(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
多孔質体である、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜の製造方法であって、
アセチレン系界面活性剤からなる多孔化剤を含むめっき液を用いて前記Ｎｉ−Ｍｏめっき膜を形成する、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜の製造方法。
【請求項２】
平均膜厚が２０μｍ以上である、請求項１に記載のＮｉ−Ｍｏめっき膜の製造方法。
【請求項３】
断面における空隙の占める面積の割合が３％以上である、請求項１または２に記載のＮｉ−Ｍｏめっき膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、金属板の表面の耐食性や質感などを向上するために、金属板の表面にＮｉ−Ｃｒめっき膜を形成することが知られている。しかしながら、Ｎｉ−Ｃｒめっき膜の形成には、環境負荷が高い６価クロムを含むめっき液が必要となる。従って、近年、Ｎｉ−Ｃｒめっき膜に替わるめっき膜の研究開発が盛んに行われている。【０００３】
Ｎｉ−Ｃｒめっき膜に替わるめっき膜としては、下記の特許文献１などにおいて、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜が提案されている。このＮｉ−Ｍｏめっき膜は、優れた耐食性を有し、かつ、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜の形成には、６価クロムを含むめっき液などの環境負荷が極めて高いめっき液が必要とならない。従って、Ｎｉ−Ｃｒめっき膜に代替するめっき膜として、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜に対する注目が年々高まりつつある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−８２８５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜により優れた耐食性を実現するためには、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜をある程度以上厚く形成する必要がある。しかしながら、従来のＮｉ−Ｍｏめっき膜は、厚く形成しようとしたときにクラックが生じやすい。従って、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜は、十分に優れた耐食性が得られるほど厚く形成し難いという問題があった。【０００６】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的は、厚く形成し得るＮｉ−Ｍｏめっき膜及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係るＮｉ−Ｍｏめっき膜は、多孔質体である。このため、本発明に係るＮｉ−Ｍｏめっき膜は、厚く形成した場合であっても、クラックが生じ難い。従って、本発明に係るＮｉ−Ｍｏめっき膜は、例えば、良好な耐食性を得ることができる程度にまで厚く形成することができる。【０００８】
本発明において、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜の平均膜厚が２０μｍ以上であることが好ましい。Ｎｉ−Ｍｏめっき膜の平均膜厚を２０μｍ以上とすることにより、より良好な耐食性を得ることができる。さらに良好な耐食性を得る観点からは、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜の平均膜厚は、さらに厚い方が好ましい。しかしながら、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜の平均膜厚を３００μｍ以上としても、それほど大きな耐食性の向上効果が得られない。また、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜が厚すぎると、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜の形成に要する時間が長くなりすぎる場合がある。従って、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜の平均膜厚は、３００μｍ以下であることが好ましい。【０００９】
本発明において、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜の断面における空隙の占める面積の割合は、３％以上であることが好ましい。Ｎｉ−Ｍｏめっき膜を厚く形成した場合においても、クラックがより生じ難くなるためである。Ｎｉ−Ｍｏめっき膜の断面における空隙の占める面積の割合は、５％以上であることがより好ましく、８％以上であることがさらに好ましい。但し、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜の断面における空隙の占める面積の割合が大きすぎると、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜の充填率が低くなりすぎ、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜を形成することによる耐食性向上効果などの効果が十分に得られなくなる場合がある。従って、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜の断面における空隙の占める面積の割合は、３０％以下であることが好ましい。【００１０】
Ｎｉ−Ｍｏめっき膜の断面における空隙の占める面積の割合は、例えば、下記の多孔化剤を用いためっき法を用いた場合は、めっき液への多孔化剤の添加量や、めっき時間を調節することにより制御することができる。また、下記の樹脂製粒子を用いためっき法を用いた場合は、めっき液に含まれる樹脂製粒子の量を調節することにより制御することができる。【００１１】
なお、本発明において、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜の空隙は、連続気泡により構成されていてもよいし、独立気泡により形成されていてもよい。【００１２】
本発明に係るＮｉ−Ｍｏめっき膜の製造方法は、上記本発明に係るＮｉ−Ｍｏめっき膜の製造方法に関する。本発明に係るＮｉ−Ｍｏめっき膜の製造方法では、アセチレン系界面活性剤からなる多孔化剤を含むめっき液を用いてＮｉ−Ｍｏめっき膜を形成する。この製造方法によれば、上記本発明に係るＮｉ−Ｍｏめっき膜を好適に製造することができる。【００１３】
なお、アセチレン系界面活性剤からなる多孔化剤を含むめっき液を用いることにより、多孔質体からなるＮｉ−Ｍｏめっき膜ができる原理は、定かではないが、以下のような原理が考えられる。【００１４】
アセチレン系界面活性剤を含むめっき液においては、アセチレン系界面活性剤はミセル構造を形成している。そのアセチレン系界面活性剤のミセルは、静電反発することで、小泡状に分散した状態で存在する。このため、被めっき部材を、このめっき液に浸漬すると、被めっき部材の表面に、アセチレン系界面活性剤のミセルがまだら状に付着する。この状態でめっき成長させた場合、被めっき部材の表面の、アセチレン系界面活性剤のミセルが付着している部分におけるめっき成長が阻害される。よって、アセチレン系界面活性剤のミセルが付着していた部分に空隙が形成される。その結果、多孔質体からなるＮｉ−Ｍｏめっき膜を形成できるものと考えられる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明に係るＮｉ−Ｍｏめっき膜は、多孔質体である。このため、本発明に係るＮｉ−Ｍｏめっき膜は、厚く形成した場合であっても、クラックが生じ難い。従って、本発明に係るＮｉ−Ｍｏめっき膜は、例えば、高い耐食性を得ることができる程度にまで厚く形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、実施例１において形成したＮｉ−Ｍｏめっき膜の平面写真である。
【図２】図２は、実施例１において形成したＮｉ−Ｍｏめっき膜の拡大平面写真である。
【図３】図３は、実施例２において形成したＮｉ−Ｍｏめっき膜の平面写真である。
【図４】図４は、実施例２において形成したＮｉ−Ｍｏめっき膜の拡大平面写真である。
【図５】図５は、実施例２において形成したＮｉ−Ｍｏめっき膜の断面写真である。
【図６】図６は、比較例において形成したＮｉ−Ｍｏめっき膜の平面写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明について、実施例に基づいてより具体的に説明する。但し、以下の実施例は、単なる例示である。本発明は、以下の実施例に何ら限定されない。
【００１９】
（実施例１）
まず、硫酸ニッケル６水和物（ＮｉＳＯ４・６Ｈ２Ｏ）：０．２Ｍ、モリブデン酸ナトリウム２水和物（Ｎａ２ＭｏＯ４・２Ｈ２Ｏ）：０．１Ｍ、錯化剤としてのグルコン酸ナトリウム：０．３Ｍ、及び多孔化剤としてのアセチレン系界面活性剤：１ｇ／Ｌを含むめっき液を用意した。このめっき液のｐＨは、１０であった。このめっき液中に、被めっき部材としてのＣｕ板と、Ｎｉ−Ｍｏ合金板とを浸漬し、Ｃｕ板と、Ｎｉ−Ｍｏ合金板との間に、電流密度０．０２Ａ／ｃｍ２の電流を、２０分間流すことにより、Ｃｕ板上にＮｉ−Ｍｏめっき膜を形成した。形成したＮｉ−Ｍｏめっき膜の平均膜厚を、走査型電子顕微鏡を用いて測定したところ、２０μｍであった。
【００２０】
本実施例において形成したＮｉ−Ｍｏめっき膜の平面写真と、拡大平面写真とを、図１及び図２に示す。図２に示す写真から、本実施例のＮｉ−Ｍｏめっき膜は、多孔質体からなることが分かる。なお、本実施例における、断面における空隙の占める面積割合は、１５％であった。
【００２１】
また、図１及び図２に示す写真から、形成したＮｉ−Ｍｏめっき膜の平均膜厚が２０μｍと厚いにも関わらず、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜には、クラックが生じていないことが分かる。
【００２２】
（実施例２）
めっき時間を３０分としたこと以外は、上記実施例１と同様にして、Ｃｕ板の上に、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜を形成した。形成したＮｉ−Ｍｏめっき膜の平均膜厚を、走査型電子顕微鏡を用いて測定したところ、３０μｍであった。
【００２３】
本実施例において形成したＮｉ−Ｍｏめっき膜の平面写真、拡大平面写真及び断面写真を、図３〜図５に示す。なお、図５の写真は、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜が表面に形成されたＣｕ板を樹脂でモールドした後に、研磨することにより露出したサンプル断面を撮影したものである。図５に示す写真において、右側部分がＣｕ板で、中央部分が、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜で、左側部分が樹脂である。
【００２４】
図４に示す写真から、本実施例において形成したＮｉ−Ｍｏめっき膜も、実施例１において形成したＮｉ−Ｍｏめっき膜と同様に、多孔質体からなることが分かる。但し、本実施例において形成したＮｉ−Ｍｏめっき膜の方が、実施例１において形成したＮｉ−Ｍｏめっき膜よりも、断面における空隙の占める面積割合が低いことが分かる。この結果から、めっき時間を長くすることにより、断面における空隙の占める面積割合が小さくできることが分かる。なお、本実施例における、断面における空隙の占める面積割合は、８％であった。
【００２５】
また、図３〜図５に示す写真から、本実施例においても、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜には、クラックが生じていないことが分かる。
【００２６】
（比較例）
多孔化剤を含まないこと以外は、上記実施例２において用いためっき液と同様のめっき液を用いて、上記実施例２と同様にしてＣｕ板の上に、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜を形成した。図６に、比較例において形成したＮｉ−Ｍｏめっき膜の平面写真を示す。図６に示すように、多孔化剤を用いておらず、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜が多孔質体ではない場合は、中央部に大きな破断箇所があり、均一なめっき膜が得られなかった。
【００２７】
以上の結果から、Ｎｉ−Ｍｏめっき膜を多孔質体からなるものとすることにより、厚くつけた場合であっても、クラックが発生することを効果的に抑制できることが分かる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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