(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
システムであって、
両面にＵＶ硬化レジンがコーティングされたメディアを支持するメディア支持部と、
前記メディア支持部の上方及び下方でそれぞれ配置される第１モールド及び第２モールドをそれぞれ支持する第１モールド支持部及び第２モールド支持部と、
前記メディア支持部、前記第１モールド支持部及び前記第２モールド支持部のうち少なくとも１つの支持部を垂直に駆動する垂直移動装置と、
前記第１モールド支持部の上方及び前記第２モールド支持部の下方にそれぞれ設置されて紫外線を提供する第１ＵＶ照射装置及び第２ＵＶ照射装置とを備え、
前記第２ＵＶ照射装置は、前記第１ＵＶ照射装置から供給される紫外線を用いずに、前記第２ＵＶ照射装置自身によって紫外線を照射し、
前記メディアの両面に同時に前記ＵＶ硬化レジンを塗布する両面コーティング装置をさらに備え、
前記両面コーティング装置は、
前記メディアを固定する固定チャックと、
前記固定チャックを上下に動かす上下駆動部と、
前記固定チャックを回転する回転駆動部と、
前記ＵＶ硬化レジンを保存する保存部とを含む、システム。
【請求項２】
両面にＵＶ硬化レジンがコーティングされたメディアを支持するメディア支持部と、
前記メディア支持部の上方及び下方でそれぞれ配置される第１モールド及び第２モールドをそれぞれ支持する第１モールド支持部及び第２モールド支持部と、
前記メディア支持部、前記第１モールド支持部及び前記第２モールド支持部のうち少なくとも１つの支持部を垂直に駆動する垂直移動装置と、
前記第１モールド支持部の上方及び前記第２モールド支持部の下方にそれぞれ設置されて紫外線を提供する第１ＵＶ照射装置及び第２ＵＶ照射装置と、
前記メディアの両面に同時に前記ＵＶ硬化レジンを塗布する両面コーティング装置とを備え、
前記両面コーティング装置は、
前記メディアを固定する固定チャックと、
前記固定チャックを上下に動かす上下駆動部と、
前記固定チャックを回転する回転駆動部と、
前記ＵＶ硬化レジンを保存する保存部とを含む、システム。
【請求項３】
前記メディア支持部、前記第１モールド支持部及び前記第２モールド支持部を内包するチャンバと、
前記チャンバに連結された真空手段とをさらに備える、請求項１または２に記載のシステム。
【請求項４】
前記チャンバ上に設置されたリニアガイドをさらに備え、
前記第１ＵＶ照射装置は、前記リニアガイドに設置される、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記リニアガイドに設置されたアラインメント光学装置をさらに備える、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
システムであって、
両面にＵＶ硬化レジンがコーティングされたメディアを支持するメディア支持部と、
前記メディア支持部の上方及び下方でそれぞれ配置される第１モールド及び第２モールドをそれぞれ支持する第１モールド支持部及び第２モールド支持部と、
前記メディア支持部、前記第１モールド支持部及び前記第２モールド支持部のうち少なくとも１つの支持部を垂直に駆動する垂直移動装置と、
前記第１モールド支持部の上方及び前記第２モールド支持部の下方にそれぞれ設置されて紫外線を提供する第１ＵＶ照射装置及び第２ＵＶ照射装置とを備え、
前記第２ＵＶ照射装置は、前記第１ＵＶ照射装置からの紫外線を受けて、前記第２モールドに供給する光路変更部材であり、
前記システムは、
前記第１ＵＶ照射装置から前記第１モールドに入射される領域に設置されて、前記第１モールドに照射されるＵＶ強度を低減させる減衰フィルタをさらに備える、システム。
【請求項７】
前記第２ＵＶ照射装置は、凹状の環型ミラーである、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記減衰フィルタは、ＮＤ（Ｎｅｕｔｒａｌ Ｄｅｎｓｉｔｙ）フィルタである、請求
項６に記載のシステム。
【請求項９】
前記第１モールド支持部は、前記チャンバ内に固定されるように設置され、
前記メディア支持部は、前記第１モールド支持部と前記第２モールド支持部との間を移動可能なように設置され、
前記垂直移動装置は、前記第２モールド支持部を駆動する装置である、請求項３に記載のシステム。
【請求項１０】
前記第２モールド支持部を２軸方向に駆動するＸ−Ｙステージと、
前記第２モールド支持部及び前記メディア支持部を選択的に固定させるロッキング装置と、をさらに備える、請求項４に記載のシステム。
【請求項１１】
前記第２モールド支持部を回転する回転ステージをさらに備える、請求項１０に記載のシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インプリントリソグラフィ装置に係り、さらに詳細には、パターンが形成されるメディアの両面にナノインプリンティングを行う両面インプリントリソグラフィ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
インプリントリソグラフィ技術は、プレスでモールドパターンを基板に直接転写するものであって、非加工基板に複雑な段差を比較的簡便に形成しうる。特に、基板に直接プリントすることによって、これまでは複数回のフォトリソグラフィプロセスが必要になったが、一度のプレス転写で完了するという長所があるので、多段階形状を転写する時に非常に効果的である。
【０００３】
このようなインプリントリソグラフィは、２つの方法に大別される。第一には、熱で高分子層を流動性のあるように作った後、パターンのあるモールドを接触させて物理的に押し付けて前記高分子層に所望のパターンを作り出す方法であって、これを熱転写あるいはサーマルインプリントリソグラフィと呼ぶこともある。
【０００４】
第二には、粘度の低いＵＶレジンを基板にコーティングし、パターンのあるモールドを接触させた後、ＵＶを照射してＵＶレジンを硬化させることによって所望のパターンを作り出す方法であって、これをＵＶ硬化インプリントリソグラフィという。ＵＶ硬化インプリントリソグラフィは、ＵＶを使用して硬化させねばならないので、使用するモールドは、石英などの透明なモールドが使われねばならない。
【０００５】
現在、この２つのプリント方法が世界的に両分されて使われており、それぞれが長短所によって多様な適用分野に使われている状況である。
【０００６】
特に、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ：Ｈａｒｄ Ｄｉｓｋ Ｄｒｉｖｅ）のパターンドメディアの製作には、前記２つの方法のうちＵＶインプリントリソグラフィ技術を適用するための試みが多く進められている。ＵＶインプリントリソグラフィ技術は、常温で低圧で使用するので、高圧及び高熱を必要とする熱転写方法より有利であり、特に、ナノスケールのパターニングに有利である。
【０００７】
しかし、パターンドメディアの製作のためにＵＶインプリントリソグラフィ技術を使用するためには、従来のＨＤＤメディア製造工程と互換可能でなければならず、量産のためには、パターンドメディアの両面にナノインプリント工程を行わねばならない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
前記のような従来の技術の問題点を解決するために、本発明は、ＨＤＤのパターンドメディア技術へのＵＶインプリントリソグラフィ技術の適用において、パターンドメディアの両面にインプリントを行う両面インプリントリソグラフィ装置を提供することをその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記目的を達成するために、本発明の一実施形態による両面インプリントリソグラフィ装置は、両面にＵＶ硬化レジンがコーティングされたメディアを支持するメディア支持部と、前記メディア支持部の上方及び下方にそれぞれ配置される第１モールド及び第２モールドをそれぞれ支持する第１モールド支持部及び第２モールド支持部と、前記メディア支持部、第１モールド支持部及び第２モールド支持部のうち少なくとも１つの支持部を垂直に駆動する垂直移動装置と、前記第１モールド支持部の上方及び前記第２モールド支持部の下方の対向面にそれぞれ設置されて紫外線を提供する第１ＵＶ照射装置及び第２ＵＶ照射装置と、を備えることを特徴とする。
【００１０】
本発明のリソグラフィ装置は、前記メディア支持部、第１モールド支持部及び第２モールド支持部を内包するチャンバと、前記チャンバに連結された真空手段と、をさらに備えうる。
【００１１】
本発明によれば、前記チャンバ上に設置されたリニアガイドをさらに備え、前記第１ＵＶ照射装置は、前記リニアガイドに設置される。
【００１２】
また、前記リニアガイドに設置されたアラインメント光学装置をさらに備えうる。
【００１３】
本発明の一局面によれば、前記第２ＵＶ照射装置は、前記第１ＵＶ照射装置からの紫外線を受けて前記第２モールドに供給する光路変更部材でありうる。前記光路変更部材は、反射面が凹状の環型ミラーでありうる。
【００１４】
また、前記第１ＵＶ照射装置から前記第１モールドに入射される領域に設置されて、前記第１モールドに照射されるＵＶ強度を低減させる減衰フィルタをさらに備えうる。前記減衰フィルタは、ＮＤ（Ｎｅｕｔｒａｌ Ｄｅｎｓｉｔｙ）フィルタでありうる。
【００１５】
本発明の他の局面によれば、前記第１モールド支持部は、前記チャンバ内に固定されるように設置され、前記メディア支持部は、前記第１モールド支持部と前記第２モールド支持部との間を移動可能なように設置され、前記垂直移動装置は、前記第２モールド支持部を駆動する装置であり、前記第２モールド支持部を２軸方向に駆動するＸ−Ｙステージと、前記第２モールド支持部及び前記メディア支持部を選択的に固定させるロッキング装置と、を備えうる。
【００１６】
また、前記第２モールド支持部を回転する回転ステージをさらに備えうる。
【００１７】
本発明によれば、前記メディアの両面に同時にＵＶ硬化レジンを塗布する両面コーティング装置をさらに備え、前記両面コーティング装置は、前記メディアの中央ホールを固定する固定チャックと、前記固定チャックを上下に動かす上下駆動部と、前記固定チャックを回転する回転駆動部と、前記ＵＶ硬化レジンを保存する保存部と、を備えうる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明による両面インプリントリソグラフィ装置は、両面ＵＶインプリントリソグラフィ技術をＨＤＤのパターンドメディアの製作に適用するとき、コスト及び生産性を改善しうる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、添付された図面を参照しつつ、本発明の望ましい実施形態を詳細に説明する。しかし、下記に例示される実施形態は、本発明の範囲を限定するものではなく、本発明を当業者に十分に説明するために提供されるものである。以下の図面で、同じ参照符号は、同じ構成要素を表し、図面上で各構成要素のサイズは、説明の明瞭性及び便宜のために誇張されている。
【００２０】
図１は、本発明の第１実施形態による両面インプリントリソグラフィ装置１００の概略的な断面図である。
【００２１】
図１を参照すれば、本発明による両面インプリントリソグラフィ装置１００は、メディア支持部１３０と、メディア支持部１３０上方に位置した第１モールド支持部１２０と、メディア支持部１３０の下方に位置した第２モールド支持部１４０と、を備える。
【００２２】
メディア支持部１３０には、第１面１３３と第２面１３４とにそれぞれＵＶ硬化レジンがコーティングされたメディア１３２が固定され、第１モールド支持部１２０には、前記メディア１３２の第１面１３３に対向した面にパターンの形成された第１モールド１２２が固定される。第２モールド支持部１４０には、前記メディア１３２の第２面１３４に対向した面にパターンの形成された第２モールド１４２が固定される。メディア１３２の第１面１３３及び第２面１３４には、それぞれ磁性膜（図示せず）が形成されている。
【００２３】
第１モールド支持部１２０は、チャンバ１１０に固定されるように設置される。
【００２４】
メディア支持部１３０の両端は、それぞれ第１シリンダーロッド１３６に連結される。第１シリンダーロッド１３６は、その直線運動をガイドするパイプ１３８内に配置されて、第１モールド支持部１２０と第１位置との間を移動できるように設置される。第１シリンダーロッド１３６に付着されたストッパ１３７は、第１シリンダーロッド１３６がパイプ１３８の上端に位置するとき、メディア支持部１３０を第１位置に限定する。
【００２５】
第２モールド支持部１４０上には、第２モールド１４２が装着され、第２モールド支持部１４０の下部には、第２シリンダーロッド１４４が連結される。第２シリンダーロッド１４４は、垂直移動装置１４６によって上下移動する。垂直移動装置１４６によって第２モールド支持部１４０が上方に移動すれば、メディア支持部１３０上のメディア１３２は、第２モールド支持部１４０の第２モールド１４２と接触し、次いで、第２モールド支持部１４０をさらに上方に移動すれば、メディア支持部１３０のメディア１３２は、第１モールド支持部１２０の第１モールド１２２と接触する。したがって、メディア１３２上のレジンは、第２モールド１４２及び第１モールド１２２と順次に接触してナノインプリンティングがなされる。
【００２６】
チャンバ１１０の下部には、第２シリンダーロッド１４４の出入口である第１ホール１１２が形成されており、この第１ホール１１２は、後述するアラインメントのために第２シリンダーロッド１４４との間隔、例えば、数ｍｍの間隔を有しうる。
【００２７】
チャンバ１１０には、真空手段が連結されてその内部を１×１０−１Ｔｏｒｒ以下の圧力に維持される。前記真空手段は、真空ポンプ１１６であり、または真空圧力ラインでありうる。第２ホール１１４は、真空ポンプ１１６または真空圧力ラインと連結されるホールである。
【００２８】
チャンバ１１０上には、リニアガイド１５０が設置されており、リニアガイド１５０上には、アラインメント光学装置及び第１ＵＶ硬化装置１５４が設置されている。
【００２９】
前記第２シリンダーロッド１４４には、第２モールド支持部１４０を２軸方向に駆動するＸ−Ｙステージ（図示せず）と、前記第２モールド支持部１４０を回転する回転ステージ（図示せず）とが連結される。
【００３０】
前記チャンバ１１０の上部には、ＵＶ光の通過のためのウィンドウ１１７が形成されており、このウィンドウ１１７には、透光性物質、例えば、石英１１８が設置される。前記ウィンドウ１１７は、アラインメント光学装置１５２にモールド１２２,１４２とメディア１３２との間の整列を観察するために利用され、また、第１ＵＶ硬化装置１５４で紫外線をメディア１３２の第１面１３３に塗布されたＵＶ硬化レジンに照射するために使われる。
【００３１】
前記第１モールド１２２の上部には、第１モールド１２２のインプリンティング時に大面積でパターンが均一に転写されるように、第１ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）パッド１２３が設置される。第１ＰＤＭＳパッド１２３は、透光性であるので、ＵＶ硬化に妨害されない。第２モールド１４２と第２モールド支持部１４０との間にも第２ＰＤＭＳパッド１４３が設置されることが望ましい。
【００３２】
チャンバ１１０の底部には、第２ＵＶ硬化装置１５６が設置されている。第２ＵＶ硬化装置１５６は、紫外線をメディア１３２の第２面１３４に塗布されたＵＶ硬化レジンに照射するために使われる。
【００３３】
前記リニアガイド１５０は、前記アラインメント光学装置１５２と第１ＵＶ硬化装置１５４とが一直線上に移動するように使われ、前記アラインメント光学装置１５２と第１ＵＶ硬化装置１５４とをそれぞれ前記ウィンドウ１１７上にまたはウィンドウ１１７から離隔して移動するのに使われる。前記アラインメント光学装置１５２及び第１前記ＵＶ硬化装置１５４を前記リニアガイド１５０上で駆動するための制御モータ（図示せず）がそれぞれさらに設置される。
【００３４】
一方、第２モールド支持部１４０には、メディア支持部１３０を固定するロッキング装置１６０が設置される。ロッキング装置１６０は、第２モールド支持部１４０及びメディア支持部１３０を選択的に固定させ、その作用は、後述する。
【００３５】
図２は、ロッキング装置１６０の一例を示す図面である。図２を参照すれば、メディア支持部１３０の下部には、固定ピン１６２が設置されている。前記固定ピン１６２は、モータ（図示せず）によってリニアガイド１６４上で直線的に移動して第２モールド支持部１４０の下部を支持する。これにより、メディア支持部１３０も第２モールド支持部１４０と共に上下移動することができ、また、Ｘ−Ｙステージ及び回転ステージの駆動によって、メディア支持部１３０と第１モールド支持部１２０との間のアラインメントが行われる。
【００３６】
一方、ＵＶ硬化レジンがメディア１３２の両面にスピンコーティングされる。従来のスピンコーティング方法では、メディア１３２の両面を同時にスピンコーティングし難い。従来の方式でメディア１３２の第１面１３３にスピンコーティングした後、第２面１３４をコーティングすれば、第２面１３４のコーティングが第１面１３３のコーティングより厚くなる可能性がある。したがって、メディア１３２の第１面１３３と第２面１３４とを同時にスピンコーティングする両面コーティング装置（図３の１７０参照）が必要である。
【００３７】
図３は、本発明によるメディアの両面コーティング装置１７０を示す図面である。
【００３８】
図３を参照すれば、ＵＶ硬化レジンが含まれている保存部１７４の上部には、メディア１３２の中央ホールを固定する固定チャック１７２を上下に移動する垂直駆動部１７６と、固定チャック１７２を回転する回転駆動部（図示せず）とが設置されている。
前記両面コーティング装置１７０を使用する方法を図面を参照して説明する。まず、メディア１３２の表面に表面エネルギーを高めるために粘着プロモータを塗布する。このような粘着プロモータのコーティングは、メディア１３２の表面に薄くレジンを形成させる。
【００３９】
次いで、垂直駆動部１７６を使用して固定チャック１７２に固定されたメディア１３２をレジン保存部１７４にディーピングする。次いで、垂直駆動部１７６で固定チャック１７２に固定されたメディア１３２を保存部１７４の上部に移動した後、回転駆動部で固定チャック１７２を回転させれば、メディア１３２の表面に一定の厚さ、例えば、１００ｎｍ以下の厚さのレジンが形成される。このようなスピンコーティングで重力によるメディア１３２の両面でのレジンの厚さの差を無くすことができる。
【００４０】
このような両面コーティング装置１７０は、本発明によるリソグラフィ装置１００に付着されて使われ、また、別途の装置に区別されて位置することもできる。
【００４１】
以下では、本発明による両面インプリントリソグラフィ装置１００を使用する方法を図面を参照して詳細に説明する。
【００４２】
図４Ａないし図４Ｅは、本発明による両面インプリントリソグラフィ装置１００を利用して、大面積のメディア１３２の両面にナノインプリントを行う方法を説明する図面である。
【００４３】
図４Ａを参照すれば、メディア１３２の上面１３３及び下面１３４にパターン用モールドを形成するためのＵＶ硬化レジンを塗布する。ＵＶ硬化レジンを塗布する以前に、メディア１３２の表面に粘着プロモータを塗布してＵＶ硬化レジンをメディア１３２の表面によく接着させうる。次いで、メディア１３２をメディア支持部１３０に装着する。前記メディア１３２の両面にＵＶ硬化レジンをコーティングするために両面コーティング装置１７０を使用しうる。
【００４４】
一方、第１モールド支持部１２０及び第２モールド支持部１４０には、それぞれパターンが形成された第１モールド１２２及び第２モールド１４２が設置される。第１モールド１２２及び第２モールド１４２のパターンがそれぞれメディア１３２の第１面１３３及び第２面１３４に向かうように設置される。第１モールド１２２及び第２モールド１４２のパターン上には、パターン用モールドの分離のために、予めＳＡＭ（Ｓｅｌｆ Ａｓｓｅｍｂｌｅｄ Ｍｏｎｏｌａｙｅｒ）コーティングを行うことが望ましい。
【００４５】
また、真空ポンプ１１６でチャンバ１１０を１×１０−１Ｔｏｒｒ以下の圧力に維持し、大面積のナノインプリンティング時にモールド１２２,１４２とレジンとの間のエアートラップを防止して均一なナノインプリンティングを進める。
【００４６】
図４Ｂを参照すれば、垂直移動装置１４６を使用して第２モールド支持部１４０を上方に移動して、メディア１３２の第２面１３４を第２モールド１４２と接触させる。このとき、メディア１３２の第２面１３４に形成されたＵＶ硬化レジンは、第２モールド１４２のパターンによって反対形状にパターンが形成される。
【００４７】
次いで、リニアガイド１５０上のアラインメント光学装置１５２をウィンドウ１１７の上方に移動させて第２モールド１４２とメディア１３２との間のアラインメントを行う。このために、Ｘ−Ｙステージ及び回転ステージを使用して第２モールド支持部１４０の第２シリンダーロッド１４４を駆動しうる。第２モールド１４２とメディア１３２との間のアラインメントが完了すれば、ロッキング装置１６０を動かして固定ピン１６２が内側に移動してメディア支持部１３０の下部を固定する。
【００４８】
図４Ｃを参照すれば、メディア１３２と第２モールド１４２との間の整列工程を終えた後、垂直移動部１４６を駆動してメディア支持部１３０が第１モールド支持部１２０によってその移動が限定されるまでメディア支持部１３０及び第２モールド支持部１４０を上方に移動させる。このとき、メディア１３２の第１面１３３のレジンは、第１モールド１２２のパターンによってパターンが形成される。
【００４９】
次いで、アラインメント光学装置１５２に第１モールド１２２とメディア１３２との間のアラインメントを行う。このためにＸ−Ｙステージ及び回転ステージを使用して第２シリンダーロッド１４４を駆動しうる。
【００５０】
第１モールド１２２とメディア１３２との間のアラインメントが完了すれば、リニアガイド１５０上のアラインメント光学装置１５２をウィンドウ１１７から離隔して移動し、第１ＵＶ照射装置１５４をウィンドウ１１７上に移動させる。
【００５１】
次いで、第１ＵＶ照射装置１５４及び第２ＵＶ照射装置１５６にメディア１３２の第１面１３３及び第２面１３４上にそれぞれ紫外線を照射してＵＶ硬化レジンを硬化して、メディア１３２の第１面１３３及び第２面１３４上にナノインプリントパターンを形成する。図４Ｄを参照すれば、垂直移動装置１４６を駆動して第２モールド支持部１４０を下方に移動すれば、メディア支持部１３０及び第２モールド支持部１４０は、下方に移動し、次いで、ストッパ１３７によってメディア支持部１３０の第１位置で止まる。
【００５２】
図４Ｅを参照すれば、ロッキング装置１６０を解除し、垂直移動装置１４６をさらに下方に移動すれば、メディア１３２は、第２モールド１４２から離隔される。
【００５３】
一方、ロッキング装置１６０を先に解除して、第２モールド１４２及びメディア１３２を下方に共に移動すれば、メディア支持部１３０は、ストッパ１３７によって第１位置で止まり、メディア支持部１３０は、さらに下方に移動しつつ、メディア１３２が第２モールド１４２から離脱される。
【００５４】
図５は、本発明の第２実施形態による両面インプリントリソグラフィ装置２００の概略的な断面図である。第１実施形態のリソグラフィ装置１００と実質的に同じ構成要素には、同じ参照番号を使用して詳細な説明は省略する。
【００５５】
図５を参照すれば、本発明による両面インプリントリソグラフィ装置２００は、第２ＵＶ照射装置２５６として光路変更部材を備える。光路変更部材は、第１ＵＶ照射装置からの紫外線の一部を受けて第２モールド１４２の下部に供給する。すなわち、一つのＵＶ照射装置を用いてメディア１３２の第１面１３３とメディア１３２の第２面１３４とに同時に紫外線を供給することができる。
【００５６】
一方、ウィンドウ１１７は、メディア１３２より広い面積で形成されて、第１ＵＶ照射装置１５４からの紫外線をチャンバ１１０の底部に形成された光路変更部材２５６に入射させる。光路変更部材２５６の表面には、ミラー面が形成され、望ましくは、第１モールド１２２の下部にメディア１３２及び第２モールド１４２が共に位置した状態で紫外線が第２モールド１４２の下部に均一に照射されるように曲面形状でありうる。光路変更部材２５６は、第１シリンダーロッド１３６を除外した領域に設置された反射面が凹状の環型ミラーでありうる。
【００５７】
前記変更部材２５６としては、ミラーの代りに光導波管が使われることもある。
【００５８】
一方、石英１１８上で第２モールド１４２に相当する領域には、紫外線強度を低下させる減衰フィルタ２１９が設置される。減衰フィルタ２１９としては、ＮＤフィルタが使われ、減衰率は、第１モールド１２２に照射される紫外線の強度と光路変更部材を通じて第２モールド１４２に照射される紫外線の強度とを同一に調節しうる。
【００５９】
第２実施形態によるリソグラフィ装置２００の駆動方法は、第１実施形態のリソグラフィ装置１００の駆動方法からよく分かるので、省略する。
【００６０】
このような本発明である両面ナノインプリントリソグラフィ装置は、理解を助けるために、図面に示された実施形態を参照して説明されたが、これは、例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるということが分かるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲によって決定されねばならない。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
本発明は、メディア製造関連の技術分野に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明の第１実施形態による両面インプリントリソグラフィ装置の概略的な断面図である。
【図２】本発明のロッキング装置の一例を示す図面である。
【図３】本発明によるメディアの両面コーティング装置を示す図面である。
【図４Ａ】本発明による両面インプリントリソグラフィ装置を利用して大面積の基板にナノインプリントを行う方法を説明する図面である。
【図４Ｂ】本発明による両面インプリントリソグラフィ装置を利用して大面積の基板にナノインプリントを行う方法を説明する図面である。
【図４Ｃ】本発明による両面インプリントリソグラフィ装置を利用して大面積の基板にナノインプリントを行う方法を説明する図面である。
【図４Ｄ】本発明による両面インプリントリソグラフィ装置を利用して大面積の基板にナノインプリントを行う方法を説明する図面である。
【図４Ｅ】本発明による両面インプリントリソグラフィ装置を利用して大面積の基板にナノインプリントを行う方法を説明する図面である。
【図５】本発明の第２実施形態による両面インプリントリソグラフィ装置を示す図面である。
【符号の説明】
【００６３】
１００    両面インプリントリソグラフィ装置
１１２    第１ホール
１１４    第２ホール
１１６    真空ポンプ
１１７    ウィンドウ
１１８    石英
１２０    第１モールド支持部
１２２    第１モールド
１２３    第１ＰＤＭＳパッド
１３０    メディア支持部
１３２    メディア
１３３    第１面
１３４    第２面
１３６    第１シリンダーロッド
１３７    ストッパ
１３８    パイプ
１４０    第２モールド支持部
１４２    第２モールド
１４３    第２ＰＤＭＳパッド
１４４    第２シリンダーロッド
１４６    垂直移動装置
１５０    リニアガイド
１５２    アラインメント光学装置
１５４    第１ＵＶ硬化装置
１５６    第２ＵＶ硬化装置
１６０    ロッキング装置
【図１】
0005478854.tif 000002
【図２】
0005478854.tif 000003
【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図４Ｄ】
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【図４Ｅ】
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【図５】
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