(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学的放射、特に極紫外線放射（ＥＵＶ）及び／又は軟Ｘ線を生じる放射源であって、前記放射源の放射経路における光学面上に堆積し得る不要物質及び／又は粒子を放出する放射源との使用のためのデブリ低減装置であって、
前記デブリ低減装置は、回転フォイルトラップと、ケーシング、少なくとも駆動モータ及び駆動軸を持つ駆動装置とを少なくとも有し、前記回転フォイルトラップは前記ケーシングの外側で前記駆動軸に固定され、前記駆動軸は油を塗られた又は油を差されたベアリングによって支持され、前記駆動モータと前記ベアリングは、前記駆動軸用のアパーチャと密封ガス用の少なくとも１つの出口開口とを持つ前記ケーシングの中に包含され、前記出口開口は前記密封ガスを送り出すためのポンプに接続可能であり、前記アパーチャは前記駆動軸と前記ケーシングの間の間隙を画定するように設計され、前記間隙は前記間隙を通して前記ケーシングの中へ前記密封ガスを供給するための供給管に接続され、
前記駆動軸用のリードスルーが前記回転フォイルトラップと前記ケーシングの間に配置され、前記リードスルーは前記駆動軸と囲壁の間に追加間隙を形成するように設計され、前記追加間隙は前記駆動軸と前記ケーシングの間の前記間隙とともに前記供給管に接続される、デブリ低減装置。
【請求項２】
前記デブリ低減装置が、前記回転フォイルトラップと前記駆動装置の間に配置される静止フォイルトラップをさらに有する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記リードスルーが前記静止フォイルトラップの中に形成される、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記リードスルーが前記回転フォイルトラップと前記静止フォイルトラップの間に形成される中間領域の中へのびる、請求項２に記載の装置。
【請求項５】
前記囲壁が前記追加間隙へのポンプ空間を有し、前記ポンプ空間は前記密封ガスを送り出すためのポンプに接続可能なポンプ管に接続される、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
前記駆動軸と前記ケーシングの間の前記間隙が２００μｍ未満の間隙幅を持つ、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記駆動軸と前記囲壁の間の前記追加間隙が１００μｍ未満の間隙幅を持つ、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記駆動装置が前記ケーシング内に逆止弁を有し、前記逆止弁は、前記間隙を通る前記密封ガスのフローが妨げられる場合に前記駆動軸と前記ケーシングの間の前記間隙を閉じるように設計され、配置される、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記逆止弁が、前記間隙を通る前記密封ガスのフローが妨げられる場合に生じる圧力差によって、又は、前記逆止弁の可動部品に取り付けられる弾性部材の動きによって、前記間隙を自動的に閉じるように設計され、配置される、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
ケーシングと、前記ケーシングの外側に配置される構成部品を駆動するための駆動モータと駆動軸とを少なくとも有する駆動装置であって、前記駆動軸は油を塗られた又は油を差されたベアリングによって支持され、前記駆動モータと前記ベアリングは、前記駆動軸用のアパーチャと密封ガス用の少なくとも１つの出口開口とを持つ前記ケーシングの中に包含され、前記出口開口は前記密封ガスを送り出すためのポンプに接続可能であり、前記アパーチャは前記駆動軸と前記ケーシングの間の間隙を画定するように設計され、前記間隙は前記間隙を通して前記ケーシングの中へ前記密封ガスを供給するための供給管に接続され、
前記駆動軸用のリードスルーが前記構成部品と前記ケーシングの間に配置され、前記リードスルーは前記駆動軸と囲壁の間に追加間隙を形成するように設計され、前記追加間隙は前記駆動軸と前記ケーシングの間の前記間隙とともに前記供給管に接続される、駆動装置。
【請求項１１】
前記囲壁が前記追加間隙へのポンプ空間を有し、前記ポンプ空間は前記密封ガスを送り出すためのポンプに接続可能なポンプ管に接続される、請求項１０に記載の駆動装置。
【請求項１２】
前記駆動軸と前記ケーシングの間の前記間隙が２００μｍ未満の間隙幅を持つ、請求項１０に記載の駆動装置。
【請求項１３】
前記ケーシング内に逆止弁をさらに有し、前記逆止弁は、前記間隙を通る前記密封ガスのフローが妨げられる場合に前記駆動軸と前記ケーシングの間の前記間隙を閉じるように設計され、配置される、請求項１０に記載の駆動装置。
【請求項１４】
前記逆止弁が、前記間隙を通る前記密封ガスのフローが妨げられる場合に生じる圧力差によって、又は、前記逆止弁の可動部品に取り付けられる弾性部材の動きによって、前記間隙を自動的に閉じるように設計され、配置される、請求項１３に記載の駆動装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学的放射、特に極紫外線放射（ＥＵＶ）又は軟Ｘ線を生じる放射源であって、上記放射源の放射経路における光学面上に堆積し得る不要物質及び／又は粒子を放出する放射源と使用するためのデブリ低減装置に関し、上記デブリ低減装置は、少なくとも１つの回転フォイルトラップ、及び、上記回転フォイルトラップが固定される駆動軸と駆動モータとを有する駆動装置を有する。
【０００２】
本発明のデブリ低減システムは、特におよそ１ｎｍ乃至２０ｎｍの波長範囲における極紫外線放射又は軟Ｘ線を放出する照射装置に適用できる。典型的な応用分野は、わずか数ｎｍの寸法を持つ構造を有する集積回路の製造に必要とされるＥＵＶリソグラフィである。
【０００３】
ＥＵＶリソグラフィ用のＥＵＶ照射装置は、重要な要素として、ＥＵＶ放射を放出する放射源と、ウエハ基板上にマスクの構造を投影するための照明光学系とを有する。ＥＵＶリソグラフィの場合、この波長域に有効な透過光学素子が知られていないので、光学部品は反射ミラーである。必要なＥＵＶ放射は、照射装置の放射源を形成するプラズマ放電によって生成される。しかしながらこうしたプラズマは、ＥＵＶ放射の他に、照明光学系の光学面上に堆積し得る物質及び／又は粒子も放出する。ＥＵＶ放射源の種類によって、これらの粒子は異なる化学濃度の中性原子、イオン、クラスタ、又は液滴を有し得る。このようなＥＵＶ放射源の不要な粒子放出全体はデブリと呼ばれる。ＥＵＶ照射装置において、１つ又は複数のミラーから構成され得る、放射源に近いコレクタは、こうしたデブリによって汚染又は損傷され得る。汚染又は損傷を最小限にするために、デブリ低減システムが、こうした照射装置の放射源と光学部品、特にコレクタとの間で使用される。
【背景技術】
【０００４】
デブリ低減の既知の方法は、ＥＵＶ放射源とコレクタ間へのバッファガスの供給である。デブリ粒子は、原子又はイオンの場合、ガス原子との衝突によって減速し、これらの元の飛行方向から偏向される。十分に高密度のバッファガスがあれば、デブリ粒子は原則的にコレクタヘ向かう途中で停止され得る。デブリが例えば金属原子又は金属液滴などの凝縮性物質も含む場合は、追加のデブリ低減装置がＥＵＶ放射源とコレクタの間で使用される。こうしたデブリ低減装置は、コレクタへの放射の直線通過用の経路を持つ構造を有し、デブリ物質は主にこの構造の壁で凝縮し、その結果コレクタに到達しない。
【０００５】
既知のデブリ低減装置は、平行な、同心又はハニカム構造を形成する方法で配置された、固形物の複数の薄板又はフォイルから構成される。例えばＷＯ  ０１／０１７３６  Ａ１を参照。こうしたデブリ低減部品はフォイルトラップとも呼ばれる。
【０００６】
ＷＯ  ０３／０３４１５３  Ａ１は、フォイルトラップが中間領域によって２つの部分に分けられているデブリ低減装置の一実施形態を開示している。バッファガスはこの中間領域内に供給される。この構成により、プラズマ発生のための体積と、コレクタを包含する体積が低圧に維持され得ると同時に、デブリ粒子を効果的に減速させるために中間領域内のバッファガスがより高圧で供給され得る。
【０００７】
デブリ粒子を効果的に抑制するためには、数センチメートルの相互作用距離にわたって数十パスカルのバッファガスの圧力（低温圧）が必要とされる。バッファガス原子の原子量は、最も有効な運動量移行を確実にするために、停止される原子及びイオンの原子量と同様でなければならない。
【０００８】
ＥＰ  １  ２７４  ２８７は、フォイルトラップが中心光軸の周りを回転させられるデブリ低減装置を記載している。この回転により、ゆっくりと動くが、バッファガス原子との衝突によってほとんど偏向されない、従ってフォイルトラップを通過する比較的大きくて重い液滴が、フォイルトラップの回転フォイルと衝突することができ、主にこれらのフォイルの表面によって吸着される。
【０００９】
こうしたデブリ低減装置においては、フォイルトラップを回転させるために駆動装置が必要である。こうした駆動装置は駆動モータと駆動軸を有し、駆動軸に回転フォイルトラップが取り付けられるか又は固定される。駆動軸は通常、駆動軸の安定回転を可能にするため、及び回転軸の精密な位置合わせを確実にするために、例えばボールベアリングなどの２つのベアリングによって支持される。デブリ低減装置をＥＵＶ放射源とともに使用するとき、放射源はデブリ低減装置及び集光光学系とともに真空条件下で操作されなければならず、１つの追加バッファガスの使用しか許されない。こうしたシステムの繊細な光学面の汚染を防ぐために、全システム内の真空に対する純度要求は非常に高い。これは駆動装置の使用に伴う問題を引き起こす。既に非常に少量の、例えばオイル又はグリース蒸気の一部である炭化水素が避けられなければならない。従って、駆動モータのベアリングは油を塗られるか又は油を差されることができず、ガス抜けを最小限にするために特殊な気密性又は真空適合性の駆動モータが使用されなければならない。こうした条件の下、ベアリングの耐用年数は避けられない機械的摩耗のために非常に短い。厳選された材料と最高の精度を用いるベアリングの場合でさえ、約１００時間の運転期間しか達成できない。こうした短い運転期間は、半導体製造用のリソグラフィシステムにおける応用にとって許容できない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、回転フォイルトラップと、対応する駆動装置とを持つデブリ低減装置を提供することであり、これはより長い耐用年数の駆動モータを用いて、ＥＵＶ放射源を持つ照明系における運転を可能にする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
この目的は、請求項１及び１０に記載のデブリ低減装置と駆動装置によって実現される。デブリ低減装置と駆動装置の有利な実施形態は、従属請求項の主題であるか、又は説明の後続部分に記載される。
【００１２】
提案されるデブリ低減装置は主に、光学的放射、特にＥＵＶ放射及び／又は軟Ｘ線を生じる放射源であって、上記放射源の放射経路における光学面上に堆積し得る不要物質及び／又は粒子を放出する放射源との使用を対象とする。デブリ低減装置は、上記放射源によって生成される上記放射の直線通過を可能にし、かつ、上記不要物質及び／又は粒子の量が通過することを防ぐ、少なくとも１つの回転フォイルトラップと、上記回転フォイルトラップが固定される駆動軸及び駆動モータを有する駆動ユニット又は駆動装置を有する。
【００１３】
駆動モータ、及び駆動軸を支持するベアリングは、ケーシング内に包含され、ケーシングは駆動軸用のアパーチャと、密封ガス用の少なくとも１つの出口開口を持つ。ケーシングのアパーチャは、駆動軸とケーシングの間に間隙をもたらすように設計され、この間隙は上記間隙を通してケーシングの中へ密封ガスを供給するための供給管に接続される。供給管への間隙の接続はフロー接続であり、これは供給管が必ずしも筐体に機械的に接続されなければならないわけではないが、供給管を通して供給される密封ガスのフローが少なくとも部分的に間隙へ入ることを実現するために、供給管の開口が間隙に十分に近くなければならないことを意味する。ケーシングはアパーチャと出口開口を除いて気密性に設計される。間隙を通してケーシングの内部へ供給される密封ガスは、出口開口を通してケーシングから出ることができる。出口開口は好ましくは適切な排気管に気密性に接続される。排気管はポンプに接続され得るか、又は大気へ開かれ得る。間隙を通してケーシングの中へ入る密封ガスの十分に高いガス流速を実現するために、間隙幅は好ましくは２００μｍ未満に選択される。フロー方向の間隙の長さは好ましくは５乃至４０ｍｍで選択される。ケーシングの間隙に接続される供給管は、デブリ低減装置と部分的に一体になって形成されてもよく、又は駆動装置の一体部分として形成されてもよい。
【００１４】
デブリ低減装置又は駆動装置のこの構成は、駆動軸とケーシングの間の狭い間隙を通して、ケーシングの内部への密封ガスの供給を可能にする。密封ガスは十分に高い速度でこの狭い間隙を通って流れ、この速度は密封ガス内におけるケーシングの内部の汚染ガス又は蒸気の典型的な拡散速度よりも高く、間隙を通る密封ガスのフローの反対方向への汚染物質の拡散が防止されるようになっている。従って、提案される構成により、最小限のガス抜けを伴う特別な気密性駆動モータを使用する必要がなく、又は同様にケーシングの内部に配置されるベアリングに油を差すこと、若しくは油を塗ることを避ける必要がない。ケーシングの外側の真空又はバッファガスの汚染は、密封ガスのフローによって防止される。提案される構成は長寿命の従来のモータの使用を可能にし、ベアリングは油を塗られるか又は油を差されることができるので、駆動装置の耐用年数が著しく高められる。
【００１５】
好ましくは、上記駆動軸用のリードスルーが回転フォイルトラップとケーシングの間に配置される。このリードスルーは駆動軸と囲壁の間に追加間隙を形成するように設計され、追加間隙は上記駆動軸とケーシングの間の間隙とともに供給管に接続される。この追加手段は、駆動軸とケーシングの間の間隙から離れる密封ガスのフローに対して高い流れ抵抗を与える。従って密封ガスの高圧がこの間隙の入り口において維持され得る。
【００１６】
デブリ低減装置又は駆動装置の一実施形態において、何らかの理由で密封ガスのフローが妨げられる場合に、間隙を通るケーシングの内部のガス又は蒸気の逆流を防ぐために、逆止弁がケーシングの内部に配置される。かかる逆止弁は当業者に既知の様々な構成を持ち得る。逆止弁は一般に可動部と弁座を有する。該逆止弁は、通常の動作条件において、すなわち間隙を通る密封ガスのガスフローが維持されるときに開き、このガスフローが停止する場合に閉じられる。密封ガスのフローを通じて、間隙の近くの圧力はケーシングの内圧よりも常に高いので、逆止弁はこのガスフローを通して自動的に開き得る。かかるガスフローがない場合の逆止弁の閉鎖は、かかる場合の逆止弁における異なる圧力分布によって自動的に強制され得る。ガスフローが停止する場合、ケーシングの内圧は間隙内の圧力よりも高くなり、逆止弁の可動部品に弁を閉じさせるような圧力をもたらす。とはいえ、任意の追加部品、例えば適切なばね部材が、かかる場合に弁を閉じるために使用されてもよい。この手段により、何らかの理由で密封ガスの供給が不足するときでさえ、ケーシングの外側の真空室の汚染が防止される。
【００１７】
提案されるデブリ低減装置は、単一の回転フォイルトラップ、又は、回転フォイルトラップ若しくは回転フォイルトラップと静的フォイルトラップの任意の組み合わせを持ち得る。実施形態のうちの１つにおいて、デブリ低減装置は静的フォイルトラップと回転フォイルトラップから構成され、これらは中間領域によって分離される。駆動軸は静的フォイルトラップの中心のリードスルーを通って回転フォイルトラップへとのび、駆動軸と囲壁の間に小さな間隙が形成される。密封ガス用の供給管は、この場合駆動軸とケーシングの間の間隙の間の空間に接続され、この供給された密封ガスの一部は、この間隙を通してケーシングの内部へ、及び、例えば静的フォイルトラップのコアによって形成され得る囲壁と駆動軸の間の間隙へ通過し、供給された密封ガスの他の部分は静的フォイルトラップと回転フォイルトラップの間の中間領域へと通過する。いずれにしても、デブリ低減のために適用されるバッファガスを密封ガスとして使用することによって、２つのフォイルトラップ間の空間へのこのバッファガスのフローは、フォイルトラップを通るデブリ粒子の通過を抑制するためにさらに有用である。
【００１８】
好ましくは駆動軸と囲壁の間の間隙は１００μｍ未満である。密封ガスのフロー方向の間隙長は好ましくは５乃至４０ｍｍである。一般的にフォイルトラップ間の空間への密封ガスのフローは、密封ガスが、真空室の内部の通常使用されるバッファガスとともに、デブリの通過の最大抑制を実現するためにフォイルトラップの内部で最適なガス圧力分布を持つように寸法設定され得る。
【００１９】
上記実施形態の構成に加えて、密封ガスの一部に対する逆流が、軸における密封ガス供給と、２つのフォイルトラップ間の中間領域との間にもたらされ得る。この目的のため、例えば、静止フォイルトラップのコアを通して駆動軸とその囲壁の間の間隙から追加チャネルが形成され得る。この追加チャネルを通して、密封ガスの一部が送り出されることができ、フォイルトラップシステムにおける最適なガス圧力分布にとってこれが必要である場合は、２つのフォイルトラップ間の空間への密封ガスフローの減少をもたらす。
【００２０】
駆動軸とケーシングの間の間隙、及び駆動軸とその囲壁の間の間隙はかなり小さいので、例えば４乃至１２ｍｍなど、ごく小さな断面積の供給管と任意的な逆流管、及び従って小さなポンプ能力が必要とされる。
【００２１】
従って、かかるデブリ低減装置で使用され得る対応する駆動装置又は駆動ユニットは、適切なベアリングだけでなく、部品を駆動させるための駆動モータ及び駆動軸を有する。駆動モータはベアリングとともに、駆動軸用のアパーチャと、密封ガス用の少なくとも１つの出口開口とを持つケーシング内に包含される。アパーチャは駆動軸とケーシングの間の間隙を画定するように設計され、間隙は、上記間隙を通してケーシングの中へ密封ガスを供給するための供給管に接続される。
【００２２】
かかる駆動装置はまた、駆動装置の運転によって生じるガス又は蒸気を通じての周囲チャンバ又は空間の汚染が防止されなければならないような他の用途においても使用され得ることが、当業者には明らかである。好ましい用途は上記のようなデブリ低減装置との使用である。かかるデブリ低減装置において、フォイルトラップは既知の方法で設計され得る。かかるフォイルトラップの個々の構成は本発明の方法に影響を与えないことが明らかである。適切なフォイルトラップの例は、本明細書の導入部に記載された文書において、又はＥＵＶ照明系におけるデブリ低減を扱ういかなる他の文書においても見られる。
【００２３】
以下の例示的な実施形態は、請求項によって規定される保護範囲を制限することなく、添付の図面を参照して、本発明のデブリ低減装置と駆動装置の実施例を示す。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】既知のデブリ低減装置の概略図である。
【図２】当該技術分野で既知のかかる装置の駆動装置の概略図である。
【図３】提案されるデブリ低減装置の第一の実施形態の概略図である。
【図４】提案されるデブリ低減装置の第二の実施形態の概略図である。
【図５】逆止弁の２つの異なる構成を開状態と閉状態で示す、提案される駆動装置の一部分の４つの概略的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
図１は当該技術分野で既知のＥＵＶ照射装置におけるフォイルトラップを持つデブリ低減装置の概略図を示す。ＥＵＶプラズマ源２は放射源としてＥＵＶ放射を発し、これはコレクタ３によって集められ、集束される。ＥＵＶプラズマ源２は、所望のＥＵＶ放射だけでなく不要なデブリ粒子も放出する。光軸は参照符号１で描かれ、ＥＵＶ放射の例示的な放射経路は参照符号８、デブリ粒子の例示的な経路は参照符号９で描かれる。
【００２６】
デブリ低減装置は、コレクタ３へのデブリ粒子の通過を抑制するためにＥＵＶプラズマ源２とコレクタ３の間に配置される。この例におけるデブリ低減装置は静止フォイルトラップ４と回転フォイルトラップ５を有する。この例における静止フォイルトラップ４は、光軸１から半径方向にのびる複数のシングルフォイルシート１１から構成される。このフォイルトラップの構成は、光軸１の方向の図をあらわす、図１の右側に見られる。全体の配置はこの光軸１の周りに回転対象を持つ。
【００２７】
デブリ低減装置は、２つのフォイルトラップ４，５の間の中間領域へのバッファガスの供給用のフィード管６も有する。このバッファガスのフロー７を通して、回転フォイルトラップ５を依然として通過するデブリ粒子は、静止フォイルトラップ４と回転フォイルトラップ５のフォイルシート上で凝縮するためにバッファガスとの衝突によって減速又は偏向される。フォイルトラップから出るバッファガスは、コレクタ３を通して、デブリ低減装置とコレクタ３の間の領域、及びデブリ低減装置とＥＵＶプラズマ源２の間の領域へ、真空ポンプによって送り出される。
【００２８】
クラスタ又は液滴のような肉眼で見えるデブリ粒子は、静止フォイルトラップ４の前に配置される回転フォイルトラップ５によって効果的に停止され得る。静止フォイルトラップ４の場合と同様に、回転フォイルトラップ５も、コア１６上に取り付けられる複数のフォイルシート１１によって構成される。コア１６は、静止フォイルトラップ４のコア１５におけるリードスルーを通して、図１には示されていない駆動モータへとのびる駆動軸１０上に取り付けられる。
【００２９】
図２は当該技術分野で既知の回転フォイルトラップ５を駆動するための駆動装置の概略図を示す。駆動モータ１４の駆動軸１０は、この軸１０の光軸１周りの安定な回転運動を可能にするために、２つのベアリング１３によって支持される。回転フォイルトラップ５のコア１６はこの駆動軸１０の一端に固定される。
【００３０】
既に説明した通り、かかる駆動装置のベアリング１３は、図１に示されるようなＥＵＶ照明装置において使用されるとき、汚染物質のオイル又はグリース蒸気の発生を防ぐために、油を塗られるか又は油を差されることができない。さらに、駆動モータ１４は運転中のガス抜けを最小限にするために真空気密になるように特別に構成されなければならない。ベアリング１３の適切な注油の欠如は、駆動装置の非常に短い耐用年数につながる。この欠点は本発明に従うデブリ低減装置と駆動装置によって防止される。
【００３１】
図３は提案されるデブリ低減装置と駆動装置の例示的な一実施形態の概略図を示す。この図面、前及び後の全図面において、かかる装置の同じ構成部品に対して同一の参照符号が使用される。従って図１及び図２に既に記載された構成部品は以下で再度説明されない。
【００３２】
図３の例示的な実施形態において、駆動モータ１４とベアリング１３は、駆動軸１０用のアパーチャと密封ガス用の出口開口２１のみを有する気密性ケーシング２０の内部に配置される。駆動軸１０用のアパーチャは駆動軸１０とケーシング２０の間の小さな間隙２３を画定するように設計される。同様の小さな間隙３３が駆動軸１０と囲壁の間に形成され、図３に見られるように、囲壁はこの実施形態において静止フォイルトラップ４のコア１５と同一である。間隙は密封ガスの供給１８のための供給管１９に接続される。この密封ガスは両方の間隙を通って、すなわち駆動軸１０とケーシング２０の間の間隙２３を通ってケーシング２０の内部へ、及び駆動軸１０と静止フォイルトラップ４のコア１５の間の間隙３３を通って流れる。ガスフロー２４は図３に概略的に示される。この図面及び後の図面においては２つの供給管１９が示されているが、供給管の数は本発明の機能にとって最も重要ではない。該装置はまた、例えば小さな間隙２３におけるリング状空間に接続された、ケーシング２０の片側のただ１つの供給管１９、又はケーシング２０を完全に囲むように形成される供給管１９、又は２つよりも多くの供給管１９も有し得る。
【００３３】
駆動軸１０とフォイルトラップ４のコア１５の間の間隙３３を通る密封ガスフローの部分は、２つのフォイルトラップ間の中間領域へと通じる。この空間において、密封ガスは低減装置を通るデブリの通過を抑制するのに役立つ。駆動軸１０とケーシング２０の間の間隙２３を通過する密封ガスフローの他の部分は、いかなる汚染ガス又は蒸気の反対方向への通過も妨げる。駆動軸１０とケーシング２０の間の小さな間隙２３のために、密封ガスの流速はケーシング２０の内部のいかなる汚染ガスの拡散速度よりも著しく高い。これらの汚染ガスの例示的なフロー２５は図に示される。従って、ケーシング２０の内部のベアリング１３から、又はモータ１４から、デブリ低減装置が中に配置される真空室への、汚染ガス又は蒸気の通過が最適に防止される。従ってかかる構成により、これらの構成部品の長い耐用年数を実現するために、必要に応じてベアリング１３は油を塗られるか又は油を差されてもよい。さらに、最早特殊な気密性モータ１４を使用する必要がない。特殊な気密性又は真空適合性モータよりもかなり安い標準的なモータが使用されることができる。ケーシング２０へ入る密封ガスは出口開口２１を通ってこのケーシングから出ることができる。出口開口２１は好ましくは適切な排気管に気密性に接続される。排気管はポンプに接続され得るか、又は大気へ開かれ得る。
【００３４】
図４は提案されるデブリ低減装置のさらなる例示的な実施形態を概略図で示す。この実施形態においては、図３の実施形態に加えて、ポンプ空間２６において付加的な密封ガスの逆流が静止フォイルトラップ４のコア１５の内部にもたらされる。この付加的なポンプ空間２６は、真空系の外側へ通じるポンプ管２７に接続される。駆動軸１０と静止フォイルトラップ４のコア１５の間の間隙３３に接続されるこの付加的なポンプ空間２６により、２つのフォイルトラップ間の中間領域に入る密封ガスの量が高すぎる場合、密封ガスの一部を送り出すことが可能である。ポンプ管２７における対応するガスフロー２８は図に示される。この手段により、２つのフォイルトラップ４，５の間の中間領域に入る密封ガス又はバッファガスの量の制御が可能である。この図面においては２つのポンプ管２７が示されているが、ポンプ管２７の数はこの手段の機能にとって最も重要ではない。該装置はまた、例えば片側にただ１つのポンプ管２７、又はケーシング２０を完全に囲むように形成されるポンプ管２７、又は２つよりも多くのポンプ管２７も有し得る。
【００３５】
ＥＵＶ照射装置の運転中、通常運転条件に加えて、例えば緊急の場合又は技術的欠陥の場合において、他の運転条件も生じ得る。ケーシング２０の内部からの汚染ガス又は蒸気を通じての真空系の汚染を防ぐために、図５ａから図５ｄに示されるさらなる手段が取られ得る。これらの実施形態においては、付加的な逆止弁２９がケーシング２０と駆動軸１０の間の間隙２３においてケーシング２０の内部に配置される。４つの図面は駆動装置の対応する部分の断面図を示す。
【００３６】
逆止弁２９は様々な方法で実現され得る。図５は２つの可能な構成を示す。図５ａ及び図５ｂにおいて、逆止弁２９の開状態と閉状態が例示的な一実施形態に対して示され、図５ｃ及び図５ｄにおいては別の例示的な実施形態に対して示される。
【００３７】
逆止弁２９は可動部品３０と弁座３１から構成される。両部品は、逆止弁が通常運転条件において開くように配置される。この開状態は、ケーシング２０の内部のガス圧力に比べて高い局所ガス圧力を間隙２３の内部に生じる密封ガスのガスフローを通して実現される。
【００３８】
このシステムの異常状態において、何らかの理由で間隙２３を通る通常の密封ガスフローが妨げられる時、逆止弁２９周辺の圧力分布は変化し、逆止弁のケーシング２０側の圧力は、間隙２３側よりもかなり高くなる。この状況において、圧力３２が逆止弁２９の可動部品３０に作用し、これが弁を閉じる。この閉状態においては、ケーシング２０の内部から真空系へのいかなるガスフローも妨げられ、ケーシング２０の内部からの真空系のいかなる汚染も回避される。逆止弁２９の可動部品３０は、図５ｃ及び図５ｄにおけるような弾性材料から作られ得るか、又は図５ａ及び図５ｂにおけるようなばね状部材に接続され得る。逆止弁の弾性部材はまた、ケーシング２０側と間隙２３側の間に圧力差がないときに弁が閉状態になるように設計されてもよい。通常運転中、この場合は密封ガスフローによって開かれる。
【００３９】
本発明は図面及び前述の説明において詳細に図示され記載されているが、かかる図示と記載は説明又は例示的なものであって限定的なものではないとみなされ、本発明は開示された実施形態に限定されない。上記及び請求項に記載の異なる実施形態は組み合わされることもできる。開示された実施形態への他の変更は、図面、開示、及び添付の請求項の考察から、請求された発明を実施する際に当業者によって理解され、達成されることができる。例えば、デブリ低減装置はただ１つの回転フォイルトラップ又は複数の回転フォイルトラップから構成されてもよく、これらはまた異なる駆動装置によって駆動されてもよい。このような場合、全ての駆動装置は本発明に従って構成される。さらに、フォイルトラップの設計は図面に示された設計に限定されない。生成された放射の直線通過を可能にし、フォイルトラップを通過し得るデブリの量を削減する構造を持つ任意の適切な設計が、本発明によって実現されることができる。特に、フォイルトラップの構造は必ずしもフォイルから作られなければならないわけではないことが強調される。より厚い構造もまた可能である。密封ガスを供給するための管は、フォイルトラップ、又は駆動装置のケーシングの一体部分として配置され得るが、別々の部品としても実現され得る。複数の供給管を設けることもまた可能である。
【００４０】
請求項において、"有する"という語は他の要素又はステップを除外せず、不定冠詞"ａ"又は"ａｎ"は複数形を除外しない。相互に異なる従属請求項において手段が列挙されているという単なる事実は、これらの手段の組み合わせが有利に使用されることができないことを示すものではない。請求項における参照符号はこれらの請求項の範囲を限定するものと解釈されるべきではない。
【符号の説明】
【００４１】
１    光軸
２    ＥＵＶプラズマ源
３    コレクタ
４    静止フォイルトラップ
５    回転フォイルトラップ
６    フィード管
７    バッファガスのフロー
８    ＥＵＶ放射の経路
９    デブリ粒子の経路
１０  駆動軸
１１  フォイルシート
１３  ベアリング
１４  駆動モータ
１５  静止フォイルトラップのコア
１６  回転フォイルトラップのコア
１８  密封ガス供給
１９  供給管
２０  駆動装置のケーシング
２１  密封ガス用の出口
２３  間隙
２４  密封ガスのフロー（記号）
２５  汚染ガスのフロー（記号）
２６  ポンプ空間
２７  ポンプ管
２８  ガスフロー（記号）
２９  逆止弁
３０  逆止弁の可動部品
３１  逆止弁の弁座
３２  圧力（記号）
３３  追加間隙
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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【図５ｃ】
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【図５ｄ】
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