(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の基板と、第二の基板と、前記第一の基板と第二の基板の間に液晶組成物を含む液晶層を狭持し、前記第一の基板と第二の基板がエネルギー線又は熱によって硬化する硬化性樹脂組成物の硬化物を介して接合されている液晶表示装置であって、
前記液晶組成物が一般式（I）
【化１】
0005594554.tif 000096
（式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表し、Ａは１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表す。）で表される化合物を３０〜５０％含有し、一般式（II-1）
【化２】
0005594554.tif 000097
（式中、Ｒ３は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表し、Ｒ４は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数４〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数３〜８のアルケニルオキシ基を表し、Ｚ３は単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−又は−ＣＦ２Ｏ−を表す。）で表される化合物を５〜３０％含有し、一般式（II-2）
【化３】
0005594554.tif 000098
（式中、Ｒ５は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表し、Ｒ６は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数４〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数３〜８のアルケニルオキシ基を表し、Ｂはフッ素置換されていてもよい、１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表し、Ｚ４は単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−又は−ＣＦ２Ｏ−を表す。）で表される化合物を２５〜４５％含有する液晶組成物であり、
前記硬化性樹脂組成物が、１分子内に（メタ）アクリル基とエポキシ基とをそれぞれ少なくとも１つ以上有する化合物を含有する硬化性樹脂組成物である液晶表示装置。
【請求項２】
前記硬化性樹脂組成物が重合開始剤を含有する硬化性樹脂組成物である請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記重合開始剤が光重合開始剤及び／又は熱重合開始剤である請求項２記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記硬化性樹脂組成物がシランカップリング剤を含有する硬化性樹脂組成物である請求項１〜３の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記硬化性樹脂組成物がフィラーを含有する硬化性樹脂組成物である請求項１〜４の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記１分子内に（メタ）アクリル基とエポキシ基とをそれぞれ少なくとも１つ以上有する化合物が（メタ）アクリル酸変性エポキシ樹脂及び／又はウレタン変性（メタ）アクリルエポキシ樹脂である請求項１〜５の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記硬化性樹脂組成物が（メタ）アクリロイルオキシ基を有する樹脂及び／又はエポキシ基を有する樹脂を含有する硬化性樹脂組成物である請求項１〜６の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記硬化性樹脂組成物が、（メタ）アクリル基とエポキシ基との当量比が４０：６０〜９５：５である請求項１〜７の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記硬化性樹脂組成物における水素結合性官能基価が３×１０−３〜５×１０−３ｍｏｌ／ｇである請求項１〜８の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記硬化性樹脂組成物が樹脂微粒子を含有する硬化性樹脂組成物である請求項１〜９の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記液晶組成物層に、更に一般式（III）
【化４】
0005594554.tif 000099
（式中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表し、Ｄ、Ｅ及びＦはそれぞれ独立して、フッ素置換されていてもよい１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレンを表し、Ｚ２は単結合、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−又は−ＣＯＯ−を表し、ｎは０、１又は２を表す。ただし、一般式（I）、一般式（II-1）及び一般式（II-2）で表される化合物を除く。）で表される化合物を３〜３５％含有する請求項１〜１０のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
一般式（I）において、Ａがトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表す化合物、及びＡが１，４−フェニレン基を表す化合物をそれぞれ少なくとも１種以上含有する請求項１〜１１のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
一般式（II-2）において、Ｂが１，４−フェニレン基を表す化合物、及びＢがトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表す化合物をそれぞれ少なくとも１種以上含有する請求項１〜１２のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
一般式（II-1）、一般式（II-2）及び一般式（III）で表される化合物を３５〜７０％含有する請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記液晶組成物層を構成する液晶組成物の、以下の式で表されるＺ
【数１】
0005594554.tif 000100
（式中、γ１は回転粘度を表し、Δｎは屈折率異方性を表す。）が１３０００以下であり、γ１が１５０以下であり、Δｎが０．０８〜０．１３である請求項１〜１４の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記液晶組成物層を構成する液晶組成物の、ネマチック液晶相上限温度が６０〜１２０℃であり、ネマチック液晶相下限温度が‐２０℃以下であり、ネマチック液晶相上限温度と下限温度の差が１００〜１５０である請求項１〜１５の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記液晶組成物層を構成する液晶組成物の比抵抗が１０１２（Ω・ｍ）以上である請求項１〜１６の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記液晶組成物層が一般式（V）
【化５】
0005594554.tif 000101
（式中、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、Ｓｐ１及びＳｐ２はそれぞれ独立して、単結合、炭素原子数１〜８のアルキレン基又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｓ−（式中、ｓは２から７の整数を表し、酸素原子は芳香環に結合するものとする。）を表し、Ｚ１は−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＹ１＝ＣＹ２−（式中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表す。）、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｃは１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基又は単結合を表し、式中の全ての１，４−フェニレン基は、任意の水素原子がフッ素原子により置換されていても良い。）で表される重合性化合物を含有する液晶組成物を重合してなる重合体により構成される請求項１〜１７のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１９】
一般式（V）において、Ｃが単結合を表しＺ１が単結合を表す請求項１８記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、時計、電卓をはじめとして、家庭用各種電気機器、測定機器、自動車用パネル、ワープロ、電子手帳、プリンター、コンピューター、テレビ等に用いられるようになっている。液晶表示方式としては、その代表的なものにＴＮ（捩れネマチック）型、ＳＴＮ（超捩れネマチック）型、ＤＳ（動的光散乱）型、ＧＨ（ゲスト・ホスト）型、ＩＰＳ（インプレーンスイッチング）型、ＯＣＢ（光学補償複屈折）型、ＥＣＢ（電圧制御複屈折）型、ＶＡ（垂直配向）型、ＣＳＨ（カラースーパーホメオトロピック）型、あるいはＦＬＣ（強誘電性液晶）等を挙げることができる。また駆動方式としても従来のスタティック駆動からマルチプレックス駆動が一般的になり、単純マトリックス方式、最近ではＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）等により駆動されるアクティブマトリックス（ＡＭ）方式が主流となっている。【０００３】
液晶表示装置の製造方法としては光硬化熱硬化併用型シール剤を用いた滴下工法が広く使われている。滴下工法では、まず、２枚の電極付き透明基板の一方に、ディスペンサーまたはスクリーン印刷により長方形状のシールパターンを形成する。次いで、シール剤未硬化の状態で液晶の微小滴を透明基板の枠内全面に滴下塗布し、すぐに他方の透明基板を重ねあわせ、シール部に紫外線を照射して仮硬化を行う。その後、液晶アニール時に加熱して本硬化を行い、液晶表示素子を作製する。基板の貼り合わせを減圧下で行うようにすれば、極めて高い効率で液晶表示素子を製造することができる。
滴下工法では未硬化のシール剤が直接液晶材料と接する工程があることから、かかるシール剤成分による液晶材料の汚染が大きな問題となっていた。また、硬化後のシール剤に含まれる未反応の重合開始剤、硬化剤等の残存物、イオン性不純物も問題となっている。近年の液晶パネルはモバイル用途等の低消費電力化により、液晶の駆動電圧の低いもの（低電圧型液晶）を使用する傾向にある。この低電圧型液晶は、特に誘電率異方性が大きいため不純物を取り込みやすく、配向の乱れや電圧保持率の経時低下を引き起こすやすくなっている。すなわち、シール剤に含まれる未反応の重合開始剤、硬化後開始剤等の残存物、塩素等のイオン性不純物、シランカップリング剤が液晶材料に溶出することにより、配向の乱れや電圧保持率の経時低下を引き起こされることが問題になっていた。【０００４】
こうしたなか、シール剤成分が液晶材料に溶出するのを抑制するため、シール剤に含まれるエポキシ樹脂の軟化点を高くし、液晶材料と未硬化のシール剤との接触による液晶材料の汚染を避け、色むらの低減を図る提案がなされている（特許文献１）。
シール剤成分の溶出を避ける別の方法として、シール剤を光によっても熱によっても硬化させることができる組成にして、シール剤塗設後、一旦光により仮硬化させて液晶材料との接触による汚染を避け、２枚の基板を貼り合わせた後、熱により本硬化させる方法が提案されている（特許文献２）。そのために、シール剤の組成としてエポキシ樹脂とアクリル酸とを反応させてなるアクリル酸変性エポキシ樹脂を用いている。
一般にエポキシ樹脂は接着力が高い特徴を有すが、液晶材料を汚染する傾向が高く、上記のアクリル変性によって同時に液晶材料の汚染を低減できることが期待される。しかし一方で、アクリル変性によって熱硬化性が低下し、シール剤成分の溶出による液晶材料の汚染が見られる場合があった。そこで、アクリル成分の硬化のために、イミダゾール等の第３級アミンを添加し、同時に配合した少量のエポキシ樹脂との相互作用によってアクリル樹脂を熱硬化させる提案もなされている（特許文献３）。
しかしながら、いずれの提案においても一般的な液晶材料を想定し、シール剤の組成に着目し、シール剤の組成に工夫を凝らして問題を回避しようとしているため、個々の液晶表示素子に応用した場合に必ずしも十分な表示特性を示さないことが多く、特に液晶表示素子の焼き付き現象については十分な改善効果が見られなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−２３５８２号公報
【特許文献２】特開２００５−１８０２２号公報
【特許文献３】特開２００８−１１６８２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、従来、十分なされてきていなかった液晶材料の組成とシール剤との相互作用に着目し、焼き付き等の液晶表示素子の特性を改善する液晶組成およびシール剤組成との組合せを提案するものである。
即ち、本発明は、特定の液晶組成物と特定の硬化性樹脂組成物の硬化物をシール剤として用いることで、実用的な液晶層温度範囲、大きい誘電率異方性（Δε）の絶対値、低い粘性及び適切な屈折率異方性（Δｎ）を有しつつ、液晶層の電圧保持率（ＶＨＲ）の低下、を防止し、白抜け、配向ムラ、焼き付けなどの表示不良の問題を解決する液晶表示装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本願発明者らは、上記課題を解決するためにシール剤を構成する硬化性樹脂組成物及び液晶層を構成する液晶材料の構造の組み合わせについて鋭意検討した結果、特定の液晶材料の構造及び特定の硬化性樹脂組成物の硬化物を使用したシール剤を用いた液晶表示装置が、液晶層の電圧保持率（ＶＨＲ）の低下を防止し、白抜け、配向ムラ、焼き付きなどの表示不良の問題を解決することを見出し本願発明の完成に至った。
即ち、本発明は、
第一の基板と、第二の基板と、前記第一の基板と第二の基板の間に挟持された液晶組成物を含む液晶層と、前記第一の基板と第二の基板をエネルギー線又は熱によって硬化する硬化性樹脂組成物の硬化物を介して接合するシール剤とを有する液晶表示装置であって、
前記液晶組成物が一般式（I）【０００８】
【化１】
0005594554.tif 000002
【０００９】
（式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表し、Ａは１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表す。）で表される化合物を３０〜５０％含有し、一般式（II-1）【００１０】
【化２】
0005594554.tif 000003
（式中、Ｒ３は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表し、Ｒ４は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数４〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数３〜８のアルケニルオキシ基を表し、Ｚ３は単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−又は−ＣＦ２Ｏ−を表す。）で表される化合物を５〜３０％含有し、一般式（II-2）【００１１】
【化３】
0005594554.tif 000004
【００１２】
（式中、Ｒ５は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表し、Ｒ６は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数４〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数３〜８のアルケニルオキシ基を表し、Ｂはフッ素置換されていてもよい、１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表し、Ｚ４は単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−又は−ＣＦ２Ｏ−を表す。）で表される化合物を２５〜４５％含有する液晶組成物であり、
前記硬化性樹脂組成物が、１分子内に（メタ）アクリル基とエポキシ基とをそれぞれ少なくとも１つ以上有する化合物を含有する硬化性樹脂組成物である液晶表示装置を提供する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の液晶表示装置は、特定の液晶組成物と特定の硬化性樹脂組成物の硬化物を使用したシール剤を用いることで、実用的な液晶層温度範囲、大きい誘電率異方性（Δε）の絶対値、低い粘性及び適切な屈折率異方性（Δｎ）を有しつつ、液晶層の電圧保持率（ＶＨＲ）の低下を防止することができ、白抜け、配向ムラ、焼き付けなどの表示不良の発生を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の液晶表示装置の平面図である。
【図２】本発明の液晶表示装置の拡大図である。
【符号の説明】
【００１５】
１・・・基板
２・・・シール剤
３・・・液晶
４・・・駆動用ドライバー
５・・・各画素電極からの配線
６・・・オーバーコート層
７・・・画素電極または配線
８・・・配向膜
【発明を実施するための形態】
【００１６】
図１は本発明の液晶表示装置の平面図である。画素電極、ＴＦＴおよび配線などの詳細は省略している。図２の上図は前記平面図の一部を拡大した部分図である。各画素電極から伸びる配線がシール剤の下に位置し、駆動ドライバーに至ることを示している。図２の下図は図２上図の断面図である。シール剤は液晶及び配向膜に接している。図では全ての場合を示していないが、シール剤の位置によってはシール剤または液晶が配線またはオーバーコート層に接する場合がある。
【００１７】
（液晶層）
本発明の液晶表示装置における液晶層は、一般式（I）
【００１８】
【化４】
0005594554.tif 000005
【００１９】
（式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表し、Ａは１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表す。）で表される化合物を３０〜５０％含有し、一般式（II-1）
【００２０】
【化５】
0005594554.tif 000006
【００２１】
（式中、Ｒ３は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表し、Ｒ４は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数４〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数３〜８のアルケニルオキシ基を表し、Ｚ３は単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−又は−ＣＦ２Ｏ−を表す。）で表される化合物を５〜３０％含有し、一般式（II-2）
【００２２】
【化６】
0005594554.tif 000007
【００２３】
（式中、Ｒ５は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表し、Ｒ６は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数４〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数３〜８のアルケニルオキシ基を表し、Ｂはフッ素置換されていてもよい、１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表し、Ｚ４は単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−又は−ＣＦ２Ｏ−を表す。）で表される化合物を２５〜４５％含有する液晶組成物から構成される。
本発明の液晶表示装置における液晶層は、一般式（I）で表される化合物を３０〜５０％含有するが、３２〜４８％含有することが好ましく、３４〜４６％含有することがより好ましい。
【００２４】
一般式（I）において、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表すが、Ａがトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表す場合には、
炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基又は炭素原子数２〜５のアルケニルオキシ基を表すことが好ましく、
炭素原子数２〜５のアルキル基、炭素原子数２〜４のアルケニル基、炭素原子数１〜４のアルコキシ基又は炭素原子数２〜４のアルケニルオキシ基を表すことがより好ましく、
Ｒ１がアルキル基を表すことが好ましいが、この場合炭素原子数２、３又は４のアルキル基が特に好ましい。Ｒ１が炭素原子数３のアルキル基を表す場合には、Ｒ２は炭素原子数２、４又は５のアルキル基、または炭素原子数２〜３のアルケニル基である場合が好ましく、Ｒ２は炭素原子数２のアルキル基である場合がより好ましい。
Ａが１，４−フェニレン基を表す場合には、
炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基又は炭素原子数３〜５のアルケニルオキシ基を表すことが好ましく、
炭素原子数２〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基、炭素原子数１〜４のアルコキシ基又は炭素原子数２〜４のアルケニルオキシ基を表すことがより好ましく、
Ｒ１がアルキル基を表すことが好ましいが、この場合炭素原子数１、３又は５のアルキル基が特に好ましい。さらに、Ｒ２が炭素原子数１〜２のアルコキシ基を表すことが好ましい。
【００２５】
Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方の置換基が炭素原子数３〜５のアルキル基である一般式（I）で表される化合物の含有量が、一般式（I）で表される化合物中の５０％以上であることが好ましく、７０％以上がより好ましく、８０％以上であることがさらに好ましい。又、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方の置換基が炭素原子数３のアルキル基である一般式（I）で表される化合物の含有量が、一般式（I）で表される化合物中の５０％以上であることが好ましく、７０％以上がより好ましく、８０％以上であることがさらに好ましく、１００％であることが最も好ましい。
一般式（I）で表される化合物は１種又は２種以上含有することができるが、Ａがトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表す化合物、及びＡが１，４−フェニレン基を表す化合物をそれぞれ少なくとも１種以上含有するのが好ましい。
又、Ａがトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表す一般式（I）で表される化合物の含有量が、一般式（I）で表される化合物中の５０％以上で有ることが好ましく、７０％以上がより好ましく、８０％以上であることがさらに好ましい。
【００２６】
一般式（I）で表される化合物は具体的には次に記載する一般式（Ia）〜一般式（Ik）で表される化合物が好ましい。
【００２７】
【化７】
0005594554.tif 000008
【００２８】
（式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数１〜５のアルコキシ基を表すが、一般式（I）におけるＲ１及びＲ２と同様の実施態様が好ましい。）
一般式（Ia）〜一般式（Ik）において、一般式（Ia）、一般式（Ic）及び一般式（Ig）が好ましく、一般式（Ia）及び一般式（Ig）がより好ましく、一般式（Ia）が特に好ましいが、応答速度を重視する場合には一般式（Ib）も好ましく、より応答速度を重視する場合には、一般式（Ib）、一般式（Ic）、一般式（Ie）及び一般式（Ik）が好ましく、一般式（Ic）及び一般式（Ik）がより好ましく、一般式(Ik)で表されるジアルケニル化合物は特に応答速度を重視する場合に好ましい。
これらの点から、一般式（Ia）及び一般式（Ic）で表される化合物の含有量が、一般式（I）で表される化合物中の５０％以上で有ることが好ましく、７０％以上がより好ましく、８０％以上であることがさらに好ましく、１００％であることが最も好ましい。又、一般式（Ia）で表される化合物の含有量が、一般式（I）で表される化合物中の５０％以上で有ることが好ましく、７０％以上がより好ましく、８０％以上であることがさらに好ましい。
本発明の液晶表示装置における液晶層は、一般式（II-1）で表される化合物を５〜３０％含有するが、８〜２７％含有することが好ましく、１０〜２５％含有することがより好ましい。
【００２９】
一般式（II-1）において、Ｒ３は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表すが、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基を表すことが好ましく、炭素原子数２〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜４のアルケニル基を表すことがより好ましく、炭素原子数３〜５のアルキル基又は炭素原子数２のアルケニル基を表すことがさらに好ましく、炭素原子数３のアルキル基を表すことが特に好ましい。
Ｒ４は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数４〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数３〜８のアルケニルオキシ基を表すが、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数１〜５のアルコキシ基を表すことが好ましく、炭素原子数１〜３のアルキル基又は炭素原子数１〜３のアルコキシ基を表すことがより好ましく、炭素原子数３のアルキル基又は炭素原子数２のアルコキシ基を表すことがさらに好ましく、炭素原子数２のアルコキシ基を表すことが特に好ましい。
Ｚ３は単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−又は−ＣＦ２Ｏ−を表すが、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−又は−ＣＦ２Ｏ−を表すことが好ましく、単結合又は−ＣＨ２Ｏ−を表すことがより好ましい。
【００３０】
本発明の液晶表示装置における液晶層は、一般式（II-1）で表される化合物を１種又は２種以上含有することができるが、１種又は２種含有することが好ましい。
一般式（II-1）で表される化合物は具体的には次に記載する一般式（II-1a）〜一般式（II-1d）で表される化合物が好ましい。
【００３１】
【化８】
0005594554.tif 000009
【００３２】
（式中、Ｒ３は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基を表し、Ｒ４aは炭素原子数１〜５のアルキル基を表す。）
一般式（II-1a）及び一般式（II-1c）においてＲ３は、一般式（II-1）における同様の実施態様が好ましい。Ｒ４aは炭素原子数１〜３のアルキル基が好ましく、炭素原子数１又は２のアルキル基がより好ましく、炭素原子数２のアルキル基が特に好ましい。
一般式（II-1b）及び一般式（II-1d）においてＲ３は、一般式（II-1）における同様の実施態様が好ましい。Ｒ４aは炭素原子数１〜３のアルキル基が好ましく、炭素原子数１又は３のアルキル基がより好ましく、炭素原子数３のアルキル基が特に好ましい。
一般式（II-1a）〜一般式（II-1d）の中でも、誘電率異方性の絶対値を増大するためには、一般式（II-1a）及び一般式（II-1c）が好ましく、一般式（II-1a）が好ましい。
本発明の液晶表示装置における液晶層は、一般式（II-1a）〜一般式（II-1d）で表される化合物を１種又は２種以上含有することが好ましく、１種又は２種含有することが好ましく、一般式（II-1a）で表される化合物を１種又は２種含有することが好ましい。
本発明の液晶表示装置における液晶層は、一般式（II-2）で表される化合物を２５〜４５％含有するが、２８〜４２％含有することが好ましく、３０〜４０％含有することがより好ましい。
【００３３】
一般式（II-2）において、Ｒ５は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表すが、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基を表すことが好ましく、炭素原子数２〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜４のアルケニル基を表すことがより好ましく、炭素原子数３〜５のアルキル基又は炭素原子数２のアルケニル基を表すことがさらに好ましく、炭素原子数３のアルキル基を表すことが特に好ましい。
Ｒ６は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数４〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数３〜８のアルケニルオキシ基を表すが、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数１〜５のアルコキシ基を表すことが好ましく、炭素原子数１〜３のアルキル基又は炭素原子数１〜３のアルコキシ基を表すことがより好ましく、炭素原子数３のアルキル基又は炭素原子数２のアルコキシ基を表すことがさらに好ましく、炭素原子数２のアルコキシ基を表すことが特に好ましい。
Ｂはフッ素置換されていてもよい、１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表すが、無置換の１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基が好ましく、トランス−１，４−シクロヘキシレン基がより好ましい。
Ｚ４は単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−又は−ＣＦ２Ｏ−を表すが、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−又は−ＣＦ２Ｏ−を表すことが好ましく、単結合又は−ＣＨ２Ｏ−を表すことがより好ましい。
【００３４】
一般式（II-2）で表される化合物は具体的には次に記載する一般式（II-2a）〜一般式（II-2f）で表される化合物が好ましい。
【００３５】
【化９】
0005594554.tif 000010
【００３６】
（式中、Ｒ５は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基を表し、Ｒ６aは炭素原子数１〜５のアルキル基を表すが、一般式（II-2）におけるＲ５及びＲ６と同様の実施態様が好ましい。）
一般式（II-2a）、一般式（II-2b）及び一般式（II-2e）においてＲ5は、一般式（II-2）における同様の実施態様が好ましい。Ｒ６aは炭素原子数１〜３のアルキル基が好ましく、炭素原子数１又は２のアルキル基がより好ましく、炭素原子数２のアルキル基が特に好ましい。
一般式（II-2c）、一般式（II-2d）及び一般式（II-2f）においてＲ５は、一般式（II-2）における同様の実施態様が好ましい。Ｒ６aは炭素原子数１〜３のアルキル基が好ましく、炭素原子数１又は３のアルキル基がより好ましく、炭素原子数３のアルキル基が特に好ましい。
一般式（II-2a）〜一般式（II-2f）の中でも、誘電率異方性の絶対値を増大するためには、一般式（II-2a）、一般式（II-2b）及び一般式（II-2e）が好ましい。
一般式（II-2）で表される化合物は１種又は２種以上含有することができるが、Ｂが１，４−フェニレン基を表す化合物、及びＢがトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表す化合物をそれぞれ少なくとも１種以上含有することが好ましい。
【００３７】
本発明の液晶表示装置における液晶層は、更に、一般式（III）
【００３８】
【化１０】
0005594554.tif 000011
【００３９】
（式中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表し、Ｄ、Ｅ及びＦはそれぞれ独立して、フッ素置換されていてもよい、１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレンを表し、Ｚ２は単結合、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−又は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−を表し、ｎは０、１又は２を表す。ただし、一般式（I）、一般式（II-1）及び一般式（II-2）で表される化合物は除く。）で表される化合物を含有するのが好ましい。
一般式（III）で表される化合物は３〜３５％含有することが好ましく、５〜３３％含有することが好ましく、７〜３０％含有することが好ましい。
【００４０】
一般式（III）において、Ｒ７は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表すが、
Ｄがトランス−１，４−シクロヘキシレンを表す場合、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基を表すことが好ましく、炭素原子数２〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜４のアルケニル基を表すことがより好ましく、炭素原子数３〜５のアルキル基又は炭素原子数２又は３のアルケニル基を表すことがさらに好ましく、炭素原子数３のアルキル基を表すことが特に好ましく、
Ｄがフッ素置換されていてもよい、１，４−フェニレン基を表す場合、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数４又は５のアルケニル基を表すことが好ましく、炭素原子数２〜５のアルキル基又は炭素原子数４のアルケニル基を表すことがより好ましく、炭素原子数２〜４のアルキル基を表すことがさらに好ましい。
【００４１】
Ｒ８は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数３〜８のアルケニルオキシ基を表すが、
Ｆがトランス−１，４−シクロヘキシレンを表す場合、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基を表すことが好ましく、炭素原子数２〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜４のアルケニル基を表すことがより好ましく、炭素原子数３〜５のアルキル基又は炭素原子数２又は３のアルケニル基を表すことがさらに好ましく、炭素原子数３のアルキル基を表すことが特に好ましく、
Ｆがフッ素置換されていてもよい、１，４−フェニレン基を表す場合、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数４又は５のアルケニル基を表すことが好ましく、炭素原子数２〜５のアルキル基又は炭素原子数４のアルケニル基を表すことがより好ましく、炭素原子数２〜４のアルキル基を表すことがさらに好ましい。
Ｒ７及びＲ８がアルケニル基を表し、結合するＤ又はＦがフッ素置換されていてもよい、１，４−フェニレン基を表す場合す場合、炭素原子数４又は５のアルケニル基としては以下の構造が好ましい。
【００４２】
【化１１】
0005594554.tif 000012
（式中、環構造へは右端で結合するものとする。）
この場合においても、炭素原子数４のアルケニル基がさらに好ましい。
【００４３】
Ｄ、Ｅ及びＦはそれぞれ独立して、フッ素置換されていてもよい、１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレンを表すが、２−フルオロ−１，４−フェニレン基、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基、１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレンを表すことが好ましく、２−フルオロ−１，４−フェニレン基又は２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基、１，４−フェニレン基がより好ましく、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基又は１，４−フェニレン基が特に好ましい。
Ｚ２は単結合、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−又は−ＣＯＯ−を表すが、単結合、−ＣＨ２Ｏ−又は−ＣＯＯ−を表すことが好ましく、単結合がより好ましい。
ｎは０、１又は２を表すが、０又は１を表すことが好ましい。また、Ｚ２が単結合以外の置換基を表す場合、１を表すことが好ましい。  一般式（III）で表される化合物は、ｎが１を表す場合において、負の誘電率異方性を大きくする観点からは、一般式（III-1a）〜一般式（III-1e）で表される化合物が好ましく、応答速度を速くする観点からは、一般式（III-1f）〜一般式（III-1j）で表される化合物が好ましい。
【００４４】
【化１２】
0005594554.tif 000013
【００４５】
【化１３】
0005594554.tif 000014
【００４６】
（式中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜５のアルコキシ基を表すが、一般式（III）におけるＲ７及びＲ８と同様の実施態様が好ましい。）
一般式（III）で表される化合物は、ｎが２を表す場合、負の誘電率異方性を大きくする観点からは、一般式（III-2a）〜一般式（III-2i）で表される化合物が好ましく、応答速度を速くする観点からは、一般式（III-2j）〜一般式（III-2l）で表される化合物が好ましい。
【００４７】
【化１４】
0005594554.tif 000015
【００４８】
【化１５】
0005594554.tif 000016
（式中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜５のアルコキシ基を表すが、一般式（III）におけるＲ７及びＲ８と同様の実施態様が好ましい。）
一般式（III）で表される化合物は、ｎが０を表す場合、負の誘電率異方性を大きくする観点からは、一般式（III-3a）で表される化合物が好ましく、応答速度を速くする観点からは、一般式（III-3b）で表される化合物が好ましい。
【００４９】
【化１６】
0005594554.tif 000017
【００５０】
【化１７】
0005594554.tif 000018
（式中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜５のアルコキシ基を表すが、一般式（III）におけるＲ７及びＲ８と同様の実施態様が好ましい。）
Ｒ７は炭素原子数２〜５のアルキル基が好ましく、炭素原子数３のアルキル基がより好ましい。Ｒ８は炭素原子数１〜３のアルコキシ基が好ましく、炭素原子数２のアルコキシ基がより好ましい。
【００５１】
一般式（II-1）及び一般式（II-2）で表される化合物は共に、誘電率異方性が負であってその絶対値が比較的大きい化合物であるが、これら化合物の合計含有量は、３０〜６５％が好ましく、４０〜５５％がより好ましく、４３〜５０％が特に好ましい。
一般式（III）で表される化合物は誘電率異方性については正の化合物も負の化合物も包含しているが、誘電率異方性が負であって、その絶対値が０．３以上の化合物を用いる場合、一般式（II-1）、一般式（II-2）及び一般式（III）で表される化合物の合計含有量は、３５〜７０％が好ましく、４５〜６５％がより好ましく、５０〜６０％が特に好ましい。
一般式（I）で表される化合物を３０〜５０％含有し、且つ一般式（II-1）、一般式（II-2）及び一般式（III）で表される化合物を３５〜７０％含有することが好ましく、一般式（I）で表される化合物を３５〜４５％含有し、且つ一般式（II-1）、一般式（II-2）及び一般式（III）で表される化合物を４５〜６５％含有することがより好ましく、一般式（I）で表される化合物を３８〜４２％含有し、且つ一般式（II-1）、一般式（II-2）及び一般式（III）で表される化合物を５０〜６０％含有することが特に好ましい。
一般式（I）、一般式（II-1）、一般式（II-2）及び一般式（III）で表される化合物の合計含有量は、組成物全体に対して、８０〜１００％が好ましく、９０〜１００％がより好ましく、９５〜１００％が特に好ましい。
【００５２】
本発明の液晶表示装置における液晶層は、ネマチック相-等方性液体相転移温度（Ｔｎｉ）を幅広い範囲で使用することができるものであるが、６０から１２０℃であることが好ましく、７０から１００℃がより好ましく、７０から８５℃が特に好ましい。
誘電率異方性は、２５℃において、−２．０から−６．０であることが好ましく、−２．５から−５．０であることがより好ましく、−２．５から−４．０であることが特に好ましい。
屈折率異方性は、２５℃において、０．０８から０．１３であることが好ましいが、０．０９から０．１２であることがより好ましい。更に詳述すると、薄いセルギャップに対応する場合は０．１０から０．１２であることが好ましく、厚いセルギャップに対応する場合は０．０８から０．１０であることが好ましい。
回転粘度（γ１）は１５０以下が好ましく、１３０以下がより好ましく、１２０以下が特に好ましい。
本発明の液晶表示装置における液晶層においては、回転粘度と屈折率異方性の関数であるＺが特定の値を示すことが好ましい。
【００５３】
【数１】
0005594554.tif 000019
（式中、γ１は回転粘度を表し、Δｎは屈折率異方性を表す。）
Ｚは、１３０００以下が好ましく、１２０００以下がより好ましく、１１０００以下が特に好ましい。
本発明の液晶表示装置における液晶層は、アクティブマトリクス表示素子に使用する場合においては、１０12（Ω・ｍ）以上の比抵抗を有することが必要であり、１０13（Ω・ｍ）が好ましく、１０14（Ω・ｍ）以上がより好ましい。
【００５４】
本発明の液晶表示装置における液晶層は、上述の化合物以外に、用途に応じて、通常のネマチック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶、酸化防止剤、紫外線吸収剤、重合性モノマーなどを含有しても良い。
重合性モノマーとしては、一般式（V）
【００５５】
【化１８】
0005594554.tif 000020
【００５６】
（式中、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、
Ｓｐ１及びＳｐ２はそれぞれ独立して、単結合、炭素原子数１〜８のアルキレン基又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｓ−（式中、ｓは２から７の整数を表し、酸素原子は芳香環に結合するものとする。）を表し、
Ｚ１は−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＹ１＝ＣＹ２−（式中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表す。）、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、
Ｃは１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基又は単結合を表し、式中の全ての１，４−フェニレン基は、任意の水素原子がフッ素原子により置換されていても良い。）で表されるニ官能モノマーが好ましい。
【００５７】
Ｘ１及びＸ２は、何れも水素原子を表すジアクリレート誘導体、何れもメチル基を有するジメタクリレート誘導体の何れも好ましく、一方が水素原子を表しもう一方がメチル基を表す化合物も好ましい。これらの化合物の重合速度は、ジアクリレート誘導体が最も早く、ジメタクリレート誘導体が遅く、非対称化合物がその中間であり、その用途により好ましい態様を用いることができる。ＰＳＡ表示素子においては、ジメタクリレート誘導体が特に好ましい。
Ｓｐ１及びＳｐ２はそれぞれ独立して、単結合、炭素原子数１〜８のアルキレン基又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｓ−を表すが、ＰＳＡ表示素子においては少なくとも一方が単結合であることが好ましく、共に単結合を表す化合物又は一方が単結合でもう一方が炭素原子数１〜８のアルキレン基又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｓ−を表す態様が好ましい。この場合１〜４のアルキル基が好ましく、ｓは１〜４が好ましい。
Ｚ１は、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−又は単結合が好ましく、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合がより好ましく、単結合が特に好ましい。
Ｃは任意の水素原子がフッ素原子により置換されていても良い１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基又は単結合を表すが、１，４−フェニレン基又は単結合が好ましい。Ｃが単結合以外の環構造を表す場合、Ｚ１は単結合以外の連結基も好ましく、Ｃが単結合の場合、Ｚ１は単結合が好ましい。
【００５８】
これらの点から、一般式（V）において、Ｓｐ１及びＳｐ２の間の環構造は、具体的には次に記載する構造が好ましい。
一般式（V）において、Ｃが単結合を表し、環構造が二つの環で形成される場合において、次の式（Va-1）から式（Va-5）を表すことが好ましく、式（Va-1）から式（Va-3）を表すことがより好ましく、式（Va-1）を表すことが特に好ましい。
【００５９】
【化１９】
0005594554.tif 000021
【００６０】
（式中、両端はＳｐ１又はＳｐ２に結合するものとする。）
これらの骨格を含む重合性化合物は重合後の配向規制力がＰＳＡ型液晶表示素子に最適であり、良好な配向状態が得られることから、表示ムラが抑制されるか、又は、全く発生しない。
以上のことから、重合性モノマーとしては、一般式（V-1）〜一般式（V-4）が特に好ましく、中でも一般式（V-2）が最も好ましい。
【００６１】
【化２０】
0005594554.tif 000022
【００６２】
（式中、Ｓｐ２は炭素原子数２から５のアルキレン基を表す。）
重合性モノマーを添加する場合において、重合開始剤が存在しない場合でも重合は進行するが、重合を促進するために重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。また、保存安定性を向上させるために、安定剤を添加しても良い。使用できる安定剤としては、例えば、ヒドロキノン類、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β−ナフチルアミン類、β−ナフトール類、ニトロソ化合物等が挙げられる。
重合性モノマーを含有する液晶層は、液晶表示素子に有用であり、特にアクティブマトリクス駆動用液晶表示素子に有用であり、ＰＳＡモード、ＰＳＶＡモード、ＶＡモード、ＩＰＳモード又はＥＣＢモード用液晶表示素子に用いることができる。
重合性モノマーを含有する液晶層は、これに含まれる重合性モノマーが紫外線照射により重合することで液晶配向能が付与され、液晶組成物の複屈折を利用して光の透過光量を制御する液晶表示素子に使用される。液晶表示素子として、ＡＭ−ＬＣＤ（アクティブマトリックス液晶表示素子）、ＴＮ（ネマチック液晶表示素子）、ＳＴＮ−ＬＣＤ（超ねじれネマチック液晶表示素子）、ＯＣＢ−ＬＣＤ及びＩＰＳ−ＬＣＤ（インプレーンスイッチング液晶表示素子）に有用であるが、ＡＭ−ＬＣＤに特に有用であり、透過型あるいは反射型の液晶表示素子に用いることができる。
【００６３】
（硬化性樹脂組成物）
本発明の液晶表示装置におけるシール剤は１分子内に（メタ）アクリル基とエポキシ基とをそれぞれ少なくとも１つ以上有する化合物を含有する硬化性樹脂組成物の硬化物から構成される。
上記１分子内に（メタ）アクリル基とエポキシ基とをそれぞれ少なくとも１つ以上有する化合物としては特に限定されず、例えば、（メタ）アクリル酸変性エポキシ樹脂、ウレタン変性（メタ）アクリルエポキシ樹脂等が挙げられる。
１）（メタ）アクリル酸変性エポキシ樹脂
（メタ）アクリル酸変性エポキシ樹脂としては特に限定されず、例えば、（メタ）アクリル酸とエポキシ樹脂とを常法に従って塩基性触媒の存在下で反応することにより得ることができる。
（メタ）アクリル酸変性エポキシ樹脂としては、例えば、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂等を部分（メタ）アクリル化したものであり、エポキシ樹脂としてビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、トリス（ヒドロキシフェニル）アルキル型エポキシ樹脂、テトラキス（ヒドロキシフェニル）アルキル型エポキシ樹脂等が好適である。 
上記（メタ）アクリル酸変性エポキシ樹脂を合成するための原料となるエポキシ化合物は特に限定されず、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＥ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂、ポリオキシプロピレンビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、スルフィド型エポキシ樹脂、ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリスフェノールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、アルキルポリオール型エポキシ樹脂、ゴム変性型エポキシ樹脂、グリシジルエステル化合物、ビスフェノールＡ型エピスルフィド樹脂、脂環式エポキシ樹脂等が挙げられる。この中でも、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＥ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂が好ましい。
【００６４】
上記エポキシ（メタ）アクリレートを合成するための原料となるエポキシ化合物のうち、市販されているものとしては、例えば、ｊＥＲ８２８ＥＬ、ｊＥＲ１００４（いずれも三菱化学社製）、エピクロン８５０−Ｓ（ＤＩＣ社製）等のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ｊＥＲ８０６、ｊＥＲ４００４（いずれも三菱化学社製）等のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、Ｒ−７１０等のビスフェノールＥ型エポキシ樹脂、エピクロンＥＸＡ１５１４（ＤＩＣ社製）等のビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ＲＥ−８１０ＮＭ（日本化薬社製）等の２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エピクロンＥＸＡ７０１５（ＤＩＣ社製）等の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂、ＥＰ−４０００Ｓ（ＡＤＥＫＡ社製）等のプロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ＥＸ−２０１（ナガセケムテックス社製）等のレゾルシノール型エポキシ樹脂、ｊＥＲＹＸ−４０００Ｈ（三菱化学社製）等のビフェニル型エポキシ樹脂、ＹＳＬＶ−５０ＴＥ（新日鐵化学社製）等のスルフィド型エポキシ樹脂、ＹＳＬＶ−８０ＤＥ（新日鐵化学社製）等のビフェニルエーテル型エポキシ樹脂、ＥＰ−４０８８Ｓ（ＡＤＥＫＡ社製）等のジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、エピクロンＨＰ４０３２、エピクロンＥＸＡ−４７００（いずれもＤＩＣ社製）等のナフタレン型エポキシ樹脂、エピクロンＮ−７４０、エピクロンＮ−７７０、エピクロンＮ−７７５（ＤＩＣ社製）、ｊＥＲ１５２、ｊＥＲ１５４（三菱化学社製）等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂、エピクロンＮ−６７０−ＥＸＰ−Ｓ（ＤＩＣ社製）等のオルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エピクロンＮ６６０、エピクロンＮ６６５、エピクロンＮ６７０、エピクロンＮ６７３、エピクロンＮ６８０、エピクロンＮ６９５、エピクロンＮ６６５ＥＸＰ、エピクロンＮ６７２ＥＸＰ（ＤＩＣ社製）等のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エピクロンＨＰ７２００（ＤＩＣ社製）等のジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂、ＮＣ−３０００Ｐ（日本化薬社製）等のビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ＥＳＮ−１６５Ｓ（新日鐵化学社製）等のナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂、ｊＥＲ６３０（三菱化学社製）、エピクロン４３０（ＤＩＣ社製）、ＴＥＴＲＡＤ−Ｘ（三菱ガス化学社製）等のグリシジルアミン型エポキシ樹脂、ＺＸ−１５４２（新日鐵化学社製）、エピクロン７２６（ＤＩＣ社製）、エポライト８０ＭＦＡ（共栄社化学社製）、デナコールＥＸ−６１１、（ナガセケムテックス社製）等のアルキルポリオール型エポキシ樹脂、ＹＲ−４５０、ＹＲ−２０７（いずれも新日鐵化学社製）、エポリードＰＢ（ダイセル社製）等のゴム変性型エポキシ樹脂、デナコールＥＸ−１４７（ナガセケムテックス社製）等のグリシジルエステル化合物、ｊＥＲＹＬ−７０００（三菱化学社製）等のビスフェノールＡ型エピスルフィド樹脂、その他ＹＤＣ−１３１２、ＹＳＬＶ−８０ＸＹ、ＹＳＬＶ−９０ＣＲ（いずれも新日鐵化学社製）、ＸＡＣ４１５１（旭化成社製）、ｊＥＲ１０３１、ｊＥＲ１０３２（いずれも三菱化学社製）、ＥＸＡ−７１２０（ＤＩＣ社製）、ＴＥＰＩＣ（日産化学社製）等が挙げられる。また、脂環式エポキシ樹脂として特に限定されないが、市販品としては、例えば、セロキサイド２０２１、セロキサイド２０８０、セロキサイド３０００、エポリードＧＴ３００、ＥＨＰＥ（いずれもダイセル社製）等が挙げられる。
【００６５】
上記エポキシ（メタ）アクリレートとしては、具体的には例えば、レゾルシノール型エポキシアクリレートは、レゾルシノール型エポキシ樹脂（ナガセケムテックス社製、「ＥＸ−２０１」）３６０重量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール２重量部、反応触媒としてトリエチルアミン２重量部、及び、アクリル酸２１０重量部を、空気を送り込みながら９０℃で還流攪拌し、５時間反応させることによって得ることができる。   また、上記エポキシ（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、エベクリル８６０、エベクリル１５６１、エベクリル３７００、エベクリル３６００、エベクリル３７０１、エベクリル３７０３、エベクリル３２００、エベクリル３２０１、エベクリル３７０２、エベクリル３４１２、エベクリル８６０、エベクリルＲＤＸ６３１８２、エベクリル６０４０、エベクリル３８００（いずれもダイセルサイテック社製）、ＥＡ−１０２０、ＥＡ−１０１０、ＥＡ−５５２０、ＥＡ−５３２３、ＥＡ−ＣＨＤ、ＥＭＡ−１０２０（いずれも新中村化学工業社製）、エポキシエステルＭ−６００Ａ、エポキシエステル４０ＥＭ、エポキシエステル７０ＰＡ、エポキシエステル２００ＰＡ、エポキシエステル８０ＭＦＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、エポキシエステル３００２Ａ、エポキシエステル１６００Ａ、エポキシエステル３０００Ｍ、エポキシエステル３０００Ａ、エポキシエステル２００ＥＡ、エポキシエステル４００ＥＡ（いずれも共栄社化学社製）、デナコールアクリレートＤＡ−１４１、デナコールアクリレートＤＡ−３１４、デナコールアクリレートＤＡ−９１１（いずれもナガセケムテックス社製）等が挙げられる。
【００６６】
２）ウレタン変性（メタ）アクリルエポキシ樹脂
上記ウレタン変性（メタ）アクリルエポキシ樹脂は、例えば、以下の方法によって得られるものである。すなわち、ポリオールと２官能以上のイソシアネートとを反応させ、更にこれに水酸基を有する（メタ）アクリルモノマー及びグリシドールを反応させる方法、またはポリオールを用いずに２官能以上のイソシアネートに水酸基を有する（メタ）アクリルモノマーやグリシドールを反応させる方法、またはイソシアネート基を有する（メタ）アクリレートにグリシドールを反応させる方法等により作製することができる。具体的には、例えば、まずトリメチロールプロパン１モルとイソホロンジイソシアネート３モルとをスズ系触媒下で反応させ、得られた化合物中に残るイソシアネート基と、水酸基を有するアクリルモノマーであるヒドロキシエチルアクリレート及び水酸基を有するエポキシであるグリシドールとを反応させることにより作製することができる。
【００６７】
上記ポリオールとしては特に限定されず、例えば、エチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、トリメチロールプロパン、（ポリ）プロピレングリコール等が挙げられる。   
上記イソシアネートとしては、２官能以上であれば特に限定されず、例えば、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート（ＭＤＩ）、水添ＭＤＩ、ポリメリックＭＤＩ、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイオシアネート（ＸＤＩ）、水添ＸＤＩ、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフォスフェート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、１，６，１０−ウンデカントリイソシアネート等が挙げられる。
【００６８】
上記水酸基を有する（メタ）アクリルモノマーとしては特に限定されず、例えば、分子内に水酸基を１つ有するモノマーとしては、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等が挙げられ、分子内に水酸基を２つ以上有するモノマーとしては、ビスフェノールＡ変性エポキシ（メタ）アクリレート等のエポキシ（メタ）アクリレートが挙げられる。これらは、単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
硬化性樹脂組成物のエポキシ基と（メタ）アクリル基との配合比は、アクリル：エポキシが４０：６０〜９５：５であることが好ましい。（メタ）アクリル基の当量比が４０未満になると、光反応性が低下してしまい、ギャップ調整後にシール剤に光を照射しても初期の仮止め硬化がなくなってしまうばかりか、液晶への溶出が大きくなることがあり、９５を超えると、接着性や透湿性の面で不充分となることがある。より好ましくは５０：５０〜８０：２０である。
【００６９】
上記１分子内に（メタ）アクリル基とエポキシ基とをそれぞれ少なくとも１つ以上有する化合物は、液晶との相溶性を低め汚染を無くし、白抜け、配向むら、焼き付けなどの表示不良の問題を抑制するために水素結合性基を有することが好ましく、例えば水酸基及び／又はウレタン結合を有することが好ましい。
上記１分子内に（メタ）アクリル基とエポキシ基とをそれぞれ少なくとも１つ以上有する化合物は、ビフェニル骨格、ナフタレン骨格、ビスフェノール骨格、ノボラック型エポキシ樹脂の部分（メタ）アクリル化物より選択される少なくとも１つの分子骨格を有することが好ましい。これにより、本発明の硬化性樹脂組成物の耐熱性が向上する。   
上記１分子内に（メタ）アクリル基とエポキシ基とをそれぞれ少なくとも１つ以上有する化合物は、数平均分子量が３００以上であることが好ましい。３００未満であると液晶へ溶出し、配向を乱しやすくなることがある。また、数平均分子量は３０００以下であることが好ましい。３０００を超えると粘度の調整が困難になることがある。   
上記１分子内に（メタ）アクリル基とエポキシ基とをそれぞれ少なくとも１つ以上有する化合物を硬化性樹脂として用いた場合、第１の本発明の硬化性樹脂組成物を硬化後に赤外線吸収スペクトルを測定すると、（メタ）アクリル基由来のカルボニル基の吸収ピークが認められる。また、エポキシ基及びエポキシ基由来の水酸基が存在している場合には、その吸収ピークも観察することができる。
【００７０】
上記１分子内に（メタ）アクリル基とエポキシ基とをそれぞれ少なくとも１つ以上有する化合物を含有する硬化性樹脂組成物は、水素結合性官能基価が３×１０−３〜５×１０−３ｍｏｌ／ｇであることが好ましい。このような硬化性樹脂組成物は、分子内で水素結合を形成することから、シール剤として用いた場合に硬化前・硬化後共に液晶に溶出しにくくなり液晶汚染を起こしにくく、白抜け、配向むら、焼き付けなどの表示不良の問題を抑制することができるため好ましい。
上記水素結合は、水素結合性を有する官能基又は残基等を有するもの、例えば、−ＯＨ基、−ＮＨ２基、−ＮＨＲ基（Ｒは、芳香族、脂肪族炭化水素又はこれらの誘導体を表す）、−ＣＯＯＨ基、−ＣＯＮＨ２基、−ＮＨＯＨ基等の官能基を有するもの、又は、分子内に−ＮＨＣＯ−結合、−ＮＨ−結合、−ＣＯＮＨＣＯ−結合、−ＮＨ−ＮＨ−結合等の残基を有する化合物を含有することにより形成される。また、上記水素結合性官能基価とは、上記水素結合性官能基を有する化合物が１種類からなる場合には、下記（式１）により算出される値である。   
水素結合性官能基価（ＨＸ）（ｍｏｌ／ｇ）   
＝（化合物Ｘの１分子中の水素結合性官能基数）／（化合物Ｘの分子量）      （式１）
【００７１】
また、上記水素結合性官能基価は、上記水素結合性官能基を有する化合物が複数の樹脂の混合物からなる場合には、各々の水素結合性官能基を有する化合物の単位重量あたりの含有量（重量分率）により分配して算出することができる。例えば、水素結合性官能基を有する化合物が、化合物Ａ、化合物Ｂ、化合物Ｃから構成されている場合の水素結合性官能基価は、下記（式２）で表される。   
水素結合性官能基価（ＨＡＢＣ）＝ＨＡＰＡ＋ＨＢＰＢ＋ＨＣＰＣ          （式２）
（なお、Ｐαは化合物αの重量分率を表す。）   
水素結合性官能基価が３×１０−３ｍｏｌ／ｇ未満であると、硬化性樹脂組成物成分が液晶へ溶出し液晶の配向を乱しやすくなり、５×１０−３ｍｏｌ／ｇを超えると、硬化物の透湿性が大きくなり液晶表示素子内部へ水分が侵入しやすくなる。
【００７２】
上記水素結合性官能基を有する化合物としては、水素結合性官能基価が、単独で上記の範囲にあるものでも、また、２種類以上を混合することにより上記範囲に調整されるものであっても良い。すなわち、使用する水素結合性官能基を有する化合物の水素結合性官能基価の平均値が上記範囲にあればよい。
上記１分子内に（メタ）アクリル基とエポキシ基とをそれぞれ少なくとも１つ以上有する化合物を含有する硬化性樹脂組成物は、硬化後における体積低効率が１×１０１３Ω・ｃｍ以上であることが好ましい。１×１０１３Ω・ｃｍ未満であると、シール剤がイオン性の不純物を含有していることを意味し、シール剤として用いた場合に通電時にイオン性不純物が液晶中に溶出し、液晶層の電圧保持率（VHR）の低下、イオン密度の増加、また白抜け、配向むら、焼き付けなどの表示不良の原因となる。  
上記１分子内に（メタ）アクリル基とエポキシ基とをそれぞれ少なくとも１つ以上有する化合物を含有する硬化性樹脂組成物は、硬化前における比抵抗が１．０×１０６〜１．０×１０１０Ω・ｃｍであることが好ましい。１．０×１０６Ω・ｃｍ未満であると、シール剤としたときこれらが液晶に溶出した場合、液晶層の電圧保持率（VHR）の低下、イオン密度の増加、また白抜け、配向むら、焼き付けなどの表示不良の原因となる。１．０×１０１０Ω・ｃｍを超えると、基板との密着性に劣ることがある。  
【００７３】
上記１分子内に（メタ）アクリル基とエポキシ基とをそれぞれ少なくとも１つ以上有する化合物を含有する硬化性樹脂組成物は、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する樹脂及び／又はエポキシ基を有する樹脂を含有していてもよく、以下に記載の「（メタ）アクリロイルオキシ基を有する樹脂」および以下に記載の「エポキシ基を有する樹脂」に記載した樹脂を用いることができる。いずれの場合においても（メタ）アクリル基とエポキシ基との合計量に対するエポキシ基の比率の好ましい上限は４０モル％である。４０モル％を超えると、液晶に対する溶解性が高くなり表示特性を低下させる恐れがある。
【００７４】
（  （メタ）アクリロイルオキシ基を有する樹脂）
（メタ）アクリロイルオキシ基を有する樹脂とは次のような樹脂である。例えば、（メタ）アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物、イソシアネートに水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられる。 
【００７５】
（１） （メタ）アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物
上記（メタ）アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物としては特に限定されず、１官能のものとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、イミド（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、２−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ビシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチル２−ヒドロキシプロピルフタレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルホスフェート等が挙げられる。
【００７６】
また、上記（メタ）アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物のうち、２官能のものとしては特に限定されず、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３―プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタジエンジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルジ（メタ）アクリレート、カーボネートジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエーテルジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエステルジオールジ（メタ）アクリレート、ポリカプロラクトンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリブタジエンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００７７】
また、上記（メタ）アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物のうち、３官能以上のものとしては特に限定されず、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド付加トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド付加グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェート等が挙げられる。
【００７８】
２）イソシアネートに水酸基を有するアクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン（メタ）アクリレート
上記イソシアネートに水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン（メタ）アクリレートとしては特に限定されず、例えば、２つのイソシアネート基を有する化合物１当量に対して水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体２当量を触媒としてスズ系化合物存在下で反応させることによって得ることができる。
上記イソシアネートに水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン（メタ）アクリレートの原料となるイソシアネートとしては特に限定されず、例えば、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート（ＭＤＩ）、水添ＭＤＩ、ポリメリックＭＤＩ、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイオシアネート（ＸＤＩ）、水添ＸＤＩ、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフォスフェート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、１，６，１０−ウンデカントリイソシアネート等が挙げられる。
【００７９】
また、上記イソシアネートに水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン（メタ）アクリレートの原料となるイソシアネートとしては、例えば、エチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、トリメチロールプロパン、（ポリ）プロピレングリコール、カーボネートジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカプロラクトンジオール等のポリオールと過剰のイソシアネートとの反応により得られる鎖延長されたイソシアネート化合物も用いることができる。
上記水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体としては特に限定されず、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の市販品やエチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ポリエチレングリコール等の二価のアルコールのモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン等の三価のアルコールのモノ（メタ）アクリレート又はジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ変性エポキシ（メタ）アクリレート等のエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００８０】
上記ウレタン（メタ）アクリレートは、具体的には、例えば、トリメチロールプロパン１３４重量部に、重合禁止剤としてＢＨＴ０．２重量部、反応触媒としてジブチル錫ジラウリレート０．０１重量部、及び、イソホロンジイソシアネート６６６重量部を加え、６０℃で還流攪拌しながら２時間反応させ、次に、２−ヒドロキシエチルアクリレート５１重量部を加え、空気を送り込みながら９０℃で還流攪拌し、２時間反応させることにより得ることができる。
【００８１】
また、上記ウレタン（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、Ｍ−１１００、Ｍ−１２００、Ｍ−１２１０、Ｍ−１６００（いずれも東亞合成社製）、エベクリル２３０、エベクリル２７０、エベクリル４８５８、エベクリル８４０２、エベクリル８８０４、エベクリル８８０３、エベクリル８８０７、エベクリル９２６０、エベクリル１２９０、エベクリル５１２９、エベクリル４８４２、エベクリル２１０、エベクリル４８２７、エベクリル６７００、エベクリル２２０、エベクリル２２２０（いずれもダイセルサイテック社製）、アートレジンＵＮ−９０００Ｈ、アートレジンＵＮ−９０００Ａ、アートレジンＵＮ−７１００、アートレジンＵＮ−１２５５、アートレジンＵＮ−３３０、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＢ、アートレジンＵＮ−１２００ＴＰＫ、アートレジンＳＨ−５００Ｂ（いずれも根上工業社製）、Ｕ−１２２Ｐ、Ｕ−１０８Ａ、Ｕ−３４０Ｐ、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、Ｕ−３２４Ａ、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−５２０１Ｐ、ＵＡ−Ｗ２Ａ、Ｕ−１０８４Ａ、Ｕ−６ＬＰＡ、Ｕ−２ＨＡ、Ｕ−２ＰＨＡ、ＵＡ−４１００、ＵＡ−７１００、ＵＡ−４２００、ＵＡ−４４００、ＵＡ−３４０Ｐ、Ｕ−３ＨＡ、ＵＡ−７２００、Ｕ−２０６１ＢＡ、Ｕ−１０Ｈ、Ｕ−１２２Ａ、Ｕ−３４０Ａ、Ｕ−１０８、Ｕ−６Ｈ、ＵＡ−４０００（いずれも新中村化学工業社製）、ＡＨ−６００、ＡＴ−６００、ＵＡ−３０６Ｈ、ＡＩ−６００、ＵＡ−１０１Ｔ、ＵＡ−１０１Ｉ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ等が挙げられる。
【００８２】
また、上記硬化性樹脂は、本発明の液晶滴下工法用シール剤の硬化前の液晶への成分溶出をより抑制するために、１分子中に少なくとも１つの水素結合性官能基を有することが好ましい。
上記水素結合性官能基としては特に限定されず、例えば、−ＯＨ基、−ＳＨ基、−ＮＨＲ基（Ｒは、芳香族又は脂肪族炭化水素、及び、これらの誘導体を表す）、−ＣＯＯＨ基、−ＮＨＯＨ基等の官能基、また、分子内に存在する−ＮＨＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＮＨＣＯ−、−ＮＨ−ＮＨ−等の残基が挙げられ、なかでも、導入の容易さから−ＯＨ基であることが好ましい。
【００８３】
また、本発明のシール剤は、エポキシ基を有する樹脂が含有されていてもよい。
上記エポキシ基を有する樹脂としては特に限定されず、例えば、エピクロロヒドリン誘導体、環式脂肪族エポキシ樹脂、イソシアネートとグリシドールとの反応から得られる化合物等が挙げられる。
上記エポキシ基を有する樹脂は特に限定されず、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、スルフィド型エポキシ樹脂、ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、アルキルポリオール型エポキシ樹脂、ゴム変性型エポキシ樹脂、グリシジルエステル化合物、ビスフェノールＡ型エピスルフィド樹脂等が挙げられる。
【００８４】
上記エピクロロヒドリン誘導体としては、例えば、ｊＥＲ８２８ＥＬ、ｊＥＲ１００４（いずれも三菱化学社製）、エピクロン８５０−Ｓ（ＤＩＣ社製）等のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ｊＥＲ８０６、ｊＥＲ４００４（いずれも三菱化学社製）等のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、エピクロンＥＸＡ１５１４（ＤＩＣ社製）等のビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ＲＥ−８１０ＮＭ（日本化薬社製）等の２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エピクロンＥＸＡ７０１５（ＤＩＣ社製）等の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂、ＥＰ−４０００Ｓ（ＡＤＥＫＡ社製）等のプロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ＥＸ−２０１（ナガセケムテックス社製）等のレゾルシノール型エポキシ樹脂、ｊＥＲＹＸ−４０００Ｈ（三菱化学社製）等のビフェニル型エポキシ樹脂、ＹＳＬＶ−５０ＴＥ（新日鐵化学社製）等のスルフィド型エポキシ樹脂、ＹＳＬＶ−８０ＤＥ（新日鐵化学社製）等のビフェニルエーテル型エポキシ樹脂、ＥＰ−４０８８Ｓ（ＡＤＥＫＡ社製）等のジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、エピクロンＨＰ４０３２、エピクロンＥＸＡ−４７００（いずれもＤＩＣ社製）等のナフタレン型エポキシ樹脂、エピクロンＮ−７７０（ＤＩＣ社製）等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂、エピクロンＮ−６７０−ＥＸＰ−Ｓ（ＤＩＣ社製）等のオルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エピクロンＨＰ７２００（ＤＩＣ社製）等のジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂、ＮＣ−３０００Ｐ（日本化薬社製）等のビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ＥＳＮ−１６５Ｓ（新日鐵化学社製）等のナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂、ｊＥＲ６３０（三菱化学社製）、エピクロン４３０（ＤＩＣ社製）、ＴＥＴＲＡＤ−Ｘ（三菱ガス化学社製）等のグリシジルアミン型エポキシ樹脂、ＺＸ−１５４２（新日鐵化学社製）、エピクロン７２６（ＤＩＣ社製）、エポライト８０ＭＦＡ（共栄社化学社製）、デナコールＥＸ−６１１（ナガセケムテックス社製）等のアルキルポリオール型エポキシ樹脂、ＹＲ−４５０、ＹＲ−２０７（いずれも新日鐵化学社製）、エポリードＰＢ（ダイセル社製）等のゴム変性型エポキシ樹脂、デナコールＥＸ−１４７（ナガセケムテックス社製）等のグリシジルエステル化合物、ｊＥＲＹＬ−７０００（三菱化学社製）等のビスフェノールＡ型エピスルフィド樹脂、その他ＹＤＣ−１３１２、ＹＳＬＶ−８０ＸＹ、ＹＳＬＶ−９０ＣＲ（いずれも新日鐵化学社製）、ＸＡＣ４１５１（旭化成社製）、ｊＥＲ１０３１、ｊＥＲ１０３２（いずれも三菱化学社製）、ＥＸＡ−７１２０（ＤＩＣ社製）、ＴＥＰＩＣ（日産化学社製）等が挙げられる。
【００８５】
また、上記環式脂肪族エポキシ樹脂として特に限定されないが、市販品としては、例えば、セロキサイド２０２１、セロキサイド２０８０、セロキサイド３０００、エポリードＧＴ３００、ＥＨＰＥ（いずれもダイセル社製）等が挙げられる。
上記イソシアネートとグリシドールとの反応から得られる化合物としては特に限定されず、例えば、２つのイソシアネート基を有する化合物に対して２当量のグリシドールを、触媒としてスズ系化合物存在下で反応させることによって得ることができる。
上記イソシアネートとしては特に限定されず、例えば、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート（ＭＤＩ）、水添ＭＤＩ、ポリメリックＭＤＩ、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイオシアネート（ＸＤＩ）、水添ＸＤＩ、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフォスフェート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、１，６，１０−ウンデカントリイソシアネート等が挙げられる。
【００８６】
また、上記イソシアネートとしては、例えば、エチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、トリメチロールプロパン、（ポリ）プロピレングリコール、カーボネートジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカプロラクトンジオール等のポリオールと過剰のイソシアネートとの反応により得られる鎖延長されたイソシアネート化合物も使用することができる。
また、上記エポキシ基を有する樹脂は、例えば、１分子中に（メタ）アクリロイルオキシ基とエポキシ基とを有する樹脂であってもよい。このような化合物としては、例えば、２以上のエポキシ基を有する化合物の一部分のエポキシ基を（メタ）アクリル酸と反応させることによって得られる部分（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂等が挙げられる。
なお、上記硬化性樹脂は、上記１分子中に（メタ）アクリロイルオキシ基とエポキシ基とを有する樹脂のみを含有するものであってもよい。
【００８７】
上記部分（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂は、例えば、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸とを、常法に従って塩基性触媒の存在下で反応することにより得られる。具体的には例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂（ＤＩＣ社製、「Ｎ−７７０」）１９０ｇをトルエン５００ｍＬに溶解させ、この溶液にトリフェニルホスフィン０．１ｇを加えて均一な溶液とし、この溶液にアクリル酸３５ｇを還流撹拌下にて２時間滴下した後、更に還流撹拌を６時間行い、次に、トルエンを除去することによって、５０モル％のエポキシ基がアクリル酸と反応したフェノールノボラック型部分アクリル変性エポキシ樹脂を得ることができる（この場合５０％部分アクリル化されている）。
上記、部分（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂のうち、市販されているものとしては、例えば、ＵＶＡＣＵＲＥ１５６１（ダイセルサイテック社製）が挙げられる。
【００８８】
上記１分子内に（メタ）アクリル基とエポキシ基とをそれぞれ少なくとも１つ以上有する化合物を含有する硬化性樹脂組成物は、硬化剤を含有することが好ましい。中でも、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤は特に限定は無いが、ラジカル型光重合開始剤が好ましく、特にアルキルフェノン系光重合開始剤、オキシムエステル系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ)-フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、ベンゾイルイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、チオキサントン、１，２−オクタンジオン１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］が挙げられる。これら光重合開始剤は単独又は２種以上を併用することができる。
【００８９】
また、反応性二重結合と光反応開始部とを有する光重合開始剤を用いることもできる。なかでも、反応性二重結合と水酸基及び／又はウレタン結合とを有するベンゾイン（エーテル）類化合物が好適である。なお、ベンゾイン（エーテル）類化合物とは、ベンゾイン類及びベンゾインエーテル類を表す。
前記反応性二重結合としては、アリル基、ビニルエーテル基、（メタ）アクリル基等の残基が挙げられるが、シール剤の光重合開始剤として用いる場合には、反応性の高さから（メタ）アクリル残基が好適である。かかる反応性二重結合を有することにより耐候性が向上する。
上記ベンゾイン（エーテル）類化合物は、水酸基とウレタン結合とのどちらか１つを有していればよく、両方を有していてもよい。上記ベンゾイン（エーテル）類化合物が水酸基とウレタン結合のいずれも有していない場合には、シール剤に配合した際に、硬化前に液晶へ溶出してしまうことがある。
【００９０】
上記ベンゾイン（エーテル）類化合物において、上記反応性二重結合及び水酸基及び／又はウレタン結合はベンゾイン（エーテル）骨格のどの部分に位置していてもよいが、下記一般式（１−Ａ）で表される分子骨格を有するものが好適である。かかる分子骨格を有する化合物を、光重合開始剤として用いれば、残存物が少なくなり、アウトガスの量を少なくすることができる。
【００９１】
【化２１】
0005594554.tif 000023
式中、Ｒは水素、炭素数４以下の脂肪族炭化水素残鎖を表す。Ｒが炭素数４を超える脂肪族炭化水素残鎖であると、光重合開始剤を配合したときの保存安定性は増加するものの、置換基の立体障害により反応性が低下することがある。
上記光重合開始剤の添加量としては、硬化性樹脂１００重量部に対して０．１〜１０重量部が好ましい。０．１重量部未満であると、光重合を開始する能力が不足して効果が得られないことがあり、１０重量部を超えると、未反応の光重合開始剤が多く残ることがあり、耐候性が悪くなることがある。より好ましくは１〜５重量％である。
【００９２】
上記１分子内に（メタ）アクリル基とエポキシ基とをそれぞれ少なくとも１つ以上有する化合物を含有する硬化性樹脂組成物は、熱硬化剤を含有することも好ましい。熱硬化剤は、加熱により硬化性樹脂組成物中のエポキシ基及び／又はアクリル基を反応させ、架橋させるためのものであり、硬化後の硬化性樹脂組成物の接着性、耐湿性を向上させる役割を有する。上記熱硬化剤として特に限定は無いが、融点が１００℃以上の潜在性熱硬化剤が好適に用いられる。融点が１００℃以下の熱硬化剤を使用すると保存安定性が著しく悪くなることがある。
【００９３】
このような熱硬化剤としては、１，３−ビス［ヒドラジノカルボノエチル−５−イソプロピルヒダントイン］等のヒドラジド化合物、ジシアンジアミド、グアニジン誘導体、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、Ｎ−［２−（２−メチル−１−イミダゾリル）エチル］尿素、２，４−ジアミノ−６−［２’−メチルイミダゾリル−（１’）］−エチル−ｓ−トリアジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−メチル−１−イミダゾリルエチル）尿素、Ｎ，Ｎ’−（２−メチル−１−イミダゾリルエチル）−アジポアミド、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体、変性脂肪族ポリアミン、テトラヒドロ無水フタル酸、エチレングリコールービス（アンヒドロトリメリテート）等の酸無水物、各種アミンとエポキシ樹脂との付加生成物等が挙げられる。これらは、単独又は２種類以上の併用が可能である。
【００９４】
上記１分子内に（メタ）アクリル基とエポキシ基とをそれぞれ少なくとも１つ以上有する化合物としてアクリル酸変性エポキシ樹脂を用いる場合には、アクリルエポキシ樹脂の反応性はその構造より大きく変化し、ウレタン変性エポキシ樹脂の場合にはその安定性から反応性の高い熱硬化剤を用いても保存安定性に優れるが、（メタ）アクリル酸変性エポキシ樹脂の場合には反応性が高く、融点が１００℃以上の反応性の低い熱硬化剤が保存安定性の面より好ましい。   
上記熱硬化剤の配合割合としては、硬化性化合物１００重量部に対して、好ましくは５〜６０重量部、さらに好ましくは１０〜５０重量部である。上記範囲外では硬化物の接着性、耐薬品性が低下し、高温高湿動作試験での液晶の特性劣化が早まることがある。   
【００９５】
また、上記熱硬化剤としては、下述の被覆熱硬化剤が好適である。本発明の被覆熱硬化剤を用いれば、一液タイプとしても非常に高い保存安定性が得られる。   
即ち固体熱硬化剤の表面を、揮発性に乏しくかつ有機物への溶解性に乏しい微粒子によって被覆した被覆熱硬化剤を用いることによって、予め硬化剤を配合していても高い保存安定性を有するシール剤が得られる。   
本明細書において上記固体熱硬化剤とは、室温では固体であり、加熱により溶融又は軟化して硬化性樹脂と反応を開始する硬化剤をいう。かかる固体熱硬化剤としては、融点又は軟化点が室温以上である熱硬化剤であれば特に限定されず、例えば、固体アミン化合物、フェノール系化合物、酸無水物等が挙げられる。なかでも、低温での反応性に優れていることから、固体アミン化合物が好ましい。   
上記固形アミン化合物とは、分子中に１個以上の１〜３級のアミノ基を有する固体状の化合物のことをいい、例えば、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン等の芳香族アミン、２−メチルイミダゾール、１，２−ジメチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物、２−メチルイミダゾリン等のイミダゾリン化合物、セバチン酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド等のジヒドラジド化合物が挙げられる。これらの固形アミン化合物のうち市販されているものとしては、例えば、アミキュアＰＮ−２３、アミキュアＭＹ−２４、（以上、味の素ファインテクノ社製）等のアミンアダクト類、ジシアンジアミド等が挙げられる。   
【００９６】
前記多価フェノール系化合物としては、例えば、ポリフェノール化合物、ノボラック型フェノール樹脂が挙げられる。これらの多価フェノール系化合物のうち市販されているものとしては、例えば、ｊＥＲキュア１７０、ｊＥＲキュアＹＬ６０６５、ｊＥＲキュアＭＰ４０２ＦＰＩ（以上、三菱化学社製）等が挙げられる。   
前記酸無水物としては、例えば、グリセリンビス（アンヒドロトリメリテート）、エチレングリコール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、４−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、３−メチルテトラヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。これらの酸無水物のうち市販されているものとしては、例えば、ｊＥＲキュアＹＨ−３０６、ＹＨ−３０７（以上、三菱化学社製）等が挙げられる。 
前記固体熱硬化剤粒子の平均粒子径としては特に限定されないが、０．１〜５０μｍであることが好ましい。０．１μｍ未満であると、微粒子によって効率よく表面を被覆できなくなることがあり、５０μｍを超えると、シール剤に配合した際、保存時に硬化剤の沈殿が起こったり、硬化にムラが起こってしまったりすることがある。より好ましくは０．５〜１０μｍである。   
【００９７】
前記固体熱硬化剤粒子の表面を被覆する微粒子としてはＳｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｍｇ等の酸化物、水酸化物、ハロゲン化物やスチレンビーズ、微粒ゴム等からなるものが挙げられる。これらの微粒子は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。   
前記微粒子の平均粒子径は０．０５μｍ以下であることが好ましい。０．０５μｍを超えると、効率よく固体熱硬化剤粒子の表面を被覆させられないことがある。より好ましくは０．０３μｍ以下である。また、上記微粒子の粒子径は、固体熱硬化剤粒子の粒子径の１０％以下であることが好ましい。１０％以上であると、反応性の制御能力が充分に発揮されないことがある。   
被覆熱硬化剤における固体熱硬化剤粒子と微粒子との重量比率は５０：１〜３：１であることが好ましい。固体熱硬化剤粒子の重量比率が５０を超えると、反応性の制御能力が充分に発揮されないことがあり、３未満であると、微粒子が過剰に存在し、硬化機能が低下することがある。より好ましくは、２０：１〜５：１である。   
【００９８】
固体熱硬化剤粒子の表面を微粒子によって被覆させる方法としては特に限定されず、例えば、固体熱硬化剤粒子と微粒子とを市販のブレンダー等を用いて容器中で混ぜ、均一にする方法等が挙げられる。   
硬化性樹脂組成物と被覆熱硬化剤の配合比としては、硬化性樹脂組成物１００重量部に対して１〜１００重量部であることが好ましい。１重量部未満であると、充分に硬化しないことがあり、１００重量部を超えると、過剰の熱硬化剤が残存するために得られる硬化物の靭性等の諸物性が低下することがある。   
前記被覆熱硬化剤は、硬化性樹脂組成物に配合した際に、常温保存時は表面の微粒子によって固形熱硬化剤と重合性樹脂との接触が極力抑えられるため高い保存安定性を示し、硬化時には温度をかけることにより固形熱硬化剤が液状となって微粒子に抑制されることなく硬化性樹脂と接触し、硬化反応が速やかに開始する。したがって、硬化性樹脂組成物の保存安定性が向上する。前記被覆熱硬化剤は、特殊な反応を用いずに常温かつ短時間で極めて簡単に製造することが可能である。
【００９９】
上記１分子内に（メタ）アクリル基とエポキシ基とをそれぞれ少なくとも１つ以上有する化合物を含有する硬化性樹脂組成物は、ラジカル重合禁止剤を含有してもよい。
上記ラジカル重合禁止剤は、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチルクレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４ −エチルフェノール、ステアリルβ−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス−３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４−ブチリデンンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、３，９ −ビス［１，１−ジメチル−２−［β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］、２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、１，３，５−トリス（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンジル）−ｓｅｃ−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、ハイドロキン、パラメトキシフェノール等が挙げられる。これらのラジカル重合禁止剤は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。   
【０１００】
上記ラジカル重合禁止剤の配合量は、上記硬化性樹脂組成物１００重量部に対して、下限が０．１重量部、上限が０．４重量部である。上記ラジカル重合禁止剤の配合量が０．１重量部未満であると、液晶表示素子の生産時に微弱な光が存在したときに僅かに発生するラジカルによって、速やかにラジカル重合禁止剤が消費されてしまい、シール剤を硬化させる目的でない微弱な光に暴露される場合に誤って硬化する。上記ラジカル重合禁止剤の配合量が０．４重量部を超えると、得られるシール剤の紫外線硬化性が著しく低くなり、シール剤を硬化させる目的で紫外線を照射した場合でも硬化しないことがある。   
【０１０１】
上記１分子内に（メタ）アクリル基とエポキシ基とをそれぞれ少なくとも１つ以上有する化合物を含有する硬化性樹脂組成物は、更に、シランカップリング剤を含有することが好ましい。シランカップリング剤は、主にシール剤と液晶表示素子基板とを良好に接着するための接着助剤としての役割を有する。また、応力分散効果による接着性の改善、線膨張率の改善等のために配合される無機、有機のフィラーとシール剤を構成する樹脂との相互作用を向上させるために、フィラーの表面をシランカップリング剤で処理する方法に用いられることもある。   
上記シランカップリング剤は、下記（２−Ａ）群で示される少なくとも１つの官能基と下記（２−Ｂ）群で示される少なくとも１つの官能基とを有するシラン化合物が好ましい。
【０１０２】
【化２２】
0005594554.tif 000024
【０１０３】
【化２３】
0005594554.tif 000025
上記シラン化合物としては、具体的には例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらのシラン化合物は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
かかる構造のシラン化合物をシランカップリング剤として用いることにより、基板との接着性を向上することができるとともに、２−Ｂ群で示される官能基を介してシラン化合物が硬化性樹脂と化学結合することにより、液晶中への流出を防止することができる。   
【０１０４】
上記シラン化合物は、硬化性樹脂成分と配合後、加熱処理を行う。加熱処理により、上記シラン化合物が硬化性樹脂成分と２−Ｂ群で示される官能基を介して化学結合する。上記加熱処理については、反応の効率を上げるため樹脂混合物を攪拌することによって行うことが好ましい。攪拌の方法は特に限定されず、例えば、スターラーや攪拌用の羽をモーター等で回転させたりする等の一般的な方法が挙げられる。加熱処理の温度は３０〜７０℃が好ましい。３０℃未満であると、シラン化合物と硬化性樹脂との反応が充分に起こらないことがあり、７０℃を超えると、熱による硬化が始まってしまう恐れがある。より好ましくは４０〜６０℃である。加熱処理の時間は１〜２時間が好ましい。１時間未満であると、シラン化合物中の官能基がすべて反応せずに未反応物が残留してしまう恐れがある。
加熱処理後における上記２−Ｂ群で示される少なくとも１つの官能基の残存率は、１０％以下である。１０％を超えると、保存中に樹脂成分と反応して増粘したり、液晶中に流出して汚染したりする。なお、２−Ｂ群で示される少なくとも１つの官能基の残存率は、１Ｈ−ＮＭＲ測定によって、シラン化合物中の各種官能基のピークの強度と加熱処理後のピーク強度の相対比から求めることができる。
【０１０５】
上記１分子内に（メタ）アクリル基とエポキシ基とをそれぞれ少なくとも１つ以上有する化合物を含有する硬化性樹脂組成物は、粘度調整および応力分散効果による接着性の改善のため、フィラーを添加してもよい。
フィラーは特に限定されず、例えば、タルク、石綿、シリカ、珪藻土、スメクタイト、ベントナイト、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、アルミナ、モンモリロナイト、珪藻土、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化錫、酸化チタン、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、ガラスビーズ、窒化珪素、硫酸バリウム、石膏、珪酸カルシウム、セリサイト活性白土、窒化アルミニウム等の無機フィラーや、ポリエステル微粒子、ポリウレタン微粒子、ビニル重合体微粒子、アクリル重合体微粒子、ゴム微粒子等の有機フィラー等を用いてもよい。   上記フィラーの形状としては、特に限定されず、球状、針状、板状等の定型物または非定型物が挙げられる。 
【０１０６】
上記１分子内に（メタ）アクリル基とエポキシ基とをそれぞれ少なくとも１つ以上有する化合物を含有する硬化性樹脂組成物は、樹脂微粒子を含有してもよい。
前記樹脂微粒子は、ゴム弾性を有しガラス転移温度が−１０℃以下である樹脂からなるコア粒子と、上記コア粒子の表面に形成されたガラス転移温度が５０〜１５０℃である樹脂からなるシェル層とを有する。   
なお、本明細書においてガラス転移温度は、特に限定しない限りは通常のＤＳＣ法により昇温速度１０℃／分の条件で測定したものを意味する。   
上記ゴム弾性を有しガラス転移温度が−１０℃以下である樹脂としては特に限定されないが、（メタ）アクリルモノマーの重合体が好適である。 
【０１０７】
上記（メタ）アクリルモノマーとしては、例えば、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート等が挙げられる。これらの（メタ）アクリルモノマーは単独で重合してもよく、二種以上を共重合してもよい。   
上記ガラス転移温度が５０〜１５０℃である樹脂としては特に限定されず、例えば、イソプロピルメタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、フェニルメタクリレート、メチルメタクリレート、スチレン、４−クロロスチレン、２−エチルスチレン、アクリロニトリル、塩化ビニル等を重合した重合体が挙げられる。これらのモノマーは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１０８】
上記樹脂微粒子の粒子径は使用される目的により適宜選択されるが、好ましい下限は０．０１μｍ、好ましい上限は５μｍである。この範囲内であると、上記光硬化性樹脂に対する樹脂微粒子の表面積が充分に大きく、効果的なコア層の膨潤効果が現れ、更に液晶表示素子用シール剤として用いたときの基板間のギャップ出し作業性も確保することができる。   
上記樹脂微粒子を製造する方法としては特に限定されず、例えば、コアを構成するモノマーのみを用いて乳化重合法によりコア粒子を形成させた後、更にシェルを構成するモノマーを加えて重合してコア粒子の表面にシェル層を形成させる方法等が挙げられる。   
前記硬化性樹脂組成物における上記樹脂微粒子の配合量の好ましい下限は、上記光硬化性樹脂１００重量部に対して１５重量部、好ましい上限は５０重量部である。１５重量部未満であると、充分な接着性向上効果が得られないことがあり、５０重量部を超えると、必要以上に増粘してしまうことがある。より好ましい上限は２０重量部である。
【０１０９】
（配向膜）
本発明の液晶表示装置において、第一の基板と、第二の基板上の液晶組成物と接する面には液晶組成物を配向させるため、配向膜を必要とする液晶表示装置においてはカラーフィルタと液晶層間に配置するものであるが、配向膜の膜厚が厚いものでも１００ｎｍ以下と薄く、カラーフィルタを構成する顔料等の色素と液晶層を構成する液晶化合物との相互作用を完全に遮断するものでは無い。
又、配向膜を用いない液晶表示装置においては、カラーフィルタを構成する顔料等の色素と液晶層を構成する液晶化合物との相互作用はより大きくなる。
【０１１０】
配向膜材料としては、ポリイミド、ポリアミド、ＢＣＢ（ペンゾシクロブテンポリマー）、ポリビニルアルコールなどの透明性有機材料を用いることができ、特に、ｐ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフエニルメタンなどの脂肪族または脂環族ジアミン等のジアミン及びブタンテトラカルボン酸無水物や２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸無水物等の脂肪族又は脂環式テトラカルボン酸無水物、ピロメリット酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸無水物から合成されるポリアミック酸をイミド化した、ポリイミド配向膜が好ましい。この場合の配向付与方法は、ラビングを用いることが一般的であるが、垂直配向膜等に使用する場合は配向を付与しないで使用することもできる。
配向膜材料としては、カルコン、シンナメート、シンナモイル又はアゾ基等を化合物中に含む、材料を使用することができ、ポリイミド、ポリアミド等の材料と組み合わせて使用してもよく、この場合配向膜はラビングを用いてもよく光配向技術を用いてもよい。
配向膜は、基板上に前記配向膜材料をスピンコート法などの方法により塗布して樹脂膜を形成することが一般的であるが、一軸延伸法、ラングミュア・ブロジェット法等を用いることもできる。
【０１１１】
（透明電極）
本発明の液晶表示装置において、透明電極の材料としては、導電性の金属酸化物を用いることができ、金属酸化物としては酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化インジウムスズ（Ｉｎ２Ｏ３―ＳｎＯ２）、酸化インジウム亜鉛（Ｉｎ２Ｏ３―ＺｎＯ）、ニオブ添加二酸化チタン（Ｔｉ1-xＮｂxＯ２）、フッ素ドープ酸化スズ、グラフェンナノリボン又は金属ナノワイヤー等が使用できるが、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化インジウムスズ（Ｉｎ２Ｏ３―ＳｎＯ２）又は酸化インジウム亜鉛（Ｉｎ２Ｏ３―ＺｎＯ）が好ましい。これらの透明導電膜のパターニングには、フォト・エッチング法やマスクを用いる方法などを使用することができる。
【０１１２】
本発明の液晶表示装置は、特にアクティブマトリックス駆動用液晶表示装置に有用であり、ＶＡモード、ＰＳＶＡモード、ＰＳＡモード、ＩＰＳモード又はＥＣＢモード用液晶表示装置に適用できる。
本液晶表示装置と、バックライトを組み合わせて、液晶テレビ、パソコンのモニター、携帯電話、スマートフォンのディスプレイや、ノート型パーソナルコンピューター、携帯情報端末、デジタルサイネージ等の様々な用途で使用される。バックライトとしては、冷陰極管タイプバックライト、無機材料を用いた発光ダイオードや有機ＥＬ素子を用いた、２波長ピークの擬似白色バックライトと３波長ピークのバックライト等がある。
【実施例】
【０１１３】
以下に実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は『質量％』を意味する。
実施例中、測定した特性は以下の通りである。
Ｔｎｉ ：ネマチック相−等方性液体相転移温度（℃）
Δｎ  ：２５℃における屈折率異方性
Δε  ：２５℃における誘電率異方性
η    ：２０℃における粘度（ｍＰａ・ｓ）
γ１  ：２５℃における回転粘性（ｍＰａ・ｓ）
ＶＨＲ：７０℃における電圧保持率（％）
（セル厚３．５μｍのセルに液晶組成物を注入し、５Ｖ印加、フレームタイム２００ｍｓ、パルス幅６４μｓの条件で測定した時の測定電圧と初期印加電圧との比を％で表した値）
ＩＤ  ：７０℃におけるイオン密度（ｐＣ／ｃｍ２）
（セル厚３．５μｍのセルに液晶組成物を注入し、ＭＴＲ−１（株式会社東陽テクニカ製）で２０Ｖ印加、周波数０．０５Ｈｚの条件で測定した時のイオン密度値）
配向ムラ：
シール剤と液晶とが接触する部分に生じる配向ムラのレベルを通電状態及び非通電状態で目視にて以下の４段階で評価した。
◎配向ムラ無し
○配向ムラごく僅かに有るも許容できるレベル
△配向ムラ有り許容できないレベル
×配向ムラ有りかなり劣悪
焼き付き：
液晶表示素子の焼き付き評価は、表示エリア内に所定の固定パターンを１０００時間表示させた後に、全画面均一な表示を行ったときの固定パターンの残像のレベルを目視にて以下の４段階評価で行った。
◎残像無し
○残像ごく僅かに有るも許容できるレベル
△残像有り許容できないレベル
×残像有りかなり劣悪
硬化後のシール剤の体積抵抗率：
クロム蒸着ガラス基板のクロム蒸着面上にシール剤を薄く均一に塗布した後紫外線硬化して、大きさ８５ｍｍ×８５ｍｍ、厚さ３ｍの紫外線硬化物を形成し、この上にクロム蒸着面を紫外線硬化物側にしてクロム蒸着ガラス基板を載せて荷重をかけて、１２０℃のホットプレート上で１時間加熱圧着し、試験サンプルを作製した。この試験サンプルにおけるシール剤の面積（Ｓ（ｃｍ２））、対向するクロム蒸着ガラス基板のクロム蒸着面間に定電圧発生装置（ケンウッド社製、ＰＡ３６−２ＡレギュレーテッドＤＣパワーサプライ）を用いて一定の電圧（Ｖ（Ｖ））を印加し、膜に流れる電流（Ａ（Ａ））を電流計（アドバンテスト社製、Ｒ６４４Ｃデジタルマルチメーター）にて測定した。シール剤の膜厚（Ｔ（ｃｍ））としたとき、下記式により体積抵抗率（Ω・ｃｍ）を求めた。体積抵抗率（Ω・ｃｍ）＝（Ｖ・Ｓ）／（Ａ・Ｔ）ただし、印加電圧は直流５００Ｖ、導電時間は１分間とした。
硬化前のシール剤の比抵抗：
硬化前のシール剤について、標準温度湿度状態（２０℃、６５％ＲＨ）で、比抵抗測定器（東洋テクニカ社製、ＳＲ−６５１７型）と液体用電極（安藤電気社製、ＬＥ−２１型）を用いて比抵抗の測定を行った。【０１１４】
尚、実施例において化合物の記載について以下の略号を用いる。
（側鎖及び連結基）
-n       -CnH2n+1  炭素数ｎの直鎖状のアルキル基
n-       CnH2n+1-  炭素数ｎの直鎖状のアルキル基
-On      -OCnH2n+1  炭素数ｎの直鎖状のアルコキシル基
nO-      CnH2n+1O-  炭素数ｎの直鎖状のアルコキシル基
-V       -CH=CH2
V-       CH2=CH-
-V1      -CH=CH-CH3
1V-      CH3-CH=CH-
-2V      -CH2-CH2-CH=CH3
V2-      CH3=CH-CH2-CH2-
-2V1     -CH2-CH2-CH=CH-CH3
1V2-     CH3-CH=CH-CH2-CH2
-1O-     -CH2O-
-O1-     -OCH2-
（環構造）【０１１５】
【化２４】
0005594554.tif 000026
【０１１６】
［硬化性樹脂組成物の作成］
（合成例Ａ）アクリル酸変性レゾルシノール型エポキシ樹脂（Ａ）の合成
レゾルシノール型エポキシ樹脂（ナガセケムテックス社製  ＥＸ−２０１）１０６重量部、トリフェニルホスフィン０．１重量部を溶媒に均一に溶解し、アクリル酸３２重量部を還流撹拌下２時間かけて滴下後、更に還流撹拌を８時間行った。得られた樹脂１００重量部を、反応物中のイオン性不純物を吸着させる為にクオルツとカオリンの天然結合物（ホフマンミネラル社製、シリチンＶ８５）３０重量部が充填されたカラムで濾過し、トルエンを除去することによって、５０％部分アクリル酸変性レゾルシノール型エポキシ樹脂（Ａ）を得た。 【０１１７】
（合成例Ｂ）アクリル酸変性ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（Ｂ）の合成
固体のビスフェノールＡジグリシジルエーテル（ＤＩＣ社製  ＥＸＡ８５０ＣＲＰ）１２８０重量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール２重量部、反応触媒としてトリエチルアミン２重量部を溶媒に均一に溶解し、アクリル酸２７０重量部を還流撹拌下２時間かけて滴下後、更に空気を送り込みながら１１０℃で還流攪拌して、５時間反応させた。得られた樹脂１００重量部を、反応物中のイオン性不純物を吸着させるために、クオルツとカオリンとの天然結合物（ホフマンミネラル社製「シリチンＶ８５」）３０重量部が充填されたカラムで濾過し、５０％部分アクリル酸変性ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（Ｈ）を得た。【０１１８】
（合成例Ｃ）アクリル酸変性ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂（Ｃ）の合成
ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂（新日鐵化学社製、ＹＳＬＶ−８０ＤＥ）１０００重量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール２重量部、反応触媒としてトリエチルアミン２重量部、及び、アクリル酸２３４重量部を、空気を送り込みながら９０℃で還流攪拌し、６時間反応させた。得られた樹脂１００重量部を、反応物中のイオン性不純物を吸着させる為にクオルツとカオリンの天然結合物（ホフマンミネラル社製、「シリチンＶ８５」）３０重量部が充填されたカラムで濾過し、５０％部分アクリル酸変性ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂（Ｃ）を得た。【０１１９】
（合成例Ｄ）メタクリル酸変性ビスフェノールＥ型エポキシ樹脂（Ｄ）の合成
ビスフェノールＥ型エポキシ樹脂Ｒ−１７１０（プリンテック社製）１６３重量部を溶媒に溶解させ、この溶液に重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール０．５重量部、反応触媒としてトリエチルアミン０．５重量部、及び、メタクリル酸４０重量部を、空気を送り込みながら９０℃で５時間還流攪拌して反応させた。得られた樹脂１００重量部を、反応物中のイオン性不純物を吸着させる為にクオルツとカオリンの天然結合物（ホフマンミネラル社製、「シリチンＶ８５）３０重量部が充填されたカラムで濾過し、５０％部分メタクリル変性ビスフェノールＥ型エポキシ樹脂（硬化性樹脂Ｄ）を得た。【０１２０】
（合成例Ｅ）  アクリル酸変性フェノールノボラックエポキシ樹脂（Ｅ）の合成
液状のフェノールノボラック型エポキシ樹脂（ダウケミカル社製：Ｄ．Ｅ．Ｎ．４３１）１１００重量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール２．２重量部、反応触媒としてトリエチルアミン２．２重量部、アクリル酸２２０重量部を、空気を送り込みながら、９０℃で還流攪拌して５時間反応させた。得られた樹脂１００重量部を、反応物中のイオン性不純物を吸着させる為にクオルツとカオリンの天然結合物（ホフマンミネラル社製、シリチンＶ８５）３０重量部が充填されたカラムで濾過し、アクリル酸変性フェノールノボラックエポキシ樹脂（Ｅ）（５０％部分アクリル化物）を得た。   【０１２１】
（合成例Ｆ）  ウレタン変性アクリルエポキシ樹脂（Ｆ）の合成 
トリメチロールプロパン１１００重量部、重合禁止剤として３，５−ジブチル−４−ヒドロキシトルエン１．６重量部、反応触媒としてジブチル錫ジラウリレート０．０８重量部、イソホロンジイソシアネート５４００重量部を加え、６０℃で還流攪拌しながら２時間反応させた。次に、２−ヒドロキシエチルアクリレート２１０重量部及びグリシドール９１０重量部を加え、空気を送り込みながら９０℃で還流攪拌しながら２時間反応させた。次いで、得られた樹脂１００重量部を、反応物中のイオン性不純物を吸着させる為にクオルツとカオリンの天然結合物（ホフマンミネラル社製、シリチンＶ８５）３０重量部が充填されたカラムで濾過し、ウレタン変性アクリルエポキシ樹脂（Ｆ）を得た。 【０１２２】
（合成例Ｇ）ウレタン変性メタクリルエポキシ樹脂（Ｇ）の合成
トリメチロールプロパン１１００重量部、重合禁止剤として３，５−ジブチル−４−ヒドロキシトルエン１．６重量部、反応触媒としてジブチル錫ジラウリレート０．０８重量部、ジフェニルメタンジイソシアネート６０８０重量部を加え、６０℃で還流攪拌しながら２時間反応させた。次に、２−ヒドロキシエチルメタクリレート２３５重量部及びグリシドール９１０重量部を加え、空気を送り込みながら９０℃で還流攪拌しながら２時間反応させた。次いで、得られた樹脂１００重量部を、反応物中のイオン性不純物を吸着させる為にクオルツとカオリンの天然結合物（ホフマンミネラル社製、シリチンＶ８５）３０重量部が充填されたカラムで濾過し、ウレタン変性メタクリルエポキシ樹脂（Ｇ）を得た。【０１２３】
［シール剤の作成］
シール剤（１）
アクリル酸変性レゾルシノール型エポキシ樹脂（Ａ）８５重量部、アクリル酸変性ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（Ｂ）１８重量部、アクリル酸変性ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂（Ｃ）３３重量部、光ラジカル重合開始剤として２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン１０重量部、潜在性熱硬化剤としてヒドラジド系硬化剤（味の素ファインテクノ社製、アミキュアＶＤＨ）３８重量部、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン６重量部、球状シリカ（アドマテックス社製、ＳＯ−Ｃ１）３０重量部、コアシェル構造微粒子（日本ゼオン社製：Ｆ−３５１）２０重量部を均一な液となるように、遊星式攪拌装置にて混合攪拌した後、セラミックス３本ロールにて混合し、更に遊星式攪拌装置にて脱泡、混合攪拌し、これをシール剤（１）とした。得られたシール剤（１）の特性を以下に示す。
水素結合性官能基価：４．８×１０−３
硬化前のシール剤の比抵抗（Ω・ｃｍ）：７．２×１０９
硬化後のシール剤の体積抵抗率（Ω・ｃｍ）：２．６×１０１３【０１２４】
シール剤（２）
フェノールノボラック型エポキシ樹脂（ＤＩＣ社製、「Ｎ−７４０」）１００重量部、メタクリル酸変性ビスフェノールＥ型エポキシ樹脂（Ｄ）６０重量部、光ラジカル重合開始剤として１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ)-フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オンを３重量部、潜在性熱硬化剤としてヒドラジド系硬化剤（味の素ファインテクノ社製、アミキュアＶＤＨ）６５重量部、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン３重量部、タルク６重量部、酸化防止剤としてジブチルヒドロキシトルエン０．５重量部、を均一な液となるように、遊星式攪拌装置にて混合攪拌した後、セラミックス３本ロールにて混合し、更に遊星式攪拌装置にて脱泡、混合攪拌し、これをシール剤（２）とした。得られたシール剤（２）の特性を以下に示す。
水素結合性官能基価：３．７×１０−３
硬化前のシール剤の比抵抗（Ω・ｃｍ）：２．４×１０７
硬化後のシール剤の体積抵抗率（Ω・ｃｍ）：１．３×１０１３【０１２５】
シール剤（３）
アクリル酸変性フェノールノボラックエポキシ樹脂（Ｅ）６０重量部、ウレタン変性アクリルエポキシ樹脂（Ｆ）２９重量部、光重合開始剤として２，２−ジエトキシアセトフェノン１．５重量部、潜在性熱硬化剤としてヒドラジド系硬化剤（味の素ファインテクノ社製、アミキュアＶＤＨ）２２重量部、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１．５重量部、シリカ粒子（平均粒径１．５μｍ）３４重量部を配合し、遊星式攪拌装置にて攪拌した後、セラミック３本ロールにて混合し、更に遊星式攪拌装置にて脱泡、混合攪拌し、これをシール剤（３）とした。得られたシール剤（３）の特性を以下に示す。
水素結合性官能基価：４．３×１０−３
硬化前のシール剤の比抵抗（Ω・ｃｍ）：２．１×１０９
硬化後のシール剤の体積低効率（Ω・ｃｍ）：１．８×１０１３【０１２６】
シール剤（４）
硬化性樹脂として、アクリル酸変性ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（Ｂ）３５重量部、カプロラクトン変性ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（ダイセルサイテック社製、「エベクリル３７０８」）３０重量部、及び、アクリル酸変性ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂（ダイセルサイテック社製、ＫＲＭ８２８７）２５重量部とを混合し、更に、光重合開始剤として２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン２重量部と、熱硬化剤としてセバシン酸ジヒドラジド（大塚化学社製、「ＳＤＨ」）６重量部と、フィラーとしてシリカ（アドマテックス社製、ＳＯ−Ｃ１）２５重量部と、シランカップリング剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越シリコーン社製、「ＫＢＭ−４０３」）２重量部と、コアシェルアクリレート共重合体微粒子（ガンツ化成社製、Ｆ３５１）１７重量部とを配合し、遊星式攪拌装置にて攪拌した後、セラミック３本ロールにて混合し、更に遊星式攪拌装置にて脱泡、混合攪拌し、これをシール剤（４）とした。得られたシール剤（４）の特性を以下に示す。
水素結合性官能基価：４．１×１０−３
硬化前のシール剤の比抵抗（Ω・ｃｍ）：８．９×１０８
硬化後のシール剤の体積低効率（Ω・ｃｍ）：１．７×１０１３【０１２７】
シール剤（５）
メタクリル酸変性ビスフェノールＥ型エポキシ樹脂（Ｄ）５０重量部、ウレタン変性メタクリルエポキシ樹脂（Ｇ）５０重量部、光重合開始剤として２，２−ジエトキシアセトフェノン１．５重量部、潜在性熱硬化剤としてヒドラジド系硬化剤（味の素ファインテクノ社製、アミキュアＶＤＨ）１８重量部、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１．５重量部、シリカ粒子（アドマテックス社製、ＳＯ−Ｃ１）３５重量部を配合し、遊星式攪拌装置にて攪拌した後、セラミック３本ロールにて混合し、更に遊星式攪拌装置にて脱泡、混合攪拌し、これをシール剤（５）とした。得られたシール剤（５）の特性を以下に示す。
水素結合性官能基価：３．６×１０−３
硬化前のシール剤の比抵抗（Ω・ｃｍ）：４．１×１０６
硬化後のシール剤の体積低効率（Ω・ｃｍ）：１．１×１０１３【０１２８】
比較シール剤（Ｃ１）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製、ＡＨ−６００）３５重量部、２−ヒドロキシブチルアクリレート１５重量部、イソボニルアクリレート５０重量部、ベンゾフェノン３重量部からなる硬化性樹脂組成物を配合し、遊星式攪拌装置にて攪拌した後、セラミック３本ロールにて均一に混合させて、光硬化型の比較シール剤（Ｃ１）を得た。得られた比較シール剤（Ｃ１）の特性を以下に示す。
水素結合性官能基価：２．２×１０−５
硬化前のシール剤の比抵抗（Ω・ｃｍ）：６．０×１０５
硬化後のシール剤の体積抵抗率（Ω・ｃｍ）：１．２×１０１３【０１２９】
比較シール剤（Ｃ２）
ビスフェノールＡエポキシ樹脂（三菱化学社製、ｊＥＲ８２８ＵＳ）５０重量部、ヒドラジド系硬化剤（日本ヒドラジン工業社製、ＮＤＨ）２５重量部からなる硬化性樹脂組成物を配合し、遊星式攪拌装置にて攪拌した後、セラミック３本ロールにて均一に混合させて、比較シール剤（Ｃ２）を得た。得られた比較シール剤（Ｃ２）の特性を以下に示す。
水素結合性官能基価：２．７×１０−７
硬化前のシール剤の比抵抗（Ω・ｃｍ）：５．０×１０１０
硬化後のシール剤の体積抵抗率（Ω・ｃｍ）：３．０×１０１３【０１３０】
（実施例１〜５）
第一及び第二の基板に透明電極を形成し、第二の基板にブラックマトリックス（ＢＭ）を形成し、各々の基板の対向側に垂直配向性の配向膜（ＳＥ−５３００）を形成したのち配向処理を行った。シール剤（１）〜（５）をディスペンス用のシリンジに充填し、脱泡処理を行ってから、ディスペンサーにて、それぞれシール剤を長方形の枠を描く様に、第一の基板の配向膜側に塗布した。シール剤が未硬化の状態で以下の表の液晶組成物１の微小滴を第一の基板の枠内全面に滴下塗布し、直ちに真空張り合わせ装置を用い、第二の基板を５Ｐａの真空下にて張り合わせた。真空解除後、押しつぶされたシール剤の線幅が約１．２ｍｍであり、そのうちの０．３ｍｍがＢＭと重なるように描画条件および基板間のギャップを調整した。直ちに、第二の基板側からシール部に高圧水銀ランプを用い紫外線を１００ｍＷ／ｃｍ２で３０秒照射し、その後、液晶アニールを１２０℃にて１時間行い熱硬化させ、実施例１〜５のＶＡ方式の液晶表示装置を作製した（ｄｇａｐ＝３．５μｍ）。得られた液晶表示装置のＶＨＲを測定した。また、得られた液晶表示装置の配向ムラ及び焼き付き評価を行った。その結果を以下の表に示す。【０１３１】
【表１】
0005594554.tif 000027
【０１３２】
【表２】
0005594554.tif 000028
【０１３３】
液晶組成物１は、ＴＶ用液晶組成物として実用的な７５．８℃の液晶層温度範囲を有し、大きい誘電率異方性の絶対値を有し、低い粘性及び適切なΔｎを有していることがわかる。
実施例１〜５の液晶表示装置は、高いＶＨＲを実現できた。また、配向ムラ評価においても、配向ムラがないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。更に焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。【０１３４】
（実施例６〜１５）
実施例１と同様に以下の表に示す液晶組成物２〜３を狭持し、シール剤（１）〜（５）を用いて実施例６〜１５の液晶表示装置を作成し、そのＶＨＲを測定した。また、その液晶表示装置の配向ムラ評価及び焼き付き評価を行った。その結果を以下の表に示す。【０１３５】
【表３】
0005594554.tif 000029
【０１３６】
【表４】
0005594554.tif 000030
【０１３７】
【表５】
0005594554.tif 000031
【０１３８】
液晶組成物２、３は、ＴＶ用液晶組成物として実用的な液晶層温度範囲を有し、大きい誘電率異方性の絶対値を有し、低い粘性及び適切なΔｎを有していることがわかる。
実施例６〜１５の液晶表示装置は、高いＶＨＲを実現できた。また、配向ムラ評価においても、配向ムラは認められなかった。更に焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。【０１３９】
（実施例１６〜３０）
実施例１と同様に以下の表に示す液晶組成物４〜６を狭持し、シール剤（１）〜（５）を用いて実施例１６〜３０の液晶表示装置を作成し、そのＶＨＲを測定した。また、その液晶表示装置の配向ムラ評価及び焼き付き評価を行った。その結果を以下の表に示す。【０１４０】
【表６】
0005594554.tif 000032
【０１４１】
【表７】
0005594554.tif 000033
【０１４２】
【表８】
0005594554.tif 000034
【０１４３】
【表９】
0005594554.tif 000035
【０１４４】
液晶組成物４〜６は、ＴＶ用液晶組成物として実用的な液晶層温度範囲を有し、大きい誘電率異方性の絶対値を有し、低い粘性及び適切なΔｎを有していることがわかる。
実施例１６〜３０の液晶表示装置は、高いＶＨＲを実現できた。また、配向ムラ評価においても、配向ムラがないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。更に焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。【０１４５】
（実施例３１〜４５）
実施例１と同様に以下の表に示す液晶組成物７〜９を狭持し、シール剤（１）〜（５）を用いて実施例３１〜４５の液晶表示装置を作成し、そのＶＨＲを測定した。また、その液晶表示装置の配向ムラ評価及び焼き付き評価を行った。その結果を以下の表に示す。【０１４６】
【表１０】
0005594554.tif 000036
【０１４７】
【表１１】
0005594554.tif 000037
【０１４８】
【表１２】
0005594554.tif 000038
【０１４９】
【表１３】
0005594554.tif 000039
【０１５０】
液晶組成物７〜９は、ＴＶ用液晶組成物として実用的な液晶層温度範囲を有し、大きい誘電率異方性の絶対値を有し、低い粘性及び適切なΔｎを有していることがわかる。
実施例３１〜４５の液晶表示装置は、高いＶＨＲを実現できた。また、配向ムラ評価においても、配向ムラがないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。更に焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。【０１５１】
（実施例４６〜６０）
実施例１と同様に以下の表に示す液晶組成物１０〜１２を狭持し、シール剤（１）〜（５）を用いて実施例４６〜６０の液晶表示装置を作成し、そのＶＨＲを測定した。また、その液晶表示装置の配向ムラ評価及び焼き付き評価を行った。その結果を以下の表に示す。【０１５２】
【表１４】
0005594554.tif 000040
【０１５３】
【表１５】
0005594554.tif 000041
【０１５４】
【表１６】
0005594554.tif 000042
【０１５５】
【表１７】
0005594554.tif 000043
液晶組成物１０〜１２は、ＴＶ用液晶組成物として実用的な液晶層温度範囲を有し、大きい誘電率異方性の絶対値を有し、低い粘性及び適切なΔｎを有していることがわかる。
実施例４６〜６０の液晶表示装置は、高いＶＨＲを実現できた。また、配向ムラ評価においても、配向ムラがないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。更に焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。【０１５６】
（実施例６１〜７５）
実施例１と同様に以下の表に示す液晶組成物１３〜１５を狭持し、シール剤（１）〜（５）を用いて実施例６１〜７５の液晶表示装置を作成し、そのＶＨＲを測定した。また、その液晶表示装置の配向ムラ評価及び焼き付き評価を行った。その結果を以下の表に示す。【０１５７】
【表１８】
0005594554.tif 000044
【０１５８】
【表１９】
0005594554.tif 000045
【０１５９】
【表２０】
0005594554.tif 000046
【０１６０】
【表２１】
0005594554.tif 000047
液晶組成物１３〜１５は、ＴＶ用液晶組成物として実用的な液晶層温度範囲を有し、大きい誘電率異方性の絶対値を有し、低い粘性及び適切なΔｎを有していることがわかる。
実施例６１〜７５の液晶表示装置は、高いＶＨＲを実現できた。また、配向ムラ評価においても、配向ムラがないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。更に焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。【０１６１】
（実施例７６〜９０）
実施例１と同様に以下の表に示す液晶組成物１６〜１８を狭持し、シール剤（１）〜（５）を用いて実施例７６〜９０の液晶表示装置を作成し、そのＶＨＲを測定した。また、その液晶表示装置の配向ムラ評価及び焼き付き評価を行った。その結果を以下の表に示す。【０１６２】
【表２２】
0005594554.tif 000048
【０１６３】
【表２３】
0005594554.tif 000049
【０１６４】
【表２４】
0005594554.tif 000050
【０１６５】
【表２５】
0005594554.tif 000051
液晶組成物１６〜１８は、ＴＶ用液晶組成物として実用的な液晶層温度範囲を有し、大きい誘電率異方性の絶対値を有し、低い粘性及び適切なΔｎを有していることがわかる。
実施例７６〜９０の液晶表示装置は、高いＶＨＲを実現できた。また、配向ムラ評価においても、配向ムラがないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。更に焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。【０１６６】
（実施例９１〜１０５）
実施例１と同様に以下の表に示す液晶組成物１９〜２１を狭持し、シール剤（１）〜（５）を用いて実施例９１〜１０５の液晶表示装置を作成し、そのＶＨＲを測定した。また、その液晶表示装置の配向ムラ評価及び焼き付き評価を行った。その結果を以下の表に示す。【０１６７】
【表２６】
0005594554.tif 000052
【０１６８】
【表２７】
0005594554.tif 000053
【０１６９】
【表２８】
0005594554.tif 000054
【０１７０】
【表２９】
0005594554.tif 000055
液晶組成物１９〜２１は、ＴＶ用液晶組成物として実用的な液晶層温度範囲を有し、大きい誘電率異方性の絶対値を有し、低い粘性及び適切なΔｎを有していることがわかる。
実施例９１〜１０５の液晶表示装置は、高いＶＨＲを実現できた。また、配向ムラ評価においても、配向ムラがないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。更に焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。
（実施例１０６〜１２０）
実施例１と同様に以下の表に示す液晶組成物２２〜２４を狭持し、シール剤（１）〜（５）を用いて実施例１０６〜１２０の液晶表示装置を作成し、そのＶＨＲを測定した。また、その液晶表示装置の配向ムラ評価及び焼き付き評価を行った。その結果を以下の表に示す。【０１７１】
【表３０】
0005594554.tif 000056
【０１７２】
【表３１】
0005594554.tif 000057
【０１７３】
【表３２】
0005594554.tif 000058
【０１７４】
【表３３】
0005594554.tif 000059
液晶組成物２２〜２４は、ＴＶ用液晶組成物として実用的な液晶層温度範囲を有し、大きい誘電率異方性の絶対値を有し、低い粘性及び適切なΔｎを有していることがわかる。
実施例１０６〜１２０の液晶表示装置は、高いＶＨＲを実現できた。また、配向ムラ評価においても、配向ムラがないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。更に焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。
（実施例１２１〜１３５）
実施例１と同様に以下の表に示す液晶組成物２５〜２７を狭持し、シール剤（１）〜（５）を用いて実施例１２１〜１３５の液晶表示装置を作成し、そのＶＨＲを測定した。また、その液晶表示装置の配向ムラ評価及び焼き付き評価を行った。その結果を以下の表に示す。【０１７５】
【表３４】
0005594554.tif 000060
【０１７６】
【表３５】
0005594554.tif 000061
【０１７７】
【表３６】
0005594554.tif 000062
【０１７８】
【表３７】
0005594554.tif 000063
液晶組成物２５〜２７は、ＴＶ用液晶組成物として実用的な液晶層温度範囲を有し、大きい誘電率異方性の絶対値を有し、低い粘性及び適切なΔｎを有していることがわかる。
実施例１２１〜１３５の液晶表示装置は、高いＶＨＲを実現できた。また、配向ムラ評価においても、配向ムラがないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。更に焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。
（実施例１３６〜１４０）
液晶組成物１に２−メチル−アクリル酸４−｛２−［４−（２−アクリロイルオキシ−エチル）−フェノキシカルボニル］−エチル｝−ビフェニル−４’−イルエステル０．３質量％を混合し液晶組成物２８とし、実施例１と同様にこの液晶組成物２８を挟持し、シール剤（１）〜（５）を用いて封入した。電極間に駆動電圧を印加したまま、紫外線を６００秒間照射（３．０Ｊ／ｃｍ２)し、重合処理を行い、実施例１３６〜１４０のＰＳＶＡ方式の液晶表示装置を作成し、そのＶＨＲを測定した。また、その液晶表示装置の配向ムラ評価及び焼き付き評価を行った。その結果を以下の表に示す。【０１７９】
【表３８】
0005594554.tif 000064
【０１８０】
実施例１３６〜１４０の液晶表示装置は、高いＶＨＲを実現できた。また、配向ムラ評価においても、配向ムラが認められなかった。更に焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。【０１８１】
（実施例１４１〜１４５）
液晶組成物１３にビスメタクリル酸ビフェニル‐４，４’‐ジイルを０．３質量％混合し液晶組成物２９とし、実施例１と同様にこの液晶組成物２９を挟持し、シール剤（１）〜（５）を用いて封入した。電極間に駆動電圧を印加したまま、紫外線を６００秒間照射（３．０Ｊ／ｃｍ２)し、重合処理を行い、実施例１４１〜１４５のＰＳＶＡ方式の液晶表示装置を作成し、そのＶＨＲを測定した。また、その液晶表示装置の配向ムラ評価及び焼き付き評価を行った。その結果を以下の表に示す。【０１８２】
【表３９】
0005594554.tif 000065
【０１８３】
実施例１４１〜１４５の液晶表示装置は、高いＶＨＲを実現できた。また、配向ムラ評価においても、配向ムラが認められなかった。更に焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。【０１８４】
（実施例１４６〜１５０）
液晶組成物１９にビスメタクリル酸  ３‐フルオロビフェニル‐４，４’‐ジイルを０．３質量％混合し液晶組成物３０とし、実施例１と同様にこの液晶組成物３０を挟持し、シール剤（１）〜（５）を用いて封入した。電極間に駆動電圧を印加したまま、紫外線を６００秒間照射（３．０Ｊ／ｃｍ２)し、重合処理を行い、実施例１４６〜８５のＰＳＶＡ方式の液晶表示装置を作成し、そのＶＨＲを測定した。また、その液晶表示装置の配向ムラ評価及び焼き付き評価を行った。その結果を以下の表に示す。【０１８５】
【表４０】
0005594554.tif 000066
【０１８６】
実施例１４６〜１５０の液晶表示装置は、高いＶＨＲを実現できた。また、配向ムラ評価においても、配向ムラがないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。更に焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。
（実施例１５１〜１６５）
実施例１と同様に以下の表に示す液晶組成物３１〜３３を狭持し、シール剤（１）〜（５）を用いて実施例１５１〜１６５の液晶表示装置を作成し、そのＶＨＲを測定した。また、その液晶表示装置の配向ムラ評価及び焼き付き評価を行った。その結果を以下の表に示す。【０１８７】
【表４１】
0005594554.tif 000067
【０１８８】
【表４２】
0005594554.tif 000068
【０１８９】
【表４３】
0005594554.tif 000069
【０１９０】
【表４４】
0005594554.tif 000070
【０１９１】
実施例１５１〜１６５の液晶表示装置は、高いＶＨＲを実現できた。また、配向ムラ評価においても、配向ムラがないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。更に焼き付き評価においても残像がないか、又はあってもごく僅かであり許容できるレベルであった。
（比較例１〜１５）
実施例１において、液晶組成物１を以下の表に示す比較液晶組成物１〜３に代えた以外は同様にして比較例１〜１５のＶＡ方式の液晶表示装置を作製し、そのＶＨＲを測定した。また、その液晶表示装置の配向ムラ評価及び焼き付き評価を行った。その結果を以下の表に示す。【０１９２】
【表４５】
0005594554.tif 000071
【０１９３】
【表４６】
0005594554.tif 000072
【０１９４】
【表４７】
0005594554.tif 000073
【０１９５】
【表４８】
0005594554.tif 000074
比較例１〜１５の液晶表示装置は、本願発明の液晶表示装置と比較して、ＶＨＲが低くなってしまった。また、配向ムラ評価においても、配向ムラの発生が認められ許容できるレベルではなかった。更に焼き付き評価においても残像の発生が認められ許容できるレベルではなかった。【０１９６】
（比較例１６〜３０）
比較液晶組成物１を以下の表に示す比較液晶組成物４〜６に代えた以外は比較例１と同様にして比較例１６〜３０のＶＡ方式の液晶表示装置を作製し、そのＶＨＲを測定した。また、その液晶表示装置の配向ムラ評価及び焼き付き評価を行った。その結果を以下の表に示す。【０１９７】
【表４９】
0005594554.tif 000075
【０１９８】
【表５０】
0005594554.tif 000076
【０１９９】
【表５１】
0005594554.tif 000077
【０２００】
【表５２】
0005594554.tif 000078
【０２０１】
比較例１６〜３０の液晶表示装置は、本願発明の液晶表示装置と比較して、ＶＨＲが低くなってしまった。また、配向ムラ評価においても、配向ムラの発生が認められ許容できるレベルではなかった。更に焼き付き評価においても残像の発生が認められ許容できるレベルではなかった。【０２０２】
（比較例３１〜３５）
比較液晶組成物１を以下の表に示す比較液晶組成物７〜９に代えた以外は比較例１と同様にして比較例３１〜３５のＶＡ方式の液晶表示装置を作製し、そのＶＨＲを測定した。また、その液晶表示装置の配向ムラ評価及び焼き付き評価を行った。その結果を以下の表に示す。【０２０３】
【表５３】
0005594554.tif 000079
【０２０４】
【表５４】
0005594554.tif 000080
【０２０５】
【表５５】
0005594554.tif 000081
【０２０６】
【表５６】
0005594554.tif 000082
【０２０７】
比較例３１〜４５の液晶表示装置は、本願発明の液晶表示装置と比較して、ＶＨＲが低くなってしまった。また、配向ムラ評価においても、配向ムラの発生が認められ許容できるレベルではなかった。更に焼き付き評価においても残像の発生が認められ許容できるレベルではなかった。【０２０８】
（比較例４６〜５５）
比較液晶組成物１を以下の表に示す比較液晶組成物１０〜１１に代えた以外は比較例１と同様にして比較例４６〜５５のＶＡ方式の液晶表示装置を作製し、そのＶＨＲを測定した。また、その液晶表示装置の配向ムラ評価及び焼き付き評価を行った。その結果を以下の表に示す。【０２０９】
【表５７】
0005594554.tif 000083
【０２１０】
【表５８】
0005594554.tif 000084
【０２１１】
【表５９】
0005594554.tif 000085
【０２１２】
比較例４６〜５５の液晶表示装置は、本願発明の液晶表示装置と比較して、ＶＨＲが低くなってしまった。また、配向ムラ評価においても、配向ムラの発生が認められ許容できるレベルではなかった。更に焼き付き評価においても残像の発生が認められ許容できるレベルではなかった。【０２１３】
（比較例５６〜７０）
比較液晶組成物１を以下の表に示す比較液晶組成物１２〜１４に代えた以外は比較例１と同様にして比較例５６〜７０のＶＡ方式の液晶表示装置を作製し、そのＶＨＲを測定した。また、その液晶表示装置の配向ムラ評価及び焼き付き評価を行った。その結果を以下の表に示す。【０２１４】
【表６０】
0005594554.tif 000086
【０２１５】
【表６１】
0005594554.tif 000087
【０２１６】
【表６２】
0005594554.tif 000088
【０２１７】
【表６３】
0005594554.tif 000089
【０２１８】
比較例５６〜７０の液晶表示装置は、本願発明の液晶表示装置と比較して、ＶＨＲが低くなってしまった。また、配向ムラ評価においても、配向ムラの発生が認められ許容できるレベルではなかった。更に焼き付き評価においても残像の発生が認められ許容できるレベルではなかった。【０２１９】
（比較例７１〜７０）
比較液晶組成物１を以下の表に示す比較液晶組成物１５に代えた以外は比較例１と同様にして比較例７１〜７０のＶＡ方式の液晶表示装置を作製し、そのＶＨＲを測定した。また、その液晶表示装置の配向ムラ評価及び焼き付き評価を行った。その結果を以下の表に示す。【０２２０】
【表６４】
0005594554.tif 000090
【０２２１】
【表６５】
0005594554.tif 000091
【０２２２】
（比較例７６〜９１）
実施例１、６、３６、６１、６６、９１、９６及び１２６において、シール剤を比較シール剤（Ｃ１）及び（Ｃ２）に代えた以外は同様にして比較例７６〜９１の液晶表示装置を作製し、そのＶＨＲを測定した。また、その液晶表示装置の配向ムラ評価及び焼き付き評価を行った。その結果を以下の表に示す。【０２２３】
【表６６】
0005594554.tif 000092
【０２２４】
【表６７】
0005594554.tif 000093
【０２２５】
【表６８】
0005594554.tif 000094
【０２２６】
【表６９】
0005594554.tif 000095
比較例７６〜９１の液晶表示装置は、本願発明の液晶表示装置と比較して、ＶＨＲが低くなってしまった。また、配向ムラ評価においても、配向ムラの発生が認められ許容できるレベルではなかった。更に焼き付き評価においても残像の発生が認められ許容できるレベルではなかった。
【要約】
本発明は、特定の液晶組成物と特定の硬化性樹脂組成物の硬化物を使用したシール剤を用いた液晶表示装置に関する。
本発明は、液晶層の電圧保持率（ＶＨＲ）の低下を防止し、白抜け、配向ムラ、焼き付けなどの表示不良の問題を解決する液晶表示装置を提供するものである。
本発明の液晶表示装置は液晶層の電圧保持率（ＶＨＲ）の低下を防止し、配向ムラ、焼き付き等の表示不良の発生を抑制する特徴を有することから、特に、アクティブマトリックス駆動用のＶＡモード、ＰＳＶＡモード液晶表示装置に有用であり、液晶ＴＶ、モニター、携帯電話、スマートフォン等の液晶表示装置に適用できる。【図１】
0005594554.tif 000102
【図２】
0005594554.tif 000103