(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の第１面側に位置する第１の有機ＥＬ素子と、前記第１の有機ＥＬ素子と隣り合う第２の有機ＥＬ素子と、
前記第１の有機ＥＬ素子を覆う、側面の少なくとも一部に逆テーパー形状を備える第１のカラーフィルターと、
前記第２の有機ＥＬ素子を覆う、前記第１のカラーフィルターよりも厚く、かつ前記第１のカラーフィルターと嵌合し、前記第１のカラーフィルターが透過する波長の光を遮断する第２のカラーフィルターと、
を含むことを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項２】
請求項１に記載の有機ＥＬ装置であって、前記第２のカラーフィルターは、前記第１のカラーフィルターより盛り上がり、前記第１のカラーフィルターより突き出た領域では、前記第２の有機ＥＬ素子から厚み方向に離れる方向に対して前記第２のカラーフィルターが広がっていく逆テーパー形状を備えることを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の有機ＥＬ装置であって、
前記第１の有機ＥＬ素子は、前記第１のカラーフィルターが透過する波長の光と揃えられた光路長を備えた位置に光の一部を透過する第１の半透過反射器を備え、
前記第２の有機ＥＬ素子は、前記第２のカラーフィルターが透過する波長の光と揃えられた光路長を備えた位置に光の一部を透過する第２の半透過反射器を備えることを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項４】
第１の有機ＥＬ素子と、前記第１の有機ＥＬ素子と隣り合う第２の有機ＥＬ素子とを第１面側に備える基板を形成する工程と、
前記第１の有機ＥＬ素子を覆う、逆テーパー形状を備えた第１のカラーフィルターを形成する工程と、
前記基板の前記第１面側に、第２のカラーフィルター前駆体を塗布し、前記第１のカラーフィルターの側面を前記第２のカラーフィルター前駆体で充填する工程と、
を含み、
前記第２のカラーフィルター前駆体で充填する工程または逆テーパー状に加工する工程の後で、前記第２のカラーフィルター前駆体を１００℃以上１２０℃以下の温度で、３０分以上１５０分以下の時間加熱する工程と、
をさらに含み、
前記第２のカラーフィルター前駆体を加熱してなる第２のカラーフィルターの厚みが、前記第１のカラーフィルターよりも厚いことを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載の有機ＥＬ装置の製造方法であって、前記第２のカラーフィルター前駆体で充填する工程の後で、前記第２のカラーフィルター前駆体の側面のうち開放されている領域を逆テーパー状に加工する工程と、をさらに含むことを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置を備えることを特徴とする電子機器。
【請求項７】
請求項４または請求項５に記載の有機ＥＬ装置の製造方法を用いて形成された有機ＥＬ装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ装置、有機ＥＬ装置の製造方法、ならびに電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
ヘッドマウントディスプレイ（ＨＭＤ）や電子ビューファインダー（ＥＶＦ）、モバイルミニプロジェクター向けとして軽量で薄く、バックライトを必要としない表示素子として、例えば７μｍ以下の寸法を備える有機ＥＬ素子を集積した高精細マイクロディスプレイ（有機ＥＬ装置）が求められている。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、自発光を行う素子であり、バックライトを必要とする液晶素子と比べ、薄膜化、軽量化することができる。加えて、自発光素子の特徴として、黒の再現に優れると共に、斜め方向に射出される光に対しても、正面から射出される光の色と同様な光の色が射出される。このような素子を集積した有機ＥＬ装置は、液晶装置よりも画質において優れた部分を備えている。有機ＥＬ装置をカラー画像に対応させるため、基板本体に保護層を備えた有機ＥＬ素子の射出面にカラーフィルターを重ね、カラー画像に対応させる構成が特許文献１に開示されている。
【０００４】
そして、各有機ＥＬ素子の射出面に対し、斜め方向に発せられる光による混色を抑えるため、各有機ＥＬ素子の間を光学的に遮断するブラックマトリックスが用いられている。ブラックマトリックスを構成する物質としては、メタル系材料として例えばクロムが使用される。この場合、一旦クロムの膜を形成した後、フォトレジストをマスクとしてエッチングすることでブラックマトリックスを得る方法が公知である。
【０００５】
また、フォトレジストとして黒い樹脂を用いたものを用いて、直接露光・エッチングを行い、ブラックマトリックスを形成する方法が公知である（例えば、特許文献２、特許文献３参照）。
【０００６】
また、カラーフィルターを２層重ねて、ブラックマトリックスを構成する方法が一般に知られている。カラーフィルターは、定められた波長域の光以外を遮断するため、カラーフィルターを２層重ねることで、光の混色を実用上十分に抑えることができる。特に、有機ＥＬ素子を用いる場合、有機ＥＬ素子の射出面の法線方向に、高い指向性を持って光が射出されるため、カラーフィルターを２層重ねる方法は、斜め方向に光が射出されることで生じる光の混色を削減するために有効な方法となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−７２９０５号公報
【特許文献２】特開２００８−１５２１８２号公報
【特許文献３】特開２００８−１８１９０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、ブラックマトリックスの構成材としてメタル系材料を用いた場合、メタル系材料は一般に高温での成膜工程を必要とする。そのため、有機ＥＬ素子が損傷を受けるので適用が困難である。加えて、メタル系材料を用いる場合、別途フォトレジストを用いてメタル系材料をエッチングする必要が生じる。そのため、製造工程数が増えるという課題がある。
また、黒い樹脂を用いた場合、黒は光を吸収するため、黒い樹脂を塗布・乾燥させたものをブラックマトリックス前駆体として露光する場合、ブラックマトリックス前駆体の基板側と露出面側とで露光に用いる光の強度は光の吸収のため、異なる値を取る。そのため、露光後、現像してブラックマトリックスを形成すると、光強度と相関した断面形状が形成され、不良が発生するという課題がある。
【０００９】
また、カラーフィルターを２層重ねる技術は、カラーフィルターが重なった領域の厚さが、概ね２層の厚みの和となるため周囲から突出することとなる。そして、以降のプロセスはこの段差を含んだ状態で行われる。そのため、この工程を用いて形成した有機ＥＬ装置は表示画質が低くなり、例えば斑が生じるという課題がある。特に、この課題は、画素密度を高める微細構造を備える場合に大きな影響を及ぼすものとなる。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【００１１】
［適用例１］本適用例にかかる有機ＥＬ装置は、基板の第１面側に位置する第１の有機ＥＬ素子と、前記第１の有機ＥＬ素子と隣り合う第２の有機ＥＬ素子と、前記第１の有機ＥＬ素子を覆い、側面の少なくとも一部に逆テーパー形状を備える第１のカラーフィルターと、前記第２の有機ＥＬ素子を覆い、前記第１のカラーフィルターが備える逆テーパー形状の領域と前記基板との隙間を埋める形状を備える、前記第１のカラーフィルターが透過する波長の光を遮断する第２のカラーフィルターと、を含むことを特徴とする。
【００１２】
これによれば、第１のカラーフィルターと第２のカラーフィルターとが重なる領域が光を遮断する領域となるため、有機ＥＬ素子が斜め方向に射出する光を遮断することができる。そのため、隣り合う有機ＥＬ素子への光の浸入に起因する混色を防止することが可能となる。
【００１３】
［適用例２］本適用例にかかる有機ＥＬ装置は、基板の第１面側に位置する第１の有機ＥＬ素子と、前記第１の有機ＥＬ素子と隣り合う第２の有機ＥＬ素子と、前記第１の有機ＥＬ素子を覆う、側面の少なくとも一部に逆テーパー形状を備える第１のカラーフィルターと、前記第２の有機ＥＬ素子を覆う、前記第１のカラーフィルターよりも厚く、かつ前記第１のカラーフィルターと嵌合し、前記第１のカラーフィルターが透過する波長の光を遮断する第２のカラーフィルターと、を含むことを特徴とする。
【００１４】
これによれば、第１のカラーフィルターと第２のカラーフィルターとが嵌合しているため、特に第１の有機ＥＬ素子から斜め方向に射出された光についても遮断されることとなる。従って、隣り合う有機ＥＬ素子への光の浸入に起因する混色を防止することが可能となる。
【００１５】
［適用例３］上記適用例にかかる有機ＥＬ装置であって、前記第２のカラーフィルターは、前記第１のカラーフィルターより盛り上がり、前記第１のカラーフィルターより突き出た領域では、前記第２の有機ＥＬ素子から厚み方向に離れる方向に対して前記第２のカラーフィルターが広がっていく逆テーパー形状を備えることを特徴とする。
【００１６】
上記した適用例によれば、第１のカラーフィルター、第２のカラーフィルターとも側面が開放されている場合に、逆テーパー形状をなす製造条件で形成できるため、プロセス開発にかける費用や時間を短縮することが可能となる。
【００１７】
［適用例４］上記適用例にかかる有機ＥＬ装置であって、前記第１の有機ＥＬ素子は、前記第１のカラーフィルターが透過する波長の光と揃えられた光路長を備えた位置に光の一部を透過する第１の半透過反射器を備え、前記第２の有機ＥＬ素子は、前記第２のカラーフィルターが透過する波長の光と揃えられた光路長を備えた位置に光の一部を透過する第２の半透過反射器を備えることを特徴とする。
【００１８】
上記した適用例によれば、第１の有機ＥＬ素子は第１の波長域の光を相対的に強化して射出し、第２の有機ＥＬ素子は第２の波長域の光を相対的に強化して射出する。そのため、混色を起こす光成分を予め低減させた状態をとるため、混色の発生を抑制することが可能となる。
【００１９】
［適用例５］本適用例にかかる有機ＥＬ装置の製造方法は、第１の有機ＥＬ素子と、前記第１の有機ＥＬ素子と隣り合う第２の有機ＥＬ素子とを第１面側に備える基板を形成する工程と、前記第１の有機ＥＬ素子を覆う、逆テーパー形状を備えた第１のカラーフィルターを形成する工程と、前記基板の前記第１面側に、第２のカラーフィルター前駆体を塗布し、前記第１のカラーフィルターの側面を前記第２のカラーフィルター前駆体で充填する工程と、を含むことを特徴とする。
【００２０】
これによれば、第１のカラーフィルターの逆テーパー領域と基板との間を充填させることで、厚さを抑えて第１のカラーフィルターと第２のカラーフィルターとが重なる（遮光する）構造を得るための製造方法を提供することが可能となる。
【００２１】
［適用例６］上記適用例にかかる有機ＥＬ装置の製造方法であって、前記第２のカラーフィルター前駆体で充填する工程の後で、前記第２のカラーフィルター前駆体の側面のうち開放されている領域を逆テーパー状に加工する工程と、をさらに含むことを特徴とする。
【００２２】
上記した適用例によれば、第１のカラーフィルター、第２のカラーフィルターとも逆テーパー形状をなす製造条件で形成できるため、プロセス開発にかける費用や時間を短縮することが可能となる。
【００２３】
［適用例７］上記適用例にかかる有機ＥＬ装置の製造方法であって、前記第２のカラーフィルター前駆体で充填する工程または逆テーパー状に加工する工程の後で、前記第２のカラーフィルター前駆体を１００℃以上１２０℃以下の温度で、３０分以上１５０分以下の時間加熱する工程と、をさらに含むことを特徴とする。
【００２４】
上記した適用例によれば、逆テーパー形状を維持した状態で、製造プロセスに耐えうる第１のカラーフィルターや第２のカラーフィルターを提供することが可能となる。
【００２５】
［適用例８］上記適用例にかかる有機ＥＬ装置の製造方法であって、前記第２のカラーフィルター前駆体を加熱してなる第２のカラーフィルターの厚みが、前記第１のカラーフィルターよりも厚いことを特徴とする。
【００２６】
上記した適用例によれば、第１のカラーフィルターを平面視で重なる領域の少なくとも一部を第２のカラーフィルターが覆うこととなる。そのため、第１の有機ＥＬ素子と第２の有機ＥＬ素子から斜め方向に射出される光は、第１のカラーフィルターと第２のカラーフィルターと、により遮光されるため、第１のカラーフィルターと第２のカラーフィルターとの光が混ざる混色を防げる製造方法を提供することが可能となる。
【００２７】
［適用例９］本適用例にかかる電子機器は、上記適用例に記載の有機ＥＬ装置を備えることを特徴とする。
【００２８】
これによれば、斜めから見た場合でも混色が少ない電子機器を提供することが可能となる。
【００２９】
［適用例１０］本適用例にかかる電子機器は、上記適用例に記載の有機ＥＬ装置の製造方法を用いて形成された有機ＥＬ装置を備えることを特徴とする。
【００３０】
これによれば、斜めから見た場合でも混色が少ない電子機器を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】（ａ）は、カラーフィルターのテーパー形状同士が重なった構成を備える有機ＥＬ装置の平面図、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ’線断面図。
【図２】（ａ）は、カラーフィルター同士が嵌合した構成を備える有機ＥＬ装置の平面図、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ’線断面図。
【図３】（ａ）〜（ｄ）は、テーパー形状が重なった構成を備える有機ＥＬ装置の製造方法を示す工程断面図。
【図４】（ａ）〜（ｄ）は、テーパー形状が重なった構成を備える有機ＥＬ装置の製造方法を示す工程断面図。
【図５】（ａ）〜（ｄ）は、カラーフィルター同士が嵌合した構成を備える有機ＥＬ装置の製造方法を示す工程断面図。
【図６】（ａ）〜（ｆ）は、有機ＥＬ装置を使用した電子機器の例を示す概略図。
【図７】（ａ）は赤色を射出する高分子材料、（ｂ）は緑色を射出する高分子材料、（ｃ）は青色を射出する高分子材料の構造式。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
以下、本発明を具体化した各実施形態を図面に基づいて説明する。
【００３３】
（第１の実施形態：テーパー形状が重なった構成を備える有機ＥＬ装置）
図１（ａ）は、本適用例にかかる、テーパー形状が重なった構成を備える有機ＥＬ装置の平面図、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ’線断面図である。有機ＥＬ装置１００は、基板本体１１５、基板としての素子基板１１６、第１の電極としての画素電極１１０、導体としての透明導体層１２０、導体としての透明導体層１２１、発光を行う有機機能層１１１、第２の電極としての共通電極１１２、保護層１１３、青色カラーフィルター１０５、赤色カラーフィルター１０６、緑色カラーフィルター１０７と、を備える。画素電極１１０は、図示せぬＴＦＴ（ＴＦＴ１３１，１３２，１３３：図３（ａ）参照）から金属支柱（金属支柱１３６：図３（ｂ）参照）を介して共通電極１１２と上下方向に挟まれた有機機能層１１１を電気的に駆動する。画素電極１１０の短辺は、例えば５μｍの長さを備えている。
【００３４】
本明細書では、青色カラーフィルター１０５、赤色カラーフィルター１０６、緑色カラーフィルター１０７と、をカラーフィルターとも呼称する。また、「上」という言葉を、基板本体１１５から共通電極１１２に向かう方向を指すものとして用いる。そして、「下」という言葉を、「上」と反対方向を指すものとして用いる。
また、「第１面側」とは、素子基板１１６の画素電極１１０が形成されている面側とする。
また、「側面」とは、平面視にてカラーフィルターを囲む面とする。
また、「横」とは、有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３が隣り合う方向、つまり別色の有機ＥＬ素子が隣り合う方向を指すものとする。
また、本実施形態では、有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３に、矩形形状を備えた物を用いているが、これは特に矩形に制限する意図はなく、例えば楕円形や円形、正方形を用いても良い。また、有機ＥＬ装置１００を構成する有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３は、一組で正方形をなす場合が一般的であるが、本実施形態では、主として横側に構造的特徴があるため、横長に記載している。また、有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３間の隙間は、図１〜図５において視認性を高めるべく寸法を拡大して記載している。
【００３５】
有機ＥＬ装置１００は、平面視で隣り合う第１の有機ＥＬ素子としての有機ＥＬ素子１０１と、第２（第１）の有機ＥＬ素子としての有機ＥＬ素子１０２と、第２の有機ＥＬ素子としての有機ＥＬ素子１０３を備える。有機ＥＬ素子１０２は、組み合わせの相手として有機ＥＬ素子１０１を選ぶ場合には、第２の有機ＥＬ素子となり、組み合わせの相手として有機ＥＬ素子１０３を選ぶ場合には、第１の有機ＥＬ素子となる。
ここで、有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３は、基板本体１１５や、カラーフィルターも入るよう図示しているが、これは図面上、線が重なることにより視認性が低下するため、位置をずらして記載しているためであり、有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３は、基板本体１１５や、カラーフィルターは含んでいない。
【００３６】
青色カラーフィルター１０５、赤色カラーフィルター１０６、緑色カラーフィルター１０７、との位置関係は順不同で変更しても良い。例えば、赤色カラーフィルター１０６と青色カラーフィルター１０５との位置関係を入れ替えても良い。この場合、有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３も合わせて入れ替えることで、有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３の特性を各々変えた場合に対しても対応できる。
ここでは、図１（ａ），（ｂ）に示すように、青色カラーフィルター１０５、赤色カラーフィルター１０６、緑色カラーフィルター１０７の位置関係を用いた場合について説明を続ける。
【００３７】
青色カラーフィルター１０５を第１のカラーフィルターとし、赤色カラーフィルター１０６を第２のカラーフィルターとして捉えた場合、青色カラーフィルター１０５と重なる領域では、赤色カラーフィルター１０６は青色カラーフィルター１０５の逆テーパー形状を埋める形状を備える。青色カラーフィルター１０５と、青色カラーフィルター１０５が透過する青色の波長の光を遮断する赤色カラーフィルター１０６と、が重なるこの領域は、光を遮光する遮光部１２２として機能する。遮光部１２２は、混色を避け、発光効率を落とさないよう、画素電極１１０の隙間を覆うことが好ましい。
【００３８】
赤色カラーフィルター１０６を第１のカラーフィルターとし、緑色カラーフィルター１０７を第２のカラーフィルターとして捉えた場合、赤色カラーフィルター１０６と重なる領域では、緑色カラーフィルター１０６は赤色カラーフィルター１０６の逆テーパー形状を埋める形状を備える。赤色カラーフィルター１０６と、赤色カラーフィルター１０６が透過する赤色の波長の光を遮断する緑色カラーフィルター１０７と、が重なるこの領域は、光を遮光する遮光部１２３として機能する。遮光部１２３は、混色を避け、発光効率を落とさないよう、画素電極１１０の隙間を覆うことが好ましい。
【００３９】
青色カラーフィルター１０５を第１のカラーフィルターとし、緑色カラーフィルター１０７を第２のカラーフィルターとして捉えた場合、青色カラーフィルター１０５と重なる領域では、緑色カラーフィルター１０７は青色カラーフィルター１０５の逆テーパー形状を埋める形状を備える。青色カラーフィルター１０５と、青色カラーフィルター１０５が透過する青色の波長の光を遮断する緑色カラーフィルター１０７と、が重なるこの領域は、光を遮光する遮光部１２４として機能する。遮光部１２４は、混色を避け、発光効率を落とさないよう、画素電極１１０の隙間を覆うことが好ましい。
【００４０】
これらの関係を図示したものが図１（ｂ）である。ここで、遮光部１２２，１２３，１２４は、保護層１１３の一部を含むよう図示されているが、これは図面上、線が重なることにより視認性が低下するため、位置をずらして記載しているためであり、保護層１１３は含んでいない。
図１（ｂ）に示すように、遮光部１２２，１２３，１２４を設けることで、混色の発生を抑えることが可能となる。また、有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３としてそれぞれ異なる光強度スペクトルを備えるものを用いているため、さらに混色を抑制することが可能となる。以下、有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３の構成について説明する。
【００４１】
第１の有機ＥＬ素子としての有機ＥＬ素子１０１は、画素電極１１０、有機機能層１１１、共通電極１１２を含む。光の一部を折り返す第１の半透過反射器としての共通電極１１２は、例えばマグネシウム−銀合金（Ｍｇ：Ａｇ＝１０：１程度の合金）を１０ｎｍ程度の厚さにして用いる。そのため、若干の光反射機能を備えている。有機ＥＬ素子１０１は、有機ＥＬ素子１０２，１０３と比べ、透明導体層１２０や透明導体層１２１を備えていないことから、光路長が短い。そのため、共通電極１１２と画素電極１１０との間で最も短い波長に対応する青色の光を選択する光共振器が形成される。そのため、有機ＥＬ素子１０１は、最も短い波長に対応する青色の波長の光を選択的に射出する。
【００４２】
そして、第２の有機ＥＬ素子としての有機ＥＬ素子１０２は、画素電極１１０、透明導体層１２０、透明導体層１２１、有機機能層１１１、共通電極１１２を含む。光の一部を折り返す第２の半透過反射器としての共通電極１１２は、上記したマグネシウム−銀合金を用いている。そのため、若干の光反射機能を備えている。有機ＥＬ素子１０２は、有機ＥＬ素子１０１と比べ、透明導体層１２０、透明導体層１２１を備えていることから、有機ＥＬ素子１０１と比べた場合、光路長が長い。そのため、共通電極１１２と画素電極１１０との間で最も長い波長の光に対応する赤色の光を選択する光共振器が形成される。そのため、有機ＥＬ素子１０２は、赤色の波長の光を選択的に射出する。
【００４３】
そして、第１の有機ＥＬ素子として有機ＥＬ素子１０１を見た場合、第２の有機ＥＬ素子に対応する有機ＥＬ素子１０３は、画素電極１１０、透明導体層１２１、有機機能層１１１、共通電極１１２を含む。光の一部を折り返す第２の半透過反射器としての共通電極１１２は、上記したものと同様にマグネシウム−銀合金を用いている。そのため、若干の光反射機能を備えている。有機ＥＬ素子１０３は、有機ＥＬ素子１０１と比べ、透明導体層１２１を備えていることから、有機ＥＬ素子１０１と比べた場合、光路長が長く、有機ＥＬ素子１０２と比べ、透明導体層１２０を備えていないことから、光路長は短い。そのため、共通電極１１２と画素電極１１０との間で中間の波長に対応する緑色の光を選択する光共振器が形成される。そのため、有機ＥＬ素子１０３は、緑色の波長の光を選択的に射出する。
【００４４】
有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３の光路長を制御する、透明導体層１２０、透明導体層１２１としては、例えばＩＴＯ（インジウム・錫酸化物）を用いることができる。ＩＴＯは、光透過性がマグネシウム−銀合金と比べ高く、ＩＴＯとマグネシウム−銀合金とを用いることで、波長選択性が高い光共振器を形成することが可能となる。この場合、共通電極１１２は、第１の半透過反射器、第２の半透過反射器を兼ねる。
【００４５】
上記したように、有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３を用いることで、混色に対して、さらに強い構造を備える有機ＥＬ装置１００を構成することが可能となる。上述したように青色カラーフィルター１０５、赤色カラーフィルター１０６、緑色カラーフィルター１０７、との位置関係は順不同で変更しても良いが、青色カラーフィルター１０５、赤色カラーフィルター１０６、緑色カラーフィルター１０７の位置関係を取ることで、以下に示す効果が得られる。
有機ＥＬ素子１０１を青色に割り当てることで、遮光部１２２，１２４の逆テーパー部分を通って青色の光が射出されるため、青色の減衰が少ない有機ＥＬ装置１００を形成することができる。有機ＥＬ装置１００に用いることができる青色を発光する物質は、一般的に発光効率が低い。そのため、外部への射出効率を上げることで、有機ＥＬ装置１００の信頼性を維持した状態で青色の光強度を保つことが可能となる。
そして、有機ＥＬ素子１０２を赤色に割り当てることで、遮光部１２３の逆テーパー部分を通って赤色の光が射出されるため、青色に次いで減衰が少ない赤色の有機ＥＬ素子１０２を備えた有機ＥＬ装置１００を形成することができる。有機ＥＬ装置１００に用いることができる赤色を発光する物質は、一般的に青色に次いで発光効率が低い。そのため、外部への射出効率を青色に次いで上げることで、有機ＥＬ装置１００の信頼性を維持した状態で赤色の光強度を保つことが可能となる。
そして、有機ＥＬ素子１０３を緑色に割り当てることで、混色を抑えた有機ＥＬ装置１００を形成することができる。緑色は視感度が高いため、遮光部１２３，１２４の順テーパー領域で緑色の光を遮断することで、混色を抑えた有機ＥＬ装置１００を提供することが可能となる。青色カラーフィルター１０５、赤色カラーフィルター１０６、緑色カラーフィルター１０７、との位置関係は順不同で変更しても良い。
【００４６】
なお、本実施形態では、異なる光強度スペクトルを備えた有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３を用いた場合について説明したが、これは必須な要件ではなく、有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３として同じ構造を備え、同じ光強度スペクトルを備えるものを用いても良い。この場合、製造工程を短縮できる。
【００４７】
また、有機機能層１１１には、白色の蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の低分子材料を用いることができ、例えばアントラセンやピレン、８−ヒドロキシキノリンアルミニウム、ビススチリルアントラセン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、クマリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ピロロピリジン誘導体、ペリノン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体を用いても良い。また、これら低分子材料に、ルブレン、キナクリドン誘導体、フェノキサゾン誘導体、ＤＣＭ、ＤＣＪ、ペリノン、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ジアザインダセン誘導体をドープして用いることができる。
【００４８】
また、高分子材料としては、図７（ａ），（ｂ），（ｃ）に示す構造式を備える物質を用いても良い。（ａ）は赤色を射出し、（ｂ）は緑色を射出し、（ｃ）は青色を射出する。これらの層を重ねることでも白色光を射出することが可能となる。
【００４９】
さらに、高分子材料としては、例えば、ポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）等のポリシラン系を含む物質が好適に使用することができる。また、これらの高分子材料に、例えば、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドンを含む低分子材料をドープして使用することができるが、これに限られる物ではない。
【００５０】
また、有機機能層１１１は多層構造を備えていても良く、例えば、正孔を注入・輸送する材料としては、例えば、ポリスチレンジオキシチオフェンのポリチオフェン誘導体と、ポリスチレンスルホン酸の混合物を用いることができる。この物質は、正孔を発光層に注入する機能を有するとともに、正孔を輸送する機能を有する。
【００５１】
また、電子注入層として、透明材料であるＢＣＰ（ｂａｔｈｏｃｕｐｒｏｉｎｅ）にアルカリ金属を含有させた薄膜を備えることも好適である。
【００５２】
共通電極１１２は、その他の例として、マグネシウム（Ｍｇ）、リチウム（Ｌｉ）、カルシウム（Ｃａ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）を含む材料を含んでいても良い。この他にも、例えばＭｇＡｇＡｌ、ＬｉＦ、ＬｉＡｌ、ＬｉＦＡｌ、Ｃａ単体、Ｂａ単体を用いても同様の効果をもって共通電極１１２を形成することが可能となる。また、これらの金属薄層と例えばＩＴＯや酸化錫、酸化亜鉛の透明導電材料を積層した層を共通電極１１２として用いても良い。
【００５３】
（第２の実施形態：カラーフィルター同士が嵌合した構成を備える有機ＥＬ装置）
図２（ａ）は、本適用例にかかる、カラーフィルター同士が嵌合した構成を備える有機ＥＬ装置の平面図、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ’線断面図である。有機ＥＬ装置１００は、第１の実施形態同様、基板本体１１５、基板としての素子基板１１６、第１の電極としての画素電極１１０、導体としての透明導体層１２０、導体としての透明導体層１２１、発光を行う有機機能層１１１、第２の電極としての共通電極１１２、保護層１１３、第１の波長域の光として例えば青色を選択的に透過する第１のカラーフィルターとしての青色カラーフィルター１０５、第２の波長域の光として例えば赤色を選択的に透過する第２のカラーフィルターとしての赤色カラーフィルター１０６、第２の波長域の光として例えば緑色を選択的に透過する第２のカラーフィルターとしての緑色カラーフィルター１０７と、を備える。青色カラーフィルター１０５、赤色カラーフィルター１０６、緑色カラーフィルター１０７、との位置関係は順不同で変更しても良い。例えば、赤色カラーフィルター１０６と青色カラーフィルター１０５との位置関係を入れ替えても良い。この場合、有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３も合わせて入れ替えることで、有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３の特性を各々変えた場合に対しても対応できる。
ここでは、図２（ａ），（ｂ）に示すように、青色カラーフィルター１０５、赤色カラーフィルター１０６、緑色カラーフィルター１０７の位置関係を用いた場合について説明を続ける。
【００５４】
ここで、第２の実施形態は、第１の実施形態と重複する部分が多いため、第１の実施形態との差異に重点をおいて説明する。第１の実施形態との主な差異は、カラーフィルター同士が嵌合した構造を備えていることである。また、嵌合した構造を形成するために、青色カラーフィルター１０５、赤色カラーフィルター１０６、緑色カラーフィルター１０７の順にカラーフィルターが厚くなっていることである。隣り合うカラーフィルターよりも盛り上がった部分では、基板本体１１５から厚み方向に離れる方向に対してカラーフィルターが広がっていく逆テーパー形状を備えている。
【００５５】
この場合、有機ＥＬ素子１０１（青色），１０２（赤色），１０３（緑色）から斜め方向に射出された光は、必ず他の色のカラーフィルターを通ることとなる。そのため、混色を効果的に抑えることが可能となる。上述したように青色カラーフィルター１０５、赤色カラーフィルター１０６、緑色カラーフィルター１０７、との位置関係は順不同で変更しても良いが、青色カラーフィルター１０５、赤色カラーフィルター１０６、緑色カラーフィルター１０７の位置関係を取ることで、以下に示す効果が得られる。
有機ＥＬ素子１０１を青色に割り当てることで、青色カラーフィルター１０５が薄い、即ち青色の減衰が少ない有機ＥＬ装置１００を形成することができる。有機ＥＬ装置１００に用いることができる青色を発光する物質は、一般的に発光効率が低い。そのため、外部への射出効率を上げることで、有機ＥＬ装置１００の信頼性を維持した状態で青色の光強度を保つことが可能となる。
そして、有機ＥＬ素子１０２を赤色に割り当てることで、赤色の減衰が青色に次いで少ない（薄い）有機ＥＬ装置１００を形成することができる。有機ＥＬ装置１００に用いることができる赤色を発光する物質は、一般的に青色に次いで発光効率が低い。そのため、外部への射出効率を青色に次いで上げることで、有機ＥＬ装置１００の信頼性を維持した状態で赤色の光強度を保つことが可能となる。
そして、有機ＥＬ素子１０３を緑色に割り当てることで、混色を抑えた有機ＥＬ装置１００を形成することができる。緑色は視感度が高いため、青色カラーフィルター１０５と赤色カラーフィルター１０６により緑色を遮断することで、混色を抑えた有機ＥＬ装置１００を提供することが可能となる。
また、カラーフィルターの形状を、逆テーパー形状をなす製造条件で統一して形成できるため、プロセス開発にかける費用や時間を短縮することが可能となる。
また、カラーフィルター同士が嵌合していることで、斜め方向に射出された光を確実に止められるため、混色を抑えることが可能となる。
なお、基板本体１１５から厚み方向に離れる方向に対してカラーフィルターが広がっていく逆テーパー形状を備えていることは必須ではなく、例えば基板本体１１５に対して直角形状や、順テーパー形状を為していても混色を抑えることが可能である。
また、遮光部１２２，１２３，１２４は、混色を避け、発光効率を落とさないよう、画素電極１１０の隙間を覆うことが好ましい。
【００５６】
本実施形態では、異なる光強度スペクトルを備えた有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３を用いた場合について説明したが、これは必須な要件ではなく、有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３として同じ構造を備え、同じ光強度スペクトルを備えるものを用いても良い。この場合、製造工程を短縮できる。
【００５７】
（第３の実施形態：テーパー形状を備えるカラーフィルター同士が重なった構成を備える有機ＥＬ装置の製造方法）
図３（ａ）〜（ｄ）、図４（ａ）〜（ｄ）は、テーパー形状を備えるカラーフィルター同士が重なった構成を備える有機ＥＬ装置の製造方法を示す工程断面図である。
カラーフィルターとして、青色カラーフィルター１０５、赤色カラーフィルター１０６、緑色カラーフィルター１０７の順に積層した場合について説明するが、上述したように、青色カラーフィルター１０５、赤色カラーフィルター１０６、緑色カラーフィルター１０７、との位置関係は順不同で変更しても良い。例えば、赤色カラーフィルター１０６と青色カラーフィルター１０５との位置関係（図２（ａ），（ｂ）参照）を入れ替えても良い。この場合、有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３の特性を各々変えている場合、有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３も合わせて入れ替えることで対応できる。以下、図３（ａ）〜（ｄ）、図４（ａ）〜（ｄ）を用いて製造方法について説明する。
【００５８】
まず、ガラスの基板本体１１５上に例えば酸化シリコンを用いたバッファー層１３０を形成する。バッファー層１３０は、例えばプラズマＣＶＤ（化学気相堆積）法などにより形成され、その厚さは２００ｎｍの程度の厚さを有している。この工程において用いる原料ガスとしては、例えばモノシランと酸化窒素との混合ガスや、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン、Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4））と酸素の組合せが好適である。成膜温度は、基板本体１１５の表面温度が１５０℃〜４５０℃となる条件を用いることができる。ここで、バッファー層１３０を形成した面側を第１面側とする。続けて、基板本体１１５を加熱して、ポリシリコン層を形成し、フォトリソグラフ工程を行い、さらにゲート酸化膜を形成した後、ゲート電極の形成やイオン注入、サイドウォールの形成を行うことで、多結晶シリコンをチャネルに用いたＴＦＴ１３１，１３２，１３３を形成する。ここまでの工程を終えた状態を図３（ａ）に示す。
なお、多結晶シリコンを直接形成する方法に代えて、例えばアモルファスシリコンを堆積した後、レーザーアニールを施すことで多結晶シリコンを形成しても良い。また、レーザーアニールに代えて、アモルファスシリコンを熱処理によりポリシリコン化させる工程を用いても良い。さらには、アモルファスシリコンをそのまま用いたり、酸化物半導体を用いたりしても良い。
【００５９】
次に、層間絶縁膜１３５を形成し、コンタクトホールを開けた後、金属支柱１３６を形成し、基板としての素子基板１１６を形成する。ここまでの工程を終えた状態を図３（ｂ）に示す。ここまでの工程で、基板としての素子基板１１６が形成される。
【００６０】
次に、画素電極１１０と、光共振器の光路長を制御する透明導体層１２０、透明導体層１２１を形成する。具体的には透明導体として例えばＩＴＯ（インジウム・錫・酸化物）を積層し、透明導体層１２０が不要な領域のＩＴＯをフォトリソグラフ・エッチング法により除去する。次に、再びＩＴＯを積層し、透明導体層１２１が不要な領域のＩＴＯをフォトリソグラフ・エッチング法により除去することで形成される。ここまでの工程を終えた状態を図３（ｃ）に示す。なお、本実施形態では、異なる光強度スペクトルを構成すべく光共振器を構成する場合について説明したが、これは必須な要件ではなく、同じ光強度スペクトルを備えるものを用いても良い。この場合、透明導体層１２０、透明導体層１２１を形成する工程を省略することが可能となる。
【００６１】
次に、有機機能層１１１を形成する。有機機能層１１１は、たとえば青色発光層、赤色発光層、緑色発光層を重ねて形成する方法を用いることができる。一例としては、有機機能層１１１には、白色の蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の低分子材料を用いることができ、例えばアントラセンやピレン、８−ヒドロキシキノリンアルミニウム、ビススチリルアントラセン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、クマリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ピロロピリジン誘導体、ペリノン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体を用いても良い。また、これら低分子材料に、ルブレン、キナクリドン誘導体、フェノキサゾン誘導体、ＤＣＭ、ＤＣＪ、ペリノン、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ジアザインダセン誘導体をドープして用いることができる。
【００６２】
また、高分子材料としては、例えば、ポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）等のポリシラン系を含む物質が好適に使用することができる。また、これらの高分子材料に、例えば、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドンを含む低分子材料をドープして使用することができるが、これに限られる物ではない。
【００６３】
また、有機機能層１１１として多層構造を形成しても良く、例えば、正孔注入・輸送層の形成材料として、ポリスチレンジオキシチオフェンのポリチオフェン誘導体と、ポリスチレンスルホン酸の混合物を用いることができる。この場合正孔を発光層に注入する機能を有するとともに、正孔を輸送する機能を有する。
【００６４】
また、電子注入層として、透明材料であるＢＣＰ（ｂａｔｈｏｃｕｐｒｏｉｎｅ）にアルカリ金属を含有させた薄膜を形成することも好適である。
【００６５】
次に、共通電極１１２を形成する。共通電極１１２としては、たとえばＭｇＡｇ（ＭｇとＡｇを重量比でＭｇ：Ａｇ＝１０：１に混合した材料）を共蒸着法（ＭｇとＡｇを別の蒸着源を用いて同時に蒸着させることで合金化する方法）を用いて形成することが好適である。ここで、ＭｇＡｇの膜厚は１０ｎｍ程度が光透過率、電気抵抗値とのバランスがとれるため好適であるが、この膜厚はこの値に限定される必要はなく、光透過率を優先させたり、電気抵抗値を優先させたりすべく、膜厚を別の値に設定しても良い。続けて、保護層１１３を形成する。ここまでの工程を終えた状態を図３（ｄ）に示す。共通電極１１２は、光共振器構造を備える場合、第１、第２の半透過反射器としても機能する。
【００６６】
次に、青色カラーフィルター１０５を形成する。具体的には青色の顔料を含むアクリル系のネガ型カラーレジストを塗布し、湿式法（フォトリソグラフ・エッチング法）を用いて形成する。顔料濃度が高い場合、湿式法を用いると、露光に用いる光がカラーレジスト中で吸収されることから、表面側よりも、素子基板１１６側での露光量が減少するためカラーレジスト寸法が細くなる。そのため、湿式法により青色カラーフィルター１０５を形成すると逆テーパー形状が得られる。ここまでの工程を終えた状態での工程断面図を図４（ａ）に示す。
【００６７】
次に、赤色カラーフィルター前駆体１０６ａを形成する。この赤色カラーフィルター前駆体１０６ａは、赤色カラーフィルター１０６に改質された状態で、青色カラーフィルター１０５と概ね同じ厚さとなるよう形成されている。赤色カラーフィルター前駆体１０６ａには、赤色の顔料を含むアクリル系のネガ型カラーレジストを用いることができる。
ここで、青色カラーフィルター１０５と保護層１１３との間が充填され、かつ平坦な形状を保つ機構について説明する。
赤色カラーフィルター前駆体１０６ａは流動性を備えていることから、流れることで青色カラーフィルター１０５と保護層１１３との間の隙間が赤色カラーフィルター前駆体１０６ａにより充填される。
そして、光が照射された場合、青色カラーフィルター１０５の側面と触れていない領域では、青色カラーフィルター１０５の場合と同様に、現像後には赤色カラーフィルター前駆体１０６ａは、逆テーパー形状を取る。即ち、光の照射と現像により、赤色カラーフィルター前駆体１０６ａの側面が開放されている領域を、逆テーパー状に加工することができる。ここまでの工程を終えた状態での工程断面図を図４（ｂ）に示す。なお、図４（ｂ）では、赤色カラーフィルター前駆体１０６ａが残る領域を、異なるハッチングを用いて図示している。
【００６８】
次に、現像処理を施し、この逆テーパー形状を壊さずに耐溶剤性を高めるべく、１００℃以上１２０℃以下で３０分以上１５０分以下のポストベークを行い、赤色カラーフィルター１０６を形成する。ここまでの工程を終えた状態を図４（ｃ）に示す。
【００６９】
次に緑色カラーフィルター１０７を形成する。この緑色カラーフィルター１０７は、青色カラーフィルター１０５や赤色カラーフィルター１０６と同じ厚さとなるよう形成されている。ここまでの工程を終えた状態での工程断面図を図４（ｄ）に示す。
【００７０】
以上の工程を経ることで、第１の実施形態に示した形状を備えるカラーフィルターを形成することが可能となる。また、本実施形態では、異なる光強度スペクトルを備えた有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３を形成した場合について説明したが、これは必須な要件ではなく、有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３として同じ構造を備え、同じ光強度スペクトルを備えるものを用いても良い。この場合、製造工程を短縮できる。
【００７１】
（第４の実施形態：カラーフィルター同士が嵌合した構成を備える有機ＥＬ装置の製造方法）
第４の実施形態は、第３の実施形態と重複する部分が多いため、第３の実施形態と主として異なる部分について説明する。第３の実施形態との主な差異は、カラーフィルター同士が嵌合した構造を備えていることである。また、嵌合した構造を形成するために、青色カラーフィルター１０５、赤色カラーフィルター１０６、緑色カラーフィルター１０７の順にカラーフィルターが厚くなっていることである。また、隣り合うカラーフィルターよりも盛り上がった部分では、基板本体１１５から厚み方向に離れる方向に対してカラーフィルターが広がっていく逆テーパー形状を備えていることである。
図５（ａ）〜（ｄ）は、カラーフィルター同士が嵌合した構成を備える有機ＥＬ装置の製造方法を示す工程断面図である。以下、この図面を元に説明する。
ここでは、カラーフィルターとして、青色カラーフィルター１０５、赤色カラーフィルター１０６、緑色カラーフィルター１０７の順に積層した場合について説明するが、上述した製造方法と同様に、青色カラーフィルター１０５、赤色カラーフィルター１０６、緑色カラーフィルター１０７、との位置関係は順不同で変更しても良い。例えば、赤色カラーフィルター１０６と青色カラーフィルター１０５との位置関係（図２（ａ），（ｂ）参照）を入れ替えても良い。この場合、有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３についても合わせて入れ替えることで有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３の発光特性を変えた場合でも対応できる。
【００７２】
まず、第３の実施形態の製造工程を用いて、図３（ｄ）に示すように、保護層１１３までを形成する。
【００７３】
次に、青色カラーフィルター１０５を形成する。具体的には青色の顔料を含むアクリル系のネガ型カラーレジストを塗布し、湿式法（フォトリソグラフ・エッチング法）を用いて形成する。顔料濃度が高い場合、湿式法を用いると、露光に用いる光がカラーレジスト中で吸収されることから、湿式法により青色カラーフィルター１０５を形成すると逆テーパー形状が得られる。そして、この逆テーパー形状を壊さずに耐溶剤性を高めるべく、１００℃以上１２０℃以下でポストベークを行うことが好適となる。ここまでの工程を終えた状態を図５（ａ）に示す。
【００７４】
次に、赤色カラーフィルター１０６を形成する。具体的には、例えば青色の顔料に代えて赤色の顔料を含む、アクリル系のネガ型カラーレジストによる赤色カラーフィルター前駆体１０６ａを用いて、湿式法により同様に処理する。赤色カラーフィルター前駆体１０６ａは流動性を備えているため、青色カラーフィルター１０５の逆テーパー形状の領域と保護層１１３との隙間を充填する。ここで、赤色カラーフィルター前駆体１０６ａは、青色カラーフィルター１０５を形成するための厚さよりも厚いことが好ましい。厚くすることで、隣接する有機ＥＬ素子１０１（図２（ｂ）参照）から、斜め方向に射出された光を遮光することが可能となる。そして、青色カラーフィルター１０５と同様の処理を行うことで、側面が開放されている領域（例えば青色カラーフィルター１０５よりも突き出た領域）では素子基板１１６から厚み方向に離れる方向に対して広がっていく逆テーパー状の形状を備え、側面が他の物質としての青色カラーフィルター１０５の側面と接触している領域では青色カラーフィルター１０５の側面形状に従う形状を取る。ここまでの工程を終えた状態を図５（ｂ）に示す。
【００７５】
次に、現像処理を施し、この逆テーパー形状を壊さずに耐溶剤性を高めるべく、１００℃以上１２０℃以下で３０分以上１５０分以下のポストベークを行う。ここまでの工程を終えた状態を図５（ｃ）に示す。
【００７６】
次に、緑色カラーフィルター１０７を形成する。具体的には、赤色の顔料に代えて緑色の顔料を含むアクリル系のネガ型カラーレジストを用いて同様に処理する。ここで、緑色の顔料を含むアクリル系のネガ型カラーレジストは、赤色カラーフィルター１０６を形成するための厚さよりも厚いことが好ましい。厚くすることで、隣接する有機ＥＬ素子１０２，１０１（図２（ｂ）参照）から、斜め方向に射出された光を遮光することが可能となる。
【００７７】
なお、隣り合うカラーフィルターから突き出た領域が、基板本体１１５から厚み方向に離れる方向に対してカラーフィルターが広がっていく逆テーパー形状を形成することは必須ではなく、例えば基板本体１１５に対して直角形状や、順テーパー形状を形成しても混色を抑えることが可能である。
【００７８】
（電子機器）
図６に上記した有機ＥＬ装置や、上記した有機ＥＬ装置の製造方法を用いて形成した有機ＥＬ装置を使用した電子機器の例を挙げる。図６（ａ）は携帯電話への適用例であり、携帯電話２３０は、アンテナ部２３１、音声出力部２３２、音声入力部２３３、操作部２３４、及び有機ＥＬ装置１００を備えている。このように本発明の有機ＥＬ装置を携帯電話２３０の表示部として利用可能である。図６（ｂ）はビデオカメラへの適用例であり、ビデオカメラ２４０は、受像部２４１、操作部２４２、音声入力部２４３、及び有機ＥＬ装置１００を備えている。このように本発明の有機ＥＬ装置は、ファインダーや表示部として利用可能である。図６（ｃ）は携帯型パーソナルコンピューターへの適用例であり、コンピューター２５０は、カメラ部２５１、操作部２５２、及び有機ＥＬ装置１００を備えている。このように本発明の有機ＥＬ装置は、表示部として利用可能である。
【００７９】
図６（ｄ）はヘッドマウントディスプレイへの適用例であり、ヘッドマウントディスプレイ２６０は、バンド２６１、光学系収納部２６２及び有機ＥＬ装置１００を備えている。このように本発明の有機ＥＬ装置は画像表示器として利用可能である。図６（ｅ）はリア型プロジェクターへの適用例であり、プロジェクター２７０は、筐体２７１に、合成光学系２７３、ミラー２７４、ミラー２７５、スクリーン２７６、及び有機ＥＬ装置１００を備えている。このように本発明の有機ＥＬ装置は画像表示器として利用可能である。図６（ｆ）はフロント型プロジェクターへの適用例であり、プロジェクター２８０は、筐体２８２に光学系２８１及び有機ＥＬ装置１００を備え、画像をスクリーン２８３に表示可能になっている。このように本発明の有機ＥＬ装置は画像表示器として利用可能である。
【００８０】
上記例に限らず本発明の有機ＥＬ装置は、種々の電子機器に適用可能である。例えば、表示機能付きファックス装置、デジタルカメラのファインダー、携帯型ＴＶ、ＤＳＰ装置、ＰＤＡ、電子手帳、電光掲示板、宣伝公告用ディスプレイなどにも活用することができる。
【００８１】
上記した有機ＥＬ装置１００、有機ＥＬ装置１００の製造方法、ならびに電子機器は、例えば、以下の特徴を有する。
【００８２】
段差を作らずにカラーフィルターを２層重ねることができるため、表示画質を高く保つことが出来る。そのため、例えば斑の発生を抑えることが可能となる。また、カラーフィルターを２層重なる領域（光を遮断する領域）に段差を作らないため、カラーフィルターが重なる領域を、発光効率を保つべく狭くした場合においても、例えばカラーフィルターの形状異常や、剥がれを防ぐことが可能となる。これは、特にテーパー形状が重なった構成を備えた場合に有効に機能する。
【００８３】
青色カラーフィルター１０５、赤色カラーフィルター１０６、緑色カラーフィルター１０７の順でカラーフィルターを形成することで、発光効率の低い青色の透過率を稼ぎ、視感度の高い緑色の漏れを抑えることが可能となる。
【００８４】
有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３内に、それぞれの色に対応した光共振器を配置することで、有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３の発光スペクトルを狭帯域可できるため、さらに混色を抑えることが可能となる。
【００８５】
カラーフィルター同士を嵌合させることで、斜め方向に射出される光は別の色のカラーフィルターを通過することとなるため、斜め方向に射出される光を確実に遮光することが可能となる。そのため、混色を抑えることが可能となる。
【００８６】
青色カラーフィルター１０５、赤色カラーフィルター１０６、緑色カラーフィルター１０７の順でカラーフィルターを厚くして嵌合させることで、発光効率の低い青色の透過率を稼ぎ、視感度の高い緑色の漏れを抑えることが可能となる。また、カラーフィルター同士を嵌合させる（２層重ねる）場合に、カラーフィルターの厚みの和よりも薄い厚みでカラーフィルターが２層重なる領域（光を遮断する領域）を構成できる。そのため、例えばカラーフィルター間の段差による斑の発生を抑えることが可能となる。
【００８７】
顔料濃度が高い場合、湿式法を用いると、露光に用いる光がカラーレジスト中で吸収されることから、表面側のカラーレジストよりも基板側のカラーレジストの露光量が減る。そのため、特にネガ型カラーレジストを用いると、容易に逆テーパー形状が得られるため、プロセスマージンの高い工程で製造することが可能となる。
【００８８】
ポストベーク温度を１００℃以上１２０℃以下にすることで、逆テーパー形状を壊さずに耐溶剤性を高めることが可能となり、ポストベークによりテーパー形状を変えるプロセスと比べて低温で処理することが可能となり、カラーフィルターや有機ＥＬ素子１０１，１０２，１０３の特性変動を抑えてカラーフィルターを形成することが可能となる。
【００８９】
青色カラーフィルター１０５、赤色カラーフィルター１０６、緑色カラーフィルター１０７、との位置関係は順不同で変更できるため、製造プロセスの自由度を大きく取ることが可能となる。
【符号の説明】
【００９０】
１００…有機ＥＬ装置、１０１…第１の有機ＥＬ素子としての有機ＥＬ素子、１０２…第２の有機ＥＬ素子としての有機ＥＬ素子、１０３…第３の有機ＥＬ素子としての有機ＥＬ素子、１０５…第１のカラーフィルターとしての青色カラーフィルター、１０６…第２（１）のカラーフィルターとしての赤色カラーフィルター、１０６ａ…第２のカラーフィルター前駆体としての赤色カラーフィルター前駆体、１０７…第２のカラーフィルターとしての緑色カラーフィルター、１１０…第１の電極としての画素電極、１１１…有機機能層、１１２…第２の電極、第１の半透過反射器、第２の半透過反射器としての共通電極、１１３…保護層、１１５…基板本体、１１６…基板としての素子基板、１２０…導体としての透明導体層、１２１…導体としての透明導体層、１２２…遮光部、１２３…遮光部、１２４…遮光部、１３０…バッファー層、１３１…ＴＦＴ、１３２…ＴＦＴ、１３３…ＴＦＴ、１３５…層間絶縁膜、１３６…金属支柱、２３０…携帯電話、２３１…アンテナ部、２３２…音声出力部、２３３…音声入力部、２３４…操作部、２４０…ビデオカメラ、２４１…受像部、２４２…操作部、２４３…音声入力部、２５０…コンピューター、２５１…カメラ部、２５２…操作部、２６０…ヘッドマウントディスプレイ、２６１…バンド、２６２…光学系収納部、２７０…プロジェクター、２７１…筐体、２７３…合成光学系、２７４…ミラー、２７５…ミラー、２７６…スクリーン、２８０…プロジェクター、２８１…光学系、２８２…筐体、２８３…スクリーン。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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