(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
触媒粒子から、同伴および／または吸着された炭化水素を分離するための装置であって、
分離容器、
前記分離容器によって画定され、同伴または吸着された炭化水素を含有する触媒粒子を受け取る少なくとも一つのポート、
分離容器の少なくとも一部にわたって垂直方向に間隔をあけて配置された第一のバッフルおよび第二のバッフルであって、それらの間の下降経路を画定する第一および第二のバッフル、ここで、前記第一のバッフルは、垂直線に対し第一の鋭角で傾いた第一の面および垂直線に対し第二の鋭角で傾いた第二の面を含み、前記第一の鋭角は前記第二の鋭角とは異なり、前記第一の面が、分離容器の壁に固定された固定端及び突出端を有し、前記第二の面が、前記第一の面の突出端に固定された固定端を有し、
炭化水素を粒子材料から分離するため、分離流体を前記第一および第二のバッフルの下側に送る流体入口、及び
分離された粒子を第一および第二のバッフルから回収する粒子出口、
を含んでなる装置。
【請求項２】
前記第一のバッフルの第二の面は、前記第二のバッフルの垂直投影に向かって伸びる、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第一のバッフルの第二の面は、前記第二のバッフルの垂直投影内に伸びる、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
垂直スカートが前記第一および第二の面の交点から下方に延伸する、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記第二の鋭角が前記第一の鋭角よりも大きい、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記分離容器を通って反応器ライザーが延伸し、前記第一のバッフルが前記分離容器の壁によって支持され、前記第二のバッフルが前記反応器ライザーの壁によって支持される、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記第一のバッフルの前記第一の面の固定端が、前記壁のそれぞれ一つに固定される、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記第一のバッフルの前記第二の面は、前記下降経路内に延伸する、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
触媒粒子から同伴および／または吸着された炭化水素を分離するための方法であって、
触媒粒子を炭化水素ストリームと接触させ、
前記炭化水素ストリームとの接触後、触媒粒子から炭化水素を離脱させて、同伴および／または吸着された炭化水素を含有する使用済み触媒のストリームを生成し、
使用済み触媒粒子を複数のバッフル上を下方に通過させ、
使用済み触媒の少なくとも一部を、垂直線に対し第一の鋭角で第一のバッフルの第一の面を下るようにさせ、その後垂直線に対し第二の鋭角で第一のバッフルの第二の面を下るようにさせ、ただし、前記第二の鋭角は前記第一の鋭角とは異なるようにし、前記第一の面が、分離容器の壁に固定された固定端及び突出端を有し、前記第二の面が、前記第一の面の突出端に固定された固定端を有し、
分離流体および分離された炭化水素をバッフルから回収し、
分離された触媒粒子を前記バッフルから回収する、
ことを含む方法。
【請求項１０】
前記第一のバッフルの前記第二の面を下る前記使用済み触媒は、前記バッフルによって画定された下降経路を渡って、垂直線に対し第三の鋭角で隣接バッフルの第一の面を下り、その後垂直線に対し第四の鋭角で前記第二のバッフルの第二の面を下り、前記第四の鋭角は前記第三の鋭角とは異なっている、請求項９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、触媒と炭化水素の流動接触のための方法および装置に関する。より詳細には、本発明は、同伴または吸着された炭化水素を触媒粒子から分離するための方法および装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液体が粒子を流動化状態で維持し、固体粒子を方法の異なる工程に移送する条件下で微粉化粒子材料を炭化水素含有供給原料と接触させる方法は様々である。流動式接触分解（ＦＣＣ）はそのような方法の最たる例で、微粉化粒子材料からなる触媒と炭化水素を反応領域で接触させる。触媒が分解反応を促進する間、炭化水素供給原料および蒸気等の不活性希釈剤が触媒を流動化して、典型的にはライザーに移送する。分解反応が進むにつれて、コークスと呼ばれる炭化水素の実質量が触媒上に堆積する。再生領域での高温再生により、再び流動化媒体として作用する酸素含有ストリームとの接触によって、触媒からコークスが燃焼除去される。使用済み触媒としてここで言及されるコークス含有触媒が反応領域から継続的に除去され、再生領域からの本質的にコークスを含まない触媒によって置き換えられる。
【０００３】
反応領域で触媒に接触する炭化水素蒸気の大部分は、反応領域内で加速度および／または遠心分離法によって固体粒子から分離される。しかし、ＦＣＣプロセスで使用される触媒粒子は、粒子内に非常に多くの孔が存在するため表面積が大きい。その結果、触媒材料はその孔内、触媒外面上および個々の触媒粒子間の間隙に炭化水素を保持している。各個々の粒子上に保持された炭化水素の量は極めて少量であるが、大量の触媒および最新ＦＣＣ装置で典型的に使用される高触媒循環率によって、反応領域から相当量の炭化水素が触媒と共に回収される。
【０００４】
したがって、使用済み触媒を再生領域に送る前に使用済み触媒からの炭化水素の除去または分離が一般的に実施される。分離法の向上は、「デルタコークス」（delta coke）を低減してＦＣＣプロセスに経済的メリットをもたらす。デルタコークスは、使用済み触媒上のコークスの重量パーセントから再生済み触媒上のコークスの重量パーセントを減じたものである。ＦＣＣプロセスでデルタコークスを低減することにより、再生器の温度を低下させることができる。結果的に、生成される比較的低温の再生済み触媒のより多くが、反応領域で一定の熱負荷を供給するために必要とされる。そのため、反応領域は、比較的高い触媒／供給原料比または触媒／油（Ｃ／Ｏ）比で稼働されることがある。Ｃ／Ｏ比が高いほど、貴重な生成物の生成を増大させる転化が増える。したがって、分離法が向上すれば転化が向上する結果になる。さらに、触媒から炭化水素を分離することで、生成物として炭化水素を回収することもできる。
【０００５】
触媒を分離する最も一般的な方法として、触媒の流動ストリームを通して、分離ガス、通常は蒸気をその流動方向に逆流するように送る方法がある。このような蒸気分離作業は、様々な効率レベルで、触媒に同伴され触媒上に吸着された炭化水素蒸気を除去する。触媒と分離媒体との接触は、米国特許第４，４８１，１０３号で示されているように、シンプルな開放容器で実現することが可能である。
【０００６】
触媒分離の効率を高めるため、垂直方向に間隔をあけたバッフルを用いて、触媒が分離装置の下方へ移動し逆流して分離媒体と接触する間に、触媒を左右に連続流動させる。触媒を水平方向に移動させることによって、トレイの活性流動化した表面にわたって触媒と分離媒体間の接触が増え、それによってより多くの炭化水素が触媒から除去される。これらの配置において、触媒には、異なる高さに配置された一連のバッフルを通る入り組んだ経路が与えられる。この配置により、分離装置を通る顕著な断面の開口垂直経路はなくなるため、触媒とガスの接触が増加する。ＦＣＣ装置のこのような分離装置のさらなる例が、米国特許第２，４４０，６２０号、米国特許第２，６１２，４３８号、米国特許第３，８９４，９３２号、米国特許第４，４１４，１００号および米国特許第４，３６４，９０５号に示されている。これらの参考文献では、分離容器を有する典型的な分離容器構成が示されており、切頭円錐部形状の一連の外部バッフルが、触媒を一連の内部バッフル上に内部誘導する。内部バッフルは中央に配置された円錐または切頭円錐形状部であり、触媒を外部バッフル上へと外側に方向転換させる。分離媒体は、下方バッフルの下から入り、一つのバッフルの底から次に続くバッフルの底へ上昇し続ける。バッフルの設計は、典型的には、最上部のバッフルに蒸気噴出ノズルを設け、残りの下方バッフルにドリル孔をあけて、バッフル間の環状部分に蒸気を行き渡らせて確実に蒸気が周縁に完全に分散しやすくし、蒸気と触媒の接触を最大限可能にする。内部バッフルの外径は、典型的には外部バッフルの内径よりも小さくされて形成を容易にする。バッフルの様々な変形としては、米国特許第２，９９４，６５９号に記載されているようにバッフルの後縁周辺におけるスカートの付設や、米国特許第４，５００，４２３号の図３に示されるような異なったバッフル高で直線状に並んだ複数バッフル部の利用等がある。米国特許第２，５４１，８０１号には、分離媒体を導入する場合の変形が示されており、一定量の流動化ガスが多くの別々の場所で供給される。バッフルは、下降管に隣接するバッフルの縁に直立した堰を含んでいてもよい。
【０００７】
したがって、分離容器内で触媒をすべてのバッフルに確実に出くわすことによって、バッフル型分離容器における分離効率を高めることが望ましい。
【発明の概要】
【０００８】
我々は、ＦＣＣ分離容器内で触媒がバッフルまたはバッフルの一部を迂回する可能性があることを認めた。迂回が生じる可能性があるのは、分離流体が分離容器の対向壁に沿って上昇する一方、触媒がその対向壁の間の中央に向かって滞留している場合である。したがって、触媒はバッフル上で広がることがなく分離流体との接触も少ないため分離効率が低下する。これは、分離容器が大きいほど認められる現象であって、その理由は、触媒が通過しなければならないバッフル間の距離が比較的遠く、かつ各バッフルの水平方向の距離が比較的大きいためである。この迂回現象は、触媒ストリームを左右に連続流動させる運動量が不十分で触媒流動が低減した稼働時にも発生する。このような迂回現象を防止するため、我々は二つの面を有するバッフルを発明した。第二の面は対になったバッフル間の下降経路内に延びる。第二の面は、落下する触媒を分離容器の他方側の隣接バッフルに向かって誘導する。当該下方の面は、隣接バッフルに対する横断移動を容易にして、バッフル迂回を防いで効率を高める。バッフル迂回の回避でもたらされるさらにもう一つの利点は、分離容器内でより均一で高い床密度が得られることである。これは、触媒粒子を再生器容器に移送するための導管内に、スライド弁を介して適切な圧力差を与えるために特に重要である。
【０００９】
本発明の付加的な目的、実施形態および詳細については、本発明の以下の詳細な記載で述べられる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、本発明を組み込むことができるＦＣＣ反応器および分離器の構成の立断面図を示す。
【図２】図２は、図１から取られた分離器断面の拡大断面を示す。
【図３】図３は、図２の線分３−３に沿って取られた部分断面図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明について、ＦＣＣ装置との関連で説明するが、他の関連であっても適用可能である。図１は、反応器容器１０、反応器ライザー２０および再生器容器５０を含むＦＣＣ装置を示す。再生器立て管１２は、再生器容器５０から反応器ライザー２０に、スライド弁で調整された流量で触媒粒子を移動させる。この反応器ライザー２０は垂直管を含んでいてもよい。ノズル１６からの蒸気等の流動化媒体は、反応器ライザー２０を介して比較的高密度で触媒を上方へ運び、その後触媒粒子の流動ストリーム全体にわたって、複数の供給原料射出ノズル１４（一個のみ図示）から供給原料が射出される。
【００１２】
従来のＦＣＣ供給原料ストックまたはより高沸点の炭化水素供給原料ストックは好適な供給原料である。この従来の供給原料ストックの最も一般的なものは、「真空ガス油」（ＶＧＯ）であり、典型的には、常圧残油の真空分別により調製され、３４３〜５５２℃（６４９〜１０２６°Ｆ）の沸点範囲を有する炭化水素材料である。このような留分は一般に、コークス前駆体および触媒を汚染しかねない重金属汚染物の含有量が低い。本発明が適用可能な重質炭化水素供給原料ストックには、原油由来の重質残油、重質ビチューメン原油、シェール油、タールサンド抽出物、脱れき残留物、石炭液化由来生成物、常圧および真空抜頭原油等がある。本発明の重質供給原料ストックとしては、上記炭化水素ストリームの混合物も含まれ、上述のリストは非包括的なものである。
【００１３】
上記で得られた触媒および供給原料の混合物は、反応器ライザー２０を介して上方に進み、触媒が供給原料を分解してより軽質の炭化水素に転化する一方、コークスが触媒上に堆積する。反応器ライザー２０の最上部にある少なくとも二本の離脱アーム２２は、反応器ライザー２０の最上部からポート２４（一個のみ図示）を介して、分離容器４０の離脱部２６内に、生成ガスおよび使用済み触媒の混合物を接線方向かつ水平方向に放出する。分離容器４０は、ガスを触媒から部分的に分離する働きをする。分離容器４０の一部は、反応器容器１０内部に配置されている。移送導管２８は、分離された炭化水素、分離媒体および同伴触媒を含む炭化水素蒸気を、分離容器４０から反応器容器１０内の一つ以上のサイクロン３０へと運び、そこで、さらに炭化水素蒸気ストリームから使用済み触媒が分離される。反応器容器１０内の収集室３４は、サイクロン３０から分離された炭化水素蒸気ストリームを集め、出口ノズル３６へ、最終的には分別回収領域（図示されない）へ移送する。ディップレグ３８は、サイクロン３０から反応器容器１０下部の床３２へ触媒を放出する。床３２内の触媒および吸着または同伴炭化水素は、最終的に、分離容器４０の壁４１内に画定されたポート４２を越えて分離容器４０内に送られる。離脱部２６内で分離された触媒は、分離容器４０下部上方の床２７に直接送られる。分離容器４０は、第一のバッフル４４と第二のバッフル４６からなる複数対のバッフルを含み、分離ガスと触媒の混合を促進する。分離ガス、典型的には蒸気は、一つ以上の分散器（図示されない）への少なくとも一つの入口４７から分離容器４０の下部に入る。分離ガスは、上方に逆流してカスケード触媒に向かう。分離された使用済み触媒は、分離容器４０を出て粒子出口４９から使用済み触媒導管４８を通り、スライド弁で調整された流量で再生器容器５０内に送られる。
【００１４】
ＦＣＣプロセスの反応器ライザー２０は、一般に４２５℃（７９７°Ｆ）を超える温度等の高温状態で維持される。一つの実施形態では、反応領域は、４８０℃〜５９０℃（８９６°〜１０９４°Ｆ）の温度および６９〜５１７ｋＰａ（ｇａ）（１０〜７５ｐｓｉｇ）の圧力、典型的には２７５ｋＰａ（ｇａ）（４０ｐｓｉｇ）未満の圧力等の分解状態で維持される。上記ライザーの底部に入る触媒および供給原料炭化水素の重量に基づく触媒／油比は、２０：１までの範囲であってもよいが、典型的には４：１〜１０：１の範囲にある。水素は、通常、上記ライザーに添加されることはないが、水素添加は、当該技術分野では公知である。一つの実施形態では、上記ライザー２０内には、炭化水素供給原料由来の水素以外に、添加水素は実質的に存在しない。供給原料の４〜７重量％に相当する蒸気が、反応器ライザー２０および反応器容器１０に送られてもよい。上記ライザー内における触媒の平均滞留時間は５秒未満であってもよい。本プロセスで使用される触媒の種類は、市販の様々な触媒から選択されることができる。ゼオライト系材料からなる触媒が好ましいが、旧型の非結晶質触媒も適宜使用可能である。
【００１５】
再生器容器５０は燃焼器型再生器であってもよく、使用済み触媒を完全に再生するために、高効率の再生器容器５０内でハイブリッド乱流床−高速流動状態を利用してもよい。ただし、他の再生器および他の流動状態が本発明に好適であってもよい。使用済み触媒導管４８は、使用済み触媒入口シュートを介して外壁によって画定された第一のすなわち下方のチャンバー５２に、使用済み触媒を送る。反応器容器１０からの使用済み触媒は、通常、コークスの形態で存在する炭素を０．２〜２重量％の量で含有する。コークスは主に炭素からなるが、３〜１２重量％の水素に加えて、硫黄および他の物質を含有する場合がある。酸素含有燃焼ガス、典型的には空気が、導管から再生器容器５０の第一のチャンバー５２に入り、分散器６６によって分散される。分散器６６の開口部からは燃焼ガスが排出される。燃焼ガスが燃焼部５８に入ると、シュートから入ってくる使用済み触媒に接触し、高速流動状態下で第一のチャンバー５２内において少なくとも１．１ｍ／秒（３．６フィート／秒）の燃焼ガス空塔速度で触媒を持ち上げる。一つの実施形態において、燃焼部５８では、触媒密度が４８〜３２０ｋｇ／ｍ３（３〜２０ポンド／立方フィート）、空塔ガス速度が１．１〜２．２ｍ／秒（３．６〜７．２フィート／秒）になる。燃焼ガスの酸素は、使用済み触媒に接触して触媒の炭素質堆積物を燃焼させ、触媒を少なくとも部分的に再生して煙道ガスを発生させる。
【００１６】
第一のチャンバー５２内の触媒および燃焼ガスの混合物は、燃焼部５８から切頭円錐型の移行部５６を通って第一のチャンバー５２の移送ライザー部６０まで上昇する。このライザー部は、外壁によって画定され、好ましくは円筒形で、第一のチャンバー５２から好ましくは上方に延びる管を画定する。触媒とガスの混合物は、燃焼部５８内よりも高い空塔ガス速度で移動する。ガス速度が上昇する理由は、移行部５６の下方の第一のチャンバー５２の断面積に対してライザー部６０の断面積が狭くなっているためである。したがって、空塔ガス速度は、通常、２．２ｍ／秒（７．２フィート／秒）を上回る。ライザー部６０は、８０ｋｇ／ｍ３（５ポンド／立方フィート）未満の比較的低い触媒密度を有する。
【００１７】
再生器容器５０はまた、上方すなわち第二のチャンバー５４も含む。触媒粒子および煙道ガスの混合物が、ライザー部６０の上部から第二のチャンバー５４内に放出される。実質的に完全に再生済みの触媒は、移送ライザー部６０の最上部から出されてもよいが、部分的に再生済みの触媒は、第一のチャンバー５２から出される構成も考えられてもよい。再生済み触媒の大部分を煙道ガスから分離する離脱装置６２を通して放出が行われる。一つの実施形態では、ライザー部６０を上方へ流れる触媒およびガスは、最上部の楕円形キャップ６４に衝突して逆流する。そして触媒およびガスは、離脱装置６２の下方に向いた放出口から排出される。突然の運動量損失と下方への逆流によって、比較的重質の触媒の大部分は、濃密な触媒床６８に落下し、比較的軽質の煙道ガスおよびその中にまだ含まれる少量の同伴触媒が、第二のチャンバー５４内で上方に上昇する。サイクロン６３、６５はさらに触媒とガスを分離して、触媒を濃密な床に堆積させる。煙道ガスは、サイクロン６３，６５から排出され、再生器容器５０の出口ノズル６７へ、そしておそらくは煙道ガスまたはパワー回収システム（図示されない）内へ送られるためにプレナムに集められる。下方に落下する離脱触媒は、濃密な触媒床６８に集まる。濃密な触媒床６８の触媒密度は、典型的には、６４０〜９６０ｋｇ／ｍ３（４０〜６０ポンド／立方フィート）の範囲に維持される。流動化導管は、流動化ガス、典型的には空気を、流動化分散器７０を通じて濃密な触媒床５９に送る。一つの燃焼型再生器では、本プロセスにおけるガスの全必要量の約２％以下が、流動化分散器７０を通じて濃密な触媒床６８に入る。この実施形態では、ガスがここで添加されるのは、燃焼目的ではなく、触媒が立て管１２を通って流動するように、単に流動化目的のためである。流動化分散器７０を通じて添加される流動化ガスは、燃焼ガスであってもよい。第一のチャンバー５２内で部分的燃焼が実施される場合、より大量の燃焼ガスが、流動化分散器７０を通じて第二のチャンバー５４内に供給される。再生済み触媒は、再生器導管１２を通って反応器ライザー２０に戻る。
【００１８】
図２は、図１の分離容器４０の拡大部分図である。第一のバッフル４４および第二のバッフル４６の複数対が、分離容器４０の少なくとも一部に間隔をあけてそれぞれ配置されている。第一のバッフル４４は、当該複数のバッフルの最上部および当該複数のバッフルの最下部に配置されてもよい。通常、バッフルの数が増えるほど分離能力も増大する。特定の供給原料ストックおよび動作状態、レイアウト構造のための分離器の使用可能な長さまたは他の機器的制約が、分離器に組み込み可能なバッフルの数に影響する場合もある。少なくとも一つのバッフル、好ましくは、第一のバッフル４４は上方すなわち第一の面４４ａを含み、第二のバッフル４６は第一すなわち上方の面４６ａを含む。第一の面４４ａおよび４６ａは、垂直線から１８０度と異なる角度を成すという意味で、一般に、垂直線に対してある角度を成す、すなわち傾斜している。バッフルを傾斜させることにより、触媒がバッフル表面上を確実に移動する。一般に、バッフルは、垂直線から４５〜６０度の傾きの鋭角を有する。垂直線に対するバッフルの角度が大きいほど、所定の分離器長に配置可能なバッフルの数をさらに最大限に増やし、最上端に近い孔と最下端に近い孔との間の圧力水頭の差異を小さくできるという利点がある。バッフル間に間隔を置くことによって、第一および第二のバッフル４４、４６周辺での触媒のカスケード移動のための十分な流動領域が得られる。バッフル４４、４６は、分離容器の長さに沿って蛇行した下降経路７２を画定する。第一の面４４ａ、４６ａは、バッフルの主面であり、したがって第二の面４４ｂ、４６ｂよりも広い。バッフル４４、４６は、分離容器４０の対向壁に交互に固定されているため、上方のバッフルから下方のバッフルへ触媒が移動するには、下降経路７２を通過する必要がある。
【００１９】
環状のバッフル形状の一実施形態が、図１および図２に示されている。しかし、本発明は、環状ではないバッフル形状にも同様に適用されることができる。反応器ライザー２０は、分離容器４０を通って延伸する。第一のバッフル４４は、分離容器４０の壁４１によって支持され、その下のバッフルは、反応器ライザー２０の壁７６によって支持される。前記第一のバッフル４４の第一の面４４ａの固定端８４は、分離容器４０の壁４１に固定され、第二のバッフル４６の第一の面４６ａの固定端８６は、同ライザーの壁７６に固定されている。第一の面４４ａの突出端および第一の面４６ａの突出端は、下降経路７２内に突出している。
【００２０】
ある場合において、特に比較的大きい径の分離容器および／または触媒流量が少ない稼働の場合、分離流体は分離容器の対向壁に沿って上昇し、触媒は対向壁間の環形の中央を下へ流れることを我々は認めた。触媒は、バッフル上に広がるための十分な運動量を有しておらず、バッフルの突出端にぶつかるだけである。したがって、触媒は比較的少量の分離流体と接触し、そのため分離効率が低下する。触媒がバッフルを迂回しないように、バッフルは、第一の面４４ａ、４６ａそれぞれの突出端に固定され、隣接するバッフル間の下降経路７２内に延伸する第二の面４４ｂ、４６ｂを含む。第二の面４４ｂ、４６ｂは、下降する触媒を、下降経路７２にわたって、すぐ下にあるバッフル上方の垂直位置、好ましくはすぐ下のバッフル４６、４４の第一の面４６ａ、４４ａ上方の垂直位置に誘導する。この配置によって、触媒によるバッフルの迂回が顕著に抑制される。
【００２１】
一つの実施形態では、スカート７８は、バッフル４４、４６から、そして場合によっては第二の面４４ｂ、４６ｂの固定端および第一の面４４ａ、４６ａの突出端との間の交点８２で下方に延伸してもよい。スカート７８は、典型的には垂直であって、バッフル４４、４６の底部から垂れ下がる。スカート７８は、開口部の圧力降下を増加させるために設けられる。図２に示されるような環状分離器の実施形態では、各バッフルは周縁バンドを含んでなる。さらに、各面およびスカートは周縁バンドを含んでなる。
【００２２】
図３は、図２における線分３−３に沿った部分側面図である。図３では、バッフル上面側で触媒を流動化するためのバッフル４４、４６の開口部８０が示されている。これらの開口部は、典型的には第一の面４４ａ、４６ａにあるが、単に任意に第二の面４４ｂ、４６ｂにある場合もある。第二の面４４ｂ、４６ｂは、第二のバッフル４４、４６の第一の面４４ａ、４６ａの突出端に固定された固定端を有し、また第二の面４４ｂ、４６ｂは、それぞれ突出端８８、９０を有する。一つの実施形態では、第二の面４４ｂ、４６ｂの固定端は、すぐ下にあるバッフル上方で垂直に配置されておらず、またすぐ下のバッフルと垂直整列になってもおらず、第二の面４４ｂおよび４６ｂの突出端８８および９０が、すぐ下のバッフル上方で垂直に整列または配置されている。図３に、第一のバッフル４４の第一の面４４ａの垂直投射Ａおよび第二のバッフル４６の第一の面４６ａの垂直投射Ｂが示されている。一つの実施形態では、第一及び第二のバッフル４４、４６の第二の面４４ｂ、４６ｂが、隣接するバッフル４６、４４の垂直投影Ｂ、Ａに向かって延伸し、好ましくは、第二の面４４ｂ、４６ｂは、隣接するバッフル４６、４４の第一の面４４ａ、４６ａの垂直投射Ａ、Ｂ内に延伸する。
【００２３】
第二の面４４ｂ、４６ｂは、それぞれ第一の面４４ａ、４６ａに対して角度を成しているが、これは、それらの面が互いに１８０度以外の角度αを画定しているという意味である。好ましくは、第二の面４４ｂは、第一の面４４ａが垂直線から画定する鋭角θより大きい垂直線からの鋭角βを画定し、また第二の面４６ｂは、第一の面４６ａが垂直線から画定する鋭角εより大きい垂直線からの鋭角ωを画定する。図３では、垂直線が、角度θに関しては分離容器４０の壁４１によって、角度εに関してはライザーの壁７６によって、βおよびωに関してはスカート７８によって例示されている。垂直線からのこれらの角度の長さおよび傾きは、触媒を適切に流動させるために最適化されることができる。
【００２４】
バッフル４４、４６は、耐火物で被覆されてもよい。図３は、分離容器４０の最上部にある壁の内側表面、第一のバッフル４４の第一の面４４ａおよび第二のバッフル４６の第一の面４６ａの一部を覆っている耐火物を示している。開口部８０は、バッフル４４、４６の基材に単純に孔を開けて形成することができる。バッフルは、典型的には、高温状態に耐えられる合金鋼で形成される。このような鋼鉄は浸食されやすいため、開口部を画定してバッフル上面全体にわたる触媒循環による浸食状態に対し抵抗性を与えるためには、インサートまたはノズルの使用が有効である。さらに、バッフルは、追加的な浸食抵抗性を与える耐火材で定期的に被覆される。
【００２５】
実際には、また図１〜３によれば、炭化水素供給原料を触媒と接触させて触媒分解し、反応器ライザー２０内において、その上にコークスが堆積した使用済み触媒およびより軽質の炭化水素蒸気生成物に転化された供給原料との混合物が生成される。蒸気生成物は、離脱部２６および反応器容器１０内で使用済み触媒から分離され、吸着作用および／または飛沫同伴によって炭化水素含有の分離された触媒粒子のストリームが生成される。分離された触媒粒子のストリームは、分離容器４０内の複数のバッフル４４、４６上を渡り下方へ送られていく。蒸気等の分離流体が、バッフル４４、４６の下側にある入口４７から放出される。バッフル４４、４６の開口部８０からは、分離流体がバッフル４４、４６の上面に供給されることができ、バッフル上面での触媒流動化を容易にする。使用済み触媒粒子の少なくとも一部が、垂直線から第一の鋭角θで第一のバッフル４４の第一の面４４ａを下り、その後、垂直線から第二の鋭角βで第一のバッフル４４の第二の面４４ｂを下る。第一の鋭角θと第二の鋭角βとは互いに異なる。一つの実施形態において、第二の鋭角βは第一の鋭角θよりも大きい。使用済み触媒粒子は第一のバッフル４４の第二の面４４ｂを下った後、バッフルで画定された下降経路７２を渡る。そして、垂直線から第三の鋭角εで第二のバッフル４６の第一の面４６ａを下り、その後、垂直線から第四の鋭角ωで第二のバッフル４６の第二の面４６ｂを下る。一つの実施形態では、第三の角度と第四の角度は互いに異なる。一つの実施形態においては、第四の角度ωは第三の角度εよりも大きい。一つの実施形態で、第一の角度θと第三の角度εは等しく、さらに一つの実施形態では、第二の角度βと第四の角度ωは等しい。
【００２６】
分離流体および分離された炭化水素は、移送導管２８，サイクロン３０ならびに出口ノズル３６を介して分離容器４０から回収される。分離された使用済み触媒は出口４９を介して回収され、使用済み触媒導管４８を介して再生器容器５０へ送られる。この再生器内で、触媒はコークスの燃焼により再生され、再生済み触媒は、再生器導管１２を経由して反応器ライザー２０に送られる。
【図１】
0005624043.tif 000002
【図２】
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【図３】
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