(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性フィルムであって、
光透過性基材と、
前記光透過性基材の片面または両面上に積層された高屈折率層と、
前記高屈折率層上に積層され、かつ前記高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層と、
前記低屈折率層上に積層され、かつパターニングされた透明導電層とを備え、
前記導電性フィルムの表面の法線方向を０°とし、５°以上７５°以下の範囲内で入射角度を５度毎変えながら前記透明導電層の表面側から前記透明導電層に光を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からＬ*ａ*ｂ*表色系のａ*値およびｂ*値を求めたとき、ａ*値のばらつきが３．５以内であり、かつｂ*値のばらつきが７．０以内である、導電性フィルム。
【請求項２】
前記高屈折率層と前記低屈折率層との屈折率差が０．１０以上０．３０以下である、請求項１に記載の導電性フィルム。
【請求項３】
前記高屈折率層が、２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚および１．５５以上１．７５以下の屈折率を有し、かつ前記低屈折率層が、３ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚および１．３５以上１．５５以下の屈折率を有する、請求項１に記載の導電性フィルム。
【請求項４】
前記光透過性基材と前記高屈折率層との間に設けられたハードコート層をさらに備える、請求項１に記載の導電性フィルム。
【請求項５】
前記高屈折率層が、０．５μｍ以上１０μｍ以下の膜厚および１．５５以上１．７５以下の屈折率を有し、かつ前記低屈折率層が、３ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚および１．３５以上１．５５未満の屈折率を有する、請求項１に記載の導電性フィルム。
【請求項６】
前記透明導電層が、１５ｎｍ以上５０ｎｍ以下の膜厚および１．８５以上２．３０以下の屈折率を有する、請求項１に記載の導電性フィルム。
【請求項７】
前記透明導電層がスズドープ酸化インジウム層である、請求項１に記載の導電性フィルム。
【請求項８】
前記ａ*値のばらつきが１．５以内である、請求項１に記載の導電性フィルム。
【請求項９】
請求項１に記載の導電性フィルムを備える、タッチパネルセンサ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性フィルム、およびタッチパネルセンサに関する。
【背景技術】
【０００２】
今日、入力手段として、タッチパネル装置が広く用いられている。タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサ上への接触位置を検出する制御回路、配線およびＦＰＣ（フレキシブルプリント基材）を備えている。タッチパネル装置は、多くの場合、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の表示装置が組み込まれた種々の装置等（例えば、券売機、ＡＴＭ装置、携帯電話、ゲーム機）に対する入力手段として表示装置とともに用いられている。このような装置においては、タッチパネルセンサが表示装置の表示面上に配置されており、これによって、表示装置に対する極めて直接的な入力が可能となっている。
【０００３】
タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ上への接触位置（接近位置）を検出する原理に基づいて、種々の形式に区別される。昨今では、光学的に明るいこと、意匠性があること、構造が容易であること、機能的にも優れていること等の理由から、静電容量方式のタッチパネル装置が注目されている。静電容量方式には表面型と投影型とがあるが、マルチタッチの認識（多点認識）への対応に適していることから、投影型が注目を浴びている。
【０００４】
投影型静電容量方式のタッチパネルに用いられるタッチパネルセンサとしては、中間基材フィルムと、中間基材フィルム上に形成された透明導電層とからなる導電性フィルムを備えているものがある（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−９８５６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
現在、タッチパネル装置の大面積化が進んでいるが、タッチパネル装置の大面積化が進むにつれて、画面サイズが大きくなるので、タッチパネル装置を視認する場所によって視認角度が大きく異なる傾向にある。タッチパネル装置に用いられるタッチパネルセンサの導電性フィルムは、正面から視認することを前提として設計されているが、このような正面から視認することを前提とした設計思想では、視認する角度によって色味がばらついてしまうので、タッチパネル装置の大面積化に対応することができないおそれがある。
【０００７】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものである。すなわち、様々な角度から視認した場合における色味のばらつきを抑制できる導電性フィルム、およびタッチパネルセンサを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一の態様によれば、導電性フィルムであって、光透過性基材と、前記光透過性基材の片面または両面上に積層された高屈折率層と、前記高屈折率層上に積層され、かつ前記高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層と、前記低屈折率層上に積層され、かつパターニングされた透明導電層とを備え、前記導電性フィルムの表面の法線方向を０°とし、５°以上７５°以下の範囲内で入射角度を５度毎変えながら前記透明導電層の表面側から前記透明導電層に光を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からＬ*ａ*ｂ*表色系のａ*値およびｂ*値を求めたとき、ａ*値のばらつきが３．５以内であり、かつｂ*値のばらつきが７．０以内である、導電性フィルムが提供される。
【０００９】
本発明の他の態様によれば、上記導電性フィルムを備える、タッチパネルセンサが提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の一の態様の導電性フィルムおよびタッチパネルセンサによれば、様々な角度から視認した場合における色味のばらつきを抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】第１の実施形態に係る導電性フィルムの概略構成図である。
【図２】パターニングされた透明導電層の一部の平面図である。
【図３】分光光度計を用いて、導電性フィルムにおけるａ*およびｂ*を測定する様子を示した模式図である。
【図４】第１の実施形態に係るタッチパネルセンサの概略構成図である。
【図５】第１の実施形態に係るタッチパネルセンサのセンサ部分の平面図である。
【図６】第１の実施形態に係る他のタッチパネルセンサの概略構成図である。
【図７】第２の実施形態に係る導電性フィルムの概略構成図である。
【図８】第２の実施形態に係るタッチパネルセンサの概略構成図である。
【図９】第３の実施形態に係る導電性フィルムの概略構成図である。
【図１０】第３の実施形態に係る他の導電性フィルムの概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
［第１の実施形態]
以下、本発明の第１の実施形態に係る導電性フィルムおよびタッチパネルセンサについて、図面を参照しながら説明する。図１は本実施形態に係る導電性フィルムの概略構成図であり、図２はパターニングされた透明導電層の一部の平面図であり、図３は導電性フィルムにおける分光反射率を分光反射率測定器で測定する様子を示した模式図である。なお、本明細書において、「フィルム」、「シート」、「板」等の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。したがって、例えば、「フィルム」はシートや板とも呼ばれ得るような部材も含む概念である。一具体例として、「導電性フィルム」には、「導電性シート」等と呼ばれる部材も含まれる。
【００１３】
＜＜導電性フィルム＞＞
導電性フィルムは、光透過性基材と、光透過性基材の片面または両面上に積層された高屈折率層と、高屈折率層上に積層され、かつ高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層と、低屈折率層上に積層され、かつパターニングされた透明導電層とを備えるフィルムである。また、上記光透過性基材と、高屈折率層と、低屈折率層とを備えるフィルムのことを「中間基材フィルム」ともいう。「中間基材フィルム」とは、例えば、タッチパネル等の装置に組み込んで使用される場合に、タッチパネル等の装置の最表面に用いられるものではなく、タッチパネル等の装置の内部に用いられる基材フィルムを意味する。導電性フィルムにおいては、パターニングされた透明導電層が、この中間基材フィルムによって支持されている。
【００１４】
図１に示される導電性フィルム１０は、光透過性基材１１と、光透過性基材１１の両面上に形成されたハードコート層１２、１３と、ハードコート層１２上に形成された高屈折率層１４と、高屈折率層１４上に形成された低屈折率層１５と、低屈折率層１５上に積層され、かつパターニングされた透明導電層１６とを備えている。導電性フィルム１０は、ハードコート層１２、１３を備えているが、ハードコート層１２および／またはハードコート層１３を備えていなくてもよい。透明導電層１６の表面１６Ａは、導電性フィルム１０の表面１０Ａをなしている。「透明導電層の表面」とは、透明導電層における光透過性基材側の面とは反対側の面を意味するものとする。
【００１５】
図２はパターニングされた透明導電層の一例を示した平面図であり、図中のＩ−Ｉ線による断面図が図１である。透明導電層１６は、タッチパネルセンサ２０におけるＸ方向の電極として機能するものであるので、図２に示されるように、透明導電層１６を構成するパターン形状は横方向に電気的に接続されている。図１に示したとおり、パターニングされた透明導電層１６は導電性フィルム１０の低屈折率層１５上に設けられている。
【００１６】
導電性フィルム１０は、このハードコート層１３上に高屈折率層１４や低屈折率層１５、さらには透明導電層１６を備えていてもよい。具体的には、導電性フィルムとしては、図１に示される導電性フィルム１０の他、光透過性基材の一方の面上にハードコート層、高屈折率層、低屈折率層、および透明導電層がこの順で設けられ、かつ光透過性基材の他方の面上にハードコート層が設けられていない導電性フィルム、光透過性基材の一方の面上にハードコート層、高屈折率層、低屈折率層、および透明導電層がこの順で設けられ、かつ光透過性基材の他方の面上にハードコート層および高屈折率層がこの順で設けられた導電性フィルム、光透過性基材の一方の面上にハードコート層、高屈折率層、低屈折率層、および透明導電層がこの順で設けられ、かつ光透過性基材の他方の面上にハードコート層、高屈折率層、および低屈折率層がこの順で設けられた導電性フィルム、および光透過性基材の一方の面上にハードコート層、高屈折率層、低屈折率層、および透明導電層がこの順で設けられ、かつ光透過性基材の他方の面上にハードコート層、高屈折率層、低屈折率層、および透明導電層がこの順で設けられた導電性フィルムのいずれであってもよい。
【００１７】
導電性フィルム１０においては、導電性フィルム１０の表面の法線方向を０°とし、５°以上７５°の範囲内で入射角度を５度毎変えながら透明導電層１６の表面側から透明導電層１６に可視光を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からＬ*ａ*ｂ*表色系のａ*値およびｂ*値を求めたとき、ａ*値のばらつきが３．５以内となり、かつｂ*値のばらつきが７．０以内となっている。「Ｌ*ａ*ｂ*表色系」、「ａ*」、および「ｂ*」は、ＪＩＳ  Ｚ８７２９に準拠するものである。
【００１８】
ａ*値およびｂ*値は、ＪＩＳ  Ｚ８７２２に準拠して測定されるものであり、具体的には、例えば、公知の分光光度計を用いて、求めることができる。図３に示される分光光度計１００は、０°以上７５°以下の範囲内で移動可能な光源１０１と、正反射方向の反射光を受光可能なように光源の移動と同期して移動する検出器１０２とを備えている。光源１０１の移動角度は導電性フィルム１０の法線方向Ｎを０°としている。光源１０１から導電性フィルムの透明導電層１６に光を照射し、正反射方向の反射光を検出器１０２で受光し、この検出器１０２によって受光された反射光からａ*値およびｂ*値を求めることができる。分光光度計としては、日本分光株式会社製の絶対反射率測定装置ＶＡＲ−７０１０や紫外可視近赤外分光光度計Ｖ−７１００等が挙げられる。光源としては、タングステンハロゲン（ＷＩ）ランプ単体、または重水素（Ｄ２）ランプとタングステンハロゲン（ＷＩ）ランプとの併用が挙げられる。また、この測定においては、入射角が大きくなるに従い、ｓ偏光とｐ偏光の反射率差が大きくなるため、正確な測定を行うために透過軸が４５°傾いた偏光子を用いることが好ましい。
【００１９】
ａ*値およびｂ*値のばらつきは、上記分光光度計により、各入射角度におけるａ*値およびｂ*値を求め、その最大値と最小値の差分の絶対値を算出することによって、求めることができる。ａ*値のばらつきは１．５以内となっていることが好ましく、またｂ*値のばらつきは５．５以内となっていることが好ましい。
【００２０】
上記ａ*値およびｂ*値を求めたある角度の反射光と、上記ａ*値およびｂ*値を求めた他の角度の反射光との色差ΔＥ*ａｂは、５以下であることが好ましい。「ΔＥ*ａｂ」は、ＪＩＳ  Ｚ８７３０に準拠するものである。
【００２１】
＜光透過性基材＞
光透過性基材１１としては、光透過性を有すれば特に限定されないが、例えば、ポリオレフィン基材、ポリカーボネート基材、ポリアクリレート基材、ポリエステル基材、芳香族ポリエーテルケトン基材、ポリエーテルサルフォン基材、またはポリアミド基材が挙げられる。
【００２２】
ポリオレフィン基材としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ポリオレフィン基材等の少なくとも１種を構成成分とする基材が挙げられる。環状ポリオレフィン基材としては、例えばノルボルネン骨格を有するものが挙げられる。
【００２３】
ポリカーボネート基材としては、例えば、ビスフェノール類（ビスフェノールＡ等）をベースとする芳香族ポリカーボネート基材、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等の脂肪族ポリカーボネート基材等が挙げられる。
【００２４】
ポリアクリレート基材としては、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチル基材、ポリ（メタ）アクリル酸エチル基材、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体基材等が挙げられる。
【００２５】
ポリエステル基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）の少なくとも１種を構成成分とする基材が挙げられる。
【００２６】
芳香族ポリエーテルケトン基材としては、例えば、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）基材等が挙げられる。
【００２７】
光透過性基材１１の厚みは、特に限定されないが、５μｍ以上３００μｍ以下とすることが可能であり、光透過性基材１１の厚みの下限はハンドリング性等の観点から２５μｍ以上が好ましく、５０μｍ以上がより好ましい。光透過性基材１１の厚みの上限は薄膜化の観点から２５０μｍ以下であることが好ましい。
【００２８】
光透過性基材１１の表面には、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理の他、アンカー剤やプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。アンカー剤やプライマー剤としては、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、エチレンと酢酸ビニルまたはアクリル酸などとの共重合体、エチレンとスチレンおよび／またはブタジエンなどとの共重合体、オレフィン樹脂などの熱可塑性樹脂および／またはその変性樹脂、光重合性化合物の重合体、およびエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂等の少なくともいずれかを用いることが可能である。
【００２９】
＜ハードコート層＞
ハードコート層はＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）で「Ｈ」以上の硬度を有する。鉛筆硬度を「Ｈ」以上とすることにより、ハードコート層１２の硬さを透明導電層１６の表面に十分に反映させることができ、耐久性を向上させることができる。なお、ハードコート層１２上に形成する高屈折率層１４との密着性、靱性およびカールの防止の観点から、ハードコート層１２の表面の鉛筆硬度の上限は４Ｈ程度程とすることが好ましい。タッチパネルセンサは、繰り返し押圧され高度な密着性および靱性が要求されることから、ハードコート層１２の鉛筆硬度の上限を４Ｈとすることにより、導電性フィルム１０をタッチパネルセンサに組み込んで使用する場合に顕著な効果を発揮できる。また、低屈折率層１５上に透明導電層１６を形成する際には中間基材フィルムへの加熱が伴い、この加熱により光透過性基材からオリゴマーが析出し中間基材フィルムのヘイズを上昇させる課題が生じる場合があるが、ハードコート層がオリゴマーの析出を抑制する層として機能することができる。
【００３０】
ハードコート層１２、１３は、高屈折率層１４より低い屈折率を有する。ハードコート層１２、１３の屈折率は、１．４５以上１．６０以下となっていることが好ましい。ハードコート層１２、１３の屈折率の下限は、１．４８以上であることがより好ましく、ハードコート層１２、１３の屈折率の上限は、１．５７以下であることがより好ましい。ハードコート層１３の屈折率は、必ずしもハードコート層１２の屈折率と一致している必要はない。
【００３１】
ハードコート層１２、１３の屈折率は、単独の層を形成した後、アッベ屈折率計（アタゴ社製  ＮＡＲ−４Ｔ）やエリプソメーターによって測定できる。また、導電性フィルム１０となった後に屈折率を測定する方法としては、ハードコート層１２、１３をそれぞれカッターなどで削り取り、粉状態のサンプルを作製し、ＪＩＳ  Ｋ７１４２（２００８）Ｂ法（粉体または粒状の透明材料用）に従ったベッケ法（屈折率が既知のカーギル試薬を用い、前記粉状態のサンプルをスライドガラスなどに置き、そのサンプル上に試薬を滴下し、試薬でサンプルを浸漬する。その様子を顕微鏡観察によって観察し、サンプルと試薬の屈折率が異なることによってサンプル輪郭に生じる輝線；ベッケ線が目視で観察できなくなる試薬の屈折率を、サンプルの屈折率とする方法）を用いることができる。
【００３２】
ハードコート層１２、１３の膜厚は０．５μｍ以上となっていることが好ましい。ハードコート層１２、１３の厚みが０．５μｍ以上であれば、所望の硬度を得ることができる。ハードコート層１２、１３の膜厚は、断面顕微鏡観察により測定することができる。ハードコート層の厚みの下限は１．０μｍ以上であることがより好ましく、上限は７．０μｍ以下であることがより好ましく、ハードコート層１２、１３の厚みは１．５μｍ以上５．０μｍ以下であることがさらに好ましい。ハードコート層１３の膜厚は、必ずしもハードコート層１２の膜厚と一致している必要はない。
【００３３】
ハードコート層１２、１３は、例えば、樹脂から構成することができる。樹脂は、光重合性化合物の重合物（架橋物）を含むものである。樹脂は、光重合性化合物の重合物（架橋物）の他、溶剤乾燥型樹脂や熱硬化性樹脂を含んでいてもよい。光重合性化合物は、光重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。本明細書における、「光重合性官能基」とは、光照射により重合反応し得る官能基である。光重合性官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性二重結合が挙げられる。なお、「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む意味である。また、光重合性化合物を重合する際に照射される光としては、可視光線、並びに紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、およびγ線のような電離放射線が挙げられる。
【００３４】
光重合性化合物としては、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、または光重合性ポリマーが挙げられ、これらを適宜調整して、用いることができる。光重合性化合物としては、光重合性モノマーと、光重合性オリゴマーまたは光重合性ポリマーとの組み合わせが好ましい。
【００３５】
（光重合性モノマー）
光重合性モノマーは、重量平均分子量が１０００未満のものである。光重合性モノマーとしては、光重合性官能基を２つ（すなわち、２官能）以上有する多官能モノマーが好ましい。本明細書において、「重量平均分子量」は、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等の溶媒に溶解して、従来公知のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリスチレン換算により得られる値である。
【００３６】
２官能以上のモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートや、これらをＰＯ、ＥＯ等で変性したものが挙げられる。
【００３７】
これらの中でも硬度が高いハードコート層を得る観点から、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）等が好ましい。
【００３８】
（光重合性オリゴマー）
光重合性オリゴマーは、重量平均分子量が１０００以上１００００未満のものである。光重合性オリゴマーとしては、２官能以上の多官能オリゴマーが好ましい。多官能オリゴマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、 ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル−ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３９】
（光重合性プレポリマー）
光重合性プレポリマーは、重量平均分子量が１００００以上のものであり、重量平均分子量としては１００００以上８００００以下が好ましく、１００００以上４００００以下がより好ましい。重量平均分子量が８００００を超える場合は、粘度が高いため塗工適性が低下してしまい、得られる光学フィルムの外観が悪化するおそれがある。上記多官能ポリマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、ポリエステル−ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４０】
光重合性化合物を重合（架橋）させる際には、重合開始剤等を用いてもよい。重合開始剤は、光照射により分解されて、ラジカルを発生して光重合性化合物の重合（架橋）を開始または進行させる成分である。
【００４１】
重合開始剤は、光照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば特に限定されない。重合開始剤としては、特に限定されず、公知のものを用いることができ、具体例には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
【００４２】
上記重合開始剤としては、上記バインダ樹脂がラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。
【００４３】
溶剤乾燥型樹脂は、熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂である。溶剤乾燥型樹脂を添加した場合、ハードコート層１２、１３を形成する際に、塗液の塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。
【００４４】
熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。
【００４５】
熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、透明性や耐候性という観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。
【００４６】
熱硬化性樹脂としては、特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。
【００４７】
ハードコート層１２、１３は、上記光重合性化合物を含むハードコート層用組成物を、光透過性基材１１の表面に塗布し、乾燥させた後、塗膜状のハードコート層用組成物に紫外線等の光を照射して、光重合性化合物を重合（架橋）させることにより形成することができる。
【００４８】
ハードコート層用組成物には、上記光重合性化合物の他、必要に応じて、溶剤、重合開始剤を添加してもよい。さらに、ハードコート層用組成物には、ハードコート層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御する等の目的に応じて、従来公知の分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、易滑剤等を添加していてもよい。
【００４９】
ハードコート層用組成物を塗布する方法としては、スピンコート、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。
【００５０】
ハードコート層用組成物を硬化させる際の光として、紫外線を用いる場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等から発せられる紫外線等が利用できる。また、紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
【００５１】
＜高屈折率層＞
高屈折率層１４は、１．５５以上１．７５以下の屈折率を有することが好ましい。高屈折率層１４の屈折率の下限は、１．５８以上であることが好ましく、高屈折率層１４の屈折率の上限は、１．７０以下であることが好ましい。高屈折率層１４の屈折率は、上記ハードコート層１２の屈折率と同様の方法によって測定することができる。ハードコート層１２と高屈折率層１４との屈折率差は、色味のばらつきをより抑制する観点から、０．０５以上０．２０以下であることが好ましい。
【００５２】
高屈折率層１４の膜厚は、２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることが好ましい。高屈折率層１４の膜厚の下限は、３０ｎｍ以上であることがより好ましく、高屈折率層１４の膜厚の上限は、８０ｎｍ以下であることがより好ましく、７０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
【００５３】
高屈折率層１４および低屈折率層１５は、透明導電層１６が設けられている領域と透明導電層１６が設けられていない領域との間の光透過率および反射率の差を小さくするためのインデックスマッチング層として機能することができる。
【００５４】
高屈折率層１４は、例えば、高屈折率粒子と、バインダ樹脂とから構成することができる。上記高屈折率粒子としては、金属酸化物微粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子としては、具体的には、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率：２．３〜２．７）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５、屈折率：２．３３）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２、屈折率：２．１０）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５、屈折率：２．０４）、酸化スズ（ＳｎＯ２、屈折率：２．００）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率：１．９５）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、アンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ２Ｏ６、屈折率：１．９０〜２．００）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、屈折率：１．９０）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３、屈折率：１．８７）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、リンドープ酸化スズ（ＰＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、等が挙げられる。これらの中でも、高屈折率化およびコストの観点から、酸化ジルコニウムが好ましい。
【００５５】
高屈折率層１４に含まれるバインダ樹脂は特に制限されることがなく、熱可塑性樹脂を用いることもできるが、表面硬度を高くする観点から、熱硬化性樹脂又は光重合性化合物等の重合物（架橋物）であるものが好ましく、中でも光重合性化合物の重合物であるものがより好ましい。
【００５６】
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等の樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を硬化させる際には、硬化剤を用いてもよい。
【００５７】
光重合性化合物としては、特に限定されないが、光重合性モノマー、オリゴマー、ポリマーを用いることができる。１官能の光重合性モノマーとしては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等が挙げられる。また、２官能以上の光重合性モノマーとしては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、これらの化合物をエチレンオキサイド、ポリエチレンオキサイド等で変性した化合物等が挙げられる。
【００５８】
また、これらの化合物は、芳香族環、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄、窒素、リン原子等を導入して、屈折率を高く調整したものであってもよい。さらに、上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も使用することができる。光重合性化合物を重合（架橋）させる際には、ハードコート層の欄で説明した重合開始剤を用いてもよい。
【００５９】
高屈折率層１４は、例えば、ハードコート層１２、１３の形成方法と同様の方法によって形成することが可能である。具体的には、まず、ハードコート層１２の表面に、少なくとも高屈折率微粒子と光重合性化合物を含む高屈折率層用組成物を塗布する。次いで、塗膜状の高屈折率層用組成物を乾燥させる。その後、塗膜状の高屈折率層用組成物に紫外線等の光を照射して、光重合性化合物を重合（架橋）させることにより高屈折率層１４を形成することができる。
【００６０】
＜低屈折率層＞
低屈折率層１５は、高屈折率層１４の屈折率よりも低い屈折率を有する層である。低屈折率層１５は、高屈折率層１４の屈折率よりも低い屈折率を有すればよく、必ずしもハードコート層１２の屈折率よりも低い屈折率を有さなくともよい。具体的には、低屈折率層１５の屈折率は、１．３５以上１．５５以下となっていることが好ましい。低屈折率層１５の屈折率の下限は、１．４０以上であることがより好ましく、低屈折率層１５の屈折率の上限は、１．５２未満であることがより好ましい。低屈折率層１５の屈折率は、上記ハードコート層１２の屈折率と同様の方法によって測定することができる。高屈折率層１４と低屈折率層１５との屈折率差は、色味のばらつきをより抑制する観点から、０．１０以上０．３０以下であることが好ましい。
【００６１】
低屈折率層１５の膜厚は、３ｎｍ以上１００ｎｍ以下となっていることが好ましい。低屈折率層１５の膜厚の下限は、５ｎｍ以上であることがより好ましく、１０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。低屈折率層１５の膜厚の上限は、８０ｎｍ以下であることがより好ましく、６０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、４５ｎｍ以下であることが最も好ましい。
【００６２】
低屈折率層１５としては、高屈折率層１４の屈折率よりも低い屈折率を有するものであれば、特に限定されないが、低屈折率層１５は、例えば、低屈折率粒子と、バインダ樹脂とから、または低屈折率樹脂から構成することができる。あるいは、低屈折率層１５は、スパッタリングによって成膜された、シリカやフッ化マグネシウム等からなる層であってもよい。
【００６３】
低屈折率粒子としては、例えば、シリカ、またはフッ化マグネシウムからなる中実または中空粒子等が挙げられる。これらの中でも、中実シリカ粒子、中空シリカ粒子が好ましく、このような中空シリカ粒子は、例えば、特開２００５−０９９７７８号公報の実施例に記載の製造方法にて作製できる。
【００６４】
低屈折率微粒子としては、シリカ表面に反応性官能基を有する反応性シリカ微粒子を用いることが好ましい。反応性官能基としては、光重合性官能基が好ましい。このような反応性シリカ微粒子は、シランカップリング剤等によってシリカ微粒子を表面処理することによって作成することができる。シリカ微粒子の表面をシランカップリング剤で処理する方法としては、シリカ微粒子にシランカップリング剤をスプレーする乾式法や、シリカ微粒子を溶剤に分散させてからシランカップリング剤を加えて反応させる湿式法等が挙げられる。
【００６５】
低屈折率層１５を構成するバインダ樹脂としては、高屈折率層１４を構成するバインダ樹脂と同様のものが挙げられる。ただし、バインダ樹脂に、フッ素原子を導入した樹脂や、オルガノポリシロキサン等の屈折率の低い材料を混合してもよい。
【００６６】
低屈折率樹脂としては、フッ素原子を導入した樹脂や、オルガノポリシロキサン等の屈折率の低い樹脂が挙げられる。
【００６７】
低屈折率層１５は、例えば、ハードコート層１２の形成方法と同様の方法によって形成することが可能である。具体的には、まず、高屈折率層１４の表面に、少なくとも低屈折率微粒子と光重合性化合物を含む低屈折率層用組成物を塗布する。次いで、塗膜状の低屈折率層用組成物を乾燥させる。その後、塗膜状の低屈折率層用組成物に紫外線等の光を照射して、光重合性化合物を重合（架橋）させることにより低屈折率層１５を形成することができる。
【００６８】
＜透明導電層＞
透明導電層１６は、低屈折率層１５上に設けられ、かつパターニングされている。透明導電層１６の屈折率は、１．８５以上２．３０以下であることが好ましい。透明導電層１６の屈折率の下限は、１．９０以上であることが好ましく、透明導電層１６の屈折率の上限は、２．２０以下であることが好ましい。透明導電層１６の屈折率は、上記ハードコート層１２の屈折率と同様の方法によって測定することができる。
【００６９】
透明導電層１６の膜厚は、１５ｎｍ以上５０ｎｍ以下とすることが好ましい。透明導電層１６の膜厚の下限は、２０ｎｍ以上であることがより好ましく、透明導電層１６の膜厚の上限は、４５ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００７０】
透明導電層１６は、例えば、無機系の透明導電層用材料、有機系の透明導電層用材料、または無機系の透明導電層用材料と有機系の透明導電層用材料との混合材料を含む層である。無機系の透明導電層用材料としては、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、酸化亜鉛、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）、酸化スズ、酸化亜鉛−酸化スズ系、酸化インジウム−酸化スズ系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などの金属酸化物やカーボンナノチューブ等が挙げられる。これらの中でも透明導電層における透明性と低抵抗の観点から、無機系の透明導電層用材料としてはスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）が好ましい。有機系の透明導電層用材料としては、導電性ポリマー等が挙げられる。
【００７１】
透明導電層１６の形成方法は、特には限定されず、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、塗工法、印刷法などを用いることができる。透明導電層をパターニングする方法としては、例えばフォトリソグラフィー法が挙げられる。
【００７２】
透明導電層１６のパターニングは、例えば図２に示されるような形状とすることができる。図２に示された透明導電層１６は、センサ部１６Ａと、センサ部に連結した端子部（図示せず）とを備えている。センサ部１６Ａは、タッチ位置を検出され得る領域である矩形状のアクティブエリア内に設けられており、端子部は、アクティブエリアに隣接し、アクティブエリアを四方から周状に取り囲む領域である非アクティブエリア内に設けられている。
【００７３】
センサ部１６Ａは、所定のパターンで配置されている。具体的には、センサ部１６Ａは、導電性フィルム１０における低屈折率層１５のフィルム面に沿った一方向に並べて配列された線状導電体として構成されている。
【００７４】
センサ部１６Ａをなす線状導電体の各々は、その配列方向（前記一方向）と交差する方向において線状に延びている。図２においては、センサ部１６Ａは、その配列方向（前記一方向）と直交する方向（前記他方向）に沿って直線状に延びている。
【００７５】
センサ部１６Ａは、直線状に延びるライン部１６Ｂと、ライン部１６Ｂから膨出した膨出部１６Ｃとを有している。図２においては、ライン部１６Ｂは、センサ部１６Ａの配列方向と交差する方向に沿って直線状に延びている。膨出部１６Ｃは導電性フィルム１０における低屈折率層１５のフィルム面に沿ってライン部１６Ｂから膨らみ出ている部分である。したがって、各センサ部１６Ｂの幅は、膨出部１６Ｃが設けられている部分においては太くなっている。本実施形態においては、膨出部１６Ｃは平面視略正方形状の外輪郭を有している。なお、膨出部１６Ｃは平面視略正方形状に限らず、菱形状、またはストライプ状であってもよい。
【００７６】
従来、導電性フィルムの低屈折率層等の屈折率や膜厚は、主に、光透過性基材、高屈折率層および低屈折率層とからなる中間基材フィルムの反射率と、中間基材フィルム上に積層される透明導電層の反射率との差（反射率差）を小さくする観点から決定されており、様々な角度から導電性フィルムを視認したときの色味のばらつきに関しては何ら注目されていなかった。一方で、人の目は、上記反射率差よりも色味の変化を感じ取りやすく、また中間基材フィルムと透明導電層との反射率差を小さくするために高屈折率層と低屈折率層との屈折率差を大きくすると、色味のばらつきは大きくなってしまう傾向がある。本発明者らが鋭意研究を重ねたところ、導電性フィルムのａ*値およびｂ*値を調整すれば、色味のばらつきが抑えられることを見出した。具体的には、導電性フィルムの表面の法線方向を０°とし、５°以上７５°の範囲内で入射角度を５度毎変えながら透明導電層側から透明導電層に光を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からＬ*ａ*ｂ*表色系のａ*値およびｂ*値を求めたとき、ａ*値のばらつきが３．５以内であり、かつｂ*値のばらつきが７．０以内であれば、観察者が様々な方向から導電性フィルムを視認した場合であっても、色味がばらついているとは認識されなかったことを実験より見出した。本実施形態によれば、導電性フィルム１０の表面１０Ａの法線方向を０°とし、５°以上７５°以下の範囲内で入射角度を５度毎変えながら透明導電層１６の表面１６Ａ側から透明導電層１６に光を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からＬ*ａ*ｂ*表色系のａ*値およびｂ*値を求めたとき、ａ*値のばらつきが３．５以内であり、かつｂ*値のばらつきが７．０以内となっているので、様々な角度から導電性フィルム１０を視認した場合における色味のばらつきを抑制できる。
【００７７】
また、本発明者らが鋭意研究を重ねたところ、高屈折率層、低屈折率層および透明導電層の屈折率等を適宜調整することによって、上記導電性フィルムにおけるａ*値のばらつきを３．５以内とし、かつｂ*値のばらつきを７．０以内とすることができることを見出した。具体的には、例えば、光透過性基材上に、２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚および１．５５以上１．７５以下の屈折率を有する高屈折率層、３ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚および１．３５以上１．５５以下の屈折率を有する低屈折率層、ならびに１５ｎｍ以上５０ｎｍ以下の膜厚および１．８５以上２．３０以下の屈折率を有する透明導電層を形成することによって、上記導電性フィルムにおけるａ*値のばらつきを３．５以内とし、かつｂ*値のばらつきを７．０以内とすることができることを見出した。上記屈折率および膜厚を有する高屈折率層、低屈折率層および透明導電層を有する導電性フィルムにおいては、中間基材フィルムと透明導電層との反射率差が許容範囲内となるものの、従来の中間基材フィルムよりも透明導電層との反射率差が大きくなるので、従来のように、中間基材フィルムと透明導電層との反射率差を小さくする観点からは、決して採用し得ないものである。したがって、高屈折率層、低屈折率層および透明導電層の屈折率および膜厚を上記範囲内にして、ａ＊値およびｂ＊値を上記範囲内にすることによって奏される上記効果は、従来の中間基材フィルムの技術水準に照らして、予測され得る範囲を超えた顕著な効果であると言える。
【００７８】
＜＜タッチパネルセンサ＞＞
導電性フィルム１０は、例えば、タッチパネルセンサに組み込んで使用することができる。
【００７９】
図４に示されるタッチパネルセンサ２０は、導電性フィルム１０と、導電性フィルム２１とを積層した構造を有している。この図は、図５のＩＩ−ＩＩ線による断面図である。導電性フィルム１０は、低屈折率層１５に支持され、パターニングされた透明導電層１６を備えている。導電性フィルム２１は、低屈折率層１５に支持され、パターニングされた透明導電層２２を備えている。導電性フィルム１０と導電性フィルム２１の間には透明粘着層２３が介在しており、導電性フィルム１０と導電性フィルム２１は透明粘着層２３によって貼り付けられている。導電性フィルム１０上にも透明粘着層２４が設けられている。
【００８０】
透明導電層１６は、導電性フィルム１０を構成する低屈折率層１５よりも観察者側に配置されており、透明導電層２２は、導電性フィルム２１を構成する低屈折率層１５よりも観察者側に配置されている。すなわち、透明導電層２２は、導電性フィルム２１を構成する低屈折率層１５と導電性フィルム１０を構成するハードコート層１３との間に配置されている。
【００８１】
図５に示されるように透明導電層１６、２２は、それぞれ、センサ部１６Ａ、２２Ａと、センサ部に連結した端子部（図示せず）とを備えている。センサ部１６Ａ、２２Ａは、タッチ位置を検出され得る領域である矩形状のアクティブエリア内に設けられており、端子部は、アクティブエリアに隣接し、アクティブエリアを四方から周状に取り囲む領域である非アクティブエリア内に設けられている。なお、透明導電層１６、センサ部１６Ａ、ライン部１６Ｂ、膨出部１６Ｃは、図２に示したものと同様である。
【００８２】
センサ部２２Ａは、センサ部１６Ａとは異なる所定のパターンで配置されている。具体的には、センサ部１６Ａは、導電性フィルム１０における低屈折率層１５のフィルム面に沿った一方向に並べて配列された線状導電体として構成されており、センサ部２２Ａは、前記一方向と交差し、かつ導電性フィルム２１における低屈折率層１５のフィルム面に沿った他方向に並べて配列された線状導電体として構成されている。本実施形態においては、図５に示されるようにタッチパネルセンサ２０を上から平面視したとき、センサ部１６Ａの配列方向である一方向と、センサ部２２Ａの配列方向である他方向とは、直交している。
【００８３】
センサ部２２Ａをなす線状導電体の各々は、その配列方向（前記他方向）と交差する方向に線状に延びている。図５においては、センサ部２２Ａは、その配列方向（前記他方向）と直交する方向（前記一方向）に沿って直線状に延びている。
【００８４】
センサ部２２Ａも、センサ部１６Ａと同様に構成されている。すなわち、センサ部２２Ａは、直線状に延びるライン部２２Ｂと、ライン部２２Ｂから膨出した膨出部２２Ｃとを有している。図５においては、ライン部２２Ｂは、センサ部２２Ａの配列方向と交差する方向に沿って直線状に延びている。膨出部２２Ｃは導電性フィルム２１における低屈折率層１５のフィルム面に沿ってライン部２２Ｂから膨らみ出ている部分である。したがって、各センサ部２２Ｂの幅は、膨出部２２Ｃが設けられている部分においては太くなっている。本実施形態においては、膨出部２２Ｃは平面視略正方形状の外輪郭を有している。なお、膨出部２２Ｃは平面視略正方形状に限らず、菱形状、またはストライプ状であってもよい。
【００８５】
なお、図５に示されるように、タッチパネルセンサ２０の法線方向から観察した場合（すなわち、平面視において）、センサ部１６Ａは、多数のセンサ部２２Ａと交差している。そして、図５に示されるように、センサ部１６Ａの膨出部１６Ｂは、センサ部１６Ａ上において、隣り合う二つのセンサ部２２Ａとの交差点の間に配置されている。同様に、タッチパネルセンサ２０の法線方向から観察した場合、センサ部２２Ａは、多数のセンサ部１６Ａと交差している。そして、センサ部２２Ａの膨出部２２Ｃも、センサ部２２Ａ上において、隣り合う二つのセンサ部１６Ａとの交差点の間に配置されている。さらに、本実施形態においては、センサ部１６Ａの膨出部１６Ｃと、センサ部２２Ａの膨出部２２Ｃとは、タッチパネルセンサ２０の法線方向から観察した場合に重ならないように配置されている。つまり、タッチパネルセンサ２０の法線方向から観察した場合、センサ部１６Ａとセンサ部２２Ａとは、ライン部１６Ｂ、２２Ｂのみにおいて交わっている。
【００８６】
＜透明粘着層＞
透明粘着層２３、２４としては、公知の感圧接着層や粘着シートが挙げられる。
【００８７】
＜＜他のタッチパネルセンサ＞＞
導電性フィルム１０は、他の態様のタッチパネルセンサに組み込まれてもよい。図６に示されるタッチパネルセンサ３０は、導電性フィルム１０と、ガラス板３１と、ガラス板３１の一方の面に形成された透明導電層３２と、導電性フィルム１０と透明導電層３２を有するガラス板３１とを固定する透明粘着層３３を備えている。透明導電層３２は透明導電層２２と同様のものであるので、説明を省略するものとする。
【００８８】
[第２の実施形態]
以下、本発明の第２の実施形態に係る導電性フィルムおよびタッチパネルセンサについて、図面を参照しながら説明する。図７は本実施形態に係る導電性フィルムの概略構成図である。なお、本実施形態において、第１の実施形態で説明した部材と同じ符号が付してある部材は、第１の実施形態で説明した部材と同じ部材であることを意味するものであり、また第１の実施形態と重複する内容については特記しない限り省略するものとする。
【００８９】
図７に示される導電性フィルム４０は、光透過性基材１１と、光透過性基材１１の両面に積層されたハードコート層１２、１３と、ハードコート層１２、１３上に形成された高屈折率層１４、４１と、高屈折率層１４、４１上に形成された低屈折率層１５、４２と、低屈折率層１５、４２上に形成された透明導電層１６、４３とを備えている。すなわち、導電性フィルム４０は、導電性フィルム１０のハードコート層１３上に高屈折率層４１と、低屈折率層４２と、透明導電層４３とを積層したものである。導電性フィルム４０は、ハードコート層１２、１３を備えているが、ハードコート層１２および／またはハードコート層１３を備えていなくてもよい。透明導電層１６の表面１６Ａは、導電性フィルム４０の表面４０Ａをなしている。高屈折率層４１は、高屈折率層１４と、低屈折率層４２は、低屈折率層１５と、そして透明導電層４３は、透明導電層２２とそれぞれ同様であるので、説明を省略するものとする。
【００９０】
導電性フィルム４０においては、導電性フィルム４０の表面４０Ａの法線方向を０°とし、５°以上７５°以下の範囲内で入射角度を５度毎変えながら透明導電層１６の表面１６Ａ側から透明導電層１６に光（可視光）を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からＬ*ａ*ｂ*表色系のａ*値およびｂ*値を求めたとき、ａ*値のばらつきが３．５以内となり、かつｂ*値のばらつきが７．０以内となっている。ａ*値のばらつきは１．５以内となっていることが好ましく、またｂ*値のばらつきは５．５以内となっていることが好ましい。
【００９１】
本実施形態によれば、導電性フィルム４０の表面４０Ａの法線方向を０°とし、５°以上７５°以下の範囲内で入射角度を５度毎変えながら透明導電層１６の表面１６Ａ側から透明導電層１６に光を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からＬ*ａ*ｂ*表色系のａ*値およびｂ*値を求めたとき、ａ*値のばらつきが３．５以内であり、かつｂ*値のばらつきが７．０以内となっているので、第１の実施形態で説明した理由と同様の理由から、様々な角度から導電性フィルム４０を視認した場合における色味のばらつきを抑制できる。
【００９２】
≪タッチパネルセンサ≫
導電性フィルム４０は、例えば、タッチパネルセンサに組み込んで使用することができる。図８は本実施形態に係る導電性フィルムを組み込んだタッチパネルセンサの概略構成図である。
【００９３】
図８に示されるタッチパネルセンサ５０は、導電性フィルム４０と、導電性フィルムの両面に設けられた透明粘着層５１、５２とを備えている。
【００９４】
透明導電層１６、４３は、導電性フィルム４０の両面に形成されているので、透明導電層１６、４３のパターニングを一度に行うことができる。
【００９５】
［第３の実施形態］
以下、本発明の第３の実施形態に係る導電性フィルムおよびタッチパネルセンサについて、図面を参照しながら説明する。図９は本実施形態に係る導電性フィルムの概略構成図であり、図１０は本実施形態に係る他の導電性フィルムの概略構成図である。
【００９６】
＜＜導電性フィルム＞＞
図９に示される導電性フィルム６０は、光透過性基材１１と、光透過性基材１１の一方の面上に積層された高屈折率層６１と、低屈折率層６２と、透明導電層６３とを備え、光透過性基材１１の他方の面上に積層されたハードコート層１３とを備えている。導電性フィルム６０においては、光透過性基材１１と高屈折率層６１との間にハードコート層は設けられていない。導電性フィルム６０は、ハードコート層１３を備えているが、ハードコート層１３を備えていなくてもよい。透明導電層６３の表面６３Ａは、導電性フィルム６０の表面６０Ａをなしている。
【００９７】
図１０に示される導電性フィルム７０は、光透過性基材１１と、光透過性基材１１の一方の面上に積層された高屈折率層６１と、低屈折率層６２と、透明導電層６３とを備え、光透過性基材１１の他方の面上に積層された高屈折率層７１と、低屈折率層７２と、透明導電層７３とを備えている。導電性フィルム７０においては、光透過性基材１１と高屈折率層６１、７１との間にハードコート層は設けられていない。透明導電層６３の表面６３Ａは、導電性フィルム７０の表面７０Ａをなしている。
【００９８】
高屈折率層６１、７１は、膜厚以外、上記第１の実施形態で説明した高屈折率層１４と同様となっている。高屈折率層６１、７１の膜厚は、０．５μｍ以上１０μｍ以下となっている。高屈折率層６１、７１の膜厚を０．５μｍ以上とすることによって、光透過性基材１１と高屈折率層６１、７１との間にハードコート層を設けなくとも、導電性フィルム１０、４０と同様の硬度を得ることができる。また、高屈折率層６１、７１の膜厚を１０μｍ以下とすることによってロールツーロールでの導電性フィルムの生産時に発生する高屈折率層の割れを抑制できる。
【００９９】
高屈折率層６１、７１の膜厚の下限は、１．０μｍ以上であることがより好ましく、高屈折率層６１、７１の膜厚の上限は、５．０μｍ以下であることがより好ましい。
【０１００】
導電性フィルム６０においては、導電性フィルム６０の表面６０Ａの法線方向を０°とし、５°以上７５°以下の範囲内で入射角度を５度毎変えながら透明導電層６３の表面６３Ａ側から透明導電層６３に光（可視光）を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からＬ*ａ*ｂ*表色系のａ*値およびｂ*値を求めたとき、ａ*値のばらつきが３．５以内となり、かつｂ*値のばらつきが７．０以内となっている。
【０１０１】
導電性フィルム７０においては、導電性フィルム７０の表面７０Ａの法線方向を０°とし、５°以上７５°以下の範囲内で入射角度を５度毎変えながら透明導電層６３の表面６３Ａ側から透明導電層６３に光（可視光）を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からＬ*ａ*ｂ*表色系のａ*値およびｂ*値を求めたとき、ａ*値のばらつきが３．５以内となり、かつｂ*値のばらつきが７．０以内となっている。
【０１０２】
導電性フィルム６０、７０におけるａ*値のばらつきは１．５以内となっていることが好ましく、またｂ*値のばらつきは５．５以内となっていることが好ましい。
【０１０３】
本実施形態によれば、導電性フィルム６０、７０の表面６０Ａ、７０Ａの法線方向を０°とし、５°以上７５°以下の範囲内で入射角度を５度毎変えながら透明導電層６３の表面６３Ａ側から透明導電層６３に光を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からＬ*ａ*ｂ*表色系のａ*値およびｂ*値を求めたとき、ａ*値のばらつきが３．５以内であり、かつｂ*値のばらつきが７．０以内となっているので、第１の実施形態で説明した理由と同様の理由から、様々な角度から導電性フィルム６０、７０を視認した場合における色味のばらつきを抑制できる。
【０１０４】
＜＜タッチパネルセンサ＞＞
導電性フィルム６０、７０を、図４、図６および図８に示されるタッチパネルセンサと同様の構造のタッチパネルセンサに組み込むことができる。
【実施例】
【０１０５】
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの記載に限定されない。
【０１０６】
＜ハードコート層用組成物の調製＞
まず、下記に示す組成となるように各成分を配合して、ハードコート層用組成物を得た。
（ハードコート層用組成物）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）：３０質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：１．５質量部
・シリコーン系レベリング剤（大日精化工業社製、製品名「セイカビーム１０−２８」、固形分１０％）：０．０５質量部
・メチルイソブチルケトン：７０質量部
【０１０７】
＜高屈折率層用組成物の調製＞
下記に示す組成となるように各成分を配合して、高屈折率層用組成物を得た。
（高屈折率層用組成物１）
・高屈折率微粒子分散液（ＺｒＯ２微粒子のメチルエチルケトン分散液（固形分：３２．５質量％）、製品名「ＭＺ−２３０Ｘ」、住友大阪セメント社製）：５１．０質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０」、日本化薬社製）：１９．４質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：０．６質量部
・シリコーン系レベリング剤（大日精化工業社製、製品名「セイカビーム１０−２８」、固形分１０％）：０．０３質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１１２９．６質量部
【０１０８】
（高屈折率層用組成物２）
・高屈折率微粒子分散液（ＺｒＯ２微粒子のメチルエチルケトン分散液（固形分：３２．５質量％）、製品名「ＭＺ−２３０Ｘ」、住友大阪セメント社製）：４４．３質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０」、日本化薬社製）：２１．６質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：０．６質量部
・シリコーン系レベリング剤（大日精化工業社製、製品名「セイカビーム１０−２８」、固形分１０％）：０．０３質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１１３４．１質量部
【０１０９】
（高屈折率層用組成物３）
・高屈折率微粒子分散液（ＺｒＯ２微粒子のメチルエチルケトン分散液（固形分：３２．５質量％）、製品名「ＭＺ−２３０Ｘ」、住友大阪セメント社製）：７０．９質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０」、日本化薬社製）：１３．０質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：０．６質量部
・シリコーン系レベリング剤（大日精化工業社製、製品名「セイカビーム１０−２８」、固形分１０％）：０．０３質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１１１６．１質量部
【０１１０】
（高屈折率層用組成物４）
・高屈折率微粒子分散液（ＺｒＯ２微粒子のメチルエチルケトン分散液（固形分：３２．５質量％）、製品名「ＭＺ−２３０Ｘ」、住友大阪セメント社製）：１５．８質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０」、日本化薬社製）：６２．０質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：０．６質量部
・シリコーン系レベリング剤（大日精化工業社製、製品名「セイカビーム１０−２８」、固形分１０％）：０．０３質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：２００質量部
【０１１１】
（高屈折率層用組成物５）
・高屈折率微粒子分散液（ＺｒＯ２微粒子のメチルエチルケトン分散液（固形分：３２．５質量％）、製品名「ＭＺ−２３０Ｘ」、住友大阪セメント社製）：３７．７質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０」、日本化薬社製）：２３．８質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：０．６質量部
・シリコーン系レベリング剤（大日精化工業社製、製品名「セイカビーム１０−２８」、固形分１０％）：０．０３質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１１３８．６質量部
【０１１２】
（高屈折率層用組成物６）
・高屈折率微粒子分散液（ＺｒＯ２微粒子のメチルエチルケトン分散液（固形分：３２．５質量％）、製品名「ＭＺ−２３０Ｘ」、住友大阪セメント社製）：９０．８質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０」、日本化薬社製）：６．５質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：０．６質量部
・シリコーン系レベリング剤（大日精化工業社製、製品名「セイカビーム１０−２８」、固形分１０％）：０．０３質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１１０２．７質量部
【０１１３】
＜低屈折率層用組成物の調製＞
下記に示す組成となるように各成分を配合して、低屈折率層用組成物を得た。
（低屈折率層用組成物１）
・低屈折率微粒子分散液（ＭＩＢＫ−ＳＤ（シリカ微粒子のメチルイソブチルケトン分散液、固形分３０％分散液（固形分：３０．０質量％）、製品名「ＭＩＢＫ−ＳＤ」、日産化学工業社製）：１５質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）：５質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）：１質量部
・シリコーン系レベリング剤（大日精化工業社製、セイカビーム１０−２８、固形分１０％）：０．２質量部
・メチルイソブチルケトン：１０００質量部
【０１１４】
（低屈折率層用組成物２）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）：３０質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：１．５質量部
・シリコーン系レベリング剤（大日精化工業社製、製品名「セイカビーム１０−２８」、固形分１０％）：０．０５質量部
・メチルイソブチルケトン：１０００質量部
【０１１５】
＜実施例１＞
光透過性基材として厚さが１２５μｍのポリエチレンテレフタレート基材（製品名「コスモシャイン」、東洋紡績社製）を準備し、ポリエチレンテレフタレート基材の片面に、高屈折率層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。そして、形成した塗膜を、４０℃で１分間乾燥させた後、窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行って硬化させて、屈折率が１．６０および膜厚が６０ｎｍの高屈折率層を形成した。次いで、高周波スパッタリング装置において、電極に周波数１３．５６ＭＨｚ、電力５ｋＷの高周波電力を印加することにより、チャンバー内で放電を生じさせて、ターゲット物質（シリカ）からなる、屈折率が１．４６および膜厚が２５ｎｍの低屈折率層を高屈折率層上に形成した。次いで、低屈折率層上に、スパッタリング法によってスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）層を形成し、１５０℃の加熱オーブンで３０分間加熱処理をして結晶化させた。そして形成したＩＴＯ層をフォトリソグラフィー法によってパターニングすることで、屈折率が１．９８および膜厚が２５ｎｍのパターニングされた透明導電層を形成し、実施例１に係る導電性フィルムを作製した。
【０１１６】
＜実施例２＞
光透過性基材として厚さが１２５μｍのポリエチレンテレフタレート基材（製品名「コスモシャイン」、東洋紡績社製）を準備し、ポリエチレンテレフタレート基材の片面に、ハードコート層用組成物を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、０．２ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、屈折率が１．５２および膜厚が２．０μｍのハードコート層を形成した。次いで、ハードコート層上に、高屈折率層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。そして、形成した塗膜を、４０℃で１分間乾燥させた後、窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行って硬化させて、屈折率が１．６０および膜厚が６０ｎｍの高屈折率層を形成した。次いで、高周波スパッタリング装置において、電極に周波数１３．５６ＭＨｚ、電力５ｋＷの高周波電力を印加することにより、チャンバー内で放電を生じさせて、ターゲット物質（シリカ）からなる、屈折率が１．４６および膜厚が２５ｎｍの低屈折率層を高屈折率層上に形成した。次いで、低屈折率層上に、スパッタリング法によってスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）層を形成し、１５０℃の加熱オーブンで３０分間加熱処理をして結晶化させた。そして形成したＩＴＯ層をフォトリソグラフィー法によってパターニングすることで、屈折率が１．９８および膜厚が２５ｎｍのパターニングされた透明導電層を形成し、実施例２に係る導電性フィルムを作製した。
【０１１７】
＜実施例３＞
実施例３においては、高屈折率層の膜厚を３０ｎｍにし、低屈折率層の膜厚を１０ｎｍにした以外は、実施例１と同様にして、導電性フィルムを作製した。
【０１１８】
＜実施例４＞
実施例４においては、高屈折率層の膜厚を３０ｎｍにし、低屈折率層の膜厚を４０ｎｍにした以外は、実施例１と同様にして、導電性フィルムを作製した。
【０１１９】
＜実施例５＞
実施例５においては、低屈折率層の組成および形成方法以外は、実施例１と同様にして、導電性フィルムを作製した。実施例５では、高屈折率層上に低屈折率層用組成物１を塗布して塗膜を形成し、形成した塗膜を、４０℃で１分間乾燥させた後、窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行って硬化させて、屈折率が１．４９および膜厚が２５ｎｍの低屈折率層を形成した。
【０１２０】
＜実施例６＞
実施例６においては、透明導電層の膜厚を４０ｎｍとした以外は、実施例５と同様にして、導電性フィルムを作製した。
【０１２１】
＜実施例７＞
実施例７においては、高屈折率層用組成物１の代わりに高屈折率層用組成物２を用い、低屈折率層の膜厚を４０ｎｍとした以外は、実施例５と同様にして、導電性フィルムを作製した。実施例７に係る導電性フィルムの高屈折率層の屈折率は１．５７であった。
【０１２２】
＜実施例８＞
実施例８においては、高屈折率層用組成物１の代わりに高屈折率層用組成物３を用い、低屈折率層としてフッ化マグネシウムからなる層を形成した以外は、実施例１と同様にして、導電性フィルムを作製した。実施例８に係る導電性フィルムの高屈折率層の屈折率は１．６７であり、低屈折率層の屈折率は１．３８であった。
【０１２３】
＜実施例９＞
実施例９においては、高屈折率層用組成物１の代わりに高屈折率層用組成物３を用い、低屈折率層用組成物１の代わりに低屈折率層用組成物２を用いた以外は、実施例５と同様にして、導電性フィルムを作製した。実施例９に係る導電性フィルムの高屈折率層の屈折率は１．６７であり、低屈折率層の屈折率は１．５２であった。
【０１２４】
＜実施例１０＞
実施例１０においては、高屈折率層用組成物１の代わりに高屈折率層用組成物４を用い、高屈折率層の膜厚を１２００ｎｍにした以外は、実施例５と同様にして、導電性フィルムを作製した。実施例１０に係る導電性フィルムの高屈折率層の屈折率は１．６３であった。
【０１２５】
＜実施例１１＞
実施例１１においては、高屈折率層の膜厚を８０ｎｍにした以外は、実施例５と同様にして、導電性フィルムを作製した。
【０１２６】
＜実施例１２＞
実施例１２においては、高屈折率層用組成物１の代わりに高屈折率層用組成物３を用い、高屈折率層の膜厚を３０ｎｍにし、低屈折率層の膜厚を６０ｎｍにした以外は、実施例５と同様にして、導電性フィルムを作製した。
【０１２７】
＜比較例１＞
比較例１においては、高屈折率層用組成物１の代わりに高屈折率層用組成物５を用いた以外は、実施例１と同様にして、導電性フィルムを作製した。比較例１に係る導電性フィルムの高屈折率層の屈折率は１．５４であった。
【０１２８】
＜比較例２＞
比較例２においては、高屈折率層用組成物１の代わりに高屈折率層用組成物６を用いた以外は、実施例１と同様にして、導電性フィルムを作製した。比較例２に係る導電性フィルムの高屈折率層の屈折率は１．７６であった。
【０１２９】
実施例１〜１２ならびに比較例１および２において得られた導電性フィルムの構成について、表１にまとめる。
【表１】
0005549967.tif 000002
【０１３０】
＜ａ*およびｂ*のばらつき＞
実施例および比較例で得られた各導電性フィルムにおいて、以下のようにして、ａ*およびｂ*のばらつきを求めた。具体的には、日本分光株式会社製のＶＡＲ−７０１０を用いて、５°〜７５°の範囲内で入射角度を５°毎変えながらＩＴＯ層の表面側から各導電性フィルムのＩＴＯ層に光を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からａ*値およびｂ*値を得た。測定条件は以下の通りとした。光源として、重水素（Ｄ２）ランプとタングステンハロゲン（ＷＩ）ランプを用い、また透過軸が４５°傾いた偏光子を用い、測定範囲を３８０ｎｍ〜７８０ｎｍとし、データ取込間隔を１ｎｍとし、入射角度と検出器の位置を同期させ、正反射光を取り込むように測定を行った。そして、得られた各入射角度におけるａ*値およびｂ*値から、その最大値と最小値の差分の絶対値を算出して、ａ*値のばらつきおよびｂ*値のばらつきを求めた。
【０１３１】
＜色味のばらつき＞
実施例および比較例で得られた各導電性フィルムを様々な方向から視認したときに各導電性フィルムの色味がばらつきているか否か評価した。評価基準は以下の通りであった。
○：色味のばらつきが確認できなかった。
×：色味のばらつきが確認できた。
【０１３２】
以下、結果を表２〜表４に示す。
【表２】
0005549967.tif 000003
【表３】
0005549967.tif 000004
【表４】
0005549967.tif 000005
【０１３３】
表４に示されるように、比較例１および２の導電性フィルムは、ａ*値のばらつきが３．５以内であり、かつｂ*値のばらつきが７．０以内であるという要件を満たしていないので、色味のばらつきを抑制できなかった。
【０１３４】
これに対し、実施例１〜１２の導電性フィルムは、ａ*値のばらつきが３．５以内であり、かつｂ*値のばらつきが７．０以内であるという要件を満たしているので、色味の変化を抑制できた。
【符号の説明】
【０１３５】
１０、２１、４０、６０、７０…導電性フィルム
１０Ａ、４０Ａ、６０Ａ、７０Ａ…表面
１１…光透過性基材
１２、１３…ハードコート層
１４、４１、６１、７１…高屈折率層
１５、４２、６２、７２…低屈折率層
１６、２２、３２、４３、６３、７３…透明導電層
２０、３０、５０…タッチパネルセンサ
【要約】
【課題】様々な角度から視認した場合における色味のばらつきを抑制できる導電性フィルム、およびタッチパネルセンサを提供する。
【解決手段】本発明の一の態様によれば、パターニングされた導電性フィルム１０であって、光透過性基材１１と、光透過性基材１１の片面または両面に積層された高屈折率層１４と、高屈折率層１４上に積層された低屈折率層１５と、低屈折率層１５上に積層され、かつパターニングされた透明導電層１６とを備え、透明導電層１６の表面１６Ａが導電性フィルム１０の表面１０Ａをなし、導電性フィルム１０の表面１０Ａの法線方向を０°とし、５°以上７５°以下の範囲内で入射角度を５度毎変えながら透明導電層１６の表面１６Ａ側から透明導電層１６に光を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からＬ*ａ*ｂ*表色系のａ*値およびｂ*値を求めたとき、ａ*値のばらつきが３．５以内であり、かつｂ*値のばらつきが７．０以内である、導電性フィルム１０が提供される。
【選択図】図１【図１】
0005549967.tif 000006
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
0005549967.tif 000014
【図１０】
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