(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）：
【化１】
0005504454.tif 000379
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基であり；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは＝Ｃ＜、−ＣＨ２−、または−Ｃ６Ｈ４−で表される連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、または硫黄原子であり；点線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であってもよいことを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒａは水素または１〜４価の有機骨格であり；ｎは１〜４の整数であり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は、各々、同一または相異なる；
ただし、Ｒ４が置換基であるとき、該置換基は、炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐鎖状アルキル基、またはベンジル基であり、
ＱとＸとが共通する環の一部であるとき、その環は、置換基を有していてもよいピリジン環、キノリン環、チオフェン環、またはフェナントリジン環であり、
Ｒａが１〜４価の有機骨格であるとき、該有機骨格は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基、フェニル基、４−メチルフェニル基（ｐ−トリル基）、ナフチル基、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、フェニレン基、ナフチレン基、メタントリイル基、エタントリイル基、プロパントリイル基、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基、メタンテトライル基、エタンテトライル基、プロパンテトライル基、ベンゼンテトライル基、またはナフタレンテトライル基である］
で示されるホウ素化合物。
【請求項２】
下記式（２）：
【化２】
0005504454.tif 000380
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、ＸからＢに向かう矢印は上記式（１）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒｂは水素または１価の有機骨格である；
ただし、Ｒｂが１価の有機骨格であるとき、該有機骨格は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基、フェニル基、４−メチルフェニル基（ｐ−トリル基）、またはナフチル基である］
で示される請求項１記載のホウ素化合物。
【請求項３】
下記式（３）：
【化３】
0005504454.tif 000381
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、ＸからＢに向かう矢印は上記式（１）と同じ意味を有し；Ｒｃは２価の有機骨格であり；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は、各々、同一または相異なる；
ただし、Ｒｃで表される２価の有機骨格は、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、フェニレン基、またはナフチレン基である］
で示される請求項１記載のホウ素化合物。
【請求項４】
上記式（１）、（２）または（３）において、ＱおよびＸが共通する環の一部である請求項１〜３のいずれか１項記載のホウ素化合物。
【請求項５】
上記共通する環がピリジン環、キノリン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環または該キノリン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である請求項４記載のホウ素化合物。
【請求項６】
上記式（１）、（２）または（３）において、Ｑがメチレン基であり、Ｘが窒素原子であり、ｍが２である請求項１〜３のいずれか１項記載のホウ素化合物。
【請求項７】
上記式（１）、（２）または（３）において、Ｑがメチレン基であり、Ｘが酸素原子であり、ｍが１である請求項１〜３のいずれか１項記載のホウ素化合物。
【請求項８】
下記式（１）：
【化４】
0005504454.tif 000382
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基であり；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは＝Ｃ＜、−ＣＨ２−、または−Ｃ６Ｈ４−で表される連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、または硫黄原子であり；点線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であってもよいことを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒａは水素または１〜４価の有機骨格であり；ｎは１〜４の整数であり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は、各々、同一または相異なる；
ただし、Ｒ４が置換基であるとき、該置換基は、炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐鎖状アルキル基、またはベンジル基であり、
ＱとＸとが共通する環の一部であるとき、その環は、置換基を有していてもよいピリジン環、キノリン環、チオフェン環、またはフェナントリジン環であり、
Ｒａが１〜４価の有機骨格であるとき、該有機骨格は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基、フェニル基、４−メチルフェニル基（ｐ−トリル基）、ナフチル基、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、フェニレン基、ナフチレン基、メタントリイル基、エタントリイル基、プロパントリイル基、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基、メタンテトライル基、エタンテトライル基、プロパンテトライル基、ベンゼンテトライル基、またはナフタレンテトライル基である］
で示されるホウ素化合物を製造する方法であって、
下記式（４）：
【化５】
0005504454.tif 000383
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は同一または相異なり；Ｒ５Ｒ６Ｒ７Ｒ８Ｎ＋は、アンモニウム塩のカチオン側を示す］
で示されるホウ素化合物を、下記式（５）：
【化６】
0005504454.tif 000384
［式中、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は上記式（１）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｙはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることを特徴とする製造方法。
【請求項９】
上記式（１）および（５）において、ＱおよびＸが共通する環の一部である請求項８記載の製造方法。
【請求項１０】
上記共通する環がピリジン環、キノリン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環または該キノリン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である請求項９記載の製造方法。
【請求項１１】
上記式（１）および（５）において、Ｑがメチレン基であり、Ｘが窒素原子であり、ｍが２である請求項８記載の製造方法。
【請求項１２】
上記式（１）および（５）において、Ｑがメチレン基であり、Ｘが酸素原子であり、ｍが１である請求項８記載の製造方法。
【請求項１３】
下記式（６）：
【化７】
0005504454.tif 000385
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基であり；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは＝Ｃ＜、―ＣＨ２−、または−Ｃ６Ｈ４−で表される連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、または硫黄原子であり；点線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であってもよいことを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｄは１または２価の有機骨格であり；ｎは１〜４の整数であり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は、各々、同一または相異なる；
ただし、Ｒ４が置換基であるとき、該置換基は、炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐鎖状アルキル基、またはベンジル基であり、
ＱとＸとが共通する環の一部であるとき、その環は、置換基を有していてもよいピリジン環、キノリン環、チオフェン環、またはフェナントリジン環であり、
Ｒｄで表される１または２価の有機骨格は、４−メチルフェニル基（ｐ−トリル基）、フェニレン基、またはナフチレン基である］
で示されるホウ素化合物を製造する方法であって、
下記式（７）：
【化８】
0005504454.tif 000386
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は上記式（６）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒ５Ｒ６Ｒ７Ｒ８Ｎ＋は、アンモニウム塩のカチオン側を示す］
で示されるホウ素化合物を、下記式（８）：
【化９】
0005504454.tif 000387
［式中、Ｒｄおよびｎは上記式（６）と同じ意味を有し；Ｙはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＹは同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることを特徴とする製造方法。
【請求項１４】
上記式（７）で示されるホウ素化合物を、上記式（８）において、Ｒｄが１価の有機骨格を表すＲｅであり、ｎが１である化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、下記式（９）：
【化１０】
0005504454.tif 000388
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、ＸからＢに向かう矢印は上記式（６）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒｅは１価の有機骨格である；
ただし、Ｒｅで表される１価の有機骨格は、４−メチルフェニル基（ｐ−トリル基）である］
で示されるホウ素化合物を製造する請求項１３記載の製造方法。
【請求項１５】
上記式（７）で示されるホウ素化合物を、上記式（８）において、Ｒｄが２価の有機骨格を表すＲｃであり、ｎが２である化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、下記式（１０）：
【化１１】
0005504454.tif 000389
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、ＸからＢに向かう矢印は上記式（６）と同じ意味を有し；Ｒｃは２価の有機骨格であり；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は、各々、同一または相異なる；
ただし、Ｒｃで表される２価の有機骨格は、フェニレン基またはナフチレン基である］
で示されるホウ素化合物を製造する請求項１３記載の製造方法。
【請求項１６】
上記式（６）および（７）、（９）または（１０）において、ＱおよびＸが共通する環の一部である請求項１３〜１５のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１７】
上記共通する環がピリジン環、キノリン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環または該キノリン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である請求項１６記載の製造方法。
【請求項１８】
請求項１〜７のいずれか１項記載のホウ素化合物を発光材料、電子輸送材料、電子注入材料、正孔阻止材料または有機半導体材料として用いることを特徴とする機能性電子素子。
【請求項１９】
下記式（１）：
【化１２】
0005504454.tif 000390
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基であり；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは＝Ｃ＜、−ＣＨ２−、または−Ｃ６Ｈ４−で表される連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、または硫黄原子であり；点線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であってもよいことを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒａは水素または１〜４価の有機骨格であり；ｎは１〜４の整数であり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は、各々、同一または相異なる；
ただし、Ｒ４が置換基であるとき、該置換基は、炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐鎖状アルキル基、またはベンジル基であり、
ＱとＸとが共通する環の一部であるとき、その環は、置換基を有していてもよいピリジン環、キノリン環、チオフェン環、またはフェナントリジン環であり、
Ｒａが１〜４価の有機骨格であるとき、該有機骨格は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基、フェニル基、４−メチルフェニル基（ｐ−トリル基）、ナフチル基、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、フェニレン基、ナフチレン基、メタントリイル基、エタントリイル基、プロパントリイル基、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基、メタンテトライル基、エタンテトライル基、プロパンテトライル基、ベンゼンテトライル基、またはナフタレンテトライル基である］
で示されるホウ素化合物を製造する方法であって、
下記式（４）：
【化１３】
0005504454.tif 000391
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は同一または相異なり；Ｒ５Ｒ６Ｒ７Ｒ８Ｎ＋は、アンモニウム塩のカチオン側を示す］
で示されるホウ素化合物を、下記式（１６）：
【化１４】
0005504454.tif 000392
［式中、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は上記式（１）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基である］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることを特徴とする製造方法。
【請求項２０】
上記式（１）および（１６）において、ＱおよびＸが共通する環の一部である請求項１９記載の製造方法。
【請求項２１】
上記共通する環がピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環、該キノリン環または該フェナントリジン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である請求項２０記載の製造方法。
【請求項２２】
下記式（１７）：
【化１５】
0005504454.tif 000393
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基であり；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは＝Ｃ＜、−ＣＨ２−、または−Ｃ６Ｈ４−で表される連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、または硫黄原子であり；実線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であることを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは水素または１価の有機骨格であり；Ｒｆはｐ価の有機骨格であり；ｐは２〜６の整数であり；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、Ｒｂは、各々、同一または相異なる；
ただし、Ｒ４が置換基であるとき、該置換基は、炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐鎖状アルキル基、またはベンジル基であり、
ＱとＸとが共通する環の一部であるとき、その環は、置換基を有していてもよいピリジン環、キノリン環、チオフェン環、またはフェナントリジン環であり、
Ｒｂで表される１価の有機骨格は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基、フェニル基、４−メチルフェニル基（ｐ−トリル基）、またはナフチル基であり、
Ｒｆで表される２〜６価の有機骨格は、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、フェニレン基、ナフチレン基、メタントリイル基、エタントリイル基、プロパントリイル基、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基、メタンテトライル基、エタンテトライル基、プロパンテトライル基、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基、エタンペンタイル基、プロパンペンタイル基、ベンゼンペンタイル基、ナフタレンペンタイル基、エタンヘキサイル基、プロパンヘキサイル基、ベンゼンヘキサイル基、またはナフタレンヘキサイル基である］
で示されるホウ素化合物。
【請求項２３】
下記式（１８）：
【化１６】
0005504454.tif 000394
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ＸからＢに向かう矢印、ならびに、Ｒｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；Ｒｇは２価の有機骨格であり；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、Ｒｂは、各々、同一または相異なる；
ただし、Ｒｇで表される２価の有機骨格は、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、フェニレン基、またはナフチレン基である］
で示される請求項２２記載のホウ素化合物。
【請求項２４】
下記式（１９）：
【化１７】
0005504454.tif 000395
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ＸからＢに向かう矢印、ならびに、Ｒｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；Ｒｈは３価の有機骨格であり；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、Ｒｂは、各々、同一または相異なる；
ただし、Ｒｈで表される３価の有機骨格は、メタントリイル基、エタントリイル基、プロパントリイル基、ベンゼントリイル基、またはナフタレントリイル基である］
で示される請求項２２記載のホウ素化合物。
【請求項２５】
上記共通する環がピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環、該キノリン環または該フェナントリジン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である請求項２２〜２４のいずれか１項記載のホウ素化合物。
【請求項２６】
下記式（２２）：
【化１８】
0005504454.tif 000396
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基であり；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは水素または１価の有機骨格であり；Ｒ１３およびＲ１４は、同一または相異なり、水素原子または置換基である；
ただし、Ｒｂが１価の有機骨格であるとき、該有機骨格は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基、フェニル基、４−メチルフェニル基（ｐ−トリル基）、またはナフチル基であり、
Ｒ１３、Ｒ１４が置換基であるとき、該置換基は、ハロゲン原子、ハロアルキル基、炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐鎖状アルキル基、炭素数５〜７の環状アルキル基、炭素数１〜８の直鎖状もしくは分岐鎖状アルコキシ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、各アルキル基が炭素数１〜４であるモノもしくはジアルキルアミノ基、アシル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、フェニル基、置換フェニル基、カルバモイル基、またはＮ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基である］
で示されるホウ素化合物。
【請求項２７】
上記式（２２）において、Ｒ１３およびＲ１４がメチル基である請求項２６記載のホウ素化合物。
【請求項２８】
下記式（２２）：
【化１９】
0005504454.tif 000397
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基であり；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは水素または１価の有機骨格であり；Ｒ１３およびＲ１４は、同一または相異なり、水素原子または置換基である；
ただし、Ｒｂが１価の有機骨格であるとき、該有機骨格は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基、フェニル基、４−メチルフェニル基（ｐ−トリル基）、またはナフチル基であり、
Ｒ１３、Ｒ１４が置換基であるとき、該置換基は、ハロゲン原子、ハロアルキル基、炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐鎖状アルキル基、炭素数５〜７の環状アルキル基、炭素数１〜８の直鎖状もしくは分岐鎖状アルコキシ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、各アルキル基が炭素数１〜４であるモノもしくはジアルキルアミノ基、アシル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、フェニル基、置換フェニル基、カルバモイル基、またはＮ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基である］
で示されるホウ素化合物を製造する方法であって、
下記式（２３）：
【化２０】
0005504454.tif 000398
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（２２）と同じ意味を有し；Ｒ５Ｒ６Ｒ７Ｒ８Ｎ＋は、アンモニウム塩のカチオン側を示す］
で示されるホウ素化合物を、下記式（２４）：
【化２１】
0005504454.tif 000399
［式中、Ｒ１３およびＲ１４は上記式（２２）と同じ意味を有し；Ｙ”はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基であり；複数個存在するＹ”は同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることを特徴とする製造方法。
【請求項２９】
上記式（２２）および（２４）において、Ｒ１３およびＲ１４がメチル基であり；上記式（２４）において、Ｙ”が臭素原子である請求項２８記載の製造方法。
【請求項３０】
下記式（２５）：
【化２２】
0005504454.tif 000400
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基であり；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは＝Ｃ＜、−ＣＨ２−、または−Ｃ６Ｈ４−で表される連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、または硫黄原子であり；点線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であってもよいことを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｙはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である；
ただし、Ｒ４が置換基であるとき、該置換基は、炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐鎖状アルキル基、またはベンジル基であり、
ＱとＸとが共通する環の一部であるとき、その環は、置換基を有していてもよいピリジン環、キノリン環、チオフェン環、またはフェナントリジン環である］
で示されるホウ素化合物。
【請求項３１】
上記式（２５）において、ＱおよびＸが共通する環の一部である請求項３０記載のホウ素化合物。
【請求項３２】
上記共通する環がピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環、該キノリン環または該フェナントリジン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である請求項３１記載のホウ素化合物。
【請求項３３】
請求項２２〜２５、２６〜２７および３０〜３２のいずれか１項記載のホウ素化合物を発光材料、電子輸送材料、電子注入材料、正孔阻止材料または有機半導体材料として用いることを特徴とする機能性電子素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なホウ素化合物、それらの製造方法およびそれらを用いた機能性電子素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、有機ＥＬ素子に用いる発光材料、電子輸送材料、電子注入材料および正孔阻止材料として、あるいは、有機薄膜トランジスタに用いる有機半導体材料として、様々なホウ素化合物が注目を集めている。例えば、特許文献１には、３個の芳香族基または複素環基を有すると共にアミン化合物またはホスフィン化合物と錯体を形成したホウ素化合物が開示されている。特許文献２には、アリーレン基を介してヘテロアリール基が結合した３個のアリール基を有するトリアリールホウ素誘導体が開示されている。特許文献３には、２個のカルバゾール基を有するトリアジン基が結合したアリール基を含めて３個のアリール基を有するトリアリールホウ素化合物が開示されている。特許文献４には、３個の芳香族炭素環基または複素環基を有するトリアリールホウ素化合物が開示されている。これらのホウ素化合物は、いずれもホウ素原子に３個のアリール基またはヘテロアリール基が結合したトリアリールホウ素化合物であり、従来、多くはこのような結合様式のホウ素化合物に限定されていた。
【０００３】
これに対し、ホウ素の配位化合物も検討されている。例えば、特許文献５には、３個の置換基を有するホウ素原子に第４の基が配位したホウ素化合物が開示されている。特許文献６には、２個の置換基と１個の芳香族炭素環基または複素環基とを有するホウ素原子に第４の基が配位したホウ素化合物が開示されている。非特許文献１には、２個のアリール基を有するホウ素原子にチエニルチアゾール基が結合し、さらにチアゾール環の窒素原子がホウ素原子に配位したホウ素化合物が開示されている。これらのホウ素化合物は、ホウ素の電子受容性を利用した新しい化合物群であり、非常に興味深い。特に、非特許文献１には、そこに開示されたホウ素化合物は、ホウ素原子がチアゾール環の窒素原子と配位することにより、最低非占有分子軌道（ＬＵＭＯ）が低下し、電子材料として好ましいと記載されている。しかし、これらのホウ素化合物は、いずれもホウ素原子に３個のアリール基またはヘテロアリール基が結合している点で、特許文献１〜４に開示されたトリアリールホウ素化合物と同じ範疇に属するものである。
【特許文献１】特開２００６−９６９３４号公報
【特許文献２】特開２００７−７０２８２号公報
【特許文献３】特開２００７−７７０３３号公報
【特許文献４】国際公開ＷＯ２００５／０６２６７５号公報
【特許文献５】特開２００７−３５７９１号公報
【特許文献６】国際公開ＷＯ２００５−０６２６７６号公報
【非特許文献１】Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２００６，４５，３１７０−３１７３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述した状況の下、本発明が解決すべき課題は、その特性に応じて、発光材料、電子輸送材料、電子注入材料、正孔阻止材料または有機半導体材料として有用であり、従来公知のホウ素化合物とは全く異なる新しい分子構造を有する新規なホウ素化合物、それらの製造方法およびそれらを用いた機能性電子素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、種々検討の結果、片側にホウ素に配位しうる電子供与性の部位を有し、それとは反対側にトリアリールボリル基を有するアセチレン化合物の転位反応が、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒を用いることにより、立体選択的に進行し、分子内でホウ素原子が非共有電子対を供与する原子に配位してホウ素原子を含む環状構造を形成した新規なホウ素化合物が得られることを見出して、本発明を完成した。
【０００６】
すなわち、本発明は、下記式（１）：
【０００７】
【化１】
0005504454.tif 000002
【０００８】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子であり；点線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であってもよいことを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒａは水素または１〜４価の有機骨格であり；ｎは１〜４の整数であり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は、各々、同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物を提供する。
【０００９】
上記式（１）で示されるホウ素化合物のうち、下記式（２）：
【００１０】
【化２】
0005504454.tif 000003
【００１１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、ＸからＢに向かう矢印は上記式（１）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒｂは水素または１価の有機骨格である］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（３）：
【００１２】
【化３】
0005504454.tif 000004
【００１３】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、ＸからＢに向かう矢印は上記式（１）と同じ意味を有し；Ｒｃは２価の有機骨格であり；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は、各々、同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物が好適である。
【００１４】
上記式（１）、（２）または（３）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環または該キノリン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。また、上記式（１）、（２）または（３）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが窒素原子であり、ｍが２である。さらに、上記式（１）、（２）または（３）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが酸素原子であり、ｍが１である。
【００１５】
また、本発明は、下記式（１）：
【００１６】
【化４】
0005504454.tif 000005
【００１７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子であり；点線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であってもよいことを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒａは水素または１〜４価の有機骨格であり；ｎは１〜４の整数であり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は、各々、同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物を製造する方法であって、
下記式（４）：
【００１８】
【化５】
0005504454.tif 000006
【００１９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（５）：
【００２０】
【化６】
0005504454.tif 000007
【００２１】
［式中、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は上記式（１）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｙはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることを特徴とする製造方法を提供する。
【００２２】
上記式（１）および（５）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環または該キノリン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。また、上記式（１）および（５）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが窒素原子であり、ｍが２である。さらに、上記式（１）および（５）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが酸素原子であり、ｍが１である。
【００２３】
さらに、本発明は、下記式（６）：
【００２４】
【化７】
0005504454.tif 000008
【００２５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子であり；点線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であってもよいことを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｄは１〜４価の有機骨格であり；ｎは１〜４の整数であり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は、各々、同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物を製造する方法であって、
下記式（７）：
【００２６】
【化８】
0005504454.tif 000009
【００２７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は上記式（６）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（８）：
【００２８】
【化９】
0005504454.tif 000010
【００２９】
［式中、Ｒｄおよびｎは上記式（６）と同じ意味を有し；Ｙはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＹは同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることを特徴とする製造方法を提供する。
【００３０】
上記式（６）で示されるホウ素化合物のうち、下記式（９）：
【００３１】
【化１０】
0005504454.tif 000011
【００３２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、ＸからＢに向かう矢印は上記式（６）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒｅは１価の有機骨格である］
で示されるホウ素化合物は、上記式（７）で示されるホウ素化合物を、上記式（８）において、Ｒｄが１価の有機骨格を表すＲｅであり、ｎが１である化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる。
【００３３】
また、上記式（６）で示されるホウ素化合物のうち、下記式（１０）：
【００３４】
【化１１】
0005504454.tif 000012
【００３５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、ＸからＢに向かう矢印は上記式（６）と同じ意味を有し；Ｒｃは２価の有機骨格であり；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は、各々、同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物は、上記式（７）で示されるホウ素化合物を、上記式（８）において、Ｒｄが２価の有機骨格を表すＲｃであり、ｎが２である化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる。
【００３６】
上記式（６）および（７）、（９）または（１０）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環または該キノリン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。また、上記式（６）および（７）、（９）または（１０）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが窒素原子であり、ｍが２である。さらに、上記式（６）および（７）、（９）または（１０）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが酸素原子であり、ｍが１である。
【００３７】
さらに、本発明は、下記式（１１）：
【００３８】
【化１２】
0005504454.tif 000013
【００３９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子であり；点線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であってもよいことを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは水素または１価の有機骨格である］
で示されるホウ素化合物を製造する方法であって、
下記式（１２）：
【００４０】
【化１３】
0005504454.tif 000014
【００４１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒｂ、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は上記式（１１）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物を、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることを特徴とする製造方法を提供する。
【００４２】
上記式（１１）および（１２）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環または該キノリン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。
【００４３】
さらに、本発明は、下記式（１３）：
【００４４】
【化１４】
0005504454.tif 000015
【００４５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１およびＲ２が互いに結合して環を形成しており；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子であり；点線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であってもよいことを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは水素または１価の有機骨格である］
で示されるホウ素化合物を製造する方法であって、
下記式（１４）：
【００４６】
【化１５】
0005504454.tif 000016
【００４７】
［式中、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、Ｒｂは上記式（１３）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｙ’は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である］
で示される化合物に有機リチウム化合物を作用させて生成するリチウム化合物を、下記式（１５）：
【００４８】
【化１６】
0005504454.tif 000017
【００４９】
［式中、Ｒ１およびＲ２は上記式（１３）と同じ意味を有し；Ｗはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、アルコキシ基またはアリールオキシ基である］
で示されるホウ素化合物と反応させることを特徴とする製造方法を提供する。
【００５０】
上記式（１３）および（１４）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環または該キノリン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。
【００５１】
さらに、本発明は、上記式（１）、（２）または（３）で示されるホウ素化合物あるいはそれらの下位概念となるホウ素化合物のいずれかを発光材料、電子輸送材料、電子注入材料、正孔阻止材料または有機半導体材料として用いることを特徴とする機能性電子素子を提供する。
【００５２】
さらに、本発明は、下記式（１）：
【００５３】
【化１７】
0005504454.tif 000018
【００５４】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子であり；点線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であってもよいことを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒａは水素または１〜４価の有機骨格であり；ｎは１〜４の整数であり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は、各々、同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物を製造する方法であって、
下記式（４）：
【００５５】
【化１８】
0005504454.tif 000019
【００５６】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（１６）：
【００５７】
【化１９】
0005504454.tif 000020
【００５８】
［式中、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は上記式（１）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基である］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることを特徴とする製造方法を提供する。
【００５９】
上記式（１）および（１６）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環、該キノリン環または該フェナントリジン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。
【００６０】
さらに、本発明は、下記式（１７）：
【００６１】
【化２０】
0005504454.tif 000021
【００６２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子であり；実線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であることを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは水素または１価の有機骨格であり；Ｒｆはｐ価の有機骨格であり；ｐは２〜６の整数であり；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、Ｒｂは、各々、同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物を提供する。
【００６３】
上記式（１７）で示されるホウ素化合物のうち、下記式（１８）：
【００６４】
【化２１】
0005504454.tif 000022
【００６５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ＸからＢに向かう矢印、ならびに、Ｒｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；Ｒｇは２価の有機骨格であり；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、Ｒｂは、各々、同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（１９）：
【００６６】
【化２２】
0005504454.tif 000023
【００６７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ＸからＢに向かう矢印、ならびに、Ｒｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；Ｒｈは３価の有機骨格であり；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、Ｒｂは、各々、同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物が好適である。
【００６８】
上記式（１７）、（１８）または（１９）において、好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環、該キノリン環または該フェナントリジン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。
【００６９】
さらに、本発明は、下記式（１７）：
【００７０】
【化２３】
0005504454.tif 000024
【００７１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子であり；実線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であることを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは水素または１価の有機骨格であり；Ｒｆはｐ価の有機骨格であり；ｐは２〜６の整数であり；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、Ｒｂは、各々、同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物を製造する方法であって、
下記式（２０）：
【００７２】
【化２４】
0005504454.tif 000025
【００７３】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ＸからＢに向かう矢印、ならびに、Ｒｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（２１）：
【００７４】
【化２５】
0005504454.tif 000026
【００７５】
［式中、Ｒｆおよびｐは上記式（１７）と同じ意味を有し；Ｙ”はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基であり；複数個存在するＹ”は同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることを特徴とする製造方法を提供する。
【００７６】
上記式（１７）で示されるホウ素化合物のうち、下記式（１８）：
【００７７】
【化２６】
0005504454.tif 000027
【００７８】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ＸからＢに向かう矢印、ならびに、Ｒｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；Ｒｇは２価の有機骨格であり；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、Ｒｂは、各々、同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物は、上記式（２０）で示されるホウ素化合物を、上記式（２１）において、Ｒｆが２価の有機骨格を表すＲｇであり、ｐが２である化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる。
【００７９】
また、上記式（１７）で示されるホウ素化合物のうち、下記式（１９）：
【００８０】
【化２７】
0005504454.tif 000028
【００８１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ＸからＢに向かう矢印、ならびに、Ｒｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；Ｒｈは３価の有機骨格であり；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、Ｒｂは、各々、同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物は、上記式（２０）で示されるホウ素化合物を、上記式（２１）において、Ｒｆが３価の有機骨格を表すＲｈであり、ｐが３である化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる。
【００８２】
上記式（１７）、（１８）または（１９）において、好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環、該キノリン環または該フェナントリジン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。
【００８３】
さらに、本発明は、下記式（２２）：
【００８４】
【化２８】
0005504454.tif 000029
【００８５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは水素または１価の有機骨格であり；Ｒ１３およびＲ１４は、同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を提供する。
【００８６】
上記式（２２）において、好ましくは、Ｒ１３およびＲ１４がメチル基である。また、上記式（２２）において、好ましくは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３がビフェニリル基であり、Ｒｂが水素原子である。
【００８７】
さらに、本発明は、下記式（２２）：
【００８８】
【化２９】
0005504454.tif 000030
【００８９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは水素または１価の有機骨格であり；Ｒ１３およびＲ１４は、同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を製造する方法であって、
下記式（２３）：
【００９０】
【化３０】
0005504454.tif 000031
【００９１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（２２）と同じ意味を有し；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（２４）：
【００９２】
【化３１】
0005504454.tif 000032
【００９３】
［式中、Ｒ１３およびＲ１４は上記式（２２）と同じ意味を有し；Ｙ”はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基であり；複数個存在するＹ”は同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることを特徴とする製造方法を提供する。
【００９４】
上記式（２２）および（２４）において、好ましくは、Ｒ１３およびＲ１４がメチル基であり；上記式（２４）において、好ましくは、Ｙ”が臭素原子である。また、上記式（２２）および（２３）において、好ましくは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３がビフェニリル基であり、Ｒｂが水素原子である。
【００９５】
さらに、本発明は、下記式（２５）：
【００９６】
【化３２】
0005504454.tif 000033
【００９７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子であり；点線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であってもよいことを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｙはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である］
で示されるホウ素化合物を提供する。
【００９８】
上記式（２５）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環、該キノリン環または該フェナントリジン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。また、上記式（２５）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが窒素原子であり、ｍが２である。さらに、上記式（２５）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが酸素原子であり、ｍが１である。
【００９９】
さらに、本発明は、下記式（２５）：
【０１００】
【化３３】
0005504454.tif 000034
【０１０１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子であり；点線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であってもよいことを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｙはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である］
で示されるホウ素化合物を製造する方法であって、
下記式（２６）：
【０１０２】
【化３４】
0005504454.tif 000035
【０１０３】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は上記式（２５）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物にハロゲン化剤を反応させることを特徴とする製造方法を提供する。
【０１０４】
上記式（２５）および（２６）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環、該キノリン環または該フェナントリジン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。また、上記式（２５）および（２６）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが窒素原子であり、ｍが２である。さらに、上記式（２５）および（２６）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが酸素原子であり、ｍが１である。
【０１０５】
さらに、本発明は、上記式（１７）、（１８）、（１９）、（２２）または（２５）のホウ素化合物あるいはそれらの下位概念となるホウ素化合物のいずれかを発光材料、電子輸送材料、電子注入材料、正孔阻止材料または有機半導体材料として用いることを特徴とする機能性電子素子を提供する。
【発明の効果】
【０１０６】
本発明によれば、その特性に応じて、発光材料、電子輸送材料、電子注入材料、正孔阻止材料または有機半導体材料として有用であり、従来公知のホウ素化合物とは全く異なる新しい分子構造を有する新規なホウ素化合物、これらの新規なホウ素化合物を効率よく簡便に製造することが可能な製造方法、ならびに、これらの新規なホウ素化合物を発光材料、電子輸送材料、電子注入材料、正孔阻止材料または有機半導体材料として用いた電気的特性に優れた機能性電子素子を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０１０７】
≪新規なホウ素化合物Ｉ≫
本発明の新規なホウ素化合物Ｉは、下記式（１）：
【０１０８】
【化３５】
0005504454.tif 000036
【０１０９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子であり；点線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であってもよいことを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒａは水素または１〜４価の有機骨格であり；ｎは１〜４の整数であり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は、各々、同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物である。
【０１１０】
上記式（１）において、Ｒ１、Ｒ２またはＲ３で表される、置換基を有していてもよいアリール基における「アリール基」としては、例えば、フェニル基、ビフェニリル基（例えば、４−ビフェニリル基など）、ナフチル基（例えば、２−ナフチル基など）、テトラヒドロナフチル基（例えば、５，６，７，８−テトラヒドロナフタレン−２−イル基など）、インデニル基（例えば、１Ｈ−インデン−５−イル基など）、インダニル基（例えば、インダン−５−イル基など）などが挙げられるが、これらのアリール基に限定されるものではない。これらのアリール基のうち、フェニル基、ビフェニリル基（例えば、４−ビフェニリル基など）、ナフチル基（例えば、２−ナフチル基など）が好適である。
【０１１１】
Ｒ１、Ｒ２またはＲ３で表される、置換基を有していてもよい複素環基における「複素環基」としては、例えば、ピロリル基（例えば、２−ピロリル基など）、ピリジル基（例えば、２−ピリジル基など）、キノリル基（例えば、２−キノリル基など）、ピペリジニル基（例えば、４−ピペリジニル基など）、ピペリジノ基、フリル基（例えば、２−フリル基など）、チエニル基（例えば、２−チエニル基など）などが挙げられるが、これらの複素環基に限定されるものではない。これらの複素環基のうち、ピリジル基（例えば、２−ピリジル基など）、チエニル基（例えば、２−チエニル基など）が好適である。
【０１１２】
これらの置換基を有していてもよいアリール基および複素環基における「置換基」としては、例えば、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、ハロアルキル基（例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基など）、炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐鎖状アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基など）、炭素数５〜７の環状アルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基など）、炭素数１〜８の直鎖状もしくは分岐鎖状アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基など）、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、各アルキル基が炭素数１〜４であるモノもしくはジアルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基など）、炭素数２〜６のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、アリル基など）、炭素数２〜６のアルキニル基（例えば、エチニル基、１−プロピニル基、プロパルギル基など）、フェニル基、置換フェニル基（例えば、４−フルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基（ｐ−トリル基）、４−メトキシフェニル基、４−ニトロフェニル基など）、カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイル基など）などが挙げられるが、これらの置換基に限定されるものではない。
【０１１３】
あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、いずれか２個が互いに結合して環を形成していてもよい。このような環としては、例えば、Ｒ１とＲ２とが結合した結果、ボロール環、ベンゾボロール環、ジベンゾボロール環、１，４−ジヒドロボリニン環、１，４−ジヒドロベンゾ［ｂ］ボリニン環、５，１０−ジヒドロジベンゾ［ｂ，ｅ］ボリニン環、４Ｈ−１，４−オキサボリニン環、４Ｈ−ベンゾ［ｂ］［１，４］オキサボリニン環、１０Ｈ−ジベンゾ［ｂ，ｅ］［１，４］オキサボリニン環、１，４−ジヒドロ−１，４−アザボリニン環、１，４−ジヒドロベンゾ［ｂ］［１，４］アザボリニン環、５，１０−ジヒドロジベンゾ［ｂ，ｅ］［１，４］アザボリニン環などを形成した場合；Ｒ１とＲ３とが結合した結果、５，６−ジヒドロジベンゾ［ｂ，ｄ］ボリニン環などを形成した場合；さらにこれらの環が置換基を有する場合；などが挙げられるが、これらの環に限定されるものではない。  上記式（１）において、Ｒ４で表される置換基としては、例えば、置換基を有していてもよいアリール基および複素環基における「置換基」として列挙した上記のような置換基が挙げられるが、これらの置換基に限定されるものではない。
【０１１４】
上記式（１）において、ｍは、Ｘに結合した置換基Ｒ４の数であり、Ｘの原子価や、ＱとＸとの間の結合が単結合または二重結合のいずれであるか、ＱとＸとが共通する環の一部であるか否かなどに応じて、０〜２の整数である。なお、ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なる。
【０１１５】
上記式（１）において、Ｑで表される連結基としては、例えば、＝Ｃ＜、＝ＣＨ−、−ＣＨ＜、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ６Ｈ４−（例えば、−（１，２−Ｃ６Ｈ４）−など）、−Ｃ１０Ｈ６−（例えば、−（１，２−Ｃ１０Ｈ６）−など）、−ＣＯ−、−ＣＳ−、−ＣＨ２Ｎ＜、−ＣＨ２Ｎ＝などが挙げられるが、これらの連結基に限定されるものではない。これらの連結基のうち、＝Ｃ＜、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−が好適である。
【０１１６】
上記式（１）において、Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子である。これらの原子のうち、窒素原子、酸素原子が好適である。
【０１１７】
上記式（１）において、点線の半円弧で表されるＱとＸとが共通する環としては、例えば、ピロール環、ピリジン環、インドール環、イソインドール環、キノリン環、イソキノリン環、フラン環、ピラン環、ベンゾフラン環、イソベンゾフラン環、クロメン環、イソクロメン環、ホスフィンドール環、イソホスフィンドール環、ホスフィノリン環、イソホスフィノリン環、チオフェン環、チオピラン環、チオクロメン環、イソチオクロメン環、セレノフェン環、セレノピラン環、セレノクロメン環、イソセレノクロメン環などが挙げられるが、これらの環に限定されるものではない。これらの環は、置換基を有していてもよい。これらの環のうち、ピリジン環、キノリン環、フラン環、チオフェン環が好適である。
【０１１８】
上記式（１）において、Ｒａで表される１価の有機骨格としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基、フェニル基、４−メチルフェニル基（ｐ−トリル基）、ナフチル基（例えば、２−ナフチル基など）などが挙げられ、Ｒａで表される２価の有機骨格としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、フェニレン基（例えば、１，４−フェニレン基など）、ナフチレン基（例えば、２，６−ナフチレン基など）などが挙げられ、Ｒａで表される３価の有機骨格としては、例えば、メタントリイル基、エタントリイル基（例えば、エタン−１，１，２−トリイル基など）、プロパントリイル基（例えば、プロパン−１，２，３−トリイル基など）、ベンゼントリイル基（例えば、ベンゼン−１，３，５−トリイル基など）、ナフタレントリイル基（例えば、ナフタレン−１，４，６−トリイル基など）などが挙げられ、Ｒａで表される４価の有機骨格としては、例えば、メタンテトライル基、エタンテトライル基（例えば、エタン−１，１，２，２−テトライル基など）、プロパンテトライル基（例えば、プロパン−１，１，２，３−テトライル基など）、ベンゼンテトライル基（例えば、ベンゼン−１，２，４，５−テトライル基など）、ナフタレンテトライル基（例えば、ナフタレン−１，４，５，８−テトライル基など）などが挙げられるが、これらの有機骨格に限定されるものではない。
【０１１９】
上記式（１）において、ｎは、Ｒａで表される水素または１〜４価の有機骨格に結合した含ホウ素環部分（角括弧で囲まれた部分）の数であり、Ｒａが水素である場合、ｎは１であり、Ｒａが１〜４価の有機骨格である場合、ｎは１〜４の整数である。なお、ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は、各々、同一または相異なる。
【０１２０】
上記式（１）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環または該キノリン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。すなわち、下記式（２７）：
【０１２１】
【化３６】
0005504454.tif 000037
【０１２２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は、各々、同一または相異なり；ピリジン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（２８）：
【０１２３】
【化３７】
0005504454.tif 000038
【０１２４】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は、各々、同一または相異なり；キノリン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（２９）：
【０１２５】
【化３８】
0005504454.tif 000039
【０１２６】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は、各々、同一または相異なり；チオフェン環は置換基を有していてもよく；ＳからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物が好適である。
【０１２７】
また、上記式（１）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが窒素原子であり、ｍが２である。すなわち、下記式（３０）：
【０１２８】
【化３９】
0005504454.tif 000040
【０１２９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが１である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、各々、同一または相異なり；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物が好適である。
【０１３０】
さらに、上記式（１）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが酸素原子であり、ｍが１である。すなわち、下記式（３１）：
【０１３１】
【化４０】
0005504454.tif 000041
【０１３２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、各々、同一または相異なり；ＯからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物が好適である。
【０１３３】
変数ｎについては、通常は１〜４の整数であるが、好ましくは１〜２の整数である。すなわち、上記式（１）で示されるホウ素化合物のうち、下記式（２）：
【０１３４】
【化４１】
0005504454.tif 000042
【０１３５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、ＸからＢに向かう矢印は上記式（１）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒｂは水素または１価の有機骨格である］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（３）：
【０１３６】
【化４２】
0005504454.tif 000043
【０１３７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、ＸからＢに向かう矢印は上記式（１）と同じ意味を有し；Ｒｃは２価の有機骨格であり；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は、各々、同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物が好適である。
【０１３８】
上記式（２）において、Ｒｂで表される１価の有機骨格としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基、フェニル基、４−メチルフェニル基（トリル基）、ナフチル基（例えば、２−ナフチル基など）などが挙げられるが、これらの有機骨格に限定されるものではない。
【０１３９】
上記式（３）において、Ｒｃで表される２価の有機骨格としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、フェニレン基（例えば、１，４−フェニレン基など）、ナフチレン基（例えば、２，６−ナフチレン基など）などが挙げられるが、これらの有機骨格に限定されるものではない。
【０１４０】
上記式（２）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環または該キノリン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。すなわち、下記式（３２）：
【０１４１】
【化４３】
0005504454.tif 000044
【０１４２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（１）と同じ意味を有し；ピリジン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは上記式（２）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（３３）：
【０１４３】
【化４４】
0005504454.tif 000045
【０１４４】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（１）と同じ意味を有し；キノリン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは上記式（２）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（３４）：
【０１４５】
【化４５】
0005504454.tif 000046
【０１４６】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（１）と同じ意味を有し；チオフェン環は置換基を有してもよく；ＳからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは上記式（２）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物が好適である。
【０１４７】
上記式（３）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環または該キノリン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。すなわち、下記式（３５）：
【０１４８】
【化４６】
0005504454.tif 000047
【０１４９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（１）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は、各々、同一または相異なり；ピリジン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｃは上記式（３）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（３６）：
【０１５０】
【化４７】
0005504454.tif 000048
【０１５１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（１）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は、各々、同一または相異なり；キノリン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｃは上記式（３）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（３７）：
【０１５２】
【化４８】
0005504454.tif 000049
【０１５３】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（１）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は、各々、同一または相異なり；チオフェン環は置換基を有していてもよく；ＳからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｃは上記式（３）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物が好適である。
【０１５４】
上記式（２）または（３）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが窒素原子であり、ｍが２である。すなわち、下記式（３８）：
【０１５５】
【化４９】
0005504454.tif 000050
【０１５６】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は上記式（１）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ４は同一または相異なり；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは上記式（２）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（３９）：
【０１５７】
【化５０】
0005504454.tif 000051
【０１５８】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は上記式（１）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、各々、同一または相異なり；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｃは上記式（３）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物が好適である。
【０１５９】
上記式（２）または（３）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが酸素原子であり、ｍが１である。すなわち、下記式（４０）：
【０１６０】
【化５１】
0005504454.tif 000052
【０１６１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は上記式（１）と同じ意味を有し；ＯからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは上記式（２）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（４１）：
【０１６２】
【化５２】
0005504454.tif 000053
【０１６３】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は上記式（１）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、各々、同一または相異なり；ＯからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｃは上記式（３）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物が好適である。
【０１６４】
上記式（１）で示されるホウ素化合物の具体例としては、例えば、下記式（Ａ−１）〜（Ａ−４８）、（Ｂ−１）〜（Ｂ−５３）、（Ｃ−１）〜（Ｃ−４６）、（Ｄ−１）〜（Ｄ−４７）、（Ｅ−１）〜（Ｅ−３）、（Ｆ−１）〜（Ｆ−４８）、（Ｇ−１）〜（Ｇ−４７）、（Ｈ−１）〜（Ｈ−４７）、（Ｉ−１）〜（Ｉ−４７）、（Ｊ−１）〜（Ｊ−４７）、（Ｋ−１）〜（Ｋ−４８）、（Ｌ−１）〜（Ｌ−４７）および（Ｍ−１）〜（Ｍ−４７）で示されるホウ素化合物が挙げられるが、これらのホウ素化合物に限定されるものではない。なお、下記式（Ａ−１）〜（Ａ−４８）、（Ｂ−１）〜（Ｂ−５３）、（Ｃ−１）〜（Ｃ−４６）、（Ｄ−１）〜（Ｄ−４７）、（Ｅ−１）〜（Ｅ−３）、（Ｆ−１）〜（Ｆ−４８）、（Ｇ−１）〜（Ｇ−４７）、（Ｈ−１）〜（Ｈ−４７）、（Ｉ−１）〜（Ｉ−４７）、（Ｊ−１）〜（Ｊ−４７）、（Ｋ−１）〜（Ｋ−４８）、（Ｌ−１）〜（Ｌ−４７）および（Ｍ−１）〜（Ｍ−４７）において、一端に元素記号が記載されていない直線は、メチル基が結合していることを表す。
【０１６５】
【化５３】
0005504454.tif 000054
【０１６６】
【化５４】
0005504454.tif 000055
【０１６７】
【化５５】
0005504454.tif 000056
【０１６８】
【化５６】
0005504454.tif 000057
【０１６９】
【化５７】
0005504454.tif 000058
【０１７０】
【化５８】
0005504454.tif 000059
【０１７１】
【化５９】
0005504454.tif 000060
【０１７２】
【化６０】
0005504454.tif 000061
【０１７３】
【化６１】
0005504454.tif 000062
【０１７４】
【化６２】
0005504454.tif 000063
【０１７５】
【化６３】
0005504454.tif 000064
【０１７６】
【化６４】
0005504454.tif 000065
【０１７７】
【化６５】
0005504454.tif 000066
【０１７８】
【化６６】
0005504454.tif 000067
【０１７９】
【化６７】
0005504454.tif 000068
【０１８０】
【化６８】
0005504454.tif 000069
【０１８１】
【化６９】
0005504454.tif 000070
【０１８２】
【化７０】
0005504454.tif 000071
【０１８３】
【化７１】
0005504454.tif 000072
【０１８４】
【化７２】
0005504454.tif 000073
【０１８５】
【化７３】
0005504454.tif 000074
【０１８６】
【化７４】
0005504454.tif 000075
【０１８７】
【化７５】
0005504454.tif 000076
【０１８８】
【化７６】
0005504454.tif 000077
【０１８９】
【化７７】
0005504454.tif 000078
【０１９０】
【化７８】
0005504454.tif 000079
【０１９１】
【化７９】
0005504454.tif 000080
【０１９２】
【化８０】
0005504454.tif 000081
【０１９３】
【化８１】
0005504454.tif 000082
【０１９４】
【化８２】
0005504454.tif 000083
【０１９５】
【化８３】
0005504454.tif 000084
【０１９６】
【化８４】
0005504454.tif 000085
【０１９７】
【化８５】
0005504454.tif 000086
【０１９８】
【化８６】
0005504454.tif 000087
【０１９９】
【化８７】
0005504454.tif 000088
【０２００】
【化８８】
0005504454.tif 000089
【０２０１】
【化８９】
0005504454.tif 000090
【０２０２】
【化９０】
0005504454.tif 000091
【０２０３】
【化９１】
0005504454.tif 000092
【０２０４】
【化９２】
0005504454.tif 000093
【０２０５】
【化９３】
0005504454.tif 000094
【０２０６】
【化９４】
0005504454.tif 000095
【０２０７】
【化９５】
0005504454.tif 000096
【０２０８】
【化９６】
0005504454.tif 000097
【０２０９】
【化９７】
0005504454.tif 000098
【０２１０】
【化９８】
0005504454.tif 000099
【０２１１】
【化９９】
0005504454.tif 000100
【０２１２】
【化１００】
0005504454.tif 000101
【０２１３】
【化１０１】
0005504454.tif 000102
【０２１４】
【化１０２】
0005504454.tif 000103
【０２１５】
【化１０３】
0005504454.tif 000104
【０２１６】
【化１０４】
0005504454.tif 000105
【０２１７】
【化１０５】
0005504454.tif 000106
【０２１８】
【化１０６】
0005504454.tif 000107
【０２１９】
【化１０７】
0005504454.tif 000108
【０２２０】
【化１０８】
0005504454.tif 000109
【０２２１】
【化１０９】
0005504454.tif 000110
【０２２２】
【化１１０】
0005504454.tif 000111
【０２２３】
【化１１１】
0005504454.tif 000112
【０２２４】
【化１１２】
0005504454.tif 000113
【０２２５】
【化１１３】
0005504454.tif 000114
【０２２６】
≪新規なホウ素化合物Ｉの製造方法≫
本発明の新規なホウ素化合物Ｉは、以下で説明する製造方法（１）、（２）、（３）、（４）または（５）により、効率よく簡便に製造することができる。また、その下位概念となるホウ素化合物は、以下で説明する製造方法（１−１）〜（１−５）、製造方法（２−１）〜（２−１７）、製造方法（３−１）〜（３−２）、製造方法（４−１）〜（４−３）または製造方法（５−１）〜（５−４）により、効率よく簡便に製造することができる。
【０２２７】
＜製造方法（１）＞
本発明の新規なホウ素化合物Ｉである下記式（１）：
【０２２８】
【化１１４】
0005504454.tif 000115
【０２２９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子であり；点線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であってもよいことを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒａは水素または１〜４価の有機骨格であり；ｎは１〜４の整数であり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は、各々、同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物は、下記式（４）：
【０２３０】
【化１１５】
0005504454.tif 000116
【０２３１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（５）：
【０２３２】
【化１１６】
0005504454.tif 000117
【０２３３】
［式中、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は上記式（１）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｙはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる。
【０２３４】
上記式（５）で示される化合物の使用量は、上記式（４）で示されるホウ素化合物１モルに対して、好ましくは０．５×ｎモル以上、２．０×ｎモル以下、より好ましくは０．６５×ｎモル以上、１．５×ｎモル以下、さらに好ましくは０．８×ｎモル以上、１．２５×ｎモル以下である。上記式（５）で示される化合物の使用量が少なすぎると、上記式（５）で示される化合物が不足し、最終生成物の収率が低下することがある。逆に、上記式（５）で示される化合物の使用量が多すぎると、上記式（５）で示される化合物が過剰であり、製造コストが上昇することがある。ここで、ｎは、上記式（１）において、Ｒｄで表される１〜４価の有機骨格に結合した含ホウ素環部分（角括弧で囲まれた部分）の数であり、１〜４の整数を表す。
【０２３５】
触媒には、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素が含まれる。これらの金属元素のうち、パラジウム、白金が好適である。
【０２３６】
触媒としては、例えば、上記のような金属元素を含む錯体が挙げられ、その具体例としては、例えば、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム・クロロホルム錯体（Ｐｄ２ｄｂａ３・ＣＨＣｌ３）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（Ｐｄ（ＰｔＢｕ３）２）、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム、ビス（１，５−シクロオクタジエン）白金、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケルなどが挙げられる。これらの触媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの触媒のうち、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム・クロロホルム錯体（Ｐｄ２ｄｂａ３・ＣＨＣｌ３）が好適である。
【０２３７】
触媒の使用量としては、上記式（４）で示されるホウ素化合物１モルに対して、好ましくは０．００１モル以上、０．２モル以下、より好ましくは０．００５モル以上、０．１５モル以下、さらに好ましくは０．０１モル以上、０．１モル以下である。触媒の使用量が少なすぎると、反応速度が遅く、反応が速やかに進行しないことがある。逆に、触媒の使用量が多すぎると、必要以上に触媒を使用することになり、製造コストが上昇することがある。
【０２３８】
上記反応には、触媒に加えて、安定化剤を用いてもよい。安定化剤としては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン（Ｐ（ｏ−ｔｏｌ）３）、トリ（２−フリル）ホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリメチルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、ビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテル（ＤＰＥｐｈｏｓ；別名「（オキシジ−２，１−フェニレン）ビス（ジフェニルホスフィン）」）、ビピリジンなどが挙げられる。これらの安定化剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの安定化剤のうち、ビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテル（ＤＰＥｐｈｏｓ）が好適である。
【０２３９】
安定化剤の使用量としては、上記式（４）で示されるホウ素化合物１モルに対して、好ましくは０．０１モル以上、０．３モル以下、より好ましくは０．０２モル以上、０．２５モル以下、さらに好ましくは０．０３モル以上、０．２モル以下である。安定化剤の使用量が少なすぎると、安定化剤の機能が充分に発揮されず、最終生成物の収率が低下することがある。逆に、安定化剤の使用量が多すぎると、必要以上に安定化剤を使用することになり、製造コストが上昇することがある。
【０２４０】
なお、ホスフィン配位子などの安定化剤を含む触媒（例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムなど）を用いた場合には、さらに安定化剤を用いる必要はない。
【０２４１】
上記反応は、通常、有機溶媒中で行われる。有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素類；クロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼンなどのハロゲン化芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレンなどのハロゲン化脂肪族炭化水素類；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブチルアルコール、イソペンチルアルコールなどのアルコール類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチル、酢酸イソペンチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチルフェニルエーテル（アニソール）などのエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（セロソルブ）、エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（セロソルブアセテート）などのグリコールエーテル（セロソルブ）類；シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素類；ｎ−ヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；などが挙げられる。これらの有機溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの有機溶媒のうち、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類が好適である。
【０２４２】
上記反応は、好ましくは、不活性ガスの雰囲気下で行われる。不活性ガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴンなどが挙げられる。これらの不活性ガスは、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの不活性ガスのうち、窒素、アルゴンが好適である。
【０２４３】
反応条件としては、上記反応が充分に進行する条件である限り、特に限定されるものではないが、例えば、反応温度は、好ましくは０〜１００℃、より好ましくは室温〜８０℃であり、また、反応時間は、好ましくは０．５〜２４時間、より好ましくは１〜１２時間である。反応圧力は、常圧、減圧または加圧のいずれでもよいが、好ましくは、常圧である。
【０２４４】
反応終了後、例えば、反応溶液をそのまま濃縮または蒸発乾固し、あるいは、反応溶液に水を加え、適当な有機溶媒で抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した後、濃縮または蒸発乾固し、必要に応じて、各種クロマトグラフィーや再結晶などの従来公知の方法で精製することにより、目的生成物が得られる。
【０２４５】
製造方法（１）において、原料物質である上記式（４）で示されるホウ素化合物は、下記式（４２）：
【０２４６】
【化１１７】
0005504454.tif 000118
【０２４７】
［式中、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有する］
で示される１−アルキン化合物と、例えば、ｎ−ブチルリチウムナトリウムアミドなどの強塩基との間の酸−塩基反応により、塩を形成させた後、この塩に、下記式（４３）：
【０２４８】
【化１１８】
0005504454.tif 000119
【０２４９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（１）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物またはその錯体を反応させ、さらに下記式（４４）：
【０２５０】
【化１１９】
0005504454.tif 000120
【０２５１】
［式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（４）と同じ意味を有し；Ｔ−はフッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオンまたは水酸化物イオンである］
で示されるアンモニウム塩を反応させてカチオン交換することにより製造することができる。なお、これらの反応は従来公知であり（例えば、Ｄｉｅｔｍａｒ  Ｓｅｙｆｅｒｔｈ  ａｎｄ  Ｍｉｃｈａｅｌ  Ａ．  Ｗｅｉｎｒ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９６１，８３（１７），ｐｐ．３５８３−３５８６を参照）、原料物質の使用量、有機溶媒の種類、反応条件などは適宜選択すればよく、特に限定されるものではない。また、原料物質である上記式（４２）で示される１−アルキン化合物、上記式（４３）で示されるホウ素化合物、および、上記式（４４）で示されるアンモニウム塩は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０２５２】
製造方法（１）において、原料物質である上記式（５）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０２５３】
＜製造方法（１−１）〜（１−３）＞
上記式（１）および（５）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環または該キノリン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。すなわち、下記式（２７）：
【０２５４】
【化１２０】
0005504454.tif 000121
【０２５５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は、各々、同一または相異なり；ピリジン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（４）：
【０２５６】
【化１２１】
0005504454.tif 000122
【０２５７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（４５）：
【０２５８】
【化１２２】
0005504454.tif 000123
【０２５９】
［式中、Ｙは上記式（５）と同じ意味を有し；ピリジン環は置換基を有してもよい］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（１−１）」ということがある。）、また、下記式（２８）：
【０２６０】
【化１２３】
0005504454.tif 000124
【０２６１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は、各々、同一または相異なり；キノリン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（４）：
【０２６２】
【化１２４】
0005504454.tif 000125
【０２６３】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（４６）：
【０２６４】
【化１２５】
0005504454.tif 000126
【０２６５】
［式中、Ｙは上記式（５）と同じ意味を有し；キノリン環は置換基を有していてもよい］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（１−２）」ということがある。）、また、下記式（２９）：
【０２６６】
【化１２６】
0005504454.tif 000127
【０２６７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は、各々、同一または相異なり；チオフェン環は置換基を有していてもよく；ＳからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（４）：
【０２６８】
【化１２７】
0005504454.tif 000128
【０２６９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（４７）：
【０２７０】
【化１２８】
0005504454.tif 000129
【０２７１】
［式中、Ｙは上記式（５）と同じ意味を有し；チオフェン環は置換基を有していてもよい］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（１−３）」ということがある。）。
【０２７２】
製造方法（１−１）、（１−２）または（１−３）において、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の種類や使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（１）と同様である。ただし、上記式（５）で示される化合物を上記式（４５）、（４６）または（４７）で示される化合物に読み替えるものとする。
【０２７３】
製造方法（１−１）、（１−２）または（１−３）において、原料物質である上記式（４）で示されるホウ素化合物は、上記した方法により製造することができる。また、原料物質である上記式（４５）、（４６）または（４７）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０２７４】
＜製造方法（１−４）＞
上記式（１）および（５）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが窒素原子であり、ｍが２である。すなわち、下記式（３０）：
【０２７５】
【化１２９】
0005504454.tif 000130
【０２７６】
［式中、式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが１である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、各々、同一または相異なり；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物は、下記式（４）：
【０２７７】
【化１３０】
0005504454.tif 000131
【０２７８】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（４８）：
【０２７９】
【化１３１】
0005504454.tif 000132
【０２８０】
［式中、Ｒ４は上記式（１）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｙは上記式（５）と同じ意味を有する］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（１−４）」ということがある。）。
【０２８１】
製造方法（１−４）において、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の種類や使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（１）と同様である。ただし、上記式（５）で示される化合物を上記式（４８）で示される化合物に読み替えるものとする。
【０２８２】
製造方法（１−４）において、原料物質である上記式（４）で示されるホウ素化合物は、上記した方法により製造することができる。また、原料物質である上記式（４８）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０２８３】
＜製造方法（１−５）＞
上記式（１）および（５）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが酸素原子であり、ｍが１である。すなわち、下記式（３１）：
【０２８４】
【化１３２】
0005504454.tif 000133
【０２８５】
［式中、式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、各々、同一または相異なり；ＯからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物は、下記式（４）：
【０２８６】
【化１３３】
0005504454.tif 000134
【０２８７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（４９）：
【０２８８】
【化１３４】
0005504454.tif 000135
【０２８９】
［式中、Ｒ４は上記式（１）と同じ意味を有し；Ｙは上記式（５）と同じ意味を有する］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（１−５）」ということがある。）。
【０２９０】
製造方法（１−５）において、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の種類や使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（１）と同様である。ただし、上記式（５）で示される化合物を上記式（４９）で示される化合物に読み替えるものとする。
【０２９１】
製造方法（１−５）において、原料物質である上記式（４）で示されるホウ素化合物は、上記した方法により製造することができる。また、原料物質である上記式（４９）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０２９２】
＜製造方法（２）＞
本発明の新規なホウ素化合物Ｉのうち、下記式（６）：
【０２９３】
【化１３５】
0005504454.tif 000136
【０２９４】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子であり；点線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であってもよいことを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｄは１〜４価の有機骨格であり；ｎは１〜４の整数であり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は、各々、同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物は、下記式（７）：
【０２９５】
【化１３６】
0005504454.tif 000137
【０２９６】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は上記式（６）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（８）：
【０２９７】
【化１３７】
0005504454.tif 000138
【０２９８】
［式中、Ｒｄおよびｎは上記式（６）と同じ意味を有し；Ｙはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＹは同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（２）」ということがある。）。
【０２９９】
上記式（８）で示される化合物の使用量は、上記式（７）で示されるホウ素化合物１モルに対して、好ましくは０．５／ｎモル以上、２．０／ｎモル以下、より好ましくは０．６５／ｎモル以上、１．５／ｎモル以下、さらに好ましくは０．８／ｎモル以上、１．２５／ｎモル以下である。上記式（８）で示される化合物の使用量が少なすぎると、上記式（８）で示される化合物が不足し、最終生成物の収率が低下することがある。逆に、上記式（８）で示される化合物の使用量が多すぎると、上記式（８）で示される化合物が過剰であり、製造コストが上昇することがある。ここで、ｎは、上記式（６）において、Ｒｄで表される１〜４価の有機骨格に結合した含ホウ素環部分（角括弧で囲まれた部分）の数であり、１〜４の整数を表す。
【０３００】
触媒には、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素が含まれる。これらの金属元素のうち、パラジウム、白金が好適である。
【０３０１】
触媒としては、例えば、上記のような金属元素を含む錯体が挙げられ、その具体例としては、例えば、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム・クロロホルム錯体（Ｐｄ２ｄｂａ３・ＣＨＣｌ３）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（Ｐｄ（ＰｔＢｕ３）２）、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム、ビス（１，５−シクロオクタジエン）白金、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケルなどが挙げられる。これらの触媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの触媒のうち、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム・クロロホルム錯体（Ｐｄ２ｄｂａ３・ＣＨＣｌ３）が好適である。
【０３０２】
触媒の使用量としては、上記式（７）で示されるホウ素化合物１モルに対して、好ましくは０．００１モル以上、０．２モル以下、より好ましくは０．００５モル以上、０．１５モル以下、さらに好ましくは０．０１モル以上、０．１モル以下である。触媒の使用量が少なすぎると、反応速度が遅く、反応が速やかに進行しないことがある。逆に、触媒の使用量が多すぎると、必要以上に触媒を使用することになり、製造コストが上昇することがある。
【０３０３】
上記反応には、触媒に加えて、安定化剤を用いてもよい。安定化剤としては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン（Ｐ（ｏ−ｔｏｌ）３）、トリ（２−フリル）ホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリメチルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、ビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテル（ＤＰＥｐｈｏｓ；別名「（オキシジ−２，１−フェニレン）ビス（ジフェニルホスフィン）」）、ビピリジンなどが挙げられる。これらの安定化剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの安定化剤のうち、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン（Ｐ（ｏ−ｔｏｌ）３）が好適である。
【０３０４】
安定化剤の使用量としては、上記式（７）で示されるホウ素化合物１モルに対して、好ましくは０．０１モル以上、０．３モル以下、より好ましくは０．０２モル以上、０．２５モル以下、さらに好ましくは０．０３モル以上、０．２モル以下である。安定化剤の使用量が少なすぎると、安定化剤の機能が充分に発揮されず、最終生成物の収率が低下することがある。逆に、安定化剤の使用量が多すぎると、必要以上に安定化剤を使用することになり、製造コストが上昇することがある。
【０３０５】
なお、ホスフィン配位子などの安定化剤を含む触媒（例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムなど）を用いた場合には、さらに安定化剤を用いる必要はない。
【０３０６】
上記反応は、通常、有機溶媒中で行われる。有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素類；クロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼンなどのハロゲン化芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレンなどのハロゲン化脂肪族炭化水素類；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブチルアルコール、イソペンチルアルコールなどのアルコール類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチル、酢酸イソペンチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチルフェニルエーテル（アニソール）などのエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（セロソルブ）、エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（セロソルブアセテート）などのグリコールエーテル（セロソルブ）類；シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素類；ｎ−ヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；などが挙げられる。これらの有機溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの有機溶媒のうち、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフランなどのエーテル類が好適である。
【０３０７】
上記反応は、好ましくは、不活性ガスの雰囲気下で行われる。不活性ガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴンなどが挙げられる。これらの不活性ガスは、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの不活性ガスのうち、窒素、アルゴンが好適である。
【０３０８】
反応条件としては、上記反応が充分に進行する条件である限り、特に限定されるものではないが、例えば、反応温度は、好ましくは０〜１００℃、より好ましくは室温〜８０℃であり、また、反応時間は、好ましくは０．５〜２４時間、より好ましくは１〜１２時間である。反応圧力は、常圧、減圧または加圧のいずれでもよいが、好ましくは、常圧である。
【０３０９】
反応終了後、例えば、反応溶液をそのまま濃縮または蒸発乾固し、あるいは、反応溶液に水を加え、適当な有機溶媒で抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した後、濃縮または蒸発乾固し、必要に応じて、各種クロマトグラフィーや再結晶などの従来公知の方法で精製することにより、目的生成物が得られる。
【０３１０】
製造方法（２）において、原料物質である上記式（７）で示されるホウ素化合物は、下記式（５０）：
【０３１１】
【化１３８】
0005504454.tif 000139
【０３１２】
［式中、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は上記式（６）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なる］
で示される１−アルキン化合物と、例えば、ｎ−ブチルリチウムやナトリウムアミドなどの強塩基との間の酸−塩基反応により、塩を生成させた後、この塩に、下記式（５１）：
【０３１３】
【化１３９】
0005504454.tif 000140
【０３１４】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（６）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物またはその錯体を反応させ、さらに下記式（５２）：
【０３１５】
【化１４０】
0005504454.tif 000141
【０３１６】
［式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（７）と同じ意味を有し；Ｔ−はフッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオンまたは水酸化物イオンを表す］
で示されるアンモニウム塩を反応させてカチオン交換することにより製造することができる。なお、これらの反応は従来公知であり（例えば、Ｄｉｅｔｍａｒ  Ｓｅｙｆｅｒｔｈ  ａｎｄ  Ｍｉｃｈａｅｌ  Ａ．  Ｗｅｉｎｒ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９６１，８３（１７），ｐｐ．３５８３−３５８６を参照）、原料物質の使用量、有機溶媒の種類、反応条件などは適宜選択すればよく、特に限定されるものではない。また、原料物質である上記式（５０）で示される１−アルキン化合物、上記式（５１）で示されるホウ素化合物、および、上記式（５２）で示されるアンモニウム塩は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０３１７】
製造方法（２）において、原料物質である上記式（８）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０３１８】
＜製造方法（２−１）〜（２−３）＞
上記式（６）および（７）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環または該キノリン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。すなわち、下記式（５３）：
【０３１９】
【化１４１】
0005504454.tif 000142
【０３２０】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒｄおよびｎは上記式（６）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は、各々、同一または相異なり；ピリジン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（５４）：
【０３２１】
【化１４２】
0005504454.tif 000143
【０３２２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（６）と同じ意味を有し；ピリジン環は置換基を有していてもよく；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（７）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物を、下記式（８）：
【０３２３】
【化１４３】
0005504454.tif 000144
【０３２４】
［式中、Ｒｄおよびｎは上記式（６）と同じ意味を有し；Ｙはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＹは同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（２−１）」ということがある。）、また、下記式（５５）：
【０３２５】
【化１４４】
0005504454.tif 000145
【０３２６】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒｄおよびｎは上記式（６）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は、各々、同一または相異なり；キノリン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（５６）：
【０３２７】
【化１４５】
0005504454.tif 000146
【０３２８】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（６）と同じ意味を有し；キノリン環は置換基を有していてもよく；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（７）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物を、下記式（８）：
【０３２９】
【化１４６】
0005504454.tif 000147
【０３３０】
［式中、Ｒｄおよびｎは上記式（６）と同じ意味を有し；Ｙはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＹは同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（２−２）」ということがある。）、また、下記式（５７）：
【０３３１】
【化１４７】
0005504454.tif 000148
【０３３２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒｄおよびｎは上記式（６）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は、各々、同一または相異なり；チオフェン環は置換基を有していてもよく；ＳからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（５８）：
【０３３３】
【化１４８】
0005504454.tif 000149
【０３３４】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（６）と同じ意味を有し；チオフェン環は置換基を有していてもよく；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（７）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物を、下記式（８）：
【０３３５】
【化１４９】
0005504454.tif 000150
【０３３６】
［式中、Ｒｄおよびｎは上記式（６）と同じ意味を有し；Ｙはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＹは同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（２−３）」ということがある。）。
【０３３７】
製造方法（２−１）、（２−２）または（２−３）において、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の種類や使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（２）と同様である。ただし、上記式（７）で示されるホウ素化合物を上記式（５４）、（５６）または（５８）で示されるホウ素化合物に読み替えるものとする。
【０３３８】
製造方法（２−１）、（２−２）または（２−３）において、原料物質である上記式（５４）、（５６）または（５８）で示されるホウ素化合物は、上記式（７）で示されるホウ素化合物の製造方法に準じて、製造することができる。また、原料物質である上記式（８）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０３３９】
＜製造方法（２−４）＞
上記式（６）および（７）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが窒素原子であり、ｍが２である。すなわち、下記式（５９）：
【０３４０】
【化１５０】
0005504454.tif 000151
【０３４１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒｄおよびｎは上記式（６）と同じ意味を有し；ｎが１である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、各々、同一または相異なり；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（６０）：
【０３４２】
【化１５１】
0005504454.tif 000152
【０３４３】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は上記式（６）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（７）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物を、下記式（８）：
【０３４４】
【化１５２】
0005504454.tif 000153
【０３４５】
［式中、Ｒｄおよびｎは上記式（６）と同じ意味を有し；Ｙはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＹは同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（２−４）」ということがある。）。
【０３４６】
製造方法（２−４）において、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の種類や使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（１）と同様である。ただし、上記式（７）で示されるホウ素化合物を上記式（６０）で示されるホウ素化合物に読み替えるものとする。
【０３４７】
製造方法（２−４）において、原料物質である上記式（６０）で示されるホウ素化合物は、上記式（７）で示されるホウ素化合物の製造方法に準じて、製造することができる。また、原料物質である上記式（８）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０３４８】
＜製造方法（２−５）＞
また、上記式（６）および（７）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが酸素原子であり、ｍが１である。すなわち、下記式（６１）：
【０３４９】
【化１５３】
0005504454.tif 000154
【０３５０】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒｄおよびｎは上記式（６）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、各々、同一または相異なり；ＯからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（６２）：
【０３５１】
【化１５４】
0005504454.tif 000155
【０３５２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４上記式（６）と同じ意味を有し；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（７）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物を、下記式（８）：
【０３５３】
【化１５５】
0005504454.tif 000156
【０３５４】
［式中、Ｒｄおよびｎは上記式（６）と同じ意味を有し；Ｙはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＹは同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（２−５）」ということがある。）。
【０３５５】
製造方法（２−５）において、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の種類や使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（１）と同様である。ただし、上記式（７）で示されるホウ素化合物を上記式（６２）で示されるホウ素化合物に読み替えるものとする。
【０３５６】
製造方法（２−５）において、原料物質である上記式（６２）示されるホウ素化合物は、上記式（７）で示されるホウ素化合物の製造方法に準じて、製造することができる。また、原料物質である上記式（８）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０３５７】
＜製造方法（２−６）＞
上記式（６）で示されるホウ素化合物のうち、下記式（９）：
【０３５８】
【化１５６】
0005504454.tif 000157
【０３５９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、ＸからＢに向かう矢印は上記式（６）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒｅは１価の有機骨格である］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（７）：
【０３６０】
【化１５７】
0005504454.tif 000158
【０３６１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は上記式（６）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、上記式（８）において、Ｒｄが１価の有機骨格を表すＲｅであり、ｎが１である化合物、すなわち、下記式（６３）：
【０３６２】
【化１５８】
0005504454.tif 000159
【０３６３】
［式中、Ｒｅは上記式（９）と同じ意味を有し；Ｙは上記式（８）と同じ意味を有する］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（２−６）」ということがある。）。
【０３６４】
製造方法（２−６）において、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の種類や使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（１）と同様である。ただし、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の使用量については、変数ｎに１を代入した値とし、また、上記式（８）で示される化合物を上記式（６３）で示される化合物に読み替えるものとする。
【０３６５】
製造方法（２−６）において、原料物質である上記式（７）で示されるホウ素化合物は、上記した方法により製造することができる。また、原料物質である上記式（６３）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０３６６】
＜製造方法（２−７）＞
また、上記式（６）で示されるホウ素化合物のうち、下記式（３）：
【０３６７】
【化１５９】
0005504454.tif 000160
【０３６８】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、ＸからＢに向かう矢印は上記式（６）と同じ意味を有し；Ｒｃは２価の有機骨格であり：複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は、各々、同一または相異なる］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（７）：
【０３６９】
【化１６０】
0005504454.tif 000161
【０３７０】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は上記式（６）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、上記式（８）において、Ｒｄが２価の有機骨格を表すＲｃであり、ｎが２である化合物、すなわち、下記式（６４）：
【０３７１】
【化１６１】
0005504454.tif 000162
【０３７２】
［式中、Ｒｃは上記式（３）と同じ意味を有し；Ｙは上記式（８）と同じ意味を有し；複数個存在するＹは同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（２−７）」ということがある。）。
【０３７３】
製造方法（２−７）において、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の種類や使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（１）と同様である。ただし、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の使用量については、変数ｎに２を代入した値とし、また、上記式（８）で示される化合物を上記式（６４）で示される化合物に読み替えるものとする。
【０３７４】
製造方法（２−７）において、原料物質である上記式（７）で示されるホウ素化合物は、上記した方法により製造することができる。また、原料物質である上記式（６４）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０３７５】
＜製造方法（２−８）〜（２−１０）＞
上記式（９）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環または該キノリン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。すなわち、下記式（６５）：
【０３７６】
【化１６２】
0005504454.tif 000163
【０３７７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（６）と同じ意味を有し；ピリジン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｅは上記式（９）と同じ意味を有する］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（５４）：
【０３７８】
【化１６３】
0005504454.tif 000164
【０３７９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（６）と同じ意味を有し；ピリジン環は置換基を有していてもよく；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（７）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物を、下記式（６３）：
【０３８０】
【化１６４】
0005504454.tif 000165
【０３８１】
［式中、Ｒｅは上記式（９）と同じ意味を有し；Ｙは上記式（８）と同じ意味を有する］
と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（２−８）」ということがある。）、また、下記式（６６）：
【０３８２】
【化１６５】
0005504454.tif 000166
【０３８３】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（６）と同じ意味を有し；キノリン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｅは上記式（９）と同じ意味を有する］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（５６）：
【０３８４】
【化１６６】
0005504454.tif 000167
【０３８５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（６）と同じ意味を有し；キノリン環は置換基を有していてもよく；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（７）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物を、下記式（６３）：
【０３８６】
【化１６７】
0005504454.tif 000168
【０３８７】
［式中、Ｒｅは上記式（９）と同じ意味を有し；Ｙは上記式（８）と同じ意味を有する］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（２−９）」ということがある。）、また、下記式（６７）：
【０３８８】
【化１６８】
0005504454.tif 000169
【０３８９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（６）と同じ意味を有し；チオフェン環は置換基を有していてもよく；ＳからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｅは上記式（９）と同じ意味を有する］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（５８）：
【０３９０】
【化１６９】
0005504454.tif 000170
【０３９１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（６）と同じ意味を有し；チオフェン環は置換基を有していてもよく；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（７）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物を、下記式（６３）：
【０３９２】
【化１７０】
0005504454.tif 000171
【０３９３】
［式中、Ｒｅは上記式（９）と同じ意味を有し；Ｙは上記式（８）と同じ意味を有する］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（２−１０）」ということがある。）。
【０３９４】
製造方法（２−８）、（２−９）または（２−１０）において、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の種類や使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（２）と同様である。ただし、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の使用量については、変数ｎに１を代入した値とし、また、上記式（７）で示されるホウ素化合物を上記式（５４）、（５６）または（５８）で示されるホウ素化合物に読み替え、上記式（８）で示される化合物を上記式（６３）に読み替えるものとする。
【０３９５】
製造方法（２−８）、（２−９）または（２−１０）において、原料物質である上記式（５４）、（５６）または（５８）で示されるホウ素化合物は、上記式（７）で示されるホウ素化合物の製造方法に準じて、製造することができる。また、原料物質である上記式（６３）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０３９６】
＜製造方法（２−１１）〜（２−１３）＞
上記式（３）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環または該キノリン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。すなわち、下記式（６８）：
【０３９７】
【化１７１】
0005504454.tif 000172
【０３９８】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（６）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は、各々、同一または相異なり；ピリジン環は置換基を有していてもよく；Ｒｃは上記式（３）と同じ意味を有する］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（５４）：
【０３９９】
【化１７２】
0005504454.tif 000173
【０４００】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（６）と同じ意味を有し；ピリジン環は置換基を有していてもよく；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（７）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物を、下記式（６４）：
【０４０１】
【化１７３】
0005504454.tif 000174
【０４０２】
［式中、Ｒｃは上記式（３）と同じ意味を有し；Ｙは上記式（８）と同じ意味を有し；複数個存在するＹは同一または相異なる］
と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（２−１１）」ということがある。）、また、下記式（６９）：
【０４０３】
【化１７４】
0005504454.tif 000175
【０４０４】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（６）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は、各々、同一または相異なり；キノリン環は置換基を有していてもよく；Ｒｃは上記式（３）と同じ意味を有する］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（５６）：
【０４０５】
【化１７５】
0005504454.tif 000176
【０４０６】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（６）と同じ意味を有し；キノリン環は置換基を有していてもよく；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（７）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物を、下記式（６４）：
【０４０７】
【化１７６】
0005504454.tif 000177
【０４０８】
［式中、Ｒｃは上記式（３）と同じ意味を有し；Ｙは上記式（８）と同じ意味を有し；複数個存在するＹは同一または相異なる］
と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（２−１２）」ということがある。）、また、下記式（７０）：
【０４０９】
【化１７７】
0005504454.tif 000178
【０４１０】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（６）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は、各々、同一または相異なり；チオフェン環は置換基を有していてもよく；Ｒｃは上記式（３）と同じ意味を有する］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（５８）：
【０４１１】
【化１７８】
0005504454.tif 000179
【０４１２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（６）と同じ意味を有し；チオフェン環は置換基を有していてもよく；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（７）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物を、下記式（６４）：
【０４１３】
【化１７９】
0005504454.tif 000180
【０４１４】
［式中、Ｒｃは上記式（３）と同じ意味を有し；Ｙは上記式（８）と同じ意味を有し；複数個存在するＹは同一または相異なる］
と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（２−１３）」ということがある。）。
【０４１５】
製造方法（２−１１）、（２−１２）または（２−１３）において、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の種類や使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（２）と同様である。ただし、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の使用量については、変数ｎに２を代入した値とし、また、上記式（７）で示されるホウ素化合物を上記式（５４）、（５６）または（５８）で示されるホウ素化合物に読み替え、上記式（８）で示される化合物を上記式（６４）で示される化合物に読み替えるものとする。
【０４１６】
製造方法（２−１１）、（２−１２）または（２−１３）において、原料物質である上記式（５４）、（５６）または（５８）で示されるホウ素化合物は、上記式（７）で示されるホウ素化合物の製造方法に準じて、製造することができる。また、原料物質である上記式（６４）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０４１７】
＜製造方法（２−１４）および（２−１５）＞
上記式（９）または（３）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが窒素原子であり、ｍが２である。すなわち、下記式（７１）：
【０４１８】
【化１８０】
0005504454.tif 000181
【０４１９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は上記式（６）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ４は同一または相異なり；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｅは上記式（９）と同じ意味を有する］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（６０）：
【０４２０】
【化１８１】
0005504454.tif 000182
【０４２１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は上記式（６）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（７）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物を、下記式（６３）：
【０４２２】
【化１８２】
0005504454.tif 000183
【０４２３】
［式中、Ｒｅは上記式（９）と同じ意味を有し；Ｙは上記式（８）と同じ意味を有する］
と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（２−１４）」ということがある。）、また、下記式（７２）：
【０４２４】
【化１８３】
0005504454.tif 000184
【０４２５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は上記式（６）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、各々、同一または相異なり；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｃは上記式（３）と同じ意味を有する］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（６０）：
【０４２６】
【化１８４】
0005504454.tif 000185
【０４２７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は上記式（６）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（７）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物を、下記式（６４）：
【０４２８】
【化１８５】
0005504454.tif 000186
【０４２９】
［式中、Ｒｃは上記式（３）と同じ意味を有し；Ｙは上記式（８）と同じ意味を有し；複数個存在するＹは同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（２−１５）」ということがある。）。
【０４３０】
製造方法（２−１４）または（２−１５）において、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の種類や使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（２）と同様である。ただし、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の使用量については、各々、変数ｎに１または２を代入した値とし、また、上記式（７）で示されるホウ素化合物を上記式（６０）で示されるホウ素化合物に読み替え、上記式（８）で示される化合物を上記式（６３）または（６４）で示される化合物に読み替えるものとする。
【０４３１】
製造方法（２−１４）または（２−１５）において、原料物質である上記式（６０）で示されるホウ素化合物は、上記式（７）で示されるホウ素化合物の製造方法に準じて、製造することができる。また、原料物質である上記式（６３）または（６４）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０４３２】
＜製造方法（２−１６）および（２−１７）＞
上記式（９）または（３）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが酸素原子であり、ｍが１である。すなわち、下記式（７３）：
【０４３３】
【化１８６】
0005504454.tif 000187
【０４３４】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は上記式（６）と同じ意味を有し；ＯからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｅは上記式（９）と同じ意味を有する］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（６２）：
【０４３５】
【化１８７】
0005504454.tif 000188
【０４３６】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は上記式（６）と同じ意味を有し；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（７）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物を、下記式（６３）：
【０４３７】
【化１８８】
0005504454.tif 000189
【０４３８】
［式中、Ｒｅは上記式（９）と同じ意味を有し；Ｙは上記式（８）と同じ意味を有する］
と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（２−１６）」ということがある。）、また、下記式（７４）：
【０４３９】
【化１８９】
0005504454.tif 000190
【０４４０】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は上記式（６）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、各々、同一または相異なり；ＯからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｃは上記式（３）と同じ意味を有する］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（６２）：
【０４４１】
【化１９０】
0005504454.tif 000191
【０４４２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は上記式（６）と同じ意味を有し；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（７）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物を、下記式（６４）：
【０４４３】
【化１９１】
0005504454.tif 000192
【０４４４】
［式中、Ｒｃは上記式（３）と同じ意味を有し；Ｙは上記式（８）と同じ意味を有し；複数個存在するＹは同一または相異なる］
と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（２−１７）」ということがある。）。
【０４４５】
製造方法（２−１６）または（２−１７）において、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の種類や使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（２）と同様である。ただし、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の使用量については、各々、変数ｎに１または２を代入した値とし、また、上記式（７）で示されるホウ素化合物を上記式（６２）で示されるホウ素化合物に読み替え、上記式（８）で示される化合物を上記式（６３）または（６４）で示される化合物に読み替えるものとする。
【０４４６】
製造方法（２−１６）または（２−１７）において、原料物質である上記式（６２）で示されるホウ素化合物は、上記式（７）で示されるホウ素化合物の製造方法に準じて、製造することができる。また、原料物質である上記式（６３）または（６４）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０４４７】
＜製造方法（３）＞
本発明の新規なホウ素化合物Ｉのうち、下記式（１１）：
【０４４８】
【化１９２】
0005504454.tif 000193
【０４４９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子であり；点線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であってもよいことを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは水素または１価の有機骨格である］
で示されるホウ素化合物は、下記式（１２）：
【０４５０】
【化１９３】
0005504454.tif 000194
【０４５１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒｂ、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は上記式（１１）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物を、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（３）」ということがある。）。
【０４５２】
上記式（１２）で示されるホウ素化合物の使用量は、最終生成物の必要量に応じて適宜調節すればよく、特に限定されるものではないが、例えば、有機溶媒１ｍＬあたり、好ましくは０．０１ｍｍｏｌ以上、２ｍｍｏｌ以下、より好ましくは０．０５ｍｍｏｌ以上、１ｍｍｏｌ以下、さらに好ましくは０．１ｍｍｏｌ以上、０．５ｍｍｏｌ以下である。上記式（１２）で示されるホウ素化合物の使用量が少なすぎると、反応効率が悪く、生産性が低下することがある。逆に、上記式（１２）で示されるホウ素化合物の使用量が多すぎると、場合によっては、上記式（１２）で示されるホウ素化合物が有機溶媒に溶解しにくく、収率が低下することがある。
【０４５３】
触媒には、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素が含まれる。これらの金属元素のうち、パラジウム、白金が好適である。
【０４５４】
触媒としては、例えば、上記のような金属元素を含む錯体が挙げられ、その具体例としては、例えば、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム・クロロホルム錯体（Ｐｄ２ｄｂａ３・ＣＨＣｌ３）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（Ｐｄ（ＰｔＢｕ３）２）、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム、ビス（１，５−シクロオクタジエン）白金、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケルなどが挙げられる。これらの触媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの触媒のうち、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム・クロロホルム錯体（Ｐｄ２ｄｂａ３・ＣＨＣｌ３）が好適である。
【０４５５】
触媒の使用量としては、上記式（１２）で示されるホウ素化合物１モルに対して、好ましくは０．００１モル以上、０．２モル以下、より好ましくは０．００５モル以上、０．１５モル以下、さらに好ましくは０．０１モル以上、０．１モル以下である。触媒の使用量が少なすぎると、反応速度が遅く、反応が速やかに進行しないことがある。逆に、触媒の使用量が多すぎると、必要以上に触媒を使用することになり、製造コストが上昇することがある。
【０４５６】
上記反応には、触媒に加えて、安定化剤を用いてもよい。安定化剤としては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン（Ｐ（ｏ−ｔｏｌ）３）、トリ（２−フリル）ホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリメチルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、ビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテル（ＤＰＥｐｈｏｓ；別名「（オキシジ−２，１−フェニレン）ビス（ジフェニルホスフィン）」）、ビピリジンなどが挙げられる。これらの安定化剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの安定化剤のうち、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン（Ｐ（ｏ−ｔｏｌ）３）が好適である。
【０４５７】
安定化剤の使用量としては、上記式（１２）で示されるホウ素化合物１モルに対して、好ましくは０．０１モル以上、０．３モル以下、より好ましくは０．０２モル以上、０．２５モル以下、さらに好ましくは０．０３モル以上、０．２モル以下である。安定化剤の使用量が少なすぎると、安定化剤の機能が充分に発揮されず、収率が低下することがある。逆に、安定化剤の使用量が多すぎると、必要以上に安定化剤を使用することになり、製造コストが上昇することがある。
【０４５８】
なお、ホスフィン配位子などの安定化剤を含む触媒（例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムなど）を用いた場合には、さらに安定化剤を用いる必要はない。
【０４５９】
上記反応は、通常、有機溶媒中で行われる。有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素類；クロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼンなどのハロゲン化芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレンなどのハロゲン化脂肪族炭化水素類；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブチルアルコール、イソペンチルアルコールなどのアルコール類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチル、酢酸イソペンチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチルフェニルエーテル（アニソール）などのエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（セロソルブ）、エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（セロソルブアセテート）などのグリコールエーテル（セロソルブ）類；シクロヘキサン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノールなどの脂環式炭化水素類；ｎ−ヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；などが挙げられる。これらの有機溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの有機溶媒のうち、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフランなどのエーテル類が好適である。
【０４６０】
上記反応は、好ましくは、不活性ガスの雰囲気下で行われる。不活性ガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴンなどが挙げられる。これらの不活性ガスは、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの不活性ガスのうち、窒素、アルゴンが好適である。
【０４６１】
反応条件としては、上記反応が充分に進行する条件である限り、特に限定されるものではないが、例えば、反応温度は、好ましくは０〜１００℃、より好ましくは室温〜８０℃であり、また、反応時間は、好ましくは０．５〜２４時間、より好ましくは１〜１２時間である。反応圧力は、常圧、減圧または加圧のいずれでもよいが、好ましくは、常圧である。
【０４６２】
反応終了後、例えば、反応溶液をそのまま濃縮または蒸発乾固し、あるいは、反応溶液に水を加え、適当な有機溶媒で抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した後、濃縮または蒸発乾固し、必要に応じて、各種クロマトグラフィーや再結晶などの従来公知の方法で精製することにより、目的生成物が得られる。
【０４６３】
製造方法（３）において、原料物質である上記式（１２）で示されるホウ素化合物は、下記式（７５）：
【０４６４】
【化１９４】
0005504454.tif 000195
【０４６５】
［式中、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は上記式（１１）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒｂは上記式（１２）と同じ意味を有する］
で示される１−アルキン化合物と、例えば、ｎ−ブチルリチウムやナトリウムアミドなどの強塩基との間の酸−塩基反応により、１−アルキン化合物の塩を生成させた後、この塩に、下記式（４３）：
【０４６６】
【化１９５】
0005504454.tif 000196
【０４６７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（１１）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物またはその錯体を反応させ、さらにカチオン交換することにより製造することができる。なお、これらの反応は従来公知であり（例えば、Ｄｉｅｔｍａｒ  Ｓｅｙｆｅｒｔｈ  ａｎｄ  Ｍｉｃｈａｅｌ  Ａ．  Ｗｅｉｎｅｒ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９６１，８３（１７），ｐｐ．３５８３−３５８６を参照）、原料物質の使用量、有機溶媒の種類、反応条件などは適宜選択すればよく、特に限定されるものではない。また、原料物質である上記式（７５）で示される１−アルキン化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０４６８】
＜製造方法（３−１）〜（３−２）＞
上記式（１１）および（１２）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環または該キノリン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。すなわち、下記式（７６）：
【０４６９】
【化１９６】
0005504454.tif 000197
【０４７０】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（１１）と同じ意味を有し；ピリジン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは上記式（１２）と同じ意味を有する］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（７７）：
【０４７１】
【化１９７】
0005504454.tif 000198
【０４７２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（１１）と同じ意味を有し；Ｒｂは上記式（１２）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物を、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（３−１）」ということがある。）、また、下記式（７８）：
【０４７３】
【化１９８】
0005504454.tif 000199
【０４７４】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（１１）と同じ意味を有し；キノリン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは上記式（１２）と同じ意味を有する］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（７９）：
【０４７５】
【化１９９】
0005504454.tif 000200
【０４７６】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（１１）と同じ意味を有し；キノリン環は置換基を有していてもよく；Ｒｂは上記式（１２）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物を、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（３−２）」ということがある。）。
【０４７７】
製造方法（３−１）または（３−２）において、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の種類や使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（３）と同様である。ただし、上記式（１２）で示されるホウ素化合物を上記式（７７）または（７９）で示されるホウ素化合物に読み替えるものとする。
【０４７８】
製造方法（３−１）または（３−２）において、原料物質である上記式（７７）または（７９）で示されるホウ素化合物は、上記式（１２）で示されるホウ素化合物の製造方法に準じて、製造することができる。
【０４７９】
＜製造方法（４）＞
本発明の新規なホウ素化合物Ｉのうち、下記式（１３）：
【０４８０】
【化２００】
0005504454.tif 000201
【０４８１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１およびＲ２が互いに結合して環を形成しており；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子であり；点線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であってもよいことを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは水素または１価の有機骨格である］
で示されるホウ素化合物は、下記式（１４）：
【０４８２】
【化２０１】
0005504454.tif 000202
【０４８３】
［式中、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、Ｒｂは上記式（１３）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｙ’は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である］
で示される化合物に有機リチウム化合物を作用させて生成するリチウム化合物を、下記式（１５）：
【０４８４】
【化２０２】
0005504454.tif 000203
【０４８５】
［式中、Ｒ１およびＲ２は上記式（１３）と同じ意味を有し；Ｗはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、アルコキシ基またはアリールオキシ基である］
で示されるホウ素化合物と反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（４）」ということがある。）。
【０４８６】
上記反応に用いられる有機リチウム化合物としては、例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウムなどが挙げられる。これらの有機リチウム化合物は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの有機リチウム化合物のうち、ｎ−ブチルリチウムが好適である。
【０４８７】
有機リチウム化合物の使用量は、上記式（１４）で示される化合物１モルに対して、好ましくは０．５モル以上、２．０モル以下、より好ましくは０．６５モル以上、１．５モル以下、さらに好ましくは０．８モル以上、１．２モル以下である。有機リチウム化合物の使用量が少なすぎると、有機リチウム化合物が不足し、最終生成物の収率が低下することがある。逆に、有機リチウム化合物の使用量が多すぎると、有機リチウム化合物の使用量が過剰であり、上記式（１５）で示されるホウ素化合物と反応し、最終生成物の収率が低下したり、製造コストが上昇したりすることがある。
【０４８８】
上記式（１５）で示されるホウ素化合物の使用量は、上記式（１４）で示される化合物１モルに対して、好ましくは０．５モル以上、２．０モル以下、より好ましくは０．６５モル以上、１．５モル以下、さらに好ましくは０．８モル以上、１．２モル以下である。上記式（１５）で示されるホウ素化合物の使用量が少なすぎると、上記式（１５）で示されるホウ素化合物が不足し、最終生成物の収率が低下することがある。逆に、上記式（１５）で示されるホウ素化合物の使用量が多すぎると、上記式（１５）で示されるホウ素化合物が過剰であり、製造コストが上昇することがある。
【０４８９】
上記反応は、通常、有機溶媒中で行われる。有機溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、メチルフェニルエーテル（アニソール）などのエーテル類；ｎ−ヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素類；などが挙げられる。これらの有機溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの有機溶媒のうち、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類が好適である。
【０４９０】
上記反応は、好ましくは、不活性ガスの雰囲気下で行われる。不活性ガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴンなどが挙げられる。これらの不活性ガスは、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの不活性ガスのうち、窒素、アルゴンが好適である。
【０４９１】
反応条件としては、上記反応が充分に進行する条件である限り、特に限定されるものではないが、例えば、上記式（１４）で示される化合物に有機リチウム化合物を作用させる工程では、反応温度は、好ましくは−１５０〜５０℃、より好ましくは−１００〜０℃であり、また、反応時間は、好ましくは０．５〜１０時間、より好ましくは１〜３時間である。反応圧力は、常圧、減圧または加圧のいずれでもよいが、好ましくは、常圧である。得られたリチウム化合物を上記式（１５）で示されるホウ素化合物と反応させる工程では、反応温度は、好ましくは０〜１００℃、より好ましくは１０〜５０℃であり、また、反応時間は、好ましくは５〜３０時間、より好ましくは１２〜２４時間である。反応圧力は、常圧、減圧または加圧のいずれでもよいが、好ましくは、常圧である。
【０４９２】
反応終了後、例えば、反応溶液をそのまま濃縮または蒸発乾固し、あるいは、反応溶液に水を加え、適当な有機溶媒で抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した後、濃縮または蒸発乾固し、必要に応じて、各種クロマトグラフィーや再結晶などの従来公知の方法で精製することにより、目的生成物が得られる。
【０４９３】
製造方法（４）において、原料物質である上記式（１４）で示される化合物は、下記式（８０）：
【０４９４】
【化２０３】
0005504454.tif 000204
【０４９５】
［式中、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は上記式（１３）と同じ意味を有し；Ｒ９はシリル基、ゲルミル基またはスタンニル基である］
で示されるアセチレン化合物と金属水素化物（例えば、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ビスシクロペンタジエニルジルコニウムクロリド、カテコールボランなど）またはトリアルキルアルミニウムとのオルガノメタレーション反応を行った後、塩化亜鉛、塩化銅などとの金属交換反応により生成する下記式（８１）：
【０４９６】
【化２０４】
0005504454.tif 000205
【０４９７】
［式中、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、Ｒｂは上記式（１３）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒ９は上記式（８０）と同じ意味を有し；Ｍは金属原子である］
で示されるビニル金属化合物を、下記式（８２）：
【０４９８】
【化２０５】
0005504454.tif 000206
【０４９９】
［式中、Ｒ３は上記式（１３）と同じ意味を有し；Ｚはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子またはトリフルオロメタンスルホノルオキシ基である］
で示される有機ハロゲン化合物と、パラジウムまたはニッケルを含む触媒の存在下で、反応させた後、さらにハロゲン化剤（例えば、Ｎ−ヨードスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、臭素、ヨウ素など）を作用させて、置換基Ｒ９をハロゲン原子（Ｙ）に交換することにより製造することができる。なお、これらの反応は、従来公知であり（例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９９５，ｐｐ．３２７６−３２７７；Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９８６，ｐｐ．３４０２−３４０８を参照）、原料物質の使用量、有機溶媒の種類、反応条件などは適宜選択すればよく、特に限定されるものではない。また、上述の塩化亜鉛、塩化銅などとの金属交換反応は必ずしも必要ではない。
【０５００】
また、原料物質である上記式（１５）で示されるホウ素化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０５０１】
＜製造方法（４−１）〜（４−３）＞
上記式（１３）および（１４）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環または該キノリン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。すなわち、下記式（８３）：
【０５０２】
【化２０６】
0005504454.tif 000207
【０５０３】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１３）と同じ意味を有し；ピリジン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（８４）：
【０５０４】
【化２０７】
0005504454.tif 000208
【０５０５】
［式中、Ｒ３およびＲｂは上記式（１３）と同じ意味を有し；ピリジン環は置換基を有していてもよく；Ｙ’は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である］
で示される化合物に有機リチウム化合物を作用させて生成するリチウム化合物を、下記式（１５）：
【０５０６】
【化２０８】
0005504454.tif 000209
【０５０７】
［式中、Ｒ１およびＲ２は上記式（１３）と同じ意味を有し；Ｗはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、アルコキシ基またはアリールオキシ基である］
で示されるホウ素化合物と反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（４−１）」ということがある。）、また、下記式（８５）：
【０５０８】
【化２０９】
0005504454.tif 000210
【０５０９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１３）を同じ意味を有し；キノリン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（８６）：
【０５１０】
【化２１０】
0005504454.tif 000211
【０５１１】
［式中、Ｒ３およびＲｂは上記式（１３）と同じ意味を有し；キノリン環は置換基を有していてもよく；Ｙ’は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である］
で示される化合物に有機リチウム化合物を作用させて生成するリチウム化合物を、下記式（１５）：
【０５１２】
【化２１１】
0005504454.tif 000212
【０５１３】
［式中、Ｒ１およびＲ２は上記式（１３）と同じ意味を有し；Ｗはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、アルコキシ基またはアリールオキシ基である］
で示されるホウ素化合物と反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（４−２）」ということがある。）、また、下記式（８７）：
【０５１４】
【化２１２】
0005504454.tif 000213
【０５１５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１３）と同じ意味を有し；チオフェン環は置換基を有していてもよく；ＳからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（８８）：
【０５１６】
【化２１３】
0005504454.tif 000214
【０５１７】
［式中、Ｒ３およびＲｂは上記式（１３）と同じ意味を有し；チオフェン環は置換基を有していてもよく；Ｙ’は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である］
で示される化合物に有機リチウム化合物を作用させて生成するリチウム化合物を、下記式（１５）：
【０５１８】
【化２１４】
0005504454.tif 000215
【０５１９】
［式中、Ｒ１およびＲ２は上記式（１３）と同じ意味を有し；Ｗはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、アルコキシ基またはアリールオキシ基である］
で示されるホウ素化合物と反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（４−３）」ということがある。）。
【０５２０】
製造方法（４−１）、（４−２）または（４−３）において、原料物質の使用量、有機リチウム化合物の種類や使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（４）と同様である。ただし、上記式（１４）で示される化合物を上記式（８４）、（８６）または（８８）で示される化合物に読み替えるものとする。
【０５２１】
製造方法（４−１）、（４−２）または（４−３）において、原料物質である上記式（８４）、（８６）または（８８）で示される化合物は、上記式（１４）で示される化合物の製造方法に準じて、製造することができる。また、原料物質である上記式（１５）で示されるホウ素化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０５２２】
＜製造方法（５）＞
本発明の新規なホウ素化合物Ｉである下記式（１）：
【０５２３】
【化２１５】
0005504454.tif 000216
【０５２４】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子であり；点線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であってもよいことを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒａは水素または１〜４価の有機骨格であり；ｎは１〜４の整数であり；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は、各々、同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物は、下記式（４）：
【０５２５】
【化２１６】
0005504454.tif 000217
【０５２６】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（１６）：
【０５２７】
【化２１７】
0005504454.tif 000218
【０５２８】
［式中、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は上記式（１）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基である］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよるなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる。
【０５２９】
なお、Ｔｆで表されるトリフルオロメタンスルホニル基とは、トリフリル基とも呼ばれる最も強い電子求引性基の一つであり、−ＳＯ２ＣＦ３を意味する。
【０５３０】
上記式（１６）で示される化合物の使用量は、上記式（４）で示されるホウ素化合物１モルに対して、好ましくは０．５×ｎモル以上、２．０×ｎモル以下、より好ましくは０．６５×ｎモル以上、１．５×ｎモル以下、さらに好ましくは０．８×ｎモル以上、１．２５×ｎモル以下である。上記式（１６）で示される化合物の使用量が少なすぎると、上記式（１６）で示される化合物が不足し、最終生成物の収率が低下することがある。逆に、上記式（１６）で示される化合物の使用量が多すぎると、上記式（１６）で示される化合物が過剰であり、製造コストが上昇することがある。ここで、ｎは、上記式（１）において、Ｒａで表される水素または１〜４価の有機骨格に結合した含ホウ素環部分（角括弧で囲まれた部分）の数であり、１〜４の整数を表す。
【０５３１】
触媒には、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素が含まれる。これらの金属元素のうち、パラジウム、白金が好適である。
【０５３２】
触媒としては、例えば、上記のような金属元素を含む錯体が挙げられ、その具体例としては、例えば、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム・クロロホルム錯体（Ｐｄ２ｄｂａ３・ＣＨＣｌ３）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（Ｐｄ（ＰｔＢｕ３）２）、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム、ビス（１，５−シクロオクタジエン）白金、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケルなどが挙げられる。これらの触媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの触媒のうち、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム・クロロホルム錯体（Ｐｄ２ｄｂａ３・ＣＨＣｌ３）が好適である。
【０５３３】
触媒の使用量としては、上記式（４）で示されるホウ素化合物１モルに対して、好ましくは０．００１モル以上、０．２モル以下、より好ましくは０．００５モル以上、０．１５モル以下、さらに好ましくは０．０１モル以上、０．１モル以下である。触媒の使用量が少なすぎると、反応速度が遅く、反応が速やかに進行しないことがある。逆に、触媒の使用量が多すぎると、必要以上に触媒を使用することになり、製造コストが上昇することがある。
【０５３４】
上記反応には、触媒に加えて、安定化剤を用いてもよい。安定化剤としては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン（Ｐ（ｏ−ｔｏｌ）３）、トリ（２−フリル）ホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリメチルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、ビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテル（ＤＰＥｐｈｏｓ；別名「（オキシジ−２，１−フェニレン）ビス（ジフェニルホスフィン）」）、ビピリジンなどが挙げられる。これらの安定化剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの安定化剤のうち、ビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテル（ＤＰＥｐｈｏｓ）が好適である。
【０５３５】
安定化剤の使用量としては、上記式（４）で示されるホウ素化合物１モルに対して、好ましくは０．０１モル以上、０．３モル以下、より好ましくは０．０２モル以上、０．２５モル以下、さらに好ましくは０．０３モル以上、０．２モル以下である。安定化剤の使用量が少なすぎると、安定化剤の機能が充分に発揮されず、最終生成物の収率が低下することがある。逆に、安定化剤の使用量が多すぎると、必要以上に安定化剤を使用することになり、製造コストが上昇することがある。
【０５３６】
なお、ホスフィン配位子などの安定化剤を含む触媒（例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムなど）を用いた場合には、さらに安定化剤を用いる必要はない。
【０５３７】
上記反応は、通常、有機溶媒中で行われる。有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素類；クロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼンなどのハロゲン化芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレンなどのハロゲン化脂肪族炭化水素類；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブチルアルコール、イソペンチルアルコールなどのアルコール類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチル、酢酸イソペンチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチルフェニルエーテル（アニソール）などのエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（セロソルブ）、エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（セロソルブアセテート）などのグリコールエーテル（セロソルブ）類；シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素類；ｎ−ヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；アセトニトリルなどのニトリル類；などが挙げられる。これらの有機溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの有機溶媒のうち、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類が好適である。
【０５３８】
上記反応は、好ましくは、不活性ガスの雰囲気下で行われる。不活性ガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴンなどが挙げられる。これらの不活性ガスは、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの不活性ガスのうち、窒素、アルゴンが好適である。
【０５３９】
反応条件としては、上記反応が充分に進行する条件である限り、特に限定されるものではないが、例えば、反応温度は、好ましくは０〜１００℃、より好ましくは室温〜８０℃であり、また、反応時間は、好ましくは０．５〜２４時間、より好ましくは１〜１２時間である。反応圧力は、常圧、減圧または加圧のいずれでもよいが、好ましくは、常圧である。
【０５４０】
反応終了後、例えば、反応溶液をそのまま濃縮または蒸発乾固し、あるいは、反応溶液に水を加え、適当な有機溶媒で抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した後、濃縮または蒸発乾固し、必要に応じて、各種クロマトグラフィーや再結晶などの従来公知の方法で精製することにより、目的生成物が得られる。
【０５４１】
製造方法（５）において、原料物質である上記式（４）で示されるホウ素化合物は、製造方法（１）において説明した方法により製造することができる。
【０５４２】
製造方法（５）において、原料物質である上記式（１６）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０５４３】
＜製造方法（５−１）〜（５−４）＞
上記式（１）および（１６）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環、該キノリン環または該フェナントリジン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。すなわち、下記式（２７）：
【０５４４】
【化２１８】
0005504454.tif 000219
【０５４５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は、各々、同一または相異なり；ピリジン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（４）：
【０５４６】
【化２１９】
0005504454.tif 000220
【０５４７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（８９）：
【０５４８】
【化２２０】
0005504454.tif 000221
【０５４９】
［式中、Ｔｆは上記式（１６）と同じ意味を有する］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（５−１）」ということがある。）、また、下記式（２８）：
【０５５０】
【化２２１】
0005504454.tif 000222
【０５５１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は、各々、同一または相異なり；キノリン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（４）：
【０５５２】
【化２２２】
0005504454.tif 000223
【０５５３】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（９０）：
【０５５４】
【化２２３】
0005504454.tif 000224
【０５５５】
［式中、Ｔｆは上記式（１６）と同じ意味を有する］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（５−２）」ということがある。）、また、下記式（９１）：
【０５５６】
【化２２４】
0005504454.tif 000225
【０５５７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は、各々、同一または相異なり；フェナントリジン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（４）：
【０５５８】
【化２２５】
0005504454.tif 000226
【０５５９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（９２）：
【０５６０】
【化２２６】
0005504454.tif 000227
【０５６１】
［式中、Ｔｆは上記式（１６）と同じ意味を有する］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（５−３）」ということがある。）、また、下記式（２９）：
【０５６２】
【化２２７】
0005504454.tif 000228
【０５６３】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は、各々、同一または相異なり；チオフェン環は置換基を有していてもよく；ＳからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（４）：
【０５６４】
【化２２８】
0005504454.tif 000229
【０５６５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒａおよびｎは上記式（１）と同じ意味を有し；ｎが２〜４の整数である場合、複数個存在するＲ１、Ｒ２およびＲ３は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（９３）：
【０５６６】
【化２２９】
0005504454.tif 000230
【０５６７】
［式中、Ｔｆは上記式（１６）と同じ意味を有する］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（５−４）」ということがある。）。
【０５６８】
製造方法（５−１）、（５−２）、（５−３）または（５−４）において、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の種類や使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（５）と同様である。ただし、上記式（１６）で示される化合物を上記式（８９）、（９０）、（９２）または（９３）で示される化合物に読み替えるものとする。
【０５６９】
製造方法（５−１）、（５−２）、（５−３）または（５−４）において、原料物質である上記式（４）で示されるホウ素化合物は、製造方法（１）において説明した方法により製造することができる。また、原料物質である上記式（８９）、（９０）、（９２）または（９３）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０５７０】
≪新規なホウ素化合物ＩＩ≫
本発明の新規なホウ素化合物ＩＩは、下記式（１７）：
【０５７１】
【化２３０】
0005504454.tif 000231
【０５７２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子であり；実線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であることを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは水素または１価の有機骨格であり；Ｒｆはｐ価の有機骨格であり；ｐは２〜６の整数であり；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、Ｒｂは、各々、同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物である。
【０５７３】
上記式（１７）において、Ｒ１、Ｒ２またはＲ３で表される、置換基を有していてもよいアリール基における「アリール基」としては、例えば、フェニル基、ビフェニリル基（例えば、４−ビフェニリル基など）、ナフチル基（例えば、２−ナフチル基など）、テトラヒドロナフチル基（例えば、５，６，７，８−テトラヒドロナフタレン−２−イル基など）、インデニル基（例えば、１Ｈ−インデン−５−イル基など）、インダニル基（例えば、インダン−５−イル基など）などが挙げられるが、これらのアリール基に限定されるものではない。これらのアリール基のうち、フェニル基、ビフェニリル基（例えば、４−ビフェニリル基など）、ナフチル基（例えば、２−ナフチル基など）が好適である。
【０５７４】
Ｒ１、Ｒ２またはＲ３で表される、置換基を有していてもよい複素環基における「複素環基」としては、例えば、ピロリル基（例えば、２−ピロリル基など）、ピリジル基（例えば、２−ピリジル基など）、キノリル基（例えば、２−キノリル基など）、ピペリジニル基（例えば、４−ピペリジニル基など）、ピペリジノ基、フリル基（例えば、２−フリル基など）、チエニル基（例えば、２−チエニル基など）などが挙げられるが、これらの複素環基に限定されるものではない。これらの複素環基のうち、ピリジル基（例えば、２−ピリジル基など）、チエニル基（例えば、２−チエニル基など）が好適である。
【０５７５】
これらの置換基を有していてもよいアリール基および複素環基における「置換基」としては、例えば、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、ハロアルキル基（例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基など）、炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐鎖状アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基など）、炭素数５〜７の環状アルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基など）、炭素数１〜８の直鎖状もしくは分岐鎖状アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基など）、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、各アルキル基が炭素数１〜４であるモノもしくはジアルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基など）、炭素数２〜６のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、アリル基など）、炭素数２〜６のアルキニル基（例えば、エチニル基、１−プロピニル基、プロパルギル基など）、フェニル基、置換フェニル基（例えば、４−フルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基（ｐ−トリル基）、４−メトキシフェニル基、４−ニトロフェニル基など）、カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイル基など）などが挙げられるが、これらの置換基に限定されるものではない。
【０５７６】
あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、いずれか２個が互いに結合して環を形成していてもよい。このような環としては、例えば、Ｒ１とＲ２とが結合した結果、ボロール環、ベンゾボロール環、ジベンゾボロール環、１，４−ジヒドロボリニン環、１，４−ジヒドロベンゾ［ｂ］ボリニン環、５，１０−ジヒドロジベンゾ［ｂ，ｅ］ボリニン環、４Ｈ−１，４−オキサボリニン環、４Ｈ−ベンゾ［ｂ］［１，４］オキサボリニン環、１０Ｈ−ジベンゾ［ｂ，ｅ］［１，４］オキサボリニン環、１，４−ジヒドロ−１，４−アザボリニン環、１，４−ジヒドロベンゾ［ｂ］［１，４］アザボリニン環、５，１０−ジヒドロジベンゾ［ｂ，ｅ］［１，４］アザボリニン環などを形成した場合；Ｒ１とＲ３とが結合した結果、５，６−ジヒドロジベンゾ［ｂ，ｄ］ボリニン環などを形成した場合；さらにこれらの環が置換基を有する場合；などが挙げられるが、これらの環に限定されるものではない。  上記式（１７）において、Ｒ４で表される置換基としては、例えば、置換基を有していてもよいアリール基および複素環基における「置換基」として列挙した上記のような置換基が挙げられるが、これらの置換基に限定されるものではない。
【０５７７】
上記式（１７）において、ｍは、Ｘに結合した置換基Ｒ４の数であり、Ｘの原子価や、ＱとＸとの間の結合が単結合または二重結合のいずれであるか、ＱとＸとが共通する環の一部であるか否かなどに応じて、０〜２の整数である。なお、ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なる。
【０５７８】
上記式（１７）において、Ｑで表される連結基としては、例えば、＝Ｃ＜、＝ＣＨ−、−ＣＨ＜、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ６Ｈ４−（例えば、−（１，２−Ｃ６Ｈ４）−など）、−Ｃ１０Ｈ６−（例えば、−（１，２−Ｃ１０Ｈ６）−など）、−ＣＯ−、−ＣＳ−、−ＣＨ２Ｎ＜、−ＣＨ２Ｎ＝などが挙げられるが、これらの連結基に限定されるものではない。これらの連結基のうち、＝Ｃ＜、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−が好適である。
【０５７９】
上記式（１７）において、Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子である。これらの原子のうち、窒素原子、酸素原子が好適である。
【０５８０】
上記式（１７）において、点線の半円弧で表されるＱとＸとが共通する環としては、例えば、ピロール環、ピリジン環、インドール環、イソインドール環、キノリン環、イソキノリン環、フェナントリジン環、ピラジン環、トリアジン環、フラン環、ピラン環、ベンゾフラン環、イソベンゾフラン環、クロメン環、イソクロメン環、ホスフィンドール環、イソホスフィンドール環、ホスフィノリン環、イソホスフィノリン環、チオフェン環、チオピラン環、チオクロメン環、イソチオクロメン環、セレノフェン環、セレノピラン環、セレノクロメン環、イソセレノクロメン環などが挙げられるが、これらの環に限定されるものではない。これらの環は、置換基を有していてもよい。これらの環のうち、ピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環、フラン環、チオフェン環が好適である。
【０５８１】
上記式（１７）において、Ｒｂで表される１価の有機骨格としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基、フェニル基、４−メチルフェニル基（トリル基）、ナフチル基（例えば、２−ナフチル基など）などが挙げられるが、これらの有機骨格に限定されるものではない。
【０５８２】
上記式（１７）において、Ｒｆで表される２価の有機骨格としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、フェニレン基（例えば、１，４−フェニレン基など）、ナフチレン基（例えば、２，６−ナフチレン基など）などが挙げられ、Ｒｆで表される３価の有機骨格としては、例えば、メタントリイル基、エタントリイル基（例えば、エタン−１，１，２−トリイル基など）、プロパントリイル基（例えば、プロパン−１，２，３−トリイル基など）、ベンゼントリイル基（例えば、ベンゼン−１，３，５−トリイル基など）、ナフタレントリイル基（例えば、ナフタレン−１，４，６−トリイル基など）などが挙げられ、Ｒｆで表される４価の有機骨格としては、例えば、メタンテトライル基、エタンテトライル基（例えば、エタン−１，１，２，２−テトライル基など）、プロパンテトライル基（例えば、プロパン−１，１，２，３−テトライル基など）、ベンゼンテトライル基（例えば、ベンゼン−１，２，４，５−テトライル基など）、ナフタレンテトライル基（例えば、ナフタレン−１，４，５，８−テトライル基など）などが挙げられ、Ｒｆで表される５価の有機骨格としては、例えば、エタンペンタイル基（例えば、エタン−１，１，１，２，２，−ペンタイル基など）、プロパンペンタイル基（例えば、プロパン−１，１，１，２，３−ペンタイル基など）、ベンゼンペンタイル基（例えば、ベンゼン−１，２，３，４，５−ペンタイル基など）、ナフタレンペンタイル基（例えば、ナフタレン−１，２，４，５，８−ペンタイル基など）などが挙げられ、Ｒｆで表される６価の有機骨格としては、例えば、エタンヘキサイル基、プロパンヘキサイル基（例えば、プロパン−１，１，１，２，２，３−ヘキサイル基など）、ベンゼンヘキサイル基、ナフタレンヘキサイル基（例えば、ナフタレン−１，２，３，４，５，８−ヘキサイル基など）などが挙げられるが、これらの有機骨格に限定されるものではない。
【０５８３】
上記式（１７）において、ｐは、Ｒｆで表される２〜６価の有機骨格に結合した含ホウ素環部分（角括弧で囲まれた部分）の数であり、２〜６の整数である。なお、複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は、各々、同一または相異なる。
【０５８４】
上記式（１７）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環、該キノリン環または該フェナントリジン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。すなわち、下記式（９６）：
【０５８５】
【化２３１】
0005504454.tif 000232
【０５８６】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒｂ、Ｒｆおよびｐは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｆはピリジン環のどの位置に結合していてもよく；ピリジン環を構成する炭素原子上の数字はＲｆがピリジン環に結合することができる位置を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（９７）：
【０５８７】
【化２３２】
0005504454.tif 000233
【０５８８】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒｂ、Ｒｆおよびｐは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｆはキノリン環のどの位置に結合していてもよく；キノリン環を構成する炭素原子上の数字はＲｆがキノリン環に結合することができる位置を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（９８）：
【０５８９】
【化２３３】
0005504454.tif 000234
【０５９０】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒｂ、Ｒｆおよびｐは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｆはフェナントリジン環のどの位置に結合していてもよく；フェナントリジン環を構成する炭素原子上の数字はＲｆがフェナントリジン環に結合することができる位置を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（９９）：
【０５９１】
【化２３４】
0005504454.tif 000235
【０５９２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒｂ、Ｒｆおよびｐは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｆはチオフェン環のどの位置に結合していてもよく；チオフェン環を構成する炭素原子上の数字はＲｆがチオフェン環に結合することができる位置を表し；ＳからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物が好適である。
【０５９３】
上記式（９６）、（９７）、（９８）および（９９）において、Ｒｆで表されるｐ価の有機骨格は、各々、ピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環およびチオフェン環のどの位置に結合していてもよく、特に限定されるものではないが、変数ｐの値に応じて、ピリジン環の１番、２番および３番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、キノリン環の２番、３番、４番および５番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、フェナントリジン環の２番、３番、６番および７番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、チオフェン環の３番に結合していることが好ましい。
【０５９４】
変数ｐについては、通常は２〜６の整数であるが、好ましくは２〜４の整数であり、より好ましくは２または３の整数である。すなわち、上記式（１７）で示されるホウ素化合物のうち、下記式（１８）：
【０５９５】
【化２３５】
0005504454.tif 000236
【０５９６】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ＸからＢに向かう矢印、ならびに、Ｒｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；Ｒｇは２価の有機骨格であり；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、Ｒｂは、各々、同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（１９）：
【０５９７】
【化２３６】
0005504454.tif 000237
【０５９８】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ＸからＢに向かう矢印、ならびに、Ｒｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；Ｒｈは３価の有機骨格であり；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、Ｒｂは、各々、同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物が好適である。
【０５９９】
上記式（１８）において、Ｒｇで表される２価の有機骨格としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、フェニレン基（例えば、１，４−フェニレン基など）、ナフチレン基（例えば、２，６−ナフチレン基など）などが挙げられるが、これらの有機骨格に限定されるものではない。
【０６００】
上記式（１９）において、Ｒｈで表される３価の有機骨格としては、例えば、メタントリイル基、エタントリイル基（例えば、エタン−１，１，２−トリイル基など）、プロパントリイル基（例えば、プロパン−１，２，３−トリイル基など）、ベンゼントリイル基（例えば、ベンゼン−１，３，５−トリイル基など）、ナフタレントリイル基（例えば、ナフタレン−１，４，６−トリイル基など）などが挙げられるが、これらの有機骨格に限定されるものではない。
【０６０１】
上記式（１８）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環、該キノリン環または該フェナントリジン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。すなわち、下記式（１００）：
【０６０２】
【化２３７】
0005504454.tif 000238
【０６０３】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｇは上記式（１８）と同じ意味を有し；Ｒｇはピリジン環のどの位置に結合していてもよく；ピリジン環を構成する炭素原子上の数字はＲｇがピリジン環に結合することができる位置を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（１０１）：
【０６０４】
【化２３８】
0005504454.tif 000239
【０６０５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｇは上記式（１８）と同じ意味を有し；Ｒｇはキノリン環のどの位置に結合していてもよく；キノリン環を構成する炭素原子上の数字はＲｇがキノリン環に結合することができる位置を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（１０２）：
【０６０６】
【化２３９】
0005504454.tif 000240
【０６０７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｇは上記式（１８）と同じ意味を有し；Ｒｇはフェナントリジン環のどの位置に結合していてもよく；フェナントリジン環を構成する炭素原子上の数字はＲｇがフェナントリジン環に結合することができる位置を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（１０３）：
【０６０８】
【化２４０】
0005504454.tif 000241
【０６０９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｇは上記式（１８）と同じ意味を有し；Ｒｇはチオフェン環のどの位置に結合していてもよく；チオフェン環を構成する炭素原子上の数字はＲｇがチオフェン環に結合することができる位置を表し；ＳからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物が好適である。
【０６１０】
上記式（１００）、（１０１）、（１０２）および（１０３）において、Ｒｇで表される２価の有機骨格は、各々、ピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環およびチオフェン環のどの位置に結合していてもよく、特に限定されるものではないが、ピリジン環の１番、２番および３番から選択される位置、ならびに、１’番、２’番および３’番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、キノリン環の２番、３番、４番および５番から選択される位置、ならびに、２’番、３’番、４’番および５’番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、フェナントリジン環の２番、３番、６番および７番から選択される位置、ならびに、２’番、３’番、６’番および７’番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、チオフェン環の３番および３’番に結合していることが好ましい。
【０６１１】
上記式（１９）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環、該キノリン環または該フェナントリジン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。すなわち、下記式（１０４）：
【０６１２】
【化２４１】
0005504454.tif 000242
【０６１３】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｈは上記式（１９）と同じ意味を有し；Ｒｈはピリジン環のどの位置に結合していてもよく；ピリジン環を構成する炭素原子上の数字はＲｈがピリジン環に結合することができる位置を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（１０５）：
【０６１４】
【化２４２】
0005504454.tif 000243
【０６１５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｈは上記式（１９）と同じ意味を有し；Ｒｈはキノリン環のどの位置に結合していてもよく；キノリン環を構成する炭素原子上の数字はＲｈがキノリン環に結合することができる位置を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（１０６）：
【０６１６】
【化２４３】
0005504454.tif 000244
【０６１７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｈは上記式（１９）と同じ意味を有し；Ｒｈはフェナントリジン環のどの位置に結合していてもよく；フェナントリジン環を構成する炭素原子上の数字はＲｈがフェナントリジン環に結合することができる位置を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（１０７）：
【０６１８】
【化２４４】
0005504454.tif 000245
【０６１９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｈは上記式（１９）と同じ意味を有し；Ｒｈはチオフェン環のどの位置に結合していてもよく；チオフェン環を構成する炭素原子上の数字はＲｈがチオフェン環に結合することができる位置を表し；ＳからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物が好適である。
【０６２０】
上記式（１０４）、（１０５）、（１０６）および（１０７）において、Ｒｈで表される３価の有機骨格は、各々、ピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環およびチオフェン環のどの位置に結合していてもよく、特に限定されるものではないが、ピリジン環の１番、２番および３番から選択される位置、１’番、２’番および３’番から選択される位置、ならびに、１”番、２”番および３”番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、キノリン環の２番、３番、４番および５番から選択される位置、２’番、３’番、４’番および５’番から選択される位置、ならびに、２”番、３”番、４”番および５”番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、フェナントリジン環の２番、３番、６番および７番から選択される位置、２’番、３’番、６’番および７’番から選択される位置、ならびに、２”番、３”番、６”番および７”番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、チオフェン環の３番、３’番および３”番に結合していることが好ましい。
【０６２１】
≪新規なホウ素化合物ＩＩの製造方法≫
本発明の新規なホウ素化合物ＩＩは、以下で説明する製造方法（６）により、効率よく簡便に製造することができる。また、その下位概念となるホウ素化合物は、以下で説明する製造方法（６−１）〜（６−１４）により、効率よく簡便に製造することができる。
【０６２２】
＜製造方法（６）＞
本発明の新規なホウ素化合物ＩＩである下記式（１７）：
【０６２３】
【化２４５】
0005504454.tif 000246
【０６２４】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子であり；実線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であることを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは水素または１価の有機骨格であり；Ｒｆはｐ価の有機骨格であり；ｐは２〜６の整数であり；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、Ｒｂは、各々、同一または相異なる］
で示されるホウ素化合物は、下記式（２０）：
【０６２５】
【化２４６】
0005504454.tif 000247
【０６２６】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ＸからＢに向かう矢印、ならびに、Ｒｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（２１）：
【０６２７】
【化２４７】
0005504454.tif 000248
【０６２８】
［式中、Ｒｆおよびｐは上記式（１７）と同じ意味を有し；Ｙ”はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基であり；複数個存在するＹ”は同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる。
【０６２９】
上記式（２１）で示される化合物の使用量は、上記式（２０）で示されるホウ素化合物１モルに対して、好ましくは０．５／ｐモル以上、２．０／ｐモル以下、より好ましくは０．６５／ｐモル以上、１．５／ｐモル以下、さらに好ましくは０．８／ｐモル以上、１．２５／ｐモル以下である。上記式（２１）で示される化合物の使用量が少なすぎると、上記式（２１）で示される化合物が不足し、最終生成物の収率が低下することがある。逆に、上記式（２１）で示される化合物の使用量が多すぎると、上記式（２１）で示される化合物が過剰であり、製造コストが上昇することがある。ここで、ｐは、上記式（１７）において、Ｒｆで表される２〜６価の有機骨格に結合した含ホウ素環部分（角括弧で囲まれた部分）の数であり、２〜６の整数を表す。
【０６３０】
触媒には、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素が含まれる。これらの金属元素のうち、パラジウム、白金が好適である。
【０６３１】
触媒としては、例えば、上記のような金属元素を含む錯体が挙げられ、その具体例としては、例えば、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム・クロロホルム錯体（Ｐｄ２ｄｂａ３・ＣＨＣｌ３）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｐｄ（ＰＰｈ３）４）、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（Ｐｄ（ＰｔＢｕ３）２）、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロ［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）、ジクロロビス（アセトニトリル）パラジウム、ジクロロビス（ベンゾニトリル）パラジウム、ジクロロ［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］パラジウムなどが挙げられる。これらの触媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの触媒のうち、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（Ｐｄ（ＰｔＢｕ３）２）が好適である。
【０６３２】
触媒の使用量としては、上記式（２０）で示されるホウ素化合物１モルに対して、好ましくは０．００１モル以上、０．２モル以下、より好ましくは０．００５モル以上、０．１５モル以下、さらに好ましくは０．０１モル以上、０．１モル以下である。触媒の使用量が少なすぎると、反応速度が遅く、反応が速やかに進行しないことがある。逆に、触媒の使用量が多すぎると、必要以上に触媒を使用することになり、製造コストが上昇することがある。
【０６３３】
上記反応には、触媒に加えて、安定化剤を用いてもよい。安定化剤としては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン（Ｐ（ｏ−ｔｏｌ）３）、トリ（２−フリル）ホスフィン、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、２−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）ビフェニルなどが挙げられる。これらの安定化剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの安定化剤のうち、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィンが好適である。
【０６３４】
安定化剤の使用量としては、上記式（２０）で示されるホウ素化合物１モルに対して、好ましくは０．０１モル以上、０．３モル以下、より好ましくは０．０２モル以上、０．２５モル以下、さらに好ましくは０．０３モル以上、０．２モル以下である。安定化剤の使用量が少なすぎると、安定化剤の機能が充分に発揮されず、最終生成物の収率が低下することがある。逆に、安定化剤の使用量が多すぎると、必要以上に安定化剤を使用することになり、製造コストが上昇することがある。
【０６３５】
なお、ホスフィン配位子などの安定化剤を含む触媒（例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムなど）を用いた場合には、さらに安定化剤を用いる必要はない。
【０６３６】
上記反応は、通常、有機溶媒中で行われる。有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素類；クロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼンなどのハロゲン化芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレンなどのハロゲン化脂肪族炭化水素類；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブチルアルコール、イソペンチルアルコールなどのアルコール類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチル、酢酸イソペンチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチルフェニルエーテル（アニソール）などのエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（セロソルブ）、エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（セロソルブアセテート）などのグリコールエーテル（セロソルブ）類；シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素類；ｎ−ヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；アセトニトリルなどのニトリル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどの非プロトン性極性溶媒；などが挙げられる。これらの有機溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの有機溶媒のうち、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフランなどエーテル類が好適である。
【０６３７】
なお、有機溶媒として、水混和性の溶媒を用いる場合には、水を混合してもよい。水の混合割合は、混合溶媒に対する原料物質の溶解性などに応じて、適宜調節すればよく、特に限定されるものではない。
【０６３８】
上記反応を有機溶媒と水との混合溶媒中で行う場合には、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物や炭酸塩などの塩基を用いて、反応系のｐＨを高くすることが好ましい。この場合、塩基の使用量は、原料物質の使用量などに応じて、適宜調節すればよく、特に限定されるものではない。
【０６３９】
上記反応は、好ましくは、不活性ガスの雰囲気下で行われる。不活性ガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴンなどが挙げられる。これらの不活性ガスは、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの不活性ガスのうち、窒素、アルゴンが好適である。
【０６４０】
反応条件としては、上記反応が充分に進行する条件である限り、特に限定されるものではないが、例えば、反応温度は、好ましくは０〜１５０℃、より好ましくは室温〜１００℃であり、また、反応時間は、好ましくは０．５〜２４時間、より好ましくは１〜１２時間である。反応圧力は、常圧、減圧または加圧のいずれでもよいが、好ましくは、常圧である。
【０６４１】
反応終了後、例えば、反応溶液をそのまま濃縮または蒸発乾固し、あるいは、反応溶液に水を加え、適当な有機溶媒で抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した後、濃縮または蒸発乾固し、必要に応じて、各種クロマトグラフィーや再結晶などの従来公知の方法で精製することにより、目的生成物が得られる。
【０６４２】
製造方法（６）において、原料物質である上記式（２０）で示されるホウ素化合物は、製造方法（１）により製造することができる。ただし、上記式（１）において、ｍが０であり、ＱとＸとが共通する環の一部であり、該環の何れかの位置にジオキサボロラニル基が結合しており、ＲａがＲｂであり、ｎが１である。
【０６４３】
製造方法（６）において、原料物質である上記式（２１）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０６４４】
＜製造方法（６−１）＞
上記式（１７）で示されるホウ素化合物のうち、下記式（１８）：
【０６４５】
【化２４８】
0005504454.tif 000249
【０６４６】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ＸからＢに向かう矢印、ならびに、Ｒｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；Ｒｇは２価の有機骨格であり；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、Ｒｂは、各々、同一または相異なる］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（２０）：
【０６４７】
【化２４９】
0005504454.tif 000250
【０６４８】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ＸからＢに向かう矢印、ならびに、Ｒｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、上記式（２１）において、Ｒｆが２価の有機骨格を表すＲｇであり、ｐが２である化合物、すなわち、下記式（１０８）：
【０６４９】
【化２５０】
0005504454.tif 000251
【０６５０】
［式中、Ｒｇは上記式（１８）と同じ意味を有し；Ｙ”は上記式（２１）と同じ意味を有し；複数個存在するＹ”は同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（６−１）」ということがある。）。
【０６５１】
製造方法（６−１）において、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の種類や使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（６）と同様である。ただし、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の使用量については、変数ｐに２を代入した値とし、また、上記式（２１）で示される化合物を上記式（１０８）で示される化合物に読み替えるものとする。
【０６５２】
製造方法（６−１）において、原料物質である上記式（２０）で示されるホウ素化合物は、上記した方法により製造することができる。また、原料物質である上記式（１０８）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０６５３】
＜製造方法（６−２）＞
上記式（１７）で示されるホウ素化合物のうち、下記式（１９）：
【０６５４】
【化２５１】
0005504454.tif 000252
【０６５５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ＸからＢに向かう矢印、ならびに、Ｒｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；Ｒｈは３価の有機骨格であり；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、実線の半円弧、ＱとＸとの間の点線および実線、ならびに、Ｒｂは、各々、同一または相異なる］
で示される好適なホウ素化合物は、上記式（２０）で示されるホウ素化合物を、上記式（２１）において、Ｒｆが３価の有機骨格を表すＲｈであり、ｐが３である化合物、すなわち、下記式（１０９）：
【０６５６】
【化２５２】
0005504454.tif 000253
【０６５７】
［式中、Ｒｈは上記式（１９）と同じ意味を有し；Ｙ”は上記式（２１）と同じ意味を有し；複数個存在するＹ”は同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（６−２）」ということがある。）。
【０６５８】
製造方法（６−２）において、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の種類や使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（６）と同様である。ただし、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の使用量については、変数ｐに３を代入した値とし、また、上記式（２１）で示される化合物を上記式（１０９）で示される化合物に読み替えるものとする。
【０６５９】
製造方法（６−２）において、原料物質である上記式（２０）で示されるホウ素化合物は、上記した方法により製造することができる。また、原料物質である上記式（１０９）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０６６０】
＜製造方法（６−３）〜（６−６）＞
上記式（１７）において、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環、該キノリン環または該フェナントリジン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。すなわち、下記式（９６）：
【０６６１】
【化２５３】
0005504454.tif 000254
【０６６２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒｂ、Ｒｆおよびｐは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｆはピリジン環のどの位置に結合していてもよく；ピリジン環を構成する炭素原子上の数字はＲｆがピリジン環に結合することができる位置を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（１１０）：
【０６６３】
【化２５４】
0005504454.tif 000255
【０６６４】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；ピリジン環を構成する炭素原子上の数字はジオキサボロラニル基がピリジン環に結合することができる位置を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（２１）：
【０６６５】
【化２５５】
0005504454.tif 000256
【０６６６】
［式中、Ｒｆおよびｐは上記式（１７）と同じ意味を有し；Ｙ”はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子またはトリフルオロメタンスルホニル基であり；複数個存在するＹ”は同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（６−３）」ということがある。）、また、下記式（９７）：
【０６６７】
【化２５６】
0005504454.tif 000257
【０６６８】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒｂ、Ｒｆおよびｐは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｆはキノリン環のどの位置に結合していてもよく；キノリン環を構成する炭素原子上の数字はＲｆがキノリン環に結合することができる位置を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（１１１）：
【０６６９】
【化２５７】
0005504454.tif 000258
【０６７０】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；キノリン環を構成する炭素原子上の数字はジオキサボロラニル基がキノリン環に結合することができる位置を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（２１）：
【０６７１】
【化２５８】
0005504454.tif 000259
【０６７２】
［式中、Ｒｆおよびｐは上記式（１７）と同じ意味を有し；Ｙ”はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基であり；複数個存在するＹ”は同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（６−４）」ということがある。）、また、下記式（９８）：
【０６７３】
【化２５９】
0005504454.tif 000260
【０６７４】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒｂ、Ｒｆおよびｐは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｆはフェナントリジン環のどの位置に結合していてもよく；フェナントリジン環を構成する炭素原子上の数字はＲｆがフェナントリジン環に結合することができる位置を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（１１２）：
【０６７５】
【化２６０】
0005504454.tif 000261
【０６７６】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；フェナントリジン環を構成する炭素原子上の数字はジオキサボロラニル基がフェナントリジン環に結合することができる位置を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（２１）：
【０６７７】
【化２６１】
0005504454.tif 000262
【０６７８】
［式中、Ｒｆおよびｐは上記式（１７）と同じ意味を有し；Ｙ”はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基であり；複数個存在するＹ”は同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（６−５）」ということがある。）、また、下記式（９９）：
【０６７９】
【化２６２】
0005504454.tif 000263
【０６８０】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒｂ、Ｒｆおよびｐは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｆはチオフェン環のどの位置に結合していてもよく；チオフェン環を構成する炭素原子上の数字はＲｆがチオフェン環に結合することができる位置を表し；ＳからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（１１３）：
【０６８１】
【化２６３】
0005504454.tif 000264
【０６８２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；チオフェン環を構成する炭素原子上の数字はジオキサボロラニル基がチオフェン環に結合することができる位置を表し；ＳからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（２１）：
【０６８３】
【化２６４】
0005504454.tif 000265
【０６８４】
［式中、Ｒｆおよびｐは上記式（１７）と同じ意味を有し；Ｙ”はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基であり；複数個存在するＹ”は同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（６−６）」ということがある。）。
【０６８５】
上記式（９６）、（９７）、（９８）および（９９）において、Ｒｆで表されるｐ価の有機骨格は、各々、ピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環およびチオフェン環のどの位置に結合していてもよく、特に限定されるものではないが、ピリジン環の１番、２番および３番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、キノリン環の２番、３番、４番および５番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、フェナントリジン環の２番、３番、６番および７番から選択される位置から選択される位置に結合していることが好ましく、また、チオフェン環の３番に結合していることが好ましい。
【０６８６】
また、上記式（１１０）、（１１１）、（１１２）および（１１３）において、ジオキサボロラニル基は、各々、ピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環およびチオフェン環のどの位置に結合していてもよく、特に限定されるものではないが、ピリジン環の１番、２番および３番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、キノリン環の２番、３番、４番および５番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、フェナントリジン環の２番、３番、６番および７番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、チオフェン環の３番に結合していることが好ましい。
【０６８７】
製造方法（６−３）、（６−４）、（６−５）または（６−６）において、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の種類や使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（６）と同様である。ただし、上記式（２０）で示されるホウ素化合物を上記式（１１０）、（１１１）、（１１２）または（１１３）で示されるホウ素化合物に読み替えるものとする。
【０６８８】
製造方法（６−３）、（６−４）、（６−５）または（６−６）において、原料物質である上記式（１１０）、（１１１）、（１１２）または（１１３）で示されるホウ素化合物は、上記式（２０）で示されるホウ素化合物の製造方法に準じて、製造することができる。また、原料物質である上記式（２１）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０６８９】
＜製造方法（６−７）〜（６−１０）＞
上記式（１８）において、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環、該キノリン環または該フェナントリジン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。すなわち、下記式（１００）：
【０６９０】
【化２６５】
0005504454.tif 000266
【０６９１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｇは上記式（１８）と同じ意味を有し；Ｒｇはピリジン環のどの位置に結合していてもよく；ピリジン環を構成する炭素原子上の数字はＲｇがピリジン環に結合することができる位置を表し；ピリジン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（１１０）：
【０６９２】
【化２６６】
0005504454.tif 000267
【０６９３】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；ピリジン環を構成する炭素原子上の数字はジオキサボロラニル基がピリジン環に結合することができる位置を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（１０８）：
【０６９４】
【化２６７】
0005504454.tif 000268
【０６９５】
［式中、Ｒｇは上記式（１８）と同じ意味を有し；Ｙ”は上記式（２１）と同じ意味を有し；複数個存在するＹ”は同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（６−７）」ということがある。）、また、下記式（１０１）：
【０６９６】
【化２６８】
0005504454.tif 000269
【０６９７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｇは上記式（１８）と同じ意味を有し；Ｒｇはキノリン環のどの位置に結合していてもよく；キノリン環を構成する炭素原子上の数字はＲｇがキノリン環に結合することができる位置を表し；キノリン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（１１１）：
【０６９８】
【化２６９】
0005504454.tif 000270
【０６９９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；キノリン環を構成する炭素原子上の数字はジオキサボロラニル基がキノリン環に結合することができる位置を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（１０８）：
【０７００】
【化２７０】
0005504454.tif 000271
【０７０１】
［式中、Ｒｇは上記式（１８）と同じ意味を有し；Ｙ”は上記式（２１）と同じ意味を有し；複数個存在するＹ”は同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（６−８）」ということがある。）、また、下記式（１０２）：
【０７０２】
【化２７１】
0005504454.tif 000272
【０７０３】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｇは上記式（１８）と同じ意味を有し；Ｒｇはフェナントリジン環のどの位置に結合していてもよく；フェナントリジン環を構成する炭素原子上の数字はＲｇがフェナントリジン環に結合することができる位置を表し；フェナントリジン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（１１２）：
【０７０４】
【化２７２】
0005504454.tif 000273
【０７０５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；フェナントリジン環を構成する炭素原子上の数字はジオキサボロラニル基がフェナントリジン環に結合することができる位置を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（１０８）：
【０７０６】
【化２７３】
0005504454.tif 000274
【０７０７】
［式中、Ｒｇは上記式（１８）と同じ意味を有し；Ｙ”は上記式（２１）と同じ意味を有し；複数個存在するＹ”は同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（６−９）」ということがある。）、また、下記式（１０３）：
【０７０８】
【化２７４】
0005504454.tif 000275
【０７０９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｇは上記式（１８）と同じ意味を有し；Ｒｇはチオフェン環のどの位置に結合していてもよく；チオフェン環を構成する炭素原子上の数字はＲｇがチオフェン環に結合することができる位置を表し；チオフェン環は置換基を有していてもよく；ＳからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（１１３）：
【０７１０】
【化２７５】
0005504454.tif 000276
【０７１１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；チオフェン環を構成する炭素原子上の数字はジオキサボロラニル基がチオフェン環に結合することができる位置を表し；ＳからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（１０８）：
【０７１２】
【化２７６】
0005504454.tif 000277
【０７１３】
［式中、Ｒｇは上記式（１８）と同じ意味を有し；Ｙ”は上記式（２１）と同じ意味を有し；複数個存在するＹ”は同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（６−１０）」ということがある。）。
【０７１４】
上記式（１００）、（１０１）、（１０２）および（１０３）において、Ｒｇで表される２価の有機骨格は、各々、ピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環およびチオフェン環のどの位置に結合していてもよく、特に限定されるものではないが、ピリジン環の１番、２番および３番から選択される位置、ならびに、１’番、２’番および３’番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、キノリン環の２番、３番、４番および５番から選択される位置、ならびに、２’番、３’番、４’番および５’番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、フェナントリジン環の２番、３番、６番および７番から選択される位置、ならびに、２’番、３’番、６’番および７’番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、チオフェン環の３番および３’番に結合していることが好ましい。
【０７１５】
また、上記式（１１０）、（１１１）、（１１２）および（１１３）において、ジオキサボロラニル基は、各々、ピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環およびチオフェン環のどの位置に結合していてもよく、特に限定されるものではないが、ピリジン環の１番、２番および３番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、キノリン環の２番、３番、４番および５番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、フェナントリジン環の２番、３番、６番および７番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、チオフェン環の３番に結合していることが好ましい。
【０７１６】
製造方法（６−７）、（６−８）、（６−９）または（６−１０）において、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の種類や使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（６）と同様である。ただし、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の使用量については、変数ｐに２を代入した値とし、また、上記式（２０）で示されるホウ素化合物を上記式（１１０）、（１１１）、（１１２）または（１１３）で示されるホウ素化合物に読み替え、上記式（２１）で示される化合物を上記式（１０８）で示される化合物に読み替えるものとする。
【０７１７】
製造方法（６−７）、（６−８）、（６−９）または（６−１０）において、原料物質である上記式（１１０）、（１１１）、（１１２）または（１１３）で示されるホウ素化合物は、上記式（２０）で示されるホウ素化合物の製造方法に準じて、製造することができる。また、原料物質である上記式（１０８）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０７１８】
＜製造方法（６−１１）〜（６−１４）＞
上記式（１９）において、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環、該キノリン環または該フェナントリジン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。すなわち、下記式（１０４）：
【０７１９】
【化２７７】
0005504454.tif 000278
【０７２０】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｈは上記式（１９）と同じ意味を有し；Ｒｈはピリジン環のどの位置に結合していてもよく；ピリジン環を構成する炭素原子上の数字はＲｈがピリジン環に結合することができる位置を表し；ピリジン環は置換基を有していてもよい；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（１１０）：
【０７２１】
【化２７８】
0005504454.tif 000279
【０７２２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；ピリジン環を構成する炭素原子上の数字はジオキサボロラニル基がピリジン環に結合することができる位置を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（１０９）：
【０７２３】
【化２７９】
0005504454.tif 000280
【０７２４】
［式中、Ｒｈは上記式（１９）と同じ意味を有し；Ｙ”は上記式（２１）と同じ意味を有し；複数個存在するＹ”は同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（６−１１）」ということがある。）、また、下記式（１０５）：
【０７２５】
【化２８０】
0005504454.tif 000281
【０７２６】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｈは上記式（１９）と同じ意味を有し；Ｒｈはキノリン環のどの位置に結合していてもよく；キノリン環を構成する炭素原子上の数字はＲｈがキノリン環に結合することができる位置を表し；キノリン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（１１１）：
【０７２７】
【化２８１】
0005504454.tif 000282
【０７２８】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；キノリン環を構成する炭素原子上の数字はジオキサボロラニル基がキノリン環に結合することができる位置を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（１０９）：
【０７２９】
【化２８２】
0005504454.tif 000283
【０７３０】
［式中、Ｒｈは上記式（１９）と同じ意味を有し；Ｙ”は上記式（２１）と同じ意味を有し；複数個存在するＹ”は同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（６−１２）」ということがある。）、また、下記式（１０６）：
【０７３１】
【化２８３】
0005504454.tif 000284
【０７３２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｈは上記式（１９）と同じ意味を有し；Ｒｈはフェナントリジン環のどの位置に結合していてもよく；フェナントリジン環を構成する炭素原子上の数字はＲｈがフェナントリジン環に結合することができる位置を表し；フェナントリジン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（１１２）：
【０７３３】
【化２８４】
0005504454.tif 000285
【０７３４】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；フェナントリジン環を構成する炭素原子上の数字はジオキサボロラニル基がフェナントリジン環に結合することができる位置を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（１０９）：
【０７３５】
【化２８５】
0005504454.tif 000286
【０７３６】
［式中、Ｒｈは上記式（１９）と同じ意味を有し；Ｙ”は上記式（２１）と同じ意味を有し；複数個存在するＹ”は同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（６−１３）」ということがある。）、また、下記式（１０７）：
【０７３７】
【化２８６】
0005504454.tif 000287
【０７３８】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは、各々、同一または相異なり；Ｒｈは上記式（１９）と同じ意味を有し；Ｒｈはチオフェン環のどの位置に結合していてもよく；チオフェン環を構成する炭素原子上の数字はＲｈがチオフェン環に結合することができる位置を表し；チオフェン環は置換基を有していてもよく；ＳからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示される好適なホウ素化合物は、下記式（１１３）：
【０７３９】
【化２８７】
0005504454.tif 000288
【０７４０】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（１７）と同じ意味を有し；チオフェン環を構成する炭素原子上の数字はジオキサボロラニル基がチオフェン環に結合することができる位置を表し；ＳからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（１０９）：
【０７４１】
【化２８８】
0005504454.tif 000289
【０７４２】
［式中、Ｒｈは上記式（１９）と同じ意味を有し；Ｙ”は上記式（２１）と同じ意味を有し；複数個存在するＹ”は同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（６−１４）」ということがある。）。
【０７４３】
上記式（１０４）、（１０５）、（１０６）および（１０７）において、Ｒｈで表される３価の有機骨格は、各々、ピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環およびチオフェン環のどの位置に結合していてもよく、特に限定されるものではないが、ピリジン環の１番、２番および３番から選択される位置、１’番、２’番および３’番から選択される位置、ならびに、１”番、２”番および３”番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、キノリン環の２番、３番、４番および５番から選択される位置、２’番、３’番、４’番および５’番から選択される位置、ならびに、２”番、３”番、４”番および５”番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、フェナントリジン環の２番、３番、６番および７番から選択される位置、２’番、３’番、６’番および７’番から選択される位置、ならびに、２”番、３”番、６”番および７”番から選択される位置に結合していることが好ましく、また、チオフェン環の３番、３’番および３”番に結合していることが好ましい。
【０７４４】
また、上記式（１１０）、（１１１）、（１１２）および（１１３）において、ジオキサボロラニル基は、各々、ピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環およびチオフェン環のどの位置に結合していてもよく、特に限定されるものではないが、ピリジン環の１位および３位から選択される位置に結合していることが好ましく、また、キノリン環の２位、４位および５位から選択される位置に結合していることが好ましく、また、フェナントリジン環の２位、３位、６位および７位から選択される位置に結合していることが好ましく、また、チオフェン環の３位に結合していることが好ましい。
【０７４５】
製造方法（６−１１）、（６−１２）、（６−１３）または（６−１４）において、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の種類や使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（６）と同様である。ただし、原料物質の使用量、触媒や安定化剤の使用量については、変数ｐに３を代入した値とし、また、上記式（２０）で示されるホウ素化合物を上記式（１１０）、（１１１）、（１１２）または（１１３）で示されるホウ素化合物に読み替え、上記式（２１）で示される化合物を上記式（１０９）で示される化合物に読み替えるものとする。
【０７４６】
製造方法（６−１１）、（６−１２）、（６−１３）または（６−１４）において、原料物質である上記式（１１０）、（１１１）、（１１２）または（１１３）で示されるホウ素化合物は、上記式（２０）で示されるホウ素化合物の製造方法に準じて、製造することができる。また、原料物質である上記式（１０９）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０７４７】
≪新規なホウ素化合物ＩＩＩ≫
本発明の新規なホウ素化合物ＩＩＩは、下記式（２２）：
【０７４８】
【化２８９】
0005504454.tif 000290
【０７４９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは水素または１価の有機骨格であり；Ｒ１３およびＲ１４は、同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物である。
【０７５０】
上記式（２２）において、Ｒ１、Ｒ２またはＲ３で表される、置換基を有していてもよいアリール基における「アリール基」としては、例えば、フェニル基、ビフェニリル基（例えば、４−ビフェニリル基など）、ナフチル基（例えば、２−ナフチル基など）、テトラヒドロナフチル基（例えば、５，６，７，８−テトラヒドロナフタレン−２−イル基など）、インデニル基（例えば、１Ｈ−インデン−５−イル基など）、インダニル基（例えば、インダン−５−イル基など）などが挙げられるが、これらのアリール基に限定されるものではない。これらのアリール基のうち、フェニル基、ビフェニリル基（例えば、４−ビフェニリル基など）、ナフチル基（例えば、２−ナフチル基など）が好適である。
【０７５１】
Ｒ１、Ｒ２またはＲ３で表される、置換基を有していてもよい複素環基における「複素環基」としては、例えば、ピロリル基（例えば、２−ピロリル基など）、ピリジル基（例えば、２−ピリジル基など）、キノリル基（例えば、２−キノリル基など）、ピペリジニル基（例えば、４−ピペリジニル基など）、ピペリジノ基、フリル基（例えば、２−フリル基など）、チエニル基（例えば、２−チエニル基など）などが挙げられるが、これらの複素環基に限定されるものではない。これらの複素環基のうち、ピリジル基（例えば、２−ピリジル基など）、チエニル基（例えば、２−チエニル基など）が好適である。
【０７５２】
これらの置換基を有していてもよいアリール基および複素環基における「置換基」としては、例えば、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、ハロアルキル基（例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基など）、炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐鎖状アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基など）、炭素数５〜７の環状アルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基など）、炭素数１〜８の直鎖状もしくは分岐鎖状アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基など）、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、各アルキル基が炭素数１〜４であるモノもしくはジアルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基など）、炭素数２〜６のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、アリル基など）、炭素数２〜６のアルキニル基（例えば、エチニル基、１−プロピニル基、プロパルギル基など）、フェニル基、置換フェニル基（例えば、４−フルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基（ｐ−トリル基）、４−メトキシフェニル基、４−ニトロフェニル基など）、カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイル基など）などが挙げられるが、これらの置換基に限定されるものではない。
【０７５３】
あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、いずれか２個が互いに結合して環を形成していてもよい。このような環としては、例えば、Ｒ１とＲ２とが結合した結果、ボロール環、ベンゾボロール環、ジベンゾボロール環、１，４−ジヒドロボリニン環、１，４−ジヒドロベンゾ［ｂ］ボリニン環、５，１０−ジヒドロジベンゾ［ｂ，ｅ］ボリニン環、４Ｈ−１，４−オキサボリニン環、４Ｈ−ベンゾ［ｂ］［１，４］オキサボリニン環、１０Ｈ−ジベンゾ［ｂ，ｅ］［１，４］オキサボリニン環、１，４−ジヒドロ−１，４−アザボリニン環、１，４−ジヒドロベンゾ［ｂ］［１，４］アザボリニン環、５，１０−ジヒドロジベンゾ［ｂ，ｅ］［１，４］アザボリニン環などを形成した場合；Ｒ１とＲ３とが結合した結果、５，６−ジヒドロジベンゾ［ｂ，ｄ］ボリニン環などを形成した場合；さらにこれらの環が置換基を有する場合；などが挙げられるが、これらの環に限定されるものではない。  上記式（２２）において、Ｒ１３またはＲ１４で表される置換基としては、例えば、置換基を有していてもよいアリール基および複素環基における「置換基」として列挙した上記のような置換基が挙げられるが、これらの置換基に限定されるものではない。
【０７５４】
上記式（２２）において、Ｒｂで表される１価の有機骨格としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基、フェニル基、４−メチルフェニル基（トリル基）、ナフチル基（例えば、２−ナフチル基など）などが挙げられるが、これらの有機骨格に限定されるものではない。
【０７５５】
上記式（２２）において、好ましくは、Ｒ１３およびＲ１４がメチル基であり、また、好ましくは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３がビフェニリル基であり、Ｒｂが水素原子である。
【０７５６】
≪新規なホウ素化合物ＩＩＩの製造方法≫
本発明の新規なホウ素化合物ＩＩＩは、以下で説明する製造方法（７）により、効率よく簡便に製造することができる。
【０７５７】
＜製造方法（７）＞
本発明の新規なホウ素化合物ＩＩＩである下記式（２２）：
【０７５８】
【化２９０】
0005504454.tif 000291
【０７５９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｒｂは水素または１価の有機骨格であり；Ｒ１３およびＲ１４は、同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物は、下記式（２３）：
【０７６０】
【化２９１】
0005504454.tif 000292
【０７６１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲｂは上記式（２２）と同じ意味を有し；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物を、下記式（２４）：
【０７６２】
【化２９２】
0005504454.tif 000293
【０７６３】
［式中、Ｒ１３およびＲ１４は上記式（２２）と同じ意味を有し；Ｙ”はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基であり；複数個存在するＹ”は同一または相異なる］
で示される化合物と、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む触媒の存在下で、反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（７）」ということがある。）。
【０７６４】
上記式（２４）で示される化合物の使用量は、上記式（２３）で示されるホウ素化合物１モルに対して、好ましくは０．２モル以上、１．０モル以下、より好ましくは０．３モル以上、０．８モル以下、さらに好ましくは０．４モル以上、０．６モル以下である。上記式（２４）で示される化合物の使用量が少なすぎると、上記式（２４）で示される化合物が不足し、最終生成物の収率が低下することがある。逆に、上記式（２４）で示される化合物の使用量が多すぎると、上記式（２４）で示される化合物が過剰であり、製造コストが上昇することがある。
【０７６５】
触媒には、パラジウム、白金およびニッケルよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素が含まれる。これらの金属元素のうち、パラジウム、白金が好適である。
【０７６６】
触媒としては、例えば、上記のような金属元素を含む錯体が挙げられ、その具体例としては、例えば、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム・クロロホルム錯体（Ｐｄ２ｄｂａ３・ＣＨＣｌ３）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（Ｐｄ（ＰｔＢｕ３）２）、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム、ビス（１，５−シクロオクタジエン）白金、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケルなどが挙げられる。これらの触媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの触媒のうち、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム・クロロホルム錯体（Ｐｄ２ｄｂａ３・ＣＨＣｌ３）が好適である。
【０７６７】
触媒の使用量としては、上記式（２３）で示されるホウ素化合物１モルに対して、好ましくは０．００１モル以上、０．２モル以下、より好ましくは０．００５モル以上、０．１５モル以下、さらに好ましくは０．０１モル以上、０．１モル以下である。触媒の使用量が少なすぎると、反応速度が遅く、反応が速やかに進行しないことがある。逆に、触媒の使用量が多すぎると、必要以上に触媒を使用することになり、製造コストが上昇することがある。
【０７６８】
上記反応には、触媒に加えて、安定化剤を用いてもよい。安定化剤としては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン（Ｐ（ｏ−ｔｏｌ）３）、トリ（２−フリル）ホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリメチルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、ビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテル（ＤＰＥｐｈｏｓ；別名「（オキシジ−２，１−フェニレン）ビス（ジフェニルホスフィン）」）、ビピリジンなどが挙げられる。これらの安定化剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの安定化剤のうち、ビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテル（ＤＰＥｐｈｏｓ）が好適である。
【０７６９】
安定化剤の使用量としては、上記式（２３）で示されるホウ素化合物１モルに対して、好ましくは０．０１モル以上、０．３モル以下、より好ましくは０．０２モル以上、０．２５モル以下、さらに好ましくは０．０３モル以上、０．２モル以下である。安定化剤の使用量が少なすぎると、安定化剤の機能が充分に発揮されず、最終生成物の収率が低下することがある。逆に、安定化剤の使用量が多すぎると、必要以上に安定化剤を使用することになり、製造コストが上昇することがある。
【０７７０】
なお、ホスフィン配位子などの安定化剤を含む触媒（例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムなど）を用いた場合には、さらに安定化剤を用いる必要はない。
【０７７１】
上記反応は、通常、有機溶媒中で行われる。有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素類；クロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼンなどのハロゲン化芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレンなどのハロゲン化脂肪族炭化水素類；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブチルアルコール、イソペンチルアルコールなどのアルコール類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチル、酢酸イソペンチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチルフェニルエーテル（アニソール）などのエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（セロソルブ）、エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（セロソルブアセテート）などのグリコールエーテル（セロソルブ）類；シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素類；ｎ−ヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；アセトニトリルなどのニトリル類；などが挙げられる。これらの有機溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの有機溶媒のうち、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類が好適である。
【０７７２】
上記反応は、好ましくは、不活性ガスの雰囲気下で行われる。不活性ガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴンなどが挙げられる。これらの不活性ガスは、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの不活性ガスのうち、窒素、アルゴンが好適である。
【０７７３】
反応条件としては、上記反応が充分に進行する条件である限り、特に限定されるものではないが、例えば、反応温度は、好ましくは０〜１００℃、より好ましくは室温〜８０℃であり、また、反応時間は、好ましくは０．５〜２４時間、より好ましくは１〜１２時間である。反応圧力は、常圧、減圧または加圧のいずれでもよいが、好ましくは、常圧である。
【０７７４】
反応終了後、例えば、反応溶液をそのまま濃縮または蒸発乾固し、あるいは、反応溶液に水を加え、適当な有機溶媒で抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した後、濃縮または蒸発乾固し、必要に応じて、各種クロマトグラフィーや再結晶などの従来公知の方法で精製することにより、目的生成物が得られる。
【０７７５】
製造方法（７）において、原料物質である上記式（２３）で示されるホウ素化合物は、上記式（４）で示されるホウ素化合物の製造方法に準じて、製造することができる。
【０７７６】
製造方法（７）において、原料物質である上記式（２４）で示される化合物は、従来公知の方法により製造するか、あるいは、市販品を利用することができる。
【０７７７】
上記式（２２）および（２４）において、好ましくは、Ｒ１３およびＲ１４がメチル基であり、上記式（２４）において、好ましくは、Ｙ”が臭素原子であり、また、上記式（２２）および（２３）において、好ましくは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３がビフェニリル基であり、Ｒｂが水素原子である。
【０７７８】
≪新規なホウ素化合物ＩＶ≫
本発明の新規なホウ素化合物ＩＶは、下記式（２５）：
【０７７９】
【化２９３】
0005504454.tif 000294
【０７８０】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子であり；点線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であってもよいことを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｙはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である］
で示されるホウ素化合物である。
【０７８１】
上記式（２５）において、Ｒ１、Ｒ２またはＲ３で表される、置換基を有していてもよいアリール基における「アリール基」としては、例えば、フェニル基、ビフェニリル基（例えば、４−ビフェニリル基など）、ナフチル基（例えば、２−ナフチル基など）、テトラヒドロナフチル基（例えば、５，６，７，８−テトラヒドロナフタレン−２−イル基など）、インデニル基（例えば、１Ｈ−インデン−５−イル基など）、インダニル基（例えば、インダン−５−イル基など）などが挙げられるが、これらのアリール基に限定されるものではない。これらのアリール基のうち、フェニル基、ビフェニリル基（例えば、４−ビフェニリル基など）、ナフチル基（例えば、２−ナフチル基など）が好適である。
【０７８２】
Ｒ１、Ｒ２またはＲ３で表される、置換基を有していてもよい複素環基における「複素環基」としては、例えば、ピロリル基（例えば、２−ピロリル基など）、ピリジル基（例えば、２−ピリジル基など）、キノリル基（例えば、２−キノリル基など）、ピペリジニル基（例えば、４−ピペリジニル基など）、ピペリジノ基、フリル基（例えば、２−フリル基など）、チエニル基（例えば、２−チエニル基など）などが挙げられるが、これらの複素環基に限定されるものではない。これらの複素環基のうち、ピリジル基（例えば、２−ピリジル基など）、チエニル基（例えば、２−チエニル基など）が好適である。
【０７８３】
これらの置換基を有していてもよいアリール基および複素環基における「置換基」としては、例えば、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、ハロアルキル基（例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基など）、炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐鎖状アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基など）、炭素数５〜７の環状アルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基など）、炭素数１〜８の直鎖状もしくは分岐鎖状アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基など）、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、各アルキル基が炭素数１〜４であるモノもしくはジアルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基など）、炭素数２〜６のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、アリル基など）、炭素数２〜６のアルキニル基（例えば、エチニル基、１−プロピニル基、プロパルギル基など）、フェニル基、置換フェニル基（例えば、４−フルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基（ｐ−トリル基）、４−メトキシフェニル基、４−ニトロフェニル基など）、カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイル基など）などが挙げられるが、これらの置換基に限定されるものではない。
【０７８４】
あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、いずれか２個が互いに結合して環を形成していてもよい。このような環としては、例えば、Ｒ１とＲ２とが結合した結果、ボロール環、ベンゾボロール環、ジベンゾボロール環、１，４−ジヒドロボリニン環、１，４−ジヒドロベンゾ［ｂ］ボリニン環、５，１０−ジヒドロジベンゾ［ｂ，ｅ］ボリニン環、４Ｈ−１，４−オキサボリニン環、４Ｈ−ベンゾ［ｂ］［１，４］オキサボリニン環、１０Ｈ−ジベンゾ［ｂ，ｅ］［１，４］オキサボリニン環、１，４−ジヒドロ−１，４−アザボリニン環、１，４−ジヒドロベンゾ［ｂ］［１，４］アザボリニン環、５，１０−ジヒドロジベンゾ［ｂ，ｅ］［１，４］アザボリニン環などを形成した場合；Ｒ１とＲ３とが結合した結果、５，６−ジヒドロジベンゾ［ｂ，ｄ］ボリニン環などを形成した場合；さらにこれらの環が置換基を有する場合；などが挙げられるが、これらの環に限定されるものではない。  上記式（２５）において、Ｒ４で表される置換基としては、例えば、置換基を有していてもよいアリール基および複素環基における「置換基」として列挙した上記のような置換基が挙げられるが、これらの置換基に限定されるものではない。
【０７８５】
上記式（２５）において、ｍは、Ｘに結合した置換基Ｒ４の数であり、Ｘの原子価や、ＱとＸとの間の結合が単結合または二重結合のいずれであるか、ＱとＸとが共通する環の一部であるか否かなどに応じて、０〜２の整数である。なお、ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なる。
【０７８６】
上記式（２５）において、Ｑで表される連結基としては、例えば、＝Ｃ＜、＝ＣＨ−、−ＣＨ＜、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ６Ｈ４−（例えば、−（１，２−Ｃ６Ｈ４）−など）、−Ｃ１０Ｈ６−（例えば、−（１，２−Ｃ１０Ｈ６）−など）、−ＣＯ−、−ＣＳ−、−ＣＨ２Ｎ＜、−ＣＨ２Ｎ＝などが挙げられるが、これらの連結基に限定されるものではない。これらの連結基のうち、＝Ｃ＜、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−が好適である。
【０７８７】
上記式（２５）において、Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子である。これらの原子のうち、窒素原子、酸素原子が好適である。
【０７８８】
上記式（２５）において、点線の半円弧で表されるＱとＸとが共通する環としては、例えば、ピロール環、ピリジン環、インドール環、イソインドール環、キノリン環、イソキノリン環、フェナントリジン環、ピラジン環、トリアジン環、フラン環、ピラン環、ベンゾフラン環、イソベンゾフラン環、クロメン環、イソクロメン環、ホスフィンドール環、イソホスフィンドール環、ホスフィノリン環、イソホスフィノリン環、チオフェン環、チオピラン環、チオクロメン環、イソチオクロメン環、セレノフェン環、セレノピラン環、セレノクロメン環、イソセレノクロメン環などが挙げられるが、これらの環に限定されるものではない。ただし、１，３−ベンゾジチオール環は除く。これらの環は、置換基を有していてもよい。これらの環のうち、ピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環、フラン環、チオフェン環が好適である。
【０７８９】
上記式（２５）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環、フェナントリジン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環、該キノリン環または該フェナントリジン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。すなわち、下記式（１１４）：
【０７９０】
【化２９４】
0005504454.tif 000295
【０７９１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＹは上記式（２５）と同じ意味を有し；ピリジン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（１１５）：
【０７９２】
【化２９５】
0005504454.tif 000296
【０７９３】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＹは上記式（２５）と同じ意味を有し；キノリン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（１１６）：
【０７９４】
【化２９６】
0005504454.tif 000297
【０７９５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＹは上記式（２５）と同じ意味を有し；フェナントリジン環は置換基を有していもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物、および、下記式（１１７）：
【０７９６】
【化２９７】
0005504454.tif 000298
【０７９７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＹは上記式（２５）と同じ意味を有し；チオフェン環は置換基を有していてもよく；ＳからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物が好適である。
【０７９８】
また、上記式（２５）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが窒素原子であり、ｍが２である。すなわち、下記式（１１８）：
【０７９９】
【化２９８】
0005504454.tif 000299
【０８００】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＹは上記式（２５）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ４は同一または相異なり；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物が好適である。
【０８０１】
さらに、上記式（２５）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが酸素原子であり、ｍが１である。すなわち、下記式（１１９）：
【０８０２】
【化２９９】
0005504454.tif 000300
【０８０３】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＹは上記式（２５）と同じ意味を有し；ＯからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物が好適である。
【０８０４】
≪新規なホウ素化合物ＩＶの製造方法≫
本発明の新規なホウ素化合物ＩＶは、以下で説明する製造方法（８）により、効率よく簡便に製造することができる。また、その下位概念となるホウ素化合物は、以下で説明する製造方法（８−１）〜（８−６）により、効率よく簡便に製造することができる。
【０８０５】
＜製造方法（８）＞
本発明の新規なホウ素化合物ＩＶである下記式（２５）：
【０８０６】
【化３００】
0005504454.tif 000301
【０８０７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のいずれか２個が互いに結合して環を形成しており；Ｒ４は水素原子または置換基であり；ｍは０〜２の整数であり；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｑは連結基であり；Ｘは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子またはセレン原子であり；点線の半円弧はＱとＸとが共通する環の一部であってもよいことを表し；ＱとＸとの間の点線および実線は単結合または二重結合を表し；ＸからＢに向かう矢印は配位結合を表し；Ｙはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である］
で示されるホウ素化合物は、下記式（１２０）：
【０８０８】
【化３０１】
0005504454.tif 000302
【０８０９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ、Ｑ、Ｘ、点線の半円弧、ならびに、ＱとＸとの間の点線および実線は上記式（２５）と同じ意味を有し；ｍが２である場合、複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は同一または相異なり、水素原子または置換基である］
で示されるホウ素化合物にハロゲン化剤を反応させることより、製造することができる（以下「製造方法（８）」ということがある。）。
【０８１０】
ハロゲン化剤としては、上記式（２５）において、Ｙで表されるハロゲン原子の種類に応じて、従来公知のハロゲン化剤の中から適宜選択すればよく、特に限定されるものではない。特に、上記式（２５）において、Ｙがフッ素原子である場合、フッ化剤としては、例えば、下記式（１２１）：
【０８１１】
【化３０２】
0005504454.tif 000303
【０８１２】
で示される１−クロロメチル−４−フルオロ−１，４−ジアゾニア−ビシクロ［２，２，２］オクタン−ビス（テトラフルオロボレート）（Ａｉｒ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ  ａｎｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．製、商品名「ＳｅｌｅｃｔＦｌｕｏｒ（登録商標）」）、および、下記式（１２２）：
【０８１３】
【化３０３】
0005504454.tif 000304
【０８１４】
で示されるビス（２−メトキシエチル）アミノサルファー  トリフルオリド（Ａｉｒ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ  ａｎｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．製、商品名「Ｄｅｏｘｏ−Ｆｌｕｏｒ（登録商標）」）などが挙げられる。これらのフッ化剤のうち、上記式（１２１）で示される１−クロロメチル−４−フルオロ−１，４−ジアゾニア−ビシクロ［２，２，２］オクタン−ビス（テトラフルオロボレート）（Ａｉｒ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ  ａｎｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．製、商品名「ＳｅｌｅｃｔＦｌｕｏｒ（登録商標）」）が好適である。
【０８１５】
ハロゲン化剤の使用量は、上記式（１２０）で示されるホウ素化合物１モルに対して、好ましくは０．２モル以上、２．０モル以下、より好ましくは０．４モル以上、１．８モル以下、さらに好ましくは０．６モル以上、１．６モル以下である。ハロゲン化剤の使用量が少なすぎると、ハロゲン化剤が不足し、最終生成物の収率が低下することがある。逆に、ハロゲン化剤の使用量が多すぎると、ハロゲン化剤が過剰であり、製造コストが上昇することがある。
【０８１６】
上記反応は、通常、有機溶媒中で行われる。有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素類；クロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼンなどのハロゲン化芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレンなどのハロゲン化脂肪族炭化水素類；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブチルアルコール、イソペンチルアルコールなどのアルコール類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチル、酢酸イソペンチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチルフェニルエーテル（アニソール）などのエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（セロソルブ）、エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（セロソルブアセテート）などのグリコールエーテル（セロソルブ）類；シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素類；ｎ−ヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；アセトニトリルなどのニトリル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどの非プロトン性極性溶媒；などが挙げられる。これらの有機溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの有機溶媒のうち、アセトニトリルなどのニトリル類が好適である。
【０８１７】
上記反応は、好ましくは、不活性ガスの雰囲気下で行われる。不活性ガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴンなどが挙げられる。これらの不活性ガスは、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの不活性ガスのうち、窒素、アルゴンが好適である。
【０８１８】
反応条件としては、上記反応が充分に進行する条件である限り、特に限定されるものではないが、例えば、反応温度は、好ましくは０〜１００℃、より好ましくは室温〜８０℃であり、また、反応時間は、好ましくは０．５〜２４時間、より好ましくは１〜１２時間である。反応圧力は、常圧、減圧または加圧のいずれでもよいが、好ましくは、常圧である。
【０８１９】
反応終了後、例えば、反応溶液をそのまま濃縮または蒸発乾固し、あるいは、反応溶液に水を加え、適当な有機溶媒で抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した後、濃縮または蒸発乾固し、必要に応じて、各種クロマトグラフィーや再結晶などの従来公知の方法で精製することにより、目的生成物が得られる。
【０８２０】
製造方法（８）において、原料物質である上記式（１２０）で示されるホウ素化合物は、上記式（７）で示されるホウ素化合物の製造方法に準じて、製造することができる。
【０８２１】
＜製造方法（８−１）〜（８−４）＞
上記式（２５）および（１２０）において、好ましくは、ＱおよびＸが共通する環の一部であり、より好ましくは、上記共通する環がピリジン環、キノリン環またはチオフェン環であり、Ｘが該ピリジン環または該キノリン環の窒素原子あるいは該チオフェン環の硫黄原子であり、ｍが０である。すなわち、下記式（１１４）：
【０８２２】
【化３０４】
0005504454.tif 000305
【０８２３】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＹは上記式（２５）と同じ意味を有し；ピリジン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物は、下記式（１２３）：
【０８２４】
【化３０５】
0005504454.tif 000306
【０８２５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（２５）と同じ意味を有し；ピリジン環は置換基を有していてもよく；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（１２０）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物をハロゲン化剤と反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（８−１）」ということがある。）、また、下記式（１１５）：
【０８２６】
【化３０６】
0005504454.tif 000307
【０８２７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＹは上記式（２５）と同じ意味を有し；キノリン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物は、下記式（１２４）：
【０８２８】
【化３０７】
0005504454.tif 000308
【０８２９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（２５）と同じ意味を有し；キノリン環は置換基を有していてもよく；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（１２０）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物をハロゲン化剤と反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（８−２）」ということがある。）、また、下記式（１１６）：
【０８３０】
【化３０８】
0005504454.tif 000309
【０８３１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＹは上記式（２５）と同じ意味を有し；フェナントリジン環は置換基を有していてもよく；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物は、下記式（１２５）：
【０８３２】
【化３０９】
0005504454.tif 000310
【０８３３】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（２５）と同じ意味を有し；フェナントリジン環は置換基を有していてもよく；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（１２０）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物をハロゲン化剤と反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（８−３）」ということがある。）、また、下記式（１１７）：
【０８３４】
【化３１０】
0005504454.tif 000311
【０８３５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＹは上記式（２５）と同じ意味を有し；チオフェン環は置換基を有していてもよく；ＳからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物は、下記式（１２６）：
【０８３６】
【化３１１】
0005504454.tif 000312
【０８３７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は上記式（２５）と同じ意味を有し；チオフェン環は置換基を有していてもよく；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（１２０）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物をハロゲン化剤と反応させることにより、製造することができ（以下「製造方法（８−４）」ということがある。）。
【０８３８】
製造方法（８−１）〜（８−４）において、原料物質やハロゲン化剤の使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（８）と同様である。ただし、上記式（１２０）で示されるホウ素化合物を上記式（１２３）、（１２４）、（１２５）または（１２６）で示されるホウ素化合物に読み替えるものとする。
【０８３９】
製造方法（８−１）〜（８−４）において、原料物質である上記式（１２３）、（１２４）、（１２５）または（１２６）で示されるホウ素化合物は、上記式（７）で示されるホウ素化合物の製造方法に準じて、製造することができる。
【０８４０】
＜製造方法（８−５）＞
上記式（２５）および（１２０）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが窒素原子であり、ｍが２である。すなわち、下記式（１１８）：
【０８４１】
【化３１２】
0005504454.tif 000313
【０８４２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＹは上記式（２５）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ４は同一または相異なり；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物は、下記式（１２７）：
【０８４３】
【化３１３】
0005504454.tif 000314
【０８４４】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は上記式（２５）と同じ意味を有し；複数個存在するＲ４は同一または相異なり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（１２０）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物をハロゲン化剤と反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（８−５）」ということがある。）。
【０８４５】
製造方法（８−５）において、原料物質やハロゲン化剤の使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（８）と同様である。ただし、上記式（１２０）で示されるホウ素化合物を上記式（１２７）で示されるホウ素化合物に読み替えるものとする。
【０８４６】
製造方法（８−５）において、原料物質である上記式（１２７）で示されるホウ素化合物は、上記式（７）で示されるホウ素化合物の製造方法に準じて、製造することができる。
【０８４７】
＜製造方法（８−６）＞
上記式（２５）および（１２０）において、好ましくは、Ｑがメチレン基であり、Ｘが酸素原子であり、ｍが１である。すなわち、下記式（１１９）：
【０８４８】
【化３１４】
0005504454.tif 000315
【０８４９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＹは上記式（２５）と同じ意味を有し；ＯからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
で示されるホウ素化合物は、下記式（１２８）：
【０８５０】
【化３１５】
0005504454.tif 000316
【０８５１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は上記式（２５）と同じ意味を有し；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は上記式（１２０）と同じ意味を有する］
で示されるホウ素化合物をハロゲン化剤と反応させることにより、製造することができる（以下「製造方法（８−６）」ということがある。）。
【０８５２】
製造方法（８−６）において、原料物質やハロゲン化剤の使用量、有機溶媒や不活性ガスの種類、反応条件、反応終了後の後処理などは、製造方法（８）と同様である。ただし、上記式（１２０）で示されるホウ素化合物を上記式（１２８）で示されるホウ素化合物に読み替えるものとする。
【０８５３】
製造方法（８−５）において、原料物質である上記式（１２８）で示されるホウ素化合物は、上記式（７）で示されるホウ素化合物の製造方法に準じて、製造することができる。
【０８５４】
≪新規なホウ素化合物Ｉ〜ＩＶの用途≫
本発明の新規なホウ素化合物Ｉ〜ＩＶは、従来公知のホウ素化合物とは全く異なる新しい分子構造を有し、その特性に応じて、発光材料、電子輸送材料、電子注入材料、正孔阻止材料または有機半導体材料として有用である。それゆえ、本発明の新規なホウ素化合物Ｉ〜ＩＶを様々な機能性電子素子に用いれば、得られた機能性電子素子は、優れた電気的特性を発揮する。
【０８５５】
また、本発明の新規なホウ素化合物Ｉ〜ＩＶは、太陽電池の有機半導体材料、フィルムコンデンサ、ＣＭＯＳなどのゲート絶縁膜、高周波回路基板におけるインピーダンスマッチング用層間絶縁膜、平面（フィルム）アンテナのベース基板、レンズ材料、光学記録ディスク媒体の保護層、薄膜光学フィルター、光ファイバー、光導波路、光学接着剤、光学封止材などとしても有用である。
【０８５６】
≪機能性電子素子≫
本発明の機能性電子素子は、上記式（１）、（２）、（３）、（１５）、（１６）、（１７）、（２０）または（２３）で示されるホウ素化合物あるいはそれらの下位概念となるホウ素化合物のいずれかを発光材料、電子輸送材料または正孔阻止材料として用いることを特徴とする。ここで、機能性電子素子としては、例えば、有機ＥＬ素子、有機薄膜トランジスタなどが挙げられるが、これらの電子素子に限定されるものではない。
【０８５７】
本発明の機能性電子素子のうち、有機ＥＬ素子は、一般に、透明基板上に、陽極、発光層、陰極を順次形成させた単層構造；陽極、発光性正孔輸送層、電子輸送層、陰極を順次形成させた２層構造；陽極、正孔輸送層、発光性電子輸送層、陰極を順次形成させた２層構造；陽極、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、陰極を順次形成させた３層構造；などを有する。これらの構造において、各層を機能面から見ると、発光層（発光性正孔輸送層、発光性電子輸送層を含む）は、有機ＥＬ素子の発光色を決める部分であり、特にディスプレイ用途では、光の三原色（赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ））のいずれかに対応した発光色を高い効率で発光することが求められる。
【０８５８】
正孔輸送層は、陽極から注入された正孔を発光層まで輸送する働きを担うが、効率の良い正孔注入のために陽極材料の仕事関数と近い最高被占軌道（ＨＯＭＯ）を有する材料であること、正孔を効率よく輸送するために弱いドナー性を有する材料であること、発光層の材料と励起錯体（エキシプレックス）や電荷移動錯体といった分子間相互作用を形成しないことが求められる。
【０８５９】
電子輸送層は、陰極から注入された電子を発光層まで輸送する働きを担うが、効率の良い電子注入のために弱いアクセプター性を有する材料であること、発光層の材料と励起錯体（エキシプレックス）や電荷移動錯体といった分子間相互作用を形成しないことが求められる。
【０８６０】
正孔輸送層または電子輸送層については、このような複合的な条件を同時に満たす材料は限られている。そこで、素子の高効率化と低駆動電圧化のために各輸送層での機能を細分化し、各輸送層をさらに多層構造にした有機ＥＬ素子が検討されている。電子輸送層を細分化した例としては、例えば、通常の電子輸送層（主に電子輸送の役割を担う）と陰極との間に、電子注入を効率よく行うことを主目的とする電子注入層を設けたり、通常の電子輸送層と発光層との間に、正孔を発光層に留めて置くことを主目的とする正孔阻止層を設けたりすることなどが挙げられる。
【０８６１】
本発明の機能性電子素子が有機ＥＬ素子である場合、上記式（１）、（２）、（３）、（１５）、（１６）、（１７）、（２０）または（２３）で示されるホウ素化合物あるいはそれらの下位概念となるホウ素化合物は、その特性に応じて、発光層を構成する発光材料として用いられるか、電子輸送層を構成する電子輸送材料として用いられるか、電子注入層を構成する電子注入材料として用いられるか、あるいは、正孔阻止層を構成する正孔阻止材料として用いられる。
【０８６２】
本発明の機能性電子素子のうち、有機薄膜トランジスタは、一般に、基板上に、ゲート電極、ゲート絶縁膜、ソース／ドレイン電極、有機半導体層を形成した構造を有し、ソース／ドレイン電極上に有機半導体層を形成したボトムコンタクト型と、有機半導体層上にソース／ドレイン電極を形成したトップコンタクト型とに分類される。ここで、有機半導体層に用いられる材料としては、主に正孔をキャリアとして輸送するｐ型半導体と、主に電子をキャリアとして輸送するｎ型半導体と、さらには、その両方の性質を兼ね備えた両極性（ambipolar）半導体とが挙げられる。
【０８６３】
本発明の機能性電子素子が有機薄膜トランジスタである場合、上記式（１）、（２）、（３）、（１５）、（１６）、（１７）、（２０）または（２３）で示されるホウ素化合物あるいはそれらの下位概念となるホウ素化合物は、その特性に応じて、有機半導体層を構成する有機半導体材料として用いられる。
【０８６４】
本発明の機能性電子素子は、上記式（１）、（２）、（３）、（１５）、（１６）、（１７）、（２０）または（２３）で示されるホウ素化合物あるいはそれらの下位概念となるホウ素化合物のいずれかを発光材料、電子輸送材料、電子注入材料、正孔阻止材料または有機半導体材料として用いているので、優れた電気的特性を示す。
【実施例】
【０８６５】
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例により制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に含まれる。
【０８６６】
まず、合成例で製造した原料物質および実施例で製造した新規なホウ素化合物の物性値の測定方法、ならびに、実施例で製造した新規なホウ素化合物の蛍光スペクトル、蛍光量子収率、ガラス転移温度およびＨＯＭＯ−ＬＵＭＯ準位の測定方法について説明する。
【０８６７】
＜１Ｈ−ＮＭＲスペクトル＞
得られた原料物質またはホウ素化合物を、重水素化クロロホルム、重水素化ジクロロメタン、重水素化アセトニトリル、重水素化ジメチルスルホキシドのいずれかの溶液とし、高分解能核磁気共鳴装置（製品名：Ｇｅｍｉｎｉ  ２０００、Ｖａｒｉａｎ，Ｉｎｃ．製；３００ＭＨｚ）を用いて測定した。化学シフトは、テトラメチルシランから低磁場側における１００万分の１（ｐｐｍ；δスケール）として記録し、テトラメチルシランの水素核（δ０．００）を参照とした。
【０８６８】
＜１３Ｃ−ＮＭＲスペクトル＞
得られた原料物質またはホウ素化合物を、重水素化クロロホルム、重水素化ジクロロメタン、重水素化アセトニトリル、重水素化ジメチルスルホキシドのいずれかの溶液とし、高分解能核磁気共鳴装置（製品名：Ｇｅｍｉｎｉ  ２０００、Ｖａｒｉａｎ，Ｉｎｃ．製；７５ＭＨｚ）を用いて測定した。化学シフトは、テトラメチルシランから低磁場側における１００万分の１（ｐｐｍ；δスケール）として記録し、ＮＭＲ溶媒中の炭素核（ＣＤＣｌ３：δ＝７７．０、ＣＤ２Ｃｌ２：δ＝５３．１、ＣＤ３ＣＮ：δ＝１．３２、ＤＭＳＯ−ｄ６：δ＝３９．５２）を参照とした。
【０８６９】
＜１１Ｂ−ＮＭＲスペクトル＞
得られた原料物質またはホウ素化合物を、重水素化クロロホルム、重水素化アセトニトリル、重水素化ジメチルスルホキシドのいずれかの溶液とし、高分解能核磁気共鳴装置（製品名：Ｍｅｒｃｕｒｙ−４００、Ｖａｒｉａｎ，Ｉｎｃ．製；１２８ＭＨｚ）を用いて測定した。化学シフトは、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体のホウ素核（δ＝０．００）を基準とする１００万分の１（ｐｐｍ；δスケール）として記録した。
【０８７０】
＜高分解能質量分析スペクトル＞
高分解能質量分析計（製品名：ＪＭＳ−ＳＸ１０１Ａ、ＪＭＳ−ＭＳ７００、ＪＭＳ−ＢＵ２５０、日本電子株式会社製）を用いて、電子イオン化法（ＥＩ）または高速電子衝撃法（ＦＡＢ）により測定した。
【０８７１】
＜蛍光スペクトル＞
得られたホウ素化合物をジクロロメタンの希薄溶液とし、蛍光分光光度計（製品名：ＦＰ−７７７、日本分光株式会社製）を用いて、蛍光スペクトルを測定した。測定温度は常温、励起光の波長は２８０ｎｍ、測定波長の範囲は２９０〜６００ｎｍとした。なお、測定結果として、蛍光最大波長（λＰＬ）を示す。
【０８７２】
＜蛍光量子収率＞
まず、得られたホウ素化合物について、濃度が異なる数種類のジクロロメタン溶液を調製した。次いで、紫外可視分光光度計（製品名：８４５３型、アジレント・テクノロジー株式会社製）を用いて、各溶液の波長２８０ｎｍにおける吸光度を測定した。また、各溶液の蛍光スペクトルから蛍光強度（波数積分値）を求めた。得られた吸光度および蛍光強度に関するデータから、横軸が吸光度、縦軸が蛍光強度であるグラフを作成した。標準試料として、２−アミノピリジンの０．１Ｍ硫酸溶液と、トリプトファン水溶液（ｐＨ７．２）について、同様の測定を行い、それぞれのグラフを作成した。ある試料（ホウ素化合物）のグラフ（右上がりの直線となる）の傾きをＧＳ、２−アミノピリジンのグラフの傾きをＧＲ１、トリプトファンのグラフの傾きをＧＲ２、ジクロロメタンの屈折率をｎＳ、０．１Ｍ硫酸の屈折率をｎＲ１、水の屈折率をｎＲ２、２−アミノピリジンの蛍光量子収率（文献値）をＹＲ１、トリプトファンの蛍光量子収率（文献値）をＹＲ２として、試料（ホウ素化合物）の蛍光量子収率ＹＳを下記の式で求めた。ここで、ｎＳ＝１．４２４２、ｎＲ１＝１．３３３、ｎＲ２＝１．３３３、ＹＲ１＝０．６０、ＹＲ２＝０．１４である。
【０８７３】
【数１】
0005504454.tif 000317
【０８７４】
【数２】
0005504454.tif 000318
【０８７５】
【数３】
0005504454.tif 000319
【０８７６】
＜ガラス転移温度（Ｔｇ）＞
示差走査熱量分析装置（製品名：ＤＳＣ６２２０、セイコー・インスツル株式会社製）を用いて、約５ｍｇの試料（ホウ素化合物）を密封式アルミニウムパンに封入して測定した。測定温度の範囲は０〜２５０℃、昇温（降温）速度は１０℃／ｍｉｎとした。昇降温を３回繰り返し、得られたＤＳＣ曲線の２サイクル目、３サイクル目の昇温過程部分において、ベースラインがシフトしたところをガラス転移温度（Ｔｇ）とした。
【０８７７】
＜ＨＯＭＯ−ＬＵＭＯ準位＞
本発明の新規なホウ素化合物のエネルギー準位を調べるために、以下のようにして、最高被占軌道（ＨＯＭＯ）および最低空軌道（ＬＵＭＯ）の準位を測定した。
【０８７８】
無アルカリガラス上にインジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ）を厚さ１５０ｎｍで成膜した基板（旭硝子株式会社製；シート抵抗１０Ω）を２ｃｍ×２ｃｍに切断し、イソプロパノール中で１０分間超音波洗浄した後、イソプロパノールで煮沸洗浄し、乾燥させた。この基板をアルゴン雰囲気のグローブボックスに連結された真空蒸着装置（株式会社アルバック製）の基板ホルダーに固定した。測定する試料を石英製のルツボに入れ、約１×１０−３Ｐａまで減圧し、膜厚５０ｎｍになるように蒸着した。作成した試料薄膜について、複合電子分光分析装置（製品名：ＥＳＣＡ−５８００、アルバック・ファイ株式会社製）を用いて、イオン化ポテンシャルを測定した。測定値を試料のＨＯＭＯ準位とした。
【０８７９】
同時に作成した別の試料薄膜について、アジレント・テクノロジー株式会社製の８４５３型紫外可視分光光度計を用いて、吸収スペクトルを測定した。得られたスペクトルから、吸収ピークの長波長側吸収端λ（単位：ｎｍ）を読み取り、次式により、ＨＯＭＯ−ＬＵＭＯギャップ（Ｂ．Ｇ．）を求めた。
Ｂ．Ｇ．＝１２４０／λ
さらに、上で求めたＨＯＭＯ準位とＨＯＭＯ−ＬＵＭＯギャップ（Ｂ．Ｇ．）とから、次式により、ＬＵＭＯ準位を求めた。
ＬＵＭＯ＝ＨＯＭＯ−Ｂ．Ｇ．。
【０８８０】
次に、本発明の新規なホウ素化合物Ｉおよびその製造方法（１）〜（４）に関する実施例に用いる原料物質の合成例１〜１３について説明する。
【０８８１】
≪合成例１≫
下記式で示されるトリフェニル（２−ピリジニオエチニル）ボラートの合成
【０８８２】
【化３１６】
0005504454.tif 000320
【０８８３】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表す］
アルゴン雰囲気下、２−エチニルピリジン（２５０ｍｇ、２．４ｍｍｏｌ）を含むテトラヒドロフラン溶液（８ｍＬ）に、−７８℃でｎ−ブチルリチウム（１．６Ｍ、１．４ｍＬ、２．２ｍｍｏｌ）を滴下した。−７８℃に保持したまま、３０分間攪拌した後、トリフェニルボラン・ピリジン錯体（６４２ｍｇ、２．０ｍｍｏｌ）を加え、さらに室温で１時間攪拌した。少量のメタノールを加えて反応を停止させ、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去した後、得られた残渣をメタノールに溶解させ、塩化ピリジニウム（２８０ｍｇ、２．２ｍｍｏｌ）を加えた。生成した白色固体を濾取し、テトラヒドロフランおよびメタノールで洗浄することにより、トリフェニル（２−ピリジニオエチニル）ボラート（３９０ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ）を収率５６％で得た。
【０８８４】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ６．９４−７．００（ｍ，３Ｈ）、７．０８−７．１２（ｍ，６Ｈ）、７．３７（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，６Ｈ）、７．６２−７．６７（ｍ，１Ｈ）、７．８２−７．８５（ｍ，１Ｈ）、８．２８−８．３４（ｍ，２Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ１２２．６、１２３．９、１２７．１、１２８．８、１３５．２、１４２．０、１４２．７、１４５．９；
１１Ｂ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ−６．５；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ２５Ｈ２０ＢＮ（Ｍ＋）：理論値３４５．１６８９、実測値３４５．１６９２。
【０８８５】
≪合成例２≫
下記式で示されるトリス（２−ナフチル）（２−ピリジニオエチニル）ボラートの合成
【０８８６】
【化３１７】
0005504454.tif 000321
【０８８７】
［式中、２−Ｎｐは２−ナフチル基を表す］
トリフェニルボラン・ピリジン錯体をトリス（２−ナフチル）ボラン・ピリジン錯体（９４５ｍｇ、２ｍｍｏｌ）に変更したこと以外は、合成例１に準じて、合成を行い、ジクロロメタンで洗浄することにより、トリス（２−ナフチル）（２−ピリジニオエチニル）ボラート（８２０ｍｇ、１．７ｍｍｏｌ）を収率８３％で得た。
【０８８８】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ７．２７−７．３３（ｍ，６Ｈ）、７．５８−７．８１（ｍ，１６Ｈ）、８．０１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ）、８．３９（ｐｓｅｕｄｏ  ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ）、８．６２（ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，１Ｈ）；
１１Ｂ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ−７．１；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ３７Ｈ２６ＢＮ（Ｍ＋）：理論値４９５．２１５８、実測値４９５．２１５７。
【０８８９】
≪合成例３≫
下記式で示されるトリフェニル（２−キノリニオエチニル）ボラートの合成
【０８９０】
【化３１８】
0005504454.tif 000322
【０８９１】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表す］
２−エチニルピリジンを２−エチニルキノリン（３６３ｍｇ、２．４ｍｍｏｌ）に変更したこと以外は、合成例１に準じて、合成を行い、ジクロロメタンで洗浄することにより、トリフェニル（２−キノリニオエチニル）ボラート（２０８ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ）を収率２６％で得た。
【０８９２】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ６．９０−６．９５（ｍ，３Ｈ）、７．０５（ｐｓｅｕｄｏ  ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，６Ｈ）、７．３３（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，６Ｈ）、７．８０−７．８５（ｍ，１Ｈ）、７．９４（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ）、８．０３−８．１２（ｍ，２Ｈ）、８．２６（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ）、８．９４（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ１１９．８、１２２．９、１２５．８、１２６．０、１２８．５、１２８．７、１３４．１、１３７．８、１４０．３、１４４．４；
１１Ｂ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ−７．０；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ２９Ｈ２２ＢＮ（Ｍ＋）：理論値３９５．１８４５、実測値３９５．１８４７。
【０８９３】
≪合成例４≫
下記式で示されるテトラメチルアンモニウム＝３−メトキシ−１−プロピニルトリフェニルボラートの合成
【０８９４】
【化３１９】
0005504454.tif 000323
【０８９５】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表す］
アルゴン雰囲気下、メチルプロパルギルエーテル（５１０μＬ、６ｍｍｏｌ）を含むテトラヒドロフラン溶液（２０ｍＬ）に、−７８℃でｎ−ブチルリチウム（１．６Ｍ、３．４ｍＬ、５．５ｍｍｏｌ）を滴下した。−７８℃に保持したまま、３０分間攪拌した後、トリフェニルボラン・ピリジン錯体（１．６ｇ、５ｍｍｏｌ）を加え、さらに室温で１時間攪拌した。少量のメタノールを加えて反応を停止させ、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去した後、得られた残渣をメタノールに溶解させ、塩化テトラメチルアンモニウム（６００ｍｇ、５．５ｍｍｏｌ）を加えた。生成した白色固体を濾取することにより、テトラメチルアンモニウム＝３−メトキシ−１−プロピニルトリフェニルボラート（１．７８ｇ、４．６ｍｍｏｌ）を収率９２％で得た。
【０８９６】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ２．９６（ｓ，１２Ｈ）、３．３６（ｓ，３Ｈ）、４．１４（ｓ，２Ｈ）、６．８９（ｔｔ，Ｊ＝７．４，１．７Ｈｚ，３Ｈ）、７．００−７．０６（ｍ，６Ｈ）、７．３−７．４（ｂｒ，６Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ５６．０、５６．８、６２．１、１２３．２、１２６．７、１３５．３；
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ）Ｃ２２Ｈ２０ＢＯ［Ｍ−Ｎ（ＣＨ３）４］−：理論値３１１．１６０７、実測値３１１．１５９５。
【０８９７】
≪合成例５≫
下記式で示されるテトラメチルアンモニウム＝３−メトキシ−１−プロピニルトリス（２−ナフチル）ボラートの合成
【０８９８】
【化３２０】
0005504454.tif 000324
【０８９９】
［式中、２−Ｎｐは２−ナフチル基を表す］
トリフェニルボラン・ピリジン錯体をトリス（２−ナフチル）ボラン・ピリジン錯体（２．３４ｇ、５ｍｍｏｌ）に変更したこと以外は、合成例４に準じて、合成および精製を行うことにより、テトラメチルアンモニウム＝３−メトキシ−１−プロピニルトリス（２−ナフチル）ボラート（２．４３ｇ、４．５ｍｍｏｌ）を収率９０％で得た。
【０９００】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ２．７２（ｓ，１２Ｈ）、３．４７（ｓ，３Ｈ）、４．２７（ｓ，２Ｈ）、７．２７−７．３４（ｍ，６Ｈ）、７．６０−７．６５（ｍ，６Ｈ）、７．７３−７．７８（ｍ，６Ｈ）、７．８７（ｓ，３Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ５５．８、５６．９、６２．２、１２４．１、１２５．１、１２５．２、１２７．９、１３２．２、１３２．６、１３４．３、１３５．８；
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ）Ｃ３４Ｈ２６ＢＯ［Ｍ−Ｎ（ＣＨ３）４］−：理論値４６１．２０７７、実測値４６１．２０７３。
【０９０１】
≪合成例６≫
下記式で示される３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオ）−１−プロピニルトリフェニルボラートの合成
【０９０２】
【化３２１】
0005504454.tif 000325
【０９０３】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表す］
２−エチニルピリジンを３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−１−プロピンに変更したこと以外は、合成例１に準じて、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオ）−１−プロピニルトリフェニルボラートを合成した。
【０９０４】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ２．８３（ｓ，６Ｈ）、３．９２（ｓ，２Ｈ）、６．９１−６．９７（ｍ，３Ｈ）、７．０５−７．１０（ｍ，６Ｈ）、７．３５（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，６Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ４２．５、５０．８、１２３．６、１２６．９、１３５．１；
１１Ｂ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ−７．０；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ２３Ｈ２４ＢＮ（Ｍ＋）：理論値３２５．２００２、実測値３２５．２００１。
【０９０５】
≪合成例７≫
下記式で示されるトリス（４−メトキシフェニル）｛３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオ）−１−プロピニル｝ボレートの合成
【０９０６】
【化３２２】
0005504454.tif 000326
【０９０７】
トリフェニルボラン・ピリジン錯体をトリ（４−メトキシフェニル）ボラン・ピリジン錯体に変更したこと以外は、合成例６に準じて、トリス（４−メトキシフェニル）｛３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオ）−１−プロピニル｝ボレートを合成した。
【０９０８】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：２．８６（ｓ，６Ｈ）、３．６９（ｓ，９Ｈ）、３．９２（ｓ，２Ｈ）、６．６２−６．６７（ｍ，６Ｈ）、７．１８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，６Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ４２．６、５０．９、５５．３、１１２，５、１２５．７、１５６．９；
１１Ｂ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ−７．８；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ２６Ｈ３０ＢＮＯ３（Ｍ＋）：理論値４１５．２３１９、実測値４１５．２３１９。
【０９０９】
≪合成例８≫
下記式で示されるトリス（４−フルオロフェニル）−｛３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオ）−１−プロピニル｝ボラートの合成
【０９１０】
【化３２３】
0005504454.tif 000327
【０９１１】
トリフェニルボラン・ピリジン錯体をトリス（４−フルオロフェニル）ボラン・ピリジン錯体に変更したこと以外は、合成例６に準じて、トリス（４−フルオロフェニル）−｛３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオ）−１−プロピニル｝ボラートを合成した。
【０９１２】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：２．７７（ｓ，６Ｈ）、３．８８（ｓ，２Ｈ）、６．７５−６．８３（ｍ，６Ｈ）、７．２６（ｐｓｅｕｄｏ  ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，６Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ４１．８、４９．５、１１３．２（ｄ，Ｊ＝１８．２Ｈｚ）、１３６．１（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）、１６１．１（ｄ，Ｊ＝２３５．１Ｈｚ）；
１１Ｂ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ−７．７；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ２３Ｈ２１ＢＮＦ３（Ｍ＋）：理論値３７９．１７１９、実測値３７９．１７１５。
【０９１３】
≪合成例９≫
下記式で示される３−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアンモニオ）−１−プロピニルトリフェニルボラートの合成
【０９１４】
【化３２４】
0005504454.tif 000328
【０９１５】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；Ｂｎはベンジル基を表す］
２−エチニルピリジンを３−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）−１−プロピンに変更したこと以外は、合成例１に準じて、３−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアンモニオ）−１−プロピニルトリフェニルボラートを合成した。
【０９１６】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：３．５８（ｓ，２Ｈ）、４．２５−４．４５（ｍ，４Ｈ）、６．８８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）、７．０３（ｐｓｅｕｄｏ  ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，６Ｈ）、７．３６−７．５１（ｍ，１６Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ４２．３、５５．２、１２２．４、１２５．７、１２８．７、１２９，５、１３１．１、１３４．１；
１１Ｂ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ−７．４；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ３５Ｈ３２ＢＮ（Ｍ＋）：理論値４７７．２６２８、実測値４７７．２６２６。
【０９１７】
≪合成例１０≫
下記式で示される｛２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオ）フェニル｝エチニルトリフェニルボラートの合成
【０９１８】
【化３２５】
0005504454.tif 000329
【０９１９】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表す］
２−エチニルピリジンを２−エチニルアニリンに変更したこと以外は、合成例１に準じて、｛２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオ）フェニル｝エチニルトリフェニルボラートを合成した。
【０９２０】
その物性値は、以下のとおりであった。
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ２８Ｈ２６ＢＮ（Ｍ＋）：理論値３８７．２１５８、実測値３８７．２１５２。
【０９２１】
≪合成例１１≫
下記式で示されるトリス（４−クロロフェニル）ピリジニオエチニルボラートの合成
【０９２２】
【化３２６】
0005504454.tif 000330
【０９２３】
トリフェニルボラン・ピリジン錯体をトリス（４−クロロフェニル）ボラン・ピリジン錯体に変更したこと以外は、合成例１に準じて、トリス（４−クロロフェニル）ピリジニオエチニルボラートを合成した。
【０９２４】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：７．０９−７．１４（ｍ，６Ｈ）、７．３０（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，６Ｈ）、７．６９（ｄｄｄ，Ｊ＝７．７，６．２，１．４Ｈｚ，１Ｈ）、７．８５（ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．１Ｈｚ，１Ｈ）、８．３１−８．３７（ｍ，２Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ１２４．１、１２７．１、１２９．８、１３０．６、１３６．５、１４１．３、１４７．０；
１１Ｂ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ−７．１；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ２５Ｈ１７ＢＮＣｌ３（Ｍ＋）：理論値４４７．０５２０、実測値４４７．０５２５。
【０９２５】
≪合成例１２≫
下記式で示されるトリフェニル｛２−（３−メチルピリジニオ）エチニル｝ボラートの合成
【０９２６】
【化３２７】
0005504454.tif 000331
【０９２７】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表す］
２−エチニルピリジンを２−エチニル−３−メチルピリジンに変更したこと以外は、合成例１に準じて、トリフェニル｛２−（３−メチルピリジニオ）エチニル｝ボラートを合成した。
【０９２８】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：２．５７（ｓ，３Ｈ）、６．９４−７．００（ｍ，３Ｈ）、７．０７−７．１３（ｍ，６Ｈ）、７．３８（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，６Ｈ）、７．５４（ｐｓｅｕｄｏ  ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ）、８．１４（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ）、８．２０−８．２４（ｍ，１Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ１９．７、１２３．２、１２４．０、１２７．１、１３５．１、１３８．３、１４０．９、１４６．４；
１１Ｂ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ−６．３；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ２６Ｈ２２ＢＮ（Ｍ＋）：理論値３５９．１８４５、実測値３５９．１８３９。
【０９２９】
≪合成例１３≫
（Ｚ）−（１−（４−メトキシフェニル）−２−（５−メチル−２−チエニル）エテニル）トリメチルシランの合成
【０９３０】
【化３２８】
0005504454.tif 000332
【０９３１】
［式中、ｉＢｕ２ＡｌＨは水素化ジイソブチルアルミニウムを表し；Ｐｄ（ＰＰｈ３）４はテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムを表す］
窒素雰囲気下、ジイソブチルアルミニウム（６．０ｍｌ、６．０ｍｍｏｌ）を含むヘキサン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）に、室温で（５−メチル−２−チエニルエチニルトリメチルシラン）（１．０ｇ、５．２ｍｍｏｌ）を加え、２４時間攪拌した。これを別の容器に調製しておいたＰｄ（ＰＰｈ３）４（０．３ｇ、０．２６ｍｍｏｌ）、塩化亜鉛（１．０ｇ、７．３ｍｍｏｌ）、ｐ−メトキシヨードベンゼン（１．７ｇ、７．３ｍｍｏｌ）を含むテトラヒドロフラン溶液に加え、窒素雰囲気下、６５℃で２４時間攪拌した。室温まで冷却した後、水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過した。濾液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製することにより、（Ｚ）−（１−（４−メトキシフェニル）−２−（５−メチル−２−チエニル）エテニル）トリメチルシラン（１．０ｇ、３．４４ｍｍｏｌ）を収率６６％で得た。
【０９３２】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ０．１０（ｓ，９Ｈ）、２．２９（ｓ，３Ｈ）、３．８６（ｓ，３Ｈ）、６．４９−６．５１（ｍ，１Ｈ）、６．７１（ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ，１Ｈ）、６．９０−６．９６（ｍ，５Ｈ）。
【０９３３】
次に、合成例１〜１３で得られた原料物質を用いた本発明の新規なホウ素化合物Ｉおよびその製造方法（１）〜（４）の実施例１〜１８について説明する。
【０９３４】
≪実施例１≫
下記式で示される反応による（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）ピリジンの合成
【０９３５】
【化３２９】
0005504454.tif 000333
【０９３６】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ｏ−ｔｏｌはｏ−トリル基を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
アルゴン雰囲気下、トリフェニル（２−ピリジニオエチニル）ボラート（３４．７ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム・クロロホルム錯体（Ｐｄ２ｄｂａ３・ＣＨＣｌ３）（２．６ｍｇ、０．００２５ｍｍｏｌ）およびトリ（ｏ−トリル）ホスフィン（Ｐ（ｏ−ｔｏｌ）３）（１．８ｍｇ、０．００６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（０．５ｍＬ）中、７０℃で１時間攪拌した。ロータリーエバポレーターで濃縮した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：ジクロロメタン＝１：１）で精製することにより、（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）ピリジン（３３．８ｍｇ、０．０９７ｍｍｏｌ）を収率９７％で得た。
【０９３７】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ７．０４（ｄｄｄ，Ｊ＝７．２，６．１，１．４Ｈｚ，１Ｈ）、７．１１−７．３１（ｍ，１４Ｈ）、７．４８（ｐｓｅｕｄｏ  ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．５Ｈｚ，１Ｈ）、７．５８−７．６１（ｍ，２Ｈ）、７．７９（ｄｄｄ，Ｊ＝８．３，７．３，１．６Ｈｚ，１Ｈ）、８．２３（ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，１Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ１１９．３２、１１９．３４、１２０．９、１２５．７、１２７．４、１２８．０、１２８．２、１２８．３、１３３．６、１３８．５、１３９．９、１４３．０、１６０．１；
１１Ｂ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ３．５；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ２５Ｈ２０ＢＮ（Ｍ＋）：理論値３４５．１６８９、実測値３４５．１６８９。
【０９３８】
≪実施例２≫
下記式で示される反応による（Ｅ）−２−｛２−（２−ナフチル）−２−ビス（２−ナフチル）ボリルエテニル｝ピリジンの合成
【０９３９】
【化３３０】
0005504454.tif 000334
【０９４０】
［式中、２−Ｎｐは２−ナフチル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ｏ−ｔｏｌはｏ−トリル基を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
トリフェニル（２−ピリジニオエチニル）ボラートをトリス（２−ナフチル）（２−ピリジニオエチニル）ボラート（４９．５ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）に変更したこと以外は、実施例１に準じて、合成および精製を行うことにより、（Ｅ）−２−｛２−（２−ナフチル）−２−ビス（２−ナフチル）ボリルエテニル｝ピリジン（４８．３ｍｇ、０．０９７ｍｍｏｌ）を収率９７％で得た。
【０９４１】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ７．０６（ｄｄｄ，Ｊ＝７．５，６．０，１．１Ｈｚ，１Ｈ）、７．２８−７．３８（ｍ，７Ｈ）、７．４９−７．８７（ｍ，１６Ｈ）、８．１３（ｓ，１Ｈ）、８．３３（ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，１Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ１１９．４、１１９．６、１２１．７、１２４．７、１２５．０、１２５．７、１２６．０、１２６．４、１２７．３０、１２７．３４、１２７．５、１２７．７、１２８．６、１２８．７、１３２．０、１３２．４、１３２．７、１３３．２、１３３．３、１３３．５、１３６．０、１４０．１、１４３．２、１６０．３；
１１Ｂ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ３．９；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ３７Ｈ２６ＢＮ（Ｍ＋）：理論値４９５．２１５８、実測値４９５．２１５８。
【０９４２】
≪実施例３≫
下記式で示される反応による（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）キノリンの合成
【０９４３】
【化３３１】
0005504454.tif 000335
【０９４４】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ｏ−ｔｏｌはｏ−トリル基を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
トリフェニル（２−ピリジニオエチニル）ボラートをトリフェニル（２−キノリニオエチニル）ボラート（３９．６ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）に変更したこと以外は、実施例１に準じて、合成および精製を行うことにより、（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）キノリン（３８．０ｍｇ、０．９６ｍｍｏｌ）を収率９６％で得た。
【０９４５】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ７．０７−７．１６（ｍ，７Ｈ）、７．１８−７．２３（ｍ，３Ｈ）、７．２８−７．３２（ｍ，４Ｈ）、７．３６−７．４５（ｍ，４Ｈ）、７．７０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ）、７．８１−７．９０（ｍ，２Ｈ）、８．３５（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ１１８．２、１２２．１、１２３．１、１２５．３、１２５．７、１２６．２、１２７．３、１２８．０、１２８．１、１２８．３、１２８．５、１３１．３、１３３．２、１３９．３、１４１．１、１４１．５、１６１．９；
１１Ｂ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ３．９；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ２９Ｈ２２ＢＮ（Ｍ＋）：理論値３９５．１８４５、実測値３９５．１８４９。
【０９４６】
≪実施例４≫
下記式で示される反応による（Ｅ）−４−（１−メトキシメチル−２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）トルエンの合成
【０９４７】
【化３３２】
0005504454.tif 000336
【０９４８】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ｏ−ｔｏｌはｏ−トリル基を表し；ＯからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
アルゴン雰囲気下、テトラメチルアンモニウム＝３−メトキシ−１−プロピニルトリフェニルボラート（７７．０ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム・クロロホルム錯体（Ｐｄ２ｄｂａ３・ＣＨＣｌ３）（５．２ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）およびトリ（ｏ−トリル）ホスフィン（Ｐ（ｏ−ｔｏｌ）３）（３．６ｍｇ、０．０１２ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（０．５ｍＬ）中、室温で３０分間攪拌した後、４−ブロモトルエン（３４．２ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（０．５ｍＬ）を加え、さらに室温で３時間攪拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製することにより、（Ｅ）−４−（１−メトキシメチル−２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）トルエン（７５．２ｍｇ、０．１８７ｍｍｏｌ）を収率９３％で得た。
【０９４９】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ２．２６（ｓ，３Ｈ）、３．４１（ｓ，３Ｈ）、５．０２（ｓ，２Ｈ）、６．７５−６．７８（ｍ，２Ｈ）、６．９５−６．９８（ｍ，７Ｈ）、７．２１−７．３２（ｍ，６Ｈ）、７．４６（ｄｄ，Ｊ＝８．０，１．７Ｈｚ，４Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ２１．２、５９．３、８３．４、１２５．２、１２６．５、１２７．２、１２７．４、１２７．９、１２８．４、１２８．５、１２８．８、１３２．３、１３４．０、１３６．４、１４０．２；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ２９Ｈ２７ＢＯ（Ｍ＋）：理論値４０２．２１５５、実測値４０２．２１５４。
【０９５０】
≪実施例５≫
下記式で示される反応による（Ｅ，Ｅ）−１，４−ビス（１−メトキシメチル−２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）ベンゼンの合成
【０９５１】
【化３３３】
0005504454.tif 000337
【０９５２】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ｏ−ｔｏｌはｏ−トリル基を表し；ＯからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
アルゴン雰囲気下、テトラメチルアンモニウム＝３−メトキシ−１−プロピニルトリフェニルボラート（３８５ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム・クロロホルム錯体（Ｐｄ２ｄｂａ３・ＣＨＣｌ３）（２５．５ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）およびトリ（ｏ−トリル）ホスフィン（Ｐ（ｏ−ｔｏｌ）３）（１８．２ｍｇ、０．０６ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（２．５ｍＬ）中、室温で３０分間攪拌した後、１，４−ジブロモベンゼン（１１６ｍｇ、０．５０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（２．５ｍＬ）を加え、さらに室温で５時間攪拌した。反応溶液に水を加え、ジクロロメタンで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン）および再結晶（ジクロロメタン−エーテル）で精製することにより、（Ｅ，Ｅ）−１，４−ビス（１−メトキシメチル−２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）ベンゼン（２８７ｍｇ、０．４１ｍｍｏｌ）を収率８２％で得た。
【０９５３】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２）：δ３．４４（ｓ，６Ｈ）、５．０６（ｓ，４Ｈ）、６．７２−６．７６（ｍ，４Ｈ）、６．９６−７．０１（ｍ，１０Ｈ）、７．２０−７．３１（ｍ，１２Ｈ）、７．４１−７．４５（ｍ，８Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２）：δ５９．１、８３．０、１２５．０、１２６．２、１２６．８、１２７．１、１２７．６、１２８．０、１２８．４、１３３．５、１３３．７、１４０．０；
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ）Ｃ５０Ｈ４４Ｂ２Ｏ２（Ｍ＋）：理論値６９８．３５２７、実測値６９８．３５２８。
【０９５４】
≪実施例６≫
下記式で示される反応による（Ｅ，Ｅ）−１，４−ビス｛１−メトキシメチル−２−（２−ナフチル）−２−ビス（２−ナフチル）ボリルエテニル｝ベンゼンの合成
【０９５５】
【化３３４】
0005504454.tif 000338
【０９５６】
［式中、２−Ｎｐは２−ナフチル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ｏ−ｔｏｌはｏ−トリル基を表し；ＯからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
テトラメチルアンモニウム＝３−メトキシ−１−プロピニルトリフェニルボラートをテトラメチルアンモニウム＝３−メトキシ−１−プロピニルトリス（２−ナフチル）ボラート（２１８ｍｇ、０．４０ｍｍｏｌ）に変更したこと以外は、実施例５に準じて、合成および精製を行うことにより、（Ｅ，Ｅ）−１，４−ビス｛１−メトキシメチル−２−（２−ナフチル）−２−ビス（２−ナフチル）ボリルエテニル｝ベンゼン（１５５ｍｇ、０．１６ｍｍｏｌ）を収率７７％で得た。
【０９５７】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２）：δ３．５６（ｓ，６Ｈ）、５．２４（ｓ，４Ｈ）、６．９７（ｄ，Ｊ＝８．６，１．７Ｈｚ、２Ｈ）、７．０６（ｓ，４Ｈ）、７．２２−７．３２（ｍ，６Ｈ）、７．３５−７．５０（ｍ，１２Ｈ）、７．６０−７．６５（ｍ，６Ｈ）、７．７５−７．８７（ｍ，１２Ｈ）、８．００（ｓ，４Ｈ）；
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ）Ｃ７４Ｈ５６Ｂ２Ｏ２（Ｍ＋）：理論値９９６．４５３９、実測値９９６．４５６６。
【０９５８】
≪実施例７≫
下記式で示される反応による（Ｅ，Ｅ）−２，６−ビス（１−メトキシメチル−２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）ナフタレンの合成
【０９５９】
【化３３５】
0005504454.tif 000339
【０９６０】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ｏ−ｔｏｌはｏ−トリル基を表し；ＯからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
１，４−ジブロモベンゼンを２，６−ジブロモナフタレン（５７．５ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）に変更したこと以外は、実施例５に準じて、合成および精製を行うことにより、（Ｅ，Ｅ）−２，６−ビス（１−メトキシメチル−２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）ナフタレン（１２３．７ｍｇ、０．１７ｍｍｏｌ）を収率８３％で得た。
【０９６１】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ３．４８（ｓ，６Ｈ）、５．１４（ｓ，４Ｈ）、６．７７−６．８０（ｍ，４Ｈ）、６．９６−６．９８（ｍ，６Ｈ）、７．０９（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ）、７．２３−７．３３（ｍ，１２Ｈ）、７．４１（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ）、７．４７−７．５０（ｍ，１０Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ５９．４、８３．３、１２５．５、１２５．８、１２６．７、１２７．２、１２７．３、１２７．６、１２８．４、１２８．５、１３２．０、１３３．１、１３４．１、１４０．１、１４４．６；
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ）Ｃ５４Ｈ４６Ｂ２Ｏ２（Ｍ＋）：理論値７４８．３６８４、実測値７４８．３６８６。
【０９６２】
≪実施例８≫
下記式で示される反応によるジメチル｛（Ｅ）−３−フェニル−３−ジフェニルボリル−２−プロペニル｝アミンの合成
【０９６３】
【化３３６】
0005504454.tif 000340
【０９６４】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ｏ−ｔｏｌはｏ−トリル基を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
トリフェニル（２−ピリジニオエチニル）ボラートを３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオ）−１−プロピニルトリフェニルボラート（３２．４ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）に変更したこと以外は、実施例１に準じて、合成および精製を行うことにより、ジメチル｛（Ｅ）−３−フェニル−３−ジフェニルボリル−２−プロペニル｝アミン（２９．５ｍｇ、０．０９１ｍｍｏｌ）を収率９１％で得た。
【０９６５】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．３９（ｓ，６Ｈ）、３．８２（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，２Ｈ）、６．１８（ｔ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ）、７．０６−７．２６（ｍ，１１Ｈ）、７．５８（ｄｄ，Ｊ＝８．１，１．７Ｈｚ，４Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ５０．１、７０．０、１２０．４、１２５．８、１２５．９、１２６．７、１２７．２、１２７．７、１３５．２、１４２．２；
１１Ｂ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ６．６；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ２３Ｈ２４ＢＮ（Ｍ＋）：理論値３２５．２００２、実測値３２５．２００３。
【０９６６】
≪実施例９≫
下記式で示される反応による（Ｅ）−３−（４−メトキシフェニル）−３−ビス（４−メトキシフェニル）ボリル−２−プロペニルジメチルアミンの合成
【０９６７】
【化３３７】
0005504454.tif 000341
【０９６８】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ｏ−ｔｏｌはｏ−トリル基を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
トリフェニル（２−ピリジニオエチニル）ボラートをトリス（４−メトキシフェニル）｛３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオ）−１−プロピニル｝ボレート（３８．９ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）に変更したこと以外は、実施例１に準じて、合成および精製を行うことにより、（Ｅ）−３−（４−メトキシフェニル）−３−ビス（４−メトキシフェニル）ボリル−２−プロペニルジメチルアミン（３３．２ｍｇ、０．０８５ｍｍｏｌ）を収率８５％で得た。
【０９６９】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．３３（ｓ，６Ｈ）、３．７１（ｓ，３Ｈ）、３．７５（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，２Ｈ）、３．７７（ｓ，６Ｈ）、６．０７（ｔ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ）、６．６７（ｄ，８．７Ｈｚ，２Ｈ）、６．８０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，４Ｈ）、７．１１（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ）、７．５０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，４Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ４９．９、５４．９、５５．１、６９．７、１１２．７、１１３．２、１１８．２、１２７．９、１３４．７、１３６．３、１５７．８；
１１Ｂ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ６．４；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ２６Ｈ３０ＢＮＯ３（Ｍ＋）：理論値４１５．２３１９、実測値４１５．２３１４。
【０９７０】
≪実施例１０≫
下記式で示される反応による（Ｅ）−３−（４−フルオロフェニル）−３−ビス（４−フルオロフェニル）ボリル−２−プロペニルジメチルアミンの合成
【０９７１】
【化３３８】
0005504454.tif 000342
【０９７２】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ｏ−ｔｏｌはｏ−トリル基を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
トリフェニル(２−ピリジニオエチニル)ボラートをトリス（４−フルオロフェニル）−｛３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオ）−１−プロピニル｝ボラート（４２．０ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）に変更したこと以外は、実施例１に準じて、合成および精製を行うことにより、（Ｅ）−３−（４−フルオロフェニル）−３−ビス（４−フルオロフェニル）ボリル−２−プロペニルジメチルアミン（３８．６ｍｇ、０．０９２ｍｍｏｌ）を収率９２％で得た。
【０９７３】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．３５（ｓ，６Ｈ）、３．７９（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ）、６．１２（ｂｒ，１Ｈ）、６．８０（ｐｓｅｕｄｏ  ｔ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）、６．９３（ｐｓｅｕｄｏ  ｔ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，４Ｈ）、７．０７（ｄｄ，Ｊ＝８．７，５．７Ｈｚ，２Ｈ）、７．４８（ｄｄ，Ｊ＝８．６，６．３Ｈｚ，４Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ５０．１、６９．９、１１４．２（ｄ，Ｊ＝１８．２Ｈｚ）、１１４．７（ｄ，Ｊ＝２１．２Ｈｚ）、１２０．２（ｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ）、１２８．１（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、１３６．５（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）、１３７．７（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ）、１６１．５（ｄ，Ｊ＝２４２．５Ｈｚ）、１６１．８（ｄ，Ｊ＝２４３．２Ｈｚ）；
１１Ｂ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ５．９；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ２３Ｈ２１ＢＮＦ３（Ｍ＋）：理論値３７９．１７１９、実測値３７９．１７２２。
【０９７４】
≪実施例１１≫
下記式で示される反応によるジベンジル｛（Ｅ）−３−フェニル−３−ジフェニルボリル−２−プロペニル｝アミンの合成
【０９７５】
【化３３９】
0005504454.tif 000343
【０９７６】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；Ｂｎはベンジル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ｏ−ｔｏｌはｏ−トリル基を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
トリフェニル(２−ピリジニオエチニル)ボラートを３−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアンモニオ）−１−プロピニルトリフェニルボラート（３７．１ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）に変更したこと以外は、実施例１に準じて、合成および精製を行うことにより、ジベンジル｛（Ｅ）−３−フェニル−３−ジフェニルボリル−２−プロペニル｝アミン（２５．０ｍｇ、０．０６７ｍｍｏｌ）を収率６７％で得た。
【０９７７】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：３．６２（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，２Ｈ）、３．８−４．４（ｂｒ，４Ｈ）、６．０１（ｔ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ）、６．７０−６．７３（ｍ，４Ｈ）、７．０６−７．３１（ｍ，１７Ｈ）、７．７１（ｄｄ，Ｊ＝８．０，１．７Ｈｚ，４Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ５９．２、６１．２、１２３．０、１２５．７、１２６．２、１２６．６、１２７．５、１２７．８、１２８．１、１２８．４、１３１．８、１３３．４、１３５．６、１４３．５；
１１Ｂ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ１０．３；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ３５Ｈ３２ＢＮ（Ｍ＋）：理論値４７７．２６２８、実測値４７７．２６２６。
【０９７８】
≪実施例１２≫
下記式で示される反応によるジメチル［２−｛（Ｅ）−３−フェニル−３−ジフェニルボリルエテニル｝フェニルアミンの合成
【０９７９】
【化３４０】
0005504454.tif 000344
【０９８０】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ｏ−ｔｏｌはｏ−トリル基を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
トリフェニル（２−ピリジニオエチニル）ボラートを｛２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオ）フェニル｝エチニルトリフェニルボラート（４３．４ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）に変更したこと以外は、実施例１に準じて、合成および精製を行うことにより、ジメチル［２−｛（Ｅ）−３−フェニル−３−ジフェニルボリルエテニル｝フェニルアミン（４３．４ｍｇ、０．０８９ｍｍｏｌ）を収率８９％で得た。
【０９８１】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．８３（ｓ，６Ｈ）、６．９５（ｓ，１Ｈ）、７．０２−７．１３（ｍ，９Ｈ）、７．２０−７．２４（ｍ，３Ｈ）、７．３１−７．３４（ｍ，３Ｈ）、７．５５−７．５８（ｍ，４Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ４８．９、１１７．９、１２５．６、１２５．９、１２６．６、１２６．８、１２７．２、１２７．４、１２８．０、１２８．１、１２９．７、１３３．４、１３６．７、１４４．７、１４７．１；
１１Ｂ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ４．２；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ２８Ｈ２６ＢＮ（Ｍ＋）：理論値３８６．２１５８、実測値３８７．２１６１。
【０９８２】
≪実施例１３≫
下記式で示される反応による２−｛（Ｅ）−２−（４−クロロフェニル）−２−ビス（４−クロロフェニル）ボリルエテニル｝ピリジンの合成
【０９８３】
【化３４１】
0005504454.tif 000345
【０９８４】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ｏ−ｔｏｌはｏ−トリル基を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
トリフェニル（２−ピリジニオエチニル）ボラートをトリス（４−クロロフェニル）ピリジニオエチニルボラート（４５．１ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）に変更したこと以外は、実施例１に準じて、合成および精製を行うことにより、２−｛（Ｅ）−２−（４−クロロフェニル）−２−ビス（４−クロロフェニル）ボリルエテニル｝ピリジン（４３．３ｍｇ、０．０９６ｍｍｏｌ）を収率９６％で得た。
【０９８５】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：７．１１−７．２２（ｍ，１２Ｈ）、７．４５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）、７．５４（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ）、７．８８（ｐｓｅｕｄｏ  ｄｔ，Ｊ＝７．８，１．２Ｈｚ，１Ｈ）、８．１４（ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，１Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ１１９．８、１１９．９、１２１．５、１２７．７、１２８．４、１２９．３、１３２．０、１３４．４、１３４．８、１３６．５、１４０．５、１４２．７、１５９．９；
１１Ｂ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ３．１；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ２５Ｈ１７ＢＮＣｌ３（Ｍ＋）：理論値４４７．０５２０、実測値４４７．０５１７。
【０９８６】
≪実施例１４≫
下記式で示される反応による３―メチル−２−｛（Ｅ）−２−ジフェニルボリルエテニル｝ピリジンの合成
【０９８７】
【化３４２】
0005504454.tif 000346
【０９８８】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ｏ−ｔｏｌはｏ−トリル基を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
トリフェニル（２−ピリジニオエチニル）ボラートをトリフェニル｛２−（３−メチルピリジニオ）エチニル｝ボラート（３５．９ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）に変更したこと以外は、実施例１に準じて、合成および精製を行うことにより、３−メチル−２−｛（Ｅ）−２−ジフェニルボリルエテニル｝ピリジン（３３．０ｍｇ、０．０９２ｍｍｏｌ）を収率９２％で得た。
【０９８９】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．５５（ｓ，３Ｈ）、７．００（ｐｓｅｕｄｏ  ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，１Ｈ）、７．１０−７．３０（ｍ，１４Ｈ）、７．５８−７．６３（ｍ，３Ｈ）、８．０８（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ１８．１、１１９．１、１１９．２、１２５．６、１２７．３、１２８．０、１２８．１９、１２８．２２、１２８．８、１３３．６、１３８．９、１４０．３、１４０．５、１５９．１；
１１Ｂ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ３．９；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ２６Ｈ２２ＢＮ（Ｍ＋）：理論値３５９．１８４５、実測値３５９．１８４５。
【０９９０】
≪実施例１５≫
下記式で示される反応による３―メチル−５−｛４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−（２−ジオキサボロラニル）｝−２−｛（Ｅ）−２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル｝ピリジンの合成
【０９９１】
【化３４３】
0005504454.tif 000347
【０９９２】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；Ｍｅはメチル基を表し；ｃｏｄは１，５−シクロオクタジエンを表し；ｄｔｂｐｙは４，４’−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）−２，２’−ビピリジンを表し；（Ｂｐｉｎ）２はビス（ピナコラート）ジボロンを表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
アルゴン雰囲気下、３―メチル−２−｛（Ｅ）−２−ジフェニルボリルエテニル｝ピリジン（７１．８ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）、ビス（ピナコラート）ジボロン（（Ｂｐｉｎ）２）（２５．３８ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）、ジ−μ−メトキソビス（１，５−シクロオクタジエン）ジイリジウム（［Ｉｒ（ＯＭｅ）（ｃｏｄ）］２）（３．３ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、４，４’−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）−２，２’−ビピリジン（ｄｔｂｐｙ）（２．７ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ）をｐ−キシレン（１．０ｍＬ）中、１００℃で３時間攪拌した。反応溶液を室温まで冷却した後、シリカゲルショートカラムに通した。さらにゲル浸透カラムクロマトグラフィーで精製することにより、３―メチル−５−｛４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−（２−ジオキサボロラニル）｝−２−｛（Ｅ）−２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル｝ピリジン（７９．３ｍｇ、０．１６ｍｍｏｌ）を収率８２％で得た。
【０９９３】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１．２７（ｓ，１２Ｈ）、２．５３（ｓ，３Ｈ）、７．１１−７．３３（ｍ，１４Ｈ）、７．５８−７．６３（ｍ，２Ｈ）、７．９８（ｓ，１Ｈ）、８．４３（ｓ，１Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ１７．８、２４．９、８４．４、１１９．２、１２５．５、１２７．３、１２７．９、１２８．０、１２８．３、１２８．４、１３３．８、１３８．７、１４６．１、１４６．２、１６０．８；
１１Ｂ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ３．５、３０．１；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ３２Ｈ３３ＢＮＯ２（Ｍ＋）：理論値４８５．２６９７、実測値４８５．２６９１。
【０９９４】
≪実施例１６≫
下記式で示される反応による５−（４−メトキシフェニル）−３−メチル−２−｛（Ｅ）−２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル｝ピリジンの合成
【０９９５】
【化３４４】
0005504454.tif 000348
【０９９６】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ｔＢｕはｔｅｒｔ−ブチル基を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
アルゴン雰囲気下、３―メチル−５−｛４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−（２−ジオキサボロラニル）｝−２−｛（Ｅ）−２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル｝ピリジン（４８．５ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）、ｐ−ブロモアニソール（２２．０ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（Ｐｄ（ＰｔｔＢｕ３）２）（２．６ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１２．０ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）、水（５μＬ）を含むテトラヒドロフラン溶液を、６０℃で１時間攪拌した。反応溶液を室温まで冷却した後、水を加えた。有機層を分離し、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層同士を合わせたものを水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムを加えて乾燥させた。溶媒を減圧留去した後、ゲル浸透カラムクロマトグラフィーで精製することにより、５−（４−メトキシフェニル）−３−メチル−２−｛（Ｅ）−２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル｝ピリジン（４４．０ｍｇ、０．０９５ｍｍｏｌ）を収率９５％で得た。
【０９９７】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．６０（ｓ，３Ｈ）、３．８０（ｓ，３Ｈ）、６．８９−６．９４（ｍ，２Ｈ）、７．１１−７．２６（ｍ，１０Ｈ）、７．３１−７．３７（ｍ，６Ｈ）、７．６０−７．６４（ｍ，２Ｈ）、７．７７５−７．７８４（ｍ，１Ｈ）、８．２６（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ１８．２、５５．４、１１４．５、１１８．９、１２５．６、１２７．４、１２７．８、１２８．０、１２８．１、１２８．２、１２８．３、１２８．６、１３２．８、１３３．７、１３８．２、１３８．４、１３８．９、１５７．２、１５９．８；
１１Ｂ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ３．９；
ＨＲＭＳ（ＥＩ）Ｃ３３Ｈ２８ＢＮ（Ｍ＋）：理論値４６５．２２６４、実測値４６５．２２５９。
【０９９８】
≪実施例１７≫
下記式で示される反応による（Ｅ）−２−（１−メチル−２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）ピリジンの合成
【０９９９】
【化３４５】
0005504454.tif 000349
【１０００】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ＤＰＥｐｈｏｓはビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテルを表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
アルゴン雰囲気下、テトラメチルアンモニウム＝トリフェニル（１−プロピニル）ボラート（３５．７ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）、２−ブロモピリジン（１５．８ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム・クロロホルム錯体（Ｐｄ２ｄｂａ３・ＣＨＣｌ３）、ビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテル（２．７ｍｇ、０．００２５ｍｍｏｌ）、ビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテル（ＤＰＥｐｈｏｓ）（３．２ｍｇ、０．００６ｍｍｏｌ）のトルエン溶液を６０℃で１２時間攪拌した。反応溶液を室温まで冷却した後、水を加えた。有機層を分離し、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層同士を合わせたものを水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムを加えて乾燥させた。溶媒を留去し得た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：ジクロロメタン＝１：１）で精製することにより、純粋な（Ｅ）−２−（１−メチル−２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）ピリジン（２７．９ｍｇ、０．０７８ｍｍｏｌ）を収率７８％で得た。
【１００１】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．１８（ｓ，３Ｈ）、７．０３−７．０５（ｍ，２Ｈ）、７．１３−７．２２（ｍ，１４Ｈ）、７．５５（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ）、７．９３−７．９７（ｍ，１Ｈ）、８．２４（ｄ，５．２Ｈｚ，１Ｈ）。
【１００２】
≪実施例１８≫
（Ｅ）-（１−（４-メトキシフェニル）−２−（５−メチル−２−チエニル）エテニル）−ビス(２，４，６−トリメチルフェニル)ボランの合成
【１００３】
【化３４６】
0005504454.tif 000350
【１００４】
［式中、ＮＩＳはＮ−ヨードスクシンイミドを表し；ｎＢｕＬｉはｎ−ブチルリチウムを表し；Ｍｅｓは２，４，６−トリメチルフェニル基を表し；ＳからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
窒素雰囲気下、（Ｚ）−（１−（４−メトキシフェニル）−２−（５−メチル−２−チエニル）エテニル）トリメチルシラン（０．３ｇ、１．０ｍｍｏｌ）を含むアセトニトリル溶液に、０℃でＮ−ヨードスクシンイミド（１．１ｇ、５．０ｍｍｏｌ）を加えた。０℃に保持したまま、５時間攪拌した後、アルミナカラムに通し、濃縮した。得られた残渣を、窒素雰囲気下、ジエチルエーテルに溶解させ、−７８℃でｎ−ブチルリチウム（０．９ｍＬ、１．４ｍｍｏｌ）を滴下した。−７８℃に保持したまま、１時間攪拌した後、フッ化ジメシチルホウ素（０．３７ｇ、１．５６ｍｍｏｌ）を加えた。室温で１２時間攪拌した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、濾過した。濾液を濃縮した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン）および再結晶（ジエチルエーテル）で精製することにより、（Ｅ）−（１−（４-メトキシフェニル）−２−（５−メチル−２−チエニル）エテニル）−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）ボランを得た。
【１００５】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ２．１５（ｓ，１２Ｈ）、２．２１（ｓ，６Ｈ）、２．２９（ｓ，３Ｈ）、３．７４（ｓ，３Ｈ）、６．３９−６．４０（ｍ，１Ｈ）、６．６３−６．６６（ｍ，５Ｈ）、６．７０−６．７２（ｍ，２Ｈ）、７．１０−７．２６（ｍ，３Ｈ）。
【１００６】
次に、本発明の新規なホウ素化合物Ｉの製造方法（５）に関する実施例に用いる原料物質の合成例１４〜１９について説明する。
【１００７】
≪合成例１４≫
下記式で示されるテトラメチルアンモニウム＝トリフェニルエチニルボラートの合成
【１００８】
【化３４７】
0005504454.tif 000351
【１００９】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表す］
窒素雰囲気下、トリフェニルボラン・ピリジン錯体（１５．３ｇ、４７．５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（６７ｍＬ）に溶解させ、室温で臭化エチニルマグネシウム（１００ｍＬ、５０．０ｍｍｏｌ）を滴下した。この溶液を２時間攪拌した後、少量のメタノールを加えて反応を停止させた。ロータリーエバポレーターで溶媒を除去した後、得られた残渣をメタノールに溶解させ、室温で塩化テトラメチルアンモニウム（５．５ｇ、５０ｍｍｏｌ）を加えた。１時間攪拌した後、生成した白色固体を濾取し、メタノールで洗浄することにより、テトラメチルアンモニウム＝トリフェニルエチニルボラート（７．０ｇ、２０．５ｍｍｏｌ）を収率４３％で得た。
【１０１０】
その物性値は、以下のとおりであった。
【１０１１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：δ２．１６（ｓ，１Ｈ）、３．０６（ｓ，１２Ｈ）、６．８３（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，６Ｈ）、６．９５（ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，６Ｈ）、７．２９（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，６Ｈ）。
【１０１２】
≪合成例１５≫
下記式で示される反応による４−フェニル−２−キノリニルトリフルオロメタンスルホナートの合成
【１０１３】
【化３４８】
0005504454.tif 000352
【１０１４】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；Ｅｔはエチル基を表し；Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基を表す］
まず、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，２００４，６０（１３），ｐｐ．２９９３−３０００に記載された方法に従って、４−フェニル−２−キノリノンを合成した。
【１０１５】
次に、窒素雰囲気下、４−フェニル−２−キノリノン（１６．９０ｇ、７６．４ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（１９１ｍＬ）に溶解させ、０℃に冷却して、トリエチルアミン（１９．１ｍＬ、１３７．５ｍｍｏｌ）、無水トリフルオロメタンスルホン酸（１４．１ｍＬ、８４．０ｍｍｏｌ）を順次加えた。１時間攪拌し、炭酸水素ナトリウム水溶液を１滴ずつ加えて反応を停止させた。反応溶液を塩化メチレンで抽出した後、有機層を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過した。濾液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製することにより、４−フェニル−２−キノリニルトリフルオロメタンスルホナート（２５．４ｇ、７１．８ｍｍｏｌ）を収率９４％で得た。
【１０１６】
その物性値は、以下のとおりであった。
【１０１７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ７．１９（ｓ，１Ｈ）、７．５０−７．６１（ｍ，６Ｈ）、７．７９−７．８３（ｍ，１Ｈ）、７．９５（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ）、８．１２（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ）。
【１０１８】
≪合成例１６≫
下記式で示される反応による３’，５’−ビス（トリフルオロメチル）−２−アミノベンゾフェノンの合成
【１０１９】
【化３４９】
0005504454.tif 000353
【１０２０】
［式中、ｎ−Ｂｕはｎ−ブチル基を表す］
および、下記式で示される反応による４−｛３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝−２−キノリノンの合成
【１０２１】
【化３５０】
0005504454.tif 000354
【１０２２】
［式中、Ａｃはアセチル基を表し；ｔＢｕはｔｅｒｔ−ブチル基を表し；ＤＭＥはエチレングリコールジメチルエーテルを表す］
および、下記式で示される反応による４−｛３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝−２−キノリニルトリフルオロメタンスルホナートの合成
【１０２３】
【化３５１】
0005504454.tif 000355
【１０２４】
［式中、Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基を表し；Ｅｔはエチル基を表す］
まず、Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９９１，５６（１１），ｐｐ．３７５０−３７５２に記載された方法に従って、Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチル−アントラニル酸アミドを合成した。
【１０２５】
次いで、窒素雰囲気下、Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチル−アントラニル酸アミド（０．６２ｇ、３．４ｍｍｏｌ）、３，５−ビス（トリフルオロメチル）−１−ブロモベンゼン（１．００ｇ、３．４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）に溶解させ、−７８℃で攪拌した。この溶液に１．６６ｍｏｌ／Ｌのｎ−ブチルリチウム（４．１１ｍＬ，６．８ｍｍｏｌ）を徐々に滴下し、３０分間攪拌した。１ｍｏｌ／Ｌの塩酸を加えて反応を停止させた。反応溶液を酢酸エチルで抽出した後、有機層を食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過した。濾液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、得られた残渣を再結晶（ヘキサン）で精製することにより、３’，５’−ビス（トリフルオロメチル）−２−アミノベンゾフェノン（１．１ｇ、３．３ｍｍｏｌ）を収率９６％で得た。
【１０２６】
さらに、窒素雰囲気下、３’，５’−ビス（トリフルオロメチル）−２−アミノベンゾフェノン（１．１ｇ、３．３ｍｍｏｌ）をトルエン（１３ｍＬ）に溶解させ、室温で無水酢酸（０．６２ｍＬ，６．５ｍＬ）を加え、加熱還流しながら攪拌した。これを室温まで冷却し、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた残渣をエチレングリコールジメチルエーテル（１３ｍＬ）に溶解させ、室温でカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（１．５ｍＬ、１３ｍｍｏｌ）を加え、２時間攪拌した。反応溶液に水を加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を乾燥させた後、ロータリーエバポレーターで濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）で精製することにより、４−｛３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝−２−キノリノン（３７２ｍｇ、１．０４ｍｍｏｌ）を収率３２％で得た。
【１０２７】
さらに、４−フェニル−２−キノリノンを４−｛３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝−２−キノリノンに変更したこと以外は、合成例１５に準じて、合成および精製を行うことにより、４−｛３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝−２−キノリニルトリフルオロメタンスルホナート（３７１ｍｇ、０．７６ｍｍｏｌ）を収率７６％で得た。
【１０２８】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ７．２３（ｓ，１Ｈ）、７．６５−７．７０（ｍ，１Ｈ）、７．７２−７．４３（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ，１Ｈ）、７．８７−７，９１（ｍ，１Ｈ）、８．９８（ｓ，２Ｈ）、８．０９（ｓ，１Ｈ）、８．２８（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ）。
【１０２９】
≪合成例１７≫
下記式で示される反応による４−トリフルオロメチル−２−キノリニルトリフルオロメタンスルホナートの合成
【１０３０】
【化３５２】
0005504454.tif 000356
【１０３１】
［式中、ＤＭＡＰはＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンを表し；Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基を表す］
まず、Ｅｕｒ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２００４，２００４（１），ｐｐ．５４−６３に記載された方法に従って、４−トリフルオロメチル−２−キノリノンを合成した。
【１０３２】
次いで、窒素雰囲気下、４−トリフルオロメチル−２−キノリノン（３．０ｇ、１４ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（２００ｍＬ）に溶解させ、０℃に冷却した。この溶液にＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（０．１７ｇ、１．４ｍｍｏｌ）、ピリジン（２．０ｇ、２５ｍｍｏｌ）、無水トリフルオロメタンスルホン酸（４．４ｇ、１６ｍｍｏｌ）を順次加え、室温に戻して１２時間攪拌した。反応溶液に炭酸水素ナトリウム水溶液を１滴ずつ加えて反応を停止させ、クロロホルムで抽出した。有機層を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させた後、濾過した。濾液をロータリーエバポレーターで濃縮することにより、４−トリフルオロメチル−２−キノリニルトリフルオロメタンスルホナート（４．４８ｇ、１３．０ｍｍｏｌ）を収率９２％で得た。
【１０３３】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：δ７．９６−８．００（ｍ，１Ｈ）、８．０７−８．１０（ｍ，１Ｈ）、８．１８−８．２３（ｍ，２Ｈ）、８．２９（ｓ，１Ｈ）。
【１０３４】
≪合成例１８≫
下記式で示される反応による６−メチル−４−トリフルオロメチル−２−キノリニルトリフルオロメタンスルホナートの合成
【１０３５】
【化３５３】
0005504454.tif 000357
【１０３６】
［式中、ＤＭＡＰはＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンを表し；Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基を表す］
まず、Ｅｕｒ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２００４，２００４（１），ｐｐ．５４−６３に記載された方法に従って、６−メチル−４−トリフルオロメチル−２−キノリノンを合成した。
【１０３７】
次いで、４−トリフルオロメチル−２−キノリノンを６−メチル−４−トリフルオロメチル−２−キノリノンに変更したこと以外は、合成例１６に準じて、合成および精製を行うことにより、６−メチル−４−トリフルオロメチル−２−キノリニルトリフルオロメタンスルホナート（７．８９ｇ、２２．０ｍｍｏｌ）を収率７６％で得た。
【１０３８】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ２．６２（ｓ，３Ｈ）、７．５２（ｓ，１Ｈ）、７．７３−７．７５（ｍ，１Ｈ）、７．９３（ｓ，１Ｈ）、８．０３−８．０５（ｍ，１Ｈ）。
【１０３９】
≪合成例１９≫
下記式で示される反応による６−フェナントリジノンの合成
【１０４０】
【化３５４】
0005504454.tif 000358
【１０４１】
［式中、Ａｃはアセチル基を表し；ＤＭＡはジメチルアセトアミドを表す］
および、下記式で示される反応による６−フェナントリジニルトリフルオロメタンスルホナートの合成
【１０４２】
【化３５５】
0005504454.tif 000359
【１０４３】
［式中、ＤＭＡＰはＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンを表し；Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基を表す］
まず、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２００６，７１（５），ｐｐ．１８０２−１８０８に記載された方法に従って、２−ブロモ−Ｎ−フェニルベンズアミドを合成した。
【１０４４】
次いで、窒素雰囲気下、２−ブロモ−Ｎ−フェニルベンズアミド（１７．３ｇ、６２．７ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（０．７０ｇ、３．１ｍｍｏｌ）、炭酸ナトリウム（１３．３ｇ、１２５ｍｍｏｌ）をジメチルアセトアミド（３００ｍＬ）に溶解させ、１６０℃で６時間加熱攪拌し、反応させた。室温まで冷却し、反応溶液を冷水に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過した。濾液をロータリーエバポレーターで濃縮し、得られた残渣を濾過した後、ヘキサン、水で順次洗浄することにより、６−フェナントリジノン（６．３６ｇ、３２．６ｍｍｏｌ）を収率５２％で得た。
【１０４５】
次いで、４−トリフルオロメチル−２−キノリノンを６−フェナントリジノンに変更したこと以外は、合成例１６に準じて、合成および精製を行うことにより、６−フェナントリジニルトリフルオロメタンスルホナート（２．９５ｇ、９．０ｍｍｏｌ）を収率９０％で得た。
【１０４６】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ７．７２−７．８２（ｍ，３Ｈ）、７．９６−８．００（ｍ，１Ｈ）、８．０７−８．１０（ｍ，１Ｈ）、８．２３−８．２５（ｍ，１Ｈ）、８．５５−８．５７（ｍ，１Ｈ）、８．６４−８．６６（ｍ，１Ｈ）。
【１０４７】
次に、合成例１４〜１９で得られた原料物質を用いた本発明の新規なホウ素化合物Ｉの製造方法（５）に関する実施例１９〜２３について説明する。
【１０４８】
≪実施例１９≫
下記式で示される反応による（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）−４−フェニルキノリンの合成
【１０４９】
【化３５６】
0005504454.tif 000360
【１０５０】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ＤＰＥｐｈｏｓはビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテルを表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
窒素雰囲気下、テトラメチルアンモニウム＝トリフェニルエチニルボラート（０．５ｇ、１．４６ｍｍｏｌ）、４−フェニル−２−キノリニルトリフルオロメタンスルホナート（０．５ｇ、１．６１ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム・クロロホルム錯体（Ｐｄ２ｄｂａ３・ＣＨＣｌ３）（０．０８ｇ、０．０８ｍｍｏｌ）、ビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテル（ＤＰＥｐｈｏｓ）（０．１０ｇ、０．１９ｍｍｏｌ）をトルエン（１４２ｍＬ）中、７０℃で攪拌した。反応溶液を室温まで冷却した後、シリカゲルショートカラム（クロロホルム）に通し、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた残渣をメタノールで洗浄することにより、（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）−４−フェニルキノリン（４４６ｍｇ、０．９５ｍｍｏｌ）を収率６５％で得た。
【１０５１】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ７．１０−７．１９（ｍ，７Ｈ）、７．２０−７．２３（ｍ，３Ｈ）、７．３２−７．４４（ｍ，８Ｈ）、７．５８−７．６１（ｍ，５Ｈ）、７．６４（ｓ，１Ｈ）、７．８８（ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．６，１．２Ｈｚ，１Ｈ）、７．９６（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ）。
【１０５２】
≪実施例２０≫
下記式で示される反応による（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）−４−｛３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝キノリンの合成
【１０５３】
【化３５７】
0005504454.tif 000361
【１０５４】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ＤＰＥｐｈｏｓはビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテルを表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
窒素雰囲気下、テトラメチルアンモニウム＝トリフェニルエチニルボラート（０．３１ｇ、０．９１ｍｍｏｌ）、４−｛３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝−２−キノリニルトリフルオロメタンスルホナート（０．３７ｇ、０．７６ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム・クロロホルム錯体（Ｐｄ２ｄｂａ３・ＣＨＣｌ３）（０．０２ｇ、０．２ｍｍｏｌ）、ビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテル（ＤＰＥｐｈｏｓ）（０．０２ｇ、０．０４ｍｍｏｌ）をトルエン（２．５ｍＬ）中、６０℃で攪拌した。反応溶液を室温まで冷却した後、シリカゲルショートカラム（塩化メチレン）に通し、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた残渣をメタノールで洗浄することにより、（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）−４−｛３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝キノリン（３０２ｍｇ、０．４９ｍｍｏｌ）を収率６５％で得た。
【１０５５】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ７．２３（ｓ，１Ｈ）、７．６５−７．７０（ｍ，１Ｈ）、７．７２−７．４３（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ，１Ｈ）、７．８７−７，９１（ｍ，１Ｈ）、８．９８（ｓ，２Ｈ）、８．０９（ｓ，１Ｈ）、８．２８（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ）。
【１０５６】
≪実施例２１≫
下記式で示される反応による（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）−４−トリフルオロメチルキノリンの合成
【１０５７】
【化３５８】
0005504454.tif 000362
【１０５８】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ＤＰＥｐｈｏｓはビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテルを表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
窒素雰囲気下、４−｛３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝−２−キノリニルトリフルオロメタンスルホナートを４−トリフルオロメチル−２−キノリニルトリフルオロメタンスルホナートに変更したこと以外は、実施例２０に準じて、合成および精製を行うことにより、（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）−４−トリフルオロメチルキノリン（４．２２ｇ、９．１ｍｍｏｌ）を収率９１％で得た。
【１０５９】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ７．１０−７．１７（ｍ，６Ｈ）、７．２０−７．２９（ｍ，８Ｈ）、７．３９−７．４１（ｍ，２Ｈ）、７．４８−７．５４（ｍ，２Ｈ）、８．００−８．０２（ｍ，１Ｈ）、８．０５（ｓ，１Ｈ）、８．１２−８．１５（ｍ，１Ｈ）。
【１０６０】
≪実施例２２≫
下記式で示される反応による（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）−４−トリフルオロメチル−６−メチル−キノリンの合成
【１０６１】
【化３５９】
0005504454.tif 000363
【１０６２】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ＤＰＥｐｈｏｓはビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテルを表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
４−｛３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝−２−キノリニルトリフルオロメタンスルホナートを６−メチル−４−トリフルオロメチル−２−キノリニルトリフルオロメタンスルホナートに変更したこと以外は、実施例２０に準じて、合成および精製を行うことにより、（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）−４−トリフルオロメチル−６−メチル−キノリン（２．３９ｇ、５．０ｍｍｏｌ）を収率９０％で得た。
【１０６３】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ２．４６（ｓ，３Ｈ）、７．１１−７．２４（ｍ，１０Ｈ）、７．２５−７．２９（ｍ，４Ｈ）、７．３０−７．３３（ｍ，１Ｈ）、７．３７−７．４０（ｍ，２Ｈ）、７．８７−７．９０（ｍ，２Ｈ）、８．０１（ｓ，１Ｈ）。
【１０６４】
≪実施例２３≫
下記式で示される反応による（Ｅ）−６−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）フェナントリジンの合成
【１０６５】
【化３６０】
0005504454.tif 000364
【１０６６】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ＤＰＥｐｈｏｓはビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテルを表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
４−｛３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝−２−キノリニルトリフルオロメタンスルホナートを６−フェナントリジニルトリフルオロメタンスルホナートに変更したこと以外は、実施例２０に準じて、合成および精製を行うことにより、（Ｅ）−６−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）フェナントリジン（２．３７ｇ、５．３ｍｍｏｌ）を収率８２％で得た。
【１０６７】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ７．０７−７．１６（ｍ，６Ｈ）、７．２３−７．２６（ｍ，３Ｈ）、７．３４−７．３６（ｍ，５Ｈ）、７．４４−７．５０（ｍ，３Ｈ）、７．７９（ｓ，１Ｈ）、７．８４−７．８７（ｍ，１Ｈ）、７．９６−７．９８（ｍ，１Ｈ）、８．００−８．０４（ｍ，１Ｈ）、８．５２−８．５４（ｍ，１Ｈ）、８．６４−８．６９（ｍ，２Ｈ）。
【１０６８】
次に、本発明の新規なホウ素化合物ＩＩおよびその製造方法（６）に関する実施例に用いる原料物質の合成例２０〜２２について説明する。
【１０６９】
≪合成例２０≫
下記式で示される５−｛４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−（２−ジオキサボロラニル）｝−２−｛（Ｅ）−２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル｝ピリジンの合成
【１０７０】
【化３６１】
0005504454.tif 000365
【１０７１】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ＤＰＥｐｈｏｓはビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテルを表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
まず、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２００２，６７（１５），ｐｐ．５３９４−５３９７に記載された方法に従って、２−ブロモ−５−｛４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−（２−ジオキサボロラニル）｝ピリジンを合成した。
【１０７２】
次いで、窒素雰囲気下、２−ブロモ−５−｛４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−（２−ジオキサボロラニル）｝ピリジン（３．６２ｇ、１２．８ｍｍｏｌ）、テトラメチルアンモニウム＝トリフェニルエチニルボラート（４．５７ｇ、１３．４ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム・クロロホルム錯体（Ｐｄ２ｄｂａ３・ＣＨＣｌ３）（０．２５ｇ、０．２４ｍｍｏｌ）、ビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテル（ＤＰＥｐｈｏｓ）（０．３１ｇ、０．５８ｍｍｏｌ）をトルエン（６４ｍＬ）中、７０℃で５時間攪拌した。反応溶液を室温まで冷却した後、シリカゲルショートカラム（塩化メチレン）に通し、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた残渣をメタノールで洗浄することにより、５−｛４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−（２−ジオキサボロラニル）｝−２−｛（Ｅ）−２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル｝ピリジン（４．２３ｇ、８．９８ｍｍｏｌ）を収率７０％で得た。
【１０７３】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ１．２９（ｓ，１２Ｈ）、７．１４−７．２５（ｍ，１０Ｈ）、７．３１−７．３４（ｍ，４Ｈ）、７．５０（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ）、７．５９−７．６１（ｍ，２Ｈ）、８．１９（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ）、８．５７（ｓ，１Ｈ）。
【１０７４】
≪合成例２１≫
下記式で示される反応によるテトラメチルアンモニウム＝トリ（４−メチルフェニル）エチニルボラートの合成
【１０７５】
【化３６２】
0005504454.tif 000366
【１０７６】
［式中、４−ｔｏｌは４−メチルフェニル基を表す］
ナトリウムトリ（４−メチルフェニル）ボレート（６．１ｇ，１５．４ｍｍｏｌ）をアセトニトリルに溶解させ、ピリジン塩酸塩（１．８６ｇ，１６．１ｍｍｏｌ）を加えて攪拌した。ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、得られた固体を水に懸濁させ、１１０℃で３時間加熱攪拌した後、水を除去して減圧下で乾燥させた。得られた残渣を再結晶（塩化メチレン−ヘキサン）で精製することにより、トリ（４−メチルフェニル）ボラン・ピリジン錯体（３．０９ｇ、８．５１ｍｍｏｌ）を収率５５％で得た。
【１０７７】
窒素雰囲気下、トリ（４−メチルフェニル）ボラン・ピリジン錯体（３．０ｇ、８．３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解させ、−７８℃で臭化エチニルマグネシウム（０．５Ｍのテトラヒドロフラン溶液、１７．３ｍＬ、８．７ｍｍｏｌ）を滴下した。この溶液を室温で１時間攪拌した後、少量のメタノールを加えて反応を停止させた。ロータリーエバポレーターで溶媒を除去した後、得られた残渣をメタノール（２８ｍＬ）に溶解させ、室温で塩化テトラメチルアンモニウム（０，９５ｇ、８．７ｍｍｏｌ）を加えた。１時間攪拌した後、生成した白色固体を濾取し、メタノールで洗浄することにより、テトラメチルアンモニウム＝トリ（４−メチルフェニル）エチニルボラート（２．７４ｇ、７．１５ｍｍｏｌ）を収率８６％で得た。
【１０７８】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ２．０４（ｓ，１Ｈ）、２．１６（ｓ，１２Ｈ）、２．１９（ｓ，３Ｈ）、６．８２（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，６Ｈ）、７．２０（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，６Ｈ）。
【１０７９】
≪合成例２２≫
下記式で示される反応による５−｛４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−（２−ジオキサボロラニル）｝−２−｛（Ｅ）−２−（４−メチルフェニル）−２−ジ（４−メチルフェニル）ボリルエテニル｝ピリジンの合成
【１０８０】
【化３６３】
0005504454.tif 000367
【１０８１】
［式中、４−ｔｏｌは４−メチルフェニル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ＤＰＥｐｈｏｓはビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテルを表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
まず、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２００２，６７（１５），ｐｐ．５３９４−５３９７に記載された方法に従って、２−ブロモ−５−｛４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−（２−ジオキサボロラニル）｝ピリジンを合成した。
【１０８２】
次いで、窒素雰囲気下、２−ブロモ−５−｛４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−（２−ジオキサボロラニル）｝ピリジン（２．７ｇ、７．０ｍｍｏｌ）、テトラメチルアンモニウム＝トリ（４−メチルフェニル）エチニルボラート（１．９１ｇ、６．７ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム・クロロホルム錯体（Ｐｄ２ｄｂａ３・ＣＨＣｌ３）（０．１７ｇ、０．１７ｍｍｏｌ）、ビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテル（ＤＰＥｐｈｏｓ）（０．２２ｇ、０．４０ｍｍｏｌ）をトルエン（３４ｍＬ）中、６５℃で３時間攪拌した。反応溶液を室温まで冷却した後、セライトで濾過した。濾液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、得られた残渣にメタノールを加えた。析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄することにより、５−｛４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−（２−ジオキサボロラニル）｝−２−｛（Ｅ）−２−（４−メチルフェニル）−２−ジ（４−メチルフェニル）ボリルエテニル｝ピリジン（２．８９ｇ、５．６３ｍｍｏｌ）を収率８４％で得た。
【１０８３】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ１．２７（ｓ，１２Ｈ）、２．２７（ｓ，３Ｈ）、２．２８（ｓ，６Ｈ）、７．０２（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，６Ｈ）、７．１７（ｓ，１Ｈ）、７．２１（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，４Ｈ）、７．４４（ｄｄ，Ｊ＝８．０，０．８，０．４Ｈｚ）、７．５４（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ）、８．１３（ｄｄ，Ｊ＝８．０，１．２Ｈｚ，１Ｈ）、８．５８（ｓ，１Ｈ）。
【１０８４】
次に、合成例２０〜２２で得られた原料物質を用いた本発明の新規なホウ素化合物ＩＩおよびその製造方法（６）に関する実施例２４〜３０について説明する。
【１０８５】
≪実施例２４≫
下記式で示される反応による１，３−ビス［５−｛（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）ピリジル｝］ベンゼンの合成
【１０８６】
【化３６４】
0005504454.tif 000368
【１０８７】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ｔＢｕはｔｅｒｔ−ブチル基を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
窒素雰囲気下、５−｛４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−（２−ジオキサボロラニル）｝−２−｛（Ｅ）−２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル｝ピリジン（２．００ｇ、４．２４ｍｍｏｌ）、１，３−ジブロモベンゼン（０．５０ｇ、２．１２ｍｍｏｌ）、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（Ｐｄ（ＰｔＢｕ３）２）（０．０２ｇ、０．０４ｍｍｏｌ）、５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（５．１ｍＬ、２５．５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４２ｍＬ）中、６０℃で１２時間攪拌した。反応溶液を室温まで冷却した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１Ｎ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、濾過した。ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、得られた残渣をメタノールで洗浄することにより、１，３−ビス［５−｛（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）ピリジル｝］ベンゼン（１．６２ｇ、２．１２ｍｍｏｌ）を収率１００％で得た。
【１０８８】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ７．１５−７．２８（ｍ，２０Ｈ）、７．３４−７．３６（ｍ，８Ｈ）、７．４０−７．５０（ｍ，４Ｈ）、７．６０−７．６５（ｍ，６Ｈ）、８．０４（ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．０Ｈｚ，２Ｈ）、８．４５（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１．６Ｈ）。
【１０８９】
≪実施例２５≫
下記式で示される反応による１，４−ビス［５−｛（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）ピリジル｝］ベンゼンの合成
【１０９０】
【化３６５】
0005504454.tif 000369
【１０９１】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ｔＢｕはｔｅｒｔ−ブチル基を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
窒素雰囲気下、５−｛４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−（２−ジオキサボロラニル）｝−２−｛（Ｅ）−２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル｝ピリジン（０．４４ｇ、０．９４ｍｍｏｌ）、１，４−ジブロモベンゼン（０．１０ｇ、０．４２ｍｍｏｌ）、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（Ｐｄ（ＰｔＢｕ３）２）（０．０２４ｇ、０．０４７ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（０．２５ｇ、６．２８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１１ｍＬ）と水（０．１ｍＬ）との混合溶媒中、６０℃で４時間攪拌した。反応溶液を室温まで冷却した後、シリカゲルショートカラム（酢酸エチル）に通し、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた残渣を８０℃のトルエン８０ｍＬに溶解させた後、ヘキサン８０ｍＬを加えると黄色固体が析出した。溶液を室温まで冷却した後、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄することにより、１，４−ビス［５−｛（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）ピリジル｝］ベンゼン（０．２１６ｇ、０．２８ｍｍｏｌ）を収率６７％で得た。
【１０９２】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ７．１２−７．２５（ｍ，２０Ｈ）、７．３３（ｄｄ，Ｊ＝８．０，１．６Ｈｚ，８Ｈ）、７．４９（ｓ，４Ｈ）、７．５８−７．６４（ｍ，６Ｈ）、８．０５（ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．０Ｈｚ，２Ｈ）、８．４６（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，２Ｈ）。
【１０９３】
≪実施例２６≫
下記式で示される反応による４，４’−ビス［５−｛（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）ピリジル｝］ビフェニルの合成
【１０９４】
【化３６６】
0005504454.tif 000370
【１０９５】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ｔＢｕはｔｅｒｔ−ブチル基を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
１，４−ジブロモベンゼンを４，４’−ジブロモビフェニルに変更したこと以外は、実施例２５に準じて、合成および精製を行うことにより、４，４’−ビス［５−｛（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）ピリジル｝］ビフェニル（０．２５１ｇ、０．３０ｍｍｏｌ）を収率６５％で得た。
【１０９６】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ７．１６−７．２４（ｍ，２０Ｈ）、７．２５−７．３６（ｄｄ，Ｊ＝，１．６Ｈｚ，８Ｈ）、７．５２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，４Ｈ）、７．５８−７．６４（ｍ，１０Ｈ）、８．１０（ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．０Ｈｚ，２Ｈ）、８．５０（ｓ，２Ｈ）。
【１０９７】
≪実施例２７≫
下記式で示される反応による１，１−ジオクチル−２，７−ビス［５−｛（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）ピリジル｝］フルオレンの合成
【１０９８】
【化３６７】
0005504454.tif 000371
【１０９９】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ｔＢｕはｔｅｒｔ−ブチル基を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
１，４−ジブロモベンゼンを１，１−ジオクチル−２，７−ジブロモフルオレンに変更したこと以外は、実施例２５に準じて、合成および精製を行うことにより、１，１−ジオクチル−２，７−ビス［５−｛（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）ピリジル｝］フルオレン（０．１９０ｇ、０．１８ｍｍｏｌ）を収率３８％で得た。
【１１００】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ０．６２（ｍ，４Ｈ）、０．７９（ｔ，７．６Ｈｚ，６Ｈ）、０．９６−１．２２（ｍ，２０Ｈ）、１．９５−２．０８（ｍ，４Ｈ）、７．１４−７．３０（ｍ，ＸＨ）、７．３６−７．３４（ｍ，１２Ｈ）、８．１２（ｄｄ，Ｊ＝８．６，２．２Ｈｚ，２Ｈ）、８．５３（ｓ，２Ｈ）。
【１１０１】
≪実施例２８≫
下記式で示される反応による２，５−ビス［５−｛（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）ピリジル｝］−３−ヘキシルチオフェンの合成
【１１０２】
【化３６８】
0005504454.tif 000372
【１１０３】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ｔＢｕはｔｅｒｔ−ブチル基を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
１，４−ジブロモベンゼンを２，５−ジブロモ−３−ヘキシルチオフェンに変更したこと以外は、実施例２５に準じて、合成および精製を行うことにより、２，５−ビス［５−｛（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）ピリジル｝］−３−ヘキシルチオフェン（０．３８５ｇ、０．４５ｍｍｏｌ）を収率９５％で得た。
【１１０４】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ０．８６（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ）、１．０９−１．１８（ｍ，６Ｈ）、１．４３３（ｍ，２Ｈ）、２．３８（ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ）、７．０４（ｓ，１Ｈ）、７．１２−７．３５（ｍ，２８Ｈ）、７．５１−７．６３（ｍ，６Ｈ）、７．８５（ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．０Ｈｚ，１Ｈ）、７．８９（ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．０Ｈｚ，１Ｈ）、８．２７（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ）、８．４１（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ）。
【１１０５】
≪実施例２９≫
下記式で示される反応による２，６−ビス［５−｛（Ｅ）−２−（２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル）ピリジル｝］−ピリジンの合成
【１１０６】
【化３６９】
0005504454.tif 000373
【１１０７】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ｔＢｕはｔｅｒｔ−ブチル基を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
窒素雰囲気下、５−｛４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−（２−ジオキサボロラニル）｝−２−｛（Ｅ）−２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル｝ピリジン（０．５０ｇ、１．０６ｍｍｏｌ）、２，６−ジブロモピリジン（０．１２ｇ、０．５２ｍｍｏｌ）、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（Ｐｄ（ＰｔＢｕ３）２）（０．００５ｇ、０．０１ｍｍｏｌ）、５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．４２ｍＬ、２．１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１１ｍＬ）中、６０℃で１２時間攪拌した。反応溶液を室温まで冷却した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１Ｎ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、濾過した。ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、得られた残渣をメタノールで洗浄することにより、５−（４−ジフェニルアミノフェニル）−２−｛（Ｅ）−２−フェニル−２−ジフェニルボリルエテニル｝ピリジン（３６７ｍｇ、０．４８ｍｍｏｌ）を収率９２％で得た。
【１１０８】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ７．１１−７．２４（ｍ，２２Ｈ）、７．３１−７．３４（ｍ，８Ｈ）、７．５０（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ）、７．６０−７．６３（ｍ，６Ｈ）、７．７４（ｔ，Ｊ＝８．０，７．６Ｈｚ，１Ｈ）、８．５５（ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．０Ｈｚ，２Ｈ）、８．８４（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，２Ｈ）。
【１１０９】
≪実施例３０≫
下記式で示される反応による１，３，５−トリス［５−｛（Ｅ）−２−（２−（４−メチルフェニル）−２−ジ（４−メチルフェニル）ボリルエテニル）ピリジル｝］ベンゼンの合成
【１１１０】
【化３７０】
0005504454.tif 000374
【１１１１】
［式中、４−ｔｏｌは４−メチルフェニル基を表し；ｔＢｕはｔｅｒｔ−ブチル基を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
窒素雰囲気下、５−｛４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−（２−ジオキサボロラニル）｝−２−｛（Ｅ）−２−（４−メチルフェニル）−２−ジ（４−メチルフェニル）ボリルエテニル｝ピリジン（０．５０ｇ、０．９７ｍｍｏｌ）、１，３，５−トリブロモベンゼン（０．０９２ｇ、０．２９ｍｍｏｌ）、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（Ｐｄ（ＰｔＢｕ３）２）（０．０１０ｇ、０．０２ｍｍｏｌ）、５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１．２ｍＬ、５．８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）中、７０℃で５時間攪拌した。反応溶液を室温まで冷却した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１Ｎ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、濾過した。ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、得られた残渣をメタノールで洗浄することにより、１，３，５−トリス［５−｛（Ｅ）−２−（２−（４−メチルフェニル）−２−ジ（４−メチルフェニル）ボリルエテニル）ピリジル｝］ベンゼン（２２５ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）を収率６３％で得た。
【１１１２】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ２．２７（ｓ，６Ｈ）、２．２９（ｓ，３Ｈ）、７．００（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，４Ｈ）、７．０５（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ）、７．２２−７．２４（ｍ，５Ｈ）、７．３９（ｓ，１Ｈ）、７．５５−７．５８（ｍ，３Ｈ）、７．９７（ｄｄ，Ｊ＝８．０，２．０，１．６Ｈｚ，１Ｈ）、８．４２（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ）。
【１１１３】
次に、本発明の新規なホウ素化合物ＩＩＩおよびその製造方法（７）に関する実施例に用いる原料物質の合成例２３について説明する。
【１１１４】
≪合成例２３≫
下記式で示される反応によるテトラメチルアンモニウム＝トリ（４−ビフェニリル）エチニルボラートの合成
【１１１５】
【化３７１】
0005504454.tif 000375
【１１１６】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表す］
まず、Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ−Ａ  Ｅｕｒｏｐｅａｎ  Ｊｏｕｒｎａｌ，２００５，１１，ｐｐ．２０７１−２０８０に記載された方法に従って、ナトリウム＝テトラキス（４−ビフェニリル）ボレートを合成した。
【１１１７】
次いで、容量３００ｍＬのナスフラスコに、ナトリウム＝テトラキス（４−ビフェニリル）ボレート（９．８ｇ、１５．１ｍｍｏｌ）、アセトニトリル（５０ｍＬ）、水（１００ｍＬ）を入れ、攪拌しながら、ピリジン塩酸塩（２．１０ｇ、１８．２ｍｍｏｌ）を室温で加え、室温で１時間攪拌した。アセトニトリルをロータリーエバポレーターで除去した後、析出した固体を濾取し、乾燥させた。得られた固体をトルエン中、１００℃に加熱しながら、４時間攪拌した後、濃縮し、クロロホルムを加えて、不溶物を濾過により除去した。再度濃縮し、得られた残渣を再結晶（ヘキサン−塩化メチレン）で精製することにより、トリ（４−ビフェニリル）ボラン・ピリジン錯体（５．０８ｇ、９．２４ｍｍｏｌ）を収率６１％で得た。
【１１１８】
さらに、窒素雰囲気下、トリ（４−ビフェニリル）ボラン・ピリジン錯体（５．００ｇ、９．１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１１ｍＬ）に溶解させ、−７８℃に冷却しながら、臭化エチニルマグネシウム（１９ｍＬ、９．６ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下後、この溶液を室温で１時間攪拌した。少量のメタノールに加えて反応を停止させ、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去した後、得られた残渣をメタノール（３０ｍＬ）に溶解させ、室温で塩化テトラメチルアンモニウム（１．０５ｇ、９．６ｍｍｏｌ）を加えた。１時間攪拌した後、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄することにより、テトラメチルアンモニウム＝トリ（４−ビフェニリル）エチニルボラート（４．２２ｇ、７．４１ｍｍｏｌ）を収率８１％で得た。
【１１１９】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ３．０４（ｓ，１２Ｈ）、７．２６（ｔｔ，Ｊ＝３．６，３．２，１．６，１．２Ｈｚ，３Ｈ）、７．３６−７．４２（ｍ，１２Ｈ）、７．５２（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，６Ｈ）、７．６０−７．６３（ｍ，６Ｈ）。
【１１２０】
次に、合成例２３で得られた原料物質を用いた本発明の新規なホウ素化合物ＩＩＩおよびその製造方法（７）に関する実施例３１について説明する。
【１１２１】
≪実施例３１≫
下記式で示される反応による２，５−ビス｛（Ｅ）−２−（４−ビフェニリル）−２−ジ（４−ビフェニリル）ボリルエテニル｝−３，６−ジメチルピラジンの合成
【１１２２】
【化３７２】
0005504454.tif 000376
【１１２３】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ｄｂａはジベンジリデンアセトン配位子を表し；ＤＰＥｐｈｏｓはビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテルを表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
窒素雰囲気下、テトラメチルアンモニウム＝トリ（４−ビフェニリル）エチニルボラート（１０４ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）、２，５−ジブロモ−３，６−ジメチルピラジン（２８ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム・クロロホルム錯体（Ｐｄ２ｄｂａ３・ＣＨＣｌ３）（１５．８ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ）、ビス［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］エーテル（ＤＰＥｐｈｏｓ）（１９．３ｍｇ、０．０２４ｍｍｏｌ）をトルエン（１．０ｍＬ）中、６０℃で１２時間攪拌した。室温まで冷却してから水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、濾過した。濾液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、得られた残渣に塩化メチレンを加え、不溶物を濾別し、濾液を濃縮した。得られた残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（塩化メチレン：ヘキサン＝１：１）で精製することにより、２，５−ビス｛（Ｅ）−２−（４−ビフェニリル）−２−ジ（４−ビフェニリル）ボリルエテニル｝−３，６−ジメチルピラジン（３９．７ｍｇ、０．０３６ｍｍｏｌ）を収率３６％で得た。
【１１２４】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ３．６８（ｓ，６Ｈ）、７．１７（ｓ，１Ｈ）、７．２８−７．６６（ｍ，５４Ｈ）。
【１１２５】
次に、本発明の新規なホウ素化合物ＩＶおよびその製造方法（８）に関する実施例に用いる原料物質の合成例２４について説明する。
【１１２６】
≪合成例２４≫
下記式で示される反応によるテトラメチルアンモニウム＝トリフェニル（２−ピリジニルエチニル）ボラートの合成
【１１２７】
【化３７３】
0005504454.tif 000377
【１１２８】
アルゴン雰囲気下、２−エチニルピリジン（６１３ｍｇ，６．０ｍｍｏｌ）を溶解させたテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）溶液を−７８℃に冷却し、１．６Ｍのｎ−ブチルリチウム（３．４ｍｌ，５．５ｍｍｏｌ）を滴下し、３０分攪拌した。次いで、トリフェニルボラン・ピリジン錯体を一度に加え、攪拌しながら、室温まで昇温した。室温で１時間攪拌した後、数滴のメタノールを加えて反応を停止させ、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去した。得られた残渣をメタノールに溶解させ、塩化テトラメチルアンモニウムを加えた。生成した固体を濾取し、減圧下で乾燥させることにより、テトラメチルアンモニウム＝トリフェニル（２−ピリジニルエチニル）ボラート（１．８６ｇ、４．４５ｍｍｏｌ）を収率８９％で得た。
【１１２９】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ３．０（ｓ，１２Ｈ）、６．８９−６．９５（ｍ，３Ｈ）、７．０３−７．１１（ｍ，７Ｈ）、７．３５（ｄｄｄ，Ｊ＝１０．４，１．２，０．９Ｈｚ，１Ｈ）、７．４１（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，６Ｈ）、７．５９（ｄｔ，Ｊ＝１．８，２．１，７．５，７．７Ｈｚ，１Ｈ）、８．４４（ｄｄｄ，Ｊ＝４．８，１．８，１．２Ｈｚ，１Ｈ）。
【１１３０】
次に、合成例２４で得られた原料物質を用いた本発明の新規なホウ素化合物ＩＶおよびその製造方法（８）に関する実施例３２について説明する。
【１１３１】
≪実施例３２≫
下記式で示される反応による２−｛（Ｅ）−２−フェニル−（１−フルオロ−２−ジフェニルボリル）エテニル｝ピリジンのの合成
【１１３２】
【化３７４】
0005504454.tif 000378
【１１３３】
［式中、Ｐｈはフェニル基を表し；ＮからＢに向かう矢印は配位結合を表す］
窒素雰囲気下、テトラメチルアンモニウム＝トリフェニル（２−ピリジニルエチニル）ボラート（４１．７ｍｇ，０．１ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（０．５ｍＬ）に溶解させた。１−クロロメチル−４−フルオロ−１，４−ジアゾニア−ビシクロ［２，２，２］オクタン−ビス（テトラフルオロボレート）（Ａｉｒ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ  ａｎｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．製、商品名「ＳｅｌｅｃｔＦｌｕｏｒ（登録商標）」）（３５．８ｍｇ，０．１ｍｍｏｌ）を加え、７０℃で１時間攪拌した後、水を加えて反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、濾過した。濾液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、得られた残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（塩化メチレン：ヘキサン＝１：１）で精製することにより、２−｛（Ｅ）−２−フェニル−（１−フルオロ−２−ジフェニルボリル）エテニル｝ピリジン（７．３ｍｇ、０．０２ｍｍｏｌ）を収率２０％で得た。
【１１３４】
その物性値は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ７．０２−７．６（ｍ，１１Ｈ）、７．２０−７．２６（ｍ，４Ｈ）、７．５５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、７．６０（ｄ，Ｊ＝８．４，１．５，１．２Ｈｚ，１Ｈ）、７．７８（ｍ，１Ｈ）、８．１７（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ）。
【１１３５】
≪新規なホウ素化合物の特性評価≫
本発明の新規なホウ素化合物が、その特性に応じて、発光材料、電子輸送材料、電子注入材料、正孔阻止材料または有機半導体材料として有用であることを示すために、下記の評価を行った。
【１１３６】
例えば、発光材料については、一般に、発光色は、例えば、有機ＥＬ素子でカラー表示する場合や白色ＥＬ素子で照明する場合、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のいずれかの発光色（波長）となることが特に好ましいとされている。そこで、本発明では、蛍光スペクトルにより、発光材料の発光色を調べた。また、蛍光量子収率（発光材料が吸収した光子数に対する放出された光子数の割合）により、発光材料の発光効率を調べた。
【１１３７】
また、一般に、有機ＥＬ素子などの機能性電子素子は、環境温度の変化や動作時の発熱に起因して、温度上昇によるモルフォロジーの変化、それに伴うピンホールの形成や、発光層における発光効率の低下、電子輸送層における電子移動度の低下などが起こらないことが求められる。そこで、本発明では、発光材料の熱特性、具体的には、ガラス転移温度により、それを用いた機能性電子素子が安定に動作する可能性を調べた。なお、発光材料は、ガラス転移温度が高いほど、それを用いた機能性電子素子の安定な動作に対して有利となる。
【１１３８】
さらに、電子輸送材料、電子注入材料、正孔阻止材料または有機半導体材料としての有用性を調べるために、ＨＯＭＯ−ＬＵＭＯ準位を測定した。電子輸送材料、電子注入材料および有機半導体材料（特に、ｎ型半導体材料）は、ＬＵＭＯが低い（準位を表す数値の絶対値が大きい）ことが求められる。ＬＵＭＯが低いということは、電子を受け取ったときの安定性が高いことを示す。特に、有機ＥＬ素子に用いられる電子注入材料は、陰極に用いられる材料の仕事関数に近い数値で表されるＬＵＭＯを有することが好ましい。陰極に用いられる材料（括弧内の数値は仕事関数の値）としては、一般的には、Ｍｇ（３．７ｅＶ）、Ａｌ（４．０ｅＶ）などが挙げられる。また、有機ＥＬ素子に用いられる正孔阻止材料は、発光層から漏れ出た正孔の通過を妨げるために、ＨＯＭＯが低い（準位を表す数値の絶対値が大きい）ことが求められる。発光材料または発光ホスト材料としてよく用いられるトリス（８−キノリノール）アルミニウム錯体（Ａｌｑ３）のＨＯＭＯが６．０ｅＶ程度であるので、これよりもさらにＨＯＭＯが低いことが好ましい。
【１１３９】
まず、実施例で製造した新規なホウ素化合物の一部を選んで、蛍光スペクトルおよび蛍光最大収率を測定した。その結果、ホウ素化合物（Ｂ−２１）の蛍光最大波長は４２２ｎｍ（青色）、蛍光量子収率は０．４４であり、ホウ素化合物（Ｂ−４４）の蛍光最大波長は４３１ｎｍ（青色）、蛍光量子収率は０．３２であり、ホウ素化合物（Ｅ−１）の蛍光最大波長は４７３ｎｍ（水色）、蛍光量子収率は０．２６であった。これらの新規なホウ素化合物は、いずれも光の三原色のうち青色系統の蛍光を常温で発光することや、蛍光量子収率が高く、ひいては発光効率が高いことから、本発明の新規なホウ素化合物は、例えば、有機ＥＬ素子の発光層を構成する発光材料として有用であることがわかる。
【１１４０】
次に、実施例で製造した新規なホウ素化合物の一部を選んで、ガラス転移温度を測定した。その結果、ホウ素化合物（Ｂ−２１）のガラス転移温度は４９℃であり、ホウ素化合物（Ｂ−４４）のガラス転移温度は７１℃であり、ホウ素化合物（Ｅ−１）のガラス転移温度は７６℃であり、ホウ素化合物（Ｆ−１２）のガラス転移温度は４３℃であった。これらの新規なホウ素化合物は、いずれもガラス転移温度が高いことから、本発明の新規なホウ素化合物を、例えば、有機ＥＬ素子の発光層を構成する発光材料として用いれば、得られた有機ＥＬ素子は温度変化に対して安定に動作する可能性を有することがわかる。
【１１４１】
次に、実施例で製造した新規なホウ素化合物の一部を選んで、ＨＯＭＯ−ＬＵＭＯ準位を測定した。その結果、ホウ素化合物（Ｂ−５２）のＨＯＭＯは６．２ｅＶ、ＬＵＭＯは３．４ｅＶ、ＨＯＭＯ−ＬＵＭＯギャップ（Ｂ．Ｇ．）は２．８ｅＶであり、ホウ素化合物（Ｅ−１）のＨＯＭＯは６．８ｅＶ、ＬＵＭＯは４．０ｅＶ、ＨＯＭＯ−ＬＵＭＯギャップ（Ｂ．Ｇ．）は２．８ｅＶであった。これらの新規なホウ素化合物は、いずれもＬＵＭＯが非常に低い（準位を表す数値の絶対値が大きい）ことから、電子輸送材料、電子注入材料および有機半導体材料（特に、ｎ型半導体材料）として優れており、さらにＨＯＭＯが非常に低い（準位を表す数値の絶対値が大きい）ことから、正孔阻止材料として優れていることがわかる。
【１１４２】
≪機能性電子素子の作製≫
本発明の新規なホウ素化合物を用いた機能性電子素子の代表例として、有機ＥＬ素子を作製した。
【１１４３】
無アルカリガラス上にインジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ）を厚さ１５０ｎｍで成膜した基板（旭ガラス株式会社製；シート抵抗１０Ω）を２９ｍｍ×２５ｍｍに切断し、ＩＴＯ部分が幅２ｍｍの長方形になるようにエッチングを行った。得られた基板をイソプロパノール中で１０分間超音波洗浄した後、イソプロパノールで煮沸洗浄し、乾燥させた。この基板にＵＶ−オゾン処理を施して、透明導電性支持基板として用いた。
【１１４４】
透明導電性支持基板をアルゴン雰囲気のグローブボックスに連結された真空蒸着装置（株式会社アルバック製）の基板ホルダーに固定した。正孔注入層として銅フタロシアニンを石英製のルツボに入れ、約１×１０−３Ｐａまで減圧し、膜厚１０ｎｍになるように蒸着した。次に、正孔輸送層としてビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニル］ベンジジン（α−ＮＰＤ）を別のルツボに入れ、約１×１０−３Ｐａまで減圧し、膜厚６０ｎｍになるように蒸着した。次に、発光層としてトリス（８−キノリノール）アルミニウム錯体（Ａｌｑ３）を別のルツボに入れ、約１×１０−３Ｐａまで減圧し、膜厚３５ｎｍになるように蒸着した。次に、電子輸送層としてホウ素化合物（Ｂ−５２）、ホウ素化合物（Ｅ−１）またはトリス（８−キノリノール）アルミニウム錯体（Ａｌｑ３）のいずれかを別のルツボに入れ、約１×１０−３Ｐａまで減圧し、膜厚１５ｎｍになるように蒸着した。次に、対向電極としてマグネシウム（Ｍｇ）と銀（Ａｇ）をそれぞれ別のタングステン製ボートに入れ、約１×１０−３Ｐａまで減圧し、マグネシウムと銀とが体積比で約１０：１となるように同時に蒸着した。このとき、Ｍｇ：Ａｇ電極の幅は２ｍｍの長方形とし、ＩＴＯ電極と直交するように配置した。すなわち、この有機ＥＬ素子の発光面積は、４ｍｍ２とした。
【１１４５】
このようにして作製した素子に、ＩＴＯ電極を陽極、Ｍｇ：Ａｇ電極を陰極として、０〜２０Ｖまでの電圧を印加して、発光輝度を測定した。その結果を図１に示す。
【１１４６】
図１から明らかなように、本発明の新規なホウ素化合物を用いた有機ＥＬ素子は、発光開始電圧（輝度が０．１ｃｄ／ｍ２を超えた電圧）を比較すると、トリス（８−キノリノール）アルミニウム錯体（Ａｌｑ３）を用いた場合が１３Ｖであるのに対して、ホウ素化合物（Ｂ−５２）を用いた場合が８Ｖ、ホウ素化合物（Ｅ−１）を用いた場合が７Ｖと非常に低く、しかも発光輝度を比較すると、トリス（８−キノリノール）アルミニウム錯体（Ａｌｑ３）を用いた場合より低い電圧で極めて高い輝度を示すという優れた電気的特性を発揮することがわかる。
【産業上の利用可能性】
【１１４７】
本発明は、新規なホウ素化合物が、その特性に応じて、発光材料、電子輸送材料、電子注入材料、正孔阻止材料または有機半導体材料として有用であり、それらの製造方法が収率良く簡便であり、かつ、それらを用いた機能性電子素子が優れた電気的特性を発揮するので、エレクトロニクス分野で多大の貢献をなすものである。
【図面の簡単な説明】
【１１４８】
【図１】図１は、本発明の新規なホウ素化合物を用いた有機ＥＬ素子および比較用有機ＥＬ素子について、印加した電圧と発光輝度との関係を示すグラフである。
【図１】
0005504454.tif 000401