(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のウエハを起立状態で載置するウエハカセットに保持された前記複数のウエハそれぞれの主面に噴射面を対向させて配置され、各噴射面は対応する前記ウエハの前記主面に対しエッチング液を放出可能な複数の穴を有する複数の平面ノズルを備え、
前記複数の穴は、
前記ウエハとの対面方向に対し、前記ウエハ上の前記エッチング液の流れの方向に傾斜して前記噴射面に形成されている、
ウエットエッチング装置。
【請求項２】
複数のウエハを起立状態で載置するウエハカセットに保持された前記複数のウエハそれぞれの主面全体に噴射面を対向させて配置され、各噴射面は対応する前記ウエハの前記主面全体に対しエッチング液を放出可能な複数の穴を有する複数の平面ノズルを備える、
ウエットエッチング装置。
【請求項３】
前記複数の穴は、
前記噴射面の所望部分に偏在して分布する、
請求項１または２に記載のウエットエッチング装置。
【請求項４】
前記噴射面の上部に、前記ウエハ上の前記エッチング液の流れ方向に傾斜してライン状に形成された長穴をさらに備える、
請求項１〜３のいずれかに記載のウエットエッチング装置。
【請求項５】
前記平面ノズルは、前記ウエハとの間にスペーサーをさらに備え、
前記スペーサーは、前記噴射面の外周部に配置される、
請求項１〜４のいずれかに記載のウエットエッチング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウエットエッチング装置に関するものであり、特にエッチング液をウエハに放出するノズルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体プロセスにおいては、半導体ウエハに所望のパターン構造を形成するために、エッチング液を用いるウエットエッチング装置が用いられている。このウエットエッチング装置においては、特許文献１及び特許文献２に開示されているように、様々な構成が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−７７０７９号公報
【特許文献２】特開２００８−３１１６５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ウエットエッチング装置の種類は、複数のウエハをウエハカセットに載せてエッチングするカセットバッチ方式と、ウエハを回転テーブルに載せて一枚ずつエッチングするスピンエッチ枚葉方式との二つに分類することができる。カセットバッチ方式のウエットエッチング装置では、「処理能力が高い、設置面積が小さい、装置価格が安い」というメリットがあるが、「エッチングレート安定性及び均一性が悪い」というデメリットがある。一方、スピンエッチ枚葉方式のウエットエッチング装置では、「エッチングレート安定性及び均一性が良く、かつ、物理的異物除去効果がある」というメリットがあるが、「処理能力が低い、設置面積が大きい、装置価格が高い」というデメリットがある。そこで、半導体プロセスにおいては、これらメリットとデメリットを考慮してウエットエッチング装置が使い分けられている。
【０００５】
しかしながら、カセットバッチ方式及びスピンエッチ枚葉方式を使い分けると工程が複雑化するとともに、装置を用意するのにコストがかかる。
【０００６】
そこで、ウエットエッチング装置において、処理能力を高く、設置面積を小さく、装置価格を低く、かつ、エッチングレートの安定性及び均一性を良くすることが可能な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係るウエットエッチング装置は、複数のウエハを起立状態で載置するウエハカセットに保持された前記複数のウエハそれぞれの主面に噴射面を対向させて配置され、各噴射面は対応する前記ウエハの前記主面に対しエッチング液を放出可能な複数の穴を有する複数の平面ノズルを備える。前記複数の穴は、前記ウエハとの対面方向に対し、前記ウエハ上の前記エッチング液の流れの方向に傾斜して前記噴射面に形成されている。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、平面ノズルが対応するウエハの主面に対しエッチング液を放出することから、反応済みのエッチング液がウエハの主面上に停滞することを抑制することができる。したがって、エッチングレートの安定化及び均一性を向上させることができるとともに、物理的な異物除去も可能となる。そして、このようなエッチングを、ウエハカセットに保持された複数のウエハのそれぞれに対して同時に行うことができることから、ウエットエッチング装置においては、処理能力を高く、設置面積を小さく、装置価格を低くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施の形態１に係る平面ノズル部及びウエハカセットを示す側面図である。
【図２】実施の形態１に係る平面ノズル部の構成を示す断面図である。
【図３】実施の形態１に係る平面ノズル部の構成を示す正面図である。
【図４】実施の形態１に係るウエットエッチングの構成を示す図である。
【図５】実施の形態１に係る平面ノズルの断面図である。
【図６】実施の形態２に係る平面ノズルの断面図である。
【図７】実施の形態３に係る平面ノズル部の構成を示す断面図である。
【図８】実施の形態３に係る平面ノズル部の構成を示す正面図である。
【図９】実施の形態４に係る平面ノズル部の構成を示す断面図である。
【図１０】実施の形態４に係る平面ノズル部の構成を示す正面図である。
【図１１】実施の形態４に係る平面ノズルの断面図である。
【図１２】実施の形態５に係る平面ノズル部及びウエハカセットを示す側面図である。
【図１３】実施の形態５に係る平面ノズル部の構成を示す断面図である。
【図１４】実施の形態５に係る平面ノズル部の構成を示す正面図である。
【図１５】ウエハカセットの構成を示す斜視図である。
【図１６】カセットバッチ方式のウエットエッチング装置の構成を示す図である。
【図１７】カセットバッチ方式のウエットエッチング装置によりエッチングされるウエハを示す断面図である。
【図１８】カセットバッチ方式のウエットエッチング装置によりエッチングされたウエハを示す断面図である。
【図１９】カセットバッチ方式のウエットエッチング装置によりエッチングされたウエハを示す断面図である。
【図２０】スピンエッチ枚葉方式のウエットエッチング装置の構成を示す図である。
【図２１】スピンエッチ枚葉方式のウエットエッチング装置のウエハ搬送機構の構成を示す上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
＜実施の形態１＞
まず、本実施の形態に係るウエットエッチング装置について説明する前に、複数のウエハをウエハカセットに載せてエッチングするカセットバッチ方式のウエットエッチング装置と、ウエハを回転テーブルに載せて一枚ずつエッチングするスピンエッチ枚葉方式のウエットエッチング装置とについて説明する。
【００１１】
図１５は、カセットバッチ方式のウエットエッチング装置に用いられるウエハカセット２０４の斜視図であり、図１６は、当該ウエットエッチング装置において複数のウエハ７がエッチングされている状態を示す図である。
【００１２】
図１５に示すように、ウエハカセット２０４は、複数のウエハ７を起立状態で載置するものであり、一方向に２列に並べられた複数のウエハカセット分離板８と、２列のウエハカセット分離板８とそれぞれ接続された２つのウエハカセット横面横板９と、２つのウエハカセット横面横板の端部同士を接続するウエハカセット正面横板１０と、ウエハ７下部を保持するウエハ下部保持板１１とから構成されている。
【００１３】
図１６に示すように、ウエハカセット２０４に保持された複数のウエハ７が、エッチング槽５０内のエッチング液５５に浸漬されることにより、複数のウエハ上にそれぞれ形成された被エッチング膜などが同時にエッチングされる。なお、以下においては、ウエットエッチングにより、各ウエハ７上に形成された被エッチング膜がエッチングされるものとして説明する。
【００１４】
図１６に示されるウエットエッチング装置においては、エッチング液５５を昇温可能なヒーター５２と、当該ヒーター５２に電線５４を介して電力を供給するヒーター電源５３とを備えている。ヒーター５２により昇温されたエッチング液５５は、スノコ板５１を通って上側に流動し、複数のウエハ７の被エッチング膜をエッチングする。このエッチング装置においては、ヒーター５２によりエッチング液５５の温度が上昇・調整されることにより、エッチングレートを上げたり、エッチングレートを安定化させたりすることが可能となっている。エッチングが終了すると、複数のウエハ７が載置されたウエハカセット２０４は水洗槽に移されて水洗される。その後、ウエハ７上の水が、リンサードライヤー（図示せず）の遠心力により飛ばされる。
【００１５】
図１７は、カセットバッチ方式のウエットエッチング装置によりエッチングを行う前のウエハ７の拡大断面図を示す図である。図に示すように、ウエハ（基板）７上には被エッチング膜５６が形成されており、その被エッチング膜５６上にはレジスト５７がパターン形成されている。
【００１６】
図１８及び図１９は、カセットバッチ方式のウエットエッチング装置によりエッチングを行った後のウエハ７の拡大断面図を示す図であり、このうち、図１８は正常状態を示し、図１９は異常状態を示す。図１８及び図１９に示される矢印５８は、エッチング液５５が、エッチング中に被エッチング膜５６に向かっていた方向を示し、矢印５９は、被エッチング膜５６と反応したエッチング液５５が、被エッチング膜５６から離れていった方向を示す。カセットバッチ方式のウエットエッチング装置においては、本来、図１８に示されるように、レジスト５７開口近傍において被エッチング膜５６が完全に除去されるべきであったにもかかわらず、図１９に示されるように、被エッチング膜６０が残る場合がある。
【００１７】
加工後の状態が正常状態になるか異常状態になるかは、エッチング液５５の特性によるところが大きい。特に、被エッチング膜５６がアルミニウムである場合には、エッチング液５５として燐酸系が用いられるが、燐酸は粘度が大きいため、反応済みのエッチング能力が低下したエッチング液５５が被エッチング膜５６界面に留まることがある。この場合には、エッチングの化学反応が進みにくくなり、その結果として、エッチングレートが低下したり、エッチングレートのウエハ７面内における均一性が悪化したりする。
【００１８】
次にスピンエッチ枚葉方式のウエットエッチング装置について説明する。
【００１９】
図２０は、当該ウエットエッチング装置において１枚のウエハ７がエッチングされている状態を示す図である。
【００２０】
図２０に示すように、エッチングが行われる際には、ウエハ７がスピンエッチング室７０内の回転テーブル７１上に真空吸着された状態で、回転テーブル７１が回転テーブル支柱７２の軸周り（矢印７３の方向）に回転（スピン）する。一方、エッチング液タンク７８内においてヒーター８２により温調されたエッチング液８３は、配管８４を介してポンプ７９によって矢印８９の方向に汲み上げられて、配管８５、フィルター８０、配管８６を順に通った後、矢印９０の方向に進んでバルブ８７を通りスプレーノズル７４に進む。スプレーノズル７４に進んだエッチング液８３は、矢印９１に示すように拡散された状態でウエハ７に噴きつけられることにより、ウエハ７上に形成された被エッチング膜がエッチングされる。
【００２１】
ここで、ウエハ７は回転テーブル７１とともに回転しているので、ウエハ７の被エッチング膜と反応したエッチング液等は、ウエハ７上に停滞することなく、遠心力によりウエハ７外周に飛ばされる。したがって、ウエハ７上面は、スプレーノズル７４から順次に噴きつけられるエッチング液と接することが可能となる。粘度が大きいエッチング液を用いても同様であることから、このウエットエッチング装置においては、エッチングレートが安定化するとともに、その均一性の低下を抑制することができる。また、スプレーノズル７４からの液の圧力と、スピンの遠心力により液の流れにより、物理的な異物除去効果も得られる。
【００２２】
ウエハ７外周に飛ばされたエッチング液は、エッチング室７０の下部において蓄積される。当該蓄積されたエッチング液７６のうちエッチング能力がほとんど低下していない部分は、矢印９２に示されるように、三方弁７７及び配管８８を介してエッチング液タンク７８に還流される。このように、図２０に示されるウエットエッチング装置においては、エッチング液７６が有効利用されている。また、エッチング液７６のうちエッチング能力が大きく低下した部分は、矢印９７に示されるように、三方弁７７及び廃液用配管８１を介してウエットエッチング装置外部に廃棄される。
【００２３】
ポンプ７９が止められ、バルブ８７が閉じられると、スプレーノズル７４からのウエハ７へのエッチング液の噴きつけが停止し、エッチングが終了する。そして、エッチングされたウエハ７が水洗される。具体的には、バルブ９５が開けられ、純水供給装置９３からの純水が矢印９６に示されるように配管９４、バルブ９５を通ってスプレーノズル７５に進む。スプレーノズル７５に進んだ純水は、エッチング液と同様にウエハ７に噴きつけられる。バルブ９５が閉じられると水洗が終了する。その後、回転テーブル７１が回転して、ウエハ７上の純水が遠心力により飛ばされる。
【００２４】
図２１は、スピンエッチ枚葉方式のウエットエッチング装置１００が備えるウエハ搬送機構を示す上面図である。この図において、ウエハカセット１０２及びウエハカセット１０３は、上述のウエハカセット２０４と実質的に同じである。ウエハカセット１０２には、スピンエッチング室７０内でのエッチングがまだ行われていないウエハ７が載置されており、ウエハカセット１０３には当該エッチングがすでに行われたウエハ７が載置されている。
【００２５】
この図に示されるウエハ搬送機構において、ウエハ搬送ロボット１０５はアーム１０４を有している。ウエハ搬送ロボット１０５は、ウエハカセット１０２内の１枚のウエハ７をアーム１０４に移載させた後、当該ウエハ７をゲートシャッター１０１に通して回転テーブル７１に移載する。
【００２６】
アーム１０４がスピンエッチング室７０から抜け出た後、ゲートシャッター１０１が閉じて、スピンエッチング室７０内において上述のエッチングが行われる。この際、スピンエッチング室７０及びゲートシャッター１０１により、スピンしているウエハ７上のエッチング液や純水が、スピンエッチング室７０及びゲートシャッター１０１の外部に飛散するのが防止される。当該ウエットエッチングが終わるとゲートシャッター１０１が開く。
【００２７】
その後、ウエハ搬送ロボット１０５は、回転テーブル７１に載置されているウエハ７をアーム１０４に移載した後、当該ウエハ７をゲートシャッター１０１に通してウエハカセット１０３内に移載する。
【００２８】
以上のようなスピンエッチ枚葉方式のウエットエッチング装置１００においては、１枚のウエハ７ごとに搬送及びエッチングを行うことからカセットバッチ方式のウエットエッチング装置よりも処理能力が低いものとなっている。また、スピンエッチ枚葉方式のウエットエッチング装置１００において、搬送機構等の動作及び制御は自動的に行われることが通常であることから、カセットバッチ方式よりも設置面積が大きくなり、装置価格が高いものとなっている。
【００２９】
そこで、本実施の形態に係るウエットエッチング装置においては、上記２種類のウエットエッチング装置のメリットを有しており、処理能力を高く、設置面積を小さく、装置価格を低く、かつ、エッチングレートの安定性及び均一性を良くすることが可能となっている。以下、本実施の形態に係るウエットエッチング装置について説明する。なお、上述の説明と同一の構成については、同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００３０】
図１は、本実施の形態に係る平面ノズル部２００及びウエハカセット２０４を示す側面図である。本実施の形態に係るウエットエッチング装置は、平面ノズル部２００と、ウエハカセット２０４とを備える。平面ノズル部２００は、複数のウエハ７を保持しているウエハカセット２０４の隙間に挿入可能な平板形状の複数の平面ノズル１と、当該複数の平面ノズル１と接続された固定配管２とを備えている。
【００３１】
図２は平面ノズル部２００の構成を示す断面図である。固定配管２は平板形状を有しており、その内部には空洞が設けられている。固定配管２の側部は、コネクタ４を介してホース３と接続されており、固定配管２及びホース３の空洞はコネクタ４内の空洞を介して互いに連通されている。固定配管２は、その１つの主面において、複数の平面ノズル１と接続されている。各平面ノズル１の内部には空洞が設けられており、固定配管２内の空洞と、各平面ノズル１内の空洞とは互いに連通されている。また、各平面ノズル１の１つの主面（以下「噴射面１ａ」と呼ぶこともある）には、平面ノズル１内の空洞と外部とを繋ぐ複数のノズル穴５が設けられている。後述するように、各平面ノズル１内の空洞に到達したエッチング液は、噴射面１ａに設けられた複数のノズル穴５を介して外部に放出（噴射）される。
【００３２】
図３は平面ノズル部２００の正面図である。この図に示されるように、各平面ノズル１は、平面視において、その一端は半円形状を有しており、その他端は固定配管２と接続されている。複数のノズル穴５のそれぞれの形状は円形であり、複数のノズル穴５は、平面ノズル１の噴射面１ａのうち、ウエハ７の外周位置を示すウエハ外周位置線６内にほぼ均等に設けられている。
【００３３】
図４は、本実施の形態に係るウエットエッチング装置全体の構成を示す図である。このウエットエッチング装置においてエッチングを行う際には、図１に示されるように、まず、複数のウエハ７を起立させた状態でウエハカセット２０４に載置した後、各ウエハ７の被エッチング膜が形成された主面７ａと反対側の主面が、ウエハカセット分離板８と密着するように、ウエハカセット２０４が傾けられる。これにより、各ウエハ７の被エッチング膜が形成された主面７ａと、当該主面７ａと対向するウエハカセット分離板８との間に隙間が生じる。それから、複数の平面ノズル１が、ウエハカセット２０４の当該隙間に挿入され、ウエハカセット２０４に保持された複数のウエハ７それぞれの主面７ａに噴射面１ａを対向させて配置される。その後、図４に示されるように、平面ノズル部２００及びウエハカセット２０４は、この状態が維持されるようにウエットエッチング装置のエッチング室１２内に保持される。
【００３４】
次に、エッチング液タンク１３内においてヒーター１８により温調されたエッチング液１７が、配管１９を介してポンプ１４によって矢印２７の方向に汲み上げられて、矢印２８に示されるように、配管２０を通ってフィルター１５に進む。それから、当該エッチング液１７が、矢印２９に示されるように、配管２１，２２、バルブ２３、ホース３に進み、ホース３、コネクタ４及び固定配管２のそれぞれの空洞内を順に通って矢印３０の方向に進む。そして、エッチング液１７が、矢印３１の方向に進んで各平面ノズル１内の空洞に到達する。各平面ノズル１内の空洞に到達したエッチング液は、各噴射面１ａの複数のノズル穴５を介し、対応するウエハ７の被エッチング膜が形成された主面７ａに向かって放出（噴射）される。換言すれば、本実施の形態に係る複数の平面ノズル１においては、各噴射面１ａは、対応するウエハ７の主面７ａに対しエッチング液を放出可能な複数のノズル穴５を有している。
【００３５】
図５は、平面ノズル１からエッチング液が放出される様子を示す断面図である。各ノズル穴５から放出されたエッチング液は、ウエハ７の主面７ａに噴きつけられて、ウエハ７の主面７ａに沿って矢印３９及び矢印４０の方向を含む四方八方に流れた後、ウエハ７の下方向（矢印３２の方向）に流れていく。したがって、被エッチング膜と反応したエッチング液がウエハ７上に停滞することが抑制可能となっている。なお、本実施の形態では、複数のノズル穴５は、ウエハ７との対面方向と平行となるように噴射面１ａに形成されている。
【００３６】
図４に戻って、ウエハ７から下に落ちたエッチング液は、エッチング室１２の下部において蓄積される。当該蓄積されたエッチング液３３のうちエッチング能力がほとんど低下していない部分は、矢印３４に示されるように、三方弁３６及び配管１６を介してエッチング液タンク１３に還流される。このように、本実施の形態に係るウエットエッチング装置においては、エッチング液１７が有効利用されている。また、エッチング液３３のうちエッチング能力が大きく低下した部分は、矢印３８に示されるように、三方弁３６及び廃液用配管３７を介してウエットエッチング装置外部に廃棄される。
【００３７】
ポンプ１４が止められ、バルブ２３が閉じられると、各平面ノズル１からウエハ７へのエッチング液の噴きつけが停止し、エッチングが終了する。そして、エッチングされたウエハ７が水洗される。具体的には、バルブ２６が開けられ、純水供給装置２４からの純水が矢印３５に示されるように配管２５、バルブ２６を通ってホース３に進む。ホース３に進んだ純水は、エッチング液と同様に、各平面ノズル１から対応するウエハ７に噴きつけられる。
【００３８】
以上のような本実施の形態に係るウエットエッチング装置によれば、平面ノズル１が対応するウエハ７の主面７ａに対しエッチング液を放出することから、反応済みのエッチング液がウエハ７の主面７ａ上に停滞することを抑制することができる。したがって、エッチングレートの安定化及び均一性を向上させることができるとともに、物理的な異物除去も可能となる。そして、このようなエッチングを、ウエハカセット２０４に保持された複数のウエハ７のそれぞれに対して同時に行うことができることから、本実施の形態に係るウエットエッチング装置では、処理能力を高く、設置面積を小さく、装置価格を低くすることができる。
【００３９】
＜実施の形態２＞
図６は、本実施の形態に係るウエットエッチング装置において、平面ノズル４１からエッチング液が放出される様子を示す断面図である。本実施の形態に係るウエットエッチング装置は、実施の形態１に係る平面ノズル１の代わりに、その一部が変更された平面ノズル４１を備えている。
【００４０】
具体的には、実施の形態１に係る平面ノズル１の複数のノズル穴５は、ウエハ７との対面方向と平行となるように噴射面１ａに形成されていたのに対し、本実施の形態に係る平面ノズル４１の複数のノズル穴４２は、ウエハ７との対面方向に対し、ウエハ７上のエッチング液の流れの方向に傾斜して噴射面４１ａに形成されている。なお、ここでいうウエハ７上のエッチング液の流れの方向とは、ウエハ７上のエッチング液が最終的に流れる方向、つまり、ウエハ７の下方向（矢印３２の方向）である。それ以外の構成については実施の形態１と同じである。
【００４１】
このような本実施の形態に係るウエットエッチング装置によれば、エッチング液の流れが一方向（矢印４７の方向）に統一されるので、ウエハ７の主面７ａ上におけるエッチング液の置換速度が高くなる。つまり、エッチング液がウエハ７の主面７ａ上に停滞することを確実に抑制することができる。したがって、エッチングレートの安定性及び均一性をさらに向上させることができる。
【００４２】
＜実施の形態３＞
図７は、本実施の形態に係るウエットエッチング装置が備える平面ノズル部２００の構成を示す断面図であり、図８はその正面図である。本実施の形態に係るウエットエッチング装置は、実施の形態１に係る平面ノズル１の代わりに、その一部が変更された平面ノズル４３を備えている。
【００４３】
具体的には、実施の形態１に係る平面ノズル１の複数のノズル穴５は、噴射面１ａにおいて、ウエハ外周位置線６内にほぼ均等に設けられていたのに対し、本実施の形態に係る平面ノズル４３の複数のノズル穴５は、ウエハ外周位置線６中央部において間引かれている。つまり、本実施の形態に係る複数のノズル穴５は、噴射面４３ａのウエハ外周位置線６外周部（所望部分）に偏在して分布している。それ以外の構成については実施の形態１と同じである。
【００４４】
このような本実施の形態に係るウエットエッチング装置によれば、ウエハ７の主面７ａにおいて、所望部分のエッチングレートを高めることができる。つまり、図７及び図８に示される平面ノズル４３によれば、ウエハ７の主面７ａ外周部におけるエッチングレートを高めることができる。したがって、例えば、ウエハ７の主面７ａ中央部における被エッチング膜が、主面７ａ外周部における被エッチング膜よりも薄い場合に、上述の平面ノズル４３を用いれば、エッチングの仕上がり時間をウエハ７面内において均一にすることができる。
【００４５】
なお、本実施の形態では、複数のノズル穴５は、所望部分の一例として、噴射面４３ａのウエハ外周位置線６外周部に偏在して分布している。しかし、これに限ったものではなく、複数のノズル穴５を任意の所望部分に偏在させるべくこの分布を変えることにより、任意にウエハ７面内のエッチングレートをコントロールすることができる。また、以上の説明では本実施の形態を実施の形態１に組み合わせた場合について説明したが、本実施の形態を実施の形態２に組み合せてもよい。
【００４６】
＜実施の形態４＞
図９は、本実施の形態に係るウエットエッチング装置が備える平面ノズル部２００の構成を示す断面図であり、図１０はその正面図である。図１１は、平面ノズル４４からエッチング液が放出される様子を示す断面図である。本実施の形態に係るウエットエッチング装置は、実施の形態２に係る平面ノズル４１の代わりに、その一部が変更された平面ノズル４４を備えている。
【００４７】
具体的には、実施の形態２に係る平面ノズル４１においては、複数のノズル穴４２が、噴射面４１ａでのウエハ外周位置線６内にほぼ均等に設けられていたのに対し、本実施の形態に係る平面ノズル４４においては、１つの長穴たるノズル穴４５が、噴射面４４ａの上部にライン状に形成されている。なお、本実施の形態に係るノズル穴４５は、実施の形態２に係るノズル穴４２と同様に、ウエハ７との対面方向に対し、ウエハ７上のエッチング液の流れの方向（ウエハ７の下方向）に傾斜して噴射面４４ａに形成されている。それ以外の構成については実施の形態２と同じである。
【００４８】
このような本実施の形態に係るウエットエッチング装置によれば、実施の形態２に係るウエットエッチング装置と同様の効果を得ることができる。また、複数のノズル穴４２の代わりに１つのノズル穴４５を形成することから、多数のノズル穴４２を作成する手間を省くことができるとともに、平面ノズル４４の強度を向上させることができる。
【００４９】
なお、本実施の形態に係るノズル穴４５を、実施の形態１〜３でそれぞれ説明した上述の平面ノズル１，４１，４３にさらに設けてもよい。この場合には、エッチング液の流れが、一方向（矢印４７の方向）に統一され易くなるので、ウエハ７の主面７ａ上におけるエッチング液の置換速度がより高くなる。したがって、エッチングレートの安定性及び均一性をさらに向上させることができる。
【００５０】
＜実施の形態５＞
図１２は、本実施の形態に係る平面ノズル部２００及びウエハカセット２０４を示す側面図である。図１３は、当該平面ノズル部２００の構成を示す断面図であり、図１４はその正面図である。本実施の形態に係るウエットエッチング装置においては、実施の形態１に係る平面ノズル１を備えている。ただし、図１２に示されるように、本実施の形態に係る平面ノズル１は、ウエハ７との間にスペーサー４６を備えている。図１２に示されるように、このスペーサー４６は、噴射面１ａの外周部に配置されている。本実施の形態では、４つの円形状のスペーサー４６が、ウエハ外周位置線６外周部の上下左右の位置にそれぞれ１つずつ設けられている。それ以外の構成については実施の形態１と同じである。
【００５１】
このような本実施の形態に係るウエットエッチング装置によれば、スペーサー４６により、平面ノズル１とウエハ７との接触を低減することができる。したがって、当該接触によるウエハ７の損傷を抑制することができる。また、スペーサー４６により、平面ノズル１とウエハ７との間の距離をウエハ７面内において均一にすることができる。したがって、エッチングレートの均一性を向上させることができる。
【００５２】
なお、以上の説明では本実施の形態を実施の形態１に組み合わせた場合について説明したが、本実施の形態を実施の形態２〜４に組合せてもよい。
【符号の説明】
【００５３】
１，４１，４３，４４  平面ノズル、１ａ  噴射面、５，４２，４５  ノズル穴、７  ウエハ、７ａ  主面、４６  スペーサー、２０４  ウエハカセット。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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