(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
転送されるパターン情報に基づいて個別に傾動する複数のマイクロミラーをマトリクス状に配列して有すると共に、該各マイクロミラーの裏面側に夫々対応して前記パターン情報に対応する前記各マイクロミラーの傾動情報を記憶する記憶素子を設けたマイクロミラーデバイスに光源から光を放射して、前記マイクロミラーデバイスにおける反射光により光の照射対象物上に所定のパターンを生成するパターン生成方法であって、
前記マイクロミラーデバイスに前記光源から光を間欠的に少なくとも２回以上、繰り返し放射して同一のパターンを継続して生成する際に、前記光の放射回数が予め設定された所定回数に達するまでは、前記光源から１ショットの光が放射された後、次の１ショットの光の放射が行われるまでの間の、隣接する前記マイクロミラーの隙間から侵入した前記光の漏れ光により、前記記憶素子が記憶する前記傾動情報が消失して、前記マイクロミラーを支持する軸の弾性復元力により前記マイクロミラーが回動を開始する前のタイミングで直前に転送されたパターン情報と同一のパターン情報を前記マイクロミラーデバイスに転送することを特徴とするパターン生成方法。
【請求項２】
光を間欠的に放射する光源と、マトリクス状に配列した複数のマイクロミラーの裏面側に夫々対応して設けられた記憶素子に前記各マイクロミラーの傾動情報を記憶し、該傾動情報に基づいて前記各マイクロミラーを個別に傾動し、前記光源から入射する光を反射して光の照射対象物上に所定のパターンを生成させるマイクロミラーデバイスと、前記傾動情報に対応したパターン情報を前記マイクロミラーデバイスに転送して前記記憶素子に前記傾動情報を記憶させる制御手段と、を備えたパターン生成装置であって、
前記制御手段は、前記マイクロミラーデバイスに前記光源から光を間欠的に少なくとも２回以上、繰り返し放射させて同一のパターンを継続して生成させる際に、前記光の放射回数が予め設定された所定回数に達するまでは、前記光源から１ショットの光が放射された後、次の１ショットの光の放射が行われるまでの間の、隣接する前記マイクロミラーの隙間から侵入した前記光の漏れ光により、前記記憶素子が記憶する前記傾動情報が消失して、前記マイクロミラーを支持する軸の弾性復元力により前記マイクロミラーが回動を開始する前のタイミングで直前に転送されたパターン情報と同一のパターン情報を転送して前記記憶素子に前記傾動情報を記憶させることを特徴とするパターン生成装置。
【請求項３】
前記光源は、前記パターン情報の転送が正しく行われたことを示す応答信号が前記マイクロミラーデバイスから前記制御手段に返送されるタイミングで１ショットの光を放射することを特徴とする請求項２記載のパターン生成装置。
【請求項４】
前記光源は、前記光の照射対象物を加工可能な高エネルギーのレーザ光を放射するレーザ光源であることを特徴とする請求項２又は３記載のパターン生成装置。
【請求項５】
前記光源は、前記光の照射対象物に塗布された感光性樹脂を感光させる紫外線を放射する紫外線発光光源であることを特徴とする請求項２又は３記載のパターン生成装置。
【請求項６】
レーザ光を間欠的に放射するレーザ光源と、マトリクス状に配列した複数のマイクロミラーの裏面側に夫々対応して設けられた記憶素子に前記各マイクロミラーの傾動情報を記憶し、該傾動情報に基づいて前記各マイクロミラーを個別に傾動し、前記レーザ光源から入射するレーザ光を反射して光の照射対象物上に所定のパターンを生成させるマイクロミラーデバイスと、前記傾動情報に対応したパターン情報を前記マイクロミラーデバイスに転送し前記記憶素子に前記傾動情報を記憶させる制御手段と、を備えて、前記マイクロミラーデバイスで前記光照射対象物側に反射されたレーザ光により前記光照射対象物をレーザ加工するレーザ加工装置であって、
前記制御手段は、前記マイクロミラーデバイスに前記レーザ光源からレーザ光を間欠的に少なくとも２回以上、繰り返し放射させて同一のパターンを継続して生成させる際に、前記レーザ光の放射回数が予め設定された所定回数に達するまでは、前記レーザ光源から１ショットのレーザ光が放射された後、次の１ショットのレーザ光の放射が行われるまでの間の、隣接する前記マイクロミラーの隙間から侵入した前記光の漏れ光により、前記記憶素子が記憶する前記傾動情報が消失して、前記マイクロミラーを支持する軸の弾性復元力により前記マイクロミラーが回動を開始する前のタイミングで直前に転送されたパターン情報と同一のパターン情報を転送して前記記憶素子に前記傾動情報を記憶させることを特徴とするレーザ加工装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーを個別に傾動して所定のパターンを生成する方法に関し、詳しくは、光を少なくとも２回以上、繰り返し放射して同一のパターンを継続して生成する際にも、パターンの生成を安定化させようとするパターン生成方法及びパターン生成装置並びにレーザ加工装置に係るものである。
【背景技術】
【０００２】
従来のこの種のパターン生成方法は、レーザ光を発生するレーザ発振器から、複数のマイクロミラーがマトリクス状に配列されたマイクロミラーデバイスに向けて照射し、被加工物の加工パターンに対応させて上記各マイクロミラーを個別に傾動し、該マイクロミラーで反射されるレーザ光の断面形状を上記加工パターンに対応した形状を有する変調光に変換するものとなっていた（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
この場合、一般に、図３に示すように、マイクロミラーデバイス１０の各マイクロミラー１２の裏面側には、各マイクロミラー１２の傾動情報を記憶する例えばＣＭＯＳトランジスター等の記憶素子１３が設けられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−３５０１２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、このような従来のパターン生成方法においては、マイクロミラー１２を傾動して所定のパターンを生成した際に、図３に示すように、レーザ光Ｌ１の一部が隣接するマイクロミラー１２の隙間から内部に侵入して記憶素子１３に照射し、フォト電流を発生させて記憶素子１３に記憶されたマイクロミラー１２の傾動情報を消失させてしまうことがあった。したがって、レーザ光を少なくとも２回以上、繰り返し照射して所定形状のパターンを所定深さで加工しようとする場合、上記フォト電流の発生により記憶素子１３に記憶されたマイクロミラー１２の傾動情報が消失して、マイクロミラー１２の傾動状態が維持できないという問題があった。それ故、所定のパターンを所定深さでレーザ加工することができなかった。
【０００６】
そこで、本発明は、このような問題点に対処し、光を少なくとも２回以上、繰り返し放射して同一のパターンを継続して生成する際にも、パターンの生成を安定化させようとするパターン生成方法及びパターン生成装置並びにレーザ加工装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、第１の発明によるパターン生成方法は、転送されるパターン情報に基づいて個別に傾動する複数のマイクロミラーをマトリクス状に配列して有すると共に、該各マイクロミラーの裏面側に夫々対応して前記パターン情報に対応する前記各マイクロミラーの傾動情報を記憶する記憶素子を設けたマイクロミラーデバイスに光源から光を放射して、前記マイクロミラーデバイスにおける反射光により光の照射対象物上に所定のパターンを生成するパターン生成方法であって、前記マイクロミラーデバイスに前記光源から光を間欠的に少なくとも２回以上、繰り返し放射して同一のパターンを継続して生成する際に、前記光の放射回数が予め設定された所定回数に達するまでは、前記光源から１ショットの光が放射された後、次の１ショットの光の放射が行われるまでの間の、隣接する前記マイクロミラーの隙間から侵入した前記光の漏れ光により、前記記憶素子が記憶する前記傾動情報が消失して、前記マイクロミラーを支持する軸の弾性復元力により前記マイクロミラーが回動を開始する前のタイミングで直前に転送されたパターン情報と同一のパターン情報を前記マイクロミラーデバイスに転送するものである。
【０００８】
このような構成により、複数のマイクロミラーをマトリクス状に配列して有するマイクロミラーデバイスに光源から光を間欠的に少なくとも２回以上、繰り返し放射して同一のパターンを継続して生成する際に、光の放射回数が予め設定された所定回数に達するまでは、光源から１ショットの光が放射された後、次の１ショットの光の放射が行われるまでの間の、隣接する前記マイクロミラーの隙間から侵入した前記光の漏れ光により、前記記憶素子が記憶する前記傾動情報が消失して、前記マイクロミラーを支持する軸の弾性復元力により前記マイクロミラーが回動を開始する前のタイミングで直前に転送されたパターン情報と同一のパターン情報をマイクロミラーデバイスに転送して各マイクロミラーの裏面側に夫々対応して設けた記憶素子に上記パターン情報に対応した各マイクロミラーの傾動情報を記憶させ、該傾動情報に基づいて複数のマイクロミラーを個別に傾動し、マイクロミラーデバイスにおける反射光により光の照射対象物上に所定のパターンを生成する。
【００１０】
また、第２の発明によるパターン生成装置は、光を間欠的に放射する光源と、マトリクス状に配列した複数のマイクロミラーの裏面側に夫々対応して設けられた記憶素子に前記各マイクロミラーの傾動情報を記憶し、該傾動情報に基づいて前記各マイクロミラーを個別に傾動し、前記光源から入射する光を反射して光の照射対象物上に所定のパターンを生成させるマイクロミラーデバイスと、前記傾動情報に対応したパターン情報を前記マイクロミラーデバイスに転送して前記記憶素子に前記傾動情報を記憶させる制御手段と、を備えたパターン生成装置であって、前記制御手段は、前記マイクロミラーデバイスに前記光源から光を間欠的に少なくとも２回以上、繰り返し放射させて同一のパターンを継続して生成させる際に、前記光の放射回数が予め設定された所定回数に達するまでは、前記光源から１ショットの光が放射された後、次の１ショットの光の放射が行われるまでの間の、隣接する前記マイクロミラーの隙間から侵入した前記光の漏れ光により、前記記憶素子が記憶する前記傾動情報が消失して、前記マイクロミラーを支持する軸の弾性復元力により前記マイクロミラーが回動を開始する前のタイミングで直前に転送されたパターン情報と同一のパターン情報を転送して前記記憶素子に前記傾動情報を記憶させるものである。
【００１１】
このような構成により、複数のマイクロミラーをマトリクス状に配列して有するマイクロミラーデバイスに光源から光を間欠的に少なくとも２回以上、繰り返し放射させて同一のパターンを継続して生成させる際に、制御手段で光の放射回数が予め設定された所定回数に達するまでは、光源から１ショットの光が放射された後、次の１ショットの光の放射が行われるまでの間の、隣接する前記マイクロミラーの隙間から侵入した前記光の漏れ光により、前記記憶素子が記憶する前記傾動情報が消失して、前記マイクロミラーを支持する軸の弾性復元力により前記マイクロミラーが回動を開始する前のタイミングで直前に転送されたパターン情報と同一のパターン情報をマイクロミラーデバイスに転送して各マイクロミラーの裏面側に夫々対応して設けた記憶素子に上記パターン情報に対応した各マイクロミラーの傾動情報を記憶させ、該傾動情報に基づいて複数のマイクロミラーを個別に傾動し、マイクロミラーデバイスにおける反射光により光の照射対象物上に所定のパターンを生成する。
【００１３】
さらに、前記光源は、前記パターン情報の転送が正しく行われたことを示す応答信号が前記マイクロミラーデバイスから前記制御手段に返送されるタイミングで１ショットの光を放射するものである。これにより、パターン情報の転送が正しく行われたことを示す応答信号がマイクロミラーデバイスから制御手段に返送されたタイミングで光源から１ショットの光を放射する。
【００１４】
さらにまた、前記光源は、前記光の照射対象物を加工可能な高エネルギーのレーザ光を放射するレーザ光源である。これにより、レーザ光源から高エネルギーのレーザ光を放射して光の照射対象物を加工する。
【００１５】
そして、前記光源は、前記光の照射対象物に塗布された感光性樹脂を感光させる紫外線を放射するものである。これにより、光源から紫外線を放射して光の照射対象物に塗布された感光性樹脂を感光させる。
【００１６】
また、第３の発明のレーザ加工装置は、レーザ光を間欠的に放射するレーザ光源と、マトリクス状に配列した複数のマイクロミラーの裏面側に夫々対応して設けられた記憶素子に前記各マイクロミラーの傾動情報を記憶し、該傾動情報に基づいて前記各マイクロミラーを個別に傾動し、前記レーザ光源から入射するレーザ光を反射して光の照射対象物上に所定のパターンを生成させるマイクロミラーデバイスと、前記傾動情報に対応したパターン情報を前記マイクロミラーデバイスに転送し前記記憶素子に前記傾動情報を記憶させる制御手段と、を備えて、前記マイクロミラーデバイスで前記光照射対象物側に反射されたレーザ光により前記光照射対象物をレーザ加工するレーザ加工装置であって、前記制御手段は、前記マイクロミラーデバイスに前記レーザ光源からレーザ光を間欠的に少なくとも２回以上、繰り返し放射させて同一のパターンを継続して生成させる際に、前記レーザ光の放射回数が予め設定された所定回数に達するまでは、前記レーザ光源から１ショットのレーザ光が放射された後、次の１ショットのレーザ光の放射が行われるまでの間の、隣接する前記マイクロミラーの隙間から侵入した前記光の漏れ光により、前記記憶素子が記憶する前記傾動情報が消失して、前記マイクロミラーを支持する軸の弾性復元力により前記マイクロミラーが回動を開始する前のタイミングで直前に転送されたパターン情報と同一のパターン情報を転送して前記記憶素子に前記傾動情報を記憶させるものである。
【００１７】
このような構成により、複数のマイクロミラーをマトリクス状に配列して有するマイクロミラーデバイスにレーザ光源からレーザ光を間欠的に少なくとも２回以上、繰り返し照射させて同一のパターンを継続して生成させる際に、制御手段でレーザ光の放射回数が予め設定された所定回数に達するまでは、レーザ光源から１ショットのレーザ光が放射された後、次の１ショットのレーザ光の放射が行われるまでの間の、隣接する前記マイクロミラーの隙間から侵入した前記光の漏れ光により、前記記憶素子が記憶する前記傾動情報が消失して、前記マイクロミラーを支持する軸の弾性復元力により前記マイクロミラーが回動を開始する前のタイミングで直前に転送されたパターン情報と同一のパターン情報をマイクロミラーデバイスに転送してマイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーの裏面側に夫々対応して設けられた記憶素子に上記パターン情報に対応した各マイクロミラーの傾動情報を記憶させ、該傾動情報に基づいて各マイクロミラーを個別に傾動し、マイクロミラーデバイスにおける反射光により光照射対象物上に所定のパターンを生成させ、このレーザ光により光照射対象物をレーザ加工する。
【発明の効果】
【００１９】
請求項１又は２に係る発明によれば、マイクロミラーデバイスに光を複数回繰り返し放射して同一のパターンを継続して生成する際にも、パターンの生成を安定化させることができる。
【００２１】
また、請求項３に係る発明によれば、マイクロミラーが傾動中に光源から光が放射されるのを防止することができる。したがって、マイクロミラーデバイスによるパターンの生成をより一層安定化させることができる。
【００２２】
さらに、請求項４に係る発明によれば、光の照射対象物をマイクロミラーデバイスで生成されたパターン形状にレーザ加工することができる。
【００２３】
さらにまた、請求項５に係る発明によれば、光の照射対象物に塗布された感光性樹脂をマイクロミラーデバイスで生成されたパターン形状に露光することができる。
【００２４】
そして、請求項６に係る発明によれば、マイクロミラーデバイスにレーザ光を複数回繰り返し放射させて同一のパターンを継続して生成する際にも、パターンの生成を安定化させてレーザ加工精度を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明によるレーザ加工装置の実施形態を示す正面図である。
【図２】本発明のパターン生成装置のマイクロミラーデバイスを示す平面図である。
【図３】上記マイクロミラーデバイスにおいて、隣接するマイクロミラーの隙間からレーザ光が侵入することを示す説明図である。
【図４】上記マイクロミラーデバイスのマイクロミラーの駆動状態を示す説明図であり、（ａ）はＯＮ駆動状態を示し、（ｂ）はＯＦＦ駆動状態を示している。
【図５】本発明のパターン生成方法について示すフローチャートである。
【図６】本発明のパターン生成装置におけるパターン生成動作を説明するタイミングチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明によるレーザ加工装置の実施形態を示す正面図である。このレーザ加工装置は、マイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーを個別に傾動して加工パターンに対応したパターンを生成してレーザ加工するもので、ステージ１と、パターン生成装置２と、対物レンズ３と、結像レンズ４と、撮像手段５と、照明光源６と、変位手段７と、からなる。
【００２８】
上記ステージ１は、上面に光の照射対象物としての被加工物８を載置して水平面内をＸ軸、Ｙ軸方向に移動させるものであり、図示省略のモータ及びギア等を組み合わせて構成された駆動手段によって移動するようになっている。なお、Ｙ軸方向は、図１において奥行き方向である。
【００２９】
上記ステージ１の上方には、パターン生成装置２が設けられている。このパターン生成装置２は、マイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーを個別に傾動して所定のパターンを生成するものであり、レーザ光源９と、マイクロミラーデバイス１０と、制御手段１１とを備えている。
【００３０】
ここで、上記レーザ光源９は、レーザ光Ｌ１を放射し、被加工物８に照射して該被加工物８を加工するもので、例えば532nm又は355nmの波長のレーザ光Ｌ１を放射するパルスレーザであり、レーザ光Ｌ１の放射時間の制御がＱスイッチにより行われるものである。
【００３１】
また、上記レーザ光源９から放射されるレーザ光Ｌ１の放射方向前方には、マイクロミラーデバイス１０が設けられている。このマイクロミラーデバイス１０は、図２に示すように、マトリクス状に配列した複数のマイクロミラー１２を備えており、図３に示すように、各マイクロミラー１２の裏面側に夫々対応して記憶素子１３を設けて該記憶素子１３に各マイクロミラー１２の傾動情報を記憶し、該傾動情報に基づいて前記各マイクロミラー１２を個別に傾動し、前記レーザ光源９から入射するレーザ光Ｌ１を反射してレーザ光Ｌ１の断面形状を加工パターンに対応した形状に整形するもので、この整形されたレーザ光Ｌ１によって被加工物８上に所定のパターンを生成するようになっている。
【００３２】
なお、図３において、符号１４はシリコン基板であり、符号１５はマイクロミラー１２を回動可能に支持する軸である。また、図４（ａ）に示すように、マイクロミラー１２がレーザ光源９から入射するレーザ光Ｌ１を被加工物８側に反射させる傾動状態を「ＯＮ駆動」といい、同図（ｂ）に実線で示すように、被加工物８側とは異なる方向に反射させる傾動状態を「ＯＦＦ駆動」という。
【００３３】
そして、上記レーザ光源９と、マイクロミラーデバイス１０に結線されて制御手段１１が設けられている。この制御手段１１は、マイクロミラーデバイス１０により所定のパターンを生成させるための傾動情報をマイクロミラーデバイス１０の記憶素子１３に転送するもので、例えばパーソナルコンピュータ（以下「制御用ＰＣ」という）である。又は、装置に組み込まれた制御回路であってもよい。
【００３４】
上記パターン生成装置２とステージ１とを結ぶ光軸上にて、ステージ１に載置された被加工物８に対向して対物レンズ３が設けられている。この対物レンズ３は、マイクロミラーデバイス１０により光束断面形状が整形されたレーザ光Ｌ１を被加工物８上に集光するものであり、ステージ１の面に平行に移動可能とされたレンズホルダー１６に着脱可能に保持された倍率の異なる複数種の対物レンズ３ａ〜３ｄからなっている。
【００３５】
上記パターン生成装置２と対物レンズ３との間の光路上には、結像レンズ４が設けられている。この結像レンズ４は、対物レンズ３と組み合わされて被加工物８上にマイクロミラーデバイス１０のマイクロミラー１２の像を結像させるものである。
【００３６】
上記結像レンズ４からパターン生成装置２に向かう光路がビームスプリッタ１６によって分岐された光路上には、撮像手段５が設けられている。この撮像手段５は、複数の受光素子をマトリクス状に備えて被加工物８上の二次元画像を撮像するもので、例えばＣＣＤカメラやＣＭＯＳカメラ等である。
【００３７】
上記対物レンズ３から結像レンズ４に向かう光路がビームスプリッタ１７によって分岐された光路上には、照明光源６が設けられている。この照明光源６は、被加工物８上に照明光Ｌ２を照射して撮像手段５による被加工物８表面の撮像を可能にさせるものであり、ハロゲンランプ等である。
【００３８】
上記パターン生成装置２、対物レンズ３、結像レンズ４、撮像手段５、及び照明光源６を含む光学系の本体部を上下動可能に変位手段７が設けられている。この変位手段７は、光学系本体部を上下動させて撮像手段５により撮像された画像が鮮明となるようにフォーカス調整するためのもので、例えばモータとギア等を組み合わせて構成されている。
【００３９】
なお、上記光学系において、パターン生成装置２のマイクロミラーデバイス１０を構成する複数のマイクロミラー１２面の位置及び撮像手段５の受光面の位置は、それぞれ対物レンズ３の結像位置に対して共役の関係となるようにされている。また、図１において、符号１８はレンズホルダー１６をＸ軸方向に移動させるためのモータ、符号１９はモータ１８に連結されて回転しレンズホルダー１６をＸ軸方向に移動させるボールネジ、符号２０はレンズホルダー１６をＹ軸方向に移動させるためのモータ、符号２１ａ〜２１ｄは全反射ミラー、及び符号２２は撮像手段５による撮像領域内を均一に照明するフィールドレンズである。
【００４０】
次に、このように構成されたレーザ加工装置の動作及びパターン生成装置２によるパターン生成方法について図５及び図６を参照して説明する。なお、以下の説明においては、レーザ光Ｌ１を少なくとも２回以上、繰り返して放射することにより、一つのパターンを加工する場合について述べる。
先ず、ステップＳ１においては、パターン生成装置２で所定のパターンを生成するための初期設定がなされる。即ち、制御用ＰＣから成る制御手段１１において、加工パターンに対応したパターンのビットマップデータがＣＡＤデータに基づいて生成されて図示省略のメモリに保存される。また、レーザ光Ｌ１の照射回数、レーザ光Ｌ１の照射時間ｔ１及びレーザ光源９のパワー等が設定されて上記メモリに保存される。
【００４１】
なお、上記ビットマップデータは、制御手段１１に保存されてもよく、マイクロミラーデバイス１０に備えた図示省略のメモリに保存されてもよい。また、レーザ照射回数の代わりに加工深さを設定してもよい。この場合、上記レーザ光Ｌ１の照射回数は、制御手段１１に予め保存された照射回数とレーザ光源９のパワーと加工深さとの関係を示すテーブルを参照して求めることができる。そして、上記レーザ光Ｌ１の照射時間ｔ１は、隣接するマイクロミラー１２の隙間から侵入したレーザ光Ｌ１の漏れ光Ｌ１′（図３参照）により、マイクロミラー１２の記憶素子１３に記憶された傾動情報が消失して、マイクロミラー１２を回動可能に支持する軸１５の弾性変形復元力により、傾いたマイクロミラー１２が水平状態に戻るべく回動を開始するまでの時間ｔ２（図６（ｂ）参照）以内（ｔ１≦ｔ２）に設定される。
【００４２】
パターン生成装置２の初期設定が終了すると、レーザ加工装置の照明光源６が点灯し、撮像手段５がＯＮ駆動すると共に、光学系本体部が図示省略の移動手段によって被加工物８に対してＸ軸、Ｙ軸方向に相対的に移動されて所定位置に位置付けられる。この移動は、例えば制御用ＰＣに予め保存された加工位置データに基づいて行われる。このとき、対物レンズ３は倍率の低い対物レンズ３ａ〜３ｃのいずれか一つが選択されている。
【００４３】
次に、レーザ加工装置の変位手段７が起動して、光学系本体部が上下動され、撮像手段５による被加工物８表面の撮像画像が鮮明となるようにオートフォーカス調整がなされる。そして、ステージ１がさらにＸ軸、Ｙ軸方向に移動されて加工目標が対物レンズ３の中心に位置付けられる。その後、レンズホルダー１６がモータ１８によってＸ軸方向に移動されて対物レンズ３が高倍率の対物レンズ３ｄに交換される。また、必要に応じてレンズホルダー１６がモータ２０によってＹ軸方向に移動され対物レンズ３ｄの光軸と光学系本体部の光軸合わせがなされる。そして、上述と同様にして、再度オートフォーカス調整が実施される。
【００４４】
ステップＳ２においては、制御手段１１からマイクロミラーデバイス１０に加工パターンのビットマップデータが転送される（図６（ａ）参照）。この場合、マイクロミラーデバイス１０のメモリに上記ビットマップデータが保存されているときには、制御手段１１からパターン転送指令をマイクロミラーデバイス１０に送り、上記メモリから上記ビットマップデータをマイクロミラーデバイス１０の記憶素子１３に転送してもよい。
【００４５】
マイクロミラーデバイス１０にビットマップデータが転送されると、上記記憶素子１３にマイクロミラー１２の傾動情報が記憶され、各マイクロミラー１２は、この傾動情報に基づいて傾動を開始する（図６（ｂ）参照）。
【００４６】
ステップＳ３においては、制御手段１１は、マイクロミラー１２が完全に傾動して上記ビットマップデータが正しく転送されたことを示す応答信号をマイクロミラーデバイス１０から受信する（図６（ｃ）参照）。
【００４７】
ステップＳ４においては、マイクロミラーデバイス１０からの応答信号の受信をトリガーとして制御手段１１からレーザ光源９にレーザ光Ｌ１の放射指令が送信され、ＱスイッチのＯＮタイムが制御されてレーザ光源９からレーザ光Ｌ１が時間ｔ１だけ放射される（図６（ｄ）参照）。これにより、マイクロミラーデバイス１０の複数のマイクロミラー１２でレーザ光Ｌ１が被加工物８側に反射されて被加工物８上に所定形状のパターンが生成される。その結果、上記レーザ光Ｌ１により１回目の加工が行われる。
【００４８】
ステップＳ５においては、レーザ光Ｌ１の放射回数がカウントされ、制御手段１１のメモリに予め設定して保存された放射回数と比較され、両者が一致したか否かが判定される。ここで、上記カウント数と保存された放射回数とが不一致の場合には、“ＮＯ”判定となってステップＳ２に戻り、レーザ光Ｌ１の放射が終了すると直ぐに、前回と同じパターンが制御手段１１からマイクロミラーデバイス１０に転送される（図６（ａ）参照）。そして、上記カウント数と保存された放射回数とが一致して“ＹＥＳ”判定となるまでステップＳ２〜ステップＳ５が繰り返し実行され、一つのパターンが少なくとも２回以上のレーザ照射により加工される。
【００４９】
なお、ステップＳ４において、レーザ光Ｌ１がマイクロミラーデバイス１０に照射されると、図３に示すように、そのレーザ光Ｌ１の一部は、隣接するマイクロミラー１２の隙間から内部に侵入し、マイクロミラー１２の裏面に設けられた記憶素子１３に照射し、フォト電流を発生させる。このフォト電流の発生により、記憶素子１３に記憶されたマイクロミラー１２の傾動情報は消失し、マイクロミラー１２は、それを支持する軸１５の弾性変形復元力により水平状態に戻るべく回動を開始しようとする（図６（ｂ）の破線を参照）。しかし、前述したように、ｔ１≦ｔ２となるようにレーザ光Ｌ１の放射時間ｔ１が予め設定されているため、マイクロミラー１２が水平状態に戻るべく回動を開始する前に、再度同じパターンの転送が行われて記憶素子１３に傾動情報が記憶されることになる。したがって、マイクロミラー１２の傾動状態は、そのまま維持されることになる（同図（ｂ）参照）。
【００５０】
このようにして、パターン生成装置２において、レーザ光Ｌ１を少なくとも２回以上、繰り返し放射して同一のパターンを継続して生成する際にも、パターンの生成を安定して行うことが可能となる。
【００５１】
以上の説明においては、パターン生成装置２をレーザ加工装置に適用した場合について述べたが、本発明はこれに限定されず、パターン生成装置２を露光装置に適用してもよい。この場合、パターン生成装置２の光源は、紫外線を間欠的に放射するレーザ光源９又はフラッシュランプである。又は、光源は常時点灯させて、スイッチング素子により切り換えて光の放射を間欠的に行ってもよい。
【符号の説明】
【００５２】
２…パターン生成装置
８…被加工物（光の照射対象物）
９…レーザ光源
１０…マイクロミラーデバイス
１１…制御手段
１２…マイクロミラー
１３…記憶素子
１５…軸
Ｌ１…レーザ光
Ｌ１′…漏れ光
【図１】
0005504503.tif 000002
【図２】
0005504503.tif 000003
【図３】
0005504503.tif 000004
【図４】
0005504503.tif 000005
【図５】
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【図６】
0005504503.tif 000007