(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
計測スケール上に１つまたは複数のマーキングを塗布する方法であって、
スケール基板に対して１つまたは複数のマーキングを仮の状態で位置させる工程と、
前記スケール基板に対して位置された前記１つまたは複数のマーキングが許容できるものであるかどうか検査する工程と、
前記許容できる１つまたは複数のマーキングを仕上げて、前記１つまたは複数のマーキングを、前記１つまたは複数のマーキングが前記仮の状態よりも除去し難い永久状態に変換する工程と
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
位置させる工程は、前記スケール基板にマーキングを塗布する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
塗布する工程は、マーキングを液体状態で塗布する工程を含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記液体はインクを含むことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
仕上げる工程は、マーキングを固体状態に変換する工程を含むことを特徴とする請求項３または４に記載の方法。
【請求項６】
仕上げる工程は、１つまたは複数のマーキングを硬化する工程を含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
塗布する工程は、マーキングを固体状態で塗布する工程を含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項８】
前記マーキングは、前記マーキングを前記スケールに固定するための接着剤を含み、仕上げる工程は、前記接着剤を転換する工程を含むことを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
位置させる工程は、前記スケールに隣接してマーキング支持体を位置決めする工程を含み、仕上げる工程は、前記マーキング支持体から前記スケール上に前記マーキングを転写する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
仕上げる工程は、前記１つまたは複数のマーキングを電磁放射線（「ＥＭＲ」）源に曝露する工程を含むことを特徴とする請求項１ないし９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記ＥＭＲ源は、紫外線（「ＵＶ」）源であることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
検査する工程は、前記マーキングの位置を検査する工程を含むことを特徴とする請求項１ないし１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
仕上げる工程は、前記１つまたは複数のマーキングを熱源にさらす工程を含むことを特徴とする請求項１ないし１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
仕上げる工程は、前記１つまたは複数のマーキングに圧力を加える工程を含むことを特徴とする請求項１ないし１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
許容できないマーキングがあればそれを除去する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１ないし１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記１つまたは複数のマーキングは基準マークを備えることを特徴とする請求項１ないし１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
仕上げる工程の前に前記マーキングを固定する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１ないし１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
スケール基板にマーキングを塗布するための装置であって、
１次元で前記スケール基板に対して規定の位置に前記装置を位置決めするためのスケール位置付け機構と、
前記スケール基板上に１つまたは複数のマーキングを仮の状態で位置させるための塗布機構と、
前記マーキングを検査するための検出器と、
前記許容できる１つまたは複数のマーキングを仕上げて、前記１つまたは複数のマーキングを、前記１つまたは複数のマーキングが前記仮の状態よりも除去し難い永久状態に転換するための仕上げ機構と
を備えることを特徴とする装置。
【請求項１９】
許容できない１つまたは複数のマーキングを前記スケール基板から除去するための除去機構をさらに備えることを特徴とする請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
一連の位置特徴を備えるスケールと、
前記スケール上に基準マークを塗布するための装置と、を備える部品のキットであって、前記装置は、マーカー物質を搬送し、前記マーカー物質は、仮の状態でスケール基板に塗布することができ、その後、仕上げ処置によって前記スケール基板上で仕上がり状態に転換可能である
ことを特徴とする部品のキット。
【請求項２１】
前記装置は、前記マーカー物質用の貯蔵領域と、前記貯蔵領域からスケール基板上に前記マーカー物質を転写するための塗布具とを備えることを特徴とする請求項２０に記載の部品のキット。
【請求項２２】
前記マーカー物質は液体であり、前記塗布具は、前記貯蔵領域からスケール基板上に前記マーカー液体を転写するための少なくとも１つの管路を備えることを特徴とする請求項２１に記載の部品のキット。
【請求項２３】
前記マーカー物質は、仕上げ処置によって前記スケール基板上で仕上がり状態に転換可能な接着剤裏塗りを備える物体を含むことを特徴とする請求項２０または２１に記載の部品のキット。
【請求項２４】
前記マーカー物質は転写シールであり、前記装置は転写シール支持体シートを備えることを特徴とする請求項２０に記載の部品のキット。
【請求項２５】
前記転写シール支持体シートは、前記転写シール支持体が配置されるスケール基板上のマーキングの検出に干渉しないことを特徴とする請求項２４に記載の部品のキット。
【請求項２６】
前記装置は、前記スケール基板への前記マーキングの位置合わせを補助するための特徴を備えることを特徴とする請求項２０ないし２５のいずれか一項に記載の部品のキット。
【請求項２７】
前記装置は、少なくとも１次元で前記スケール基板に対して規定の位置に前記装置を位置決めするためのスケール位置付け機構を備えることを特徴とする請求項２６に記載の部品のキット。
【請求項２８】
前記マーキングを仕上げるためのツールをさらに備えることを特徴とする請求項２０ないし２７のいずれか一項に記載の部品のキット。
【請求項２９】
請求項２０ないし２８のいずれか一項に記載の部品のキットに使用するためのものであることを特徴とする前記スケール上に基準マークを塗布するための装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、計測スケール、前記スケールを製造する方法、および計測スケール上にマーキングを形成するための装置に関する。特に、本発明は、マーキングを備える計測スケール、および前記スケールにマーキングを塗布する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
２つの部材の相対変位を測定するためのスケール読取り装置の公知の形態は、一方の部材にある、パターンを規定したスケールマークを有するスケールと、他方の部材に設けられた読取りヘッドとを備えるものである。光学スケール読取り装置は、スケールを照明するための光源と、得られた光パターンに応答してスケールと読取りヘッドの相対変位の測定値を生成するための、読取りヘッドにおける検出器とを有する。周期的なパターンのマークを有するスケールが、インクリメンタル型スケールとして知られており、読取りヘッドは、増分および減分の出力を提供する。例えば、そのようなスケールは、特許文献１に記載されている。スケールに基準マークが設けられることがあり、この基準マークは、読取りヘッドによって検出されるときに、読取りヘッドの絶対位置または一意の位置を決定できるようにするものである。そのようなスケールが、特許文献２に開示されている。大量生産スケールは、インクリメンタル型トラックと複数の基準マークとを有するものとすることができる。使用者は、これらの基準マークのいくつかを使用し、他のものは使用しないことを望む場合がある。基準マークは、インクリメンタル型トラックに埋め込むことができ、またはインクリメンタル型トラックに隣接して、例えば別のトラック内に配置することができる。
【０００３】
典型的には一続きのアブソリュート型コードを定義する特徴を備えたアブソリュート型スケールも知られている。使用中、読取りヘッドは、スケールに沿って移動するときにコードを読み取り、コードを絶対位置情報に変換する。そのようなスケールが、特許文献３に開示されている。いくつかの状況では、読取りヘッドとスケールの相対運動の限界を規定するために、スケールに隣接して、またはスケール上に限界マークを塗布することが有用であることがある。
【０００４】
多くの機械、例えば工作機械では、機械部品の移動の端点がリミットスイッチによって規定される。これらは、例えば機械的、磁気的、または光学的なものとすることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】欧州特許出願第０２０７１２１号
【特許文献２】国際公開第２００５／１２４２８２号パンフレット
【特許文献３】ＰＣＴ／ＧＢ２００２／００１６２９
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、スケール基板上にマーキングを塗布するための方法および装置の改良に関する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１の態様によれば、計測スケール上にマーキングを塗布する方法であって、スケール基板に対して１つまたは複数のマーキングを仮の状態で位置させる工程と、スケール基板に対して位置させた１つまたは複数のマーキングが許容できるものであるかどうかを検査する工程と、許容できる１つまたは複数のマーキングを仕上げる工程とを含む方法が提供される。
【０００８】
この方法は、マーキングを、仕上げる前に検査できるようにする。これは、マーキングが現場でスケール基板に塗布される場合、またはスケール（例えばインクリメンタル型スケールまたはアブソリュート型スケール）を形成するために既に処理されている材料にマーキングが付加される場合に特に有利である。
【０００９】
仕上げる工程は、１つまたは複数のマーキングを仕上がり状態に変化させる工程を含むことができる。すなわち、この方法は、マーキングに仕上げ処理を施す工程を含むことができ、仕上げ処理において、マーキングは、マーキングを永久的なものにする変換が施され、すなわち、その仮の状態よりもスケールから除去しにくくなる。
【００１０】
マーキングの形態は、その仮の状態と仕上がり状態の間で変化、例えば変換することがある。例えば、仮の状態にあるマーキングは、スケール上に配置された液体であることがあり、これは、仕上げ中に活性化されてスケールと反応し、それによりスケールに永久的にマークを付けることができる。例えば、この液体は、活性化されたときに、スケールの基板の形態を局所的に変えるようにスケール基板と反応する選択的に活性化可能なエッチング液とすることができる。例えば、エッチング液は、滑らかな表面を粗くする、または粗い表面を滑らかにすることができる。エッチング液は、キャビティを形成するためにスケール基板の局所領域を腐食することもある。
【００１１】
好ましくは、その仮の状態と仕上がり状態でのマーキングの形態が実質的に同じであることである。この形態は、マーキングの外観、例えばマーキングの形状およびサイズを含むことができる。特に、この形態が、読取りヘッドによってマーキングを検出するために使用されるマーキングの特性を含むことが好ましい。したがって、仕上げる工程は、マーキングの形態を実質的に変えないことが好ましい。その際、検査する工程が、仕上がり状態のマーキングの品質を、実際に仕上げられる前に的確に示すことができるので、これは有利であることがある。
【００１２】
仕上げる工程は、除去し難くなるようにスケール基板にマーキングを固定する工程を含むことができる。これには、マーキングと相互作用してマーキングをスケールに固定する工程を含むことができる。以下により詳細に説明するように、固定する工程は、マーキングをスケール上に転写する工程を含むことができる。これは、マーキングをスケールと結合させる工程を含むことができる。
【００１３】
仕上げる工程は、圧力、熱源、電磁放射線（「ＥＭＲ」）源、および化学物質源の少なくとも１つにマーキングをさらす工程を含むことができる。例えば、ローラなどの圧力具を使用して、マーキングに圧力を加えることができる。任意選択で、圧力具は、打撃装置を備えることができる。打撃装置は、マーキングに対して配置される端部を有する打撃要素を備えることができる。打撃端部の輪郭は、マーキングの輪郭と実質的に同じにすることができる。打撃装置は、さらに、打撃要素に打撃力を加えるためのインパクタを備えることができる。マーキングを仕上げるために必要な圧力の量は、例えば、マーキング上で使用される感圧接着剤のタイプを含めた多くの因子に依存する。適切な圧力は、１０ｍｍ２当たり少なくとも５Ｎ、好ましくは１０ｍｍ２当たり少なくとも１０Ｎ、より好ましくは１０ｍｍ２当たり少なくとも１５Ｎ、好ましくは１０ｍｍ２当たり１００Ｎ以下、例えば１０ｍｍ２当たり５０Ｎ以下とすることができる。例えば、適切な圧力は、１０ｍｍ２当たり約２０Ｎとすることができる。
【００１４】
熱源を使用して、少なくとも５０℃、好ましくは少なくとも７０℃、例えば少なくとも１００℃の温度にマーキングを曝露することができる。マーキングは３００℃よりも高い温度に曝露されず、より好ましくは２００℃以下の温度であることが好ましいことがある。
【００１５】
ＥＭＲ源を使用してマーキングをＥＭＲに曝露することができ、例えば光源を使用してマーキングを光学的ＥＭＲに曝露することができる。光学ＥＭＲは、赤外線から紫外線（「ＵＶ」）の範囲内のＥＭＲを含む。特に紫外線（「ＵＶ」）源を使用して、マーキングをＵＶ  ＥＭＲに曝露することができる。
【００１６】
仕上げる工程は、マーキングを硬化させる工程を含むことができる。適した硬化技法は、１つまたは複数のマーキングをＥＭＲ源に曝露する工程を含む。適したＥＭＲ源は、光源、例えば可視光源やＵＶ源を含む。他の適切な硬化技法には、例えば１つまたは複数のマーキングを熱源にさらす熱硬化、および例えば１つまたは複数のマーキングを、マーキングを硬化させる化学物質にさらす化学的硬化が含まれる。
【００１７】
位置させる工程は、可逆プロセスを用いてスケール基板上にマーキングを塗布する工程を含むことができる。例えば、仮の状態でのマーキングは、スケール基板に塗布された液体とすることができる。したがって、塗布する工程は、マーキングを液体状態でスケール基板上に塗布する工程を含むことができる。液体は、光硬化性液体とすることができ、特にＵＶ硬化性液体とすることができる。液体は、インク、例えば光硬化性インク、またはより特定的にはＵＶ硬化性インクを含むことができる。仮の状態でのマーキングが液体である実施形態では、仕上げる工程は、マーキングを固体状態に変換する工程を含む。例えば、仕上げる工程は、１つまたは複数の液体マーキングを硬化する工程を含む。
【００１８】
１つまたは複数のマーキングをスケール基板に塗布する工程は、マーキングを固定する工程を含むことができる。固定は、マーキングを仕上げることなく定位置に保つ助けとなる。これは、仮の状態でのマーキングが液体であるときに特に有用となる。なぜなら、スケール基板のあちこちに液体が自由に流れるのを防止することができるからである。マーキングがその仮の状態で液体状態であるとき、固定は、マーキングの形状および位置を保持するためにマーキングの露出面にわたって膜を形成する工程を含むことができる。
【００１９】
塗布する工程は、マーキングを固体状態で塗布する工程を含むこともできる。マーキングは、マーキングをスケールに固定するための接着剤を含むことができる。この場合、仕上げる工程は、接着剤を変換する工程を含むことができる。接着剤を変換する工程は、接着剤を硬化する工程を含むことができる。
【００２０】
位置させる工程は、スケールに隣接してマーキング支持体を位置決めする工程を含むことができ、仕上げる工程は、マーキング支持体からスケール上にマーキングを転写する工程を含むことができる。例えば、マーキングは、少なくとも片側に接着剤を有する一部片の材料、例えばステッカを備えることができる。任意選択で、マーキングは、スケール基板上に転写することができる転写シールとすることができる。したがってこれらの場合には、マーキングは、マーキング支持体からスケール基板上に転写されることによって変換される。仕上げる工程は、１つまたは複数のマーキングに圧力を加える工程を含むことができ、それによりマーキングがスケール基板に結合され、したがって転写される。任意選択で、熱転写を使用して、マーキング支持体を局所的に溶融させてスケール基板に結合させることができる。したがって、その後マーキング支持体が除去されるときに、熱転写プロセスを受けた局所領域がスケール基板上に残る。
【００２１】
マーキング支持体は、計測スケール上に配置されるときに、読取りヘッドが計測スケールの位置特徴を検出するのに悪影響を及ぼさないことが好ましい。
【００２２】
マーキング支持体は材料の層を備え、そこに、除去できるようにマーキングが取り付けられる。例えば、マーキング支持体はシート状とすることができる。マーキングがマーキング支持体の下面に担持されることが好ましい。材料の層は、層を越して計測スケールの位置特徴を検出できるようにすることが好ましい。
【００２３】
マーキング支持体の下面の表面積がマーキングの表面積よりも大きいことが好ましい。好ましくは、マーキング支持体の下面の表面積は、マーキングの表面積の少なくとも２倍のサイズ、より好ましくは少なくとも３倍のサイズ、例えば少なくとも４倍のサイズである。マーキング支持体の下面は、検査および／または仕上げ中にマーキング支持体をスケールに一時的に固定するための接着剤を含むことができる。マーキング支持体上の接着剤はいずれも、マーキング上のいかなる接着剤とも異なることが好ましい。マーキング支持体上の接着剤はいずれも、マーキング上のいかなる接着剤よりも弱いことが好ましい。特に、マーキング支持体の接着剤は、マーキングを仕上げるために使用される方法によっては硬化可能でないことが好ましい。
【００２４】
マーキング支持体は、少なくともマーキングのスケール接触面を覆う少なくとも１つの除去可能な裏当て層を備えることができる。任意選択で、少なくとも１つの裏当て層が、マーキング支持体のスケール接触面、すなわちその下面を覆う。マーキング支持体とマーキングを覆うために、同じ裏当て層を使用しても、別の裏当て層を使用してもよい。マーキングが接着剤を含む実施形態では、裏当て層を除去してマーキングの接着剤を露出させることができる。好ましくは、マーキング支持体が接着剤を含む実施形態では、裏当て層を除去してマーキング支持体の接着剤を露出させることができる。
【００２５】
マーキング支持体がマーキング材料よりも大きな剛性を有することが好ましい。マーキング支持体がマーキング材料よりも実質的に厚いことが好ましい。好ましくは、マーキング支持体は、マーキング材料の少なくとも２倍、より好ましくは少なくとも１０倍の厚さである。好ましくは、マーキング材料は、その縁部で１０μｍ以下、より好ましくはその縁部で５μｍ以下、特に好ましくはその縁部で２μｍ以下、例えばその縁部で１μｍである。マーキング材料は、中央に向かうよりも縁部で薄いことがある。任意選択で、マーキング材料は、実質的に一様の厚さを有する。好ましくは、マーキング支持体は、厚さが少なくとも１０μｍ、より好ましくは少なくとも５０μｍ、特に好ましくは少なくとも１００μｍ、例えば少なくとも２００μｍである。
【００２６】
検査する工程は、マーキングの位置および／または向きを検査する工程を含むことができる。検査する工程は、マーキングの他の特性を検査する工程を含むこともできる。例えば、検査する工程は、マーキングのサイズおよび／または鮮明さを検査する工程を含むことがある。また、例えば、マーキングが完全であること、および／または適切なタイプもしくは形状であることを検査する工程を含むこともできる。
【００２７】
検査する工程は、検出器がマーキングを検出し、処理装置デバイスが、検出されたマーキングを分析して、所定の基準に適合するかどうか判断する工程を含むことができる。１つまたは複数のマーキングが許容できるものであるかどうか検査する工程は、目視検査とすることができる。これは、操作者によって人為的に行われることがある。検査は、自動化されていてもよい。例えば、マーキングが視覚的なマーキングである実施形態では、例えば視覚機械を使用してマーキングを検査することができる。
【００２８】
この方法は、さらに、許容できないマーキングがあればそれを除去する工程を含むことができる。
【００２９】
好ましくは、計測スケールは、インクリメンタル型スケールまたはアブソリュート型スケールを定義する一連の位置特徴を備える。好ましくは、１つまたは複数のマーキングは、インクリメンタル型スケールまたはアブソリュート型スケール上で基準位置を定義する。基準位置は、例えば、スケールとスケールを読み取る読取りヘッドとの相対運動の限界であってよい。この場合、マーキングは、限界マークでよい。基準位置は、スケールの長さに沿った一意の基準点でよい。例えば、インクリメンタル型スケールの場合、マーキングは、インクリメンタル型スケールの長さに沿って基準点、例えば絶対基準点を定義する基準マークを備えることができる。
【００３０】
計測スケールは、磁気または誘導性計測スケールとすることができる。計測スケールは、容量性計測スケールでもよい。任意選択で、計測スケールは、光学計測スケールである。この場合、計測スケールは透過型であってよく、読取りヘッドが、スケールを通って透過された光を検出することによってスケールを読み取る。任意選択で、計測スケールは反射型でよく、読取りヘッドは、スケールから反射された光を検出することによってスケールを読み取る。
【００３１】
理解されるように、位置特徴をスケール上で定義することができる多くの適切な方法がある。例えば、位置特徴は、特定の電磁放射線（ＥＭＲ）特性、例えば特定の光学特性を有する特徴によって、例えば特定の光透過率または反射率のスケール部分によって定義することができる。したがって、位置特徴は、例えば、最小反射率または透過率値を有するスケールの部分によって定義することができる。任意選択で、位置特徴は、例えば、最大反射率または透過率値を有するスケールの部分によって定義することができる。磁気計測スケールの場合、位置特徴は、特定の磁気的特性を有する特徴によって、または例えば強磁性材料の有無によって規定することができる。容量性スケールの場合、位置特徴は、特定の容量特性を有する特徴によって定義することができ、誘導性スケールの場合、位置特徴は、特定の誘導特性を有する特徴によって定義することができる。
【００３２】
位置特徴は、読取りヘッドによって読み取ることができる線、点、または他の構成の形態を取ることができる。１次元スケールに関する好ましい構成は、測定次元に垂直な次元でのトラックの全幅にわたって延びるラインを備えることができる。
【００３３】
同様に、１つまたは複数のマーキングは、線、点、または他の構成の形態を取ることができる。
【００３４】
好ましくは、マーキングは、適切な洗浄剤で洗浄することができるが除去することはできない。例えば、洗浄剤は液体、例えば溶剤でよい。好ましくは、マーキングは、第１の溶剤によっては洗浄することができるが除去することはできず、第２の溶剤によって除去することができる。例えば、ステッカの形態でのマーキングをスケールに貼着することができる。このステッカは、損傷なくイソプロピルアルコール（「ＩＰＡ」）で洗浄することができ、例えばアセトンまたはキシレンによって除去することができる。さらに、ステッカは、例えば熱を使用して仕上げることもできる。任意選択で、スケール上にマーキングを描くためにペンを使用して、マーキングをＵＶ硬化性インクの形態で仮の状態で塗布することができる。仮のマーキングは、水で洗浄することができ、ＩＰＡで除去することができる。さらに、仮のマーキングは、ＵＶ光で仕上げることができる。
【００３５】
したがって、本出願は、スケール基板上にマーキングを形成する方法であって、可逆プロセスを使用してスケール基板に１つまたは複数のマーキングを塗布する工程と、１つまたは複数のマーキングが許容できる品質であるかどうか検査する工程と、許容できる品質の１つまたは複数のマーキングを仕上げる工程とを含む方法を説明する。
【００３６】
本発明の第２の態様によれば、スケール基板にマーキングを塗布するための装置であって、少なくとも１次元でスケール基板に対して規定の位置に装置を位置決めするためのスケール位置付け機構と、スケール基板上に１つまたは複数のマーキングを仮の状態で位置させるための塗布機構と、マーキングを検査するための検出器と、許容できる１つまたは複数のマーキングを仕上げて、１つまたは複数のマーキングを仕上がり状態に変換するための仕上げ機構とを備える装置が提供される。
【００３７】
この装置は、さらに、許容できない１つまたは複数のマーキングをスケール基板から除去するための除去機構を備えることができる。
【００３８】
本発明の別の態様は、スケール基板にマーキングを塗布するための装置であって、１次元でスケール基板に対して規定の位置に装置を位置決めするためのスケール位置付け機構と、試薬貯蔵領域と、試薬貯蔵領域からスケール基板への試薬用の管路を提供する塗布具とを備える装置を提供する。
【００３９】
好ましい実施形態では、塗布具は、所望のマーキング形状で試薬をスケール基板に塗布するように構成される。好ましくは、所望のマーキング形状はラインである。
【００４０】
好ましくは、塗布具は、第１の位置と第２の位置の間で移動可能である。第１の位置は、スケール基板がスケール位置付け機構と係合されるときにスケール基板と接触する位置でよい。第２の位置は、引き下がった位置でよい。
【００４１】
試薬貯蔵領域は、１つまたは複数のマーキングに十分な試薬を含むようにサイズ設定することができる。
【００４２】
試薬貯蔵領域と塗布具は、１つの一体ユニットで提供することができる。
【００４３】
装置は、さらに、硬化源、例えば光硬化源を備えることができる。
【００４４】
さらなる態様によれば、本発明は、一連の位置特徴を備えるスケールと、スケール上に基準マークを塗布するための装置とを備える部品のキットであって、装置は、マーカー物質を搬送し、マーカー物質は、仮の状態でスケール基板に塗布することができ、その後、仕上げ処置によってスケール基板上で仕上がり状態に転換可能である部品のキットを提供する。
【００４５】
装置は、マーカー物質用の貯蔵領域と、貯蔵領域からスケール基板上にマーカー物質を転写するための塗布具とを備えることができる。例えば、マーカー物質は液体でよく、塗布具は、貯蔵領域からスケール基板上にマーカー液体を転写するための少なくとも１つの管路を備えることができる。
【００４６】
マーカー物質は、仕上げ処置によってスケール基板上で仕上がり状態に転換可能な接着剤裏塗りを含む物体を含むことができる。
【００４７】
マーカー物質は転写シールでよく、装置は転写シール支持体シートを備えることができる。好ましくは、転写シール支持体シートは、転写シール支持体が配置されるスケール基板上のマーキングの検出に干渉しないように構成される。
【００４８】
装置は、スケール基板へのマーキングの位置合わせを補助するための特徴を備えることができる。装置は、少なくとも１次元でスケール基板に対して規定の位置に装置を位置決めするためのスケール位置付け機構を備えることができる。
【００４９】
キットは、さらに、マーキングを仕上げるためのツールを備えることができる。
【００５０】
本発明のさらなる態様によれば、スケール上に基準マークを塗布するための装置であって、上述した部品のキットで使用するための装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
以下、本発明を、添付図面を参照しながら説明する。
【図１】スケールおよび読取りヘッドの側面図である。
【図２】図１のスケールおよび読取りヘッドの平面図である。
【図３Ａ】方法の概要を示す流れ図である。
【図３Ｂ】図３ａに示される流れ図の工程を実施する第１の方法の概略図である。
【図３Ｃ】図３ａに示される流れ図の工程を実施する第２の方法の概略図である。
【図３Ｄ】打撃手段を使用して実施される図３ａの仕上げ工程の概略図である。
【図４】図３ａの方法を自動的に実施するのに適したシステムの概略図である。
【図５Ａ】基準マークを人為的に塗布するためのデバイスの端面図である。
【図５Ｂ】基準マークを人為的に塗布するためのデバイスの側面図である。
【図５Ｃ】基準マークを人為的に塗布するためのデバイスの底面図である。
【図６】基準マークを塗布するためのマスクを例示する図である。
【図７】タンポ印刷（ｔａｍｐｏ  ｐｒｉｎｔｉｎｇ）によって基準マークを塗布するためのデバイスを示す図である。
【図８】図５で使用するための代替ブレードを例示する図である。
【図９】図５でのデバイスの代替的実施形態を示す図である。
【図１０Ａ】掻取り前のブレード先端のインクを示す図である。
【図１０Ｂ】スクレーパ（ｓｃｒａｐｅｒ）を示す図である。
【図１０Ｃ】掻取り後のブレード先端のインクを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００５２】
図１は、第１の機械部品（図示せず）に取り付けられたスケール１０と、第２の機械部品（図示せず）に取り付けられた読取りヘッド１２とを示す。第２の機械部品、したがって読取りヘッドは、スケールに対して、矢印Ａによって示される方向に移動可能である。図２はスケール１０を示し、このスケール１０は、交互の反射ラインと非反射ラインからなるスケールマーク１６の周期パターンを備えたインクリメンタル型トラック１４を有する。インクリメンタル型トラック１４に基準マーク１８が埋め込まれる。図では基準マークが１つだけインクリメンタル型トラックに埋め込まれているが、理解されるように、インクリメンタル型トラック１４に埋め込まれたいくつかの同一または固有の基準マークがあってもよい。あるいは、またはさらに、基準マーク１１によって示されるように、別個のスケールトラックにマーキングが提供されることもある。
【００５３】
いくつかの基準マークが存在するとき、エンドユーザは、特定のマーキングを選択し、他のマーキングは無視することを望む場合がある。基準マークは、例えば、読取りヘッド１２とスケール１０の相対運動の限界を示す限界マークとして使用することができる。
【００５４】
読取りヘッド１２は、インクリメンタル型スケールおよび基準マークを読み取るための標準のインクリメンタル型光学系２、および／または基準マークもしくは限界マークを読み取るためのリミットスイッチ感知光学系４および５が設けられる。
【００５５】
インクリメンタル型スケールは大量生産されることがあり、いかなる特定の用途にも適した様々なパターンの基準マークおよびリミットスイッチを提供することが望ましいことがある。したがって、インクリメンタル型スケールの形成とは別個の工程において基準マークおよびリミットスイッチを塗布することが有利となることがある。
【００５６】
図３Ａは、スケール基板にスケールマーキングを塗布する方法を概説する流れ図である。この方法は、自動化されることがあり、または現場で人為的に行われることがある。これらの代替的形態をより詳細に説明する。
【００５７】
第１のステップ１９において、マーキング塗布機構とスケール基板とが、対応して位置決めされる。次いで、スケールマーキング（１つまたは複数）が、可逆プロセスを使用してスケール基板に塗布される（２０）。説明する実施形態では、光硬化性インク、例えばＵＶ硬化性インクなどの試薬が使用され、この試薬は、例えば溶剤および布で拭き取ることによって除去することができる。
【００５８】
第３のステップにおいて、許容できる品質であるかどうか判断するために塗布されたマーキングが検査される（２２）。この工程は、マーキングの位置、形状、密度などの基準を使用することがある。マーキングの品質は、人為的に、例えば操作者による目視検査によって検査されることがあり、または自動化プロセスを使用して検査されることもある。
【００５９】
マーキングが品質テストに合格した場合、例えば、ＵＶ光、特定の化学物質、熱、または任意の他の適切な仕上げ処理にさらすことよって、マーキングが仕上げられる（２６）。マーキングが品質テストに不合格であった場合、少なくとも不合格のマーキング、またはマーキングの一部もしくは全てを除去するために除去プロセスが使用される（２４）。次いで、上記のプロセスを使用してマーキングが再び塗布される。
【００６０】
図３Ｂは、これらの各ステップを実施できる方法の一実施形態を概略的に示す。図示されるように、第１のステップ１９で、図９に関連して後述する塗布機構（または実際には図５から１０ｃに関連して説明する塗布機構の任意のもの）などの塗布機構１００が、スケール基板１０に対して所望の位置に位置決めされる。次いで、塗布機構１００は、矢印Ｂの方向に押し下げることによって作動され、それによりマーキングがスケール基板１０に塗布される。この場合、塗布機構のブレード１０４とスケール基板１０との接触により、エポキシ、例えばエピクロロヒドリンとビスフェノールＡの反応生成物であるエポキシなど化学的硬化性インクのラインがスケール基板１０に塗布される。次いで、基準マークの上を通して読取りヘッド２１を動かすことによってマーキングの品質が検査される。読取りヘッド２１の出力がオシロスコープ２３（または例えばコンピュータディスプレイ）上に表示され、それにより使用者が基準マークを検査することができる。特に、使用者は、基準マークの品質、例えば基準マークのサイズ、一様性、および位置を検査するために観察する。基準マークの品質が許容できないものであることが使用者に分かった場合、ステップ２４で、使用者は、何らかの溶剤、例えばイソプロピルアルコール（「ＩＰＡ」）２５をマーキング上に塗布し、綿棒２７を使用してスケール基板をきれいに拭くことができ、それによりマーキング１８を完全に除去して、スケール基板１０上にマーキングがあった痕跡を残さない。基準マークの品質が許容できるものである場合には、ステップ２６で、使用者はマーキングを仕上げることができ、これは、この実施形態では化学物質、例えば硬化性触媒、例えば脂肪族ポリアミンやポリアミドなどをマーキングに噴霧することを含み、この化学物質が、マーキングとの接触時にマーキングを硬化させ、スケール基板１０に接着しているマーキングを液体状態から固体状態に変換させる。
【００６１】
図３Ｃは、これらの各ステップを実施できる方法の代替的実施形態を概略的に示す。この場合、マーキング１８は、フェノールホルムアルデヒドなどの熱反応性架橋剤を用いたエピクロロヒドリンとビスフェノール−Ａのエポキシ反応生成物など熱硬化接着剤を裏塗りされた、ポリエステルからなる熱転写可能な転写シールを備え、これが、例えばアクリルまたはポリビニルアセテート（ＰＶＡ）などの弱い接着剤を裏塗りされたポリエステルからなるマーキング支持体１７に担持される。図示されるように、マーキング１８は光吸収剤であり、マーキング支持体１７は透明である。マーキング支持体１７の取扱いを容易にするために、接着剤の付いていないタブ１３が提供される。この転写シールマーキング１８は、５μｍのほぼ一様な厚さを有し、マーキング支持体は、１００μｍのほぼ一様な厚さを有する。図示されていないが、マーキング支持体は、転写シールマーキング１８とスケール基板１０の位置合わせを補助するための位置合わせマークを備えることができる。
【００６２】
第１のステップ１９で、使用者は、裏当て紙（図示せず）から、転写シールマーキング１８と共にマーキング支持体１７を完全に剥がし、それによりマーキング支持体１７の裏面の弱い接着剤層を露出させ、次いで、タブ１３をつまんでマーキング１８をスケール基板１０の上で所望の位置に持っていく。次いで、第２のステップ２０で、使用者は、マーキング支持体１７と転写シールマーキング１８をスケール基板１０に接触させ、それによりマーキング支持体１７の裏面の接着剤がスケール基板１０に貼着する。ここで、転写シールマーキング１８は仮の状態でスケール基板１０上に保持されており、したがってステップ２２で、図３ｂに関連して上述したのと同様に、マーキング１８の上を通して読取りヘッド２１を動かして、読取りヘッド２１の出力をオシロスコープ（図示せず）または例えばコンピュータディスプレイ上で検査することによって、マーキング１８の位置を検査することができる。マーキング支持体１７は、読取りヘッド２１には透明であるので、読取りヘッド２１の出力に対する影響は最小であり、したがって、転写シールマーキング１８が仕上げられた後にスケール上にどのように現れるかを正確に示す。基準マークの品質が許容できないものであることが使用者に分かった場合、次いでステップ２４で、使用者は、マーキング支持体１７および転写シールマーキング１８をスケール基板１０から剥がして完全に除去することができ、スケール基板上に堆積物を何ら残さず、したがってスケール基板上にマーキング支持体１７および転写シールマーキング１８があった痕跡を残さない。基準マークの品質が許容できるものである場合には、ステップ２６で、使用者はマーキングを仕上げることができる。この実施形態では、これは、スケール基板１０上に転写シールマーキング１８が接着するように熱源２３を使用して転写シールマーキング１８を加熱することを含む。図示されるように、転写シールマーキング１８は、指向性の熱源２３によって加熱することができ、この熱源２３は、ファンと、通電時に熱を発生する少なくとも１つの電気抵抗要素とを備える。したがって、転写シールマーキング１８がスケール基板１０に接着されると、マーキング支持体１７をスケール基板から剥がすことができ、薄い転写シールマーキング１８がスケール基板１０上で定位置に永久的に残る。この場合も、マーキング支持体１７はスケール基板１０上に堆積物を残さず、したがって、スケール基板上にマーキング支持体１７があった痕跡を残さない。このプロセスにより、非常に薄い転写シールマーキング１８をスケール基板に塗布できるようになる。そのような薄い転写シールマーキング１８を使用することによって、マーキングの縁部に破片が集まるのを回避し、縁部が剥がれる可能性を低減でき、また浅いスケール断面形状を維持することができる。
【００６３】
理解されるように、基板上に転写シールを転写する他の方法もある。例えば、転写シールマーキング１８は、インパクト転写が可能なものであってもよい。図３Ｄに示されるように、この場合、マーキング１８と同様の形状および寸法の端部を有する打撃要素３を備えることができる。仕上げるステップ２６で、打撃要素３をマーキング１８上に配置し、次いでインパクタ７によって打撃することができ、それにより、スケールに面する転写シールの表面上の感圧接着剤によって転写シールをスケール基板上に転写させる。あるいは、転写シールマーキング１８は、液体、例えば水による活性化時に転写可能であってもよい。その際、仕上げるステップで、転写シールマーキング１８を濡らして、マーキング１８をスケール基板１０に接着させることができる。
【００６４】
図４は、スケール基板にマーキングを塗布する自動化プロセスの概略図である。図４は連続プロセスであるが、この方法は、不連続な長さをもつスケールにも適している。さらに、方法ステップを分けることもできる。
【００６５】
スケール基板３０が、スケールマーキング装置３２内に送られる。スケール基板は、ローラ３４、３６など既知の手段によって矢印Ａの方向に送給することができる。典型的には、スケール基板上には、既にスケールマーキング、例えばインクリメンタル型スケールマーキングが設けられている。
【００６６】
追加のマーキング、例えば基準マーキングがある場合には、例えばインクジェットプリンタ３８を使用してスケール基板に塗布される。仕上げるステップとして別の硬化ステップを必要とする硬化性インク、例えば光硬化性インクが選択される。適切なインクは、ＵＶ硬化性インクである。光硬化性インクは、それを除去可能としたままとする一方でビーディングを防止するのに十分な部分硬化である固定を必要とする。図４は、塗布されたスケールマーキングを固定するために使用されるＵＶ光源を使用する固定ステップ４０を示す。この光源の露光時間および強度は、インクの露光面のみを硬化することを保証するように制御され、それにより膜を形成する。インクが完全には硬化されていない、または実質的には硬化されていないので、マーキングは依然として除去可能である。
【００６７】
次いで、スケール基板は、視覚機械４２の下に通される。視覚機械４２は、カメラ、光源、および処理装置（図示せず）を備える。光源がスケールを照明し、カメラがマーキングの画像を生成し、その画像が処理装置によって評価される。アルゴリズムを使用して、マーキングが許容できる品質であるかどうか判断する。アルゴリズムは、マーキングの品質を決定する際に、幅、縁部品質、向き、位置、連続性、およびコントラストなどのパラメータを使用することができる。視覚システムは、マーキングの位置など他の因子に加えて、マーキングの表面外観を評価するために使用することができる。
【００６８】
マーキングが品質テストに不合格であった場合、基板は洗浄ステーション４３に送られ、洗浄ステーション４３において、例えば溶剤を用いて拭き取ることでラインが除去される。
【００６９】
マーキングが品質テストに合格した場合、基板は仕上げステーション４４に進む。ＵＶ硬化性インクの場合、仕上げステーションは、インクを実質的に完全に硬化するのに十分な露光時間および強度をもつＵＶ光源を備える。
【００７０】
図４の実施形態は、光硬化性インクの使用を説明する。しかし、マーキングを塗布するために他の試薬が使用されることもある。試薬の選択の基準は、塗布が可逆であり、仕上げが別個のステップであること、および仕上げられる前の塗布された試薬が、検査できるように検出可能なものである。好ましくは、仕上げの前後でマーキングの外観は変わらず、したがって、検査ステップが、仕上げられたマーキングの品質を的確に示すものである。
【００７１】
光硬化性インクに対する代替法は、光開始剤エッチングである。これは、好ましくは、スケール基板に塗布することができる不透明で安定な光開始剤試薬の使用を伴う。この試薬は、好ましくは、視覚検査機によって検出可能であるように十分に不透明であり、かつ仕上げるステップにおける活性化までスケール基板と反応しないように十分に安定であるべきである。マーキングは、塗布されて検査された後、光源を使用して試薬を活性化させて仕上げることができる。このプロセスは、マーキングがエッチングされた後に余剰の試薬を除去するさらなるステップを必要とすることがある。
【００７２】
本発明は、現場でスケール基板にマーキングを塗布するのに特に有用である。工作機械、ピックアンドプレース機械、マスクアライナ、ＣＭＭなど様々な用途で、インクリメンタル型スケールが使用される。スケールが定位置に取り付けられた後、その機械に特有の特定位置、例えばスケールの中心の「ホーム」位置に基準マークを配置することが望ましいことがある。さらに、可動部品の許容範囲内の運動の端点をマークするために、スケール上にリミットスイッチを配置することが望ましいことがある。基準マークもしくはリミットスイッチはいずれも、特に工作機械などの厳しい環境で頑丈であることが好ましい。しかし、現場でのマーキングの塗布は、マーキングが不適切に塗布された場合に、設置されたスケールを除去および交換しなければならないという問題点がある。したがって、本発明は、頑丈なマーキングを形成するために、仕上げられる前にマーキングを検査できるので、現場でマーキングを塗布するのに特に適している。必要であれば、不適切に塗布されたマーキングを除去して塗布し直すことができる。
【００７３】
図５Ａ、５Ｂ、および５Ｃは、操作者がマーキングを適切に塗布するのを補助するためのデバイス５０を示す。デバイスは、上側ハウジング部品５２と、下側ハウジング部品５４とを備える。平行な直線縁部７０、７２を有する溝６８を備えたスケール位置付け機構が、その下側部品５４の底面に配置される。デバイスは、ブレード６０のブレードエッジ６２の形態での塗布具と、ブレードエッジ６２に通じているブレード６０にある細い溝６６の形態での試薬貯蔵領域６４、６６とを有する。ブレードは、そのブレードエッジ６２を溝６８の縁部７０、７２に垂直にして、ハウジングの上側部品の側面に取り付けられる。ハウジングの下側部品からハウジングの上側部品の２つのアパーチャ内に２つのピン５６、５８が延在し、ハウジングの下側部品に対する上下運動を可能にする。ハウジングの上側部品は、上側部品と下側部品の間でピンに設けられたばね５９によって下側部品から離れるように偏倚される。
【００７４】
使用時、このデバイスがスケール基板の一部分に配置され、それによりスケール基板が溝に嵌合し、溝の少なくとも１つの縁部がスケール基板の直線縁部に当接する。この位置で、ブレードは、スケール基板の上に、スケール基板の長手方向軸または測定軸に垂直に位置決めされる。ハウジングの上側部品が下側部品から離れるように偏倚されていることにより、ブレードはスケール基板と接触しない。試薬貯蔵領域内に保持された試薬をスケールに塗布するために、ハウジングは、スケール基板に沿って所望の位置に移動され、次いでハウジングの上側部品が押下されて、ブレードエッジをスケール基板と接触させる。その後、ハウジングの上側部品が解放される。
【００７５】
典型的には、試薬貯蔵領域は、１つのマーキングに十分な量の試薬を含む。試薬貯蔵領域は、インクパッドなど試薬供給源にブレードエッジを接触させ、試薬が毛細管作用によって試薬貯蔵領域内に入ることができるようにすることによって補充することができる。
【００７６】
マーキングがスケール基板に塗布された後、その品質が検査される。これは、操作者による目視検査でよく、あるいは、スケールの上を通して読取りヘッドを動かして、マーキングが検出されたかどうかを判断することによってマーキングを検査することもできる。マーキングは、品質テストに合格した場合、仕上げられる。デバイスは、ハウジング内にＵＶ源などの硬化源を含むことがある。あるいは、マーキングは、ＵＶペンなど別個のハンドヘルドデバイスを使用して仕上げることもできる。
【００７７】
代替的実施形態では、デバイスを読取りヘッド用の取付台に取り付けることができ、したがってスケール位置付け機構は、溝の代わりに、または溝と共に取付固定具を備える。例えば、デバイスは、読取りヘッドを取り付けるために提供される機械のボルト穴に取り付けるための固定具が設けられることがある。あるいは、デバイスを読取りヘッド自体に取り付けることができ、デバイスが取り付けられた状態でマーキングを検査するために読取りヘッドを使用できるようにする。そのような実施形態では、例えば、プランジャを押すことによって発生される空気圧を使用して試薬貯蔵領域からブレードエッジにインクを押し出すことで、または引張り要素による遠隔操作を使用して上側ハウジング部品を押下することで、遠隔操作でインクまたは他の試薬を塗布することができる。
【００７８】
図６は、マーキングを塗布するのに適した代替デバイスを示す。接着剤マスク８０には、スケール縁部と位置合わせするための細長いラインの形態での位置合わせ特徴８２と、適切にサイズ設定されたマーキング用スリット８４とが設けられる。接着剤マスクは、細長いラインをスケール縁部と位置合わせし、マーキングに適切な位置にスリットを配置して、スケール基板上に貼着される。
【００７９】
マスクは、自立するのに十分な厚さを有する積層、例えば３層積層を備えることがある。低い粘着性の接着剤層を露出するために下層が除去され、残りの２層のマスクをスケールに取り付けることができるようにする。残りの２層は、依然として自立に十分な厚さである。細長いラインとスリットを容易に位置決めできるように、上側の２層が透明であることが好ましい。定位置に来ると、上層が除去されて、ただ１つのマスク層を定位置に残し、この層は、所望の厚さの最終的なマーキングを有する。
【００８０】
次いで、インクをスロットに塗布することができ、スロットにインクがちょうど一杯になるように、上面にわたってブレードを通すことによって余剰のインクを除去することができる。これは点検することができ、許容できる場合には、例えばＵＶ光源によって硬化することができる。マスクを剥がすと、硬化されたマークがスケールに接着されたまま残る。硬化されていない場合、マークは、マスク除去後に例えばＩＰＡを用いて拭き取られる。
【００８１】
図７は、マーキングを配置するためにタンポ印刷技法を使用する一実施形態を示す。インクブロック８６に溝８８が設けられ、溝８８にインクが一杯に満たされる。溝８８は、１つのマーキングに適量の体積のインクを保持するように設計され、スケール基板上にインクの正確な形状を与えて転写するように形作られる。ブロックには、インクジェット送達やインクパッドなどの技法を使用してインクが装填することができる。次いで、インクをスケール基板に転写するために、ブロックは、溝がマーキングの所望の位置にある状態でスケール基板上に配置される。このブロックは、例えば図５のブレードの代わりに、適切な位置合わせを与えるデバイスで使用することができる。インクがスケール基板に転写された後、前述の実施形態と同様にマーキングを検査して仕上げることができる。
【００８２】
図８は、図５のデバイスで使用するのに適したインクブレード９０の代替設計を示す。インクブレード本体には、１つのマーキングに十分なインクを保持するためのインクリザーバ９２と、リザーバとブレードエッジ９６の間のインク転写チャネル９４とが設けられる。リザーバおよびチャネルは、箔などの可撓性カバー９８によって覆われ、このカバー９８は、インクを追い出すために押下することができる。
【００８３】
図９は、マークを塗布するためのデバイスの代替的実施形態を示す。このデバイスは、図５と同様に、スケール基板と係合するための溝を備えたスケール位置付け機構を有する基部１０２を備えた本体１００である。本体１００は、塗布具１０４、例えば図５もしくは図８と同様のブレード、または図７と同様のブロックを保持する。例えば厚さを薄くすることで本体の一領域が弾性を持ち、それにより塗布具をスケール基板に押し付けることができる。
【００８４】
スケールマーキングの厚さは、塗布具、例えば図５、図８、および図９におけるブレードエッジの厚さに依存する。図１０Ａに示されるように非常に多くのインク１１０がブレード１１２の先端に溜まった場合、マーキングは、望みよりも広くなることがある。図１０Ｂは、ブレードから余剰のインクを掻き取るためのスクレーパ１１４を示す。スクレーパは、インクリザーバ１１６、例えばインクパッドを保持するハウジング１１４を備える。縁部に丸みの付いた２つのスクレーパブレード１１８がインクリザーバの上に位置決めされ、それにより、インクリザーバ内に挿入するブレードは、スクレーパブレードの間の空間１２０を通して押し入れなければならない。それにより、リザーバからブレードを取り出す際、余剰のインクは、スクレーパブレードによってブレードの側部から除去される。
【００８５】
図１０Ｃは、図１０Ｂのスクレーパから取り出した後のブレードの先端１１２を示す。ブレード先端１１２の側部からはインクが除去されており、先端にインク１２２の滴が残っている。例えばポリテトラフルオロエチレンなど低い摩擦係数を有する表面をブレード１１２の側部にコーティングして設けることによっても、同様の結果を実現することができる。
【００８６】
また、スケール基板に一時的な基準マークを塗布することができることも望ましい。例えば、大型の機械は長いスケールを有し、機械上の小さい作業領域内で作業することが望ましいことがある。この場合、小さな作業領域を画定するために、スケールに一時的な基準マークを塗布することが有用である。この一時的な基準マークは、作業が終了した後に除去することができる。
【００８７】
一時的な基準マークの第１の実施形態では、マーキングを塗布するために溶剤ベースのインクが使用される。溶剤ベースのインクが使用されるので、硬化は必要ない。溶剤、例えばアセトンまたはキシレンを使用して除去可能なインクが選択される。好ましくは、マーキングは、イソプロピルアルコールなど別の溶剤を用いて、マーキングを除去することなく洗浄することができる。したがって、必要がなくなったときには除去することができる頑丈なマーキングが生成される。
【００８８】
第２の実施形態では、マーキングは、透明な接着剤支持体上に位置される。この支持体は、図３ｃにおけるステッカと同様の設計とすることができる。支持体は、マーキングを適切な位置にしてスケール基板上に配置され、接着剤によって定位置に保持される。支持体を塗布および除去できるようにする接着剤を選択することによって、このマーキングを一時的な基準マークとして使用することができる。あるいは、永久的な接着剤を選択することによって永久的な基準マークとして使用することもでき、例えば、そのような接着剤は、例えばＵＶ光に曝露することによって光によって接着を開始することができるものである。
【００８９】
上述した実施形態では、エンコーダは光学エンコーダであり、インクリメンタル型スケールは、読取りヘッドによって検出可能な一連の反射特徴と非反射特徴によって定義される。上述した実施形態では、基準マークは非反射特徴、すなわち吸光特徴であり、これは、インクリメンタル型特徴よりも広い周期である。理解されるように、光学的に検出可能な基準マークを形成する他の方法があり、例えば、光散乱基準特徴を提供することによる方法、鏡面基板から反射される方向とは異なる方向に照明光を向ける反射面を有する鏡面基準特徴を提供することによる方法、または周囲の材料とは異なる仕方で照明光を指向または成形する屈折基準特徴、例えば平面ガラス面上の円筒形レンズを提供することによる方法である。さらに、スケールは透過型スケールであってよく、一連の透過特徴と不透明特徴を備えることができる。
【００９０】
上述した実施形態では、スケールの位置特徴および基準マークは、読取りヘッドによって検出可能な光学特性を有する特徴によって定義される。しかし、必ずしもそうである必要はなく、例えばインクリメンタル型位置特徴および／または基準マークを、別の特性を有する特徴によって形成することができることを理解されたい。例えば、よく知られているように、位置情報をスケール上に符号化するために、異なる磁気、容量、または誘導特性を有する特徴を使用することができる。これらの場合には、適切な磁気、容量、または誘導センサ構成が読取りヘッド内に提供される。
【００９１】
さらに、スケールの位置特徴と基準マークが同じタイプの特性によって検出可能である必要はないことを理解されたい。例えば、スケールの位置特徴は、特定の光学特性を有する特徴によって定義することができ、一方、基準マークは、特定の磁気、容量、または誘導特性を有する特徴によって定義することができる。
【００９２】
理解されるように、磁気エンコーダの場合、スケールは受動型でも能動型でもよい。受動型スケールは、一例として、規則的なスロットを有する鉄系材料とすることができる。能動型スケールは、測定方向に沿って積層された磁化薄層から製造することができ、または磁気ストリップの一連の区域の極性を選択的に設定することによって製造することができる。そのような磁気スケール上の基準マーキングは、それがスケールと読取りヘッドの間の空間の透過率を変えることによって機能し、検出可能になることがある。例えば、基準マーキングは、鉄粒子（磁性または強磁性でよい）が縣濁されたインクを含むことができる。受動型磁気スケールにおいては、そのようなインクを使用して１つまたは複数のスロットを充填し、表面の周期的な透過率に対して測定可能な乱れを与えることができ、または能動型スケールにおいては、そのようなインクを使用して１つまたは複数の極ジャンクションを橋渡しして、スケール付近での周期的な磁束パターンに対して測定可能な乱れを与えることができる。インクは、はじめは流体として、したがって仮の状態でスケール上に提供することができ、検査した後、上述した方法のいずれでも硬化して仕上げることができる。
【００９３】
容量性スケールの場合、基準マークは、容量検出器によって検出可能な読取りヘッドとスケールの間の空間の透過率を変えるものであってよい。周期的な容量をもつ表面に検出可能な乱れを与えるために、周囲（通常は自由空間）と大きく異なる誘電率を有する（またはそのように縣濁された）インクを測定スケール上に堆積することができる。上述した実施形態と同様に、インクは、はじめは流体中で、したがって仮の状態でスケール上に提供することができ、検査後、上述した様式の任意のもので硬化して仕上げることができる。
【００９４】
理解されるように、本発明は、インクリメンタル型スケール上へのマークの塗布に限定されず、例えばアブソリュート型スケールにも、特にアブソリュート型スケールに限界マークを塗布するためにも使用することができる。
【００９５】
さらに、本発明は、リニアスケールおよびロータリスケール（例えばリングスケール）への使用、および１つまたは複数の測定寸法で測定情報を提供するスケールにも適している。例えば、本発明は、２次元で測定情報を提供するスケールに使用するのにも適している。
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図３Ｄ】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１０Ｃ】
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