(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハ保持面を備えたハンドリングアームと、
前記ウェハ保持面と平行に設けられたウェハ吸着面で、前記ハンドリングアームからウェハを受け取るチャック機構と、
を備えたウェハ処理装置であって、  
前記ハンドリングアームは、前記ウェハ保持面の上に保持される前記ウェハを前記ウェハ吸着面に対して傾斜させる傾斜機構を備え、前記ハンドリングアームに保持された前記ウェハの中心と、前記ウェハ吸着面の中心が一致しない位置で前記ウェハの受け渡しを行うことを特徴とするウェハ処理装置。
【請求項２】
前記傾斜機構は、前記ウェハ保持面の表面よりもウェハ側に突出された、少なくともひとつの突出部を有することを特徴とする請求項１に記載のウェハ処理装置。
【請求項３】
前記突出部は、前記ウェハ保持面からの突出高さが変更可能とされていることを特徴とする請求項２に記載のウェハ処理装置。
【請求項４】
前記ハンドリングアーム及び前記チャック機構は、前記ウェハ保持面に対する垂直方向の移動が可能であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のウェハ処理装置。
【請求項５】
上端部のウェハ吸着面でウェハを吸着保持するチャック機構を備え、前記ウェハを搬送するために受け渡し場所間を移動する搬送手段と、
上向きのウェハ保持面で前記ウェハの周縁部を保持して搬送するハンドリングアームと、前記ウェハ保持面に設けられ前記ウェハを前記ウェハ保持面に対して傾斜させる傾斜機構と、を備え、いずれかの前記受け渡し場所で、前記ハンドリングアームに保持された前記ウェハの中心と、前記ウェハ吸着面の中心が一致しない位置で、前記ハンドリングアームと前記チャック機構との上下方向の相対移動に伴って、前記ウェハの受け渡しを行うハンドリングユニットと、
を有するウェハ処理装置。
【請求項６】
ハンドリングアームに備えられたウェハ保持面に搭載されたウェハを、チャック機構に備えられたウェハ吸着面に受け渡すウェハ処理方法において、
前記ハンドリングアームは、前記ウェハ保持面の上に保持される前記ウェハを前記ウェハ吸着面に対して傾斜させる傾斜機構を備え、
前記ウェハ保持面から前記ウェハ吸着面への前記ウェハの受け渡しの際に、前記ハンドリングアームに保持され、前記傾斜機構により傾斜された前記ウェハの中心と、前記ウェハ吸着面の中心が一致しない位置で、前記ウェハを、前記ウェハ吸着面の端部から順次吸着させることを特徴とするウェハ処理方法。
【請求項７】
ウェハ保持面を備えたハンドリングアームと、前記ウェハ保持面と平行に設けられたウェハ吸着面で、前記ハンドリングアームからウェハを受け取るチャック機構と、を備えたウェハ処理装置であって、前記ハンドリングアームは、前記ウェハ保持面の上に保持される前記ウェハを前記ウェハ吸着面に対して傾斜させる傾斜機構を備えているウェハ処理装置を用いたウェハ処理方法であって、
前記ウェハ保持面に保持された前記ウェハを、前記ウェハ吸着面との対向位置に移動させるステップと、
前記ハンドリングアーム又は前記チャック機構を前記ウェハ保持面に対する垂直方向に移動させ、前記ウェハ吸着面に対して傾斜させた状態の前記ウェハを、前記ウェハ吸着面の端部から順次前記ウェハ吸着面に吸着させるステップと、
を有することを特徴とするウェハ処理方法。
【請求項８】
前記ウェハ保持面に保持されたウェハを、前記ウェハ吸着面との対向位置に移動させるステップにおいて、
前記ハンドリングアームは、前記ウェハ吸着面の中心と、前記ハンドリングアームに保持された前記ウェハの中心とが一致しない位置に移動させることを特徴とする請求項７に記載のウェハ処理方法。
【請求項９】
前記傾斜機構は、前記ウェハの中心より前記ウェハ吸着面の中心を低くする方向に前記ウェハを傾斜させることを特徴とする請求項８に記載のウェハ処理方法。
【請求項１０】
前記ウェハは、サファイア又はクオーツを含むことを特徴とする請求項６〜請求項９のいずれか１項に記載のウェハ処理方法。
【請求項１１】
ハンドリングユニットによって、ハンドリングアームの保持面に設けられた傾斜機構でウェハを前記保持面に対し傾斜させて前記ウェハの周縁部を保持し、前記ウェハをウェハ吸着面で吸着保持するチャック機構を備えた搬送手段との受け渡し場所まで、前記ウェハを搬送するステップと、
前記受け渡し場所で、前記ハンドリングアームに保持された前記ウェハの中心と、前記ウェハ吸着面の中心が一致しない位置で、前記ハンドリングアームと前記チャック機構を上下方向に相対移動させ、前記ウェハ吸着面で、傾斜した状態の前記ウェハの傾斜を解消しながら吸着保持するステップと、
を有するウェハ処理方法。
【請求項１２】
請求項６〜１１のいずれか１項に記載のウェハ処理方法を含む半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェハ処理装置、ウェハ処理方法及びハンドリングアームに関する。
【背景技術】
【０００２】
ウェハの製造段階においては、幾つもの加工ステップが順次実行される。これらの加工ステップの多くで、保持面でウェハを保持するハンドリングアームと、ウェハ吸着面でウェハを吸着保持するチャック機構との間で、ウェハの受け渡しが行われている。
【０００３】
しかし、ウェハに反りがある場合、ハンドリングアームとチャック機構でのウェハの受け渡しにおいて、チャック機構での吸着不良による受け渡しミスが発生する場合がある。この吸着不良は、近年、サファイアウェハの裏面に不透明なポリシリコン層を備えたＳＯＳウェハや、サファイアウェハの裏面に石英層を備えたＳＯＱウェハなど、重くて反りの生じやすいウェハが製造されるようになり、増加している。
【０００４】
ハンドリングアームとチャック機構の構成に関しては特許文献１、２がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平２−８３１８２号公報
【特許文献２】特開平５−３２６３８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記事実に鑑み、ウェハの受け渡し時におけるチャック機構の吸着不良を低減することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明に係るウェハ処理装置は、ウェハ保持面を備えたハンドリングアームと、前記ウェハ保持面と平行に設けられたウェハ吸着面で、前記ハンドリングアームから前記ウェハを受け取るチャック機構と、を備えたウェハ処理装置であって、前記ハンドリングアームは、前記ウェハ保持面の上に保持されるウェハを前記ウェハ吸着面に対して傾斜させる傾斜機構を備え、前記ハンドリングアームに保持された前記ウェハの中心と、前記ウェハ吸着面の中心が一致しない位置で前記ウェハの受け渡しを行うことを特徴としている。
【０００８】
請求項１に記載の発明によれば、ハンドリングアームは、ウェハ吸着面と平行に設けられたウェハ保持面を有し、ウェハ保持面に備えられた傾斜機構で、ウェハ保持面上のウェハをウェハ吸着面に対して傾斜させて保持する。
【０００９】
これにより、ウェハをウェハ吸着面に対して傾斜させた状態で、ハンドリングアームとチャック機構との間でウェハの受け渡しを開始することができるので、ウェハを吸着するウェハ吸着面の端部が傾斜したウェハと先に当接し、続いて残りのウェハ吸着面が順次ウェハと当接される。
この結果、ウェハに反りがあっても、ウェハの受け渡し時におけるチャック機構の吸着不良を低減することができる。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のウェハ処理装置において、前記傾斜機構は、前記ウェハ保持面の表面よりもウェハ側に突出された少なくともひとつの突出部を有することを特徴としている。
【００１１】
即ち、ウェハ保持面の表面よりもウェハ側に突出された少なくともひとつの突出部により、ウェハをウェハ保持面に対して傾斜させている。
これにより、ウェハをウェハ保持面に対して傾斜させた状態で、ハンドリングアームとチャック機構との間でウェハの受け渡しを開始することができる。
【００１２】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載のウェハ処理装置において、前記突出部は、前記ウェハ保持面からの突出高さが変更可能とされていることを特徴としている。
【００１３】
即ち、突出部の、ウェハ保持面からの突出高さを変更して、ウェハのウェハ保持面に対する傾斜角度を変更できる。
これにより、ウェハの受け渡し時におけるウェハと、ウェハ吸着面との受け渡し角度を変更できる。
【００１４】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のウェハ処理装置において、前記ハンドリングアーム及び前記チャック機構は、前記ウェハ保持面に対する垂直方向の移動が可能であることを特徴としている。
これにより、ハンドリングアームとチャック機構を、ウェハ保持面に対して垂直方向に相対移動させることができる。このウェハ保持面に対する垂直方向の相対移動を利用して、ウェハをハンドリングアームとチャック機構の間で受け渡すことができる。
【００１５】
請求項５に記載の発明に係るウェハ処理装置は、上端部のウェハ吸着面でウェハを吸着保持するチャック機構を備え、前記ウェハを搬送するために受け渡し場所間を移動する搬送手段と、上向きのウェハ保持面で前記ウェハの周縁部を保持して搬送するハンドリングアームと、前記ウェハ保持面に設けられ前記ウェハを前記ウェハ保持面に対して傾斜させる傾斜機構と、を備え、いずれかの前記受け渡し場所で、前記ハンドリングアームに保持された前記ウェハの中心と、前記ウェハ吸着面の中心が一致しない位置で、前記ハンドリングアームと前記チャック機構との上下方向の相対移動に伴って、前記ウェハの受け渡しを行うハンドリングユニットと、を有することを特徴としている。
【００１６】
請求項５に記載の発明によれば、搬送手段がウェハを吸着保持するチャック機構を備え、ウェハを搬送するために受け渡し場所間を移動する。また、ハンドリングユニットが、ハンドリングアームのウェハ保持面でウェハを保持して搬送し、受け渡し場所で、搬送手段との間でウェハの受け渡しを行う。このとき、ウェハ保持面には、ウェハを水平面に対して傾斜させる傾斜機構が設けられている。
【００１７】
これにより、ウェハを傾斜させた状態で受け渡しが開始されるので、ウェハに反りがあっても、チャック機構のウェハを吸着するウェハ吸着面の端部が、傾斜したウェハと先に当接し、続いて残りのウェハ吸着面が順次ウェハと当接される。
この結果、ウェハの受け渡し時におけるチャック機構の吸着不良を低減できる。
【００１８】
請求項６に記載の発明に係るウェハ処理方法は、ハンドリングアームに備えられたウェハ保持面に搭載されたウェハを、チャック機構に備えられたウェハ吸着面に受け渡すウェハ処理方法において、前記ハンドリングアームは、前記ウェハ保持面の上に保持される前記ウェハを前記ウェハ吸着面に対して傾斜させる傾斜機構を備え、前記ウェハ保持面から前記ウェハ吸着面への前記ウェハの受け渡しの際に、前記ハンドリングアームに保持され、前記傾斜機構により傾斜された前記ウェハの中心と、前記ウェハ吸着面の中心が一致しない位置で、前記ウェハを、前記ウェハ吸着面の端部から順次吸着させることを特徴としている。
【００１９】
これにより、ウェハ保持面からウェハ吸着面へのウェハの受け渡しが、ウェハ吸着面の端部から開始され、順次ウェハの全体を吸着させる。
この結果、ウェハの受け渡し時におけるチャック機構の吸着不良を低減できる。
【００２０】
請求項７に記載の発明に係るウェハ処理方法は、ウェハ保持面を備えたハンドリングアームと、前記ウェハ保持面と平行に設けられたウェハ吸着面で、前記ハンドリングアームからウェハを受け取るチャック機構と、を備えたウェハ処理装置であって、前記ハンドリングアームは、前記ウェハ保持面の上に保持される前記ウェハを前記ウェハ吸着面に対して傾斜させる傾斜機構を備えているウェハ処理装置を用いたウェハ処理方法であって、前記ウェハ保持面に保持された前記ウェハを、前記ウェハ吸着面との対向位置に移動させるステップと、前記ハンドリングアーム又は前記チャック機構を前記ウェハ保持面に対する垂直方向に移動させ、前記ウェハ吸着面に対して傾斜させた状態の前記ウェハを、前記ウェハ吸着面の端部から順次前記ウェハ吸着面に吸着させるステップと、を有することを特徴としている。
【００２１】
即ち、先ず、ウェハ保持面に保持されたウェハを、ウェハ吸着面との対向位置に移動させるステップを実行する。次いで、ハンドリングアーム又はチャック機構をウェハ保持面に垂直方向に移動させ、ウェハ吸着面に対して傾斜させた状態のウェハを、ウェハ吸着面の端部から順次前記ウェハ吸着面に吸着させるステップを実行する。
これにより、ウェハの受け渡し時におけるチャック機構の吸着不良を低減できる。
【００２２】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載のウェハ処理方法前記ウェハ保持面に保持されたウェハを、前記ウェハ吸着面との対向位置に移動させるステップにおいて、前記ハンドリングアームは、前記ウェハ吸着面の中心と、前記ハンドリングアームに保持された前記ウェハの中心とが一致しない位置に移動させることを特徴としている。
【００２３】
この結果、ウェハ処理装置の構造により、ハンドリングアームに保持された前記ウェハの中心と、チャック機構のウェハ吸着面の中心が一致しなくても、ハンドリングアームとチャック機構の間で、ウェハの受け渡しを行うことができる。
【００２４】
請求項９に記載の発明は、請求項８に記載のウェハ処理方法において、前記傾斜機構は、前記ウェハの中心より前記ウェハ吸着面の中心を低くする方向に、前記ウェハを傾斜させることを特徴としている。
これにより、ハンドリングアームの中心とチャック機構の中心を結ぶ線上にウェハの中心を一致させることができ、ハンドリングアームからウェハへの受け渡しが安定する。
【００２５】
請求項１０に記載の発明は、請求項６〜請求項９のいずれか１項に記載のウェハ処理方法において、前記ウェハは、サファイア又はクオーツを含むことを特徴としている。
即ち、サファイアウェハ又はクオーツウェハ等の重くて反りの生じ易いウェハであっても、ウェハの受け渡し時におけるチャック機構の吸着不良を低減できる。
【００２６】
請求項１１に記載の発明に係るウェハ処理方法は、ハンドリングユニットによって、ハンドリングアームの保持面に設けられた傾斜機構でウェハを前記保持面に対し傾斜させて前記ウェハの周縁部を保持し、前記ウェハをウェハ吸着面で吸着保持するチャック機構を備えた搬送手段との受け渡し場所まで、前記ウェハを搬送するステップと、前記受け渡し場所で、前記ハンドリングアームに保持された前記ウェハの中心と、前記ウェハ吸着面の中心が一致しない位置で、前記ハンドリングアームと前記チャック機構を上下方向に相対移動させ、前記ウェハ吸着面で、傾斜した状態の前記ウェハの傾斜を解消しながら吸着保持するステップと、を有することを特徴としている。
【００２７】
即ち、先ず、搬送ステップを実行して、ハンドリングアームの保持面に設けられた傾斜機構でウェハを保持面に対し傾斜させ、ウェハを吸着保持するチャック機構を備えた搬送手段との受け渡し場所までウェハを搬送する。
【００２８】
次いで、吸着ステップを実行して、受け渡し場所で、ハンドリングアームとチャック機構を上下方向に相対移動させ、チャック機構によって、傾斜された状態のウェハの傾斜を解消しながら吸着保持される。
これにより、ウェハの受け渡し時におけるチャック機構の吸着不良を低減できる。
【００２９】
請求項１２に記載の発明に係る半導体装置の製造方法は、請求項６〜１１のいずれか１項に記載のウェハ処理方法を含むことを特徴としている。
【発明の効果】
【００３３】
本発明は、上記構成としてあるので、ウェハの受け渡し時におけるチャック機構の吸着不良を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係るウェハ処理装置の基本構成を示す平面図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態に係るウェハ処理装置におけるハンドリングアームの保持面を示す図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態に係るウェハ処理装置の基本構成を示す立面図である。
【図４】本発明の第２の実施の形態に係るウェハ処理装置のハンドリングアームの保持面とチャック機構の位置関係を示す図である。
【図５】本発明の第２の実施の形態に係るウェハ処理装置のハンドリングアームの保持面とチャック機構のウェハの受け渡し状態を示す図である。
【図６】本発明の第２の実施の形態に係るウェハ処理装置におけるハンドリングアームの保持面を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
（第１の実施の形態）
図１の平面図に示すように、第１の実施の形態に係るウェハ処理装置１０は、ハンドリングユニット１２を有している。ハンドリングユニット１２は、ハンドリングアーム１４を備え、ハンドリングアーム１４の先端には、ウェハ１６の周縁部を保持するウェハ保持面１８が形成されている。
【００３６】
ハンドリングユニット１２は、矢印Ｐ方向への移動及び上下方向に沿った軸周りの回転動作が可能とされ、ハンドリングアーム１４のウェハ保持面１８に保持されたウェハ１６を、受け取り場所２２と処理室２０の間で搬送する。
【００３７】
図２に示すように、ウェハ保持面１８は、断面がＬ字状の金属板で円弧に沿ったＣ字状に形成されている。ウェハ保持面１８は、ウェハ１６の外周を囲む大きさとされ、平面部１８Ｆ（後述する固定ピン２８、３０）でウェハ１６の下面を保持している。平面部１８Ｆの外周部には、ウェハ１６の平面部１８Ｆからの高さより高い寸法で、立上り部１８Ｈが設けられ、立上り部１８Ｈでウェハ１６の外周を囲む構成とされている。ウェハ保持面１８の一部は切り欠かれ、切り欠き部を利用して、後述するシャトル２４の軸部３８を側方から囲むことができる。
【００３８】
ウェハ保持面１８の平面部１８Ｆには、平面部１８Ｆから２本の固定ピン２８が突出され、固定ピン２８より平面部１８Ｆからの突出高さが高い１本の固定ピン３０が、周方向に間隔を開けて突設され、ウェハ１６の下面との接触部とされている。
即ち、３本の固定ピン２８、３０で、ウェハ１６を平面部１８Ｆに対し傾斜させて支持する。
【００３９】
図３の立面図に示すように、搬送手段としてのシャトル２４は、上部にウェハ１６を、ウェハ保持面１８が保持する周縁部でない部分において吸着保持するチャック機構２６を備え、下部に設けた移動手段４２で、受け渡し場所２１、２２の間、又は受け渡し場所２２、２３の間を水平方向（矢印Ｐ３の方向）に移動して、ウェハ１６を搬送する。
【００４０】
また、チャック機構２６は、高さ変更手段４０を備え、軸部３８を介して移動手段４２に支持された状態で、上下方向（矢印Ｐ２の方向）に移動可能とされている。
【００４１】
チャック機構２６は、外径がハンドリングアーム１４の内径より小さい径とされ、上面は、ウェハを吸着保持するウェハ吸着面２６Ｕとされている。ウェハ吸着面２６Ｕは、例えば、減圧手段や磁気手段等によりウェハ１６を吸着保持する。
このような構成とすることにより、以下の手順でウェハ１６をウェハ処理装置１０で処理できる。
【００４２】
図１に示すように、先ず、ロード側のシャトル２４は、受け渡し場所２１で、ロード側キャリアエレベータ３２で運ばれてきた、未処理のウェハ１６をチャック機構２６で吸着保持して、受け渡し場所２２へ搬送する。
【００４３】
ハンドリングユニット１２は、ハンドリングアーム１４を受け渡し場所２２に移動させ、ウェハ１６の下側にウェハ保持面１８をセットする。その後、シャトル２４がチャック機構２６を下降させ、ウェハ１６の吸着を解除してハンドリングアーム１４のウェハ保持面１８にウェハ１６を乗せる。その後、ハンドリングユニット１２は、ハンドリングアーム１４でウェハ１６を処理室２０に搬送する。シャトル２４は、受け渡し場所２１へ移動する。
【００４４】
処理室２０での処理を終えたウェハ１６は、ハンドリングアーム１４で、処理室２０から受け渡し場所２２まで搬送される。これに先立ち、アンロード側のシャトル２４は、チャック機構２６をハンドリングアーム１４との受け渡し場所２２へ移動させ、チャック機構２６を下降させておく。
【００４５】
ウェハ１６がハンドリングアーム１４で渡し場所２２に搬送された後、シャトル２４は、チャック機構２６を上昇させてウェハ１６を吸着して受け取る。
【００４６】
本実施の形態に係るウェハ処理装置１０、及びウェハ処理方法によれば、ウェハ保持面１８のウェハ１６を傾斜させた状態でアンロード側へのウェハ１６の受け渡しを開始することができる。
【００４７】
これにより、ウェハ保持面１８のウェハ１６を傾斜させずに、チャック機構２６のウェハ吸着面２６Ｕに一様にウェハ１６を近づけて吸着させる場合には、一様な吸着が妨げられやすい、反りを有するウェハ１６を吸着する場合であっても、ウェハ１６を傾斜させることにより、チャック機構２６のウェハ吸着面２６Ｕの端部を先にウェハ１６に当接させ、順次吸着面の全体で吸着保持させるため、ウェハ１６の受け渡し時におけるチャック機構２６の吸着不良を低減することができる。
【００４８】
本実施の形態は、サファイアウェハの裏面に不透明なポリシリコン層を備えたＳＯＳウェハや、サファイアウェハの裏面に石英層を備えたＳＯＱウェハなど、重くて反りの生じやすいウェハにも適用可能である。
【００４９】
図４に示す実施形態では、ウェハ処理装置１０の構造により、ハンドリングアーム１４の中心Ｃ１と、チャック機構のウェハ吸着面２６Ｕの中心Ｃ２が一致していない設定とされている。
【００５０】
ここで固定ピン３０は、ハンドリングアーム１４の中心Ｃ１に対して、ウェハ吸着面２６Ｕの中心Ｃ２とは反対側に配置されているので、ウェハ１６が、ハンドリングアーム１４の中心Ｃ１側よりウェハ吸着面２６Ｕの中心Ｃ２側を低くする方向に傾斜される。
【００５１】
例えば、ウェハ１６が逆方向に傾斜していると、チャック機構２６の押し上げ力でウェハ１６は傾斜角を増す方向に変位するので、ウェハ吸着面２６Ｕでの吸着不良が起こりやすい。これに対してウェハ処理装置１０では、図５（Ａ）に示す状態から、図５（Ｂ）に示すように受け渡しが開始される。すると図５（Ｃ）に示すように、上昇するチャック機構２６の押し上げ力でウェハ１６は、固定ピン３０を中心として回転されるから、このウェハ吸着面２６Ｕにウェハ１６が吸着される。
【００５２】
この結果、ウェハ処理装置１０の構造上、ハンドリングアーム１４の中心Ｃ１とチャック機構２６の中心Ｃ２が一致しないときであっても、ウェハ１６の受け渡し時におけるチャック機構２６の吸着不良を低減できる。
【００５３】
なお、以上の説明は、水平に設定されたウェハ保持面１８に傾斜してウェハ１６を載置し、ウェハ保持面１８と平行なウェハ吸着面２６Ｕで受け取る例を示したが、例えば、ウェハ保持面１８にもウェハ１６の吸着機能を持たせ、ウェハ吸着面との間でウェハ１６の受け渡しを行っても良い。これにより、ウェハ１６の受け渡し姿勢は、水平に近い姿勢に限られず、傾斜させた姿勢で受け渡しを行うことができる。
【００５４】
（第２の実施の形態）
図６に示すように、第２の実施の形態に係るウェハ処理装置５０は、ハンドリングアーム１４のウェハ保持面１８に、周方向に隙間を開けて２本の可変ピン４４を設けている。
【００５５】
可変ピン４４は、第１の実施の形態に係るウェハ処理装置１０において説明した、固定ピン３０に代えて設けたもので、固定ピン３０が１本であったのに対し、２本としている。なお、２本の固定ピン２８は、第１の実施の形態のままの位置、形状である。
【００５６】
可変ピン４４は、外周面に雄ねじが設けられ、平面部１８Ｆを貫通して設けられた雌ねじ４６と螺合される。これにより、可変ピン４４のねじ込み量で平面部１８Ｆからの高さを調整できる。２本の可変ピン４４を固定ピン２８より高くセットすれば、ウェハ１６は、可変ピン４４側が高い傾斜で保持される。また、２本の可変ピン４４の高さをそれぞれで異ならせれば、ウェハ１６の傾斜面の方向を調整できる。
【００５７】
なお、可変ピン４４の支持部を、例えば電動等でせり上がる構造としてもよい。これにより、高さ調整が容易となる。また、ロード時とアンロード時で傾斜あり、傾斜なし、と設定を変更したり、ウェハ１６の傾斜角度の設定を変更することもできる。
【００５８】
また、ハンドリングアーム１４の中心Ｃ１とチャック機構の中心Ｃ２が一致していても適用できる。
他の構成は、第１の実施の形態に係るウェハ処理装置１０と同じであり、説明は省略する。
【符号の説明】
【００５９】
１０  ウェハ処理装置
１２  ハンドリングユニット
１４  ハンドリングアーム
１６  ウェハ
１８  ウェハ保持面
２１  受け渡し場所
２２  受け渡し場所
２３  受け渡し場所
２４  シャトル（搬送手段）
２６  チャック機構
２６Ｕ  ウェハ吸着面
３０  固定ピン（傾斜機構、突出部）
４４  可変ピン（傾斜機構、突出部）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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