(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査装置において、
内部にプリアライナを有する第１の準清浄室と、
清浄化された空気を前記第１の準清浄室に導入する第１のファンフィルタユニットと、
前記第１の準清浄室よりも清浄度の高い清浄室と、
前記清浄室を覆い前記清浄室よりも清浄度の低い第２の準清浄室と、
清浄化された空気を前記清浄室に導入する第２のファンフィルタユニットと、
前記清浄室内に配置された検査部と、
前記第１の準清浄室と前記清浄室とを連通させるためのシャッターと、
当該検査装置の外部の圧力と前記第１の準清浄室内の圧力との第１の差圧、及び前記第１の準清浄室内の圧力と前記清浄室内の圧力との第２の差圧を得る差圧取得部と、
前記第１のファンフィルタユニット、及び前記第２のファンフィルタユニットの少なくとも１つが回転する時間を得るタイマと、
制御部とを有し、
前記制御部は、前記シャッターの開動作に同期して、前記第１のファンフィルタユニット、及び前記第２のファンフィルタユニットの少なくとも一方の回転数を所定の時間変更し、（当該検査装置の外部の圧力）＜（前記第１の準清浄室の内部の圧力）＜（前記清浄室の内部の圧力）とすることを特徴とする検査装置。
【請求項２】
請求項１に記載の検査装置において、
前記制御部は、前記第１の差圧、及び前記第２の差圧が所定の範囲内にあるか否かを判断し、前記所定の範囲外にある場合は、前記第１のファンフィルタユニット、及び前記第２のファンフィルタユニットの少なくとも一方の回転数を変更し、（当該検査装置の外部の圧力）＜（前記第１の準清浄室の内部の圧力）＜（前記清浄室の内部の圧力）とすることを特徴とする検査装置。
【請求項３】
請求項２に記載の検査装置において、
前記第１のファンフィルタユニットはフィルタを有し、
前記所定の範囲の上限値は前記フィルタの仕様を考慮して決定されることを特徴とする検査装置。
【請求項４】
請求項２に記載の検査装置において、
前記所定の範囲の上限値は、前記第１のファンフィルタユニットのエネルギー消費量を考慮して決定されることを特徴とする検査装置。
【請求項５】
請求項１に記載の検査装置において、
清浄化された空気を前記第２の準清浄室に導入する第３のファンフィルタユニットを有し、
前記制御部は、前記第２のファンフィルタユニット、及び前記第３のファンフィルタユニットの少なくとも一方の回転数を変更し、（当該検査装置の外部の圧力）＜（前記第２の準清浄室の内部の圧力）＜（前記清浄室の内部の圧力）とすることを特徴とする検査装置。
【請求項６】
ミニエンバイロンメント構造において、
第１の準清浄室と、
清浄化された空気を前記第１の準清浄室に導入する第１のファンフィルタユニットと、
前記第１の準清浄室よりも清浄度の高い清浄室と、
前記清浄室を覆い前記清浄室よりも清浄度の低い第２の準清浄室と、
清浄化された空気を前記清浄室に導入する第２のファンフィルタユニットと、
前記第１の準清浄室と前記清浄室とを連通させるためのシャッターと、
当該ミニエンバイロンメント構造の外部の圧力と前記第１の準清浄室内の圧力との第１の差圧、及び前記第１の準清浄室内の圧力と前記清浄室内の圧力との第２の差圧を得る差圧取得部と、
前記第１のファンフィルタユニット、及び前記第２のファンフィルタユニットの少なくとも一方が回転する時間を得るタイマと、
制御部とを有し、
前記制御部は、前記シャッターの開動作に同期して、前記第１のファンフィルタユニット、及び前記第２のファンフィルタユニットの少なくとも一方の回転数を所定の時間変更し、（当該ミニエンバイロンメント構造の外部の圧力）＜（前記第１の準清浄室の内部の圧力）＜（前記清浄室の内部の圧力）とすることを特徴とするミニエンバイロンメント構造。
【請求項７】
請求項６に記載のミニエンバイロンメント構造において、
前記制御部は、前記第１の差圧、及び前記第２の差圧が所定の範囲内にあるか否かを判断し、前記所定の範囲外にある場合は、前記第１のファンフィルタユニット、及び前記第２のファンフィルタユニットの少なくとも一方の回転数を変更し、（当該ミニエンバイロンメント構造の外部の圧力）＜（前記第１の準清浄室の内部の圧力）＜（前記清浄室の内部の圧力）とすることを特徴とするミニエンバイロンメント構造。
【請求項８】
請求項７に記載のミニエンバイロンメント構造において、
前記第１のファンフィルタユニットはフィルタを有し、
前記所定の範囲の上限値は前記フィルタの仕様を考慮して決定されることを特徴とするミニエンバイロンメント構造。
【請求項９】
請求項７に記載のミニエンバイロンメント構造において、
前記所定の範囲の上限値は、前記第１のファンフィルタユニットのエネルギー消費量を考慮して決定されることを特徴とするミニエンバイロンメント構造。
【請求項１０】
請求項１に記載の検査装置において、
清浄化された空気を前記第２の準清浄室に導入する第３のファンフィルタユニットを有し、
前記制御部は、前記第２のファンフィルタユニット、及び前記第３のファンフィルタユニットの少なくとも一方の回転数を変更し、（当該ミニエンバイロンメント構造の外部の圧力）＜（前記第２の準清浄室の内部の圧力）＜（前記清浄室の内部の圧力）とすることを特徴とする検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定の空間の清浄化を図る検査装置及びミニエンバイロメント構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば半導体、液晶、ハードディスク等の製造工程では、作業環境に塵埃が多く存在すると塵埃が仕掛り品に付着して歩留まりの低下を招くことになる。そこで、仕掛り品への塵埃の付着を極力回避するために、製造工程で用いる検査装置や製造装置のうち大気環境下で作動する機器を、例えばファンフィルタユニット（以下、ＦＦＵと記載する）により周囲に対して陽圧に保った特定の空間（以下、清浄室と適宜記載する）に配置する等してミニエンバイロメント構造化することが従来よりなされている（特許文献１等参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−２００６６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
一般に、上記のようなミニエンバイロメント構造はクリーンルーム内に構築されるものであり、ＦＦＵを介して清浄室内部に送り込まれる外界の空気自体がある程度清浄である。しかしながら、従来のミニエンバイロメント構造では、外界から送り込まれる空気は、清浄室に送り込まれるまでにＦＦＵのフィルタで一度フィルタリングされるのみであるため、清浄室内の清浄度は外界のクリーンルームの清浄度とＦＦＵのフィルタ性能に依存する。したがって、何らかの外乱等によりクリーンルームの清浄度が低下した場合には、その影響を受けて清浄室内の清浄度を十分に保つことができない場合が起こらないとも限らない。
【０００５】
本発明はこうしたことに鑑みなされたものであり、外界の清浄度の影響を抑制し特定の空間の目標の清浄度を保つことができる検査装置及びミニエンバイロメント構造を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明は、第１の準清浄室と、清浄化された空気を第１の準清浄室に導入する第１のファンフィルタユニットと、第１の準清浄室よりも清浄度の高い清浄室と、清浄室を覆い清浄室よりも清浄度の低い第２の準清浄室と、清浄化された空気を清浄室に導入する第２のファンフィルタユニットと、第１の準清浄室と清浄室とを連通させるためのシャッターと、外部と第１の準清浄室内との差圧、及び第１の準清浄室内と清浄室内との差圧を得る差圧取得部と、第１及び第２のファンフィルタユニットの少なくとも一方が回転する時間を得るタイマと、制御部とを有し、制御部は、シャッターの開動作に同期して、第１及び第２のファンフィルタユニットの少なくとも一方の回転数を所定の時間変更し、外部の圧力＜第１の準清浄室内部の圧力＜清浄室内部の圧力とすることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、外界の清浄度の影響を抑制し特定の空間の目標の清浄度を保つことができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の一実施の形態に係るミニエンバイロメント装置の概念図である。
【図２】制御装置の要部を抽出したブロック図である。
【図３】制御装置のファンの回転数制御手順を表すフローチャートである。
【図４】本発明の第１変形例に係るミニエンバイロメント装置の概念図である。
【図５】本発明の第２変形例に係るミニエンバイロメント装置の概念図である。
【図６】本発明の第３変形例に係るミニエンバイロメント装置の概念図である。
【図７】本発明の第４変形例に係るミニエンバイロメント装置の概念図である。
【図８】本発明のミニエンバイロメント装置を適用した光学式の外観検査装置の外観図である。
【図９】図８の外観検査装置の天板側から見た水平断面図である。
【図１０】図９中のＸ−Ｘ断面を模式的に表した断面図である。
【図１１】制御装置の要部を抽出した機能ブロック図である。
【図１２】本発明のミニエンバイロメント装置を適用した他の検査装置の構成を模式的に表した水平断面図である。
【図１３】図１２中のXIII−XIII断面による断面図である。
【図１４】本発明のミニエンバイロメント装置を適用した半導体製造装置の構成を模式的に表した水平断面図である。
【図１５】図１４中のXV−XV断面による断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下に図面を用いて本発明の実施の形態を説明する。
本発明のミニエンバイロメント装置は、特定の空間（清浄室）の清浄化を図るものであり、例えば半導体、液晶、ハードディスク等の製造工程で用いる検査装置・製造装置のミニエンバイロメント構造化に用いるものである。
【００１０】
図１は本発明の一実施の形態に係るミニエンバイロメント装置の概念図である。図中の点線矢印は空気の流れを例示している。
図１に示したミニエンバイロメント装置１は、筐体２、筐体２に取り付けた外側ＦＦＵ３、筐体２内に配置した清浄室４ａ、清浄室４ａに設けた内側ＦＦＵ５、各部の圧力を測定する圧力計６ａ〜６ｃからなる複数の圧力測定手段、圧力計６ａ〜６ｃの検出結果を基にＦＦＵ３，５を制御する制御装置７（図２参照）を備えている。
【００１１】
筐体２はミニエンバイロメント構造の最外郭をなすものであり、アジャスタや架台等の支持手段を介して（又は直接）設置場所の床面上に載置されている。筐体２の設置場所はクリーンルーム等のできるだけ清浄な空間が好ましいが、この限りではなく通常の室内に設置することも可能である。
【００１２】
また筐体２の壁面には、外界（筐体２の周囲空間）に対して内部空間を陽圧にするための空気の流入口として少なくとも１箇所の吸気口２ｂが設けられている。この吸気口２ｂを設ける箇所は筐体２のいずれの壁面でも良いが、より好ましいのは筐体２の天井面である。吸気口２ｂには、上記した外側ＦＦＵ３が取り付けられている。
【００１３】
外側ＦＦＵ３は、外側集塵フィルタ３ａと外側ファン３ｂを１ユニットとして構成したものである。外側集塵フィルタ３ａは、例えばＵＬＰＡフィルタ（Ultra Low Penetration Air Filter）やＨＥＰＡフィルタ（High Efficiency Particulate Air Filter）等の高性能エアフィルタを用いることが好ましく、吸気口２ｂを隙間なく覆い、吸気口２ｂから筐体２内に送り込まれる外界の空気から塵埃を除去する。外側ファン３ｂは、筐体２内を外界に対して陽圧にするための空気の流れを誘起するものであり、外側集塵フィルタ３ａを介して筐体３内に外界の空気を積極的に送り込む。このとき、必要であれば筐体２に吸気量よりも排気量が小さくなる範囲で排気口を設ける構成とすることもできる。
【００１４】
上記構成により、筐体２は、吸気口２ｂ以外に完全な機密性が保たれていない箇所があっても内部空間を外界に対して陽圧にすることで外界からの塵埃の侵入が防止されている。このように筐体２の内部空間は、外界に対して清浄な空間になっており、例えば半導体検査装置の大気搬送装置等の清浄な作業環境を要する機器を設置するのにも十分な清浄度が保たれる。
【００１５】
それに対し、上記清浄室４ａは、ミニエンバイロメント装置１内の大気環境下の空間の中で最も高い清浄度が要求される空間であり、筐体２の内部空間よりもさらに清浄度が高い空間である。既述の通り、筐体２の内部空間も外界に対して十分に清浄度を高めた空間であるが、便宜上、本願明細書中では清浄室４ａとの清浄度の関係で準清浄室２ａと称することにする。
【００１６】
清浄室４ａは、例えば架台や何らかの構造物等を介して筐体２の床面上に設置されている。また清浄室４ａの壁面４には、準清浄室２ａに対して清浄室４ａを陽圧にする空気の流入口として少なくとも１箇所の吸気口４ｂが設けられている。吸気口４ｂは筐体２の内部空間（準清浄室２ａ）に臨んでいる。吸気口４ｂを設ける箇所は清浄室４ａのいずれの壁面４でも良いが、より好ましいのは清浄室４ａの上部側の壁面４である。吸気口４ｂには、上記した内側ＦＦＵ５が取り付けられている。
【００１７】
内側ＦＦＵ５は、外側ＦＦＵ３と同様の構成のもので足り、内側集塵フィルタ５ａと内側ファン５ｂを１ユニットとして構成したものである。内側集塵フィルタ５ａは、ＵＬＰＡフィルタやＨＥＰＡフィルタ等のエアフィルタを用いることが好ましく、吸気口４ｂを隙間なく覆い、吸気口４ｂから清浄室４ａ内に送り込まれる準清浄室２ａの空気から塵埃を除去する。内側ファン５ｂは、清浄室４ａ内を準清浄室２ａ内に対して陽圧にするための空気の流れを誘起するものであり、内側集塵フィルタ５ａを介して清浄室４ａ内に準清浄室２ａ内の空気を積極的に送り込む。このとき、必要であれば清浄室４ａの壁面４に吸気量よりも排気量が小さくなる範囲で排気口を設ける構成とすることもできる。
【００１８】
上記構成により、清浄室４ａは、吸気口４ｂ以外に完全な機密性が保たれていない箇所があっても準清浄室２ａに対して陽圧にすることで準清浄室２ａからの塵埃の侵入が防止されている。このように清浄室４ａは準清浄室２ａよりもさらに高い清浄度が保たれる。
【００１９】
上記圧力計６ａ〜６ｃのうち、外部圧力計６ａ（外部圧力測定手段）は、筐体２の外界（周囲空間）の圧力を測定するものである。筐体２の周囲の圧力を測定することができればその取り付け位置は特に限定されないが、本実施の形態では筐体２の側壁面に取り付けてある。内部圧力計６ｂ（内部圧力測定手段）は、筐体２内の準清浄室２ａの圧力を測定するものであり、取り付け位置は特に限定されないが本実施の形態では筐体２の側壁面に取り付けてある。また、清浄室内圧力計６ｃ（清浄室内圧力測定手段）は、清浄室４内の圧力を測定するものであり、同じく取り付け位置は特に限定されないが本実施の形態では清浄室４ａの壁面４に取り付けてある。
【００２０】
圧力計６ａ〜６ｃは、差圧計８ａ，８ｂ（図２参照）を介して制御装置７に接続されている。差圧計８ａは、内部圧力計６ｂによる準清浄室２ａ内の測定圧力Ｐｂから外部圧力計６ａによる筐体２の外界の測定圧力Ｐａを差し引いた差圧ΔＰ１を測定する。差圧計８ｂは、清浄室内圧力計６ｃによる清浄室４ａ内の測定圧力Ｐｃから内部圧力計６ｂによる準清浄室２ａ内の測定圧力Ｐｂを差し引いた差圧ΔＰ２を測定する。
【００２１】
図２は制御装置７の要部を抽出したブロック図である。
図２において、制御装置７は、信号を適宜デジタル信号化して入力する入力部７ａ、制御に必要な定数やプログラム等を予め格納した記憶部７ｂ、入力された信号を基にプログラムや定数等に従って各種演算処理を実行する演算部７ｃ、演算結果や演算途中の値を一時記憶する一時記憶部７ｄ、時間計測するタイマ７ｅ、演算された指令信号を適宜アナログ信号化して対応機器に出力する出力部７ｆを備えている。この制御装置は筐体２内に収容されていても良いし、筐体２外に設置されていても良い。
【００２２】
図３は制御装置７のファンの回転数制御手順を表すフローチャートである。
図３に示すように、制御装置７は、ステップ１０１において差圧計８ａ，８ｂから差圧ΔＰ１，ΔＰ２を入力すると、それら入力値を一時記憶部７ｄに記憶する。
【００２３】
続くステップ１０２では、一時記憶部７ｄからΔＰ１を読み出してΔＰ１が適正範囲にあるかどうかを判定する。この適正範囲の上限値Ｐ１Ｈ（＞０）及び下限値Ｐ１Ｌ（＞０）は記憶部７ｂに記憶されており、演算部７ｃは記憶部７ｂから読み出した設定値Ｐ１Ｈ，Ｐ１ＬとΔＰ１を比較して準清浄室２ａが外界に対して設定圧力分だけ陽圧の状態に保たれているかどうかを判定する。
【００２４】
ΔＰ１が適正範囲になくステップ１０２の判定が満たされない場合、演算部７ｃは、ステップ１０３に手順を移してΔＰ１を適正範囲に復帰させるべく現在のΔＰ１を基に指令信号を演算しファン制御手段に出力してファンの回転数を制御する。例えばΔＰ１が適正範囲の下限値Ｐ１Ｌよりも小さい場合に外側ファン３ｂの回転数を増大させ、ΔＰ１が適正範囲の上限値Ｐ１Ｈよりも大きい場合に外側ファン３ｂの回転数を低下させる。ΔＰ１＜Ｐ１Ｌで内側ファン５ｂの回転数を低下させ、ΔＰ１＞Ｐ１Ｈで内側ファン５ｂの回転数を増大させることも考えられるし、ファン３ｂ，５ｂの複合制御も可能である。
【００２５】
ΔＰ１が適正範囲内にあってステップ１０２の判定が満たされれば、ステップ１０４に手順を移し、一時記憶部７ｄから読み出したΔＰ２が適正範囲にあるかどうかを判定する。この適正範囲の上限値Ｐ２Ｈ（＞０）及び下限値Ｐ２Ｌ（＞０）は記憶部７ｂに記憶されており、演算部７ｃは記憶部７ｂから読み出した設定値Ｐ２Ｈ，Ｐ２ＬとΔＰ２を比較して清浄室４ａが準清浄室２ａに対して設定圧力分だけ陽圧の状態に保たれているかどうかを判定する。
【００２６】
ΔＰ２が適正範囲になくステップ１０４の判定が満たされない場合、演算部７ｃは、ステップ１０５に手順を移してΔＰ２を適正範囲に復帰させるべく現在のΔＰ２を基に指令信号を演算しファン制御手段に出力してファンの回転数を制御する。例えばΔＰ２が適正範囲の下限値Ｐ２Ｌよりも小さい場合に内側ファン５ｂの回転数を増大させ、ΔＰ２が適正範囲の上限値Ｐ２Ｈよりも大きい場合に内側ファン５ｂの回転数を低下させる。
【００２７】
ΔＰ２が適正範囲内にあってステップ１０４の判定が満たされれば、制御装置７は図３の手順を終了する。そして、制御装置７はこの一連の制御手順を繰り返し実行することにより、ΔＰ１，ΔＰ２を常に予め設定した適正範囲に保つ。
【００２８】
上記のように、本実施の形態では、外側ＦＦＵ３により外界に対して陽圧に保たれた準清浄室２ａ内にさらに高い清浄度が要求される清浄室４ａを設け、この清浄室４ａに別途ＦＦＵ５を設けて準清浄室２ａ内の既に清浄化された空気を清浄室４ａに送り込み、清浄室４ａ内を準清浄室２ａに対してさらに陽圧に保つ構成としている。すなわち、清浄室４ａを陽圧にするための空気は、外界に対して清浄化された準清浄室２ａから取り込まれる構成であり、外界から清浄室４ａに送り込まれるまでに二重の集塵フィルタを通過することになる。
【００２９】
例えば、定格風量で粒径が０．１５μｍの粒子に対して９９．９９９５％以上の粒子捕集率を持つＵＬＰＡフィルタを集塵フィルタ３ａ，５ａに用いた場合、定格風量になるようにファン３ｂ，５ｂを駆動すると、準清浄室２ａ内の単位体積当たりの塵埃は外界のそれに対して０．０００５％以下である。清浄室４ａ内の単位体積当たりの塵埃は準清浄室のそれに対して０．０００５％以下、すなわち外界のそれに対して０．００００００２５％以下である。この場合、仮に何らかの外乱によって９９．９９９５％の塵埃を除去しても準清浄室２ａの清浄度が目的の作業環境として不十分なほど外界の空気の清浄度が低下するようなことがあっても、外界の清浄度が清浄室４ａの清浄度に与える影響は限りなくゼロに近い。以上のように、本実施の形態によれば、外界の清浄度の影響を抑制し特定の空間の目標の清浄度を保つことができる。
【００３０】
なお、本実施の形態においては、１つの制御装置７により２つのファン３ｂ，５ｂを制御する構成と例に挙げて説明したが、ファン３ｂ，５ｂをそれぞれ制御する複数の制御装置を設ける構成としても良い。例えば、ΔＰ１が適正範囲になるように外側ファン３ｂの回転数を制御する第１制御装置、ΔＰ２が適正範囲になるように内側ファン５ｂの回転数を制御する第２制御装置といった構成としても良い。
【００３１】
また、清浄室２ａの圧力設定用の上限値Ｐ１Ｈは、集塵フィルタ３ａの仕様等に応じて設定され、吸入口２ｂからの塵埃の侵入や集塵フィルタ３ａの消耗、ファン３ｂの駆動によるエネルギー消費量の増大が必要以上に大きくならないように事前検討された値である。下限値Ｐ１Ｌは、外界からの塵埃の侵入を抑止するのに足りる値である。例えば１〜２Ｐａ程度がＰ１Ｌ，Ｐ１Ｈの一つの目安である。Ｐ１ＨはＰ１Ｌよりも高い値にしても良いし、Ｐ１Ｌと同じ値に設定することも考えられる。また、Ｐ２Ｌ，Ｐ２ＨについてもＰ１Ｌ，Ｐ１Ｈと同様のことが言え、Ｐ２ＬはＰ１Ｌと同じ値でも異なる値でも良い。Ｐ２ＨとＰ１Ｈも同様である。
【００３２】
なお、本発明のミニエンバイロメント装置は、図１に示したような構成に限定されるものではなく、その技術思想の範囲内で種々設計変更可能なものである。すなわち、大気環境下に置かれた空間のうち最も高い清浄度を要求する清浄室に対し、既に集塵フィルタを通過して清浄化された空気をさらに集塵フィルタを介して送り込む構成の範囲内で、様々な変形例が考えられる。
以下にそのうちの幾つかの代表的な変形例を例示する。
【００３３】
（第１変形例）
図４は本発明の第１変形例に係るミニエンバイロメント装置１Ａの概念図である。図中の図１と同様の部分又は同様の機能を果たす部分には図１と同符号を付して説明を省略する。
【００３４】
図１では清浄室４ａが完全に準清浄室２ａで包囲された場合を例に上げて説明したが、清浄室４ａ内が周囲に対して陽圧に保たれていれば、少なくとも清浄室４ａの吸気口４ｂが準清浄室２ａに臨んでいれば良い。したがって、図４のように清浄室４ａが筐体２の床面に接するように配置しても良い。この場合、清浄室４ａは、筐体２とは別々に箱状に構成された壁面４により画定された空間とすることもできるし、筐体２内の空間（準清浄室２ａ）を隔壁４で区画して形成した空間とすることもできる。後者は、清浄室４ａの床面が準清浄室２ａの床面を兼ね、清浄室４ａの下部側を筐体２の床面のみで隔てた構成である。その他の構成については図１と同様である。
【００３５】
このような清浄室４ａの配置でも、準清浄室２ａ内に清浄室４ａが配置されているので、内側ＦＦＵ５を介して準清浄室２ａ内の空気を清浄室４ａに送り込むことができる。したがって、圧力計６ａ〜６ｃからの各所の測定圧力を基にＦＦＵ３，５を制御して清浄室４ａを周囲に対して陽圧とすることによって、図１〜図３で説明した実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【００３６】
（第２変形例）
図５は本発明の第２変形例に係るミニエンバイロメント装置１Ｂの概念図である。図中の図１と同様の部分又は同様の機能を果たす部分には図１と同符号を付して説明を省略する。
【００３７】
本例も清浄室４ａが完全に準清浄室２ａに包囲されない構成例である。本例の場合、清浄室４ａの床面に加え、水平方向を向く側面のうちの一又は複数の面が筐体２の壁面により外界と隔てられている。その他の構成については図１と同様である。
【００３８】
このような清浄室４ａの配置でも、第１の変形例と同様、清浄室４ａを周囲に対して陽圧とすることによって、図１〜図３で説明した実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【００３９】
（第３変形例）
図６は本発明の第３変形例に係るミニエンバイロメント装置１Ｃの概念図である。図中の図１と同様の部分又は同様の機能を果たす部分には図１と同符号を付して説明を省略する。
【００４０】
少なくとも清浄室４ａの吸気口４ｂが準清浄室２ａに臨む構成とするには、清浄室４ａを準清浄室２ａ内に配置する構成に限らず、本例のように筐体２内の空間を隔壁９で清浄室４ａと準清浄室２ａに分ける構成も考えられる。隔壁９には吸気口４ｂ及びそれを覆う内側ＦＦＵ５を設け、隣接する準清浄室２ａの空気が清浄室４ａに送り込まれるようにする。勿論、筐体２の準清浄室２ａ側に区分された壁面には外界からの空気を清浄化して準清浄室２ａに送り込む外側ＦＦＵ３を設ける。
【００４１】
このような構成でも、清浄室４ａの吸気口４ｂには準清浄室２ａ内の清浄な空気が送り込まれるので、上記同様、清浄室４ａを周囲に対して陽圧とすることによって、図１〜図３で説明した実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【００４２】
なお、本例においては１つの筐体２の内部空間を隔壁９により二分したが３つ以上の空間に区分することもできる。また、複数の筐体を接続し、準清浄室として構成した隣接筐体からＦＦＵを介して清浄室として構成した筐体に空気を送り込む構成とすることも考えられる。
【００４３】
（第４変形例）
図７は本発明の第４変形例に係るミニエンバイロメント装置１Ｄの概念図である。図中の図１と同様の部分又は同様の機能を果たす部分には図１と同符号を付して説明を省略する。
【００４４】
既述の各例では清浄室４ａの少なくとも吸気口を備えた面を１つの準清浄室２ａで覆う構成を例示したが、図７のように複数（本例では２つだが３つ以上でも良い）の準清浄室２ａａ，２ａｂで覆う構成としても良い。この場合、隣り合う準清浄室２ａａ，２ａｂ間の圧力の上下関係を必ずしも規定する必要はなく、準清浄室２ａａ，２ａｂ間の機密性が完全で両者間に空気流動が起こらない場合は外界と清浄室４ａとの関係で設定すれば良いし、空気流動が生じる場合は同程度の圧力に制御すれば良い。特に準清浄室２ａａ，２ａｂ間で作業環境として要求される清浄度に優劣がある場合には、要求される清浄度が高い方の準清浄室が低い方の清浄室に対して陽圧になるようにすれば良い。
【００４５】
このような構成でも、内側ＦＦＵ５を介して準清浄室２ａ内の空気を清浄室４ａに送り込むことに相違なく、圧力計６ａ〜６ｄからの各所の測定圧力を基に、図３と同様の手順でＦＦＵ３，５を制御して清浄室４ａを周囲に対して陽圧とすることによって、図１〜図３で説明した実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【００４６】
なお、本例の場合、準清浄室２ａａ，２ａｂとも外側ＦＦＵ３を介して外界の空気を内部に取り入れているが、例えば準清浄室２ａａ，２ａｂ間の隔壁１０に準清浄室２ａｂのＦＦＵ３及び吸気口２ｂを移設し、隣接する準清浄室２ａａからＦＦＵを介して準清浄室２ａｂに空気が送り込まれるようにしても良い。そのようにすれば、準清浄室２ａｂが準清浄室２ａａに対して陽圧となり準清浄室２ａａよりも清浄度の高い環境になる。清浄室４ａはその準清浄室２ａｂよりもさらに清浄度の高い環境となる。
【００４７】
以上の各例においては、各吸気口にＦＦＵを設ける構成としたが、そのうちのいずれか１つ又は全てを、吸気口に設けた集塵フィルタに送風ダクトを接続するような構成に代えることもできる。この場合、送風ダクトのファンと集塵フィルタはユニット化されている必要はない。つまり、吸気口に必ずしもＦＦＵを設けなければならない訳ではない。また、各例において点線矢印で示した空気の流れは一例であって、目的やミニエンバイロメント化する装置の構成に応じて種々設計変更可能である。
【００４８】
また、各圧力計の測定結果の差圧をとる差圧計の測定結果が制御装置７に入力される構成としたが、各圧力計の測定結果を制御装置７に直接入力し、制御装置７の例えば演算部７ｃで差圧を演算する構成に代えても良い。
【００４９】
また、準清浄室や清浄室の清浄化の方式は、乱流（コンベンショナル）方式、水平層流（クロスフロー）方式、垂直層流（ダウンフロー）方式等の各種方式が適用可能である。さらに、ファンの回転数で隣接する空間の差圧を調整する構成を採ったが、場合によっては、こうした吸気側で差圧調整する構成に代え、排気口とダンパー等の排気流量調整手段を設け、排気流量を調整することにより差圧調整する構成も考えられる。
【００５０】
次に、本発明のミニエンバイロメント装置を適用しミニエンバイロメント構造化した各種装置の代表的な実施例を幾つか例示する。
【実施例１】
【００５１】
図８は本発明のミニエンバイロメント装置を適用した光学式の外観検査装置の外観図である。
本実施例の外観検査装置は、例えばウェハや液晶、ハードディスク等の外観検査に用いられるものであり、そのミニエンバイロメント構造は、図１〜図７に示した各例のうちの図７の例に近い。隣接する２つの筐体１００，１０１の天板にはそれぞれ吸気口とそれを覆うＦＦＵ１０２，１０３が設置されている。
【００５２】
図９は図８の外観検査装置の天板側から見た水平断面図、図１０は図９中のＸ−Ｘ断面を模式的に表した断面図である。
図９及び図１０に示すように、筐体１０１の内部には清浄室を画定する筐体１２０が配置されている。筐体１２０の側面には吸気口とそれを覆うＦＦＵ１２１が設けられている。つまり、外界の空気がＦＦＵ１０２，１０３を介して送り込まれる筐体１００，１０１の内部空間が前述した“準清浄室”に相当し、筐体１０１内の空気がＦＦＵ１２１を介して送り込まれる筐体１２０の内部空間が前述した“清浄室”に相当する。
【００５３】
また、筐体１２０は筐体１００，１０１を隔てる壁面側に寄せて配置されており、シャッター１２２が開放されると筐体１００内の空間と連通するようになっている。また、筐体１００は外界とのウェハ１０４の出し入れのためのゲート１２３を備えている。
【００５４】
外観検査装置は、試料（本例ではウェハとする）１０４の外観を検査する光学式検査装置１０５、光学式検査装置１０５で外観検査するウェハ１０４を収容したウェハポッド１０６を載置するロードポート１０７、ロードポート１０７と光学式検査装置１０５との間でウェハ１０４を搬送する搬送装置１０８、ウェハ１０４の周方向の向きを調節するプリアライメント部１０９と、搭載した各機器を制御したりデータ処理したりするコントローラ１１０を備えている。
【００５５】
光学式検査装置１０５は、照明光学系１１１、検出光学系１１２、検査ステージ１１３を備えている。搬送装置１０８によりウェハ１０４が検査ステージ１１３上に載置されたら、検査ステージ１１３を検査位置に移動させてウェハ１０４に照明光学系１１１によって照明光を照射し、ウェハ１０４からの反射光又は散乱光を検出光学系１１２で検出する。
【００５６】
搬送装置１０８は、ウェハ１０４を取り上げて水平面内及び鉛直方向に移動させるハンドリングアーム１１５、及びハンドリングアーム１１５を一軸方向にスライドして移動させる移動装置１１６を備えている。
【００５７】
コントローラ１１０は、検出光学系１１２からの検査データを処理し画像データを生成する画像処理部１３０、各種データを記憶する記憶部１３１、各機器を制御する制御装置１３２、操作・入力のための入力装置１３３、各種設定や検査画像等を表示する表示装置１３４、出力装置１３５、外部記憶装置１３６等を備えている。
【００５８】
例えばウェハポッド１０６から光学式検査装置１０５にウェハ１０４を搬送しウェハ１０４の外観を検査する場合、移動装置１１６を駆動してハンドリングアーム１１５をウェハポッド１０６のところまで移動させ、ゲート１２３を開放してウェハポッド１０６内のウェハ１０４をハンドリングアーム１１５で取り上げる。必要に応じ、プリアライメント部１０９に向かってハンドリングアーム１１５を移動させ、プリアライメント部１０９の載置部１１９上にウェハ１０４を載置し、ウェハ１０４の周方向位置をアライメントする。アライメント後のウェハ１０４をハンドリングアーム１１５で再度取り上げ、シャッター１２２の位置までハンドリングアーム１１５を移動させたら、シャッター１２２を開放しハンドリングアーム１１５によって光学式検査装置１０５の検査ステージ１１３上にウェハ１０４を載置する。そして、検査ステージ１１３を移動させることによりウェハ１０４を検査光学系１１２による検査位置に搬送しウェハ１０４の外観検査を実施する。
【００５９】
検査後のウェハ１０４をウェハポッド１０６に戻す場合は、以上の手順と逆の手順（プリアライメントの手順は省略）である。
【００６０】
この場合、ウェハ１０４が、ウェハポッド１０６から取り出された後、外観検査装置内にある時間のうち、搬送装置１０８に扱われる時間に対し、光学式検査装置１０５に扱われる時間が長い。その意味では、搬送中よりも検査中の方がウェハ１０４への塵埃の付着の危険性が高いと言える。
【００６１】
そこで、本実施例では、外観検査装置を構成する各機器のうち、筐体１００内には、搬送装置１０８・プリアライメント部１０９等を配置し、筐体１２０内には、光学式検査装置１０５等を配置している。その他、コントローラ１１０等は筐体１０１内に配置してある。そして、先に図７に示した例と同様に、各空間及び外界の圧力計６ａ〜６ｄが所定箇所に設けてある。これら圧力計６ａ〜６ｄからなる複数の圧力測定手段の測定結果を基に、各ＦＦＵ１０２，１０３，１２１のファンは制御装置１３２によって制御される。
【００６２】
図１１は制御装置１３２の要部を抽出した機能ブロック図である。
本実施例では、図１に示した例に対して空間の数が多いため圧力計の数も増えている。そのため、それに応じて隣接する空間の間の差圧を測る差圧計が増えるが、その点を除けば図２に示した制御装置とほぼ同様である。その他、本例ではゲート１２３及びシャッター１２２の開信号Ｓｇ，Ｓｓが入力部１３２ａに入力されるようにしてある。制御装置１３２の構成自体は図２の制御装置７とほぼ同様であり、制御装置７の各構成要素の符号７ａ〜７ｆを符号１３２ａ〜１３２ｆに代えて説明を省略する。
【００６３】
制御装置１３２によるＦＦＵ１０２，１０３，１２１の各ファンの制御手順も図３と同様の手順とすることができる。本例の場合、圧力計６ａ（外部圧力測定手段）の測定結果（外界の圧力）Ｐａ、圧力計６ｂ（第１の内部圧力測定手段）の測定結果（準清浄室（筐体１００内）の圧力）Ｐｂ、圧力計６ｃ（清浄室内圧力測定手段）の測定結果（清浄室（筐体１２０内）の圧力）Ｐｃ、圧力計６ｄ（第２の内部圧力測定手段）の測定結果（準清浄室（筐体１０１内）の圧力）Ｐｄの大小関係は、次の通りである。
Ｐａ＜Ｐｂ＜Ｐｃ
Ｐａ＜Ｐｄ＜Ｐｃ
また、隣接する空間同士の差圧の適正範囲は既に述べた通りに設定すれば足りる。
【００６４】
このように、本実施例では、外観検査のため比較的長い時間ウェハ１０４が曝される筐体１２０内の空間を“清浄室”とし、この清浄室に送り込まれる空気が存在する筐体１０１内の空間、及び搬送作業等のために清浄室に次いで長い時間ウェハ１０４が曝される筐体１００内の空間を“準清浄室”としている。
【００６５】
なお、本実施例では、ゲート１２３やシャッター１２２が開放されると、筐体１００や筐体１２０の機密性が低下し、筐体１００，１２０内の空間の隣接する空間に対する差圧が一時的に減少し易くなる。このような場合でも既述した制御手順による各ファンの制御がファン制御手段で継続されることによって、その後、隣接空間同士の差圧は安定に至る。
【００６６】
しかしながら、より厳格に差圧を維持する必要がある場合、ゲート１２３やシャッター１２２の開放のタイミングは、事前に格納されたプログラムによる処理手順や操作者による入力装置１３３からの操作信号によるものなので、入力部１３２ａを介してゲート１２３やシャッター１２２の開放を指示する信号Ｓｇ，Ｓｓを制御装置１３２に取り入れるようにすれば、実際にゲート１２３やシャッター１２２が開放されるのに前後して、特定の差圧の減少に対応するためタイマ１３２ｅにより時間を計測しながらファンの回転数を一定時間増減させる構成とすることもできる。
【実施例２】
【００６７】
図１２は本発明のミニエンバイロメント装置を適用した他の検査装置の構成を模式的に表した水平断面図、図１３は図１２中のXIII−XIII断面による断面図である。
本実施例の検査装置は電子顕微鏡を用いたＣＤ−ＳＥＭやレビューＳＥＭを例示したものであり、例えば半導体デバイスの観察に用いられる。本例はＦＩＢ装置やＦＩＢ−ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭにも同じように適用できる。
【００６８】
本検査装置のミニエンバイロメント構造は、図１〜図７に示した各例のうち図７の例に近い。大気搬送ユニットと検査室の本体をそれぞれなす隣接する２つの筐体２００，２０１の天板にはそれぞれ吸気口とそれを覆うＦＦＵ２０２，２０３が設置されている。筐体２０１の内部にはロードロック室を画定する筐体２２０が配置されている。筐体２２０の天板には吸気口とそれを覆うＦＦＵ２２１が設けられている。つまり、外界の空気がＦＦＵ２０２，２０３を介して送り込まれる筐体２００，２０１の内部空間が“準清浄室”に相当し、筐体２０１内の空気がＦＦＵ２２１を介して送り込まれる筐体２２０の内部空間が“清浄室”に相当する。
【００６９】
また、筐体２２０は筐体２００，２０１を隔てる壁面とＳＥＭ２０５の試料室２０５ａとの間に配置されており、ゲート２２２ａ，２２２ｂが開放されると筐体２００の内部空間・試料室２０５ａの空間とそれぞれ連通するようになっている。また、筐体２００は外界とのウェハ２０４の出し入れのためのゲート２２３を備えている。
【００７０】
本検査装置は、試料（本例ではウェハとする）２０４を観察するＳＥＭ２０５、ＳＥＭ２０５で観察するウェハ２０４を収容したウェハポッド２０６を載置するロードポート２０７、ロードポート２０７とＳＥＭ２０５との間でウェハ２０４を搬送する搬送ロボット２０８、搭載した各機器を制御したりデータ処理したりする図示しないコントローラを備えている。
【００７１】
ＳＥＭ２０５は、試料室２０５ａ、電子源２１１、二次電子検出器２１２、試料ステージ２１３、試料室２０５ａを真空引きする真空ポンプ２１４等を備えている。ウェハ２０４は、搬送ロボット２０８、ロードロック室２２５、真空異載手段（図示せず）を順次介して試料ステージ２１３上に載置される。次にウェハ２０４に電子源２１１から引き出した電子ビームを照射し、ウェハ２０４からの二次電子を二次電子検出器２１２で検出する。このときの電子ビームの走査信号と二次電子の検出信号を同期させ、コントローラ内の画像生成部等によってウェハ２０４のＳＥＭ像を得る。
【００７２】
搬送ロボット２０８は、ウェハ２０４を取り上げて水平面内及び鉛直方向に移動させる搬送アーム２１５を備えている。コントローラの構成は前の実施例１とほぼ同様である。
【００７３】
ロードロック室２２５としての筐体２２５ａは、ＦＦＵ２２１側の大気室と試料ステージ２１６が収容される空間とを隔てるシャッター２１７、このシャッター２１７の駆動機構２１８、及びシャッター２１７が閉状態のとき試料ステージ２１６側の空間を真空引きする真空ポンプ２１９、清浄室を画定する筐体２２０、排気口２２６を備えている。ＦＦＵ２２１からの清浄な空気が筐体２２０内の清浄室に供給されて後に排気口２２６から排出され、筐体２２０内の清浄室と筐体２０１内の空間との差圧が維持されている。
【００７４】
例えばウェハポッド２０６からＳＥＭ２０５にウェハ２０４を搬送しウェハ２０４をＳＥＭ観察する場合、ゲート２２３を開放してウェハポッド２０６内のウェハ２０４を搬送アーム２１５で取り上げ、ゲート２２２ａを開放し搬送アーム２１５によって試料ステージ２１６上に載置する。その後、大気搬送ユニット側のゲート２２２ａを閉じ、真空ポンプ２１６でロードロック室２２５内の真空排気を行う。このとき、シャッター２１７とゲート２２２ｂは閉状態である。ロードロック室２２５内を真空状態としたら、ＳＥＭ２０５側のゲート２２２ｂを開放し、真空異載手段により真空の試料室２０５ａ内にウェハ２０４を移動させ、試料ステージ２１３上のウェハ２０４に電子ビームを照射してＳＥＭ像を得る。
【００７５】
検査後のウェハ２０４をウェハポッド２０６に戻す場合は、ゲート２２２ｂを開放し、真空異載手段により試料ステージ２１６上にウェハ２０４を移動させる。次いで、ゲート２２２ｂを閉じ、ラインフィルター（図示せず）を介設したガス供給手段（図示せず）から、露点管理されたＮ２若しくはエアー等のガスを供給し、ロードロック室２２５のリーク（大気開放）を実施する。ロードロック室２２５内の圧力を圧力センサ（図示せず）からなる圧力測定手段で検知し、筐体２２０内の圧力Ｐｃと略同一、若しくは若干低い圧力の状態となった際に、駆動機構２１８によりシャッター２１７を開放してＦＦＵ２２１より清浄空気を供給し試料ステージ２１６周りを大気環境とする。上記リークの際に巻き上がったロードロック室２２５内の塵埃は、供給された清浄空気により速やかに沈静化され、ウェハ２０４表面への塵埃の付着が抑制される。その後、ゲート２２２ａを開放して搬送ロボット２０８により試料ステージ２１６上のウェハ２０４をウェハポッド２０６に移し、ゲート２２３を閉じる。
【００７６】
このように、本実施例では、検査室は真空環境下にあるため、大気環境下になり得る作業領域のうちの特定の清浄領域としてロードロック室を筐体２２０で画定して“清浄室”とし、ロードロック室２２５に送り込まれる空気を湛える筐体２０１内の空間と、搬送ロボット２０８を配置する筐体２００内の空間を“準清浄室”とした。また、先に図７に示した例と同様に、各空間及び外界の圧力を測定する圧力計６ａ〜６ｄからなる複数の圧力測定手段が所定箇所に設けてある。
【００７７】
各ＦＦＵ２０２，２０３，２２１のファンは、圧力計６ａ〜６ｄの測定結果を基に、図示しない制御装置によって制御される。制御装置によるＦＦＵ２０２，２０３，２２１の各ファンの制御手順は既出の例に同じくすることができる。本例の場合、圧力計６ａ（外部圧力測定手段）の測定結果（外界の圧力）Ｐａ、圧力計６ｂ（第１の内部圧力測定手段）の測定結果（準清浄室（筐体２００内）の圧力）Ｐｂ、圧力計６ｃ（清浄室内圧力測定手段）の測定結果（清浄室（筐体２２０内）の圧力）Ｐｃ、圧力計６ｄ（第２の内部圧力測定手段）の測定結果（準清浄室（筐体２０１内）の圧力）Ｐｄの大小関係は、次の通りである。
Ｐａ＜Ｐｂ＜Ｐｃ
Ｐａ＜Ｐｄ＜Ｐｃ
また、隣接する空間同士の差圧の適正範囲は既に述べた通りに設定すれば足りる。
【００７８】
その他、実施例１で説明したように、各シャッターやゲートの開信号を制御装置に入力するようにしてそれらが開放されたときの差圧変化を抑制する制御を併せて行うようにしても良い。
【実施例３】
【００７９】
図１４は本発明のミニエンバイロメント装置を適用した半導体製造装置の構成を模式的に表した水平断面図、図１５は図１４中のXV−XV断面による断面図である。
本実施例の半導体製造装置は、例えばドライエッチング装置やプラズマＣＶＤ装置、熱ＣＶＤ装置をその代表例とするものである。本例はミニエンバイロメント構造についてもファンの制御についても実施例２にほぼ等しい。
【００８０】
本製造装置のミニエンバイロメント構造では、ＦＦＵ３０２により外界から空気が送り込まれる筐体３００で“準清浄室”を画定している。筐体３００に隣接する筐体３０５はＦＦＵ３０６により外界から空気が送り込まれる“準清浄室”である。そして、この筐体３０５には筐体３０１によって画定された“清浄室”が配備されている。清浄室としての筐体３０１内にはＦＦＵ３０３により筐体３００内の準清浄室から空気が送り込まれる。
【００８１】
筐体３０５で画定された“準清浄室”には、複数の処理室３１０、これら処理室３１０とロードロック室（筐体３０１）との間でウェハ３０４を搬送する真空搬送ロボット３１１を有する真空搬送室３１２、ロードロック室（筐体３０１）が備えられている。
【００８２】
筐体３００で画定された“準清浄室”には、筐体３００に隣接するロードポート３１３上のウェハポッド３１４とロードロック室との間でウェハ３０を搬送する大気搬送ロボット３１５、大気搬送ロボット３１５を一軸方向に移動させるＹ軸ユニット３１６、ウェハ３０４の周方向の位置等をアライメントするアライメントユニット３１７が備えられている。
【００８３】
また筐体３００には、ロードポート３１３上のウェハポッド３１４との間を隔てるゲート３２０が設けられており、ゲート３２０が開放されることでウェハポッド３１４内の空間は筐体３００内の空間に連通する。また、ロードロック室３５０の筐体３３９における大気搬送ロボット３１５側と真空搬送ロボット３１１側にはゲート３２１，３２２がそれぞれ設けられており、筐体３００内の準清浄室及び真空搬送室３１２とロードロック室３５０とをそれぞれ隔てている。ロードロック室３５０の筐体３３９上部には排気口３３８を備えた清浄室を画定する筐体３０１が配置され、その内部空間を、ＦＦＵ３０３側の大気室と試料ステージ３２３側の真空室の２つの空間に隔てるシャッター３２４とその駆動機構３２５が設けられている。ＦＦＵ３０３からの清浄な空気が筐体３０１内の清浄室に供給されて後に排気口２２６から排出され、筐体３０１内の清浄室と筐体３０５内の空間との差圧が維持されている。
【００８４】
処理室３１０は、この種のものとして公知の構成のものであり、上部電極（又はガス供給ヘッド）３３０、下部電極（又は加熱手段を備えたサセプター）３３１、マッチングボックス３３２等を備えている。また、ロードロック室３５０、真空搬送室３１２、処理室３１０には、それらの空間を真空引きする真空ポンプ３３５，３３６，３３７が接続されている。ロードロック室３５０と真空ポンプ３３５の間には、ロードロック室３５０内の真空状態を維持するためのメイン排気配管とロードロック室３５０内が大気状態になった際に、ＦＦＵ３０３の清浄空気が下方へ気流を形成するための空調用排気配管が配設されている。空調用排気配管には、エアーバルブ３５２等の制御手段、ニードルバルブ３５５等の流量調整手段が介設され、ロードロック室３５０内の雰囲気を所定流量で排気可能に構成されている。
【００８５】
例えばウェハポッド３１４から処理室３１０にウェハ３０４を搬送し、ウェハ３０４上に成膜処理やエッチング処理を施す場合、ボルツプレートを開放してウェハポッド３１４内のウェハ３０４を大気搬送ロボット３１５で取り上げ、アライメントユニット３１７でアライメントした後、ゲート３２１を開放しロードロック室３５０内の試料ステージ３２３上にウェハ３０４を載置する。その後、大気搬送ロボット３１５側のゲート３２１を閉じ、メイン排気配管を介して真空ポンプ３３５で真空排気を行ってロードロック室３５０内の試料ステージ３２３周りの空間を真空状態とする。このとき、シャッター３２４、ゲート３２２は閉状態で、真空搬送室３１２、処理室３１０内は真空状態である。試料ステージ３２３周りを真空状態としたら、真空搬送室３１２側のシャッター３２２を開放し、真空搬送ロボット３１１を介して処理室３１０内の下部電極３３１上にウェハ３０４を載置し、ウェハ３０４に所定の処理を施す。
【００８６】
処理後のウェハ３０４をウェハポッド３１４に戻す場合は、シャッター３２２を開放し、真空環境下でロードロック室３５０内の試料ステージ３２３上に真空搬送ロボット３１１を介してウェハ３０４を移動させる。次いで、ゲート３２２、バルブ３５１を閉じ、ラインフィルター３５６を介設したガス供給手段３５４から、露点管理されたＮ２若しくはエアー等のガスを供給し、ロードロック室３５０のリーク（大気開放）を実施する。ロードロック室３５０内の圧力を圧力センサ（図示せず）からなる圧力測定手段で検知し、筐体３０１内の圧力Ｐｃと略同一、若しくは若干低い圧力の状態となった際に、ガス供給手段３５４からのガス供給を停止し、シャッター３２４を開放してＦＦＵ３０３よりの清浄空気を供給し試料ステージ３２３周りを大気環境とする。シャッター３２４の開放と略同時に、若しくは前後して、空調用排気配管のエアーバルブ３５２を開き、清浄空気の下方への気流を形成する。前記リークの際に巻き上がったロードロック室３５０内の塵埃は、その清浄空気により速やかに置換され、ウェハ２０４表面への塵埃の付着が抑制される。その後、ゲート３２１を開放し、大気搬送ロボット３１５により試料ステージ３２３上のウェハ３０４をウェハポッド３１４に移してゲート３２０を閉じる。
【００８７】
このように、本実施例では、処理室３１０は真空環境下にあるため、大気環境下になり得る作業領域のうちの特定の清浄領域としてロードロック室３５０を筐体３０１で画定して“清浄室”とし、ロードロック室３５０に送り込まれる空気を湛える筐体３０５内の空間と搬送ロボット３１５を配置する筐体３００内の空間を“準清浄室”とした。筐体３００の外界、筐体３００内の準清浄室、筐体３０１内の清浄室、筐体３０５内の準清浄室の圧力はそれぞれ圧力計６ａ〜６ｄからなる複数の圧力測定手段により測定され、その測定結果を基に、ファン制御手段がＦＦＵ３０２，３０３，３０６の各ファンの回転数を制御し、外界・準清浄室・清浄室の差圧を保持する。
【００８８】
制御装置（図示せず）によるＦＦＵ３０２，３０３，３０６の各ファンの制御手順は、ゲート・シャッターの開放時の差圧維持の制御も含めて既出の例と同じくすることができる。本例の場合、圧力計６ａ（外部圧力測定手段）の測定結果（外界の圧力）Ｐａ、圧力計６ｂ（第１の内部圧力測定手段）の測定結果（準清浄室（筐体３００）の圧力）Ｐｂ、圧力計６ｃ（清浄室内圧力測定手段）の測定結果（清浄室（筐体３０１）の圧力）Ｐｃ、圧力計６ｄ（第２の内部圧力測定手段）の測定結果（準清浄室（筐体３０５）の圧力）Ｐｄの大小関係は、次の通りである。
Ｐａ＜Ｐｂ＜Ｐｃ
Ｐａ＜Ｐｄ＜Ｐｃ
以上、図８〜図１５を用いて本発明のミニエンバイロメント装置を各種装置に適用した例を実施例として幾つか例示したが、適用例はこれに限られない。例えば、感光剤をウェハ表面に塗布または現像するコータ／ディベロッパ装置や、液晶・ハードディスクの検査装置、不純物を拡散したりする熱処理装置や低圧ＣＤＶ装置、その他清浄な作業環境が要求される精密デバイスの検査装置並びに製造装置にも、本発明は適用可能である。
【符号の説明】
【００８９】
１        ミニエンバイロメント装置
１Ａ〜Ｄ  ミニエンバイロメント装置
２        筐体
２ａ      準清浄室
２ｂ      吸気口
３        外側ＦＦＵ
３ａ      外側集塵フィルタ
３ｂ      外側ファン
４        筐体
４ａ      清浄室
４ｂ      吸気口
５        ＦＦＵ
５ａ      内側集塵フィルタ
５ｂ      内側ファン
６ａ〜ｄ  圧力計
７        制御装置
９        隔壁
１０      隔壁
１００    筐体
１０１    筐体
１０２    ＦＦＵ
１０３    ＦＦＵ
１２０    筐体
１２１    ＦＦＵ
１２２    シャッター
１２３    ゲート
１０５    光学式検査装置
１０８    搬送ロボット
１３２    制御装置
２００    筐体
２０１    筐体
２０２    ＦＦＵ
２０３    ＦＦＵ
２０５    ＳＥＭ
２０８    大気搬送ロボット
２２０    筐体
２１６    試料ステージ
２２１    ＦＦＵ
２２２ａ  ゲート
２２２ｂ  ゲート
３００    筐体
３０１    筐体
３０２    ＦＦＵ
３０３    ＦＦＵ
３０５    筐体
３０６    ＦＦＵ
３１０    処理室
３１５    大気搬送ロボット
３２１    ゲート
３２２    ゲート
３２３    試料ステージ
Ｐａ〜ｄ  測定圧力
【図１】
0005385425.tif 000002
【図２】
0005385425.tif 000003
【図３】
0005385425.tif 000004
【図４】
0005385425.tif 000005
【図５】
0005385425.tif 000006
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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