(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学素子成形素材を加熱軟化させる加熱軟化工程と、加熱軟化した光学素子成形素材をプレス成形により光学素子とする成形工程と、成形された前記光学素子を熱処理炉内に収容して加熱処理するアニール処理工程と、からなる光学素子の製造方法において、
前記アニール処理工程を、大気圧露点が−５℃以下の乾燥ガス雰囲気下で行うものであって、前記熱処理炉内に、炉内の雰囲気ガスとは別に前記乾燥ガスを保持可能で、かつ、プレス成形して得られた光学素子を収容することができる空間を形成する炉内容器を設け、前記空間内に前記乾燥ガスを供給して行うことを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項２】
前記アニール処理工程を、前記炉内の雰囲気ガスから、前記炉内容器を通じて、炉内容器内部の乾燥ガスへ、熱を伝達することにより行うことを特徴とする請求項１記載の光学素子の製造方法。
【請求項３】
前記空間が半密閉状態であり、前記乾燥ガスの供給により、前記空間内を常に陽圧にすることを特徴とする請求項１又は２記載の光学素子の製造方法。
【請求項４】
炉内を加熱することができる加熱手段を有する熱処理炉と、
該熱処理炉内に、炉内の雰囲気ガスとは別に乾燥ガスを保持可能な空間を設け、かつ、該空間内にプレス成形して得られた光学素子を収納することができる炉内容器と、
前記空間内に大気圧露点が−５℃以下の乾燥ガスを供給する乾燥ガス供給手段と、
を有することを特徴とする光学素子のアニール処理装置。
【請求項５】
前記炉内容器は、前記乾燥ガス供給手段により乾燥ガスを炉内容器に流入させることで、炉内容器を満たしていた空気を乾燥ガスで置換できることを特徴とする請求項４記載の光学素子のアニール処理装置。
【請求項６】
前記炉内容器は、前記空間を半密閉状態とするものであることを特徴とする請求項４又は５記載の光学素子のアニール処理装置。
【請求項７】
前記熱処理炉内に、炉内の雰囲気ガスを撹拌するための撹拌翼を有することを特徴とする請求項４〜６のいずれか１項記載の光学素子のアニール処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プレス成形した光学素子に対し、アニール処理を行い歪みを除去し、屈折率を調整した光学素子の製造方法及びその際に用いるアニール処理装置に係り、特に、アニール処理時に光学素子に白ヤケが生じるのを抑制した光学素子の製造方法及びアニール処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ガラスレンズなどの光学素子の高性能化、小型化が求められてきており、特に、非球面レンズの効率的な製造方法が種々検討されている。数ある製造方法のなかでも、光学素子成形素材をプレス成形し、成形面を研磨等せずにそのまま使用することができる直接プレス成形法が注目されている。
【０００３】
この方法は、光学素子として所望の特性を有する光学素子成形素材を、上型、下型及び胴型から構成されるプレス成形型内にセットして、成形可能な温度まで加熱してからプレスすることで所望の形状を付与し、その後、冷却してプレス成形型から取り出すことで光学素子を製造するものである。
【０００４】
ところで、この製造方法は、デジタルカメラ等の小型かつ高性能で安価なレンズが要求される製品で現在、最も適しているが、要求性能の向上に従い、光学素子成形素材の冷却固化過程でレンズ内部に生じる屈折率分布や歪み、レンズ毎の屈折率の品質バラつき等が光学性能に及ぼす影響が懸念されるようになってきた。
【０００５】
このような光学ガラス素子内部の歪みを除去し、屈折率を調整する方法としては、プレス成形後の光学素子を加熱処理するアニール工程の導入が最も有効であることがわかり、プレス成形方法を用いた光学素子の製造においては広く導入され実施されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−４０６３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、このアニール工程は、光学素子を加熱することにより行うものであり、その温度上昇により光学素子が白くクモってしまう白ヤケが生じる場合があった。
【０００８】
この白ヤケは、主にはガラス中のアルカリ金属やアルカリ土類金属が処理雰囲気中の水分と反応することにより水酸化物を形成し、その後、空気中の二酸化炭素と反応して炭酸塩等が析出して生じるものと考えられる。
【０００９】
白ヤケが軽微なものである場合には、光学素子表面の生成物を払拭するだけで除去できるが、重度の場合には反応が進んで光学素子表面が侵食され粗度が大きくなったり、前述の反応物が固着したりしてしまうことによって、そのままでは光学素子としての機能を十分に果たすことができなくなっていた。
【００１０】
このように光学素子表面が侵食されてしまった場合には、研磨等により白ヤケを除去していたが、そもそも水との反応性が高い光学硝材の場合研磨すること自体が非常に困難であり、また、研磨を行うことによる変形を引き起こすという問題があった。加えて、研磨を行うことにより製造工程が一工程増えるため製造コストが上昇することにもなっていた。
【００１１】
この白ヤケが生じないように、アニール工程の温度を、これまでよりも低い温度にして処理することも考えられるが、そのような低い温度にしてしまうとアニール処理に時間がかかってしまい効率的ではなく、また、十分にアニール処理が行われない場合があるため、その場合には所望の屈折率を得ることができないという問題もあった。
【００１２】
そこで、本発明は、アニール処理による歪みの除去や屈折率の調整を効果的に行うことができ、かつ、白ヤケの発生を抑制することができる光学素子の製造方法及びアニール処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の光学素子の製造方法は、光学素子成形素材を加熱軟化させる加熱軟化工程と、加熱軟化した光学素子成形素材をプレス成形により光学素子とする成形工程と、成形された光学素子を熱処理炉内に収容して加熱処理するアニール処理工程と、からなる光学素子の製造方法において、アニール処理工程を、大気圧露点が−５℃以下の乾燥ガス雰囲気下で行うことを特徴とするものである。
【００１４】
また、本発明の光学素子のアニール処理装置は、炉内を加熱することができる加熱手段を有する熱処理炉と、該熱処理炉内に、炉内の雰囲気ガスとは別に乾燥ガスを保持可能な空間を設け、かつ、該空間内にプレス成形して得られた光学素子を収容することができる炉内容器と、空間内に大気圧露点が−５℃以下の乾燥ガスを供給する乾燥ガス供給手段と、を有することを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の光学素子の製造方法及びアニール処理装置によれば、アニール処理時において、光学素子の白ヤケの発生を抑制することができる。また、白ヤケの発生を十分に抑制することができることから、加熱温度を下げる必要がないため光学素子のアニール処理を十分に行うことができる。
【００１６】
さらに、炉内容器を用いることにより、処理対象の光学素子の温度分布の差を小さくすることができるため、本発明の光学素子の製造方法により得られた光学素子は、その屈折率のバラつきも小さく極めて良好である。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の一実施形態である光学素子のアニール処理装置の概略構成断面図である。
【図２】実施例及び比較例で、サンプルとした光学素子のトレーの載置位置を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明について図面を参照しながら説明する。図１は、本発明の一実施形態である光学素子のアニール処理装置の概略構成断面図である。
【００１９】
ここで、図１の光学素子のアニール処理装置１は、光学素子を加熱処理するために炉内を加熱することができる加熱手段２を有する熱処理炉３と、その熱処理炉３内には、炉内の雰囲気ガスとは異なる乾燥ガスを保持可能な空間を設け、かつ、該空間内にプレス成形して得られた光学素子を収納することができる炉内容器４と、からなり、炉内容器４は、その内部に光学素子を収容するためのトレー５と、炉内容器４の内部に乾燥ガスを供給することができる乾燥ガス供給手段６と、を有するものである。
【００２０】
また、このアニール処理装置１は、熱処理炉３内の雰囲気ガスを循環させて温度差を小さくすることができるように、循環路を形成する仕切り板７と、炉内雰囲気ガスを強制的に循環させる撹拌翼８と、を有している。
【００２１】
本発明で用いる熱処理炉３は、その内部に炉内を加熱することができる加熱手段２を有しており、熱処理炉３の炉内雰囲気ガスを加熱することができるようになっているが、これは、従来から光学素子のアニール処理に用いられてきたものと同様の構成を有する熱処理炉を用いればよい。
【００２２】
図１の熱処理炉３では、仕切り板７を設けることにより炉内に循環路を形成し、その循環路に設けられた加熱手段２で熱せられた雰囲気ガスは上昇し、撹拌翼８で処理対象物を載置する空間に送られる。その送られた雰囲気ガスは、再度、循環路を通って、熱処理炉３内を循環するようになっている（図１の断面においては、反時計回りに循環する。）。
【００２３】
この熱処理炉３としては、図１以外の構成を有するものでもよく、例えば、循環路が形成されておらず、炉内の内側面に加熱手段が設けられており、炉内の雰囲気ガスを撹拌することができる撹拌翼が設けられている熱処理炉が挙げられる。この熱処理炉は、撹拌翼により、炉内の雰囲気ガスを強制的に撹拌して炉内の温度差を小さくしようとするものである。
【００２４】
次に、炉内容器４は、炉内の雰囲気ガスとは別に乾燥ガスを保持可能な空間を設けるものであり、かつ、その空間内にはプレス成形して得られた光学素子を収納することができるようになっている。すなわち、アニール処理を行う処理対象の光学素子は、その容器内に保持された乾燥ガスに周囲を覆われており、乾燥ガス雰囲気下でアニール処理を行うことができる構成となっている。
【００２５】
この炉内容器４は乾燥ガスを有効に保持することができるように半密閉状態となるような構造であることが好ましい。ここで半密閉状態とは、炉内容器４の内部雰囲気ガスとその外部の加熱炉３内の雰囲気ガスとが容易に出入りしないようにするものであるが、乾燥ガス供給手段６により乾燥ガスを炉内容器４に流入させると、それまで炉内容器４を満たしていた空気を炉内容器４の外に追い出し、乾燥ガスで置換することができるようになっているものである。このようにすることで、炉内容器４の内部は乾燥ガスで満たされ、光学素子の周囲を乾燥ガス雰囲気とすることができるものである。
【００２６】
このように光学素子の周囲を乾燥ガスとして処理を行うのに、炉内容器４の内部空間を半密閉状態とすれば、簡素な炉内容器構成で、簡便な操作により処理を行うことができ、乾燥ガスへの置換効果も十分に得られるものであって、製造コストを低減させることができ好ましい。
【００２７】
内部空間を完全に密閉状態とすることができる炉内容器でも白ヤケを抑制したアニール処理は可能であるが、乾燥ガスで完全に置換するためには、容器構造を漏れのないようにし、内部雰囲気を完全に置換することができるようにポンプ等の真空手段を用いる等、装置自体のコストも高くなり、手間もかかるものであったため、製造コストが高くなってしまう。
【００２８】
この炉内容器４は、加熱された熱処理炉３内の雰囲気ガスから、炉内容器４を通じて、炉内容器４内部の乾燥ガスへ熱を伝達することにより、炉内容器４に収納された光学素子のアニール処理を行うことができるようになっているため、熱伝導率が１０〜４５０Ｗ／（ｍ・Ｋ）の材質で形成されていることが好ましく、ステンレス、銅、アルミ合金等の材質であることがより好ましい。
【００２９】
次に、トレー５は、炉内容器４の内部空間に収納されアニール処理を効果的に行うことができるように、熱処理を行う対象物である光学素子を載置することができるものであり、通常、縦横に光学素子を並べて載置すればよい。このような光学素子を並べたトレー５の複数枚を、炉内容器４の内部空間において、それぞれ高さの異なる複数段の棚に収納し、熱処理炉内でのアニール処理中、光学素子を安定して保持するようにする。このトレー５は、従来用いられてきたものと同様のものを用いればよい。
【００３０】
なお、アニール処理に際して、乾燥ガスは乾燥ガス供給手段６により、炉内容器４の内部に供給され、これにより光学素子周辺の雰囲気を水分の極めて少ない乾燥ガスに置換して、容器内を乾燥ガスで満たすことができる。この置換の効果は、光学素子に水分の影響により生じていると考えられるヤケの発生を抑制するのに効果的である。
【００３１】
乾燥ガス供給手段６は、大気圧露点温度が−５℃以下の乾燥ガスを炉内容器４に供給するものであり、通常、工場で使用される乾燥窒素配管や乾燥圧空配管を各種フィルタを通して接続し、圧力調整弁や流量調整器、等を介して炉内容器４の内部空間へ乾燥ガスを所望の供給量で供給することができるようになっているものである。なお、ここで大気圧露点とは、乾燥ガスの大気圧（１気圧）下での露点を意味する。
【００３２】
以上のように、本願発明のアニール処理装置においては、光学素子を乾燥ガスを保持可能な空間内に収納することができ、かつ、その空間内に乾燥ガスを供給することができる乾燥ガス供給手段６を有する炉内容器４を用いていることが特徴的な構成である。
【００３３】
次に、この光学素子のアニール処理装置１を用いた光学素子の製造方法について説明する。
【００３４】
まずは、光学素子成形素材を加熱軟化させる加熱軟化工程と、加熱軟化した光学素子成形素材をプレス成形により光学素子とする成形工程と、を行う。これは、従来の光学素子の製造において用いられている操作と同様であり、特別な方法によるものではない。このようにプレス成形により得られた光学素子は、その成形時の急激な温度変化により、光学素子内部に歪みが生じたり、所定の屈折率が得られなかったりすることから、一般的に熱処理による歪の除去、屈折率の調整が必要となる。
【００３５】
そこで、上記のようにプレス成形して得られた光学素子を、トレー５に整列して載置し、そのトレー５を炉内容器４の内部に収納する。炉内容器４は、複数枚のトレー５を複数段に収納できる棚を有している。
【００３６】
このとき処理する光学素子の成形材料としては、プレス成形によりアニール処理を必要とするものであれば、特に限定されることなく用いることができ、例えば、リン酸系、フツリン酸系、ビスマス系、ランタン系等のガラス素材を用いることができ、特に、アニール処理における白ヤケの防止を効果的に行うことができることから、ランタン系のガラス材料であることが好ましい。
【００３７】
このようにして、炉内容器４内に収納された光学素子は、同時に熱処理炉３内に収容されることとなり、熱処理炉３によりアニール処理を行うことができるようになっている。ただし、この熱処理炉３も炉内容器４も厳密に密閉された構造のものではない。
【００３８】
次に、炉内容器４に設けられている乾燥ガス供給手段６から、炉内容器４の内部に乾燥ガスを供給する。ここで供給される乾燥ガスは、大気圧露点が−５℃以下のものであり、それ以上の露点温度となると、十分な乾燥状態とならないため好ましくない。なお、この大気圧露点温度は−１０℃以下であることが好ましい。
【００３９】
乾燥ガスとしては、例えば、乾燥空気、乾燥窒素等が挙げられる。乾燥空気は、冷凍式エアドライアにより得ることができるが、さらに、冷凍式エアドライアから得られる乾燥空気を、オイルミストフィルタ等により微粒子や油分の除去を行うようにすると、光学素子の汚染等を防止することができ好ましい。また、乾燥窒素は、工業用の窒素ガスを用いればよい。
【００４０】
この乾燥ガスを炉内容器４に供給すると、上記したように炉内容器４は半密閉状態であるため、炉内容器４の内部空間は乾燥ガスで満たされていき、それまで存在していた空気が押し出されて炉内容器４の外部へ漏れ出し、熱処理炉３内に流入する。このように炉内容器４の内部を乾燥ガスで満たし、乾燥ガス供給手段６からは常時乾燥ガスを供給しつづけて炉内容器４内が陽圧となるようにして、熱処理炉３内のガスが炉内容器４の内部へ逆流することがないようにする。
【００４１】
次いで、熱処理炉３の加熱手段２により、熱処理炉３内の雰囲気ガスを加熱して、光学素子のアニール処理を行うことができるようにする。加熱手段２を所定の温度に設定すると、まずは、熱処理炉３内の雰囲気ガスが加熱され、熱処理炉３内を循環する。このとき、加熱手段２により加熱された雰囲気ガスは、循環路を撹拌翼８側に引き込まれ、撹拌翼８により炉内容器４のある空間へ送られ、炉内容器４の周囲が加熱された雰囲気となっていく。
【００４２】
そして、この加熱雰囲気は、また循環路を通過して、図１においては反時計回りで熱処理炉内を循環するようになる。なお、このとき、熱処理炉３は、炉内容器４と同様に完全に密閉されているわけではないため、熱処理炉３から外部へ雰囲気ガスが流出していく。したがって、乾燥ガス供給手段６から供給される乾燥ガスが、炉内容器４の内部を満たした後、今度は熱処理炉３内も満たすこととなり、本発明のアニール処理装置１内はアニール処理中、乾燥ガスの濃度が高い状態が維持される効果も同時に見込む事が出来る。
【００４３】
この雰囲気ガスは、炉内容器４に流入することはないため、炉内容器４内の乾燥ガスは、熱処理炉３内の雰囲気ガスから炉内容器４を通じて、さらに乾燥ガスへと熱が伝達して炉内容器４内の乾燥ガスをアニール処理に適した温度まで加熱する。このとき、炉内容器４内の乾燥ガスを、処理対象である光学素子の素材であるガラス材料のガラス転移点ＴｇからＴｇより５０℃低い温度範囲まで加熱してアニール処理を行うようにすることが好ましい。
【００４４】
従来は、炉内容器４を用いることなく熱処理炉３内にトレー５を収容してアニール処理を行っていたが、熱処理炉３内の水分の影響により光学素子に白ヤケが生じてしまう場合が多かった。ところが、本発明のように炉内容器を用いたところ、光学素子表面に白ヤケを生じることを抑制することができ、かつ、アニール処理も十分に行うことができた。
【００４５】
また、従来は、熱処理炉３内を撹拌翼により雰囲気ガスを撹拌させて炉内での温度分布が生じないようにしているものの、撹拌翼からの熱風が直接当たる部分と、それ以外の部分では光学素子の処理温度がかなり変わってしまうため、その温度差によるアニール処理が充分に行われるか否かにより品質の差が生じることも多かった。ところが、本発明のように炉内容器を用いたところ、撹拌翼からの熱風が光学素子に直接当たることがなくなり、光学素子の処理温度の差を小さくすることもできた。
【００４６】
さらに、白ヤケ以外にも、熱処理炉内の飛散物によるキズや、雰囲気ガス中に含まれる鉱物系油分等が原因と考えられる汚染物の付着等も、炉内容器４を設け、乾燥ガスを供給するようにすることで抑制することができる。
【００４７】
本発明の光学素子の製造方法を使用しても、アニール処理後の光学素子は白ヤケを完全に抑制しきれない場合もあるが、その程度は軽微で、手拭き、アルカリ洗浄、超音波洗浄等で除去することができる。したがって、従来のように研磨を行わなくても製品とすることができるため、本発明により光学素子の製造における作業性を向上させ、製造効率を上げることができる。
【実施例】
【００４８】
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。
【００４９】
（実施例１）
図１の構成を有するアニール処理装置を用い、光学素子の製造を行った。このとき用いた熱処理炉は、強制熱風循環・換気方式による熱処理炉（庫内寸法：６００ｍｍ×６００ｍｍ×６００ｍｍ、出力仕様：２００Ｖ  ９．５ｋＶＡ）を用い、その内部に炉内容器としてステンレス製（ＳＵＳ３０４）の容器（容器内寸法：４０４ｍｍ×２８５ｍｍ×９５ｍｍ）を用いた。
【００５０】
ホウ酸バリウム系の硝材からなる光学素子成形素材を加熱軟化させ、プレス成形することで得られた光学素子を、８×８（６４）個整列して載置した外形３００ｍｍ×２００ｍｍのトレーを用意し、炉内容器に収納した。緩衝材としてアルミナ繊維主体のセラミックブランケットを使用した。
【００５１】
炉内容器及び熱処理炉の扉を閉め、乾燥ガス供給手段を用いて炉内容器の内部へ乾燥空気を圧力調整弁及び流量調整器を使用しながら５Ｌ／分の流量で供給し、炉内容器の内部空間が陽圧となるようにした。このとき供給する乾燥空気は、冷凍式エアドライア付きコンプレッサから、オイルミストフィルタ、エアフィルタを介して微粒子や油分を除去して得られた大気圧露点約−２０℃の乾燥空気である。なお、乾燥ガスの供給による温度低下を防止する為、φ６ｍｍ、長さ２０ｍのＳＵＳ管を曲げて作成した熱交換器を炉内に配置した。
【００５２】
この乾燥空気を供給し始めるのと同時に、熱処理炉のヒータも稼働させ、炉内容器の温度が表１に示したようにステップ毎に目標温度となるように段階的に加熱するようにした。１６．５時間アニール処理を行い、光学素子を得た。
【００５３】
【表１】
0005585034.tif 000002
【００５４】
（実施例２）
ホウ酸ランタン系の硝材からなる光学素子成形素材を３００個用い、乾燥ガスとして、大気圧露点が−６０℃の乾燥窒素を用いた。また、熱処理炉による加熱は表２のように段階的に行った。それ以外は実施例１と同様の操作により光学素子を得た。
【００５５】
【表２】
0005585034.tif 000003
【００５６】
（実施例３）
図１の構成を有するアニール処理装置を用い、光学素子の製造を行った。このとき用いた熱処理炉は、強制熱風循環・換気方式による熱処理炉（庫内寸法：６００ｍｍ×６００ｍｍ×６００ｍｍ、出力仕様：２００Ｖ  ９．５ｋＶＡ）を用い、その内部に炉内容器としてステンレス製（ＳＵＳ３０４）の容器（容器内寸法：４４８ｍｍ×４５３ｍｍ×４２８ｍｍ）を用いた。
【００５７】
ホウ酸ランタン系の硝材からなる光学素子成形素材を加熱軟化させ、プレス成形することで得られた光学素子を４６８個準備した。該光学素子を外形３６０ｍｍ×２００ｍｍのトレー６枚に均等に載置し、上段、中段、下段の３段に分けて、各段２トレーずつ炉内容器に収納した。乾燥ガスとして、大気圧露点が−１５℃の乾燥空気を用いた。また、熱処理炉による加熱は表３のように行った。それ以外は実施例１と同様の操作により光学素子を得た。
【００５８】
【表３】
0005585034.tif 000004
【００５９】
（比較例１）
乾燥空気の供給を行わなかった以外は、実施例１と同様の操作により光学素子を得た。
【００６０】
（比較例２）
乾燥窒素の供給を行わなかった以外は、実施例２と同様の操作により光学素子を得た。
【００６１】
（比較例３）
炉内容器を設けず、乾燥空気の供給を行わなかった以外は、実施例３と同様の操作により光学素子を得た。
【００６２】
（試験例１）
実施例１及び比較例１に於いて、アニールを実施した６４個中３０個を無作為に抽出し、得られた光学素子について、アニール処理後の白ヤケの有無を調べその結果を表４に示した。なお、白ヤケの有無については、目視で白ヤケの有無を判定した。
【表４】
0005585034.tif 000005
【００６３】
（試験例２）
実施例２及び比較例２に於いて、アニールを実施した３００個中無作為に３０個抽出し、得られた光学素子について、アニール処理後の白ヤケの有無を調べその結果を表５に示した。なお、白ヤケの有無については、目視で白ヤケの有無を判定した。
【表５】
0005585034.tif 000006
【００６４】
また、アニール処理後に白ヤケが生じていても、手拭きにより除去できたものについては白ヤケが無いものとしてカウントした。実施例２では白ヤケが生じた光学素子は３／３０あったが、全て手拭きで除去することができた。
【００６５】
（試験例３）
実施例３及び比較例３において、炉内容器の最上段から図２に円で示した箇所の光学素子をサンプルとして用いた。図２は、最上段の２枚のトレーを上側から見た平面図であり、炉内容器に収納した際に、炉内容器の扉側を前（手前）、その対向する辺側を奥、その間を中（真ん中）とした。また、同様に扉側から見たときの左端を左、右端を右とし、それらの間を中（真ん中）と表示した。このように位置表示を分け、左右表示を先に、奥行き表示を後にして漢字を組み合わせて位置を示した。
【００６６】
すなわち、炉内容器の最上段から、左前、左中、左奥、中前、中中、中奥、右前、右中、右奥の９個の光学素子を抜き出し、真ん中の段、最下段からもそれぞれ同様に９個ずつ計２７個の光学素子を抜き出し、得られた光学素子について、光学素子の屈折率バラつき幅、アニール処理後の白ヤケの有無を調べ、その結果を表６に示した。なお、屈折率のバラツキ幅は、サンプルとした光学素子の屈折率の最大値と最小値とから算出した。
【００６７】
【表６】
0005585034.tif 000007
【００６８】
なお、白ヤケの有無については、目視で白ヤケの有無を判定した。また、アニール処理後に白ヤケが生じていても、手拭きにより除去できたものについては白ヤケが無いものとしてカウントした。実施例３では白ヤケが生じた光学素子は１／３程度あったが、全て手拭きで除去することができた。
【００６９】
屈折率の測定は、直角プリズムブロックを使用した液浸式の屈折率測定機を用いて行った。また、一般的な屈折率の狙い値は±５０×１０−５であり、本発明によりアニール処理が充分に行え、屈折率のバラツキを抑えることができることがわかった。
【００７０】
以上のように、本発明の光学素子の製造方法によれば、白ヤケを抑制しながら、十分にアニール処理を行うことができ、光学素子の歪みの除去や屈折率の調整を効率的に行うことができる。白ヤケを防止することができることで、研磨処理等の必要もなく製造コストを低減することもできる。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
本発明の光学素子の製造方法及びアニール処理装置は、プレス成形により得られた光学素子の歪みの除去や屈折率の調整を行うアニール処理を効率的に行うことができ、光学素子の製造分野において有用である。
【符号の説明】
【００７２】
１…光学素子のアニール処理装置、２…ヒータ、３…熱処理炉、４…炉内容器、５…トレー、６…乾燥ガス供給手段、７…仕切り板、８…撹拌翼
【図１】
0005585034.tif 000008
【図２】
0005585034.tif 000009