(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
非鉄金属材料からなる被成膜部材と、
前記被成膜部材の表面に形成された酸化珪素膜と、
前記酸化珪素膜上に形成された炭素含有珪素膜と、
前記炭素含有珪素膜上に形成されたダイヤモンドライクカーボン膜と、
を具備し、
前記非鉄金属材料は、６５重量％以上のアルミニウムを含有する合金、８０重量％以上のマグネシウムを含有する合金及び７０重量％以上のチタンを含有する合金からなる群から選択される一の材料であり、
前記被成膜部材は、自動車用ホイール、業務用アイロン及び自動車用のドアノブのいずれかであることを特徴とする複合硬質皮膜部材。
【請求項２】
請求項１において、
前記酸化珪素膜の膜厚が０．０１〜５μｍであり、前記炭素含有珪素膜の膜厚が０．０１〜５μｍであることを特徴とする複合硬質皮膜部材。
【請求項３】
非鉄金属材料からなる被成膜部材の表面に第１の珪素化合物ガスと酸素ガスを用いたプラズマＣＶＤ法により酸化珪素膜を成膜し、
前記酸化珪素膜上にプラズマＣＶＤ法により第２の珪素化合物ガスを用いた炭素含有珪素膜を成膜し、
前記炭素含有珪素膜上にプラズマＣＶＤ法によりダイヤモンドライクカーボン膜を成膜する複合硬質皮膜部材の製造方法であり、
前記非鉄金属材料は、６５重量％以上のアルミニウムを含有する合金、８０重量％以上のマグネシウムを含有する合金及び７０重量％以上のチタンを含有する合金からなる群から選択される一の材料であり、
前記被成膜部材は、自動車用ホイール、業務用アイロン及び自動車用のドアノブのいずれかであることを特徴とする複合硬質皮膜部材の製造方法。
【請求項４】
請求項３において、
前記第１及び第２の珪素化合物ガスそれぞれは、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルジシロキサン又はテトラメチルシランであることを特徴とする複合硬質皮膜部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、非鉄金属材料からなる被成膜部材に中間層を介してダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ：Diamond Like Carbon)膜を成膜した複合硬質皮膜部材及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
自動車用のアルミホイール、携帯電話のマグネシウム合金製の筐体などのような非鉄金属材料の部品表面に塗装する方法としては、通常、有機溶剤で溶かした塗料を部品に吹き付けて乾燥させることにより部品表面に塗装膜を形成する方法がとられている。このような塗装膜は、比較的柔らかいため、部品を使用しているときに傷が付きやすく、その傷によって部品が腐食されやすくなるという課題がある。さらに、有機溶剤を大量に使用するため、環境問題などの多くの課題を抱えている。このため、上記の塗装方法に代わる部品表面に皮膜を形成する方法が求められている。
【０００３】
一方、ＤＬＣ膜をイオン化蒸着法、アーク放電法などのＰＶＤ法（物理的蒸着法）により成膜する技術が知られている。この技術には、装置が高価であることや生産性が悪いなどのためにコストが高くなるという課題があり、高付加価値製品にしか使用することができない。
【０００４】
これに対し、本発明者らは、ＤＬＣ膜を高速かつ低コストで成膜できる新たなプラズマＣＶＤ法（化学的蒸着法）を開発し、この方法により大面積を有しかつ立体物である部品へのＤＬＣ膜の成膜を安価なシステムや低いランニングコストで達成できることを特許文献１にて明らかにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−０３８２１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
前述したような塗装方法が持つ課題を解決する有効な手段として物理的蒸着法や化学的蒸着法を用いて作製されるＤＬＣ膜を利用することが考えられる。ＤＬＣ膜は、高硬度、低摩擦、低摩耗、化学的安定性、表面平滑性を有している。また、ＤＬＣ膜は、膜厚が薄い場合は半透明であるが、膜厚が厚い場合は干渉色を有したブラックである。このため、ＤＬＣ膜を成膜した非鉄金属材料部材は、他の硬質皮膜を成膜した場合に比べて優れた装飾性及び意匠性を有することができる。
【０００７】
しかしながら、アルミニウムやマグネシウムなどの非鉄金属材料部材の表面にＤＬＣ膜を成膜すると、ＤＬＣ膜が持つ圧縮残留応力のために、ＤＬＣ膜に多くの微小クラックが発生し、これを基点に非鉄金属材料部材が著しく腐食されてしまう課題がある。
【０００８】
本発明の一態様は、ＤＬＣ膜を成膜した非鉄金属材料部材の腐食を抑制できる複合硬質皮膜部材及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
ＤＬＣ膜はスパッタリング法やプラズマＣＶＤ法等の有機溶剤を使用しない環境負荷の少ない成膜方法で作製されるので、上記の課題を解決できれば非鉄金属材料からなる部材へのＤＬＣ膜の利用が飛躍的に加速されると考えられる。
【００１０】
非鉄金属材料からなる部材にＤＬＣ膜のみを成膜した場合、非鉄金属材料からなる部材に中間層として炭素含有珪素膜を成膜し、その炭素含有珪素膜上にＤＬＣ膜を成膜した場合では、上記課題を解決することはできない。
【００１１】
そこで、本発明者は、透明、高硬度で、化学的安定性及びガスバリア性に優れた酸化珪素膜に着目し、この酸化珪素膜及び炭素含有珪素膜を中間層としてＤＬＣ膜に複合化すれば、優れた耐食性を有する硬質皮膜を作製できることを見出した。
【００１２】
本発明の一態様は、非鉄金属材料からなる被成膜部材と、
前記被成膜部材の表面に形成された酸化珪素膜と、
前記酸化珪素膜上に形成された炭素含有珪素膜と、
前記炭素含有珪素膜上に形成されたダイヤモンドライクカーボン膜と、
を具備することを特徴とする複合硬質皮膜部材である。
【００１３】
上記本発明の一態様によれば、被成膜部材の表面とダイヤモンドライクカーボン膜との間に酸化珪素膜及び炭素含有珪素膜を形成することにより、非鉄金属材料からなる被成膜部材の腐食を効果的に抑制することができる。
【００１４】
また、本発明の一態様に係る複合硬質皮膜部材において、前記非鉄金属材料は、アルミニウム、アルミニウムを主成分とするアルミニウム合金、マグネシウム、マグネシウムを主成分とするマグネシウム合金、チタン、チタンを主成分とするチタン合金、亜鉛及び亜鉛を主成分とする亜鉛合金からなる群から選択される材料であることが好ましい。なお、アルミニウムを主成分とするアルミニウム合金は、６５重量％以上のアルミニウムを含有する合金であり、マグネシウムを主成分とするマグネシウム合金は、８０重量％以上のマグネシウムを含有する合金であり、チタンを主成分とするチタン合金は、７０重量％以上のチタンを含有する合金であり、亜鉛を主成分とする亜鉛合金は、９０重量％以上の亜鉛を含有する合金である。
【００１５】
また、本発明の一態様に係る複合硬質皮膜部材において、前記被成膜部材は、自動車用アルミホイール、アルミニウム製アイロン、自動車用のアルミニウム合金製ドアノブ、ノートパソコンのマグネシウム合金製筐体、カメラのマグネシウム合金製筐体及び携帯電話器のマグネシウム合金製筐体からなる群から選択される一の部材であることが好ましい。これにより、優れた装飾性及び意匠性を付与することができるとともに、被成膜部材の腐食を効果的に抑制することができる。
【００１６】
また、本発明の一態様に係る複合硬質皮膜部材において、前記酸化珪素膜の膜厚が０．０１〜５μｍであることが好ましい。０．０１〜５μｍの範囲とする理由は、酸化珪素膜の膜厚を０．０１μｍ未満とすると、被成膜部材が腐食されやすくなり、酸化珪素膜の膜厚を５μｍより厚くすると、複合硬質皮膜部材が剥離しやすくなるためである。
また、本発明の一態様に係る複合硬質皮膜部材において、前記炭素含有珪素膜の膜厚が０．０１〜５μｍであることが好ましい。０．０１〜５μｍの範囲とする理由は、炭素含有珪素膜の膜厚は厚すぎても薄すぎても（つまり０．０１μｍ未満としても５μｍより厚くしても）、複合硬質皮膜部材の密着強度が低下してしまうためである。
【００１７】
本発明の一態様は、非鉄金属材料からなる被成膜部材の表面に第１の珪素化合物ガスと酸素ガスを用いたプラズマＣＶＤ法により酸化珪素膜を成膜し、
前記酸化珪素膜上にプラズマＣＶＤ法により第２の珪素化合物ガスを用いた炭素含有珪素膜を成膜し、
前記炭素含有珪素膜上にプラズマＣＶＤ法によりダイヤモンドライクカーボン膜を成膜することを特徴とする複合硬質皮膜部材の製造方法である。
【００１８】
また、本発明の一態様に係る複合硬質皮膜部材の製造方法において、前記第１及び第２の珪素化合物ガスそれぞれは、ヘキサメチルジシラザン（Ｃ６Ｈ１９ＮＳｉ２）、ヘキサメチルジシロキサン（Ｃ６Ｈ１８ＯＳｉ２）又はテトラメチルシラン（Ｃ４Ｈ１２Ｓｉ）であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、ＤＬＣ膜を成膜した非鉄金属材料部材の腐食を抑制できる複合硬質皮膜部材及びその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の実施形態１によるプラズマＣＶＤ装置を概略的に示す構成図である。
【図２】（Ａ）は実施形態１の複合硬質皮膜を示す断面図であり、（Ｂ），（Ｃ）は比較例の複合硬質皮膜を示す断面図である。
【図３】（Ａ）〜（Ｃ）は、複合サイクル試験結果を示す図である。
【図４】（Ａ）は複合硬質皮膜を成膜する前の自動車用アルミホイールを示す写真であり、（Ｂ）はアルミホイールの表面に複合硬質皮膜を成膜した状態を示す写真である。
【図５】図４（Ｂ）に示す自動車用アルミホイールにタイヤを装着した状態を示す写真である。
【図６】自動車用のアルミニウム合金製ドアノブに実施形態１と同様の方法で複合硬質皮膜を成膜した状態を示す写真である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下では、本発明の実施形態及び実施例について図面を用いて詳細に説明する。ただし、本発明は以下の説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは、当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示す実施形態の記載内容及び実施例に限定して解釈されるものではない。
【００２２】
大量の大型製品に硬質皮膜をコーティングするには、大型の反応槽を用いて大量生産する必要があり、装置の構造が複雑となる物理的蒸着法（ＰＶＤ法）よりも構造が簡単な化学的蒸着法（ＣＶＤ法）が有利である。ＣＶＤ法の長所は、真空排気系、プラズマ用電源、原料ガス供給装置といったシンプルな構造でプラズマを形成し、大型、複雑形状のものでも付き回りの良い成膜が可能な点であり、メンテナンスもＰＶＤ法と比較すると格段に簡単である。
【００２３】
また、ＣＶＤ法の中でも、プラズマＣＶＤ法であれば、処理温度を上げる必要がないので、アルミニウムやマグネシウムのような低融点の非鉄金属材料からなる被成膜部材を処理するのに大変有利となる。従って、大量の非鉄金属材料の大型製品にＤＬＣ膜をコーティングするにはプラズマＣＶＤ法を用いるのが最もふさわしいと考えられる。
【００２４】
（実施形態１）
図１は、本発明の実施形態１によるプラズマＣＶＤ装置を概略的に示す構成図である。このプラズマＣＶＤ装置は１００ｋＨｚの高周波電源を用いて複合硬質皮膜を成膜するための装置である。
【００２５】
プラズマＣＶＤ装置は、真空槽（チャンバー）１を有しており、この真空槽１内にはワーク２を保持するワークホルダー（図示せず）が配置されている。ワーク２は、非鉄金属材料からなる被成膜部材であり、例えばアルミホイール、アルミニウム製アイロン、自動車用のアルミニウム合金製ドアノブ、ノートパソコンのマグネシウム合金製筐体、カメラのマグネシウム合金製筐体及び携帯電話器のマグネシウム合金製筐体からなる群から選択される一の部材である。非鉄金属材料は、アルミニウム、アルミニウムを主成分とするアルミニウム合金、マグネシウム、マグネシウムを主成分とするマグネシウム合金、チタン、チタンを主成分とするチタン合金、亜鉛及び亜鉛を主成分とする亜鉛合金からなる群から選択される一の材料であり、アルミニウム合金は、６５重量％以上のアルミニウムを含有する合金であり、マグネシウム合金は、８０重量％以上のマグネシウムを含有する合金であり、チタン合金は、７０重量％以上のチタンを含有する合金であり、亜鉛合金は９０重量％以上の亜鉛を含有する合金である。
【００２６】
ワーク２にはワークホルダーを介して基板バイアス電源系４が電気的に接続されており、この基板バイアス電源系４は基板整合器および１００ｋＨｚの高周波電源（ＲＦ電源）を有している。ワークホルダーはＲＦ電極としても作用する。基板バイアス電源系４は、ワークホルダーを介してワーク２に高周波電力を印加するものである。つまり、このプラズマＣＶＤ装置は、基板バイアス電源系４によって、１００ｋＨｚの高周波電流をワークホルダーに供給して、ワーク２の近傍に原料ガスのプラズマを発生させるようになっている。
【００２７】
尚、本実施形態では、１００ｋＨｚの周波数を用いているが、５０〜５００ｋＨｚの範囲内であれば他の周波数を用いても良いが、より好ましくは３００ｋＨｚ以下の周波数を用いることであり、さらに好ましくは２５０ｋＨｚ以下の周波数を用いることである。３００ｋＨｚ以下の高周波電源を用いた場合、マッチングトランスなどを用いた低価格な整合器でマッチングをとることができる利点がある。また、高周波電源の周波数が５０ｋＨｚより低くなると、ワーク２に誘導加熱が生じるという問題が発生する。また、高周波電源の周波数が５００ｋＨｚを超えると、ワーク２に加えられるバイアスが低下し、硬質膜が成膜されにくいといった問題が発生する。
【００２８】
真空槽１にはガス系５が接続されており、このガス系５によって原料ガスが導入口より真空槽１内に供給される。原料ガスは、アルゴンガス、酸素ガス、珪素化合物ガスおよびトルエンである。珪素化合物ガスは、例えばヘキサメチルジシラザン（Ｃ６Ｈ１９ＮＳｉ２）又はヘキサメチルジシロキサン（Ｃ６Ｈ１８ＯＳｉ２）（以下、これらを総称してＨＭＤＳともいう）又はテトラメチルシラン（Ｃ４Ｈ１２Ｓｉ）である。このガス系５は、真空槽１内に原料ガスを導入するガス導入経路を有しており、ガス導入経路はガス配管を有している。ガス配管には、ガス流量を計測する流量計及びガス流量を制御するガスフローコントローラーが設けられている。流量計により適量のアルゴンガス、酸素ガス、ＨＭＤＳ及びトルエンがガス導入口より真空槽１内に供給されるようになっている。また、真空槽１には、その内部を真空排気する排気系６が接続されている。排気系６は真空ポンプを有しており、この真空ポンプは、高価でメンテナンスの煩雑なターボ分子ポンプや拡散ポンプを用いず、安価でメンテナンスの簡単なメカニカルブースターポンプと油回転ポンプで構成されている。このような簡単な構成のポンプでは０．５〜１Ｐａ程度の真空度しか得られないが、本実施形態による方法では、このような低真空でも高品質の皮膜を製造することが可能である。
【００２９】
次に、図１のプラズマＣＶＤ装置を用いて図２（Ａ）に示すようなワーク表面に複合硬質皮膜を成膜する方法について説明する。
【００３０】
まず、ワーク（被コーティング材）として例えばアルミニウム板（サイズ；６０ｍｍ×２０ｍｍ×１ｍｍ）２を用意し、このアルミニウム板２をアセトン中にて３０分間の超音波洗浄を行った後、真空槽１内のワークホルダーに装着する。
【００３１】
次いで、排気系６によって真空槽１内を０．７Ｐａ以下まで排気し、その後、真空槽１内にアルゴンガスを導入する。次いで、２５０Ｗの出力で高周波電源を用いてワークホルダーに１００ｋＨｚの高周波電流を供給することにより、アルミニウム板２の近傍にアルゴンプラズマを形成し、アルミニウム板２の表面清浄化のため２０分間イオンエッチングする。これにより、アルミニウム板２の表面が洗浄される。
【００３２】
この後、排気系６によって真空槽１内の圧力を０．６Ｐａ以下に維持し、原料ガスとしてヘキサメチルジシラザンを５ｃｃ／分の流量、酸素ガスを５０ｃｃ／分の流量で真空槽１内に導入する。次いで、３００Ｗの出力で高周波電源を用いてワークホルダーに１００ｋＨｚの高周波電流を供給することにより、アルミニウム板２の表面上に膜厚が０．７μｍの酸化珪素膜（ＳｉＯ２膜）７が成膜される。
【００３３】
次いで、原料ガスの酸素ガスを停止し、ヘキサメチルジシラザンを８ｃｃ／分の流量で真空槽１内に導入する。次いで、２００Ｗの出力で高周波電源を用いてワークホルダーに１００ｋＨｚの高周波電流を供給することにより、酸化珪素膜７の上に膜厚が１．３μｍの炭素含有珪素膜８が成膜される。この炭素含有珪素膜８は、１０〜５０ａｔ％の炭素、２０〜５０ａｔ％の珪素及び１０〜４０ａｔ％の水素を含有することが好ましく、窒素及び酸素等をさらに含んでいても良い。なお、炭素含有珪素膜８の組成は、成膜条件等によって変動するものと考えられる。
【００３４】
次いで、原料ガスのヘキサメチルジシラザンを停止し、トルエンを１０ｃｃ／分の流量で真空槽１内に導入する。次いで、３００Ｗの出力で高周波電源を用いてワークホルダーに１００ｋＨｚの高周波電流を供給することにより、炭素含有珪素膜８の上に膜厚が２．４μｍのＤＬＣ膜９が成膜される。
【００３５】
次に、比較例として図２（Ｂ），（Ｃ）に示すＤＬＣ複合膜を図１のプラズマＣＶＤ装置を用いて作製し、図２（Ａ）〜（Ｃ）に示すＤＬＣ複合膜の腐食試験を行ったので、これについて説明する。
【００３６】
まず、図２（Ｂ）に示すＤＬＣ複合膜を図１のプラズマＣＶＤ装置を用いて成膜する方法について説明する。
【００３７】
図２（Ａ）に示すＤＬＣ複合膜と同様の方法で、アルミニウム板２を超音波洗浄し、真空槽１内のワークホルダーに装着し、２０分間イオンエッチングする。この後、図２（Ａ）に示すＤＬＣ複合膜と同様の方法で、ヘキサメチルジシラザンを真空槽１内に導入する。次いで、高周波電源を用いてワークホルダーに１００ｋＨｚの高周波電流を供給することにより、アルミニウム板２の表面上に炭素含有珪素膜（Ｓｉ膜）８が成膜される。この炭素含有珪素膜８は、図２（Ａ）に示す炭素含有珪素膜８と同様のものである。
【００３８】
次いで、図２（Ａ）に示すＤＬＣ複合膜と同様の方法で、原料ガスのヘキサメチルジシラザンを停止し、トルエンを真空槽１内に導入する。次いで、高周波電源を用いてワークホルダーに１００ｋＨｚの高周波電流を供給することにより、炭素含有珪素膜８の上にＤＬＣ膜９が成膜される。このＤＬＣ膜９は、図２（Ａ）に示すＤＬＣ膜９と同様のものである。
【００３９】
次に、図２（Ｃ）に示すＤＬＣ複合膜を図１のプラズマＣＶＤ装置を用いて成膜する方法について説明する。
【００４０】
図２（Ａ）に示すＤＬＣ複合膜と同様の方法で、アルミニウム板２を超音波洗浄し、真空槽１内のワークホルダーに装着し、２０分間イオンエッチングする。この後、図２（Ａ）に示すＤＬＣ複合膜と同様の方法で、原料ガスとしてヘキサメチルジシラザン、酸素ガスを真空槽１内に導入する。次いで、高周波電源を用いてワークホルダーに１００ｋＨｚの高周波電流を供給することにより、アルミニウム板２の表面上に酸化珪素膜（ＳｉＯ２膜）７が成膜される。この酸化珪素膜７は、図２（Ａ）に示す酸化珪素膜７と同様のものである。
【００４１】
次いで、図２（Ａ）に示すＤＬＣ複合膜と同様の方法で、原料ガスのヘキサメチルジシラザン、酸素ガスを停止し、トルエンを真空槽１内に導入する。次いで、高周波電源を用いてワークホルダーに１００ｋＨｚの高周波電流を供給することにより、酸化珪素膜７の上にＤＬＣ膜９が成膜される。このＤＬＣ膜９は、図２（Ａ）に示すＤＬＣ膜９と同様のものである。
【００４２】
次に、図２（Ａ）〜（Ｃ）に示すＤＬＣ複合膜の腐食試験を以下の方法で行った。
図２（Ａ）〜（Ｃ）に示す試験片について、塩水噴霧（２時間）→乾燥（４時間）→湿潤（２時間）のサイクルを繰り返す複合サイクル試験を３０日間行った。この複合サイクル試験によってＤＬＣ複合膜の耐食性を評価したところ、図３に示すような結果を得た。
【００４３】
図３（Ｂ）は、アルミニウム板２とＤＬＣ膜９との間に中間層として炭素含有珪素膜８を形成した試験片に複合サイクル試験を行った後の表面状態を示している。この図から、３０日の複合サイクル試験で全面が腐食されているのがわかる。
【００４４】
図３（Ｃ）は、アルミニウム板２とＤＬＣ膜９との間に中間層として酸化珪素膜７を形成した試験片に複合サイクル試験を行った後の表面状態を示している。この図から、３０日の複合サイクル試験で部分的に酸化珪素膜７の剥離が生じていることがわかる。
【００４５】
これに対し、図３（Ａ）は、アルミニウム板２とＤＬＣ膜９との間に中間層として酸化珪素膜７及び炭素含有珪素膜８を形成した試験片に複合サイクル試験を行った後の表面状態を示している。この図から、３０日の複合サイクル試験後でも腐食及び剥離が全く認められないことがわかる。
【００４６】
以上の結果より、酸化珪素膜７と炭素含有珪素膜８を中間層としてアルミニウム板上にＤＬＣ膜を成膜すれば、耐食性が飛躍的に向上することが明らかとなった。
【００４７】
また、中間層を形成する順序はアルミニウム板２側から酸化珪素膜７、炭素含有珪素膜８としなければ十分な耐食効果が得られないこともわかっている。つまり、中間層を形成する順序をアルミニウム板２側から炭素含有珪素膜８、酸化珪素膜７とした場合は、図３（Ａ）に示すような耐食効果を得ることはできない。その理由は、ＤＬＣ膜と酸化珪素膜間は密着性が悪く、ＤＬＣ膜のピンホールにより浸入した塩水がこの界面に達した際に剥離を生じ易いためである。アルミニウム板から酸化珪素膜、炭素含有珪素膜という中間層の構成にすると、それぞれの界面間の密着性がすべて良好であるため、塩水の浸入を防止することが可能となる。
【００４８】
（実施形態２）
図４（Ａ）は、複合硬質皮膜を成膜する前の自動車用アルミホイールを示す写真である。図４（Ｂ）は、実施形態１と同様の方法で、図１のプラズマＣＶＤ装置を用いて図４（Ａ）に示す自動車用アルミホイールの表面に複合硬質皮膜を成膜した状態を示す写真である。この複合硬質皮膜は、アルミホイール上に成膜された酸化珪素膜、炭素含有珪素膜、ＤＬＣ膜である。
図５は、図４（Ｂ）に示す自動車用アルミホイールにタイヤを装着した状態を示す写真である。
【００４９】
図４（Ｂ）及び図５に示すアルミホイールは、実施形態１で説明したように優れた耐食性を有し、且つ耐摩耗性、装飾性及び意匠性にも優れている。装飾性及び意匠性を付与するには、ＤＬＣ膜の膜厚を１．０μｍ以上にすることが好ましい。これにより、図４（Ｂ）及び図５に示すような色とすることができる。
【００５０】
図１に示すプラズマＣＶＤ装置であれば小型の装置でも有効成膜ゾーンが広くとれるためアルミホイールのような大型製品についても成膜が容易である。
【００５１】
（実施形態３）
業務用アイロンは、重労働を軽減する目的で軽量である方が望ましい。軽量化のためにアルミニウムでアイロンを作製すると、摩擦抵抗が大きくなり、底面の摩耗も著しくなる。そこで、アルミニウム製アイロンの底面に、実施形態１と同様の方法で複合硬質皮膜を成膜すれば、飛躍的に摩擦・摩耗の低減を図ることが期待できる。
【００５２】
（実施形態４）
図６は、自動車用のアルミニウム合金製ドアノブに実施形態１と同様の方法で複合硬質皮膜を成膜した状態を示す写真である。ドアノブは、小さな傷が付きやすいので、ＤＬＣ膜を成膜すれば傷が付きにくくなり、優れた装飾性及び意匠性も付与することができる。
【符号の説明】
【００５３】
１…真空槽
２…ワーク
４…基板バイアス電源系
５…ガス系
６…排気系
７…酸化珪素膜
８…炭素含有珪素膜
９…ＤＬＣ膜
【図１】
0005585954.tif 000002
【図２】
0005585954.tif 000003
【図３】
0005585954.tif 000004
【図４】
0005585954.tif 000005
【図５】
0005585954.tif 000006
【図６】
0005585954.tif 000007