(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の一部の領域に第１のホトレジストパターンを形成する第１の工程と、
前記第１のホトレジストパターンが形成された複数の基板が収容された処理室にＳｉ原料及び触媒と、酸化原料及び触媒とを、交互に複数回供給して、少なくとも前記第１のホトレジストパターンの表面に薄膜を形成する第２の工程と、
前記第１のホトレジストパターンが形成されていない部位に第２のホトレジストパターン
を形成する第３の工程と、
を有し、
前記第２の工程では、前記薄膜の膜厚が、前記ホトレジストパターンの各パターンの間の距離の１／２の約５％となるように前記薄膜を形成する半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記第２の工程は、前記第１のホトレジストパターンを形成する第１のホトレジストの変質温度より低い処理温度で行なう請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記酸化原料は、分子中に互いに電気陰性度の異なる複数の原子を含む請求項１もしくは２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
所定の処理を施した基板上の一部の領域にホトレジストパターンを形成するホトレジス
ト処理装置と、
複数の基板を収容する処理室と、
前記処理室にＳｉ原料、酸化原料及び触媒を供給するガス供給系と、
前記処理室に複数の前記ホトレジストパターンが形成された基板を収容した状態で、前記処理室に前記Ｓｉ原料及び前記触媒と、前記酸化原料及び前記触媒とを、交互に複数回前記処理室に供給して前記複数の基板に薄膜を形成するよう前記ガス供給系を制御する制御部と、
を有し、前記制御部は、前記薄膜の膜厚が、前記ホトレジストパターンの各パターンの間の距離の１／２の約５％となるように前記薄膜を形成するよう前記ガス供給系を制御する基板処理装置と、
を有する半導体製造装置。
【請求項５】
前記基板を加熱する加熱ユニットをさらに有し、
前記制御部は、前記Ｓｉ原料、前記酸化原料及び前記触媒を供給する際は、前記基板を前記ホトレジストパターンを形成するホトレジストの変質温度より低い処理温度に加熱するよう前記ガス供給系及び前記加熱ユニットを制御する請求項４に記載の半導体製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置の製造方法、半導体装置及び半導体製造装置に関し、例えば、ダブルパターニング法を使用した半導体装置（半導体デバイス）のパターン形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フラッシュメモリ、DRAM（Dynamic Random Access Memory）、SRAM（Static Random Access Memory）等のメモリデバイスや、ロジックデバイス等の半導体デバイスは、近年、高集積化が求められているが、そのためにはパターンの微細化が必須である。狭い面積に多くのデバイスを集積させるためには、個別デバイスのサイズを小さく形成しなくてはならず、このためには、形成しようとするパターンの幅と間隔との和であるピッチを小さくしなければならない。しかし、必要なパターンを形成するためのホトリソグラフィ工程に解像限界があり、微細ピッチを有するパターンの形成に限界がある。
【０００３】
近年、基板の上に微細なパターンを形成し、これをマスクとしてエッチングを行うことによって該パターンの下層を加工する技術（パターン形成技術）は、半導体産業のＩＣ作成等に広く採用され、大きな注目を浴びている。そこで、新しく提案されているリソグラフィ技術の１つとして、パターニングを２回以上行ってホトレジストパターンを形成するダブルパターニング法の検討が進められている。このダブルパターニング法によれば、１回のパターニングで形成されるパターンよりも微細なパターンが形成できるとされており、その中の一つとして露光を２回以上行う技術の検討が進められている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ダブルパターニング法において、第１のホトレジストパターンを形成した上に第２のホトレジストパターンを形成するためには、第２のホトレジストパターン形成時に第１のホトレジストパターンにいかなるダメージをも与えないようにプロセスを構築することが必要となる。
具体的には、（１）第２ホトレジストパターン形成時のホトレジスト中に含まれる溶剤の第１ホトレジストパターンへの浸透に伴うレジスト特性の劣化、（２）第２ホトレジスト処理中に加わる熱処理による第１ホトレジストパターンの変形（一般的な樹脂系ホトレジスト材料では150℃より加熱すると変質してしまう）、（３）第２ホトレジストパターン形成時の現像処理における第１ホトレジストパターンのレジスト寸法ズレの発生（実質的に現像時間が第２ホトレジスト処理の分だけ長くなり所望のレジスト寸法からのズレが生じる）、（４）第２ホトレジスト処理のリワーク発生時に第１ホトレジストへのダメージの発生、などの課題を克服するプロセス技術の開発が必要となっている。
【０００５】
本発明の主な目的は、ダブルパターニング技術において、第２のホトレジスト形成プロセスが、第１のホトレジストに上記（１）〜（４）のような副作用を及ぼさない、パターニング精度の安定性を提供できる半導体装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様によれば、
基板上の一部の領域に第１のホトレジストパターンを形成する第１の工程と、少なくとも前記第１のホトレジストパターンの表面に薄膜を形成する第２の工程と、前記第１のホトレジストパターンが形成されていない部位に第２のホトレジストパターンを形成する第３の工程とを有する半導体装置の製造方法が提供される。
【０００７】
好ましくは、第１の半導体装置の製造方法において、
基板を処理する処理室と、
Ｓｉ原料、酸化原料、触媒を前記処理室に供給する原料供給ユニットと、
少なくとも前記原料供給ユニットを制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、
前記Ｓｉ原料及び前記触媒と、前記酸化原料と前記触媒とを、交互に前記処理室に供給するように前記原料供給ユニットを制御する基板処理装置を用いて、
前記薄膜を形成する。
【０００８】
好ましくは、第１の半導体装置の製造方法において、
基板を処理する処理室と、
Ｓｉ原料を前記処理室内に供給する第１の原料供給系と、
酸化原料を前記処理室内に供給する第２の原料供給系と、
触媒を前記処理室内に供給する触媒供給系と、
前記基板を加熱する加熱ユニットと、
少なくとも前記原料供給ユニットと及び前記加熱ユニットを制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、
前記第１のホトレジストの変質温度よりも低い処理温度となるよう前記基板を加熱しつつ、
前記Ｓｉ原料及び前記触媒と、前記酸化原料と前記触媒とを、交互に前記処理室に供給し、前記交互の供給を複数回繰り返すように前記加熱ユニット及び前記原料供給ユニットを制御する基板処理装置を用いて、
前記薄膜を形成する。
【０００９】
本発明の他の態様によれば、
基板上の一部の領域に第１のホトレジストパターンを形成する第１の工程と、
少なくとも前記第１のホトレジストパターンの表面に薄膜を形成する第２の工程と、
前記第１のホトレジストパターンが形成されていない部位に第２のホトレジストパターンを形成する第３の工程と、
を有するホトレジストパターン形成方法が提供される。
【００１０】
好ましくは、上記のホトレジストパターン形成方法を用いて形成された第１のホトレジストパターン及び第２のホトレジストパターンをマスクとしてエッチングを行い、第１のホトレジストパターン及び第２のホトレジストパターンの下層を加工して基板に所望の処理を行なって製造した半導体装置が提供される。
【００１１】
本発明の他の態様によれば、
所定の処理を施した基板上の一部の領域にホトレジストパターンを形成するホトレジスト処理装置と、
少なくとも前記ホトレジストパターンの表面に薄膜を形成する基板処理装置と、
を有する半導体製造装置が提供される。
【００１２】
好ましくは、上記の半導体製造装置において、
基板処理装置は、
基板を処理する処理室と、
Ｓｉ原料を前記処理室内に供給する第１の原料供給系と、
酸化原料を前記処理室内に供給する第２の原料供給系と、
触媒を前記処理室内に供給する触媒供給系と、
前記基板を加熱する加熱ユニットと、
少なくとも前記原料供給ユニットと及び前記加熱ユニットを制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、
前記第１のホトレジストの変質温度よりも低い処理温度となるよう前記基板を加熱しつつ、
前記Ｓｉ原料及び前記触媒と、前記酸化原料と前記触媒とを、交互に前記処理室に供給し、前記交互の供給を複数回繰り返すように前記加熱ユニット及び前記原料供給ユニットを制御する基板処理装置である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の一態様に係る第１の半導体装置の製造方法によれば、第1ホトレジストパターン上に薄膜（例えば、ＳｉＯ２膜）を成膜することにより、第１ホトレジストパターンを保護することができ、第２ホトレジスト溶剤を塗布する際に、第２ホトレジスト溶剤が第１ホトレジストパターンへ浸透することを防止できる。さらに、第１のホトレジストパターンを形成する第１のホトレジストの変質温度よりも低い低温でホトレジストの保護を実施することにより、第１ホトレジストパターンの変質を防止しつつ、第１ホトレジスト保護のための薄膜を形成することができる。
【００１４】
また、本発明の一態様に係る第１の半導体装置の製造方法によれば、第1ホトレジストパターン上に薄膜を成膜することにより、第２ホトレジストパターン形成時において、第1ホトレジストパターンの機械的強度を向上させることができる。
【００１５】
さらに、本発明の一態様に係る第１の半導体装置の製造方法によれば、ＳｉＯ２膜はウエットエッチングレートが速いため、第１ホトレジストを保護する薄膜としてＳｉＯ２膜を用いることにより、この薄膜を除去する必要がある場合に、容易に除去することが可能となる。
【００１６】
また、本発明の一態様に係る第１の半導体装置の製造方法によれば、第1ホトレジストパターン上に薄膜（例えば、ＳｉＯ２膜）を成膜することにより、第２ホトレジストパターンのリワーク時に第１ホトレジストパターンを保護することができる。
【００１７】
また、本発明の一態様に係る半導体製造装置によれば、第1ホトレジストパターン上に薄膜（例えば、ＳｉＯ２膜）を成膜することにより、第１ホトレジストパターンを保護することができ、第２ホトレジスト溶剤を塗布する際に、第２ホトレジスト溶剤が第１ホトレジストパターンへ浸透することを防止できる。さらに、第１のホトレジストパターンを形成する第１のホトレジストの変質温度よりも低い極低温で薄膜を成膜することにより、第１ホトレジストパターンの変質を防止しつつ、第１ホトレジストを保護するための薄膜を形成することができる。
【００１８】
また、本発明の一態様に係る半導体製造装置によれば、ホトレジストパターンを形成するホトレジスト処理装置及び薄膜を形成する基板処理装置を有することにより、ホトレジストパターンの形成及び薄膜形成を一貫処理することができる。
【００１９】
また、本発明の一態様に係る半導体製造装置によれば、第1ホトレジストパターン上に薄膜（例えば、ＳｉＯ２膜）を成膜することにより、第２ホトレジストパターンのリワーク時に第１のホトレジストパターンを保護することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、図面を参照しながら本発明の好ましい実施例について説明する。
本実施例に係る基板処理装置は、半導体装置（ＩＣ（Integrated Circuits））の製造に使用される半導体製造装置の一例として構成されているものである。
下記の説明では、基板処理装置の一例として、基板に対し成膜処理等をおこなう縦型の装置を使用した場合について述べる。しかし、本発明は、縦型装置の使用を前提としたものでなく、例えば、枚葉装置を使用しても良い。また、成膜のメカニズムもＳｉ原料、酸化原料、触媒を組み合わせたＳｉＯ２膜に限定されるものではなく、例えば光エネルギーを用いた成膜技術等、低温成膜が可能な技術を適用することができる。
【００２１】
図１に示す通り、基板処理装置１０１では、基板の一例となるウエハ２００を収納したカセット１１０が使用されており、ウエハ２００はシリコン等の材料から構成されている。基板処理装置１０１は筐体１１１を備えており、筐体１１１の内部にはカセットステージ１１４が設置されている。カセット１１０はカセットステージ１１４上に工程内搬送装置（図示略）によって搬入されたり、カセットステージ１１４上から搬出されたりされる。
【００２２】
カセットステージ１１４は、工程内搬送装置によって、カセット１１０内のウエハ２００が垂直姿勢を保持しかつカセット１１０のウエハ出し入れ口が上方向を向くように載置される。カセットステージ１１４は、カセット１１０を筐体１１１の後方に右回り縦方向９０°回転し、カセット１１０内のウエハ２００が水平姿勢となり、カセット１１０のウエハ出し入れ口が筐体１１１の後方を向くように動作可能となるよう構成されている。
【００２３】
筐体１１１内の前後方向の略中央部にはカセット棚１０５が設置されており、カセット棚１０５は複数段複数列にて複数個のカセット１１０を保管するように構成されている。カセット棚１０５にはウエハ移載機構１２５の搬送対象となるカセット１１０が収納される移載棚１２３が設けられている。
【００２４】
カセットステージ１１４の上方には予備カセット棚１０７が設けられ、予備的にカセット１１０を保管するように構成されている。
【００２５】
カセットステージ１１４とカセット棚１０５との間には、カセット搬送装置１１８が設置されている。カセット搬送装置１１８は、カセット１１０を保持したまま昇降可能なカセットエレベータ１１８ａと、搬送機構としてのカセット搬送機構１１８ｂとで構成されている。カセット搬送装置１１８はカセットエレベータ１１８ａとカセット搬送機構１１８ｂとの連続動作により、カセットステージ１１４とカセット棚１０５と予備カセット棚１０７との間で、カセット１１０を搬送するように構成されている。
【００２６】
カセット棚１０５の後方には、ウエハ移載機構１２５が設置されている。ウエハ移載機構１２５は、ウエハ２００を水平方向に回転ないし直動可能なウエハ移載装置１２５ａと、ウエハ移載装置１２５ａを昇降させるためのウエハ移載装置エレベータ１２５ｂとで構成されている。ウエハ移載装置１２５ａにはウエハ２００をピックアップするためのツイーザ１２５ｃが設けられている。ウエハ移載装置１２５はウエハ移載装置１２５ａとウエハ移載装置エレベータ１２５ｂとの連続動作により、ツイーザ１２５ｃをウエハ２００の載置部として、ウエハ２００をボート２１７に対して装填（チャージング）したり、ボート２１７から脱装（ディスチャージング）したりするように構成されている。
【００２７】
筐体１１１の後部上方には、ウエハ２００を熱処理する処理炉２０２が設けられており、処理炉２０２の下端部が炉口シャッタ１４７により開閉されるように構成されている。
【００２８】
処理炉２０２の下方には処理炉２０２に対しボート２１７を昇降させるボートエレベータ１１５が設けられている。ボートエレベータ１１５の昇降台にはアーム１２８が連結されており、アーム１２８にはシールキャップ２１９が水平に据え付けられている。シールキャップ２１９はボート２１７を垂直に支持するとともに、処理炉２０２の下端部を閉塞可能なように構成されている。
【００２９】
ボート２１７は複数の保持部材を備えており、複数枚（例えば５０〜１５０枚程度）のウエハ２００をその中心を揃えて垂直方向に整列させた状態で、それぞれ水平に保持するように構成されている。
【００３０】
カセット棚１０５の上方には、清浄化した雰囲気であるクリーンエアを供給するクリーンユニット１３４ａが設置されている。クリーンユニット１３４ａは供給ファン及び防塵フィルタで構成されており、クリーンエアを筐体１１１の内部に流通させるように構成されている。
【００３１】
筐体１１１の左側端部には、クリーンエアを供給するクリーンユニット１３４ｂが設置されている。クリーンユニット１３４ｂも供給ファン及び防塵フィルタで構成されており、クリーンエアをウエハ移載装置１２５ａやボート２１７等の近傍を流通させるように構成されている。当該クリーンエアは、ウエハ移載装置１２５ａやボート２１７等の近傍を流通した後に、筐体１１１の外部に排気されるようになっている。
【００３２】
続いて、基板処理装置１０１の主な動作について説明する。
【００３３】
工程内搬送装置（図示略）によってカセット１１０がカセットステージ１１４上に搬入されると、カセット１１０は、ウエハ２００がカセットステージ１１４の上で垂直姿勢を保持し、カセット１１０のウエハ出し入れ口が上方向を向くように載置される。その後、カセット１１０は、カセットステージ１１４によって、カセット１１０内のウエハ２００が水平姿勢となり、カセット１１０のウエハ出し入れ口が筐体１１１の後方を向くように、筐体１１１の後方に右周り縦方向９０°回転させられる。
【００３４】
その後、カセット１１０は、カセット棚１０５ないし予備カセット棚１０７の指定された棚位置へカセット搬送装置１１８によって自動的に搬送され受け渡され、一時的に保管された後、カセット棚１０５ないし予備カセット棚１０７からカセット搬送装置１１８によって移載棚１２３に移載されるか、もしくは直接移載棚１２３に搬送される。
【００３５】
カセット１１０が移載棚１２３に移載されると、ウエハ２００はカセット１１０からウエハ移載装置１２５ａのツイーザ１２５ｃによってウエハ出し入れ口を通じてピックアップされ、ボート２１７に装填（チャージング）される。ボート２１７にウエハ２００を受け渡したウエハ移載装置１２５ａはカセット１１０に戻り、後続のウエハ１１０をボート２１７に装填する。
【００３６】
予め指定された枚数のウエハ２００がボート２１７に装填されると、処理炉２０２の下端部を閉じていた炉口シャッタ１４７が開き、処理炉２０２の下端部が開放される。その後、ウエハ２００群を保持したボート２１７がボートエレベータ１１５の上昇動作により処理炉２０２内に搬入（ローディング）され、処理炉２０２の下部がシールキャップ２１９により閉塞される。
【００３７】
ローディング後は、処理炉２０２にてウエハ２００に対し任意の処理が実施される。その処理後は、上述の逆の手順で、ウエハ２００およびカセット１１０が筐体１１１の外部に搬出される。
【００３８】
図２及び図３に示す通り、処理炉２０２にはウエハ２００を加熱するためのヒータ２０７が設けられている。ヒータ２０７は上方が閉塞された円筒形状の断熱部材と複数本のヒータ素線とを備えており、断熱部材に対しヒータ素線が設けられたユニット構成を有している。ヒータ２０７の内側には、ウエハ２００を処理するための石英製の反応管２０３が設けられている。
【００３９】
反応管２０３の下端には、気密部材であるＯリング２２０を介してステンレス等で構成されたマニホールド２０９が設けられている。マニホールド２０９の下端開口は、Ｏリング２２０を介して蓋体としてのシールキャップ２１９により気密に閉塞されている。処理炉２０２では、少なくとも、反応管２０３、マニホールド２０９及びシールキャップ２１９により処理室２０１が形成されている。
【００４０】
シールキャップ２１９にはボート２１７を支持するボート支持台２１８が設けられている。図１に示す通り、ボート２１７はボート支持台２１８に固定された底板２１０とその上方に配置された天板２１１とを有しており、底板２１０と天板２１１との間に複数本の支柱２１２が架設された構成を有している。ボート２１７には複数枚のウエハ２００が保持されている。複数枚のウエハ２００は、互いに一定の間隔をあけながら水平姿勢を保持した状態でボート２１７の支柱２１２に支持されている。
【００４１】
以上の処理炉２０２では、バッチ処理される複数枚のウエハ２００がボート２１７に対し多段に積層された状態において、ボート２１７がボート支持体２１８で支持されながら処理室２０１に挿入され、ヒータ２０７が処理室２０１に挿入されたウエハ２００を所定の温度に加熱するようになっている。
【００４２】
図２及び図３に示す通り、処理室２０１には、原料ガスを供給するための２本の原料ガス供給管３１０，３２０と、触媒を供給するための触媒供給管３３０とが接続されている。
【００４３】
原料ガス供給管３１０にはマスフローコントローラ３１２及びバルブ３１４が設けられている。原料ガス供給管３１０の先端部にはノズル４１０が連結されている。ノズル４１０は、処理室２０１を構成している反応管２０３の内壁とウエハ２００との間における円弧状の空間で、反応管２０３の内壁に沿った上下方向に延在している。ノズル４１０の側面には原料ガスを供給する多数のガス供給孔４１０ａが設けられている。ガス供給孔４１０ａは、下部から上部にわたってそれぞれ同一または、大きさに傾斜をつけた開口面積を有し、更に同じ開口ピッチで設けられている。
【００４４】
更に原料ガス供給管３１０にはキャリアガスを供給するためのキャリアガス供給管５１０が接続されている。キャリアガス供給管５１０にはマスフローコントローラ５１２及びバルブ５１４が設けられている。
【００４５】
原料ガス供給管３２０にはマスフローコントローラ３２２及びバルブ３２４が設けられている。原料ガス供給管３２０の先端部にはノズル４２０が連結されている。ノズル４２０も、ノズル４１０と同様に、処理室２０１を構成している反応管２０３の内壁とウエハ２００との間における円弧状の空間で、反応管２０３の内壁に沿って上下方向に延在している。ノズル４２０の側面には、原料ガスを供給する多数のガス供給孔４２０ａが設けられている。ガス供給孔４２０ａも、ガス供給孔４１０ａと同様に、下部から上部にわたってそれぞれ同一または、大きさに傾斜をつけた開口面積を有し、更に同じ開口ピッチで設けられている。
【００４６】
更に原料ガス供給管３２０にはキャリアガスを供給するためのキャリアガス供給管５２０が連結されている。キャリアガス供給管５２０にはマスフローコントローラ５２２及びバルブ５２４が設けられている。
【００４７】
触媒供給管３３０にはマスフローコントローラ３３２及びバルブ３３４が設けられている。触媒供給管３３０の先端部にはノズル４３０が連結されている。ノズル４３０も、ノズル４１０と同様に、処理室２０１を構成している反応管２０３の内壁とウエハ２００との間における円弧状の空間で、反応管２０３の内壁に沿って上下方向に延在している。ノズル４３０の側面には、触媒を供給する多数の触媒供給孔４３０ａが設けられている。触媒供給孔４３０ａも、ガス供給孔４１０ａと同様に、下部から上部にわたってそれぞれ同一または、大きさに傾斜をつけた開口面積を有し、更に同じ開口ピッチで設けられている。
【００４８】
更に触媒供給管３３０にはキャリアガスを供給するためのキャリアガス供給管５３０が連結されている。キャリアガス供給管５３０にはマスフローコントローラ５３２及びバルブ５３４が設けられている。
【００４９】
上記構成に係る一例として、原料ガス供給管３１０には原料ガスの一例としてＳｉ原料（ＴＤＭＡＳ：トリスジメチルアミノシラン（ＴＤＭＡＳ、ＳｉＨ（Ｎ(ＣＨ３)２）３）、ＤＣＳ：ジクロロシラン（ＳｉＨ２Ｃｌ２）、ＨＣＤ：ヘキサクロロジシラン（Ｓｉ２Ｃｌ６）やトリクロロシラン（ＳｉＣｌ４）等）が導入される。原料ガス供給管３２０には酸化原料の一例としてＨ２ＯやＨ２Ｏ２等が導入される。触媒供給管３３０には触媒の一例としてピリジン（Ｃ５Ｈ５Ｎ）やピリミジン、キノリン等が導入される。
【００５０】
処理室２０１にはバルブ２４３ｅを介して処理室２０１内を排気するための排気管２３１が接続されている。排気管２３１には真空ポンプ２４６が接続されており、真空ポンプ２４６の作動で処理室２０１内を真空排気することができるようになっている。バルブ２４３ｅは開閉動作により処理室２０１の真空排気の起動とその停止とをすることができるのに加えて、その弁開度が調節可能であって処理室２０１の内部の圧力調整をも可能とする開閉弁である。
【００５１】
反応管２０３内の中央部にはボート２１７が設けられている。ボート２１７は、ボートエレベータ１１５により反応管２０３に対し昇降（出入り）することができるようになっている。ボート２１７を支持するボート支持台２１８の下端部には、処理の均一性を向上するためにボート２１７を回転させるボート回転機構２６７が設けられている。ボート回転機構２６７を駆動させることにより、ボート支持台２１８に支持されたボート２１７を回転させることができるようになっている。
【００５２】
以上のマスフローコントローラ３１２，３２２，３３２，５１２，５２２，５３２、バルブ３１４，３２４，３３４，５１４，５２４，５３４、バルブ２４３ｅ、ヒータ２０７、真空ポンプ２４６、ボート回転機構２６７、ボートエレベータ１１５等の各部材はコントローラ２８０に接続されている。コントローラ２８０は、基板処理装置１０１の全体の動作を制御する制御部の一例であって、マスフローコントローラ３１２，３２２，３３２，５１２，５２２，５３２の流量調整、バルブ３１４，３２４，３３４，５１４，５２４，５３４の開閉動作、バルブ２４３ｅの開閉及び圧力調整動作、ヒータ２０７の温度調整、真空ポンプ２４６の起動・停止、ボート回転機構２６７の回転速度調節、ボートエレベータ１１５の昇降動作等をそれぞれ制御するようになっている。
【００５３】
次に、半導体装置（半導体デバイス）の製造方法の一例として、大規模集積回路（Ｌａｒｇｅ  Ｓｃａｌｅ  Ｉｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ；ＬＳＩ）を製造する際に、本発明を適用する例について説明する。
【００５４】
ＬＳＩは、シリコンウエハ上に処理を施すウエハプロセスを行なった後、組立工程、試験工程、信頼性試験工程を経て製造される。ウエハプロセスは、シリコンウエハに酸化、拡散などの加工を施す基板工程と、その表面に配線を形成する配線工程とに区分され、リソグラフィ工程を中心に洗浄、熱処理、膜形成などが反復して行なわれる。リソグラフィ工程では、ホトレジストパターンを形成し、該パターンをマスクとしてエッチングを行なうことにより該パターンの下層を加工する。
【００５５】
ここで、図４を参照しながら、ウエハ２００上にホトレジストパターンを形成するプロセスシーケンスの一例について説明する。
【００５６】
プロセスシーケンスでは、ウエハ２００上に第１ホトレジストパターン６０３ａを形成する第１ホトレジストパターン形成工程と、第１ホトレジストパターン６０３ａ上に第１ホトレジスト保護膜として薄膜を形成する第１ホトレジスト保護膜形成工程と、薄膜上に第２ホトレジストパターン６０３ｂを形成する第２ホトレジストパターン工程とを、この順に実施する。  以下、各工程について説明する。
【００５７】
＜第１ホトレジストパターン形成工程＞
第１ホトレジストパターン形成工程では、ウエハ２００上に形成されたハードマスク６０１上に第１ホトレジストパターン６０３ａを形成する。
最初に、ウエハ２００上に形成されたハードマスク６０１上に、第１ホトレジスト溶剤６０２ａを塗布する（図４ａ）。次に、ベーキング、ＡｒＦエキシマ光源（１９３ｎｍ）やＫｒＦエキシマ光源（２４８ｎｍ）等の光源によるマスクパターン等を用いた選択的露光、現像等を行うことで、第１ホトレジストパターン６０３ａを形成する（図４ｂ）。
【００５８】
<第１ホトレジスト保護膜形成工程>
第１ホトレジスト保護膜形成工程では、第１ホトレジストパターン形成工程にて形成された第１ホトレジストパターン６０３ａ上及び第１ホトレジストパターン６０３ａが形成されていない部分に、薄膜を保護材として形成する。これにより、第１ホトレジストパターン６０３ａの形状変化や膜質変化を防止して後述の第２ホトレジスト溶剤６０２ｂから保護する。以下では、基板処理装置１０１を使用してＡＬＤ法により、保護膜としてのＳｉＯ２膜６０４を極低温にて成膜する例について説明する。
【００５９】
ＡＬＤ（Atomic Layer Deposition）法とは、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法の一つであり、ある成膜条件（温度、時間等）の下で、成膜に用いる少なくとも２種類の原料となる原料ガスを１種類ずつ交互に基板上に供給し、１原子単位で基板上に吸着させ、表面反応を利用して成膜を行う手法である。このとき、膜厚の制御は、原料ガスを供給するサイクル数で行う（例えば、成膜速度が１Å／サイクルとすると、２０Åの膜を形成する場合、２０サイクル行う）。
【００６０】
本実施例では、Ｓｉ原料ガスとしてＨＣＤを、酸化原料としてＨ２Ｏを、触媒としてピリジンを、キャリアガスとしてＮ２を、それぞれ用いた場合について図１、図２及び図５を使用して説明する。
【００６１】
成膜プロセスでは、コントローラ２８０が、基板処理装置１０１を下記の通りに制御する。すなわち、ヒータ２０７を制御して処理室２０１内をホトレジスト膜の変質温度より低い温度であって、例えば１５０℃以下、好ましくは１００℃以下、より好ましくは７５℃に保持する。その後、複数枚のウエハ２００をボート２１７に装填し、ボート２１７を処理室２０１に搬入する。その後、ボート２１７をボート駆動機構２６７により回転させ、ウエハ２００を回転させる。その後、真空ポンプ２４６を作動させるとともにバルブ２４３ｅを開いて処理室２０１内を真空引きし、ウエハ２００の温度が７５℃に達して温度等が安定したら、処理室２０１内の温度を７５℃に保持した状態で後述する４つのステップを順次実行する。
【００６２】
（ステップ１）
原料ガス供給管３１０にＨＣＤを、原料ガス供給管３２０にＨ２Ｏを、触媒供給管３３０に触媒を、キャリアガス供給管５１０，５２０，５３０にＮ２を導入（流入）させた状態で、バルブ３１４，３３４，５１４，５２４，５３４を適宜開く。但し、バルブ３２４は閉じたままである。
【００６３】
その結果、図５のように、ＨＣＤが、Ｎ２と混合されながら原料ガス供給管３１０を流通してノズル４１０に流出し、ガス供給孔４１０ａから処理室２０１に供給される。また、触媒も、Ｎ２と混合されながら触媒供給管３３０を流通してノズル４３０に流出し、触媒供給孔４３０ａから処理室２０１に供給される。さらに、Ｎ２がキャリアガス供給管５２０を流通してノズル４２０に流出し、ガス供給孔４２０ａから処理室２０１に供給される。処理室２０１に供給されたＨＣＤ，触媒はウエハ２００の表面上を通過して排気管２３１から排気される。
【００６４】
ステップ１では、バルブ３１４，３３４を制御して、ＨＣＤ，触媒を供給する時間を最適な時間（例えば１０秒）とする。さらに、ＨＣＤと触媒の供給量の比が一定の割合（例えば１：１）となるようバルブ３１４、３３４を制御する。同時に、バルブ２４３ｅを適正に調整して処理室２０１内の圧力を一定範囲内の最適な値（例えば３Ｔｏｒｒ）とする。以上のステップ１では、ＨＣＤ，触媒を処理室２０１内に供給することで、Ｓｉがウエハ２００上に形成された第１ホトレジストパターン６０３ａ及びハードマスク６０１上に吸着する。
【００６５】
（ステップ２）
バルブ３１４，３３４を閉じてＨＣＤ，触媒の供給を停止させるとともに、図５のように、Ｎ２をキャリアガス供給管５１０，５２０，５３０から処理室２０１に供給し続け、処理室２０１内をＮ２でパージする。パージ時間は例えば１５秒とする。また１５秒内にパージと真空引きの２工程があってもよい。その結果、処理室２０１内に残留したＨＣＤ，触媒が処理室２０１内から排除される。
【００６６】
（ステップ３）
バルブ５１４，５２４，５３４を開いたままで、バルブ３２４，３３４を適宜開く。バルブ３１４は閉じたままである。その結果、図５のように、Ｈ２Ｏが、Ｎ２と混合されながら原料ガス供給管３２０を流通してノズル４２０に流出し、ガス供給孔４２０ａから処理室２０１に供給される。また、触媒も、Ｎ２と混合されながら触媒供給管３３０を流通してノズル４３０に流出し、触媒供給孔４３０ａから処理室２０１に供給される。さらに、Ｎ２がキャリアガス供給管５１０を流通してノズル４１０に流出し、ガス供給孔４１０ａから処理室２０１に供給される。処理室２０１に供給されたＨ２Ｏ，触媒はウエハ２００の表面上を通過して排気管２３１から排気される。
【００６７】
ステップ３では、バルブ３２４，３３４を制御して、Ｈ２Ｏ，触媒を供給する時間を最適な時間（例えば２０秒）とする。さらに、Ｈ２Ｏと触媒の供給量の比が一定の割合（例えば１：１）となるようバルブ３１４、３３４を制御する。同時に、バルブ２４３ｅを適正に調整して処理室２０１内の圧力を一定範囲内の最適な値（例えば７Ｔｏｒｒ）とする。以上のステップ３では、Ｈ２Ｏ，触媒を処理室２０１内に供給することで、ＳｉＯ２膜がウエハ２００上に形成された第１ホトレジストパターン６０３ａ及びハードマスク６０１上に形成される。尚、Ｈ２Ｏ及び触媒の供給濃度は同じ濃度であるとより好ましい。
【００６８】
尚、ステップ３で供給する酸化原料（Ｈ２Ｏに相当する原料）として必要とされる特性は、その分子中に電気陰性度の高い原子を含んでおり、電気的に偏りを持つことである。その理由は、触媒の電気陰性度が高いため、原料ガスの活性化エネルギーを下げ反応を促進するからである。したがって、ステップ３で供給する原料ガスとしては、ＯＨ結合を有するＨ２ＯやＨ２Ｏ２等が適切であり、Ｏ２やＯ３のような無極性分子は不適切である。
【００６９】
（ステップ４）
バルブ３２４，３３４を閉じてＨ２Ｏ，触媒の供給を停止させるとともに、図５のように、Ｎ２をキャリアガス供給管５１０，５２０，５３０から処理室２０１に供給し続け、処理室２０１内をＮ２でパージする。パージ時間は例えば１５秒とする。また１５秒内にパージと真空引きの２工程があってもよい。その結果、処理室２０１内に残留したＨ２Ｏ，触媒が処理室２０１内から排除される。
【００７０】
以降、ステップ１〜４を１サイクルとしてこのサイクルを複数回繰り返し、ウエハ２００上に形成された第１ホトレジストパターン６０３ａ及びハードマスク６０１上に所定膜厚のＳｉＯ２膜を形成する。この場合、各サイクル中で、上記の通りに、ステップ１におけるＳｉ原料と触媒により構成される雰囲気と、ステップ３における酸化原料と触媒により構成される雰囲気の夫々の雰囲気が処理室２０１内で混合しないように成膜することに留意する。これにより、第１ホトレジストパターン６０３ａ及びハードマスク６０１上に、第１ホトレジスト保護膜としてのＳｉＯ２膜６０４が形成される（図４ｃ、図７）。
【００７１】
その後、処理室２０１内を真空引きして処理室２０１内に残留するＨＣＤ，Ｈ２Ｏ，触媒を排気し、バルブ２４３ｅを制御して処理室２０１内を大気圧とし、ボート２１７を処理室２０１から搬出する。これにより１回の成膜処理（バッチ処理）が終了する。
【００７２】
尚、ＳｉＯ２膜６０４の膜厚として、リソグラフィの限界解像性であるハーフピッチ（Ｈｐ）の５％程度が第１ホトレジスト保護膜として必要である。従って、例えばＨｐ３０ｎｍに対して、５−２５Åの膜厚があればよく、好適には１５Åである。
【００７３】
＜第２ホトレジストパターン形成工程＞
第２ホトレジストパターン形成工程では、第１ホトレジスト保護膜形成工程にて第１ホトレジスト上に形成されたＳｉＯ２膜６０４上であって、第１ホトレジストパターン６０３ａが形成される位置とは異なる位置に、第２ホトレジストパターン６０３ｂを形成する。
本工程では、第１ホトレジストパターン形成工程と同様の処理を行う。
最初に、第１ホトレジストの保護膜であるＳｉＯ２膜６０４上に、第２ホトレジスト溶剤６０２ｂを塗布する（図４ｄ）。次に、ベーキング、ＡｒＦエキシマ光源（１９３ｎｍ）やＫｒＦエキシマ光源（２４８ｎｍ）等による露光、現像等を行うことで、第２ホトレジストパターン６０３ｂを形成する（図４ｅ）。
【００７４】
上記のように、第１ホトレジストパターン形成工程、第１ホトレジスト保護膜形成工程、第２ホトレジストパターン形成工程を実施することにより、微細なホトレジストパターンを形成することが出来る。図６に、ＡＬＤ法によりＳｉＯ２膜を形成した際の図を示す。
【００７５】
尚、上記では、第1ホトレジストパターン６０３ａはウエハ２００上に形成されたハードマスク６０１上に形成することとしているが、ハードマスク６０１は無くても良い。
【００７６】
また、第２ホトレジストパターン形成後であって、所定の処理（例えば寸法検査、あわせ検査、リワーク処理等）を実施した後、必要に応じてＳｉＯ２膜６０４を除去するために、次のような第１ホトレジスト保護膜）除去工程を実施しても良い。
【００７７】
＜第１ホトレジスト保護膜除去工程＞
第１ホトレジスト保護膜除去工程では、第１ホトレジスト保護膜形成工程にて形成された第１ホトレジスト保護膜としてのＳｉＯ２膜６０４を除去する。
【００７８】
除去方式には、ウエットエッチング方式とドライエッチング方式の２つがある。ウエットエッチングによりＳｉＯ２膜６０４を除去する場合のエッチング液としては、例えば弗化水素酸（ＨＦ）液であって、希薄なHF水溶液等が挙げられる。尚、ＡＬＤ法により形成されたＳｉＯ２膜はウエットエッチングレートが速い。図７に、その特性として異なる方法により形成されたＳｉＯ２膜のエッチングレートをそれぞれ比較したものを示す。図７から、熱酸化膜のウエットエッチングレートを基準とした場合に、ＣＶＤ法により形成されたＳｉＯ２膜では５倍、ＡＬＤ法により形成されたＳｉＯ２膜では１５倍と、ＡＬＤ法により形成されたＳｉＯ２膜のウエットエッチングレートが速いことがわかる。
また、ドライエッチング方式によりＳｉＯ２膜６０４を除去する場合には、例えば、酸素プラズマ等を用いることができる。
【００７９】
また、上記では、ホトレジストパターンを２回形成する工程について説明したが、ホトレジストパターンは３回以上形成してもよく、その場合は、ホトレジストパターン形成工程とホトレジスト保護膜形成工程を所定回数繰り返して行う。
【００８０】
またホトレジストパターンを３回以上形成する場合、必要に応じて、第１ホトレジストパターン形成工程→第１ホトレジスト保護膜形成工程→第２ホトレジストパターン形成工程→第１ホトレジスト保護膜除去→第３ホトレジストパターン形成工程→第２ホトレジスト保護膜形成工程→第４ホトレジストパターン形成工程→第２ホトレジスト保護膜除去→第５ホトレジストパターン形成工程→・・・というように、保護膜を１回ずつ除去しても良い。
【００８１】
Ｓｉ原料として例えばトリスジメチルアミノシラン（ＴＤＭＡＳ、ＳｉＨ（Ｎ(ＣＨ３)２）３）、ジクロロシラン（ＳｉＨ２Ｃｌ２）、ヘキサクロロジシラン（Ｓｉ２Ｃｌ６）、トリクロロシラン（ＳｉＣｌ４）を使用し、酸化原料として例えば、Ｈ２Ｏ、Ｈ２Ｏ２、Ｏ２、Ｏ３等を使用し、ＡＬＤ法によりＳｉ原料と酸化原料を交互に供給し、その交互の供給を複数回繰り返すことで所望の膜厚のＳｉＯ２膜を形成することができる。これにより、低温で第１ホトレジスト保護材としてのＳｉＯ２膜６０４を形成することができる。
【００８２】
上述のように、第１ホトレジストパターンの表面に薄膜を成膜することにより、第１ホトレジストパターンを保護することができ、第２ホトレジスト溶剤を塗布する際に、第2ホトレジスト溶剤が第１ホトレジストパターンへ浸透することを防止できる。
【００８３】
また、上記のように第２ホトレジスト溶剤が第１ホトレジストパターンへ浸透することを防止できるため、第１ホトレジストパターンが形成されていない部分に第２ホトレジストパターンを形成することができ、第１のホトレジストパターンと第２のホトレジストパターンとの最小間隔が５０ｎｍ以下である微細なホトレジストパターンを形成することができる。
【００８４】
さらに、第１ホトレジストパターンの表面に薄膜を成膜することにより、第２ホトレジストパターン形成工程において、第1ホトレジストパターンの機械的強度を向上させることができる。
【００８５】
さらに、第１ホトレジスト保護膜として、例えば触媒を用いて成膜を行う極低温（触媒）ＳｉＯ２膜のように極低温にてプロセスを実施することが可能な薄膜を適用することにより、ホトレジストが変質する温度より低温で薄膜を形成することができるため、薄膜第１ホトレジスト保護膜形成工程において第1ホトレジストパターンの変質を防止することができる。
【００８６】
さらに、ＳｉＯ２膜はウエットエッチングレートが速いため、このＳｉＯ２膜を除去する必要がある場合に、容易に除去することが可能となる。
【００８７】
また、ホトレジスト処理では、通常、下層に対する位置あわせのズレや寸法のズレ等の不具合が発生することが多く、この場合、一旦形成したホトレジストパターンを酸素プラズマ等によるアッシング処理で除去し、ホトレジストパターン形成工程を初めからやり直すというリワーク処理（re-work）が行なわれるが、第２ホトレジストパターンのリワーク処理時に、第1ホトレジストパターンが酸素プラズマ等によりダメージを受けてしまうという問題があった。しかし上述のように、第1ホトレジストパターン上に酸素プラズマ等によるアッシング処理に耐えうるＳｉＯ２膜等の薄膜を成膜することにより、第２ホトレジストパターンのリワーク処理時に、第1ホトレジストパターンを保護することができる。
【００８８】
また、第２ホトレジストパターンを形成する際には、下層パターンとの位置あわせを行なうためのものであってウェハ上に形成されるアライメントマークを検出する必要がある。従って、第１ホトレジスト保護膜としての薄膜は透過性を有することが求められる。
【００８９】
尚、上述の実施の形態では、第１ホトレジスト保護膜として、ＡＬＤ法によりＳｉ原料、酸化原料、触媒を用いて形成する薄膜である極低温ＳｉＯ２膜について述べたが、第１ホトレジストパターンの変質を防止可能な温度で成膜可能であれば、これに限定されるものではなく、他の成膜方法及び他の膜種でも適用可能である。例えば、原料ガスに紫外光等を照射して所定の反応を誘起する成膜方法など光エネルギーを用いた成膜技術等でもよい。
【００９０】
さらに、上述の実施の形態では、第１ホトレジスト保護膜形成工程で薄膜を形成する際に、縦型基板処理装置の例を用いて説明したが、本発明は枚葉基板処理装置においても同様に適用可能である。
【００９１】
また、上述の実施の形態では、半導体製造装置の例として薄膜を形成する基板処理装置を用いて説明したが、半導体製造装置は基板処理装置の他にホトレジストパターンを形成するホトレジスト処理装置を備えていてもよい。これにより、ホトレジストパターンの形成及び薄膜形成を一貫処理することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】本発明の好ましい実施例に係る基板処理装置の概略的な構成を示す斜透視図である。
【図２】本発明の好ましい実施例で使用される縦型の処理炉とそれに付随する部材との概略構成図であり、特に処理炉部分を縦断面で示している。
【図３】図２のＡ−Ａ線断面図である。
【図４】本発明の好ましい実施例において、基板として使用されるウエハにホトレジストパターンが形成される様子を概略的に示す模式図である。
【図５】本発明の好ましい実施例において、ＡＬＤ法によりＳｉＯ２膜を形成する際の概略的な主要ガス供給シーケンスを示す図である。
【図６】本発明の好ましい実施例において、ＡＬＤ法によりＳｉＯ２膜を形成した際の図である。
【図７】本発明の好ましい実施例において、ＳｉＯ２膜のウエットエッチング特性を示す図である。
【符号の説明】
【００９３】
１０１  基板処理装置
１０５  カセット棚
１０７  予備カセット棚
１１０  カセット
１１１  筐体
１１４  カセットステージ
１１５  ボートエレベータ
１１８  カセット搬送装置
１１８ａ  カセットエレベータ
１１８ｂ  カセット搬送機構
１２３  移載棚
１２５  ウエハ移載機構
１２５ａ  ウエハ移載装置
１２５ｂ  ウエハ移載装置エレベータ
１２５ｃ  ツイーザ
１２８  アーム
１３４ａ，１３４ｂ  クリーンユニット
１４７  炉口シャッタ
２００  ウエハ
２０１  処理室
２０２  処理炉
２０３  反応管
２０７  ヒータ
２０９  マニホールド
２１０  底板
２１１  天板
２１２  支柱
２１７  ボート
２１８  ボート支持台
２１９  シールキャップ
２２０  Ｏリング
２３１  排気管
２４３ｅ  バルブ
２４６  真空ポンプ
２６７  ボート回転機構
２８０  コントローラ
３１０，３２０  原料ガス供給管
３３０  触媒供給管
３１２，３２２，３３２  マスフローコントローラ
３１４，３２４，３３４  バルブ
４１０，４２０，４３０  ノズル
４１０ａ，４２０ａ  ガス供給孔
４３０ａ  触媒供給孔
５１０，５２０，５３０  キャリアガス供給管
５１２，５２２，５３２  マスフローコントローラ
５１４，５２４，５３４  バルブ
６０１：ハードマスク（HM）
６０２ａ：第１ホトレジスト溶剤
６０２ｂ：第２ホトレジスト溶剤
６０３ａ：第１ホトレジストパターン
６０３ｂ：第１ホトレジストパターン
６０４：ＳｉＯ２膜
【図１】
0005384852.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
0005384852.tif 000007
【図７】
0005384852.tif 000008