(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（I）
【化１】
0005638066.tif 000029
［式中、
Ｂは、置換もしくは非置換の２−（２―ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール基であり、
ｎは、３〜２０の範囲内の整数であり、
Ａは、ｎ価の有機基であり、
Ａは、
一般式（ＩＩＩ）
【化２】
0005638066.tif 000030
のｎ価の有機基又は一般式（ＩＩＩｄ）
【化３】
0005638066.tif 000031
の３価の有機基に相応し、
ｑは、０〜１０の範囲内の整数であり、
Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53は互いに独立にＣ1〜Ｃ20−アルキレンであり、
Ｒ76は、Ｈ、アリール、Ｃ1〜Ｃ30−アルキルであり、
Ｒ77は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキシであり、
Ｒ78は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキシであり、
その際、*はベンゾトリアゾール誘導体の式（ＩＩＩ）のｎ価の有機基への結合又は式（ＩＩＩｄ）の３価の有機基への結合を表す］のベンゾトリアゾール誘導体の、無生物有機材料におけるＵＶ吸収剤又は安定剤としての使用。
【請求項２】
一般式（Ｉａ）
【化４】
0005638066.tif 000032
［式中、ｎは、３〜２０の範囲内の整数であり、
Ｒ1は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、アリールアルキル、Ｃ5〜Ｃ20−アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ3〜Ｃ15−シクロアルキルであり、
Ｒ3は、Ｈ、ハロゲン、ＣＦ3、ＣＯＯＲ4であり、
Ｒ4は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルであり、
Ｒ2は、単結合、Ｏ、ＮＲ7、又は一般式（ＩＩａ）
【化５】
0005638066.tif 000033
（式中、ｍは０〜４の範囲内の整数、
ｐは０又は１、
Ｒ5は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、
Ｒ6は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｘは、Ｏ、ＮＲ7であり、
Ｒ7はＨ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルである）
の基である］
のベンゾトリアゾール誘導体が使用される、請求項１に記載の使用。
【請求項３】
一般式（Ｉｂ）
【化６】
0005638066.tif 000034
［式中、Ｒ11は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、アリールアルキル、Ｃ5〜Ｃ20−アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ3〜Ｃ15−シクロアルキルであり、
Ｒ13は、Ｈ、ハロゲン、ＣＦ3、ＣＯＯＲ14であり、
Ｒ14は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルであり、
Ｒ12は単結合、Ｏ、ＮＲ7、又は請求項２に記載の一般式（ＩＩａ）の基である］
のベンゾトリアゾール誘導体が使用される、請求項１に記載の使用。
【請求項４】
一般式（Ｉｃ）
【化７】
0005638066.tif 000035
［式中、Ｒ21は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、アリールアルキル、Ｃ5〜Ｃ20−アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ3〜Ｃ15−シクロアルキルであり、
Ｒ22は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、ＣＯＯＲ24であり、
Ｒ24は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルであり、
Ｒ23は単結合、Ｏ、ＮＲ7、又は請求項２に記載の一般式（ＩＩａ）の基である］
のベンゾトリアゾール誘導体が使用される、請求項１に記載の使用。
【請求項５】
一般式（Ｉ）、（Ｉａ）又は（Ｉｂ）のベンゾトリアゾール誘導体の分子量は、１１００ｇ／ｍｏｌ〜５０００ｇ／ｍｏｌである、請求項１から３までのいずれか１項に記載の使用。
【請求項６】
プラスチック又はワックスにおけるＵＶ吸収剤としての、請求項１から５までのいずれか１項に記載のベンゾトリアゾール誘導体の使用。
【請求項７】
プラスチック成形品におけるＵＶ吸収剤としての、請求項１から５までのいずれか１項に記載のベンゾトリアゾール誘導体の使用。
【請求項８】
織物におけるＵＶ吸収剤としての、請求項１から５までのいずれか１項に記載のベンゾトリアゾール誘導体の使用。
【請求項９】
化粧品調製物におけるＵＶ吸収剤としての、請求項１から５までのいずれか１項に記載のベンゾトリアゾール誘導体の使用。
【請求項１０】
プラスチック用の光保護剤及び安定剤としての、請求項１から５までのいずれか１項に記載のベンゾトリアゾール誘導体の使用。
【請求項１１】
光の作用に対して、場合によりプラスチック上の酸素の作用との関連でプラスチックを安定化する方法であって、該方法はこのために請求項１から５までのいずれか１項に記載のベンゾトリアゾール誘導体を使用することを特徴とする前記方法。
【請求項１２】
請求項１から５までのいずれか１項に記載のベンゾトリアゾール誘導体を、無生物有機材料の量に対して０．０１〜１０質量％含有している、光、酸素及び熱の作用に対して安定化された無生物有機材料。
【請求項１３】
Ａは式（ＩＩＩ）のｎ価の有機基であり、ｎは３〜２０の範囲内からの整数である、請求項１に記載のベンゾトリアゾール誘導体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定のベンゾトリアゾール誘導体のＵＶ吸収剤としての使用及び無生物有機材料を安定化するための使用に関する。更に本発明は特定のベンゾトリゾール誘導体の使用下に光の作用から無生物有機材料、特にプラスチックを安定化する方法にも関する。本発明の更なる対象は、特定のベンゾチルアゾール誘導体及び特定のベンゾトリアゾール誘導体を含んでいる無生物有機材料である。
【０００２】
本発明の更なる実施態様は、請求項、説明及び実施例から引用することができる。本発明の対象の上記ならびに以下に説明する特徴は、それぞれの場合において具体的に記載した組合せでだけではなく、本発明の範囲から逸れることなく他の組合せでも使用できると解釈される。本発明による対象の全ての特徴が有利もしくは極めて有利な意味を有する実施態様は有利であるか又は極めて有利である。
【０００３】
ベンゾトリアゾール誘導体は、光安定剤又はＵＶ吸収剤として、例えば、プラスチック、塗料、インク又は化粧品における用途で従来技術から当業者に公知である。しかし、これらのベンゾトリアゾール誘導体はしばしば１０００ｇ／ｍｏｌを著しく下回る分子量を有する低分子化合物である。
【０００４】
ＥＰ０２８０６５０Ａ１には、インクジェット印刷用の記録材料の光保護剤としての特定のベンゾトリアゾール誘導体が記載されている。この明細書で記載されている高分子量のベンゾトリアゾールは、多くのベンゾトリアゾール基を有することができ、それにより１０００ｇ／ｍｏｌを上回る分子量を達成することができる。これらの高分子量のベンゾトリアゾールは、油中水エマルション中で高い親和性と分散性により特徴付けられ、よってＥＰ０２８０６５０Ａ１の教示に相応して水性系及びインクで使用される。
【０００５】
ＥＰ００５７１６０Ａ１には、２−（２−ヒドロキシフェニル）−ベンゾチルアゾール、そのＵＶ吸収剤としての使用及びその製法が記載されている。ＵＶ吸収剤は、特に塗料及び光材料の安定化に使用される。１個又は２個のベンゾトリアゾール基及び一般に１０００g／ｍｏｌ未満の分子量を有する誘導体のみが記載されている。
【０００６】
ＵＳ３２１３０５８には、１個のベンゾトリアゾール基を有するｏ−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、プラスチックにおけるＵＶ吸収剤としてのその使用、及びこれらのｏ−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールを含有しているプラスチックが記載されている。更に、ＵＳ３２１３０５８には、これらのｏ−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールで変性されたポリマー、すなわちｏ−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールのエステルと、ヒドロキシル含有又はカルボキシル含有共重合モノマーをベースとする樹脂が記載されている。
【０００７】
従って、前記低分子量ベンゾトリアゾール誘導体をベースとする光安定剤及びＵＶ吸収剤は、従来技術から公知である。
【０００８】
無生物有機材料、特にプラスチック（ポリマー）をＵＶ吸収剤又は安定剤で後処理する際に、ＵＶ吸収剤又は安定剤が、例えばポリマーの表面へ移動（流入）することによりポリマーマトリックスを出るという問題がしばしば生じる。これは特に流入によりＵＶ吸収剤又は安定剤が食料と接触する場合、例えば、パッケージング材料からパッケージされた物品へ移動することにより接触する場合には重大である。
【０００９】
更に、無生物有機材料中でＵＶ吸収剤又は安定剤の安定性（寿命）を高める必要がある。
【００１０】
ＵＶ吸収剤又は安定剤と無生物有機材料、例えば、ポリオレフィン又は他のプラスチックとの不十分な相容性及び高温でポリマーへ挿入される際の安定剤の熱分解は、しばしば望ましくない。
【００１１】
従って、本発明の対象は無生物有機材料からの流入の更なる抑制を導くＵＶ吸収剤又は安定剤の提供であった。更に、これらのＵＶ吸収剤又は安定剤は、無生物有機材料の安定化の継続に改善をもたらすべきである。本発明の更なる課題の部分は、安定化すべき材料、例えば、ポリオレフィン及び他のプラスチックとの良好な相溶性を有し、かつ安定化すべき材料に挿入する際に安定性を有するＵＶ吸収剤又は安定剤を提供することであった。
【００１２】
本発明の開示内容から明らかなように、これらの及びその他の対象は、一般式（Ｉ）
【化１】
0005638066.tif 000002
［式中、
Ｂは、置換もしくは非置換の２−（２―ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール基であり、
ｎは、３〜２０の範囲内の整数であり、
Ａは、ｎ価の有機基である］
のベンゾトリアゾール誘導体の、無生物有機材料におけるＵＶ吸収剤又は安定剤としての本発明による使用の様々な実施態様により解決される。
【００１３】
自明ながら一般式（Ｉ）のベンゾトリアゾール誘導体の混合物は、無生物有機材料におけるＵＶ吸収剤又は安定剤としても適切である。
【００１４】
本明細書の範囲内では、Ｃa〜Ｃbの形の表記は、特定の数の炭素原子数を有する化合物又は置換基を意味する。炭素原子の数は、a〜bの全体の範囲から（aとbを含む）選択でき、aは、少なくとも１であり、bは、常にaよりも大きい。化合物又は置換基の更なる明記は、Ｃa〜Ｃb−Ｖの形の表記により行われる。ここで、Ｖは化合物のクラス又は置換基のクラス、例えば、アルキル化合物又はアルキル置換基である。
【００１５】
ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素、有利にはフッ素、塩素又は臭素、特に有利には塩素である。
【００１６】
特に、様々な置換基に付けられる集合名は以下の意味を有する：
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル：２０個までの炭素原子を有する線状又は分枝状の炭化水素基、例えば、Ｃ1〜Ｃ10−アルキル又はＣ11〜Ｃ20−アルキル、有利にはＣ1〜Ｃ10−アルキル、例えば、Ｃ1〜Ｃ3−アルキル、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、又はＣ4〜Ｃ6−アルキル、ｎ−ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、１，１−ジメチルエチル、ペンチル、２−メチルブチル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、２，２−ジメチルプロピル、１−エチルプロピル、ヘキシル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、２−エチルブチル、１，１，２−トリメチルプロピル、１，２，２−トリメチルプロピル、１−エチル−１−メチルプロピル、１−エチル−２−メチルプロピル、又はＣ7〜Ｃ10−アルキル、例えば、ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキシル、２，４，４−トリメチルペンチル、１，１，３，３−テトラメチルブチル、ノニル又はデシル及びこれらの異性体。
【００１７】
アリール：６〜１４個の炭素環構成要素を有する１核から３核の芳香族環系、例えば、フェニル、ナフチル又はアントラセニル、有利には、１核から２核、特に有利には１核の芳香族環系。
【００１８】
アリールアルキルは、Ｃ1〜Ｃ20−アルキレン基、有利にはＣ1〜Ｃ14−アルキレン基により結合している（上記のような）１核から３核の芳香族環系、有利には１核から２核、特に有利には１核の芳香族環系である。
【００１９】
Ｃ1〜Ｃ20−アルキレン：１〜２０個の炭素原子を有する線状又は分枝状の炭化水素基、例えば、Ｃ1〜Ｃ10−アルキレン又はＣ11〜Ｃ20−アルキレン、有利にはＣ1〜Ｃ10−アルキレン、特にメチレン、ジメチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン又はヘキサメチレンである。
【００２０】
Ｃ1〜Ｃ20−アルコキシは、酸素原子（−Ｏ−）により結合した、（上記のような）１〜２０個の炭素原子を有する線状又は分枝状のアルキル基、例えば、Ｃ1〜Ｃ10−アルコキシ又はＣ11〜Ｃ20−アルコキシ、有利にはＣ1〜Ｃ10−アルキルオキシ、特に有利にはＣ1〜Ｃ3−アルコキシ、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシを意味する。
【００２１】
Ｃ3〜Ｃ15−シクロアルキル：３〜１５個の炭素環構成要素を有する単環の飽和炭化水素基、有利にはＣ3〜Ｃ8−シクロアルキル、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル又はシクロオクチル及び飽和又は不飽和多環系、例えば、ノルボルニル又はノルベニル。特に有利にはＣ5〜Ｃ6−シクロアルキルである。
【００２２】
ヘテロ原子は、リン、酸素、窒素又は硫黄であり、有利には酸素、窒素又は硫黄であり、その自由原子価は場合によりH原子により飽和される。
【００２３】
ＵＶ吸収剤は、４００ｎｍ未満の波長のＵＶ光、特に２００〜４００ｎｍを吸収する。従って、ＵＶ吸収剤は、例えばＵＶ−Ａ（３２０〜４００ｍ，）、ＵＶ−Ｂ（２９０〜３１９ｎｍ）及び／又はＵＶ−Ｃ（２００〜２８９ｎｍ）光を吸収できる。有利には、ＵＶ吸収剤は、ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ光を吸収する。極めて有利にはＵＶ吸収剤は、ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ光を吸収し、かつ無照射的な方法で吸収した光エネルギーを不活化する。
【００２４】
本発明の有利な１実施態様では、ベンゾトリアゾール誘導体として一般式（Ｉａ）
【化２】
0005638066.tif 000003
［式中、ｎは、３〜２０の範囲内の整数であり、
Ｒ１は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキル、アリールアルキル、Ｃ５〜Ｃ２０−アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ３〜Ｃ１５−シクロアルキル、
Ｒ３は、Ｈ、ハロゲン、ＣＦ３、ＣＯＯＲ４であり、
Ｒ４は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキル、
Ｒ２は、単結合、Ｏ、ＮＲ７、又は一般式（ＩＩａ）
【化３】
0005638066.tif 000004
（式中、ｍは０〜４の範囲内の整数、ｐは０又は１、Ａは、ｎ価の有機基、Ｒ5は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｒ6は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｘは、Ｏ、ＮＲ7であり、Ｒ7はＨ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルである）
の基である］
のものが、無生物有機材料においてＵＶ吸収剤又は安定剤として使用される。ここでは、式（Ｉａ）中、ｎが３〜１０の範囲内の整数、特に３〜６の範囲内の整数であるのが特に有利である。ここで、Ｒ3は特に有利にはＨ又はＣｌであり、特にＲ13はベンゾトリアゾール基の３位で固定される。ここで、式（ＩＩａ）中、ｍは極めて有利には１〜３の範囲内の整数、特に有利には１又は２、特に２である。この場合に特に有利にはｐ＝０であり、同様に極めて有利にはｐ＝１である。Ｒ7はＨであるのが有利である。
【００２５】
更に有利な本発明の実施態様では、ベンゾトリアゾール誘導体として、一般式（Ｉｂ）
【化４】
0005638066.tif 000005
［式中、Ｒ11は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、アリールアルキル、Ｃ5〜Ｃ20−アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ3〜Ｃ15−シクロアルキルであり、
Ｒ13は、Ｈ、ハロゲン、ＣＦ3、ＣＯＯＲ14であり、Ｒ14は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｒ12は単結合、Ｏ、ＮＲ7、又は一般式（ＩＩａ）の基である］
のものが、無生物有機材料においてＵＶ吸収剤又は安定剤として使用され、その際、残りの置換基及び係数は、上記の（Ｉａ）で挙げたものと同じ意味を有する。この場合に、式（Ｉｂ）中、ｎは３〜１０の範囲内の整数、特に３〜６の範囲内の整数であるのが特に有利である。この場合に、Ｒ13は、特に有利にはＨ又はＣｌであり、特にＲ13はベンゾトリアゾール基の３位で固定される。この場合に、式（ＩＩａ）中、ｍは極めて有利には１〜３の範囲内の整数、特に有利には１又は２、特に２である。この場合に特に有利にはｐ＝０であり、同様に極めて有利にはｐ＝１である。
【００２６】
本発明の有利な１実施態様では、ベンゾトリアゾール誘導体として、一般式（Ｉｃ）
【化５】
0005638066.tif 000006
［式中、Ｒ21は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、アリールアルキル、Ｃ5〜Ｃ20−アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ3〜Ｃ15−シクロアルキルであり、Ｒ22は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、ＣＯＯＲ24、Ｒ24は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｒ23は単結合、Ｏ、ＮＲ7、又は一般式（ＩＩａ）の基である］
のものが無生物有機材料においてＵＶ吸収剤又は安定剤として使用され、その際、残りの置換基及び係数は、（Ｉａ）で挙げたものと同じ意味を有する。この場合に、式（Ｉｃ）中、ｎは３〜１０の範囲内の整数、特に３〜６の範囲内の整数であるのが特に有利である。この場合に、Ｒ22は極めて有利にはＣ1〜Ｃ20−アルキルである。この場合に、式（ＩＩａ）中、ｍは１〜３の範囲内の整数、特に有利には１又２、特に２であるのが極めて有利である。ここで特に有利にはｐ＝０であり、同様に極めて有利にはｐ＝１である。
【００２７】
ベンゾトリアゾール誘導体を製造する方法は、当業者に公知である。ベンゾトリアゾール環は、例えば、ＥＰ０２１４１０２に記載されているように、一般に相応のアミノフェニル及びフェノールからジアゾ化、カップリング及び還元の順に製造できる。ベンゾトリアゾール及び／又はフェノール環の更なる誘導化は、例えば、ＥＰ５７１６０に記載されている。
【００２８】
一般式（Ｉ）、（Ｉａ）、（Ｉｂ）又は（Ｉｃ）のベンゾトリアゾール誘導体の分子量（数平均Ｍｎ）は、有利には１１００ｇ／ｍｏｌ〜５０００ｇ／ｍｏｌ、特に有利には１５００〜５０００ｇ／ｍｏｌ、特に２０００〜５０００ｇ／ｍｏｌである。
【００２９】
ｎ価の有機基Ａは、一般に例えば、式（Ｉａ）〜（Ｉｃ）のベンゾトリアゾール置換基を有するベンゾトリアゾール誘導体の数ｎと反応させた有機化合物をベースとする。例えば、ｎ価の有機基は、それぞれの場合に、任意に所望の位置で１個又は複数のヘテロ原子により中断されていてもよい線状又は分枝状の炭化水素基である。例えば、ｎ価の有機基をベースとする有機化合物として、ポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエーテルアミン及びエポキシド化合物、マレイン酸基もしくはマレイン酸基の誘導体を有するポリマー、ポリカルボン酸、シアヌル酸又は塩化シアヌル誘導体、特にエトキシル化又はプロポキシル化ポリオールが挙げられる。この場合に、マレイン酸基もしくはマレイン酸基の誘導体を有するポリマー、ポリオール、特にエトキシル化又はプロポキシル化ポリオール又はポリエーテルアミンが有利である。
【００３０】
適切なポリエーテルアミンは、例えば、トリアミノポリアルキレンオキシド化合物を含む。これは、一方では３個のアミノ基（ＮＨ又はＮＨ2−官能基）及び他方ではアルキレンオキシド構成ブロック有する化合物を意味すると解釈される。後者の構成ブロックは、特にエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド及び／又はブチレンオキシドである。
【００３１】
ポリエーテルアミンは、個々に又は混合物の形で使用できる。
【００３２】
更なる実施態様では、ポリオールとプロピレンオキシド及び／又はエチレンオキシドの反応混合物が使用され、その際、ポリオール１ｍｏｌあたり、有利にはプロピレンオキシド及び／又はエチレンオキシド１〜５ｍｏｌが使用される。
【００３３】
本発明のもう１つの有利な実施態様では、基Ａが、一般式（ＩＩＩ）
【化６】
0005638066.tif 000007
［式中、ｎは、３〜２０の範囲内の整数であり、
ｑは、０〜１０の範囲内の整数であり、Ｒ76は、Ｈ、アリール、Ｃ1〜Ｃ30−アルキルであり、Ｒ77は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキシであり、Ｒ78は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキシであり、その際、*はベンゾトリアゾール誘導体の式（ＩＩＩ）のｎ価の有機基への結合を表す］
のｎ価の有機基に相応するベンゾトリアゾール誘導体が使用される。
【００３４】
この場合に、式（ＩＩＩ）中、ｎは３〜１０の範囲内の整数、特に３〜６の範囲内の整数であるのが極めて有利である。ここで、ｑは２〜１０の範囲内、特に有利には２〜４の範囲内の整数、極めて有利には２又は３、特に２であるのが極めて有利である。Ｒ76は、Ｈ、アリール、Ｃ1〜Ｃ30−アルキル、有利にはＣ1〜Ｃ20−アルキル、特に有利にはＣ10〜Ｃ20−アルキル、特にＣ18−アルキルもしくはＣ20−アルキルであるのが極めて有利である。
【００３５】
本発明のもう１つの有利な実施態様では、基Ａが一般式（ＩＩＩａ）
【化７】
0005638066.tif 000008
［式中、
ｎは、３〜２０の範囲内の整数であり、
ｍは、互いに独立に０〜１０の範囲内の整数であり、
Ｒ87は、ｎ個の水素が１つの結合で置き換えられている線状又は分枝状のＣ1〜Ｃ20−アルカンであり、Ｒ88は、Ｈ、線状又は分枝状のＣ1〜Ｃ20−アルキルであり、その際、*はベンゾトリアゾール誘導体の式（ＩＩＩａ）のｎ価の有機基への結合を表す］
のｎ価の有機基に相応するベンゾトリアゾール誘導体が使用される。この場合に、式（ＩＩＩａ）中、ｎは３〜１０の範囲内の整数、特に３〜６の範囲内の整数であるのが極めて有利である。この場合に、ｍは極めて有利には０〜５の範囲内、特に有利には０〜３の範囲内の整数である。Ｒ87は、ｎ個の水素が１つの結合で置き換えられているＣ1〜Ｃ10−アルカン、特にＣ1〜Ｃ5−アルカンであるのが極めて有利である。この場合に、Ｒ88はＨ又はメチルであるのが極めて有利である。
【００３６】
本発明のもう１つの有利な実施態様では、基Ａが一般式（ＩＩＩｂ）
【化８】
0005638066.tif 000009
［式中、
ｎは、３〜２０の範囲内の整数であり、
ｍは、互いに独立に０〜１０の範囲内の整数であり、
Ｒ97は、ｎ個の水素が１つの結合で置き換えられている線状又は分枝状のＣ1〜Ｃ20−アルカンであり、その際、*はベンゾトリアゾール誘導体の式（ＩＩＩｂ）のｎ価の有機基への結合を表す］
のｎ価の有機基に相応するベンゾトリアゾール誘導体が使用される。この場合、式（ＩＩＩｂ）中、ｎは極めて有利には３〜１０の範囲内の整数、特に３〜６の範囲内の整数である。ｍは０〜５の範囲内、特に有利には０〜３の範囲内の整数であるのが極めて有利である。Ｒ97は、ｎ個の水素が１つの結合で置き換えられているＣ1〜Ｃ10−アルカン、特にＣ1〜Ｃ5−アルカンである。
【００３７】
本発明のもう１つの有利な実施態様では、基Ａが一般式（ＩＩＩｃ）
【化９】
0005638066.tif 000010
［式中、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43は互いに独立にＣ1〜Ｃ20−アルキレンであり、その際、*はベンゾトリアゾール誘導体の式（ＩＩＩｃ）の３価の有機基への結合を表す］
の３価の有機基に相応するベンゾトリアゾール誘導体が使用される。Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43は互いに独立に、Ｃ1〜Ｃ5−アルキレン、特にＣ2〜Ｃ3−アルキレンであるのが極めて有利である。Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43は全て同じであるのが有利である。
【００３８】
本発明のもう１つの有利な実施態様では、基Ａが一般式（ＩＩＩｄ）
【化１０】
0005638066.tif 000011
［式中、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53は互いに独立にＣ1〜Ｃ20−アルキレンであり、その際、*はベンゾトリアゾール誘導体の式（ＩＩＩｄ）の３価の有機基への結合を表す］
の３価の有機基に相応するベンゾトリアゾール誘導体が使用される。Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53は互いに独立に、Ｃ1〜Ｃ5−アルキレン、特にＣ2〜Ｃ3−アルキレンであるのが極めて有利である。
【００３９】
本発明のもう１つの有利な実施態様では、基Ａが一般式（ＩＩＩｅ）
【化１１】
0005638066.tif 000012
［式中、Ｒ61、Ｒ62、Ｒ63、Ｒ64は互いに独立にＣ1〜Ｃ20−アルキレンであり、その際、*はベンゾトリアゾール誘導体の式（ＩＩＩｅ）の４価の有機基への結合を表す］
の４価の有機基に相応するベンゾトリアゾール誘導体が使用される。Ｒ61、Ｒ62、Ｒ63、Ｒ64は互いに独立に、Ｃ1〜Ｃ5−アルキレン、特にＣ2〜Ｃ3−アルキレンであるのが極めて有利である。Ｒ61、Ｒ62、Ｒ63、Ｒ64は全て同じであるのが有利である。
【００４０】
本発明のもう１つの有利な実施態様では、ｎ価の有機基Ａの、一般式（Ｉａ）、（Ｉｂ）又は（Ｉｃ）の上記ベンゾトリアゾール誘導体への結合は、少なくとも１つのｎ価のアルコールＡ’と、一般式（ＩＶ）、（ＩＶａ）又は（Ｖ）
【化１２】
0005638066.tif 000013
［式中、Ｒ32、Ｒ43は単結合又は一般式（ＶＩ）
【化１３】
0005638066.tif 000014
（ｍは、０〜４の整数であり、ｐは０又は１であり、ＸはＯ、ＮＲ7であり、Ｒ7は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキシ、Ｙは、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキシである）の基である］
の化合物の反応により行われるが、但し、一般式（ＩＶ）、（ＩＶａ）又は（Ｖ）の少なくとも３個のベンゾトリアゾール誘導体は、それぞれ１つのｎ価のアルコールＡ’と反応することを前提とする。この場合に、その他の置換基は先に式（Ｉａ）、（Ｉｂ）及び（Ｉｃ）で挙げた意味を有する。極めて有利には、式（ＶＩ）中のｍは、０〜４の範囲内の整数、特に有利には１〜３の範囲内の整数、極めて有利には１又は２、特に２である。この場合に、ｐは極めて有利には０又は１、特に有利には０であり、同様に特に有利には１である。
【００４１】
ｎ価のアルコールＡ’として、有利にはトリオール、テトロール、ペントール、ヘキソール又はポリオールが使用される。トリオールとして、トリメチロールプロパン、グリセロールが特に有利である。テトロールとして、ペンタエリトリトールが有利である、ペントールとして、ソルビトール及びヘキソールとしてマンニトールが有利である。
【００４２】
本発明による使用の有利な１実施態様では、上記のベンゾトリアゾール誘導体は、プラスチック又はワックスにおいてＵＶ吸収剤として使用され、その際、プラスチックは例えば、ポリオレフィン、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、又はポリプロピレン（ＰＰ）、ポリカーボネート、ポリエステル、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリスチレンコポリマー、例えば、耐衝撃変性ＰＳ（ＨＩＰＳ）、スチレン−アクリロニトリルコポリマー（ＳＡＮ）、アクリロニトリル−スチレン−アクリルエステルコポリマー（ＡＳＡ）、又はアクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマー（ＡＢＳ）、又はポリオレフィンワックスを有する。プラスチックは、前記ポリマーを含有するか、又はコポリマー又は混合物（配合物）である。有利なプラスチックはポリオレフィン及びポリカーボネートである。
【００４３】
ベンゾトリアゾール誘導体の無生物有機材料、特にプラスチックへの挿入は、一般に、前記成分を混合することにより行われる。例えば、混合は当業者に公知の方法により、プラスチックの添加で一般に使用されるような方法で行われる。固体、液体又は分散した形のベンゾチアゾール誘導体は、有利にはプラスチックの仕上げに使用される。このために、ベンゾチアゾール誘導体は、固体又は液体調製物として、又は慣用の方法により粉末としてプラスチックに挿入できる。例えば、押出工程の前又は間の粒子と有機ポリマーとの混合を挙げることにする。添加剤での粒子の仕上げ又は安定化の更なる例は、Plastics Additives Handbook、第５版、Hanser Verlag, ISBN 1-56990-295-Xに見出すことができる。添加されたプラスチックは、例えば、顆粒、ペレット、粉末、フィルム又は繊維として存在できる。
【００４４】
本発明による使用の更に有利な実施態様では、上記のベンゾトリアゾール誘導体はプラスチック成形品においてＵＶ吸収剤として使用される。プラスチック成形品は、有利には農業用フィルム、着色されていてもよい射出成形品、ＰＣシート、ＰＥＴ繊維、ＰＥＴパッケージング、難燃性ＰＰ繊維、パッケージングフィルム（特にＰＥ製）、食料品パッケージング及びろうそくである。パッケージングフィルム（特にＰＥ製）が特に有利である。
【００４５】
プラスチック成形品の製造は、当業者に公知の方法により行われる。特に、プラスチック成形品は、顆粒又はペレットの押出し成形又は同時押出し、コンパウンディング、加工、射出成形、吹込成形又は混練により製造できる。有利には、加工は押出し成形又は同時押出しにより行われフィルムが製造される(Saechtling Kunststoff  Taschenbuch、第28版、Karl Oberbach、2001参照）。
【００４６】
無生物有機材料、特にプラスチック又はプラスチック成形品は、無生物有機材料又はプラスチックの全体量に対して、上記のベンゾトリアゾール０．０１〜１０質量％を有する。１実施態様では、有利にはベンゾトリアゾール誘導体０．０５〜１質量％が添加される。他の実施態様では、ベンゾトリアゾール誘導体５〜８質量％が添加される。
【００４７】
特別な実施態様では、無生物有機材料、特にプラスチック又はプラスチック成形品は、熱可塑性ポリマー成分を有するか、又は熱可塑性ポリマー成分から成る。サーモプラストは、それらの良好な加工性により卓越していて、かつ柔らかい状態で加工し、例えば、圧縮、押出し、射出成形又はその他の成形法により成形品を生じることができる。
【００４８】
無生物有機材料、特にプラスチック又はプラスチック成形品は、更に、着色剤、抗酸化剤、安定剤、例えば、ヒンダードアミン光安定剤（HALS）、その他のＵＶ吸収剤、ニッケル消光剤、金属不活性剤、補強材及び充填剤、防曇剤、殺生物剤、掃酸剤、静電防止剤、長波ＩＲ照射用のＩＲ吸収剤、粘着防止剤、例えばＳｉＯ2、光分散剤、例えばＭｇＯ又はＴｉＯ2、無機もしくは有機反射体（例えばアルミニウムフレーク）から選択される少なくとも１つの更なる添加剤を有することができる。
【００４９】
組成物中の任意の更なる添加剤の全体量は、無生物有機材料又はプラスチックの全体量に対して１５質量％までである。有利には、これらの添加剤の量は、０．５〜１５質量％まで、極めて有利には０．５〜１０質量％まで、特に０．５〜７．５質量％である。
【００５０】
この場合に、更なる任意の安定剤として、例えばホスフィット、ホスホニット、ホスフィン、ヒンダードアミン（HALS化合物）、ヒドロキシルアミン、フェノール、アクリロイルで変性されたフェノール、ペルオキシド分解剤、ベンゾフラノン誘導体又はこれらの混合物が挙げられる。安定剤は、しばしば、例えば以下の商品名で市販されている：Ciba and Dover社のIRGAPHOS(R) 168、DOVERPHOS(R) S-9228、ULTRANOX(R)641。安定剤に加えて、熱安定性を高めるために補助安定剤を使用することもできる。
【００５１】
更なる添加剤として更なる有利な任意の安定剤は、ホスフィット又はHALS化合物である。Ciba社のHALS化合物（Chimassorb(R)の商品名で入手可能）、特にChimasorb(R) 119 FL、2020、940又はTinuvin(R)、特にTinuvin(R) 111、123、492、494、622、765、770、783、791、C 353が特に有利である。BASF SE社のHALS化合物（Uvinul(R)の商品名で入手可能）、特にUvinul(R)4050 H（CAS No. 124172-53-8）、Uvinul(R)4077 H（CAS No. 52829-07-9）又はUvinul(R)5050 H（CAS No. 152261-33-1）も同様に極めて有利である。
【００５２】
一般に、任意の安定剤は、無生物有機材料又はプラスチックの全体量に対して、０．００１〜３質量％の量で、有利には０．００２〜２質量％の量で、極めて有利には０．００３〜１質量％の量で、特に０．００５〜０．５質量％の量で更なる添加剤として使用される。
【００５３】
任意の更なるＵＶ吸収剤として、例えば、それぞれCiba社又はBASF SE社のTinuvin(R)、特にTinuvin(R)、234、326、327、328、又はUvinul(R)製品ファミリーの市販化合物が挙げられる。
【００５４】
Uvinul(R)光保護剤は、以下のクラスの化合物を含む：
ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、シアノアクリレート、シンナム酸エステル、ｐ−アミノベンゾエート、ナフタルイミド。更に、更なる公知の発色団、例えば、ヒドロキシフェニルトリアジン又はオキサルアニリドが使用される。
【００５５】
任意の更なるＵＶ吸収剤の更なる例は以下のものである：
置換アクリレート、例えば、エチル又はイソオクチル−α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート（主に２−エチルヘキシル−α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート）、メチル−α−メトキシカルボキシ−β−フェニルアクリレート、メチル−α−メトキシカルボニル−β−（ｐ−メトキシフェニル）アクリレート、メチル又はブチル−α−シアノ−β−メチル−β−（ｐ−メトキシフェニル）アクリレート、Ｎ−（β−メトキシカルボニル−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン、オクチル−ｐ−メトキシシンナメート、イソペンチル−４−メトキシシンナメート、ウロカニン酸又はこれらの塩又はエステル；
ｐ−アミノ安息香酸の誘導体、特にそのエステル、例えば、４−アミノ安息香酸−エチルエステル、又はエトキシル化４−アミノ安息香酸エチルエステル、サリシレート、置換シンナム酸エステル（シンナメート）、例えば、オクチル−ｐ−メトキシシンナメート又は４−イソペンチル−４−メトキシシンナメート、２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸又はその塩；
２−ヒドロキシベンゾフェノン誘導体、例えば、４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクチルオキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２’，４’−トリヒドロキシ−、２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン及び４−メトキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノンスルホン酸ナトリウム塩；
４，４−ジフェニルブタジエン−１，１−ジカルボン酸のエステル、例えば、ビス（２−エチルヘキシル）エステル；
２−フェニルベンズイミダゾール−４−スルホン酸及び２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸又はその塩；
ベンズオキサゾールの誘導体；
ベンゾトリアゾール又は２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールの誘導体、例えば、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（２−メチル−３−（（１，１，３，３−テトラメチル−１−（トリメチルシリルオキシ）ジシロキサニル）−プロピル）−フェノール）、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓｅｃ−ブチル−５’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシー４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔ−アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−５’−（２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール、２［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−５’−（２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］−ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イル−フェノール］、ポリエチレングリコール３００で完全にエスエル化された２−［３’−ｔ−ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの生成物、［Ｒ−ＣＨ2ＣＨ2−ＣＯＯ（ＣＨ2）3−］2（式中、Ｒは３’−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニルである）、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α���ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール；
ベンジリデンカンファー又はその誘導体、上記の例えば、ＤＥ−Ａ  ３８３６６３０に記載されているような例えば、３−ベンジリデンカンファー、３（４’−メチルベンジリデン）ｄ−１−カンファー；
α−（２−オキソボルン−３−イリデン）トルエン−４−スルホン酸又はその塩、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−４−（２−オキソボルン−３−イリデンメチル）アルミニウム−モノスルフェート；
ジベンゾイルメタン、例えば４−ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン；
２，４，６−トリアリールトリアジン化合物、例えば、２，４，６−トリス−｛Ｎ−［４−（２−エチルヘキシ−１−イル）オキシカルボニルフェニル］アミノ｝−１，３，５−トリアジン、４，４’−（（６−（（（ｔ−ブチル）アミノカルボニル）フェニルアミノ）−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル）イミノ）ビス（安息香酸−２’−エチルヘキシルエステル）；
２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２，４−ビス−（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−[２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロピルオキシ）フェニル]−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−[２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル]−４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−[４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル]−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−[２−ヒドロキシ−４（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル]−４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス[２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル] −１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシフェニル）―４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、
２−{２−ヒドロキシ−４−[３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ]フェニル}−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【００５６】
適切な任意の更なるＵＶ吸収剤は、出版物Cosemetic Legislation第１巻、Cosmetic Products, European Comission 1999、64〜66頁に見出すことができ、これを参照して取り入れることにする。
【００５７】
更に、適切な任意の更なるＵＶ吸収剤は、ＥＰ  １１９１０４１  Ａ２の６頁目、１４〜３０行目（［００３０］）に記載されている。この内容を全て参照することにする。
【００５８】
存在する場合には、任意の更なるＵＶ吸収剤は、無生物有機材料又はプラスチックの全量に対して、通常は０．０１質量％〜１０質量％の量で使用される。有利には、０．０５〜８質量％、極めて有利には０．１〜７質量％、特に０．１〜５質量％のＵＶ吸収剤が使用される。
【００５９】
これらの任意の添加剤は、無生物有機材料（特に、プラスチック又はプラスチック成形品）の製造の間に添加されるか、又は方法の更なる任意の工程の間に添加される。
【００６０】
本発明による使用のもう１つの有利な実施態様では、上記ベンゾトリアゾール誘導体は、水泳用の被服、アウターウエア、屋外用の被服において使用される。
【００６１】
本発明による使用の更なる有利な実施態様では、上記ベンゾトリアゾール誘導体は化粧品調製物においてUV吸収剤として使用される。
【００６２】
本発明による使用のもう１つの有利な実施態様では、上記のベンゾトリアゾール誘導体は、プラスチック用の光保護剤及び安定剤として使用される。
【００６３】
本発明のもう１つの対象は、場合によりプラスチック上の酸素の付加的作用との関連で、光の作用に対してプラスチックを安定化する方法であり、該方法はこのために上記のベンゾトリアゾール誘導体を使用することに特徴付けられる。ここで、プラスチックの量に対して、上記ベンゾトリアゾール誘導体０．０１質量％〜１０質量％がプラスチックに添加される。１実施態様では、ベンゾトリアゾール誘導体０．０５〜１質量％がプラスチックに添加される。もう１つの実施態様では、ベンゾトリアゾール誘導体５質量％〜８質量％がプラスチックに添加される。
【００６４】
本発明のもう１つの対象は、無生物有機材料に対して、上記ベンゾトリアゾール誘導体０．０１質量％〜１０質量％を有する光、酸素及び熱の作用に対して安定させた無生物有機材料、特にプラスチックを提供する。１実施態様では、ベンゾトリアゾール誘導体０．０５〜１質量％がプラスチック中に含有される。もう１つの実施態様では、ベンゾトリアゾール誘導体５〜８質量％がプラスチック中に含有される。
【００６５】
更に本発明は、基Ａが一般式（ＩＩＩ）のｎ価の有機基に相応する一般式（Ｉａ）、（Ｉｂ）及び（Ｉｃ）のベンゾトリアゾール誘導体を提供する。残りの記号及び係数の意味は、式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）及び（ＩＩＩ）の意味に相応する。この場合に、ｎは３〜１０の範囲内の整数、特に３〜６であるのが特に有利である。この場合に、ｑは、２〜１０の範囲内の整数、特に２〜４の範囲内、とりわけ２又は３、特に２であるのが有利である。この場合に、Ｒ76はＨ、アリール、Ｃ1〜Ｃ30−アルキル、特にＣ2〜Ｃ20−アルキル、特に有利にはＣ10〜Ｃ20−アルキル、特にＣ18−アルキル又はＣ20−アルキルであるのが極めて有利である。
【００６６】
本発明のもう１つの対象は、基Ａが一般式（ＩＩＩａ）のｎ価の有機基に相応する一般式（Ｉａ）、（Ｉｂ）及び（Ｉｃ）のベンゾトリアゾール誘導体である。残りの記号及び係数の意味は、式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）及び（ＩＩＩａ）の意味に相応する。この場合に、式（ＩＩＩａ）中、ｎは５〜１０の範囲内の整数、特に５〜６であるのが特に有利である。この場合に、ｍは、０〜５の範囲内の整数、特に０であるのが有利である。Ｒ87はｎ個の水素が１つの結合で置き換えられているＣ1〜Ｃ10−アルカン、特にＣ1〜Ｃ5−アルカンが特に有利である。
【００６７】
この場合に、基Ａが一般式（ＩＩＩａ）のｎ価の有機基に相応し、かつｎ＝５、６であり、Ｒ87がｎ個の水素が１つの結合で置き換えられているＣ1〜Ｃ10−アルカン、特にＣ1〜Ｃ5−アルカンであり、かつＲ2、Ｒ12、Ｒ23がOである一般式（Ｉａ）、（Ｉｂ）及び（Ｉｃ）のベンゾトリアゾール誘導体が特に有利である。
【００６８】
本発明のもう１つの対象は、基Ａが一般式（ＩＩＩｂ）のｎ価の有機基に相応する一般式（Ｉａ）、（Ｉｂ）及び（Ｉｃ）のベンゾトリアゾール誘導体である。残りの記号及び係数の意味は、式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）及び（ＩＩＩｂ）の意味に相応する。この場合に、式（ＩＩＩｂ）中、ｎが５〜１０の範囲内の整数、特に５〜６であるのが特に有利である。ｍは０〜５の範囲内の整数、特に２又は３であるのがとりわけ有利である。Ｒ97は、ｎ個の水素が１つの結合で置き換えられているＣ1〜Ｃ10−アルカン、特にＣ1〜Ｃ5−アルカンであるのが特に有利である。
【００６９】
一般式（Ｉ）、（Ｉａ）、（Ｉｂ）又は（Ｉｃ）のベンゾトリアゾール誘導体の分子量（数平均Ｍｎ）は、１１００ｇ／ｍｏｌ〜５０００ｇ／ｍｏｌであるのが有利であり、特に１５００〜５０００ｇ／ｍｏｌ、特に２０００〜５０００ｇ／ｍｏｌであるのが有利である。
【００７０】
本発明のもう１つの対象は、有利な方法により製造されるベンゾトリアゾール誘導体である。
【００７１】
本発明は、無生物有機材料から、特にプラスチックから極めて僅かな程度でしか流出しないＵＶ吸収剤もしくは安定剤を提供する。流入の抑制は、例えば延長した安定作用又は例えば、物質が食品と接触する際に健康に有害な物質の影響を避ける利点を提供する。
【００７２】
本発明の実施例により詳細に説明するが、該実施例は本発明の対象を制限するものではない。
【００７３】
実施例：
以下の工程により様々なベンゾトリアゾール誘導体を合成した。
【００７４】
分子量、吸収パラメーター及び融点のデータは、表１に見出すことができる。
【００７５】
室温：２１℃。
【００７６】
例１：オリゴエーテルアミン
【化１４】
0005638066.tif 000015
【００７７】
窒素雰囲気下に、３−（３−ベンゾトリアゾール−２−イル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）−プロピオン酸１３．６ｇ（０．０４ｍｏｌ）とポリエーテルアミン６．３ｇ（０．０１４３ｍｏｌ）（Ｍ＝４４０ｇ／ｍｏｌ）を室温で予め装入した。混合物を２００℃で５時間撹拌し、その際に生じた反応水を取り除いた。室温まで冷却した際に、反応混合物が固くなり、かつ結晶生成物１７．５ｇ（収率８４％）が得られた。
【００７８】
例２：無水マレイン酸（ＭＳＡ）−誘導体
【化１５】
0005638066.tif 000016
【００７９】
窒素雰囲気下に、Solvesso150（ナフサ留分：重質芳香族炭化水素の混合物）４０ｍｌ中のＭＳＡ−α−オレフィン（ｎ＝１．８）８．６５ｇ（０．０２ｍｏｌ）（Solvesso 150中５０．６％濃度に溶かした）及び２−アミノ−６−ベンゾトリアゾール−２−イル−４−メチルフェノール４．８１ｇ（０．０２ｍｏｌ）を室温で予め装入した。混合物を１７５℃で還流下に２０時間撹拌し、その際に生じた反応水を取り除いた。室温まで冷却した際に生成物が沈殿した。残留物を吸引濾過し、かつ石油エーテルで洗浄した。溶剤を有機相から真空中で除去した。得られた残留物を酢酸エステル中に溶かし、かつ室温で活性炭と一緒に１時間撹拌した。活性炭を濾別し、かつ真空中で溶剤を除去した。結晶生成物４．３７ｇが得られた。
【００８０】
例３：更なるＭＳＡ−誘導体
【化１６】
0005638066.tif 000017
【００８１】
窒素雰囲気下に、ＭＳＡ−α−オレフィンＣＰデセン（ｎ＝１．８）８．６５ｇ（０．０２ｍｏｌ）とエタノールアミン２．４ｇ（０．０４ｍｏｌ）を室温で予め装入し、かつ引き続き１６３℃で２時間還流下に撹拌し、その際に生じた反応水を取り除いた。混合物を１２０℃まで冷却した。３−（３−ベンゾトリアゾール−２−イル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）−プロピオン酸１３．６ｇ（０．０４ｍｏｌ）とｐ−トルエンスルホン酸一水和物０．２ｇを添加した。反応混合物を１６３℃で６時間撹拌し、かつ引き続き室温まで冷却した。ジクロロメタン２００ｍｌとシリカゲル１０ｇを添加した。該混合物を室温で１時間撹拌した。シリカゲルを分離し、かつ溶剤を真空で除去した。結晶生成物１１．７ｇが得られた。
【００８２】
例４：カルボン酸誘導体
【化１７】
0005638066.tif 000018
【００８３】
窒素雰囲気下に、Solvesso100（ナフサ留分：軽質芳香族炭化水素の混合物）７５ｍｌ中の１，２，３，４−ブタン−テトラカルボン酸２．３ｇ（０．０１ｍｏｌ）、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ヒドロキシプロピルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール１３．０ｇ（０．０４ｍｏｌ）及びメタンスルホン酸０．１５ｍｌ（０．００２ｍｏｌ）を室温で予め装入し、かつ引き続き１６５℃で２４時間還流下に撹拌し、その際に生じた反応水を取り除いた。混合物を室温まで冷却し、かつ溶剤を真空中で除去した。残留物に、石油エーテル５００ｍｌを添加した。混合物を室温で１時間撹拌した。懸濁液をフリットにより吸引濾過した。残留物を少量の石油エーテルで洗浄し、かつ真空棚中６０℃で乾燥させた。無色の結晶生成物１３．８ｇ（収率９４％）が得られた。
【００８４】
例５：シアヌル酸誘導体
【化１８】
0005638066.tif 000019
【００８５】
窒素雰囲気下に、キシレン１５０ｍｌ中の１，３，５―トリス−（２−ヒドロキシエチル）シアヌル酸６．５ｇ（０．００２５ｍｏｌ）、３−（３−ベンゾトリアゾール−２−イル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオン酸２５．５ｇ（０．０７５ｍｏｌ）及びメタンスルホン酸０．５ｍｌ（０．００９ｍｏｌ）を室温で予め装入し、かつ引き続き１４０℃（還流）で４日間撹拌し、その際に生じた反応水を取り除いた。混合物を室温まで冷却し、かつ溶剤を真空中で除去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（トルエン１００：酢酸エステル２．５）により精製した。結晶生成物１６．２ｋｇ（収率５３％）が得られた。
【００８６】
例６：塩化シアヌル誘導体
【化１９】
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【００８７】
窒素雰囲気下に、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１５ｍｌと１，４−ジオキサン４．５ｍｌから成る溶剤混合物中、塩化シアヌル１．８ｇ（０．０１ｍｏｌ）、２−アミノ−６−ベンゾトリアゾール−２−イル−４−ｔ−オクチル−フェノール１０．１５ｇ（０．０３ｍｏｌ）及び炭酸水素ナトリウム２．５ｇ（０．０３ｍｏｌ）を室温で予め装入した。混合物を還流（１０２℃）で２４時間撹拌し、かつ引き続き室温まで冷却した。懸濁液をフリットにより吸引濾過した。残留物を水で洗浄し、かつ真空棚中５０℃で乾燥させた。結晶生成物９．３２ｇ（収率８５．５％）が得られた。
【００８８】
例７：更なる塩化シアヌル−誘導体
【化２０】
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【００８９】
窒素雰囲気下に、Ｎ−メチル−２−ピロリドン２０ｍｌ中のＮ，Ｎ’−ビス−（４，６−ジクロロ−［１，３，５］トリアジン−２−イル）−ヘキサン−１，６−ジアミン１．２９ｇ（０．００３ｍｏｌ）、２−アミノ−６−ベンゾトリアゾール−２−イル−４−メチル−フェノール３．３６ｇ（０．０１４ｍｏｌ）及び炭酸水素ナトリウム０．８３ｇ（０．０１ｍｏｌ）を室温で予め装入した。混合物を１６０℃で２４時間撹拌し、かつ引き続き室温まで冷却した。反応混合物にメタノール２０ｍｌを添加した。室温で１時間後撹拌した。懸濁液をフリットにより吸引濾過した。残留物をまずメタノールで、かつ引き続き水で洗浄した。残留物を真空棚中５０℃で乾燥させた。結晶生成物９．９７ｇ（収率９０％）が得られた。
【００９０】
例８：プロポキシル化トリオールとの誘導体
【化２１】
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【００９１】
窒素雰囲気下に、キシレン２００ｍｌ中の２−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル−プロピオン酸１４．９ｇ（０．０４ｍｏｌ）、ポリエーテルポリオール（Ｍｗ＝４２０）５．７ｇ（０．０４ｍｏｌ）及びメタンスルホン酸０．３５ｍｌ（０．００５ｍｏｌ）を室温で予め装入し、かつ引き続き１４０℃（還流）で２４時間撹拌し、その際に生じた反応水を取り除いた。混合物を室温まで冷却し、かつ溶剤を真空中で除去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（トルエン１００：酢酸エステル２．５）により精製した。生成物１６．８ｇ（収率９０％）が得られた。
【００９２】
例９：ジオール誘導体
【化２２】
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【００９３】
窒素雰囲気下に、キシレン１００ｍｌ中の３−（３−ベンゾトリアゾール−２−イル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）−プロピオン酸２３．８ｇ（０．０７ｍｏｌ）、１，４−ブタンジオール３．１５ｇ（０．０３５ｍｏｌ）及びメタンスルホン酸０．５ｍｌ（０．００８ｍｏｌ）を室温で予め装入し、かつ引き続き１４０℃（還流）で２日間撹拌し、その際に生じた反応水を取り除いた。混合物を室温まで冷却し、かつ溶剤を真空中で除去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（トルエン１００：酢酸エステル２．５）により精製した。結晶生成物２０．７ｇ（収率８０．５％）が得られた。
【００９４】
例１０：トリスヒドロキシメチルプロパン−誘導体
【化２３】
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【００９５】
窒素雰囲気下に、キシレン１５０ｍｌ中の２−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）―６−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル−プロピオン酸１６．８ｇ（０．０４５ｍｏｌ）、１，１，１−トリス−（ヒドロキシメチル）−プロパン２．０５ｇ（０．０１５ｍｏｌ）及びメタンスルホン酸０．５８ｍｌを室温で予め装入し、かつ引き続き１４０℃（還流）で４日間撹拌し、その際に生じた反応水を取り除いた。混合物を室温まで冷却し、かつ溶剤を真空中で除去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（トルエン１００：酢酸エステル２．５）により精製した。結晶生成物１１．２ｇ（収率６２％）が得られた。
例１１：ペンタエリトリトール誘導体
【化２４】
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【００９６】
窒素雰囲気下に、キシレン１００ｍｌ中の３−（３−ベンゾトリアゾール−２−イル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオン酸１７．０ｇ（０．０５ｍｏｌ）、ペンタエリトリトール１．７ｇ（０．０１２５ｍｏｌ）及びメタンスルホン酸０．５０ｍｌ（０．００８ｍｏｌ）を室温で予め装入し、かつ次に１４０℃（還流）で３日間撹拌し、その際に生じた反応水を取り除いた。混合物を室温まで冷却し、かつ溶剤を真空中で除去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（トルエン１００：酢酸エステル２．５）により精製した。結晶生成物１０．７ｇ（収率６０％）が得られた。
【００９７】
例１２：更なるペンタエリトリトール誘導体
【化２５】
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【００９８】
窒素雰囲気下に、キシレン１００ｍｌ中の２−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオン酸１８．７ｇ（０．０５ｍｏｌ）、ペンタエリトリトール１．７ｇ（０．０１２５ｍｏｌ）及びメタンスルホン酸０．５０ｍｌ（０．００８ｍｏｌ）を室温で予め装入し、かつ次に１４０℃（還流）で３日間撹拌し、その際に生じた反応水を取り除いた。混合物を室温まで冷却し、かつ溶剤を真空中で除去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（トルエン１００：酢酸エステル２．５）により精製した。結晶生成物１０．１ｇ（収率５１％）が得られた。
【００９９】
以下の表１には、上記実施例からの化合物及び比較物質の物理化学的データがまとめられている。ＵＶスペクトルを０．５ｇ／リットルの濃度で塩化メチレン（例７では異なる：ＮＭＰ中）中で測定した。開始温度（分解温度：Ｔ−ｏｎｓｅｔ）は、空気下に、３０℃から６００℃の間で（加熱速度＝１０℃／分）熱重量測定法により測定した。Ｔ−ｏｎｓｅｔ値は、物質の熱安定性の目安であり、かつポリマーの加工が行われる温度が少なくとも達成されるべきである。
【０１００】
実施例からの物質は、比較物質と匹敵するＵＶにおける吸収を全体的に示している。実質的に高分子量の場合には、これらの物質は比較物質と匹敵するか又はより高い吸光係数ならびに匹敵するか又はより高いＴ−ｏｎｓｅｔ値を示している。
【０１０１】
【表１】
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【０１０２】
【化２６】
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