位置に形成したものであるから、リードフレームを用いてそのリードフレームの所定の位置にボンディングする従来の方法の如く、予め、半導体素子の機能・用途・サイズに応じて、リードフレームのサイズ、形状、位置等を設計する必要は無い。つまり、この状態では、金属薄膜３０が、以下に説明する如く、まだ分離された端子形状とされていないため、各変形部２０はワイヤ１３をボンディングするうえで、最適な位置に設定することができる。このように、本発明では、ワイヤ１３を、金属薄膜３０における最適な位置に、最適なサイズでボンディングすることが可能となっている。
【００２１】
次に、図５および図１２の状態のまま、図示しない金型内に装着し、金型内に樹脂を流入して、図６および図１３に図示するように、金属薄膜３０上の全体を樹脂層１５で覆う。つまり、半導体素子１１の上面および全側面、半導体素子１１から露出した金属薄膜３０の上面およびワイヤ１３の周囲全体に樹脂層１５を形成する。
【００２２】
この状態では、変形部２０の溝２３内にも樹脂層５が充填されている。そして、樹脂層１５が冷却される。図６および図１３に図示された状態では、金属薄膜３０は、金属薄膜３０に対する絶縁材４３および樹脂層１５の接着力のみで保持される。しかし、本発明では、変形部２０の溝２３内にも樹脂層１５が充填されているため、冷却により樹脂層１５が収縮することにより、金属薄膜３０と樹脂層１５の固着力が補強される。
【００２３】
次に、基台４１および絶縁層４２を除去して、金属薄膜３０の下面を露出する(図７参照)。
そして、図８に図示されるように、各半導体素子１１の下面に位置する金属薄膜３０を、ダイシングブレード５１を用いて、行方向および列方向いずれの方向においても分離部１６で分離されるように切断する。
【００２４】
次に、各半導体装置形成領域の境界部で金属薄膜３０および樹脂層１５を、ダイシングブレード５２を用いて行方向および列方向に切断すると、金属薄膜３０が個々に分離されて薄膜端子３０Ａが形成され、図１４および図１に図示されるように、本発明の半導体装置１０が得られる。
【００２５】
ダイシングブレード５２を用いて金属薄膜３０と樹脂層１５を切断する際、金属薄膜３０と樹脂層１５の固着力が小さいと、金属薄膜３０が剥離してしまい、薄膜端子３０Ａを形成することが困難になることがある。これに対し、本発明では、金属薄膜３０に変形部２０が設けられており、樹脂層１５が収縮することにより、変形部２０内に充填された樹脂層１５が変形部２０の突出部２２に圧着されるので、金属薄膜３０と樹脂層１５の固着力が増大し、薄膜端子３０の剥離を防止することができる。
【００２６】
金属薄膜３０を切断して分離部１６を形成する方法および各半導体装置形成領域の境界部で金属薄膜３０および樹脂層１５を切断する方法は、ダイシングブレードを用いたダイシングによる方法に限らず、エッチング液を用いたウエットエッチング法、化学反応ガスおよび／または不活性ガスを用いたプラズマエッチング等のドライエッチング法を用いることができる。
【００２７】
上述した如く、本発明の半導体装置および半導体装置の製造方法によれば、半導体素子の電極パッドに接続される薄膜端子を形成するに際し、リードフレームを用いる必要がなく、それゆえに、リードフレームに加工を施す必要がないので、開発効率および生産性が向上する。特に、リードフレームを形成する際のパターンマスクが不要となるので、コストの大幅な低減が可能となる。また、半導体素子１１の外形サイズより大きい外形サイズの金属薄膜３０上の任意の位置にワイヤをボンディングするので、ワイヤおよび薄膜端子の位置、サイズを適切にしてボンディング密度を高めることが可能である。
また、薄膜端子は、極めて薄い厚さにすることができるので、これによっても低コスト化および一層の薄型化を図ることができる。
さらに、薄膜端子３０Ａに溝２３を有する変形部２０を設けているので、薄膜端子３０Ａと樹脂層１５との固着力の向上を図ることができる。
【００２８】
図１６は、本発明の半導体装置１０を回路基板６０に実装した状態の拡大断面図を示す。
回路基板６０には、上面に接続端子６１が形成されている。この接続端子６１に半導体装置１０の薄膜端子３０Ａを位置合わせして、半田等の接合材６２により両部材を接合する。
薄膜端子３０Ａは変形部２０の中央部に陥没部２４が形成されており、接合材６２は、この陥没部２４内を充填し接合強度を強化する。接合材６２は、接続端子６１上に設けておいてもよいし、変形部２０の突出部２２の表面および陥没部２４内に設けておいてもよい。
また、接合材６２は、半田に限らず、銀ペースト等の導電性接続材料、面方向には絶縁性で厚さ方向のみ導電性を示す異方導電性接続材等を適用することも可能である。
【００２９】
（実施形態２）
第１の実施形態では、半導体装置１０の各薄膜端子３０Ａには、ワイヤ１３が接続される位置のみに変形部２０が形成されている。しかし、各薄膜端子３０Ａに変形部２０を多数個形成するようにしてもよい。
図２１は、このような半導体装置７０の拡大断面図である。この半導体装置７０の各薄膜端子３５Ａには多数の変形部２０が形成されている。各変形部２０は第１の実施形態に示す構造を有しており、突出部２２と接続部２１とが、長手方向に沿って交互に配列されている。複数の変形部２０の１つに、他端が電極パッド１２に接続されたワイヤ１３の一端が接続されている。変形部２０は、図面に垂直な方向にも、多数個、複数列に配列されて形成されている。
以下、図１７〜図２１を参照して、図２１に図示された半導体装置の製造方法の一例を説明する。
なお、第２の実施形態において、第１の実施形態と同一な部材は、同一の参照番号を付し、適宜、その説明を省略する。
【００３０】
第１の実施形態と同様に金属薄膜３５を、絶縁層４２により基台４１上に接着し、熱プレスにより、金属薄膜３５に多数の変形部２０を形成する。この場合、第１の実施形態と異なり、金属薄膜３５の長手方向に沿って多数の変形部２０が形成されている。すなわち、図１７に図示されるように、金属薄膜３５の長手方向に沿って、平坦な上面を有する接続部２１と突出部２２とが、交互に、繰り返して形成されている。各変形部２０の突出部２２の内面には溝２３が形成され、接続部２１の外面には円錐台形状の陥没部２４が形成されている。この場合、図示はしないが、変形部２０は、金属薄膜３５の奥行き方向（図面に垂直な方向）に、多数列に亘って配列されている。この場合、変形部２０は、各列ごとに等間隔で形成すれば、後述する、各薄膜端子に形成される変形部の数が同一となり、樹脂層との固着力が均一となるため、好ましい。しかし、必ずしも、等間隔で配列する必要はなく、不均一な間隔で設けても良い。
【００３１】
次に、金属薄膜３５の各半導体装置形成領域内に電極パッド１２を有する半導体素子１１を固着する。半導体素子１１は、第１の実施形態と同様に、絶縁材４３により金属薄膜３５に固着される。しかし、第１の実施形態と異なり、絶縁材４３は、金属薄膜３５の変形部２０の少なくとも一つの変形部２０を覆って形成される。すなわち、図１８に図示されるように、一部の変形部２０の溝２３内に充填される。このため、絶縁材４３と金属薄膜３５との固着力は第１の実施形態の場合よりも強化される。
【００３２】
次に、図１９に図示されるように、各電極パッド１２を金属薄膜３５の複数の変形部２０の中の１つにワイヤ１３により接続する。この場合、変形部２０は多数個形成されているが、そのうちの最適な位置にある変形部２０の接続部２１に接続すればよい。
【００３３】
次に、図２０に図示されるように、金属薄膜３５上の全体を樹脂層１５で覆う。樹脂層１５は、半導体素子１１の上面および全側面、半導体素子１１から露出した金属薄膜３５およびワイヤ１３の周囲を覆って形成する。従って、半導体素子１１から露出したすべての変形部２０の溝２３内に充填される。
【００３４】
第１の実施形態で説明した通り、変形部２０の溝２３内に樹脂層１５が充填されることにより、金属薄膜３５と樹脂層１５の固着力が補強されるが、第２の実施形態では、第１の実施形態よりも多数の変形部２０が形成されているため、金属薄膜３５と樹脂層１５の固着力は、第１の実施形態よりもさらに大きくなる。
【００３５】
次に、基台４１および絶縁層４２を除去して、金属薄膜３５の下面を露出する。
そして、図２１に図示されるように、各半導体素子１１の中央部の下面に位置する金属薄膜３５を、ダイシング等適宜な方法により除去する。この後、各半導体装置形成領域の境界部で樹脂層１５および金属薄膜３５を切断することにより、個別に分離された薄膜端子３５Ａを有する半導体装置７０を得る。
【００３６】
第２の実施形態の半導体装置７０の場合にも、第１の実施形態の半導体装置１０の場合と同様な効果を奏することができる。
加えて、第２の実施形態の半導体装置７０の場合には、変形部２０がワイヤ１３を接続する部分以外にも多数個形成されているので、金属薄膜３５と樹脂層１５の固着力を一層高めることができる。
【００３７】
（変形例）
以下に、第１の実施形態および第２の実施形態に示された半導体装置の変形例を示す。
図２２は、半導体装置１０の変形例である半導体装置１０Ａを示す。半導体装置１０Ａが半導体装置１０と異なる点は、半導体装置１０Ａでは、分離部１６が薄膜端子３０Ａのみでなく、絶縁材４３を貫通し、半導体素子１１の下面部にまで達する構成とされている点である。
【００３８】
このような半導体装置１０Ａを形成するには、ダイシングブレード５１により金属薄膜３０を切断して薄膜端子３０Ａを形成する、図８に示す工程において、ダイシングブレード５１の先端を、半導体素子１１の下面の一部を切断する深さに達する位置に設定して切断すればよい。
図２２は、半導体装置１０の変形例として図示されているが、図２１に示した半導体装置７０に対しても同様に、分離部１６を半導体素子１１の下部に達する深さとすることができる。
【００３９】
図２３は、半導体装置７０の変形例７０Ａを示す。この半導体装置７０Ａが半導体装置７０と相違する点は、分離部１６が薄膜端子７０Ａのみでなく、絶縁材４３の少なくとも下部を開口するように形成されている点である。このような半導体装置７０Ａを形成するには、ダイシングブレードにより金属薄膜７０を切断して薄膜端子７０Ａを形成するには、図８に示す工程において、ダイシングブレード５１の先端を、絶縁材４３に達するが半導体素子１１には達しない位置に設定して切断すればよい。
図２３は、半導体装置７０の変形例として図示されているが、半導体装置１０に対しても同様に、分離部１６を、絶縁材４３に達するが半導体素子１１には達しない深さとすることができる。
【００４０】
図２４は、本発明の半導体装置の製造方法の変形例を示す拡大斜視図である。
第１および第２の実施形態では、金属薄膜３０または３５を半導体素子１１の電極パッド１２にワイヤ１３により接続した後、金属薄膜３０または３５をダイシングブレードにより切断して、薄膜端子３０Ａまたは３５Ａに形成する方法であった。図２４に図示される方法では、半導体素子１１を搭載する前に、金属薄膜３６に変形部２０と共に分離部１６を形成しておく。分離部１６は、半導体素子１１の中央部を通る行方向および列方向に延出し、その長さは、形成される薄膜端子の外形サイズを超える位置に達する長さとする。
【００４１】
そして、金属薄膜３６に半導体素子１１を固着し、変形部２０の接続部２１と電極パッド１２をワイヤで接続し、全体を樹脂層で覆った後、二点差線で示す位置で、金属薄膜３６および樹脂層を切断する。これにより、金属薄膜３６が個々に分離されて薄膜端子３６Ａが形成される。この方法による場合には、薄膜端子３６Ａを形成する工程において、金属薄膜３６に与える衝撃等の外力が小さいので、薄膜端子３６Ａの形成が容易で確実となる。
【００４２】
図２５は、本発明の半導体装置の製造方法のさらに別の変形例を示す拡大斜視図である。
図２５に図示された例では、半導体素子１１を搭載する前に、金属薄膜３７に変形部２０と共に、搭載される半導体素子１１の中央部に対応する位置に、半導体素子１１の外形サイズよりも小さい外形サイズの開口部１７を形成しておく。
そして、金属薄膜３７に半導体素子１１を固着し、変形部２０の接続部２１と電極パッド１２をワイヤで接続し、全体を樹脂層で覆った後、二点差線で示すように、開口部１７を通過する行方向および列方向に沿って金属薄膜３７を除去し、分離部１６を形成する。これにより、金属薄膜３７が個々に分離される。
この後、金属薄膜３７および樹脂層を外形サイズで切断すれば、個々の半導体装置が得られる。
【００４３】
（実施形態３）
図２６は、本発明の半導体装置の第３の実施形態を示す。この実施形態の半導体装置８０は、薄膜端子が半導体素子１１の全側辺部に沿って配列された例を示しており、図２６（Ａ）は上面図、図２６（Ｂ）は図２６（Ａ）のＸＸＶＩB−ＸＸＶＩB線切断断面図であり、図２６（Ｃ）は、下面図である。
この実施形態における半導体素子１１は、四辺のすべての側辺部に沿って配列された電極パッド１２を有する。また、薄膜端子３８Ａも接続されるべき電極パッド１２が配置された側辺部と同一の側辺部に配列されている。
【００４４】
そして、各薄膜端子３８Ａは、絶縁材４３により半導体素子１１の下面に固着された状態で、ワイヤ１３により電極パッド１２に接続されている。また、半導体素子１１および薄膜端子３８Ａ上を含む全体は樹脂層１５により被覆されている。
図２６では、電極パッド１２および薄膜端子３８Ａは各側辺部に３個づつ配置されているが、各側辺部に配置される電極パッド１２および薄膜端子３８Ａの数は、アライメントおよび薄膜端子形成時の解像度の限界まで増大することが可能であり、この点に関する本発明の適用可能性に制限はない。
【００４５】
なお、上記第１〜第３の実施形態においては、樹脂層１５に対向する面側に溝部２３を有する変形部２０を設け、溝２３内に充填された樹脂層１５の収縮により樹脂層１５と金属薄膜３０との固着力を増大する構造であった。しかし、樹脂層１５と金属薄膜３０と固着力を増大する方法としては上記の構造に限定されない。例えば、金属薄膜３０の樹脂層１５との接面側を、表面粗さが、例えば、６〜１０μｍ程度の微細な凹凸を形成するようにしてもよい。また、このように、金属薄膜３０に微細な凹凸を形成し、且つ、第１〜第３の実施形態に示した如く、樹脂層１５に対向する面側に溝部２３を有する変形部２０を設ける構造としてもよい。
【００４６】
さらに、上記実施形態を以下のように変形して実施することができる。
半導体素子として、集積回路を有する集積回路素子を例として説明した。
しかし、この発明は、ＬＥＤ、ネットワーク用受動素子、半導体センサ等、ディスクリート部品や受動部品あるいはハイブリッド部品にも適用することができる。
【００４７】
変形部２０の接続部２１の上面２１ａの高さは、薄膜端子３０Ａの上面２０ａと同一面としたが、これに限らず、接続部２１の上面２１ａは、薄膜端子３０Ａよりも低くしても差し支えない。この場合、接続部２１の上面２１ａを変形部２０の最深部２３ａと同一面とすることも可能である。
【００４８】
樹脂層１５を形成する方法として、半導体素子１１を金属薄膜３０にボンディングした後、基台４１と共に金型内に収納して樹脂層１５を成形により形成する方法で説明した。しかし、半導体素子１１を金属薄膜３０にボンディングし、基台４１を除去した後、樹脂層１５を成形するようにしてもよい。一例として、金属薄膜３０の周縁部上面を上金型の底面に押し付け、周縁部下面を下金型で押さえ付けた状態で型締めし、金型内に樹脂を導入して樹脂層１５を形成することができる。
【００４９】
その他、本発明の半導体装置は、発明の趣旨の範囲内において、種々、変形して構成することが可能であり、要は、上面に複数の電極パッドを有する半導体素子と、半導体素子の下面に、それぞれ、分離部にて分離して設けられた複数の薄膜端子と、半導体素子および各薄膜端子との間に設けられた絶縁層と、各半導体素子の電極パッドと各薄膜端子とを接続する接続部材と、半導体素子、半導体素子から露出した複数の薄膜端子、分離部上および接続部材を覆って設けられた樹脂層と、を具備し、各薄膜端子は、半導体素子の下面に積層される内側領域と、半導体素子の外側に対応する外側領域とを有し、半導体素子の外側領域には変形部が形成され、変形部は、薄膜端子の外側領域内に変形部を複数個配置できる面積を有し、かつ、半導体素子とは反対側に突き出すほぼ半球状の突出部と、突出部の中央部において、突出部の底部から、半導体素子側に立ち上がる支持部とを有し、接続部材の一端は変形部の支持部の上面に接続され、各薄膜端子の変形部内に樹脂層の一部が充填されているものであればよい。
【００５０】
また、本発明の半導体装置の製造方法は、電極パッドを有する半導体素子を準備する工程と、半導体素子より大きい面積の金属薄膜を準備し、半導体素子を金属薄膜上に、絶縁層を介して固定する工程と、電極パッドと金属薄膜とを接続部材により電気的に接続する工程と、金属薄膜上に半導体素子および接続部材を覆う樹脂層を形成する工程と、金属薄膜を所定形状の薄膜端子に形成する工程と、を具備し、半導体素子より大きい面積の金属薄膜を準備する工程は、金属薄膜における半導体素子の外側領域に複数の変形部を形成する工程を含み、各変形部を形成する工程は、半導体素子とは反対側に突き出すほぼ半球状の突出部と、突出部の中央部において、突出部の底部から、半導体素子側に立ち上がる支持部とを形成する工程を含み、電極パッドと金属薄膜とを接続部材により電気的に接続する工程は、接続部材の一端を変形部の支持部の上面に接続する工程を含み、金属薄膜上に半導体素子および接続部材を覆う樹脂層を形成する工程は、各変形部内に樹脂層を充填する工程を含み、金属薄膜を所定形状の薄膜端子に形成する工程は、各薄膜端子が、半導体素子の下面に積層される内側領域と、半導体素子の外側に対応する外側領域とを有するように分離する工程を含むものであればよい。
【符号の説明】
【００５１】
１０、１０Ａ  半導体装置
１１  半導体素子
１２  電極パッド
１３  ワイヤ(接続部材)
１５  樹脂層
１６  分離部
１７  開口部
２０  変形部
２０ａ、２１ａ  上面
２１  接続部
２２  突出部
２３  溝
２３ａ  最深部
２４  陥没部
３０、３５、３６、３７  金属薄膜
３０Ａ、３５Ａ、３６Ａ、３８Ａ  薄膜端子
３１  上面
４１  基台
４２  絶縁層
４３  絶縁材
７０、７０Ａ、８０  半導体装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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