(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）内部に形成され、横端部が封止された複数の横方向に伸びている平行な筒状の冷却ホールと、
（２）細長い入口ホールと出口ホールの各々が、バッキングプレートの２つの主面の少なくとも１つから多数の冷却ホールの各々まで伸びる細長い入口ホールと出口ホールを含むバッキングプレートであって、入口ホールの各々は複数の冷却ホールにクーラントを供給し、出口ホールの各々は複数の冷却ホールにクーラントを排出するバッキングプレートと、
２つの主面の１つに接着される１又はそれ以上のスパッタリングターゲットタイルを備えたスパッタリングターゲット。
【請求項２】
冷却ホールは１つの主面に平行に伸びている請求項１記載のターゲット。
【請求項３】
バッキングプレートが一体型プレートである請求項１記載のターゲット。
【請求項４】
冷却ホールはバッキングプレートの厚さの少なくとも２５％の直径を有する請求項１記載のターゲット。
【請求項５】
入口ホールと出口ホールは少なくとも１つの液体冷却供給ラインと少なくとも１つの液体冷却排出ラインに連結されて用いられる請求項１記載のターゲット。
【請求項６】
複数の入口ホールの各々と複数の出口ホールの各々は２〜６の間の多数の冷却ホールの各々まで伸びている請求項１記載のターゲット。
【請求項７】
バッキングプレートの対向する横側部において細長い入口ホール及び出口ホールと連結される４つの液体マニフォルドを含む請求項６記載のターゲット。
【請求項８】
液体マニフォルドの各々の対に固定され、バッキングプレートに取外し可能に取付けることができる２つのマニフォルドプレートを含む請求項７記載のターゲット。
【請求項９】
バッキングプレートは実質的に四角形の形状を有する請求項１記載のターゲット。
【請求項１０】
一体物の金属プレートと、
１又はそれ以上のターゲットタイルが接着されるターゲット領域を有する金属プレートの主表面に平行にプレート内を伸びている複数の平行な筒状の冷却ホールと、
金属プレートの主面に形成され、横方向端部のそれぞれに配置されたアクセスホールの２つの千鳥状の列の２セットであって、各々のセットのアクセスホールの２つの千鳥状の列は多数の冷却ホールの異なるものの各々に露出する２つの千鳥状の列の２セットを備え、
前記ターゲット領域は２つの千鳥状の列を含む２つの横方向端部の間に配置されているターゲットバッキングプレート。
【請求項１１】
ターゲットバッキングプレートの製造方法であって、
プレートの対向する端部の間に複数の平行な冷却ホールをドリルで穴開けする工程と、
プレートの主面の少なくとも１つから複数の細長いスロットを機械加工し、２〜６個の冷却ホールの対向している端部に隣接した部分と各々接続する工程であって、細長いスロットがプレートの対向した側部の各々で２つの千鳥状の列に機械加工される工程と、
スロットとプレートの端部の間で冷却ホールのアクセス部を封止する工程を含む方法。
【請求項１２】
プレートの主面の１つに少なくとも１つのターゲットタイル取付け、冷却ホールに重ねる請求項１１記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【発明の分野】
【０００１】
本発明は一般にスパッタリング装置に関する。特に、本発明はスパッタリングターゲットの冷却に関する。
【背景技術】
【０００２】
スパッタリングはシリコン集積回路の製造で十分に確立されている技術であり、ここで、金属ターゲットがスパッタされ、シリコンウエハー上にターゲット材を堆積させる。また、スパッタリングはウィンドウのコーティングなどの他の用途に適用されている。近年、スパッタリングはシリコン集積回路と同様な目的で、フラットコンピュータディスプレイや大型フラットテレビなどのフラットパネルディスプレイの製造にも適用されている。典型的には、しばしばパネルと称される大きな薄型の絶縁四角形基板の上に形成された薄膜トランジスタ(ＴＦＴ)を含む様々なタイプのフラットパネルディスプレイを製造することができ、これらには液晶ディスプレイ(ＬＣＤ)、プラズマディスプレイ、フィールドエミッタ及び有機発光ダイオード(ＯＬＥＤ)が含まれる。
【０００３】
従来のフラットパネルスパッタリアクタ１０は図１の横断面に概略的に示される。デマレイ（Demaray）ら(以下、デマレイ)は、米国特許第５，５６５，０７１号でこのようなリアクタについてさらに詳細に開示しており、これは引用により本明細書に一体化される。主真空チャンバ１４内の支持台１２は、スパッタコーティングされる四角形パネル１６をバッキングプレート２０に接着された一般的に四角形のターゲットタイル１８に対向して支持し、バッキングプレート２０は主チャンバ１４に封止されているが、分離部２２により主チャンバ１４から電気的に絶縁されている。パネル１６は、ガラス、高分子材料又は他の材料で形成することができる。ターゲット材は、最も典型的には、アルミニウム、モリブデン又はインジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ)のような金属であるが、パネル１６に形成させようとする層のタイプによって自由に他の金属で置き換え可能である。大型ターゲットは、複数のターゲットタイルを１次元又は２次元配列でバッキングプレートに接着させることが必要になることもある。図示されていない真空ポンプシステムは、主チャンバ１４の内部を１０−６〜１０−７Ｔｏｒｒ又はそれ以下の基本圧力まで排気する。ガス供給源２４はマスフローコントローラ２６を介してチャンバ１４にアルゴンなどのスパッタ作用ガスを供給し、主チャンバ圧力は典型的にはスパッタリングの間、数ミリＴｏｒｒを超えないように保持される。直流電源２８は、接地された支持台１２と図示されていないチャンバシールドと対向しているターゲット１８に対して数百ボルトの負の直流バイアスをかけ、これによってアルゴンがプラズマに励起される。正に荷電したアルゴンイオンは、負にバイアスされたターゲット１８により十分なエネルギーで加速され、引付けられ、ターゲット材の原子をスパッタする。スパッタされた材料の一部はパネル１６に衝突し、パネルをターゲット材の薄膜でコートする。追加的に、窒素などの反応ガスをチャンバに任意に付加混入し、スパッタリングされた金属と反応させ、パネル表面に金属窒化物などの金属化合物を形成することが可能である。
【０００４】
対立した磁極を備えたマグネトロン３０がバッキングプレート２０の背後に置かれ、主チャンバの中でターゲット１８の前面に磁場Ｂを投影すると、スパッタリングは大幅に増強される。磁場は電子を捕獲し、ターゲット１８近傍のプラズマの密度を増加し、これによってスパッタリング速度を大きく増加する。ターゲット１８を均一に侵食し、パネル１６上に均一に沈積するため、マグネトロン３０はバッキングプレート背後で一次元又は二次元のパターンにより走査される。マグネトロン３０の形状は図示されたものよりはるかに複雑であることができる。
【０００５】
ほとんどすべてのパネル製造設備が大型サイズによって区別される。最初の世代は５００ｍｍオーダの横寸法を持ったパネルに基づいていた。経済と製品に関する様々な要素は、サイズを増加させるフラットパネル製造設備の世代交代を促進してきた。次世代は、２ｍ以上の側部を有するパネル上にスパッタ堆積するまでに発展している。この大型サイズは、最新装置において約３００ｍｍのサイズに制限されていたウエハ製造設備において未経験のいくつかの問題をもたらした。
【０００６】
ターゲット１８及び特にそのバッキングプレート２０は、マグネトロン３０がそれを介して実質的な磁場を投影できるようにするため、比較的薄くなければならない。しかしながら、他の手段なしに、バッキングプレート２０はその背面と高真空の主チャンバの間に作用するかなりの力に（圧力差×面積) に対抗しなければならず、バッキングプレート２０はこれらの圧力差の下で目立った湾曲があってはならない。そのような大型で薄いターゲットを提供するため、デマレイは、バッキングプレート２０の背面に封止されたマグネトロンチャンバ３２の中にマグネトロン３０を設置し、機械的真空ポンプの限界であるサブＴｏｒｒの範囲の比較的低圧力に排気することを提案した。そのような背面排気によりバッキングプレート２０に掛かる力は約１０００の係数で減少された。
【０００７】
そのような構造は、スパッタリングの間ターゲットを冷却するためターゲットバッキングプレート２０の背面の対応するチャンバに冷水を充満させる従来のウエハスパッタリアクタと対照的である。代わりに、デマレイは、バッキングプレート３２の中に形成された冷却チャンネルを通してチラー３４から冷却液を再循環させる。図２の断面図で示されるように、実質的に四角形の従来のターゲット４０は、上部及び底部プレート４４、４６から形成されるバッキングプレート４２を含む。一般的に四角形断面の冷却チャンネル４８は、バッキングプレート４２の両側部の間で伸びるように上部プレート４４の表面に機械加工されるが、より大きな水平分流マニフォルドを両側部付近に形成し、冷却チャンネル４８を共通の冷却液入口と共通の冷却液出口と連結することができる。底プレート４６は、冷却チャンネル４８とマニフォルドを封入して封止するため上部プレート４４と接着される。次に、ターゲットタイル５０はバッキングプレート４２に接着される。従来、インジウム接着が最も頻繁に使用されていたが、伝導性ポリマー接着剤による接着が好まれるようになってきている。
【０００８】
バッキングプレート４２の２枚のプレート４６、４８の接着は、特により大きなパネルサイズによる技術的課題を有している。スパッタリングがターゲットタイル５０を介して事実上浸食すると、バッキングプレート４２を再利用することが望まれている。即ち、古いターゲットタイル５０を除去して、新しいものと交換することが望まれている。使用されたターゲットタイルをバッキングプレートから剥し、新しいターゲットタイルを貼着する際に、バッキングプレート４２は再使用に耐えるために頑強である必要がある。ターゲットとバッキングプレートは、パネルのより大きなサイズにより更に高価になってきている。従って、頑強さを維持しながら、好ましくはより頑強にしながら、コスト削減する必要がある。２枚のプレート４４、４６は溶接できるが、溶接は薄いプレートを変形する傾向がある。界面に封止剤を配置しつつ２枚のプレート４４、４６をネジ止めすることができる。しかしながら、２．５m×２．５mのターゲットに必要とされるネジの数は非常に大きくなる。インジウム接着を使用できるが、頑強さは疑わしい。オートクレーブ処理が提案されているが、このプロセスは複雑で高価である。
【０００９】
また、ターゲットサイズがより大きくなることにより、ターゲットアセンブリの厚さを増加させないで、大面積を均一に冷却するという課題ももたらされている。
【発明の概要】
【００１０】
本発明の1つの態様はスパッタリングターゲットバッキングプレートを含み、このバッキングプレートには１又はそれ以上のターゲットタイルが接着され、冷却水又は他の液体を流すため、バッキングプレートの主面に平行に形成された横方向に伸びる平行な冷却ホールを有する。バッキングプレートは好ましくは一体的であり、筒状の冷却ホールは横方向に、例えば、ガン・ドリリングで穴開けされることができる。
【００１１】
本発明の他の態様は、冷却ホールを２つのはさみ込まれたグループに分割し、冷却ホールの２つのグループで冷却液体をカウンターフロー、即ち、非平行とし、これによってターゲットとバッキングプレート全面の温度差を低減することである。
【００１２】
本発明の更なる態様は、バッキングプレートの主表面において２つの対向する周辺側部で垂直な入口及び出口ホール、即ちスロットを含み、これらの各々は冷却ホールの１又はそれ以上と連結され、水平に伸びている冷却ホールに冷却液体を供給し及び排出する。スロットは２〜６個の隣接している冷却ホールに連結するのが有利である。垂直及び出口ホールの外側の冷却ホールの末部は塞がれている。各々の周辺側部のホール又はスロットは、冷却ホールの軸方向に沿ってオフセットで変更され、入口及び出口ホール又はスロットを交代して提供するのが有利である。供給と排水マニフォルドが平行に配置され、各々の入口及び出口ホール又はスロットを封止することができる。
【好ましい実施例の詳細な説明】
【００１３】
本発明の一実施例のバッキングプレート６０は、下部からの図３の正射図で概略的に図示されており、一体的な金属プレート６２で形成されており、バッキングプレート６０の必要なサイズに対応する横方向の寸法、例えば次世代計画のため側部で２ｍ以上を有している。一連の平行な筒状の冷却ホール６４が、金属プレート６２の一方の横方向側部から他方まで、金属プレートの６２の主面と平行に伸びて形成されている。典型的な寸法はアルミニウムプレートの厚さが３３ｍｍで、ホールの直径が１２ｍｍである。そのような長いホールの形成はガンドリリング、即ち非常に長いドリルビットを使用して達成できる。長い長さを考慮すると、両側から穴開けし、中間で連結するのが有利である。冷却水又は他の液体がホール６４を流れ、バッキングプレート６０とバッキングプレート６０に添着されたターゲットタイルを冷却する。
【００１４】
図示した実施例では、冷却水が細長い又は長円形状のホール又はスロット６６、６８、７０、７２を通して供給及び排出され、これらは金属プレート６２の主面から好ましくはホール６４深さの少なくとも中間深さまで形成されるが、金属プレート６２の反対面には達しない。その結果、冷却ホール６４はスロット６６、６８、７０、７２の各々の対に露出される。スロット６６、６８、７０、７２は金属プレート６２の対向する横方向側部に２セットで配置され、バッキングプレート６０が封止される真空チャンバ１４とマグネトロンチャンバ３２の外側の位置にある。配管接続の便宜のため、スロットは図示されたバッキングプレート６０の底部に配置されるのが好ましく、ここにターゲットタイルが接着される。スロット６０、６６、７０、７２が冷却ホール６４の対に露出すると、機械加工と封止は簡略化される。特に、スロットが1の冷却ホールに露出される場合、スロットは丸ホール状に形成できるが、複数の冷却ホール６４に連結される細長いスロットが有利である。スロット毎に２つ以上の冷却ホール６４は、機械加工と封止をさらに簡略にできるが、冷却の均一性はその分犠牲になる。一般に、１スロット毎に６つの冷却ホール６４が妥当な上限である。図４の断面図に示されるように、スロット６６、６６、６８、７０、７２の横方向外側の冷却ホール６４の末部はプラグ７４で水封止され、これによって水はバッキングプレート６０の対向する側部において冷却ホール６４の中間部を通ってスロットからスロットへ流れる。
【００１５】
バッキングプレート６０の材料はアルミニウムかアルミニウム合金に限定されないが、ガンドリリング加工を考慮すると、アルミニウムや真鍮のような機械加工が容易な材料であることが好ましい。
【００１６】
冷却水又は他の液体の冷媒はスロットからカウンタフローになるように供給及び排出されるのが好ましい。例えば、冷媒を右方向に流すため、スロット６６を入口として作用させ、スロット６８を出口として作用させることができ、冷媒を左方向に流すため、スロット７２を入口として作用させ、スロット７０を出口として作用させることができる。冷却ホール６４により多くの非平行なフローのグループがある場合、カウンタフローはバッキングプレート６０の温度差を大きく低減する。正常なスパッタリング状態において、バッキングプレート６０の一経路で冷却水は約２０℃から２５℃まで加熱されるのが一般的である。一方向のフローでは、バッキングプレート６０の一側部から他の側部までの温度差は同様に５℃であり、これによってアルミニウムの熱膨張差は約１ｍｍになり、減少されるべき値である。一方、冷却ホール６４のカウンタフロー冷媒の場合、局所的、相補的な温度変動は生じるものの、隣接する冷却ホール６４の対は反対の温度勾配を有し、バッキングプレート６０は２つの流れの平均、即ち、カウンターフローホール間で平均化され、一定の２２．５℃にまで実質的に冷却される。
【００１７】
図５の断面図で示されているように、1個又はそれ以上のターゲットタイル７６は、バッキングプレートの底部において、図３のターゲット領域７８内の冷却ホール６４の近傍で、冷媒を供給するスロット６６、６８、７０、７２の間に接着される。
【００１８】
図３のバッキングプレート６０の図示は非常に簡易化されている。図６の底面図に示されるようなより実際的なターゲットとバッキングプレートのアセンブリ８０は、傾斜角部８４を備えた一体的なバッキングプレート８２を含み、これは図７の分解正射図により詳しく図示されている。これはカウンタフロー用の交互対の形で４２個の平行冷却ホール８６を含む。冷却ホール８６は傾斜角部８４を含むバッキングプレート８２の対向端部からガンドリルで穴開けされることができる。アルミニウム又はアルミニウム合金のプレート８２の代表的厚さは３３ｍｍであり、ホール直径は１２ｍｍであり、ホール直径は好ましくはプレート厚の２５％より大きく、７５％より小さく、好ましくはプレート厚の５０％より小さい。プレートの厚さは、例えば２０〜６０mmの間で変えることができる。スロット８８、９０は、バッキングプレートの８２の底操作面から各々の側部において２つの千鳥状のカラムに機械加工され、冷却ホールの対が露出される。複数、例えば、１０セットの連結されたスロット８８と複数、例えば、１１セットの結合したスロット９０は、スロット８８、９０の対状カップリングを冷却ホール８６に提供する。以上のように、単一のスロット８８、９０により露出される冷却ホール８６の数を変えることができる。また、スロットのセットの数は変えることができるが、冷却の均一性はセット数を増加させることによって向上する。プラグ９２は、全ての冷媒がスロット８８，９０を通じて流れるように、ホール８８，９０の両端にねじ止めされるか、封止される。プラグ９２は商業的に入手できる種々のタイプから選択でき、例えば、スワゲロックス（Swageloks）、ファーミングトン（Farmington）プラグ、ＳＡＥプラグがあり、又は特別に作られてもよい。反りは避けなければならないが、溶接ロッドプラグも可能である。
【００１９】
説明した実施例では、バッキングプレート８２を介して冷却ホール８６とスロット８８、８０を均等に配置している。しかしながら、不均一な分配も使用可能であり、冷却を増設し、例えばより多くの冷却ホールを形成し、バッキングプレート８２の中心をより冷却することもできる。
【００２０】
上述した横方向に冷却ホールを形成した一体型のバッキングプレートの製造技術はいくつかの利点を有する。大部分を機械加工で製造する組立ては、以前に実施されていたマルチプレートの接着よりもはるかに少ない費用で済む。ホールの直径がプレートの厚さのかなり大きい部分になっても、プレートの剛性は大きく減少されない。更に、得られたバッキングプレートは使用中やターゲットの再生中に剥離されることがない。
【００２１】
バッキングプレート８２の製造後、ターゲットタイル９４がバッキングプレート８２に接着され、接着には好ましくはカリフォルニア州サンノゼのＴＣＢから入手できる伝導性のポリマー性接着剤が使用されるが、従来のインジウム接着又は他の方法も使用できる。図面は約０．５ｍｍの所定の隙間で２次元配列した複数タイル９４を示し、大型のターゲットタイルが容易に入手できないときに有効である。しかしながら、１次元の集合タイル配列又は単一の大型タイルによる配置も可能である。
【００２２】
２つのマニフォルド１００は、その１つは図８の正投影図に示されているが、一般にはそれらの操作位置における底部から、その操作底部の側部においてバッキグプレート８２の対向側部に取り付けられ、スロット８８，８９のオフセット列を覆って結合する。これらは容易にステンレスで製造でき、スパッタリングチャンバのクリーン度に影響しない利点がある。各々のマニフォルド１００は、マニフォルドプレート１０２と、短い四角形マニフォルドチューブ１０４と、長い四角形のマニフォルドチューブ１０６を含み、各々には、図示されていないホースを介してチラー３４に冷却水又は他の液体冷媒を供給し、排出するための各々の対のホース取付部１０８、１１０を有する。各々のマニフォルドチューブ１０４、１０６の内部に装着され、連結される複数のホース取付部１０８、１１０は、冷媒のより均一なフローを各々の多数のスロット８８、９０及び関連する冷却ホール８６に提供する。２個のマニフォルドチューブ１０４、１０６は、各々のマニフォルドプレートスロット１１２、１１４からスロット周辺とマニフォルドプレート１０２の間で溶接される。溶接するに際して、２個のマニフォルドチューブ１０４、１０６はその間が約１ｃｍ分離され、これによってマニフォルドチューブ１０４、１０６の間の領域でマニフォルドプレート１０２とバッキングプレート８２を留め具でネジ止めすることが可能になる。
【００２３】
図９の上面図に示されるように、マニフォルドプレート１０２は、バッキングプレート８２のスロット８８、９０に対応して、マニフォルドスロット１１２、１１４の２つの千鳥状の列を含む。Ｏ−リング溝１１６は各々のマニフォルドスロット１１２，１１４を囲み、マニフォルド１００とそのスロット１１２、１１４をスロット８８、９０の周りのバッキングプレート８２に封止するため、各々のＯ−リングを受入れる。マニフォルドチューブ１０４、１０６の基部は、機械加工される対応するスロットを有し、これによって冷却液がマニフォルドチューブ１０４、１０６と冷却ホールの対応するグループの間で自由に循環することが可能になる。マニフォルドプレート１０２を介して穴開けされた３列の図示されていない貫通孔は、ニフォルド１００をバッキングプレートにネジ止めして封止するため、バッキングプレート８２の対応する図示されていないタップ付きホールに合致する。貫通孔及びタップ付きホールは、４個のネジが各々のマニフォルドスロット１１２、１１４の周りの四角形パターンを固定し、Ｏ−リング１１６を均一に封止するように配置される。
【００２４】
操作上のターゲットアセンブリ１２０は、一般的に操作方向において底から示されている図１０の部分投影図で示される。操作上のターゲットアセンブリ１２０は、図８のターゲットと、バッキングプレートアセンブリ８０と、メイン及びマグネトロンチャンバ１４、３２の真空封止の外側においてバッキングプレート８２の対向する周辺側部に取付けられ、封止される図８の２つのマニフォルド１００（その内の１個のみ図示してある）を含む。追加的に、操作上のターゲットアセンブリ１２０は、バッキングプレート８２の両側部においてチラー１１８とホース取付部１０８、１１０の間に連結された多分岐供給ホース１２２と多分岐排出ホース１２４を含む。図示されるマニフォルド１００上において、供給ホース１２２は冷却された冷媒を短いマニフォルドチューブ１０４に供給し、排出ホース１２４は長いマニフォルドチューブ１０６からターゲットにより加温された冷媒を排出する。各々のマニフォルドチューブ１０４、１０６への２本のホースの連結は多数の冷却ホール間の液体の流れを均等化する。対照的に、同様なホース取付部１０８、１１０を備えたターゲット８０の他の図示されていない側部に固定された図示されていないマニフォルド１００の上において、供給口ホース１２２は２個のホース取付部１１０を介して長いチューブのマニフォルドチューブ１０６に冷却された冷媒を供給し、排出ホース１２４は２個のホース取付部１０８を介して短いマニフォルドチューブ１０４から加温された冷媒を排出する。その結果、１番目の冷媒流れは２個の短いマニフォルドチューブ１０４の間で一方向に設定され、２番目の冷媒流れは２個の長いマニフォルドチューブ１０６の間で反対方向に設定される。
【００２５】
外部のマニフォルドはそれら自身でいくつかの利点を提供する。これらはターゲットアセンブリから分離して製造可能であり、容易に再利用可能である。更に、多くの平行な冷却ホールと組合わせにより、ターゲットのより均一な冷却が可能になる。
【００２６】
別の実施例は、バッキングプレート８２の両方の主面と、冷却ホール６４の異なる１つに連結する両方の横方向側部に、バッキングプレートスロット８８、９０の単一の列を含む。別々の液体マニフォルドをバッキングプレート８２の天井部と底部に付けることができる。この構成はバッキングプレートの長さを減少させる。更に、マニフォルドの他の形態も本発明に含まれる。
【００２７】
上述した実施例は図1のスパッタリングチャンバの配置で説明されたが、本発明の精神を逸脱することなく、配置を逆にしたり、側面に設けたり、別の角度で配列したりすることもできる。請求項で提示した方向は便宜だけのためであって、重力に対して他の配置に変更することができる。
【００２８】
本発明はディスプレイ用パネル上のスパッタリングに限定されず、他の用途にも適用できる。
本発明の構成は請求項で限定される限定と共に、個別にあるいは組合せて実施できる。
従って、本発明は、より高価でなく、頑強なターゲットアセンブリと、改良された熱制御を提供する再利用可能なバッキングプレートを提供する。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】従来のフラットパネルスパッタリングチャンバの概略断面図である。
【図２】冷却チャンネルと接着されたターゲットを備えたバッキングプレートを含む従来のターゲットの断面図である。
【図３】本発明のバッキングプレートの簡略化された実施例の概略正射図である。
【図４】垂直に伸びている冷却口又は水平方向に伸びている冷却ホールへの入口の断面図である。
【図５】ターゲットバッキングプレートに形成された複数の水平に伸びる冷却ホールの断面図である。
【図６】複数タイルターゲットと、冷却入口と出口の４つのカラムを含む本発明のバッキングプレートの底平面図である。
【図７】図６のターゲットバッキングプレートの角部の分解正射図である。
【図８】図６のバッキングプレートに取り付けられる２個の冷却マニフォルドの中の１つを示す正射図である。
【図９】図８のマニフォルドの一部を形成するマニフォルドプレートの平面側の平面図である。
【図１０】図８の２個マニフォルドに連結された図６のバッキグプレートの正射図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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