(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の導体トレースを備えている２つの電気絶縁層を有する層のスタックであって、前記電気絶縁層のそれぞれは外周を備える縁を有している、層のスタックと、
前記電気絶縁層の間に挿入される電気化学セルであって、前記電気化学セルは最上層と最下層とを有し、
前記電気化学セルの前記最上層と最下層は、前記絶縁層のうちの１つの外周を越えて横方向に延びる、電気化学セルと
を備えている、プリント回路基板。
【請求項２】
前記層のスタックに挿入される導電層を備え、
前記電気化学セルは、前記層のスタックの前記導電層と電気絶縁層との間に埋め込まれることを特徴とする請求項１に記載のプリント回路基板。
【請求項３】
２つの導電層と、
前記層のスタックに挿入される電気化学セルとを備え、前記電気化学セルは前記導電層の間に埋め込まれることを特徴とする請求項１に記載のプリント回路基板。
【請求項４】
前記２つの電気絶縁層の間のスペーサと、
前記電気化学セルの縁に位置する間隙とを備え、
前記間隙は、前記スペーサ、前記電気化学セル及び前記２つの電気絶縁層により規定されることを特徴とする請求項１に記載のプリント回路基板。
【請求項５】
前記最上層及び前記最下層は、２つの端子であり、前記電気化学セルは、前記端子のうちの１つへの直接的な外部からの電気アクセスを提供するように、前記電気絶縁層のうちの１つの外周を越えて横方向に延びる、請求項１に記載のプリント回路基板。
【請求項６】
前記電気化学セルと電気的に接続している電気接点をさらに備え、前記電気接点は、アクセスポートを通して外部からアクセス可能である、請求項１に記載のプリント回路基板。
【請求項７】
前記電気化学セルは端子を備え、前記電気接点は、前記端子と電気的に接続し、前記端子は、前記アクセスポートを通して外部からアクセス可能でない、請求項６に記載のプリント回路基板。
【請求項８】
前記アクセスポート内に導体材料をさらに備え、前記アクセスポート上に絶縁材料のキャップをさらに備えている、請求項７に記載のプリント回路基板。
【請求項９】
前記電気化学セルと電気的に接続している電気接点をさらに備え、前記電気接点は、アクセスポートを通して外部からアクセス可能である、請求項２に記載のプリント回路基板。
【請求項１０】
前記電気化学セルと電気的に接続している電気接点をさらに備え、前記電気接点は、外部からアクセス可能である、請求項３に記載のプリント回路基板。
【請求項１１】
前記電気化学セルと電気的に接続している電気接点をさらに備え、前記電気接点は、外部からアクセス可能である、請求項４に記載のプリント回路基板。
【請求項１２】
前記電気化学セルは、前記電気絶縁層のうちの２つを組み合わせたものとほぼ同じ厚さである、請求項１に記載のプリント回路基板。
【請求項１３】
前記電気化学セルは、前記電気絶縁層のうちの２つを組み合わせたものよりも厚い、請求項１に記載のプリント回路基板。
【請求項１４】
前記電気化学セルは、前記電気絶縁層のうちの２つを組み合わせたものよりも薄い、請求項１に記載のプリント回路基板。
【請求項１５】
前記電気化学セルは、前記絶縁層のうちの少なくとも１つよりも厚い、請求項１に記載のプリント回路基板。
【請求項１６】
前記電気化学セルは、前記絶縁層のうちの少なくとも１つよりも薄い、請求項１に記載のプリント回路基板。
【請求項１７】
前記電気化学セルは、前記絶縁層のうちの少なくとも１つとほぼ同じ厚さである、請求項１に記載のプリント回路基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（関連出願）
本願は、２００９年９月１日に出願した米国仮特許出願第６１／２３８，８８９号に関連し、米国特許法第１１９条（ｅ）のもとに、上記米国仮特許出願の利益を主張する。上記米国仮特許出願は参照により本明細書に完全に援用される。
【０００２】
（技術分野）
本発明の分野は、その層の間および／または層内のバッテリを含む、固体状態で薄膜の２次および１次電気化学素子を含有する、プリント回路基板である。
【背景技術】
【０００３】
（背景）
典型的な電気化学素子は、例えば、陽極、陰極、電解質、基板、電流コレクタ等の、多数の電気的活性層を備える。例えば、リチウムを備える陽極層等の、いくつかの層は、非常に環境に敏感である材料から成る。基板は、例えば、別々のバッテリ要素でなくてもよいが、代わりに、バッテリが取り付けられる、半導体素子またはプリント回路基板（ＰＣＢ）の半導体表面または伝導もしくは絶縁パッケージ表面によって提供されてもよい。そのようなバッテリは、環境に敏感な材料を保護するためにカプセル化を必要とする。一部のスキームは、金箔によるカプセル化等の、電気化学素子の敏感層をカプセル化する。他のスキームは、例えば、素子の外周を密閉する、金属およびプラスチックで作られているポーチで素子をカプセル化する。
【０００４】
特許文献１〜特許文献７および米国特許出願第６１／１７９，９５３号を含む本出願人の既に出願済みの特許および特許出願は、特定のバッテリおよびカプセル化設計および技法を提供し、上記の特許および特許出願参照することによりそれら全体が本明細書に援用される。これらの特許および出願は、例えば、プリント回路基板に組み込まれる場合に、利益を与え得るバッテリの種類を提供する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許第６，９１６，６７９号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２００６／２８６４４８号明細書
【特許文献３】米国特許出願公開第２００７／１８４３４５号明細書
【特許文献４】米国特許出願公開第２００７／２０２３９５号明細書
【特許文献５】米国特許出願公開第２００７／２６４５６４号明細書
【特許文献６】米国特許出願公開第２００８／２６１１０７号明細書
【特許文献７】米国特許出願公開第２００８／０２８６６５１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
硬質または可撓性のプリント回路基板（ＰＣＢ）の表面上の空間は、非常に限定されており、したがって貴重である。したがって、ＰＣＢ表面の空間を節約し、より良く利用するために、バッテリ等の電気化学セルをより効率的にＰＣＢの設計に組み込む必要がある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の種々の実施形態は、半導体素子またはＰＣＢ等の製品と組み合わせて、薄膜バッテリ等の組み合わされた電気化学セルの実用性を向上させることによって、先行技術および他の種々の技術を向上させる。本発明の特定の例示的な実施形態において、完全にカプセル化された、好ましくは、熱、圧力および水分弾性セルが、ＰＣＢ内に組み込まれてもよい。ＰＣＢおよびセルは、ＰＣＢ製造時に暴露され得るストレス環境にセルが耐えることを可能にするように組み込まれてもよい。種々の実施形態は、間隙、空隙、ポケット、空間または他の設計を介して、セルへの内部および／または外部アクセスを提供する。
【０００８】
本発明の特定の例示的な実施形態において、電気化学素子は、それらの完全にカプセル化された状態でＰＣＢまたは半導体素子内に組み込まれてもよい。しかしながら、ＰＣＢ内への電気化学素子の組込みは、物理的、化学的、および生物学的に有害な環境から電気化学素子を保護する。さらに、ＰＣＢ内への電気化学素子の組込みは、多くの電子用途のための基本的な電力装備の電子ビルディングブロックとして、より多くの機能性をＰＣＢに追加し得、かつＰＣＢをより有用にし得る。
【０００９】
本発明の特定の例示的な実施形態において、例えば、米国特許出願第１１／７４８，４７１号に開示されるようなＰＣＢの表面上ではなく、プリント回路基板内に、薄膜バッテリを含む電気化学セル等の電子モジュールおよび構成要素を挿入することによって、ＰＣＢ表面上の空間を節約することができる。
【００１０】
ＰＣＢを三次元的に使用すること、言い換えれば、電子素子をＰＣＢの表面に取り付けるのではなく、電気化学素子をＰＣＢ内に組み込むことで、単位フットプリントあたりの機能電子密度が増加することもまた考慮してもよい。
【００１１】
また、電子モジュールおよび構成要素をＰＣＢ内に挿入することは、例えば、機能性または負荷ＰＣＢの全断面の厚さを限定することによって有利であってもよい。組み込まれたＰＣＢの一部の用途は、体積および厚さが限られているため、ＰＣＢの厚さを限定することが、例えば、幾何学的な理由で好適であり得る。また、例えば、特に、振動、遠心力、および加速と併せて機械本体の運動量を減少させ、代わりに、その本体の所与の大半をその重心のより近くに配置するために、ＰＣＢの厚さを限定することが機械的な理由で好適であり得る。例えば、ＰＣＢ上に搭載される（例えば、端子の足部分が長いため、直径と比較して長い高さ軸を有する）長いコンデンサは、ＰＣＢからコンデンサを電気的に切断させる場合がある長期的振動に敏感であり得る。
【００１２】
ＰＣＢ上ではなくＰＣＢ内に電子構成要素を挿入することは、化学的、物理的および生物学的な外部要因に対して、この電子構成要素の頑健性を増加させ得る。例えば、電子構成要素を包囲するＰＣＢは、高湿度、水分、水、酸素、酸、および塩基による腐食、溶媒、紫外線放射、一時的な極（高または低）温度、傷をつける物体、機械的衝撃、ならびに微生物攻撃に対する、付加的なカプセル化または保護層として役立ってもよい。
【００１３】
さらに、電気化学セルまたは薄膜バッテリを提供して、すでにＰＣＢ内に挿入されている電子回路に接続させることは、この種類の電子構成要素の生産を単純化させ、かつＰＣＢに電子構成要素を取り付けるまたははんだ付けする際の人的ミスを防止し得る。したがって、組み込まれた電気化学セルまたは薄膜バッテリを有するＰＣＢは、家庭用およびミニ／マイクロエレクトロニクスを単純化させ、小型化させる電子回路のための基本的な電源装備の電子ビルディングブロックとして使用されてもよい。
【００１４】
本発明の特定の例示的な実施形態の目的は、例えば、ＰＣＢ内に埋め込まれる電気化学セルの外側への延在を、ＰＣＢ表面の部分領域に限定することを回避することである。代わりに、セルは、例えば、図面に示されるように、ＰＣＢの縁を越えて延在してもよい。この延在は、例えば、セルの接点または接触領域へのアクセスを容易にしてもよい。
【００１５】
本発明の特定の例示的な実施形態の別の目的は、特定の例示的な図に示されるように、全ての電気絶縁層を伴うＰＣＢを使用するのではなく、セルの上または下に少なくとも１つの導電層を伴うＰＣＢ内にセルを埋め込むことである。例えば、金属基板端子および金属カプセル化端子を伴うバッテリを含む実施形態は、薄膜バッテリ等のエネルギーセルの上および下に絶縁層を含む設計よりも好適であってもよい。
【００１６】
本発明の特定の例示的な実施形態の別の目的は、埋込セルの周囲のあらゆる潜在的な間隙を充填する必要を無くし、代わりに、例えば、その領域内の空隙空間を可能にすることである。この空隙は、例えば、セルまたはセルの特定部分へのアクセスまたは接触を可能にしてもよい。
【００１７】
本発明の特定の例示的な実施形態のさらに別の目的は、セルを埋め込むために、多数の電気絶縁層を使用するプリント回路基板構造を必要とすることを回避することがである。代わりに、例えば、セルは、単層プリント回路基板内に埋め込まれてもよい。この実施形態は、例えば、他の実施形態よりも単純化され、かつ薄くあり得るという理由で好適であってもよい。
【００１８】
例えば、ＰＣＢ内にセルまたは薄膜バッテリを挿入することには利益が多い。第１に、特定の化学的、物理的および生物学的なインパクトファクターからセルを保護する構築上の利益がある。第２に、そのような技法は、製品製造または組込みチェーン内の顧客が、ＰＣＢの表面のみに電気化学セルまたは薄膜バッテリを取り付けることができるような、別々のアイテムとしてＰＣＢおよび電気化学セルまたは薄膜バッテリを提供するよりも費用効率が高い。
【００１９】
本発明の例示的な実施形態は、導体トレースを備える２つの電気絶縁層を有する層のスタックを備え、電気絶縁層のそれぞれは、外周を有し、電気化学セルは、層の間に挿入され、電気化学セルの一部は、絶縁層のうちの１つの外周を越えて外側に延在する、プリント回路基板を含む。
【００２０】
本発明の別の例示的な実施形態は、導体トレースを含む２つの電気絶縁層を有する層のスタックと、導電層と、層のスタックに挿入される電気化学セルとを備え、電気化学セルは、層のスタックの導電層と電気絶縁層との間に埋め込まれる、プリント回路基板を含む。
【００２１】
本発明の別の例示的な実施形態は、導体トレースを含む複数の、例えば、２つの電気絶縁層を有する層のスタックと、複数の、例えば、２つの導電層と、層のスタックに挿入される電気化学セルとを備え、電気化学セルは、導電層の間に埋め込まれる、プリント回路基板を含む。
【００２２】
本発明の別の例示的な実施形態は、導体トレースを含む複数の、例えば、２つの電気絶縁層を有する層のスタックと、層のスタックに挿入される電気化学セルと、電気化学セルの縁に位置する間隙と、を備える、プリント回路基板を含む。
【００２３】
本発明の別の例示的な実施形態は、導体トレースを含む１つの電気絶縁層と、電気絶縁層の内部に位置する電気化学セルと、を備える、プリント回路基板を含む。
【００２４】
本発明の別の例示的な実施形態は、例えば、ＰＣＢの層の間に製造されるバッテリを含む。バッテリは、例えば、第１の電気接点と、第１の電気接点および第１の埋込導体と連結される接着層と、ＰＣＢ内に形成または配置されてもよい、第１の埋込導体を介して第１の電気接点と選択的に電気接触している少なくとも１つのバッテリセル構造と、を含んでもよい。
【００２５】
ＰＣＢと連結される接着層は、ＰＣＢの第１の電気接点との随意の選択的な電気接点を作成する、随意の第２の埋込導体等の１つを超える導体を有してもよい。接着層および少なくとも１つのバッテリセル構造は、ＰＣＢ内で挟持されてもよい。
【００２６】
第１の電気接点は、例えば、カプセル型金属を含んでもよい。接着層は、接着性材料、絶縁材料、プラスチック、ポリマー材料、ガラスおよび／または繊維ガラスであってもよい。絶縁補強層は、接着層内に埋め込まれてもよい。そのような補強層は、選択的に伝導性であってもよい。導体は、例えば、タブ、ワイヤ、金属片、金属リボン、多数のワイヤ、多数の金属片、多数の金属リボン、金網、穿孔金属、接着剤層に塗布される金属被覆またはディスクであってもよい。導体は、接着層内に織り込まれてもよく、接着層は、その中に埋込導体が織り込まれるスリットを含んでもよい。
【００２７】
バッテリセル構造は、陽極と、電解質と、陰極と、障壁層とを含んでもよい。陰極は、対流炉、高速熱アニール方法を使用して、あるいはレーザアニールおよび／または結晶化工程によって、例えば、全くアニールされなくてもよく、より低い温度でアニールされてもよく、またはより高い温度でアニールされてもよい。
【００２８】
本発明の別の例示的な実施形態は、順不同で、選択的に伝導性の接着層を作成するステップと、接着層を第１の接触層と連結するステップと、バッテリセル構造の第１の側面を、例えば、ＰＣＢ内に形成されるポケットと連結するステップと、バッテリセル構造をＰＣＢと連結するステップとを含む、薄膜バッテリを製造するための方法を含む。随意で、選択的に伝導性の接着層が、第１の接触層とＰＣＢとの間に電気接点を作成する付加的な位置で、接着層は、選択的に伝導性となってもよい。本発明のさらに別の例示的な実施形態は、順不同で、選択的に伝導性の接着層を作成するステップと、接着層を第１の接触層と連結するステップと、バッテリセルの第１の側面も第１の接触層と連結するステップと、接着層をＰＣＢ内の内部表面と連結するステップと、バッテリセル構造の第２の側面を接着層と連結するステップとを含む、薄膜バッテリを製造するための方法を含む。
【００２９】
この例示的な実施形態の実施例は、陽極、陰極および電解質層を伴うバッテリセル構造を作成するステップと、接着層内に少なくとも１つの導体を埋め込むステップと、接着層を通して少なくとも１つの導線を織り込むステップであって、導線の選択的部分は、露出される、ステップと、接着層を加熱し、接着層内の導体を圧縮するステップと、絶縁材料でバッテリを絶縁するステップとを含んでもよい。この例示的な実施形態は、接着層内に埋め込まれる絶縁補強層を提供するステップを含んでもよい。補強層は、選択的に伝導性であってもよい。
【００３０】
本発明のさらに別の例示的な実施形態は、例えば、バッテリセル構造の第１の側面が、少なくともＰＣＢの内部表面と直接機械的に接触している、ＰＣＢ内のバッテリを含む。この例示的な実施形態は、第１の電気接点と、第１の電気接点および第１の埋込導体と連結される接着層と、第１の埋込導体を介して第１の電気接点と選択的に電気接触している少なくとも１つのバッテリセル構造と、第１の電気接点と連結され、第１の電気接点およびプリント回路基板と選択的に電気接触している第２の埋込導体を備える、接着層と、を含む。接着層および少なくとも１つのバッテリセル構造は、第１の接触層とＰＣＢとの間で挟持される。
【００３１】
本発明の別の例示的な実施形態は、バッテリセル構造が、少なくとも接着層によって機械的に分離されている（かつ内部ＰＣＢ表面と直接機械的に接触していない）、ＰＣＢ内のバッテリを含む。例示的な実施形態は、第１の電気接点と、第１の電気接点および第１の埋込導体と連結される接着層と、第１の埋込導体を介して第１の電気接点と選択的に電気接触している少なくとも１つのバッテリセル構造と、ＰＣＢと連結され、第１の電気接点とのＰＣＢの随意の選択的な電気接点を作成する、接着層内の随意の第２の埋込導体を有する、接着層とを含む。接着層および少なくとも１つのバッテリセル構造は、第１の接触層とＰＣＢの内部表面との間で挟持される。
【００３２】
本発明の別の例示的な実施形態において、薄膜バッテリを製造するための方法は、選択的に伝導性の接着層を作成するステップと、接着層を第１の接触層と連結するステップと、バッテリセル構造の第１の側面を、例えば、ＰＣＢの層の内部表面と連結するステップと、バッテリセル構造の第２の側面を接着層と連結するステップとを含む。
【００３３】
本発明のさらに別の例示的な実施形態において、薄膜バッテリを製造するための方法は、選択的に伝導性の接着層を作成するステップと、接着層を第１の接触層と連結するステップと、バッテリセル構造の第１の側面を第１の接触層と連結するステップと、バッテリセル構造の第２の側面を選択的に伝導性の接着層と連結するステップと、接着層を、例えば、ＰＣＢの層と連結するステップとを含む。
【００３４】
本発明の別の例示的な実施形態は、バッテリセルとＰＣＢとの間の電気接続を含む。バッテリセルと、例えば、ＰＣＢ内の層の内部表面との間の電気接続は、直接的な物理的接触によって、またはワイヤボンディングによって行われてもよい。
【００３５】
本発明の別の例示的な実施形態において、ＰＣＢ内への、またはＰＣＢ内の伝導または絶縁表面内へのその組込みに先立って、バッテリは、個別素子として製造され、次いで、半導体素子の内側のその基板およびそのカプセル化とともに、まとめて組み込まれてもよい。
【００３６】
本発明の別の実施形態は、ＰＣＢの内部を通ってＰＣＢの表面に至る、ＰＣＢ内の多数のバッテリセル積層間の電気接続を含む。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】図１Ａは、セルの縁がＰＣＢの縁を越えて延在している、ＰＣＢ内に埋め込まれる電気化学セルを含む本発明の例示的な実施形態の上下図を示す。図１Ｂは、セルの縁がＰＣＢの縁を越えて延在している、ＰＣＢ内に埋め込まれる電気化学セルを含む本発明の例示的な実施形態の一部の拡大側断面図を示す。図１Ｃは、間隙または空間を形成するようにＰＣＢの一部が除去されている、ＰＣＢ内に埋め込まれる電気化学セルを含む本発明の例示的な実施形態の一部の拡大側断面図を示す。図１Ｄは、セルの一部を露出するようにＰＣＢの一部が除去されている、ＰＣＢ内に埋め込まれる電気化学セルを含む本発明の例示的な実施形態の一部の拡大側断面図を示す。
【図２】図２は、ポケットが埋込電気化学セルの両側にある、電気化学セルを含む３層ＰＣＢを含む本発明の実施形態の側断面図を示す。
【図３】図３は、ポケットが埋込電気化学セルの両側にある、埋込電気化学セルを含む多層ＰＣＢを含む本発明の例示的な実施形態の側断面図を示す。
【図４】図４は、電気化学セルと、ＰＣＢの上部または下部のどちらかとの間の伝導層を含む本発明の例示的な実施形態の側断面図を示す。
【図５】図５Ａは、導電層が、セルの上部および下部にあり、かつＰＣＢの絶縁層と接触している、電気化学セルを含む本発明の例示的な実施形態の側断面図を示す。図５Ｂは、導電層が２つの部分に分割され、一方の部分はセルの下部にあり、第２の部分はワイヤボンディングによって電気化学セルに電気的に接続されている、電気化学セルを含む本発明の例示的な実施形態の側断面図を示す。図５Ｃは、導電層がセルの下部で２つの部分に分割され、一方の部分はセルと接触し、第２の部分はセルから物理的に絶縁されるが、ワイヤボンディングによって電気化学セルに電気的に接続されている、電気化学セルを含む本発明の例示的な実施形態の側断面図を示す。
【図６】図６Ａは、ＰＣＢおよび埋込電気化学セルを含む本発明の例示的な実施形態の上下図を示す。図６Ｂは、ＰＣＢの縁を越えて延在する埋込電気化学セルを伴う、ＰＣＢを含む本発明の例示的な実施形態の一部の拡大側断面図を示す。図６Ｃは、ＰＣＢの縁と同一平面上にある埋込電気化学セルを伴う、ＰＣＢを含む本発明の例示的な実施形態の一部の拡大側断面図を示す。図６Ｄは、セルの一部を露出するようにＰＣＢの一部が除去されている、ＰＣＢおよび埋込電気化学セルを含む本発明の例示的な実施形態の一部の拡大側断面図を示す。
【図７】図７Ａは、ＰＣＢおよび埋込電気化学セルならびに電気化学セルとＰＣＢとの間の伝導層を含む本発明の例示的な実施形態の上下図を示す。図７Ｂは、セルの縁がＰＣＢの縁を越えて延在する、ＰＣＢおよび埋込電気化学セルならびにＰＣＢ上の導体を含む本発明の例示的な実施形態の一部の拡大側断面図を示す。図７Ｃは、間隙または空間を形成するようにＰＣＢの一部が除去されている、ＰＣＢおよび埋込電気化学セルならびに電気化学セルとＰＣＢとの間の伝導層を含む本発明の例示的な実施形態の一部の拡大側断面図を示す。図７Ｄは、セルの一部を露出するようにＰＣＢの一部が除去されている、ＰＣＢおよび埋込電気化学セルならびに電気化学セルとＰＣＢとの間の伝導層を含む本発明の例示的な実施形態の一部の拡大側断面図を示す。
【図８Ａ】図８Ａは、ＰＣＢおよび電気化学セルを含む本発明の例示的な実施形態の断面図を示し、セルの一部はＰＣＢ内に埋め込まれ、セルの一部は外部からアクセス可能である。
【図８Ｂ】図８Ｂは、ＰＣＢ内に全体的に埋め込まれた電気化学セルを含む本発明の例示的な実施形態の断面図を示す。
【図８Ｃ】図８Ｃは、電気化学セルがＰＣＢの１つを超える側面から外部からアクセス可能である、ＰＣＢを含む本発明の例示的な実施形態の断面図を示す。
【図８Ｄ】図８Ｄ、８Ｅ、８Ｆ、８Ｇ、８Ｈ、８Ｉ、８Ｊおよび８Ｋは、電気化学セルがＰＣＢ内に埋め込まれている、本発明の例示的な実施形態を示す。
【図８Ｅ】図８Ｄ、８Ｅ、８Ｆ、８Ｇ、８Ｈ、８Ｉ、８Ｊおよび８Ｋは、電気化学セルがＰＣＢ内に埋め込まれている、本発明の例示的な実施形態を示す。
【図８Ｆ】図８Ｄ、８Ｅ、８Ｆ、８Ｇ、８Ｈ、８Ｉ、８Ｊおよび８Ｋは、電気化学セルがＰＣＢ内に埋め込まれている、本発明の例示的な実施形態を示す。
【図８Ｇ】図８Ｄ、８Ｅ、８Ｆ、８Ｇ、８Ｈ、８Ｉ、８Ｊおよび８Ｋは、電気化学セルがＰＣＢ内に埋め込まれている、本発明の例示的な実施形態を示す。
【図８Ｈ】図８Ｄ、８Ｅ、８Ｆ、８Ｇ、８Ｈ、８Ｉ、８Ｊおよび８Ｋは、電気化学セルがＰＣＢ内に埋め込まれている、本発明の例示的な実施形態を示す。
【図８Ｉ】図８Ｄ、８Ｅ、８Ｆ、８Ｇ、８Ｈ、８Ｉ、８Ｊおよび８Ｋは、電気化学セルがＰＣＢ内に埋め込まれている、本発明の例示的な実施形態を示す。
【図８Ｊ】図８Ｄ、８Ｅ、８Ｆ、８Ｇ、８Ｈ、８Ｉ、８Ｊおよび８Ｋは、電気化学セルがＰＣＢ内に埋め込まれている、本発明の例示的な実施形態を示す。
【図８Ｋ】図８Ｄ、８Ｅ、８Ｆ、８Ｇ、８Ｈ、８Ｉ、８Ｊおよび８Ｋは、電気化学セルがＰＣＢ内に埋め込まれている、本発明の例示的な実施形態を示す。
【発明を実施するための形態】
【００３８】
本発明は、本明細書で説明される特定の方法、化合物、材料、製造技法、使用法、および用途が様々であってもよいため、それらに限定されない。本明細書で使用される用語は、特定の実施形態を説明する目的のみで使用され、本発明の範囲を限定することを目的としない。「１つの」および「その」といった単数形は、文脈が明確に他の意味を定めない限り、複数形の言及を含む。したがって、例えば、「１つの要素」への言及は、１つ以上の要素への言及であり、当業者に既知であるその同等物を含む。同様に、別の例として、「１つのステップ」または「１つの手段」への言及は、１つ以上のステップまたは手段への言及であり、サブステップよび従属手段を含んでもよい。使用される全ての接続詞は、可能な限り包含的な意味で理解されるものである。したがって、「または」という単語は、文脈が明確に他の意味を必要としない限り、論理的な「排他的または」よりもむしろ、論理的な「または」の定義を有するものとして理解されるべきである。説明される構造は、そのような構造の機能的同等物も参照すると理解されるものである。近似を表現すると解釈されてもよい言葉は、文脈が明確に他の意味を定めない限り、そのように理解されるべきである。
【００３９】
他に定義されない限り、本明細書で使用される全ての技術および科学用語は、本発明が属する技術分野の当業者によって一般的に理解されるのと同じ意味を持つ。好ましい方法、技法、素子、および材料を説明するが、本明細書で説明されるものと同様または同等の任意の方法、技法、素子、または材料が、本発明の実践および試験で使用されてもよい。本明細書で説明される構造は、そのような構造の機能的同等物も参照すると理解されるものである。
【００４０】
識別される全ての特許および他の出版物は、説明および開示する目的で、参照することにより本明細書に組み込まれ、例えば、そのような出版物で説明されている用語が、本発明に関連して使用される場合がある。これらの出版物は、本願の出願日の前に、それらの開示のためだけに提供されている。この点で、以前の発明により、または任意の他の理由により、本発明者らがそのような開示に先行する権利がないという承認として、何事も解釈されるべきではない。
【００４１】
図１Ａ、１Ｂ、１Ｃ、および１Ｄは、本発明の種々の代替的な例示的な実施形態、素子１００を示す。図１Ａは、セル１０２の縁がＰＣＢ１０１の縁を超えて延在している、プリント回路基板（ＰＣＢ）１０１内に埋め込まれる電気化学セル１０２を含む例示的な素子１００の上下図を示す。本発明のＰＣＢ１０１または他の例示的な実施形態は、多数の、例えば、２つ、３つ、４つ、５つ、６つ、７つ、８つ以上の層の積層を含んでもよい。例えば、図１Ａに示されるように、ＰＣＢ１０１は、２つの層を含む。電気化学セル１０２はまた、多数の層を有してもよい。例えば、図１Ａに示されるように、電気化学セル１０２は、２つの層、最上層１０２ａおよび最下層１０２ｂを含む。最上層１０２ａは、例えば、電気化学セル１０２の正端子であってもよく、最下層１０２ｂは、例えば、電気化学セル１０２の負端子であってもよい。本発明の別の例示的な実施形態において、最上層１０２ａは、例えば、電気化学セル１０２の負端子であってもよく、最下層１０２ｂは、例えば、電気化学セル１０２の正端子であってもよい。図１Ｂは、ＰＣＢ１０１の縁を越えて延在するセル１０２を含む素子１００の拡大側面図を示す。ＰＣＢ１０１は、例えば、少なくとも部分的に、難燃剤４（ＦＲ４）で構成されてもよく、あるいは、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ＦＲ−１、ＣＥＭ−１（コットン紙およびエポキシ）、ＣＥＭ−２（コットン紙およびエポキシ）、ＣＥＭ−３（織りガラスおよびエポキシ）、ＣＥＭ−４（織りガラスおよびエポキシ）、ＣＥＭ−５（織りガラスおよびポリエステル）、ＦＲ−２（フェノールコットン紙）、ＦＲ−３（コットン紙およびエポキシ）、ＦＲ−５（織りガラスおよびエポキシ）、ＦＲ−６（無光沢ガラスおよびポリエステル）、Ｇ−１０（織りガラスおよびエポキシ）および／または、例えば、Ｋａｐｔｏｎ（登録商標）等のポリイミド等の、当技術分野において既知の他のＰＣＢ層材料で構成されてもよい。ＰＣＢ１０１は、ＰＣＢの一方または両方の外面上に伝導トレース１０３を含んでもよい。伝導トレース１０３は、例えば、銅箔で構成されてもよい。伝導トレース１０３は、図１Ａに示されるように、単一表面実装等の表面実装で含まれてもよい。図１Ｃは、ＰＣＢ１０１に間隙１１４を形成するように除去されるＰＣＢ１０１の一部を含む、素子１００の別の例示的な拡大側面図を示す。図１Ｄは、セル１０２の一部を露出するように一部が除去されている、ＰＣＢ１０１の一部を含む素子１００の拡大図を示す。図１Ｂ、１Ｃおよび１Ｄはまた、多数の、例えば、２つの層を伴う電気化学セル１０２を示す。しかしながら、本発明の例示的な実施形態はまた、２つを超える、例えば、３つ、４つ、５つ、６つ、７つ、８つ以上の層を伴う電気化学セルを含んでもよい。さらに、図１Ａ、１Ｂ、１Ｃおよび１Ｄに示される例示的な実施形態はまた、多数の、例えば、２つ、３つ、４つ、５つ、６つ、７つ、８つ以上の電気化学セルを含んでもよい。
【００４２】
図２は、ポケット２０６を伴う３層ＰＣＢ１０１を含む、本発明の例示的な実施形態の側断面図、素子２００を示す。ポケット２０６は、絶縁ＦＲ４層内に埋め込まれてもよい電気化学セル１０２の両側にある空間の間隙を有する。ポケット２０６は、埋込電気化学セル１０２の１つ以上の側面上にあってもよい。ＰＣＢ１０１は、ＰＣＢ１０１の一方または両方の外側上にトレースおよび／または構成要素を含んでもよい。スペーサ２０５は、ＰＣＢ１０１の一部を占め、ＰＣＢ１０１の最上層をＰＣＢ１０１の最下層に接続する。スペーサ２０５は、さらに、素子２００への支持および安定性を定義および／または提供してもよい。ポケット２０６は、例えば、アセンブリ内のストレスを減少し、緩衝領域を提供し、他の構成要素または設計特性に場所を提供し、および／または熱制御能力を提供してもよい。
【００４３】
図３は、代替的ＰＣＢ１０１およびポケット２０６構造を含む、本発明の例示的な実施形態を示す。ＰＣＢ１０１は、電気化学セル１０２の周囲に配置される２つの層を含んでもよい。したがって、ＰＣＢ１０１の２つの層の内側は、湾曲した構造を有し、ポケット２０６に同様に湾曲した外部形状を含ませる。さらに、図３に示されるように、電気化学セル１０２は、ＰＣＢ１０１の層より薄くてもよく、ＰＣＢ１０１の多数の層の組み合わせより薄くてもよい。しかしながら、本発明の代替的な例示的な実施形態によると、電気化学セル１０２は、ＰＣＢ１０１の層より厚くてもよく、ＰＣＢ１０１の多数の、例えば、２つ、３つ、４つ、５つ、６つ、７つ、８つ以上の層の組み合わせより厚くてもよく、またはＰＣＢ１０１の１つもしくは多数の層とほぼ同じ厚さであってもよい。
【００４４】
図４は、伝導接触パッド、伝導線、伝導ビアまたは別の伝導層を伴う伝導表面を含む本発明の例示的な実施形態、素子４００を示す。伝導表面がＰＣＢの内層上に形成されてもよいＰＣＢ等、伝導表面はまた、絶縁表面と一緒に形成されてもよい。図４は、例えば、内部絶縁ＦＲ４層内または上に埋め込まれた埋込導体４０７を示す。埋込導体４０７は、ＰＣＢ１０１の縁において外部からアクセス可能であってもよい。埋込導体４０７は、ＰＣＢ１０１の縁に至るまで延在しなくてもよく、したがって、例えば、ＰＣＢ内部電気相互接続として機能してもよい。埋込導体４０７は、例えば、選択的に伝導性の接着層として機能してもよい。選択的に伝導性の接着層は、例えば、特定の点（図示せず）において、セル１０２から接着層を通ってセル接点までの、または１つ以上のトレースまでの伝導を可能にしてもよい。選択的に伝導性の接着層はまた、セル接点とＰＣＢ１０１との間の絶縁を提供してもよい。他の種類のバッテリセル構造がまた使用されてもよい。電気化学セル１０２は、いくつかの形をとってもよい。例えば、セルは、完全にパッケージ化されなくてもよく、かつ（参照することによりその全体が本明細書に組み込まれる）米国特許公開第２００７／２６４５６４号の図１および／または図３に説明されるセルと同様であってもよく、あるいは、完全にパッケージ化されてもよく、かつ、例えば、（参照することによりその全体が本明細書に組み込まれる）米国特許公開第２００８／２６１１０７号の図２０に説明されるセルと同様であってもよい。
【００４５】
図５Ａ、５Ｂおよび５Ｃは、本発明の種々の代替的な例示的な実施形態、素子５００を示す。図５Ａは、第１または第２の接点（図示せず）とＰＣＢ１０１との間に電気接点を選択的に作成する第２の埋込導体５０８を伴う、電気化学セル１０２を含む、本発明の例示的な実施形態を示す。ＰＣＢ１０１の伝導または絶縁表面は、第１の埋込導体４０７および第２の埋込導体５０８がＰＣＢ１０１と接触する接点の間で、選択的に絶縁であってもよい。埋込導体４０７および５０８は、ＰＣＢ１０１の縁において外部からアクセス可能であってもよい。代替的に、埋込導体４０７および５０８は、ＰＣＢ１０１の縁まで延在しなくてもよく、代わりに、ＰＣＢ内部電気相互接続の役割を果たしてもよい。本発明の例示的な実施形態はまた、２つを超える、例えば、３つ、４つ、５つ、６つ、７つ、８つ以上の埋込導体を含んでもよい。
【００４６】
図５Ｂおよび５Ｃは、埋込導体５０８およびマイクロワイヤボンディング５０９の形の第２の導体を含む、本発明の例示的な実施形態を示す。図５０８Ｂは、２つの部分、導体部分５０８ａおよび５０８ｂに分割される埋込導体５０８を示す。導体部分５０８ｂは、電気化学セル１０２に連結され、かつ電気的に接続され、導体部分５０８ａは、電気化学セル１０２から物理的に分離されてもよい。導体部分５０８ａは、ワイヤボンディング５０９を介して、電気化学セル１０２に選択的に電気的に接続される。しかしながら、導体部分５０８ａは、例えば、種々の他の種々の金属導体等の他の方法を介して、電気化学セル１０２に電気的に接続されてもよい。図５Ｃは、部分５０８ａおよび５０８ｂに分割される埋込導体５０８を示し、導体部分５０８ａは、図５Ｂとは異なり、電気化学セル１０２の下に延在する。導体部分５０８ａは、絶縁体５１０によって電気化学セル１０２から物理的に分離される。
【００４７】
本発明の特定の実施形態によると、第１の埋込導体４０７および第２の埋込導体５０８は、多くの異なる方法で接着層内に配置されてもよい。例えば、埋込導体は、金属タブ、金属線、金属片、金属リボン、多数の金属線、多数の金属片、多数の金属リボン、金網、穿孔金属箔、穿孔金属、接着剤層に塗布される金属被覆、金属ディスク、金属被覆された繊維ガラス等の様々な材料から成ってもよく、またはそれらの組み合わせが使用されてもよい。第１の埋込導体４０７および第２の埋込導体５０８は、セル１０２とセル接点との間に電気伝導を提供してもよい。接着層は、電気接点とＰＣＢ１０１との間に絶縁を提供してもよい。埋込導体４０７および５０８は、スリット、穴または他の手段を通して、接着層内に織り込まれてよく、または配置されてもよい。埋込導体４０７および５０８は、例えば、接着層内に埋め込まれるディスクであってもよい。
【００４８】
本発明の別の例示的な実施形態において、補強層が接着層内に配置されてもよい。例えば、繊維ガラス材料は、接着層の一方の表面の半分を覆ってもよく、接着層を通して織り込まれてもよく、および／または接着層の他方の半分を覆ってもよい。伝導被覆を伴わない、そのような繊維ガラスの層は、電気化学素子および他の材料を絶縁する。繊維ガラスは、局所領域において伝導性材料で被覆されてもよい。そのような伝導被覆は、接着層の頂面および底面上の繊維ガラス領域を被覆することができる。繊維ガラスは、上部接点とセルとの間で伝導してもよい。伝導性材料は、インクジェット、シルクスクリーン、プラズマ堆積、電子ビーム堆積、噴霧、および／またはブラシ方法を使用して、繊維ガラス上に配置されてもよい。補強層は、例えば、Ｋｅｖｌａｒ（登録商標）、プラスチックまたはガラス等、繊維ガラス以外の材料を含んでもよい。
【００４９】
本発明の別の例示的な実施形態において、電気接点は、接着層内の穴を通して、バッテリセル構造と選択的に接触してもよい。接着層およびバッテリセル構造は、例えば、接点を作成するようにともに押し付けられてもよい。代替的に、層は、例えば、伝導接着剤もしくはインク、はんだ、溶接、ワイヤボンド、異方性導電膜またはリチウムを、接着層内の穴の中または付近に塗布することによって、相互に接触してもよい。
【００５０】
埋込導体４０７および５０８および／または電気接点は、例えば、金、白金、ステンレス鋼、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、ジルコニウム銅、ニオブ、モリブデン、ハフニウム、タンタル、タングステン、アルミニウム、インジウム、スズ、銀、炭素、青銅、黄銅、ベリリウム、またはそれらの酸化物、窒化物、炭化物、および合金から成ってもよい。電気接点は、金属箔、ステンレス鋼または必要量の伝導性を有する任意の他の金属物質から成ってもよい。金属箔は、銅、ニッケルまたはスズ等のはんだ付け可能な合金を含んでもよい。電気接点は、例えば、厚さ１００ミクロン未満、厚さ５０ミクロン未満、または厚さ２５ミクロン未満であってもよい。
【００５１】
本発明の例示的な実施形態に示される電気化学セル１０２は、陰極、陽極および電解質を含んでもよい。例えば、陰極は、ＬｉＣｏＯ２を含んでもよく、陽極は、リチウムを含んでもよく、電解質は、ＬＩＰＯＮを含んでもよい。必要に応じて他の電気化学素子が使用されてもよい。
【００５２】
電気化学セル１０２は、様々な方法でＰＣＢ１０１の内部層または表面と連結されてもよい。本発明の例示的な実施形態において、電気化学セル１０２は、例えば、接着剤、はんだ、溶接、ワイヤボンドまたは異方性導電膜を使用して、ＰＣＢ１０１の内部層と連結されてもよい。接着剤は、セメント接着剤または樹脂接着剤等の、電気化学セル１０２をＰＣＢ１０１に付着させ得る任意の材料であってもよい。接着剤は、電気化学セル１０２からＰＣＢ１０１への間に機械的および／または化学的接着を作成してもよい。接着剤はまた、別の材料または層を導入することなく、電気化学セル１０２をＰＣＢ１０１に化学的に接着させることを含んでもよい。接着剤は、電気的に伝導性、半伝導性または絶縁性であってもよい。
【００５３】
本発明の特定の例示的な実施形態において、ＰＣＢ１０１の伝導または絶縁内部層表面を含む、ＰＣＢの内部層は、電気化学セルの基板の役割を果たす。電気化学セル１０２は、ＰＣＢ１０１の層表面上に堆積されてもよく、あるいは位置付けられてもよい。電気化学セル１０２はまた、例えば、接着剤、はんだ、溶接、ワイヤボンドまたは異方性導電膜を使用して、ＰＣＢ１０１の内部層表面に連結されてもよい。
【００５４】
本発明の例示的な実施形態において、ＬｉＣｏＯ２陰極層は、例えば、ＰＣＢ１０１の内部層上に堆積されてもよい。当技術分野において既知の堆積技法は、反応性または非反応性ＲＦマグネトロンスパッタリング、反応性または非反応性パルスＤＣマグネトロンスパッタリング、反応性または非反応性ＤＣダイオードスパッタリング、反応性または非反応性熱（抵抗）蒸着、反応性または非反応性電子ビーム蒸着、イオンビーム支援堆積、プラズマ化学気相成長法、スピン被覆、インクジェット、溶射堆積および浸漬被覆を含むがこれらに限定されない。製造工程の一環として、例えば、陰極は、低温（例えば、＜４００℃）での熱アニール、高温（例えば、＞４００℃）での熱アニール、高速熱アニールまたは対流炉を使用してアニールされてもよい。別のまたは代替的な堆積後アニールは、その電気化学ポテンシャル、エネルギー、電力性能、ならびに電気化学および熱サイクリングに関する可逆格子定数等の、その化学的性質を微調整し、最適化できるように、ＬｉＣｏＯ２層の結晶化を向上させるレーザアニールを含んでもよい。
【００５５】
陰極層の堆積後、当業者には既知の多くの工程のいずれかを使用して、電解質は、陰極、続いて陽極の上に堆積されてもよい。金属カプセル化層は、例えば、図５に示されるような埋込導体４０７および／または埋込導体５０８を使用する代わりに、電気化学セル自体の上に形成されてもよい。金属カプセル化層は、金属箔、ステンレス鋼または必要量の伝導性を有する任意の他の金属物質で作られてもよい。金属箔は、例えば、銅、ニッケルまたはスズの合金等のはんだ付け可能な合金を含んでもよい。
【００５６】
図６Ａ、６Ｂ、６Ｃおよび６Ｄは、本発明の種々の代替的な例示的な実施形態、素子６００を示す。素子６００は、ＰＣＢ１０１上に埋め込まれる電気化学セル１０２を含む、本発明の例示的な実施形態を含む。図６Ｂは、例えば、ＰＣＢ１０１の縁を越えて延在する電気化学セル１０２を示す。図６Ｃは、ＰＣＢ１０１の縁と同一平面上にある電気化学セル１０２の最上層を示す。さらに、例えば、素子１００とは異なり、実施形態は、電気化学セル、例えば、マイクロエネルギーセル（ＭＥＣ）上にＰＣＢ層を含まなくてもよい。特定の例示的な実施形態は、ＰＣＢの層に開放ＰＣＢまたは拡張開口部を含んでもよい。図６Ｄは、例えば、ＰＣＢの一部または全表面が露出されるようにするための、ＰＣＢ内の空間を示す。
【００５７】
図７Ａ−７Ｄは、本発明の種々の代替的な例示的な実施形態、素子７００を示す。素子７００は、埋込ＭＥＣとともに、ＰＣＢ層１０１上に導体５０８を含む。ＰＣＢ１０１は、その側面の一方または両側にトレースおよび構成要素を含んでもよい。これらの例示的な実施形態はまた、図６Ａ−６Ｄに示されるような、例えば、開放ＰＣＢ構造を含んでもよい。
【００５８】
図８Ａ−８Ｋは、本発明の種々の代替的な例示的な実施形態、素子８００を示す。図８Ａは、断面図であり、セル１０２の一部がＰＣＢ１０１内に埋め込まれ、セル１０２の一部が外部からアクセス可能となるように配置された電気化学セル１０２を示す。図８Ｂは、断面図であり、ＰＣＢ１０１内に全体的に埋め込まれた電気化学セル１０２を示す。図８Ｃは、断面図であり、ＰＣＢ１０１の１つを越える側面から外部からアクセス可能な電気化学セル１０２を示す。電気化学セル１０２は、例えば、３つまたは４つの側面においてＰＣＢから延在してもよい。図８Ｄは、断面図であり、電気化学セル１０２がＰＣＢ開口部８１５を通ってＰＣＢ１０１の上部から外部からアクセス可能となり得るような開放構造を有するＰＣＢ１０１を示す。図８Ｅは、断面図であり、ＰＣＢ１０１の開口部８１５が、電気化学セル１０２の幅より狭い幅であってもよいことを示す。セル１０２がＰＣＢ１０１の端部内に部分的に埋め込まれるように、ＰＣＢ１０１は、セル１０２の端部の上に延在する。図８Ｆは、断面図であり、ＰＣＢ１０１の開口部８１５が、電気化学セル１０２の幅より広い幅であってもよいことを示す。セル１０２の端部がＰＣＢ１０１と接触せず、セル１０２とＰＣＢ１０１との間に間隙８１６を作成するように、電気化学セル１０２は、ＰＣＢ１０１の開口部８１５内に配置されてもよい。電気化学セル１０２およびＰＣＢ１０１は、種々の代替的な構成で接続されてもよく、それらの実施例を図８Ｇ−８Ｋに示し、それらは平面図の形式である。
【００５９】
アクセスポートまたはのぞき穴を提供してもよい、本発明の種々の例示的な実施形態の場合のように、埋込セルの一部の露出された表面は、絶縁材料で、あるいはその後絶縁材料または絶縁層で覆われる伝導性材料で、充填および／または覆われてもよい。穴または空隙は、セルへの直接外部アクセスを減少または除去するように、覆われてもよいか、または充填されてもよい。
【００６０】
図１Ａ−８Ｋに示される本発明の種々の例示的な実施形態に示されるもの以外の電気化学素子が、必要に応じて使用されてもよい。
電気化学素子はまた、例えば、窒化ジルコニウムとジルコニウムまたは窒化チタンとチタンが交互に重なった複数の層を含んでもよい、セラミック金属複合積層を備えてもよいカプセル化を含んでもよい。
【００６１】
ＬｉＣｏＯ２を堆積するのに使用される方法の実施例は、参照することによりその全体が本明細書に組み込まれる、米国特許公開第２００７／０１２５６３８号に開示される。
【００６２】
ＰＣＢの伝導または絶縁表面を含む、本発明の種々の例示的な実施形態におけるＰＣＢの層は、メモリ素子、プロセッサまたは他の論理回路を含んでもよい任意の集積回路の一部であってもよい。
【００６３】
本発明の種々の例示的な実施形態におけるＰＣＢは、例えば、多数の回路基板層を含んでもよい可撓性回路基板を含んでもよい。多数の回路基板層は、トレース、片面または両面の半硬質膜および／または例えば、Ｋａｐｔｏｎ（登録商標）等のポリイミド膜を含んでも、含まなくてもよい。
【００６４】
本発明の特定の実施形態において、本発明の種々の例示的な実施形態におけるＰＣＢの層は、例えば、薄膜バッテリ等の電気化学セルのためのカプセル化の役割を果たしてもよい。
【００６５】
本発明の例示的な実施形態はまた、相互の上に積層される多数の電気化学素子、相互の上に積層される多数のＰＣＢ、および／または伝導もしくは絶縁表面もしくは層のいずれかを有するＰＣＢ内の多数の層を含んでもよい。
【００６６】
本発明の例示的な実施形態はまた、電気接点の上に積層される多数の電気化学素子を含んでもよい。
【００６７】
本発明の例示的な実施形態は、電気化学素子の化学的および機械的に敏感な層をカプセル化するための代替的な方法を提供する。本発明の例示的な実施形態はまた、電気化学素子をカプセル化する金属およびプラスチックポーチ内のガスを膨張および／または収縮させる温度変化に関連する問題を回避し、かつ金属およびプラスチックポーチの密封の破裂を回避する。
【００６８】
本発明の例示的な実施形態はまた、１つ以上のＰＣＢ内に直接製造される再充電可能な２次バッテリを提供する。そのようなバッテリは、回路の電源が切られている時に電力を提供し、かつ電力の再開時に素早く簡単に再充電される。重要な回路は、そのようなバッテリによって提供される局所的電力により利益を得てもよい。例示的な実施形態はまた、より安価でより信頼性の高いカプセル化と、既知のカプセル化方法よりも大幅に薄いカプセル化を含む導電性接点を提供するためのより良好なアプローチとを提供する。例示的な実施形態はまた、その上に連結される薄膜可撓性バッテリを有する可撓性集積回路および／または可撓性プリント回路基板を提供する。
【００６９】
電気化学素子は、ＰＣＢ内に（例えば、その自らの基板および自らのカプセル化で完全にパッケージ化された）個別素子を備えてもよい。例えば、ＰＣＢ内へのその組込みに先立って、電気化学素子は、個別素子として製造され、次いで、その基板およびカプセル化とともに、まとめて組み込まれてもよい。
【００７０】
本明細書で説明される本発明の実施形態は、例示的にすぎない。当業者であれば、本開示の範囲内となることを目的とする、本明細書で具体的に説明される実施形態からの変化例を認識してもよい。したがって、本発明は、以下の請求項のみによって限定される。本発明は、添付の請求項およびそれらの同等物の範囲内に入るならば、そのような変化例を網羅する。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図６】
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【図７】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図８Ｃ】
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【図８Ｄ】
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【図８Ｅ】
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【図８Ｆ】
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【図８Ｇ】
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【図８Ｈ】
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【図８Ｉ】
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【図８Ｊ】
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【図８Ｋ】
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