(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
面内に複屈折率を有する光透過性基材の一方の面上に光学機能層を有し、画像表示装置の表面に配置して用いられる光学積層体であって、
前記画像表示装置の偏光子の吸収軸が、該画像表示装置の表示画面に対して左右方向であり、
前記光透過性基材は、屈折率が大きい方向である遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）と、前記遅相軸方向と直交する方向である進相軸方向の屈折率（ｎｙ）との差（ｎｘ−ｎｙ）が、０．０５以上であり、
前記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸が、前記画像表示装置の表示画面の上下方向に対して０°±４０°の範囲で配置され、
前記画像表示装置は、連続的で幅広い発光スペクトルを有するバックライト光源として、白色発光ダイオードを有する
ことを特徴とする光学積層体。
【請求項２】
光透過性基材は、面内リタデーションが３０００ｎｍ以上である請求項１記載の光学積層体。
【請求項３】
光透過性基材と光学機能層との間にプライマー層を有し、
前記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、前記光透過性基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び前記光学機能層の屈折率（ｎｆ）よりも大きい場合（ｎｐ＞ｎｘ，ｎｆ）、又は、
前記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、前記光透過性基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）及び前記光学機能層の屈折率（ｎｆ）よりも小さい場合（ｎｐ＜ｎｙ，ｎｆ）、
前記プライマー層の厚みが３〜３０ｎｍである請求項１又は２記載の光学積層体。
【請求項４】
光透過性基材と光学機能層との間にプライマー層を有し、
前記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、前記光透過性基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）よりも大きく、前記光学機能層の屈折率（ｎｆ）よりも小さい場合（ｎｘ＜ｎｐ＜ｎｆ）、又は、
前記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、前記光透過性基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）よりも小さく、前記光学機能層の屈折率（ｎｆ）よりも大きい場合（ｎｆ＜ｎｐ＜ｎｙ）、
前記プライマー層の厚みが６５〜１２５ｎｍである請求項１又は２記載の光学積層体。
【請求項５】
光透過性基材と光学機能層との間にプライマー層を有し、
前記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、前記光透過性基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）と前記光透過性基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）との間に存在する（ｎｙ＜ｎｐ＜ｎｘ）請求項１又は２記載の光学積層体。
【請求項６】
面内に複屈折率を有する光透過性基材の一方の面上に光学機能層を有する光学積層体が、偏光素子上に設けられ、画像表示装置の表面に配置して用いられる偏光板であって、
前記偏光素子の吸収軸が、前記画像表示装置の表示画面に対して左右方向であり、
前記光学積層体と前記偏光素子とは、前記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸と、前記偏光素子の吸収軸とが垂直となるように配置され、
前記光透過性基材は、屈折率が大きい方向である遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）と、前記遅相軸方向と直交する方向である進相軸方向の屈折率（ｎｙ）との差（ｎｘ−ｎｙ）が、０．０５以上であり、
前記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸が、前記画像表示装置の表示画面の上下方向に対して０°±４０°の範囲で配置され、
前記画像表示装置は、連続的で幅広い発光スペクトルを有するバックライト光源として、白色発光ダイオードを有する
ことを特徴とする偏光板。
【請求項７】
面内に複屈折率を有する光透過性基材は、面内リタデーションが３０００ｎｍ以上である請求項６記載の偏光板。
【請求項８】
光透過性基材と光学機能層との間にプライマー層を有し、
前記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、前記光透過性基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び前記光学機能層の屈折率（ｎｆ）よりも大きい場合（ｎｐ＞ｎｘ，ｎｆ）、又は、
前記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、前記光透過性基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）及び前記光学機能層の屈折率（ｎｆ）よりも小さい場合（ｎｐ＜ｎｙ，ｎｆ）、
前記プライマー層の厚みが３〜３０ｎｍである請求項６又は７記載の偏光板。
【請求項９】
光透過性基材と光学機能層との間にプライマー層を有し、
前記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、前記光透過性基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）よりも大きく、前記光学機能層の屈折率（ｎｆ）よりも小さい場合（ｎｘ＜ｎｐ＜ｎｆ）、又は、
前記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、前記光透過性基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）よりも小さく、前記光学機能層の屈折率（ｎｆ）よりも大きい場合（ｎｆ＜ｎｐ＜ｎｙ）、
前記プライマー層の厚みが６５〜１２５ｎｍである請求項６又は７記載の偏光板。
【請求項１０】
光透過性基材と光学機能層との間にプライマー層を有し、
前記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、前記光透過性基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）と前記光透過性基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）との間に存在する（ｎｙ＜ｎｐ＜ｎｘ）請求項６又は７記載の偏光板。
【請求項１１】
請求項１、２、３、４若しくは５記載の光学積層体、又は、請求項６、７、８、９若しくは１０記載の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１２】
バックライト光源として白色発光ダイオードを備えたＶＡモード又はＩＰＳモードの液晶表示装置である請求項１１記載の画像表示装置。
【請求項１３】
面内に複屈折率を有する光透過性基材の一方の面上に光学機能層を有する光学積層体を備えた画像表示装置の製造方法であって、
前記画像表示装置は、連続的で幅広い発光スペクトルを有するバックライト光源として、白色発光ダイオードを有するものであり、
前記画像表示装置の偏光子の吸収軸が、該画像表示装置の表示画面に対して左右方向であり、
前記光透過性基材は、屈折率が大きい方向である遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）と、前記遅相軸方向と直交する方向である進相軸方向の屈折率（ｎｙ）との差（ｎｘ−ｎｙ）が、０．０５以上であり、
前記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸が、前記画像表示装置の表示画面の上下方向に対して０°±４０°の範囲となるように、前記光学積層体を配置する工程を有する
ことを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項１４】
面内に複屈折率を有する光透過性基材の一方の面上に光学機能層を有する光学積層体を備えた画像表示装置の視認性改善方法であって、
前記画像表示装置は、連続的で幅広い発光スペクトルを有するバックライト光源として、白色発光ダイオードを有するものであり、
前記画像表示装置の偏光子の吸収軸が、該画像表示装置の表示画面に対して左右方向であり、
前記光透過性基材は、屈折率が大きい方向である遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）と、前記遅相軸方向と直交する方向である進相軸方向の屈折率（ｎｙ）との差（ｎｘ−ｎｙ）が、０．０５以上であり、
前記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸が、前記画像表示装置の表示画面の上下方向に対して０°±４０°の範囲となるように、前記光学積層体を配置する
ことを特徴とする画像表示装置の視認性改善方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学積層体、偏光板、偏光板の製造方法、画像表示装置、画像表示装置の製造方法及び画像表示装置の視認性改善方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、省電力、軽量、薄型等といった特徴を有していることから、従来のＣＲＴディスプレイに替わり、近年急速に普及している。
このような液晶表示装置には液晶セルの画像表示面側に偏光素子が配置されており、通常、取扱い時に偏光素子に傷が付かないように硬度を付与することが要求されることから、偏光板保護フィルムとして、光透過性基材上にハードコート層を設けたハードコートフィルムを利用することにより、画像表示面に硬度を付与することが一般になされている。
【０００３】
従来、このようなハードコートフィルムの光透過性基材として、トリアセチルセルロースに代表されるセルロースエステルからなるフィルムが用いられていた。これは、セルロースエステルは、透明性、光学等方性に優れ、面内にほとんど位相差を持たない（リタデーション値が低い）ため、入射直線偏光の振動方向を変化させることが極めて少なく、液晶表示装置の表示品質への影響が少ないことや、適度な透水性を有することから、光学積層体を用いてなる偏光板を製造した時に偏光子に残留した水分を、光学積層体を通して乾燥させることができる等の利点に基づくものである。
しかしながら、セルロースエステルフィルムは、耐湿、耐熱性が充分でなく、ハードコートフィルムを偏光板保護フィルムとして高温多湿の環境下で使用すると、偏光機能や色相等の偏光板機能を低下させるという欠点があった。また、セルロースエステルは、コスト的にも不利な素材でもあった。
【０００４】
このようなセルロースエステルフィルムの問題点から、透明性、耐熱性、機械強度に優れ、かつ、セルロースエステルフィルムに比べて安価で市場において入手が容易な、あるいは簡易な方法で製造することが可能な汎用性フィルムを光学積層体の光透過性基材として用いることが望まれており、例えば、セルロースエステル代替フィルムとして、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルムを利用する試みがなされている（例えば、特許文献１〜３参照）。
【０００５】
ところが、ポリエステルフィルムは、分子鎖中に分極率の大きい芳香族環を持つため固有複屈折が極めて大きく、優れた透明性、耐熱性、機械強度を付与させるための延伸処理による分子鎖の配向に伴って複屈折が発現しやすいという性質を有する。このようなポリエステルフィルムのような面内に複屈折率を有する光透過性基材を用いた光学積層体を画像表示装置の表面に設置した場合、光学積層体の表面での反射防止性能が著しく低下し、明所コントラストが低下してしまうことがあった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−２０５７７３号公報
【特許文献２】特開２００９−１５７３４３号公報
【特許文献３】特開２０１０−２４４０５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記現状に鑑み、ポリエステルフィルムのような面内に複屈折率を有する光透過性基材を用いた場合であっても、反射防止性能と明所コントラストとに優れ、更にはニジムラも防止できる画像表示装置を得ることのできる光学積層体及び偏光板、該偏光板の製造方法、該光学積層体又は偏光板を備えた画像表示装置、該画像表示装置の製造方法、並びに、画像表示装置の視認性改善方法を提供することを目的とする。
なお、本発明において、「視認性改善された状態」とは、少なくとも反射防止性能と明所コントラストに優れた状態を示し、更に、ニジムラも防止できている状態を、「視認性改善が極めてよくされた状態」という。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、面内に複屈折率を有する光透過性基材の一方の面上に光学機能層を有し、画像表示装置の表面に配置して用いられる光学積層体であって、上記画像表示装置の偏光子の吸収軸が、該画像表示装置の表示画面に対して左右方向であり、上記光透過性基材は、屈折率が大きい方向である遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）と、上記遅相軸方向と直交する方向である進相軸方向の屈折率（ｎｙ）との差（ｎｘ−ｎｙ）が、０．０５以上であり、上記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸が、上記画像表示装置の表示画面の上下方向に対して０°±４０°の範囲で配置され、上記画像表示装置は、連続的で幅広い発光スペクトルを有するバックライト光源として、白色発光ダイオードを有することを特徴とする光学積層体である。
また、本発明の光学積層体において、上記光透過性基材は、面内リタデーションが３０００ｎｍ以上であることが好ましい。
また、本発明の光学積層体は、上記光透過性基材と光学機能層との間にプライマー層を有し、上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、上記光透過性基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び上記光学機能層の屈折率（ｎｆ）よりも大きい場合（ｎｐ＞ｎｘ，ｎｆ）、又は、上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、上記光透過性基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）及び上記光学機能層の屈折率（ｎｆ）よりも小さい場合（ｎｐ＜ｎｙ，ｎｆ）、上記プライマー層の厚みが３〜３０ｎｍであることが好ましい。
また、本発明の光学積層体は、上記光透過性基材と光学機能層との間にプライマー層を有し、上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、上記光透過性基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）よりも大きく、上記光学機能層の屈折率（ｎｆ）よりも小さい場合（ｎｘ＜ｎｐ＜ｎｆ）、又は、上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、上記光透過性基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）よりも小さく、上記光学機能層の屈折率（ｎｆ）よりも大きい場合（ｎｆ＜ｎｐ＜ｎｙ）、上記プライマー層の厚みが６５〜１２５ｎｍであることが好ましい。
また、本発明の光学積層体は、上記光透過性基材と光学機能層との間にプライマー層を有し、上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、上記光透過性基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）と上記光透過性基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）との間に存在する（ｎｙ＜ｎｐ＜ｎｘ）ことが好ましい。
【０００９】
また、本発明は、面内に複屈折率を有する光透過性基材の一方の面上に光学機能層を有する光学積層体が、偏光素子上に設けられ、画像表示装置の表面に配置して用いられる偏光板であって、上記偏光素子の吸収軸が、上記画像表示装置の表示画面に対して左右方向であり、上記光学積層体と上記偏光素子とは、上記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸と、上記偏光素子の吸収軸とが垂直となるように配置され、上記光透過性基材は、屈折率が大きい方向である遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）と、上記遅相軸方向と直交する方向である進相軸方向の屈折率（ｎｙ）との差（ｎｘ−ｎｙ）が、０．０５以上であり、上記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸が、上記画像表示装置の表示画面の上下方向に対して０°±４０°の範囲で配置され、上記画像表示装置は、連続的で幅広い発光スペクトルを有するバックライト光源として、白色発光ダイオードを有することを特徴とする偏光板でもある。
また、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材は、面内リタデーションが３０００ｎｍ以上であることが好ましい。
また、本発明の偏光板は、上記光透過性基材と光学機能層との間にプライマー層を有し、上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、上記光透過性基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び上記光学機能層の屈折率（ｎｆ）よりも大きい場合（ｎｐ＞ｎｘ，ｎｆ）、又は、上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、上記光透過性基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）及び上記光学機能層の屈折率（ｎｆ）よりも小さい場合（ｎｐ＜ｎｙ，ｎｆ）、上記プライマー層の厚みが３〜３０ｎｍであることが好ましい。
また、本発明の偏光板は、上記光透過性基材と光学機能層との間にプライマー層を有し、上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、上記光透過性基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）よりも大きく、上記光学機能層の屈折率（ｎｆ）よりも小さい場合（ｎｘ＜ｎｐ＜ｎｆ）、又は、上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、上記光透過性基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）よりも小さく、上記光学機能層の屈折率（ｎｆ）よりも大きい場合（ｎｆ＜ｎｐ＜ｎｙ）、上記プライマー層の厚みが６５〜１２５ｎｍであることが好ましい。
また、本発明の偏光板は、上記光透過性基材と光学機能層との間にプライマー層を有し、上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、上記光透過性基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）と上記光透過性基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）との間に存在する（ｎｙ＜ｎｐ＜ｎｘ）ことが好ましい。
【００１０】
本発明はまた、本発明の光学積層体又は本発明の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
本発明の画像表示装置は、バックライト光源として白色発光ダイオードを備えたＶＡモード又はＩＰＳモードの液晶表示装置であることが好ましい。
本発明はまた、面内に複屈折率を有する光透過性基材の一方の面上に光学機能層を有する光学積層体を備えた画像表示装置の製造方法であって、上記画像表示装置は、連続的で幅広い発光スペクトルを有するバックライト光源として、白色発光ダイオードを有するものであり、上記画像表示装置の偏光子の吸収軸が、該画像表示装置の表示画面に対して左右方向であり、上記光透過性基材は、屈折率が大きい方向である遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）と、上記遅相軸方向と直交する方向である進相軸方向の屈折率（ｎｙ）との差（ｎｘ−ｎｙ）が、０．０５以上であり、上記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸が、上記画像表示装置の表示画面の上下方向に対して０°±４０°の範囲となるように、上記光学積層体を配置する工程を有することを特徴とする画像表示装置の製造方法でもある。
本発明はまた、面内に複屈折率を有する光透過性基材の一方の面上に光学機能層を有する光学積層体を備えた画像表示装置の視認性改善方法であって、上記画像表示装置は、連続的で幅広い発光スペクトルを有するバックライト光源として、白色発光ダイオードを有するものであり、上記画像表示装置の偏光子の吸収軸が、該画像表示装置の表示画面に対して左右方向であり、上記光透過性基材は、屈折率が大きい方向である遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）と、上記遅相軸方向と直交する方向である進相軸方向の屈折率（ｎｙ）との差（ｎｘ−ｎｙ）が、０．０５以上であり、上記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸が、上記画像表示装置の表示画面の上下方向に対して０°±４０°の範囲となるように、上記光学積層体を配置することを特徴とする画像表示装置の視認性改善方法でもある。
以下に、本発明を詳細に説明する。
なお、本発明では、特別な記載がない限り、モノマー、オリゴマー、プレポリマー等の硬化性樹脂前駆体も“樹脂”と記載する。
【００１１】
本発明者らは、鋭意検討した結果、面内に複屈折率を有する光透過性基材を用いた光学積層体又は偏光板において、該光学積層体又は偏光板を画像表示装置に設置する際に、該光透過性基材の屈折率の大きい方向である遅相軸を、偏光素子の吸収軸又は画像表示装置の表示画面に対して特定の方向となるようにすることで、反射防止性能及び明所コントラストを優れた画像表示装置とすることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
なお、上述のように従来光学積層体として用いられていたトリアセチルセルロースに代表されるセルロースエステルからなるフィルムは、光学等方性に優れ、面内にほとんど位相差を持たない。このため、該セルロースエステルからなるフィルムを光透過性基材として用いた光学積層体又は偏光板の場合、該光透過性基材の設置方向は考慮する必要がなかった。すなわち、上述した反射防止性能及び明所コントラストの問題は、光学積層体の光透過性基材として、面内に複屈折率を有する光透過性基材を用いたことにより生じたものである。
【００１２】
本発明の光学積層体は、面内に複屈折率を有する光透過性基材の一方の面上に光学機能層を有し、画像表示装置の表面に配置して用いられるものであり、上記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸が、上記画像表示装置の表示画面の上下方向と平行に配置される。
ここで、画像表示装置は、通常、室内に設置して用いられるものであるため、壁面や床面で反射した光の該画像表示装置の表示画面（光学積層体の表面）での反射を防止することで、反射防止性能を優れたものとすることができる。
本発明者らは、上記壁面や床面で反射し、上記画像表示装置の表示画面に入射する光は、その多くが上記表示画面の左右方向に振動した状態となっていることに着目し、本発明の光学積層体を、上記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸が、上記画像表示装置の表示画面の上下方向と平行に配置するものとしたのである。すなわち、本発明の光学積層体は、その用途を画像表示装置の表面に設置するものに限定し、この本発明の光学積層体を設置した画像表示装置は、上記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸が、上記壁面や床面で反射した光の振動方向に対して垂直な方向を向いた状態となっている。このように光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸の方向を特定の方向となるように光学積層体を設置してなる画像表示装置は、反射防止性能と明所コントラストとに優れたものとなる。
これは、上述した特定の状態で本発明の光学積層体を配置した構成の画像表示装置では、上記表示画面に入射する割合の多い左右方向に振動する光（Ｓ偏光）に対し、上記光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸の方向が平行となり、最表面での外光反射が低減できるためである。
この理由は、Ｎなる屈折率を有する基材表面の反射率Ｒは、
Ｒ＝（Ｎ−１）２／（Ｎ＋１）２
で表されるが、本発明の光学積層体における光透過性基材のような屈折率異方性を有する基材においては、画像表示装置において上記構成とすることにより、上記屈折率Ｎは、屈折率の小さい進相軸の屈折率が適用される割合が増加するからである。
また、上記理由によって、面内位相差を有する光透過性基材を用いた光学積層体であるにもかかわらず、画像表示装置への配置方向を考慮せずに光学積層体を設置した場合と、本発明のように、光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸の方向を特定の方向となるように光学積層体を設置した場合に、後者の場合の反射率が、前者の反射率よりも低くなっている。本発明における「反射防止性能が優れた状態」とは、このような状態のことを言う。
また、上述した構成で画像表示装置に設置したときの本発明の光学積層体の反射率の数値自体は、トリアセチルセルロースに代表されるセルロースエステルからなるフィルムのように、光学等方性に優れ、面内にほとんど位相差を持たないフィルムを基材とした場合の反射率程度になるのが好ましい。例えば、トリアセチルセルロースからなるフィルムであれば、反射率は４．３９％前後となる。
また、画像表示装置のコントラストは、暗所コントラストと明所コントラストとに分けられ、暗所コントラストは、（白表示の輝度／黒表示の輝度）として算出され、明所コントラストは、｛（白表示の輝度＋外光反射）／（黒表示の輝度＋外光反射）｝として算出される。いずれのコントラストの場合も分母の影響がより大きくなることで、コントラストが低下する。つまり、最表面での外光反射を低減できれば、結果として、明所コントラストが向上する。
なお、上記「上記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸が、上記画像表示装置の表示画面の上下方向と平行に配置される」とは、上記遅相軸が、上記表示画面の上下方向に対して０°±４０°の範囲で光学積層体が画像表示装置に配置された状態を意味する。
【００１３】
上記面内に複屈折率を有する光透過性基材としては特に限定されず、例えば、ポリカーボネート、アクリル、ポリエステル等からなる基材が挙げられるが、なかでも、コスト及び機械的強度において有利なポリエステル基材であることが好適である。なお、以下の説明では、面内に複屈折率を有する光透過性基材をポリエステル基材として説明する。
【００１４】
上記ポリエステル基材は、ニジムラ発生を防止でき、視認性改善が極めて良好となることから、リタデーションが３０００ｎｍ以上であることが好ましい。３０００ｎｍ未満であると、本発明の光学積層体を液晶表示装置（ＬＣＤ）で使用した場合、虹色の縞模様のようなニジムラが視認され、表示品位が低下することがある。一方、上記ポリエステル基材のリタデーションの上限としては特に限定されないが、３万ｎｍ程度であることが好ましい。３万ｎｍを超えると、膜厚が相当に厚くなるため好ましくない。
上記ポリエステル基材のリタデーションは、薄膜化の観点から、５０００〜２５０００ｎｍであることが好ましい。より好ましい範囲は、７０００〜２万ｎｍであり、この範囲であると、本発明の光学積層体が画像表示装置に、上記ポリエステル基材の遅相軸が、上記表示画面の上下方向に対して０°±３０°〜４０°の範囲で配置された場合、つまり、上記ポリエステル基材の遅相軸が、上記表示画面の上下方向に対して完全な平行よりも少しずれた角度を持って配置されている場合であっても、ニジムラ防止性を更に良好にできる。なお、本発明の光学積層体は、上記ポリエステル基材の遅相軸の配置が、上記表示画面の上下方向に対して完全な平行より±３０°〜４０°であっても、リタデーションが３０００ｎｍ以上であれば、ニジムラ防止性を有し、実質使用上に問題はない。
【００１５】
なお、上記リタデーションとは、ポリエステル基材の面内において最も屈折率が大きい方向（遅相軸方向）の屈折率（ｎｘ）と、遅相軸方向と直交する方向（進相軸方向）の屈折率（ｎｙ）と、ポリエステル基材の厚み（ｄ）とにより、以下の式によって表わされるものである。
リタデーション（Ｒｅ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
また、上記リタデーションは、例えば、王子計測機器社製ＫＯＢＲＡ−ＷＲによって測定（測定角０°、測定波長５８９．３ｎｍ）することができる。
また、二枚の偏光板を用いて、ポリエステル基材の配向軸方向（主軸の方向）を求め、配向軸方向に対して直交する二つの軸の屈折率（ｎｘ、ｎｙ）を、アッベ屈折率計（アタゴ社製  ＮＡＲ−４Ｔ）によって求める。ここで、より大きい屈折率を示す軸を遅相軸と定義する。ポリエステル基材厚みｄ（ｎｍ）は、電気マイクロメータ（アンリツ社製）を用いて測定し、単位をｎｍに換算する。屈折率差（ｎｘ−ｎｙ）と、フィルムの厚みｄ（ｎｍ）との積より、リタデーションを計算することもできる。
なお、屈折率は、アッベ屈折率計や、エリプソメーターを用いて測定することもできるし、分光光度計（島津製作所社製のＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて、本発明の光学積層体における光学機能層の波長３８０〜７８０ｎｍの平均反射率（Ｒ）を測定し、得られた平均反射率（Ｒ）から、以下の式を用い、屈折率（ｎ）の値を求めてもよい。
光学機能層の平均反射率（Ｒ）は、易接着処理のない５０μｍＰＥＴ上にそれぞれの原料組成物を塗布し、１〜３μｍの厚さの硬化膜にし、ＰＥＴの塗布しなかった面（裏面）に、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒ビニールテープ（例えば、ヤマトビニールテープＮｏ２００−３８−２１  ３８ｍｍ幅）を貼ってから各硬化膜の平均反射率を測定した。ポリエステル基材の屈折率は、測定面とは反対面に同様に黒ビニールテープを貼ってから測定を行った。
Ｒ（％）＝（１−ｎ）２／（１＋ｎ）２
また、光学積層体となった後に光学機能層の屈折率を測定する方法としては、各層の硬化膜をカッターなどで削り取り、粉状態のサンプルを作製し、ＪＩＳ  Ｋ７１４２（２００８）Ｂ法（粉体又は粒状の透明材料用）に従ったベッケ法を用いることができる。なお、上記ベッケ法とは、屈折率が既知のカーギル試薬を用い、上記粉状態のサンプルをスライドガラスなどに置き、そのサンプル上に試薬を滴下し、試薬でサンプルを浸漬する。その様子を顕微鏡観察によって観察し、サンプルと試薬の屈折率が異なることによってサンプル輪郭に生じる輝線；ベッケ線が目視で観察できなくなる試薬の屈折率を、サンプルの屈折率とする方法である。
なお、ポリエステル基材の場合は、方向によって屈折率（ｎｘ、ｎｙ）が異なるので、ベッケ法ではなく、光学機能層の処理面に上記黒ビニールテープを貼ることで、分光光度計（Ｖ７１００型、自動絶対反射率測定ユニットＶＡＲ−７０１０  日本分光社製）を用いて、偏光測定：Ｓ偏光にて、光透過性基材の遅相軸を平行に設置した場合と、進相軸を平行に設置した場合との５度反射率を測定し、遅相軸と進相軸の屈折率（ｎｘ、ｎｙ）を上記式より算出もできる。
【００１６】
なお、本発明では、上記ｎｘ−ｎｙ（以下、Δｎとも表記する）は、０．０５以上であることが好ましい。上記Δｎが０．０５未満であると、進相軸の屈折率が大きいため、上述した画像表示装置の明所コントラストの向上が図れないことがある。更に、上述したリタデーション値を得るために必要な膜厚が厚くなってしまうことがある。一方、上記Δｎは、０．２５以下であることが好ましい。０．２５を超えると、ポリエステル基材を過度に延伸する必要が生じるため、ポリエステル基材が裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。
以上の観点から、上記Δｎのより好ましい下限は０．０７、より好ましい上限は０．２０である。なお、上記Δｎが０．２０を超えると、耐湿熱性試験でのポリエステル基材の耐久性が劣ることがある。耐湿熱性試験での耐久性が優れることから、上記Δｎの更に好ましい上限は０．１５である。
なお、上記（ｎｘ）としては、１．６６〜１．７８であることが好ましく、より好ましい下限は１．６８、より好ましい上限は１．７３である。また、上記（ｎｙ）としては、１．５５〜１．６５であることが好ましく、より好ましい下限は１．５７、より好ましい上限は１．６２である。
上記ｎｘ及びｎｙが上記範囲にあり、かつ、上述したΔｎの関係を満たすことで、好適な反射防止性能及び明所コントラストの向上を図ることができる。
【００１７】
上記ポリエステル基材を構成する材料としては、上述したリタデーションを充足するものであれば特に限定されないが、芳香族二塩基酸又はそのエステル形成性誘導体とジオール又はそのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルが挙げられる。かかるポリエステルの具体例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ポリエチレンナフタレート（ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリエチレン−１，４−ナフタレート、ポリエチレン−１，５−ナフタレート、ポリエチレン−２，７−ナフタレート、ポリエチレン−２，３−ナフタレート）などを例示することができる。また、ポリエステル基材に用いられるポリエステルは、これらのポリエステルの共重合体であってもよく、上記ポリエステルを主体（例えば８０モル％以上の成分）とし、少割合（例えば２０モル％以下）の他の種類の樹脂とブレンドしたものであってもよい。上記ポリエステルとしてポリエチレンテレフタレート又はポリエチレンナフタレートが力学的物性や光学物性等のバランスが良いので特に好ましい。特に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなることが好ましい。ポリエチレンテレフタレートは汎用性が高く、入手が容易であるからである。本発明においてはＰＥＴのような、汎用性が極めて高いフィルムであっても、表示品質の高い液晶表示装置を作製することが可能な、光学積層体を得ることができる。更に、ＰＥＴは、透明性、熱又は機械的特性に優れ、延伸加工によりリタデーションの制御が可能であり、固有複屈折が大きく、膜厚が薄くても比較的容易に大きなリタデーションが得られる。
【００１８】
上記ポリエステル基材を得る方法としては、上述したリタデーションを充足する方法であれば特に限定されないが、例えば、材料の上記ＰＥＴ等のポリエステルを溶融し、シート状に押出し成形された未延伸ポリエステルをガラス転移温度以上の温度においてテンター等を用いて横延伸後、熱処理を施す方法が挙げられる。
上記横延伸温度としては、８０〜１３０℃が好ましく、より好ましくは９０〜１２０℃である。また、横延伸倍率は２．５〜６．０倍が好ましく、より好ましくは３．０〜５．５倍である。上記横延伸倍率が６．０倍を超えると、得られるポリエステル基材の透明性が低下しやすくなり、延伸倍率が２．５倍未満であると、延伸張力も小さくなるため、得られるポリエステル基材の複屈折が小さくなり、リタデーションを３０００ｎｍ以上とできないことがある。
また、本発明においては、二軸延伸試験装置を用いて、上記未延伸ポリエステルの横延伸を上記条件で行った後、該横延伸に対する流れ方向の延伸（以下、縦延伸ともいう）を行ってもよい。この場合、上記縦延伸は、延伸倍率が２倍以下であることが好ましい。上記縦延伸の延伸倍率が２倍を超えると、Δｎの値を上述した好ましい範囲にできないことがある。
また、上記熱処理時の処理温度はしては、１００〜２５０℃が好ましく、より好ましくは１８０〜２４５℃である。
【００１９】
上述した方法で作製したポリエステル基材のリタデーションを３０００ｎｍ以上に制御する方法としては、延伸倍率や延伸温度、作製するポリエステル基材の膜厚を適宜設定する方法が挙げられる。具体的には、例えば、延伸倍率が高いほど、延伸温度が低いほど、また、膜厚が厚いほど、高いリタデーションを得やすくなり、延伸倍率が低いほど、延伸温度が高いほど、また、膜厚が薄いほど、低いリタデーションを得やすくなる。
【００２０】
上記ポリエステル基材の厚みとしては、４０〜５００μｍの範囲内であることが好ましい。４０μｍ未満であると、上記ポリエステル基材のリタデーションを３０００ｎｍ以上にできず、また、力学特性の異方性が顕著となり、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。一方、５００μｍを超えると、ポリエステル基材が非常に剛直であり、高分子フィルム特有のしなやかさが低下し、やはり工業材料としての実用性が低下するので好ましくない。上記ポリエステル基材の厚さのより好ましい下限は５０μｍ、より好ましい上限は４００μｍであり、更に好ましい上限は３００μｍである。
【００２１】
また、上記ポリエステル基材は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、８４％以上であるものがより好ましい。なお、上記透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
【００２２】
また、本発明において、上記ポリエステル基材には本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、けん化処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、及び火炎処理等の表面処理を行ってもよい。
【００２３】
上記光学機能層は、ハードコート性能を有するハードコート層であることが好ましく、該ハードコート層は、硬度が、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）による鉛筆硬度試験（荷重４．９Ｎ）において、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましい。
上記ハードコート層は、本発明の光学積層体の表面のハードコート性を担保する層であり、例えば、紫外線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂と光重合開始剤とを含有するハードコート層用組成物を用いて形成されたものであることが好ましい。
【００２４】
本発明の光学積層体において、上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等及びこれらをエチレンオキサイド（ＥО）等で変性した多官能化合物、又は、上記多官能化合物と（メタ）アクリレート等の反応生成物（例えば多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）等を挙げることができる。なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。
【００２５】
上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量（数平均分子量３００〜８万、好ましくは４００〜５０００）のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。なお、この場合の樹脂とは、モノマー以外のダイマー、オリゴマー、ポリマー全てを含む。
本発明における好ましい化合物としては、３以上の不飽和結合を有する化合物が挙げられる。このような化合物を用いると形成するハードコート層の架橋密度を高めることができ、塗硬度を良好にできる。
具体的には、本発明においては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ポリエステル多官能アクリレートオリゴマー（３〜１５官能）、ウレタン多官能アクリレートオリゴマー（３〜１５官能）等を適宜組み合わせて用いることが好ましい。
【００２６】
上記電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂と併用して使用することもできる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。なお、上記溶剤乾燥型樹脂とは、熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂をいう。
上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。
上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性の観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。
【００２７】
また、上記ハードコート層用組成物は、熱硬化性樹脂を含有していてもよい。
上記熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。
【００２８】
上記光重合開始剤としては特に限定されず、公知のものを用いることができ、例えば、上記光重合開始剤としては、具体例には、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
【００２９】
上記光重合開始剤としては、上記電離放射線硬化型樹脂がラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。また、上記電離放射線硬化型樹脂がカチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、上記光重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いることが好ましい。
本発明において用いる開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する電離放射線硬化型樹脂の場合は、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンが、電離放射線硬化型樹脂との相溶性、及び、黄変も少ないという理由から好ましい。
【００３０】
上記ハードコート層用組成物にける上記光重合開始剤の含有量は、上記電離放射線硬化型樹脂１００質量部に対して、１〜１０質量部であることが好ましい。１質量部未満であると、第１の本発明の光学積層体におけるハードコート層の硬度を上述した範囲とすることができないことがあり、１０質量部を超えると、塗設した膜の深部まで電離放射線が届かなくなり内部硬化が促進されず、目標であるハードコート層の表面の鉛筆硬度３Ｈ以上が得られないおそれがあるためである。
上記光重合開始剤の含有量のより好ましい下限は２質量部であり、より好ましい上限は８質量部である。上記光重合開始剤の含有量がこの範囲にあることで、膜厚方向に硬度分布が発生せず、均一な硬度になりやすくなる。
【００３１】
上記ハードコート層用組成物は、溶剤を含有していてもよい。
上記溶剤としては、使用する樹脂成分の種類及び溶解性に応じて選択して使用することができ、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、水、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合溶媒であってもよい。
特に本発明においては、ケトン系の溶媒でメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンのいずれか、又は、これらの混合物を少なくとも含むことが、樹脂との相溶性、塗工性に優れるという理由から好ましい。
【００３２】
上記ハードコート層用組成物中における原料の含有割合（固形分）として特に限定されないが、通常は５〜７０質量％、特に２５〜６０質量％とすることが好ましい。
【００３３】
上記ハードコート層用組成物には、ハードコート層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、ブロッキングを防止する、屈折率を制御する、防眩性を付与する、粒子やハードコート層表面の性質を変える等の目的に応じて、従来公知の有機、無機微粒子、分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤等を添加していてもよい。
【００３４】
また、上記ハードコート層用組成物は、光増感剤を混合して用いてもよく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホソフィン等が挙げられる。
【００３５】
上記ハードコート層用組成物の調製方法としては各成分を均一に混合できれば特に限定されず、例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用して行うことができる。
【００３６】
また、上記ハードコート層用組成物を上記光透過性基材上に塗布する方法としては特に限定されず、例えば、グラビアコート法、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の公知の方法を挙げることができる。
【００３７】
上記光透過性基材上に上記ハードコート層用組成物を塗布して形成した塗膜は、必要に応じて加熱及び／又は乾燥し、活性エネルギー線照射等により硬化させることが好ましい。
【００３８】
上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射が挙げられる。上記紫外線源の具体例としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。また、紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
【００３９】
なお、上記ハードコート層の好ましい膜厚（硬化時）は０．５〜１００μｍ、より好ましくは０．８〜２０μｍ、カール防止性やクラック防止性が特に優れるので、もっとも好ましくは２〜１０μｍの範囲である。上記ハードコート層の膜厚は、断面を電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察し、任意の１０点を測定した平均値（μｍ）である。ハードコート層の膜厚は、このほかの方法として、厚さ測定装置ミツトヨ社製のデジマチックインジケーターＩＤＦ−１３０を用いて任意の１０点を測定し、平均値を求めてもよい。
【００４０】
上記ハードコート層用組成物中に帯電防止剤を含有させることで、上記ハードコート層に帯電防止性能を付与することができる。
上記帯電防止剤としては従来公知のものを用いることができ、例えば、第４級アンモニウム塩等のカチオン性帯電防止剤や、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）等の微粒子や、導電性ポリマー等を用いることができる。
上記帯電防止剤を用いる場合、その含有量は、全固形分の合計質量に対して１〜３０質量％であることが好ましい。
【００４１】
また、本発明の光学積層体は、上記ハードコート層上に更に低屈折率層を有することが好ましい。
上記低屈折率層としては、好ましくは１）シリカ又はフッ化マグネシウム等の低屈折率無機微粒子を含有する樹脂、２）低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、３）シリカ又はフッ化マグネシウム等の低屈折率無機微粒子を含有するフッ素系樹脂、４）シリカ又はフッ化マグネシウム等の低屈折率無機薄膜等のいずれかで構成される。フッ素系樹脂以外の樹脂については、上述したバインダー樹脂と同様の樹脂を用いることができる。
また、上述したシリカは、中空シリカ微粒子であることが好ましく、このような中空シリカ微粒子は、例えば、特開２００５−０９９７７８号公報の実施例に記載の製造方法にて作製できる。
これらの低屈折率層は、その屈折率が１．４７以下、特に１．４２以下であることが好ましい。
また、低屈折率層の厚みは限定されないが、通常は１０ｎｍ〜１μｍ程度の範囲内から適宜設定すれば良い。
【００４２】
上記フッ素系樹脂としては、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体を用いることができる。重合性化合物としては特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基、熱硬化する極性基等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。この重合性化合物に対し、重合体とは、上記のような反応性基などを一切もたないものである。
【００４３】
上記電離放射線で硬化する官能基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）を例示することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとしては、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物；分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物等もある。
【００４４】
上記熱硬化する極性基として好ましいのは、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基である。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカ等の無機超微粒子との親和性にも優れている。熱硬化性極性基を持つ重合性化合物としては、例えば、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品等が挙げられる。
上記電離放射線で硬化する官能基と熱硬化する極性基とを併せ持つ重合性化合物としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。
【００４５】
また、フッ素系樹脂としては、例えば、次のようなものを挙げることができる。
上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；上記含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体など。これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も用いることができる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が例示される。なかでも、ジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
【００４６】
更には、以下のような化合物からなる非重合体又は重合体も、フッ素系樹脂として用いることができる。すなわち、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基のようなイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオールのようなフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物等を用いることができる。
【００４７】
また、上記したフッ素原子を持つ重合性化合物や重合体とともに、上記に記載したような各バインダー樹脂を混合して使用することもできる。更に、反応性基等を硬化させるための硬化剤、塗工性を向上させたり、防汚性を付与させたりするために、各種添加剤、溶剤を適宜使用することができる。
【００４８】
上記低屈折率層の形成においては、低屈折率剤及び樹脂等を添加してなる低屈折率層用組成物の粘度を好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｍＰａ・ｓ（２５℃）、好ましくは０．７〜３ｍＰａ・ｓ（２５℃）の範囲のものとすることが好ましい。可視光線の優れた反射防止層を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ、密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。
【００４９】
樹脂の硬化手段は、後述するハードコート層における硬化手段と同様であってよい。硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加されることが好ましい。
【００５０】
本発明の光学積層体の製造方法としては、例えば、上述した方法で作製したポリエステル基材上にハードコート層用塗膜を形成し、必要に応じて乾燥させた後、上記ハードコート層用塗膜を硬化させてハードコート層を形成する。そして、必要に応じて上記低屈折率層を上記ハードコート層上に公知の方法で形成することで本発明の光学積層体を製造することができる。
また、上記ハードコート層用塗膜の乾燥の方法としては特に限定されないが、一般的に３０〜１２０℃で３〜１２０秒間乾燥を行うとよい。
【００５１】
上記ハードコート層用塗膜を硬化させる方法としては、構成成分に応じて公知の方法を適宜選択すればよい。例えば、含有するバインダー樹脂成分が紫外線硬化型のものであれば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化させればよい。
上記紫外線を照射する場合は、紫外線照射量が８０ｍＪ／ｃｍ２以上であることが好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２以上であることがより好ましく、１３０ｍＪ／ｃｍ２以上であることが更に好ましい。
【００５２】
本発明の光学積層体は、上記光透過性基材と光学機能層との間にプライマー層を有することが好ましい。
上記プライマー層は、上述したポリエステル基材とハードコート層の密着性向上を第一目的として設ける層であるが、該プライマー層の好ましい厚みは、上記プライマー層が設けられたことに起因した干渉縞の発生を防止する観点から、上記光透過性基材の屈折率（ｎｘ、ｎｙ）、光学機能層の屈折率（ｎｈ）及びプライマー層の屈折率（ｎｐ）との関係で、以下のように適宜選択される。
（１）プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、上記光透過性基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び前記光学機能層の屈折率（ｎｆ）よりも大きい場合（ｎｐ＞ｎｘ，ｎｆ）、又は、上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、上記光透過性基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）及び上記光学機能層の屈折率（ｎｆ）よりも小さい場合（ｎｐ＜ｎｙ，ｎｆ）、上記プライマー層の厚みは、３〜３０ｎｍであることが好ましい。
（２）上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、上記光透過性基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）よりも大きく、上記光学機能層の屈折率（ｎｆ）よりも小さい場合（ｎｘ＜ｎｐ＜ｎｆ）、又は、上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、上記光透過性基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）よりも小さく、上記光学機能層の屈折率（ｎｆ）よりも大きい場合（ｎｆ＜ｎｐ＜ｎｙ）、上記プライマー層の厚みは、６５〜１２５ｎｍであることが好ましい。
（３）上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が、上記光透過性基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）と上記光透過性基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）との間に存在する（ｎｙ＜ｎｐ＜ｎｘ）場合、上記プライマー層の厚みは、干渉縞の防止の観点からは特に限定されない。なお、上記プライマー層と上記光透過性基材との界面での反射量を減じて干渉縞を弱めるとの観点から、上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）は、（ｎｘ＋ｎｙ）／２に近いほど好ましい。
【００５３】
上述した（１）及び（２）においてそれぞれプライマー層の厚みが好ましい理由は、（１）においては、プライマー層と光学機能層との界面（界面Ａ）と、光透過性基材とプライマー層との界面（界面Ｂ）とを比較したとき、外光入射に対する屈折率の変化の大小関係は、界面Ａと界面Ｂとでは逆である。そのため、外光が界面で反射するとき、界面Ａと界面Ｂの一方で自由端反射をすると、他方では固定端反射となり、位相が逆転しているので、プライマー層が薄いと両界面での反射光は干渉して強度が減少するからである。
一方、（２）においては、屈折率の変化が上記界面Ａと界面Ｂとで同じであるから、界面Ａと界面Ｂでの反射光の位相は同じでとなるから、プライマー層の光学膜厚は光の波長の１／４であるとき両界面での反射光は干渉して強度が減少するからである。ここで、（２）におけるプライマー層の厚みの範囲は、プライマー層の屈折率は、後述するように通常１．４７〜１．６３程度であることから、この範囲の中間値である１．５５を屈折率とし、光の波長３８０〜７８０ｎｍで計算した値である。
なお、プライマー層と光透過性基材及び光学機能層との屈折率の差が等しいときに両界面での反射率も等しくなり、上記（１）及び（２）での干渉による効果が最も発揮される。
【００５４】
上記プライマー層は、上記（１）の場合においては厚みが３〜３０ｎｍであることが好ましい。３ｎｍ未満であると、上記ポリエステル基材とハードコート層との密着性が不充分となることがあり、３０ｎｍを超えると、本発明の光学積層体の干渉縞防止性が不充分となることがある。上記（１）の場合におけるプライマー層の厚みのより好ましい下限は１０ｎｍ、より好ましい上限は２０ｎｍである。
また、上記プライマー層は、上記（２）の場合においては、厚みが６５〜１２５ｎｍであることが好ましい。この範囲を外れると、本発明の光学積層体の干渉縞防止性が不充分となることがある。上記（２）の場合におけるプライマー層の厚みのより好ましい下限は７０ｎｍ、より好ましい上限は１１０ｎｍである。
また、上記プライマー層は、上記（３）の場合においては、厚みは特に限定されず任意に設定すればよいが、好ましい下限は３ｎｍ、好ましい上限は１２５ｎｍである。
なお、上記プライマー層の厚みは、例えば、上記プライマー層の断面を、電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察することにより、任意の１０点を測定して得られた平均値（ｎｍ）である。非常に薄い厚みの場合は、高倍率観察したものを写真として記録し、更に拡大することで測定する。拡大した場合、層界面ラインが、境界線として明確に分かる程度に非常に細い線であったものが、太い線になる。その場合は、太い線幅を２等分した中心部分を境界線として測定する。
【００５５】
このようなプライマー層を構成する材料としては光透過性基材との密着性を有すれば特に限定されず、従来、光学積層体のプライマー層として用いられているものを用いることができる。
ただし、従来の光学積層体用のプライマー層の材料から考えた場合、密着性や硬度も満たすものを選択すると、上記プライマー層の屈折率は１．４７〜１．６３の範囲となるが、プライマー層厚みを制御しない場合と比較し、本発明の光学積層体では、プライマー層の材料選択範囲が非常に大きく好ましい。
なお、上記光学機能層の屈折率（ｎｆ）は、上記（１）及び（２）での干渉による効果が最も発揮されるので、プライマー層と光透過性基材及び光学機能層との屈折率の差が近いほど好ましく、（３）においては、界面の増加を抑制するとの観点から、プライマー層の屈折率に近いほど好ましい。
【００５６】
本発明の光学積層体において、上記プライマー層は、上述した材料と、必要に応じて光重合開始剤及び他の成分とを溶媒中に混合分散させて調製したプライマー層用組成物を用いて形成することができる。
上記混合分散は、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー等の公知の装置を使用して行うとよい。
【００５７】
上記溶媒としては、水が好ましく用いられ、水溶液、水分散液或いは乳化液等の水性塗液の形態で使用されることが好ましい。また、多少の有機溶媒を含んでもよい。
上記有機溶媒としては、例えば、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル）等が挙げられる。
【００５８】
上記その他の成分としては特に限定されず、例えば、レベリング剤、有機又は無機微粒子、光重合開始剤、熱重合開始剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、帯電防止剤、酸化防止剤、防汚剤、スリップ剤、屈折率調整剤、分散剤等が挙げられる。
【００５９】
上記プライマー層用組成物は、総固形分が３〜２０％であることが好ましい。３％未満であると、残留溶剤が残ったり、白化が生じるおそれがある。２０％を超えると、プライマー層用組成物の粘度が高くなり、塗工性が低下して表面にムラやスジが出たり、所望の膜厚が得られないおそれがある。上記固形分は、４〜１０％であることがより好ましい。
【００６０】
上記プライマー層用組成物の上記ポリエステル基材への塗布は、任意の段階で実施することができるが、ポリエステル基材の製造過程で実施するのが好ましく、更には配向結晶化が完了する前のポリエステル基材に塗布することが好ましい。
ここで、結晶配向が完了する前のポリエステル基材とは、未延伸フィルム、未延伸フィルムを縦方向又は横方向の何れか一方に配向せしめた一軸配向フィルム、更には縦方向及び横方向の二方向に低倍率延伸配向せしめたもの（最終的に縦方向又は横方向に再延伸せしめて配向結晶化を完了せしめる前の二軸延伸フィルム）等を含むものである。なかでも、未延伸フィルム又は一方向に配向せしめた一軸延伸フィルムに、上記プライマー層用組成物の水性塗液を塗布し、そのまま縦延伸及び／又は横延伸と熱固定とを施すのが好ましい。
上記プライマー層用組成物をポリエステル基材に塗布する際には、塗布性を向上させるための予備処理としてポリエステル基材表面にコロナ表面処理、火炎処理、プラズマ処理等の物理処理を施すか、あるいはプライマー層用組成物と共にこれと化学的に不活性な界面活性剤を併用することが好ましい。
【００６１】
上記プライマー層用組成物の塗布方法としては、公知の任意の塗工法が適用できる。例えば、ロールコート法、グラビアコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法、カーテンコート法等を単独又は組合せて用いることができる。なお、塗膜は必要に応じポリエステル基材の片面のみに形成してもよいし、両面に形成してもよい。
【００６２】
また、上述したように、上記プライマー層の屈折率と厚みを上記特定の範囲としたことで、上記プライマー層による干渉縞防止性能が発現する。
このような屈折率が特定の関係を有するプライマー層やハードコート層は、上述したハードコート層用組成物やプライマー層用組成物に、高屈折率微粒子や低屈折率微粒子を含有させて屈折率を調整した組成物を用いて形成することが好ましい。
【００６３】
上記高屈折率微粒子としては、例えば、屈折率が１．５０〜２．８０の金属酸化物微粒子等が好適に用いられる。上記金属酸化物微粒子としては、具体的には、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率：２．７１）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２、屈折率：２．１０）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率：２．２０）、酸化錫（ＳｎＯ２、屈折率：２．００）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ、屈折率：１．７５〜１．９５）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００）、燐錫化合物（ＰＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５、屈折率：２．０４）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）及びアンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ２Ｏ６、屈折率：１．９０〜２．００）等が挙げられる。なかでも、酸化錫（ＳｎＯ２）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、燐錫化合物（ＰＴＯ）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ）及びアンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ２Ｏ６）は、導電性金属酸化物であり、微粒子の拡散状態を制御し、導電パスを形成することで、帯電防止性を付与できるという利点がある。
また、上記低屈折率微粒子としては、例えば、屈折率が１．２０〜１．４５のものが好適に用いられる。このような低屈折率微粒子としては、従来公知の低屈折率層に用いられている微粒子を用いることができ、例えば、上述した中空シリカ微粒子や、ＬｉＦ（屈折率１．３９）、ＭｇＦ２（フッ化マグネシウム、屈折率１．３８）、ＡｌＦ３（屈折率１．３８）、Ｎａ３ＡｌＦ６（氷晶石、屈折率１．３３）及びＮａＭｇＦ３（屈折率１．３６）等の金属フッ化物微粒子が挙げられる。
【００６４】
上記高屈折率微粒子及び上記低屈折率微粒子の含有量としては特に限定されず、例えば、ハードコート層用組成物に添加する樹脂成分の硬化物の、予め測定した屈折率の値との加重平均で、形成するハードコート層の屈折率が上述した関係を満たすよう、その他の成分との関係で適宜調整すればよい。
【００６５】
なお、上記ハードコート層は、上述の方法で形成したプライマー層上に上記ハードコート層用組成物を塗布してハードコート層用塗膜を形成し、必要に応じて乾燥させた後、上記ハードコート層用塗膜を硬化させて形成できる。
また、上記ハードコート層用組成物が紫外線硬化型樹脂を含む場合においては、上記プライマー層用組成物中に上記ハードコート層用塗膜の硬化に用いる開始剤を含有させておくことで、ハードコート層とプライマー層との密着性をより確実に得ることができる。
【００６６】
本発明の光学積層体は、硬度が、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）による鉛筆硬度試験（荷重４．９Ｎ）において、ＨＢ以上であることが好ましく、Ｈ以上であることがより好ましい。
【００６７】
また、本発明の光学積層体は、全光線透過率が８０％以上であることが好ましい。８０％未満であると、画像表示装置に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある他、所望のコントラストが得られないおそれがある。上記全光線透過率は、９０％以上であることがより好ましい。
上記全光線透過率は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ  Ｋ−７３６１に準拠した方法により測定することができる。
【００６８】
また、本発明の光学積層体は、ヘイズが１％以下であることが好ましい。１％を超えると、所望の光学特性が得られず、本発明の光学積層体を画像表示表面に設置した際の視認性が低下する。
上記ヘイズは、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ  Ｋ−７１３６に準拠した方法により測定することができる。
【００６９】
本発明の光学積層体は、上記光学機能層がハードコート層である場合、光透過性基材上に、例えば、上述したハードコート層用組成物を使用してハードコート層を形成することにより製造することができる。また、上記光学機能層が上記ハードコート層上に低屈折率層が積層された構造の場合、光透過性基材上に、上述したハードコート層用組成物を使用してハードコート層を形成した後、上述した低屈折率層用組成物を使用してハードコート層上に低屈折率層を形成することにより製造することができる。
上記ハードコート層用組成物及びハードコート層の形成方法、低屈折率層用組成物及び低屈折率層の形成方法については、上述したのと同様の材料、方法が挙げられる。
【００７０】
また、面内に複屈折率を有する光透過性基材の一方の面上に光学機能層を有する光学積層体が、偏光素子上に設けられ、画像表示装置の表面に配置して用いられる偏光板であって、上記光透過性基材と上記偏光素子とは、上記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸と、上記偏光素子の吸収軸とが垂直に配置され、上記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸が、上記画像表示装置の表示画面の上下方向と平行に配置されている偏光板もまた、本発明一つである。
【００７１】
本発明の偏光板における上記光学積層体としては、本発明の光学積層体と同様のものが挙げられる。
本発明の偏光板において、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材は、上述した本発明の光学積層体と同様の理由により、リタデーションが３０００ｎｍ以上であることが好ましく、屈折率が大きい方向である遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）と、上記遅相軸方向と直交する方向である進相軸方向の屈折率（ｎｙ）との差（ｎｘ−ｎｙ）が、０．０５以上であることが好ましい。
また、本発明の偏光板は、上述した本発明の光学積層体と同様の理由により、上記光透過性基材と光学機能層との間にプライマー層を有し、上記プライマー層の厚みは、上述した（１）〜（３）に従って適宜選択されることが好ましい。
【００７２】
上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と上記光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
【００７３】
本発明の偏光板において、上記光透過性基材と上記偏光素子とは、上記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸と、上記偏光素子の吸収軸とが垂直となるように配置されている。本発明の偏光板は、上記光透過性基材と上記偏光素子とが上述のように配置され、更に、上記光透過性基材の屈折率の大きい方向である遅相軸が、画像表示装置の表示画面の上下方向と平行に設置されるため、上述した本発明の光学積層体と同様に、反射防止性能と明所コントラストとに優れたものとなる。
なお、上記「上記光透過性基材と上記偏光素子とは、上記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸と、上記偏光素子の吸収軸とが垂直に配置されている」とは、上記光透過性基材の遅相軸と、上記偏光素子の吸収軸とのなす角度が、９０°±４０°の範囲となるように、上記光透過性基材と上記偏光素子とが設置された状態を意味する。
【００７４】
このような本発明の偏光板は、上記光学積層体の光透過性基材と上記偏光素子とを、上記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸と、上記偏光素子の吸収軸とが垂直となるように配置することで製造することができ、上記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸が、前記画像表示装置の表示画面の上下方向と平行に配置される。
【００７５】
上述した本発明の光学積層体又は本発明の偏光板を備えてなる画像表示装置もまた、本発明の一つである。
本発明の画像表示装置は、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ、タブレットＰＣ、タッチパネル、電子ペーパー等の画像表示装置であってもよい。
【００７６】
上記の代表的な例であるＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は本発明の偏光板が形成されてなるものである。
【００７７】
本発明の画像表示装置が本発明の光学積層体又は偏光板を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は本発明の光学積層体又は本発明の偏光板の下側から照射される。なお、液晶表示素子と本発明の偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。
【００７８】
上記ＰＤＰは、表面に電極を形成した表面ガラス基板と、当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置され、電極及び、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成した背面ガラス基板とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した本発明の光学積層体を備えるものでもある。
【００７９】
本発明の画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した本発明の光学積層体を備えるものである。
【００８０】
ここで、本発明が上記光学積層体有する液晶表示装置の場合、該液晶表示装置において、バックライト光源としては特に限定されないが、白色発光ダイオード（白色ＬＥＤ）であることが好ましく、本発明の画像表示装置は、バックライト光源として白色発光ダイオードを備えたＶＡモード又はＩＰＳモードの液晶表示装置であることが好ましい。
上記白色ＬＥＤとは、蛍光体方式、すなわち化合物半導体を使用した青色光又は紫外光を発する発光ダイオードと蛍光体を組み合わせることにより白色を発する素子のことである。なかでも、化合物半導体を使用した青色発光ダイオードとイットリウム・アルミニウム・ガーネット系黄色蛍光体とを組み合わせた発光素子からなる白色発光ダイオードは、連続的で幅広い発光スペクトルを有していることから反射防止性能及び明所コントラストの改善に有効であるとともに、発光効率にも優れるため、本発明における上記バックライト光源として好適である。また、消費電力の小さい白色ＬＥＤを広汎に利用可能になるので、省エネルギー化の効果も奏することが可能となる。
また、上記ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードとは、電圧無印加のときに液晶分子が液晶セルの基板に垂直になるように配向されて暗表示を示し、電圧の印加で液晶分子を倒れ込ますことで明表示を示す動作モードである。
また、上記ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードとは、液晶セルの一方の基板に設けた櫛形電極対に印加された横方向の電界により、液晶を基板面内で回転させて表示を行う方式である。
本発明の光学積層体又は偏光板を用いた画像表示装置が、バックライト光源として白色発光ダイオードを備えたＶＡモード又はＩＰＳモードであることが好ましいのは、以下の理由からである。
すなわち、本発明の画像表示装置は、表示画面に入射する割合の多い左右方向に振動する光（Ｓ偏光）の本発明の光学積層体又は偏光板での反射を低減させることができるが、結果として、多くのＳ偏光が透過することとなる。通常、これらの透過したＳ偏光は、表示装置内部で吸収されるが、観測者側に戻ってくる光もごく僅かであるが存在する。ＶＡモード又はＩＰＳモードは、液晶セルよりも観測者側に設置された偏光子の吸収軸が、表示画面に対して左右方向であるため、本発明の光学積層体又は偏光板を透過したＳ偏光を吸収することができ、より、観測者側に戻ってくる光を低下させることができるからである。
【００８１】
本発明の画像表示装置は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、電子ペーパー、タッチパネル、タブレットＰＣなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＦＥＤ、タッチパネルなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。
【００８２】
また、面内に複屈折率を有する光透過性基材の一方の面上に光学機能層を有する光学積層体を備えた画像表示装置の製造方法も本発明の一つである。
すなわち、本発明の画像表示装置の製造方法は、面内に複屈折率を有する光透過性基材の一方の面上に光学機能層を有する光学積層体を備えた画像表示装置の製造方法であって、上記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸と、上記画像表示装置の表示画面の上下方向とが平行となるように、上記光学積層体を配置する工程を有することを特徴とする。
本発明の画像表示装置の製造方法において、上記光学積層体としては、上述した本発明の光学積層体と同様のものが挙げられる。
また、上記「上記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸と、上記画像表示装置の表示画面の上下方向とが平行となるように、上記光学積層体を配置する」とは、上記遅相軸と、上記表示画面の上下方向とのなす角度が、０°±４０°の範囲となるように、上記光学積層体を配置することを意味する。
【００８３】
上述した本発明の画像表示装置は、反射防止性能と明所コントラストとに優れ、視認性が改善されたものとなる。このような本発明の画像表示装置による視認性改善方法もまた、本発明の一つである。
すなわち、本発明の画像表示装置の視認性改善方法は、面内に複屈折率を有する光透過性基材の一方の面上に光学機能層を有する光学積層体を備えた画像表示装置の視認性改善方法であって、上記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸と、上記画像表示装置の表示画面の上下方向とが平行となるように、上記光学積層体を配置することを特徴とする。
本発明の画像表示装置の視認性改善方法において、上記光学積層体としては、上述した本発明の光学積層体と同様のものが挙げられ、また、上記画像表示装置としては、上述した本発明の画像表示装置と同様のものが挙げられる。
また、上記「上記光透過性基材の屈折率が大きい方向である遅相軸と、上記画像表示装置の表示画面の上下方向とが平行となるように、上記光学積層体を配置する」とは、上記遅相軸と、上記表示画面の上下方向とのなす角度が、０°±４０°の範囲となるように、上記光学積層体を配置することを意味する。
【発明の効果】
【００８４】
本発明の光学積層体及び偏光板は、上述した構成からなるものであるため、ポリエステルフィルムのような面内に複屈折率を有する光透過性基材を用いた場合であっても、反射防止性能と明所コントラストとに優れる画像表示装置を得ることができる。
このため、本発明の光学積層体及び偏光板は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、電子ペーパー、タッチパネル、タブレットＰＣ等に好適に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】実施例等で使用した液晶モニターのバックライト光源スペクトルを示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００８６】
（明所コントラスト評価法）
反射率測定時のＳ偏光と光透過性基材の進相軸との関係が同じとなるように、液晶モニター（ＦＬＡＴＯＲＯＮ  ＩＰＳ２２６Ｖ（ＬＧ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ  Ｊａｐａｎ社製））の観察者側の偏光素子上に、光学機能層を観測者側となるように光学積層体を設置し、周辺照度４００ルクス（明所）において、表示画面の明所コントラストを目視にて評価した。
具体的には、明所コントラストは下記式により表され、一般に明所白輝度の変化率は小さく明所黒輝度の変化率は大きいので、明所コントラストは明所黒輝度に支配される。また、パネル本来の黒輝度は明所黒輝度に比べて小さく無視できるので、下記要領で黒さ（明所黒輝度）を評価して実質的に明所コントラストの評価とした。
すなわち、光学積層体を、Ｓ偏光と光透過性基材の進相軸を平行に設置した液晶モニターＡと、Ｓ偏光と光透過性基材の遅相軸を平行に設置した液晶モニターＢとを並べ、１５人の被験者により官能評価（黒表示した液晶モニターを５０〜６０ｃｍ離れた位置から目視観察し、どちらが黒く見えるかを評価）を行い、黒いと答えた人数が１２人以上の液晶モニターを明所コントラストが優れ、人数が１２人に満たない場合、つまりは１１人以下の場合は劣る評価とした。なお、液晶モニターＡ、Ｂへ光学積層体を設置する角度は、各実施例、比較例毎に適宜角度を振って評価を行っている。
明所コントラスト：ＣＲ＝ＬＷ／ＬＢ
明所白輝度（ＬＷ）：外光がある明所（周辺照度４００ルクス）にて、表示装置を白表示した時の輝度
明所黒輝度（ＬＢ）：外光がある明所（周辺照度４００ルクス）にて、表示装置を黒表示した時の輝度
【００８７】
（反射率測定方法）
測定側である、光学積層体の光学機能層を設けた側とは反対側に、黒ビニールテープ（ヤマトビニールテープＮｏ２００−３８−２１  ３８ｍｍ幅を貼った後、分光光度計（Ｖ７１００型、自動絶対反射率測定ユニットＶＡＲ−７０１０  日本分光社製）を用いて、偏光測定：Ｓ偏光に対して、光透過性基材の遅相軸を平行に設置した場合と、進相軸を平行に設置した場合との５度反射率を測定した。
【００８８】
（ニジムラの評価）
各実施例、比較例、参考例にて、上記明所コントラスト評価用に光学積層体を設置した液晶モニターを、正面及び斜め方向（約５０°）、５０〜６０ｃｍ離れた位置から目視及び偏光サングラス越しに表示画像の観察を行い、ニジムラを評価した。
図１に、使用した液晶モニターのバックライト光源スペクトルを示す。
【００８９】
（リタデーションの測定）
光透過性基材のリタデーションは、次のようにして測定した。
まず、延伸後の光透過性基材を、二枚の偏光板を用いて、光透過性基材の配向軸方向を求め、配向軸方向に対して直交する二つの軸の波長５９０ｎｍに対する屈折率（ｎｘ、ｎｙ）を、アッベ屈折率計（アタゴ社製  ＮＡＲ−４Ｔ）によって求めた。ここで、より大きい屈折率を示す軸を遅相軸と定義する。光透過性基材の厚みｄ（ｎｍ）は、電気マイクロメータ（アンリツ社製）を用いて測定し、単位をｎｍに換算した。屈折率差（ｎｘ−ｎｙ）と、フィルムの厚みｄ（ｎｍ）の積より、リタデーションを計算した。
【００９０】
（屈折率の測定）
エリプソメーター（ＵＶＩＳＥＬ  堀場製作所社製）を用いて測定した。
【００９１】
（面内に複屈折率を有するか否かの判断）
面内に複屈折率を有するか否かは、次のようにして判断した。王子計測機器社製ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用いて、測定角０°かつ測定波長５８９．３ｎｍに設定して、面内位相差を測定し、面内位相差が２０ｎｍ未満のものは、面内に複屈折率を有さないと判断し、２０ｎｍ以上のものは、面内に複屈折率を有すると判断した。
【００９２】
（実施例１、比較例１）
ポリエチレンテレフタレート材料を２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置（東洋精機社製）にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率４．５倍に延伸した後、その延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．５倍にて延伸を行い、ｎｘ＝１．７０、ｎｙ＝１．６０、（ｎｘ−ｎｙ）＝０．１０、膜厚８０μｍ、リタデーション＝８０００ｎｍの光透過性基材を得た。
次に、光学機能層として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）を、ＭＩＢＫ溶媒に３０質量％溶解させ、光重合開始剤（Ｉｒｇ１８４、ＢＡＳＦ社製）を固形分に対して５質量％添加した光学機能層用組成物を、バーコーターにより、乾燥後の膜厚が５μｍとなるように塗工し塗膜を形成した。
次いで、形成した塗膜を７０℃で１分間加熱して、溶剤を除去し、塗工面に紫外線を照射することにより、固定化し、屈折率（ｎｆ）１．５３の光学機能層を有する光学積層体を得た。Ｓ偏光と光透過性基材の進相軸を平行に設置して測定した実施例１の光学積層体の反射率は、４．４５％であり、Ｓ偏光と光透過性基材の遅相軸とを平行に設置して測定した比較例１の反射率は、４．７３％であり、実施例１の光学積層体の方が反射防止性能に優れていた。
また、反射率測定時のＳ偏光と光透過性基材の進相軸との関係が同じとなるように、液晶モニター（ＦＬＡＴＯＲＯＮ  ＩＰＳ２２６Ｖ（ＬＧ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ  Ｊａｐａｎ社製））の観察者側の偏光素子上に、光学機能層を観測者側となるように光学積層体を設置し、周辺照度４００ルクス（明所）において、表示画面の明所コントラストを目視にて評価した。
実施例１の場合、表示画面に入射する割合の多い該表示画面に対して左右方向に振動するＳ偏光と、光透過性基材の進相軸を平行（光透過性基材の遅相軸が、表示画面の上下方向と平行）となるように設置し、比較例１の場合、Ｓ偏光と光透過性基材の遅相軸を平行に設置し、評価した。その結果、実施例１の光学積層体を用いた液晶モニターは、比較例１の光学積層体を用いた液晶モニターよりも、明所コントラストが優れたものであり、ニジムラも無く、視認性改善が極めてよくされた状態であった。比較例１の光学積層体を用いた液晶モニターは、ニジムラは見られないが、実施例１の光学積層体を用いた液晶モニターと比較して明所コントラストに劣り、反射防止性能も劣るものであった。
【００９３】
（実施例２、比較例２）
ポリエチレンテレフタレート材料を２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置（東洋精機製）にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率４．５倍に延伸した後、その延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．８倍にて延伸を行い、ｎｘ＝１．６８、ｎｙ＝１．６２、（ｎｘ−ｎｙ）＝０．０６、膜厚８０μｍ、リタデーション＝４８００ｎｍの光透過性基材を得た。
得られた光透過性基材を用いた以外、実施例１と同様の方法にて、屈折率（ｎｆ）１．５３の光学機能層を有する光学積層体を得た。得られた光学積層体を用いて、実施例１と同様にして反射率を測定し、明所コントラストを評価したところ、実施例２の光学積層体の反射率は４．４６％であり、Ｓ偏光と光透過性基材の遅相軸を平行に設置して測定した比較例２の光学積層体の反射率は、４．６３％で、実施例２の光学積層体の方が反射防止性能に優れていた。
また、実施例１と同様にして評価した実施例２の光学積層体を用いた液晶モニターの表示画面の明所コントラストは、比較例２の光学積層体を用いた液晶モニターの表示画面の明所コントラストよりも優れていた。更にはニジムラもなく、実施例２の光学積層体を用いた液晶モニターは、視認性改善が極めてよくされた状態であった。一方、比較例２の光学積層体を用いた液晶モニターの表示画面は、ニジムラは見られないが、実施例２と比較して明所コントラストに劣るものであった。
【００９４】
（実施例３、比較例３）
ポリエチレンテレフタレート材料を２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率４．５倍に延伸した後、片側にポリエステル樹脂の水分散体２８．０質量部と水７２．０質量部とからなるプライマー層用樹脂組成物を、ロールコーターにて均一に塗布した。次いで、この塗布フィルムを９５℃で乾燥し、先の延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．５倍にて延伸を行い、ｎｘ＝１．７０、ｎｙ＝１．６０、（ｎｘ−ｎｙ）＝０．１０、膜厚８０μｍ、リタデーション＝８０００ｎｍのフィルム上に、屈折率１．５６、膜厚１００ｎｍのプライマー層を設けた光透過性基材を得た。
得られた光透過性基材を用いた以外、実施例１と同様の方法にて、屈折率（ｎｆ）１．５３の光学機能層を有する光学積層体を得た。得られた光学積層体を用いて、実施例１と同様にして反射率を測定し、明所コントラストを評価したところ、実施例３の光学積層体の反射率は４．３６％であり、Ｓ偏光と光透過性基材の遅相軸を平行に設置して測定した比較例３の光学積層体の反射率は、４．４８％であり、実施例３の光学積層体の方が反射防止性能が優れていた。
また、実施例１と同様にして評価した実施例３の光学積層体を用いた液晶モニターの表示画面の明所コントラストは、比較例３の光学積層体を用いた液晶モニターの表示画面の明所コントラストより優れていた。更にはニジムラもなく、実施例３の光学積層体を用いた液晶モニターは、視認性改善が極めてよくされた状態であった。一方、比較例３の光学積層体を用いた液晶モニターの表示画面では、ニジムラは見られないが、実施例３と比較して明所コントラストに劣るものであった。
【００９５】
（実施例４、比較例４）
ポリエチレンテレフタレート材料を２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置（東洋精機社製）にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率４．０倍に延伸した後、片側にポリエステル樹脂の水分散体２８．０質量部と水７２．０質量部とからなるプライマー層用樹脂組成物を、ロールコーターにて均一に塗布した。次いで、この塗布フィルムを９５℃で乾燥し、先の延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．８倍にて延伸を行い、ｎｘ＝１．６８、ｎｙ＝１．６３、（ｎｘ−ｎｙ）＝０．０５、膜厚７０μｍ、リタデーション＝３５００ｎｍのフィルム上に、屈折率（ｎｐ）１．５６、膜厚１００ｎｍのプライマー層を設けた光透過性基材を得た。
得られた光透過性基材を用いた以外、実施例１と同様の方法にて、屈折率（ｎｆ）１．５３の光学機能層を有する光学積層体を得た。なお、光学機能層はプライマー層上に形成した。得られた光学積層体を用いて、実施例１と同様にして反射率を測定し、明所コントラストを評価したところ、実施例４光学積層体の反射率は４．３８％であり、Ｓ偏光と光透過性基材の遅相軸を平行に設置して測定した比較例４の光学積層体の反射率は４．４７％で、実施例４の光学積層体の方が反射防止性能に優れていた。
また、実施例１と同様にして評価した実施例４の光学積層体を用いた液晶モニターの表示画面の明所コントラストは、比較例４の光学積層体を用いた液晶モニターの表示画面の明所コントラストよりも優れていた。更にはニジムラもなく、実施例４の光学積層体を用いた液晶モニターは、視認性改善が極めてよくされた状態であった。一方、比較例４の光学積層体を用いた液晶モニターの表示画面は、ニジムラは見られないが、実施例４と比較して明所コントラストに劣るものであった。
【００９６】
（実施例５、比較例５）
ポリエチレンテレフタレート材料を２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率４．５倍に延伸した後、片側にポリエステル樹脂の水分散体２８．０質量部と水７２．０質量部とからなるプライマー層用樹脂組成物を、ロールコーターにて均一に塗布した。次いで、この塗布フィルムを９５℃で乾燥し、先の延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．５倍にて延伸を行い、ｎｘ＝１．７０、ｎｙ＝１．６０、（ｎｘ−ｎｙ）＝０．１０、膜厚３８μｍ、リタデーション＝３８００ｎｍのフィルム上に、屈折率（ｎｐ）１．５６、膜厚１００ｎｍのプライマー層を設けた光透過性基材を得た。
得られた光透過性基材を用いた以外、実施例１と同様の方法にて、屈折率（ｎｆ）１．５３の光学機能層を有する光学積層体を得た。なお、光学機能層はプライマー層上に形成した。得られた光学積層体を用いて、Ｓ偏光と光透過性基材の進相軸とのなす角度が３０度となるように設置して測定した実施例５の光学積層体の反射率は４．３９％であり、Ｓ偏光と光透過性基材の遅相軸とのなす角度が３０度となるように設置して測定した比較例５の光学積層体の反射率は、４．４５％で、実施例５の光学積層体の方が反射防止性能に優れていた。
また、実施例１と同様にして評価した実施例５の光学積層体を用いた液晶モニターの表示画面の明所コントラストは、比較例５の光学積層体を用いた液晶モニターの表示画面の明所コントラストよりも優れており、更にニジムラは、偏光サングラス越しにて、うっすらと見える程度で、実使用上問題ないレベルであり、実施例５の光学積層体を用いた液晶モニターは、視認性が改善された状態であった。一方、比較例５の光学積層体を用いた液晶モニターは、ニジムラは、偏光サングラス越しにて、うっすらと見える程度で、実使用上問題ないレベルであったが、実施例５と比較して明所コントラストに劣るものであった。
【００９７】
（実施例６、比較例６）
ポリエチレンテレフタレート材料を２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率４．５倍に延伸した後、片側にポリエステル樹脂の水分散体２８．０質量部と水７２．０質量部とからなるプライマー層用樹脂組成物を、ロールコーターにて均一に塗布した。次いで、この塗布フィルムを９５℃で乾燥し、先の延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．５倍にて延伸を行い、ｎｘ＝１．７０、ｎｙ＝１．６０、（ｎｘ−ｎｙ）＝０．１０、膜厚１０μｍ、リタデーション＝１０００ｎｍのフィルム上に、屈折率（ｎｐ）１．５６、膜厚１００ｎｍのプライマー層を設けた光透過性基材を得た。
得られた光透過性基材を用いた以外、実施例１と同様の方法にて、屈折率（ｎｆ）１．５３の光学機能層を有する光学積層体を得た。得られた光学積層体を用いて、Ｓ偏光と光透過性基材の進相軸とが平行となるように設置して測定した実施例６の光学積層体の反射率は４．４０％、Ｓ偏光と遅相軸とが平行となるように設置して測定した比較例６の光学積層体の反射率は４．４７％であり、実施例６の光学積層体の方が反射防止性能に優れていた。
また、実施例１と同様にして評価した実施例６の光学積層体を用いた液晶モニターの表示画面の明所コントラストは、比較例６の光学積層体を用いた液晶モニターの表示画面の明所コントラストよりも優れており、視認性が改善された状態であった。しかしながら、いずれの光学積層体もリタデーションが３０００ｎｍ未満であったため、偏光サングラス越しでのニジムラが強く観察された。一方、比較例６に係る光学積層体を用いた液晶モニターは、実施例６と比較して明所コントラストに劣り、また、偏光サングラス越しでのニジムラが強く観察された。
【００９８】
（比較例７）
実施例３で作製した光学積層体を用い、Ｓ偏光と光透過性基材の進相軸とのなす角度が４５°となるように設置して測定した反射率は、４．４２％、Ｓ偏光と光透過性基材の遅相軸とのなす角度が４５°となるように設置して測定した反射率も同様に４．４２％であり、反射率に差はなく、反射防止性能は得られなかった。比較例７に係る光学積層体を、実施例１と同様にしてニジムラ及び明所コントラストを評価したところ、いずれの角度に設置した場合もニジムラは見られず、角度毎の明所コントラストにおいても差はなかったが、実施例３に係る光学積層体と比較して、明所コントラストは劣るものであった。
【００９９】
（参考例１）
ポリエチレンテレフタレート材料を２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率４．５倍に延伸した後、片側にポリエステル樹脂の水分散体２８．０質量部と水７２．０質量部からなるプライマー層用樹脂組成物を、ロールコーターにて均一に塗布した。次いで、この塗布フィルムを９５℃で乾燥し、先の延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．５倍にて延伸を行い、ｎｘ＝１．７０、ｎｙ＝１．６０、（ｎｘ−ｎｙ）＝０．１０、膜厚２８μｍ、リタデーション＝２８００ｎｍのフィルム上に、屈折率（ｎｐ）１．５６、膜厚１００ｎｍのプライマー層を設けた光透過性基材を得た。
得られた光透過性基材を用いた以外、実施例１と同様の方法にて、屈折率（ｎｆ）１．５３の光学機能層を有する光学積層体を得た。得られた光学積層体を用いて、Ｓ偏光と光透過性基材の進相軸とのなす角度が３０°となるように設置して測定した反射率は４．３９％、Ｓ偏光と遅相軸とのなす角度が３０°となるように設置して測定した反射率は４．４５％であり、反射率に差があり、反射防止効果が得られた。明所コントラストにおいても、Ｓ偏光と光透過性基材の進相軸とのなす角度が３０°のほうが良好であったが、リタデーションが３０００ｎｍ未満であったため、偏光サングラス越しでのニジムラが強く観測された。
【０１００】
（参考例２）
ポリエチレンテレフタレート材料を２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率３．８倍に延伸した後、片側にポリエステル樹脂の水分散体２８．０質量部と水７２．０質量部からなるプライマー層用樹脂組成物を、ロールコーターにて均一に塗布した。次いで、この塗布フィルムを９５℃で乾燥し、先の延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．８倍にて延伸を行い、ｎｘ＝１．６６、ｎｙ＝１．６３、（ｎｘ−ｎｙ）＝０．０３、膜厚１００μｍ、リタデーション＝３５００ｎｍのフィルム上に、屈折率（ｎｐ）１．５６、膜厚１００ｎｍのプライマー層を設けた光透過性基材を得た。Ｓ偏光と光透過性基材の進相軸を平行に設置して測定した反射率は、４．４１％、Ｓ偏光と光透過性基材の遅相軸を平行に設置して測定した反射率は４．４３％であり、反射率に僅かな差があり反射防止効果があった。また、いずれの角度に設置した場合もニジムラは見られなかったが、明所コントラストにおいては、いずれの角度に設置した場合も差が見られず、（ｎｘ−ｎｙ）＝０．０３と小さいため、明所コントラストが実施例４、５と比較すると劣っていた。
【０１０１】
（参考例３）
ｎｘ＝１．４８０２６、ｎｙ＝１．４８０１９、（ｎｘ−ｎｙ）＝０．０００７、膜厚８０μｍであり、面内位相差が５．６ｎｍであるトリアセチルセルロース（ＴＤ８０ＵＬＭ  富士フィルム社製）基材上に、実施例１同様の方法にて、屈折率（ｎｆ）１．５３の光学機能層を設け光学積層体を作製した。
得られた光学積層体を用いて、Ｓ偏光と光透過性基材の進相軸を平行に設置して測定した反射率は、４．３９％、Ｓ偏光と光透過性基材の遅相軸を平行に設置して測定した反射率も同様に４．３９％であり、反射率に差はなかった。上記反射率に差はないが、光透過性基材としてトリアセチルセルロースを用いたので、反射率に問題はない。参考例３に係る光学積層体を、実施例１と同様にしてニジムラ及び明所コントラストを評価したところ、いずれの角度に設置した場合も明所コントラストに差はなく、ニジムラも見られなかった。当該参考例３により、従来、液晶表示装置に用いられていた面内に複屈折率を有さない光透過性基材を用いた場合、明所コントラスト及びニジムラの問題が生じず視認性に問題ないことが確認できた。各実施例においては、この参考例３の視認性と同程度に優れた視認性が得られた。
【産業上の利用可能性】
【０１０２】
本発明の光学積層体及び偏光板は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットＰＣ等に好適に適用することができる。
【図１】
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