(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子を出射する電子銃部と、前記電子銃部を収容し且つ前記電子銃部から出射された電子が通過する電子通路を含むと共に真空状態が保持される筐体と、を有する電子出射部と、
基板と該基板に埋設されており電子の入射によりＸ線を発生する材料からなるターゲット体とを含むターゲット部と、
前記ターゲット部と前記電子出射部とを結合する結合部と、
前記ターゲット体に対向して配置され且つ前記ターゲット体から発生したＸ線が照射される被照射物を保持する保持部と、
前記ターゲット部及び前記保持部が設けられる基準面を有する設置部と、を備え、
前記結合部は、前記電子通路に連続し且つ真空状態が保持される空間を画成すると共に伸縮性を有しており、少なくとも前記空間に面する部分が導電性を有していることを特徴とするＸ線照射装置。
【請求項２】
前記設置部は、前記基準面に対し前記ターゲット部を移動させる移動機構を有し、
前記ターゲット部は、前記移動機構を介して前記設置部に設けられていることを特徴とする請求項１に記載のＸ線照射装置。
【請求項３】
前記結合部は、可撓性を有していることを特徴とする請求項１又は２に記載のＸ線照射装置。
【請求項４】
前記設置部は、前記電子出射部に固定された板状部材を有し、
前記板状部材の一方の主面が前記基準面であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のＸ線照射装置。
【請求項５】
前記設置部は、前記電子出射部と離間した支持部材と、該支持部材に固定された板状部材と、を有し、
前記板状部材の一方の主面が前記基準面であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のＸ線照射装置。
【請求項６】
前記設置部は、前記ターゲット部の側方に配置されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載のＸ線照射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｘ線照射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線照射装置として、電子を出射する電子銃部と、電子銃部を収容し且つ電子銃部から出射された電子が通過する電子通路を含むと共に真空状態が保持される筐体と、を有する電子出射部と、基板と該基板に埋設されており電子の入射によりＸ線を発生する材料からなるターゲット体とを含むターゲット部と、被照射物を保持する保持部と、を備えるものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−０２８８４５号公報
【特許文献２】実開平０６−０３５９５３号公報
【特許文献３】特開２００２−２８６９００号公報
【特許文献４】特開２００２−３２３４６２号公報（特許第４４８４０１２号公報）
【特許文献５】特開２００５−２７６７６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
Ｘ線照射装置では、電子銃部から出射された電子をターゲット体に入射させて、ターゲット体からＸ線を放射させ、そのＸ線を被照射物に照射しているが、Ｘ線の焦点と被照射物との間の距離が変化してしまうことがある。その要因としては、装置の構成部材の熱膨張の影響がある。例えば、ターゲット体が電子出射部の筐体に保持されているため、筐体が熱膨張すると、その分ターゲット体が移動してＸ線の焦点の移動が生じる、また、被照射物を保持する保持部が熱膨張することで被照射物の移動が生じる等の影響が考えられる。Ｘ線の焦点と被照射物との間の距離が変化すると、Ｘ線照射によりＸ線像を撮像する際の分解能が著しく劣化することとなる。
【０００５】
本発明は、Ｘ線の焦点と被照射物との間の距離が変化するのを抑制して、被照射物に安定してＸ線を照射することが可能なＸ線照射装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係るＸ線照射装置は、電子を出射する電子銃部と、電子銃部を収容し且つ電子銃部から出射された電子が通過する電子通路を含むと共に真空状態が保持される筐体と、を有する電子出射部と、基板と該基板に埋設されており電子の入射によりＸ線を発生する材料からなるターゲット体とを含むターゲット部と、ターゲット部と電子出射部とを結合する結合部と、ターゲット体に対向して配置され且つターゲット体から発生したＸ線が照射される被照射物を保持する保持部と、ターゲット部及び保持部が設けられる基準面を有する設置部と、を備え、結合部は、電子通路に連続し且つ真空状態が保持される空間を画成すると共に伸縮性を有しており、少なくとも空間に面する部分が導電性を有していることを特徴とする。
【０００７】
本発明に係るＸ線照射装置では、ターゲット部と保持部とが同じ基準面に設けられており、ターゲット部と保持部との間の距離が変化することが抑制される。このため、Ｘ線の焦点と被照射物との間の距離が変化するのを抑制して、被照射物に安定してＸ線を照射することができる。
【０００８】
本発明では、ターゲット部と電子出射部とを結合する結合部が、電子通路に連続し且つ真空状態が保持される空間を画成し、少なくとも空間に面する部分が導電性を有しているので、ターゲット部（ターゲット体）への電子の照射を妨げることはない。また、結合部が伸縮性を有しているので、電子出射部（たとえば、筐体等）の熱膨張等により電子出射部とターゲット部との間の距離が変化した場合でも、この距離の変化を結合部が吸収することができる。
【０００９】
設置部は、基準面に対しターゲット部を移動させる移動機構を有し、ターゲット部は、移動機構を介して設置部に設けられていてもよい。この場合、移動機構により、ターゲット部の基準面に対する位置が調整されることとなり、Ｘ線の焦点と被照射物との間の距離の微調整が可能となる。これにより、より一層安定してＸ線を被照射物に照射することができる。
【００１０】
結合部は、可撓性を有していてもよい。この場合、結合部が、電子の入射軸と交差する方向へのターゲット部の移動に支障となるようなことはなく、電子ビームとターゲット部との位置関係を適切に調整することができる。このため、より一層安定してＸ線を被照射物に照射することができる。
【００１１】
設置部は、電子出射部に固定された板状部材を有し、板状部材の一方の主面が基準面であってもよい。この場合、電子出射部と板状部材とが一体となり、電子出射部と板状部材との位置関係が変動するのが抑制される。このため、より一層安定してＸ線を被照射物に照射することができる。
【００１２】
設置部は、電子出射部と離間した支持部材と、該支持部材に固定された板状部材と、を有し、板状部材の一方の主面が基準面であってもよい。この場合、電子出射部と支持部材とが離間しているので、電子出射部の熱が支持部材及び板状部材に伝わるのが抑制される。このため、Ｘ線の焦点と被照射物との間の距離の変化がより一層抑制され、より一層安定してＸ線を被照射物に照射することができる。
【００１３】
設置部は、ターゲット部の側方に配置されていてもよい。この場合、基準面（設置部）がターゲット部及び保持部の近傍に位置することとなり、ターゲット部及び保持部を安定して設置部に設けることができる。このため、より一層安定してＸ線を被照射物に照射することができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、Ｘ線の焦点と被照射物との間の距離が変化するのを抑制して、被照射物に安定してＸ線を照射することが可能なＸ線照射装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本実施形態に係るＸ線照射装置を示す概略構成図である。
【図２】ターゲット部の構成を示す図である。
【図３】本実施形態の変形例に係るＸ線照射装置を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
【００１７】
まず、図１を参照して、本実施形態に係るＸ線照射装置の構成について説明する。図１は、本実施形態に係るＸ線照射装置を示す概略構成図である。
【００１８】
Ｘ線照射装置１は、ターゲット部Ｔ、電子銃部３、筒状部５（筐体）、天板２０、ベローズＢＥ、及び保持部３０を備えている。Ｘ線照射装置１は、開放型である。開放型は、使い捨てに供される密封型と異なり、真空状態を任意に作り出すことができ、ターゲット部Ｔや電子銃部３のカソード等の交換が可能である。電子銃部３は、電子を出射する。電子銃部３から出射された電子により電子ビームＥＢが形成される。
【００１９】
筒状部５は、円筒形状を呈しており、ステンレス鋼からなる。筒状部５内は、動作時に真空状態が保持される。Ｘ線照射装置１では、電子銃部３及び電子銃部３を内部に収容する筒状部５等が電子出射部２を構成している。筒状部５は、下側に位置する固定部５ａと上側に位置する着脱部５ｂとからなる。着脱部５ｂは、ヒンジ（不図示）を介して固定部５ａに取り付けられている。従って、着脱部５ｂが、ヒンジを介して横倒しになるように回動することで、固定部５ａの上部を開放させることができる。これにより、固定部５ａ内に収容されている電子銃部３（カソード）へのアクセスが可能となる。
【００２０】
着脱部５ｂ内には、集束レンズとして機能する筒状のコイル部７と、偏向コイル（電子ビーム偏向部）として機能する筒状のコイル部９と、が設けられている。着脱部５ｂ内には、コイル部７，９の中心を通るよう、筒状部５の長手方向に電子通路１１が延在している。電子通路１１は、コイル部７，９で包囲される。着脱部５ｂの下端には、ディスク板１３が蓋をするように固定されている。ディスク板１３の中心には、電子通路１１の下端側に一致させる電子導入孔１３ａが形成されている。着脱部５ｂの上端は、円錐台に形成されている。
【００２１】
固定部５ａには真空ポンプ１７が固定されている。真空ポンプ１７は、筒状部５内全体を高真空状態にする。Ｘ線照射装置１が真空ポンプ１７を装備することによって、ターゲット部Ｔやカソード等の交換が可能である。
【００２２】
筒状部５の基端側には、電子銃部３との一体化が図られたモールド電源部１９が固定されている。モールド電源部１９は、電気絶縁性の樹脂（例えば、エポキシ樹脂）でモールド成形させたものであると共に、金属製のケース内に収容されている。
【００２３】
モールド電源部１９内には、高圧発生部（不図示）が封入されている。高圧発生部は、高電圧（例えば、ターゲット部Ｔを接地させる場合には最大−１６０ｋＶ）を発生させるトランスを有している。モールド電源部１９は、下側に位置して直方体形状をなすブロック状の電源本体部１９ａと、電源本体部１９ａから上方に向けて固定部５ａ内に突出する円柱状のネック部１９ｂと、からなる。
【００２４】
高圧発生部は、電源本体部１９ａ内に封入されている。ネック部１９ｂの先端部には、電子通路１１を挟むように、ターゲット部Ｔに対峙させるよう配置させた電子銃部３が装着されている。モールド電源部１９の電源本体部１９ａ内には、高圧発生部に電気的に接続させた電子放出制御部（不図示）が封入されている。電子放出制御部は、電子銃部３に接続されており、電子の放出のタイミングや管電流等を制御している。
【００２５】
筒状部５の着脱部５ｂの頂部（電子出射部２の先端部）には、設置部としての天板２０が設けられている。天板２０は、板状部材であって、互いに対向する第１主面２０ａと第２主面２０ｂとを有している。天板２０は、第２主面２０ｂを着脱部５ｂ（電子出射部２）側として、ねじ止め等により着脱部５ｂに固定されている。天板２０は、ターゲット部Ｔの側方に配置されている。天板２０には、電子通路１１に対応する位置に、ターゲット部Ｔに向かう電子を通すベローズＢＥを収容するための開口２０ｃが形成されている。第１主面２０ａは、基準面として機能する。
【００２６】
天板２０の第１主面２０ａには、移動機構としての第１ＸＹＺステージＳＴ１が設けられている。第１ＸＹＺステージＳＴ１は、電子銃部３の電子の出射方向、すなわちＺ軸方向だけでなく、Ｚ軸方向と直交するＸ軸方向、並びにＺ軸方向及びＸ軸方向と直交するＹ軸方向にも、可動台を移動させる。第１ＸＹＺステージＳＴ１の可動台には、固定治具ＦＸを介してターゲット部Ｔが固定されている。これにより、ターゲット部Ｔは、第１ＸＹＺステージＳＴ１を介して天板２０に設けられることとなる。ターゲット部Ｔ（後述するターゲット体２３）の位置は、第１ＸＹＺステージＳＴ１により調整することが可能となる。固定治具ＦＸは、ステンレス鋼やアルミナ等からなる。
【００２７】
ターゲット部Ｔは、図２にも示されるように、基板２１と、基板２１に埋設されているターゲット体２３と、を有している。ターゲット体２３は、電子の入射によりＸ線を発生する材料からなる。基板２１は、Ｘ線透過性および放熱性に優れた材料、例えばダイヤモンドからなり、板状である。基板２１は、互いに対向する第１及び第２主面２１ａ，２１ｂを有している。基板２１の直径は、例えば３ｍｍ程度に設定されている。基板２１の厚みは、例えば１００μｍ程度に設定されている。
【００２８】
ターゲット体２３は、基板２１の第１主面２１ａ側に位置している。ターゲット体２３は、基板２１とは異なる材料からなる金属（例えば、タングステン、金、白金等）によって円柱状に形成されており、ナノサイズ（例えば、外径が１００ｎｍ程度）とされている。本実施形態では、ターゲット体２３の金属として、タングステン（Ｗ）を採用している。ターゲット体２３の長さ（高さ）は、例えば１０００ｎｍ程度に設定されており、基板２１の第２主面２１ｂ側には貫通していない。ターゲット体２３は、第１主面２１ａが電子銃部３と対向するように配置されている。
【００２９】
ターゲット部Ｔと筒状部５（着脱部５ｂ）とは、結合部としてのベローズＢＥにより結合されている。ベローズＢＥは、電子通路１１に連続し且つ真空状態が保持される空間を画成しており、電子銃部３の電子の出射方向（Ｚ軸方向）に対し伸縮性を有している。ベローズＢＥは、可撓性も有している。これにより、ベローズＢＥは、Ｚ軸方向だけでなく、Ｚ軸方向に直交する方向にも移動する可能となる。
【００３０】
ベローズＢＥは、ステンレス鋼からなり、電子通路１１に連続し且つ真空状態が保持される空間に面する部分が導電性を有している。これにより、散乱電子等によりベローズＢＥが帯電するのを防ぐことができる。ベローズＢＥは、全体が導電性を有している必要なく、少なくとも上記空間に面する部分が導電性を有していればよい。ベローズＢＥは、コイル部７により形成される磁場レンズに影響を与えないために、非磁性材料からなることが好ましい。ベローズＢＥとターゲット部Ｔ（基板２１）とは、ロー付け等により接合されている。ベローズＢＥと筒状部５（着脱部５ｂ）とは、Ｏリング等の封止部材を挟み、ネジ等の接合部材により交換可能（着脱可能）に接合されている。ベローズＢＥの全長は、例えば１０ｍｍ程度に設定されている。このように、Ｘ線照射装置１では、電子銃部３、筒状部５、ターゲット部Ｔ、及びベローズＢＥ等がＸ線発生部を構成している。
【００３１】
天板２０の第１主面２０ａには、第２ＸＹＺステージＳＴ２が設けられている。第２ＸＹＺステージＳＴ２は、第１ＸＹＺステージＳＴ１と同じく、電子銃部３の電子の出射方向、すなわちＺ軸方向だけでなく、Ｚ軸方向と直交するＸ軸方向、並びにＺ軸方向及びＸ軸方向と直交するＹ軸方向にも、可動台を移動させる。第２ＸＹＺステージＳＴ２の可動台には、保持部３０が固定されている。これにより、保持部３０（被照射物ＳＭ）の位置が第２ＸＹＺステージＳＴ２により調整することが可能となる。第１及び第２ＸＹＺステージＳＴ１，ＳＴ２は、当業者にとって既知であり、その構成の詳細な説明は省略する。
【００３２】
保持部３０は、ターゲット体２３から発生したＸ線が照射される被照射物ＳＭを保持する。被照射物ＳＭは、保持部３０に保持されることにより、ターゲット体２３に対向して配置される。
【００３３】
続いて、Ｘ線照射装置１を用いた被照射物ＳＭの観察手順を説明する。
【００３４】
まず、コイル部７及び電子銃部３を作動させ、コイル部７により電子ビームＥＢの照射野の直径が１０μｍ程度となるように調整する。そして、第１ＸＹＺステージＳＴ１により可動台を移動させて、電子ビームＥＢの照射野内にターゲット体２３を移動させる。本実施形態では、ダイヤモンドからなる基板２１中にタングステンからなるターゲット体２３を埋設している。タングステンは、ダイヤモンドよりも質量数が大きい。このため、二次電子放出比、吸収電流量、又はターゲット電流等の変化によってターゲット体２３の位置を判定することができる。また、基板２１にターゲット体２３の位置を示すマーク（例えば、矢印や、２重又は３重の円等）をタングステン等の材料により形成していてもよい。
【００３５】
次に、コイル部７により電子ビームＥＢの照射野の直径を１００ｎｍ程度に絞る。その後、コイル部９を作動させてターゲット体２３の位置を求め、ターゲット体２３に電子ビームＥＢを照射する。これにより、Ｘ線が出力されることとなる。ターゲット体２３の位置を求める手順は、上述した二次電子放出比、吸収電流量、又はターゲット電流等の変化に基づいて行うことができる。
【００３６】
一方、保持部３０に被照射物ＳＭを固定する。そして、第２ＸＹＺステージＳＴ２により、電子出射部２と被照射物ＳＭとの間の距離を、例えば１０ｍｍに設定して、被照射物ＳＭにおける観察部位を探す。その後、電子出射部２と被照射物ＳＭとの間の距離を、例えば０．５ｍｍに設定して、被照射物ＳＭを観察する。
【００３７】
ところで、電子ビームＥＢは、そのビーム径が基板２１上で１００ｎｍ程度になるようにコイル部７で形成した集束レンズ（電子レンズ）により集束される。微細な電子ビームＥＢをナノサイズとされたターゲット体２３に確実に照射してＸ線を発生させるためには、コイル部７の中心とターゲット体２３の位置とを精密に合わせる必要がある。基板２１上での電子ビームＥＢの位置はコイル部９により調整されることとなるが、コイル部９による調整範囲は、±５０μｍ程度である。このため、コイル部９による調整範囲内にターゲット体２３の位置を設定するため、すなわち集束レンズの中心軸上にターゲット体２３を配置するためには、位置調節機構が必要となる。更に、位置調節機構での調節によって、集束レンズの中心軸上を電子が通過すると集束レンズの収差の影響を受けにくいので、ターゲット体２３上でのビーム径を容易に小さくできる。第１ＸＹＺステージＳＴ１は、この位置調節機構として機能する。
【００３８】
被照射物ＳＭの位置は、第２ＸＹＺステージＳＴ２により被照射物ＳＭをＸ軸及びＹ軸方向に移動させることにより設定される。第２ＸＹＺステージＳＴ２により被照射物ＳＭをＺ軸方向に移動させることにより、拡大率Ｍ（＝ｘ１／ｘ２）が決定される。ここで、ｘ１は、Ｘ線の焦点（ターゲット体２３）と撮像デバイス（不図示）との間の距離である。ｘ２は、Ｘ線の焦点（ターゲット体２３）と被照射物ＳＭとの間の距離である。
【００３９】
Ｘ線照射装置１の分解能は、拡大率Ｍを任意に設定できるとした場合、Ｘ線の焦点サイズで決まる。例えば、１００ｎｍ程度の分解能を得ようとする場合、Ｘ線の焦点サイズは１００ｎｍに設定する必要がある。また、観察中はＸ線の焦点と被照射物ＳＭとの間の距離も１００ｎｍの精度で固定されている必要がある。本実施形態では、天板２０の第１主面２０ａに、ターゲット部Ｔ（ターゲット体２３）が第１ＸＹＺステージＳＴ１を介して設けられると共に、保持部３０が第２ＸＹＺステージＳＴ２を介して設けられている。このように、ターゲット部Ｔ（ターゲット体２３）と保持部３０とが間接的に一体化するため、Ｘ線の焦点と被照射物ＳＭとの間の距離は１００ｎｍ以下の精度で固定されることとなる。そして、Ｘ線の焦点と被照射物ＳＭとの位置関係が固定されていれば、天板２０の第１主面２０ａ、すなわち基準面の絶対的な位置が変動しようともＸ線画像の位置分解能は維持される。
【００４０】
以上のように、本実施形態によれば、ターゲット部Ｔと保持部３０とが同じ第１主面２０ａに設けられており、ターゲット部Ｔと保持部３０との間隔が変化することが抑制される。このため、Ｘ線の焦点と被照射物ＳＭとの間隔が変化するのを抑制して、被照射物ＳＭに安定してＸ線を照射することができる。
【００４１】
また、ベローズＢＥが伸縮性を有している。このため、電子出射部２（たとえば、筒状部５等）の熱膨張等により、筒状部５とターゲット部Ｔとの間隔が変化した場合でも、この間隔の変化をベローズＢＥが吸収することができる。また、天板２０の熱膨張等によって、筒状部５とターゲット部Ｔとの間隔が変化した場合（換言すれば、筒状部５と天板２０の第１主面２０ａ（つまり基準面）との間隔が変化した場合）でも、同様にこの間隔の変化をベローズＢＥが吸収することができる。
【００４２】
なお、基準面の絶対的な位置が変化すると、ターゲット部Ｔの絶対的な位置も変化するために上記距離ｘ１が変わることとなり、拡大率Ｍが変化すると言える。しかしながら、実際には距離ｘ２に比較して、距離ｘ１は非常に大きいため、その影響は小さい。例えば、距離ｘ１を５００ｍｍ、距離ｘ２を０．５ｍｍとして拡大率１０００倍を得ているときに、距離ｘ１が５０μｍ大きくなるように変化しても、拡大率は１０００．１倍にしかならず、実用上は無視できる。
【００４３】
また、一般的には、ターゲット部の絶対的な位置が変化すると、ターゲット体への電子ビームの入射条件、特にターゲット体へ入射する電子ビームのビーム径が変化してしまう。このため、Ｘ線の焦点径も変化する可能性がある。一方、本実施形態においては円柱状に形成されたターゲット体２３が基板２１に埋設されているために、Ｘ線焦点の径を直接反映するのはターゲット体２３の径となる。よって、電子ビームＥＢがターゲット体２３に入射していれば、ターゲット部Ｔの絶対的な位置が変化しても、Ｘ線の焦点径が変化する可能性は低い。
【００４４】
更に、ベローズＢＥは、電子通路に連続し且つ真空状態が保持される空間を画成し、少なくとも空間に面する部分が導電性を有しているので、ターゲット部Ｔ（ターゲット体２３）への電子の照射を妨げることはない。
【００４５】
本実施形態では、ターゲット部Ｔは、第１ＸＹＺステージＳＴ１を介して天板２０の第１主面２０ａに設けられている。これにより、ターゲット部Ｔの第１主面２０ａに対する位置が調整されることとなり、Ｘ線の焦点と被照射物ＳＭとの間の距離の微調整が可能となる。この結果、より一層安定してＸ線を被照射物ＳＭに照射することができる。更に、電子ビームＥＢの集束レンズの中心軸上にターゲット体２３を配置するようにターゲット部Ｔの位置を調整することもできる。そのため、集束レンズの収差の影響を受けることなく微小な焦点径に電子を集束することができる。
【００４６】
ベローズＢＥは、伸縮性のみならず可撓性を有している。これにより、ベローズＢＥが、電子ビームＥＢと交差する方向へのターゲット部Ｔの移動に支障となるようなことはなく、特に、微小なターゲット体２３に対して適切に電子ビームＥＢが入射されるように、電子ビームＥＢとターゲット部Ｔとの位置関係を適切に調整することができる。したがって、より一層安定してＸ線を被照射物ＳＭに照射することができる。
【００４７】
天板２０は、筒状部５に固定されている。これにより、筒状部５と天板２０とが一体となり、筒状部５と天板２０との位置関係が変動するのが抑制される。また、本実施形態においては、天板２０は筒状部５の先端に固定されているので、筒状部５の熱膨張による、筒状部５とターゲット部Ｔとの間隔の変化を最小限に抑制することができ、電子ビームＥＢのターゲット体２３への入射状態の変化を抑制することができる。したがって、より一層安定してＸ線を被照射物ＳＭに照射することができる。また、Ｘ線照射装置１の装置全体を小型化することもできる。
【００４８】
天板２０は、ターゲット部Ｔの側方に配置されている。これにより、第１主面２０ａがターゲット部Ｔ及び保持部３０の近傍に位置することとなり、ターゲット部Ｔ及び保持部３０を安定して天板２０に設けることができる。更に、天板２０を小型化することができるので、天板２０の熱膨張による筒状部５とターゲット部Ｔとの間隔の変化を抑制することができる。この結果、より一層安定してＸ線を被照射物ＳＭに照射することができる。
【００４９】
特許文献４に記載されたＸ線透視撮影装置では、ヒータの駆動による試料ステージの熱膨張／収縮に起因して試料が移動しても、その移動を打ち消すように試料ステージを移動させることが記載されている。この場合、試料ステージの熱膨張／収縮を検出する手段と、当該手段による検出結果に基づいて試料ステージを駆動させる手段と、が必要とされる。これに対して、本実施形態では、天板２０が備えられ、ターゲット部Ｔと保持部３０とが天板２０の同じ第１主面２０ａに設けられているという極めて簡易な構成が採用されている。したがって、本実施形態では、複雑な制御等が必要とされることなく、Ｘ線の焦点と被照射物ＳＭとの間隔が変化するのを抑制して、被照射物ＳＭに安定してＸ線を照射することができる。
【００５０】
次に、図３を参照して、本実施形態の変形例に係るＸ線照射装置の構成について説明する。図３は、本実施形態の変形例に係るＸ線照射装置を示す概略構成図である。図３に示された変形例では、天板２０が電子出射部２（筒状部５）と別体の支持部材に固定されている点で上述された実施形態と相違する。
【００５１】
天板２０は、電子出射部２と離間した支持部材４０にねじ止め等により固定されている。支持部材４０は、電子出射部２と別体であって、電子出射部２が設置されている台座に立設されている。天板２０には、被照射物ＳＭに対応する位置に、被照射物ＳＭを透過して撮像デバイス（不図示）に向かうＸ線を通すための開口２０ｄが形成されている。固定治具ＦＸは、スペーサＳＰを介して第１ＸＹＺステージＳＴ１の可動台に設けられている。スペーサＳＰは必ずしも必要ではなく、固定治具ＦＸを第１ＸＹＺステージＳＴ１の可動台に直接設けてもよい。
【００５２】
本変形例においても、ターゲット部Ｔ（ターゲット体２３）と保持部３０とが間接的に一体化するため、Ｘ線の焦点と被照射物ＳＭとの間の距離は１００ｎｍ以下の精度で固定されることとなる。
【００５３】
本変形例では、電子出射部２を構成する筒状部５と支持部材４０とが離間しているので、筒状部５の熱が支持部材４０及び天板２０に伝わるのが抑制される。つまり、筒状部５における熱膨張がベローズＢＥによって吸収される一方で、筒状部５の熱が支持部材４０及び天板２０に伝わるのが抑制されることで、Ｘ線の焦点と被照射物ＳＭとの間の距離の変化がより一層抑制され、より一層安定してＸ線を被照射物ＳＭに照射することができる。更に、ターゲット部Ｔの絶対的な位置を保持することができるので、電子ビームＥＢのターゲット体２３への入射状態の変化を抑制することができる。
【００５４】
以上、本発明の好適な実施形態について説明してきたが、本発明は必ずしも上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。
【００５５】
第１ＸＹＺステージＳＴ１により調整されるターゲット体２３の位置は、通常、コイル部７の中心に一度合わせれば、その状態が維持される。したがって、ターゲット部Ｔを移動させる移動機構は、第１ＸＹＺステージＳＴ１の代わりに、水平に対向する４本のねじを有し、これらのねじの押し引きによりターゲット部Ｔの位置を調整する機構を用いてもよい。
【符号の説明】
【００５６】
１…Ｘ線照射装置、２…電子出射部、３…電子銃部、５…筒状部、７…コイル部、９…コイル部、１１…電子通路、１７…真空ポンプ、１９…モールド電源部、２０…天板、２０ａ…第１主面、２０ｂ…第２主面、２１…基板、２３…ターゲット体、３０…保持部、４０…支持部材、ＢＥ…ベローズ、ＳＭ…被照射物、ＳＴ１…第１ＸＹＺステージ、ＳＴ２…第２ＸＹＺステージ、Ｔ…ターゲット部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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