(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
スペクトル分析装置のためのランプモジュールであって、該ランプモジュールはランプ収容体（１）を有しており、該ランプ収容体（１）は合成石英ガラスから成るランプバルブを備えた重水素ランプ（２）を収容するための中空室（１ａ）を有しており、該中空室（１ａ）は光学的な放射線透過エレメント（５）によって閉鎖されている放射線進出開口（４）を備えている、ランプモジュールにおいて、
前記放射線進出開口（４）内で、前記光学的な放射線透過エレメント（５）の前記重水素ランプ（２）寄りの側に、ＶＵＶエッジフィルタ（６；９）が設けられていることを特徴とする、ランプモジュール。
【請求項２】
前記ランプバルブは前記ランプ収容体の中空室（１２）内に、０．５〜５ｍｍの範囲にある幅を持った間隙（２ａ）を残したままで挿入されていることを特徴とする、請求項１記載のランプモジュール。
【請求項３】
前記光学的な放射線透過エレメント（５）は、前記ランプバルブから最大２０ｍｍの間隔を置いて前記放射線進出開口（４）内に配置されていることを特徴とする、請求項１又は２記載のランプモジュール。
【請求項４】
前記間隙（２ａ）は真空状態に維持されるか、又は無酸素ガスによって充填されていることを特徴とする、請求項２記載のランプモジュール。
【請求項５】
前記ランプ収容体（１）は金属製の冷却体として形成されていることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか一項記載のランプモジュール。
【請求項６】
前記エッジフィルタ（６）は前記放射線進出開口（４）において、前記光学的な放射線透過エレメント（５）の表面に直接的に配置されていることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか一項記載のランプモジュール。
【請求項７】
前記エッジフィルタ（９）は前記放射線進出開口（４）において、前記光学的な放射線透過エレメント（５）の表面から間隔を置いて配置されていることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか一項記載のランプモジュール。
【請求項８】
前記エッジフィルタ（９）は０．１〜１ｍｍの範囲の厚さを有していることを特徴とする、請求項７記載のランプモジュール。
【請求項９】
前記エッジフィルタ（６；９）は吸収フィルタ、干渉フィルタ、又は前記２つのフィルタ型式の組合せであることを特徴とする、請求項１から８までのいずれか一項記載のランプモジュール。
【請求項１０】
前記エッジフィルタ（６；９）は多層材料を有していることを特徴とする、請求項１から９までのいずれか一項記載のランプモジュール。
【請求項１１】
前記放射線進出開口（４）は外方に向けてシールされていることを特徴とする、請求項１から１０までのいずれか一項記載のランプモジュール。
【請求項１２】
前記エッジフィルタ（６；９）は１８０〜２００ｎｍの範囲の吸収端を有していることを特徴とする、請求項１から１１までのいずれか一項記載のランプモジュール。
【請求項１３】
前記ランプ収容体（１）の中空室（１２）に第２のスペクトルランプ（３）が配置されており、該第２のスペクトルランプ（３）の放射線が前記重水素ランプ（２）のランプバルブを通って放射線進出開口（４）に向かって変向されることを特徴とする、請求項１から１２までのいずれか一項記載のランプモジュール。
【請求項１４】
前記第２のスペクトルランプ（３）はハロゲンランプ又はＬＥＤであることを特徴とする、請求項１３記載のランプモジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、合成石英ガラスから成るランプバルブを備えた重水素ランプを収容するために、光学的な放射線透過エレメントによって閉鎖されている放射線進出開口を備えた中空室を有するランプ収容体を備えた、特にスペクトル分析装置のためのランプモジュールに関する。
【０００２】
スペクトル分析装置は、所望の波長領域における線のない連続スペクトルを意図した、高い光学的な安定性を必要とする。重水素ランプは、１８０ｎｍ〜約４００ｎｍまでの領域における極めて強力なＵＶ放射線を放出するので、ＵＶ分光学にとって有利な放射源である。拡幅されたスペクトルをカバーするために、重水素ランプに加えて、可視領域までの所定のスペクトルを備えた第２のランプ、通常ハロゲンランプが接続される。上述の組み合わされたランプモジュールのスペクトルは、１８０ｎｍ〜１１００ｎｍの間の波長領域にある。
【０００３】
重水素ランプの使用時の問題は、１９０ｎｍを下回る重水素プラズマの放射線部分によるオゾン生成である。この問題には、重水素ランプのランプバルブのために、１９０ｎｍより小さな波長を備えた放射線を吸収する特別なホウケイ酸ガラス、いわゆる「ＵＶガラス」を選択することで対処することができる。しかしＵＶガラスは勾配の急な吸収推移を有しておらず、吸収推移は平坦になり、より長波状の領域を形成する。これにより１９０ｎｍ〜２８０ｎｍの間の作用放射線（Ａｒｂｅｉｔｓｓｔｒａｈｌｕｎｇ）の一部もランプバルブにおいて吸収されるので、スペクトル分析の目的のためには提供されない。
【０００４】
重水素ランプの別の構成において、１９０ｎｍを下回る波長のための干渉又は吸収フィルタとして作用する層によって全体的に又は部分的に覆われている合成石英ガラスから成るランプバルブが使用される。このランプ型式は「オゾンフリー」と定義されて、オゾンを生成する波長の放射線はランプバルブから進出しない。しかしオゾンを抑制するフィルタ層のランプバルブへの直接的な供給には手間がかかり、かつランプモジュールの広幅な構成に基づき小さな空隙しか提供されない。
【０００５】
さらにオゾンフィルタを用いない重水素ランプが市場に出回っている。この重水素ランプにおいては短波のスペクトル領域における作用時に発生するオゾンは、外部に強制的に脱気されるか、又はいわゆるオゾン吸収体がオゾンを周囲への流出前に遮る。
【背景技術】
【０００６】
特許文献１において石英ガラスバルブを用いた重水素ランプが公知になっている。発生した放射線が貫通するランプバルブの部分領域は、ランプバルブの外面をオゾン抑制型のフィルタによってカバーされている。このフィルタは層構造を備えた干渉フィルタである。この構成において個々の層は高真空装置において蒸着により形成される。薄膜技術におけるこの被着法は費用が高く、特に湾曲した表面における均質な層構造の形成のためには絶対的に適していない。さらにランプバルブの表面に直接的にかかる上記フィルタ層への熱負荷は極めて高く、既に上記ランプの製造時に、特に上記ランプを比較的長く使用した場合に、フィルタの損傷が起こることがある。
【０００７】
さらに特許文献２においてオゾンフィルタを用いない重水素ランプが公知になっている。ランプバルブは、背面から冷却ベンチレータにより空気流により強制的に冷却されるアルミニウムから成るランプ収容体内に収納されている。ランプバルブ周囲のランプ収容体は、コンデンサレンズが備え付けられている放射線進出のための小さな開口を除いて完全に閉鎖されている。ランプケーシングの放射線進出窓に、放射線を外方に導く接続部材が設けられている。ベンチレータの空気流は実質的に、ランプ収容体を冷却するか若しくは温度調節し、また、管状の放射線進出開口における短波放射線に達しないので、放射線進出開口及びランプバルブに直接的にオゾンが発生することもない。また、放射線進出開口から外方に進出する上記ランプのスペクトルは、１８０ｎｍより小さな波長をも有しているので、ランプモジュールの外側におけるオゾン生成は防がれない。
【０００８】
類似のランプ構造が特許文献３においても公知になっている。しかしこの明細書においては、拡幅された波長スペクトルをスペクトル分析のために使用することができるように、重水素ランプに対して付加的にさらにハロゲンランプが設けられている。上記システムは、スペクトルが可視領域（ＶＩＳ＝ｖｉｓｉｂｌｅ）にまで達するので、ＵＶ−ＶＩＳモジュールとも称呼される。
【０００９】
重水素ランプ及びハロゲンランプは、共通の光軸上に相前後して配置されている。重水素ランプのランプバルブのランプ収容体は、光軸上において、重水素ランプの後方に配置されているハロゲンランプの放射線のための放射線進入開口と、共通の放射線進出開口とを有している。２つのランプバルブは同じランプ収容体において収納されていてもよい。ベンチレータによる冷却部は、ランプケーシングの背面にも配置されており、放射線進出開口から進出する放射線には作用しない。オゾンフィルタは設けられていないので、特許文献２に記載のランプのように、オゾン生成はランプ内部においてのみ抑制されるのであって、ランプの外側でのオゾン生成は抑制されない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】ドイツ連邦共和国特許出願公開第３９０２１４４号明細書
【特許文献２】欧州特許出願公開第１１８６８２８号明細書
【特許文献３】欧州特許出願公開第１２０１９８４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の目的は、長寿命を有し、廉価に製造可能で、１９０〜２５０ｎｍの波長領域の高い出力を保証する、オゾンフィルタを有する重水素ランプを備えたランプモジュールを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的は、放射線進出開口、及び光学的な放射線透過エレメントの重水素ランプ寄りの側に、ＶＵＶエッジフィルタが設けられていることにより達成される。
【００１３】
有利には、ランプバルブはランプ収容体の中空室内に、０．５〜５ｍｍの範囲にある幅を持った間隙を残したままで挿入されている。
【００１４】
有利には、光学的な放射線透過エレメントは、ランプバルブから最大２０ｍｍの間隔を置いて放射線進出開口内に配置されている。
【００１５】
有利には、間隙は真空状態に維持されるか、又は無酸素ガスによって充填されている。
【００１６】
有利には、ランプ収容体は金属製の冷却体として形成されている。
【００１７】
有利には、エッジフィルタは放射線進出開口において、光学的な放射線透過エレメントの表面に直接的に配置されている。
【００１８】
有利には、エッジフィルタは放射線進出開口において、光学的な放射線透過エレメントの表面から間隔を置いて配置されている。
【００１９】
有利には、エッジフィルタは０．１〜１ｍｍの範囲の厚さ、有利には最大０．３ｍｍの厚さを有している。
【００２０】
有利には、エッジフィルタは吸収フィルタ、干渉フィルタ、又はこれら２つのフィルタ型式の組合せである。
【００２１】
有利には、エッジフィルタは多層材料を有している。
【００２２】
有利には、放射線進出開口は外方に向けてシールされている。
【００２３】
有利には、エッジフィルタは１８０〜２００ｎｍの範囲の吸収端を有している。
【００２４】
有利には、ランプ収容体の中空室に第２のスペクトルランプが配置されており、第２のスペクトルランプの放射線が重水素ランプのランプバルブを通って放射線進出開口に向かって変向される。
【００２５】
有利には、第２のスペクトルランプはハロゲンランプ又はＬＥＤである。
【発明の効果】
【００２６】
本発明に係る重水素ランプにおいて、合成石英ガラスから成るランプバルブが使用される。このランプバルブは約１５０ｎｍまでの短波領域においても優れたＵＶ透過性を保証する。ＶＵＶエッジフィルタは、通常であればランプモジュールの外側においてオゾン生成をもたらすことになる１９０ｎｍより小さな波長を備えた短波のＵＶ放射線を吸収する。したがって、オゾンフィルタを備えた石英ガラスランプバルブの相応のコーティングを省略することができる。これによりランプモジュールのケーシング又はランプ収容体にランプバルブを配置する多様な可能性が生じる。したがって石英ガラスランプバルブは、ランプモジュールの製造のために廉価な構成要素である標準構成部品である。略称であるＶＵＶは、Ｖａｋｕｕｍ−Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔｔ（真空紫外線）のことであり、約１００〜約１９０ｎｍのスペクトル領域を有する。
【００２７】
ランプバルブはランプ収容体によって取り囲まれていて、外気に対するシール部があるので、石英ガラスバルブとケーシング内室との間には小さな空気容積だけが包囲される。この狭く画成された空間において、オゾン生成は石英ガラスバルブから進出する短波放射線により可能であり、上記空間において極めて迅速に飽和した雰囲気になる。この雰囲気は殆ど対流にさらされていないので、ランプモジュールから進出する放射線の安定性に影響を及ぼさない。
【００２８】
放射線進出開口に配置されているＶＵＶエッジフィルタにより、１９０ｎｍより小さな波長領域の厳しいフィルタアウトにより、オゾン生成がランプモジュールの外周においては防がれるということは極めて重要である。したがってフィルタは、１９０ｎｍを上回る波長領域において高い透過を示し、その結果、本発明に係るランプモジュールにおいてスペクトル分析のために使用可能なスペクトルは、大抵の使用には十分に大きい。
【００２９】
石英ガラスバルブの表面から間隔を置いてフィルタを配置することにより、フィルタは小さな熱負荷にしかさらされていないので、フィルタの寿命、ひいてはランプモジュール全体の寿命も明らかに延びる。
【００３０】
放射線進出開口を閉鎖する光学的な放射線透過エレメントは、例えばコンデンサレンズ、又は光学窓としてのみ働く一重のディスクである。
【００３１】
本発明の有利な構成において、ランプバルブはランプ収容体の中空室内に、０．５〜５ｍｍの範囲にある幅を有する間隙を残したままで挿入されている。
【００３２】
さらに光学的な放射線透過エレメントがランプバルブから最大２０ｍｍの間隔を置いて放射線進出開口内に配置されていると有利であることが分かった。
【００３３】
ランプバルブの周辺の及び放射線出射部への空間の幾何学的な設計により、上記容積内に発生するオゾン生成の影響は最小限に抑えられる。この配置においてオゾン雰囲気の飽和は迅速に達成されるので、進出する放射線への時間によって変化する影響はもたらされない。２００ｎｍ〜３００ｎｍの領域におけるオゾン吸収による万一の強度損失は、飽和したオゾン雰囲気内部の可能な限り短い光学距離により最小限に抑えられる。さらに、冷却可能なランプ収容体がランプバルブ表面に対して少しの間隔を置いて延在している場合に、最適な冷却作用がもたらされる。
【００３４】
ランプ収容体内部でのオゾン生成を完全に抑制することを考慮して、間隙が真空状態に維持されるか、又は無酸素ガスによって充填されている場合、さらに最適化された構成を達成することができる。
【００３５】
無酸素ガスとして窒素又は希ガスも適している。
【００３６】
有利にはランプ収容体は金属製の冷却体として形成されている。
【００３７】
ランプモジュールの運転形式に応じて、ランプバルブは急速に熱くなり、冷却する必要がある。ランプ収容体が金属から構成されている、例えばアルミニウム構成部品として構成されていると、熱伝導性に優れた金属が冷却体として作用するので、付加的な通風又は他の冷却手段を省略することができ、ランプモジュールの経済的な運転が容易になる。
【００３８】
有利な構成においてエッジフィルタは、放射線進出開口において光学的な放射線透過エレメントの表面に直接的に配置されている。
【００３９】
上記構成は、光学系において放射線が通過する必要があるか若しくは放射線が吸収される境界面の数が、別体のエッジフィルタに対して減じられ、また、別体のエッジフィルタと比較して利用可能な放射線の割合が最高で約８％高くなっているという利点を有する。さらに上記エッジフィルタは廉価な方法によりレンズ又は平坦な窓に供給することができる。
【００４０】
エッジフィルタの択一的な構成の利点は、フィルタが光学的な放射線透過エレメントの表面から間隔を置いて放射線進出開口内に配置されている点にある。
【００４１】
上記配置の利点は、エッジフィルタが自立した構成部品として使用することができかつ必要に応じて交換することもできるという点にある。この種のフィルタ板片は頑丈であり、放射線進出開口における組付けは簡単である。フィルタ板片は、例えば吸収性のフィルタガラスから成る板であるか、又はフィルタ材料によってコーティングされている合成石英ガラスから成る板の形式である。別体のフィルタ構成部品は、ランプバルブとは異なり、機械的な負荷にはほとんどさらされていないので、ランプバルブの壁部よりも実質的に肉薄でよい。フィルタ構成部品の有利な厚さは、０．１〜１ｍｍの範囲にあり、特に有利には最大０．３ｍｍである。肉薄の構成により、フィルタ構成部品における所望の光学的放射線のための透過は、ランプバルブにおける透過よりも大きい。
【００４２】
有利にはＶＵＶエッジフィルタは吸収フィルタ、干渉フィルタ、又はこれら２つのフィルタ型式の組合せである。
【００４３】
吸収フィルタは、例えばＵＶ吸収性ガラスといった吸収性の材料から成っている。吸収フィルタは廉価であるが、材料に基づき不変な、余り急な勾配でない吸収端を有していることがよくある。この欠点を、例えば特許文献１に開示されている干渉フィルタが回避する。この干渉フィルタはコーティングされた母材からなっており、吸収端の位置はコーティングの厚さに亘って動かすことができる。
【００４４】
エッジフィルタが多層材料を有していると有利であることが分かった。
【００４５】
多層材料から成るエッジフィルタにおいて、吸収端の位置及び勾配を具体的な要求に良好に適合させかつ最適化することができる。さらに多層の構成により、干渉効果に還元することができる透過波長の領域におけるフィルタ作用の、いわゆる「リップル（Ｗｅｌｌｉｇｋｅｉｔ）」は減じられる。
【００４６】
エッジフィルタの吸収端は、有利には１８０〜２００ｎｍの領域にある。
【００４７】
ランプケーシングからのオゾンの進出を抑制するか又は防ぐために、放射線進出開口は、有利には外部に向けてシールされている。
【００４８】
シール性に対する要求を少なくする場合には、コンデンサレンズとランプケーシングとの間の細かいねじ山で充足することができる。
【００４９】
波長領域の拡幅に基づいて、ランプ収容体の中空室に第２のスペクトルランプが配置されているランプモジュールの構成が特に有利である。第２のスペクトルランプの放射線は、重水素ランプのランプバルブを通って放射線進出開口へと変向される。
【００５０】
スペクトル測光学にとって利用可能なスペクトルの波長領域が、可能な限り広幅であると有利である。重水素ランプとして他の照射スペクトルを備えた第２のスペクトルランプの使用は、上記要求に添うものである。さらに状況に応じて、２つのスペクトルランプの一方だけを使用することもできるので、上記ランプモジュールは柔軟に使用可能である。
【００５１】
分光光度計の使用は、第２のスペクトルランプがハロゲンランプ又はＬＥＤであると、有利であることが分かった。
【００５２】
典型的にはハロゲンランプにおいて使用される放射線の波長領域は、３５０〜１１００ｎｍの間にある。したがって重水素ランプとの組合せは、１９０〜１１００ｎｍの広域スペクトルをカバーする。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】コンデンサレンズの表面に直接的にフィルタを備えた、本発明に係るランプモジュールの実施の形態を側方から見た断面図である。
【図２】コンデンサレンズから離間されているフィルタを備えた、本発明に係るランプモジュールの他の実施の形態を側方から見た断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００５４】
以下に、本発明の実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。
【００５５】
実施の形態１
図１に概略的に示す本発明に係るランプモジュールの実施の形態は、冷却体として働くアルミニウムから成るランプ収容体１を有している。このランプ収容体１は、１つ又は複数のスペクトルランプが挿入可能である中空室１ａを有している。具体的にはランプ収容体１の中空室１ａに、石英ガラスランプバルブ２を備えた重水素ランプが挿入されており、かつ同じ光軸上にランプバルブ３を備えたハロゲンランプが挿入されている。
【００５６】
重水素ランプのランプバルブ２は合成石英ガラスから成っている。ランプ収容体１の中空室１ａ内に挿入されているランプバルブ２へのランプ収容体１の冷却作用を最適に使用することができるように、ランプバルブ２は収容体１とランプバルブ２との間に小さな間隙１２を残したままでランプ収容体１内に挿入されている。間隙の幅は約２ｍｍである。
【００５７】
間隙の容積は空気によって充填されているので、この小さな容積においてランプバルブ２から進出する、１９０ｎｍより小さい波長を備えた放射線の部分によりオゾンが生成される。しかし極めて小さな容積の場合に雰囲気は、極めて迅速にオゾンによって飽和状態になる。しかしこのことは有利にはランプモジュールから進出する放射線の質に影響を与えない。
【００５８】
この間隙容積においてもオゾン生成を妨げたい場合、間隙容積を真空化することができるか、又は例えば窒素又はアルゴンといった無酸素ガスによって充填することができるか、又は洗浄することができる。
【００５９】
さらにランプ収容体１は、中心の光軸に関連して放射線進出開口４として接続部材を有している。この放射線進出開口４に、ランプバルブ３寄りの側に提供されたＶＵＶエッジフィルタ６を備えた平凸状のコンデンサレンズ５が固定されている。このコンデンサレンズ５とＶＵＶエッジフィルタ６とは統合された構成部品を形成する。この構成部品はランプモジュールの光軸上において、重水素ランプのランプバルブ２の表面から約３ｍｍの間隔を置いて離されて配置されている。
【００６０】
コンデンサレンズ５及びフィルタ６の固定は、構成部品をシールされたリングソケット１０において放射線進出開口４に全周に亘って接着することにより行われる。したがって、ランプ収容体１の周囲と中空室１ａとの間の換気が行われ得ないことが保証されている。
【００６１】
ＶＵＶエッジフィルタ６は、多層アッセンブリを備えた干渉フィルタである。このフィルタ６をコンデンサレンズ５に直接的に接触させて配置することにより、進出する放射線のための境界面の数は最小限に抑えられる。これにより、コンデンサレンズから分離されて配置されているフィルタを備えたアッセンブリに比べて利用可能な放射線の部分は、最高で８％高まる。
【００６２】
別の実施の形態において、エッジフィルタ６は干渉フィルタ及び吸収フィルタの組合せから成っている。この実施の形態において、吸収性の材料から成る基本構成部材に、複数の干渉層から成る層が提供される。
【００６３】
光軸上において放射線進出開口４とは反対の側において、冒頭で述べたように、重水素ランプの後方に、ランプバルブ３を備えたハロゲンランプが配置されている。ハロゲンランプのランプバルブ３から進出する放射線は、場合によっては、レンズ８又はレンズ系を介して集束され、重水素ランプのランプバルブ２を貫通して案内される。したがって、２つのスペクトルランプの波長領域が互いに補い合って所定の広幅なスペクトルが形成される。この広幅なスペクトルにおいては、ランプモジュールの放射線進出開口４におけるＶＵＶエッジフィルタ６により、１９０ｎｍより小さな波長領域だけがカットされる。
【００６４】
実施の形態２
図２に示すランプモジュールは、実施の形態１とほぼ同じアッセンブリから成っている。しかしこの実施の形態においてＶＵＶエッジフィルタ９は、自立式のフィルタ板片として形成されており、このフィルタ板片は、平凸状のコンデンサレンズ５から３ｍｍの間隔を置いて放射線進出開口４に固定されている。
【００６５】
フィルタ板片９はねじリング１０によって取り囲まれており、このねじリング１０によりフィルタ板片９は放射線進出開口４内に螺入されている。択一的な実施の形態において、フィルタ板片は放射線進出開口４内に挟み込まれているか、又は放射線進出開口４に接着されている。
【００６６】
この実施の形態においてフィルタ板片９は、合成石英ガラスから成っている。この合成石英ガラスはフィルタ材料から成る層によってコーティングされている。フィルタ板片は簡単に組み付けることができ、かつ取り出すことができるので、他のフィルタ型との場合による交換、又は修理の理由からの必要な交換も簡単に可能である。固定は、ランプ収容体１の中空室１ａと周囲との間の換気が行われ得ないように実施されている。このために、フィルタ板片９はシールリングを介して段部（図示せず）に接触している。この段部に対してフィルタ板片９は、ばねリングを介してランプ内側から押し付けられる。このばねリングはまた放射線進出開口４における溝内に挿入されている。
【００６７】
この実施の形態において、ＶＵＶエッジフィルタ９に向かう放射線進出の方向で、放射線進出開口４に挿入されているコンデンサレンズ５を密に固定することは不要になり、コンデンサレンズ５の交換は必要に応じて容易になる。
【００６８】
エッジフィルタはランプモジュールの光軸上に、重水素ランプのランプバルブ２の表面から３ｍｍの間隔を置いて配置されている。この間隔寸法の超過は望ましくない。その理由は、超過した場合に、重水素ランプのランプバルブ２とランプ収容体１の中空室１ａとの間の、放射線進出開口４内でＶＵＶエッジフィルタ９にまで拡幅されている間隙の容積が極めて大きくなるからである。この条件下においてランプ収容体１において発生するオゾン雰囲気は、やはり、進出する波長スペクトルの安定性を損なうことがある対流の影響を受けることがある。さらに放射強度は、オゾンを含有する雰囲気における吸収により損なわれてしまう。
【００６９】
自立式のＶＵＶエッジフィルタ９を備えたランプモジュールの実施の形態は、特に分光計の放射線源として、液体クロマトグラフィ（ＨＰＬＣ及びＵＨＰＬＣ）、キャピラリー電気泳動及び薄膜クロマトグラフィにおける使用に特に適している。
【符号の説明】
【００７０】
１  ランプ収容体
１ａ  中空室
２  ランプバルブ
２ａ  間隙
３  ランプバルブ
４  放射線進出開口
５  コンデンサレンズ
６  ＶＵＶエッジフィルタ
８  レンズ
９  ＶＵＶエッジフィルタ
１０  リングソケット
１２  ランプ収容体１とランプバルブ２との間隙
【図１】
0005602785.tif 000002
【図２】
0005602785.tif 000003