(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光層を含む半導体積層体と、
前記半導体積層体の上で、前記半導体積層体に直接的に接続された第１上部電極と、
前記半導体積層体の上で、前記半導体積層体に第１コンタクト層を介して接続され、前記第１上部電極から延出された、少なくとも１つの第２上部電極と、
前記半導体積層体の下に設けられた下部電極と、
前記半導体積層体と、前記下部電極との間に設けられ、前記発光層から発せられる光を透過する透明導電層と、
前記透明導電層と、前記下部電極と、の間に設けられた光反射層と、
前記半導体積層体と、前記透明導電層と、の間および前記半導体積層体と、前記第１上部電極および第２上部電極と、の間の少なくともいずれかに設けられ、前記発光層の主面に対して垂直な方向からみて少なくとも１つのスリットが選択的に設けられた電流阻止層と、
前記半導体積層体と前記透明導電層との間に設けられ、酸素が含有された中間膜と、
を備えた発光素子。
【請求項２】
前記中間膜には、さらに炭素が含有されている請求項１に記載の発光素子。
【請求項３】
前記中間膜の厚さは、１０ｎｍ以下である請求項１または２に記載の発光素子。
【請求項４】
前記中間膜は、前記電流阻止層と前記透明導電層との間に設けられている請求項１〜３のいずれか１つに記載の発光素子。
【請求項５】
前記半導体積層体は、前記第１コンタクト層とは反対側に第２コンタクト層を有し、
前記中間膜の抵抗率は、前記第２コンタクト層の抵抗率よりも高い請求項１〜４のいずれか１つに記載の発光素子。
【請求項６】
前記発光層の主面に対して垂直な方向からみて、
前記第２上部電極は、前記第１上部電極から前記半導体積層体の平面の外周部に向かって延出された第１電極部と、前記第１電極部に接続され前記平面の外周に対し略平行に延在する第２電極部と、を有する請求項１〜５のいずれか１つに記載の発光素子。
【請求項７】
前記第２電極部の周辺に、前記スリットが選択的に設けられている請求項１〜６のいずれか１つに記載の発光素子。
【請求項８】
前記下部電極と、前記光反射層と、の間に、支持基板がさらに設けられている請求項１〜７のいずれか１つに記載の発光素子。
【請求項９】
前記発光層から発せられる光の波長において、前記電流阻止層の屈折率は、前記半導体積層体の屈折率よりも低い請求項１〜８のいずれか１つに記載の発光素子。
【請求項１０】
前記第１上部電極および前記第２上部電極の少なくともいずれかの直下には、前記スリットが設けられていない請求項１〜９のいずれか１つに記載の発光素子。
【請求項１１】
前記発光層の主面に対して垂直な方向からみて、前記第２電極部と、前記スリットと、の間の距離は、１０μｍ以上である請求項１〜１０のいずれか１つに記載の発光素子。
【請求項１２】
前記発光層の主面に対して垂直な方向からみて、前記スリットの幅の長さを一辺とする四角の面積は、１０００（μｍ）２以下である請求項１〜１１のいずれか１つに記載の発光素子。
【請求項１３】
前記電流阻止層の厚みは、１００ｎｍ以下である請求項１〜１２のいずれか１つに記載の発光素子。
【請求項１４】
前記発光層から発せられる光の波長において、前記透明導電層の屈折率は、前記半導体積層体の屈折率よりも低い請求項１〜１３のいずれか１つに記載の発光素子。
【請求項１５】
前記透明導電層が前記スリットを介して前記半導体積層体と接する総面積Ａ（ｃｍ２）は、
前記発光層の主面に対して垂直な方向からみたときの前記半導体積層体の面積の５％以上、１５％以下である請求項１〜１４のいずれか１つに記載の発光素子。
【請求項１６】
前記透明導電層の厚みは、３０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下である請求項１〜１５のいずれか１つに記載の発光素子。
【請求項１７】
前記光反射層は、前記半導体積層体側に設けられた第１の層部と、前記支持基板側に設けられた第２の層部と、を接合させた層である請求項８〜１６のいずれか１つに記載の発光素子。
【請求項１８】
前記第１の層部は、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ケイ素（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、白金（Ｐｔ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニッケル（Ｎｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、銅（Ｃｕ）、錫（Ｓｎ）、炭素（Ｃ）、マグネシウム（Ｍｇ）、クロム（Ｃｒ）、テルル（Ｔｅ）、セレン（Ｓｅ）、チタン（Ｔｉ）、酸素（Ｏ）、水素（Ｈ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）の群から選択される少なくとも１つの元素を含む請求項１７に記載の発光素子。
【請求項１９】
前記第１の層部は、銀（Ａｇ）もしくは銀（Ａｇ）合金であり、前記銀合金には、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ケイ素（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、白金（Ｐｔ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニッケル（Ｎｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、銅（Ｃｕ）、錫（Ｓｎ）、炭素（Ｃ）、マグネシウム（Ｍｇ）、クロム（Ｃｒ）、テルル（Ｔｅ）、セレン（Ｓｅ）、チタン（Ｔｉ）、酸素（Ｏ）、水素（Ｈ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）の群から選択される少なくとも１つの元素が含まれる請求項１７に記載の発光素子。
【請求項２０】
少なくとも前記第１の層部と前記透明導電層、前記第２の層部と前記支持基板、の間のいずれかにバリア層がさらに設けられ、
前記バリア層には、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）、チタン（Ｔｉ）の群から選択される少なくとも１つの元素が含まれる請求項１９に記載の発光素子。
【請求項２１】
前記１の層部と、前記第２の層部と、の間に金（Ａｕ）を含む接合層がさらに設けられている請求項２０記載の発光素子。
【請求項２２】
前記第２の層部は、金（Ａｕ）もしくは金（Ａｕ）合金であり、前記金合金には、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ケイ素（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、白金（Ｐｔ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニッケル（Ｎｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、銅（Ｃｕ）、錫（Ｓｎ）、炭素（Ｃ）、マグネシウム（Ｍｇ）、クロム（Ｃｒ）、テルル（Ｔｅ）、セレン（Ｓｅ）、チタン（Ｔｉ）、酸素（Ｏ）、水素（Ｈ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）の群から選択される少なくとも１つが含まれる請求項１７に記載の発光素子。
【請求項２３】
前記第２の層部は、多層であり、前記多層のそれぞれの層には、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ケイ素（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、白金（Ｐｔ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニッケル（Ｎｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、銅（Ｃｕ）、錫（Ｓｎ）、炭素（Ｃ）、マグネシウム（Ｍｇ）、クロム（Ｃｒ）、テルル（Ｔｅ）、セレン（Ｓｅ）、チタン（Ｔｉ）、酸素（Ｏ）、水素（Ｈ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）の群から選択される少なくとも１つの元素が含まれる請求項１７に記載の発光素子。
【請求項２４】
前記支持基板は、導電性基板である請求項８〜２３のいずれか１つに記載の発光素子。
【請求項２５】
前記スリットの下の前記光反射層近傍に空間がさらに形成されている請求項１〜２４のいずれか１つに記載の発光素子。
【請求項２６】
前記発光層の主面に対して垂直な方向からみて、前記半導体積層体の面積は、前記支持基板の面積よりも小さい請求項８〜２５のいずれか１つに記載の発光素子。
【請求項２７】
半導体基板の上に、発光層を含む半導体積層体を形成する工程と、
前記半導体積層体の上に、少なくとも１つのスリットが選択的に形成された電流阻止層を形成し、前記電流阻止層に洗浄処理をする工程と、
前記電流阻止層の上に、透明導電層を形成する工程と、
前記洗浄処理を施した後、前記透明導電層に、熱処理を施すことにより、前記透明導電層と前記半導体積層体との間に酸素が含有された中間層を形成する工程と、
前記透明導電層の上に、第１の層部を形成する工程と、
支持基板の上に設けられた第２の層部を前記第１の層部に接合する工程と、
前記半導体積層体から前記半導体基板を除去する工程と、
前記半導体積層体の上に、第１上部電極を直接的に形成し、さらに、第１コンタクト層を介して前記第１上部電極に接続する第２上部電極を少なくとも１つ形成する工程と、
を備え、
前記発光層の主面に対して垂直な方向からみて、前記スリットを、前記第２上部電極の周辺の前記電流阻止層に選択的に形成する発光素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、発光素子およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
発光素子、例えば、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）素子では、金属膜が反射材として作用することがある。反射材の特性は、ＬＥＤ素子の特性に大きく影響を及ぼす。金属膜としては、半導体層との電気的接続を確保するため、例えば、ｐ形半導体層であれば亜鉛（Ｚｎ）を含む金（Ａｕ）合金、ｎ形半導体層であればゲルマニウム（Ｇｅ）を含むＡｕ合金が用いられている。しかし、Ａｕ合金と、半導体層との電気的接続を確保するために熱処理を施すと、半導体層と金属との間で合金層が形成される。この合金層は、光を吸収し、反射率を低下させる要因になっていた。これを回避するために、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）などの透明電極を、Ａｕ合金と半導体層との間に介在させ、合金層を生成させない方策も考えられる。
【０００３】
一方、ＬＥＤの上部電極であるパッド電極は、活性層で発光した光を遮るため、なるべくパッド電極の下には電流を流さないことが望ましい。その方策としては、例えば、上部電極の下において、上下電極間に流れる電流を遮断するブロック層を設ける方策、上部電極の下において、電流接続箇所を制約する下部狭窄層を設ける方策がある。但し、ＬＥＤ素子のさらなる輝度向上のためには、これらの方策について改善の余地がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２００５−５１３７８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明が解決しようとする課題は、高輝度の発光素子およびその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
実施形態の発光素子は、発光層を含む半導体積層体と、前記半導体積層体の上で、前記半導体積層体に直接的に接続された第１上部電極と、前記半導体積層体の上で、前記半導体積層体に第１コンタクト層を介して接続され、前記第１上部電極から延出された、少なくとも１つの第２上部電極と、前記半導体積層体の下に設けられた下部電極と、前記半導体積層体と、前記下部電極との間に設けられ、前記発光層から発せられる光を透過する透明導電層と、前記透明導電層と、前記下部電極と、の間に設けられた光反射層と、前記半導体積層体と、前記透明導電層と、の間および前記半導体積層体と、前記第１上部電極および第２上部電極と、の間の少なくともいずれかに設けられ、前記発光層の主面に対して垂直な方向からみて少なくとも１つのスリットが選択的に設けられた電流阻止層と、前記半導体積層体と前記透明導電層との間に設けられ、酸素が含有された中間膜と、を備える。
【０００８】
実施形態の発光素子の製造方法は、半導体基板の上に、発光層を含む半導体積層体を形成する工程と、前記半導体積層体の上に、少なくとも１つのスリットが選択的に形成された電流阻止層を形成し、前記電流阻止層に洗浄処理をする工程と、前記電流阻止層の上に、透明導電層を形成する工程と、前記洗浄処理を施した後、前記透明導電層に、熱処理を施すことにより、前記透明導電層と前記半導体積層体との間に酸素が含有された中間層を形成する工程と、前記透明導電層の上に、第１の層部を形成する工程と、支持基板の上に設けられた第２の層部を前記第１の層部に接合する工程と、前記半導体積層体から前記半導体基板を除去する工程と、前記半導体積層体の上に、第１上部電極を直接的に形成し、さらに、第１コンタクト層を介して前記第１上部電極に接続する第２上部電極を少なくとも１つ形成する工程と、を備える。前記発光層の主面に対して垂直な方向からみて、前記スリットを、前記第２上部電極の周辺の前記電流阻止層に選択的に形成する。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】第１実施形態に係る発光素子の要部断面模式図である。
【図２】第１実施形態に係る発光素子の要部平面模式図である。
【図３】発光素子の作用効果を説明する図であり、（ａ）は、参考例に係る発光素子の要部断面模式図、（ｂ）は、第１実施形態の発光素子の要部断面模式図である。
【図４】発光素子の製造過程を説明する要部断面模式図であり、（ａ）は、半導体積層体の成長過程を含む製造過程図、（ｂ）は、支持基板の上に拡散防止層を介して反射膜を形成する製造過程図である。
【図５】発光素子の製造過程を説明する要部断面模式図であり、（ａ）は、第１光反射層部と、第２光反射層部と、を接合する製造過程図、（ｂ）は、半導体基板を除去する製造過程図である。
【図６】第２実施形態に係る発光素子の要部断面模式図である。
【図７】第３実施形態に係る発光素子の要部断面模式図である。
【図８】第４実施形態に係る発光素子の要部断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、図面を参照しつつ、実施形態について説明する。以下の説明では、同一の部材には同一の符号を付し、一度説明した部材については適宜その説明を省略する。  
（第１実施形態）  
図１は、第１実施形態に係る発光素子の要部断面模式図である。  
図２は、第１実施形態に係る発光素子の要部平面模式図である。  
図１には、図２のＸ−Ｘ’断面が示されている。
【００１１】
第１実施形態に係る発光素子１は、上下電極構造を有する薄膜型ＬＥＤ素子である。  
発光素子１は、半導体積層体１０と、支持基板２０と、光反射層３０と、透明導電層４０と、電流阻止層５０と、上部電極６０と、下部電極７０と、を備える。半導体積層体１０は、発光層（活性層）１４を含んでいる。
【００１２】
発光層１４は、層状に形成され、上面である第１主面と、下面である第２主面と、を有する。本明細書では、第１主面側を上側、第２主面側を下側とする。上部電極６０は、第１主面側の半導体積層体１０の上に設けられている。下部電極７０は、第２主面側の半導体積層体１０の下に設けられている。透明導電層４０は、第２主面側の半導体積層体１０と、下部電極７０と、の間に設けられている。透明導電層４０は、発光層１４から発せられる光を透過する層である。光反射層３０は、透明導電層４０と、下部電極７０と、の間に設けられている。電流阻止層５０は、第２主面側の半導体積層体１０と、透明導電層４０と、の間に設けられている。
【００１３】
半導体積層体１０においては、支持基板２０側から上部電極６０側に、ｐ形のコンタクト層１１、ｐ形の電流拡散層１２、ｐ形のクラッド層１３、発光層１４、ｎ形のクラッド層１５、ｎ形の電流拡散層１６がこの順に積層されている。発光層１４の主面については、上部電極６０側を第１主面、下部電極７０側を第２主面とする。発光層１４内で、正孔と電子とが再結合すると、発光層１４は、所定の波長の光を発する。例えば、発光層１４は、赤色の光を発する。なお、上記の例示では、支持基板２０側から上部電極６０側に、ｐ形の半導体層、ｎ形の半導体層の順に半導体層を積層したが、実施形態は、この順序に限られない。例えば、発光層１４の下側にｎ形の半導体層が設けられ、発光層１４の上側にｐ形の半導体層が設けられた半導体積層体であってもよい。
【００１４】
コンタクト層１１の主成分は、ＧａＡｓ、ＧａＡｌＡｓ、ＧａＰ等である。電流拡散層１２、クラッド層１３、発光層１４、クラッド層１５、および電流拡散層１６の主成分は、ＩｎＧａＡｌＰである。本明細書において、四元の「ＩｎＧａＡｌＰ」とは、Ｉｎｘ（ＧａｙＡｌ１−ｙ）１−ｘＰ（ただし、０≦ｘ≦１、０≦ｙ≦１）なる組成式で表される材料である。各半導体層の材質には、ｐ形不純物またはｎ形不純物が添加されたものも含むものとする。
【００１５】
支持基板２０は、導電性基板である。支持基板２０の材質は、ケイ素（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）等の半導体もしくはアルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）等の金属である。支持基板２０の上には、拡散防止層２１が設けられている。拡散防止層２１は、支持基板２０側から上部電極６０側に、チタン（Ｔｉ）等の金属膜２２、白金（Ｐｔ）等の金属膜２３がこの順に積層された層である。拡散防止層２１は、光反射層３０の成分が支持基板２０に拡散するのを抑制し、または支持基板２０の成分が光反射層３０に拡散するのを抑制するバリア層である。拡散防止層２１を光反射層３０と、支持基板２０と、の間に設けることによって、光反射層３０の反射率が確保される。
【００１６】
拡散防止層２１の上には、光反射層３０が設けられている。光反射層３０は、半導体積層体１０側の第１光反射層部３１と、支持基板２０側の第２光反射層部３２と、を接合した層である。第１光反射層部３１には、選択的に空間３１ｓが設けられている。空間３１ｓは、後述するスリット５０ｈの下に位置している。光反射層３０は、金属や金属の化合物からなる。スリット５０ｈについては、溝、または隙間と称してもよい。
【００１７】
光反射層３０の上には、発光層１４から発せられる光を透過する透明導電層４０が設けられている。透明導電層４０は、半導体積層体１０を構成する各層よりも高い導電率と光透過率を有する。透明導電層４０の材質は、例えば、酸化インジウム錫（Indium Tin Oxide：ＩＴＯ）である。透明導電層４０は、光反射層３０と、半導体積層体１０と、の間に設けられている。透明導電層４０においては、透明導電層４０が半導体積層体１０と接する面において、酸素（Ｏ）、炭素（Ｃ）のうち少なくともいずれかを含有させた中間層（中間膜）４５を設けてもよく、この中間層４５は、たとえば二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）であってもよい。
【００１８】
中間層４５は、半導体積層体１０と透明導電層４０との間に設けられている。  
この中間層４５の存在により、半導体層と透明導電層４０との各構成元素が互いに混ざり難くなる。このため、半導体層側に従来のオーミック接合のような合金層（組成混合層）が生成し難くなる。仮に、この合金層が存在すると、この合金層が光吸収層となって、発光素子の輝度を低下してしまう。発光素子１では、この合金層が形成し難くなるため、輝度が向上する。
【００１９】
さらに、後述する電流阻止層５０およびスリット５０ｈを介したオーミック接合部の下の反射金属による反射率は同等である。あるいは、スリット５０ｈにおいて、絶縁体がない分、発光素子１の反射率は高くなる。ひいては、発光素子１においては、より安定で良好なオーミックコンタクト密着性が得られる。その結果、半導体層と透明導電層４０との剥がれがなく、素子電圧が安定する。
【００２０】
発光層１４から発せられる光の波長において、透明導電層４０の屈折率は、半導体積層体１０の屈折率よりも低い。透明導電層４０の厚みは、３０ｎｍ（ナノメートル）以上、１００ｎｍ以下である。透明導電層４０の厚みが１００ｎｍより大きくなると、発光層１４から発せられる光が透明導電層４０によって吸収されてしまい、発光素子１の輝度が低下するおそれがある。透明導電層４０の厚みが３０ｎｍより小さくなると、透明導電層４０と、半導体積層体１０と、の電気的接続性が薄れ、透明導電層４０と、半導体積層体１０と、の接触抵抗が高くなってしまう。従って、透明導電層４０の厚みは、３０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることが望ましい。
【００２１】
光反射層３０の上には、上部電極６０と、下部電極７０と、の間に流れる電流を抑制するする電流阻止層５０が設けられている。電流阻止層５０の材質は、ＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、Ａｌ２Ｏ３等の絶縁体である。発光層１４から発せられる光の波長において、電流阻止層５０の屈折率は、半導体積層体１０の屈折率よりも低い。
【００２２】
電流阻止層５０の厚みは、１００ｎｍ以下である。電流阻止層５０の厚みが１００ｎｍより大きくなると、発光層１４から発せられる光が電流阻止層５０によって吸収されてしまい、発光素子１の輝度が低下するおそれがある。従って、電流阻止層５０の厚みは、１００ｎｍ以下であることが望ましい。
【００２３】
電流阻止層５０は、スリット５０ｈよって選択的に開口されている。これにより、透明導電層４０はスリット５０ｈを介して、コンタクト層１１に接続されている。すなわち、スリット５０ｈを介して、上部電極６０と、下部電極７０と、の電気的接続がなされている。スリット５０ｈの位置、平面寸法は、要求される発光素子の性能に応じて規格化される。
【００２４】
上部電極６０は、発光層１４の第１主面側の半導体積層体１０の上に設けられている。上部電極６０は、第１上部電極部６１と、第１上部電極部６１から延出された、少なくとも１つの第２上部電極部６２と、を有する。第１上部電極部６１の平面形状は、例えば、円形である。第１上部電極部６１は、発光素子１外の接続端子に接続されるパッド電極である。第２上部電極部６２は、細い電極である。第２上部電極部６２は、引き出し電極である。第２上部電極部６２は、第１上部電極部６１に投入された電流（電子電流）を電流拡散層１６の中心から電流拡散層１６の端まで拡散させる。
【００２５】
第１上部電極部６１は、半導体積層体１０上に直接的に設けられている。第１上部電極部６１と、半導体積層体１０と、は直接的に接続されている。第１上部電極部６１と、電流拡散層１６と、の間には、ショットキーバリアが形成されている。ショットキーバリアが形成されるために、第１上部電極部６１と、半導体積層体１０と、は、電気的接続がなく、あるいは、第１上部電極部６１と、半導体積層体１０と、の間に流れる電流は、第２上部電極部６２と、半導体積層体１０と、の間に流れる電流よりも小さくなる。
【００２６】
一方、第２上部電極部６２と、半導体積層体１０と、の間には、コンタクト層６３が介在している。第２上部電極部６２と、半導体積層体１０と、は、電気的接続がある。コンタクト層６３の材質は、例えば、ＧａＡｓ、ＧａＡｌＡｓ等である。  
なお、本明細書では、コンタクト層６３を第１コンタクト層、コンタクト層１１を第２コンタクト層、コンタクト層１７を第３コンタクト層とする。
【００２７】
発光層１４の第１主面に対して垂直な方向から発光素子１をみた場合（図２参照）、スリット５０ｈは、第２上部電極部６２の周辺に、少なくとも１つ設けられている。スリット５０ｈは、上部電極６０の直下には設けられていない。
【００２８】
また、半導体積層体１０の平面形状は、多角形でもよく円形でもよい。例えば、図２には、平面形状が四角形の半導体積層体１０が例示されている。第２上部電極部６２は、第１上部電極部６１から半導体積層体１０の平面の外周部に向かって略垂直に延出された第１電極部６２ａと、第１電極部６２ａに接続され、半導体積層体１０の平面の外周に対し略平行に延在する第２電極部６２ｂと、を有する。
【００２９】
例えば、図２の例示では、第２上部電極部６２は、第１上部電極部６１から、多角形の辺１０ｓに対し略垂直に延出された第１電極部６２ａと、第１電極部６２ａに接続され、辺１０ｓに対し略平行に延出された第２電極部６２ｂと、を有する。第２電極部６２ｂの末端は、電流拡散層１６の四隅にまで延在している。スリット５０ｈは、第２電極部６２ｂの周辺に、選択的に設けられている。
【００３０】
発光層１４の第１主面に対して垂直な方向からみて、第２電極部６２ｂと、スリット５０ｈと、の間の距離ｄ１は、１０μｍ（ミクロンメートル）以上である。距離ｄ１は、発光層１４の第１主面に対して垂直な方向からみて、互いに対向する、第２電極部６２ｂの端と、スリット５０ｈの端と、の間の距離である。距離ｄ１が１０μｍより小さくなると、スリット５０ｈの上方から発せられる光が第２上部電極部６２によって遮蔽され、発光素子１の輝度が低下するおそれがある。従って、距離ｄ１は、１０μｍ以上であることが望ましい。
【００３１】
また、発光層１４の第１主面に対して垂直な方向からみて、スリット５０ｈの幅の長さを一辺とする四角の面積は、１０００（μｍ）２以下である。この面積が１０００（μｍ）２より大きくなると、スリット５０ｈを介して流れる電流密度が減少してしまう。このため、発光素子１の輝度が低下するおそれがある。従って、上述した面積は、１０００（μｍ）２以下であることが望ましい。
【００３２】
また、透明導電層４０がスリット５０ｈを介して半導体積層体１０と接する総面積Ａ（ｃｍ２）は、発光層１４の第１主面に対して垂直な方向からみたときの半導体積層体１０の面積の５％以上、１５％以下である。
【００３３】
また、透明導電層４０がスリット５０ｈを介して半導体積層体１０と接する総面積Ａ（ｃｍ２）は、以下の（１）式で表される。  
例えば、透明導電層４０と、半導体積層体１０と、の接触抵抗をρｃ（Ω・ｃｍ２）とし、総面積Ａを介して電流値を、Ｉｃ（Ａ）とする。また、コンタクト層１１と、光反射層３０と、の間の電圧を、Ｖｃ（Ｖ）とし、透明導電層４０と、半導体積層体１０と、の接触界面における許容電圧を、Ｖmax（Ｖ）とする。この場合、Ｖｃ＝Ｉｃ×（ρｃ／Ａ）、Ｖmax＞Ｖｃであり、総面積Ａ（ｃｍ２）は、
Ａ＞Ｉｃ×ρｃ／Ｖmax  ・・・（１）式  
で表される。
【００３４】
第１光反射層部３１は、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ケイ素（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、白金（Ｐｔ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニッケル（Ｎｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、銅（Ｃｕ）、錫（Ｓｎ）、炭素（Ｃ）、マグネシウム（Ｍｇ）、クロム（Ｃｒ）、テルル（Ｔｅ）、セレン（Ｓｅ）、チタン（Ｔｉ）、酸素（Ｏ）、水素（Ｈ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）の群から選択される少なくとも１つの元素を含む。
【００３５】
また、第２光反射層部３２は、金（Ａｕ）もしくは金（Ａｕ）合金であり、金合金には、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ケイ素（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、白金（Ｐｔ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニッケル（Ｎｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、銅（Ｃｕ）、錫（Ｓｎ）、炭素（Ｃ）、マグネシウム（Ｍｇ）、クロム（Ｃｒ）、テルル（Ｔｅ）、セレン（Ｓｅ）、チタン（Ｔｉ）、酸素（Ｏ）、水素（Ｈ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）の群から選択される少なくとも１つが含まれる。
【００３６】
また、第２光反射層部３２は、多層であってもよい。この場合、多層のそれぞれの層には、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ケイ素（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、白金（Ｐｔ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニッケル（Ｎｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、銅（Ｃｕ）、錫（Ｓｎ）、炭素（Ｃ）、マグネシウム（Ｍｇ）、クロム（Ｃｒ）、テルル（Ｔｅ）、セレン（Ｓｅ）、チタン（Ｔｉ）、酸素（Ｏ）、水素（Ｈ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）の群から選択される少なくとも１つの元素が含まれる。
【００３７】
光反射層３０の耐熱性、耐薬品性を向上させるには、光反射層３０の材質として、上述した合金を用いることが望ましい。
【００３８】
次に、発光素子１の効果について説明する。  
発光素子１の効果を説明する前に、参考例に係る発光素子１００の作用について説明する。
【００３９】
図３は、発光素子の効果を説明する図であり、（ａ）は、参考例に係る発光素子の要部断面模式図、（ｂ）は、第１実施形態の発光素子の要部断面模式図である。  
図３（ａ）に示す参考例に係る発光素子１００においては、上述した第２上部電極部６２が設けられていない。発光素子１００においては、半導体積層体１０の上に、コンタクト層６３を介して、第１上部電極部６１のみが設けられている。
【００４０】
発光素子１００において、第１上部電極部６１と、下部電極７０と、の間に、電圧を印加すると、発光層１４内に注入された正孔と電子とが再結合し、発光層１４は、所定の波長の光を発する。
【００４１】
しかし、半導体積層体１０を構成する化合物半導体の抵抗率は比較的高い。さらに、第１上部電極部６１は、平板状であり、電界が第１上部電極部６１の端に集中してしまう。このため、第１上部電極部６１と、下部電極７０と、の間に流れる電流Ｉｃは、優先的に第１上部電極部６１近傍の開口部５００ｈを介して流れてしまう。例えば、電流Ｉｃは、図３（ａ）に示す矢印Ｉｃのようになる。
【００４２】
電流Ｉｃは、第１上部電極部６１近傍の開口部５００ｈに集中している。その結果、発光素子１００においては、発光層１４の発光部分が局所的になり、高い輝度が得られない可能性がある。
【００４３】
これに対し、発光素子１においては、上部電極６０は、第１上部電極部６１と、第２上部電極部６２と、を有する。第１上部電極部６１と、半導体積層体１０と、は、電気的接続がなく、第２上部電極部６２と、半導体積層体１０と、は、電気的接続がある。さらに、発光素子１を上からみた場合、第２上部電極部６２の周辺に、スリット５０ｈが設けられている。
【００４４】
発光素子１において、第１上部電極部６１と、下部電極７０と、の間に、電圧を印加すると、電流Ｉｃは、第１上部電極部６１と、下部電極７０と、の間では流れず、半導体積層体１０の平面内に延在させた第２上部電極部６２と、下部電極７０と、の間でスリット５０ｈを介して流れる。
【００４５】
スリット５０ｈは、第２上部電極部６２の直下にはなく、第２上部電極部６２の周辺に設けられている。このため、発光素子１内に流れる電流Ｉｃは、図３（ｂ）に示す矢印Ｉｃのように拡散する。従って、発光素子１においては、発光素子１００のような局所的な電流集中が起き難くなる。さらに、スリット５０ｈ内を流れる電流密度が増加する。従って、発光素子１においては、高密度の電流Ｉｃが効率よく分散されて、発光素子１００よりも高い輝度が得られる。
【００４６】
次に、発光素子１の製造方法について説明する。  
図４は、発光素子の製造過程を説明する要部断面模式図であり、（ａ）は、半導体積層体の成長過程を含む製造過程図、（ｂ）は、支持基板の上に拡散防止層を介して反射膜を形成する製造過程図である。
【００４７】
まず、図４（ａ）に示すように、ＧａＡｓ等の半導体基板８０の上に、電流拡散層１６、クラッド層１５、発光層１４、クラッド層１３、電流拡散層１２、およびコンタクト層１１を、ＭＯＣＶＤ（Metal Organic Chemical Vapor Deposition）法によって、およそこの順にエピタキシャル成長させる。これにより、半導体基板８０の上に、発光層１４を含む半導体積層体１０が形成される。
【００４８】
続いて、半導体基板８０の上に、少なくとも１つのスリット５０ｈが選択的に形成された電流阻止層５０を形成する。スリット５０ｈは、光フォトリソグラフィによって形成される。スリット５０ｈは、半導体積層体１０の主面に対して垂直な方向からみて、後工程で形成される第２上部電極部６２の位置の周辺に選択的に形成される。
【００４９】
続いて、電流阻止層５０の上に、透明導電層４０を形成する。透明導電層４０と、コンタクト層１１と、は、スリット５０ｈを介して接続される。透明導電層４０の導電率を上昇させるために、透明導電層４０にアニール処理を施してもよい。  
ここで、スリット５０ｈを有する電流阻止層５０を形成する前の酸化膜に選択的なエッチング加工を施し、薬液で洗浄した後、透明導電層４０を形成する。さらに、透明導電層４０に、４００℃以上の熱処理を施す等、透明導電層４０を安定化させるための一連の処理を施すと、透明導電層４０と半導体積層体１０との間に、厚みが１０ｎｍ以下の酸素リッチな中間層４５が形成される。
【００５０】
続いて、透明導電層４０の上に、第１光反射層部３１を形成する。スリット５０ｈの底面および電流阻止層５０の表面は、均一な厚みの透明導電層４０および第１光反射層部３１によって被覆される。このため、スリット５０ｈの上の第１光反射層部３１には、凹部３１ｒが形成される。
【００５１】
一方、図４（ｂ）に示すように、支持基板２０の上に、金属膜２２、金属膜２３を、この順に積層する。これにより、支持基板２０の上に、拡散防止層２１が形成される。さらに、拡散防止層２１の上に、第２光反射層部３２を形成する。  
なお、図４（ａ）で示す製造過程と、図４（ｂ）で示す製造過程と、は同時に進行させてもよく、図４（ａ）で示す製造過程の前に、図４（ｂ）で示す製造過程を進行させてもよい。また、図４（ａ）で示す製造過程の後に、図４（ｂ）で示す製造過程を進行させてもよい。
【００５２】
図５は、発光素子の製造過程を説明する要部断面模式図であり、（ａ）は、第１光反射層部と、第２光反射層部と、を接合する製造過程図、（ｂ）は、半導体基板を除去する製造過程図である。
【００５３】
次に、図５（ａ）に示すように、第１光反射層部３１と、第２光反射層部３２と、を対向させて、第１光反射層部３１と、第２光反射層部３２と、を接合する。これにより、光反射層３０が形成される。上述した凹部３１ｒは、第２光反射層部３２が蓋となって塞がれ、光反射層３０内に空間３１ｓが形成される。
【００５４】
次に、図５（ｂ）に示すように、半導体積層体１０から半導体基板８０を除去する。半導体基板８０は、例えば、湿式エッチングにより除去される。
【００５５】
そして、この後は、図１に示すように、半導体積層体１０の上に、第１上部電極部６１を直接的に形成する。さらに、半導体積層体１０上に、コンタクト層６３を介して、第２上部電極部６２を少なくとも１つ形成する。第１上部電極部６１または第２上部電極部６２は、例えば、光フォトグラフィ、スパッタリング成膜等によって半導体積層体１０上に選択的に形成される。第２上部電極部６２は、第１上部電極部６１に接続され、第１上部電極部６１から引き出された形状になる。なお、第１上部電極部６１と、第２上部電極部６２と、を形成するそれぞれの工程の前後は問わない。
【００５６】
（第２実施形態）  
図６は、第２実施形態に係る発光素子の要部断面模式図である。  
図６は、図２のＸ−Ｘ’断面に対応している。  
第２実施形態に係る発光素子２においては、第１光反射層部３５の材料が発光素子１の第１光反射層部３１の材料とは異なっている。
【００５７】
例えば、第１光反射層部３５は、銀（Ａｇ）もしくは銀（Ａｇ）合金であり、銀合金には、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ケイ素（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、白金（Ｐｔ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニッケル（Ｎｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、銅（Ｃｕ）、錫（Ｓｎ）、炭素（Ｃ）、マグネシウム（Ｍｇ）、クロム（Ｃｒ）、テルル（Ｔｅ）、セレン（Ｓｅ）、チタン（Ｔｉ）、酸素（Ｏ）、水素（Ｈ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）の群から選択される少なくとも１つの元素が含まれている。
【００５８】
発光素子２においては、第１光反射層部３５と、第２光反射層部３２と、の間に、バリア層３６がさらに設けられている。バリア層３６には、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）、チタン（Ｔｉ）の群から選択される少なくとも１つの元素が含まれている。  
発光素子２においては、バリア層３６と、第２光反射層部３２と、の間に金（Ａｕ）を含む接合層３７がさらに設けられている。  
発光素子２においては、接合層３７と、第２光反射層部３２と、が接合されて、第１光反射層部３５、バリア層３６、接合層３７、および第２光反射層部３２を有する光反射層３０が設けられている。
【００５９】
発光素子２においても、発光素子１と同様の効果を奏する。  
さらに、発光素子２においては、第１光反射層部３５の材質を銀（Ａｇ）もしくは銀（Ａｇ）合金にしたことにより、半導体基板８０と、第１光反射層部３５と、の線膨張係数の差が発光素子１に比べ縮まる。このため、製造プロセス中の半導体基板８０の反り、割れが抑制される。
【００６０】
また、金（Ａｕ）被膜に比べ、銀（Ａｇ）被膜は、光波長が６００ｎｍ以下でも高い反射率を有する。これにより、発光層１４が赤色よりも短波長側の光を発光する場合でも、発光素子２の光反射層３０は、発光素子１の光反射層３０に比べ、高い反射率を有する。
【００６１】
（第３実施形態）  
図７は、第３実施形態に係る発光素子の要部断面模式図である。  
図７は、図２のＸ−Ｘ’断面に対応している。  
第３実施形態に係る発光素子３においては、発光層１４の第１主面に対して垂直な方向からみて、半導体積層体１０の面積は、支持基板２０の面積よりも小さくなっている。  
支持基板２０の上には、支持基板２０の面積と略等しい拡散防止層２１、光反射層３０、透明導電層４０、および電流阻止層５０が設けられている。
【００６２】
発光素子３は、ダイシングライン９０に沿って切断され、図７に示すように個片化される。ダイシングの際、ダイシング刃が半導体積層体１０に接触すると、半導体積層体１０内に破砕層が形成される可能性がある。仮に、破砕層が半導体積層体１０内に形成されると、破砕層のひずみの影響によって、発光素子の寿命が短くなる可能性がある。
【００６３】
発光素子３においては、ダイシングライン９０よりも内側に、半導体積層体１０の側面が位置している。これにより、ダイシング刃が半導体積層体１０に接触し難くなる。その結果、破砕層が半導体積層体１０内に形成され難くなる。従って、発光素子３においては、発光素子１に比べて、さらに寿命が長くなる。
【００６４】
（第４実施形態）  
図８は、第４実施形態に係る発光素子の要部断面模式図である。  
図８は、図２のＸ−Ｘ’断面に対応している。
【００６５】
第４実施形態に係る発光素子４においては、スリット５０ｈが選択的に設けられた電流阻止層５０が半導体積層体１０の上に設けられている。すなわち、発光層１４の第１主面側の半導体積層体１０と、上部電極６０と、の間に、電流阻止層５０が設けられている。
【００６６】
発光素子４においては、電流拡散層１６の上に、コンタクト層１７が設けられている。コンタクト層１７の上には、スリット５０ｈを有する電流阻止層５０が設けられている。電流阻止層５０の上には、透明導電層４０が設けられている。透明導電層４０と、コンタクト層１７と、は、スリット５０ｈを介して電気的接続がなされている。
【００６７】
上部電極６０の第１上部電極部６１と、透明導電層４０と、の間には、絶縁層６５が介在している。従って、第１上部電極部６１と、透明導電層４０と、は、電気的接続がない。一方、上部電極６０の第２上部電極部６２は、透明導電層４０に接している。従って、第２上部電極部６１と、透明導電層４０と、は、電気的接続がある。  
発光素子４においては、第２光反射層部３２と、第１光反射層部３８と、が接合している。第１光反射層部３８と、半導体積層体１０と、の間には、透明導電層４１が介在している。透明導電層４１と、コンタクト層１１と、の間には、中間層４５と同一成分の中間層４６が介在している。
【００６８】
このような構造でも、第１上部電極部６１と、下部電極７０と、の間に、電圧を印加すると、電流Ｉｃは、第１上部電極部６１と、下部電極７０と、の間では流れず、半導体積層体１０の平面内に延在させた第２上部電極部６２と、下部電極７０と、の間でスリット５０ｈを介して流れる。
【００６９】
スリット５０ｈは、第２上部電極部６２の直下にはなく、第２上部電極部６２の周辺に設けられている。このため、発光素子４内に流れる電流Ｉｃは、矢印Ｉｃのように拡散する。従って、発光素子４においては、発光素子１００のような局所的な電流集中が起き難くなる。さらに、スリット５０ｈ内を流れる電流密度が増加する。従って、発光素子４においては、高密度の電流Ｉｃが効率よく分散されて、発光素子１００よりも高い輝度が得られる。
【００７０】
以上、具体例を参照しつつ実施形態について説明した。しかし、実施形態はこれらの具体例に限定されるものではない。すなわち、これら具体例に、当業者が適宜設計変更を加えたものも、実施形態の特徴を備えている限り、実施形態の範囲に包含される。例えば、第１上部電極部６１と、半導体積層体１０と、の間に絶縁層を介在させてもよい。前述した各具体例が備える各要素およびその配置、材料、条件、形状、サイズなどは、例示したものに限定されるわけではなく適宜変更することができる。例えば、支持基板２０を取り除いた構造も発光素子１〜４に含まれる。
【００７１】
また、前述した各実施形態が備える各要素は、技術的に可能な限りにおいて複合させることができ、これらを組み合わせたものも実施形態の特徴を含む限り実施形態の範囲に包含される。  
その他、実施形態の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても実施形態の範囲に属するものと了解される。
【００７２】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００７３】
１、２、３、４、１００  発光素子
１０  半導体積層体
１０ｓ  辺
１１  コンタクト層（第２コンタクト層）
１２、１６  電流拡散層
１３、１５  クラッド層
１４  発光層
１７  コンタクト層（第３コンタクト層）
２０  支持基板
２１  拡散防止層
２２、２３  金属膜
３０  光反射層
３１、３５、３８  第１光反射層部
３１ｒ  凹部
３１ｓ  空間
３２  第２光反射層部  
３６  バリア層
３７  接合層
４０、４１  透明導電層
４５、４６  中間層
５０  電流阻止層
５０ｈ  スリット
６０  上部電極
６１  第１上部電極部
６２  第２上部電極部
６２ａ  第１電極部
６２ｂ  第２電極部
６３  コンタクト層（第１コンタクト層）
６５  絶縁層
７０  下部電極
８０  半導体基板
９０  ダイシングライン
５００ｈ  開口部
【図１】
0005404596.tif 000002
【図２】
0005404596.tif 000003
【図３】
0005404596.tif 000004
【図４】
0005404596.tif 000005
【図５】
0005404596.tif 000006
【図６】
0005404596.tif 000007
【図７】
0005404596.tif 000008
【図８】
0005404596.tif 000009