(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
時計のアーバ（１１）をピボットにより軸支するデバイスであって、前記アーバの各端部にそれぞれ形成された併せて２つのピボット（１２、１２’；３２）と、前記２つのピボットを受けるための２つの軸受とを具備し、前記２つのピボットのそれぞれが、前記端部に近接した円筒形状の部分（１９、１９’；３９）と、この円筒形状の部分から延び先端に向けて徐々に先細る凸状で丸味を帯びた部分（１３、１３’；３３）とを具備し、前記２つの軸受のそれぞれが所定位置に弾性的に保持されて成る、ピボットによる軸支構造（２５；３５）を具備し、前記ピボットによる軸支構造（２５、３５）は、前記ピボットの円筒形状の部分（１９、１９’；３９）が通る円筒形状の通路と、前記ピボットの前記凸状で丸味を帯びた部分（１３、１３’；３３）が当接する軸受表面とを具備しており、
前記ピボットによる軸支構造は、円形または多角形断面の開口（１６、１６’；３６；４６）を具備し、前記開口は逆三角形または逆台形の縦断面の部分（１６、１６’；３８；４６）を有し、前記縦断面における対向する傾斜内壁が前記軸受表面を形成し、かつ前記ピボットの前記凸状で丸味を帯びた部分（１３、１３’；３３）の縦断面における対向する側面が前記対向する傾斜内壁に当接するようにされて、前記アーバ（１１）が前記２つの軸受の前記開口の前記傾斜壁間において軸方向に保持され、前記アーバが二つの前記ピボットによる軸支構造の間に、径方向および軸方向の両方に遊びが存在するよう保持されていることを特徴とする、時計のアーバをピボットにより軸支するデバイス。
【請求項２】
前記凸状で丸味を帯びた部分（１３、１３’；３３）の曲率半径が、約０．０２５〜０．５ｍｍの範囲に含まれることを特徴とする、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記台形縦断面部分（１６、１６’；３８；４６）の内縁部が、前記アーバ（１１）の軸に対して約４０°と６０°との間の傾きを有することを特徴とする、請求項１または２に記載のデバイス。
【請求項４】
前記２つの軸受のそれぞれの前記ピボットによる軸支構造は、円形または多角形断面の前記開口（１６、１６’）が中に配置される軸方向止め要素（１５、１５’）と、前記円筒形状の通路が貫通する径方向案内要素（２１、２１’）とを具備することを特徴とする、請求項１、２、または３のいずれかに記載のデバイス。
【請求項５】
前記軸方向止め要素（１５、１５’）は、前記開口（１６、１６’）が前記径方向案内要素（２１、２１’）の前記円筒形状の通路と一線に揃えられることを可能にするために、前記アーバ（１１）の軸に対して多少の横方向の遊びを備えて、前記ピボットによる軸支構造（２５）の中に取り付けられることを特徴とする、請求項４に記載のデバイス。
【請求項６】
前記２つの軸方向止め要素（１５、１５’）は、それぞれが単結晶シリコンによって形成され、かつ前記軸方向止め要素のそれぞれの中の前記開口（１６、１６’；４６）は、前記単結晶を異方性のウェット・エッチングすることによって作製されることを特徴とする、請求項４または５に記載のデバイス。
【請求項７】
前記円筒形状の通路は、円形または多角形断面の前記開口（３６）の円筒壁部分（３７）によって形成され、前記円筒壁部分は、逆三角形または逆台形縦断面の前記部分（３８）と前記開口（３６）の口部との間に配置されることを特徴とする、請求項１、２、または３のいずれかに記載のデバイス。
【請求項８】
前記ピボットによる軸支構造（３５）はプラスチックから作製されることを特徴とする、請求項７に記載のデバイス。
【請求項９】
前記ピボットによる軸支構造（３５）は金属または合金から作製されることを特徴とする、請求項７に記載のデバイス。
【請求項１０】
各軸方向止め要素（１５、１５’）の中の前記開口（１６、１６’；４６）は正方形断面の開口であることを特徴とする、請求項６に記載のデバイス。
【請求項１１】
請求項４に記載のデバイスを組み立てる方法であって、
ピボットによる軸支構造（２５）の軸方向止め要素（１５、１５’）と径方向案内要素（２１、２１’）とを、前記軸方向止め要素に多少の横方向の遊びを与えるように組み立てるステップと、
前記ピボットによる軸支構造の円筒形状の通路の中に模擬アーバを挿入するステップと、
開口（１６、１６’）を前記円筒形状の通路と一線に揃えるように、前記模擬アーバの端部で前記軸方向止め要素を圧迫するステップと、
前記軸方向止め要素（１５、１５’）を前記ピボットによる軸支構造（２５）の他の部分で固定するステップと
を含むことを特徴とする、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、時計でアーバをピボットにより軸支するデバイスに関し、このデバイスは、アーバの各端部に形成された２つのピボットと、これらの２つのピボットを受ける２つの軸受とを具備する。２つのピボットそれぞれは、根本側のほぼ円筒形の円筒形状部分と、先端部をなす凸状の丸味を帯びた部分にして、ほぼ円筒形の部分から続いていて先端に向かって徐々に先細りを呈する凸状で丸味を帯びた部分を有する。２つの軸受のそれぞれが、所定位置に弾性的に保持され、ピボットによる軸支構造を有し、このピボットによる軸支構造は、ピボットの円筒形状部分が通る円筒形状の通路と、当該ピボットの先端部が当接する軸受表面とを具備する。
【背景技術】
【０００２】
「時計学の理論（Ｔｈｅｏｒｉｅ  ｄ’ｈｏｒｏｌｏｇｅｒｉｅ）」という著作の２９１頁の図１３−５１および１３−５２が、上記の定義に適う、テンプのテン真用の耐衝撃ピボットにより軸支するデバイスの片半分を示す。テン真の端部の一方を形成する図示のピボットは、先の尖った形状を有し、わずかに丸味を帯びた端部を備える円筒部で終わる。ピボットによる軸支は、そのための構造を形成する、はめ込み台に保持される石穴および受石によって実現される。石穴は、テン真を径方向で保持するようにピボットの円筒形の部分を包囲するほぼ円筒形の通路を形成する。受石は、ピボットの丸味を帯びた端部が当接する軸受表面を形成する。はめ込み台は、所定位置に弾性的に固定される。
【０００３】
またスイス特許第３２４，２６３号の図５に示される実施例のピボットにより軸支するデバイスは上の説明に適うものである。その図５に示されたピボットは、わずかに丸味を帯びた先端部を備える円筒部で終わる。ピボットによる軸支は、円筒壁を備える盲穴が穿たれた単一の石によって実現される。この石は、はめ込み台の中に取り付けられ、このはめ込み台と共にピボットによる軸支構造を形成する。ピボットの円筒部は、この穴の円筒壁に係合され、したがってピボットの丸味を帯びた端部は、盲穴の平らな底によって形成される軸受表面に当接することができる。さらには、図１に例示されるように、ピボットによる軸支構造は、軸受本体（それ自体は底板に固定される）の円錐基部で筐体中の定位置に弾性的に固定される。
【０００４】
上に説明した先行技術では、ピボットにより軸支するデバイスには、いくつかの欠点が存在する。特に、各ピボットがその対応する軸受に接触する区域は、時計の傾きに応じて変化する。したがって、時計が水平位置にあるときには、テン真は垂直に向けられて、ピボットの一方の丸味を帯びた端部のみが軸受表面に当接するのに対して、時計が垂直位置にあるときには、円筒形状の通路の側面に寄り掛かるのは、ピボットの円筒部の周囲である。このような条件では、時計が平らな位置にあるときに、他の位置にあるときよりも摩擦による制動機能が低下することは明白であろう。この現象はテンプ輪の振動に影響を与え、次には振幅のばらつきが、水平位置と垂直位置との間で歩度のばらつきを引き起こす恐れがある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
したがって、本発明の目的は、ウオッチの様々な位置間における振幅のばらつきが最小限に低減される、テンプのテン真をピボットにより軸支するデバイスを提供することである。本発明は、請求項１に従うデバイスを提供することによって本目的を実現する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明によれば、各ピボットが、軸支構造の台形縦断面を備える部分の傾斜内壁に当接する（ここで、開口の「縦断面」とは、この開口が、開口軸を含む平面に沿った、または、ほぼ同じことであるが、テンプ輪の旋回軸を含む平面に沿った断面で見たときにおける、この開口の輪郭の形状を意味する）。よって、ピボットの先端部は、開口の底まで貫入することができない。したがって、ピボットは、軸受表面に決して先端で当接することがない。たとえテン真が垂直に向けられても、当接は、ピボットの先端を介して行われるのではなく、このピボットの丸味を帯びた部分の側面のみを介して行われる。このような条件では、摩擦力トルクが時計の様々な可能な向きの間で非常にわずかにしか変化しないピボットにより軸支するデバイスを実現することが可能である。
【０００７】
開口のテーパ付き縁部に当接する側面を有する丸味を帯びた部分の直径は、約０．０５〜０．１０ｍｍの範囲にあることが好ましい。
【０００８】
逆三角形または逆台形縦断面を備える部分の壁は、テン真の軸線に対して約４０°〜６０°の範囲の傾きを有する。
【０００９】
本発明の第１の実施形態によれば、２つの軸受のそれぞれのピボットによる軸支による軸支構造が、円形または多角形断面の該開口（１６、１６’）が配置される軸方向止め要素（１５、１５’）と、円筒形状の通路が通る径方向案内要素（２１、２１’）とを具備する。
【００１０】
第１の本実施形態は、石穴および受石を関連させる先行技術のピボットにより軸支するデバイスと同様である。しかし、本発明に従う軸方向止め要素は、この要素が、ピボットの凸状で丸味を帯びた部分を受ける開口を有する点において、知られた受石とは異なる。
【００１１】
第１の本実施形態の有利な実施形態によれば、開口が形成される止め要素のそれぞれが、単結晶によって作成され、開口自体は、この単結晶をウェット異方性エッチングすることによって作られる。
【００１２】
本発明の第２の実施形態によれば、円形または多角形断面の開口の円筒壁部分が、ピボットによる軸支構造の円筒形状の通路を形成し、この円筒壁部分は、逆三角形または逆台形縦断面を備える部分と開口の口部との間に配置される。
【００１３】
第２の本実施形態は、円筒形状の通路および軸受表面がピボットによる軸支構造の同じ開口の中に作製されるので、「シングル・ピース」と呼ばれる。本発明の本実施形態は、前述のスイス特許第３２４，２６３号で開示されたピボットにより軸支するデバイスを多少連想させる。しかし、本実施形態は、開口の底が平らではなく、傾斜壁を有する点において先行技術とは異なる。
【００１４】
本発明の他の特徴および利点は、非限定的な実施例としてのみ供され、かつ付属の図面を参照して行われる以下の説明を読むと見えてこよう。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明に従う径方向案内要素および軸方向止め要素に挿入されたピボットを示す模式的な断面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に従うピボットにより軸支するデバイスのピボットによる軸支構造を模式的に示す部分断面図である。
【図３】図３と同じ要素を示すが、テン真の軸が垂線に対して傾斜している模式的な断面図である。
【図４】本発明の第２の実施形態に従うピボットにより軸支するデバイスのピボットによる軸支構造を模式的に示す部分断面図である。
【図５】シリコン・ウェハから入手されうる、本発明に従う軸方向支持要素の斜視図である。
【図６】図５の軸方向支持要素が入手されうるシリコン・ウェハの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
図３は、テン真１１を、そのピボットにより軸支するデバイスと共に模式的に示す。テン真１１の端部には、丸味を帯びた先端を備える２つのピボット（それぞれ１２および１２’と参照符号が付けられている）が形成される。テン真１１は、２つの径方向案内要素（２１、２１’）によって径方向で保持され、かつピボット１２、１２’が当接できる２つの軸方向止め要素１５、１５’によって軸方向で保持されることも理解されよう。
【００１７】
図１は、垂直に向けられた（図３と同一の）ピボットにより軸支するデバイスの片半分を示す。図１および３は、図示の実施例では、ピボット１２の先端部が、半球体を形成する丸味を帯びた部分１３で終わる。この球体の直径は、有利には０．０５〜０．１０ｍｍの範囲に含まれ、例えば、約０．０７ｍｍである。ピボット１２の先端部１３は、軸方向止め要素１５に形成された、台形断面の開口（図１で１６と参照符号が付けられている）の内壁１７に当接するようにされる。開口１６は、テン真１１の軸とほぼ同軸の円錐の形状を有することが理解されうる。円錐の開口１６は、約８０°〜１２０°の間に含まれることが好ましく、すなわち、換言すれば、テンプ真１１の軸線に対する壁１７の傾きは、４０°〜６０°の間に含まれることが好ましい。また図１および３は、丸味を帯びた部分１３および開口１６が、丸味を帯びた部分１３の横表面が完全に傾斜壁１７によって支持されるようにサイズ決めされることを示す。
【００１８】
図３では、２つの矢印（Ｎと参照符号が付けられている）が、ピボット１２と軸方向止め要素１５との間の接触表面に対する垂直方向を表す。２つの矢印Ｎの原点の場所は接点にある。それらの接触表面は不均一であるのではなく、それらの表面に対して垂直に当接できることを可能にするという点に留意されよう。換言すれば、矢印Ｎの方向は、ピボット１２が開口１６の壁上で当接する点において、ピボット表面に対する法線方向および開口の傾斜壁に対する法線方向の両方に対応する。
【００１９】
本発明によれば、ピボット１２は、開口１６の底に当接するのではなく、その傾斜内壁に当接する。実際に、開口１６の軸がピボット１２の軸に対してほぼ平行であるので、ピボット１２と開口１６の内側との接触は、ピボットの側面を介して、すなわち、円錐壁の傾き（本実施例では約５０％）と同じ傾きのピボット表面領域を介して、行われる。さらには、図１および３を比較すると、テン真が水平であるときおよびテン真が傾斜しているときに、接触を保証するのはピボットのほぼこの同じ表面領域であることも理解されるであろう。
【００２０】
また図１および３には、ピボット１２、１２’が、丸味を帯びた先端部１３、１３’に続く細長い円筒状部１９、１９’を具備することが示される。この細長い円筒状部は、径方向案内要素２１、２１’のオリーブ・カットまたは円筒穴の中を通る。径方向案内要素の働きは、通常のピボットにより軸支するデバイス中の石穴の働きに対応する。さらに、本発明のピボットにより軸支するデバイスでは、径方向案内要素２１、２１’は、ピボットの丸味を帯びた先端部１３、１３’が完全に開口１６、１６’から解放されてしまうのを防止する。実際には、図３をより詳しく参照すると、テン真１１と軸方向止め要素１５、１５’との間に、径方向および軸方向の両方に多少の遊びが存在することが理解されうる。しかし、本図では、理解を助けるために、この遊びの振幅が誇張されていることに留意されたい。軸方向の遊びのために、テン真１１が垂直であるか、または図３におけるようにほぼ傾斜しているとき、上端部１２’は、もはや軸方向止め要素１５’に接触していない。この状況では、細長い円筒状部１９’は、径方向案内要素２１’中のほぼ円筒形の通路の内壁に当接する。図３では、ピボット１２’と径方向案内要素２１’との間の接触表面に対する垂直方向が、矢印（再び参照符号Ｎ）によって表される。矢印Ｎは、接触点の箇所から始まる。最後に、図示されていない、テン真がほぼ水平である場合には、円筒部１９、１９’が両方とも、径方向案内要素２１、２１’の一方のほぼ円筒形の通路の内壁に当接することは明白であろう。したがって、ピボットと径方向案内要素との接触は、常にピボットの側面を介して行われる。
【００２１】
本発明によれば、径方向案内要素および軸方向止め要素が、弾性的に所定位置に保持された、ピボットによる軸支構造の一部を形成するので、テン真１１と軸方向止め要素１５、１５’との間の遊びは、衝撃の発生時に一時的にはるかにより大きくなりうる。ピボットによる軸支構造のこの弾性的な懸架は、知られた様態で、衝撃の発生時に円筒部１９の破壊を防止するために設けられる。したがって、テン真１１は、円筒状部１９よりもかなり太い径のピボットシャンク（図１で２３と参照符号が付けられている）を有する。ピボットシャンク２３は、その寸法のために、ピボット１２、１２’の先端部よりもはるかに堅固であり、それは、衝撃に関連するエネルギーのより大きな部分を吸収するように、本デバイスの一部（図示されていない）に当接するように設けられる。
【００２２】
図２は、本発明の第１の実施形態に従うピボットにより軸支するデバイスのピボットによる軸支構造を模式的に示す部分断面図である（図１および３にも示された図２のこれらの要素は、同じ参照符号をそのまま有する）。本図は、それぞれに軸方向止め要素１５および径方向案内要素２１を形成する２つの石が、はめ込み台（模式的に示されている）の中に両方とも取り付けられて、このはめ込み台と共に、それらはピボットによる軸支構造２５を形成することを示す。
【００２３】
ピボットによる軸支構造２５を作製する際にいくつかの問題点が存在しうる。実際に、開口１６の軸と径方向案内要素２１のほぼ円筒形の通路の軸とは、完璧に一線に揃えられることが重要であるのが容易に理解されよう。事実、ピボットの直径は０．１ｍｍ台であるので、２つの開口の軸間における百分の１ミリメートル未満のずれであっても、ピボットによる軸支の品質にかなりの影響を与えるには十分である。
【００２４】
図２は、軸方向止め要素１５が円筒空洞２７の中に収容されることを示す。空洞２７の直径は、軸方向止め要素の直径よりもわずかに大きい。したがって、この止め要素には、多少の横方向の遊びが許されている。テン真が、図２に示されたように、垂直位置にあるとき、ピボット先端部の丸味を帯びた部分１３は、要素１５の開口１６の傾斜側面に当接する。何らかの理由のために、開口１６がテンプ真の軸線と完全には一線に揃えられないと、傾斜縁部上におけるピボット先端部の当接は、開口の一方の側面上のみで生じる。このような条件では、開口の縁部上におけるピボットの推力が非対称的に掛けられ、かつこの推力の水平成分が、軸方向止め要素１５をテン真軸の中に戻すのに十分である。したがって、開口１６の傾斜壁は、軸方向止め要素１５が自動的に中心に位置することを可能にすることが理解されよう。
【００２５】
状況によっては、軸方向止め要素が、ピボットによる軸支構造の中で剛に固着されることが推奨される。ここに説明された位置合わせ問題に対する解決策は、この状況に適合されうる。実際に、軸方向止め要素１５の位置合わせをピボットによる軸支構造２５の組立段階で厳密に調整することが可能である。これを実施するために、まず第１に「模擬アーバ」が、ピボットによる軸支構造２５中の、テン真用に設けられた箇所に挿入される。この「模擬アーバ」の推力は、前段落で説明されたものと同一の原理に従って、軸方向止め要素１５が中心に位置決めされることを可能にする。一旦、軸方向止め要素１５の開口１６が、完璧に軸の中に導かれてしまうと、接着、溶接、または当業者に知られた他の任意の方法によって、この要素をピボットによる軸支構造２５の他の部分に固定するステップが実行される。一旦、「模擬アーバ」の除去が完了しかつ軸方向止め要素の固定が完了した場合にのみ、ピボットによる軸支構造２５は、ウオッチの中に位置決めされることが好ましい。
【００２６】
図４は、本発明の第２の実施形態に従うピボットにより軸支するデバイスのためのピボットによる軸支構造を模式的に示す部分断面図である。図示された半部分のデバイスは、図１、２、および３のピボット１２と同様のピボット３２を備える。それは、細長い円筒状部３９を備える先端部を有し、丸味を帯びた部分３３で終わる。ピボット３２の先端部は、ピボットによる軸支構造３５の開口３６の中に挿入される。本図は、開口３６の縦断面が、円筒状壁を備える第１の部分３７を有し、それに台形縦断面の部分３８が続くことを示す。ピボットの丸味を帯びた先端部３３は、その丸味を帯びた表面が、台形縦断面の部分３８の傾斜壁に当接できるようにサイズ決めされる。ピボット３２の円筒状部３９は、開口３６の円筒状壁を備える部分３７の内側に延びることも理解されうる。事実、部分３７の内壁は、テン真を径方向で保持するように、ピボット３２の円筒部３９を包囲するために設けられる。したがって、図４に示された本発明の実施形態では、シングル・ピースのピボットによる軸支構造３５が、ピボット３２の軸方向止め要素および径方向案内要素の両方の働きを全うすることが明白であろう。図１、２、および３の実施形態との比較で、図４の実施形態は、要素１５および２１をシングル・ピースに統合するものであると言える。シングル・ピース要素３５は、例えば、金属もしくは合金から、またはプラスチック材料からさえも作製されるのに適切である。要素３５を金属または合金で作製するように望まれる場合には、光リソグラフィおよびガルバニック成長を利用すること、および特にＬＩＧＡ技術を実施することが可能である。
【００２７】
開口１６、１６’および３６の断面が必ずしも円形ではないことを明記することも重要である。事実、図５および６に示され、今から説明される実施例で理解されるように、開口の断面が多角形であってもよい（開口の「断面」とは、それが開口軸の横断面でまたは、ほぼ同じことであるが、テンプ輪の旋回軸を横切って見られるときに、開口の輪郭の形状を意味する）。
【００２８】
本発明の有利な変型によれば、図１から３に示された軸止め要素１５は、例えば、シリコンのような、単結晶材料のウェハから作製されうる。事実、液体（またはウェット）媒体異方性エッチングという知られた方法が、単結晶ウェハの中に三角形または台形縦断面の多角形開口を形成する有利な方式である。
【００２９】
単結晶のエッチング、またはより厳密には、化学的エッチングは、エッチング速度が、他の方向におけるよりもいくつかの結晶学的方向で高い場合に異方性と呼ばれる。エッチング異方性は、数多くのパラメータによる。まず第１に、それは、単結晶を形成する物質の化学的特性と、使用されるエッチング試薬の化学的特性との間の相互作用による。さらには、異なる結晶学的方向におけるエッチング速度は、当然であるが、結晶構造の対称性による。したがって、試薬の濃度、温度などを変化させることによって、単結晶の中に相対的に複雑な縦断面を備える多角形開口を作製することが可能である。
【００３０】
知られたウェット異方性エッチングの実施例は、シリコンに関する。ウェット・エッチングによって、<１００>方向を有するシリコン・ウェハの中に逆ピラミッドの形状で開口を形成することが可能である。参照により本出願に組み込まれる米国特許出願公開第２００４／０１９５２０９号は、これらの逆ピラミッド形状の開口を作製するように実施されうる１つのこのような方法を開示する。
【００３１】
図５は、<１００>方向を有する単結晶シリコン・ウェハ４０から作製された、ピボットにより軸支するデバイス用の軸受の軸方向止め要素１５を示す。図６では、このウェハが、マスク４３によって覆われているのを示す。このマスクは、シリコンをエッチング試薬から保護するように、エッチングを実行する前にウェハ表面上に形成されなければならない。このマスクは、開口４６がシリコンの中にエッチングされなければならない箇所に形成される開口４５を有する。エッチング試薬は、エッチングの間にピラミッド形状の開口を作製する。使用される試薬のまさにその性質に応じて、ピラミッドの傾斜面は、<１１０>面、または<１１１>面である。このピラミッドは、そのピラミッド面が<１１０>面であっても、<１１１>面であっても、正方形断面を有する。事実、<１１０>方向および<１１１>方向は、ともに、次数４の回転対称性を有する。
【００３２】
本実施例では、開口４６を形成する逆ピラミッドはその頂部が、わずかに切頭されている（図６）。しかし、必ずしも切頭されるとは限らないことは、明白であろう。更には、<１１０>面の傾きは約４５°であり、一方、<１１１>面の傾きは約５５°である。したがって、以上から理解されるように、本発明の有利な特徴によれば、開口の台形部分の縁部は、４０°と６０°との間の傾きを有する。したがって、ウェット異方性エッチングは、本発明に特に申し分なく好都合である。
【００３３】
当業者に明らかな様々な変更および／または改良が、付属の特許請求の範囲によって画定される本発明の範囲から逸脱することなく、説明された実施形態の１つまたは他に実施されてよいことは明白であろう。特に、本発明は、テン真用のピボットにより軸支するデバイスに限定されるものではない。それどころか、本発明のピボットにより軸支するデバイスは、時計の任意のテン真またはアーバ、特に、脱進器つまりアンクルを軸支するために使用されうる。さらには、本発明によるピボットにより軸支するデバイスは、従来の材料またはシリコン以外の材料から作製されうる。事実、本発明は、当業者が使用に適切であると考える任意の材料から実現されうる。
【００３４】
特に、ウェット異方性エッチングによって砒化ガリウムまたは燐化インジウムの単結晶の中に開口を作製することが知られている。これらの開口は、逆ピラミッドではなく、（三角形断面の）逆四面体の形態を有しうる点において、それらが先の実施例で説明された開口とは異なることを明記することが有用である。一般に、付属の特許請求の範囲に従って、開口の断面は円形または多角形でもよく、断面が多角形の場合には、その多角形は任意の数の辺を有してよい。
【符号の説明】
【００３５】
１１  アーバ；  １２、１２’  ピボット；  
１３、１３’  凸状で丸味を帯びた部分；  １５、１５’  軸方向止め要素；  
１６、１６’  開口；  １９、１９’  円筒形状の部分；  
２１、２１’  径方向案内要素。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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