(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記重合性成分（Ｘ）と、光重合開始剤（Ｄ）とを含む、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
（重合性成分（Ｘ））
分子内に３〜６個のラジカル重合性の官能基を有し、前記官能基１個あたりの分子量が１１０〜２００であり、かつトリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトールおよびヘキサメチレンジイソシアネートからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物に由来する構造を有するモノマー（Ａ）５５〜８０質量％と、
分子内に２個のラジカル重合性の官能基を有し、かつ分子内に１１個以上のオキシアルキレン基を有するモノマー（Ｂ）１０〜４５質量％と、
分子内に１個のラジカル重合性の官能基を有するモノマー（Ｃ）０〜２０質量％とを含む、重合性成分（Ｘ）。
【請求項２】
前記モノマー（Ｂ）が、分子内に１１個以上３０個以下のオキシアルキレン基を有するモノマーである、請求項１に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
【請求項３】
前記モノマー（Ｂ）が、ポリエチレングリコールジアクリレート、およびエトキシ化ビスフェノールＡジアクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種のモノマーである請求項１または２に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
【請求項４】
前記モノマー（Ｃ）が、アクリロイルモルホリン、ヒドロキシエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルホルムアミド、メチルアクリレート、およびエチルアクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種のモノマーである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
【請求項５】
前記モノマー（Ｃ）が、２−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリロイルモルホリン、およびメチルアクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種のモノマーである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
【請求項６】
前記光重合開始剤（Ｄ）の割合が、重合性成分（Ｘ）１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
【請求項７】
前記光重合開始剤（Ｄ）が、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、または２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
【請求項８】
微細凹凸構造を表面に有する物品であって、
前記微細凹凸構造が、請求項１〜７のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、前記微細凹凸構造の反転構造を表面に有するスタンパと接触、および硬化させることによって形成された、微細凹凸構造を表面に有する物品。
【請求項９】
反射防止物品である、請求項８に記載の微細凹凸構造を表面に有する物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、およびこれを用いて形成された微細凹凸構造を表面に有する物品（反射防止物品等）に関する。
本願は、２０１０年３月１７日に日本に出願された特願２０１０−０６０９０６号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
可視光の波長以下の周期の微細凹凸構造を表面に有する物品は、前記微細凹凸構造における連続的な屈折率の変化によって、反射防止性能を有することが知られている。また、微細凹凸構造は、ロータス効果によって超撥水性能を発現することも知られている。【０００３】
微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法としては、例えば、下記方法が提案されている。
（ｉ）微細凹凸構造の反転構造を表面に有するスタンパを用い、熱可塑性樹脂を射出成形またはプレス成形する際に、熱可塑性樹脂に微細凹凸構造を転写する方法。
（ii）微細凹凸構造の反転構造を表面に有するスタンパと透明基材との間に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を充填し、活性エネルギー線の照射によって硬化させた後、スタンパを離型して硬化物に微細凹凸構造を転写する方法、または、前記スタンパと透明基材との間に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を充填した後、スタンパを離型して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に微細凹凸構造を転写し、その後、活性エネルギー線の照射によって活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させる方法。【０００４】
これらのうち、微細凹凸構造の転写性がよく、物品の表面の組成の自由度が高く、また、スタンパがベルトやロールの場合に連続生産が可能であり、生産性に優れる点から、（ii）の方法が注目されている。
（ii）の方法に用いる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、例えば、下記の組成物が提案されている。
（１）ウレタンアクリレート等のアクリレートオリゴマーと、ラジカル重合性の官能基を有するアクリル系樹脂と、離型剤と、光重合開始剤とを含む光硬化性樹脂組成物（特許文献１）。
（２）エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートと、Ｎ−ビニルピロリドン等の反応性希釈剤と、光重合開始剤と、フッ素系界面活性剤とを含む光硬化性樹脂組成物（特許文献２）。
（３）トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレートと、光重合開始剤と、ポリエーテル変性シリコーンオイル等のレベリング剤とを含む紫外線硬化性樹脂組成物（特許文献３）。【０００５】
しかし、（１）の光硬化性樹脂組成物には、下記の問題がある。
・オリゴマー、および樹脂を主成分とするため粘度が高く、スタンパの微細凹凸構造に光硬化性樹脂組成物が十分に流れ込むことができず、微細凹凸構造の転写性が悪い。
・硬化物の弾性率が低いため、擦れによって傷がつきやすい。
・硬化物の親水性が不十分であるため、硬化物（微細凹凸構造）に付着した指紋等の汚れを水拭きしようとしても、汚れが水で浮き上がらず、指紋等を拭き取ることが困難である。【０００６】
また、（２）の光硬化性樹脂組成物には、下記の問題がある。
・硬化物の親水性が不十分であるため、硬化物（微細凹凸構造）に付着した指紋等の汚れを水拭きしようとしても、汚れが水で浮き上がらず、指紋等を拭き取ることが困難である。【０００７】
また、（３）の紫外線硬化性樹脂組成物は、硬化物の疎水性が十分に高いため指紋等の汚れ自体が付着しにくいが、（３）の紫外線硬化性樹脂組成物には、下記の問題がある。
・比較的低分子量の重合性成分を主成分とするため粘度は低いが、重合性成分が低分子量のため、硬化物が硬く脆くなってしまい、スタンパを離型しにくい。
・また、硬化物が硬く脆いため、擦れによって傷がつきやすい。【０００８】
特許文献１〜３に記載されている樹脂組成物は、耐擦傷性と防汚性、また生産性を十分に満足するものではなかった。これらの課題を解決するものとして、特許文献４に記載されている樹脂組成物が挙げられる。特許文献４に記載されている樹脂組成物は、耐擦傷性を保有しながら、指紋付着汚れの除去を可能とする発明であるが、更なる高い耐擦傷性が望まれていた。
しかしながら、特許文献４の段落［００３９］には４官能以上の多官能（メタ）アクリレートは「５０質量部より多いと樹脂表面に小さな亀裂が入って外観不良となる」ことが記載されている。また、特許文献５では１分子中にアクリロイル基を１０個有する多官能モノマーが例示されているが、実施例中での使用量は４７．５質量部を上限としている。
樹脂硬度を上げることで耐擦傷性も向上するが、同時に、樹脂が脆くなるため、硬度を上げすぎるとかえって耐擦傷性が低下することが示唆されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】日本国特許第４１５６４１５号公報
【特許文献２】特開２００７−８４６２５号公報
【特許文献３】特開２０００−７１２９０号公報
【特許文献４】国際公開２００８−０９６８７２号パンフレット
【特許文献５】国際公開２００７−０４０１５９号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、粘度を比較的低くでき、スタンパからの離型性が良好で、耐擦傷性が高く、指紋拭き取り性が良好な硬化物を形成できる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物；および、耐擦傷性が高く、指紋拭き取り性が良好な微細凹凸構造を表面に有する物品を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、下記重合性成分（Ｘ）と、光重合開始剤（Ｄ）とを含むことを特徴とする。
（重合性成分（Ｘ））
分子内に３個以上のラジカル重合性の官能基を有し、かつ前記官能基１個あたりの分子量が１１０〜２００であるモノマー（Ａ）５０〜８０質量％と、
分子内に２個のラジカル重合性の官能基を有し、かつ分子内に１１個以上のオキシアルキレン基を有するモノマー（Ｂ）１０〜５０質量％と、
分子内に１個のラジカル重合性の官能基を有するモノマー（Ｃ）０〜２０質量％とを含む、重合性成分（Ｘ）。【００１２】
本発明の微細凹凸構造を表面に有する物品は、微細凹凸構造を表面に有する物品であって、前記微細凹凸構造が、本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、前記微細凹凸構造の反転構造を表面に有するスタンパと接触、硬化させることによって形成されたものであることを特徴とする。
本発明の微細凹凸構造を表面に有する物品は、反射防止物品であることが好ましい。【００１３】
すなわち、本発明は以下に関する。
（１）下記重合性成分（Ｘ）と、光重合開始剤（Ｄ）とを含む、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
（重合性成分（Ｘ））
分子内に３〜６個のラジカル重合性の官能基を有し、前記官能基１個あたりの分子量が１１０〜２００であり、かつトリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトールおよびヘキサメチレンジイソシアネートからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物に由来する構造を有するモノマー（Ａ）５５〜８０質量％と、分子内に２個のラジカル重合性の官能基を有し、かつ分子内に１１個以上のオキシアルキレン基を有するモノマー（Ｂ）１０〜４５質量％と、分子内に１個のラジカル重合性の官能基を有するモノマー（Ｃ）０〜２０質量％とを含む、重合性成分（Ｘ）。
（２）前記モノマー（Ｂ）が、分子内に１１個以上３０個以下のオキシアルキレン基を有するモノマーである、（１）に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
（３）前記モノマー（Ｂ）が、ポリエチレングリコールジアクリレート、およびエトキシ化ビスフェノールＡジアクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種のモノマーである（１）または（２）に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
（４）前記モノマー（Ｃ）が、アクリロイルモルホリン、ヒドロキシエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルホルムアミド、メチルアクリレート、およびエチルアクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種のモノマーである、（１）〜（３）のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
（５）前記モノマー（Ｃ）が、２−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリロイルモルホリン、およびメチルアクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種のモノマーである、（１）〜（４）のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
（６）前記光重合開始剤（Ｄ）の割合が、重合性成分（Ｘ）１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部である、（１）〜（５）のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
（７）前記光重合開始剤（Ｄ）が、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オンまたは２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドである、（１）〜（６）のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
（８）微細凹凸構造を表面に有する物品であって、前記微細凹凸構造が、（１）〜（７）のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、前記微細凹凸構造の反転構造を表面に有するスタンパと接触、および硬化させることによって形成された、微細凹凸構造を表面に有する物品。
（９）反射防止物品である、（８）に記載の微細凹凸構造を表面に有する物品。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物によれば、粘度を比較的低くでき、スタンパからの離型性が良好で、耐擦傷性が高く、指紋拭き取り性が良好な硬化物を形成できる。
本発明の微細凹凸構造を表面に有する物品は、微細凹凸構造の耐擦傷性が高く、指紋拭き取り性が良好である。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の微細凹凸構造を表面に有する物品の一例を示す断面図である。
【図２】陽極酸化アルミナを表面に有するスタンパの製造工程を示す断面図である。
【図３】本発明の微細凹凸構造を表面に有する物品の製造装置の一例を示す構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本明細書において、ラジカル重合性の官能基とは、（メタ）アクリロイル基、およびビニル基等を意味する。また、（メタ）アクリロイル基は、アクリロイル基および／またはメタクリロイル基を意味する。また、（メタ）アクリレートは、アクリレートおよび／またはメタクリレートを意味する。また、活性エネルギー線は、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、および熱線（赤外線等）等を意味する。
【００１７】
＜活性エネルギー線硬化性樹脂組成物＞
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物とは、活性エネルギー線を照射することで、重合反応が進行し、硬化する樹脂組成物である。
本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、重合性成分（Ｘ）と、光重合開始剤（Ｄ）とを必須成分とし、必要に応じて、紫外線吸収剤および／または酸化防止剤（Ｅ）等の他の成分等を含むものである。
【００１８】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の粘度は、スタンパの表面の微細凹凸構造への流れ込みやすさの点から、高すぎないことが好ましい。よって、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の、２５℃における回転式Ｂ型粘度計での粘度は、１００００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、５０００ｍＰａ・ｓ以下がより好ましく、２０００ｍＰａ・ｓ以下がさらに好ましい。
ただし、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の粘度が１００００ｍＰａ・ｓを超えても、スタンパとの接触の際にあらかじめ加温して粘度を下げることが可能であるならば特に問題はない。この場合、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の、７０℃における回転式Ｂ型粘度計での粘度は、５０００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、２０００ｍＰａ・ｓ以下がより好ましい。
粘度があまりに低すぎると、濡れ広がってしまい、製造に支障を来たす場合もある。１０ｍＰａ・ｓ以上であれば好ましい。
【００１９】
２５℃における回転式Ｂ型粘度計での粘度の範囲は、１０〜１００００ｍＰａ・ｓが好ましく、１０〜５０００ｍＰａ・ｓがより好ましく、１０〜２０００ｍＰａ・ｓがさらに好ましい。
７０℃における回転式Ｂ型粘度計での粘度の範囲は、１０〜５０００ｍＰａ・ｓが好ましく、１０〜２０００ｍＰａ・ｓがより好ましい。
【００２０】
（重合性成分（Ｘ））
重合性成分（Ｘ）は、特定のモノマー（Ａ）および特定のモノマー（Ｂ）を必須成分とし、必要に応じて、モノマー（Ｃ）、他の重合性成分（モノマー（Ａ）、モノマー（Ｂ）およびモノマー（Ｃ）を除く。）を含むものである。
【００２１】
（モノマー（Ａ））
モノマー（Ａ）は、分子内に３個以上のラジカル重合性の官能基を有し、かつ前記官能基１個あたりの分子量が１１０〜２００である化合物である。
官能基１個あたりの分子量とは、モノマー（Ａ）の分子量を１分子中のラジカル重合性の官能基の数で除した値である。
前記モノマー（Ａ）は、分子内に３個以上１５個以下のラジカル重合性の官能基を有することが好ましく、３個以上１０個以下がより好ましい。
【００２２】
例えば、代表的な３官能モノマーであるトリメチロールプロパントリアクリレートの場合、その分子量は２９６であり、ラジカル重合性の官能基の数は３であるため、官能基１個あたりの分子量が９８．６７となる。よって、トリメチロールプロパントリアクリレートは、モノマー（Ａ）に該当しない。同様に、分子量が８００を超える４官能モノマーや、分子量が１２００を超える６官能モノマーは、官能基１個あたりの分子量が２００を超えるため、モノマー（Ａ）に該当しない。
【００２３】
官能基１個あたりの分子量が１１０未満では、硬化物の架橋点間分子量が小さくなりすぎ、硬化物が硬く脆くなってしまう場合がある。官能基１個あたりの分子量が２００を超えると、硬化物の弾性率、硬度が低くなり、耐擦傷性を損なう場合がある。
モノマー（Ａ）の官能基１個あたりの分子量は、１２０〜１８０が好ましく、１３０〜１５０がより好ましい。
【００２４】
モノマー（Ａ）としては、官能基１個あたりの分子量が１１０〜２００であるウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、およびポリエーテル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２５】
３官能のポリエーテル（メタ）アクリレートとしては、例えば、アルコキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、アルコキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、およびアルコキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
４官能のポリエーテル（メタ）アクリレートとしては、例えば、アルコキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、およびアルコキシ化ジトリメチロールプロパン（メタ）アクリレート等が挙げられる。
５官能以上のポリエーテル（メタ）アクリレートとしては、例えば、アルコキシ化ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
ここで、アルコキシ化としては、エトキシ化、プロポキシ化、エトキシ・プロポキシ化、およびブトキシ化等が挙げられる。
【００２６】
ウレタン（メタ）アクリレートとしては、ポリオールと、イソシアネート化合物と、水酸基を有する（メタ）アクリレートとの反応物が挙げられ、市販品としては、ＮＫオリゴＵ−４ＨＡ、およびＮＫオリゴＵ−６ＨＡ（新中村化学工業社製）等が挙げられる。
ポリエステル（メタ）アクリレートとしては、トリメチロールエタンとコハク酸と（メタ）アクリル酸との反応物等が挙げられる。
【００２７】
モノマー（Ａ）としては、重合反応性の点から、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ジトリメチロールプロパン（メタ）アクリレート、エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、およびウレタン（メタ）アクリレートの市販品（ＮＫオリゴＵ−４ＨＡ、およびＮＫオリゴＵ−６ＨＡ）等が好ましい。
モノマー（Ａ）はトリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール、グリセリン、ヘキサメチレンジイソシアネート、およびイソホロンジイソシアネートの群から選ばれる少なくとも１種に由来する構造を持つものであることが好ましい。
モノマー（Ａ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２８】
モノマー（Ａ）の割合は、重合性成分（Ｘ）１００質量％のうち、５０〜８０質量％であり、５５〜８０質量％が好ましく、６０〜８０質量％がより好ましく、６０〜７５質量％がさらに好ましく、６０〜７０質量％が特に好ましい。モノマー（Ａ）の割合が５０質量％未満では、硬化物の弾性率、硬度が低くなり、耐擦傷性を損なう場合がある。モノマー（Ａ）の割合が８０質量％を超えると、硬化物の弾性率が高くなるため、硬化物からスタンパを離型する際に硬化物にひび割れを生じ、また、硬く脆くなるため、耐擦傷性を損なう場合がある。
従来技術では、樹脂が脆くなるために、４官能以上のモノマーを５０質量部以上用いることができなかったが、本発明では官能基１個あたりの分子量を１１０〜２００である化合物とすることで、４官能以上のモノマーを５０質量部以上用いても樹脂が脆くならず、耐擦傷性を効果的に高めることを可能としている。
【００２９】
（モノマー（Ｂ））
モノマー（Ｂ）は、分子内に２個のラジカル重合性の官能基を有し、かつ分子内に１１個以上のオキシアルキレン基（オキシエチレン基：−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−等）を有する化合物である。すなわちモノマー（Ｂ）は、ポリオキシアルキレン構造（ポリオキシエチレン構造：−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−等）を有する化合物である。
モノマー（Ｂ）がオキシアルキレン基の数が異なる２種類以上の化合物の混合物の場合は、オキシアルキレン基の数は平均値とする。
【００３０】
２官能以上のモノマーの皮膚刺激性を改善するために、原料のポリオールにアルキレンオキシド（エチレンオキシド、およびプロピレンオキシド等）を付加させてアルコキシ化（エトキシ化、およびプロポキシ化等）を行い、分子量を大きくすることはよく知られている。ポリオキシアルキレン構造の鎖長が長くなるほど、皮膚刺激性が低下するとともに、硬化物のガラス転位温度も低下し、柔軟な硬化物を与える。また、２官能以上のモノマーでは、１つのラジカル重合性の官能基が反応すると、残りのラジカル重合性の官能基の反応性が低下することがよく知られているが、ポリオキシアルキレン構造によって１分子中のラジカル重合性の官能基間を離すことによって、重合反応性も向上する。
【００３１】
ポリオキシアルキレン構造は、単一のオキシアルキレン基から構成されていてもよく、２種類以上のオキシアルキレン基から構成されていてもよい。また、ポリオキシアルキレン構造の途中に、ビスフェノールＡ等の他の基が介在していてもよい。
ポリオキシアルキレン構造としては、硬化物の指紋の拭き取り性の点からは、ポリオキシエチレン構造が好ましい。
【００３２】
ポリオキシアルキレン構造におけるオキシアルキレン基の数が１１以上であれば、良好な重合反応性を発揮する。一方、オキシアルキレン基の数が多くなりすぎると、結晶化を起こすようになり、取り扱いが悪くなる場合がある。また、硬化物における架橋密度が低下するため、耐擦傷性が損なわれる場合がある。
ポリオキシアルキレン構造におけるオキシアルキレン基の数は、１１〜３０が好ましく、１１〜２５がより好ましい。
【００３３】
モノマー（Ｂ）としては、分子内に１１個以上のオキシアルキレン基を有する、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、アルコキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、およびアルコキシ化２−メチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３４】
ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール−テトラメチレングリコール）ジ（メタ）アクリレート、ポリ（プロピレングリコール−テトラメチレングリコール）ジ（メタ）アクリレート、およびポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール−エチレングリコール）ジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３５】
アルコキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレートとしては、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、およびプロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
アルコキシ化２−メチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレートとしては、エトキシ化２−メチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
モノマー（Ｂ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３６】
モノマー（Ｂ）の割合は、重合性成分（Ｘ）１００質量％のうち、１０〜５０質量％であり、１５〜４５質量％が好ましく、１５〜４０質量％がより好ましく、２０〜４０質量％がさらに好ましい。モノマー（Ｂ）の割合が１０質量％未満では、硬化物の弾性率が高くなるため、硬化物からスタンパを離型する際に硬化物にひび割れを生じ、また、硬く脆くなるため、耐擦傷性を損なう場合がある。モノマー（Ｂ）の割合が５０質量％を超えると、硬化物の弾性率が低くなり、耐擦傷性を損なう場合がある。また、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の粘度が高くなりやすい。
【００３７】
（モノマー（Ｃ））
モノマー（Ｃ）は、分子内に１個のラジカル重合性の官能基を有し、モノマー（Ａ）やモノマー（Ｂ）と共重合可能な化合物であり、必要に応じて添加される。
モノマー（Ｃ）としては、硬化物の指紋拭き取り性の点からは、親水性のモノマーが好ましい。親水性のモノマーとは、２５℃の水１００ｇに１ｇ以上溶解できるモノマーである。
【００３８】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物において、その物性を大きく左右するのは主骨格となる多官能モノマーである。しかし、概して多官能モノマーは粘度の高いものが多く、ハンドリング性を改良するために、低粘度のモノマー（Ｃ）を用いて希釈する。また、２官能以上のモノマーでは、１つのラジカル重合性の官能基が反応すると、残りのラジカル重合性の官能基の反応性が低下するため、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物全体での重合反応性を向上させるためにモノマー（Ｃ）を添加する。
【００３９】
また、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は単独で硬化させることは少なく、通常は、後述する基材の上で活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させ、基材と一体化させて用いられる。基材と硬化物とを良好に密着させるために、分子量の小さいモノマー（Ｃ）を添加し、基材の材料に応じて、密着性付与のための最適なモノマーが選択される。
【００４０】
モノマー（Ｃ）としては、例えば、アルキル（メタ）アクリレート（メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、およびラウリル（メタ）アクリレート等）、ベンジル（メタ）アクリレート、脂環構造を有する（メタ）アクリレート（イソボルニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、およびジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート等）、アミノ基を有する（メタ）アクリレート（ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、およびジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート等）、水酸基を有する（メタ）アクリレート（ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、およびヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等）、（メタ）アクリルアミド誘導体（（メタ）アクリロイルモルホリン、およびＮ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド等）、２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルホルムアミド、および酢酸ビニル等が挙げられる。
【００４１】
モノマー（Ｃ）としては、重合反応性の点からは、あまり嵩高くないモノマーが好ましく、また、防汚性の点からは、疎水性の高くないモノマーが好ましい。
モノマーの嵩高さの目安として、分子量が１５０以下であることが好ましい。モノマー（Ｃ）の分子量は７０〜１５０が好ましく、７０〜１１５がより好ましい。
具体的にはアクリロイルモルホリン、ヒドロキシエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルホルムアミド、メチルアクリレート、およびエチルアクリレート等が好ましい。基材の材料がアクリル系樹脂の場合、メチルアクリレート、およびエチルアクリレートが特に好ましい。
モノマー（Ｃ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４２】
モノマー（Ｃ）の割合は、重合性成分（Ｘ）１００質量％のうち、０〜２０質量％であり、０〜１５質量％が好ましく、０〜１０質量％がより好ましく、１〜１０質量％がさらに好ましく、３〜１０質量％が特に好ましい。モノマー（Ｃ）の割合が２０質量％を超えると、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化が完結せず、微細凹凸構造を表面に有する物品が不完全なものになる場合がある。また、硬化物内に未反応のモノマー（Ｃ）が残り、可塑剤として働いてしまい、硬化物の弾性率を低下させ、耐擦傷性を損なう場合もある。
【００４３】
（他の重合性成分）
重合性成分（Ｘ）は、本発明の効果を損なわない範囲で、モノマー（Ａ）、モノマー（Ｂ）およびモノマー（Ｃ）以外の他の重合性成分を含んでいてもよい。他の重合性成分としては、モノマー（Ａ）およびモノマー（Ｂ）以外の２官能以上のモノマー、ラジカル重合性の官能基を有するオリゴマーやポリマー等が挙げられる。
他の重合性成分の割合は、重合性成分（Ｘ）１００質量％のうち、３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下が更に好ましく、１０質量％以下が特に好ましい。すなわち、モノマー（Ａ）、モノマー（Ｂ）およびモノマー（Ｃ）の合計は、重合性成分（Ｘ）１００質量％のうち、７０質量％以上が好ましい。
【００４４】
（光重合開始剤（Ｄ））
光重合開始剤（Ｄ）とは、活性エネルギー線を照射することで開裂し、重合反応を開始させるラジカルを発生する化合物である。活性エネルギー線としては、装置コストや生産性の点から、紫外線が好ましい。
【００４５】
紫外線によってラジカルを発生する光重合開始剤（Ｄ）、すなわち光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、チオキサントン類（２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、および２，４−ジクロロチオキサントン等）、アセトフェノン類（ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、および２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等）、ベンゾインエーテル類（ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、およびベンゾインイソブチルエーテル等）、アシルホスフィンオキシド類（２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、およびビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド等）、メチルベンゾイルホルメート、１，７−ビスアクリジニルヘプタン、および９−フェニルアクリジン等が挙げられる。
【００４６】
光重合開始剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。併用する場合は、吸収波長の異なる２種以上を併用することが好ましい。
また、必要に応じて、過硫酸塩（過硫酸カリウム、および過硫酸アンモニウム等）、過酸化物（ベンゾイルパーオキシド等）、およびアゾ系開始剤等の熱重合開始剤を併用してもよい。
【００４７】
光重合開始剤（Ｄ）の割合は、重合性成分（Ｘ）１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部が好ましく、０．１〜５質量部がより好ましく、０．２〜３質量部がさらに好ましい。光重合開始剤（Ｄ）の割合が０．０１質量部未満では、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化が完結せず、微細凹凸構造を表面に有する物品の機械物性を損なう場合がある。光重合開始剤（Ｄ）の割合が１０質量部を超えると、硬化物内に未反応の光重合開始剤（Ｄ）が残り、可塑剤として働いてしまい、硬化物の弾性率を低下させ、耐擦傷性を損なう場合もある。また、着色の原因となる場合もある。
【００４８】
（紫外線吸収剤および／または酸化防止剤（Ｅ））
本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、紫外線吸収剤および／または酸化防止剤（Ｅ）等をさらに含んでもよい。
紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ヒンダードアミン系、ベンゾエート系、およびトリアジン系などが挙げられる。市販品としては、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製の「チヌビン４００」や「チヌビン４７９」、および共同薬品社製の「Ｖｉｏｓｏｒｂ１１０」等の紫外線吸収剤が挙げられる。
酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、ベンズイミダゾール系、リン系、イオウ系、およびヒンダードアミン系の酸化防止剤などが挙げられる。市販品としては、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製の「ＩＲＧＡＮＯＸ」シリーズなどが挙げられる。
これら紫外線吸収剤および酸化防止剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
紫外線吸収剤および／または酸化防止剤（Ｅ）の割合は、重合性成分（Ｘ）１００質量部に対して、合計で０．０１〜５質量部が好ましい。
【００４９】
（他の成分）
本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、界面活性剤、離型剤、滑剤、可塑剤、帯電防止剤、光安定剤、難燃剤、難燃助剤、重合禁止剤、充填剤、シランカップリング剤、着色剤、強化剤、無機フィラー、および耐衝撃性改質剤等の公知の添加剤を含んでいてもよい。
また、本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、ラジカル重合性の官能基を有さないオリゴマーやポリマー、および微量の有機溶媒等を含んでいてもよい。
【００５０】
以上説明した本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物にあっては、特定のモノマー（Ａ）と特定のモノマー（Ｂ）とを特定の割合で含んでいるため、粘度が比較的低いにもかかわらず、適度な硬度を有する硬化物が形成され、その結果、スタンパからの離型性が良好な硬化物を形成でき、かつ耐擦傷性が高い。また、特定のモノマー（Ｂ）を特定の割合で含んでいるため、指紋拭き取り性が良好な硬化物を形成できる。
【００５１】
＜微細凹凸構造を表面に有する物品＞
本発明の微細凹凸構造を表面に有する物品は、本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、微細凹凸構造の反転構造を表面に有するスタンパと接触、および硬化させることによって形成される微細凹凸構造を、表面に有する物品である。
【００５２】
図１は、微細凹凸構造を表面に有する物品の一例を示す断面図である。物品４０は、基材４２と、基材４２の表面に形成された硬化樹脂層４４とを有する。
【００５３】
基材４２としては、光を透過する成形体が好ましい。基材の材料としては、例えば、アクリル系樹脂（ポリメチルメタクリレート等）、ポリカーボネート、スチレン（共）重合体、メチルメタクリレート−スチレン共重合体、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート等）、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリオレフィン（ポリエチレン、およびポリプロピレン等）、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリウレタン、およびガラス等が挙げられる。
【００５４】
基材４２は、射出成形体でもよく、押出成形体でもよく、キャスト成形体でもよい。基材４２の形状は、シート状でもよく、フィルム状でもよい。
基材４２の表面は、密着性、帯電防止性、耐擦傷性、および耐候性等改良のために、コーティング処理、またはコロナ処理等が施されていてもよい。
【００５５】
硬化樹脂層４４は、本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる膜であり、表面に微細凹凸構造を有する。
後述する陽極酸化アルミナのスタンパを用いた場合の物品４０の表面の微細凹凸構造は、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであり、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる２以上の凸部４６を有する。
【００５６】
微細凹凸構造としては、略円錐形状、または角錐形状等の突起（凸部）が２以上並んだ、いわゆるモスアイ構造が好ましい。突起間の間隔が可視光の波長以下であるモスアイ構造は、空気の屈折率から材料の屈折率へと連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。
【００５７】
凸部間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下が好ましい。平均間隔が４００ｎｍを超えると、可視光の散乱が起こるため、反射防止物品等の光学用途に適さない。後述する陽極酸化アルミナのスタンパを用いて凸部を形成した場合、凸部間の平均間隔は１００ｎｍ程度となることから、２００ｎｍ以下がより好ましく、１５０ｎｍ以下が特に好ましい。
【００５８】
凸部間の平均間隔は、凸部の形成のしやすさの点から、２０ｎｍ以上が好ましい。
凸部間の平均間隔の範囲は、２０〜４００ｎｍが好ましく、２０〜２００ｎｍがより好ましく、２０〜１５０ｎｍがさらに好ましい。
凸部間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する凸部間の間隔（凸部の中心から隣接する凸部の中心までの距離）を５０点測定し、これらの値を平均したものである。
【００５９】
凸部の高さは、平均間隔が１００ｎｍの場合は、８０〜５００ｎｍが好ましく、１２０〜４００ｎｍがより好ましく、１５０〜３００ｎｍが特に好ましい。凸部の高さが８０ｎｍ以上であれば、反射率が十分低くなり、かつ反射率の波長依存性が少ない。凸部の高さが５００ｎｍ以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。
凸部の高さは、電子顕微鏡によって倍率３００００倍で観察したときにおける、凸部の最頂部と、凸部間に存在する凹部の最底部との間の距離を測定した値である。
【００６０】
凸部のアスペクト比（凸部の高さ／凸部間の平均間隔）は、０．８〜５が好ましく、１．２〜４がより好ましく、１．５〜３が特に好ましい。凸部のアスペクト比が１．０以上であれば、反射率が十分に低くなる。凸部のアスペクト比が５以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。
【００６１】
凸部の形状は、高さ方向と直交する方向の凸部断面積が最表面から深さ方向に連続的に増加する形状、すなわち、凸部の高さ方向の断面形状が、三角形、台形、および釣鐘型等の形状が好ましい。
【００６２】
硬化樹脂層４４の屈折率と基材４２の屈折率との差は、０．２以下が好ましく、０．１以下がより好ましく、０．０５以下が特に好ましい。屈折率差が０．２以下であれば、硬化樹脂層４４と基材４２との界面における反射が抑えられる。
【００６３】
（スタンパ）
スタンパは、微細凹凸構造の反転構造を表面に有するものである。
スタンパの材料としては、金属（表面に酸化皮膜が形成されたものを含む。）、石英、ガラス、樹脂、およびセラミックス等が挙げられる。
スタンパの形状としては、ロール状、円管状、平板状、およびシート状等が挙げられる。
【００６４】
スタンパの作製方法としては、例えば、下記の方法（Ｉ−１）、および方法（Ｉ−２）が挙げられ、大面積化が可能であり、かつ作製が簡便である点から、方法（Ｉ−１）が特に好ましい。
（Ｉ−１）アルミニウム基材の表面に、２以上の細孔（凹部）を有する陽極酸化アルミナを形成する方法。
（Ｉ−２）スタンパ基材の表面に、電子ビームリソグラフィ法、またはレーザ光干渉法等によって微細凹凸構造の反転構造を形成する方法。
【００６５】
方法（Ｉ−１）としては、下記の工程（ａ）〜（ｆ）を有する方法が好ましい。
（ａ）アルミニウム基材を電解液中、定電圧下で陽極酸化してアルミニウム基材の表面に酸化皮膜を形成する工程。
（ｂ）酸化皮膜を除去し、アルミニウム基材の表面に陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。
（ｃ）工程（ｂ）の後、アルミニウム基材を電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。
（ｄ）工程（ｃ）の後、細孔の径を拡大させる工程。
（ｅ）工程（ｄ）の後、電解液中、再度陽極酸化する工程。
（ｆ）工程（ｄ）と工程（ｅ）を繰り返し行い、２以上の細孔を有する陽極酸化アルミナがアルミニウム基材の表面に形成されたスタンパを得る工程。
【００６６】
工程（ａ）：
図２に示すように、アルミニウム基材１０を陽極酸化すると、細孔１２を有する酸化皮膜１４が形成される。
アルミニウム基材の形状としては、ロール状、円管状、平板状、およびシート状等が挙げられる。
アルミニウム基材は、所定の形状に加工する際に用いた油が付着していることがあるため、あらかじめ脱脂処理されることが好ましい。また、アルミニウム基材は、表面状態を平滑にするために、電解研磨処理（エッチング処理）されることが好ましい。
【００６７】
アルミニウムの純度は、９９％以上が好ましく、９９．５％以上がより好ましく、９９．８％以上が特に好ましい。アルミニウムの純度が低いと、陽極酸化した時に、不純物の偏析により可視光を散乱する大きさの凹凸構造が形成されたり、陽極酸化で得られる細孔の規則性が低下したりすることがある。
電解液としては、硫酸、シュウ酸、およびリン酸等が挙げられる。
【００６８】
シュウ酸を電解液として用いる場合：
シュウ酸の濃度は、０．７Ｍ以下が好ましい。シュウ酸の濃度が０．７Ｍを超えると、電流値が高くなりすぎて酸化皮膜の表面が粗くなることがある。
化成電圧が３０〜６０Ｖの時、周期が１００ｎｍの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向にある。
電解液の温度は、６０℃以下が好ましく、４５℃以下がより好ましい。電解液の温度が６０℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。
【００６９】
硫酸を電解液として用いる場合：
硫酸の濃度は０．７Ｍ以下が好ましい。硫酸の濃度が０．７Ｍを超えると、電流値が高くなりすぎて定電圧を維持できなくなることがある。
化成電圧が２５〜３０Ｖの時、周期が６３ｎｍの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向がある。
電解液の温度は、３０℃以下が好ましく、２０℃以下がよりに好ましい。電解液の温度が３０℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。
【００７０】
工程（ｂ）：
図２に示すように、酸化皮膜１４を一旦除去し、これを陽極酸化の細孔発生点１６にすることで細孔の規則性を向上することができる。
【００７１】
酸化皮膜を除去する方法としては、アルミニウムを溶解せず、酸化皮膜を選択的に溶解する溶液に溶解させて除去する方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、クロム酸／リン酸混合液等が挙げられる。
【００７２】
工程（ｃ）：
図２に示すように、酸化皮膜を除去したアルミニウム基材１０を再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔１２を有する酸化皮膜１４が形成される。
陽極酸化は、工程（ａ）と同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。
【００７３】
工程（ｄ）：
図２に示すように、細孔１２の径を拡大させる処理（以下、細孔径拡大処理と記す。）を行う。細孔径拡大処理は、酸化皮膜を溶解する溶液に浸漬して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理である。このような溶液としては、例えば、５質量％程度のリン酸水溶液等が挙げられる。
細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径は大きくなる。
【００７４】
工程（ｅ）：
図２に示すように、再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔１２の底部から下に延びる、直径の小さい円柱状の細孔１２がさらに形成される。
陽極酸化は、工程（ａ）と同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。
【００７５】
工程（ｆ）：
図２に示すように、工程（ｄ）の細孔径拡大処理と、工程（ｅ）の陽極酸化を繰り返すと、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔１２を有する酸化皮膜１４が形成され、アルミニウム基材１０の表面に陽極酸化アルミナ（アルミニウムの多孔質の酸化皮膜（アルマイト））を有するスタンパ１８が得られる。最後は工程（ｄ）で終わることが好ましい。
【００７６】
繰り返し回数は、合計で３回以上が好ましく、５回以上がより好ましい。繰り返し回数が２回以下では、非連続的に細孔の直径が減少するため、このような細孔を有する陽極酸化アルミナを用いて形成されたモスアイ構造の反射率低減効果は不十分である。
【００７７】
細孔１２の形状としては、略円錐形状、角錐形状、および円柱形状等が挙げられ、円錐形状、および角錐形状等のように、深さ方向と直交する方向の細孔断面積が最表面から深さ方向に連続的に減少する形状が好ましい。
細孔１２間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下である。細孔１２間の平均間隔は、２０ｎｍ以上が好ましい。
細孔１２間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する細孔１２間の間隔（細孔１２の中心から隣接する細孔１２の中心までの距離）を５０点測定し、これらの値を平均したものである。
【００７８】
細孔１２の深さは、平均間隔が１００ｎｍの場合は、８０〜５００ｎｍが好ましく、１２０〜４００ｎｍがより好ましく、１５０〜３００ｎｍが特に好ましい。
細孔１２の深さは、電子顕微鏡観察によって倍率３００００倍で観察したときにおける、細孔１２の最底部と、細孔１２間に存在する凸部の最頂部との間の距離を測定した値である。
細孔１２のアスペクト比（細孔の深さ／細孔間の平均間隔）は、０．８〜５．０が好ましく、１．２〜４．０がより好ましく、１．５〜３．０が特に好ましい。
【００７９】
スタンパの微細凹凸構造が形成された側の表面を離型剤で処理してもよい。
離型剤としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、およびフッ素化合物等が挙げられ、加水分解性シリル基を有するフッ素化合物が特に好ましい。加水分解性シリル基を有するフッ素化合物の市販品としては、フルオロアルキルシラン、ＫＢＭ−７８０３（信越化学工業社製）、ＭＲＡＦ（旭硝子社製）、オプツールＨＤ１１００、ＨＤ２１００シリーズ（ハーベス社製）、オプツールＡＥＳ４、ＡＥＳ６（ダイキン工業社製）、ノベックＥＧＣ−１７２０（住友３Ｍ社製）、およびＦＳ‐２０５０シリーズ（フロロテクノロジー社製）等が挙げられる。
【００８０】
（物品の製造方法）
微細凹凸構造を表面に有する物品は、例えば、図３に示す製造装置を用いて、下記のようにして製造される。
表面に微細凹凸構造の反転構造（図示略）を有するロール状スタンパ２０と、ロール状スタンパ２０の表面に沿って移動する帯状フィルムの基材４２との間に、タンク２２から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を供給する。
【００８１】
ロール状スタンパ２０と、空気圧シリンダ２４によってニップ圧が調整されたニップロール２６との間で、基材４２および活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をニップし、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、基材４２とロール状スタンパ２０との間に均一に行き渡らせると同時に、ロール状スタンパ２０の微細凹凸構造の凹部内に充填する。
【００８２】
ロール状スタンパ２０の下方に設置された活性エネルギー線照射装置２８から、基材４２を通して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることによって、ロール状スタンパ２０の表面の微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層４４を形成する。
剥離ロール３０により、表面に硬化樹脂層４４が形成された基材４２をロール状スタンパ２０から剥離することによって、図１に示すような物品４０を得る。
【００８３】
活性エネルギー線照射装置２８としては、高圧水銀ランプ、およびメタルハライドランプ等が好ましく、この場合の光照射エネルギー量は、１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
【００８４】
基材４２は、光透過性フィルムである。フィルムの材料としては、アクリル系樹脂、ポリカーボネート、スチレン系樹脂、ポリエステル、セルロース系樹脂（トリアセチルセルロース等）、ポリオレフィン、および脂環式ポリオレフィン等が挙げられる。
【００８５】
（用途）
本発明の微細凹凸構造を表面に有する物品は、反射防止物品（反射防止フィルム、および反射防止膜等）、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、偏光分離素子等の光学物品、および細胞培養シートとしての用途展開が期待でき、特に反射防止物品としての用途に適している。
【００８６】
反射防止物品としては、例えば、画像表示装置（液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、および陰極管表示装置等）、レンズ、ショーウィンドウ、眼鏡等の表面に設けられる反射防止膜、反射防止フィルム、および反射防止シート等が挙げられる。画像表示装置に用いる場合は、画像表示面に反射防止フィルムを直接貼り付けてもよく、画像表示面を構成する部材の表面に反射防止膜を直接形成してもよく、前面板に反射防止膜を形成してもよい。
【００８７】
以上説明した本発明の微細凹凸構造を表面に有する物品にあっては、本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いているため、微細凹凸構造の耐擦傷性が高く、指紋拭き取り性が良好である。
【実施例】
【００８８】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。なお、以下の記載において、特に断らない限り「部」は「質量部」を意味する。【００８９】
（耐擦傷性）
磨耗試験機（新東科学社製、「ＨＥＩＤＯＮ」）を用い、裏面をラッカースプレーで黒く塗ったサンプル（物品）の表面に置かれた１ｃｍ四方のネル布に１０ｇの荷重をかけ、往復距離：３０ｍｍ、ヘッドスピード：３０ｍｍ／秒にて５０００回往復させ、サンプルの表面の外観を目視評価した。評価は室温２３℃、相対湿度６５％の環境下で、蛍光灯（１０００ルクス）の下でサンプルを多方向に傾けて行った。
Ｂ：傷がない。
Ｃ：１〜２本の傷が確認される。
Ｄ：３本以上の傷が確認される。【００９０】
（指紋拭き取り性）
裏面をラッカースプレーで黒く塗ったサンプル（物品）の表面に人差し指１本の指紋を付着させた後５分間以内に、水道水を入れた水槽中に３秒間浸漬させることで水道水を十分染込ませた後、水滴が滴り落ちなくなる程度まで絞ったクリーニングクロス（東レ社製、トレシー）を用い、１ｃｍ四方当たり１０ｇの荷重をかけて表面に指紋が付着したサンプルの表面を１回拭き取った後、サンプル表面の外観を目視評価した。評価は室温２３℃、相対湿度６５％の環境下で、蛍光灯（１０００ルクス）の下でサンプルを多方向に傾けて行った。
Ｂ：汚れが目視ではわからない。
Ｃ：目視で若干の指紋が確認される。
Ｄ：指紋がのび広がるだけで、ほとんど拭き取られない。【００９１】
（耐水性）
黒い台紙の上にサンプル（物品）を乗せ、水道水を入れた水槽中に３秒間浸漬させることで水道水を十分染込ませた後、水滴が滴り落ちなくなる程度まで絞ったクリーニングクロス（東レ社製、トレシー（登録商標））を用い、１ｃｍ四方当たり１０ｇの荷重をかけて、サンプルの表面を１回拭き取った後、サンプルの表面の外観を目視評価した。評価は室温２３℃、相対湿度６５％の環境下で、蛍光灯（１０００ルクス）の下でサンプルを多方向に傾けて行った。
Ｂ：拭いた箇所と拭いていない箇所の差がない。
Ｃ：拭いた箇所がわずかに白く靄がかかる。
Ｄ：拭いた箇所が明らかに白濁する。黒い台紙をはずしても判別できる。【００９２】
（離型性）
転写された微細凹凸構造を電子顕微鏡で１００００倍に拡大して観察し、突起の先端に欠けがなく、スタンパ形状を転写できているか確認した。欠けがある場合はＤとした。【００９３】
（密着性）
幅：２０ｍｍの短冊状に切り出した積層体の、基材（フィルム）と硬化樹脂層との界面について、万能引張試験機（エーアンドデー社製、テンシロン）を用い、ヘッドスピード：１０ｍｍ／秒にて１８０°剥離試験を実施した。剥離の開始から終了までの応力の平均値を密着力とした。
Ａ：硬化樹脂層とフィルムが十分に密着しており、フィルムが破断する。（界面での剥離は起こらない。）
Ｂ：密着力が０．３Ｎ／ｍｍ以上である。
Ｃ：密着力が０．１Ｎ／ｍｍ以上０．３Ｎ／ｍｍ未満である。
Ｄ：密着力が０．１Ｎ／ｍｍ未満である。【００９４】
（スタンパの製造）
純度９９．９９％のアルミニウム板を、羽布研磨および過塩素酸／エタノール混合溶液（１／４体積比）中で電解研磨し、鏡面化した。【００９５】
工程（ａ）：
前記アルミニウム板について、０．３Ｍシュウ酸水溶液中で、直流４０Ｖ、温度１６℃の条件で３０分間陽極酸化を行った。
工程（ｂ）：
酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、６質量％リン酸／１．８質量％クロム酸混合水溶液に６時間浸漬して、酸化皮膜を除去した。
工程（ｃ）：
前記アルミニウム板について、０．３Ｍシュウ酸水溶液中、直流４０Ｖ、温度１６℃の条件で３０秒間陽極酸化を行った。【００９６】
工程（ｄ）：
酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、３２℃の５質量％リン酸に８分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。
工程（ｅ）：
前記アルミニウム板について、０．３Ｍシュウ酸水溶液中、直流４０Ｖ、温度１６℃の条件で３０秒間陽極酸化を行った。【００９７】
工程（ｆ）：
工程（ｄ）および工程（ｅ）を合計で４回繰り返し、最後に工程（ｄ）を行い、平均間隔：１００ｎｍ、深さ：１８０ｎｍの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化アルミナが表面に形成されたスタンパを得た。【００９８】
得られたスタンパを脱イオン水で洗浄した後、表面の水分をエアーブローで除去し、オプツールＤＳＸ（ダイキン工業社製）を固形分０．１質量％になるように希釈剤ＨＤ−ＺＶ（ハーベス社製）で希釈した溶液に１０分間浸漬し、溶液から引き上げて２０時間風乾して離型剤で処理されたスタンパを得た。【００９９】
［重合反応性モノマー成分］
［合成例１］ウレタンアクリレート化合物（ＵＡ１）の合成
硝子製フラスコに、イソシアネート化合物として、ヘキサメチレンジイソシアネート１１７．６ｇ（０．７モル）およびイソシアヌレート型のヘキサメチレンジイソシアネート３量体１５１．２ｇ（０．３モル）と、水酸基を有する（メタ）アクリロイル化合物として、２−ヒドロキシプロピルアクリレート１２８．７ｇ（０．９９モル）およびペンタエリスリトールトリアクリレート６９３ｇ（１．５４モル）と、触媒として、ジラウリル酸ジ−ｎ−ブチル錫１００ｐｐｍと、重合禁止剤として、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．５５ｇとを仕込み、７０〜８０℃の条件にて残存イソシアネート濃度が０．１％以下になるまで反応させ、ウレタンアクリレート化合物（ＵＡ１）を得た。【０１００】
（モノマー（Ａ））
実施例で用いたモノマー（Ａ）は、下記の通りである。【０１０１】
【表１】
0005573836.tif 000002
【０１０２】
表中の略号は、下記の通りである。
ＴＭＰＴ：トリメチロールプロパントリアクリレート（新中村化学工業社製、Ａ−ＴＭＰＴ）、
ＴＭＰＴ−３ＥＯ：エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート（新中村化学工業社製、Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ）、
ＡＴＭ−４Ｅ：エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学製、ＡＴＭ−４Ｅ）、
Ｕ−４ＨＡ：４官能ウレタン系ハードアクリレート（新中村化学工業社製、Ｕ−４ＨＡ）、
Ｕ−６ＨＡ：６官能ウレタン系ハードアクリレート（新中村化学工業社製、Ｕ−６ＨＡ）、
ＴＡＳ：トリメチロールエタン／アクリル酸／コハク酸＝２／４／１の混合反応物、
ＵＡ１：２〜９官能ウレタンアクリレート、
ＴＭＰＴ−９ＥＯ：エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート（新中村化学工業社製、Ａ−ＴＭＰＴ−９ＥＯ）、
ＤＰＨＡ−１２ＥＯ：エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬製、カヤラッドＤＰＥＡ−１２）。【０１０３】
（モノマー（Ｂ））
実施例で用いたモノマー（Ｂ）は、下記の通りである。【０１０４】
【表２】
0005573836.tif 000003
【０１０５】
表中の略号は、下記の通りである。
Ａ−２００：ポリエチレングリコールジアクリレート（新中村化学工業社製、Ａ−２００）、
Ａ−４００：ポリエチレングリコールジアクリレート（新中村化学工業社製、Ａ−４００）、
Ａ−６００：ポリエチレングリコールジアクリレート（新中村化学工業社製、Ａ−６００）、
Ａ−１０００：ポリエチレングリコールジアクリレート（新中村化学工業社製、Ａ−１０００）、
ＡＰＧ−４００：ポリプロピレングリコールジアクリレート（新中村化学工業社製、ＡＰＧ−４００）、
Ａ−ＢＰＥ−１０：エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（新中村化学工業社製、Ａ−ＢＰＥ−１０）、
Ａ−ＢＰＥ−３０：エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（新中村化学工業社製、Ａ−ＢＰＥ−３０）、
Ｃ６ＤＡ：１，６−ヘキサンジオールジアクリレート。【０１０６】
（モノマー（Ｃ））
実施例で用いたモノマー（Ｃ）は、下記の通りである。
ＨＥＡ：２−ヒドロキシエチルアクリレート、
ＡＣＭＯ：アクリロイルモルホリン、
ＭＡ：メチルアクリレート。【０１０７】
（光重合開始剤（Ｄ））
実施例で用いた光重合開始剤（Ｄ）は、下記の通りである。
１１７３：２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（チバガイギー社製、ＤＡＲＯＣＵＲＥ  １１７３）、
ＴＰＯ：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド（チバガイギー社製、ＤＡＲＯＣＵＲＥ  ＴＰＯ）。【０１０８】
〔実施例１〕
ＴＭＰＴ−３ＥＯの６０部、
Ａ−６００の４０部、
１１７３の０．５部、
ＴＰＯの０．５部
を混合して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を調製した。【０１０９】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をスタンパの表面に数滴垂らし、厚さ：１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡社製、Ａ−４３００）で押し広げながら被覆した後、フィルム側から高圧水銀灯を用いて２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーで紫外線を照射して硬化させた。フィルムからスタンパを離型して、凸部の平均間隔：１００ｎｍ、高さ：１８０ｎｍの微細凹凸構造を表面に有する物品を得た。結果を表３に示す。【０１１０】
〔実施例４〜８、１０、１１、１３〜３４、３６〜３８、４０〜４６、参考例１６〜２６、比較例１〜１８〕
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の組成を表３〜表９および表１０に示す組成に変更した以外は、実施例１と同様にして微細凹凸構造を表面に有する物品を得た。結果を表３〜表９および表１０に示す。
【０１１１】
【表３】
0005573836.tif 000004
【０１１２】
【表４】
0005573836.tif 000005
【０１１３】
【表５】
0005573836.tif 000006
【０１１４】
【表６】
0005573836.tif 000007
【０１１５】
【表７】
0005573836.tif 000008
【０１１６】
【表８】
0005573836.tif 000009
【０１１７】
【表９】
0005573836.tif 000010
【０１１８】
【表１０】
0005573836.tif 000011
【０１１９】
表の結果から明らかなように、実施例４〜８、１０、１１、１３〜３４、３６〜３８、４０〜４６、参考例１６〜２６で得られた物品は、良好な耐擦傷性、指紋拭き取り性、および耐水性を有した。
一方、比較例１〜３で得られた物品は、特定の多官能モノマーを用いていないため、硬化樹脂層が硬く脆くなり、良好な耐擦傷性が得られなかった。
比較例４〜６、および１０〜１１で得られた物品は、２官能モノマーにおけるオキシアルキレン基の数が少なく、良好な耐擦傷性、および指紋拭き取り性が得られなかった。
比較例７〜９で得られた物品は、２官能モノマーが多すぎ、指紋拭き取り性は発現するものの、硬化樹脂層が吸水しやすく、凸部が軟化して凸部同士がくっついてしまい、光学性能を損なってしまった。
比較例１２で得られた物品は、２官能モノマーが少なすぎ、ＨＥＡによって指紋拭き取り性は出ているものの、硬化樹脂層が吸水しやすく、凸部が軟化して凸部同士がくっついてしまい、光学性能を損なってしまった。
比較例１３〜１５で得られた物品は、特定の２官能モノマーを用いていないため、指紋拭き取り性が出なかった。
比較例１６で得られた物品は、２官能モノマーが少ないため、指紋拭き取り性がやや劣るものであった。また多官能モノマーが多すぎ、耐擦傷性もやや劣るものであった。
比較例１７で得られた物品は、２官能モノマーにおけるオキシアルキレン基の数が少ないため、良好な指紋拭き取り性が得られなかった。
比較例１８で得られた物品は、特定の多官能モノマーを用いていないため、硬化樹脂層が弱くなり、良好な耐擦傷性が得られなかった。また、硬化樹脂層が吸水しやすく、凸部が軟化して凸部同士がくっついてしまい、光学性能を損なってしまった。
【０１２０】
〔参考例１〕
Ｕ−４ＨＡの５５部、
Ａ−６００の３５部、
ＭＡの１０部、
１１７３の０．５部、および
ＴＰＯの０．５部
を混合して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を調製した。【０１２１】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、２枚の厚さ：７５μｍのポリメチルメタクリレートフィルム（三菱レイヨン社製、ＨＢＳ０１０）の間に数滴垂らし、フィルム間で押し広げた後、高圧水銀灯を用いて２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーで紫外線を照射して硬化させ、フィルム／硬化樹脂層／フィルムの積層体を得た。結果を表１１に示す。【０１２２】
〔参考例２〜１５〕
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の組成を表１１および表１２に示す組成に変更した以外は、参考例１と同様にして積層体を得た。結果を表１１および表１２に示す。【０１２３】
【表１１】
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【０１２４】
【表１２】
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【０１２５】
表の結果から明らかなように、参考例１〜１５で得られた積層体においては、硬化樹脂層がアクリルフィルムに対する十分な密着性を有していた。
【産業上の利用可能性】
【０１２６】
本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させて得られる微細凹凸構造を表面に有する物品は、優れた光学性能を維持しながら、良好な指紋拭き取り性と高い耐擦傷性を両立することから、テレビ、携帯電話、および携帯ゲ−ム機等の各種ディスプレイに利用可能であり、工業的に極めて有用である。また、水滴が付着することで視認性が悪くなる鏡、および窓材等にも利用可能である。
【符号の説明】
【０１２７】
１２  細孔（微細凹凸構造の反転構造）
１８  スタンパ
２０  ロール状スタンパ
４０  物品
【図１】
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【図２】
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【図３】
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