(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の非検査領域のそれぞれを特定する情報を含む非検査領域情報と１ピクセルの長さを示すピクセルサイズとを記憶する記憶工程と；
前記非検査領域情報を参照して個々の前記非検査領域の大きさを算出し、前記ピクセルサイズを参照して個々の前記非検査領域の大きさが前記ピクセル単位で最小サイズ以上であるという制限が守られているかを検査する最小サイズ検査工程と；
前記非検査領域情報と前記ピクセルサイズとを参照して、全ての前記非検査領域同士で互いの距離を算出し、前記領域間距離が０よりも大きい場合は前記領域間距離が所定距離以上であるという制限が守られているかを検査する距離検査工程と；
前記距離検査工程で制限の違反が判明した場合、制限に違反する一組の非検査領域のうち何れかの非検査領域を修正し、前記一組の非検査領域の辺同士が接するようにする修正工程と；を含み、
前記修正工程で、前記一組の非検査領域の辺のうち、短い方の辺を長い方の辺に接する位置に移動させることを特徴とする非検査領域制限検証方法。
【請求項２】
複数の非検査領域のそれぞれを特定する情報を含む非検査領域情報と１ピクセルの長さを示すピクセルサイズとを記憶する記憶ルーチンと；
前記非検査領域情報を参照して個々の前記非検査領域の大きさを算出し、前記ピクセルサイズを参照して個々の前記非検査領域の大きさが前記ピクセル単位で最小サイズ以上であるという制限が守られているかを検査する最小サイズ検査ルーチンと；
前記非検査領域情報と前記ピクセルサイズとを参照して、全ての前記非検査領域同士で互いの距離を算出し、前記領域間距離が０よりも大きい場合は前記領域間距離が所定距離以上であるという制限が守られているかを検査する距離検査ルーチンと；
前記距離検査ルーチンで制限の違反が判明した場合、制限に違反する一組の非検査領域のうち何れかの非検査領域を修正し、前記一組の非検査領域の辺同士が接するようにする修正ルーチンと；をコンピュータに実行させ、
前記修正ルーチンで、前記一組の非検査領域の辺のうち、短い方の辺を長い方の辺に接する位置に移動させることを特徴とする非検査領域制限検証プログラム。
【請求項３】
複数の非検査領域のそれぞれを特定する情報を含む非検査領域情報と１ピクセルの長さを示すピクセルサイズとを記憶する記憶部材と；
前記非検査領域情報を参照して個々の前記非検査領域の大きさを算出し、前記ピクセルサイズを参照して個々の前記非検査領域の大きさが前記ピクセル単位で最小サイズ以上であるという制限が守られているかを検査する最小サイズ検査部材と；
前記非検査領域情報と前記ピクセルサイズとを参照して、全ての前記非検査領域同士で互いの距離を算出し、前記領域間距離が０よりも大きい場合は前記領域間距離が所定距離以上であるという制限が守られているかを検査する距離検査部材と；
前記距離検査部材で制限の違反が判明した場合、制限に違反する一組の非検査領域のうち何れかの非検査領域を修正し、前記一組の非検査領域の辺同士が接するようにする修正部材と；を含み、
前記修正部材は、前記一組の非検査領域の辺のうち、短い方の辺を長い方の辺に接する位置に移動させることを特徴とする非検査領域制限検証装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マスク欠陥検査装置の非検査領域に係る制限を検証し、制限違反の非検査領域を修正する技術に関する。
本願は、２００８年５月２２日に、日本に出願された特願２００８−１３４１７３号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、光リソグラフィ用のフォトマスクの欠陥をマスク欠陥検査装置で検査すると、キャリブレーションとのトレードオフで、擬似欠陥が発生する（例えば特許文献１の［００１８］参照）。ここで、擬似欠陥とは、欠陥でないものを欠陥とマスク欠陥検査装置が判定したものを云う。【０００３】
通常、製造可能なレベルで回路設計が行なわれ、その重要な製造可能なレベルで回路設計が行なわれた部分では、擬似欠陥が発生しないようにマスク欠陥検査装置でキャリブレーションを行う。【０００４】
しかしながら何かのプロセス限界等を評価するためにプロセス限界以上のパターンがフォトマスクに含まれる場合がある。そのようなパターンは、パターンの忠実度が異常に悪くなり、キャリブレーションとは合わずに擬似欠陥となる。【０００５】
そして、この擬似欠陥が極めて多いとマスク欠陥検査装置がストップするので、この擬似欠陥が多発するであろう箇所をＭＲＣ（Ｍａｓｋ  Ｒｕｌｅ  Ｃｈｅｃｋ）で見つけ出し、そこを検査範囲から除外するために、非検査領域（ＤＮＩＲ：Ｄｏ  Ｎｏｔ  Ｉｎｓｐｅｃｔｉｏｎ  Ｒｅｇｉｏｎ）を設定する。非検査領域の形状は、四角形である。【０００６】
ところで、非検査領域を複数設定する場合、以下の１〜５に示す非検査領域設定制限を満たす必要がある（非特許文献１参照）。【０００７】
１．最小のＤＮＩＲのサイズは１ピクセルである。このピクセルはマスク欠陥検査装置の単位で、装置または設定により、１ピクセルの長さは、１２５ｎｍ、９０ｎｍ、７２ｎｍなどがある。１ピクセルの長さを、ピクセルサイズとも云う。【０００８】
２．ＤＮＩＲの数に制限はない。【０００９】
３．ＤＮＩＲ同士はオーバーラップしていても良い。また、その重なり合っている面積は、どんなに小さくても良い。【００１０】
４．ＤＮＩＲ同士はエッジで接触していても良い。【００１１】
５．ＤＮＩＲ同士は、オーバーラップ或いはエッジで接触していなければ、すなわち距離が零でなければ、少なくとも１２８ピクセル以上離なれていなければならない。【００１２】
非検査領域を複数設定した場合、非検査領域設定制限に違反があれば、マスク欠陥検査装置を稼動させると、非検査領域設定制限エラーとなる。【００１３】
マスク欠陥検査装置の非検査領域は小さい方が望ましい。但し非検査領域の設定は四角形でしか表現できない。例えば、フォトマスクが図１４のような場合、図１５のように非検査領域を設定すると、設定が簡単であるが、検査したい領域も非検査となる。非検査領域を小さくするために図１６のように設定すると解決可能であるが、上記の非検査領域設定制限を守る必要がある。フォトマスク内に図１６のような非検査領域が複数必要な場合、マスク欠陥検査装置を稼動させることなく、非検査領域設定制限違反の有無を操作者がチェックすることは不可能であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】特開２００４−１９１２９７号公報
【非特許文献】
【００１５】
【非特許文献１】Ｗａｙｎｅ  Ｒｕｃｈ，Ｒｕｌｅｓ  ｆｏｒ  ＤＮＩＲ  Ｐｌａｃｅｍｅｎｔ  ｉｎ  ＴＥＲＡ  Ｆｏｒｍａｔ  Ｄａｔａｂａｓｅ  ＳＬＦ  Ｓｅｒｉｅｓ  ａｎｄ  ５ＸＸ  Ｓｅｒｉｅｓ，“Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ  Ｎｏｔｅ”，ＵＳＡ，ＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，０２−Ａｕｇ−２００２，ＡＮ４０８４，ｐ．２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明は斯かる背景技術に鑑みてなされたもので、マスク欠陥検査装置の非検査領域情報を解析することで、マスク欠陥検査装置を稼動させることなく、非検査領域設定制限違反の有無を検証でき、さらに修正された非検査領域情報を使うことで好適にマスク欠陥検査装置でフォトマスク欠陥検査工程を実施できるようにすることを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
（１）  上記課題を解決するために、本発明の一つの態様は、以下を採用する：複数の非検査領域のそれぞれを特定する情報を含む非検査領域情報と１ピクセルの長さを示すピクセルサイズとを記憶する記憶工程と；前記非検査領域情報を参照して個々の前記非検査領域の大きさを算出し、前記ピクセルサイズを参照して個々の前記非検査領域の大きさが前記ピクセル単位で最小サイズ以上であるという制限が守られているかを検査する最小サイズ検査工程と；前記非検査領域情報と前記ピクセルサイズとを参照して、全ての前記非検査領域同士で互いの距離を算出し、前記領域間距離が０よりも大きい場合は前記領域間距離が所定距離以上であるという制限が守られているかを検査する距離検査工程と；前記距離検査工程で制限の違反が判明した場合、制限に違反する一組の非検査領域のうち何れかの非検査領域を修正し、前記一組の非検査領域の辺同士が接するようにする修正工程と；を含み、前記修正工程で、前記一組の非検査領域の辺のうち、短い方の辺を長い方の辺に接する位置に移動させることを特徴とする非検査領域制限検証方法。
【００２０】
（２）  上記課題を解決するために、本発明の一つの態様は、以下を採用する：複数の非検査領域のそれぞれを特定する情報を含む非検査領域情報と１ピクセルの長さを示すピクセルサイズとを記憶する記憶ルーチンと；前記非検査領域情報を参照して個々の前記非検査領域の大きさを算出し、前記ピクセルサイズを参照して個々の前記非検査領域の大きさが前記ピクセル単位で最小サイズ以上であるという制限が守られているかを検査する最小サイズ検査ルーチンと；前記非検査領域情報と前記ピクセルサイズとを参照して、全ての前記非検査領域同士で互いの距離を算出し、前記領域間距離が０よりも大きい場合は前記領域間距離が所定距離以上であるという制限が守られているかを検査する距離検査ルーチンと；前記距離検査ルーチンで制限の違反が判明した場合、制限に違反する一組の非検査領域のうち何れかの非検査領域を修正し、前記一組の非検査領域の辺同士が接するようにする修正ルーチンと；をコンピュータに実行させ、前記修正ルーチンで、前記一組の非検査領域の辺のうち、短い方の辺を長い方の辺に接する位置に移動させることを特徴とする非検査領域制限検証プログラム。
【００２３】
（３）  記課題を解決するために、本発明の一つの態様は、以下を採用する：複数の非検査領域のそれぞれを特定する情報を含む非検査領域情報と１ピクセルの長さを示すピクセルサイズとを記憶する記憶部材と；前記非検査領域情報を参照して個々の前記非検査領域の大きさを算出し、前記ピクセルサイズを参照して個々の前記非検査領域の大きさが前記ピクセル単位で最小サイズ以上であるという制限が守られているかを検査する最小サイズ検査部材と；前記非検査領域情報と前記ピクセルサイズとを参照して、全ての前記非検査領域同士で互いの距離を算出し、前記領域間距離が０よりも大きい場合は前記領域間距離が所定距離以上であるという制限が守られているかを検査する距離検査部材と；前記距離検査部材で制限の違反が判明した場合、制限に違反する一組の非検査領域のうち何れかの非検査領域を修正し、前記一組の非検査領域の辺同士が接するようにする修正部材と；を含み、前記修正部材は、前記一組の非検査領域の辺のうち、短い方の辺を長い方の辺に接する位置に移動させることを特徴とする非検査領域制限検証装置。
【発明の効果】
【００２６】
上記（１）（２）（３）の発明は、マスク欠陥検査装置の非検査領域情報を解析することで、マスク欠陥検査装置を稼動させることなく、非検査領域設定制限違反の有無を検証できるという効果がある。
【００２７】
上記（１）（２）（３）の発明は、非検査領域設定違反を無くすように非検査領域情報を修正するので、修正された非検査領域情報を使うことで好適にマスク欠陥検査装置でフォトマスク欠陥検査工程を実施できるという効果がある。
【００２８】
上記（１）（２）（３）の発明は、修正時の非検査領域の面積の増大を最小にするという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】図１は、非検査領域の複数設定の例を示す図である。
【図２】図２は、図１に示す非検査領域の複数設定例における非検査領域情報の例を示す図である。
【図３】図３は、本実施形態におけるマスク欠陥検査装置の非検査領域制限検証方法及び非検査領域修正方法の全体の流れを示すフローチャートである。
【図４】図４は、ステップ１の『最小サイズチェック』の詳細な流れを示すフローチャートである。
【図５】図５は、ステップ２の『距離チェック』の詳細な流れを示すフローチャートである。
【図６】図６は、当該非検査領域を片側１２８ピクセル分だけ拡大した図形を示す図である。
【図７】図７は、拡大した図形の上辺より下側かつ当該非検査領域の上辺より上側に位置する拡大した図形内の領域を示す図である。
【図８】図８は、拡大した図形の下辺より上側かつ当該非検査領域の下辺より下側に位置する拡大した図形内の領域を示す図である。
【図９】図９は、拡大した図形の左辺より右側かつ当該非検査領域の左辺より左側に位置する拡大した図形内の領域を示す図である。
【図１０】図１０は、拡大した図形の右辺より左側かつ当該非検査領域の右辺より右側に位置する拡大した図形内の領域を示す図である。
【図１１】図１１は、図１において非接触領域Ａを片側１２８ピクセル分だけ拡大したときの図である。
【図１２】図１２は、図１に示す非検査領域の修正の例を示す図である。
【図１３】図１３は、図１２に示す非検査領域の修正により図２に示す非検査領域情報を更新したものを示す図である。
【図１４】図１４は、フォトマスクの例を示す図である。
【図１５】図１５は、非検査領域の設定例を示す図である。
【図１６】図１６は、非検査領域の設定例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下に、本発明の一実施形態を説明する。
【００３１】
本実施形態では、非検査領域情報は、設定された個々の非検査領域の左下頂点のＸＹ座標と右上頂点のＸＹ座標とを要素に持つ配列である。非検査領域は四角形なので、この非検査領域の左下頂点のＸＹ座標と右上頂点のＸＹ座標とで、この非検査領域が特定される。
【００３２】
例えば、図１に示すように、非検査領域Ａ〜Ｃが設定された場合、非検査領域情報は、例えば、図２に示す配列になる。図２において、インデックス１〜３で参照される、左下頂点のＸ座標、左下頂点のＹ座標、右上頂点のＸ座標、右上頂点のＹ座標は、それぞれ、非検査領域Ａ〜Ｃの、左下頂点のＸ座標、左下頂点のＹ座標、右上頂点のＸ座標、右上頂点のＹ座標である。
【００３３】
この非検査領域情報と、マスク欠陥検査装置で用いるピクセルサイズとは、予めメモリに記憶される。
【００３４】
この非検査領域情報と、このマスク欠陥検査装置で用いるピクセルサイズとにより、図３のフローチャートに示すように、ステップ１として最小サイズチェックを行い、ステップ２として距離チェックを行う。
【００３５】
以下に、ステップ１の『最小サイズチェック』の詳細な流れを、図４のフローチャートに従って説明する。
【００３６】
ステップ１１；
まず、非検査領域情報から、各非検査領域の左下頂点のＸＹ座標と右上検査領域のＸＹ座標とを読み出し、それぞれの横幅と縦幅とを算出する。
【００３７】
ステップ１２；
次に、マスク欠陥検査装置で用いるピクセルサイズにより、各非検査領域の横幅と縦幅のそれぞれが１ピクセル以上の幅になっているか否かをチェックする。
【００３８】
以下に、ステップ２の『距離チェック』の詳細な流れを、図５のフローチャートに従って説明する。
【００３９】
ステップ２１；
最初のインデックスを当該インデックスとし、当該インデックスで左下頂点のＸＹ座標と右上頂点のＸＹ座標とが参照される非検査領域を当該非検査領域とする。
【００４０】
ステップ２２；
当該インデックスにより非検査領域情報から当該非検査領域の左下頂点のＸＹ座標と右上頂点のＸＹ座標とを読み出す。ピクセルサイズを参照して、図６に示すように、当該非検査領域１の左下頂点のＸＹ座標から、それぞれ１２８ピクセル分減算し、右上頂点のＸＹ座標に、それぞれ１２８ピクセル分加算することにより、当該非検査領域１を片側１２８ピクセル分だけ拡大した図形２を作成する。
【００４１】
ステップ２３；
非検査領域情報を参照して、図７に示すように、拡大した図形２の上辺より下側かつ当該非検査領域１の上辺より上側に位置する拡大した図形２内の領域３に、当該非検査領域１とは異なる他の非検査領域の下辺が含まれていないという制限を満たすことをチェックする。
【００４２】
ステップ２４；
非検査領域情報を参照して、図８に示すように、拡大した図形２の下辺より上側かつ当該非検査領域１の下辺より下側に位置する拡大した図形２内の領域４に、当該非検査領域１とは異なる他の非検査領域の上辺が含まれていないという制限を満たすことをチェックする。
【００４３】
ステップ２５；
非検査領域情報を参照して、図９に示すように、拡大した図形２の左辺より右側かつ当該非検査領域１の左辺より左側に位置する拡大した図形２内の領域５に、当該非検査領域１とは異なる他の非検査領域の右辺が含まれていないという制限を満たすことをチェックする。
【００４４】
ステップ２６；
非検査領域情報を参照して、図１０に示すように、拡大した図形２の右辺より左側かつ当該非検査領域１の右辺より右側に位置する拡大した図形２内の領域６に、当該非検査領域１とは異なる他の非検査領域の左辺が含まれていないという制限を満たすことをチェックする。
【００４５】
ステップ２７；
ステップ２３〜２６のチェックにより何れか１つ以上の制限を満たさないことが判明した場合、ステップ２８に進み、
他方、ステップ２３〜２６のチェックにより全ての制限を満たすことが判明した場合、ステップ３０に進む。
【００４６】
ステップ２８；
制限を満たさない組み合わせである当該非検査領域と他の非検査領域とについて、当該非検査領域の辺と他の非検査領域の辺とを繋げて、当該非検査領域又は他の非検査領域を修正する。この際、短い辺を、長い辺に繋げて、修正した際の面積の増大を最小にする。
【００４７】
例えば、図１において当該非検査領域として非検査領域Ａを片側１２８ピクセル分だけ拡大したとき図１１に示す図形（領域Ａ‘とする）になった場合を考える。領域Ａ‘の上辺より下側かつ非検査領域Ａの上辺より上側に位置する領域Ａ‘内の領域に、非検査領域Ｃの下辺が含まれている。この場合、非検査領域Ａの上辺は、非検査領域Ｃの下辺よりも短いので、図１２に示すように、非検査領域Ａの上辺からこの領域を上方に延長し、非検査領域Ｃの下辺に繋ぐ。こうすることにより、非検査領域Ａの面積の増大は、非検査領域Ｃの下辺を下方に延長して、非検査領域Ａの上辺に繋いだときの非検査領域Ｃの面積の増大よりも小さくなるので、修正した際の面積の増大が最小になる。
【００４８】
ステップ２９；
非検査領域情報において、修正されるべき非検査領域の修正前の左下頂点のＸＹ座標と右上頂点のＸＹ座標とを、修正後の左下頂点のＸＹ座標と右上頂点のＸＹ座標とで更新する。
【００４９】
例として、図１２に示す非検査領域の修正により図２に示す非検査領域情報を更新したものを、図１３に示す。
【００５０】
ステップ３０；
当該インデックスが最後のインデックスである場合、ＥＮＤに進み、
当該インデックスが最後のインデックスでない場合、ステップ３１に進む。
【００５１】
ステップ３１；
当該インデックスの次のインデックスを新たに当該インデックスとし、新しい当該インデックスで左下頂点のＸＹ座標と右上頂点のＸＹ座標とが参照される非検査領域を新たに当該非検査領域として、ステップ２２に戻る。
【産業上の利用可能性】
【００５２】
本願の発明は、マスク欠陥検査装置の非検査領域情報を解析することで、マスク欠陥検査装置を稼動させることなく、非検査領域設定制限違反の有無を検証できるという効果がある。
【符号の説明】
【００５３】
Ａ・・・非検査領域
Ｂ・・・非検査領域
Ｃ・・・非検査領域
１・・・当該非検査領域
２・・・当該非検査領域を片側１２８ピクセル分だけ拡大した図形
３・・・拡大した図形の上辺より下側かつ当該非検査領域１の上辺より上側に位置する拡大した図形内の領域
４・・・拡大した図形の下辺より上側かつ当該非検査領域の下辺より下側に位置する拡大した図形内の領域
５・・・拡大した図形の左辺より右側かつ当該非検査領域の左辺より左側に位置する拡大した図形内の領域
６・・・拡大した図形の右辺より左側かつ当該非検査領域の右辺より右側に位置する拡大した図形内の領域
【図１】
0005445452.tif 000002
【図２】
0005445452.tif 000003
【図３】
0005445452.tif 000004
【図４】
0005445452.tif 000005
【図５】
0005445452.tif 000006
【図６】
0005445452.tif 000007
【図７】
0005445452.tif 000008
【図８】
0005445452.tif 000009
【図９】
0005445452.tif 000010
【図１０】
0005445452.tif 000011
【図１１】
0005445452.tif 000012
【図１２】
0005445452.tif 000013
【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
0005445452.tif 000016
【図１６】
0005445452.tif 000017