(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
静磁場磁石と、傾斜磁場コイルと、高周波コイルと、前記傾斜磁場コイルを収容する密閉容器とを有する磁気共鳴イメージング装置において、
前記密閉容器の内部空気を排気するためのポンプと、
任意に設定された撮影条件に従って被検体からＭＲ信号を発生させ及びそのＭＲ信号を収集するために前記傾斜磁場コイル及び前記高周波コイルを駆動する手段と、
前記撮影条件に応じて前記ポンプの運転パターンを変更するポンプ制御部と、
前記傾斜磁場コイル及び前記高周波コイルを、複数種類のパルスシーケンスの中から選択されたパルスシーケンスに従って駆動させる制御部とを具備し、
前記ポンプ制御部は、
前記選択されたパルスシーケンスに応じて、前記ポンプのオン時間を変更することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項２】
静磁場磁石と、傾斜磁場コイルと、高周波コイルと、前記傾斜磁場コイルを収容する密閉容器とを有する磁気共鳴イメージング装置において、
前記密閉容器の内部空気を排気するためのポンプと、
任意に設定された撮影条件に従って被検体からＭＲ信号を発生させ及びそのＭＲ信号を収集するために前記傾斜磁場コイル及び前記高周波コイルを駆動する手段と、
前記撮影条件に応じて前記ポンプの運転パターンを変更するポンプ制御部と、
前記傾斜磁場コイル及び前記高周波コイルを、複数種類のパルスシーケンスの中から選択されたパルスシーケンスに従って駆動させる制御部とを具備し、
前記ポンプ制御部は、
前記選択されたパルスシーケンスが第１のパルスシーケンスであるとき、前記ポンプを運転させ、前記選択されたパルスシーケンスが第２のパルスシーケンスであるとき、前記ポンプを停止させることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項３】
前記密閉容器の真空度を検知する真空計を更に備えることを特徴とする請求項２記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項４】
前記検知された真空度に応じて、前記高周波コイルを介して収集したデータの位相及び又は周波数を補正する処理部を更に備えることを特徴とする請求項３記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項５】
前記制御部は、
前記検知された真空度が所定の条件を満たしていないとき、前記傾斜磁場コイル及び前記高周波コイルの駆動及びデータ収集を停止することを特徴とする請求項３記載の磁気共鳴イメージング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、医療診断用の磁気共鳴イメージング（ＭＲＩ）装置およびその遮音方法に係り、特に傾斜磁場コイルの駆動等に伴って発生する騒音を大幅に抑制できるようにした静音型の磁気共鳴イメージング装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
医療診断用の磁気共鳴イメージング装置は、被検体内の原子核スピンの磁気共鳴現象に基づく画像化装置であり、非侵襲で、しかもＸ線装置のようにＸ線被爆が無い状態で被検体内部の画像を得ることができる。このため、臨床の場でもその有用性が近年富に発揮されている。
【０００３】
一般に、ＭＲ画像を得るための磁気共鳴イメージング装置は、撮影空間に被検体を挿入するガントリと、このガントリと共働させる装置本体とを備える。ガントリは、診断空間に静磁場を発生させるための超電導磁石などの静磁場磁石、静磁場に重畳させる線形の傾斜磁場を発生する傾斜磁場コイル、および高周波信号を送信するとともにＭＲ信号を受信するＲＦコイルを有する。撮像時には、所望のパルスシーケンスに沿ってそれらの静磁場磁石、傾斜磁場コイル、およびＲＦコイルが駆動される。つまり、パルスシーケンスにしたがって、静磁場中に置かれた被検体にｘ，ｙ，ｚ軸各方向の線形傾斜磁場が重畳され、被検体の原子核スピンがラーモア周波数の高周波信号で磁気的に励起される。この励起に伴って発生する磁気共鳴（ＭＲ）信号が検出され、この信号に基づいて被検体の例えば２次元断層像が再構成される。
【０００４】
このような磁気共鳴イメージングにおいて、近年、イメージングに要する時間を短縮したいというイメージングの高速化のニーズが非常に高くなっている。これに応えるべく、高速エコープラナーイメージング（ＥＰＩ）法など、傾斜磁場パルスの高速スイッチング（高速反転）を伴うパルスシーケンスが開発され、実用化にも成功しているものもある。
【０００５】
傾斜磁場パルスを発生させると、その立上がりや反転時に傾斜磁場コイルに電磁気力が作用する。この電磁気力はコイルユニットに機械的歪みを起こさせ、これに端を発してユニット全体が振動する。このコイルユニットの振動に因り、空気振動が生じ、騒音が発生するという問題がある。
【０００６】
とくに、傾斜磁場パルスを高速反転させると、その振動は増大するから、高速化が進むほど発生する騒音も増大する。この騒音は、ガントリの撮影空間に横になっている被検体（患者）に非常な不快感や不安感を与えることがある。
【０００７】
このため、かかる騒音を排除すべく、傾斜磁場コイルのユニット全体を真空容器内に密封し、真空空間に拠り振動または騒音の空気伝搬を絶つという試みがある。
【０００８】
しかしながら、上述した従来の騒音対策法には依然として以下のような未解決の課題が在った。  
傾斜磁場コイルを真空空間に密閉する密閉容器は、その真空空間を形成する容器やカバー類が静磁場磁石のカバーや筐体にジョイントされている。また傾斜磁場コイル自体も静磁場磁石の容器やカバー類に支持させた構造を成している。
【０００９】
このため、傾斜磁場コイルで生じた振動（騒音）の一部は真空空間で遮断されるが、振動の別の一部は傾斜磁場コイルの支持部を介して静磁場磁石等に伝搬してしまう。従って、傾斜磁場コイルで発生した振動により静磁場磁石も併せて振動し、ガントリ全体が言わば振動源となって大きな騒音を発生させてしまうという問題がある。
【００１０】
また、密閉容器のカバーを静磁場磁石のカバーにジョイントする部分には、Ｏリング構造を採用して内部をシールするようにしているが、その気密性は十分ではなく、十分な真空度を獲得することができない。このため騒音の空気伝搬を防止する効果は十分なものではない。
【００１１】
このように騒音防止の為に傾斜磁場コイルを密閉容器に収容させているが、このために容器内のコイルを外部から確認することができない。従って傾斜磁場コイルの位置の確認及び調整のために容器カバーを取り外す必要があり、作業負担が大きい。
【００１２】
また、騒音防止効果を高くするために、真空度を高くすると、密閉容器が変形する恐れがある。変形を防止するためには、密閉容器の強度を高めると、今度は、容器のサイズが大きくなり、また重くなる。従って、真空度を余り高くすることができない。
【００１３】
上述では、主に傾斜磁場コイルを発生源とする騒音に関して説明したが、振動発生源としては、他にもある。例えば、静磁場磁石として超電導コイルの普及が進んでいるが、この超電導コイルはクライオスタットに収めている。このクライオスタットのコールドヘッドのディスプレッサーがヘリウムガスの圧力によりピストン運動を行う。このピストン運動が、８０ｋシールド等の容器に伝搬し、騒音を発生させていた。このコールドヘッドを振動発生源とする騒音に対しては特に対策が施されていないのが現状である。
【００１４】
また、架台は多くの部品から構成される。これら部品の多くは金属製である。この金属部品どうしを締結するに際して、その間に電位差が生じている場合、傾斜磁場コイルを主な発生源とする振動によりいわゆるＢ電波が発生し、それをＲＦコイルで拾ってしまうことにより、また誘導電子が信号線に混入することにより、画質劣化が生じてしまうという問題もある。
【００１５】
また、ＲＦコイルを磁気的にシールドするために、その外側に磁気シールドを配置している。この磁気シールドは、樹脂基板の表面に、薄い短冊状の銅板を所定間隔を空けて平行に複数貼り付け、そして隣り合う銅板間にコンデンサを挿入する構造が一般的である。また、誘電体としての樹脂基板の表裏面に、薄い短冊状の銅板を対向させて所定間隔を空けて平行に複数貼り付け、これにより表裏面間でコンデンサ構造を実現するものもある。しかしそれらいずれの構造においても、コンデンサの容量不足に因り、十分なシールド効果が得られないという問題もある。
【００１６】
また、振動源としては、上述した傾斜磁場コイルだけではなく、ＲＦコイルの同調回路を含む回路ユニットの導電性材料に傾斜磁場コイルからの漏れ磁場による渦電流が発生し、それによるローレンツ力に伴って振動が発生する。この振動に対しては特に対策が施されていないのが現状である。
【００１７】
また、密閉容器内部空気を排気するための真空引き用のポンプは比較的高い頻度でメンテナンスする必要があり、高速シーケンスの普及に伴って益々ポンプの負荷が増加する状況のもとでは、このポンプのメンテナンスの頻度を減らすことも今後の課題である。
【００１８】
さらに、密閉容器の真空度は、ポンプの運転状況や密閉容器の気密性の変動、その他様々な要因に因り、経時的に多少の変動は不可避である。この真空度の変動に因り、磁場強度も変動するので、共鳴周波数が変動し、これによる画像の劣化が懸念される。しかし、現状では、この真空度の変動による画質の劣化に対しては特に対策が施されていない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
本発明の目的は、磁気共鳴イメージング装置において、傾斜磁場コイル等を発生源とする騒音を良好に抑制することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
本実施形態は、静磁場磁石と、傾斜磁場コイルと、高周波コイルと、前記傾斜磁場コイルを収容する密閉容器とを有する磁気共鳴イメージング装置において、前記密閉容器の内部空気を排気するためのポンプと、任意に設定された撮影条件に従って被検体からＭＲ信号を発生させ及びそのＭＲ信号を収集するために前記傾斜磁場コイル及び前記高周波コイルを駆動する手段と、前記撮影条件に応じて前記ポンプの運転パターンを変更するポンプ制御部と、前記傾斜磁場コイル及び前記高周波コイルを、複数種類のパルスシーケンスの中から選択されたパルスシーケンスに従って駆動させる制御部とを具備し、前記ポンプ制御部は、前記選択されたパルスシーケンスに応じて、前記ポンプのオン時間を変更する。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の好ましい実施形態による磁気共鳴イメージング装置の基本的構成を示す図。
【図２】第１実施形態に係る架台の縦断面図。
【図３】図２の破線内の拡大図。
【図４】第２実施形態に係る密閉容器の構造を示す図。
【図５】第３実施形態に係る密閉容器の斜視図。
【図６】図５の密閉容器と静磁場磁石容器との接合を示す横断面図。
【図７】第４実施形態に係る静磁場磁石のクライオスタットの縦断面図。
【図８】図７の動的振動吸収器の内部構造図。
【図９】第７実施形態の他の例によるコールドヘッド部分の内部構造図。
【図１０】第６実施形態に係る架台の縦断面図。
【図１１】第７実施形態に係る傾斜磁場コイルユニットの縦断面図。
【図１２】第７実施形態において、ノイズ電波の発生原理を示す図。
【図１３】図１１のチューナ銅板及びその接続部品を示す図。
【図１４】第７実施形態において、金属部品どうしの接続例を示す図。
【図１５】第７実施形態において、金属部品どうしの他の接続例を示す図。
【図１６】第７実施形態において、金属部品どうしの絶縁接続例を示す図。
【図１７】第７実施形態において、金属部品どうしの他の絶縁接続例を示す図。
【図１８】第７実施形態において、金属部品どうしのさらに他の絶縁接続例を示す図。
【図１９】第８実施形態に係るＲＦシールドの斜視図。
【図２０】第９実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置の架台の縦断面図。
【図２１】第１０実施形態に係る密閉容器の真空ポンプの系統図。
【図２２】第１０実施形態において、密閉容器内の圧力変化を示す図。
【図２３】第１０実施形態において、真空ポンプのオン／オフとバルブの開閉とのタイミングチャート。
【図２４】第１１実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置の主要部構成図。
【図２５】第１２実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置の主要部構成図。
【図２６】第１２実施形態において、真空ポンプの運転パターンのバリエーションを示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図面を参照して本発明による磁気共鳴イメージング装置を好ましい実施形態により説明する。まず、磁気共鳴イメージング装置の基本的な構成について図１を参照して説明する。磁気共鳴イメージング装置は、画像診断対象の被検体を挿入配置する撮影空間を有した架台（ガントリ）１４と、この架台１４に隣接して配置される寝台１８と、架台１４および寝台１８の動作を制御するとともにＭＲ信号を処理する制御処理部（コンピュータシステム）とを備えている。なお、架台１４には典型的にはその内側中央部に略円筒状に撮影空間が貫通して形成されている。この円筒状の撮影空間に対して、その軸方向をＺとし、このＺ方向に直交するＸ方向（左右方法）、Ｙ方向（上下方向）を定義する。
【００２３】
架台１４は、静磁場電源２から電流供給を受けて、撮影空間に静磁場Ｈ0 を発生する静磁場磁石１を備える。この静磁場磁石１は、典型的には、超電導磁石で構成される。静磁場磁石１の全体形状は、略円筒状に形成されている。磁石１のボア内には、傾斜磁場コイル３が配置される。傾斜磁場コイル３は、傾斜磁場電源４から個別に電流供給を受けてＸＹＺ各軸に関する傾斜磁場を発生するための３組のコイル３ｘ、３ｙ、３ｚからなる。この傾斜磁場コイル３は、騒音対策の為に、真空ポンプで内部が真空又はそれに近い状態に維持される密閉容器内に収容されている。
【００２４】
傾斜磁場コイル３のさらに内側には、高周波コイル（ＲＦコイル）７が配置される。ＲＦコイル７には、送信器８Ｔ及び受信器８Ｒとが接続されている。送信器８Ｔは、シーケンサ５の制御のもと、核磁気共鳴（ＮＭＲ）を励起させるためのラーモア周波数で振動する電流パルスを高周波コイル７に供給する。受信器８Ｒは、高周波コイル７を介してＭＲ信号（高周波信号）を受信し、各種の信号処理を施して、対応するデジタル信号を形成する。
【００２５】
シーケンサ５は、装置全体を管理するコントローラ６の制御の下に置かれている。コントローラ６には、入力器１３が接続される。オペレーションは、入力器１３を介して、スピンエコー法（ＳＥ）やエコープラナー法（ＥＰＩ）等の複数種類のパルスシーケンスの中から所望とするパルスシーケンスを選択することができる。コントローラ６は、選択されたパルスシーケンスをシーケンサ５にセットする。シ−ケンサ５は、セットされたパルスシーケンスにしたがって、Ｘ、Ｙ、Ｚ軸方向の各傾斜磁場の印加タイミング、その強度、高周波磁場の印加タイミング、振幅、継続時間等を制御する。
【００２６】
演算ユニット１０は、受信器８Ｒで形成されたＭＲ信号（デジタルデータ）を入力して、内蔵するメモリで形成される２次元フーリエ空間への実測データの配置、画像再構成のためのフーリエ変換などの処理を行い、画像データやスペクトルデータを発生する。記憶ユニット１１は、演算された画像データを保管する。表示器１２は、画像を表示する。
【００２７】
次に以上のような基本構成を備える磁気共鳴イメージング装置に関する実施形態について説明する。
【００２８】
（第１実施形態）  
図２は、第１実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置の架台の縦断面図を示している。傾斜磁場コイル１０２は、ノン・シールド型であってもよいし、アクティブシールド型であってもよい。傾斜磁場コイル１０２は、その巻線としてｘコイル、ｙコイルおよびｚコイルを有する。それらｘコイル、ｙコイルおよびｚコイルは、円筒形状を有するボビンに含浸される。
【００２９】
この略円筒形状を有する傾斜磁場コイル１０２は、床面上に設置された重量のあるコンクリート製の架台ベース１２５上に支持されている。また、傾斜磁場コイル１０２は、密閉容器１３３に収容されている。密閉容器１３３は、その内壁を構成する略円筒形状を有するライナー１３１と、その真空蓋１３２とを有する。密閉容器１３３の背面は、静磁場磁石（ここでは超電導コイル）を極低温環境に置くためのクライオスタット１１６の内壁１１７で閉じられている。クライオスタット１１６の側壁１１８は、接合板１３５で真空蓋１３２に接合されている。密閉容器１３３と架台ベース１２５との間は、密閉容器１３３の気密性を保つために、真空ベローズ１３４でつなぎ合わされている。
【００３０】
密閉容器１３３の内部空気は、真空ポンプにより排気され、密閉容器１３３の内部は真空又はそれに近い状態に保持されている。それにより傾斜磁場コイル１０２を発生源とする騒音の空気伝搬を防止している。
【００３１】
ライナー１３１の内面には、ＲＦコイル１０３が配置され、このＲＦコイル１０３を介して被検体に高周波磁場を印加し、また被検体からのＭＲ信号を受信する。
【００３２】
このような構成において、クライオスタット１１６の側壁１１８と、接合板１３５との接続部分において真空リークが生じやすい。この真空リークを防止するために、クライオスタット１１６の側壁１１８と接合板１３５との間に、真空シール用のＯリング１０８を挟み込んでいる。しかし、クライオスタット１１６の側壁１１８の面精度はあまり高くない。そのためクライオスタット１１６の側面１１８に対するＯリング１０８の接触精度が余り高くなく、Ｏリング１０８のシール性能は十分ではない。
【００３３】
これに対して本実施形態では、図３に示すように、クライオスタット１１６の側壁１１８に、環状のフランジ１０６を溶接し（参照番号１０７）、このフランジ１０６に対して、密閉容器１３３の接合板１３５をＯリング１０８を介してボルト１０９で固定するようにしている。フランジ１０６は削り出し等により高い精度で成形することができる。従って、フランジ１０６はＯリング１０８と良好に接触することができるので、Ｏリング１０８のシール性能を最大限引き出すことができる。また、クライオスタット１１６の側壁１１８とフランジ１０６と接続は、溶接により行うので、この間の気密性は確保される。従って、密閉容器１３３の内部の略真空状態を維持することができ、振動や騒音の空気伝搬を良好に遮蔽することができる。
【００３４】
（第２実施形態）  
図４（ａ）には、第２実施形態に係る傾斜磁場コイルの密閉容器の外観を示している。騒音対策の為に傾斜磁場コイルは、略真空状態に保持される密閉容器２０１に収容される。このため従来では、傾斜磁場コイルの位置を確認するために、密閉容器２０１を部分的に解体する必要があった。
【００３５】
これに対して本実施形態では、密閉容器２０１の側壁２０７それぞれは、左右一対に円形に刳り抜かれている。この部分に、可視光透過性のガラス又は繊維強化プラスティック等から作成される窓２０２がはめ込まれている。この窓２０２を通して密閉容器２０１内の傾斜磁場コイルの位置を外部から簡単に視認することができる。
【００３６】
図４（ｂ）に示すように、傾斜磁場コイル２０４には、その位置を表す目盛り２０６が取り付けられている。目盛り２０６は、窓２０２を通して視認することができる。この目盛り２０６を見ながら、静磁場磁石２０５に対する傾斜磁場コイル２０４の相対的な位置を客観的に把握することができる。
【００３７】
また、図４（ｃ）に示すように、密閉容器２０１の脚部２０３は、ベース２１２を有する。このベース２１２に垂直に開けられた孔に、傾斜磁場コイル２０４を支持する支柱２１３が上下に移動可能にはめ込まれている。支柱２１３の外周にはねじ山が切られており、このねじ山に、交差軸でネジ２１５がかみ合わされている。ネジ２１５の先端部のダイヤル２１４を回転することにより、容器２０１の内部で、支柱２１３が傾斜磁場コイル２０４と共に上下方向に移動する。これにより静磁場磁石２０５に対して、傾斜磁場コイル２０４の相対的な位置を調整することができる。
【００３８】
このように容器を解体しなくても、傾斜磁場コイルを外部から視認することができ、しかも位置調整を行うことができるので、気密性が劣化する機会を減らスことができる。これにより容器の気密性を確保して、振動や騒音の空気伝搬の遮蔽効果を高くすることができる。
【００３９】
また、図４（ｄ）に示すように、密閉容器２０１の側壁２０７に、接合板２３５を介して静磁場磁石容器２１７に接合するが、その側壁２０７と接合板２３５とを接合するコーナーの部分に、ラウンドをつける。同様に、側壁２０７と接合板２３５との接合部分だけでなく、密閉容器２０１の円筒状の内壁（ライナー）と接合板２３５とを接合するコーナーの部分にも、ラウンドをつける。これらにより傾斜磁場コイルを収容している密閉容器の大気圧に対する耐性を向上させることができる。
【００４０】
（第３実施形態）  
図５には、第３実施形態に係る傾斜磁場コイルの密閉容器の外観を示している。傾斜磁場コイルは、密閉容器３０１に収容される。傾斜磁場コイル１０２を発生源とする騒音の空気伝搬を防止するために、密閉容器３０１の内部空気は、真空ポンプにより排気され、密閉容器１３３の内部は真空又はそれに近い状態に保持されている。それにより密閉容器１３３は大気圧を受ける。このため、密閉容器１３３の強度が重要である。上記第２実施形態では、密閉容器１３３の側壁２０４に窓３０２を取り付けている。本実施形態では、この窓３０２の部分の強度を増加させるために、当該窓３０２の周囲の側壁３０４を、ハーフパイプのような丸み形状を有する凸部３０３に形成することで、窓３０２の周囲の部分の強度を補強するようにしている。
【００４１】
この補強により密閉容器３０１の真空度（内部圧力）を十分高める（下げる）ことができ、振動や騒音の空気伝搬の遮蔽効果を高くすることができる。
【００４２】
さらに、図６に示すように、密閉容器３０１は、その内壁を構成する略円筒形状を有するライナー３０９と、その真空蓋３０７とを有する。密閉容器３０１の背面は、静磁場磁石（ここでは超電導コイル）を極低温環境に置くためのクライオスタット３０６の内壁で閉じられている。クライオスタット３０６の側壁３１１は、真空蓋３０７に接合されている。
【００４３】
実際の製造工程では、クライオスタット３０６の長さＬ１に対して、それをはめ込む密閉容器３０１の開口部分の長さＬ２が合わないことがある。この場合、容器３０１の気密性が低下して、真空リークが発生する。これを解決するために、本実施形態ではさらに、密閉容器３０１のライナー３０９と真空蓋３０７との間に、環状のパッキング３１０を挟み込むことができるようになっている。従って、クライオスタット３０６の長さＬ１に対して、それをはめ込む密閉容器３０１の開口部分の長さＬ２が合わないときには、適当な幅のパッキング３１０を挟んで密閉容器３０１のライナー３０９と真空蓋３０７とを接合することで、クライオスタット３０６の長さＬ１に対して、それをはめ込む密閉容器３０１の開口部分の長さＬ２を容易に合わせることができる。
【００４４】
このパッキング３１０により密閉容器３０１とクライオスタット３０６との接合精度を向上して、容器３０１の気密性を高めることができる。それにより振動や騒音の空気伝搬の遮蔽効果を高くすることができる。
【００４５】
（第４実施形態）  
磁石架台における振動や騒音の発生源は、傾斜磁場コイルだけではない。例えば、静磁場磁石として採用した超電導コイルの熱交換器がある。図７、図８には、本実施形態に係る熱交換器の断面図を示している。超電導コイル４０１は、クライオスタット４０４に収容されている。クライオスタット４０４は、超電導コイル４０１を液体窒素とともに収容する液体窒素槽の外周を熱輻射シールド４０２，４０５，４０６で多重に取り囲むように構成される。
【００４６】
このクライオスタット４０４には、シールド４０２から吸熱し、それを外部に排熱する熱交換器４０７が設けられている。熱交換器４０７は、底部がシールド４０２に接触されているシリンダー４０８と、シリンダー４０８を蓋するもので、ヘリウムガスＨｅにより冷却されているコールドヘッド４１１と、シリンダー４０８内であって、その底部とコールドヘッド４１１との間をヘリウムガスＨｅの圧力によりピストン運動をするディスプレッサー４０９と、真空ベローズ４１０とから構成されている。
【００４７】
ディスプレッサー４０９が底部にあるとき、ディスプレッサー４０９はシールド４０２から熱を吸収する。ディスプレッサー４０９が頂部にあるとき、ディスプレッサー４０９はコールドヘッド４１１に熱を渡す。このような動作を繰り返すことで、シールド４０２から排熱することができる。
【００４８】
上述したようにディスプレッサー４０９は、シリンダー４０８内をピストン運動をするので、振動が発生する。この振動は、シールド４０２，４０５，４０６に機械的に伝搬する。それにより騒音が発生する。
【００４９】
この振動を吸収するために、コールドヘッド４１１に動的収振器４１４が搭載されている。この動的収振器４１４は、弾性体として例えばバネ４１２の伸縮方向がディスプレッサー４０９のピストン運動の方向と略平行になるように、バネ４１２がコールドヘッド４１１上に接続され、このバネ４１２に重り４１３が接続されている。ディスプレッサー４０９がピストン運動をすると、それに追従して重り４１３が上下動をする。それによりディスプレッサー４０９を発生源とするコールドヘッド４１１の振動が動的収振器４１４に吸収され、結果的に騒音が軽減される。
【００５０】
通常、ディスプレッサー４０９は商用電源の周波数でピストン運動をする。動的収振器４１４は、この周波数でピストン運動をするディスプレッサー４０９を発生源とする振動に共振するように、バネ４１２の弾力及び重り４１３の質量が設定されている。これにより効果的に振動を吸収することができる。
【００５１】
なお、図９に示すように、シリンダー４０８−１，４０８−２、ディスプレッサー４０９−１，４０９−２、コールドヘッド４１１−１，４１１−２を２つずつ設け、つまり熱交換器を２系統設け、それら２系統の熱交換器を、ピストン運動軸が互いに対向するようにアレンジし、そしてディスプレッサー４０９−１，４０９−２を互いに逆相でピストン運動をさせるようにしても、振動は軽減されえる。
【００５２】
（第５実施形態）  
図１０は、第５実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置の架台の縦断面図を示している。傾斜磁場コイル５０２は、その巻線としてｘコイル、ｙコイルおよびｚコイルを有する。それらｘコイル、ｙコイルおよびｚコイルは、円筒形状を有するボビンに含浸される。この略円筒形状を有する傾斜磁場コイル５０２は、床面上に設置された重量のあるコンクリート製の架台ベース５２５上に支持されている。また、傾斜磁場コイル５０２は、密閉容器５３３に収容されている。密閉容器５３３は、その内壁を構成する略円筒形状を有するライナー５３１と、その真空蓋５３２とを有する。密閉容器５３３の背面は、静磁場磁石（ここでは超電導コイル）を極低温環境に置くためのクライオスタット５１６の内壁５１７で閉じられている。クライオスタット５１６の側壁５１８は、接合板５３５で真空蓋５３２に接合されている。密閉容器５３３と架台ベース５２５との間は、密閉容器５３３の気密性を保つために、真空ベローズ５３４でつなぎ合わされている。
【００５３】
傾斜磁場コイル５０２の振動は、密閉容器５３３に機械的に伝搬する。傾斜磁場コイル５０２の振動の周波数は、パルスシーケンスの傾斜磁場の交番周波数に等価である。この傾斜磁場コイル５０２の振動に対して、密閉容器５３３のライナー５３１及び真空蓋５３２が共振しないように、つまり傾斜磁場コイル５０２の振動周波数に対して、ライナー５３１の固有振動数及び真空蓋５３２の固有振動数の固有振動数がそれぞれ相違するように、ライナー５３１及び真空蓋５３２に離散的に重り５４１、５４２，５４３，５４４が装着されている。
【００５４】
真空蓋５３２に装着される重り５４４は、例えば非磁性の金属片である。また、ライナー５３には、その内壁に沿って円環形状のゲル状の物質５４１、５４２，５４３が、装着される。物質５４１、５４２，５４３が装着される場所は、ＲＦコイル５０３のＱ値の低下を避けるために、ＲＦコイル５０３の外側である。
【００５５】
このような構造によると、傾斜磁場コイル５０２の振動に対して、密閉容器５３３のライナー５３１及び真空蓋５３２が共振しない。従って騒音が低減される。
【００５６】
なお、ライナー５３１及び真空蓋５３２に重りを装着する代わりに、又はそれと共に、ライナー５３１及び真空蓋５３２の厚さを部分的に薄くするようにしてもよい。要するに、固有振動数をずらすために、ライナー５３１及び真空蓋５３２の質量を部分的に増減することが本実施形態のポイントである。また、固有振動数のシフトとともに、補強の為に、梁や筋交いを入れるようにしてもよい。
【００５７】
（第６実施形態）  
図１１は、第６実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置の架台の縦断面図を示している。傾斜磁場コイル６０２は、その巻線としてｘコイル、ｙコイルおよびｚコイルを有する。それらｘコイル、ｙコイルおよびｚコイルは、円筒形状を有するボビンに含浸される。この略円筒形状を有する傾斜磁場コイル６０２は、床面上に設置された重量のあるコンクリート製の架台ベース６２５上に支持されている。また、傾斜磁場コイル６０２は、密閉容器６３３に収容されている。密閉容器６３３は、略円筒形状を有するライナー６３１と、その略円環板形状を有する真空蓋６３２と、略円筒形状を有するバックケーシング６３４とを有する。密閉容器６３３のバックケーシング６３４の外側には、静磁場磁石（ここでは超電導コイル）を極低温環境に置くためのクライオスタット６１６が配置されている。ライナー６３１の内面には、ＲＦコイル６３５が配置され、このＲＦコイル６３５を介して被検体に高周波磁場を印加し、また被検体からのＭＲ信号を受信する。
【００５８】
本実施形態のポイントは、傾斜磁場コイル６０２を収容する密閉容器６３３に、クライオスタット６１６の内壁を利用していないこと、換言すると、密閉容器６３３は、クライオスタット６１６とは完全に別体で構成することにある。傾斜磁場コイル６０２を収容する密閉容器６３３に、クライオスタット６１６の内壁を利用する場合、クライオスタット６１６の低い面精度及び寸法誤差等を原因として、その接合部分において真空リークが発生しやすい。しかし、本実施形態では、密閉容器６３３にクライオスタット６１６を接合しない、つまり密閉容器６３３を単独で製作するので、クライオスタット６１６の低い面精度及び寸法誤差等に依存することなく、高い気密性を達成することができる。
【００５９】
（第７実施形態）  
第７実施形態は、架台内の金属部品どうしの擦れ合いによるＢ電波の発生及び誘導電子の発生防止を目的としてなされたものであり、物理的に振動する又はその振動が伝播する磁気共鳴装置の架台を構成するすべての金属部品の締結に適用可能である。
【００６０】
架台は非常に多くの金属部品から構成されており、これら部品を締結するには主に金属ネジが使われている。例えば、図１２（ａ）に示すように、金属製の架台フレーム７２４に、銅製のチューナ板７２４を取り付ける場合、従来では、金属ネジ７２３と金属インサート７２２とを使うことが一般的である。また架台内には多くのコンデンサが設けられているが、このコンデンサをチューナ板等に取り付ける場合、またＲＦコイルチューナのコネクタをチューナ板に締結する場合にも、金属ネジが多く使われている。このように架台内では部品の固定には殆どの個所で金属ネジが使われており、図１２（ｂ）に示すように、この金属ネジと金属部品、さらには金属部品どうしが上述した激しい振動により擦れ合うと、いわゆるＢ電波が発生する。このＢ電波はＲＦコイルで拾われてしまい、画像アーチファクトを発生させることがあるが、最近までそれほど問題視されることは無かった。しかし、近年の傾斜磁場高速化及び高強度化を実現するためにますます高電圧化が進み、それに伴ってＢ電波もますます強くなる傾向にある。現在では既に、この強くなったＢ電波ノイズに起因する画像アーチファクトが無視できないほどに拡大している。また、Ｂ電波だけでなく、例えばコネクタとチューナ板との間の接触、振動によって誘導される電子が、そのまま信号線に混入し、画像アーチファクトを発生させることも問題視されている。
【００６１】
本実施形態は、このようなノイズの原因になるＢ電波や誘導電子の発生を防止することを目的としてなされたものである。
【００６２】
架台は、周知の通り、静磁場磁石、傾斜磁場コイル、ＲＦコイルを主な構成要素とする磁石装置であり、多くの金属部品を備えている。これら金属部品を他の部品に取り付ける個所も膨大に存在する。この取付個所は大きく２種類に分けることができ、図１３，図１４に示すように、一方は、ＲＦコイルを構成する銅板７０９，７１０どうし取り付け、そのＲＦコイル銅板７０９，７１０とコンデンサ７１１との取り付け、ＲＦコイル銅板７１０とリード銅板７０３との取り付け、リード銅板７０３とＲＦコイルチューナの銅板７０４との取り付け、ＲＦコイルチューナの銅板７０４とコネクタ７０６との取り付け、ＲＦコイルチューナの銅板７０４とコンデンサ７１５との取り付けに代表されるような部品どうしを物理的に固定するとともに、電気的な接続を必要とする個所であり、他方は、単に、部品どうしを物理的に固定することを主目的として、電気的な接続を必要としない個所である。
【００６３】
前者の個所で、最も好ましいは、半田７０５を使って取り付けることである。この場合、部品どうしでは擦れ合いはおきないので、Ｂ電波は生じないし、誘導電子も発生しない。しかし、半田では締結力が弱くて使えない個所も在る。この個所には、ネジが使われる。
【００６４】
図１５には、その一例として、樹脂ネジ７３３を使って金属部品７３１，７３２どうしを取り付ける例を示している。従来では金属ネジを使っていたので、この金属ネジと金属部品７３１との間、及び金属ネジと金属部品７３２との間の擦れ合いによりＢ電波及び誘導電子が発生することは避けられなかった。しかし、本例では、樹脂ネジ７３３を使うので，これらの発生は防止できる。
【００６５】
図１６に、他の例として、金属ネジ７３４を使って金属部品７３１，７３２どうしを取り付ける例を示していて、金属ネジ７３４と金属部品７３１との間の接触を避けるために、略円筒形の樹脂スペーサ７３５を用い、また金属ネジ７３４と金属部品７３２との間の接触を避けるために、樹脂タップ７３６を用いている。この例では、金属ネジ７３４を使いながらも、その金属ネジ７３４と金属部品７３１との間、また金属ネジ７３４と金属部品７３２との間を、樹脂部材７３５，７３６で絶縁していることで、Ｂ電波及び誘導電子の発生を防止することができる。
【００６６】
もちろん図１５，図１６のいずれの取り付け方法を採用してもよいし、両方法を形容してもよい。また、架台内の当該個所全てに図１５，図１６の取り付け方法を採用しなくても、一部の個所だけに採用するだけでも、Ｂ電波及び誘導電子の発生を減少させるという効果が期待できる。
【００６７】
後者の取り付け個所、つまり単に、部品どうしを物理的に固定することを主目的として、電気的な接続を必要としない個所では、例えば図１７に示すように、樹脂ネジ７３３で金属部品７３７，７３８を取り付けるのであるが、金属部品７３７，７３８の間に絶縁シート７３９をはさみ込むことで、従来のような金属ネジと金属部品間の擦れ合いによるＢ電波及び誘導電子の発生を防止することだけでなく、金属部品７３７，７３８の間の擦れ合いによるＢ電波及び誘導電子の発生を防止することも可能である。
【００６８】
また、図１８の例では、金属ネジ７３４を使って、金属部品７３７，７３８どうしを取り付ける例を示していて、金属ネジ７３４と金属部品７３７との間の接触を避けるために、略円筒形の樹脂スペーサ７４０を用い、また金属ネジ７３４と金属部品７３８との間の接触を避けるために、樹脂タップ７４１を用いている。この例では、金属ネジ７３４を使いながらも、その金属ネジ７３４と金属部品７３７との間、また金属ネジ７３４と金属部品７３８との間を、樹脂部材７４０，７４１で絶縁していることで、Ｂ電波及び誘導電子の発生を防止することができる。
【００６９】
もちろん図１７，図１８のいずれの取り付け方法を採用してもよいし、両方法を形容してもよい。また、架台内の当該個所全てに図１７，図１８の取り付け方法を採用しなくても、一部の個所だけに採用するだけでも、Ｂ電波及び誘導電子の発生を減少させるという効果が期待できる。
【００７０】
また、金属部品どうしの取り付けだけでなく、金属部品と、コイルボビン等の樹脂部品との取り付け個所においても、図１７や図１８の取り付け方法を採用することで、従来発生していた金属ネジと金属部品との擦れ合いによるＢ電波及び誘導電子の発生を防止することができる。
【００７１】
（第８実施形態）  
第８実施形態は、ＲＦコイルの外周に配置されるＲＦシールドの改良に関する。ＲＦシールドは、ＲＦコイルを外部に対して磁気的に隔離して、ＲＦコイルに外部から入ってくる電磁波ノイズを遮蔽するために、典型的には銅製の筒で構成される。この銅製の筒には、傾斜磁場の高速スイッチングに因り渦電流が生じ、傾斜磁場に歪みを生じさせる。この渦電流の時定数を短縮するために、多くのスリットが銅製筒に形成されている。
【００７２】
また、傾斜磁場のような比較的周波数の低い（１００ＫＨｚ程度まで）磁場は通過し、励起パルス等の数ＭＨｚ〜数１０ＭＨｚの高周波磁場は遮断する、つまり低周波インピーダンスを高くし、高周波インピーダンスを低くするために、スリットをまたいで銅板間にコンデンサが接続されている。他のＲＦシールドの従来構成として、誘電体基板の表面に複数の銅板を隙間（スリット）をあけて貼り付け、さらに裏面にも複数の銅板を貼り付けることにより、表裏面間に容量を形成したＲＦシールドもある。
【００７３】
エコー・プラナー・イメージング（ＥＰＩ）のような高速イメージング法が、例えば心臓の撮影などには必要とされているが、これには極めて迅速な傾斜磁場の応答が不可欠となる。このために、細かい刻み（間隔）で多数のスリットを設ける必要が生じる。しかし多数のスリットを設けると、銅板面積の低下に伴って容量が低下し、それにより個々のスリットにおける高周波的な短絡が不完全となる。その結果、シールド機能は不完全になる。
【００７４】
本実施形態は、スリットの数を増加させることと、容量の低下を防止することとをともに実現するものである。  
図１９に、本実施形態に係るＲＦシールドの部分的な斜視図を示している。誘電体基板８０１の表面に複数の銅板８０２が所定の隙間（スリット）８０５をあけて貼り付けられている。誘電体基板８０１の裏面にも、同様に、複数の銅板８０３が所定の隙間（スリット）８０６をあけて貼り付けられている。誘電体基板８０１を挟んで対向する銅板８０２，８０３の間に、容量が形成される。
【００７５】
さらに、誘電体基板８０１の表面において、隣り合う銅板８０２の間にコンデンサ８０４が接続される。同様に、誘電体基板８０１の裏面において、隣り合う銅板８０３の間にコンデンサ８０５が接続される。
【００７６】
このように構成では、表面のコンデンサ８０４と、裏面のコンデンサ８０５と、そして表面の銅板８０２と裏面銅板８０３との間の容量との合計容量は、高周波的な短絡を完全にするのに十分な容量として確保されえる。
【００７７】
（第９実施形態）  
図２０は、第９実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置の架台の縦断面図を示している。傾斜磁場コイル９０２は、その巻線としてｘコイル、ｙコイルおよびｚコイルを有する。それらｘコイル、ｙコイルおよびｚコイルは、円筒形状を有するボビンに含浸される。この略円筒形状を有する傾斜磁場コイル９０２は、床面上に設置された重量のあるコンクリート製の架台ベース９２５上に支持されている。また、傾斜磁場コイル９０２は、密閉容器９３３に収容されている。密閉容器９３３は、その内壁を構成する略円筒形状を有するライナー９３１と、その真空蓋９３２とを有する。密閉容器９３３の背面は、静磁場磁石（ここでは超電導コイル）を極低温環境に置くためのクライオスタット９１６の内壁９１７で閉じられている。クライオスタット９１６の側壁９１８は、接合板９３５で真空蓋９３２に接合されている。密閉容器９３３と架台ベース９２５との間は、密閉容器９３３の気密性を保つために、真空ベローズ９３４でつなぎ合わされている。
【００７８】
ライナー９３１の内面には、ＲＦコイル９０３が配置される。このＲＦコイル９０３には送信器及び受信器が接続される。送信器は、高周波磁場により被検体の核磁化を励起状態にするために、ラーモア周波数に対応する高周波電流パルスをＲＦコイル９０３に供給するために設けられるもので、典型的には、発振部、位相選択部、周波数変換部、振幅変調部、高周波電力増幅部から構成される。また、受信器は、ＲＦコイル９０３を介して被検体からのＭＲ信号を受信するために、前段増幅部、中間周波数変換部、位相検波部、低周波増幅部、ローパスフィルタ、ＡＤ変換器から構成される。
【００７９】
これら送信器及び受信器は、ＲＦユニット９４０の中に収められている。ＲＦユニット９４０の配置場所は、ケーブルを短縮して、電力損失やノイズ低減を図るために、ＲＦコイル９０３に近い場所に設定されている。従来では、図２０に点線で示すように、開口部９４１の縁部に近い真空蓋９３２にＲＦユニットを取り付けている。しかし、この場所は傾斜磁場コイル９０２からの漏れ磁場が最も大きい場所である。ＲＦユニット９４０は導電性部品を多く含み、これら導電性部品に、傾斜磁場コイル９０２のから漏れ磁場により渦電流が発生し、その結果、導電性部品はローレンツ力により振動する。この振動が密閉容器９３３に伝わり騒音が発生する。
【００８０】
本実施形態はこのＲＦユニット９４０を発生源とする騒音を低減することを目的としている。  
ＲＦユニット９４０は、開口部９４１の縁部に近い真空蓋９３２ではなく、さらに密閉容器９３３とは物理的に離間した場所、ここでは中心軸（Ｚ軸）から架台円筒の半径方向に関して、ＲＦコイル９０３の外側であって、開口部９４１に近いその真下付近に設置される。具体的には、ＲＦユニット９４０は、重量のあるコンクリート製の架台ベース９２５、またはそれとは別体の専用のベース上に設置する。
【００８１】
この設置場所は、従来の設置場所よりも、ＲＦコイル９０３からの漏れ磁場の影響が少ない。そのためＲＦユニット９４０は導電性部品の振動は軽減される。しかも、ＲＦコイル９０３を密閉容器９３３から物理的に離間させたこと、さらに、質量の重いコンクリート製の架台ベース９２５に取り付けたので、ＲＦコイル９０３の微小な振動は、密閉容器９３３にほとんど伝わらない。
【００８２】
従ってＲＦユニット９４０を発生源とする騒音は低減され得る。  
（第１０実施形態）  
上述したように傾斜磁場コイルは、騒音対策の為に、真空ポンプで内部空気が排気される密閉容器内に収容されている。密閉容器内の真空度（圧力）が高い（低い）ほど、騒音遮蔽効果は大きい。密閉容器内の真空度を高くするために、従来では、スキャン中、連続的に真空ポンプは運転されている。この連続運転は、真空ポンプの寿命を短縮する。能力が低下した真空ポンプを使うことは、密閉容器内の真空度を高くすることができず、騒音遮蔽効果は低下する。
【００８３】
本実施形態は、真空ポンプの負荷を軽減することで、騒音遮蔽効果をできるだけ長く持続することを実現する。  
図２１には、本実施形態に係る真空ポンプ及び配管システムを示している。密閉容器１００１はメインチューブ１００３を介して真空ポンプ１００２に接続される。メインチューブ１００３の途中には電磁バルブ１００４が配置される。メインチューブ１００３にはブランチチューブ１００５が連結され、その先は電磁バルブ１００６を介して開放されている。
【００８４】
真空ポンプ１００２の運転、電磁バルブ１００４の開閉、および電磁バルブ１００６の開閉は、ポンプ／バルブ制御部１０２０の制御下にある。真空ポンプ１００２は、ポンプ／バルブ制御部１０２０の制御に従って、図２２に示すように、運転（ＯＮ）と停止（ＯＦＦ）とを交互に繰り返す。運転期間Ｔ１の長さと停止期間Ｔ２の長さとは、密閉容器１００１内の圧力が所定の上限値を超えないように予め設定されている。これら運転期間Ｔ１の長さと停止期間Ｔ２の長さとは、それぞれ任意に調整可能である。
【００８５】
このように真空ポンプ１００２を、連続的ではなく、間欠的に運転することにより、真空ポンプ１００２を連続的に運転する場合よりも、オイルやオイルフィルター等のメンテナンス頻度を減らすことができる。  
図２３に示すように、電磁バルブ１００４の開閉、および電磁バルブ１００６の開閉は、このような真空ポンプ１００２の間欠的な運転に対して、ポンプ／バルブ制御部１０２０により関連されている。
【００８６】
まず、ブランチチューブ１００５の電磁バルブ１００６は、真空ポンプ１００２の間欠的な運転に同期して開閉される。つまり、電磁バルブ１００６は、真空ポンプ１００２のオフからオンへの切替に同期して閉じられ、真空ポンプ１００２のオンからオフへの切替に同期して開けられる。
【００８７】
一方、メインチューブ１００３の電磁バルブ１００４は、真空ポンプ１００２の負荷を軽減するために、真空ポンプ１００２のオフからオンへの切替タイミングに対して、それより時間Ｔ３だけ遅れて開けられ、真空ポンプ１００２のオンからオフへの切替タイミングに対して、それより時間Ｔ４だけ早いタイミングで閉じられる。これらの時間差Ｔ３，Ｔ４は、数秒から数分の中から任意時間に設定される。
【００８８】
真空ポンプ１００２のオフからオンへの切替タイミングから時間Ｔ３だけ遅れて電磁バルブ１００４を開けることにより、真空ポンプ１００２は、オンスタートしてから時間Ｔ３という比較的短時間の間（プレバキューム期間）に、真空ポンプ１００２内の潤滑を完了することができる。これは、排気対象が、ポンプ吸気口から電磁バルブ１００４までの小さい容積であることを理由としている。そしてオンスタートしてから時間Ｔ３経過後に、メインチューブ１００３のバルブ１００４が開けられ、電磁バルブ１００４から密閉容器１００１までの容積と密閉容器１００１の容積との合計の大容量を対象として排気オペレーション（メインバキューム）が開始されるが、このとき真空ポンプ１００２内の潤滑がすでに完了していることから、このメインバキュームオペレーションにスムーズに移行することができる。従って真空ポンプ１００２の負荷は軽減され得る。
【００８９】
次に、真空ポンプ１００２がオンスタートしてから所定時間（Ｔ１−Ｔ４）経過後、つまり真空ポンプ１００２がオフになるタイミングよりも時間Ｔ４早いタイミングで、メインチューブ１００３のバルブ１００４が閉じられる。これは、密閉容器１００１の圧力が十分低下した状態で、真空ポンプ１００２から密閉容器１００１を分離することを意味する。これにより真空ポンプ１００２の停止に伴う密閉容器１００１内の圧力の急激な上昇を未然に防止することができる。
【００９０】
（第１１実施形態）  
図２４に第１１実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置の主要部の構成を示している。架台１１０１には、静磁場Ｈ0 を発生する静磁場磁石１１０２と、傾斜磁場電源（Ｇ−ａｍｐ）１１０５から電流供給を受ける傾斜磁場コイル１１０３と、ＲＦコイル１１０４と、シムコイル電源（Ｓｈｉｍ−ａｍｐ）１１０７から電流供給を受けて静磁場不均一性を補正する磁場を発生する複数のシムコイル１１１６とが組み込まれている。
【００９１】
傾斜磁場コイル１１０３は、騒音対策の為に、真空ポンプ１１１１で内部が真空又はそれに近い状態に維持される密閉容器１１１５内に収容されている。密閉容器１１１５の内部には、内部圧力を測定するための複数の真空度センサ（真空度計）１１１２が離散的に配置されている。真空度センサ１１１２で測定した真空度データは、記憶部１１１３に送られ記憶される。またこの記憶部１１１３には真空度データとともに、真空ポンプ１１１１からの運転状況データが記憶される。運転状況データは、真空ポンプ１１１１の運転時間を表している。
【００９２】
メンテナンス情報発生部１１１４は、記憶部１１１３に記憶されている真空度データ及び運転状況データに基づいて密閉容器１１１５及び真空ポンプ１１１１のメンテナンス情報を適時発生する。メンテナンス情報発生部１１１４は、真空度データから密閉容器１１１５内の真空度（圧力）が、撮影領域での騒音が例えば９９ｄＢに対応する所定圧力よりも下がらないとき、真空ポンプ１１１１及び密閉容器１１１５のメンテナンスを促すメンテナンス情報を発生する。また、メンテナンス情報発生部１１１４は、運転状況データから累積運転時間を計算し、その累積運転時間が所定値を超えたとき、真空ポンプ１１１１のメンテナンスを促すメンテナンス情報を発生する。メンテナンス情報は、密閉容器１１１５及び真空ポンプ１１１１のメンテナンスを促すための例えばメッセージであり、ディスプレイ１１１０に表示される。
【００９３】
受信器１１０８は、ＲＦコイル１１０４を介してＭＲ信号（高周波信号）を収集し、検波、ＡＤ変換等の前処理を施して、プロセッサ１１０９に出力する。プロセッサ１１０９は、収集したＭＲデータを処理し画像やスペクトルを発生する。これら画像やスペクトルはディスプレイ１１１０に送られ表示される。
【００９４】
上記プロセッサ１１０９は、画像やスペクトルを発生するメインの機能の他に、真空度データに基づいて、受信器１１０８で収集したＭＲデータの位相を補正し、また周波数シフトを行う機能を備えている。真空度が変動すると、それに伴って静磁場の強度Ｈ0 も変動する。静磁場の強度Ｈ0 が変動すると、それに伴って傾斜磁場が重畳していない静磁場のもとでの例えばプロトンの共鳴周波数ｆ0 も変動する。プロセッサ１１０９は、予め計測された真空度と共鳴周波数ｆ0 との関係を表すデータを保持しており、この関係データを参照して、真空度データに対応する共鳴周波数（修正共鳴周波数）ｆ0 を特定する。この修正共鳴周波数ｆ0 に基づいて、ＭＲＳ（ＭＲスペクトロスコピー）では、受信器１１０８で収集したＭＲデータの位相を補正し、周波数をシフトする。この補正したデータに基づいてスペクトルを発生する。実際には、データ収集を何度か繰り返し、それぞれのデータごとに個別に位相補正及び周波数シフトを行って、複数のスペクトルを発生し、これら複数のスペクトルを加算することが行われる。ＥＰＩ（エコープラナーイメージング）のときには、収集データに基づいてＥＰＩ画像を発生し、そのＥＰＩ画像を位相エンコード方向にシフトする（ＥＰＩ画像の位置シフトは、ＰＥ方向が大きいが、ＲＯ方向にも少し発生する）。実際には、データ収集を何度か繰り返し、それぞれのデータごとに個別にＥＰＩ画像を発生し、各画像を個別に位相エンコード方向にシフトし、これら複数のＥＰＩ画像を加減算することが行われる。位相画像の場合も同様に、修正共鳴周波数ｆ0 に基づいて位相シフト量を計算し、その位相シフト量に基づいて位相画像を補正する。
【００９５】
このように本実施形態によると、メンテナンス情報を適時に発生することができる。また、真空度の変動に応じて位相及び周波数補正をかけることができる。
【００９６】
（第１２実施形態）  
図２５に第１２実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置の主要部の構成を示している。架台１２０１には、静磁場Ｈ0 を発生する静磁場磁石１２０２と、傾斜磁場電源（Ｇ−ａｍｐ）１２０５から電流供給を受ける傾斜磁場コイル１２０３と、送受信器（ＲＦ−ａｍｐ）１２０８に接続されたＲＦコイル１２０４と、シムコイル電源（Ｓｈｉｍ−ａｍｐ）１２０７から電流供給を受けて静磁場不均一性を補正する磁場を発生する複数のシムコイル１２１６とが組み込まれている。
【００９７】
傾斜磁場コイル１２０３は、騒音対策の為に、真空ポンプ１２１１で内部が真空又はそれに近い状態に維持される密閉容器１２１５内に収容されている。密閉容器１２１５の内部には、内部圧力を測定するための複数の真空度センサ（真空度計）１２１２が離散的に配置されている。真空度センサ１２１２で測定した真空度データに基づいてリアルタイムマネージャ１２１０は、パルスシーケンスに応じて傾斜磁場電源１２０５、送受信器１２０８、シムコイル電源１２０７を制御するシーケンスコントローラ１２０９に対してパルスシーケンスの実行を待機させる等の指令を出力する。また、リアルタイムマネージャ１２１０は、測定された真空度データに基づいて真空ポンプ１２１１の運転を制御する。なお、システムマネージャ１２１３はコンソール１２１４を介して入力された操作者の指示にしたがってシステム全体の制御を行うために設けられている。
【００９８】
まず、リアルタイムマネージャ１２１０のリアルタイム制御について説明する。リアルタイムマネージャ１２１０は、次の機能を実行する。  
（１）スキャン開始に先立って真空ポンプ１２１１が運転を開始するが、このとき密閉容器１２１５内の真空度（密閉容器内部圧力）が所定値を下回るまで、シーケンスコントローラ１２０９に対してスキャン開始の指令を出さない。つまり、リアルタイムマネージャ１２１０は、真空度が所定値を越えた時点で、はじめてシーケンスコントローラ１２０９に対してスキャン開始の指令を発する。（２）ＭＲＳやＥＰＩ等の磁場変動に敏感なパルスシーケンスを行うとき、特にスキャン中に真空ポンプ１２１１を連続運転をさせる。（３）スキャン中に真空度が所定値を超えたとき、当該スキャンを停止する指令をシーケンスコントローラ１２０９に対してスキャン開始の指令を発する。（４）真空度が所定値を下回っているとき、スキャン開始前に真空ポンプ１２１１を運転させ、真空度が所定値に達するまで、シーケンスコントローラ１２０９に対してスキャン開始の指令を出さない。
【００９９】
（５）撮影条件（パルスシーケンスの種類、アベレージ数、ダイナミック撮影等）に応じて真空ポンプ１２１１の運転パターンを使い分ける。例えば、磁場変動にそれほど敏感でないスピンエコー等のパルスシーケンスを行うとき、図２６（ａ）に示すようにポンプ１２１１を間欠的に運転させる。例えば真空ポンプ１２１１を期間ΔＴ１運転し、次にその運転を期間Δｔ１の間停止する。この運転／停止を交互に繰り返す。磁場変動に比較的敏感なパルスシーケンスを行うとき、図２６（ｂ）に示すようにポンプ１２１１の運転期間ΔＴ２及び停止期間Δｔ２をΔＴ１及びΔｔ１よりも短縮し、それにより磁場変動幅を小さくする。さらに、ＭＲＳやＥＰＩ等の磁場変動に対して非常に敏感なパルスシーケンスを行うとき、上記（２）と同様に、図２６（ｃ）に示すようにポンプ１２１１を連続的に運転する。さらに、ＭＲＳやＥＰＩ等の磁場変動に対して非常に敏感なパルスシーケンスを行うとき、ポンプ１２１１を連続的に運転する代わりに、ポンプ１２１１を停止して、密閉容器内部を大気圧にするようにしてもよい。この場合、騒音低減効果は期待できないが、少なくとも磁場変動は解消される。なお、リアルタイムマネージャ１２１０は、大気圧でも良好に画像再構成ができるように、大気圧に対応する画質パラメータ（磁場不均一性、中心周波数、位相ずれ）の情報を予め保持し、これらパラメータに応じて送受信器１２０８は、シムコイル電流、送受信器１２０８の高周波電流パルスの中心周波数及び位相、さらに受信系の参照周波数及び位相を調整する。
【０１００】
（６）測定された真空度と所定値との比較結果に従ってポンプ１２１１を運転／停止する。つまり、測定された真空度が上限値を超えているとき、ポンプ１２１１を運転し、逆に測定された真空度が下限値を下回っているとき、ポンプ１２１１を停止する。これにより真空度の変動を、上限値と下限値の間の範囲に抑えることができる。この上限値、下限値は、（５）と同様に、撮影条件に応じて変更され得る。
【０１０１】
（７）さらにポンプ１２１１を連続運転しても真空度が所定値以下に下がらないとき、音声又は画像表示により警告を発生する。
【０１０２】
リアルタイムマネージャ１２１０は真空度に応じて次のような補正を行う機能も備えている。（１）真空度に応じて磁場の不均一性は変化する。真空度と磁場不均一性との関係を予め測定し、リアルタイムマネージャ１２１０に保持させておく。リアルタイムマネージャ１２１０は、この関係を参照して真空度に応じて磁場不均一性を特定し、その特定した磁場不均一性に応じてシムコイル１２０７に流すシムコイル電流を調整する。これにより磁場不均一性を即時的に補正することができる。なお、実際的には、真空度と磁場不均一性との関係は離散的に測定され、その離散値から線形補間により磁場不均一性を求めることになる。（２）真空度が変動すると、それに伴って静磁場の強度も変動し、それにより傾斜磁場が重畳していない静磁場のもとでの例えばプロトンの共鳴周波数Ｂ0 も変動する。リアルタイムマネージャ１２１０は、この真空度に対応する共鳴周波数Ｂ0 に応じて、送受信器１２０８の送信系の高周波電流パルスの中心周波数及び位相を調整する。また、受信系の参照周波数及び位相を調整する。
【０１０３】
（変形例）
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することが可能である。さらに、上記実施形態には種々の段階が含まれており、開示される複数の構成要件における適宜な組み合わせにより種々の発明が抽出され得る。例えば、実施形態に示される全構成要件から幾つかの構成要件が削除されてもよい。
【符号の説明】
【０１０４】
１…静磁場磁石、２…静磁場電源、３…傾斜磁場コイル３、４…傾斜磁場電源、５…シーケンサ、６…コントローラ、７…ＲＦコイル、８Ｔ…送信器、８Ｒ…受信器、１０…演算ユニット、１１…記憶ユニット、１２…表示器、１３…入力器、１４…架台（ガントリ）、１８…寝台。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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