(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
長手視野寸法（ｘ）と短手視野寸法（ｙ）の間で１よりも大きいアスペクト比を有する物体視野（５）に放射線源（３）からの照明光束（１０）を誘導するためのＥＵＶマイクロリソグラフィのための照明光学系（４）であって、
物体視野（５）内に所定の照明条件を設定するための複数の視野ファセット（１９）を有する視野ファセットミラー（１３）と、
照明光（１０）を前記物体視野（５）内に伝達するために前記視野ファセットミラー（１３）の下流にあるその後の光学系（１４，１５）と、
を含み、
前記その後の光学系（１４，１５）は、複数の瞳ファセット（２７）を有する瞳ファセットミラー（１４）を含み、前記視野ファセット（１９）は、照明光束（１０）のうちで各場合に該視野ファセット（１９）の１つに入射する部分が、関連の瞳ファセット（２７）を通じて前記物体視野（５）上に誘導されるように、各場合に該瞳ファセット（２７）に個々に割り当てられ、
視野ファセットミラー（１３）は、関連の基本照明瞳ファセット（２７Ｇ）を通じて物体視野（５）の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセット（１９G）だけではなく、関連の補正照明瞳ファセット（２７Ｋ；７６）を通じて該物体視野（５）の該照明を補正することを可能にする複数の補正照明視野ファセット（１９K；７１）も含み、
前記補正照明視野ファセット（１９K）は、一定の反射率から所定の方式で逸脱する前記長手視野ファセット寸法（ｘ）に沿って所定のパターンに従う前記照明光（１０）に対する反射率を有し、
灰色フィルタ部分（３７）が、前記補正照明視野ファセット（１９K）上に設けられ、該灰色フィルタは、前記長手視野ファセット（ｘ）に沿って変化する可変反射率を有し、
前記灰色フィルタ部分（３７）には、一定の面積密度で吸収点構造（３８）が配置され、可変反射率が、前記長手視野ファセット寸法（ｘ）に垂直（ｙ）である該灰色フィルタ部分（３７）の幅を変化させることによって達成されることを特徴とする照明光学系。
【請求項２】
吸収点構造（３８）が、変化する面積密度で前記灰色フィルタ部分（３７）に配置されることを特徴とする請求項１に記載の照明光学系。
【請求項３】
長手視野寸法（ｘ）と短手視野寸法（ｙ）の間で１よりも大きいアスペクト比を有する物体視野（５）に放射線源（３）からの照明光束（１０）を誘導するためのＥＵＶマイクロリソグラフィのための照明光学系（４）であって、
物体視野（５）内に所定の照明条件を設定するための複数の視野ファセット（１９）を有する視野ファセットミラー（１３）と、
照明光（１０）を前記物体視野（５）内に伝達するために前記視野ファセットミラー（１３）の下流にあるその後の光学系（１４，１５）と、
を含み、
前記その後の光学系（１４，１５）は、複数の瞳ファセット（２７）を有する瞳ファセットミラー（１４）を含み、前記視野ファセット（１９）は、照明光束（１０）のうちで各場合に該視野ファセット（１９）の１つに入射する部分が、関連の瞳ファセット（２７）を通じて前記物体視野（５）上に誘導されるように、各場合に該瞳ファセット（２７）に個々に割り当てられ、
視野ファセットミラー（１３）は、関連の基本照明瞳ファセット（２７Ｇ）を通じて物体視野（５）の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセット（１９G）だけではなく、関連の補正照明瞳ファセット（２７Ｋ；７６）を通じて該物体視野（５）の該照明を補正することを可能にする複数の補正照明視野ファセット（１９K；７１）も含み、
前記補正照明視野ファセット（１９K）は、一定の反射率から所定の方式で逸脱する前記長手視野ファセット寸法（ｘ）に沿って所定のパターンに従う前記照明光（１０）に対する反射率を有し、
灰色フィルタ部分（３７）が、前記補正照明視野ファセット（１９K）上に設けられ、該灰色フィルタは、前記長手視野ファセット（ｘ）に沿って変化する可変反射率を有し、
前記視野ファセットミラー（１３）は、前記物体視野（５）の前記照明に寄与する前記補正照明視野ファセット（１９K；７１）の個数及び／又は配列に関して異なる少なくとも２つの作動モードの間で切換可能であることを特徴とする照明光学系。
【請求項４】
前記灰色フィルタ部分（３７）の最大幅（Ｋ）が、前記長手視野ファセット寸法（ｙ）に垂直な前記補正照明視野ファセット（１９K）の幅（ｙFF）よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の照明光学系。
【請求項５】
長手視野寸法（ｘ）と短手視野寸法（ｙ）の間で１よりも大きいアスペクト比を有する物体視野（５）に放射線源（３）からの照明光束（１０）を誘導するためのＥＵＶマイクロリソグラフィのための照明光学系（４）であって、
物体視野（５）内に所定の照明条件を設定するための複数の視野ファセット（１９）を有する視野ファセットミラー（１３）と、
照明光（１０）を前記物体視野（５）内に伝達するために前記視野ファセットミラー（１３）の下流にあるその後の光学系（１４，１５）と、
を含み、
前記その後の光学系（１４，１５）は、複数の瞳ファセット（２７）を有する瞳ファセットミラー（１４）を含み、前記視野ファセット（１９）は、照明光束（１０）のうちで各場合に該視野ファセット（１９）の１つに入射する部分が、関連の瞳ファセット（２７）を通じて前記物体視野（５）上に誘導されるように、各場合に該瞳ファセット（２７）に個々に割り当てられ、
視野ファセットミラー（１３）は、関連の基本照明瞳ファセット（２７Ｇ）を通じて物体視野（５）の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセット（１９G）だけではなく、関連の補正照明瞳ファセット（２７Ｋ；７６）を通じて該物体視野（５）の該照明を補正することを可能にする複数の補正照明視野ファセット（１９K；７１）も含み、
前記補正照明視野ファセット（１９K）は、一定の反射率から所定の方式で逸脱する前記長手視野ファセット寸法（ｘ）に沿って所定のパターンに従う前記照明光（１０）に対する反射率を有し、
灰色フィルタ部分（３７）が、前記補正照明視野ファセット（１９K）上に設けられ、該灰色フィルタは、前記長手視野ファセット（ｘ）に沿って変化する可変反射率を有し、
少なくとも２つの類似する補正照明視野ファセット（１９K）を特徴とする照明光学系。
【請求項６】
補正照明瞳ファセット（２７K1，／２７K1'，２７K2／２７K2'，２７K3／２７K3'，２７K4／２７K4'，２７K5／２７K5'，２７K6／２７K6'）が、前記類似する補正照明視野ファセット（１９K1／１９K1'，１９K2／１９K2'，１９K3／１９K3'，１９K4／１９K4'，１９K5／１９K5'，１９K6／ｌ９K6'）に割り当てられ、該割り当てられた補正照明瞳ファセット（２７K1，／２７K1'，２７K2／２７K2'，２７K3／２７K3'，２７K4／２７K4'，２７K5／２７K5'，２７K6／２７K6'）は、前記瞳ファセットミラー（１４）によって形成される瞳の中心（３６）に関して点対称であることを特徴とする請求項５に記載の照明光学系。
【請求項７】
長手視野寸法（ｘ）と短手視野寸法（ｙ）の間で１よりも大きいアスペクト比を有する物体視野（５）に放射線源（３）からの照明光束（１０）を誘導するためのＥＵＶマイクロリソグラフィのための照明光学系（４）であって、
物体視野（５）内に所定の照明条件を設定するための複数の視野ファセット（１９）を有する視野ファセットミラー（１３）と、
照明光（１０）を前記物体視野（５）内に伝達するために前記視野ファセットミラー（１３）の下流にあるその後の光学系（１４，１５）と、
を含み、
前記その後の光学系（１４，１５）は、複数の瞳ファセット（２７）を有する瞳ファセットミラー（１４）を含み、前記視野ファセット（１９）は、照明光束（１０）のうちで各場合に該視野ファセット（１９）の１つに入射する部分が、関連の瞳ファセット（２７）を通じて前記物体視野（５）上に誘導されるように、各場合に該瞳ファセット（２７）に個々に割り当てられ、
視野ファセットミラー（１３）は、関連の基本照明瞳ファセット（２７Ｇ）を通じて物体視野（５）の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセット（１９G）だけではなく、関連の補正照明瞳ファセット（２７Ｋ；７６）を通じて該物体視野（５）の該照明を補正することを可能にする複数の補正照明視野ファセット（１９K；７１）も含み、
前記補正照明視野ファセット（１９K）は、一定の反射率から所定の方式で逸脱する前記長手視野ファセット寸法（ｘ）に沿って所定のパターンに従う前記照明光（１０）に対する反射率を有し、
灰色フィルタ部分（３７）が、前記補正照明視野ファセット（１９K）上に設けられ、該灰色フィルタは、前記長手視野ファセット（ｘ）に沿って変化する可変反射率を有し、
前記補正照明視野ファセット（７１）は、前記視野ファセットミラー（１３）の基本照明輪郭の外側に配置され、該輪郭は、前記基本照明視野ファセット（１９G）の全てによって形成されることを特徴とする照明光学系。
【請求項８】
長手視野寸法（ｘ）と短手視野寸法（ｙ）の間で１よりも大きいアスペクト比を有する物体視野（５）に放射線源（３）からの照明光束（１０）を誘導するためのＥＵＶマイクロリソグラフィのための照明光学系（４）であって、
物体視野（５）内に所定の照明条件を設定するための複数の視野ファセット（１９）を有する視野ファセットミラー（１３）と、
照明光（１０）を前記物体視野（５）内に伝達するために前記視野ファセットミラー（１３）の下流にあるその後の光学系（１４，１５）と、
を含み、
前記その後の光学系（１４，１５）は、複数の瞳ファセット（２７）を有する瞳ファセットミラー（１４）を含み、前記視野ファセット（１９）は、照明光束（１０）のうちで各場合に該視野ファセット（１９）の１つに入射する部分が、関連の瞳ファセット（２７）を通じて前記物体視野（５）上に誘導されるように、各場合に該瞳ファセット（２７）に個々に割り当てられ、
視野ファセットミラー（１３）は、関連の基本照明瞳ファセット（２７Ｇ）を通じて物体視野（５）の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセット（１９G）だけではなく、関連の補正照明瞳ファセット（２７Ｋ；７６）を通じて該物体視野（５）の該照明を補正することを可能にする複数の補正照明視野ファセット（１９K；７１）も含み、
前記補正照明視野ファセット（１９K）は、一定の反射率から所定の方式で逸脱する前記長手視野ファセット寸法（ｘ）に沿って所定のパターンに従う前記照明光（１０）に対する反射率を有し、
灰色フィルタ部分（３７）が、前記補正照明視野ファセット（１９K）上に設けられ、該灰色フィルタは、前記長手視野ファセット（ｘ）に沿って変化する可変反射率を有し、
前記補正照明瞳ファセット（２７K）は、前記瞳ファセットミラー（１４）の基本照明輪郭内に配置され、該輪郭は、前記基本照明瞳ファセット（２７G）の全てによって形成されることを特徴とする照明光学系。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の照明光学系と、
像視野（８）上への物体視野（５）の投影のための投影光学系（７）と、
を含むことを特徴とする光学系。
【請求項１０】
請求項９に記載の光学系と、
照明光束（１０）を発生させるためのＥＵＶ放射線源（３）と、
を含むことを特徴とする投影露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、視野ファセットミラーを含むＥＵＶマイクロリソグラフィのための照明光学系と、瞳ファセットミラーを含むその後の光学系とに関する。更に、本発明は、この種の照明光学系を含む照明系、及びこの種の照明系を含む投影露光装置に関する。最後に、本発明は、微細構造又はナノ構造構成要素を製造する方法、及びこの方法を用いて製造される構成要素に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の投影露光装置は、ＵＳ６，６５８，０８４Ｂ２に開示されている。他の投影露光装置は、ＵＳ６，８５９，３２８Ｂ２、ＵＳ２００７／００４１００４Ａ１、ＵＳ２００６／０１７０８９５Ａ１、及びＥＰ１，３４９，００９Ａ２に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】ＵＳ６，６５８，０８４Ｂ２
【特許文献２】ＵＳ６，８５９，３２８Ｂ２
【特許文献３】ＵＳ２００７／００４１００４Ａ１
【特許文献４】ＵＳ２００６／０１７０８９５Ａ１
【特許文献５】ＥＰ１，３４９，００９Ａ２
【特許文献６】ＥＰ１，２２５，４８１Ａ
【特許文献７】ＷＯ２００５／０４０９２７Ａ２
【特許文献８】ＵＳ２００６／０２４４９４１Ａ１
【特許文献９】ＷＯ２００７／０３９２５７Ａ１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、例えば、照明強度分布又は照明角度分布の照明パラメータの望ましくない変動を物体視野にわたって補正することができるような方法で冒頭に示した種類の照明光学系を改善することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明によると、冒頭で示した目的は、物体視野内に所定の照明条件を設定するための複数の視野ファセットを含む視野ファセットミラーと、照明光を物体視野に伝達するための視野ファセットミラーの下流に配置されたその後の光学系とを用いて、長手視野寸法と短手視野寸法の間で１よりも大きいアスペクト比を有する物体視野に放射線源からの照明光束を誘導するためのＥＵＶマイクロリソグラフィのための照明光学系によって達成され、その後の光学系は、複数の瞳ファセットを有する瞳ファセットミラーを含み、視野ファセットは、視野ファセットのそれぞれの１つに入射する照明光束の部分が、この関連の瞳ファセットによって物体視野上に誘導されるように、瞳ファセットに個々に割り当てられ、視野ファセットミラーは、関連の基本照明瞳ファセットを通じて物体視野の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセットを含むだけではなく、関連の補正照明瞳ファセットを用いて物体視野の照明の補正を可能にする複数の補正照明視野ファセットをも含み、視野ファセットミラーは、物体視野の照明に寄与する補正照明視野ファセットの個数及び／又は配列に関して異なる少なくとも２つの作動モードの間で切換可能であり、補正照明視野ファセットは、所定の照明光反射率を有し、それによって一定の強度露光から所定の方式で逸脱する所定のパターンを物体視野の長手視野寸法に沿って有する照明強度を有する照明が、長手視野寸法に沿って生じる。
【０００６】
本発明によると、これまで全く用いられなかったか、又は有効な方式に用いられなかったＥＵＶ光を実際の投影露光に用いられる事実上いかなるＥＵＶ照明光も損失させることなく物体視野照明を補正するために用いることができることが見出された。特に、それによって照明強度分布又は照明均一性を物体視野にわたって形成することが可能になる。
【０００７】
補正照明ファセットは、ＥＵＶ光のうちで、例えば、所定の公差限界を超える低強度又は強度変化の理由からこれまで用いられなかった部分に対して露光することができる。これらの補正照明視野ファセットのＥＵＶ照明光露光強度、及び従って補正効果強度は、補正照明視野ファセットを配置するための位置を選択することによって定めることができる。照明角度分布の補正の影響は、補正照明視野ファセットに割り当てられる補正照明瞳ファセットの配列によって定めることができる。物体視野内の照明補正は、物体視野にわたる照明光の強度分布の補正に限定することができる。更に、物体視野にわたる照明角度分布を補正することができる。物体視野にわたる強度分布補正と角度分布補正の組合せを考えることができる。長手視野寸法と短手視野寸法の間のアスペクト比は、例えば、２：１、３：１、４：１、又は更に大きく、例えば、７：１、８：１、１０：１、１３：１、又は更に大きいとすることができる。補正照明視野ファセットは、基本照明視野ファセットとは異なる設計を有することができ、例えば、そのサイズ又は反射率、特に、反射率分布に関して基本照明視野ファセットとは異なるとすることができる。補正照明視野ファセットの光束誘導効果は、アクチュエータによる補正照明視野ファセットの作動によって動的に制御することができ、それによって補正照明視野ファセットからの照明に露光される物体視野内の領域を変更することで、物体視野にわたる照明光の強度分布の動的補正を保証する。補正照明視野ファセットの光束誘導効果を照明光学系の制御デバイスを用いて動的に制御することができることにより、補正照明視野ファセットの補正効果の高い柔軟性が得られる。光束誘導効果は、補正照明視野ファセットの変位、又は例えば補正照明視野ファセットの動的可変遮光のいずれかによって動的に制御することができる。補正照明は、例えば、少なくとも１つの絞り又は絞り構造を用いた部分遮光による補正照明ファセットの遮光によって得ることができる。
【０００８】
現在の作動モードは、例えば、能動的補正照明視野ファセットを起動及び停止することによって変更することができる。従って、最初の作動モードでは、全ての補正照明視野ファセットを光束誘導に向けて能動状態にすることができ、それに対して別の作動モードでは、選択された補正照明視野ファセットのみを能動状態にすることができ、更に別の作動モードでは、補正照明視野ファセットのうちのいずれも能動状態にないとすることができる。これはまた、補正照明視野ファセットの補正効果の高い柔軟性を保証する。一定の強度露光から所定の方式で逸脱する所定の分布を有する照明強度を有する照明を物体視野の長手視野寸法に沿って生じる照明光に対する補正照明視野ファセットの反射率を様々な手法で得ることができる。補正照明視野ファセットが、一般的に長手視野寸法と類似の長手視野ファセット寸法にわたって一定の反射率を有する場合には、視野寸法にわたって変化する強度露光は、長手視野ファセット寸法に沿って補正照明視野ファセットの一部分の所定の切り換えを行うことにより、すなわち、例えば、部分補正照明ファセットをその光が物体視野に全く又はある程度までしか到達しないように遮光することによって達成することができる。代替的に、補正照明視野ファセットは、一定の反射率から所定の方式で逸脱する反射率パターンを有することができる。長手視野寸法の方向と一般的に類似の長手視野ファセット寸法に沿って、一定の反射率から所定の方式で逸脱するそのような反射率パターンは、例えば、視野高さに線形に依存し、言い換えれば、照明光学系が装備された投影露光装置の走査方向に対して垂直な視野寸法に線形に依存するようなものとすることができる。例えば、２次又は高次の関数、正弦又は余弦関数、又はステップ関数の形式の他の視野高さ依存性を考えることができる。一般的な規則として、視野高さにわたって１組の直交関数に対応する強度変化を有する補正照明視野ファセットの組を定義することができる。それによって事実上あらゆる望ましい反射率パターンを補正値として定めることが可能になる。視野にわたって所定の強度変化のフーリエ合成を行うために、多項式解析のような所定の関数分布を有する１組の補正照明視野ファセットを用いることができる。反射率パターンのステップ関数は、例えば、補正照明視野ファセットを長手視野ファセット寸法に沿って様々な反射率を有する複数の領域に分割することによって得ることができる。視野ファセットを物体視野へと結像するために、その後の光学系を用いることができる。
【０００９】
瞳ファセットミラーの前に配列可能な複数の絞りを設けることができ、これらの絞りの各々は、割り当てられた補正照明視野ファセットの異なる配列の照明光部分を遮光する。これらの絞りは、特に、絞りの各々が、照明光束のうちで基本照明視野ファセットに割り当てられた全ての部分に対して、更に、照明光束のうちで各場合に補正照明視野ファセットから成る別の群に割り当てられた部分に対して半透明であるように設計することができる。
【００１０】
この種の絞りは、特に、絞り交換ホルダ内に設けることができる。これらの絞りのうちの１つは、照明光束のうちで基本照明視野ファセットに割り当てられた部分のみが通過することを許されるように、照明光束のうちで全ての補正照明視野ファセットに割り当てられた部分を遮蔽することができる。複数の絞りは、様々な照明状況を考慮することができる。例えば、様々な照明設定（従来型、環状、二重極、四重極、多極）は、それぞれ関連の絞りを用いて達成される異なる補正を必要とする場合がある。
【００１１】
照明光学系は、補正照明視野ファセットのうちの少なくとも１つが、物体視野全体を照明するのではなく、その部分区域のみを照明するように構成することができる。物体視野の特定の視野点でこの種の強度補正を必要とする場合には、上述のことにより、これらの視野点における強度を所定の方式で高めることが可能になる。更に、上述の補正照明視野ファセットによって物体視野内に生成された照明を微調節することにより、物体視野の部分区域しか照明しないそのような補正照明視野ファセットの補正効果の微調節が可能である。
【００１２】
補正照明視野ファセットの各部分に高反射コーティングを設けない場合がある。補正照明視野ファセットがそのような手法で設計される場合には、反射率は、いかなる高反射コーティングも付加されない部分内で必要に応じて低下する。この種の補正照明視野ファセットは、例えば、反射コーティングが付加される時に望ましい部分を隠蔽することによって製造される。
【００１３】
可変反射率を有するＥＵＶ灰色フィルタは、視野高さにわたって変化する反射率を有する補正照明視野ファセットの代替の実施形態である。ＥＵＶ灰色フィルタの代わりに、それぞれの補正照明視野ファセットの前に配置された絞り又は絞り構造を設けることができる。この絞り構造は、互いに隣接して配置され、特に、指形状のものとすることができる複数の個々の絞りで構成することができる。補正照明視野ファセットが、１とは大きく異なるアスペクト比を有する反射面を有する場合には、絞り又は絞り構造を補正照明視野ファセットのファセット基部本体の縦辺に例えば磁気締結手段を用いて固定することができる。この目的のために、特に、磁性ストリップの形状にある永久磁石をファセット基部本体上に、特に、反射面の縦辺を終端させる基部本体側壁上に配置することができる。この種の絞り又は絞り構造は、補正照明視野ファセットのうちの１つに隣接するファセットのファセット基部本体に固定することができる。補正照明視野ファセット又は補正照明瞳ファセットの絞り構造を形成するように組み合わせることができる個々のファセットのための保持構造をファセットの反射面に配置することができる。この種の保持構造は、反射面と比較して小さく、特に、永久磁石とすることができる磁性ストリップ又は磁気面又は磁気部分面として構成することができる。磁力に対して代替的又は追加的に、ファンデルワールス力又は接着力は、個々の絞り又は絞り構造全体を固定又は保持するように機能することができる。
【００１４】
個別の絞り又は絞り構造は、較正測定又は計算を用いて所定の個々の絞り又は絞り構造の設計に対応する取り付けデバイスを用いて取り付けることができる。個々の絞り又は絞り構造が、磁力によって補正照明視野ファセット又は補正照明瞳ファセット上の所定位置に保持される場合には、取り付けデバイスは、絞り又は絞り構造が取り付け位置に移動される時に電磁力によってこれらの絞り又は絞り構造を保持するデバイスとして構成することができる。この種の取り付けデバイスは、取り付け位置から絞り又は絞り構造を取り外す上にも用いることができる。絞り又は絞り構造は、絞り又は絞り構造を吸引によって取り外す剥離デバイスを用いて、巻き取りによって、又は静電力を用いて、例えば、絞り又は絞り構造の材料を荷電し、反対に荷電された剥離デバイスを用いて剥離することによって取り外すか又は剥離することができる。
【００１５】
吸収点構造を有する灰色フィルタは、反射面にわたって所定の方式で配分された吸収点構造が補正照明視野ファセットの反射面を覆うことによって形成することができる。この種の点構造は、ＥＵＶ波長において利用可能な灰色フィルタの変形である。
【００１６】
個別の灰色フィルタ部分は、補正照明視野ファセット上に配置することができる。灰色フィルタ部分は、照明光を反射する部分から分離することができる。この種の設計では、「フィルタ」と「反射体」という機能区分は、補正照明視野ファセット上で互いから分離され、それによってこれらの区分の個別処理が容易になる。
【００１７】
この種の灰色フィルタ部分内では、吸収点構造を一定の面積密度で配分することができる。その結果、長手視野ファセット寸法に対して垂直な灰色フィルタ部分の幅の変化によって可変反射率が生じる。この種の灰色フィルタ部分は、比較的少ない労力で製造することができる。
【００１８】
灰色フィルタ部分の最大幅は、長手視野ファセット寸法に対して垂直な補正照明視野ファセットの幅よりも小さいとすることができる。この種の灰色フィルタは、長手視野ファセット寸法に対して垂直な補正照明視野ファセットの幅にわたる灰色フィルタ部分のフィルタリング効果の最大変化幅が与えられないので、強度変化の微調節を可能にする。
【００１９】
灰色フィルタ部分内では、点構造は、変化する面積密度で配分することができる。この種の設計では、フィルタ部分と反射部分への分離は必須ではない。それによってフィルタ部分と反射部分の間の境界効果が回避される。
【００２０】
照明光学系は、少なくとも２つの類似する補正照明視野ファセットを有することができる。補正照明視野ファセットは、長手視野ファセット寸法にわたって同じ反射率パターンを有する典型的な補正照明視野ファセットから成る少なくとも１つの群を含むことができる。そのような群は、類似の強度の影響が、物体視野の異なる照明角度に対して作用されることを保証する。
【００２１】
類似する補正照明視野ファセット、言い換えれば、典型的な補正照明視野ファセットは、瞳ファセットミラーによって定められる瞳中心に関して点対称である補正照明瞳ファセットに割り当てることができる。例えば、この種の対称配列は、二重照明設定、すなわち、二重極照明設定のものを補正するために、２つの典型的な補正照明視野ファセットから成る群を形成することを可能にする。各場合に、同じ反射率区域を有する４つの典型的な補正照明視野ファセットから成る群が設けられる場合には、この付設は、物体視野照明のテレセントリック性及び／又は楕円度に影響を及ぼすことなく、物体視野照明の照明パラメータの補正のためなどに機能することができる。代替的に、物体視野照明の強度分布だけではなく、照明角度分布をも所定の方式で影響を受けることを可能にする補正照明瞳ファセットの配列又は補正照明視野ファセットの形状の所定の逸脱を考えることができる。
【００２２】
補正照明視野ファセットの有効照明区域は、基本照明視野ファセットの境界形状とは異なる境界形状を有することができる。補正照明視野ファセットの有効照明区域は、補正照明視野ファセットの照明チャンネルに実際に寄与する照明を有する区域である。これを念頭に置いて、補正照明視野ファセット上の遮光区域は、このファセットの有効照明区域に寄与しないことに注意すべきである。代替的に、補正照明視野ファセットの一部分を選択的に遮光することによって境界形状に影響を与える代わりに、基本照明視野ファセットのものとは異なる補正照明視野ファセットの外側形状により、基本照明視野ファセットの境界形状とは異なる境界形状を得ることができる。基本照明視野ファセットは、例えば、矩形境界形状又は湾曲境界形状を有することができる。
【００２３】
補正照明視野ファセットの有効照明区域の境界形状は、少なくとも１つの屈曲点を有することができる。それによって更に複雑な強度分布を長手視野ファセット寸法、及び従って長手物体視野寸法にわたって得ることが可能になる。
【００２４】
補正照明視野ファセットは、基本照明視野ファセットの部分表面積である表面積を有することができる。そのような部分視野照明の場合には、この部分視野照明を保証する補正照明視野ファセットは、基本照明視野ファセットの照明表面積の１％と、大部分、例えば、９０％との間にある有効照明表面積を有することができる。補正照明視野ファセットの有効照明表面積は、基本照明視野ファセットのうちの１つが有する照明表面積の５％、１０％、２０％、２５％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％、及び８０％とすることができる。
【００２５】
補正照明視野ファセットは、能動的に変位可能な、特に、能動的に傾斜可能及び／又はシフト可能な少なくとも１つのミラーとすることができる。この種のミラーは、物体視野内での補正に向けて物体視野の一部分を選択することを可能にする。
【００２６】
補正照明視野ファセットの有効照明区域の境界形状及び／又は補正照明瞳ファセットの有効照明区域の境界形状は、遮光体を用いて影響を受けることが可能である。この種の遮光体は、補正照明視野ファセットの補正効果が所定の方式で影響を受けることを可能にする。
【００２７】
遮光体を支持する支持構造を視野ファセットミラーの遮光空間に配置することができる。この種の支持構造は、望ましくない遮光を招かない。
【００２８】
ファセットミラーの反射面によって定められる反射平面から分離された遮光体は、それぞれの補正照明視野ファセットの補正効果が所定の方式で影響を受けるように、ファセットミラーに対して変位させることができる。この種の遮光体は、他の点では基本照明視野ファセットと異ならないファセットと併用することができる。
【００２９】
２つのファセットの間に配置される遮光体は、２つの補正照明ファセットに同時に影響を与えることができる。
【００３０】
遮光体は、基部本体を有することができ、これは、２つの隣接するファセット間の間隙に沿って延び、その幅は、２つの隣接するファセット間の間隙の幅よりも大きくなく、その上に２つの隣接するファセット間の間隙の幅よりも大きい幅を有する遮光部分が配置される。
【００３１】
この種の遮光体は、長手視野寸法にわたって所定の遮光効果を保証する。
【００３２】
ワイヤは、簡易な基部本体である。
【００３３】
フィルムストリップ又はテープの形態にある基部本体は、比較的簡易な方式で取り扱うことができる。
【００３４】
遮光部分は、ブランク基部本体の縁部から材料を除去又は切削することによって形成されるように設計することができ、基部本体も同じ手法で製造される。遮光部分は、少なくとも、照明光束のビーム方向に対して垂直な寸法における基部本体の厚み変動によって形成することができる。この種の形状又は形成法は、物体視野の視野高さにわたって選択的遮光を得るのに特に適することが見出されている。
【００３５】
基部本体の正弦厚み変動は、特定の補正要件を特に有利な方式で満たすものである。ビーム方向に見て互いに対して変位させることができるように、互いに重なって又は隣合って配置された正弦厚み変動を有するいくつかのこの種の基部本体を設けることができる。それによって正弦厚み変動を有する２つの基部本体を互いに対して変位させることで、長手視野寸法にわたる強度分布の微調節が可能になる。
【００３６】
円盤形の遮光部分は、その有効遮光サイズに関して、遮光されるビームの方向に対する円盤平面に対する法線の向きに依存して変更することができる。
【００３７】
複数の遮光部分は、基部本体に沿って照明光学系の視野平面内の所定の強度分布Ｉ（ｘ）に対応して順番に配置することができる。そのような配列は、視野高さ（ｘ）にわたって強度変化を設定する所定の実施可能手段である。
【００３８】
各場合に１つの基部本体及び各場合に複数の遮光部分を有する複数の遮光体を設けることができ、これらの遮光体のうちの少なくとも２つは、基部本体に沿った遮光部分の距離、関連の補正照明視野ファセットに対する遮光部分の位置、及び遮光部分の遮光直径というパラメータから成る群のうちの少なくとも１つのパラメータに関して互いに異なっている。この種の遮光体は、補正照明ファセットの影響によって強度変化を重ね合わせることを可能にする。この種の強度変化は、物体視野照明の望ましい所定の強度分布をフーリエ解析方式で生成することを可能にする。
【００３９】
長手視野ファセット寸法に沿って、自体に割り当てられた補正照明視野ファセットよりも長い遮光体は、このファセットに対する長手視野ファセット寸法に沿った変位により、所定の方式で影響を受ける場合がある。遮光体の変位は、変化する照明視野の設定を可能にする。
【００４０】
遮光体の両端は、各場合に１つのロール上に繰り出し可能式に巻き取ることができ、遮光に用いられる遮光体の区域は、２つのロールの間で誘導される。実際には、この種の遮光体のための保持手段を適用することができる。
【００４１】
遮光体を巻き取り、かつ繰り出すための駆動部は、遮光体を望ましい強度変化に制御方式で適応させることを可能にする。
【００４２】
ロール、並びに遮光体を巻き取り、かつ繰り出すための駆動部は、残りの照明光学系が配置される排除空間の外側に配置することができる。この場合、駆動部及びロールを真空適合にする必要はない。
【００４３】
遮光部分の形状を定めるための形成デバイス、特に、切削デバイスは、遮光体の強度変更効果を作動中に調節することを可能にする。
【００４４】
遮光体上のマークを検出するための読取デバイスは、例えば、その後の選択に向けて遮光部分のマーク付き又は符号付きシーケンスを定めることを可能にする。更に、この種の読取デバイスは、遮光体上の遮光部分の位置制御を可能にする。
【００４５】
遮光体は、２つのファセットの間に挿入される挿入部分を有することができる。この種の挿入部分は、補正照明ファセットに対する遮光体の信頼性の高い位置決めを保証する。
【００４６】
ファセットミラーの反射面に対して垂直に変位可能な遮光体は、遮光体の遮光効果の微調節を可能にする。
【００４７】
補正照明視野ファセットは、基本照明視野ファセットの全てによって形成される視野ファセットミラーの照明輪郭の外側に配置することができる。補正照明視野ファセットがそのような手法で配置される場合には、この配列により、これまで積極的に用いられなかった光部分を利用することが可能になる。しかし、一般的に補正照明視野ファセットとして視野ファセットミラーの内部ファセットを用いるように考えることができる。
【００４８】
補正照明瞳ファセットは、基本照明瞳ファセットの全てによって形成される瞳ファセットミラーの照明輪郭に配置することができる。補正照明瞳ファセットがそのような手法で配置される場合には、望ましくない低い照明強度を伝達する基本照明瞳ファセットの照明角度からの照明は、これらの基本照明瞳ファセットの直近の補正照明瞳ファセットによって高めることができる。
【００４９】
補正照明瞳ファセットのうちの少なくとも１つにこのファセットを可変方式で覆うように割り当てられた遮光体を用いて、関連の補正照明瞳ファセットの補正効果が影響を受けることが可能である。
【００５０】
基本照明視野ファセットの少なくとも一部は、これらの基本照明視野ファセットを変位させて、特に、傾斜及び／又はシフトさせるための各場合に少なくとも１つのアクチュエータと協働する。そのような作動による傾斜移動は、特に、瞳ファセットミラー上の光源像の変位をもたらすことができる。この変位は、物体視野照明を補正するのに有利であるとすることができる。
【００５１】
同じことは、補正照明視野ファセットの任意的な作動による変位にも当て嵌まる。
【００５２】
基本照明瞳ファセットの作動による変位機能、特に、変位機能及び／又はシフト機能は、特に、個々の照明チャンネルの視野寄与のシフトを引き起こすことができる。同様に、照明チャンネル内の瞳ファセットへの視野ファセットの割り当ても可変である。
【００５３】
同じことは、補正照明瞳ファセットの作動による変位機能にも当て嵌まる。
【００５４】
補正照明視野ファセットは、照明光束のうちで補正照明視野ファセットから補正照明瞳ファセットに伝達される部分が、補正照明瞳ファセットによって完全には伝達されず、縁部において所定の方式で遮断されるように、補正照明瞳ファセットに対して配向することができ、これは、物体視野照明を補正するための有利な手段とすることができる。
【００５５】
照明光束のうちで補正照明瞳ファセットから物体視野に伝達される部分の縁部が、物体視野の縁部において遮断される場合には、同じことが当て嵌まる。
【００５６】
補正照明視野ファセットのうちの少なくとも１つは、互いに独立に配向可能な複数の部分補正照明ファセットに分割することができる。この場合、この種の補正照明視野ファセットミラーの少なくとも２つの作動モードは、物体視野照明への部分補正照明ファセットの寄与が、これらのファセットが作動される手法に依存するように、異なる手法で部分補正照明ファセットを作動させることによって得られる。部分補正照明ファセットを用いると、これらのファセットの向きに依存して異なる照明チャンネルを選択することができ、それによって物体視野照明の照明角度分布が部分補正照明ファセットによって影響を受けることが可能になる。物体視野にわたる部分補正照明ファセットの強度寄与を起動又は停止することは、物体視野照明の強度に対する影響を有する場合がある。
【００５７】
部分補正照明ファセットは、長手視野ファセット寸法に沿って基本照明視野ファセットよりも小さい延長を有することができる。それによって部分補正照明ファセットのものに対応する延長を有する物体視野部分にわたって物体視野が露光される強度を補正することが可能になる。
【００５８】
部分補正照明ファセットは、長手視野ファセット寸法に沿った少なくとも１つの列で配置することができる。長手視野ファセット寸法に沿った基本照明視野ファセットの延長に対応することができる全延長を有するこの種の列に沿って、例えば、２個，３個、４個、５個、１０個又は更にそれ以上の部分補正照明ファセットを存在させることができる。その結果、長手視野寸法に沿った物体視野照明の相応に微細な調節がもたらされる。
【００５９】
長手視野ファセット寸法に沿った複数の部分基本照明ファセットへの基本照明視野ファセットの分割は、対応する利点を有する。
【００６０】
隣接する部分基本照明ファセットの間に間隙が存在する場合があり、部分補正照明ファセットは、短手視野ファセット寸法の方向に見た時に、間隙を覆うように配置される。部分補正照明ファセットは、これらの間隙によって引き起こされる物体視野照明の望ましくない強度低下を補償することを可能にする。
【００６１】
部分補正照明ファセットは、互いに独立に作動可能なマイクロミラーとして構成することができる。それに対応して、部分基本照明ファセットもまた、互いに独立に作動可能なマイクロミラーとして構成することができる。その結果、部分ファセットの有利な構造の統合がもたらされる。
【００６２】
部分補正照明ファセットは、短手視野ファセット寸法の方向に照明光が部分補正照明ファセットの一部分にしか到達することができないように、視野ファセットミラーの支持体の部分遮光区域上に配置することができる。部分補正照明ファセットは部分的にしか照明されないので、これらの部分補正照明ファセットを用いて、相応に微細な補正強度解像度を得ることができる。
【００６３】
部分補正照明ファセットの延長は、短手視野ファセット寸法に沿って基本照明視野ファセットの延長よりも短いとすることができる。部分補正照明ファセットの上述の部分遮光に対して代替的又は追加的に、部分補正照明ファセットの上述の短い延長は、長手視野寸法にわたる物体視野照明の有利に高い補正解像度をもたらすことができる。
【００６４】
視野ファセットミラーは、複数の視野ファセットブロックに分割することができ、この場合、部分補正照明ファセットは、視野ファセットブロックのうちの１つの縁部の近くのファセットとすることができ、それによって視野ファセットミラーをモジュールで製造することが可能になる。
【００６５】
主支持体平面に対して垂直な方向には、視野ファセットブロックを階段式に互いに千鳥に配置することができる。それによって視野ファセットブロックの統合が容易になる。
【００６６】
部分補正照明ファセットは、長手視野寸法に沿っていくつかの列で配置することができる。それによって補正効果の柔軟性が高められる。１つの列又はいくつかの列にある部分補正照明ファセットを能動状態にすることができ、その結果、部分補正照明ファセットの寄与を物体視野の長手視野寸法にわたって可変的に定めることができる。
【００６７】
様々な列にある部分補正照明ファセットは、短手視野寸法に沿って異なる延長を有することができる。それによって部分補正照明ファセットの補正効果の柔軟性が更に高まる。物体視野照明が、長手視野寸法にわたって小さな補正しか必要としない場合には、短手視野ファセット寸法に沿って小さい延長を有する部分補正照明ファセットを用いることができる。より大きい補正を必要とする場合には、短手視野寸法に沿ってより大きい延長を有する別の列からの部分補正照明ファセットを用いることができる。
【００６８】
実際の用途では、様々な列において短手視野寸法に沿って１：２を上回らない部分補正照明ファセットの延長比は、短手視野寸法に沿って小さい延長を有する列の部分補正照明ファセットを用いる場合には相対強度１を有し、短手視野寸法に沿って大きい延長を有する列の部分補正照明ファセットを用いる場合には相対強度２を有し、両方の部分補正照明ファセット列を用いる場合には相対強度３を有する補正寄与を得ることを可能にする。様々な部分補正照明ファセット列の間の他の延長比、例えば、１：３又は１：４を考えることができる。更に、２つよりも多くの部分補正照明ファセット列を適用することができ、その結果、選択された列が使用状態にあり、そのような部分補正照明ファセット列のうちの３つ又は４つを用いた場合に、例えば、１：２：４又は１：２：４：８の延長比を対応する異なる補正寄与解像度を伴って得ることができる。
【００６９】
本発明によると、冒頭で示した目的は、更に、長手視野寸法と短手視野寸法の間で１よりも大きいアスペクト比を有する物体視野に放射線源からの照明光束を誘導するためのＥＵＶマイクロリソグラフィのための照明光学系によって達成され、照明光学系は、物体視野内に所定の照明条件を設定するための複数の視野ファセットを有する視野ファセットミラーと、照明光を物体視野に伝達するための視野ファセットミラーの下流にあるその後の光学系とを含み、その後の光学系は、複数の瞳ファセットを有する瞳ファセットミラーを含み、視野ファセットは、照明光束のうちで各場合に視野ファセットのうちの１つに入射する部分が、関連の瞳ファセットを通じて物体視野上に誘導されるように、各場合に瞳ファセットに個々に割り当てられ、視野ファセットミラーは、関連の基本照明瞳ファセットを通じて物体視野の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセットを含むだけではなく、関連の補正照明瞳ファセットを通じて物体視野の照明を補正することを可能にする複数の補正照明視野ファセットをも含み、補正照明視野ファセットの有効照明区域の境界形状は、少なくとも１つの屈曲点を有する。
【００７０】
本発明によると、冒頭で示した目的は、更に、長手視野寸法と短手視野寸法の間で１よりも大きいアスペクト比を有する物体視野に放射線源からの照明光束を誘導するためのＥＵＶマイクロリソグラフィのための照明光学系によって達成され、照明光学系は、物体視野内に所定の照明条件を設定するための複数の視野ファセットを有する視野ファセットミラーと、照明光を物体視野に伝達するための視野ファセットミラーの下流にあるその後の光学系とを含み、その後の光学系は、複数の瞳ファセットを有する瞳ファセットミラーを含み、視野ファセットは、照明光束のうちで各場合に視野ファセットのうちの１つに入射する部分が、関連の瞳ファセットを通じて物体視野上に誘導されるように、各場合に瞳ファセットに個々に割り当てられ、視野ファセットミラーは、関連の基本照明瞳ファセットを通じて物体視野の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセットを含むだけではなく、関連の補正照明瞳ファセットを通じて物体視野の照明を補正することを可能にする複数の補正照明視野ファセットをも含み、補正照明視野ファセットの有効照明区域の境界形状及び／又は補正照明瞳ファセットの有効照明区域の境界形状は、遮光体を用いて影響を受け、遮光体を支持する支持構造が、視野ファセットミラーの遮光空間に配置される。
【００７１】
本発明によると、冒頭で示した目的は、更に、長手視野寸法と短手視野寸法の間で１よりも大きいアスペクト比を有する物体視野に放射線源からの照明光束を誘導するためのＥＵＶマイクロリソグラフィのための照明光学系によって達成され、照明光学系は、物体視野内に所定の照明条件を設定するために複数の視野ファセットを有する視野ファセットミラーと、照明光を物体視野に伝達するための視野ファセットミラーの下流にあるその後の光学系とを含み、その後の光学系は、複数の瞳ファセットを有する瞳ファセットミラーを含み、視野ファセットは、照明光束のうちで各場合に視野ファセットのうちの１つに入射する部分が、関連の瞳ファセットを通じて物体視野上に誘導されるように、各場合に瞳ファセットに個々に割り当てられ、視野ファセットミラーは、関連の基本照明瞳ファセットを通じて物体視野の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセットを含むだけではなく、物体視野の照明を補正することを可能にする複数の補正照明視野ファセットをも含み、補正照明視野ファセットは、照明光束のうちで補正照明視野ファセットから補正照明瞳ファセットに伝達される部分が、補正照明瞳ファセットによって完全には伝達されず、縁部において所定の方式で遮断されるように、補正照明瞳ファセットに対して配向される。
【００７２】
本発明によると、冒頭で示した目的は、更に、長手視野寸法と短手視野寸法の間で１よりも大きいアスペクト比を有する物体視野からの照明光束を誘導するためのＥＵＶマイクロリソグラフィのための照明光学系によって達成され、照明光学系は、物体視野内に所定の照明条件を設定するための複数の視野ファセットを有する視野ファセットミラーと、照明光を物体視野に伝達するための視野ファセットミラーの下流にあるその後の光学系とを含み、その後の光学系は、複数の瞳ファセットを有する瞳ファセットミラーを含み、視野ファセットは、照明光束のうちで各場合に視野ファセットのうちの１つに入射する部分が、関連の瞳ファセットを通じて物体視野上に誘導されるように、各場合に瞳ファセットに個々に割り当てられ、視野ファセットミラーは、関連の基本照明瞳ファセットを通じて物体視野の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセットを含むだけではなく、物体視野の照明を補正することを可能にする複数の補正照明視野ファセットをも含み、補正照明視野ファセットは、照明光束のうちで補正照明視野ファセットから補正照明瞳ファセットに伝達される部分が、物体視野に完全には到達せず、縁部において所定の方式で遮断されるように、補正照明瞳ファセットに対して配向される。
【００７３】
本発明によると、冒頭で示した目的は、更に、長手視野寸法と短手視野寸法の間で１よりも大きいアスペクト比を有する物体視野からの照明光束を誘導するためのＥＵＶマイクロリソグラフィのための照明光学系によって達成され、照明光学系は、物体視野内に所定の照明条件を設定するための複数の視野ファセットを有する視野ファセットミラーと、照明光を物体視野に伝達するための視野ファセットミラーの下流にあるその後の光学系とを含み、その後の光学系は、複数の瞳ファセットを有する瞳ファセットミラーを含み、視野ファセットは、照明光束のうちで各場合に視野ファセットのうちの１つに入射する部分が、関連の瞳ファセットを通じて物体視野上に誘導されるように、各場合に瞳ファセットに個々に割り当てられ、視野ファセットミラーは、関連の基本照明瞳ファセットを通じて物体視野の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセットを含むだけではなく、関連の補正照明瞳ファセットを通じて物体視野の照明を補正することを可能にする複数の補正照明視野ファセットをも含み、補正照明視野ファセットは、長手視野ファセット寸法に沿って、一定の反射率から所定の方式で逸脱する所定のパターンに従う照明光反射率を有し、補正照明視野ファセット上には、個別の灰色フィルタ部分が設けられ、灰色フィルタ部分内には、一定の面積密度を有する吸収点構造が設けられ、長手視野ファセット寸法に対して垂直に灰色フィルタ部分の幅を変化させることによって可変反射率が得られる。これらの補正照明視野ファセットの光束誘導効果は、動的に制御可能なものとすることができる。
【００７４】
本発明によると、冒頭で示した目的は、更に、長手視野寸法と短手視野寸法の間で１よりも大きいアスペクト比を有する物体視野に放射線源からの照明光束を誘導するためのＥＵＶマイクロリソグラフィのための照明光学系によって達成され、照明光学系は、物体視野内に所定の照明条件を設定するための複数の視野ファセットを有する視野ファセットミラーと、照明光を物体視野に伝達するための視野ファセットミラーの下流にあるその後の光学系とを含み、その後の光学系は、複数の瞳ファセットを有する瞳ファセットミラーを含み、視野ファセットは、照明光束のうちで各場合に視野ファセットのうちの１つに入射する部分が、関連の瞳ファセットを通じて物体視野上に誘導されるように、各場合に瞳ファセットに個々に割り当てられ、視野ファセットミラーは、関連の基本照明瞳ファセットを通じて物体視野の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセットを含むだけではなく、関連の補正照明瞳ファセットを通じて物体視野の照明を補正することを可能にする複数の補正照明視野ファセットをも含み、補正照明視野ファセットは、長手視野ファセット寸法に沿って、一定の反射率から所定の方式で逸脱する所定のパターンに従う照明光反射率を有し、補正照明視野ファセット上には、個別の灰色フィルタ部分が設けられ、灰色フィルタ部分内の点構造は、変化する面積密度で配分される。これらの補正照明視野ファセットの光束誘導効果は、動的に制御可能なものとすることができる。
【００７５】
本発明によると、冒頭で示した目的は、更に、長手視野寸法と短手視野寸法の間で１よりも大きいアスペクト比を有する物体視野からの照明光束を誘導するためのＥＵＶマイクロリソグラフィのための照明光学系によって達成され、照明光学系は、物体視野内に所定の照明条件を設定するための複数の視野ファセットを有する視野ファセットミラーと、照明光を物体視野に伝達するための視野ファセットミラーの下流にあるその後の光学系とを含み、その後の光学系は、複数の瞳ファセットを有する瞳ファセットミラーを含み、視野ファセットは、照明光束のうちで各場合に視野ファセットのうちの１つに入射する部分が、関連の瞳ファセットを通じて物体視野上に誘導されるように、各場合に瞳ファセットに個々に割り当てられ、視野ファセットミラーは、関連の基本照明瞳ファセットを通じて物体視野の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセットを含むだけではなく、関連の補正照明瞳ファセットを通じて物体視野の照明を補正することを可能にする複数の補正照明視野ファセットをも含み、視野ファセットミラーは、少なくとも２つの類似する補正照明視野ファセットを含み、類似する補正照明視野ファセットが、瞳ファセットミラーによって定められる瞳中心に対して点対称な補正照明瞳ファセットに割り当てられる。これらの補正照明視野ファセットの光束誘導効果は、動的に制御可能なものとすることができる。
【００７６】
本発明による上述の照明光学系は、その個々の構造的特徴に関して上述したものとは異なる構造的組合せで実施することができる。上述の本発明による照明光学系の光束誘導効果の動的制御性又は少なくとも２つの作動モード間の視野ファセットミラーの切り換えが必須とされていない場合には、照明光学系は、動的に制御可能な光束誘導効果を有するか又は少なくとも２つの作動モード間で切換可能な視野ファセットミラーが設けられた本発明による照明光学系に関して上述した手法で改良することができる。
【００７７】
本発明による照明光学系と、物体視野を像視野へと投影するための投影光学系とを含む光学系の利点、この種の光学系と照明光束を生成するためのＥＵＶ放射線とを含む投影露光装置の利点、及びレチクルを準備する段階と、照明光に対して感光性を有するコーティングを有するウェーハを準備する段階と、本発明による投影露光装置を用いてレチクルの少なくとも一部分をウェーハ上に投影する段階と、照明光束への露光の後にウェーハ上の感光層を現像する段階とを含む製造方法の利点、並びに本発明により製造された微細構造又はナノ構造構成要素の利点は、本発明による照明光学系を参照して説明したものに対応する。
【００７８】
本発明による照明光学系を用いて照明を補正する方法は、放射線源の照明光束を用いて物体視野照明の強度分布又は角度分布を判断する段階と、望ましい強度分布又は角度分布を得るように、補正照明視野ファセットの配列及びこれらの補正照明視野ファセットへの補正照明瞳ファセットの割り当てを準備する段階とを含むことができ、補正照明視野ファセットは、１組の関数に基づいて設けられ、視野高さにわたって強度変化を有する１組の補正照明視野ファセットが与えられ、強度変化は、この関数の組に対応する。
【００７９】
補正照明視野ファセットの配列及びこれらの補正照明視野ファセットへの補正照明瞳ファセットの割り当てを準備する段階は、特に、計算に基づいて行うことができる。代替的に、この段階は、補正照明視野ファセットの配列及びこれらの補正照明視野ファセットへの補正照明瞳ファセットの割り当てが記憶された予め生成された較正表に基づいて行うことができ、各場合に補正照明瞳ファセットは、それぞれ検出された強度分布又は角度分布に割り当てられる。補正照明視野ファセットの配列は、１組の関数に基づいて計算され、補正照明視野ファセットは、この関数の組の関数に対応する有効照明光反射率を長手視野寸法にわたって有することができる。
【００８０】
物体視野照明の強度分布又は角度分布は、直接測定するか、又は導出形態で測定するかのいずれかとすることができる。導出測定は、例えば、物体平面から分離された平面内で物体視野照明の強度分布又は角度分布を測定することによって行うことができる。代替的に又はそれに追加して、物体視野照明の強度分布又は角度分布は、他のパラメータ、例えば、異なる波長を有する調節放射線又は付随的な放射線の光分布を測定するか、又は特定の構成要素の温度増大のような間接パラメータを測定するか、又は散乱光を測定することによって導出方式で判断することができる。補正照明視野ファセットの配列の計算は、視野ファセットミラー上の補正照明視野ファセットの配列の計算、及び／又は個別又は全ての補正照明視野ファセットの反射率パターン、すなわち、これらの補正照明視野ファセットの有効形状の計算を含むことができる。計算された補正照明視野ファセット配列は、相応に設計された完全に新しい視野ファセットミラーを設けることにより、又は例えば交換可能な絞りを用いて既存の視野ファセットミラーの所定の補正照明視野ファセットを選択することによって与えることができる。
【００８１】
照明補正を行う時には、様々な作動モード、及び従って様々な能動的補正照明視野ファセット配列の中から選択を行うことができる。
【００８２】
この照明補正方法の利点は、本発明による照明光学系を参照して上述したものに対応する。
【００８３】
以下に本発明の実施形態を図面を用いてより詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】照明光学系及び投影光学系を含むマイクロリソグラフィ投影露光装置を通る模式的子午断面である。
【図２】補正照明瞳ファセットを覆うためにいくつかの絞りが瞳ファセットミラーに割り当てられた図１による視野ファセットミラーと瞳ファセットミラーとの模式的平面図である。
【図３】様々な種類の補正照明視野ファセットとこれらのファセットにそれぞれ割り当てられた補正照明瞳ファセットとをまとめた平面図である。
【図４】別の実施形態の補正照明視野ファセットの平面図である。
【図５】別の実施形態の補正照明視野ファセットの平面図である。
【図６】全反射平面に関して互いに対して千鳥に配置され、千鳥配列及び傾斜照明が遮光空間を形成する視野ファセットミラーの２つの照明視野ファセットの側面図である。
【図７】単一の視野ファセットとこの視野ファセットに割り当てられた単一の瞳ファセットとを有する照明チャンネルによって行われる照明光学系の物体視野照明を各場合にファセットを平面図に示し、付加的に照明の視野依存性をグラフに示す模式図である。
【図８】９つの視野ファセットと９つの関連の瞳ファセットとの物体視野内での合計で９つの重ね合わせ照明チャンネルをファセット及び物体視野内で重ね合わされる照明チャンネルを各場合に平面図に示す模式図である。
【図９】特定の視野ファセットがワイヤの形態にある基部本体と基部本体上の肉厚区域の形態にある遮光部分とを有する遮光体に割り当てられ、遮光体がこれらの視野ファセットの有効照明区域の境界形状に影響を与える図８と類似の図である。
【図１０】視野ファセットの有効照明区域の境界形状に影響を与えるための別様に設計された別の実施形態の遮光体対の図８と類似の図である。
【図１１】図９に記載の遮光体を有する視野ファセットミラーを遮光体を巻き取るためのロールと共に示す図である。
【図１２】ワイヤの形態にある基部本体と遮光部分とを有し、ロール上に誘導されて巻き取られる遮光体を有する個々の視野ファセットの斜視図である。
【図１３】特定の視野ファセットの有効照明区域の境界形状に影響を与えるために２つの視野ファセット間に配置された別の実施形態の遮光体を含む視野ファセットミラーの平面図である。
【図１４】２つの視野ファセット間に挿入される挿入部分を有する別の実施形態の遮光体を含む付加的な詳細内容を示す別の実施形態の視野ファセットミラーの平面図である。
【図１５】２つの視野ファセットとそれらの間に配置された遮光体とを含む図１４に記載の視野ファセットミラーの斜視断面図である。
【図１６】２つの視野ファセットブロック間に配置された挿入部分を有する遮光体を有する図１４に記載の視野ファセットミラーの視野ファセットの２つのブロックの側面図である。
【図１７】各場合に視野ファセットミラーの２つのファセット間に挿入された挿入部分を同様に備えて遮光体の別の実施形態にある２つの遮光体を有する図１４に記載の視野ファセットミラーの７つの隣接する視野ファセットを示す図である。
【図１８】視野ファセットの２つのブロック間に配置された図１７に記載の種類の遮光体を含む実施形態の図１６と類似の図である。
【図１９】視野ファセットミラーの基本照明視野ファセットの部分表面積を構成する表面積を有する補正照明視野ファセットを含む配列の図７と類似の図である。
【図２０】関連の補正照明瞳ファセットを有する図１９に記載の補正照明視野ファセットの用途例の図２と類似の図である。
【図２１】投影露光装置の放射線源の光源像が瞳ファセットミラーの瞳ファセット上に配置された瞳ファセットミラーの模式的平面図である。
【図２２】レチクル部分上で重ね合わされ、ある一定の領域内で互いに重複する２つの照明チャンネルを有する物体視野に対応するレチクル部分の模式図である。
【図２３】個別瞳ファセットをその縁部上に入射する光源像と共に示す図である。
【図２４】レチクル走査方向に対して見た時に照明チャンネルがレチクル部分の縁部領域上に入射するレチクル部分の図２２と類似の図である。
【図２５】各場合に個別瞳ファセットの縁部に向けて同じように変位した光源像を有する瞳ファセットミラーの図２１と類似の図である。
【図２６】瞳ファセットミラー上に個別に位置決めされるか又は縁部において遮断された光源像を有する瞳ファセットミラーの図２１と類似の図である。
【図２７】照明された瞳ファセットの配列を有する瞳ファセットミラーの図２１と類似の図である。
【図２８】照明瞳ファセットの別の配列を有する瞳ファセットミラーの図２１と類似の図である。
【図２９】照明チャンネルを通じて様々な手法で瞳ファセットに割り当てられた視野ファセットの模式図である。
【図３０】横方向に、言い換えれば、レチクル走査方向に対して垂直に遮断された照明チャンネルを有するレチクル部分の図２４と類似の図２４である。
【図３１】横方向に遮断された２つの部分照明チャンネルを用いたレチクル部分の照明の図２４と類似の図である。
【図３２】補正照明視野ファセットを遮光するための別の実施形態の絞り構造を有する図２に記載のものと類似の視野ファセットミラーの視野ファセットの模式図である。
【図３３】補正照明視野ファセットの絞り構造の個々の絞りのための取り付けデバイスをより詳細な模式図に示す図３２の方向ＸＸＸＩＩＩからの図３２に記載の補正照明視野ファセットの側面図である。
【図３４】図３３の方向ＸＸＸＩＶによる補正照明視野ファセットの側面図である。
【図３５】２つの例示している視野ファセットの下側のものが絞り構造を有する補正照明視野ファセットとして構成された２つの隣接する視野ファセットの図３２と類似の図である。
【図３６】図３５の線ＸＸＸＶＩによって回転された側面図である。
【図３７】ファセットの反射面に配置された個々の絞りのための保持構造を有する別の実施形態の補正照明視野ファセット又は補正照明瞳ファセットの模式的平面図である。
【図３８】図３７に記載のものと類似の個々の絞りのための別の実施形態の保持手段を含む瞳ファセットミラーの図２１と類似の図である。
【図３９】関連の支持体要素を有する別の実施形態の視野ファセットミラーの２つの視野ファセットブロックの側面図である。
【図４０】視野ファセットブロックが補正照明視野ファセットを含み、補正照明視野ファセットが、部分的に照明される部分補正照明ファセットへと更に分割された図３９の右にある視野ファセットブロックの視野ファセットの平面図である。
【図４１】視野ファセットミラーの全反射面の上方から傾斜して見たこの更に別の実施形態の視野ファセットミラーを形成するための図３９及び図４０に記載の支持体要素及び視野ファセットブロックの全体の配列の斜視図である。
【図４２】視野ファセットブロックの各々が、その上側縁部において長手視野寸法に沿って並んだ部分補正照明ファセットの列の形態にある補正照明視野ファセットを含み、全てのファセットブロックが、互いに遮光しないような手法で視野ファセット支持体上に互いに隣接して配置された別の実施形態の視野ファセットミラーの合計で８つの視野ファセットブロックの配列を示す図である。
【図４３】２つの部分補正照明ファセット列に分割された補正照明視野ファセットを含む別の実施形態の視野ファセットブロックの図４０と類似の図である。
【図４４】基本照明視野ファセットが、長手視野寸法に沿った複数の部分基本照明ファセットに分割され、図４４に示す補正照明視野ファセットが、長手視野寸法に沿って並んだ部分補正照明ファセット列から成る合計で４つの基本照明視野ファセットを含む別の実施形態の視野ファセットブロックの図４０と類似の図である。
【図４５】図４４に記載の補正照明視野ファセットを有し、図４０又は図４３に記載の基本照明視野ファセットを有する別の実施形態の視野ファセットブロックの図４４と類似の図である。
【図４６】補正照明視野ファセットが、長手視野寸法に沿って並んだ部分補正照明ファセット列で構成され、部分補正照明ファセットが、上方から見た時に部分基本照明ファセット間の間隙を覆う図４４に記載の基本照明視野ファセット及び上部に示す補正照明視野ファセットを含む視野ファセットブロックの図４４と類似の図である。
【発明を実施するための形態】
【００８５】
図１は、マイクロリソグラフィ投影露光装置１を通る模式的子午断面図である。投影露光装置１の照明系２は、物体平面６内の物体視野５を照明するために放射線源３及び照明光学系４を含む。この工程では、物体視野５に配置され、図１には示しておらず、微細構造半導体構成要素又はナノ構造半導体構成要素の製造において投影露光装置１を用いて投影される構造が設けられたレチクルが照明される。投影光学系７は、物体視野５を像平面９内の照明視野８へと結像するように機能する。レチクル上の構造は、像平面９内の像視野８の領域に配置された図面には示していないウェーハの感光層上に結像される。
【００８６】
放射線源３は、５ｎｍと３０ｎｍの間の範囲内で有利放射線を放出するＥＵＶ放射線源である。放射線源３は、プラズマ光源、例えば、ＧＤＰＰ（ガス放電生成プラズマ）又はＬＰＰ光源（レーザ生成プラズマ）とすることができる。他のＥＵＶ放射線源、例えば、シンクロトロンに基づくものを考えることができる。放射線源３によって放出されるＥＵＶ放射線１０は、コレクター１１によって集光される。対応するコレクターは、例えば、ＥＰ１，２２５，４８１Ａに開示されている。コレクター１１の下流では、ＥＵＶ放射線１０は、中間焦点面１２を通って伝播し、その後視野ファセットミラー１３上に入射する。視野ファセットミラー１３は、照明光学系４の物体平面６と光学的に共役な平面に配置される。
【００８７】
以下ではＥＵＶ放射線１０を照明光又は結像光とも呼ぶ。
【００８８】
視野ファセットミラー１３の下流では、ＥＵＶ放射線１０は、瞳ファセットミラー１４によって反射される。ＥＵＶ放射線１０は、２つのファセットミラー１３、１４上に、２５°よりも小さいか又はそれに等しい入射角で入射する。従って、２つのファセットミラーは、法線入射作動範囲内でＥＵＶ放射線１０に露光される。瞳ファセットミラー１４は、照明光学系４の投影光学系７の瞳平面と光学的に共役な平面に配置される。ファセットミラー１４と、ＥＵＶ放射線１０のビーム経路の順に１６、１７、及び１８と示しているミラーを含む伝達光学系１５の形態にある結像光学アセンブリとを用いて、視野ファセットミラー１３の視野ファセット１９（図２を参照されたい）が、互いに重複するように物体視野５へと結像される。伝達光学系１５の最後のミラー１８は、かすめ入射ミラーである。伝達光学系１５は、瞳ファセットミラー１４との組合せでＥＵＶ放射線１０を視野ファセットミラー１３から物体視野５に伝達するためのその後の光学系とも呼ぶ。
【００８９】
以下では位置関係の説明を容易にするために直交ｘｙｚ座標系を用いる。ｘ軸は、図１の作図面に対して垂直に閲覧者に向けて延びている。ｙ軸は、図１の右に向けて延びている。ｚ軸は、図１の上方に延びている。
【００９０】
レチクルホルダ（図示せず）によって所定位置に保持されるレチクル、及びウェーハホルダ（図示せず）によって所定位置に保持されるウェーハは、投影露光装置１が使用される時にｙ方向に同期して走査される。
【００９１】
図示の実施形態では、物体視野５は弓形形状を有し、レチクル（図２２のレチクル２０を参照されたい）は対応する弓形形状を有する。従って、以下では、物体視野５を図２２のレチクル２０の図を用いて説明する場合がある。物体視野５は、図示の実施形態ではほぼ７５°の扇角Ｓを覆う環セグメントの形状を有する。他の扇角Ｓを考えることもできる。物体視野５は、半径Ｒｉを有する内側弧辺２１と、半径Ｒａを有する外側弧辺２２と、物体視野５の側部の境界を定める２つの半径方向辺、すなわち、図２の左にある半径方向辺２３及び図２２の右にある半径方向辺２４とによって境界が定められる。物体視野５は、半径方向辺２３、２４の２つの中心の間でｘ延長ｘ0を有する。物体視野５は、弧辺２１、２２の２つの中心の間でｙ延長ｙ0を有する。物体視野５のアスペクト比ｘ0／ｙ0は、１よりも有意に大きい。図２２に図示の実施形態では、このアスペクト比ｘ0／ｙ0はほぼ７：１である。他のアスペクト比、例えば、１３：１のアスペクト比を考えることができる。これらのアスペクト比に起因して、ｘ軸を長手視野軸とも呼び、それに対してｙ軸を短手視野軸と呼ぶ。物体視野５における特定のｘ座標を視野高さとも呼ぶ。視野ファセットミラー１３（図２を参照されたい）の矩形視野ファセット１９は、物体視野５のｘ0／ｙ0アスペクト比に対応するｘ／ｙアスペクト比を有する。
【００９２】
視野ファセットミラー１３の視野ファセット１９は、複数の視野ファセット１９、すなわち、図示の実施形態では各場合に８つの視野ファセット１９を含む視野ファセットブロック２５に組み合わされる。図２は、合計で４個のこの種の視野ファセットブロックを示している。実際の用途では、視野ファセットミラー１３が、数百個の視野ファセット１９を含むような極めて多数のそのような視野ファセットブロック２５が存在する。視野ファセットブロック２５は、実際の用途では数自由度で調節可能な視野ファセット支持体２６上に配置される。視野ファセットミラー１３の設計によっては、視野ファセットブロック２５及び／又は視野ファセットブロック２５内の視野ファセット１９は、視野ファセット支持体２６に対して調節可能なものとすることができる。
【００９３】
瞳ファセットミラー１４（図２を参照されたい）は、例えば、瞳ファセット支持体２８上に六方最密充填で配置された複数の円形瞳ファセット２７を有する。
【００９４】
視野ファセット１９及び瞳ファセット２７は結像効果を有し、例えば、球面凹状を有することができる。
【００９５】
瞳ファセット支持体２８は、視野ファセット支持体２６に対応して調節可能なものとすることができる。瞳ファセット支持体２８と同様に、個別瞳ファセット２７も、代替的又は追加的に瞳ファセット支持体２８に対して調節可能なものとすることができる。
【００９６】
ファセット上の高反射コーティングは、実際の用途では、モリブデン層とシリコン層とが交互する多層コーティングである。ファセット１９、２７は、ＥＵＶ放射線１０に対するミラーファセットである。個々の視野ファセット１９及び／又は個別瞳ファセット２７を調節するために、これらのファセットを関連のアクチュエータに個別に接続することができる。これらのアクチュエータは、個々の視野ファセットをそれぞれのファセットの反射平面に配置された２つの軸の回りに傾斜させることを可能にするように設計することができる。
【００９７】
ＥＵＶ放射線１０の照明光束のうちで視野ファセット１９のそれぞれの１つに入射する部分が、関連の瞳ファセット２７を通じて物体視野５に伝達されるように、視野ファセット１９は、各場合に個別に瞳ファセット２７に割り当てられる。従って、これらの２つのファセットミラー１３、１４は、ＥＵＶ放射線１０を物体視野５に別々のチャンネル内で誘導する複数の照明チャンネルを定める。模式的に示す図２に記載の実施形態は、合計で３２個のそのような照明チャンネルを有する。放射線源３は、照明チャンネルの各々内で瞳ファセット２７へと結像される。
【００９８】
視野ファセット１９及び瞳ファセット２７は、各場合に２つのファセット種類へと区分される。図２では基本照明視野ファセット１９Gを中白で示している。図２では補正照明視野ファセット１９Kをハッチングで示している。図２に中白円として例示している基本照明瞳ファセット２７Gは、照明チャンネルを通じて基本照明視野ファセット１９Gに割り当てられる。
【００９９】
図２でハッチングで示している補正照明瞳ファセット２７Kは、補正照明視野ファセット１９Kに割り当てられる。
【０１００】
基本照明視野ファセット１９Gは、関連の基本照明瞳ファセット２７Gを用いた基本照明チャンネルを通じて物体視野５の基本照明を与える。補正照明視野ファセット１９Kは、関連の補正照明瞳ファセット２７Kを用いた補正照明チャンネルを通じて物体視野５の補正照明を与える。
【０１０１】
基本照明視野ファセット１９Gとして用いるべき視野ファセットミラー１３の視野ファセット１９、及び補正照明視野ファセット１９Kとして用いるべき視野ファセット１９は、ＥＵＶ放射線１０の照明光束への視野ファセットミラー１３の露光中の幾何学形状及び強度分布、並びに物体視野５の所定の望ましい照明に依存して選択される。適切な補正照明視野ファセット１９Kは、例えば、基本照明を与えるのに十分ではない強度しか持たないもの又は基本照明を与えるのに許容範囲外の強度分布を有するものである。適切な補正照明視野ファセット１９Kは、例えば、縁部の近くの視野ファセット１９、又は例えば遮光に起因してＥＵＶ放射線に全くか、又は減衰したＥＵＶ放射線にしか露光されない部分を有する視野ファセット１９である。
【０１０２】
複数の絞り２９、３０、３１、３２（図２を参照されたい）が、絞り交換ホルダ３３（図１を参照されたい）内に設けられた瞳ファセットミラー１４に割り当てられる。絞り交換ホルダ３３を用いると、絞り２９から３２を図１に実線で例示している休止位置と、瞳ファセットミラー１４のミラー面の前の図１に破線で示している絞り位置との間で個々に変位させることができる。絞り位置では、絞り２９から３２は、ＥＵＶ放射線１０が所定の基本照明チャンネルに沿って伝播することを保証する。更に、絞り２９から３２は、補正照明に向けて用いるべき補正照明瞳ファセット２７Kの選択を可能にする。
【０１０３】
絞り２９は、絞り位置にある時に、図２に示している６つの補正照明瞳ファセット２７Kの全てによる補正照明を可能にする。それによって基本照明チャンネルの全てと補正照明チャンネルの全てとを同時に経由した物体視野５の重ね合わせ照明が生じる。
【０１０４】
絞り３０は、絞り位置にある時に、図２で２７K1で示している２つの補正照明瞳ファセットを遮蔽する。この場合、物体視野５は、全ての基本照明チャンネル及び残りの補正照明チャンネルを経由した重ね合わせ照明に露光される。
【０１０５】
絞り３１は、絞り位置にある時に、補正照明瞳ファセット２７K1に加えて２つの更に別の補正照明瞳ファセット２７K2を遮蔽する。絞り３１を用いる時には、物体視野５は、基本照明チャンネル及び２つの残りの補正照明チャンネルを経由した重ね合わせ放射線に露光される。
【０１０６】
絞り３２は、絞り位置にある時に、補正照明瞳ファセット２７kの全てを遮蔽する。この場合、物体視野５は、基本照明チャンネルのみを経由した重ね合わせ照明に露光される。
【０１０７】
その結果、絞り２９から３１は、ＥＵＶ放射線１０の照明光束のうちで各場合に補正照明視野ファセット１９Kの異なる群に割り当てられた部分が物体視野５へと通過することを可能にする。当然ながら、付加的な絞りを対応する方式で設計することにより、他の伝達群を考えることができる。
【０１０８】
基本照明視野ファセット１９Gと全く同様に、補正照明視野ファセット１９Kは、その面にわたって一定の反射率を有することができる。代替的に、少なくとも選択された補正照明視野ファセット１９Kに、そのファセット面にわたって変化する反射率を与えることができる。特に、これらの補正照明視野ファセット１９Kは、ＥＵＶ放射線１０に対して、長手視野寸法に沿って、一定の反射率から所定の方式で逸脱する所定のパターンに従う反射率を有する。
【０１０９】
図３は、そのような補正照明視野ファセット１９K1から１９K6、及び１９K1'から１９K6'の例を示している。補正照明視野ファセット１９K1から１９K6は、補正照明視野ファセットブロック２５K内に組み合わされる。補正照明視野ファセット１９K1'から１９K6'は、補正照明視野ファセットブロック２５K'内に組み合わされる。ハッチングで示している部分では、補正照明視野ファセット１９K1から１９K6及び１９K1'から１９K6'には、ＥＵＶ放射線１０を高度に反射するコーティングが設けられない。以下ではこれらの部分を減衰部分３４と呼ぶ。図３では、補正照明視野ファセット１９K1から１９K6及び１９K1'から１９K6'の反射部分３５を中白で示している。減衰部分３４の形状は、補正照明視野ファセット１９K1から１９K6の各々において異なる。補正照明視野ファセット１９K1と１９K1'とは、類似する形の減衰部分３４を有する。同じことは、補正照明視野ファセットの対１９K2／１９K2'から１９K6／１９K6'に当て嵌まる。２つの視野ファセットブロック２５K及び２５Kは、ｘ−ｚミラー対称平面に関して鏡面対称に配置される。
【０１１０】
補正照明視野ファセット１９K1から１９K6の別様に設計された減衰部分３４に起因して、補正照明視野ファセット１９K1から１９K6は、各場合に異なる程度でｘ方向に沿ってＥＵＶ放射線１０を減衰させる。
【０１１１】
補正照明視野ファセット１９K1は、図３の左手縁部においてＥＵＶ放射線１０を完全に減衰させる。減衰率は、右手縁部に向けて線形に低下し、その結果、ＥＵＶ放射線１０は、右手縁部において、可能な最も高い効率で反射される。
【０１１２】
補正照明視野ファセット１９K2は、正確に逆の減衰パターンをもたらす減衰部分３４を有し、すなわち、ＥＵＶ放射線１０は、図３の左手縁部では減衰されず、それに対して右手縁部では、可能な最大の程度で減衰される。
【０１１３】
補正照明視野ファセット１９K3は、図３によると上下に見た時に三日月形であり、補正照明視野ファセット１９K3の中心で接触する２つの減衰部分３４を有する。従って、補正照明視野ファセット１９K3は、図３の左手縁部において最小減衰率を有し、半分のｘ高さにおいて最大減衰率まで増大し、その後右手縁部における最小減衰率へと再度低下する減衰パターンをｘ方向に辿る。
【０１１４】
補正照明視野ファセット１９K3と比較すると、補正照明視野ファセット１９K4は、ｘ方向にＥＵＶ放射線に対する逆減衰パターンを有する。補正照明視野ファセット１９K3及び１９K4は、ｘ方向に放物線減衰パターンを生成する。
【０１１５】
補正照明視野ファセット１９K5は、図３の左手縁部においてＥＵＶ放射線１０に対する最小減衰率を有し、右手縁部における最大減衰率へと増大する減衰パターンをｘ方向に有する。２つの縁部の間では、減衰率は、ｘ座標の非線形関数である。この減衰率は、連続単調関数の結果である。他のパターンの減衰関数、特に、少なくとも１つの最小値又は少なくとも１つの最大値を有するもの、並びに不連続関数及び／又は非単調関数を考えることができる。
【０１１６】
補正照明視野ファセット１９K6は、補正照明視野ファセット１９K5のものと比較して逆の減衰パターンをｘ方向に有する。
【０１１７】
減衰部分３４では、補正照明視野ファセット１９K1から１９K6及び１９K1'から１９K6'は、ＥＵＶ放射線１０に対して１０％よりも大幅に低い反射率を有し、図示の実施形態では、この反射率は、ファセットの反射部分３５における反射率の０．１％よりも低い。
【０１１８】
補正照明視野ファセット対１９K1／１９K1'から１９K6／１９K6'は、各場合に長手視野寸法にわたって、言い換えれば、ｘ軸に沿って同じ反射率パターンに従う典型的な補正照明視野ファセットの群を形成する。
【０１１９】
補正照明視野ファセット対１９K1／１９K1'から１９K6／１９K6'は、各場合に、瞳ファセットミラー１４の中心３６関して点対称である補正照明瞳ファセット対２７K1／２７K1'から２７K6／２７K6'に割り当てられる。
【０１２０】
補正照明視野ファセット１９K1から１９K1'、１９K6から１９K6'と相互作用する絞り２９から３２の方式にある絞りは、１９K1／１９K1'から１９K6／１９K6'が常に対で遮光されるように構成される。それによって補正照明チャンネルによって引き起こされる可能性がある物体視野照明のテレセントリック性変化が阻止される。
【０１２１】
物体視野５の照明のテレセントリック性は、以下の通りに定められる。
【０１２２】
照明される物体視野５の各視野点に対して、この視野点に割り当てられた光束の中心光線が定められる。中心光線は、この視野点から発する光束のエネルギ重み付き方向を有する。理想的な場合には、各視野点の中心光線は、照明光学系又は投影光学系によって定められる主光線に対して平行である。
【０１２３】
主光線の方向：
【０１２４】
【数１】
0005385970.tif 000002
【０１２５】
は、照明光学系４又は投影光学系７の設計データから既知である。視野点における主光線は、この視野点と投影光学系７の入射瞳の中心点との間を繋ぐ線によって定められる。物体平面６内の物体視野５内の視野点ｘ，ｙにおける中心光線の方向は次式として得られる。
【０１２６】
【数２】
0005385970.tif 000003
【０１２７】
Ｅ（ｕ，ｖ，ｘ，ｙ）は、この視野点に関する瞳座標ｕ，ｖの関数として、すなわち、それぞれの視野点ｘ，ｙから見た照明角度の関数としてのエネルギ分布である。
【０１２８】
【数３】
0005385970.tif 000004
【０１２９】
は、点ｘ，ｙ上に入射する全エネルギである。
【０１３０】
例えば、中心物体視野点ｘ0，ｙ0は、照明光学系４の瞳平面を通過するそれぞれの部分放射線束の貫通点によって定められる方向ｕ，ｖからの部分放射線束の放射線を受ける。この照明設定では、中心光線ｓは、部分放射線束の異なるエネルギ又は強度がそれぞれ組み合わされ、主光線方向に対して平行な積分中心光線方向を形成する場合にのみ主光線に沿って延びている。これは、理想的な状況の下にある場合のみである。実際には、中心光線方向：
【０１３１】
【数４】
0005385970.tif 000005
【０１３２】
と主光線方向：
【０１３３】
【数５】
0005385970.tif 000006
【０１３４】
の間の偏位が存在し、これをテレセントリック性誤差：
【０１３５】
【数６】
0005385970.tif 000007
【０１３６】
とも呼び、以下のようになる。
【０１３７】
【数７】
0005385970.tif 000008
【０１３８】
投影露光装置１の実際の用途では、補正されるのは特定の物体視野における静的なテレセントリック性誤差ではなく、ｘ＝ｘ0における走査積分テレセントリック性誤差である。このテレセントリック性誤差は次式で得られる。
【０１３９】
【数８】
0005385970.tif 000009
【０１４０】
言い換えれば、走査処理中に物体平面６内で物体視野５を通じて移動するレチクル上の点（ｘ、例えば、ｘ0）によって積分されるテレセントリック性誤差が補正され、ｘテレセントリック性誤差（ｔｘ）とｙテレセントリック性誤差（ｔｙ）との間で区別が付けられる。ｙテレセントリック性誤差は、主光線からの中心光線の走査方向に対して垂直な偏位として定められる。ｘテレセントリック性誤差は、主光線からの中心光線の走査方向の偏位として定められる。
【０１４１】
代替実施形態の補正照明視野ファセット（図示せず）では、各場合に、図３に記載の実施形態の対１９K1／１９K1'から１９K6／１９K6'に対応するＥＵＶ反射率の同じｘパターンを有する４つの補正照明視野ファセット１９Kから成る群が存在する。４つの補正照明視野ファセットから成るこれらの群は、照明チャンネルを通じて瞳ファセットミラー１４の中心３６の周囲に等しく配分された４つの補正照明瞳ファセットの群に例えば絞りを用いて４つの補正照明チャンネルのそのような群を切り換えることによって楕円度Ｅ０°／９０°が維持されるように割り当てられる。厳密には、中心３６は、照明光学系４の瞳の中心であり、瞳は、瞳ファセットミラー１４によって定められる。
【０１４２】
楕円度は、物体平面６内の物体視野５の照明品質を判断するための別のパラメータである。楕円度の特定は、投影光学系７の入射瞳にわたってエネルギ又は強度それぞれの分布に関するより正確な情報を得るのに役立つ。この目的のために、入射瞳は、数学で一般的な慣習であるように反計時方向にＯ1からＯ8と番号が振られた８つの八分円に分割される。視野点の照明への入射瞳の八分円Ｏ1からＯ8によって加えられるエネルギ又は強度の寄与を以下ではエネルギ寄与又は強度寄与Ｉ1からＩ8と呼ぶ。
【０１４３】
次式の量を−４５°／４５°楕円度（Ｅｌｌｙ、Ｅ-45°/45°）と呼ぶ。
【０１４４】
【数９】
0005385970.tif 000010
【０１４５】
次式の量を０°／９０°楕円度（Ｅｌｌｘ，Ｅ0°/90°）と呼ぶ。
【０１４６】
【数１０】
0005385970.tif 000011
【０１４７】
テレセントリック性誤差の以上の説明に対応して、特定の物体視野点ｘFP，ｙFP、又は代替的に走査積分照明（ｘ＝ｘFP，ｙ積分）に関する楕円度を判断することができる。
【０１４８】
補正照明視野ファセット上の減衰部分３４は、ファセットの反射コーティング中に、これらの減衰部分３４に反射コーティングが設けられないように減衰部分３４を覆うマスクを減衰部分３４の位置に付加することによって製造することができる。この場合、反射コーティングは、反射部分３５だけに付加される。
【０１４９】
補正照明視野ファセットのｘ寸法に依存する関数反射率パターンは、補正照明視野ファセット１９K1、１９K1'の場合等には、ｘの線形関数とすることができ、又は補正照明視野ファセット１９K2から１９K2'の場合等には、ｘの２次関数とすることができる。ｘの他の多項式関数、例えば、ｘのより高次のべき乗関数を考えることができる。例えば、補正照明視野ファセット１９Kのｘ寸法への反射率依存性のフーリエ解析を行う場合には、ｘの正弦関数又は余弦関数を考えることができる。一般的な規則として、１組の直交関数に対応するｘの関数である１組の反射率依存関係を生成するのに、様々な補正照明視野ファセット、例えば、補正照明視野ファセット１９K1から１９K6を用いることができる。それによって特に、テレセントリック性及び楕円度という照明パラメータに関して、物体視野５内で照明パラメータの事実上あらゆる望ましい照明補正を行うことが可能になる。
【０１５０】
図４は、例えば、図２又は図３に記載の補正照明視野ファセットを置換することができる別の実施形態の補正照明視野ファセット１９Kを示している。図４に記載の補正照明視野ファセット１９Kは、反射部分３５から個別の楔形の灰色フィルタ部分３７の形態にある減衰部分を有する。
【０１５１】
図３に記載の実施形態の補正照明視野ファセット１９K1／１９K1'とは対照的に、図４に記載の実施形態における減衰部分３７の最大幅Ｋは、図４の左手縁部において補正照明視野ファセット１９Kのｙ方向の幅ｙFFよりも小さい。従って、補正照明視野ファセット１９Kは、図４の左手縁部において０以外の反射率を有する。この反射率は、反射部分３５の幅の増大に対応して左から右へと線形に増大する。
【０１５２】
図５は、図２から図４に記載の補正照明視野ファセットを置換することができる別の実施形態の補正照明視野ファセット１９Kを示している。図５に記載の補正照明視野ファセット１９Kも同じくｘ寸法に沿って可変の反射率を有する灰色フィルタである。図５に記載の実施形態では、灰色フィルタは、補正照明視野ファセット１９Kの反射面全体を覆う所定の方式で配分された吸収点構造３８によって形成される。点構造３８は、５０μｍと１５０μｍの間の範囲内で典型的な直径を有することができる。
【０１５３】
図５に記載の補正照明視野ファセット１９Kの例では、点構造３８の面積密度は、左から右へと見た場合に低下しており、その結果、図５に記載の実施形態における反射率変化は、図４に記載の実施形態のものにほぼ対応する。図５に記載の実施形態では、点構造３８は、補正照明視野ファセット１９Kの反射面にわたって配分される。代替的に、点構造３８は、例えば、図３に記載の補正照明視野ファセット１９K1から１９K6の配列の減衰部分３４に対応して形成された残りの反射部分から個別の減衰部分内で一定の面積密度を有するように配置することができる。
【０１５４】
補正照明視野ファセットの反射率が最初から低減している例えばいかなる反射コーティングも付加されていない減衰部分３４の変形として、特に、例えば、アクチュエータを用いて能動的に変位可能な可変遮光体を用いた減衰部分を補正照明視野ファセット１９上に設けるように考えることができる。この種の遮光体は、視野ファセットミラー１３のレイアウトに起因して遮光される空間３９に配置された支持構造を用いて所定位置に保持することができる。図６は、このようにして遮光された空間３９を示しており、空間３９は、図６の左に配置された視野ファセット１９であり、図６の右に示している隣接する補正照明視野ファセット１９Kを関連の視野ファセットミラーの反射平面４０に関して超えて突出する視野ファセット１９、例えば、基本照明視野ファセット１９Gによって形成される。この場合、可変遮光体のための支持構造を配置することができる遮光空間３９は、視野ファセット１９G、１９Kを含む視野ファセットミラー上にｘｚ平面に対して角βで、すなわち、反射平面４０に対して傾斜して入射するＥＵＶ放射線１０によって発生する。この場合、可変遮光体は、ｘ寸法において可変である減衰率を伴って補正照明視野ファセット１９Kの反射部分４１を遮光することができる。ｘ軸は、図６の作図面に対して垂直に作図面に向いて延びている。ｙ軸は、図６の右に向いて延びている。ｚ軸は、図６において下向きに延びている。
【０１５５】
図６には遮光体を示していない。遮光体は、例えば、ｘ寸法に沿って延び、反射部分４１の内外に可変的に移動可能な絞りとすることができる。
【０１５６】
以下は、補正される不均一な照明が、物体視野５のｘ軸にわたって如何にして生じる可能性があるかに関する図７及び図８を用いた説明である。
【０１５７】
図７は、単一の視野ファセット１９しか持たない視野ファセットミラー１３の模式図である。放射線源３は、円形照明区域４２内で視野ファセットミラー１３を照明する。この照明は均一ではない。照明強度は、照明区域４２内で図７の左上から右下に均一に低下する。その結果、視野ファセット１９は、図７の左から右へと低下する強度を有するＥＵＶ放射線１０に露光される。
【０１５８】
図７は、単一の瞳ファセット２７しか持たない瞳ファセットミラー１４の模式図を示している。視野ファセット１９と瞳ファセット２７は、照明チャンネルを形成する。
【０１５９】
物体視野５のｘ方向にわたる強度分布Ｉ（ｘ）を図７の下部にあるグラフに示している。物体視野５が、図７に示している照明チャンネルだけによって照明されると仮定する。この場合、図７の左手縁部は最大強度で露光され、図７の４３に示している照明角度分布を受ける。３つの更に別の照明角度分布を４４から４６に模式的に示しており、これらの照明角度分布は、図７の右、言い換えれば、ｘ方向に更に移動した物体視野点に当たる。４つの照明角度分布４３から４６は、各場合に同じ照明方向を有する。従って、関連付けられた物体点は、全て同じ照明方向から、すなわち、唯一の瞳ファセット２７の方向からの照明に露光される。しかし、左から右に見た時に、物体視野点は、低下する照明強度で露光される。
【０１６０】
この照明変化は、ｘ方向、すなわち、ｙ方向又は走査方向に対して垂直に発生するので、この照明変化は、レチクルが物体視野５によって走査される時でさえも維持される。従って、この強度変化Ｉ（ｘ）は、可能な限り低く保たなければならない。この弱い強度変化Ｉ（ｘ）は、次式として定められる均一性Ｕ（ｘ）の小さい値に対応する。
【０１６１】
【数１１】
0005385970.tif 000012
【０１６２】
ｘ＝０は、物体視野５の中心におけるｘ位置、言い換えれば、視野高さに対応する。
【０１６３】
図８は、視野ファセットブロック２５の視野ファセット１９1から１９9を有する（上から下へと番号が振られた）合計で９つの異なる照明チャンネルの重ね合わせと、関連の瞳ファセット２７1'から２７9'とを示している。瞳ファセット２７5'は、瞳ファセットミラー１４の中心３６に配置される。全ての照明チャンネルは、物体視野５内で重ね合わされ、これを図８の右に積み重ねられた矩形で示している。左から右に発生する全ての視野ファセット１９1から１９9の照明の強度変化は、この変化が、各場合に同じ単調なパターンをｘ方向に辿る場合には、物体視野５内の重ね合わせによっては補償することができず、物体視野５内で加算される。補償は、図２から図６を用いて上述の補正照明視野ファセット、及び以下に説明する補正照明視野ファセットを用いて行うことができる。
【０１６４】
図９は、ここでもまた、９つの照明チャンネルの図８と類似の図を示しており、ここでは、合計で４つの補正照明視野ファセット、すなわち、視野ファセット１９K1、１９K2、１９K8、１９K9、及び５つの基本照明視野ファセット、すなわち、視野ファセット１９G3から１９G7を関連の補正照明瞳ファセット２７K1'、２７K2'、２７K8'、２７K9'及び基本照明瞳ファセット２７G3'及び２７G7'と共に提供している。
【０１６５】
補正照明視野ファセット１９K1、１９K2及び１９K8、１９K9は、各場合にこれらのファセットが互いに隣接する位置において、遮光体４７によって遮光される。遮光体４７は、視野ファセットミラー１３の反射面によって定められる反射平面からある一定の距離の位置に配置される。遮光体４７は、各場合に２つの隣接する補正照明視野ファセット１９K1／１９K2及び１９K8／１９K9の間の間隙４８の上方に配置される。遮光体４７は、間隙４８に沿って延びるワイヤの形態にある基部本体４９を有する。基部本体４９の幅は、ｙ方向に間隙４８の幅よりも小さい。基部本体４９に沿って、遮光体４７の遮光部分５０が基部本体４９上に配置され、遮光部分４９の幅は、２つの隣接する補正照明視野ファセット１９Kの間の間隙４８の幅よりもｙ方向に大きい。遮光部分５０は、数珠連結しの真珠のようにワイヤ基部本体４９上に並ぶ。遮光部分５０は、基部本体４９のｙ方向の厚み変動と理解することができる。遮光部分５０のｙ方向の幅、及びｘ方向に基部本体４９に沿った遮光部分５０の発生頻度は、ＥＵＶ放射線１０を反射する補正照明視野ファセット１９K1／１９K2及び１９K8／１９K9の面のｘ方向に対応する変化をもたらす。例えば、図７に記載の照明強度変化Ｉ（ｘ）を補正するために、遮光部分５０は、遮光部分５０の発生頻度が図９の左から右に低下するように配分することができる。それによってｘ方向に生成される遮光変化が、補正照明視野ファセット１９K上の照明変化を超える限り、補正照明視野ファセット１９Kは、物体視野５の左から右に増大する照明強度寄与をもたらし、従って、基本照明視野ファセット１９Gの反対方向の強度寄与に対する補償寄与をもたらす。
【０１６６】
図９の配列では、補正照明瞳ファセット２７K1'，２７K2'，２７K8'，２７K9'もまた、瞳ファセットミラー１４の中心３６の周囲に点対称に配置される。既に上述のように、これは、補正照明視野ファセット１９Kが使用状態にある時にテレセントリック性及び任意的に楕円度が維持されることを保証する。
【０１６７】
ワイヤの代わりに、基部本体４９には、フィルムストリップ又はテープを装備することができる。遮光部分５０は、例えば、侵食によって基部本体４９の縁部から材料を除去することによって形成されるように設計することができる。代替実施形態では、遮光部分５０は、特に、テープ形の基部本体４９の縁部が望ましい形状へと切削されるように設計される。
【０１６８】
ある一定の補正照明視野ファセット１９Kでは、遮光部分５０は、互いから一定の空間頻度又は周期で分離することができる。対応する実施形態を図１０に示している。この実施形態では、真珠形又はディスク形の遮光部分５０を有するワイヤ形の基部本体４９は、補正照明視野ファセット１９K1と１９K2の間、及び補正照明視野ファセット１９K8と１９K9の間に配置され、遮光部分５０は、補正照明視野ファセット１９K1／１９K2及び１９K8／１９K9のｘ寸法に沿って規則的に合計で１１回繰り返す。補正照明視野ファセット１９K2と１９K3、及び補正照明視野ファセット１９K7と１９K8の間には、ワイヤ形の基部本体４９及び遮光部分５０を有する遮光体４７が配置され、これらの遮光部分５０は、補正照明視野ファセット１９K2／１９K3及び１９K7／１９K8のｘ方向に沿って合計で６回繰り返す。補正照明視野ファセット１９K3と１９K4、及び補正照明視野ファセット１９K6と１９K7の間には、ワイヤ形の基部本体４９及び遮光部分５０を有する遮光体４７が配置され、これらの遮光部分５０は、補正照明視野ファセット１９K3／１９K4及び１９K6／１９K7のｘ寸法に沿って合計で２回繰り返す。
【０１６９】
図１０に記載の実施形態では、基本照明視野ファセット１９G5は、補正照明視野ファセット１９K4と１９K6の間に配置される。
【０１７０】
図１０に記載の遮光体４７を遮光部分５０が異なる周期を有して順番に配置されるようなワイヤ絞りとして配置することにより、１組のそれぞれの基底関数の可変選択による補正照明視野ファセット１９K1から１９K4及び１９K6から１９K9の縁部吸収のフーリエ合成が可能である。このフーリエ合成は、空間頻度、すなわち、基部本体４９に沿った遮光部分５０の間の距離、位相、すなわち、例えば、補正照明視野ファセット１９K上に入射する図１０の左にある先頭の遮光部分５０のそれぞれのｘオフセット、及び振幅、すなわち、それぞれの遮光部分５０のｙ寸法によって照明補正を微調整することを可能にする。ｘオフセット、すなわち、遮光体４７の遮光部分５０のｘ位置は、図１０に方向矢印５２によって示しているように、ｘ方向に遮光体４７を変位させることによって定めることができる。
【０１７１】
図１０に記載の実施形態では、類似する遮光体４７で遮光される補正照明視野ファセット２７K'は、同様に、瞳ファセットミラー１４の中心３６に関して点対称であり、テレセントリック性及び同じく任意的に楕円度が維持されることを保証する。図９及び図１０に記載の実施形態では、類似する遮光部分４７で遮光される補正照明視野ファセット１９K'は、更に視野ファセットブロック２５の中心ｘｚ平面に関して鏡面対称である。
【０１７２】
遮光部分５０が円盤形である場合には、図１０に方向矢印５１で示しているように、遮光体４７を基部本体４９の縦軸の回りに回転させることによって遮光部分５０の有効遮光ｙ寸法を変更することができる。
【０１７３】
図１０に記載の実施形態では、遮光部分５０は、遮光体４７の正弦厚み変動を得るように設計することができる。同様に、互いに重なって配置された正弦厚み変動を有する遮光部分５０を含むこの種のいくつかの基部本体４９を設けることができる。これらの基部本体の遮光部分の補正効果は、互いに重なって位置するこれらの２つの基部本体４９を互いに対して縦方向に変位させることによって微調整することができる。
【０１７４】
図１１は、視野ファセットブロック２５の反射平面の上方の遮光体４７のための可能な保持手段を示している。
【０１７５】
基部本体４９の両端は、各場合に１つのロール５３、５４上に巻き取られ、これらのロール５３、５４への巻き取り、及びこれらのロールからの繰り出しが可能である。遮光に向けて用いられ、補正照明視野ファセット１９Kのｘ延長に対応するｘ延長を有する遮光体４７の遮光区域５５は、２つのロール５３、５４の間で誘導される。図１１の左に示しているロール５３には、各場合に、基部本体４９を巻き取り、繰り出すための駆動部５６が設けられる。ロール５３、５４及び駆動部５６は、残りの照明系２が配置される排除空間５７の外側に配置することができる。図１１では排除空間５７に対する固定平面５８を破線で示している。
【０１７６】
図１２は、単一の補正照明視野ファセット１９Kの近くの図９及び図１０に記載の遮光体４７の方式にある遮光体４７のための代替実施形態の保持手段を示している。遮光体４７の基部本体４９は、補正照明視野ファセット１９Kの反射面５９の上方に２つの誘導ロール６０を用いて誘導及び支持される。基部本体４９の一端は、誘導ロール６０を用いてロール５３へと誘導され、それに対して基部本体４９の他端は、ロール５４へと誘導される。２つのロール５３、５４は、補正照明視野ファセット１９Kの反射面５９から離れた側に配置される。
【０１７７】
図１３は、テープ６１の形態にある基部本体を有する遮光体４７の図９の左にある図と類似の図である。遮光部分５０を形成するために、テープ６１の幅、言い換えれば、そのｙ寸法は、必要な強度補正を得るのに必要とされるサイズに切削され、遮光部分５０は、例えば、腐食によって形成することができる。図３の遮光体４７の図によると、テープ６１の幅は、関連の補正照明視野ファセット１９Kの間の間隙４８の全幅を超える。ある一定の領域内では、テープ６１の幅は、間隙４８の幅に対応することができ、又は補正照明視野ファセット１９Kが、図１３に記載の遮光体４７によってこれらの領域内で遮光されることを阻止するように、この間隙４８よりも小さくすることさえ可能である。図１１及び図１２に記載の実施形態を参照して上述したように、テープ６１は、ワイヤ基部本体４９に対応して、ロール５３、５４上に巻き取ることができる。
【０１７８】
作動に向けて投影露光装置１を準備する時には、上述の実施形態の遮光体４７の遮光部分５０の形状を例えば物体視野５の照明の較正測定に基づいて形成デバイスを用いて選択することができる。形成デバイスは、例えば、切削デバイス又は腐食デバイスとすることができる。
【０１７９】
基部本体４９に沿って、補正照明視野ファセット１９Kによる物体視野照明の補正に課せられる要件に依存して選択される様々なシーケンスの遮光部分５０を有するいくつかの連続する遮光区域５５を設けることができる。例えば、等距離で連続して配置された遮光部分５０を含む遮光区域５５の順番にあって、連続する遮光区域５５の各々において、連続する遮光部分５５の空間頻度が例えば図１０に記載の実施形態の異なる空間頻度に依存して変化するシーケンスを設けることができる。連続する遮光区域は、例えば、基部本体４９に付加されたマークによって識別することができる。これらのマークは、信号線６３を通じて制御デバイス６４と信号接続状態にある読取デバイス６２（図１１を参照されたい）によって光学的に検出することができる。更に、制御デバイス６４は、信号線６５を通じてロール５３の駆動部５６と信号接続状態にある。図１１には、そこに例示している巻き取り及び繰り出しデバイスの例で読取デバイス６２及びそれに接続した制御システムを示している。
【０１８０】
補正照明視野ファセット１９Kと特定の遮光体４７との併用を必要とする物体視野照明の較正測定中に強度変化が測定された場合には、読取デバイス６２が、必要とされる遮光部分５０を有する遮光区域５５に割り当てられたマークを検出するまで、関連のロール５３の駆動部６２が作動される。望ましい遮光区域５５は、各場合に制御デバイス６４を用いて制御方式で接近される。
【０１８１】
以下は、補正照明視野ファセット１９を生成するための遮光体４７を有する別の実施形態の視野ファセットミラー１３の図１４から図１６を用いた説明である。図１から図１３を参照して上述したものに対応する構成要素及び機能は、同じ参照番号を有し、これらに対しては再度詳細には解説しない。
【０１８２】
図１４に記載の視野ファセットミラー１３は、複数の視野ファセットブロック２５に分割され、更にこれらの視野ファセットブロック２５は、図２に記載の実施形態の視野ファセットブロック２５と同様に複数の視野ファセット１９を含む。これらの視野ファセットブロック２５の間には、０．５ｍｍ幅の間隙６６が設けられる。更に、図１４は、視野ファセットミラー１３を合計で５つの自由度で調節するための調節要素６７ａを示している。
【０１８３】
図１４から図１６に記載の実施形態では、遮光体４７は、２つの隣接する補正照明ファセット１９Kの間の間隙６６内に挿入される挿入部分６７を有する。図１４から図１６に記載の遮光体４７の遮光部分５０は、間隙６６に沿ってｘ方向に延びる挿入部分６７に堅固に接続される。挿入部分６７は、遮光部分５０と一体で形成することができる。代替的に、図１６に示しているように、遮光部分５０は、最初は挿入部分６７から分離しており、その後に挿入部分６７に結合される構成要素として製作することができる。
【０１８４】
遮光体４７の遮光部分５０及び挿入部分６７は、モリブデンから作ることができる。
【０１８５】
ｘ方向に沿って延び、関連の補正照明視野ファセット１９Kの反射面５９を超えて突出する遮光部分５０の境界は、例えば、図１３に記載のテープ遮光体４７の境界と同様に形成することができる。
【０１８６】
以下は、図１７及び図１８を用いた別の実施形態の遮光体４７の説明である。図１７は、遮光体４７が、視野ファセットブロック２５において隣接する視野ファセット１９の間に挿入された実施形態を示している。図１８は、遮光体４７が、隣接する視野ファセットブロック２５の間に挿入された実施形態を示している。図１７及び図１８に記載の遮光体４７は、挿入部分６７の視野ファセット１９の反射面５９を超えて突出する延長部を形成する遮光部分５０を有する。図１８に模式的に示しているアクチュエータ６８は、図１８に方向矢印６９で示しているように、遮光体４７を反射面５９に対して垂直に変位させることを可能にする。図１７の模式的で誇張した図で示しているように、補正照明視野ファセット１９Kの可変遮光に向けて、遮光部分５０の自由縁部７０が、ｘ方向に沿って見た時にそのｘ位置に依存する関数に対応して形成される。
【０１８７】
以下は、図１９を用いた更に別の実施形態の補正照明視野ファセットの説明である。図１から図１８を参照して上述したものに対応する構成要素及び機能は、同じ参照番号を有し、これらに対しては再度詳細には解説しない。
【０１８８】
図１９は、単一の基本照明視野ファセット１９Gと、基本照明チャンネルを通じてこの基本照明視野ファセット１９Gに割り当てられた基本照明瞳ファセット２７Gとを有する単一の基本照明チャンネルの図７と類似の図である。図１９の上部には、これらの２つの基本照明ファセット１９G、２７Gを各場合にこれらの基本照明ファセット１９G、２７Gの反射面５９の凹球面形状を指定するｘｚ断面図に示している。図１９は、補正照明視野ファセット７１を更に示している。この補正照明視野ファセット７１は矩形であり、基本照明視野ファセット１９Gの部分表面積のサイズを有するミラー部分である。補正照明視野ファセット７１は、基本照明視野ファセット１９Gと同じ延長をｙ方向に有する。ｘ寸法では、補正照明視野ファセット７１の延長は、基本照明視野ファセット１９Gの延長の４分の１である。従って、図１９の例では、補正照明視野ファセット７１のミラー面は、基本照明視野ファセット１９Gの４分の１である。補正照明視野ファセット７１は、基本照明視野ファセット１９Gの幅と比較すると無視することができる幅をｘ方向に有するｙ方向に延びる薄い真空適合バー７２によって所定位置に保持される。バー７２は、駆動部（図示せず）を用いてバー７２を相応に操作することにより、ｙ方向（方向矢印７３を参照されたい）とｘ方向（方向矢印７４を参照されたい）とに変位させることができ、その縦軸（方向矢印７５を参照されたい）の回りにピボット回転可能である。それによって一方で照明区域４２上の補正照明視野ファセット７１の位置を変更し、他方でＥＵＶ放射線１０に対する補正照明視野ファセット７１の偏向角を変更することが可能になる。
【０１８９】
補正照明ファセット７１には、補正照明チャンネルを通じて補正照明瞳ファセット７６が割り当てられる。この補正照明チャンネルは、図１９の右下に示している物体視野５の４分の１を照明するように、補正照明ファセット７１、７６の傾斜角によって調節される。補正照明瞳ファセット７６は、瞳ファセットミラー１４上の基本照明瞳ファセット２７Gの直近に存在する。
【０１９０】
補正照明瞳ファセット７６は、可変遮光絞り７７によって部分的に覆うことができる。遮光絞り７７は、駆動部（図示せず）によってｘ方向（方向矢印７９）に変位させることができるｘ方向に延びるバー７８によって所定位置に保持される。遮光絞り７７のバー７８の進路は、バー７８によっていかなる他の瞳ファセットも遮光されないようなものである。
【０１９１】
遮光絞り７７の遮光体は、遮光絞り７７が完全に挿入された時に補正照明瞳ファセット７６の下側半分を覆う半円形状を有する。図１９に示している位置では、遮光絞り７７は、補正照明視野ファセット７６の右下でほぼ４分の１を遮光する。遮光絞り７７は、補正照明チャンネル上の照明強度を微調整することを可能にする。
【０１９２】
図７に記載のＩ（ｘ）図に対応する図１９の下部にある強度図Ｉ（ｘ）は、補正照明ファセット７１、７６の効果を示している。図１９に記載の実施形態では、ｘ方向に見た時に物体視野５の左にある４分の３は、図７に記載の実施形態におけるものと同じ照明を受ける。物体視野５のｘ方向に見た時に一番右にある４分の１は、基本照明瞳ファセット２７Gからの照明と補正照明瞳ファセット７６からの照明とから構成された照明角度分布を与える。
【０１９３】
その結果、図１９の右下にある物体視野５の４分の１は、物体視野５の残りの４分の３の照明強度の平均値にほぼ対応する照明強度を受け、各場合に照明は、密接した瞳ファセット２７G及び７６の方向から到達する。従って、補正照明視野ファセット７１及び補正照明瞳ファセット７６を含む補正照明チャンネルは、基本照明チャンネルを通じて物体視野５の右下４分の１内に与えられる照明強度の補償を可能にし、いかなる補正も与えられない場合には、この照明強度は低下することになる。
【０１９４】
一方で基本照明視野ファセット１９Gの表面積と他方で補正照明視野ファセット７１の表面積との１：１００と１：１の間の他の比を考えることができる。それは、照明強度分布Ｉ（ｘ）の特に微細な補正を保証する。
【０１９５】
図２０は、この例では１０個の基本照明視野ファセット１９Gが装備された視野ファセットミラー１３内の関連の補正照明瞳ファセット７６を有するいくつかの補正照明視野ファセット７１の例示的な配列を示している。補正照明視野ファセット７１は、基本照明視野ファセット１９Gの照明に用いられないＥＵＶ放射線１０の照明区域４２の縁部に配置される。図２０に記載の実施形態は、合計で１０個の基本照明チャンネル及び６個の補正照明チャンネルを含む。この場合、補正照明瞳ファセット７６は、瞳ファセットミラー１４の中心３６に関して点対称な対で配置される。
【０１９６】
以下は、一方で瞳ファセットに対して光源像をシフトさせ、他方で物体視野上の照明チャンネルをシフトさせることによる照明補償の図２１から図３１を用いた説明である。
【０１９７】
図２１は、各場合に放射線源３の光源像８１が中心に配置された１２個の瞳ファセット２７を含む例示的な瞳ファセットミラー１４を示している。
【０１９８】
図２２は、レチクル２０のうちで等しい輪郭を有する物体視野５の位置に存在し、言い換えれば、現在、放射線に露光されている部分を示している。レチクル２０のこの部分は、その上に重ね合わされた２つの視野ファセット像８２、８３を有する。２つの視野ファセット像８２、８３は、対応する照明チャンネルに割り当てられる。視野ファセット像８２は、扇角Ｓにわたってレチクル２０を照明する。扇角Ｓにわたる視野ファセット像８２の半径方向延長は、図２２の視野ファセット像８２の上下にレチクル２０のこの視野ファセット像８２によって覆われないストリップが存在するように、レチクル２０の関連の半径方向延長ｙ0よりも小さい。視野ファセット像８３は、扇角Ｓを覆い、レチクル２０によって覆われる扇角Ｓを超えて両方の側に突出する。視野ファセット像８３の半径方向延長は、視野ファセット像８２のものに対応する。図２２は、照明チャンネルに割り当てられた異なる視野ファセット像８２、８３の配列及び重ね合わせの種類が、レチクル２０に対応する物体視野５にわたる照明強度分布及び照明角度分布に対して決定的であることを示している。物体視野５との完全な重ね合わせからの視野ファセット像８２、８３の所定の偏位は、物体視野５にわたる照明パラメータの望ましくない変動を補償又は補正するのに用いることができる。
【０１９９】
図２３は、光源像８１のうちの１つが、関連の瞳ファセット２７によって完全には反射されず、その縁部において所定の方式で遮断される場合を示している。それに応じて、この瞳ファセット２７に割り当てられた照明方向は、物体視野５の照明に対して低い照明強度しか寄与しない。光源像８１は、図２３に記載の補正照明瞳ファセット２７Kに割り当てられた補正照明視野ファセット１９Kをアクチュエータを用いて傾斜させることによって所定の方式で遮断することができる。
【０２００】
図２４は、関連の視野ファセット像８４がレチクル２０又は物体視野５それぞれから正のｙ方向に部分的に移動するような補正照明瞳ファセット２７Kの所定の傾斜によって達成される補正を示している。移動した部分は、例えば、レチクル２０の近くに配置された視野絞り又はＵＮＩＣＯＭ絞りを用いて遮断することができる。照明光学系４の視野平面に配置することができる対応する視野絞りは、ＷＯ２００５／０４０９２７Ａ２、ＵＳ２００６／０２４４９４１Ａ１、又はＷＯ２００７／０３９２５７Ａ１に開示されている。
【０２０１】
図２５及び図２６は、補正照明瞳ファセット２７Kに対する光源像８１の変位の２つの例を示している。図２５では、全ての光源像８１は、補正照明瞳ファセット２７Kの最外縁で遮断されるように補正照明瞳ファセット２７Ｋ上で下向きに逸脱されている。それに応じて、これらの補正照明瞳ファセット２７Kの補正照明チャンネルは、残りの瞳ファセット２７の照明チャンネルと比較して低い強度に露光される。
【０２０２】
図２６では、光源像８１は、瞳ファセットミラー１４の縁部に配置された補正照明瞳ファセット２７K上で個々に変位している。光源像８１のうちの一部は、左手の縁部の方向に変位しており、それに対して他のものは、補正照明瞳ファセット２７Kの上側縁部、下側縁部、右手縁部、又は右下手縁部の方向に変位しており、光源像８１は、部分的に遮断される。図２６の右に示している補正照明瞳ファセット２７Kのうちの１つでは、光源像８１は、ファセットの中心３６に留まる。図２６に記載の瞳ファセットミラー１４の中心３６の近くには４つの基本照明瞳ファセット２７Gが配置され、光源像８１は、光源像８１が完全に反射されるように、各場合に基本照明瞳ファセット２７G上で中心に配置される。その結果、物体視野５上では、図２６に記載のこの部分的に遮断された像に対応する照明補正が提供される。
【０２０３】
光源像８１は、個々の補正照明視野ファセット１９Kを傾斜させる視野ファセット支持体２６全体を傾斜させるか、又は放射線源３をシフトさせることによって補正照明瞳ファセット２７K上で変位させることができる。
【０２０４】
図２７及び図２８は、補正照明設定を変更するのにこれらの図に示している補正照明瞳ファセット２７Kを如何に用いることができるかを示している。図２７及び図２８に記載の実施形態では、放射線に露光される補正照明瞳ファセット２７Kよりも１つ多くの補正照明瞳ファセット２７Kが設けられる。従って、補正照明瞳ファセット２７Kのうちの１つは放射線に露光されない。放射線に露光されない補正照明瞳ファセット２７Kを図２７の右下に示している。
【０２０５】
図２８に記載の瞳ファセットミラー１４の照明は、図２７に記載のものと比較して修正されている。図２８に記載の照明例では、照明チャンネルを通じて補正照明瞳ファセット２７K1に割り当てられた補正照明視野ファセット１９K1（図示せず）は、この場合、補正照明視野ファセット１９K1が、以前には放射線に露光されていなかった補正照明瞳ファセット２７K2を照明するように、図２７と比較して変位している。それに応じて、補正照明の重ね合わせ角度の変化も生じる。この重ね合わせ角度変化は、例えば、物体視野５の照明のテレセントリック性を補正するのに用いることができる。
【０２０６】
図２９は、補正照明ファセットを用いる別の手法を示している。前の図とは対照的に、図２９は、湾曲物体視野５に対応して形成された湾曲補正照明視野ファセット１９Kを示している。
【０２０７】
図２９には、補正照明瞳ファセットのうちの２つ２７K1及び２７K2への補正照明視野ファセット１９K1、１９K2の第１の割り当てを実線矢印を用いて例示している。代替的に、割り当ては、図２９に破線矢印を用いて例示しているようなものとすることができる。
【０２０８】
補正照明視野ファセット１９K1は、補正照明瞳ファセット２７K2に割り当てられ、それに対して補正照明視野ファセット１９K2は、補正照明瞳ファセット２７K1に割り当てられる。補正照明視野ファセット１９K1、１９K2が放射線源３によって異なる手法で照明される時には、割り当ての各変化は、補正照明の変化をもたらす。補正照明瞳ファセット２７Kへの補正照明視野ファセット１９Kの割り当ては、較正測定を用いて決められる物体視野５の照明によっては、補正照明ファセット１９K、２７Kを対応する手法で傾斜させることによって変更することができる。
【０２０９】
図３０は、図３０の左にある視野縁部における視野ファセット像８５の部分遮蔽の図２４と類似の図を示している。視野ファセット像８５が、物体視野５及びレチクル２０に対してｘｙ平面内である扇角だけ傾斜される場合には、それによって物体視野５のうちで放射線に露光されない図３０に記載の右手縁部にある区域８６が生じ、その反対側では、視野ファセット像８５のうちで、例えば、視野絞りによって遮蔽され、従って、物体視野５上に入射しない部分が生じる。従って、放射線に露光されない区域８６は、照明チャンネルを誘導して視野ファセット像８５をもたらす補正照明瞳ファセット２７Kの方向からのいかなる光も受けない。従って、図３０に記載のこの遮光も、物体視野５にわたる照明角度分布を補正するのに用いることができる。
【０２１０】
図３１は、例えば、図１９及び図２０に記載の補正照明視野ファセット７１によって生成することができる部分視野ファセット像８７、８８を関連の補正照明瞳ファセット２７Kを傾斜させ、必要に応じてこれらの部分視野ファセット像８７、８８を縁部で遮断する（部分視野ファセット像８８を参照されたい）ことによって変位させる可能性を示している。それによって物体視野照明の補正を微調整することが可能になる。
【０２１１】
以下は、補正照明視野ファセット１９Kを遮光することによる別の補正照明変形の図３２から図３４を用いた説明である。図１から図３１を参照して上述したものに対応する構成要素は、同じ参照番号を有し、これらに対しては再度詳細には解説しない。
【０２１２】
図３２から図３４に記載の実施形態では、遮光体は、絞り構造８９によって形成される。この絞り構造８９は、複数の個別の絞り９０を含む。図３２に記載の補正照明視野ファセット１９Kの反射面の平面図では、様々な個別の絞り９０は、その形状が矩形であり、一方では走査方向に、言い換えれば、ｙ方向に、他方では走査方向に対して垂直に、言い換えれば、ｘ方向に異なる延長を示している。ｘ方向及びｙ方向における個別の絞り９０のこれらの様々な延長は、補正照明視野ファセット１９Kの反射面内に突出する絞り構造８９の絞り縁部９１の個々のプロフィール形状をもたらす。絞り縁部９１のこのプロフィール形状に対応して、補正照明視野ファセットにわたって走査方向に対して垂直に、言い換えれば、ｘ方向に照明光の強度分布の補正が生じる。各補正照明視野ファセット１９Kでは、例えば、２個、３個、５個、１０個、２０個、３０個、又は更に多くの個別の絞り９０を設けることができる。この場合、個別の絞り９０は、相応に小さい延長しか持たない。個別の絞り９０は、これらの個別の絞りの間にいかなる間隙も事実上持たずにｘ方向に互いに隣接する。個別の絞り９０は、ｘ方向に重複してもよく、又は個別の絞り９０の間に小さい間隙がｘ方向に存在してもよい。
【０２１３】
個別の絞り９０の補正照明視野ファセット１９Kの反射面に対して垂直な、言い換えれば、ｚ方向の厚みは０．３ｍｍを上回らず、図示の実施形態では、この厚みは０．２ｍｍである。
【０２１４】
個別の絞り９０は磁性材料で作られるか、又は磁性コーティングを有する。個別の絞り９０は、絞り縁部９１とは反対端において、磁力によって磁性ストリップ９２上の所定位置に保持される。
【０２１５】
磁性ストリップ９２は、ｘ方向に沿って補正照明視野ファセット１９Kの縁部に取り付けられる。ｚ方向には、磁性ストリップ９２は、補正照明視野ファセット１９Kの反射面又は反射平面４０それぞれを超えて若干、すなわち、約０．２ｍｍ突出する。この突出長さは、補正照明視野ファセット１９Kの反射面４０からの個別の絞り９０の距離に対応する。従って、個別の絞り９０は、補正照明視野ファセット１９Kの反射面４０に接触しない。
【０２１６】
磁性ストリップ９２は、反射面４０が設けられた補正照明視野ファセット１９Kの面のうちの最大で２０％を覆う。図示の実施形態では、磁性ストリップ９２は、この面のうちの１５％未満を覆う。
【０２１７】
個別の絞り９０は、可動取り付けデバイス９３を用いて磁性ストリップ９２に取り付けられる。取り付けデバイス９３は、コイル９４、強磁性芯９５、及び交流電源９６を含む電磁石９４を有する。芯９５は、磁性ストリップ９２へと転送される個別の絞り９０を受け取る。転送される個別の絞り９０が、取り付けデバイス９３を用いて磁性ストリップ９２の所定のｘ位置に移動されると、転送される絞り９０が、取り付けデバイス９３によって磁気引力を用いて磁性ストリップ９２へと移動されるように、スイッチ９７を用いて電磁石が停止される。取り付けデバイス９３は、ｘ方向の変位（図３３の双方向矢印９８を参照されたい）に向けて駆動することができる。取り付けデバイス９３の変位移動は、図３３には示していない中央制御デバイスによって制御される。
【０２１８】
それぞれの個別の絞り９０は、取り付けデバイス９３を逆順序に用いて磁性ストリップから取り外すことができる。
【０２１９】
以下は、別の実施形態の補正照明視野ファセット１９Kの図３５及び図３６を用いた説明である。図１から図３４、及び特に図３２から図３４を参照して上述したものに対応する構成要素は、同じ参照番号を有し、これらに対しては再度詳細には解説しない。
【０２２０】
図３５及び図３６に記載の実施形態では、補正照明視野ファセット１９Kの遮光体の個別の絞り９０を装着するための磁性ストリップ９２は、図３５で補正照明視野ファセット１９Kの上方に示している補正照明視野ファセット１９Kに隣接する視野ファセット１９内に横方向に統合される。この実施形態では、磁性ストリップ９２は、図３６に示しているように隣接する視野ファセット１９の基部本体の側壁に配置される。
【０２２１】
図３５及び図３６に記載の実施形態では、個別の絞り９０は、傾斜した、すなわち、Ｌ字形のｙｚ断面を有する。個別の絞り９０は、磁性ストリップ９２に隣接する保持脚９９、及び補正照明視野ファセット１９Kの反射面を遮光するための絞り脚１００を含む。この場合、絞り脚１００は、ｚ方向に０．２ｍｍの厚みを有し、ｚ方向に見た時に補正照明視野ファセット１９Kの反射面４０の０．２ｍｍ上方に配置される。同様に、保持脚９９も、ｙ方向に０．２ｍｍの厚みを有する。
【０２２２】
個別の絞り９０は、照明光１０を完全に反射及び／又は吸収する要素とすることができる。代替的に、個別の絞り９０の少なくともいくつかの部分は、照明光１０を部分的に透過させるものとすることができる。この場合、個々の個別の絞り９０にわたる透過率パターンは、特に、ｘ方向に考えることができるが、ｙ方向に考えることもできる。
【０２２３】
以下は、補正照明視野ファセット１９Kの例による別の実施形態の補正照明ファセットの図３７を用いた説明である。補正照明瞳ファセット２７ａは、対応する設計のものとすることができる。図１から図３６、特に、図３２から図３６を参照して上述したものに対応する構成要素は、同じ参照番号を有し、これらに対しては再度詳細には解説しない。
【０２２４】
磁気面部分１０１は、図３７に記載の補正照明視野ファセット１９Kの反射面に配置される。これらの面部分１０１は、図３２から図３６に記載の実施形態の磁性ストリップ９２と同じ材料で作られた磁石面である。磁気面部分１０１は、ｘ方向及びｙ方向に補正照明視野ファセット１９Kのｘ延長及びｙ延長よりも大幅に小さい延長を有する。
【０２２５】
図３７に記載の実施形態では、補正照明視野ファセット１９Kの反射面内に合計で１２個のこの種の面部分が設けられる。
【０２２６】
磁気面部分１０１の面延長は非常に小さいので、磁気面部分１０の全てを組み合わせても補正照明視野ファセット１９Kの合計面の２０％未満しか占有せず、それによって補正照明視野ファセット１９Kの反射面４０は僅かな程度にしか低減しない。
【０２２７】
物体視野５上に定義される強度分布又は照明角度分布によっては、磁気面部分１０１の一部又は全てに図３２から図３６に記載の実施形態の個別の絞り９０のものに対応する機能を有する個別の絞り１０２が設けられる。個別の絞り１０２は、図３７の例に示しているようにｘｙ平面上への投影状態で見た時に非常に異なる境界形状を有することができる。
【０２２８】
代替的に又はそれに追加して、補正照明視野ファセット１９Kには、磁気面部分１０１に対応する磁気面部分１０３を設けることができ、磁気面部分１０３は、図３７に面部分１０３のうちの１つの実施例によって示しているように、補正照明視野ファセット１９Kの照明光によって使用可能な反射面４０の外側に配置される。この場合、この面部分１０３は、補正照明視野ファセット１９Kの有利反射面内に少なくとも部分的に突出する個別の絞り１０２のうちの１つを保持することができる。
【０２２９】
図３８は、図３７に記載の実施形態における磁気面部分１０１の方式で磁気面部分１０４を有する実施形態の瞳ファセットミラー１４を示している。図３８に記載の実施形態では、磁気面部分１０４は、瞳ファセットミラー１４の瞳ファセット２７の間に配置される。図３８に磁気面部分１０４のうちの２つの例によって示しているように、磁気面部分１０４には、物体視野５の照明角度分布を定めるための個別の絞り１０５を設けることができ、従って、個別の絞り１０５は、補正照明瞳ファセット２７Kを少なくとも部分的に遮光する。個別の絞り１０５は、個別の絞り１０５をそれぞれの磁気面部分１０４に隣接させるのに用いる保持部分１０６、及び補正照明瞳ファセット２７Kを少なくとも部分的に覆う遮光部分１０７を有する。遮光部分１０７は、瞳ファセット２７の円形形状に適合する形状を有し、この形状は、遮光部分１０７が補正照明瞳ファセット２７Ｋを完全に覆うことができるようなサイズのものである。
【０２３０】
図３２から図３８に記載の実施形態では、補正照明視野ファセット１９K又は補正照明瞳ファセット２７Kを遮光して物体視野５にわたる強度分布又は照明角度分布を調整する遮光体の遮光効果の迅速な調整が可能である。この目的のために、最初にシステムの性能、言い換えれば、物体視野５にわたる強度分布及び照明角度分布が、例えば、較正測定を用いて測定される。この測定は、像平面９又はウェーハ平面それぞれの領域内で行うことができる。測定の後に、それぞれの光学補正要素、すなわち、例えば、補正照明視野ファセット１９K又は補正照明瞳ファセット２７K上で必要とされる遮光が計算される。その後、個々の個別の絞り９０、１０２、１０５、又は図３２から図３８に記載の実施形態において絞り構造８９を形成するための複数のそのような個別の絞りから成る遮光体が、取り付けデバイス９３を用いてそれぞれの補正照明視野ファセット１９K及び／又はそれぞれの補正照明瞳ファセット２７Kに取り付けられる。
【０２３１】
以下は、基本照明視野ファセット及び補正照明視野ファセットを含む視野ファセットブロックを有する更に別の実施形態の視野ファセットミラーの図３９から図４６を用いた説明である。図１から図３８を参照して上述したものに対応する構成要素は、同じ参照番号を有し、これらに対しては再度詳細には解説しない。
【０２３２】
図３９は、視野ファセットミラー１３の２つの視野ファセットブロック２５を示しており、４０個を超えるそのような視野ファセットブロック２５を含む視野ファセットミラー１３の配列を図４１に示している。図４１に記載の視野ファセットミラー１３は、凹状のボウルに似た全反射面形状を有する。視野ファセットブロック２５の各々は、支持体要素１０８によって支持され、支持体要素１０８は、図４１に記載の視野ファセットミラー１３の視野ファセット支持体（図示せず）に示していない方式で堅固に接続される。
【０２３３】
図３９から図４１に記載の実施形態では、視野ファセットブロック２５の各々は、複数の基本照明視野ファセット１９Gを有し、各場合に１つの補正照明視野ファセット１９Kを含む。図３９の右に示している視野ファセットブロック２５の補正照明視野ファセット１９Kは、この視野ファセットブロック２５の最も左に配置された視野ファセット１９である。この補正照明視野ファセット１９Kは、照明光１０、言い換えればＥＵＶ放射線に完全には露光されず、その大部分は、図３９の左に示している隣接する視野ファセットブロック２５によって遮光される。図３９には、これを図３９の左に示している視野ファセットブロック２５の傍らをかろうじて通過する照明光束１０の光線によって模式的に示している。
【０２３４】
図３９の左に示している視野ファセットブロック２５の遮光効果を図４０に例示している。図４０では、照明光３のうちで図４０に示している視野ファセットブロック２５に隣接する視野ファセットブロック２５の傍を通過する部分を照明区域１０９によって例示している。補正照明視野ファセット１９Kの走査方向に対応するｙ延長、言い換えれば、短手視野寸法では、補正照明視野ファセット１９Kの全ｙ延長ｙ0のうちの僅かな部分ｙiしか照明光３によって照明されない。比ｙi／ｙ0は、例えば、１：２、１：３、１：４、１：５、１：６とすることができる。
【０２３５】
図４０に記載の補正照明視野ファセット１９Kは、互い独立に配向可能な複数の部分補正照明ファセット１１０に分割される。この部分補正照明ファセット１１０は、延長ｘ0＝ｙ0を有する正方形の形状にある反射面を有する。部分補正照明ファセット１１０は、互いに独立に切換可能又は作動可能なマイクロミラーである。
【０２３６】
部分補正照明ファセット１１０は、照明区域１０９内に完全に配置されないことに起因して、支持体要素１０８、及び従って視野ファセットミラー１３の支持体の部分的に遮光される区域上に配置される。
【０２３７】
図４０に記載の補正照明視野ファセット１９kの部分補正照明ファセット１１０の隣接するものの間は、長手視野寸法ｘに沿って互いからの距離ｘaを有する。比ｘa／ｘ0は、ここでもまた、１：２、１：３、１：４、１：５、又は１：６である。個別部分補正照明ファセット１１０の切り換え位置に依存して、この距離ｘaに起因して補正照明視野ファセット１９K全体は、長手視野寸法ｘに沿って、すなわち、長手視野ファセット寸法ｘにも沿ってステップ関数の形態にあるパターンを有し、このパターンは、所定の方式で一定の反射率から逸脱する。長手視野ファセット寸法ｘに沿って、反射率は、部分補正ファセット１１０の延長ｘ0にわたって値Ｒ0を有し、それに対して間隙ｘaに沿っては、反射率は、値Ｒ＝０を有する。
【０２３８】
図４０に記載の部分補正照明ファセット１１０は、物体視野５内の照明不均一性の柔軟な補正、又は投影光学系７における強度効果又は照明角度効果の所定の過補償を提供するように、物体視野５の所定の部分へと結像される前に、関連の補正照明瞳ファセットの傾斜により、互いに独立に特定の照明チャンネルに配向され、かつ割り当てることができる。部分補正照明ファセット１１０が作動される場合には、関連の部分照明チャンネルを停止することができ、言い換えれば、部分補正照明ファセット１１０は、この部分ファセット１１０上に入射する照明光が以降物体視野５に到達することができない位置に移動される。
【０２３９】
部分補正照明ファセット１１０は、物体視野５にわたる照明強度及び／又は物体視野５にわたる照明角度分布に影響を与える補正効果を有することができる。
【０２４０】
補正照明視野ファセット１９K全体内の図４０に記載の部分補正照明ファセット１１０の配列は、１組のステップ関数に基づくこの補正照明視野ファセット１９Kの配列を与える。この場合、様々な視野ファセットブロック２５を用いることにより、１組のステップ関数に対応する強度変化を視野高さｘにわたって有する１組の補正照明視野ファセット１９Kを設けることができる。代替的に又はそれに追加して、部分補正照明関数１１０の組を用いて、単一の補正照明視野ファセット１９K内に１組のステップ関数に基づく類似の付設を行うことができる。この場合、補正照明ファセット１９Kは、図４１に記載の視野ファセットミラー１３の様々な視野ファセットブロック２５の間で類似の又は異なる部分補正照明ファセット１１０に分割することができ、異なる部分補正照明ファセット１１０の場合には、異なる補正照明視野ファセット１９Kが、長手視野寸法ｘに沿って部分補正照明ファセット１１０へと異なる方式で分割される。
【０２４１】
図４２は、別の実施形態の視野ファセットミラー１３の一部である合計で８つの視野ファセットブロック２５の配列を示している。
【０２４２】
図４２に記載の配列では、視野ファセットブロック２５は、ｘｙ平面に対して平行な支持体平面を有する図４２には示していない平面視野ファセット支持体上に互い隣接して配置される。図４２に記載の視野ファセットブロック２５の各々は、合計で５つの基本照明視野ファセット１９G、及び１つの補正照明視野ファセット１９Kを含み、補正照明視野ファセット１９Kは、長手視野寸法ｘに沿って互いに独立に配向可能であり、かつ互いに独立に作動可能なマイクロミラーとして構成される複数の部分補正照明ファセット１１１に分割される。補正照明視野ファセット１９Kの各々は、各場合に同じｘ延長ｘ0を有する合計で９つの部分補正照明ファセット１１１を含む。部分補正照明ファセット１１１のｙ延長ｙ0は、基本照明視野ファセット１９Gのｙ延長ｙFFよりも有意に小さい。ここでもまた、比ｙ0／ｙFFは、１：２、１：３、１：４、１：５、又は１：６である。
【０２４３】
隣接する部分補正照明ファセット１１１の間では、ここでもまた、延長ｘ0よりも非常に小さい間隙ｘaが存在する。比ｘa／ｘ0は、例えば、１：１０又は１：２０とすることができる。
【０２４４】
部分補正照明ファセット１１０とは対照的に、部分補正照明ファセット１１１は完全に照明される。部分補正照明ファセット１１１は、基本照明視野ファセットと比較して小さいそのｙ延長に起因して、部分補正照明ファセット１１０に対応する補正効果を有する。
【０２４５】
図４２と比較して、図４３は、別の実施形態の視野ファセットブロック２５の拡大図である。図４３に記載の視野ファセットブロック２５の補正照明視野ファセット１９Kは、部分補正照明ファセット１１４ａ及び１１４ｂの２つの列１１２、１１３に分割される列１１２、１１３は、長手視野寸法又は視野ファセット寸法ｘに沿って延びている。異なる列１１２、１１３内の部分補正照明ファセット１１４ａ、１１４ｂは、異なる延長ｙa及びｙbを有し、延長ｙa／ｙbの比は、１：２、１：３、１：４、１：５、又は１：６であるようなものである。部分補正照明ファセット１１４ａ及び１１４ｂは、ここでもまた、互いに独立に作動可能な、従って、配向可能なマイクロミラーとして構成される。
【０２４６】
部分補正照明ファセット１１０、１１１に関して上述したように、部分補正照明ファセット１１４ａ、１１４ｂもまた、物体視野５にわたる強度分布又は照明角度分布を補正又は補償するために照明チャンネルを柔軟に割り当てるか、又は関連の部分照明チャンネルを起動又は停止するのに用いることができる。部分補正照明ファセット１１４ａ、１１４ｂの異なるｙ延長ｙa、ｙbは、そのような補正の相対的な影響を事前に定めることを可能にする。例えば、物体視野の図４３に記載の視野ファセットの右手縁部に割り当てられた縁部において、左手縁部におけるものよりも強い強度低下を必要とする場合には、図４３の最も右の部分補正照明ファセット１１４ｂ及び図４３の最も左の部分補正照明ファセット１１４ａが停止される。この例では、部分補正照明ファセット１１４ａと部分補正照明ファセット１１４ｂの両方を停止することにより、物体視野５の視野ファセットの右手縁部に割り当てられた縁部において更に高い遮光効果を得ることができる。
【０２４７】
図４４は、合計で３つの基本照明視野ファセット１９Gと１つの補正照明視野ファセット１９Kとを含む別の実施形態の視野ファセットブロック２５を示している。図４４に記載の実施形態でもまた、基本照明視野ファセット１９Gは、長手視野寸法ｘに沿って複数の部分基本照明ファセット１１５に分割される。基本照明視野ファセット１９Gの設計は、図４０に記載の補正照明視野ファセット１９Kの設計に対応する。ここでもまた、部分基本照明ファセット１１５は、互いに独立に作動可能な、従って、配向可能なマイクロミラーである。従って、基本照明視野ファセット１９Gはまた、物体視野５の照明の大まかな補正に向けて用いることができる。この場合、微細な補正は、図４４に記載の実施形態では、互いに独立に配向可能な長手視野寸法ｘに沿って並んだ複数の部分補正照明ファセット１１６から成る補正照明視野ファセット１９Kを用いて行われる。部分補正照明ファセット１１６の反射面は、部分基本照明ファセット１１５のものよりも大幅に小さい。これらの反射面の比は、例えば、１：１０又は１：２０である。更に、小さい比を考えることもできる。隣接する部分補正視野ファセット１１６のｘ距離は、これらの部分補正照明ファセット１１６のｘ延長にほぼ対応する。隣接する部分補正照明ファセット１１６の間の他のｘ距離、特に、より小さいｘ距離を考えることができる。部分補正照明ファセット１１６は、間隙ｘaが部分基本照明ファセット１１５の間に位置するｘ位置に配置されるように長手視野寸法ｘに沿って配列することができる。図４４の部分補正照明ファセット１１６ａは、そのような配列の例である。
【０２４８】
図４５は、図４３に記載の実施形態のものに対応する基本照明視野ファセット１９Gと、部分補正照明ファセット１１６を含み、かつ図４４に記載のものに対応する１つの補正照明視野ファセット１９Kとを含む別の実施形態の視野ファセットブロック２５を示している。
【０２４９】
図４６は、図４４に記載のものに対応する、言い換えれば部分基本照明ファセット１１５に分割された基本照明視野ファセット１９Gを含む別の実施形態の視野ファセットブロック２５を示している。補正照明視野ファセット１９Kは、長手視野寸法ｘに沿って図４４に記載の実施形態の部分補正視野ファセット１１６とは異なる延長を有する部分補正照明ファセット１１７に分割される。図４６に記載の実施形態では、部分補正照明ファセット１１７は、各場合に、走査方向ｙに見た時に隣接する部分基本照明ファセット１１５の間の間隙ｘaを覆うように配置される。従って、図４６に記載の実施形態では、部分補正照明ファセット１１７は、長手視野寸法ｘに沿って部分基本照明ファセット１１５に対して千鳥に配置され、部分補正照明ファセット１１７は、隣接する部分基本照明ファセット１１５の間の間隙ｘaの位置に配置される。縁部にある２つの部分補正照明ファセット１１７ａを除き、図４６に記載の補正照明視野ファセット１１９Kの残りの部分補正照明ファセット１１７は、部分基本照明ファセット１１５のｘ延長に対応するｘ延長を有し、その結果、隣接する部分補正照明ファセット１１７のｘ方向の距離も、距離ｘaと同様である。
【０２５０】
従って、部分補正ファセット１１７は、部分基本照明ファセット１１５を用いて、物体視野５の照明によって引き起こされる間隙効果を補償するのに用いることができる。
【０２５１】
図４３から図４６に記載の視野ファセットブロック２５は、図４２に記載の視野ファセットブロック２５の配列に対して用いることができ、又は代替的に図４１に記載の視野ファセットブロック２５の配列に対して用いることができる。
【０２５２】
図示していない補正照明視野ファセット１９Kの実施形態では、２つよりも多くの部分補正照明ファセット列が存在する。図４３に記載の実施形態における２つの列１１２、１１３の代わりに、例えば、１：２：４又は１：２：４：８のｙ延長比を有することができる３つ又は更に多くの部分補正照明ファセット列が存在することができる。対応する補正１組のステップ関数に対応する他の延長比を考えることができる。
【０２５３】
基本照明視野ファセット１９G及び補正照明視野ファセット１９K、並びに上述の部分ファセットから成るファセット配列は、必ずしも形状が矩形である必要はなく、弓形形状を有することができる。弓形視野ファセットは、当業者には基本的に公知である。この場合、弓形視野ファセットは、対応する弓形形状を有する物体視野へと結像することができる。
【０２５４】
上述の実施形態では、物体視野照明は、矩形補正照明視野ファセット１９K又は７１それぞれを用いて補正される。本発明は、この種の矩形補正照明視野ファセット１９K又は７１に制限されない。特に、弓形物体視野の照明の補正を提供するために、上述の実施形態において湾曲補正照明視野ファセットを用いることができる。湾曲補正照明視野ファセットが用いられる場合には、基本照明視野ファセットも湾曲したものとすることができる。湾曲視野ファセットの形状は、弓形物体視野のものに対応することができる。
【０２５５】
照明光学系４を用いた照明補正は、以下の通りに行われる。第１の段階では、対応する検出器を用いて物体視野５内の照明強度分布が決められる。物体視野内の照明角度分布を付加的に測定することができる。次に、この測定結果に基づいて補正照明視野ファセット１９K又は７１の設計が計算され、同様に、この測定に基づいて、補正照明瞳ファセット２７K又は７６が、これらの補正照明視野ファセット１９K又は７１に割り当てられる。その後、計算された設計及び割り当てが照明光学系４内に与えられ、この段階は、例えば、用いられる補正照明視野ファセット１９Kの絞り２９から３３による所定の選択によって行うことができる。次に、レチクル２０及び照明感光コーティングが付加されたウェーハが準備される投影露光が続き、この投影露光中に、レチクル２０の少なくとも一部分が投影露光装置１を用いてウェーハ上に投影される。照明光束１０へのウェーハ上の感光層の露光の後に、この層は現像され、微細構造構成要素又はナノ構造構成要素、例えば、半導体チップが得られる。
【０２５６】
上述の補正照明視野ファセットの様々な変形は、その光束誘導効果を動的に制御するように機能することができる。この目的のために、補正照明視野ファセットは、投影露光装置の制御デバイスによって作動させることができる。この作動は、物体視野又は代替的に像視野内の長手視野寸法に沿った強度分布の測定に基づいて行うことができる。
【０２５７】
補正照明視野ファセットを含む視野ファセットミラー１３が作動される時には、個々の補正照明視野ファセット又は補正照明視野ファセットの群を起動又は停止することができ、特に、これらが能動的に変位可能又は遮光可能である場合にそうすることができる。
【０２５８】
補正照明視野ファセットの上述の実施形態のうちの一部では、物体視野のうちの部分区域のみを照明することができる。部分区域のみの照明は、特定の視野高さにおける、すなわち、視野の部分区域内の強度降下を補正照明視野ファセットを用いてこれらの視野点に付加的な照明光を供給することによって補償するのに用いることができる。
【０２５９】
以上の補正照明視野ファセットの様々な実施形態の有効照明区域の境界形状は、少なくとも１つの屈曲点を有することができる。この境界は、補正照明視野ファセットの高反射区域とその低反射区域又は無反射区域との間の分離線とすることができる。少なくとも１つの屈曲点を有する境界は、物理的に存在するファセット境界とすることができる。この境界は、相応に形成された遮光体によって生成することができる。
【符号の説明】
【０２６０】
１３  視野ファセットミラー
１９  視野ファセット
１９G  基本照明視野ファセット
１９K  補正照明視野ファセット
２７  瞳ファセット
２７G  基本照明瞳ファセット
２７K  補正照明瞳ファセット
ｘ  長手視野寸法
ｙ  短手視野寸法
【図１】
0005385970.tif 000013
【図２】
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【図３】
0005385970.tif 000015
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
0005385970.tif 000019
【図８】
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【図９】
0005385970.tif 000021
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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【図４４】
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【図４５】
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【図４６】
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