(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
環状の溶着予定領域に沿ったレーザ光の照射によって、第１のガラス部材と第２のガラス部材とが溶着されたガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法であって、
前記第１のガラス部材に対応する第１の部分を複数含む第１のガラス基板に対し、前記第１の部分ごとに前記溶着予定領域に沿うように、レーザ光吸収材を含むガラス層を配置する第１の工程と、
前記第２のガラス部材に対応する第２の部分を複数含む第２のガラス基板を、前記第１の部分のそれぞれと前記第２の部分のそれぞれとが前記ガラス層を介して対向するように前記第１のガラス基板に重ね合わせ、前記第１のガラス基板と前記第２のガラス基板との間に配置された接着層によって、前記第１のガラス基板と前記第２のガラス基板との間の空間を外部雰囲気から封止する第２の工程と、
前記溶着予定領域に沿って前記ガラス層に前記レーザ光を照射することにより、対向する前記第１の部分と前記第２の部分とを溶着する第３の工程と、を備え、
前記接着層は、対向する前記第１の部分及び前記第２の部分の複数組に対応する所定領域を、対向する前記第１の部分及び前記第２の部分の少なくとも一組に対応する複数の部分領域に分割するように、かつ、前記所定領域を包囲すると共に前記部分領域ごとに前記部分領域を包囲するように、前記第１のガラス基板と前記第２のガラス基板との間に配置されることを特徴とするガラス溶着方法。
【請求項２】
前記接着層は、前記所定領域を包囲する第１の接着層パターン、及び前記第１の接着層パターンの内側において前記部分領域ごとに前記部分領域を包囲する第２の接着層パターンを有することを特徴とする請求項１記載のガラス溶着方法。
【請求項３】
前記接着層は、前記所定領域を包囲する第１の接着層パターン、及び隣り合う前記部分領域の境界に沿う第２の接着層パターンを有することを特徴とする請求項１記載のガラス溶着方法。
【請求項４】
前記第１の接着層パターンの幅は、前記第２の接着層パターンの幅よりも広くされることを特徴とする請求項２又は３記載のガラス溶着方法。
【請求項５】
前記接着層は、前記部分領域ごとに前記部分領域を包囲する接着層パターンを有し、
前記所定領域は、前記接着層パターンの一部が集合することにより包囲されることを特徴とする請求項１記載のガラス溶着方法。
【請求項６】
前記接着層は、隣り合う前記部分領域の一方を包囲する第１の接着層パターン、及び前記第１の接着層パターンのうち当該隣り合う前記部分領域の境界に沿う部分とで当該隣り合う前記部分領域の他方を包囲する第２の接着層パターンを有し、
前記所定領域は、前記第１の接着層パターンの一部及び前記第２の接着層パターンの一部が集合することにより包囲されることを特徴とする請求項１記載のガラス溶着方法。
【請求項７】
前記第１のガラス基板及び前記第２のガラス基板から、溶着された前記第１の部分及び前記第２の部分を切り出し、複数の前記ガラス溶着体を得る第４の工程を更に備えることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項記載のガラス溶着方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、環状の溶着予定領域に沿ったレーザ光の照射によって、ガラス部材同士が溶着されたガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記技術分野のガラス溶着方法として、次のようなものが知られている。すなわち、ガラス溶着体を構成するガラス部材に対応する有効部分を複数含むガラス基板を準備し、一方のガラス基板に対し、有効部分ごとに溶着予定領域に沿うようにガラス層を配置する。続いて、ガラス層を介して一方のガラス基板に他方のガラス基板を重ね合わせ、各溶着予定領域に沿ってガラス層にレーザ光を照射することにより、有効部分同士を溶着する。そして、ガラス基板から、溶着された有効部分同士を切り出し、複数のガラス溶着体を得る。
【０００３】
ところで、上記ガラス溶着体が例えば有機ＥＬディスプレイ等である場合には、その製造工程において、溶着予定領域に包囲された発光素子領域に水分等が進入するのを防止する必要がある。そこで、ガラス層を介してガラス基板同士を重ね合わせるに際し、全てのガラス層を包囲するようにガラス基板間に接着層を配置することにより、ガラス基板間の空間を外部雰囲気から封止することが提案されている（例えば特許文献１，２参照）。これによれば、発光素子領域に水分等が進入するのを防止しつつ、レーザ光の照射を大気雰囲気中で実施することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−１１３８３０号公報
【特許文献２】特開２００７−１１５４９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、ガラス層ごとにレーザ光の照射を実施している際に、ガラス基板へのクラックの発生等の不具合が途中のガラス層で起こると、溶着未実施のガラス層の内側領域への外部雰囲気の進入が懸念されることから、溶着未実施の部分が全て無駄になるおそれがある。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、歩留りの低下を抑制しつつ、レーザ光の照射を大気雰囲気中で実施することができるガラス溶着方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明のガラス溶着方法は、環状の溶着予定領域に沿ったレーザ光の照射によって、第１のガラス部材と第２のガラス部材とが溶着されたガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法であって、第１のガラス部材に対応する第１の部分を複数含む第１のガラス基板に対し、第１の部分ごとに溶着予定領域に沿うように、レーザ光吸収材を含むガラス層を配置する第１の工程と、第２のガラス部材に対応する第２の部分を複数含む第２のガラス基板を、第１の部分のそれぞれと第２の部分のそれぞれとがガラス層を介して対向するように第１のガラス基板に重ね合わせ、第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に配置された接着層によって、第１のガラス基板と第２のガラス基板との間の空間を外部雰囲気から封止する第２の工程と、溶着予定領域に沿ってガラス層にレーザ光を照射することにより、対向する第１の部分と第２の部分とを溶着する第３の工程と、を備え、接着層は、対向する第１の部分及び第２の部分の複数組に対応する所定領域を、対向する第１の部分及び第２の部分の少なくとも一組に対応する複数の部分領域に分割するように、かつ、所定領域を包囲すると共に部分領域ごとに部分領域を包囲するように、第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に配置されることを特徴とする。
【０００８】
このガラス溶着方法では、ガラス層を介して対向するように第１のガラス基板と第２のガラス基板とを重ね合わせ、第１のガラス基板と第２のガラス基板との間の空間を接着層によって外部雰囲気から封止する。これにより、溶着予定領域に沿ったレーザ光の照射を大気雰囲気中で実施することが可能となる。更に、接着層は、対向する第１の部分及び第２の部分の複数組に対応する所定領域を、対向する第１の部分及び第２の部分の少なくとも一組に対応する複数の部分領域に分割するように、かつ、所定領域を包囲すると共に部分領域ごとに部分領域を包囲するように、第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に配置される。これにより、ガラス層ごとにレーザ光の照射を実施している際に、ガラス基板へのクラックの発生等の不具合が途中のガラス層で起こっても、不具合が起こったガラス層が存在する部分領域以外の部分領域においては、溶着未実施のガラス層の内側領域への外部雰囲気の進入が防止される。よって、このガラス溶着方法によれば、歩留りの低下を抑制しつつ、レーザ光の照射を大気雰囲気中で実施することができる。
【０００９】
ここで、接着層は、所定領域を包囲する第１の接着層パターン、及び第１の接着層パターンの内側において部分領域ごとに部分領域を包囲する第２の接着層パターンを有することが好ましい。これによれば、所定領域の外周及び隣り合う部分領域の境界において接着層パターンが２列になるので、レーザ光の照射を実施する前に、重ね合わせられた第１のガラス基板及び第２のガラス基板が互いにずれたり破損したりするのを確実に防止することができる。
【００１０】
或いは、接着層は、所定領域を包囲する第１の接着層パターン、及び隣り合う部分領域の境界に沿う第２の接着層パターンを有することが好ましい。これによれば、隣り合う部分領域の境界において接着層パターンが１列になるので、当該境界を挟んで隣り合うガラス層間（すなわち、対向する第１の部分及び第２の部分の一組間）のピッチを小さくすることができる。
【００１１】
これらの場合、第１の接着層パターンの幅は、第２の接着層パターンの幅よりも広くされることが好ましい。これによれば、所定領域の外周において第１の接着層パターンの幅が第２の接着層パターンの幅よりも広くされるので、重ね合わせられた第１のガラス基板及び第２のガラス基板が互いにずれたり破損したりするのをより確実に防止することができる。更に、隣り合う部分領域の境界において第２の接着層パターンの幅が第１の接着層パターンの幅よりも狭くされるので、当該境界を挟んで隣り合うガラス層間のピッチをより小さくすることができる。
【００１２】
また、接着層は、部分領域ごとに部分領域を包囲する接着層パターンを有し、所定領域は、接着層パターンの一部が集合することにより包囲されることが好ましい。これによれば、隣り合う部分領域の境界において接着層パターンが２列になるので、レーザ光の照射を実施する前に、重ね合わせられた第１のガラス基板及び第２のガラス基板が互いにずれたり破損したりするのを確実に防止することができる。
【００１３】
或いは、接着層は、隣り合う部分領域の一方を包囲する第１の接着層パターン、及び第１の接着層パターンのうち当該隣り合う部分領域の境界に沿う部分とで当該隣り合う部分領域の他方を包囲する第２の接着層パターンを有し、所定領域は、第１の接着層パターンの一部及び第２の接着層パターンの一部が集合することにより包囲されることが好ましい。これによれば、隣り合う部分領域の境界において接着層パターンが１列になるので、当該境界を挟んで隣り合うガラス層間のピッチを小さくすることができる。
【００１４】
また、本発明のガラス溶着方法は、第１のガラス基板及び第２のガラス基板から、溶着された第１の部分及び第２の部分を切り出し、複数のガラス溶着体を得る第４の工程を更に備えることが好ましい。これにより、第１のガラス部材と第２のガラス部材とが溶着されたガラス溶着体を複数得ることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、歩留りの低下を抑制しつつ、レーザ光の照射を大気雰囲気中で実施することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の第１の実施形態のガラス溶着方法によって製造されたガラス溶着体の斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施形態のガラス溶着方法を説明するための斜視図である。
【図３】本発明の第１の実施形態のガラス溶着方法を説明するための斜視図である。
【図４】本発明の第１の実施形態のガラス溶着方法を説明するための斜視図である。
【図５】本発明の第１の実施形態のガラス溶着方法を説明するための斜視図である。
【図６】本発明の第２の実施形態のガラス溶着方法を説明するための平面図である。
【図７】本発明の第２の実施形態のガラス溶着方法における隙間情報の取得方法を説明するための一部断面図である。
【図８】本発明の第２の実施形態のガラス溶着方法を説明するための一部断面図である。
【図９】本発明の第２の実施形態のガラス溶着方法における隙間情報の他の取得方法を説明するための概念図である。
【図１０】本発明の他の実施形態のガラス溶着方法を説明するための平面図である。
【図１１】本発明の他の実施形態のガラス溶着方法を説明するための平面図である。
【図１２】本発明の他の実施形態のガラス溶着方法を説明するための平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
［第１の実施形態］
【００１８】
図１に示されるように、ガラス溶着体１は、溶着予定領域Ｒに沿うように配置されたガラス層３を介して、ガラス部材４とガラス部材５とが溶着されたものである。ガラス部材４，５は、例えば無アルカリガラスからなる厚さ０．７ｍｍの矩形板状の部材であり、溶着予定領域Ｒは、ガラス部材４，５の外縁に沿うように矩形環状に設定されている。ガラス層３は、例えば低融点ガラス（バナジウムリン酸系ガラス、鉛ホウ酸ガラス等）からなる層であり、溶着予定領域Ｒに沿うように矩形環状に配置されている。このガラス溶着体１は、有機ＥＬディスプレイであり、溶着予定領域Ｒの内側に形成された発光素子領域が、ガラス部材４，５及びガラス層３によって外部雰囲気から封止されている。
【００１９】
次に、環状の溶着予定領域Ｒに沿った溶着用レーザ光Ｌの照射によって、上述したガラス溶着体１を製造するためのガラス溶着方法について説明する。まず、図２に示されるように、マトリックス状（ここでは２行３列）に配置された有効部分（第１の部分）４１〜４６を含むガラス基板４０を準備する。各有効部分４１〜４６は、ガラス部材４に対応している。そして、有効部分４１〜４６ごとに環状の溶着予定領域Ｒを設定する。
【００２０】
続いて、ディスペンサやスクリーン印刷等によってフリットペーストを塗布することにより、有効部分４１〜４６ごとに溶着予定領域Ｒに沿うようにガラス基板４０の表面４０ａにペースト層６を配置する。フリットペーストは、例えば、低融点ガラスからなる粉末状のガラスフリット（ガラス粉）２、酸化鉄等の無機顔料であるレーザ光吸収性顔料（レーザ光吸収材）、酢酸アミル等である有機溶剤、及びアクリル等の樹脂成分であるバインダが混練されたものである。続いて、ペースト層６を乾燥させて有機溶剤を除去し、ペースト層６を加熱してバインダを除去することにより、ガラス基板４０の表面４０ａにガラス層３を固着させる。更に、ガラス層３を加熱してガラスフリット２を溶融・再固化させることにより、ガラス基板４０の表面４０ａに、レーザ光吸収性顔料を含むガラス層３を定着させる。
【００２１】
続いて、ディスペンサ等によって例えば紫外線硬化樹脂等の接着剤を塗布することにより、ガラス基板４０の表面４０ａに接着層７０を配置する。接着層７０は、全体領域（所定領域）Ｗを包囲する接着層パターン７、及び接着層パターン７の内側において各部分領域Ｐ１〜Ｐ３を包囲する（すなわち、部分領域Ｐ１〜Ｐ３ごとに部分領域Ｐ１〜Ｐ３を包囲する）接着層パターン７１〜７３を有している。ここでは、全体領域Ｗは、全ての有効部分４１〜４６に対応する領域である。また、部分領域Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３は、それぞれ、有効部分４１，４４、有効部分４２，４５、有効部分４３，４６に対応する領域である。接着層パターン７１と接着層パターン７２とは、隣り合う部分領域Ｐ１，Ｐ２の境界線において接触しており、接着層パターン７２と接着層パターン７３とは、隣り合う部分領域Ｐ２，Ｐ３の境界線において接触している。また、接着層パターン７の幅は、各接着層パターン７１〜７３の幅よりも広くされている。なお、接着層７０は単純なパターンによって構成されているため、接着層７０をパターニングするためのディスペンサの走査、及び接着材の塗布のタイミングのコントロールが容易となり、不良が生じ難い。
【００２２】
続いて、図３に示されるように、マトリックス状（ここでは２行３列）に配置された有効部分（第２の部分）５１〜５６を含むガラス基板５０を準備する。各有効部分５１〜５６は、ガラス部材５に対応しており、各有効部分５１〜５６には、発光素子領域が形成されている。そして、有効部分４１〜４６のそれぞれと有効部分５１〜５６のそれぞれとがガラス層３を介して対向するようにガラス基板４０とガラス基板５０とを重ね合わせる。続いて、ガラス基板４０とガラス基板５０との間に配置された接着層７０を紫外線の照射によって硬化させ、ガラス基板４０とガラス基板５０との間の空間（全体領域Ｗに対応する空間、各部分領域Ｐ１〜Ｐ３に対応する空間）を接着層７０によって外部雰囲気から封止する。なお、ガラス基板４０とガラス基板５０とを重ね合わせ、及び接着層７０による封止は、窒素ガスやアルゴンガス等の不活性ガス雰囲気中、或いは減圧条件下で実施される。
【００２３】
これにより、接着層７０は、全体領域Ｗを複数の部分領域Ｐ１〜Ｐ３に分割するように、かつ、全体領域Ｗを包囲すると共に各部分領域Ｐ１〜Ｐ３を包囲するように、ガラス基板４０とガラス基板５０との間に配置されることになる。ここでは、全体領域Ｗは、対向する有効部分４１，５１同士、有効部分４２，５２同士、有効部分４３，５３同士、有効部分４４，５４同士、有効部分４５，５５同士及び有効部分４６，５６同士の全組に対応する領域である。また、部分領域Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３は、それぞれ、対向する有効部分４１，５１同士及び有効部分４４，５４同士の二組、対向する有効部分４２，５２同士及び有効部分４５，５５同士の二組、対向する有効部分４３，５３同士及び有効部分４６，５６同士の二組に対応する領域である。
【００２４】
続いて、図４に示されるように、有効部分４１，５１間のガラス層３、有効部分４２，５２間のガラス層３、有効部分４３，５３間のガラス層３、有効部分４４，５４間のガラス層３、有効部分４５，５５間のガラス層３、有効部分４６，５６間のガラス層３という順序で、レーザ光Ｌの照射を実施する。まず、溶着予定領域Ｒに沿って有効部分４１，５１間のガラス層３にレーザ光Ｌが照射されると、ガラス層３及びその周辺部分（ガラス基板４０，５０の表面４０ａ，５０ａ）が同程度に溶融・再固化し、対向する有効部分４１，５１同士が溶着される（溶着においては、ガラス層３が溶融し、ガラス基板４０，５０の少なくとも一方が溶融しない場合もある）。以降、上述した順序でのレーザ光Ｌの照射によって、対向する有効部分４２，５２同士、有効部分４３，５３同士、有効部分４４，５４同士、有効部分４５，５５同士及び有効部分４６，５６同士が溶着される。なお、ガラス基板４０とガラス基板５０との間の空間は、接着層７０によって外部雰囲気から封止されているので、レーザ光Ｌの照射は、大気雰囲気中で実施される。
【００２５】
続いて、図５に示されるように、ガラス基板４０，５０から、溶着された有効部分４１，５１同士、有効部分４２，５２同士、有効部分４３，５３同士、有効部分４４，５４同士、有効部分４５，５５同士及び有効部分４６，５６同士を切り出し、複数（ここでは６セット）のガラス溶着体１を得る。
【００２６】
第１の実施形態のガラス溶着方法によれば、以下のように、歩留りの低下を抑制しつつ、レーザ光Ｌの照射を大気雰囲気中で実施することができる。
【００２７】
すなわち、第１の実施形態のガラス溶着方法においては、ガラス層３を介して対向するようにガラス基板４０とガラス基板５０とを重ね合わせ、ガラス基板４０とガラス基板５０との間の空間を接着層７０によって外部雰囲気から封止する。これにより、溶着予定領域Ｒに沿ったレーザ光Ｌの照射を大気雰囲気中で実施することが可能となる。
【００２８】
更に、第１の実施形態のガラス溶着方法においては、接着層７０が、全体領域Ｗを複数の部分領域Ｐ１〜Ｐ３に分割するように、かつ、全体領域Ｗを包囲すると共に各部分領域Ｐ１〜Ｐ３を包囲するように、ガラス基板４０とガラス基板５０との間に配置される。これにより、図４に示されるように、ガラス層３ごとにレーザ光Ｌの照射を実施している際に、ガラス基板４０，５０へのクラックの発生等の不具合が例えば有効部分４２，５２同士の溶着で起こっても、不具合が起こった部分領域Ｐ２以外の部分領域Ｐ１，Ｐ３においては、溶着未実施のガラス層３の内側領域への外部雰囲気の進入が防止される。
【００２９】
具体例を挙げて説明する。ガラス基板４０，５０へのクラックの発生等の不具合が途中のガラス層３で起こると、溶着未実施のガラス層３の内側領域への外部雰囲気の進入が懸念される。そのため、例えば、接着層７０が接着層パターン７１〜７３を有さず、接着層パターン７のみからなる場合には、溶着未実施の部分が全て無駄になるおそれがある。つまり、有効部分４１，５１同士の溶着の次に、有効部分４２，５２同士の溶着を実施し、ここで不具合が生じると、溶着未実施の有効部分４３，５３、有効部分４４，５４、有効部分４５，５５及び有効部分４６，５６が全て無駄になるおそれがある。
【００３０】
これに対し、第１の実施形態のガラス溶着方法では、全体領域Ｗだけでなく各部分領域Ｐ１〜Ｐ３も接着層７０によって包囲されて閉じられる。従って、有効部分４２，５２同士の溶着で不具合が生じても、外部雰囲気の進入の懸念により無駄になるおそれがあるのは、不具合が起こった部分領域Ｐ２内に存在する有効部分４５，５５のみということになる。このように、第１の実施形態のガラス溶着方法によれば、無駄を減らして、歩留まりの向上を図ることができる。
【００３１】
また、第１の実施形態のガラス溶着方法においては、接着層７０が、全体領域Ｗを包囲する接着層パターン７、及び接着層パターン７の内側において各部分領域Ｐ１〜Ｐ３を包囲する接着層パターン７１〜７３を有している。つまり、全体領域Ｗの外周、並びに、隣り合う部分領域Ｐ１，Ｐ２の境界及び部分領域Ｐ２，Ｐ３の境界において、接着層パターンが２列になっている。これにより、レーザ光Ｌの照射を実施する前に、重ね合わせられたガラス基板４０，５０が互いにずれたり破損したりするのを確実に防止することができる。
【００３２】
また、第１の実施形態のガラス溶着方法においては、全体領域Ｗを包囲する接着層パターン７の幅が、各部分領域Ｐ１〜Ｐ３を包囲する接着層パターン７１〜７３の幅よりも広くされている。このことも、重ね合わせられたガラス基板４０，５０におけるずれや破損の発生の防止に寄与する。更に、換言すれば、隣り合う部分領域Ｐ１，Ｐ２の境界及び部分領域Ｐ２，Ｐ３の境界において接着層パターン７１〜７３の幅が接着層パターン７の幅よりも狭くされている。これにより、当該境界を挟んで隣り合うガラス層３，３間のピッチを小さくすることができる。
［第２の実施形態］
【００３３】
第２の実施形態のガラス溶着方法は、第１の実施形態のガラス溶着方法と同様にガラス溶着体１を製造するためのものであり、ガラス基板４０とガラス基板５０との隙間を示す隙間情報に基づいて溶着用レーザ光Ｌの照射順序を決定する点で、第１の実施形態のガラス溶着方法と相違している。以下、この相違点について主に説明する。
【００３４】
まず、第１の実施形態のガラス溶着方法と同様の手順で、ガラス基板４０とガラス基板５０とを重ね合わせ、ガラス基板４０とガラス基板５０との間の空間を接着層７０によって外部雰囲気から封止する。続いて、ガラス層３ごとに、ガラス基板４０とガラス基板５０との隙間を示す隙間情報を取得する。具体的には、図６に示されるように、分光干渉式膜厚計８を用いて、全てのガラス層３について、ガラス層３の側方における隙間を隙間情報として取得する。分光干渉式膜厚計８による測定光の投光及び受光は、図７に示されるように、環状のガラス層３の内側及び外側の少なくとも一方に沿って実施され、環状のガラス層３の内側及び外側の少なくとも一方における隙間Ｇが測定される。なお、ガラス基板４０とガラス基板５０との間の空間は、接着層７０によって外部雰囲気から封止されているので、隙間情報の取得は、大気雰囲気中で実施される。
【００３５】
続いて、ガラス層３ごとに取得した隙間情報に基づいて、部分領域Ｐ１〜Ｐ３ごとに溶着用レーザ光Ｌの照射順序を決定する。具体的には、部分領域Ｐ１〜Ｐ３ごとに隙間Ｇの小さい順となるようにレーザ光Ｌの照射順序を決定する。ただし、ガラス層３の厚さよりも隙間Ｇが所定値以上大きいと判断した場合には、そのガラス層３を、レーザ光Ｌを照射する対象から除く。なお、所定値は、ガラス層３の厚さの０．５倍〜１倍以内であることが好ましい。つまり、ガラス層３の厚さが２０μｍであれば、所定値は１０μ〜２０μｍ以内（このとき、隙間Ｇは３０μ〜４０μｍ以内）となる。
【００３６】
ここで、レーザ光Ｌの照射順序を決定する理由について説明する。すなわち、図８の（ａ）に示されるように、ガラス層３に対するガラス基板５０の接触が十分な部分では（このとき、隙間Ｇは小さくなる）、レーザ光Ｌの照射によってガラス層３の溶融部Ｍで発生した熱は、ガラス基板４０及びガラス基板５０の両方に分散して伝わることになる。これにより、隙間Ｇが小さいガラス層３では、溶着に不具合が生じるおそれが低くなる。
【００３７】
一方、図８の（ｂ）に示されるように、ガラス層３に対するガラス基板５０の接触が不十分な部分では（このとき、隙間Ｇは大きくなる）、レーザ光Ｌの照射によってガラス層３の溶融部Ｍで発生した熱は、ガラス基板４０のみに伝わることになり、その結果、ガラス基板４０が入熱過多の状態となる。これにより、隙間Ｇが大きいガラス層３では、ガラス基板４０にクラックが発生するなど、溶着に不具合が生じるおそれが高くなる。
【００３８】
つまり、レーザ光Ｌの照射順序を決定するのは、溶着に不具合が生じるおそれが高いガラス層３の溶着を後回しにして、溶着に不具合が生じるおそれが低いガラス層３の溶着を優先して実施するためである。なお、隙間Ｇは、ガラス層３ごとに取得した測定値の平均値でもよいし、代表値（測定値の最大値や、所定の箇所の測定値等）でもよい。
【００３９】
続いて、部分領域Ｐ１〜Ｐ３ごとに決定したレーザ光Ｌの照射順序に従って、部分領域Ｐ１〜Ｐ３ごとにレーザ光Ｌの照射を実施する（図４参照）。ここでは、レーザ光Ｌの照射順序が、部分領域Ｐ１においては、有効部分４１，５１間のガラス層３、有効部分４４，５４間のガラス層３の順序に決定され、部分領域Ｐ３においては、有効部分４６，５６間のガラス層３、有効部分４３，５３間のガラス層３の順序に決定されたとする。また、部分領域Ｐ２においては、有効部分４２，５２間のガラス層３がレーザ光Ｌの照射対象から除かれ、有効部分４５，５５間のガラス層３のみがレーザ光Ｌの照射対象とされたとする。
【００４０】
その場合、部分領域Ｐ１においては、有効部分４１，５１間のガラス層３、有効部分４４，５４間のガラス層３の順序でレーザ光Ｌの照射を実施し、有効部分４１，５１同士、有効部分４４，５４同士を順次溶着する。部分領域Ｐ２においては、有効部分４５，５５間のガラス層３についてのみレーザ光Ｌの照射を実施し、有効部分４５，５５同士を溶着し、有効部分４２，５２同士は溶着しない。部分領域Ｐ３においては、有効部分４６，５６間のガラス層３、有効部分４３，５３間のガラス層３の順序でレーザ光Ｌの照射を実施し、有効部分４６，５６同士、有効部分４３，５３同士を順次溶着する。なお、レーザ光Ｌとして、例えば部分領域Ｐ１〜Ｐ３ごとに別々のレーザヘッドから出射される複数のレーザ光を使用すれば、タクトタイムの向上を図ることができる。
【００４１】
続いて、第１の実施形態のガラス溶着方法と同様の手順で、ガラス基板４０，５０から、溶着された有効部分４１，５１同士、有効部分４４，５４同士、有効部分４５，５５同士、有効部分４６，５６同士、及び有効部分４３，５３同士を切り出し、複数（ここでは５セット）のガラス溶着体１を得る。
【００４２】
第２の実施形態のガラス溶着方法によれば、第１の実施形態のガラス溶着方法と同様に、歩留りの低下を抑制しつつ、レーザ光Ｌの照射を大気雰囲気中で実施することができる。
【００４３】
更に、第２の実施形態のガラス溶着方法においては、ガラス層３ごとに、ガラス基板４０とガラス基板５０との隙間Ｇを示す隙間情報を取得し、その隙間情報に基づいてレーザ光Ｌの照射順序を決定する。これにより、ガラス層３に対するガラス基板５０の接触不良に起因して溶着に不具合が生じるおそれが高いガラス層３の溶着を後回しにして、溶着に不具合が生じるおそれが低いガラス層３の溶着を優先して実施することが可能となる。
【００４４】
また、第２の実施形態のガラス溶着方法においては、隙間情報に基づいて、ガラス層３の厚さよりも隙間Ｇが所定値以上大きいか否かを判断し、ガラス層３の厚さよりも隙間Ｇが所定値以上大きいと判断したガラス層３を、レーザ光Ｌを照射する対象から除く。これにより、溶着に不具合が生じるおそれが極めて高いガラス層３の溶着を実施せずに、より一層の製造の効率化を図ることができる。
【００４５】
また、第２の実施形態のガラス溶着方法においては、ガラス層３の側方における隙間Ｇを隙間情報として取得する。ガラス層３の側方における隙間Ｇは、ガラス層３にガラス基板５０が接触しているか否かを直接的に示すため、溶着に不具合が生じるおそれが低いガラス層３の溶着を優先して実施するためのレーザ光Ｌの照射順序を適切に決定することができる。
【００４６】
なお、第２の実施形態のガラス溶着方法においては、ＣＣＤカメラ等を用いて、図６に示されるように、接着層７０の幅Ｗを隙間情報として取得してもよい。接着層７０の幅Ｗが広い部分は、ガラス基板４０側にガラス基板５０が押圧された部分と想定される。従って、接着層７０の幅Ｗが広い部分ほど、ガラス基板４０とガラス基板５０との隙間が狭く、ガラス層３にガラス基板５０が確実に接触していると判断することができる。
【００４７】
また、図９に示されるように、レーザ距離計９を用いて、ガラス基板５０におけるガラス基板４０と反対側の表面５０ｂの高さを隙間情報として取得してもよい。ガラス層３に対するガラス基板５０の接触状態は、ガラス基板５０のうねり（図９の（ａ）の場合）やガラス基板５０の傾き（図９の（ｂ）の場合）等に起因して変化する。そこで、例えば、ガラス基板４０におけるガラス基板５０と反対側の表面４０ｂを平坦面に真空吸着させる。このとき、ガラス基板４０に対するガラス基板５０の表面５０ｂの高さが低い部分ほど、ガラス基板４０とガラス基板５０との隙間が狭く、ガラス層３にガラス基板５０が確実に接触していると判断することができる。
【００４８】
以上、本発明の第１及び第２の実施形態について説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。
【００４９】
例えば、図１０に示されるように、接着層７０は、全体領域Ｗを包囲する接着層パターン７、並びに隣り合う部分領域Ｐ１，Ｐ２の境界及び部分領域Ｐ２，Ｐ３の境界に沿う接着層パターン７１，７２を有するものであってもよい。この場合にも、接着層７０は、全体領域Ｗを複数の部分領域Ｐ１〜Ｐ３に分割するように、かつ、全体領域Ｗを包囲すると共に各部分領域Ｐ１〜Ｐ３を包囲するように、ガラス基板４０とガラス基板５０との間に配置されることになる。
【００５０】
この接着層７０によれば、隣り合う部分領域Ｐ１，Ｐ２の境界及び部分領域Ｐ２，Ｐ３の境界において接着層パターンが１列になるので、当該境界を挟んで隣り合うガラス層３，３間のピッチを小さくすることができる。更に、接着層パターン７１，７２の幅が接着層パターン７の幅よりも狭くされることも、当該境界を挟んで隣り合うガラス層３，３間のピッチを小さくすること寄与する。また、ここでは、接着層パターン７１，７２が直線であるため、それらをパターニングするためのディスペンサの走査速度を高速化することができる。
【００５１】
また、図１１に示されるように、接着層７０は、各部分領域Ｐ１〜Ｐ３を包囲する（すなわち、部分領域Ｐ１〜Ｐ３ごとに部分領域Ｐ１〜Ｐ３を包囲する）接着層パターン７１〜７３を有するものであり、接着層パターン７１〜７３の一部が集合することにより全体領域Ｗが包囲されていてもよい。この場合にも、接着層７０は、全体領域Ｗを複数の部分領域Ｐ１〜Ｐ３に分割するように、かつ、全体領域Ｗを包囲すると共に各部分領域Ｐ１〜Ｐ３を包囲するように、ガラス基板４０とガラス基板５０との間に配置されることになる。なお、接着層パターン７１と接着層パターン７２とは、隣り合う部分領域Ｐ１，Ｐ２の境界線において接触しており、接着層パターン７２と接着層パターン７３とは、隣り合う部分領域Ｐ２，Ｐ３の境界線において接触している。
【００５２】
この接着層７０によれば、隣り合う部分領域Ｐ１，Ｐ２の境界及び部分領域Ｐ２，Ｐ３の境界において接着層パターンが２列になるので、レーザ光Ｌの照射を実施する前に、重ね合わせられたガラス基板４０，５０が互いにずれたり破損したりするのを確実に防止することができる。また、接着層７０が単純なパターンによって構成されているため、接着層７０をパターニングするためのディスペンサの走査、及び接着材の塗布のタイミングのコントロールが容易となり、不良が生じ難い。
【００５３】
また、図１２に示されるように、接着層７０は、部分領域Ｐ１を包囲する環状の接着層パターン７１、接着層パターン７１のうち隣り合う部分領域Ｐ１，Ｐ２の境界に沿う部分とで部分領域Ｐ２を包囲する接着層パターン７２、及び接着層パターン７２のうち隣り合う部分領域Ｐ２，Ｐ３の境界に沿う部分とで部分領域Ｐ３を包囲する接着層パターン７３を有するものであり、接着層パターン７１〜７３の一部が集合することにより全体領域Ｗが包囲されていてもよい。この場合にも、接着層７０は、全体領域Ｗを複数の部分領域Ｐ１〜Ｐ３に分割するように、かつ、全体領域Ｗを包囲すると共に各部分領域Ｐ１〜Ｐ３を包囲するように、ガラス基板４０とガラス基板５０との間に配置されることになる。
【００５４】
この接着層７０によれば、隣り合う部分領域Ｐ１，Ｐ２の境界及び部分領域Ｐ２，Ｐ３の境界において接着層パターンが１列になるので、当該境界を挟んで隣り合うガラス層３，３間のピッチを小さくすることができる。
【００５５】
なお、以上説明してきた全ての接着層７０（第１の実施形態及び第２の実施形態の接着層７０も含む）においては、ディスペンサ等によって接着剤を塗布する際に、接着層パターンの終始部や連結部を、全体領域Ｗを包囲する接着層パターン上に集中させることが好ましい。これによれば、ガラス基板４０とガラス基板５０とを重ね合わせた際に、盛り上がった接着層パターンの終始部や連結部がつぶれても、ガラス層３に影響が及ぶのを防止することができる。また、ディスペンサ等によって接着剤を塗布する際に糸引き不良が起こっても、ガラス層３やガラス基板４０の有効部分等を横切るような事態を防止することができる。
【００５６】
また、以上説明してきた全ての全体領域Ｗ（第１の実施形態及び第２の実施形態の全体領域Ｗも含む）、すなわち、対向する有効部分同士の全組に対応する全体領域Ｗに代えて、対向する有効部分同士の複数組（全組から少なくとも一組（ダミーの組等）を除いた複数組）に対応する所定領域を適用してもよい。このとき、接着層７０は、所定領域を複数の部分領域に分割するように、かつ、所定領域を包囲すると共に部分領域ごとに部分領域を包囲するように、ガラス基板４０とガラス基板５０との間に配置される。また、部分領域は、対向する有効部分同士の二組に対応するものに限定されず、対向する有効部分同士の少なくとも一組に対応するものであればよい。例えば、対向する有効部分同士の一組ごとに当該一組に対応するように複数の部分領域を設定すれば、ガラス層３ごとにレーザ光Ｌの照射を実施している際に、ガラス基板４０，５０へのクラックの発生等の不具合が途中のガラス層３で起こっても、不良となるのは当該ガラス層３に対応する有効部分のみとなる。
【００５７】
また、上記実施形態では、ガラス層３を加熱してガラスフリット２を溶融・再固化させることにより、ガラス基板４０の表面４０ａに、レーザ光吸収性顔料を含むガラス層３を定着させたが、ガラス基板４０に対するガラス層３の配置は、これに限定されない。一例として、ガラス基板４０に対するガラス層３の配置は、ペースト層６を乾燥させて有機溶剤を除去し、ペースト層６を加熱してバインダを除去することにより、ガラス基板４０の表面４０ａにガラス層３を固着させるだけでもよい。また、レーザ光Ｌの照射は、ガラス基板４０側から実施してもよい。
【００５８】
また、上記実施形態では、ガラス基板４０とガラス基板５０とを重ね合わせる前に、ガラス基板４０に接着層７０を配置したが、これに限定されない。例えば、ガラス基板４０とガラス基板５０とを重ね合わせる前に、ガラス基板５０に接着層７０を配置してもよい。
【符号の説明】
【００５９】
１…ガラス溶着体、３…ガラス層、４…ガラス部材（第１のガラス部材）、５…ガラス部材（第２のガラス部材）、７，７１〜７３…接着層パターン、７０…接着層、４０…ガラス基板（第１のガラス基板）、４１〜４６…有効部分（第１の部分）、５０…ガラス基板（第２のガラス基板）、５１〜５６…有効部分（第２の部分）、Ｒ…溶着予定領域、Ｗ…全体領域、Ｐ１〜Ｐ３…部分領域、Ｌ…レーザ光。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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