(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）側鎖にエチレン性不飽和基を有し、主鎖に芳香環を有するポリヒドロキシポリエーテル、（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する重合性化合物、及び（Ｃ）ラジカル重合開始剤を含んでなる光導波路形成用樹脂組成物であって、前記（Ａ）成分が、下記一般式（３）で表される構造単位及び（２）で表される構造単位を有し、前記（Ａ）成分における下記一般式（３）で表される構造単位の含有率が３〜７０モル％、かつ下記一般式（２）で表される構造単位の含有率が３０〜９７モル％であり、前記（Ａ）成分の配合量が、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して、１０〜９０質量％であり、前記（Ｂ）成分の配合量が、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して、１０〜９０質量％であり、前記（Ｃ）成分の配合量が、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．１〜１０質量部である光導波路形成用樹脂組成物。
【化１】
0005585578.tif 000020
（式中、Ｒ３６は、水素原子又はメチル基を示す。Ｘ１は、
【化２】
0005585578.tif 000021
のいずれかの２価の基を示す。Ｒ２〜Ｒ１８は、各々独立に水素原子、フッ素原子及び炭素数１〜２０の有機基のいずれかを示す。Ｚ１は、単結合、酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＦ２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＳＯ２−、
【化３】
0005585578.tif 000022
のいずれかの２価の基を示す。ａは、２〜１０の整数を示す。Ｙ１は、単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。Ｙ４は、炭素数１〜１８の２価の有機基を示す。）
【化４】
0005585578.tif 000023
（式中、Ｘ２は、
【化５】
0005585578.tif 000024
のいずれかの２価の基を示す。Ｒ１９〜Ｒ３５は、各々独立に水素原子、フッ素原子及び炭素数１〜２０の有機基のいずれかを示す。Ｚ２は、単結合、酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＦ２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＳＯ２−、
【化６】
0005585578.tif 000025
のいずれかの２価の基を示す。ｂは、２〜１０の整数を示す。Ｙ３は、単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【請求項２】
（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する重合性化合物が、その分子中に脂環構造、複素環構造、アリール基、アリールオキシ基、及びアラルキル基、からなる群から選ばれる少なくとも１種を含む化合物である請求項１に記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項３】
（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する重合性化合物が、（メタ）アクリレートである請求項１又は２に記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項４】
（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する重合性化合物が、下記一般式（４）〜（６）で表される（メタ）アクリレートのうちの少なくとも１つである請求項３に記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【化７】
0005585578.tif 000026
（式中、Ｒ37は、水素原子又はメチル基を示す。Ｒ38は、
【化８】
0005585578.tif 000027
のいずれかの１価の基を示す。Ｒ39〜Ｒ52は、各々独立に水素原子、フッ素原子及び炭素数１〜２０の有機基のいずれかを示す。Ｚ3は、単結合、酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ2−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、−ＣＦ2−、−Ｃ（ＣＦ3）2−、−ＳＯ2−、
【化９】
0005585578.tif 000028
のいずれかの２価の基を示す。ｃは、２〜１０の整数を示す。Ｗ1は、酸素原子、硫黄原子、−ＯＣＨ2−、−ＳＣＨ2−、−Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）d−、−Ｏ［ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ］e−、−Ｏ［（ＣＨ2）5ＣＯ2］f−及び−ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2Ｏ−のいずれかの２価の基を含む。ｄ〜ｆは１〜１０の整数を示す。）
【化１０】
0005585578.tif 000029
（式中、Ｒ53及びＲ54は、各々独立に水素原子又はメチル基を示す。Ｒ55〜Ｒ60は、各々独立に水素原子、フッ素原子及び炭素数１〜２０の有機基のいずれかを示す。Ｚ4は、単結合、酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ2−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、−ＣＦ2−、−Ｃ（ＣＦ3）2−、−ＳＯ2−、
【化１１】
0005585578.tif 000030
のいずれかの２価の基を示す。ｇは２〜１０の整数を示す。Ｗ2及びＷ3は、各々独立に酸素原子、硫黄原子、−ＯＣＨ2−、−ＳＣＨ2−、−Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）h−、−Ｏ［ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ］i−及び−Ｏ［（ＣＨ2）5ＣＯ2］j−のいずれかの２価の基を含む。ｈ〜ｊは、各々独立に１〜１０の整数を示す。）
【化１２】
0005585578.tif 000031
（式中、ｋは、１〜１０の整数を示す。Ｒ61及びＲ62は、各々独立に水素原子又はメチル基を示す。Ｒ63〜Ｒ68は、各々独立に水素原子、フッ素原子及び炭素数１〜２０の有機基のいずれかを示す。Ｚ5は、単結合、酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ2−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、−ＣＦ2−、−Ｃ（ＣＦ3）2−、−ＳＯ2−、
【化１３】
0005585578.tif 000032
のいずれかの２価の基を示す。ｌは、２〜１０の整数を示す。Ｗ4及びＷ5は、各々独立に酸素原子、−Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）m−、−Ｏ［ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ］n−及び−Ｏ［（ＣＨ2）5ＣＯ2］o−のいずれかの２価の基を含む。ｍ〜ｏは、各々独立に１〜１０の整数を示す。）
【請求項５】
（Ｃ）ラジカル重合開始剤が、光ラジカル重合開始剤である請求項１〜４のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物を用いて形成された光導波路形成用樹脂フィルム。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物を用いて形成されたコア部を有する光導波路。
【請求項８】
請求項６に記載の光導波路形成用樹脂フィルムを用いて形成されたコア部を有する光導波路。
【請求項９】
光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下である請求項７又は８に記載の光導波路。
【請求項１０】
温度８５℃、相対湿度８５％の高温高湿放置試験を１０００時間実施後の、波長８５０ｎｍの光源における光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下である請求項７〜９のいずれかに記載の光導波路。
【請求項１１】
温度−５５℃と１２５℃の間の温度サイクル試験を１０００サイクル実施後の、波長８５０ｎｍの光源における光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下である請求項７〜１０のいずれかに記載の光導波路。
【請求項１２】
最高温度２６５℃のリフロー試験を３回実施後の、波長８５０ｎｍの光源における光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下である請求項７〜１１のいずれかに記載の光導波路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路形成用樹脂組成物、光導波路形成用樹脂フィルム及び光導波路に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子素子間や配線基板間の高速・高密度信号伝送において、従来の電気配線による伝送では、信号の相互干渉や減衰が障壁となり、高速・高密度化の限界が見え始めている。これを打ち破るため電子素子間や配線基板間を光で接続する技術、いわゆる光インターコネクション技術の開発が進められている。光伝送路としては、加工の容易さ、低コスト、配線の自由度が高く、かつ高密度化が可能な点からポリマー光導波路が注目を集めている。
ポリマー光導波路の形態としては、光電気混載基板への適用を想定したガラスエポキシ樹脂などの硬い支持基板上に作製するリジッドタイプや、ボード同士の接続を想定した硬い支持基板を持たないフレキシブルタイプが好適と考えられている。【０００３】
ポリマー光導波路には、適用される機器の使用環境や部品実装などの観点から、高透明性（低光伝搬損失）と共に高耐熱性も要求されるが、このような光導波路材料としては、エポキシ樹脂、（メタ）アクリルポリマーなどを用いたものが提案されている（特許文献１〜４参照）。
しかしながら、従来、環境信頼性の評価、例えば、高温高湿放置試験や温度サイクル試験後の光伝搬損失などに関しての検討はなされてはおらず、要求を満たすものがなかった。
たとえば、特許文献１に記載のエポキシ樹脂は、波長８５０ｎｍにおいて透明性に優れ、２００〜２８０℃程度の耐熱性を有しているものの、上記の環境信頼性の評価に関する記述はなく、検討されていない。
また、特許文献２に記載の（メタ）アクリルポリマーは、フィルム状の光導波路材料であり、かつ波長８５０ｎｍにおいて光伝搬損失０．３ｄＢ／ｃｍの透明性を有するものの、環境信頼性の評価、例えば、高温高湿放置試験や温度サイクル試験後の光伝搬損失などの具体的な試験結果に関する記述はなく、検討されていない。同様に、耐熱性の評価、例えば、はんだリフロー試験後の光伝搬損失などの具体的な試験結果に関する記述もない。
また、特許文献３及び４に記載の（メタ）アクリルポリマーは、フィルム状の光導波路材料であり、波長８５０ｎｍにおいて光伝搬損失０．５ｄＢ／ｃｍ以下の透明性を有し、かつ高温高湿放置試験後の光伝搬損失も良好であるものの、耐熱性の評価、例えば、はんだリフロー試験後の光伝搬損失などの具体的な試験結果に関する記述はなく、検討されていない。
また、特許文献５に記載のポリヒドロキシポリエーテルは、側鎖にエチレン性不飽和基を有しておらず、これを用いたフィルム状の光導波路材料は、透明性及び耐熱性に優れているが、低屈曲性の評価、例えば、破断伸び率に関する記述はなく、検討されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平６−２２８２７４号公報
【特許文献２】特開２００３−１９５０８０号公報
【特許文献３】特開２００６−１４６１６２号公報
【特許文献４】特開２００８−３３２３９号公報
【特許文献５】国際公開２００６−０３８６９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記した従来技術の問題に鑑み、透明性、耐熱性、強靭性に優れ、高精度な厚膜形成が可能であり、しかも生産性の高い光導波路形成用樹脂組成物、光導波路形成用樹脂フィルム及び透明性、環境信頼性、耐熱性に優れた光導波路を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、特定の構造を有するポリヒドロキシポリエーテル、重合性化合物、及びラジカル重合開始剤を含んでなる光導波路形成用樹脂組成物を用いて光導波路を製造することにより、上記問題を解決しうることを見出した。【０００７】
すなわち、本発明は、（Ａ）側鎖にエチレン性不飽和基を有し、主鎖に芳香環を有するポリヒドロキシポリエーテル、（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する重合性化合物、及び（Ｃ）ラジカル重合開始剤を含んでなる光導波路形成用樹脂組成物、光導波路形成用樹脂フィルム及び該光導波路形成用樹脂組成物又は該光導波路形成用樹脂フィルムを用いてコア部を形成した、透明性、環境信頼性、耐熱性に優れた光導波路を提供するものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、透明性、耐熱性、強靭性に優れ、高精度な厚膜形成が可能であり、特に、光導波路製造用として有効であって、光導波路を生産するに際して、極めて生産性の高い光導波路形成用樹脂フィルムに有用な光導波路形成用樹脂組成物を提供することができる。また、光導波路形成用樹脂組成物及び光導波路形成用樹脂フィルムを用いて光導波路を形成することにより、透明性、環境信頼性、耐熱性に優れた光導波路を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の光導波路の形態を説明する断面図である。
【図２】本発明で実施したリフロー試験におけるリフロー炉内の温度プロファイルを示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
（光導波路形成用樹脂組成物）
本発明の光導波路形成用樹脂組成物は、（Ａ）側鎖にエチレン性不飽和基を有し、主鎖に芳香環を有するポリヒドロキシポリエーテル、（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する重合性化合物、及び（Ｃ）ラジカル重合開始剤を含んでなるものである。以下、（Ａ）成分を（Ａ）ポリヒドロキシポリエーテルと略記することがある。
【００１１】
（（Ａ）側鎖にエチレン性不飽和基を有し、主鎖に芳香環を有するポリヒドロキシポリエーテル）
本発明に用いられる（Ａ）側鎖にエチレン性不飽和基を有し、主鎖に芳香環を有するポリヒドロキシポリエーテルとは、２官能フェノール及び２官能エポキシ樹脂、２官能フェノール及びエピクロロヒドリン、又は２官能フェノール及び２官能オキセタン化合物をモノマーとし、これらを重合後、水酸基の反応性を利用して、側鎖にエチレン性不飽和基を導入したポリマーをいう。また、これらのモノマーを重合し、ポリヒドロキシポリエーテルとした後に、水酸基をエチレンオキシド、プロピレンオキシド、カプロラクトンなどで変性し、側鎖末端の水酸基の反応性を利用して、エチレン性不飽和基を導入したポリマーも含まれる。さらに、ポリヒドロキシポリエーテルの水酸基の反応性を利用して、一旦カルボキシル基などを導入し、これにエチレン性不飽和基を導入したポリマーも含まれる。
ポリヒドロキシポリエーテルの側鎖にエチレン性不飽和基を導入することにより、硬化時に（Ｂ）成分のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物と架橋することが可能となり、得られる硬化物の透明性を損なうことなく、耐熱性を向上させることができる。
また、上記モノマーに由来する構造単位（下記一般式（２））が存在することにより、（Ｂ）成分のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物と架橋しすぎない。以上の観点から、下記一般式（１）及び（２）で表される構造単位を有するポリヒドロキシポリエーテルが好ましい。
【００１２】
【化１】
0005585578.tif 000002
【００１３】
【化２】
0005585578.tif 000003
【００１４】
式（１）における、Ｒ1は、水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示す。炭素数１〜２０の有機基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基（−ＣＯ−Ｒを意味する。但しＲは炭化水素基である）、エステル基（−ＣＯ−Ｏ−Ｒ又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒを意味する。但しＲは炭化水素基である）、カルバモイル基などの１価の有機基が挙げられ、それらは、さらに水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基、ホルミル基、エステル基、アミド基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、シリル基、シリロキシ基などで置換されていてもよい。これらのうち、透明性、及び耐熱性の点から、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及びアラルキル基が好ましい。
【００１５】
次に、Ｘ1は、２価の基であれば、特に制限はなく、例えば、下記一般式で表されるヒドロキノン、レゾルシノール、カテコール、１，４−ナフタレンジオール、１，５−ナフタレンジオール、１，６−ナフタレンジオール、１，７−ナフタレンジオールなどの単核２官能フェノール、これらの有機基置換体、及び含フッ素有機基置換体由来の基；２，２’−ビフェノール、４，４’−ビフェノール、ビスフェノールＡ、テトラブロモビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡＤ、ビスフェノールＳ、ビスフェノールＺ、フルオレン型ビスフェノールなどの多核２官能フェノール、これらの有機基置換体、及びビスフェノールＡＦなどの含フッ素有機基置換体由来の基といった芳香環を含有する２価の基が挙げられる。これらの中で、透明性及び耐熱性の観点から上記多核２官能フェノール、これらの有機基置換体、及びビスフェノールＡＦなどの含フッ素有機基置換体由来の基が好ましい。これらの基は単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができ、さらに耐熱性を損なわない程度にアルキレン基、シクロアルキレン基、ポリエーテル基、ポリシロキサン基、カルボニル基、エステル基、アミド基、ウレタン基などの芳香環を含有しない２価の基を併用してもよい。
【００１６】
【化３】
0005585578.tif 000004
【００１７】
上記式におけるＲ2〜Ｒ18は、各々独立に水素原子、フッ素原子及び炭素数１〜２０の有機基のいずれかを示す。炭素数１〜２０の有機基としては、上述のＲ1の具体例として記載されたものと同様のものを好適に挙げることができる。
また、Ｚ1は、単結合、酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ2−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、−ＣＦ2−、−Ｃ（ＣＦ3）2−、−ＳＯ2−、
【００１８】
【化４】
0005585578.tif 000005
【００１９】
のいずれかの２価の基を示す。ａは、２〜１０の整数を示す。
また、式（１）におけるＹ1は、単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示し、Ｙ2は、炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。
ここで、炭素数１〜２０の２価の有機基としては、例えば、アルキレン基、シクロアルキレン基、フェニレン基、ポリエーテル基、ポリシロキサン基、カルボニル基、エステル基、アミド基、ウレタン基などを含む２価の有機基が挙げられ、それらは、さらにハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基、ホルミル基、エステル基、アミド基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、シリル基、シリロキシ基などで置換されていてもよい。
【００２０】
一般式（１）で表される構造単位は、透明性及び耐熱性を発現し、さらに強靭性を付与して伸び率を向上できるという観点から、ウレタン基及び（メタ）アクリロイル基を有する下記一般式（３）で表されることが、さらに好ましい。なお、(メタ)アクリロイル基とはメタクリロイル基及び／又はアクリロイル基を示す。
【００２１】
【化５】
0005585578.tif 000006
【００２２】
式中、Ｒ36は、水素原子又はメチル基を示す。また、Ｙ4は、炭素数１〜１８の２価の有機基であれば特に制限はなく、例えば、アルキレン基、シクロアルキレン基、フェニレン基、ポリエーテル基、ポリシロキサン基、カルボニル基、エステル基、アミド基などを含む２価の有機基が挙げられ、それらは、さらにハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基、ホルミル基、エステル基、アミド基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、シリル基、シリロキシ基などで置換されていてもよい。
【００２３】
次に、上記式（２）におけるＸ2は、Ｘ1と同様に、２価の基であれば、特に制限はなく、例えば、下記一般式で表されるヒドロキノン、レゾルシノール、カテコール、１，４−ナフタレンジオール、１，５−ナフタレンジオール、１，６−ナフタレンジオール、１，７−ナフタレンジオールなどの単核２官能フェノール、これらの有機基置換体、及び含フッ素有機基置換体由来の基；２，２’−ビフェノール、４，４’−ビフェノール、ビスフェノールＡ、テトラブロモビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡＤ、ビスフェノールＳ、ビスフェノールＺ、フルオレン型ビスフェノールなどの多核２官能フェノール、これらの有機基置換体、及びビスフェノールＡＦなどの含フッ素有機基置換体由来の基といった芳香環を含有する２価の基が挙げられる。これらの中で、透明性及び耐熱性の観点から上記多核２官能フェノール、これらの有機基置換体、及びビスフェノールＡＦなどの含フッ素有機基置換体由来の基が好ましい。これらの基は単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができ、さらに耐熱性を損なわない程度にアルキレン基、シクロアルキレン基、ポリエーテル基、ポリシロキサン基、カルボニル基、エステル基、アミド基、ウレタン基などの芳香環を含有しない２価の基を併用してもよい。
【００２４】
【化６】
0005585578.tif 000007
【００２５】
上記式における、Ｒ19〜Ｒ35は、各々独立に水素原子、フッ素原子及び炭素数１〜２０の有機基のいずれかを示す。炭素数１〜２０の有機基としては、上述のＲ1の具体例として記載されたものと同様のものを好適に用いることができる。
また、Ｚ2は、単結合、酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ2−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、−ＣＦ2−、−Ｃ（ＣＦ3）2−、−ＳＯ2−、
【００２６】
【化７】
0005585578.tif 000008
【００２７】
のいずれかの２価の基を示す。ｂは、２〜１０の整数を示す。
また、式（２）におけるＹ3は、単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。ここで、炭素数１〜２０の２価の有機基としては、上述のＹ1及びＹ2の具体例として記載されたものと同様のものを好適に用いることができる。
【００２８】
本発明の（Ａ）ポリヒドロキシポリエーテルが、上記一般式（１）及び一般式（２）で表わされる構造単位を有する場合の、一般式（１）で表される構造単位の含有率は、３〜７０モル％であることが好ましい。３モル％以上であれば硬化時に（Ｂ）成分のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物と十分に架橋することにより、得られる硬化物の耐熱性が良好であり、７０モル％以下であれば架橋密度が高くなりすぎず、得られる硬化物が脆くなることがない。以上の観点から、５〜６０モル％であることがさらに好ましく、１０〜５０モル％であることが特に好ましい。
【００２９】
また、一般式（２）で表される構造単位の含有率は、３０〜９７モル％であることが好ましい。３０モル％以上であれば硬化時に（Ｂ）成分のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物と架橋しすぎないことにより、得られる硬化物が脆くなることがなく、９７モル％以下であれば十分に架橋することにより、得られる硬化物の耐熱性が良好である。以上の観点から、４０〜９５モル％であることがさらに好ましく、５０〜９０モル％であることが特に好ましい。
【００３０】
（A)成分としては、主鎖にビスフェノールA及びビスフェノールF由来の骨格を有するポリヒドロキシポリエーテルの側鎖にエチレン性不飽和基を導入したものが特に好ましい。ここで、主鎖にビスフェノールA及びビスフェノールF由来の骨格を有するポリヒドロキシポリエーテルは、例えば、フェノキシ樹脂として東都化成株式会社から商品名「フェノトートＹＰ−７０」が商業的に入手可能である。
【００３１】
（Ａ）側鎖にエチレン性不飽和基を有し、主鎖に芳香環を有するポリヒドロキシポリエーテルは、その合成方法に特に制限はなく、例えば、主鎖に芳香環を有するポリヒドロキシポリエーテルを溶媒に溶解させ、ポリヒドロキシポリエーテルの水酸基にエチレン性不飽和イソシアネートを付加させることにより得ることができる。また、ポリヒドロキシポリエーテルの水酸基に多塩基酸無水物を付加反応させて、カルボン酸変性ポリヒドロキシポリエーテルとした後に、カルボキシル基に、エチレン性不飽和基含有エポキシド、エチレン性不飽和基含有オキセタン、エチレン性不飽和イソシアネート、エチレン性不飽和基含有アルコールを付加させることにより得ることができる。これらの化合物の使用量は、一般式（１）及び（２）で表される構造単位の含有率が上記範囲となるように調整される。
【００３２】
上記合成に用いるエチレン性不飽和イソシアネートとしては、特に制限はなく、例えば、（メタ）アクリロイルオキシメチルイソシアネート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシエチルイソシアネート、１，１−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネートなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、（メタ）アクリロイルオキシメチルイソシアネート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシエチルイソシアネートが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３３】
また、多塩基酸無水物としては、特に制限はなく、例えば、無水コハク酸、無水グルタル酸、無水イタコン酸、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水トリメリト酸、無水ヘキサヒドロトリメリト酸などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、無水コハク酸、無水グルタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロトリメリト酸が好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３４】
エチレン性不飽和基含有エポキシドとしては、特に制限はなく、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、α−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、α−ｎ−プロピルグリシジル（メタ）アクリレート、α−ｎ−ブチルグリシジル（メタ）アクリレート、２−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、２−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、２−プロピルグリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、６，７−エポキシヘプチル（メタ）アクリレート、α−エチル−６，７−エポキシヘプチル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテルなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシヘプチル（メタ）アクリレート、６，７−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレートが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３５】
エチレン性不飽和基含有オキセタンとしては、特に制限はなく、例えば、（２−エチル−２−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、（２−メチル−２−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、２−（２−エチル−２−オキセタニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（２−メチル−２−オキセタニル）エチル（メタ）アクリレート、３−（２−エチル−２−オキセタニル）プロピル（メタ）アクリレート、３−（２−メチル−２−オキセタニル）プロピル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、（２−エチル−２−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、（２−メチル−２−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、２−（２−エチル−２−オキセタニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（２−メチル−２−オキセタニル）エチル（メタ）アクリレートが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３６】
エチレン性不飽和基含有アルコールとしては、特に制限はなく、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル−３−フェノキシ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル−３−フェノキシ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３７】
反応溶媒として用いる有機溶剤としては、主鎖に芳香環を有するポリヒドロキシポリエーテルを溶解し得る非プロトン性の溶媒であれば特に制限はなく、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、ｐ−シメンなどの芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジブチルエーテルなどの鎖状エーテル；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどの環状エーテル；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチロラクトンなどのエステル；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどの炭酸エステル；エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどの多価アルコールアルキルエーテル；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどの多価アルコールアルキルエーテルアセテート；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミドなどが挙げられる。
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３８】
（Ａ）側鎖にエチレン性不飽和基を有し、主鎖に芳香環を有するポリヒドロキシポリエーテルの重量平均分子量は、１．０×１０3〜１．０×１０6であることが好ましい。１．０×１０3以上であると分子量が大きいため樹脂組成物とした場合の強度が十分で、１．０×１０6以下であると、後述する現像により感光性樹脂組成物の層を選択的に除去してパターンを形成する工程において、公知の各種現像液により現像可能となり、また（Ｂ）成分のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物との相溶性が良好である。以上の観点から３．０×１０3〜５．０×１０5とすることがさらに好ましく、５．０×１０3〜３．０×１０5であることが特に好ましい。
なお、本発明の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ、キャリア溶媒：テトラヒドロフラン）で測定し、標準ポリスチレン換算した値である。
【００３９】
（Ａ）成分の側鎖にエチレン性不飽和基を有し、主鎖に芳香環を有するポリヒドロキシポリエーテルの配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物の総量に対して、１０〜９０質量％であることが好ましい。１０質量％以上であると、（Ｂ）成分のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物及び（Ｃ）成分のラジカル重合開始剤を含んでなる光導波路形成用樹脂組成物をフィルム化することが容易となり、９０質量％以下であると、硬化時に（Ｂ）成分のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物と十分に架橋することにより、耐現像液性が不足することがない。以上の観点から、（Ａ）成分の配合量は、１５〜８０質量％であることがさらに好ましく、２０〜７０質量％であることが特に好ましい。
【００４０】
（（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する重合性化合物）
本発明において、（Ｂ）成分としてエチレン性不飽和基を有する重合性化合物を用いることにより、硬化時に（Ａ）成分の側鎖にエチレン性不飽和基を有し、主鎖に芳香環を有するポリヒドロキシポリエーテルと架橋することが可能となり、得られる硬化物の透明性を損なうことなく耐熱性を向上させることができる。
（Ｂ）成分のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物は、（Ａ）成分以外のものであれば、特に制限はなく、例えば、（メタ）アクリレート、ビニルエーテル、ビニルエステル、ビニルアミド、アリール化ビニル、ビニルピリジン、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化ビニリデンなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、（メタ）アクリレートやアリール化ビニルが好ましい。（メタ）アクリレートとしては、単官能のもの、２官能のもの、又は３官能以上のもののいずれも用いることができる。
【００４１】
単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチルヘプチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、モノ（２-（メタ）アクリロイルオキシエチル）スクシネートなどの脂肪族（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、モノ（２-（メタ）アクリロイルオキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２-（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロフタレートなどの脂環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ｏ−ビフェニル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、１−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（１−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（２−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレートなどの芳香族（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；２−テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタルイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、イソシアヌル酸モノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−Ｎ−カルバゾールなどの複素環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレートなどの脂環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレートなどの芳香族（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタルイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、イソシアヌル酸モノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−Ｎ−カルバゾールなどの複素環式（メタ）アクリレートなどの複素環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体が好ましく、下記一般式（４）で表される芳香族モノ（メタ）アクリレートがさらに好ましい。
ここで、（メタ）アクリレートのエトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体とは、原料となるアルコール又はフェノール類［例えば、モノ（メタ）アクリレート；ＣＨ2＝ＣＨ（Ｒ1）−ＣＯＯ−Ｒ2（Ｒ1は水素原子又はメチル基、Ｒ2は一価の有機基）の場合は、ＨＯ−Ｒ2で示されるもの］の代わりに、前記アルコール又はフェノール類に、それぞれ、１以上のエチレンオキシドを付加した構造のアルコール、１以上のプロピレンオキシドを付加した構造のアルコール、又は1以上のエチレンオキシド及びプロピレンオキシドを付加した構造のアルコールを、原料に用いて得られる（メタ）アクリレートを示す（例えば、エトキシ化体の場合はＣＨ2＝ＣＨ（Ｒ1）−ＣＯＯ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）ｎ−Ｒ2（ｎは1以上の整数）で示される）。例えば、フェノキシエチル（メタ）アクリレートのエトキシ化体とは、フェノキシエチルアルコールにエチレンオキシドを付加したアルコールと、アクリル酸又はメタクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートを意味する。また、カプロラクトン変性体とは、（メタ）アクリレートの原料となるアルコールをカプロラクトンで変性した変性アルコールを原料とする（メタ）アクリレートを示す（例えば、モノ（メタ）アクリレートのε−カプロラクトン変性体の場合、ＣＨ2＝ＣＨ（Ｒ1）−ＣＯＯ−（（ＣＨ2）5ＣＯＯ）ｎ−Ｒ2（ｎ、Ｒ1、Ｒ2は前記と同様））で示される）。
【００４２】
【化８】
0005585578.tif 000009
【００４３】
式中、Ｒ37は、水素原子又はメチル基を示す。Ｒ38は、下記式で示されるいずれかの１価の基を示す。
【００４４】
【化９】
0005585578.tif 000010
【００４５】
ここで、Ｒ39〜Ｒ52は、各々独立に水素原子、フッ素原子及び炭素数１〜２０の有機基のいずれかを示す。なお、炭素数１〜２０の有機基としては、上述のＲ1の具体例として記載されたものと同様のものを好適に挙げることができる。
また、Ｚ3は、単結合、酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ2−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、−ＣＦ2−、−Ｃ（ＣＦ3）2−、−ＳＯ2−、
【００４６】
【化１０】
0005585578.tif 000011
【００４７】
のいずれかの２価の基を示す。ｃは、２〜１０の整数を示す。
また、式（４）における、Ｗ1は、酸素原子、硫黄原子、−ＯＣＨ2−、−ＳＣＨ2−、−Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）d−、−Ｏ［ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ］e−、−Ｏ［（ＣＨ2）5ＣＯ2］f−及び−ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2Ｏ−のいずれかの２価の基を含み、ｄ〜ｆは１〜１０の整数を示す。
【００４８】
２官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；エチレングリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、１，３−プロパンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，３−プロパンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレートなどの脂肪族エポキシ（メタ）アクリレート；シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレートなどの脂環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；シクロヘキサンジメタノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦ型エポキシジ（メタ）アクリレートなどの脂環式エポキシ（メタ）アクリレート；ヒドロキノンジ（メタ）アクリレート、レゾルシノールジ（メタ）アクリレート、カテコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、ビフェノールジ（メタ）アクリレート、フルオレン型ジ（メタ）アクリレートなどの芳香族（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；ヒドロキノン型エポキシジ（メタ）アクリレート、レゾルシノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、カテコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビフェノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、フルオレン型エポキシジ（メタ）アクリレートなどの芳香族エポキシ（メタ）アクリレート；イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレートなどの複素環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；イソシアヌル酸モノアリル型エポキシジ(メタ）アクリレートなどの複素環式（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記脂環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；上記脂環式エポキシ（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、ビフェノールジ（メタ）アクリレート、フルオレン型ジ（メタ）アクリレートなどの芳香族（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；ビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビフェノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、フルオレン型エポキシジ（メタ）アクリレートなどの芳香族エポキシ（メタ）アクリレート；上記複素環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；上記複素環式（メタ）アクリレートが好ましく、下記一般式（５）で表される芳香族（メタ）アクリレート及び下記一般式（６）で表される芳香族エポキシ（メタ）アクリレートがさらに好ましい。
そして、一般式（５）で表される芳香族（メタ）アクリレート及び一般式（６）で表される芳香族エポキシ（メタ）アクリレートを併用することが特に好ましい。
一般式（５）で表される芳香族（メタ）アクリレートとしては、Ｚ4が−Ｃ（ＣＨ3）2−及びフルオレン骨格のものが好ましく、例えば、新中村化学工業株式会社から商品名「ＮＫエステル  Ａ−ＢＰＥＦ」、日立化成工業株式会社から商品名「ファンクリル  ＦＡ−３２１Ａ」が商業的に入手可能である。
また、一般式（６）で表される芳香族エポキシ（メタ）アクリレートを２種以上組み合わせて使用することが極めて好ましい。
一般式（６）で表される芳香族エポキシ（メタ）アクリレートとしては、Ｚ5が−Ｃ（ＣＨ3）2−が好ましく、例えば、新中村化学工業株式会社から商品名「ＮＫオリゴ  ＥＡ−５２２２」、「ＮＫオリゴ  ＥＡ−１０２０」が商業的に入手可能である。
なお、エトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体、カプロラクトン変性体とは、前記と同様の意味である。
【００４９】
【化１１】
0005585578.tif 000012
【００５０】
式中、Ｒ53及びＲ54は、各々独立に水素原子又はメチル基を示す。Ｒ55〜Ｒ60は、各々独立に水素原子、フッ素原子及び炭素数１〜２０の有機基のいずれかを示す。なお、炭素数１〜２０の有機基としては、上述のＲ1の具体例として記載されたものと同様のものを好適に挙げることができる。
また、Ｚ4は、単結合、酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ2−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、−ＣＦ2−、−Ｃ（ＣＦ3）2−、−ＳＯ2−、
【００５１】
【化１２】
0005585578.tif 000013
【００５２】
のいずれかの２価の基を示す。ｇは２〜１０の整数を示す。
また、前記式（５）における、Ｗ2及びＷ3は、各々独立に酸素原子、硫黄原子、−ＯＣＨ2−、−ＳＣＨ2−、−Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）h−、−Ｏ［ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ］i−及び−Ｏ［（ＣＨ2）5ＣＯ2］j−のいずれかの２価の基を含む。ｈ〜ｊは、各々独立に１〜１０の整数を示す。）
【００５３】
【化１３】
0005585578.tif 000014
【００５４】
式中、ｋは、１〜１０の整数を示す。Ｒ61及びＲ62は、各々独立に水素原子又はメチル基を示す。Ｒ63〜Ｒ68は、各々独立に水素原子、フッ素原子及び炭素数１〜２０の有機基のいずれかを示す。なお、炭素数１〜２０の有機基としては、上述のＲ1の具体例として記載されたものと同様のものを好適に挙げることができる。
また、Ｚ5は、単結合、酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ2−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、−ＣＦ2−、−Ｃ（ＣＦ3）2−、−ＳＯ2−、
【００５５】
【化１４】
0005585578.tif 000015
【００５６】
のいずれかの２価の基を示す。ｌは、２〜１０の整数を示す。
前記式（６）における、Ｗ4及びＷ5は、各々独立に酸素原子、−Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）m−、−Ｏ［ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ］n−及び−Ｏ［（ＣＨ2）5ＣＯ2］o−のいずれかの２価の基を含み、ｍ〜ｏは、各々独立に１〜１０の整数を示す。
【００５７】
３官能以上の（メタ）アクリレートとして、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；フェノールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシポリ（メタ）アクリレートなどの芳香族エポキシ（メタ）アクリレート；イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレートなどの複素環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；イソシアヌル酸型エポキシ(メタ）アクリレートなどの複素環式（メタ）エポキシアクリレートなどが挙げられる。なお、エトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体、カプロラクトン変性体とは、前記と同様の意味である。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記芳香族エポキシ（メタ）アクリレート；上記複素環式（メタ）アクリレート；上記イソシアヌル酸型エポキシ(メタ）アクリレートが好ましい。
以上の（メタ）アクリレートは、単独又は２種類以上組み合わせて用いることができ、さらにその他の重合性化合物と組み合わせて用いることもできる。
【００５８】
（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する重合性化合物の配合量は、前記（Ａ）成分と（Ｂ）成分の総量に対して、１０〜９０質量％であることが好ましい。１０質量％以上であると、硬化時に（Ａ）側鎖にエチレン性不飽和基を有し、主鎖に芳香環を有するポリヒドロキシポリエーテルと十分に架橋することにより、耐現像液性が不足することがなく、９０質量％以下であると、（Ａ）ポリヒドロキシポリエーテル及び（Ｃ）ラジカル重合開始剤を含んでなる光導波路形成用樹脂組成物をフィルム化することが容易となる。以上の観点から、（Ｂ）成分の配合量は、２０〜８５質量％であることがさらに好ましく、３０〜８０質量％であることが特に好ましい。
【００５９】
（（Ｃ）ラジカル重合開始剤）
（Ｃ）ラジカル重合開始剤としては、加熱又は紫外線、可視光線などの活性光線の照射によってラジカル重合を開始させるものであれば特に制限はなく、例えば、熱ラジカル重合開始剤、光ラジカル重合開始剤などが挙げられる。
【００６０】
熱ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、例えば、国際公開ＷＯ２００７／１０５７９５号公報の段落［００８３］に記載されたケトンパーオキシド、パーオキシケタール、ヒドロパーオキシド、ジアルキルパーオキシド、ジアシルパーオキシド、パーオキシカーボネート、パーオキシエステル、アゾ化合物が挙げられる。
これらの中でも、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、上記ジアシルパーオキシド；上記パーオキシエステル；上記アゾ化合物が好ましい。
【００６１】
光ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、例えば、国際公開ＷＯ２００７／１０５７９５号公報の段落［００８４］に記載されたベンゾインケタール、α−ヒドロキシケトン、グリオキシエステル、α−アミノケトン、オキシムエステル、ホスフィンオキシド、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体、ベンゾフェノン化合物、キノン化合物、ベンゾインエーテル、ベンゾイン化合物、ベンジル化合物、アクリジン化合物の他、Ｎ−フェニルグリシン及びクマリンなどが挙げられる。
また、前記２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体において、２つのトリアリールイミダゾール部位のアリール基の置換基は、同一で対称な化合物を与えてもよく、相違して非対称な化合物を与えてもよい。
これらの中で、硬化性及び透明性の観点から、上記α−ヒドロキシケトン；上記グリオキシエステル；上記オキシムエステル；上記ホスフィンオキシドが好ましい。
また、上記α−ヒドロキシケトンの１種である１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オンが特に好ましく、チバ・ジャパン株式会社からイルガキュア２９５９として商業的に入手可能である。
上記ホスフィンオキシドの１種であるビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシドが特に好ましく、チバ・ジャパン株式会社からイルガキュア８１９として商業的に入手可能である。
【００６２】
以上のラジカル重合開始剤（熱ラジカル重合開始剤及び光ラジカル重合開始剤など）は、単独で又は２種類以上組み合わせて用いることができ、さらに適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
【００６３】
（Ｃ）ラジカル重合開始剤の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部であることが好ましい。０．０１質量部以上であると、硬化が十分であり、１０質量部以下であると、十分な光透過性が得られる。以上の観点から、（Ｃ）成分の配合量は０．０５〜７質量部であることがさらに好ましく、０．１〜５質量部であることが特に好ましい。
【００６４】
（その他成分）
また、必要に応じて本発明の光導波路形成用樹脂組成物中には、酸化防止剤、黄変防止剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、着色剤、可塑剤、安定剤、充填剤などのいわゆる添加剤を本発明の効果に悪影響を与えない範囲で添加してもよい。
【００６５】
（有機溶剤）
本発明の光導波路形成用樹脂組成物は、好適な有機溶剤を用いて希釈し、光導波路形成用樹脂ワニスとして使用してもよい。ここで用いる有機溶剤としては、該樹脂組成物を溶解し得るものであれば特に制限はなく、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、ｐ−シメンなどの芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジブチルエーテルなどの鎖状エーテル；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどの環状エーテル；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトンなどのエステル；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどの炭酸エステル；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどの多価アルコールアルキルエーテル；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどの多価アルコールアルキルエーテルアセテート；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミドなどが挙げられる。
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。また、樹脂ワニス中の固形分濃度は、通常１０〜８０質量％であることが好ましい。
【００６６】
（光導波路形成用樹脂組成物の調合）
光導波路形成用樹脂組成物を調合する際は、撹拌により混合することが好ましい。撹拌方法としては、特に制限はないが、撹拌効率の観点からプロペラを用いた撹拌などが好ましい。撹拌する際のプロペラの回転速度には、特に制限はないが、１０〜１，０００ｒｐｍであることが好ましい。１０ｒｐｍ以上であると、各成分が十分に混合され、１，０００ｒｐｍ以下であると、プロペラの回転による気泡の巻き込みが少なくなる。以上の観点から、プロペラの回転速度は５０〜８００ｒｐｍであることがさらに好ましく、１００〜５００ｒｐｍであることが特に好ましい。
また、撹拌時間には、特に制限はないが、１〜２４時間であることが好ましい。撹拌時間が１時間以上であると、各成分が十分に混合され、２４時間以下であると、調合時間を短縮することができ、生産性が向上する。
【００６７】
調合した光導波路形成用樹脂組成物は、孔径５０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのが好ましい。孔径５０μｍ以下のフィルタを用いることで、大きな異物などが除去されて塗布時にはじきなどを生じることがなく、また、光の散乱が抑制されて透明性が損なわれることがない。以上の観点から、孔径３０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのがさらに好ましく、孔径１０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのが特に好ましい。
【００６８】
また、調合した光導波路形成用樹脂組成物は、減圧下で脱泡することが好ましい。脱泡方法には、特に制限はなく、例えば、真空ポンプとベルジャー、真空装置付き脱泡装置を用いる方法などが挙げられる。減圧時の圧力には、特に制限はないが、樹脂組成物に含まれる低沸点成分が沸騰しない圧力が好ましい。減圧脱泡時間には、特に制限はないが、３〜６０分であることが好ましい。３分以上であれば、樹脂組成物内に溶解した気泡を取り除くことができ、６０分以下であれば、樹脂組成物に含まれる有機溶剤が揮発することがなく、かつ脱泡時間を短縮することができ、生産性を向上させることができる。
【００６９】
（光導波路形成用樹脂フィルム）
本発明の光導波路形成用樹脂フィルムは、前記光導波路形成用樹脂組成物を用いてなり、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有する光導波路形成用樹脂組成物を好適な支持フィルムに塗布することにより容易に製造することができる。また、前記光導波路形成用樹脂組成物が前記有機溶剤で希釈された光導波路形成用樹脂ワニスである場合、樹脂ワニスを支持フィルムに塗布し、有機溶剤を除去することにより、光導波路形成用樹脂フィルムを製造することができる。
【００７０】
支持フィルムとしては、特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン；ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン、液晶ポリマーなどが挙げられる。これらの中で、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホンであることが好ましい。
なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物などにより離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
【００７１】
支持フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、３〜２５０μｍであることが好ましい。３μｍ以上であると、フィルム強度が十分であり、２５０μｍ以下であると、十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、支持フィルムの厚みは、５〜２００μｍであることがさらに好ましく、７〜１５０μｍであることが特に好ましい。
【００７２】
支持フィルム上に光導波路形成用樹脂組成物を塗布して製造した光導波路形成用樹脂フィルムは、必要に応じて保護フィルムを樹脂層上に貼り付け、支持フィルム、樹脂層、及び保護フィルムからなる３層構造としてもよい。
【００７３】
保護フィルムは、特に制限はないが、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィンなどが好ましい。なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物などにより離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
【００７４】
保護フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、１０〜２５０μｍであることが好ましい。１０μｍ以上であると、フィルム強度が十分であり、２５０μｍ以下であると、十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、保護フィルムの厚みは１５〜２００μｍであることがさらに好ましく、２０〜１５０μｍであることが特に好ましい。
【００７５】
本発明の光導波路形成用樹脂フィルムの樹脂層の厚みも、特に制限はないが、乾燥後の厚みで、通常は５〜５００μｍであることが好ましい。５μｍ以上であると、厚みが十分であるため樹脂フィルム又は樹脂フィルムの硬化物の強度が十分であり、一方、５００μｍ以下であると、乾燥が十分に行えるため樹脂フィルム中の残留溶剤量が増えることなく、樹脂フィルムの硬化物を加熱したときに発泡することがない。
【００７６】
このようにして得られた光導波路形成用樹脂フィルムは、例えばロール状に巻き取ることによって容易に保存することができる。また、ロール状のフィルムを好適なサイズに切り出して、シート状にして保存することもできる。
【００７７】
（光導波路形成用樹脂フィルム）
以下、本発明の光導波路形成用樹脂フィルムを最も好適な用途である光導波路形成用樹脂フィルムとして用いた場合の適用例について説明する。
なお、コア部形成用樹脂フィルムの製造過程で用いる支持フィルムとしては、コアパターン形成に用いる露光用活性光線が透過するものであれば特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン；ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン、液晶ポリマーなどが挙げられる。
これらの中で、露光用活性光線の透過率、柔軟性、及び強靭性の観点から、上記ポリエステル；上記ポリオレフィンであることが好ましい。さらに、露光用活性光線の透過率向上及びコアパターンの側壁荒れ低減の観点から、高透明タイプな支持フィルムを用いることがさらに好ましい。このような高透明タイプな支持フィルムとして、例えば、東洋紡績株式会社製「コスモシャインＡ１５１７」、「コスモシャインＡ４１００」などが挙げられる。
なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物などにより離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
【００７８】
コア部形成用樹脂フィルムの支持フィルムの厚みは、５〜５０μｍであることが好ましい。５μｍ以上であると、支持体としての強度が十分であり、５０μｍ以下であると、コアパターン形成時にフォトマスクとコア部形成用樹脂層のギャップが大きくならず、パターン解像度が良好である。以上の観点から、支持フィルムの厚みは１０〜４０μｍであることがさらに好ましく、１５〜３０μｍであることが特に好ましい。
【００７９】
（光導波路）
以下、本発明の光導波路について説明する。
図１の（ａ）に光導波路の断面図を示す。光導波路１は基材５上に形成され、高屈折率であるコア部形成用樹脂組成物からなるコア部２、並びに低屈折率であるクラッド層形成用樹脂組成物からなる下部クラッド層４及び上部クラッド層３で構成されている。
本発明の光導波路形成用樹脂組成物及び光導波路形成用樹脂フィルムは、光導波路１の下部クラッド層４、コア部２、及び上部クラッド層３のうち、少なくとも１つに用いることが好ましい。
【００８０】
光導波路形成用樹脂フィルムを用いることによって、各層の平坦性、クラッドとコアの層間密着性、及び光導波路コアパターン形成時の解像度（細線又は狭線間対応性）をより向上させることができ、平坦性に優れ、線幅や線間の小さい微細パターンの形成が可能となる。
【００８１】
光導波路１において、基材５の材質としては、特に制限はなく、例えば、ガラスエポキシ樹脂基板、セラミック基板、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板、金属基板、樹脂層付き基板、金属層付き基板、プラスチックフィルム、樹脂層付きプラスチックフィルム、金属層付きプラスチックフィルムなどが挙げられる。
【００８２】
光導波路１は、基材５として柔軟性及び強靭性のある基材、例えば前記光導波路形成用樹脂フィルムの支持フィルムを基材として用いることで、フレキシブル光導波路としてもよく、このとき基材５を光導波路１の保護フィルムとして機能させてもよい。保護フィルムを配置することにより、保護フィルムの柔軟性及び強靭性を光導波路１に付与することが可能となる。さらに、光導波路１が汚れや傷を受けなくなるため、取り扱いやすさが向上する。
以上の観点から、図１の（ｂ）のように上部クラッド層３の外側に保護フィルムとして基材５が配置されていたり、図１の（ｃ）のように下部クラッド層４及び上部クラッド層３の両方の外側に保護フィルムとして基材５が配置されていたりしてもよい。
なお、光導波路１に柔軟性や強靭性が十分に備わっているならば、図１の（ｄ）のように、保護フィルム５が配置されていなくてもよい。
【００８３】
下部クラッド層４の厚みは、特に制限はないが、２〜２００μｍであることが好ましい。２μｍ以上であると、伝搬光をコア内部に閉じ込めるのが容易となり、２００μｍ以下であると、光導波路１全体の厚みが大きすぎることがない。なお、下部クラッド層４の厚みとは、コア部２と下部クラッド層４との境界から下部クラッド層４の下面までの値である。
下部クラッド層形成用樹脂フィルムの厚みについては、特に制限はなく、硬化後の下部クラッド層４の厚みが上記の範囲となるように厚みが調整される。
【００８４】
コア部２の高さは、特に制限はないが、１０〜１５０μｍであることが好ましい。コア部の高さが１０μｍ以上であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において位置合わせトレランスが小さくなることがなく、１５０μｍ以下であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において、結合効率が小さくなることがない。以上の観点から、コア部の高さは、１５〜１３０μｍであることがさらに好ましく、２０〜１２０μｍであることが特に好ましい。なお、コア部形成用樹脂フィルムの厚みについては、特に制限はなく、硬化後のコア部の高さが上記の範囲となるように厚みが調整される。
【００８５】
上部クラッド層３の厚みは、コア部２を埋め込むことができる範囲であれば特に制限はないが、乾燥後の厚みで１２〜５００μｍであることが好ましい。上部クラッド層３の厚みとして、最初に形成される下部クラッド層４の厚みと同一であっても異なってもよいが、コア部２を埋め込むという観点から、下部クラッド層４の厚みよりも厚くすることが好ましい。なお、上部クラッド層３の厚みとは、コア部２と下部クラッド層４との境界から上部クラッド層３の上面までの値である。
【００８６】
本発明の光導波路において、光伝搬損失は０．３ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．３ｄＢ／ｃｍ以下であると、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分である。以上の観点から、光伝搬損失は０．２ｄＢ／ｃｍ以下であることがさらに好ましく、０．１ｄＢ／ｃｍ以下であることが特に好ましい。
【００８７】
本発明の光導波路において、温度８５℃、湿度８５％の高温高湿放置試験を１０００時間実施後の光伝搬損失は、０．３ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．３ｄＢ／ｃｍ以下であると、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分である。以上の観点から、光伝搬損失は０．２ｄＢ／ｃｍ以下であることがさらに好ましく、０．１ｄＢ／ｃｍ以下であることが特に好ましい。
なお、温度８５℃、湿度８５％の高温高湿放置試験とはＪＰＣＡ規格（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０１Ｓ）に準じた条件で実施する高温高湿放置試験のことを意味する。
【００８８】
本発明の光導波路において、温度−５５℃と１２５℃の間の温度サイクル試験を１０００サイクル実施後の光伝搬損失は、０．３ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．３ｄＢ／ｃｍ以下であると、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分である。以上の観点から、光伝搬損失は０．２ｄＢ／ｃｍ以下であることがさらに好ましく、０．１ｄＢ／ｃｍ以下であることが特に好ましい。
なお、温度−５５℃と１２５℃の間の温度サイクル試験とはＪＰＣＡ規格（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０１Ｓ）に準じた条件で実施する温度サイクル試験のことを意味する。
【００８９】
本発明の光導波路において、最高温度２６５℃のリフロー試験を３回実施後の光伝搬損失は、０．３ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．３ｄＢ／ｃｍ以下であると、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分であれば同時に、リフロープロセスによる部品実装が行えるために、適用範囲が広くなる。以上の観点から、光伝搬損失は０．２ｄＢ／ｃｍ以下であることがさらに好ましく、０．１ｄＢ／ｃｍ以下であることが特に好ましい。
なお、最高温度２６５℃のリフロー試験とはＪＥＤＥＣ規格（ＪＥＤＥＣ  ＪＥＳＤ２２Ａ１１３Ｅ）に準じた条件で実施する鉛フリーはんだリフロー試験のことを意味する。
【００９０】
本発明の光導波路は、透明性、信頼性、及び耐熱性に優れており、光モジュールの光伝送路として用いてもよい。光モジュールの形態として、例えば、光導波路の両端に光ファイバを接続した光ファイバ付き光導波路、光導波路の両端にコネクタを接続したコネクタ付き光導波路、光導波路とプリント配線板と複合化した光電気複合基板、光導波路と光信号と電気信号を相互に変換する光／電気変換素子を組み合わせた光電気変換モジュール、光導波路と波長分割フィルタを組み合わせた波長合分波器などが挙げられる。
なお、光電気複合基板において、複合化するプリント配線板として、特に制限はなく、例えば、ガラスエポキシ基板、セラミック基板などのリジッド基板；ポリイミド基板、ポリエチレンテレフタレート基板などのフレキシブル基板などが挙げられる。
【００９１】
（光導波路の製造方法）
以下、本発明の光導波路形成用樹脂組成物及び／又は光導波路形成用樹脂フィルムを用いて光導波路１を形成するための製造方法について説明する。
本発明の光導波路１を製造する方法としては、特に制限はなく、例えば、光導波路形成用樹脂組成物及び／又は光導波路形成用樹脂フィルムを用いて、基材上に光導波路形成用樹脂層を形成して製造する方法などが挙げられる。
【００９２】
本発明に用いられる基材としては、特に制限はなく、ガラスエポキシ樹脂基板、セラミック基板、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板、金属基板、樹脂層付き基板、金属層付き基板、プラスチックフィルム、樹脂層付きプラスチックフィルム、金属層付きプラスチックフィルムなどが挙げられる。
【００９３】
光導波路形成用樹脂層を形成する方法としては、特に制限はなく、例えば、光導波路形成用樹脂組成物を用いて、スピンコート法、ディップコート法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、カーテンコート法、グラビアコート法、スクリーンコート法、インクジェットコート法などにより塗布する方法などが挙げられる。
光導波路形成用樹脂組成物が、前記有機溶剤で希釈されて光導波路形成用樹脂ワニスとなっている場合、必要に応じて樹脂層を形成後に、乾燥する工程を入れてもよい。乾燥方法としては、特に制限はなく、例えば、加熱乾燥、減圧乾燥などが挙げられる。また、必要に応じてこれらを併用してもよい。
【００９４】
光導波路形成用樹脂層を形成するその他の方法としては、光導波路形成用樹脂組成物を用いた光導波路形成用樹脂フィルムを用いて、積層法により形成する方法が挙げられる。
これらの中で、平坦性に優れ、線幅や線間の小さい微細パターンを有する光導波路が形成可能という観点から、光導波路形成用樹脂フィルムを用いて積層法により製造する方法が好ましい。
【００９５】
以下、光導波路形成用樹脂フィルムを下部クラッド層、コア部、及び上部クラッド層に用いて光導波路１を形成するための製造方法について説明するが、本発明はこれに何ら制限されるものではない。
まず、第１の工程として下部クラッド層形成用樹脂フィルムを基材５上に積層する。第１の工程における積層方法として、特に制限はなく、例えば、ロールラミネータ又は平板型ラミネータを用いて加熱しながら圧着することにより積層する方法などが挙げられる。なお、本発明における平板型ラミネータとは、積層材料を一対の平板の間に挟み、平板を加圧することにより圧着させるラミネータのことを指し、例えば、真空加圧式ラミネータを好適に用いることができる。ラミネート温度は、特に制限はないが、２０〜１３０℃であることが好ましく、ラミネート圧力は、特に制限はないが、０．１〜１．０ＭＰａであることが好ましい。下部クラッド層形成用樹脂フィルムに保護フィルムが存在する場合、保護フィルムを除去した後に積層する。
【００９６】
真空加圧式ラミネータを用いて積層する場合、ロールラミネータを用いて、あらかじめ下部クラッド層形成用樹脂フィルムを基材５上に仮貼りしておいてもよい。ここで、密着性及び追従性向上の観点から、圧着しながら仮貼りすることが好ましく、圧着する際、ヒートロールを有するラミネータを用いて加熱しながら行っても良い。ラミネート温度は、２０〜１３０℃であることが好ましい。２０℃以上であれば下部クラッド層形成用樹脂フィルムと基材５との密着性が向上し、１３０℃以下であれば樹脂層がロールラミネート時に流動しすぎることがなく、必要とする膜厚が得られる。以上の観点から、４０〜１００℃であることがさらに好ましい。ラミネート圧力は、特に制限はないが、０．２〜０．９ＭＰａであることが好ましく、ラミネート速度は、特に制限はないが、０．１〜３ｍ／ｍｉｎであることが好ましい。
【００９７】
基材５上に積層された下部クラッド層形成用樹脂層を光及び／又は熱により硬化し、下部クラッド層４を形成する。なお、下部クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムの除去は、硬化前及び硬化後のどちらで行ってもよい。
下部クラッド層形成用樹脂層を光により硬化する際の活性光線の照射量は、特に制限はないが、０．１〜５Ｊ／ｃｍ2とすることが好ましい。また、活性光線が基材を透過する場合、効率的に硬化させるために、両面から同時に活性光線を照射可能な両面露光機を使用することができる。また、加熱をしながら活性光線を照射してもよい。なお、光硬化前後の処理として、必要に応じて５０〜２００℃の加熱処理を行ってもよい。
下部クラッド層形成用樹脂層を熱により硬化する際の加熱温度は、特に制限はないが、５０〜２００℃とすることが好ましい。
【００９８】
下部クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムを、光導波路１の保護フィルム５として機能させる場合、下部クラッド層形成用樹脂フィルムを積層することなく、光及び／又は熱により前記と同様な条件で硬化し、下部クラッド層４を形成してもよい。
なお、下部クラッド層形成用樹脂フィルムの保護フィルムは、硬化前に除去しても、硬化後に除去してもよい。
【００９９】
第２の工程として、第１の工程と同様な方法で、下部クラッド層４上にコア部形成用樹脂フィルムを積層する。ここで、コア部形成用樹脂層は下部クラッド層形成用樹脂層より高屈折率であるように設計され、活性光線によりコア部２（コアパターン）を形成し得る感光性樹脂組成物からなることが好ましい。
【０１００】
第３の工程として、コア部２を露光する。コア部２を露光する方法としては、特に制限はなく、例えば、アートワークと呼ばれるネガ型フォトマスクを通して活性光線を画像状に照射する方法、レーザ直接描画を用いてネガ型フォトマスクを通さずに直接活性光線を画像上に照射する方法などが挙げられる。
活性光線の光源としては、特に制限はなく、例えば、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、水銀蒸気アークランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプなどの紫外線を有効に放射する光源；写真用フラッド電球、太陽ランプなどの可視光線を有効に放射する光源などが挙げられる。
【０１０１】
コア部２を露光する際の活性光線の照射量は、０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましい。０．０１Ｊ／ｃｍ2以上であると、硬化反応が十分に進行し、現像によりコア部２が流失することがない。一方、１０Ｊ／ｃｍ2以下であると、露光量過多によりコア部２が太ることがなく、微細なパターンが形成でき好適である。以上の観点から、活性光線の照射量は、０．０３〜５Ｊ／ｃｍ2であることがさらに好ましく、０．０５〜３Ｊ／ｃｍ2であることが特に好ましい。
コア部２の露光は、コア部形成用樹脂フィルムの支持フィルムを介して行っても、支持フィルムを除去してから行ってもよい。
【０１０２】
また、露光後に、コア部２の解像度及び密着性向上の観点から、必要に応じて露光後加熱を行ってもよい。紫外線照射から露光後加熱までの時間は、１０分以内であることが好ましいが、この条件には特に制限はない。露光後加熱温度は４０〜１６０℃であることが好ましく、時間は３０秒〜１０分であることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
【０１０３】
第４の工程として、コア部形成用樹脂フィルムの支持フィルムを介して露光した場合、これを除去し、コア部形成用樹脂層の組成に適した現像液を用いて現像する。
現像方法としては、特に制限はなく、例えば、スプレー法、ディップ法、パドル法、スピン法、ブラッシング法、スクラッピング法などが挙げられる。また、必要に応じてこれらの現像方法を併用してもよい。
現像液としては、特に制限はなく、例えば、有機溶剤、有機溶剤と水からなる準水系現像液などの有機溶剤系現像液；アルカリ性水溶液、アルカリ性水溶液と１種類以上の有機溶剤からなるアルカリ性準水系現像液などのアルカリ性現像液などが挙げられる。
また、現像温度は、コア部形成用樹脂層の現像性に合わせて調節される。
【０１０４】
有機溶剤としては、特に制限はなく、例えば、前述の光導波路形成用樹脂組成物の希釈に用いる有機溶剤と同様のものを用いることができる。
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。また、有機溶剤中には、表面活性剤、消泡剤などを混入させてもよい。
【０１０５】
準水系現像液として、１種類以上の有機溶剤と水からなるものであれば特に制限はない。
有機溶剤の濃度は、通常、２〜９０質量％であることが好ましい。また、準水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤などを少量混入させてもよい。
【０１０６】
アルカリ性水溶液の塩基として、特に制限はないが、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属重炭酸塩；リン酸カリウム、リン酸ナトリウムなどのアルカリ金属リン酸塩；ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウムなどのアルカリ金属ピロリン酸塩；四ホウ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどのナトリウム塩；炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウムなどのアンモニウム塩；水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール、１，３−ジアミノプロパノール−２−モルホリンなどの有機塩基などが挙げられる。
これらの塩基は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
現像に用いるアルカリ性水溶液のｐＨは９〜１４であることが好ましい。また、アルカリ性水溶液中には、界面活性剤、消泡剤などを混入させてもよい。
【０１０７】
アルカリ性準水系現像液として、アルカリ性水溶液と１種類以上の前記有機溶剤からなるものであれば特に制限はない。アルカリ性準水系現像液のｐＨは、現像が十分にできる範囲でできるだけ小さくすることが好ましく、ｐＨ８〜１３であることが好ましく、ｐＨ９〜１２であることがさらに好ましい。
有機溶剤の濃度は、通常、２〜９０質量％であることが好ましい。また、アルカリ性準水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤などを少量混入させてもよい。
【０１０８】
現像後の処理として、必要に応じて前記有機溶剤、前記有機溶剤と水からなる準水系洗浄液、又は水を用いて洗浄してもよい。
洗浄方法として、特に制限はないが、例えば、スプレー法、ディップ法、パドル法、スピン法、ブラッシング法、スクラッピング法などが挙げられる。また、必要に応じてこれらの洗浄方法を併用してもよい。
前記有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。準水系洗浄液において、有機溶剤の濃度は通常、２〜９０質量％とすることが好ましい。また、洗浄温度はコア部形成用樹脂層の現像性に合わせて調節される。
【０１０９】
現像又は洗浄後の処理として、コア部２の硬化性及び密着性向上の観点から、必要に応じて露光及び／又は加熱を行ってもよい。加熱温度は、特に制限はないが、４０〜２００℃であることが好ましく、活性光線の照射量は、特に制限はないが、０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましい。
【０１１０】
第５の工程として、第１及び第２の工程と同様の方法で、下部クラッド層４及びコア部２上に上部クラッド層形成用樹脂フィルムを積層する。ここで、上部クラッド層形成用樹脂層は、コア部形成用樹脂層よりも低屈折率になるように設計されている。また、上部クラッド形成用樹脂層の厚みは、コア部２の高さより大きくすることが好ましい。
【０１１１】
次いで、第１の工程と同様な方法で上部クラッド層形成用樹脂層を光及び／又は熱により硬化し、上部クラッド層３を形成する。
上部クラッド層形成用樹脂層を光により硬化する際の活性光線の照射量は、特に制限はないが、０．１〜３０Ｊ／ｃｍ2とすることが好ましい。また、活性光線が基材を透過する場合、効率的に硬化させるために、両面から同時に活性光線を照射可能な両面露光機を使用することができる。また、必要に応じて加熱をしながら活性光線を照射してもよく、光硬化前後の処理として加熱処理を行ってもよい。活性光線照射中及び／又は照射後の加熱温度は、特に制限はないが、５０〜２００℃であることが好ましい。
上部クラッド層形成用樹脂層を熱により硬化する際の加熱温度は、特に制限はないが、５０〜２００℃であることが好ましい。
なお、上部クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムの除去が必要な場合、硬化前に除去しても、硬化後に除去してもよい。
以上の工程で、光導波路１を作製することができる。
【実施例】
【０１１２】
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例になんら限定されるものではない。【０１１３】
合成例１
［側鎖にエチレン性不飽和基を有し、主鎖に芳香環を有するポリヒドロキシポリエーテルＡ−１の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと及び温度計を備えたフラスコに、主鎖にビスフェノールA及びビスフェノールF由来の骨格を有するポリヒドロキシポリエーテル（東都化成株式会社製「フェノトートＹＰ−７０」、重量平均分子量５．０×１０4〜６．０×１０4、カタログ値）１５０質量部及びシクロヘキサノン１９１質量部を加え、窒素ガスを導入しながら、１００℃で撹拌し、ポリヒドロキシポリエーテルを溶解させた。室温に冷却後、ヒドロキノンモノメチルエーテル０．０９質量部、ジブチルスズジラウレート０．０７質量部を加え、空気ガスを導入しながら、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート１７質量部及びシクロヘキサノン１４質量部の混合物を５０℃で３０分かけて滴下した。その後、５０℃で５時間撹拌を続けて、側鎖にエチレン性不飽和基を有し、主鎖にビスフェノールA及びビスフェノールF由来の骨格を有するポリヒドロキシポリエーテルＡ−１溶液（固形分４５質量％）を得た。【０１１４】
［重量平均分子量の測定］
Ａ−１の重量平均分子量（標準ポリスチレン換算）をＧＰＣ（東ソー株式会社製ＳＤ−８０２２／ＤＰ−８０２０／ＲＩ−８０２０）を用いて測定した結果、４３，１００であった。なお、カラムは日立化成工業株式会社製  Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ａ１５０−Ｓ／ＧＬ−Ａ１６０−Ｓを使用した。【０１１５】
合成例２
［側鎖にエチレン性不飽和基を有し、主鎖に芳香環を有するポリヒドロキシポリエーテルＡ−２の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと及び温度計を備えたフラスコに、主鎖にビスフェノールA及びビスフェノールF由来の骨格を有するポリヒドロキシポリエーテル（東都化成株式会社製  フェノトートＹＰ−７０）１５０質量部及びシクロヘキサノン１８７質量部を加え、窒素ガスを導入しながら、１００℃で撹拌し、ポリヒドロキシポリエーテルを溶解させた。室温に冷却後、ヒドロキノンモノメチルエーテル０．０４質量部、ジブチルスズジラウレート０．０４質量部を加え、空気ガスを導入しながら、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート９質量部及びシクロヘキサノン７質量部の混合物を５０℃で３０分かけて滴下した。その後、５０℃で５時間撹拌を続けて、側鎖にエチレン性不飽和基を有し、主鎖にビスフェノールA及びビスフェノールF由来の骨格を有するポリヒドロキシポリエーテルＡ−２溶液（固形分４５質量％）を得た。
合成例１と同様な方法で、Ａ−２の重量平均分子量を測定した結果、４２，１００であった。【０１１６】
合成例３
［ウレタンアクリレートＵＡ−１の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと及び温度計を備えたフラスコに、ポリテトラメチレングリコール１０４質量部、ジエチレングリコール０．２質量部、カプロラクトン変性２−ヒドロキシエチルアクリレート（ダイセル化学工業株式会社製  プラクセルＦＡ２Ｄ）５５質量部、ヒドロキノンモノメチルエーテル０．１質量部、ジブチルスズジラウレート０．０６質量部を加え、空気ガスを導入しながら、イソホロンジイソシアネート４４質量部を７０℃で２時間かけて滴下した。その後、７０℃で５時間撹拌を続けて、ウレタンアクリレートＵＡ−１を得た。
合成例１と同様な方法で、ＵＡ−１の重量平均分子量を測定した結果、１０，０００であった。【０１１７】
合成例４
［（メタ)アクリルポリマーＰ−１の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと及び温度計を備えたフラスコに、メチルエチルケトン９４質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら、ジシクロペンタニルメタクリレート１５質量部、ベンジルメタクリレート６２質量部、メチルメタクリレート１２質量部、２-ヒドロキシエチルメタクリレート１４質量部、２，２'−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．８質量部、及びメチルエチルケトン６３質量部の混合物を５５℃で３時間かけて滴下した。５５℃で５時間撹拌した後、さらに８０℃で２時間撹拌を続けた。
室温に冷却後、ジブチルスズジラウレート０．０６質量部を加え、空気ガスを導入しながら、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート１６質量部及びメチルエチルケトン１０質量部の混合物を５０℃で３０分かけて滴下した。その後、５０℃で３時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマーＰ−１溶液（固形分４２質量％）を得た。
合成例１と同様な方法で、Ｐ−１の重量平均分子量を測定した結果、５４，０００であった。【０１１８】
実施例１
［コア部形成用樹脂組成物ＣＯＶ−１の調合］
（Ａ）成分として、前記Ａ−１溶液（固形分４５質量％）６７質量部（固形分３０質量部）、（Ｂ）成分として、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（日立化成工業株式会社製  ファンクリルＦＡ−３２１Ａ）３０質量部、エトキシ化フルオレン型ビスフェノールジアクリレートのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（新中村化学工業株式会社製  ＮＫエステルＡ−ＢＰＥＦ／ＰＧＭＡＣ７０、固形分７０質量％）２９質量部（固形分２０質量部）、ビスフェノールＡ型エポキシジアクリレート（新中村化学工業株式会社製  ＮＫオリゴＥＡ−１０２０）２０質量部、（Ｃ）成分として、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（チバ・ジャパン株式会社製  イルガキュア２９５９）１質量部、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（チバ・ジャパン株式会社製  イルガキュア８１９）１質量部、及び希釈溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２２質量部を攪拌しながら混合した。孔径２μｍのポリフロンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製  ＰＦ０２０）を用いて加圧濾過後、減圧脱泡し、コア部形成用樹脂組成物ＣＯＶ−１を得た。【０１１９】
［コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１の作製］
コア部形成用樹脂組成物ＣＯＶ−１を、ＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製  コスモシャインＡ１５１７、厚み１６μｍ）の非処理面上に、塗工機（株式会社ヒラノテクシード製  マルチコーターＴＭ−ＭＣ）を用いて塗布し、１００℃で２０分乾燥後、保護フィルムとして表面離型処理ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製  ピューレックスＡ３１、厚み２５μｍ）を貼付け、コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１を得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であるが、本実施例では硬化後の膜厚が、コア部形成用樹脂フィルムでは７０μｍ、引張り試験用硬化フィルムでは５０μｍとなるように調節した。【０１２０】
［引張り試験用硬化フィルムの作製］
ロールラミネータ（日立化成テクノプラント株式会社製  ＨＬＭ−１５００）を用いて、保護フィルム（Ａ３１）を除去したコア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１を、保護フィルム（Ａ３１）を除去したコア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１に、圧力０．４ＭＰａ、温度５０℃、速度０．４ｍ／ｍｉｎの条件で積層した。次いで、紫外線露光機（大日本スクリーン株式会社製  ＭＡＰ−１２００−Ｌ）を用いて、紫外線（波長３６５ｎｍ）を２０００ｍＪ／ｃｍ2照射した。支持フィルム（Ａ１５１７）を除去した後、１６０℃で１時間加熱処理して、厚み１００μｍの硬化フィルムを得た。【０１２１】
［引張り試験］
得られた硬化フィルムを幅１０ｍｍ、長さ７０ｍｍに切り出し、引張り試験機（株式会社オリエンテック製  ＲＴＭ−１００）を用いて、温度２５℃、引張り速度５ｍｍ／ｍｉｎで、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２７に準拠して引張り試験（つかみ具間距離５０ｍｍ）を行った。
（１）引張り弾性率
引張り弾性率は、引張り応力−ひずみ曲線の初めの直線部分を用いて、以下に示す式により算出した。
引張り弾性率（ＭＰａ）＝直線上の２点間の応力の差（Ｎ）÷硬化フィルムの元の平均断面積（ｍｍ2）÷同じ２点間のひずみの差
（２）破断伸び率
破断伸び率は、以下に示す式により算出した。
破断伸び率（％）＝（破断時のつかみ具間距離（ｍｍ）−初期のつかみ具間距離（ｍｍ））÷初期のつかみ具間距離（ｍｍ）×１００【０１２２】
［クラッド層形成用樹脂組成物ＣＬＶ−１の調合］
エポキシ基含有アクリルゴムのシクロヘキサノン溶液（ナガセケムテックス株式会社製  ＨＴＲ−８６０Ｐ−３、重量平均分子量８０万、固形分１２質量％）５００質量部（固形分６０質量部）、合成例３にて作製したＵＡ−１  ２０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学株式会社製  ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ）２０質量部、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（チバ・ジャパン株式会社製  イルガキュア２９５９）１質量部、及びビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド（チバ・ジャパン株式会社製  イルガキュア８１９）１質量部を攪拌しながら混合した。孔径２μｍのポリフロンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製  ＰＦ０２０）を用いて加圧濾過後、減圧脱泡し、クラッド層形成用樹脂組成物ＣＬＶ−１を得た。【０１２３】
[クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１の作製]
クラッド層形成用樹脂組成物ＣＬＶ−１を、ＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製  コスモシャインＡ４１００、厚み５０μｍ）の非処理面上に、前記塗工機を用いて塗布し、１００℃で２０分乾燥後、保護フィルムとして表面離型処理ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製  ピューレックスＡ３１、厚み２５μｍ）を貼付け、クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１を得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であるが、本実施例では硬化後の膜厚が、下部クラッド層形成用樹脂フィルムでは２０μｍ、及び上部クラッド層形成用樹脂フィルムでは８０μｍとなるように調節した。【０１２４】
［フレキシブル光導波路の作製］
前記紫外線露光機を用いて、下部クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１に紫外線（波長３６５ｎｍ）を４０００ｍＪ／ｃｍ2照射した後、保護フィルム（ピューレックスＡ３１）を除去して、下部クラッド層を形成した。【０１２５】
続いて、前記ロールラミネータを用いて、保護フィルム（ピューレックスＡ３１）を除去したコア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１を、下部クラッド層上に、圧力０．４ＭＰａ、温度５０℃、速度０．４ｍ／ｍｉｎの条件で積層した。次いで、幅８０μｍのネガ型フォトマスクを介し、上記紫外線露光機を用いて、紫外線（波長３６５ｎｍ）を１０００ｍＪ／ｃｍ2照射し、次いで８０℃で５分間露光後加熱を行った。支持フィルム（コスモシャインＡ１５１７）を除去し、現像液（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド＝７０／３０質量比）を用いて、コア部を現像した後、プロピレングリコールモノメチルエーテル、次いで２−プロパノールを用いて洗浄し、８０℃で１０分、１００℃で１０分加熱乾燥した。【０１２６】
次に、真空加圧式ラミネータ（株式会社名機製作所製  ＭＶＬＰ−５００／６００）を用いて、保護フィルム（ピューレックスＡ３１）を除去した上部クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１を、コア部及び下部クラッド層上に、圧力０．４ＭＰａ、温度１２０℃及び加圧時間３０秒の条件で積層した。紫外線（波長３６５ｎｍ）を４０００ｍＪ／ｃｍ2照射し、１６０℃で１時間加熱処理して上部クラッド層を形成した。続いて、クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１の支持フィルム（コスモシャインＡ４１００）を除去し、フレキシブル光導波路を得た。その後、ダイシングソー（株式会社ディスコ製  ＤＡＤ−３４１）を用いて、幅３ｍｍ、長さ１００ｍｍのフレキシブル光導波路を切り出した。【０１２７】
［光伝搬損失測定］
得られた光導波路の光伝搬損失を、光源に波長８５０ｎｍの光を中心波長とするＶＣＳＥＬ（ＥＸＦＯ社製  ＦＬＳ−３００−０１−ＶＣＬ）、受光センサ（株式会社アドバンテスト製  Ｑ８２２１４）、入射ファイバ（ＧＩ−５０／１２５マルチモードファイバ、ＮＡ＝０．２０）及び出射ファイバ（ＳＩ−１１４／１２５、ＮＡ＝０．２２）を用いて、カットバック法（測定導波路長１０、５、３、２ｃｍ）により測定し、以下の基準で評価した。
◎…０．１ｄＢ/ｃｍ以下
○…０．１ｄＢ/ｃｍより大きく、０．２ｄＢ/ｃｍ以下
△…０．２ｄＢ/ｃｍより大きく、０．３ｄＢ/ｃｍ以下
×…０．３ｄＢ/ｃｍより大きい【０１２８】
［高温高湿放置試験］
得られた光導波路を、高温高湿試験機（エスペック株式会社製  ＰＬ−２ＫＴ）を用いて、ＪＰＣＡ規格（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０１Ｓ）に準じた条件で温度８５℃、湿度８５％の高温高湿放置試験を１０００時間実施した。
高温高湿放置試験実施後の光導波路の光伝搬損失を、前記と同様の光源、受光素子、入射ファイバ及び出射ファイバを用いて測定し、以下の基準で評価した。
◎…０．１ｄＢ/ｃｍ以下
○…０．１ｄＢ/ｃｍより大きく、０．２ｄＢ/ｃｍ以下
△…０．２ｄＢ/ｃｍより大きく、０．３ｄＢ/ｃｍ以下
×…０．３ｄＢ/ｃｍより大きい【０１２９】
［温度サイクル試験］
得られた光導波路を、温度サイクル試験機（楠本化成株式会社製  ＥＴＡＣ  ＷＩＮＴＥＣＨ  ＮＴ１０１０）を用いて、ＪＰＣＡ規格（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０１Ｓ）に準じた条件で温度−５５℃と１２５℃の間の温度サイクル試験を１０００サイクル実施した。詳細な温度サイクル試験条件を表１に示す。【０１３０】
【表１】
0005585578.tif 000016
【０１３１】
温度サイクル試験実施後の光導波路の光伝搬損失を前記と同様の光源、受光素子、入射ファイバ及び出射ファイバを用いて測定し、以下の基準で評価した。
◎…０．１ｄＢ/ｃｍ以下
○…０．１ｄＢ/ｃｍより大きく、０．２ｄＢ/ｃｍ以下
△…０．２ｄＢ/ｃｍより大きく、０．３ｄＢ/ｃｍ以下
×…０．３ｄＢ/ｃｍより大きい【０１３２】
［リフロー試験］
得られた光導波路を、リフロー試験機（古河電気工業株式会社製  サラマンダＸＮＡ−６４５ＰＣ）を用いて、ＩＰＣ／ＪＥＤＥＣ  Ｊ−ＳＴＤ−０２０Ｂに準じた条件で最高温度２６５℃のリフロー試験を窒素雰囲気下で３回実施した。詳細なリフロー条件を表２、リフロー炉内の温度プロファイルを図２に示す。【０１３３】
【表２】
0005585578.tif 000017
【０１３４】
リフロー試験実施後の光導波路の光伝搬損失を前記と同様の光源、受光素子、入射ファイバ及び出射ファイバを用いて測定し、以下の基準で評価した。
◎…０．１ｄＢ/ｃｍ以下
○…０．１ｄＢ/ｃｍより大きく、０．２ｄＢ/ｃｍ以下
△…０．２ｄＢ/ｃｍより大きく、０．３ｄＢ/ｃｍ以下
×…０．３ｄＢ/ｃｍより大きい【０１３５】
実施例２〜５、及び比較例１
表３に示す配合比に従って、コア部形成用樹脂組成物ＣＯＶ−２〜６を調合し、実施例１と同様な方法で、コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−２〜６を作製した。
続いて、これらのコア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−２〜６を用いて、実施例１と同様な方法で、フレキシブル光導波路を作製した。【０１３６】
【表３】
0005585578.tif 000018
＊１：合成例１で作製した側鎖にエチレン性不飽和基を有し、主鎖に芳香環を有するポリヒドロキシポリエーテルＡ−１のシクロヘキサノン溶液（固形分４５質量％）
＊２：合成例２で作製した側鎖にエチレン性不飽和基を有し、主鎖に芳香環を有するポリヒドロキシポリエーテルＡ−２のシクロヘキサノン溶液（固形分４５質量％）
＊３：エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（日立化成工業株式会社製  ファンクリルＦＡ−３２１Ａ）
＊４：エトキシ化フルオレン型ビスフェノールジアクリレートのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（新中村化学工業株式会社製  ＮＫエステルＡ−ＢＰＥＦ／ＰＧＭＡＣ、固形分７０質量％）
＊５：ビスフェノールＡ型エポキシジアクリレート（新中村化学工業株式会社製  ＮＫオリゴ  ＥＡ−１０２０）
＊６：一般式（６）で表される芳香族エポキシ（メタ）アクリレート（Ｚ5が−Ｃ（ＣＨ3）2−）(新中村化学工業株式会社製  ＮＫオリゴ  ＥＡ−５２２２)
＊７：１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（チバ・ジャパン株式会社製  イルガキュア２９５９）
＊８：ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（チバ・ジャパン株式会社製  イルガキュア８１９）
＊９：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
＊１０：合成例４で作製した（メタ）アクリルポリマーＰ−１のメチルエチルケトン溶液（固形分４２質量％）
＊１１：主鎖に芳香環を有するポリヒドロキシポリエーテル（東都化成株式会社製  フェノトートＹＰ−７０）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（固形分４０質量％）【０１３７】
得られた光導波路（長さ１００ｍｍ）の光伝搬損失測定、高温高湿放置試験、温度サイクル試験、及びリフロー試験を前記と同様な条件で実施した。
以上の結果を表４に示す。【０１３８】
【表４】
0005585578.tif 000019
【０１３９】
＊１２：◎…０．１ｄＢ/ｃｍ以下、○…０．１ｄＢ/ｃｍより大きく、０．２ｄＢ/ｃｍ以下、×…０．３ｄＢ/ｃｍより大きい【０１４０】
表３及び表４から、本発明の光導波路形成用樹脂組成物は、透明性、耐熱性に優れ、破断伸び率及び引張り弾性率の点で強靭性に優れており、これらを用いて製造した光導波路は、光伝搬損失が低く透明性に優れ、高温高湿放置試験及び温度サイクル試験等が良好で環境信頼性に優れ、リフロー試験成績等が良好で耐熱性に優れていることがわかる。一方、比較例１に示した本発明に属さない光導波路形成用樹脂組成物はある程度の強靭性は有するものの、該光導波路形成用樹脂組成物を用いて製造した光導波路は、環境信頼性及び耐熱性に劣っていることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０１４１】
本発明の光導波路形成用樹脂組成物は、透明性、耐熱性、及び強靭性に優れており、これらを用いて製造した光導波路は透明性、環境信頼性、及び耐熱性に優れたものである。また、該光導波路形成用樹脂組成物を用いた光導波路形成用樹脂フィルムは、光導波路の製造過程において、各層の平坦性、クラッドとコアの層間密着性、及び光導波路コアパターン形成時の解像度（細線又は狭線間対応性）をより向上させ、平坦性に優れ、線幅や線間の小さい微細パターンの形成を可能とするものである。
【符号の説明】
【０１４２】
１  光導波路
２  コア部
３  上部クラッド層
４  下部クラッド層
５  基材
【図１】
0005585578.tif 000033
【図２】
0005585578.tif 000034