(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
各々の粒子が無機コーティングでカプセル化されており、硫化亜鉛を基質としたエレクトロルミネッセンス蛍光体の複数の個別粒子を備え、
前記無機コーティングは、（ａ）気相前駆材料並びに（ｂ）水及び／又は水蒸気を含む原子層成長法（ＡＬＤ：Ａｔｏｍｉｃ  Ｌａｙｅｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）によって形成され、
前記蛍光体は、５０℃の温度で相対湿度が９０％の下で、４００Ｈｚの１００Ｖ電圧で駆動されるエレクトロルミネッセンスランプに組み込まれると、少なくとも９５％の初期輝度保持率及び少なくとも６０％の１００時間後輝度維持率を示す
ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス蛍光体。
【請求項２】
前記１００時間後輝度維持率が少なくとも７５％であることを特徴とする請求項１に記載の蛍光体。
【請求項３】
前記蛍光体は、ＺｎＳ：Ｃｕであることを特徴とする請求項１に記載の蛍光体。
【請求項４】
前記無機コーティングがオキシ水酸化アルミニウムであることを特徴とする請求項１に記載のエレクトロルミネッセンス蛍光体。
【請求項５】
前記１００時間後輝度維持率が少なくとも７５％であることを特徴とする請求項４に記載の蛍光体。
【請求項６】
前記蛍光体は、ＺｎＳ：Ｃｕであることを特徴とする請求項４に記載の蛍光体。
【請求項７】
（ａ）エレクトロルミネッセンス蛍光体粒子の流動床を形成する工程と、
（ｂ）第１気相前駆材料を前記流動床に取り込む工程と、
（ｃ）前記流動床をパージする工程と、
（ｄ）前記第１気相前駆材料と反応させて前記蛍光体粒子に無機コーティングを形成するために、第２気相前駆材料を前記流動床に取り込む工程と、
（ｅ）前記流動床をパージする工程と、
（ｆ）最終的なコーティング膜厚が少なくとも９００Åに達するまで、工程（ａ）から（ｅ）を繰り返す工程と
を含み、
前記第２気相前駆材料は、水及び／又は水蒸気を含むことを特徴とするエレクトロルミネッセンス蛍光体をカプセル化する方法。
【請求項８】
前記第１又は第２気相前駆材料は、気化されたトリメチルアルミニウム又は水蒸気のいずれか一方であり、前記コーティングはオキシ水酸化アルミニウムであることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記最終的なコーティング膜厚が少なくとも１２００Åであることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
工程（ａ）から（ｅ）の繰り返しを８００サイクルした後に、工程（ｆ）における前記最終的なコーティング膜厚に達することを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
（ａ）ＺｎＳ：Ｃｕエレクトロルミネッセンス蛍光体粒子の流動床を形成する工程と、
（ｂ）気化されたトリメチルアルミニウムを前記流動床に取り込む工程と、
（ｃ）前記流動床をパージする工程と、
（ｄ）前記トリメチルアルミニウムと反応させて前記蛍光体粒子にオキシ水酸化アルミニウムコーティングを形成するために、水蒸気を前記流動床に取り込む工程と、
（ｅ）前記流動床をパージする工程と、
（ｆ）最終的なコーティング膜厚が少なくとも９００Åに達するまで、工程（ａ）から（ｅ）を繰り返す工程と
を含むことを特徴とするエレクトロルミネッセンス蛍光体をカプセル化する方法。
【請求項１２】
前記最終的なコーティング膜厚が少なくとも１２００Åであることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
工程（ａ）から（ｅ）の繰り返しを８００サイクルした後に、工程（ｆ）における前記最終的なコーティング膜厚に達することを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記気化されたトリメチルアルミニウムは工程（ｄ）において取り込まれ、前記水蒸気は工程（ｂ）において取り込まれることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記最終的なコーティング膜厚が少なくとも１２００Åであることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
工程（ａ）から（ｅ）の繰り返しを８００サイクルした後に、工程（ｆ）における前記最終的なコーティング膜厚に達することを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
各々の粒子がオキシ水酸化アルミニウムコーティングでカプセル化されており、硫化亜鉛を基質としたエレクトロルミネッセンス蛍光体の複数の個別粒子を備え、
前記蛍光体は、少なくとも９５％の初期輝度保持率を示し、ＣＶＤコーティングされた蛍光体のアルミニウム含有量が３．８重量％である、オキシ水酸化アルミニウムコーティングを有するＣＶＤコーティングされた蛍光体と同等の耐湿性を持っている
ことを特徴とするコーティングされたエレクトロルミネッセンス蛍光体。
【請求項１８】
前記コーティングされたエレクトロルミネッセンス蛍光体のアルミニウム含有量が１．６重量％であることを特徴とする請求項１７に記載のコーティングされた蛍光体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本出願は、米国仮出願６０／７６６，５４３（２００６年１月２６日出願）の利益を主張する。
【０００２】
本発明は、エレクトロルミネッセンス蛍光体に関し、より詳細には耐湿性処理が施されたエレクトロルミネッセンス蛍光体に関する。更に詳細には、本発明は湿気に起因する特性低下が大幅に軽減されると共に高い初期輝度を有するエレクトロルミネッセンス蛍光体に関する。
【背景技術】
【０００３】
エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ランプは、一般的に２種類に分類される。即ち、（１）通常、ＣＶＤ（化学気相成長）法又はスパッタリング法のような蒸着技術によって、硬いガラス基板の上に蛍光体及び誘電性材料からなる複数の膜を交互に積層させることによって形成される薄膜ＥＬランプと、（２）複数の粒子材料が樹脂中に分散され、プラスチックシート上に交互に重なる複数の層の状態にコーティングされることによって形成される厚膜ＥＬランプである。後者の場合、厚膜エレクトロルミネッセンスランプは薄くて柔軟性がある照明装置を構成することができるため、非常に幅広い用途に適用することができる。
【０００４】
従来の厚膜ＥＬランプの断面図を、図１に示す。ランプ２は２つの誘電性層２０及び２２を有している。プラスチック膜１２ｂをコーティングしている第１導電性材料４は、例えばグラファイトであり、ランプ２の第１電極を形成している（この電極は、金属箔を含んでいてもよい）。一方、第２プラスチック膜１２ａをコーティングしている透明な導電性材料６からなる薄い層は、例えば酸化インジウム錫（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）であり、第２電極を形成している。２つの導電性電極４及び６の間に挟持されているのは、例えばシアノエチルセルロース、シアノエチルスターチ、ポリ（メチルメタクリレート／エチルアクリレート）及び／又はフッ化炭素ポリマーである誘電性材料１４からなる２つの層２０及び２２である。強誘電性材料１０からなる粒子が埋め込まれた誘電性材料１４の層は、第１電極４に隣接しており、好ましくはチタン酸バリウムがよい。エレクトロルミネッセンス蛍光体８の複数の粒子が埋め込まれている誘電性材料１４の層は、第２電極６に隣接している。交流電圧がこれらの電極に印加されると、可視光が蛍光体から発せられる。
【０００５】
厚膜ＥＬランプに適用可能なエレクトロルミネッセンス蛍光体は、例えば銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、マンガン（Ｍｎ）、臭素（Ｂｒ）、ヨウ素（Ｉ）及び塩素（Ｃｌ）のような様々な活性剤をドープされた硫化亜鉛から主に構成されている。硫化亜鉛を基質としたＥＬ蛍光体の例が、米国特許第５，００９，８０８号、５，７０２，６４３号、６，０９０，３１１号、及び５，６４３，４９６号に記述されている。好ましいＥＬ蛍光体には、塩素（Ｃｌ）及び／又はマンガン（Ｍｎ）を一緒にドープされてもよいＺｎＳ：Ｃｕ蛍光体が含まれる。
【０００６】
エレクトロルミネッセンス蛍光体の輝度は、特にＺｎＳ：Ｃｕ蛍光体においては、電場を印加している間に湿気が存在することによって、著しく低下してしまう。硫化亜鉛を基質とした蛍光体の輝度低下は、硫黄欠陥或いは硫黄空孔の増加によって引き起こされることが知られている。ここで、硫黄欠陥は次の反応式によって生成される。
ＺｎＳ  ＋  ２Ｈ２Ｏ  →  ＳＯ２  ＋  Ｚｎ  ＋  ２Ｈ２
硫黄はＳＯ２の形で蛍光体から抜け出ていき、その結果、硫黄欠陥と亜鉛がその蛍光体内に取り残される。
【０００７】
従って、ＥＬランプの発光を延命するためには、湿気防止策を取り入れることが重要である。典型的には、ＥＬ蛍光体の個別粒子は、湿気に起因する特性低下に対する抵抗性を改善するために、無機コーティングでカプセル化されている。そのようなコーティングの例が、米国特許第５，２２０，２４３号、５，２４４，７５０号、６，３０９，７００号、及び６，０６４，１５０号に記載されている。これらの無機コーティングは、蛍光体がガス流動床内に留められている間に、化学気相成長（ＣＶＤ：chemical vapor deposition）反応を経由して形成される。一般的に、薄く連続的なコーティングが複数の蛍光体粒子の表面に積層され、それによって大気中の湿気の影響からそれらを保護する。
【０００８】
ＥＬ蛍光体にとって好ましいコーティングは、トリメチルアルミニウム（ＴＭＡ）の加水分解によって生じる。加水分解ＴＭＡコーティングやＣＶＤ法のプロセスは、参照することにより本明細書に組み込まれる米国特許第５，０８０，９２８号、及び５，２２０，２４３号に記載されている。加水分解ＴＭＡコーティングの構成成分は、主にオキシ水酸化アルミニウム（ＡｌＯＯＨ）であると考えられるが、化学反応の条件によって、酸化アルミニウムと水酸化アルミニウムとの間で成分を変更してもよい。加水分解ＴＭＡコーティングの成分は酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）から水酸化アルミニウム（Ａｌ（ＯＨ）３）の幅広い範囲を包含することが理解されているが、ここでは便宜上、オキシ水酸化アルミニウム（ＡｌＯＯＨ）であるとする。ＴＭＡと水分との反応は、次のように記述することができる。
Ａｌ（ＣＨ３）３  ＋  （３＋ｎ）／２Ｈ２Ｏ  →  ＡｌＯ（３−ｎ）／２（ＯＨ）ｎ  ＋  ３ＣＨ４  （０≦ｎ≦３）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
図２は、５０℃の温度で相対湿度９０％の下にあるＥＬランプにおいて駆動されている従来のＡｌＯＯＨがＣＶＤコーティングされたＥＬ蛍光体について、１００時間後輝度維持率（100-hour maintenance）をアルミニウム含有量（即ち、コーティングの膜厚）の関数として表したグラフである。図に示すように、約３．８重量％（ｗｔ．％）のアルミニウム（コーティングされた蛍光体の全体の重量に対する百分率として表されている）に対応するコーティングの膜厚は、従来のＣＶＤ法の場合において、初期輝度保持率及び高い耐湿性の最良の組み合わせとなるコーティングの膜厚に相当する。本明細書では、１００時間後輝度維持率は、「１００時間後における光出力量（100-hour light output）」を「０時間後における光出力量（0-hour light output）」で割り、１００％を掛けたもの、即ち、（１００時間後における光出力量／０時間後における光出力量）×１００％として定義される。このようなコーティングされていない蛍光体と比べて、ＣＶＤ法によってコーティングされたＥＬ蛍光体は常に、コーティングプロセスの結果、初期輝度に大きなロスが生じるという問題を有している。この輝度減少は、外側のコーティングが存在することによって蛍光体粒子内部の電場が減少することに起因しているものと推測されている。
【００１０】
本明細書では、「初期輝度（ＩＢ：initial brightness）」とは、エレクトロルミネッセンスランプが初めて駆動されたときの、エレクトロルミネッセンスランプにおける蛍光体の輝度を意味する。測定をするため、或いはランプの光出力量が安定するのを許容するために、数分の短い期間が経過してもよい。これは、「０時間後における輝度（0-hour brightness）」という場合もある。湿気に起因する特性低下によって輝度は急速に低下するので、初期輝度を測定するためには、耐湿性容器内においてコーティングがされていない蛍光体を含んでいるＥＬランプをラミネート加工するのが好ましい。コーティングされたＥＬ蛍光体における初期輝度保持率（ＲＩＢ：retained initial brightness）は、百分率として表され、同条件下においてＥＬランプで駆動されているコーティングされていない同様のＥＬ蛍光体の初期輝度に基づいて決定される。即ち、ＲＩＢ＝（ＩＢ（コーティングあり）／ＩＢ（コーティングなし））×１００％である。好ましくは、本発明に係るコーティングされたＥＬ蛍光体における初期輝度保持率は、少なくとも９５％である。
【００１１】
原子層成長法（ＡＬＤ法：atomic layer deposition）は、従来のＣＶＤ法に比べて、湿気防止のレベル及び初期輝度の高さのレベルを同等に保ちつつ、同時にＥＬ蛍光体粒子上のコーティングを薄くすることができることが見出されている。ＡＬＤ法は、積層プロセスにおいて原子レベルでの制御を可能にするため、魅力のある薄膜積層技術である。ＡＬＤコーティングは、順応性、均一性、再現性、及び正確な膜厚の制御のような多くの優れた特徴を有している。実のところ、ＡＬＤ法は、気相中の反応炉に同時に２つの化学蒸着前駆材料の双方が存在しないように、定期的に積層システムに２つの蒸着前駆材料を注入するという特殊なタイプのＣＶＤ法である。このようにする目的は、ＡＬＤ積層をしている間に、ガス中ではなく、基板上で前駆材料を反応させるためである。ＡＬＤコーティングプロセスの例は、参照することにより本明細書に組み込まれる米国特許第６，９１３，８２７号及び６，６１３，３８３号に記載されている。
【００１２】
ＡＬＤ積層プロセスにおいて、第１の前駆材料が単原子層として表面に吸着される。このとき、システムは余分な前駆材料を取り除くためにパージされる。第２の前駆材料は、吸着している物質と反応させるために注入される。このとき、システムは再びパージされる。キャリアガスの流れ（典型的には、窒素（Ｎ２））と真空ポンプは、夫々の前駆材料パルスの後に、パージするために用いられている。ＡＬＤ積層サイクルは、１０から２０秒のオーダーの夫々の前駆材料投与時間で、所定の膜厚が達成されるまで繰り返される。これにより、半導体デバイス上における高アスペクト比を特徴とするような非常に複雑な表面上に、均一に積層することができる。この反応は自己制限的（self-limiting）であり、成長レートは典型的には、サイクル毎に０．１から１．５Åのオーダーであり、その結果、非常に欠陥の少ない膜を成膜することができる。このコーティングでは実質的に一度に一つの単原子層が形成されるので、ＡＬＤ法は従来のＣＶＤ法に比べて、より密度の高いコーティングを達成することができる。
【００１３】
少なくとも約９００Å、より好ましくは約１２００Å以上のコーティング膜厚が、湿気に起因する特性低下からＥＬ蛍光体を効果的に保護するために必要であることが、ＡＬＤ法が適用されたオキシ水酸化アルミニウムのコーティングについて証明されてきた。約１２００Åの膜厚に達するためには、８００回のオーダーのＡＬＤ積層サイクルを必要とする。好ましくは、５０℃の温度で相対湿度が９０％の下でＥＬランプにおいて駆動されたとき、ＡＬＤコーティングされた蛍光体の初期輝度保持率が少なくとも９５％であり、１００時間後輝度維持率が少なくとも６０％であることが望ましい。更に好ましくは、５０℃の温度で相対湿度が９０％の下でＥＬランプにおいて駆動されたとき、初期輝度保持率が少なくとも９５％であり、１００時間後輝度維持率が少なくとも７５％であることが好ましい。ＡｌＯＯＨが好ましいコーティングであるが、他の無機コーティングが同様の効果を伴ってＡＬＤ法によってエレクトロルミネッセンス蛍光体に適用されてもよい。そのような他の無機コーティングには窒化アルミニウム、二酸化シリコン、二酸化チタンが含まれるが、これらに限定されるものではない。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、各個別蛍光体粒子が、原子層成長（ＡＬＤ）コーティング法が適用された無機コーティングでカプセル化されたエレクトロルミネッセンス蛍光体である。より好ましい実施形態では、このコーティングはオキシ水酸化アルミニウムである。カプセル化された蛍光体は、大気中の湿気に対して極めて反応しにくく、ランプにおける初期輝度の軽微なロスだけが問題となる。
【００１５】
特に、本発明に係る方法は、流動床においてＡＬＤ法を用いた無機フィルムによるコーティングがされたＥＬ蛍光体粒子に関する。より好ましい方法では、ＡＬＤコーティングは蛍光体粒子の表面上に一度に１つの単原子層をオキシ水酸化アルミニウムで実質的に積層するために、ＡＢＡＢ．．．というシークエンスにおいて気化されたトリメチルアルミニウム（ＴＭＡ）と水蒸気を交互に投入し、蛍光体粒子を流動床に取り込むことによって形成される。これら２つの前駆材料は、気相での反応を防ぐためにパルス間にパージを行いながら、コーティング反応炉に向かって内部キャリアガスとともに順次パルス的に注入される。流動床の反応炉は、４５０Ｋの温度で１Ｔｏｒｒの圧力に保たれている。夫々の前駆材料パルスのペア（１サイクル）は単原子層を形成するので、その結果得られる膜厚は、積層サイクルの数によって正確に制御することができる。
【００１６】
コーティングの膜厚は、蛍光体において積層されたアルミニウムの量と関連付けられる。コーティングの膜厚は、スパッタ中性粒子質量分析（ＳＮＭＳ：Sputtered Neutral Mass Spectroscopy）測定と基準材料として標準的なＴａ２Ｏ５膜によって見積もられる。５０℃の温度で相対湿度が９０％の条件下でＥＬランプにおいて１００時間後輝度維持率の要求を満足するために、ＡＤＬプロセスは積層されたアルミニウムの総量が少なくとも１．６重量％に達するまで、約８００サイクルの間、続けられることが好ましい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明は、以下の実施例において参考文献と共に、更に詳細に述べられる。しかしながら、本発明は決してそのような特定の実施例に限定されることはない。
【００１８】
厚膜エレクトロルミネッセンステストランプは、以下の一般的な方法によって構築されている。蛍光体は、結合剤（デュポン（DuPont）  超小型回路材料（Microcircuit Materials） Ｌｕｘｐｒｉｎｔ（登録商標） ８１５５ 結合剤）と混合される。液体結合剤中の蛍光体の百分率は、６０重量％（ｗｔ％）である。蛍光体懸濁液は、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）からなる透明な導電層を有するＰＥＴフィルム、例えばＣＰフィルム（CP Films）から入手可能であるＯＣ−２００上にスクリーン印刷される。ポリエステルスクリーンは、１インチあたり、１３７若しくは１４０本のスレッドを有している。乾燥後、誘電性層が、チタン酸バリウムで満たされた誘電性インク（デュポン  超小型回路材料 Ｌｕｘｐｒｉｎｔ（登録商標）  ８１５３  エレクトロルミネッセンス誘電性絶縁体）の２つの塗布物によって形成される。誘電体層は、蛍光体層上に塗布され、塗布物間で乾燥される。誘電体層を乾燥させた後、後面の炭素電極（デュポン  超小型回路材料 Ｌｕｘｐｒｉｎｔ（登録商標）  ７１４４  炭素導電体）が誘電体層上に付加される。これらの層をエレクトロルミネッセンスランプに適用する好ましい方法は、スクリーン印刷であり、「シルクスクリーニング（silk-screening）」ともいう。しかしながら、ドローブレードコーティングやロールトゥーロールコーティングのような他のコーティング技術でもうまく使用することができるだろう。乾燥後、エレクトロルミネッセンスランプは、輝度及び輝度の維持率の測定が可能な状態にある。湿度チャンバーにおいてテストされるランプは、液体状の水がランプ内に入ってくるのを防ぐために、後面の炭素電極がカバーされている必要がある。この場合、薄く加圧により粘着するテープ（３Ｍ  Ｓｃｏｔｃｈ  ８２１  テープ）が炭素電極に貼り付けられる。
【実施例１】
【００１９】
約２００グラムの緑色発光するＺｎＳ：Ｃｕエレクトロルミネッセンス蛍光体（Ｔｙｐｅ  ７２８、 オスラム・シルバニアプロダクツ社 トワンダ市、ペンシルバニア州）が、ＡＬＤコーティングのために振動性流動床の反応炉に投入された。流動床の反応炉は、ガス分配機としてメタルディスクを備えたステンレススチール製の容器であった。高純度の窒素が、流動ガスとして使用された。反応炉の全体は、２つ折り型の炉によって囲まれており、反応炉の温度は４５０Ｋに保たれた。トリメチルアルミニウム（ＴＭＡ）及びイオン除去された水が前駆材料として用いられ、その反応はオキシ水酸化アルミニウムコーティングを積層するために、２つの自己制限的半反応（self-limiting half reaction）に分けられた。一連の空気圧で稼働されるバルブは、コーティングサイクルの間、自動的且つ連続的に前駆材料の投入を制御する。両方の前駆材料はそれらの蒸気圧を経由して送られ、システムは気体の排出を行い、常に１．０Ｔｏｒｒの低圧力に保たれた。夫々の前駆材料が投入された後、システムは反応しなかった前駆材料を取り除くために、反応中に生成されたメタンなどと一緒に窒素で一掃された。洗浄を減少させるために反応炉の天井部分にフィルターが置かれているので、各サイクルの後に、ブローバック工程が集められた粉末を吹き払うために使用されている。蛍光体は１００回のコーティングサイクルの間、コーティングされることになる。
【実施例２】
【００２０】
本実施例における蛍光体は、コーティングサイクルの数が３００に増加されたことを除いて、実施例１と同様に作成された。
【実施例３】
【００２１】
本実施例における蛍光体は、コーティングサイクルの数は６００に増加されたことを除いて、実施例１と同様に作成された。
【００２２】
実施例１−３で使用されたのと同様のコーティングされていない蛍光体から作られた従来のＣＶＤコーティング蛍光体が、ＡＬＤコーティングされたサンプルと比較する対照（control）として用意された。ＣＶＤコーティングは、気化されたＴＭＡ及び水蒸気の前駆材料を同時に流動床の反応炉に取り込むことによって行われ、この反応炉は４５０Ｋの温度で大気圧に保たれた。
【００２３】
厚膜エレクトロルミネッセンステストランプは、カプセル化された蛍光体だけでなく、コーティングされていない蛍光体をも含むように形成された。コーティングされていない蛍光体を含むコントロールランプは、ハネウェル（Honeywell）社製の防水性透明フィルムであるＡＣＬＡＲで特別にパッケージされているので、コーティングされていない蛍光体の湿気に対する反応性を最小限にすることができた。カプセル化された蛍光体を含む同一のランプは、２つの環境下において１００時間の間、４０Ｈｚの１００Ｖの電圧で駆動された。ランプテスト＃１では、条件は２１℃の温度で相対湿度が５０％であった。ランプテスト＃２では、加速環境試験が５０℃の温度で相対湿度が９０％のチャンバー内で行われた。これらのランプにおけるテスト結果は、表１に示されている。ＡＬＤコーティングされた蛍光体のアルミニウム含有量は、コーティングされた蛍光体全体の重量のパーセンテージ（wt.% Al）として表され、オングストロームでおおよそのコーティングの膜厚が示されている。
【００２４】
表１に示すように、コーティングサイクルの数が増加することによって到達されたコーティング膜厚が増加するにつれて、ＡＬＤコーティングされた蛍光体の１００時間後輝度維持率は増加する。しかしながら、６００サイクルのＡＬＤコーティングされた蛍光体の１００時間後輝度維持率は、加速環境テスト（５０℃の温度で相対湿度９０％の環境）において標準的なＣＶＤコーティングがされた蛍光体のものに比べて、それでもまだ約１０％低くなっている。図３にあるように、１００時間後輝度維持率に対するＡＬＤコーティング膜厚をプロットすることによって、９００Åのコーティング膜厚を有するＡＬＤコーティングされた蛍光体が、ＣＶＤコーティングされた対照（CVD coated control）と同等の１００時間後輝度維持率のパフォーマンスに達するか見積もられる。
【００２５】
【表１】
0005384945.tif 000002
【実施例４】
【００２６】
本実施例における蛍光体は、コーティングサイクルの数が８００に増加されており、この蛍光体は異なる緑色発行するＺｎＳ：Ｃｕエレクトロルミネッセンス蛍光体（Ｔｙｐｅ  ７２９、 オスラム・シルバニアプロダクツ社 トワンダ市、ペンシルバニア州）であることを除いて、実施例１と同様に作成された。このＡＬＤコーティングされた蛍光体と同様の蛍光体から作られたＣＶＤコーティングされた対照についてのランプのデータ及び解析は、表２に示され、比較されている。ＣＶＤコーティングされた対照（アルミニウム含有量は３．８重量％（3.8wt.% Al））におけるコーティングの膜厚は、高い１００時間後輝度維持率と初期輝度保持率という観点では、この蛍光体にとって最適な厚さであると考えられる。
【００２７】
コーティングサイクルの数を８００に増加させることによって、ＡＬＤコーティングされた蛍光体におけるアルミニウムコーティングの重量は１．６重量％に増加される。ＳＮＭＳ測定に基づいて、８００サイクルした蛍光体のＡｌＯＯＨコーティングの膜厚は、１１６０Åと見積もられ、この値は、標準的なＣＶＤコーティングされたＥＬ蛍光体の約半分の厚さである。このＡＬＤコーティング蛍光体及びＣＶＤコーティングされた対照は、ランプにおいてほぼ等しい１００時間後輝度維持率を有する。しかしながら、ＣＶＤコーティングされた蛍光体が初期輝度の８０％しか保持しなかったのに対して、ＡＬＤコーティングされたＥＬ蛍光体は初期輝度の約９６％を保持した。
【００２８】
【表２】
0005384945.tif 000003
ここまで本発明に係る好ましい実施形態について説明してきたが、添付した特許請求の範囲によって定義されるように、その技術分野において本発明の範囲から逸脱しない範囲で様々な変更や修正がされてもよいことは明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】従来の厚膜ＥＬ蛍光体の断面図である。
【図２】５０℃の温度で相対湿度が９０％の下においてＥＬランプで駆動されている従来のＣＶＤコーティングされたＥＬ蛍光体における１００時間後輝度維持率をアルミニウム含有量の関数として表したグラフである。
【図３】本発明に係るＡＬＤ法によって生成されたコーティングがされた蛍光体におけるコーティングの膜厚に対する１００時間後輝度維持率を示したグラフである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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