(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面にハードコート層が塗設された樹脂フィルム基材の背面をバックアップロールで支持した状態で、前記ハードコート層を活性放射線照射により硬化させる工程を含むハードコートフィルムの製造方法において、
前記樹脂フィルム基材に塗設された前記ハードコート層が活性放射線照射により硬化する過程において、前記樹脂フィルム基材と前記バックアップロールとの間隙の同伴空気層の平均厚さを、０．５〜１０μｍとすることを特徴とする、ハードコートフィルムの製造方法。
【請求項２】
前記同伴空気層の平均厚さを、１〜５μｍとすることを特徴とする、請求項１に記載のハードコートフィルムの製造方法。
【請求項３】
前記バックアップロールと前記樹脂フィルム基材との実質接触面積が、これらの見かけ接触面積の０．１〜１０％であることを特徴とする、請求項１または２に記載のハードコートフィルムの製造方法。
【請求項４】
前記バックアップロール表面に形成された凹凸の最大高さ（Ｒｙ）と、該バックアップロール表面の表面粗さ（Ｒａ）との関係が、下式
２≦Ｒｙ／Ｒａ≦１０
で表われされることを特徴とする、請求項１から３のうちのいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法。
【請求項５】
前記バックアップロールの半径が、０．２〜０．９ｍであることを特徴とする、請求項１から４のうちのいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法。
【請求項６】
前記樹脂フィルム基材の搬送速度が、１０〜９０ｍ／ｍｉｎであることを特徴とする、請求項１から５のうちのいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法。
【請求項７】
前記バックアップロール表面の表面粗さ（Ｒａ）が、１〜１０μｍであることを特徴とする、請求項１から６のうちのいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法。
【請求項８】
前記ハードコート層のドライ膜厚が、前記樹脂フィルム基材の膜厚の１０％から４０％であることを特徴とする、請求項１から７のうちのいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードコートフィルム、及びその製造方法、並びにハードコートフィルムを用いた反射防止フィルムに関し、より詳しくは樹脂フィルム基材の膜厚に対するハードコート層膜厚の比率が大きいハードコートフィルムであっても、平面性に優れているハードコートフィルム、及びその製造方法、並びに反射防止フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ用偏光板保護フィルム、有機ＥＬディスプレイ等に用いられる保護フィルムなどの光学用途に使用される透明樹脂フィルムでは、様々な機能を持たせるために幾つかの機能性薄膜層が、透明樹脂フィルムの表面上に塗設されている。機能性薄膜としては、例えば、帯電防止機能を持たせるための帯電防止層、表面硬度を向上させるためのハードコート層、膜付き性を向上させるための下引き層、カールを防止するためのアンチカール層、あるいは防眩層、反射防止層などである。この中で特にハードコート層と反射防止層は重要である。【０００３】
上記透明樹脂フィルム基材にハードコート層を形成する際、通常、紫外線等の活性エネルギー線により硬化する硬化物層を塗工し、紫外線を照射し硬化させるのが、一般的である。そのため従来は、ハードコートフィルムを高硬度化しようとすると、これら活性エネルギー線の出力を上げねばならず、発生する熱により、あるいは塗布膜やフィルム基材の収縮により、ハードコートフィルムの平面性が損なわれるという問題があった。【０００４】
また、近年、ハードコートフィルムの高硬度化が求められているが、同時にディスプレイの薄型化に伴い、各部材の薄型化も求められており、樹脂フィルム基材の膜厚に対するハードコート層膜厚の比率が大きいハードコートフィルム、及び反射防止フィルムの生産が望まれているが、樹脂フィルム基材の膜厚に対するハードコート層膜厚の比率が大きいハードコートフィルム及び反射防止フィルムでは、平面性が特に損なわれやすく、製品化が困難であるという問題があった。【０００５】
さらに、反射防止フィルムを作製するには、ハードコート層の表面上に反射防止層を塗布するのが一般的であるが、ハードコート層の平面性劣化により、反射防止フィルムに色むらが発生してしまうという問題があった。【０００６】
下記の特許文献１には、樹脂フィルム基材にハードコート層を形成するときに紫外線を照射する際、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、さらに好ましくはフィルムの幅手方向にも張力を付与しながら行うことであり、特に、バックアップロール上で搬送方向に張力を付与することによって、平面性の優れたフィルムを得ることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−４７９３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記特許文献１に記載の従来法によれば、樹脂フィルム基材の膜厚に対するハードコート層膜厚の比率が大きいハードコートフィルムに対しては、その平面性の改善は、充分ではないという問題があった。【０００９】
本発明の目的は、上記の従来技術の問題を解決し、樹脂フィルム基材の膜厚に対するハードコート層膜厚の比率が大きいハードコートフィルム、及び反射防止フィルムであっても、平面性を劣化させずに、優れた品質を有するフィルム製品を作製することができる、ハードコートフィルムの製造方法、及びハードコートフィルム、並びに該ハードコートフィルムを用いた色むらを生じることのない反射防止フィルムを提供しようとすることにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上記の点に鑑み鋭意研究を重ねた結果、樹脂フィルム基材の膜厚に対するハードコート層膜厚の比率が大きいハードコートフィルムの製造方法において、バックアップローラに支持した状態で、樹脂フィルム基材に塗設されたハードコート層が活性放射線照射により硬化する過程において、樹脂フィルム基材とバックアップロールとの間隙の同伴空気層を従来よりも薄くすることによって、平面性に優れたハードコートフィルム、及びこれを用いた反射防止フィルムが得られることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。【００１１】
上記の目的を達成するために、請求項１のハードコートフィルムの製造方法の発明は、表面にハードコート層が塗設された樹脂フィルム基材を、バックアップロールに支持した状態で、該樹脂フィルム基材のハードコート層を活性放射線照射により硬化させる工程を含むハードコートフィルムの製造方法において、樹脂フィルム基材に塗設されたハードコート層が活性放射線照射により硬化する過程において、樹脂フィルム基材と前記バックアップロールとの間隙の同伴空気層の平均厚さを、０．５〜１０μｍとすることを特徴としている。【００１２】
ここで、活性放射線としては、電子線、Ｘ線、放射線、可視光線、紫外線等が挙げられるが、特に紫外線が好ましく用いられ、その場合、紫外線を発生する光源であればいずれでも使用できる。光源としては、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。【００１３】
請求項２の発明は、請求項１に記載のハードコートフィルムの製造方法であって、前記同伴空気層の平均厚さを、１〜５μｍとすることを特徴としている。【００１４】
請求項３の発明は、請求項１または２に記載のハードコートフィルムの製造方法であって、前記バックアップロールと前記樹脂フィルム基材との実質接触面積が、これらの見かけ接触面積の０．１〜１０％であることを特徴としている。【００１５】
請求項４の発明は、請求項１から３のうちのいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法であって、前記バックアップロール表面に形成された凹凸の最大高さ（Ｒｙ）と、該バックアップロール表面の表面粗さ（Ｒａ）との関係が、下式
２≦Ｒｙ／Ｒａ≦１０
で表われされることを特徴としている。【００１６】
請求項５の発明は、請求項１から４のうちのいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法であって、前記バックアップロールの半径が、０．２〜０．９ｍであることを特徴としている。【００１７】
請求項６の発明は、請求項１から５のうちのいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法であって、前記樹脂フィルム基材の搬送速度が、１０〜９０ｍ／ｍｉｎであることを特徴としている。【００１８】
請求項７の発明は、請求項１から６のうちのいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法であって、前記バックアップロール表面の表面粗さ（Ｒａ）が、１〜１０μｍであることを特徴としている。【００１９】
請求項８の発明は、請求項１から７のうちのいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法であって、前記ハードコート層のドライ膜厚が、前記樹脂フィルム基材の膜厚の１０％から４０％であることを特徴としている。
【発明の効果】
【００２２】
請求項１のハードコートフィルムの製造方法の発明は、表面にハードコート層が塗設された樹脂フィルム基材を、バックアップロールに抱き付けた状態で、該樹脂フィルム基材のハードコート層を活性放射線照射により硬化させる工程を含むハードコートフィルムの製造方法において、樹脂フィルム基材に塗設されたハードコート層が活性放射線照射により硬化する過程において、樹脂フィルム基材と前記バックアップロールとの間隙の同伴空気層の平均厚さを、０．５〜１０μｍとするもので、請求項１の発明によれば、一般に、樹脂フィルム基材の膜厚に対するハードコート層膜厚の比率が大きいハードコートフィルムでは、平面性が特に損なわれやすく、製品化が困難であったが、ハードコートフィルムの平面性について、樹脂フィルム基材と紫外線照射用バックアップロールとの間隙のフィルムの同伴空気層厚さという概念を導入し、その範囲を適切に規定することによって、そのような構成でも平面性に優れたフィルムが得られるという効果を奏する。【００２３】
請求項２の発明は、請求項１に記載のハードコートフィルムの製造方法であって、同伴空気層の平均厚さを、１〜５μｍとするもので、請求項２の発明によれば、より一層、平面性に優れたフィルムが得られるという効果を奏する。【００２４】
請求項３の発明は、請求項１または２に記載のハードコートフィルムの製造方法であって、バックアップロールと樹脂フィルム基材との実質接触面積が、これらの見かけ接触面積の０．１〜１０％であるもので、請求項３の発明によれば、樹脂フィルム基材と紫外線照射用バックアップロールとの摩擦力が規制され、平面性に優れたフィルムが得られるという効果を奏する。【００２５】
請求項４の発明は、請求項１から３のうちのいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法であって、バックアップロール表面に形成された凹凸の最大高さ（Ｒｙ）と、該バックアップロール表面の表面粗さ（Ｒａ）との関係が、下式
２≦Ｒｙ／Ｒａ≦１０
で表われされるもので、請求項４の発明によれば、バックアップロール自体の凹凸によって製品の平面性が損なわれることがなくなるという効果を奏する。【００２６】
請求項５の発明は、請求項１から４のうちのいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法であって、バックアップロールの半径が、０．２〜０．９ｍであるもので、請求項５の発明によれば、樹脂フィルム基材と紫外線照射用バックアップロールとの間隙の同伴空気層の厚さが規制され、平面性に優れたフィルムが得られるという効果を奏する。【００２７】
請求項６の発明は、請求項１から５のうちのいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法であって、樹脂フィルム基材の搬送速度が、１０〜９０ｍ／ｍｉｎであるもので、請求項６の発明によれば、樹脂フィルム基材と紫外線照射用バックアップロールとの間隙の同伴空気層の厚さが規制され、平面性に優れたフィルムが得られるという効果を奏する。【００２８】
請求項７の発明は、請求項１から６のうちのいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法であって、紫外線照射用バックアップロール表面の表面粗さ（Ｒａ）が、１〜１０μｍであるもので、請求項７の発明によれば、樹脂フィルム基材と紫外線照射用バックアップロールとの摩擦力が規制され、平面性に優れたフィルムが得られるという効果を奏する。【００２９】
請求項８の発明は、請求項１から７のうちのいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法であって、ハードコート層のドライ膜厚が、樹脂フィルム基材の膜厚の１０％から４０％であるもので、請求項８の発明によれば、ハードコートフィルムの硬度が十分に得られ、また、カールを抑制することができ、平面性に優れたフィルムが得られるという効果を奏する。【００３０】
請求項９のハードコートフィルムの発明は、請求項１〜８のうちのいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法によって製造されたもので、請求項９の発明によれば、高硬度で面品質の良好な平面性に優れたハードコートフィルムを提供できる。【００３１】
請求項１０の反射防止フィルムの発明は、請求項９に記載のハードコートフィルムの表面上に反射防止層を設けたもので、請求項１０の発明によれば、高硬度で面品質が良好な平面性に優れた反射防止フィルムを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明によるハードコートフィルムの製造方法を実施する装置の概略断面図である。
【図２】本発明に用いられるバックアップロールの表面形状を表わす幅手方向の拡大断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
つぎに、本発明の実施の形態を、図面を参照して説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３４】
図１は、本発明によるハードコートフィルムの製造方法を実施する装置の概略断面図である。
【００３５】
同図を参照すると、ハードコートフィルムの樹脂フィルム基材（１）は矢印方向に連続搬送されており、該樹脂フィルム基材（１）上には塗布装置（図示略）により紫外線硬化樹脂層が塗布され、塗布物中に溶剤が含有する場合は乾燥工程を経たのち、樹脂フィルム基材（１）はバックアップロール（２）にて背面を支持されながら、例えば１個の紫外線光源（１０）を用いて紫外線を照射して、紫外線硬化物層を硬化する。
【００３６】
本実施形態において、樹脂フィルム基材（１）の膜厚は、例えば２０〜８０μｍ、好ましくは２０〜６０μｍであり、樹脂フィルム基材（１）に塗設されたハードコート層のドライ膜厚が、樹脂フィルム基材（１）の膜厚の１０％未満であれば、ハードコートフィルムの硬度が不足する傾向にある。また、ハードコート層のドライ膜厚が、樹脂フィルム基材（１）の膜厚の４０％を超えると、ハードコートフィルムのカールが強くなり、搬送性を損なう傾向にある。よって、樹脂フィルム基材（１）に塗設されたハードコート層のドライ膜厚は、樹脂フィルム基材（１）の膜厚の１０％から４０％であることが好ましい。
【００３７】
なお、樹脂フィルム基材（１）に塗設されたハードコート層のドライ膜厚は、樹脂フィルム基材（１）の膜厚の１５〜３５％であるのが、より好ましい。具体的には、ハードコート層のドライ膜厚は、１０〜１５μｍであるのが、好ましい。
【００３８】
また樹脂フィルム基材（１）と紫外線照射用バックアップロール（２）との間隙の同伴空気層の平均厚さを、０．５〜１０μｍに設定している。同伴空気層の平均厚さを１０μｍ以下に抑えることによって、製品の平面性を向上させることができる。樹脂フィルム基材（１）と紫外線照射用バックアップロール（２）との間隙の同伴空気層の平均厚さが、０．５μｍ未満であれば、ハードコートフィルムの製造ラインスピードをかなり遅くしなければならず、コスト面から考えにくいので、好ましくない。
【００３９】
なお、樹脂フィルム基材（１）と紫外線照射用バックアップロール（２）との間隙の同伴空気層の平均厚さを、１〜５μｍとすることが更に好ましい。
【００４０】
ここで、同伴空気層の平均厚さは、例えばレーザー変位計で、バックアップロール表面の位置と、空気層−フィルム界面の位置とを測定し、その差から求めることができる。
【００４１】
さらに、本発明によるハードコートフィルムの製造方法では、紫外線照射用バックアップロール（２）と樹脂フィルム基材（１）との実質接触面積が、これらの見かけ接触面積の０．１〜１０％、好ましくは０．２〜５％であるのが、好ましい。
【００４２】
ここで、紫外線照射用バックアップロール（２）と樹脂フィルム基材（１）との実質接触面積とは、バックアップロールとフィルムが微小な空気層をも挟まず直接接触している部分の面積を意味する。また、紫外線照射用バックアップロール（２）と樹脂フィルム基材（１）との見かけ接触面積とは、巨視的には接触しているように見える部分の面積を意味する。
【００４３】
そして、紫外線照射用バックアップロール（２）と樹脂フィルム基材（１）との実質接触面積が、これらの見かけ接触面積の０．１％未満であれば、フィルムとバックアップロールの摩擦力が低下し製品の平面性を損なうので、好ましくない。また、紫外線照射用バックアップロール（２）と樹脂フィルム基材（１）との実質接触面積が、これらの見かけ接触面積の１０％を超えると、この範囲の条件を実現するには、張力などかなり極端な条件を用いなければならず、通常は考えにくいので、好ましくない。
【００４４】
また、紫外線照射用バックアップロール（２）表面に形成された凹凸の最大高さ（Ｒｙ）と、該バックアップロール（２）表面の表面粗さ（Ｒａ）との関係が、下式
２≦Ｒｙ／Ｒａ≦１０
を満足している。
【００４５】
図２は、バックアップロール（２）の表面形状を表わす幅手方向の拡大断面図である。図中、Ｒｙは、バックアップロール（２）表面の水準面に対し、最も高い部分と低い部分との差、Ｒａは、各部分でのバックアップロール（２）水準面からの差を平均した値である。例えば、矩形波状の形状であれば、Ｒｙ／Ｒａ＝２となり、正弦波状の形状であれば、Ｒｙ／Ｒａ＝３．１４となる。
【００４６】
ここで、バックアップロール（２）表面に形成された凹凸の最大高さ（Ｒｙ）と、該バックアップロール（２）表面の表面粗さ（Ｒａ）との比：Ｒｙ／Ｒａは、その定義から、通常、２未満になることはない。なお、バックアップロール（２）表面に形成された凹凸の最大高さ（Ｒｙ）と、該バックアップロール（２）表面の表面粗さ（Ｒａ）との比：Ｒｙ／Ｒａを１０以下に抑えることが、同伴空気層の平均厚さを１０μｍ以下に抑えるためには有効である。Ｒｙ／Ｒａが１０を超えると、同伴空気層を薄くすることが難しくなり、また、バックアップロール自体の凹凸によっても製品の平面性が損なわれるので、好ましくない。
【００４７】
本発明によるハードコートフィルムの製造方法においては、紫外線照射用バックアップロール（２）半径が、０．２〜０．９ｍ、好ましくは０．２５〜０．７５ｍであることが好ましい。
【００４８】
ここで、紫外線照射用バックアップロール（２）半径が、０．２ｍ未満であれば、紫外線照射ランプの設置スペースがとれなくなるので、好ましくない。また、紫外線照射用バックアップロール（２）半径が、０．９ｍを超えると、同伴空気層が厚くなり、平面性の向上が難しくなるので、好ましくない。
【００４９】
樹脂フィルム基材（１）の搬送速度は、１０〜９０ｍ／ｍｉｎ、好ましくは１５〜８０ｍ／ｍｉｎであることが好ましい。
【００５０】
ここで、樹脂フィルム基材（１）の搬送速度が、１０ｍ／ｍｉｎ未満であれば、コスト面で不利であるので、好ましくない。また、樹脂フィルム基材（１）の搬送速度が、９０ｍ／ｍｉｎを超えると、同伴空気層が厚くなり、平面性の向上が難しくなるので、好ましくない。
【００５１】
紫外線照射用バックアップロール（２）表面の表面粗さ（Ｒａ）は、１〜１０μｍ、好ましくは２〜８μｍであることが好ましい。
【００５２】
ここで、紫外線照射用バックアップロール（２）表面の表面粗さ（Ｒａ）が、１μｍ未満であれば、フィルムとバックアップロールの摩擦力が低下し製品の平面性を損なうので、好ましくない。また、紫外線照射用バックアップロール（２）表面の表面粗さ（Ｒａ）が、１０μｍを超えると、同伴空気層を薄くすることが難しくなり、また、バックアップロール自体の凹凸によっても製品の平面性が損なわれるので、好ましくない。
【００５３】
上記の図１において、紫外線光源（１０）は、ランプボックス（３）を有し、その中には反射板（４）及び紫外線を発生するランプ（５）を内蔵している。ランプボックス（３）は、塗布工程で用いられた溶媒等の引火を防止するため防爆構造とすることが好ましく、また冷却機構を有することが好ましい。
【００５４】
また、反射板（４）は一般の集光型でもよいが、集光型の場合には光路上に拡散面を有するガラス板を設置することが好ましく、より好ましくは拡散型反射板を用いることである。
【００５５】
本発明において、ハードコートフィルムの紫外線照射ゾーンを２ケ所設けることにより、より一層、均一な紫外線を照射できるので、好ましい。
【００５６】
本発明において、紫外線を発生するランプ（５）、および反射板（４）の構成は、集光型、拡散型のどちらでも使えるが、集光型では、集光点での使用よりも集光拡散点での使用が好ましい。たゞし、照射ランプ（５）と透明樹脂フィルム基材（１）との距離が大きくなり、効率が低下する可能性があるため、光路上に拡散板を設置し、集光点で使用することも好ましい。さらに、拡散型（平行光型ともいう）は、紫外線の照射時間（ｔ）と照度（Ｗ）の関係を調整しやすいため、特に好ましい態様である。この場合でも拡散板を設置することもできる。
【００５７】
ここで、光源（１０）としては、紫外線を発生する光源であればいずれでも使用でき、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等の市販のランプを用いることができる。
【００５８】
また、照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０〜１００００ｍＪ／ｃｍ２程度あればよく、好ましくは、５０〜２０００ｍＪ／ｃｍ２ である。近紫外線領域から可視光線領域にかけてはその領域に吸収極大のある増感剤を用いることによって使用できる。
【００５９】
反射板（４）の材料としては、紫外線の透過率が低いもしくは紫外線を透過しない材料であればどのようなものでも良く、例えば、金属板、不透明樹脂板や紙等の種々の材料を用いることができる。反射板（４）は、耐久性、遮蔽性の観点から、好ましく金属板であり、鉄、銅、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、鉛、あるいはこれらの何れかを主成分とする合金等が挙げられるが、ステンレス板あるいはアルミニウム板が好ましく、特に紫外線光源側は鏡面加工が施してあることが好ましい。また、紫外線光源側に熱線を吸収して紫外線を反射する皮膜、例えばＴｉＯ２等の酸化金属蒸着膜を被着したコールドミラーで構成してもよい。
【００６０】
以下、本発明で用いられる材料について詳細に説明する。
【００６１】
本発明で用いられる樹脂フィルム基材（１）には、特に限定はなく、例えば、透明樹脂フィルムとしてポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルローストリアセテートあるいはセルロース誘導体からなるフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリスルホン系フィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルムあるいはポリアリレート系フィルム等を挙げることができる。
【００６２】
本発明においては、特に幅広の樹脂フィルム基材（１）に対して優れた効果を有し、特に幅１．４〜４ｍの樹脂フィルム基材（１）に対して好ましく適用される。また特に、樹脂フィルム基材（１）がセルロースエステルを含有するフィルムに対して優れた効果が期待できる。これはセルロースエステルフィルムは可塑剤等の添加物を有しており、塗布溶媒による溶解や膨潤を受けやすい性質がある。セルロースエステルフィルムとしては、セルロースアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）などが挙げられる。特に膜厚が１０〜６０μｍである薄膜フィルムではその影響が顕著であり、高度な平面性が要求されるハードコートフィルムの製造方法として、本発明の方法は優れた効果を発揮することができる。
【００６３】
以下、セルロースエステルフィルムの製膜法について述べる。セルロースエステルフィルムは一般的に、セルロースエステルフレーク原料及び可塑剤をメチレンクロライドに溶解して粘稠液とし、これに可塑剤を溶解してドープとなし、エクストルーダーダイスから、エンドレスに回転するステンレス等の金属ベルト（バンドともいう）上に流延して、乾燥させ、生乾きの状態でベルトから剥離し、ロール等の搬送装置により、両面から乾燥させて巻き取り、作られる。
【００６４】
本発明のハードコートフィルムの製造に用いられるセルロースエステルフィルムは、乾燥過程でテンター等の装置によってフィルムの端部を把持され、幅手方向に張力を付与して幅保持もしくは延伸されたものであることが、より高い平面性が得られるために好ましい。
【００６５】
本発明のハードコートフィルムの樹脂フィルム基材に用いられるセルロースエステルフィルムのセルロースエステル樹脂としては、セルロースの低級脂肪酸エステル樹脂であることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪酸が好ましく、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等がセルロースの低級脂肪酸エステルの特に好ましい例として挙げられる。
【００６６】
また、上記以外にも、特開平１０−４５８０４号公報、同８−２３１７６１号公報、米国特許第２，３１９，０５２号公報等に記載のセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることができる。上記記載の中でも、最も好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルとしては、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートプロピオネートである。
【００６７】
本発明において、セルロースエステルの数平均分子量は、７０，０００〜２５０，０００が、成型した場合の機械的強度が強くかつ適度なドープ粘度となるので好ましく、さらに好ましくは、８０，０００〜１５０，０００である。
【００６８】
本発明で用いられるセルロースエステルとしては、アセチル基及び／またはプロピオニル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸ、またプロピオニル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）及び（ＩＩ）を同時に満たすセルロースエステルが特に好ましい。
【００６９】
（Ｉ）    ２．５≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
（ＩＩ）      ０≦Ｙ≦１．２
アシル基の置換度の測定方法は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６の規定に準じて測定することができる。
【００７０】
セルロースエステルは綿花リンターから合成されたセルロースエステルと木材パルプから合成されたセルロースエステルのどちらかを単独あるいは任意の比率で混合して用いることができる。ベルトやドラムからの剥離性がもしくは問題になれば、ベルトやドラムからの剥離性が良い綿花リンターから合成されたセルロースエステルを多く使用すれば生産性が高く好ましい。木材パルプから合成されたセルロースエステルを混合して用いた場合、綿花リンターから合成されたセルロースエステルの比率が４０質量％以上で、剥離性の効果が顕著になるため好ましく、６０質量％以上がさらに、好ましく、単独で使用することが最も好ましい。
【００７１】
ドープを作製する際に使用される溶媒としては、セルロースエステルを溶解できる溶媒であれば何でもよく、また単独で溶解できない溶媒であっても他の溶媒と混合することにより、溶解できるものであれば使用することができる。一般的には良溶媒であるメチレンクロライドとセルロースエステルの貧溶媒からなる混合溶媒を用い、かつ混合溶媒中には貧溶媒を４〜３０質量％含有するものが好ましく用いられる。
【００７２】
このほか使用できる良溶媒としては、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができるが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物、ジオキソラン誘導体、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン等が好ましい有機溶媒（すなわち、良溶媒）として挙げられる。
【００７３】
セルロースエステルの貧溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等の炭素原子数１〜８のアルコール等を挙げることができ、これらの貧溶媒は単独もしくは２種以上を適宜組み合わせて用いることができる。
【００７４】
本発明で用いることのできる可塑剤としては特に限定しないが、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤などを用いることができる。
【００７５】
リン酸エステル系では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤として、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤として、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコール酸エステル系では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤として、トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−（２−エチルヘキシル）シトレート等あるいはトリメチロールプロパントリベンゾエート等を好ましく用いることができる。ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることができる。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキシルジカルボン酸などを用いることができる。
【００７６】
グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，２−ブチレングリコールなどを用いることができる。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。ポリエステルの分子量は重量平均分子量で５００〜２０００の範囲にあることが、セルロースエステルとの相溶性の点から好ましい。
【００７７】
また、２００℃における蒸気圧が１３３３Ｐａ未満の可塑剤を用いることが好ましく、より好ましくは蒸気圧６６６Ｐａ以下、さらに、好ましくは１〜１３３Ｐａの化合物である。不揮発性を有する可塑剤は特に限定されないが、例えばアリーレンビス（ジアリールホスフェート）エステル、リン酸トリクレシル、トリメリット酸トリ（２−エチルヘキシル）、上記ポリエステル可塑剤等が挙げられる。
【００７８】
これらの可塑剤は単独あるいは２種以上併用して用いることができる。
【００７９】
可塑剤の使用量は寸法安定性、加工性の点を考慮すると、セルロースエステルに対して、１〜４０質量％添加させることができ、３〜２０質量％の範囲で添加することが好ましく、さらに、好ましくは４〜１５質量％である。３質量％未満の場合は、スリット加工や打ち抜き加工した際、滑らかな切断面を得ることができず、切り屑の発生が多くなる。
【００８０】
本発明において、セルロースエステルフィルムには酸化防止剤や紫外線吸収剤などを添加することが好ましい。
【００８１】
上記酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレイト等が挙げられる。特に２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。これらの化合物の添加量は、セルロースエステルに対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍがさらに、好ましい。
【００８２】
また、この他、カオリン、タルク、ケイソウ土、石英、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルミナ等の無機微粒子、カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属の塩などの熱安定剤を加えてもよい。
【００８３】
本発明において、セルロースエステルフィルムは、その高い寸法安定性から、偏光板または液晶表示用部材等に使用されるが、偏光板または液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
【００８４】
紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。具体的には３８０ｎｍの透過率が１０％未満であることが好ましく、特に５％未満であることがより好ましい。
【００８５】
本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。また、特開平６−１４８４３０号公報、特開２００２−４７３５７号公報記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。あるいは特開平１０−１５２５６８号公報に記載されている紫外線吸収剤を用いることもできる。
【００８６】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、下記一般式〔１〕で示される化合物が好ましく用いられる。
【００８７】
【化１】
0005601200.tif 000002
【００８８】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５は、同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシル基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基、または５〜６員の複素環基を表し、Ｒ４とＲ５は、閉環して５〜６員の炭素環を形成してもよい。
【００８９】
また、上記記載のこれらの基は、任意の置換基を有していてよい。
【００９０】
以下に、本発明に用いられる紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、これらに限定されない。
ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）
ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）
ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）
以下に、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン
ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）
本発明に用いられるセルロースエステルフィルムでは、フィルムに滑り性を付与し、ロール状フィルムのブロッキングを防止するために微粒子を添加することが好ましい。
【００９１】
本発明において、微粒子としては、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙げられる。
【００９２】
無機化合物としては、珪素を含む化合物、二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が好ましく、さらに、好ましくは、ケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、セルロースエステル積層フィルムの濁度を低減できるので、二酸化珪素が特に好ましく用いられる。
【００９３】
二酸化珪素の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル株式会社製）等の市販品が使用できる。
【００９４】
酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上、日本アエロジル株式会社製）等の市販品が使用できる。
【００９５】
有機化合物としては、例えば、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマーが好ましく、中でも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。
【００９６】
上記記載のシリコーン樹脂の中でも、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上、東芝シリコーン株式会社製）等の商品名を有する市販品が使用できる。
【００９７】
微粒子の１次平均粒子径としては、ヘイズを低く抑えるという観点から、２０ｎｍ以下が好ましく、さらに好ましくは、５〜１６ｎｍであり、特に好ましくは、５〜１２ｎｍである。例えばアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖ（以上、日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されており、それらを好ましく使用することができる。
〔調製方法Ａ〕
溶剤と微粒子を撹拌混合したのち、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。微粒子分散液をドープ液に加えて撹拌する。
〔調製方法Ｂ〕
溶剤と微粒子を撹拌混合したのち、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。別に溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解する。このセルロースエステル溶液に、前記微粒子分散液を加えて撹拌する。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する。
〔調製方法Ｃ〕
溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解する。これに微粒子を加えて分散機で分散を行う。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する。
【００９８】
調製方法Ａは、二酸化珪素微粒子の分散性に優れ、調製方法Ｃは、二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい点で優れている。中でも、上記記載の調製方法Ｂは、二酸化珪素微粒子の分散性と、二酸化珪素微粒子がさらに再凝集しにくい等、両方に優れている好ましい調製方法である。
〔分散方法〕
二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散する時の二酸化珪素の濃度は、５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％がさらに好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度は高い方が、添加量に対する液濁度は低くなる傾向があり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【００９９】
使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。
【０１００】
セルロースエステルに対する二酸化珪素微粒子の添加量はセルロースエステル１００質量部に対して、二酸化珪素微粒子は０．０１〜０．３質量部が好ましく、０．０５〜０．２質量部がさらに好ましく、０．０８〜０．１２質量部が最も好ましい。添加量は多い方が、動摩擦係数に優れ、添加量が少ない方がヘイズが低く、凝集物も少ない点が優れている。
【０１０１】
分散機は通常の分散機が使用できる。分散機は大きく分けてメディア分散機とメディアレス分散機に分けられる。二酸化珪素微粒子の分散にはメディアレス分散機がヘイズが低く好ましい。
【０１０２】
メディア分散機としてはボールミル、サンドミル、ダイノミルなどが挙げられる。
【０１０３】
メディアレス分散機としては超音波型、遠心型、高圧型などがあるが、特に、高圧分散装置が好ましい。高圧分散装置は、微粒子と溶媒を混合した組成物を、細管中に高速通過させることで、高剪断や高圧状態など特殊な条件を作りだす装置である。高圧分散装置で処理する場合、例えば、管径１〜２０００μｍの細管中で装置内部の最大圧力条件が９．８０７ＭＰａ以上であることが好ましい。さらに、好ましくは１９．６１３ＭＰａ以上である。またその際、最高到達速度が１００ｍ／秒以上に達するもの、伝熱速度が４２０ｋＪ／時間以上に達するものが好ましい。
【０１０４】
上記のような高圧分散装置にはＭｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製超高圧ホモジナイザ（商品名マイクロフルイダイザ）あるいはナノマイザ社製ナノマイザがあり、他にもマントンゴーリン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホモジナイザ、三和機械株式会社製のＵＨＮ−０１等が挙げられる。
【０１０５】
また、これらの微粒子はフィルムの厚味方向で均一に分布していてもよいが、より好ましくは主に表面近傍に存在するように分布していることが好ましく、例えば、共流延法により、２種以上のドープを用いて、微粒子を主に表層側に配置されたドープに添加することが、滑り性が高く、ヘイズが低いフィルムが得られるので好ましい。好ましくは３種のドープを使用して表層側の少なくとも１つのドープもしくは表層側の２つのドープに主に微粒子を添加することが望ましく、中心層を形成するドープには微粒子がほとんど含まれないか、まったく含まれないことが好ましい。可塑剤あるいは紫外線吸収剤などでブリードアウトの恐れがある添加剤は主に中心層を形成するドープに添加し、表層側の２つのドープには中心層を形成するドープには微粒子がほとんど含まれないか、全く含まれないことが好ましい。可塑剤あるいは紫外線吸収剤などでブリードアウトの恐れがある添加剤は主に中心層を形成するドープに添加し、表層側の２つのドープには中心層を形成するドープへの添加量に対して８０質量％未満の添加量とすることが好ましく、より好ましくは５０質量％未満とすることであり、ほとんど添加しないかまったく添加しないことが、工程汚染を防止する点でより好ましい。
【０１０６】
このような製膜工程で得られたセルロースエステルフィルムを一度巻き取ったのち、あるいは巻き取ることなく連続的に、本発明のハードコートフィルムの製造方法によって、塗布層を設けることができる。
【０１０７】
つぎに、ハードコート層の一例として、紫外線線硬化樹脂層について説明する。紫外線線硬化樹脂層とは、紫外線照射により架橋反応などを経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。
【０１０８】
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物にさらに、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば特開昭５９−１５１１１０号公報）。
【０１０９】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば、特開昭５９−１５１１１２号公報）。
【０１１０】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させたものを挙げることができる（例えば、特開平１−１０５７３８号公報）。この光反応開始剤としては、ベンゾイン誘導体、オキシムケトン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体等のうちから、１種もしくは２種以上を選択して使用することができる。
【０１１１】
また、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。これらの樹脂は通常公知の光増感剤と共に使用される。また上記光反応開始剤も光増感剤としても使用できる。具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、テトラメチルウラムモノサルファイド、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。また、エポキシアクリレート系の光反応剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。紫外線硬化性樹脂組成物に用いられる光反応開始剤また光増感剤は該組成物１００質量部に対して０．１〜１５質量部であり、好ましくは１〜１０質量部である。
【０１１２】
本発明においては、紫外線を発生する光源であればいずれでも使用できる。例えば、前記した低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０〜１００００ｍＪ／ｃｍ２程度あればよく、好ましくは、５０〜２０００ｍＪ／ｃｍ２ ある。近紫外線領域から可視光線領域にかけてはその領域に吸収極大のある増感剤を用いることによって使用できる。
【０１１３】
また、紫外線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、さらに、好ましくは幅手方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は３０〜４００Ｎ／ｍが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックアップロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅手方向、もしくは２軸方向に張力を付与してもよい。これによってさらに、平面性が優れたフィルムを得ることができる。
【０１１４】
さらに、紫外線を照射する際の雰囲気温度を１５〜４５℃の範囲にすることが好ましい。４５℃を超えると熱のために平面性が劣化しやすい。上記温度範囲にするために、紫外線照射ゾーンに温度制御可能な送風装置を組み込むことができる。
【０１１５】
この紫外線線硬化樹脂層に、表示装置パネルの表面に防眩性を与えるために、また他の物質との密着性を防ぐために、あるいは耐擦り傷性付与のために、無機あるいは有機の微粒子を加えることもできる。例えば、無機粒子としては酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等を挙げることができ、また有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、あるいはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を紫外線硬化性樹脂組成物に加えることができる。これらの粒子粉末の平均粒径としては、０．０１〜１０μｍであり、紫外線硬化樹脂組成物と微粒子粉末との割合は、樹脂組成物１００質量部に対して、０．１〜２０質量部となるように配合することが望ましい。防眩効果を付与するには、平均粒径０．１〜３μｍ、樹脂組成物１００質量部に対して１〜１５質量部が好適である。
【０１１６】
またさらに、ブロッキング防止機能を果たすものとして、あるいは微細な凹凸を形成するため上述したものと同じ成分で、体積平均粒径０．００５〜０．１μｍの粒子を樹脂組成物１００質量部に対して０．１〜５質量部、併せて用いることもできる。
【０１１７】
塗布液に含まれる有機溶媒は紫外線照射前に蒸発させるため、乾燥工程を必要とする。
【０１１８】
塗布液として使用できる有機溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、シクロヘキサノールなどのアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル、乳酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、酪酸エチルなどのエステル類、グリコールエーテル類（プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテル、具体的には、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等、またプロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステル、具体的には、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等、その他、トルエン、ベンゼン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン等の炭化水素類の溶媒などが挙げられる。特にこれらに限定されるものではないが、これらを適宜混合した溶媒が好ましく用いられる。
【０１１９】
紫外線線硬化樹脂を含有する塗布液の塗布方法としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター等公知の方法を用いることができる。塗布量はウェット膜厚で０．１〜３０μｍが適当で、好ましくは、０．５〜１５μｍである。
【０１２０】
紫外線線硬化樹脂を含有する塗布液は塗布乾燥されたのち、紫外線を照射するが、照射の条件は前述した通りである。照射時間に特に制限はないが、０．１秒〜５分が好ましく、硬化性樹脂の硬化効率、作業効率等から０．１秒〜１分がより好ましい。
【０１２１】
本発明において、紫外線線硬化樹脂を含有する塗布液には好ましくは有機溶媒が用いられる。このとき、樹脂フィルム基材（１）を溶解もしくは膨潤させる性質を有する溶媒を用いることが塗設された層と樹脂フィルム基材（１）との密着性に優れるため好ましく用いられる。溶剤としては前述の溶剤が用いられる。
（反射防止フィルム）
本発明のクリアーハードコートフィルムのハードコート層上に、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮した反射防止層を積層してもよい。反射防止層は、例えば、透明フィルム基材よりも屈折率の高い高屈折率層と、透明フィルム基材よりも屈折率の低い低屈折率層等から構成される。また、ハードコート層が高屈折率層を兼ねてもよい。
【０１２２】
本発明のハードコートフィルムの製造方法により製造されたハードコート層上に高屈折率層あるいは低屈折率層などの反射防止層を塗設して、反射防止フィルムを形成することにより、反射光の色むらが著しく改善された反射防止フィルムが得られる。
【０１２３】
低屈折率層は、下記に記載する特に内部が多孔質または空洞である少なくとも１種の中空シリカ微粒子を含有することで、耐久試験後の密着に優れた反射防止フィルムを形成することができる。また、反射防止フィルムはハードコート層と、低屈折率層との間に、高屈折率層が介在させられていてもよい。
（低屈折率層）
つぎに、低屈折率層について説明する。低屈折率層は、透明フィルム基材の屈折率より低い層を低屈折率層という。具体的な屈折率としては、２３℃、波長５５０ｎｍで１．３０〜１．４５の範囲のものが好ましい。また、低屈折率層の膜厚は、光学干渉層としての特性から、５ｎｍ〜０．５μｍが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍがより好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍであることがさらに好ましい。低屈折率層には中空シリカ粒子を含有させることが、耐久試験後の密着、低屈折率化といった光学干渉層としての特性からも好ましい。中空シリカ粒子（以下、中空粒子とも言う）は、（１）多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、または（２）内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体または多孔質物質で充填された空洞粒子である。
【０１２４】
低屈折率層を形成する塗布組成物には、有機溶媒を含有することが好ましい。具体的な有機溶媒の例としては、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、及びブタノールが特に好ましい。
【０１２５】
低屈折率層を形成する塗布組成物中の固形分濃度は、１〜４質量％であることが好ましく、固形分濃度を４質量％以下とすることによって、塗布むらが生じにくくなり、１質量％以上とすることによって、乾燥負荷が軽減される。
【０１２６】
低屈折率層を形成する塗布組成物には、他のシリカ粒子を含有することもできる。ここで、他のシリカ粒子としては、特に限定されるものではないが、コロイダルシリカ等が挙げられる。コロイダルシリカの具体例としては、二酸化ケイ素をコロイド状に水または有機溶媒に分散させたものであり、特に限定はされないが球状、針状または数珠状である。
【０１２７】
コロイダルシリカの平均粒径は５０〜３００ｎｍの範囲が好ましく、変動係数が１〜４０％の単分散であることが好ましい。平均粒径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。
【０１２８】
コロイダルシリカは、市販されており、例えば日産化学工業社のスノーテックスシリーズ、触媒化成工業社のカタロイド−Ｓシリーズ、バイエル社のレバシルシリーズ等が挙げられる。また、アルミナゾルや水酸化アルミニウムでカチオン変性したコロイダルシリカやシリカの一次粒子を２価以上の金属イオンで粒子間を結合し、数珠状に連結した数珠状コロイダルシリカも好ましく用いられる。数珠状コロイダルシリカは日産化学工業社のスノーテックス−ＡＫシリーズ、スノーテックス−ＰＳシリーズ、スノーテックス−ＵＰシリーズ等があり、具体的にはＩＰＳ−ＳＴ−Ｌ（イソプロパノール分散、粒子径４０〜５０ｎｍ、シリカ濃度３０％）、ＭＥＫ−ＳＴ−ＭＳ（メチルエチルケトン分散、粒子径１７〜２３ｎｍ、シリカ濃度３５％）等が挙げられる。低屈折率層形成塗布組成物にコロイダルシリカを含有させる場合、低屈折率層中の固形分に対し１０〜６０質量％、さらには３０〜６０質量％であることが膜強度の点から、好ましい。
【０１２９】
また、その他の無機微粒子を含有してもよく、例えば、ＭｇＦ２が挙げられ、具体的には日産化学工業社製のＭＦＳ−１０Ｐ（イソプロピルアルコール分散フッ化マグネシウムゾル、粒子系１００ｎｍ）、ＮＦ−１０Ｐ等が挙げられる。
【０１３０】
また、低屈折率層形成塗布組成物には、低屈折率層中の固形分に対し、５〜８０質量％のバインダーを含むことが好ましい。バインダーは、中空シリカ粒子等の粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。バインダーの使用量は、空隙を充填することなく、低屈折率層の強度を維持できるように調整する。
【０１３１】
バインダーとしては、アルコキシ金属化合物、及びその加水分解物あるいはその重縮合物、また、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂、フルオロアクリレート、含フッ素ポリマー等を挙げられる。フッ素ポリマーとしては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類〔例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等〕、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。これらの中で好ましくは、パーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
【０１３２】
本発明の製造方法により得られる反射防止フィルムの層構成としては、下記の例が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。このうち、クリアハードコート層、防眩性ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層のうち少なくとも１層は塗布乾燥の後、紫外線照射し硬化する層とすることができる。反射防止層はＴｉやＳｉのどの金属アルコキシドを用いたゾルゲル法で形成してもよく、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｉｎ等の金属酸化物微粒子とバインダーを含む組成物を塗設してもよい。
【０１３３】
バックコート層／樹脂フィルム基材／クリアハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
バックコート層／樹脂フィルム基材／クリアハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
帯電防止層／樹脂フィルム基材／クリアハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
バックコート層／樹脂フィルム基材／防眩性ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
バックコート層／樹脂フィルム基材／防眩性ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
帯電防止層／樹脂フィルム基材／防眩性ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
（反射防止フィルムの反射率）
上記した反射防止フィルムの反射率は、分光光度計により測定を行なうことができる。その際、サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーを用いて光吸収処理を行なってから、可視光領域（４００〜７００ｎｍ）の反射光を測定する。反射率は低いほど好ましいが、可視光領域の波長における平均値が２．５％以下であることが好ましく、最低反射率は１．５％以下であることが好ましい。可視光の波長領域において、平坦な形状の反射スペクトルを有することが好ましい。
【０１３４】
また、反射防止処理を施した表示装置表面の反射色相は、反射防止膜の設計上可視光領域において短波長域や長波長域の反射率が高くなることから赤や青に色づくことが多いが、反射光の色味は用途によって要望が異なり、薄型テレビ等の最表面に使用する場合にはニュートラルな色調が好まれる。
【０１３５】
本発明によって得られたハードコートフィルム、及び反射防止フィルムは、縦ツレ等のシワの発生がなく、平面性に優れるため、特に液晶表示装置、あるいは有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイの前面に用いられる反射防止フィルムあるいは防眩フィルム、クリアハードコートフィルムとして有用であり、優れた視認性を提供することができ、これらを偏光板保護フィルムとして用いた偏光板あるいは表示装置を提供することができる。
【実施例】
【０１３６】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１
〔透明樹脂フィルム基材の作製〕
（ドープ組成物）
セルローストリアセテート（アセチル置換度２．８８）    １００質量部
エチルフタリルエチルグリコレート                          ５質量部
チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）  １質量部
チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）  １質量部
酸化珪素微粒子（アエロジル２００Ｖ）                  ０．１質量部
メチレンクロライド                                    ４３０質量部
メタノール                                              ９０質量部
上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温し、撹伴しながら完全に溶解した。【０１３７】
つぎに、このドープ組成物を濾過し、冷却して、温度３３℃に保ち、流延ダイからステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる支持体上に均一に流延し、流延膜（ウェブ）を剥離が可能になるまで溶媒を蒸発させたところで、支持体上からウェブを剥離したのち、ウェブをテンターによって幅把持しながら乾燥させ、ついで、ウェブを幅手方向で１．１倍となるように延伸し、さらに、多数のロールで搬送させながら、ウェブ（フィルム）乾燥を終了させ、膜厚４０μｍ、幅１．５ｍの透明樹脂フィルム基材を得た。このとき、ステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる支持体に接している面をｂ面とし、もう一方の面をａ面とする。
（クリアハードコート層の形成）
（クリアハードコート層塗布組成物）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体          ６０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体          ２０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分２０質量部
イルガキュア１８４                                        ２質量部
（チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）
イソプロピルアルコール                                  ５０質量部
酢酸エチル                                              ５０質量部
メチルエチルケトン                                      ５０質量部
上記作製した透明樹脂フィルムのｂ面に、上記クリアハードコート層塗布組成物を押し出しコートし、ついで温度８０℃に設定された乾燥部で乾燥したのち、図１に記載の紫外線照射設備を使用して紫外線を照射した。【０１３８】
この実施例では、樹脂フィルム基材（１）に塗設されたハードコート層が紫外線照射により硬化する過程において、樹脂フィルム基材（１）と紫外線照射用バックアップロール（２）との間隙の同伴空気層の平均厚さを、４μｍとした。【０１３９】
ここで、同伴空気層の平均厚さは、レーザー変位計（キーエンス社製、ＬＴ−９５００）にてフィルム背面と樹脂フィルム基材（１）の位置を測定し、その差から求めた。そのレーザー変位計による測定は、バックアップロール（２）の中心軸とランプ（５）の中心軸とを結ぶ仮想平面とバックアップロール（２）表面および樹脂フィルム基材（１）とが交差する領域で行った。より具体的には、幅手方向の中心位置、並びに、当該中心位置から幅手方向に２０ｃｍ間隔の各位置において、樹脂フィルム基材（１）を搬送しながら同伴空気層の厚さを５回測定し、その全ての測定値を平均することにより、同伴空気層の平均厚さとした。【０１４０】
なお、紫外線照射用バックアップロール（２）の半径は、０．２５ｍであり、該バックアップロール（２）表面の表面粗さ（Ｒａ）を、表面粗さ計（ミツトヨ社製、ＳＪ−２０１）により測定したところ、５μｍであった。さらに、該バックアップロール（２）表面の表面粗さ（Ｒａ）と、バックアップロール（２）表面に形成された凹凸の最大高さ（Ｒｙ）との関係：Ｒｙ／Ｒａは、３．０であった。【０１４１】
また、紫外線照射用バックアップロール（２）と樹脂フィルム基材（１）との実質接触面積は、これらの見かけ接触面積の０．５％であった。【０１４２】
紫外線照射装置（３）は、図１に記載の構成とし、バックアップロール（２）表面の温度が２５℃となるように設定し、バックアップロール（２）と透明樹脂フィルム（１）が接している１８０度の範囲を光源で照らせるように、紫外線光源（１０）（アイグラフィック株式会社製、高圧水銀タイプで出力３ｋＷ）を、透明樹脂フィルム（１）表面から５０ｍｍ離れた位置に配置した。またこのときの樹脂フィルム基材（１）の搬送速度を１５ｍ／ｍｉｎとした。【０１４３】
こうして、膜厚４０μｍの透明樹脂フィルム（１）の表面上に、ドライ膜厚１０μｍのクリアハードコート層を形成し、ハードコートフィルムを得た。なおこの場合、クリアハードコート層のドライ膜厚は、樹脂フィルム基材（１）の膜厚の２５％であった。
実施例２
上記実施例１の場合と同様にして、ハードコートフィルムを作製するが、下記の表１に示すように、バックアップロール（２）表面の表面粗さ（Ｒａ）と、バックアップロール（２）表面に形成された凹凸の最大高さ（Ｒｙ）との関係：Ｒｙ／Ｒａを、それぞれ変化させて実施した。
実施例３
上記実施例１の場合と同様にして、ハードコートフィルムを作製するが、下記の表１に示すように、樹脂フィルム基材（１）と紫外線照射用バックアップロール（２）との間隙の同伴空気層の平均厚さ、並びにバックアップロール（２）表面の表面粗さ（Ｒａ）と、バックアップロール（２）表面に形成された凹凸の最大高さ（Ｒｙ）との関係：Ｒｙ／Ｒａを、それぞれ変化させて実施した。
実施例４と５
上記実施例１の場合と同様にして、ハードコートフィルムを作製するが、下記の表１に示すように、樹脂フィルム基材（１）と紫外線照射用バックアップロール（２）との間隙の同伴空気層の平均厚さ、並びにバックアップロール（２）の半径を、それぞれ変化させて実施した。
実施例６と７
上記実施例１の場合と同様にして、ハードコートフィルムを作製するが、下記の表１に示すように、樹脂フィルム基材（１）と紫外線照射用バックアップロール（２）との間隙の同伴空気層の平均厚さ、並びにバックアップロール（２）の搬送速度を、それぞれ変化させて実施した。
実施例８と９
上記実施例１の場合と同様にして、ハードコートフィルムを作製するが、下記の表１に示すように、樹脂フィルム基材（１）と紫外線照射用バックアップロール（２）との間隙の同伴空気層の平均厚さ、並びにバックアップロール（２）の表面粗さ（Ｒａ）を、それぞれ変化させて実施した。
比較例１
比較のために、上記実施例１の場合と同様にして、ハードコートフィルムを作製するが、下記の表１に示すように、比較例１では、樹脂フィルム基材（１）と紫外線照射用バックアップロール（２）との間隙の同伴空気層の平均厚さを本発明の範囲外のものとするとともに、バックアップロール（２）表面の表面粗さ（Ｒａ）と、バックアップロール（２）表面に形成された凹凸の最大高さ（Ｒｙ）との関係：Ｒｙ／Ｒａを、変化させて実施した。【０１４４】
この比較例１では、紫外線照射用バックアップロール（２）と樹脂フィルム基材（１）との実質接触面積は、これらの見かけ接触面積の０．０５％であった。【０１４５】
こうして、透明樹脂フィルム（１）の表面上にドライ膜厚１０μｍのクリアハードコート層を形成し、ハードコートフィルムを得た。なお、クリアハードコート層のドライ膜厚は、樹脂フィルム基材（１）の膜厚の２５％であった。
比較例２
比較のために、上記実施例１の場合と同様にして、ハードコートフィルムを作製するが、下記の表１に示すように、比較例２では、樹脂フィルム基材（１）と紫外線照射用バックアップロール（２）との間隙の同伴空気層の平均厚さを本発明の範囲外のものとするとともに、バックアップロール（２）の半径を、変化させて実施した。
比較例３
比較のために、上記実施例１の場合と同様にして、ハードコートフィルムを作製するが、下記の表１に示すように、比較例３では、樹脂フィルム基材（１）と紫外線照射用バックアップロール（２）との間隙の同伴空気層の平均厚さを本発明の範囲外のものとするとともに、バックアップロール（２）の搬送速度を、変化させて実施した。
比較例４
比較のために、上記実施例１の場合と同様にして、ハードコートフィルムを作製するが、下記の表１に示すように、比較例４では、樹脂フィルム基材（１）と紫外線照射用バックアップロール（２）との間隙の同伴空気層の平均厚さを本発明の範囲外のものとするとともに、バックアップロール（２）の表面粗さ（Ｒａ）を、変化させて実施した。
（ハードコートフィルムの評価テスト）
つぎに、上記実施例１〜９、及び比較例１〜４で作製した各種ハードコートフィルムについて、下記の評価テストを行い、得られた結果を下記の表１にあわせて示した。
（クリアハードコート層の評価）
（平面性）
各ハードコートフィルムの試料を、幅９０ｃｍ、長さ１００ｃｍの大きさに切り出し、５０Ｗ蛍光灯を５本並べて試料台に４５°の角度から照らせるように、高さ１．５ｍの高さに固定し、試料台の上に各ハードコートフィルム試料を置き、フィルム表面に反射して見える凹凸を目で見て、つぎのように目視評価により判定した。この方法によって「縦ツレ」の判定ができる。得られた結果を、下記の表１にあわせて示した。【０１４６】
◎：縦ツレが生じていない
○：注意して観察すると縦ツレが若干見られる
△：縦ツレが見られる。【０１４７】
×：縦ツレが目立つ【０１４８】
【表１】
0005601200.tif 000003
【０１４９】
上記の表１の結果より明らかなように、本発明による実施例１〜９で作製したハードコートフィルムは、縦ツレが生じていないか、または注意して観察すると縦ツレが若干見られる程度であり、比較例１〜４で作製したハードコートフィルムに対し、クリアハードコート層を塗設した状態において平面性が良好であった。
（反射防止フィルムの作製）
つぎに、上記実施例１〜９、及び比較例１〜４による各種ハードコートフィルムについて、ハードコート層の表面上に、下記の低屈折率層をそれぞれ形成し、反射防止フィルムを作製した。
（低屈折率層形成用塗布組成物）
テトラエトキシシラン加水分解物Ａ                    １０２０質量部
末端反応性ジメチルシリコーンオイル                  ０．４２質量部
（日本ユニカー社製Ｌ−９０００）
プロピレングリコールモノメチルエーテル              ２７００質量部
イソプロピルアルコール                              ６３００質量部
上記クリアハードコート層を有する各種ハードコートフィルム上に、低屈折率層形成用塗布組成物を、ダイを用いて塗布し、温度１２０℃で乾燥したのち、クリアハードコート層形成時と同様にして、紫外線照射を行い、低屈折率層を硬化させて、低屈折率層（厚さ：０．０９３μｍ）を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０１５０】
低屈折率層の屈折率と膜厚は、分光光度計はＵ−４０００型（日立製作所製）を用いて行ない、低屈折率層の屈折率は、１．４５であった。
（反射防止フィルムの評価）
上記実施例１〜９、及び比較例１〜４による各種ハードコートフィルムを用いて作製した各種反射防止フィルムの反射防止層を塗設したのとは反対側の面に黒いアクリル板を貼り付け、反射防止層塗設面側表面を強い白色光源で照射し、目視による色むら発生の有無を確認し、さらに、アクリル板を外し、透過光による色むら発生の有無を確認し、下記の基準により、色むらの評価を行い、得られた結果を、上記の表１にあわせて示した。【０１５１】
◎：黒アクリル板貼付品でも、色むらの発生は認められない
○：黒アクリル板貼付品で極弱い色むらが認められるが、
透過光による観察では色むらが認められない
△：黒アクリル板貼付品の一部で色むらが認められるが、
実用上許容の範囲にある
×：黒アクリル板貼付品及び透過光による観察で色むらが
はっきりと認められ、実用上問題がある
上記表１の結果から明らかなように、本発明の実施例１〜９によるハードコートフィルムを用いて作製した反射防止フィルムでは、評価結果が「◎」または「○」であり、ハードコート層の表面上に反射防止層を塗設した状態でも、色むらの発生がなく、塗膜の均一性に優れていることが分かった。【０１５２】
これに対し、比較例１〜４によるハードコートフィルムを用いて作製した反射防止フィルムでは、評価結果がいずれも「×」または「△」であり、ハードコート層の表面上に反射防止層を塗設した状態で、色むらの発生が見られ、塗膜の均一性に劣るものであった。
【符号の説明】
【０１５３】
１：樹脂フィルム基材
２：バックアップロール
３：ランプボックス
４：反射板
５：紫外線照射ランプ
１０：紫外線光源
【図１】
0005601200.tif 000004
【図２】
0005601200.tif 000005