(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）酢酸ｔ−ブチル、２−メチル−２−アダマンチルアセテート、２−エチル−２−アダマンチルアセテート、１−メチルシクロペンチルアセテート、１−エチルシクロペンチルアセテート、１−メチルシクロヘキシルアセテート、２−エチルシクロヘキシルアセテートまたは酢酸ジヒドロテルピニルからなる群から選択される、いずれか一種の３級酢酸エステルに、２級または３級アルキルリチウムを作用させて金属エノラートを調製する工程、
（Ｂ）（Ａ）で調製した金属エノラートと式（１）で表されるカルボニル化合物を反応させる工程、
（Ｃ）（Ｂ）の反応で生成したアルコキシドと、式（２）で表される（メタ）アクリル酸誘導体または式（３）で表される（メタ）アクリル酸無水物を反応させる工程
を含むことを特徴とする式（４）で表される脂環式エステルの製造方法。
【化１】
0005585172.tif 000008
（式中、Ｚは、炭素数４〜１５の２価の炭化水素基を示し、両端で結合する炭素原子と共に環状の炭化水素を形成する。炭化水素基においては、水素原子がハロゲン原子、アルコキシ基で置換されていても良い。）
【化２】
0005585172.tif 000009
（式中、Ｒ１は、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示し、Ｙは、ハロゲン基またはアルコキシ基を示す。）
【化３】
0005585172.tif 000010
（式中、Ｒ１は、式（２）と同様である。）
【化４】
0005585172.tif 000011
（式中、Ｒ１は、式（２）と同様であり、Ｒは３級アルキル基を示し、Ｚは、式（１）と同様である。）
【請求項２】
前記（Ｂ）工程から（Ｃ）工程の間に水による洗浄工程を行わないことを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記アルキルリチウムがｓ−ブチルリチウムまたはｔ−ブチルリチウムであることを特徴とする請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記カルボニル化合物がシクロペンタノン、シクロヘキサノン、ノルカンファー、カンファーまたは２−アダマンタノンであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学特性や耐熱性、光透過性などに優れた、架橋型樹脂、光ファイバーや光導波路、光ディスク基板、ＫｒＦ、ＡｒＦおよびＦ２エキシマレーザー用レジストや、Ｘ線、電子ビーム、ＥＵＶ（極端紫外光）用化学増幅型レジストなどの原料、医薬・農薬中間体、その他各種工業製品として使用することができる脂環式エステル化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造工程で用いられるフォトレジスト用樹脂組成物は、光照射により照射部がアルカリ可溶性に変化する性質、エッチング耐性、基盤密着性、使用する光源に対する透明性などの特性をバランスよく備えている必要がある。光源としてＫｒＦエキシマレーザー以降の短波長光源を使用する際には、一般的に化学増幅型レジストが使用され、その組成は、一般に主剤の樹脂組成物および光酸発生剤、さらには数種の添加剤を含む溶液として使用される。その中で主剤である樹脂組成物が上記の各特性をバランス良く備えていることが重要であり、レジスト性能を決定付ける。
【０００３】
光源がＫｒＦエキシマレーザー以降の短波長光源を使用する際には、化学増幅型レジストが使用されるが、その際、主剤である樹脂組成物は、一般的にアクリレートなどを繰り返し単位とする高分子である。しかし、単一の繰り返し単位で使用されることはない。その理由は、単一の繰り返し単位ではエッチング耐性などの特性をすべて満たすことはできないからである。実際には、各特性を向上させるための官能基を有した繰り返し単位を複数、すなわち２種類以上有する共重合体が樹脂組成物として使用されている。このような樹脂組成物として、ＫｒＦエキシマレーザーリソグラフィ用レジストではヒドロキシスチレン系樹脂が、ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィ用レジストでは、２−アルキル−２−アダマンチルメタクリレートを基本骨格とするアクリル系樹脂が提案されている（特許文献１および２参照）。
【０００４】
しかしながら、近年のリソグラフィプロセスは急速に微細化が進んでおり、それぞれの光源について、波長の１／３程度までの線幅まで延命させることが要求されている。特に、ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィでは、液浸技術の適用やダブルパターニング技術の導入により、それ以上の微細化が要求されている。それにともない、線幅が細くなるにつれて感度や解像度、ラインエッジラフネスなどに対する要求が厳しくなってきた。
【０００５】
このような課題の解決のため、アクリレート化合物の側鎖に酸分解基である３級エステル構造を導入し、酸分解によって主鎖から切断された脂環炭化水素基も酸分解されてアルカリ可溶性とすることにより高感度、高解像度のポジ型感光性組成物を得ている（特許文献３参照）。しかしながら、一般的に側鎖にエステル構造を有するアクリレート化合物は、エステルをリチウムジイソプロピルアミドによりエノラート化して対応するカルボニル化合物と反応させた後、アクリルエステル化して合成されるが、３級酢酸エステルからリチウムジイソプロピルアミドにより金属エノラートを調製すると、（メタ）アクリル酸誘導体（以下、アクリル酸誘導体、メタクリル酸誘導体を合わせて（メタ）アクリル酸誘導体と表記する。）とのエステル化工程においてリチウムジイソプロピルアミドから遊離したジイソプロピルアミンと（メタ）アクリル酸誘導体との副反応も進行するため、目的とする脂環式エステル化合物が低収率であった（特許文献３および４参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平４−３９６６５号公報
【特許文献２】特開平１０−３１９５９５号公報
【特許文献３】特開２０００−２４１９７７号公報
【特許文献４】特開２００３−４０８４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ２エキシマレーザーあるいはＥＵＶに代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、パターン形状、ドライエッチング耐性、耐熱性等のレジストとしての基本物性を損なわずに、解像度やラインエッジラフネスの向上を達成しうるアルカリ現像性や基盤密着性に優れた樹脂組成物の原料となる脂環式エステル化合物を良好な収率で簡便に製造する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題について鋭意検討した結果、上記脂環式エステル化合物を製造するにあたり、３級酢酸エステルのエノラート化においてリチウムジイソプロピルアミドよりも求核性が高く金属エノラート調整に不向きとされるアルキルリチウムのうち、求核性の低い２級または３級のアルキルリチウムを用いることにより求核反応を抑制し、良好な収率で目的とする脂環式エステル化合物が得られることを見出し本発明に到達した。
【０００９】
即ち本発明は、
（Ａ）３級酢酸エステルに、２級または３級アルキルリチウムを作用させて金属エノラートを調製する工程、
（Ｂ）（Ａ）で調製した金属エノラートと式（１）で表されるカルボニル化合物を反応させる工程、
（Ｃ）（Ｂ）の反応で生成したアルコキシドと、式（２）で表される（メタ）アクリル酸誘導体または式（３）で表される（メタ）アクリル酸無水物を反応させる工程
を含むことを特徴とする式（４）で表される脂環式エステルの製造方法である。
【００１０】
【化１】
0005585172.tif 000002
（式中、Ｚは、炭素数４〜１５の２価の炭化水素基を示し、両端で結合する炭素原子と共に環状の炭化水素を形成する。ここで、炭化水素基の水素原子がハロゲン原子、アルコキシ基で置換されていても良い。）
【００１１】
【化２】
0005585172.tif 000003
（式中、Ｒ１は、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示し、Ｙは、ハロゲン基またはアルコキシ基を示す。）
【００１２】
【化３】
0005585172.tif 000004
（式中、Ｒ１は、上記と同様である。）
【００１３】
【化４】
0005585172.tif 000005
（式中、Ｚ、Ｒ１は、上記と同様であり、Ｒは３級アルキル基を示す。）
【発明の効果】
【００１４】
本発明の方法により、架橋型樹脂、光ファイバーや光導波路、光ディスク基板、フォトレジストなどの光学材料およびその原料、医薬・農薬中間体、その他各種工業製品などとして有用である脂環式エステル化合物を良好な収率で簡便に製造することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
まず、工程（Ａ）について示す。本発明で用いる３級酢酸エステルとしては、例えば酢酸ｔ−ブチル、２−メチル−２−アダマンチルアセテート、２−エチル−２−アダマンチルアセテート、１−メチルシクロペンチルアセテート、１−エチルシクロペンチルアセテート、１−メチルシクロヘキシルアセテート、２−エチルシクロヘキシルアセテート、酢酸ジヒドロテルピニルを例示することができる。これらは、通常の工業用グレードを用いることができる。
【００１６】
金属エノラートを調製する際に、塩基として２級もしくは３級のアルキルリチウムを用いる。１級のアルキルリチウムを用いると３級酢酸エステルへの求核反応が起こるため好ましくない。２級もしくは３級のアルキルリチウムとしては、反応性の観点からｓ−ブチルリチウムもしくはｔ−ブチルリチウムが好ましい。
【００１７】
金属エノラートを調製する際の溶媒は、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジ−ｎ−ブチルエーテル、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテルなどのエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサンなどの脂環族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリアルキルベンゼン、エチルベンゼン、クメンなどの芳香族炭化水素類が好ましく、これらの溶媒を単独でもしくは混合して使用することができる。
【００１８】
金属エノラートを調製する際の反応温度および反応時間は用いる塩基により異なるが、反応温度は−８０℃〜０℃が好ましく、反応時間は０．５〜２時間程度が好ましい。また、塩基や生成した金属エノラートの活性を保つため、乾燥した窒素やアルゴンなど不活性気体雰囲気下で反応を行うのが好ましい。
【００１９】
次に、工程（Ｂ）について示す。具体的には式（５）で表されるアルコキシドを生成させる工程である。
【００２０】
【化５】
0005585172.tif 000006
（式中、Ｒ、Ｚは、上記と同様である。）
【００２１】
本発明で用いられる式（１）で表される化合物の具体例としては、例えばシクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン（ノルカンファー）、１，１，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン（カンファー）、ビシクロ［２．２．２］オクタノン、ビシクロ［３．３．１］ノナノン、ビシクロ［４．４．０］デカノン、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカノン、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカノン、ペンタシクロ［９．２．１．１３，９．０２，１０．０４，８］ペンタデカノン、２−アダマンタノン等のケトンを例示することができる。この中で、レジストのエッチング耐性、感度の観点からシクロペンタノン、シクロヘキサノン、ノルカンファー、カンファー、２−アダマンタノンが好ましい。また、これらは通常の工業用グレードを用いることができる。
上記式（１）のカルボニル化合物は、前記金属エノラート１モルに対して０．５〜２．０モルの割合で使用することが好ましく、より好ましくは０．８〜１．２モルの割合で使用することが好ましい。
【００２２】
反応溶媒は、通常は工程（Ａ）で用いたものと同じ溶媒を使用する。また必要に応じて工程（Ａ）で使用したものとは別の溶媒も使用できる。具体的にはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジ−ｎ−ブチルエーテル、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテルなどのエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサンなどの脂環族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリアルキルベンゼン、エチルベンゼン、クメンが挙げられる。
【００２３】
反応温度および反応時間は使用するカルボニル化合物や金属エノラートにより異なるが、反応温度は−８０〜３０℃、反応時間は０．５〜２０時間程度が好ましい。なお、反応温度について、初期温度は−８０〜−２０℃が好ましく、反応の進行に伴い室温まで上昇させていくのが好ましい。
【００２４】
次に、工程（Ｃ）について示す。本発明では、金属エノラートを式（１）のカルボニル化合物に求核付加反応させた後、反応混合物にそのまま式（２）で表される（メタ）アクリル酸誘導体または式（３）で表される（メタ）アクリル酸無水物とエステル化させる工程により製造することができる。これにより、収率が低下する精製操作を除くことができ、収率向上させることができる。すなわち、従来のリチウムジイソプロピルアミドを使用する合成法では、前記エノラート化の際にアミンが副生するため、そのまま反応させると（メタ）アクリル酸アミドも副生してしまい収率が低下してしまう。また、アミンを除去するため求核付加反応終了後に水による洗浄工程を追加すると、この操作により高い求核性を有する式（５）で表されるアルコキシドが水によりアルコキシドに比べ求核性が劣るアルコールとなってしまう。また、洗浄操作等により前記アルコールがロスするため収率が低下する。一方、本発明で用いるｓ−ブチルリチウム又はｔ−ブチルリチウムを用いると、これらは反応に不活性なブタンになるため、洗浄操作をすることなく高い反応性を有する式（５）で表されるアルコキシドをそのまま次の反応に用いることができる。
【００２５】
式（２）で表される(メタ）アクリル酸誘導体の具体例としては、例えばアクリル酸クロリド、メタクリル酸クロリド、２−（トリフルオロメチル）アクリル酸クロリドなどのアクリル酸ハライド類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、２−（トリフルオロメチル）アクリル酸メチル、２−（トリフルオロメチル）アクリル酸エチル、または、２−（トリフルオロメチル）アクリル酸ｎ−ブチルなどのアクリル酸エステル類が挙げられる。式（３）で表される（メタ）アクリル酸無水物としては、無水アクリル酸、無水メタクリル酸、２−トリフルオロメチルアクリル酸無水物などのアクリル酸無水物類が挙げられる。
【００２６】
(メタ）アクリル酸誘導体及び(メタ)アクリル酸無水物の使用量は、式（１）で表されるカルボニル化合物１モルに対して０．５〜１０モルの割合が好ましく、より好ましくは０．８〜２モルの割合である。使用量が０．５モルより少ないと収率が低下し、使用量が１０モルより多いと経済的ではない。
【００２７】
本発明により製造される脂環式エステル化合物は、下記一般式（４）で示される。
【００２８】
【化６】
0005585172.tif 000007
（式中、Ｒ１は水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基、Ｒは３級アルキル基を示し、Ｚは炭素数４〜１５の２価の炭化水素基を示し、両端で結合する炭素原子と共に環状の炭化水素を形成する。炭化水素基においては、水素原子がハロゲン原子、アルコキシ基で置換されていても良い。）
【００２９】
Ｚは、式（１）の化合物の脂環構造となる。具体例としては、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、１，１，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン、ビシクロ［２．２．２］オクタン、ビシクロ［３．３．１］ノナン、ビシクロ［４．４．０］デカン、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカン、ペンタシクロ［９．２．１．１３，９．０２，１０．０４，８］ペンタデカン、アダマンタン等を例示できる。
【００３０】
工程（Ｃ）においては、塩基化合物を添加することが出来る。添加する塩基化合物としては、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジフェニルアミン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン−５、１，５−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−５、ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、アニリン、メチルアニリン、ジメチルアニリン、トルイジン、アニシジン、クロロアニリン、ブロモアニリン、ニトロアニリン、ピリジン、ジメチルアミノピリジンなどのアミン類が好ましい。
【００３１】
これらアミン類の使用量は、式（２）で表されるカルボニル化合物１モルに対して０．２〜２０モルの割合が好ましく、より好ましくは０．５〜２モルの割合である。アミン類は、（メタ）アクリル酸誘導体を添加する前に予め仕込んでおいてもよいし、また（メタ）アクリル酸誘導体を仕込んだ後に加えてもよいし、（メタ）アクリル酸誘導体と同時に滴下しながら加えても良い。
【００３２】
また工程（Ｃ）においては、重合禁止剤を添加しても良い。重合禁止剤としては一般的なものならば特に制限はなく、２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン−１−オキシル、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−（１−ナフチル）ヒドロキシルアミンアンモニウム塩、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−メチルアニリン、ニトロソナフトール、ｐ−ニトロソフェノール、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−ｐ−ニトロソアニリンなどのニトロソ化合物、フェノチアジン、メチレンブルー、２−メルカプトベンゾイミダゾールなどの含硫黄化合物、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、４−ヒドロキシジフェニルアミン、アミノフェノールなどのアミン類、ヒドロキシキノリン、ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、ｐ−ベンゾキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテルなどのキノン類、メトキシフェノール、２，４−ジメチル−６−ｔ−ブチルフェノール、カテコール、３−ｓ−ブチルカテコール、２，２−メチレンビス−（６−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）などのフェノール類、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドなどのイミド類、シクロヘキサンオキシム、ｐ−キノンジオキシムなどのオキシム類、ジアルキルチオジプロピネートなどが挙げられる。添加量としては、上記（メタ）アクリル酸誘導体１００重量部に対して、０．００１〜１０重量部、好ましくは０．０１〜１重量部である。
【００３３】
反応温度および反応時間は使用する(メタ）アクリル酸誘導体または(メタ)アクリル酸無水物により異なるが、反応温度は−２０〜５０℃、反応時間は０．５〜２０時間程度が好ましい。なお、反応温度について、初期温度は−１０〜１０℃が好ましく、反応の進行に伴い室温まで上昇させていくのが好ましい。
【００３４】
反応終了後においては、反応液を洗浄水で水洗処理することにより、過剰の（メタ）アクリル酸誘導体類、酸や塩基などの添加物が除去される。このとき、洗浄水中に塩化ナトリウムや炭酸水素ナトリウム等、適当な無機塩が含まれていてもよい。また、未反応の（メタ）アクリル酸誘導体類をアルカリ洗浄により除去する。アルカリ洗浄には、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、アンモニア水などを用いることができるが、用いるアルカリ成分に特に制限はない。また、金属不純物を除去するために、酸洗浄しても良い。酸洗浄には、塩酸水溶液、硫酸水溶液、リン酸水溶液などの無機酸およびシュウ酸水溶液などの有機酸が挙げられる。また、洗浄に際し、反応液に有機溶媒を添加してもよい。添加する有機溶媒は、反応と同一のものを使用することもできるし、異なったものを使用することもできるが、通常、水との分離がよい極性の小さい溶媒を用いることが好ましい。
【００３５】
さらに、濾過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィー、活性炭による精製などにより、分離精製が可能である。また、本発明の脂環式エステル化合物を製造するための上記の各反応工程は、常圧、減圧又は加圧下にて、回分式、半回分式、連続式などの慣用の方法により行なうことができる。
【実施例】
【００３６】
以下、実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
【００３７】
実施例１
＜２−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−２−アダマンチルメタクリレート合成＞
窒素雰囲気下、フラスコに酢酸ｔ−ブチル５．５ｍｌ（４１．０ｍｍｏｌ）と無水テトラヒドロフラン５０ｍｌを仕込みドライアイス／アセトン浴にて−７０℃に冷却した。マグネチックスターラーで攪拌しながら、等圧滴下ロートから１．０６ｍｏｌ／ｌ  ｓ−ブチルリチウム／シクロヘキサン溶液３８．７ｍｌ（４１．０ｍｍｏｌ）を１時間かけて滴下した。さらに３０分間攪拌後、２−アダマンタノン５．６ｇ（３７．３ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン２５ｍｌ溶液を２０分かけて滴下した。３時間かけて徐々に室温まで昇温しさらに１２時間室温で攪拌した。氷冷下、メタクリル酸クロリド４．７ｇ（４５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。室温で８時間攪拌後、氷冷し、水１００ｍｌ，ヘキサン１００ｍｌを加え分液後、さらに５ｗｔ％硫酸水溶液１００ｇ，水１００ｍｌ，５ｗｔ％水酸化ナトリウム水溶液１００ｇ，水１００ｍｌにて洗浄した。５Ｃろ紙でろ過後、濃縮し、メタノールより晶析精製した。目的物を白色固体として７．９ｇ得た（収率６３％）。得られた白色固体について１Ｈおよび１３Ｃ−ＮＭＲ、ＩＲにより構造を確認した。
【００３８】
比較例１
＜リチウムジイソプロピルアミドを用いた合成＞
ｓ−ブチルリチウムの代わりに１．５Ｍリチウムジイソプロピリアミド／シクロヘキサン溶液３７．３ｍｍｏｌを用いた以外は実施例１と同様に反応を行った。反応液をＧＣ−ＭＳにより分析したところ、主な生成物はメタクリル酸ジイソプロピルアミドおよび２−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−２−アダマンタノールであった。カラムクロマトグラフィーにより精製し目的物を得ることはできたが、収率は１５％であった。
【００３９】
実施例２
ｓ−ブチルリチウムの代わりに１．６Ｍ  ｔ−ブチルリチウム／ヘプタン溶液３７．３ｍｍｏｌを用いた以外は実施例１と同様に反応および精製を行い、目的物を収率５６％にて得た。
【００４０】
実施例３
＜１−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−１−シクロヘキシルメタクリレートの合成＞
２−アダマンタノンの代わりにシクロヘキサノンを用いた以外は実施例１と同様に反応および洗浄を行った。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的物を淡黄色液体として６．７４ｇ得た（収率６４％）。得られた淡黄色液体について、１Ｈおよび１３Ｃ−ＮＭＲ、ＩＲにより構造を確認した。
【００４１】
実施例４
＜１−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−１−シクロペンチルメタクリレートの合成＞
２−アダマンタノンの代わりにシクロペンタノンを用いた以外は実施例１と同様に反応および洗浄を行った。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的物を淡黄色液体として６．１１ｇ得た（収率６１％）。得られた淡黄色液体について、１Ｈおよび１３Ｃ−ＮＭＲ、ＩＲにより構造を確認した。