(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＴＦＴ層と、
前記ＴＦＴ層上に形成され、画素単位に複数のコンタクトホールが形成された層間絶縁膜と、
前記画素単位に、前記層間絶縁膜上に形成された複数の第１電極であって前記複数のコンタクトホールの各々を介して前記ＴＦＴ層と導通している複数の第１電極と、
少なくとも色毎に形成された複数の開口部であって、前記画素単位に形成された複数のコンタクトホールを前記複数の開口部の各々の開口領域内に含む複数の開口部を有するバンクと、
前記複数の開口部に形成された有機発光層と、
前記有機発光層の上方に形成された第２電極と、を具備し、
前記コンタクトホールは、その底面の中心から離間するに従い増大する前記層間絶縁膜の膜厚が極大に達する上面外周部を含み、
前記有機発光層は、前記コンタクトホールの窪みに対応した凹形状を有する第１の層と、前記開口部内の前記コンタクトホール及びその上方を含むコンタクトホール領域内において、前記第１の層の上に重畳され前記第１の層と同一材料から成り、かつ前記第１の層の凹形状に対応した凹形状を有する第２の層とから成り、前記コンタクトホール領域内の全ての領域における膜厚が、前記コンタクトホール領域以外の領域の膜厚より厚い、
有機ＥＬ表示パネル。
【請求項２】
前記コンタクトホール領域において、前記第１の層が一旦乾燥された後に前記第２の層が重畳されている、
請求項１記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項３】
前記バンクは、前記色毎にライン状の開口部を複数有する、
請求項１ないし請求項２のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項４】
前記バンクは、前記色毎に、且つ画素単位に前記複数の第１電極の各々に対応する開口部を複数有する、
請求項１ないし請求項２のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項５】
前記同色の色は、赤色、緑色及び青色のいずれか一の色である、
請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項６】
前記層間絶縁膜は、平坦化膜である、
請求項１記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルを備えた、
有機ＥＬ表示装置。
【請求項８】
ＴＦＴ層を形成する第１工程と、
前記ＴＦＴ層上に層間絶縁膜を形成する第２工程と、
画素単位に、複数のコンタクトホールを前記層間絶縁膜に形成する第３工程と、
前記画素単位に、前記複数のコンタクトホールの各々を介して前記ＴＦＴ層と導通する複数の第１電極を前記層間絶縁膜上に形成する第４工程と、
前記画素単位に形成された複数のコンタクトホールの各々を含む複数の開口部を有するバンクを形成する第５工程と、
前記複数の開口部に有機発光層を形成する第６工程と、
前記有機発光層の上方に第２電極を形成する第７工程と、を具備し、
前記コンタクトホールは、その底面の中心から離間するに従い増大する前記層間絶縁膜の膜厚が極大に達する上面外周部を含み、
前記有機発光層は、前記コンタクトホールの窪みに対応した凹形状を有する第１の層と、前記開口部内の前記コンタクトホール及びその上方を含むコンタクトホール領域内において、前記第１の層の上に重畳され前記第１の層と同一材料から成り、かつ前記第１の層の凹形状に対応した凹形状を有する第２の層とから成り、前記コンタクトホール領域内の全ての領域における膜厚を、前記コンタクトホール領域以外の領域の膜厚より厚く形成する、
有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項９】
前記第６工程において、前記コンタクトホール領域において前記第１の層が一旦乾燥した後に前記第２の層が重畳される、
請求項８記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１０】
前記第６工程における前記有機発光層の形成は、インクジェット法により行われる、
請求項８ないし請求項９のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１１】
前記第６工程における前記有機発光層の形成は、インクジェット法により行われ、
前記第６工程において、前記開口部に含まれるコンタクトホール領域に、前記同色の有機発光材料を含有したインクが複数層重畳して塗布される、
請求項９記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１２】
前記第６工程における前記有機発光層の形成は、インクジェット法により行われ、
前記第６工程において、前記開口部に含まれるコンタクトホール領域に、前記同色の有機発光材料を含有したインクが塗布された後、塗布された前記同色の有機発光材料を含有したインクを乾燥し、さらに、同色の有機発光材料を含有したインクが塗布される、
請求項９記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１３】
前記バンクは、前記色毎にライン状の開口部を複数有する、
請求項８ないし請求項１２のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１４】
前記バンクは、前記色毎に、且つ画素単位に前記複数の第１電極の各々に対応する開口部を複数有する、
請求項８ないし請求項１２のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１５】
前記同色の色は、赤色、緑色及び青色のいずれか一の色である、
請求項８ないし請求項１４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示パネルに関し、特に、開口率を向上させる技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、研究・開発が進んでいる有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬという。）表示パネルは、有機材料の電界発光現象を利用した表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルを構成する各有機ＥＬセルは、陽極と陰極との間に有機発光層が介挿された構造を有する。陽極は、駆動用のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板上に積層された層間絶縁膜の上に積層されており、陽極とＴＦＴの電極とを接続するため、層間絶縁膜の厚み方向に貫通孔（コンタクトホール）が設けられている。このコンタクトホール部分は非発光とするようバンクの下に埋もれさせた構造となっており、この構造が開口率の向上を妨げ、有機ＥＬ表示パネルにおける発光面積の増加、発光効率の向上を妨げる一因となっていた（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−６１６７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
開口率を向上させるために、従来バンクの下に埋もれさせていたコンタクトホールを、単純に、バンクで囲まれた開口部内に設けた場合、有機発光層がコンタクトホールの窪みに追従して凹んだ形状となる。このとき、有機発光層に用いられる発光材料は、粘度があるものの重力の影響によりコンタクトホール底面に向けて流下し、結果として、コンタクトホールの上面外周からコンタクトホールの底面に向かう斜面、特に、コンタクトホール上面外周の内側近辺における有機発光層の膜厚が他の部分よりも薄くなる。この膜厚の薄くなった領域では、陽極と陰極との距離が他の部分よりも短くなるため、電界集中により発光ムラが生じ、有機ＥＬ表示パネルの寿命が短くなるという問題がある。【０００５】
上記問題に鑑み、本発明は、コンタクトホールをバンク開口部内に配置し開口率を向上させて発光効率を向上させつつ、電界集中を引き起こすことなく短寿命化を防ぐことができる有機ＥＬ表示パネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明の一態様における有機ＥＬ表示パネルは、ＴＦＴ層と、前記ＴＦＴ層上に形成され、画素単位に複数のコンタントホールが形成された層間絶縁膜と、前記画素単位に、前記層間絶縁膜上に形成された複数の第１電極であって前記複数のコンタクトホールの各々を介して前記ＴＦＴ層と導通している複数の第１電極と、少なくとも色毎に形成された複数の開口部であって、前記画素単位に形成された複数のコンタクトホールを前記複数の開口部の各々の開口領域内に含む複数の開口部を有するバンクと、前記複数の開口部に形成された有機発光層と、前記有機発光層の上方に形成された第２電極と、を具備し、前記開口部内の前記コンタクトホール及びその上方を含むコンタクトホール領域に形成された有機発光層の膜厚は、前記開口部内の前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された有機発光層の膜厚より厚く形成されている。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルは、上述の構成を備えることにより、バンクに画素単位で形成された開口部を、コンタクトホールを含めるように形成することにより、前記開口部をより大きくし開口率を向上させることができる。そのため、発光面積が増大し、発光効率を向上させることができる。より具体的には、前記開口部内の前記コンタクトホール領域に形成された有機発光層の膜厚は、前記開口部内の前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された有機発光層の膜厚より厚く形成されている。このため、前記開口部内の前記コンタクトホール領域では、コンタクトホール上面外周からコンタクトホールの底面に向かう斜面、特にコンタクトホール上面外周の内側部分における電界集中の発生を防止できる。【０００８】
また、前記開口部内の前記コンタクトホール領域に形成された有機発光層は、膜厚が、前記開口部内の前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された有機発光層の膜厚より厚く形成されていることから、前記コンタクトホール領域以外の領域に比較して電界が小さくなる。よって、前記有機発光層は前記コンタクトホール領域以外の領域では発光し、前記コンタクトホール領域では発光しないか又は前記コンタクトホール領域以外の領域よりも低輝度で発光する。しかしながら、前記コンタクトホール領域は、前記開口部の内部のごく小さい領域であるため、発光しなくても又は低輝度で発光しても前記開口部の全体に与える影響は小さい。そのため、全体としては発光輝度を低下させる要因とはならない。従って、バンクに画素単位で形成された開口部にコンタクトホールを含めて開口率を大きくし、発光輝度を増大させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の一実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネルの一部を模式的に示す平面図である。
【図２】本発明の一実施の形態に係る有機ＥＬセルを中心とした有機ＥＬ表示パネルの一部断面を模式的に示す断面図である。
【図３】本発明の一実施の形態に係る有機ＥＬセルのコンタクトホールを示す図である。
【図４】本発明の一実施の形態に係る有機ＥＬセルのコンタクトホールを示す図である（図３の続き）。
【図５】本発明の一実施の形態に係る開口部における発光輝度の分布を表す模式図である。
【図６】本発明の一実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法を説明する工程図である。
【図７】本発明の一実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法を説明する工程図である（図６の続き）。
【図８】本発明の変形例に係るＩＬ層、電子注入層を設けた場合の有機ＥＬ表示パネルの一部断面を模式的に示す断面図である。
【図９】本発明の変形例に係るラインバンクに係る有機ＥＬ表示パネルの一部を模式的に示す平面図である。
【図１０】本発明の変形例に係るラインバンクに係る有機ＥＬセルを中心とした有機ＥＬ表示パネルの一部断面を模式的に示す断面図である。
【図１１】本発明の変形例に係るコンタクトホール（角孔）を有する有機ＥＬパネルの一部を模式的に示す平面図である。
【図１２】本発明の変形例に係る表示装置の外観斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
＜発明の態様＞
本発明の一態様における有機ＥＬ表示パネルは、ＴＦＴ層と、前記ＴＦＴ層上に形成され、画素単位に複数のコンタントホールが形成された層間絶縁膜と、前記画素単位に、前記層間絶縁膜上に形成された複数の第１電極であって前記複数のコンタクトホールの各々を介して前記ＴＦＴ層と導通している複数の第１電極と、少なくとも色毎に形成された複数の開口部であって、前記画素単位に形成された複数のコンタクトホールを前記複数の開口部の各々の開口領域内に含む複数の開口部を有するバンクと、前記複数の開口部に形成された有機発光層と、前記有機発光層の上方に形成された第２電極と、を具備し、前記開口部内の前記コンタクトホール及びその上方を含むコンタクトホール領域に形成された有機発光層の膜厚は、前記開口部内の前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された有機発光層の膜厚より厚く形成されている。
【００１１】
また、前記開口部内の前記コンタクトホール領域に形成された有機発光層の膜厚は、前記コンタクトホール領域に同色の有機発光層と同一材料の層が複数層重畳されることにより、前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された有機発光層の膜厚より厚いこととしてもよい。
【００１２】
本態様によると、バンクに画素単位で形成された開口部を、コンタクトホールを含めるように形成することにより、前記開口部をより大きくし開口率を向上させることができる。そのため、発光面積が増大し、発光効率を向上させることができる。より具体的には、前記開口部内の前記コンタクトホール領域に形成された有機発光層の膜厚は、前記開口部内の前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された有機発光層の膜厚より厚く形成されている。このため、前記開口部内の前記コンタクトホール領域では、コンタクトホール上面外周からコンタクトホールの底面に向かう斜面における電界集中の発生を防止できる。
【００１３】
また、前記開口部内の前記コンタクトホール領域に形成された有機発光層は、膜厚が、前記開口部内の前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された有機発光層の膜厚より厚く形成されていることから、前記コンタクトホール領域以外の領域に比較して電界が小さくなる。よって、前記有機発光層は前記コンタクトホール領域以外の領域では発光し、前記コンタクトホール領域では発光しないか又は前記コンタクトホール領域以外の領域よりも低輝度で発光する。しかしながら、前記コンタクトホール領域は、前記開口部の内部のごく小さい領域であるため、発光しなくても又は低輝度で発光しても前記開口部の全体に与える影響は小さい。そのため、全体としては発光輝度を低下させる要因とはならない。従って、バンクに画素単位で形成された開口部にコンタクトホールを含めて開口率を大きくし、発光輝度を増大させることができる。
【００１４】
また、前記コンタクトホール領域において、同色の有機発光層が一旦乾燥された後に同色の有機発光層と同一材料の層が重畳されていることとしてもよい。
【００１５】
本態様によると、前記同色の有機発光材料を含有したインクの塗膜は、乾燥して前記有機発光層の固体膜となっているため、前記固体膜となった前記有機発光層の上に、再度、前記同色の有機発光材料を含有したインクを塗布する。その結果、前記固体膜となった前記同色の有機発光層と、再度塗布される前記同色の有機発光材料を含有したインクとは、インク相互としては混合しなくなる。従って、前記同色の有機発光層を複数層重畳して形成できる。
【００１６】
また、前記バンクは、前記色毎にライン状の開口部を複数有することとしてもよい。
【００１７】
本態様によると、ラインバンクに形成された画素単位の開口部を、コンタクトホールを含めるように形成することにより、前記開口部をより大きくし、開口率を向上させることができる。そのため、発光面積が増大し、発光効率を向上させることができる。
【００１８】
また、前記バンクは、前記色毎に、且つ画素単位に前記複数の第１電極の各々に対応する開口部を複数有することとしてもよい。
【００１９】
本態様によると、ピクセルバンクに形成された画素単位の開口部を、コンタクトホールを含めるように形成することにより、前記開口部をより大きくし、開口率を向上させることができる。そのため、発光面積が増大し、発光効率を向上させることができる。
【００２０】
また、前記同色の色は、赤色、緑色及び青色のいずれか一の色であることとしてもよい。
【００２１】
本態様によれば、前記同色の色を、赤色、緑色及び青色のいずれか一の色とすることができる。
【００２２】
また、前記層間絶縁膜は、平坦化膜であることとしてもよい。
【００２３】
本態様によれば、ＴＦＴ層の表面の段差を平坦化できる。
【００２４】
本発明の一態様における有機ＥＬ表示装置は、前記有機ＥＬ表示パネルを備えた有機ＥＬ表示装置である。
【００２５】
本態様によると、前記有機ＥＬ表示パネルを備えた有機ＥＬ表示装置を実現できる。
【００２６】
本発明の有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、ＴＦＴ層を形成する第１工程と、前記ＴＦＴ層上に層間絶縁膜を形成する第２工程と、画素単位に、複数のコンタントホールを前記層間絶縁膜に形成する第３工程と、前記画素単位に、前記複数のコンタクトホールの各々を介して前記ＴＦＴ層と導通する複数の第１電極を前記層間絶縁膜上に形成する第４工程と、前記画素単位に形成された複数のコンタクトホールの各々を含む複数の開口部を有するバンクを形成する第５工程と、前記複数の開口部に有機発光層を形成する第６工程と、前記有機発光層の上方に第２電極を形成する第７工程と、を具備し、前記第６工程において、前記開口部内の前記コンタクトホール及びその上方を含むコンタクトホール領域に形成された有機発光層の膜厚は、前記開口部内の前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された有機発光層の膜厚より厚く形成されている。
【００２７】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法によれば、バンクに画素単位で形成された開口部を、コンタクトホールを含めるように形成することにより、前記開口部をより大きくし開口率を向上させることができる。そのため、発光面積が増大し、発光効率を向上させることができる。より具体的には、前記開口部内の前記コンタクトホール領域に形成された有機発光層の膜厚は、前記開口部内の前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された有機発光層の膜厚より厚く形成されている。このため、前記開口部内の前記コンタクトホール領域では、コンタクトホール上面外周からコンタクトホールの底面に向かう斜面における電界集中の発生を防止できる。
【００２８】
また、前記開口部内の前記コンタクトホール領域に形成された有機発光層の膜厚が、前記開口部内の前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された有機発光層の膜厚より厚く形成されていることから、前記コンタクトホール領域では、前記コンタクトホール領域以外の領域に比較して電界が小さくなる。よって、前記有機発光層は前記コンタクトホール領域以外の領域では発光し、前記コンタクトホール領域では発光しないか又は前記コンタクトホール領域以外の領域よりも低輝度で発光する。しかしながら、前記コンタクトホール領域は、前記開口部の内部のごく小さい領域であるため、発光しなくても又は低輝度で発光しても前記開口部の全体に与える影響は小さい。そのため、全体としては発光輝度を低下させる要因とはならない。従って、バンクに画素単位で形成された開口部にコンタクトホールを含めて開口率を大きくし、発光輝度を増大させることができる。
【００２９】
さらに、前記開口部に有機発光層を形成する工程を用いて、前記コンタクトホール領域に形成された有機発光層の膜厚を、前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された有機発光層の膜厚より厚く形成することにより、前記開口部に有機発光層を形成する工程と同一工程において、前記コンタクトホール領域に形成された有機発光層の膜厚を厚くするので、特別なプロセスを追加することなく、簡易に、コンタクトホールにおける電界集中の発生を防止して、発光輝度を増大させることができる。
【００３０】
また、前記第６工程において、前記開口部内の前記コンタクトホール領域に形成された有機発光層の膜厚は、前記コンタクトホール領域に同色の有機発光層と同一材料の層が複数層重畳されることにより、前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された有機発光層の膜厚より厚く形成されることとしてもよい。
【００３１】
本態様によると、前記開口部内の前記コンタクトホール領域部分の有機発光層の膜厚のみ、前記開口部内の前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された有機発光層の膜厚より厚く形成できる。
【００３２】
また、前記第６工程において、前記コンタクトホール領域において同色の有機発光層が一旦乾燥した後に同色の有機発光層が重畳されることとしてもよい。
【００３３】
本態様によると、前記同色の有機発光材料を含有したインクの塗膜は、乾燥して前記有機発光層の固体膜となっているため、前記固体膜となった前記有機発光層の上に、再度、前記第６工程で前記同色の有機発光材料を含有したインクを塗布する。その結果、前記固体膜となった前記同色の有機発光層と、再度塗布される前記同色の有機発光材料を含有したインクとは、インク相互としては混合しなくなる。
【００３４】
従って、前記同色の有機発光層を複数層重畳して形成できる。
【００３５】
また、前記第６工程における前記有機発光層の形成は、インクジェット法により行われることとしてもよい。
【００３６】
本態様によれば、前記第６工程における前記有機発光層の形成は、インクジェット法により行うことができる。前記インクジェット法は、前記有機ＥＬ発光材料を含むインクを、前記コンタクトホールなどの前記画素の所定の位置に高精度で滴下することができるため、マスクなどの付加部材や製造プロセスを用いなくても本態様として好適なものである。
【００３７】
また、前記第６工程における前記有機発光層の形成は、インクジェット法により行われ、前記第６工程において、前記有機発光層が形成された開口部に含まれるコンタクトホール領域に、前記同色の有機発光材料を含有したインクが複数層重畳して塗布されることとしてもよい。
【００３８】
また、前記第６工程における前記有機発光層の形成は、インクジェット法により行われ、前記第６工程において、前記有機発光層が形成された開口部に含まれるコンタクトホール領域に、前記同色の有機発光材料を含有したインクが複数層重畳して塗布されることとしてもよい。
【００３９】
本態様によると、前記開口部内の前記コンタクトホール領域部分の有機発光層の膜厚のみ、前記開口部内の前記コンタクトホール領域以外の領域に形成された有機発光層の膜厚より厚く形成できる。
【００４０】
また、前記第６工程における前記有機発光層の形成は、インクジェット法により行われ、前記第６工程において、前記有機発光層が形成された開口部に含まれるコンタクトホール領域に、前記同色の有機発光材料を含有したインクが塗布された後、前記有機発光層が形成された開口部に含まれるコンタクトホール領域に塗布された前記同色の有機発光材料を含有したインクを乾燥し、前記第６工程において、前記有機発光層が形成された開口部に含まれるコンタクトホール領域に、前記同色の有機発光材料を含有したインクが塗布されることとしてもよい。
【００４１】
本態様によると、前記同色の有機発光材料を含有したインクの塗膜は、乾燥して前記有機発光層の固体膜となっているため、前記固体膜となった前記有機発光層の上に、再度、前記第６工程で前記同色の有機発光材料を含有したインクを塗布する。その結果、前記固体膜となった前記同色の有機発光層と、再度塗布される前記同色の有機発光材料を含有したインクとは、インク相互としては混合しなくなる。
【００４２】
従って、前記同色の有機発光層を複数層重畳して形成できる。
【００４３】
また、前記バンクは、前記色毎にライン状の開口部を複数有することとしてもよい。
【００４４】
本態様によれば、前記バンクは、前記色毎にライン状の開口部を複数有するものとすることができる。
【００４５】
また、前記バンクは、前記色毎に、且つ画素単位に前記複数の第１電極の各々に対応する開口部を複数有することとしてもよい。
【００４６】
本態様によれば、前記バンクは、前記色毎に、且つ画素単位に前記複数の第１電極の各々に対応する開口部を複数有するものとすることができる。
【００４７】
また、前記同色の色は、赤色、緑色及び青色のいずれか一の色であることとしてもよい。
【００４８】
本態様によれば、前記第１色及び前記第２色の各々は、赤色、緑色及び青色のいずれか一の色とすることができる。
＜実施の形態＞
＜全体概略構成＞
図１は、本発明の一実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル１の一部を模式的に示す平面図である。
【００４９】
有機ＥＬ表示パネル１は、トップエミッション型の複数の有機ＥＬセル２０がマトリックス状配列で形成されてなり、各有機ＥＬセル２０は、Ｒ（赤色）Ｇ（緑色）Ｂ（青色）いずれかに対応する発光層を具備する。各有機ＥＬセル２０が、１画素（ピクセル）に相当する。各有機ＥＬセル２０に係る開口部３０は、いわゆるピクセルバンク（井桁状バンク）構造のバンク１６で規定されている。
【００５０】
図２は、１つの有機ＥＬセル２０を中心とする有機ＥＬ表示パネル１の一部断面（図１のＸ−Ｘ’間の断面）を模式的に示す断面図である。
【００５１】
基板１０は、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、又はアルミナ等の絶縁性材料で形成されている。
【００５２】
基板１０上には、給電電極１２を有するＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）層１１が形成され、ＴＦＴ層１１上に層間絶縁膜１３が積層されている。
【００５３】
層間絶縁膜１３は、絶縁性に優れる有機材料で形成されており、その厚みは、４μｍ（マイクロメートル）程度である。層間絶縁膜１３には、厚み方向に貫通孔（コンタクトホール１４）が形成されている。層間絶縁膜１３としては、平坦化膜を形成するのが望ましい。これにより、ＴＦＴ層１１の表面の段差を平坦化することができる。
＜コンタクトホール＞
ここで、コンタクトホール１４について、図３、図４を用いて詳細に説明する。
【００５４】
図３は、図２におけるコンタクトホール１４付近を拡大した図であり、説明の都合上、ＴＦＴ層１１、給電電極１２、層間絶縁膜１３、コンタクトホール１４のみ図示したものである。
【００５５】
コンタクトホール１４は、図３（ａ）に示す、コンタクトホール上面１４ｃ、コンタクトホール斜面１４ｄ、コンタクトホール下面１４ｅで囲まれた空間をいう。なお、上述のようにコンタクトホール１４は貫通孔であり、コンタクトホール上面１４ｃ、コンタクトホール下面１４ｅは、説明上の仮想的な面である。
【００５６】
コンタクトホール上面１４ｃは、略環状のコンタクトホール上面外周１４ａで囲まれた部分であり、コンタクトホール上面外周１４ａは、層間絶縁膜１３の膜厚がコンタクトホール底面１４ｅからコンタクトホール斜面１４ｄ沿いに上方へ向けて増し、その膜厚が極大に達する部分である。ここで、層間絶縁膜１３上面におけるコンタクトホール上面１４ｃの占有面積は極力小さい方が望ましいので、コンタクトホール斜面１４ｄの傾斜角度は大きい方が望ましい。しかしながら、傾斜角度が大き過ぎる（９０度に近づく）と、ＴＦＴ層１１と導通すべき第１電極１５が段切れするという不具合が発生しうる。逆にコンタクトホール斜面１４ｄの傾斜角度をどんどん小さくすれば、第１電極１５とＴＦＴのソース電極、ドレイン電極、ゲート電極、信号配線、電源配線などとの間に発生する寄生容量の面より決定している所定膜厚が得られない領域が大きくなるので特性上の不具合が発生しうる。これらに鑑み、図３（ａ）に示す、コンタクトホール上面外周１４ａにおける層間絶縁膜１３の膜厚ｔと、コンタクトホール下面外周１４ｂとコンタクトホール上面外周１４ａとの平面距離Ｌとは、  Ｌ＜３ｔ  を満たす程度であることが望ましい。しかし、これに限るものではない。
【００５７】
なお、図３（ｂ）に示すように、層間絶縁膜１３の膜厚がコンタクトホール底面１４ｅからコンタクトホール斜面１４ｄ沿いに上方へ向けて増し、その膜厚が極大に達した後膜厚が減少に転じるような場合であっても、コンタクトホール上面外周１４ａは、図３（ａ）と同様層間絶縁膜１３の膜厚が極大に達した部分であることに変わりない。
【００５８】
また、以下の説明において、「コンタクトホール上面外周１４ａの内側付近」との記載があるが、これは図３中１４ｆとして示した部分を指している。
【００５９】
また、図４において破斜線で示す領域、すなわちコンタクトホール１４及びコンタクトホール１４の上方を合わせてコンタクトホール領域１４ｇという。
【００６０】
以上、コンタクトホール１４についての補足説明を終え、図２の説明に戻る。
＜有機ＥＬセルの構成＞
層間絶縁膜１３上には、陽極である第１電極１５が積層される。第１電極１５は、コンタクトホール１４を介して、ＴＦＴ層１１に係る給電電極１２と電気的に接続される。
【００６１】
第１電極１５は、Ａｇ（銀）で形成されている。なお、第１電極１５は、例えば、ＡＰＣ（銀、パラジウム、銅の合金）、ＡＲＡ（銀、ルビジウム、金の合金）、ＭｏＣｒ（モリブデンとクロムの合金）、ＮｉＣｒ（ニッケルとクロムの合金）、Ａｌ（アルミニウム）、Ａｌ合金等で形成されていても良い。トップエミッション型の発光素子の場合は、光反射性の材料で形成されていることが好ましい。
【００６２】
層間絶縁膜１３及び給電電極１２の上には、バンク１６（バンク１６ａ、バンク１６ｂ・・・）が形成されている。バンク１６は、樹脂等の有機材料で形成されており絶縁性を有する。有機材料の例には、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等が挙げられる。バンク１６は、有機溶剤耐性を有することが好ましい。さらに、バンク１６は、エッチング処理、ベーク処理等がされることがあるので、それらの処理に対して過度に変形、変質などをしないような耐性の高い材料で形成されることが好ましい。
【００６３】
バンク１６で区画された領域内には、有機発光層（以下、単に発光層という。）１７ａが積層されている。
【００６４】
発光層１７ａは、例えば、特開平５−１６３４８８号公報に記載のオキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、アンスラセン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、８−ヒドロキシキノリン化合物の金属鎖体、２−ビピリジン化合物の金属鎖体、シッフ塩とＩＩＩ族金属との鎖体、オキシン金属鎖体、希土類鎖体等の蛍光物質で形成されることが好ましい。
【００６５】
発光層１７ａは、コンタクトホール１４による窪みに入り込み、窪みに追従して凹んだ形状となっている。ここで、発光層１７ａを従来のように単純に形成すると、コンタクトホール斜面１４ｄ、特にコンタクトホール上面外周１４ａの内側付近１４ｆ（図３参照）に形成される発光層１７ａの膜厚が他の部分よりも薄くなり、この膜厚の薄くなった領域で電界集中が発生してしまうのであるが、本実施の形態では、発光層１７ａを積層する際に、図２に示すように発光層１７ｂとして示した分だけ厚く積層している。なお、図２においては、表現上、発光層１７ａと発光層１７ｂとを区別しているが、実際は、発光層１７ａと発光層１７ｂとは一体となっている（以下、発光層１７ａと発光層１７ｂとを合わせて、発光層１７という。）。発光層１７における発光層１７ａと発光層１７ｂとは、一度の手順で発光層１７として積層してもよいし、発光層１７ａを積層し、発光層１７ａを乾燥させた後で、発光層１７ｂを積層するとしてもよい。
【００６６】
また、コンタクトホール領域１４ｇに積層される発光層１７の膜厚については、コンタクトホール領域１４ｇ以外に積層される発光層１７ａの膜厚より厚くなっていればよい。通常、発光層１７における発光層１７ｂの膜厚は、５〜１００ｎｍ程度が望ましい。
【００６７】
発光層１７の上には、陰極である第２電極１８が積層される。
【００６８】
第２電極１８は、例えば、ＩＴＯ、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等で形成される。有機ＥＬセルをトップエミッション型にする場合は、光透過性材料で形成されていることが望ましい。
【００６９】
なお、図示してはいないが、第２電極１８の上には公知の封止層が設けられる。封止層は、例えば、ＳｉＮ（窒化シリコン）、ＳｉＯＮ（酸窒化シリコン）等の材料で形成され、発光層１７が水分や空気等に触れて劣化するのを抑制する。有機ＥＬセルをトップエミッション型にする場合は、封止層も光透過性材料で形成されることが望ましい。
＜実施の形態の構成による効果＞
ここで、本実施の形態の上記構成による効果について図５を用いて補足説明する。
【００７０】
図５（ａ）は、本実施の形態における開口部３０とその周辺部、図５（ｂ）は、従来の開口部とその周辺部を模式的に表した上面図である。
【００７１】
図５（ａ）の開口部３０において、斜線で示した部分は、発光層１７が通常の膜厚で形成されていることから発光輝度の低下がない部分を表している。これに対し、斜線で示さない、コンタクトホール上面外周１４ａの内側部分、すなわちコンタクトホール領域１４ｇに相当する部分は、コンタクトホール領域１４ｇ以外の領域に比べて発光層１７の膜厚が厚く形成されているため、電界が小さくなり発光輝度が低下する。しかしながら、この開口部３０におけるコンタクトホール領域１４ｇに相当する部分の面積は、コンタクトホール領域１４ｇ以外の領域に相当する部分の面積に比べ微少であり、微少な領域の発光輝度が低下していたとしても発光ムラは目立たない。
【００７２】
また、図５（ａ）の開口部３０は、図５（ｂ）に示す従来の開口部に比して、発光輝度が低下しない領域の面積として、図５（ｂ）中に格子１６ｃとして示す分（従来、コンタクトホールを埋もれさせるため、バンクとして占有の必要があった部分から、コンタクトホール相当部分を除いたものに当たる）だけ大きく取ることができる。よって、有機ＥＬ表示パネル１における開口率を従来に比べ向上させることができる。
【００７３】
図５（ｃ）は、本実施の形態を用いず、単にコンタクトホールを開口部内に設けることとした場合の開口部３０とその周辺部を模式的に表した上面図である。
【００７４】
図５（ｃ）において斜線で示した部分は、図３に示したコンタクトホール上面外周１４ａの内側付近１４ｆに相当する部分である。この部分では、上述したように発光層１７が通常の膜厚より薄くなっており、電界集中により、通常より発光輝度が上がってしまう。発光輝度が上がっている場合、例え面積が微少であっても視認され易いので、結果的にこの部分は、発光ムラとして目立つことになる。
＜製造方法＞
図６及び図７は、本発明の実施形態に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法を説明する工程図である。
【００７５】
工程は、第１工程〜第７工程から成る。
【００７６】
まず、図６（ａ）に示すように、第１工程として、基板１０上にＴＦＴ層１１を形成する。
【００７７】
次に、図６（ｂ）に示すように、第２工程として、ＴＦＴ層１１上に層間絶縁膜１３を形成する。
【００７８】
次に、図６（ｃ）に示すように、第３工程として、層間絶縁膜１３にエッチングによって画素に対応するコンタクトホール１４を形成する。
【００７９】
次に、図６（ｄ）に示すように、第４工程として、層間絶縁膜１３上に、例えばスパッタリングによりＡｇ薄膜を形成し、Ａｇ薄膜を例えばフォトリソグラフィでパターニングすることにより、画素単位にマトリックス状に第１電極１５を形成する。なお、Ａｇ薄膜は真空蒸着等で形成しても良い。
【００８０】
次に、図６（ｅ）に示すように、第５工程として、第１電極１５、層間絶縁膜１３の上にバンク材料層を形成し、バンク材料層の一部を除去して開口部３０を有するバンク１６を形成する（図６（ｅ））。バンク材料層の形成は、例えば塗布等により行うことができる。バンク材料層の除去は、バンク材料層上にレジストパターンを形成し、その後、エッチングをすることにより行う。
【００８１】
次に、第６工程として、有機ＥＬセル２０について、バンク１６で規定された領域内に、例えばインクジェット法により有機ＥＬ材料を含む組成物インク（以下、単に「インク」と称する）を滴下して図７（ａ）に示すように発光層１７ａを形成し、発光層１７ａのインクを乾燥させ、その後、図７（ｂ）に示すように発光層１７ｂのインクを滴下する。発光層１７の形成には、ディスペンサー法、ノズルコート法、スピンコート法、凹版印刷、凸版印刷等によりインクを滴下しても良い。
【００８２】
図７（ａ）、図７（ｂ）を一手順で行う場合、図７（ａ）における発光層１７ａを形成する際に、図７（ｂ）の発光層１７ｂに相当する箇所について発光層１７ｂに相当するインクを余分に滴下すればよい。
【００８３】
次に、第７工程として、例えばスパッタリングにより第２電極１８となるＩＴＯ薄膜を形成する（図７（ｃ））。
＜変形例その他＞
なお、本発明の有機ＥＬ表示パネルは、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
（１）中間層（ＩＬ層）、電子注入層の追加について
各有機ＥＬセルは、上述の実施の形態で説明した構成に加え、第１電極１５と発光層１７との間にＩＬ層４１を設け、発光層１７と第２電極１８との間に電子注入層４２を設けた構成としてもよい。
【００８４】
図８は、図２に示した有機ＥＬセル２０ｂに、ＩＬ層４１と、電子注入層４２とを設けた場合の例を示す図である。
【００８５】
ＩＬ層４１は、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）層と、ＩＴＯ層の上に積層されるホール注入層とから成る。
【００８６】
ＩＴＯ層は、第１電極１５及びホール注入層の間に介在し、両層間の接合性を良好にする機能を有する。
【００８７】
ホール注入層は、ＷＯｘ（酸化タングステン）又はＭｏｘＷｙＯｚ（モリブデン−タングステン酸化物）で形成されている。ホール注入層を設けることでホールを容易に注入することができ、発光層１７内で電子が有効に発光に寄与するため、良好な発光特性を得ることができる。ホール注入層は、ホール注入機能を果たす金属化合物で形成されていれば良く、そのような金属化合物としては、例えば、金属酸化物、金属窒化物又は金属酸窒化物が挙げられる。
【００８８】
電子注入層４２は、第２電極１８から注入された電子を発光層１７へ輸送する機能を有し、例えば、バリウム、フタロシアニン、フッ化リチウム、あるいはこれらの組み合わせで形成される。
【００８９】
製造方法としては、ＩＬ層４１の形成は、第４工程と、第５工程の間に行われる。
【００９０】
ＩＬ層４１は、例えばスパッタリングによりＩＴＯ薄膜を形成し、ＩＴＯ薄膜を例えばフォトリソグラフィによりパターニングすることによりＩＴＯ層を形成する。続いて、ＷＯｘ又はＭｏｘＷｙＯｚを含む組成物を用いて真空蒸着、スパッタリングなどの技術によりＷＯｘ又はＭｏｘＷｙＯｚの薄膜を形成する。
【００９１】
また、電子注入層４２の形成は、第６工程と、第７工程の間に行われる。
【００９２】
電子注入層は、第６工程の後、例えば真空蒸着により電子注入層７となるバリウム薄膜を形成する。
（２）ラインバンクの採用について
上述の実施形態では、バンク１６がピクセルバンクである例で説明したが、図９に示すようなラインバンクにも本発明は適用できる。
【００９３】
ラインバンクとは、上記ピクセルバンクのように、発光積層体の周囲を全て囲む形状ではなく、例えば、発光積層体の対向する二辺を規定する形状のものである。ラインバンクの場合、バンク１６は、複数のピクセルを列ごと又は行ごとに区切るように形成される。すなわち、バンク１６は発光層１７の行方向両側又は列方向両側だけに存在し、発光層１７は同列又は同行のものが連続した構成となる。
【００９４】
図１０は、ラインバンクに係る有機ＥＬセル２０の断面図を示す。
【００９５】
図１０の有機ＥＬセル２０では、図２においてバンク１６ａ、１６ｂが存在していた部分（１６ａ’、１６ｂ’）に、バンクが存在しない構成となっている。
（３）上記実施の形態では、トップエミッション型で説明しているが、これに限定されず、ボトムエミッション型であっても良い。
（４）上記実施の形態では、バンクを用いていたが、バンクを用いる場合、第１電極１５の端部に電界が集中し、又は第１電極１５と第２電極１８とがショートするなどの可能性がある。これを避けるため、バンクに代えて、第１電極１５においてバンクが形成されていた部分を絶縁膜で覆う構成としてもよい。
（５）上記実施の形態では、コンタクトホールの形状が丸孔である例で説明したが、これに限らず、貫通孔であればよい。例えば、図１１のコンタクトホール１４’のように角孔であってもよい。
（６）表示装置１００は本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネル１及び変形例に係る有機ＥＬ表示パネルのいずれかを表示装置１００に搭載することとしてもよい。
【００９６】
図１２は、表示装置１００の外観を示す外観斜視図である。
【００９７】
これにより、上記と同様の効果が得られる有機ＥＬ表示装置を構成することができる。
（７）上記実施の形態及び上記変形例をそれぞれ組み合わせるとしてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００９８】
本発明の有機ＥＬ表示パネルは、高い光取出し効率を有しており、携帯電話用のディスプレイやテレビなどの表示素子、各種光源などに好適である。
【符号の説明】
【００９９】
１      有機ＥＬ表示パネル
１０      基板
１１      ＴＦＴ層
１２      給電電極
１３      層間絶縁膜
１４      コンタクトホール
１５      第１電極
１６      バンク
１７      発光層
１８      第２電極
２０      有機ＥＬセル
３０      開口部
４１      ＩＬ層
４２      電子注入層
【図１】
0005607728.tif 000002
【図２】
0005607728.tif 000003
【図３】
0005607728.tif 000004
【図４】
0005607728.tif 000005
【図５】
0005607728.tif 000006
【図６】
0005607728.tif 000007
【図７】
0005607728.tif 000008
【図８】
0005607728.tif 000009
【図９】
0005607728.tif 000010
【図１０】
0005607728.tif 000011
【図１１】
0005607728.tif 000012
【図１２】
0005607728.tif 000013