(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の少なくとも片面に、基材側から導電層、無機ケイ素酸化物を用いてなる保護層の順に積層されてなる導電積層体であって、該無機ケイ素酸化物を用いてなる保護層中に下記（i）〜（iii）に記載の樹脂からなる群のうち少なくとも１種を含有する樹脂組成物Aを含有せしめてなるタッチパネル用に用いられる導電積層体。
（i）シリコーングラフト樹脂
（ii）シリコーンレジン樹脂
（iii）変性シリコーン樹脂
【請求項２】
前記保護層に含有される前記樹脂組成物Aの総含有率（質量％）が、前記保護層の全質量に対して５質量％以上２０質量％以下である請求項１に記載のタッチパネル用に用いられる導電積層体。
【請求項３】
前記保護層において、前記無機ケイ素酸化物と樹脂組成物A中の前記（i）〜（iii）記載のいずれかの樹脂同士とが結合されてなる請求項１又は２に記載のタッチパネル用に用いられる導電積層体。
【請求項４】
前記保護層側の反射率曲線の極小値が３５０〜５５０ｎｍの波長範囲にあり、且つ波長３８０〜７８０ｎｍにおける保護層側の平均反射率が４％以下である請求項１〜３のいずれかに記載のタッチパネル用に用いられる導電積層体。
【請求項５】
前記導電層が線状構造体を含有してなる請求項１〜４のいずれかに記載のタッチパネル用に用いられる導電積層体。
【請求項６】
保護層側から入射した際のＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（１９９７年）に基づいた全光線透過率が８０％以上である、請求項１〜５のいずれかに記載のタッチパネル用に用いられる導電積層体。
【請求項７】
請求項６に記載の導電積層体を用いてなるタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電層の上に保護層を有する導電積層体に関する。さらに、詳しくは、タッチパネルの点荷重に対する耐久性、すなわち打鍵耐久性の向上を図り、且つ、良好な耐久性と、導電層側の反射率が低く良好な光学特性とを併せ持つ導電積層体に関するものである。またさらに、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス、電子ペーパーなどのディスプレイ関連および太陽電池モジュールなどの使用される電極部材にも使用される導電積層体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、タッチパネルを搭載する携帯電話やゲーム機等が普及している。タッチパネルには電極用の導電部材が使用されているが、タッチパネルへの微細入力化が進み例えばペンのように先端が微小な部材にて点入力するため、使用する導電部材に対して、点荷重に対する耐久性、すなわち打鍵耐久性への要求が高くなっている。
【０００３】
このタッチパネルに使用する導電部材としては、基材上に設けた導電層のさらに上に無機ケイ素酸化物層を積層した導電積層体が提案されている（特許文献１、４）。また、金属微粒子を導電層とし、さらにその上に主成分のＳｉＯ２と共にシリコーンモノマーまたはシリコーンオリゴマーをバインダー成分とした層を積層した導電積層体が提案されている（特許文献２）。さらに、導電層の上に無機酸化物層、シリコーンポリマーである直鎖の有機ポリシロキサンを含有する層の順に複数積層した導電積層体（特許文献３）や、高分子化合物を保護層として導電層上に積層した導電積層体も提案されている（特許文献４）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−２０３０４７号公報
【特許文献２】特許第３４４２０８２号公報
【特許文献３】特許第２８４７７０４号公報
【特許文献４】特開２００３−１１５２２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１、４のように導電層上の層が無機酸化物のみであると、柔軟性が乏しく長期の打鍵によって無機酸化物層や導電層に割れやクラックが入り絶縁する不具合が発生し、特許文献２のようにモノマーやオリゴマーのような低分子量物をバインダー成分として添加しても柔軟性は向上せず、同様に長期の打鍵による割れやクラックを回避することはできない。また、特許文献３のように高分子量の有機ポリシロキサンを含有してもその構造が直鎖構造であると、点荷重の力が分散せずに打鍵耐久性は向上しない。さらに、ディスプレイとしての役割も有するタッチパネルは画像を明るく映し出す必要があるため、使用する導電部材には打鍵耐久性と共に良好な透明性・光学特性も併せ持つ必要があるが、特許文献４のように高分子化合物を保護層としても、透明性や光学特性が不足する。
【０００６】
本発明は、かかる従来技術の背景に鑑み、タッチパネルの点荷重に対する耐久性、すなわち打鍵耐久性の向上を図り、且つ、良好な耐久性と、導電層側の反射率が低く良好な光学特性とを併せ持つ導電積層体を提供せんとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、かかる課題を解決するために、次のような構成を採用する。すなわち、
（１）基材の少なくとも片面に、基材側から導電層、無機ケイ素酸化物を用いてなる保護層の順に積層されてなる導電積層体であって、該無機ケイ素酸化物を用いてなる保護層中に下記（i）〜（iii）に記載の樹脂からなる群のうち少なくとも１種を含有する樹脂組成物Aを含有せしめてなるタッチパネル用に用いられる導電積層体、
（i）シリコーングラフト樹脂
（ii）シリコーンレジン樹脂
（iii）変性シリコーン樹脂
（２）前記保護層に含有される前記樹脂組成物Aの総含有率（質量％）が、前記保護層の全質量に対して５質量％以上２０質量％以下である（１）に記載のタッチパネル用に用いられる導電積層体、
（３）前記保護層において、前記無機ケイ素酸化物と樹脂組成物A中の前記（i）〜（iii）記載のいずれかの樹脂同士とが結合されてなる請求項１又は２に記載のタッチパネル用に用いられる導電積層体、
（４）前記保護層側の反射率曲線の極小値が３５０〜５５０ｎｍの波長範囲にあり、且つ波長３８０〜７８０ｎｍにおける保護層側の平均反射率が４％以下である（１）〜（３）のいずれかに記載のタッチパネル用に用いられる導電積層体、
（５）前記導電層が線状構造体を含有してなる（１）〜（４）のいずれかに記載のタッチパネル用に用いられる導電積層体、
（６）保護層側から入射した際のＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（１９９７年）に基づいた全光線透過率が８０％以上である、（１）〜（５）のいずれかに記載のタッチパネル用に用いられる導電積層体、
（７）（６）に記載の導電積層体を用いてなるタッチパネル、
とするものである。
また、本発明の導電積層体はタッチパネル用途に好適に使用されるものである。さらに、本発明の導電積層体は、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス、電子ペーパーなどのディスプレイ関連および太陽電池モジュールなどの使用される電極部材にも好適に使用することができる。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、基材の少なくとも片面に、基材側から導電層、特定の保護層の順に積層することで、タッチパネルの点荷重に対する耐久性、すなわち打鍵耐久性の向上を図り、且つ、良好な耐久性と、導電層側の反射率が低く良好な光学特性とを併せ持つ導電積層体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の導電積層体の断面模式図の一例である。
【図２】本発明のシリコーングラフト樹脂の模式図の一例である。
【図３】本発明の導電積層体の導電層側から観察した線状構造体の模式図の一例である。
【図４】本発明の側鎖中に親水基を有するグラフト構造の樹脂の模式図の一例である。
【図５】本発明の一様態であるタッチパネルの一例を示した模式図である。
【図６】流動床縦型反応装置の概略図
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の導電積層体は、基材側から導電層、無機ケイ素酸化物からなる保護層の順に積層した導電積層体であって、該無機ケイ素酸化物からなる保護層中に下記（i）〜（iii）に記載の樹脂を少なくとも１種含有する樹脂組成物Aを含有せしめたものである。
（i）シリコーングラフト樹脂
（ii）シリコーンレジン樹脂
（iii）変性シリコーン樹脂
かかる保護層中に、前記樹脂組成物Aを含有すると、タッチパネルの打鍵耐久性の向上を図り、且つ、良好な耐久性と、導電層側の反射率が低く良好な光学特性とを併せ持つことができる理由は、以下であると推定している。
【００１１】
すなわち、保護層中の無機ケイ素酸化物はその屈折率から、保護層での反射が少なく透過率が向上するため良好な透明性を付与でき、また、水分や熱に対し性質変化が小さく良好な耐久性を得ることができるが、その結合様態は３次元結合をしており柔軟性に乏しく硬いため、無機ケイ素酸化物のみでは点荷重に対し脆く割れやすい。一方、（i）シリコーングラフト樹脂は後述するように分岐した構造であり、また、（ii）シリコーンレジンは直鎖のシリコーン主鎖を一部架橋した構造であるため、それぞれ無機ケイ素酸化物と共に保護層に含有することで点荷重の力が分散しやすく割れを防いでいると推定される。また、（iii）変性シリコーンは、反応性の官能基を分子鎖末端、分子鎖中、分岐鎖中など構造内に有しているため、保護層中の無機ケイ素酸化物や変性シリコーン同士が結合することができ、点荷重の力がその結合を通じて分散しやすく割れを防いでいると推定される。さらに、前記（i）〜（iii）の樹脂は全てシリコーン骨格であるため、シリコーン骨格以外の高分子化合物と比較し光学特性も無機ケイ素酸化物に類似しており、反射が少なく透過率が向上するため良好な透明性も付与することができる。
【００１２】
本発明の導電積層体は、基材側から導電層、無機ケイ素酸化物からなる保護層の順に積層した導電積層体であって、該無機ケイ素酸化物からなる保護層中に下記（i）〜（iii）に記載の樹脂を少なくとも１種含有する樹脂組成物を含有せしめたものである。
（i）シリコーングラフト樹脂
（ii）シリコーンレジン樹脂
（iii）変性シリコーン樹脂
上記導電層を設けない場合は、導電性を示さない。また、保護層を設けないか、保護層を設けたとしても、該保護層中に前記（i）〜（iii）の少なくとも一つの樹脂を含有しなかったり、含有するものが（i）〜（iii）のいずれにも樹脂に該当しない場合は、それら導電積層体をタッチパネルに組み込んでも、打鍵耐久性は向上せず、また耐久性と光学特性も劣るものとなってしまう。さらに、保護層が無機ケイ素酸化物でない場合は、耐久性が劣るものとなってしまう。
【００１３】
本発明において、保護層は無機ケイ素酸化物を用いてなる必要がある。無機ケイ素酸化物を含有しない場合は、耐久性が劣るものとなってしまう。ここで、前記（i）〜（iii）に該当する樹脂を含むシリコーン樹脂も、ケイ素と酸素の結合を有しているため広義な意味では無機ケイ素酸化物であるが、本発明における無機ケイ素酸化物とは、以下に例示されるような無機ケイ素酸化物のことである。無機ケイ素酸化物は、具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシランなどのテトラアルコシシラン類、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｉ−プロピルトリメトキシシラン、ｉ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−ペンチルトリメトキシシラン、ｎ−ペンチルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘプチルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３，３，３−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフロロプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリエトキシシラン、２−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、２−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン等のトリアルコキシシラン類、メチルトリアセチルオキシシラン、メチルトリフェノキシシランなどのオルガノアルコシシランが挙げられ、例えば、これら無機ケイ素酸化物をアルコール・水・酸など各種溶剤にて加水分解し、（i）〜（iii）に該当する樹脂を共に含有���た塗液を塗布した後に、無機ケイ素酸化物を重合反応によって形成させることで保護層を形成することができるが、特にこれらに限定されるものではない。
【００１４】
本発明において、前記無機ケイ素酸化物からなる保護層中が下記（i）〜（iii）に記載の樹脂からなる群から少なくとも１種を含有する必要がある。
（i）シリコーングラフト樹脂
（ii）シリコーンレジン樹脂
（iii）変性シリコーン樹脂
該保護層中に前記（i）〜（iii）の樹脂のいずれも含有しなかったり、含有するものが（i）〜（iii）の樹脂のいずれにも該当しない場合は、それら導電積層体をタッチパネルに組み込んでも、打鍵耐久性は向上せず、また耐久性と光学特性も劣るものとなってしまう。
【００１５】
（i）シリコーングラフト樹脂について説明する。ここでいうシリコーングラフト樹脂とは、シリコーンブロック重合樹脂などとも呼ばれ、図２にその構造を例示する。図２は、主鎖である幹ポリマーの側鎖部位に枝ポリマーとしてシリコーンが結合している状態を示しており、幹ポリマーやシリコーンの種類、重合度、分子量、分子鎖末端・分子鎖中・分岐鎖中の官能基、架橋度によって様々な状態、性能を付与するものである。
【００１６】
シリコーングラフト樹脂の幹ポリマーとしては例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ナイロン樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、等の樹脂が挙げられ、これらの樹脂は単独で用いても、あるいは２種類以上の共重合体及び／又は混合物としたものを用いてもよく、また、用途によっては一部架橋構造を有していてもよい。
【００１７】
次に（ii）シリコーンレジン樹脂について説明する。有機ポリシロキサンであるシリコーン樹脂は、シリコーンオイル、シリコーンゴム（シリコーン生ゴム）、シリコーンレジン等が挙げられ、このうちシリコーンオイルは直鎖構造のシリコーン樹脂であり、シリコーンゴム（シリコーン生ゴム）は直鎖構造のシリコーンが高重合度化したシリコーン樹脂で、両者とも直鎖構造を有しているものである。一方、シリコーンレジン樹脂は、分子内に３官能性（Ｔ単位）、もしくは４官能性（Ｑ単位）シロキサン単位を含有する有機ポリシロキサンであり、直鎖構造のシリコーンオイル、シリコーンゴム（シリコーン生ゴム）とは異なり架橋構造をとり、またその架橋密度も高いのが特徴である。
【００１８】
次に（iii）変性シリコーン樹脂について説明する。シリコーンの分子鎖末端、分子鎖中、分岐鎖中など構造内に各種官能基を導入することで、その官能基由来の機能を付与したシリコーンであり、例えば、後述するようにブリードアウトを避けるために熱、紫外線、触媒等により保護層中の他成分と結合を形成する反応性の官能基や、保護層中の他の成分や、加工工程時に使用する有機溶剤との相溶性がある官能基を導入したものが挙げられる。シリコーンオイル、シリコーンゴム（シリコーン生ゴム）に各種官能基を導入したものは直鎖構造の変性シリコーンであり、前記（ii）シリコーンレジン樹脂の構造内に各種官能基を導入したものは架橋構造の変性シリコーンレジンであり、本発明においては変性シリコーンであれば直鎖構造の変性シリコーンであっても、架橋構造の変性シリコーンレジンでもよく特に限定されるものではない。
【００１９】
本発明にかかる前記（i）〜（iii）に記載の樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する樹脂組成物Aはいかなる様態で保護層中に含有していても良く、単純に混合状態で含有していても良いが、前述したような耐久性の更なる向上、取り扱い性、生産性、保護層からのブリードアウト回避、等の理由から、保護層中の無機ケイ素酸化物と前記樹脂組成物中Aの（i）〜（iii）に記載のいずれかの樹脂同士とが結合していることが好ましい。そのため例えば熱、紫外線、触媒等により保護層中の無機ケイ素酸化物と前記（i）〜（iii）に記載のいずれかの樹脂同士と結合を形成する反応性の官能基を分子鎖末端、分子鎖中、分岐鎖中など構造内に有する（i）〜（iii）に記載のいずれかの樹脂を好適に使用することができる。
【００２０】
また、該反応性の官能基以外にも、保護層の加工工程時に使用する有機溶剤や無機ケイ素酸化物、前記（i）〜（iii）に記載の樹脂同士との相溶性がある官能基を分子鎖末端、分子鎖中、分岐鎖中など構造内に有することができるが、特にこれらに限定されるものではない。これら反応性の官能基としては例えば、イソシアネート基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基メトキシ・エトキシ・イソプロポキシなどのアルコキシ基、アミノ基、エポキシ基等が挙げられ、またその他官能基としては例えば、直鎖アルキル基、分岐状アルキル基、シクロアルキル基、ビニル・アリル・ヘキセニルなどのアルケニル基、フェニル・トリル・キシリル・スチリル・ナフチル・ビフェニルなどのアリール基、ベンジル・フェネチルなどのアラルキル基、ラクトン・オキサゾール・イミダゾールなどの複素環を含むその他芳香族基及びその開環基、アセトキシ基、アクリル基、メタクリル基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、アリルオキシカルボニル・ベンジルオキシカルボニルなどのオキシカルボニル基、メルカプト・スルフィドなどの含硫黄元素官能基、ウレイド・ケチミノなどの含窒素元素官能基、フロロアルキル基などの含ハロゲン元素官能基などが挙げられるが、用途や要求する特性によって少なくとも１種類を任意に選択して使用すればよく、２種以上を混合してもよく、特にこれらに限定されるものではない。
【００２１】
（i）シリコーングラフト樹脂としては、具体的には例えば、反応性シリコーングラフト樹脂のＸ−２２−８００４、Ｘ−２２−８０５３、Ｘ−２２−８１１４、Ｘ−２２−８１９５、Ｘ−２２−８２９６（信越化学工業（株）製）、非反応性シリコーングラフト樹脂のＫＰ−５４５、Ｘ−２４−７９８Ａ（信越化学工業（株）製）等が挙げられ、また（ii）シリコーンレジン樹脂及び（iii）変性シリコーン樹脂としては、ポリエステル変性のＸ−２４−８３００、Ｘ−２４−８３１０、Ｘ−２４−８３１１、ＫＲ５２３０、ＫＲ５２３５（信越化学工業（株）製）、直鎖アルキル変性のＸ−２２−８００４、Ｘ−２２−８０５３、Ｘ−２２−８１１４、Ｘ−２２−８１９５、Ｘ−２２−８２９６、Ｘ−２４−７９８Ａ（信越化学工業（株）製）、Ｚ−６０１８（東レ・ダウコーニング（株）製）、アクリル変性のＫＲ９７０６（信越化学工業（株）製）、アルコキシ変性のＫＲ２１３、ＫＲ９２１８（信越化学工業（株）製）、フェニル変性のＫＲ２８２、ＫＲ２７１（信越化学工業（株）製）、ヒドロキシル変性のＫＲ２１１、ＫＲ３００、ＫＲ３１１、ＫＲ２１２（信越化学工業（株）製）、エポキシ変性のＥＳ１００１Ｎ、ＥＳ１００２Ｔ、ＥＳ１０２３（信越化学工業（株）製）、アルキッド変性のＫＲ５２０６（信越化学工業（株）製）、ストレートシリコーンレジンのＫＲ２４２Ａ、ＫＲ２５１、ＫＲ５００（信越化学工業（株）製）等が挙げられ、シリコーンゴム系ではＫＲ１１４Ａ、ＫＲ１６５、ＫＲ１６９、ＫＲ２０３８（信越化学工業（株）製）等が挙げられ、シリコーンオイル系ではアミノ変性のＫＦ−８６８、ＫＦ−８８０、Ｘ−２２−３８２０Ｗ、Ｘ−２２−３９３９Ａ、ＫＦ−８００８、ＫＦ−８０１０、Ｘ−２２−１６６０Ｂ−３（信越化学工業（株）製）、アラルキル変性のＫＦ−４１０（信越化学工業（株）製）、長鎖アルキル変性のＫＦ−４１２、Ｘ−２２−７３２２（信越化学工業（株）製）、エポキシ変性のＫＦ−１００１、Ｘ−２２−２０００、ＫＦ−１０５、Ｘ−２２−１６３シリーズ、Ｘ−２２−１７３ＤＸ、Ｘ−２２−９００２（信越化学工業（株）製）、脂環式エポキシ変性のＸ−２２−２０４６、ＫＦ−１０２、Ｘ−２２−１６９シリーズ（信越化学工業（株）製）、ヒドロキシル変性のＸ−２２−４０３９、ＫＦ−６００１、ＫＦ−９７０１、Ｘ−２２−１７０ＤＸ（信越化学工業（株）製）、ジオール変性のＸ−２２−１７６Ｆ（信越化学工業（株）製）、カルボキシル変性のＸ−２２−３７０１Ｅ、Ｘ−２２−１６２Ｃ、Ｘ−２２−３７１０（信越化学工業（株）製）、メタクリル変性のＸ−２２−１６４シリーズ、Ｘ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−２４７５（信越化学工業（株）製）、高級脂肪酸エステル変性のＫＦ−９１０、Ｘ−２２−７１５（信越化学工業（株）製）、高級脂肪酸アミド変性のＫＦ−３９３５（信越化学工業（株）製）、フェニル変性のＫＦ−５０シリーズ（信越化学工業（株）製）、アミノ及びメトキシ変性のＫＦ−８６２、Ｘ−２２−９１９２（信越化学工業（株）製）、ポリエーテル変性のＸ−２２−６２６６、ＫＦ−３５３、Ｘ−２２−６１９１、ＫＦ−６０１１（信越化学工業（株）製）、フェノール変性のＸ−２２−１８２１（信越化学工業（株）製）、ポリエーテル及び長鎖アルキル及びアラルキル変性のＸ−２２−２５１６、ＫＦ−６００４（信越化学工業（株）製）、ポリエーテル及びメトキシ変性のＫＦ−８８９（信越化学工業（株）製）、エポキシ及びポリエーテル変性のＫＦ−１００２、Ｘ−２２−４７４１（信越化学工業（株）製）、エポキシ及びアラルキル変性のＸ−２２−３０００Ｔ（信越化学工業（株）製）、長鎖アルキル及びアラルキル変性のＸ−２２−１８７７（信越化学工業（株）製）等が挙げられるが、用途や要求する特性によって少なくとも１種類を任意に選択して使用すればよく、２種以上を混合してもよく、特にこれらに限定されるものではない。
【００２２】
本発明にかかる保護層に含有する前記樹脂組成物Aの含有率は、樹脂の種類や構造・結合様式の違い等にも依存するため一義的に限定することはできず、タッチパネルの点荷重に対する耐久性、すなわち打鍵耐久性の向上を図り、且つ、良好な耐久性と、導電層側の反射率が低く良好な光学特性とを併せ持つことができれば特に限定はされないが、保護層の全質量に対する、前記樹脂組成物Aの総含有率（質量％）が、５質量％以上２０質量％以下であることが好ましい。総含有率が５質量％以上２０質量％以下であると、打鍵耐久性の向上を図りつつ、より良好な耐久性を得ることができる。５質量％未満であると打鍵耐久性の向上効果が少ない場合があり、２０質量％より多いと耐久性が劣る場合がある。総含有率は、より好ましくは１０質量％〜１５質量％である。
【００２３】
本発明においては、前記保護層側の反射率曲線の極小値が３５０〜５５０ｎｍの波長範囲にあり、且つ波長３８０〜７８０ｎｍにおける保護層側の平均反射率が４％以下であることが好ましい。前記保護層側の反射率曲線の極小値が３５０〜５５０ｎｍの波長範囲にあり、且つ波長３８０〜７８０ｎｍにおける保護層側の平均反射率が４％以下であると、透明性が高く、且つ色調がニュートラルである導電積層体となるので好ましい。導電層は、その導電成分自身の物性により光を反射や吸収する。そのため、保護層側の反射率曲線の極小値が３５０〜５５０ｎｍの波長範囲にあり、且つ波長３８０〜７８０ｎｍにおける保護層側の平均反射率が４％以下とする方法としては、導電層上の保護層が光学干渉膜となるような保護層とする方法が挙げられる。波長３８０〜７８０ｎｍにおける保護層側の平均反射率は好ましくは３％以下、より好ましくは２％以下である。平均反射率が４％以下であると、透明性が高く、且つ色調がニュートラルである導電積層体を得やすくなり、ひいてはタッチパネル用途などに用いる場合の後述する全光線透過率８０％以上の性能を生産性良く得ることができるので好ましい。また、図５に示すタッチパネルでの空間２２を介した上下間での反射光の干渉による干渉縞の発生を抑えることができるので好ましい。また、保護層としてこの光学干渉の役割に加え、導電層の耐擦過性の向上、導電成分の脱落防止の役割も兼ねた保護層とするとよりよい。
【００２４】
保護層は平均反射率を下げるために、その屈折率が導電層の屈折率より低く、かつ導電層の屈折率との差が０．３以上とすることが好ましく、さらに好ましくは０．４以上とすることが好ましい。保護層の屈折率が導電層の屈折率よりも高くなると、導電層単独の時よりもかえって平均反射率が高くなるので好ましくない。また、屈折率差が０．３以上であると平均反射率が４％以下とする制御範囲が広くなり、生産でのプロセスマージンが拡大するので好ましい。
【００２５】
本発明にかかる導電層の成分は、Ｉｎ、Ｓｎ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｒｈなどの金属、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛などの金属酸化物、また複合酸化物であるインジウムドープ酸化スズ（以下ＩＴＯと略す。）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）アルミニウムドープ酸化亜鉛等の導電性薄膜を、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法などのドライプロセスによって形成する方法を用いることができる。これらの方法は、特許第２８６８６８６号公報や特許第４２０８４５４号公報に開示されており、それら導電性薄膜を本発明の基材の上に積層することもできるが、本発明においては、導電層は線状構造体を用いてなることが好ましい。線状構造体を用いた場合、前記公知の方法として開示されている高価なドライプロセスを用いた導電性薄膜の積層とは異なり、安価なウェットコートプロセスによる積層が可能になるためである。本発明において線上構造体としては、例えばカーボンナノチューブ（以下ＣＮＴと略す。）、金属や金属酸化物のナノワイヤー、金属酸化物のウィスカーや繊維状のような針状結晶等が挙げられる。
【００２６】
前記線状構造体の一例としてＣＮＴについて説明する。本発明において、導電層の成分に用いられるＣＮＴは、単層ＣＮＴ、二層ＣＮＴ、三層以上の多層ＣＮＴのいずれでもよい。直径が０．３〜１００ｎｍ、長さ０．１〜２０μｍ程度のものが好ましく用いられる。尚、後述する導電積層体の透明性を高め、表面抵抗値を低減するためには、直径１０ｎｍ以下、長さ１〜１０μｍの単層ＣＮＴ、二層ＣＮＴがより好ましい。また、ＣＮＴの集合体にはアモルファスカーボンや触媒金属などの不純物は極力含まれないことが好ましい。これら不純物が含まれる場合は、酸処理や加熱処理などによって適宜精製することができる。このＣＮＴは、アーク放電法、レーザーアブレーション法、触媒化学気相法（化学気相法の中で担体に遷移金属を担持した触媒を用いる方法）などによって合成、製造されるが、なかでも生産性よくアモルファスカーボン等の不純物の生成を少なくできる触媒化学気相法が好ましい。
【００２７】
本発明において、ＣＮＴ分散液を塗布して導電層を形成することができ、前記側鎖中に親水基を有するグラフト構造の樹脂を、ウレタンアクリレート樹脂と共に含有している下地樹脂層とした場合に好適に用いることができる。ＣＮＴ分散液を得るには、ＣＮＴを溶媒とともに、混合分散機や超音波照射装置によって分散処理を行うことが一般的であり、さらに分散剤を添加することが望ましい。
【００２８】
分散剤としては、ＣＮＴが分散できれば特に限定はないが、ＣＮＴ分散液を基材上に塗布、乾燥させたＣＮＴを含有する導電層の基材との密着性、膜の硬度、耐擦過性の点で、合成高分子、天然高分子のポリマーを選択することが好ましい。さらに、分散性を損ない範囲で架橋剤を添加してもよい。
【００２９】
合成高分子は、例えば、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカーボネートジオール、ポリビニルアルコール、部分けん化ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、アセタール基変性ポリビニルアルコール、ブチラール基変性ポリビニルアルコール、シラノール基変性ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、エチレン−ビニルアルコール−酢酸ビニル共重合樹脂、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、変性エポキシ系樹脂、フェノキシ樹脂、変性フェノキシ系樹脂、フェノキシエーテル樹脂、フェノキシエステル樹脂、フッ素系樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリエチレングリコール、ポリビニルピロリドンである。天然高分子は、例えば、多糖類であるデンプン、プルラン、デキストラン、デキストリン、グアーガム、キサンタンガム、アミロース、アミロペクチン、アルギン酸、アラビアガム、カラギーナン、コンドロイチン硫酸、ヒアルロン酸、カードラン、キチン、キトサン、セルロースおよびその誘導体から選択できる。誘導体とはエステルやエーテルなどの従来公知の化合物を意味する。これらは、１種または２種以上を混合して用いることができる。中でも、ＣＮＴの分散性に優れることから、多糖類ならびにその誘導体が好ましい。さらにセルロースならびにその誘導体が、膜形成能が高く好ましい。中でもエステルやエーテル誘導体が好ましく、具体的には、カルボキシメチルセルロースやその塩などが好適である。
【００３０】
また、ＣＮＴと前記分散剤との配合比を調整することも可能である。ＣＮＴと分散剤の配合比は、基材との密着性、硬度、耐擦過性に問題のない配合比が好ましい。具体的には、ＣＮＴが導電層全体に対し１０質量％〜９０質量％の範囲にあることが好ましい。より好ましくは、３０質量％〜７０質量％の範囲である。ＣＮＴが１０質量％以上であると、タッチパネルに必要な導電性が得られ易く、またさらに、基材表面に塗布する際にはじくことなく均一に塗布しやすくなり、ひいては良好な外観・品位を有する導電積層体を生産性良く供給することができる。９０質量％以下であると、ＣＮＴの溶媒中での分散性が良化、凝集し難くなり、良好なＣＮＴ塗布層が得られ易くなり、生産性が良いので好ましい。さらに塗布膜も強固で、生産工程中に擦擦傷が発生し難くなり、表面抵抗値の均一性を維持できるので好ましい。
【００３１】
また、前記線状構造体として挙げられる金属や金属酸化物のナノワイヤーは、特表２００９−５０５３５８号公報、特開２００９−１４６７４７号公報、特開２００９−７０６６０号公報に開示されており、また、金属酸化物のウィスカーや繊維状のような針状結晶としては、例えば、チタン酸カリウム繊維とスズ及びアンチモン系酸化物の複合酸化物であるデントールＷＫシリーズ（大塚化学（株）製）のＷＫ２００Ｂ、ＷＫ３００Ｒ、ＷＫ５００が市販されており、前記ＣＮＴを含むこれら線状構造体を単独、又は複数を組み合わせて混合させ使用することができ、さらに、必要に応じて他のマイクロ〜ナノサイズの導電性材料を添加しても良く、特にこれらに限定されるものではない。
【００３２】
本発明においては、前記線状構造体を含有する導電層を形成するために基材と導電層の間に、側鎖中に親水基を有するグラフト構造の樹脂を含有する下地層を更に設けてもよい。本発明においては、導電層の導電成分及び導電層の積層方法については一義的に限定してはいないが、特に前述の線状構造体やその他導電成分の種類よってはその導電成分の溶媒分散液、特に水分散液として塗工することで積層する場合があり、その際下地層を設け、その下地層中に側鎖中に親水基を有するグラフト構造の樹脂を更に含有していると、その下地層表面が改質され、前記導電成分の分散溶液をはじくことなく均一に塗布しやすくなり、ひいては良好な外観・品位を有する導電積層体を生産性良く供給することができる。
【００３３】
ここでいうグラフト樹脂とは、ブロック重合樹脂などとも呼ばれ、図４にその構造を例示する。図４は、主鎖である幹ポリマーの分岐した側鎖が枝状に結合している状態を示しており、幹ポリマーや側鎖の種類、重合度、分子量、分子鎖末端・分子鎖中・分岐鎖中の官能基、架橋度によって様々な状態、性能を付与するものである。本発明においては、前記分岐した枝状の側鎖中に親水基を有しているグラフト樹脂である。
【００３４】
親水基としては例えば、ヒドロキシル基（−ＯＨ）、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ酸基（−ＳＯ３Ｈ）、リン酸基（Ｈ２ＰＯ４−）、アミノ基（−ＮＨ２）等、が挙げられ、また、それら親水基のＨ＋の一部がＮａ＋、Ｋ＋等のカウンターカチオンを有した状態（例えば、−ＯＮａ、−ＣＯＯＮａ、−ＳＯ３Ｎａなど）であってもよく、これらの親水基は分岐した枝状の側鎖中に単独あるいは２種類以上で有していてもよく、また、親水基の異なる２種のグラフト樹脂の共重合体及び／又は混合物としたものを用いてもよく、特にこれらに限定されるものではない。
【００３５】
グラフト樹脂の幹ポリマーとしては例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ナイロン樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂等の樹脂が挙げられ、これらの樹脂は単独で用いても、あるいは２種類以上の共重合体及び／又は混合物としたものを用いてもよく、また、用途によっては一部架橋構造を有していてもよい。
【００３６】
また、下地層中のグラフト樹脂はいかなる様態で含有していても良く、単純に混合状態で含有していても良く、取り扱い性、生産性、下地樹脂層からのブリードアウト回避、等の理由から、下地層中のその他成分と結合を有して存在していてもよく、そのため例えば熱、紫外線、触媒等により下地層中の各樹脂や成分と結合を形成する反応性の官能基や、下地層中のその他成分及び下地層の積層加工程時に使用する有機溶剤や水との相溶性がある官能基を、幹ポリマーの分子鎖末端、分子鎖中など構造内に有するグラフト樹脂が好適に使用することができるが、特にこれらに限定されるものではない。これら幹ポリマーの分子鎖末端、分子鎖中に結合する官能基としては例えば、直鎖アルキル基、分岐状アルキル基、シクロアルキル基、ビニル・アリル・ヘキセニルなどのアルケニル基、フェニル・トリル・キシリル・スチリル・ナフチル・ビフェニルなどのアリール基、ベンジル・フェネチルなどのアラルキル基、ラクトン・オキサゾール・イミダゾールなどの複素環を含むその他芳香族基及びその開環基、メトキシ・エトキシ・イソプロポキシなどのアルコキシ基、アセトキシ基、アクリル基、メタクリル基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、アリルオキシカルボニル・ベンジルオキシカルボニルなどのオキシカルボニル基、エポキシ基、イソシアネート基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基、アミノ基、メルカプト・スルフィドなどの含硫黄元素官能基、ウレイド・ケチミノなどの含窒素元素官能基、フロロアルキル基などの含ハロゲン元素官能基などが挙げられ、これら官能基のうち主鎖である幹ポリマーにもヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ酸基、リン酸基、アミノ基等の親水基を有している方が好ましく用いることができるが、用途や要求する特性によって少なくとも１種類を任意に選択して使用すればよく、２種以上を混合してもよく、特にこれらに限定されるものではない。下地層に前記グラフト樹脂以外の成分を含有する場合において前記グラフト樹脂の含有率は、導電層の成分の種類や分散溶液の溶媒、さらに加工性等にも依存するため一義的に限定することはできず、下地層表面が充分改質され、導電成分の分散溶液をはじくことなく均一に塗布したり、良好な外観・品位を有する導電積層体を生産性良く供給することができれば特に限定はされないが、下地層全体に対して５質量％より少ない場合、下地樹脂層表面の改質効果が小さすぎて含有しない場合と比較して差が得られない場合がある。
【００３７】
これら、側鎖中に親水基を有するグラフト構造としては、具体的には、例えば、ケミトリー（登録商標）シリーズ（綜研化学（株）製）のＬ−２０、Ｌ−４０Ｍ、ＬＨ−４４８等を使用することができるが、特にこれらに限定されるものではない。
【００３８】
本発明の導電積層体は、導電層の成分が如何なるものであっても、また、前記線上構造体であっても、その導電層側の表面抵抗値が、１×１００Ω／□以上、１×１０４Ω／□以下であることが好ましく、より好ましくは１×１０１Ω／□以上、１．５×１０３以下である。この範囲にあることで、タッチパネル用の導電積層体として好ましく用いることができる。すなわち、１×１００Ω／□以上であれば消費電力を少なくすることができ、１×１０４Ω／□以下であれば、タッチパネルの座標読みとりにおける誤差の影響を小さくすることができる。
【００３９】
本発明にかかる導電積層体は、前記導電層側から入射した際のＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（１９９７年）に基づいた全光線透過率が８０％以上である透明導電積層体であることが好ましい。本発明の導電積層体を透明導電積層体としてタッチパネルに組み込むと、そのタッチパネルは点荷重に対する耐久性、すなわち打鍵耐久性と耐久性が良好なだけでなく、優れた透明性を示し、この透明導電積層体を用いたタッチパネルの下層に設けたディスプレイの表示を鮮やかに認識することができる。本発明における透明性とは、前記導電層側から入射した際のＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（１９９７年）に基づいた全光線透過率が８０％以上であることを意味し、好ましくは８５％以上、より好ましくは９０％以上である。全光線透過率を上げるための方法としては、例えば、前述した透明保護膜側の波長３８０〜７８０ｎｍでの平均反射率を４％以下にする方法以外に、使用する基材の全光線透過率を上げる方法、前記導電層の膜厚をより薄くする方法等が挙げられる。基材の全光線透過率を上げる方法としては、基材の厚みを薄くする方法、あるいは全光線透過率の大きな材質の基材を選定する方法が挙げられる。
【００４０】
本発明の透明導電積層体における基材は、可視光線の全光線透過率が高い基材が好適に使用でき、具体的にはＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（１９９７年）に基づいた全光線透過率が８０％以上のもの、より好ましくは９０％以上の透明性を有しているものである。具体的には例えば透明な樹脂、ガラスなどを挙げることができ、厚み２５０μｍ以下で巻き取り可能なフィルムであっても、厚み２５０μｍを超える基板であってもよい。コスト、生産性、取り扱い性等の観点からは２５０μｍ以下の樹脂フィルムが好ましく、特に好ましくは１９０μｍ以下、さらに好ましくは１５０ｎｍ以下である。樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステル、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、アラミド、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ乳酸、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、脂環式アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂、トリアセチルセルロース、及びこれら樹脂の混合及び／又は共重合したものが挙げられ、例えばその樹脂を未延伸、一軸延伸、二軸延伸してフィルムとすることができる。ガラスとしては、通常のソーダガラスを用いることができる。また、これらの複数の基材を組み合わせて用いることもできる。例えば、樹脂とガラスを組み合わせた基材、２種以上の樹脂を積層した基材などの複合基材であってもよい。さらに、基材は、必要に応じ、表面処理を施してあっても良い。表面処理は、グロー放電、コロナ放電、プラズマ処理、火炎処理等の物理的処理、あるいは樹脂層を設けてあっても良い。フィルムの場合、易接着層のあるものでも良い。基材の種類は上述に限定されることはなく、用途に応じて透明性や耐久性や可撓性やコスト等から最適なものを選ぶことができる。
【００４１】
本発明にかかる保護層の膜厚は、タッチパネルの点荷重に対する耐久性、すなわち打鍵耐久性の向上を図り、且つ、良好な耐久性と、波長３８０〜７８０ｎｍにおける透明保護膜側の平均反射率が４％以下となる膜厚であれば、特に限定されないが、好ましくは１０ｎｍ〜１５０ｎｍ、より好ましくは４０ｎｍ〜１２０ｎｍ、さらに好ましくは６０〜１００ｎｍである。保護膜の膜厚が１０ｎｍ以上であると、膜強度が増加し、耐久性、耐擦傷性などの導電層を保護する機能が向上する。一方、１５０ｎｍ以下であると、光の干渉による干渉縞が視認されず、かつ透過色調がニュートラル色となり、さらに導電層の表面抵抗値の上昇を抑えることができるので好ましい。
【００４２】
保護層を導電層上に形成する方法としては、形成する物質により最適な方法を選択すれば良く、真空蒸着、ＥＢ蒸着、スパッタなどのドライ法、キャスト、スピンコート、ディップコート、バーコート、スプレー、ブレードコート、スリットダイコート、グラビアコート、リバースコート、スクリーン印刷、鋳型塗布、印刷転写、インクジェットなどのウエットコート法等、一般的な方法を挙げることができる。なかでも、保護層を均一にかつ生産性良く形成できるマイクログラビアを使用したウエットコート法が好ましい。
【００４３】
本発明にかかる基材及び／或いは各層には、本発明の効果を阻害しない範囲内で各種の添加剤を添加することができる。添加剤としては、例えば、有機および／又は無機の微粒子、架橋剤、難燃剤、難燃助剤、耐熱安定剤、耐酸化安定剤、レベリング剤、滑り賦活剤、導電剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、核剤、染料、充填剤、分散剤およびカップリング剤などを用いることができる。
【００４４】
次に、本発明のタッチパネルについて説明する。図５は抵抗膜式タッチパネルの一例を示す模式断面図である。抵抗膜式タッチパネルは、下部電極１６上に、上部電極１５が枠状の両面接着テープ２１によって固定された構成である。上部及び下部電極を構成する各基材１７、１８上には、下地層２、導電層３、保護層４がこの順に積層されており、上部及び下部電極の導電層３同士が空間２２を挟むように対向して面状に形成されている。また、基材１７または１８と導電層３の間には下地層２が設けてあってもよい。空間２２には、一定間隔でドットスペーサー２０を設けてあり、これによって、上側と下側の導電層の間隙を保持している。基材１７の上面はペン２４や指の先が接触する面であり、傷つきを防止するためにハードコート層１９が設けられる。このタッチパネルは、電源２３にて電圧をかけ、ペン２４や指の先でハードコート層１９の表面を押して荷重をかけることで、接触した部分から電気が流れ動作する。以上の構成からなるタッチパネルは、例えば、リード線と駆動ユニットを取り付け、液晶ディスプレイの前面に組み込んで用いられる。
【００４５】
図５に示す抵抗膜式タッチパネルでは、空間２２を介して構成されているため、ペンや指によって入力した際の荷重で導電積層体が変形し導電積層体同士が接触するため、本発明の導電積層体を用いる効果が最も高いタッチパネル構成である。
【実施例】
【００４６】
以下、本発明を実施例に基づき、具体的に説明する。ただし、本発明は下記実施例に限定されるものではない。まず、各実施例および比較例における評価方法を説明する。
【００４７】
（１）各層の化合物の構造、結合様態の同定
先ず、サンプルを溶剤に浸漬して各層を剥離採取し、浸漬した後の溶剤を濾過する。濾物がある場合は、濾物に対する溶解度の高い溶剤を選択し再度溶解する。次いでシリカゲルカラムクロマトグラフィー、ゲル浸透クロマトグラフィー、液体高速クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー等に代表される一般的なクロマトグラフィーのうち分離可能な方法を選択し、濾液及び再溶解した濾物溶液をそれぞれ単一物質に分離精製する。他成分と結合して分離が困難な場合はそのまま用いる。
【００４８】
その後各物質について適宜濃縮及び希釈を行い、核磁気共鳴分光法（１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ、２９Ｓｉ−ＮＭＲ）、二次元核磁気共鳴分光法（２Ｄ−ＮＭＲ）、赤外分光光度法（ＩＲ）、ラマン分光法、質量分析法（Ｍａｓｓ）、Ｘ線回折法（ＸＲＤ）、中性子回折法（ＮＤ）、低速電子線回折法（ＬＥＥＤ）、高速反射電子線回折法（ＲＨＥＥＤ）、原子吸光分析法（ＡＡＳ）、紫外光電子分光法（ＵＰＳ）、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）、蛍光Ｘ線元素分析法（ＸＲＦ）、誘導結合プラズマ発光分光法（ＩＣＰ−ＡＥＳ）、電子線マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）、その他元素分析、から方法を適宜選択・組み合わせて構造及び結合様態の同定を行った。
【００４９】
（２）保護層中の（i）〜（iii）の樹脂に該当する樹脂の含有率
（１）と同様の方法にて、単離、同定を行った。同定後の各単一物質について、前記（i）〜（iii）の樹脂に該当する物質のみを選択しそれぞれ、適宜濃縮及び希釈後、波長分散型蛍光Ｘ線分析装置を用いて、各樹脂に該当する物質についてのケイ素元素の固有Ｘ線のピーク強度を測定した。その後、検出された各樹脂と同構造の濃度既知すなわち含有率既知である標準物質を用いてピーク強度と含有率との検量線を作成後、求めたサンプルのピーク強度の値におけるケイ素元素の含有率を検量線より求め、さらにそのケイ素元素の含有率から各樹脂の濃度すなわち含有率を求めた。同様の方法にて５箇所の測定を行い、５箇所の平均値を「樹脂の含有率」とした。
【００５０】
（３）表面抵抗値Ｒ０
導電層側の表面抵抗は、低抵抗率計Ｌｏｒｅｓｔａ−ＥＰ  ＭＣＰ−Ｔ３６０（三菱化学（株）製）を用い４探針法で１００ｍｍ×５０ｍｍのサンプルの中央部分を測定した。５サンプルについて平均値を算出し、これを表面抵抗値Ｒ０とした。
【００５１】
（４）耐久性（耐熱性）
前記（３）項のサンプルを安全扉つき恒温器セーフティーオーブン（エスペック（株）製、ＳＰＨＨ−２０１）にて１５０℃、１時間加熱後、前記（３）項と同様の方法にて再度同位置の表面抵抗値Ｒを測定しＲ／Ｒ０（Ｒ０は前記（３）項の値）を算出した。同様に５サンプルについて実施し、各Ｒ／Ｒ０の平均値を表面抵抗値の上昇率として耐熱性の指標とした。本発明における判定基準は、下記により判定しＡ、Ｂ級であれば合格とし、Ａ級が最も好ましい。
Ａ級：Ｒ／Ｒ０≦１．５０
Ｂ級：１．５０＜Ｒ／Ｒ０≦１．８０
Ｃ級：Ｒ／Ｒ０＞１．８０
（５）耐久性（耐湿熱性）
前記（３）項のサンプルを恒温器パーフェクトオーブン（エスペック（株）製、ＰＨ−４００）にて６０℃、９０％ＲＨの条件にて２４０時間経過後、前記（３）項と同様の方法にて再度同位置の表面抵抗値Ｒを測定しＲ／Ｒ０（Ｒ０は前記（３）項の値）を算出した。同様に５サンプルについて実施し、各Ｒ／Ｒ０の平均値を表面抵抗値の上昇率として耐熱性の指標とした。本発明における判定基準は、下記により判定しＡ、Ｂ級であれば合格とし、Ａ級が最も好ましい。
Ａ級：Ｒ／Ｒ０≦１．５０
Ｂ級：１．５０＜Ｒ／Ｒ０≦１．８０
Ｃ級：Ｒ／Ｒ０＞１．８０
（６）導電成分の構造
サンプルの導電層側の表面を、電界放射型走査電子顕微鏡（日本電子（株）製  ＪＳＭ−６７００−Ｆ）を用いて加速電圧３．０ｋＶにて、もしくは原子間力顕微鏡（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製  ＮａｎｏＳｃｏｐｅIII）にて観察した。表面観察では観察できない場合は、（１）と同様のいずれかの方法にて導電層の成分を離精製後、導電成分に該当する物質を充分量を採取・集めてから、同様に観察した。
【００５２】
（７）全光線透過率
濁度計（曇り度計）ＮＤＨ２０００（日本電色工業（株）製）を用いてＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（１９９７年）に基づいて、導電積層体厚み方向の全光線透過率を、導電層側から光を入射させて測定した。５サンプルについて測定した値から平均値を算出し、これを全光線透過率とした。
【００５３】
（８）タッチパネルの打鍵耐久性
まず図５のタッチパネルにおいて、上部電極１５と下部電極１６として本発明の実施例及び比較例の導電積層体をそれぞれ用いて、縦４０ｍｍ×横４０ｍｍのタッチパネルを作製した。次いで、打鍵試験機（（株）タッチパネル研究所、駆動電源部及びオッシロスコープ付き）の打鍵部（ソレノイド方式）にペン先の形状が半径３ｍｍであるシリコーンゴムペン３Ｒ（（株）タッチパネル研究所製）をセットし、ペン先がタッチパネルの中心位置（縦位置２０ｍｍ、横位置２０ｍｍ）となるように作製したタッチパネルに設置した。次いで、タッチパネルに印可電圧３Ｖ、付加抵抗１００ｋΩにて荷重２００ｇをかけ、図５における上部電極１５と下部電極１６の導電層が接した際の接触抵抗の値を読みとりＲｓとした。次いで、前記シリコーンゴムペンで荷重２５０ｇ、１０Ｈｚにて１００万回打鍵後、再度同様に、印可電圧３Ｖ、付加抵抗１００ｋΩにて荷重２００ｇをかけた際の接触抵抗の値を読みとりＲｅとし、Ｒｅ／Ｒｓを算出した。同様に３サンプルについて実施し、各Ｒｅ／Ｒｓの平均値を接触抵抗値の上昇率として打鍵耐久性の指標とした。本発明における判定基準は、下記により判定しＡ、Ｂ級であれば合格とし、Ａ級が最も好ましい。
Ａ級：Ｒｅ／Ｒｓ≦１．１５
Ｂ級：１．１５＜Ｒｅ／Ｒｓ≦１．３０
Ｃ級：Ｒｅ／Ｒｓ＞１．３０
（９）屈折率
シリコンウエハーまたは石英ガラス上にコーターにて形成された塗膜について、高速分光メーターＭ−２０００（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製）を用い、塗膜の反射光の偏光状態の変化を入射角度６０度、６５度、７０度で測定、解析ソフトＷＶＡＳＥ３２にて、波長５５０ｎｍの屈折率を計算で求めた。
【００５４】
（１０）保護層の膜厚
作製した導電積層体の保護膜の膜厚は、電界放射型走査電子顕微鏡（日本電子（株）製  ＪＳＭ−６７００−Ｆ）を用いて加速電圧３．０ｋＶにて観察倍率１００００〜２０００００倍から任意の３倍率を選択し、画像のコントラストを適宜調節して各倍率にて観察した。試料断面調整は日本ミクトローム研究所（株）製ロータリー式ミクロトームを用いて行った。得られた断面写真から任意の５箇所を同様に任意の３倍率で測定（拡大倍率から計算）、計１５箇所の値を平均して求めた。
【００５５】
（１１）平均反射率
保護層を設けた側の面の反対側表面を６０℃光沢度（ＪＩＳ Ｚ ８７４１（１９９７年））が１０以下になるように３２０〜４００番の耐水サンドペーパーで均一に粗面化した後、可視光線透過率が５％以下となるように黒色塗料を塗布して着色した。測定面を島津製作所製の分光光度計（ＵＶ−３１５０）にて、測定面から５度の入射角で、波長領域３００ｎｍ〜８００ｎｍにおける絶対反射スペクトルを１ｎｍ間隔で測定し、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍでの平均反射率を求めた。
【００５６】
各実施例及び比較例の保護層に使用した材料を以下に示す。各保護層は導電層の上に実施例及び比較例の各方法で積層した。
【００５７】
（１）保護層材料Ａ（無機ケイ素酸化物）
本発明にかかる保護層中の無機ケイ素酸化物は以下のようにして得た。
【００５８】
１００ｍＬポリ容器中に、エタノール２０ｇを入れ、ｎ−ブチルシリケート４０ｇを添加し３０分間撹拌した。その後、０．１Ｎ塩酸水溶液を１０ｇ添加した後２時間撹拌を行い（加水分解反応）、４℃で保管した。翌日、この溶液をイソプロピルアルコール／トルエン／ｎ−ブタノール混合液（混合質量比２／１／１）で固形分濃度が、２．０質量％となるように希釈した。この液をシリコンウエハーに塗布、乾燥した無機ケイ素酸化物膜の屈折率は、１．４４であった。
【００５９】
（２）保護層材料Ｂ
非反応性シリコーングラフト樹脂（信越化学工業（株）製  Ｘ−２４−７９８Ａ  濃度５０％溶液、（i）に該当する樹脂、官能基：メチル基、ｎ−ブチル基  保護層中の成分と結合不可）
（３）保護層材料Ｃ
反応性シリコーングラフト樹脂（信越化学工業（株）製  Ｘ−２２−８１１４  濃度４０％溶液、（i）に該当する樹脂、官能基：ヒドロキシル基、メチル基、ｎ−ブチル基  保護層中の成分と結合可）
（４）保護層材料Ｄ
反応性シリコーングラフト樹脂（信越化学工業（株）製  Ｘ−２２−８１９５  濃度３０％溶液、（i）に該当する樹脂、官能基：カルボキシル基、メチル基、ｎ−ブチル基  保護層中の成分と結合可）
（５）保護層材料Ｅ
非反応性ストレートシリコーンレジン樹脂（信越化学工業（株）製  ＫＲ２４２Ａ  濃度５０％溶液、（ii）に該当する樹脂、官能基：メチル基  保護層中の成分と結合不可）
（６）保護層材料Ｆ
反応性シリコーンオイル樹脂（信越化学工業（株）製  Ｘ−２４−８３００  濃度２５％溶液、（iii）に該当する樹脂、官能基：ヒドロキシル基、メチル基  保護層中の成分と結合可）  
（７）保護層材料Ｇ
非反応性ストレートシリコーンオイル樹脂（信越化学工業（株）製  ＫＦ−６９  濃度１００％溶液、（i）〜（iii）のいずれにも該当しないシリコーン樹脂、官能基：メチル基  保護層中の成分と結合不可）
（８）添加剤Ａ
硬化用反応触媒（信越化学工業（株）製  ＣＡＴ−ＡＣ）。
【００６０】
各実施例及び比較例における、導電層及び下地層を以下に示す。各導電層は実施例及び比較例における基材上もしくは基材上に設けた下地層の上に以下の各方法で積層した。
【００６１】
（１）導電層Ａ「ＩＴＯ導電層」
組成Ｉｎ２Ｏ２／ＳｎＯ２＝９０／１０のインジウム・スズ酸化物ターゲットを用いて、真空度１０−４Ｔｏｒｒにてアルゴン／酸素混合ガス導入のもとスパッタリング法にて、厚み２５０ｎｍのＩＴＯ導電性薄膜を設けた。
【００６２】
（２）導電層Ｂ「ＣＮＴ導電層」
（触媒調整）
クエン酸アンモニウム鉄（緑色）（和光純薬工業（株）製）２．４５９ｇをメタノール（関東化学（株）製）５００ｍＬに溶解した。この溶液に、軽質マグネシア（岩谷化学工業（株）製）を１００ｇ加え、室温で６０分間攪拌し、４０℃から６０℃で攪拌しながら減圧乾燥してメタノールを除去し、軽質マグネシア粉末に金属塩が担持された触媒を得た。
【００６３】
（ＣＮＴ組成物製造）
図５の概略図で示す流動床縦型反応装置でＣＮＴを合成した。反応器１００は内径３２ｍｍ、長さは１２００ｍｍの円筒形石英管である。中央部に石英焼結板１０１を具備し、石英管下方部には、不活性ガスおよび原料ガス供給ライン１０４、上部には排ガスライン１０５および、触媒投入ライン１０３を具備する。さらに、反応器を任意温度に保持できるように、反応器の円周を取り囲む加熱器１０６を具備する。加熱器１０６には装置内の流動状態が確認できるよう点検口１０７が設けられている。
【００６４】
前記触媒１２ｇを取り、密閉型触媒供給器１０２から触媒投入ライン１０３を通して、石英焼結板１０１上に前記「触媒調整」部分で示した触媒１０８をセットした。次いで、原料ガス供給ライン１０４からアルゴンガスを１０００ｍＬ／分で供給開始した。反応器内をアルゴンガス雰囲気下とした後、温度を８５０℃に加熱した。
【００６５】
８５０℃に到達した後、温度を保持し、原料ガス供給ライン１０４のアルゴン流量を２０００ｍＬ／分に上げ、石英焼結板上の固体触媒の流動化を開始させた。加熱炉点検口１０７から流動化を確認した後、さらにメタンを９５ｍＬ／分で反応器に供給開始した。該混合ガスを９０分供給した後、アルゴンガスのみの流通に切り替え、合成を終了させた。
【００６６】
加熱を停止させ室温まで放置し、室温になってから反応器から触媒とＣＮＴを含有するＣＮＴ組成物を取り出した。
【００６７】
上記で示した触媒付きＣＮＴ組成物２３．４ｇを磁性皿に取り、予め４４６℃まで加熱しておいたマッフル炉（ヤマト科学（株）製、ＦＰ４１）にて大気下、４４６℃で２時間加熱した後、マッフル炉から取り出した。次に、触媒を除去するため、ＣＮＴ組成物を６Ｎの塩酸水溶液に添加し、室温で１時間攪拌した。濾過して得られた回収物を、さらに６Ｎの塩酸水溶液に添加し、室温で１時間攪拌した。これを濾過し、数回水洗した後、濾過物を１２０℃のオーブンで一晩乾燥することでマグネシアおよび金属が除去されたＣＮＴ組成物を５７．１ｍｇ得ることができ、上記操作を繰り返すことによりマグネシアおよび金属が除去されたＣＮＴ組成物を５００ｍｇ用意した。
【００６８】
次に、マッフル炉で加熱して触媒を取り除いたＣＮＴ組成物８０ｍｇを濃硝酸（和光純薬工業（株）製  １級  Ａｓｓａｙ６０〜６１％）２７ｍＬに添加し、１３０℃のオイルバスで５時間攪拌しながら加熱した。加熱攪拌終了後、ＣＮＴを含む硝酸溶液をろ過し、蒸留水で水洗後、水を含んだウエット状態のままＣＮＴ組成物を１２６６．４ｍｇ得た。
【００６９】
（ＣＮＴ分散塗液）
５０ｍＬの容器に上記ＣＮＴ組成物を１０ｍｇ（乾燥時換算）、分散剤としてカルボキシメチルセルロースナトリウム(シグマ社製９０ｋＤａ，５０−２００ｃｐｓ）１０ｍｇを量りとり、蒸留水を加え１０ｇにし、超音波ホモジナイザー出力２０Ｗ、２０分間で氷冷下分散処理しＣＮＴ塗液を調製した。得られた液を高速遠心分離機にて１００００Ｇ、１５分遠心し、上清９ｍＬを得た。この操作を複数回繰り返し得た上清１４５ｍＬにエタノール５ｍＬ加え、コーターで塗布可能なＣＮＴ濃度約０．１質量％のＣＮＴ分散塗液（ＣＮＴと分散剤の配合比１対１）を得た。このＣＮＴ分散塗液を石英ガラスに塗布、乾燥したＣＮＴ導電層の屈折率は１．８２であった。
【００７０】
（ＣＮＴ導電層の形成）
前記ＣＮＴ分散塗液をマイクログラビアコーター（グラビア線番１５０Ｒ、グラビア回転比８０％）で塗布、１００℃で１分間乾燥しＣＮＴ塗膜を設けた。
【００７１】
（３）導電層Ｃ「銀ナノワイヤー導電層」
特表２００９−５０５３５８号公報の例１（銀ナノワイヤーの合成）に開示されている方法にて銀ナノワイヤーを得た。次いで、同特表２００９−５０５３５８号公報の例８（ナノワイヤー分散）に開示されている方法にて銀ナノワイヤー分散塗液を得た。この銀ナノワイヤー分散塗液を松尾産業（株）製  バーコーターを使用して塗布、１２０℃で２分間乾燥し銀ナノワイヤー塗膜を設けた。
【００７２】
（４）下地層
ケミトリー（登録商標）Ｌ−２０（綜研化学（株）製、側鎖中に親水基としてヒドロキシル基（−ＯＨ）を有するグラフトアクリル、固形分濃度２６質量％溶液）を１０ｇ、酢酸エチルを３ｇ用意し、混合した後に撹拌し下地層塗布液を作った。この下地層塗布液を、松尾産業（株）製  バーコーター番手１６を使用して塗布し、１００℃、３分間で加熱乾燥して、乾燥後の塗布厚みが４．８μｍの下地層とした。
【００７３】
（実施例１）
厚み１８８μｍのポリエチレンレテフタレートフィルム、ルミラー（登録商標）Ｕ４６（東レ（株）製）を基材として、片面に日本化薬（株）製のＫＡＹＡＮＯＶＡ（登録商標）ＦＯＰ１７４０（日本化薬（株）、固形分濃度８２質量％）をトルエンとメチルエチルケトン（ＭＥＫ）質量％比１対１で、固形分濃度４０質量％まで希釈したハードコート剤をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で塗布、８０℃で１分間乾燥後、紫外線を１．０Ｊ／ｃｍ２照射、硬化させ、厚み５μｍのハードコート層を設けた。
【００７４】
次いで、前記基材のハードコート層を設けた反対面に、「導電層Ａ」を積層した。
【００７５】
次いで、「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「保護層材料Ｂ」０．８３３３ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」５４０．８３３３ｇを混合、撹拌し、保護層塗布液を作った。この保護層塗布液を、前記「導電層Ａ」の上にマイクログラビアコート（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で塗布、１２５℃で１分間乾燥し厚み６０ｎｍの保護層を設け、本発明の導電積層体を得た。
【００７６】
（実施例２）
厚み１８８μｍのポリエチレンレテフタレートフィルム、ルミラー（登録商標）Ｕ４６（東レ（株）製）を基材として、片面に日本化薬（株）製のＫＡＹＡＮＯＶＡ（登録商標）ＦＯＰ１７４０（日本化薬（株）、固形分濃度８２質量％）をトルエンとメチルエチルケトン（ＭＥＫ）質量％比１対１で、固形分濃度４０質量％まで希釈したハードコート剤をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で塗布、８０℃で１分間乾燥後、紫外線を１．０Ｊ／ｃｍ２照射、硬化させ、厚み５μｍのハードコート層を設けた。
【００７７】
次いで、前記基材のハードコート層を設けた反対面に、「導電層Ａ」を積層した。
【００７８】
次いで、「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「保護層材料Ｅ」０．８３３３ｇ、「添加剤Ａ」０．００４２ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」５４１．２４５８ｇを混合、撹拌し、保護層塗布液を作った。この保護層塗布液を、前記「導電層Ａ」の上にマイクログラビアコート（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で塗布、１２５℃で１時間加熱し厚み６０ｎｍの保護層を設け、本発明の導電積層体を得た。
【００７９】
（実施例３）
厚み１８８μｍのポリエチレンレテフタレートフィルム、ルミラー（登録商標）Ｕ４６（東レ（株）製）を基材として、片面に日本化薬（株）製のＫＡＹＡＮＯＶＡ（登録商標）ＦＯＰ１７４０（日本化薬（株）、固形分濃度８２質量％）をトルエンとメチルエチルケトン（ＭＥＫ）質量％比１対１で、固形分濃度４０質量％まで希釈したハードコート剤をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で塗布、８０℃で１分間乾燥後、紫外線を１．０Ｊ／ｃｍ２照射、硬化させ、厚み５μｍのハードコート層を設けた。
【００８０】
次いで、前記基材のハードコート層を設けた反対面に、「導電層Ａ」を積層した。
【００８１】
次いで、「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「保護層材料Ｆ」１．６６６７ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」５４０．００００ｇを混合、撹拌し、保護層塗布液を作った。この保護層塗布液を、前記「導電層Ａ」の上にマイクログラビアコート（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で塗布、１２５℃で１分間乾燥し厚み６０ｎｍの保護層を設け、本発明の導電積層体を得た。
【００８２】
（実施例４）
厚み１８８μｍのポリエチレンレテフタレートフィルム、ルミラー（登録商標）Ｕ４６（東レ（株）製）を基材として、片面に日本化薬（株）製のＫＡＹＡＮＯＶＡ（登録商標）ＦＯＰ１７４０（日本化薬（株）、固形分濃度８２質量％）をトルエンとメチルエチルケトン（ＭＥＫ）質量％比１対１で、固形分濃度４０質量％まで希釈したハードコート剤をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で塗布、８０℃で１分間乾燥後、紫外線を１．０Ｊ／ｃｍ２照射、硬化させ、厚み５μｍのハードコート層を設けた。
【００８３】
次いで、前記基材のハードコート層を設けた反対面に、「下地層」を積層後「導電層Ｂ」を積層した。
【００８４】
次いで、「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「保護層材料Ｂ」０．８３３３ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」５４０．８３３３ｇを混合、撹拌し、保護層塗布液を作った。この保護層塗布液を、前記「導電層Ａ」の上にマイクログラビアコート（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で塗布、１２５℃で１分間乾燥し厚み６０ｎｍの保護層を設け、本発明の導電積層体を得た。
【００８５】
（実施例５）
厚み１８８μｍのポリエチレンレテフタレートフィルム、ルミラー（登録商標）Ｕ４６（東レ（株）製）を基材として、片面に日本化薬（株）製のＫＡＹＡＮＯＶＡ（登録商標）ＦＯＰ１７４０（日本化薬（株）、固形分濃度８２質量％）をトルエンとメチルエチルケトン（ＭＥＫ）質量％比１対１で、固形分濃度４０質量％まで希釈したハードコート剤をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で塗布、８０℃で１分間乾燥後、紫外線を１．０Ｊ／ｃｍ２照射、硬化させ、厚み５μｍのハードコート層を設けた。
【００８６】
次いで、前記基材のハードコート層を設けた反対面に、「下地層」を積層後「導電層Ｂ」を積層した。
【００８７】
次いで、「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「保護層材料Ｅ」０．８３３３ｇ、「添加剤Ａ」０．００４２ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」５４１．２４５８ｇを混合、撹拌し、保護層塗布液を作った。この保護層塗布液を、前記「導電層Ａ」の上にマイクログラビアコート（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で塗布、１２５℃で１時間加熱し厚み６０ｎｍの保護層を設け、本発明の導電積層体を得た。
【００８８】
（実施例６）
厚み１８８μｍのポリエチレンレテフタレートフィルム、ルミラー（登録商標）Ｕ４６（東レ（株）製）を基材として、片面に日本化薬（株）製のＫＡＹＡＮＯＶＡ（登録商標）ＦＯＰ１７４０（日本化薬（株）、固形分濃度８２質量％）をトルエンとメチルエチルケトン（ＭＥＫ）質量％比１対１で、固形分濃度４０質量％まで希釈したハードコート剤をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で塗布、８０℃で１分間乾燥後、紫外線を１．０Ｊ／ｃｍ２照射、硬化させ、厚み５μｍのハードコート層を設けた。
【００８９】
次いで、前記基材のハードコート層を設けた反対面に、「下地層」を積層後「導電層Ｂ」を積層した。
【００９０】
次いで、「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「保護層材料Ｆ」１．６６６７ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」５４０．００００ｇを混合、撹拌し、保護層塗布液を作った。この保護層塗布液を、前記「導電層Ａ」の上にマイクログラビアコート（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で塗布、１２５℃で１分間乾燥し厚み６０ｎｍの保護層を設け、本発明の導電積層体を得た。
【００９１】
（実施例７）
厚み１８８μｍのポリエチレンレテフタレートフィルム、ルミラー（登録商標）Ｕ４６（東レ（株）製）を基材として、片面に日本化薬（株）製のＫＡＹＡＮＯＶＡ（登録商標）ＦＯＰ１７４０（日本化薬（株）、固形分濃度８２質量％）をトルエンとメチルエチルケトン（ＭＥＫ）質量％比１対１で、固形分濃度４０質量％まで希釈したハードコート剤をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で塗布、８０℃で１分間乾燥後、紫外線を１．０Ｊ／ｃｍ２照射、硬化させ、厚み５μｍのハードコート層を設けた。
【００９２】
次いで、前記基材のハードコート層を設けた反対面に、「下地層」を積層後「導電層Ｃ」を積層した。
【００９３】
次いで、「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「保護層材料Ｆ」１．６６６７ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」５４０．００００ｇを混合、撹拌し、保護層塗布液を作った。この保護層塗布液を、前記「導電層Ａ」の上にマイクログラビアコート（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で塗布、１２５℃で１分間乾燥し厚み６０ｎｍの保護層を設け、本発明の導電積層体を得た。
【００９４】
（実施例８）
保護層塗布液の組成を「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「保護層材料Ｃ」１．０４１７ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」５４０．６２５０ｇとしたこと以外は、実施例４と同様に作成し、本発明の導電積層体を得た。
【００９５】
（実施例９）
保護層塗布液の組成を「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「保護層材料Ｄ」１．３８８９ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」５４０．２７７８ｇとしたこと以外は、実施例４と同様に作成し、本発明の導電積層体を得た。
【００９６】
（実施例１０）
保護層塗布液の組成を「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「保護層材料Ｂ」１．１６４０ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」５５７．０３７０ｇとしたこと以外は、実施例４と同様に作成し、本発明の導電積層体を得た。
【００９７】
（実施例１１）
保護層塗布液の組成を「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「保護層材料Ｃ」１．４５５０ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」５５６．７４６０ｇとしたこと以外は、実施例４と同様に作成し、本発明の導電積層体を得た。
【００９８】
（実施例１２）
保護層塗布液の組成を「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「保護層材料Ｅ」１．１６４０ｇ、「添加剤Ａ」０．００５８ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」５５７．６１３２ｇとしたこと以外は、実施例５と同様に作成し、本発明の導電積層体を得た。
【００９９】
（実施例１３）
保護層塗布液の組成を「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「保護層材料Ｆ」２．３２８０ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」５５５．８７３０ｇとしたこと以外は、実施例４と同様に作成し、本発明の導電積層体を得た。
【０１００】
（実施例１４）
保護層塗布液の組成を「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「保護層材料Ｃ」２．７７７８ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」６０８．３３３３ｇとしたこと以外は、実施例４と同様に作成し、本発明の導電積層体を得た。
【０１０１】
（実施例１５）
保護層塗布液の組成を「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「保護層材料Ｃ」４．０６９８ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」６５８．７２０９ｇとしたこと以外は、実施例４と同様に作成し、本発明の導電積層体を得た。
【０１０２】
（実施例１６）
保護層塗布液の組成を「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「保護層材料Ｃ」５．６７４８ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」７２１．３１９０ｇとしたこと以外は、実施例４と同様に作成し、本発明の導電積層体を得た。
【０１０３】
（実施例１７）
保護層塗布液の組成を「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「保護層材料Ｃ」６．６４５６ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」７５９．１７７２ｇとしたこと以外は、実施例４と同様に作成し、本発明の導電積層体を得た。
【０１０４】
（実施例１８）
保護層塗布液の組成を「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「保護層材料Ｃ」６．６４５６ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」５４８．２０６８ｇとしたこと以外は、実施例４と同様に作成し、本発明の導電積層体を得た。
【０１０５】
（実施例１９）
保護層塗布液の組成を「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「保護層材料Ｃ」６．６４５６ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」３３７．２３６３ｇとしたこと以外は、実施例４と同様に作成し、本発明の導電積層体を得た。
【０１０６】
（比較例１）
厚み１８８μｍのポリエチレンレテフタレートフィルム、ルミラー（登録商標）Ｕ４６（東レ（株）製）を基材として、片面に製のＫＡＹＡＮＯＶＡ（登録商標）ＦＯＰ１７４０（日本化薬（株）、固形分濃度８２質量％）をトルエンとメチルエチルケトン（ＭＥＫ）質量％比１対１で、固形分濃度４０質量％まで希釈したハードコート剤をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で塗布、８０℃で１分間乾燥後、紫外線を１．０Ｊ／ｃｍ２照射、硬化させ、厚み５μｍのハードコート層を設けた。
【０１０７】
次いで、前記基材のハードコート層を設けた反対面に、導電層及び保護層を設けずに、積層体とした。
【０１０８】
（比較例２）
厚み１８８μｍのポリエチレンレテフタレートフィルム、ルミラー（登録商標）Ｕ４６（東レ（株）製）を基材として、片面に製のＫＡＹＡＮＯＶＡ（登録商標）ＦＯＰ１７４０（日本化薬（株）、固形分濃度８２質量％）をトルエンとメチルエチルケトン（ＭＥＫ）質量％比１対１で、固形分濃度４０質量％まで希釈したハードコート剤をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で塗布、８０℃で１分間乾燥後、紫外線を１．０Ｊ／ｃｍ２照射、硬化させ、厚み５μｍのハードコート層を設けた。
【０１０９】
次いで、前記基材のハードコート層を設けた反対面に、「導電層Ａ」のみを積層し保護層を設けずに、導電積層体とした。
【０１１０】
（比較例３）
厚み１８８μｍのポリエチレンレテフタレートフィルム、ルミラー（登録商標）Ｕ４６（東レ（株）製）を基材として、片面に日本化薬（株）製のＫＡＹＡＮＯＶＡ（登録商標）ＦＯＰ１７４０（日本化薬（株）、固形分濃度８２質量％）をトルエンとメチルエチルケトン（ＭＥＫ）質量％比１対１で、固形分濃度４０質量％まで希釈したハードコート剤をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で塗布、８０℃で１分間乾燥後、紫外線を１．０Ｊ／ｃｍ２照射、硬化させ、厚み５μｍのハードコート層を設けた。
【０１１１】
次いで、前記基材のハードコート層を設けた反対面に、「下地層」を積層後「導電層Ｂ」のみを積層し保護層を設けずに、導電積層体とした。
（比較例４）
保護層塗布液の組成を「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」５００．００００ｇとしたこと以外は、実施例１と同様に作成し、導電積層体を得た。
（比較例５）
保護層塗布液の組成を「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」５００．００００ｇとしたこと以外は、実施例４と同様に作成し、導電積層体を得た。
【０１１２】
（比較例６）
保護層塗布液の組成を「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」５００．００００ｇとしたこと以外は、実施例７と同様に作成し、導電積層体を得た。
【０１１３】
（比較例７）
保護層塗布液の組成を「保護層材料Ｃ」２５．００００ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」９７５．００００ｇとしたこと以外は、実施例１と同様に作成し、導電積層体を得た。
【０１１４】
（比較例８）
保護層塗布液の組成を「保護層材料Ｃ」２５．００００ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」９７５．００００ｇとしたこと以外は、実施例４と同様に作成し、導電積層体を得た。
【０１１５】
（比較例９）
保護層塗布液の組成を「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「保護層材料Ｇ」０．４１６７ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」５４１．２５００ｇとしたこと以外は、実施例４と同様に作成し、導電積層体を得た。
【０１１６】
（比較例１０）
保護層塗布液の組成を「保護層材料Ａ」５００．００００ｇ、「保護層材料Ｇ」１．１１１１ｇ、「酢酸エチル／トルエン混合溶媒（混合質量比１／１）」６１０．００００ｇとしたこと以外は、実施例４と同様に作成し、導電積層体を得た。
【０１１７】
【表１】
0005445042.tif 000002
【０１１８】
【表２】
0005445042.tif 000003
【０１１９】
実施例１〜１９のいずれにおいても、タッチパネルの打鍵耐久性を向上することができた。中でも、含有する樹脂の含有率が特定の範囲内で且つ保護層内の成分と結合を有している場合は、打鍵耐久性と共に耐久性（耐熱性、耐湿熱性）も良好であった。
【０１２０】
無機ケイ素酸化物と共に保護層に含有する樹脂が（i）〜（iii）に該当する樹脂で有れば、導電層の種類及び形状に関係なく打鍵耐久性を向上させることができた（実施例１〜７）。また、無機ケイ素酸化物と共に保護層に含有する樹脂が、保護層内の成分と結合を有している場合（実施例３、６〜９、１２〜１９）は、結合を有していない場合（実施例１、２、４、５、１０、１２、比較例７〜１０）と比較して、打鍵耐久性だけでなく耐久性（耐熱性、耐湿熱性）も良好となった。無機ケイ素酸化物と共に保護層に含有する樹脂の種類、官能基の種類、含有率を適宜変更することで、打鍵耐久性、耐久性（耐熱性、耐湿熱性）、表面抵抗値を調整することができた（実施例８〜１７）。さらに保護層の屈折率や厚みを適宜変更することで、光学特性も調整することができた（実施例１６〜１９）。
【０１２１】
導電層を設けない場合（比較例１）は、タッチパネルが動作しない。保護層を設けない場合（比較例２）、保護層を設けたとしても無機ケイ素酸化物のみである場合（比較例４〜６）は、導電層の種類に関係なく打鍵耐久性が悪かった。また、保護層に無機ケイ素酸化物を含有しない場合（比較例７、８）や無機ケイ素酸化物と共に含有する樹脂が（i）〜（iii）以外の樹脂である（比較例８、９）場合は、打鍵耐久性だけでなく耐久性（耐熱性、耐湿熱性）も劣るものとなった。さらに保護層を設けない場合は、光学特性が悪かった。
【産業上の利用可能性】
【０１２２】
本発明は、タッチパネルの点荷重に対する耐久性、すなわち打鍵耐久性の向上を図り、且つ、良好な耐久性と、導電層側の反射率が低く良好な光学特性とを併せ持つ導電積層体に関するものである。またさらに、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス、電子ペーパーなどのディスプレイ関連および太陽電池モジュールなどの使用される電極部材にも使用される導電積層体に関するものである。
【符号の説明】
【０１２３】
１：基材
２：下地樹脂層
３：導電層
４：保護層
５：主鎖の幹ポリマー
６：側鎖部位に枝ポリマーとして結合しているシリコーン
７：積層面に垂直な方向より観察した導電面
８：カーボンナノチューブ（線上構造体の一例）
９：金属や金属酸化物のナノワイヤー（線上構造体の一例）
１０：金属酸化物のウィスカーや繊維状のような針状結晶（線上構造体の一例）
１１：導電性薄膜
１２：主鎖の幹ポリマー
１３：分岐した側鎖
１４：親水基
１５：上部電極
１６：下部電極
１７：上部電極の基材
１８：下部電極の基材
１９：ハードコート層
２０：ドットスペーサー
２１：両面接着テープ
２２：空間
２３：電源
２４：ペン
１００：反応器
１０１：石英焼結板
１０２：密閉型触媒供給機
１０３：触媒投入ライン
１０４：原料ガス供給ライン
１０５：排ガスライン
１０６：加熱器
１０７：点検口
１０８：触媒
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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