(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板の表面を区画する隔壁と、前記隔壁により区画された基板上の領域と、を有するマイクロアレイ用基板の製造方法において、
下記式（１）に示す化合物（Ａ）を含む感放射線性組成物を用いて基板上に第１膜を形成する第１膜形成工程と、
前記第１膜をリソグラフィー法によりパターニングして前記隔壁を形成する隔壁形成工程と、を備えることを特徴とするマイクロアレイ用基板の製造方法。
【化１】
0005527092.tif 000027
〔式（１）中、Ｒ１及びＲ２は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のパーフルオロアルキル基、炭素数０〜５のアミノ基を表す。〕
【請求項２】
前記感放射線性組成物は、更に、重合体（Ｂ）、多官能性単量体（Ｃ）及び感放射線性重合開始剤（Ｄ）を含有し、且つ、
前記重合体（Ｂ）が、アルカリ可溶性重合体である請求項１に記載のマイクロアレイ用基板の製造方法。
【請求項３】
基板と、前記基板表面を区画する隔壁と、前記隔壁により区画された基板上の領域と、を有するマイクロアレイ用基板における該隔壁を形成するための隔壁形成用組成物であって、
下記式（１）に示す化合物（Ａ）を含むことを特徴とする隔壁形成用組成物。
【化２】
0005527092.tif 000028
〔式（１）中、Ｒ１及びＲ２は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のパーフルオロアルキル基、炭素数０〜５のアミノ基を表す。〕
【請求項４】
更に、重合体（Ｂ）、多官能性単量体（Ｃ）及び感放射線性重合開始剤（Ｄ）を含有し、且つ、
前記重合体（Ｂ）が、アルカリ可溶性重合体である請求項３に記載の隔壁形成用組成物。
【請求項５】
請求項３又は４に記載の隔壁形成用組成物を用いて得られたことを特徴とするマイクロアレイ用基板の隔壁。
【請求項６】
（ａ）請求項１又は２に記載のマイクロアレイ用基板の製造方法を用いて、前記マイクロアレイ用基板を製造するマイクロアレイ用基板製造工程と、
（ｂ）前記領域にターゲット物質を固定するための固定用物質を配置する固定用物質配置工程と、
（ｃ）前記固定用物質にターゲット物質を固定する固定化工程と、を備えることを特徴とするバイオチップの製造方法。
【請求項７】
（ａ）請求項１又は２に記載のマイクロアレイ用基板の製造方法を用いて、前記マイクロアレイ用基板を製造するマイクロアレイ用基板製造工程と、
（ｄ）前期領域に、表面にターゲット物質を有する担持物質を、配置する担持物質配置工程と、を備えることを特徴とするバイオチップの製造方法。
【請求項８】
前記固定用物質が、ポリリシン、コラーゲン、ラミニン、含シアル酸オリゴ糖、マンノース結合性レクチン、インテグリンファミリーリガンド、ペプチド、抗原又は抗体並びに核酸である請求項６に記載のバイオチップの製造方法。
【請求項９】
前記ターゲット物質が、生体関連物質である請求項７又は８に記載のバイオチップの製造方法。
【請求項１０】
請求項７乃至９のうちのいずれかに記載のバイオチップの製造方法によって得られたことを特徴とするバイオチップ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はマイクロアレイ用基板の製造方法、隔壁形成用組成物、マイクロアレイ用基板の隔壁、バイオチップの製造方法及びバイオチップに関する。更に詳しくは、ＤＮＡシーケンシングなどに用いられるバイオチップ等のマイクロアレイに用いるマイクロアレイ用基板の製造方法、隔壁形成用組成物、マイクロアレイ用基板の隔壁、バイオチップの製造方法及びバイオチップに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、基体上に、核酸、タンパク質、ペプチド、糖鎖、低分子化合物、細胞、組織などの物質をプローブ分子として搭載し、ターゲット分子である生体関連物質との相互作用を計測したり、反応を利用したりするためのデバイスとしてマイクロアレイが注目されている。このマイクロアレイには、プローブ分子を固定化するための区画された複数の反応領域（キャビティ）を有する基板（マイクロアレイ用基板）が用いられる。具体的には、例えば、ＤＮＡ、タンパク質、糖鎖等の生体関連物質等のターゲット物質を基板表面に区画化して高密度に集積したバイオチップが知られている。このバイオチップでは、多数の検体を同時に処理できることから注目されている。そして、一括した処理でより多くの情報を得るために、集積量を上げる試みがなされている。
このターゲット物質を基板表面にアレイ化して多数配置する方法には、主として２種類の方法が知られている。一方は、基板上でターゲット物質を合成することによって配置する方法であり、他方は、予め用意したターゲット物質を基板表面に液滴等を介して配置する方法である。このうち後者の方法では、例えば、ターゲット物質が溶解された液体を基板の所定領域に滴下して固定する方法等が採用される。
このような技術を利用した技術としては下記特許文献１〜３が知られている。
また、このようなバイオチップを用いると核酸等の塩基配列を検知するシーケンシング剤の基板として用いることが可能である。バイオチップ上でポリメラーゼ連鎖反応（ＰＣＲ法）により生態関連物質を増幅させ、生態関連物質から発せられる蛍光標識を用いることで塩基配列を検知することができる（特許文献４又は５）
更に、プローブ分子とターゲット分子との相互作用や反応を検出する方法として、プローブ分子とターゲット分子との相互作用や反応の際に放出される蛍光を、必要に応じ蛍光標識剤等を用いて、検出する技術が知られている。即ち、例えば、蛍光標識を用いた反応では、マイクロアレイ全体に誘起光照射を行い、個々のキャビティから発せられる蛍光を測定器により受光して反応の有無や状態を検知する技術が知られている（特許文献１乃至５）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−２１４８８９号公報
【特許文献２】ＷＯ０６／１０１２２９号公報
【特許文献３】特開２００１−３４３３８５号公報
【特許文献４】特開２００６−３２０３０７号公報
【特許文献５】ＷＯ０７／０４８０３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
そして、前記バイオチップなどのマイクロアレイでは、隔壁によって区画された個々のキャビティ内の反応について蛍光標識を利用する等して、その蛍光から反応に関する情報を得ることが一般的である。即ち例えば、蛍光標識を用いた反応では、バイオチップ全体に誘起光照射を行い、個々のキャビティから発せられる蛍光を測定器により受光して反応の有無や状態が検知される。
しかし、前述のように、高密度化が進むにつれて、各キャビティから発せられる蛍光の混色が問題となる。即ち、高密度化による隔壁が狭化してキャビティ間の光を十分に分離できなくなるという問題がある。これに対して、測定光領域に吸収帯を有する成分（吸光剤等）を含有させて、光学的にキャビティ間を分離できるものの、隔壁への異成分添加により、隔壁が本来必要な特性が低下しかねないという問題がある。
【０００５】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、キャビティ（即ち、隔壁により区画された領域）間の光学的分離を確保しつつ、隔壁と基板との密着性及び隔壁の耐水性を向上させたマイクロアレイ用基板の製造方法、隔壁形成用組成物、マイクロアレイ用基板の隔壁、バイオチップの製造方法及びバイオチップを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、以下のとおりである。
〈１〉基板と、前記基板の表面を区画する隔壁と、前記隔壁により区画された基板上の領域と、を有するマイクロアレイ用基板の製造方法において、
下記式（１）に示す化合物（Ａ）を含む感放射線性組成物を用いて基板上に第１膜を形成する第１膜形成工程と、
前記第１膜をリソグラフィー法によりパターニングして前記隔壁を形成する隔壁形成工程と、を備えることを特徴とするマイクロアレイ用基板の製造方法。
【化１】
0005527092.tif 000002
〔式（１）中、Ｒ１及びＲ２は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のパーフルオロアルキル基、炭素数０〜５のアミノ基を表す。〕
〈２〉前記感放射線性組成物は、更に、重合体（Ｂ）、多官能性単量体（Ｃ）及び感放射線性重合開始剤（Ｄ）を含有し、且つ、
前記重合体（Ｂ）が、アルカリ可溶性重合体である前記〈１〉に記載のマイクロアレイ用基板の製造方法。
〈３〉基板と、前記基板表面を区画する隔壁と、前記隔壁により区画された基板上の領域と、を有するマイクロアレイ用基板における該隔壁を形成するための隔壁形成用組成物であって、
下記式（１）に示す化合物（Ａ）を含むことを特徴とする隔壁形成用組成物。
【化２】
0005527092.tif 000003
〔式（１）中、Ｒ１及びＲ２は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のパーフルオロアルキル基、炭素数０〜５のアミノ基を表す。〕
〈４〉更に、重合体（Ｂ）、多官能性単量体（Ｃ）及び感放射線性重合開始剤（Ｄ）を含有し、且つ、
前記重合体（Ｂ）が、アルカリ可溶性重合体である前記〈３〉に記載の隔壁形成用組成物。
〈５〉前記〈３〉又は〈４〉に記載の隔壁形成用組成物を用いて得られたことを特徴とするマイクロアレイ用基板の隔壁。
〈６〉（ａ）前記〈１〉又は〈２〉に記載のマイクロアレイ用基板の製造方法を用いて、前記マイクロアレイ用基板を製造するマイクロアレイ用基板製造工程と、
（ｂ）前記領域にターゲット物質を固定するための固定用物質を配置する固定用物質配置工程と、
（ｃ）前記固定用物質にターゲット物質を固定する固定化工程と、を備えることを特徴とするバイオチップの製造方法。
〈７〉（ａ）前記〈１〉又は〈２〉に記載のマイクロアレイ用基板の製造方法を用いて、前記マイクロアレイ用基板を製造するマイクロアレイ用基板製造工程と、
（ｄ）前期領域に、表面にターゲット物質を有する担持物質を、配置する担持物質配置工程と、を備えることを特徴とするバイオチップの製造方法。
〈８〉前記固定用物質が、ポリリシン、コラーゲン、ラミニン、含シアル酸オリゴ糖、マンノース結合性レクチン、インテグリンファミリーリガンド、ペプチド、抗原又は抗体並びに核酸である前記〈６〉に記載のバイオチップの製造方法。
〈９〉前記ターゲット物質が、生体関連物質である前記〈７〉又は〈８〉に記載のバイオチップの製造方法。
〈１０〉前記〈７〉乃至〈９〉のうちのいずれかに記載のバイオチップの製造方法によって得られたことを特徴とするバイオチップ。な
【発明の効果】
【０００７】
本発明のマイクロアレイ用基板の製造方法によれば、隔壁によって区画された領域同士の間の光学的分離を確保しつつ、隔壁と基板との密着性及び隔壁の耐水性を向上させることができる。
マイクロアレイ用基板の製造方法において、感放射線性組成物が、更に、多官能性単量体（Ｃ）及び感放射線性重合開始剤（Ｄ）を含有し、且つ、重合体（Ｂ）が、アルカリ可溶性重合体である場合は、密着性と耐水性において優れた特性を発揮できる。
本発明の隔壁形成用組成物によれば、区画された領域同士の間の光学的分離を確保しつつ、基板（マイクロアレイ用基板を構成する素基板）との密着性及び耐水性に優れたマイクロアレイ用基板（バイオチップ用途にも利用できる）の隔壁を得ることができる。
隔壁形成用組成物において、更に、多官能性単量体（Ｃ）及び感放射線性重合開始剤（Ｄ）を含有し、且つ、重合体（Ｂ）がアルカリ可溶性重合体である場合は、密着性と耐水性において優れた特性を発揮できる。
本発明のマイクロアレイ用基板の（バイオチップ用にも利用できる）隔壁によれば、区画された領域同士の間の光学的分離を確保しつつ、基板（マイクロアレイ用基板を構成する素基板）との密着性及び耐水性に優れた隔壁とすることができる。
本発明のバイオチップの製造方法によれば、隔壁によって区画された領域同士の間の光学的分離を確保しつつ、隔壁と基板との密着性及び隔壁の耐水性を向上されたバイオチップを製造できる。
本発明のバイオチップによれば、隔壁によって区画された領域同士の間の光学的分離を確保しつつ、隔壁と基板との密着性及び隔壁の耐水性に優れる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明に係るマイクロアレイ用基板（プレバイオチップ）を模式的に説明する斜視図である。
【図２】本発明に係るマイクロアレイ用基板（プレバイオチップ）を模式的に説明する平面図である。
【図３】本発明に係るマイクロアレイ用基板の製造方法を模式的に説明する説明図である。
【図４】本発明に係る第１のバイオチップの製造方法を模式的に説明する説明図である。
【図５】本発明に係る第２のバイオチップの製造方法を模式的に説明する説明図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明を詳細に説明する。尚、本明細書において、「（メタ）アクリル」とは、アクリル及びメタクリルを意味し、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート及びメタクリレートを意味する。
【００１０】
［１］マイクロアレイ用基板の製造方法
本発明のマイクロアレイ用基板の製造方法は、基板（マイクロアレイ用基板を構成する素基板、以下単に「素基板」ともいう）と、前記基板の表面を区画する隔壁と、前記隔壁により区画された基板上の領域と、を有するマイクロアレイ用基板の製造方法において、
化合物（Ａ）を含む感放射線性組成物を用いて基板上に第１膜を形成する第１膜形成工程と、
前記第１膜をリソグラフィー法によりパターニングして前記隔壁を形成する隔壁形成工程と、を備えることを特徴とするマイクロアレイ用基板の製造方法。
【００１１】
本発明のマイクロアレイ用基板では、上記式（１）の化合物を用いた隔壁２０を形成することにより、目的とする波長（５５０ｎｍ）の光を隔壁２０が効率よく遮蔽できる。従って、隔壁２０によって隔てられた領域（キャビティ）３０の優れた光学的分離を得ることができる。また、上記式（１）に示す化合物は、少量の添加により高い遮蔽効果を発揮できる。このため、上記式（１）の化合物の感放射線性組成物への配合量を少なく抑えることができ、素基板１０との密着性を十分に発揮させることができる。特に隔壁２０の基板１０に対する密着性に寄与する樹脂成分をより多く配合できるために、密着性向上に寄与させることができる。
【００１２】
本方法により形成される隔壁２０は、図１〜図５に例示されるように、素基板１０の表面を区画する。この隔壁２０によって隔てられて区画化された領域は、隔壁２０によって取り囲まれたキャビティ３０となる。
また、本方法にいうバイオチップ１００は、少なくとも素基板１０と隔壁２０とを有する（固定用物質及びターゲット物質を有さない）マイクロアレイ用基板（即ち、プレバイオチップ）１０１に、固定用物質及びターゲット物質が配置されたチップ１００ａ（図４）、及び、少なくとも素基板１０と隔壁２０とを有する（担持物質を有さない）マイクロアレイ用基板（即ち、プレバイオチップ）１０１に、担持物質５３が配置されたチップ１００ｂ（図５）である。前記マイクロアレイ用基板（即ち、プレバイオチップ）１０１とは、利用者がターゲット物質を導入して用いるチップである。この他のバイオチップ及び隔壁の詳細については、後述する。
【００１３】
前記「第１膜形成工程」は、前記式（１）に示す化合物（Ａ）を含む感放射線性組成物を用いて素基板１０上に第１膜２１を形成する工程である（図３参照）。
本発明では、この化合物（Ａ）を含んだ感放射線性組成物を用いることにより、キャビティ間を光学的に分離できると共に、隔壁と素基板（又は素基板表面に積層された他層）との密着性を向上させることができる。加えて、隔壁を水又は水を含む液体と接触したさせた場合に隔壁の膨潤を抑制し、これによって隔壁が素基板表面から剥離したり、密着性が低下することを防止できる。
【００１４】
前記「感放射線性組成物」は、化合物（Ａ）を含む組成物である。この感放射線性組成物、化合物（Ａ）については、後述する隔壁形成用組成物における各々をそのまま適用できる。
この感放射線性組成物はどのようにして膜化してもよいが、通常、液状の感放射線性組成物を、目的とする表面（例えば、素基板の表面、素基板に積層された他層の表面）に塗布して形成される。塗布方法等は特に限定されず、回転塗布、流延塗布、ロール塗布及び印刷等の種々の方法を用いることができる。
【００１５】
また、感放射線性組成物が溶剤を含有する場合、感放射線性組成物を塗布して得られた塗膜は、必要に応じて、プレベーク（ＰＢ）することによって、塗膜内に含まれた溶剤等を揮発させることができる。プレベークを行う際の加熱条件は、感放射線性組成物の特性によって適宜選択されるが、例えば、加熱温度は３０〜２４０℃とすることができ、好ましくは５０〜１８０℃とすることができる。更に、加熱時間は３０〜１８００秒間とすることができ、好ましくは６０〜６００秒間とすることができる。
【００１６】
前記第１膜の厚みは特に限定されないが、例えば、０．０１〜５００μｍとすることができる。好ましくは１〜１００μｍとすることができ、より好ましくは１０〜７０μｍとすることができる。この範囲では、バイオチップに適した隔壁の高さを確保することができる。
【００１７】
前記「基板（素基板）」の種類は特に限定されず、無機材料からなってもよく、有機材料からなってもよく、これらの複合材料からなってもよい。また、素基板１０は、その表面側と他面側とが異なる材料からなってもよい。素基板を構成する材料としては、シリコン、二酸化ケイ素及びガラス（ホウケイ酸ガラス、表面改質ガラス、石英ガラス等を含む）等のケイ素を主成分とする無機材料が挙げられる。また、ポリプロピレン及びポリアクリルアミド（アクリルアミドによって表面が活性化されたポリアクリルアミドを含む）等の有機材料が挙げられる。この他、第１膜との密着性を更に向上させるのに適した反応性部位（例えば、活性なアミノ基など）を有する素基板を適宜用いることができる。
加えて、素基板１０としては、固体撮像素子（ＣＭＯＳイメージセンサーなど）などの受光素子を有する素基板を用いることができる。受光素子を有する素基板を用いた場合には、プローブ分子とターゲット分子との相互作用や反応の際に放出される蛍光を素基板自体に受光させることができる。
【００１８】
前記「隔壁形成工程」は、第１膜２１をリソグラフィー法によりパターニングして隔壁２０を形成する工程である（図３参照）。
前記「リソグラフィー法」は、所望のパターンとなるようにパターンマスク４０を介して露光を行った後、現像を行ってパターンを顕在化させることによって第１膜２１をパターニングする方法である。即ち、隔壁形成工程は、通常、第１膜２１をパターンマスク４０を介して露光する露光工程と、露光後に現像液により不要部を除去する現像工程と、を備える。
尚、図３はネガ型感放射線性組成物を用いた場合であり、ポジ型感放射線性組成物を用いた場合も、同様の手法にて隔壁を形成することができる。
【００１９】
前記露光工程において、露光に用いる放射線種は特に限定されず、水銀灯のスペクトル（波長３００〜６００ｎｍ）、ＬＥＤランプ、紫外線（ｇ線、ｈ線、ｉ線等を含む）、遠紫外線｛ＫｒＦエキシマレーザー（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）、Ｆ２エキシマレーザー（波長１５７ｎｍ）、ＥＵＶ（波長１３ｎｍ等）等を含む｝、シンクロトロン放射線等のＸ線、電子線等の荷電粒子線、γ線、分子線、イオンビーム等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。露光条件は、感放射線性組成物の配合組成、添加剤の種類等に応じて適宜選定される。
【００２０】
また、前記現像工程は、露光工程後に現像液に対して可溶性の部位を除去する工程である。現像液としては、通常、公知のアルカリ性の各種現像液が用いられる。現像液に対して可溶性とは、露光部と未露光部で相対的に現像液に対して溶解性の差があればよく、２３℃において現像液に１分間浸漬した場合に、当該膜の初期膜厚の１％を越えて溶解される性質をいうものとする。
【００２１】
この現像液としては、アルカリ金属水酸化物、アンモニア水、アルキルアミン類、アルカノールアミン類、複素環式アミン類、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド類、コリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン等のアルカリ性化合物等を溶解した液体が挙げられる。前記アルカリ性化合物の濃度は特に限定されないが、１０質量％以下が好ましく、１〜１０質量％がより好ましく、２〜５質量％が更に好ましい。
【００２２】
現像液を構成する溶媒の種類も特に限定されないが、水及び／又は有機溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、アセトン等のケトン類；エチルアルコール等のアルコール類；テトラヒドロフラン等のエーテル類；酢酸エチル等のエステル類；トルエン等の芳香族炭化水素類や、フェノール、アセトニルアセトン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。これらの有機溶媒は１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
また、現像液には、界面活性剤等を添加できる。これにより第１膜に対する現像液の濡れ性を向上させることができる。
【００２３】
本発明のマイクロアレイ用基板の製造方法では、第１膜形成工程及び隔壁形成工程以外にも他の工程を備えることができる。他の工程としては、前記露光後に行う加熱処理｛即ち、ＰＥＢ（Ｐｏｓｔ  Ｅｘｐｏｓｕｒｅ  Ｂａｋｅ）｝が挙げられる。ＰＥＢを行うことにより第１膜の見掛けの感度を向上させることができる。ＰＥＢの加熱条件は、感放射線性組成物の配合組成、添加剤の種類等に応じて適宜選定されるが、３０〜２００℃が好ましく、５０〜１５０℃がより好ましい。更に、前記現像を行った後に、現像後に第１膜（隔壁）を水洗する水洗工程を行うことができる。
更に、他の工程としては、現像後に行う加熱処理が挙げられる。現像後に行う加熱処理の加熱条件は、感放射線性組成物の配合組成、添加剤の種類等に応じて適宜選定されるが、通常、３０〜３００℃、好ましくは５０〜２５０℃で、加熱時間は、通常、１分〜５時間である。
【００２４】
［２］隔壁形成用組成物
本発明の隔壁形成用組成物は、素基板と、前記素基板表面を区画する隔壁と、前記隔壁により区画された基板上の領域と、を有するマイクロアレイ用基板における該隔壁を形成するための隔壁形成用組成物であって、
化合物（Ａ）を含むことを特徴とする。
【００２５】
本発明の隔壁形成用組成物は、前記マイクロアレイ用基板の製造方法における感放射線性組成物である。即ち、隔壁形成用組成物は感放射線性を有するものである。
本発明の隔壁形成用組成物は、前記化合物（Ａ）を含有する。この化合物（Ａ）は有機顔料であり、各々特定の吸収帯域を有する。後述するように、隔壁形成用組成物は、ネガ型及びポジ型に関わらず、この化合物（Ａ）を含有する。
【００２６】
前記「化合物（Ａ）」は、下記式（１）で表される化合物である。
【化３】
0005527092.tif 000004
〔式（１）中、Ｒ１及びＲ２は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のパーフルオロアルキル基、炭素数０〜５のアミノ基を表す。〕
【００２７】
前記式（１）における炭素数１〜１０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基（ｎ−、ｉ−）、ブチル基（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−、ｔ−）、等が挙げられる。
前記式（１）における炭素数１〜１０のパーフルオロアルキル基としては、前記式（１）における炭素数１〜１０のアルキル基の水素原子の全てがフッ素原子に置き換わった基が挙げられる。
【００２８】
前記式（１）における炭素数０〜５のアミノ基は、−ＮＲ３Ｒ４で表される基である。このアミノ基のＲ３及びＲ４は、各々独立に、水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状又は分枝状の鎖状炭化水素基、炭素数３〜１０の環状炭化水素基を表す。前記鎖状炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基（ｎ−、ｉ−）、ブチル基（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−、ｔ−）等が挙げられる。一方、環状炭化水素基としては、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などの脂環式基；フェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、１−ナフチル基、ベンジル基などの芳香族基が挙げられる。
【００２９】
これらのなかでも、前記式（１）におけるＲ１及びＲ２は、ハロゲン原子、フェニル基又は水素原子であることが好ましく、更には、塩素原子又はフェニル基であることがより好ましい。また、前記式（１）におけるＲ１及びＲ２は、前記式（１）に含まれるベンゼン環の４位炭素に結合されることが好ましい。
【００３０】
具体的な（Ａ）成分としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４、同２６４および同２５５並びにＣ．Ｉ．ピグメントオレンジ７１及び７３などを挙げる。これらのなかでも混色防止能の点からＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４、同２６４及び同２５５が好ましい。これら（Ａ）成分は、２種以上をあわせて用いることも可能である。
【００３１】
前記化合物（Ａ）の含有量は、特に限定されないが、重合体（Ｂ）１００質量部に対して、０．０１〜３００質量部が好ましく、０．１〜１００質量部がより好ましく、１〜１００質量部が更に好ましい。この範囲では、特に優れた密着性及び耐水性を得ることができる。
【００３２】
本発明の隔壁形成用組成物には、前記化合物（Ａ）と共に、他の顔料を併用することができる。他の顔料の種類は特に限定されず、例えば、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．；Ｔｈｅ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  ｏｆ  Ｄｙｅｒｓ  ａｎｄ  Ｃｏｌｏｕｒｉｓｔｓ  社発行）においてピグメントに分類されている各種化合物（以下、単に「ピグメント化合物」という）を用いることができる。
【００３３】
このピグメント化合物としては、下記カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）番号が付されているものが挙げられる。即ち、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド３１、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド３２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド４１、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１６６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７１、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２１、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２４２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２４３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２６２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２７２；
【００３４】
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー３１、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー５５、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー９３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１１０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５５、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１６６、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２１１；
【００３５】
Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ５、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１３、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１４、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３４、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４０、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４３、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４６、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４９、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６１、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６４、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６８、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ７０、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ７２、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ７４；
【００３６】
Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２９、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット３２、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット３８；Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー８０；Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８；Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２５；Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７。
【００３７】
これらの前述の各種ピグメント化合物は、１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。更に、前述の有機顔料だけなく、必要に応じて無機顔料を用いることができる。無機顔料としては、酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、亜鉛華、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら｛赤色酸化鉄（ＩＩＩ）｝、カドミウム赤、群青、紺青、酸化クロム緑、コバルト緑、アンバー、チタンブラック、合成鉄黒、カーボンブラック等が挙げられる。これらの無機顔料は１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。その他、更に、染料や天然色素を１種以上を用いることができる。
【００３８】
これらの化合物（Ａ）以外の他の顔料を併用する場合、その含有量は、特に限定されないが、重合体（Ｂ）１００質量部に対して、通常、１００質量部以下とすることが好ましく、０．００００１〜５０質量部がより好ましく、０．００００１〜１０質量部が更に好ましい。
【００３９】
また、本発明の隔壁形成用組成物は、通常、重合体（Ｂ）を含む。隔壁形成用組成物に含まれる重合体（Ｂ）は、その形態によって種々の重合体を用いることができる。即ち、本組成物は、ネガ型感放射線性組成物でもよく、ポジ型感放射線性組成物でもよい。更には、前記重合体（Ｂ）は、有機高分子（炭素骨格高分子）であってもよく、無機高分子｛炭素以外の元素（例えば、Ｓｉ並びにＳｉとＯ等）を骨格とする高分子｝であってもよい。即ち、隔壁形成用組成物は、重合体（Ｂ）として有機高分子を含むネガ型特性を有する隔壁形成用組成物（以下、単に「有機ネガ型組成物」ともいう）であってもよく、重合体（Ｂ）として無機高分子を含むネガ型特性を有する隔壁形成用組成物（以下、単に「無機ネガ型組成物」ともいう）であってもよく、重合体（Ｂ）として有機高分子を含むポジ型特性を有する隔壁形成用組成物（以下、単に「有機ポジ型組成物」ともいう）であってもよく、重合体（Ｂ）として無機高分子を含むポジ型特性を有する隔壁形成用組成物（以下、単に「無機ポジ型組成物」ともいう）であってもよい。
【００４０】
尚、隔壁形成用組成物において、有機高分子を主成分とする場合、組成物全体を１００質量％とした場合に、有機高分子は５１質量％以上（１００質量％であってもよい）含有される。即ち、無機高分子は含まれないか、又は、含まれたとしても５１質量％未満である。同様に、無機高分子を主成分とする場合、組成物全体を１００質量％とした場合に、無機高分子は５１質量％以上（１００質量％であってもよい）含有される。即ち、有機高分子は含まれないか、又は、含まれたとしても５１質量％未満である。
【００４１】
（１）有機高分子を主成分とするネガ型感放射線性組成物
前記隔壁形成用組成物として有機ネガ型組成物（１）を用いる場合、この有機ネガ型組成物としては、例えば、特開２００７−２９３３０６号公報、特開２００３−２１５８０２号公報、特開２００４−１０６６０号公報、特開２００３−２５８４２２号公報、特開２００４−１０６６０号公報、特開２００４−１７１０２６号公報等に開示された組成物を用いることができる。
【００４２】
これらのなかでも特開２００７−２９３３０６号公報に開示された組成物を用いることが好ましい。即ち、前記重合体（Ｂ）としてアルカリ可溶性有機高分子（Ｂ１）（即ち、前記アルカリ可溶性重合体）を含有する。更に、加えて、多官能性単量体（Ｃ１）及び感放射線性重合開始剤（Ｄ１）を含有することが好ましい。
また、前記重合体（Ｂ）としてのアルカリ可溶性有機高分子（Ｂ１）が、反応性基を有する場合には、この反応性基と反応可能な基を有するとともに重合性基を有する化合物（重合性基導入成分）を用いて、アルカリ可溶性有機高分子（Ｂ１）に重合性基を導入することができる。即ち、重合性基導入成分が有するアルカリ可溶性有機高分子（Ｂ１）の反応性基と当該反応性基と反応可能な基とを反応させることによって、重合性基が導入されたアルカリ可溶性有機高分子（Ｂ１）を用いることができる。これにより、重合体（Ｂ１）から形成される隔壁２０の耐水性、及び、隔壁２０の素基板１０に対する密着性（耐水密着性）を向上させることができる。この重合性基導入成分及び重合性基が導入されたアルカリ可溶性有機高分子（Ｂ１）については後述する。
【００４３】
前記重合体（Ｂ）としてのアルカリ可溶性有機高分子（以下、単に「重合体（Ｂ１）」ともいう）としては、下記式（２）で表される構成単位（以下、単に「構成単位（Ｂ１１）」）や下記式（３）で表される構成単位（以下、単に「構成単位（Ｂ１２）」ともいう）を含有する重合体が好ましい。
【００４４】
【化４】
0005527092.tif 000005
〔式（２）中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素数６〜１２の直鎖状、環状もしくは芳香族の炭化水素基を表し、Ｒ４は−（ＣｎＨ２ｎ）−基を表わし、ｍは１〜１０の整数であり、ｎは２〜４の整数である。〕
【００４５】
【化５】
0005527092.tif 000006
〔式（３）中、Ｒ３は水素原子又はメチル基を表す。〕
【００４６】
前記式（２）で表される構成単位（Ｂ１１）における、炭素数６〜１２の直鎖状炭化水素基としては、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基等が挙げられる。また、炭素数６〜１２の環状炭化水素基としては、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などのシクロアルキル基；イソボルナン、アダマンタン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカン、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン等の有橋式炭化水素類に由来する基（即ち、例えば、イソボルニル基、トリシクロデカニル基又はアダマンチル基等）；などが挙げられる。更に、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基としては、たとえば、フェニル基、トリル基（ｏ−、ｍ−、ｐ−）、４−ｔ−ブチルフェニル基、１−ナフチル基、ベンジル基等が挙げられる。
これらの直鎖状炭化水素基、環状炭化水素基及び芳香族炭化水素基は、その少なくとも１つの水素原子がメチル基、エチル基等の炭化水素基によって置換されていてもよい。
【００４７】
この構成単位（Ｂ１１）は、通常、下記式（４）で表される単量体（Ｂｍ１）を用いて重合体（Ｂ１）を重合することにより得られる。
【化６】
0005527092.tif 000007
〔式（４）中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素数６〜１２の直鎖状、環状もしくは芳香族の炭化水素基、又はこれらの基の少なくとも１つの水素原子が炭化水素基に置換された置換炭化水素基を表し、Ｒ４は−（ＣｎＨ２ｎ）−基を表わし、ｍは１〜１０の整数であり、ｎは２〜４の整数である。〕
【００４８】
単量体（Ｂｍ１）としては、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ラウロキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ラウロキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ラウロキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ラウロキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ラウロキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ラウロキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカニル（メタ）アクリレート、などが挙げられる。
これらの単量体は１種のみ用いてもよく２種以上を併用してもよい。
【００４９】
これらの単量体（Ｂｍ１）のなかでも、密着性及び耐水性を向上させる観点から、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカニル（メタ）アクリレートが好ましく、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシトリエチレングリコールアクリレート、フェノキシテトラエチレングリコールアクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカニル（メタ）アクリレートがより好ましい。
【００５０】
一方、前記式（３）で表される構成単位（Ｂ１２）は、通常、下記式（５）で表される単量体（Ｂｍ２）を用いて重合体（Ｂ１）を重合することにより得られる。
【化７】
0005527092.tif 000008
〔式（５）中、Ｒ３は水素原子又はメチル基を表す。〕
【００５１】
この単量体（Ｂｍ２）としては、ヒドロキシスチレン（ｏ−、ｐ−、ｍ−）、ｐ−イソプロペニルフェノール等の水酸基含有芳香族ビニル化合物が挙げられる。これらの単量体（Ｂｍ２）は１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
これらのなかでも、密着性及び耐水性を向上させる観点から、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｐ−イソプロペニルフェノールが好ましく、ｐ−イソプロペニルフェノールがより好ましい。
【００５２】
重合体（Ｂ１）に占める構成単位（Ｂ１１）の量は特に限定されないが、重合体（Ｂ１）を構成する構成単位全体を１００質量％とした場合に、通常、１〜８０質量％であり、５〜５０質量％がより好ましく、５〜４０質量％が更に好ましい。この範囲では特に優れた密着性を発揮できる。
重合体（Ｂ１）に占める構成単位（Ｂ１２）の量は特に限定されないが、重合体（Ｂ１）を構成する構成単位全体を１００モル％とした場合に、通常、１〜５０質量％であり、５〜４０質量％がより好ましく、５〜３０質量％が更に好ましい。この範囲では特に優れた密着性を発揮できる。
【００５３】
前記重合体（Ｂ１）は、前記構成単位（Ｂ１１）及び構成単位（Ｂ１２）以外にも他の構成単位（Ｂ１３）を備えることができる。構成単位（Ｂ１３）を与える単量体としては、例えば、スチレン、メチルスチレン（α−、ｐ−）、ｐ−メトキシスチレン等の芳香族ビニル化合物；Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム等のヘテロ原子含有脂環式ビニル化合物；アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのシアノ基含有ビニル化合物；１．３−ブタジエン、イソプレン等の共役ジオレフィン類；アクリル酸、メタクリル酸等のカルボキシル基含有ビニル化合物；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類；ｐ−ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。これらの他の単量体は１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
【００５４】
これらの他の単量体のなかでも、スチレン、アクリル酸、メタクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルアミド等が好ましい。
重合体（Ｂ１）に占める構成単位（Ｂ１３）の量は特に限定されないが、重合体（Ｂ１）を構成する構成単位全体を１００モル％とした場合に、通常、９５質量％以下であり、５〜９０質量％がより好ましく、１０〜８５質量％がより好ましい。
【００５５】
更に、前記重合体（Ｂ１）のＧＰＣによるポリスチレン換算重量平均分子量は、１０００〜１００００００であることが好ましく、より好ましくは２０００〜４０００００、更に好ましくは３０００〜３０００００である。
更に、有機ネガ型組成物（１）を構成する重合体（Ｂ１）の割合は、有機ネガ型組成物に含まれる固形分を１００質量％とした場合、１０〜９０質量％が好ましく、３０〜８０質量％がより好ましく、５０〜７０質量％が更に好ましい。
【００５６】
前述のように、アルカリ可溶性有機高分子（Ｂ１）が反応性基を有する場合には、重合性基導入成分を用いて、アルカリ可溶性有機高分子（Ｂ１）に重合性基を導入することができる。これにより、アルカリ可溶性有機高分子（Ｂ１）から形成される隔壁２０の耐水性、及び、隔壁２０の素基板１０に対する密着性（耐水密着性）を向上させることができる。この重合性基導入成分及び重合性基が導入されたアルカリ可溶性有機高分子（Ｂ１）については後述する。
【００５７】
アルカリ可溶性有機高分子（Ｂ１）が有する反応性基としては、フェノール性水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基等が挙げられる。これらの基は１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
また、アルカリ可溶性有機高分子（Ｂ１）が有する反応性基と反応可能な基としては、エポキシ基、イソシアネート基等が挙げられる。これらの基は１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
更に、重合性基としては、エチレン性不飽和基等が挙げられる。これらの基は１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
【００５８】
上記の反応性基、及び、この反応性基と反応可能な基、との組合せのなかでも、（１）反応性基がカルボキシル基であるとともに、反応性基と反応可能な基がエポキシ基である場合が挙げられる。このような組合せによりアルカリ可溶性有機高分子（Ｂ１）に重合性基を導入する方法は、例えば、特開２００６−１２４６６４号公報に開示されている。更に、（２）反応性基がヒドロキシル基であるとともに、反応性基と反応可能な基がイソシアネート基である場合が挙げられる。このような組合せによりアルカリ可溶性有機高分子（Ｂ１）に重合性基を導入する方法は、例えば、特開２００７−２４１２４７号公報に開示されている。
【００５９】
上記（１）の場合、即ち、アルカリ可溶性有機高分子（Ｂ１）が反応性基としてカルボキシル基を有するとともに、このカルボキシル基と反応可能な基としてエポキシ基を用いる場合には、エポキシ基と重合性基とを有する重合性基導入成分（重合性基導入化合物）を用いることができる。より具体的には、重合性基として（メタ）アクリロリル基を有するとともに、エポキシ基を有する化合物が挙げられる。即ち、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル｛４−（２，３−エポキシ）ブチル（メタ）アクリレート｝等が挙げられる。これらの化合物は１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
上記重合性基導入成分の配合量は、条件により適宜の範囲とすることができるが、例えば、アルカリ可溶性有機高分子（Ｂ１）中のカルボキシル基のモル数に対し、モル分率で５〜９０モル％とすることが好ましく、１０〜８０モル％とすることがより好ましい。この範囲では、より優れた耐水性及び密着性を得ることができる。
【００６０】
上記（２）の場合、即ち、アルカリ可溶性有機高分子（Ｂ１）が反応性基としてヒドロキシル基を有するとともに、このヒドロキシル基と反応可能な基としてイソシアネート基を用いる場合には、イソシアネート基と重合性基とを有する重合性基導入成分（重合性基導入化合物）を用いることができる。より具体的には、重合性基として（メタ）アクリロリル基を有するとともに、イソシアネート基を有する化合物が挙げられる。即ち、例えば、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルイソシアネート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチルイソシアネート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシルイソシアネート、８−（メタ）アクリロイルオキシオクチルイソシアネート、１０−（メタ）アクリロイルオキシデシルイソシアネート等が挙げられる。これらの化合物は１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
上記重合性基導入成分の配合量は、条件により適宜の範囲とすることができる。
【００６１】
更に、隔壁形成用組成物として、有機ネガ型組成物（１）を用いる場合、前述のように、化合物（Ａ）及び重合体（Ｂ）以外にも他の成分を含有できる。他の成分としては、多官能性単量体（Ｃ１）及び感放射線性重合開始剤（Ｄ１）が挙げられる。
【００６２】
前記多官能性単量体（Ｃ１）としては、分子中にエチレン性不飽和基を少なくとも１個有する常温で液体又は固体の多官能性の化合物が好ましい。このような多官能性単量体（Ｃ１）としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルに（メタ）アクリル酸を付加させたエポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリロイルオキシエチルエーテル、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシエチルエーテル、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリロイルオキシメチルエチルエーテル、テトラメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの多官能性単量体（Ｃ１）は１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
【００６３】
前記隔壁形成用組成物｛有機ネガ型組成物（１）｝に対する多官能性単量体（Ｃ１）の含有量は特に限定されないが、重合体（Ｂ１）１００質量部に対して、通常、２０〜３００質量部であり、好ましくは３０〜２００質量部、更に好ましくは４０〜１５０質量部である。この範囲では、より優れた密着性を及び耐水性を得ることができる。
【００６４】
また、感放射線性重合開始剤（Ｄ１）は、半導体レーザー、メタルハライドランプ、高圧水銀灯（ｇ線、ｈ線、ｉ線等）、エキシマレーザー、極端紫外線及び電子線等の露光光により、多官能性単量体（Ｃ１）が重合を開始しうる活性種を発生することができる化合物である。
感放射線性重合開始剤（Ｄ１）としては、特開２００６−２８５０３５号公報及び特開２００９−１９２６１３号公報に記載の感光性重合開始剤等が挙げられる。具体的には、アシルホスフィンオキサイド系化合物、ビイミダゾール系化合物、ベンゾイン系化合物、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、トリアジン系化合物、Ｏ−アシルオキシム系化合物等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。特に本発明における感放射線性重合開始剤（Ｄ１）としては、耐水密着性の点から、アシルホスフィンオキサイド系、ビイミダゾール系化合物又はＯ−アシルオキシム系化合物が好ましい。
【００６５】
上記アシルホスフィンオキサイド系化合物としては、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−２，５−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−４−エトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−４−プロピルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−２−ナフチルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−１−ナフチルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−４−クロルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−２，４−ジメトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−デシルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−４−オクチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，５−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロル−３，４，５−トリメトキシベンゾイル）−２，５−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロル−３，４，５−トリメトキシベンゾイル）−４−エトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−２，５−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−４−エトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−２−ナフチルホスフィンオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−４−プロピルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−２，５−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２−メトキシ−１−ナフトイル）−４−エトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２−クロル−１−ナフトイル）−２，５−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
【００６６】
上記ビイミダゾール系化合物としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
【００６７】
ベンゾイン系化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２−ベンゾイル安息香酸メチル等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
上記アセトフェノン系化合物としては、２，２−ジメトキシアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
【００６８】
ベンゾフェノン系化合物としては、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
α−ジケトン系化合物としては、ジアセチル、ジベンゾイル、メチルベンゾイルホルメート等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
多核キノン系化合物としては、アントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
キサントン系化合物としては、キサントン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
【００６９】
トリアジン系化合物としては、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
【００７０】
Ｏ−アシルオキシム系化合物としては、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−２−テトラヒドロフラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−２−テトラヒドロピラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−２−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−２−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−３−テトラヒドロフラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−３−テトラヒドロピラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−３−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−３−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロピラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−２−テトラヒドロフラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−２−テトラヒドロピラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−２−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−２−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−３−テトラヒドロフラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−３−テトラヒドロピラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−３−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−３−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロピラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−［２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル］−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
【００７１】
２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−メチルフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ジフェニル−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
【００７２】
前記隔壁形成用組成物｛有機ネガ型組成物（１）｝に対する感放射線性重合開始剤（Ｄ１）の含有量は特に限定されないが、重合体（Ｂ１）１００質量部に対して、通常、１〜１５０質量部であり、好ましくは３〜１４０質量部、更に好ましくは５〜１３０質量部、特に好ましくは１０〜８０質量部である。この範囲では、より優れた密着性を及び耐水性を得ることができる。
【００７３】
また、隔壁形成用組成物｛有機ネガ型組成物（１）｝には必要に応じて、接着助剤（Ｅ１）、界面活性剤（Ｆ１）及び有機溶媒（Ｇ１）等を含有できる。
このうち接着助剤（Ｅ１）は、素基板と隔壁との接着性を更に向上させるために成分であり、この接着助剤としては官能性シランカップリング剤が好ましい。即ち、例えば、カルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基等の反応性置換基を有するシランカップリング剤が好ましい。官能性シランカップリング剤としては、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、トリス−（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートなどが挙げられる。
【００７４】
前記隔壁形成用組成物｛有機ネガ型組成物（１）｝に対する接着助剤（Ｅ１）の含有量は特に限定されないが、重合体（Ｂ１）１００質量部に対して、通常、２０質量部以下であり、好ましくは０．００１〜１５質量部、更に好ましくは０．０１〜１０質量部、特に好ましくは０．１〜７質量部である。この範囲では、より優れた密着性を得ることができる。
【００７５】
前記界面活性剤（Ｆ１）の種類は特に限定されず、種々のものを適宜選択して用いることができる。隔壁形成用組成物｛有機ネガ型組成物（１）｝に対する界面活性剤（Ｆ１）の含有量は特に限定されないが、重合体（Ｂ１）１００質量部に対して、通常、２０質量部以下であり、好ましくは０．０００１〜１５質量部、更に好ましくは０．００１〜１０質量部、特に好ましくは０．０１〜５質量部である。
【００７６】
前記有機溶媒（Ｇ１）としては、エチレングリコール等のアルコール類；テトラヒドロフラン等の環状エーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル等の多価アルコールのアルキルエーテル類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の多価アルコールのアルキルエーテルアセテート類；トルエン等の芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン等のケトン類；酢酸エチル等のエステル類などが挙げられる。これらの溶媒（Ｆ１）は１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
隔壁形成用組成物｛有機ネガ型組成物（１）｝に対する溶剤（Ｇ１）の含有量は特に限定されず、塗布形態等に適した固形分濃度となるように用いられる。
この有機ネガ型組成物（１）の固形分濃度は、隔壁部の高さにより適宜選択することができる。特に限定されないが、１０〜９０質量％が好ましく、３０〜８０質量％がより好ましく、４０〜７０質量％が更に好ましい。
尚、この有機ネガ型組成物（１）を用いる場合、前記素基板としてはどのような基板を用いてもよいが、密着性の観点から特にＳｉを含む素基板を用いることが好ましい。即ち、シリコン、二酸化ケイ素及びガラス（ホウケイ酸ガラス、表面改質ガラス、石英ガラス等を含む）等のケイ素を主成分とする素基板が好ましい。
【００７７】
（２）無機高分子を主成分とするネガ型感放射線性組成物
前記隔壁形成用組成物として無機ネガ型組成物（２）を用いる場合、無機ネガ型組成物（２）としては、例えば、特開２００４−２１２９８３号公報、ＷＯ０４／１１１７３４号公報、ＷＯ０５／０３６２６９号公報、特開２００４−１９８９０６号公報及び特開２００５−２６６４７４号公報に記載の組成物などを用いることができる。具体的には、例えば、化合物（Ａ）と、重合体（Ｂ）としてポリシロキサン（Ｂ２）と、感放射線性酸発生剤（Ｃ２）と、溶剤（Ｄ２）と、を含有する無機ネガ型組成物（２）が挙げられる。
【００７８】
前記ポリシロキサン（Ｂ２）としては、加水分解性シラン化合物を加水分解縮合して得られた重合体が好ましい。更に詳しくは、下記式（６）で表される加水分解性シラン化合物（以下、単に「化合物（Ｂ２１）」という）、及び、下記式（７）で表される加水分解性シラン化合物（以下、単に「化合物（Ｂ２２）」という）、から選ばれる少なくとも１種の加水分解性シラン化合物を加水分解縮合させて得られる重合体であることが好ましい。
ＲａＳｉ（ＯＲ１）４−ａ    …  （６）
〔式（６）において、Ｒは水素原子、フッ素原子、炭素数１〜５の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、シアノ基、シアノアルキル基、又はアルキルカルボニルオキシ基を表し、Ｒ１は１価の有機基を表し、ａは１〜３の整数を示す。〕
Ｓｉ（ＯＲ２）４          …  （７）
〔式（７）において、Ｒ２は１価の有機基を示す。〕
【００７９】
前記式（６）のＲ１における１価の有機基としては、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アリル基、グリシジル基等が挙げられる。
前記化合物（Ｂ２１）としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン等が好ましい。
【００８０】
前記式（７）のＲ２における１価の有機基としては、前記式（６）のＲ１における１価の有機基をそのまま適用できる。但し、式（７）のＲ２と式（６）のＲ１とは同じであってもよく異なっていてもよい。
前記化合物（７）としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラフェノキシシラン等が挙げられる。これらのなかでも、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランが好ましい。
【００８１】
前記ポリシロキサンを構成する加水分解性シラン化合物としては、化合物（６）及び化合物（７）のみを用いてもよいが、必要に応じて、下記式（８）で表わされる加水分解性シラン化合物（以下、「化合物（Ｂ２３）」という）を併用できる。
【００８２】
Ｒ３ｘ（Ｒ４Ｏ）３−ｘＳｉ−（Ｒ７）ｚ−Ｓｉ（ＯＲ５）３−ｙＲ６ｙ  …（８）
〔式（８）において、Ｒ３〜Ｒ６は同一又は異なり、それぞれ１価の有機基を表し、ｘ及びｙは同一又は異なり、０〜２の数を示し、Ｒ７は酸素原子、フェニレン基、又は−（ＣＨ２）ｎ−で表される基（ここで、ｎは１〜６の整数である）を表し、ｚは０又は１を示す。〕
式（８）のＲ３〜Ｒ６における１価の有機基としては、それぞれ、式（６）のＲ１における１価の有機基をそのまま適用できる。但し、式（８）のＲ３〜Ｒ６と式（６）のＲ１とは各々同じであってもよく異なっていてもよい。
【００８３】
前記化合物（８）のうち、ｚ＝０である化合物（８）としては、ヘキサメトキシジシラン、ヘキサエトキシジシラン、１，１，２，２−テトラメトキシ−１，２−ジメチルジシラン、１，１，２，２−テトラエトキシ−１，２−ジメチルジシラン、１，１，２，２−テトラメトキシ−１，２−ジフェニルジシラン、１，２−ジメトキシ−１，１，２，２−テトラメチルジシラン、１，２−ジエトキシ−１，１，２，２−テトラメチルジシラン、１，２−ジメトキシ−１，１，２，２−テトラフェニルジシラン、１，２−ジエトキシ−１，１，２，２−テトラフェニルジシラン等が好ましい。
【００８４】
前記化合物（８）のうち、ｚ＝１である化合物（８）としては、ビス（トリメトキシシリル）メタン、ビス（トリエトキシシリル）メタン、１，２−ビス（トリメトキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エタン、１−（ジメトキシメチルシリル）−１−（トリメトキシシリル）メタン、１−（ジエトキシメチルシリル）−１−（トリエトキシシリル）メタン、１−（ジメトキシメチルシリル）−２−（トリメトキシシリル）エタン、１−（ジエトキシメチルシリル）−２−（トリエトキシシリル）エタン、ビス（ジメトキシメチルシリル）メタン、ビス（ジエトキシメチルシリル）メタン、１，２−ビス（ジメトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジエトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（トリメトキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリエトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリメトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリエトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリメトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリエトキシシリル）ベンゼン等が好ましい。
【００８５】
前記ポリシロキサンに含まれる全ての構成単位の合計を１００モル％とした場合に、化合物（６）由来の構成単位の含有割合は、３０〜１００モル％であることが好ましく、６０〜１００モル％がより好ましく、７０〜１００モル％が更に好ましい。３０〜１００モル％では、硬化処理時のプロセスマージンと硬化物の物性のバランスを良好にできる。
また、化合物（７）由来の構成単位の含有割合は、０〜７０モル％であることが好ましく、０〜４０モル％がより好ましく、０〜３０モル％が更に好ましい。０〜７０モル％では、硬化処理時のプロセスマージンと硬化物の物性のバランスをより良好にできる。
更に、化合物（６）由来の構成単位、及び、化合物（７）由来の構成単位の合計含有量は、１００モル％以下であることが好ましく、３０〜１００モル％がより好ましく、６０〜１００モル％が更に好ましい。３０〜１００モル％では、パターン形成においてポリシロキサン中の化合物（６）及び化合物（７）の各化合物に由来する構成単位を含むことによる効果をより効果的に得ることができる。
また、化合物（８）由来の構成単位の含有割合は、５０モル％以下であることが好ましく、０〜４０モル％がより好ましく、０〜３０モル％が更に好ましい。５０モル％以下では、パターン形成においてポリシロキサン中の化合物（６）及び化合物（７）の各化合物に由来する構成単位を含むことによる効果を阻害することなく、パターン形成において化合物（８）由来の構成単位を含む効果をより効果的に得ることができる。
【００８６】
前記ポリシロキサンのＧＰＣによるポリスチレン換算重量平均分子量は、１０００〜１０００００であることが好ましく、より好ましくは１０００〜１００００である。この重量平均分子量が１０００〜１０００００では、硬化前の不要なゲル化を抑制しつつ、優れた塗布性と高い保存安定性を両立させることができる。
【００８７】
前記ポリシロキサンは、加水分解性シラン化合物｛前記化合物（６）〜（８）｝を出発原料として用い、加水分解縮合反応させることにより得ることができる。
このポリシロキサンを調製する際には、［１］化合物（６）、（７）及び（８）の混合物を加水分解縮合反応させてもよく、［２］各化合物の加水分解物及びその縮合物のうちの少なくとも一方や、選択された化合物の混合物の加水分解物及びその縮合物のうちの少なくとも一方を用いて、加水分解縮合反応又は縮合反応させてもよい。
また、硬化特性を調整するため、架橋基を有するシルセスキオキサン類、例えば、オクタ［（１，２−エポキシ−４−シクロヘキシル）ジメチルシロキシ］シルセスキオキサン、オクタ［（３−グリシドキシプロピル）ジメチルシロキシ］シルセスキオキサン等を添加してもよい。
また、加水分解縮合反応を行った後には、例えば、メタノール、エタノール等の低級アルコール類等の反応副生成物の除去処理を行うことが好ましい。これにより、前記有機溶媒の純度が高くなるため、より優れた塗布性が得られると共に、優れた保存安定性を得ることもできる。
無機ネガ型組成物（２）におけるポリシロキサンは、重合体溶液から単離して用いてもよく、重合体溶液のまま用いてもよい。尚、重合体溶液として用いる場合、必要に応じて、後述の溶媒（Ｄ２）に溶剤置換されていてもよい。
【００８８】
前記感放射線性酸発生剤（Ｃ２）は、露光により酸を発生する成分である。感放射線性酸発生剤（以下、単に「酸発生剤」ともいう）（Ｃ２）が含有されることで、酸発生剤（Ｃ２）から発生された酸は、ポリシロキサン（Ｂ２）の架橋を促進し、その結果、膜の硬化が進行されて機械的特性に優れたパターンの形成を行うことができる。この酸発生剤は、露光｛例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、電子線等の荷電粒子線等の放射線（ＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）或いはＫｒＦエキシマレーザー（波長２４８ｎｍ）などを含む。以下同様）により酸を発生する成分である。
この酸発生剤（Ｃ２）としては、スルホニウム塩やヨードニウム塩等のオニウム塩、有機ハロゲン化合物、ジスルホン類やジアゾメタンスルホン類等のスルホン化合物等が挙げられる。
【００８９】
具体的には、トリフェニルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、トリフェニルスルホニウム２−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、トリフェニルスルホニウム２−（３−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカニル）−１，１−ジフルオロエタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムＮ，Ｎ’−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、トリフェニルスルホニウムカンファースルホネート等のトリフェニルスルホニウム塩化合物；
【００９０】
４−シクロヘキシルフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−シクロヘキシルフェニルジフェニルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−シクロヘキシルフェニルジフェニルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、４−シクロヘキシルフェニルジフェニルスルホニウム２−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、４−シクロヘキシルフェニルジフェニルスルホニウム２−（３−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカニル）−１，１−ジフルオロエタンスルホネート、４−シクロヘキシルフェニルジフェニルスルホニウムＮ，Ｎ’−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、４−シクロヘキシルフェニルジフェニルスルホニウムカンファースルホネート等の４−シクロヘキシルフェニルジフェニルスルホニウム塩化合物；
【００９１】
４−ｔ−ブチルフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ｔ−ブチルフェニルジフェニルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−ｔ−ブチルフェニルジフェニルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、４−ｔ−ブチルフェニルジフェニルスルホニウム２−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、４−ｔ−ブチルフェニルジフェニルスルホニウム２−（３−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカニル）−１，１−ジフルオロエタンスルホネート、４−ｔ−ブチルフェニルジフェニルスルホニウムＮ，Ｎ’−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、４−ｔ−ブチルフェニルジフェニルスルホニウムカンファースルホネート等の４−ｔ−ブチルフェニルジフェニルスルホニウム塩化合物；
【００９２】
トリ（４−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリ（４−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、トリ（４−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、トリ（４−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウム２−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、トリ（４−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウム２−（３−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカニル）−１，１−ジフルオロエタンスルホネート、トリ（４−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムＮ，Ｎ’−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、トリ（４−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムカンファースルホネート等のトリ（４−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウム塩化合物；
【００９３】
ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、ジフェニルヨードニウム２−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ジフェニルヨードニウム２−（３−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカニル）−１，１−ジフルオロエタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムＮ，Ｎ’−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、ジフェニルヨードニウムカンファースルホネート等のジフェニルヨードニウム塩化合物；
【００９４】
ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム２−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム２−（３−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカニル）−１，１−ジフルオロエタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムＮ，Ｎ’−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムカンファースルホネート等のビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム塩化合物；
【００９５】
１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２−（３−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカニル）−１，１−ジフルオロエタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ’−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムカンファースルホネート等の１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム塩化合物；
【００９６】
１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２−（３−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカニル）−１，１−ジフルオロエタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ’−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムカンファースルホネート等の１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム塩化合物；
【００９７】
Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（パーフルオロ−ｎ−オクタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（２−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（２−（３−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカニル）−１，１−ジフルオロエタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（カンファースルホニルオキシ）スクシンイミド等のスクシンイミド類化合物；
【００９８】
Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（パーフルオロ−ｎ−オクタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−（３−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカニル）−１，１−ジフルオロエタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（カンファースルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド等のビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド類化合物等が挙げられる。
【００９９】
前記酸発生剤の使用量は、感度及び解像性を確保する観点から、無機ネガ型組成物（２）に含まれるポリシロキサン１００質量部に対して、通常、０．１〜３０質量部であり、０．１〜２０質量部が好ましく、０．１〜１５質量部がより好ましい。前記好ましい範囲では感度及び解像性に優れると共に、放射線に対する透明性を十分に得ることができ、パターンをより得易い。
【０１００】
前記溶剤（Ｄ２）としては、有機溶剤を用いることが好ましく、通常は前記各成分が有機溶剤に溶解又は分散される。この有機溶剤としては、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、脂肪族炭化水素系溶剤、芳香族系溶剤及び含ハロゲン溶剤からなる群から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。
これらの溶剤のなかでも、沸点が１５０℃未満の有機溶剤を使用することが好ましい。特に、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤及びエステル系溶剤のうちの１種又は２種以上を使用することが好ましい。
【０１０１】
前記溶剤（Ｄ２）の使用量は、無機ネガ型組成物（２）に含まれるポリシロキサン１００質量部に対して、通常、１０〜３５００質量部であり、２０〜３５００質量部が好ましく、４０〜３５００質量部がより好ましい。前記好ましい範囲では膜の面内均一性が特に優れる。
【０１０２】
更に、無機ネガ型組成物（２）には、前記各種成分以外にも酸拡散抑制剤を含有できる。酸拡散制御剤は、酸発生剤（Ｃ２）から発生された酸の不要な拡散を制御し、非照射領域における意図しない化学反応を抑制する作用を有する。前記酸拡散制御剤としては、放射線の照射や加熱により塩基性が変化しない含窒素有機化合物が好ましい。
【０１０３】
前記含窒素有機化合物としては、３級アミン化合物、アミド基含有化合物、４級アンモニウムヒドロキシド化合物、含窒素複素環化合物等が挙げられる。
３級アミン化合物としては、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ヘキシルアミン、トリ−ｎ−ヘプチルアミン、トリ−ｎ−オクチルアミン、トリ−ｎ−ノニルアミン、トリ−ｎ−デシルアミン、シクロヘキシルジメチルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、トリシクロヘキシルアミン等のトリ（シクロ）アルキルアミン類；アニリン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−メチルアニリン、３−メチルアニリン、４−メチルアニリン、４−ニトロアニリン、２，６−ジメチルアニリン、２，６−ジイソプロピルアニリン、ジフェニルアミン、トリフェニルアミン、ナフチルアミン等の芳香族アミン類；トリエタノールアミン、ジエタノールアニリン等のアルカノールアミン類；Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミン、１，３−ビス［１−（４−アミノフェニル）−１−メチルエチル］ベンゼンテトラメチレンジアミン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２−（３−アミノフェニル）−２−（４−アミノフェニル）プロパン、２−（４−アミノフェニル）−２−（３−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（４−アミノフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，４−ビス［１−（４−アミノフェニル）−１−メチルエチル］ベンゼン、１，３−ビス［１−（４−アミノフェニル）−１−メチルエチル］ベンゼン、ビス（２−ジメチルアミノエチル）エーテル、ビス（２−ジエチルアミノエチル）エーテル等が挙げられる。
【０１０４】
アミド基含有化合物としては、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジ−ｎ−オクチルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジ−ｎ−ノニルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジ−ｎ−デシルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジシクロヘキシルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−１−アダマンチルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−メチル−１−アダマンチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１−アダマンチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−メチル−１−アダマンチルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニルヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−ｔ−ブトキシカルボニルヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，７−ジアミノヘプタン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，８−ジアミノオクタン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，９−ジアミノノナン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，１０−ジアミノデカン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，１２−ジアミノドデカン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルベンズイミダゾール、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２−メチルベンズイミダゾール、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２−フェニルベンズイミダゾール、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−ピロリジン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−ピペリジン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−ピペリジン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−モルフォリン等のＮ−ｔ−ブトキシカルボニル基含有アミノ化合物のほか、ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、プロピオンアミド、ベンズアミド、ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。
【０１０５】
４級アンモニウムヒドロキシド化合物としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−プロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヒドロキシド等が挙げられる。
含窒素複素環化合物としては、イミダゾール、４−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、４−メチル−２−フェニルイミダゾール、ベンズイミダゾール、２−フェニルベンズイミダゾール等のイミダゾール類；ピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、２−エチルピリジン、４−エチルピリジン、２−フェニルピリジン、４−フェニルピリジン、２−メチル−４−フェニルピリジン、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、４−ヒドロキシキノリン、８−オキシキノリン、アクリジン等のピリジン類；ピペラジン、１−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン等のピペラジン類のほか、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、キノザリン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、３−ピペリジノ−１，２−プロパンジオール、モルホリン、４−メチルモルホリン、１，４−ジメチルピペラジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等が挙げられる。
【０１０６】
前記酸拡散制御剤の使用量は、前記無機ネガ型組成物（２）に含まれるポリシロキサン（Ｂ２）１００質量部に対して、通常、１５質量部以下（０．００１質量部以上）であり、１０質量部以下が好ましく、５質量部以下がより好ましい。
【０１０７】
更に、無機ネガ型組成物（２）には、前記各種成分以外にも界面活性剤を含有できる。界面活性剤は、塗布性、ストリエーション等を改良する作用を示す成分である。この界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ポリアルキレンオキシド系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、ポリ（メタ）アクリレート系界面活性剤等が挙げられる。
前記界面活性剤の使用量は、無機ネガ型組成物（２）に含まれるポリシロキサン（Ｂ２）１００質量部に対して、通常、０．００００１〜１質量部であり、０．００００１〜０．１質量部が好ましく、０．００００１〜０．０１質量部がより好ましい。
また、この無機ネガ型組成物（２）の固形分濃度は特に限定されないが、１０〜９０質量％が好ましく、３０〜８０質量％がより好ましく、５０〜７０質量％が更に好ましい。
【０１０８】
（３）有機高分子を主成分とするポジ型感放射線性組成物
前記有機高分子を主成分とするポジ型感放射線性組成物（以下、単に「有機ポジ型組成物（３）」ともいう）としては、特開２００９−１３３９２４号公報、特開２００１−２８１８６２号公報、特開平１１−１０６６０６号公報、特開２００８−１９２７７４号公報、特開２００４−３０９７７６号公報及び特開２００４−１２５８１５号公報に記載の組成物を用いることができる。具体的には、例えば、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ３）と、キノンジアジド化合物（Ｃ３）と、を含有する有機ポジ型組成物（３）が挙げられる。
【０１０９】
この有機ポジ型組成物（３）に含まれるアルカリ可溶性樹脂（Ｂ３）は特に限定されないが、フェノール性水酸基を有する樹脂（Ｂ３−１）、フェノール性水酸基を有する単量体と（メタ）アクリル酸エステルとを含む単量体を用いて得られた共重合体（Ｂ３−２）、カルボキシル基を有する樹脂（Ｂ３−３）などが挙げられる。
【０１１０】
樹脂（Ｂ３−１）としては、フェノール類とアルデヒド類とを触媒の存在下で、縮合させることにより得られたノボラック樹脂が挙げられる他、ポリヒドロキシスチレン、ヒドロキシスチレンと他の単量体｛（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリル酸エステルを除く｝との共重合体、ポリイソプロペニルフェノール、イソプロペニルフェノールと他の単量体｛（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリル酸エステルを除く｝との共重合体、フェノール／キシリレングリコール縮合樹脂、クレゾール／キシリレングリコール縮合樹脂、フェノール／ジシクロペンタジエン縮合樹脂等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
【０１１１】
樹脂（Ｂ３−２）は、フェノール性水酸基を有する単量体と、（メタ）アクリル酸エステルとを含み、且つ、（メタ）アクリル酸等のカルボキシル基を有する化合物を含まない単量体を用いて得られた共重合体である。フェノール性水酸基を有する単量体としては、ヒドロキシスチレン及びイソプロペニルフェノール等が挙げられる。（メタ）アクリル酸エステルとしては、分枝状、脂環式のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルが挙げられる。（メタ）アクリル酸アルキルエステル中のアルキル基の水素原子は、ヒドロキシル基で置換されていてもよい。
【０１１２】
樹脂（Ｂ３−２）の形成に際し、前記単量体及びエステル以外に、重合性不飽和結合を有する化合物を他の単量体として用いてもよい。他の単量体としては、スチレン等の芳香族ビニル化合物；無水マレイン酸等の不飽和酸無水物；前記不飽和カルボン酸のエステル；（メタ）アクリロニトリル等の不飽和ニトリル；（メタ）アクリルアミド等の不飽和アミド；マレイミド等の不飽和イミド；（メタ）アリルアルコール等の不飽和アルコール；Ｎ−ビニルアニリン、ビニルピリジン、Ｎ−ビニル−ε−カプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルカルバゾール等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
【０１１３】
樹脂（Ｂ３−３）は、単独重合体でも、共重合体でもよく、通常、カルボキシル基を有する化合物（以下、「単量体（Ｂ３−３ｍ）」という）を含む単量体を用いて得られた重合体である。単量体（Ｂ３−３ｍ）としては、（メタ）アクリル酸及びマレイン酸等の不飽和カルボン酸又は不飽和ジカルボン酸；不飽和ジカルボン酸のモノエステル等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
【０１１４】
この樹脂（Ｂ３−３）としては、下記（１）〜（７）が例示される。即ち、（１）単量体（Ｂ３−３ｍ）と、フェノール性水酸基を有する単量体とを用いて得られた共重合体、（２）単量体（Ｂ３−３ｍ）と、フェノール性水酸基を有する単量体と、（メタ）アクリル酸エステルとを用いて得られた共重合体、（３）単量体（Ｂ３−３ｍ）と、フェノール性水酸基を有する単量体と、芳香族ビニル化合物と、（メタ）アクリル酸エステルとを用いて得られた共重合体、（４）単量体（Ｂ３−３ｍ）と、芳香族ビニル化合物と、（メタ）アクリル酸エステルとを用いて得られた共重合体、（５）単量体（Ｂ３−３ｍ）と、芳香族ビニル化合物と、共役ジオレフィンとを用いて得られた共重合体、（６）単量体（Ｂ３−３ｍ）と、（メタ）アクリル酸エステル、共役ジオレフィンとを用いて得られた共重合体、（７）単量体（Ｂ３−３ｍ）と、（メタ）アクリル酸エステル、脂肪酸ビニル化合物とを用いて得られた共重合体。
【０１１５】
尚、樹脂（Ｂ３−３）におけるフェノール性水酸基を有する単量体、（メタ）アクリル酸エステル及び芳香族ビニル化合物については、前記樹脂（Ｂ３−２）での例示をそのまま適用できる。共役ジオレフィンとしては、１，３−ブタジエン、イソプレン、１，４−ジメチルブタジエン等が挙げられる。脂肪酸ビニル化合物としては、酢酸ビニル、クロトン酸ビニル等が挙げられる。
【０１１６】
上記アルカリ可溶性樹脂（Ｂ３）は、重合体を１種単独で含まれるものであってよいし、２種以上の組合せで含まれるものであってもよい。
上記アルカリ可溶性樹脂（Ｂ３）の重量平均分子量は、ＧＰＣによるポリスチレン換算重量平均分子量において２０００以上が好ましく、２０００〜５００００がより好ましい。
有機ポジ型組成物（３）を構成するアルカリ可溶性樹脂（Ｂ３）の含有割合は、有機ポジ型組成物に含まれる固形分を１００質量％とした場合、２０〜９０質量％が好ましく、２０〜８０質量％がより好ましく、３０〜７０質量％が更に好ましい。
【０１１７】
有機ポジ型組成物（３）に含まれるキノンジアジド化合物（Ｃ３）は、フェノール化合物の、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸エステル又は１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸エステルである。
【０１１８】
上記フェノール化合物は、フェノール性水酸基を少なくとも１つ有する化合物であれば、特に限定されないが、下記式（９）〜（１３）で表される化合物が好ましい。
【化８】
0005527092.tif 000009
〔式（９）中、Ｘ１〜Ｘ１０は、それぞれ相互に同一又は異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基又はヒドロキシル基である。尚、Ｘ１〜Ｘ５のうちの少なくとも１つはヒドロキシル基である。また、Ａは単結合、Ｏ、Ｓ、ＣＨ２、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ（ＣＦ３）２、Ｃ＝Ｏ、又はＳＯ２である。〕
【０１１９】
【化９】
0005527092.tif 000010
〔式（１０）中、Ｘ１１〜Ｘ２４は、それぞれ相互に同一又は異なってもよく、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基又はヒドロキシル基である。尚、Ｘ１１〜Ｘ１５のうちの少なくとも１つはヒドロキシル基である。また、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ相互に同一又は異なってもよく、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基である。〕
【０１２０】
【化１０】
0005527092.tif 000011
〔式（１１）中、Ｘ２５〜Ｘ３９は、それぞれ相互に同一又は異なってもよく、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基又はヒドロキシル基である。尚、Ｘ２５〜Ｘ２９のうちの少なくとも１つ及びＸ３０〜Ｘ３４のうちの少なくとも１つはヒドロキシル基である。また、Ｒ５は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基である。〕
【０１２１】
【化１１】
0005527092.tif 000012
〔式（１２）中、Ｘ４０〜Ｘ５８は、それぞれ相互に同一又は異なってもよく、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基又はヒドロキシル基である。尚、Ｘ４０〜Ｘ４４のうちの少なくとも１つ、Ｘ４５〜Ｘ４９のうちの少なくとも１つ及びＸ５０〜Ｘ５４のうちの少なくとも１つはヒドロキシル基である。また、Ｒ６〜Ｒ８は、それぞれ相互に同一又は異なってもよく、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基である。〕
【０１２２】
【化１２】
0005527092.tif 000013
〔式（１３）中、Ｘ５９〜Ｘ７２は、それぞれ相互に同一又は異なってもよく、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基又はヒドロキシル基である。尚、Ｘ５９〜Ｘ６２のうちの少なくとも１つ及びＸ６３〜Ｘ６７のうちの少なくとも１つはヒドロキシル基である。〕
【０１２３】
上記フェノール化合物としては、４，４’−ジヒドロキシジフェニルメタン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’，４’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，３−ビス［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］ベンゼン、１，４−ビス［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］ベンゼン、４，６−ビス［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］−１，３−ジヒドロキシベンゼン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−［４−〔１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル〕フェニル］エタン等が挙げられる。これらは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
従って、上記キノンジアジド化合物（Ｃ３）としては、これらのフェノール化合物から選ばれた少なくとも１種と、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸又は１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸とを反応させて得られたエステル化物等を、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１２４】
有機ポジ型組成物（３）に含まれるキノンジアジド化合物（Ｃ３）の割合は、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ３）を１００質量部とした場合に、１０〜１００質量部が好ましく、１０〜５０質量部がより好ましく、１５〜５０質量部が更に好ましい。
【０１２５】
上記有機ポジ型組成物（３）は、更に、架橋剤；架橋重合体からなる粒子（以下、「架橋重合体粒子」という。）；低分子フェノール性化合物等を含有したものとすることができる。
【０１２６】
上記架橋剤（Ｄ３）としては、分子中に少なくとも２つ以上のアルキルエーテル化されたアミノ基を有する化合物；エポキシ基含有化合物；アルデヒド基を有するフェノール化合物；メチロール基を有するフェノール化合物；チイラン環含有化合物；オキセタニル基含有化合物；イソシアネート基含有化合物（ブロック化されたものを含む）等が挙げられる。
【０１２７】
上記分子中に少なくとも２つ以上のアルキルエーテル化されたアミノ基を有する化合物としては、（ポリ）メチロールメラミン等の窒素化合物中の活性メチロール基（ＣＨ２ＯＨ基）の全部又は一部（少なくとも２つ）がアルキルエーテル化された化合物を用いることができる。ここで、アルキルエーテルを構成するアルキル基としては、メチル基、エチル基、ブチル基等が挙げられ、複数のアルキル基は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、アルキルエーテル化されていないメチロール基は、一分子内で自己縮合していてもよく、二分子間で縮合して、その結果、オリゴマー成分が形成されていてもよい。具体例としては、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサブトキシメチルメラミン、テトラメトキシメチルグリコールウリル、テトラブトキシメチルグリコールウリル等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
【０１２８】
上記エポキシ基含有化合物としては、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、レゾルシノールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、エチレン／ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレン／ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル等が好ましい。
上記アルデヒド基を有するフェノール化合物としては、ｏ−ヒドロキシベンズアルデヒド等が挙げられる。また、メチロール基を有するフェノール化合物としては、２，６−ビス（ヒドロキシメチル）−ｐ−クレゾール等が挙げられる。
有機ポジ型組成物（３）が、架橋剤（Ｄ３）を含有する場合の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ３）１００質量部に対して、１〜１００質量部が好ましく、１０〜７５質量部がより好ましく、１０〜５０質量部が更に好ましい。
【０１２９】
上記架橋重合体粒子（Ｅ３）としては、重合性不飽和結合を２個以上有する架橋性化合物（以下、「架橋性単量体」という。）を含む単量体の単独重合体又は共重合体を用いることができる。
上記架橋性単量体としては、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１３０】
上記架橋重合体粒子が共重合体である場合、上記架橋性単量体と重合させる他の単量体としては、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基を有する不飽和化合物；（メタ）アクリル酸、コハク酸−β−（メタ）アクリロキシエチル等のカルボキシル基を有する不飽和化合物；（メタ）アクリロニトリル等のニトリル基を有する不飽和化合物；（メタ）アクリルアミド等のアミド基を有する不飽和化合物；ジメチルアミノ（メタ）アクリレート等のアミノ基を有する不飽和化合物；グリシジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との反応によって得られるエポキシ（メタ）アクリレート等のエポキシ基を有する不飽和化合物；ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとポリイソシアナートとの反応によって得られる化合物等のウレタン（メタ）アクリレート；スチレン、ｐ−イソプロペニルフェノール等の芳香族ビニル化合物；（メタ）アクリル酸アルキルエステル、ポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル；ブタジエン等のジエン化合物等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
【０１３１】
上記架橋重合体粒子（Ｅ３）が、架橋性単量体、ヒドロキシル基及び／又はカルボキシル基を有する不飽和化合物、及びその他の単量体の共重合体（Ｅ３１）からなる場合、架橋性単量体からなる単位量（Ｅ３１−ｍ１）、ヒドロキシル基及び／又はカルボキシル基を有する不飽和化合物からなる単位量（Ｅ３１−ｍ２）、他の単量体からなる単位量（Ｅ３１−ｍ３）の比は、その合計を１００モル％とした場合に、０．１〜１０モル％、５〜５０モル％及び４０〜９４．９モル％が好ましく、０．５〜７モル％、６〜４５モル％及び４８〜９３．５モル％がより好ましく、１〜５モル％、７〜４０モル％及び５５〜９２モル％が更に好ましい。
【０１３２】
上記架橋重合体粒子のガラス転移温度（Ｔｇ）は、２０℃以下が好ましく、１０℃以下がより好ましく、０℃以下が更に好ましい（通常−７０℃以上）。
上記架橋重合体粒子の平均粒径は、３０〜１００ｎｍが好ましく、４０〜９０ｎｍがより好ましく、５０〜８０ｎｍが更に好ましい｛光散乱流動分布測定装置「ＬＰＡ−３０００」（大塚電子社製）を用い、架橋重合体粒子の分散液を常法に従って希釈して測定した値による｝。
有機ポジ型組成物（３）が架橋重合体粒子（Ｅ３）を含有する場合、架橋重合体粒子の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ３）１００質量部に対して、１〜１００質量部が好ましく、５〜８０質量部がより好ましく、５〜５０質量部が更に好ましい。
【０１３３】
上記低分子フェノール性化合物（Ｆ３）としては、４，４’−ジヒドロキシジフェニルメタン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，３−ビス［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］ベンゼン、４，６−ビス［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］−１，３−ジヒドロキシベンゼン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−［４−〔１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル〕フェニル］エタン、１，１，２，２−テトラ（４−ヒドロキシフェニル）エタン等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
【０１３４】
有機ポジ型組成物（３）が、低分子フェノール性化合物（Ｆ３）を含有する場合、低分子フェノール性化合物の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ３）１００質量部に対して、１〜２０質量部が好ましく、２〜１５質量部がより好ましく、３〜１０質量部が更に好ましい。
また、この有機ポジ型組成物（３）の固形分濃度は特に限定されないが、１０〜９０質量％が好ましく、３０〜８０質量％がより好ましく、５０〜７０質量％が更に好ましい。
【０１３５】
（４）無機高分子を主成分とするポジ型感放射線性組成物
前記無機高分子を主成分とするポジ型感放射線性組成物としては、酸により解離する酸解離性基を有し、酸解離性基が解離したときアルカリ可溶性となるポリシロキサン（Ｂ４）及び感放射線性酸発生剤（Ｃ４）を含有する無機ポジ型組成物（４）が挙げられる。
尚、このような無機高分子を主成分とするポジ型組成物（以下、単に「無機ポジ型組成物（４）」ともいう）は、例えば、特開２００７−２７９０７３号公報及び２００７−１８２５５５号公報等に記載されている。
【０１３６】
無機ポジ型組成物（４）に含まれる（Ｂ４）ポリシロキサンは、下記式（１４）で表される構造単位（Ｂ４−１）と下記式（１５）で表される構造単位（Ｂ４−２）とを有し、全構造単位に対して構造単位（Ｂ４−１）が０モル％を超え７０モル％以下であり、構造単位（Ｂ４−２）が０モル％を超え７０モル％以下であるポリシロキサンが挙げられる。
【化１３】
0005527092.tif 000014
〔式（１４）において、Ａは置換されていてもよい炭素数３〜２０の環状の２価の炭化水素基を示し、Ｒ１は１価の酸解離性基を示す。〕
【化１４】
0005527092.tif 000015
〔式（１５）において、Ｘは単結合又は置換されていてもよい炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐状の２価の炭化水素基を示し、Ｙは単結合、−ＣＯＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＮＨＣＯＯ−又は−Ｏ−を示し、Ｚは単結合または置換されていてもよい炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐状の２価の炭化水素基を示す（但し、ＹとＺが同時に単結合となることはない）〕
【０１３７】
前記式（１４）において、Ａの炭素数３〜２０の環状の２価の炭化水素としては、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等のシクロアルカン類に由来する基；アダマンタン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、ビシクロ［２．２．２］オクタン、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカン等の有橋式炭化水素類に由来する基；ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、ｉ−プロピルベンゼン、ナフタレン等の芳香族炭化水素類に由来する基等が挙げられる。
【０１３８】
前記Ａに対する置換基としては、酸の存在下でカルボキシル基、アルコール性水酸基あるいはフェノール性水酸基を生成する酸解離性基のほか、フッ素原子、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基、オキソ基、アミノ基、シアノ基、シアニル基、イソシアニル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、ラクトニル基を有する基、カルボン酸無水物基を有する基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフルオロアルキル基、炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基、炭素数２〜５のシアノアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシル基、炭素数２〜５のアルコキシメチル基、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基（但し、酸解離性のものを除く）、炭素数２〜５のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１〜４のアルコキシスルホニル基、炭素数１〜４のアルキルアミノスルホニル基等が挙げられる。これらの置換基は、各置換誘導体中に１個以上あるいは１種以上存在できる。
【０１３９】
前記式（１４）におけるＲ１（１価の酸解離性基）としては、下記式（１６−１）〜（１６−３）で表される基、炭素数３〜２０の環状の１価の炭化水素基、原子数３〜２０の１価の複素環式基、トリアルキルシリル基（但し、各アルキル基の炭素数は１〜６である）、炭素数４〜２０のオキソアルキル基等を挙げることができる。
【０１４０】
【化１５】
0005527092.tif 000016
〔式（１６−１）において、各Ｒ２は相互に独立に炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基もしくはその置換誘導体を示すか、あるいは何れか２つのＲ２が相互に結合して、それぞれが結合している炭素原子と共に炭素数４〜２０の２価の脂環式炭化水素基もしくはその置換誘導体を形成し、残りのＲ２が炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基もしくはその置換誘導体を示す。〕
【０１４１】
〔式（１６−２）において、Ｒ３は前記式（１６−１）で表される基、炭素数３〜２０の環状の１価の炭化水素基、原子数３〜２０の１価の複素環式基、トリアルキルシリル基（但し、各アルキル基の炭素数は１〜６である）または炭素数４〜２０のオキソアルキル基を示し、ａは０〜６の整数である。〕
【０１４２】
〔式（１６−３）において、各Ｒ４は相互に独立に水素原子または炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示すか、あるいは２つのＲ４が相互に結合して環を形成しており、Ｒ５は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状の１価の炭化水素基または原子数３〜２０の１価の複素環式基を示すか、または何れか一方のＲ４とＲ５とが相互に結合して環を形成しており、Ｒ４の該アルキル基、２つのＲ４が相互に結合して形成した環、Ｒ５の該１価の炭化水素基および１価の複素環式基並びに何れか一方のＲ４とＲ５とが相互に結合して形成した環は、それぞれ置換されていてもよい。〕
【０１４３】
前記式（１６−１）において、Ｒ２の炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基等が挙げられる。
Ｒ２の炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基および何れか２つのＲ２が相互に結合して各々が結合している炭素原子と共に形成した炭素数４〜２０の２価の脂環式炭化水素基としては、シクロブタン、シクロペンタン、シクロペンテン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、シクロヘプタン、シクロオクタン等のシクロアルカン又はシクロアルケン類に由来する基；アダマンタン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、ビシクロ［２．２．２］オクタン、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカン等の有橋式炭化水素類に由来する基等が挙げられる。
前記１価又は２価の脂環式炭化水素基の置換誘導体における置換基としては、前記式（６）におけるＡについて例示した置換基が適用される。これらの置換基は各置換誘導体中に１個以上あるいは１種以上存在できる。
【０１４４】
前記式（１６−２）において、Ｒ３の炭素数３〜２０の環状の１価の炭化水素基として、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロペンテニル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、アダマンタン−１−イル基、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２．２．２］オクタン、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−３−イル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカン−４−イル基等が挙げられる。
また、Ｒ３の原子数３〜２０の１価の複素環式基としては、２−テトラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロピラニル基等が挙げられる。
更に、Ｒ３のトリアルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、エチルジメチルシリル基、メチルジエチルシリル基、トリエチルシリル基、ｉ−プロピルジメチルシリル基、メチルジｉ−プロピルシリル基、トリ−ｉ−プロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。
また、Ｒ３の炭素数４〜２０のオキソアルキル基としては、３−オキソシクロペンチル基、３−オキソシクロヘキシル基、４−オキソシクロヘキシル基、４−メチル−２−オキソオキサン−４−イル基、５−メチル−２−オキソオキソラン−５−イル基等が挙げられる。
【０１４５】
前記式（１６−３）において、Ｒ４の炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。
また、２つのＲ４が相互に結合して形成した環としては、例えば、２つのＲ４が結合している炭素原子と共に形成した３〜８員の環等が挙げられる。
【０１４６】
前記式（１６−３）において、Ｒ５の炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状の１価の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基；シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基；アダマンタン−１−イル基、アダマンタン−２−イル基、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２．２．２］オクタン−２−イル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−３−イル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカン−４−イル基等の有橋式炭化水素類に由来する基；フェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等のアリール基；ベンジル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられる。
【０１４７】
また、Ｒ５の原子数３〜２０の１価の複素環式基としては、オキセタン、チエタン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロチオフラン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオピラン等の非有橋式複素環式化合物に由来する基；下記式（１７−１）〜（１７−４）で表される化合物等の有橋式複素環式化合物に由来する基等が挙げられる。
【０１４８】
【化１６】
0005527092.tif 000017
【０１４９】
更に、前記式（１６−３）において、何れか一方のＲ４とＲ５とが相互に結合して形成した環としては、例えば、Ｒ４が結合している炭素原子およびＲ５が結合している酸素原子と共に形成した３〜８員の環等が挙げられる。
Ｒ４の前記アルキル基、２つのＲ４が相互に結合して形成した前記環、Ｒ５の前記１価の炭化水素基および１価の複素環式基並びに何れか一方のＲ４とＲ５とが相互に結合して形成した前記環に対する置換基としては、前記式（１４）におけるＡについて例示した置換基が適用される。これらの置換基は各置換誘導体中に１個以上あるいは１種以上存在できる。
【０１５０】
式（１４）において、Ｒ１の１価の酸解離性基である炭素数３〜２０の環状の１価の炭化水素基としては、前記式（１６−２）におけるＲ３の炭素数３〜２０の環状の１価の炭化水素基について例示した基が適用される。
また、Ｒ１の１価の酸解離性基である原子数３〜２０の１価の複素環式基としては、前記式（１６−２）におけるＲ３の原子数３〜２０の１価の複素環式基について例示した基が適用される。
更に、Ｒ１の１価の酸解離性基であるトリアルキルシリル基としては、前記式（１６−２）におけるＲ３のトリアルキルシリル基について例示した基が適用される。
また、Ｒ１の１価の酸解離性基である炭素数４〜２０のオキソアルキル基としては、前記式（１６−２）におけるＲ３の炭素数４〜２０のオキソアルキル基について例示した基が適用される。
【０１５１】
式（１４）において、Ｒ１の１価の酸解離性基としては、式（１６−１）で表される基、式（１６−２）で表される基等が好ましく、さらに好ましくは、ｔ−ブチル基、１−メチルシクロペンチル基、１−エチルシクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−エチルシクロヘキシル基、２−メチルアダマンチル基、２−エチルアダマンチル基、（ｔ−ブトキシカルボニルメチル基）等である。
ポリシロキサン（Ｂ４）において、構造単位（Ｂ４−１）は、単独又は２種以上が存在できる。
【０１５２】
前記式（１５）において、Ｘ及びＺの炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐状の２価の炭化水素基としては、例えば、メチレン基、１，１−エチレン基、１，２−エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられる。
Ｘ及びＺの前記２価の炭化水素基に対する置換基としては、フッ素原子、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基、オキソ基、アミノ基、シアノ基、シアニル基、イソシアニル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、ラクトニル基を有する基、カルボン酸無水物基を有する基、炭素数１〜４のアルコキシル基、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜５のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１〜４のアルコキシスルホニル基、炭素数１〜４のアルキルアミノスルホニル基等が挙げられる。これらの置換基は、各置換誘導体中に１個以上あるいは１種以上存在できる。
前記式（１５）において、Ｙの−ＣＯＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＯＣＯＯ−及び−ＮＨＣＯＯ−は、２個の結合手（−）のいずれがＸに結合してもよい。
ポリシロキサン（Ｂ４）において、構造単位（Ｂ４−２）は、単独又は２種以上が存在できる。
【０１５３】
ポリシロキサン（Ｂ４）において、構造単位（Ｂ４−１）の含有率は、全構造単位に対して、０モル％を超え７０モル％以下、好ましくは１０〜６０モル％、特に好ましくは１５〜５０モル％である。この範囲では優れた解像度と感度が得られる。構造単位（２ａ−２）の含有率は、全構造単位に対して、０モル％を超え８０モル％以下、好ましくは５〜８０モル％、特に好ましくは５〜７０モル％である。この範囲では他層（素基板等）との密着性に優れると共に、優れた解像度が得られる。
【０１５４】
前記ポリシロキサン（Ｂ４）は、更に、縮合反応に関して３官能のシラン化合物に由来する前記以外の構造単位（以下、「他の構造単位」という。）、例えば、下記式（１８）で表される構造単位（以下、「構造単位（１８）」ともいう）や、縮合反応に関して２官能あるいは４官能のシラン化合物に由来する構造単位等を１種以上有することができる。
【０１５５】
【化１７】
0005527092.tif 000018
〔式（１８）において、Ｒ６は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基又は原子数３〜２０の
１価の複素環式基を示し、１価の炭化水素基及び１価の複素環式基はそれぞれ置換されていてもよい。〕
【０１５６】
前記式（１８）において、Ｒ６の炭素数１〜２０の１価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基；シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基；アダマンタン−１−イル基、アダマンタン−２−イル基、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２．２．２］オクタン−２−イル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−３−イル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカン−４−イル基等の有橋式炭化水素類に由来する基；フェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等のアリール基；ベンジル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基や、１−アセナフテニル基等が挙げられる。
【０１５７】
前記式（１８）において、Ｒ６の原子数３〜２０の１価の複素環式基としては、オキセタン、チエタン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロチオフラン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオピラン等の非有橋式複素環式化合物に由来する基；前記式（１７−１）〜（１７−４）で表される化合物等の有橋式複素環式化合物に由来する基等が挙げられる。
Ｒ６の前記１価の炭化水素基及び１価の複素環式基に対する置換基としては、前記式（１４）におけるＡの環状の２価の炭化水素基に対する置換基について例示した基を適用できる。これらの置換基は、各置換誘導体中に１個以上あるいは１種以上存在できる。
【０１５８】
ポリシロキサン（Ｂ４）において、前記他の構造単位の含有率は、全構造単位に対して、通常、８０モル％以下、好ましくは７０モル％以下である。この範囲では、優れた解像度が得られると共に特に現像欠陥を低減できる。
また、ポリシロキサン（Ｂ４）が他の構造単位として構造単位（１８）を有する場合、構造単位（１８）の含有率は、全構造単位に対して、好ましくは５〜８０モル％、更に好ましくは５〜７０モル％、特に好ましくは５〜６０モル％である。
更に、ポリシロキサン（Ｂ４）は、下記式（１９−１）又は下記式（１９−２）で表される酸解離性結合基の１種以上により、分子内架橋及び／又は分子間架橋されていてもよい。
【０１５９】
【化１８】
0005527092.tif 000019
〔式（１９−１）及び式（１９−２）において、各Ｒ７は相互に独立に水素原子又は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示すか、あるいは同一の炭素原子に結合している２つのＲ７が相互に結合して３〜８員の炭素環を形成しており、各Ｒ８は相互に独立にメチレン基または炭素数２〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキレン基を示し、各ｂは相互に独立に０〜１０の整数であり、各ｃは相互に独立に１〜７の整数であり、各Ｒ９は相互に独立に炭素数１〜５０の（ｃ＋１）価の直鎖状もしくは分岐状の飽和炭化水素基、炭素数３〜５０の（ｃ＋１）価の環状の飽和炭化水素基、炭素数６〜５０の（ｃ＋１）価の芳香族炭化水素基または原子数３〜５０の（ｃ＋１）価の複素環式基を示し、該直鎖状もしくは分岐状の飽和炭化水素基、環状の飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基および複素環式基はそれぞれ、主鎖及び／又は側鎖にヘテロ原子が介在してもよく、またそれらの炭素原子に結合する水素原子の少なくとも一部がフッ素原子、水酸基、カルボキシル基あるいはアシル基で置換されていてもよく、各Ｕ１は相互に独立に−ＣＯＯ−、−ＮＨＣＯＯ−又は−ＮＨＣＯＮＨ−を示す（但し、−ＣＯＯ−及び−ＮＨＣＯＯ−は、２個の結合手（−）のいずれがＲ８又はＲ９に結合してもよい）。〕
【０１６０】
ポリシロキサン（Ｂ４）のＧＰＣによるポリスチレン換算重量平均分子量は、通常、５００〜１，０００，０００、好ましくは５００〜１００，０００、特に好ましくは５００〜４０，０００である。この範囲では、樹脂のガラス転移点が適切となると共に、溶剤への溶解性にも優れる。本発明において、ポリシロキサン（Ｂ４）はそれぞれ、単独でまたは２種以上を混合して使用できる。
【０１６１】
無機ポジ型組成物（４）に含まれる前記感放射線性酸発生剤（Ｃ４）は、放射線による露光によって酸を発生する成分であり、その酸の作用によって、ポリシロキサン（Ｂ４）中に存在する酸解離性基を解離させ、その結果露光部がアルカリ現像液に易溶性となり、ポジ型のレジストパターンを形成する作用を有するものである。酸発生剤は、前記作用を有する限り特に限定されるものではないが、好ましい酸発生剤としては、露光により、スルホン酸又はカルボン酸を発生する化合物を１種類以上含むものが好ましい。
【０１６２】
酸発生剤（Ｃ４）がスルホン酸又はカルボン酸を発生させることができる場合、そのスルホン酸又はカルボン酸としては、メチル基、エチル基、ｎープロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロ−ｎ−プロピル基、ヘプタフルオロ−ｉ−プロピル基、ノナフルオロ−ｎ−ブチル基、ノナフルオロ−ｉ−ブチル基、ノナフルオロ−ｓｅｃ−ブチル基、ノナフルオロ−ｔ−ブチル基、パーフルオロ−ｎ−ペンチル基、パーフルオロ−ｎ−ヘキシル基、パーフルオロ−ｎ−ヘプチル基、パーフルオロ−ｎ−オクチル基、ノルボルナン、ジノルボルナン、アダマンタン又はカンファーに由来する基や、これらの基の置換誘導体を有するスルホン酸又はカルボン酸等が挙げられる（これらのスルホン酸又はカルボン酸については、特開２００２−２２０４７１号公報に記載がある）。
【０１６３】
酸発生剤（Ｃ４）としては、前記スルホン酸又はカルボン酸を発生するオニウム塩化合物、前記スルホン酸を発生するスルホン化合物、前記スルホン酸を発生するスルホン酸化合物、前記スルホン酸を発生するオキシム化合物、前記カルボン酸を発生するカルボン酸化合物、前記スルホン酸またはカルボン酸を発生するジアゾケトン化合物、前記スルホン酸またはカルボン酸を発生するハロゲン含有化合物等が挙げられる。
【０１６４】
前記オニウム塩化合物としては、ヨードニウム塩類、スルホニウム塩類（テトラヒドロチオフェニウム塩を含む）等が挙げられる。より具体的には、ジフェニルヨードニウム塩、ジナフチルヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム塩、トリナフチルスルホニウム塩、ジフェニル・メチルスルホニウム塩、ジシクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウム塩、２−オキソシクロヘキシルジメチルスルホニウム塩、フェニル・ベンジル・メチルスルホニウム塩、１−ナフチルジメチルスルホニウム塩、１−ナフチルジエチルスルホニウム塩、１−（ナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム塩や、これら基がヒドロキシル基、アルキル基、アルコキシル基、シアノ基、ニトロ基等の置換基の１種以上あるいは１個以上で置換された誘導体等が挙げられる。
【０１６５】
また、前記スルホン化合物としては、β−ケトスルホン類、β−スルホニルスルホン類や、これらの化合物のα−ジアゾ化合物等が挙げられる。前記スルホン酸化合物としては、スルホン酸エステル類、スルホン酸イ感放射線性酸発生剤ミド類、アリールスルホン酸エステル類、イミノスルホネート類等が挙げられる。前記オキシム化合物としては、アリール基含有オキシムスルホン酸類が挙げられる。前記カルボン酸化合物としては、カルボン酸エステル類、カルボン酸イミド類、カルボン酸シアネート類等が挙げられる。前記ジアゾケトン化合物としては、１，３−ジケト−２−ジアゾ化合物、ジアゾベンゾキノン化合物、ジアゾナフトキノン化合物等が挙げられる。前記ハロゲン含有化合物としては、ハロアルキル基含有炭化水素化合物、ハロアルキル基含有複素環式化合物等が挙げられる。
【０１６６】
前記酸発生剤（Ｃ４）は、単独で又は２種以上を混合して使用できる。また、異なるスルホン酸を発生する酸発生剤（Ｃ４）の２種以上を併用でき、異なるカルボン酸を発生する酸発生剤（Ｃ４）の２種以上を併用でき、あるいはスルホン酸を発生する酸発生剤（Ｃ４）の１種以上とカルボン酸を発生する酸発生剤（Ｃ４）の１種以上とを組み合わせて使用できる。
感放射線性酸発生剤（Ｃ４）の使用量は、レジストとしての感度及び現像性を確保する観点から、全ポリシロキサン１００質量部に対して、通常、０．１〜３０質量部、好ましくは０．５〜２０質量部である。この範囲では、感度及び現像性に優れると共に、放射線に対する透明性を十分に得ることができ、矩形のレジストパターンを得易い。
【０１６７】
無機ポジ型組成物（４）には、ポリシロキサン（Ｂ４）以外のポリシロキサン（以下、「他のポリシロキサン」という）、酸拡散制御剤、溶解制御剤、界面活性剤、ハレーション防止剤、接着助剤、保存安定化剤、消泡剤等の各種の添加剤を配合できる。
前記酸拡散制御剤は、露光により酸発生剤から生じる酸のレジスト被膜中における拡散現象を制御し、非露光領域における好ましくない化学反応を抑制する作用を有する成分である。酸拡散制御剤は、単独で又は２種以上を混合して使用できる。酸拡散制御剤の配合量は、酸発生剤に対して、通常、０．１モル％以上且つ１００モル％以下、好ましくは５０モル％以下、さらに好ましくは３０モル％以下である。
【０１６８】
前記溶解制御剤としては、レジストとしたときの溶解コントラスト及び／又は溶解速度を制御する作用を有する化合物を挙げることができる。溶解制御剤の配合量は、全ポリシロキサン１００質量部に対して、通常、５０質量部以下、好ましくは３０質量部以下である。
前記界面活性剤は、塗布性、ストリエーション、現像性等を改良する作用を示す成分で
ある。界面活性剤の配合量は、全ポリシロキサン１００質量部に対して、通常、２質量部以下である。
【０１６９】
無機ポジ型組成物（４）は使用に際して、全固形分濃度を１〜２５質量、好ましくは２〜１５質量％となるように、溶剤に溶解して用いることができる。溶剤としては、直鎖状もしくは分岐状のケトン類、環状のケトン類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、２−ヒドロキシプロピオン酸アルキル類、３−アルコキシプロピオン酸アルキル類、フッ素含有溶剤等が好ましい。これらの溶剤は単独で又は２種以上を混合して使用できる。
【０１７０】
これらの感放射線性組成物、即ち、有機ネガ型組成物（１）、無機ネガ型組成物（２）、有機ポジ型組成物（３）、及び無機ポジ型組成物（４）のなかでは、ネガ型感放射線性組成物｛即ち、有機ネガ型組成物（１）、及び無機ネガ型組成物（２）｝が好ましく、更には、有機ネガ型組成物（１）がより好ましい。
【０１７１】
［３］マイクロアレイ用基板の隔壁（バイオチップ用隔壁を含む）
本発明のマイクロアレイ用基板の隔壁（バイオチップ用隔壁を含む）隔壁は、前記隔壁形成用組成物を用いて得られたことを特徴とする。即ち、化合物（Ａ）を含む隔壁形成用組成物を用いて素基板１０上に第１膜２１を形成した後、この第１膜２１をリソグラフィー法によりパターニングして形成された隔壁２０である（図１〜３参照）。
【０１７２】
この隔壁の性状は特に限定されず適宜のものとすることができる、厚さ３５μｍにおいて、波長５５０ｎｍの光に対する透過率が０〜１０％とすることができる。この範囲では、混色を防ぐ点において特に優れた特性を発揮できる。
更に、隔壁の形状は特に限定されず適宜のものとすることができるが、通常、前記キャビティ間において、少なくとも１μｍ以上の幅（キャビティ間を隔てる距離）を有することが好ましい。更に、この幅は１〜１０００μｍが好ましく、２〜５００μｍがより好ましく、５〜５０μｍが特に好ましい。
【０１７３】
［４］バイオチップの製造方法（１）
本発明の第１のバイオチップの製造方法（図３及び図４参照）は、（ａ）マイクロアレイ用基板製造工程（即ち、素基板に隔壁を形成する隔壁形成工程）と、（ｂ）固定用物質配置工程と、（ｃ）固定化工程と、を備えることを特徴とする。
【０１７４】
前記「マイクロアレイ用基板製造工程（ａ）」（図３参照）は、前記マイクロアレイ用基板の製造方法を用いて、素基板１０上に前記隔壁２０を形成する工程である。このマイクロアレイ用基板製造工程については、前記マイクロアレイ用基板の製造方法をそのまま適用できる。
【０１７５】
前記「固定用物質配置工程（ｂ）」（図４参照）は、隔壁２０によって区画された領域３０（即ち、キャビティ）にターゲット物質５２を固定するための固定用物質５１を配置する工程である。
前記固定用物質５１とは、ターゲット物質と素基板とを連結する物質である。この固定用物質としては、ポリリシン、コラーゲン、ラミニン、含シアル酸オリゴ糖、マンノース結合性レクチン、インテグリンファミリーリガンド、ペプチド、抗原又は抗体並びに核酸等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
この固定用物質を固定する方法は特に限定されず、化学結合を用いた固定であってもよく、物理吸着を用いた固定であってもよく、更にその他の方法による固定であってもよい。
【０１７６】
この固定用物質配置工程（ｂ）に際しては、予め前記隔壁２０が形成された素基板１０のキャビティ３０内の表面（素基板の表面及び隔壁の表面を含む）に対して、前記固定用物質５１の配置を助けるための表面処理や、後述するターゲット物質の付着を抑制するための表面処理等を施すことができる。この表面処理としては、脂質膜（細胞膜）と非特異的な付着を防止する性質をエチレンジアミン等により付与する方法等が挙げられる。
【０１７７】
前記「固定化工程（ｃ）」（図４参照）は、固定用物質５１にターゲット物質５２を固定する工程である。
前記ターゲット物質５２とは、標的たる生体高分子等に対して特異的に結合し得る物質である。このターゲット物質としては、より具体的には生体関連物質が挙げられる。この生体関連物質としては、真核細胞、原核細胞、ウイルス、及びリポソーム等が挙げられる。更に、これらよりも更に小さい、ＤＮＡ、ＲＮＡ、ＰＮＡ、ＢＮＡ、人工核酸、プロテイン（ペプチド）、糖鎖、及びこれらを組み合わせたプローブ等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
【０１７８】
このターゲット物質５２を固定する方法は特に限定されず、化学結合を用いた固定であってもよく、物理吸着を用いた固定であってもよい。
【０１７９】
［５］バイオチップの製造方法（２）
本発明の第２のバイオチップの製造方法（図３及び図５参照）は、（ａ）マイクロアレイ用基板製造工程（即ち、素基板に隔壁を形成する隔壁形成工程）と、（ｄ）担持物質配置工程と、を備えることを特徴とする。
【０１８０】
前記「マイクロアレイ用基板製造工程（ａ）」（図３参照）は、前記マイクロアレイ用基板の製造方法を用いて、素基板１０上に前記隔壁２０を形成する工程である。このマイクロアレイ用基板製造工程については、前記マイクロアレイ用基板の製造方法をそのまま適用できる。
【０１８１】
前記「（ｄ）担持物質配置工程」（図５参照）は、固相但体５４の表面にターゲット物質５２を有する、担持物質５３を、前記隔壁２０が形成された素基板１０のキャビティ３０内に配置する工程である。
【０１８２】
前記固相但体５４とは、その表面にターゲット物質５２を担持するための固相物である。この固相担体５４は、通常、粒子である。粒子の種類は特に限定されず、有機粒子であってもよく、無機粒子であってもよいが、好ましくは無機粒子である。更には、無機粒子のなかでも、金属及び／又は金属酸化物等からなる粒子であることがより好ましい。金属及び／又は金属酸化物等からなる粒子としては、例えば、磁性粒子を用いることができる。磁性粒子は磁性を有する粒子である。磁性粒子を用いた場合は、ターゲット物質５２を固相単体５４から単離する際に外部磁場により容易に磁気単離することができる。
この磁性粒子を構成する材料としては、例えば、鉄、コバルト又はニッケルの塩、酸化物、ホウ化物又は硫化物並びに高い磁化率を有する稀土類元素（例えば、ヘマタイト又はフェライト）などが挙げられる。これらの材料は１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
磁性粒子の具体例としては、例えば、マグネタイト、鉄−鉛合金、鉄−白金合金、コバルト−白金合金などの強磁性合金が挙げられる。これらの磁性粒子は１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
また、前記固相担体５４が粒子である場合、粒子サイズは特には限定されず、ナノ粒子、マイクロ粒子、及びミリ粒子等を適宜用いることができる。
【０１８３】
また、固相但体５４の表面には、ターゲット物質５２を連結するために、固定用物質を表面に配置してもよい。固定用物質は、前記第１のバイオチップの製造方法における工程（ｂ）において記載した固定用物質５１の説明をそのまま適用できる。
また、前記ターゲット物質５２は、前記第１のバイオチップの製造方法における工程（ｃ）において記載したターゲット物質５２の説明をそのまま適用できる。
【０１８４】
更に、固相但体５４の表面にターゲット物質５２を有する、担持物質５３を、前記隔壁２０が形成された素基板１０のキャビティ３０内に配置する方法は特に限定されないが、通常、担持物質５３を含有する分散液を隔壁２０が形成された素基板１０に塗布することにより行われる。
【０１８５】
また、（ｄ）工程においては、担持物質がマイクロアレイ用基板のキャビティ外に移動しないようにするために、キャビティ内に担持物質より小さいサイズの物質（例えばナノ粒子など）を配置することができある。さらに、バイオチップを効率的に機能させる、つまり、ターゲット物質とＤＮＡやＲＮＡなどの対象試料との反応（ハイブリダイゼーション）を促進するための触媒機能や酵素機能を有する物質を、キャビティ内に配置することができる。
【０１８６】
［６］バイオチップ
本方法のバイオチップは、本発明のバイオチップの製造方法によって得られたことを特徴とする。図１及び図２に例示されるマイクロアレイ用基板（プレバイオチップ）１０１は、少なくとも素基板１０と隔壁２０とを有する。そして、この隔壁２０によって区画化された基板上の領域３０を有する。この区画化された領域３０は、隔壁２０によって取り囲まれており外観上は凹部（即ち、キャビティ３０）として認められる。このキャビティ３０は、通常、１つのマイクロアレイ用基板（プレバイオチップ）１０１に複数設けられている。このキャビティ３０はいわゆるウェルとして利用できる。更に、図４（最後段）に例示されるようにバイオチップは、キャビティ３０内の少なくとも基板（素基板）表面に配置された固定用物質５１と、この固定用物質５１に固定されたターゲット物質５２と、を備える。又は、図５（最後段）に例示されるようにバイオチップは、キャビティ３０内に配置された、固相但体５４の表面にターゲット物質５２を有した担持物質５３を備える。
【０１８７】
前記キャビティの開口形状は特に限定されず、四角形であってもよく、円形であってよく、三角形であってもよく、その他の多角形であってもよく、更にその他の形状であってもよい。
更に、キャビティは、開口部と同形状の底部形状であってよく（即ち、特選的に掘り下げられたキャビティであってもよく）、裾窄まりの形状であってもよく、更に他の形状であってもよい。
また、キャビティは、隔壁層を貫通して、隔壁層が積層されている下層（素基板やその他の層）の表面を底面としてもよく、また、隔壁層を貫通せず、隔壁層内において底面を有してもよい。
【０１８８】
本発明のバイオチップは、ＤＮＡシークエンシング用のバイオチップや、診断用のバイオチップなどの、蛍光を検知することにより機能するバイオチップとして利用できる。
【実施例】
【０１８９】
以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形態を更に具体的に説明する。但し、本発明は、この実施例に何ら制約されるものではない。尚、実施例の記載における「部」及び「％」は、特記しない限り質量基準である。
【０１９０】
［１］化合物（Ａ）分散液の調製
［調製例１］分散液（Ａ１）
下記式（２０）で表されるＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４（化合物Ａである）１０質量部、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−２００１（ビックケミージャパン社製、分散剤３質量部（固形分換算）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（溶媒）を、ビーズミルにより１２時間混合・分散して、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４が分散された固形分濃度２０質量％の分散液（Ａ１）を得た。
【化１９】
0005527092.tif 000020
【０１９１】
［調製例２］分散液（Ａ２）
Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に換えて、下記式（２１）で表されるＣ．Ｉ．ピグメントレッド２６４（化合物Ａである）を用いた以外は、前記調製例１と同様にして、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２６４が分散された固形分濃度２０質量％の分散液（Ａ２）を得た。
【化２０】
0005527092.tif 000021
【０１９２】
［調製例３］分散液（Ａ３）
Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に換えて、下記式（２２）で表されるＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７７（化合物Ａではない）を用いた以外は、前記調製例１と同様にして、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７が分散された固形分濃度２０質量％の分散液（Ａ３）を得た。
【化２１】
0005527092.tif 000022
【０１９３】
［調製例４］分散液（Ａ４）
Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２３を１０部、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−２００１（ビックケミージャパン社製、分散剤）３質量部（固形分換算）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（溶媒）を、ビーズミルにより１２時間混合・分散して、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２３が分散された固形分濃度２０質量％の分散液（Ａ４）を得た。
【０１９４】
［２］重合体（Ｂ）｛アルカリ可溶性有機高分子（Ｂ１）｝の合成
［合成例１］重合体（Ｂ１１）の合成
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル３質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００質量部を仕込んだ。引き続いて、単量体として、メタクリル酸１０質量部、トリシクロ［５．２．１．０２．６］デカニルメタクリレート２５質量部、イソボロニルアクリレート２０質量部、ｎ−ブチルアクリレート３０質量部、ｐ−イソプロペニルフェノール１５質量部を仕込むと共に、分子量調節剤として１−メチル−４−イソプロピリデン−１−シクロヘキセン５質量部を仕込んで、窒素置換した。その後ゆるやかに撹拌して、反応溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度を５時間保持して重合することにより、重合体（Ｂ１１）の溶液を得た。（Ｍｗ＝１０，０００、Ｍｎ＝６，０００、固形分濃度３１．２質量％）
【０１９５】
［合成例２］重合体（Ｂ１２）の合成
表１に示すように、トリシクロ［５．２．１．０２．６］デカニルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、及び、ｎ−ブチルアクリレートの各配合割合を変更するとともに、ｐ−イソプロペニルフェノールに換えてベンジルメタクリレートを用いた以外は、合成例１と同様にして、重合体（Ｂ１２）の溶液を得た。（Ｍｗ＝１０，０００、Ｍｎ＝４，０００、固形分濃度３０質量％）
【０１９６】
［合成例３］重合体（Ｂ１３）の合成
表１に示すように、メタクリル酸、及び、トリシクロ［５．２．１．０２．６］デカニルメタクリレートの各配合割合を変更するとともに、ｐ−イソプロペニルフェノールに換えてベンジルメタクリレートを用いた以外は、合成例１と同様にして、重合体（Ｂ１３）の溶液を得た。（Ｍｗ＝１０，０００、Ｍｎ＝４，０００、固形分濃度３０質量％）
尚、重合体（Ｂ１３）は、重合体（Ｂ１５）及び重合体（Ｂ１６）の原料重合体であり、本実施例では重合体（Ｂ１３）自体をそのまま利用しない。
【０１９７】
［合成例４］重合体（Ｂ１４）の合成
表１に示すように、メタクリル酸、及び、ｎ−ブチルアクリレートの各配合割合を変更するとともに、更に、ヒドロキシエチルアクリレート１５質量部を加えた以外は、合成例３と同様にして、重合体（Ｂ１４）の溶液を得た。（Ｍｗ＝１０，０００、Ｍｎ＝４，０００、固形分濃度３０質量％）
尚、重合体（Ｂ１４）は、重合体（Ｂ１７）の原料重合体であり、本実施例では重合体（Ｂ１４）自体をそのまま利用しない。
【０１９８】
［合成例５］重合体（Ｂ１５）の合成
合成例３で得られた重合体（Ｂ１３）１００質量部に、グリシジルメタクリレート（重合性基導入成分）１５質量部、テトラブチルアンモニウムブロミド１．４質量部、及び、４−メチルフェノール０．０５質量部を投入し、８０℃で１０時間反応｛重合体（Ｂ１３）が有するカルボキシル基と重合性基導入成分のエポキシ基との反応を目的とする｝させて、重合性基を有する重合体（Ｂ１５）の溶液を得た。（Ｍｗ＝１１，０００、Ｍｎ＝４，５００、固形分濃度３０質量％）
【０１９９】
［合成例６］重合体（Ｂ１６）の合成
合成例３で得られた重合体（Ｂ１３）１００質量部に、４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル（重合性基導入成分）１５質量部、テトラブチルアンモニウムブロミド１．４質量部、及び、４−メチルフェノール０．０５質量部を投入し、８０℃で１０時間反応｛重合体（Ｂ１３）が有するカルボキシル基と重合性基導入成分のエポキシ基との反応を目的とする｝させて、重合性基を有する重合体（Ｂ１６）の溶液を得た。（Ｍｗ＝１１，０００、Ｍｎ＝４５００、固形分濃度３０質量％）
【０２００】
［合成例７］重合体（Ｂ１７）の合成
合成例４で得られた重合体（Ｂ１４）１００質量部に、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（重合性基導入成分、商品名「カレンズＭＯＩ」、昭和電工株式会社製）１８質量部、ジブチルスズラウレート０．３質量部、及び、４−メトキシフェノール０．１質量部を投入して、４０℃で１時間撹拌し、更に、６０℃で２時間撹拌して反応｛重合体（Ｂ１４）が有するヒドロキシル基と重合性基導入成分のイソシアネート基との反応を目的とする｝させて、重合性基を有する重合体（Ｂ１７）の溶液を得た。（Ｍｗ＝１１，０００、Ｍｎ＝４，５００、固形分濃度３５．０質量％）
尚、この合成例７では、反応の進行をＩＲ（赤外線）吸収スペクトルにより追跡し、時間とともに２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートのイソシアネート基に由来する２２７０ｃｍ−１付近のピークが減少して行く様子が確認された。
【０２０１】
【表１】
0005527092.tif 000023
【０２０２】
［３］隔壁形成用組成物の調製
［実施例１］
前記［１］で得た化合物（Ａ）を含む分散液（Ａ１）６０質量部、前記［２］で得た重合体（Ｂ１１）１００質量部、下記多官能性単量体（Ｃ１）６０質量部、下記感放射線性重合開始剤（Ｄ１）１９質量部、下記感放射線性重合開始剤（Ｄ２）４質量部、下記接着助剤（Ｅ１）３質量部、下記界面活性剤（Ｆ１）０．１質量部、下記有機溶媒（Ｇ１）を混合して、固形分濃度５０質量％の隔壁形成用組成物（実施例１）を得た。
【０２０３】
多官能性単量体（Ｃ１）：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名「カヤラッドＤＰＨＡ」、日本化薬社製）
感放射線性重合開始剤（Ｄ１）：２、２−ジメトキシ−１、２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名「イルガキュア６５１」、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）
感放射線性重合開始剤（Ｄ２）：下記式（２３）に示す構造を有する化合物（商品名「Ｌｕｃｉｒｉｎ  ＬＲ８９５３Ｘ」、ＢＡＳＦ社製）
【化２２】
0005527092.tif 000024
接着助剤（Ｅ１）：シランカップリング剤、Ｅ：トリス−（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート（商品名「Ｙ−１１５９７」、モメンティブ社製）
界面活性剤（Ｆ１）：フッ素系界面活性剤（商品名「ＦＴＸ−２１８Ｆ」、ネオス社製）
有機溶媒（Ｇ１）：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
【０２０４】
［実施例２］
分散液（Ａ１）に換えて、分散液（Ａ２）を用いた以外は、実施例１と同様にして、固形分濃度６０質量％の隔壁形成用組成物（実施例２）を得た。
【０２０５】
［実施例３］
多官能性単量体（Ｃ１）６０質量部に換えて、多官能性単量体（Ｃ２）（商品名「アロニックスＭ−４５０」、東亞合成株式会社製）５０質量部を用い、更に、感放射線性重合開始剤（Ｄ１）１９質量部及び（Ｄ２）４質量部に換えて、感放射線性重合開始剤（Ｄ３）（商品名「イルガキュアＯＸＥ０１」、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）２質量部を用いるとともに、接着助剤（Ｅ１）を用いないこと以外は、実施例１と同様にして、固形分濃度５０質量％の隔壁形成用組成物（実施例３）を得た。
【０２０６】
［実施例４］
重合体（Ｂ１１）に換えて、重合体（Ｂ１２）を用いた以外は、実施例３と同様にして、固形分濃度５０質量％の隔壁形成用組成物（実施例４）を得た。
【０２０７】
［実施例５］
感放射線性重合開始剤（Ｄ３）に換えて、感放射線性重合開始剤（Ｄ４）（商品名「イルガキュアＯＸＥ０２」、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）を用いた以外は、実施例４と同様にして、固形分濃度５０質量％の隔壁形成用組成物（実施例５）を得た。
【０２０８】
［実施例６］
［調製例１］で得られた分散液（Ａ１）６０質量部、［合成例５］で得られた重合体（Ｂ１５）１００質量部、多官能性単量体（Ｃ２）５０質量部、感放射線性重合開始剤（Ｄ１）２０質量部、感放射線性重合開始剤（Ｄ２）２０質量部、界面活性剤（Ｆ１）０．１質量部、有機溶媒（Ｇ１）を混合して、固形分濃度５０質量％の隔壁形成用組成物（実施例６）を得た。
【０２０９】
［実施例７］
［調製例１］で得られた分散液（Ａ１）６０質量部、［合成例６］で得られた重合体（Ｂ１６）１００質量部、多官能性単量体（Ｃ２）５０質量部、感放射線性重合開始剤（Ｄ５）（商品名「イルガキュア８１９」、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）１０質量部、界面活性剤（Ｆ１）０．１質量部、有機溶媒（Ｇ１）を混合して、固形分濃度５０質量％の隔壁形成用組成物（実施例７）を得た。
【０２１０】
［実施例８］
重合体（Ｂ１６）に換えて、［合成例７］で得られた重合体（Ｂ１７）を用いた以外は、実施例７と同様にして、固形分濃度５０質量％の隔壁形成用組成物（実施例７）を得た。
【０２１１】
［比較例１］
分散液（Ａ１）に換えて、分散液（Ａ３）９５質量部を用いた以外は、実施例１と同様にして、固形分濃度６０質量％の隔壁形成用組成物（比較例１）を得た。
［比較例２］
分散液（Ａ１）に換えて、分散液（Ａ４）９５質量部を用いた以外は、実施例１と同様にして、固形分濃度６０質量％の隔壁形成用組成物（比較例２）を得た。
【０２１２】
【表２】
0005527092.tif 000025
【０２１３】
尚、表２内の各成分は以下の通りである。
（Ｃ１）多官能性単量体；ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名「カヤラッドＤＰＨＡ」、日本化薬社製）、
（Ｃ２）多官能性単量体；商品名「アロニックスＭ−４５０」、東亞合成社株式会社製、
（Ｄ１）感放射線性重合開始剤；２、２−ジメトキシ−１、２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名「イルガキュア６５１」、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）、
（Ｄ２）感放射線性重合開始剤；商品名「Ｌｕｃｉｒｉｎ  ＬＲ８９５３Ｘ」、ＢＡＳＦ社製、
（Ｄ３）感放射線性重合開始剤；商品名「イルガキュアＯＸＥ０１」、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、
（Ｄ４）感放射線性重合開始剤；商品名「イルガキュアＯＸＥ０２」、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、
（Ｄ５）感放射線性重合開始剤；商品名「イルガキュア８１９」、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、
（Ｅ１）接着助剤；シランカップリング剤、Ｅ：トリス−（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート（商品名「Ｙ−１１５９７」、モメンティブ社製、
（Ｆ１）界面活性剤；フッ素系界面活性剤（商品名「ＦＴＸ−２１８Ｆ」、ネオス社製。
【０２１４】
［４］評価
（１）隔壁に対する波長５５０ｎｍ光の透過率の測定
シリコンウエハ上にスピンコート法にて、実施例１〜８及び比較例１〜２の各隔壁形成用組成物を塗布した。その後、ホットプレートにて１１０℃で５分間加熱して厚さ３５μｍの第１膜を得た。得られた第１膜について、分光光度計（日立社製、型式「Ｕー２０１０形」）を用いて、隔壁に対する波長５５０ｎｍ光の透過率の測定。得られた結果を表３に併記した。
【０２１５】
（２）素基板に対する隔壁の密着性評価
シリコンウエハ上にスピンコート法にて、実施例１〜８及び比較例１〜２の各隔壁形成用組成物を塗布した。その後、ホットプレートにて１１０℃で５分間加熱して厚さ４５μｍの第１膜を得た。
次いで、マスクを介して、超高圧水銀灯（ＯＳＲＡＭ社製、ＨＢＯ、出力１、０００Ｗ）を用いて、３００〜１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外光を照射した。露光量は、照度計｛株式会社オーク製作所製、型式「ＵＶ−Ｍ１０」）にプローブ（受光器、型式「ＵＶ−３５」）をつないだ照度計｝を用いて確認した。
その後、露光した第１膜を、２．３８重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を現像液として、室温で現像を行った後、流水洗浄し、更に窒素ブローした。次いで、オーブンを用いて２２０℃で１時間加熱して、厚さ（隔壁の高さ）３５μｍ、ピッチ３０μｍ、２５μｍ×２５μｍの正方形状の凹部（キャビティ）を１０個有するパターン（隔壁）を得た。
【０２１６】
得られた隔壁を走査型電子顕微鏡（日立社製、型式「Ｓ−４２００」）を用いて、倍率１０００倍において観察し、下記基準にて密着性評価を行い、表３に併記した。
「Ａ」：１０個の各キャビティ内を観察した際に隔壁と基板と剥がれを確認できない。
「Ｂ」：１０個の各キャビティ内を観察した際に隔壁と基板と剥がれを１つ以上確認できた。
【０２１７】
（３）隔壁の耐水性評価
前記（２）の密着性評価を行った隔壁（基板上に形成された隔壁）を、水に浸漬し、５５℃で２４時間保温した。その後、窒素ブローにて水を除去した。次いで、浸漬後の隔壁を走査型電子顕微鏡（日立社製、型式「Ｓ−４２００」）を用いて、倍率１０００倍において観察し、下記基準にて密着性評価を行い、表１に併記した。
「Ａ」：１０個の各キャビティ内を観察した際に隔壁と素基板と剥がれを確認できない。
「Ｂ」：１０個の各キャビティ内を観察した際に隔壁と素基板と剥がれを１つ以上確認できた。
【０２１８】
（４）ウェルの形状
前記（２）の密着性評価を行った隔壁により形成されたキャビティの形状（ウェルの形状）を、走査型電子顕微鏡（日立社製、型式「Ｓ−４２００」）を用いて観察し、下記基準にて評価を行た。
「Ａ」：１０個の各キャビティ内を観察した際、１０個全てのキャビティが２５μｍ×２５μｍの正方形状であった。
「Ｂ」：１０個の各キャビティ内を観察した際、１個以上のキャビティが２５μｍ×２５μｍの正方形状でなかった。
【０２１９】
【表３】
0005527092.tif 000026
【０２２０】
尚、本発明においては、上記の具体的実施例に示すものに限られず、目的、用途に応じて本発明の範囲内で種々変更した実施例とすることができる。
【符号の説明】
【０２２１】
１０；基板（素基板）、
２０；隔壁、２１；第１膜、
３０；キャビティ、区画化された領域、
４０；マスクパターン、
５１；固定用物質、５２；ターゲット物質、５３；担持物質、５４；固相担体、
１００；バイオチップ、
１０１；マイクロアレイ用基板（プレバイオチップ）。
【図１】
0005527092.tif 000029
【図２】
0005527092.tif 000030
【図３】
0005527092.tif 000031
【図４】
0005527092.tif 000032
【図５】
0005527092.tif 000033