(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学ベースと、
前記光学ベース上に実装された受発光素子と、
前記光学ベース上に実装された光学部品と、
前記光学ベース上に実装されたターゲットと、
前記光学ベース上に実装された、前記光学部品からの光を前記ターゲットへ反射する反射部材と、
前記光学ベース上に実装された、前記光学ベース上で前記反射部材を支持する支持部材と
を備えた光軸調整装置であって、
前記反射部材は、第１の反射面と、第２の反射面とを備え、前記第１の反射面と前記第２の反射面との相対角度が４５度であり、
前記反射部材は、前記第１の反射面と前記第２の反射面との間を光が伝搬する方向を回転軸として回転可能な回転手段を有することを特徴とする光軸調整装置。
【請求項２】
光学ベースと、
前記光学ベース上に実装された受発光素子と、
前記光学ベース上に実装された光学部品と、
前記光学ベース上に実装されたターゲットと、
前記光学ベース上に実装された、前記光学部品からの光を前記ターゲットへ反射する反射部材と、
前記光学ベース上に実装された、前記光学ベース上で前記反射部材を支持する支持部材と
を備えた光軸調整装置であって、
前記反射部材は、第１の反射面と、第２の反射面とを備え、前記第１の反射面と前記第２の反射面との相対角度が４５度であり、
前記反射部材は、前記第１の反射面と前記第２の反射面との間を伝搬する光線群を含む面の法線を回転軸として回転可能な回転手段を有することを特徴とする光軸調整装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の光軸調整装置において、
前記反射部材は、前記第１の反射面と前記第２の反射面との間にスペーサ部材をさらに備え、該スペーサ部材は、第１の反射面に対する第２の反射面の相対角度を保つように、前記第１の反射面及び前記第２の反射面の夫々と固定されたことを特徴とする光軸調整装置。
【請求項４】
請求項１または２に記載の光軸調整装置において、
前記反射部材は、ペンタプリズムであることを特徴とする光軸調整装置。
【請求項５】
請求項４に記載の光軸調整装置において、
前記ペンタプリズムと前記支持部材との固定面は、前記ペンタプリズムの反射面及び透過面以外の面を用いることを特徴とする光軸調整装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光軸調整装置及び光軸調整方法に関し、具体的には、空間中に複数のビームが伝播する光学系を含む光通信装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光通信装置は、空間光学系を利用したものと光導波路を利用したものに大別される。近年は、複数の光学部品を組み合わせ高機能化することができる空間光学系タイプの装置の普及が進み、とくに光通信チャネルを多重化させるため、光学系内部に複数のビームを伝搬させる装置の需要が高まっている。
【０００３】
上記のような光通信装置の代表例として、波長選択スイッチ（ＷＳＳ：Wavelength Selective Switch）があげられる。これは、波長多重信号を波長毎に異なる出力ポートに選択的に振り分けることができるデバイスである。
【０００４】
一般的なＷＳＳは、分散素子、集光素子、及び偏向素子を用いた空間光学系デバイスである。入射された波長多重光を、回折格子などの分散素子を介して波長ごとに空間的に分離されたビームに分波し、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）ミラーなどの偏向素子によってビームを偏向させ、特定の出力ポートに結合させることで、波長ごとのスイッチングを実現している（特許文献１を参照）。
【０００５】
上記のＷＳＳ光学系においては、分散素子により分離された各波長信号のビームは、レンズ等の効果で互いに平行になるように伝播され、それぞれの波長ビームはアレイ状に伝搬されＭＥＭＳミラー等の偏向素子に集光・照射される。
【０００６】
ＭＥＭＳミラーは複数の電極に電圧を印加して駆動させるため、多数の電気配線が必要である。その場合、電気配線等の実装を容易にするため、ＭＥＭＳミラーは光学ベースの表面に水平配置されることが多い。従って、光学ベース上を水平に伝搬するビームの光路を折り返しミラーにより直角に曲げて、ＭＥＭＳミラーへ光を入射させることが必要となる（図１を参照）。
【０００７】
以上、ＷＳＳを例に複数のビームが伝搬する光学系の構成を説明してきたが、このような光学系を用いる光通信装置はＷＳＳに限定されないため、以下では、上記の空間光学系を一般化した「光学ブロック」として説明する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１１−２６９３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
図１を参照しながら、従来の光学ブロックの構成について説明する。
【００１０】
図１に示すように、光学ブロック１００は、光学ベース１１０と、受発光素子１１２と、光学部品１１４と、折り返しミラー１１６と、ターゲットアレイ１１８と、支持部材１２０とから構成される。
【００１１】
光学ベースとは、空間光学系を支えるベース材であり、インバーなどの熱膨張率の小さな金属、低熱膨張ガラス、石英などで構成されることが多い。光学ベース１１０上で、受発光素子１１２、光学部品１１４、折り返しミラー１１６、ターゲットアレイ１１８、及び支持部材１２０は、位置調整された後、接着や溶接等の方法により固定される。
【００１２】
受発光素子とは、複数のビームを出力したり入力したりする素子または素子群であり、ファイバアレイ、レンズアレイ、ＰＤ、若しくはＬＤ等又はこれらの組み合せを使用することができる。受発光素子としてファイバを使用する場合、発光素子であるファイバは受光素子を兼ねることができる。図１に示す例では、受発光素子１１２である複数のファイバとレンズがアレイ状に配列されて、ビームアレイをターゲットアレイ１１８に照射している。
【００１３】
光学部品として、レンズ、ミラー、若しくは分散素子又はこれらの組み合せを使用することができる。ＷＳＳの場合は回折格子とレンズが含まれる光学系であり、異なる波長のビームアレイを入出力することができる。レンズは、発光素子から出射されたビームアレイのビームウェストの位置をターゲットアレイ１１８に合わせるために設置され、コリメート光と収束・拡散光を相互変換することができる。
【００１４】
折り返しミラーとは、光学部品から出射されたビームアレイの光路を折り曲げるためのミラーである。折り返しミラーによって反射されたビームアレイはターゲットアレイに入射する。折り返しミラーの反射面は、ガラスに金、銀、アルミ等の金属を蒸着したり、誘電体多層膜を形成したりすることで形成される。
【００１５】
ターゲットアレイとは、光学ベースに水平に配置された、複数の微小光学素子アレイであり、ＰＤアレイ、ファイバアレイ、ＭＥＭＳミラー、又はＬＣｏＳ（Liquid crystal on silicon）等を使用することができる。前述したように、ターゲットアレイはそれに対する電気配線等が必要になることから、表面実装型の空間光学系において光学ベースの表面に対して水平に配置されることが多い。これによって、光学ベース上を光学ベースの表面に水平に進行するビームは、折り返しミラーによってその光路を折り曲げる必要性が生じる。
【００１６】
支持部材とは、折り返しミラーを接着等により光学ベース上で保持・固定するための部材である。接着により固定する場合、支持部材は、折り返しミラーや光学ベースと接合するための接着面を有する。
【００１７】
なお、座標軸を図１に示すように設定した。すなわち、Ｚ軸方向を折り返しミラーによって反射される前のビームが進行する方向とし、Ｙ軸方向を折り返しミラーによって反射された後のビームが進行する方向とし、Ｘ軸方向をＺ軸及びＹ軸の両軸に垂直な方向とした。座標軸の設定は、本明細書の全ての図面において共通するものとする。
【００１８】
図２乃至４を参照しながら、従来の光学ブロックの課題について説明する。
【００１９】
図２（ａ）は、図１に示した光学ブロックの製造途中の状態を示す図である。光学ベース１１０上に、受発光素子１１２と、光学部品１１４と、ターゲットアレイ１１８とが実装されている。図２（ａ）に示す光学ブロック１００において、支持部材と、支持部材によって保持される折り返しミラーとは、まだ実装されていない。このような状態の光学ブロックに支持部材を実装する場合を検討する。
【００２０】
図２（ｂ）は、図２（ａ）に示した製造途中の光学ブロックに対して支持部材１２０（及び折り返しミラー１１６）の位置を調整・固定して光学ブロック１００の製造を完了させたうえで、ビームを入射したときの態様を示す図である。図２（ｂ）に示す光学ブロック１００においては、ビーム入射位置はターゲット位置に照射されているが、焦点ずれが発生しており、ビームウェストをターゲット高さに配置することができていない。
【００２１】
図２（ｃ）は、図２（ａ）に示した製造途中の光学ブロックに対して支持部材１２０（及び折り返しミラー１１６）の位置を調整・固定して光学ブロック１００の製造を完了させたうえで、ビームを入射したときの図２（ｂ）とは別の態様を示す図である。図２（ｃ）に示す光学ブロック１００においては、ビームウェストがターゲット高さに合うように配置されているが、ビーム入射位置ずれが発生しており、ビームが照射される位置をターゲットに位置合わせすることができていない。
【００２２】
図３（ａ）は、従来の光学ブロック１００において、ターゲットアレイ１１８にビームが照射されたときの一態様を示す斜視図である。光学ブロックの構成要素については、図１に示した光学ブロックと同一である。
【００２３】
組立時の精度によっては、ターゲットアレイの位置に誤差が生じる場合がある。図３（ａ）に示す例では、ビームアレイの各ビームは、ターゲットアレイにおいてビーム径が等しくなるように照射されているが、ターゲットアレイの回転位置ずれに起因する照射ビーム位置のずれが発生している。
【００２４】
このような場合、図３（ａ）に示す光学ブロックにおいて、折り返しミラーを、ビーム伝搬面（すなわち、ＹＺ平面）と、折り返しミラーの反射面との交線ｌを回転軸として回転させることにより、ターゲットアレイの位置ずれに起因する照射ビーム位置のずれを補正することができる。
【００２５】
しかしながら、折り返しミラーを回転して各照射ビームの位置のずれを補正した場合、各ビームの光路長が変化し、各ビームの焦点にずれが生じる。その結果、ターゲットに照射される各ビームの径にばらつきが生じることになる（図３（ｂ）を参照）。
【００２６】
図４（ａ）は、従来の光学ブロック１００において、ターゲットアレイ１１８にビームが照射されたときの一態様を示す図である。図４（ａ）に示す光学ブロック１００の構成要素は、図３（ａ）に示した光学ブロックと同一である。
【００２７】
組立時の精度によっては、ターゲットアレイに照射される各ビームの径に誤差が生じる場合がある。図４（ａ）に示す例では、ビームアレイの各ビームは、ターゲットアレイにおいて位置が揃うように照射されているが、ビーム径のずれが発生している。ビーム径のずれは、光学部品の組立時の誤差等に起因して生じる。
【００２８】
このような場合、図４（ａ）に示す光学ブロックにおいて、折り返しミラーを、ビーム伝搬面（すなわち、ＹＺ平面）と、折り返しミラーの反射面との交線ｌを回転軸として回転させることにより、照射ビーム径のずれを補正することができる。
【００２９】
しかしながら、折り返しミラーを回転して各照射ビームのビーム径のずれを補正した場合、各ビームの反射位置の変化に伴い、ターゲットアレイにおける照射ビームの位置がずれる。従って、各照射ビームの位置ばらつきが生じることになる（図４（ｂ）を参照）。
【００３０】
以上説明したように、従来は光学ブロックにおいてターゲットにおけるビームの位置ずれと焦点ずれの両方を独立に補正することができないという課題があった。
【００３１】
本発明は、上記課題を解決すべくなされたものであり、ターゲットアレイにおけるビームアレイの焦点ずれ及び位置ずれを独立に調整することができる光軸調整装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００３２】
本発明は、光学ベースと、光学ベース上に実装された受発光素子と、光学ベース上に実装された光学部品と、光学ベース上に実装されたターゲットと、光学ベース上に実装された、光学部品からの光をターゲットへ反射する反射部材と、光学ベース上に実装された、光学ベース上で反射部材を支持する支持部材とを備えた光軸調整装置であって、反射部材は、第１の反射面と、第２の反射面とを備えたことを特徴とする。
【００３３】
本発明の一実施形態において、反射部材は、第１の反射面と第２の反射面との間にスペーサ部材をさらに備え、スペーサ部材は、第１の反射面に対する第２の反射面の相対角度を保つように、第１の反射面及び第２の反射面の夫々と固定されたことを特徴とする。
【００３４】
本発明の一実施形態において、第１の反射面と第２の反射面との相対角度が４５度であることを特徴とする。
【００３５】
本発明の一実施形態において、反射部材は、第１の反射面と第２の反射面との間を光が伝搬する方向を回転軸として回転可能な回転手段を有することを特徴とする。
【００３６】
本発明の一実施形態において、反射部材は、第１の反射面と第２の反射面との間を伝搬する光線群を含む面の法線を回転軸として回転可能な回転手段を有することを特徴とする。
【００３７】
本発明の一実施形態において、反射部材は、ペンタプリズムであることを特徴とする。
【００３８】
本発明の一実施形態において、ペンタプリズムと支持部材との固定面は、ペンタプリズムの反射面及び透過面以外の面を用いることを特徴とする。
【発明の効果】
【００３９】
本発明に係る光学ブロックは、ターゲットにおけるビームの焦点ずれ及び位置ずれを独立して補正することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】従来の光学ブロックの構造を説明するための斜視概略図である。
【図２】従来の光学ブロックの課題を説明するための説明図である。
【図３】従来の光学ブロックの課題を説明するための説明図である。
【図４】従来の光学ブロックの課題を説明するための説明図である。
【図５】本発明の光学ブロックの構造を説明するための斜視概略図である。
【図６】本発明の一実施形態に係る光学ブロックを説明するための説明図である。
【図７】本発明の一実施形態に係る光学ブロックを説明するための説明図である。
【図８】本発明の一実施形態に係る光学ブロックを説明するための説明図である。
【図９】本発明の一実施形態に係る光学ブロックの構成要素である支持部材の具体的構成を説明するための説明図である。
【図１０】本発明の一実施形態に係る光学ブロックの構成要素である支持部材の具体的構成を説明するための説明図である。
【図１１】本発明の一実施形態に係る光学ブロックを説明するための説明図である。
【図１２】本発明の一実施形態に係る光学ブロックを説明するための説明図である。
【図１３】本発明の一実施形態に係る光学ブロックの構造を説明するための斜視概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００４１】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を詳細に説明する。
（第１の実施形態）
図５を参照しながら、本発明の光学ブロックの構成について説明する。
【００４２】
図５に示すように、本発明の光学ブロック１００は、光学ベース１１０と、受発光素子１１２と、光学部品１１４と、反射部材１１７と、ターゲットアレイ１１８と、支持部材１２０とから構成される。図５に示す光学ブロック１００は、折り返しミラーの代わりに反射部材１１７を使用する点において図１に示した光学ブロックと相違する。また、折り返しミラーの代わりに反射部材１１７を使用することに伴い、支持部材１２０の形状も図１に示した例から変化する。支持部材１２０は、反射部材１１７を接着するための接着面を有する。図５に示す光学ブロック１００の他の構成要素については、図１に示した光学ブロックと同一である。
【００４３】
反射部材１１７は、第１の反射面１５２と、第２の反射面１５４と、スペーサ部材１５６とを備える。第１の反射面１５２及び第２の反射面１５４は、ガラスに金（Ａｕ）等を蒸着することにより形成することができる。スペーサ部材１５６は、第１の反射面１５２と第２の反射面１５４との間に配される。スペーサ部材１５６は、第１の反射面１５２及び第２の反射面１５４の夫々と固定されて、第１の反射面１５２に対する第２の反射面１５４の相対角度を保つために配置される。
【００４４】
反射部材１１７は、最終的には接着等により支持部材１２０および光学ベース１１０に固定されるが、固定される前段階においては、ＹＺ平面内の方向に沿って移動させることができる。このような移動により、反射部材１１７を固定するのに適した位置を探る。
【００４５】
ビームは、反射部材１１７において２回反射される。図５に示す実施形態において、第１の反射面１５２と第２の反射面１５４との相対角度は４５度である。よって、光学部品からのビームの第１の反射面１５２に対する入射角は、２２．５度とし、第１の反射面１５２で反射されたビームの第２の反射面１５４に対する入射角は、２２．５度とした。このような場合、光学部品から出射されたビームは、最終的に９０度屈曲され、光学ベース１１０に配置されたターゲットに垂直に入射する。ただし、第１の反射面１５２に対する入射角、および、第２の反射面１５４に対する入射角は、必ずしも２２．５度である必要はない。これらの入射角が２２．５度でない場合、伝搬ビームはターゲットに垂直に入射しなくなる場合があるが、実用上問題ない範囲で設計することができる。
【００４６】
図６（ａ）は、図５に示した光学ブロックの製造途中の状態を示す図である。光学ベース１１０上に、受発光素子１１２と、光学部品１１４と、ターゲット１１８と、支持部材１２０とが実装されているが、反射部材はまだ実装されておらず、支持部材１２０も光学ベース１１０に固定されていない。このような状態の光学ブロックに反射部材を実装する場合を検討する。
【００４７】
図６（ｂ）は、図６（ａ）に示した製造途中の光学ブロックに対して反射部材１１７を適切な位置に設置するための態様を示す図である。図６（ｂ）に示す光学ブロックにおいて、反射部材１１７は支持部材１２０上に配置されているが、まだ固定されておらず、支持部材１２０も光学ベース１１０に固定されていない。
【００４８】
図６（ｂ）に示す光学ブロックにおいては、ビームはターゲット１１８の位置に照射されているが、焦点ずれが発生しており、ビームウェストの位置をターゲット１１８に合わせることができていない。このような場合において、反射部材１１７をＹＺ面内において（図６（ｂ）の矢印方向に）移動させることにより、ビームが照射される位置を変えることなく、ターゲット１１８における焦点ずれのみを補正することができる（図６（ｃ）を参照）。焦点ずれを補正した後、反射部材１１７と支持部材１２０との間、支持部材１２０と光学ベース１１０との間をそれぞれ接着・固定することで実装が完了する。
【００４９】
図６（ｄ）は、図６（ａ）に示した製造途中の光学ブロックに対して反射部材１１７を適切な位置に設置するための図６（ｂ）とは別の態様を示す図である。図６（ｄ）に示す光学ブロックにおいて、反射部材１１７は支持部材１２０上に存在しているが、まだ固定されておらず、支持部材１２０も光学ベース１１０に固定されていない。
【００５０】
図６（ｄ）に示す光学ブロックにおいては、ビームウェストの位置がターゲット１１８の高さになるように、ビームは照射されているが、位置ずれが発生しており、ビームが照射される位置をターゲット１１８に合わせることができていない。このような場合において、反射部材１１７をＹＺ面内において（図６（ｄ）の矢印方向に）移動させることにより、ターゲット１１８に照射されたビームの径を変えることなく、ターゲット１１８に対する位置ずれのみを補正することができる（図６（ｃ）を参照）。位置ずれを補正した後、反射部材１１７と支持部材１２０との間、支持部材１２０と光学ベース１１０との間をそれぞれ接着・固定することで実装が完了する。
【００５１】
（第２の実施形態）
図７（ａ）は、本発明に係る光学ブロックにおいて、ターゲットアレイにビームアレイが照射されたときの一態様を示す図である。光学ブロックの構成要素については、支持部材を除いて図５に示した光学ブロックと同一である。図７（ａ）において、支持部材は図示していないが、これについては後述する。
【００５２】
組立時の精度によっては、ターゲットアレイの位置に誤差が生じる場合がある。図７（ａ）に示す例では、ビームアレイの各ビームは、ターゲットアレイ１１８においてビーム径が等しくなるように照射されている。しかし、ターゲットアレイ１１８が固定された位置がずれていたため、意図した位置にビームを照射できておらず、照射ビーム位置のずれが発生している。
【００５３】
前述したように、図３（ａ）に示す光学ブロックにおいて、折り返しミラーを回転して位置ずれを補正する場合、ターゲットに照射される各ビームの径にばらつきが発生していた。これに対し、本実施形態に係る光学ブロックにおいて、補正軸ｍ（反射部材１１７の第１の反射面１５２と第２の反射面１５４との間を伝搬する光線群に注目したとき、その光線群を含む面の法線）を回転軸として反射部材を回転することにより、ターゲットアレイ１１８の位置ずれに起因する照射ビーム位置のずれを補正することができる。このとき、反射部材１１７でビームが２回反射される際に、ビームアレイの各ビームに光路長の変化をほとんどもたらさない。その結果、照射された各ビームのターゲットアレイ１１８における径を変えることなく、ターゲットアレイ１１８に対する位置ずれのみを補正することができる（図７（ｂ）を参照）。
【００５４】
反射部材を回転してビームアレイの位置ずれを補正した後、反射部材１１７と支持部材との間、支持部材と光学ベース１１０との間をそれぞれ接着・固定することで実装が完了する。
【００５５】
（第３の実施形態）
図８（ａ）は、本発明に係る光学ブロックにおいて、ターゲットアレイ１１８にビームアレイが照射されたときの一態様を示す図である。光学ブロックの構成要素については、支持部材を除いて図５に示した光学ブロックと同一である。図８（ａ）において、支持部材は図示していないが、これについては後述する。
【００５６】
組立時の精度によっては、ビームウェストの位置に誤差が生じる場合がある。図８（ａ）に示す例では、ビームアレイの各ビームは、ターゲットアレイ１１８において意図した位置に照射されている。しかし、光学部品１１４の組立精度等に起因した、各ビームの焦点ずれが発生し、ターゲットアレイ１１８に照射される各ビームにおいてビーム径のずれが発生している。
【００５７】
前述したように、図４（ａ）に示す光学ブロックにおいて、折り返しミラーを回転して焦点ずれを補正する場合、ターゲットに照射される各ビームの位置がずればらつきが発生していた（図４（ｂ）を参照）。これに対し、本実施形態に係る光学ブロックにおいて、補正軸ｎ（反射部材１１７の第１の反射面１５２と第２の反射面１５４との間を伝搬するビームに注目したとき、そのビームの進行方向）を回転軸として反射部材１１７を回転することにより、各ビームの焦点ずれ（すなわち、ターゲットアレイ１１８に照射される各ビームのビーム径のずれ）を補正することができる。このとき、反射部材１１７でビームが２回反射されることで、ターゲットアレイ１１８において各ビームが照射される位置の変化をほとんどもたらさない。その結果、ターゲットアレイ１１８において各ビームが照射される位置を変えることなく、照射された各ビームのターゲットアレイ１１８におけるビーム径のみを補正することができる（図８（ｂ）を参照）。
【００５８】
反射部材１１７を回転してビームアレイの各ビームの焦点ずれを補正した後、反射部材１１７と支持部材との間、支持部材と光学ベース１１０との間をそれぞれ接着・固定することで実装が完了する。
【００５９】
前述した第２、第３の実施形態で説明した光学ブロックの、支持部材の具体例を図９、図１０に示す。前述した補正軸ｍあるいはｎを法線として持つような接着面が、支持部材１２０と反射部材の両方に必要であるため、反射部材のスペーサ部材１５６の端部に接着面を持たせ、支持部材１２０も反射部材の端部に配置し、接着面同士を摺動することで回転調整を可能とする構成となっている。なお、図９が第３の実施例（補正軸ｎ）に対応しており、図１０が第２の実施例（補正軸ｍ）に対応している。
【００６０】
（第４の実施形態）
図１１及び図１２は、本発明の一実施形態に係る光学ブロックの構造を説明するため、支持部材１２０と反射部材１１７のみを抽出した概略図である。
【００６１】
上述の第１乃至第３の実施形態では、第１の反射面と、第２の反射面と、スペーサ部材とから成るものを反射部材として使用したのに対し、本実施形態に係る光学ブロックは、反射部材１１７としてペンタプリズムを使用する。ペンタプリズム全５面のうち２面が第１の反射面１５２および第２の反射面１５４になるように高反射コートを形成し、そのうちの一つの反射面（第１の反射面１５２）を、支持部材１２０とペンタプリズムとの接着面として利用する。
【００６２】
反射部材としてペンタプリズムを使用する場合、プリズム表面でのビームの戻り光を防ぐために、ペンタプリズムのビーム入射面とビーム出射面にＡＲコートを形成することが望ましい（図１１を参照）。
【００６３】
また、ペンタプリズムは、それ自身の実装において、Ｘ軸回りの角度ずれが発生しても、プリズムへの入力ビームと出力ビームとの相対角度が変化しないという性質を有する。よって、本実施形態の光学ブロックにおいて、ビーム入射面及びビーム出射面を伝搬ビームに対して垂直にならないようにペンタプリズムを傾斜させることにより、ペンタプリズムのビーム入射面及びビーム出射面にＡＲコートを形成することなく、戻り光の発生を防ぐことができる。これにより、ＡＲコートの形成コストを節約することができる（図１２を参照）。
【００６４】
なお、光学ベースが金属製、ペンタプリズムと支持部材が石英製の場合、ペンタプリズムと支持部材の熱膨張率は一致しているため、温度変化時にその界面の接着剤には応力がかからない。しかし、支持部材と光学ベースの熱膨張率には差があるため、温度変化時にその界面の接着剤に応力がかかり、剥離する可能性が考えられる。したがって、支持部材と光学ベースの界面の接着剤の応力を低減し、剥離させないようにするためには、支持部材を小型化し、接着面積を低減するのが望ましい。
【００６５】
（第５の実施形態）
図１３は、本発明の一実施形態に係る光学ブロックの構造を説明するための斜視概略図である。これは図７に示す第２の実施形態において、反射部材をペンタプリズム１５８に変更し、支持部材１２０とペンタプリズム１５８の接着面として、ペンタプリズムのＡＲコート面、高反射コート面（ペンタプリズムの第１の反射面及び第２の反射面）以外の面（すなわち、ペンタプリズムの第１の反射面及び第２の反射面の間の面）を利用できるように、支持部材１２０の形状を変更した場合の例である。
【００６６】
本実施形態により、支持部材１２０をペンタプリズム１５８の反射面および透過面に接着することなくペンタプリズム１５８を支持することができ、接着剤の変形・変質が反射面および透過面を劣化させることを防止することができる。なお、支持部材１２０は単一部材の切削加工で作製してもよいし、複数部材の接着等で組立ててもよい。
【００６７】
また、本実施形態においても、図７（ａ）及び図１０と同様に、補正軸ｍを回転軸として反射部材を回転させる機構を付与できるので、照射された各ビームのターゲットアレイにおける径を変えることなく、ターゲットアレイに対する位置ずれのみを補正することができる（図７（ｂ）を参照）。
【符号の説明】
【００６８】
１００  光学ブロック
１１０  光学ベース
１１２  受発光素子
１１４  光学部品
１１６  折り返しミラー
１１７  反射部材
１１８  ターゲット（アレイ）
１２０  支持部材
１５２  第１の反射面
１５４  第２の反射面
１５６  スペーサ部材
１５８  ペンタプリズム
【図１】
0005508367.tif 000002
【図２】
0005508367.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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