(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、少なくとも一方の面に複数の集光部を有する集光シートと、少なくとも一方の面に平坦部と複数の凹部を有する光透過性基材と、をこの順に備える面光源装置であって、
前記凹部の開口部の形状が、円形状、多角形状、または楕円状であり、
下記式（１）〜（３）を満足する面光源装置。
式（１） ２０≦Ｐａ≦４００
式（２） ０．５≦Ｌｂ≦１００
式（３） １．５≦（Ｐａ／Ｌｂ）≦１５０
（式中、Ｐａは集光シートにおいて隣接する集光部間の距離（μｍ）を示す。Ｌｂは、凹部の開口部の平均長径長（μｍ）を示す。）
【請求項２】
前記集光シートの集光部を有する面と前記光透過性基材の平坦部と凹部を有する面とが向かい合うように配置された、請求項１に記載の面光源装置。
【請求項３】
前記集光シートの集光部を有する面及び前記光透過性基材の平坦部と凹部を有する面の少なくともいずれかの面上に滑り剤を含む、請求項２に記載の面光源装置。
【請求項４】
前記集光シートの複数の集光部が、縞状、半円柱状、錘状、又は錘台形状である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の面光源装置。
【請求項５】
前記光透過性基材の仮想平面部の全面積（Ｓａ）に対する前記凹部の開口部の総面積（Ｓｄ）の割合（Ｓｄ／Ｓａ×１００（％））が１〜９０％であり、
前記光透過性基材のヘイズが１５〜９５％である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の面光源装置。
【請求項６】
前記光透過性基材の平坦部及び凹部を有する面上に、少なくとも滑り剤を含有する層を有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の面光源装置。
【請求項７】
前記滑り剤を含有する層が、電離放射線硬化性官能基及び熱硬化性官能基の少なくともいずれかを有する滑り剤と、電離放射線硬化性化合物及び熱硬化性化合物の少なくともいずれかの化合物とを含む組成物から形成される硬化層である、請求項６に記載の面光源装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の面光源装置上に、１対の偏光膜に挟まれた液晶セルを含む、液晶表示装置。
【請求項９】
前記光透過性基材を面光源装置側の偏光膜保護フィルムとして用いた、請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
少なくとも一方の面に平坦部と複数の凹部を有し、前記凹部の開口部の形状が、円形状、多角形状、または楕円状である光透過性基材の製造方法であって、
少なくとも熱可塑性樹脂と溶媒を含むポリマー溶液を支持体に流延してウェブを形成し、前記支持体から前記ウェブを剥離した後乾燥して、平坦部と複数の凹部を有する光透過性基材を作製する工程と、
光透過性基材の凹部を有する面上に、少なくとも滑り剤を含有する層を形成する工程と、を含み、
前記ポリマー溶液は２種以上の溶媒を含み、前記２種以上の溶媒のうち少なくとも１種は誘電率が３５以上の溶媒である、光透過性基材の製造方法。
【請求項１１】
前記誘電率が３５以上の溶媒の含有量が、前記ポリマー溶液に含まれる溶媒の全質量に対して、０．３〜３０質量％の範囲である、請求項１０に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記ポリマー溶液が、更に誘電率が２以上１０未満の溶媒及び誘電率が１０以上３５未満の溶媒を含む、請求項１０又は１１に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記光透過性基材を作製する工程において、
ポリマー溶液の流延を、組成の異なる複数のポリマー溶液を同時又は逐次で流延することにより行い、前記複数のポリマー溶液のうち少なくとも１種のポリマー溶液が、少なくとも誘電率が３５以上の溶媒、誘電率が２以上１０未満の溶媒、及び誘電率が１０以上３５未満の溶媒を含む、請求項１０に記載の製造方法。
【請求項１４】
前記光透過性基材の内部に空隙を実質的に有さない、請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１５】
前記滑り剤を含有する層を、電離放射線硬化性官能基及び熱硬化性官能基の少なくともいずれかを有する滑り剤と、電離放射線硬化性化合物及び熱硬化性化合物の少なくともいずれかの化合物とを含有する組成物を用いて形成する、請求項１０〜１４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１６】
請求項１０〜１５のいずれか１項に記載の製造方法によって製造された光透過性基材。
【請求項１７】
請求項１６に記載の光透過性基材を偏光膜の保護フィルムとして有する偏光板。
【請求項１８】
請求項１６に記載の光透過性基材を有する面光源装置。
【請求項１９】
請求項１７に記載の偏光板または請求項１８に記載の面光源装置を有する液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光透過性基材及び光透過性基材の製造方法、面光源装置、偏光板、液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置は、薄型・軽量で、且つ消費電力が小さいことから広く使用されている。液晶表示装置は、液晶セル及び偏光板を含む。偏光板は、通常、保護膜と偏光膜とからなり、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護膜にて積層して得られる。透過型液晶表示装置では、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、更には一枚以上の光学補償シートを配置することもある。
【０００３】
液晶表示装置は自発光型の表示装置ではないため、面光源が必要である。面光源の態様としては、液晶セルと光源との間に光拡散シートやプリズムシートなどのように光拡散能及び集光性を持つ部材を介在させて一様な面光源とするバックライト型が広く用いられており、その光源に冷陰極管（ＣＣＦＬ）やＬＥＤが使用されている。また一部の液晶表示装置では、導光板のエッジ部分に光源を配置し、光拡散シートやプリズムシートなどと組み合わせて、面光源化している形態（エッジライトタイプ）も知られている。これらのバックライトでは上述の様に一般的に線光源あるいは点光源から面光源に変換をするため、光拡散シートを用いて均一な面光源化をしている。
【０００４】
面光源を得るためのバックライト部材を備えた、従来の液晶表示装置の模式図を図７に示す。図７に示すように、従来の液晶表示装置は、複数の線光源５６を有する光源５２と、光拡散シート５８と、集光シート５４と、光拡散シート６０と、液晶パネル７２の順に構成されている。液晶パネル７２は、液晶セル７０と２枚の偏光板６６とを有し、偏光板６６は偏光膜６２とその保護フィルム６４とからなる。
光源５２から光拡散シートを通して集光シート５４に入射した光は、集光シート５４内で正面側に集光されることにより、正面方向の輝度が高められる。一方、集光シート５４の前面に配置される光拡散シート６０は、集光シート５４で正面側に集光されて縮小された視野角を所定の範囲内で拡散する。
このように集光シート５４の両側に光拡散シート５８，６０を配置することで、輝度ムラの低減と表示特性の面均一化が達成されるとともに、入射光が液晶セル中の画素と干渉するのを抑制したり、プリズム内で発生するサイドローブを散乱させたりすることにより、モアレ等の干渉縞を生じるのを抑制することができる。
【０００５】
しかし近年、液晶表示装置の部材数の削減や低消費電力化のため、光源５２に利用される線光源５６の数を減少することが試みられている。また液晶表示装置の薄型化のため、光源５２と光拡散シート５８，６０との距離が近くなり、そのため、従来の光拡散シートでは、均一な光拡散を達成することが困難になってきている。そこで可能な限り距離を稼ぐため、光拡散シート代替として、液晶パネルを構成する偏光板のバックライト側偏光膜の保護フィルムに光拡散性を付与したものが提案されてきている。
【０００６】
例えば、特許文献１には、多孔質不定形粒子と球状粒子とを分散含有する、所定の特性の光拡散層を有する光拡散偏光板が提案され、これによって光拡散シートを省略できることが開示されている。
また、特許文献２には、集光シート（プリズムシート）の透光性樹脂内に光散乱粒子を含有するプリズムシートにより、高輝度とモアレ発生の抑制できるプリズムシートが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−７５１３４号公報
【特許文献２】特開２００７−３０４５５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、上記特許文献１に記載の光拡散フィルムは、全光透過率が低いので、画像表示装置に用いると、正面白輝度の低下の一因になる場合がある。一方で、正面輝度を維持するため、ヘイズを下げる、つまり全光透過率を上げると、表示画面の均一性の悪化（バックライトのムラ等）やモアレ等の干渉縞を生じるのを抑制できなくなる場合がある。
更に、特許文献１のような表面に凸を有する光拡散フィルムを、拡散フィルムを介することなくプリズムシートと隣接させた液晶表示装置は、プリズムシートが光散乱フィルムの表面と擦れることにより、プリズムシートに傷がつきスポット的な輝度ムラが発生する問題を有していることが分かった。
特に、ノートパソコンなどのようにモバイル用途で振動や衝撃が与えられる場合や、バックライトを薄層化して光散乱フィルムとプリズムシートが接触しやすい場合に問題が顕在化してきていることが分かった。
【０００９】
また、上記特許文献２に記載のプリズムシートは高輝度とモアレ発生の抑制の点では優れているが、光散乱のための粒子を含有する層の部分はプリズムシートの厚みが厚くなるため、ＬＣＤの薄層化の点では課題を有していた。
【００１０】
本発明の目的は、高輝度でモアレ等のムラの発生が抑制された薄層化に有効な面光源装置を提供すること、またそのような面光源装置を用いた液晶表示装置を提供することである。また更には面光源装置に用いることのできる光透過性基材を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
以下の構成により上記課題は達成された。
＜１＞
光源と、少なくとも一方の面に複数の集光部を有する集光シートと、少なくとも一方の面に平坦部と複数の凹部を有する光透過性基材と、をこの順に備える面光源装置であって、
前記凹部の開口部の形状が、円形状、多角形状、または楕円状であり、
下記式（１）〜（３）を満足する面光源装置。
式（１） ２０≦Ｐａ≦４００
式（２） ０．５≦Ｌｂ≦１００
式（３） １．５≦（Ｐａ／Ｌｂ）≦１５０
（式中、Ｐａは集光シートにおいて隣接する集光部間の距離（μｍ）を示す。Ｌｂは、凹部の開口部の平均長径長（μｍ）を示す。）
＜２＞
前記集光シートの集光部を有する面と前記光透過性基材の平坦部と凹部を有する面とが向かい合うように配置された、＜１＞に記載の面光源装置。
＜３＞
前記集光シートの集光部を有する面及び前記光透過性基材の平坦部と凹部を有する面の少なくともいずれかの面上に滑り剤を含む、＜２＞に記載の面光源装置。
＜４＞
前記集光シートの複数の集光部が、縞状、半円柱状、錘状、又は錘台形状である、＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の面光源装置。
＜５＞
前記光透過性基材の仮想平面部の全面積（Ｓａ）に対する前記凹部の開口部の総面積（Ｓｄ）の割合（Ｓｄ／Ｓａ×１００（％））が１〜９０％であり、
前記光透過性基材のヘイズが１５〜９５％である、＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の面光源装置。
＜６＞
前記光透過性基材の平坦部及び凹部を有する面上に、少なくとも滑り剤を含有する層を有する、＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の面光源装置。
＜７＞
前記滑り剤を含有する層が、電離放射線硬化性官能基及び熱硬化性官能基の少なくともいずれかを有する滑り剤と、電離放射線硬化性化合物及び熱硬化性化合物の少なくともいずれかの化合物とを含む組成物から形成される硬化層である、＜６＞に記載の面光源装置。
＜８＞
＜１＞〜＜７＞のいずれか１項に記載の面光源装置上に、１対の偏光膜に挟まれた液晶セルを含む、液晶表示装置。
＜９＞
前記光透過性基材を面光源装置側の偏光膜保護フィルムとして用いた、＜８＞に記載の液晶表示装置。
＜１０＞
少なくとも一方の面に平坦部と複数の凹部を有し、前記凹部の開口部の形状が、円形状、多角形状、または楕円状である光透過性基材の製造方法であって、
少なくとも熱可塑性樹脂と溶媒を含むポリマー溶液を支持体に流延してウェブを形成し、前記支持体から前記ウェブを剥離した後乾燥して、平坦部と複数の凹部を有する光透過性基材を作製する工程と、
光透過性基材の凹部を有する面上に、少なくとも滑り剤を含有する層を形成する工程と、を含み、
前記ポリマー溶液は２種以上の溶媒を含み、前記２種以上の溶媒のうち少なくとも１種は誘電率が３５以上の溶媒である、光透過性基材の製造方法。
＜１１＞
前記誘電率が３５以上の溶媒の含有量が、前記ポリマー溶液に含まれる溶媒の全質量に対して、０．３〜３０質量％の範囲である、＜１０＞に記載の製造方法。
＜１２＞
前記ポリマー溶液が、更に誘電率が２以上１０未満の溶媒及び誘電率が１０以上３５未満の溶媒を含む、＜１０＞又は＜１１＞に記載の製造方法。
＜１３＞
前記光透過性基材を作製する工程において、
ポリマー溶液の流延を、組成の異なる複数のポリマー溶液を同時又は逐次で流延することにより行い、前記複数のポリマー溶液のうち少なくとも１種のポリマー溶液が、少なくとも誘電率が３５以上の溶媒、誘電率が２以上１０未満の溶媒、及び誘電率が１０以上３５未満の溶媒を含む、＜１０＞に記載の製造方法。
＜１４＞
前記光透過性基材の内部に空隙を実質的に有さない、＜１０＞〜＜１３＞のいずれか１項に記載の製造方法。
＜１５＞
前記滑り剤を含有する層を、電離放射線硬化性官能基及び熱硬化性官能基の少なくともいずれかを有する滑り剤と、電離放射線硬化性化合物及び熱硬化性化合物の少なくともいずれかの化合物とを含有する組成物を用いて形成する、＜１０＞〜＜１４＞のいずれか１項に記載の製造方法。
＜１６＞
＜１０＞〜＜１５＞のいずれか１項に記載の製造方法によって製造された光透過性基材。
＜１７＞
＜１６＞に記載の光透過性基材を偏光膜の保護フィルムとして有する偏光板。
＜１８＞
＜１６＞に記載の光透過性基材を有する面光源装置。
＜１９＞
＜１７＞に記載の偏光板または＜１８＞に記載の面光源装置を有する液晶表示装置。
なお、本発明は上記＜１＞〜＜１９＞に関するものであるが、参考のためその他の事項（例えば下記［１］〜［２１］に記載した事項等）についても記載した。
［１］
光源と、少なくとも一方の面に複数の集光部を有する集光シートと、少なくとも一方の面に平坦部と複数の凹部を有する光透過性基材と、をこの順に備える面光源装置。
［２］
前記集光シートの集光部を有する面と前記光透過性基材の平坦部と凹部を有する面とが向かい合うように配置された、上記［１］に記載の面光源装置。
［３］
前記集光シートの集光部を有する面及び前記光透過性基材の平坦部と凹部を有する面の少なくともいずれかの面上に滑り剤を含む、上記［２］に記載の面光源装置。
［４］
前記集光シートの複数の集光部が、縞状、半円柱状、錘状、又は錘台形状である、上記［１］〜［３］のいずれかに記載の面光源装置。
［５］
下記式（１）〜（３）を満足する上記［１］〜［４］のいずれかに記載の面光源装置。
式（１） ２０≦Ｐａ≦４００
式（２） ０．５≦Ｌｂ≦１００
式（３） １．５≦（Ｐａ／Ｌｂ）≦１５０
（式中、Ｐａは集光シートにおいて隣接する集光部間の距離（μｍ）を示す。Ｌｂは、凹部の開口部の平均長径長（μｍ）を示す。）
［６］
前記光透過性基材の仮想平面部の全面積（Ｓａ）に対する前記凹部の開口部の総面積（Ｓｄ）の割合（Ｓｄ／Ｓａ×１００（％））が１〜９０％であり、前記光透過性基材のヘイズが１５〜９５％である、上記［１］〜［５］のいずれかに記載の面光源装置。
［７］
前記光透過性基材の平坦部及び凹部を有する面上に、少なくとも滑り剤を含有する層を有する、上記［１］〜［６］のいずれかに記載の面光源装置。
［８］
前記滑り剤を含有する層が、電離放射線硬化性官能基及び熱硬化性官能基の少なくともいずれかを有する滑り剤と、電離放射線硬化性化合物及び熱硬化性化合物の少なくともいずれかの化合物とを含む組成物から形成される硬化層である、上記［７］に記載の面光源装置。
［９］
上記［１］〜［８］のいずれかに記載の面光源装置上に、１対の偏光膜に挟まれた液晶セルを含む、液晶表示装置。
［１０］
前記光透過性基材を面光源装置側の偏光膜保護フィルムとして用いた、上記［９］の液晶表示装置。
［１１］
少なくとも一方の面に平坦部と複数の凹部を有する光透過性基材であって、
前記光透過性基材の仮想平面部の全面積（Ｓａ）に対する前記凹部の開口部の総面積（Ｓｄ）の割合（Ｓｄ／Ｓａ×１００（％））が１〜９０％であり、
前記光透過性基材のヘイズが１５〜９５％であり、
前記光透過性基材の凹部を有する面上に、電離放射線硬化性官能基及び熱硬化性官能基の少なくともいずれかを有する滑り剤と、電離放射線硬化性化合物及び熱硬化性化合物の少なくともいずれかを含む組成物から形成される硬化層を有する、光透過性基材。
［１２］
少なくとも一方の面に平坦部と複数の凹部を有する光透過性基材の製造方法であって、
少なくとも熱可塑性樹脂と溶媒を含むポリマー溶液を支持体に流延してウェブを形成し、前記支持体から前記ウェブを剥離した後乾燥して、平坦部と複数の凹部を有する光透過性基材を作製する工程と、
光透過性基材の凹部を有する面上に、少なくとも滑り剤を含有する層を形成する工程と、を含み、
前記ポリマー溶液は２種以上の溶媒を含み、前記２種以上の溶媒のうち少なくとも１種は誘電率が３５以上の溶媒である、光透過性基材の製造方法。
［１３］
前記誘電率が３５以上の溶媒の含有量が、前記ポリマー溶液に含まれる溶媒の全質量に対して、０．３〜３０質量％の範囲である、上記［１２］に記載の製造方法。
［１４］
前記ポリマー溶液が、更に誘電率が２以上１０未満の溶媒及び誘電率が１０以上３５未満の溶媒を含む、上記［１２］又は［１３］に記載の製造方法。
［１５］
前記光透過性基材を作製する工程において、
ポリマー溶液の流延を、組成の異なる複数のポリマー溶液を同時又は逐次で流延することにより行い、前記複数のポリマー溶液のうち少なくとも１種のポリマー溶液が、少なくとも誘電率が３５以上の溶媒、誘電率が２以上１０未満の溶媒、及び誘電率が１０以上３５未満の溶媒を含む、上記［１２］に記載の製造方法。
［１６］
前記光透過性基材の内部に空隙を実質的に有さない、上記［１２］〜［１５］のいずれかに記載の製造方法。
［１７］
前記滑り剤を含有する層を、電離放射線硬化性官能基及び熱硬化性官能基の少なくともいずれかを有する滑り剤と、電離放射線硬化性化合物及び熱硬化性化合物の少なくともいずれかの化合物とを含有する組成物を用いて形成する、上記［１２］〜［１６］のいずれかに記載の製造方法。
［１８］
上記［１２］〜［１７］のいずれかに記載の製造方法によって製造された光透過性基材。
［１９］
上記［１５］に記載の光透過性基材を偏光膜の保護フィルムとして有する偏光板。
［２０］
上記［１８］に記載の光透過性基材を有する面光源装置。
［２１］
上記［１９］に記載の偏光板又は上記［２０］に記載の面光源装置を有する液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、高輝度でモアレ等のムラの発生が抑制された薄層化に有効な面光源装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明に係る面光源装置及び画像表示装置の構成例を示す模式図である。
【図２】集光シートの構成例を模式的に示す斜視図である。
【図３】図２の集光部の拡大図である。
【図４】集光シートの構成例を模式的に示す斜視図である。
【図５】図４の集光部の拡大図である。
【図６】（ａ）は光透過性基材の構成例を示す斜視図、（ｂ）はその断面図である。
【図７】従来のバックライトユニット及び画像表示装置の一例を示す模式図である。
【図８】滑り剤を含有する層が形成された光透過性基材の構成例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリロイル」等も同様である。
【００１５】
＜液晶表示装置の構成＞
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
図１は、本実施形態に係る面光源装置を備えた画像表示装置（液晶表示装置）を示す断面模式図である。
図１に示す画像表示装置１０は、複数の線光源１６を有する光源（バックライト）１２と、光拡散シート１８と、複数の集光部１４Ｐを有する集光シート１４と、光透過性基材２０とが光の出射方向に向かってこの順に配置された面光源装置を有している。
光透過性基材２０は、少なくとも一方の面（図１では光源１２側の面）に平坦部２３と複数の凹部２１とを有する。面光源装置においては、集光シート１４及び光透過性基材２０は、集光シート１４の集光部１４Ｐがある面と光透過性基材２０の凹部２１がある面とが向かい合うように配置されている。
【００１６】
画像表示装置１０は、面光源装置上に更に、１対の偏光板２６，２８（下側偏光板２６及び上側偏光板２８）に挟まれた液晶セル３０を有する液晶パネル３２を有している。
下側偏光板２６及び上側偏光板２８は、偏光膜２２の両面に保護フィルム２４を有する。そして、光透過性基材２０が、下側偏光板２６の保護フィルム２４の一方（図１では光源１２側の保護フィルム２４）として用いられている。
このように画像表示装置１０では、下側偏光板２６の保護フィルム２４として光拡散性を付与した光透過性基材２０を使用することで、図７における光拡散シート６０と同様以上の性能を発揮させることができ、モアレや面内輝度ムラを軽減するだけでなく、光拡散シート６０（図７）を省略することができ、面光源装置を薄層化できる。更には、光拡散シート６０（図７）を除去した場合に課題となっていた集光シートのプリズムによる耐傷性が改良できる。
【００１７】
面光源装置の薄層化のためには、集光シート１４の集光部１４Ｐの山部と光透過性基材２０の平坦部２３を形成する表面の平均距離が０ｍｍ以上３ｍｍ以下であることが好ましく、更に好ましくは０ｍｍ以上２ｍｍ以下であり、０ｍｍ以上１ｍｍ以下が最も好ましい。
【００１８】
バックライトユニットは点灯開始直後で各部材に温度勾配が生じたり、画像表示装置の保管条件により各部材に湿度勾配が生じたり、両者の組み合わせで各部材に温湿度勾配が生じた場合には、部材のカールによる部分的な接触が起こり、各種のムラを起こすケースがある。本発明の構成を採ることで、部材の点数を少なくできるためバックライトユニットの熱容量が小さくなり、バックライトユニット内での温湿度勾配が速く解消される。
また、集光シート１４と光透過性基材２０が接していても、その間には集光シート１４の集光部１４Ｐの谷間や光透過性基材の凹部２１などの空間が存在しており、水蒸気の通り道があるため内部の湿度勾配を速やかに解消できる。これらのために、本発明の構成を採ることで、温湿度勾配に起因する各種ムラは速やかに低減される。
また、光透過性基材２０の表面は実質的な平坦部２３とその中に形成された凹部２１とからなるため、集光シート１４と光透過性基材２０が接触した場合でも点での接触ではなく、線での接触となるため圧力が分散される。更には、集光シート１４及び／又は光透過性基材２０の表面に滑り剤を含有することで、両部材が接触した際に更に効果的に応力が分散され、圧力分布に起因した位相差の微小変化によるムラが低減される。
【００１９】
以下、特に集光シート１４（以下、Ａ部材という場合もある）及び光透過性基材２０（以下、Ｂ部材という場合もある）について詳細に説明する。
＜集光シート（Ａ部材）＞
集光シート１４は、シートの少なくとも一方の面に複数の集光部１４Ｐを有する。複数の集光部１４Ｐは、面光源装置に必要とされる光源の角度分布により、縞状、半円柱状、錘状、又は錘台形状などの形状を採ることができる。シートの法線方向の光強度を高めるためには、断面が三角形状の縞状、半円柱状、円錐状、楕円錐状、四角錘状が好ましい。また、複数の集光部１４Ｐは、集光シート１４の表面上に周期的に配列されていることが好ましい。
【００２０】
図２に本実施形態に係る集光シート１４の構成例を示す。
図２に示す集光シート１４は、光出射面側に、集光部として断面三角形状のプリズム部１４Ｐが一方向（図においてＸ方向）に多数連続して縞状に配列されている。
図３は、図２に示す集光シート１４のプリズム部１４Ｐの拡大図である。プリズム部１４Ｐの頂角θｐは、７０〜１１０゜の範囲が好ましく、７５〜１０５゜の範囲がより好ましい。頂角θｐを１１０°以下とすることで、好適な光集光性が向上し、好適な輝度向上効果が得られる。また、θｐを７０゜以上とすることにより、指向性が適度なものとし、正面以外から見た場合にも画面が暗くなるのを防止することができる。
【００２１】
また、集光シート１４の集光部（プリズム部）１４Ｐの間の距離（ピッチ）Ｐａは、２０〜４００μｍ（式（１）：２０≦Ｐａ≦４００）が好ましい。一般にピッチが大きくなるにつれ正面輝度が大きくなる傾向にある。しかし、ピッチが大きいと液晶表示パネルの画素ピッチとの干渉によりモアレの発生が懸念される。また、ピッチが大きくなると、集光シート１４の表面凸部とそれに隣接する光透過性部材が接触した場合の応力集中が大きくなり、破損しやすくなる。一方、ピッチが小さいと、モアレ発生の懸念は弱まるが、得られる正面輝度は低下してしまう。
これら要因を満たすように、液晶表示装置の画素ピッチに応じて、集光シート１４のピッチを設定することができる。
【００２２】
なお、集光シート１４の断面形状は三角形以外の形状でもよい。例えば、図４に示すように、光出射側に向かって凸に形成された双曲面、放物面あるいは高次の非球面を有するシリンドリカルレンズ体１４Ｌ（半円柱状の集光部）が多数配列された集光シート１４としてもよい。
この場合も集光シート１４のピッチＰａ（図５）は、２０〜４００μｍの範囲とすることが好ましい。
【００２３】
集光シート１４は、溶融押出成型方法、熱プレス法、硬化樹脂を用いた転写法等の手法を用いて製造することができる。
集光シート１４の表面（特に集光部が形成されている面）に滑り剤を含有させ、集光シート１４の破損を低下することができる。滑り剤を含有させるためには、滑り剤を添加した硬化性化合物を用いて集光シート１４を形成することが好ましい。滑り剤及び硬化性化合物の種類、量、添加方法については後述の光透過性基材（Ｂ部材）の説明で合わせて言及する。
【００２４】
＜光透過性基材（Ｂ部材）＞
図６（ａ）及び図６（ｂ）に、光透過性基材２０の構成例を示す。
図６（ａ）及び（ｂ）に示すように、光透過性基材２０は、平坦部２３と、複数の凹部（くぼみ）２１とを有する。
【００２５】
（凹部）
光透過性基材２０が有する複数の凹部２１について説明する。
光透過性基材２０の凹部の平均長径長（Ｌｂ）は０．５〜１００μｍ（式（２）：０．５≦Ｌｂ≦１００）であることが好ましく、１〜５０μｍであることがより好ましく、１〜３０μｍであることが更に好ましい。本明細書中、凹部の長径とは、光透過性基材２０表面に形成されている凹部の開口部（くぼみの端部）を結ぶ径の内、最も長い径のことを言う。
【００２６】
光透過性基材２０の凹部２１の深さは５μｍ以下であることが好ましく、高拡散性能の観点では、１〜３μｍであるのがより好ましい。凹部２１の深さとは、特定の大きさのサンプルフィルム表面における、平均長径長が０．５〜１００μｍである全凹部２１の深さの平均値のことを言う。
また、２つの凹部２１間の平均間隔は拡散性能の調整の観点から１〜１００μｍであるのが好ましく、１〜５０μｍであるのがより好ましい。なお、本明細書中、２つの凹部の平均間隔とは、すべての凹部２１について、それに最も近い凹部２１との中心間の距離を測定し、その合計を凹部の数で割った値のことを言う。
本発明において、各凹部の中心位置の周期性に特に制限はないが、面光源装置として使用した際に集光シートに起因するモアレを解消する観点からは、周期性を有さないランダムなものであることが好ましい。
【００２７】
本明細書では、光透過性基材２０の凹部２１の深さ、平均長径長（Ｌｂ）及び平均間隔は、表面形状測定装置によって測定される表面形状から算出される値を意味するものとする。表面形状測定装置としては、光干渉方式の計測装置を用いることもでき、触針式の計測装置を用いることもできる。光干渉方式の装置としては、三次元非接触表面形状計測システム（マイクロマップＭＭ５０００シリーズ；（株）菱化システム製）等を用いることができ、触針式の装置としては、触針式表面形状測定器（Ｄｅｋｔａｋ  ６Ｍ；アルバック  イーエス（株）製）等を用いることができる。なお、フィルム表面１ｍｍ2を１つ任意に選びこのような表面形状測定装置によって各凹部２１における基材平坦部表面からくぼみの最深部までの距離を自動的に測定及び算出することができ、全凹部２１についてこのような測定を行うことで凹部２１の深さ（すなわち、全凹部２１の深さの平均値）を算出することができる。凹部の平均長径長（Ｌｂ）及び平均間隔も同様に算出することができる。
【００２８】
光透過性基材２０は、基材表面における凹部２１の個数が２５〜１００００００個／ｍｍ2であることが好ましい。光透過性基材２０における凹部２１の個数は１００〜１０００００個／ｍｍ2であることが、高拡散性能、かつ、高全光透過率の観点からより好ましく、５００〜７０００個／ｍｍ2であることが特に好ましい。
【００２９】
光透過性基材２０は、基材表面における凹部２１の個数分布の標準偏差が平均個数に対して±２０％であることが、面内均一な拡散性能かつ全光透過率の観点から好ましい。前記フィルム表面における前記凹部の個数分布の標準偏差は平均個数に対して±１０％であることがより好ましく、平均個数に対して±５％であることが特に好ましい。
ここで平均個数とは、光透過性基材２０表面から１ｍｍ2の領域を１００ヶ所任意に選び、それぞれに存在するくぼみの個数の平均値のことをいう。このように、均一に分布をすることで本願の光散乱性の効果を有している。
【００３０】
光透過性基材２０は、凹部２１の深さの標準偏差が平均深さに対して±２０％であることが、面内均一な拡散性能かつ全光透過率の観点から好ましい。光透過性基材２０表面における前記凹部２１の個数分布の標準偏差は平均深さに対して±１０％であることがより好ましく、平均深さに対して±５％であることが特に好ましい。また、凹部２１の個数平均分布は、単分散で、凹部２１が均一に分布しているフィルムが好ましい。
ここで平均深さとは、凹部２１を１００個任意に選び、それらの深さの平均値のことをいう。
【００３１】
凹部２１を光透過性基材２０表面に垂直な方向から観察した際の凹部２１の開口部の形状は、円形状であっても多角形状であっても、楕円状であってもその他の曲線で囲まれる図形状であってもよいが、円形状に近いことが高全光透過率の観点から好ましい。前記くぼみが円形状であるときの円相当径（投影面積円相当径）は、０．５〜１００μｍであることが拡散性能の調整の観点から好ましく、１〜５０μｍであることがより好ましく、１〜３０μｍであることが特に好ましい。同様に、凹部２１を基材表面に垂直な方向から観察した際のくぼみ底部に形成されていてもよい平面部の形状は、円形状であっても多角形状であっても、楕円状であってもその他の曲線で囲まれる図形状であってもよいが、円形状に近いことが高全光透過率の観点から好ましい。凹部２１の底部に形成されていてもよい平面部が円形状であるときの円相当径（投影面積円相当径）は、０．１２〜８５μｍであることが高全光透過率の観点から好ましく、０．３５〜４０μｍであることがより好ましく、０．４５〜２５μｍであることが特に好ましい。
また、凹部２１の短径は、光透過性基材２０表面に形成されている開口部の長径中点から長径に直交した方向での開口部の径をあらわす。凹部２１の平均長径長と平均短径長の比（アスペクト比）は、０．８〜１．２であることが高全光透過率の観点から好ましく、０．８５〜１．１５であることがより好ましく、０．９〜１．１であることが特に好ましい。
【００３２】
（凹部の断面形状）
凹部２１の断面形状の好ましい形状について説明する。なお、ここでいう断面形状とは、光透過性基材２０を平面に置いた時に基材を厚み方向に垂直に切削した断面図における形状を表す。
凹部２１の断面形状は特に制限はないが、下に凸であることが好ましい。
そしてその断面形状は、図６（ｂ）に示すように光透過性基材２０表面と概ね平行な底部２５と、底部２５と凹部２１の開口部とを連結する側部２７とから構成されることがより好ましい。このような形状の代表例として、カップ状のような形状が好ましい。カップ状とは、コーヒーカップやティーカップのように、凹部２１の横幅のうち少なくとも２５％が光透過性基材２０表面と概ね平行な凹部２１の底部２５と、底部２５から開口部に向かってゆるやかにカーブを描き、凹部２１の端部の開口部ではフィルム表面に対して概ね垂直な面になっている凹部２１の側部２７（両側部）とをもつ形状を言う。その意味でクレーター状やサイクロイド曲線状などもカップ状の形状に含まれる。
【００３３】
他に、凹部の断面形状として球状、方形状が考えられるが、球状では曲率が高いため、ヘイズを高くすることができるが、曲がる光も多いことから、前方への透過率がやや低くなり、結果全光透過率が低くなる。一方、方形状では、表面と平行な平面が多いため、全光透過率は高いが、光を曲げる面が少ないため、ヘイズがやや低くなる。
これらを考慮すると、前記凹部の断面形状がカップ状であると、光を曲げる面（例えば、凹部の側部）と、表面と平行な平面（例えば、凹部の底部）とが共に存在するため、高ヘイズ、かつ、高全光透過率な光学フィルムの作成が可能となる。
前記凹部の断面形状の確認方法に特に制限はないが、例えばＳＥＭで確認することができる。
【００３４】
凹部２１は、任意の光透過性基材断面における開口部の長さ（すなわち、凹部の平均短径長、平均長径長両方とも）が０．５〜１００μｍであることが拡散性能の調整の観点から好ましく、１〜５０μｍであることがより好ましく、１〜３０μｍであることが特に好ましい。
【００３５】
凹部２１の底部２５は、光透過性基材２０表面と概ね平行であることが高全光透過率の観点から好ましく、光透過性基材２０表面に対する凹部２１の底部２５の面の傾きが±１０°以内であることがより好ましく、±５°以内であることが特に好ましく、±２．５°以内であることがより特に好ましい。
【００３６】
任意の光透過性基材２０断面における凹部２１の長さ（すなわち、凹部２１の短径及び長径の両方とも）が０．１２〜８５μｍであることが高全光透過率の観点から好ましく、０．３５  〜４０μｍであることがより好ましく、０．４５〜２５μｍであることが特に好ましい。
凹部２１の底部２５は、任意の場所における光透過性基材断面において、凹部２１の横幅を１００％とすると、少なくとも２５〜８５％の幅に形成されていることが好ましく、３５〜８０％の幅に形成されていることがより好ましく、４５〜７５％の幅に形成されていることが特に好ましい。
【００３７】
光透過性基材２０の仮想平面部の全面積（Ｓａ）に対する凹部２１の開口部の総面積（Ｓｄ：Ｓｄ１＋Ｓｄ２＋Ｓｄ３＋・・・＋Ｓｄｎ）の割合（Ｓｄ／Ｓａ×１００（％））は、１〜９０％が好ましく、より好ましくは２〜７０％以下であり、更に好ましくは３〜７０％である。特に凹部２１を有する基材自身の耐擦傷性に重きを置く場合には、３〜５０％である。この範囲の値にすることで、光の拡散性と耐擦傷性の両立を図ることができる。
【００３８】
また、光透過性基材２０が平坦部２３と凹部２１からなることで、スティッキング防止能が付与されており、光透過性基材２０自身をロール形態で巻き取った際のハンドリング性や光透過性基材２０とプリズムシートを重ねた時のハンドリングが良好であり、凹部２１を有さない基材よりも耐擦傷性が改良できる。
【００３９】
液晶セルの画素ピッチをＰｃ（μｍ）、の集光シート１４（Ａ部材）の集光部（プリズム又はシリンドリカルレンズ等）のピッチをＰａ（μｍ）、凹部２１を有する光透過性基材（部材Ｂ）の凹部２１の平均長径長をＬｂ（μｍ）としたとき、これらの値が以下の関係を満たすことが、白輝度の向上、輝度ムラの低減、モアレの低減、バックライトユニットの耐擦傷性の改良の点で好ましい。
Ｐａ／Ｌｂの値は、１．５〜１５０（式（３）：１．５≦（Ｐａ／Ｌｂ）≦１５０）が好ましく、更に好ましくは１．８〜１００、最も好ましくは２．０〜６０である。集光シートの周期的な表面形状（Ｐａ）に起因するモアレの低減のために、ランダムに存在する凹部くぼみの長径長（Ｌｂ）が上記関係を満たすことが特に有効である。また、Ｐｃ／Ｐａの値は、０．９〜１５が好ましく、更に好ましくは１．０〜１２、最も好ましくは１．５〜１０である。
【００４０】
この様な特性の表面性状は、後述する本発明の製造方法によって光透過性基材２０を作製することによって形成することができるものであり、微粒子を分散含有させることによって達成することは困難である。なお、表面にくぼみをつけることは、例えば、表面を紙ヤスリで削ることや微細な粒子（砂やシリカ粒子など）を表面に当てることでも可能であるが、これらの場合、形状はランダムに近いものとなり、光透過性基材の有する凹部２１の形状の範囲が上記範囲から外れるため、高ヘイズだが、全光透過率が低くなる。また表面を粗らす工程以外にも、表面クズなどを回収する工程などが増えるため、コストが高くなる。
【００４１】
本発明の光透過性基材は上記所定の表面形状に基づく光拡散性を示す。従って、本発明の光透過性基材を保護フィルムとして有する偏光板を画像表示装置に利用することにより、モアレ等の干渉縞を発生させることなく、従来用いられていた光拡散シートを省略することができる。
本発明において、実質平坦な面とは、光の散乱を目的とした意図的な凹凸を有しておらず、製膜時の異物や擾乱に起因するレベルの凹凸を有する平坦な面をいう。実質平坦な面の中心線平均粗さＲａは１ｎｍ〜８０ｎｍ程度であり、好ましくは１ｎｍ〜５０ｎｍ程度である。中心線平均粗さは、原子間力顕微鏡を用いて測定することができ、例えばセイコーインスツルメンツ株式会社製のＳＰＩ−３８００Ｎを用いて測定することができる。この程度の平滑性であれば、表面の散乱に起因するヘイズは約１％以下となる。
【００４２】
（その他の特性）
光透過性基材２０のヘイズは、１５％以上であるのが好ましく、３０％以上であるのがより好ましく、５０％以上であるのが特に好ましく、６０％以上であるのが更に好ましい。ヘイズが高いほど、光拡散性能は高くなるが、一方、全光透過率の低下により、画像表示装置に利用すると、正面白輝度の低下の一因になる。その観点では、光透過性基材２０のヘイズは、１５〜９５％であるのが好ましく、３０〜９０％であるのがより好ましく、最も好ましくは５０〜９０％である。
なお、ヘイズは、光透過性基材の全ヘイズ（基材の表面の形状に起因する表面散乱によるヘイズと基材の内部散乱によるヘイズとの両者とも含むもの）であり、ヘイズメーター（ＮＤＨ２０００；日本電色工業（株）製）により測定することができる。
【００４３】
光透過性基材２０の全光透過率は７０％以上であることが好ましく、７５〜９５％であることがより好ましく、８０〜９３％であることが特に好ましい。更に、光透過性基材２０の平行透過率は、５〜５５％であることが好ましく、８〜４０％であることがより好ましく、１０〜４０％であることが特に好ましい。なお、本明細書中、全光透過率とは直線光と拡散光を含む光線の透過率を表し、平行透過率とは直線光のみを含む光線の透過率を表す。
【００４４】
（構成材料）
光透過性基材２０の製造方法としては、熱や加圧のよるエンボス加工、硬化樹脂を用いたパターン転写法、又は溶媒組成に特徴のある熱可塑性樹脂の溶液成膜などの方法を用いて製造することができる。
特に、液晶表示装置のバックライトユニットなどのように高温光源に近い場所で使用する場合には、凹部を有する光透過性基材の凹部付近の残留応力が小さく、表面凹凸の熱膨張係数や湿度膨張係数といった寸法変化率が小さい基材を形成できる製造方法が好ましい。
その点では硬化樹脂を用いたパターン転写法、又は溶媒組成に特徴のある熱可塑性樹脂の溶液成膜による製造方法が好ましく、溶媒組成に特徴のある熱可塑性樹脂の溶液成膜による製造方法が最も好ましい。
【００４５】
光透過性基材２０の寸法変化率は以下の測定方法で求めることができる。
すなわち、まず各ポリマーのガラス転移温度＋１０℃で、２４時間放置する。その前後での、凹部の平均長径長の寸法を測定し、その変化率を求める。寸法変化率が５％以下であることが、経時変化に対する拡散性能かつ全光透過率の安定性の観点から好ましい。前記ガラス転移温度前後における前記凹部の寸法変化率は３％以下であることがより好ましく、１．５％以下であることが特に好ましい。本発明の光透過性基材は、基材組成物の密度がほぼ均一になっているために、寸法変化率が小さくなると推定される。
【００４６】
光透過性基材２０は、ポリマーから構成されていることが好ましい。利用するポリマーについての制限はないが、可視光に対して光透過性の高いポリマーから選択するのが好ましい。また、後述する溶液製膜法により光透過性基材２０を製造する場合は、溶液製膜可能なポリマー材料から選択するのが好ましく、熱可塑性樹脂を使用するのがより好ましい。
使用可能なポリマー材料の例には、セルロースアシレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエステル、ポリスチレン、スチレン系共重合体、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート系共重合体、ポリ塩化ビニリデン等が含まれる。但し、これらに限定されるものではない。
偏光膜に直接張り合わせる場合には、通常、偏光膜がポリビニルアルコール膜であることを考慮すると、これと親和性があり、接着性が良好な、セルロースアシレート、ポリビニルアルコールを主成分のポリマーとして含有することが好ましく、経時安定性の観点からセルロースアシレートが好ましい。
ここで、「主成分のポリマー」とは、光透過性基材２０が単一のポリマーからなる場合には、そのポリマーのことを示し、複数のポリマーからなる場合には、構成するポリマーのうち最も質量分率の高いポリマーのことを示す。
【００４７】
セルロースアシレートの原料となるセルロースとしては、綿花リンター、ケナフ、木材パルプ（広葉樹パルプ、針葉樹パルプ）等を用いることができる。必要に応じてこれらを混合して使用してもよい。
セルロースアシレートは、原料セルロースをカルボン酸等によりアシル化することにより得られる。すなわち、セルロースアシレートは、セルロースを構成するグルコース単位の２位、３位及び６位に存在するヒドロキシル基の水素原子の全部又は一部が、アシル基で置換されている。
アシル基の炭素原子数は２〜２２のであることが好ましく、２〜４であることがより好ましい。アシル基の例としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基、ヘプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、及び、シンナモイル基が挙げられる。前記アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ピバロイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基が好ましく、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基が最も好ましい。
セルロースアシレートは、複数のアシル基で置換されていてもよい。
【００４８】
セルロースアシレートのセルロースの水酸基に置換されているアセチル基（炭素数２）の置換度をＳＡとし、セルロースの水酸基に置換されている炭素数３以上のアシル基の置換度をＳＢとしたとき、ＳＡ及びＳＢを調整することにより、セルロースアシレートフィルムのヘイズを調整することができる。
セルロースアシレートフィルムに求めるヘイズにより、適宜、ＳＡ＋ＳＢを調整することができるが、好ましくは２．７０＜ＳＡ＋ＳＢ≦３．００、より好ましくは２．８０≦ＳＡ＋ＳＢ≦３．００であり、更に好ましくは２．８５≦ＳＡ＋ＳＢ≦２．９８である。ＳＡ＋ＳＢを大きくすることによりヘイズを高くしやすい傾向がある。
また、ＳＢを調整することによっても、セルロースアシレートフィルムのヘイズを調整することができる。ＳＢを大きくすることにより、ヘイズを高くしやすい傾向があると同時に、フィルムの弾性率や融点が下がる。フィルムのヘイズとその他の物性とのバランスを考慮すると、ＳＢの範囲は、好ましくは０≦ＳＢ≦２．９、より好ましくは０．５≦ＳＢ≦２．５であり、更に好ましくは１≦ＳＢ≦２．０である。なお、セルロースの水酸基がすべて置換されているとき、上記の置換度は３となる。
【００４９】
セルロースアシレートの合成方法は、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行発明協会）ｐ．７〜１２に詳細に記載されているので、参照することができる。
【００５０】
光透過性基材２０は、主原料となる１種又は２種以上のポリマーとともに、添加剤を含有していてもよい。添加剤の例には、可塑剤（好ましい添加量はポリマーに対して０．０１〜２０質量％、以下同様）、紫外線吸収剤（０．００１〜１質量％）、フッ素系界面活性剤（０．００１〜１質量％）、剥離剤（０．０００１〜１質量％）、劣化防止剤（０．０００１〜１質量％）、光学異方性制御剤（０．０１〜１０質量％）、赤外線吸収剤（０．００１〜１質量％）等が含まれる。
【００５１】
また、本発明の効果を損なわない範囲で、有機材料、無機材料又はそれらの混合物からなる粒子を分散含有していてもよい。これらの粒子は、製膜時におけるフィルムの搬送性向上を目的として添加される場合には、粒子の粒径は５〜３０００ｎｍであるのが好ましく、添加量は１質量％以下であるのが好ましい。
補助的にフィルム内部に光散乱性を付与するための粒子を添加する場合には、粒子の粒径は１〜２０μｍであるのが好ましく、添加量は２〜３０質量％好ましい。これら粒子屈折率は本発明のポリマーフィルムの屈折率との差が０〜０．５であるのが好ましく、例えば、無機材料の粒子の例には、酸化珪素、酸化アルミニウム、硫酸バリウム等の粒子が含まれる。有機材料の粒子の例には、アクリル系樹脂、ジビニルベンゼン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、スチレン系樹脂、メラミン系樹脂、アクリル−スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂等が含まれる。
粒子により光透過性基材２０に内部光拡散性を付与する際には、内部ヘイズの値に制限はないが、後方散乱性が高くなり全光透過率の低下が大きくなり過ぎない範囲に設定することが好ましい。具体的には、散乱粒子による内部ヘイズは１〜６０％が好ましく、更に好ましくは３〜５０％である。
【００５２】
次に、光透過性基材２０の好ましい製造方法について述べる。以下の方法によれば、煩雑な操作や特別な装置等が不要であり、簡易に本発明の光透過性基材２０を製造することができる。
光透過性基材２０の好ましい製造方法によれば、少なくとも熱可塑性樹脂と溶媒を含むポリマー溶液を支持体に流延してウェブを形成し、前記支持体から前記ウェブを剥離した後乾燥して、平坦部と複数の凹部を有する光透過性基材を作製する工程を含む。
すなわち、光透過性基材２０の製造においては、まず、熱可塑性樹脂と溶媒を含むポリマー溶液を調製する。ポリマー溶液中の熱可塑性樹脂の濃度は、５〜４０質量％であるのが好ましく、１０〜２５質量％であるのがより好ましく、１０〜１５質量％であることが更に好ましい。濃度が好ましい範囲であると、製膜性向上の観点や、ロングランに伴ってフィルムに発生するスジ状故障低減の観点から好ましい。
また、ポリマー溶液の粘度は、１０００ｃＰ以上５００００ｃＰ以下が好ましく、更に好ましくは５０００ｃｐ以上２００００ｃＰ以下である。
【００５３】
ポリマー溶液中の溶媒は、誘電率が３５以上の溶媒を含み、かつ、少なくとも２種類以上の互いに相溶しない溶媒を含むことが好ましい。
このような溶媒を使用することで、表面形状が適切に制御された光透過性基材２０を製造することができる。
通常は互いに相溶する溶媒を使用するため、表面に凹部（くぼみ）がないフィルムであることが多く、また、溶媒組成の調整により表面に凹部を形成させたとしても、同時にフィルム内部に空隙のあるフィルムとなってしまう。そして、このようなフィルムでは、フィルムを形成する材料と空隙の空気（屈折率は１．０）との間の屈折率差が大きいため、空隙部で広角の散乱が大きくなり後方散乱が起こりやすい。このような内部に空隙を有するフィルムでは、ヘイズ上昇に伴って後方散乱が大きくなり全光透過率も低下してしまうため、ヘイズ値と全光透過率とを両立させることができない。
本発明において２種の溶媒Ａ及びＢが相溶しないとは、Ａ及びＢの２種の溶媒のみからなる系において、一方の溶媒（Ａ又はＢ）１００ｇが２０℃で溶解しうる他方の溶媒の量が共に４ｇ以下であることをいう。
本発明では、誘電率が３５以上の溶媒を含む少なくとも２種類以上の互いに相溶しない溶媒を含む溶媒中に、ポリマー組成物を溶解してポリマー溶液を調製する工程、及びポリマー溶液を製膜することで、微細な凹部を表面に有するフィルムが得ることができる。また、本発明の光透過性基材は、内部に空隙を実質的に有さないことが好ましく、具体的には、フィルムの内部空隙率が１０％以下（体積比）であることが好ましく、５％以下であることがより好ましく、３％以下であることが特に好ましい。
【００５４】
具体的には、誘電率が３５以上の溶媒（以下、「高誘電率溶媒」という）を０．３質量％以上含む溶媒を用いることが好ましく、これによりフィルムの表面形状をより適切に制御することができる。高誘電率溶媒を１．０質量％以上含む溶媒を用いるのがより好ましく、高誘電率溶媒を１．５質量％以上含む溶媒を用いるのが更に好ましい。
一方、高誘電率溶媒の割合が高すぎると、ポリマーが溶解し難くなり、ポリマー溶液の調製が困難になったり、ポリマー溶液を調製できてもヘイズが高いドープとなってしまい、ドープの経時安定性が悪化したり、フィルム中の異物が増加することがある。この観点では、高誘電率溶媒は、３０質量％以下であるのが好ましく、１０質量％以下であるのがより好ましい。
【００５５】
高誘電率溶媒を所定の範囲で含有する溶媒を用いて調製されたポリマー溶液を製膜することで、製膜時に又は製膜後に溶媒が蒸発する際に、溶液中でポリマーと高誘電率溶媒との相分離が起こると考えられる。その結果、本発明のフィルムが有するような、表面に微細な凹部がより得やすくなる。更に、効果的に表面の微細な凹部を形成させる観点から、高誘電率溶媒の沸点は、後述の低沸点溶媒の沸点よりも高いことが好ましく、５℃以上高いことがより好ましく、１０℃以上高いことが更に好ましく、また、両者が共沸しないことが好ましい。
【００５６】
ここで、溶媒の誘電率について記載する。誘電率は電束密度Ｄと電場Ｅとの関係Ｄ＝εＥを与えるεをいい、溶剤分子の分極のし易さと相関を有するパラメータである。溶媒の誘電率の値は、例えば、日本化学会編「化学便覧基礎編Ｉ（改訂５版）」Ｉ−７７０頁に「比誘電率」として掲載されている。
【００５７】
高誘電率溶媒の例には、水（誘電率７８）、グリセリン（誘電率４３）、エチレングリコール（誘電率３７）、ジメチルホルムアミド（誘電率３７）、アセトニトリル（誘電率３８）、ジメチルスルホキシド（誘電率４９）、ギ酸（誘電率５８）、ホルムアミド（誘電率１１０）が含まれる。中でも、製膜過程での乾燥性や安全性といった取り扱い性の観点から水が好ましい。
高誘電率溶媒の沸点は、製膜時の表面形状制御の観点から７０〜３００℃が好ましく、更に好ましくは８０〜２５０℃、最も好ましくは９０〜２１０℃である。
【００５８】
高誘電率溶媒とともに、少なくとも１種のポリマーの良溶媒である有機溶媒を主溶媒として用いるのが好ましい。主溶媒の種類については特に制限はないが、前記高誘電率溶媒と互いに相溶しないことが好ましく、前記高誘電率溶媒と前記ポリマーの主溶媒以外の溶媒を用いない場合は前記ポリマーの主溶媒は前記高誘電率溶媒と互いに相溶しない溶媒である必要がある。
前記主溶媒は、沸点が８０℃以下の有機溶媒が乾燥負荷低減の観点からより好ましい。前記主溶媒の沸点は、１０〜８０℃であることが更に好ましく、２０〜６０℃であることが特に好ましい。また、場合により沸点が３０〜４５℃である有機溶媒も前記主溶媒として好適に用いることができる。
このような主溶媒としては、ハロゲン化炭化水素を特に好ましく挙げることができ、場合により、エステル、ケトン、エーテル、アルコール及び炭化水素などが挙げることもでき、これらは分岐構造若しくは環状構造を有していてもよい。また、前記主溶媒は、エステル、ケトン、エーテル及びアルコールの官能基（即ち、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＨ）のいずれかを二つ以上有していてもよい。更に、前記エステル、ケトン、エーテル及びアルコールの炭化水素部分における水素原子は、ハロゲン原子（特に、フッ素原子）で置換されていてもよい。なお、本発明の製造方法に用いるポリマー溶液の主溶媒とは、単一の溶媒からなる場合には、その溶媒のことを意味し、複数の溶媒からなる場合には、構成する溶媒のうち、最も質量分率の高い溶媒のことを意味する。
【００５９】
また、これら主溶媒と併用される有機溶媒としては、前記高誘電率溶媒の他に、ハロゲン化炭化水素、エステル、ケトン、エーテル、アルコール及び炭化水素などを挙げることもでき、これらは分岐構造若しくは環状構造を有していてもよい。また、前記有機溶媒としては、エステル、ケトン、エーテル及びアルコールの官能基（即ち、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＨ）のいずれか二つ以上を有していてもよい。更に、前記エステル、ケトン、エーテル及びアルコールの炭化水素部分における水素原子は、ハロゲン原子（特に、フッ素原子）で置換されていてもよい。
なお、前記ポリマーの主溶媒が前記高誘電率溶媒と互いに相溶する溶媒である場合は、本発明では主溶媒と併用される有機溶媒が前記高誘電率溶媒と互いに相溶しない溶媒である必要がある。
【００６０】
前記ハロゲン化炭化水素としては、塩素化炭化水素がより好ましく、例えば、ジクロロメタン及びクロロホルムなどが挙げられ、ジクロロメタンが更に好ましい。
前記エステルとしては、例えば、メチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテートなどが挙げられる。
前記ケトンとしては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノンなどが挙げられる。
前記エーテルとしては、例えば、ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、アニソール、フェネトールなどが挙げられる。
前記アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、シクロヘキサノール、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなどが挙げられる。
前記炭化水素としては、例えば、ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどが挙げられる。
【００６１】
光透過性基材２０を構成するポリマーの主成分がセルロースアシレートである場合、上記の溶媒の中でも、前記高誘電率溶媒とともに、誘電率が１０以上３５未満の溶媒（本明細書中で「中誘電率溶媒」ということがある）と、誘電率が２以上１０未満の低誘電率の溶媒（本明細書中で「低誘電率溶媒」ということがある）とを混合した溶媒を利用すると、高透明性のポリマー溶液を安定的に調製できるので好ましい。
すなわち、表面形状制御の観点からは、前記高誘電率溶媒を用いることが好ましく、ポリマーの溶解性向上の観点からは、低誘電率溶媒を用いることが好ましいが、これらの溶媒は相溶性が悪く、ドープの安定性が劣るため、中誘電率溶媒を併用することにより、相溶性を向上させることができ、フィルムの表面形状制御とドープ安定性との両立範囲を拡張し、製造適性を向上させることができるのである。
混合溶媒中の中誘電率溶媒の含有量は、０．３〜３０質量％であることが好ましく、１〜１５質量％がより好ましく、２〜１０質量％が更に好ましい。
混合溶媒中の低誘電率溶媒の含有量は４０〜９９．５質量％であることが好ましく、６０〜９９質量％であることがより好ましく、７０〜９８質量％であることが特に好ましい。
【００６２】
前記中誘電率溶媒の例には、上記アルコール類、ケトン類、エーテル類が含まれ、具体的には、アセトン（誘電率２１）、メチルエチルケトン（誘電率１９）、ジエチルケトン（誘電率１４）、ジイソブチルケトン（誘電率１５）、シクロペンタノン（誘電率１９）、シクロヘキサノン（誘電率１８）、メチルシクロヘキサノン（誘電率１８）、２−エトキシ酢酸エチル（誘電率１１）、２−メトキシエタノール（誘電率３０）、１，２−ジアセトキシアセトン（誘電率１６）、アセチルアセトン（誘電率１７）、アセト酢酸エチル（誘電率１６）、メタノール（誘電率３３）、エタノール（誘電率２４）、１−プロパノール（誘電率２２）、２−プロパノール（誘電率２２）、１−ブタノール（誘電率１７）、２−ブタノール（誘電率１６）、tert−ブタノール（誘電率１１）、１−ペンタノール（誘電率１４）、２−メチル−２−ブタノール（誘電率１３）、シクロヘキサノール（誘電率１５）等が含まれる。
【００６３】
前記低誘電率溶媒の例には、上記ハロゲン化炭化水素類、エステル類が含まれ、具体的には、ジクロロメタン（誘電率誘電率９）、ジメトキシエタン（誘電率６）、１，４−ジオキサン（誘電率２）、１，３−ジオキソラン（誘電率３）、１，３，５−トリオキサン（誘電率３）、テトラヒドロフラン（誘電率８）、アニソール（誘電率４）及びフェネトール（誘電率４）、蟻酸エチル（誘電率９）、蟻酸ｎ−プロピル（誘電率６）、蟻酸ｎ−ペンチル（誘電率６）、酢酸メチル（誘電率７）、酢酸エチル（誘電率６）、酢酸ｎ−ペンチル（誘電率５）、２−ブトキシエタノール（誘電率９）等が含まれる。
【００６４】
これらの溶媒の中でも、水と、アルコール類の少なくとも一種と、ハロゲン化炭化水素類の少なくとも一種との混合溶媒が好ましく、水を０．３〜３０質量％、アルコール類の少なくとも一種を１〜３０質量％、及びハロゲン化炭化水素類の少なくとも一種を６０〜９９質量％含有する混合溶媒がより好ましい。中でも、水（誘電率７８）と、メタノール（誘電率３３）と、ジクロロメタン（誘電率９）との混合溶媒が好ましい。
水の含有量はフィルムのヘイズ上昇の観点から多い方が好ましいが、ポリマーの溶解性やポリマー溶液の粘弾性特性といった製膜性を考慮すると、０．５〜１０質量％がより好ましく、１〜５質量％が更に好ましい。また、アルコール類の含有量はフィルムのヘイズ上昇の観点から少ないほうが好ましいが、ポリマーの溶解性や、ロングランに伴ってフィルムに発生するスジ状故障低減を始めとする製膜性を考慮すると、３〜２０質量％がより好ましく、５〜１０質量％が更に好ましい。そして、主溶媒以外の溶媒の合計比率の好ましい範囲は、これらの組み合わせとして、０．８〜４０質量％であることが好ましく、２〜３５質量％であることがより好ましい。
【００６５】
ポリマー溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法及び装置を用いて行うことができる。一例として、一旦、低温にて、溶媒中でポリマー及び所望により添加される添加剤を膨潤させつつ、溶解を進行させる工程（膨潤工程）と、その後、加熱及び加圧下で、ポリマー等を完全に溶解させる工程（溶解工程）とを含む方法である。
膨潤工程では、溶媒の温度を−１０〜３９℃程度の低温に維持する。膨潤工程時には、攪拌を実施し、ポリマー等の一部又は全部について、溶媒中への溶解を進行させるのが好ましい。膨潤工程は、一般的には、０．１〜６時間程度行うことが好ましい。
次に、溶解工程では、溶媒の温度を４０〜２４０℃程度の温度まで加熱するとともに、０．２〜３０ＭＰａ程度まで加圧するのが好ましい。但し、この範囲に限定されるものではなく、溶質及び溶媒の種類に応じて決定される。溶解工程は、０．１〜６時間程度行うことが好ましい。
【００６６】
次に、得られたポリマー溶液を用いて製膜する。製膜は、一般的なソルベントキャスト法に従って行うことができる。具体的には、調製したポリマー溶液（ドープ）を、ドラム又はバンド等の支持体上に流延し、溶媒を蒸発させて製膜する。前記ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
ドープは、単層で流延してもよく、複数層で共流延してもよい。複数層で共流延する場合には、多層シート・フィルム製造で一般的に用いられる方法を用いることができ、例えば、層数の調整が容易なフィードブロック法や、各層の厚み精度に優れるマルチマニホールド法を用いることができ、フィードブロック法がより好ましい。
また、製膜方法が複数層を同時又は逐次流延する共流延である場合、特に層が３層以上の場合には、ヘイズ上昇の観点からは、本発明の製造方法に基づくドープは、表層若しくは表層の次の層に用いられることが好ましい。本発明の製造方法に基づくドープを表層の次の層に用いる場合には、表層の厚みは１０μｍ、又はフィルム総厚みの１０％のうちの小さい方の厚み以下であることが好ましく、５μｍ又は５％以下であることがより好ましく、３μｍ又は３％以下であることが更に好ましく、このような場合、経時でのギーサー汚れが低減されることがあるため好ましい。また、前記ドラム又はバンド表面からの剥離性の観点からは、本発明の製造方法に基づくドープは、支持体と直接接触しない層に用いられることが好ましい。
さらに、組成の異なる複数のポリマー溶液を同時又は逐次で流延する場合、前記複数のポリマー溶液のうち少なくとも１種のポリマー溶液が、少なくとも誘電率が３５以上の溶媒、誘電率が２以上１０未満の溶媒、及び誘電率が１０以上３５未満の溶媒を含むことが好ましい。
【００６７】
ソルベントキャスト法における流延及び乾燥方法については、例えば、特開昭５８−１２７７３７号公報、同６１−１０６６２８号公報、特開平２−２７６８３０号公報、同４−２５９５１１号公報、同５−１６３３０１号公報、同９−９５５４４号公報、同１０−４５９５０号公報、同１０−９５８５４号公報、同１１−７１４６３号公報、同１１−３０２３８８号公報、同１１−３２２９４６号公報、同１１−３２２９４７号公報、同１１−３２３０１７号公報、特開２０００−５３７８４号公報、同２０００−２７３１８４号公報、同２０００−２７３２３９号公報、米国特許第２３３６３１０号明細書、米国特許第２３６７６０３号明細書、米国特許第２４９２０７８号明細書、米国特許第２４９２９７７号明細書、米国特許第２４９２９７８号明細書、米国特許第２６０７７０４号明細書、米国特許第２７３９０６９号明細書、米国特許第２７３９０７０号明細書、英国特許第６４０７３１号明細書、英国特許第７３６８９２号明細書、特公昭４５−４５５４号公報、特公昭４９−５６１４号公報、特開昭６０−１７６８３４号公報、特開昭６０−２０３４３０号公報、特開昭６２−１１５０３５号公報に記載のものを採用できる。
前記ドープは、表面温度が１０℃以下の、ドラム及びバンド等の支持体上に流延することが好ましい。
【００６８】
上記ポリマー溶液を支持体上で製膜し、支持体から剥ぎ取った後に、更に乾燥することが好ましい。この乾燥工程で、膜中の残留溶剤を蒸発することができる。乾燥は、乾燥風を送風することで行うことができる。乾燥風の温度を段階的に上昇させて、多段階的に乾燥を行ってもよい。溶液流延製膜方法の流延工程、乾燥工程の詳細については、特開２００５−１０４１４８号公報の１２０〜１４６頁にも記載があり、適宜本発明に製造方法に適用することができる。
【００６９】
また、ポリマー溶液を製膜する際に、上記の３層以上の共流延を行う場合には、表層若しくは表層の次の層に用いるドープとして以下に記載するドープを用いることも可能である。以下に記載するドープは、単層流延で製膜すると、基材の内部に空隙が生じてしまうものであるが、共流延で表層若しくは表層の次の層に使用し、更に全体として表面側３０μｍ程度の部分することで、フィルムの中央付近では閉じた空隙だったものが、表面付近で開いた空隙となり、結果として表面にのみくぼみが形成され凹部を有するフィルムが形成できる。
このようなドープに用いられる溶媒は、前記高誘電率溶媒を含まず、誘電率が１０〜３５程度の中誘電率溶媒と誘電率が４〜１０程度の低誘電率の低誘電率溶媒とを併用する。全溶剤に対する中誘電率溶剤の割合は、凹部の形成しやすさ及びドープの搬送工程での析出等を考慮し、２０〜９０質量％が好ましく、更に好ましくは２０〜５０質量％である。
【００７０】
製膜されたポリマーフィルムは、そのまま光透過性基材２０として利用することができる。また、所望により延伸処理を実施して、更にヘイズを調整してもよい。延伸条件については特に制限はない。通常行われる条件、例えば、延伸温度が（Ｔｇ−２０）〜（Ｔｇ＋５０）℃程度、及び延伸倍率が２０〜４０％程度で実施することができる。
延伸は、ロール延伸機を利用して実施することができる。縦又は横一軸延伸処理を行っても、二軸延伸処理を行ってもよい。一般的には、長尺状のフィルムを長手方向に延伸する、縦一軸延伸処理が行われるであろう。
また、後述のように光透過性基材２０の凹部を有する面上に滑り剤を含有する層を形成してもよい。
【００７１】
光透過性基材２０の厚みについては、特に制限はないが、一般的には、２０〜２００μｍ程度であり、薄型化の観点では、２０〜１００μｍ程度が好ましく、更に好ましくは２０〜８０μｍである。
【００７２】
＜（Ａ部材）又は（Ｂ部材）の表面に含有される滑り剤＞
（Ａ部材）及び（Ｂ部材）部材の間の滑り性を良化させて、応力の集中を防ぎ、擦れあいによる部材の破損を防止するために、（Ａ部材）及び（Ｂ部材）の少なくともいずれかの表面には、（Ａ部材）又は（Ｂ部材）に対向する面上に滑り剤を含有することが好ましい。滑り剤の構造に限定はないが、ポリシロキサン部分構造を含む化合物やフッ素原子を含む化合物が挙げられる。
【００７３】
（ポリシロキサン構造を含む化合物）
ポリシロキサン構造を含む化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表される構造を含む化合物を用いることができる。
一般式（Ｉ）
【００７４】
【化１】
0005478183.tif 000002
【００７５】
一般式（Ｉ）中、Ｒ１及びＲ２は同一であっても異なっていてもよく、アルキル基又はアリール基を表す。ｐは１０〜５００の整数を表す。
アルキル基としては、炭素数１〜１０が好ましく、炭素数１〜５がより好ましい。
アリール基としては、炭素数６〜２０が好ましく、炭素数６〜１０がより好ましい。
アルキル基及びアリール基はさらなる置換基を有していてもよい。さらなる置換基としては特に限定されないがハロゲン原子（より好ましくはフッ素原子）が好ましい。
【００７６】
ポリシロキサン構造を含む化合物は、電離放射線硬化性官能基及び熱硬化性官能基の少なくともいずれかを有していることが好ましい。
分子内に電離放射線硬化性官能基を有するシリコーン系化合物の例としては、信越化学（株）製、Ｘ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−１８２１（以上商品名）や、チッソ（株）製、ＦＭ−０７２５、ＦＭ−７７２５、ＦＭ６６２１、ＦＭ−１１２１、サイラプレーンＦＭ０２７５、サイラプレーンＦＭ０７２１やＧｅｌｅｓｔ製ＤＭＳ−Ｕ２２、ＲＭＳ−０３３、ＲＭＳ−０８３、ＵＭＳ−１８２、ＤＭＳ−Ｈ２１、ＤＭＳ−Ｈ３１、ＨＭＳ−３０１、ＦＭＳ１２１、ＦＭＳ１２３、ＦＭＳ１３１、ＦＭＳ１４１、ＦＭＳ２２１（以上商品名）などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【００７７】
分子内に熱硬化性官能基を有するシリコーン系化合物の例としては、水酸基を含む化合物としては、“Ｘ−２２−１６０ＡＳ”、“ＫＦ−６００１”、“ＫＦ−６００２”、“ＫＦ−６００３”、“Ｘ−２２−１７０ＤＸ”、“Ｘ−２２−１７６ＤＸ”、“Ｘ−２２−１７６Ｄ”、“Ｘ−２２−１７６Ｆ”｛以上、信越化学工業（株）製｝；“ＦＭ−４４１１”、“ＦＭ−４４２１”、“ＦＭ−４４２５”、“ＦＭ−０４１１”、“ＦＭ−０４２１”、“ＦＭ−０４２５”、“ＦＭ−ＤＡ１１”、“ＦＭ−ＤＡ２１”、“ＦＭ−ＤＡ２５”｛以上、チッソ（株）製｝；“ＣＭＳ−６２６”、“ＣＭＳ−２２２”｛以上、Ｇｅｌｅｓｔ社製｝等が挙げられる。
また、水酸基と反応する官能基を有するシリコーン系化合物の例としては、“Ｘ−２２−１６２Ｃ”、“ＫＦ−１０５”｛以上、信越化学工業（株）製｝；“ＦＭ−５５１１”、“ＦＭ−５５２１”、“ＦＭ−５５２５”、“ＦＭ−６６１１”、“ＦＭ−６６２１”、“ＦＭ−６６２５”｛以上、チッソ（株）製｝等が挙げられる。
【００７８】
また、特開２００３−１１２３８３号公報の表２、表３に記載のシリコーン系化合物も好ましく使用できる。
【００７９】
また、特にシリコーン系化合物の固定性を高めて使用する場合には、主鎖又は側鎖にポリシロキサン構造を有し、かつ架橋性反応基を有する共重合体を用いることができる。具体的な化合物としては、特開２００７−２９１３７２号公報の表１、表２に記載の共重合体、及び特開２００８−１０６１９０号公報の表１に記載の共重合体を挙げることができる。
【００８０】
また、ポリシロキサン構造を含有する高分子ラジカル発生剤を、ラジカル反応性の硬化性化合物と共に用いるとポリシロキサン構造が固定された硬化層が形成できる。このような化合物は、特開２００８−１０６１９０号公報の段落００３６〜００４９に記載されている。
【００８１】
［フッ素原子含有滑り剤］
滑り剤として、フッ素原子を含有する化合物からなる滑り剤を使用することも好ましい。
フッ素原子含有化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１０である。
フルオロアルキル基は、直鎖（例えば−ＣＦ２ＣＦ３，−ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ，−ＣＨ２（ＣＦ２）８ＣＦ３，−ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ等）であっても、分岐構造（例えばＣＨ（ＣＦ３）２，ＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）２，ＣＨ（ＣＨ３）ＣＦ２ＣＦ３，ＣＨ（ＣＨ３）（ＣＦ２）５ＣＦ２Ｈ等）であっても、脂環式構造（好ましくは５員環又は６員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基又はこれらで置換されたアルキル基等）であってもよく、エーテル結合を有していてもよい（エーテル結合を有する基としては、例えば、ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３，ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２Ｃ４Ｆ８Ｈ，ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２Ｃ８Ｆ１７，ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ等）。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
【００８２】
フッ素原子を含有する化合物は、硬化型の官能基を含有する含フッ素化合物が好ましい。硬化型の官能基に特に制限はないが、水酸基、シラノール基、グリシジル基、オキセタニル基、エポキシ基、カルボキシル基、アミノ基、ビニル基、メタアクリロイルオキシ基、アクリロイルオキシ基などが挙げられる。なかでも水酸基、シラノール基、エポキシ基、メタアクリロイルオキシ基、アクリロイルオキシ基など好ましく、特に好ましくは、メタアクリロイルオキシ基、アクリロイルオキシ基である。
【００８３】
フッ素原子を含有する化合物は、更に部材形成物質との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は複数個あることが好ましく、その置換基は同一であっても異なっていても良い。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタアクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。
【００８４】
フッ素原子を含有する化合物は、ポリマーやオリゴマーの形態であってもよい。ポリマー又はオリゴマー中に、フッ素原子を含まない化合物からなる構成単位を含んでいても良い。また、ポリマー又はオリゴマーの分子量に特に制限はない。
【００８５】
フッ素原子を含有する化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが、２０質量％以上であることが好ましく、３０〜７０質量％であることが特に好ましく、４０〜７０質量％であることが最も好ましい。
好ましいフッ素原子含有化合物の例としてはダイキン化学工業（株）製、Ｒ−２０２０、Ｍ−２０２０、Ｒ−３８３３、Ｍ−３８３３（以上商品名）、大日本インキ（株）製、メガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７９Ａ、ディフェンサＭＣＦ−３００（以上商品名）などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
また、これら化合物の具体例は、特開２００７−１０８７２６号公報の０１３６〜０１４１段落、特開２００７−１１４７７２号公報の０１２９〜０１５２段落、特開２００７−２７２１９７号公報の００３９〜００５８段落に記載されている。
以上の滑り剤は、単独で使用してもよいし、併用してもかまわない。
【００８６】
これら滑り剤を（Ａ部材）又は（Ｂ部材）の表面に含有させるための方法は、部材形成後に塗布又は転写する方法、部材形成時に部材形成材料とともに添加する方法が挙げられる。塗布方法としては、滑り剤を含有する塗布液を用いたスピン塗布、浸漬塗布、ロールコート塗布、グラビアコート塗布、カーテンフロー塗布、ダイコート塗布、スプレイ塗布等を挙げることができる。転写方法としては、滑り剤を含有する転写シートを作成し、必要に応じて加熱しながら転写シートと基材を圧着させて滑り剤を基材に転写する方法が挙げられる。
【００８７】
また、滑り剤は、（Ａ部材）又は（Ｂ部材）のどちらか一方にのみ含有されても良いが、両方に含有することが好ましい。両部材に含有される場合には、構造の同一の滑り剤が含まれていることが好ましい。
また、片方の部材から、転写させることにより、表面に含有する態様も好ましい。その際には、（Ｂ部材）に滑り剤を用いることが好ましい。
【００８８】
これら滑り剤の（Ａ部材）及び／又は（Ｂ部材）の表面での含有量は、光電子スペクトル法（ＥＳＣＡ）により算出することができる。一般には、光電子スペクトル法で表面を分析した場合、約５ｎｍ程度の深さに対する組成の情報が得られるといわれている。光電子スペクトル法で求めた表面中における、滑り剤の含有率は５％以上が好ましく、１０％以上が更に好ましく、最も好ましくは１５％以上１００％以下である。ポリシロキサン構造を有する化合物を用いた場合には、珪素原子と炭素原子の原子比率（Ｓｉ／Ｃ）で表記すると、光電子分光スペクトルで求めたＳｉ／Ｃの値は、０．０５〜０．５０が好ましく、更に好ましくは０．１０〜０．５０、最も好ましくは０．２０〜０．５０である。また、フッ素原子含有化合物を用いた場合には、フッ素原子と炭素原子の原子比率（Ｆ／Ｃ）で表記すると、光電子分光スペクトルで求めたＦ／Ｃの値は、０．２０〜３．０が好ましく、更に好ましくは０．５０〜２．７であり、最も好ましくは１．０〜２．５である。
【００８９】
本願においては、光電子スペクトル法での表面組成分析は、島津製作所（株）製“ＥＳＣＡ−３４００”で（真空度１×１０-5Ｐａ、Ｘ線源；ターゲットＭｇ、電圧１２ｋＶ、電流２０ｍＡ）最表面の分析を行うことができる。
【００９０】
以下、（Ａ部材）又は（Ｂ部材）の表面に滑り剤を含有させる特に好ましい態様について説明する。
好ましい第１の態様は、（Ｂ部材）の表面（好ましくは凹部を有する面上）に滑り剤を含有する層を形成するものである。この第１の態様の光透過性基材の模式図を図８に示す。図８に示す光透過性基材４０は、凹部を有する面上に滑り剤を含有する層４２を有する。
滑り剤を含有する層は、滑り剤を必須成分とし、必要に応じて硬化性樹脂、溶剤、硬化開始剤、レベリング剤、粘度調整剤、帯電防止剤、その他添加剤を含有する。好ましい態様は、電離放射線硬化性官能基及び熱硬化性官能基の少なくともいずれかを有する滑り剤と、電離放射線硬化性化合物及び熱硬化性化合物の少なくともいずれかと、必要に応じてその他の添加剤等とを含む組成物を塗布し、硬化させることにより得られる硬化層を（Ｂ部材）の表面に形成することである。
滑り剤を含有する層（硬化層）は、一定膜厚の均一層でもよいが、滑り剤含有率が分布をもった不均一な層でも構わない。
【００９１】
（硬化性樹脂）
硬化性樹脂は、電離放射線硬化性化合物及び熱硬化性化合物の少なくともいずれかを用いて、これを架橋反応又は重合反応させることにより形成されることが好ましい。
滑り剤含有層を形成する硬化性樹脂層は、電離放射線硬化性化合物及び熱硬化性化合物の架橋反応又は重合反応により形成され得る。
硬化型の官能基に特に制限はないが、水酸基、シラノール基、グリシジル基、オキセタニル基、エポキシ基、カルボキシル基、アミノ基、ビニル基、メタアクリロイルオキシ基、アクリロイルオキシ基などが挙げられる。なかでも水酸基、シラノール基、エポキシ基、メタアクリロイルオキシ基、アクリロイルオキシ基など好ましく、特に好ましくは、メタアクリロイルオキシ基、アクリロイルオキシ基である。
【００９２】
光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、
ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；
等を挙げることができる。
【００９３】
更にはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。
【００９４】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。更に好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。具体的には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールトリアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールペンタアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート等が挙げられる。
【００９５】
滑り剤含有層の光硬化性モノマーとして用いられる化合物は、特開２００７−２９８９７４号公報段落［０１５８］〜［０１６５］に記載されている化合物を用いることができる。
【００９６】
（カチオン重合性基を有する化合物）
カチオン重合性基としては、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニルオキシ基等が挙げられるが、好ましくは開環重合性の基であり、より好ましくはエポキシ基又はオキセタニル基であり、特に好ましくはエポキシ基である。これらの基は可能な位置に置換基を有していても良い。
【００９７】
これらのカチオン重合性基は、硬化剤一分子当たり、複数個導入されていることが好ましく、より好ましくは、１分子当たり、２〜２０個導入されたものであり、特に好ましくは３〜１０個導入されたものである。
【００９８】
本発明において好適に使用される化合物としては、例えば市販のものでは、デナコールＥＸ３１４，同４１１，同４２１，同５２１，同６１１，同６１２等（以上ナガセ化成工業株式会社製、）、セロキサイド、ＧＴ３０１，同４０１等（以上ダイセル工業株式会社製）等を挙げることができる。その他、特開２００７−２９８９７４号公報段落［０１６９］〜［０１７６］に記載されている化合物を用いることができる。
【００９９】
これら多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
【０１００】
［架橋性ポリマ−バインダー］
本発明に用いる硬化性化合物としては、反応性基を有するポリマーを用いることができる。
【０１０１】
ポリマーの主鎖の例には、ポリオレフィン（飽和炭化水素）、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミド及びメラミン樹脂が含まれる。ポリオレフィン主鎖、ポリエーテル主鎖及びポリウレア主鎖が好ましく、ポリオレフィン主鎖及びポリエーテル主鎖が更に好ましく、ポリオレフィン主鎖が最も好ましい。
ポリオレフィン主鎖は飽和炭化水素からなる。ポリオレフィン主鎖は、例えば、不飽和重合性基の付加重合反応により得られる。ポリエーテル主鎖は、エーテル結合（−Ｏ−）によって繰り返し単位が結合している。ポリエーテル主鎖は、例えば、エポキシ基の開環重合反応により得られる。ポリウレア主鎖は、ウレア結合（−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−）によって、繰り返し単位が結合している。ポリウレア主鎖は、例えば、イソシアネート基とアミノ基との縮重合反応により得られる。ポリウレタン主鎖はウレタン結合（−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−）によって、繰り返し単位が結合している。ポリウレタン主鎖は、例えば、イソシアネート基と、水酸基（Ｎ−メチロール基を含む）との縮重合反応により得られる。ポリエステル主鎖は、エステル結合（−ＣＯ−Ｏ−）によって繰り返し単位が結合している。ポリエステル主鎖は、例えば、カルボキシル基（酸ハライド基を含む）と水酸基（Ｎ−メチロール基を含む）との縮重合反応により得られる。ポリアミン主鎖はイミノ結合（−ＮＨ−）によって、繰り返し単位が結合している。ポリアミン主鎖は、例えば、エチレンイミン基の開環重合反応により得られる。ポリアミド主鎖は、アミド結合（−ＮＨ−ＣＯ−）によって、繰り返し単位が結合している。ポリアミド主鎖は、例えば、イソシアネート基とカルボキシル基（酸ハライド基を含む）との反応により得られる。メラミン樹脂主鎖は、例えば、トリアジン基（例、メラミン）とアルデヒド（例、ホルムアルデヒド）との縮重合反応により得られる。なお、メラミン樹脂は、主鎖そのものが架橋構造を有する。
【０１０２】
架橋反応性付与のための構成単位としては主として以下の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）で示される単位が挙げられる。
（Ａ）：グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、
（Ｂ）：カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、
（Ｃ）：分子内に上記（Ａ）、（Ｂ）の官能基と反応する基とそれとは別に架橋性官能基を有する化合物を、上記（Ａ）、（Ｂ）の構成単位と反応させて得られる構成単位、（例えばヒドロキシル基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で合成できる構成単位）が挙げられる。
【０１０３】
上記（Ｃ）の構成単位は該架橋性官能基が光重合性基であることが好ましい。ここに、光重合性基としては、例えば（メタ）アクリロイル基、アルケニル基、シンナモイル基、シンナミリデンアセチル基、ベンザルアセトフェノン基、スチリルピリジン基、α−フェニルマレイミド基、フェニルアジド基、スルフォニルアジド基、カルボニルアジド基、ジアゾ基、ｏ−キノンジアジド基、フリルアクリロイル基、クマリン基、ピロン基、アントラセン基、ベンゾフェノン基、スチルベン基、ジチオカルバメート基、キサンテート基、１，２，３−チアジアゾール基、シクロプロペン基、アザジオキサビシクロ基などを挙げることができ、これらは１種のみでなく２種以上であってもよい。これらのうち、（メタ）アクリロイル基及びシンナモイル基が好ましく、特に好ましくは（メタ）アクリロイル基である。
【０１０４】
＜架橋性化合物＞
本発明を構成するモノマーあるいはポリマーバインダ−が単独で十分な硬化性を有しない場合には、架橋性化合物を配合することにより、必要な硬化性を付与することができる。また、架橋性化合物のみを用いて、滑り剤と硬化させることも可能である。
例えばポリマー本体に水酸基含有する場合には、各種アミノ化合物を硬化剤として用いることが好ましい。架橋性化合物として用いられるアミノ化合物は、例えば、ヒドロキシアルキルアミノ基及びアルコキシアルキルアミノ基のいずれか一方又は両方を合計で２個以上含有する化合物であり、具体的には、例えば、メラミン系化合物、尿素系化合物、ベンゾグアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物等を挙げることができる。これら架橋性化合物の具体例については、特開２００７−２９８９７４号公報［０１７９］〜［０１８３］に記載されている。
【０１０５】
＜開始剤＞
各種のエチレン性不飽和基を有するモノマー又はポリマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。
光重合性多官能モノマーの重合反応には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。
【０１０６】
（光開始剤）
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類（特開２００１−１３９６６３号等）、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。
【０１０７】
これらの開始剤は単独でも混合して用いても良い。
「最新ＵＶ硬化技術」，（株）技術情報協会，１９９１年，ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」  加藤清視著、平成元年、総合技術センター発行、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【０１０８】
市販の光ラジカル重合開始剤としては、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（ＤＥＴＸ−Ｓ，ＢＰ−１００，ＢＤＭＫ，ＣＴＸ，ＢＭＳ，２−ＥＡＱ，ＡＢＱ，ＣＰＴＸ，ＥＰＤ，ＩＴＸ，ＱＴＸ，ＢＴＣ，ＭＣＡなど）、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（６５１，１２７，１８４，５００，８１９，９０７，３６９，３７９，１１７３，１８７０，２９５９，４２６５，４２６３など）及びそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。
【０１０９】
また、本発明においては、光増感剤や熱開始剤を用いることもできる。これら重合開始剤の具体例については、特開２００７−２９８９７４号公報［０１９０］〜［０２１９］に記載されている。
【０１１０】
これら開示剤及び増感剤は、硬化性モノマーやポリマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。２種以上を併用して用いることもできる。
【０１１１】
＜硬化触媒＞
本発明のフィルムには、硬化を促進する硬化触媒として電離放射線又は熱の照射によりラジカルや酸を発生する化合物を使用することができる。具体的な化合物に関しては、特開２００７−２９８９７４号公報の［０２２０］〜［０２３１］に記載されている。
【０１１２】
これら硬化触媒の使用割合は、硬化性樹脂組成物１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜１０質量部、更に好ましくは０．１〜５質量部である。
その他、具体的な化合物や使用法として、例えば特開２００５―４３８７６号公報記載の内容などを用いることができる。
【０１１３】
＜塗布溶剤＞
滑り剤含有層を形成するための塗布組成物に用いられる溶剤としては、各成分を溶解又は分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。 
溶媒は２種類以上のものを混合して用いることができる。特に、乾燥負荷の観点から、常圧室温における沸点が１００℃以下の溶剤を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が１００℃以上の溶剤を少量含有することが好ましい。 
【０１１４】
沸点が１００℃以下の溶剤としては、例えば、ヘキサン（沸点６８．７℃）、ヘプタン（９８．４℃）、シクロヘキサン（８０．７℃）、ベンゼン（８０．１℃）などの炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８℃）、クロロホルム（６１．２℃）、四塩化炭素（７６．８℃）、１，２―ジクロロエタン（８３．５℃）、トリクロロエチレン（８７．２℃）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６℃）、ジイソプロピルエーテル（６８．５℃）、ジプロピルエーテル（９０．５℃）、テトラヒドロフラン（６６℃）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．２℃）、酢酸メチル（５７．８℃）、酢酸エチル（７７．１℃）、酢酸イソプロピル（８９℃）などのエステル類、アセトン（５６．１℃）、２―ブタノン（メチルエチルケトンと同じ、７９．６℃）などのケトン類、メタノール（６４．５℃）、エタノール（７８．３℃）、２―プロパノール（８２．４℃）、１―ロパノール（９７．２℃）などのアルコール類、アセトニトリル（８１．６℃）、プロピオニトリル（９７．４℃）などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２℃）などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では２―ブタノンが特に好ましい。
【０１１５】
沸点が１００℃以上の溶剤としては、例えば、オクタン（１２５．７℃）、トルエン（１１０．６℃）、キシレン（１３８℃）、テトラクロロエチレン（１２１．２℃）、クロロベンゼン（１３１．７℃）、ジオキサン（１０１．３℃）、ジブチルエーテル（１４２．４℃）、酢酸イソブチル（１１８℃）、シクロヘキサノン（１５５．７℃）、２―メチル−４―ペンタノン（メチルイソブチルケトンと同じ、１１５．９℃）、１―ブタノール（１１７．７℃）、Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド（１５３℃）、Ｎ，Ｎ―ジメチルアセトアミド（１６６℃）、ジメチルスルホキシド（１８９℃）などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、２―メチル−４−ペンタノンである。
【０１１６】
また、塗布溶媒の全て又は一部が、（部材Ａ）又は（部材Ｂ）を膨潤又は溶解することは、部材と滑り層の密着性を改良できる点で好ましい。このような溶媒の使用量は、全溶媒中の１〜１００質量％がこのましく、更に好ましくは２〜３０質量％である。滑り剤含有層形成用塗布液の溶剤を除いた揮発残存成分（固形分）中で、滑り剤含有量は、０．１〜９９質量％が好ましく、更に好ましくは０．５〜５０質量％であり、最も好ましくは１〜３０質量％である。また、硬化性樹脂は、固形分中１〜９９．９質量％が好ましく、５０〜９９．５質量％が更に好ましく、最も好ましくは７０〜９８質量％である。また、固形分濃度は、塗布装置や部材により異なるが、０．１〜５０質量％が好ましく、更に好ましくは０．５〜２５質量％、最も好ましくは１〜１５質量％である。この範囲にすることで、薄層で均一性の高い塗膜形成が可能となる。
【０１１７】
本発明において、滑り剤含有層の厚みは、（Ａ部材）及び（Ｂ部材）の集光性能や光散乱性能などの基本的な性能を大きく逸脱しない限りにおいて特に制限はないが、１nｍ以上１μｍ未満が好ましく、更に好ましくは２ｎｍ以上０．１μｍ未満であり、最も好ましくは３ｎｍ以上８０ｎｍ以下である。この範囲にすることで、十分な滑り性や滑り剤の塗布性が付与でき、光学特性も満足できる。凸状や凹状の表面形態を有する部材においては、滑り剤含有層の膜厚を計測するのは容易ではないが、基材の法線方向の投影面積当たりの塗布量として、上記好ましい塗布膜厚量になるように滑り剤含有層が塗布されていることが好ましい。
【０１１８】
滑り剤含有層は、塗布し溶媒を乾燥した後に、必要に応じ硬化することができる。電離放射線硬化系の材料を用いた場合には、電離放射線の種類については、特に制限はなく、ｘ線、電子線、紫外線、可視光、赤外線などが挙げられるが、紫外線が広く用いられる。例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより１０ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量の紫外線を照射して層を硬化するのが好ましい。照射の際には、前記エネルギーを一度に当ててもよいし、分割して照射することもできる。電離放射線照射時の温度はハンドリング性及び面内の性能の均一性から、一般に２０〜２００℃、好ましくは３０〜１５０℃、最も好ましくは４０〜１２０℃である。膜面温度が該上限値以下であれば、バインダー中の低分子成分の流動性が上昇しすぎて面状が悪化したり、支持体が熱によりダメージを受けたりする問題が生じないので好ましい。また該下限値以上であれば、硬化反応の進行が十分で、膜の耐擦傷性が良好なものとなるので好ましい。 
【０１１９】
電離放射線照射時の酸素濃度は３体積％以下であることが好ましく、より好ましくは１％体積以下であり、更に好ましくは０．１％以下である。 
【０１２０】
熱により硬化が進行するバインダーを使用する場合には、硬化温度は、好ましくは６０〜２００℃、更に好ましくは８０〜１３０℃、最も好ましくは８０〜１１０℃である。支持体が高温で劣化しやすい場合には低温が好ましい。熱硬化に要する時間は、３０秒〜６０分が好ましく、更に好ましくは１分〜２０分である。 
【０１２１】
本発明の（Ａ部材）又は（Ｂ部材）の表面に滑り剤を含有させる好ましい第２の態様は、（Ａ部材）の集光部（プリズム又はシリンドリカルレンズ）を硬化性の材料で形成する際に硬化性材料に滑り剤を添加する方法である。
（Ａ部材）を硬化性材料で形成する際には、上記好ましい態様１の頁で述べた硬化性樹脂、重合開始剤、架橋剤を用いることができる。硬化樹脂のなかでも耐熱性、耐擦傷性、耐光黄変性などの点で、ウレタン（メタ）アクリレート化合物やエステル系（メタ）アクリレート化合物が好ましい。これら化合物は、特開２００９−４７８９９号公報の段落［００４２］〜［００７７］に記載されているものを用いることができる。（Ａ部材）に滑り剤を含有せしめる本態様においては、プリズム又はシリンドリカルレンズを形成する硬化性樹脂に対して、滑り剤の使用量は０．１〜１０質量％が好ましく、更に好ましくは０．３〜５質量％、最も好ましくは０．３〜３質量％である。
【０１２２】
本発明においては、（Ａ部材）及び／又は（Ｂ部材）に滑り剤含有層を形成した場合の各部材の好ましい表面形状の値や光学特性の値は、上記それぞれの部材で述べた値と同一の範囲である。
【０１２３】
なお、本実施形態においては面光源装置は光拡散シート１８を有する構成となっているが、本発明の面光源装置では光拡散シート１８は必須ではなく、光拡散シート１８は省略してもかまわない。
【０１２４】
［偏光板］
偏光膜（以下、偏光子とも言う）は、一般的に偏光膜保護フィルムに貼合されて、画像表示装置等、種々の用途に用いられる。本発明においては、画像表示装置の部品点数を減らして薄層化を図るために、偏光板保護フィルムとして（Ｂ部材）である凹部を有する光透過性基材を用いることが好ましい。
偏光膜と貼合する前に、偏光板保護フィルムの貼合面は、偏光膜と貼合する前に、表面処理してもよい。表面処理によって、偏光膜との接着性が改善される。表面処理の例には、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理（鹸化処理）及び紫外線照射処理等が含まれる。前記偏光板保護フィルムが、セルロースアシレートを主成分として含有する場合は、鹸化処理を施すことが特に好ましい。
【０１２５】
前記偏光子については特に制限はない。種々の偏光子を利用することができる。Ｏｐｔｉｖａ  Ｉｎｃ．に代表される塗布型偏光子、又はバインダーとヨウ素、若しくは二色性色素とからなる偏光子が好ましい。
前記偏光子の、偏光板保護フィルムを貼合する面と反対側の面にも、保護フィルムが貼合されているのが好ましい。該保護フィルムのポリマー材料の中でも、セルロースアシレートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリカーボネートフィルムが好ましい。
【０１２６】
本発明の光透過性基材（Ｂ部材）と、偏光膜とを貼合する際、接着剤を用いてもよく、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基による変性ポリビニルアルコールを含む）やホウ素化合物水溶液を接着剤として用いることができる。これらの中でも、ポリビニルアルコール系樹脂が好ましい。接着剤層の厚みは、乾燥後に０．０１〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５〜５μｍの範囲にあることが特に好ましい。
【０１２７】
本発明の偏光板は、光散乱性以外にも他の機能を有する層を更に有していてもよい。液晶セルの複屈折を補償するための光学補償層、反射防止層、防眩層、ハードコート層、帯電防止層等を有していてもよい。
【０１２８】
［光学補償フィルム］
偏光膜の２枚の保護フィルムのうち、少なくとも１枚が、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい態様である。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
【実施例】
【０１２９】
［集光シート（Ａ部材）の作製］
（プリズムシート（Ｐ−１），（Ｐ−２）の作製）
光出射面に断面二等辺三角形のプリズム体が配列されたプリズムシートをポリカーボネート樹脂の溶融押出成形により作製した。シートの厚さ（シートの裏面からプリズムの谷までの厚さ）１２５μｍ、プリズム頂角９０°、プリズム体のピッチ（Ｐａ）１１０μｍとしたものを（Ｐ−１）とした。（Ｐ−１）に対して、ピッチ（Ｐａ）を２００μｍに変更した試料（Ｐ−２）を同様にして作製した。
【０１３０】
（プリズムシート（Ｐ−１０１）〜（Ｐ−１０３）の作製）
厚さ８０μｍのポリエチレンテレフタレート上に表１に示す組成（質量部）の硬化性組成物を塗布し、型押し光硬化することでプリズムシート（Ｐ−１）と同じ表面形状・膜厚のプリズムシート（Ｐ−１０１）〜（Ｐ−１０３）を作製した。
【０１３１】
【表１】
0005478183.tif 000003
【０１３２】
以下に表中で使用した化合物を示す。
・ウレタンアクリレート（Ｃｐｄ−１）：特開２００９−４７８９９号公報の例示化合物（４）
・ポリブチレングリコールジメタアクリレート（Ｃｐｄ−２）：ブチレングリコールユニットの平均繰り返し度が５〜１０の混合物
・光重合開始剤（Ｉｒｇ１２７）：光重合開始剤イルガキュア１２７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製
・滑り剤（硬化性シリコーンＡ）：両末端メタアクリレート変性ジメチルシロキサンＦＭ−７７２５、平均分子量１００００、チッソ（株）製
・滑り剤（硬化性フルオロポリエーテル）：フッ素ポリエーテル含有多官能アクリレート、特開２００７−１１４７７２号公報の示化合物（Ｃ−３）
【０１３３】
［光透過性基材（Ｂ部材）の作製］
表２に示した組成（質量部）でドープを作製した。
【０１３４】
【表２】
0005478183.tif 000004
【０１３５】
使用した材料を以下に示す。
・セルローストリアセテートＡ：アセチル置換度２．９４、粘度平均重合度３００、６位のアセチル置換度は０．９４
・セルローストリアセテートＢ：アセチル置換度２．８６、粘度平均重合度３１０、６位のアセチル置換度は０．８９
・可塑剤：エタンジオール／アジピン酸（１／１モル比）との縮合物（数平均分子量１０００）
・溶媒：ジクロロメタン（誘電率９）、メタノール（誘電率３３）、及び水（誘電率７８）
なお、ドープの固形分濃度は１７質量％になるように調整した。ドープ試料００９は、ポリマーが溶解せず流延用のドープが形成できなかった。
【０１３６】
セルロースアシレート溶液を３０℃に加温し、流延ギーサー（特開平１１−３１４２３３号公報に記載）を通して１５℃に設定したバンド長６０ｍの鏡面ステンレス支持体上に流延した。流延スピードは５０ｍ／分、塗布幅は２００ｃｍとした。流延部全体の空間温度は、１５℃に設定した。そして、流延部の終点部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースアシレートフィルムをバンドから剥ぎ取り、４５℃の乾燥風を送風した。次に１１０℃で５分、更に１４０℃で１０分乾燥して、セルロースアシレートフィルムを得た。
表２のドープを組み合わせ表３に示した構成になるように流延し、光透過性基材（Ｆ−１）〜（Ｆー１１）を作製した。複数のドープを用いる場合には、フィードブロック法に準じて共流延を行った。また、複数層を共流延する際の基層とは、ステンレス支持体側を表す。
【０１３７】
［光透過性基材の評価］
得られた各光透過性基材フィルムの中央部の試料を三次元非接触表面形状計測システム（マイクロマップＭＭ５０００シリーズ；（株）菱化システム製）を用いて観察し、フィルム表面１ｍｍ2に存在するくぼみについて深さ、開口部長径、開口部短径、中心間隔、個数の評価を行った。結果を表３に合わせて示す。なお、得られた光透過性基材において、フィルム面に垂直な方向から観察した際の凹状のくぼみ開口部の形状は、円形状に近く、その円相当径（投影面積円相当径）は、約５〜１６μｍの範囲であった。同様に、凹状のくぼみのフィルム面に垂直な方向から観察した際のくぼみ底部の形状は、円形状に近く、その円相当径（投影面積円相当径）は、約３〜１０μｍの範囲であった。また、各光透過性基材における表３に記載した以外の基材の厚み方向断面の詳細は、くぼみ底部はくぼみ全体の横幅を１００％とすると６０〜７０％の幅で形成されており、フィルム表面に対する前記くぼみ底部の面の傾きは±２．５°以内であり、くぼみ底部からくぼみ端部に向かって、徐々に曲率半径が小さくなる形状であった。また、得られたフィルムの内部空隙率は、いずれも１％（体積比）以下であった。また本文記載の方法により求めたガラス転移温度以上での凹部くぼみの寸法変化率は、０．５％以下であった。
【０１３８】
【表３】
0005478183.tif 000005
【０１３９】
なお、上記表において、光透過性基材の光学特性（ヘイズ、全光透過率、平行透過率）は、ヘイズメーター（ＮＤＨ２０００；日本電色工業（株）製）により測定した。
また、ドープ試料Ｎｏ．００８を用いて光透過性基材（Ｆ−１）に準じて作製した基材は、Ｆ−１同様に表面に本願の凹部の形成が観察されなかった。
【０１４０】
［滑り剤含有層形成用塗布液の調製］
表４に示す組成（質量部）の滑り剤含有層用組成物Ｓ−２０１〜Ｓ−２０５を調製した。希釈溶媒として、メチルエチルケトンとメチルイソブチルケトンの１０：９０質量比の混合溶媒を用い、固形分濃度５質量％に溶解して塗布液とした。
【０１４１】
【表４】
0005478183.tif 000006
【０１４２】
使用した材料を以下に示す。
・ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物、日本化薬（株）製
・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物、日本化薬（株）製
・サイメル３０３：熱硬化性化合物、メチロール化メラミン、日本サイテックインダストリーズ（株）製
・硬化触媒：キャタリスト４０５０、アミンブロックトルエンスルホン酸、日本サイテックインダストリーズ（株）製
・滑り剤（硬化性シリコーンＡ）：両末端メタアクリレート変性ジメチルシロキサンＦＭ−７７２５、平均分子量１００００、チッソ（株）製
・滑り剤（硬化性シリコーンＢ）：アクリレート部位を分子内が複数個有するジメチルシロキサンユニット含有共重合体、平均分子量４５０００、特開２００８−１０６１９０号公報の例示共重合体Ｐ−７
・滑り剤（硬化性フルオロポリエーテル）：フッ素ポリエーテル含有多官能アクリレート、特開２００７−１１４７７２号公報の示化合物（Ｃ−３）
・滑り剤（硬化性シリコーンＡ）：両末端メタアクリレート変性ジメチルシロキサンＦＭ−７７２５、平均分子量１００００、チッソ（株）製
【０１４３】
［滑り剤含有層を有する光透過性基材の作製］
特開２００３−２１１０５２号公報の図１に記載されたスロットダイコーターを用いて、表３に示した光透過性基材（Ｆ−３）の凹部が形成された表面側に、上記表４の滑り剤含有層形成用塗布液を乾燥膜厚７０ｎｍになるように塗布した。塗布後３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、塗布層を硬化させた。硬化条件は、組成物Ｓ−２０１〜Ｓ−２０４を用いた場合には、窒素パージ下酸素濃度を０．１％以下にして１６０Ｗ／ｃｍの「空冷メタルハライドランプ」｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照射量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。
組成物Ｓ−２０５を用いた場合には、１１０℃で１０分間熱硬化させた。すべり剤含有層の膜厚は、塗布液が凹凸のない表面上に均一厚みの膜を形成したと仮定したときの計算値である。このすべり剤含有層の形成により、表３で評価した表面形状や光学特性の変化は実質認められなかった。
このようにして滑り剤層を有する光透過性基材（Ｆ−３／Ｓ−２０１）、（Ｆ−３／Ｓ−２０２）、（Ｆ−３／Ｓ−２０３）、（Ｆ−３／Ｓ−２０４）、（Ｆ−３／Ｓ−２０５）を作成した。
これら基材の表面を光電子スペクトル法（ＥＳＣＡ）で解析した結果、以下の値となり、滑り剤に起因するＳｉやＦの原子が表面に存在していることが確認された。
基材（Ｆ−３／Ｓ−２０１）：Ｓｉ／Ｃ＝０．４９（元素モル比）
基材（Ｆ−３／Ｓ−２０２）：Ｓｉ／Ｃ＝０．４８（元素モル比）
基材（Ｆ−３／Ｓ−２０３）：Ｓｉ／Ｃ＝０．４９（元素モル比）
基材（Ｆ−３／Ｓ−２０４）：Ｆ／Ｃ＝２．３（元素モル比）
基材（Ｆ−３／Ｓ−２０５）：Ｓｉ／Ｃ＝０．４９（元素モル比）
【０１４４】
［比較用凹凸部材（（比較用Ｈ−１）〜（比較用Ｈ−３））の作製］
表５に示す組成の光散乱層形成用塗布液を作製した。表中組成物の配合比は質量部を表す。凝集シリカのサイズは平均２次粒子サイズを表す。これら塗布液を８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）の上に塗布し、９０℃で４０秒間乾燥の後、更に窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ５．０μｍの光散乱性ハードコート層を形成した．ハードコート層表面は、凹凸形状を有していた。このようにして得られた凹凸部材のヘイズ及び表面形状（ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に基づく算術平均粗さＲａ及び平均山谷間隔Ｓｍ）を測定した結果を表５に合わせて示す。
【０１４５】
【表５】
0005478183.tif 000007
【０１４６】
なお、上記表におけるヘイズ、全光透過率、平行透過率は、ヘイズメーター（ＮＤＨ２０００；日本電色工業（株）製）により測定した。
また、平均山谷間隔Ｓｍは、ＪＩＳ−Ｂ０６０１（１９８２）に準じて、小坂研究所（株）製、サーフコーダー  ＭＯＤＥＬ  ＳＥ−３Ｆを用いて測定した。
【０１４７】
［液晶表示装置を用いた評価］
ＬＧ  Ｄｉｓｐｌａｙ社製ノートＰＣ（Ｒ７００−ＸＰ５０Ｋ、ＷＸＧＡ＋、画素数１４４０×９００、１７インチ）を分解し、バックライトと液晶パネルの間にある拡散シートを取り外し、更に液晶セルに貼られたバックライト側の偏光板の保護フィルムを剥がして、その代わりに（Ｂ部材）として以下の表５に示すフィルムを貼り付けた。また、バックライトユニット中の２枚のプリズムシートを以下の表６に示すプリズムシートに交換した。
【０１４８】
このように作製した液晶表示装置を用いて以下の評価を行った。
（１）正面白輝度
作製した液晶表示装置にビデオ信号ジェネレーター（ＶＧ−８４８；アストロデザイン（株）製）より信号を入力し、全面ベタ表示で２５６／２５６階調の白色表示とし、暗室下において液晶表示装置平面の法線（正面）方向から輝度計（ＢＭ５−Ａ；（株）トプコン製）にて輝度を測定した。画面の中央の点から３ｃｍの間隔で上下各１点、左右各１点の合計５点を測定し、平均値を算出した。バックライト側偏光板の表面に光散乱性を有さない基材（Ｆ−１）を使用した場合を基準として、以下の３段階で評価した。
◎：ほとんど低下していない（基準値の９８％以上１００％以下）
○：やや低下している（基準値の９５％以上９８％未満）
×：低下している（基準値の９５％未満）
【０１４９】
（２）輝度不均一性
モアレ評価と同様の方法で液晶表示装置を全面ベタ表示で１２８／２５６階調の灰色表示とし、暗室下において液晶表示装置平面の法線（正面）方向から輝度計（ＢＭ５−Ａ；（株）トプコン製）にて輝度を測定した。画面の中央の点から左右方向に０．５ｃｍ刻みで各８ｃｍを測定し、[隣接する３ｃｍ内での輝度の極大値と極小値の差]÷[隣接する３ｃｍ内での輝度の平均値]×１００を輝度不均一性（％）とした。この輝度不均一性は、３％以下であるとほとんどの人が不均一性を感じず、３％を超え６％以下では一部の人が不均一性を感じる程度であり、１０％を超えるとほとんどの人が不均一であると感じる指標である。商品的には１０％以下が必要である。
【０１５０】
（３）モアレ
作製した液晶表示装置にビデオ信号ジェネレーター（ＶＧ−８４８；アストロデザイン（株）製）より信号を入力し、全面ベタ表示で１２８／２５６階調の灰色表示とし、暗室下で様々な方向から画面を目視観察し、モアレ発生の有無を評価した。
◎：モアレが観察されない。
○：モアレが僅かに観察されるがほとんど気にならない。
▲（黒△）：モアレが観察され、やや気になる。
×：モアレが明瞭に観察される。
評価は４人で行い、それぞれの液晶表示装置に対して最高の評価をした１人と最低の評価をした１人の評価を除いた２人の評価を元に判定した。その２人の評価が異なるときは、両者の評価を併記した。例えば「○▲」は１人が○の評価で、一人が▲の評価である。モアレのレベルとしては、実用的には○以上が必要である。
【０１５１】
（４）耐擦傷性
（Ａ部材）をプリズム面が上になるように平滑ガラス面上に固定した。（Ｂ部材）を２０ｍｍ×２０ｍｍに切り取り、（Ｂ部材）の凹（凸）面とプリズム面が接するように配置した。（Ｂ部材）の上面を、底面２０ｍｍ×２０ｍｍ×高さ１０ｍｍに切り取った消しゴム（ＭＯＮＯ：商品名、（株）トンボ鉛筆製）を介して擦り試験機のヘッドに固定し、１００ｇ／ｃｍ2の荷重で垂直に上方から押し付けた。２５℃６０ＲＨ％の条件下においてストローク長３．５ｃｍ、擦り速度１．８ｃｍ／ｓにて２００往復させた。擦り方向は、プリズムの山頂が連なる方向に１００往復したのち、それと直交する山谷方向に１００往復した。擦り試験終了後に、（Ａ部材）の破損の程度を顕微鏡で観察した。破損の程度は、傷の大きさ及び頻度から６段階にランク付けした。
◎  ：非常に注意深く見ても、傷が見えない。
○  ：非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
○△：弱い傷が見える。
△  ：中程度の傷が見える。
×  ：大きい傷が見える。
××：大きい傷が見え、頻度も多い。
耐擦傷性試験後の（Ａ部材）を液晶表示装置に組み立てた場合に、×及び××の評価の部材を用いた場合には、白点状の故障として認識され、△の評価の部材を用いた場合には、若干の白点は認識できるものの実用に耐えうるレベルのものであった。
【０１５２】
以上の評価結果を表６に示す。
【０１５３】
【表６】
0005478183.tif 000008
【０１５４】
表６によれば、集光シートと、表面に凹部を有する光透過性基材とを組み合わせた本発明の面光源装置は、正面輝度が高く、輝度均一性に優れ、モアレの発生が抑制され、かつ耐擦傷性に優れることが分かる。
特に、ヘイズが６０％以上（Ｆ−２〜Ｆ−６，Ｆ−８，Ｆ−１１）の光透過性基材を用いた構成では、輝度均一性が高くモアレの発生が抑制されていることがわかる。
また、集光シート又は光透過性基材に滑り剤を含有する構成では、耐擦傷性に優れることが分かる。特に集光シートのプリズム間ピッチが広くなる（（Ｐ−１）→（Ｐ−２））と耐擦傷性が悪化する傾向にあるが、滑り剤を含有させることで十分なレベルにまで改良できることが分かる。
また、比較試料の硬化性樹脂中に微粒子を含有させて形成される光透過性部材は表面に凹凸を有しており、本発明の部材と同じヘイズであっても、正面輝度、モアレ、耐擦傷性の点で本発明の構成に劣るものであった（比較用Ｈ−１，２，３とＦ−６，１１，７を用いた構成の比較）。また、光透過性基材の表面が平坦で凹状のくぼみのない基材（Ｆ−１、Ｆ−９）を用いた場合では耐擦傷性が悪く、平坦部と凹部を組み合わせて有する本発明の形状が耐擦傷性の改良に有効であることを示している。
以上の実施例により、本発明の効果は、平坦部と凹部とからなる光透過性基材の特殊な形状によりもたらされていることが分かる。
【符号の説明】
【０１５５】
１０  画像表示装置
１２  光源
１８  光拡散シート
１４  集光シート
１４Ｐ  プリズム部（集光部）
１４Ｌ  シリンドリカルレンズ体（集光部）
２０，４０  光透過性基材
２１  凹部
２２  偏光膜
２３  平坦部
２４  保護フィルム
２６  下側偏光板
２８  上側偏光板
３０  液晶セル
３２  液晶パネル
４２  滑り剤を含有する層
【図１】
0005478183.tif 000009
【図２】
0005478183.tif 000010
【図３】
0005478183.tif 000011
【図４】
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【図５】
0005478183.tif 000013
【図６】
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【図７】
0005478183.tif 000015
【図８】
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