(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
重畳する複数の被検査物に付着した異物を検査する異物検査装置であって、
前記複数の被検査物を照明する照明手段と、
前記照明手段により照明された前記異物から発生する散乱光を受光する受光手段と、
前記被検査物を前記被検査物の面に平行な方向又は前記被検査物の面の法線方向に駆動する第１駆動手段と、
前記照明手段、前記受光手段及び前記第１駆動手段を制御する制御手段と、
を備え、
前記第１駆動手段は、前記複数の被検査物の相対位置を変更するように、前記複数の被検査物のうち少なくとも１つを駆動し、
前記制御手段は、前記相対位置の変更前後における前記受光手段の受光結果に基づいて、前記複数の被検査物のいずれに前記異物が付着しているかを判定することを特徴とする異物検査装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記相対位置の変更前後における前記受光結果の変化を導出し、前記受光結果の変化に基づいて前記複数の被検査物のいずれに前記異物が付着しているかを判定し、
前記受光結果の変化は、前記異物の位置の変化、前記異物からの散乱光強度の変化及び前記異物の像の変化のいずれかであることを特徴とする請求項１に記載の異物検査装置。
【請求項３】
前記第１駆動手段は、前記面に平行な方向における前記相対位置を変更するように、前記複数の被検査物のうちの少なくとも１つを前記面に平行な方向に駆動することを特徴とする請求項１又は２に記載の異物検査装置。
【請求項４】
前記複数の被検査物は、パターンが形成された原版及び平面部材を含み、
前記第１駆動手段は、前記原版及び前記平面部材で構成された密閉空間内の気圧を制御して、前記原版及び前記平面部材のうち少なくとも１つを前記法線方向に駆動することを特徴とする請求項１又は２に記載の異物検査装置。
【請求項５】
前記平面部材は、前記原版よりも、前記密閉空間内の気圧の変化に対する変形敏感度が小さくなるような剛性を有することを特徴とする請求項４に記載の異物検査装置。
【請求項６】
前記法線方向に対する前記受光手段の光軸角度は、前記受光手段が前記照明手段の照明光の正反射光を受光せずに前記複数の被検査物に付着した前記異物からの散乱光のみを受光する範囲内で設定されることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の異物検査装置。
【請求項７】
前記照明手段及び前記受光手段を前記面に平行な方向に駆動する第２駆動手段と、
前記複数の被検査物のうちの少なくとも１つを保持して前記面に平行な方向に移動する保持手段と、を更に備えることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の異物検査装置。
【請求項８】
前記制御手段は、予め取得された前記複数の被検査物の面毎の感度曲線に基づいて、前記照明手段の照明光量を設定し、
前記感度曲線は、前記異物の大きさと、前記異物の散乱光強度又は前記異物の像の大きさとの関係を示す情報であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の異物検査装置。
【請求項９】
前記第１駆動手段は、前記原版及び前記平面部材のいずれに前記異物が付着しているかが判定される前に、前記原版のたわみを補正することを特徴とする請求項４に記載の異物検査装置。
【請求項１０】
前記制御手段は、前記相対位置の変更前後における前記受光手段の受光結果に基づいて、前記被検査物の検査領域における前記異物の付着位置を特定し、前記感度曲線に基づいて、前記異物の大きさを算出することを特徴とする請求項８に記載の異物検査装置。
【請求項１１】
前記制御手段は、前記複数の被検査物のいずれに前記異物が付着しているかを判定した結果、前記被検査物の検査領域における前記異物の付着位置を特定した結果、及び、前記異物の大きさを算出した結果のいずれかを出力することを特徴とする請求項１０に記載の異物検査装置。
【請求項１２】
前記制御手段は、前記複数の被検査物のいずれに前記異物が付着しているかを判定した結果、前記被検査物の検査領域における前記異物の付着位置を特定した結果、及び、前記異物の大きさを算出した結果のいずれかに基づいて、前記異物が付着している部分をクリーニングするかどうかを判断することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の異物検査装置。
【請求項１３】
パターンが形成された原版、及び、前記原版とともに密閉空間を構成する平面部材のうち少なくとも１つに付着した異物を検査する異物検査装置であって、
前記原版及び前記平面部材を照明する照明手段と、
前記異物から発生する散乱光を受光する受光手段と、
前記密閉空間を構成した状態を保ちながら、前記原版と前記平面部材の相対位置を変更するように、前記原版及び前記平面部材のうち少なくとも１つを駆動する駆動手段と、を備え、
前記相対位置の変更前後における前記受光手段の受光結果に基づいて、前記原版及び前記平面部材のいずれに前記異物が付着しているかを判定することを特徴とする異物検査装置。
【請求項１４】
原版に形成されたパターンを基板に露光する露光装置であって、
請求項４、５、９又は１３に記載の異物検査装置により、前記原版、及び、前記原版とともに密閉空間を構成する平面部材に付着した異物を検査することを特徴とする露光装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光された前記基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、異物検査装置、それを用いた露光装置及びデバイスの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、露光装置では、マスク（原版）の大型化に伴いマスクが自重でたわみ、それにより露光処理時の像性能が低下する恐れがある。そこで、マスクの自重たわみを低減させる装置として、特許文献１は、マスクの上側を平面ガラスで塞ぐことで気密室を構成してマスクの下面のたわみを検出し、検出結果に基づいて気密室の圧力を調整することにより、たわみを補正する投影露光装置を開示している。このような露光装置によれば、マスクの自重により発生したたわみに起因するパターンの横ずれや像面湾曲、又は、マスクの熱的変形に起因するディストーションや像面湾曲等が軽減されて、マスクに形成されたパターン像を良好に投影することができる。
【０００３】
しかしながら、特許文献１に示すような気密室を構成する平面ガラスの上下面やマスクの上面に異物が付着しても、像性能を低下させる恐れがある。そこで、異物検査装置により、平面ガラスの上下面やマスクの上面等に付着した異物を予め検出し、除去する必要がある。この場合、異物検査装置は、例えば、搬送装置によってマスクが保管場所からマスクステージまで搬送される搬送工程において、マスクと平面ガラスとが分離された状態でマスクと平面ガラスの異物検査を個別に実施する。図１５は、従来の異物検査装置の構成を示す概略図である。この異物検査装置４０は、光源４１と投光レンズ４２とを含む投光部と、受光レンズ４３と検出器４４とを含む受光部とを、それぞれ平面ガラス（又はマスク）４５の上下面側の双方に備える。そして、異物検査装置４０は、平面ガラス４５が搬送装置４６に保持された状態で、平面ガラス４５の上下各面の異物検査を実施する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−２１４７８０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
通常、上記のような異物検査を実施した後、マスクと平面ガラスとを合体させる。このとき、マスク及び平面ガラスを搬送する搬送装置から発生した塵や、マスクと平面ガラスとで構成される気密室内を減圧したとき、マスクと平面ガラスとの接触部分から発生した微細な金属片等が、マスクの上面や平面ガラスの下面に付着する場合がある。しかしながら、従来の異物検査装置は、マスクと平面ガラスとを合体させて、マスクのたわみを補正するたわみ補正機構が構成された後では、マスクや平面ガラス上の異物を検査することが困難である。また、従来の異物検査で可能だとしても、複数の検出器を設置する必要があり、合理的ではない。
【０００６】
本発明は、このような状況を鑑みてなされたものであり、１つの装置で異なる被検査物（マスクや平面ガラス等）の異物検査を実施した際に、検出した異物がいずれの被検査物に付着しているかを判定することができる異物検査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明は、重畳する複数の被検査物に付着した異物を検査する異物検査装置であって、複数の被検査物を照明する照明手段と、照明手段により照明された異物から発生する散乱光を受光する受光手段と、被検査物を被検査物の面に平行な方向又は被検査物の面の法線方向に駆動する第１駆動手段と、照明手段、受光手段及び第１駆動手段を制御する制御手段と、を備え、第１駆動手段は、複数の被検査物の相対位置を変更するように、複数の被検査物のうち少なくとも１つを駆動し、制御手段は、相対位置の変更前後における受光手段の受光結果に基づいて、複数の被検査物のいずれに異物が付着しているかを判定することを特徴とする。
【０００８】
また、本発明は、パターンが形成された原版、及び、原版とともに密閉空間を構成する平面部材のうち少なくとも１つに付着した異物を検査する異物検査装置であって、原版及び平面部材を照明する照明手段と、異物から発生する散乱光を受光する受光手段と、密閉空間を構成した状態を保ちながら、原版と平面部材の相対位置を変更するように、原版及び平面部材のうち少なくとも１つを駆動する駆動手段と、を備え、相対位置の変更前後における受光手段の受光結果に基づいて、原版及び平面部材のいずれに異物が付着しているかを判定することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、１つの装置で異なる被検査物の異物検査を実施した際に、検出した異物がいずれの被検査物に付着しているかを判定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の第１実施形態に係る異物検査装置の構成を示す概略図である。
【図２】第１検査工程の様子を示す概念図である。
【図３】第１実施形態に係る第３検査工程の様子を示す概念図である。
【図４】第１実施形態における異物検査の流れを示すフローチャートである。
【図５】各被検査面に対する感度曲線を示すグラフである。
【図６】マスクたわみ補正機構を利用した異物検査装置の構成を示す概略図である。
【図７】図６の異物検査装置による第３検査工程の様子を示す概念図である。
【図８】本発明の第２実施形態に係る異物検査装置の構成を示す概略図である。
【図９】第２実施形態に係る第３検査工程の様子を示す概念図である。
【図１０】受光角度θに関する概念図である。
【図１１】被検査物の変化量と受光角度θとの関係を示す概念図である。
【図１２】第２実施形態における異物検査の流れを示すフローチャートである。
【図１３】第３実施形態における異物検査の流れを示すフローチャートである。
【図１４】本発明の実施形態に係る露光装置の構成を示す概略図である。
【図１５】従来の異物検査装置の構成を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明を実施するための形態について図面等を参照して説明する。
【００１２】
（第１実施形態）
まず、本発明の実施形態に係る異物検査装置の構成について説明する。図１は、異物検査装置の構成を示す概略図である。以下、異物検査装置は、液晶表示装置等に使用されるガラス基板に対してパターンを投影露光するために採用される光透過性のマスク（原版）２、及び該マスク２の自重たわみを低減させるための平面ガラス（平面部材）３に付着した異物を検査するものとする。また、被検査物であるマスク２と平面ガラス３とは、従来と同様に予め重畳させて外周部で張り合わされ、マスク２に接して気密室（密閉空間）を構成している。また、異物検査装置１は、投影露光を実施する不図示の露光装置の露光処理部近傍、即ち、露光処理部に構成されるマスクステージ（保持手段）４の駆動範囲内に設置される。この異物検査装置１は、マスクステージ４の上部（露光処理時の投影光照射側）に位置するように配置される検出部５と、マスク２及び平面ガラス３の周囲に位置するように配置される第１駆動機構６とを備える。
【００１３】
検出部５は、マスク２及び平面ガラス３の表面上に付着した異物を検出する検出手段である。この検出部５は、マスク２及び平面ガラス３に照明光を照射する照明部（照明手段）７と、照射光によりマスク２及び平面ガラス３の表面上の異物から生じる散乱光の強度を検出する受光部（受光手段）８とを備える。更に、検出部５は、該検出部５本体をマスク２（平面ガラス３）の面方向に移動可能とする第２駆動機構（第２駆動手段）９を備える。照明部７は、不図示であるが、内部に、検査光となるレーザー等の光源と、照明光を必要な検査面（領域）に照明する投光レンズとを含む。一方、受光部８は、散乱光を受光する受光レンズ１０と、散乱光の強度を検出する検出器１１とを含む。
【００１４】
第１駆動機構６は、マスク２と平面ガラス３の間に気密室を構成した状態を保ちながらマスク２と平面ガラス３のうち少なくとも１つを面方向で個別に駆動（微小駆動）させ、相対位置を変更可能とする第１駆動手段（駆動手段）である。この第１駆動機構６は、マスク２及び平面ガラス３の外周部に位置し、マスク２及び平面ガラス３をそれぞれ個別に微小駆動する駆動部１３と、該駆動部１３を制御する駆動制御部１４とを備える。なお、駆動部１３として、各種モーターやエアシリンダー等が採用可能であるが、本実施形態では、異物の位置ズレを認識できる程度に駆動可能であれば、特に限定しない。
【００１５】
また、図１に示すように、異物検査装置１による異物検査時には、マスク２（平面ガラス３）は、露光処理用のマスクステージ４に載置されている。このマスクステージ４は、マスク２を保持及び固定するマスクホルダー１５と、該マスクステージ４を水平移動可能とするステージ駆動部４ａとを備える。
【００１６】
更に、異物検査装置１は、該異物検査装置１の各構成要素の動作を制御し、異物の有無や付着位置の判断等の処理を行う制御部（制御手段）１２を備える。具体的には、制御部１２は、第２駆動機構９又はステージ駆動部４ａの駆動制御、第１駆動機構６の微小駆動制御、及び検出器１１からの検出結果に基づく異物に関する各種情報の判定及び算出等を実施する。この制御部１２は、上記制御を含む後述の異物検査を、プログラム、若しくはシーケンスの形態で実施するものであり、磁気記憶装置やメモリー等で構成される記憶装置を備えたコンピュータ、若しくはシーケンサ等で構成される。なお、制御部１２は、図１に示すように異物検査装置１の内部に構成される異物検査専用の制御装置としても良いし、若しくは異物検査装置１が設置される露光装置等の本体と一体で構成しても良い。
【００１７】
次に、異物検査装置１による異物検査の概念について説明する。まず、制御部１２は、検出部５に構成された第２駆動機構９、又はマスクステージ４に構成されたステージ駆動部４ａを駆動させることにより、マスク２及び平面ガラス３の表面に付着した異物を検査する（第１検査工程）。このとき、検査の対象となる面（被検査面）は、平面ガラス３の上面（第１面）Ｐ１、該上面の反対側である平面ガラス３の下面（第２面）Ｐ２、及び、マスク２の上面（第３面）Ｐ３である。図２は、被検査面に対する第１検査工程の様子を示す概念図である。図２（ａ）〜図２（ｃ）に示すように、第１〜第３面のいずれかに異物が付着している場合には、検出器１１が異物からの散乱光の強度を同時に検出することで、制御部１２は、その強度から異物の付着の有無を判断し、かつ、異物の付着位置を記憶する。次に、制御部１２は、第１駆動機構６によりマスク２又は平面ガラス３のいずれか一方を面方向に微小移動させ、検査部４に再度、異物検査を実施させる（第２検査工程）。次に、制御部１２は、第１検査工程と第２検査工程との検査結果、即ち、微小駆動前後（駆動前後）の検査結果を比較し変化を導出することで、付着位置が変化した異物を微小駆動させた被検査物上に存在する異物と判定する（第３検査工程）。図３は、第３検査工程の様子を示す概念図である。図３において、例えば、第２検査工程において平面ガラス３のみをＹ方向に微小駆動させた場合を想定する。このとき、微小駆動前後では、平面ガラス３上に存在する３個の異物の検出位置は、第１検査工程による検出位置（Ａ〜Ｃ）から、第２検査工程による検出位置（Ａ´〜Ｃ´）へずれる。これに対して、マスク２の上面に存在する２個の異物の検出位置（Ｄ、Ｅ）は、微小駆動前後では、ずれない。
【００１８】
次に、上記の異物検査の概念に基づく、本実施形態の異物検査装置１の作用について説明する。図４は、本実施形態の異物検査装置１による異物検査の流れを示すフローチャートである。まず、以後の検査工程にて参照するための、光源の適正光量の決定と、被検査面毎の感度曲線の作成とを実施する（ステップＳ１０１）。この場合、異物検査装置１は、例えば、平面ガラス３の上下面、及びマスク２の上面に、大きさが既知の異物を配置し、実際に必要な検査領域を予め検査する。図５は、ステップＳ１０１にて作成される感度曲線の一例を示すグラフである。図５に示すように、大きさの異なる異物を被検査面のそれぞれに配置し、異物検査装置１は、その都度異物を測定することで、予め検出器１１による画素数等に基づいて異物の散乱光強度や検出像の大きさ等のデータを取得し、制御部１２内の記憶装置に記憶する。なお、本実施形態では、平面ガラス３の上下面のいずれの面に異物が付着しているかの付着面判定は、実施しない。したがって、図５に示す感度曲線では、平面ガラス３の上下面の曲線は、共通となる。
【００１９】
次に、制御部１２は、ステップＳ１０１にて取得した感度曲線に基づいて照明部７の光量を設定し、被検査物の所望の検査領域に対して上記第１検査工程を実施する（ステップＳ１０２）。ここで、制御部１２は、被検査物であるマスク２又は平面ガラス３のいずれかの表面上に異物が存在するかどうかを判断し、異物が存在していると判断した場合は（ＹＥＳ）、ステップＳ１０３に移行する。次に、制御部１２は、上記第２検査工程を実施する（ステップＳ１０３）。この場合、ステップＳ１０３における第２駆動機構９又はステージ駆動部４ａの駆動方向は、ステップＳ１０２における第２駆動機構９又はステージ駆動部４ａの駆動方向に対して逆方向とするのが効率的である。次に、制御部１２は、ステップＳ１０２の第１検査工程とステップＳ１０３の第２検査工程との検査結果に基づいて上記第３検査工程を実施し、異物がマスク２と平面ガラス３とのいずれに付着しているかを判定する（ステップＳ１０４）。次に、制御部１２は、ステップＳ１０２の第１検査工程とステップＳ１０３の第２検査工程との結果に基づいて、検査領域内の異物の位置を特定する（第４検査工程：ステップＳ１０５）。次に、制御部１２は、ステップＳ１０１にて取得した感度曲線に基づいて、異物の大きさを算出する（第５検査工程：ステップＳ１０６）。そして、制御部１２は、ステップＳ１０４〜Ｓ１０６での検査結果を、表示画面等に対して出力し（ステップＳ１０７）、得られた検査結果に基づいて、異物の付着部分をクリーニングするかどうかを判断する（ステップＳ１０８）。なお、ステップＳ１０２において、制御部１２が、被検査物の表面上に異物が存在していないと判断した場合は（ＮＯ）、そのまま本異物検査を終了する。
【００２０】
以上のように、本発明によれば、異物検査装置１は、１つの装置で、重畳した複数の光透過性の部材で構成される被検査物の表面上に付着した異物の、有無、付着面判別を含む付着位置、及び大きさをそれぞれ検査することができる。
【００２１】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る異物検査装置について説明する。第１実施形態の異物検査装置１は、第２検査工程にて、第１駆動機構６を利用してマスク２又は平面ガラス３のどちらか一方を面方向に微小駆動させる。これに対して、本実施形態の異物検査装置は、第１駆動機構に対応するマスクたわみ補正機構（たわみ補正機構）を利用して、マスク２及び平面ガラス３をそれぞれの面に直交する方向に微小駆動させる。図６は、マスク２と平面ガラス３とによって囲まれた気密室内の気圧を制御し、外気圧差を利用して微小駆動させる従来のたわみ補正機構の構成を示す概略図である。なお、図６において、図１に示す異物検査装置１の構成と同一構成のものには同一の符号を付し、説明を省略する。また、たわみ補正機構２０は、気密室２１内の気圧を制御することによりマスク２のたわみ量を補正するたわみ補正手段であり、配管２２を介して気密室２１に連通した気圧制御部２３を備える。ここで、気圧制御部２３が、図６（ａ）に示す気密室２１内の気圧制御前の状態から気圧制御を実施すると、図６（ｂ）に示すように、マスク２及び平面ガラス３の両方でたわみが発生し、それぞれの面内でも場所により変化量が異なる。図７は、図３に対応し、図６（ｂ）に示す状態で異物検査を実施した場合の異物の検出位置ずれを示す概念図である。このように、従来のたわみ補正機構２０をそのまま利用して、上記第２検査工程のような異物検査を実施すると、図７に示すように、検出された異物の全ての検出位置がずれ、制御部１２は、異物が付着している被検査物を判別することができない。
【００２２】
そこで、本実施形態では、第１実施形態と同様に、１つの異物検査装置でマスク２と平面ガラス３とのいずれに異物が付着しているかを判別可能にするため、平面ガラス３の構造を、マスク２と比較して気圧変化に対する変形敏感度が十分に小さいものとする。図８は、本実施形態に係る異物検査装置３０の構成を示す概略図である。ここで、平面ガラス３の変形敏感度を小さくする方法としては、例えば、図８に示すように、マスク２の面厚ｄ１に対して平面ガラス３の面厚ｄ２を大きくし、剛性を付けることが考えられる。これにより、図８（ａ）に示すように、気密室２１内の気圧が高くなる場合でも、更に、図８（ｂ）に示すように、気密室２１内の気圧が低くなる場合でも、平面ガラス３の変形度が無視できる。図９は、図７に対応し、図８に示す状態で異物検査を実施した場合の異物の検出位置ずれを示す概念図である。このように、従来のたわみ補正機構２０を利用しつつ、上記第２検査工程のような異物検査を実施すると、図９に示すように、検出された異物の検出位置は、被検査物により異なるので、制御部１２は、異物が付着している被検査物を判別することができる。
【００２３】
ここで、いずれの被検査物に異物が付着しているかを判別する精度の向上を考慮する。例えば、この場合、被検査物の法線方向の変化に対する異物の検出位置変化の敏感度を上げることが望ましい。図１０は、被検査物からの照明光の正反射光（屈折光）と、被検査物の法線に対する受光部８の光軸角度（受光角度θ）との関係を示す概念図である。図１０に示すように、異物の検出位置変化の敏感度を上げるためには、受光角度θを、照明光の正反射光を受光せず、かつ、マスク２及び平面ガラス３上の異物からの散乱光のみを受光する範囲内で、大きく設定することが望ましい。更に、この場合、気圧補正量の適正化も重要である。図１１は、被検査物であるマスク２の変化量（気圧補正量）と受光角度θとの関係を示す概念図である。図１１において、気圧補正によるマスク２の法線方向の変化をΔＺ、法線方向に対する受光角度をθ１、θ２（θ１＜θ２）、及び気圧補正前後の異物の検出位置変化をそれぞれΔＰ１、ΔＰ２と定義する。ここで、検出位置変化ΔＰは、ΔＰ＝ΔＺ×ｔａｎθと表される。このとき、例えば、ΔＺ＝５００μｍ、θ１＝１５°、θ２＝３０°とすると、ΔＰ１＝１３４μｍ、ΔＰ２＝２８９μｍとなる。即ち、本実施形態では、受光角度θの設定の適正化に加えて、気圧補正量（ΔＺ）を大きくすることが望ましい。なお、これらの条件は、受光部８の光軸と各被検査物との交点が、照明部７の照明領域内にあることが前提である。
【００２４】
次に、本実施形態の異物検査装置３０の作用について説明する。図１２は、本実施形態の異物検査装置３０による異物検査の流れを示すフローチャートである。なお、図１２に示す異物検査において、図４に示す第１実施形態の異物検査と同様のステップには同様の番号を付し、説明を省略する。即ち、本実施形態では、第１実施形態における第２検査工程（ステップＳ１０３）に対応したステップが異なる。具体的には、本実施形態の第２検査工程（ステップＳ２０３）では、上述の通り、制御部１２は、マスクたわみ補正機構２０により、気密室２１内の気圧を加減してマスク２を法線方向に微小駆動させ、検査部４に再度、異物検査を実施させる。これにより、第１実施形態と同様の効果を奏する。
【００２５】
（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態に係る異物検査装置について説明する。本実施形態の特徴は、第２実施形態の異物検査装置３０を利用し、第２実施形態に示す異物検査と同時に、マスク２のたわみ補正を実施する点にある。図１３は、本実施形態の異物検査の流れを示すフローチャートである。なお、図１３に示す異物検査において、図４に示す第１実施形態の異物検査、及び図１２に示す第２実施形態の異物検査と同様のステップには同様の番号を付し、説明を省略する。まず、ステップＳ１０１に対応したステップＳ３０１の終了後、制御部１２は、ステップＳ１０２と同様の第１検査工程を実施する（ステップＳ３０２Ａ）。同時に、制御部１２は、たわみ補正機構２０により、マスク２のたわみ量の計測を実施する（ステップＳ３０２Ｂ）。次に、制御部１２は、第２実施形態のステップＳ２０３と同様の第２検査工程を実施する（ステップＳ３０３）。このとき、制御部１２は、たわみ補正機構２０によりマスク２のたわみ量の計測を再度実施する。次に、制御部１２は、たわみ補正機構２０による駆動レンジが終了したかどうかを確認し（ステップＳ３０４）、終了したと判断した場合は（ＹＥＳ）、マスク２のたわみ量が規格内となる気圧を決定する（ステップＳ３０５）。一方、ステップＳ３０４にて、制御部１２が駆動レンジは終了していないと判断した場合は（ＮＯ）、ステップＳ３０３に戻り、同様の処理を繰り返す。ステップＳ３０５の終了後のステップＳ３０６〜Ｓ３１０は、それぞれ図４に示す第１実施形態のステップＳ１０４〜Ｓ１０８と同一である。このように、本実施形態によれば、異物検査装置３０による異物検査と、たわみ補正機構２０によるマスク２のたわみ補正とを同時に実施するので、第１実施形態と同様の効果を奏すると共に、処理時間を短縮できる。
【００２６】
（露光装置）
次に、本発明の異物検査装置を採用した露光装置について説明する。図１４は、本実施形態に係る露光装置の構成を示す概略図である。なお、本実施形態では、ガラス基板に対する反射型投影光学系を用いたプロジェクション方式の露光装置を採用するものとして説明する。露光装置９０は、マスクに形成されたパターン（例えば、ＴＦＴ回路）を、感光剤が塗布された基板Ｐ上へ投影転写するものである。この露光装置９０は、光源９１からの光を導入する照明光学系９２と、該照明光学系９２からの光をマスク上に導く結像光学系９３と、マスクを載置するマスクステージ９４と、投影光学系９５と、基板を載置する基板ステージ９６とを備える。この場合、マスクは、上記実施形態で示す平面ガラス３を含むマスク２に相当する。この露光装置９０において、マスクステージ９４は、マスクを載置し保持しつつ、ＸＹ方向に移動可能なステージ装置であり、上記実施形態に示すマスクステージ４に相当する。投影光学系９５は、該投影光学系９５の内部に設置された反射鏡９７で偏光特性を変化させつつ、マスクの照射領域に描画されたパターン像を基板上に結像させるものである。基板ステージ９６は、基板を載置し保持しつつ、ＸＹＺの３次元方向に移動可能なステージ装置である。更に、露光装置９０の近傍には、上記実施形態に係る異物検査装置１（３０）が配置される。本実施形態の露光装置９０によれば、マスク（マスク２及び平面ガラス３）に付着した異物を効率良く検出することができるので、良好な精度のデバイスを製造できると共に、処理時間を短縮できる。
【００２７】
（デバイスの製造方法）
次に、本発明の一実施形態のデバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイス等）の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）と、パッケージング工程（封入）を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
【００２８】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【００２９】
例えば、上記実施形態では、第２検査工程において異物の検出位置のずれのみに着目したが、本発明はこれに限定されない。例えば、制御部１２は、異物からの散乱光強度、又は異物検出像の形や大きさ等の見えの変化により、微小駆動させた被検査物上の異物を判定しても良い。これにより、異物の判別精度を更に上げることが可能となる。
【符号の説明】
【００３０】
１    異物検査装置
２    マスク
３    平面ガラス
６    第１駆動機構
７    照明部
８    受光部
１２  制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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