(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
極端紫外光の生成が行われるチャンバと、ターゲット物質を前記チャンバ内に供給するターゲット供給部と、前記ターゲット供給部によって供給されたターゲット物質にレーザ光を照射することによりプラズマを発生させるドライバレーザと、該プラズマから放射される極端紫外光を集光して露光装置の投影光学系に入射させる集光ミラーと、を含む極端紫外光源装置と、
前記極端紫外光源装置の一部であり且つ前記チャンバを含む交換部品を持ち上げて移動させるように設置されている持ち上げ装置と、
を具備する極端紫外光源システム。
【請求項２】
前記持ち上げ装置は、前記交換部品を吊り上げることにより前記交換部品を持ち上げる、請求項１記載の極端紫外光源システム。
【請求項３】
前記持ち上げ装置が、前記極端紫外光源装置に固定されている、請求項１又は２記載の極端紫外光源システム。
【請求項４】
前記持ち上げ装置が、前記交換部品を持ち上げる持ち上げ機構と、前記持ち上げ機構を支持する持ち上げ機構フレームとを含み、
前記持ち上げ機構フレームが、前記極端紫外光源装置のフレームと一体化されている、請求項３記載の極端紫外光源システム。
【請求項５】
前記持ち上げ装置が、前記交換部品を持ち上げる持ち上げ機構と、前記持ち上げ機構を支持する持ち上げ機構フレームとを含み、
前記持ち上げ機構が、前記持ち上げ機構フレームに対して重力方向と交差する方向に移動する、請求項１乃至３のいずれか一項記載の極端紫外光源システム。
【請求項６】
前記持ち上げ装置が、前記交換部品を持ち上げる持ち上げ機構と、前記持ち上げ機構を支持する持ち上げ機構フレームとを含み、
前記持ち上げ機構フレームが、前記極端紫外光源装置に対して重力方向と交差する方向に移動する、請求項１又は２記載の極端紫外光源システム。
【請求項７】
前記持ち上げ装置は、前記交換部品を押し上げることにより前記交換部品を持ち上げる、請求項１記載の極端紫外光源システム。
【請求項８】
前記持ち上げ装置は、前記交換部品の持ち上げ高さ以下の高さを有する、請求項７記載の極端紫外光源システム。
【請求項９】
前記持ち上げ装置は、前記交換部品を下方から支持するベース部の真下に設けられ、該ベース部を上下動させる、請求項７又は８記載の極端紫外光源システム。
【請求項１０】
前記持ち上げ装置は、前記交換部品を下方から支持するベース部の両脇に設けられ、該ベース部を上下動させる、請求項７又は８記載の極端紫外光源システム。
【請求項１１】
前記交換部品を載せて、第１の位置とメンテナンスエリア内の第２の位置との間で前記交換部品を移動可能に構成された台車をさらに具備する、請求項１乃至１０のいずれか一項記載の極端紫外光源システム。
【請求項１２】
前記チャンバから射出されるＥＵＶ光の光軸が前記投影光学系の光軸と一致する第１の位置と、第２の位置との間で、前記チャンバを含む前記交換部品を保持して移動させるための車輪を有するチャンバ台をさらに具備する、請求項１乃至１０のいずれか一項記載の極端紫外光源システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置の光源として用いられる極端紫外（ＥＵＶ：extreme ultraviolet）光源装置を含む極端紫外光源システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体プロセスの微細化に伴って光リソグラフィにおける微細化が急速に進展しており、次世代においては、６０ｎｍ〜４５ｎｍの微細加工、更には３２ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。そのため、例えば、３２ｎｍ以下の微細加工の要求に応えるべく、波長１３ｎｍ程度のＥＵＶ光を発生するＥＵＶ光源と縮小投影反射光学系（reduced projection reflective optics）とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
【０００３】
ＥＵＶ光源としては、ターゲットにレーザビームを照射することによって生成されるプラズマを用いたＬＰＰ（laser produced plasma：レーザ生成プラズマ）光源（以下において、「ＬＰＰ式ＥＵＶ光源装置」ともいう）と、放電によって生成されるプラズマを用いたＤＰＰ（discharge produced plasma）光源と、軌道放射光を用いたＳＲ（synchrotron radiation）光源との３種類がある。これらの内でも、ＬＰＰ光源は、プラズマ密度をかなり大きくできるので黒体輻射に近い極めて高い輝度が得られ、ターゲット物質を選択することにより必要な波長帯のみの発光が可能であり、光源の周囲に電極等の構造物がなく、ほぼ等方的な角度分布を持つ点光源であるので、２π〜４πsteradianという極めて大きな捕集立体角の確保が可能であること等の利点から、数十ワット以上のパワーが要求されるＥＵＶリソグラフィ用の光源として有力であると考えられている。
【０００４】
ＬＰＰ式ＥＵＶ光源装置においては、次のような原理でＥＵＶ光が生成される。即ち、ノズルを用いて真空チャンバ内にターゲット物質を供給し、このターゲット物質に対してレーザビームを照射することにより、ターゲット物質を励起してプラズマ化させる。そのようにして生成されたプラズマからは、ＥＵＶ光を含む様々な波長成分が放射される。そこで、その内の所望の波長成分（例えば、１３．５ｎｍの波長を有する成分）を選択的に反射するコレクタミラー（集光ミラー）を用いることによりＥＵＶ光を反射集光し、露光装置の投影光学系に出力する。例えば、波長が１３．５ｎｍ付近のＥＵＶ光を集光するコレクタミラーとしては、反射面にモリブデン（Ｍｏ）及びシリコン（Ｓｉ）の膜が交互に積層されたミラーが用いられる。通常、Ｍｏ／Ｓｉ薄膜の積層数は、６０から数百層に及ぶ。
【０００５】
関連する技術として、特許文献１には、ＥＵＶ光源装置（放射線ユニット）内に斜入射ミラーを設けることにより、ＥＵＶ光を、投影光学系の光軸に一致するように投影光学系の仮想光源点に照射するリソグラフィ装置が開示されている。
【０００６】
しかしながら、特許文献１のリソグラフィ装置においては、斜入射ミラーを設けることにより、ＥＵＶ光強度の損失が生じてしまう。一般に、ミラーによるＥＵＶ光の反射率は約６０％程度であり、ミラーの枚数が１枚増加するごとに、ＥＵＶ光の利用効率が６０％程度に低下する。
【０００７】
また、特許文献２には、ＥＵＶ光源装置を重力方向に対して斜めに設置することにより、ＥＵＶ光を、投影光学系の光軸に一致するように投影光学系の仮想光源点に照射するリソグラフィ装置が開示されている。特許文献２によれば、特許文献１に比べて反射ミラーが１枚少なくなり、ＥＵＶ光の利用効率を改善することができる。
【０００８】
しかしながら、特許文献２のリソグラフィ装置においては、ＥＵＶ光源装置が露光装置の投影光学系より低い位置に設置される。このＥＵＶ光源装置のチャンバなどの交換部品は重量物であるため、低い位置に設置されたＥＵＶ光源装置は、メンテナンス時の部品の交換が容易ではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００６−１０８６８６号公報（図５）
【特許文献２】米国特許出願公開第２００６／１４６４１３号明細書（図２）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
そこで、上記の点に鑑み、本発明は、極端紫外（ＥＵＶ）光源装置の部品を容易に交換することのできるＥＵＶ光源システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するため、本発明の１つの観点に係る極端紫外光源システムは、（ｉ）極端紫外光の生成が行われるチャンバと、ターゲット物質をチャンバ内に供給するターゲット供給部と、ターゲット供給部によって供給されたターゲット物質にレーザ光を照射することによりプラズマを発生させるドライバレーザと、該プラズマから放射される極端紫外光を集光して露光装置の投影光学系に入射させる集光ミラーと、を含む極端紫外光源装置と、（ii）極端紫外光源装置の一部であり且つチャンバを含む交換部品を持ち上げて移動させるように設置されている持ち上げ装置とを具備する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の１つの観点によれば、極端紫外（ＥＵＶ）光源装置の一部である交換部品を持ち上げて移動させるように持ち上げ装置が設置されているので、ＥＵＶ光源装置のメンテナンス時に重量物である部品を容易に交換することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の第１実施形態に係る極端紫外（ＥＵＶ）光源システムを含む露光装置の概略構成を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。
【図２】ＥＵＶ光源システムに含まれるＥＵＶ光源装置の構成を示す模式図である。
【図３】第１実施形態において持ち上げた交換部品を移動させる構成の代替例を示す平面図である。
【図４】第１実施形態において持ち上げた交換部品を移動させる構成の別の代替例を示す平面図である。
【図５】第１実施形態において持ち上げた交換部品を移動させる構成の更に別の代替例を示す平面図である。
【図６】第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第１の実施例を示す側面図である。
【図７】第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第２の実施例を示す側面図である。
【図８】第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第３の実施例を示す側面図である。
【図９】第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第４の実施例を示す側面図である。
【図１０】第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第５の実施例を示す側面図である。
【図１１】第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第６の実施例を示す側面図である。
【図１２】第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第７の実施例を示す側面図である。
【図１３】第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第８の実施例を示す側面図である。
【図１４】第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第９の実施例を示す側面図である。
【図１５】第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第１０の実施例を示す側面図である。
【図１６】第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第１１の実施例を示す側面図である。
【図１７】第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第１２の実施例を示す側面図である。
【図１８】第１実施形態におけるＥＵＶチャンバ台車に関する第１３の実施例を示す側面図（ａ）及び正面図（ｂ）である。
【図１９】第１実施形態におけるＥＵＶチャンバ台車に関する第１４の実施例を示す側面図（ａ）及び正面図（ｂ）である。
【図２０】第１実施形態におけるＥＵＶチャンバ台車に関する第１５の実施例を示す側面図（ａ）及び正面図（ｂ）である。
【図２１】第１実施形態におけるＥＵＶチャンバ台車に関する第１６の実施例を示す側面図（ａ）（ｃ）及び正面図（ｂ）（ｄ）である。
【図２２】本発明の第２実施形態に係る極端紫外（ＥＵＶ）光源システムの概略構成を示す側面図である。
【図２３】第２実施形態のＥＵＶ光源システムにおける移動機構に関する第１６の実施例を示す側面図である。
【図２４】第２実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第１７の実施例を示す平面図（ａ）、図２４（ａ）のＡ−Ａ線断面図（ｂ）、及び、側面図（ｃ）である。
【図２５】第２実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第１８の実施例を示す平面図（ａ）、図２５（ａ）のＢ−Ｂ線断面図（ｂ）、及び、側面図（ｃ）である。
【図２６】第２実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第１９の実施例を示す平面図（ａ）、図２６（ａ）のＣ−Ｃ線断面図（ｂ）、及び、側面図（ｃ）である。
【図２７】第２実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第２０の実施例を示す平面図（ａ）、図２７（ａ）のＤ−Ｄ線断面図（ｂ）、及び、側面図（ｃ）である。
【図２８】第２実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第２１の実施例を示す側面図である。
【図２９】第２実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第２２の実施例を示す側面図である。
【図３０】第２実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第２３の実施例を示す側面図である。
【図３１】第２実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第２４の実施例を示す側面図である。
【図３２】第２実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第２５の実施例を示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
図１は、本発明の第１実施形態に係る極端紫外（ＥＵＶ）光源システムを含む露光装置の概略構成を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。この露光装置は、ＥＵＶ光源装置１と、投影光学系２０と、持ち上げ装置３０と、位置決め機構７０とを含んでいる。ここで、投影光学系２０は、マスクにＥＵＶ光を照射する光学系であるマスク照射部２１と、マスクの像をウエハ上に投影する光学系であるワークピース照射部２２とを含んでいる。ＥＵＶ光源装置１、持ち上げ装置３０、及び、位置決め機構７０は、極端紫外光源システムを構成している。
【００１５】
図２は、ＥＵＶ光源システムに含まれるＥＵＶ光源装置の構成を示す模式図である。
ＥＵＶ光源装置１は、レーザビームをターゲット物質に照射して励起させることによりＥＵＶ光を生成するレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）方式を採用している。図２に示すように、このＥＵＶ光源装置１は、ドライバレーザ２と、ターゲット供給部３と、ターゲット回収部５と、レーザ集光光学系６と、ＥＵＶチャンバ１０と、光路接続モジュール１１と、ＥＵＶ集光ミラー１５とを有している。
【００１６】
ドライバレーザ２は、ターゲット物質を励起させるために用いられる駆動用のレーザ光を生成する発振増幅型のレーザ装置である。ドライバレーザ２によって生成されたレーザ光は、少なくとも１つのレンズ及び／又は少なくとも１つのミラーを含んだレーザ集光光学系６により、ＥＵＶチャンバ１０内のターゲット物質の軌道上に焦点を形成するように集光される。ターゲットにレーザ光が集光して照射されるとプラズマが発生する。このプラズマの発光点（ＰＰ：plasma emission point）からＥＵＶ光が放出される。
【００１７】
ターゲット供給部３は、ＥＵＶ光を発生するために用いられるスズ（Ｓｎ）やリチウム（Ｌｉ）等のターゲット物質を、ターゲットノズル８を介してＥＵＶチャンバ１０内に供給する装置である。供給されたターゲット物質の内で、レーザ光が照射されずに不要となったものは、ターゲット回収部５によって回収される。
【００１８】
ターゲット物質の状態は、固体、液体、気体の何れでも良く、ターゲット供給部３は、連続流れ（ターゲット噴流）や液滴（ドロップレット）等の、公知の何れの態様でターゲット物質をＥＵＶチャンバ１０内の空間に供給しても良い。例えば、ターゲット物質としてスズ（Ｓｎ）の溶融金属を用いる場合には、ターゲット供給部３は、スズを溶融するためのヒータや溶融金属スズを噴出させるための高純度アルゴン（Ａｒ）ガスを供給するガスボンベ、マスフローコントローラ、ターゲットノズル等によって構成される。また、ドロップレットを生成する場合には、ターゲットノズル８にピエゾ素子等の加振装置が追加される。
【００１９】
ＥＵＶチャンバ１０は、ＥＵＶ光の生成が行われる真空チャンバである。ＥＵＶチャンバ１０には、ドライバレーザ２によって生成されたレーザ光をＥＵＶチャンバ１０内に通過させるための窓７が設けられている。
【００２０】
ＥＵＶ集光ミラー１５は、ＥＵＶチャンバ１０内に設けられている。ＥＵＶ集光ミラー１５は、所定の波長を有するＥＵＶ光を選択的に反射させる多層膜がコートされた反射面を有している。ＥＵＶ集光ミラー１５の反射面は回転楕円体の形状を有しており、このＥＵＶ集光ミラー１５は、回転楕円体の第１の焦点位置がプラズマ発光点（ＰＰ）となるように配置されている。ＥＵＶ集光ミラー１５によって反射されたＥＵＶ光は、回転楕円体の第２の焦点位置、すなわち中間集光点（intermediate focusing point）ＩＦに集光される。
【００２１】
ＥＵＶチャンバ１０内に供給されたターゲット物質にレーザビームを照射することにより、プラズマが生成され、そこから様々な波長を有する光が放射される。この内の所定の波長成分（例えば、１３．５ｎｍの波長を有する成分）が、ＥＵＶ集光ミラー１５によって反射されて、集光される。ＥＵＶ集光ミラー１５から射出されるＥＵＶ光は、ＥＵＶチャンバ１０と投影光学系２０とを接続する光路接続モジュール１１内を通過して、投影光学系２０に入射される。
【００２２】
再び図１を参照すると、投影光学系２０は、マスクにＥＵＶ光を照射するためのマスク照射部２１と、マスクの像をウエハ上に投影するためのワークピース照射部２２とを有している。マスク照射部２１は、ＥＵＶ光源装置１から入射したＥＵＶ光を、反射光学系を介してマスクテーブルＭＴのマスクパターン上に照射する。ワークピース照射部２２は、マスクテーブルＭＴから反射されたＥＵＶ光を、反射光学系を介してワークピーステーブルＷＴのワークピース（半導体ウエハ等）上に結像させる。そして、マスクテーブルＭＴとワークピーステーブルＷＴとを同時に平行移動させることにより、マスクパターンをワークピースに転写させる。
【００２３】
持ち上げ装置３０は、ＥＵＶ光源装置１の一部である交換部品（ＥＵＶチャンバ１０等）を持ち上げて移動させる装置であり、交換部品を持ち上げる持ち上げ機構５０と、持ち上げ機構５０を支持する持ち上げ機構フレーム４０とを含んでいる。なお、交換部品としては、ＥＵＶチャンバ１０の他、図２に示すドライバレーザ２、ターゲット供給部３、ターゲット回収部５、レーザ集光光学系６、光路接続モジュール１１、或いは図示しない電源装置、真空排気ポンプ、磁場発生装置等の周辺機器の一部又は全部が含まれていても良い。
【００２４】
交換部品を持ち上げて移動させる機構の詳細は後述するが、交換部品を持ち上げる構成としては、図１に示すようにクレーンにより吊り上げるものの他、斜面に沿って押し上げ又は引き上げるもの、或いは、フォークリフトのように引掛けて持ち上げるもの等を用いることもできる。また、交換部品を下から押し上げる機構等を用いてもよい。
【００２５】
持ち上げた交換部品を移動させる構成としては、交換部品を持ち上げた持ち上げ機構５０が、持ち上げ機構フレーム４０のレール等に沿って重力方向と交差する方向に移動するもの、或いは、持ち上げ機構５０が、持ち上げ機構フレーム４０の中の１点を軸とした回転運動を行うもの、或いは、持ち上げ機構フレーム４０自体が投影光学系２０に対して重力方向と交差する方向に移動するもの等を用いることができる。図１には、持ち上げ機構５０が交換部品とともに投影光学系２０に対する向きと平行に移動する例が示されている。より具体的には、持ち上げ機構５０が、持ち上げ機構フレーム４０の２本の平行な梁部材にまたがって設置され、これら２本の梁部材に沿ってそれぞれ設けられたレール上を、持ち上げ機構５０が移動する。
【００２６】
図３は、第１実施形態において持ち上げた交換部品を移動させる構成例を示す平面図であり、図１（ａ）に対する代替例を示している。図３には、持ち上げ機構５０が交換部品とともに投影光学系２０に対する向きと交差する方向に移動する例が示されている。より具体的には、持ち上げ機構５０が、持ち上げ機構フレーム４０ａの２本の平行な梁部材にまたがって設置され、これら２本の梁部材に沿ってそれぞれ設けられたレール上を、持ち上げ機構５０が移動する。
【００２７】
図４は、第１実施形態において持ち上げた交換部品を移動させる構成例を示す平面図であり、図１（ａ）に対する別の代替例を示している。図４には、持ち上げ機構５０が回転することにより、交換部品が円弧状の軌跡を描いて移動する例が示されている。より具体的には、持ち上げ機構５０が持ち上げ機構フレーム４０ｂの中の１点を軸として回転可能に設置されており、持ち上げ機構５０の回転運動により交換部品が移動させられる。
【００２８】
図５は、第１実施形態において持ち上げた交換部品を移動させる構成例を示す平面図であり、図１（ａ）に対する更に別の代替例を示している。図５には、持ち上げ機構５０が回転することにより、交換部品が円弧状の軌跡を描いて移動する例が示されている。より具体的には、持ち上げ機構５０が持ち上げ機構フレーム４０ｃの中の１点を軸として１８０°以上回転可能に設置されており、持ち上げ機構５０が当初の向きとほぼ正反対の向きまで回転することにより交換部品が移動させられる。
【００２９】
再び図１を参照すると、位置決め機構７０は、ＥＵＶチャンバ１０の形状に合わせたチャンバ台７４ａを含んでいる。このチャンバ台７４ａは、ＥＵＶチャンバ１０から射出されるＥＵＶ光の光軸（以下「ＥＵＶチャンバ１０の光軸」という）が投影光学系２０の光軸と一致するように、重力方向に対して斜めの姿勢にＥＵＶチャンバ１０を保持する。チャンバ台７４ａは、ＥＵＶチャンバ１０の形状に合わせてあるので、ＥＵＶチャンバ１０がチャンバ台７４ａに嵌まることにより、ＥＵＶチャンバ１０の光軸が投影光学系２０の光軸と一致する姿勢を正しく保持することができる。
【００３０】
位置決め機構７０は、ＥＵＶチャンバ１０の光軸が投影光学系２０の光軸と一致する位置にＥＵＶチャンバ１０が位置決めされるよう、チャンバ台７４ａを位置決めする。チャンバ台７４ａを位置決めする構成は特に限定されるものではなく、ストッパ、位置決めピン、６軸ステージなど種々の構成を用いることができる。図１には、ＥＵＶチャンバ１０の光軸が投影光学系２０の光軸と一致する位置に、ＥＵＶチャンバ１０がチャンバ台７４ａとともに位置決めされた状態を示している。
【００３１】
以上のように構成することにより、本実施形態によれば、ＥＵＶ光源装置１のメンテナンス時に重量物であるＥＵＶチャンバ１０等の部品を容易に交換することができる。また、部品の交換に要する時間を短縮することができる。また、部品交換作業の安全性を高めることができる。さらに、持ち上げ装置３０が設置されているため、部品交換のための重いジグを部品交換が行われるＥＵＶ光源装置１まで運ぶ手間を軽減することができる。
【００３２】
次に、上記第１実施形態のＥＵＶ光源システムの具体的な実施例について説明する。なお、上記第１実施形態の説明は、その性質に反しない限りそのまま以下の各実施例においても該当する。
【００３３】
図６は、第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第１の実施例を示す側面図である。
第１の実施例に係るＥＵＶ光源システムにおいては、持ち上げ機構フレーム４１がＥＵＶ光源装置１のフレームと一体化されている。第１の実施例においては、持ち上げ機構フレーム４１がＥＵＶ光源装置１のフレームと一体不可分なので、持ち上げ機構フレーム４１がＥＵＶ光源装置１の内部に図示されている。光源装置フレーム一体型の持ち上げ機構フレーム４１には、ＥＵＶチャンバ１０等の交換部品を移動させる移動機構６０が固定されている。ＥＵＶチャンバ１０等の交換部品は、チャンバ台７４ａに設置され、この移動機構６０上をチャンバ台７４ａが移動することによって、ＥＵＶチャンバ１０の光軸が投影光学系の光軸と一致する位置と、投影光学系から所定の距離だけ離れた位置との間を移動するようになっている。
【００３４】
移動機構６０の構成は特に限定されるものではなく、例えば、持ち上げ機構フレーム４１上に設置されたレールを、移動機構６０とすることができる。このレール上をチャンバ台７４ａが走行することにより、チャンバ台７４ａがＥＵＶチャンバ１０等の交換部品とともに移動することができる。
【００３５】
ＥＵＶ光源装置１の交換部品をメンテナンスのために運び出す時には、まず、移動機構６０によって交換部品を投影光学系から所定の距離だけ離れた位置に移動させた後、持ち上げ機構５０によって交換部品を持ち上げる。そして、持ち上げ機構５０を移動させることによって、移動機構６０から離れた位置にあるＥＵＶチャンバ台車８０まで交換部品を移動させる。ＥＵＶチャンバ台車８０に載せられた交換部品は、所望のメンテナンスエリアまで運ばれる。ここでは、移動機構６０によって交換部品を投影光学系から所定の距離だけ離れた位置に移動させた後、持ち上げ機構５０によって交換部品を持ち上げる場合について説明したが、これは、持ち上げ機構５０によって交換部品を持ち上げる際に、交換部品と投影光学系とが接触し、いずれかが損傷するようなことを防止するためである。投影光学系の形状により、交換部品を移動機構６０によって移動させずにそのまま持ち上げ機構５０によって持ち上げても投影光学系との接触を回避できる場合には、移動機構６０を省略することも可能である。
【００３６】
交換部品をＥＵＶ光源装置１に設置する時には、交換部品を載せたＥＵＶチャンバ台車８０を、持ち上げ機構５０の可動範囲内まで移動させた後、持ち上げ機構５０により交換部品を支持して移動機構６０の上方まで移動させる。持ち上げ機構５０は、移動機構６０の上方において交換部品を下降させる。下降させられた交換部品は、移動機構６０によってＥＵＶチャンバ１０の光軸が投影光学系の光軸と一致する位置まで移動させられる。
第１の実施例によれば、持ち上げ機構フレーム４１と、ＥＵＶ光源装置１のフレームとを一体化したので、持ち上げ機構５０の位置アライメントを高精度で行うことができる。
【００３７】
図７は、第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第２の実施例を示す側面図である。
第２の実施例は、ＥＵＶチャンバ１０の光軸が投影光学系の光軸と一致する位置における床面（以下「低床面」という）が、ＥＵＶチャンバ台車８０によりＥＵＶチャンバ１０を搬送可能な領域における床面（以下「高床面」という）より低くなっている点で第１の実施例と異なる。その他の点については、第１の実施例と同一である。第２の実施例における持ち上げ機構フレーム４１は、低床面と高床面とにまたがって設置されるので、床面高さの差に応じて、持ち上げ機構フレーム４１の低床面側に位置する柱部材が、高床面側に位置する柱部材より下方に突出した長いものとなっている。
【００３８】
従って、第２の実施例において、交換部品の低床面の領域内での移動は、移動機構６０により行われ、低床面の領域から高床面の領域への移動は、持ち上げ装置３０により行われ、高床面の領域内での移動は、ＥＵＶチャンバ台車８０により行われる。
第２の実施例は以上のように構成したので、第１の実施例の効果に加え、床面高さの異なる場所に交換部品を移動させることも容易に行うことができる。
【００３９】
図８は、第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第３の実施例を示す側面図である。
第３の実施例は、持ち上げ機構５１が、交換部品を斜面に沿って持ち上げるものである点で第２の実施例と異なる。その他の点については、第２の実施例と同一である。第３の実施例における持ち上げ機構５１は、図７に示された第２の実施例における移動機構６０を兼ねているということができる。
【００４０】
図８に示された持ち上げ機構５１において、交換部品を斜面に沿って持ち上げる具体的な構成は特に限定されるものではなく、例えば、ラック・アンド・ピニオンを用いることができる。ラック・アンド・ピニオンは、細長い平板の一側面に歯切りをしたラックを斜面に沿って固定し、交換部品に軸支された小口径の円形歯車（ピニオン）を上述のラックに噛み合わせ、ピニオンを回転駆動することで、交換部品を斜面に沿って持ち上げるものである。また、これと逆に、ピニオンを斜面に配置し、ラックを交換部品に固定しても良い。
【００４１】
その他、持ち上げ機構５１において交換部品を斜面に沿って持ち上げる構成としては、斜面に沿った方向に長いネジを配置し、このネジと噛み合う部品を交換部品に取り付け、ネジを回転させる構成を用いることもできる。また、交換部品にワイヤー等の一端を取り付け、このワイヤーの他端を斜面に沿って上方へ引っぱることで、交換部品を持ち上げる構成を用いることもできる。
第３の実施例は以上のように構成したので、第１の実施例の効果に加え、第２の実施例と同様に、床面高さの異なる場所に交換部品を移動させることも容易に行うことができる。
【００４２】
図９は、第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第４の実施例を示す側面図である。
第４の実施例は、持ち上げ機構フレーム４２が、ＥＵＶ光源装置１のフレーム９０と別体になっている点で第１の実施例と異なる。その他の点については、第１の実施例と同一である。図９に示すように、ＥＵＶ光源装置１には、ＥＵＶチャンバ１０の他、ＥＵＶ光源装置のフレーム９０が含まれる。持ち上げ機構５０の位置アライメント精度向上の点では第１の実施例の方が優れるが、第４の実施例は、持ち上げ装置３０を有していない既設の光源装置において、新たに持ち上げ装置３０を設置してメンテナンスの容易性を高めようとする場合に、既設のＥＵＶ光源装置１のフレームに変更を加えずに持ち上げ装置３０を設置できるというメリットがある。
【００４３】
図１０は、第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第５の実施例を示す側面図である。
第５の実施例は、持ち上げ機構フレーム４２が、ＥＵＶ光源装置１のフレーム９０と別体になっている点で第２の実施例と異なる。その他の点については、第２の実施例と同一である。持ち上げ機構５０の位置アライメント精度向上の点では第２の実施例の方が優れるが、第５の実施例は、持ち上げ装置３０を有していない既設の光源装置において、新たに持ち上げ装置３０を設置してメンテナンスの容易性を高めようとする場合に、既設のＥＵＶ光源装置１のフレームに変更を加えずに持ち上げ装置３０を設置できるというメリットがある。
【００４４】
図１１は、第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第６の実施例を示す側面図である。
第６の実施例は、持ち上げ機構フレーム４２が、ＥＵＶ光源装置１のフレーム９０と別体になっている点で第３の実施例と異なる。その他の点については、第３の実施例と同一である。持ち上げ機構５１の位置アライメント精度向上の点では第３の実施例の方が優れるが、第６の実施例は、持ち上げ装置３０を有していない既設の光源装置において、新たに持ち上げ機構５１が搭載されている持ち上げ装置３０を設置してメンテナンスの容易性を高めようとする場合に、既設のＥＵＶ光源装置１のフレームに変更を加えずに持ち上げ装置３０を設置できるというメリットがある。
【００４５】
図１２は、第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第７の実施例を示す側面図である。
第７の実施例は、持ち上げ機構フレーム４３がＥＵＶ光源装置１に対して固定されておらず、持ち上げ機構フレーム４３が床面上を移動可能となっている点で第４の実施例と異なる。その他の点については、第４の実施例と同一である。持ち上げ機構フレーム４３を移動可能とする構成は特に限定されるものではなく、例えば持ち上げ機構フレーム４３の接地面に車輪を取り付け、車輪が転がることにより持ち上げ機構フレーム４３を移動可能としても良い。また、この車輪が転がるためのレールを床面に敷設しても良い。
【００４６】
移動式の持ち上げ機構フレーム４３は、予めＥＵＶ光源装置１の近傍に設置されており、ＥＵＶチャンバ１０等の部品を交換する時に、持ち上げ機構フレーム４３が所望の位置に移動させられて位置決めされる。持ち上げ機構フレーム４３が所望の位置に位置決めされた状態で、持ち上げ機構５０が、移動機構６０とＥＵＶチャンバ台車８０との間での交換部品の持ち上げ及び移動を行う。交換部品の持ち上げ及び移動が終了した後、持ち上げ機構フレーム４３は元のＥＵＶ光源装置１の近傍位置に戻される。
第７の実施例は以上のように構成したので、第４の実施例の効果に加え、互いに近傍に位置する複数の露光装置において１つの持ち上げ装置３０を共有することができる。
【００４７】
図１３は、第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第８の実施例を示す側面図である。
第８の実施例は、持ち上げ機構５２が、持ち上げ機構フレーム４４に対して移動しないようになっている点で第７の実施例と異なる。その他の点については、第７の実施例と同一である。第８の実施例において、交換部品を移動させるには、持ち上げ機構５２によって交換部品を持ち上げた後、持ち上げ機構フレーム４４自体を移動させる。
【００４８】
移動式の持ち上げ機構フレーム４４は、予めＥＵＶ光源装置１の近傍に設置されており、ＥＵＶチャンバ１０等の部品を交換する時に、持ち上げ機構フレーム４４が交換部品を支持可能な所望の位置に移動させられる。移動機構６０とＥＵＶチャンバ台車８０との間での交換部品の移動は、持ち上げ機構５２によって交換部品を持ち上げた後、持ち上げ機構フレーム４４を移動させることにより行う。交換部品の持ち上げ及び移動が終了した後、持ち上げ機構フレーム４４は元のＥＵＶ光源装置１の近傍位置に戻される。
第８の実施例は以上のように構成したので、第７の実施例の効果に加え、持ち上げ機構５２を持ち上げ機構フレーム４４に対して移動させる構成を不要とし、構成を単純化することができる。
【００４９】
図１４は、第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第９の実施例を示す側面図である。
第９の実施例は、持ち上げ機構５３が、持ち上げ機構フレーム４４の梁部材に設けられているのではなく、持ち上げ機構フレーム４４の一部の柱部材に設けられている点で第８の実施例と異なる。その他の点については、第８の実施例と同一である。この持ち上げ機構５３は、持ち上げ機構フレーム４４の柱部材に一端を支持された片持ち梁となっており、柱部材に沿って重力方向に上下動可能となっている。この持ち上げ機構５３は、フォークリフトのように交換部品を引掛けて上下動することにより、交換部品を持ち上げることができる。
【００５０】
第９の実施例は以上のように構成したので、第８の実施例と同様に、持ち上げ機構５３を持ち上げ機構フレーム４４に対して重力方向と交差する方向に移動させる構成を不要とし、構成を単純化することができる。
【００５１】
図１５は、第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第１０の実施例を示す側面図である。
第１０の実施例は、持ち上げ機構フレーム４５に梁部材が存在せず、持ち上げ機構５３を支持するのに必要な柱部材のみが設けられている点で第９の実施例と異なる。その他の点については、第９の実施例と同一である。
【００５２】
第１０の実施例は以上のように構成したので、第９の実施例の効果に加え、持ち上げ機構フレーム４５の構成を単純化するとともに、持ち上げ機構フレーム４５を狭い場所へも移動させることができるので、使い勝手を向上することができる。
【００５３】
図１６は、第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第１１の実施例を示す側面図である。図１６において、持ち上げ装置は省略している。
第１１の実施例は、光路接続モジュール１１を投影光学系２０に接続させたまま、光路接続モジュール１１以外の交換部品（ＥＵＶチャンバ１０等）を持ち上げ装置により持ち上げて移動させることによってメンテナンス可能とした点で、第１〜第１０の実施例と異なる。その他の点については、第１〜第１０の実施例と同一である。
【００５４】
第１１の実施例において持ち上げ装置により持ち上げられて移動させられる交換部品は、図２に示すＥＵＶチャンバ１０に備えられたターゲット供給部３、ターゲット回収部５、ＥＵＶ集光ミラー１５などを含むことが望ましい。すなわち、ターゲット供給部３はターゲット物質をＥＵＶチャンバ１０内に供給する装置であり、長期間使用するとターゲットノズル８等に目詰まりが発生するため定期的な交換が必要である。ターゲット回収部５はターゲット供給部３から供給されたにもかかわらずプラズマ化しなかったターゲット物質を回収する装置であり、使用中にターゲット物質によって汚染されていくため定期的な交換が必要である。ＥＵＶ集光ミラー１５は、使用中にターゲット物質の付着やイオンエッチング等により反射率が低下していくため定期的な交換が必要である。
【００５５】
これに対し、光路接続モジュール１１は、ＥＵＶチャンバ１０に備えられたターゲット供給部３、ターゲット回収部５及びＥＵＶ集光ミラー１５ほど頻繁なメンテナンスを必要としない。そこで、第１１の実施例においては、ＥＵＶチャンバ１０を光路接続モジュール１１と切り離してメンテナンスエリアまで運べるようにしている。
【００５６】
図１６に示す第１１の実施例において、ＥＵＶチャンバ１０内又は光路接続モジュール１１内に大気が進入しないように、ＥＵＶチャンバ１０と光路接続モジュール１１との接続部分には、ゲートバルブ又は蓋を設けても良い。また、ＥＵＶチャンバ１０と光路接続モジュール１１とを切り離す前に、ＥＵＶチャンバ１０内及び光路接続モジュール１１内に、窒素ガス又はアルゴンガス等の不活性気体を大気圧付近にまで充填するようにしても良い。
【００５７】
第１１の実施例においては、ＥＵＶチャンバ１０と光路接続モジュール１１とを切り離すこととしたが、ＥＵＶチャンバ１０を分割して、ＥＵＶチャンバ１０の一部のみを持ち上げ装置により持ち上げて移動させることとしても良い。
【００５８】
図１７は、第１実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第１２の実施例を示す側面図である。図１７において、持ち上げ装置は省略している。
第１２の実施例においては、ＥＵＶチャンバ１０に接続された光路接続モジュール１１ａと、投影光学系２０に接続された光路接続モジュール１１ｂとを接続することによって、ＥＵＶチャンバ１０と投影光学系２０とを接続している。第１２の実施例は、光路接続モジュール１１ｂを投影光学系２０に接続させたまま、光路接続モジュール１１ａとＥＵＶチャンバ１０とを持ち上げ装置により持ち上げて移動させることによってメンテナンス可能とする点で、第１１の実施例と異なる。その他の点については、第１１の実施例と同一である。
【００５９】
第１２の実施例において、光路接続モジュール１１ａ及び１１ｂ内に大気が進入しないように、光路接続モジュール１１ａと光路接続モジュール１１ｂとの接続部分には、ゲートバルブ又は蓋を設けても良い。
【００６０】
図１８は、第１実施形態におけるＥＵＶチャンバ台車に関する第１３の実施例を示す側面図（ａ）及び正面図（ｂ）である。図１８において、ＥＵＶ光源装置及び持ち上げ装置は省略している。
第１３の実施例は、ＥＵＶチャンバ台車８０ａを所望の位置に固定する固定機構を備えた点で、第１〜第１２の実施例と異なる。その他の点、例えば、ＥＵＶ光源装置、投影光学系、持ち上げ装置については、第１〜第１２の実施例と同一の構成を採用することができる。
【００６１】
第１３の実施例におけるＥＵＶチャンバ台車８０ａは、ＥＵＶチャンバ台車８０ａの進行方向側方に突出したピン支持部８１ａによって上下動可能に支持されたピン８１ｂを有している。ピン８１ｂの下端が、床面に設けられた孔８２内に挿入されると、ＥＵＶチャンバ台車８０ａの位置が固定される。ピン８１ｂを孔８２から抜き取れば、ＥＵＶチャンバ台車８０ａを移動させることができる。
【００６２】
図１８においては、ピン支持部８１ａがＥＵＶチャンバ台車８０ａの進行方向側方に突出しているため、ピン８１ｂ及び孔８２がＥＵＶチャンバ台車８０ａの進行方向側方に位置しているが、この位置に限らず、ピン支持部８１ａがＥＵＶチャンバ台車８０ａの進行方向前方或いは後方に突出するようにして、ピン８１ｂ及び孔８２がＥＵＶチャンバ台車８０ａの固定位置よりも進行方向前方或いは後方に位置するようにしてもよい。更に、ピン支持部８１ａを水平方向に突出させずにＥＵＶチャンバ台車８０ａのＥＵＶチャンバ搭載面内に形成することにより、水平方向の突起をなくすようにしても良い。ピン支持部８１ａをＥＵＶチャンバ台車８０ａのＥＵＶチャンバ搭載面内に形成する場合は、ＥＵＶチャンバ１０の搭載、移動に干渉しない位置にピン支持部８１ａを形成することが望ましい。
【００６３】
第１３の実施例によれば、ＥＵＶチャンバ台車８０ａの位置を一時的に固定できるので、ＥＵＶチャンバ台車８０ａの固定位置において交換部品を載せたり、メンテナンスしたりする作業を安全に行うことができる。
また、例えば図７を参照しながら説明した第２の実施例のように、ＥＵＶチャンバ１０の光軸が投影光学系２０の光軸と一致する位置における床面（低床面）が、ＥＵＶチャンバ台車によりＥＵＶチャンバ１０を搬送可能な領域における床面（高床面）より低くなっている場合に、図１８に示すＥＵＶチャンバ台車８０ａを採用すれば、高床面を走行するＥＵＶチャンバ台車８０ａが低床面に落下することを防止することができる。
【００６４】
図１９は、第１実施形態におけるＥＵＶチャンバ台車に関する第１４の実施例を示す側面図（ａ）及び正面図（ｂ）である。図１９において、ＥＵＶ光源装置及び持ち上げ装置は省略している。
第１４の実施例は、固定機構として、ＥＵＶチャンバ台車８０ｂの車輪の回転を摩擦により規制するブレーキ機構８３を備えた点で、第１３の実施例と異なる。その他の点については、第１３の実施例と同一である。
【００６５】
第１４の実施例におけるＥＵＶチャンバ台車８０ｂにおいて、ブレーキ機構８３を車輪８４のうち少なくとも１つの外周に押し付けると、ＥＵＶチャンバ台車８０ｂの移動が規制される。ブレーキ機構８３を車輪８４から引き離せば、ＥＵＶチャンバ台車８０ｂを移動させることができる。ブレーキ機構８３は、ＥＵＶチャンバ台車８０ｂの位置を固定するためだけでなく、ＥＵＶチャンバ台車８０ｂを減速させるために使用してもよい。また、ブレーキ機構８３は複数備えてもよいし、それらを同時に車輪８４に押し付けてもよい。
【００６６】
図２０は、第１実施形態におけるＥＵＶチャンバ台車に関する第１５の実施例を示す側面図（ａ）及び正面図（ｂ）である。図２０において、ＥＵＶ光源装置及び持ち上げ装置は省略している。
第１５の実施例は、固定機構として、ＥＵＶチャンバ台車８０ｃの車輪８４の走行経路上に窪み８５を形成可能とした点で、第１３及び第１４の実施例と異なる。その他の点については、第１３及び第１４の実施例と同一である。
【００６７】
第１５の実施例においては、例えば、レール８６が車輪８４の走行経路を構成している。このレール８６の一部を、油圧ポンプ８７による油圧等によって昇降可能とする。これにより、レール８６の一部を下降させたときには窪み８５が形成され、ＥＵＶチャンバ台車８０ｃの位置を固定することができる。レール８６の窪み８５に相当する部分を上昇させれば、ＥＵＶチャンバ台車８０ｃを移動させることができる。
【００６８】
図２１は、第１実施形態におけるＥＵＶチャンバ台車に関する第１６の実施例を示す側面図（ａ）（ｃ）及び正面図（ｂ）（ｄ）である。図２１（ａ）（ｂ）はＥＵＶチャンバ台車８０ｄの位置が固定されていない状態、図２１（ｃ）（ｄ）はＥＵＶチャンバ台車８０ｄの位置が固定された状態を示している。図２１において、ＥＵＶ光源装置及び持ち上げ装置は省略している。
【００６９】
第１６の実施例は、固定機構として、大径円筒部８８ａと、小径円筒部８８ｂと、レバー８９とを含むリンク機構を備えた点で、第１３〜第１５の実施例と異なる。その他の点については、第１３〜第１５の実施例と同一である。大径円筒部８８ａは、一端をＥＵＶチャンバ台車８０ｄに固定されている。大径円筒部８８ａの他端には小径円筒部８８ｂが挿入されており、小径円筒部８８ｂは、大径円筒部８８ａ内において往復動可能となっている。レバー８９は、大径円筒部８８ａ内への小径円筒部８８ｂの挿入深さを決定する。
【００７０】
図２１（ａ）（ｂ）に示すように、大径円筒部８８ａ内に小径円筒部８８ｂが深く挿入されて小径円筒部８８ｂが床面から浮いた状態においては、ＥＵＶチャンバ台車８０ｄは床面に対して固定されておらず、移動可能である。一方、図２１（ｃ）（ｄ）に示すように、レバー８９を回動させると、大径円筒部８８ａ内から小径円筒部８８ｂが引き出される。これにより、小径円筒部８８ｂが床面を押圧し、少なくとも１つの車輪８４が床面から浮いた状態となり、ＥＵＶチャンバ台車８０ｄの位置が固定される。このような固定機構としては、一般に市販されているものを用いることもできる。
【００７１】
次に、本発明の第２実施形態について説明する。
図２２は、本発明の第２実施形態に係る極端紫外（ＥＵＶ）光源システムの概略構成を示す側面図である。第２実施形態は、持ち上げ装置３１が持ち上げ機構フレームを有していない点で第１実施形態と異なる。その他の点については、第１実施形態と同一である。例えば、図１６及び図１７を参照しながら説明したように、持ち上げ装置が持ち上げて移動させる交換部品は、ＥＵＶチャンバ１０の全部又は一部のみを含んでも良いし、ＥＵＶチャンバ１０の他に光路接続モジュール１１の全部又は一部を含んでも良い。また、図１８〜図２０を参照しながら説明したように、固定機構によってＥＵＶチャンバ台車を所望の位置に固定できるようにしても良い。
【００７２】
図２２に示すように、ＥＵＶチャンバ１０が設置される低床面には、光源装置のフレーム９０が固定され、光源装置のフレーム９０上に移動機構６０ａ及び位置決め機構７０が固定されている。ＥＵＶチャンバ１０が移動機構６０ａ上において位置決め機構７０により位置決めされると、ＥＵＶチャンバ１０の光軸が投影光学系２０の光軸と一致する。
【００７３】
また、低床面には持ち上げ装置３１が設置されている。持ち上げ装置３１は、ＥＵＶチャンバ１０等の交換部品を下方から支持する上下ベース部３１１を、リンク機構、送りねじ、流体圧シリンダ、蛇腹チューブ等によって、上下動させる機構を有している。上下動させる機構の詳細は後述する。上下ベース部３１１上には移動機構６０ｂが固定されている。上下ベース部３１１が図２２（ａ）に示す下方位置にあるときには、ＥＵＶチャンバ１０は、光源装置のフレーム９０上の移動機構６０ａと上下ベース部３１１上の移動機構６０ｂとの間を往復動することができる。
【００７４】
高床面においては、ＥＵＶチャンバ台車８０が走行可能となっている。ＥＵＶチャンバ台車８０上には移動機構６０ｃが固定されている。上下ベース部３１１が図２２（ｂ）に示す上方位置にあり、且つ、ＥＵＶチャンバ台車８０が持ち上げ装置３１に隣接して待機しているときには、ＥＵＶチャンバ１０は、上下ベース部３１１上の移動機構６０ｂとＥＵＶチャンバ台車８０上の移動機構６０ｃとの間を往復動することができる。
【００７５】
このように、第２実施形態において、ＥＵＶチャンバ１０等の交換部品の低床面での移動は、移動機構６０ａと移動機構６０ｂとの間で行われ、低床面の領域から高床面の領域への移動は、移動機構６０ｂと移動機構６０ｃとの間で行われ、高床面の領域内での移動は、ＥＵＶチャンバ台車８０により行われる。
移動機構６０ａ〜６０ｃの構成は特に限定されるものではなく、例えばチャンバ台７４ａが走行可能なレールを、移動機構６０ａ〜６０ｃとすることができる。
【００７６】
第２実施形態によれば、ＥＵＶチャンバ１０等の交換部品をクレーン等により引き上げる構成が不要であるため、交換部品の持ち上げ高さより高いフレーム等の構造物が持ち上げ装置３１には不要となり、ＥＵＶ光源システムの設置スペースを低減することができる。
【００７７】
次に、上記第２実施形態のＥＵＶ光源システムの具体的な実施例について説明する。なお、上記第２実施形態の説明は、その性質に反しない限りそのまま以下の各実施例においても該当する。
【００７８】
図２３は、第２実施形態のＥＵＶ光源システムにおける移動機構に関する第１６の実施例を示す側面図である。
図２３に示す第１６の実施例は、図２２に示す第２実施形態において、チャンバ台に移動機構として車輪が設けられているとともに、移動機構６０ａ〜６０ｃの代わりに移動機構のないベースが設けられているものである。図２３において、チャンバ台７４ｂは、車輪７４１によって、光源装置のフレーム９０上のベース６０ｄ、上下ベース部３１１上のベース６０ｅ、及び高床面上を移動できるようになっている。
第１６の実施例によれば、チャンバ台７４ｂが車輪７４１を有することにより、チャンバ台７４ｂを所望の位置にスムーズに移動させることができる。
【００７９】
図２３に示す第１６の実施例においては、車輪７４１を有するチャンバ台７４ｂにＥＵＶチャンバ１０を載せる場合について説明したが、車輪を用いて交換部品を移動させる態様はこれに限定されない。例えば、図６〜図１５を参照しながら説明したような車輪を有するＥＵＶチャンバ台車８０に、車輪を有しないチャンバ台７４ａを載せるようにしても良い。また、ＥＵＶチャンバ１０等の交換部品自体が車輪等の移動可能な機構（例えば、キャスター）を持つことによって移動できるようにしてもよい。さらに、図２３のベース６０ｄ及び６０ｅには車輪（例えばキャスター）の移動方向をガイドするようなガイド機構が設置されていてもよい。
【００８０】
また、図１８〜図２０を参照しながら説明したような車輪を有するＥＵＶチャンバ台車８０ａ〜８０ｃの固定機構を、図２３の車輪を有するチャンバ台７４ｂの固定に適用しても良い。固定機構によって、チャンバ台７４ｂをベース６０ｅ上に一時的に固定できるようにすることにより、持ち上げ装置３１による交換部品の昇降動作を安全に行うことができる。
【００８１】
図２４は、第２実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第１７の実施例を示す平面図（ａ）、図２４（ａ）のＡ−Ａ線断面図（ｂ）、及び、側面図（ｃ）である。
図２４に示す第１７の実施例は、図２２に示す第２実施形態において、持ち上げ装置が上下ベース部３１１の真下に設けられているものである。
図２４に示す第１７の実施例によれば、持ち上げ装置３１ａを上下ベース部３１１の真下に設けるので、持ち上げ装置３１ａと上下ベース部３１１とを含めたＥＵＶ光源システムの設置床面積を低減することができる。
持ち上げ装置３１ａによって交換部品とともに持ち上げられた上下ベース部３１１から、高床面のＥＵＶチャンバ台車８０に交換部品を移動させる移動方向は、図２４（ａ）に双方向矢印で示すように、投影光学系２０に対する方向と平行な方向でも良いし、投影光学系２０に対する方向と交差する方向でも良い。
【００８２】
図２５は、第２実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第１８の実施例を示す平面図（ａ）、図２５（ａ）のＢ−Ｂ線断面図（ｂ）、及び、側面図（ｃ）である。
図２５に示す第１８の実施例は、チャンバ台７４ｂに移動機構として車輪７４１が設けられている点と、移動機構６０ａ〜６０ｃの代わりに移動機構のないベース６０ｄ及び６０ｅが設けられている点で図２４に示す第１７の実施例と異なる。その他の点については、第１７の実施例と同一である。図２５において、チャンバ台７４ｂは、車輪７４１によって、光源装置のフレーム９０上のベース６０ｄ、上下ベース部３１１上のベース６０ｅ、及び高床面上を移動できるようになっている。
第１８の実施例によれば、チャンバ台７４ｂが車輪７４１を有することにより、チャンバ台７４ｂを所望の位置にスムーズに移動させることができる。
【００８３】
図２５に示す第１８の実施例においては、車輪７４１を有するチャンバ台７４ｂにＥＵＶチャンバ１０を載せる場合について説明したが、車輪を用いて交換部品を移動させる態様はこれに限定されない。例えば、図６〜図１５を参照しながら説明したような車輪を有するＥＵＶチャンバ台車８０に、車輪を有しないチャンバ台７４ａを載せるようにしても良い。また、ＥＵＶチャンバ１０等の交換部品自体が車輪等の移動可能な機構（例えば、キャスター）を持つことによって移動できるようにしてもよい。さらに、図２５のベース６０ｄ及び６０ｅには車輪（例えばキャスター）の移動方向をガイドするようなガイド機構が設置されていてもよい。
【００８４】
また、図１８〜図２０を参照しながら説明したような車輪を有するＥＵＶチャンバ台車８０ａ〜８０ｃの固定機構を、図２５の車輪を有するチャンバ台７４ｂの固定に適用しても良い。固定機構によって、チャンバ台７４ｂをベース６０ｅ上に一時的に固定できるようにすることにより、持ち上げ装置３１ａによる交換部品の昇降動作を安全に行うことができる。
【００８５】
図２６は、第２実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第１９の実施例を示す平面図（ａ）、図２６（ａ）のＣ−Ｃ線断面図（ｂ）、及び、側面図（ｃ）である。
図２６に示す第１９の実施例は、図２２に示す第２実施形態において、持ち上げ装置が上下ベース部３１１の両脇に設けられているものである。
図２６に示す第１９の実施例によれば、持ち上げ装置３１ｂを上下ベース部３１１の両脇に設けるので、上下ベース部３１１の真下に持ち上げ装置３１ｂの設置スペースが不要となり、上下ベース部３１１の可動範囲を大きくすることができる。
【００８６】
持ち上げ装置３１ｂによって交換部品とともに持ち上げられた上下ベース部３１１から、高床面のＥＵＶチャンバ台車８０に交換部品を移動させる移動方向は、図２６（ａ）に双方向矢印で示すように、投影光学系２０に対する方向と平行な方向でも良いし、投影光学系２０に対する方向と交差する方向でも良い。図２６においては、持ち上げ装置３１ｂが上下ベース部３１１の両脇に設けられている実施例を示したが、本発明はこの実施例に限定されることなく、持ち上げ装置３１ｂを片側の脇にのみ設置することも可能である。
【００８７】
図２７は、第２実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第２０の実施例を示す平面図（ａ）、図２７（ａ）のＤ−Ｄ線断面図（ｂ）、及び、側面図（ｃ）である。
図２７に示す第２０の実施例は、チャンバ台７４ｂに移動機構として車輪７４１が設けられている点と、移動機構６０ａ〜６０ｃの代わりに移動機構のないベース６０ｄ及び６０ｅが設けられている点で図２６に示す第１９の実施例と異なる。その他の点については、第１９の実施例と同一である。図２７において、チャンバ台７４ｂは、車輪７４１によって、光源装置のフレーム９０上のベース６０ｄ、上下ベース部３１１上のベース６０ｅ、及び高床面上を移動できるようになっている。
第２０の実施例によれば、チャンバ台７４ｂが車輪７４１を有することにより、チャンバ台７４ｂを所望の位置にスムーズに移動させることができる。
【００８８】
図２７に示す第２０の実施例においては、車輪７４１を有するチャンバ台７４ｂにＥＵＶチャンバ１０を載せる場合について説明したが、車輪を用いて交換部品を移動させる態様はこれに限定されない。例えば、図６〜図１５を参照しながら説明したような車輪を有するＥＵＶチャンバ台車８０に、車輪を有しないチャンバ台７４ａを載せるようにしても良い。また、ＥＵＶチャンバ１０等の交換部品自体が車輪等の移動可能な機構（例えば、キャスター）を持つことによって移動できるようにしてもよい。さらに、図２７のベース６０ｄ及び６０ｅには車輪（例えばキャスター）の移動方向をガイドするようなガイド機構が設置されていてもよい。
【００８９】
また、図１８〜図２０を参照しながら説明したような車輪を有するＥＵＶチャンバ台車８０ａ〜８０ｃの固定機構を、図２７の車輪を有するチャンバ台７４ｂの固定に適用しても良い。固定機構によって、チャンバ台７４ｂをベース６０ｅ上に一時的に固定できるようにすることにより、持ち上げ装置３１ｂによる交換部品の昇降動作を安全に行うことができる。
【００９０】
図２８は、第２実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第２１の実施例を示す側面図である。
図２８に示す第２１の実施例は、第２実施形態において、Ｘ字型のジャッキ３２１と、このジャッキ３２１の水平方向の寸法を変化させるよう駆動する駆動部３２２とにより、リンク機構式の持ち上げ装置３２を構成したものである。持ち上げ装置３２においては、駆動部３２２が伸縮することにより、Ｘ字型のジャッキ３２１の水平方向の寸法が変化し、ジャッキ３２１が上下方向に伸縮して、上下ベース部３１１が昇降する。
【００９１】
図２８における持ち上げ装置３２は、図２４に示す持ち上げ装置３１ａのように上下ベース部３１１の真下に設けられていても良く、図２６に示す持ち上げ装置３１ｂのように上下ベース部３１１の両脇に設けられていても良い。また、図２８におけるチャンバ台７４ａは、図２３、図２５、図２７に示す車輪７４１を備えたチャンバ台７４ｂに置き換えられても良い。
また、図２８において、持ち上げ装置３２による上下動のストロークを大きくする必要がある場合は、複数のＸ字型ジャッキの組み合わせたものを使用してもよい。
【００９２】
図２９は、第２実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第２２の実施例を示す側面図である。
図２９に示す第２２の実施例は、第２実施形態において、ガイド棒３３１、送りねじ３３２、及び送りねじを回転駆動する駆動部３３３により、送りねじ式の持ち上げ装置３３を構成したものである。送りねじ３３２は床面にねじ込まれている。持ち上げ装置３３においては、駆動部３３３が送りねじ３３２を回転駆動することにより、床面に対する送りねじ３３２の軸方向の位置が変化して、上下ベース部３１１が昇降する。送りねじ３３２は、ボールねじでも角ねじでも台形ねじでも良い。
【００９３】
図２９における持ち上げ装置３３は、図２４に示す持ち上げ装置３１ａのように上下ベース部３１１の真下に設けられていても良く、図２６に示す持ち上げ装置３１ｂのように上下ベース部３１１の両脇に設けられていても良い。また、図２９におけるチャンバ台７４ａは、図２３、図２５、図２７に示す車輪７４１を備えたチャンバ台７４ｂに置き換えられても良い。
【００９４】
図３０は、第２実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第２３の実施例を示す側面図である。
図３０に示す第２３の実施例は、第２実施形態において、てこ３４１と、てこ３４１を回転駆動する駆動部３４２とにより、リンク機構式の持ち上げ装置３４を構成したものである。持ち上げ装置３４においては、駆動部３４２がてこ３４１を回転駆動することにより、上下ベース部３１１を支持するてこ３４１が水平に近い姿勢（図３０（ａ））から垂直に近い姿勢（図３０（ｂ））に変化して、上下ベース部３１１が昇降する。
【００９５】
図３０における持ち上げ装置３４は、図２４に示す持ち上げ装置３１ａのように上下ベース部３１１の真下に設けられていても良く、図２６に示す持ち上げ装置３１ｂのように上下ベース部３１１の両脇に設けられていても良い。また、図３０におけるチャンバ台７４ａは、図２３、図２５、図２７に示す車輪７４１を備えたチャンバ台７４ｂに置き換えられても良い。
【００９６】
図３１は、第２実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第２４の実施例を示す側面図である。
図３１に示す第２４の実施例は、第２実施形態において、シリンダロッド３５１と、シリンダロッド３５１を油圧又は空気圧等の流体圧で駆動するポンプ３５２により、持ち上げ装置３５を構成したものである。持ち上げ装置３５においては、ポンプ３５２がシリンダロッド３５１内に流体を供給し又はシリンダロッド３５１内の流体を排出させることにより、上下ベース部３１１が昇降する。この実施例においては、流体として、例えば、クリーンエア、窒素ガスのような気体や、油のような液体を用いることができる。
【００９７】
図３１における持ち上げ装置３５は、図２４に示す持ち上げ装置３１ａのように上下ベース部３１１の真下に設けられていても良く、図２６に示す持ち上げ装置３１ｂのように上下ベース部３１１の両脇に設けられていても良い。また、図３１におけるチャンバ台７４ａは、図２３、図２５、図２７に示す車輪７４１を備えたチャンバ台７４ｂに置き換えられても良い。
【００９８】
図３２は、第２実施形態のＥＵＶ光源システムにおける第２５の実施例を示す側面図である。
図３２に示す第２５の実施例は、第２実施形態において、蛇腹チューブ３６１と、蛇腹チューブ３６１に空気圧を供給するポンプ３６２により、持ち上げ装置３６を構成したものである。持ち上げ装置３６においては、ポンプ３６２が蛇腹チューブ３６１内に空気を供給し又は蛇腹チューブ３６１内の空気を排出させることにより、上下ベース部３１１が昇降する。この実施例では蛇腹チューブ３６１を空気圧で動作させる例（たとえばエアシリンダ）を示したが、油圧で動作させる例（例えば油圧シリンダ）も可能である。
【００９９】
図３２における持ち上げ装置３６は、図２４に示す持ち上げ装置３１ａのように上下ベース部３１１の真下に設けられていても良く、図２６に示す持ち上げ装置３１ｂのように上下ベース部３１１の両脇に設けられていても良い。また、図３２におけるチャンバ台７４ａは、図２３、図２５、図２７に示す車輪７４１を備えたチャンバ台７４ｂに置き換えられても良い。
【産業上の利用可能性】
【０１００】
本発明は、露光装置の光源として用いられるＥＵＶ光源装置において利用することが可能である。
【符号の説明】
【０１０１】
１…ＥＵＶ光源装置、２…ドライバレーザ、３…ターゲット供給部、５…ターゲット回収部、６…レーザ集光光学系、７…窓、８…ターゲットノズル、１０…ＥＵＶチャンバ、１１、１１ａ、１１ｂ…光路接続モジュール、１５…ＥＵＶ集光ミラー、２０…投影光学系、２１…マスク照射部、２２…ワークピース照射部、３０、３１、３１ａ、３１ｂ、３２、３３、３４、３５、３６…持ち上げ装置、３１１…上下ベース部、３２１…ジャッキ、３２２…駆動部、３３１…ガイド棒、３３２…送りねじ、３３３…駆動部、３４１…てこ、３４２…駆動部、３５１…シリンダロッド、３５２…ポンプ、３６１…蛇腹チューブ、３６２…ポンプ、４０、４０ａ、４０ｂ、４０ｃ、４１、４２、４３、４４、４５…持ち上げ機構フレーム、５０、５１、５２、５３…持ち上げ機構、６０、６０ａ、６０ｂ、６０ｃ…移動機構、６０ｄ、６０ｅ…ベース、７０…位置決め機構、７４ａ、７４ｂ…チャンバ台、７４１…車輪、８０、８０ａ〜８０ｄ…ＥＵＶチャンバ台車、８１ａ…ピン支持部、８１ｂ…ピン、８２…孔、８３…ブレーキ機構、８４…車輪、８５…窪み、８６…レール、８７…油圧ポンプ、８８ａ…大径円筒部、８８ｂ…小径円筒部、８９…レバー、９０…光源装置のフレーム、ＭＴ…マスクテーブル、ＷＴ…ワークピーステーブル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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