(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
降伏値を有する化粧料の肌へのなじみ感を、パラレルプレート型又はコーンプレート型のセルを有するレオメータを用いて評価する方法であって、
レオメータにおける測定セルとして、プレートのサンプル接触面の表面粗さが異なる２種類のセルＡ及びセルＢを用い、前記化粧料について動的損失正接ｔａｎδの歪み依存性を測定し、
表面粗さの小さいセルＡを用いて測定されたｔａｎδ値と、表面粗さの大きいセルＢを用いて測定されたｔａｎδ値との差から、該差の歪み依存性を求め、測定された歪みの範囲内における該差の最大値を決定し、
該最大値が小さいほど肌へのなじみ感に優れると評価する、降伏値を有する化粧料の肌へのなじみ感の評価方法。
【請求項２】
前記歪みが１０-5〜１０1の範囲での前記差の歪み依存性を求め、該範囲における該差の最大値を決定し、該最大値に基づき評価を行う請求項１記載の評価方法。
【請求項３】
表面粗さの小さいセルＡを用いてｔａｎδ値のずり歪み依存性を複数回測定し、複数回の測定結果のうち、ｔａｎδ値が最も大きい測定回での結果を採用する請求項１又は２記載の評価方法。
【請求項４】
前記最大値が小さいほど肌へのなじみ感に優れると評価することに加えて、表面粗さの小さいセルＡを用い、前記化粧料について粘度のずり速度依存性を測定し、ずり速度１ｓ-1における粘性率に基づき、該粘性率の値が大きいほど化粧料の肌へのなじみ感が高いと評価する請求項１ないし３のいずれかに記載の評価方法。
【請求項５】
セルＡ及びＢが、サンプル接触面が互いに対向する下部プレートと上部プレートとを備えており、
下部及び上部プレートのうちの一方のプレートのサンプル接触面の表面粗さをセルＡ及びＢにおいて同一に設定し、かつ他方のプレートのサンプル接触面の表面粗さをセルＡ及びＢにおいて異ならせる請求項１ないし４のいずれかに記載の評価方法。
【請求項６】
同一に設定するプレートのサンプル接触面の表面粗さを、Ｒａで表して０．０１〜０．１０μｍに設定し、
異なる設定にするプレートのサンプル接触面の表面粗さを、Ｒａで表して、セルＡにおいて０．０１〜０．１０μｍに設定し、セルＢにおいて０．１１〜１０．００μｍに設定する請求項５記載の評価方法。
【請求項７】
降伏値を有する化粧料の設計方法であって、
パラレルプレート型のセルを有するレオメータにおける測定セルとして、プレートのサンプル接触面の表面粗さの異なる２種類のセルＡ及びセルＢを用い、前記化粧料について動的損失正接ｔａｎδの歪み依存性を測定し、
表面粗さの小さいセルＡを用いて測定されたｔａｎδ値と、表面粗さの大きいセルＢを用いて測定されたｔａｎδ値との差から、該差の歪み依存性を求め、測定された歪みの範囲内における該差の最大値を決定し、
該最大値が小さくなるように、化粧料を構成する成分の処方を調整するか又は化粧料の製造条件を制御する、降伏値を有する化粧料の設計方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、クリームや美容液を初めとする降伏値を有する化粧料の肌へのなじみ感を評価する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
クリームや美容液などの化粧料の肌へのなじみ感を向上させることは、化粧料の商品価値を高めるために重要な要素である。化粧料のなじみ感を向上させるたに、例えば特許文献１においては、塗布延展時に持続的な白濁状態を経由する、美白素材を含有する化粧料が提案されている。また特許文献２においては、化粧料中に重量感覚を軽くさせる香料成分を配合し、ヒトが該化粧料を塗布する際に、該化粧料中の香料成分を気化させ、ヒトに吸引させることで、該化粧料の肌へのなじみ感覚を早くさせる方法が提案されている。更に特許文献３には、特定成分からなる化粧水、特定成分からなる乳液又は特定成分からなるクリームから選ばれるスキンケア組成物が、なじみ感などの使用感に優れることが記載されている。しかし、これらの文献におけるなじみ感の評価は官能評価によっており、客観的な評価は行われていない。
【０００３】
これまで、化粧料を開発するときのなじみ感の評価は、一般に習熟した開発技術者（化粧料の開発に従事して５年以上の経験を有するような習熟した開発技術者）による官能評価が主であった。習熟した開発技術者は多様な化粧料の評価を日常行っているので、この種の評価には極めて精通している。しかしながら、個々の評価結果の経験の蓄積は各評価者に属しているため、客観的数値化や一般化ができないこと、なじみ感の評価が化粧料の持つ力学特性と対応して解析されていないために使用感を支配する力学的要素に関する知見が得られないこと、あるいは安全性の確認されていない素材の評価は行えないこと等の課題を有していた。
【０００４】
化粧料のなじみ感の評価とは別に、本出願人は先に、化粧料に外力を加えたときに該化粧料のせん断変形が線形域から非線形域に移行するときの移行せん断応力を求め、該移行せん断応力と官能評価者による前記化粧料の使用感の官能評価の評点との相関に基づいて、前記化粧料の使用感を評価する方法を提案した（特許文献４参照）。ここで言う使用感とは、化粧料を肌に塗布したときのさらっとした感覚をいい、本発明に言うなじみ感とは異なる概念である。そこで、なじみ感に関しても、使用感と同様に客観的な評価方法が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−０２６６６１号公報
【特許文献２】特開２００４−１２４０７８号公報
【特許文献３】特開２００４−３５２６４１号公報
【特許文献４】特開２００８−６４７２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、これまでに行われていなかった、化粧料の肌へのなじみ感を客観的に評価する方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、降伏値を有する化粧料の肌へのなじみ感を、パラレルプレート型又はコーンプレート型のセルを有するレオメータを用いて評価する方法であって、
レオメータにおける測定セルとして、プレートのサンプル接触面の表面粗さの異なる２種類のセルＡ及びセルＢを用い、前記化粧料について動的損失正接ｔａｎδのずり歪み依存性を測定し、
表面粗さの小さいセルＡを用いて測定されたｔａｎδ値と、表面粗さの大きいセルＢを用いて測定されたｔａｎδ値との差から、該差のずり歪み依存性を求め、測定されたずり歪みの範囲内における該差の最大値を決定し、
該最大値が小さいほど肌へのなじみ感に優れると評価する、降伏値を有する化粧料の肌へのなじみ感の評価方法を提供するものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、クリームや美容液を初めとする、降伏値を有する化粧料の肌へのなじみ感を客観的に評価することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、レオメータにおけるパラレルプレート型セルの構造例を示す模式図である。
【図２】図２（ａ）及び（ｂ）は、セルＡ及びＢを用いて測定されたｔａｎδの歪み依存性を示すグラフであり、図２（ｃ）は、図２（ａ）と（ｂ）を重ね合わせたグラフである。
【図３】図３は、化粧料のなじみ感を支配する要因を説明する模式図である。
【図４】図４は、降伏値を有する複数種類の市販の化粧料について測定されたΔｔａｎδの値と、官能評価によるなじみ感との相関を示すグラフである。
【図５】図５は、セルＡを用いて測定された粘度のずり速度依存性を示すグラフである。
【図６】図６は、降伏値を有する複数種類の市販の化粧料について測定されたずり速度１ｓ-1でのηの値と、官能評価によるなじみ感との相関を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下本発明を、その好ましい実施形態に基づき説明する。本発明は、化粧料を肌に塗布したときのなじみ感を客観的に評価することができる方法に関するものである。肌に化粧料を塗布する場合、塗布の初期では化粧料の粘度等のレオロジー特性を反映した滑り抵抗を感じる。化粧料が薄く塗り広げられるにつれ塗布抵抗感が変化し、最終的には化粧料を塗布する前の、肌と肌が接触していると感じるような滑り抵抗感になる。このことを「なじみ感」という。
【００１１】
本発明の評価の対象となる化粧料は、降伏値を有する化粧料である。レオロジーの分野において降伏値とは、粘弾性体が流動しだすときのずり応力の値をいう。降伏値を有する化粧料とは、このようなずり応力を有する化粧料のことである。例えば、室温下、化粧料を皮膚上にのせた後、５秒程度時間が経過しても、化粧料が自重で皮膚上に広がっていかないようなものは、本発明に言う降伏値を有する化粧料に包含される。降伏値を有する化粧料には、例えばクリームや美容液と呼ばれる範疇のものが包含される。化粧料が降伏値を有するためには、例えば、化粧料が乳化物である場合には、分散液滴がお互いにぶつかりあうまでに分散相濃度を上げればよい。化粧料が分散物である場合には、分散質がお互いにぶつかりあうまで分散質濃度を上げればよい。そのような化粧料の処方は当該技術分野において公知である。なお、本発明の評価方法では、評価の対象となる化粧料が降伏値を有していればよく、化粧料の降伏値そのものは本発明においては問題とされない。
【００１２】
本発明の評価方法においては、粘弾性体の粘弾性測定に用いられる装置であるレオメータによって、化粧料のなじみ感を評価する。レオメータに測定サンプルをマウントし、サンプルに歪み又は応力を印加してレオロジー測定を行うセルとしては、（i）円形の平行平板間に測定試料を配置するパラレルプレート型のセル、（ii）円形の平板と円錐形のコーンプレートとの間に測定試料を配置するコーンプレート型のセル、（iii）２つの同軸円筒の隙間に測定試料を配置する同心円筒回転型のセルなどのタイプが知られている。これらのレオメータのうち、本発明においてはパラレルプレート型又はコーンプレート型のものを用いることにより化粧料のなじみ感を評価できる。以下にパラレルプレート型のセルを用いた場合を説明するが、コーンプレート型についても同様である。
【００１３】
パラレルプレート型のセルにおいては、２枚のパラレルプレートとして、図１に示すように下部プレート１と上部プレート２が用いられる。一般に一方のプレートは固定状態になっており、もう一方のプレートは回転又は振動可能になっている。下部プレート１と上部プレート２における互いに対向する板面は平行になっている。下部プレート及び上部プレートの組を本発明ではセルと称する。
【００１４】
本発明では、下部プレート１及び上部プレート２におけるサンプルと接触する側の面（以下、サンプル接触面とも言う。）の表面粗さが異なる２種類のセルＡ及びセルＢを用いる。具体的には（ｉ）セルＡの上部プレート２とセルＢの上部プレート２におけるサンプル接触面の表面粗さが異なり、かつセルＡの下部プレート１とセルＢの下部プレート１におけるサンプル接触面の表面粗さも異なる２種類のパラレルプレート型のセルＡ及びセルＢを用いる。あるいは（ii）セルの上下プレートのうち、いずれか一方のプレートにおけるサンプル接触面の表面粗さが異なり、かつ他方のプレートにおけるサンプル接触面の表面粗さが同じである２種類のパラレルプレート型のセルＡ及びＢを用いる。（ｉ）及び（ii）のいずれの場合であっても、セルＡはサンプル接触面の表面粗さが相対的に小さいセルであり、セルＢはサンプル接触面の表面粗さが相対的に大きいセルである。（ｉ）と（ii）を比較すると、（ii）を採用する方が経済性の点から有利であり望ましい。（ii）を採用する場合には、例えば下部プレート１のサンプル接触面の表面粗さをセルＡとセルＢとで同一に設定し、上部プレート２のサンプル接触面の表面粗さをセルＡとセルＢとで異ならせるという組み合わせがある。逆に、下部プレート１のサンプル接触面の表面粗さをセルＡとセルＢとで異ならせ、上部プレート２のサンプル接触面の表面粗さをセルＡとセルＢとで同一に設定するという組み合わせもある。すなわち上部プレート及び下部プレートのうち、一方のプレートのサンプル接触面の表面粗さを異ならせる場合は、他方のプレートのサンプル接触面の表面粗さは同じであることが望ましい。サンプル接触面の表面粗さを同じにするプレートについては、後述するように、このプレート表面の粗さはある範囲に設定されることが好ましい。応力制御型のレオメータを用いる場合には、温度制御機能を担っている側のプレートを、本目的のために選択することが経済的に有利であることから好ましい。なお、本明細書において表面粗さとは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に規定される中心線表面粗さＲａを言う。
【００１５】
本発明において、表面粗さＲａの測定は、例えば表面粗さ測定機（ｓｕｒｆｃｏｍ−５９０Ａ、株式会社  東京精密製）を用いて行った。測定子はメーカー型式０１０２５０１の円錐角９０度の円錐ダイヤで、先端の曲率半径は５μｍであった。測定条件は、測定長さ４．０ｍｍ、測定速度０．３ｍｍ／ｓ、カットオフ波長０．８ｍｍとした。
【００１６】
セルＡ及びセルＢにおいて、下部プレート１及び上部プレート２のうち、一方のプレートのみのサンプル接触面の表面粗さを異ならせる場合、表面粗さを同一にするプレートのサンプル接触面の表面粗さは、Ｒａで表して０.０１〜０．１０μｍ、特に０．０２〜０．０８μｍに設定することが好ましい。一方、表面粗さを異ならせるプレートに関しては、セルＡではサンプル接触面の表面粗さはＲａで表して０．０１〜０．１０μｍ、特に０．０２〜０．０８μｍに設定することが好ましい。セルＢではサンプル接触面の表面粗さは、セルＡのプレートのサンプル接触面の表面粗さよりも大きいことを条件として、Ｒａで表して０．１１〜１０．００μｍ、特に０．１２〜７．００μｍに設定することが好ましい。また、Ｒａが相対的に大きいセルＢのプレートのサンプル接触面の該Ｒａ値と、Ｒａが相対的に小さいセルＡのプレートのサンプル接触面の該Ｒａ値との差は、１〜９μｍ、特に２〜６μｍであることが、なじみ感の一層正確な評価の点から好ましい。なお、下部プレート１及び上部プレート２のサンプル接触面の面積は、本発明において臨界的ではなく、市販のレオメータのパーツをそのまま用いてもよい。
【００１７】
下部プレート１及び上部プレート２の板面の表面粗さを所望の値に設定するためには、使用しているレオメータのオプションパーツのリストから標準パラレルプレートやサンドブラスト処理パラレルプレートを購入してもよいし、例えば該板面をサンドブラスタ処理に付して板面を粗くしたり、逆に研磨材を用いた研磨によって板面を平滑にしたりすればよい。
【００１８】
本発明においては、上述のセルＡ及びセルＢを用い、評価対象とする化粧料について動的損失正接ｔａｎδの歪み依存性を測定する。測定条件は本発明において特に臨界的でない。測定温度は、一定温度であれば、温度自体に特に制限はない。化粧料使用時の環境を考慮すると、１０〜３５℃が好ましく、特に室温（２５℃）が好ましい。環境の相対湿度は３０〜６５％ＲＨが好ましい。周波数は、測定に要する時間と市販レオメータの性能を考慮すると、０．１〜３Ｈｚが好ましい。歪みは例えば１０-5〜１０1の範囲とすることができる。レオメータとしては、例えばＰａａｒ  Ｐｈｙｓｉｃａ製のＭＣＲ３００又はＭＣＲ５００を用い、歪み制御モードで行うことができる。測定点は、例えば前記の歪みの範囲を対数で１８等分して、計１９点とする。各点の測定時間は例えば１０秒に設定する。測定は、セルＡ及びセルＢにサンプルをマウント後４分間静置し、１回目の測定→１分間静置→２回目の測定→１分間静置→３回目の測定と、同一サンプルについて３回繰り返す。
【００１９】
表面粗さの大きいプレートを備えたセルＢを用いた場合には、ｔａｎδの歪み依存性測定を繰り返して複数回行ってもほぼ同じ結果が得られる。一方、表面粗さの小さいプレートを備えたセルＡを用いた場合には、ｔａｎδ値の歪み依存性を複数回測定すると、測定回ごとに測定結果が異なる場合がある。その場合には、複数回の測定結果のうち、ｔａｎδ値が最も大きい測定回での結果を採用する。一般には、上述のとおり３回の測定を行い、３回目の測定結果を採用することで、満足すべき結果が得られる。
【００２０】
図２（ａ）は、降伏値を有する市販の化粧料を測定対象とし、表面粗さの小さいプレートを備えたセルＡを用いて測定されたｔａｎδの歪み依存性を示すグラフである。一方、図２（ｂ）は、同じ化粧料を測定対象とし、表面粗さの大きいプレートを備えたセルＢを用いて測定されたｔａｎδの歪み依存性を示すグラフである。これらの測定は、温度２５℃、湿度５５％ＲＨ、周波数２Ｈｚで行われたものである。また、セルＡ及びセルＢの下部プレートのサンプル接触面の表面粗さＲａはいずれも０．１５μｍ、セルＡの上部プレートのサンプル接触面の表面粗さＲａは０．０３μｍ、セルＢの上部プレートのサンプル接触面の表面粗さＲａは５μｍとした。パラレルプレートセルは直径２５ｍｍの円形とした（ｔａｎδについての測定条件は、以下の説明においても同じである。）。
【００２１】
図２（ａ）と図２（ｂ）との対比から明らかなように、セルＡを用いて測定されたｔａｎδ値には、ショルダＳが観察される。これに対して、セルＢを用いて測定されたｔａｎδ値にはショルダは観察されない。ショルダＳが観察される前後の歪みの領域におけるｔａｎδ値は、図２（ａ）と図２（ｂ）とでほぼ同じになっている。この様子を図２（ｃ）に示す。図２（ｃ）は、図２（ａ）と図２（ｂ）とを重ね合わせたグラフである。ｔａｎδの歪み依存性がセルＡとセルＢとで相違する理由は、表面粗さの小さいプレートを備えたセルＡを用いた場合には、図３に示すように、ある程度のずりの印加によって、下部プレート１及び上部プレート２と、測定対象物である化粧料３との界面に、０．１μｍ程度の厚みの溶媒リッチな層４が形成されるからではないかと、本発明者らは考えている。そして、この界面での溶媒の分離の程度が、化粧料のなじみ感と関連しているのではないかと、本発明者らは推測している。なお、ここで言う溶媒とは、化粧料の連続相を構成する液体成分のことである。
【００２２】
化粧料を塗布したときに、溶媒リッチな層が肌との界面に形成されると、油剤等の粘度に起因する滑り感がいつまでも続き、「なじみ」を悪く感じる、と本発明者らは考えている。この溶媒リッチな層の形成が多い化粧料では、ｔａｎδの歪み依存性のグラフに、上述したショルダＳが観察される。ショルダＳの大きさは、この層の形成量を反映していると考えられ、ショルダＳが大きく観察されるほど、溶媒リッチな層が多量に形成されると考えられる。
【００２３】
本発明においては、表面粗さの小さいプレートを備えたセルＡを用いて測定されたｔａｎδ値（以下、ｔａｎδAとも言う。）と、表面粗さの大きいプレートを備えたセルＢを用いて測定されたｔａｎδ値（以下、ｔａｎδBとも言う。）との差から、該差の歪み依存性を求める。この差は絶対値であり、｜ｔａｎδA−ｔａｎδB｜で定義される。具体的な手順としては、先に述べた図２（ｃ）に示すグラフに基づき、ｔａｎδA及びｔａｎδBの差の歪み依存性を求める。当該差の歪み依存性には、最大値が存在する。図２（ｃ）においては、歪みが１０-2〜１０0の範囲内で、ｔａｎδA及びｔａｎδBの間に大きな差が生じていることが判る。したがって、この範囲の間での歪み依存性を求め、この間におけるｔａｎδA及びｔａｎδBの差の最大値を決定することが、測定の再現性を高める観点から好ましい。なお、セルＡの測定結果において、ショルダＳが見られないものについては、本ｔａｎδ値の差はゼロとする。
【００２４】
図２（ｃ）においては、歪みが約１０-1の位置に最大値が存在する。この最大値（以下、この値をΔｔａｎδという）を決定し、Δｔａｎδの大小に基づき、測定対象である化粧料のなじみ感を評価する。具体的には、Δｔａｎδが小さいほど、肌へのなじみ感に優れると評価する。
【００２５】
図４には、降伏値を有する複数種類の市販のクリーム状化粧料について測定されたΔｔａｎδ値と、官能評価によるなじみ感との相関を示している。同図に示す結果から明らかなように、Δｔａｎδ値と官能評価との間には相関が認められ、Δｔａｎδ値が小さいほど、化粧料の肌へのなじみ感が高くなっている。以上の結果から、Δｔａｎδ値に基づき、化粧料の肌へのなじみ感を客観的に評価することが可能であることが確認された。Δｔａｎδ値は小さければ小さいほど好ましいが、その値が０．３以下であれば満足すべきなじみ感を得ることができる。
【００２６】
図４の相関図を作成するにあたり行った官能評価の方法は以下のとおりである。官能評価を行うようにトレーニングを受けた専門評価者１０名によって行った。なじみ感のレベルが普通の基準品（下記スコアーの２）に対し、悪い（０）、やや悪い（１）、どちらともいえない（２）、やや良い（３）、良い（４）の４レベルを設定した。なじみ感のスコアは、専門評価者が基準品と評価品のそれぞれを比較評価し、１０名の平均値をなじみスコアとした。
【００２７】
前記の評価法に従う官能評価の結果は以下のとおりであった。
【表１】
0005411598.tif 000002
【００２８】
本発明の評価方法においては、Δｔａｎδの歪み依存性に加えて、以下の手法を加味することで、官能評価との相関性が一層高くなることが判明した。すなわち、上述したセルＡを用い、降伏値を有する化粧料について粘度のずり速度依存性を測定し、ずり速度１ｓ-1（＝１０0ｓ-1）での粘性率η値に着目する。図５には、表面粗さの小さいプレートを備えたセルＡを用いて測定された粘度のずり速度依存性の例を示す。測定は、温度２５℃、湿度５５％ＲＨで行われた。また、セルＡの下部プレート１及び上部プレート２の表面粗さＲａはいずれもｔａｎδの歪み依存性の測定と同じにした。パラレルプレートは直径２５ｍｍの円形とした。測定はサンプルをパラレルプレート間にマウントして４分間静置した後、ずり速度を１０-3から１０3ｓ-1まで上げていき、このずり速度範囲を対数で１８等分した１９点で行った。各ずり速度での測定時間は低ずり速度側を３０秒、高ずり速度側を２秒に設定し、この時間範囲を対数で１８等分した時間とした。
【００２９】
図６は、図５の測定結果に基づき、降伏値を有する複数種類の市販のクリーム状化粧料について測定されたずり速度１ｓ-1での粘性率（以下、η1という。）の値と、官能評価によるなじみ感との相関を示している。同図に示す結果から明らかなように、η1の値と官能評価との間には相関が認められ、η1の値が大きいほど、化粧料の肌へのなじみ感が高くなっている。以上の結果から、Δｔａｎδ値に基づくことに加え、ずり速度１ｓ-1でのη1の値に基づくことで、化粧料の肌へのなじみ感を一層客観的に評価することが可能であることが確認された。η1の値は大きければ大きいほど好ましいが、７０〜８００Ｐａ・ｓ程度に大きければ、満足すべきなじみ感を得ることができる。
【００３０】
降伏値を有する化粧料の粘度（粘性率）は大きいので、化粧料を塗布した初期の段階では抵抗感が強い。一方、何も塗布されていない肌と肌の滑り抵抗は小さい。「なじみ」が滑り抵抗の変化で判断されることよって、化粧料の粘度（粘性率）が大きい方が、「なじみ」へ向かっての抵抗感の変化が大きくなり、「なじみ」の良さを知覚しやすくなる、と本発明者らは考えている。
【００３１】
以上のとおり、本発明の評価方法によれば、肌へのなじみ感の高い化粧料を設計する場合に、Δｔａｎδ値やη1の値を目安に、化粧料を構成する成分の処方を調整して、適切な化粧料の設計を行うことができるので、設計の簡素化や短縮化を図ることができる。具体的な手法としては、Δｔａｎδを小さくするために、化粧料を構成する成分の処方を調整するか又は化粧料の調製条件を調整すればよい。化粧料を構成する成分の処方を調整する場合には、増粘剤の配合による連続相の増粘や適切な界面活性剤の選択を行えばよい。化粧料の製造条件を制御する場合には、乳化工程の最適化制御による乳化状態の安定化等を行えばよい。
【符号の説明】
【００３２】
１  下部プレート
２  上部プレート
３  降伏値を有する化粧料
４  溶媒リッチな層
【図１】
0005411598.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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