(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基板上に少なくとも陽極、陰極を有し、該陽極と該陰極間に少なくとも１層の反応性有機化合物を含有する有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、
該反応性有機化合物が重合性モノマーであり、反応により架橋構造が形成され、０．０１ｍＡ／ｃｍ2〜１００００ｍＡ／ｃｍ2の電流密度の通電により発光輝度が初期輝度の９０％まで低下した時点で、該有機層中の該反応性有機化合物の濃度が通電前の濃度に対して低下し、かつ該発光輝度が初期輝度の９０％まで低下した時点における該有機層のガラス転移点Ｔｇ（９０％）と、通電開始前のガラス転移点Ｔｇ（初期）とが、下記式（２）を満たすことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
式（２）
１．０３≦（Ｔｇ（９０％）／Ｔｇ（初期））≦１．２０
【請求項２】
前記発光輝度が初期輝度の５０％まで低下した時点における前記有機層のガラス転移点Ｔｇ（５０％）と、通電開始前のガラス転移点Ｔｇ（初期）とが、下記式（３）を満たすことを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
式（３）
１．０４≦（Ｔｇ（５０％）／Ｔｇ（初期））≦１．２０
【請求項３】
前記Ｔｇ（９０％）と前記Ｔｇ（５０％）が、下記式（４）を満たすことを特徴とする請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
式（４）
１．００＜（Ｔｇ（５０％）／Ｔｇ（９０％））≦１．０５
【請求項４】
前記電流密度が０．０１ｍＡ／ｃｍ2〜１０００ｍＡ／ｃｍ2であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項５】
前記反応性有機化合物が複数の反応性置換基を有することを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項６】
前記反応性置換基が下記部分構造のいずれかを含むことを特徴とする請求項５に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【化１】
0005463668.tif 000036
【請求項７】
前記有機層の少なくとも１層がリン光発光性化合物を含有することを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項８】
前記発光輝度が初期輝度の９０％まで低下した時点で、前記反応性有機化合物の濃度（Ｍ９０）が、０．１ｍｏｌ／ｍ3〜１０ｍｏｌ／ｍ3であることを特徴とする請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項９】
前記発光輝度が初期輝度の７０％まで低下した時点での、前記反応性有機化合物の濃度（Ｍ７０）と、前記発光輝度が初期輝度の９０％まで低下した時点での前記反応性有機化合物の濃度（Ｍ９０）との比△Ｍ（Ｍ７０／Ｍ９０）が下記式（１）を満たすことを特徴とする請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
式（１）
０．１≦△Ｍ＜１．０
【請求項１０】
請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を具備することを特徴とする照明装置。
【請求項１１】
請求項１〜請求項１０のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を具備することを特徴とするディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子、照明装置及びディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、発光型の電子ディスプレイデバイスとして、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）がある。ＥＬＤの構成要素としては、無機エレクトロルミネッセンス素子や有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子ともいう）が挙げられる。無機エレクトロルミネッセンス素子は平面型光源として使用されてきたが、発光素子を駆動させるためには交流の高電圧が必要である。【０００３】
一方、有機ＥＬ素子は、発光する化合物を含有する発光層を陰極と陽極で挟んだ構成を有し、発光層に電子及び正孔を注入して、再結合させることにより励起子（エキシトン）を生成させ、このエキシトンが失活する際の光の放出（蛍光・燐光）を利用して発光する素子であり、数Ｖ〜数十Ｖ程度の電圧で発光が可能であり、更に自己発光型であるために視野角に富み、視認性が高く、薄膜型の完全固体素子であるために省スペース、携帯性等の観点から注目されている。【０００４】
今後の実用化に向けた有機ＥＬ素子の開発としては、更に低消費電力で、効率よく高輝度に発光する有機ＥＬ素子が望まれているわけであり、例えば、特許第３０９３７９６号公報には、スチルベン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体またはトリススチリルアリーレン誘導体に、微量の蛍光体をドープし、発光輝度の向上、素子の長寿命化を達成する技術が開示され、特開昭６３−２６４６９２号公報には、８−ヒドロキシキノリンアルミニウム錯体をホスト化合物として、これに微量の蛍光体をドープした有機発光層を有する素子が開示されており、特開平３−２５５１９０号公報には、８−ヒドロキシキノリンアルミニウム錯体をホスト化合物として、これにキナクリドン系色素をドープした有機発光層を有する素子等が知られている。【０００５】
上記特許文献に開示されている技術では、励起一重項からの発光を用いる場合、一重項励起子と三重項励起子の生成比が１：３であるため発光性励起種の生成確率が２５％であることと、光の取り出し効率が約２０％であるため、外部取り出し量子効率（ηｅｘｔ）の限界は５％とされている。【０００６】
ところが、Ｍ．Ａ．Ｂａｌｄｏ  ｅｔ  ａｌ．，ｎａｔｕｒｅ、３９５巻、１５１〜１５４ページ（１９９８年）により、プリンストン大より、励起三重項からのリン光発光を用いる有機ＥＬ素子の報告がされて以来、Ｍ．Ａ．Ｂａｌｄｏ  ｅｔ  ａｌ．，ｎａｔｕｒｅ、４０３巻、１７号、７５０〜７５３ページ（２０００年）、米国特許第６，０９７，１４７号明細書により、室温で燐光を示す材料の研究が活発になってきている。【０００７】
更に、最近発見されたリン光発光を利用する有機ＥＬ素子では、以前の蛍光発光を利用する素子に比べ原理的に約４倍の発光効率が実現可能であることから、その材料開発を初めとし、発光素子の層構成や電極の研究開発が世界中で行われている。例えば、Ｓ．Ｌａｍａｎｓｋｙ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２３巻、４３０４ページ（２００１年）には、多くの化合物がイリジウム錯体系等重金属錯体を中心に合成検討がなされている。【０００８】
また、有機ＥＬ素子は、電極と電極の間を厚さわずか０．１μｍ程度の有機材料の膜で構成するオールソリッド素子であり、なおかつその発光が２Ｖ〜２０Ｖ程度の比較的低い電圧で達成できることから、次世代の平面ディスプレイや照明として期待されている技術である。【０００９】
しかしながら、有機ＥＬ素子は、その発光機構が有機材料の励起状態から基底状態への失活を利用した発光現象をもとにするものであることから、青色や青緑色等の波長が短い領域を発光させるには、バンドギャップを大きくする必要があり、従ってその大きなギャップを励起させるために高い電圧が必要になる。【００１０】
更に、励起状態自体が高いレベルに位置することから基底状態に戻る際のダメージが大きく、緑色や赤色の発光に比べ寿命が短くなる傾向にあり、特に三重項励起状態からの発光を利用するリン光発光ではその傾向が顕著となる。【００１１】
上記のような問題点を解決する手段としては、種々の技術があるが、例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子の構成層を製膜した後に、高分子量化するという技術があり、分子内にビニル基を２つ有する２官能性のトリフェニルアミン誘導体が記載されており、その化合物を製膜した後に紫外線照射により３次元架橋されたポリマーを形成する（例えば、特許文献１参照。）、２つ以上のビニル基を有する材料を複数の層に添加する技術が開示され、重合反応は、陰極を積層する前の有機層製膜時点で紫外線や熱の照射で行う方法（例えば、特許文献２参照。）、リン光ドーパントの末端にビニル基を有する材料と同様にビニル基を有するコモノマーの混合物にラジカル発生剤であるＡＩＢＮ（アゾイソブチロニトリル）を添加して製膜時に重合反応を進行させる製造方法（例えば、特許文献３参照。）、同一層内の２分子間でディールスアルダー反応を起こさせて架橋させる製造方法（例えば、特許文献４参照。）等が挙げられる。【００１２】
上記の技術は、いずれも製膜時または製膜直後（陰極を付ける前）に重合反応を完結させる方法であるが、有機ＥＬ素子の耐久性向上という実用上の観点からは、まだ、不十分であり、更なる素子の耐久性向上技術が求められている。
【特許文献１】特開平５−２７１１６６号公報
【特許文献２】特開２００１−２９７８８２号公報
【特許文献３】特開２００３−７３６６６号公報
【特許文献４】特開２００３−８６３７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、その目的は
本発明の目的は、高い発光効率を示し、且つ、長寿命である有機ＥＬ素子、照明装置およびディスプレイ装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の上記目的は、下記構成により達成された。【００１５】
１．支持基板上に少なくとも陽極、陰極を有し、該陽極と該陰極間に少なくとも１層の反応性有機化合物を含有する有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、
該反応性有機化合物が重合性モノマーであり、反応により架橋構造が形成され、０．０１ｍＡ／ｃｍ2〜１００００ｍＡ／ｃｍ2の電流密度の通電により発光輝度が初期輝度の９０％まで低下した時点で、該有機層中の該反応性有機化合物の濃度が通電前の濃度に対して低下し、かつ該発光輝度が初期輝度の９０％まで低下した時点における該有機層のガラス転移点Ｔｇ（９０％）と、通電開始前のガラス転移点Ｔｇ（初期）とが、下記式（２）を満たすことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
式（２）
１．０３≦（Ｔｇ（９０％）／Ｔｇ（初期））≦１．２０
２．前記発光輝度が初期輝度の５０％まで低下した時点における前記有機層のガラス転移点Ｔｇ（５０％）と、通電開始前のガラス転移点Ｔｇ（初期）とが、下記式（３）を満たすことを特徴とする前記１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
式（３）
１．０４≦（Ｔｇ（５０％）／Ｔｇ（初期））≦１．２０
３．前記Ｔｇ（９０％）と前記Ｔｇ（５０％）が、下記式（４）を満たすことを特徴とする前記２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
式（４）
１．００＜（Ｔｇ（５０％）／Ｔｇ（９０％））≦１．０５
【００１６】
４．前記電流密度が０．０１ｍＡ／ｃｍ2〜１０００ｍＡ／ｃｍ2であることを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００１８】
５．前記反応性有機化合物が複数の反応性置換基を有することを特徴とする前記１〜４のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子
【００２０】
６．前記反応性置換基が下記部分構造のいずれかを含むことを特徴とする前記５に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００２１】
【化１】
0005463668.tif 000002
【００２２】
７．前記有機層の少なくとも１層がリン光発光性化合物を含有することを特徴とする前記１〜６のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００２４】
８．前記発光輝度が初期輝度の９０％まで低下した時点で、前記反応性有機化合物の濃度（Ｍ９０）が、０．１ｍｏｌ／ｍ3〜１０ｍｏｌ／ｍ3であることを特徴とする前記１〜７のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００２５】
９．前記発光輝度が初期輝度の７０％まで低下した時点での、前記反応性有機化合物の濃度（Ｍ７０）と、前記発光輝度が初期輝度の９０％まで低下した時点での前記反応性有機化合物の濃度（Ｍ９０）との比△Ｍ（Ｍ７０／Ｍ９０）が下記式（１）を満たすことを特徴とする前記１〜８のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００２６】
式（１）
０．１≦△Ｍ＜１．０
【００２９】
１０．前記１〜９のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を具備することを特徴とする照明装置。
【００３０】
１１．前記１〜９のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を具備することを特徴とするディスプレイ装置。
【発明の効果】
【００３１】
本発明により、高い発光効率を示し、且つ、長寿命である有機ＥＬ素子、照明装置およびディスプレイ装置を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】有機ＥＬフルカラー表示装置の概略構成図を示す。
【符号の説明】
【００３３】
１０１  ガラス基板
１０２  ＩＴＯ透明電極
１０３  隔壁
１０４  正孔注入層
１０５Ｂ，１０５Ｇ，１０５Ｒ  発光層
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子ともいう）においては、請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の構成を有することにより、外部量子効率が高く、且つ、素子寿命の長い（堅牢性向上）有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）を得ることが出来た。また、前記有機ＥＬ素子を具備した、高輝度のディスプレイ装置、照明装置を得ることにも併せて成功した。
【００３５】
以下、本発明に係る各構成要素の詳細について、順次説明する。【００３６】
《反応性有機化合物を含有する有機層》
本発明に係る、反応性有機化合物を含有する有機層について説明する。【００３７】
本発明の有機ＥＬ素子は、少なくとも１層の反応性有機化合物を含有する有機層を有するが、該素子としては、その他の有機層を構成層として有してよく、また、有機層の作製は、詳細は後述するが、従来公知の塗布方法を用いてもよく、蒸着法等の方法で作製してもよく、更には、塗布方法と蒸着方法が混在した手法で構成層が形成されてもよい。【００３８】
本発明者等は、上記のような従来公知の有機ＥＬ素子の問題点を種々開発、検討する中で、下記のような発見をした。【００３９】
ここでは、一例として、塗布による有機層の形成工程をとりあげ、本発明者等が本願発明に至った経緯を説明する。【００４０】
本発明者等は、硬化と塗布を繰返す塗布工程を検討している中で、塗設した層中（膜中ともいう）に意識的に反応性有機化合物（未反応のモノマー、反応性の基を有する化合物等ともいう）を残した（残留したともいう）素子を作製し、前記化合物の残留と素子性能との関連について検討した。【００４１】
その結果、有機層中に反応性有機化合物が残留していると、素子に通電することにより、該反応性有機化合物の濃度が低下することにより、本発明者等の望むべき方向に素子性能を制御できる可能性があることがわかった。【００４２】
具体的には、本発明に係る反応性有機化合物は、未反応の重合性モノマーであり、反応により架橋構造が形成されることを特徴とし、素子の使用中に発生する活性ラジカル等により重合反応を進行させ、有機分子によるネットワークポリマーを形成させ、構成層のＴｇ（ガラス転移点）調整による素子劣化の抑制等の効果が得られることがわかった。
【００４３】
また、素子使用中の活性ラジカルを用いて分子の共役系の切断または生成を伴う反応を調整することにより、有機ＥＬ素子の発光波長を変えたり、特定波長の劣化を抑制すること等も可能になることがわかった。【００４４】
本発明に係る反応性有機化合物としては、有機ＥＬ素子の構成層（後に詳細に説明する）に含まれる機能性化合物の全てが反応性化合物の母核として適用可能である。例えば、後述する発光層中のホスト化合物や、発光ドーパント等や、正孔輸送材料、電子輸送材料等を母核として有し、該母核に反応性置換基が置換したような化合物が使用可能である。【００４５】
上記の反応性置換基としては、例えば、以下に示す部分構造を含むことが好ましい。【００４６】
【化２】
0005463668.tif 000003
【００４７】
一方、製造面では、例えば、塗布で積層する工程の場合では、下層が上層の塗布液に溶解しないことが好ましく、下層を樹脂化し溶剤溶解性を劣化させることで、上層塗布を可能とすることができる。従来公知の技術では、前記下層を完全に樹脂化してしまい、本願発明のように、反応性有機化合物を下層に残留させることにより、上記のような、素子の機能向上に著しい効果が得られるということは、予想できない発見であり、また、素子の機能上の効果のみならず、反応性化合物が残留した状態がむしろ好ましいので、従来の製造工程とくらべて、素子の製造工程を簡略化できるという工程上のメリットもあることが併せて判明した。【００４８】
《通電により有機層中の反応性有機化合物の濃度が低下する》
本発明に係る、少なくとも１層の反応性有機化合物を含有する有機層（有機化合物層ともいう）中においては、本発明の有機ＥＬ素子の通電開始により、有機層中における反応性有機化合物の濃度が低下することが特徴であり、ここで、『反応性有機化合物の濃度が低下する』とは、素子に通電することにより、反応（架橋反応、重合反応等が挙げられる）が進行することにより、前記反応性有機化合物の濃度が低下することを表す。【００４９】
《反応性有機化合物が濃度の低下を分析する手段》
本発明に係る反応性有機化合物の有機層中での濃度低下を分析する手段について説明する。【００５０】
有機層中での反応性有機化合物の濃度低下を分析する手段としては、反応性有機化合物を含有する有機層の深さ方向の分析を行うことにより、通電による濃度低下を分析することが出来る。【００５１】
例えば、有機層の深さ方向の反応性有機化合物として、ビニル基置換のモノマーをとりあげて説明すると、ビニル基の２重結合の分布を以下の様な分析手法で測定することによって層中の濃度分析することが出来る。【００５２】
まず、一般的な微小領域分析手法にて分析が可能な程度の分析面積を確保する必要があるが、そのためには薄膜を斜めに切削するのが有効な手段である。斜めに切削することで表面に垂直に断面を作製した場合と比較して、１／ｃｏｓθ（θは表面法線から切削面の角度を引いた値）だけ面積が拡大される。【００５３】
一例を挙げれば当業界で一般的に用いられているウルトラミクロトームを用いてガラスナイフの刃を傾けて切削する方法やダイプラウインテス社製サイカスＮＮ０４型を用いて斜めに切削した面を作製する方法を挙げることができる。【００５４】
分析面積が確保出来た後に、２重結合の分布を計測することとなるが、２重結合の分布を計測する手段はいくつか考えられる。例えば、顕微赤外分光分析やラマン分光分析あるいは２重結合に特異的に反応し、かつ特異な元素を有する標識試薬にて２重結合を標識化し、電子線プローブマイクロアナライザー、Ｘ線光電子分光装置、オージェ電子分光装置、飛行時間型二次イオン質量分析装置などで標識元素の分布を計測する方法等が好ましい分析手段として挙げられる。【００５５】
有機ＥＬ素子に通電を行った際の、反応性有機化合物の有機層中での濃度低下の具体的な分析例は、後述する実施例において説明する。【００５６】
《ホスト化合物として適用可能な反応性有機化合物》
本発明に係る反応性有機化合物の中で、ホスト化合物として用いられる化合物について説明する。【００５７】
ホスト化合物として用いることのできる反応性有機化合物は、下記一般式（１）で表される。【００５８】
一般式（１）
Ａ−Ｂ
式中、Ｂは、前記の反応性置換基を表し、Ａは、ホスト化合物としての機能を有する部分構造を表す。【００５９】
本発明においては、前記Ａとしては、下記一般式（１ａ）または一般式（１ｂ）で表される部分構造を有することが好ましい。更に、前記一般式（１ａ）で表される部分構造としては、下記一般式（１ｃ）で表される部分構造が好ましく用いられる。【００６０】
【化３】
0005463668.tif 000004
【００６１】
式中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３は、各々芳香族炭化水素環または芳香族複素環を表し、Ｘは、ＮＲ’、Ｏ、Ｓ、ＣＲ’Ｒ”またはＳｉＲ’Ｒ”を表す。Ｒ’、Ｒ”は、各々水素原子または置換基を表す。【００６２】
一般式（１ａ）、一般式（１ｂ）、一般式（１ｃ）において、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３で各々表される芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、アズレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環、クリセン環、ナフタセン環、トリフェニレン環、ｏ−テルフェニル環、ｍ−テルフェニル環、ｐ−テルフェニル環、アセナフテン環、コロネン環、フルオレン環、フルオラントレン環、ナフタセン環、ペンタセン環、ペリレン環、ペンタフェン環、ピセン環、ピレン環、ピラントレン環、アンスラアントレン環等が挙げられる。これらの環は更に、後述するＲ’、Ｒ”で表される置換基を有していてもよい。【００６３】
一般式（１ａ）、一般式（１ｂ）、一般式（１ｃ）において、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３で各々表される芳香族複素環としては、例えば、フラン環、ジベンゾフラン環、チオフェン環、オキサゾール環、ピロール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、ベンゾイミダゾール環、オキサジアゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、インドール環、インダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、カルバゾール環、カルボリン環、ジアザカルバゾール環（カルボリン環を構成する炭化水素環の炭素原子の一つが更に窒素原子で置換されている環を示す）等が挙げられる。これらの環は更に後述するＲ’、Ｒ”で表される置換基を有していてもよい。【００６４】
一般式（１ｂ）のＸにおいて、Ｒ’、Ｒ”で、各々表される置換基としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基、１−プロペニル基、２−ブテニル基、１，３−ブタジエニル基、２−ペンテニル基、イソプロペニル基等）、アルキニル基（例えば、エチニル基、プロパルギル基等）、芳香族炭化水素基（芳香族炭素環基、アリール基等ともいい、例えば、フェニル基、ｐ−クロロフェニル基、メシチル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、フェナントリル基、インデニル基、ピレニル基、ビフェニリル基等）、芳香族複素環基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、キナゾリニル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、ジアザカルバゾリル基（前記カルボリニル基のカルボリン環を構成する任意の炭素原子の一つが窒素原子で置き換わったものを示す）、フタラジニル基等）、複素環基（例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等）、シクロアルコキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等）、シクロアルキルチオ基（例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等）、アミド基（例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、２−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、スルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、２−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、２−ピリジルスルフィニル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等）、アリールスルホニル基またはヘテロアリールスルホニル基（例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、フッ化炭化水素基（例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基（例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等）、ホスホノ基等が挙げられる。【００６５】
これらの置換基は、上記の置換基によってさらに置換されていてもよい。また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。【００６６】
以下、ホスト化合物として適用可能な反応性有機化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。【００６７】
【化４】
0005463668.tif 000005
【００６８】
【化５】
0005463668.tif 000006
【００６９】
【化６】
0005463668.tif 000007
【００７０】
【化７】
0005463668.tif 000008
【００７１】
（ホスト化合物以外の反応性有機化合物の具体例）
また、上記のホスト化合物以外の反応性有機化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。【００７２】
【化８】
0005463668.tif 000009
【００７３】
【化９】
0005463668.tif 000010
【００７４】
【化１０】
0005463668.tif 000011
【００７５】
【化１１】
0005463668.tif 000012
【００７６】
【化１２】
0005463668.tif 000013
【００７７】
【化１３】
0005463668.tif 000014
【００７８】
【化１４】
0005463668.tif 000015
【００７９】
【化１５】
0005463668.tif 000016
【００８０】
【化１６】
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【００８１】
【化１７】
0005463668.tif 000018
【００８２】
《有機ＥＬ素子の構成層》
本発明の有機ＥＬ素子の構成層について説明する。本発明において、有機ＥＬ素子の層構成の好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。【００８３】
（ｉ）陽極／発光層／電子輸送層／陰極
（ii）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
（iii）陽極／正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極
（iv）陽極／正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極バッファー層／陰極
（ｖ）陽極／陽極バッファー層／正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極バッファー層／陰極
本発明の有機ＥＬ素子においては、青色発光層の発光極大波長は４３０ｎｍ〜４８０ｎｍにあるものが好ましく、緑色発光層は発光極大波長が５１０ｎｍ〜５５０ｎｍ、赤色発光層は発光極大波長が６００ｎｍ〜６４０ｎｍの範囲にある単色発光層であることが好ましく、これらを用いた表示装置であることが好ましい。また、これらの少なくとも３層の発光層を積層して白色発光層としたものであってもよい。更に、発光層間には非発光性の中間層を有していてもよい。本発明の有機ＥＬ素子としては白色発光層であることが好ましく、これらを用いた照明装置であることが好ましい。【００８４】
本発明の有機ＥＬ素子を構成する各層について説明する。【００８５】
《発光層》
本発明に係る発光層は、電極または電子輸送層、正孔輸送層から注入されてくる電子及び正孔が再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接層との界面であってもよい。【００８６】
発光層の膜厚の総和は特に制限はないが、膜の均質性や、発光時に不必要な高電圧を印加するのを防止し、かつ、駆動電流に対する発光色の安定性向上の観点から、２ｎｍ〜５μｍの範囲に調整することが好ましく、さらに好ましくは２ｎｍ〜２００ｎｍの範囲に調整され、特に好ましくは、１０ｎｍ〜２０ｎｍの範囲である。【００８７】
発光層の作製には、後述する発光ドーパントやホスト化合物を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法、インクジェット法等の公知の薄膜化法により製膜して形成することができる。【００８８】
本発明の有機ＥＬ素子の発光層には、発光ホスト化合物と、発光ドーパント（リン光ドーパント（リン光発光性ドーパントともいう）や蛍光ドーパント等）の少なくとも１種類とを含有することが好ましい。【００８９】
（ホスト化合物（発光ホスト等ともいう））
本発明に用いられるホスト化合物について説明する。【００９０】
ここで、本発明においてホスト化合物とは、発光層に含有される化合物の内でその層中での質量比が２０％以上であり、且つ室温（２５℃）においてリン光発光のリン光量子収率が、０．１未満の化合物と定義される。好ましくはリン光量子収率が０．０１未満である。また、発光層に含有される化合物の中で、その層中での質量比が２０％以上であることが好ましい。【００９１】
ホスト化合物としては、公知のホスト化合物を単独で用いてもよく、または複数種併用して用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機ＥＬ素子を高効率化することができる。また、後述する発光ドーパントを複数種用いることで、異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることができる。【００９２】
また、本発明に用いられる発光ホストとしては、従来公知の低分子化合物でも、繰り返し単位をもつ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物（蒸着重合性発光ホスト）でも良い。【００９３】
併用してもよい公知のホスト化合物としては、正孔輸送能、電子輸送能を有しつつ、且つ発光の長波長化を防ぎ、なお且つ高Ｔｇ（ガラス転移温度）である化合物が好ましい。【００９４】
公知のホスト化合物の具体例としては、以下の文献に記載されている化合物が挙げられる。【００９５】
特開２００１−２５７０７６号公報、同２００２−３０８８５５号公報、同２００１−３１３１７９号公報、同２００２−３１９４９１号公報、同２００１−３５７９７７号公報、同２００２−３３４７８６号公報、同２００２−８８６０号公報、同２００２−３３４７８７号公報、同２００２−１５８７１号公報、同２００２−３３４７８８号公報、同２００２−４３０５６号公報、同２００２−３３４７８９号公報、同２００２−７５６４５号公報、同２００２−３３８５７９号公報、同２００２−１０５４４５号公報、同２００２−３４３５６８号公報、同２００２−１４１１７３号公報、同２００２−３５２９５７号公報、同２００２−２０３６８３号公報、同２００２−３６３２２７号公報、同２００２−２３１４５３号公報、同２００３−３１６５号公報、同２００２−２３４８８８号公報、同２００３−２７０４８号公報、同２００２−２５５９３４号公報、同２００２−２６０８６１号公報、同２００２−２８０１８３号公報、同２００２−２９９０６０号公報、同２００２−３０２５１６号公報、同２００２−３０５０８３号公報、同２００２−３０５０８４号公報、同２００２−３０８８３７号公報等。【００９６】
（発光ドーパント）
本発明に係る発光ドーパントについて説明する。【００９７】
本発明に係る発光ドーパントとしては、蛍光ドーパント（蛍光性化合物ともいう）、リン光ドーパント（リン光発光体、リン光性化合物、リン光発光性化合物等ともいう）を用いることができるが、より発光効率の高い有機ＥＬ素子を得る観点からは、本発明の有機ＥＬ素子の発光層や発光ユニットに使用される発光ドーパント（単に、発光材料ということもある）としては、上記のホスト化合物を含有すると同時に、リン光ドーパントを含有することが好ましい。【００９８】
（リン光ドーパント）
本発明に係るリン光ドーパントについて説明する。【００９９】
本発明に係るリン光ドーパントは、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には、室温（２５℃）にてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が、２５℃において０．０１以上の化合物であると定義されるが、好ましいリン光量子収率は０．１以上である。【０１００】
上記リン光量子収率は、第４版実験化学講座７の分光IIの３９８頁（１９９２年版、丸善）に記載の方法により測定できる。溶液中でのリン光量子収率は種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明に係るリン光ドーパントは、任意の溶媒のいずれかにおいて上記リン光量子収率（０．０１以上）が達成されればよい。【０１０１】
リン光ドーパントの発光は原理としては２種挙げられ、一つはキャリアが輸送されるホスト化合物上でキャリアの再結合が起こってホスト化合物の励起状態が生成し、このエネルギーをリン光ドーパントに移動させることでリン光ドーパントからの発光を得るというエネルギー移動型、もう一つはリン光ドーパントがキャリアトラップとなり、リン光ドーパント上でキャリアの再結合が起こりリン光ドーパントからの発光が得られるというキャリアトラップ型であるが、いずれの場合においても、リン光ドーパントの励起状態のエネルギーはホスト化合物の励起状態のエネルギーよりも低いことが条件である。【０１０２】
リン光ドーパントは、有機ＥＬ素子の発光層に使用される公知のものの中から適宜選択して用いることができる。【０１０３】
本発明に係るリン光ドーパントとしては、好ましくは元素の周期表で８〜１０族の金属を含有する錯体系化合物であり、さらに好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物、または白金化合物（白金錯体系化合物）、希土類錯体であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。【０１０４】
以下に、リン光ドーパントとして用いられる化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。これらの化合物は、例えば、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４０巻、１７０４〜１７１１に記載の方法等により合成できる。【０１０５】
【化１８】
0005463668.tif 000019
【０１０６】
【化１９】
0005463668.tif 000020
【０１０７】
【化２０】
0005463668.tif 000021
【０１０８】
【化２１】
0005463668.tif 000022
【０１０９】
【化２２】
0005463668.tif 000023
【０１１０】
【化２３】
0005463668.tif 000024
【０１１１】
【化２４】
0005463668.tif 000025
【０１１２】
（蛍光ドーパント（蛍光性化合物ともいう））
蛍光ドーパント（蛍光性化合物）としては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素、または希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。【０１１３】
次に、本発明の有機ＥＬ素子の構成層として用いられる、注入層、阻止層、電子輸送層等について説明する。【０１１４】
《注入層：電子注入層、正孔注入層》
注入層は必要に応じて設け、電子注入層と正孔注入層があり、上記の如く陽極と発光層または正孔輸送層の間、及び陰極と発光層または電子輸送層との間に存在させてもよい。【０１１５】
注入層とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と有機層間に設けられる層のことで、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）に詳細に記載されており、正孔注入層（陽極バッファー層）と電子注入層（陰極バッファー層）とがある。【０１１６】
陽極バッファー層（正孔注入層）は、特開平９−４５４７９号公報、同９−２６００６２号公報、同８−２８８０６９号公報等にもその詳細が記載されており、具体例として、銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニンバッファー層、酸化バナジウムに代表される酸化物バッファー層、アモルファスカーボンバッファー層、ポリアニリン（エメラルディン）やポリチオフェン等の導電性高分子を用いた高分子バッファー層等が挙げられる。【０１１７】
陰極バッファー層（電子注入層）は、特開平６−３２５８７１号公報、同９−１７５７４号公報、同１０−７４５８６号公報等にもその詳細が記載されており、具体的にはストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属バッファー層、フッ化リチウムに代表されるアルカリ金属化合物バッファー層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物バッファー層、酸化アルミニウムに代表される酸化物バッファー層等が挙げられる。上記バッファー層（注入層）はごく薄い膜であることが望ましく、素材にもよるがその膜厚は０．１ｎｍ〜５μｍの範囲が好ましい。【０１１８】
《阻止層：正孔阻止層、電子阻止層》
阻止層は、上記の如く有機化合物薄膜の基本構成層の他に必要に応じて設けられるものである。例えば、特開平１１−２０４２５８号公報、同１１−２０４３５９号公報、及び「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の２３７頁等に記載されている正孔阻止（ホールブロック）層がある。【０１１９】
正孔阻止層とは広い意味では電子輸送層の機能を有し、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、後述する電子輸送層の構成を必要に応じて、本発明に係わる正孔阻止層として用いることができる。【０１２０】
本発明の有機ＥＬ素子の正孔阻止層は、発光層に隣接して設けられていることが好ましい。【０１２１】
正孔阻止層には、前述のホスト化合物として挙げたアザカルバゾール誘導体を含有することが好ましい。【０１２２】
また、本発明においては、複数の発光色の異なる複数の発光層を有する場合、その発光極大波長が最も短波にある発光層が、全発光層中、最も陽極に近いことが好ましいが、このような場合、該最短波層と該層の次に陽極に近い発光層との間に正孔阻止層を追加して設けることが好ましい。更には、該位置に設けられる正孔阻止層に含有される化合物の５０質量％以上が、前記最短波発光層のホスト化合物に対しそのイオン化ポテンシャルが０．３ｅＶ以上大きいことが好ましい。【０１２３】
イオン化ポテンシャルは化合物のＨＯＭＯ（最高被占分子軌道）レベルにある電子を真空準位に放出するのに必要なエネルギーで定義され、例えば下記に示すような方法により求めることができる。【０１２４】
（１）米国Ｇａｕｓｓｉａｎ社製の分子軌道計算用ソフトウェアであるＧａｕｓｓｉａｎ９８（Ｇａｕｓｓｉａｎ９８、Ｒｅｖｉｓｉｏｎ  Ａ．１１．４，Ｍ．Ｊ．Ｆｒｉｓｃｈ，ｅｔ  ａｌ，Ｇａｕｓｓｉａｎ，Ｉｎｃ．，Ｐｉｔｔｓｂｕｒｇｈ  ＰＡ，２００２．）を用い、キーワードとしてＢ３ＬＹＰ／６−３１Ｇ＊を用いて構造最適化を行うことにより算出した値（ｅＶ単位換算値）の小数点第２位を四捨五入した値としてイオン化ポテンシャルを求めることができる。この計算値が有効な背景には、この手法で求めた計算値と実験値の相関が高いためである。【０１２５】
（２）イオン化ポテンシャルは光電子分光法で直接測定する方法により求めることもできる。例えば、理研計器社製の低エネルギー電子分光装置「Ｍｏｄｅｌ  ＡＣ−１」を用いて、あるいは紫外光電子分光として知られている方法を好適に用いることができる。【０１２６】
一方、電子阻止層とは広い意味では正孔輸送層の機能を有し、正孔を輸送する機能を有しつつ電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。【０１２７】
また、後述する正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いることができる。本発明に係る正孔阻止層、電子輸送層の膜厚としては、好ましくは３ｎｍ〜１００ｎｍであり、更に好ましくは５ｎｍ〜３０ｎｍである。【０１２８】
《正孔輸送層》
正孔輸送層とは正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層、電子阻止層も正孔輸送層に含まれる。正孔輸送層は単層または複数層設けることができる。【０１２９】
正孔輸送材料としては、正孔の注入または輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、また導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられる。【０１３０】
正孔輸送材料としては上記のものを使用することができるが、ポルフィリン化合物、芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、特に芳香族第３級アミン化合物を用いることが好ましい。【０１３１】
芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル；Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミン（ＴＰＤ）；２，２−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）プロパン；１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン；Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラ−ｐ−トリル−４，４′−ジアミノビフェニル；１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）−４−フェニルシクロヘキサン；ビス（４−ジメチルアミノ−２−メチルフェニル）フェニルメタン；ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）フェニルメタン；Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ジ（４−メトキシフェニル）−４，４′−ジアミノビフェニル；Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノジフェニルエーテル；４，４′−ビス（ジフェニルアミノ）クオードリフェニル；Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ（ｐ−トリル）アミン；４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−〔４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル〕スチルベン；４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ−（２−ジフェニルビニル）ベンゼン；３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン；Ｎ−フェニルカルバゾール、更には米国特許第５，０６１，５６９号明細書に記載されている２個の縮合芳香族環を分子内に有するもの、例えば、４，４′−ビス〔Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ〕ビフェニル（ＮＰＤ）、特開平４−３０８６８８号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが３つスターバースト型に連結された４，４′，４″−トリス〔Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴＡ）等が挙げられる。【０１３２】
更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。また、ｐ型−Ｓｉ、ｐ型−ＳｉＣ等の無機化合物も正孔注入材料、正孔輸送材料として使用することができる。【０１３３】
また、特開平１１−２５１０６７号公報、Ｊ．Ｈｕａｎｇ  ｅｔ．ａｌ．著文献（Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ  ８０（２００２），ｐ．１３９）に記載されているような、所謂ｐ型正孔輸送材料を用いることもできる。本発明においては、より高効率の発光素子が得られることからこれらの材料を用いることが好ましい。【０１３４】
正孔輸送層は上記正孔輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、ＬＢ法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。正孔輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍである。この正孔輸送層は上記材料の１種または２種以上からなる一層構造であってもよい。【０１３５】
また、不純物をドープしたｐ性の高い正孔輸送層を用いることもできる。その例としては、特開平４−２９７０７６号公報、特開２０００−１９６１４０号公報、同２００１−１０２１７５号公報の各公報、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）等に記載されたものが挙げられる。【０１３６】
本発明においては、このようなｐ性の高い正孔輸送層を用いることが、より低消費電力の素子を作製することができるため好ましい。【０１３７】
《電子輸送層》
電子輸送層とは電子を輸送する機能を有する材料からなり、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は単層または複数層設けることができる。【０１３８】
従来、単層の電子輸送層、及び複数層とする場合は発光層に対して陰極側に隣接する電子輸送層に用いられる電子輸送材料（正孔阻止材料を兼ねる）としては、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができ、例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。更に上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送材料として用いることができる。更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。【０１３９】
また８−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス（８−キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑ）、トリス（５，７−ジクロロ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５，７−ジブロモ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（２−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）亜鉛（Ｚｎｑ）等、及びこれらの金属錯体の中心金属がＩｎ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｃａ、Ｓｎ、ＧａまたはＰｂに置き替わった金属錯体も、電子輸送材料として用いることができる。その他、メタルフリーもしくはメタルフタロシアニン、またはそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも、電子輸送材料として好ましく用いることができる。また、発光層の材料として例示したジスチリルピラジン誘導体も、電子輸送材料として用いることができるし、正孔注入層、正孔輸送層と同様にｎ型−Ｓｉ、ｎ型−ＳｉＣ等の無機半導体も電子輸送材料として用いることができる。【０１４０】
電子輸送層は上記電子輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、ＬＢ法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。電子輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍである。電子輸送層は上記材料の１種または２種以上からなる一層構造であってもよい。【０１４１】
また、不純物をドープしたｎ性の高い電子輸送層を用いることもできる。その例としては、特開平４−２９７０７６号公報、同１０−２７０１７２号公報、特開２０００−１９６１４０号公報、同２００１−１０２１７５号公報、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）等に記載されたものが挙げられる。【０１４２】
本発明においては、このようなｎ性の高い電子輸送層を用いることがより低消費電力の素子を作製することができるため好ましい。【０１４３】
《陽極》
有機ＥＬ素子における陽極としては、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としては、Ａｕ等の金属、ＣｕＩ、インジウムチンオキシド（ＩＴＯ）、ＳｎＯ2、ＺｎＯ等の導電性透明材料が挙げられる。また、ＩＤＩＸＯ（Ｉｎ2Ｏ3−ＺｎＯ）等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。陽極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、あるいはパターン精度をあまり必要としない場合は（１００μｍ以上程度）、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。あるいは、有機導電性化合物のように塗布可能な物質を用いる場合には、印刷方式、コーティング方式等湿式成膜法を用いることもできる。この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を１０％より大きくすることが望ましく、また陽極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましい。更に膜厚は材料にもよるが、通常１０ｎｍ〜１０００ｎｍ、好ましくは１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。【０１４４】
《陰極》
一方、陰極としては仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）金属（電子注入性金属と称する）、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）混合物、インジウム、リチウム／アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの中で、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）混合物、リチウム／アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましく、膜厚は通常１０ｎｍ〜５μｍ、好ましくは５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。尚、発光した光を透過させるため、有機ＥＬ素子の陽極または陰極のいずれか一方が透明または半透明であれば発光輝度が向上し好都合である。【０１４５】
また、陰極に上記金属を１ｎｍ〜２０ｎｍの膜厚で作製した後に、陽極の説明で挙げた導電性透明材料をその上に作製することで、透明または半透明の陰極を作製することができ、これを応用することで陽極と陰極の両方が透過性を有する素子を作製することができる。【０１４６】
《支持基板》
本発明の有機ＥＬ素子に用いることのできる支持基板（以下、基体、基板、基材、支持体等とも言う）としては、ガラス、プラスチック等の種類には特に限定はなく、また透明であっても不透明であってもよい。支持基板側から光を取り出す場合には、支持基板は透明であることが好ましい。好ましく用いられる透明な支持基板としては、ガラス、石英、透明樹脂フィルムを挙げることができる。特に好ましい支持基板は、有機ＥＬ素子にフレキシブル性を与えることが可能な樹脂フィルムである。【０１４７】
樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート（ＴＡＣ）、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類またはそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリフェニレ
ンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリルあるいはポリアリレート類、アートン（商品名ＪＳＲ社製）あるいはアペル（商品名三井化学社製）といったシクロオレフィン系樹脂等を挙げられる。【０１４８】
樹脂フィルムの表面には、無機物、有機物の被膜またはその両者のハイブリッド被膜が形成されていてもよく、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定された、水蒸気透過度（２５±０．５℃、相対湿度（９０±２）％ＲＨ）が０．０１ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下のバリア性フィルムであることが好ましく、更には、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定された酸素透過度が、１０−３ｍｌ／（ｍ２・２４ｈ・ＭＰａ）以下、水蒸気透過度が、１０−５ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下の高バリア性フィルムであることが好ましい。【０１４９】
バリア膜を形成する材料としては、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素等を用いることができる。更に該膜の脆弱性を改良するために、これら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることがより好ましい。無機層と有機層の積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。【０１５０】
バリア膜の形成方法については特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法等を用いることができるが、特開２００４−６８１４３号公報に記載されているような大気圧プラズマ重合法によるものが特に好ましい。【０１５１】
不透明な支持基板としては、例えば、アルミ、ステンレス等の金属板、フィルムや不透明樹脂基板、セラミック製の基板等が挙げられる。【０１５２】
本発明の有機ＥＬ素子の発光の室温における外部取り出し効率は、１％以上であることが好ましく、より好ましくは５％以上である。ここに、外部取り出し量子効率（％）＝有機ＥＬ素子外部に発光した光子数／有機ＥＬ素子に流した電子数×１００である。【０１５３】
また、カラーフィルター等の色相改良フィルター等を併用しても、有機ＥＬ素子からの発光色を蛍光体を用いて多色へ変換する色変換フィルターを併用してもよい。色変換フィルターを用いる場合においては、有機ＥＬ素子の発光のλｍａｘは４８０ｎｍ以下が好ましい。【０１５４】
《封止》
本発明に用いられる封止手段としては、例えば、封止部材と電極、支持基板とを接着剤で接着する方法を挙げることができる。【０１５５】
封止部材としては、有機ＥＬ素子の表示領域を覆うように配置されておればよく、凹板状でも平板状でもよい。また透明性、電気絶縁性は特に問わない。【０１５６】
具体的には、ガラス板、ポリマー板・フィルム、金属板・フィルム等が挙げられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。また、ポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を挙げることができる。金属板としては、ステンレス、鉄、銅、アルミニウム、マグネシウム、ニッケル、亜鉛、クロム、チタン、モリブテン、シリコン、ゲルマニウム及びタンタルからなる群から選ばれる一種以上の金属または合金からなるものが挙げられる。【０１５７】
本発明においては、素子を薄膜化できるということからポリマーフィルム、金属フィルムを好ましく使用することができる。更には、ポリマーフィルムは、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定された酸素透過度が１×１０−３ｍｌ／（ｍ２・２４ｈ・ＭＰａ）以下、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定された、水蒸気透過度（２５±０．５℃、相対湿度（９０±２）％ＲＨ）が、１×１０−３ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下のものであることが好ましい。【０１５８】
封止部材を凹状に加工するのは、サンドブラスト加工、化学エッチング加工等が使われる。【０１５９】
接着剤として具体的には、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化及び熱硬化型接着剤、２−シアノアクリル酸エステル等の湿気硬化型等の接着剤を挙げることができる。また、エポキシ系等の熱及び化学硬化型（二液混合）を挙げることができる。また、ホットメルト型のポリアミド、ポリエステル、ポリオレフィンを挙げることができる。また、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を挙げることができる。【０１６０】
なお、有機ＥＬ素子が熱処理により劣化する場合があるので、室温から８０℃までに接着硬化できるものが好ましい。また、前記接着剤中に乾燥剤を分散させておいてもよい。封止部分への接着剤の塗布は市販のディスペンサーを使ってもよいし、スクリーン印刷のように印刷してもよい。【０１６１】
また、有機層を挟み支持基板と対向する側の電極の外側に該電極と有機層を被覆し、支持基板と接する形で無機物、有機物の層を形成し封止膜とすることも好適にできる。この場合、該膜を形成する材料としては、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素等を用いることができる。更に該膜の脆弱性を改良するために、これら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることが好ましい。これらの膜の形成方法については、特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法等を用いることができる。【０１６２】
封止部材と有機ＥＬ素子の表示領域との間隙には、気相及び液相では、窒素、アルゴン等の不活性気体やフッ化炭化水素、シリコンオイルのような不活性液体を注入することが好ましい。また真空とすることも可能である。また、内部に吸湿性化合物を封入することもできる。【０１６３】
吸湿性化合物としては、例えば、金属酸化物（例えば、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム等）、硫酸塩（例えば、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸コバルト等）、金属ハロゲン化物（例えば、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、フッ化セシウム、フッ化タンタル、臭化セリウム、臭化マグネシウム、沃化バリウム、沃化マグネシウム等）、過塩素酸類（例えば、過塩素酸バリウム、過塩素酸マグネシウム等）等が挙げられ、硫酸塩、金属ハロゲン化物及び過塩素酸類においては無水塩が好適に用いられる。【０１６４】
《保護膜、保護板》
有機層を挟み支持基板と対向する側の前記封止膜、あるいは前記封止用フィルムの外側に、素子の機械的強度を高めるために保護膜、あるいは保護板を設けてもよい。特に封止が前記封止膜により行われている場合には、その機械的強度は必ずしも高くないため、このような保護膜、保護板を設けることが好ましい。これに使用することができる材料としては、前記封止に用いたのと同様なガラス板、ポリマー板・フィルム、金属板・フィルム等を用いることができるが、軽量且つ薄膜化ということからポリマーフィルムを用いることが好ましい。【０１６５】
《光取り出し》
有機ＥＬ素子は空気よりも屈折率の高い（屈折率が１．７〜２．１程度）層の内部で発光し、発光層で発生した光のうち１５％から２０％程度の光しか取り出せないことが一般的に言われている。これは、臨界角以上の角度θで界面（透明基板と空気との界面）に入射する光は、全反射を起こし素子外部に取り出すことができないことや、透明電極ないし発光層と透明基板との間で光が全反射を起こし、光が透明電極ないし発光層を導波し、結果として光が素子側面方向に逃げるためである。【０１６６】
この光の取り出しの効率を向上させる手法としては、例えば、透明基板表面に凹凸を形成し、透明基板と空気界面での全反射を防ぐ方法（米国特許第４，７７４，４３５号明細書）、基板に集光性を持たせることにより効率を向上させる方法（特開昭６３−３１４７９５号公報）、素子の側面等に反射面を形成する方法（特開平１−２２０３９４号公報）、基板と発光体の間に中間の屈折率を持つ平坦層を導入し、反射防止膜を形成する方法（特開昭６２−１７２６９１号公報）、基板と発光体の間に基板よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法（特開２００１−２０２８２７号公報）、基板、透明電極層や発光層のいずれかの層間（含む、基板と外界間）に回折格子を形成する方法（特開平１１−２８３７５１号公報）等がある。【０１６７】
本発明においては、これらの方法を本発明の有機ＥＬ素子と組み合わせて用いることができるが、基板と発光体の間に基板よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法、あるいは基板、透明電極層や発光層のいずれかの層間（含む、基板と外界間）に回折格子を形成する方法を好適に用いることができる。【０１６８】
本発明はこれらの手段を組み合わせることにより、更に高輝度あるいは耐久性に優れた素子を得ることができる。【０１６９】
透明電極と透明基板の間に低屈折率の媒質を光の波長よりも長い厚みで形成すると、透明電極から出てきた光は、媒質の屈折率が低いほど外部への取り出し効率が高くなる。【０１７０】
低屈折率層としては、例えば、エアロゲル、多孔質シリカ、フッ化マグネシウム、フッ素系ポリマー等が挙げられる。透明基板の屈折率は一般に１．５〜１．７程度であるので、低屈折率層は屈折率がおよそ１．５以下であることが好ましい。また、更に１．３５以下であることが好ましい。【０１７１】
また、低屈折率媒質の厚みは媒質中の波長の２倍以上となるのが望ましい。これは低屈折率媒質の厚みが、光の波長程度になってエバネッセントで染み出した電磁波が基板内に入り込む膜厚になると、低屈折率層の効果が薄れるからである。【０１７２】
全反射を起こす界面もしくはいずれかの媒質中に回折格子を導入する方法は、光取り出し効率の向上効果が高いという特徴がある。この方法は回折格子が１次の回折や２次の回折といった所謂ブラッグ回折により、光の向きを屈折とは異なる特定の向きに変えることができる性質を利用して、発光層から発生した光のうち層間での全反射等により外に出ることができない光を、いずれかの層間もしくは、媒質中（透明基板内や透明電極内）に回折格子を導入することで光を回折させ、光を外に取り出そうとするものである。【０１７３】
導入する回折格子は、二次元的な周期屈折率を持っていることが望ましい。これは発光層で発光する光はあらゆる方向にランダムに発生するので、ある方向にのみ周期的な屈折率分布を持っている一般的な１次元回折格子では、特定の方向に進む光しか回折されず、光の取り出し効率がさほど上がらない。しかしながら、屈折率分布を二次元的な分布にすることにより、あらゆる方向に進む光が回折され、光の取り出し効率が上がる。【０１７４】
回折格子を導入する位置としては前述の通り、いずれかの層間もしくは媒質中（透明基板内や透明電極内）でもよいが、光が発生する場所である有機発光層の近傍が望ましい。【０１７５】
このとき、回折格子の周期は媒質中の光の波長の約１／２〜３倍程度が好ましい。【０１７６】
回折格子の配列は正方形のラチス状、三角形のラチス状、ハニカムラチス状等、２次元的に配列が繰り返されることが好ましい。【０１７７】
《集光シート》
本発明の有機ＥＬ素子は基板の光取り出し側に、例えば、マイクロレンズアレイ状の構造を設けるように加工したり、あるいは所謂集光シートと組み合わせることにより、特定方向、例えば、素子発光面に対し正面方向に集光することにより、特定方向上の輝度を高めることができる。【０１７８】
マイクロレンズアレイの例としては、基板の光取り出し側に一辺が３０μｍでその頂角が９０度となるような四角錐を２次元に配列する。一辺は１０μｍ〜１００μｍが好ましい。これより小さくなると回折の効果が発生して色付く、大きすぎると厚みが厚くなり好ましくない。【０１７９】
集光シートとしては、例えば、液晶表示装置のＬＥＤバックライトで実用化されているものを用いることが可能である。このようなシートとして、例えば、住友スリーエム社製輝度上昇フィルム（ＢＥＦ）等を用いることができる。プリズムシートの形状としては、例えば、基材に頂角９０度、ピッチ５０μｍの△状のストライプが形成されたものであってもよいし、頂角が丸みを帯びた形状、ピッチをランダムに変化させた形状、その他の形状であってもよい。【０１８０】
また、発光素子からの光放射角を制御するために、光拡散板・フィルムを集光シートと併用してもよい。例えば、（株）きもと製拡散フィルム（ライトアップ）等を用いることができる。【０１８１】
《有機ＥＬ素子の作製方法》
本発明の有機ＥＬ素子の作製方法の一例として、陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極からなる有機ＥＬ素子の作製法を説明する。【０１８２】
まず適当な基体上に所望の電極物質、例えば、陽極用物質からなる薄膜を１μｍ以下、好ましくは１０ｎｍ〜２００ｎｍの膜厚になるように、蒸着やスパッタリング等の方法により形成させ陽極を作製する。【０１８３】
次に、この上に有機ＥＬ素子材料である正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、正孔阻止層の有機化合物薄膜を形成させる。【０１８４】
これら各層の形成方法としては、前記の如く蒸着法、ウェットプロセス（スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、印刷法）等があるが、均質な膜が得られやすく、且つピンホールが生成しにくい等の点から、本発明においてはスピンコート法、インクジェット法、印刷法等の塗布法による成膜が好ましい。【０１８５】
本発明に係る有機ＥＬ材料を溶解または分散する液媒体としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル等の脂肪酸エステル類、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン、メシチレン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、シクロヘキサン、デカリン、ドデカン等の脂肪族炭化水素類、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ等の有機溶媒を用いることができる。また分散方法としては、超音波、高剪断力分散やメディア分散等の分散方法により分散することができる。【０１８６】
これらの層を形成後、その上に陰極用物質からなる薄膜を１μｍ以下、好ましくは、５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲の膜厚になるように、例えば、蒸着やスパッタリング等の方法により形成させ、陰極を設けることにより所望の有機ＥＬ素子が得られる。【０１８７】
また作製順序を逆にして、陰極、電子注入層、電子輸送層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、陽極の順に作製することも可能である。このようにして得られた多色の表示装置に、直流電圧を印加する場合には陽極を＋、陰極を−の極性として電圧２〜４０Ｖ程度を印加すると発光が観測できる。また交流電圧を印加してもよい。なお、印加する交流の波形は任意でよい。【０１８８】
《用途》
本発明の有機ＥＬ素子は、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用いることができる。発光光源として、例えば、照明装置（家庭用照明、車内照明）、時計や液晶用バックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるがこれに限定するものではないが、特に液晶表示装置のバックライト、照明用光源としての用途に有効に用いることができる。【０１８９】
本発明の有機ＥＬ素子においては、必要に応じ成膜時にメタルマスクやインクジェットプリンティング法等でパターニングを施してもよい。パターニングする場合は、電極のみをパターニングしてもよいし、電極と発光層をパターニングしてもよいし、素子全層をパターニングしてもよく、素子の作製においては、従来公知の方法を用いることができる。【０１９０】
本発明の有機ＥＬ素子や本発明に係る化合物の発光する色は、「新編色彩科学ハンドブック」（日本色彩学会編、東京大学出版会、１９８５）の１０８頁の図４．１６において、分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタセンシング社製）で測定した結果をＣＩＥ色度座標に当てはめたときの色で決定される。【０１９１】
また、本発明の有機ＥＬ素子が白色素子の場合には、白色とは、２度視野角正面輝度を上記方法により測定した際に、１０００Ｃｄ／ｍ2でのＣＩＥ１９３１表色系における色度がＸ＝０．３３±０．０７、Ｙ＝０．３３±０．１の領域内にあることを言う。
【実施例】
【０１９２】
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されない。【０１９３】
また、以下に実施例で使用する化合物の構造を示す。【０１９４】
【化２５】
0005463668.tif 000026
【０１９５】
【化２６】
0005463668.tif 000027
【０１９６】
参考例１
《有機ＥＬ素子Ａ−１の作製》
陽極として１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍのガラス基板上にＩＴＯ（インジウムチンオキシド）を１００ｎｍ製膜した基板（ＮＨテクノグラス社製ＮＡ４５）にパターニングを行った後、このＩＴＯ透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、ＵＶオゾン洗浄を５分間行なった。この透明支持基板を市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、一方、モリブデン製抵抗加熱ボートに例示化合物４−８を２００ｍｇ入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートにホスト化合物としてＣＢＰを２００ｍｇ入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートにバソキュプロイン（ＢＣＰ）を２００ｍｇ入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートにＩｒ−１を１００ｍｇ入れ、更に別のモリブデン製抵抗加熱ボートにＡｌｑ3を２００ｍｇ入れ、真空蒸着装置に取付けた。
【０１９７】
次いで、真空槽を４×１０-4Ｐａまで減圧した後、例示化合物４−８の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒で透明支持基板に蒸着し、膜厚４０ｎｍの正孔輸送層を設けた。【０１９８】
更に、ＣＢＰとＩｒ−１の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、それぞれ蒸着速度０．２ｎｍ／秒、０．０１２ｎｍ／秒で前記正孔輸送層上に共蒸着して、膜厚４０ｎｍの発光層を設けた。なお、蒸着時の基板温度は室温であった。【０１９９】
更に、ＢＣＰの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒で前記発光層の上に蒸着して膜厚１０ｎｍの正孔阻止層を設けた。【０２００】
その上に、更に、Ａｌｑ3の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒で前記正孔阻止層の上に蒸着して更に膜厚４０ｎｍの電子輸送層を設けた。なお、蒸着時の基板温度は室温であった。【０２０１】
引き続きフッ化リチウム０．５ｎｍ及びアルミニウム１１０ｎｍを蒸着して陰極を形成し、有機ＥＬ素子Ａ−１を作製した。
【０２０２】
《反応性有機化合物の濃度低下の分析》
得られた有機ＥＬ素子Ａ−１において、本発明に係る反応性有機化合物である、例示化合物４−８について、素子への通電開始からの濃度低下を下記のように分析した。【０２０３】
有機ＥＬ素子Ａ−１に、２３℃、乾燥窒素ガス雰囲気下で２．５ｍＡ／ｃｍ2定電流を１０００時間印加後の素子をＡ−２とし、同条件で４０００時間印加後の素子をＡ−３とした。【０２０４】
有機ＥＬ素子Ａ−１、Ａ−２及びＡ−３の各正孔輸送層中における、例示化合物４−８の濃度の測定は、例示化合物４−８のビニル基の分布を測定する方法により求めた。ここで、ビニル基の二重結合の分布は以下の手段により求めることができる。【０２０５】
分析面積を確保するため、ダイプラウインテス社製サイカスＮＮ０４型にて、有機ＥＬ素子サンプル１から３の斜め切削を行った。拡大倍率を５００倍とし、切削を行い、２０μｍ幅の正孔輸送層の分析面積を得た。ついでこの切削面について臭素付加法により、正孔輸送層中に残存する二重結合を標識化した。標識化後の試料についてＸ線光電子分光装置アルバックファイ製ＱｕａｎｔｅｒａＳＸＭを用いて切削面表面の元素組成分布を計測し、切削面表面の元素組成分布を得た。
測定結果を以下に示す。【０２０６】
有機ＥＬ素子      通電時間      Ｃ            Ｂｒ            Ｎ
（炭素原子）  （臭素原子）    （窒素原子）
Ａ−１（通電前）        ０      ８０．１９    １５．９１      ３．９０
Ａ−２（通電後）  １０００      ８４．９６    １０．９２      ４．１２
Ａ−３（通電後）  ４０００      ９０．０６      ５．５８      ４．３６
測定結果から、通電時間とともに正孔輸送層中の例示化合物４−８の残量が減少していることが分析から明らかであり、例示化合物４−８が素子への通電により、正孔輸送層中において、重合反応や架橋反応等を起こしている事が判る。【０２０７】
尚、実施例２以降の有機ＥＬ素子中の反応性有機化合物についても、実施例１の例示化合物４−８と同様な濃度低下を確認することができた。【０２０８】
参考例２
《有機ＥＬ素子１−１の作製》
陽極として１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍのガラス基板上にＩＴＯ（インジウムチンオキシド）を１００ｎｍ製膜した基板（ＮＨテクノグラス社製ＮＡ４５）にパターニングを行った後、このＩＴＯ透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、ＵＶオゾン洗浄を５分間行なった。この透明支持基板を市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、一方、モリブデン製抵抗加熱ボートにα−ＮＰＤを２００ｍｇ入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートにホスト化合物としてＣＢＰを２００ｍｇ入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートにバソキュプロイン（ＢＣＰ）を２００ｍｇ入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートにＩｒ−１を１００ｍｇ入れ、更に別のモリブデン製抵抗加熱ボートにＡｌｑ3を２００ｍｇ入れ、真空蒸着装置に取付けた。
【０２０９】
次いで、真空槽を４×１０-4Ｐａまで減圧した後、α−ＮＰＤの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒で透明支持基板に蒸着し、膜厚４０ｎｍの正孔輸送層を設けた。【０２１０】
更に、ＣＢＰとＩｒ−１の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、それぞれ蒸着速度０．２ｎｍ／秒、０．０１２ｎｍ／秒で前記正孔輸送層上に共蒸着して、膜厚４０ｎｍの発光層を設けた。なお、蒸着時の基板温度は室温であった。【０２１１】
更に、ＢＣＰの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒で前記発光層の上に蒸着して膜厚１０ｎｍの正孔阻止層を設けた。
その上に、更に、Ａｌｑ3の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒で前記正孔阻止層の上に蒸着して更に膜厚４０ｎｍの電子輸送層を設けた。なお、蒸着時の基板温度は室温であった。【０２１２】
引き続きフッ化リチウム０．５ｎｍ及びアルミニウム１１０ｎｍを蒸着して陰極を形成し、有機ＥＬ素子１−１を作製した。【０２１３】
《有機ＥＬ素子１−２〜１−５の作製》
有機ＥＬ素子１−１の作製において、発光層のＣＢＰとＩｒ−１を表１に示す化合物に置き換えた以外は同様にして、有機ＥＬ素子１−２〜１−５を作製した。【０２１４】
《有機ＥＬ素子１−１〜１−５の評価》
以下のようにして作製した有機ＥＬ素子１−１〜１−５の評価を行い、その結果を表１に示す。【０２１５】
（外部取りだし量子効率）
作製した有機ＥＬ素子について、２３℃、乾燥窒素ガス雰囲気下で２．５ｍＡ／ｃｍ2
定電流を印加した時の外部取り出し量子効率（％）を測定した。なお測定には同様に分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタ製）を用いた。【０２１６】
表１の外部取りだし量子効率の測定結果は、有機ＥＬ素子１−１の測定値を１００とした時の相対値で表した。【０２１７】
（寿命）
２．５ｍＡ／ｃｍ2の一定電流で駆動したときに、輝度が発光開始直後の輝度（初期輝度）の半分に低下するのに要した時間を測定し、これを半減寿命時間（τ０．５）として寿命の指標とした。なお測定には分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタ製）を用いた。【０２１８】
得られた結果を下記の表１に示す。ここで、表１の寿命の測定結果は、有機ＥＬ素子１−１を１００とした時の相対値で表した。【０２１９】
【表１】
0005463668.tif 000028
【０２２０】
表１から、反応性有機化合物を含有する有機層を設けた、本発明の有機ＥＬ素子は、外部取り出し量子効率が高く且つ、長寿命化が達成されていることが分かった。【０２２１】
参考例３
《有機ＥＬ素子２−１〜２−５の作製》
有機ＥＬ素子１−１の作製において、Ｉｒ−１をＩｒ−９に変更した以外は同様にして、有機ＥＬ素子２−１を作製した。また、有機ＥＬ素子１−２の例示化合物１−１とＩｒ−１を表２に示すように置き換えた以外は有機ＥＬ素子１−２と同じ方法で有機ＥＬ素子２−２〜２−５を作製した。
【０２２２】
得られた各素子について、実施例２に記載と同様の評価を行い表２の結果を得た。【０２２３】
【表２】
0005463668.tif 000029
【０２２４】
表２から、反応性有機化合物を含有する有機層を設けた、本発明の有機ＥＬ素子は、外部取り出し量子効率が高く且つ、長寿命化が達成されていることが分かった。【０２２５】
参考例４
《有機ＥＬ素子３−１〜３−５の作製》
参考例２の有機ＥＬ素子１−１の作製において、Ｉｒ−１をＩｒ−１２に変更した以外は同様にして、有機ＥＬ素子３−１を作製した。また、有機ＥＬ素子１−２の例示化合物１−１とＩｒ−１を表３に示すように置き換えた以外は同様にして、有機ＥＬ素子３−２〜３−５を作製した。
【０２２６】
得られた各素子について、実施例２に記載と同様の評価を行い表３の結果を得た。【０２２７】
【表３】
0005463668.tif 000030
【０２２８】
表３から、反応性有機化合物を含有する有機層を設けた、本発明の有機ＥＬ素子は、外部取り出し量子効率が高く且つ、長寿命化が達成されていることが分かった。【０２２９】
参考例５
《有機ＥＬ素子４−１〜４−３の作製》
参考例４の有機ＥＬ素子３−１の作製において、化合物を表４に記載の化合物に変更した以外は同様にして、有機ＥＬ素子４−１〜４−３を作製した。
【０２３０】
得られた各素子について、実施例２に記載と同様の評価を行い表４の結果を得た。【０２３１】
【表４】
0005463668.tif 000031
【０２３２】
表４から、反応性有機化合物を含有する有機層を設けた、本発明の有機ＥＬ素子は、外部取り出し量子効率が高く且つ、長寿命化が達成されていることが分かった。【０２３３】
参考例６
《有機ＥＬ素子５−１の作製》
陽極として１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍのガラス基板上にＩＴＯ（インジウムチンオキシド）を１００ｎｍ製膜した基板（ＮＨテクノグラス社製ＮＡ４５）にパターニングを行った後、このＩＴＯ透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、ＵＶオゾン洗浄を５分間行なった。
【０２３４】
この基板を市販のスピンコータに取り付け、例示化合物４−１（６０ｍｇ）をトルエン１０ｍｌに溶解した溶液を用い、１０００ｒｐｍ、３０秒の条件下、スピンコート（膜厚約４０ｎｍ）、紫外光を３０秒照射した後、６０℃で１時間真空乾燥し、正孔輸送層とした。【０２３５】
次いで、例示化合物１−２（６０ｍｇ）と例示化合物２−７（３．０ｍｇ）とをトルエン６ｍｌに溶解した溶液を用い、１０００ｒｐｍ、３０秒の条件下、スピンコートし（膜厚約６０ｎｍ）、紫外光を３０秒照射した後、６０℃で１時間真空乾燥し発光層とした。【０２３６】
更に、例示化合物３−１（２０ｍｇ）をトルエン１０ｍｌに溶解した溶液を用い、１０００ｒｐｍ、３０秒の条件下、スピンコート（膜厚約１０ｎｍ）、紫外光を３０秒照射した後、６０℃で１時間真空乾燥し、正孔阻止層を設けた。【０２３７】
この基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、モリブデン製抵抗加熱ボートにＡｌｑ３を２００ｍｇ入れ、真空蒸着装置に取付けた。真空槽を４×１０-4Ｐａまで減圧した後、その上に、更に、Ａｌｑ3の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒で前記正孔阻止層の上に蒸着して更に膜厚４０ｎｍの電子輸送層を設けた。【０２３８】
なお、蒸着時の基板温度は室温であった。【０２３９】
引き続きフッ化リチウム０．５ｎｍ及びアルミニウム１１０ｎｍを蒸着して陰極を形成し、有機ＥＬ素子５−１を作製した。【０２４０】
この素子を２０００ｃｄ／ｍ2で定電流駆動させ、発光を確認することができた。【０２４１】
例示化合物４−１の代りに４−７あるいは４−１０、例示化合物１−２の代りに１−３または１−５、例示化合物２−７の代りに２−２、２−６、例示化合物３−１の代りに３−６または３−９を用いた場合にも発光を確認することができた。【０２４２】
比較として、例示化合物４−１の代りにα−ＮＰＤ、例示化合物１−２の代りにＣＢＰ、例示化合物２−７の代りにＩｒ−１、例示化合物３−１の代りにＢＣＰを用いて有機ＥＬ素子の作製を試みたが、有機ＥＬ素子を形成することはできなかった。【０２４３】
参考例７
《有機ＥＬフルカラー表示装置の作製》
図１は有機ＥＬフルカラー表示装置の概略構成図を示す。陽極としてガラス基板１０１上にＩＴＯ透明電極（１０２）を１００ｎｍ製膜した基板（ＮＨテクノグラス社製ＮＡ４５）に１００μｍのピッチでパターニングを行った後、このガラス基板上でＩＴＯ透明電極の間に非感光性ポリイミドの隔壁１０３（幅２０μｍ、厚さ２．０μｍ）をフォトリソグラフィーで形成させた。ＩＴＯ電極上ポリイミド隔壁の間に下記組成の正孔注入層組成物を、インクジェットヘッド（エプソン社製；ＭＪ８００Ｃ）を用いて吐出注入し、紫外光を３０秒間照射し、６０℃、１０分間の乾燥処理により膜厚４０ｎｍの正孔注入層１０４を作製した。
【０２４４】
この正孔注入層上に、各々下記の青色発光層組成物、緑色発光層組成物、赤色発光層組成物を同様にインクジェットヘッドを使用して吐出注入し、紫外光を３０秒間照射し、６０℃、１０分間乾燥処理し、それぞれの発光層（１０５Ｂ，１０５Ｇ，１０５Ｒ）を形成させた。最後に発光層１０５を覆うように、陰極としてＡｌ（１０６）を真空蒸着して有機ＥＬ素子を作製した。【０２４５】
作製した有機ＥＬ素子はそれぞれの電極に電圧を印加することにより各々青色、緑色、赤色の発光を示し、フルカラー表示装置として利用できることがわかった。【０２４６】
（正孔注入層組成物）
化合物４−８                                                      ２０質量部
シクロヘキシルベンゼン                                            ５０質量部
イソプロピルビフェニル                                            ５０質量部
（青色発光層組成物）
化合物１−２                                                    ０．７質量部
Ｉｒ−１２                                                    ０．０４質量部
シクロヘキシルベンゼン                                            ５０質量部
イソプロピルビフェニル                                            ５０質量部
（緑色発光層組成物）
化合物１−２                                                    ０．７質量部
Ｉｒ−１                                                      ０．０４質量部
シクロヘキシルベンゼン                                            ５０質量部
イソプロピルビフェニル                                            ５０質量部
（赤色発光層組成物）
化合物１−２                                                    ０．７質量部
Ｉｒ−９                                                      ０．０４質量部
シクロヘキシルベンゼン                                            ５０質量部
イソプロピルビフェニル                                            ５０質量部
また、Ｉｒ−１、Ｉｒ−１２、Ｉｒ−９の代りに化合物２−１〜２−１０を、化合物１−２の代りに化合物１−１または化合物１−３〜１−１０を用いて作製した有機ＥＬ素子でも、同様にフルカラー表示装置として利用できることがわかった。【０２４７】
参考例８
《有機ＥＬ素子６−１の作製》：白色発光有機ＥＬ素子
陽極として１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍのガラス基板上にＩＴＯ（インジウムチンオキシド）を１００ｎｍ製膜した基板（ＮＨテクノグラス社製ＮＡ４５）にパターニングを行った後、このＩＴＯ透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、ＵＶオゾン洗浄を５分間行なった。この基板を市販のスピンコータに取り付け、化合物４−８（６０ｍｇ）をトルエン１０ｍｌに溶解した溶液を用い、１０００ｒｐｍ、３０秒の条件下、スピンコート（膜厚約４０ｎｍ）、紫外光を３０秒間照射し、６０℃で１時間真空乾燥し、正孔輸送層とした。
【０２４８】
次に、化合物１−２（６０ｍｇ）、化合物２−５（３．０ｍｇ）、化合物２−７（３．０ｍｇ）をトルエン６ｍｌに溶解した溶液を用い、１０００ｒｐｍ、３０秒の条件下、スピンコートし（膜厚約４０ｎｍ）、紫外光を３０秒間照射した後、６０℃で１時間真空乾燥し、発光層とした。【０２４９】
更に、化合物３−１（２０ｍｇ）をトルエン６ｍｌに溶解した溶液を用い、１０００ｒｐｍ、３０秒の条件下、スピンコートし（膜厚約１０ｎｍ）、紫外光を３０秒間照射し、６０℃で１時間真空乾燥し、正孔阻止層を設けた。【０２５０】
続いて、この基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、モリブデン製抵抗加熱ボートにＡｌｑ3を２００ｍｇ入れ、真空蒸着装置に取り付けた。真空槽を４×１０-4Ｐａま
で減圧した後、Ａｌｑ3の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ
／秒で前記電子輸送層の上に蒸着して、更に膜厚４０ｎｍの電子輸送層を設けた。なお、蒸着時の基板温度は室温であった。【０２５１】
引き続き、フッ化リチウム０．５ｎｍ及びアルミニウム１１０ｎｍを蒸着して陰極を形成し、有機ＥＬ素子６−１を作製した。【０２５２】
この素子に通電したところほぼ白色の光が得られ、照明装置として使用出来ることが判った。尚、例示の他の化合物に置き換えても同様に白色の発光が得られることが判った。【０２５３】
実施例９
《有機ＥＬ素子１の作製》
陽極として１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍのガラス基板上にＩＴＯ（インジウムチンオキシド）を１００ｎｍ製膜した基板（ＮＨテクノグラス社製ＮＡ−４５）にパターニングを行った後、このＩＴＯ透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、ＵＶオゾン洗浄を５分間行った。【０２５４】
この透明支持基板上に、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、Ｂａｙｅｒ社製、Ｂａｙｔｒｏｎ  Ｐ  Ａｌ  ４０８３）を純水で７０％に希釈した溶液を３０００ｒｐｍ、３０秒でスピンコート法により製膜した後、２００℃にて１時間乾燥し、膜厚３０ｎｍの正孔輸送層を設けた。【０２５５】
この基板を窒素雰囲気下に移し、正孔輸送層上に、２０ｍｇの反応性有機化合物４−１１を５ｍｌのトルエンに溶解した溶液を２０００ｒｐｍ、３０秒の条件下、スピンコート法により製膜した。さらに、反応性有機化合物４−１１が残存するように、１０秒間ＵＶを照射（１００Ｗ  ＵＶＡ）し、光重合・架橋を行い、膜厚３０ｎｍの第二正孔輸送層とした。また、層中の反応性有機化合物４−１１の量（濃度ともいう）は、後述の方法によって決定した。【０２５６】
この第二正孔輸送層上に、ｔＢｕ−ＰＢＤ３０ｍｇと１．５ｍｇのＩｒ−１とをジクロロベンゼン３ｍｌに溶解した溶液を、２０００ｒｐｍ、３０秒の条件下、スピンコート法により製膜し、６０度で１時間真空乾燥し、膜厚５０ｎｍの発光層とした。【０２５７】
これを真空蒸着装置に取付け、次いで、真空槽を４×１０-4Ｐａまで減圧し、陰極バッファー層としてカルシウム１０ｎｍ及び陰極としてアルミニウム１１０ｎｍを蒸着して陰極を形成し、有機ＥＬ素子１を作製した。【０２５８】
《有機ＥＬ素子１のＴｇ（ガラス転移点）変化の測定》
有機ＥＬ素子１に、２３℃、乾燥窒素ガス雰囲気下で２．５ｍＡ／ｃｍ2定電流を印加後、初期輝度より１０％減少した時点（初期輝度９０％）を素子１（９０）、同条件で初期輝度より５０％減少した時点（初期輝度５０％）を素子１（５０）とし、以下の方法により、正孔輸送層のＴｇを測定した。分析面積を確保するため、ダイプラウインテス社製サイカスＮＮ０４型にて、前記３つの有機ＥＬ素子サンプルの斜め切削を行った。拡大倍率を５００倍とし、切削を行い、１５μｍ幅の正孔輸送層の分析面積を得た。【０２５９】
ついで、原子間力顕微鏡にヒーター兼温度検出器のサーマルプローブを組み合わせて、正孔輸送層領域のＴｇ（ガラス転移点）を測定した。【０２６０】
また、表５での各数値は以下に示す通りである。【０２６１】
Ｔｇ（９０％）＝初期輝度の９０％時点での正孔輸送層のガラス転移点
Ｔｇ（５０％）＝初期輝度の５０％時点での正孔輸送層のガラス転移点
Ｔｇ（初期）  ＝通電開始前の素子の正孔輸送層のガラス転移点
△Ｔｇ（９０％）＝（Ｔｇ（９０％）／Ｔｇ（初期））
△Ｔｇ（５０％）＝（Ｔｇ（５０％）／Ｔｇ（初期））
《有機ＥＬ素子２の作製と有機ＥＬ素子２の反応性有機化合物の濃度低下の分析》
有機ＥＬ素子１と全く同様にして、有機ＥＬ素子２を作製した。有機ＥＬ素子１と全く同様にして、初期輝度より１０％減少した時点を素子２（９０）の残存する反応性有機化合物量を算出した後、６０秒間ＵＶを照射し、残存する反応性有機化合物を消失させた。【０２６２】
この素子をさらに２．５ｍＡ／ｃｍ2定電流で印加し、初期輝度より５０％減少した時点を素子２（５０）として、残存する反応性有機化合物量を算出した。【０２６３】
《有機ＥＬ素子３の作製と有機ＥＬ素子３の反応性有機化合物の濃度低下の分析》
陽極として１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍのガラス基板上にＩＴＯ（インジウムチンオキシド）を１００ｎｍ製膜した基板（ＮＨテクノグラス社製ＮＡ−４５）にパターニングを行った後、このＩＴＯ透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、ＵＶオゾン洗浄を５分間行った。【０２６４】
この透明支持基板上に、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、Ｂａｙｅｒ社製、Ｂａｙｔｒｏｎ  Ｐ  Ａｌ  ４０８３）を純水で７０％に希釈した溶液を３０００ｒｐｍ、３０秒でスピンコート法により製膜した後、２００℃にて１時間乾燥し、膜厚３０ｎｍの正孔輸送層を設けた。【０２６５】
これを真空蒸着装置に取付け、次いで、真空槽を４×１０-4Ｐａまで減圧し、正孔輸送層上に、ＴＰＤを３０ｎｍ蒸着して第二正孔輸送層とした。この第二正孔輸送層上に、ｔＢｕ−ＰＢＤとｔＢｕ−ＰＢＤに対して６質量％ドープとなるようにＩｒ−１を共蒸着し、膜厚５０ｎｍの発光層とした。【０２６６】
さらに、陰極バッファー層としてカルシウム１０ｎｍ及び陰極としてアルミニウム１１０ｎｍを蒸着して陰極を形成し、有機ＥＬ素子３を作製した。【０２６７】
有機ＥＬ素子１と全く同様にして、初期輝度より１０％、５０％減少した時点をそれぞれ素子３（９０）、（５０）として、残存する反応性有機化合物量を算出した。【０２６８】
《有機ＥＬ素子４の作製と有機ＥＬ素子４の反応性有機化合物の濃度低下の分析》
有機ＥＬ素子１の作製において、第二正孔輸送層製膜時のＵＶ照射時間を９０秒とした以外は同様にして、有機ＥＬ素子４を作製した。【０２６９】
有機ＥＬ素子１と全く同様にして、初期輝度より１０％、５０％減少した時点をそれぞれ素子３（９０）、（５０）として、残存する反応性有機化合物量を算出した。【０２７０】
また、素子２〜素子４の各々の△Ｔｇ（９０％）、△Ｔｇ（５０％）については、素子１の場合と全く同様にして測定した。測定結果は表５に示す。【０２７１】
《有機ＥＬ素子１〜５の寿命評価》
２．５ｍＡ／ｃｍ2の一定電流で駆動したときに、輝度が発光開始直後の輝度（初期輝度）の半分に低下するのに要した時間を測定し、これを半減寿命時間（τ０．５）として寿命の指標とした。なお測定には分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタ製）を用いた。表５の寿命の測定結果は、有機ＥＬ素子４を１００とした時の相対値で表した。得られた結果を表５に示す。【０２７２】
【表５】
0005463668.tif 000032
【０２７３】
表５から、経時的なＴｇ増加（裏返すとネットワーク化に伴う層の再構築の進展）を示す素子では、寿命が向上していることが判る。【０２７４】
実施例１０
《有機ＥＬ素子５の作製と有機ＥＬ素子５の反応性有機化合物の濃度低下の分析》
陽極として１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍのガラス基板上にＩＴＯ（インジウムチンオキシド）を１００ｎｍ製膜した基板（ＮＨテクノグラス社製ＮＡ−４５）にパターニングを行った後、このＩＴＯ透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、ＵＶオゾン洗浄を５分間行った。【０２７５】
この透明支持基板上に、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、Ｂａｙｅｒ社製、Ｂａｙｔｒｏｎ  Ｐ  Ａｌ  ４０８３）を純水で７０％に希釈した溶液を３０００ｒｐｍ、３０秒でスピンコート法により製膜した後、２００℃にて１時間乾燥し、膜厚３０ｎｍの正孔輸送層を設けた。【０２７６】
この基板を窒素雰囲気下に移し、正孔輸送層上に、２０ｍｇの反応性有機化合物４−１１を５ｍｌのトルエンに溶解した溶液を２０００ｒｐｍ、３０秒の条件下、スピンコート法により製膜した。さらに、反応性有機化合物４−１１が残存するように、１５秒間ＵＶを照射（１００Ｗ  ＵＶＡ）し、光重合・架橋を行い、膜厚３０ｎｍの第二正孔輸送層とした。【０２７７】
この第二正孔輸送層上に、３０ｍｇの化合物１−２と１．５ｍｇの化合物２−２とをトルエン３ｍｌに溶解した溶液を、２０００ｒｐｍ、３０秒の条件下、スピンコート法により製膜し、１５秒間ＵＶを照射（１００Ｗ  ＵＶＡ）し、さらに１００℃で１０分間加熱を行い、膜厚５０ｎｍの発光層とした。【０２７８】
さらに、１０ｍｇの化合物３−１１をトルエン３ｍｌに溶解した溶液を、５００ｒｐｍ、３０秒の条件下、スピンコート法により製膜し、３０秒間ＵＶを照射（１００Ｗ  ＵＶＡ）し、膜厚２５ｎｍの電子輸送層とした。【０２７９】
これを真空蒸着装置に取付け、次いで、真空槽を４×１０-4Ｐａまで減圧し、陰極バッファー層としてフッ化リチウム１．０ｎｍ及び陰極としてアルミニウム１１０ｎｍを蒸着して陰極を形成し、有機ＥＬ素子５を作製した。反応有機物の濃度の決定は、有機ＥＬ素子１と全く同様にして行った。【０２８０】
《有機ＥＬ素子６の作製と有機ＥＬ素子６の反応性有機化合物の濃度低下の分析》
有機ＥＬ素子５の作製において、第二正孔輸送層、発光層、電子輸送層の製膜時のＵＶ照射時間を６０秒とした以外は同様にして、有機ＥＬ素子６を作製した。また、反応有機物の濃度の決定は有機ＥＬ素子５と全く同様に行った。【０２８１】
得られた有機ＥＬ素子５、６の第二正孔輸送層、発光層、電子輸送層の各々について、素子の通電開始前、初期輝度９０％、初期輝度５０％での時点でのガラス転移点の測定を行った。また、素子の寿命については、実施例９と同様に評価した。得られた結果を表６に示す。【０２８２】
【表６】
0005463668.tif 000033
【０２８３】
表６から、塗布積層した場合においても、実施例９と同様に、経時的なＴｇの増加（裏返すとネットワーク化に伴う層の再構築の進展）を示す、本発明の素子では、素子寿命の向上効果が得られた。【０２８４】
実施例１１
《有機ＥＬフルカラー表示装置の作製》
図１は有機ＥＬフルカラー表示装置の概略構成図を示す。陽極としてガラス基板１０１上にＩＴＯ透明電極（１０２）を１００ｎｍ製膜した基板（ＮＨテクノグラス社製ＮＡ４５）に１００μｍのピッチでパターニングを行った後、このガラス基板上でＩＴＯ透明電極の間に非感光性ポリイミドの隔壁１０３（幅２０μｍ、厚さ２．０μｍ）をフォトリソグラフィーで形成させた。ＩＴＯ電極上ポリイミド隔壁の間に下記組成の正孔注入層組成物を、インクジェットヘッド（エプソン社製；ＭＪ８００Ｃ）を用いて吐出注入し、紫外光を３０秒間照射し、６０℃、１０分間の乾燥処理により膜厚４０ｎｍの正孔注入層１０４を作製した。【０２８５】
この正孔注入層上に、各々下記の青色発光層組成物、緑色発光層組成物、赤色発光層組成物を同様にインクジェットヘッドを使用して吐出注入し、紫外光を３０秒間照射し、６０℃、１０分間乾燥処理し、それぞれの発光層（１０５Ｂ，１０５Ｇ，１０５Ｒ）を形成させた。最後に発光層１０５を覆うように、陰極としてＡｌ（１０６）を真空蒸着して有機ＥＬ素子を作製した。【０２８６】
作製した有機ＥＬ素子はそれぞれの電極に電圧を印加することにより各々青色、緑色、赤色の発光を示し、フルカラー表示装置として利用できることがわかった。【０２８７】
（正孔注入層組成物）
化合物４−１１                                                    ２０質量部
シクロヘキシルベンゼン                                            ５０質量部
イソプロピルビフェニル                                            ５０質量部
（青色発光層組成物）
化合物３−１１                                                  ０．７質量部
化合物２−９                                                  ０．０４質量部
シクロヘキシルベンゼン                                            ５０質量部
イソプロピルビフェニル                                            ５０質量部
（緑色発光層組成物）
化合物３−１１                                                  ０．７質量部
化合物２−２                                                  ０．０４質量部
シクロヘキシルベンゼン                                            ５０質量部
イソプロピルビフェニル                                            ５０質量部
（赤色発光層組成物）
化合物３−１１                                                  ０．７質量部
化合物２−５                                                  ０．０４質量部
シクロヘキシルベンゼン                                            ５０質量部
イソプロピルビフェニル                                            ５０質量部
実施例１２
《有機ＥＬ白色照明装置の作製》
実施例１０の有機ＥＬ素子６において、発光組成物に用いた化合物２−２を２−２，２−５、２−９の混合物に変更した以外は同様にして、白色発光有機ＥＬ素子６Ｗ（白色）を作製した。得られた有機ＥＬ素子６Ｗを評価するに際しては、非発光面をガラスケースで覆い、照明装置とした。照明装置は、発光効率が高く発光寿命の長い白色光を発する薄型の照明装置として使用することができた。【０２８８】
実施例１３
《有機ＥＬ素子１の作製》
陽極として１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍのガラス基板上にＩＴＯ（インジウムチンオキシド）を１００ｎｍ製膜した基板（ＮＨテクノグラス社製ＮＡ−４５）にパターニングを行った後、このＩＴＯ透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、ＵＶオゾン洗浄を５分間行った。【０２８９】
この透明支持基板上に、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、Ｂａｙｅｒ社製、Ｂａｙｔｒｏｎ  Ｐ  Ａｌ  ４０８３）を純水で７０％に希釈した溶液を３０００ｒｐｍ、３０秒でスピンコート法により製膜した後、２００℃にて１時間乾燥し、膜厚３０ｎｍの正孔輸送層を設けた。【０２９０】
この基板を窒素雰囲気下に移し、正孔輸送層上に、２０ｍｇの化合物４−１１を５ｍｌのトルエンに溶解した溶液を２０００ｒｐｍ、３０秒の条件下、スピンコート法により製膜した。さらに、未反応の４−１１が残存するように、１５秒間ＵＶを照射（１００Ｗ  ＵＶＡ）し、光重合・架橋を行い、膜厚３０ｎｍの第二正孔輸送層とした。また未反応の４−１１の量は、後述する分析方法により決定した。【０２９１】
この第二正孔輸送層上に、ｔＢｕ−ＰＢＤ３０ｍｇと１．５ｍｇのＩｒ−１とをジクロロベンゼン３ｍｌに溶解した溶液を、２０００ｒｐｍ、３０秒の条件下、スピンコート法により製膜し、６０度で１時間真空乾燥し、膜厚５０ｎｍの発光層とした。【０２９２】
これを真空蒸着装置に取付け、次いで、真空槽を４×１０-4Ｐａまで減圧し、陰極バッファー層としてカルシウム１０ｎｍ及び陰極としてアルミニウム１１０ｎｍを蒸着して陰極を形成し、有機ＥＬ素子１を作製した。【０２９３】
《有機ＥＬ素子１の反応性有機化合物の濃度低下の分析》
得られた有機ＥＬ素子１において、本発明に係る反応性有機化合物である、例示化合物４−１１について、経時的な減少（濃度低下ともいう）を下記のように分析した。【０２９４】
有機ＥＬ素子１に、２３℃、乾燥窒素ガス雰囲気下で２．５ｍＡ／ｃｍ2定電流を印加後、初期輝度より１０％減少した時点（初期輝度９０％）を素子１（Ｍ９０）、同条件で初期輝度より３０％減少した時点（初期輝度７０％）を素子１（Ｍ７０）とし、以下の方法により、残存する反応性有機化合物量を決定した。【０２９５】
有機ＥＬ素子１、１（Ｍ９０）及び１（Ｍ７０）の例示化合物４−１１の濃度の測定は、例示化合物４−１１のビニル基の分布を測定する方法により求めた。ここで、ビニル基の二重結合の分布は以下の手段により求めることができる。【０２９６】
分析面積を確保するため、ダイプラウインテス社製サイカスＮＮ０４型にて、前記３つの有機ＥＬ素子サンプルの斜め切削を行った。拡大倍率を５００倍とし、切削を行い、１５μｍ幅の正孔輸送層の分析面積を得た。ついでこの切削面について臭素付加法により、正孔輸送層中に残存する二重結合を標識化した。標識化後の試料についてＸ線光電子分光装置アルバックファイ製ＱｕａｎｔｅｒａＳＸＭを用いて切削面表面の元素組成分布を計測し、切削面表面の元素組成分布を得た。この元素分析結果より、残存する反応性有機化合物量を算出した。結果を表７に示す。【０２９７】
《有機ＥＬ素子２の作製と有機ＥＬ素子２中の反応性有機化合物の濃度低下の分析》
有機ＥＬ素子１と全く同様にして、有機ＥＬ素子２を作製した。得られた素子を有機ＥＬ素子１と全く同様にして、初期輝度より１０％減少した時点を素子２（Ｍ９０）の残存する反応性有機化合物量を算出した後、６０秒間ＵＶを照射し、残存する反応性有機化合物を消失させた。この素子をさらに２．５ｍＡ／ｃｍ2定電流で印加し、初期輝度より３０％減少した時点を素子２（Ｍ７０）として、残存する反応性有機化合物量を算出した。【０２９８】
《有機ＥＬ素子３の作製と有機ＥＬ素子３の反応性有機化合物の濃度低下の分析》
陽極として１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍのガラス基板上にＩＴＯ（インジウムチンオキシド）を１００ｎｍ製膜した基板（ＮＨテクノグラス社製ＮＡ−４５）にパターニングを行った後、このＩＴＯ透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、ＵＶオゾン洗浄を５分間行った。【０２９９】
この透明支持基板上に、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、Ｂａｙｅｒ社製、Ｂａｙｔｒｏｎ  Ｐ  Ａｌ  ４０８３）を純水で７０％に希釈した溶液を３０００ｒｐｍ、３０秒でスピンコート法により製膜した後、２００℃にて１時間乾燥し、膜厚３０ｎｍの正孔輸送層を設けた。【０３００】
これを真空蒸着装置に取付け、次いで、真空槽を４×１０-4Ｐａまで減圧し、正孔輸送層上に、ＴＰＤを３０ｎｍ蒸着して第二正孔輸送層とした。【０３０１】
この第二正孔輸送層上に、ｔＢｕ−ＰＢＤと６％ドープとなるようにＩｒ−１を共蒸着し、膜厚５０ｎｍの発光層とした。さらに、陰極バッファー層としてカルシウム１０ｎｍ及び陰極としてアルミニウム１１０ｎｍを蒸着して陰極を形成し、有機ＥＬ素子３を作製した。【０３０２】
有機ＥＬ素子１と全く同様にして、初期輝度より１０％、３０％減少した時点をそれぞれ素子３（Ｍ９０）、（Ｍ７０）として、残存する反応性有機化合物量を算出した。【０３０３】
《有機ＥＬ素子４の作製と有機ＥＬ素子４の反応性有機化合物の濃度低下の分析》
有機ＥＬ素子１の作製において、第二正孔輸送層製膜時のＵＶ照射時間を３０秒とした以外は同様にして、有機ＥＬ素子４を作製した。【０３０４】
有機ＥＬ素子１と全く同様にして、初期輝度より１０％、３０％減少した時点をそれぞれ素子３（Ｍ９０）、（Ｍ７０）として、残存する反応性有機化合物量を算出した。【０３０５】
《有機ＥＬ素子５の作製と有機ＥＬ素子５の反応性有機化合物の濃度低下の分析》
有機ＥＬ素子１の作製において、第二正孔輸送層製膜時の光重合・架橋条件をＵＶ照射を３０秒間行った後、１００℃で３０分間加熱を行った以外は同様にして、有機ＥＬ素子４を作製した。【０３０６】
得られた素子を有機ＥＬ素子１と全く同様にして、初期輝度より１０％、３０％減少した時点をそれぞれ素子（Ｍ９０）、素子（Ｍ７０）として、残存する反応性有機化合物量を算出した。【０３０７】
《有機ＥＬ素子１〜５の寿命評価》
２．５ｍＡ／ｃｍ2の一定電流で駆動したときに、輝度が発光開始直後の輝度（初期輝度）の半分に低下するのに要した時間を測定し、これを半減寿命時間（τ０．５）として寿命の指標とした。なお測定には分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタ製）を用いた。表７の寿命の測定結果は、有機ＥＬ素子４を１００とした時の相対値で表した。得られた結果を表７に示す。【０３０８】
【表７】
0005463668.tif 000034
【０３０９】
表７から、本発明の有機ＥＬ素子は、長寿命化が達成されていることが明らかであり、反応性有機化合物の量の経時的な減少（裏返すとネットワーク化に伴う層の再構築の進展）を示す素子では、長寿命化されていることがわかる。特に、層の再構築が経時的にゆっくり進行する程、阻止劣化を抑制でき長寿命な素子を実現できた。【０３１０】
実施例１４
《有機ＥＬ素子６の作製と有機ＥＬ素子６の反応性有機化合物の濃度低下の分析》
陽極として１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍのガラス基板上にＩＴＯ（インジウムチンオキシド）を１００ｎｍ製膜した基板（ＮＨテクノグラス社製ＮＡ−４５）にパターニングを行った後、このＩＴＯ透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、ＵＶオゾン洗浄を５分間行った。【０３１１】
この透明支持基板上に、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、Ｂａｙｅｒ社製、Ｂａｙｔｒｏｎ  Ｐ  Ａｌ  ４０８３）を純水で７０％に希釈した溶液を３０００ｒｐｍ、３０秒でスピンコート法により製膜した後、２００℃にて１時間乾燥し、膜厚３０ｎｍの正孔輸送層を設けた。【０３１２】
この基板を窒素雰囲気下に移し、正孔輸送層上に、２０ｍｇの化合物４−１１を５ｍｌのトルエンに溶解した溶液を２０００ｒｐｍ、３０秒の条件下、スピンコート法により製膜した。さらに、未反応の４−１１が残存するように、１５秒間ＵＶを照射（１００Ｗ  ＵＶＡ）し、光重合・架橋を行い、膜厚３０ｎｍの第二正孔輸送層とした。【０３１３】
この第二正孔輸送層上に、３０ｍｇの化合物１−２と１．５ｍｇの化合物２−２とをトルエン３ｍｌに溶解した溶液を、２０００ｒｐｍ、３０秒の条件下、スピンコート法により製膜し、１５秒間ＵＶを照射（１００Ｗ  ＵＶＡ）し、さらに１００℃で１０分間加熱を行い、膜厚５０ｎｍの発光層とした。【０３１４】
さらに、１０ｍｇの化合物３−１をテトラヒドロフラン３ｍｌに溶解した溶液を、５００ｒｐｍ、３０秒の条件下、スピンコート法により製膜し、３０秒間ＵＶを照射（１００Ｗ  ＵＶＡ）し、膜厚２５ｎｍの電子輸送層とした。【０３１５】
これを真空蒸着装置に取付け、次いで、真空槽を４×１０-4Ｐａまで減圧し、陰極バッファー層としてフッ化リチウム１．０ｎｍ及び陰極としてアルミニウム１１０ｎｍを蒸着して陰極を形成し、有機ＥＬ素子６を作製した。反応性有機化合物の層中の濃度の決定は、実施例１３に記載の方法と同様に行った。【０３１６】
《有機ＥＬ素子７の作製と有機ＥＬ素子７の反応性有機化合物の濃度低下の分析》
有機ＥＬ素子６の作製において、第二正孔輸送層、発光層、電子輸送層の製膜時のＵＶ照射時間を６０秒とした以外は同様にして、有機ＥＬ素子７を作製した。【０３１７】
また、反応性有機化合物の濃度の測定は、実施例１３に記載の方法と同様に行った。【０３１８】
上記で得た有機ＥＬ素子６、７の各々について、実施例１３に記載と同様に、発光寿命の評価を行った。表８寿命の測定結果は、有機ＥＬ素子７を１００とした時の相対値で表した。得られた結果を表８に示す。【０３１９】
【表８】
0005463668.tif 000035
【０３２０】
表８から、塗布積層した場合においても、実施例１３と同様な傾向が見られ、反応性有機化合物の量の経時的な減少（裏返すとネットワーク化に伴う層の再構築の進展）を示す素子では、寿命が向上していることが明らかである。【０３２１】
実施例１５
《有機ＥＬフルカラー表示装置の作製》
図１は有機ＥＬフルカラー表示装置の概略構成図を示す。陽極としてガラス基板１０１上にＩＴＯ透明電極（１０２）を１００ｎｍ製膜した基板（ＮＨテクノグラス社製ＮＡ４５）に１００μｍのピッチでパターニングを行った後、このガラス基板上でＩＴＯ透明電極の間に非感光性ポリイミドの隔壁１０３（幅２０μｍ、厚さ２．０μｍ）をフォトリソグラフィーで形成させた。ＩＴＯ電極上ポリイミド隔壁の間に下記組成の正孔注入層組成物を、インクジェットヘッド（エプソン社製；ＭＪ８００Ｃ）を用いて吐出注入し、紫外光を３０秒間照射し、６０℃、１０分間の乾燥処理により膜厚４０ｎｍの正孔注入層１０４を作製した。【０３２２】
この正孔注入層上に、各々下記の青色発光層組成物、緑色発光層組成物、赤色発光層組成物を同様にインクジェットヘッドを使用して吐出注入し、紫外光を３０秒間照射し、６０℃、１０分間乾燥処理し、それぞれの発光層（１０５Ｂ，１０５Ｇ，１０５Ｒ）を形成させた。最後に発光層１０５を覆うように、陰極としてＡｌ（１０６）を真空蒸着して有機ＥＬ素子を作製した。【０３２３】
作製した有機ＥＬ素子はそれぞれの電極に電圧を印加することにより各々青色、緑色、赤色の発光を示し、フルカラー表示装置として利用できることがわかった。【０３２４】
（正孔注入層組成物）
化合物４−１１                                                    ２０質量部
シクロヘキシルベンゼン                                            ５０質量部
イソプロピルビフェニル                                            ５０質量部
（青色発光層組成物）
化合物１−２                                                    ０．７質量部
化合物２−９                                                    ０．０４質量部
シクロヘキシルベンゼン                                            ５０質量部
イソプロピルビフェニル                                            ５０質量部
（緑色発光層組成物）
化合物１−２                                                    ０．７質量部
化合物２−２                                                  ０．０４質量部
シクロヘキシルベンゼン                                            ５０質量部
イソプロピルビフェニル                                            ５０質量部
（赤色発光層組成物）
化合物１−２                                                    ０．７質量部
化合物２−５                                                  ０．０４質量部
シクロヘキシルベンゼン                                            ５０質量部
イソプロピルビフェニル                                            ５０質量部
実施例１６《有機ＥＬ白色照明装置の作製》
実施例１３の有機ＥＬ素子６において、発光組成物に用いた化合物２−２を２−２，２−５、２−９の混合物に変更した以外は同様にして、白色発光有機ＥＬ素子６Ｗ（白色）を作製した。得られた有機ＥＬ素子６Ｗを評価するに際しては、非発光面をガラスケースで覆い、照明装置とした。照明装置は、発光効率が高く発光寿命の長い白色光を発する薄型の照明装置として使用することができた。
【図１】
0005463668.tif 000037