(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体に対向する媒体対向面と、
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
前記媒体対向面に配置された端面を有し、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する主磁極と、
磁性材料よりなり、前記媒体対向面に配置された端面を有する記録シールドと、
非磁性材料よりなり、前記主磁極と前記記録シールドとの間に配置されたギャップ部とを備えた垂直磁気記録用磁気ヘッドであって、
前記記録シールドの端面は、前記主磁極の前記端面に対して前記記録媒体の進行方向の前側に配置された第１の端面部分を含み、
前記主磁極は、前記記録媒体の進行方向の前側の端に位置する面である上面と、前記上面とは反対側の下端部とを有し、
前記主磁極の上面は、前記媒体対向面に近い順に、連続するように配置された第１の部分、第２の部分および第３の部分を含み、
前記第１の部分は、前記媒体対向面に配置された第１の端部と、その反対側の第２の端部とを有し、
前記第３の部分は、前記第２の部分に接続された第３の端部と、前記第３の端部よりも前記媒体対向面からより遠い位置に配置された第４の端部とを有し、
前記主磁極の端面は、前記記録媒体の進行方向の前側に配置された端部と前記記録媒体の進行方向の後側に配置された端部とを有し、
前記主磁極の端面の前記記録媒体の進行方向の前側に配置された端部を通り、前記媒体対向面および前記記録媒体の進行方向に垂直な第１の仮想の平面と、前記主磁極の端面の前記記録媒体の進行方向の後側に配置された端部を通り、前記媒体対向面および前記記録媒体の進行方向に垂直な第２の仮想の平面とを想定したとき、
前記第１の部分は、前記第２の端部が前記第１の端部よりも前記第１および第２の仮想の平面からより遠い位置に配置されるように、前記第１および第２の仮想の平面および前記媒体対向面に対して傾斜し、
前記第２の部分は、実質的に前記第１および第２の仮想の平面に平行であり、
前記第３の部分は、前記第４の端部が前記第３の端部よりも前記第１および第２の仮想の平面からより遠い位置に配置されるように、前記第１および第２の仮想の平面および前記媒体対向面に対して傾斜し、
前記記録シールドは、前記第３の部分と前記媒体対向面の間に配置された部分を含み、
前記主磁極の下端部は、前記媒体対向面に配置された第１の端部と、その反対側の第２の端部とを有する傾斜部を含み、
前記傾斜部は、その第２の端部がその第１の端部よりも前記第１および第２の仮想の平面からより遠い位置に配置されるように、前記第１および第２の仮想の平面および前記媒体対向面に対して傾斜し、
前記記録シールドは、前記ギャップ部を介して前記第１の部分に対向する部分を含む傾斜面を有し、この傾斜面は前記第１および第２の仮想の平面および前記媒体対向面に対して傾斜し、
前記媒体対向面に対して垂直な方向についての前記第１の部分の長さは、前記媒体対向面に対して垂直な方向についての前記傾斜部の長さおよび前記傾斜面の長さよりも小さいことを特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘッド。
【請求項２】
更に、磁性材料よりなる帰磁路部を備え、
前記帰磁路部は、前記主磁極に対して記録媒体の進行方向の前側に配置されて、前記主磁極、ギャップ部、記録シールドおよび帰磁路部によって囲まれた空間が形成されるように、前記主磁極のうちの前記媒体対向面から離れた部分と前記記録シールドとを接続し、
前記コイルは、前記空間を通過する部分を含むことを特徴とする請求項１記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。
【請求項３】
前記媒体対向面に配置された前記主磁極の端面の幅は、前記第１の仮想の平面から離れるに従って小さくなっていることを特徴とする請求項１記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。
【請求項４】
記録媒体に対向する媒体対向面と、
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
前記媒体対向面に配置された端面を有し、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する主磁極と、
磁性材料よりなり、前記媒体対向面に配置された端面を有する記録シールドと、
非磁性材料よりなり、前記主磁極と前記記録シールドとの間に配置されたギャップ部とを備えた垂直磁気記録用磁気ヘッドであって、
前記記録シールドの端面は、前記主磁極の前記端面に対して前記記録媒体の進行方向の前側に配置された第１の端面部分を含み、
前記主磁極は、前記記録媒体の進行方向の前側の端に位置する面である上面と、前記上面とは反対側の下端部とを有し、
前記主磁極の下端部は、前記媒体対向面に近い順に、連続するように配置された第１の部分、第２の部分および第３の部分を含み、
前記第１の部分は、前記媒体対向面に配置された第１の端部と、その反対側の第２の端部とを有し、
前記第３の部分は、前記第２の部分に接続された第３の端部と、前記第３の端部よりも前記媒体対向面からより遠い位置に配置された第４の端部とを有し、
前記主磁極の端面は、前記記録媒体の進行方向の前側に配置された端部と前記記録媒体の進行方向の後側に配置された端部とを有し、
前記主磁極の端面の前記記録媒体の進行方向の前側に配置された端部を通り、前記媒体対向面および前記記録媒体の進行方向に垂直な第１の仮想の平面と、前記主磁極の端面の前記記録媒体の進行方向の後側に配置された端部を通り、前記媒体対向面および前記記録媒体の進行方向に垂直な第２の仮想の平面とを想定したとき、
前記第１の部分は、前記第２の端部が前記第１の端部よりも前記第１および第２の仮想の平面からより遠い位置に配置されるように、前記第１および第２の仮想の平面および前記媒体対向面に対して傾斜し、
前記第２の部分は、実質的に前記第１および第２の仮想の平面に平行であり、
前記第３の部分は、前記第４の端部が前記第３の端部よりも前記第１および第２の仮想の平面からより遠い位置に配置されるように、前記第１および第２の仮想の平面および前記媒体対向面に対して傾斜し、
前記記録シールドは、前記第３の部分と前記媒体対向面の間に配置された部分を含み、
前記記録シールドの端面は、更に、前記主磁極の前記端面に対して前記記録媒体の進行方向の後側に配置された第２の端面部分を含み、
前記主磁極の上面は、前記媒体対向面に配置された第１の端部と、その反対側の第２の端部とを有する傾斜部を含み、
前記傾斜部は、その第２の端部がその第１の端部よりも前記第１および第２の仮想の平面からより遠い位置に配置されるように、前記第１および第２の仮想の平面および前記媒体対向面に対して傾斜し、
前記記録シールドは、前記ギャップ部を介して前記傾斜部に対向する部分を含む傾斜面を有し、この傾斜面は前記第１および第２の仮想の平面および前記媒体対向面に対して傾斜し、
前記媒体対向面に対して垂直な方向についての前記傾斜部の長さは、前記媒体対向面に対して垂直な方向についての前記第１の部分の長さおよび前記傾斜面の長さよりも小さいことを特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘッド。
【請求項５】
更に、磁性材料よりなる帰磁路部を備え、
前記帰磁路部は、前記主磁極に対して記録媒体の進行方向の後側に配置されて、前記主磁極、ギャップ部、記録シールドおよび帰磁路部によって囲まれた空間が形成されるように、前記主磁極のうちの前記媒体対向面から離れた部分と前記記録シールドとを接続し、
前記コイルは、前記空間を通過する部分を含むことを特徴とする請求項４記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。
【請求項６】
前記媒体対向面に配置された前記主磁極の端面の幅は、前記第１の仮想の平面から離れるに従って小さくなっていることを特徴とする請求項４記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。
【請求項７】
記録媒体に対向する媒体対向面と、
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
前記媒体対向面に配置された端面を有し、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する主磁極と、
磁性材料よりなり、前記媒体対向面に配置された端面を有する記録シールドと、
非磁性材料よりなり、前記主磁極と前記記録シールドとの間に配置されたギャップ部とを備えた垂直磁気記録用磁気ヘッドであって、
前記記録シールドの端面は、前記主磁極の前記端面に対して前記記録媒体の進行方向の前側に配置された第１の端面部分を含み、
前記主磁極は、前記記録媒体の進行方向の前側の端に位置する面である上面と、前記上面とは反対側の下端部とを有し、
前記主磁極の上面と下端部は、それぞれ、前記媒体対向面に近い順に、連続するように配置された第１の部分、第２の部分および第３の部分を含み、
前記第１の部分は、前記媒体対向面に配置された第１の端部と、その反対側の第２の端部とを有し、
前記第３の部分は、前記第２の部分に接続された第３の端部と、前記第３の端部よりも前記媒体対向面からより遠い位置に配置された第４の端部とを有し、
前記主磁極の端面は、前記記録媒体の進行方向の前側に配置された端部と前記記録媒体の進行方向の後側に配置された端部とを有し、
前記主磁極の端面の前記記録媒体の進行方向の前側に配置された端部を通り、前記媒体対向面および前記記録媒体の進行方向に垂直な第１の仮想の平面と、前記主磁極の端面の前記記録媒体の進行方向の後側に配置された端部を通り、前記媒体対向面および前記記録媒体の進行方向に垂直な第２の仮想の平面とを想定したとき、
前記第１の部分は、前記第２の端部が前記第１の端部よりも前記第１および第２の仮想の平面からより遠い位置に配置されるように、前記第１および第２の仮想の平面および前記媒体対向面に対して傾斜し、
前記第２の部分は、実質的に前記第１および第２の仮想の平面に平行であり、
前記第３の部分は、前記第４の端部が前記第３の端部よりも前記第１および第２の仮想の平面からより遠い位置に配置されるように、前記第１および第２の仮想の平面および前記媒体対向面に対して傾斜し、
前記記録シールドは、前記第３の部分と前記媒体対向面の間に配置された部分を含み、
前記記録シールドの端面は、更に、前記主磁極の前記端面に対して前記記録媒体の進行方向の後側に配置された第２の端面部分を含み、
前記記録シールドは、前記ギャップ部を介して前記主磁極の上面の第１の部分に対向する部分を含む傾斜面を有し、この傾斜面は前記第１および第２の仮想の平面および前記媒体対向面に対して傾斜し、
前記媒体対向面に対して垂直な方向についての前記主磁極の上面の第１の部分の長さは、前記媒体対向面に対して垂直な方向についての前記主磁極の下端部の第１の部分の長さおよび前記傾斜面の長さよりも小さいことを特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘッド。
【請求項８】
更に、それぞれ磁性材料よりなる第１および第２の帰磁路部を備え、
前記第１の帰磁路部は、前記主磁極に対して記録媒体の進行方向の前側に配置されて、前記主磁極、ギャップ部、記録シールドおよび第１の帰磁路部によって囲まれた第１の空間が形成されるように、前記主磁極のうちの前記媒体対向面から離れた部分と前記記録シールドとを接続し、
前記第２の帰磁路部は、前記主磁極に対して記録媒体の進行方向の後側に配置されて、前記主磁極、ギャップ部、記録シールドおよび第２の帰磁路部によって囲まれた第２の空間が形成されるように、前記主磁極のうちの前記媒体対向面から離れた部分と前記記録シールドとを接続し、
前記コイルは、第１の空間を通過する第１の部分と、前記第２の空間を通過する第２の部分とを含むことを特徴とする請求項７記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。
【請求項９】
前記媒体対向面に配置された前記主磁極の端面の幅は、前記第１の仮想の平面から離れるに従って小さくなっていることを特徴とする請求項７記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、垂直磁気記録方式によって記録媒体に情報を記録するために用いられる垂直磁気記録用磁気ヘッドに関し、特に、主磁極とシールドを備えた垂直磁気記録用磁気ヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録再生装置における記録方式には、信号磁化の向きを記録媒体の面内方向（長手方向）とする長手磁気記録方式と、信号磁化の向きを記録媒体の面に対して垂直な方向とする垂直磁気記録方式とがある。垂直磁気記録方式は、長手磁気記録方式に比べて、記録媒体の熱揺らぎの影響を受けにくく、高い線記録密度を実現することが可能であると言われている。
【０００３】
一般的に、垂直磁気記録用の磁気ヘッドとしては、長手磁気記録用の磁気ヘッドと同様に、読み出し用の磁気抵抗効果素子（以下、ＭＲ（Magnetoresistive）素子とも記す。）を有する再生ヘッドと、書き込み用の誘導型電磁変換素子を有する記録ヘッドとを、基板上に積層した構造のものが用いられる。記録ヘッドは、記録媒体の面に対して垂直な方向の磁界を発生する主磁極を備えている。主磁極は、例えば、一端部が記録媒体に対向する媒体対向面に配置されたトラック幅規定部と、このトラック幅規定部の他端部に連結され、トラック幅規定部よりも大きな幅を有する幅広部とを有している。トラック幅規定部は、ほぼ一定の幅を有している。垂直磁気記録方式の記録ヘッドには、高記録密度化のために、トラック幅の縮小と、記録特性、例えば重ね書きの性能を表わすオーバーライト特性の向上が求められる。
【０００４】
ところで、ハードディスク装置等の磁気ディスク装置に用いられる磁気ヘッドは、一般的に、スライダに設けられる。スライダは、上記媒体対向面を有している。この媒体対向面は、空気流入端（リーディング端）と空気流出端（トレーリング端）とを有している。そして、空気流入端から媒体対向面と記録媒体との間に流入する空気流によって、スライダは記録媒体の表面からわずかに浮上するようになっている。このスライダにおいて、一般的に、磁気ヘッドは媒体対向面における空気流出端近傍に配置される。磁気ディスク装置において、磁気ヘッドの位置決めは、例えばロータリーアクチュエータによって行なわれる。この場合、磁気ヘッドは、ロータリーアクチュエータの回転中心を中心とした円軌道に沿って記録媒体上を移動する。このような磁気ディスク装置では、磁気ヘッドのトラック横断方向の位置に応じて、スキューと呼ばれる、円形のトラックの接線に対する磁気ヘッドの傾きが生じる。
【０００５】
特に、長手磁気記録方式に比べて記録媒体への書き込み能力が高い垂直磁気記録方式の磁気ディスク装置では、上述のスキューが生じると、あるトラックへの信号の記録時に、記録対象のトラックに隣接する１以上のトラックに記録された信号が消去されたり減衰したりする現象（以下、隣接トラック消去と言う。）が生じる場合がある。高記録密度化のためには、隣接トラック消去の発生を抑制する必要がある。
【０００６】
上述のようなスキューに起因した隣接トラック消去の発生を抑制する技術としては、例えば、特許文献１および特許文献２に記載されているように、媒体対向面における主磁極の端面の幅を、基板の上面に近づくに従って小さくする技術が知られている。また、特許文献１および特許文献２には、媒体対向面の近傍における主磁極の厚みを、媒体対向面に近づくに従って小さくする技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−１３３６１０号公報
【特許文献２】特開２００９−６４５３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、スキューに起因した問題の発生を防止するためには、媒体対向面における主磁極の厚みを小さくすることも効果的である。しかしながら、主磁極全体を薄くすると、磁束の流れる方向に対して垂直な主磁極の断面積が小さくなる。その結果、主磁極は、多くの磁束を媒体対向面まで導くことができなくなり、オーバーライト特性等の記録特性が低下してしまう。
【０００９】
特許文献１および特許文献２に記載されているように、媒体対向面の近傍における主磁極の厚みを、媒体対向面に近づくに従って小さくすることにより、媒体対向面における主磁極の厚みを小さくすることができ、且つ主磁極のうちの媒体対向面から離れた部分の厚みを大きくして、主磁極によって多くの磁束を媒体対向面まで導くことが可能になる。
【００１０】
また、スキューに起因した隣接トラック消去の発生を抑制すると共に記録密度を向上させるためには、特許文献２に記載されているように、媒体対向面において主磁極の端面に対して記録媒体の進行方向の前側に配置された端面を有する記録シールドを設けることが有効である。
【００１１】
一般的に、記録シールドを備えた磁気ヘッドでは、主磁極のうちの媒体対向面から離れた部分と記録シールドとを接続する１つ以上の帰磁路部が設けられる。記録シールドと１つ以上の帰磁路部は、主磁極の端面より発生されて記録媒体の面に垂直な方向以外の方向に広がる磁束を取り込んで、この磁束が記録媒体に達することを阻止する機能を有している。また、記録シールドと１つ以上の帰磁路部は、主磁極の端面より発生されて、記録媒体を磁化した磁束を、主磁極に還流させる機能も有している。
【００１２】
記録媒体に記録される記録ビットの端部の位置は、媒体対向面に配置された主磁極の端面のうち、記録媒体の進行方向の前側に配置された端部の位置によって決まる。そのため、記録ビットの端部の位置を精度よく規定するためには、記録シールドが、媒体対向面において主磁極の端面に対して記録媒体の進行方向の前側に配置された端面を有し、この端面において、主磁極の端面より発生されて記録媒体の面に垂直な方向以外の方向に広がる磁束を取り込むことが重要である。記録シールドを備えた磁気ヘッドによれば、隣接トラック消去の発生を抑制することが可能になると共に、記録密度のより一層の向上が可能になる。
【００１３】
前述のように、媒体対向面の近傍における主磁極の厚みを、媒体対向面に近づくに従って小さくすることにより、媒体対向面における主磁極の厚みを小さくすることができ、且つ主磁極のうちの媒体対向面から離れた部分の厚みを大きくして、主磁極によって多くの磁束を媒体対向面まで導くことが可能になる。しかし、それでも、主磁極のうちの媒体対向面から離れた部分の厚みが不十分な場合もある。
【００１４】
そこで、特許文献２に記載されているように、媒体対向面における主磁極の厚みを小さくしながら、主磁極のうちの媒体対向面から離れた部分にヨーク層を接続することによって、主磁極とヨーク層の合計の厚みを大きくすることも効果的である。
【００１５】
ここで、記録シールドとヨーク層とを備えた磁気ヘッドにおける問題点について説明する。上述のヨーク層による効果を十分に発揮させるためには、媒体対向面に向いたヨーク層の前端面をできるだけ媒体対向面に近づけることが好ましい。しかし、そうすると、ヨーク層の前端面と記録シールドとの間の距離が小さくなって、ヨーク層から記録シールドへの磁束の漏れが多くなり、オーバーライト特性等の記録特性が低下してしまうという問題が発生する。特に、一般的に、ヨーク層の前端面とヨーク層の上面および下面との間には、それぞれ９０°の角度の角が形成されており、この角においてヨーク層の内部から外部へ磁束が漏れやすい。ヨーク層の前端面と記録シールドとの間の距離が小さくなると、ヨーク層の角から記録シールドへの磁束の漏れが多くなる。
【００１６】
このように、従来の記録シールドとヨーク層とを備えた磁気ヘッドでは、スキューに起因した問題の発生を防止し、且つ記録特性を向上させることが難しかった。
【００１７】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、スキューに起因した問題の発生を防止し、且つ記録特性を向上させることができるようにした垂直磁気記録用磁気ヘッドを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明の垂直磁気記録用磁気ヘッドは、記録媒体に対向する媒体対向面と、記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、主磁極と、記録シールドと、ギャップ部とを備えている。主磁極は、媒体対向面に配置された端面を有し、コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって情報を記録媒体に記録するための記録磁界を発生する。記録シールドは、磁性材料よりなり、媒体対向面に配置された端面を有している。ギャップ部は、非磁性材料よりなり、主磁極と記録シールドとの間に配置されている。
【００１９】
記録シールドの端面は、主磁極の端面に対して記録媒体の進行方向の前側に配置された第１の端面部分を含んでいる。主磁極は、記録媒体の進行方向の前側の端に位置する面である上面と、上面とは反対側の下端部とを有している。主磁極の上面と下端部の少なくとも一方は、媒体対向面に近い順に、連続するように配置された第１の部分、第２の部分および第３の部分を含んでいる。第１の部分は、媒体対向面に配置された第１の端部と、その反対側の第２の端部とを有している。第３の部分は、第２の部分に接続された第３の端部と、第３の端部よりも媒体対向面からより遠い位置に配置された第４の端部とを有している。主磁極の端面は、記録媒体の進行方向の前側に配置された端部と記録媒体の進行方向の後側に配置された端部とを有している。
【００２０】
本発明の垂直磁気記録用磁気ヘッドでは、主磁極の端面の記録媒体の進行方向の前側に配置された端部を通り、媒体対向面および記録媒体の進行方向に垂直な第１の仮想の平面と、主磁極の端面の記録媒体の進行方向の後側に配置された端部を通り、媒体対向面および記録媒体の進行方向に垂直な第２の仮想の平面とを想定する。第１の部分は、第２の端部が第１の端部よりも第１および第２の仮想の平面からより遠い位置に配置されるように、第１および第２の仮想の平面および媒体対向面に対して傾斜している。第２の部分は、実質的に第１および第２の仮想の平面に平行である。第３の部分は、第４の端部が第３の端部よりも第１および第２の仮想の平面からより遠い位置に配置されるように、第１および第２の仮想の平面および媒体対向面に対して傾斜している。記録シールドは、第３の部分と媒体対向面の間に配置された部分を含んでいる。
【００２１】
本発明の垂直磁気記録用磁気ヘッドにおいて、媒体対向面に配置された主磁極の端面の幅は、第１の仮想の平面から離れるに従って小さくなっていてもよい。
【００２２】
また、本発明の垂直磁気記録用磁気ヘッドにおいて、主磁極の上面と下端部の少なくとも一方は、更に、第４の部分および第５の部分を含んでいてもよい。第４の部分は、第３の部分に連続し第３の部分よりも媒体対向面からより遠い位置に配置されている。第５の部分は、第４の部分に連続し第４の部分よりも媒体対向面からより遠い位置に配置されている。第４の部分は、実質的に第１および第２の仮想の平面に平行である。第５の部分は、第４の部分に接続された第５の端部と、第５の端部よりも媒体対向面からより遠い位置に配置された第６の端部とを有し、第６の端部が第５の端部よりも第１および第２の仮想の平面からより遠い位置に配置されるように、第１および第２の仮想の平面および媒体対向面に対して傾斜している。
【００２３】
また、本発明の垂直磁気記録用磁気ヘッドにおいて、主磁極の上面が第１ないし第３の部分を含み、主磁極の下端部は、媒体対向面に配置された第１の端部と、その反対側の第２の端部とを有する傾斜部を含んでいてもよい。傾斜部は、その第２の端部がその第１の端部よりも第１および第２の仮想の平面からより遠い位置に配置されるように、第１および第２の仮想の平面および媒体対向面に対して傾斜している。記録シールドは、ギャップ部を介して第１の部分に対向する部分を含む傾斜面を有していてもよい。この傾斜面は、第１および第２の仮想の平面および媒体対向面に対して傾斜している。媒体対向面に対して垂直な方向についての第１の部分の長さは、媒体対向面に対して垂直な方向についての傾斜部の長さおよび傾斜面の長さよりも小さくてもよい。この場合、磁気ヘッドは、更に、磁性材料よりなる帰磁路部を備えていてもよい。この帰磁路部は、主磁極に対して記録媒体の進行方向の前側に配置されて、主磁極、ギャップ部、記録シールドおよび帰磁路部によって囲まれた空間が形成されるように、主磁極のうちの媒体対向面から離れた部分と記録シールドとを接続している。コイルは、前記空間を通過する部分を含んでいてもよい。
【００２４】
また、本発明の垂直磁気記録用磁気ヘッドにおいて、主磁極の下端部が第１ないし第３の部分を含み、記録シールドの端面は、更に、主磁極の端面に対して記録媒体の進行方向の後側に配置された第２の端面部分を含み、主磁極の上面は、媒体対向面に配置された第１の端部と、その反対側の第２の端部とを有する傾斜部を含んでいてもよい。傾斜部は、その第２の端部がその第１の端部よりも第１および第２の仮想の平面からより遠い位置に配置されるように、第１および第２の仮想の平面および媒体対向面に対して傾斜している。記録シールドは、ギャップ部を介して傾斜部に対向する部分を含む傾斜面を有していてもよい。この傾斜面は、第１および第２の仮想の平面および媒体対向面に対して傾斜している。媒体対向面に対して垂直な方向についての傾斜部の長さは、媒体対向面に対して垂直な方向についての第１の部分の長さおよび傾斜面の長さよりも小さくてもよい。この場合、磁気ヘッドは、更に、磁性材料よりなる帰磁路部を備えていてもよい。この帰磁路部は、主磁極に対して記録媒体の進行方向の後側に配置されて、主磁極、ギャップ部、記録シールドおよび帰磁路部によって囲まれた空間が形成されるように、主磁極のうちの媒体対向面から離れた部分と記録シールドとを接続している。コイルは、前記空間を通過する部分を含んでいてもよい。
【００２５】
また、本発明の垂直磁気記録用磁気ヘッドにおいて、主磁極の上面と下端部が、それぞれ、第１ないし第３の部分を含み、記録シールドの端面は、更に、主磁極の端面に対して記録媒体の進行方向の後側に配置された第２の端面部分を含んでいてもよい。記録シールドは、ギャップ部を介して主磁極の上面の第１の部分に対向する部分を含む傾斜面を有していてもよい。この傾斜面は、第１および第２の仮想の平面および媒体対向面に対して傾斜している。媒体対向面に対して垂直な方向についての主磁極の上面の第１の部分の長さは、媒体対向面に対して垂直な方向についての主磁極の下端部の第１の部分の長さおよび傾斜面の長さよりも小さくてもよい。この場合、磁気ヘッドは、更に、それぞれ磁性材料よりなる第１および第２の帰磁路部を備えていてもよい。第１の帰磁路部は、主磁極に対して記録媒体の進行方向の前側に配置されて、主磁極、ギャップ部、記録シールドおよび第１の帰磁路部によって囲まれた第１の空間が形成されるように、主磁極のうちの媒体対向面から離れた部分と記録シールドとを接続している。第２の帰磁路部は、主磁極に対して記録媒体の進行方向の後側に配置されて、主磁極、ギャップ部、記録シールドおよび第２の帰磁路部によって囲まれた第２の空間が形成されるように、主磁極のうちの媒体対向面から離れた部分と記録シールドとを接続している。コイルは、第１の空間を通過する第１の部分と、第２の空間を通過する第２の部分とを含んでいてもよい。
【発明の効果】
【００２６】
本発明の垂直磁気記録用磁気ヘッドでは、主磁極の上面と下端部の少なくとも一方が、第１の部分および第３の部分を含むことにより、媒体対向面における主磁極の厚みを小さくし、且つ主磁極のうち、第３の部分よりも媒体対向面からより遠い部分の厚みを十分に大きくすることが可能になる。また、本発明では、主磁極の上面と下端部の少なくとも一方が、第２の部分を含むことにより、第２の部分がない場合に比べて、第３の部分と記録シールドとの間の距離を大きくすることが可能になる。これらのことから、本発明によれば、スキューに起因した問題の発生を防止し、且つ記録特性を向上させることが可能になるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドにおける主磁極の媒体対向面の近傍の部分を示す断面図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドを示す断面図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドの媒体対向面を示す正面図である。
【図４】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第２の部分を示す平面図である。
【図５】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第１の部分の第１層を示す平面図である。
【図６】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第１の部分の第２層を示す平面図である。
【図７】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法における一工程を示す断面図である。
【図８】図７に示した工程に続く工程を示す断面図である。
【図９】図８に示した工程に続く工程を示す断面図である。
【図１０】図９に示した工程に続く工程を示す断面図である。
【図１１】図１０に示した工程に続く工程を示す断面図である。
【図１２】図１１に示した工程に続く工程を示す断面図である。
【図１３】図１２に示した工程に続く工程を示す断面図である。
【図１４】図１３に示した工程に続く工程を示す断面図である。
【図１５】図１４に示した工程に続く工程を示す断面図である。
【図１６】図１５に示した工程に続く工程を示す断面図である。
【図１７】図１６に示した工程に続く工程を示す断面図である。
【図１８】図１７に示した工程に続く工程を示す断面図である。
【図１９】本発明の第１の実施の形態における第１の変形例の主磁極の上面を示す平面図である。
【図２０】本発明の第１の実施の形態における第２の変形例の主磁極の上面を示す平面図である。
【図２１】本発明の第２の実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの複数の第２のコイル要素を示す平面図である。
【図２２】本発明の第２の実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの複数の第１のコイル要素を示す平面図である。
【図２３】本発明の第３の実施の形態に係る磁気ヘッドを示す断面図である。
【図２４】本発明の第４の実施の形態に係る磁気ヘッドを示す断面図である。
【図２５】本発明の第４の実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第２の部分を示す平面図である。
【図２６】本発明の第４の実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第１の部分の第１層を示す平面図である。
【図２７】本発明の第４の実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第１の部分の第２層を示す平面図である。
【図２８】本発明の第５の実施の形態に係る磁気ヘッドにおける主磁極の媒体対向面の近傍の部分を示す断面図である。
【図２９】本発明の第６の実施の形態に係る磁気ヘッドにおける主磁極の媒体対向面の近傍の部分を示す断面図である。
【図３０】本発明の第７の実施の形態に係る磁気ヘッドにおける主磁極の媒体対向面の近傍の部分を示す断面図である。
【図３１】本発明の第８の実施の形態に係る磁気ヘッドにおける主磁極の媒体対向面の近傍の部分を示す断面図である。
【図３２】本発明の第９の実施の形態に係る磁気ヘッドにおける主磁極の媒体対向面の近傍の部分を示す断面図である。
【図３３】本発明の第１０の実施の形態に係る磁気ヘッドにおける主磁極の媒体対向面の近傍の部分を示す断面図である。
【図３４】本発明の第１１の実施の形態に係る磁気ヘッドを示す断面図である。
【図３５】本発明の第１２の実施の形態に係る磁気ヘッドを示す断面図である。
【図３６】本発明の第１２の実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第２の部分の第１層を示す平面図である。
【図３７】本発明の第１２の実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第２の部分の第２層を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
［第１の実施の形態］
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。始めに、図１ないし図６を参照して、本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドの構成について説明する。図１は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおける主磁極の媒体対向面の近傍の部分を示す断面図である。図２は、本実施の形態に係る磁気ヘッドを示す断面図である。なお、図１および図２は媒体対向面および基板の上面に垂直な断面を示している。図１および図２において記号Ｔで示す矢印は、記録媒体の進行方向を表している。図３は、本実施の形態に係る磁気ヘッドの媒体対向面を示す正面図である。図４は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第２の部分を示す平面図である。図５は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第１の部分の第１層を示す平面図である。図６は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第１の部分の第２層を示す平面図である。図３ないし図６において記号ＴＷで示す矢印は、トラック幅方向を表している。
【００２９】
図２および図３に示したように、本実施の形態に係る垂直磁気記録用磁気ヘッド（以下、単に磁気ヘッドと記す。）は、アルミニウムオキサイド・チタニウムカーバイド（Ａｌ2Ｏ3・ＴｉＣ）等のセラミック材料よりなり、上面１ａを有する基板１と、この基板１の上面１ａ上に配置されたアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）等の絶縁材料よりなる絶縁層２と、この絶縁層２の上に配置された磁性材料よりなる第１の再生シールド層３と、第１の再生シールド層３を覆うように配置された絶縁膜である第１の再生シールドギャップ膜４と、この第１の再生シールドギャップ膜４の上に配置された再生素子としてのＭＲ（磁気抵抗効果）素子５と、このＭＲ素子５の上に配置された絶縁膜である第２の再生シールドギャップ膜６と、この第２の再生シールドギャップ膜６の上に配置された磁性材料よりなる第２の再生シールド層７とを備えている。
【００３０】
ＭＲ素子５の一端部は、記録媒体に対向する媒体対向面１００に配置されている。ＭＲ素子５には、ＡＭＲ（異方性磁気抵抗効果）素子、ＧＭＲ（巨大磁気抵抗効果）素子あるいはＴＭＲ（トンネル磁気抵抗効果）素子等の磁気抵抗効果を示す感磁膜を用いた素子を用いることができる。ＧＭＲ素子としては、磁気的信号検出用の電流を、ＧＭＲ素子を構成する各層の面に対してほぼ平行な方向に流すＣＩＰ（Current In Plane）タイプでもよいし、磁気的信号検出用の電流を、ＧＭＲ素子を構成する各層の面に対してほぼ垂直な方向に流すＣＰＰ（Current Perpendicular to Plane）タイプでもよい。
【００３１】
第１の再生シールド層３から第２の再生シールド層７までの部分は、再生ヘッド部８を構成する。磁気ヘッドは、更に、非磁性材料よりなり、第２の再生シールド層７の上に配置された非磁性層５０と、非磁性層５０の上に配置された記録ヘッド部９とを備えている。非磁性層５０は、例えばアルミナによって形成されている。記録ヘッド部９は、コイルと、主磁極１５と、記録シールド１６と、ギャップ部１７とを有している。
【００３２】
コイルは、記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生する。コイルは、第１の部分２０と第２の部分１０とを含んでいる。第１の部分２０と第２の部分１０は、いずれも、銅等の導電材料によって形成されている。第１の部分２０と第２の部分１０は、直列または並列に接続されている。主磁極１５は、媒体対向面１００に配置された端面を有し、コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって情報を記録媒体に記録するための記録磁界を発生する。図１および図２は、媒体対向面１００に配置された主磁極１５の端面と交差し、媒体対向面１００および基板１の上面１ａに垂直な断面（以下、主断面と言う。）を示している。
【００３３】
記録シールド１６は、媒体対向面１００に配置された端面を有している。記録シールド１６の端面は、第１ないし第４の端面部分１６Ａａ，１６Ｂａ，１６Ｃａ，１６Ｄａを含んでいる。第１の端面部分１６Ａａは、主磁極１５の端面に対して記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置されている。第２の端面部分１６Ｂａは、主磁極１５の端面に対して記録媒体の進行方向Ｔの後側に配置されている。第３および第４の端面部分１６Ｃａ，１６Ｄａは、主磁極１５の端面に対してトラック幅方向ＴＷの両側に配置されている。媒体対向面１００において、第１ないし第４の端面部分１６Ａａ，１６Ｂａ，１６Ｃａ，１６Ｄａは、主磁極１５の端面の周りを囲むように配置されている。
【００３４】
記録シールド１６は、磁性材料によって形成されている。記録シールド１６の材料としては、例えばＣｏＦｅＮ、ＣｏＮｉＦｅ、ＮｉＦｅ、ＣｏＦｅのいずれかを用いることができる。
【００３５】
記録ヘッド部９は、更に、第１の帰磁路部４０および第２の帰磁路部３０を有している。第１の帰磁路部４０および第２の帰磁路部３０は、いずれも磁性材料によって形成されている。第１の帰磁路部４０および第２の帰磁路部３０の材料としては、例えばＣｏＦｅＮ、ＣｏＮｉＦｅ、ＮｉＦｅ、ＣｏＦｅのいずれかを用いることができる。第１の帰磁路部４０と第２の帰磁路部３０は、主磁極１５を挟むように基板１の上面１ａに垂直な方向に沿って並んでいる。第１の帰磁路部４０は、主磁極１５に対して記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置されて、主磁極１５のうちの媒体対向面１００から離れた部分と記録シールド１６とを接続し、これにより、主磁極１５と記録シールド１６とを磁気的に連結している。第２の帰磁路部３０は、主磁極１５に対して記録媒体の進行方向Ｔの後側に配置されて、主磁極１５のうちの媒体対向面１００から離れた部分と記録シールド１６とを接続し、これにより、主磁極１５と記録シールド１６とを磁気的に連結している。
【００３６】
第２の帰磁路部３０は、磁性層３１，３２，３３，３４，３５，３６を有している。磁性層３１は、非磁性層５０の上に配置されている。磁性層３２，３３は、いずれも磁性層３１の上に配置されている。磁性層３２は、媒体対向面１００の近傍に配置されている。磁性層３３は、磁性層３２に対して、媒体対向面１００からより遠い位置に配置されている。磁性層３１，３２は、それぞれ、媒体対向面１００に向いた端面を有し、これらの端面は、媒体対向面１００から離れた位置に配置されている。図４に示したように、コイルの第２の部分１０は、磁性層３３の周りに約３回巻かれている。
【００３７】
磁気ヘッドは、更に、磁性層３１の周囲において非磁性層５０の上に配置された絶縁材料よりなる絶縁層５１と、磁性層３１〜３３と第２の部分１０との間に介在する絶縁材料よりなる絶縁膜５２と、第２の部分１０の巻線間に配置された絶縁材料よりなる絶縁層５３と、第２の部分１０および磁性層３２の周囲に配置された絶縁材料よりなる絶縁層５４とを備えている。第２の部分１０、磁性層３２，３３、絶縁膜５２および絶縁層５３，５４の上面は平坦化されている。絶縁層５１，５４および絶縁膜５２は、例えばアルミナによって形成されている。絶縁層５３は、例えばフォトレジストによって形成されている。
【００３８】
磁性層３４は、磁性層３２および絶縁層５４の上に配置されている。磁性層３５は、磁性層３３の上に配置されている。磁性層３４は、媒体対向面１００に配置された端面を有している。磁気ヘッドは、更に、第２の部分１０、絶縁膜５２および絶縁層５３，５４の上面の上に配置された絶縁材料よりなる絶縁層５５と、磁性層３４，３５の周囲において絶縁層５５の上に配置された絶縁材料よりなる絶縁層５６とを備えている。磁性層３４，３５および絶縁層５６の上面は、平坦化されている。絶縁層５５，５６は、例えばアルミナによって形成されている。
【００３９】
図３に示したように、記録シールド１６は、第１のシールド１６Ａと、第２のシールド１６Ｂと、２つのサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄとを有している。２つのサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄは、主磁極１５のトラック幅方向ＴＷの両側に配置されている。第１のシールド１６Ａは、主磁極１５に対して記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置されている。第２のシールド１６Ｂは、主磁極１５に対して記録媒体の進行方向Ｔの後側に配置されている。サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄは、第１のシールド１６Ａと第２のシールド１６Ｂを磁気的に連結している。
【００４０】
図１に示したように、第１のシールド１６Ａは、第１の端面部分１６Ａａと、下面である第１の傾斜面１６Ａｂとを有している。第２のシールド１６Ｂは、第２の端面部分１６Ｂａと、第２の傾斜面１６Ｂｂを含む上面とを有している。第１の傾斜面１６Ａｂと第２の傾斜面１６Ｂｂについては、後で詳しく説明する。図３に示したように、サイドシールド１６Ｃは、第３の端面部分１６Ｃａを有している。サイドシールド１６Ｄは、第４の端面部分１６Ｄａを有している。
【００４１】
第２のシールド１６Ｂは、磁性層３４の上に配置されている。磁性層３６は、磁性層３５および絶縁層５６の上に配置されている。磁気ヘッドは、更に、非磁性材料よりなる非磁性層５７を備えている。非磁性層５７は、第２のシールド１６Ｂおよび磁性層３６の周囲において、磁性層３４の上面の一部の上および絶縁層５６の上面の上に配置されている。図１に示したように、非磁性層５７の上面は、第２のシールド１６Ｂの上面に連続する平坦部ＵＬ１と、この平坦部ＵＬ１に連続し平坦部ＵＬ１よりも媒体対向面１００からより遠い位置に配置された傾斜面ＵＬ２と、この傾斜面ＵＬ２に連続し傾斜面ＵＬ２よりも媒体対向面１００からより遠い位置に配置された底部ＵＬ３とを含んでいる。非磁性層５７は、例えばアルミナによって形成されている。
【００４２】
主磁極１５は、記録媒体の進行方向Ｔの前側の端に位置する面である上面１５Ｔ（図１参照）と、上面１５Ｔとは反対側の下端部１５Ｌ（図１参照）と、トラック幅方向ＴＷの両側に配置された第１および第２の側部（図３参照）とを有している。サイドシールド１６Ｃは、主磁極１５の第１の側部に対向する第１の側壁を有している。サイドシールド１６Ｄは、主磁極１５の第２の側部に対向する第２の側壁を有している。
【００４３】
ギャップ部１７は、非磁性材料よりなり、主磁極１５と、記録シールド１６との間に設けられている。ギャップ部１７は、主磁極１５と第１のシールド１６Ａとの間に配置された第１のギャップ層１９と、主磁極１５と第２のシールド１６Ｂおよびサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄとの間に配置された第２のギャップ層１８とを含んでいる。
【００４４】
サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄは、第２のシールド１６Ｂの上に配置され、第２のシールド１６Ｂの上面に接している。第２のギャップ層１８は、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄの側壁、第２のシールド１６Ｂの上面および非磁性層５７の上面に沿って配置されている。第２のギャップ層１８は、非磁性材料によって形成されている。第２のギャップ層１８を構成する非磁性材料は、絶縁材料でもよいし、非磁性金属材料でもよい。第２のギャップ層１８を構成する絶縁材料としては、例えばアルミナが用いられる。第２のギャップ層１８を構成する非磁性金属材料としては、例えばＲｕが用いられる。第２のギャップ層１８には、磁性層３６の上面を露出させる開口部が形成されている。
【００４５】
主磁極１５は、第２のシールド１６Ｂおよび非磁性層５７の上面と主磁極１５との間に第２のギャップ層１８が介在するように、第２のシールド１６Ｂおよび非磁性層５７の上に配置されている。また、図３に示したように、主磁極１５とサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄとの間にも、第２のギャップ層１８が介在している。
【００４６】
媒体対向面１００から離れた位置において、主磁極１５の下端部１５Ｌは、磁性層３６の上面に接している。主磁極１５は、金属磁性材料によって形成されている。主磁極１５の材料としては、例えば、ＮｉＦｅ、ＣｏＮｉＦｅ、ＣｏＦｅのいずれかを用いることができる。主磁極１５の形状については、後で詳しく説明する。
【００４７】
磁気ヘッドは、更に、主磁極１５およびサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄの周囲に配置された非磁性材料よりなる図示しない第１の非磁性層を備えている。本実施の形態では、特に、第１の非磁性層は、アルミナ等の非磁性絶縁材料よりなる。
【００４８】
磁気ヘッドは、更に、媒体対向面１００から離れた位置において、主磁極１５の上面１５Ｔの一部の上に配置された非磁性金属材料よりなる非磁性金属層５８と、この非磁性金属層５８の上面の上に配置された絶縁材料よりなる絶縁層５９とを備えている。非磁性金属層５８は、例えばＲｕ、ＮｉＣｒまたはＮｉＣｕによって形成されている。絶縁層５９は、例えばアルミナによって形成されている。
【００４９】
第１のギャップ層１９は、主磁極１５、非磁性金属層５８および絶縁層５９を覆うように配置されている。第１のギャップ層１９は、非磁性材料によって形成されている。第１のギャップ層１９の材料は、アルミナ等の非磁性絶縁材料でもよいし、Ｒｕ、ＮｉＣｕ、Ｔａ、Ｗ、ＮｉＢ、ＮｉＰ等の非磁性導電材料でもよい。
【００５０】
第１のシールド１６Ａは、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄおよび第１のギャップ層１９の上に配置され、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄおよび第１のギャップ層１９の上面に接している。媒体対向面１００において、第１のシールド１６Ａの第１の端面部分１６Ａａの一部は、主磁極１５の端面に対して、第１のギャップ層１９の厚みによる所定の間隔を開けて配置されている。第１のギャップ層１９の厚みは、５〜６０ｎｍの範囲内であることが好ましく、例えば３０〜６０ｎｍの範囲内である。主磁極１５の端面は、第１のギャップ層１９に隣接する辺を有し、この辺はトラック幅を規定している。
【００５１】
第１の帰磁路部４０は、磁性層４１，４２，４３，４４を有している。磁性層４１は、媒体対向面１００から離れた位置において主磁極１５の上に配置されている。
【００５２】
コイルの第１の部分２０は、第１層２１および第２層２２を含んでいる。図５に示したように、第１層２１は、磁性層４１の周りに１回巻かれている。磁気ヘッドは、更に、第１のシールド１６Ａ、第１のギャップ層１９および磁性層４１と第１層２１との間に介在する絶縁材料よりなる絶縁膜６１と、第１層２１および第１のシールド１６Ａの周囲に配置された非磁性材料よりなる図示しない第２の非磁性層とを備えている。絶縁膜６１は、例えばアルミナによって形成されている。第２の非磁性層は、例えば無機絶縁材料によって形成されている。この無機絶縁材料としては、例えばアルミナまたはシリコン酸化物が用いられる。第１のシールド１６Ａ、第１層２１、磁性層４１、絶縁膜６１および第２の非磁性層の上面は平坦化されている。
【００５３】
磁気ヘッドは、更に、第１層２１および絶縁膜６１の上面ならびに磁性層４１の上面の一部の上に配置された絶縁材料よりなる絶縁層６２を備えている。絶縁層６２は、例えばアルミナによって形成されている。
【００５４】
磁性層４２は、第１のシールド１６Ａおよび絶縁層６２の上に配置されている。磁性層４３は、磁性層４１の上に配置されている。磁性層４２は、媒体対向面１００に配置された前端面と、実質的に媒体対向面１００に垂直な方向に延在する上面と、前端面と上面とを接続する第１および第２の接続面とを有している。磁性層４２において、第１の接続面の一端は媒体対向面１００に位置し、第１の接続面の他端は第２の接続面の一端に接続され、第２の接続面の他端は上面に接続されている。第１の接続面における任意の位置の基板１の上面１ａからの距離は、任意の位置が媒体対向面１００から離れるに従って大きくなっている。第２の接続面は、媒体対向面１００に平行である。
【００５５】
図６に示したように、第２層２２は、磁性層４３の周りに約２回巻かれている。磁気ヘッドは、更に、磁性層４２，４３および絶縁層６２と第２層２２との間に介在する絶縁材料よりなる絶縁膜６４と、第２層２２の巻線間に配置された絶縁材料よりなる絶縁層６５と、第２層２２および磁性層４２の周囲に配置された絶縁材料よりなる絶縁層６６とを備えている。第２層２２、磁性層４２，４３、絶縁膜６４および絶縁層６５，６６の上面は平坦化されている。磁気ヘッドは、更に、第２層２２および絶縁膜６４の上面の上に配置された絶縁材料よりなる絶縁層６７を備えている。絶縁膜６４および絶縁層６６，６７は、例えばアルミナによって形成されている。絶縁層６５は、例えばフォトレジストによって形成されている。
【００５６】
磁性層４４は、磁性層４２，４３および絶縁層６７の上に配置され、磁性層４２と磁性層４３とを接続している。磁性層４４は、媒体対向面１００に向いた端面を有し、この端面は、媒体対向面１００から離れた位置に配置されている。磁気ヘッドは、更に、磁性層４４の周囲に配置された絶縁材料よりなる絶縁層６８を備えている。絶縁層６８は、例えばアルミナによって形成されている。磁性層４４および絶縁層６８の上面は平坦化されている。
【００５７】
磁気ヘッドは、更に、非磁性材料よりなり、記録ヘッド部９を覆うように配置された保護層７０を備えている。保護層７０は、例えば、アルミナ等の無機絶縁材料によって形成されている。
【００５８】
以上説明したように、本実施の形態に係る磁気ヘッドは、記録媒体に対向する媒体対向面１００と再生ヘッド部８と記録ヘッド部９とを備えている。再生ヘッド部８と記録ヘッド部９は、基板１の上に積層されている。再生ヘッド部８は、記録ヘッド部９に対して、記録媒体の進行方向Ｔの後側（リーディング端側）に配置されている。
【００５９】
再生ヘッド部８は、再生素子としてのＭＲ素子５と、媒体対向面１００側の一部がＭＲ素子５を挟んで対向するように配置された、ＭＲ素子５をシールドするための第１の再生シールド層３および第２の再生シールド層７と、ＭＲ素子５と第１の再生シールド層３との間に配置された第１の再生シールドギャップ膜４と、ＭＲ素子５と第２の再生シールド層７との間に配置された第２の再生シールドギャップ膜６とを有している。
【００６０】
記録ヘッド部９は、第１の部分２０および第２の部分１０を含むコイルと、主磁極１５と、記録シールド１６と、ギャップ部１７と、第１の帰磁路部４０および第２の帰磁路部３０とを有している。記録シールド１６は、第１のシールド１６Ａと、第２のシールド１６Ｂと、２つのサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄとを有している。ギャップ部１７は、第２のギャップ層１８と第１のギャップ層１９とを含んでいる。第１の帰磁路部４０と第２の帰磁路部３０は、主磁極１５を挟むように基板１の上面１ａに垂直な方向に沿って並んでいる。
【００６１】
第２の帰磁路部３０は、磁性層３１〜３６を有し主磁極１５に対して記録媒体の進行方向Ｔの後側に配置されている。図２に示したように、第２の帰磁路部３０は、主磁極１５、ギャップ部１７（ギャップ層１８）、記録シールド１６および第２の帰磁路部３０（磁性層３１〜３６）によって囲まれた第２の空間Ｓ２が形成されるように、主磁極１５のうちの媒体対向面１００から離れた部分と記録シールド１６とを接続している。
【００６２】
磁性層３２，３４は、記録シールド１６の第２のシールド１６Ｂと磁性層３１とを磁気的に連結している。本実施の形態では、磁性層３４は、第２のシールド１６Ｂに接続されている。磁性層３２は、磁性層３４と磁性層３１とを磁気的に連結している。磁性層３４は、媒体対向面１００において第２のシールド１６Ｂの第２の端面部分１６Ｂａに対して記録媒体の進行方向Ｔの後側に配置された端面を有している。前記主断面において、磁性層３１は、媒体対向面１００に垂直な方向について第２のシールド１６Ｂよりも大きな長さを有している。前記主断面において、磁性層３２，３４は、媒体対向面１００に垂直な方向について第２のシールド１６Ｂよりも大きく磁性層３１よりも小さな長さを有している。
【００６３】
磁性層３１，３２は、媒体対向面１００に露出していない。磁性層３１，３２は、それぞれ、媒体対向面１００に向くと共に媒体対向面１００から離れた位置に配置された端面を有している。磁性層３１の上記端面と媒体対向面１００との間には絶縁層５１の一部が介在している。磁性層３２の上記端面と媒体対向面１００との間には絶縁層５４の一部が介在している。
【００６４】
第１の帰磁路部４０は、磁性層４１〜４４を有し、主磁極１５に対して記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置されている。第１の帰磁路部４０は、主磁極１５、ギャップ部１７（ギャップ層１９）、記録シールド１６および第１の帰磁路部４０（磁性層４１〜４４）によって囲まれた第１の空間Ｓ１が形成されるように、主磁極１５のうちの媒体対向面１００から離れた部分と記録シールド１６とを接続している。
【００６５】
磁性層４２は、記録シールド１６の第１のシールド１６Ａと磁性層４４とを磁気的に連結している。磁性層４２は、媒体対向面１００において第１のシールド１６Ａの第１の端面部分１６Ａａに対して記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置された前端面と、上面と、前端面と上面とを接続する第１および第２の接続面とを有している。磁性層４２の第１および第２の接続面と媒体対向面１００との間には絶縁層６６の一部が介在している。前記主断面において、磁性層４４は、媒体対向面１００に垂直な方向について第１のシールド１６Ａよりも大きな長さを有している。前記主断面において、磁性層４２は、媒体対向面１００に垂直な方向について第１のシールド１６Ａよりも大きく磁性層４４よりも小さな長さを有している。
【００６６】
磁性層４４は、媒体対向面１００に露出していない。磁性層４４は、媒体対向面１００に向くと共に媒体対向面１００から離れた位置に配置された端面を有している。磁性層４４の上記端面と媒体対向面１００との間には絶縁層６８の一部が介在している。
【００６７】
以下、図４ないし図６を参照して、コイルの第１の部分２０および第２の部分１０について詳しく説明する。図４は、第２の部分１０を示す平面図である。第２の部分１０は、第２の帰磁路部３０の一部である磁性層３３の周りに約３回巻かれている。第２の部分１０は、第２の空間Ｓ２内のうち特に磁性層３２と磁性層３３との間を通過するように延びる３つのコイル要素１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃを含んでいる。なお、コイル要素とは、コイルの巻線の一部である。コイル要素１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃは、媒体対向面１００側からこの順に、媒体対向面１００に垂直な方向に並んでいる。また、第２の部分１０は、第１の部分２０に電気的に接続されたコイル接続部１０Ｅを有している。
【００６８】
図５は、第１の部分２０の第１層２１を示す平面図である。第１層２１は、第１の帰磁路部４０の一部である磁性層４１の周りに１回巻かれている。第１層２１は、第１の空間Ｓ１内のうち特に第１のシールド１６Ａと磁性層４１との間を通過するように延びるコイル要素２１Ａを含んでいる。また、第１層２１は、第２の部分１０のコイル接続部１０Ｅに電気的に接続されたコイル接続部２１Ｓと、第２層２２に電気的に接続されたコイル接続部２１Ｅとを有している。コイル接続部２１Ｓは、第１層２１と第２の部分１０との間の複数の層を貫通する図示しない柱状の第１ないし第３の接続層を介してコイル接続部１０Ｅに電気的に接続されている。第１ないし第３の接続層は、コイル接続部１０Ｅの上に順に積層されている。コイル接続部２１Ｓは、第３の接続層の上に配置されている。第１ないし第３の接続層は、銅等の導電材料によって形成されている。
【００６９】
図６は、第１の部分２０の第２層２２を示す平面図である。第２層２２は、第１の帰磁路部４０の一部である磁性層４３の周りに約２回巻かれている。第２層２２は、第１の空間Ｓ１内のうち特に磁性層４２と磁性層４３との間を通過するように延びる２つのコイル要素２２Ａ，２２Ｂを含んでいる。コイル要素２２Ａ，２２Ｂは、媒体対向面１００側からこの順に、媒体対向面１００に垂直な方向に並んでいる。また、第２層２２は、絶縁層６２を貫通して第１層２１のコイル接続部２１Ｅに電気的に接続されたコイル接続部２２Ｓを有している。図４ないし図６に示した例では、第１の部分２０と第２の部分１０は、直列に接続されている。
【００７０】
コイル要素２１Ａ，２２Ａ，２２Ｂは、それぞれ第１の空間Ｓ１を通過するように延びている。以下、第１の空間Ｓ１を通過するように延びるコイル要素を第１のコイル要素とも呼び、第２の空間Ｓ２を通過するように延びるコイル要素を第２のコイル要素とも呼ぶ。
【００７１】
次に、図１、図４ないし図６を参照して、主磁極１５の形状について詳しく説明する。図４ないし図６に示したように、主磁極１５は、媒体対向面１００に配置された端面とその反対側の端部とを有するトラック幅規定部１５Ａと、トラック幅規定部１５Ａの端部に接続された幅広部１５Ｂとを含んでいる。また、図１に示したように、主磁極１５は、記録媒体の進行方向Ｔの前側の端に位置する面である上面１５Ｔと、上面１５Ｔとは反対側の下端部１５Ｌと、第１の側部と、第２の側部とを有している。幅広部１５Ｂにおける上面１５Ｔのトラック幅方向ＴＷの幅は、トラック幅規定部１５Ａにおける上面１５Ｔのトラック幅方向ＴＷの幅よりも大きい。
【００７２】
トラック幅規定部１５Ａにおける上面１５Ｔのトラック幅方向ＴＷの幅は、媒体対向面１００からの距離によらずにほぼ一定である。幅広部１５Ｂにおける上面１５Ｔのトラック幅方向ＴＷの幅は、例えば、トラック幅規定部１５Ａとの境界位置ではトラック幅規定部１５Ａにおける上面１５Ｔのトラック幅方向ＴＷの幅と等しく、媒体対向面１００から離れるに従って、徐々に大きくなった後、一定の大きさになっている。ここで、媒体対向面１００に垂直な方向についてのトラック幅規定部１５Ａの長さをネックハイトと呼ぶ。ネックハイトは、例えば０〜０．３μｍの範囲内である。ネックハイトが０の場合は、トラック幅規定部１５Ａがなく、幅広部１５Ｂの端面が媒体対向面１００に配置される。
【００７３】
主磁極１５の上面１５Ｔと下端部１５Ｌの少なくとも一方は、媒体対向面１００に近い順に、連続するように配置された第１の部分、第２の部分、第３の部分および第４の部分を含んでいる。本実施の形態では特に、上面１５Ｔと下端部１５Ｌの両方が、上記の第１ないし第４の部分を含んでいる。以下、上面１５Ｔにおける第１の部分、第２の部分、第３の部分および第４の部分を、それぞれ記号１５Ｔ１，１５Ｔ２，１５Ｔ３，１５Ｔ４で表し、下端部１５Ｌにおける第１の部分、第２の部分、第３の部分および第４の部分を、それぞれ記号１５Ｌ１，１５Ｌ２，１５Ｌ３，１５Ｌ４で表す。
【００７４】
上面１５Ｔの第１の部分１５Ｔ１は、媒体対向面１００に配置された第１の端部と、その反対側の第２の端部とを有している。第２の部分１５Ｔ２は、第１の部分１５Ｔ１の第２の端部に接続されている。第３の部分１５Ｔ３は、第２の部分１５Ｔ２に接続された第３の端部と、第３の端部よりも媒体対向面１００からより遠い位置に配置された第４の端部とを有している。第４の部分１５Ｔ４は、第３の部分１５Ｔ３の第４の端部に接続されている。
【００７５】
下端部１５Ｌの第１の部分１５Ｌ１は、媒体対向面１００に配置された第１の端部と、その反対側の第２の端部とを有している。第２の部分１５Ｌ２は、第１の部分１５Ｌ１の第２の端部に接続されている。第３の部分１５Ｌ３は、第２の部分１５Ｌ２に接続された第３の端部と、第３の端部よりも媒体対向面１００からより遠い位置に配置された第４の端部とを有している。第１ないし第３の部分１５Ｌ１〜１５Ｌ３は、２つの面が交わってできるエッジでもよいし、２つの面を連結する面でもよい。第４の部分１５Ｌ４は、第３の部分１５Ｌ３の第４の端部に接続された面である。
【００７６】
主磁極１５の端面は、記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置された端部と記録媒体の進行方向Ｔの後側に配置された端部とを有している。主磁極１５の端面の記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置された端部は、上面１５Ｔの第１の部分１５Ｔ１の第１の端部でもある。主磁極１５の端面の記録媒体の進行方向Ｔの後側に配置された端部は、下端部１５Ｌの第１の部分１５Ｌ１の第１の端部でもある。ここで、図１に示したように、主磁極１５の端面の記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置された端部（上面１５Ｔの第１の部分１５Ｔ１の第１の端部）を通り、媒体対向面１００および記録媒体の進行方向Ｔに垂直な第１の仮想の平面Ｐ１と、主磁極１５の端面の記録媒体の進行方向Ｔの後側に配置された端部（下端部１５Ｌの第１の部分１５Ｌ１の第１の端部）を通り、媒体対向面１００および記録媒体の進行方向Ｔに垂直な第２の仮想の平面Ｐ２とを想定する。
【００７７】
上面１５Ｔの第１の部分１５Ｔ１は、その第２の端部がその第１の端部よりも第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２からより遠い位置に配置されるように、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面１００に対して傾斜している。すなわち、第１の部分１５Ｔ１は、その第２の端部がその第１の端部に対して記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置されるように傾斜している。第２および第４の部分１５Ｔ２，１５Ｔ４は、実質的に第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２に平行である。第３の部分１５Ｔ３は、その第４の端部がその第３の端部よりも第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２からより遠い位置に配置されるように、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面１００に対して傾斜している。すなわち、第３の部分１５Ｔ３は、その第４の端部がその第３の端部に対して記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置されるように傾斜している。
【００７８】
下端部１５Ｌの第１の部分１５Ｌ１は、その第２の端部がその第１の端部よりも第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２からより遠い位置に配置されるように、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面１００に対して傾斜している。すなわち、第１の部分１５Ｌ１は、その第２の端部がその第１の端部に対して記録媒体の進行方向Ｔの後側に配置されるように傾斜している。第２および第４の部分１５Ｌ２，１５Ｌ４は、実質的に第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２に平行である。第３の部分１５Ｌ３は、その第４の端部がその第３の端部よりも第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２からより遠い位置に配置されるように、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面１００に対して傾斜している。すなわち、第３の部分１５Ｌ３は、その第４の端部がその第３の端部に対して記録媒体の進行方向Ｔの後側に配置されるように傾斜している。
【００７９】
記録シールド１６の第１のシールド１６Ａは、上面１５Ｔの第３の部分１５Ｔ３と媒体対向面１００の間に配置された部分を含んでいる。また、前述のように、第１のシールド１６Ａは、下面である第１の傾斜面１６Ａｂを有している。第１の傾斜面１６Ａｂは、ギャップ部１７の第１のギャップ層１９を介して上面１５Ｔの第１の部分１５Ｔ１に対向する部分を含んでいる。第１の傾斜面１６Ａｂは、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面１００に対して傾斜している。
【００８０】
記録シールド１６の第２のシールド１６Ｂは、下端部１５Ｌの第３の部分１５Ｌ３と媒体対向面１００の間に配置された部分を含んでいる。また、第２のシールド１６Ｂは、第２の傾斜面１６Ｂｂを含む上面を有している。第２の傾斜面１６Ｂｂは、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面１００に対して傾斜している。なお、第２のシールド１６Ｂの上面は、更に、第２の傾斜面１６Ｂｂに連続し第２の傾斜面１６Ｂｂよりも媒体対向面１００からより遠い位置に配置された平坦部を含んでいてもよい。この平坦部は、実質的に第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２に平行である。
【００８１】
非磁性層５７の上面は、平坦部ＵＬ１、傾斜面ＵＬ２および底部ＵＬ３を含んでいる。平坦部ＵＬ１と底部ＵＬ３は、実質的に第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２に平行である。傾斜面ＵＬ２は、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面１００に対して傾斜している。第１の部分１５Ｌ１は、ギャップ部１７の第２のギャップ層１８を介して第２の傾斜面１６Ｂｂに対向している。第２の部分１５Ｌ２は、第２のギャップ層１８を介して平坦部ＵＬ１に対向している。第３の部分１５Ｌ３は、第２のギャップ層１８を介して傾斜面ＵＬ２に対向している。第４の部分１５Ｌ４は、第２のギャップ層１８を介して底部ＵＬ３に対向している。
【００８２】
ここで、図１に示したように、媒体対向面１００に垂直な方向についての上面１５Ｔの第１の部分１５Ｔ１の長さを記号ＬＡ１で表し、媒体対向面１００に垂直な方向についての下端部１５Ｌの第１の部分１５Ｌ１の長さを記号ＬＢ１で表し、媒体対向面１００に垂直な方向についての第１の傾斜面１６Ａｂの長さを記号ＬＣで表す。本実施の形態では、長さＬＡ１は、長さＬＢ１およびＬＣよりも小さい。長さＬＡ１は、例えば０．０５〜０．１５μｍの範囲内である。長さＬＢ１は、例えば０．１〜０．５μｍの範囲内である。長さＬＣは、例えば０．２〜０．６μｍの範囲内である。
【００８３】
また、図１に示したように、媒体対向面１００に垂直な方向についての上面１５Ｔの第２の部分１５Ｔ２の長さを記号ＬＡ２で表し、媒体対向面１００に垂直な方向についての下端部１５Ｌの第２の部分１５Ｌ２の長さを記号ＬＢ２で表す。長さＬＡ２は、例えば０．２〜０．６μｍの範囲内である。長さＬＢ２は、例えば０．２〜０．６μｍの範囲内である。
【００８４】
なお、図１では、上面１５Ｔの第２の部分１５Ｔ２と第３の部分１５Ｔ３との境界位置と媒体対向面１００との間の距離（長さＬＡ１と長さＬＡ２との和と同じ）と、下端部１５Ｌの第２の部分１５Ｌ２と第３の部分１５Ｌ３との境界位置と媒体対向面１００との間の距離（長さＬＢ１と長さＬＢ２との和と同じ）とが等しくなるように描かれているが、これらの距離は互いに異なっていてもよい。また、図１では、上面１５Ｔの第３の部分１５Ｔ３と第４の部分１５Ｔ４との境界位置と媒体対向面１００との間の距離と、下端部１５Ｌの第３の部分１５Ｌ３と第４の部分１５Ｌ４との境界位置と媒体対向面１００との間の距離とが等しくなるように描かれているが、これらの距離は互いに異なっていてもよい。なお、ネックハイトは、上記の長さＬＡ１，ＬＢ１や距離とは独立して、任意に設定可能である。
【００８５】
図１に示したように、第１の仮想の平面Ｐ１に対する上面１５Ｔの第１の部分１５Ｔ１の傾斜角度を記号θＴ１で表し、第２の仮想の平面Ｐ２に対する下端部１５Ｌの第１の部分１５Ｌ１の傾斜角度を記号θＬ１で表す。傾斜角度θＴ１は、例えば２２°〜３５°の範囲内である。傾斜角度θＬ１は、例えば３０°〜５０°の範囲内である。
【００８６】
また、図１に示したように、上面１５Ｔの第３の部分１５Ｔ３の第３の端部を通り、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２に平行な仮想の平面Ｐ３と、下端部１５Ｌの第３の部分１５Ｌ３の第３の端部を通り、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２に平行な仮想の平面Ｐ４を想定する。そして、仮想の平面Ｐ３に対する第３の部分１５Ｔ３の傾斜角度を記号θＴ３で表し、仮想の平面Ｐ４に対する第３の部分１５Ｌ３の傾斜角度を記号θＬ３で表す。傾斜角度θＴ３，θＬ３は、いずれも、例えば２２°〜６０°の範囲内である。
【００８７】
上面１５Ｔの第２および第４の部分１５Ｔ２，１５Ｔ４ならびに下端部１５Ｌの第２および第４の部分１５Ｌ２，１５Ｌ４は、実質的に第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２に平行である。図１に示したように、媒体対向面１００における主磁極１５の厚み、すなわち第１の仮想の平面Ｐ１と第２の仮想の平面Ｐ２との間の距離を記号Ｄ０で表す。また、上面１５Ｔの第２の部分１５Ｔ２と第１の仮想の平面Ｐ１との間の距離を記号Ｄ１で表し、下端部１５Ｌの第２の部分１５Ｌ２と第２の仮想の平面Ｐ２との間の距離を記号Ｄ２で表す。本実施の形態では、距離Ｄ２は距離Ｄ１よりも大きい。距離Ｄ０は、例えば０．０５〜０．１μｍの範囲内である。距離Ｄ１は、例えば０．０２〜０．１μｍの範囲内である。距離Ｄ２は、例えば０．１〜０．５μｍの範囲内である。
【００８８】
また、上面１５Ｔの第４の部分１５Ｔ４と仮想の平面Ｐ３との間の距離を記号Ｄ３で表し、下端部１５Ｌの第４の部分１５Ｌ４と仮想の平面Ｐ４との間の距離を記号Ｄ４で表す。距離Ｄ３，Ｄ４は、いずれも、例えば０．１〜０．５μｍの範囲内である。
【００８９】
また、媒体対向面１００に配置された主磁極１５の端面は、第１のギャップ層１９に隣接する第１の辺と、第１の辺の一端部に接続された第２の辺と、第１の辺の他端部に接続された第３の辺とを有している。第１の辺は、主磁極１５の端面の記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置された端部でもあり、上面１５Ｔの第１の部分１５Ｔ１の第１の端部でもある。第１の辺はトラック幅を規定する。記録媒体に記録される記録ビットの端部の位置は、第１の辺の位置によって決まる。媒体対向面１００に配置された主磁極１５の端面のトラック幅方向ＴＷの幅は、第１の辺から離れるに従って、すなわち第１の仮想の平面Ｐ１から離れるに従って小さくなっている。第２の辺と第３の辺がそれぞれ第１の仮想の平面Ｐ１に垂直な方向に対してなす角度は、例えば７°〜１７°の範囲内であり、１０°〜１５°の範囲内であることが好ましい。第１の辺の長さは、例えば０．０５〜０．２０μｍの範囲内である。
【００９０】
次に、本実施の形態に係る磁気ヘッドの作用および効果について説明する。この磁気ヘッドでは、記録ヘッド部９によって記録媒体に情報を記録し、再生ヘッド部８によって、記録媒体に記録されている情報を再生する。記録ヘッド部９において、第１の部分２０および第２の部分１０を含むコイルは、記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生する。第１の部分２０によって発生された磁界に対応する磁束は、第１の帰磁路部４０と主磁極１５を通過する。第２の部分１０によって発生された磁界に対応する磁束は、第２の帰磁路部３０と主磁極１５を通過する。従って、主磁極１５は、第１の部分２０によって発生された磁界に対応する磁束と第２の部分１０によって発生された磁界に対応する磁束とを通過させる。
【００９１】
なお、第１の部分２０および第２の部分１０は、直列に接続されていてもよいし、並列に接続されていてもよい。いずれにしても、主磁極１５において、第１の部分２０によって発生された磁界に対応する磁束と第２の部分１０によって発生された磁界に対応する磁束が同じ方向に流れるように、第１の部分２０および第２の部分１０は接続される。
【００９２】
主磁極１５は、上述のようにコイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させて、垂直磁気記録方式によって情報を記録媒体に記録するための記録磁界を発生する。
【００９３】
記録シールド１６は、磁気ヘッドの外部から磁気ヘッドに印加された外乱磁界を取り込む。これにより、外乱磁界が主磁極１５に集中して取り込まれることによって記録媒体に対して誤った記録が行なわれることを防止することができる。また、記録シールド１６は、主磁極１５の端面より発生されて記録媒体の面に垂直な方向以外の方向に広がる磁束を取り込んで、この磁束が記録媒体に達することを阻止する機能を有している。
【００９４】
また、記録シールド１６と第１の帰磁路部４０および第２の帰磁路部３０は、主磁極１５の端面より発生されて、記録媒体を磁化した磁束を還流させる機能を有している。具体的に説明すると、主磁極１５の端面より発生されて、記録媒体を磁化した磁束の一部は、記録シールド１６と第１の帰磁路部４０を通過して主磁極１５に還流する。また、主磁極１５の端面より発生されて、記録媒体を磁化した磁束の他の一部は、記録シールド１６と第２の帰磁路部３０を通過して主磁極１５に還流する。
【００９５】
記録シールド１６は、第１のシールド１６Ａと、第２のシールド１６Ｂと、２つのサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄとを有している。これにより、本実施の形態によれば、主磁極１５の端面に対して記録媒体の進行方向Ｔの前側および後側ならびにトラック幅方向ＴＷの両側において、主磁極１５の端面より発生されて記録媒体の面に垂直な方向以外の方向に広がる磁束を取り込んで、この磁束が記録媒体に達することを抑制することができる。その結果、本実施の形態によれば、スキューに起因した隣接トラック消去の発生を抑制することができる。第１のシールド１６Ａおよび第２のシールド１６Ｂは、スキューに起因した隣接トラック消去の発生を抑制することに寄与する他に、記録磁界の勾配を大きくすることに寄与する。サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄは、特に隣接トラック消去を抑制することへの寄与が大きい。このような記録シールド１６の機能により、本実施の形態によれば、記録密度を高めることができる。
【００９６】
また、本実施の形態では、図３に示したように、媒体対向面１００において、トラック幅方向ＴＷにおける主磁極１５の第１および第２の側部の間隔すなわち主磁極１５の端面の幅は、第１の仮想の平面Ｐ１から離れるに従って小さくなっている。本実施の形態によれば、この特徴によっても、スキューに起因した隣接トラック消去の発生を抑制することができる。
【００９７】
また、本実施の形態では、媒体対向面１００において、トラック幅方向ＴＷにおけるサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄにおける第１および第２の側壁の間隔は、主磁極１５の第１および第２の側部の間隔と同様に、第１の仮想の平面Ｐ１から離れるに従って小さくなっている。従って、本実施の形態によれば、媒体対向面１００において、第１の側部と第１の側壁との間隔、ならびに第２の側部と第２の側壁との間隔を、小さく、且つ均一にすることが可能になる。これにより、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄによって、主磁極１５の端面より発生されてトラック幅方向ＴＷの両側に広がる磁束を、効果的に取り込むことができる。その結果、本実施の形態によれば、特にサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄの機能を高めることが可能になり、スキューに起因した隣接トラック消去の発生をより効果的に抑制することが可能になる。
【００９８】
ところで、記録シールド１６で取り込んだ磁束を吸収できるような、体積が大きい磁性層が記録シールド１６に磁気的に接続されていないと、記録シールド１６によって多くの磁束を取り込むことはできない。本実施の形態では、記録シールド１６の第１のシールド１６Ａと主磁極１５とを磁気的に連結する第１の帰磁路部４０（磁性層４１〜４４）と、記録シールド１６の第２のシールド１６Ｂと主磁極１５とを磁気的に連結する第２の帰磁路部３０（磁性層３１〜３６）を備えている。このような構成により、記録シールド１６で取り込んだ磁束は、第１の帰磁路部４０および第２の帰磁路部３０を経由して主磁極１５に流れ込む。本実施の形態では、記録シールド１６に対して、体積が大きい磁性層である第１の帰磁路部４０および第２の帰磁路部３０と主磁極１５が磁気的に接続されている。従って、本実施の形態によれば、記録シールド１６によって多くの磁束を取り込むことが可能になり、その結果、前述の記録シールド１６の効果を効果的に発揮させることができる。
【００９９】
また、本実施の形態では、第２の帰磁路部３０とは別に第２のシールド１６Ｂが設けられている。前記主断面において、第２の帰磁路部３０を構成する磁性層のうち主磁極１５から最も遠い磁性層３１は、媒体対向面１００に垂直な方向について第２のシールド１６Ｂよりも大きな長さを有している。コイルの第２の部分１０は、空間Ｓ２を通過している。このような構造により、本実施の形態によれば、磁性層３１が第２のシールドを兼ねた構造に比べて、第２のシールド１６Ｂと主磁極１５とを十分に近付けることが可能になり、その結果、第２のシールド１６Ｂの機能を高めることが可能になる。
【０１００】
ここで、磁性層３２，３４の役割について説明する。まず、磁性層３２，３４がなく、第２のシールド１６Ｂと磁性層３１が磁気的に連結されていない場合を考える。この場合、第２のシールド１６Ｂまたはサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄで取り込まれて下方に向かった磁束は、磁性層３１の方へ流れることができないため、上方に向かうように戻る。その結果、第２のシールド１６Ｂまたはサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄにおいて、下方に向かう磁束と上方に向かう磁束が生じ、その結果、第２のシールド１６Ｂまたはサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄで取り込まれた磁束の一部が媒体対向面１００の外部に漏れ出す。これにより、隣接トラック消去が生じるおそれがある。これに対し、磁性層３２，３４によって第２のシールド１６Ｂと磁性層３１が磁気的に連結されていると、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄで取り込まれた磁束は上方と下方へ分流し、第２のシールド１６Ｂで取り込まれた磁束は主に下方に向かう。これにより、第２のシールド１６Ｂまたはサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄで取り込まれた磁束の一部が媒体対向面１００の外部に漏れ出すことによる隣接トラック消去の発生が防止される。
【０１０１】
上述の磁性層３２，３４についての説明は、磁性層４２にも当てはまる。すなわち、磁性層４２によって第１のシールド１６Ａと磁性層４４が磁気的に連結されていると、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄで取り込まれた磁束は上方と下方へ分流し、第１のシールド１６Ａで取り込まれた磁束は主に上方に向かう。これにより、第１のシールド１６Ａまたはサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄで取り込まれた磁束の一部が媒体対向面１００の外部に漏れ出すことによる隣接トラック消去の発生が防止される。
【０１０２】
ところで、前記主断面において、媒体対向面１００に垂直な方向についての第２のシールド１６Ｂの長さが大きすぎると、主磁極１５から第２のシールド１６Ｂへの磁束の漏れが多くなり、主磁極１５によって多くの磁束を媒体対向面１００まで導くことができなくなる。そのため、前記主断面において、媒体対向面１００に垂直な方向についての第２のシールド１６Ｂの長さは大きすぎないようにする必要がある。この場合、前記主断面において、媒体対向面１００に垂直な方向についての磁性層３２，３４の長さが第２のシールド１６Ｂの長さと等しいか、それより小さい場合には、磁性層３２，３４によって第２のシールド１６Ｂから磁性層３１へ多くの磁束を導くことができなくなる。これに対し、本実施の形態では、前記主断面において、磁性層３２，３４は、それぞれ、媒体対向面１００に垂直な方向について第２のシールド１６Ｂよりも大きく磁性層３１よりも小さな長さを有している。これにより、本実施の形態によれば、磁性層３２，３４によって第２のシールド１６Ｂから磁性層３１へ多くの磁束を導くことが可能になる。
【０１０３】
同様に、本実施の形態では、前記主断面において、磁性層４２は、媒体対向面１００に垂直な方向について第１のシールド１６Ａよりも大きく磁性層４４よりも小さな長さを有している。これにより、本実施の形態によれば、磁性層４２によって第１のシールド１６Ａから磁性層４４へ多くの磁束を導くことが可能になる。
【０１０４】
また、磁性層３２は、媒体対向面１００とコイルの第２の部分１０との間に配置されている。磁性層３２の端面が媒体対向面１００において広い面積にわたって露出していると、コイルの第２の部分１０が発生する熱によって磁性層３２が膨張し、その結果、媒体対向面１００の一部である磁性層３２の端面が突出するおそれがある。
【０１０５】
本実施の形態では、磁性層３２と媒体対向面１００との間に、磁性層３２よりも硬い絶縁層５４が存在している。この絶縁層５４は、磁性層３２よりも広い領域に存在している。そのため、絶縁層５４は、第２の部分１０が発生する熱による磁性層３２の位置の変化を抑制する機能を有する。よって、本実施の形態によれば、第２の部分１０が発生する熱によって媒体対向面１００の一部が突出することを抑制することができる。
【０１０６】
以下、主磁極１５の形状の特徴と、それによる効果について詳しく説明する。本実施の形態では、主磁極１５の上面１５Ｔは、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面１００に対して傾斜した第１および第３の部分１５Ｔ１，１５Ｔ３を含んでいる。これにより、本実施の形態によれば、媒体対向面１００における主磁極１５の厚みを小さくし、且つ主磁極１５のうち、第３の部分１５Ｔ３よりも媒体対向面１００からより遠い部分の厚みを十分に大きくすることが可能になる。更に、本実施の形態では、主磁極１５の下端部１５Ｌは、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面１００に対して傾斜した第１および第３の部分１５Ｌ１，１５Ｌ３を含んでいる。これにより、本実施の形態によれば、媒体対向面１００における主磁極１５の厚みを小さくし、且つ主磁極１５のうち、第３の部分１５Ｌ３よりも媒体対向面１００からより遠い部分の厚みを十分に大きくすることが可能になる。このように、本実施の形態によれば、媒体対向面１００における主磁極１５の厚みを小さくすることができることから、スキューに起因した隣接トラック消去の発生を抑制することができる。また、媒体対向面１００から離れた位置では主磁極１５の厚みを大きくすることができることから、主磁極１５によって多くの磁束を媒体対向面１００まで導くことができ、その結果、オーバーライト特性等の記録特性を向上させることができる。
【０１０７】
ところで、記録シールド１６の第１のシールド１６Ａは、上面１５Ｔの第３の部分１５Ｔ３と媒体対向面１００の間に配置された部分を含んでいる。また、記録シールド１６の第２のシールド１６Ｂは、下端部１５Ｌの第３の部分１５Ｌ３と媒体対向面１００の間に配置された部分を含んでいる。第３の部分１５Ｔ３と第１のシールド１６Ａとの間の距離が小さくなると、第３の部分１５Ｔ３から第１のシールド１６Ａへの磁束の漏れが多くなり、記録特性が低下してしまうという問題が発生する。同様に、第３の部分１５Ｌ３と第２のシールド１６Ｂと間の距離が小さくなると、第３の部分１５Ｌ３から第２のシールド１６Ｂへの磁束の漏れが多くなり、記録特性が低下してしまうという問題が発生する。
【０１０８】
本実施の形態では、主磁極１５の上面１５Ｔが第２の部分１５Ｔ２を含むことにより、第２の部分１５Ｔ２がない場合に比べて、第３の部分１５Ｔ３と第１のシールド１６Ａとの間の距離を大きくすることが可能になる。同様に、本実施の形態では、主磁極１５の下端部１５Ｌが第２の部分１５Ｌ２を含むことにより、第２の部分１５Ｌ２がない場合に比べて、第３の部分１５Ｌ３と第２のシールド１６Ｂとの間の距離を大きくすることが可能になる。これらのことから、本実施の形態によれば、主磁極１５から記録シールド１６への磁束の漏れによって記録特性が低下することを防止することができる。
【０１０９】
また、本実施の形態では、上面１５Ｔにおいて、第２および第４の部分１５Ｔ２，１５Ｔ４は、実質的に第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２に平行であり、第３の部分１５Ｔ３は、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面１００に対して傾斜している。そのため、本実施の形態によれば、第３の部分１５Ｔ３が第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２に対して垂直である場合に比べて、第３の部分１５Ｔ３と第２および第４の部分１５Ｔ２，１５Ｔ４との間に形成される２つの角の角度を大きくして、これらの角から第１のシールド１６Ａへの磁束の漏れを抑制することができる。同様に、下端部１５Ｌにおいて、第２および第４の部分１５Ｌ２，１５Ｌ４は、実質的に第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２に平行であり、第３の部分１５Ｌ３は、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面１００に対して傾斜している。そのため、本実施の形態によれば、第３の部分１５Ｌ３が第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２に対して垂直である場合に比べて、第３の部分１５Ｌ３と第２および第４の部分１５Ｌ２，１５Ｌ４との間に形成される２つの角の角度を大きくして、これらの角から第２のシールド１６Ｂへの磁束の漏れを抑制することができる。
【０１１０】
以上説明した主磁極１５の形状の特徴により、本実施の形態によれば、スキューに起因した問題の発生を防止し、且つ記録特性を向上させることが可能になる。
【０１１１】
また、記録媒体に記録される記録ビットの端部の位置は、媒体対向面１００に配置された主磁極１５の端面のうち、記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置された端部の位置によって決まる。そのため、記録ビットの端部の位置を精度よく規定するためには、第１のシールド１６Ａおよび第２のシールド１６Ｂのうち、特に第１のシールド１６Ａが多くの磁束を取り込むことができることが重要である。本実施の形態では、第１のシールド１６Ａは、第２のシールド１６Ｂよりも体積が大きく、これにより、第２のシールド１６Ｂよりも多くの磁束を取り込むことができる。
【０１１２】
以下、主磁極１５と記録シールド１６との関係に関する特徴と、それによる効果について詳しく説明する。まず、本実施の形態では、媒体対向面１００に垂直な方向についての第１の部分１５Ｔ１の長さＬＡ１は、媒体対向面１００に垂直な方向についての第１の傾斜面１６Ａｂの長さＬＣよりも小さい。もし、長さＬＡ１が、図１に示された長さＬＣと等しい場合には、広い領域において、第１の部分１５Ｔ１と第１の傾斜面１６Ａｂとが小さな間隔で対向し、その結果、主磁極１５から第１のシールド１６Ａへの磁束の漏れが多くなり、オーバーライト特性等の記録特性が低下してしまうという問題が発生する。これを防止するために、長さＬＡ１とＬＣの関係が図１に示した関係とは逆になるように長さＬＣを短くすると、記録シールド１６のうち、主磁極１５に対して記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置された第１のシールド１６Ａの体積が小さくなって、記録シールドの機能が損なわれてしまう。すなわち、第１のシールド１６Ａの体積が小さくなると、第１のシールド１６Ａで磁束の飽和が生じやすくなる。すると、第１のシールド１６Ａから媒体対向面１００に向けて磁束が漏れて、この漏れた磁束によって、記録媒体に記録された情報が誤って消去されるという問題が発生する。
【０１１３】
本実施の形態では、長さＬＡ１を長さＬＣよりも小さくすることにより、記録シールド１６の機能を損なうことなく、第１の部分１５Ｔ１と第１の傾斜面１６Ａｂとが対向する領域の面積を小さくして、主磁極１５から第１のシールド１６Ａへの磁束の漏れを抑制することが可能になる。しかし、それだけでは、上面１５Ｔの第２の部分１５Ｔ２と第１の仮想の平面Ｐ１との間の距離Ｄ１が小さくなるため、第１の部分１５Ｔ１によっては、媒体対向面１００における主磁極１５の厚みを、あまり小さくすることができない。
【０１１４】
そこで、本実施の形態では、下端部１５Ｌの第２の部分１５Ｌ２と第２の仮想の平面Ｐ２との間の距離Ｄ２を、上面１５Ｔの第２の部分１５Ｔ２と第１の仮想の平面Ｐ１との間の距離Ｄ１よりも大きくし、且つ上面１５Ｔの第１の部分１５Ｔ１の長さＬＡ１を、下端部１５Ｌの第１の部分１５Ｌ１の長さＬＢ１よりも小さくしている。これにより、本実施の形態によれば、上述のように主磁極１５から第１のシールド１６Ａへの磁束の漏れを抑制しながら、媒体対向面１００における主磁極１５の厚みを小さくし、且つ上面１５Ｔの第２の部分１５Ｔ２と下端部１５Ｌの第２の部分１５Ｌ２の間の距離を十分に大きくすることができる。
【０１１５】
以上説明した主磁極１５と記録シールド１６との関係に関する特徴により、本実施の形態によれば、記録シールド１６（第１のシールド１６Ａ）の機能を損なうことなく、スキューに起因した問題の発生を防止し、且つ記録特性を向上させることが可能になる。
【０１１６】
次に、本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法について説明する。本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法では、まず、図２および図３に示したように、基板１の上に、絶縁層２、第１の再生シールド層３、第１の再生シールドギャップ膜４を順に形成する。次に、第１の再生シールドギャップ膜４の上にＭＲ素子５と、このＭＲ素子５に接続される図示しないリードとを形成する。次に、ＭＲ素子５およびリードを、第２の再生シールドギャップ膜６で覆う。次に、第２の再生シールドギャップ膜６の上に第２の再生シールド層７、非磁性層５０を順に形成する。
【０１１７】
次に、例えばフレームめっき法によって、非磁性層５０の上に磁性層３１を形成する。次に、積層体の上面全体の上に絶縁層５１を形成する。次に、例えば化学機械研磨（以下、ＣＭＰと記す。）によって、磁性層３１が露出するまで、絶縁層５１を研磨して、磁性層３１および絶縁層５１の上面を平坦化する。
【０１１８】
次に、例えばフレームめっき法によって、磁性層３１の上に磁性層３２，３３を形成する。次に、積層体の上面全体の上に、絶縁膜５２を形成する。絶縁膜５２の材料としてアルミナを用いる場合には、例えば原子層堆積法によって、絶縁膜５２を形成する。次に、例えばフレームめっき法によって、コイルの第２の部分１０を形成する。次に、第２の部分１０の巻線間に絶縁層５３を形成する。第２の部分１０および絶縁層５３は、その上面が絶縁膜５２のうち磁性層３２，３３の上に配置された部分の上面よりも上方に配置されるように形成される。次に、積層体の上面全体の上に、絶縁層５４を形成する。次に、例えばＣＭＰによって、磁性層３２，３３が露出するまで、第２の部分１０、絶縁膜５２および絶縁層５３，５４を研磨して、第２の部分１０、磁性層３２，３３、絶縁膜５２および絶縁層５３，５４の上面を平坦化する。
【０１１９】
次に、積層体の上面全体の上に、絶縁層５５を形成する。次に、例えばイオンビームエッチング（以下、ＩＢＥと記す。）によって、磁性層３２，３３の上面、絶縁層５４の上面の一部および第２の部分１０のコイル接続部１０Ｅが露出するように、絶縁層５５を選択的にエッチングする。次に、例えばフレームめっき法によって、磁性層３２および絶縁層５４の上に磁性層３４を形成し、磁性層３３の上に磁性層３５を形成し、第２の部分１０のコイル接続部１０Ｅの上に図示しない第１の接続層を形成する。次に、積層体の上面全体の上に、絶縁層５６を形成する。次に、例えばＣＭＰによって、磁性層３４，３５および第１の接続層が露出するまで、絶縁層５６を研磨して、磁性層３２，３３、第１の接続層および絶縁層５６の上面を平坦化する。
【０１２０】
次に、図７ないし図１８を参照して、上記の工程の後、コイルの第１の部分２０の第１層２１を形成するまでの一連の工程について説明する。図７ないし図１８は、磁気ヘッドの製造過程における積層体を示している。図７ないし図１８において、（ａ）は、それぞれ、媒体対向面１００および基板１の上面１ａに垂直な断面、特に前記主断面を表している。図７ないし図１８において、（ｂ）は、それぞれ、積層体における媒体対向面１００が形成される予定の位置における断面を示している。なお、図７ないし図１８では、第２の再生シールド層７よりも基板１側の部分を省略している。また、図７ないし図１８の（ａ）において、記号“ＡＢＳ”は、媒体対向面１００が形成される予定の位置を表している。
【０１２１】
図７に示した工程では、まず、例えばフレームめっき法によって、磁性層３４の上に第２のシールド１６Ｂを形成し、磁性層３５および絶縁層５６の上に磁性層３６を形成し、第１の接続層の上に図示しない第２の接続層を形成する。第２のシールド１６Ｂは、後にエッチングされることによって第２の傾斜面１６Ｂｂとなる部分を含む初期上面を有している。次に、積層体の上面全体の上に、非磁性層５７を形成する。次に、例えばＣＭＰによって、第２のシールド１６Ｂ、磁性層３６および第２の接続層が露出するまで非磁性層５７を研磨して、第２のシールド１６Ｂの初期上面、ならびに、磁性層３６、第２の接続層および非磁性層５７の上面を平坦化する。研磨後の非磁性層５７は、第２のシールド１６Ｂと磁性層３６との間の領域に配置された被エッチング部５７Ａを含んでいる。
【０１２２】
図８は、次の工程を示す。この工程では、まず、第２のシールド１６Ｂ、磁性層３６、第２の接続層および非磁性層５７の上にマスク７１を形成する。このマスク７１は、フォトレジスト層をパターニングして形成される。マスク７１は、被エッチング部５７Ａのうち、第２のシールド１６Ｂとの境界の近傍の部分以外の部分の上面を露出させる開口部７１ａを有している。図８（ａ）に示したように、マスク７１は、磁性層３６のうち、被エッチング部５７Ａとの境界の近傍の一部を覆っていない。
【０１２３】
次に、マスク７１と磁性層３６をエッチングマスクとして用いて、例えば反応性イオンエッチング（以下、ＲＩＥと記す。）によって、被エッチング部５７Ａをテーパーエッチングする。この工程を、第１のエッチング工程と呼ぶ。次に、マスク７１を除去する。
【０１２４】
図８（ａ）に示したように、被エッチング部５７Ａがテーパーエッチングされることによって、被エッチング部５７Ａに、初期傾斜面ＵＬ２Ｐおよび初期底部ＵＬ３Ｐが形成される。初期傾斜面ＵＬ２Ｐおよび初期底部ＵＬ３Ｐは、当初の被エッチング部５７Ａの上面のうち、このエッチング後に残った部分に連続するように、この順に形成される。以下、当初の被エッチング部５７Ａの上面のうち、このエッチング後に残った部分を初期上面と呼び、記号ＵＬ１Ｐで表す。第１のエッチング工程は、初期底部ＵＬ３Ｐが、当初の被エッチング部５７Ａの上面と下面の間の高さの位置に達するまで行う。
【０１２５】
被エッチング部５７Ａ（非磁性層５７）がアルミナによって形成されている場合、第１のエッチング工程では、例えば、ＢＣｌ３、Ｃｌ２およびＣＦ４を含むエッチングガスを用いたＲＩＥによって、被エッチング部５７Ａをテーパーエッチングする。ＢＣｌ３とＣｌ２は、被エッチング部５７Ａのエッチングに寄与する主成分である。ＣＦ４は、被エッチング部５７Ａのエッチング中に、エッチングによって形成される溝の側壁に側壁保護膜を形成するためのガスである。エッチングガスがＣＦ４を含むことにより、被エッチング部５７Ａのエッチング中に溝の側壁に側壁保護膜が形成され、これにより、初期傾斜面ＵＬ２Ｐが、後に形成される媒体対向面１００に垂直な方向に対して傾いた面となる。
【０１２６】
図９は、次の工程を示す。この工程では、まず、第２のシールド１６Ｂ、磁性層３６、第２の接続層および非磁性層５７の上にマスク７２を形成する。このマスク７２は、フォトレジスト層をパターニングして形成される。マスク７２は、被エッチング部５７Ａの初期上面ＵＬ１Ｐ、初期傾斜面ＵＬ２Ｐおよび初期底部ＵＬ３Ｐを露出させる開口部７２ａを有している。図９（ａ）に示したように、マスク７２は、第２のシールド１６Ｂのうち、被エッチング部５７Ａとの境界の近傍の一部と、磁性層３６のうち、被エッチング部５７Ａとの境界の近傍の一部を覆っていない。
【０１２７】
次に、マスク７２、第２のシールド１６Ｂおよび磁性層３６をエッチングマスクとして用いて、例えばＲＩＥによって、被エッチング部５７Ａを垂直にエッチングする。この工程を、第２のエッチング工程と呼ぶ。次に、マスク７２を除去する。
【０１２８】
被エッチング部５７Ａ（非磁性層５７）がアルミナによって形成されている場合、第２のエッチング工程では、例えば、ＢＣｌ３とＣｌ２を含むエッチングガスを用いたＲＩＥによって、被エッチング部５７Ａをエッチングする。第２のエッチング工程では、被エッチング部５７Ａのうち、初期上面ＵＬ１Ｐ、初期傾斜面ＵＬ２Ｐおよび初期底部ＵＬ３Ｐの下の部分がエッチングされて平坦部ＵＬ１、傾斜面ＵＬ２および底部ＵＬ３が形成される。傾斜面ＵＬ２の傾斜角度は、後に形成される主磁極１５の下端部１５Ｌの第３の部分１５Ｌ３の傾斜角度θＬ３と等しいか、ほぼ等しい。平坦部ＵＬ１および底部ＵＬ３は、実質的に後に形成される媒体対向面１００に垂直な方向に延在している。
【０１２９】
図１０は、次の工程を示す。この工程では、まず、第２のシールド１６Ｂの上にマスク７３を形成する。このマスク７３は、フォトレジスト層をパターニングして形成される。マスク７３は、第２のシールド１６Ｂの初期上面のうち、少なくとも、後にエッチングされることによって第２の傾斜面１６Ｂｂとなる部分を覆っていない。
【０１３０】
次に、マスク７３をエッチングマスクとして用いて、第２のシールド１６Ｂの初期上面の一部をエッチングすると共に、磁性層３６の上面をエッチングする。このエッチングは、図１０（ａ）に示したように、第２のシールド１６Ｂに第２の傾斜面１６Ｂｂが形成されるように行う。この工程を、第３のエッチング工程と呼ぶ。次に、マスク７３を除去する。
【０１３１】
第３のエッチング工程では、例えばＩＢＥを用いて、イオンビームの進行方向を基板１の上面１ａに垂直な方向に対して傾けて第２のシールド１６Ｂの初期上面をエッチングする。図１０（ａ）に示した矢印は、イオンビームの進行方向を表している。このようなＩＢＥを行うことにより、第２の傾斜面１６Ｂｂが、後に形成される媒体対向面１００に垂直な方向に対して傾いた面となる。第２の傾斜面１６Ｂｂの傾斜角度は、後に形成される主磁極１５の下端部１５Ｌの第１の部分１５Ｌ１の傾斜角度θＬ１と等しいか、ほぼ等しい。
【０１３２】
図８に示した工程から図１０に示した工程までの一連の工程は、主磁極１５の下端部１５Ｌの形状を決定するための工程である。後で説明するように、下端部１５Ｌの第１ないし第４の部分１５Ｌ１〜１５Ｌ４の形状は、第２の傾斜面１６Ｂｂ、平坦部ＵＬ１、傾斜面ＵＬ２および底部ＵＬ３によって規定される。
【０１３３】
図１１は、次の工程を示す。この工程では、まず、第２のシールド１６Ｂの上に、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄを形成する。以下、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄの形成方法の一例について説明する。この方法では、まず、ポジ型のフォトレジストよりなるフォトレジスト層をフォトリソグラフィによってパターニングすることによって、第２のシールド１６Ｂの上面上であって、後にサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄが形成される領域に、第１のレジスト層を形成する。第１のレジスト層は、後に形成されるサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄの形状に対応した形状を有する２つの部分を有している。次に、第１のレジスト層を覆うように、非磁性材料よりなる分離膜を形成する。分離膜は、ポジ型のフォトレジストよりなる第１のレジスト層と、後に形成されるネガ型のフォトレジストよりなるフォトレジスト層とが混合されることを防止するためのものである。分離膜の材料としては、例えばアルミナまたは合成樹脂が用いられる。
【０１３４】
次に、ネガ型のフォトレジストよりなるフォトレジスト層をフォトリソグラフィによってパターニングすることによって、分離膜の上に、後に型となる第２のレジスト層を形成する。第２のレジスト層は、後に形成されるサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄの形状に対応した形状の２つの開口部を有している。次に、例えばウェットエッチングによって、分離膜のうち、第２のレジスト層によって覆われていない部分を除去する。次に、第１および第２のレジスト層を露光した後、例えばアルカリ性の現像液を用いて、第２のレジスト層の２つの開口部から第１のレジスト層を除去する。また、第１のレジスト層を除去する際または第１のレジスト層を除去した後に、分離膜のうち、第２のレジスト層の２つの開口部の壁面に沿った部分を除去する。この工程により、第２のレジスト層は、後にサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄが形成される領域を除く領域に形成された型となる。次に、シード層を形成することなくめっきを行って、第２のシールド１６Ｂの上面上に、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄを形成する。サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄは、それぞれ、型の２つの開口部内に形成される。次に、型と分離膜を除去する。
【０１３５】
図１１（ｂ）は、このようにして形成されたサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄを示している。媒体対向面１００が形成される予定の位置ＡＢＳの近傍において、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄは、互いに対向する側壁を有している。サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄの側壁の間では、第２のシールド１６Ｂの上面が露出している。
【０１３６】
図１１に示した工程では、次に、第２のシールド１６Ｂおよびサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄを覆うように、第２のギャップ層１８を形成する。第２のギャップ層１８の材料としてアルミナを用いる場合には、例えば原子層堆積法によって、第２のギャップ層１８を形成する。第２のギャップ層１８の材料としてＲｕを用いる場合には、例えば化学的気相成長法によって、第２のギャップ層１８を形成する。次に、図示しないが、例えばスパッタ法またはイオンビームデポジション法によって、積層体の上面全体の上にシード層を形成する。次に、第２のギャップ層１８およびシード層を選択的にエッチングして、第２のギャップ層１８およびシード層に、磁性層３６の上面を露出させる開口部と、第２の接続層の上面を露出させる開口部とを形成する。
【０１３７】
図１２は、次の工程を示す。この工程では、例えばフレームめっき法によって、後に主磁極１５となる磁性層１５Ｐと図示しない第３の接続層を形成する。磁性層１５Ｐおよび第３の接続層は、その上面がシード層のうちサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄの上に配置された部分の上面よりも上方に配置されるように形成される。
【０１３８】
磁性層１５Ｐの下端部は、後に主磁極１５の下端部１５Ｌとなる部分を含み、この部分は、第１ないし第４の部分１５Ｌ１〜１５Ｌ４を含んでいる。磁性層１５Ｐの下端部の第１ないし第４の部分１５Ｌ１〜１５Ｌ４の形状は、第２の傾斜面１６Ｂｂ、平坦部ＵＬ１、傾斜面ＵＬ２および底部ＵＬ３によって規定される。すなわち、第１ないし第４の部分１５Ｌ１〜１５Ｌ４の形状は、第２の傾斜面１６Ｂｂ、平坦部ＵＬ１、傾斜面ＵＬ２および底部ＵＬ３の形状に従っている。
【０１３９】
図１３は、次の工程を示す。この工程では、まず、第２のギャップ層１８、磁性層１５Ｐおよび第３の接続層を覆うように第１の非磁性層を形成する。次に、例えばＣＭＰによって、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄが露出するまで、磁性層１５Ｐ、第２のギャップ層１８、第３の接続層および第１の非磁性層を研磨する。研磨後の磁性層１５Ｐの上面１５ＰＴは、後に主磁極１５の上面１５Ｔの第４の部分１５Ｔ４となる部分を含んでいる。
【０１４０】
図１４は、次の工程を示す。この工程では、まず、磁性層１５Ｐの上面１５ＰＴの上にマスク７４を形成する。このマスク７４は、フォトレジスト層をパターニングして形成される。マスク７４は、磁性層１５Ｐのうち、媒体対向面１００が形成される予定の位置ＡＢＳの近傍の一部を覆っていない。
【０１４１】
次に、マスク７４をエッチングマスクとして用いて、媒体対向面１００が形成される予定の位置ＡＢＳの近傍において、磁性層１５Ｐ、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄおよび第２のギャップ層１８のそれぞれの一部をエッチングする。このエッチングは、図１４（ａ）に示したように、磁性層１５Ｐに、平坦部１５Ｔ２Ｐと、傾斜面である第３の部分１５Ｔ３とが形成されるように行う。この工程を、第４のエッチング工程と呼ぶ。次に、マスク７４を除去する。
【０１４２】
第４のエッチング工程では、例えばＩＢＥを用いて、イオンビームの進行方向を基板１の上面１ａに垂直な方向に対して傾けて磁性層１５Ｐをエッチングする。図１４（ａ）に示した矢印は、イオンビームの進行方向を表している。このようなＩＢＥを行うことにより、第３の部分１５Ｔ３が、後に形成される媒体対向面１００に垂直な方向に対して傾いた面となる。平坦部１５Ｔ２Ｐは、後に主磁極１５の上面１５Ｔの第２の部分１５Ｔ２となる部分を含んでいる。
【０１４３】
図１５は、次の工程を示す。この工程では、まず、磁性層１５Ｐおよびサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄの上に、後に非磁性金属層５８となる第１のマスク層５８Ｐと、後に絶縁層５９となる第２のマスク層とを形成する。次に、第２のマスク層の上にマスク７５を形成する。このマスク７５は、フォトレジスト層をパターニングして形成される。マスク７５は、第２のマスク層のうち、媒体対向面１００が形成される予定の位置ＡＢＳの近傍の一部と、媒体対向面１００が形成される予定の位置ＡＢＳから離れた位置における他の一部を覆っていない。
【０１４４】
次に、マスク７５をエッチングマスクとして用いて、例えばＲＩＥによって、第２のマスク層をテーパーエッチングする。このエッチングは、媒体対向面１００が形成される予定の位置ＡＢＳの近傍において第１のマスク層５８Ｐの上面の一部が露出すると共に、媒体対向面１００が形成される予定の位置ＡＢＳから離れた位置において第１のマスク層５８Ｐの上面の他の一部が露出するように行う。図１５（ａ）に示したように、第２のマスク層がテーパーエッチングされることによって、第２のマスク層に、媒体対向面１００が形成される予定の位置ＡＢＳに向いた傾斜面が形成される。これにより、第２のマスク層は絶縁層５９となる。第２のマスク層のエッチング条件は、第１のエッチング工程におけるエッチング条件と同じである。次に、マスク７５を除去する。
【０１４５】
図１６は、次の工程を示す。この工程では、絶縁層５９をエッチングマスクとして、例えばＩＢＥによって、媒体対向面１００が形成される予定の位置ＡＢＳの近傍において、磁性層１５Ｐ、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄ、第２のギャップ層１８および第１のマスク層５８Ｐのそれぞれの一部をエッチングすると共に、媒体対向面１００が形成される予定の位置ＡＢＳから離れた位置において、磁性層１５Ｐおよび第１のマスク層５８Ｐのそれぞれの他の一部をエッチングする。これにより、第１のマスク層５８Ｐは非磁性金属層５８となり、磁性層１５Ｐは主磁極１５となる。この工程を、第５のエッチング工程と呼ぶ。
【０１４６】
ＩＢＥによって磁性層１５Ｐ、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄおよび第２のギャップ層１８のそれぞれの一部をエッチングする場合には、イオンビームの進行方向が基板１の上面１ａに垂直な方向に対してなす角度が４０°〜７５°の範囲内となり、且つ基板１の上面１ａに垂直な方向に見たときにイオンビームの進行方向が回転するようにする。このようなＩＢＥを行うことにより、第１のマスク層５８Ｐには、絶縁層５９の傾斜面に連続する傾斜面が形成され、磁性層１５Ｐには、第１のマスク層５８Ｐの傾斜面に連続する傾斜面である第１の部分１５Ｔ１が形成される。平坦部１５Ｔ２Ｐのうち、エッチング後に残った部分は第２の部分１５Ｔ２となり、上面１５ＰＴのうち、エッチング後に残った部分は第４の部分１５Ｔ４となる。
【０１４７】
図１３に示した工程から図１６に示した工程までの一連の工程は、主磁極１５の上面１５Ｔの形状を決定するための工程である。
【０１４８】
図１７は、次の工程を示す。この工程では、まず、積層体の上面全体の上に、例えばスパッタ法または化学的気相成長法によって、第１のギャップ層１９を形成する。次に、例えばＩＢＥによって、主磁極１５の上面１５Ｔの一部、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄの上面の一部および第３の接続層の上面が露出するように、第１のギャップ層１９、非磁性金属層５８および絶縁層５９を選択的にエッチングする。次に、例えばフレームめっき法によって、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄおよび第１のギャップ層１９の上に第１のシールド１６Ａを形成し、主磁極１５の上に磁性層４１を形成する。
【０１４９】
図１８は、次の工程を示す。この工程では、まず、積層体の上面全体の上に絶縁膜６１を形成する。絶縁膜６１の材料としてアルミナを用いる場合には、例えば原子層堆積法によって、絶縁膜６１を形成する。次に、例えばＩＢＥによって、第３の接続層の上面が露出するように、絶縁膜６１を選択的にエッチングする。次に、例えばフレームめっき法によって、コイルの第１の部分２０の第１層２１を形成する。第１層２１は、その上面が絶縁膜６１のうち第１のシールド１６Ａおよび磁性層４１の上に配置された部分の上面よりも上方に配置されるように形成される。次に、積層体の上面全体の上に第２の非磁性層を形成する。次に、例えばＣＭＰによって、第１のシールド１６Ａおよび磁性層４１が露出するまで、第１層２１、絶縁膜６１および第２の非磁性層を研磨して、第１のシールド１６Ａ、第１層２１、磁性層４１、絶縁膜６１および第２の非磁性層の上面を平坦化する。
【０１５０】
以下、図２および図３を参照して、図１８に示した工程の後の工程について説明する。まず、積層体の上面全体の上に絶縁層６２を形成する。次に、例えばＩＢＥによって、第１のシールド１６Ａの上面および磁性層４１の上面の一部が露出するように、絶縁層６２を選択的にエッチングする。次に、例えばフレームめっき法によって、第１のシールド１６Ａおよび絶縁層６２の上に磁性層４２を形成し、磁性層４１の上に磁性層４３を形成する。次に、積層体の上面全体の上に絶縁膜６４を形成する。絶縁膜６４の材料としてアルミナを用いる場合には、例えば原子層堆積法によって、絶縁膜６４を形成する。次に、例えばＩＢＥによって、第１層２１のコイル接続部２１Ｅが露出するように、絶縁層６２および絶縁膜６４を選択的にエッチングする。
【０１５１】
次に、例えばフレームめっき法によって、コイルの第１の部分２０の第２層２２を形成する。次に、第２層２２の巻線間に絶縁層６５を形成する。第２層２２および絶縁層６５は、その上面が絶縁膜６４のうち磁性層４２，４３の上に配置された部分の上面よりも上方に配置されるように形成される。次に、磁性層４２の一部をエッチングして、前述の第１および第２の接続面を形成する。このエッチングは、例えばＩＢＥを用いて行われる。次に、積層体の上面全体の上に、絶縁層６６を形成する。次に、例えばＣＭＰによって、磁性層４２，４３が露出するまで、第２層２２、絶縁膜６４および絶縁層６５，６６を研磨して、磁性層４２，４３、第２層２２、絶縁膜６４および絶縁層６５，６６の上面を平坦化する。
【０１５２】
次に、積層体の上面全体の上に絶縁層６７を形成する。次に、例えばＩＢＥによって、磁性層４２，４３の上面が露出するように、絶縁層６７を選択的にエッチングする。次に、例えばフレームめっき法によって、磁性層４２，４３および絶縁層６７の上に、磁性層４４を形成する。次に、積層体の上面全体の上に絶縁層６８を形成する。次に、例えばＣＭＰによって、磁性層４４が露出するまで、絶縁層６８を研磨して、磁性層４４および絶縁層６８の上面を平坦化する。
【０１５３】
次に、積層体の上面全体を覆うように保護層７０を形成する。次に、保護層７０の上に配線や端子等を形成し、媒体対向面１００が形成される予定の位置の近傍で基板１を切断し、この切断によって形成された面を研磨して媒体対向面１００を形成し、更に浮上用レールの作製等を行って、磁気ヘッドが完成する。
【０１５４】
［変形例］
次に、図１９および図２０を参照して、本実施の形態における第１および第２の変形例の主磁極について説明する。図１９は、本実施の形態における第１の変形例の主磁極の上面を示す平面図である。図２０は、本実施の形態における第２の変形例の主磁極の上面を示す平面図である。
【０１５５】
第１および第２の変形例の主磁極１５では、幅広部１５Ｂにおける上面１５Ｔは、トラック幅方向ＴＷの両端に位置する２つの辺１５Ｂ１，１５Ｂ２を有している。辺１５Ｂ１は、媒体対向面１００に近い順に、連続するように配置された部分１５Ｂ１１，１５Ｂ１２，１５Ｂ１３を含んでいる。辺１５Ｂ２は、媒体対向面１００に近い順に、連続するように配置された部分１５Ｂ２１，１５Ｂ２２，１５Ｂ２３を含んでいる。部分１５Ｂ１１，１５Ｂ２１は、媒体対向面１００から離れるに従って互いの距離が大きくなるように、それぞれ媒体対向面１００に垂直な方向に対して傾いている。部分１５Ｂ１２，１５Ｂ２２は、媒体対向面１００から離れるに従って互いの距離が大きくなるように、それぞれ部分１５Ｂ１１，１５Ｂ２１とは異なる角度で媒体対向面１００に垂直な方向に対して傾いている。部分１５Ｂ１３，１５Ｂ２３は、実質的に媒体対向面１００に垂直な方向に延在している。
【０１５６】
部分１５Ｂ１１が媒体対向面１００に垂直な方向に対してなす角度と、部分１５Ｂ２１が媒体対向面１００に垂直な方向に対してなす角度は等しい。以下、この角度を記号θ１で表す。角度θ１は、例えば２５°〜３５°の範囲内である。また、部分１５Ｂ１２が媒体対向面１００に垂直な方向に対してなす角度と、部分１５Ｂ２２が媒体対向面１００に垂直な方向に対してなす角度は等しい。以下、この角度を記号θ２で表す。角度θ２は、角度θ１よりも大きく、例えば３５°〜５０°の範囲内である。
【０１５７】
媒体対向面１００に垂直な方向についての部分１５Ｂ１１の長さと、媒体対向面１００に垂直な方向についての部分１５Ｂ２１の長さは等しい。以下、この長さを記号ＬＤで表す。長さＬＤは、例えば０．５〜１．０μｍの範囲内である。なお、第１および第２の変形例は、長さＬＤが互いに異なる例を示している。一例では、第１の変形例における長さＬＤは０．５μｍであり、第２の変形例における長さＬＤは１．０μｍである。
【０１５８】
［第２の実施の形態］
次に、図２１および図２２を参照して、本発明の第２の実施の形態に係る磁気ヘッドについて説明する。図２１は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの複数の第２のコイル要素を示す平面図である。図２２は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの複数の第１のコイル要素を示す平面図である。
【０１５９】
本実施の形態に係る磁気ヘッドの構成は、以下の点で第１の実施の形態と異なっている。本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、コイルは、主磁極１５の周りに約３回巻かれている。本実施の形態におけるコイルは、図４に示した第１の実施の形態における第２の部分１０の代りに、図２１に示した３つの線形状部分１１，１２，１３を有している。また、本実施の形態におけるコイルは、図５に示した第１の実施の形態における第１層２１の代りに、図２２に示した形状の第１層２１を有している。また、本実施の形態におけるコイルは、図６に示した第１の実施の形態における第２層２２の代りに、図２２に示した２つの線形状部分２２１，２２２を有している。
【０１６０】
図２１に示したように、線形状部分１１，１２，１３は、それぞれ、第２の空間Ｓ２を通過するように延びる第２のコイル要素１１Ａ，１２Ｂ，１３Ｃを含んでいる。第２のコイル要素１１Ａ，１２Ｂ，１３Ｃは、媒体対向面１００側からこの順に、媒体対向面１００に垂直な方向に並んでいる。
【０１６１】
図２２に示したように、本実施の形態における第１層２１は、第１の空間Ｓ１を通過するように延びる第１のコイル要素２１Ａを含んでいる。コイル要素２１Ａは、特に第１のシールド１６Ａと磁性層４１との間を通過している。また、図２２に示したように、線形状部分２２１，２２２は、それぞれ、第１の空間Ｓ１を通過するように延びる第１のコイル要素２２１Ａ，２２２Ｂを含んでいる。第１のコイル要素２２１Ａ，２２２Ｂは、媒体対向面１００側からこの順に、媒体対向面１００に垂直な方向に並んでいる。コイル要素２２１Ａ，２２２Ｂは、特に磁性層４２と磁性層４３との間を通過している。
【０１６２】
線形状部分１１，１２，１３と、第１層２１および線形状部分２２１，２２２は、それらの間の複数の層を貫通する５つの柱状の接続層８０を介して、主磁極１５の周りにヘリカル状に巻かれたコイルが形成されるように電気的に接続されている。
【０１６３】
本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第１の実施の形態と同様である。
【０１６４】
［第３の実施の形態］
次に、図２３を参照して、本発明の第３の実施の形態に係る磁気ヘッドについて説明する。図２３は、本実施の形態に係る磁気ヘッドを示す断面図である。なお、図２３は媒体対向面および基板の上面に垂直な断面、特に前記主断面を示している。
【０１６５】
本実施の形態に係る磁気ヘッドの構成は、以下の点で第１の実施の形態と異なっている。本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、磁性層４２は、第１および第２の接続面を有しておらず、その上面が媒体対向面１００まで延びて、その前端面に接続されている。また、本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、磁性層４４は、媒体対向面１００に配置された端面を有している。
【０１６６】
なお、本実施の形態におけるコイルは、第２の実施の形態と同様に主磁極１５の周りにヘリカル状に巻かれたものであってもよい。本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第１または第２の実施の形態と同様である。
【０１６７】
［第４の実施の形態］
次に、図２４ないし図２７を参照して、本発明の第４の実施の形態に係る磁気ヘッドについて説明する。図２４は、本実施の形態に係る磁気ヘッドを示す断面図である。なお、図２４は媒体対向面および基板の上面に垂直な断面、特に前記主断面を示している。図２５は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第２の部分を示す平面図である。図２６は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第１の部分の第１層を示す平面図である。図２７は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第１の部分の第２層を示す平面図である。
【０１６８】
本実施の形態に係る磁気ヘッドの構成は、以下の点で第１の実施の形態と異なっている。本実施の形態におけるコイルは、第１の実施の形態における第１の部分２０および第２の部分１０の代りに、第１の部分１２０および第２の部分１１０を含んでいる。図２５に示したように、第２の部分１１０は、第２の帰磁路部３０の一部である磁性層３３の周りに約２回巻かれている。
【０１６９】
コイルの第１の部分１２０は、第１層１２１および第２層１２２を含んでいる。図２６に示したように、第１層１２１の形状および配置は、第１の実施の形態における第１層２１の形状および配置と同じである。図２７に示したように、第２層１２２は、第１の帰磁路部４０の一部である磁性層４３の周りに約１回巻かれている。なお、本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、絶縁層６５が設けられていない。
【０１７０】
ここで、図２５ないし図２７を参照して、コイルの第１の部分１２０および第２の部分１１０について更に説明する。図２５に示したように、第２の部分１１０は、第２の空間Ｓ２内のうち特に磁性層３２と磁性層３３との間を通過するように延びる２つの第２のコイル要素１１０Ａ，１１０Ｂを含んでいる。第２のコイル要素１１０Ａ，１１０Ｂは、媒体対向面１００側からこの順に、媒体対向面１００に垂直な方向に並んでいる。また、第２の部分１１０は、第１の部分１２０に電気的に接続されたコイル接続部１１０Ｅを有している。
【０１７１】
図２６に示したように、第１の部分１２０の第１層１２１は、第１の空間Ｓ１内のうち特に第１のシールド１６Ａと磁性層４１との間を通過するように延びる第１のコイル要素１２１Ａを含んでいる。また、第１層１２１は、第２の部分１１０のコイル接続部１１０Ｅに電気的に接続されたコイル接続部１２１Ｓと、第２層１２２に電気的に接続されたコイル接続部１２１Ｅとを有している。コイル接続部１２１Ｓは、第１層１２１と第２の部分１１０との間の複数の層を貫通する図示しない柱状の接続層を介してコイル接続部１１０Ｅに電気的に接続されている。
【０１７２】
図２７に示したように、第１の部分１２０の第２層１２２は、第１の空間Ｓ１内のうち特に磁性層４２と磁性層４３との間を通過するように延びる第１のコイル要素１２２Ａを含んでいる。また、第２層１２２は、絶縁層６２および絶縁膜６４を貫通して第１層１２１のコイル接続部１２１Ｅに電気的に接続されたコイル接続部１２２Ｓを有している。図２５ないし図２７に示した例では、第１の部分１２０と第２の部分１１０は、直列に接続されている。
【０１７３】
なお、本実施の形態におけるコイルは、第２の実施の形態と同様に主磁極１５の周りにヘリカル状に巻かれたものであってもよい。また、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイル以外の構成は、第３の実施の形態に係る磁気ヘッドの構成と同じであってもよい。本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第１、第２または第３の実施の形態と同様である。
【０１７４】
［第５の実施の形態］
次に、図２８を参照して、本発明の第５の実施の形態に係る磁気ヘッドについて説明する。図２８は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおける主磁極の媒体対向面の近傍の部分を示す断面図である。なお、図２８は媒体対向面および基板の上面に垂直な断面、特に前記主断面を示している。
【０１７５】
本実施の形態に係る磁気ヘッドの構成は、以下の点で第１の実施の形態と異なっている。本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、下端部１５Ｌの第２の部分１５Ｌ２と第３の部分１５Ｌ３との境界位置と媒体対向面１００との間の距離（長さＬＢ１と長さＬＢ２との和と同じ）は、上面１５Ｔの第２の部分１５Ｔ２と第３の部分１５Ｔ３との境界位置と媒体対向面１００との間の距離（長さＬＡ１と長さＬＡ２との和と同じ）よりも小さい。
【０１７６】
なお、図２８では、上面１５Ｔの第２の部分１５Ｔ２と第３の部分１５Ｔ３との境界位置と媒体対向面１００との間の距離と、下端部１５Ｌの第３の部分１５Ｌ３と第４の部分１５Ｌ４との境界位置と媒体対向面１００との間の距離とが等しくなるように描かれているが、これらの距離は互いに異なっていてもよい。
【０１７７】
本実施の形態によれば、第１の実施の形態に比べて、媒体対向面１００に近づくに従って主磁極１５の厚みを緩やかに減少させることができる。これにより、主磁極１５の厚みが急激に減少することによって主磁極１５の内部から外部へ磁束が漏れることを防止することができる。
【０１７８】
なお、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおける上記の相違点以外の構成は、第２ないし第４のいずれかの実施の形態に係る磁気ヘッドの構成と同じであってもよい。本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第１ないし第４のいずれかの実施の形態と同様である。
【０１７９】
［第６の実施の形態］
次に、図２９を参照して、本発明の第６の実施の形態に係る磁気ヘッドについて説明する。図２９は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおける主磁極の媒体対向面の近傍の部分を示す断面図である。なお、図２９は媒体対向面および基板の上面に垂直な断面、特に前記主断面を示している。
【０１８０】
本実施の形態に係る磁気ヘッドの構成は、以下の点で第１の実施の形態と異なっている。本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、主磁極１５の上面１５Ｔの第１の部分１５Ｔ１と、非磁性金属層５８と絶縁層５９の各々の媒体対向面１００に向いた傾斜面とによって、１つの平面からなる傾斜面が形成され、この傾斜面に絶縁層５９の上面が連続している。そして、上記１つの平面からなる傾斜面と絶縁層５９の上面の上に第１のギャップ層１９が形成されている。
【０１８１】
本実施の形態によれば、第１のギャップ層１９を、凹凸の少ない下地の上に形成することができる。これにより、質の高い第１のギャップ層１９を形成することが可能になる。また、本実施の形態によれば、第１のギャップ層１９の凹凸も少なくなることから、第１のギャップ層１９の上に、他の層を容易に形成することが可能になる。
【０１８２】
なお、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおける上記の相違点以外の構成は、第２ないし第４のいずれかの実施の形態に係る磁気ヘッドの構成と同じであってもよい。本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第１ないし第４のいずれかの実施の形態と同様である。
【０１８３】
［第７の実施の形態］
次に、図３０を参照して、本発明の第７の実施の形態に係る磁気ヘッドについて説明する。図３０は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおける主磁極の媒体対向面の近傍の部分を示す断面図である。なお、図３０は媒体対向面および基板の上面に垂直な断面、特に前記主断面を示している。
【０１８４】
本実施の形態に係る磁気ヘッドの構成は、以下の点で第６の実施の形態と異なっている。本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、第５の実施の形態と同様に、下端部１５Ｌの第２の部分１５Ｌ２と第３の部分１５Ｌ３との境界位置と媒体対向面１００との間の距離（長さＬＢ１と長さＬＢ２との和と同じ）は、上面１５Ｔの第２の部分１５Ｔ２と第３の部分１５Ｔ３との境界位置と媒体対向面１００との間の距離（長さＬＡ１と長さＬＡ２との和と同じ）よりも小さい。
【０１８５】
本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第５または第６の実施の形態と同様である。
【０１８６】
［第８の実施の形態］
次に、図３１を参照して、本発明の第８の実施の形態に係る磁気ヘッドについて説明する。図３１は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおける主磁極の媒体対向面の近傍の部分を示す断面図である。なお、図３１は媒体対向面および基板の上面に垂直な断面、特に前記主断面を示している。
【０１８７】
本実施の形態に係る磁気ヘッドの構成は、以下の点で第１の実施の形態と異なっている。本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、主磁極１５の下端部１５Ｌは、第１の実施の形態における図１に示した第１ないし第４の部分１５Ｌ１〜１５Ｌ４のうち、第１および第２の部分１５Ｌ１，１５Ｌ２を含み、第３および第４の部分１５Ｌ３，１５Ｌ４を含んでいない。本実施の形態における第１の部分１５Ｌ１は、本発明における「主磁極の下端部の傾斜部」に対応する。本実施の形態における第２の部分１５Ｌ２は、第１の部分１５Ｌ１の第２の端部に接続された面である。
【０１８８】
また、本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、非磁性層５７の上面は、第１の実施の形態における図１に示した平坦部ＵＬ１、傾斜面ＵＬ２および底部ＵＬ３のうち、平坦部ＵＬ１を含み、傾斜面ＵＬ２および底部ＵＬ３を含んでいない。
【０１８９】
本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法では、主磁極１５の下端部１５Ｌの形状を決定するための工程が、以下の点で第１の実施の形態と異なっている。本実施の形態では、第１の実施の形態における図８に示した工程が行われない。また、第１の実施の形態における図９に示した工程では、非磁性層５７の被エッチング部５７Ａの上面が垂直にエッチングされて平坦部ＵＬ１が形成される。
【０１９０】
本実施の形態では、第１の実施の形態に係る磁気ヘッドの効果のうち、主磁極１５の下端部１５Ｌの形状の特徴による効果は得られないが、主磁極１５の上面１５Ｔの形状の特徴による効果を得ることができる。
【０１９１】
また、本実施の形態では、媒体対向面１００に垂直な方向について、上面１５Ｔの第１の部分１５Ｔ１の長さＬＡ１は、下端部１５Ｌの第１の部分１５Ｌ１（傾斜部）の長さＬＢ１および第１のシールド１６Ａの第１の傾斜面１６Ａｂの長さＬＣよりも小さい。本実施の形態によれば、この特徴による効果を第１の実施の形態と同様に得ることができる。
【０１９２】
なお、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおける上記の相違点以外の構成は、第２ないし第４のいずれかの実施の形態に係る磁気ヘッドの構成と同じであってもよい。本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第１ないし第４のいずれかの実施の形態と同様である。
【０１９３】
［第９の実施の形態］
次に、図３２を参照して、本発明の第９の実施の形態に係る磁気ヘッドについて説明する。図３２は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおける主磁極の媒体対向面の近傍の部分を示す断面図である。なお、図３２は媒体対向面および基板の上面に垂直な断面、特に前記主断面を示している。
【０１９４】
本実施の形態に係る磁気ヘッドの構成は、以下の点で第６の実施の形態と異なっている。本実施の形態における主磁極１５の下端部１５Ｌの形状は、第８の実施の形態における主磁極１５の下端部１５Ｌの形状と同じである。すなわち、下端部１５Ｌは、第６の実施の形態における図２９に示した第１ないし第４の部分１５Ｌ１〜１５Ｌ４のうち、第１および第２の部分１５Ｌ１，１５Ｌ２を含み、第３および第４の部分１５Ｌ３，１５Ｌ４を含んでいない。
【０１９５】
また、本実施の形態における非磁性層５７の形状は、第８の実施の形態における非磁性層５７の形状と同じである。すなわち、非磁性層５７の上面は、第６の実施の形態における図２９に示した平坦部ＵＬ１、傾斜面ＵＬ２および底部ＵＬ３のうち、平坦部ＵＬ１を含み、傾斜面ＵＬ２および底部ＵＬ３を含んでいない。
【０１９６】
本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第６または第８の実施の形態と同様である。
【０１９７】
［第１０の実施の形態］
次に、図３３を参照して、本発明の第１０の実施の形態に係る磁気ヘッドについて説明する。図３３は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおける主磁極の媒体対向面の近傍の部分を示す断面図である。なお、図３３は媒体対向面および基板の上面に垂直な断面、特に前記主断面を示している。
【０１９８】
本実施の形態に係る磁気ヘッドの構成は、以下の点で第４の実施の形態と異なっている。まず、本実施の形態における主磁極１５は、以下の点で第１の実施の形態における主磁極１５と異なっている。本実施の形態における主磁極１５の上面１５Ｔは、第１の実施の形態における図１に示した第１ないし第４の部分１５Ｔ１〜１５Ｔ４の他に、第５の部分１５Ｔ５および第６の部分１５Ｔ６を含んでいる。第５の部分１５Ｔ５は、第４の部分１５Ｔ４に連続し第４の部分１５Ｔ４よりも媒体対向面１００からより遠い位置に配置されている。第６の部分１５Ｔ６は、第５の部分１５Ｔ５に連続し第５の部分１５Ｔ５よりも媒体対向面１００からより遠い位置に配置されている。
【０１９９】
第５の部分１５Ｔ５は、第４の部分１５Ｔ４に接続された第５の端部と、第５の端部よりも媒体対向面１００からより遠い位置に配置された第６の端部とを有している。第５の部分１５Ｔ５は、その第６の端部がその第５の端部よりも第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２からより遠い位置に配置されるように、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面１００に対して傾斜している。すなわち、第５の部分１５Ｔ５は、その第６の端部がその第５の端部に対して記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置されるように傾斜している。第６の部分１５Ｔ６は、実質的に第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２に平行である。
【０２００】
また、本実施の形態における主磁極１５の下端部１５Ｌは、第１の実施の形態における図１に示した第１ないし第４の部分１５Ｌ１〜１５Ｌ４の他に、第５の部分１５Ｌ５および第６の部分１５Ｌ６を含んでいる。第５の部分１５Ｌ５は、第４の部分１５Ｌ４に連続し第４の部分１５Ｌ４よりも媒体対向面１００からより遠い位置に配置されている。第６の部分１５Ｌ６は、第５の部分１５Ｌ５に連続し第５の部分１５Ｌ５よりも媒体対向面１００からより遠い位置に配置されている。
【０２０１】
第５の部分１５Ｌ５は、第４の部分１５Ｌ４に接続された第５の端部と、第５の端部よりも媒体対向面１００からより遠い位置に配置された第６の端部とを有している。第５の部分１５Ｌ５は、その第６の端部がその第５の端部よりも第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２からより遠い位置に配置されるように、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面１００に対して傾斜している。すなわち、第５の部分１５Ｌ５は、その第６の端部がその第５の端部に対して記録媒体の進行方向Ｔの後側に配置されるように傾斜している。第６の部分１５Ｌ６は、実質的に第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２に平行である。
【０２０２】
また、本実施の形態における非磁性層５７は、以下の点で第１の実施の形態における非磁性層５７と異なっている。本実施の形態における非磁性層５７の上面は、第１の実施の形態における図１に示した平坦部ＵＬ１、傾斜面ＵＬ２および底部ＵＬ３の他に、傾斜面ＵＬ４を含んでいる。傾斜面ＵＬ４は、底部ＵＬ３に連続し底部ＵＬ３よりも媒体対向面１００からより遠い位置に配置されている。また、傾斜面ＵＬ４は、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面１００に対して傾斜している。傾斜面ＵＬ４の下端部は、絶縁層５６の上面の上に配置されている。第５の部分１５Ｌ５は、ギャップ部１７の第２のギャップ層１８を介して傾斜面ＵＬ４に対向している。第６の部分１５Ｌ６は、第２のギャップ層１８を介して絶縁層５６の上面に対向している。
【０２０３】
ここで、図３３に示したように、媒体対向面１００に垂直な方向についての上面１５Ｔの第４の部分１５Ｔ４の長さを記号ＬＡ４で表し、媒体対向面１００に垂直な方向についての下端部１５Ｌの第４の部分１５Ｌ４の長さを記号ＬＢ４で表す。長さＬＡ４，ＬＢ４は、いずれも、例えば０．２〜０．６μｍの範囲内である。
【０２０４】
なお、図３３では、上面１５Ｔの第４の部分１５Ｔ４と第５の部分１５Ｔ５との境界位置と媒体対向面１００との間の距離と、下端部１５Ｌの第４の部分１５Ｌ４と第５の部分１５Ｌ５との境界位置と媒体対向面１００との間の距離とが等しくなるように描かれているが、これらの距離は互いに異なっていてもよい。また、図３３では、上面１５Ｔの第５の部分１５Ｔ５と第６の部分１５Ｔ６との境界位置と媒体対向面１００との間の距離と、下端部１５Ｌの第５の部分１５Ｌ５と第６の部分１５Ｌ６との境界位置と媒体対向面１００との間の距離とが互いに異なるように描かれているが、これらの距離は等しくてもよい。
【０２０５】
上面１５Ｔの第６の部分１５Ｔ６と下端部１５Ｌの第６の部分１５Ｌ６は、実質的に第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２に平行である。ここで、図３３に示したように、上面１５Ｔの第５の部分１５Ｔ５の第５の端部を通り、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２に平行な仮想の平面Ｐ５と、下端部１５Ｌの第５の部分１５Ｌ５の第５の端部を通り、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２に平行な仮想の平面Ｐ６を想定する。そして、上面１５Ｔの第６の部分１５Ｔ６と仮想の平面Ｐ５との間の距離を記号Ｄ５で表し、下端部１５Ｌの第６の部分１５Ｌ６と仮想の平面Ｐ６との間の距離を記号Ｄ６で表す。距離Ｄ５，Ｄ６は、いずれも、例えば０．１〜０．５μｍの範囲内である。また、仮想の平面Ｐ５に対する第５の部分１５Ｔ５の傾斜角度を記号θＴ５で表し、仮想の平面Ｐ６に対する第５の部分１５Ｌ５の傾斜角度を記号θＬ５で表す。傾斜角度θＴ５，θＬ５は、いずれも、例えば２２°〜６０°の範囲内である。
【０２０６】
次に、本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法について説明する。本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法では、主磁極１５の下端部１５Ｌの形状を決定するための工程と、主磁極１５の上面１５Ｔの形状を決定するための工程が、第１の実施の形態と異なっている。
【０２０７】
始めに、本実施の形態における主磁極１５の下端部１５Ｌの形状を決定するための工程について説明する。本実施の形態では、第１の実施の形態における図８に示した工程の後、第１の実施の形態における図９に示した工程の前に、以下の工程が行われる。まず、第２のシールド１６Ｂ、磁性層３６、第２の接続層および非磁性層５７の上に第１のマスクを形成する。この第１のマスクは、フォトレジスト層をパターニングして形成される。第１のマスクは、非磁性層５７の被エッチング部５７Ａの初期底部ＵＬ３Ｐの一部を露出させる開口部を有している。被エッチング部５７Ａの初期上面ＵＬ１Ｐおよび初期傾斜面ＵＬ２Ｐと、初期底部ＵＬ３Ｐの他の一部は、第１のマスクによって覆われている。第１のマスクは、磁性層３６のうち、被エッチング部５７Ａとの境界の近傍の一部を覆っていない。
【０２０８】
次に、第１のマスクをエッチングマスクとして用いて、例えばＲＩＥによって、被エッチング部５７Ａをテーパーエッチングする。被エッチング部５７Ａのエッチング条件は、第１の実施の形態で説明した第１のエッチング工程におけるエッチング条件と同じである。被エッチング部５７Ａがテーパーエッチングされることによって、被エッチング部５７Ａに、第２の初期傾斜面および第２の初期底部が形成される。第２の初期傾斜面および第２の初期底部は、初期底部ＵＬ３Ｐのうち、このエッチング後に残った部分に連続するように、この順に形成される。このエッチングは、第２の初期底部が、初期底部ＵＬ３Ｐと当初の被エッチング部５７Ａの下面の間の高さの位置に達するまで行う。次に、第１のマスクを除去する。
【０２０９】
また、本実施の形態では、第１の実施の形態における図９に示した工程（第２のエッチング工程）が、以下の点で第１の実施の形態と異なっている。本実施の形態における第２のエッチング工程は、エッチングによって被エッチング部５７Ａに形成される溝の底部が絶縁層５６の上面に達するまで行う。本実施の形態における第２のエッチング工程では、被エッチング部５７Ａのうち、初期上面ＵＬ１Ｐ、初期傾斜面ＵＬ２Ｐ、初期底部ＵＬ３Ｐおよび第２の初期斜面の下の部分がエッチングされて平坦部ＵＬ１、傾斜面ＵＬ２、底部ＵＬ３および傾斜面ＵＬ４が形成される。傾斜面ＵＬ４の傾斜角度は、後に形成される主磁極１５の下端部１５Ｌの第５の部分１５Ｌ５の傾斜角度θＬ５と等しいか、ほぼ等しい。
【０２１０】
次に、本実施の形態における主磁極１５の上面１５Ｔの形状を決定するための工程について説明する。本実施の形態では、第１の実施の形態における図１３を示した工程の後の磁性層１５Ｐの上面１５ＰＴは、後に主磁極１５の上面１５Ｔの第６の部分１５Ｔ６となる部分を含んでいる。また、本実施の形態では、第１の実施の形態における図１４に示した工程の代りに、以下の工程が行われる。まず、磁性層１５Ｐの上面１５ＰＴの上に第２のマスクを形成する。この第２のマスクは、フォトレジスト層をパターニングして形成される。第２のマスクは、磁性層１５Ｐのうち、媒体対向面１００が形成される予定の位置ＡＢＳの近傍の一部を覆っていない。
【０２１１】
次に、第２のマスクをエッチングマスクとして用いて、媒体対向面１００が形成される予定の位置ＡＢＳの近傍において、磁性層１５Ｐ、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄおよび第２のギャップ層１８のそれぞれの一部をエッチングする。このエッチングは、磁性層１５Ｐの上面１５ＰＴの一部がエッチングされて、磁性層１５Ｐに、第２の平坦部と、傾斜面である第５の部分１５Ｔ５とが形成されるように行う。磁性層１５Ｐのエッチング条件は、第１の実施の形態で説明した第４のエッチング工程におけるエッチング条件と同じである。第２の平坦部は、後に主磁極１５の上面１５Ｔの第４の部分１５Ｔ４となる部分を含んでいる。次に、第２のマスクを除去する。
【０２１２】
次に、磁性層１５Ｐの上面１５ＰＴのうち、上記のエッチング工程の後に残った部分、第５の部分１５Ｔ５および第２の平坦部の一部の上に、第３のマスクを形成する。この第３のマスクは、フォトレジスト層をパターニングして形成される。第３のマスクは、磁性層１５Ｐのうち、媒体対向面１００が形成される予定の位置ＡＢＳの近傍の一部を覆っていない。
【０２１３】
次に、第３のマスクをエッチングマスクとして用いて、媒体対向面１００が形成される予定の位置ＡＢＳの近傍において、磁性層１５Ｐ、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄおよび第２のギャップ層１８のそれぞれの一部をエッチングする。このエッチングは、磁性層１５Ｐの第２の平坦部の一部がエッチングされて、磁性層１５Ｐに、平坦部１５Ｔ２Ｐと、傾斜面である第３の部分１５Ｔ３とが形成されるように行う。磁性層１５Ｐのエッチング条件は、第１の実施の形態で説明した第４のエッチング工程におけるエッチング条件と同じである。次に、第３のマスクを除去する。
【０２１４】
本実施の形態によれば、主磁極１５の上面１５Ｔが第５および第６の部分１５Ｔ５，１５Ｔ６を含み、主磁極１５の下端部１５Ｌが第５および第６の部分１５Ｌ５，１５Ｌ６を含むことにより、第１の実施の形態で説明した主磁極１５の形状の特徴による効果がより顕著に発揮される。
【０２１５】
なお、本実施の形態における主磁極１５の上面１５Ｔの第１ないし第３の部分１５Ｔ１〜１５Ｔ３の形状および配置と、本実施の形態における主磁極１５の下端部１５Ｌの第１ないし第３の部分１５Ｌ１〜１５Ｌ３の形状および配置は、第１、第５ないし第７のいずれかの実施の形態と同じであってもよい。なお、図３３では、媒体対向面１００に垂直な方向についての第１の傾斜面１６Ａｂの長さＬＣと、上面１５Ｔの第２の部分１５Ｔ２と第３の部分１５Ｔ３との境界位置と媒体対向面１００との間の距離（長さＬＡ１と長さＬＡ２との和と同じ）とが等しくなるように描かれているが、これらの距離は互いに異なっていてもよい。本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第４ないし第７のいずれかの実施の形態と同様である。
【０２１６】
［第１１の実施の形態］
次に、図３４を参照して、本発明の第１１の実施の形態に係る磁気ヘッドについて説明する。図３４は、本実施の形態に係る磁気ヘッドを示す断面図である。なお、図３４は媒体対向面および基板の上面に垂直な断面、特に前記主断面を示している。
【０２１７】
本実施の形態に係る磁気ヘッドの構成は、以下の点で第４の実施の形態と異なっている。本実施の形態に係る磁気ヘッドは、第４の実施の形態における図２４に示した主磁極１５の代りに、第１０の実施の形態における図３３に示した主磁極１５を備えている。また、本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、磁性層４２は、第１および第２の接続面を有しておらず、その上面が媒体対向面１００まで延びて、その前端面に接続されている。また、本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、磁性層３１，３２，４４は、媒体対向面１００に配置された端面を有している。また、本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、磁性層３６が設けられていない。また、本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、磁性層３５の上面は、主磁極１５の下端部１５Ｌに接している。
【０２１８】
本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第４または第１０の実施の形態と同様である。
【０２１９】
［第１２の実施の形態］
次に、図３５ないし図３７を参照して、本発明の第１２の実施の形態に係る磁気ヘッドについて説明する。図３５は、本実施の形態に係る磁気ヘッドを示す断面図である。なお、図３５は媒体対向面および基板の上面に垂直な断面、特に前記主断面を示している。図３６は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第２の部分の第１層を示す平面図である。図３７は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第２の部分の第２層を示す平面図である。
【０２２０】
本実施の形態に係る磁気ヘッドの構成は、以下の点で第４の実施の形態と異なっている。本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、磁性層４２は、第１および第２の接続面を有しておらず、その上面が媒体対向面１００まで延びて、その前端面に接続されている。また、本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、磁性層３１，３２，４４は、媒体対向面１００に配置された端面を有している。
【０２２１】
また、本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、コイルは、第２の部分１１０の代りに、第２の部分２１０を含んでいる。第２の部分２１０は、第１層２１１および第２層２１２を含んでいる。図３６に示したように、第１層２１１は、第２の帰磁路部３０の一部である磁性層３３の周りに約１回巻かれている。図３７に示したように、第２層２１２は、第２の帰磁路部３０の一部である磁性層３５の周りに１回巻かれている。なお、本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、絶縁層５３が設けられていない。
【０２２２】
また、本実施の形態に係る磁気ヘッドは、絶縁材料よりなる絶縁膜８１および絶縁層８２を備えている。絶縁膜８１は、磁性層３４，３５および絶縁層５５と第２層２１２との間に介在している。第２層２１２、磁性層３４，３５、絶縁膜８１および絶縁層５６（図示せず）の上面は平坦化されている。絶縁層８２は、第２層２１２および絶縁膜８１の上面の上ならびに磁性層３４の上面の一部の上に配置されている。絶縁膜８１および絶縁層８２は、例えばアルミナによって形成されている。
【０２２３】
また、本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、主磁極１５の上面１５Ｔは、第１の実施の形態における図１に示した第１ないし第４の部分１５Ｔ１〜１５Ｔ４のうち、第１および第２の部分１５Ｔ１，１５Ｔ２を含み、第３および第４の部分１５Ｔ３，１５Ｔ４を含んでいない。本実施の形態における第１の部分１５Ｔ１は、本発明における「主磁極の上面の傾斜部」に対応する。
【０２２４】
また、本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、第２のシールド１６Ｂの上面は、第１の実施の形態における図１に示した第２の傾斜面１６Ｂｂのみを含み、平坦部を含んでいない。また、絶縁層５６は、第１の実施の形態における図１に示した平坦部ＵＬ１、傾斜面ＵＬ２および底部ＵＬ３の代りに、第２のシールド１６Ｂの第２の傾斜面１６Ｂｂに連続する第３の傾斜面と、この第３の傾斜面に連続し第３の傾斜面よりも媒体対向面１００からより遠い位置に配置された第３の平坦部と、この第３の平坦部に連続し第３の平坦部よりも媒体対向面１００からより遠い位置に配置された第４の傾斜面とを含んでいる。第３および第４の傾斜面は、第１の実施の形態における図１に示した第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面１００に対して傾斜している。第４の傾斜面の下端部は、絶縁層８２の上面の上に配置されている。
【０２２５】
本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、主磁極１５の下端部１５Ｌの第１の部分１５Ｌ１は、ギャップ部１７の第２のギャップ層１８を介して第２の傾斜面１６Ｂｂおよび第３の傾斜面に対向している。第２の部分１５Ｌ２は、第２のギャップ層１８を介して第３の平坦部に対向している。第３の部分１５Ｌ３は、第２のギャップ層１８を介して第４の傾斜面に対向している。第４の部分１５Ｌ４は、第２のギャップ層１８を介して絶縁層８２の上面に対向している。
【０２２６】
ここで、図３６および図３７を参照して、コイルの第２の部分２１０について更に説明する。図３６に示したように、第２の部分２１０の第１層２１１は、第２の空間Ｓ２内のうち特に磁性層３２と磁性層３３との間を通過するように延びる第２のコイル要素２１１Ａを含んでいる。また、第１層２１１は、第２層２１２に電気的に接続されたコイル接続部２１１Ｅを有している。
【０２２７】
図３７に示したように、第２の部分２１０の第２層２１２は、第２の空間Ｓ２内のうち特に磁性層３４と磁性層３５との間を通過するように延びる第２のコイル要素２１２Ａを含んでいる。また、第２層２１２は、絶縁層５５および絶縁膜８１を貫通して第１層２１１のコイル接続部２１１Ｅに電気的に接続されたコイル接続部２１２Ｓと、第４の実施の形態における図２６に示した第１の部分１２０の第１層１２１のコイル接続部１２１Ｓに電気的に接続されたコイル接続部２１２Ｅとを有している。
【０２２８】
次に、本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法について説明する。本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法は、以下の点で第１の実施の形態と異なっている。本実施の形態では、コイルの第２の部分１０の代りに、コイルの第２の部分２１０の第１層２１１が形成される。また、本実施の形態では、磁性層３４，３５を形成した後、第２のシールド１６Ｂおよび非磁性層５７を形成する前までの工程が、第１の実施の形態と異なっている。本実施の形態では、磁性層３４，３５を形成した後に、まず、絶縁膜８１を形成する。次に、例えばＩＢＥによって、第１層２１１のコイル接続部２１１Ｅが露出するように、絶縁層５５および絶縁膜８１を選択的にエッチングする。
【０２２９】
次に、例えばフレームめっき法によって、コイルの第２の部分２１０の第２層２１２を形成する。第２層２１２は、その上面が絶縁膜８１のうち磁性層３４，３５の上に配置された部分の上面よりも上方に配置されるように形成される。次に、積層体の上面全体の上に絶縁層５６（図示せず）を形成する。次に、例えばＣＭＰによって、磁性層３４，３５が露出するまで、第２層２１２、絶縁膜８１および絶縁層５６を研磨して、第２層２１２、磁性層３４，３５、絶縁膜８１および絶縁層５６の上面を平坦化する。次に、積層体の上面全体の上に絶縁層８２を形成する。次に、例えばＩＢＥによって、磁性層３４の上面の一部、磁性層３５の上面および第２層２１２のコイル接続部２１２Ｅが露出するように、絶縁層８２を選択的にエッチングする。
【０２３０】
また、本実施の形態では、主磁極１５の下端部１５Ｌの形状を決定するための工程と、主磁極１５の上面１５Ｔの形状を決定するための工程が、第１の実施の形態と異なっている。
【０２３１】
始めに、本実施の形態における主磁極１５の下端部１５Ｌの形状を決定するための工程について説明する。本実施の形態では、第１の実施の形態における図８に示した工程の後に、以下の工程が行われる。まず、第１の実施の形態における図９に示したマスク７２を形成する。次に、マスク７２、第２のシールド１６Ｂおよび磁性層３６をエッチングマスクとして用いて、被エッチング部５７Ａをエッチングする。このエッチングでは、初期上面ＵＬ１Ｐ、初期傾斜面ＵＬ２Ｐおよび初期底部ＵＬ３Ｐの下の部分がエッチングされて、平坦部ＵＬ１、傾斜面ＵＬ２および底部ＵＬ３が形成される。また、このエッチングは、例えばＲＩＥを用いて、第２のシールド１６Ｂと当初の被エッチング部５７Ａとの境界の近傍において、当初の被エッチング部５７Ａのうちの一部が残って斜面が形成されるような条件で行う。次に、マスク７２を除去する。
【０２３２】
次に、媒体対向面１００が形成される予定の位置ＡＢＳの近傍において、第２のシールド１６Ｂの初期上面の一部をエッチングすると共に、被エッチング部５７Ａの一部をエッチングする。このエッチングは、例えばＩＢＥを用いて、第２のシールド１６Ｂの初期上面の一部がエッチングされて、第２のシールド１６Ｂに第２の傾斜面１６Ｂｂが形成されるように行う。また、このエッチングは、エッチングによって被エッチング部５７Ａに形成される溝の底部が絶縁層８２の上面に達するまで行うと共に、エッチング後の被エッチング部５７Ａに、第３の傾斜面、第３の平坦部および第４の傾斜面が形成されるように行う。第２の傾斜面１６Ｂｂおよび第３の傾斜面の傾斜角度は、後に形成される主磁極１５の下端部１５Ｌの第１の部分１５Ｌ１の傾斜角度θＬ１と等しいか、ほぼ等しい。第３の平坦部は、実質的に後に形成される媒体対向面１００に垂直な方向に延在している。第４の傾斜面の傾斜角度は、後に形成される主磁極１５の下端部１５Ｌの第３の部分１５Ｌ３の傾斜角度θＬ３と等しいか、ほぼ等しい。
【０２３３】
次に、本実施の形態における主磁極１５の上面１５Ｔの形状を決定するための工程について説明する。本実施の形態では、第１の実施の形態における図１３を示した工程の後の磁性層１５Ｐの上面１５ＰＴは、後に主磁極１５の上面１５Ｔの第２の部分１５Ｔ２となる部分を含んでいる。また、本実施の形態では、第１の実施の形態における図１４に示した工程が行われない。本実施の形態では、第１の実施の形態における図１６に示した工程（第５のエッチング工程）において、磁性層１５Ｐの一部がエッチングされて、第１および第２の部分１５Ｔ１，１５Ｔ２が形成される。
【０２３４】
本実施の形態では、第１の実施の形態に係る磁気ヘッドの効果のうち、主磁極１５の上面１５Ｔの形状の特徴による効果は得られないが、主磁極１５の下端部１５Ｌの形状の特徴による効果を得ることができる。
【０２３５】
また、本実施の形態では、媒体対向面１００に垂直な方向について、上面１５Ｔの第１の部分１５Ｔ１（傾斜部）の長さＬＡ１は、下端部１５Ｌの第１の部分１５Ｌ１の長さＬＢ１および第１のシールド１６Ａの第１の傾斜面１６Ａｂの長さＬＣよりも小さい。本実施の形態によれば、この特徴による効果を第１の実施の形態と同様に得ることができる。
【０２３６】
本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第４の実施の形態と同様である。
【０２３７】
なお、本発明は、上記各実施の形態に限定されず、種々の変更が可能である。例えば、請求の範囲の要件を満たす限り、各実施の形態で説明した主磁極１５の上面１５Ｔと下端部１５Ｌとを任意に組み合わせることができる。
【０２３８】
また、磁気ヘッドは、第１の帰磁路部４０および第２の帰磁路部３０のうち、いずれか一方のみを備えていてもよい。
【符号の説明】
【０２３９】
１５…主磁極、１５Ｔ…上面、１５Ｔ１…第１の部分、１５Ｔ２…第２の部分、１５Ｔ３…第３の部分、１５Ｔ４…第４の部分、１５Ｌ…下端部、１５Ｌ１…第１の部分、１５Ｌ２…第２の部分、１５Ｌ３…第３の部分、１５Ｌ４…第４の部分、１６…記録シールド、１７…ギャップ部、１００…媒体対向面、Ｐ１…第１の仮想の平面、Ｐ２…第２の仮想の平面。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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