(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
主配管と、
前記主配管上に設けられた混合器と、第１液を前記混合器へ供給する第１液供給管と、第２液を前記混合器へ供給する第２液源と、を有し、前記第１液と前記第２液とを前記混合器で混合してなる混合液を、前記主配管に一側から供給する液供給機構と、
前記主配管に設けられ、前記主配管を前記液供給機構に対して他側から閉鎖し得る主開閉弁と、
前記液供給機構と前記主開閉弁との間の区間において前記主配管からそれぞれ分岐した複数の分岐管と、
各分岐管にそれぞれ対応して設けられた複数の処理ユニットであって、対応する分岐管を通じて供給される混合液を用いて被処理体を処理するように構成された、複数の処理ユニットと、を有し、
前記主開閉弁は、前記処理ユニットのいずれかにおいて被処理体が処理されている際、前記主配管を前記液供給機構に対して他側から閉鎖し、
前記処理ユニットにおいて被処理体が処理される前に前記混合液を前記主配管および前記分岐管に充填する際、
まず、前記複数の分岐管の各々に一つずつ設けられた分岐管用開閉弁がすべて閉鎖され且つ前記主開閉弁が開放されている状態で、前記主配管に混合液を一側から供給し、
その後、前記主開閉弁が閉鎖され、且つ、前記複数の分岐管用開閉弁の少なくともいずれかが開放されている状態で、前記主配管に混合液を一側から供給し、
その後、前記主開閉弁を閉鎖し且つ前記複数の分岐管用開閉弁をすべて閉鎖するようになっており、
このうち、前記主開閉弁が閉鎖され且つ前記分岐管用開閉弁の少なくともいずれかが開放されている状態で前記主配管に混合液を供給する際に、各分岐管用開閉弁は当該工程中の少なくとも一期間開放される、液処理装置。
【請求項２】
前記液供給機構は、前記第１液と前記第２液とを混合してなる前記混合液を、前記複数の処理ユニットのすべてへ同時に供給し得る圧力で、前記主開閉弁によって他側から閉鎖された前記主配管へ、前記主配管の一側から供給するように構成されている、請求項１に記載の液処理装置。
【請求項３】
前記第１液供給管は、前記複数の処理ユニットのすべてへ前記第１液を同時に供給し得る圧力で、前記主配管に前記第１液を供給するように構成され、
前記第２液源からは、被処理体を処理している処理ユニットの数に応じた量の前記第２液を、前記主配管に供給するようになっている、請求項１または２に記載の液処理装置。
【請求項４】
前記処理ユニットにおいて被処理体の処理が開始される前に、前記混合液が前記主配管および前記分岐管に充填されるようになっている、請求項１〜３のいずれか一項に記載の液処理装置。
【請求項５】
別個の処理ユニットへそれぞれ通じている複数の分岐管が延び出している主配管内に、第１液供給管から供給される第１液と第２液源から供給される第２液とを混合してなる混合液を、前記主配管の一側から充填する工程と、
前記主配管内の混合液が各分岐管を通じて各処理ユニットへ供給され、当該混合液を用いて各処理ユニット内で被処理体の処理が実施される工程と、を有し、
前記主配管から供給される混合液を用いて各処理ユニット内で処理が行われている間、前記主配管は主開閉弁によって他側から閉鎖されており、
前記混合液を前記主配管に充填する工程は、
前記複数の分岐管の各々に一つずつ設けられた分岐管用開閉弁がすべて閉鎖され且つ前記主開閉弁が開放されている状態で、前記主配管に混合液を一側から供給する工程と、
その後、前記主開閉弁が閉鎖され、且つ、前記複数の分岐管用開閉弁の少なくともいずれかが開放されている状態で、前記主配管に混合液を一側から供給する工程と、
その後、前記主開閉弁を閉鎖し且つ前記複数の分岐管用開閉弁をすべて閉鎖した状態にする工程と、を有し、
前記主開閉弁が閉鎖され且つ前記分岐管用開閉弁の少なくともいずれかが開放されている状態で前記主配管に混合液を供給する工程において、各分岐管用開閉弁は当該工程中の少なくとも一期間開放される、液処理方法。
【請求項６】
前記主配管から供給される混合液を用いて各処理ユニット内で処理が行われている間、前記第１液と前記第２液とを混合してなる前記混合液を、前記複数の処理ユニットのすべてへ同時に供給し得る圧力で、前記主開閉弁によって他側から閉鎖された前記主配管へ、前記主配管の一側から供給する、請求項５に記載の液処理方法。
【請求項７】
前記主配管から供給される混合液を用いて各処理ユニット内で処理が行われている間、  前記第１液供給管は、前記複数の処理ユニットのすべてへ前記第１液を同時に供給し得る圧力で、前記主配管に前記第１液を供給し、
前記第２液源からは、被処理体を処理している処理ユニットの数に応じた量の前記第２液が、前記主配管に供給される、請求項５または６に記載の液処理方法。
【請求項８】
前記主配管に混合液を充填する際に、前記分岐管にも混合液が充填される、請求項５〜７のいずれか一項に記載の液処理方法。
【請求項９】
液処理装置を制御する制御装置によって実行されるプログラムであって、
前記制御装置によって実行されることにより、請求項５〜８のいずれか一項に記載された液処理方法を、液処理装置に実施させる、プログラム。
【請求項１０】
液処理装置を制御する制御装置によって実行されるプログラムが記録された記録媒体であって、
前記プログラムが前記制御装置によって実行されることにより、請求項５〜８のいずれか一項に記載された液処理方法を、液処理装置に実施させる、記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液を用いて被処理体を処理する液処理装置および液処理方法に関する。また、本発明は、液を用いて被処理体を処理する液処理方法を実行するためのプログラム、並びに、このプログラムを記録した記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、異なる複数の液体を混合してなる混合液を用いた被処理体の処理、例えば、半導体ウエハ（以下において、単にウエハと呼ぶ）や硝子基板に対する洗浄処理が、実施されてきた。ウエハや硝子基板等の被処理体に対して液体を用いて処理を行う液処理装置には、通常、処理チャンバーを形成する処理ユニットが複数設けられ、各処理ユニット内で被処理体が順次処理されていくようになっている（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平６−２０４２０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、特許文献１に開示された液処理装置では、異なる液を混合して供給する液供給機構が、各処理ユニットに対して別個に割り当てられている。この種の液処理装置においては、各処理ユニットでの液体の消費に合わせて、液が対応する液供給機構から当該処理ユニットへ供給されるようになっている。しかしながら、このような液処理装置においては、複数の液供給機構から供給される混合液の濃度がばらつき、異なる処理ユニットで処理された被処理体間で処理の程度がばらついてしまう。また、液処理装置の構成および液処理装置の制御が複雑化してしまう。
【０００５】
また、液体、とりわけ薬液を用いて被処理体を処理する液処理においては、処理コストの低減の観点および環境維持の観点から、省液を実現することも大きな課題となっている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様による液処理装置は、
主配管と、
前記主配管上に設けられた混合器と、第１液を前記混合器へ供給する第１液供給管と、第２液を前記混合器へ供給する第２液源と、を有し、前記第１液と前記第２液とを前記混合器で混合してなる混合液を、前記主配管に一側から供給する液供給機構と、
前記主配管に設けられ、前記主配管を前記液供給機構に対して他側から閉鎖し得る主開閉弁と、
前記液供給機構と前記主開閉弁との間の区間において前記主配管からそれぞれ分岐した複数の分岐管と、
各分岐管にそれぞれ対応して設けられた複数の処理ユニットであって、対応する分岐管を通じて供給される混合液を用いて被処理体を処理するように構成された、複数の処理ユニットと、を有し、
前記主開閉弁は、前記処理ユニットのいずれかにおいて被処理体が処理されている際、前記主配管を前記液供給機構に対して他側から閉鎖する。
【０００７】
本発明の一態様による液処理方法は、
別個の処理ユニットへそれぞれ通じている複数の分岐管が延び出している主配管内に、第１液供給管から供給される第１液と第２液源から供給される第２液とを混合してなる混合液を、前記主配管に一側から充填する工程と、
前記主配管内の混合液が各分岐管を通じて各処理ユニットへ供給され、当該混合液を用いて各処理ユニット内で被処理体の処理が実施される工程と、を有し、
前記主配管から供給される混合液を用いて各処理ユニット内で処理が行われている間、前記主配管は主開閉弁によって他側から閉鎖されている。
【０００８】
本発明の一態様によるプログラムは、液処理装置を制御する制御装置によって実行されるプログラムであって、前記制御装置によって実行されることにより、上述した本発明の一態様による液処理方法を、液処理装置に実施させる。
【０００９】
本発明の一態様による記録媒体は、液処理装置を制御する制御装置によって実行されるプログラムが記録された記録媒体であって、前記プログラムが前記制御装置によって実行されることにより、上述した本発明の一態様による液処理方法を、液処理装置に実施させる。
【００１０】
本発明によれば、一つの液供給機構から主配管に供給される混合液が、複数の処理ユニットでの被処理体の処理に用いられる。したがって、異なる処理ユニットで処理された被処理体間での処理のばらつきを低減することができる。また、省薬液の観点からも好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本発明の一実施の形態による液処理装置の全体構成を概略的に示す図である。
【図２】図２は、図１の液処理装置を用いて実施され得る被処理体への液処理方法の一例を説明するためのフローチャートである。
【図３】図３は、液処理装置の一変形例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
【００１３】
なお、以下の実施の形態においては、本発明を、半導体ウエハ（被処理体の一例）の洗浄処理、とりわけ薬液を用いた処理（薬液処理）に適用した例を示している。しかしながら、当然に、本発明は、ウエハの洗浄処理への適用に限定されるものではない。
【００１４】
図１に示すように、液処理装置１０は、主配管２０と、主配管２０に一側から接続し主配管２０に混合液を供給する液供給機構４０と、主配管２０に設けられた主開閉弁２２と、主配管２０から分岐した複数の分岐管２５と、を有している。複数の分岐管２５のそれぞれに対応して処理ユニット５０が設けられている。各分岐管２５には、分岐管２５を開閉する分岐管用開閉弁２７が設けられている。また、液処理装置１０は、液処理装置１０の各構成要素の動作等を制御する制御装置１２を有している。以下、各構成要素について、順に、説明していく。
【００１５】
まず、液供給機構４０について説明する。液供給機構４０は、主配管２０および分岐管２５を介し、多数の処理ユニット５０の各々へ、ウエハ（被処理体）Ｗの処理に用いられる混合液を供給する。本実施の形態において、液供給機構４０は、ウエハ（被処理体）Ｗの薬液処理に用いられる薬液を主配管２０内に供給するように構成されている。
【００１６】
図１に示すように、本実施の形態において、液供給機構４０は、主配管２０の一側に設けられた混合器４３と、第１液を供給する第１液供給管４１ｂと、第１液とは異なる第２液を供給する第２液源４２ａと、を有している。第１液供給管４１ｂは、混合器４３と第１液源４１ａとの間を延びている。第２液源４２ａと混合器４３との間に第２液供給管４２ｂが設けられ、第２液供給管４２ｂを介して第２液源４２ａから混合器４３に第２液が供給される。混合器４３は、第１液供給管４１ｂと、第２液供給管４２ｂと、の合流部をなす部材である。第１液源４１ａからの第１液および第２液源４２ａからの第２液は、混合器４３において、合流して混ざり合い、これにより、第１液と第２液とを混合してなる混合液が得られるようになる。なお、混合器４３は、第１液と第２液とを積極的に混合する機能を有する部材から構成され得る。ただし、これに限られず、混合器４３は、専ら第１液および第２液の合流前の各液流に起因して第１液および第２液が混合されるようになる部材（例えば、Ｔ字状の継ぎ手であるチーズ）から構成されてもよい。
【００１７】
本実施の形態においては、水、とりわけ純水が、第１液源４１ａから第１液として供給され、高濃度薬液が、第２液源４２ａから第２液として供給される。液供給機構４０は、第１液供給管４１ｂからの水と第２液源４２ａからの高濃度薬液とを混合して、所望の濃度に調節した薬液としての混合液を主配管２０内に供給することができるようになっている。なお、第２液源４２ａから供給される高濃度薬液（第２液）として、ウエハＷを洗浄処理するために用いられ得る種々の薬液を採用することができる。例えば、第２液源４２ａから、希フッ酸、アンモニア過水（ＳＣ１）、または、塩酸過水（ＳＣ２）が供給されるようにしてもよい。また、第１液源４１ａは、液処理装置１０が設置される場所に設備された水源、例えば工場の用力であってもよい。
【００１８】
ところで、液供給機構４０は、主配管２０に接続された複数の処理ユニット５０のすべてへ同時に供給し得る圧力で、混合比を調節された混合液を、主配管２０内へ供給するように、構成されている。図示する例では、液供給機構４０の第１液供給管４１ｂ上に定圧弁４１ｃが介設されている。このような構成により、主配管２０に接続された複数の処理ユニット５０のすべてへ第１液を同時に供給し得る圧力で、第１液が、第１液源４１ａから第１液供給管４１ｂを介して主配管２０に、供給され得るようになっている。一方、第２液供給管４２ｂには、流量調整弁４２ｃおよび流量計４２ｄが介設されている。第２液源４２ａからの第２液は、ウエハＷを処理している処理ユニット５０の数に応じた量で、混合器４３を介して主配管２０に供給されるようになっている。一例として、流量調整弁４２ｃが、主配管２０に接続された処理ユニット５０のうちの主配管２０内の液を消費してウエハＷを処理している処理ユニット５０の数に応じて第２液の液量を調節し、調節された量の第２液が主配管２０に供給されるようにしてもよい。このような構成により、液供給機構４０は、主配管２０内を、所定の濃度の混合液によって、所定の圧力に維持することができる。また、処理ユニット５０の稼働状況に応じて必要となる量で、所定の濃度の混合液が、液供給機構４０から主配管２０に供給されるようになる。
【００１９】
ただしこのような例に限られず、例えば、第１液供給管４１ｂに設けられた流量計４１ｄでの測定結果に基づき、すなわち第１液供給管４１ｂを介して主配管２０に供給される第１液の流量に応じて、第２液供給管４２ｂを介して主配管２０に供給される第２液の流量が調節されるようにしてもよい。この場合、主配管２０に接続された複数の処理ユニット５０のすべてへ同時に供給され得る圧力で主配管２０に供給される第１液の供給量に対して一定の割合となる供給量で、第２液が主配管２０に供給されるようにすることができる。これにより、液供給機構４０は、主配管２０内を、所定の濃度の混合液によって、所定の圧力に維持することができる。
【００２０】
次に、主配管２０および主開閉弁２２について説明する。主配管２０は一側において、上述したように、液供給機構４０に接続されている。そして、主配管２０は、液供給機構４０が接続された一側とは反対側にあたる他側において、廃棄ラインに通じている。主開閉弁２２は、主配管２０の液供給機構４０に対して他側に取り付けられている。主開閉弁２２は、流体圧駆動により開閉動作を駆動され得る弁、例えば空気圧で開閉動作を駆動されるエアオペバルブから、構成されている。そして、主開閉弁２２の開閉動作は、制御装置１２によって、制御されるようになっている。この結果、主開閉弁２２は、制御装置１２からの制御信号に基づいて、主配管２０を廃棄ラインから閉鎖した状態と、主配管２０を廃棄ラインに連通させた状態と、のいずれかの状態を選択的に維持するようになる。
【００２１】
次に、分岐管２５、分岐管用開閉弁２７および処理ユニット５０について説明する。図１に示すように、複数の分岐管２５は、液供給機構４０と主開閉弁２２との間の区間において主配管２０から延び出ている。図１に示すように、各分岐管２５は、主配管２０に接続している側とは反対側において、対応する処理ユニット５０内へ延び入っている。各分岐管２５は、主配管２０に接続している側とは反対側の端部として、液を吐出する吐出開口２６ａを有しており、吐出開口２６ａは処理ユニット５０内で支持部材５４に支持されている。また、分岐管２５には流量を調節するための調節器２６ｂが設けられており、この調節器２６ｂによって、吐出開口２６ａから吐出される液体の流量が調節され得る。
【００２２】
分岐管用開閉弁２７は、上述した主開閉弁２２と同様に、流体圧駆動により開閉動作を駆動され得る弁、例えば空気圧で開閉動作を駆動されるエアオペバルブから、構成されている。そして、分岐管用開閉弁２７の開閉動作は、制御装置１２によって、制御されるようになっている。この分岐管用開閉弁２７は、分岐管２５上に設けられた多連開閉弁３５のうちの一つとして構成されており、多連開閉弁３５には、後述するリンス液用開閉弁２８および廃液用開閉弁２９も含まれている。
【００２３】
処理ユニット５０は、ウエハＷを保持する保持機構５２と、ウエハＷを処理するための処理チャンバーを画定する隔壁（図示せず）と、を有している。保持機構５２は、ウエハＷの表面が略水平方向に沿うようにしてウエハＷを保持する。保持機構５２は、円板状の形状からなるウエハＷの中心を軸として、保持したウエハＷを回転させることができるように、構成されている。分岐管２５は隔壁の内部に延び入り、分岐管２５の吐出開口２６ａは処理チャンバー内に配置されている。
【００２４】
支持部材５４は、ウエハＷに対して移動可能（例えば揺動可能）に構成されている。支持部材５４が移動することにより、分岐管２５の吐出開口２６ａは、保持機構５２に保持されたウエハＷの略中心に上方から対面する処理位置と、ウエハＷの上方の領域から横方向にずれた待機位置と、の間を移動することができる。吐出開口２６ａが処理位置にある場合、吐出開口２６ａから吐出される液体はウエハＷに供給され、ウエハＷは供給された液体によって処理されるようになる。一方、吐出開口２６ａが待機位置にある場合、吐出開口２６ａから吐出される液体はウエハＷに供給されることはなく、例えば、廃棄されるようになる。
【００２５】
また、図１に示すように、処理ユニット５０は、吐出開口２６ａからウエハＷに向けて吐出された液を回収するカップ５６をさらに有している。カップ５６は、処理チャンバー内に設けられ、吐出開口２６ａから吐出された液が処理チャンバー内で飛散することを防止する。
【００２６】
ところで、上述してきたように、本実施の形態における液供給機構４０は、主配管２０および分岐管２５を介し、処理ユニット５０内のウエハＷに濃度調節された薬液を混合液として供給するようになっている。そして、本実施の形態において、液処理装置１０は、ウエハＷの洗浄処理に必要となるその他の液、例えばリンス液を、ウエハＷに供給することができるようにも構成されている。
【００２７】
具体的な構成としては、図１に示すように、上述した分岐管用開閉弁２７に並べられるようにして、分岐管２０上にリンス液用開閉弁２８が設けられている。このリンス液用開閉弁２８に、リンス液源３０に通じるリンス液供給管３１が接続されている。すなわち、図示する例では、液処理装置１０の分岐管２５の下流側の一部分が、リンス液の供給管としても機能する。
【００２８】
さらに、分岐管用開閉弁２７およびリンス液用開閉弁２８に並べられるようにして、廃液用開閉弁２９が設けられている。廃液用開閉弁２９は廃液管３２に通じている。例えば廃液用開閉弁２９を開閉することによって、分岐管２５の分岐管用開閉弁２７よりも下流側内の液体を廃棄することができる。
【００２９】
次に、制御装置１２について説明する。制御装置１２には、工程管理者等が液処理装置１０を管理するためにコマンドの入力操作等を行うキーボードや、液処理装置１０の稼働状況を可視化して表示するディスプレイ等からなる入出力装置が接続されている。また、制御装置１２は、液処理装置１０で実行される処理を実現するためのプログラム等が記録された記録媒体１３にアクセス可能となっている。記録媒体１３は、ＲＯＭおよびＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭおよびフレキシブルディスク等のディスク状記録媒体等、既知のプログラム記録媒体から構成され得る。
【００３０】
次に、以上のような構成からなる液処理装置１０を用いて実行され得る液処理方法の一例について、説明する。以下に説明する液処理方法においては、図２に示すようにして、被処理体としてのウエハＷが、一つの処理ユニット５０内において、洗浄処理を施される。そして、図２に示す一連の液処理方法のうちの薬液処理工程Ｓ２において、ウエハＷは、上述した液処理装置１０の液供給機構４０から供給される混合液を用いて、処理される。以下においては、まず、図２に示すフローチャートを参照しながら、一つの処理ユニット５０内においてウエハＷに対して施される液処理方法の概略を説明し、その後に、薬液処理工程Ｓ２を行うことに関連した液処理装置１０の動作について説明する。
【００３１】
なお、以下に説明する液処理方法を実行するための各構成要素の動作は、予めプログラム記録媒体１３に格納されたプログラムに従った制御装置１２からの制御信号によって、制御される。
【００３２】
図２に示すように、まず、洗浄処理を施されるウエハＷが、液処理装置１０の各処理ユニット５０内へ持ち込まれ、各処理ユニット５０内で保持機構５２によって保持される（図２の工程Ｓ１）。
【００３３】
次に、第１液供給管４１ｂからの水（第１液）と、第２液源４２ａからの高濃度薬液（第２液）と、の混合液が、液供給機構４０から処理ユニット５０内へ供給される。そして、この混合液が、各処理ユニット５０へ持ち込まれたウエハＷに向けて吐出され、ウエハＷへの処理が施される（工程Ｓ２）。ウエハＷの洗浄処理においては、例えば、希フッ酸、アンモニア過水（ＳＣ１）、塩酸過水（ＳＣ２）等の濃度調節された薬液が、液供給機構４０から混合液として供給され得る。
【００３４】
混合液(薬液)を用いたウエハＷの処理が終了すると、次に、水、とりわけ純水をリンス液として用いるリンス処理がウエハＷに施される（工程Ｓ３）。具体的には、リンス液供給管３１およびリンス液用開閉弁２８を介して、リンス液が、処理ユニット５０内へ供給される。そして、リンス液が、各処理ユニット５０において、混合液が残っているウエハＷに向けて吐出され、ウエハＷ上に残留する混合液がリンス液によって置換される。
【００３５】
リンス処理が終了すると、保持機構５２によってウエハＷを高速回転させることにより、ウエハＷの乾燥処理が実施される（工程Ｓ４）。以上のようにして、一つの処理ユニット５０内におけるウエハＷの洗浄処理が終了し、処理が終了したウエハＷが処理ユニット５０から搬出される（工程Ｓ５）。
【００３６】
次に、薬液処理を行うことに関連した液処理装置１０の動作について説明する。
【００３７】
まず、混合液（薬液）を用いてウエハＷを処理する薬液処理工程Ｓ２に先立って、混合液が主配管２０に充填される。主配管２０への混合液の充填は、上述したウエハＷを各処理ユニット５０内へ搬入する工程Ｓ１の前に開始される。また、主配管２０への混合液（薬液）の充填は、ウエハＷを各処理ユニット５０内へ搬入する工程Ｓ１と並行して実施されるようにしてもよい。
【００３８】
具体的な混合液の充填方法としては、まず、主開閉弁２２が閉鎖され且つ複数の分岐管用開閉弁２７の少なくともいずれかが開放されている状態で、液供給機構４０によって、主配管２０に混合液を一側から供給する。主開閉弁２２によって他側から閉鎖されている主配管２０に充填された混合液は、対応する分岐管用開閉弁２７が開放されている分岐管２５へ流れ込むようになる。この際、各処理ユニット５０の支持部材５４を揺動させ、分岐管２５の吐出開口２６ａを待機位置に配置しておく。これにより、主配管２０から分岐管２５に流れ込んだ混合液は、待機位置に配置された吐出開口２６ａから吐出されるようになる。この状態で、対応する分岐管用開閉弁２７を閉じ、これにより、主配管２０および分岐管２５の吐出開口２６ａまで混合液が充填された状態となる。
【００３９】
なお、すべての分岐管２５に混合液を充填するため、複数の分岐管用開閉弁２７のすべてが、主配管２０内に混合液が供給されている間の少なくとも一期間（一時期）、つまり、この工程中に少なくとも一回、開放されるようになる。この際、すべての分岐管用開閉弁２７がすべて同一のタイミングで一斉に開放されているようにしてもよいし、あるいは、二以上の数の分岐管用開閉弁２７がタイミングをずらして順に開放されているようにしてもよいし、あるいは、分岐管用開閉弁２７が一つずつタイミングをずらして順に開放されているようにしてもよい。さらに、この工程における上述した「主開閉弁２２が閉鎖され且つ複数の分岐管用開閉弁２７の少なくともいずれかが開放されている状態」とは、この工程中の間にわたって、常にいずれかの分岐管用開閉弁２７が開放され続けていることのみを意味するのではなく、開放されている分岐管用開閉弁２７が切り替わる際にタイムラグが生じる、つまり、すべての分岐管用開閉弁２７が閉鎖されている状態が含まれるようにしてもよい。
【００４０】
この工程中、液供給機構４０の第１液源４１ａから水が混合器４３に供給されるとともに、液供給機構４０の第２液源４２ａから高濃度薬液が混合器４３に供給される。これにより、主配管２０上に設けられた混合器４３において、水と高濃度薬液との混合液としての薬液が調合され、この薬液が主配管２０に一側から供給されるようになる。この際、水は所定の圧力で主配管２０に供給され、一方、高濃度薬液は、対応する分岐管用開閉弁２７が開放されて混合液が吐出されている処理ユニットの数に応じた量で、主配管２０に供給される。したがって、液供給機構４０から主配管２０に供給される薬液は所定の濃度に維持される。なお、高濃度薬液（第２液）の混合器４３への供給量が、上述したように、第１液供給管４１ｂから主配管２０に供給される水（第１液）の量に応じて決定される場合にも、液供給機構４０から主配管２０に供給される薬液の濃度を所定の濃度に保つことができる。
【００４１】
以上のようにして主配管２０およびすべての分岐管２５に混合液が充填されると、分岐管用開閉弁２７のすべておよび主開閉弁２２が閉鎖する。そしてこのように主配管２０が密閉された状態になると、第１液の供給が停止する。このようにして、準備工程としての、主配管２０に混合液を充填する工程と、分岐管２５に混合液を充填する工程と、が終了する。
【００４２】
ただし、ここで説明した主配管２０内および分岐管２５内に混合液を充填する方法の具体例は、例示に過ぎず、種々の変更が可能である。一例として、まず、すべての分岐管用開閉弁２７を閉鎖し且つ主開閉弁２２を開放した状態で、液供給機構４０から混合液を主配管２０に供給し始め、主配管２０内に混合液を充填してもよい。その後、上述した方法と同様にして、主配管２０および分岐管２５の両方に混合液を充填することができる。すなわち、混合液を充填する工程が、分岐管用開閉弁２７をすべて閉鎖し且つ主開閉弁２２を開放している状態で主配管２０に混合液を一側から供給する工程と、その後、主開閉弁２２を閉鎖し且つ複数の分岐管用開閉弁２７のいずれかを開放している状態で主配管２０に混合液を一側から供給する工程と、その後、主開閉弁２２を閉鎖し且つ分岐管用開閉弁２７をすべて閉鎖する工程と、を有するようにしてもよい。
【００４３】
主配管２０への混合液の供給を開始する際に主開閉弁２２を開放しておくことにより、背圧によって混合液が主配管２０内に流れ込み難くなることを防止することができる。このため、主配管２０内に混合液を迅速且つ安定して行き渡らせることができる。その後、上述したようにして、主配管２０に充填された混合液を分岐管２５内に流れ込ませ、分岐管２５内にも混合液を充填することができる。
【００４４】
なお、このような方法では、高濃度薬液（第２液）の混合器４３への供給量が、第１液供給管４１ｂから主配管２０に供給される水（第１液）の量に応じて決定されることが好ましい。この場合、分岐管用開閉弁２７がすべて閉鎖され且つ主開閉弁２２が開放されている状態で主配管２０に供給され始める薬液（混合液）の濃度を所望の濃度とすることができる。
【００４５】
以上のようにして混合液が主配管２０内および分岐管２５内に充填され、且つ、上述したように処理ユニット５０内にウエハＷが搬入されると、当該処理ユニット５０内においてウエハＷが順次処理されていく（上述した工程Ｓ２）。
【００４６】
この工程Ｓ２中、処理ユニット５０内に搬入されたウエハＷは、保持機構５２によって保持されるとともに、保持機構５２によって回転させられる。また、支持部材５４は、吐出開口２６ａがウエハＷに上方から対面するようになる処理位置に位置するように、配置される。この状態において、分岐管用開閉弁２７が開き、十分な圧力に保持された主配管２０から分岐管２５へ混合液が流れ込む。そして、混合液が、分岐管２５の吐出開口２６ａを介してウエハＷの上面（表側の面）に吐出される。混合液は回転中のウエハＷの表面上に広がり、ウエハＷの表面が混合液によって処理される。
【００４７】
なお、ウエハＷを処理ユニット５０へ搬入する際（工程Ｓ１）、ウエハＷは、通常、複数の処理ユニット５０のそれぞれに順に搬送されていく。したがって、各処理ユニット５０へウエハＷが持ち込まれるタイミングは互いに異なり、このため、処理ユニット５０内での混合液を用いたウエハＷの処理は、通常、液処理装置１０に含まれる複数の処理ユニット５０間で、一斉に開始されるものではない。ウエハＷを処理する準備が整った処理ユニット５０に対応する分岐岐管用開閉弁２７から順次開いていき、対応する各処理ユニット５０での混合液を用いたウエハＷの処理が順次開始されていく。
【００４８】
ところで、混合液が主配管２０から分岐管２５を介して各処理ユニット５０へ供給されると、主配管２０内の圧力が低下する。そして、主配管２０から供給される混合液を用いて各処理ユニット５０内で処理が行われている間、上述したように、液供給機構４０は、複数の処理ユニット５０のすべてへ同時に供給し得る圧力で、濃度調節された混合液を主配管２０内へ送り込んでいる。したがって、主配管２０に充填されていた混合液が処理ユニット５０での処理に使用されると、液供給機構４０が濃度調節された混合液を主配管２０送り込み、主配管２０内における混合液の液圧が一定の圧力に維持される。これにより、単一の液供給機構４０を用いて、多数の処理ユニット５０に対して、ウエハＷの処理に用いられる混合液を安定した流量で供給することができる。
【００４９】
以上のようにして処理ユニット５０内でウエハＷに対して適当量の混合液が供給されると、当該処理ユニット５０に対応する分岐管２５が、分岐管用開閉弁２７によって、閉鎖される。このようにして、各処理ユニット５０での混合液を用いたウエハＷの処理（薬液処理）が順次終了していく。
【００５０】
なお、ウエハＷに対する薬液処理（工程Ｓ２）が終了すると、上述したように当該ウエハＷに対してリンス処理（工程Ｓ３）が施される。このリンス処理において、ウエハＷに供給されるリンス液は、リンス液用開閉弁２８を介して分岐管２５に流れ込み、分岐管２５の吐出開口２６ａから吐出される。このため、リンス処理開始時には、分岐管２５の下流側の部分内に残留した混合液が水によって押し出されるようになる。このような方法によれば、薬液処理（工程Ｓ２）からリンス処理（工程Ｓ３）へと、ウエハＷに対して連続的に液体を供給することにより、ウエハＷの表面を乾燥させることなく、当該ウエハＷへの処理内容を変更することができる。これにより、ウォータマークの発生等の不具合を回避することができる。
【００５１】
なお、このようにしてリンス処理工程が終了した時点では、分岐管２５のリンス液用開閉弁２８（分岐管用開閉弁２７）よりも下流側の部分内に、リンス液が残留するようになる。そして、次のウエハＷへの処理を開始する際には、次のウエハＷの搬入工程に先立って又は次のウエハＷの搬入工程に並行して、廃液用開閉弁２９および廃液管３２を介して、分岐管２５内に残留するリンス液を分岐管２５から廃液しておくことが好ましい。このような処置を行っておくことにより、次のウエハＷへの薬液処理工程Ｓ２中、ウエハＷに対して一定の混合比の混合液を供給することができる。
【００５２】
処理済みのウエハＷが各処理ユニット５０から搬出されると、次に処理されるべきウエハＷが各処理ユニット５０に持ち込まれる。次に処理されるべきウエハＷに対し、同一の処理ユニット５０内で直前に処理されたウエハＷに対する処理と同一の処理が、施される場合には、すなわち、液供給機構４０から供給される混合液の混合比（濃度）を変化させる必要が無い場合には、主配管２０内および分岐管２５内の混合液を、そのまま残留させておけばよい。
【００５３】
一方、次に処理されるべきウエハＷと、同一の処理ユニット５０内で直前に処理されたウエハＷと、の間で処理内容が異なり、ウエハＷの処理に用いられる混合液の濃度を変更する必要がある場合には、次に処理されるべきウエハＷの薬液処理が開始される前に、次に用いられる混合液を主配管２０内に充填する。この場合、まず、第１液源４１ａからの水（とりわけ、純水）のみを液供給機構４０から主配管２０内に供給し、主配管２０内および分岐管２５内に残留する薬液を水によって置換する。具体例として、まず、主開閉弁２２を開いて主配管２０内を水で置換する。次に、主開閉弁２２を閉じるとともに分岐管用開閉弁２７を開き、分岐管２５内を水で置換する。この際、待機位置に位置する分岐管２５の吐出開口２６ａから水を吐出し、分岐管２５を全長にわたって水で洗い流す。このようにして、主配管２０内および分岐管２５内を水で洗い流した後、上述した方法と同様にして、所望の濃度に調節された混合液を液供給機構４０から主配管２０に充填するとともに、所望の濃度に調節された混合液を分岐管２５に充填する。以上のような準備工程が終了した後、異なる濃度の混合液を用いたウエハＷの処理が実施される。
【００５４】
なお、ここで説明した、主配管２０内および分岐管２５内を異なる混合液で置換する方法の具体例は、例示に過ぎず、種々の変更が可能である。例えば、主開閉弁２２および分岐管用開閉弁２７を開放および閉鎖するタイミングは、上述の例に限られない。したがって、主配管２０内に残留する混合液と、分岐管２５内に残留する混合液と、を並行して水で置換するようにしてもよい。また、主配管２０内および分岐管２５内に残留する混合液をまず水で置換し、その後、主配管２０内および分岐管２５内に次に用いられるべき混合液を充填することにより、主配管２０内および分岐管２５内を異なる混合液で置換するようにした例を示したが、これに限られない。主配管２０内および分岐管２５内に残留する混合液を、直接、次に用いられるべき混合液で置換するようにしてもよい。
【００５５】
以上のような本実施の形態によれば、液供給機構４０は、調節された混合比で第１液と第２液とを混合してなる混合液を、多数の処理ユニット５０に対して同時に供給することができる圧力で、主開閉弁２２により他側から閉鎖された主配管２０内に一側から送り込むようになっている。したがって、多数の処理ユニット５０に対して、単一の液供給機構４０を用い、混合液を安定して供給することができる。また、処理ユニット５０内でウエハＷを処理している間、各処理ユニット５０の稼働状況に応じて必要となる量の混合液のみが、液供給機構４０から主配管２０に供給されるようになる。したがって、混合液を大量に無駄にすることはなく混合液を節約することができ、これにより、被処理体（ウエハＷ）の処理コストを低減することができる。また、液供給機構４０から供給される混合液が薬液である場合には、薬液処理時における薬液の廃棄量を低減させることができるので、環境上の観点からも好ましい。さらに、同時に処理が行われている異なる処理ユニット５０において、主配管２０から供給される同一（例えば同一の濃度）の混合液を用いて異なるウエハＷを処理することができる。これにより、ウエハＷ間で処理の度合いを均一化させることができる。
【００５６】
なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、変形の一例について説明する。
【００５７】
例えば、上述した実施の形態において、主配管２０が一本の線状に形成されている例を示したが、これに限られない。例えば図３に示すように、主配管２０が、液供給機構４０から離間した他側において、複数の管路２１ａ，２１ｂに分かれていてもよい。図３に示す例において、各管路２１ａ，２１ｂに、主配管２０を液供給機構４０に対して他側から閉鎖し得る主開閉弁２２が、設けられている。そして、液供給機構４０と各主開閉弁２２との間の区間において、各管路２１ａ，２１ｂから複数の分岐管２５が延び出している。なお、図３においては、図示および理解のしやすさの便宜上、上述したリンス液用開閉弁２８、リンス液供給管３１、リンス液源３０、廃液用開閉弁２９および廃液管３２が、省略されている。また、図３に示す変形例におけるその他の構成は、上述した実施の形態と同一に構成され得り、ここでは重複する説明は省略する。
【００５８】
さらに、上述した実施の形態において、液供給機構４０の構成の具体例を示したが、これに限られない。上述した構成とは異なる構成によって、液供給機構４０が、第１液と第２液とを混合してなる混合液を、複数の処理ユニット５０のすべてへ同時に供給し得る圧力で、主開閉弁２２によって閉鎖された主配管２０へ供給するように構成されてもよい。
【００５９】
さらに、上述した実施の形態において、液供給機構４０が、水を供給する第１液供給管４１ｂと、高濃度薬液を供給する第２液源と、を有する例を示したが、これに限られない。例えば、液供給機構４０が、二種類以上の薬液源を有するようにしてもよい。
【００６０】
なお、以上において上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。
【００６１】
さらに、冒頭にも述べたように、本発明を、ウエハの洗浄処理以外の処理にも適用することができる。
【符号の説明】
【００６２】
１０  液処理装置
１２  制御装置
１３  記録媒体
２０  主配管
２１ａ，２１ｂ  管路
２２  主開閉弁
２５  分岐管
２６ａ  吐出開口
２７  分岐管用開閉弁
４０  液供給機構
４１ａ  第１液源
４２ａ  第２液源
４３  混合器
５０  処理ユニット
５２  保持機構
５４  支持部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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