(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
振動素子と、
前記振動素子に高周波電力を付与して振動させる超音波発振器と、
一端に前記振動素子を配置し、前記一端に対向する他端に被洗浄物との間に間隔を保って対向する振動面を配置した振動伝達材と、
前記被洗浄物の表面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、を備える超音波洗浄装置であって、
前記振動面は、前記被洗浄物に向かって少なくとも２個以上の凹凸部を備え、
前記被洗浄物の表面に供給された洗浄液に前記凹凸部を有する振動面を接触させて超音波を発生させることを特徴とする超音波洗浄装置。
【請求項２】
超音波振動素子と、該超音波振動素子に所定の周波数を供給して振動させる超音波発振器と、一端に前記超音波振動素子を配置し、前記一端に対向する他端に被洗浄物との間に間隔を保って対向する振動面を配置し、前記超音波振動素子の振動を伝達する振動伝達材と、被洗浄物に洗浄液を供給する洗浄液供給手段を有する超音波洗浄装置において、
前記洗浄液に振動を照射する前記振動伝達材の振動面は、複数の突起で構成していることを特徴とする超音波洗浄装置。
【請求項３】
前記突起は、前記被洗浄物の搬送方向に向けて線状に配置されることを特徴とする請求項２に記載の超音波洗浄装置。
【請求項４】
前記突起の間のスペースの寸法を前記突起の幅の寸法以下にすることを特徴とする請求項２に記載の超音波洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄装置に関し、特に、例えば半導体集積装置用基板、表示装置用ガラス基板、フォトマスク装置用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、フィルム基板等に対して、超音波振動を照射した液体を用いて洗浄処理を行う超音波洗浄装置に適用して有効な技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体集積装置の製造工程における洗浄方法は、バッチ式洗浄と枚葉式洗浄とに大別される。バッチ式洗浄とは、洗浄液を貯留した処理槽の中に、複数枚の被洗浄物を同時に浸漬して処理する洗浄方法である。一方、枚葉式洗浄とは、被洗浄物に対して洗浄液をかけながら１枚ずつ処理する洗浄方法である。近年、製造に用いられるシリコンウェハ基板の大型化に伴い、被洗浄物間の汚染転写防止の重要性が高まっている背景から、枚葉式洗浄が主流になりつつある。
【０００３】
図２は、従来の枚葉式の超音波洗浄装置の全体構成の一例である。超音波洗浄装置は、超音波発振器１０と、振動素子２０と、振動伝達材３０と、洗浄液供給配管４０とを備える。振動素子ケース２１は、振動素子２０を覆うように装着されている。ケーブル２２は、振動素子ケース２１の端部に通され、一端で振動素子２０に接続し、他端で超音波発振器１０に接続している。棒状ホーン形状の振動伝達材３０は、一端を斜めに切断して振動面３１を形成し、他端で振動素子２０に接続している。振動面３１は、被洗浄物Ｗに対向して微小間隔を保つように配置されている。洗浄液供給配管４０は、振動面３１の側部から洗浄液４１を流入する。
【０００４】
振動面３１は、超音波強度の均一性を上げるため、振動素子２０で発生した超音波振動が振動伝達材３０の中で収束する焦点位置３２より遠い位置に形成されている。また、振動面３１は、振動素子２０が被洗浄物Ｗからの反射波の影響を受け、超音波発振器１０の動作が不安定になるのを防止するため、振動素子２０との接続面に対して斜めに配置されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４‐２４９２１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、前述のような構造の超音波洗浄装置も、被洗浄物Ｗに照射される超音波強度の均一性は不十分である。従って、被洗浄物Ｗの配線パターンの破壊（ダメージ）を防ぐには、振動面３１において超音波強度が最大となる箇所の超音波強度をある所定値以下に抑える必要がある。その場合、振動面３１における残りの大部分の超音波強度が不十分になるため、洗浄性能が低下してしまう。さらに、振動面３１と被洗浄物Ｗとの間で定在波が発生し、その距離によって定在波の挙動がばらつくため、洗浄性能が安定しないという問題も発生する。
【０００７】
本発明は、前述のような超音波振動面を被洗浄物表面に近づけて処理する超音波洗浄装置で、被洗浄物に照射される超音波強度の均一性を上げ、かつ被洗浄物からの反射波の影響による発振器の不安定動作を防止し、さらに振動面−被洗浄物間での定在波の発生を抑えることで、被洗浄物のダメージを抑制し、安定かつ高い洗浄性能を得ることを目的とする。
【０００８】
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
【００１０】
すなわち、代表的なものの概要は、超音波洗浄装置において、振動素子（超音波振動素子）と、超音波発振器と、振動伝達材と、洗浄液供給手段とを備える。特に、振動伝達材は、一端に振動素子を配置し、他端に被洗浄物に対向する振動面を配置し、かつ振動面は被洗浄物に向かって少なくとも２個以上の凹凸部（突起）を備える。そして、洗浄液に凹凸部を有する振動面を接触させて超音波を発生させる。
【発明の効果】
【００１１】
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。
【００１２】
すなわち、代表的なものによって得られる効果は、超音波洗浄装置において、振動素子（超音波振動素子）から振動面へ伝播した超音波は、凹凸部（突起）で拡散され、被洗浄物へ均一に放射される。その結果、被洗浄物のダメージを抑制し、かつ高い洗浄性能が得られる。また、被洗浄物で反射して振動面へ到達した超音波は、凹凸部で拡散され、振動伝達材または洗浄液の中で互いに干渉し合いながら減衰する。その結果、発振器の動作が安定し、かつ定在波の発生が抑えられるため、洗浄性能も安定する。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る超音波洗浄装置の全体構成を示す図である。
【図２】従来の超音波洗浄装置の全体構成を示す図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態における微小突起の配置の一例を示す斜視図である。
【図４】本発明の第１の実施の形態における微小突起の配置の他の例を示す斜視図である。
【図５】本発明の第１の実施の形態において、被洗浄物へ超音波が照射される過程を示す断面図である。
【図６】本発明の第１の実施の形態において、被洗浄物へ照射される超音波の音圧分布を示すグラフである。
【図７】本発明の第１の実施の形態において、超音波が反射する過程を示す断面図である。
【図８】本発明の第２の実施の形態に係る超音波洗浄装置の全体構成を示す図である。
【図９】本発明の第２の実施の形態において、被洗浄物へ超音波が照射される過程を示す断面図である。
【図１０】本発明の第２の実施の形態において、被洗浄物へ照射される超音波の音圧分布を示すグラフである。
【図１１】本発明の第２の実施の形態において、超音波が反射する過程を示す断面図である。
【図１２】本発明の第３の実施の形態に係る超音波洗浄装置の要部を示す拡大断面図である。
【図１３】本発明の第４の実施の形態に係る超音波洗浄装置の要部を示す拡大断面図である。
【図１４】本発明の第５の実施の形態に係る超音波洗浄装置の要部を示す拡大断面図である。
【図１５】本発明の第６の実施の形態に係る超音波洗浄装置の要部を示す拡大断面図である。
【図１６】本発明の第７の実施の形態に係る超音波洗浄装置の要部を示す拡大断面図である。
【図１７】本発明の第８の実施の形態に係る超音波洗浄装置の要部を示す拡大断面図である。
【図１８】本発明の第９の実施の形態に係る超音波洗浄装置の要部を示す拡大断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の部材には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
【００１５】
＜第１の実施の形態＞
本発明の第１の実施の形態に係る超音波洗浄装置について、図１及び図３乃至図７を用いて説明する。
【００１６】
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る超音波洗浄装置の全体構成を示す図である。超音波洗浄装置は、超音波発振器１１０と、振動素子（超音波振動素子）１２０と、振動伝達材１３０と、洗浄液供給手段である洗浄液供給配管１４０とを備える。
【００１７】
超音波発振器１１０は、振動素子１２０に所定の周波数を供給して振動させるものであり、例えば周波数２０ｋＨｚ以上で、かつ所定の振幅の電気信号（高周波電力）を振動素子１２０に付与する。被洗浄物Ｗが配線幅１００ｎｍ未満の微細な配線パターンを有する場合、周波数は０．５ＭＨｚ乃至３ＭＨｚが最適である。
【００１８】
振動素子１２０は、振動素子ケース１２１に覆われている。ケーブル１２２は、振動素子ケース１２１の端部に通され、一端で振動素子１２０に接続し、他端で超音波発振器１１０に接続している。振動素子１２０は、超音波発振器１１０から高周波電力を付与されると伸縮振動し、その伸縮振動を振動伝達材１３０に伝播する。
【００１９】
振動伝達材１３０は、振動素子１２０の振動を伝達するものであり、例えば超音波の伝搬性が高く、使用劣化による発塵の恐れがなく、金属成分が溶出しない材質で構成されるのが望ましい。本実施の形態では石英ガラスとする。振動伝達材１３０の形状は板状で、その厚さｔは（１）式に従って決められている。
【００２０】
ｔ［ｍ］＝ｎλＱ／２                                                （１）
ｎ：自然数［‐］
λＱ：石英ガラス中での超音波の波長［ｍ］
例えば、周波数が１ＭＨｚの場合、波長λＱは約６ｍｍであるため、厚さｔを約３ｍｍの自然数倍とすればよい。振動伝達材１３０の上面には振動素子１２０が接続され、下面には振動面１３１が形成されている。この時、振動伝達材１３０は、振動素子１２０の振動に対して共振するため、効率良く超音波を伝播することができる。
【００２１】
振動面１３１は、被洗浄物Ｗに対向して数ｍｍ程度の微小間隔を保つように配置されている。さらに、振動面１３１には、被洗浄物Ｗに向かって少なくとも２個以上備える凹凸部として、被洗浄物Ｗに向かって突出した曲面状の微小突起１３２が等ピッチで形成されている。
【００２２】
図３は、微小突起１３２の配置の一例を示す斜視図である。微小突起１３２は、図中のｙ方向に沿って線状に配置されている。図中のｙ方向は、被洗浄物Ｗの搬送方向に対して平行になっているのが望ましい。これによって、被洗浄物Ｗを搬送した際、微小突起１３２間のスペース（凹部）に一定方向の水流が発生し、付着した気泡が効率良く排出されるからである。
【００２３】
図４は、微小突起１３２の配置の他の例を示す斜視図である。微小突起１３２は、図中のｘｙ平面から見て点状かつ規則的に配置されている。この場合、図中のｘ方向もしくはｙ方向が、被洗浄物Ｗの搬送方向に対して平行になっているのが望ましい。
【００２４】
微小突起１３２の寸法は、（２）式乃至（４）式に従って決められるのが望ましい。
【００２５】
｛ａ２−（λＬ／２）２｝／λＬ≦ｈ                                  （２）
ｂ＝（２ｎ−１）λＬ／４                                            （３）
ｓ≦２ａ                                                            （４）
ａ：微小突起１３２の幅（２ａ）の半値［ｍ］
λＬ：洗浄液１４１中での超音波の波長［ｍ］
ｈ：微小突起１３２の先端部から被洗浄物Ｗまでの距離［ｍ］
ｂ：微小突起１３２の高さ［ｍ］
ｎ：自然数［‐］
ｓ：微小突起１３２間のスペース［ｍ］
（２）式は、微小突起１３２から洗浄液１４１へ入射する超音波に対し、被洗浄物Ｗの位置が遠距離音場領域にあり、超音波の拡散を促進する条件である。（３）式は、被洗浄物Ｗから振動面１３１側へ向かって垂直に反射する超音波と、振動面１３１側から垂直に入射する超音波とが効率良く干渉する条件である。これによって、振動伝達材１３０を介して振動素子１２０へ反射する超音波の強度をある程度弱くすることができる。（４）式は、微小突起１３２間のスペース（凹部）から被洗浄物Ｗへ向かって垂直に入射する超音波と、微小突起１３２から拡散される超音波とが効率良く干渉する条件である。例えば、周波数が１ＭＨｚ、洗浄液１４１が超純水、距離ｈが３ｍｍの場合、微小突起１３２の幅２ａは４．５ｍｍ以下、高さｂは０．３７５ｍｍの奇数倍、スペースｓは４．５ｍｍ以下である。
【００２６】
図３乃至図４と、（２）式乃至（４）式に従って決められる微小突起１３２の配置と寸法は、後述する第２乃至第９の実施の形態における微小突起もしくは微小ディンプルに対しても適用可能である。
【００２７】
洗浄液供給配管１４０は、振動面１３１と被洗浄物Ｗとの間の微小間隔が満たされるように洗浄液１４１を供給する。洗浄液１４１には、飽和溶解量程度の気体（ガス）が溶解していることが望ましい。本実施の形態では、洗浄液１４１は超純水であり、その中に約２０ｐｐｍの窒素ガスのみが溶解している。洗浄液１４１へ超音波が入射すると、洗浄液１４１に溶解しているガスの一部が気泡化することで、被洗浄物Ｗに対する洗浄効果が発現する。
【００２８】
図５は、第１の実施の形態において、振動伝達材１３０から被洗浄物Ｗへ超音波が照射される過程を示す断面図である。振動素子１２０から振動面１３１へ鉛直方向に伝播した超音波の大部分は、微小突起１３２で屈折して、洗浄液１４１へ入射する。そのため、洗浄液１４１の中に入射した超音波の大部分は、鉛直方向に対して斜めに進行する。即ち、超音波は、微小突起１３２を起点に拡散して、洗浄液１４１の中を進行する。拡散した超音波は、洗浄液１４１の中で互いに干渉し合いながら減衰する。以上の過程を経て、洗浄液１４１から被洗浄物Ｗへ超音波が照射される際、被洗浄物Ｗの表面における超音波強度の均一性が向上する。
【００２９】
図６は、第１の実施の形態において、被洗浄物Ｗに照射される超音波の音圧Ｐを示すグラフである。音圧Ｐとは、超音波の照射によって媒質（ここでは洗浄液１４１）の圧力が変化する量（圧力振幅）を示し、理論的に（５）式で表される。
【００３０】
Ｐ［Ｐａ］＝（ρＬｃＬＩ）１／２                                    （５）
ρＬ：洗浄液１４１の密度（＝１０００ｋｇ／ｍ３）
ｃＬ：洗浄液１４１中での超音波の伝播速度（＝１５００ｍ／ｓ）
Ｉ：超音波強度［Ｗ／ｍ２］
即ち、音圧分布を測定することで、超音波強度の均一性を評価できる。グラフの横軸は、被洗浄物Ｗの表面において、図５のｘ方向に沿った位置を示し、縦軸は、その位置における音圧Ｐを示している。音圧分布は、分布曲線Ｐ１（実線）で表される。尚、微小突起１３２を有さない場合を比較例として、その音圧分布を分布曲線Ｐ０（点線）で示す。
【００３１】
第１の実施の形態による音圧の分布曲線Ｐ１は、比較例による音圧の分布曲線Ｐ０よりも平坦である。第１の実施の形態では、超音波が拡散して洗浄液１４１の中で互いに干渉し合うため、均一性が向上する。一方、比較例では、超音波が拡散せずに鉛直方向に進行するため、振動素子１２０の振動のばらつきに起因して不均一となる。
【００３２】
図７は、第１の実施の形態において、超音波が反射する過程を示す断面図である。超音波の大部分は、鉛直方向に対して斜めに進行して被洗浄物Ｗへ入射する。そのため、被洗浄物Ｗから洗浄液１４１へ反射する超音波の大部分も鉛直方向に対して斜めに進行する。従って、入射波と反射波とが同一直線上にないため、定在波の発生が抑えられる。さらに、この反射波の一部は、微小突起１３２で反射及び拡散し、振動伝達材１３０もしくは洗浄液１４１の中で互いに干渉し合いながら減衰する。これにより、振動素子１２０へ反射する超音波の強度が弱くなり、超音波発振器１１０の動作に影響を及ぼさなくなる。
【００３３】
以上に説明した第１の実施の形態によれば、振動素子１２０から振動面１３１へ伝播した超音波は、微小突起１３２で拡散され、被洗浄物Ｗへ均一に放射されるので、被洗浄物Ｗのダメージを抑制し、かつ高い洗浄性能が得られる。また、被洗浄物Ｗで反射して振動面１３１へ到達した超音波は、微小突起１３２で拡散され、振動伝達材１３０または洗浄液１４１の中で互いに干渉し合いながら減衰するので、超音波発振器１１０の動作が安定し、かつ定在波の発生が抑えられるため、洗浄性能も安定する。
【００３４】
＜第２の実施の形態＞
本発明の第２の実施の形態に係る超音波洗浄装置について、図８乃至図１１を用いて説明する。
【００３５】
図８は、本発明の第２の実施の形態に係る超音波洗浄装置の全体構成を示す図である。超音波洗浄装置は、第１の実施の形態と同様の、超音波発振器１１０と、振動素子１２０と、振動素子ケース１２１と、ケーブル１２２と、洗浄液供給配管１４０とを備える。また、洗浄液１４１は超純水であり、その中に約２０ｐｐｍの窒素ガスのみが溶解している。
【００３６】
振動伝達材１３０は、板状の石英ガラスで構成され、厚さｔは（１）式に従って決められている。振動伝達材１３０の上面には振動素子１２０が接続され、下面には振動面１３１が形成されている。振動面１３１は、被洗浄物Ｗに対向して数ｍｍ程度の微小間隔を保つように配置されている。振動面１３１には、振動素子１２０に向かって陥没した曲面状の微小ディンプル１３３が等ピッチで形成されている。
【００３７】
微小ディンプル１３３は、図３と同様に線状に配置もしくは図４と同様に点状に配置されている。また、微小ディンプル１３３の寸法は、（２）式乃至（４）式に従って決められるのが望ましい。この場合、式中のａは微小ディンプル１３３の幅の半値、ｈは微小ディンプル１３３間のスペース（凸部）から被洗浄物Ｗまでの距離、ｂは微小ディンプル１３３の深さ、ｓは微小ディンプル１３３間のスペースに置き換えられる。
【００３８】
図９は、第２の実施の形態において、振動伝達材１３０から被洗浄物Ｗへ超音波が照射される過程を示す断面図である。振動素子１２０から振動面１３１へ鉛直方向に伝播した超音波の大部分は、微小ディンプル１３３で屈折して、洗浄液１４１へ入射する。第１の実施の形態とは対照的に、超音波の大部分は、微小ディンプル１３３の中心軸上に収束しながら、洗浄液１４１の中を進行する。
【００３９】
図１０は、第２の実施の形態において、被洗浄物Ｗに照射される超音波の音圧Ｐを示すグラフである。グラフの横軸は、被洗浄物Ｗの表面において、図９のｘ方向に沿った位置を示し、縦軸は、その位置における音圧Ｐを示している。音圧分布は、分布曲線Ｐ２（実線）で表される。尚、微小ディンプル１３３を有さない場合を比較例として、その音圧分布を分布曲線Ｐ０（点線）で示す。
【００４０】
第２の実施の形態による音圧の分布曲線Ｐ２は、等ピッチで極大点を有する。極大となる横軸の座標は、前述の微小ディンプル１３３の中心軸上の位置に対応する。一方、比較例では、超音波が収束せずに鉛直方向に進行するため、振動素子１２０の振動のばらつきに起因した分布となる。
【００４１】
図１１は、第２の実施の形態において、超音波が反射する過程を示す断面図である。超音波の大部分は、微小ディンプル１３３の中心軸上に収束するため、鉛直方向に対して斜めに進行して被洗浄物Ｗへ入射する。そのため、被洗浄物Ｗから洗浄液１４１へ反射する超音波の大部分も鉛直方向に対して斜めに進行する。従って、入射波と反射波とが同一直線上にないため、定在波の発生が抑えられる。さらに、この反射波の一部は、微小ディンプル１３３で反射して、前述の中心軸上に収束する。これにより、振動素子１２０へ反射する超音波の強度は弱くなり、超音波発振器１１０の動作に影響を及ぼさなくなる。
【００４２】
第２の実施の形態は、微細な配線パターンを有さない被洗浄物Ｗに対して、安定かつ高い洗浄性能を得る必要がある場合に適用される。この場合、振動面１３１の面方向、すなわち図９のｘ方向に沿って、振動伝達材１３０と被洗浄物Ｗの少なくとも一方を走査させることが望ましい。走査させることによって、図１０で示した音圧分布曲線Ｐ２の極大点が、被洗浄物Ｗの全面を均等に通過する効果がある。
【００４３】
以下の第３乃至第９の実施の形態においては、第１の実施の形態に示した微小突起１３２、第２の実施の形態に示した微小ディンプル１３３の種々の変形例について説明する。第３乃至第９の実施の形態においても、第１乃至第２の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【００４４】
＜第３の実施の形態＞
図１２は、本発明の第３の実施の形態に係る超音波洗浄装置の要部を示す拡大断面図である。第１の実施の形態と同様に、振動面１３１には、被洗浄物Ｗに向かって突出した微小突起１３２が等ピッチで形成されている。第１の実施の形態との違いは、微小突起１３２が曲面状ではなく鋭利な頂点を有することである。この微小突起１３２は、被洗浄物Ｗに向かって突出した角錐状もしくは円錐状の突起である。
【００４５】
また他方で、この振動面１３１には、振動素子１２０に向かって陥没した微小ディンプル１３３を有し、このディンプルの最深点が平坦面１３４を有する形状となっている。
【００４６】
＜第４の実施の形態＞
図１３は、本発明の第４の実施の形態に係る超音波洗浄装置の要部を示す拡大断面図である。第２の実施の形態と同様に、振動面１３１には、振動素子１２０に向かって陥没した微小ディンプル１３３が等ピッチで形成されている。第２の実施の形態との違いは、微小ディンプル１３３が曲面状ではなく鋭利な最深点を有することである。この微小ディンプル１３３は、振動素子１２０に向かって陥没した角錐状もしくは円錐状のディンプルである。
【００４７】
また他方で、この振動面１３１には、被洗浄物Ｗに向かって突出した微小突起１３２を有し、この突起の頂点が平坦面１３４を有する形状となっている。
【００４８】
＜第５の実施の形態＞
図１４は、本発明の第５の実施の形態に係る超音波洗浄装置の要部を示す拡大断面図である。第１の実施の形態と同様に、振動面１３１には、被洗浄物Ｗに向かって突出した曲面状の微小突起１３２が等ピッチで形成されている。第１の実施の形態との違いは、微小突起１３２間のスペース（凹部）が小さく、鋭利な最深点も同時に有することである。
【００４９】
＜第６の実施の形態＞
図１５は、本発明の第６の実施の形態に係る超音波洗浄装置の要部を示す拡大断面図である。第２の実施の形態と同様に、振動面１３１には、振動素子１２０に向かって陥没した微小ディンプル１３３が等ピッチで形成されている。第２の実施の形態との違いは、微小ディンプル１３３間のスペース（凸部）が小さく、鋭利な頂点も同時に有することである。
【００５０】
＜第７の実施の形態＞
図１６は、本発明の第７の実施の形態に係る超音波洗浄装置の要部を示す拡大断面図である。第３の実施の形態と同様に、振動面１３１には、鋭利な頂点を有する微小突起１３２が等ピッチで形成されている。第３の実施の形態との違いは、微小突起１３２間のスペース（凹部）が小さく、鋭利な最深点も同時に有することである。
【００５１】
＜第８の実施の形態＞
図１７は、本発明の第８の実施の形態に係る超音波洗浄装置の要部を示す拡大断面図である。第１の実施の形態と同様の微小突起１３２と、第２の実施の形態と同様の微小ディンプル１３３とを同時に有する。
【００５２】
＜第９の実施の形態＞
図１８は、本発明の第９の実施の形態に係る超音波洗浄装置の要部を示す拡大断面図である。第１の実施の形態と同様に、振動面１３１には、被洗浄物Ｗに向かって突出した微小突起１３２が等ピッチで形成されている。第１の実施の形態との違いは、微小突起１３２及びそのスペース（凹部）ともに、平坦面を有することである。
【００５３】
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【産業上の利用可能性】
【００５４】
本発明の洗浄装置は、例えば半導体集積装置用基板、表示装置用ガラス基板、フォトマスク装置用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、フィルム基板等に対して、超音波振動を照射した液体を用いて洗浄処理を行う超音波洗浄装置に適用して有効である。
【符号の説明】
【００５５】
１０…超音波発振器、２０…振動素子、２１…振動素子ケース、２２…ケーブル、３０…振動伝達材、３１…振動面、３２…焦点位置、４０…洗浄液供給配管、４１…洗浄液、１１０…超音波発振器、１２０…振動素子、１２１…振動素子ケース、１２２…ケーブル、１３０…振動伝達材、１３１…振動面、１３２…微小突起、１３３…微小ディンプル、１３４…平坦面、１４０…洗浄液供給配管、１４１…洗浄液、Ｗ…被洗浄物、
Ｐ０…比較例による音圧の分布曲線、Ｐ１…第１の実施の形態による音圧の分布曲線、Ｐ２…第２の実施の形態による音圧の分布曲線。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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