(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
加工対象であるフロートガラスを回転させる下部ユニット、前記フロートガラスに接触して独立的に回転し得る少なくとも２つ以上のヘッドを備えるヘッド組立体、前記少なくとも２つ以上のヘッドを同時に往復動させる往復機構、及び前記ヘッド組立体を水平方向に移動させるための移動ユニットを備えるフロートガラス研磨システムにおいて、
前記往復機構が、
フレームに設けられたアクチュエータと、
前記アクチュエータの軸に連結された連結部材と、
前記２つ以上のヘッドそれぞれに対応する位置に配置するように前記フレームに設けられた少なくとも２つ以上の支持ブロックと、
前記連結部材に連結されて前記支持ブロックに沿って移動可能にそれぞれ設けられた少なくとも２つ以上の移動ブロックと、
前記ヘッドのスピンドルと前記移動ブロックとの間に設けられた第２連結部材と、を備えることを特徴とするフロートガラス研磨システム。
【請求項２】
前記２つ以上のヘッドそれぞれを回転させるための少なくても２つ以上の回転機構をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のフロートガラス研磨システム。
【請求項３】
前記２つ以上の回転機構それぞれが、
フレームに設けられた駆動源と、
前記駆動源の回転軸に設けられた駆動プーリーと、
前記ヘッドのスピンドルに設けられたスプラインと、
前記スプラインに結合された縦動プーリーと、
前記駆動プーリーと前記縦動プーリーとを連結するベルトと、を備えることを特徴とする請求項２に記載のフロートガラス研磨システム。
【請求項４】
前記２つ以上のヘッドそれぞれが、
スピンドルに固定された固定プラッターと、
前記固定プラッターに対して可動に設けられた研磨プラッターと、
前記フロートガラスに加えられる前記研磨プラッターの圧力の均一度を維持するため、前記固定プラッターと前記研磨プラッターとの間に介在された加圧部材と、を備えることを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載のフロートガラス研磨システム。
【請求項５】
前記加圧部材が、前記固定プラッターと前記研磨プラッターとの間に設けられた複数のエアスプリングを備えることを特徴とする請求項４に記載のフロートガラス研磨システム。
【請求項６】
前記複数のエアスプリングが、前記スピンドルを中心に円形に配置された少なくとも２つ以上のエアスプリンググループを含むことを特徴とする請求項５に記載のフロートガラス研磨システム。
【請求項７】
前記フロートガラスに研磨スラリーを供給させるための研磨スラリー供給ユニットをさらに備えることを特徴とする請求項１から６の何れか１項に記載のフロートガラス研磨システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フロートガラス研磨システム及びその方法に関し、より詳しくは、液晶ディスプレイに使用されるフロートガラスを研磨するためのフロートガラス研磨システム及びその方法に関する。
【０００２】
本出願は、２００９年１０月８日出願の韓国特許出願第１０−２００９−００９５７０６号に基づく優先権を主張し、該当出願の明細書及び図面に開示された内容は、すべて本出願に援用される。
【背景技術】
【０００３】
一般に、液晶ディスプレイの画像を正確に具現するためには、液晶ディスプレイに使用されるフロートガラス（ガラス基板）の平坦度を一定レベルに維持することが非常に重要である。したがって、フロートガラス法（ｆｌｏａｔ ｇｌａｓｓ ｐｒｏｃｅｓｓ）によって製造されたフロートガラスの表面に存在する微細な凹凸またはうねりは研磨工程を経て除去される。
【０００４】
このようなフロートガラスの研磨工程は、個々のフロートガラスを１つずつ研磨する、いわゆる、オスカー方式（Ｏｓｃａｒ ｍｅｔｈｏｄ）と、一連のフロートガラスを連続的に研磨する、いわゆる、インライン方式（Ｉｎ−ｌｉｎｅ ｍｅｔｈｏｄ）とに分けられる。さらに、フロートガラスの片面のみを研磨する「片面研磨」と、フロートガラスの両面を共に研磨する「両面研磨」とに分けられる。
【０００５】
従来技術によるフロートガラス研磨装置は、研磨パッドが設けられた研磨プレート（上定盤）を水平方向に移動させ、フロートガラスが位置した研磨ステージ（下定盤）を回転させながら、研磨プレート上に自然落下によって供給される研磨スラリーを用いてフロートガラスを研磨する。
【０００６】
近年、液晶ディスプレイの大型化趨勢に応えるため、研磨対象であるフロートガラスも大型化しており、それに伴って研磨プレートの上定盤及び研磨ステージの下定盤の大きさも大型化している。このような状況で従来のフロートガラス研磨装置を使用すれば、フロートガラスと接触して動かされる上定盤で半径方向毎の線速度の差が生じ、それによって上定盤の半径方向の研磨量がばらつき、結果的にフロートガラスの全体的な研磨平坦度を維持できないという問題が生じる。特に、大型ガラス基板の研磨装置の場合、研磨プレートの上定盤の移動範囲が制限されるため、直方形状の研磨対象であるフロートガラスの角領域（例えば、約２０〜３０ｃｍ）で相対的に研磨の平坦度を維持し難い。また、フロートガラスの角領域を研磨するために研磨プレートの移動範囲を広くすれば、研磨プレートの半径方向のバランスを維持し難く、フロートガラスの角領域以外の部分が過剰に研磨される不都合を引き起こす。
【０００７】
一方、従来技術によるフロートガラス研磨装置は、上定盤、すなわち、研磨プレート自体の荷重によってフロートガラスに力を加える方式である。そのため、研磨プレートの全体面積に亘って均一な力をフロートガラスに加えることができないので、最終的に研磨されたフロートガラスの平坦度がフロートガラスのそれぞれの部位毎に均一でなく、頻繁に不良が生じるという問題点があった。特に、液晶ディスプレイの大型化と共に研磨プレートも大型化（直径約１０００ｍｍ）するにつれて、このような問題はさらに深刻になる。換言すると、従来技術によれば、フロートガラスに接触する研磨プレートの全部位が実質的に同じ力でフロートガラスを加圧することができず、研磨プレートの中心から遠くなるほどフロートガラスに加えられる力が減少し、均一に研磨できなくなる問題点があった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、次のような目的を持つ。
本発明は、フロートガラスの大型化に伴う研磨システムの大型化によって生じる、回転する上定盤の半径位置毎の線速度の差による上定盤の半径位置毎の研磨量のバラツキを最小化することで、全体的な研磨平坦度を改善させることができるフロートガラス研磨システム及びその方法を提供することを目的とする。
【０００９】
すなわち、本発明は、従来の上定盤（いわゆる、「単一ヘッドシステム」）のヘッド径（以下、「仮想のヘッド領域」とする）の範囲内に入るより小さい直径を有する複数のヘッドが組み合わされたヘッド組立体によってフロートガラスを研磨することで、研磨平坦度を向上させることができるフロートガラス研磨システム及びその方法を提供することを目的とする。
なお、仮想のヘッド領域の直径は、加工対象であるフロートガラスの直径よりも小さく、下定盤の直径よりも大きい大きさである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題を達成するため、本発明の望ましい実施例によるフロートガラス研磨システムは、加工対象であるフロートガラスを回転させる下部ユニットと、前記フロートガラスに接触して回転し得るヘッド組立体と、前記ヘッド組立体を水平方向に移動させるための移動ユニットとを備えるフロートガラス研磨システムにおいて、前記ヘッド組立体は回転可能な少なくとも２つ以上のヘッドを備える。
【００１１】
望ましくは、前記少なくとも２つ以上のヘッドは仮想のヘッド領域の直径の約１／２の直径を有し、相互隣接して配置された２つの円形ヘッドを備える。
【００１２】
望ましくは、前記少なくとも２つ以上のヘッドは仮想のヘッド領域が形成する円周に略内接するように配置された複数の円形ヘッドを備える。
【００１３】
望ましくは、フロートガラス研磨システムは前記少なくとも２つ以上のヘッドを同時に往復動させるための往復機構をさらに備える。
【００１４】
望ましくは、前記往復機構は、フレームに設けられたアクチュエータと、前記アクチュエータの軸に連結された連結部材と、それぞれのヘッドに対応する位置に配置されるように前記フレームに設けられた少なくとも２つ以上の支持ブロックと、前記連結部材に連結されて前記支持ブロックに沿って移動可能にそれぞれ設けられた少なくとも２つ以上の移動ブロックと、前記ヘッドのスピンドルと前記移動ブロックとの間に設けられた第２連結部材と、を備える。
【００１５】
望ましくは、それぞれのヘッドを回転させるための少なくても２つ以上の回転機構をさらに備える。
【００１６】
望ましくは、それぞれの回転機構は、フレームに設けられた駆動源、前記駆動源の回転軸に設けられた駆動プーリー、前記ヘッドのスピンドルに設けられたスプライン、前記スプラインに結合された縦動プーリー、及び前記駆動プーリーと前記縦動プーリーとを連結するベルトを備える。
【００１７】
望ましくは、それぞれのヘッドは、スピンドルに固定された固定プラッター（ｐｌａｔｔｅｒ）、前記固定プラッターに対して可動に設けられた研磨プラッター、及び前記フロートガラスに加えられる前記研磨プラッターの圧力を均一に維持するため、前記固定プラッターと前記研磨プラッターとの間に介在された加圧部材を備える。
【００１８】
望ましくは、前記加圧部材は前記固定プラッターと前記研磨プラッターとの間に設けられた複数のエアスプリングを備える。
【００１９】
望ましくは、前記エアスプリングは前記スピンドルを中心に円形に配置された少なくとも２つ以上のエアスプリンググループを含む。
【００２０】
望ましくは、フロートガラス研磨システムは前記フロートガラスに研磨スラリーを供給するための研磨スラリー供給ユニットをさらに備える。
【００２１】
上記の課題を達成するため、本発明の望ましい実施例によるフロートガラス研磨方法は、下定盤によって回転する加工対象であるフロートガラスに上定盤を接触させ、前記上定盤を回転及び水平方向に移動させながら前記上定盤と前記フロートガラスとの間に供給される研磨スラリーによって前記フロートガラスを研磨するフロートガラス研磨方法において、前記上定盤は同じ構造の少なくとも２つ以上のヘッドを含み、前記２つ以上のヘッドを同時に駆動する段階を含む。
【００２２】
望ましくは、少なくとも２つ以上のヘッドのそれぞれを独立して回転させる段階を含む。
【００２３】
望ましくは、少なくとも２つ以上のヘッドを水平方向に同時に移動させる段階を含む。
【００２４】
望ましくは、前記フロートガラスが配置された前記下定盤を回転駆動させない状態で、前記ヘッドの回転及び移動によって前記フロートガラスを研磨する段階を含む。
【００２５】
望ましくは、前記フロートガラスが配置された前記下定盤を回転させると同時に、前記ヘッドの回転及び移動によって前記フロートガラスを研磨する段階を含む。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によるフロートガラス研磨システム及びその方法は、次のような効果を奏する。
【００２７】
第一、単一ヘッドを有する従来の研磨システムのヘッド径（仮想のヘッド領域）の１／２の直径を有するか、または仮想のヘッド領域が形成する円周に複数のヘッドが内接するようにヘッド組立体（上定盤）を構成することで、上定盤の半径位置毎に異なる線速度による研磨量のバラツキを最小化して全体的な研磨平坦度を相対的に改善させることができる。
【００２８】
第二、下定盤とは別に上定盤を回転させることで、下定盤の回転運動にかかわらずフロートガラスに求められる研磨度を得ることができる。特に、従来研磨が困難であるかまたは十分でないフロートガラスの角領域の研磨の平坦度をさらに向上させることができる。
【００２９】
第三、それぞれのヘッド組立体において、複数のエアスプリングを通じて固定プラッターに対して研磨プラッターの全部位に同じ力を加えることができ、また研磨作業中の震動を吸収することができるので、生産されるフロートガラスの平坦度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
本明細書に添付される次の図面は、本発明の望ましい実施例を例示するものであり、発明の詳細な説明とともに本発明の技術的な思想をさらに理解させる役割をするため、本発明は図面に記載された事項だけに限定されて解釈されてはならない。
【図１】本発明の望ましい実施例によるフロートガラス研磨システムの構成を示した概略平面図である。
【図２】図１の左側面図である。
【図３】図１の正面図である。
【図４】図１から図３のヘッド組立体を示した部分斜視図である。
【図５】図４のヘッド組立体の構成を示した概略図である。
【図６ａ】本発明の他の望ましい実施例によるヘッド組立体のヘッドの構成をそれぞれ示した概念図である。
【図６ｂ】本発明の他の望ましい実施例によるヘッド組立体のヘッドの構成をそれぞれ示した概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、添付された図面を参照して本発明の望ましい実施例によるフロートガラス研磨システム及びその方法を詳しく説明する。
【００３２】
本明細書及び請求範囲に使われた用語や単語は通常的や辞書的な意味に限定して解釈されてはならず、発明者自らは発明を最善の方法で説明するために用語の概念を適切に定義できるという原則に則して本発明の技術的な思想に応ずる意味及び概念で解釈されねばならない。したがって、本明細書に記載された実施例及び図面に示された構成は、本発明の最も望ましい一実施例に過ぎず、本発明の技術的な思想のすべてを代弁するものではないため、本出願の時点においてこれらに代替できる多様な均等物及び変形例があり得ることを理解せねばならない。
【００３３】
図１は本発明の望ましい実施例によるフロートガラス研磨システムの構成を示した概略図であり、図２は図１の左側面図であり、図３は図１の正面図であり、図４は図１から図３のヘッド組立体を抜粋して示した部分斜視図である。
【００３４】
図１から図４を参照すれば、本発明の望ましい実施例によるフロートガラス研磨システム１００は、例えば、一辺が１０００ｍｍを超え、厚さが約０．３ｍｍ〜１．１ｍｍである大型フロートガラスＧの一面を液晶ディスプレイに求められる平坦度に研磨するためのものである。また、研磨システム１００は、例えば、吸着方式によって研磨対象物であるフロートガラスＧをその上面に位置させた状態でフロートガラスＧを所定回転数で回転させるか又は支持する下部ユニット１１０と、下部ユニット１１０の上側に設けられ、下部ユニット１１０に支持されたフロートガラスＧの上面、すなわち、被研磨面に接触可能な研磨パッド１２２が付着されたヘッドＨをそれぞれ備える一対のヘッド組立体１２０と、ヘッド組立体１２０を水平方向に移動させるための移動ユニット１３０と、研磨スラリー供給部１４２から研磨スラリーの供給を受けてヘッド組立体１２０のヘッドＨを貫通してフロートガラスＧの被研磨面に研磨スラリーを供給するための研磨スラリー供給ユニット１４０とを備える。
【００３５】
ヘッド組立体１２０のそれぞれのヘッドＨは、移動ユニット１３０によって水平方向に一定軌跡で移動する過程で、独立的に回転するように構成される。また、研磨スラリー供給ユニット１４０から供給される研磨スラリーは、ヘッド組立体１２０のヘッドＨを貫通してフロートガラスＧの被研磨面の全体に均一に広がる。
【００３６】
前記移動ユニット１３０は、ヘッド組立体１２０を水平方向に移動させるためのものであって、業界で通常使用されるステージ、ガイドなどを備える。移動ユニット１３０の一側には、ヘッド組立体１２０のヘッドフレーム２０１が分離可能に設けられる。下部ユニット１１０は、フレーム１０２に設けられたモーター１０３によって回転し得る。
【００３７】
したがって、本実施例による研磨工程は、次のように様々なモードを有し得る。
【００３８】
（１）ヘッド組立体１２０のヘッドＨが回転駆動されると同時にヘッド組立体１２０が移動ユニット１３０によって水平（軌跡）移動する状態で、下部ユニット１１０の回転によってフロートガラスＧが回転するモード。
（２）モーター１０３を作動させず、フロートガラスＧが下部ユニット１１０に固定された状態で、ヘッドＨのみが回転及び水平移動するモード。
（３）モーター１０３によって下部ユニット１１０が回転し、その上に位置するフロートガラスＧが回転することで、それに接触するヘッドＨが動かされながらヘッド組立体１２０が水平に移動するモード。
【００３９】
一方、フロートガラスＧが回転せず、固定されている場合、ヘッド組立体１２０のヘッドＨがフロートガラスＧに滞留する時間を調整してフロートガラスＧの研磨量及びその程度を調節でき、特に、研磨し難いフロートガラスＧの角領域の研磨量を向上させることができる。
【００４０】
図５は、図４のヘッド組立体の構成を示した概略図である。
【００４１】
図４及び図５を参照すれば、本発明の望ましい実施例によるフロートガラス研磨システム１００は、ヘッド組立体１２０のヘッドＨを同時に往復動させるための往復機構２００を備える。往復機構２００は、下部ユニット１１０上にフロートガラスＧが固定された状態でそれぞれのヘッドＨの研磨パッド１２２がフロートガラスＧの被加工面に接触して研磨できるように、ヘッド組立体１２０のヘッドＨを下降させた状態で研磨作業を行い、研磨作業が完了するかまたは途中で作業を中断する必要がある場合、再びヘッドＨを元の位置に復帰させるためのものである。
【００４２】
望ましい実施例において、往復機構２００は、ヘッドフレーム２０１に設けられた１つのアクチュエータ２１０と、アクチュエータ２１０の軸２１２に連結された連結部材２２０と、それぞれのヘッド組立体１２０に対応する位置に配置されるようにヘッドフレーム２０１に設けられた一対の支持ブロック２３０と、連結部材２２０に連結され、支持ブロック２３０に沿って移動可能に設けられた一対の移動ブロック２４０と、ヘッド組立体１２０のスピンドル１２４と移動ブロック２４０との間に設けられた一対の第２連結部材２５０と、を備える。
【００４３】
前記アクチュエータ２１０は、例えば、空圧または油圧によって往復動する棒状の軸２１２を有するシリンダーを備えることが望ましい。前記連結部材２２０は、アクチュエータ２１０の軸２１２に連結固定された連結プレート２２２、及び連結プレート２２２を中心に両側にそれぞれ突設された一対のサイドプレート２２４を備える。それぞれの支持ブロック２３０は、ヘッドフレーム２０１に設けられた支持棒２３２及び支持スリーブ２３４を備える。それぞれの移動ブロック２４０は、支持棒２３２の外周面に結合され、支持棒２３２に沿って移動可能な移動スリーブ２４２及び支持スリーブ２３４を貫通するように配置された移動棒２４４を備える。前記第２連結部材２５０は、スピンドル１２４の上端と移動スリーブ２４２の終端とを連結する上部連結板２５２、及びスピンドル１２４の下部と移動スリーブ２４２とを連結する下部連結板２５４を備える。
【００４４】
本発明の望ましい実施例によるフロートガラス研磨システム１００は、それぞれのヘッド組立体１２０のヘッドＨを個別に回転させるため、同じ構造を有する一対の回転機構３００を備える。
【００４５】
それぞれの回転機構３００は、ヘッドフレーム２０１に設けられた駆動源３１０、駆動源の回転軸３１２に設けられた駆動プーリー３２０、ヘッド組立体１２０のスピンドル１２４に設けられたスプライン３３０、スプライン３３０に結合された縦動プーリー３４０、及び駆動プーリー３２０と縦動プーリー３４０とを連結するベルト（図示せず）を備える。
【００４６】
前記駆動源３１０は、それぞれのヘッド組立体１２０のスピンドル１２４を回転させることでスピンドル１２４の下部に配置されたヘッドＨを所定回転数で回転させるためのものであって、業界に知られた構造の電気モーターを使用することが望ましい。
【００４７】
前記駆動プーリー３２０及び縦動プーリー３４０は、それぞれその外周面にベルトを掛け得る通常のプーリー構造を有する。駆動プーリー３２０及び縦動プーリー３４０は同一平面に位置し、それぞれ回転する。前記縦動プーリー３４０の内径には、スプライン３３０の外部スプライン部と噛合する内部スプライン部が形成される。
【００４８】
前記スプライン３３０は、ヘッド組立体１２０のスピンドル１２４の長さ方向に所定の長さで設けられ、前述した往復機構２００によってヘッド組立体１２０のヘッドＨを移動させるためにスピンドル１２４が移動するとき、回転機構３００と干渉することを防止すると共に駆動源３１０の回転力をベルトを通じてスピンドル１２４に伝達するためのものである。換言すれば、往復機構２００によるヘッドＨの上下往復動は、アクチュエータ２１０の作動によってスピンドル１２４が上下に移動すれば、スピンドル１２４の外周面に設けられたスプライン３３０が共に移動するようになって、その過程でスプライン３３０の外部スプライン部が縦動プーリー３４０の内部スプライン部に接触して摺動することで縦動プーリー３４０の位置に噛み合うようになる構造であり、駆動源３１０によって駆動プーリー３２０が回転してその回転力が縦動プーリー３４０に伝達されれば、その回転力を内部スプライン部と結合した外部スプライン部を通じてスプライン３３０に伝達し、最終的にスピンドル１２４を回転させて同一軸の下端に設けられたヘッドＨを回転させる構造である。
【００４９】
以下、本発明の望ましい実施例によるヘッド組立体をさらに詳しく説明する。ヘッド組立体の構成要素及びその作動原理は、本出願人により２００９年３月６日付で出願された韓国特許出願第１０−２００９−００１９２９０号、第１０−２００９−００１９２９２号、及び第１０−２００９−００１９２９３号の「フロートガラス研磨システム及びその方法」に開示されており、その全ての内容は本明細書に援用される。
【００５０】
前記ヘッド組立体１２０のヘッドＨは、全体的に円盤型でそれぞれ構成された固定プラッター１２１及び研磨プラッター１２３を含み、研磨プラッター１２３はミドルプラッター１２５と分離プラッター１２７とに分けられる。固定プラッター１２１はスピンドル１２４の下端に固定され、研磨プラッター１２３は固定プラッター１２１に対して可動に固定プラッター１２１から離隔されて配置される。分離プラッター１２７は、ミドルプラッター１２５に対して吸着方式で選択的に分離可能に設けられる。
【００５１】
研磨スラリー供給ユニット１４０は、研磨スラリー供給部１４２から供給される、例えば、シリカ粒子を含むスラリー状の研磨スラリーを供給するために固定プラッター１２１、ミドルプラッター１２５及び分離プラッター１２７に貫設された複数の研磨スラリー供給経路１４４を備える。
【００５２】
本発明の他の実施例によれば、フロートガラス研磨システム１００は回転するか又は固定されたフロートガラスＧに接触するヘッド組立体１２０のヘッドＨの各部位の圧力を均一に維持する加圧部材１５０を備える。加圧部材１５０は、研磨パッド１２２が設けられた研磨プラッター１２３が実質的に均一な圧力でフロートガラスＧを加圧するためのものであって、固定プラッター１２１と研磨プラッター１２３のミドルプラッター１２５との間に設けられ、所定パターンで配置された複数のエアスプリング１５１を備える。エアスプリング１５１の配置パターンは、スピンドル１２４を中心にして内側から外側に所定間隔の同心円状にそれぞれ配置された第１エアスプリンググループ及び第２エアスプリンググループを含む。前記エアスプリングの構造及び機能は、本出願人により２００９年３月６日付で出願された韓国特許出願第１０−２００９−００１９２９０号、第１０−２００９−００１９２９２号及び第１０−２００９−００１９２９３号の「フロートガラス研磨システム及びその方法」に開示されており、その全ての内容は本明細書に援用される。
【００５３】
このような構成を持つ本発明の望ましい実施例によるフロートガラス研磨システムの動作を説明すれば、次のようである。
【００５４】
まず、下部ユニット１１０の上面に研磨対象であるフロートガラスＧを周知の方法（例えば、吸着）によって付着させた後、モーター１０３を駆動させてテーブル１０６を回転させる。一方、ヘッド組立体１２０のそれぞれのヘッドＨの研磨パッド１２２の下面をフロートガラスＧの被研磨面に圧着させるために往復機構２００を作動させる。すると、アクチュエータ２１０が作動して連結部材２２０を移動させ、連結部材２２０の移動によって移動ブロック２４０が支持ブロック２３０に沿って移動するようになる。また、移動ブロック２４０の移動によってスピンドル１２４が動き、スピンドル１２４の外周面に設けられたスプライン３３０は縦動プーリー３４０の内部スプライン部に沿って摺動して、ヘッドＨが下降しながら研磨パッド１２２がフロートガラスＧに接触するようになる。
【００５５】
すると、ヘッド組立体１２０のヘッドＨは下部ユニット１１０の回転によってスピンドル１２４を中心に回転しながら、同時に移動ユニット１３０によって水平方向の軌跡運動をするようになる。
【００５６】
一方、回転機構３００を作動させれば、駆動源３１０の回転力が駆動プーリー３２０、ベルト、縦動プーリー３４０、及びスプライン３３０を通じてスピンドル１２４に伝達されてヘッド組立体１２０のそれぞれのヘッドＨを回転させる。この場合、下部ユニット１１０は回転することも、回転しないこともあり得る。下部ユニット１１０が回転する場合、ヘッドＨの回転方向はフロートガラスＧの回転方向と逆方向であることが望ましい。
【００５７】
前述したように、フロートガラスＧに研磨パッド１２２が接触した状態で、研磨スラリー供給ユニット１４０を作動させれば、研磨スラリー供給部１４２に貯蔵された研磨スラリーは固定プラッター１２１、ミドルプラッター１２５及び分離プラッター１２７に貫設された研磨スラリー供給経路１４４を通じて供給され、フロートガラスＧの被研磨面に均一に塗布される。このような研磨スラリー供給ユニット１４０による研磨スラリーの供給は、研磨工程の全体研磨時間中、継続的に供給されるように設定でき、使用された研磨スラリーはフィルタリングされて再び研磨スラリー供給部１４２に回収され、循環されることが望ましい。
【００５８】
また、このような研磨過程において、ヘッド組立体１２０のそれぞれのヘッドＨの全体領域がフロートガラスＧに加える圧力を均一に維持するため、加圧部材１５０を作動させる。加圧部材１５０を作動させれば、空気供給源（図示せず）の空気がロータリージョイント及びスピンドル１２４の内部を通じて供給され、供給された空気はそれぞれのエア供給管を通じてそれぞれのエアスプリング１５１を膨脹させる。すると、固定プラッター１２１に対して研磨プラッター１２３の位置が移動し、それぞれのエアスプリング１５１部位の圧力が均一になって、ヘッド組立体１２０が移動ユニット１３０によって水平面上で移動してもフロートガラスＧの被研磨面に常に均一な圧力が加えられ得る。ここで、加圧部材１５０は、ヘッドＨの研磨パッド１２２がフロートガラスＧの被研磨面に接触する前に作動してもよく、研磨パッド１２２がフロートガラスＧに接触して研磨工程が開始されるとき作動してもよい。一方、研磨工程中に加圧部材１５０の加圧動作はセットされた圧力に応じて制御されることもできる。
【００５９】
前述した実施例によるフロートガラス研磨システム１００において、それぞれのヘッド組立体１２０のヘッドＨの寸法（円盤型である場合は直径）は、直方形状の研磨対象であるフロートガラスＧの寸法（横長及び縦長）より小さく、従来の単一のヘッド径より１／２程小さい直径を有する。すなわち、本実施例による、いわゆるデュアルヘッドＨのそれぞれの直径は単一ヘッド径の約１／２である。
【００６０】
代案的な実施例として、図６ａ及び図６ｂに示されたように、ヘッド組立体４２０、５２０は３個のヘッドＨ'または４個のヘッドＨ"で構成することもできる。これら実施例において、それぞれのヘッドＨ'、Ｈ"は仮想の単一のヘッド領域ＩＡが形成する円周に内接し、互いに外接するほど近く（ただし、接触はしないように）配置される。よって、図６ａに示されたように、ヘッド組立体４２０が３個のヘッドＨ'で構成される場合、３個のヘッドＨ'の中心は正三角形で配置される。また、図６ｂに示されたように、ヘッド組立体５２０が４個のヘッドＨ"で構成される場合、４個のヘッドＨ"の中心は正方形で配置される。
【００６１】
上記の実施例において、ヘッドＨ、Ｈ'、Ｈ"の数が多くなるほどそれぞれのヘッド径はその分小さくなり、ヘッドＨ、Ｈ'、Ｈ"が互いに組み合わされた１つのヘッド組立体１２０、４２０、５２０の領域は仮想の単一ヘッド領域ＩＡとほぼ同じである。このように、ヘッド組立体１２０、４２０、５２０のヘッドＨ、Ｈ'、Ｈ"が相対的に直径の小さくなった複数のヘッドＨ、Ｈ'、Ｈ"で構成される場合、従来のフロートガラス研磨装置とは違って、フロートガラスＧの角領域を研磨するためのヘッド組立体１２０、４２０、５２０の水平方向の移動距離をさらに広げることができる。また、ヘッド組立体１２０、４２０、５２０の複数のヘッドのうち少なくとも１つのヘッドＨ、Ｈ'、Ｈ"を用いてフロートガラスＧの角領域を研磨することができる。したがって、従来の単一ヘッドで生じたアンバランスの問題を解消することができる。
【００６２】
以上、本発明を限定された実施例と図面に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、本発明が属する技術分野で通常の知識を持つ者によって本発明の技術思想と特許請求の範囲の均等範囲内で多様な修正及び変形が可能であることは言うまでもない。
［項目１］
加工対象であるフロートガラスを回転させる下部ユニット、前記フロートガラスに接触して回転し得るヘッド組立体、及び前記ヘッド組立体を水平方向に移動させるための移動ユニットを備えるフロートガラス研磨システムにおいて、
前記ヘッド組立体は、回転可能な少なくとも２つ以上のヘッドを備えることを特徴とするフロートガラス研磨システム。
［項目２］
前記少なくとも２つ以上のヘッドが、仮想のヘッド領域の直径の１／２の直径を有し、相互隣接して配置された２つの円形ヘッドを備えることを特徴とする項目１に記載のフロートガラス研磨システム。
［項目３］
前記少なくとも２つ以上のヘッドが、仮想のヘッド領域が形成する円周に内接するように配置された複数の円形ヘッドを備えることを特徴とする項目１に記載のフロートガラス研磨システム。
［項目４］
前記少なくとも２つ以上のヘッドを同時に往復動させるための往復機構をさらに備えることを特徴とする項目１から３の何れか１項に記載のフロートガラス研磨システム。
［項目５］
前記往復機構が、
フレームに設けられたアクチュエータと、
前記アクチュエータの軸に連結された連結部材と、
前記２つ以上のヘッドそれぞれに対応する位置に配置するように前記フレームに設けられた少なくとも２つ以上の支持ブロックと、
前記連結部材に連結されて前記支持ブロックに沿って移動可能にそれぞれ設けられた少なくとも２つ以上の移動ブロックと、
前記ヘッドのスピンドルと前記移動ブロックとの間に設けられた第２連結部材と、を備えることを特徴とする項目４に記載のフロートガラス研磨システム。
［項目６］
前記２つ以上のヘッドそれぞれを回転させるための少なくても２つ以上の回転機構をさらに備えることを特徴とする項目１から５の何れか１項に記載のフロートガラス研磨システム。
［項目７］
前記２つ以上の回転機構それぞれが、
フレームに設けられた駆動源と、
前記駆動源の回転軸に設けられた駆動プーリーと、
前記ヘッドのスピンドルに設けられたスプラインと、
前記スプラインに結合された縦動プーリーと、
前記駆動プーリーと前記縦動プーリーとを連結するベルトと、を備えることを特徴とする項目６に記載のフロートガラス研磨システム。
［項目８］
前記２つ以上のヘッドそれぞれが、
スピンドルに固定された固定プラッターと、
前記固定プラッターに対して可動に設けられた研磨プラッターと、
前記フロートガラスに加えられる前記研磨プラッターの圧力の均一度を維持するため、前記固定プラッターと前記研磨プラッターとの間に介在された加圧部材と、を備えることを特徴とする項目１から７の何れか１項に記載のフロートガラス研磨システム。
［項目９］
前記加圧部材が、前記固定プラッターと前記研磨プラッターとの間に設けられた複数のエアスプリングを備えることを特徴とする項目８に記載のフロートガラス研磨システム。
［項目１０］
前記エアスプリングが、前記スピンドルを中心に円形に配置された少なくとも２つ以上のエアスプリンググループを含むことを特徴とする項目９に記載のフロートガラス研磨システム。
［項目１１］
前記フロートガラスに研磨スラリーを供給させるための研磨スラリー供給ユニットをさらに備えることを特徴とする項目１から１０の何れか１項に記載のフロートガラス研磨システム。
［項目１２］
下定盤によって回転する加工対象であるフロートガラスに上定盤を接触させ、前記上定盤を回転及び水平方向に移動させながら前記上定盤と前記フロートガラスとの間に供給される研磨スラリーによって前記フロートガラスを研磨するフロートガラス研磨方法において、
前記上定盤は構造が同じ少なくとも２つ以上のヘッドを含み、前記２つ以上のヘッドを同時に駆動する段階を含むことを特徴とするフロートガラス研磨方法。
［項目１３］
前記少なくとも２つ以上のヘッドのそれぞれを独立して回転させる段階を含むことを特徴とする項目１２に記載のフロートガラス研磨方法。
［項目１４］
前記少なくとも２つ以上のヘッドを水平方向に同時に移動させる段階を含むことを特徴とする項目１２または１３に記載のフロートガラス研磨方法。
［項目１５］
前記フロートガラスが配置された前記下定盤を回転駆動させない状態で、前記ヘッドの回転及び移動によって前記フロートガラスを研磨する段階を含むことを特徴とする項目１２または１３に記載のフロートガラス研磨方法。
［項目１６］
前記フロートガラスが配置された前記下定盤を回転させると同時に前記ヘッドの回転及び移動によって前記フロートガラスを研磨する段階を含むことを特徴とする項目１２または１３に記載のフロートガラス研磨方法。
［項目１７］
項目１２から１６の何れか１項に記載の方法によって製造されたフロートガラス。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６ａ】
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【図６ｂ】
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