(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光硬化性樹脂を、平坦面と当該平坦面に成形面を有する成形型に滴下するディスペンス工程と、
前記成形型とガラス基板との一方を他方に押圧するインプリント工程と、
前記インプリント工程後、前記光硬化性樹脂に対して光照射する露光工程と、
前記ガラス基板を前記成形型から離型する離型工程とを備え、
前記ガラス基板の第１の位置でディスペンス工程から離型工程までの処理を１サイクルとして行い、その後、前記ガラス基板に対して前記成形型を相対的に移動させ、前記ガラス基板の第２の位置で上記１サイクルを再び行い、これらを複数回繰り返して、前記ガラス基板に樹脂製のレンズ部を順次形成するウエハレンズの製造方法において、
１サイクル目の離型工程と２サイクル目のディスペンス工程との間で、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置と前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側の面である第１ガラス位置との間の距離を測定する工程を有し、
２サイクル目以降のインプリント工程では、前記測定工程で測定された距離に基づき、インプリント工程におけるガラス基板に対する成形型の押圧位置を補正することを特徴とするウエハレンズの製造方法。
【請求項２】
前記測定工程で測定された距離に基づき、更に前記樹脂の前記成形型への滴下量の補正を行うことを特徴とする請求項１に記載のウエハレンズの製造方法。
【請求項３】
前記距離の測定は、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置と前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側の面である第１ガラス位置とをそれぞれ検出して算出することを特徴とする請求項１または２に記載のウエハレンズの製造方法。
【請求項４】
光硬化性樹脂を、平坦面と当該平坦面に成形面を有する成形型に滴下するディスペンス工程と、
前記成形型とガラス基板との一方を他方に押圧するインプリント工程と、
前記インプリント工程後、前記光硬化性樹脂に対して光照射する露光工程と、
前記ガラス基板を前記成形型から離型する離型工程とを備え、
前記ガラス基板の第１の位置でディスペンス工程から離型工程までの処理を１サイクルとして行い、その後、前記ガラス基板に対して前記成形型を相対的に移動させ、前記ガラス基板の第２の位置で上記１サイクルを再び行い、これらを複数回繰り返して、前記ガラス基板に樹脂製のレンズ部を順次形成するウエハレンズの製造方法において、
１サイクル目の離型工程と２サイクル目のディスペンス工程との間で、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置と前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側と反対側の面である第２ガラス位置を検出して、当該非レンズ部位置及び第２ガラス位置間の距離を算出する工程を有し、
２サイクル目以降のディスペンス工程では、前記算出工程で算出された距離に基づき、前記樹脂の前記成形型への滴下量を補正することを特徴とするウエハレンズの製造方法。
【請求項５】
前記算出工程における距離の測定は、前記成形型の平坦面を、当該成形型と前記ガラス基板の樹脂が押圧される側と反対側の面とが所定間隔を持って平行になるように走査しながら行われることを特徴とする請求項４記載のウエハレンズの製造方法。
【請求項６】
光硬化性樹脂を、平坦面と当該平坦面に成形面を有する成形型に滴下するディスペンス工程と、
前記成形型とガラス基板との一方を他方に押圧するインプリント工程と、
前記インプリント工程後、前記光硬化性樹脂に対して光照射する露光工程と、
前記ガラス基板を前記成形型から離型する離型工程とを備え、
前記ガラス基板の第１の位置でディスペンス工程から離型工程までの処理を１サイクルとして行い、その後、前記ガラス基板に対して前記成形型を相対的に移動させ、前記ガラス基板の第２の位置で上記１サイクルを再び行い、これらを複数回繰り返して、前記ガラス基板に樹脂製のレンズ部を順次形成するウエハレンズの製造方法において、
各サイクルの直前サイクルの離型工程後に前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置と前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側の面である第１ガラス位置との間の距離を測定する測定工程を有し、
各サイクルのインプリント工程では、当該測定工程で測定した距離に基づき前記成形型の押圧位置を補正することを特徴とするウエハレンズの製造方法。
【請求項７】
前記測定工程で測定された距離に基づき、更に前記樹脂の前記成形型への滴下量の補正を行うことを特徴とする請求項６記載のウエハレンズの製造方法。
【請求項８】
前記距離の測定は、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置と前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側の面である第１ガラス位置とをそれぞれ検出して算出することを特徴とする請求項６または７に記載のウエハレンズの製造方法。
【請求項９】
光硬化性樹脂を、平坦面と当該平坦面に成形面を有する成形型に滴下するディスペンス工程と、
前記成形型とガラス基板との一方を他方に押圧するインプリント工程と、
前記インプリント工程後、前記光硬化性樹脂に対して光照射する露光工程と、
前記ガラス基板を前記成形型から離型する離型工程とを備え、
前記ガラス基板の第１の位置でディスペンス工程から離型工程までの処理を１サイクルとして行い、その後、前記ガラス基板に対して前記成形型を相対的に移動させ、前記ガラス基板の第２の位置で上記１サイクルを再び行い、これらを複数回繰り返して、前記ガラス基板に樹脂製のレンズ部を順次形成するウエハレンズの製造方法において、
各サイクルの直前サイクルの離型工程後であって、次のサイクルのディスペンス工程の前に、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置と前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側と反対側の面である第２ガラス位置を検出して、当該非レンズ部位置及び第２ガラス位置間の距離を測定するセンシング工程を有し、
次のサイクルのディスペンス工程において、前記センシング工程で測定した測定距離に基づき前記樹脂の前記成形型への滴下量を補正することを特徴とするウエハレンズの製造方法。
【請求項１０】
前記センシング工程における距離の測定は、前記成形型の平坦面を、当該成形型と前記ガラス基板の樹脂が押圧される側と反対側の面とが所定間隔を持って平行になるように走査しながら行われることを特徴とする請求項９記載のウエハレンズの製造方法。
【請求項１１】
光硬化性樹脂を、平坦面と当該平坦面に成形面を有する成形型に滴下するディスペンス工程と、
前記成形型とガラス基板との一方を他方に押圧するインプリント工程と、
前記インプリント工程後、前記光硬化性樹脂に対して光照射する露光工程と、
前記ガラス基板を前記成形型から離型する離型工程とを備え、
１枚のガラス基板に対してディスペンス工程から離型工程までの処理を１サイクルとして行い、その後、ガラス基板を交換して上記１サイクルを再び行い、これらを複数回繰り返して、複数枚のガラス基板に樹脂製のレンズ部を順次形成するウエハレンズの製造方法において、
１サイクル目の離型工程と２サイクル目のディスペンス工程との間で、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置と前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側の面である第１ガラス位置との間の距離を測定する工程を有し、
２サイクル目以降のインプリント工程では、前記測定工程で測定された距離に基づき、
インプリント工程におけるガラス基板に対する成形型の押圧位置を補正することを特徴とするウエハレンズの製造方法。
【請求項１２】
前記測定工程で測定された距離に基づき、更に前記樹脂の前記成形型への滴下量の補正を行うことを特徴とする請求項１１に記載のウエハレンズの製造方法。
【請求項１３】
前記距離の測定は、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置と前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側の面である第１ガラス位置とをそれぞれ検出して算出することを特徴とする請求項１１または１２に記載のウエハレンズの製造方法。
【請求項１４】
光硬化性樹脂を、平坦面と当該平坦面に成形面を有する成形型に滴下するディスペンス工程と、
前記成形型とガラス基板との一方を他方に押圧するインプリント工程と、
前記インプリント工程後、前記光硬化性樹脂に対して光照射する露光工程と、
前記ガラス基板を前記成形型から離型する離型工程とを備え、
１枚のガラス基板に対してディスペンス工程から離型工程までの処理を１サイクルとして行い、その後、ガラス基板を交換して上記１サイクルを再び行い、これらを複数回繰り返して、複数枚のガラス基板に樹脂製のレンズ部を順次形成するウエハレンズの製造方法において、
１サイクル目の離型工程と２サイクル目のディスペンス工程との間で、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置と前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側と反対側の面である第２ガラス位置を検出して、当該非レンズ部位置及び第２ガラス位置間の距離を算出する工程を有し、
２サイクル目以降のディスペンス工程では、前記算出工程で算出された距離に基づき、前記樹脂の前記成形型への滴下量を補正することを特徴とするウエハレンズの製造方法。
【請求項１５】
前記算出工程における距離の測定は、前記成形型の平坦面を、当該成形型と前記ガラス基板の樹脂が押圧される側と反対側の面とが所定間隔を持って平行になるように走査しながら行われることを特徴とする請求項１４に記載のウエハレンズの製造方法。
【請求項１６】
光硬化性樹脂を、平坦面と当該平坦面に成形面を有する成形型に滴下するディスペンス工程と、
前記成形型とガラス基板との一方を他方に押圧するインプリント工程と、
前記インプリント工程後、前記光硬化性樹脂に対して光照射する露光工程と、
前記ガラス基板を前記成形型から離型する離型工程とを備え、
１枚のガラス基板に対してディスペンス工程から離型工程までの処理を１サイクルとして行い、その後、ガラス基板を交換して上記１サイクルを再び行い、これらを複数回繰り返して、複数枚のガラス基板に樹脂製のレンズ部を順次形成するウエハレンズの製造方法において、
各サイクルの直前サイクルの離型工程後、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置と前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側の面である第１ガラス位置との間の距離を測定する工程を有し、
各サイクルのインプリント工程では、当該測定工程で測定した距離に基づき前記成形型の押圧位置を補正することを特徴とするウエハレンズの製造方法。
【請求項１７】
前記測定工程で測定された距離に基づき、更に前記樹脂の前記成形型への滴下量の補正を行うことを特徴とする請求項１６に記載のウエハレンズの製造方法。
【請求項１８】
前記距離の測定は、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置と前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側の面である第１ガラス位置とをそれぞれ検出して算出することを特徴とする請求項１６または１７に記載のウエハレンズの製造方法。
【請求項１９】
光硬化性樹脂を、平坦面と当該平坦面に成形面を有する成形型に滴下するディスペンス工程と、
前記成形型とガラス基板との一方を他方に押圧するインプリント工程と、
前記インプリント工程後、前記光硬化性樹脂に対して光照射する露光工程と、
前記ガラス基板を前記成形型から離型する離型工程とを備え、
１枚のガラス基板に対してディスペンス工程から離型工程までの処理を１サイクルとして行い、その後、ガラス基板を交換して上記１サイクルを再び行い、これらを複数回繰り返して、複数枚のガラス基板に樹脂製のレンズ部を順次形成するウエハレンズの製造方法において、
各サイクルの直前サイクルの離型工程後であって、次のサイクルのディスペンス工程の前に、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置と前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側と反対側の面である第２ガラス位置を検出して、当該非レンズ部位置及び第２ガラス位置間の距離を測定するセンシング工程を有し、
次のサイクルのディスペンス工程において、前記センシング工程で測定した測定距離に基づき前記樹脂の前記成形型への滴下量を補正することを特徴とするウエハレンズの製造方法。
【請求項２０】
前記センシング工程における距離の測定は、前記成形型の平坦面を、当該成形型と前記ガラス基板の樹脂が押圧される側と反対側の面とが所定間隔を持って平行になるように走査しながら行われることを特徴とする請求項１９に記載のウエハレンズの製造方法。
【請求項２１】
光硬化性樹脂を、平坦面と当該平坦面に成形面を有する成形型に滴下するディスペンス工程と、
前記成形型とガラス基板との一方を他方に押圧するインプリント工程と、
前記インプリント工程後、前記光硬化性樹脂に対して光照射する露光工程と、
前記ガラス基板を前記成形型から離型する離型工程とを備え、
前記ガラス基板の第１の位置でディスペンス工程から離型工程までの処理を１サイクルとして行い、その後、前記ガラス基板に対して前記成形型を相対的に移動させ、前記ガラス基板の第２の位置で上記１サイクルを再び行い、これらを複数回繰り返して、前記ガラス基板に樹脂製のレンズ部を順次形成するウエハレンズの製造方法において、
１サイクル目の前に、ガラス基板の前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側の面である第１ガラス位置と、ガラス基板の前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側と反対側の面である第２ガラス位置とを前記ガラス基板の複数位置で測定を行うプレセンシング工程と、
１サイクル目の離型工程と２サイクル目のディスペンス工程との間で、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置を測定し、前記プレセンシング工程で測定された前記第１ガラス位置、または前記第２ガラス位置との距離を算出する工程を有し、
２サイクル目以降のインプリント工程では、前記算出工程で測定算出された距離に基づき、インプリント工程におけるガラス基板に対する成形型の押圧位置、または滴下量を補正することを特徴とするウエハレンズの製造方法。
【請求項２２】
前記プレセンシング工程において前記ガラス基板を測定する複数の位置は、前記各サイクルごとに相対移動したガラス基板上の位置であることを特徴とする請求項２１に記載のウエハレンズの製造方法。
【請求項２３】
光硬化性樹脂を、平坦面と当該平坦面に成形面を有する成形型に滴下するディスペンス工程と、
前記成形型とガラス基板との一方を他方に押圧するインプリント工程と、
前記インプリント工程後、前記光硬化性樹脂に対して光照射する露光工程と、
前記ガラス基板を前記成形型から離型する離型工程とを備え、
１枚のガラス基板に対してディスペンス工程から離型工程までの処理を１サイクルとして行い、その後、ガラス基板を交換して上記１サイクルを再び行い、これらを複数回繰り返して、複数枚のガラス基板に樹脂製のレンズ部を順次形成するウエハレンズの製造方法において、
１サイクル目の前に、ガラス基板の前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側の面である第１ガラス位置と、ガラス基板の前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側と反対側の面である第２ガラス位置とを前記ガラス基板の複数位置で測定を行うプレセンシング工程と、
各サイクルの直前サイクルの離型工程後であって、次のサイクルのディスペンス工程の前に、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置を測定し、前記プレセンシング工程で測定された前記第１ガラス位置、または前記第２ガラス位置との距離を算出する工程を有し、
２サイクル目以降のインプリント工程では、前記算出工程で測定算出された距離に基づき、インプリント工程におけるガラス基板に対する成形型の押圧位置、または滴下量を補正することを特徴とするウエハレンズの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はウエハレンズの製造方法に関し、特にウエハレンズの光軸上の厚みを一定にする技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光学レンズの製造分野においては、ガラス基板に対し硬化性樹脂からなるレンズ部を設けることで、耐熱性の高い光学レンズを得る技術が検討されている（例えば、特許文献１参照）。この技術を適用した光学レンズの製造方法の一例として、ウエハ状のガラス基板の表面に対し硬化性樹脂の成形品をレンズ部として複数形成したいわゆる「ウエハレンズ」を形成し、その後にレンズ部ごとにガラス基板をカットする方法も提案されている。【０００３】
ウエハレンズの製造装置の一例として、配置位置が一定の成形型と、ガラス基板を保持可能なステージとを設け、成形型に対しステージをＸＹ平面上で移動可能に構成してガラス基板に樹脂製のレンズ部を形成するような製造装置が提案されている。当該製造装置では、ステージを所定位置に移動させてガラス基板を成形型に対向配置させ、その位置で成形型をガラス基板に押圧しながら樹脂を硬化させ、ガラス基板に対し樹脂製のレンズ部を形成する。【０００４】
そしてこのようなウエハレンズ製造装置においては、成形型をガラス基板に押圧して離型したらガラス基板を移動させるという一連の動作を繰り返し行い、複数の樹脂製のレンズ部を順次形成して行くいわゆる「ステップ＆リピート方式」によるものや、１枚のガラス基板に１つの成形型を押圧・離型して複数の樹脂製のレンズ部を一括で形成するいわゆる「一括方式」によるものが考案されている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第３９２６３８０号公報
【特許文献２】米国特許出願公開２００６／０２５９５４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、ステップ＆リピート方式による場合にも一括方式による場合にも、樹脂の成形を行うごとに、ウエハレンズの光軸上の厚み（樹脂製のレンズ部の厚みや樹脂製のレンズ部とガラス基板とを足し合わせた厚みなど）にバラツキが生じ、ステップ＆リピート方式による場合も一括方式による場合もその共通の課題として、ウエハレンズの光軸上の厚みを均一化するのが困難となっている。【０００７】
したがって、本発明の主な目的は、光軸上の厚みを一定にすることができるウエハレンズの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明の第１の態様によれば、
光硬化性樹脂を、平坦面と当該平坦面に成形面を有する成形型に滴下するディスペンス工程と、
前記成形型とガラス基板との一方を他方に押圧するインプリント工程と、
前記インプリント工程後、前記光硬化性樹脂に対して光照射する露光工程と、
前記ガラス基板を前記成形型から離型する離型工程とを備え、
前記ガラス基板の第１の位置でディスペンス工程から離型工程までの処理を１サイクルとして行い、その後、前記ガラス基板に対して前記成形型を相対的に移動させ、前記ガラス基板の第２の位置で上記１サイクルを再び行い、これらを複数回繰り返して、前記ガラス基板に樹脂製のレンズ部を順次形成するウエハレンズの製造方法において、
１サイクル目の離型工程と２サイクル目のディスペンス工程との間で、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置と前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側の面である第１ガラス位置との間の距離を測定する工程を有し、
２サイクル目以降のインプリント工程では、前記測定工程で測定された距離に基づき、インプリント工程におけるガラス基板に対する成形型の押圧位置を補正することを特徴とするウエハレンズの製造方法が提供される。【０００９】
本発明の第２の態様によれば、
光硬化性樹脂を、平坦面と当該平坦面に成形面を有する成形型に滴下するディスペンス工程と、
前記成形型とガラス基板との一方を他方に押圧するインプリント工程と、
前記インプリント工程後、前記光硬化性樹脂に対して光照射する露光工程と、
前記ガラス基板を前記成形型から離型する離型工程とを備え、
前記ガラス基板の第１の位置でディスペンス工程から離型工程までの処理を１サイクルとして行い、その後、前記ガラス基板に対して前記成形型を相対的に移動させ、前記ガラス基板の第２の位置で上記１サイクルを再び行い、これらを複数回繰り返して、前記ガラス基板に樹脂製のレンズ部を順次形成するウエハレンズの製造方法において、
１サイクル目の離型工程と２サイクル目のディスペンス工程との間で、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置と前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側と反対側の面である第２ガラス位置を検出して、当該非レンズ部位置及び第２ガラス位置間の距離を算出する工程を有し、
２サイクル目以降のディスペンス工程では、前記算出工程で算出された距離に基づき、前記樹脂の前記成形型への滴下量を補正することを特徴とするウエハレンズの製造方法が提供される。【００１０】
本発明の第３の態様によれば、
光硬化性樹脂を、平坦面と当該平坦面に成形面を有する成形型に滴下するディスペンス工程と、
前記成形型とガラス基板との一方を他方に押圧するインプリント工程と、
前記インプリント工程後、前記光硬化性樹脂に対して光照射する露光工程と、
前記ガラス基板を前記成形型から離型する離型工程とを備え、
前記ガラス基板の第１の位置でディスペンス工程から離型工程までの処理を１サイクルとして行い、その後、前記ガラス基板に対して前記成形型を相対的に移動させ、前記ガラス基板の第２の位置で上記１サイクルを再び行い、これらを複数回繰り返して、前記ガラス基板に樹脂製のレンズ部を順次形成するウエハレンズの製造方法において、
各サイクルの直前サイクルの離型工程後に、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置と前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側の面である第１ガラス位置との間の距離を測定する測定工程を有し、
各サイクルのインプリント工程では、当該測定工程で測定した距離に基づき前記成形型の押圧位置を補正することを特徴とするウエハレンズの製造方法が提供される。【００１１】
本発明の第４の態様によれば、
光硬化性樹脂を、平坦面と当該平坦面に成形面を有する成形型に滴下するディスペンス工程と、
前記成形型とガラス基板との一方を他方に押圧するインプリント工程と、
前記インプリント工程後、前記光硬化性樹脂に対して光照射する露光工程と、
前記ガラス基板を前記成形型から離型する離型工程とを備え、
前記ガラス基板の第１の位置でディスペンス工程から離型工程までの処理を１サイクルとして行い、その後、前記ガラス基板に対して前記成形型を相対的に移動させ、前記ガラス基板の第２の位置で上記１サイクルを再び行い、これらを複数回繰り返して、前記ガラス基板に樹脂製のレンズ部を順次形成するウエハレンズの製造方法において、
各サイクルの直前サイクルの離型工程後であって、次のサイクルのディスペンス工程の前に、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置と前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側と反対側の面である第２ガラス位置を検出して、当該非レンズ部位置及び第２ガラス位置間の距離を測定するセンシング工程を有し、
次のサイクルのディスペンス工程において、前記センシング工程で測定した測定距離に基づき前記樹脂の前記成形型への滴下量を補正することを特徴とするウエハレンズの製造方法が提供される。【００１２】
本発明の第５の態様によれば、
光硬化性樹脂を、平坦面と当該平坦面に成形面を有する成形型に滴下するディスペンス工程と、
前記成形型とガラス基板との一方を他方に押圧するインプリント工程と、
前記インプリント工程後、前記光硬化性樹脂に対して光照射する露光工程と、
前記ガラス基板を前記成形型から離型する離型工程とを備え、
１枚のガラス基板に対してディスペンス工程から離型工程までの処理を１サイクルとして行い、その後、ガラス基板を交換して上記１サイクルを再び行い、これらを複数回繰り返して、複数枚のガラス基板に樹脂製のレンズ部を順次形成するウエハレンズの製造方法において、
１サイクル目の離型工程と２サイクル目のディスペンス工程との間で、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置と前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側の面である第１ガラス位置との間の距離を測定する工程を有し、
２サイクル目以降のインプリント工程では、前記測定工程で測定された距離に基づき、インプリント工程におけるガラス基板に対する成形型の押圧位置を補正することを特徴とするウエハレンズの製造方法が提供される。【００１３】
本発明の第６の態様によれば、
光硬化性樹脂を、平坦面と当該平坦面に成形面を有する成形型に滴下するディスペンス工程と、
前記成形型とガラス基板との一方を他方に押圧するインプリント工程と、
前記インプリント工程後、前記光硬化性樹脂に対して光照射する露光工程と、
前記ガラス基板を前記成形型から離型する離型工程とを備え、
１枚のガラス基板に対してディスペンス工程から離型工程までの処理を１サイクルとして行い、その後、ガラス基板を交換して上記１サイクルを再び行い、これらを複数回繰り返して、複数枚のガラス基板に樹脂製のレンズ部を順次形成するウエハレンズの製造方法において、
１サイクル目の離型工程と２サイクル目のディスペンス工程との間で、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置と前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側と反対側の面である第２ガラス位置を検出して、当該非レンズ部位置及び第２ガラス位置間の距離を算出する工程を有し、
２サイクル目以降のディスペンス工程では、前記算出工程で算出された距離に基づき、前記樹脂の前記成形型への滴下量を補正することを特徴とするウエハレンズの製造方法が提供される。【００１４】
本発明の第７の態様によれば、
光硬化性樹脂を、平坦面と当該平坦面に成形面を有する成形型に滴下するディスペンス工程と、
前記成形型とガラス基板との一方を他方に押圧するインプリント工程と、
前記インプリント工程後、前記光硬化性樹脂に対して光照射する露光工程と、
前記ガラス基板を前記成形型から離型する離型工程とを備え、
１枚のガラス基板に対してディスペンス工程から離型工程までの処理を１サイクルとして行い、その後、ガラス基板を交換して上記１サイクルを再び行い、これらを複数回繰り返して、複数枚のガラス基板に樹脂製のレンズ部を順次形成するウエハレンズの製造方法において、
各サイクルの直前サイクルの離型工程後、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置と前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側の面である第１ガラス位置との間の距離を測定する工程を有し、
各サイクルのインプリント工程では、当該測定工程で測定した距離に基づき前記成形型の押圧位置を補正することを特徴とするウエハレンズの製造方法が提供される。【００１５】
本発明の第８の態様によれば、
光硬化性樹脂を、平坦面と当該平坦面に成形面を有する成形型に滴下するディスペンス工程と、
前記成形型とガラス基板との一方を他方に押圧するインプリント工程と、
前記インプリント工程後、前記光硬化性樹脂に対して光照射する露光工程と、
前記ガラス基板を前記成形型から離型する離型工程とを備え、
１枚のガラス基板に対してディスペンス工程から離型工程までの処理を１サイクルとして行い、その後、ガラス基板を交換して上記１サイクルを再び行い、これらを複数回繰り返して、複数枚のガラス基板に樹脂製のレンズ部を順次形成するウエハレンズの製造方法において、
各サイクルの直前サイクルの離型工程後であって、次のサイクルのディスペンス工程の前に、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置と前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側と反対側の面である第２ガラス位置を検出して、当該非レンズ部位置及び第２ガラス位置間の距離を測定するセンシング工程を有し、
次のサイクルのディスペンス工程において、前記センシング工程で測定した測定距離に基づき前記樹脂の前記成形型への滴下量を補正することを特徴とするウエハレンズの製造方法が提供される。【００１６】
本発明の第９の態様によれば、
光硬化性樹脂を、平坦面と当該平坦面に成形面を有する成形型に滴下するディスペンス工程と、
前記成形型とガラス基板との一方を他方に押圧するインプリント工程と、
前記インプリント工程後、前記光硬化性樹脂に対して光照射する露光工程と、
前記ガラス基板を前記成形型から離型する離型工程とを備え、
前記ガラス基板の第１の位置でディスペンス工程から離型工程までの処理を１サイクルとして行い、その後、前記ガラス基板に対して前記成形型を相対的に移動させ、前記ガラス基板の第２の位置で上記１サイクルを再び行い、これらを複数回繰り返して、前記ガラス基板に樹脂製のレンズ部を順次形成するウエハレンズの製造方法において、
１サイクル目の前に、ガラス基板の前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側の面である第１ガラス位置と、ガラス基板の前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側と反対側の面である第２ガラス位置とを前記ガラス基板の複数位置で測定を行うプレセンシング工程と、
１サイクル目の離型工程と２サイクル目のディスペンス工程との間で、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置を測定し、前記プレセンシング工程で測定された前記第１ガラス位置、または前記第２ガラス位置との距離を算出する工程を有し、
２サイクル目以降のインプリント工程では、前記算出工程で測定算出された距離に基づき、インプリント工程におけるガラス基板に対する成形型の押圧位置、または滴下量を補正することを特徴とするウエハレンズの製造方法が提供される。【００１７】
本発明の第１０の態様によれば、
光硬化性樹脂を、平坦面と当該平坦面に成形面を有する成形型に滴下するディスペンス工程と、
前記成形型とガラス基板との一方を他方に押圧するインプリント工程と、
前記インプリント工程後、前記光硬化性樹脂に対して光照射する露光工程と、
前記ガラス基板を前記成形型から離型する離型工程とを備え、
１枚のガラス基板に対してディスペンス工程から離型工程までの処理を１サイクルとして行い、その後、ガラス基板を交換して上記１サイクルを再び行い、これらを複数回繰り返して、複数枚のガラス基板に樹脂製のレンズ部を順次形成するウエハレンズの製造方法において、
１サイクル目の前に、ガラス基板の前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側の面である第１ガラス位置と、ガラス基板の前記ガラス基板の成形型で樹脂が押圧される側と反対側の面である第２ガラス位置とを前記ガラス基板の複数位置で測定を行うプレセンシング工程と、
各サイクルの直前サイクルの離型工程後であって、次のサイクルのディスペンス工程の前に、前記レンズ部の周辺の非レンズ部の非レンズ部位置を測定し、前記プレセンシング工程で測定された前記第１ガラス位置、または前記第２ガラス位置との距離を算出する工程を有し、
２サイクル目以降のインプリント工程では、前記算出工程で測定算出された距離に基づき、インプリント工程におけるガラス基板に対する成形型の押圧位置、または滴下量を補正することを特徴とするウエハレンズの製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の第１、第２、第５、第６の態様によれば、最初の１サイクル目で、非レンズ部とガラス基板の樹脂押圧面との間の距離や、非レンズ部とガラス基板の押圧面と反対側の面との距離を算出し、その算出結果に基づいて２サイクル目以降の成形型の押圧位置や樹脂の滴下量を補正するから、ガラス基板に対し成形型を一定の間隔に保持したり、樹脂製のレンズ部とそれに対応する部位のガラス基板とを足し合わせた体積を一定に保持したりすることができ、光軸上の厚みを一定にすることができる。【００１９】
本発明の第３、第４、第７、第８の態様によれば、前サイクルで非レンズ部とガラス基板の樹脂押圧面との間の距離や、非レンズ部とガラス基板の押圧面と反対側の面との距離を算出し、その算出結果に基づいて次のサイクルで成形型の押圧位置または樹脂の滴下量を補正するから、ガラス基板に対し成形型を一定の間隔に保持したり、樹脂製のレンズ部とそれに対応する部位のガラス基板とを足し合わせた体積を一定に保持したりすることができ、光軸上の厚みを一定にすることができる。【００２０】
更に、本発明の第９、第１０の態様によれば、サイクルを開始する前に、ガラス基板の複数位置で樹脂押圧面及び押圧面と反対側の面の位置を測定し、１サイクル目、或いは１枚目のガラス基板で測定した非ガラス部の位置と先に測定した樹脂押圧面及び樹脂押圧面と反対側の面の位置とのデータから、２サイクル目以降、或いは２枚目以降の成形型の押圧位置または樹脂の滴下量を補正するから、ガラス基板に対し成形型を一定の間隔に保持したり、樹脂製のレンズ部とそれに対応する部位のガラス基板とを足し合わせた体積を一定に保持したりすることができ、光軸上の厚みを一定にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】ウエハレンズの概略構成を示す平面図である。
【図２】ウエハレンズの概略構成を示す側面図である。
【図３】本発明の好ましい実施形態にかかるウエハレンズ製造装置の概略構成を示す斜視図である。
【図４】図３のウエハレンズ製造装置の平面図である。
【図５】本発明の好ましい実施形態で使用されるＸ軸移動機構の概略構成を示す図面であって、図４のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図６】本発明の好ましい実施形態で使用されるＹ軸移動機構の概略構成を示す図面であって、図４のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【図７】本発明の好ましい実施形態で使用されるＸＹステージと定盤内との概略構成を示す断面図である。
【図８】図７のＣ−Ｃ線に沿う断面図である。
【図９】本発明の好ましい実施形態で使用される成形型部の概略構成を示す断面図である。
【図１０】図９の概略構成を示す平面図である。
【図１１】本発明の好ましい実施形態において成形型に対しディスペンサを対向配置した際の概略構成を示す断面図である。
【図１２】本発明の好ましい実施形態で使用される概略的な制御構成を示すブロック図である。
【図１３】本発明の好ましい実施形態にかかるウエハレンズの製造方法を経時的に説明するための概略的なフローチャートである。
【図１４】図１３のディスペンス工程から離型工程にかけての圧力状態を概略的に示すタイミングチャートである。
【図１５】本実施形態におけるガラス基板と成形型との平行度を調整するための構成を概略的に説明する図面である。
【図１６】本実施形態における成形型の２次元平面上の座標軸変換を概略的に説明する図面である。
【図１７】本実施形態における樹脂部とガラス基板との高さ位置測定を概略的に説明するための図面である。
【図１８】ウエハレンズの光軸上の厚みを説明するための図面である。
【図１９】図３、図４のウエハレンズ製造装置の変形例を示す概略的な平面図である。
【図２０】本発明の好ましい第２の実施形態にかかるウエハレンズの製造方法を経時的に説明するための概略的なフローチャートである。
【図２１】ガラス基板の反りや厚みのバラツキを説明するための図面である。
【図２２】本発明の変形の実施形態にかかるウエハレンズの製造方法を経時的に説明するための概略的なフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図面を参照しながら本発明の好ましい実施形態について説明する。
［第１の実施形態］
図１、図２に示す通り、成形されたウエハレンズ１は円形状のガラス基板２と、複数の凸レンズ部４と、を有している。ガラス基板２は基板の一例である。
【００２３】
ガラス基板２の表面には複数の凸レンズ部４がアレイ状に形成されており、各凸レンズ部４の間は非レンズ部６（図１７、図１８参照）となっている。凸レンズ部４には、光学面の表面に回折溝や段差等の微細構造が形成されていても良い。ガラス基板２には、凸レンズ部４に代えて、凹レンズ部が形成されても構わない。
【００２４】
なお、図１、図２は製造工程の途中段階を示しているため、ガラス基板２の表面の一部にのみ凸レンズ部４が形成されている。本実施形態では、１枚のガラス基板２に対し成形型単位で凸レンズ部４が順次形成されて行くようになっており（図１、図２矢印参照）、最終的には凸レンズ部４ごとにガラス基板２が切断され個片化される。
【００２５】
凸レンズ部４は光硬化性樹脂で形成されている。当該光硬化性樹脂としては、例えばアクリル樹脂やアリルエステル樹脂などを用いることができ、これら樹脂はラジカル重合により反応硬化させることができる。また、カチオン重合で反応硬化するエポキシ樹脂も用いることができる。
【００２６】
ここで、本発明に使用する光硬化性樹脂を硬化させる光は、可視光、紫外光のみならず電子線なども含む。また、上述のごとき光硬化性樹脂のみならず、光重合開始剤に加えて熱重合開始剤を含み、加熱による熱重合での硬化が併用させるものも含む。重合開始剤として光重合開始剤のみを含む光硬化性樹脂の場合であっても、加熱によって光硬化が促進されるのであるが、ここに更に熱重合開始剤も配合されていると、その促進効果は更に増す。
【００２７】
次に、ウエハレンズ１を製造する際に使用するウエハレンズ製造装置（１０）について説明する。
【００２８】
図３、図４に示す通り、ウエハレンズ製造装置１０は、主には、直方体状を呈した定盤２０と、定盤２０上に設けられたＸＹステージ３０と、ＸＹステージ３０をＸ軸方向に沿って移動させるためのＸ軸移動機構１００と、ＸＹステージ３０をＹ軸方向に沿って移動させるための１対のＹ軸移動機構２００と、を備えている。
【００２９】
図４、図５に示す通り、Ｘ軸移動機構１００はＸ軸方向に延在するＸ軸ガイド１０２を有している。図５に示す通り、Ｘ軸ガイド１０２の下方にはＸＹステージ３０が配置されている。ＸＹステージ３０にはＸ軸方向に延在する１対の突条部３１が形成されており、突条部３１間にＸ軸ガイド１０２が配置されている。
【００３０】
図５に示す通り、Ｘ軸移動機構１００はＸＹステージ３０を実際にＸ軸方向に沿って移動させるリニアモータ１１０を有している。リニアモータ１１０は主には固定子１１２、可動子１１４、スケール１１６、センサ１１８で構成された公知の機構を有している。
【００３１】
固定子１１２はＸ軸ガイド１０２に固定されている。ＸＹステージ３０の一方の突条部３１には可動子１１４が固定されており、可動子１１４はＸ軸ガイド１０２に沿って移動可能となっている。スケール１１６はＸ軸ガイド１０２に固定されている。センサ１１８はＸＹステージ３０の他方の突条部３１に固定されている。
【００３２】
Ｘ軸移動機構１００では、センサ１１８によりスケール１１６を検出しながら可動子１１４が固定子１１２に沿って移動し、これによってＸＹステージ３０がＸ軸ガイド１０２に沿ってＸ軸方向に所定の距離だけ移動可能となっている。
【００３３】
ＸＹステージ３０の各突条部３１にはエアスライドガイド機構１２０が設けられている。エアスライドガイド機構１２０はエアを噴出する噴出孔１２２を有している。エアスライドガイド機構１２０は、作動により各噴出孔１２２からＸ軸ガイド１０２に向けてエアを噴出し、ＸＹステージ３０をＸ軸ガイド１０２に対して浮上させるようになっている。
【００３４】
ＸＹステージ３０の下部には複数のエアスライドガイド機構１３０が設けられている。各エアスライドガイド機構１３０はエアを噴出する２つの噴出孔１３２、１３６と、エアを吸引する１つの吸引孔１３４とを、有している。エアスライドガイド機構１３０は、作動により各噴出孔１３２、１３６から定盤２０に向けてエアを噴出しながら吸引孔１３４からエアを吸引し、ＸＹステージ３０を定盤２０に対し一定の高さ位置で浮上させるようになっている。
【００３５】
ＸＹステージ３０は、エアスライドガイド機構１２０、１３０によってＸ軸ガイド１０２及び定盤２０に対して浮上するので、Ｘ軸移動機構１００による移動をスムーズに行うことができる。
【００３６】
図３、図４に示す通り、Ｙ軸移動機構２００はＹ軸方向に延在する１対のＹ軸ガイド２０２を有している。Ｙ軸ガイド２０２上には１対のＹ軸移動体２１０が設けられている。
【００３７】
各Ｙ軸移動体２１０にはＸ軸ガイド１０２の両端が固定されており、Ｙ軸移動体２１０はＸ軸ガイド１０２とＸ軸ガイド１０２に保持されたＸＹステージ３０とを支持した状態でＹ軸ガイド２０２に沿ってＹ軸方向に移動するようになっている。
【００３８】
詳しくは、Ｙ軸移動機構２００にはリニアモータ２２０が設けられている。リニアモータ２２０はＸ軸移動機構１００のリニアモータ１１０の構成と同様に、主には固定子２２２、可動子２２４、スケール２２６、センサ（図示略）で構成されており、センサがスケール２２６を検出しながら可動子２２４が固定子２２２に沿って移動し、これによってＹ軸移動体２１０がＹ軸ガイド２０２に沿ってＹ軸方向に所定の距離だけ移動可能となっている。
【００３９】
図６に示す通り、Ｙ軸移動体２１０の端部にはフック状を呈したフック部２１２、２１４が形成されており、各フック部２１２、２１４の内側にＹ軸ガイド２０２の端部２０４、２０６が隙間を持って嵌合するように埋設されている。
【００４０】
フック部２１２にはエアスライドガイド機構２３０が設けられており、フック部２１４にはエアスライドガイド機構２４０が設けられている。エアスライドガイド機構２３０は３方向（上方、側方、下方）からエアを噴出する噴出孔２３２、２３４、２３６を有している。エアスライドガイド機構２４０も３方向（上方、側方、下方）からエアを噴出する噴出孔２４２、２４４、２４６を有している。
【００４１】
エアスライドガイド機構２３０は作動により各噴出孔２３２、２３４、２３６からＹ軸ガイド２０２の端部２０４に向けてエアを噴出し、他方、エアスライドガイド機構２４０も作動により各噴出孔２４２、２４４、２４６からＹ軸ガイド２０２の端部２０６に向けてエアを噴出し、Ｙ軸移動体２１０をＹ軸ガイド２０２に対して浮上させるようになっている。
【００４２】
図３、図４に示す通り、ＸＹステージ３０上には、ガラス基板２上に樹脂を滴下するディスペンサ３２、成形型６４の平面度（傾き）や高さ位置などを測定するレーザー測長器３４、成形型６４とガラス基板２とのアライメント時に使用する顕微鏡３６が設置されている。
【００４３】
図３に示す通り、ＸＹステージ３０には、その上下面を貫通する上方から見た形状が円形状の貫通孔４０が形成されており、貫通孔４０に対しガラス基板２が保持されている。
【００４４】
詳しくは貫通孔４０には段差が形成されており、その段でガラス基板２が不図示のバネで固定されている。ＸＹステージ３０上には、貫通孔４０を塞ぐように上方から見た形状が四角状の蓋部４２が設けられている。蓋部４２は石英板等の光透過性の部材で構成されており、蓋部４２の上方には光源４４が設置されている。
【００４５】
図７に示す通り、定盤２０には、ウエハレンズ１に凸レンズ部４を成形するための成形型６４を保持する成形型部５０と、成形型部５０をＺ軸方向に沿って昇降移動させるためのＺ軸移動機構３００と、が埋設されている。成形型部５０は、Ｚ軸移動機構３００（Ｚステージ３０４）の上部に設置されている。
【００４６】
Ｚ軸移動機構３００は、主には、上部にフランジを有する四角筒状のＺ軸ガイド３０２と、Ｚ軸ガイド３０２内をＺ軸方向に移動するＺステージ３０４と、Ｚステージ３０４をＺ軸方向（上下方向）に移動させるモータ３０６と、を備えている。
【００４７】
モータ３０６はポテンショメータを内蔵し、モータにはシャフト３０８が連結されている。Ｚ軸移動機構３００では、モータ３０６の作動によりシャフト３０８が上下に伸縮するようになっており、これに伴ってＺステージ３０４及び成形型部５０が上下に移動する。
【００４８】
図８（ａ）に示す通り、Ｚ軸ガイド３０２の内周面とＺステージ３０４の側面との間には隙間３１０が設けられている。
【００４９】
Ｚ軸ガイド３０２にはエアスライドガイド機構３２０が設けられている。エアスライドガイド機構３２０はエアを噴出する噴出孔３２２、３２４、３２６、３２８を有している。エアスライドガイド機構３２０は作動により各噴出孔３２２、３２４、３２６、３２８からＺステージ３０４に向けてエアを噴出し、Ｚステージ３０４を浮上させるようになっている。
【００５０】
なお、図７に示す通り、Ｚ軸ガイド３０２のフランジを形成する内周面にはシリコングリスやオイルシール、オーリング等のシーリング部材３３０によってシーリングされており、隙間３１０内のエアがＺ軸ガイド３０２の上方に漏れない（抜けない）ようにＺ軸ガイド３０２とＺステージ３０４との間が密閉されている。
【００５１】
また、図示していないが、上下動するＺステージ３０４の周囲にフランジ部を設けて、固定配置されているＺ軸ガイド３０２のフランジ部との間を金属製のベローズで覆うことで同様に密閉するのが上記効果を得るには更に好ましい。
【００５２】
図７に示す通り、蓋体４２、ＸＹステージ３０、定盤２０、Ｚ軸ガイド３０２で囲まれた領域には空間部４００が形成されている。空間部４００は、ＸＹステージ３０に設置されたガラス基板２によって、蓋部４２との間で構成される上部空間部４０２と、Ｚ軸移動機構３００との間で構成される下部空間部４０４とに区画されている。
【００５３】
ここで、ガラス基板２の周縁部には、上下面を貫通し、上部空間部４０２及び下部空間部４０４に互いに連通する連通孔３が形成され、両空間部４０２、４０４の差圧を無くす構造となっている。下部空間部４０４は真空ポンプなどの減圧機構４１０に連結されており、減圧機構４１０の作動により空間部４００が減圧状態とされる。
【００５４】
なお、ガラス基板２に形成した連通孔３に代えて、例えば図７に点線で示す通り、ＸＹステージ３０に連通孔３８を形成してもよい。
【００５５】
また、減圧機構４１０は下部空間部４０４に連結したが、上部空間部４０２に連結しても良い。
【００５６】
図９に示す通り、成形型部５０は、主には、Ｚステージ３０４上に順に設けられた第１の支持台５２と、ピエゾアクチュエータ５４と、第２の支持台５６と、圧力センサ５８と、第３の支持台６０と、成形型６４と、を備えている。
【００５７】
第１の支持台５２と第２の支持台５６とは予圧用のネジ６６によって連結されスプリング６７によって互いに近接するように付勢されている。第１の支持台５２と第２の支持台５６との間には３つのピエゾアクチュエータ５４とＬ字状の板バネ６８とが設置されている（図１０参照）。第２の支持台５６と第３の支持台６０とはネジ７０によって連結されており、第２の支持台５６と第３の支持台６０との間に圧力センサ５８が設置されている。
【００５８】
図１０に示す通り、３つのピエゾアクチュエータ５４は、第１の支持台５２上の３つの角部にそれぞれ設けられ、第２の支持台５６を３点で支持している。成形型部５０では、圧力センサ５８の出力値に基づいて各ピエゾアクチュエータ５４の作動を制御することで、第２の支持台５６、第１の支持台６０及び成形型６４の傾きが調整される。その結果、成形型６４とガラス基板２との平行出しを行ったり、成形型６４に樹脂を滴下後、樹脂への荷重を所望の圧力に制御しながら型締めや転写成形を行うことができる。
【００５９】
なお、本実施形態では３つのピエゾアクチュエータ５４で構成されているが、前述した平行出しのための煽り、荷重制御が行えるのに適した配置、個数であればよく、個数はこれに限定されない。
【００６０】
成形型６４には、平坦面に複数のキャビティ６５（凹部）がアレイ状に形成されている。キャビティ６５の表面（成形面）形状はウエハレンズ１における凸レンズ部４に対応するネガ形状となっている。すなわち、後述するように成形型６４でウエハレンズ１を成形すると、キャビティ６５の部分が凸レンズ部４となり、キャビティ６５の間の平坦面の部分が非レンズ部６となる。成形型６４は金属製の金型であってもよいし、樹脂製の樹脂型であってもよい。
【００６１】
成形型６４には非接触式の光学センサ７２が設置されており、成形型６４に対向する部材（ガラス基板２など）の高さ位置を測定することができるようになっている。
【００６２】
なお、本測定では光学センサ７２を用いているが、高さ位置を測定できる周知の検出手段であればその他の検出手段も用いることができる。但し、ウエハレンズ１の光学性能に影響を与えない非接触式のセンサが好ましい。
【００６３】
図１１に示す通り、ディスペンサ３２は、樹脂を滴下する針部３３を有し、針部３３がＸＹステージ３０を貫通している。ＸＹステージ３０のディスペンサ３２と成形型部５０とを対向配置させた状態においては、ＸＹステージ３０、定盤２０、Ｚ軸移動機構３００で囲まれた領域に空間部４０６が形成され、ディスペンサ３２の針部３３の先端が空間部４０６内に配置される。この状態においては、減圧機構４１０の作動により空間部４０６が減圧状態とされる。
【００６４】
なお、図１１中の他の構成は、図７と同様のため同様の構成部分には同様の符号を付してその説明を省略する。
【００６５】
以上の構成を有するウエハレンズ製造装置１０は、制御装置５００を備えている。制御装置５００にはディスペンサ３２、レーザー測長器３４、顕微鏡３６、光源４４、成形型部５０（ピエゾアクチュエータ５４、圧力センサ５８、θステージ６２、光学センサ７２など）、Ｘ軸移動機構１００、Ｙ軸移動機構２００、Ｚ軸移動機構３００、エアスライドガイド機構１２０、１３０、２３０、２４０、３２０、減圧機構４１０などが接続されており、制御装置５００は、これら部材の検出結果を受けたりその動作（作動や停止など）を制御したりするようになっている。
【００６６】
次に、図１３、図１４を参照しながら、上述のウエハレンズ製造装置１０を使用してウエハレンズ１を製造する方法について説明する。
【００６７】
まず、ガラス基板２をＸＹステージ３０に設置し（ウエハロード工程Ｓ１）、ＸＹステージ３０の貫通孔４０を蓋部４２で覆う（図７参照）。
【００６８】
その後、Ｘ軸移動機構１００（リニアモータ１１０）、Ｙ軸移動機構２００（リニアモータ２２０）、エアスライドガイド機構１２０、１３０、２３０、２４０などを作動させて、ＸＹステージ３０をＸ軸方向及びＹ軸方向にエアで浮上させながらスライド移動させ、ディスペンサ３２が成形型６４の上方に位置するように位置合わせを行う（プリアライメント工程Ｓ２）。
【００６９】
この場合において、定盤２０の所定位置には事前にアライメントマークが付されており、プリアライメント工程では当該アライメントマークを顕微鏡３６で確認しながら、ディスペンサ３２の位置合わせを行う。
【００７０】
ディスペンサ３２の位置合わせを行ったら、エアスライドガイド機構１２０、１３０、２３０、２４０の作動を停止させてＸＹステージ３０をその位置でロックし、ＸＹステージ３０と定盤２０とを密着させたロック状態とする。この状態において、ディスペンサ３２の針部３３から成形型部５０の成形型６４上に所定量の樹脂を滴下する（ディスペンス工程Ｓ３、図１１参照）。
【００７１】
このとき、図１４の実線部分に示す通り、減圧機構４１０を制御して、空間部４０６を減圧しておく。「減圧」とは、基本的には真空状態とすることであり、詳しくはディスペンサ３２の樹脂自体の内部から気泡が発生しない程度で、かつ大気中から樹脂に巻き込まれた気泡を除去できる程度に圧力を低減することである。例えば、ディスペンサ３２から滴下する樹脂としてエポキシ系樹脂を使用した場合には、空間部４０６を２０００Ｐａ以上、１０−２ＭＰａ以下とすれば、当該樹脂内部から気泡が発生するのを防止することができる。
【００７２】
このような減圧状態下でディスペンス工程Ｓ３の処理を行うことにより、樹脂内への気泡の巻き込みを防止することができる。
【００７３】
なお、本実施形態では、ディスペンス工程Ｓ３から離型工程Ｓ７までを、基本的には減圧状態下にしておくものとし、減圧の定義は上記にしたがうものとする。
【００７４】
その後、エアスライドガイド機構１２０、１３０、２３０、２４０を作動させて、ＸＹステージ３０をＸ軸方向及びＹ軸方向にエアで浮上させながらスライド移動させ、予め設置しておいたガラス基板２が成形型部５０の成形型６４の上方に位置するように位置合わせを行う（アライメント工程Ｓ４、図７参照）。
【００７５】
その後、図１５に示す通り、レーザー測長器３４を成形型６４の直上に配置するとともに、エアスライドガイド機構１２０、１３０、２３０、２４０の作動を停止させてＸＹステージ３０と定盤２０とを密着させたロック状態とする。
【００７６】
同時に、モータ３０６、エアスライドガイド機構３２０を制御して、噴出孔３２２、３２４、３２６、３２８からエアを噴出してＺステージ３０４を所定の高さ位置に配置し、その後図８（ｂ）に示す通り、例えば噴出孔３２２、３２８のみからエアを噴出させ、Ｚステージ３０４をＺ軸ガイド３０２の内壁に一部当接させる。これにより、Ｚステージ３０４とＺ軸ガイド３０２との間の摩擦力で成形型部５０の位置を一定に保持し、ロックすることができる。
【００７７】
ここで、レーザー測長器３４によって３点以上の高さ測定を行って、その結果から成形型６４上面の傾きと成形型６４の高さ位置とを算出し、その出力値（角度αのズレ値。図１５参照。）に基づき、ピエゾアクチュエータ５４を制御して、ガラス基板２の下面と成形型６４の上面とを互いに平行にする。
【００７８】
その後、ロック状態を解除し、顕微鏡３６を成形型６４の直上に配置する。エアスライドガイド機構１２０、１３０、２３０、２４０の作動を停止させてＸＹステージ３０と定盤２０とを密着させたロック状態とする。
【００７９】
同時に、エアスライドガイド機構３２０を制御して、図８（ｂ）に示す通り、例えば噴出孔３２２、３２８のみからエアを噴出させ、Ｚステージ３０４をＺ軸ガイド３０２の内壁に一部当接させる。これにより、成形型部５０の位置をロックする（位置決めする）。言い換えれば、Ｚステージ３０４とＺ軸ガイド３０２との間の摩擦力で成形型部５０の位置を一定に保持する。
【００８０】
このようにＺ軸ガイド３０２とＺステージ３０４との当接により、その上に取り付けられる成形型６４はＺ軸ガイド３０２に対して常に決まった位置・角度で保持することが可能となる。その結果、ロックを解除した状態ではＺステージ３０４及び成形型６４はスムーズに動作することができるととともに、ロックされた状態では、繰り返し、調整時と同じ姿勢での成形動作を行うことが可能となる、というメリットがある。
【００８１】
次いで、顕微鏡３６で成形型６４を検出してその検出結果に基づき成形型６４の現実の配置位置を把握し、その現実の配置位置に合わせて、制御装置５００において軸座標として予め設定しておいた成形型６４の初期位置の軸座標を変換する。
【００８２】
詳しくは、成形型６４の上方から顕微鏡３６で少なくとも２点の位置を認識し、その一方の位置を原点Ｏと、他方の位置を補正点として認識する。例えば、成形型６４に対し事前にアライメントマークを対角に付しておき、一方のアライメントマークを原点と、他方のアライメントマークを補正点として認識する。
【００８３】
なお、本実施形態では顕微鏡３６を成形型６４の配置位置を検出する位置検出器の一例として使用している。
【００８４】
その後、原点Ｏから補正点に向かう座標変換用の直線を算出してその算出した直線と、予め設定していた軸座標と、のズレ（角度θのズレ値。図１６参照。）を算出し、そのズレから軸座標を変換する。すなわち、制御装置５００において成形型６４の平面上の配置位置を軸座標として予め設定しておき、その設定していた軸座標に対して、顕微鏡３６で認識して算出した座標変換用の直線とのズレを把握し、図１６に示す通り、予め設定していた軸座標（破線部参照）を、当該ズレから算出した軸座標（実線部参照）に変換する。これにより、成形型６４とガラス基板２との２次元上の相対位置関係を固定することができ、成形型６４に対するガラス基板２の移動を正確に行うことができる。
【００８５】
なお、成形型部５０において成形型６４を回動させるθステージ６２（図９参照）を設け、制御装置５００による上記軸座標の変換に変えて、θステージ６２を制御して成形型６４を予め設定していた座標軸に対応するように回転移動させてもよい（ずれた軸座標をもとに戻す）。
【００８６】
この状態において、成形型部５０を位置制御して、ガラス基板２に対して成形型６４を所定位置まで上昇移動させ、成形型６４をその所定位置で保持する（インプリント工程Ｓ５）。
【００８７】
詳しくは、Ｚ軸移動機構（モータ３０６）を作動させてシャフト３０８を上方に伸ばしＺステージ３０４を上方に移動させる。
【００８８】
この場合、モータ３０６に内蔵されたポテンショメータの出力値に基づきモータ３０６の作動を制御し、Ｚステージ３０４を所定の高さ位置まで移動させる。その結果、樹脂がガラス基板２に押圧されて徐々に広がり、成形型６４のキャビティ６５に充填される。
【００８９】
このインプリント工程Ｓ５においても、減圧機構４１０を制御して、空間部４００を減圧しておく。
【００９０】
減圧状態下で樹脂をガラス基板２に押圧することによって、樹脂内への気泡の巻き込みを防止することができる。また、上部空間部４０２と下部空間部４０４とを連通させて空間部４００を減圧状態するので、上部空間部４０２と下部空間部４０４との間で差圧が生じず、ガラス基板２の反りや変形も防止することができる。
【００９１】
その後、Ｚステージ３０４を設定位置で保持したまま、光源４４を制御して、樹脂に対して光照射し樹脂を硬化させる（露光工程Ｓ６）。
【００９２】
このとき、減圧機構４１０を制御して空間部４００を減圧状態としておくので、樹脂への酸素阻害を防止でき、樹脂を確実に硬化させることができる。また露光工程Ｓ６では、光源４４の光が光学センサ７２の素子に入射し素子を破損させる可能性があるため、好ましくは光学センサ７２に遮光部材を設けて一時的に素子を遮光する。
【００９３】
なお、樹脂が硬化する際に（樹脂の硬化時またはその後に）、Ｚステージ３０４が所定の高さ位置で保持されたままであると、樹脂において硬化収縮が生じてもガラス基板２がその収縮に追従せず、樹脂の内部に歪が生じたり、樹脂に対するキャビティ６５の面形状の転写が不十分になったりする可能性がある。
【００９４】
そこで、光源４４を一定時間点灯させ、樹脂に対して一定量の光を照射したら、成形型部５０を圧力制御して、ガラス基板２に対する成形型６４の押圧力を所定圧力に増圧保持してもよい。詳しくは、圧力センサ５８の出力値に基づき、ピエゾアクチュエータ５４を作動させて成形型６４を上方に移動させる。
【００９５】
その後、光源４４を消灯させて樹脂に対する光照射を停止する。光照射停止後、モータ３０６を作動させてシャフト３０８を下方に縮ませ、Ｚステージ３０４を下方に移動する。これによって、硬化後の樹脂をガラス基板２とともに成形型６４から離型する（離型工程Ｓ７）。
【００９６】
このとき、減圧機構４１０を制御して、空間部４００を減圧状態としておくことによって大気圧がかからないため、離型し易くなる。その結果、成形型６４のキャビティ６５の数に対応した複数の凸レンズ部４がガラス基板２に形成される。
【００９７】
以後、ディスペンス工程Ｓ３から離型工程Ｓ７までの処理を１サイクルとしてこのサイクルを所定回数繰り返し、ガラス基板２に更に複数の凸レンズ部４を順次形成する（図１、図２参照）。
【００９８】
ここで、ガラス基板２に対し凸レンズ部４を形成する場合、実際には成形型６４の平坦面とガラス基板２との間に微小なギャップ（間隔）を設けるため、各凸レンズ部４の周辺に非レンズ部６（図１６参照）が形成される。
【００９９】
本実施形態では、１サイクル目の処理を実行して成形型６４からガラス基板２を離型したら、Ｘ軸移動機構１００（リニアモータ１１０）、Ｙ軸移動機構２００（リニアモータ２２０）、エアスライドガイド機構１２０、１３０、２３０、２４０などを作動させてＸＹステージ３０を微小移動させ、図１６に示す通り、光学センサ７２を制御して、ガラス基板２や非レンズ部６の高さ位置を測定する（センシング工程Ｓ１０）。第１の実施形態では、このセンシング工程Ｓ１０は、１サイクル目のみ実施される。
【０１００】
詳しくは、光学センサ７２に対し非レンズ部６を対向させ、図１６（ａ）に示す通り、非レンズ部６の下面の高さ位置を測定するとともに、光学センサ７２に対しガラス基板２を対向させ、図１６（ｂ）、（ｃ）に示す通り、ガラス基板２の下面と上面との各高さ位置を測定する。
【０１０１】
下記の説明では、非レンズ部６の下面の高さ位置を「Ａ点」と、ガラス基板２の下面の高さ位置、つまり成形型６４が樹脂を押圧する側の面を第１ガラス位置として「Ｂ点」と、ガラス基板２の上面の高さ位置、つまり成形型６４が樹脂を押圧する側とは反対側の面を第２ガラス位置として「Ｃ点」という。
【０１０２】
この場合において、図１８（ａ）に示す通り、凸レンズ部４の厚みＴ１を一定に制御しようとするときは、２サイクル目以降のインプリント工程Ｓ５で、成形面の深さで一律に決定されるレンズ部の厚み以外の厚みであるＡ点の高さ位置とＢ点の高さ位置とに基づき、Ｚ軸移動機構３００（モータ３０６）を制御して成形型６４の高さ位置を補正する。
【０１０３】
すなわち、制御装置５００には予め、厚みＴ１（設計値）に対する成形型６４の配置が初期値として記憶され、１サイクル目のインプリント工程では、初期値に基づき成形型６４の配置を決定している。そしてセンシング工程Ｓ１０において、Ａ点とＢ点との高さ位置を測定してＡ点とＢ点との高さ位置から非レンズ部６の厚みを算出し、その算出値から成形型６４の配置に対する樹脂硬化後の厚みＴ１（実測値）を算出する。その結果、設計値の厚みＴ１と樹脂硬化後の厚みＴ１とのズレ量を算出することができ、２サイクル目以降のインプリント工程Ｓ５において、そのズレ量に応じる距離だけ成形型６４の配置（Ｚ方向の位置）を微小に変動させる。
【０１０４】
このように成形型６４の配置を補正すれば、２サイクル目以降のインプリント工程Ｓ５では、ガラス基板２の下面に対し成形型６４を一定の間隔に保持することができ、光軸上の厚みとなる厚みＴ１を一定にすることができる。また１サイクル目で所望の凸レンズ部４を形成することができなかったり、ガラス基板２に対し凸レンズ部４を形成し尽くしたりして、ガラス基板２を取り替えた後においても、取り替え前のガラス基板２の下面に対する成形型６４の間隔をそのまま維持することができ、この場合にも、光軸上の厚みとなる凸レンズ部４の厚みＴ１を一定にすることができる。
【０１０５】
なお、上記説明では間隔補正のみを制御する構成で説明しているが、成形型６４の成形面に滴下される樹脂量も併せて補正するものであっても良い。
【０１０６】
この場合の補正量は、例えば補正係数をａとした時、以下のような重み付けで行う。
【０１０７】
間隔補正量＝ａ×（成形型６４とガラス基板２の樹脂押圧面とは反対側の面との間隔距離）
樹脂滴下量＝（１−ａ）×上記ギャップ間距離
他方、図１８（ｂ）に示す通り、凸レンズ部４（樹脂部分）とガラス基板２とを足し合わせた厚みＴ２を一定に制御しようとするときは、２サイクル目以降のディスペンス工程Ｓ３で、ディスペンサ３２を制御して成形型６４に滴下する樹脂量を補正する。
【０１０８】
すなわち、制御装置５００には予め、厚みＴ２（設計値）に対する成形型６４への樹脂の滴下量が初期値として記憶され、１サイクル目のディスペンス工程では、初期値に基づき成形型６４への樹脂の滴下量を決定している。そしてセンシング工程Ｓ１０において、成形型６４の平坦面とガラス基板２の樹脂押圧面とは反対側の面とが平行を保ちながら所定間隔を維持した状態で走査しながらＡ点とＢ点の各高さ位置を測定し、測定したＡ−Ｂ位置間の距離と上記一定間隔とのずれ量から樹脂硬化後の厚みＴ２（実測値）を算出する。その結果、樹脂硬化前後の厚みＴ２のズレ量を算出することができ、２サイクル目以降のディスペンス工程Ｓ３において、そのズレ量に応じる量だけ樹脂の滴下量を微小に変動させる。
【０１０９】
なお、上述した成形型６４の平坦面とガラス基板２の樹脂押圧面と反対側の面とが平行を保ちながら所定間隔を維持するためには、Ｃ点の高さを走査しながら測定し一定高さに保つように成形型６４をＺ方向に微移動させる構成であればよい。
【０１１０】
このように樹脂の滴下量を補正すれば、２サイクル目以降の離型工程Ｓ７の処理後においては、凸レンズ部４とそれに対応する部位のガラス基板２とを足し合わせた体積（面積×厚み）を一定に保持することができ、光軸上の厚みとなる厚みＴ２を一定にすることができる。
【０１１１】
そしてガラス基板２に対し所定数の凸レンズ部４を形成したら、エアスライドガイド機構１２０、１３０、２３０、２４０、３２０を作動させ、ＸＹステージ３０やＺステージ３０４を所定位置に移動させ、最終的にはＸＹステージ３０から蓋部４２を外してガラス基板２を取り出す（取り出し工程Ｓ８）。
【０１１２】
以上の処理により、ウエハレンズ１を製造することができる。なお、１サイクル目で作成したレンズは、設計値に基づくもので、実測値で補正されていないので、基本的には破棄されるが、検収によって仕様の範囲内のものは使用してもよい。
【０１１３】
なお、本実施形態では、１サイクル目と２サイクル目以降との各工程において同様のガラス基板２に凸レンズ部４を形成したが、１サイクル目と２サイクル目以降との各工程で別々のガラス基板２を使用してもよい。すなわち、１サイクル目の各工程ではテスト用のガラス基板２を使用し、２サイクル目以降の各工程でウエハレンズ製造用のガラス基板２を使用してもよい。
【０１１４】
この場合、例えば、図１９に示す通り、ＸＹステージ３０に対し、貫通孔４０に加えてこれと同様の構成で小径の貫通孔４６を設ける。貫通孔４６にはテスト用のガラス基板２′を、貫通孔４０にはウエハレンズ作製用のガラス基板２を設置する。そして１サイクル目の各工程ではテスト用のガラス基板２′に対し凸レンズ部４を形成し、その後Ａ点、Ｂ点、Ｃ点の高さ位置を測定する。２サイクル目以降の各工程では、テスト用のガラス基板２′を用いて測定したＡ点、Ｂ点、Ｃ点の高さ位置に基づき、ウエハレンズ製造用のガラス基板２に対し凸レンズ部４を順次形成する。
【０１１５】
本実施形態では、ウエハレンズ１を製造する例を示したが、本実施形態はウエハレンズ１を製造するためのサブマスターを製造する場合にも適用することができる。サブマスターとは、成形型６４を母型として形成される樹脂型であり、基本的にはガラス基板２に凸レンズ部４を形成したのと同様に、ガラス基板２に対し樹脂製の凹凸を形成したものである。サブマスターの使用は、高価なマスター成形型の使用回数を低減できるので、マスター成形型を頻繁に作り直す必要が無くなり、結果としてウエハレンズのコスト低減を図ることができる。
【０１１６】
図１８（ａ）に示すように、厚みＴ１を一定に制御しようとして成形型６４の配置を補正する方法は、ガラス基板２の下面を基準として凸レンズ部４の厚みＴ１を一定にすることができるため、ウエハレンズ１を製造するのに好適である。
【０１１７】
図１８（ｂ）に示すように、厚みＴ２を一定に制御しようとして樹脂の滴下量を補正する方法は、ガラス基板２の上面を基準として凸レンズ部４とガラス基板２との厚みＴ２を一定にすることができるため、サブマスターを製造するのに好適である。
【０１１８】
本実施形態ではガラス基板２に対し成形型単位で順次凸レンズ部４を形成するいわゆる「ステップ＆リピート方式」の例を示したが、成形型６４に代えてガラス基板２のサイズ（面積）に対応する大径の成形型を使用し、ガラス基板２に対し一括的に所望数の凸レンズ部４を形成するいわゆる「一括方式」を採用してもよい。一括方式に第１実施形態を適用する場合、１枚目のガラス基板は厚み測定用のダミーとして成型し、２サイクル目以降に成型したウエハレンズを製品とすればよい。一括方式への適用は、ガラス基板が比較的厚くてソリなどが無く、且つ各ガラス基板の厚みの精度が高い場合に特に有用である。
【０１１９】
また本実施形態では、ディスペンス工程Ｓ３から離型工程Ｓ７にかけてガラス基板２の近傍を局所的に減圧状態としたが、上記ステップ＆リピート方式、一括方式のいずれにおいても、ウエハレンズ製造装置１０（制御装置５００を除く。）の全体をチャンバなどの閉じた系に設置し、ガラス基板２の近傍を含むウエハレンズ製造装置１０ごと全体的に減圧状態としてもよい。
【０１２０】
上記実施形態では、インプリント工程Ｓ５、露光工程Ｓ６において空間部４００を減圧したが、例えば、ガラス基板２に形成した連通孔３を無くして、下部空間部４０４のみを減圧してもよい。
【０１２１】
この場合、図１４の破線部分に示す通り、ディスペンス工程Ｓ３、インプリント工程Ｓ５、露光工程Ｓ６のうち少なくとも一度、大気圧に開放することが好ましい。
【０１２２】
ディスペンス工程Ｓ３において減圧状態で樹脂を充填した場合、樹脂内への気泡の巻き込みを防止できるが、一方で、樹脂に加わる表面張力によって樹脂内に気泡が発生することがある。そのため、減圧状態にした後、一度大気圧に開放すれば、その気泡発生を防止することができ、その結果樹脂のキャビティ６５への未充填箇所を無くすことができる。
【０１２３】
インプリント工程Ｓ５で２つの上部空間部４０２、下部空間部４０４をいずれも減圧状態にした場合、上部空間部４０２、下部空間部４０４間において差圧が生じないので、樹脂内への気泡の巻き込みを防止できるが、例えば上部空間部４０２を大気圧とし、下部空間部４０４を減圧状態とすると、その差圧によってガラス基板２に反りや変形が生じる。そこで、上部空間部４０２と下部空間部４０４を減圧状態から大気圧に開放した場合、ガラス基板２を平坦に保つことができ、平坦にした状態でインプリントすることができる。
【０１２４】
露光工程Ｓ６において減圧状態で樹脂を露光した場合は、酸素による樹脂の硬化阻害を防止して樹脂を確実に硬化させることができるが、その後、大気圧に開放すれば、転写性を上げることができる。これらの工程での大気圧への開放は、図１４において、一点鎖線で示した。
［第２の実施形態］
第２の実施形態は下記の点で第１の実施形態と異なっており、それ以外の構成や動作などは第１の実施形態と同様となっている。
【０１２５】
図２０に示す通り、ウエハレンズ１の製造方法において、プリアライメント工程Ｓ２とディスペンス工程Ｓ３との間にセンシング工程Ｓ１０の処理を実行し、センシング工程Ｓ１０から離型工程Ｓ７までの処理を１サイクルとする。
【０１２６】
センシング工程Ｓ１０では、図１６（ｂ）、（ｃ）に示す通り、Ａ点（非レンズ部）、Ｂ点（ガラス基板２との間で樹脂を成形型６４が押圧する側の面）、Ｃ点（当該押圧する側とは反対側の面）の各高さ位置を測定する。実際には、ステップ＆リピート方式の１サイクル目、或いは一括方式の１枚目においては、Ｂ点、Ｃ点をガラス基板の複数位置で測定して記憶しておき、ステップ＆リピート方式の２サイクル目以降、或いは一括方式の２枚目以降においてＡ点を測定して成形型の位置補正を行う。
【０１２７】
図１８（ａ）に示す通り、凸レンズ部４の厚みＴ１を一定に制御しようとするときは、各サイクルのインプリント工程Ｓ５では、そのサイクルの直前サイクルのセンシング工程Ｓ１０で測定したＡ点とＢ点の高さ位置に基づき、Ｚ軸移動機構３００（モータ３０６）を制御して成形型６４の高さ位置を補正する。
【０１２８】
例えば、図２１に示す通り、１サイクル目のセンシング工程Ｓ１０で測定したＢ点の高さ位置がＢ１で、２サイクル目のセンシング工程Ｓ１０で測定したＢ点の高さ位置がＢ２であったとする。この場合、ガラス基板２が変形してやや反っているようなとき（図２１（ａ）参照）やガラス基板２の厚みにバラツキがあるようなとき（図２１（ｂ）参照）には、Ｂ１、Ｂ２間にズレが生じるため、１サイクル目と２サイクル目との間で、ガラス基板２のズレ量を算出することができる。その結果、２サイクル目のインプリント工程Ｓ５では、１サイクル目のインプリント工程Ｓ５における成形型６４の配置に対し、そのズレ量に応じる距離だけ成形型６４の配置を微小に変動させる。
【０１２９】
このように成形型６４の配置を補正すれば、各サイクルのインプリント工程Ｓ５では、ガラス基板２の下面に対し成形型６４を一定の間隔に保持することができ、光軸上の厚みとなる厚みＴ１を一定にすることができる。また、各サイクルではその直前サイクルで測定したＢ点との比較を行うから、ウエハレンズ製造装置１０の作動に伴う熱の発生により、ガラス基板２が変形したり膨張・収縮したりしても、厚みＴ１を確実に一定にすることができる。
【０１３０】
他方、図１８（ｂ）に示す通り、凸レンズ部４（樹脂部分）とガラス基板２とを足し合わせた厚みＴ２を一定に制御しようとするときは、各サイクルのディスペンス工程Ｓ３では、そのサイクルの直前サイクルのセンシング工程Ｓ１０で測定したＡ点とＣ点の高さ位置に基づき、ディスペンサ３２を制御して成形型６４に滴下する樹脂量を補正する。
【０１３１】
例えば、図２１に示す通り、１サイクル目のセンシング工程Ｓ１０で測定したＣ点の高さ位置がＣ１で、２サイクル目のセンシング工程Ｓ１０で測定したＣ点の高さ位置がＣ２であったとする。この場合、ガラス基板２が変形してやや反っているようなとき（図２１（ａ）参照）やガラス基板２の厚みにバラツキがあるようなとき（図２１（ｂ）参照）には、Ｃ１、Ｃ２間にズレが生じるため、１サイクル目の各工程と２サイクル目の各工程との間で、ガラス基板２のズレ量を算出することができる。その結果、２サイクル目のディスペンス工程Ｓ３では、１サイクル目のディスペンス工程Ｓ３における樹脂の成形型６４への滴下量に対し、そのズレ量に応じる量だけ樹脂の滴下量を微小に変動させる。
【０１３２】
なお、本実施態様においても、成形型６４の平坦面とガラス基板２の樹脂押圧面とは反対側の面とが平行を保ちながら所定間隔を維持した状態で走査しながらＢ点の各高さ位置を測定し、これらからガラス基板２の厚みのバラツキを測定しても良い。
【０１３３】
このように樹脂の滴下量を補正すれば、各サイクルでは、凸レンズ部４とそれに対応する部位のガラス基板２とを足し合わせた体積（面積×厚み）を一定に保持することができ、光軸上の厚みとなる厚みＴ２を一定にすることができる。また、各サイクルではその直前サイクルで測定したＣ点との比較を行うから、ウエハレンズ製造装置１０の作動に伴う熱の発生により、ガラス基板２が変形したり膨張・収縮したりしても、厚みＴ２を確実に一定にすることができる。
【０１３４】
なお、本実施形態では、各サイクルごとにガラス基板２のズレ量を算出して成形型６４の配置や樹脂の滴下量を補正したが、凸レンズ部４を形成する前に、ガラス基板２の成形型６４を押圧するすべての領域またはいくつかの任意領域において（図１中ＡＲ１〜３参照）、Ｂ点、Ｃ点の高さ位置を予め測定し、特定の一の領域のＢ点、Ｃ点の高さ位置を基準として、その他の領域でガラス基板２のズレ量を算出し、成形型６４の配置や樹脂の滴下量を補正してもよい。
【０１３５】
図２２は、この変形の実施形態を説明するフローチャートであり、プリアライメント工程Ｓ２の後にプリセンシング工程Ｓ１１が実施される。このプリセンシング工程Ｓ１１では、上述のＢ点、Ｃ点の高さ位置の測定をガラス基板のすべての領域またはいくつかの任意領域で行うものである。この工程で測定された高さ位置のデータはメモリに記憶されて各サイクルのセンシング工程Ｓ１０で測定されるＡ点の高さ位置との比較によって成形型の押圧位置、或いは樹脂の滴下量の補正に用いられる。
【０１３６】
なお、更なる変形としてプリセンシング工程Ｓ１１でのＢ点、Ｃ点だけのデータを用いて成形型の押圧位置、或いは樹脂の滴下量の補正を行うことも可能である。この場合は、ガラス基板のソリや厚みのバラツキに対する補正となる。
【符号の説明】
【０１３７】
１  ウエハレンズ
２  ガラス基板
３  連通孔
４  凸レンズ部
６  非レンズ部
１０  ウエハレンズ製造装置
２０  定盤
３０  ＸＹステージ
３１  突条部
３２  ディスペンサ
３３  針部
３４  レーザー測長器
３６  顕微鏡
３８  連通孔
４０、４６  貫通孔
４２  蓋部
４４  光源
５０  成形型部
５２  第１の支持台
５４  ピエゾアクチュエータ
５６  第２の支持台
５８  圧力センサ
６０  第３の支持台
６２  θステージ
６４  成形型
６５  キャビティ
６６  ネジ
６８  板バネ
７０  ネジ
７２  光学センサ
１００  Ｘ軸移動機構
１０２  Ｘ軸ガイド
１１０  リニアモータ
１１２  固定子
１１４  可動子
１１６  スケール
１１８  センサ
１２０、１３０  エアスライドガイド機構
１２２、１３２、１３６  噴出孔
１３４  吸引孔
２００  Ｙ軸移動機構
２０２  Ｙ軸ガイド２０２
２０４、２０６  端部
２１０  Ｙ軸移動体
２１２、２１４  フック部
２２０  リニアモータ
２２２  固定子
２２４  可動子
２２６  スケール
２３０、２４０  エアスライドガイド機構
２３２、２３４、２３６、２４２、２４４、２４６  噴出孔
３００  Ｚ軸移動機構
３０２  Ｚ軸ガイド
３０４  Ｚステージ
３０６  モータ
３０８  シャフト
３１０  隙間
３２０  エアスライドガイド機構
３２２、３２４、３２６、３２８  噴出孔
３３０  シーリング部材
４００  空間部
４０２  上部空間部
４０４  下部空間部
４０６  空間部
４１０  減圧機構
５００  制御装置
【図２２】
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【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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