(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
変調光及びパルス光が重ね合わされた合波光を発生する光出力部と、
前記光出力部の発生する前記パルス光が光ファイバで反射された戻り光を受光する受光部と、
前記受光部の受光する戻り光の光量及び前記パルス光が前記光ファイバに出力されてから前記戻り光を受光するまでの時間を測定する演算部と、
を備え、
前記変調光の波長と前記パルス光の波長は同一であり、
前記変調光の光強度は、前記パルス光の光強度よりも小さい
ことを特徴とする光ファイバ測定装置。
【請求項２】
前記光出力部は、
前記変調光を発生する変調光発生部と、
前記パルス光を発生するパルス光発生部と、
前記変調光発生部からの前記変調光及び前記パルス光発生部からの前記パルス光を合波する合波部と、
を備えることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ測定装置。
【請求項３】
前記光出力部は、
連続光を発生する連続光発生部と、
前記変調光及び前記パルス光が重ね合わされた波形を有する変調信号で、前記連続光発生部からの連続光を変調する変調部と、
を備えることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ測定装置。
【請求項４】
前記合波光の前記パルス光の間隔は、前記光ファイバの長さの４倍以上の距離を光が伝搬する時間であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の光ファイバ測定装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載の光ファイバ測定装置と、
前記光ファイバ測定装置からの前記合波光を前記光ファイバに挿入するとともに、前記光ファイバで反射された前記戻り光を前記光ファイバ測定装置に分離する光合分波器と、
前記光ファイバの外皮から漏洩する前記変調光を受光する変調光受光器と、
を備えることを特徴とする光ファイバ測定システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ファイバを特定する芯線対照技術及び光ファイバを評価するＯＴＤＲ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｔｉｍｅ  Ｄｏｍａｉｎ  Ｒｅｆｌｅｃｔｏｍｅｔｅｒ）技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年光アクセスサービスの増加と光サービスエリアの拡大に伴い、光設備量が増加しており、道路工事等に伴うケーブルルートを変更する支障移転工事も増加している。支障移転工事では、屋外にて移転先のケーブルを敷設後、移転元となる光ファイバを特定し、当該芯線の切断及び移転先の光ファイバと接続する芯線切り替え作業を行い、正しく接続されたか試験を行う（例えば非特許文献１参照。）。
【０００３】
一方、光ファイバを特定するための芯線対照技術が提案されている（例えば非特許文献２参照。）。非特許文献２の芯線対照技術では、図１６に示すように、通信設備ビル９１から、通信光ＬＳの波長より長波長側で変調した変調光ＬＫを光ファイバ１００に挿入する。通信設備ビル９１の屋外では、変調光ＬＫが漏洩する程度に光ファイバ１００を曲げ、漏洩光から変調光ＬＫの有無を判定する。これにより、光ファイバ１００の通信光ＬＳに影響を与えずに、変調光ＬＫを挿入した光ファイバ１００を特定する。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】有居正仁、東裕司、榎本圭高、鈴木勝晶、荒木則幸、宇留野重則、渡邉常一、「拡大する光アクセス網を支える光媒体網運用技術」、ＮＴＴ技術ジャーナル、２００６年１２月号、ｐｐ．５８−６１
【非特許文献２】鈴木勝晶、山本素、夏目新、「Ｒ１５心線に対応した光ファイバ心線対照技術」、ＮＴＴ技術ジャーナル、２００７年４月号、ｐｐ．５４−５５
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
支障移転工事等の光ケーブルの切り替え工事を実施する際には、芯線対照による切り替え対象光ファイバの特定、対象光ファイバの切断、ＯＴＤＲ測定による切断確認、移転先光ファイバへの接続、ＯＴＤＲ測定による移転先光ファイバの接続確認といった作業手順となる。
【０００６】
通信設備ビル９１内には、図１７に示すように、光カプラ５６が設置されており、光カプラ５６のαポートにはＯＬＴ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｌｉｎｅ  Ｔｅｒｍｉｎａｌ）５１が接続され、γポートには通信設備ビル９１外へ伸びている光ファイバ１００が接続されている。光カプラ５６のβポートに、変調光源５４又はＯＴＤＲ測定装置５３を接続する。光カプラ５６のβポートからの入射光は、αポートに出射されず、γポートのみに出射される。γポートへの入射光は、αポート及びβポートへ出射される。これにより、通信線路を切断することなく芯線対照やＯＴＤＲ測定を行うことができる。
【０００７】
しかし、図１７に示すように、芯線対照を行う際にはβポートに光ファイバ１００に変調光ＬＫを発生する変調光源５４を接続し、ＯＴＤＲ測定を行う際にはβポートに光ファイバ１００にＯＴＤＲ測定装置５３を接続する必要がある。
【０００８】
このように、芯線対照とＯＴＤＲ測定は別々の機器を用いるため、通信設備ビル９１内の作業者は、屋外の作業者と電話等で連絡を取り合いながら、作業状況に応じて光カプラ５６のβポートに接続する機器を交換していた。このため、支障移転工事等の光ケーブルの切り替え工事を実施する際には、作業者が常に通信設備ビル９１内に待機している必要があった。
【０００９】
また、支障移転工事は屋外で同時に２以上の地点ＰＸ及び地点ＰＹで作業を行うため、例えば地点ＰＸではＯＴＤＲ測定を、地点ＰＹでは芯線対照を行いたい場合がある。このような場合に、ＯＴＤＲ測定と芯線対照を同時に行うことができないため、どちらかの作業を中断する必要があった。このため、支障移転工事の作業時間が長くなるとともに、切り替えに伴うサービス断時間が長時間化する問題も生じていた。
【００１０】
そこで、本発明は、ＯＴＤＲ測定と芯線対照を同時に行うことができる光ファイバ測定装置、光ファイバ測定システム及び光ファイバ測定方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、本願発明の光ファイバ測定装置、光ファイバ測定システム及び光ファイバ測定方法は、芯線対照用の変調光とＯＴＤＲ測定用のパルス光を合波した合波光を用いて、光ファイバに出力することを特徴とする。
【００１２】
具体的には、本願発明の光ファイバ測定装置は、変調光及びパルス光が重ね合わされた合波光を発生する光出力部と、前記光出力部の発生する前記パルス光が光ファイバで反射された戻り光を受光する受光部と、前記受光部の受光する戻り光の光量及び前記パルス光が前記光ファイバに出力されてから前記戻り光を受光するまでの時間を測定する演算部と、を備え、前記変調光の波長と前記パルス光の波長は同一であり、前記変調光の光強度は、前記パルス光の光強度よりも小さいことを特徴とする。
【００１３】
合波光に変調光が含まれるため、光ファイバの芯線対照を行うことができる。合波光にパルス光が含まれるため、受光部で戻り光を受光し、演算部でパルス光が光ファイバに出力されてから戻り光を受光するまでの時間を測定することで、ＯＴＤＲ測定を行うことができる。したがって、本願発明の光ファイバ測定装置は、ＯＴＤＲ測定と芯線対照を同時に行うことができる。
【００１４】
芯線対照は、波高値の低い変調光であっても行うことができる。一方、ＯＴＤＲ測定を行うためには、波高値の高いパルス光が必要である。そこで、変調光の光強度がパルス光の光強度よりも小さいことで、ＯＴＤＲ測定におけるノイズを減少させることができる。
【００１５】
本願発明の光ファイバ測定装置では、前記光出力部は、前記変調光を発生する変調光発生部と、前記パルス光を発生するパルス光発生部と、前記変調光発生部からの前記変調光及び前記パルス光発生部からの前記パルス光を合波する合波部と、を備えていてもよい。
本発明により、変調光及びパルス光が重ね合わされた合波光を発生させることができる。
【００１６】
本願発明の光ファイバ測定装置では、前記光出力部は、連続光を発生する連続光発生部と、前記変調光及び前記パルス光が重ね合わされた波形を有する変調信号で、前記連続光発生部からの連続光を変調する変調部と、を備えていてもよい。
本発明により、変調光及びパルス光が重ね合わされた合波光を発生させることができる。また、１つの光源で合波光を発生させることができ、合波部を省略することができるため、簡易な構成で光出力部を実現することができる。
【００１７】
本願発明の光ファイバ測定装置では、前記合波光の前記パルス光の間隔は、前記光ファイバの長さの４倍以上の距離を光が伝搬する時間であってもよい。
本発明により、戻り光が光ファイバ内でパルス光のように振舞い、ＯＴＤＲ波形上に重畳することを避けることができる。
【００１８】
具体的には、本願発明の光ファイバ測定システムは、本発明に係る光ファイバ測定装置と、前記光ファイバ測定装置からの前記合波光を前記光ファイバに挿入するとともに、前記光ファイバで反射された前記戻り光を前記光ファイバ測定装置に分離する光合分波器と、前記光ファイバの外皮から漏洩する前記変調光を受光する変調光受光器と、を備える。
【００１９】
光合分波器を備えるため、合波光を光ファイバに挿入し、光ファイバからの戻り光を光ファイバ測定装置に分離することができる。合波光に変調光が含まれるため、変調光受光器を用いて光ファイバの芯線対照を行うことができる。合波光にパルス光が含まれるため、戻り光を受光してＯＴＤＲ測定を行うことができる。したがって、本願発明の光ファイバ測定システムは、ＯＴＤＲ測定と芯線対照を同時に行うことができる。
【００２０】
具体的には、本願発明の光ファイバ測定方法は、変調光及びパルス光が重ね合わされた合波光を、継続的に前記光ファイバの一端に入力する合波光出力手順と、前記光ファイバの任意の位置で前記合波光に合波されている前記変調光を受光する変調光検出手順と、前記変調光検出手順で前記変調光を受光した前記光ファイバを前記光ファイバの途中で切断し、前記合波光出力手順で出力した前記合波光のうちの前記パルス光が前記光ファイバで反射されて前記光ファイバの前記一端に戻った戻り光を受光し、前記光ファイバが切断されたか否かを判定する光ファイバ切断手順と、前記光ファイバ切断手順で切断した前記光ファイバのうちの前記一端に近い光ファイバを他の光ファイバに接続し、前記合波光出力手順で出力した前記合波光のうちの前記パルス光が前記光ファイバで反射されて前記光ファイバの前記一端に戻った戻り光を受光し、前記光ファイバが接続されたか否かを判定する光ファイバ接続手順と、を順に有する。
【００２１】
合波光に変調光が含まれるため、光ファイバの芯線対照を行うことができる。合波光にパルス光が含まれるため、戻り光を受光してＯＴＤＲ測定を行うことができる。したがって、本願発明の光ファイバ測定方法は、ＯＴＤＲ測定と芯線対照を同時に行うことができる。
【００２２】
本願発明の光ファイバ測定方法では、前記変調光の光強度は、前記パルス光の光強度よりも小さい。
芯線対照は、波高値の低い変調光であっても行うことができる。一方、ＯＴＤＲ測定を行うためには、波高値の高いパルス光が必要である。そこで、変調光の光強度がパルス光の光強度よりも小さいことで、ＯＴＤＲ測定におけるノイズを減少させることができる。
【００２３】
本願発明の光ファイバ測定方法では、前記合波光出力手順において、前記変調光を発生するとともに前記パルス光を発生し、前記変調光及び前記パルス光を合波してもよい。
本発明により、変調光及びパルス光が重ね合わされた合波光を発生させることができる。
【００２４】
本願発明の光ファイバ測定方法では、前記合波光出力手順において、連続光を発生し、前記変調光及び前記パルス光が重ね合わされた波形を有する変調信号で前記連続光を変調してもよい。
本発明により、変調光及びパルス光が重ね合わされた合波光を発生させることができる。また、１つの光源で合波光を発生させることができるため、簡易な構成で合波光を発生させることができる。
【００２５】
本願発明の光ファイバ測定方法では、前記合波光の前記パルス光の間隔は、前記光ファイバの長さの４倍以上の距離を光が伝搬する時間であってもよい。
本発明により、戻り光が光ファイバ内でパルス光のように振舞い、ＯＴＤＲ波形上に重畳することを避けることができる。
【００２６】
なお、上記各発明は、可能な限り組み合わせることができる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、ＯＴＤＲ測定と芯線対照を同時に行うことができる光ファイバ測定装置、光ファイバ測定システム及び光ファイバ測定方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本実施形態に係る光ファイバ測定システムの構成の一例を示す。
【図２】光出力部の第１例を示す。
【図３】光出力部の第２例を示す。
【図４】光出力部の発生する光の波形の一例であり、（ａ）はパルス光ＬＰの波形を示し、（ｂ）は変調光ＬＫの波形を示し、（ｃ）は合波光ＬＦの波形を示す。
【図５】合波光ＬＦの波形の別形態を示す。
【図６】本実施形態に係る光ファイバ測定方法の一例を示すフローチャートである。
【図７】合波光出力手順Ｓ１０１における光ファイバ測定システムの状態を示す。
【図８】ＯＴＤＲ測定装置の一例を示す。
【図９】合波光出力手順Ｓ１０１におけるＯＴＤＲ波形の一例を示す。
【図１０】光ファイバ１００ａを地点ＰＹで切断したときの光ファイバ測定システムの状態を示す。
【図１１】光ファイバ１００ａを地点ＰＹで切断したときのＯＴＤＲ波形の一例を示す。
【図１２】光ファイバ１００ａを地点ＰＸで切断したときの光ファイバ測定システムの状態を示す。
【図１３】光ファイバ１００ａを地点ＰＸで切断したときのＯＴＤＲ波形の一例を示す。
【図１４】光ファイバ接続手順Ｓ１０４における光ファイバ測定システムの状態を示す。
【図１５】光ファイバ接続手順Ｓ１０４におけるＯＴＤＲ波形の一例を示す。
【図１６】従来の芯線対照技術の一例を示す説明図である。
【図１７】従来の光ファイバ測定システムの構成の一例を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
添付の図面を参照して本発明の実施形態を説明する。以下に説明する実施形態は本発明の実施例であり、本発明は、以下の実施形態に制限されるものではない。なお、本明細書及び図面において符号が同じ構成要素は、相互に同一のものを示すものとする。
【００３０】
図１に、本実施形態に係る光ファイバ測定システムの構成の一例を示す。本実施形態に係る光ファイバ測定システムは、光ファイバ測定装置１１と、光合分波器１２と、変調光受光器１３と、反射フィルタ１４と、を備える。
【００３１】
光ファイバ測定装置１１は、変調光ＬＫ及びパルス光ＬＰが重ね合わされた合波光ＬＦを光ファイバ１００ａに出力し、パルス光ＬＰが光ファイバ１００ａで反射された戻り光ＬＢを受光する。光合分波器１２は、光ファイバ測定装置１１からの合波光ＬＦを光ファイバ１００ａに挿入するとともに、光ファイバ１００ａで反射された戻り光ＬＢを光ファイバ測定装置１１に分離する。変調光受光器１３は、光ファイバ１００ａの外皮から漏洩する変調光ＬＫを受光する。反射フィルタ１４は、光ファイバ１００ａのＯＮＵ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｎｅｔｗｏｒｋ  Ｕｎｉｔ）側の端部に設置され、パルス光ＬＰを反射する。パルス光ＬＰが反射フィルタ１４まで到達する場合、反射フィルタ１４の反射光がフレネル反射による戻り光ＬＢとなる。
【００３２】
合波光ＬＦに変調光ＬＫが含まれているため、変調光受光器１３を用いて芯線対照を行うことができる。合波光ＬＦにパルス光ＬＰが含まれているため、光ファイバ測定装置１１で戻り光ＬＢを受光することでＯＴＤＲ測定を行うことができる。したがって、本実施形態に係る光ファイバ測定システムは、ＯＴＤＲ測定と芯線対照を同時に行うことができる。
【００３３】
光ファイバ測定装置１１は、光出力部２１と、受光部２２と、演算部２３と、を備える。光出力部２１は、変調光ＬＫ及びパルス光ＬＰが重ね合わされた合波光ＬＦを発生する。ここで、変調光ＬＫの光強度は、パルス光ＬＰの光強度よりも小さい。変調光ＬＫ及びパルス光ＬＰの波長は、通信光ＬＳとは異なる。変調光ＬＫの波長とパルス光ＬＰの波長は、同一であってもよいし、異なってもよい。
【００３４】
受光部２２は、光出力部２１の発生するパルス光ＬＰが光ファイバ１００ａで反射された戻り光ＬＢを受光する。受光部２２は、通常のＯＴＤＲ測定装置と同様に、パルス光ＬＰの出力する周期に合わせて受光する。演算部２３は、受光部２２の受光する戻り光ＬＢの光量及びパルス光ＬＰが光ファイバ１００ａに出力されてから戻り光ＬＢを受光するまでの時間を測定する。これにより、光ファイバ測定装置１１は、ＯＴＤＲ測定を行う。
【００３５】
図２に、光出力部の第１例を示す。光出力部の第１例は、変調光発生部３１と、パルス光発生部３２と、合波部３３と、を備える。変調光発生部３１は、変調光ＬＫを発生する。パルス光発生部３２は、パルス光ＬＰを発生する。合波部３３は、変調光発生部３１からの変調光ＬＫ及びパルス光発生部３２からのパルス光ＬＰを合波する。これにより、合波部３３から、合波光ＬＦが出力される。
【００３６】
図３に、光出力部の第２例を示す。光出力部の第２例は、連続光発生部３４と、変調信号発生部３６と、変調部３５と、を備える。連続光発生部３４は、連続光ＬＣを発生する。変調信号発生部３６は、変調光ＬＫ及びパルス光ＬＰが重ね合わされた波形を有する変調信号ＳＫを発生させる。変調部３５は、変調信号発生部３６からの変調信号ＳＫで、連続光発生部３４からの連続光ＬＣを変調する。これにより、変調部３５から、合波光ＬＦが出力される。本構成を採用することで、同一の連続光発生部３４を用いて変調光ＬＫ及びパルス光ＬＰを同時に発光することができる。本構成では、合波部が不要となることから、簡易な構成とすることができる。
【００３７】
図４は、光出力部の発生する光の波形の一例であり、（ａ）はパルス光ＬＰの波形を示し、（ｂ）は変調光ＬＫの波形を示し、（ｃ）は合波光ＬＦの波形を示す。図４（ａ）、図４（ｂ）、図４（ｃ）のいずれも、縦軸が出力レベル、横軸が時間である。合波部３３が変調光ＬＫとパルス光ＬＰを合波することで、図４（ｃ）に示す波形を有する合波光ＬＦを出力する。
【００３８】
ＯＴＤＲ測定は光ファイバ１００ａへパルス光ＬＰを入射した際の光ファイバ内で発生するレイリー散乱レベルを観測するためには、パワーの強いパルス光を発生する必要がある。このため、ピークパワーが＋１０ｄＢ以上であることが好ましい。一方、芯線対照のための変調光ＬＫのピークパワーは−５ｄＢ程度であってもよい。このため、パルス光ＬＰの光パワーと変調光ＬＫの光パワーとは１５ｄＢ以上の差があることが好ましい。
【００３９】
ＯＴＤＲ測定では、光出力部２１からパルス光ＬＰを出射し、光ファイバ１００ａ内で発生するレイリー散乱光を受光部２２で受光して観測して、光ファイバ１００ａのある区間での損失や接続点の損失を測定する。また、接続点における屈折率差からフレネル反射が生じ、接続点での反射量を観測することができる。受光部２２は、光ファイバ１００ａ内で発生したレイリー散乱光やフレネル反射光等の戻り光ＬＢを測定し、演算部２３は、戻り光ＬＢが戻ってくるまでの時間で距離を算出する。そのため、異なったパルス光ＬＰからの戻り光ＬＢが重ならないように、パルス光ＬＰを出力する周期は、パルス光ＬＰが光ファイバ１００ａを伝達する時間の２倍（往復する時間）以上となる。
【００４０】
一方、芯線対照の際は、地点ＰＸ及び地点ＰＹで光ファイバ１００ａに曲げが加えられ、光ファイバ１００ａから漏洩した変調光ＬＫを変調光受光器１３で受信し、切断する予定の芯線すなわち光ファイバ１００ａを特定する。
【００４１】
芯線対照を行う際の変調光ＬＫはＯＴＤＲ測定に比べて光ファイバ１００ａへの入射レベルが小さいため、光ファイバ１００ａ内で発生するレイリー散乱の影響は小さい。コネクタやメカニカルスプライスを用いた接続地点において変調光ＬＫによるフレネル反射が発生する。しかし、一般的なコネクタの反射減衰量は４０ｄＢ程度であるため、変調光ＬＫのピークパワーが−５ｄＢであれば、受光部２２に入射する光は大きくても−５５ｄＢ程度である。
【００４２】
ただし、測定対象の光ファイバ１００ａから構成される光線路区間において、コネクタが半差しの状態で勘合不良となっている箇所が存在したり、光スプリッタ等光ファイバが分岐する箇所が存在したりする場合、反射減衰量が１５ｄＢ程度あるため、受光部２２に−２２ｄＢ近い反射光が入射する。この場合、変調光ＬＫの反射光がノイズとなり、ＯＴＤＲ波形に重なり、ＯＴＤＲ波形が乱れる可能性がある。
【００４３】
そこで、ＯＴＤＲ測定では、パルス幅を広げることで受光レベルを高めることができ、ダイナミックレンジを拡大する。また、変調光ＬＫは戻る反射光は継続的に発生し、変調光ＬＫによる反射光が戻るまでの時間は光ファイバ１００ａの長さとは一致しているとは限らない。このため、ＯＴＤＲ測定の際に加算平均化を行うことで、変調光ＬＫの反射光によって発生するノイズを低減することができる。
【００４４】
また、芯線対照用の変調光ＬＫは主に２７０Ｈｚの矩形波であるが、ＯＴＤＲ測定に用いるパルス波ＬＰは１０ｎｓから１０００ｎｓと細く、パルス発光周期は、パルス光ＬＰが光ファイバ１００ａを伝達する時間の２倍から３倍以上あるため、大部分の変調光ＬＫを受光し、芯線対照を行うことができる。
【００４５】
図５は、合波光ＬＦの波形の別形態を示す。合波光ＬＦのパルス光ＬＰ−１とパルス光ＬＰ−２の間隔ＴＰは、光ファイバ１００ａの長さの４倍以上の距離を光が伝搬する時間である。間隔ＴＰは、おおむねパルス光ＬＰが距離レンジを伝達する時間の４倍以上の間隔であり、パルス光ＬＰが光ファイバ１００ａを２往復以上する時間である。これにより、光ファイバ１００ａの遠端で発生したフレネル反射が光ファイバ測定装置１１側に戻り、光出力部２１のコネクタで再び反射して、ゴーストのようにＯＴＤＲ波形上に重畳することを避けることができる。
【００４６】
また、変調光ＬＫ−１及びパルス光ＬＰ−１を出力してから距離レンジの２倍の時間が過ぎてから変調光ＬＫ−２を出力し始め、次のパルス光ＬＰ−２を出力するまで変調光ＬＫ−２を出力し続けてもよい。
【００４７】
図６は、本実施形態に係る光ファイバ測定方法の一例を示すフローチャートである。本実施形態に係る光ファイバ測定方法は、合波光出力手順Ｓ１０１と、変調光検出手順Ｓ１０２と、光ファイバ切断手順Ｓ１０３と、光ファイバ接続手順Ｓ１０４と、を順に有する。
【００４８】
図６に示す合波光出力手順Ｓ１０１では、変調光ＬＫ及びパルス光ＬＰが重ね合わされた合波光ＬＦを、継続的に光ファイバ１００ａの一端に入力する。合波光ＬＦの出力は、変調光検出手順Ｓ１０２、光ファイバ切断手順Ｓ１０３及び光ファイバ接続手順Ｓ１０４にわたって、継続的に行う。
【００４９】
合波光ＬＦの出力は、例えば、図２に示す光出力部２１の第１例を用いて、変調光ＬＫを発生するとともにパルス光ＬＰを発生し、変調光ＬＫ及びパルス光ＬＰを合波する。また、図３に示す光出力部２１の第２例を用いて、連続光ＬＣを発生し、変調光ＬＫ及びパルス光ＬＰが重ね合わされた波形を有する変調信号ＳＫで連続光ＬＣを変調してもよい。
【００５０】
図７に、合波光出力手順Ｓ１０１における光ファイバ測定システムの状態を示す。図７に示す光ファイバ測定システムでは、光出力部２１は、ＯＴＤＲ測定装置５３と、変調光源５４と、光カプラ５５と、備える。ＯＴＤＲ測定装置５３は、パルス光ＬＰを光カプラ５５に出力し、光カプラ５５からの戻り光ＬＢを受光することで、ＯＴＤＲ測定を行う。変調光源５４は、変調光ＬＫを光カプラ５５に出力する。変調光源５４は、図２に示す変調光発生部３１として機能する。光カプラ５５は、図２に示す合波部３３として機能する。
【００５１】
図８に、ＯＴＤＲ測定装置の一例を示す。図８に示すＯＴＤＲ測定装置５３は、パルス光ＬＰを発生するＬＤ（Ｌａｓｅｒ  Ｄｉｏｄｅ）６１と、戻り光ＬＢを受光するＡＰＤ（Ａｖａｌａｎｃｈｅ  ＰｈｏｔｏＤｉｏｄｅ）６２と、光方向性結合器６３と、を備える。ＬＤ６１は、図２に示すパルス光発生部３２として機能する。ＡＰＤ６２は、図１に示す受光部２２として機能する。
【００５２】
図８に示すＬＤ６１は、図４（ｃ）又は図５に示す合波光ＬＦを出力してもよい。この場合、ＬＤ６１の駆動部を、図４（ｃ）又は図５に示す変調信号で変調するようにすることで、図７に示す変調光源５４を省略することができる。
【００５３】
光カプラ５５は、３つのポートを備え、ＡポートにはＯＴＤＲ測定装置５３が接続され、Ｂポートには変調光源５４が接続され、Ｃポートには光合分波器１２のβポートが接続されている。Ａポートに入射されたパルス光ＬＰはＣポートへ出射され、Ｂポートに入射された変調光ＬＫはＣポートへ出射され、Ｃポートに入射された戻り光ＬＢはＡポート及びＢポートに出射される。
【００５４】
光合分波器１２は、３つのポートを備え、αポートにはＯＬＴ５１が接続され、βポートには光ファイバ測定装置１１が接続され、γポートには通信設備ビル９１外へ伸びている光ファイバ１００ａが接続されている。αポートに入射された通信光ＬＳはγポートへ出射され、βポートに入射された合波光ＬＦはγポートへ出射され、γポートに入射された通信光ＬＳ及び戻り光ＬＢはαポート及びβポートへ出射される。
【００５５】
ＯＴＤＲ測定装置５３からパルス光ＬＰを出力し、変調光源５４から変調光ＬＫを出力し、光カプラ５５でＯＴＤＲ測定装置５３からのパルス光ＬＰと変調光ＬＫを合波し、測定対象の光ファイバ１００ａへ出射される。パルス光ＬＰは、ＯＮＵ５２の地点ＰＲで反射され、反射された戻り光ＬＢが光合分波器１２のγポートに入射される。γポートに入射された戻り光ＬＢは、βポートから出射され、光カプラ５５のＣポートに入射されてＡポートから出射され、ＯＴＤＲ測定装置５３に入射される。そして、ＯＴＤＲ測定装置５３が、パルス光ＬＰ及び戻り光ＬＢを用いてＯＴＤＲ測定を行う。
【００５６】
図９に、合波光出力手順Ｓ１０１におけるＯＴＤＲ波形の一例を示す。ＯＴＤＲ測定装置５３が戻り光ＬＢの光量を測定することで、地点ＰＲの距離でフレネル反射が発生していることが確認できる。
【００５７】
図６に示す変調光検出手順Ｓ１０２では、光ファイバ１００ａの任意の位置で合波光ＬＦに合波されている変調光ＬＫを受光する。例えば、屋外の地点ＰＸ及び地点ＰＹにおいて、光ファイバ１００ａを曲げて漏洩光のなかから変調光ＬＫを受光する。これにより、作業を行う目的の光ファイバ１００ａであるか、芯線対照を行う。
【００５８】
図６に示す光ファイバ切断手順Ｓ１０３では、変調光検出手順Ｓ１０２で変調光ＬＫを受光した光ファイバ１００ａを光ファイバ１００ａの途中の地点ＰＹで切断する。このとき、誤って他の光ファイバを切断しないように芯線対照で変調光ＬＫを確認しつつ、光ファイバ１００ａを切断する。
【００５９】
図１０に、光ファイバ１００ａを地点ＰＹで切断したときの光ファイバ測定システムの状態を示す。この状態で、合波光出力手順Ｓ１０１で出力した合波光ＬＦのうちのパルス光ＬＰが光ファイバ１００ａで反射されて光ファイバ１００ａの一端に戻った戻り光ＬＢを受光する。パルス光ＬＰは、地点ＰＹでフレネル反射が発生し、反射された戻り光ＬＢがＯＴＤＲ測定装置５３に入射される。
【００６０】
図１１に、光ファイバ１００ａを地点ＰＹで切断したときのＯＴＤＲ波形の一例を示す。ＯＴＤＲ測定装置５３が戻り光ＬＢの光量を測定すると、地点ＰＹの距離でフレネル反射が発生し、断線波形が現れる。このフレネル反射を測定することで、光ファイバ１００ａが地点ＰＹの距離で切断されたか否かを判定することができる。
【００６１】
図６に示す光ファイバ切断手順Ｓ１０３では、さらに、変調光検出手順Ｓ１０２で変調光ＬＫを受光した光ファイバ１００ａを光ファイバ１００ａの途中の地点ＰＸで切断する。このとき、誤って他の光ファイバを切断しないように芯線対照で変調光ＬＫを確認しつつ、光ファイバ１００ａを切断する。
【００６２】
図１２に、光ファイバ１００ａを地点ＰＸで切断したときの光ファイバ測定システムの状態を示す。この状態で、合波光出力手順Ｓ１０１で出力した合波光ＬＦのうちのパルス光ＬＰが光ファイバ１００ａで反射されて光ファイバ１００ａの一端に戻った戻り光ＬＢを受光する。パルス光ＬＰは、地点ＰＸでフレネル反射が発生し、反射された戻り光ＬＢがＯＴＤＲ測定装置５３に入射される。
【００６３】
図１３に、光ファイバ１００ａを地点ＰＸで切断したときのＯＴＤＲ波形の一例を示す。ＯＴＤＲ測定装置５３が戻り光ＬＢの光量を測定すると、地点ＰＸの距離でフレネル反射が発生し、断線波形が現れる。このフレネル反射を測定することで、光ファイバ１００ａが地点ＰＸの距離で切断されたか否かを判定することができる。
【００６４】
図６に示す光ファイバ接続手順Ｓ１０４では、光ファイバ切断手順Ｓ１０３で切断した光ファイバ１００ａのうちの光合分波器１２側の一端に近い光ファイバ１００ａを他の光ファイバ１００ｂに接続する。例えば、光ファイバ１００ａを切断した地点ＰＸ及び地点ＰＹで光ファイバ１００ａを光ファイバ１００ｂに接続する。
【００６５】
図１４に、光ファイバ接続手順Ｓ１０４における光ファイバ測定システムの状態を示す。この状態で、合波光出力手順Ｓ１０１で出力した合波光ＬＦのうちのパルス光ＬＰが光ファイバ１００ａで反射されて光ファイバ１００ａの一端に戻った戻り光ＬＢを受光する。パルス光ＬＰは、地点ＰＲでフレネル反射が発生し、反射された戻り光ＬＢがＯＴＤＲ測定装置５３に入射される。
【００６６】
図１５に、光ファイバ接続手順Ｓ１０４におけるＯＴＤＲ波形の一例を示す。ＯＴＤＲ測定装置５３が戻り光ＬＢの光量を測定することで、地点ＰＸ及び地点ＰＹの接続状態を判定する。例えば、地点ＰＸ及び地点ＰＹの接続損失を読み取り、接続損失が予め定められた規定値以下であれば、正常な接続状態であると判定することができる。
【００６７】
また、ＯＴＤＲ測定装置５３が戻り光ＬＢの光量を測定すると、地点ＰＲの距離でフレネル反射が発生し、断線波形が現れる。このフレネル反射を測定することで、光ファイバ１００ａが光ファイバ１００ｂに接続されたか否かを判定することができる。
【００６８】
本発明により、支障移転工事において、通信設備ビル内の作業者と屋外の作業者との間の電話等により逐次作業進行を連絡し、複数作業箇所においてタイミングを合わせた作業を行う必要がなく、それぞれ別の作業を進めることが可能となることから、トータルの作業時間の短縮を図ることが可能となる。
【００６９】
なお、本実施形態では、芯線対照用の変調光ＬＫを光ファイバ接続手順Ｓ１０４においても出力する形態について説明したが、これに限定されるものではない。例えば、地点ＰＸでの光ファイバ１００ａの切断作業の完了を確認できた後に芯線対照を行う必要がなければ、変調光源５４からの変調光ＬＫの出力を停止してもよい。これにより、変調光ＬＫが光ファイバ１００ａのコネクタ接続点や光ファイバ１００ａの遠端等で反射してＯＴＤＲ測定装置５３へ入射することがなくなるため、ＯＴＤＲ波形上に重畳するノイズを少なくすることができる。したがって、ＯＴＤＲ測定における測定精度を高めることができる。
【産業上の利用可能性】
【００７０】
本発明は、情報通信産業に利用することができる。
【符号の説明】
【００７１】
１１：光ファイバ測定装置
１２：光合分波器
１３：変調光受光器
１４：反射フィルタ
２１：光出力部
２２：受光部
２３：演算部
３１：変調光発生部
３２：パルス光発生部
３３：合波部
３４：連続光発生部
３５：変調部
３６：変調信号発生部
５１：ＯＬＴ
５２：ＯＮＵ
５３：ＯＴＤＲ測定装置
５４：変調光源
５５：光カプラ
５６：光カプラ
５７、５８：ＰＤ
５９：光コネクタ
６１：ＬＤ
６２：ＡＰＤ
６３：光方向性結合器
９１：通信設備ビル
１００、１００ａ、１００ｂ：光ファイバ
【図１】
0005392914.tif 000002
【図２】
0005392914.tif 000003
【図３】
0005392914.tif 000004
【図４】
0005392914.tif 000005
【図５】
0005392914.tif 000006
【図６】
0005392914.tif 000007
【図７】
0005392914.tif 000008
【図８】
0005392914.tif 000009
【図９】
0005392914.tif 000010
【図１０】
0005392914.tif 000011
【図１１】
0005392914.tif 000012
【図１２】
0005392914.tif 000013
【図１３】
0005392914.tif 000014
【図１４】
0005392914.tif 000015
【図１５】
0005392914.tif 000016
【図１６】
0005392914.tif 000017
【図１７】
0005392914.tif 000018