(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性の基板上に前記基板上に前記第１方向に沿って配線を形成する配線形成工程と、
前記基板上に複数の画素電極を非透光性の材料から形成する画素電極形成工程と、
前記基板上に前記複数の画素電極を覆うようにネガ型レジストからなるレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、
前記基板の前記複数の画素電極が形成された表面とは反対の裏面側から前記基板を介して前記レジスト膜を露光する露光工程と、
前記露光されたレジスト膜を現像することにより、前記複数の画素電極のうち互いに隣り合う画素電極間を隔てる隔壁を形成する現像工程とを含み、
前記隔壁には、前記露光工程において前記レジスト膜に照射される露光光が前記配線によって遮られることにより隙間が形成されている
ことを特徴とする電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記露光工程は、
前記裏面の法線方向に対して斜めである斜め方向から前記レジスト膜をそれぞれ露光する複数の斜め露光工程を含み、
前記複数の斜め露光工程の各々における前記斜め方向は、互いに異なる
ことを特徴とする請求項１に記載の電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記露光工程は、前記基板と接している部分からの距離が大きいほど前記隔壁の壁厚が大きくなるように前記レジスト膜を露光することを特徴とする請求項１に記載の電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記隔壁は、前記基板と接している部分からの距離が大きいほど壁厚が大きい逆テーパー形状の断面を有することを特徴とする請求項１に記載の電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記複数の画素電極の各々の周縁は、ジグザグ形状を有することを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記画素電極形成工程は、前記複数の画素電極を、前記基板上の第１方向に沿って夫々延びる複数の第１間隙領域及び前記第１方向と交わる第２方向に沿って夫々延びる複数の第２間隙領域を隔ててマトリクス状に配列し、
前記配線形成工程は、前記配線が前記複数の第２間隙領域のうち一の第２間隙領域と交差する第１交差部分と、前記配線が前記複数の第２間隙領域のうち前記一の第２間隙領域に隣り合う他の第２間隙領域と交差する第２交差部分とが、前記第２方向に沿って互いにずれるように、前記配線を形成し、
前記隔壁には、前記第１交差部分に対応する隙間と前記第２交差部分に対応する隙間とが、前記第２方向に沿って互いにずれるように形成されている
ことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記画素電極形成工程は、前記複数の画素電極を、前記基板上の第１方向に沿って夫々延びる複数の第１間隙領域及び前記第１方向と交わる第２方向に沿って夫々延びる複数の第２間隙領域を隔ててマトリクス状に配列し、
前記配線形成工程は、前記基板上に前記第１方向に沿って信号線を形成する信号線形成工程と、前記基板上に前記第２方向に沿って走査線を形成する走査線形成工程とを含み、
前記信号線のうち前記複数の第２間隙領域と交差する部分及び前記走査線のうち前記複数の第１間隙領域と交差する部分の少なくとも一方は、透光性の材料から形成される
ことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか一項に記載の電気泳動表示装置の製造方法によって製造されたことを特徴とする電気泳動表示装置。
【請求項９】
請求項８に記載の電気泳動表示装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気泳動表示装置の製造方法、電気泳動表示装置及び電子機器の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
電気泳動表示装置（ＥＰＤ：Electrophoretic Display）として、互いに対向配置された２枚の基板間の空間を隔壁により画素毎に区画し、この２枚の基板間に電気泳動分散液を画素毎に封止したものが知られている（例えば特許文献１及び２参照）。このような電気泳動表示装置は、一般的には、２枚の基板のうち複数の画素電極を駆動するための回路が形成された基板（以下「回路基板」と適宜称する）と、別途作成された隔壁とが貼り合わされることにより製造される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−２０００３号公報
【特許文献２】特開２０１０−４４１１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、前述したような回路基板と隔壁とを貼り合わせる製造方法では、回路基板に形成された画素電極と隔壁との位置合わせ（即ち、アライメント）が必要であり、画素電極と隔壁との位置ずれが発生してしまうおそれがあるという技術的問題点がある。このような位置ずれが発生した場合には、電気泳動表示装置の表示性能が低下してしまうおそれがある。
【０００５】
本発明は、例えば前述した問題点に鑑みなされたものであり、画素電極と隔壁との位置ずれの発生を防止可能な電気泳動表示装置の製造方法及び電気泳動表示装置、並びにこのような電気泳動表示装置を備えた電子機器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る電気泳動表示装置の製造方法は上記課題を解決するために、透光性の基板上に複数の画素電極を非透光性の材料から形成する画素電極形成工程と、前記基板上に前記複数の画素電極を覆うようにネガ型レジストからなるレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、前記基板の前記複数の画素電極が形成された表面とは反対の裏面側から前記基板を介して前記レジスト膜を露光する露光工程と、前記露光されたレジスト膜を現像することにより、前記複数の画素電極のうち互いに隣り合う画素電極間を隔てる隔壁を形成する現像工程とを含む。
【０００７】
本発明に係る電気泳動表示装置の製造方法によれば、画素電極形成工程、レジスト膜形成工程、露光工程及び現像工程がこの順番で行われる。
【０００８】
画素電極形成工程は、例えば透光性の樹脂基板、ガラス基板等である基板上に、複数の画素電極を例えばアルミニウム（Ａｌ）等の非透光性の材料から形成する。典型的には、画素電極形成工程は、複数の画素電極をマトリクス状に配列する。
【０００９】
レジスト膜形成工程は、基板上に複数の画素電極を覆うようにネガ型レジスト（即ち、露光されると現像液に対して溶解性が低下し、現像後に露光部分が残るレジスト）からなるレジスト膜を形成する。
【００１０】
露光工程は、基板の裏面（即ち、基板の複数の画素電極が形成された表面とは反対の面）側から基板を介してレジスト膜を露光する。ここで、複数の画素電極が非透光性の材料から形成されているので、レジスト膜のうち基板上で平面的に見て画素電極に重ならない部分のみを露光することができる。
【００１１】
即ち、露光工程は、基板の裏面側から非透光性の複数の画素電極をマスクとしてレジスト膜を露光する。これにより、レジスト膜のうち互いに隣り合う画素電極間の間隙領域（言い換えれば、隙間）に位置する部分のみを露光できる。
【００１２】
現像工程は、露光工程によって露光されたレジスト膜を現像することにより、複数の画素電極のうち互いに隣り合う画素電極間を隔てる隔壁を形成する。ここで、露光工程によって、レジスト膜のうち互いに隣り合う画素電極間の間隙領域に位置する部分のみが露光されるので、現像工程によって、隔壁を互いに隣り合う画素電極間の間隙領域に確実に形成することができる。
【００１３】
即ち、本発明によれば、基板の裏面側から複数の画素電極をマスクとしてレジスト膜を露光し、レジスト膜の露光部分（即ち、レジスト膜のうち露光光が照射された部分）からなる隔壁を自己整合的に形成するので、例えば画素電極が形成された基板と隔壁とを貼り合わせる場合には必要となる、画素電極と隔壁との位置合わせが不要であり、画素電極と隔壁との位置ずれの発生を防止できる。加えて、例えば画素電極が形成された基板と隔壁とを貼り合わせる場合には生じ得る、基板と隔壁との間に気泡が発生してしまうという事態を回避できる。
【００１４】
更に、本発明によれば、基板の裏面側からレジスト膜を露光するので、例えば基板の上側（即ち、レジスト膜が基板に対向する側とは反対側）からフォトマスクを介してレジスト膜を露光する場合と比較して、隔壁が基板と接している側の露光強度が強くなり隔壁と基板との密着性を向上させることができる。
【００１５】
以上説明したように、本発明に係る電気泳動表示装置の製造方法によれば、画素電極と隔壁との位置ずれの発生を防止できる。
【００１６】
本発明に係る電気泳動表示装置の製造方法の一態様では、前記露光工程は、前記裏面の法線方向に対して斜めである斜め方向から前記レジスト膜をそれぞれ露光する複数の斜め露光工程を含み、前記複数の斜め露光工程の各々における前記斜め方向は、互いに異なる。
【００１７】
この態様によれば、例えば基板上に形成された走査線や信号線（或いは「データ線」とも呼ばれる）などの配線によってレジスト膜に対する露光光が遮られ、隔壁に隙間が生じてしまうことを低減或いは防止できる。
【００１８】
本発明に係る電気泳動表示装置の製造方法の他の態様では、前記露光工程は、前記基板と接している部分からの距離が大きいほど前記隔壁の壁厚が大きくなるように前記レジスト膜を露光する。
【００１９】
この態様によれば、例えば基板の裏面の法線方向のみに沿って露光する場合と比較して、隔壁の上面（即ち、隔壁の基板と接する側とは反対側の面、言い換えれば、隔壁の基板に対向する側とは反対側の面）の面積を大きくすることができる。よって、例えば隔壁の上面側を封止膜によって封止する場合に、隔壁と封止膜とが密着する面積を大きくすることができ、隔壁と封止膜との密着性を向上させることができる。従って、例えば封止膜が隔壁から剥がれてしまうことを低減或いは防止できる。
【００２０】
本発明に係る電気泳動表示装置の製造方法の他の態様では、前記隔壁は、前記基板と接している部分からの距離が大きいほど壁厚が大きい逆テーパー形状の断面を有する。
【００２１】
この態様によれば、例えば隔壁の上面側（即ち、隔壁の基板と接する側とは反対側）を封止膜によって封止する場合に、隔壁と封止膜とが密着する面積を大きくすることができ、隔壁と封止膜との密着性を向上させることができる。従って、例えば封止膜が隔壁から剥がれてしまうことを低減或いは防止できる。
【００２２】
本発明に係る電気泳動表示装置の製造方法の他の態様では、前記複数の画素電極の各々の周縁は、ジグザグ形状を有する。
【００２３】
この態様によれば、基板上で平面的に見て、画素電極の周縁に沿ったジグザグ形状を有するように隔壁を形成できる。よって、例えば基板の表面（或いは裏面）の法線方向に沿って隔壁を押す力に対する強度および隔壁と基板あるいは封止膜との密着性などの隔壁の強度を向上させることができる。
【００２４】
本発明に係る電気泳動表示装置の製造方法の他の態様では、前記画素電極形成工程は、前記複数の画素電極を、前記基板上の第１方向に沿って夫々延びる複数の第１間隙領域及び前記第１方向と交わる第２方向に沿って夫々延びる複数の第２間隙領域を隔ててマトリクス状に配列し、前記基板上に前記第１方向に沿って配線を形成する配線形成工程を含み、前記配線形成工程は、前記配線が前記複数の第２間隙領域のうち一の第２間隙領域と交差する第１交差部分と、前記配線が前記複数の第２間隙領域のうち前記一の第２間隙領域に隣り合う他の第２間隙領域と交差する第２交差部分とが、前記第２方向に沿って互いにずれるように、前記配線を形成し、前記隔壁には、前記第１交差部分に対応する隙間と前記第２交差部分に対応する隙間とが、前記第２方向に沿って互いにずれるように形成されている。
【００２５】
この態様によれば、画素電極形成工程は、複数の画素電極を、複数の第１間隙領域及び複数の第２間隙領域を隔ててマトリクス状に配列するので、現像工程では、隔壁は、複数の第１間隙領域及び複数の第２間隙領域に沿って例えば格子状に形成される。更に、露光工程では、典型的には非透光性の材料から形成される配線（例えば走査線、信号線等）の第１及び第２交差部分によって露光光が遮られる。このため、現像工程によって形成される隔壁には、第１交差部分に対応する隙間と第２交差部分に対応する隙間とが生じる。ここで、配線形成工程は、第１及び第２交差部分が、第２方向に沿って互いにずれるように、配線を形成するので、隔壁に生じる第１交差部分に対応する隙間及び第２交差部分に対応する隙間は、第２方向に沿って互いにすれる。よって、例えば隔壁に生じる第１交差部分に対応する隙間及び第２交差部分に対応する隙間が、第２方向に沿って互いにずれておらず、第１方向に沿って直線的に並ぶ場合と比較して、基板上における複数の画素間を電気泳動粒子が隔壁の隙間を介して移動することを低減できる。
【００２６】
本発明に係る電気泳動表示装置の製造方法の他の態様では、前記画素電極形成工程は、前記複数の画素電極を、前記基板上の第１方向に沿って夫々延びる複数の第１間隙領域及び前記第１方向と交わる第２方向に沿って夫々延びる複数の第２間隙領域を隔ててマトリクス状に配列し、前記基板上に前記第１方向に沿って信号線を形成する信号線形成工程と、前記基板上に前記第２方向に沿って走査線を形成する走査線形成工程とを含み、前記信号線のうち前記複数の第２間隙領域と交差する部分及び前記走査線のうち前記複数の第１間隙領域と交差する部分の少なくとも一方は、透光性の材料から形成される。
【００２７】
この態様によれば、基板上に形成された走査線或いは信号線によってレジスト膜に対する露光光が遮られ、隔壁に隙間が生じてしまうことを低減或いは防止できる。
【００２８】
本発明に係る電気泳動表示装置の製造方法の他の態様では、前記露光工程の前に前記基板に配線を形成する工程を含み、前記隔壁には、前記露光工程において前記レジスト膜に照射される露光光が前記配線によって遮られることにより隙間が形成されている。
【００２９】
この態様によれば、隔壁に隙間が形成されているので、例えば、隔壁によって囲まれる空間に電気泳動分散液を隙間を介して容易に充填できたり、気泡を低減できたりするなどの実践上の利益を得ることができる。
【００３０】
本発明の電気泳動表示装置は上記課題を解決するために、前述した本発明に係る電気泳動表示装置の製造方法（但し、その各種態様を含む）によって製造される。
【００３１】
本発明の電気泳動表示装置は、前述した本発明に係る電気泳動表示装置の製造方法によって製造されるので、画素電極と隔壁との位置ずれが無く、高品位な表示を行うことが可能である。
【００３２】
本発明の電子機器は上記課題を解決するために、前述した本発明の電気泳動表示装置（但し、その各種態様を含む）を備える。
【００３３】
本発明の電子機器は、前述した本発明の電気泳動表示装置を備えるので、高品位な表示を行うことが可能な、例えば、腕時計、電子ペーパー、電子ノート、携帯電話、携帯用オーディオ機器などの各種電子機器を実現できる。
【００３４】
本発明の作用及び他の利得は次に説明する発明を実施するための形態から明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】第１実施形態に係る電気泳動表示装置の全体構成を示すブロック図である。
【図２】第１実施形態に係る電気泳動表示装置の画素の電気的な構成を示す等価回路図である。
【図３】第１実施形態に係る電気泳動表示装置の隣り合う複数の画素の平面図である。
【図４】図３のＡ−Ａ’線断面図である。
【図５】第１実施形態に係る画素電極工程を示す断面図である。
【図６】第１実施形態に係るレジスト膜形成工程を示す断面図である。
【図７】第１実施形態に係る露光工程を示す断面図である。
【図８】第１実施形態に係る現像工程を示す断面図である。
【図９】第１実施形態に係る隔壁の平面形状を示す平面図である。
【図１０】第２実施形態に係る電気泳動表示装置の複数の画素電極及び隔壁の平面形状を示す平面図である。
【図１１】第３実施形態に係る電気泳動表示装置の隣り合う複数の画素の平面図である。
【図１２】第４実施形態に係る露光工程を示す断面図である。
【図１３】第５実施形態に係る露光工程を示す断面図である。
【図１４】第５実施形態に係る現像工程を示す断面図である。
【図１５】第５実施形態における、現像工程の後に電気泳動分散液及び封止膜を設ける工程を示す断面図である。
【図１６】電気泳動表示装置を適用した電子機器の一例たる電子ペーパーの構成を示す斜視図である。
【図１７】電気泳動表示装置を適用した適用した電子機器の一例たる電子ノートの構成を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００３６】
以下では、本発明の実施形態について図を参照しつつ説明する。
【００３７】
＜第１実施形態＞
第１実施形態に係る電気泳動表示装置及びその製造方法について、図１から図９を参照して説明する。
【００３８】
先ず、本実施形態に係る電気泳動表示装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。
【００３９】
図１は、本実施形態に係る電気泳動表示装置の全体構成を示すブロック図である。
【００４０】
図１において、本実施形態に係る電気泳動表示装置１は、表示部３と、コントローラ１０と、走査線駆動回路６０と、データ線駆動回路７０と、共通電位供給回路２２０とを備えている。
【００４１】
表示部３には、ｍ行×ｎ列分の画素２０がマトリクス状（二次元平面的）に配列されている。また、表示部３には、ｍ本の走査線４０（即ち、走査線Ｙ１、Ｙ２、…、Ｙｍ）と、ｎ本のデータ線５０（即ち、データ線Ｘ１、Ｘ２、…、Ｘｎ）とが互いに交差するように設けられている。具体的には、ｍ本の走査線４０は、行方向（即ち、Ｘ方向）に延在し、ｎ本のデータ線５０は、列方向（即ち、Ｙ方向）に延在している。このｍ本の走査線４０とｎ本のデータ線５０との交差に対応して画素２０が配置されている。尚、データ線５０は本発明に係る「信号線」の一例である。
【００４２】
コントローラ１０は、走査線駆動回路６０、データ線駆動回路７０及び共通電位供給回路２２０の動作を制御する。コントローラ１０は、例えば、クロック信号、スタートパルス等のタイミング信号を各回路に供給する。
【００４３】
走査線駆動回路６０は、コントローラ１０から供給されるタイミング信号に基づいて、走査線Ｙ１、Ｙ２、…、Ｙｍの各々に走査信号をパルス的に順次供給する。
【００４４】
データ線駆動回路７０は、コントローラ１０から供給されるタイミング信号に基づいて、データ線Ｘ１、Ｘ２、…、Ｘｎに画像信号を供給する。画像信号は、高電位ＶＨ（例えば１５Ｖ）又は低電位ＶＬ（例えば０Ｖ）の２値的な電位をとる。
【００４５】
共通電位供給回路２２０は、共通電位線９３に共通電位Ｖｃｏｍを供給する。尚、共通電位Ｖｃｏｍは一定の電位であってもよいし、例えば書き込む階調に応じて変化してもよい。
【００４６】
尚、コントローラ１０、走査線駆動回路６０、データ線駆動回路７０及び共通電位供給回路２２０には、各種の信号が入出力されるが、本実施形態と特に関係のないものについては説明を省略する。
【００４７】
図２は、画素の電気的な構成を示す等価回路図である。
【００４８】
図２において、画素２０は、トランジスター２４と、画素電極２１と、共通電極２２と、電気泳動分散液２３と、保持容量２７とを備えて構成されている。
【００４９】
トランジスター２４は、例えばＮ型トランジスターで構成されている。トランジスター２４は、そのゲートが走査線４０に電気的に接続されており、そのソースがデータ線５０に電気的に接続されており、そのドレインが画素電極２１及び保持容量２７に電気的に接続されている。トランジスター２４は、データ線駆動回路７０（図１参照）からデータ線５０を介して供給される画像信号を、走査線駆動回路６０（図１参照）から走査線４０を介してパルス的に供給される走査信号に応じたタイミングで出力する。
【００５０】
画素電極２１には、データ線駆動回路７０からデータ線５０、トランジスター２４を介して、画像信号が供給される。画素電極２１は、電気泳動分散液２３を介して共通電極２２と互いに対向するように配置されている。
【００５１】
共通電極２２は、共通電位Ｖｃｏｍが供給される共通電位線９３に電気的に接続されている。
【００５２】
電気泳動分散液２３は、複数の電気泳動粒子が分散媒中に分散されてなる分散液である。  保持容量２７は、誘電体膜を介して対向配置された一対の電極からなり、一方の電極が、トランジスター２４及び画素電極２１に電気的に接続され、他方の電極が共通電位線９３に電気的に接続されている。保持容量２７によれば、画像信号を一定期間だけ維持することができる。
【００５３】
次に、本実施形態に係る電気泳動表示装置の画素の具体的な構成について、図３及び図４を参照して説明する。
【００５４】
図３は、本実施形態に係る電気泳動表示装置の隣り合う複数の画素の平面図である。図４は、図３のＡ−Ａ’線断面図である。尚、図３及び図４では、各層・各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、該各層・各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。また、図３及び図４では、説明の便宜上、本発明に直接関係のある部材のみ示している。また、図３では、説明の便宜上、図４に示す隔壁８８の図示を省略している。
【００５５】
図４において、回路基板２８上に形成された画素電極２１と、対向基板２９上に形成された共通電極２２との間に、電気泳動分散液２３が挟持されている。
【００５６】
回路基板２８は、平板状の基板２８ａを有している。基板２８ａ上には、図１及び図２を参照して前述したトランジスター２４、走査線４０、データ線５０、共通電位線９３、保持容量２７が形成されている。
【００５７】
基板２８ａは、例えば、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの絶縁性の樹脂材料からなる基板（即ち、樹脂基板）、又は、ガラス基板等である。
【００５８】
画素電極２１は、例えばＡｌ等の非透光性の導電材料から形成されている。
【００５９】
対向基板２９は、基板２８ａと同様に、例えば、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートなどの絶縁性の樹脂材料からなる基板（即ち、樹脂基板）、又は、ガラス基板等である。
【００６０】
対向電極２２は、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の透光性の導電材料から形成されている。
【００６１】
電気泳動分散液２３は、複数の電気泳動粒子８１が分散媒８２中に分散されてなる分散液である。
【００６２】
電気泳動粒子８１は、例えば、顔料粒子、樹脂粒子又はこれらの複合粒子である。顔料粒子を組成する顔料としては、例えば、アニリンブラック、カーボンブラック等の黒色顔料、酸化チタン、酸化アンチモン等の白色顔料等がある。また、樹脂粒子を組成する樹脂材料としては、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、尿素樹脂、エポキシ系樹脂、ポリスチレン、ポリエステル等がある。複合粒子としては、例えば、顔料粒子の表面を樹脂材料や田の顔料で被覆したもの、樹脂粒子の表面を顔料で被覆したもの、顔料と樹脂材料とを適当な組成比で混合した混合物で構成される粒子などがある。これらの各種材料からなる電気泳動粒子８１は、例えば正又は負に帯電した状態で分散媒８２中に分散されている。
【００６３】
分散媒８２は、親油性の炭化水素系の溶媒であり、例えば、アイソパー（登録商標）を含む。即ち、分散媒８２は、アイソパーＥ、アイソパーＧ、アイソパーＨ、アイソパーＬのうちいずれか１種類を含む液体、若しくはこれらのうちの２種類以上を混合した液体、或いは、これらのうちのいずれか１種類以上と他の種類の炭化水素系の溶媒とを混合した液体である。
【００６４】
回路基板２８と対向基板２９との間には、互いに隣り合う画素電極２１間を隔てる隔壁８８が形成されている。共通電極２２と隔壁８８との間には、封止膜９０が設けられている。封止膜９０は、回路基板２８上の隔壁８８によって囲まれた空間内に電気泳動分散液２３を封じ込めるための膜である。封止膜９０は、水溶性高分子を含む膜であり、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を含む膜である。尚、封止膜９０に含まれる水溶性高分子は、ポリビニルアルコール以外の水溶性高分子でもよく、例えば、アミノ酸、アラビアガム、アラビアゴム、アルギン酸誘導体、アルブミン、カルボキシメチルセルロース、セルロース誘導体、ゼラチン、ポリエチレンオキシド、ポリスチレンスルホン酸、ポリビニルピロリドン、ポリビニルフェノール、ポリ酢酸ビニル誘導体及びレシチン等でもよい。
【００６５】
図３において、走査線４０はＸ方向に延在し、データ線５０は、走査線４０の延在方向に対して交差するＹ方向に延在している。走査線４０及びデータ線５０の交差に対応して画素電極２１が配置されている。画素電極２１は、回路基板２８（図４参照）上に、マトリクス状に複数設けられている。即ち、複数の画素電極２１は、Ｘ方向に沿って夫々延びる複数の間隙領域Ｒ１と、Ｙ方向に沿って夫々延びる複数の間隙領域Ｒ２を隔ててマトリクス状に配列されている。図４を参照して前述した隔壁８８は、複数の間隙領域Ｒ１及び複数の間隙領域Ｒ２に形成され、回路基板２８の法線方向（即ち、図４中、Ｚ方向）から見て、概ね格子状の平面形状を有している。
【００６６】
図３及び図４において、複数の画素電極２１の各々に対応してトランジスター２４及び保持容量２７がそれぞれ１つずつ設けられている。
【００６７】
トランジスター２４は、半導体層２４ａを含んで構成されている。半導体層２４ａのソース領域は、データ線５０に電気的に接続され、半導体層２４ａのドレイン領域は、保持容量２７の上側電極２７ａを介して画素電極２１に電気的に接続されている。トランジスター２４のゲート電極は、走査線４０の一部として形成されている。トランジスター２４は、走査線４０から走査信号が供給されることで、一定期間だけそのスイッチがオン状態となる（即ち、半導体層２４ａのソース領域とドレイン領域との間が導通される）。これにより、データ線５０から供給される画像信号が所定のタイミングで、画素２０に書き込まれる（即ち、画素電極２１及び共通電極２２間に画像信号に対応する電圧が印加される）。
【００６８】
保持容量２７は、上側電極２７ａ、下側電極２７ｂ及び絶縁膜１１１からなる。
【００６９】
上側電極２７ａは、半導体層２４ａのドレイン領域に電気的に接続されると共に、絶縁膜１１２に形成されたコンタクトホール１２１を介して画素電極２１に電気的に接続されている。
【００７０】
下側電極２７ｂは、絶縁膜１１１を介して上側電極２７ａに対向するように、基板２８ａ上に設けられると共に、Ｘ方向に延在する共通電位線９３に電気的に接続されている。
【００７１】
次に、前述のように構成された電気泳動表示装置１の製造方法について、図５から図９を参照して説明する。尚、以下では、電気泳動表示装置１の製造プロセスのうち本実施形態に特徴的な、隔壁８８の形成に関する工程（例えば、画素電極形成工程、レジスト膜形成工程、露光工程及び現像工程など）について主に説明する。
【００７２】
図５は、本実施形態に係る画素電極工程を示す断面図である。図６は、本実施形態に係るレジスト膜形成工程を示す断面図である。図７は、本実施形態に係る露光工程を示す断面図である。図８は、本実施形態に係る現像工程を示す断面図である。尚、図５から図８は、図４に示した断面図に対応して示されている。
【００７３】
先ず、図５に示す画素電極形成工程において、回路基板２８上に、複数の画素電極２１を例えばＡｌ等の非透光性の材料から形成する。この際、複数の画素電極２１を、Ｘ方向に沿って夫々延びる複数の間隙領域Ｒ１（図３参照）と、Ｙ方向に沿って夫々延びる複数の間隙領域Ｒ２（図３参照）を隔ててマトリクス状に配列する。ここで、表示部３のうち表示に寄与しない部分（即ち、非表示部分）である間隙領域Ｒ１及びＲ２（言い換えれば、後述する隔壁８８が形成される部分）の面積を低減する観点から、間隙領域Ｒ１及びＲ２の各々の幅は、例えば５ｕｍ〜２０ｕｍであることが好ましい。
【００７４】
尚、回路基板２８に形成される、例えばトランジスター２４や保持容量２７、走査線４０、データ線５０などの各種素子や配線は、できる限り、回路基板２８上で平面的に見て画素電極２１に重なるように形成することが好ましい。これにより、図７を参照して後述する露光工程において、露光光が、間隙領域Ｒ１及びＲ２において、例えばトランジスター２４や保持容量２７、走査線４０、データ線５０などの各種素子や配線によって遮られてしまうことを抑制或いは防止できる。
【００７５】
次に、図６に示すレジスト膜形成工程において、回路基板２８上に複数の画素電極２１を覆うようにネガ型レジストを塗布することによりレジスト膜５００を形成する。この際、レジスト膜５００を例えば２０ｕｍ〜１００ｕｍ等の所定の膜厚を有するように形成する。尚、本実施形態では、レジスト膜５００から隔壁８８を形成するので、レジスト膜５００の膜厚は、形成すべき隔壁８８の高さに応じて決定される。また、ネガ型レジストとしては、一般的な感光性材料を用いることが可能であるが、例えば、ポリアクリレート、ポリビニル化合物、ポリウレタン、ポリエステル、エポキシ化合物、ポリアミド、ポリイミド、ノボラック系樹脂、フルオレン系樹脂などのバインダー樹脂、多官能アクリレート、多官能メタクリレートなどのラジカル重合性化合物、光重合開始剤などからなる樹脂組成物及びこれらの混合物を用いることができる。
【００７６】
尚、レジスト膜形成工程では、回路基板２８上にネガ型レジストを塗布する前に、回路基板２８とネガ型レジストとの密着性を向上させるための処理を行ってもよい。このような処理として、例えば、ヘキサメチルジシラザン、シクロヘキサン、オクタデシルトリクロロシラン等の表面改質剤や自己組織化単分子膜を用いた表面処理、アセトンや磯プロピルアルコール等を用いた有機洗浄処理、塩酸や硫酸、酢酸等の酸や水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、アンモニア等のアルカリ処理、ＵＶオゾン処理、フッ化処理、酸素やアルゴン等のプラズマ処理、ラングミュアブロジェット膜の形成処理を行ってもよいし、或いは、密着性を向上させるための接着層を形成してもよいし、これらのうちの１種類又は２種類以上の処理を用いてもよい。
【００７７】
尚、レジスト膜形成工程では、ネガ型レジストからなるフィルムレジストを回路基板２８上に複数の画素電極２１を覆うように貼り付けることにより、レジスト膜５００を形成してもよい。
【００７８】
次に、図７に示す露光工程において、回路基板２８の複数の画素電極２１が形成された表面Ｓ１とは反対の裏面Ｓ２側から回路基板２８を介してレジスト膜５００を露光する。この際、露光光は、非透光性の材料から形成された画素電極２１によって遮られる。よって、露光光は、レジスト膜５００のうち回路基板２８上で平面的に見て画素電極２１に重なる部分には照射されず、レジスト膜５００のうち間隙領域Ｒ１及びＲ２に位置する部分に照射される。
【００７９】
即ち、露光工程では、回路基板２８の裏面Ｓ２側から非透光性の複数の画素電極２１をマスクとしてレジスト膜５００を露光する。これにより、レジスト膜５００のうち互いに隣り合う画素電極２１間の間隙領域Ｒ１及びＲ２に位置する部分のみを露光できる。
【００８０】
次に、図８に示す現像工程において、露光工程によって露光されたレジスト膜５００を現像することにより、複数の画素電極２１のうち互いに隣り合う画素電極２１間を隔てる隔壁８８を形成する。ここで、露光工程によって、前述したように、レジスト膜５００のうち互いに隣り合う画素電極２１間の間隙領域Ｒ１及びＲ２に位置する部分のみが露光されるので、現像工程によって、隔壁８８を、互いに隣り合う画素電極２１間の間隙領域Ｒ１及びＲ２に確実に形成することができる。
【００８１】
このように、本実施形態によれば、回路基板２８の裏面Ｓ２側から複数の画素電極２１をマスクとしてレジスト膜５００を露光し、レジスト膜５００の露光部分（レジスト膜５００のうち間隙領域Ｒ１及びＲ２に位置する部分）からなる隔壁８８を自己整合的に形成するので、例えば画素電極２１が形成された回路基板２８と別途形成した隔壁８８とを貼り合わせる場合には必要となる、画素電極２１と隔壁８８との位置合わせが不要であり、画素電極２１と隔壁８８との位置ずれの発生を防止できる。加えて、例えば画素電極２１が形成された回路基板２８と隔壁８８とを貼り合わせる場合には生じ得る、回路基板２８と隔壁８８との間に気泡が発生してしまうという事態を回避できる。
【００８２】
更に、本実施形態によれば、回路基板２８の裏面Ｓ２側からレジスト膜５００を露光するので、例えば回路基板２８の上側（即ち、レジスト膜５００が回路基板２８に対向する側とは反対側）からフォトマスクを介してレジスト膜５００を露光する場合と比較して、隔壁８８と回路基板２８との密着性を向上させることができる。
【００８３】
図９は、隔壁８８の平面形状を示す平面図である。
【００８４】
図９に示すように、本実施形態によれば、前述したように、隔壁８８を、互いに隣り合う画素電極２１間の間隙領域Ｒ１及びＲ２に確実に形成することができる。ここで、本実施形態では、データ線５０、走査線４０及び共通電位線９３が非透光性の材料から形成されるので、隔壁８８には、データ線５０が間隙領域Ｒ１と交差する部分に対応する隙間１２１、走査線４０が間隙領域Ｒ２と交差する部分に対応する隙間１２２、及び共通電位線９３が間隙領域Ｒ２と交差する部分に対応する隙間１２３が形成される。このような隙間１２１、１２２及び１２３が形成されることにより、隙間１２１、１２２及び１２３を介して表示部３のすべての画素２０について電気泳動分散液２３を容易に充填できたり、気泡を低減できたりするなどの実践上の利益を得ることができる。
【００８５】
以上説明したように、本実施形態によれば、画素電極２１と隔壁８８との位置ずれの発生を防止できる。更に、隔壁８８と回路基板２８との密着性を向上させることもできる。
【００８６】
＜変形例＞
前述した第１実施形態の変形例として、走査線４０、データ線５０及び共通電位線９３を例えばＩＴＯ等の透光性の材料から形成してもよい。この場合には、露光工程において、回路基板２８上に形成された走査線４０、データ線５０及び共通電位線９３によってレジスト膜５００に対する露光光が遮られ、隔壁８８に隙間（例えば図９を参照して前述した隙間１２１、１２２及び１２３）が生じてしまうことを低減或いは防止できる。尚、走査線４０、データ線５０及び共通電位線９３のいずれかの、間隙領域Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方と交差する部分を含む一部分を透光性の材料から形成することによっても、隔壁８８に隙間が生じるのを低減するという効果を相応に得ることができる。
【００８７】
＜第２実施形態＞
第２実施形態に係る電気泳動表示装置の製造方法について、図１０を参照して説明する。
【００８８】
第２実施形態に係る電気泳動表示装置の製造方法は、画素電極形成工程において複数の画素電極２１の各々をジグザグ形状の周縁を有するように形成する点で前述した第１実施形態に係る電気泳動表示装置の製造方法と異なり、その他の点については、前述した第１実施形態に係る電気泳動表示装置の製造方法と概ね同様である。
【００８９】
図１０は、第２実施形態に係る電気泳動表示装置の複数の画素電極２１及び隔壁８８の平面形状を示す平面図である。
【００９０】
図１０に示すように、本実施形態では特に、画素電極形成工程において複数の画素電極２１の各々をジグザグ形状の周縁を有するように形成する。即ち、複数の画素電極２１の各々の周縁は、ジグザグ形状を有する。よって、前述した第１実施形態と同様のレジスト膜形成工程、露光工程及び現像工程を行うことにより、回路基板２８上で平面的に見て、画素電極２１の周縁に沿ったジグザグ形状を有するように隔壁８８を形成することができる。よって、回路基板２８の法線方向（即ち、図４中、Ｚ方向）に沿って例えば対向基板２９側から隔壁８８を押す力に対する強度などの隔壁８８の強度を向上させることができる。
【００９１】
＜第３実施形態＞
第３実施形態に係る電気泳動表示装置の製造方法について、図１１を参照して説明する。
【００９２】
図１１は、第３実施形態に係る電気泳動表示装置の隣り合う複数の画素の平面図である。
【００９３】
図１１において、第３実施形態に係る電気泳動表示装置の製造方法は、データ線５０が複数の間隙領域Ｒ１のうち一の間隙領域Ｒ１ａと交差する交差部分５１と、データ線５０が複数の間隙領域Ｒ１のうち一の間隙領域Ｒ１ａに隣り合う他の間隙領域Ｒ１ｂと交差する交差部分５２とが、Ｘ方向に沿って互いにずれるように、データ線５０を形成する点で、前述した第１実施形態に係る電気泳動表示装置の製造方法と異なり、その他の点については、前述した第１実施形態に係る電気泳動表示装置の製造方法と概ね同様である。
【００９４】
本実施形態では特に、データ線５０が複数の間隙領域Ｒ１のうち一の間隙領域Ｒ１ａと交差する交差部分５１と、データ線５０が複数の間隙領域Ｒ１のうち一の間隙領域Ｒ１ａに隣り合う他の間隙領域Ｒ１ｂと交差する交差部分５２とが、Ｘ方向に沿って互いにずれるように、データ線５０を形成する。よって、隔壁８８に生じる交差部分５１に対応する隙間１２１ａ及び交差部分５２に対応する隙間１２１ｂは、Ｘ方向に沿って互いにずれる。従って、例えば隔壁８８に生じる複数の隙間１２１が、Ｘ方向に沿って互いにずれておらず、Ｙ方向に沿って直線的に並ぶ場合（例えば、図９を参照して前述した第１実施形態に係る電気泳動表示装置１）と比較して、回路基板２８上における複数の画素２０間を電気泳動粒子８１が隔壁８８の隙間１２１を介して移動することを低減できる。
【００９５】
＜第４実施形態＞
第４実施形態に係る電気泳動表示装置の製造方法について、図１２を参照して説明する。
【００９６】
図１２は、第４実施形態に係る露光工程を示す断面図である。図１２（ａ）は、第１斜め方向から露光する工程、図１２（ｂ）は、第２斜め方向から露光する工程をそれぞれ示している。
【００９７】
図１２において、第４実施形態に係る電気泳動表示装置の製造方法は、露光工程が、回路基板２８の裏面Ｓ２の法線方向（即ち、Ｚ方向）に対して斜めである第１斜め方向（即ち、図１２においてブロック矢印Ｐ１が示す方向。以下「斜め方向Ｐ１」と適宜称する。）から露光する工程と、回路基板２８の裏面Ｓ２の法線方向に対して斜めであって、斜め方向Ｐ１とは異なる第２斜め方向（即ち、図１２においてブロック矢印Ｐ２が示す方向。以下「斜め方向Ｐ２」と適宜称する）から露光する工程とを含む点で前述した第１実施形態に係る電気泳動表示装置の製造方法と異なり、その他の点については、前述した第１実施形態に係る電気泳動表示装置の製造方法と概ね同様である。
【００９８】
本実施形態では特に、露光工程において、レジスト膜５００を斜め方向Ｐ１から露光する（図１２（ａ）参照）と共に、レジスト膜５００を斜め方向Ｐ２から露光する（図１２（ｂ）参照）。よって、回路基板２８上に非透光性材料から形成されたデータ線５０によってレジスト膜５００に対する露光光が遮られ、隔壁８８に隙間が生じてしまうことを防止できる。従って、複数の画素２０間で隔壁８８の隙間を介して電気泳動分散液２３が移動することを防止できる。これにより、例えば赤色の電気泳動粒子を含む電気泳動分散液、緑色の電気泳動粒子を含む電気泳動分散液、青色の電気泳動粒子を含む電気泳動分散液を互いに異なる所定の画素２０に設けることで、高品位なカラー表示を行うことが可能となる。
【００９９】
＜第５実施形態＞
第５実施形態に係る電気泳動表示装置の製造方法について、図１３から図１５を参照して説明する。
【０１００】
第５実施形態に係る電気泳動表示装置の製造方法は、露光工程において、回路基板２８の表面Ｓ１からの距離が大きいほど隔壁８８の壁厚が大きくなるようにレジスト膜５００を露光する点で、前述した第１実施形態に係る電気泳動表示装置の製造方法と異なり、その他の点については、前述した第１実施形態に係る電気泳動表示装置の製造方法と概ね同様である。
【０１０１】
図１３は、第５実施形態に係る露光工程を示す断面図であり、図１４は、第５実施形態に係る現像工程を示す断面図である。図１５は、第５実施形態における、現像工程の後に電気泳動分散液２３及び封止膜９０を設ける工程を示す断面図である。
【０１０２】
図１３に示すように、本実施形態では特に、露光工程において、回路基板２８の表面Ｓ１からの距離が大きいほど隔壁８８の壁厚ｄ（図１６参照）が大きくなるようにレジスト膜５００を回路基板２８の裏面Ｓ２側から露光する。即ち、回路基板２８の裏面Ｓ２側から露光することにより、露光光をレジスト膜５００内で回路基板２８の表面Ｓ１から離れるにつれて徐々に拡散させる。
【０１０３】
よって、図１４に示すように、現像工程によって、回路基板２８の表面Ｓ１からの距離が大きいほど（言い換えれば、回路基板２８と接している部分からの距離が大きいほど）壁厚ｄが大きい隔壁８８（即ち、いわば逆テーパー形状の断面を有する隔壁８８）を形成することができる。
【０１０４】
従って、図１５に示すように、回路基板２８上の隔壁８８によって囲まれた空間内に電気泳動分散液２３を注入した後に、封止膜９０を隔壁８８の上面に密着させて設ける場合に、封止膜９０と隔壁８８とが互いに密着する面積を例えば図３を参照して前述した第１実施形態と比較して大きくすることができる。この結果、封止膜９０が隔壁８８に密着する密着性を向上させることができ、封止膜９０が隔壁８８から剥がれてしまうことを低減或いは防止できる。
【０１０５】
＜電子機器＞
次に、前述した電気泳動表示装置を適用した電子機器について、図１６及び図１７を参照して説明する。以下では、前述した電気泳動表示装置を電子ペーパー及び電子ノートに適用した場合を例にとる。
【０１０６】
図１６は、電子ペーパー１４００の構成を示す斜視図である。
【０１０７】
図１６に示すように、電子ペーパー１４００は、前述した実施形態に係る電気泳動表示装置を表示部１４０１として備えている。電子ペーパー１４００は可撓性を有し、従来の紙と同様の質感及び柔軟性を有する書き換え可能なシートからなる本体１４０２を備えて構成されている。
【０１０８】
図１７は、電子ノート１５００の構成を示す斜視図である。
【０１０９】
図１７に示すように、電子ノート１５００は、図１６で示した電子ペーパー１４００が複数枚束ねられ、カバー１５０１に挟まれているものである。カバー１５０１は、例えば外部の装置から送られる表示データを入力するための表示データ入力手段（図示せず）を備える。これにより、その表示データに応じて、電子ペーパーが束ねられた状態のまま、表示内容の変更や更新を行うことができる。
【０１１０】
前述した電子ペーパー１４００及び電子ノート１５００は、前述した実施形態に係る電気泳動表示装置を備えるので、高品質な画像表示を行うことが可能である。
【０１１１】
本発明は、前述した実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気泳動表示装置の製造方法、電気泳動表示装置及び該電気泳動表示装置を備えてなる電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【符号の説明】
【０１１２】
２１…画素電極、２２…共通電極、２３…電気泳動分散液、２４…トランジスター、２７…保持容量、２８…回路基板、２９…対向基板、４０…走査線、５０…データ線、８１…電気泳動粒子、８２…分散液、８８…隔壁、９０…封止膜、９３…共通電位線、１２１、１２２、１２３…隙間、５００…レジスト膜、Ｒ１、Ｒ２…間隙領域、Ｓ１…表面、Ｓ２…裏面
【図１】
0005549523.tif 000002
【図２】
0005549523.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
0005549523.tif 000006
【図６】
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【図７】
0005549523.tif 000008
【図８】
0005549523.tif 000009
【図９】
0005549523.tif 000010
【図１０】
0005549523.tif 000011
【図１１】
0005549523.tif 000012
【図１２】
0005549523.tif 000013
【図１３】
0005549523.tif 000014
【図１４】
0005549523.tif 000015
【図１５】
0005549523.tif 000016
【図１６】
0005549523.tif 000017
【図１７】
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