(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の公転軸線を中心に公転しながら、前記公転軸線と斜めに交差する自転軸線を中心に自転する容器ホルダに保持され、公転しながら自転することによって内部に収納された材料を撹拌脱泡する容器であって、
前記材料を収納するための内部空間を区画する内面を有し、
前記内面は、
円柱状の側面部と、
前記側面部の下端から延びる底部と、
を含み、
前記底部は、
平面視において前記側面部の中央を含む領域である中央領域と、
平面視において前記中央領域を囲むように延びて、前記内面において最も低い領域である最深領域と、
前記最深領域と前記側面部とをつなぐ第１傾斜領域と、
前記最深領域と前記中央領域とをつなぐ第２傾斜領域と、
を含み、
前記側面部の中心線を含む平面で切断した断面において、
前記第１傾斜領域及び前記第２傾斜領域は、前記下端を通る仮想円に沿って延びる曲線となるように構成され、
前記中央領域は、前記第２傾斜領域と滑らかにつながりつつ、前記仮想円から離反して延びる曲線となるように構成され、
前記中央領域の全長は、前記第１傾斜領域の全長より短く、且つ、前記第２傾斜領域の全長より短い容器。
【請求項２】
請求項１に記載の容器において、
前記仮想円の中心は、前記下端から延びる法線上に配置される容器。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の容器と、
前記容器ホルダと、
前記容器を保持した前記容器ホルダを、前記容器と一体的に挙動するように公転させながら自転させるための駆動機構と、
を含む撹拌脱泡装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、撹拌脱泡装置に使用する容器、及び、撹拌脱泡装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
材料が収納された容器を公転させながら自転させることによって、容器内で材料を撹拌脱泡する装置（自転公転方式の撹拌脱泡装置）が知られている（例えば特許文献１参照）。この撹拌脱泡装置では、容器を公転させながら自転させることによって容器内の材料に作用する遠心力を利用して、材料を撹拌する（混練する、混合する、分散させる）とともに、材料に内在する気泡を放出させて脱泡することができる。
【０００３】
そして、自転公転方式の撹拌脱泡装置の分野では、材料を均一に処理するために、容器の形状を調整する試みがなされてきた（特許文献２及び特許文献３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平10-43568号公報
【特許文献２】特開2001-353405号公報
【特許文献３】特開2007-151468号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
自転公転方式の撹拌脱泡装置の分野では、材料の撹拌処理時に、容器内で材料が移動しやすければ、材料の撹拌処理効率が高くなると考えられている。この点、特許文献２には、容器の底部の中央部を、容器内へ突出する凸状とする技術が開示されており、これにより、「容器中央部でのよどみが減少し、より均一な混合状態が得られる（第０００８段落参照）」としている。また、特許文献３の図７には、底面の中央部が球状面に突出された形状とし、その周囲に環状湾曲部が形成されている容器が開示されており、これにより、「加工対象物を移動し易くする（第００３８段落参照）」としている。
【０００６】
しかしながら、容器形状が、材料が移動しやすい形状となっていたとしても、容器の底部の一部に材料の流れが弱くなる領域が発生すると、当該領域で材料の撹拌むらが発生する恐れがある。
【０００７】
本発明の一つの態様は、自転公転方式の撹拌脱泡装置の分野において、撹拌脱泡性能を高めることが可能な容器、及び、撹拌脱泡装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
（１）本発明の一つの実施態様は、
所定の公転軸線を中心に公転しながら、前記公転軸線と斜めに交差する自転軸線を中心に自転する容器ホルダに保持され、公転しながら自転することによって内部に収納された材料を撹拌脱泡する容器であって、
前記材料を収納するための内部空間を区画する内面を有し、
前記内面は、
円柱状の側面部と、
前記側面部の下端から延びる底部と、
を含み、
前記底部は、
平面視において前記側面部の中央を含む領域である中央領域と、
平面視において前記中央領域を囲むように延びて、前記内面において最も低い領域である最深領域と、
前記最深領域と前記側面部とをつなぐ第１傾斜領域と、
前記最深領域と前記中央領域とをつなぐ第２傾斜領域と、
を含み、
前記側面部の中心線を含む平面で切断した断面において、
前記第１傾斜領域及び前記第２傾斜領域は、前記下端を通る仮想円に沿って延びる曲線となるように構成され、
前記中央領域は、前記第２傾斜領域と滑らかにつながりつつ、前記仮想円から離反して伸びる形状となるように構成され、
前記中央領域の全長は、前記第１傾斜領域の全長より短く、且つ、前記第２傾斜領域の全長より短い容器を提供する。
【０００９】
この実施態様によると、材料Ｍを撹拌脱泡処理する際に、材料Ｍの撹拌むらや、材料Ｍの成分の沈降が発生しにくくなる容器を提供することができる。
【００１０】
（２）この容器において、
前記仮想円の中心は、前記下端から延びる法線上に配置されてもよい。
【００１２】
（３）本発明の別の実施態様は、
上記何れかに記載の容器と、
前記容器ホルダと、
前記容器を保持した前記容器ホルダを、前記容器と一体的に挙動するように公転させながら自転させるための駆動機構と、
を含む撹拌脱泡装置を提供する。
【００１３】
この実施態様によると、材料Ｍを撹拌脱泡処理する際に、材料Ｍの撹拌むらや、材料Ｍの成分の沈降が発生しにくくなる撹拌脱泡装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施の形態に係る撹拌脱泡装置の構成を説明するための図。
【図２】本実施の形態に係る撹拌脱泡装置の構成を説明するための図。
【図３】本実施の形態に係る容器の構成を説明するための図。
【図４】本実施の形態に係る容器の構成を説明するための図。
【図５】本実施の形態に係る撹拌脱泡方法を説明するための図。
【図６】変形例に係る容器の構成を説明するための図。
【図７】参考例に係る容器の構成を説明するための図。
【図８】変形例に係る容器の構成を説明するための図。
【図９】参考例に係る容器の構成を説明するための図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明を適用した実施の形態について図面を参照して説明する。ただし、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではない。すなわち、以下の実施の形態で説明するすべての構成が本発明にとって必須であるとは限らない。また、本発明は、以下の内容を自由に組み合わせたものを含む。
【００１６】
（１）撹拌脱泡装置１の構成
以下、本実施の形態に係る撹拌脱泡装置１の構成について、図１及び図２を参照して説明する。
【００１７】
（a）筐体１０
撹拌脱泡装置１は、図１に示すように、筐体１０を有する。筐体１０内部には、後述する種々の機構を支持するための支持基板１２が、防振ばねを介して取り付けられている。また、支持基板１２には、後述する回転体２０の回転軸２２を保持するための保持部材１４が取り付けられている。筐体１０は、開閉可能に構成されたドアを有し、当該ドアを開けると容器ホルダ３０が露出して、容器ホルダ３０に容器１００を着脱することが可能になる。
【００１８】
（ｂ）回転体２０
撹拌脱泡装置１は、図１に示すように、回転体２０を含む。回転体２０は、支持基板１２（筐体１０）に対して回転可能に構成されている。具体的には、撹拌脱泡装置１では、回転体２０には回転軸２２が固定されており、回転軸２２が、ベアリングを介して保持部材１４に保持されている。これにより、回転体２０を、支持基板１２に対して回転可能とすることができる。なお、撹拌脱泡装置１では、回転体２０の回転軸線Ｌ１と、回転軸２２の延伸方向とが一致することになる。
【００１９】
（ｃ）容器ホルダ３０
撹拌脱泡装置１は、図１に示すように、容器ホルダ３０を含む。容器ホルダ３０は、後述する容器１００を保持する役割を果たす。容器ホルダ３０は、回転体２０の、回転軸線Ｌ１から所定間隔離れた位置に保持されている。これにより、容器ホルダ３０は、回転体２０の回転に伴って、回転軸線Ｌ１を中心に公転することとなる。
【００２０】
容器ホルダ３０は、回転体２０に対して自転（回転）可能に保持される。具体的には、撹拌脱泡装置１では、容器ホルダ３０には自転軸３２が固定されており、自転軸３２が、ベアリング３４を介して回転体２０（回転体２０に固定されたベアリング保持部）に保持された構成となっている。これにより、容器ホルダ３０が、回転体２０に対して自転可能となる。
【００２１】
なお、本実施の形態では、容器ホルダ３０は、その自転軸線Ｌ２が、回転軸線Ｌ１（公転軸線）と斜めに交差するように構成されている。具体的には、撹拌脱泡装置１は、自転軸線Ｌ２が回転軸線Ｌ１と４５度の角度で交差するように構成されている。ただし、回転軸線Ｌ１と自転軸線Ｌ２との交差角は４５度に限定されるものではなく、材料Ｍの性質に合わせて適宜設定することができる。
【００２２】
本実施の形態では、容器ホルダ３０は、上端に３個の凸部３６が取り付けられた構成となっている（図４（Ｂ）参照）。凸部３６によって、容器ホルダ３０の内部で容器１００が空回りすることを防止することができる。ただし、容器ホルダ３０は、凸部３６を有しない構成とすることも可能である（図示せず）。
【００２３】
本実施の形態では、容器ホルダ３０は、回転体２０に一つのみ取り付けられている。そして、本実施の形態では、回転体２０にはバランス錘３８が取り付けられている。バランス錘３８によって、回転体２０を安定して回転させることができる。なお、本実施の形態では、バランス錘３８は、回転軸線Ｌ１からの距離を変更することが可能に構成されている。ただし変形例として、撹拌脱泡装置を、一つの回転体２０に、複数の容器ホルダ３０が取り付けられた構成とすることも可能である（図示せず）。この場合、複数の容器ホルダは、回転軸線Ｌ１を中心とする点対称の配置となるように取り付けることができる。
【００２４】
（ｄ）駆動機構
撹拌脱泡装置１は、容器ホルダ３０（容器１００）を公転させながら自転させる駆動機構を含む。以下、駆動機構の構成について説明する。
【００２５】
駆動機構は、モータ４２を有する。モータ４２は、回転体２０（回転軸２２）を回転させる役割を果たす。本実施の形態では、回転体２０が回転すると、容器ホルダ３０（容器１００）が公転することになる。そのため、モータ４２を、容器ホルダ３０（容器１００）を公転させるための公転駆動機構と称することができる。なお、モータ４２は、インダクションモータやサーボモータ、あるいはＰＭモータなど、既に公知となっているいずれかのモータを利用することが可能である。
【００２６】
駆動機構は、また、自転力付与機構を有する。本実施の形態では、自転力付与機構は、容器ホルダ３０の公転に伴って（回転体２０の回転に伴って）、容器ホルダ３０に自転力を付与するように構成されている。以下、自転力付与機構について説明する。
【００２７】
自転力付与機構は、自転プーリ４６を有する。自転プーリ４６は容器ホルダ３０に固定されており、容器ホルダ３０と一体的に挙動する。なお、本実施の形態では、自転プーリ４６は、容器ホルダ３０の外周に設けられている。また、自転力付与機構は、自転力付与プーリ４８を有する。自転力付与プーリ４８は、保持部材１４の外周に固定されている。そして、自転力付与機構は、自転プーリ４６と自転力付与プーリ４８との間で動力を伝達する自転動力伝達機構５０を有する。本実施の形態では、自転動力伝達機構５０は、回転体２０に対して回転可能に構成された第１中継プーリ５２及び第２中継プーリ５４と、自転プーリ４６及び第１中継プーリ５２にかけまわされた第１ベルト５６と、自転力付与プーリ４８及び第２中継プーリ５４にかけまわされた第２ベルト５８とを含んで構成されている。
【００２８】
自転力付与機構によると、自転動力伝達機構５０によって、自転プーリ４６の挙動と、自転力付与プーリ４８の挙動とが関連付けられ、自転プーリ４６と自転力付与プーリ４８とが、遊星歯車機構と同様の挙動を示すことになる。そして、本実施の形態では、自転力付与プーリ４８が保持部材１４に固定されていることから、回転体２０を回転させると、自転プーリ４６は、回転軸線Ｌ１を中心に公転しながら、自転軸線Ｌ２を中心に自転することになる。すなわち撹拌脱泡装置１では、モータ４２で回転体２０を回転させると、自転プーリ４６は公転しながら自転し、自転プーリ４６に固定された容器ホルダ３０が、公転しながら自転することになる。
【００２９】
なお、変形例として、駆動機構を、自転力付与プーリ４８を保持部材１４に対して回転可能に構成し、自転力付与プーリ４８を所望の回転数で回転させるための調整機構をさらに備えた構成とすることも可能である（図示せず）。先に説明したとおり、駆動機構では、自転動力伝達機構５０が、自転プーリ４６の回転数と自転力付与プーリ４８の回転数とを関連付ける役割を果たしている。そのため、自転プーリ４６を公転させながら（回転体２０を回転させながら）、自転力付与プーリ４８の回転数を調整することにより、自転プーリ４６の自転数を制御することが可能になる。なお、この調整機構は、例えばモータやブレーキなど、既に公知となっているいずれかの機構によって実現することができる。
【００３０】
また、他の変形例として、動力伝達要素として、プーリ及びベルトにかえて、歯車を利用することも可能である（図示せず）。
【００３１】
（ｅ）制御手段６０
撹拌脱泡装置１は、図２に示す制御手段６０を含む。制御手段６０は、撹拌脱泡装置１の動作を統括制御する役割を果たす。以下、制御手段６０について説明する。図２は、制御手段６０について説明するための図である。
【００３２】
制御手段６０は、マイクロプロセッサ（ＣＰＵ６２）と、公転駆動機構（モータ４２）を制御する駆動制御部６４とを含む。そして、ＣＰＵ６２は、運転データ（例えば、材料Ｍの処理条件に合わせてユーザが入力したデータ）に基づいて駆動制御部６４に各種の信号を出力することにより、撹拌脱泡装置１（容器ホルダ３０を駆動させるための回転駆動機構）の動作を制御する。
【００３３】
先述したように、撹拌脱泡装置１では、容器ホルダ３０は回転体２０の回転に伴って公転することから、モータ４２の出力を制御することによって、容器ホルダ３０の公転数が制御される。すなわち、モータ４２の出力を制御することにより、容器ホルダ３０を所望の公転数で公転させることが可能になる。
【００３４】
例えばモータ４２としてインダクションモータを採用する場合には、駆動制御部６４は、インバータの動作を制御し、モータ４２に供給される交流電力の周波数を所定値とするためのインバータ制御部によって実現することができる。あるいは、モータ４２としてサーボモータを採用する場合には、駆動制御部６４は、専用のドライバ及びハードウェアによって実現され、モータ４２を所望の回転数で動作させるための各種処理を行う。また、駆動制御部６４を、回転センサ６６で検出された容器ホルダ３０の回転数情報を取得し（例えばＣＰＵ６２を介して取得し）、当該回転数情報に基づいて、回転体２０の回転数を調整するための種々の処理を行うように構成することも可能である。
【００３５】
そして、ＣＰＵ６２は、所定のタイミングで、駆動制御部６４に各種の信号（容器ホルダ３０の目標回転数データ等）を送信する処理を行う。これにより、容器ホルダ３０を所望の回転数で回転させることができる。
【００３６】
なお、本実施の形態では、ＣＰＵ６２は、回転センサ６６を介して、回転体２０の回転数情報（容器ホルダ３０の回転数情報）を取得することが可能に構成されている。そして、ＣＰＵ６２は、この回転数情報を、経過時間と関連付けて図示しない記憶部に格納する処理を行うことも可能である。また、ＣＰＵ６２を、回転体２０の回転数情報に基づいて容器ホルダ３０の自転数情報を演算処理するように構成することも可能である。すなわち、撹拌脱泡装置１では、自転力付与プーリ４８は回転不能に構成されているため、回転体２０の回転数が明らかになれば、動力伝達機構の各要素のサイズデータから、容器ホルダ３０の自転数を演算することが可能になる。
【００３７】
さらに、ＣＰＵ６２は、操作部６８から入力された動作データを受け付けて、図示しない記憶部に格納する処理や、表示部６９に各種情報（操作部６８から入力された動作データや、撹拌脱泡装置１の運転状況等）を表示させるための処理を行う。
【００３８】
（２）容器１００
次に、本実施の形態に適用可能な容器１００について、図３（Ａ）〜図４（Ｂ）を参照して説明する。ここで、図３（Ａ）は容器１００の側面図であり、図３（Ｂ）は図３（Ａ）のIIIB−IIIB線断面図であり、図３（Ｃ）は図３（Ａ）のIIIC−IIIC線断面図である。また、図４（Ａ）は容器１００が容器ホルダ３０に保持された状態の側面の一部拡大図であり、図４（Ｂ）は図４（Ａ）のIVB−IVB線断面図である。なお、容器１００は、公転しながら自転することによって、内部に収納された材料Ｍを撹拌脱泡する役割を果たす。
【００３９】
容器１００は、図３（Ｂ）に示すように、内面１１０を有する。内面１１０は、材料Ｍを収納するための内部空間Ａを区画する面である。そして、材料Ｍは、内部空間Ａ内に保持されて、内面１１０（その一部）に接触する。
【００４０】
内面１１０は、図３（Ｂ）及び図３（Ｃ）に示すように、側面部１２０を有する。側面部１２０は、円柱状の領域であって、内面１１０の上側に配置される領域である。側面部１２０は、その中心線１２０Ｌを含む平面で切断した断面において、直線状に延びる領域であるといえる（図３（Ｂ）参照）。
【００４１】
内面１１０は、図３（Ｂ）及び図３（Ｃ）に示すように、底部１３０を有する。底部１３０は、側面部１２０の下端から延びている。また、底部１３０は、平面視において、側面部１２０の内側に配置される。以下、底部１３０について説明する。
【００４２】
底部１３０は、図３（Ｂ）及び図３（Ｃ）に示すように、中央領域１４０を有する。中央領域１４０は、側面部１２０の中央に位置する領域である。本実施の形態では、中央領域１４０は、上方に向かって径が小さくなるように構成されている。また、本実施の形態では、中央領域１４０は、後述する第２傾斜領域１７０に滑らかにつながっている。
【００４３】
底部１３０は、図３（Ｂ）及び図３（Ｃ）に示すように、最深領域１５０を有する。最深領域１５０は、図３（Ｂ）に示すように、内面１１０のうち最も低い領域である。最深領域１５０は、平面視において、中央領域１４０を囲むように延びる領域である。
【００４４】
底部１３０は、図３（Ｂ）及び図３（Ｃ）に示すように、第１傾斜領域１６０及び第２傾斜領域１７０を有する。第１傾斜領域１６０は、最深領域１５０と側面部１２０とをつなぐ領域である。また、第２傾斜領域１７０は、最深領域１５０と底部１３０の中央領域１４０をつなぐ領域である。
【００４５】
本実施の形態では、第１傾斜領域１６０及び第２傾斜領域１７０は、図３（Ｂ）に示すように、中心線１２０Ｌを含む平面で切断した断面において、円Ｃ１に沿って延びる形状となっている。なお、本実施の形態では、円Ｃ１とは、側面部１２０の下端を通り、当該下端の法線上に中心が配置された円である。すなわち、円Ｃ１は、側面部１２０を接線とする円であり、このことから、側面部１２０と第１傾斜領域１６０は滑らかにつながることになる。また、本実施の形態では、円Ｃ１は、側面部１２０の直径の半分の長さを直径とする円である。そのため、最深領域１５０は、側面部１２０と中心線１２０Ｌの中間領域に配置されることになる。
【００４６】
容器１００は、図３（Ａ）及び図３（Ｃ）に示すように、空回り防止機構を有する。空回り防止機構は、容器１００が、容器ホルダ３０内で空回りすることを防止する役割を果たす。すなわち、空回り防止機構によって、容器１００は、容器ホルダ３０に保持されて、容器ホルダ３０と一体的に挙動することが可能になる。本実施の形態では、空回り防止機構は、容器１００の外周に間隔をあけて取り付けられた凹部１８２によって実現されている。すなわち本実施の形態では、図４（Ａ）及び図４（Ｂ）に示すように、凹部１８２に、容器ホルダ３０の凸部３６をはめ合わせることで、容器ホルダ３０内で容器１００が空回りすることを防止することが可能になる。
【００４７】
（ｃ）その他
容器１００は、図３（Ａ）及び図３（Ｂ）に示すように、蓋体１９０を取り付けることが可能な構成となっている。蓋体１９０は、内面１１０（側面部１２０）の上端をふさぎ、材料Ｍが内部空間Ａからこぼれ出ることを防止する役割を果たす。本実施の形態では、蓋体１９０は、内蓋１９２と、外蓋１９４とを含んで構成されている。
【００４８】
（３）材料Ｍ
本実施の形態に適用可能な材料Ｍは、流体として挙動するものであればよく、その組成や用途は特に限定されるものではない。材料Ｍとして、流体成分（樹脂等）のみを含む材料や、流体成分のほかに粒状成分（粉状成分）を含む材料などを適用することができる。材料Ｍとして、例えば、接着剤、シーラント剤、液晶材料、ＬＥＤの蛍光体と樹脂とを含む混合材料、半田ペースト、成型に利用される硬化性の樹脂材料、歯科用印象材料、歯科用セメント（穴埋め剤等）、液状の薬剤等の種々の材料を適用することができる。また、容器１００には、材料Ｍとともに、粒状（粉状）材料を粉砕するための粉砕用メディア（例えばジルコニアボール）を収納することも可能である。
【００４９】
（４）撹拌脱泡方法
次に、本実施の形態に係る材料Ｍの撹拌脱泡方法について、図５を参照して説明する。ここで、図５は、撹拌脱泡方法を説明するためのフローチャートである。
【００５０】
本実施の形態に係る撹拌脱泡方法は、図５に示すように、材料Ｍが収納された容器１００を容器ホルダ３０に保持させる工程（ステップＳ１１０）と、撹拌脱泡装置１を運転して容器ホルダ３０（容器１００）を公転させながら自転させる工程（ステップＳ１２０）とを含む。これにより、容器１００内で、材料Ｍを撹拌脱泡することができる。
【００５１】
（５）作用効果
以下、本実施の形態における容器１００及び撹拌脱泡装置１が奏する作用効果について説明する。
【００５２】
上述したとおり、容器１００は、第１傾斜領域１６０及び第２傾斜領域１７０が、中心線１２０Ｌを含む平面で切断した断面において、円Ｃ１に沿った形状となるように構成されている。この構成によると、底部１３０の中央に凸部（中央領域１４０及び第２傾斜領域１７０）を設けた場合でも、底部１３０を滑らかな面とすることができ、かつ、底部１３０（第１傾斜領域１６０及び第２傾斜領域１７０）の曲率を十分に小さくすることができる。そのため、容器１００を利用することにより、材料Ｍを撹拌脱泡処理する際に、底部１３０の中央に材料が停留する事態の発生を防止することができると共に、底部１３０に沿って材料Ｍを滑らかに移動させることができる。すなわち、容器１００によると、底部１３０上で、材料Ｍの流れが弱くなる領域が発生しにくくなる。このことから、容器１００を利用することにより、材料Ｍを撹拌脱泡処理する際に、材料Ｍの撹拌むらや、材料Ｍの成分（粒子成分）の沈降が発生しにくくなる。
【００５３】
また、容器１００は、側面部１２０と底部１３０（第１傾斜領域１６０）とが、滑らかにつながった形状となっている。そのため、側面部１２０と底部１３０との境界で、材料Ｍを滑らかに移動させることができ、側面部１２０と底部１３０との境界で、材料Ｍの撹拌むらが発生しにくくなる。
【００５４】
また、容器１００は、中央領域１４０と第２傾斜領域１７０とが、滑らかにつながった形状となっている。そのため、中央領域１４０と第２傾斜領域１７０との境界で、材料Ｍを滑らかに移動させることができ、中央領域１４０と第２傾斜領域１７０との境界で、材料Ｍの撹拌むらが発生しにくくなる。
【００５５】
また、容器１００は、中央領域１４０が、上方に向かって径が小さくなる形状となっている。そのため、中央領域１４０の先端の面積を小さくすることができ、当該先端への材料Ｍ（特に粒子成分）の沈降が発生しにくくなる。
【００５６】
（６）変形例
次に、本実施の形態の変形例について説明する。
【００５７】
以下、図６（Ａ）及び図６（Ｂ）を参照して、本実施の形態の一変形例としての容器２００について説明する。
【００５８】
容器２００は、図６（Ａ）に示すように、内面２１０を有する。内面２１０は、材料Ｍを収納するための内部空間を区画する面である。そして、材料Ｍは、内部空間に保持されて、内面２１０（その一部）に接触する。
【００５９】
内面２１０は、図６（Ａ）に示すように、側面部２２０を有する。側面部２２０は、円柱状の領域である。側面部２２０は、図６（Ａ）に示すように、テーパ形状となっている。詳しくは、側面部２２０は、テーパの付された円柱状に構成されており、側面部２２０の径は、側面部２２０の下方へ向かうほど狭くなる（図６（Ａ）参照）。すなわち、側面部２２０は、その法線が水平面よりも上方を向くことになる。
【００６０】
内面２１０は、図６（Ａ）に示すように、底部２３０を有する。底部２３０は、中央領域２４０と、最深領域２５０と、最深領域２５０と側面部２２０をつなぐ第１傾斜領域２６０と、最深領域２５０と中央領域２４０をつなぐ第２傾斜領域２７０とを含む。本実施の形態では、最深領域２５０は、側面部２２０とその中心線２２０Ｌの中間領域に配置されている。そして、本実施の形態では、第１傾斜領域２６０及び第２傾斜領域２７０は、円Ｃ２に沿って延びる形状となっている。ここで、円Ｃ２は、側面部２２０の下端を通り、当該下端から延びる法線上に中心が配置された円周である。また、円Ｃ２の直径は、側面部２２０の直径の半分よりも若干短くなっている。
【００６１】
そして、容器２００は、図６（Ｂ）に示すように、アダプタ３００を介して、容器ホルダに保持されるように構成されている。
【００６２】
容器２００は、上記の構成となっており、この構成によると、底部２３０の中央に凸部（中央領域２４０及び第２傾斜領域２７０）を設けた場合でも、底部２３０の全体を滑らかな面とすることができ、かつ、底部２３０（第１傾斜領域２６０及び第２傾斜領域２７０）の曲率を十分に小さくすることができる。そのため、容器２００を利用することにより、材料Ｍを撹拌脱泡処理する際に、材料Ｍの撹拌むらや、材料Ｍの成分（粒子成分）の沈降が発生しにくくなる。
【００６３】
なお、円Ｃ２の直径は、側面部２２０の直径の半分の長さの90パーセント程度（より好ましくは95パーセント程度）までであれば、最深領域２５０が側面部２２０と中心線２２０Ｌとの中間領域に配置され、上記効果を十分に発揮することが可能である。
【００６５】
さらに他の変形例として、図８に示すように、第１傾斜領域２６４及び第２傾斜領域２７４を、側面部２２２の中心線２２２Ｌを含む平面で切断した断面において、円Ｃ４に沿って延びる形状とすることも可能である。ここで、円Ｃ４は、側面部２２２及び中心線２２２Ｌに接する円である。この構成とした場合でも、材料Ｍを撹拌脱泡処理する際に、材料Ｍの撹拌むらや、材料Ｍの成分（粒子成分）の沈降が発生しにくくなる。
【００６６】
（７）参考例
図７に示すように、第１傾斜領域２６２及び第２傾斜領域２７２を、側面部の中心線を含む平面で切断した断面において、円Ｃ３に沿って延びる形状とすることも可能である。ここで、円Ｃ３の直径は、側面部の直径の半分の長さよりも若干長くなっている。円Ｃ３の直径が、側面部の直径の半分の長さの110パーセント程度（より好ましくは105パーセント程度）までであれば、上記効果を十分に発揮することが可能である。
あるいは、図９（Ａ）、図９（Ｂ）に示すように、容器を、中央領域２４２が、側面部２２４の中心線２２４Ｌからずれるように構成することも可能である。この構成とした場合でも、材料Ｍを撹拌脱泡処理する際に、材料Ｍの撹拌むらや、材料Ｍの成分（粒子成分）の沈降が発生しにくくなる。
【符号の説明】
【００６７】
１…撹拌脱泡装置、  １０…筐体、  １２…支持基板、  １４…保持部材、  ２０…回転体、  ２２…回転軸、  ３０…容器ホルダ、  ３２…自転軸、  ３４…ベアリング、  ３６…凸部、  ３８…バランス錘、  ４２…モータ、  ４６…自転プーリ、  ４８…自転力付与プーリ、  ５０…自転動力伝達機構、５２…第１中継プーリ、  ５４…第２中継プーリ、  ５６…第１ベルト、  ５８…第２ベルト、  ６０…制御手段、  ６２…ＣＰＵ、  ６４…駆動制御部、  ６６…回転センサ、  ６８…操作部、  ６９…表示部、  １００…容器、  １１０…内面、  １２０…側面部、  １２０Ｌ…中心線、  １３０…底部、  １４０…中央領域、  １５０…最深領域、  １６０…第１傾斜領域、  １７０…第２傾斜領域、  １８２…凹部、  １９０…蓋体、  １９２…内蓋、  １９４…外蓋、  ２００…収納容器、  ２１０…内面、  ２２０…側面部、  ２２０Ｌ…中心線、  ２２２…側面部、  ２２２Ｌ…中心線、  ２２４…側面部、  ２２４Ｌ…中心線、  ２３０…底部、  ２４０…中央領域、  ２４２…中央領域、  ２５０…最深領域、  ２６０…第１傾斜領域、  ２６２…第１傾斜領域、  ２６４…第１傾斜領域、  ２７０…第２傾斜領域、  ２７２…第２傾斜領域、  ２７４…第２傾斜領域、  ３００…アダプタ、  Ａ…内部空間、  Ｌ１…回転軸線、  Ｌ２…自転軸線、  Ｍ…材料
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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