(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
平面的な長方形又は正方形のワークピースを処理するプラズマ処理システムであって、
複数のリアクタチャンバと、
各々の前記複数のリアクタチャンバ間でワークピースを搬送することが可能な、前記複数のリアクタチャンバに結合されたワークピース搬送装置と、
該ワークピース搬送装置に結合され、前記プラズマ処理システムの外部のファクトリ環境との間でワークピースを搬送するファクトリインタフェースとを備え、前記ファクトリインタフェースは、
（ａ）内部容積を規定するフレームと、
（ｂ）前記内部容積内の前記フレーム上に支持された回転可能及び並行移動可能なアームと、
（ｃ）前記アームの外側端に取り付けられたワークピースハンドリングブレードと、
（ｄ）前記フレームに締結され、前記フレームの前記内部容積内に延び、ワークピース支持面を規定する支持端を備えた静止ワークピース保持用支持ブラケットとを備え、前記静止ワークピース保持用支持ブラケットは、９０°又は１８０°の所望のワークピース回転角を定め、前記静止ワークピース保持用支持ブラケットを上方から見た際に方向の異なる辺上に配置される第１及び第２のワークピース搬送端をさらに具備しており、前記静止ワークピース保持用支持ブラケットは、前記フレームから片持ち支持され、
（ｉ）前記ワークピース支持面と平行な支持アームと、
（ｉｉ）該支持アームから前記ワークピース支持面に延びた複数のポストとをさらに備え、
（ｉｉｉ）前記ポストの各々は、前記ワークピース支持面の上の第１の上端部と、前記ワークピース支持面における底部と、前記上端部から前記底部へ前記ワークピース支持面の中心又は内方箇所に向かって下方に傾斜した少なくとも第１の傾斜ワークピース位置決め壁とを備えており、
前記アーム及びワークピースハンドリングブレードは、前記第１のワークピース搬送端の上空を通過した状態で下降しながら前記静止ワークピース保持用支持ブラケット上にワークピースを配置し、前記第２のワークピース搬送端の上空を通過した状態で上昇しながら前記静止ワークピース保持用支持ブラケットからワークピースを取り去るように制御されるプラズマ処理システム。
【請求項２】
前記静止ワークピース保持用支持ブラケットは、１８０度のワークピース回転ブラケットであり、前記静止ワークピース保持用支持ブラケットの前記周囲の前記異なる部分は、前記静止ワークピース保持用支持ブラケットの前記周囲の対向部分を備えている請求項１記載のシステム。
【請求項３】
前記静止ワークピース保持用支持ブラケットによって規定されたワークピース支持面は長方形又は正方形であり、前記周囲の前記対向部分は互いに平行であり、前記ファクトリインタフェースの前記フレームの前記内部容積の対向部分に面している対向端部である請求項２記載のシステム。
【請求項４】
前記ファクトリインタフェースの前記フレームの前記内部容積は短い寸法と、該短い寸法に直交する長い寸法を有しており、前記ファクトリインタフェースのフレームは前記長い寸法に対応し前記短い寸法によって分離した一対の対向長辺を備え、該長辺は前記ワークピース搬送装置及び前記ファクトリ環境に各々向いている請求項３記載のシステム。
【請求項５】
前記静止ワークピース保持用支持ブラケットの前記対向端部は、前記フレームの前記長い寸法に沿った前記内部容積内の反対方向に面している請求項４記載のシステム。
【請求項６】
前記ファクトリインタフェースのフレームの前記長い寸法のほぼ全域に及ぶレールと、前記回転可能及び並行移動可能なアームを前記長い寸法に沿って並行移動させるための前記レール上に支持される移動要素をさらに含む請求項５記載のシステム。
【請求項７】
前記静止ワークピース保持用支持ブラケットは、９０度のワークピース回転ブラケットであり、前記静止ワークピース保持用支持ブラケットの前記周囲の前記異なる部分は、前記静止ワークピース保持用支持ブラケットの前記周囲の隣接部分を備えている請求項１記載のシステム。
【請求項８】
前記静止ワークピース保持用支持ブラケットによって規定されたワークピース支持面は長方形又は正方形であり、前記周囲の前記対向部分は互いに直交する隣接端部である請求項７記載のシステム。
【請求項９】
前記ファクトリインタフェースの前記フレームの前記内部容積は、短い寸法と、該短い寸法に直交する長い寸法とを有しており、前記ファクトリインタフェースのフレームは、前記長い寸法に対応し、前記短い寸法によって分離した一対の対向長辺を備え、前記長辺は、前記ワークピース搬送装置及び前記ファクトリ環境に各々向いている請求項８記載のシステム。
【請求項１０】
前記静止ワークピース保持用支持ブラケットの前記隣接端部は、前記フレームの前記長い寸法に対して各々４５度の角度に沿って配置されている請求項９記載のシステム。
【請求項１１】
前記ファクトリインタフェースのフレームの前記長い寸法のほぼ全域に及ぶレールと、前記回転可能及び並行移動可能なアームを前記長い寸法に沿って並行移動させるための前記レール上に支持される移動要素をさらに含む請求項１０記載のシステム。
【請求項１２】
前記複数のポストのワークピース位置決め壁は、前記ワークピースのサイズに対応する寸法に前記ワークピース支持面を制限しており、
前記ワークピース支持面は長方形又は正方形であり、各ポストは前記第１の上端部に直交する第２の上端部と、該第２の上端部から前記底部へ下方に傾斜する第２の傾斜ワークピース位置決め壁とをさらに備え、前記第１及び第２の上端部は直角コーナで交わっている請求項１記載のシステム。
【発明の詳細な説明】
【背景】
【０００１】
超大規模集積（ＵＬＳＩ）半導体ウェハの処理に使用されるフォトリソグラフィマスクの製造は、半導体ウェハ処理よりもずっと高い程度のエッチング均一性を要する。単一のマスクパターンは、概して、クオーツのマスク上の４平方インチの領域を占める。マスクパターンのイメージは、ウェハ上の単一のダイの領域（１平方インチ）に集中され、次に、ウェハに亘って段階的に進められて各ダイの単一のイメージを形成する。クオーツのマスクにマスクパターンをエッチングするのに先立って、マスクパターンは、走査電子線によってフォトレジストで書かれている（単一のマスクのコストを非常に高くする時間の掛かる処理）。マスクエッチング処理は、マスクの表面に亘って均一ではない。さらに、電子ビームで書かれたフォトレジストパターンは、それ自体は非均一であり、ウェハ上の加工サイズが４５ｎｍの場合には、マスク全体に亘って２〜３ｎｍほどの限界寸法（例えば、ライン幅）のばらつきを呈する。（このばらつきは、例えば、すべての測定されたライン幅の３σの偏差である。）フォトレジストの限界寸法におけるそのような非均一性は、典型的には、様々なマスクのソースあるいは顧客に応じて変化する。マスクエッチング処理は、このばらつきを１ｎｍ以上に増加させることができず、その結果、エッチングされたマスクパターンのばらつきは、３〜４ｎｍを超過することができない。これらの厳格な要件は、ウェハ上でのシャープなイメージを達成するためのクオーツのマスクパターンにおける回析効果の使用から生じる。マスクエッチング処理の改善に対する継続的な要求がある。
【概要】
【０００２】
我々は、マスクにおけるエッチングパターンの均一性を改善する１つの方法が、マスクエッチング処理の完了前にマスクを回転させることであろうということを見出した。例えば、特定のエッチングステップが半分完了するときに、エッチング処理が停止され（プラズマがオフにされ、処理ガスの注入が停止される）、マスクがプラズマリアクタチャンバから取り除かれ、１８０度回転され、チャンバに戻され、そして、プラズマエッチング処理が完了するまで再開されるであろう。問題は、ロボットアーム及びブレードを備えたマスクハンドリング装置が、マスクの回転の向きを、チャンバのうちのいずれかとの間で搬送するときに、法外に高価な修正あるいは適合なしでは、変更することが可能でないことである。すなわち、たとえロボットアーム及びブレードがそれ自体回転することができても（いくつかの場合では、３６０度ほどで）、それらは、チャンバのいずれかに対するマスクの向きの最終的な変化を生じさせることができないので、ロボットブレードがマスクを拾い上げるとすぐに、チャンバの各々に対するその回転の向きは固定される。これは、なぜならブレードがチャンバのうちのいずれか１つからマスクを取って来るか、あるいは、その１つにマスクを配置する都度、それが常に同じ縁部でマスクを把持するからである。各チャンバは、典型的には、マスクがチャンバに導入されることができる単一のスリットバルブだけを有しているので、マスクの進入及び退出の方向は、常に同じであり、従って、マスクの回転の向きの最終的な大きな変化は、ブレードが常に同じ縁部でマスクを把持する限りは可能ではない。従って、９０度あるいは１８０度に亘るマスクの回転は、自動マスクハンドリング装置を備えた処理システムからマスクを取り去ることへの介在を要し、手動でのユーザによるマスクの回転が後に続くことになる。そのような介在は、プラズマリアクタ内におけるマスク処理の保留、システム全体からのマスクの除去、或る異なる外部位置でのマスクの手動回転、及びその後の処理システムへのマスクの再導入、プラズマ処理の再スタートなどを必然的に含むであろう。そのような介在は、生産性の損失及びマスク製造処理への不確実性を持ち込むことがあり、現実的ではない。
【０００３】
本発明の一態様によれば、平面なワークピースを処理するプラズマ処理システムが提供され、それは、前記システムのプラズマ処理チャンバに対するワークピースの回転位置を変更する能力を有している。前記システムのワークピース搬送装置は、前記システムのリアクタチャンバに結合される。前記ワークピース搬送装置は、前記チャンバの各々の間でワークピースを搬送することが可能である。前記システムは、プラズマ処理システムの外部のファクトリ環境との間でワークピースを搬送するワークピース搬送装置に結合されたファクトリインタフェースをさらに備えている。前記ファクトリインタフェースは、（ａ）内部容積を規定するフレームと、（ｂ）内部容積内のフレーム上に支持された回転可能及び並行移動可能なアームと、（ｃ）アームの外側端に取り付けられたワークピースハンドリングブレードと、（ｄ）静止ワークピース保持用支持ブラケットとを備えている。前記ブラケットは、フレームに締結され、フレームの内部容積内に延び、ワークピース支持面を規定する支持端を備えている。前記ブラケットは、該ブラケットの周囲の異なる部分に第１及び第２のワークピース搬送端をさらに備えている。前記ワークピースハンドリングブレードは、ブラケット上にワークピースを配置し、ブラケットの第１及び第２のワークピース搬送端の各々の１つでのワークピースをブラケットから取り去ることができる。前記システムに対するワークピースの回転は、本発明の実施形態によって可能とされる。
【詳細な説明】
【０００４】
図１を参照して、例えば、カリフォルニア州サンタクララのアプライドマテリアルズ社による商標「ＴＥＴＲＡ  ＩＩ」で販売される種類のプラズマ処理システム１００は、４つのプラズマリアクタ及び処理チャンバ１０２、１０４、１０６、１０８を支持することができる。そのようなシステムは、ウェハのフォトリソグラフィ処理において使用される半導体ウェハあるいは透明な（例えば、クオーツの）マスクを処理するために使用されることができる。本発明は、主として、均一性及び処理の許容範囲が非常に厳しいマスク製造のためのそのようなシステムの用途に関する。しかしながら、本発明は、ウェハ製造に適合することが可能である。マスク製造のための本発明の１つの用途を考慮して、ワークピースは、続く記述の全体に亘って「マスク」と称されるが、これは、本発明を限定するようには意図されていない。例えば、ワークピースは、透明なマスクあるいは半導体ウェハのいずれかであることが可能である。当然のことながら、処理チャンバ（例えば、蒸着あるいはエッチングチャンバ）の他の種類において、ワークピースは、マスクの代わりに半導体ウェハあるいは基板であることができ、本発明の実施形態は、同様にそれに適用可能である。
【０００５】
チャンバ１０２〜１０８の各々と、外部（ファクトリ）環境との間の自動マスク搬送が提供される。この目的のために、マスク搬送ポット１１０は、チャンバ１０２〜１０８の各々のマスクスリットバルブ（図示せず）と連通しており、回転、径方向及び軸方向の運動をなすことが可能なマスク保持ブレード１１４を備えたロボット制御されるアクチュエータ１１２を有している。処理チャンバ１０２〜１０８及びマスク搬送ポット１１０は、真空圧に維持される。大気圧である外部環境との間のマスクの搬送を容易にするために、一対のロードロック１１６、１１８は、アクチュエータ／ブレード１１２、１１４がマスクを搬送することができるように設けられている。各ロードロック１１６、１１８は、真空圧まで引かれ、その後、大気圧に開放されることができる。
【０００６】
図１のシステムは、図２、図３及び図４に示されるファクトリインタフェース１２０をさらに備えている。ファクトリインタフェース１２０は、大気圧にあり、６つまでのローダ１２２を支持することができるが、典型的には、３つだけがマスク製造において使用される。ローダ１２２の各々は、処理システム１００に取り込む、あるいは、それから取り除かれる一又は複数のマスクを保持する。ファクトリインタフェース１２０は、ロードロック１１６、１１８からマスクを受け入れ、あるいは、ロードロック１１６、１１８にマスクを供給することができる。この目的のために、ファクトリインタフェース１２０は、マスク保持ブレード１２６を備えたロボット制御のアクチュエータ１２４を備えている。マスク保持ブレード１２６は、ローダ１２２のうちの１つからマスクを持ち上げ、ロードロック１１６、１１８のうちの１つにそれを配置するか、あるいは、ロードロック１１６、１１８のうちの１つからマスクを持ち上げ、ローダ１２２のうちの１つにそれを配置することができる。ロボット制御のアクチュエータ１２４は、その主あるいは「Ｘ」軸に平行なファクトリインタフェース１２０の長さ方向に延びるレール１３０に沿ってブレード１２６を平行移動することができる。アクチュエータ１２４は、リフタ１３２を使用してブレード１２６を昇降させることができる。アクチュエータ１２４は、第１の回転ジョイント１３６でリフタ１３２に取り付けられ、且つ、第２の回転ジョイント１３８でブレード１２６に取り付けられたアーム１３４を使用して、ブレード１２６を回転させ、径方向に延長させることができる。ファクトリインタフェース１２０の幅及び奥行きは、ブレード１２６が干渉なしに少なくとも１８０度回転することを可能にするのに十分である。すべての上述のマスク搬送ステップあるいは操作において、ローダ１２２における、又は、ロードロック１１６もしくは１１８における、又はチャンバのウェハ支持台座上のマスクのロボットブレード１１４及び１２６による配置は、マスクパターンのひずみを回避するために、数マイクロメートル内で一貫し、且つ、正確でなければならない。従って、本システムは、ファクトリインタフェース１２０への導入に先立ってマスクがまずローダ１２２に配置されるときに、最初に生じることがあるマスク配置のばらつきには脆弱である。
【０００７】
たとえロボットアーム及びブレード１１４、１２６が回転することができたとしても（いくつかの場合では、３６０度ほど）、それらは、チャンバ１０２〜１０８のうちのいずれに対してもマスクの向きの最終的な変化を生じさせることができない。なぜなら、ロボットブレードがマスクを拾い上げるとすぐに、チャンバの各々に対するその回転の向きは、固定されるからである。これは、なぜなら、ブレード（例えば、１２６）がマスクをチャンバ１０２〜１０８のうちのいずれか１つから取って来るか、あるいはその１つに配置する都度、それが常に同じ縁部でマスクを把持するからである。各チャンバ１０２〜１０８は、典型的には、マスクがチャンバに導入されることができる単一のスリットバルブだけを有しているので、マスクの進入及び退出の方向は、常に同じであり、従って、マスクの回転の向きの最終的な大きな変化は、ブレードが常に同じ縁部でマスクを把持する限り、まったく可能性がない。従って、９０度あるいは１８０度に亘るマスクの回転は、自動マスクハンドリング装置を備えた処理システム１００からマスクを取り去り、続いて、手動でのユーザによるマスクの回転の介在を要する。
【０００８】
本発明の実施形態は、図１のシステムを、９０度あるいは１８０度のいずれか（あるいは両方）でのマスクの完全自動回転を行なうことが可能なものに変える。本発明の実施形態は、さらに、マスクのファクトリインタフェース１２０への導入に先立って、導入されるマスク配置のばらつきあるいは誤差を自動的に修正する能力を本システムに提供する。本発明の実施形態は、図１のシステムへの高価な修正なしに、すべてのこれらの特徴を達成する。
【０００９】
１８０度のマスク回転のためのマスクブラケット１４０は、図１〜図３において明らかであるが、図４において最も良く示されている。ブラケット１４０は、ファクトリインタフェース１２０の内部における内部フレーム１４２上に支持され、該フレーム１４２に片持ち支持される。ブラケット１４０は、一対のメインレール１４４とクロスレール１４６とからなる。メイン及びクロスレール１４４、１４６は、共に仮想支持面を規定している。ブラケット１４０は、支持面に直角な方向にメインレール１４４から延びる４つのポスト１４８を有しており、その方向は、ここでは単純化のために「垂直」と称されるが、本発明の潜在的な用途を限定はしない。１つの実施形態においては、この垂直方向は、便宜上、下に説明されるように、重力の方向に平行である。４つのポスト１４８は、その４つのコーナがポスト１４８と一致する長方形あるいは正方形（要求されたマスク形状に依存する）を規定している。個々のポスト１４８は、図５の拡大図において示されている。ポスト１４８の各々は、互いに概して直交する一対の内部コーナ面１４８−１、１４８−２を有し、垂直方向に沿って上から見たときに直角コーナを形成している。これらの壁面１４８−１、１４８−２の各々は、４つのポスト１４８によって形成された長方形の内部に向かって下に上端から傾斜している。この傾斜は、上で参照した垂直方向に関係している。壁面１４８−１、１４８−２は、図４において図示されたように、長方形のマスクのコーナが嵌合することができる直角コーナを形成している。４つのポスト１４８は、離隔されており、その結果、マスクがコーナ面１４８−１、１４８−２によって境界を付けられる底床１４８−３上にあるときに、マスク１５０の４つのコーナは、ポスト１４８の４つのコーナにしっかりと入れ子にされる。重力は、それが傾斜したコーナ面１４８−１、１４８−２を滑り落ちるときに、各ポスト１４８の床１４８−３にマスク１５０を引き落とす。マスクは、ポスト１４８の底面１４８−３に到達するまでロボットブレード１２６上にある。これは、垂直方向の速さを下げ、円滑なハンドオフを確実にする。重力は、ブレード１２６上にマスクを維持する一方、角度付き面１４８−２、１４８−３は、それを側方へ軽く押しやる。
【００１０】
１つの実施形態においては、４つのポスト１４８は、マスクがローダ１２２のうちの１つに保持される一方でマスクを位置決めする際に時折見られる初期ミスアライメント問題を低減するか、もっと言えば排除する。このミスアライメントは、ローダ１２２内のマスクのその適切な位置からの非常に僅かな回転あるいは平行移動から生じることがある。上述したように、コーナ面１４８−１、１４８−２は、図５に示されるように、真の垂直方向に対して僅かな角度で上から下へ内方に傾けられている。このように、４つのポスト１４８の上端は、マスク１５０よりも僅かに大きい長方形の領域を規定し、また、４つのポスト１４８の底は、マスク１５０の領域に正確に対応する僅かに小さい長方形の領域を規定している。この特徴は、図６に示されるように、マスクがポスト１４８の内面の上端によって捕えられるように４つのポスト１４８上に下降されるので、それが僅かに置き違えられるのを許容する。一旦これが生じれば、図７に示されるように、重力は、マスク１５０の縁部を、それが底面１４８−３に接触するまで、傾斜した内部のポスト面を優しく下降させる。この時点では、マスクの４つのコーナのすべては、４つのポスト１４８の各々のコーナ床１４８−３に落ち着き、マスク１５０は、完全に位置決めされている。
【００１１】
ブラケット１４０は、１８０度の回転ブラケットであり、下記の手順を用いて、マスク１５０を自動的に回転させるようにロボットアクチュエータ／ブレード１２４、１２６によって使用される：マスク１５０（チャンバ１０２〜１０８のうちの１つから前もって取り除かれ、ロードロック１１６に配置されているかも知れない）は、ブレード１２６によってロードロック１１６から持ち上げられ、ファクトリインタフェース１２０に取り込まれる。この時点では、ブレード１２６の位置は、図３中の実線によるその図示に対応している。ブレード１２６は、マスク１５０を保持する一方、ローダ１１６に面する方向からファクトリインタフェース１２０の主あるいは「Ｘ」軸に沿った方向に９０度の角度に亘って回転する。その後、ブレード１２６は、ブラケット１４０の第１の側１４０ａ（図４）に向かってＸ軸に沿って平行移動する（例えば、図１の図における左から右へ）。ブレード１２６は、ブラケット１４０上にマスク１５０を落とし、マスクのコーナをブラケット１４０の４つのポスト１４８に位置決めする。その後、ブレード１２６は、ブラケットから遠ざかるように退避され、ブラケット１４０の高さよりも下に下降され、そして、それがブラケット１４０を通過するまで、同じ方向にＸ軸に沿ってさらに平行移動される。その後、ブレード１４０は、それがＸ軸に沿って反対方向を指すまで回転される。この時点では、ブレード１２６の位置は、図２中の破線によるその図示に対応している。その後、ブレード１２６は、ブラケット１４０上に現在着座しているマスク１５０を捕獲することができる高さに上昇される。ブレード１２６は、マスク１５０を拾い上げるために、ブラケット１４０の反対側１４０ｂ（図４）に向かってＸ軸に沿った反対方向（例えば、図１の図における右から左へ）に平行移動される。従って、ブレード１２６は、それがブラケット１４０にマスクを配置した側とは反対側でマスク１５０を拾い上げ、ロードロック１１６にマスク１５０を送る。これが、その当初の向きからのマスク１５０の１８０度の回転を完了させる。ロードロック１１６から、マスク１５０は、エッチング処理の完了のために、チャンバ１０２〜１０８のうちの１つにロードロックのロボット作動ブレード１１４によって持っていかれる。
【００１２】
マスク１５０の９０度の回転は、図４においても示されている別のブラケット１６０を使用して行なわれることができる。９０度の回転ブラケット１６０は、ファクトリインタフェース１２０の内部における内部フレーム１４２に支持される。ブラケット１６０は、一対のメインレール２４４と、該メインレール２４４と共に支持面を規定するクロスレール２４６とからなる。１８０度の回転ブラケット１４０のポスト１４８と同様の４つのポスト２４８は、メインレール２４４から支持面に直角な方向に延びている。ポスト２４８の各々は、支持面に垂直であり、且つ、マスクのコーナが入れ子にされることができるコーナを形成する一対の相互直交壁２４８−１、２４８−２を有している。４つのポスト２４８は、離隔されており、その結果、マスク１５０の４つのコーナがポスト２４８の４つのコーナにしっかりと入れ子にされる。４つのポストは、ファクトリインタフェース１２０の主あるいはＸ軸に対して４５度の角度の向きの長方形を規定している。さらに、ブラケット１６０は、１つのコーナを有しており、それは、下に述べられるように、ロボットブレード１２６による接近のための最大空間を提供するために、ファクトリインタフェースの反対の境界への最大距離を提供するようにファクトリインタフェース１２０の境界に接している。１つにおいては、ポスト２４８は、垂直に延び、その結果、重力は、各ポスト２４８の床２４８−３にマスクを直接引き下げる。相互直交壁２４８−１、２４８−２は、真の垂直方向に対して僅かな角度で上から下へ内方に傾けられた内面を有している。この特徴は、マスクがポスト２４８の内面の上端によって捕えられるように４つのポスト２４８上に下降されるので、それが僅かに置き違えられるのを許容する。一旦これが生じれば、重力は、マスク１５０の縁部をそれが底面２４８−３（マスク１５０が完全に位置決めされる箇所）に接触するまで傾斜内部ポスト面を優しく下降させる。
【００１３】
ブラケット１６０は、９０度の回転ブラケットであり、下記の手順を用いてマスク１５０を９０度自動的に回転させるようにロボットアクチュエータ／ブレード１２４、１２６によって使用され、ここでは、マスクは、（ａ）ブラケットの第１の側１６０ａに近づくブレード１２６によってブラケット１６０上に配置され、その後、（ｂ）第１の側１６０ａに隣接且つ直交するブラケットの第２の側１６０ｂに近づくブレード１２６によってブラケットから取り除かれる。その手順は以下のように行なわれる：マスク１５０（チャンバ１０２〜１０８のうちの１つから前もって取り除かれ、ロードロック１１６に配置されているかも知れない）は、ブレード１２６によってロードロック１１６から持ち上げられ、ファクトリインタフェース１２０に取り込まれる。ブレード１２６は、ブラケット１６０の第１の側１６０ａに面するように、ローダ１１６に面する方向から、ファクトリインタフェース１２０の主軸Ｘに対して４５度の向きの方向に回転される。その後、ブレード１２６は、第１のブラケット側１６０ａに向かってＸ軸に沿って平行移動する（例えば、図１の図における左から右へ）。ブレード１２６は、ブラケット１６０上にマスク１５０を落とし、マスクのコーナがブラケット１６０の４つのポスト２４８に位置決めされる。その後、ブレード１２６は、ブラケット１６０から遠ざかるように退避され、ブラケット１６０の高さよりも下に下降され、その後、それがブラケット１６０を通過するまで同じ方向にＸ軸に沿ってさらに平行移動される。その後、ブレード１２６は、９０度回転する（例えば、それがＸ軸に対して４５度の角度で反対方向を指すまで）、その結果、それは、ブラケット１６０の第２の（隣接）側１６０ｂに面する。その後、ブレード１２６は、それがブラケット１６０上に着座しているマスク１５０を捕獲することができる高さに上昇される。その後、ブレード１２６は、マスク１５０を拾い上げるために、ブラケット１６０の隣接側１６０ｂに向かってＸ軸に沿って反対方向（例えば、図１の図における右から左へ）に平行移動される。従って、ブレード１２６は、それがブラケット１４０上にマスクを配置している隣接側でマスク１５０を拾い上げ、ロードロック１１６にマスク１５０を送る。これが、その当初の向きからのマスク１５０の９０度の回転を完了させる。ロードロック１１６から、マスク１５０は、エッチング処理の完了のために、ロードロックのロボット作動ブレード１１４によってチャンバ１０２〜１０８のうちの１つに持っていかれる。
【００１４】
カメラ１８０は、ブラケット１４０上（及び／又はブラケット１６０上）のマスク１５０の下に設けられることが可能である。カメラ１８０は、マスク１５０上に蒸着されたフォトレジストフィルム上に書かれた、あるいは、マスク１５０にエッチングされたレジェンドを検出するように構成されている。カメラ１８０に付随するプロセッサは、印刷されたレジェンドを表わすテキスト形式の文字列を生成するために、光学文字認識を行なうようにプログラムされている。この文字列は、特定のマスクのための処理シーケンスを表わすことが可能であり、その情報は、システム１００を管理する処理コントローラに送られる。この情報は、例えば、チャンバ１０２〜１０８のどれにマスク１５０を配置するか、及び、どの処理が行なわれるかを規定することが可能である。
【００１５】
上記は本発明の実施形態を対象としているが、本発明の他の及び更なる実施形態はその基本的な範囲から逸脱することなく考え出されることが可能であり、その範囲は特許請求の範囲に基づいて定められる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
本発明の典型的な実施形態が得られ、詳細に理解されることができるように、上で簡潔に要約された本発明のより特定の説明は、その実施形態への参照によって理解されることが可能であり、それは添付図面に例示されている。しかしながら、ある周知の処理は、本発明を不明瞭にしないように、ここでは議論されない。
【００１７】
【図１】複数のプラズマリアクタチャンバ及び自動化ワークピースハンドリング機能を有するプラズマ処理システムの平面図である。
【図２】図１のシステムにおけるファクトリインタフェースの斜視図である。
【図３】図２に対応する平面図である。
【図４】図２及び図３のファクトリインタフェースのマスク回転ブラケットの斜視図である。
【図５】図４のブラケットのうちの１つの典型的なコーナポストの斜視図である。
【図６】位置決めされていないマスクの捕獲を図示する、図５のポストの側面図である。
【図７】マスクの最終的な位置決めを図示する、図５のポストの側面図である。
【００１８】
理解を容易にするために、同一の参照符号が使用されており、ここでは、可能な限り、図間で共通である同一の要素を指定している。１つの実施形態の要素及び特徴が、さらなる記述なしに、他の実施形態に有益に組み込まれることが可能であることが意図されている。しかしながら、添付の図面が、本発明の典型的な実施形態だけを例示し、従ってその範囲を限定するようには考慮されず、本発明に対して、他の等しく有効な実施形態を認めることが可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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