(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
硬化性材料を含有する表面層用塗料の塗布膜を複数の円筒状の被照射体上にそれぞれ形成し、該塗布膜に放射線を照射し該硬化性材料を硬化させて形成された表面層を有する電子写真感光体を複数製造する電子写真感光体の製造方法であって、
複数の該被照射体に一回の照射で該放射線を同時に照射できる被照射位置として、該被照射位置が第１〜ｎ（ｎは２以上の整数）番まである装置を用い、
下記の（ｉ）〜（ｉｉｉ）の工程を経て処理する
ことを特徴とする電子写真感光体の製造方法：
（ｉ）該被照射体を第１番目から第ｎ番目までの該被照射位置に順次搬送する工程、
（ｉｉ）該被照射体を該被照射位置に搬送した毎に、該被照射位置において、該被照射体を回転させながら該放射線を照射する工程、
（ｉｉｉ）（ｉ）および（ｉｉ）の工程を繰り返して、複数の該被照射体毎に第１番目から第ｎ番目までの該被照射位置でｎ回の照射を行なう工程。
【請求項２】
前記放射線が電子線である請求項１に記載の電子写真感光体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、硬化層を有する複数の電子写真感光体を連続的に処理する電子写真感光体の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、生産性が高く、安価に作成できる有機光導電性物質を用いた電子写真感光体が広く用いられるようになってきた。特に、有機光導電性染料や顔料を含有した電荷発生層と、光導電性ポリマーや低分子の電荷輸送材料を含有した電荷輸送層を積層した機能分離型感光体の開発により、従来の電子写真感光体の課題とされていた感度や、耐久性に改善がなされてきており、これが電子写真感光体の主流となってきている。
【０００３】
一方、当然のことながら、電子写真感光体には適用される電子写真プロセスに応じた感度、電気特性、光学特性を備えていることが要求される。特に、繰り返し使用される感光体にあっては、その感光体表面には帯電、画像露光、トナー現像、被転写体への転写、残トナーのクリーニングにより電気的、機械的外力が直接加えられるため、それらに対する耐久性が求められる。具体的には、摺擦による表面の摩耗や傷の発生に対する耐久性、帯電による表面劣化、例えば転写効率や滑り性の低下、更には感度劣化、帯電能の低下、電気特性の劣化に対する耐久性が要求される。
【０００４】
一般に、電子写真感光体は薄い樹脂層から構成されるため、樹脂材料の特性が非常に重要である。上述の諸条件をある程度満足する樹脂として、近年アクリル樹脂やポリカーボネート樹脂が実用化されているが、前述したような特性のすべてがこれらの樹脂で満足されるわけではない。特に感光体の高耐久化を図る上では、前記樹脂の被膜強度は十分に高いとは言い難い。これらの樹脂を表面層形成用の樹脂として用いた場合でも、繰り返し使用時において表面層の摩耗が起こるという課題があった。
【０００５】
更に、近年の電子写真感光体の高感度化に対する要求から、感光体に対して電荷輸送材料などの低分子量化合物が比較的大量に添加される場合が多い。この場合、それら低分子量物質の可塑剤的な作用により、膜強度が低下し、繰り返し使用時の表面層の摩耗が課題となっている。
【０００６】
これらの課題を解決する手段として、硬化性の樹脂を電荷輸送層用の樹脂として用いる試みが提案されている（特許文献１）。特許文献１には、電荷輸送層用の樹脂に硬化性の樹脂を用い、電荷輸送層を硬化、架橋することによって膜強度を増加させ、繰り返し使用時の耐摩耗性および耐傷性を大きく向上させることが開示されている。
【０００７】
更に、膜強度を向上させる手段として、硬化性の樹脂を含有する表面層に電子線を照射して硬化させた硬化層を有する電子写真感光体が提案されており、それらの中で未反応基の残存率を規定した提案がある（特許文献２）。しかしながら硬化性材料の硬化度は膜強度に大きく寄与するため、電子写真感光体を連続的に処理する場合、硬化度を略一定にする必要がある。
【０００８】
一方、電子写真感光体に電子線を照射する製法としては、複数の照射線源から照射する製法（特許文献３）や、照射線工程が２工程以上ある製法（特許文献４）、搬送機構体が周回して照射する製法（特許文献５）が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平２−１２７６５２号公報
【特許文献２】特開２００５−４９５７９号公報
【特許文献３】特開２００４−１９８５７６号公報
【特許文献４】特開２００５−９１７４１公報
【特許文献５】特開２００２−３６２３０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、複数の電子写真感光体を連続的に処理する場合、硬化度のばらつきを抑えるためには被照射体毎の吸収線量を均一にする必要があり、照射前の被照射体には僅かな電子線も受けない位置で待機させる装置構成となっていた。このため、装置の大型化や搬送時間、処理時間が長くなり、生産性が充分ではなかった。
【００１１】
本発明の目的は、硬化層を有する複数の電子写真感光体を連続的に処理する際に、効率的かつ、硬化度のばらつきを抑制できる電子写真感光体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
すなわち、本発明は、硬化性材料を含有する表面層用塗料の塗布膜を複数の円筒状の被照射体上にそれぞれ形成し、該塗布膜に放射線を照射し該硬化性材料を硬化させて形成された表面層を有する電子写真感光体を複数製造する電子写真感光体の製造方法であって、複数の該被照射体に一回の照射で該放射線を同時に照射できる被照射位置として、該被照射位置が第１〜ｎ（ｎは２以上の整数）番まである装置を用い、下記の（ｉ）〜（iii）の工程を経て処理することを特徴とする電子写真感光体の製造方法に関する。
（ｉ）該被照射体を第１番目から第ｎ番目までの該被照射位置に順次搬送する工程、
（ii）該被照射体を該被照射位置に搬送した毎に、該被照射位置において、該被照射体を回転させながら該放射線を照射する工程、
（iii）（ｉ）および（ii）の工程を繰り返して、複数の該被照射体毎に第１番目から第ｎ番目までの該被照射位置でｎ回の照射を行なう工程。
【発明の効果】
【００１３】
本発明により、効率的かつ、硬化度のばらつきを最小限に抑制できる電子写真感光体の製造方法を提供することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施例で使用する電子線照射装置の概略構成図の一例である。
【図２】本発明の実施例で使用する電子線照射装置の概略構成図の一例である。
【図３】本発明の実施例で使用する電子線照射装置の概略構成図の一例である。
【図４】本発明の実施例で使用する電子線照射装置の概略構成図の一例である。
【図５】本発明の実施例で使用する電子線照射装置の概略構成図の一例である。
【図６】本発明の実施例で使用する電子線照射装置の概略構成図の一例である。
【図７】本発明の参考例で使用する電子線照射装置の概略構成図の一例である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明に適用できる被照射体について説明する。
本発明の被照射体は、円筒状の支持体上に表面層（硬化層）用の塗布膜が塗布されたものである。
【００１６】
支持体としては、導電性を有するもの（導電性支持体）が好ましく、例えば、アルミニウム、銅、クロム、ニッケル、亜鉛及びステンレスのような金属や合金を成形したもの、アルミニウム及び銅のような金属箔をプラスチックにラミネートしたもの、アルミニウム、酸化インジウム及び酸化錫を円筒状プラスチックに蒸着したもの、導電性物質を単独又は結着樹脂と共に塗布して導電層を設けた金属、プラスチック及び紙が挙げられる。
【００１７】
本発明において、導電性支持体の上にはバリアー機能と接着機能をもつ下引き層を設けることができる。下引き層は、感光層の接着性改良、塗工性改良、支持体の保護、基体上の欠陥の被覆、支持体からの電荷注入性改良、感光層の電気的破壊に対する保護のために形成される。下引き層の材料としては、ポリビニルアルコール、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキシド、エチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、カゼイン、ポリアミド、Ｎ−メトキシメチル化６ナイロン、共重合ナイロン、にかわ、ゼラチンが知られている。これらはそれぞれに適した溶剤に溶解されて支持体上に塗布される。その際の膜厚としては０．１μｍ以上２μｍ以下が好ましい。
【００１８】
本発明に適用できる被照射体は、導電性支持体上に少なくとも感光層と表面層を積層する。感光層の構成としては、電荷発生層、電荷輸送層をこの順に積層した機能分離型構成、又は逆に電荷輸送層、電荷発生層をこの順に積層した構成をとることも可能である。また、電荷発生物質と電荷輸送物質を結着樹脂中に分散した単層より構成される単層構成をとることも可能である。
【００１９】
本発明に適用する感光層が機能分離型である場合には、電荷発生層及び電荷輸送層を積層する。電荷発生層に用いる電荷発生物質としては、ピリリウム、チアピリリウム系染料、各種の中心金属及び結晶系、具体的には例えばα、β、γ、ε、Ｘ型の結晶型を有するフタロシアニン化合物、アンスアントロン顔料、ジベンズピレンキノン顔料、ピラントロン顔料、トリスアゾ顔料、ジスアゾ顔料、モノアゾ顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料、非対称キノシアニン顔料、キノシアニンが挙げられる。
【００２０】
感光層が機能分離型の場合、電荷発生層は前記電荷発生物質を質量比で０．３倍量以上４倍量以下の結着剤樹脂及び溶剤と共にホモジナイザー、超音波分散、ボールミル、振動ボールミル、サンドミル、アトライター又はロールミルの方法で良く分散し、分散液を塗布、乾燥されて形成される。または前記電荷発生物質の蒸着膜、又は、単独組成の膜として形成される。その膜厚は５μｍ以下、特に０．１μｍ以上２μｍ以下の範囲であることが好ましい。
【００２１】
また、電荷輸送物質としては、ヒドラゾン系化合物、ピラゾリン系化合物、オキサゾール系化合物、チアゾール系化合物、トリアリールメタン系化合物、ポリアリールアルカン類が挙げられる。
【００２２】
一般的には、電荷輸送層は上記電荷輸送物質を成膜性の樹脂、例えばポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート樹脂と混合し、成膜して電荷輸送層とする。その膜厚は４０μｍ以下、特に１０μｍ以上２５μｍ以下の範囲であることが好ましい。
【００２３】
本発明に適用できる表面層用の塗布膜は硬化性材料を含有する。硬化性材料とは、電子線照射あるいは電子線照射に更に熱を加えることで架橋又は重合して、硬化することができる化合物である。硬化性材料としては例えば、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を有する有機化合物が挙げられる。表面層用溶剤への溶解性、感光体の電気特性、膜強度の確保の観点から、アクリロイルオキシ基を１つあるいは複数有するアリールアミン系化合物であることが好ましい。表面層の膜厚は１５μｍ以下、特に２μｍ以上１０μｍ以下の範囲であることが好ましい。
【００２４】
本発明の表面層用の塗布膜には各種添加剤を添加することができる。該添加剤とは、重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、無機顔料、テトラフルオロエチレン樹脂粒子、フッ化カーボンが挙げられる。
【００２５】
次に、本発明の製造方法について説明する。
【００２６】
本発明は、硬化性材料を含有する表面層用塗料の塗布膜を複数の円筒状の被照射体上にそれぞれ形成し、該塗布膜に放射線を照射し該硬化性材料を硬化させて形成された表面層を有する電子写真感光体を複数製造する電子写真感光体の製造方法である。本発明の製造方法においては、複数の該被照射体に一回の照射で該放射線を同時に照射できる被照射位置として、該被照射位置が第１〜ｎ（ｎは２以上の整数）番まである装置を用いる。この装置を用いた本発明の電子写真感光体の製造方法では、下記の（ｉ）〜（iii）の工程：（ｉ）該被照射体を第１番目から第ｎ番目までの該被照射位置に順次搬送する工程、（ii）該被照射体を該被照射位置に搬送した毎に、該被照射位置において、該被照射体を回転させながら該放射線を照射する工程、（iii）（ｉ）および（ii）の工程を繰り返して、複数の該被照射体毎に第１番目から第ｎ番目までの該被照射位置でｎ回の照射を行なう工程、を経て処理することを特徴としている。
【００２７】
まず、本発明における塗布工程について説明する。
塗布工程とは、硬化性材料を含有する表面層用塗料を被照射体に塗布する工程である。塗布方法としては例えば、浸漬塗布法、スプレー塗布法、カーテン塗布法及びスピン塗布法が挙げられるが、効率性や生産性の観点から浸漬塗布法が好ましい。使用する塗布機には必要に応じて、循環ポンプ、攪拌手段、温度調節手段、濾過手段、圧力調整手段のような補助手段を設けてもよい。
【００２８】
次に、本発明における電子線照射工程について説明する。
電子線照射工程とは、上述の塗布工程にて被照射体上に形成された硬化性材料を含有する塗布膜に電子線を照射する工程である。本発明に使用できる電子線照射装置は、スキャニング型、カーテンビーム型、ブロードビーム型、パルス型及びラミナー型のいずれのものでもよいが、円筒体の円筒軸方向に均一に電子線照射するという観点から、カーテンビーム型の電子線照射装置を用いることが好ましい。
【００２９】
電子線照射条件としては、加速電圧、ビーム電流、照射距離、電子線照射窓箔の材質、被照射体の回転速度が挙げられる。加速電圧は１５０ｋＶ以下が好ましく、より好ましくは９０ｋＶ以下である。加速電圧が１５０ｋＶを越えると感光体電気特性の劣化が起こることがある。ビーム電流については電子線照射装置の個体差があるが、ビーム電流と吸収線量は概ね比例関係にあり、吸収線量でいえば１ｋＧｙ以上１００ｋＧｙ以下の範囲が好ましく、更に５ｋＧｙ以上２０ｋＧｙ以下の範囲が好ましい。吸収線量が１ｋＧｙよりも少ない場合には硬化が不充分となり易く、吸収線量が１００ｋＧｙを超える場合には感光体電気特性の劣化が起こることがある。尚、吸収線量の測定には、例えば、米国ＦＡＲ  ＷＥＳＴ  ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ社のナイロン製の線量測定用フィルムを用いたフォトクロミック法を適用すればよい。照射距離は５ｍｍ以上５０ｍｍ以下の範囲で適宜設定すればよい。電子線照射窓箔の材質は、チタン、シリコン、ベリリウム、アルミニウムから適宜選択できる。
【００３０】
被照射体の回転速度は５０ｒｐｍ以上５００ｒｐｍ以下の範囲で適宜決定すればよい。回転速度が５０ｒｐｍよりも低い場合には円筒体の周方向における吸収線量の均一性が不充分となり易く、５００ｒｐｍを越える場合には回転フレを増大させ易く回転駆動装置の負荷が大きくなり易い。
【００３１】
電子線照射時の雰囲気に関しては、オゾンの発生抑制及び安定した硬化度を得る観点から、窒素、ヘリウム、アルゴンのような不活性ガス中で行うことが好ましい。不活性ガスのうち、安価である点から窒素を用いることがより好ましい。電子線照射時における雰囲気の酸素濃度は、１ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下の範囲が好ましく、更に１ｐｐｍ以上５００ｐｐｍ以下の範囲であることが好ましい。
【００３２】
複数の電子写真感光体を連続的に処理する場合、上記電子線照射時の酸素濃度は略一定にする必要がある。被照射体毎に酸素濃度がばらつくと後述の硬化度のばらつきが大きくなるため、酸素濃度のばらつきは２０ｐｐｍ以内に抑えることが好ましく、更には１０ｐｐｍ以内がより好ましい。
【００３３】
次に、本発明における複数の電子写真感光体を連続的に処理する電子線照射装置について説明する。
図１〜図４は本発明の実施例で使用する電子線照射装置の概略構成図の一例である。本実施例で用いる電子線照射装置は図１に示すように、電子線照射ユニット１と電子線照射室２から構成されている。電子線照射ユニット１は、電子線を発生するターミナル３と、ターミナル３で発生した電子線を真空空間（加速空間）で加速する加速管４とを有するものである。加速管４の内部は、電子が気体分子と衝突してエネルギーを失うことを防ぐため、拡散ポンプ(不図示)等により１０−４Ｐａ以上１０−６Ｐａ以下の真空に保たれている。ターミナル３は、熱電子を放出する線状のフィラメント５と、フィラメント５で発生した熱電子をコントロールするグリッド６とを有する。フィラメント５及びグリッド６の図面奥行き方向の長さは、少なくとも被照射体の電子線が照射されるべき部分の円筒軸方向の長さより長くすれば、被照射体の円筒軸方向は１回の電子線照射で全体が照射可能である。また、電子線照射ユニット１には、フィラメント５を加熱して熱電子を発生させるための加熱用電源(不図示)が設けられている。また、電子線照射ユニット１には、フィラメント５とグリッド６との間に電圧を印加する制御用直流電源(不図示)と、グリッド６と照射窓部に設けられた窓箔７との間に電圧を印加する加速用直流電源(不図示)とが設けられている。なお、加速管４及び電子線照射室２の周囲は、電子線照射時に二次的に発生するＸ線が外部へ漏出しないように鉛製遮蔽壁８で覆われている。照射窓部は、金属箔からなる窓箔７と、窓箔７を冷却すると共に窓箔７を支持する窓枠支持体９とを有するものである。窓箔７は、電子線発生部の真空雰囲気と電子線照射室２内の不活性ガス雰囲気とを仕切るものであり、また窓箔７を介して電子線照射室２内に電子線を取り出すものである。加熱用電源によりフィラメント５に電流を通じて加熱するとフィラメント５は熱電子を放出し、この熱電子は、フィラメント５とグリッド６との間に印加された制御用直流電源の制御電圧により四方八方に引き寄せられる。このうち、グリッド６を通過したものだけが電子線１０として有効に取り出される。そして、このグリッド６から取り出された電子線１０は、グリッド６と窓箔７との間に印加された加速用直流電源の加速電圧により加速管内の加速空間で加速された後、窓箔７を突き抜け、電子線照射室２内の照射エリアＡにある３ヶ所の被照射位置Ａ１、Ａ２、Ａ３に照射される。なお、通常は、加熱用電源と加速用直流電源とを所定の値に設定し、制御用直流電源を可変にすることにより、ビーム電流の調整が可能となる。
【００３４】
電子線照射室２は入口シャッター１１と出口シャッター１２で開閉が可能となっており、入口から出口にかけて搬送コンベア１３が矢印Ｘの方向に貫通している。更に、不活性ガスが注入された電子線照射室２内には、照射エリアＡと僅かな電子線も受けない照射前エリアＢがあり、照射前エリアＢには５ヶ所の照射待機位置Ｂ１〜Ｂ５がある。生産性の観点から、電子線照射室２は極力小さくすることが好ましいが、照射前の不活性ガス中でのエージング時間が短すぎると硬化度が不安定になるため、塗布膜近傍も充分な酸素濃度になるよう照射前エリアＢを設けることが好ましい。
【００３５】
また、被照射位置Ａ１〜Ａ３と照射待機位置Ｂ１〜Ｂ５の各々隣接する位置間の距離Ｌはいずれも等間隔に配置されており、搬送コンベア１３により複数の被照射体１４をそれぞれの位置に搬送できる構成となっている。
【００３６】
本発明では、図１〜図４に示すような工程に従い、複数の電子写真感光体を製造することができる。
まず、図１に示すように、入口シャッター１１から搬送された５本の被照射体が照射待機位置Ｂ１〜Ｂ５に配置されている。
続いて、図２に示すように、照射待機位置Ｂ１〜Ｂ５の被照射体を、順次、被照射位置Ａ１、照射待機位置Ｂ２〜Ｂ５に搬送し、被照射位置Ａ１に搬送された被照射体は回転しながら電子線照射を受ける。なお、搬送により空きとなった照射待機位置Ｂ１には、順次、搬送コンベア１３により入口シャッター１１から新たな被照射体を供給することができる。
被照射位置Ａ１での照射が終了したら、図３のように、順次、被照射体を搬送し、被照射位置Ａ１、Ａ２に搬送された被照射体は回転しながら同時に電子線照射を受ける。
更に、図４のように搬送した後、３本の被照射体は回転しながら同時に電子線照射を受け、被照射位置Ａ３の被照射体は出口シャッター１２から排出される。
上述の工程を繰り返すことで、複数の被照射体毎に第１番目から第ｎ番目までの被照射位置で常にｎ回の照射を等しく行なうことができる。
【００３７】
次に、硬化層の膜強度及び硬化度について説明する。
硬化性材料を硬化して形成した表面層を有する電子写真感光体表面の膜強度は、硬化に寄与する官能基の硬化度が高いほど良好である。したがって、硬化後の感光体表面において硬化性材料の未硬化官能基の残存程度を評価することによって、膜強度を代用評価することができる。未硬化官能基としてアクリロイルオキシ基の場合、末端オレフィン（ＣＨ２＝）が挙げられる。この末端オレフィン（ＣＨ２＝）の残存量を評価するには、感光体表面層の断片をサンプルとして赤外分光反射法を用いる方法が挙げられる。赤外分光反射法において、アクリロイルオキシ基の末端オレフィン（ＣＨ２＝）のピーク面積を分子とし、アクリロイルオキシ基のカルボニル（Ｃ＝Ｏ）のピーク面積を分母としたピーク面積比を算出すればよい（以下、このピーク面積比を未硬化残存基ＩＲピーク比と呼ぶ）。赤外分光スペクトルにおけるピーク波数は、分子構造や硬化による影響を受けるため、硬化性材料等によって異なる場合が多い。例えば、硬化されたアクリロイルオキシ基を有するアリールアミン系化合物の場合、アクリロイルオキシ基のカルボニル（Ｃ＝Ｏ）伸縮振動に基づくピークは、１７２５ｃｍ−１付近に見られ、末端オレフィン（ＣＨ２＝）面内変角振動に基づくピークは１４０５ｃｍ−１付近に見られる。
【実施例】
【００３８】
以下、本発明を実施例にしたがってより詳細に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。
【００３９】
（実施例１）
直径３０ｍｍ、長さ３５７．５ｍｍの表面切削加工されたアルミニウムシリンダーを支持体（円筒状支持体）とした。
次に、導電性粒子としての酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部、結着樹脂としてのフェノール樹脂（商品名：プライオーフェンＪ−３２５、大日本インキ化学工業（株）製、樹脂固形分６０％）３６．５部、溶剤としてのメトキシプロパノール３５部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルで３時間分散して、分散液を調整した。
この分散液に、表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子（商品名：トスパール１２０、ＧＥ東芝シリコーン（株）製、平均粒径２μｍ）３．９部、レベリング剤としてのシリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）０．００１部を添加して攪拌し、導電層用塗料を調製した。
上記方法にて調製した導電層用塗料を、上記支持体上に浸漬法によって塗布し、温度１５０℃に加熱されたオーブン内で１時間、加熱硬化することにより、支持体上端から１７０ｍｍの位置の平均膜厚が１５μｍの導電層を形成した。
【００４０】
次に、以下の成分をメタノール４００部／ｎ−ブタノール２００部の混合液に溶解した中間層用塗料を、上記導電層上に浸漬塗布し、温度１００℃に加熱されたオーブン内で３０分間、加熱乾燥することにより、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が０．４５μｍの中間層を形成した。
共重合ナイロン樹脂                                                  １０部
（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ（株）製）
メトキシメチル化６ナイロン樹脂                                      ３０部
（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、帝国化学（株）製）
次に、以下の成分を、直径１ｍｍガラスビーズを用いたサンドミル装置で４時間分散した後、酢酸エチル７００部を加えて電荷発生層用塗料を調製した。
ヒドロキシガリウムフタロシアニン                                    ２０部
（ＣｕＫα特性Ｘ線回折において、７．５°、９．９°、１６．３°、１８．６°、２５．１°、２８．３°（ブラッグ角度（２θ±０．２°））に強い回折ピーク有するもの）
下記構造式（１）
【化１】
0005486320.tif 000002
で示されるカリックスアレーン化合物                                ０．２部
ポリビニルブチラール                                                  １０部
（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学製）
シクロヘキサノン                                                  ６００部
上記電荷発生層用塗料を上記中間層上に浸漬コーティング法で塗布し、温度８０℃に加熱されたオーブン内で１５分間、加熱乾燥することにより、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が０．１８μｍの電荷発生層を形成した。
【００４１】
次いで、以下の成分をクロロベンゼン６００部及びメチラール２００部の混合溶媒中に溶解して電荷輸送層用塗料を調製した。これを用いて、上記電荷発生層上に電荷輸送層用塗料を浸漬塗布し、温度１００℃に加熱されたオーブン内で３０分間、加熱乾燥することにより、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が１８μｍの電荷輸送層を形成した。
下記構造式（２）
【化２】
0005486320.tif 000003
で示される電荷輸送物質                                                ７０部
ポリカーボネート樹脂                                                １００部
（ユーピロンＺ４００、三菱エンジニアリングプラスチックス（株）社製）
次いで、以下の成分を、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（商品名：ゼオローラＨ、日本ゼオン（株）社製）２０部及び１−プロパノール２０部の混合溶剤に溶解した。
フッ素原子含有樹脂                                                ０．５部
（商品名：ＧＦ−３００、東亞合成（株）社製）
【００４２】
上記フッ素原子含有樹脂が溶解された溶液に、４フッ化エチレン樹脂粉体（商品名：ルブロンＬ−２、ダイキン工業（株）製）１０部を加えた。その後、４フッ化エチレン樹脂粉体を加えた溶液を、高圧分散機（商品名：マイクロフルイダイザーＭ−１１０ＥＨ、米Ｍｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ社製）で６００ｋｇｆ／ｃｍ２の圧力で４回の処理を施し、均一に分散させた。さらに、上記分散処理を行った溶液をポリフロンフィルター（商品名ＰＦ−０４０、アドバンテック東洋（株）社製）で濾過を行い、分散液を調製した。その後、下記構造式（３）
【化３】
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で示される正孔輸送性化合物９０部、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン７０部及び１−プロパノール７０部を上記分散液に加えた。これを、ポリフロンフィルター（商品名：ＰＦ−０２０、アドバンテック東洋（株）社製）で濾過を行い、表面層用塗料を調製した。
【００４３】
上記表面層用塗料を用いて、上記電荷輸送層上に表面層用塗料を塗布した後、大気中、５０℃のオーブンで１０分間乾燥して１０本の被照射体を得た。
【００４４】
次いで、図１〜図４に示す電子線照射装置を用い、以下の手順で連続的に処理をして、１０本の被照射体に電子線を照射した。
電子線照射ユニット１はカーテンビーム型であり、岩崎電気（株）製の電子線加速電圧が最大１５０ｋＶタイプで、電子線照射窓箔７が厚さ８μｍのチタン箔を用いた。また、電子線照射室２内の被照射位置Ａ１〜Ａ３と照射待機位置Ｂ１〜Ｂ５の各々隣接する位置間の距離Ｌを６０ｍｍ、被照射位置Ａ２を矢印Ｘの方向の中で最大の吸収線量を得られる位置とし、更に、被照射位置Ａ２における被照射体表面とチタン箔との最短距離を３０ｍｍとした。なお、電子線照射室２内には窒素ガスを注入している。
【００４５】
まず、図１に示すように搬送コンベア１３により照射待機位置Ｂ１〜Ｂ５に５本の被照射体を搬送した後、図２のように、照射待機位置Ｂ１〜Ｂ５の被照射体を、順次、被照射位置Ａ１、照射待機位置Ｂ２〜Ｂ５に搬送し、更に、照射待機位置Ｂ１に６本目の被照射体を搬送した。被照射位置Ａ１に搬送した被照射体を３００ｒｐｍの速度で回転させながら電子線照射を行なった。
続いて、被照射位置Ａ１での照射が終了したら、図３のように、順次、被照射体を搬送し、被照射位置Ａ１、Ａ２に搬送した被照射体を回転させながら同時に電子線照射を行なった。
更に、図４のように搬送した後、３本の被照射体を回転しながら同時に電子線照射を行い、被照射位置Ａ３の被照射体は出口シャッター１２から排出させた。
上記の工程を繰り返すことで、１０本の被照射体を連続して搬送し、被照射体毎に３ヶ所の被照射位置Ａ１〜Ａ３で３回の照射を等しく行なった。
【００４６】
このとき、全ての電子線の照射は、電子線加速電圧が１５０ｋＶ、電子線ビーム電流が２ｍＡ、電子線照射時間が１．６秒、酸素濃度が１０ｐｐｍの条件で行った。
【００４７】
次いで、電子線照射が終了したら被照射体を、順次、窒素雰囲気（酸素濃度１０ｐｐｍ）下において、支持体周囲の温度を２５℃から１１５℃まで１５秒かけて昇温させ、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が５μｍの表面層が形成された１０本の電子写真感光体を得た。
【００４８】
このようにして得られた１０本の電子写真感光体について、それぞれ上端から１７０ｍｍの位置の表面層を円周方向に４ヶ所カミソリで剥ぎとった。続いて、それぞれの表面層断片について赤外分光全反射測定を行い、電子写真感光体毎に４点の未硬化残存基ＩＲピーク比の平均値を算出した上で、１０本の未硬化残存基ＩＲピーク比の平均値について、最大値、最小値、差分（最大値−最小値）を求めた。赤外分光測定機は、Ｐｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ  Ｉｎｓｔｒｍｅｎｔｓ製の、Ｓｐｅｃｔｒｕｍ  Ｏｎｅ  ＦＴ−ＩＲ  Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒを使用した。未硬化残存基ＩＲピーク比は、１４００．３２ｃｍ−１以上１４１３．８２ｃｍ−１以下の波数範囲をアクリロイルオキシ基の末端オレフィン（ＣＨ２＝）のピーク面積、１６９９．２９ｃｍ−１以上１７７０．６５ｃｍ−１以下の波数範囲をアクリロイルオキシ基のカルボニル（Ｃ＝Ｏ）のピーク面積として算出した。
【００４９】
結果を表１に示す。
（実施例２）
被照射位置Ａ１〜Ａ３と照射待機位置Ｂ１〜Ｂ５の各々隣接する位置間の距離Ｌを１００ｍｍとした以外は、実施例１と同様の感光体を作製し、測定を行った。結果を表１に示す。
【００５０】
（実施例３）
３ヶ所の被照射位置をＡ１〜Ａ５（Ａ４、Ａ５は不図示）の５ヶ所とし、被照射位置Ａ１〜Ａ５と照射待機位置Ｂ１〜Ｂ５の各々隣接する位置間の距離Ｌを４０ｍｍ、更に、被照射位置Ａ３を最大の吸収線量を得られる位置とした以外は、実施例１と同様の感光体を作製し、測定を行った。結果を表１に示す。
【００５１】
（実施例４）
図５に示すように、５本目と６本目の被照射体の間に１本分の空きを設けて、５本の連続搬送を２回繰り返した以外は、実施例１と同様の感光体を作製し、測定を行った。結果を表１に示す。
【００５２】
（実施例５）
図６に示すように、各々の被照射体の間に１本分の空きを設けて搬送した以外は、実施例１と同様の感光体を作製し、測定を行った。結果を表１に示す。
【００５３】
（比較例１）
図２に示す工程において、１本目の被照射体に対してのみ被照射位置Ａ１での電子線照射を行なわなかった以外は、実施例１と同様の感光体を作製し、測定を行った。結果を表１に示す。
【００５４】
（比較例２）
図２に示す工程において、１本目の被照射体に対してのみ被照射位置Ａ１での電子線照射を行なわなかった以外は、実施例２と同様の感光体を作製し、測定を行った。結果を表１に示す。
【００５５】
（参考例）
後述の図７に示す電子線照射装置を用いた以外は、実施例１と同様の感光体を作製し、測定を行った。結果を表１に示す。
【００５６】
図７において、電子線照射ユニット１は実施例１と同様であり、電子線照射室２内の照射前エリアＢの照射直前の位置には照射待機位置Ｂ´がある。このとき、照射待機位置Ｂ´は僅かな電子線も受けないように、電子線照射窓箔７と充分な距離を設ける必要がある。更に、照射待機位置Ｂ´に搬送された被照射体を把持して、被照射位置Ａ´に搬送し、照射後に搬送コンベア１３上の照射完了位置Ｃまで搬送できる旋回アーム１５を備えている。連続的に処理する場合は、被照射体毎に旋回アーム１５により照射待機位置Ｂ´〜被照射位置Ａ´〜照射完了位置Ｃの工程を繰り返すことで処理することができる。なお、被照射位置Ａ´における被照射体表面とチタン箔との最短距離は３０ｍｍである。
【００５７】
図７の装置により、１０本の被照射体を連続して搬送し、被照射体毎に１ヶ所の被照射位置Ａ´で３００ｒｐｍの速度で回転させながら実施例１と同様の照射条件で電子線照射を行なったが、電子線照射室２が大型化した上、更に、旋回アームによる搬送時間が影響して、１０本の処理時間が実施例１と比べて約２倍必要であった。
【００５８】
【表１】
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【符号の説明】
【００５９】
１  電子線照射ユニット
２  電子線照射室
３  ターミナル
４  加速管
５  フィラメント
６  グリッド
７  電子線照射窓箔
８  鉛製遮蔽壁
９  窓枠支持体
１０  電子線
１１  入口シャッター
１２  出口シャッター
１３  搬送コンベア
１４  被照射体
Ｌ  隣接する位置間の距離
Ａ  照射エリア
Ａ１〜Ａ３  被照射位置
Ｂ  照射前エリア
Ｂ１〜Ｂ５  照射待機位置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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