(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体を収容する収容室を備えた処理装置であって，
前記収容室は，その側面に設けられた基板搬出入口と，この基板搬出入口とは別に設けられた開口部を有する天井部と，前記開口部を着脱自在に閉塞する蓋体とを備え，前記天井部に前記開口部から取り外した前記蓋体を一時的に載置するための蓋体載置領域を設け，
前記蓋体には，その上面に安全柵を着脱自在に装着する柵装着部を設け，前記蓋体に前記安全柵を装着した状態で前記蓋体載置領域に載置したときに，前記蓋体上の安全柵が前記開口部の縁に沿うように，前記柵装着部を配置したことを特徴とする処理装置。
【請求項２】
前記蓋体載置領域は，前記開口部に隣接していることを特徴とする請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】
前記開口部は，前記天井部の中央に設けられ，前記開口部の幅は，前記天井部の幅の１／３以下であることを特徴とする請求項２に記載の処理装置。
【請求項４】
前記蓋体載置領域には，前記蓋体を支持する複数の支持台を備えたことを特徴とする請求項３に記載の処理装置。
【請求項５】
前記支持台は，少なくとも前記蓋体との接触面を樹脂材で構成したことを特徴とする請求項４に記載の処理装置。
【請求項６】
被処理体を収容する複数の収容室を備えた処理装置であって，
前記複数の収容室には，その側面に設けられた基板搬出入口と，この基板搬出入口とは別に設けられた開口部を有する天井部と，前記開口部を閉塞する蓋体とを備えたものを含み，
前記収容室の少なくとも一つは，他の収容室の蓋体を載置する第一蓋体載置領域を設け，
前記第一蓋体載置領域を備える前記収容室は，該収容室の蓋体を載置する第二蓋体載置領域を有することを特徴とする処理装置。
【請求項７】
前記第二蓋体載置領域を有する前記収容室の開口部は，天井部の中央に設けられ，前記第二蓋体載置領域が前記開口部に隣接して設けられたことを特徴とする請求項６に記載の処理装置。
【請求項８】
前記第一蓋体載置領域と前記第二蓋体載置領域は，重なるように配置したことを特徴とする請求項７に記載の処理装置。
【請求項９】
前記第一蓋体載置領域と前記第二蓋体載置領域は，前記開口部を閉塞したときの前記蓋体の上面よりも高くなるように配置したことを特徴とする請求項８に記載の処理装置。
【請求項１０】
前記複数の収容室は，
真空圧雰囲気において被処理体に処理を施す処理室と，
大気圧雰囲気と前記処理室との間で前記被処理体を搬送する際に一時的に前記被処理体を収容して，内部を大気圧雰囲気又は真空圧雰囲気に切り換えるロードロック室と，
前記ロードロック室と前記処理室に気密に接続され，前記ロードロック室と前記処理室との間で前記被処理体を搬送する搬送装置を内部に備えた搬送室と，
を含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の処理装置。
【請求項１１】
前記収容室の内部には，前記被処理体を保持部に載せて搬送する搬送装置を設け，前記保持部は，前記開口部の幅のサイズに合わせて分解自在に構成したことを特徴とする請求項１０に記載の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，ＦＰＤ基板などの被処理体を収容する収容室を備えた処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば，液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）に代表されるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の製造工程においては，真空圧雰囲気下でガラス基板などの基板にエッチングやＣＶＤ等の所定の処理を施す処理室（プロセスチャンバ）を複数備えた，いわゆるマルチチャンバタイプの基板処理装置が使用されている。このような基板処理装置には，基板を搬送する搬送装置を備えた搬送室と，その周囲に設けられた複数の処理室が備えられている。また，この基板処理装置には，大気圧雰囲気と真空に保持された搬送室との間で基板を搬送する際に用いられるロードロック室が設けられている。
【０００３】
基板処理装置は，まずロードロック室の大気側に設けられているゲート（大気側ゲート）を開き，大気圧雰囲気中の搬送ロボットなどによって搬送されてくる基板をロードロック室内に収容する。そして，大気側ゲートを閉じてロードロック室内を減圧して真空状態とした後，ロードロック室の搬送室側に設けられているゲート（真空側ゲート）を開きロードロック室内と搬送室が連通したところで，搬送室の搬送装置によって基板をロードロック室から搬出し，複数の処理室のいずれかに搬送する。
【０００４】
各処理室にて基板に所定の処理を施した後，処理済みの基板を搬送室の搬送装置によって各処理室から取り出し，ロードロック室内に搬入する。そして，ロードロック室の真空側ゲートを閉じて室内を昇圧して大気圧雰囲気に戻した後，大気側ゲートを開く。処理済みの基板は，大気圧雰囲気中の搬送ロボットなどによってロードロック室から搬出され，次の工程へ搬送されて行く。
【０００５】
このような基板処理装置を構成する処理室，搬送室，ロードロック室などのように，基板を内部に収容可能な収容室は，その内部のメンテナンスなどを行うために，天井に開口部を設け，開口部を着脱自在な蓋体で閉塞するように構成されているものが多い。
【０００６】
このように着脱自在の蓋体を備える収容室では，従来，メンテナンスなどで蓋体を取り外すと，その蓋体を基板処理装置の設置スペースとは別のスペースに一時的に移動させるようにしていた。例えば下記特許文献１，２では，蓋体をスライドさせるスペースを別途確保している。また下記特許文献３では，取り外した蓋体をクレーンで別のスペースにある台車に移動させるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００７−０６７２１８号公報
【特許文献２】特開２００１−１８５５３４号公報
【特許文献３】特開２００９−１７０５３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで，近年のガラス基板の大型化によって，基板処理装置を構成する処理室，搬送室，ロードロック室などの基板収容室の大型化が進み，それに伴って，蓋体の大きさも益々大きくなっている。このため，蓋体を一時的に移動させるために確保しなければならないスペースの面積も益々大きくなっており，クリーンルームなどの省スペース化の妨げになっている点で問題になっていた。しかも，このスペースは，メンテナンス時などに蓋体を取り外した場合にのみ利用されるものであり，基板処理装置が稼働しているときはまったく不用なものである。
【０００９】
そこで，本発明は，このような問題に鑑みてなされたもので，その目的とするところは，搬送室等の収容室から取り外した蓋体を置くためのスペースを別途確保する必要をなくして，省スペース化を図ることができる処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために，本発明のある観点によれば，被処理体を収容する収容室を備えた処理装置であって，前記収容室は，開口部を有する天井部と，前記開口部を着脱自在に閉塞する蓋体とを備え，前記天井部に前記開口部から取り外した前記蓋体を一時的に載置するための蓋体載置領域を設けたことを特徴とする処理装置が提供される。このような本発明によれば，メンテナンス時などに取り外された蓋体を収容室の天井の上面に置くことができる。
【００１１】
また，前記蓋体載置領域は，前記開口部に隣接するように構成してもよい。これによれば，開口部から蓋体を取り外して蓋体載置領域に載置させるまで距離を短くできるので，その作業時間を短縮できる。この場合，上記開口部は，前記天井部の中央に設けられ，前記開口部の幅は，前記天井部の幅の１／３以下であることが好ましい。
【００１２】
また，上記蓋体載置領域には，前記蓋体を支持する複数の支持台を備えてもよい。支持台は，少なくとも前記蓋体との接触面を樹脂材で構成することが好ましい。これによれば，蓋体を蓋体載置領域に載置したときに，蓋体表面にキズがつくことを防止できる。
【００１３】
また，上記蓋体は，その上面に安全柵を着脱自在に装着する柵装着部を設け，前記蓋体に前記安全柵を装着した状態で前記蓋体載置領域に載置したときに，前記蓋体上の安全柵が前記開口部の縁に沿うように，前記柵装着部を配置するようにしてもよい。これによれば，蓋体を蓋体載置領域に載置すれば，安全柵が設置されるので，安全柵を設置する作業効率を向上させることができる。
【００１４】
上記課題を解決するために，本発明の他の観点によれば，被処理体を収容する複数の収容室を備えた基板処理装置であって，前記複数の収容室には，開口部を有する天井部と，前記開口部を閉塞する蓋体とを備えたものを含み，前記収容室の少なくとも一つは，他の収容室の蓋体を載置する第一蓋体載置領域を設けたことを特徴とする処理装置が提供される。このような本発明によれば，メンテナンス時などに取り外された他の収容室の蓋体を，一の収容室の天井の上面に置くことができる。
【００１５】
また，上記第一蓋体載置領域を備える前記収容室は，該収容室の蓋体を載置する第二蓋体載置領域を有するようにしてもよい。この場合，前記第二蓋体載置領域を有する前記収容室の開口部は，天井部の中央に設けられ，前記第二蓋体載置領域が前記開口部に隣接して設けるようにしてもよい。また，前記第一蓋体載置領域と前記第二蓋体載置領域は，重なるように配置してもよい。さらに，前記第一蓋体載置領域と前記第二蓋体載置領域は，前記開口部を閉塞したときの前記蓋体の上面よりも高くなるように配置してもよい。これによれば，一の収容室の蓋体を装着したまま，他の収容室の蓋体を載置することができる。
【００１６】
なお，上記複数の収容室は，例えば真空圧雰囲気において被処理体に処理を施す処理室と，大気圧雰囲気と前記処理室との間で前記被処理体を搬送する際に一時的に前記被処理体を収容して，内部を大気圧雰囲気又は真空圧雰囲気に切り換えるロードロック室と，前記ロードロック室と前記処理室に気密に接続され，前記ロードロック室と前記処理室との間で前記被処理体を搬送する搬送装置を内部に備えた搬送室とを含む。
【００１７】
また，上記収容室の内部には，前記被処理体を保持部に載せて搬送する搬送装置を設け，前記保持部は，前記開口部の幅のサイズに合わせて分解自在に構成するようにしてもよい。これにより，基板保持部のサイズが収容室の開口部より大きくても，基板保持部を分解することで容易に開口部から出し入れすることができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば，メンテナンスなどで取り外された蓋体を収容室の天井の上面に置くことができる。これにより，処理装置が設置されたスペース以外に蓋体を置くためのスペースを別途確保する必要がなくなるので，省スペース化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施形態にかかる基板処理装置の構成を概略的に示す斜視図である。
【図２】図１に示す搬送室の具体的構成例を示す斜視図である。
【図３】同実施形態において搬送室の開口部から蓋体を取り外す前の状態を説明するための斜視図である。
【図４】図３に示す搬送室の蓋体を取り外して蓋体載置領域Ｘに載置したときの状態を説明するための斜視図である。
【図５】同実施形態においてロードロック室の開口部から蓋体を取り外す前の状態を説明するための斜視図である。
【図６】図５に示すロードロック室の蓋体を蓋体載置領域Ｙに載置したときの状態を説明するための斜視図である。
【図７】同実施形態における搬送装置のピックの概略構成を説明するための斜視図である。
【図８】図７に示すピックを分解したときの状態を説明するための斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下に添付図面を参照しながら，本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお，本明細書及び図面において，実質的に同一の機能構成を有する構成要素については，同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００２１】
（処理装置）
まず，本発明の実施形態にかかる処理装置について図面を参照しながら説明する。ここでは，処理装置として，ＦＰＤ用ガラス基板（以下，単に「基板」と称する）に対してプラズマ処理を行う複数の処理室（プロセスチャンバ）を備えるマルチチャンバタイプの基板処理装置を例に挙げる。なお，ＦＰＤの具体例としては，例えば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ），エレクトロルミネセンス（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ：ＥＬ）ディスプレイ，プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）が挙げられる。
【００２２】
図１は本実施形態にかかる基板処理装置１００の構成を概略的に示す斜視図である。この基板処理装置１００は，本発明にかかる収容室としてのロードロック室１０２，処理室１０４，搬送室２００を備えている。より具体的には，基板処理装置１００は，搬送室２００をその略中央に備え，搬送室２００の周囲に，ロードロック室１０２と３つの処理室１０４を備えている。
【００２３】
搬送室２００とロードロック室１０２との間，搬送室２００と各処理室１０４との間にはそれぞれ，これらの間を気密にシールし，かつ開閉可能に構成された真空側ゲートバルブ１０６が設けられている。また，ロードロック室１０２と外側の大気雰囲気とを連通する開口部には大気側ゲートバルブ（図示省略）が設けられている。
【００２４】
処理室１０４は，基板への所定のプラズマ処理（例えばエッチング処理やアッシング処理）が施される間，その内部空間が所定の真空圧雰囲気に保持される。このように基板処理装置１００は，３つの処理室１０４を有しているため，例えばそのうち２つの処理室をエッチング処理室として構成し，残りの１つの処理室をアッシング処理室として構成したり，３つの処理室すべてを同一の処理を行うエッチング処理室やアッシグ処理室として構成したりできる。なお，処理室の数は３つに限らず，４つ以上であってもよく，２つ以下であってもよい。
【００２５】
搬送室２００は処理室１０４と同様に，所定の真空圧雰囲気に保持できるようになっている。搬送室２００内には，基板を保持するためのピックを備えた搬送装置（図示省略）が設けられている。この搬送装置は，ロードロック室１０２と３つの処理室１０４にアクセスして，これらの間で基板を搬送することができる。
【００２６】
ロードロック室１０２は，大気圧雰囲気に設置された図示しない搬送装置と，真空圧雰囲気の搬送室２００内の搬送装置との間で，基板の受け渡しを行うためのものである。このため，ロードロック室１０２は，その内部を大気圧雰囲気と真空圧雰囲気とに切り替えられるように構成されている。
【００２７】
ロードロック室１０２は，基板を収容する略箱状の容器１１０と，容器１１０の天井部１１２に設けられた開口部１１４を気密に閉塞する蓋体１２０とを備えている。開口部１１４は天井部１１２のほぼ全域にわたって設けられているので，それを閉塞する蓋体１２０も大きくなる。基板の大きさに応じてロードロック室１０２の大きさも決まるので，蓋体１２０の大きさもそれに応じて大きくなる。大型のガラス基板を扱うロードロック室１０２では，蓋体１２０の大きさが３メートル角を超える場合もある。
【００２８】
ロードロック室１０２の内部をメンテナンスする際には，容器１１０から蓋体１２０を取り外すので，蓋体１２０が大きいほど，それを一時的に置いておくための大きなスペースが必要になる。本実施形態では，これを解消するために様々な工夫が施されている。このようなロードロック室１０２の蓋体１２０の載置場所や取り外し動作については後述する。
【００２９】
ロードロック室１０２の容器１１０は，上下二段に仕切られており，上下段それぞれの大気側には基板搬入出口１１６，１１８が形成されている。例えば図示しない搬送ロボットによって，これらの基板搬入出口１１６又は基板搬入出口１１８を介して，ロードロック室１０２内の上段又は下段のいずれかへ未処理の基板を搬入し，またロードロック室１０２内の上段又は下段から処理済みの基板を搬出する。
【００３０】
基板処理装置１００には，図示しない制御部が接続されており，この制御部によってロードロック室１０２，搬送室２００，各処理室１０４等の各部の動作が制御されるようになっている。制御部には，オペレータが基板処理装置１００を管理するためにコマンドの入力操作等を行うキーボードや，基板処理装置の稼働状況を可視化して表示するディスプレイ等からなる図示しない操作部が接続されている。
【００３１】
制御部には，図示しない記憶部が接続されており，この記憶部には，基板処理装置１００が実行する各種処理を制御部からの指令にて実現するためのプログラムや，プログラムを実行するために必要な複数の処理条件（レシピ）等が記憶されている。各処理条件は，基板処理装置１００の各部を制御する制御パラメータや設定パラメータなど，各種のパラメータ値をまとめたものである。パラメータの具体例としては，処理ガスの流量比，処理室内圧力，高周波電力などがある。
【００３２】
なお，これらのプログラムや処理条件をハードディスクや半導体メモリに記憶するようにしてもよく，またＣＤ−ＲＯＭ，ＤＶＤ等の可搬性のコンピュータにより読み取り可能な記憶媒体に収容した状態で記憶部の所定位置にセットするようにしてもよい。
【００３３】
制御部は，操作部からの指示に基づいて所望のプログラム，処理条件を記憶部から読み出して各部を制御することで，基板処理装置１００の全体の処理を実行する。また，操作部からの指示に基づいて処理条件を編集できるようになっている。
【００３４】
（搬送室の構成例）
次に，搬送室２００の構成例について図面を参照しながら詳細に説明する。図２は，図１の部分拡大図であって，搬送室２００の具体的構成例を概略的に示す斜視図である。搬送室２００は，基板を収容する略箱形状の容器２１０と，容器２１０の天井部２１２に設けたれた開口部２１４を気密に閉塞する蓋体２５０とを備えている。開口部２１４は天井部２１２の中央に設けられ，開口部２１４の両側に非開口部２１６，２１８が設けられている。
【００３５】
搬送室２００の開口部２１４は，例えば図２においてロードロック室１０２側から奥行き方向にかけて長尺な略矩形状である。図２に示す搬送室２００の天井部２１２の非開口部２１６，２１８上の一部にはそれぞれ，開口部２１４の縁部に沿って板状の補強部材２２２，２２４が取り付けられている。なお，この場合は，補強部材２２２，２２４によって非開口部２１６，２１８上に段差が生じるが，これに限られるものではなく，非開口部２１６，２１８上には段差が生じないように補強部材２２２，２２４を設けてもよい。また，補強部材２２２，２２４の形状も，板状に限られるものではない。
【００３６】
搬送室２００の容器２１０内には，後述の図７に示すような基板保持部としてのピック３００を有する搬送装置（図示省略）が設けられている。搬送装置は，容器２１０の各側面に設けられた基板搬入出口２２０を介して，ロードロック室１０２と各処理室１０４との間の基板の受け渡しを行うようになっている。
【００３７】
このように，搬送室２００は，容器２１０内に搬送装置が設けられるので，それが動作するスペースが必要である。このため，搬送室２００の容器２１０はロードロック室１０２の容器１１０よりも大きい。このため，図２に示すように開口部２１４が天井部２１２の一部であっても，それを閉塞する蓋体２５０も大きくなる。
【００３８】
搬送室２００の内部をメンテナンスする際には，容器２１０から蓋体２５０を取り外すので，ロードロック室１０２の場合と同様に，蓋体２５０が大きいほど，それを一時的に置いておくための大きなスペースが必要になる。
【００３９】
そこで，本実施形態では，搬送室２００の天井部２１２の上面に，その開口部２１４から取り外した自容器の蓋体２５０を一時的に載置するための蓋体載置領域（第二蓋体載置領域，自容器蓋体載置領域）Ｘを設けている。具体的には図２に示すように，開口部２１４の一方側の非開口部２１８の上面全体を蓋体載置領域Ｘとしている。これにより，例えば後述する図３，図４に示すように搬送室２００のメンテナンス時に取り外した蓋体２５０を天井部２１２に載置しておくことができるので，クリーンルーム内の省スペース化を図ることができる。
【００４０】
なお，蓋体載置領域Ｘの大きさや配置は，これに限られるものではなく，蓋体２５０の大きさに応じて非開口部２１８の上面の一部を蓋体載置領域Ｘとしてもよく，またもう一方の非開口部２１６に蓋体載置領域Ｘを設けるようにしてもよい。
【００４１】
なお，本実施形態のように天井部２１２の中央に開口部２１４を設ける場合には，その開口部２１４の幅は，天井部２１２の幅（開口部２１４の幅とその両側の非開口部２１６，２１８の幅を合わせた全体の幅）の１／３以下とすることが好ましい。これにより，できる限り大きく開口部２１４をとることができるとともに，一方の非開口部２１６の上部全体を蓋体載置領域Ｘとすることができる。
【００４２】
さらに，本実施形態にかかる搬送室２００は，天井部２１２の上面にロードロック室１０２の蓋体１２０も載置できるように構成されている。具体的には図２に示すように，搬送室２００の非開口部２１６，２１８の上面に，ロードロック室１０２の開口部１１４から取り外した他容器の蓋体１２０を置くための蓋体載置領域(第一蓋体載置領域，他容器蓋体載置領域)Ｙを設けている。これにより，例えば後述する図５，図６に示すようにロードロック室１０２のメンテナンス時に取り外した蓋体１２０を搬送室２００の天井部２１２に載置しておくことができるので，クリーンルーム内の省スペース化を図ることができる。なお，蓋体載置領域Ｙの大きさや配置は，これに限られるものではない。このように，搬送室２００の非開口部２１６，２１８の上面に，搬送室２００の蓋体載置領域Ｘとロードロック室の蓋体載置領域Ｙを重なるように構成することで，より一層クリーンルームの省スペース化を図ることができる。
【００４３】
また，搬送室２００はその非開口部２１６，２１８に補強部材２２２，２２４を設けたたことで，開口部２１４を閉塞したときの蓋体２５０の上面よりも高くなるようになっている。これにより，搬送室２００の蓋体２５０を装着したまま，非開口部２１６，２１８上にロードロック室１０２の蓋体１２０を載置することができる。
【００４４】
さらに，搬送室２００の天井部２１２の非開口部２１６，２１８の上面には，蓋体１２０，２５０を載置する複数の支持台を設けている。これにより，蓋体１２０，２５０の表面が直接接触してキズつくことを防止することができ，また蓋体１２０，２５０を水平に載置することができる。
【００４５】
具体的には，搬送室２００の非開口部２１８の蓋体載置領域Ｘには，蓋体２５０の大きさに合わせて，複数の支持台２４４，２４８が配置されている。支持台２４４は板状であり，支持台２４８には蓋体１２０の載置位置を位置決めするための突起部が設けられている。支持台２４４，２４８の蓋体１２０との接触面を同じ高さにすることで，蓋体１２０を水平に載置することができる。
【００４６】
特に図２に示す搬送室２００のように，非開口部２１６，２１８上の一部に補強部材２２２，２２４を取り付けた場合は，補強部材２２２，２２４がある部分とない部分とで段差が生じる。このような場合は，複数の支持台２４４，２４８の接触面の高さを調整することで，蓋体１２０を水平に載置させることができる。
【００４７】
また，搬送室２００の非開口部２１６，２１８の蓋体載置領域Ｙには，蓋体１２０の大きさに合わせて，複数の支持台２４０，２４２，２４４，２４６が配置されている。支持台２４４は板状であり，支持台２４０，２４２，２４６は，蓋体２５０の載置位置を位置決めするための突起部が設けられている。
【００４８】
なお，各支持台２４０，２４２，２４６，２４８は，必要に応じて着脱できるようにすることが好ましい。支持台２４６は，蓋体２５０を載置するときには邪魔になるので取り外す。また，支持台２４４は，蓋体１２０，２５０に共通の支持台として用いることができる。
【００４９】
また，各支持台２４０，２４２，２４６，２４８は，蓋体１２０，２５０が傷つかないように樹脂などで構成することが好ましい。この場合，蓋体１２０，２５０との接触面だけを樹脂などで構成するようにしてもよい。
【００５０】
また，図２に示すように搬送室２００の蓋体２５０の上面には，後述する図３に示すような安全柵２６２を着脱するための複数の装着穴２２８を長辺に沿って設けるようにしてもよい。また，搬送室２００の天井部２１２の非開口部２１８にも，安全柵を取り付けるための複数の装着穴２３０を搬送室２００に設けてもよい。図示はしないが，非開口部２１６にも，安全柵を着脱するための複数の装着穴２３０を設けてもよい。
【００５１】
（搬送室の蓋体の取り外し）
次に，搬送室２００の開口部２１４から蓋体２５０を取り外して，これを蓋体載置領域Ｘに載置する動作について，図面を参照しながら詳細に説明する。図３は，蓋体２５０を取り外す前の状態を説明するための斜視図である。図４は，開口部２１４から取り外した蓋体２５０を蓋体載置領域Ｘに載置したときの状態を説明するための斜視図である。
【００５２】
先ず，開口部２１４から蓋体２５０を取り外す作業を開始するに先立ち，図３に示すように安全柵２６０を非開口部２１６の上面に立設し，安全柵２６２を蓋体２５０の上面に立設する。具体的には，安全柵２６０の脚部を非開口部２１６の複数の装着穴（図示省略）に装着し，安全柵２６２の脚部を蓋体２５０の上面の複数の装着穴２２８に装着する。なお，ここでは支持台２４６は不要なので取り外しておく。
【００５３】
次に，例えば図示しないクレーン機構を用いて蓋体２５０をつり上げて図３に示す矢印の方向へ搬送し，図４に示すように蓋体載置領域Ｘの支持台２４４，２４８に載置する。このとき，蓋体２５０の載置位置は支持台２４８の突起部で位置決めできる。
【００５４】
このように蓋体２５０を開口部２１４から取り外すことによって，搬送室２００の内部をメンテナンスすることができる。また，開口部２１４に沿って安全柵２６０，２６２が立設するので，天井部２１２で作業する作業者が開口部２１４に転落することを防止できる。また，蓋体２５０を開口部２１４から取り外して蓋体載置領域Ｘに載置すれば，開口部２１４に沿って安全柵２６２が立設する。こうすることで，安全柵２６２を立設するための作業効率も向上させることができる。なお，より安全性を高めるために，安全柵２６０，２６２に枠内に格子やメッシュ板を追加するようにしてもよい。また，安全柵２６０，２６２は常設しておいて，必要に応じて取り外したり，移設したりするようにしてもよい。
【００５５】
このように，本実施形態によれば，基板処理装置１００が設置されているスペース以外に，開口部２１４から取り外した蓋体２５０を載置するためのスペースを用意する必要がない。このため，基板処理装置１００が設置されるクリーンルームの床面積を省スペース化できる。
【００５６】
また，搬送室２００の蓋体２５０の蓋体載置領域Ｘを開口部２１４に非常に近い非開口部２１８に設けたため，クレーンなどで蓋体２５０をつり上げて蓋体載置領域Ｘに載置するのにかかる時間を大幅に短縮できる。従って，メンテナンスなどの作業時間を短縮することができ，基板処理装置１００の生産性を向上させることができる。
【００５７】
（ロードロック室の蓋体の取り外し）
次に，ロードロック室１０２の開口部１１４から蓋体１２０を取り外して，これを蓋体載置領域Ｙに載置する動作について，図面を参照しながら詳細に説明する。図５は，開口部１１４から蓋体１２０を取り外す前の状態を説明するための斜視図である。図６は，開口部１１４から取り外した蓋体１２０を蓋体載置領域Ｙに載置したときの状態を説明するための斜視図である。
【００５８】
先ず，開口部１１４から蓋体１２０を取り外す作業を開始するに先立ち，安全柵２６０を非開口部２１６の上面に立設し，安全柵２６２を非開口部２１８の上面に立設する。具体的には，安全柵２６０の脚部を非開口部２１６の複数の装着穴（図示省略）に装着し，安全柵２６２の脚部を非開口部２１８の複数の装着穴２３０に装着する。
【００５９】
ここで，例えば上述した図３，図４に示すような蓋体２５０の取り外し／取り付け作業が直前に行われている場合などには，安全柵２６２が蓋体２５０に固定されていて，支持台２４６も取り付けられていない。このような場合は，支持台２４６を補強部材２２４の所定の位置に取り付けるとともに，安全柵２６２を非開口部２１８に移動させればよい。
【００６０】
次に，例えば図示しないクレーン機構を用いて蓋体１２０をつり上げて図５に示す矢印の方向へ搬送し，図６に示すように蓋体載置領域Ｙの支持台２４０，２４２，２４４，２４６に載置する。このとき，蓋体１２０の載置位置は支持台２４０，２４２，２４６の突起部で位置決めできる。
【００６１】
このように蓋体１２０を開口部１１４から取り外すことによって，ロードロック室２００の内部をメンテナンスすることができる。また，開口部２１４に沿って安全柵２６０，２６２が立設するので，天井部２１２で作業する作業者の安全を確保できる。
【００６２】
以上のように，本実施形態によれば，基板処理装置１００が設置されているスペース以外に，ロードロック室１０２の開口部１１４から取り外した蓋体１２０を載置するためのスペースを用意する必要がない。これにより，クリーンルームの床面積を省スペース化できる。
【００６３】
また，ロードロック室１０２の蓋体１２０の蓋体載置領域Ｙを開口部１１４に非常に近い搬送室の天井部２１２に設けたため，クレーンなどで蓋体１２０をつり上げて蓋体載置領域Ｙに載置するのにかかる時間を大幅に短縮できる。従って，メンテナンスなどの作業時間を短縮することができ，基板処理装置１００の生産性を向上させることができる。
【００６４】
ところで，本実施形態にかかる搬送室２００においては，その天井部２１２に非開口部２１６，２１８を設けて蓋体載置領域Ｘ，Ｙを確保するため，これら非開口部２１６，２１８を設けない場合に比して開口部２１４を小さくしなければならない。このため，搬送室２００内に設けられる搬送装置のピック３００の大きさによってはそのまま開口部２１４から搬入出できない場合も考えられる。このため，ピック３００を開口部２１４の幅に合わせて分解自在に構成してもよい。
【００６５】
このようなピック３００の具体的な構成例を図面を参照しながら説明する。図７，図８は，本実施形態にかかる搬送装置のピック３００の構成を説明するための斜視図である。図７は分解する前のピック３００の状態を示す図であり，図８は分解した後のピック３００の状態を示す図である。
【００６６】
図７に示すピック３００は，図８に示すように３つの部分（幅Ｗａの部品３０２，幅Ｗｂの部品３０４，幅Ｗｃの部品３０６）に分解可能に構成したものである。ここで幅Ｗａ，Ｗｂ，Ｗｃはすべて，開口部２１４の幅方向の寸法よりも小さくなるようにする。これにより，メンテナンスなどにより搬送室２００からピック３００を取り出す場合は，搬送室２００内にてピック３００を部品３０２，３０４，３０６に分解した上で，これらを開口部２１４から取り出すことができる。また，搬送室２００内にピック３００を搬入して設置する場合は，部品３０２，３０４，３０６を開口部２１４から搬送室２００内に挿入した後に，搬送室２００内でピック３００を組み立てることができる。これにより，開口部２１４の幅が小さくても，それより大きい幅のピック３００を開口部２１４から容易に出し入れすることができる。
【００６７】
以上，添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが，本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された範疇内において，各種の変更例又は修正例に想到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００６８】
例えば，ロードロック室１０２の蓋体１２０を搬送室２００の上に置く構成を本発明の１つの実施形態として説明したが，処理室１０４の蓋体を搬送室２００の上に置くようにしてもよい。また，搬送室２００の蓋体２５０或いは処理室１０４の蓋体をロードロック室１０２の上に置く構成でもよい。さらには，蓋体を分割して載置するように構成してもよい。
【産業上の利用可能性】
【００６９】
本発明は，ＦＰＤ基板などの被処理体を収容する収容室を備えた処理装置に適用可能である。
【符号の説明】
【００７０】
１００      基板処理装置
１０２      ロードロック室
１０４      処理室
１０６      真空側ゲートバルブ
１１０      容器（ロードロック室の容器）
１１２      天井部
１１４      開口部
１１６，１１８，２２０      基板搬入出口
１２０      蓋体（ロードロック室の蓋体）
２００      搬送室
２１０      容器（搬送室の容器）
２１２      天井部
２１４      開口部
２１６，２１８      非開口部
２２２，２２４      補強部材
２２８，２３０      装着穴
２４０，２４２，２４４，２４６，２４８      支持台
２５０      蓋体（搬送室の蓋体）
２６０，２６２      安全柵
３００      ピック
３０２，３０４，３０６  部品
Ｓ        基板
Ｘ，Ｙ      蓋体載置領域
【図１】
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【図２】
0005575558.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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