(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶ディスプレイ又はエレクトロルミネッセンスディスプレイに用いられるガラス基板であって、
オーバーフローダウンドロー法で成形されてなり、
ガラス基板の短辺の長さが１０００ｍｍ以上であり、
且つガラス基板面と直交する光により測定したレタデーションをΔ（ｎｍ）、ガラス基板の辺方向に対する該レタデーションの方位角をθ（°）とした際、｛ｓｉｎ（２θ）｝２×｛ｓｉｎ（１８０°・Δ／５５０）｝２で求められる最大値が２．２×１０−５以下であることを特徴とするディスプレイ用ガラス基板。
【請求項２】
｛ｓｉｎ（２θ）｝２×｛ｓｉｎ（１８０°・Δ／５５０）｝２で求められる最大値が２．０×１０−５以下であることを特徴とする請求項１記載のディスプレイ用ガラス基板。
【請求項３】
質量百分率で、ＳｉＯ２  ４０〜７０％、Ａｌ２Ｏ３  ２〜２５％、Ｂ２Ｏ３  ０〜２０％、ＭｇＯ  ０〜１０％、ＣａＯ  ０〜１５％、ＳｒＯ  ０〜１０％、ＢａＯ  ０〜１５％、ＺｎＯ  ０〜１０％、Ｒ２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋを表わす）  ０〜２５％、ＺｒＯ２  ０〜１０％を含有するガラスからなることを特徴とする請求項１または２に記載のディスプレイ用ガラス基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ用ガラス基板、特に、液晶ディスプレイに用いられるガラス基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイは、図１に示すように、液晶セル１を２枚のガラス基板、即ち、背面ガラス基板２（アレイ用ガラス基板）と前面ガラス基板３（カラーフィルター用ガラス基板）により挟み込まれた構造となっている。
【０００３】
アレイ用ガラス基板２は、液晶セル１と接する側の基板表面に薄膜トランジスタ４（ＴＦＴ）、透明な画素電極５及び配向膜６が形成されており、その反対側の表面には、偏光板７が貼られている。
【０００４】
また、カラーフィルター用ガラス基板３は、液晶セル１と接する側の基板表面に透明な対向電極８、赤、青、緑のカラーフィルター９及び配向膜１０が形成されており、その反対側の表面には、偏光板１１が貼られている。尚、アレイ用ガラス基板２に貼られた偏光板７の偏光方向とカラーフィルター用ガラス基板３に貼られた偏光板１１の偏光方向は互いに直交している。
【０００５】
アレイ用ガラス基板２の背後にはバックライト１２が設置されている。バックライト１２は、ノートブックパソコン等に使用される液晶ディスプレイにおいては、例えば、数本の細い径の冷陰極管の光を拡散板（図示せず）に通して液晶セルに導く構造を有する。
【０００６】
液晶ディスプレイの表示原理の概略は次のようなものである。薄膜トランジスタ４により制御された電圧を画素電極５と対向電極８の間に印加することにより、液晶セル１内の液晶分子１３がまっすぐに並ぶことになり、アレイ用ガラス基板２に貼られた偏光板７で偏光されたバックライト１２からの光の振動方向は、液晶セル１内で回転（旋光）しないため、カラーフィルター用ガラス基板３に貼られた偏光板１１で光は遮断され、黒を表示する。逆に、電極間に電圧を印加しない場合は、液晶セル１内の液晶分子１３はねじれた状態で維持されるため、アレイ用ガラス基板２に貼り付けた偏光板７で偏光されたバックライト１２からの光の振動方向は、液晶セル１内で回転（旋光）し、カラーフィルター用ガラス基板３に貼り付けた偏光板１１を透過し、赤、青または緑を表示する。このように、液晶セル内の液晶分子の配列を制御することで、バックライトからの光の振動方向を制御し、カラーフィルター用ガラス基板に貼られた偏光板で光を透過させたり、遮断させたりして画像を表示させている。
【０００７】
ところで、ガラス基板としては、ガラス溶融炉で溶融したガラス融液を、フロート法、スロットダウンドロー法、オーバーフローダウンドロー法、リドロー法等によって一定の厚さに成形し、所定寸法のサイズに切断したものが用いられている。通常、上記方法で製造されたガラス基板には歪が残存しており、ガラス基板にレタデーションが生じ、透過した光の偏光状態が変化する。そのため、歪が残存するガラス基板を液晶ディスプレイ用途に用いると、本来、光が遮断される箇所で光漏れが起こり、画面全体或いは一部に輝度ムラが発生するという問題が生じる。この問題を解決するために、所定寸法に切断したガラス基板にアニール処理を施して、ガラス基板に残存する歪の量を小さくすることが考えられるが、処理時間とコストがかかるという問題がある。
【０００８】
そこで、光漏れを抑えて輝度ムラの発生を防止するために、特許文献１では、ガラス基板の厚みと光弾性定数の積を所定値以下に制限したガラス基板を用いることが提案されている。また、特許文献２では、ガラスの熱膨張係数、ヤング率及び光弾性定数の積を所定値以下に制限したガラス基板を用いることが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００１−２５５５１７号公報
【特許文献２】特開２００１−１７２０４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
近年、ディスプレイの大型化が進んでおり、それに伴ってガラス基板のサイズも大きくなってきている。
【００１１】
しかしながら、ガラス基板が大きくなる程、残留する歪の量も大きくなる傾向にあり、特許文献１及び２で開示されているガラス基板を用いても、光漏れが生じることがあり、画面全体に輝度ムラが発生することがあった。
【００１２】
本発明の目的は、大画面でも液晶ディスプレイの光漏れを抑えて、輝度ムラの発生を抑制することが可能な液晶ディスプレイ用ガラス基板を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者等は種々検討した結果、レタデーションの大きさ及び／またはレタデーションの方位角を制御することで、液晶ディスプレイにした際に、光漏れを抑えて、輝度ムラの発生を抑制できることを見いだし、本発明を提案するに至った。
【００１４】
即ち、本発明のディスプレイ用ガラス基板は、液晶ディスプレイ又はエレクトロルミネッセンスディスプレイに用いられるガラス基板であって、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなり、ガラス基板の短辺の長さが１０００ｍｍ以上であり、且つガラス基板面と直交する光により測定したレタデーションをΔ（ｎｍ）、ガラス基板の辺方向に対する該レタデーションの方位角をθ（°）とした際、｛ｓｉｎ（２θ）｝２×｛ｓｉｎ（１８０°・Δ／５５０）｝２で求められる最大値が２．２×１０−５以下であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のガラス基板は、ガラス基板のレタデーションをΔ、ガラス基板の辺方向に対する該レタデーションの方位角をθとした際に、｛ｓｉｎ（２θ）｝２×｛ｓｉｎ（１８０°・Δ／５５０）｝２で求められる値を小さくしているため、液晶ディスプレイにした際に、光漏れを抑えることができ、輝度ムラの発生を抑制することができる。それ故、液晶ディスプレイに用いられるディスプレイ用ガラス基板として好適である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
ディスプレイの輝度ムラの発生は、ガラス基板のレタデーションの大きさだけでなく、該レタデーションのガラス基板の辺方向に対する方位角にも影響を受ける。
【００１７】
そこで、本発明のディスプレイ用ガラス基板は、ガラス基板のレタデーションをΔ、ガラス基板の辺方向に対する該レタデーションの方位角をθとした際に、｛ｓｉｎ（２θ）｝２×｛ｓｉｎ（１８０°・Δ／５５０）｝２で求められる値を２．２×１０−５以下と小さくなるようにしているため、液晶ディスプレイにした際に、光漏れを抑えて、輝度ムラの発生を抑制することができる。尚、｛ｓｉｎ（２θ）｝２×｛ｓｉｎ（１８０°・Δ／５５０）｝２で求められる値が２．２×１０−５より大きくなると、液晶ディスプレイにした際、光漏れが生じやすくなり、画面全体に輝度ムラが発生しやすくなる。この値の好ましい範囲は２．０×１０−５以下であり、より好ましくは１．８×１０−５以下である。
【００１８】
尚、｛ｓｉｎ（２θ）｝２×｛ｓｉｎ（１８０°・Δ／５５０）｝２で求められる値を小さくするには、ガラス基板のレタデーションΔや｛ｓｉｎ（２θ）｝２の値を小さくすればよく、このようなガラス基板を得るには、例えば、ガラス溶融炉で溶融したガラス融液を成形炉（成形体）で板状のガラス（ガラスリボン）に成形する際に、ガラスリボンの端部の厚みがガラスリボンの中央部の厚みとほぼ同じ厚みとなるように成形したり、成形したガラスリボンを徐冷炉で徐冷（冷却）する際に、ガラスリボンの幅方向における温度分布をできるだけ小さくするように冷却すればよい。
【００１９】
また、成形工程において、ガラスリボンの端部の厚みをガラスリボンの中央部の厚みとほぼ同じ厚みになるように成形する理由は、ガラスリボンの端部の厚みがガラスリボンの中央部の厚みと異なると、成形後の冷却工程において、ガラスリボンの端部と中央部とで冷却速度が異なり、その結果、ガラス基板面内のレタデーションの大きさやその方位角にばらつきが生じやすくなるためである。ガラスリボンの端部の厚みとガラスリボンの中央部の厚みが同じになるように成形するには、ガラス融液をガラスリボンに延伸成形するための成形ロール等の回転速度等を調整することで行うことができる。
【００２０】
また、徐冷炉での冷却工程において、ガラスリボンの幅方向における温度分布をできるだけ小さくするには、次のようにすることで行える。
（１）ガラスリボンが均一に加熱されるように、ヒーターの数を多くする。
（２）ヒーターからの熱がガラスリボンに均一に伝わるように、ヒーターとガラスリボンの間に均熱板を設置する。
（３）ガラスリボンの中央部と端部の冷却速度の差が小さくなるように、ガラスリボンの端部に囲いを設置したり、その部分にヒーターを多く配置する。
（４）ガラスの板引き速度を低く（遅く）する。
【００２１】
尚、ガラス融液を成形炉でガラスリボンに成形した後、垂直方向（下方向）に板引きしながら、徐冷炉で冷却（徐冷）した後、切断することでガラス基板を得るオーバーフローダウンドロー法は、ガラス融液を水平方向に板引きし、徐冷、切断してガラス基板を得るフロート法と異なり、低温雰囲気である切断工程から高温雰囲気である徐冷炉及び成形炉の方向に、常にガラスリボンの表面に沿って低温の空気流が上昇し、上昇した低温の空気流は徐冷炉等の内部で加熱された後、その一部が周壁部の隙間を通して外部雰囲気に洩れ出すため、徐冷炉や成形炉の雰囲気温度が変動しやすくなっている。その結果、オーバーフローダウンドロー法で成形されたガラス基板は、ガラス基板面内のレタデーションの大きさやその方位角にばらつきが生じやすくなっている。
【００２２】
そのため、オーバーフローダウンドロー法でガラス基板を成形する場合は、ガラスリボンの端部と中央部の厚みをほぼ同じ厚みにすること、温度分布を小さくすることに加えて、徐冷炉や成形炉における低温の空気流の上昇を抑える必要がある。
【００２３】
尚、徐冷炉や成形炉における低温の空気流の上昇を抑えるには、徐冷炉内に対流防止板を設けたり、送風機等を用いて成形炉や徐冷炉の外部雰囲気の気圧が高くなるように調整する等して、成形炉や徐冷炉内の空気を外部雰囲気に洩れ出しにくくすればよい。
【００２４】
また、上記の方法以外にも、ガラス中のＳｉＯ２やＡｌ２Ｏ３やＢ２Ｏ３の含有量を多くしてガラスの熱膨張係数を小さくしたり、アルカリ土類金属酸化物の含有量を多くしてガラスの光弾性定数を小さくしてもよい。
【００２５】
また、本発明のディスプレイ用ガラス基板は、歪が残存しやすく、輝度ムラが顕著に現れやすい大型のガラス基板、具体的には、短辺の長さが１０００ｍｍ以上であるガラス基板として特に好適である。
【００２６】
また、本発明のディスプレイ用ガラス基板の具体的な組成は、耐薬品性、熱収縮性、溶融性、成形性、熱膨張係数等を考慮して、用途に応じて適宜決定すればよい。好適な組成範囲は、質量百分率で、ＳｉＯ２  ４０〜７０％、Ａｌ２Ｏ３  ２〜２５％、Ｂ２Ｏ３  ０〜２０％、ＭｇＯ  ０〜１０％、ＣａＯ  ０〜１５％、ＳｒＯ  ０〜１０％、ＢａＯ  ０〜１５％、ＺｎＯ  ０〜１０％、Ｒ２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋを表わす）  ０〜２５％、ＺｒＯ２  ０〜１０％である。
【００２７】
本発明においてガラスの組成を上記のように限定した理由は、次のとおりである。
【００２８】
ＳｉＯ２は、ガラスのネットワークフォーマーとなる成分であり、ガラスの熱膨張係数を低下させて、ガラス基板のレタデーションΔの値を小さくしたり、ガラスの耐酸性を向上させたり、ガラスの歪点を上昇させてガラス基板の熱収縮を小さくする効果がある。その含有量は４０〜７０％である。ＳｉＯ２の含有量が多くなると、ガラスの高温粘度が高くなり、溶融性が悪化すると共にクリストバライトの失透ブツが析出しやすくなる傾向にある。一方、含有量が少なくなると、ガラスの熱膨張係数が大きくなりやすく、ガラス基板のレタデーションΔの値が大きくなる傾向にある。また、ガラスの耐酸性や歪点が低下する傾向にある。ＳｉＯ２のより好ましい範囲は５０〜６７％であり、さらに好ましい範囲は、５７〜６４％である。
【００２９】
Ａｌ２Ｏ３は、ガラスの熱膨張係数を低下させて、ガラス基板のレタデーションΔの値を小さくする成分である。また、ガラスの歪点を上昇させたり、クリストバライトの失透ブツの析出を抑える効果もある。その含有量は２〜２５％である。Ａｌ２Ｏ３の含有量が多くなると、ガラスの耐バッファードフッ酸性が悪化したり、液相温度が上昇して成形しにくくなる傾向にある。一方、含有量が少なくなると、ガラスの熱膨張係数が大きくなりやすく、ガラス基板のレタデーションΔの値が大きくなる傾向にある。また、ガラスの歪点が低下する傾向にある。Ａｌ２Ｏ３のより好ましい範囲は１０〜２０％であり、さらに好ましい範囲は１４〜１７％である。
【００３０】
Ｂ２Ｏ３は、融剤として作用し、ガラスの粘性を下げ、溶融性を改善する成分である。また、ガラスの熱膨張係数を低下させて、ガラス基板のレタデーションΔの値を小さくする成分でもある。その含有量は０〜２０％である。Ｂ２Ｏ３の含有量が多くなると、ガラスの歪点が低下したり、耐酸性が悪化する傾向にある。一方、含有量が少なくなると、ガラスの熱膨張係数が大きくなりやすく、ガラス基板のレタデーションΔの値が大きくなる傾向にある。また、融剤として十分に作用せず溶融性が低下する傾向にある。Ｂ２Ｏ３のより好ましい範囲は５〜１５％であり、さらに好ましい範囲は７．５〜１２％である。
【００３１】
ＭｇＯは、ガラスの歪点を低下させずに高温粘性のみを低下させて、ガラスの溶融性を改善する成分である。また、ガラスの光弾性定数を低くする成分でもある。その含有量は０〜１０％である。ＭｇＯの含有量が多くなると、失透ブツが析出しやすくなる。また、耐バッファードフッ酸性が低下し、ガラス基板表面が侵食されて、反応生成物がガラス基板表面に付着し、ガラス基板が白濁し易くなる。ＭｇＯのより好ましい範囲は０〜５％であり、さらに好ましい範囲は０〜３．５％である。
【００３２】
ＣａＯは、ガラスの歪点を低下させずに高温粘性のみを低下させて、ガラスの溶融性を著しく改善する成分である。また、ガラスの光弾性定数を低くする成分でもある。その含有量は０〜１５％である。ＣａＯの含有量が多くなると、耐バッファードフッ酸性が悪化する傾向にある。ＣａＯのより好ましい範囲は０〜１２％であり、さらに好ましい範囲は３．５〜９％である。
【００３３】
ＳｒＯは、ガラスの耐薬品性と耐失透性を向上させる成分である。また、ガラスの光弾性定数を低くする成分でもある。その含有量は０〜１０％である。ＳｒＯの含有量が多くなると、ガラスの熱膨張係数が大きくなりやすく、ガラス基板のレタデーションΔの値が大きくなる傾向にある。ＳｒＯのより好ましい範囲は０〜８％であり、さらに好ましい範囲は０．５超〜８％である。
【００３４】
ＢａＯは、ＳｒＯと同様にガラスの耐薬品性と耐失透性を向上させる成分である。また、ガラスの光弾性定数を低くする成分でもある。その含有量は０〜１５％である。ＢａＯの含有量が多くなると、ガラスの密度や熱膨張係数が大きくなったり、溶融性が著しく悪化する傾向にある。ＢａＯのより好ましい範囲は０〜１０％であり、さらに好ましい範囲は０〜８％である。
【００３５】
ＺｎＯは、ガラスの耐バッファードフッ酸性や溶融性を改善する成分である。その含有量は０〜１０％である。ＺｎＯの含有量が多くなると、ガラスの耐失透性や歪点が低下する傾向にある。ＺｎＯのより好ましい範囲は０〜５％であり、さらに好ましい範囲は０〜１％である。
【００３６】
Ｒ２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋを表わす）は、ガラスの粘度を低下させて溶融性を改善する成分である。その含有量は０〜２５％である。Ｒ２Ｏの含有量が多くなると、ガラスの歪点が低下する傾向にある。Ｒ２Ｏのより好ましい範囲は０〜２０％である。
【００３７】
尚、本発明のディスプレイ用ガラス基板を液晶ディスプレイ用途に使用する場合、使用するガラスは無アルカリガラスにすべきである。その理由は、ガラス中にアルカリ金属酸化物を含有すると、ガラス中のアルカリ成分が、ガラス基板上に形成された各種の膜やＴＦＴ素子の特性を劣化させる虞があるからである。尚、無アルカリとは、Ｒ２Ｏが０．１％以下を意味する。
【００３８】
ＺｒＯ２は、ガラスの歪点を高める成分であり、その含有量は０〜１０％である。ＺｒＯ２の含有量が多くなるとガラスの密度が著しく上昇したり、ＺｒＯ２に起因する失透物が析出する傾向がある。ＺｒＯ２のより好ましい範囲は０〜７％であり、さらに好ましい範囲は０〜５％である。
【００３９】
また、本発明において、上記成分以外にも、例えば、液相温度を低下させて成形性を向上させるためにＹ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ３、Ｐ２Ｏ５を各３％まで、清澄剤としてＡｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＳＯ３、Ｆ、Ｃｌ等を合量で２％まで添加することが可能である。但し、Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３は、環境負荷物質であること、また、フロート法で成形する場合、Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３はフロートバス中で還元されて金属異物となるため、導入は避けるべきである。
【００４０】
次に、本発明のディスプレイ用ガラス基板を製造する方法を説明する。
【００４１】
まず、上記のガラス組成範囲となるようにガラス原料を調合する。続いて、調合したガラス原料を連続溶融炉に投入して加熱溶融し、脱泡した後、ガラス融液を成形装置に供給し端部の厚みと中央部の厚みがほぼ同じ厚みとなるようにガラスリボンに成形したり、徐冷炉での冷却工程で、ガラスリボンの幅方向における温度分布をできるだけ小さくすることで、レタデーションΔや｛ｓｉｎ（２θ）｝２の小さいガラス基板を得ることができる。
【００４２】
尚、ガラス基板の成形方法としては、フロート法、スロットダウンドロー法、オーバーフローダウンドロー法、リドロー法等の様々な成形方法があるが、ダウンドロー法、特に、オーバーフローダウンドロー法で板状に成形することが好ましい。その理由は、オーバーフローダウンドロー法の場合、比較的容易に大型のガラス基板を得やすく、しかも、他の成形方法と異なり、ガラス基板の表面は、成形体と接することがないため、汚染部のないガラス表面を有するガラス基板を得ることができる。そのため、ガラス基板表面の研磨が不要となり、製造コストを抑えることができるためである。また、研磨による微小傷の発生をなくすこともできる。但し、オーバーフローダウンドロー法でガラス基板を成形する場合は、ガラスリボンの端部と中央部の厚みをほぼ同じ厚みにすること、温度分布を小さくすることに加えて、徐冷炉や成形炉における低温の空気流の上昇を抑える必要がある。
【実施例】
【００４３】
以下、本発明のディスプレイ用ガラス基板を実施例に基づいて詳細に説明する。
【００４４】
表１は本発明の実施例（試料Ｎｏ．１、２）及び比較例（試料Ｎｏ．３）をそれぞれ示している。
【００４５】
【表１】
0005594351.tif 000002
【００４６】
表中の各試料は、次のようにして作製した。
【００４７】
まず、質量％で、ＳｉＯ２  ５９％、Ａｌ２Ｏ３  １５％、Ｂ２Ｏ３  １０％、ＣａＯ  ６％、ＳｒＯ  ７％、ＢａＯ  ２％、ＺｎＯ  １％の組成となるようにガラス原料を調合し、連続溶融炉で溶融する。
【００４８】
続いて、図２に示すようなオーバーフローダウンドロー設備を用いて、溶融ガラスＡを成形炉２０内に設けられた成形体２１の頂部に供給し、その溶融ガラスＡを成形体２１の頂部から溢れ出させると共にその下端部で融合させ、融合させた溶融ガラスＡの両端部を成形体２１の下端部付近に設けた一対の成形ロール２２で挟持し板引きすることでガラスリボンＢを成形した。
【００４９】
次に、成形したガラスリボンＢが表面張力等で幅方向に収縮しないように、徐冷炉２３内に垂直方向に設置した複数対の引っ張りロール２４でガラスリボンＢを幅方向に引っ張り、ガラスリボンＢの中央部の温度が７００℃の時のガラスリボンＢの中央部と端部における温度差、ガラスリボンＢの中央部の温度が６８０℃の時のガラスリボンの幅方向における最高温度と最低温度の差及び板引き速度が表１に示す値となるように、冷却しながら下方に牽引することで、中央部と端部の肉厚が約０．７ｍｍのガラスリボンＢとした。
【００５０】
次に、徐冷炉２３下方に設けられた冷却室２５に配置されている複数対の支持ロール２６で固化したガラスリボンＢを下方に牽引しながら室温まで冷却し、切断室２７でガラスリボンＢを切断することでガラス基板Ｃを得て、これを試料ガラスとした。
【００５１】
尚、成形炉２０や徐冷炉２３における低温の空気流の上昇を抑えるために、成形室２８に配置された送風機２９を稼働させ、周壁部３０に取り付けられたフィルター３１を通してこの設備の外部から成形室２８内に空気を導入することで成形炉２０や徐冷炉２３の外部雰囲気を加圧してガラス基板を作製した。また、徐冷装置とは、ヒーターや冷却器を備えた、ガラスの徐冷点〜歪点の範囲を含む範囲の温度を制御することができる装置を指し、表１中の板引き速度におけるＬ（ｃｍ）はこの徐冷装置の長さを示す。また、試料Ｎｏ．１及びＮｏ．３については１０００ｍｍ×１２００ｍｍのサイズに、試料Ｎｏ．２については１０５０ｍｍ×１２５０ｍｍのサイズに切断することで試料ガラスとした。また、得られたガラスの熱膨張係数、光弾性定数、徐冷点及び歪点を測定したところ、各試料とも熱膨張係数は３７×１０−７／℃であり、光弾性定数は３３（ｎｍ／ｃｍ）／ＭＰａであり、また、徐冷点は７０５℃であり、歪点は６５０℃であった。
【００５２】
このようして得られた各試料について、ガラス基板内におけるレタデーションΔ、ガラス基板の辺方向に対する該レタデーションの方位角θを測定し、｛ｓｉｎ（２θ）｝２×｛ｓｉｎ（１８０°・Δ／５５０）｝２で求められる最大値を求めた。また、作製したガラス基板を用いてディスプレイ装置を作製し、輝度ムラの発生状態を評価した。これらの結果を表１に示す。
【００５３】
表１から明らかなように、実施例である試料Ｎｏ．１は、｛ｓｉｎ（２θ）｝２×｛ｓｉｎ（１８０°・Δ／５５０）｝２で求められる最大値が１．８×１０−５（レタデーションΔ：０．８０ｎｍ、方位角θ：５５．６°）であり、また、試料Ｎｏ．２は、２．２×１０−５（レタデーションΔ：０．８２ｎｍ、方位角θ：４２．６°）と小さかった。また、ディスプレイ装置を作製し点灯させた際の輝度ムラの発生状態も全く認められない若しくは弱いものであった。
【００５４】
これに対して、比較例である試料Ｎｏ．３は、ガラス基板内における｛ｓｉｎ（２θ）｝２×｛ｓｉｎ（１８０°・Δ／５５０）｝２で求められる最大値が３．７×１０−５（レタデーションΔ：１．０７ｎｍ、方位角θ：−４６．５°）と大きく、ディスプレイ装置を作製し点灯させた際の輝度ムラも強く発生していた。
【００５５】
尚、ガラス基板中のレタデーションΔ及びガラス基板の辺方向に対する該レタデーションの方位角θは、ガラス基板上の５０ｍｍ間隔における点についてユニオプト製の歪計を用いて光ヘテロダイン法により求めた。尚、図３〜５において、各円の中心は測定点、円の直径はレタデーションΔの大きさ、円の直径として描かれた線の方向はガラス基板の辺方向に対するレタデーションの方位角θを示している。
【００５６】
また、輝度ムラの発生状態については、ディスプレイ装置を点灯させた際の画面上の輝度ムラを目視で観察し、輝度ムラが全く認められないものを「◎」、輝度ムラが弱く発生しているものを「○」、輝度ムラが強く発生しているものを「×」とした。
【００５７】
熱膨張係数については、白金坩堝を用いて各試料を１４００℃でリメルトしてガラス塊を作製し、得られたガラス塊を直径５．０ｍｍ、長さ２０ｍｍの円柱状の試料に加工して、ディラトメーターで３０〜３８０℃における平均熱膨張係数を測定した。
【００５８】
光弾性定数については、直径３０ｍｍ×５ｍｍの試料を作製し、円盤圧縮法により求めた。
【００５９】
徐冷点及び歪点についは、ＡＳＴＭ  Ｃ３３６−７１の方法に基づいて測定した。
【産業上の利用可能性】
【００６０】
本発明のディスプレイ用ガラス基板は、液晶ディスプレイ用途又はエレクトロルミネッセンスディスプレイ用途のガラス基板として用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】液晶ディスプレイの構造を示す概略図である。
【図２】オーバーフローダウンドロー法によるガラス基板の製造設備を示す概略正面図である。
【図３】試料Ｎｏ．１におけるガラス基板のレタデーションとその方位角を測定した結果を示す図である。
【図４】試料Ｎｏ．２におけるガラス基板のレタデーションとその方位角を測定した結果を示す図である。
【図５】試料Ｎｏ．３におけるガラス基板のレタデーションとその方位角を測定した結果を示す図である。
【符号の説明】
【００６２】
１  液晶セル
２  背面ガラス基板（アレイ用ガラス基板）
３  前面ガラス基板（カラーフィルター用ガラス基板）
４  薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）
５  画素電極
６  配向膜（背面用）
７  偏光板（背面用）
８  対向電極
９  カラーフィルター
１０  配向膜（前面用）
１１  偏光板（前面用）
１２  バックライト
１３  液晶分子
２０  成形炉
２０ａ  成形炉の炉壁
２１  成形体
２２  成形ロール
２３  徐冷炉
２３ａ  徐冷炉の炉壁
２４  引っ張りロール
２５  冷却室
２６  支持ロール
２７  切断室
２８  成形室
２９  送風機
３０  周壁部
３１  フィルター
Ａ  溶融ガラス
Ｂ  ガラスリボン
Ｃ  ガラス基板
【図１】
0005594351.tif 000003
【図２】
0005594351.tif 000004
【図３】
0005594351.tif 000005
【図４】
0005594351.tif 000006
【図５】
0005594351.tif 000007