(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線源と、格子と、Ｘ線画像検出器とを備えており、
前記Ｘ線源は、必要量のＸ線を、前記格子に向けて照射する構成となっており、
前記格子は、前記格子に向けて照射された前記Ｘ線を回折することにより、前記格子の自己像を、前記格子から離間した位置に形成する構成となっており、
前記Ｘ線画像検出器は、前記格子により回折された前記Ｘ線を検出する構成となっており、
かつ、前記Ｘ線画像検出器は、前記自己像が形成される位置又はその近傍に配置されており、
さらに、以下の条件１及び条件２を満たすことを特徴とするＸ線撮像装置。
（条件１）
0005601909.tif 000019
ここで、
Ｒ１：前記Ｘ線源から前記格子までの距離；
Ｒ２：前記格子から前記自己像が形成される位置までの距離；
λ：前記Ｘ線の中心波長；
Ｒ：Ｒ１＋Ｒ２；
ｄ：前記格子の周期；
ｐ：前記格子からの距離に関するパラメータ
である。
（条件２）
0005601909.tif 000020
ここで、
Ｄ：前記Ｘ線画像検出器における空間分解能；
ｄ１：前記自己像の周期
である。
【請求項２】
前記Ｘ線源は、Ｘ線発生部とマルチスリットとを備えており、
前記Ｘ線発生部は、前記マルチスリットを介して前記Ｘ線を前記格子に向けて照射する構成となっている
ことを特徴とする請求項１に記載のＸ線撮像装置。
【請求項３】
前記Ｘ線源は、Ｘ線発生部を備えており、
前記Ｘ線発生部は、空間的可干渉性を有するＸ線を、前記格子に直接照射する構成となっている
ことを特徴とする請求項１に記載のＸ線撮像装置。
【請求項４】
さらに並進機構を備えており、
前記並進機構は、前記格子及び前記マルチスリットのうちの一方を、他方に対して、前記格子における回折ベクトルとほぼ平行な方向に相対的に並進させる構成となっている
ことを特徴とする請求項２に記載のＸ線撮像装置。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のＸ線撮像装置を用いたＸ線撮像方法であって、
（１）前記Ｘ線源から前記Ｘ線画像検出器までの間に被検体を配置するステップ；
（２）前記Ｘ線源から前記格子に向けてＸ線を照射するステップ；
（３）前記格子により回折されて自己像を形成する前記Ｘ線を、前記Ｘ線画像検出器が検出するステップ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｘ線の位相を利用して被写体の内部構造を高感度で観察するためのＸ線撮像装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線は透過力が高いゆえに、物体内部を透視するためのプローブとして、医用画像診断、非破壊検査、セキュリティチェックなどにおいて、広く利用されている。Ｘ線透視画像のコントラストは、Ｘ線減衰率の違いによっており、Ｘ線を強く吸収する物体はＸ線の影として描出される。Ｘ線吸収能は、原子番号が大きい元素を多く含むほど強くなる。逆に原子番号が小さい元素から成る物質についてはコントラストがつきにくいことも指摘でき、これがＸ線透視画像の原理的欠点でもある。したがって、生体軟部組織やソフトマテリアルなどに対しては、十分な感度を得ることができない。
【０００３】
一方、Ｘ線の位相情報を利用すれば、一般的な従来のＸ線透視画像に比べて最高で約３桁の高感度化が実現することが知られている。Ｘ線をあまり吸収しない軽元素からなる物質（生体軟組織や有機材料など）の観察に適用できることから、その実用が期待される。
【０００４】
このＸ線位相情報を利用した高感度撮像法の研究は、１５年ほど前から興った分野であるが、通常は高度なＸ線源が必要となるために、現実的にはその実用は進んでいない。すなわち、単色平面波のＸ線を使うＸ線光学系がその主流としてこれまで研究されてきており、それゆえに極めて高い輝度のＸ線源の使用を前提としている。
【０００５】
単色平面波を得るためには、もともと得られるＸ線から、特定の方向に進む特定のスペクトル成分のみを選別する必要がある。そのため、撮像に必要な強度を確保するためには、選別によるロスを補えるだけの十分な明るさが元のＸ線に求められる。そのような選別を行うための光学素子としてシリコンなどの単結晶が使われるが、同時に巨大なシンクロトロン放射光施設の利用を実質的に前提とせざるを得ず、実用を検討する場合には大きな障害になっている。
【０００６】
広いバンド幅のコーンビームで機能する位相利用撮像法が実現すれば、シンクロトロン放射光以外のコンパクトＸ線源を用いた装置化が期待できる。そのような撮像法の候補として、Ｘ線タルボ干渉計によるＸ線位相撮像法が期待されている（下記特許文献１及び２参照）。この方法では、単結晶ではなくＸ線格子を使うため、多色の発散ビームＸ線を利用した撮像が可能である。
【０００７】
ただし、位相利用撮像法では、ある程度の空間的可干渉性がＸ線に求められる。そのためには、Ｘ線発生源のサイズがある程度小さくなくてはならない。すると、コンパクトなＸ線源といっても、この方法で使用できる既存のＸ線源は、実質的にマイクロフォーカスＸ線源ということになってくる。通常フォーカスのＸ線源はこれに該当しない。
【０００８】
マイクロフォーカスＸ線源では、ターゲットにおける微少領域に電子線を照射することによって、Ｘ線を発生させている。Ｘ線を多く発生させたいときは多くの電子を照射する必要があるが、ターゲットにおける熱負荷の問題があり、実際上のＸ線パワーの上限を決めている。結果として、長い露光時間が許されるケースを除いて、マイクロフォーカスＸ線源で得られるＸ線のパワーは、Ｘ線撮像に適用するには不十分であるという問題がある。
【０００９】
従来のＸ線タルボ・ロー干渉計では、通常フォーカスのＸ線源を用いて強度不足の問題を回避している。Ｘ線タルボ・ロー干渉計の構成は、Ｘ線タルボ干渉計の構成にマルチスリットが加わったものとされる（下記特許文献３〜４及び非特許文献１参照）。すなわち、この技術では、ターゲットにおける比較的広い面積に対して電子線を照射してＸ線を発生させ、発生したＸ線をマルチスリットで部分的に透過させる。これにより、細幅でかつ線状の仮想的Ｘ線源が所定ピッチで配置された線源を実現することができる。なお、このような、複数のマイクロラインを持つ線源を、マイクロマルチライン線源と称することがある。
【００１０】
Ｘ線タルボ・ロー干渉計は、Ｘ線タルボ干渉計におけるＸ線源を、通常フォーカスのＸ線発生部とマルチスリットによって実現した技術ということができ、Ｘ線タルボ干渉計の具体的な一形態というべきものである。
【００１１】
ところで、前記した従来のＸ線タルボ干渉計（タルボ・ロー干渉計を含む）においては、いずれも、図１に示されるように、Ｘ線画像検出器５の手前に第２格子４を配置している。なお、図１は、Ｘ線発生部１とマルチスリット２とを用いたタルボ・ロー干渉計を示している。Ｘ線発生部１とマルチスリット２とにより、Ｘ線源が構成されている。
【００１２】
第２格子４は、第１格子３で回折されたＸ線で形成される自己像と第２格子４とのモアレ干渉縞を形成する。Ｘ線画像検出器５は、このモアレ干渉縞を検出することができる。
【００１３】
画像検出器５とマルチスリット２との間に被検体（すなわち試料）を配置すると、被検体によりＸ線の位相が変化し、モアレ干渉縞も変形する。この変形を検出して分析することにより、被検体の情報を取得することが可能となる。
【００１４】
ところで、画像検出器５の前面に配置される第２格子４は、撮影に必要な視野の大きさにほぼ対応するため、撮像装置において使用される格子のなかで最も大きな面積となる。さらに、第２格子４は、一般には、金などの重金属を素材とし、かつ、高アスペクト比を持つ吸収格子とされ、その製作には高度な技術が要求される。従って、撮影装置の大視野化は容易ではなく、それを実現させるためのコストも膨大となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１５】
【特許文献１】国際公開ＷＯ２００４／０５８０７０号公報
【特許文献２】米国特許第５８１２６２９号公報
【特許文献３】特開２００８−１４５１１１号公報
【特許文献４】特開２００９−２４０３７８号公報
【非特許文献】
【００１６】
【非特許文献１】Donath et al., J. Appl. Phys. 106, 054703 (2009)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
本発明は、前記した事情に鑑みてなされたものである。本発明の一つの目的は、従来必要とされていた第２格子を省略することができる技術を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明は、以下の項目に記載の発明として表現することができる。
【００１９】
（項目１）
Ｘ線源と、格子と、Ｘ線画像検出器とを備えており、
前記Ｘ線源は、必要量のＸ線を、前記格子に向けて照射する構成となっており、
前記格子は、前記格子に向けて照射された前記Ｘ線を回折することにより、前記格子の自己像を、前記格子から離間した位置に形成する構成となっており、
前記Ｘ線画像検出器は、前記格子により回折された前記Ｘ線を検出する構成となっており、
かつ、前記Ｘ線画像検出器は、前記自己像が形成される位置又はその近傍に配置されており、
さらに、以下の条件１及び条件２を満たすことを特徴とするＸ線撮像装置。
（条件１）
0005601909.tif 000002
ここで、
Ｒ１：前記Ｘ線源から前記格子までの距離；
Ｒ２：前記格子から前記自己像が形成される位置までの距離；
λ：前記Ｘ線の中心波長；
Ｒ：Ｒ１＋Ｒ２；
ｄ：前記格子の周期；
ｐ：前記格子からの距離に関するパラメータ
である。
（条件２）
0005601909.tif 000003
ここで、
Ｄ：前記Ｘ線画像検出器における空間分解能；
ｄ１：前記自己像の周期
である。
【００２０】
前記した条件を満たすＸ線撮像装置では、従来のような第２格子を用いること無く、格子の自己像を、画像検出器により検出することができる。なお、本発明において、「条件を満たす」とは、数学的に厳密な意味であることは必要としない。正確な条件から離れるほど、画像にボケを生じる。しかしながら、ある条件において生じるボケが実用上支障のない程度であれば、その条件を採用することは、実質的には「条件を満たす」という概念に含まれる。
【００２１】
（項目２）
前記Ｘ線源は、Ｘ線発生部とマルチスリットとを備えており、
前記Ｘ線発生部は、前記マルチスリットを介して前記Ｘ線を前記格子に向けて照射する構成となっている
ことを特徴とする項目１に記載のＸ線撮像装置。
【００２２】
（項目３）
前記Ｘ線源は、Ｘ線発生部を備えており、
前記Ｘ線発生部は、空間的可干渉性を有するＸ線を、前記格子に直接照射する構成となっている
ことを特徴とする項目１に記載のＸ線撮像装置。
【００２３】
（項目４）
さらに並進機構を備えており、
前記並進機構は、前記格子及び前記マルチスリットのうちの一方を、他方に対して、前記格子における回折ベクトルとほぼ平行な方向に相対的に並進させる構成となっている
ことを特徴とする項目１〜３のいずれか１項に記載のＸ線撮像装置。
【００２４】
（項目５）
項目１〜３のいずれか１項に記載のＸ線撮像装置を用いたＸ線撮像方法であって、
（１）前記Ｘ線源から前記Ｘ線画像検出器までの間に被検体を配置するステップ；
（２）前記Ｘ線源から前記格子に向けてＸ線を照射するステップ；
（３）前記格子により回折されて自己像を形成する前記Ｘ線を、前記Ｘ線検出器が検出するステップ。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、従来必要とされていた第２格子を省略することが可能となる。これにより。本発明では、構造が簡易で、大視野化が容易となり、コスト低減が可能になる技術を提供することが可能になる。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
（第１実施形態におけるＸ線撮像装置の構成）
以下、図面を参照しながら、本発明の第１実施形態に係るＸ線撮像装置の構成を説明する。
【００２７】
本実施形態のＸ線撮像装置は、Ｘ線源１０と、格子２０と、Ｘ線画像検出器３０とを備えている。
【００２８】
Ｘ線源１０は、必要量のＸ線を、格子２０に向けて照射する構成となっている。より具体的には、本実施形態のＸ線源１０は、Ｘ線発生部１０１とマルチスリット１０２とを備えている。Ｘ線発生部１０１は、マルチスリット１０２を介してＸ線を格子２０に向けて照射する構成となっている。マルチスリット１０２としては、この例では、周期がdsとされた透過型の吸収格子が用いられている。マルチスリット１０２におけるスリットを構成する部材は、図２においては、紙面に対して垂直な方向に延長されている。マルチスリット１０２としては、従来のタルボ・ロー干渉計で使われているものと同様とすることができるので、これについてはこれ以上の説明を省略する。
【００２９】
格子２０は、この格子２０に向けて照射されたＸ線を回折することにより、格子２０の自己像を、格子２０から離間した位置に形成する構成となっている。格子２０は、位相格子でも吸収格子でもよい。格子２０における回折パターンを構成する部材（いわゆる「ライン」）は、図２においては、紙面に対して垂直な方向に延長されている。格子２０としては、従来のタルボ干渉計（例えば特許文献１参照）あるいはタルボ・ロー干渉計（例えば特許文献４参照）における第１格子と同様に構成することができるので、これについてもこれ以上の説明を省略する。
【００３０】
Ｘ線画像検出器３０は、格子２０により回折されたＸ線を検出する構成となっている。さらに、Ｘ線画像検出器３０は、自己像が形成される位置又はその近傍に配置されている。
【００３１】
さらに、本実施形態のＸ線撮像装置の各要素は、以下の条件１及び条件２を満たすように配置されている。
【００３２】
（条件１）
0005601909.tif 000004
ここで、
Ｒ１：前記Ｘ線源から前記格子までの距離；
Ｒ２：前記格子から前記自己像が形成される位置までの距離；
λ：前記Ｘ線の中心波長；
Ｒ：Ｒ１＋Ｒ２；
ｄ：前記格子の周期；
ｐ：前記格子からの距離に関するパラメータ
である。
【００３３】
（条件２）
0005601909.tif 000005
ここで、
Ｄ：前記画像検出器における空間分解能；
ｄ１：前記自己像の周期
である。
【００３４】
以下、前記した条件の意味について説明する。
【００３５】
Ｘ線タルボ干渉計（タルボ・ロー干渉計を含む）において、格子配置に関する理想的な条件は
0005601909.tif 000006
で与えられる。R1はＸ線源から格子までの距離であり（図１参照）、R2は格子から、その自己像が形成される位置までの距離である。従来は、自己像の位置に別の格子（第２格子）が配置されていた。Ｘ線タルボ・ロー干渉計の場合は、Ｘ線源の位置にマルチスリットが置かれる。
【００３６】
さて、装置の全長が一定である（すなわちR1＋R2≡R＝定数）とすると、R2が満たす解として、
0005601909.tif 000007
が得られる。また、
0005601909.tif 000008
である。すなわち、R1とR2の選び方には二通りあることが指摘でき、その様子を図３に示した。前記の式によれば、すなわちR1とR2を入れ替えてもよい。従来のＸ線タルボ干渉計およびＸ線タルボ・ロー干渉計によるＸ線位相イメージングの技術は、図３(a)に対応していると考えられる。すなわち、ここでは、格子により細かい自己像が生成される。自己像と、自己像の位置に配置された第２格子（図３（ａ）では省略）とは、モアレ干渉を生じる。そこで、自己像が被写体によって変形する様子を、自己像と第２格子とのモアレ干渉の変化として検出する。
【００３７】
一方、本実施形態の装置の原理は、図３(b)の状況に対応する。このときは、格子の自己像が大きく拡大される配置となる。そこで、その自己像のピッチを画像検出器の分解能より大きくすることにより、従来のような第２の格子を用いずに、画像検出器で直接に撮影することが可能になる。すなわち、第２格子を省略することが可能になる。
【００３８】
（マルチスリットの周期）
本実施形態（図２参照）では、一般的なＸ線発生部１０１のそばにマルチスリット１０２を配置し、マルチスリット１０２から特定の距離R1離れた位置に格子２０を配置している。両者とも、ストライプ状の構造パターンを有し、そのストライプが互いにほぼ平行となるように配置する。
【００３９】
マルチスリットの周期がds、自己像の周期がd1として
0005601909.tif 000009
と
0005601909.tif 000010
が満たされる必要がある。ここから、
0005601909.tif 000011
0005601909.tif 000012
の関係が見出せる。mは格子２０のタイプによって決まる１か２の整数である。これらの関係から、マルチスリットの周期dsについての設計条件を導くことができる。
【００４０】
本実施形態においては、周期d1を持つ自己像を画像検出器３０で直接検出するので、画像検出器３０の空間分解能Dは
0005601909.tif 000013
を満たす必要がある。この（８）式は最低限の条件であり、d1がDより大きい程望ましい。従来のＸ線タルボ干渉計やＸ線タルボ・ロー干渉計は、周期d1を持つ振幅格子（第２格子）を用い、D> d1とすることによって、モアレ干渉縞を撮影する方法である。したがって、従来のＸ線タルボ干渉計やＸ線タルボ・ロー干渉計において吸収格子（第２格子）を単に省略するだけでは、本実施形態の目的は達成できない。
【００４１】
（６）、（７）式より、
0005601909.tif 000014
あるいは
0005601909.tif 000015
なので、（８）式は
0005601909.tif 000016
あるいは
0005601909.tif 000017
と表現してもよい。
【００４２】
なお、pは格子２０がπ/2位相格子であれば半整数、吸収格子であれば整数である。また、このときはm=1である。格子がπ位相格子の場合、pは1/8の倍数であり、また、自己像の周期が半分になる効果を反映させてm=2とする。格子が吸収格子であれば、pは整数、m=1である。λはＸ線の波長である。ただし、上で述べた式はほぼ満たされていれば実用上は問題無い。Ｘ線の波長についても、λとは少し異なる波長のＸ線を照射しても撮像は可能であるし、様々なスペクトル成分を含むＸ線（一般的なＸ線源ではむしろこれが普通である）を照射しても、ある程度の画質の低下はあるものの、本実施形態で述べる原理に基づくコントラスト生成効果は得られる。
【００４３】
既に述べたように、従来のＸ線タルボ干渉計およびＸ線タルボ・ロー干渉計で使われる画像検出器３０の手前の吸収格子（第２格子）には、使用する格子の中でもっとも広い面積が求められる。さらに、この吸収格子は、金などの重金属から構成され、かつ、高アスペクト比のストライプ構造が必要である。このため、この吸収格子の製作には極めて高い技術が求められている。本実施形態によってこの吸収格子が省略できることは、装置構成上のメリットとして絶大である。なお、本実施形態では、マルチスリットにも高アスペクト比の構造が必要であるが、これはＸ線源１０に近いので、その面積は比較的小さくてよく、吸収格子（第２格子）よりは容易に製作できる。
【００４４】
なお、マルチスリット１０２の周期dsは、一般に、従来のＸ線タルボ・ロー干渉計で使われるマルチスリットの周期よりは小さくする必要がある。しかしながら、限られた狭い面積における微細加工には多くの技術が開発されており、本実施形態におけるマルチスリットの製作は比較的容易である。
【００４５】
本実施形態のＸ線撮像方法は、前記した装置を用いて、以下のステップにより実施できる。
（１）Ｘ線源１０からＸ線画像検出器３０までの間に被検体を配置するステップ。すなわち、被検体を配置する場所は、マルチスリット１０２から格子２０までの間でもよく、また、格子２０からＸ線画像検出器３０までの間であってもよい。
（２）Ｘ線源１０から格子２０に向けてＸ線を照射するステップ。
（３）格子２０により回折されて自己像を形成するＸ線を、Ｘ線検出器３０が検出するステップ。
【００４６】
本実施形態では、前記した条件１及び２を満たす構成とされているので、Ｘ線検出器３０により、格子２０の自己像を取得することができる。そして、この自己像の変化を解析することにより、被検体の状態ないし変化を検出することができる。
【００４７】
（実験例）
図4に、前記した本実施形態の構成を用いて、画像検出器３０に検出された画像を示す。実験条件は以下の通りである。
ds = 5.3μm；
d = 5.157μm；
λ = 0.071nm；
Ｘ線発生部：Moターゲットに励起ビームを照射する構成とした。発生したＸ線をグラファイト板で反射させてＫα特性Ｘ線のみを取り出し、それを、マルチスリット１０２を介して格子２０に向けて照射した。
【００４８】
この実験例では、マルチスリット１０２と格子２０の間隔R1を192mmとした。すなわち、p=0.5、m=1とした。格子２０から画像検出器３０までの間隔R2は約6.9mとした。試料（ポリマー球）は画像検出器から2.4mの位置に配置した。
【００４９】
その結果、図４に示されるように、格子２０の自己像が、画像検出器３０において、そのままの形状で取得できた。すなわち、周期約0.2mmのストライプパターンが観察された。さらに、被検体（試料）として配置されたポリマー球によって、ストライプパターンが変形している様子も観察できる。
【００５０】
図４のような画像から、試料に基づく位相微分像を得るためには、縞走査法とフーリエ変換法が適用できる。縞走査法では、格子２０をその回折ベクトルにおおよそ沿った方向（図２において上下方向）に所定のピッチで並進させて得た複数の画像から、位相微分像を演算する。その具体的演算方法は特許第4445397号に記載されているものと同様であるので省略する。フーリエ変換法についても、M. Takeda, H. Ina, and S. Kobayashi, J. Opt. Soc. Am. 72, 156 (1982)に記載がある。なお、格子２０の並進に代えて、マルチスリット１０２を、格子２０の回折ベクトルと平行な方向に並進させてもよい。要するに、格子２０かマルチスリット１０２が、回折ベクトルと実質的に（つまり所望の画質が得られる程度に）平行な方向に、相対的に並進できればよい。もちろん、格子２０とマルチスリット１０２の両者をともに並進移動させることも可能である。格子２０あるいはマルチスリット１０２の並進は、適宜な並進機構（図示せず）により実現可能である。このような並進機構としては、従来と同様のものを使用可能なので、並進機構についての詳しい説明は省略する。
【００５１】
加えて、試料によるＸ線の散乱に起因して観察される像のコントラストが低下する場合がある。これを画像化することにより、新奇な情報が得られる。このことは、Ｘ線タルボ・ロー干渉計を用いた場合に関して、
0005601909.tif 000018
に報告されている。これをvisibility像と呼ぶこととする。すなわち、一度の測定から、位相微分像、吸収像、およびvisibility像が得られる。本実験例で得られる画像においても、縞走査法の場合は上記F. Pfeifferの論文に記載の演算をおこなうことにより、前記した画像を得られる。また、フーリエ変換法の場合においても、０次および１次の成分をそれぞれa0, a1とすることにより、2|a1|/|a0|から、前記の各画像を得ることができる。
【００５２】
図５には、縞走査法によって得た画像を示す。この画像は、格子２０を周期方向に1/9周期ずつ並進させて得た9枚の画像から生成した微分位相像である。実験誤差による縞模様（自己像の痕跡）が残っているが、被検体としてのポリマー球およびその内部のボイド構造によるコントラストが検出された。
【００５３】
なお、このような測定を試料を回転させて複数の投影方向において繰り返すことにより、三次元像（位相ＣＴ像）を再構成することができる。その詳細は従来と同様でよいので、詳しい説明は省略する。
【００５４】
さらに、前記した実験例ではdsおよびdを5μm強のサイズとしたので、全体の大きさが7m程度となった。これをよりコンパクトなものに変更するには、dsおよびdを小さくすればよく、このことは比較的に容易に実現可能である。
【００５５】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係るＸ線撮像装置について、図６を参照しながら説明する。なお、この第２実施形態の説明においては、第１実施形態と基本的に共通する要素については同一符号を用いることにより、説明の煩雑を避ける。
【００５６】
前記した第１実施形態では、タルボ・ロー干渉計の場合と同様に、Ｘ線源がマルチスリットを備えていた。これに対して第２実施形態では、前記特許文献１などに示されるタルボ干渉計の場合と同様に、十分に狭い領域からＸ線を発生するＸ線発生部２１０１を備えたＸ線源２１０を用いた。したがって、本実施形態のＸ線発生部２１０１は、空間的可干渉性を有するＸ線を、格子２０に直接照射する構成となっている。
【００５７】
第２実施形態における他の構成及び利点は、前記した第１実施形態と同様なので、これ以上詳しい説明は省略する。
【００５８】
なお、前記実施形態および実施例の記載は単なる一例に過ぎず、本発明に必須の構成を示したものではない。各部の構成は、本発明の趣旨を達成できるものであれば、上記に限らない。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】従来のＸ線撮像装置の概略的な構成を説明するための説明図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係るＸ線撮像装置の概略的な構成を説明するための説明図である。
【図３】図（ａ）は、従来のＸ線撮像装置における自己像の形成状態を説明するための説明図である。図（ｂ）は、第１実施形態のＸ線撮像装置における自己像の形成状態を説明するための説明図である。
【図４】本発明の実験例によって取得されたＸ線画像を示す図である。
【図５】本発明の実験例によって得られた微分位相像を示す図である。
【図６】本発明の第２実施形態に係るＸ線撮像装置の概略的な構成を説明するための説明図である。
【符号の説明】
【００６０】
１０・２１０  Ｘ線源
１０１・２１０１  Ｘ線発生部
１０２  マルチスリット
２０  格子
３０  Ｘ線画像検出器
【図１】
0005601909.tif 000021
【図２】
0005601909.tif 000022
【図３】
0005601909.tif 000023
【図６】
0005601909.tif 000024
【図４】
0005601909.tif 000025
【図５】
0005601909.tif 000026