(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
セメントキルンの窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を抽気し、抽気したガス中のダストを回収して水洗し、水洗後のろ液を気流中に噴霧して該気流中で乾燥させて得られることを特徴とする工業塩。
【請求項２】
前記ろ液からカルシウム分を除去し、該カルシウム分を除去したろ液を気流中に噴霧して該気流中で乾燥させて得られることを特徴とする請求項１に記載の工業塩。
【請求項３】
前記ろ液から硫酸根を除去し、該硫酸根を除去したろ液を気流中に噴霧して該気流中で乾燥させて得られることを特徴とする請求項１に記載の工業塩。
【請求項４】
水洗後のろ液から重金属を除去し、該重金属を除去したろ液を気流中に噴霧して該気流中で乾燥させることを特徴とする請求項１、２又は３に記載の工業塩。
【請求項５】
前記気流に、前記セメント製造設備のクリンカクーラーから排出される排気を用いることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の工業塩。
【請求項６】
前記乾燥に、スプレードライヤー、スプレー流動造粒乾燥装置又はゲートドライヤーを用いることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の工業塩。
【請求項７】
前記気流中に噴霧して該気流中で乾燥した後の粒径が２０μｍ以上５００μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の工業塩。
【請求項８】
セメントキルンの窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を抽気する抽気装置と、
該抽気装置で抽気したガス中のダストを回収する集塵装置と、
該集塵装置で回収したダストを水洗する水洗装置と、
該水洗装置における水洗により発生したろ液を気流中に噴霧して該気流中で乾燥させて工業塩を得る乾燥装置とを備えることを特徴とする工業塩の製造装置。
【請求項９】
セメントキルンの窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガ
スの一部を抽気し、
該抽気したガス中のダストを回収して水洗し、
該水洗後のろ液を気流中に噴霧して該気流中で乾燥させて工業塩を得ることを特徴とする工業塩の製造方法。
【請求項１０】
前記ダストの水洗水量又は／及び水洗装置への該ダストの供給量を調整し、前記ろ液の塩素濃度を目標値以上に調整することを特徴とする請求項９に記載の工業塩の製造方法。
【請求項１１】
前記ろ液の塩素濃度を測定し、測定結果に応じて前記ダストの水洗水量又は／及び前記水洗装置へのダストの供給量を調整することを特徴とする請求項１０に記載の工業塩の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セメント焼成設備を構成するセメントキルンの燃焼排ガスから得られる工業塩、並びに、工業塩の製造装置及び製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、セメント製造設備におけるプレヒーターの閉塞等の問題を引き起こす原因となる塩素、硫黄、アルカリ等の中で、塩素が特に問題となることに着目し、セメントキルンの窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より、燃焼ガスの一部を抽気して塩素を除去する塩素バイパスシステムが用いられている。【０００３】
この塩素バイパスシステムでは、抽気した燃焼ガスを冷却して生成したダストの微粉側に塩素が偏在しているため、ダストを分級機によって粗粉と微粉とに分離し、粗粉をセメントキルン系に戻すとともに、分離された塩化カリウム等を含む微粉（塩素バイパスダスト）を回収してセメント粉砕ミル系に添加していた（例えば、特許文献１参照）。【０００４】
ところが、近年、廃棄物のセメント原料化又は燃料化によるリサイクルが推進され、廃棄物の処理量が増加するに従い、セメントキルンに持ち込まれる塩素、硫黄、アルカリ等の揮発成分の量も増加し、塩素バイパスダストの発生量も増加している。そのため、塩素バイパスダストをすべてセメント粉砕工程で利用することができず、水洗処理されていたが、今後、塩素バイパスダストの発生量もさらに増加することが予測されるため、その有効利用方法の開発が求められていた。【０００５】
かかる見地から、特許文献２に記載のセメント原料化処理方法では、ごみ焼却飛灰や塩素バイパスダスト等の塩素を含む廃棄物に水を添加して廃棄物中の塩素を溶出させてろ過し、得られた脱塩ケーキをセメント原料として利用するとともに、排水を浄化処理し、そのまま放流したり、塩分を回収することで、環境汚染を引き起こすことなく、廃棄物の有効利用を図っている。【０００６】
また、特許文献３及び４には、セメントキルンから排出される燃焼排ガスから工業塩を回収するため、図２（ｂ）に示すように、セメントキルン燃焼ガスの一部を抽気した燃焼ガスに含まれるダスト（塩素バイパスダスト）を集塵し、塩素バイパスダストを水洗してケーキとろ液とに分離し、分離したろ液から重金属を除去した後、その処理水からカルシウム分を除去し、電気透析装置に通して濃縮塩水と脱塩水とに分離し、最後に、濃縮塩水から晶析によりアルカリ金属塩を含む工業塩を回収する方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】国際公開第９７／２１６３８号パンフレット
【特許文献２】日本特開平１１−１００２４３号公報
【特許文献３】日本特開２００５−３１４１７８号公報
【特許文献４】日本国特許第４１２１４１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、上記特許文献２に記載のセメント原料化処理方法では、塩素バイパスダストを脱塩処理するにあたって、排水のｐＨを塩酸等により調整し、還元作用のある鉄イオンを有する薬剤を添加してｐＨを調整し、セレン等の重金属類を除去した後、下水や海洋へ放流する必要がある。さらに、排水中のセレン濃度を安全とされる基準、例えば、下水放流の場合の０．１ｍｇ−Ｓｅ／ｌまで低減するには、還元剤として塩化第一鉄（ＦｅＣｌ2）が８０００ｍｇ−Ｆｅ2+／ｌ以上必要となるなど、セレン除去にあたって還元剤を大量に消費し、運転コストが高騰するという問題がある。【０００９】
また、上記特許文献３及び４に記載の技術では、工業塩を回収するために電気透析装置や晶析装置を設置する必要があり、設備コストが上昇するとともに、塩素バイパスダストから工業塩を回収するために必要な水分を蒸発させるための熱エネルギーや、処理薬剤費が嵩み、運転コストも高騰するという問題がある。【００１０】
特に、晶析装置を用いる場合には、蒸発させる水分量によっては、多量の塩化ナトリウムが析出し、晶析装置の結晶缶内で濃縮されることがある。工業塩としては、塩化カリウムの純度が高いのが好ましいが、結晶缶内で濃縮された塩化ナトリウムは、回収する塩（工業塩）に不規則に混入し、その分、塩化カリウムの濃度を低下させるため、塩化カリウム純度を変動させる要因となる。このため、工業塩の品質がばらつき易く、成分変動を抑えるのに熟練を要するという問題がある。また、晶析装置においては、結晶缶の内壁に結晶が付着し、結晶缶が閉塞し易い面もあるため、定期的に洗浄する必要があり、安定した連続運転が困難である。【００１１】
そこで、本発明は、上記従来の技術における問題点に鑑みてなされたものであって、電気透析や晶析等を必要とせず、薬剤の使用量を低減することにより、設備コストや運転コストを低減して安価に製造することができるとともに、成分変動を抑えて品質を安定させることが可能な工業塩、並びに、工業塩の製造装置及び製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するため、本発明は、工業塩であって、セメントキルンの窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を抽気し、抽気したガス中のダストを回収して水洗し、水洗後のろ液を気流中に噴霧して該気流中で乾燥させて得られることを特徴とする。
【００１３】
そして、本発明によれば、ろ液を気流中に噴霧して該気流中で乾燥させるため、乾燥過程で塩化ナトリウムが濃縮されることがなく、工業塩中の塩化カリウムの濃度が変動するのを抑えることができる。加えて、噴霧したろ液に含まれるすべてのイオンが結晶化されるため、噴霧した成分をそのまま工業塩の成分とすることができる。これらにより、工業塩の成分変動を抑えることができ、品質の安定した工業塩を量産することが可能になる。
【００１４】
さらに、乾燥装置内での付着トラブルを抑制することもでき、装置の閉塞や洗浄の手間を解消することが可能になる。また、カルシウム分を除去するための薬剤に加え、電析装置や晶析装置の設備も不要となり、さらには、電析に用いる電力費や晶析に用いる重油も不要となるため、設備コストや運転コストを大幅に削減することができ、安価な工業塩を提供することが可能になる。【００１５】
上記工業塩を、前記ろ液からカルシウム分を除去し、該カルシウム分を除去したろ液を気流中に噴霧して該気流中で乾燥させて得ることができ、また、前記ろ液から硫酸根を除去し、該硫酸根を除去したろ液を気流中に噴霧して該気流中で乾燥させて得ることができる。これらにより、運転コストが若干増加するものの、塩化カリウムの純度を上げることができ、従来と比べて価格を抑えた純度の高い工業塩を提供することができる。
【００１６】
上記工業塩を、水洗後のろ液から重金属を除去した後、該重金属を除去したろ液を気流中に噴霧して該気流中で乾燥させて得ることができ、これによれば、より品質の高い工業塩を提供することができる。
【００１７】
上記工業塩の乾燥に、クリンカクーラーから排出される排気を用いることができ、重金属を除去したろ液を乾燥させるための運転コストを抑制し、安価な工業塩を提供することが可能となる。【００１８】
上記乾燥に、スプレードライヤー、スプレー流動造粒乾燥装置又はゲートドライヤーを用いることができ、排水処理等を行うことなく容易に所望の粒径の工業塩を得ることが可能となる。【００１９】
上記工業塩の気流中に噴霧して該気流中で乾燥した後の粒径を２０μｍ以上５００μｍ以下とすることができ、用途に合わせた工業塩を提供することが可能となる。
【００２０】
また、本発明は、工業塩の製造装置であって、セメントキルンの窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を抽気する抽気装置と、該抽気装置で抽気したガス中のダストを回収する集塵装置と、該集塵装置で回収したダストを水洗する水洗装置と、該水洗装置における水洗により発生したろ液を気流中に噴霧して該気流中で乾燥させて工業塩を得る乾燥装置とを備えることを特徴とする。本発明によれば、上記発明と同様に、設備コストや運転コストを低減して安価に工業塩を製造することができるとともに、成分変動を抑えて品質の安定した工業塩を得ることが可能になる。
【００２１】
さらに、本発明は、工業塩の製造方法であって、セメントキルンの窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を抽気し、該抽気したガス中のダストを回収して水洗し、該水洗後のろ液を気流中に噴霧して該気流中で乾燥させて工業塩を得ることを特徴とする。本発明によれば、上記発明と同様に、設備コストや運転コストを低減して安価に工業塩を製造することができるとともに、成分変動を抑えて品質の安定した工業塩を得ることが可能になる。
【００２２】
上記工業塩の製造方法において、前記ダストの水洗水量又は／及び水洗装置への該ダストの供給量を調整し、前記ろ液の塩素濃度を目標値以上に調整することができ、また、前記ろ液の塩素濃度を測定し、測定結果に応じて前記ダストの水洗水量又は／及び前記水洗装置へのダストの供給量を調整することができる。これによれば、ろ液の塩素濃度を適宜に調整することができ、所望の塩化カリウム純度を有する工業塩を好適に得ることが可能になる。
【発明の効果】
【００２３】
以上のように、本発明によれば、電気透析や晶析が不要になるなど、設備コストや運転コストを低減して安価に製造することができるとともに、成分変動を抑えて品質の安定した工業塩を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明にかかる工業塩の製造装置の一実施の形態を示すフローチャートである。
【図２】本発明と従来の工業塩の製造装置を示す概略フローチャートであって、（ａ）は本発明を、（ｂ）は従来例を示す。
【図３】本発明にかかる工業塩の製造装置を用い、数日間に亘って工業塩を製造した場合のＫ2Ｏの濃度の推移を示すグラフである。
【図４】塩素バイパスダストの水洗ろ液の塩素濃度と工業塩中のＫ2Ｏの濃度との関係を示すグラフである。
【図５】塩素バイパスダストの塩素濃度と工業塩中のＫ2Ｏの濃度との関係を示すグラフである。
【図６】従来の工業塩の製造装置を用い、数日間に亘って工業塩を製造した場合のＫ2Ｏの濃度の推移を示すグラフである。
【図７】塩素バイパスダストの水洗ろ液に溶解するカルシウム分及びＳＯ4の合計量とろ液の塩素濃度との関係を示すグラフである。
【図８】カルシウム分の溶解度とＳＯ4の溶解度との関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
次に、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
【００２６】
図１は、本発明にかかる工業塩の製造装置の一実施の形態を示し、この工業塩製造装置１は、大別して、セメント製造装置１１と、水洗装置２１と、重金属除去装置３１と、乾燥装置４１とで構成される。
【００２７】
セメント製造装置１１は、クリンカクーラー１２ａが付設されたセメントキルン１２と、セメントキルン１２の窯尻１２ｂから燃焼ガスの一部を抽気する抽気装置（以下、「プローブ」と称する）１４と、抽気ガスＧ１に含まれる粗粉Ｃを分離する分級機１５と、分級機１５の排ガスＧ２を冷却する冷却器１６と、冷却器１６で冷却された排ガスＧ３を集塵するバグフィルタ１７と、冷却器１６及びバグフィルタ１７で集塵された塩素バイパスダストＤを貯留するタンク１８と、車両１９で運搬した塩素バイパスダストＤを貯留するタンク２０とで構成される。セメント製造装置１１を構成するこれらの装置等は、いずれも通常用いられるものである。
【００２８】
水洗装置２１は、タンク２０に貯留した塩素バイパスダストＤ中の塩素分を溶解する溶解槽２２と、溶解槽２２から排出されたスラリーＳをケーキＣＡとろ液Ｌ１とに固液分離するろ過機２３と、溶解槽２２及びろ過機２３に温水Ｈを供給する温水槽２４と、ろ液Ｌ１の塩素濃度を測定する電気伝導度計２５とで構成される。
【００２９】
温水槽２４は、後述する工業塩の乾燥で使用した排ガスＧ６にて加熱された、工業用として利用される工水Ｉ等を貯留するために設けられる。温水槽２４に貯留した温水Ｈは、水洗装置２１、重金属除去装置３１及び乾燥装置４１にて循環使用される。
【００３０】
重金属除去装置３１は、ろ過機２３から排出されたろ液Ｌ１中の重金属を除去する薬液反応槽３２（３２Ａ、３２Ｂ）と、薬液反応槽３２から排出されたスラリーを残さＲとろ液Ｌ２とに固液分離するフィルタープレス３３と、フィルタープレス３３から排出されたろ液Ｌ２を貯留するろ液槽３４とで構成される。
【００３１】
薬液反応槽３２Ａは、ろ液Ｌ１に水硫酸ソーダを添加して硫化鉛、硫化タリウムを生成し、塩酸でｐＨを調整した後、塩化第一鉄を添加してセレンを還元するために備えられる。塩酸を加えるのは、塩化第一鉄の還元効果を高めるためである。薬液反応槽３２Ｂは、薬液反応槽３２Ａから供給されたろ液Ｌ１に消石灰を添加してｐＨを調整するために備えられる。ｐＨを調整するのは、塩化第一鉄の添加により生成した水酸化第一鉄を凝縮、析出させるためである。
【００３２】
フィルタープレス３３は、薬液反応槽３２Ｂから排出されたろ液Ｌ１を固液分離し、硫化タリウム、硫化鉛及びセレン等の残さＲとろ液Ｌ２とに分離するために備えられる。
【００３３】
乾燥装置４１は、クリンカクーラー１２ａから排出された排ガスＧ４中のダストＤＡを集塵するバグフィルタ４２と、ろ液槽３４に貯留するろ液Ｌ２を乾燥させて工業塩Ｓを得るスプレードライヤー４３と、スプレードライヤー４３から排出される排ガスＧ５中の工業塩Ｓを集塵するバグフィルタ４４と、工水Ｉ等を暖めるための加熱装置４５で構成される。
【００３４】
スプレードライヤー４３は、以下図示を省略するが、微粒化装置、熱風導入装置、乾燥チャンバー、乾燥粉分離捕集装置、排気処理装置及び製品冷却装置を備える。微粒化装置は、ノズルにてろ液Ｌ２を噴霧し、熱風導入装置は、クリンカクーラー１２ａから排出された排ガスＧ４を乾燥チャンバーに導入する装置である。
【００３５】
工業塩Ｓの粒径を制御するには、スプレードライヤー４３における供給液量、供給液濃度、温風（排ガスＧ４）の熱風温度、熱風量、チャンバー温度、排風温度、ノズル圧、及び液滴平均粒径等を適宜調整する。
【００３６】
加熱装置４５は、工水Ｉ等をバグフィルタ４４から排出された排ガスＧ６で加熱し、温水槽２４に温水Ｈを供給するために備えられる。
【００３７】
次に、上記構成を有する工業塩製造装置１の動作について、図１を参照しながら説明する。
【００３８】
セメントキルン１２の運転時に、セメントキルン１２の窯尻１２ｂから燃焼ガスの一部をプローブ１４で抽気し、分級機１５によって抽気ガスＧ１から粗粉Ｃを分離してキルン系に戻す。分級機１５から排出された排ガスＧ２を冷却器１６で冷却し、バグフィルタ１７で排ガスＧ３中のダストを集塵する。そして、冷却器１６やバグフィルタ１７から回収された塩素バイパスダストＤをタンク１８に貯留し、車両１９でキルン系に戻したり、タンク２０に搬送する。
【００３９】
タンク２０に貯留した塩素バイパスダストＤを溶解槽２２に供給し、塩素バイパスダストＤに含まれる水溶性塩素分を温水Ｈに溶解させる。次に、ろ過機２３において、溶解槽２２から排出されたスラリーＳを脱水して得られたケーキに温水Ｈを通過し、スラリーＳを水洗しながら、ろ液Ｌ１とケーキＣＡとに固液分離する。塩素分が除去されたケーキＣＡは、セメント原料として利用される。
【００４０】
一方、塩素分を含むろ液Ｌ１は、薬液反応槽３２Ａに供給されるとともに、その過程で電気伝導度計２５により塩素濃度が測定される。そして、測定した塩素濃度を参照しながら、溶解槽２２への塩素バイパスダストＤの供給量、ろ過機２３での水洗水量を増減し、ろ液Ｌ１の塩素濃度が目標値（１．７％程度）以上となるように調整する。
【００４１】
具体的には、測定した塩素濃度が目標値より低い場合には、塩素バイパスダストＤの供給量を増加するとともに、ろ過機２３での水洗水量を減少させることで、溶解槽２２から排出されるスラリーＳの塩素濃度を上げる。尚、必ずしも、溶解槽２２への塩素バイパスダストＤの供給量、及びろ過機２３での水洗水量の双方を増減する必要はなく、いずれか一方を増減することで、ろ液Ｌ１の塩素濃度を調整するようにしてもよい。
【００４２】
それと併行して、薬液反応槽３２Ａ中のろ液Ｌ１に硫化剤として水硫化ソーダを添加し、ろ液Ｌ１中の鉛及びタリウムを硫化して硫化鉛及び硫化タリウムを生成する。また、塩酸を加えてｐＨを４以下に調整した後、塩化第一鉄を添加し、セレンを還元する。
【００４３】
次に、薬液反応槽３２Ａからろ液Ｌ１を薬液反応槽３２Ｂに供給し、ろ液Ｌ１に石灰乳を添加してｐＨを７．０〜１０．０に調整した後、塩化第一鉄の添加により生成した水酸化第一鉄を沈殿させる。
【００４４】
薬液反応槽３２Ｂから排出されたろ液Ｌ１を、フィルタープレス３３で残さＲとろ液Ｌ２とに固液分離する。硫化鉛、硫化タリウム及びセレン等の重金属を含有する残さＲは、セメント原料等として再利用される。一方、フィルタープレス３３から排出されたろ液Ｌ２は、ろ液槽３４に貯留される。
【００４５】
次に、スプレードライヤー４３に、クリンカクーラー１２ａから排出され、バグフィルタ４２で集塵した２３０℃程度の排ガスＧ４を導入し、スプレードライヤー４３の熱風温度と排風温度にてチャンバー温度を調整する。そして、各温度が安定した後、ろ液槽３４に貯留した所定の濃度のろ液Ｌ２をスプレードライヤー４３に供給し、所定のノズル圧にてろ液を噴霧し、排ガスＧ４にて乾燥させる。
【００４６】
乾燥後、工業塩を乾燥粉分離捕集装置で分離捕集し、製品冷却装置で冷却した後、粒径が２０μｍ以上５００μｍ以下の工業塩Ｓを得る。こうして得られた工業塩Ｓは、梱包後に出荷され、化学肥料として用いられる。
【００４７】
工業塩Ｓの乾燥に用いた排ガスＧ４は、排気処理装置を介してバグフィルタ４４に導入され、固気分離後、加熱装置４５で工水Ｉを昇温し、得られた温水Ｈは、温水槽２４に貯留される。一方、バグフィルタ４４で捕集された工業塩Ｓは、スプレードライヤー４３にて気流中に噴霧して該気流中で乾燥された工業塩Ｓとともに梱包、出荷される。
【００４８】
以上のように、本実施の形態によれば、図２に示すように、従来のような電析装置や晶析装置が不要なため、電析に用いる電力や晶析に用いる重油が不要となり、また、カルシウム分を除去するための薬剤が不要であるため、製造コストを大幅に削減することができる。
【００４９】
また、ろ液Ｌ２をスプレードライヤー４３を用いた気流乾燥により乾燥させるため、ろ液Ｌ２の乾燥過程で塩化ナトリウムが濃縮されることがなく、工業塩Ｓ中の塩化カリウムの濃度が変動するのを抑えることができる。加えて、スプレードライヤー４３による乾燥では、液滴の状態で水分を蒸発させるため、噴霧したろ液Ｌ２に含まれるすべてのイオンが結晶化し、噴霧した成分をそのまま工業塩の成分とすることができる。これらにより、工業塩Ｓの成分変動を抑えることができ、品質の安定した工業塩Ｓを量産することが可能になる。また、工業塩Ｓの製造に熟練した技能を要することがなくなるため、短時間での処理も可能になる。
【００５０】
さらに、気流乾燥においては、工業塩が液滴内で結晶化し、噴霧後の液滴がチャンバー内壁と接触することがないため、付着トラブルが避けられる。また、クリンカクーラー１２ａからの排ガスＧ４を利用して乾燥し、乾燥に利用した排ガスＧ４を用いて水洗処理用の温水Ｈを加熱するため、運転コストをより一層低減することができる。
【００５１】
尚、上記実施の形態においては、ろ液Ｌ２から重金属を除去した後、直ちに気流中に噴霧して該気流中で乾燥させるが、気流乾燥の前段において、重金属を除去した後のろ液Ｌ２に炭酸カリウムを添加してカルシウム分を析出させるとともに、そのろ液を固液分離し、ろ液からカルシウム分を除去するようにしてもよい。この場合、薬剤等のコストが増加するものの、塩化カリウムの純度を上げることができ、電析や晶析を用いて得られた従来の工業塩と比較して安価で同程度の純度を有する工業塩を得ることができる。
【００５２】
上記の際、炭酸カリウムを添加する前段において、例えば、石灰乳等のｐＨ調整剤（カルシウムを含むアルカリ性の薬剤）を添加してろ液Ｌ２のｐＨを８．５〜１０．０に調整し、ろ液Ｌ２へのカルシウム分の溶出量を増加して硫酸根（硫酸イオン（ＳＯ42-））の溶出を抑制することで、回収塩の純度を高めることができる。
【００５３】
また、カルシウム分の除去に代えて、電気透析装置により硫酸根を除去するようにしてもよい。この場合は、例えば、石灰乳等のｐＨ調整剤を添加してろ液Ｌ２のｐＨを７．０〜８．５に調整し、カルシウム分の溶出を抑制して硫酸根の濃度を高めることで、回収塩の純度を高めることができる。
【００５４】
さらに、上記実施の形態においては、気流乾燥の前にろ液Ｌ１から重金属を除去するが、重金属の含有量や工業塩の使用状況によっては、重金属の除去処理を省略することもできる。
【００５５】
また、上記実施の形態においては、セメントキルン１２の窯尻１２ｂから燃焼ガスの一部をプローブ１４にて抽気する場合について説明したが、窯尻１２ｂ以外にも、窯尻１２ｂから最下段サイクロン１３に至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を抽気することができる。
【００５６】
さらに、上記実施の形態においては、プローブ１４と冷却器１６との間に分級機１５を配置したが、分級機１５を設けずに、プローブ１４から抽気ガスを直接冷却器１６に導入してもよい。
【００５７】
また、上記実施の形態においては、スプレードライヤー４３で乾燥させる際に、クリンカクーラー１２ａからの排ガスＧ４を用いたが、例えば、セメントキルン１２に付設されたプレヒータの最上段サイクロンからの排気を冷却し、温度調整をした後用いてもよい。
【００５８】
さらに、上記実施の形態においては、乾燥装置としてノズルタイプのスプレードライヤー４３を用いたが、乾燥しながら造粒するスプレー流動造粒乾燥装置を用いてもよく、粒径の異なる工業塩を製造し、種々の用途に対応することもできる。また、一般的なスプレードライヤーでは、噴霧から乾燥まで５秒程度かかるが、噴霧後数μ秒にて液滴が乾燥するゲートドライヤーを用い、より粒径の小さい工業塩を得ることもできる。
【００５９】
次に、本発明にかかる工業塩等の試験例について説明する。
【実施例１】
【００６０】
図１に示す工業塩の製造装置（気流乾燥機を備えた製造装置）と、図２（ｂ）に示す従来の工業塩の製造装置（晶析装置を備えた製造装置）とを用い、数日間に亘って工業塩を製造し、工業塩中のＫ2Ｏの濃度を測定した。図３〜図５に、図１に示す製造装置を用いた場合の測定結果を示し、図６に、図２（ｂ）に示す製造装置を用いた場合の測定結果を示す。【００６１】
尚、図４は、ろ過機２３（図１参照）のろ液Ｌ１の塩素濃度と、工業塩中のＫ2Ｏの濃度との関係を示し、図５は、塩素バイパスダストＤの塩素濃度と、工業塩中のＫ2Ｏの濃度との関係を示したものである。また、図３〜図６において、Ｋ2Ｏの濃度は、１日間で製造した工業塩の平均値である。【００６２】
図３及び図６から明らかなように、図１に示す製造装置を用いた場合には、図２（ｂ）に示す製造装置を用いた場合に比して、Ｋ2Ｏの濃度変動を抑制することができ、品質の安定した工業塩を得ることができるのが分かった。また、図３及び図４に示されるように、図１に示す製造装置での工業塩の製造に際しては、５％以上の塩素濃度を有する塩素バイパスダストを用い、ろ液Ｌ１の塩素濃度が１．７％以上であれば、約５０％以上のＫ2Ｏを含有する工業塩を得られることが分かった。【００６３】
尚、上記の試験に際して工業塩の製造コストも対比したが、図１に示す製造装置を用いた場合には、図２（ｂ）に示す製造装置を用いた場合に比して、製造コストを３０％程度低く抑えることができた。
【実施例２】
【００６４】
図１に示す溶解槽２２において、塩素バイパスダストの供給量を増加させて塩素濃度を上げながら、ろ過機２３のろ液Ｌ１へのカルシウム分及びＳＯ4の溶解量を測定した。測定結果を図７に示す。尚、図７において、縦軸は、ろ液Ｌ１に溶解するカルシウム分及びＳＯ4の合計量である。【００６５】
溶解槽２２への塩素バイパスダストの供給量を増加させた場合には、塩素分のみならず、カルシウム分やＳＯ4の投入量も増加させることになるが、図７に示されるように、増量したカルシウム分等の多くがケーキＣＡ側に移行し、ろ液Ｌ１へのカルシウム分等の溶解量は大きく変動しないことが分かった。これにより、塩素バイパスダストの供給量を増加させても、不純物の大幅な増大を伴うことなく、ろ液Ｌ１の塩素濃度を調整できることが判明した。
【実施例３】
【００６６】
塩素バイパスダストのカルシウム分の含有量を変化させながら、ろ液Ｌ１へのカルシウム分とＳＯ4の溶解度を測定した。測定結果を図８に示す。【００６７】
図８に示されるように、カルシウム分とＳＯ4の溶解度は、反比例の関係にあり、例えば、カルシウム分を高濃度で溶解させた場合には、ＳＯ4は低濃度でしか溶解しないことが分かった。従って、高濃度のカルシウム分をろ液Ｌ１に溶解させた状態で、ろ液Ｌ１からカルシウム分を除去すれば、ろ液Ｌ１には低濃度のＳＯ4が残るのみとなり、工業塩のＫ2Ｏ濃度を効果的に高めることができる。
【符号の説明】
【００６８】
１  工業塩製造装置
１１  セメント製造装置
１２  セメントキルン
１２ａ  クリンカクーラー
１２ｂ  窯尻
１３  最下段サイクロン
１４  プローブ
１５  分級機
１６  冷却器
１７  バグフィルタ
１８  タンク
１９  車両
２０  タンク
２１  水洗装置
２２  溶解槽
２３  ろ過機
２４  温水槽
２５  電気伝導度計
３１  重金属除去装置
３２（３２Ａ、３２Ｂ）  薬液反応槽
３３  フィルタープレス
３４  ろ液槽
４１  乾燥装置
４２  バグフィルタ
４３  スプレードライヤー
４４  バグフィルタ
４５  加熱装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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