(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス又はガラス状の材料のマーキング方法であって、
離散マーキングステップによって形成され、且つ、（ｘ，ｙ）方向のうち少なくとも１つの方向に沿って分布する複数の離散マーク（Ａ，Ｂ）からなるマーク配列（３）を、前記ガラスの内部若しくは表面に、又は、前記ガラス状の材料の内部若しくは表面に形成するために、書き込み用レーザービーム（９）と、前記ガラス（５）又は前記ガラス状の材料（５）と、が相対的に移動させられ、
所定の方向（ｘ，ｙ）において隣り合って隣接するマーク（Ａ１１，Ｂ１１；Ａ１１，Ａ２１）は、一方のマーキングステップの直後に他方のマーキングステップが連続的に実行されることのない２つのマーキングステップ（ＰＡ１１，ＰＡ１２；ＰＡ１１，ＰＡ３１）によって形成され、
前記マーキングステップは、前記所定の方向において一定の間隔を空けて交互に互いに離間される少なくとも２つのマーク群を前記所定の方向（ｘ，ｙ）において形成し、
一定の間隔で離間された前記各マーク群は、前記所定の方向（ｘ，ｙ）に沿って、前記書き込み用レーザービーム（９）と、前記ガラス（５）又は前記ガラス状の材料（５）と、の間で行われる行方向又は列方向への相対移動によって形成されるか、又は、隣り合って隣接する前記マークが、一方のマーキングステップの直後に他方のマーキングステップが連続的に実行されるマーキングステップによって形成されないように、不規則な順序で前記マークを形成することによって形成されることを特徴とするマーキング方法。
【請求項２】
前記所定の方向において第一マーク（Ａ１１）に隣り合って隣接しない他のマーク（Ａ１２；Ａ３１）を形成するための追加のマーキングステップ（ＰＡ１２；ＰＡ３１）が、各第一マーキングステップ（ＰＡ１１）と、前記所定の方向（ｘ；ｙ）において隣り合って隣接して配置される第一及び第二マーク（Ａ１１，Ｂ１１；Ａ１１，Ａ２１）の各マークを形成するための各第二マーキングステップ（ＰＢ１１；ＰＡ２１）と、の間で実行されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記マークは、ショートレーザーパルスによって形成され、
前記マーク配列（３）の前記マークは、２次元のマトリックス（１）を形成し、
前記マークは、情報を符号化するために、２つの互いに直交する方向（ｘ，ｙ）に沿って配置され、且つ、互いに離間されていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記マーク配列（３）、又は、前記マーク配列（３）及びその近傍は、所定の温度まで加熱されることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記マーク配列（３）、又は、前記マーク配列（３）及びその近傍は、拡大された加熱レーザービーム（１２）によって、所定の温度まで加熱されることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記レーザーパルスの出力は、前記マークが前記ガラスの転移温度（Ｔｇ）より少なくとも２０Ｋ高い第一所定温度（Ｔ１）で形成される程度の出力であることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記マーク配列（３）、又は、前記マーク配列（３）及びその近傍は、前記第一所定温度（Ｔ１）よりも低い温度（ＴＨ１；ＴＨ２）まで加熱されることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記マーク又は前記マーク配列（３）は、前記マーキングステップの実行中、及び／又は、実行後に、前記ガラス転移温度（Ｔｇ）よりも低い第二所定温度（Ｔ２）に達するまで、制御された方法によって冷却されることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項９】
制御された赤外線加熱又は制御された光放射が、制御された焼き戻しを実現するために、前記制御された方法による前記冷却用に使用されることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記第二所定温度（Ｔ２）は、前記ガラス転移温度よりも少なくとも２０Ｋ低く、及び／又は、追加の冷却ステップが、前記温度が前記第二所定温度を下回った場合に実行されることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記第二所定温度（Ｔ２）は、前記ガラス転移温度よりも少なくとも４０Ｋ低く、及び／又は、追加の冷却ステップが、前記温度が前記第二所定温度を下回った場合に実行されることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
前記追加の冷却ステップが、前記温度が前記ガラス転移温度よりも少なくとも５０Ｋ低い温度を下回った場合に実行されることを特徴とする請求項１０または１１に記載の方法。
【請求項１３】
少なくとも０．０１秒の長さの時間間隔が、隣り合って隣接するマーク（Ａ１１，Ｂ１１；Ａ１１，Ａ２１）を生成するための２つのマーキングステップ（ＰＡ１１，ＰＢ１１；ＰＡ１１，ＰＡ２１）の間に存在し、その時間間隔の間に、前記ガラスの内部又は表面における前記書き込み用レーザービーム（９）の強さが減少又は消滅することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記マーク配列（３）において隣り合って隣接する前記離散マーク（Ａ，Ｂ）のうち少なくともいくつかのマークは、互いに部分的に重複することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記マーク配列（３）において隣り合って隣接する前記離散マーク（Ａ，Ｂ）は、ある程度互いに重複するように形成されることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記マーク配列（３）において隣り合って隣接する前記離散マーク（Ａ，Ｂ）は、それぞれ所定の直径を有する円形のマークとして形成され、且つ、隣り合って隣接する前記マークの前記所定の各直径は、隣り合って隣接する前記マークの間の距離よりも最大１０％だけ長くなるように形成されることを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記マーク配列（３）において隣り合って隣接する前記離散マーク（Ａ，Ｂ）は、それぞれ所定の直径を有する円形のマークとして形成され、且つ、隣り合って隣接する前記マークの前記所定の各直径は、隣り合って隣接する前記マークの間の距離よりも最大２０％だけ長くなるように形成されることを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
前記ガラス又は前記ガラスから形成されたガラス製品は、加熱状態のままで検査され、欠陥のあるガラス又は欠陥のあるガラス製品の前記マーク配列のマークが、熱処理によって、読み取りにくい状態か、又は、無効な状態にされることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
ガラス（５）の内部若しくは表面、又は、ガラス状の材料（５）の内部若しくは表面の複数の離散マークによる請求項１〜１８のいずれか１項に係る前記ガラス又は前記ガラス状の材料のマーキング方法を実装するためのマーキング装置であって、
前記ガラス又は前記ガラス状の材料の表面に結像する書き込み用レーザービーム（９）を生成するための書き込み用レーザー（６）と、
前記マーク配列（３）を形成中に、前記書き込み用レーザービーム（９）と、前記ガラス（５）又は前記ガラス状の材料（５）と、を互いに相対移動させるための調整手段であって、
前記マーク配列（３）を形成する複数の離散マークが、前記ガラスの内部若しくは表面、又は、前記ガラス状の材料の内部若しくは表面に形成されるように、前記書き込み用レーザービームと、前記ガラス又は前記ガラス状の材料と、を相対移動させるために構成され、
所定の方向（ｘ，ｙ）において隣り合って隣接するマーク（Ａ１１，Ｂ１１；Ａ１１，Ａ２１）が、一方のマーキングステップの直後に他方のマーキングステップが連続的に実行されない２つのマーキングステップ（ＰＡ１１，ＰＡ１２；ＰＡ１１，ＰＡ３１）によって形成されるように構成される制御手段（１５）を提供する調整手段と、を有し、
さらに、前記制御手段（１５）は、一定の間隔で離間される前記マークからなる群の各々が、前記所定の方向（ｘ；ｙ）に沿って前記書き込み用レーザービーム（９）と、前記ガラス（５）又は前記ガラス状の材料（５）と、の間の行方向又は列方向の相対移動によって、又は、一方のマーキングステップの直後に他方のマーキングステップが実行されるマーキングステップによって隣り合って隣接するマークが形成されないように不規則な順序で前記マークを形成することによって構成されることを特徴とするマーキング装置。
【請求項２０】
前記制御手段（１５）は、さらに、前記所定の方向において第一マーク（Ａ１１）に隣り合って隣接しない他のマーク（Ａ１２；Ａ３１）を形成するための追加のマーキングステップ（ＰＡ１２；ＰＡ３１）が、各第一マーキングステップ（ＰＡ１１）と、前記所定の方向（ｘ；ｙ）において隣り合って隣接して配置される第一及び第二マーク（Ａ１１，Ｂ１１；Ａ１１，Ａ２１）の各々を形成するための各第二マーキングステップ（ＰＢ１１；ＰＡ２１）と、の間で実行されるように構成されることを特徴とする請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
前記書き込み用レーザー（６）は、ショートレーザーパルスによって前記マークを形成
し、
前記制御手段（１５）は、さらに、前記マーク配列（３）のマークが２次元のマトリックス（１）を形成し、前記２次元のマトリックス（１）において、前記マークが、２つの互いに直交する方向（ｘ，ｙ）に沿って配置され、且つ、情報の符号化のために互いにオフセットされることを特徴とする請求項１９に記載の装置。
【請求項２２】
加熱装置が、前記マーク配列（３）、又は、前記マーク配列（３）及びその近傍を、所定の温度まで加熱することを特徴とする請求項２１に記載の装置。
【請求項２３】
前記加熱装置は、拡大された加熱レーザービーム（１２）を放射する加熱レーザーであることを特徴とする請求項２２に記載の装置。
【請求項２４】
前記書き込み用レーザー（６）のレーザーパルスの出力は、前記マークが前記ガラスの転移温度（Ｔｇ）よりも少なくとも２０Ｋ高い第一所定温度（Ｔ１）において形成される程度の出力であることを特徴とする請求項２３に記載の装置。
【請求項２５】
前記加熱レーザーは、前記マーク配列（３）、又は、前記マーク配列（３）及びその近傍が、前記第一所定温度（Ｔ１）よりも低い温度（ＴＨ１；ＴＨ２）まで加熱されるように、前記拡大された加熱レーザービーム（１２）を放射することを特徴とする請求項２４に記載の装置。
【請求項２６】
光放射を放射するための光放射源をさらに有し、前記光放射源は、前記マーク又は前記マーク配列（３）が、前記マーキングステップの実行中、及び／又は、実行後に、前記ガラス転移温度（Ｔｇ）より低い第二所定温度（Ｔ２）に達するまで、制御可能な方法によって冷却されるように構成されることを特徴とする請求項２２に記載の装置。
【請求項２７】
前記光放射源は、さらに、前記第二所定温度（Ｔ２）が、前記ガラス転移温度よりも少なくとも２０Ｋ低い温度であるように構成される請求項２６に記載の装置。
【請求項２８】
前記光放射源は、さらに、前記第二所定温度（Ｔ２）が、前記ガラス転移温度よりも少なくとも４０Ｋ低い温度であるように構成される請求項２６に記載の装置。
【請求項２９】
前記制御手段（１５）は、さらに、少なくとも０．０１秒の長さの時間間隔が、隣り合って隣接するマーク（Ａ１１，Ｂ１１；Ａ１１，Ａ２１）を生成するための２つのマーキングステップ（ＰＡ１１，ＰＢ１１；ＰＡ１１，ＰＡ２１）の間に存在し、その時間間隔の間に、前記ガラス内部又は表面における前記書き込み用レーザービーム（９）の強さが減少又は消滅するように構成されることを特徴とする請求項１９に記載の装置。
【請求項３０】
前記制御手段（１５）は、さらに、前記マーク配列（３）において隣り合って隣接する前記離散マーク（Ａ，Ｂ）のうち少なくともいくつかが互いに部分的に重複するように構成されることを特徴とする請求項１９に記載の装置。
【請求項３１】
前記制御手段（１５）は、さらに、前記マーク配列（３）において隣り合って隣接する前記離散マーク（Ａ，Ｂ）が、それぞれ所定の直径を有する円形のマークとして形成され、且つ、隣り合って隣接する前記マークの前記所定の各直径が、隣り合って隣接する前記マークの間の距離よりも最大１０％だけ長くなるように構成されることを特徴とする請求項３０に記載の装置。
【請求項３２】
前記制御手段（１５）は、さらに、前記マーク配列（３）において隣り合って隣接する前記離散マーク（Ａ，Ｂ）が、それぞれ所定の直径を有する円形のマークとして形成され、且つ、隣り合って隣接する前記マークの前記所定の各直径が、隣り合って隣接する前記マークの間の距離よりも最大２０％だけ長くなるように構成されることを特徴とする請求項３０に記載の装置。
【請求項３３】
前記ガラス又は前記ガラスから形成されたガラス製品を加熱状態のままで検査して、欠陥のあるガラス又は欠陥のあるガラス製品の前記マーク配列上の前記マークを、熱処理によって読み取りにくい状態か又は無効な状態にするための検査方法及び処理方法をさらに有することを特徴とする請求項１９に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本出願は、２０１０年９月２０日に出願された「ガラスのマーキング方法及び装置」というタイトルの独国特許出願公開第１０２０１００３７２７３．０−４５号明細書（Ｇｅｒｍａｎ  ｐａｔｅｎｔ  ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ  Ｎｏ．１０２０１００３７２７３．０−４５）に基づく優先権を主張し、その内容は全て参照することにより本明細書に組み込まれる。
【０００２】
本発明は、ガラスにマーキングすなわち刻印するための方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００３】
信頼性高くガラス又はガラス製品にマーキングすなわち刻印することは、例えば追跡することを目的に、ガラスのバッチ（ｂａｔｃｈ）又はガラス製品にマーキングするなどのために、ますます重要になってきている。また、特に、ガラスの内部又はガラス表面の不正開封防止マークは、例えば製薬業界用のガラス製のバイアル瓶などの形態のガラス製の一次包装において、当初の品質を保証することが望ましいこともある。
【０００４】
最近は、レーザー照射が、ガラスにマーキングすなわち刻印するためにますます使用されている。そのような方法は、本出願人による独国特許出願公開第１０２３４００２号明細書（ＤＥ１０２３４００２Ａ１）の導入部分に非常に明瞭に記載されており、開示目的のためにその内容は全て参照することにより本明細書に組み込まれる。しかしながら、そのような方法は、一般的に高価な特別な手段をしばしば必要とする。
【０００５】
本出願人による独国特許発明第１０１２２３３５号明細書（ＤＥ１０１２２３３５Ｃ１）（米国特許出願公開第２００３／００２９８４９号明細書（ＵＳ２００３／００２９８４９Ａ１）に対応）は、レーザーを用いてガラスにマーキングするための方法及び装置を開示しており、そこでは、マーキングされるガラス表面への熱インパクト（ｔｈｅｒｍａｌ  ｉｍｐａｃｔ）によって、マークがガラス表面に提供される。この場合、例えばガラス管製造中の管引抜き加工工場におけるように、マークはガラス転移温度よりも高い温度で形成される。
【０００６】
本出願人による独国特許出願公開第１０２３４００２号明細書（ＤＥ１０２３４００２Ａ１）は、各々がレンズ効果を与えるガラス表面の一箇所以上の局所変形によってマークが形成される類似の方法を開示する。
【０００７】
国際公開第２００９／１２８８９３号明細書（ＷＯ２００９／１２８８９３Ａ１）は、例えば、超撥水表面（ｈｙｐｅｒ−ｈｙｄｒｏｐｈｏｂｉｃ  ｓｕｒｆａｃｅ）、微小空洞配列（ｍｉｃｒｏ  ｃａｖｉｔｙ  ａｒｒａｙ）、マイクロレンズシステム（ｍｉｃｒｏ−ｌｅｎｓ  ｓｙｓｔｅｍ）、生命科学用のマイクロミキシングリアクター（ｍｉｃｒｏ−ｍｉｘｉｎｇ  ｒｅａｃｔｏｒ）を与えるセル（ｃｅｌｌ）などを提供する微小流体システム（ｍｉｃｒｏ−ｆｌｕｉｄｉｃ  ｓｙｓｔｅｍ）などへの応用のために、ガラス基板表面の内部に微細構造の空洞（ｍｉｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅ  ｃａｖｉｔｙ）を形成するためのレーザーアブレーションによる方法を開示する。開示される第一実施形態では、複数の第一レーザースポットが第一直線に沿って配置され、複数の他のレーザースポットが第一直線に平行な第二直線に沿って配置される。また、開示される第二実施形態では、相互に重複し合う連続的なレーザースポット群が、密集した間隔で、そして、吃音的な方法（ｓｔｕｔｔｅｒｉｎｇ  ｍａｎｎｅｒ）で、より正確に言えば交差する形状で、直線方向に形成される。上記のレーザースポットは、互いに重なり合う。ガラス基板の表面内部の微細構造の空洞は、レーザーアブレーションによって形成される。しかしながら、互いに隣接するレーザースポットが、互いに同時に又は連続的に配置されるかどうかは重要ではない。それどころか、ガラス基板の表面内部に形成される微細構造の空洞の開口部直径及び形状は、互いのレーザースポット間の距離及び互いのレーザースポットの重複によって調整される。
【０００８】
特に、多数のマーキングポイントからなる複雑なマークを形成するためには、多くのエネルギー量が比較的短い時間内にガラス内部に蓄積される必要があり、そのことによって、ガラス転移温度よりも高い温度でマークを形成するにも関わらず、例えば微小クラック（ｍｉｃｒｏ−ｃｒａｃｋ）などの材料の脆弱化が引き起こされる場合がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、ガラス、又は、必ずしも透明である必要のないガラス状の材料にマーキングすなわち刻印するための改善された方法及び改善された装置を提供することであり、それによって、より信頼性高く且つ材料に優しくガラス又はガラス状の材料にマーキングを供給することができる。さらに、本発明の他の態様によれば、特に不正開封防止及び／又は良好に読み取り可能なマークを可能にする関連する方法及び関連する装置が提供される。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明に係る方法では、一方のマーキングステップの直後に他方のマーキングステップが実行される２つのマーキングステップによって、隣り合って隣接するマークが形成されない。さらに正しく言えば、本発明に従って、上記２つのマーキングステップの間に追加のマーキングステップが実行されるが、追加のマーキングステップは、第一マークに隣り合って隣接せず、上記２つのマーキングステップによって形成される別のマークを形成する働きをする。換言すれば、本発明によれば、マークは順次すなわち連続的に形成されず、時間的にオフセットされる。したがって、最初の第一マーク後に、別のマークが別のマーキングステップによって、すなわち、時間的にシフトされた別のマーキングステップによって形成される前に、第一マークに隣り合って隣接しないマークが形成される。典型的な好ましい実施形態によれば、例えば、最初の第一マーク後に、別のマーキングステップによって、第一マークと１つおいて隣のマーク又はさらに遠方に位置する別のマークとの間に形成される別のマークが形成される前に、１つおいて隣のマークが形成されてよい。
【００１２】
このようにして、本発明によれば、離散マークからなるマーク配列を迅速に形成することができるが、結果として生じる材料の熱及び機械的応力は、優位に低く保たれ、材料の内部に良好に分布させられる。より正確に言えば、隣り合って隣接するマークを形成する前に、材料をある程度冷却することができる。それゆえに、本発明によれば、マーク配列の機械的強度を優位に高めることができる。本発明の精巧な一連の実験によって、隣り合って隣接する２つのマークが、一方のマークの直後に他方のマークが形成されるように先行技術によって形成されるならば、単一のマーキングステップのみが実行される場合と比較して、より高い材料温度が２つのマーク間の重複ゾーンに分布し、そのことは従来、材料強度に悪影響を及ぼしただろう。しかしながら、本発明によれば、一連のマーキングステップは、先行するマーキングステップによって生じる温度勾配が、後続のマーキングステップ時には完全に低下しているように調整可能であり、それゆえに、単一のマーキングステップの場合と同様の温度プロファイルに近くなる。
【００１３】
一般的に、本発明に係る隣接するマークの交互の書き込みは、要求されるマーク配列全体が複数のマークによって形成されることが保障される限り、そして、隣り合って隣接するマークが一方のマーキングステップの直後に他方のマーキングステップが実行されるマーキングステップによって形成されることがないようにする限り、個々のマークに関するいかなる順序によっても実行することができる。この目的のために、原則的に、要求されるマーク配列が複数のマークによって形成されることが全体を通して保障される限り、そして、隣り合って隣接するマークが一方のマーキングステップの直後に他方のマーキングステップが実行されるマーキングステップによって形成されない限り、１つのレーザービームがマーク配列の個々のマークを不規則な順序で書き込んでよい。そのため、この連続するマークの不規則な順序は１つの制約、より正確に言えば、隣り合って隣接するマークが一方のマーキングステップの直後に他方のマーキングステップが実行されるマーキングステップによって形成されないようにする制約を受ける。しかしながら、一般的に、本発明によれば各マーキングステップは一定の順序であることが好ましく、例えば、そのマーキングステップは、点状の各マークからなるインタリーブ式のマーキング列、すなわち、互い違いのマーキング列によって具現化される。
【００１４】
本発明に係る方法では、マークは、少なくとも１つの空間方向、好ましくは空間的に２つの互いに直交する方向に沿って分布することが好ましい。それゆえに、そのような実施形態では、符号パターンに適合する一定のシーケンスによってマークが形成される。スピード、すなわち隣り合って隣接する２つのレーザースポット間の最大時間間隔に関して、符号化スピードが最適化されることが好ましい。
【００１５】
その結果、マークは、全体として一次元又は二次元配列が、情報の符号化のために使用することのできる離散マーカーポイントから形成されるように、空間内の各方向に沿って一定の間隔で互い違いに形成されることが好ましい。
【００１６】
別の実施形態によれば、所定の各方向において一定に離間されたマークの少なくとも２つのマーク群がマーキングステップによって形成されるが、そのマーキングステップは、所定の各方向においてインタリーブ式（ｉｎｔｅｒｌｅａｖｅｄ）又はインタレース式（ｉｎｔｅｒｌａｃｅｄ）である。上記のマーキングステップは、例えば、ガラス表面にパルスレーザービームを偏向させることによって実行でき、行の各スキャン又は列の各スキャンに対して、１つおいて隣、２つおいて隣などのマーカーポイントのみが書き込まれ、マーク配列のオフセットされた各マーカーポイントを書き込むための後続のスキャンによって各行又は各列が再度オフセットされてスキャンされる。本発明に係るマーカーポイント群の時間遅延書き込みは、マーク配列の形成を非常に容易にする。また、この方法によって、特に、非常に均一な状態が各マーカーポイントに対して保たれる。
【００１７】
高い機械的強度を得るために、そして、亀裂の形成を防ぐために、ガラス転移温度Ｔｇより少なくとも２０Ｋ高い所定の温度でマークが形成されると特に有利であることが分かった。第一実施形態によれば、原則的に、レーザーパルスの出力及び／又は強さを適切に調整することによってこのことを達成することができる。本発明の好ましい実施形態によれば、マーク配列又はマーク配列及びその近傍の全体が、ガラス転移温度よりも少なくとも２０Ｋ高い所定の温度で各マークが刻印されるように適切に加熱される。
【００１８】
この目的のために、マーク配列又はマーク配列及びその近傍の温度は、ガラス転移温度よりも少なくとも２０Ｋ高い温度に常に保つことができる。本発明によれば、レーザーパルスの強さは材料のいかなる加熱も生じさせないように、すなわち、いかなる場合においても材料の著しい加熱がないように調整されるが、材料全体は少なくとも各マーカーポイントの書き込みのために転移温度よりも少なくとも２０Ｋ高い温度まで加熱される。
【００１９】
マーク配列又はマーク配列及びその近傍を加熱するために、一般的に、バーナーによる加熱、赤外線加熱などを含む任意の加熱方法を使用することができる。しかしながら、光放射による予熱、特に、ＣＯ２レーザーの拡大されたレーザービームのように、適切に拡大されるか、又は、適切に結像される加熱レーザービームによる補助を備える光放射による予熱を使用することが好ましい。
【００２０】
さらに別の実施形態によれば、マーク又はマーク配列がガラス転移温度より低い第二所定温度に達するまで、マーキングステップ中及び／又はマーキングステップ後に制御された冷却によって冷却される場合、より低い張力を有するマーク配列を実現できる。この目的のために、原則的に、材料を加熱するために使用される加熱方法が用いられてよく、特に、適切に調整された加熱レーザービームが用いられてよい。代わりに、例えば、マーキングステップ実行後に即座にガラスを取り出し、下流の赤外炉において冷却することによって、制御された赤外線加熱を同様に用いることができる。
【００２１】
適切に言えば、第二所定温度はガラス転移温度よりも少なくとも２０Ｋ低く、より好ましくはガラス転移温度よりも少なくとも４０Ｋ低い。
【００２２】
上記の温度が、さらに別の好ましい実施形態に従って第二所定温度よりも下がった後に、例えば、室温又は次工程に対する適切な温度に達するまで、ガラスの追加の冷却が実行されてもよい。上記の追加の冷却は、所定の冷却率すなわち冷却プロフィルの観点において制御されている必要はない。特に、マークされた材料は周囲環境で徐々に冷却されてもよい。
【００２３】
他の好ましい実施形態によれば、隣り合って隣接するマークを形成するための２つのマーキングステップの間に所定の時間間隔が存在し、その時間間隔の間に、上記のガラス内部又は表面、若しくは、上記の材料内部又は表面において書き込み用レーザービームの強さは減少又は無視できるほど小さくなる。上記の間隔は少なくとも１０ｍｓに渡って継続することが好ましい。本発明に係る上記の方法によって、優位な安定性及び低い張力を有するマーク配列を実現することができる。
【００２４】
他の実施形態によれば、隣り合って隣接するマークの配列内に形成される離散マークの少なくともいくつかは、互いに重複して形成される。この実施形態は、本願発明者による驚くべき発見に基づいたものであり、その発見は次の一連の精巧な実験の結果である。本願発明者は、マーカーポイントを読むことに対する読み取り品質の評価に対する手法を開発した。もちろん、マーク配列の離散マークは、高精度に且つ信頼性高く読み取ることができ、そして、マーク配列によって既に符号化されている情報全体を再度正確に、且つ信頼性高く読み取ることができるように形成されることが要求される。この目的のために、隣り合って隣接するマークが材料内部に実質的に互いに離間されて、つまり、互いに重複しない離散ポイントの形態で形成されると期待するだろう。このことは、同じ直径のマークに対するマーク配列の加工密度が低くなるという欠点を有している。ところが驚くことに、本願発明者は、隣り合って隣接するマーカーポイントがある程度互いに隣接していたとしても、マーカーポイントの読み取り精度を向上させられることを見出した。本発明によれば、上記のことは、より高い加工密度でありながら、高信頼性で及び高精度な読み取りを併せ持つという利点が提供される。隣り合って隣接するマーカーポイントが互いに重複すると、読み取り品質が劣化すると予想するだろう。上記のことに対する説明がなくとも、マーク配列の光読み出し用の凹面状の結像レンズとして機能する離散ポイントが、実際には、個々のマーカーポイントの外周縁部ではなく、各マークの核の部分のみが結像レンズとして機能するということが、実際に観測された効果的な読み取り品質に対する主要な理由であると考えられる。ここで、また、マークの最適サイズは、光学検査システムの設計に依存させられることにも注目すべきである。
【００２５】
また、原則的に、マーカーポイントは、隣り合って隣接するマーカーポイントがある程度互いに重複するように形成される楕円形のマーカーポイントとして形成することができる。好ましい実施形態によれば、マーク配列において隣り合って隣接する離散マークが、それぞれ所定の直径を有し、隣り合って隣接するマークの所定の各直径がマーク間の距離の最大１０％、好ましくは最大２０％だけ長くなるように形成される円形のマークとして形成される。
【００２６】
さらに、本発明の他の態様は、ガラス、又は、必ずしも透明である必要のないガラス状の材料にマーキングすなわち刻印するように上記の方法を実行するために構成される装置に関する。ガラスの内部若しくは表面、又は、ガラス状の材料の内部若しくは表面の複数の離散マークによるガラス又はガラス状の材料の、特に上記の方法を実行するために協働してマーク配列を形成するマーキング装置であって、ガラス又はガラス状の材料の表面に結像する書き込み用レーザービームを生成するための書き込み用レーザーと、マーク配列を形成中に、書き込み用レーザービームとガラス又はガラス状の材料とを互いに相対移動するための移動手段であって、複数の離散マークがガラスの内部若しくは表面、又は、ガラス状の材料の内部若しくは表面に、マーク配列とともに形成されるように、書き込み用レーザービームとガラス又はガラス状の材料とを相対移動させるために構成され、所定の方向において隣り合って隣接するマークが、一方のマーキングステップの直後に他方のマーキングステップが連続的に実行されない２つのマーキングステップによって形成されるように構成される制御手段を提供する移動手段と、を有するマーキング装置が提供される。さらに、上記制御手段は、一定の間隔で離間される各マーク群が、所定の方向に沿って書き込み用レーザービームとガラス又はガラス状の材料との間の行ごとの相対移動又は列ごとの相対移動によって、又は、一方のマーキングステップの直後に他方のマーキングステップが実行されるマーキングステップによって隣り合って隣接するマークが形成されないように不規則な順序でマークを形成することによって形成されるように構成される。
【００２７】
以下では、本発明が典型的な方法で以下の添付図を参照して記載され、それらの図から、さらなる利点、特徴、及び解決される問題が明確になるだろう。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】複数の離散マークからなる本発明に係るマーク配列の概略上面図を示す。
【図２】本発明に係るマーク配列を形成するためのレーザーパルスシーケンスを示す。
【図３】図１に示される本発明に係るマーク配列を形成するための本発明に係る装置を示す。
【図４】本発明に係る方法におけるマーク又はマーク配列の時間依存性を示す。
【図５ａ】本発明に係るデジタルマトリックスコード（ｄｉｇｉｔａｌ  ｍａｔｒｉｘ  ｃｏｄｅ）の比較図を示す。
【図５ｂ】本発明に係るデジタルマトリックスコード（ｄｉｇｉｔａｌ  ｍａｔｒｉｘ  ｃｏｄｅ）の比較図を示す。
【図６ａ】追加の加熱なしの従来の方法によって生成されたマークの張力プロファイルであって、互いに直交する２つの軸に沿ってマークを横断する方向の張力プロファイルを示す。
【図６ｂ】追加の加熱なしの従来の方法によって生成されたマークの張力プロファイルであって、互いに直交する２つの軸に沿ってマークを横断する方向の張力プロファイルを示す。
【図７ａ】追加の加熱を伴う本発明に係る方法によって生成されたマークの張力プロファイルであって、互いに直交する２つの軸に沿ってマークを横断する方向の張力プロファイルを示す。
【図７ｂ】追加の加熱を伴う本発明に係る方法によって生成されたマークの張力プロファイルであって、互いに直交する２つの軸に沿ってマークを横断する方向の張力プロファイルを示す。
【図８ａ】制御された焼き戻し（ｔｅｍｐｅｒｉｎｇ）によって張力の減少が達成される本発明の他の実施形態に係る方法によって生成されたマークの張力プロファイルであって、互いに直交する２つの軸に沿ってマークを横断する方向の張力プロファイルである。
【図８ｂ】制御された焼き戻し（ｔｅｍｐｅｒｉｎｇ）によって張力の減少が達成される本発明の他の実施形態に係る方法によって生成されたマークの張力プロファイルであって、互いに直交する２つの軸に沿ってマークを横断する方向の張力プロファイルである。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
添付図では、同一の参照番号が、同一か又は略同等の要素又は要素グループを示す。
【００３０】
図１は、行（ｘ方向）及び列（ｙ方向）に沿って、正確に言えば、一定の間隔で分布する複数のマーク２からなるデジタルマトリックスコード１の例を示す。以下では、例として、２つのマーカーポイントで構成されたマトリックス配置が、完全にマトリックスコード１をカバーするものと仮定するが、実用例では必ずしもそうである必要はない。全体を通して、図１に従って、マーク２はマーク配列３の範囲内に配置される。一般的に、個々のマーク２は、以下に記載される改善を除けば、本出願人による独国特許出願公開第１０２３４００２号明細書（ＤＥ１０２３４００２Ａ１）及び独国特許発明第１０１２２３３５号明細書（ＤＥ１０１２２３３５Ｃ１）に記載されているように形成することができる。
【００３１】
それぞれのマークによって、デジタルマトリックスコードを自動的に読み出せるように、特にレンズ効果を有する局所的な変形が生じさせられてよい。この方法によって、例えば、ガラスの材料、品質、製造元、製造日などに関する情報を符号化し、又は、製薬業界用の一次包装、特にガラス製のバイアル瓶などのガラス製の製品内の内容物、製造元、製造日、バッチ番号などに関する情報さえも符号化する。一例として、ＩＳＯ／ＩＥＣ１６０２２：２０００及びＩＳＯ／ＩＥＣ２４７２０：２００６に従うデータマトリックスコードが使用されてよい。情報の符号化は、例えばＥＦＰＩＡ（欧州製薬団体連合会の２００８年１０月７日付けのプレスリリース）に従って設計することができる。
【００３２】
符号化のために、各々の局所変形部の個々の焦点距離を用いることができるし、又は、同一の局所変形部の異なる焦点距離でさえも用いてよいし、若しくは、いくつかの異なる局所変形部の焦点距離でさえも用いてよい。さらに、個々の変形部間の距離も同様に、情報を符号化するために用いられてよい。
【００３３】
本発明に係るデジタルマトリックスコード１におけるマーカーポイント２は、マトリックスコードの行方向及び列方向のマーキング順序において、一方のマーキングの直後に他方のマーキングが連続して実行されるマーキングステップによって形成されない。正確に言えば、ｘ方向及びｙ方向に隣り合って隣接するマークが、一方のマーキングステップの直後に他方のマーキングステップが連続して実行されることのない２つのマーキングステップによって形成され、その２つのマーキングステップの間において隣り合って隣接していないマーカーポイント２を形成するために別のマーキングをするステップが実行されることによってマーク２が形成される。
【００３４】
例として、図１に従う例において、マトリックスコードがｘ方向にレーザービームをスキャニングすることで一度に直線方向に刻印されると仮定すれば、マークＡ１１の形成直後に書き込まれるのは、隣り合って隣接するマークＢ１１ではなく、この例では１つおいて隣のマークＡ１２であり、その後も順番に１つおいて隣のマークＡ１３という具合に、マトリックスコード１の第一行全体の刻印が完了するまで書き込まれる。従って、本例では、文字Ａがマトリックスコードの各直線方向の第一スキャンの間に書き込まれるマークを示す。そして、図１では、マトリックスコードの同一の直線方向の後続のスキャンにおいて書き込まれるマークが、文字Ｂによって示される。そのため、第一の直線における後続のラインスキャンにおいて、マトリックスコードの第一直線全体の書き込みが完了するまで、第一スキャニングステップに対してマーカーポイントが相対的にオフセットされた状態で、マーカーポイントＢ１１、Ｂ１２、Ｂ１３・・・がこの順番で書き込まれる。このプロセスは、マトリックスコード１の全体の書き込みすなわち刻印が完了するまで、Ａ２１、Ａ３１などで始まるマトリックスコードの他の直線方向に対応して繰り返される。
【００３５】
従って、図１に係るマトリックスコード１においては、マーカーポイントＡ１１、Ａ１２、Ａ１３・・・及びマーカーポイントＢ１１、Ｂ１２、Ｂ１３・・・によって構成される順序は、所定の各方向（例えば、ｘ方向のスキャニングに対する方向）において交互に一定の間隔で配置されるマークの順序をそれぞれ構成する。
【００３６】
また、例えば、マトリックスコードの各直線全体の書き込みが完了するまで、マトリックスコードの各直線において、第一、第四、第七・・・マーカーポイントが記入され、その後に、第二、第五、第八・・・マーカーポイントが記入され、そして最後に、第三、第六、第九・・・マーカーポイントが記入されるように、他の書き込みスキームを選択してよいことは明らかである。
【００３７】
各行又は各列を書き込むために、１つの書き込み用レーザービームが使用されるのが好ましい。しかしながら、基本的には、相互にオフセットされた複数の書き込み用レーザービームが同時に使用されてもよい。
【００３８】
上記の書き込みプロセスによって、マーカーポイントの温度プロファイルが、隣り合って隣接する直前に書き込まれたマークによって乱されることはあまりない。この方法において、本発明によれば、より安定的に、且つ、張力が低い状態でマーク配列を提供することができる。
【００３９】
本発明によれば、マークは、図２に例示されるようにショートレーザーパルス（ｓｈｏｒｔ  ｌａｓｅｒ  ｐｕｌｓｅ）によって形成される。ここで、ＰＡ１１、ＰＡ１２・・・ＰＡ１ｎは、マーカーポイントＡ１１、Ａ１２・・・Ａ１ｎ（図１参照）を刻印するために使用されるレーザーパルスを示している。同様のことは、ＰＢ１１・・・ＰＢ１ｎによって示されるレーザーパルスにもあてはまる。
【００４０】
また、各レーザーパルスによって、薄いガラスの層が加熱される。レーザーマークの強度のためには、この加熱ゾーンすなわち熱インパクトが、可能な限り小さく留められている方が有利であることが分かった。この目的のために、可能な限り短いレーザーパルスが使用される。そのため、隣り合って隣接する２つのマークについて一方のマークの直後に他方のマークが連続して書き込まれた場合、単一のレーザーパルスを使用する場合と比較して、重複するゾーンにおいて材料をより高温にし、そのことは材料の強度に良くない影響を及ぼすだろう。しかしながら、照射への露出がないか又は照射への露出が減少するのに十分長い間隔が隣接する各マーク同士の間に存在する場合、先行するレーザーパルスによって生じる温度勾配はほぼ完全に低下して、温度プロファイルは隣り合って隣接するマークの形成時に残留温度を有さないレーザー照射によるものと同様になる。順次連続して直ちに生成されるレーザーパルス間の時間間隔に関する本発明者による一連の精巧な実験によって、時間間隔は少なくとも１０ｍｓであるべきことが示された。
【００４１】
図３は、上記の方法を実行するための装置例を示す。例えば、ガラス管製造ラインから取り出されるガラス管などのガラス５は、連続的に又は徐々に書き込み用レーザー６の書き込み用レーザービーム９に対して相対的に移動し、その移動方向は図の左手側の矢印によって示される。図３によれば、書き込み用レーザービーム９は、書き込み用レーザービーム９とガラス５との間の相対移動を提供するために、ドライブ８によって調節されるスキャナーミラー７によって適切に偏向される。例えば、書き込み用レーザービーム９は、チューブの外周にわたって横方向にスキャンすることができる。図１及び図２を参照して上述したレーザーパルスシーケンスは、中央制御装置１５による書き込み用レーザー６及びスキャナー８の適切な制御によって実現される。書き込み用レーザーは、パルス立ち上がり時間が７５μｓｅｃより小さく、パルスレートが５ｋＨｚより大きく、レーザーパワーが２０Ｗより小さいＣＯ２パルスレーザーであってよいが、これらのパラメーターは単なる例に過ぎないと考えるべきである。レーザー出力は、マーカーポイントの最適な形成のためにそれぞれ使用される、ガラスの特性及び書き込み用レーザービームの結像によって基本的に定まるので、亀裂形成のリスクをさらに減らすために、そして、長期間に渡って要求される強度を向上させるために、マーク配列３全体（図１参照）を所定の温度まで予熱すると有利であることが分かった。他の実施形態によれば、マーク配列３及びその近傍も予熱される。この目的のために、図３によれば、テレスコープ（ｔｅｌｅｓｃｏｐｅ）すなわちビーム拡大器１１によって適切に拡大され、ガラス５上に適切に結像される拡大された加熱レーザービームとして形成される追加の加熱レーザー１０が使用される。また、特に加熱レーザー１０として、ＣＯ２レーザーを用いてよい。代わりの熱源は、バーナー又は赤外線ヒーターであってもよい。
【００４２】
そのような追加の加熱装置を使用して、マーク配列又はマーク配列及びその近傍が、ガラス転移温度Ｔｇより少なくとも２０Ｋ高い温度であるような所定の温度まで加熱されてよい。
【００４３】
一般的に考え得るが好ましくない他の代替案として、追加の熱が、マーク配列又はマーク配列及びその近傍がガラス転移温度より少なくとも２０Ｋ高い第一所定温度より低い温度まで加熱されるように調整され、そして、各レーザーパルスが、書き込み用レーザービームとガラスとの相互干渉ゾーンの各々を、ガラス転移温度より少なくとも２０Ｋ高い適切な工程温度に達せられるように用いられてよい。
【００４４】
図４は、本発明に係る方法の工程温度を示す。図４では、単独のマーカーポイント又はマーク配列全体のいずれかの相互作用ゾーンの温度Ｔが、時間ｔに対して示される。Ｔｇはガラス転移温度を示しており、ガラス転移温度は典型的に５００℃〜６００℃である。図４の説明において、工程温度Ｔ１の温度上昇の時間依存性は、単純化の理由で示されていない。実際の書き込みプロセスは、本発明によるとガラス転移温度Ｔｇより少なくとも２０Ｋ高い温度Ｔ１の状態において時間ゼロでスタートする。書き込むために、すなわち刻印するために用いられるレーザーパルスは、ｔ１以下の継続時間を有する。ｔ１経過後、相互作用ゾーンの温度は、制御された方法で値Ｔ１から、ガラス転移温度Ｔｇよりも少なくとも２０Ｋ低く、好ましくは、４０Ｋ低い温度である値Ｔ２へと低下する。全てのレーザーパルスは、上記の温度範囲及び時間間隔Ｔ１によってガラス表面に作用することが保証されなければならない。図４によれば、線形の温度勾配によって時間Ｔ２において温度Ｔ２が達成されるが、制御された冷却中に最高工程温度Ｔ１を再び超えない限り、原則として他のいかなる温度プロファイルも可能である。
【００４５】
温度Ｔ２に達しさえすれば、室内温度に達するか、又は、その後の工程ステップの工程温度に達するまで、より急速な冷却であって、選択的には未制御であってもよい冷却を実行できるような範囲にまで機械的張力は既に低下している。他の実施形態によれば、この追加の冷却は、ガラス転移温度より少なくとも５０Ｋ低い温度に達するとすぐに開始できる。
【００４６】
第一実施形態に係るＴ１〜Ｔ２の温度範囲における制御された冷却のために、加熱レーザービーム１２自身（図３）を、マーク配列形成直後に制御された冷却に対応して出力を減少させることで使用することができる。さらに好ましい実施形態によれば、マーク配列３は、マーキングステップ直後に下流の冷却ゾーン１３に持ち込むことができ、選択的に温度Ｔ２に達するまでこの冷却ゾーンを通り抜けさせることができる。この下流の冷却ゾーン１３は、例えば、書き込み用レーザー光線９とガラス５との間の相互作用エリアに対して空間的に隣接していることが好ましい従来型の赤外線炉によって供給されてよい。
【００４７】
図４において、ＴＨ１又はＴＨ２は、マーク配列３の他の可能な予熱温度を示している。一般的に、書き込み用レーザーパルスの適切な調整によって予熱パルスは転移温度Ｔｇより低くてよいが、予熱温度ＴＨ１は、上述の第一所定温度Ｔ１より僅かに低いか等しいことが好ましい。
【００４８】
図５ａ及び図５ｂは、ガラス管上に形成されたマトリックスコードマークであって、異なるパワーレベルの書き込み用レーザービームで生成された２つのマトリックスコードマークを示している。各マーカーポイントは、図５ａのマトリックスコードにおいて大半が相互に明瞭に離間されている一方で、図５ｂのマトリックスコードでは部分的に結合しているが、驚くことにそれらは、光学式読み取り装置によるマトリックスコードの可読性に影響を与えない。互いにわずかに重複して隣接するマーカーポイントを書き込むようにレーザースポットが使用される場合、図５ｂに示されるようなマトリックスコードが特に生成される。そのようなわずかな重複によって、マトリックスコードの可読性を向上させられることが分かっている。最適な重複量は、実際に使用される読み取り装置（光源／光学）に依存する。つまり、レーザーパラメーターは、特定の読み取り装置に対して最適化することができる。
【００４９】
以下では、図６ａ〜図７ｂを参照しながら、符号化前及び符号化中のガラスを加熱する間の温度の影響が議論される。この目的のために、レーザーでマーキングされたゾーンの２つの互いに直交する空間方向に沿った張力プロファイルが、別の同一のプロセスパラメーターのもとで測定された。ガラス中の機械的張力すなわち応力の測定値である光学的遅延（フリーデル度（ｄｅｇｒｅｅｓ  Ｆｒｉｅｄｅｌ）表記）が示されている。
【００５０】
このようにして、例えば、図６ａは、第一方向のマーカーポイントにわたる張力プロファイルを示しており、図６ｂはそれに垂直な方向の対応する張力プロファイルを示す（ここでは、いわゆるフリーデル度で示されている）。垂直の矢印はチューブ壁の開始位置を示しているが、その位置でのそれぞれの張力プロファイルの測定値は、採用した測定方法では意味をなさない。そのため、これらの矢印について、それぞれの曲線はゼロにセットされた。このことは、図７ａ〜図８ｂの他の曲線にも同様に適用される。
【００５１】
図６ａ及び図６ｂのマーカーポイントに関しては、符号化前及び符号化中に追加の加熱を用いなかった。正確に言えば、書き込み用レーザーパルスの出力は、Ｔｇより高い適切な温度が達成されるように選ばれた。
【００５２】
反対に、図７ａ及び図７ｂに係るマーカーポイントを書き込むために、図３の典型的な方法において示されるように、追加の加熱レーザービームによって、正確に言えば、追加のＣＯ２レーザーの拡大されたレーザービームによって実現される補助的なヒーターが使用される。刻印されるマーク配列及びその近傍が、ガラス転移温度よりも少なくとも２０Ｋ高い温度であった上記の第一所定温度又は第一所定温度よりも少し下の温度になるまで、事前に予熱されているように、ＣＯ２レーザーの出力が調整される。
【００５３】
図６ａ／６ｂと図７ａ／７ｂを比較すると、追加の予熱によって非常に減少された張力を有するマーカーポイントを達成できることが分かる。
【００５４】
マーク配列を加熱するために、一実施形態において市販のＳｙｎｒａｄ社の連続１００ＷのＣＯ２レーザーが使用され、レーザー光及びテレスコープが、書き込み用レーザービームを用いて書き込む前に、マーク配列全体がＴｇよりも少なくとも２０Ｋ高い温度になるように調整された。マトリックスコードの書き込みすなわち刻印のためのサイクル時間が大幅に減少するように、そのような比較的短いレーザーの予熱を用いて、比較的短い予熱時間、例えば、最大で６秒であるように実装することができる。そのとき、エネルギーの蓄積は、例えば、サイズが２×２ｍｍのマトリックスコードに対して２５Ｗ／ｍｍ２ｓ１である。
【００５５】
さらなる張力の減少が、書き込み操作を実施した後のガラス又はガラス製品の上記の制御された冷却によって供給することができ、それらは、以下において図８ａ及び図８ｂを参照しながら、より詳細に説明される。制御された冷却のためにレーザーが使用されたが、そのレーザーのパラメーターは、マーク配列の温度が値Ｔ１（図４参照）から値Ｔ２まで、例えば、冷却率１Ｋ／ｓでＴｇより２０Ｋ低い値に低下するように調整される。それによって同時に、レーザーアニーリング（ｌａｓｅｒ  ａｎｎｅａｌｉｎｇ）を、符号化の実行中に冷却が急激に進行しないようにするために実行できる。図８ａ及び図８ｂに示される典型的な結果がレーザーマークの生成に関して同様の条件のもとで得られ、そのことは図７ａ及び図７ｂを参照しながら上記で議論された。
【００５６】
例えば、ガラスの一次包装の中に内包される製薬製品のような最終製品の場合において、本発明に係るマトリックスコードは変更すなわち操作することができない。室内温度で記入された従来型のマークと異なり、本発明によって提案されたマトリックスコードは、変更すなわち改ざんするために必要な熱処理を供給することができないため、最終製品に対する変更すなわち改ざんをすることができない。そのため、本発明のマトリックスコードは、その後の改ざんに対して安全である。
【００５７】
しかしながら、工程中においては、言い換えれば、ガラスの温度が急激に低下しない間は、熱処理によってマトリックスコードを読み取りにくい状態か又は無効な状態にすることができる。このことは、例えば、処理中に定まる不良品に、マトリックスコードを破壊することによって信頼性高くマークすることができ、顧客に納品されることを回避することができるという利点を有する。この目的のために、図３による実施形態において、例えば、ガラスの特性を検査又は検出するための光学検出器によって実現される追加の検査装置１４が提供される。エラーが検出されると、中央制御ユニット１５は、既に生成されたマトリックスコードを読み取りにくい状態にするために、ガラス製品５が記入レーザービーム９の処理ゾーン（又は、代わりに、下流に提供される他の記入レーザービームの処理ゾーン）に導入されるようにする制御コマンドを出力する。
【００５８】
上記ではマークされる製品が、ガラス管製造ラインから取り出されるガラス管であるように記載されているが、本発明の好ましい用途は、ガラス製の個々の一次包装又はガラス状の材料をマーキングすることに関するものであり、本発明に係る処理によって信頼性の高い方法で、そして、不正開封防止の方法で、調剤又は医療準備のための一次包装の例として注射器、カートリッジ及びバイアル瓶をマーク及びラベルすることができる。いくつかの理由によって一次包装材料が使用できなくなった場合、対応するマーク配列を上記に記載された装置によって読み取りにくい状態か、又は読むことができない状態にすることができる。
【符号の説明】
【００５９】
１：デジタルマトリックスコード、
２：単一のマーク、
３：加熱領域／マーク配列、
５：ガラス管、
６：マーキング用レーザー／書き込み用レーザー、
７：スキャナー／スキャナーミラー、
８：スキャナードライブ、
９：書き込み用レーザービーム、
１０：加熱レーザー、
１１：テレスコープ／ビーム拡大器、
１２：拡大された加熱レーザービーム、
１３：冷却領域／冷却用加熱炉、
１４：検出器／試験装置、
１５：中央制御ユニット。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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【図６ａ】
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【図６ｂ】
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【図７ａ】
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【図７ｂ】
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【図８ａ】
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【図８ｂ】
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