(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）  芳香族ポリカーボネート、５７〜９３重量部（それぞれ、成分Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄの重量部の合計＝１００重量部に対する。）、
（Ｂ）  ポリアルキレンテレフタレート、４〜１７重量部（それぞれ、成分Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄの重量部の合計＝１００重量部に対する。）、
（Ｃ）  ゴム変性グラフトポリマー、５〜９重量部（それぞれ、成分Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄの重量部の合計＝１００重量部に対する。）、および
（Ｄ）  式（ＩＶ）
【化１】
0005485908.tif 000007
〔式中、
Ｍｍ＋  は、周期表の第１主族（アルカリ金属；ｍ＝１）、第２主族（アルカリ土類金属；ｍ＝２）または第３主族（ｍ＝３）または第２、７もしくは８亜族（ｍは１〜６の整数である。）の金属カチオンである。〕
のホスフィン酸の塩またはその混合物、７〜１２重量部（それぞれ、成分Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄの重量部の合計＝１００重量部に対する。）
を含有する組成物。
【請求項２】
成分（Ｃ）として、
Ｃ．１  Ｃ．１．１  ビニル芳香族化合物および／または核置換ビニル芳香族化合物および／または（メタ）アクリル酸（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルエステル、５０〜９９重量部と、
Ｃ．１．２  ビニルシアニドおよび／または（メタ）アクリル酸（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルエステルおよび／または不飽和カルボン酸の誘導体、１〜５０重量部とを含む、Ｃ．２上の少なくとも１種類のビニルモノマー、５〜９５ｗｔ．％、
Ｃ．２  ジエンゴム、ＥＰ（Ｄ）Ｍゴム（すなわち、エチレン／プロピレンおよび任意にジエンベースのゴム）およびアクリレート、ポリウレタン、シリコーン、シリコーン／アクリレート、クロロプレンおよびエチレン／酢酸ビニルゴムからなる群から選択される少なくとも１種類のグラフトベース、９５〜５ｗｔ．％
の１種類以上のグラフトポリマーを含有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
成分（Ｄ）として、金属カチオンがＬｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｓｒ２＋、Ｂａ２＋、Ａｌ３＋、Ｚｎ２＋、Ｍｎ２＋、Ｆｅ２＋および／またはＦｅ３＋であるホスフィン酸の塩またはその混合物を含有する、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物を含有する成形物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホスフィン酸の塩を含有する耐衝撃性改良ポリアルキレンテレフタレート／ポリカーボネート組成物、この耐衝撃性改良ポリアルキレンテレフタレート／ポリカーボネート組成物の成形物品の製造への使用、並びに成形物品そのものに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＷＯ−Ａ  ２００５／０４４９０６は、次リン酸の金属塩少なくとも１種類並びに芳香族ポリカーボネート樹脂および芳香族ポリカーボネート樹脂とゴム含量５〜１５％のスチレン含有グラフトコポリマー樹脂との混合物の少なくとも１種類を含有する熱可塑性成形組成物を開示している。スチレン含有グラフトコポリマーの含量は１０〜４０ｗｔ．％である。得られる成形組成物は、良好な耐燃性、加工条件のもとでの高い熱安定性および良好な耐候性が認められている。低いゴム含量のために、他の特性、特に機械特性はレベルが低い。
【０００３】
ＷＯ−Ａ  １９９９／５７１９２は、ポリエステルまたはポリカーボネート５〜９６ｗｔ．％、ホスフィン酸塩および／またはジホスフィン酸塩および／またはそのポリマー１〜３０ｗｔ．％、少なくとも１種類のリン含有有機防炎加工剤１〜３０ｗｔ．％、並びに可能な別の添加剤を含有する熱可塑性成形組成物を開示している。
【０００４】
ＤＥ−Ａ  １０２００４０４９３４２は、熱可塑性ポリマー１０〜９８ｗｔ．％、高度分枝ポリカーボネートまたは高度分枝ポリエステルまたはそれらの混合物０．０１〜５０ｗｔ．％、Ｐ含有化合物またはＮ含有化合物またはＰ−Ｎ縮合体またはそれらの混合物の群から選択されるハロゲンを含まない防炎加工剤１〜４０ｗｔ．％、および可能な別の添加剤を含有する熱可塑性成形組成物を開示している。
【０００５】
ＤＥ−Ａ  １９９０４８１４は、ポリエステル２０〜９８ｗｔ．％、ポリカーボネート１〜５０ｗ．％、ホスフィン酸塩および／または二ホスフィン酸塩および／またはそのポリマー１〜４０ｗｔ．％、並びに可能な別の添加剤を含有する熱可塑性成形組成物を記載している。
【０００６】
特開２００１−３３５６９９は、スチレン樹脂、芳香族ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂およびポリフェニレンエーテル樹脂から選択される２種類以上の熱可塑性樹脂並びに１種類以上の無機ホスフィン酸塩または有機ホスフィン酸塩、並びに可能な別の添加剤を含有する防炎加工樹脂組成物を記載している。
【０００７】
特開２００１−２６１９７３（ダイセル化学工業株式会社）は、熱可塑性樹脂と無機または有機ホスフィン酸塩との組成物を開示している。ＰＢＴとホスフィン酸カルシウムとＰＴＦＥとの組み合わせが実施例として挙げられている。
【０００８】
特開２００２−１６１２１１は、熱可塑性樹脂と防炎加工剤（例えばホスフィン酸塩、リン酸塩およびそれらの誘導体）との組成物を開示している。ＰＢＴとＡＢＳとポリオキシフェニレンとホスフィン酸カルシウムとオルガノホスフェートとグラスファイバーとの組み合わせが実施例として挙げられている。
【０００９】
ポリアルキレンテレフタレート／ポリカーボネート組成物の先行技術で常套の防炎加工剤は、有機芳香族リン酸エステルである。有機芳香族リン酸エステルは低分子量の形態であっても、様々なオリゴマーの混合物の形態であってもオリゴマーと低分子量化合物との混合物の形態であってもよい（例えばＷＯ−Ａ  ９９／１６８２８およびＷＯ−Ａ  ００／３１１７３）。防炎加工剤としての良好な活性は、不都合なことに上記化合物のポリマー成分に対する高い可塑化作用によって打ち消されるので、これらの成形組成物の加熱撓み温度は多くの用途に十分でない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、高い加熱撓み温度と、良好な防炎性と、優れた機械的性質（特に高い弾性率）と、の最適な組み合わせを有する耐衝撃性改良ポリアルキレンテレフタレート／ポリカーボネート組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
意外なことに、（Ａ）ポリカーボネート、（Ｂ）ポリアルキレンテレフタレート、（Ｃ）ゴム変性グラフトポリマーおよび（Ｄ）ホスフィン酸の塩を含有する成形組成物または組成物が所望の特性プロファイルを有することがわかった。
【００１２】
従って、意外なことに、
（Ａ）  芳香族ポリカーボネート、４１〜９７重量部、好ましくは５７〜９３重量部、特に好ましくは６４〜８３重量部（それぞれ、成分Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄの重量部の合計に対する。）、
（Ｂ）  ポリアルキレンテレフタレート、２〜１９重量部、好ましくは４〜１７重量部、特に好ましくは７〜１５重量部（それぞれ、成分Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄの重量部の合計に対する。）、
（Ｃ）  ゴム変性グラフトポリマー、０．５〜１５重量部、好ましくは２〜１１重量部、特に好ましくは２〜９重量部（それぞれ、成分Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄの重量部の合計に対する。）、
（Ｄ）  ホスフィン酸の塩、０．５〜２５重量部、好ましくは１〜１５重量部、特に好ましくは７〜１２重量部（それぞれ、成分Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄの重量部の合計に対する。）、
（Ｅ）  ゴムを含まないビニル（コ）ポリマー、０〜２０重量部、好ましくは１〜１５重量部（成分Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄの重量部の合計１００に対する。）、
（Ｆ）  添加剤、０〜５０重量部、好ましくは０．５〜２５重量部（それぞれ、成分Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄの重量部の合計１００に対する。）
（本明細書中の重量部は全て、組成物中の成分Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄの重量部の合計が１００になるように標準化されている。）
を含有する組成物が、上記技術的目標を達成することがわかった。
【００１３】
高すぎる成分（Ｂ）含量（すなわち、２０重量部以上）は、防炎性がもはや課せられる要求に合わないという欠点を有する。
【００１４】
成分Ａ
【００１５】
本発明によると、本発明による組成物は、ポリカーボネートまたはその混合物を成分（Ａ）として含有する。
【００１６】
好ましいポリカーボネートは、一般式（Ｉ）
ＨＯ−Ｚ−ＯＨ          （Ｉ）
〔式中、Ｚは、１以上の芳香族基を含むＣ原子を６〜３０個有する二価の有機基である。〕
のビスフェノールベースのホモポリカーボネートおよびコポリカーボネートである。
【００１７】
好ましい化合物は、式（Ｉａ）
【化１】
0005485908.tif 000002
〔式中、
Ａ  は、単結合、Ｃ１〜Ｃ５−アルキレン、Ｃ２〜Ｃ５−アルキリデン、Ｃ５〜Ｃ６−シクロアルキリデン、−Ｏ−、−ＳＯ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、任意にヘテロ原子を含んでいてもよい別の芳香環が縮合していてもよいＣ６〜Ｃ１２−アリーレン、または式（ＩＩ）もしくは（ＩＩＩ）
【化２】
0005485908.tif 000003
の基であり、
Ｂ  は、それぞれＣ１〜Ｃ１２−アルキル、好ましくはメチル、またはハロゲン、好ましくは塩素および／もしくは臭素であり、
ｘ  は、それぞれ互いに独立して０、１または２であり、
ｐ  は、１または０であり、
Ｒ１およびＲ２  は、それぞれのＸ１に対して個々に選択され、互いに独立して、水素またはＣ１〜Ｃ６−アルキル、好ましくは水素、メチルまたはエチルであり、
Ｘ１  は、炭素であり、
ｍ  は、４〜７の整数、好ましくは４または５であり、但し少なくとも１つの原子Ｘ１において、Ｒ１およびＲ２は同時にアルキルである。〕
のビスフェノールである。
【００１８】
一般式（Ｉ）のビスフェノールの例は、下記群に属するビスフェノールである：ジヒドロキシジフェニル、ビス−（ヒドロキシフェニル）−アルカン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−シクロアルカン、インダンビスフェノール、ビス−（ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス−（ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス−（ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス−（ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホキシドおよびα，α’−ビス−（ヒドロキシフェニル）−ジイソプロピルベンゼン。
【００１９】
例えば上記ビスフェノールの芳香環のアルキル化またはハロゲン化によって入手可能な上記ビスフェノールの誘導体もまた一般式（Ｉ）のビスフェノールの例である。
【００２０】
一般式（Ｉ）のビスフェノールの例は、特に下記化合物である：ヒドロキノン、レソルシノール、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−メタン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−ｐ／ｍ−ジイソプロピルベンゼン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニル−エタン、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチルシクロヘキサン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、２，２−ビス−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン（すなわちビスフェノールＡ）、２，２−ビス−（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、２，４−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、α，α’−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｏ−ジイソプロピルベンゼン、α，α’−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼン（すなわちビスフェノールＭ）、α，α’−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼンおよびインダンビスフェノール。
【００２１】
特に好ましいポリカーボネートは、ビスフェノールＡベースのホモポリカーボネート、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンベースのホモポリカーボネート並びに２種類のモノマービスフェノールＡおよび１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンベースのコポリカーボネートである。
【００２２】
記載されている一般式（Ｉ）のビスフェノールは、既知の方法によって、例えば対応するフェノールとケトンとから製造されうる。
【００２３】
上記ビスフェノールおよびその製造方法は、例えば、モノグラフＨ．Ｓｃｈｎｅｌｌ，“Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ”，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｒｅｖｉｅｗｓ，第９巻，７７〜９８頁，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，ニューヨーク，ロンドン，シドニー，１９６４年およびＵＳ−Ａ  ３  ０２８  ６３５、ＵＳ−Ａ  ３  ０６２  ７８１、ＵＳ−Ａ  ２  ９９９  ８３５、ＵＳ−Ａ  ３  １４８  １７２、ＵＳ−Ａ  ２  ９９１  ２７３、ＵＳ−Ａ  ３  ２７１  ３６７、ＵＳ−Ａ  ４  ９８２  ０１４、ＵＳ−Ａ  ２  ９９９  ８４６、ＤＥ−Ａ  １  ５７０  ７０３、ＤＥ−Ａ  ２  ０６３  ０５０、ＤＥ−Ａ  ２  ０３６  ０５２、ＤＥ−Ａ  ２  ２１１  ９５６、ＤＥ−Ａ  ３  ８３２  ３９６、およびＦＲ−Ａ  １  ５６１  ５１８および特開昭６１−０６２０３９、特開昭６１−０６２０４０および特開昭６１−１０５５５０に記載されている。
【００２４】
１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンおよびその製造は、例えばＵＳ−Ａ  ４  ９８２  ０１４に記載されている。
【００２５】
インダンビスフェノールおよびその製造は、例えば、ＵＳ−Ａ  ３  ２８８  ８６４、ＪＰ−Ａ  ６０  ０３５  １５０およびＵＳ−Ａ  ４  ３３４  １０６に記載されている。インダンビスフェノールは、例えば、イソプロペニルフェノールもしくはその誘導体から、またはイソプロペニルフェノールの二量体もしくはその誘導体から、フリーデル−クラフツ触媒の存在下において有機溶媒中で製造されうる。
【００２６】
ポリカーボネートは既知の方法によって製造されうる。ポリカーボネートの好適な製造方法は、例えば、ビスフェノールとホスゲンとからの界面法による製造またはビスフェノールとホスゲンとからの均質相における方法、いわゆるピリジン法、による製造、またはビスフェノールと炭酸エステルとからの溶融エステル交換法による製造である。これらの製造方法は、例えば、Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌ，“Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ”，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｒｅｖｉｅｗｓ，第９巻，３１〜７６頁，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，ニューヨーク，ロンドン，シドニー，１９６４年に記載されている。言及されている製造方法は、更に、  Ｄ．Ｆｒｅｉｔａｇ，Ｕ．Ｇｒｉｇｏ，Ｐ．Ｒ．Ｍｕｅｌｌｅｒ，Ｈ．Ｎｏｕｖｅｒｔｎｅ，“Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ”ｉｎ  Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ａｎｄ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，第１１巻，第２版，１９８８年，６４８〜７１８頁およびＵ．Ｇｒｉｇｏ，Ｋ．Ｋｉｒｃｈｅｒ  ａｎｄ  Ｐ．Ｒ．Ｍｕｅｌｌｅｒ“Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ”ｉｎ  Ｂｅｃｋｅｒ，Ｂｒａｕｎ，Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆ−Ｈａｎｄｂｕｃｈ，第３／１巻，Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ，Ｐｏｌｙａｃｅｔａｌｅ，Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ，Ｃｅｌｌｕｌｏｓｅｅｓｔｅｒ，Ｃａｒｌ  Ｈａｎｓｅｒ  Ｖｅｒｌａｇ  Ｍｕｎｉｃｈ，ウィーン１９９２年，１１７〜２９９頁およびＤ．Ｃ．Ｐｒｅｖｏｒｓｅｋ，Ｂ．Ｔ．Ｄｅｂｏｎａ  ａｎｄ  Ｙ．Ｋｅｓｔｅｎ，Ｃｏｒｐｏｒａｔｅ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ  Ｃｅｎｔｅｒ，Ａｌｌｉｅｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，モリスタウン，ニュージャージー０７９６０，“Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  ｏｆ  Ｐｏｌｙ（ｅｓｔｅｒｃａｒｂｏｎａｔｅ）Ｃｏｐｏｌｙｍｅｒｓ”ｉｎ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｅｄｉｔｉｏｎ，第１９巻，７５〜９０（１９８０年）にも記載されている。
【００２７】
溶融エステル交換法は、特に、例えば、Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌ，“Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ”，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｒｅｖｉｅｗｓ，第９巻，４４〜５１頁，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，ニューヨーク，ロンドン，シドニー，１９６４年およびＤＥ−Ａ  １  ０３１  ５１２に記載されている。
【００２８】
汚染度が低い原料および補助物質がポリカーボネートの製造に好ましく用いられる。溶融エステル交換法による製造では、特に、用いられるビスフェノールおよび用いられる炭酸誘導体はできるだけアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンを含まないべきである。このように純粋な原料は、例えば、炭酸誘導体、例えば炭酸エステル、およびビスフェノールの再結晶、洗浄または蒸留によって得られる。
【００２９】
本発明による好適なポリカーボネートの重量平均モル質量（Ｍｗ）は１０，０００〜２００，０００ｇ／ｍｏｌであり、これは例えば超遠心法または散乱光測定によって決定されうる。特に好ましくは重量平均モル質量１２，０００〜８０，０００ｇ／ｍｏｌ、特に好ましくは２０，０００〜３５，０００ｇ／ｍｏｌである。
【００３０】
本発明によるポリカーボネートの平均モル質量は、例えば既知の方法で適切な量の連鎖停止剤によって調節されうる。連鎖停止剤は単独で使用されても様々な連鎖停止剤の混合物として使用されてもよい。
【００３１】
モノフェノールとモノカルボン酸の両方が好適な連鎖停止剤である。好適なモノフェノールは、例えば、フェノール、ｐ−クロロフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、クミルフェノールまたは２，４，６−トリブロモフェノール、並びに長鎖アルキルフェノール、例えば４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノール、またはアルキル置換基中にＣ原子を全部で８〜２０個有するモノアルキルフェノールもしくはジアルキルフェノール、例えば３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−オクチルフェノール、ｐ−ドデシルフェノール、２−（３，５−ジメチル−ヘプチル）−フェノールまたは４−（３，５−ジメチル−ヘプチル）−フェノールである。好適なモノカルボン酸は、安息香酸、アルキル安息香酸およびハロゲノ安息香酸である。
【００３２】
好ましい連鎖停止剤は、フェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノールおよびクミルフェノールである。
【００３３】
連鎖停止剤の量は、好ましくは、用いられる特定のビスフェノールのモルの合計に対して０．２５〜１０ｍｏｌ％である。
【００３４】
本発明による好適なポリカーボネートは、既知の方法で、特に好ましくは３官能価以上の分枝剤の添加によって分枝されうる。好適な分枝剤は、例えば３以上のフェノール性基を有する分枝剤または３以上のカルボン酸基を有する分枝剤である。
【００３５】
好適な分枝剤は、例えばフロログルシノール、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシ−フェニル）−ヘプト−２−エン、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプタン、１，３，５−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ベンゼン、１，１，１−トリス−（４−ヒドロキシフェニル）−エタン、トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−フェニルメタン、２，２−ビス−［４，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキシル］−プロパン、２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル−イソプロピル）−フェノール、２，６−ビス−（２−ヒドロキシ−５’−メチル−ベンジル）−４−メチルフェノール、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−プロパン、ヘキサ−（４−（４−ヒドロキシフェニル−イソプロピル）−フェニル）−テレフタル酸エステル、テトラ−（４−ヒドロキシフェニル）−メタン、テトラ−（４−（４−ヒドロキシフェニル−イソプロピル）−フェノキシ）−メタンおよび１，４−ビス−（４’，４’’−ジヒドロキシトリフェニル）−メチルベンゼン、並びに２，４−ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸、塩化シアヌル、３，３−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−オキソ−２，３−ジヒドロインドール、トリメシン酸三塩化物およびα，α’，α’’−トリス−（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリイソプロピルベンゼンである。
【００３６】
好ましい分枝剤は、１，１，１−トリス−（４−ヒドロキシフェニル）−エタンおよび３，３−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−オキソ−２，３−ジヒドロインドールである。
【００３７】
要すれば使用される分枝剤の量は、好ましくは使用されるビスフェノールのモルに対して０．０５ｍｏｌ％〜２ｍｏｌ％である。
【００３８】
界面法によるポリカーボネートの製造の場合、例えば、分枝剤は最初に水性アルカリ相中でビスフェノールおよび連鎖停止剤と共に導入されても、有機溶媒中の溶液として炭酸誘導体と共に添加されてもよい。エステル交換法の場合、分枝剤は、好ましくはジヒドロキシ芳香族化合物またはビスフェノールと共に計量添加される。
【００３９】
溶融エステル交換法によるポリカーボネートの製造において好ましく使用される触媒は、文献で知られているアンモニウム塩およびホスホニウム塩である（例えば、ＵＳ−Ａ  ３  ４４２  ８６４、特公昭４７−０１４７４２、ＵＳ−Ａ  ５  ３９９  ６５９およびＤＥ−Ａ  １９  ５３９  ２９０参照。）。
【００４０】
コポリカーボネートもまた使用されうる。本発明との関連でのコポリカーボネートは、特に、ポリジオルガノシロキサン／ポリカーボネートブロックコポリマーであり、この重量平均モル質量（Ｍｗ）は、好ましくは１０，０００〜２００，０００ｇ／ｍｏｌ、特に好ましくは２０，０００〜８０，０００ｇ／ｍｏｌである（光散乱測定または超遠心法による事前較正の後にゲルクロマトグラフィーによって測定される。）。ポリジオルガノシロキサン／ポリカーボネートブロックコポリマー中の芳香族カーボネート構造ユニットの含量は、好ましくは７５〜９７．５ｗｔ．％、特に好ましくは８５〜９７ｗｔ．％である。ポリジオルガノシロキサン／ポリカーボネートブロックコポリマー中のポリジオルガノシロキサン構造ユニットの含量は、好ましくは２５〜２．５ｗｔ．％、特に好ましくは１５〜３ｗｔ．％である。ポリジオルガノシロキサン／ポリカーボネートブロックコポリマーは、例えばα，ω−ビスヒドロキシアリールオキシ末端基を含み、好ましくは平均重合度Ｐｎ＝５〜１００、特に好ましくはＰｎ＝２０〜８０を有するポリジオルガノシロキサンから出発して製造されうる。
【００４１】
常套の添加剤、例えば離型剤、を、溶融状態のポリカーボネートに混合しても表面に適用してもよい。好ましくは、使用されるポリカーボネートは、本発明による成形組成物の別の成分と配合する前に既に離型剤を含んでいる。
【００４２】
成分Ｂ
【００４３】
本発明によると、本発明の組成物は、成分（Ｂ）として１種類のポリアルキレンテレフタレートまたは２以上の異種ポリアルキレンテレフタレートの混合物を含有する。本発明との関連でポリアルキレンテレフタレートは、テレフタル酸（またはその反応性誘導体）とアルカンジオール、例えばプロピレングリコールもしくはブタンジオールベースのアルカンジオールから誘導されるポリアルキレンテレフタレートである。本発明によると、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートおよび／またはポリトリメチレンテレフタレートが成分（Ｂ）として使用され、最も好ましくはポリブチレンテレフタレートが成分（Ｂ）として使用される。
【００４４】
本発明との関連で、ポリアルキレンテレフタレートは、芳香族ジカルボン酸またはその反応性誘導体（例えばジメチルエステルもしくは無水物）と、脂肪族、脂環式または芳香脂肪族ジオールと、の反応生成物および上記反応生成物の混合物である。
【００４５】
好ましいポリアルキレンテレフタレートは、テレフタル酸（またはその反応性誘導体）と、Ｃ原子を２〜１０個有する脂肪族または脂環式ジオールと、から既知の方法によって製造されうる（Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆ−Ｈａｎｄｂｕｃｈ，第ＶＩＩＩ巻，６９５頁以降，Ｋａｒｌ−Ｈａｎｓｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ，ミュンヘン１９７３年）。
【００４６】
好ましいポリアルキレンテレフタレートは、ジカルボン酸に対して少なくとも８０ｍｏｌ％、好ましくは９０ｍｏｌ％のテレフタル酸基と、ジオール成分に対して少なくとも８０ｍｏｌ％、好ましくは少なくとも９０ｍｏｌ％のエチレングリコールおよび／またはプロパン−１，３−ジオールおよび／またはブタン−１，４−ジオールの基とを含む。
【００４７】
好ましいポリアルキレンテレフタレートは、テレフタル酸基に加えて、Ｃ原子を８〜１４個有する別の芳香族ジカルボン酸またはＣ原子を４〜１２個有する脂肪族ジカルボン酸の基、例えばフタル酸、イソフタル酸、ナフタレン−２，６−ジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、シクロヘキサン二酢酸およびシクロヘキサンジカルボン酸の基、を２０ｍｏｌ％以下含んでいてもよい。
【００４８】
好ましいポリアルキレンテレフタレートは、エチレングリコールまたはプロパン−１，３−ジオールまたはブタン−１，４−ジオールの基に加えて、Ｃ原子を３〜１２個有する別の脂肪族ジオールまたはＣ原子を６〜２１個有する脂環式ジオール、例えば１，３−プロパンジオール、２−エチルプロパン−１，３−ジオール、ネオペンチルグリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール、３−メチル−ペンタン−２，４−ジオール、２−メチルペンタン−２，４−ジオール、２，２，４−トリメチルペンタン−１，３−ジオールおよび２−エチルヘキサン−１，６−ジオール、２，２−ジエチルプロパン−１，３−ジオール、２，５−ヘキサンジオール、１，４−ジ−（β−ヒドロキシエトキシ）−ベンゼン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシシクロヘキシル）−プロパン、２，４−ジヒドロキシ−１，１，３，３−テトラメチル−シクロブタン、２，２−ビス−（３−β−ヒドロキシエトキシフェニル）−プロパンおよび２，２−ビス−（４−ヒドロキシプロポキシフェニル）−プロパンを２０ｍｏｌ％以下含んでいてもよい（ＤＥ−Ａ  ２４  ０７  ６７４、２４  ０７  ７７６および２７  １５  ９３２）。
【００４９】
ポリアルキレンテレフタレートは、比較的少量の３−もしくは４−価アルコールまたは３−もしくは４−塩基カルボン酸（例えばＤＥ−Ａ  １９  ００  ２７０およびＵＳ−Ａ  ３  ６９２  ７４４に記載されている。）の添加によって分枝してもよい。好ましい分枝剤の例は、トリメシン酸、トリメリット酸、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパンおよびペンタエリトリトールである。
【００５０】
酸成分に対して分枝剤を１ｍｏｌ％よりも多く使用しないことが有利である。
【００５１】
専らテレフタル酸またはその反応性誘導体（例えばジアルキルエステル、例えばジメチルテレフタレート）と、エチレングリコールおよび／またはプロパン−１，３−ジオールおよび／またはブタン−１，４−ジオールと、のみから製造されたポリアルキレンテレフタレート（ポリエチレンテレフタレートおよびポリブチレンテレフタレート）並びにこのポリアルキレンテレフタレートの混合物が特に好ましい。
【００５２】
好ましいポリアルキレンテラフタレートは、更に、少なくとも２種類の上記酸成分および／または少なくとも２種類の上記アルコール成分から製造されるコポリエステルであり、特に好ましいコポリエステルはポリ（エチレングリコール／ブタン−１，４−ジオール）テレフタレートである。
【００５３】
ポリアルキレンテラフタレートの固有粘度は、概して約０．４〜１．５ｄＬ／ｇ、好ましくは０．５〜１．３ｄＬ／ｇである（それぞれフェノール／ｏ−ジクロロベンゼン（１：１重量部）中で２５℃において測定される。）。
【００５４】
好ましくは、本発明によって製造されるポリエステルもまた別のポリエステルおよび／または別のポリマーとの混合物で使用されうる。ポリアルキレンテレフタレートと別のポリエステルとの混合物が特に好ましく使用される。
【００５５】
常套の添加剤、例えば離型剤、安定剤および／またはフロー剤は、溶融状態でポリエステルと混合しても表面に適用してもよい。
【００５６】
成分Ｃ
【００５７】
成分Ｃは、
Ｃ．１  Ｃ．２上の少なくとも１種類のビニルモノマー、５〜９５ｗｔ．％、好ましくは３０〜９０ｗｔ．％、
Ｃ．２  ジエンゴム、ＥＰ（Ｄ）Ｍゴム（すなわち、エチレン／プロピレンおよび任意にジエンベースのゴム）およびアクリレート、ポリウレタン、シリコーン、シリコーン／アクリレート、クロロプレンおよびエチレン／酢酸ビニルゴムからなる群から選択される少なくとも１種類のグラフトベース、９５〜５ｗｔ．％、好ましくは７０〜１０ｗｔ．％
の１種類以上のグラフトポリマーを含む。
【００５８】
グラフトベースＣ．２の平均粒度（ｄ５０値）は、概して０．０５〜１０μｍ、好ましくは０．１〜５μｍ、特に好ましくは０．２〜１μｍである。
【００５９】
モノマーＣ．１は、好ましくは、
Ｃ．１．１  ビニル芳香族化合物および／または核置換ビニル芳香族化合物（例えばスチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレンおよびｐ−クロロスチレン）および／または（メタ）アクリル酸（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルエステル（例えばメチルメタクリレートおよびエチルメタクリレート）、５０〜９９重量部と、
Ｃ．１．２  ビニルシアニド（不飽和ニトリル、例えばアクリロニトリルおよびメタクリロニトリル）および／または（メタ）アクリル酸Ｃ１〜Ｃ８−アルキルエステル、例えばメチルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレートおよびｔ−ブチルアクリレート、および／または不飽和カルボン酸の誘導体（例えば無水物およびイミド）、例えば無水マレイン酸およびＮ−フェニル−マレイミド、１〜５０重量部と
の混合物である。
【００６０】
好ましいモノマーＣ．１．１は、スチレン、α−メチルスチレンおよびメチルメタクリレートの少なくとも１種類のモノマーから選択され、好ましいモノマーＣ．１．２は、アクリロニトリル、無水マレイン酸およびメチルメタクリレートの少なくとも１種類のモノマーから選択される。特に好ましいモノマーは、Ｃ．１．１スチレンおよびＣ．１．２アクリロニトリルである。
【００６１】
好ましいグラフトベースＣ．２は、シリコーン／アクリレートゴム、ジエンゴム（例えばブタジエンおよびイソプレンベースのジエンゴム）またはジエンゴムの混合物である。本発明との関連でジエンゴムは、ジエンゴム同士またはジエンゴムと別の共重合性モノマー（例えばＣ．１．１およびＣ．１．２のモノマー。）との混合物のコポリマーを意味するとも理解される。グラフトベースＢ．２のガラス転移温度は、概して１０℃未満、好ましくは０℃未満、特に好ましくは−１０℃未満である。
【００６２】
特に好ましいポリマーＣは、例えばＤＥ−ＯＳ  ２  ０３５  ３９０（＝ＵＳ  ３  ６４４  ５７４）またはＤＥ−ＯＳ  ２  ２４８  ２４２（＝ＧＢ  １  ４０９  ２７５）およびＵｌｌｍａｎｎｓ，Ｅｎｚｙｋｌｏｐａｅｄｉｅ  ｄｅｒ  Ｔｅｃｈｎｉｓｃｈｅｎ  Ｃｈｅｍｉｅ，第１９巻（１９８０年），２８０頁以降に記載されているように、例えば、ＡＢＳポリマー（エマルジョン、バルクおよびサスペンションＡＢＳ）である。グラフトベースＣ．２のゲル含量は、エマルジョン重合で製造されるグラフトベースＣ．２の場合、少なくとも２０ｗｔ．％、好ましくは少なくとも４０ｗｔ．％である（トルエン中で測定。）。
【００６３】
好ましくは、成分Ｃ．１とＣ．２とのグラフトポリマーは、コア−シェル構造を有し、成分Ｃ．１がシェル（更にケーシングとも云う。）を形成し、成分Ｃ．２がコアを形成する（例えばＵｌｌｍａｎｎ’ｓ  Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，ＶＣＨ−Ｖｅｒｌａｇ，第Ａ２１巻，１９９２年，６３５頁および６５６頁参照。）。
【００６４】
グラフトコポリマーＣは、フリーラジカル重合によって、例えばエマルジョン、サスペンション、溶液またはバルク重合によって、好ましくはエマルジョンまたはバルク重合によって製造される。
【００６５】
特に好適なグラフトゴムは、ＵＳ  ４  ９３７  ２８５に記載の有機ヒドロペルオキシドとアスコルビン酸との開始剤システムを用いるレドックス開始によるエマルジョン重合法で製造されるＡＢＳポリマーである。
【００６６】
知られているように、グラフトモノマーはグラフト反応中にグラフトベース上に必ずしも完全にグラフトする必要がないので、本発明によると、グラフトポリマーＣは、グラフトベースの存在下におけるグラフトモノマーの（共）重合によって製造される生成物および更にワークアップ中に得られる生成物を意味するとも理解される。
【００６７】
ポリマーＣのＣ．２の好適なアクリレートゴムは、好ましくは、アクリル酸アルキルエステルと、要すれば別の重合性エチレン性不飽和モノマー、Ｂ．２に対して４０ｗｔ．％以下、とのポリマーである。好ましい重合性アクリル酸エステルとしては、Ｃ１〜Ｃ８−アルキルエステル、例えばメチル、エチル、ブチル、ｎ−オクチルおよび２−エチルヘキシルエステル、ハロアルキルエステル、好ましくはハロ−Ｃ１〜Ｃ８−アルキルエステル、例えばクロロエチルアクリレート、およびこれらのモノマーの混合物が挙げられる。
【００６８】
架橋のために、１よりも多くの重合性二重結合を有するモノマーを共重合させてもよい。架橋モノマーの好ましい例は、Ｃ原子を３〜８個有する不飽和モノカルボン酸とＣ原子を３〜１２個有する不飽和一価アルコールまたはＯＨ基２〜４個およびＣ原子２〜２０個を有する飽和ポリオールとのエステル、例えばエチレングリコールジメタクリレートおよびアリルメタクリレート；多価不飽和複素環化合物、例えばトリビニルおよびトリアリルシアヌレート；多官能性ビニル化合物、例えばジビニルベンゼンおよびトリビニルベンゼン；更にトリアリルホスフェートおよびジアリルフタレートである。好ましい架橋モノマーは、アリルメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジアリルフタレートおよび少なくとも３つのエチレン性不飽和基を含む複素環化合物である。特に好ましい架橋モノマーは、環状モノマー、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、トリアクリロイルヘキサヒドロ−ｓ−トリアジンおよびトリアリルベンゼンである。架橋モノマーの量は、グラフトベースＣ．２に対して好ましくは０．０２〜５ｗｔ．％、特に０．０５〜２ｗｔ．％である。少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する環状架橋モノマーの場合、量をグラフトベースＣ．２の１ｗｔ．％未満に制限することが有利である。
【００６９】
アクリル酸エステルに加えて任意にグラフトベースＣ．２の製造に役立ちうる好ましい「別の」重合性エチレン性不飽和モノマーは、例えば、アクリロニトリル、スチレン、α−メチルスチレン、アクリルアミド、ビニルＣ１〜Ｃ６−アルキルエーテル、メチルメタクリレートおよびブタジエンである。グラフトベースＣ．２として好ましいアクリレートゴムは、ゲル含量少なくとも６０ｗｔ．％のエマルジョンポリマーである。
【００７０】
Ｃ．２の好適なシリコーンゴムは、例えばＵＳ  ２８９１９２０およびＵＳ  ３２９４７２５に記載されているように、エマルジョン重合によって製造することができる。Ｃ．２の別の好適なグラフトベースは、例えばＤＥ−ＯＳ  ３  ７０４  ６５７、ＤＥ−ＯＳ  ３  ７０４  ６５５、ＤＥ−ＯＳ  ３  ６３１  ５４０およびＤＥ−ＯＳ  ３  ６３１  ５３９に記載されているように、グラフト活性部位を有するシリコーンゴムである。
【００７１】
本発明によると、シリコーン／アクリレートゴムもまたグラフトベースＣ．２として好適である。上記シリコーン／アクリレートゴムは、シリコーンゴム分１０〜９０ｗｔ．％およびポリアルキル（メタ）アクリレートゴム分９０〜１０ｗｔ．％を含むグラフト活性部位を有するコンポジットゴムであり、上記２種類のゴム成分はコンポジットゴム中で互いに浸透して実質的に互いに分離できない。コンポジットゴム中のシリコーンゴム成分の含量が高すぎると、完成樹脂組成物は表面特性が不利であり、あまり容易に着色できない。一方、コンポジットゴム中のポリアルキル（メタ）アクリレートゴム成分の含量が高すぎると、完成樹脂組成物の衝撃強さが悪影響を受ける。シリコーン／アクリレートゴムは既知であり、例えばＵＳ  ５，８０７，９１４、ＥＰ  ４３０１３４およびＵＳ ４８８８３８８に記載されている。Ｃ．１メチルメタクリレートとＣ．２シリコーン／アクリレートコンポジットゴムとのエマルジョン重合において製造されるグラフトポリマーが好ましく使用される。
【００７２】
グラフトベースＣ．２のゲル含量は、好適な溶媒中で２５℃において決定される（Ｍ．Ｈｏｆｆｍａｎｎ，Ｈ．Ｋｒｏｅｍｅｒ，Ｒ．Ｋｕｈｎ，Ｐｏｌｙｍｅｒａｎａｌｙｔｉｋ  Ｉ  ｕｎｄ  ＩＩ，Ｇｅｏｒｇ  Ｔｈｉｅｍｅ−Ｖｅｒｌａｇ，シュトゥットガルト１９７７年）。
【００７３】
平均粒度ｄ５０はその上下にそれぞれ５０ｗｔ．％の粒子が存在する直径である。これは、超遠心測定によって決定されうる（Ｗ．Ｓｃｈｏｌｔａｎ，Ｈ．Ｌａｎｇｅ，Ｋｏｌｌｏｉｄ，Ｚ．ｕｎｄ  Ｚ．Ｐｏｌｙｍｅｒｅ  ２５０（１９７２年），７８２〜１７９６）。
【００７４】
成分Ｄ
【００７５】
本発明との関連で、ホスフィン酸の塩（成分Ｄ）は、ホスフィン酸と所望の金属カチオンとの塩を意味すると理解されるべきである。金属カチオンが異なる塩の混合物を使用してもよい。金属カチオンは、周期表の第１主族の金属のカチオン（アルカリ金属、好ましくはＬｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋）、第２主族の金属のカチオン（アルカリ土類金属；好ましくはＭｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｓｒ２＋、Ｂａ２＋、特に好ましくはＣａ２＋）または第３主族の金属のカチオン（ホウ素族の元素；好ましくはＡｌ３＋）および／または第２、７もしくは８亜族の金属のカチオン（好ましくはＺｎ２＋、Ｍｎ２＋、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋）である。
【００７６】
好ましくは、式（ＩＶ）
【化３】
0005485908.tif 000004
〔式中、
Ｍｍ＋  は、周期表の第１主族の金属カチオン（アルカリ金属；ｍ＝１）、第２主族の金属カチオン（アルカリ土類金属；ｍ＝２）または第３主族の金属カチオン（ｍ＝３）または第２、７もしくは８亜族の金属カチオン（ｍは１〜６の整数、好ましくは１〜３の整数、特に好ましくは２または３である。）である。〕
のホスフィン酸の塩またはその混合物を使用する。
【００７７】
特に好ましくは、式（ＩＶ）において、
ｍ＝１の場合、金属カチオンＭ＋は、Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋であり、
ｍ＝２の場合、金属カチオンＭ２＋は、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｓｒ２＋、Ｂａ２＋であり、
ｍ＝３の場合、金属カチオンＭ３＋は、Ａｌ３＋であり、
Ｃａ２＋（ｍ＝２）およびＡｌ３＋（ｍ＝３）が非常に好ましい。
【００７８】
好ましい態様では、ホスフィン酸塩（成分Ｄ）の平均粒度ｄ５０は８０μｍ未満、好ましくは６０μｍ未満であり、ｄ５０は特に好ましくは１０μｍ〜５５μｍである。平均粒度ｄ５０は、その上下にそれぞれ５０ｗｔ．％の粒子が存在する直径である。平均粒度ｄ５０が異なる塩の混合物を使用してもよい。
【００７９】
ホスフィン酸塩の粒度ｄ５０へのこれらの要求は、それぞれ、ホスフィン酸塩の防炎性を増加させる技術的効果に関連する。
【００８０】
ホスフィン酸塩は、単独で使用しても別のリン含有防炎加工剤との組み合わせで使用してもよい。本発明による組成物は、好ましくは、モノマーおよびオリゴマーリン酸エステル、ホスホン酸エステル、ホスホネートアミンおよびホスファゼンの群から選択されるリン含有防炎加工剤を含まない。これらの別のリン含有防炎加工剤、例えばモノマーおよびオリゴマーリン酸エステルおよびホスホン酸エステル、はホスフィン酸塩と比較して、成形組成物の加熱撓み温度を低下させるという欠点を有する。
【００８１】
成分Ｅ
【００８２】
成分Ｅは、１種類以上の熱可塑性ビニル（コ）ポリマーＥ．１を含む。
【００８３】
好適なビニル（コ）ポリマーＥ．１は、ビニル芳香族化合物、ビニルシアニド（不飽和ニトリル）、（メタ）アクリル酸（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルエステル、不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸の誘導体（例えば無水物およびイミド）の群からの少なくとも１種類のモノマーのポリマーである。特に好適な（コ）ポリマーは、
Ｅ．１．１  ビニル芳香族化合物および／または核置換ビニル芳香族化合物、例えばスチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレンおよびｐ−クロロスチレン、および／または（メタ）アクリル酸（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルエステル、例えばメチルメタクリレートおよびエチルメタクリレート、５０〜９９重量部、好ましくは６０〜８０重量部と、
Ｅ．１．２  ビニルシアニド（不飽和ニトリル）、例えばアクリロニトリルおよびメタクリロニトリル、および／または（メタ）アクリル酸（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルエステル、例えばメチルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレートおよびｔ−ブチルアクリレート、および／または不飽和カルボン酸、例えばマレイン酸、および／または不飽和カルボン酸の誘導体（例えば無水物およびイミド）（例えば無水マレイン酸およびＮ−フェニルマレイミド）、１〜５０重量部、好ましくは２０〜４０重量部と
の（コ）ポリマーである。
【００８４】
ビニル（コ）ポリマーＥ．１は、樹脂状であり、熱可塑性であり、ゴムを含まない。Ｅ．１．１スチレンとＥ．１．２アクリロニトリルとのコポリマーが特に好ましい。
【００８５】
Ｅ．１の（コ）ポリマーは、既知であり、フリーラジカル重合によって、特にエマルジョン、サスペンション、溶液またはバルク重合によって製造されうる。上記（コ）ポリマーは、好ましくは平均分子量Ｍｗ（重量平均、光散乱または沈殿法によって測定される。）が１５，０００〜２００，０００である。
【００８６】
成分Ｆ
【００８７】
本発明の組成物は、更に、成分（Ｆ）の市販の添加剤、例えば防炎性相乗剤、アンチドリップ剤（例えばフッ素化ポリオレフィン、シリコーンおよびアラミド繊維の物質クラスの化合物）、滑剤および離型剤（例えばペンタエリトリトールテトラステアレート）、成核剤、安定剤、帯電防止剤（例えば導電性カーボンブラック、カーボンファイバー、カーボンナノチューブおよび有機帯電防止剤、例えばポリアルキレンエーテル、アルキルスルホネートまたはポリアミド含有ポリマー）、酸、充填剤および強化物質（例えばグラスファイバーまたはカーボンファイバー、マイカ、カオリン、タルク、ＣａＣＯ３およびガラスフレーク）および染料および顔料を含有していてもよい。フッ素化ポリオレフィンは、好ましくはフッ素化ポリオレフィンのエマルジョンと、ビニル（コ）ポリマーＥ．１のエマルジョン、特に好ましくはスチレン／アクリロニトリルベースのコポリマーのエマルジョン、と、の凝集混合物の形態で使用される。
【００８８】
成形組成物および成形物品の製造
【００８９】
本発明による熱可塑性成形組成物は、特定の成分を既知の方法で混合し、この混合物を２６０℃〜３００℃の温度で常套のユニット、例えば内部ニーダー、押出機および二軸押出機、において溶融配合し、溶融押出することによって製造される。
【００９０】
個々の成分の混合は、既知の方法で連続的にまたは同時に、特に約２０℃（室温）においてまたは高温において行われうる。
【００９１】
同様に、本発明は、成形組成物の製造方法およびこの成形組成物の成形物品の製造への使用および成形品そのものも提供する。
【００９２】
本発明による成形組成物はあらゆるタイプの成形物品の製造に使用されうる。上記成形物品は、射出成形法、押出成形法およびブロー成形法によって製造されうる。別の加工形態は、予め製造されたシートまたはフィルムからの熱成形による成形物品の製造である。
【００９３】
そのような成形物品の例は、フィルム、プロファイル、あらゆるタイプのハウジング部品、例えば屋内電気器具、例えばテレビ、果汁圧搾機、コーヒーマシーンおよびミキサー用のハウジング部品；オフィス機器、例えばモニタ、フラットスクリーン、ノートパソコン、プリンタおよびコピー機用のハウジング部品；シート、チューブ、電気設備コンジット、ウィンドウ、ドアおよび建築部門用の別のプロファイル（屋内仕上げ材および屋外用途）および電気部品および電子部品（例えばスイッチ、プラグおよびソケット）、および実用車用の、特に自動車分野用の、車体または屋内部品である。
【００９４】
本発明による成形組成物は、更に、特に、例えば下記成形物品または成形品の製造にも使用できる：鉄道車両、船舶、航空機、バスおよび別の自動車用の屋内仕上げ部品、小型変圧器を含む電気設備のハウジング、情報の処理および伝達用の装置のハウジング、医療機器のハウジングおよびライニング、マッサージ器具およびそのハウジング、子供用乗物玩具、平壁要素（ｐｌａｎａｒ  ｗａｌｌ  ｅｌｅｍｅｎｔｓ）、安全装置およびテレビ用のハウジング、断熱輸送容器、衛生設備および浴室用の成形品、通気口用のカバー格子および園芸用品用ハウジング。
【００９５】
下記実施例は、本発明を更に説明するのに役立つ。
【実施例】
【００９６】
成分Ａ
溶媒としてのＣＨ２Ｃｌ２中で２５℃および濃度０．５ｇ／１００ｍＬにおいて測定される相対溶液粘度ηｒｅｌ＝１．３１５±０．０５のビスフェノールＡベースの直鎖ポリカーボネート。
【００９７】
成分Ｂ−１
ＤＩＮ  ５４  ８１１に準拠する２６５℃および剪断速度５００秒−１における溶融粘度２７５Ｐａ・ｓの直鎖ポリエチレンテレフタレート（ドイツ国ハタースハイム・アム・マイン在ＩＮＶＩＳＴＡ  Ｒｅｓｉｎｓ＆Ｆｉｂｅｒｓ  ＧｍｂＨ製のＩｎｖｉｓｔａ  ＲＴ−６０１２）。
【００９８】
成分Ｂ−２
ＤＩＮ  ５４  ８１１に準拠する２４０℃および剪断速度５００秒−１における溶融粘度６２２Ｐａ・ｓの直鎖ポリブチレンテレフタレート（ドイツ国ハタースハイム・アム・マイン在ＩＮＶＩＳＴＡ  Ｒｅｓｉｎｓ＆Ｆｉｂｅｒｓ  ＧｍｂＨ製のＩｎｖｉｓｔａ  ＲＴ−６０１２）。
【００９９】
成分Ｃ
アクリロニトリル２７ｗｔ．％とスチレン７３ｗｔ．％との混合物、ＡＢＳポリマーに対して４３ｗｔ．％の、粒子の形態に架橋されているポリブタジエンゴム（平均粒径ｄ５０＝０．３〜０．４μｍ）、ＡＢＳポリマーに対して５７ｗｔ．％の存在下におけるエマルジョン重合によって製造されるＡＢＳグラフトポリマー。
【０１００】
成分Ｄ
【０１０１】
成分Ｄ−１（比較）
ビスフェノールＡベースのオリゴホスフェート
【化４】
0005485908.tif 000005
【０１０２】
成分Ｄ−２
平均粒度ｄ５０＝５０μｍのホスフィン酸カルシウム
【０１０３】
成分Ｆ
【０１０４】
成分Ｆ−１：  フッ素化ポリオレフィンのエマルジョンとスチレン／アクリロニトリルベースのコポリマーのエマルジョンとの凝集混合物（Ｃｈｅｍｔｕｒａ製のＢｌｅｎｄｅｘＴＭ４４９）
成分Ｆ−２：  ペンタエリトリトールテトラステアレート
成分Ｆ−３：  Ｉｒｇａｎｏｘ  Ｂ９００（製造業者：スイス国バーゼル在Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ  Ｉｎｃ．）
【０１０５】
成形組成物の製造および試験
【０１０６】
表１に示される出発物質を、二軸押出機（ＺＳＫ−２５）（Ｗｅｒｎｅｒ  ｕｎｄ  Ｐｆｌｅｉｄｅｒｅｒ）において回転速度２２５ｒｐｍおよび処理量１８ｋｇ／時間でマシーン温度２６０℃において配合し、グラニュール化する。
【０１０７】
完成グラニュールを射出成形マシーンにおいて処理して対応試験片を生じる（溶融温度２６０℃、金型温度８０℃、メルトフロント速度２４０ｍｍ／秒）。
【０１０８】
ＩＳＯ  ５２７−１／−２（引張弾性率）、ＩＳＯ  ３０６（ビカー軟化温度、５０Ｎの負荷および加熱速度１２０Ｋ／時間を用いる方法Ｂ）、ＩＳＯ  ７５−１／−２（加熱撓み温度ＨＤＴ、曲げストレス１．８０ＭＰａを用いる方法Ａｆおよび曲げストレス０．４５ＭＰａを用いる方法Ｂｆ）、および厚さ３．０ｍｍと１．５ｍｍにおけるＵＬ  ９４  Ｖに準拠して同定を行う。
【０１０９】
表１から、ポリカーボネートとポリエステルとホスフィン酸カルシウムとの組み合わせを有する実施例４、５、６および１０、１１、１２の本発明による組成物のみが本発明の目標を達成すること、すなわち、高い弾性率と、高い加熱撓み温度と、ＵＬ９４Ｖ試験における良好な能力との組み合わせを示すことがわかる。
【０１１０】
【表１】
0005485908.tif 000006