(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ローランド円の直径を曲率半径として湾曲する凹面を有する基板の前記凹面上に形成された、アルキル鎖からなる有機物とシリカからなる無機酸化物が交互に積層した有機−無機層状膜から構成されるＸ線モノクロメータであって、前記有機−無機層状膜へローランド円の円周上から入射するＸ線の入射角が１０°以上であり、前記有機−無機層状膜の表面粗さの最大高さＲｙが１００ｎｍ以下であり、かつ前記有機−無機層状膜の有機物と無機酸化物が交互に前記基板の湾曲した凹面の法線方向に構造周期を有して積層されていることを特徴とするＸ線モノクロメータ。
【請求項２】
ローランド円の直径を曲率半径として湾曲する凹面を有する基板と、前記基板の前記凹面上に形成された、請求項１に記載のＸ線モノクロメータと、前記ローランド円の円周上に配置されたＸ線源およびＸ線検出器と、を有することを特徴とするＸ線分光装置。
【請求項３】
有機物と、無機酸化物の前駆体とを含む反応液を準備する工程と、ローランド円の直径を曲率半径として湾曲する基板の凹面上に前記反応液を用いて有機−無機層状膜を形成する工程とを有することを特徴とするＸ線モノクロメータの製造方法。
【請求項４】
前記有機−無機層状膜を形成する工程が、前記反応液を前記基板の凹面に塗布する工程であることを特徴とする請求項３に記載のＸ線モノクロメータの製造方法。
【請求項５】
前記反応液が、有機無機オリゴマーあるいはシランカップリング剤からなる前駆体を含有することを特徴とする請求項３または４に記載のＸ線モノクロメータの製造方法。
【請求項６】
前記前駆体がアルキル鎖含有シロキサンオリゴマーであることを特徴とする請求項５に記載のＸ線モノクロメータの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｘ線モノクロメータ、その製造方法及び前記Ｘ線モノクロメータを用いたＸ線分光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線モノクロメータは、図１に示すような構成のＸ線分光装置の中で用いられる。図１に示す様に、半径Ｒのローランド円１４の円周上に、Ｘ線モノクロメータ１１、Ｘ線源１２、及びＸ線検出器１３が配置される。Ｘ線源１２は、蛍光Ｘ線を示す試料等である。Ｘ線源１２から放射された多様な波長成分を含むＸ線（入射Ｘ線１６）がＸ線モノクロメータ１１の各位置で反射して、反射Ｘ線１７がＸ線検出器１３の部分で集光されて、Ｘ線の強度が測定される。この際、Ｘ線の反射には回折現象を利用しており、下記のＢｒａｇｇ条件（式１）を満たす特定の波長のみがＸ線検出器１３によって測定される。Ｘ線源１２、及びＸ線検出器１３をローランド円１４の円周上を移動させ、入射角度θを変更することにより、式１に対応した各波長のＸ線強度を測定することができる。
【０００３】
【数１】
0005538840.tif 000002
【０００４】
（式中、ｄ：構造周期、θ：入射角、回折角（Ｂｒａｇｇ角）、ｎ：回折の次数、λ：Ｘ線の波長を示す。）
【０００５】
Ｘ線モノクロメータ１１の各反射位置においては、式１を満足するように、その各位置において点Ｂに向かう方向の構造周期性を有しており、その構造周期が式１におけるｄである。すなわち、Ｘ線モノクロメータ１１は、ローランド円の直径（２Ｒ）を曲率半径として湾曲した、湾曲面の法線方向に周期性を有する材料から構成される。
【０００６】
さらに、Ｘ線検出器１３の位置において、反射Ｘ線１７が集光されるように、Ｘ線モノクロメータ１１の表面形状は、ローランド円１４の円周に沿っている必要があり、このような構成のものをヨハンソン型モノクロメータという。しかしながら、実際には、ヨハンソン型モノクロメータを製造するには、モノクロメータを研磨する必要がある。そのため、特許文献１で報告されているように、用いる構造周期性材料によっては、研磨を実施しないで、モノクロメータ表面の形状が、ローランド円の直径（２Ｒ）を半径とする円１５の円周に沿った、図１に示すようなヨハン型モノクロメータを用いられることも多い。
【０００７】
Ｘ線モノクロメータに用いられる構造周期性材料は、Ｘ線の波長が比較的長波長である場合には、構造周期を容易に可変できるという観点から、主に無機物からなる数ｎｍの構造周期を有する人工多層膜が用いられることが多い。さらに、Ｘ線の分光性能を向上させるためには、前記人工多層膜には、有機物等の電子密度の低い材料を用いることが好ましい。電子密度の低い材料の人工多層膜からなるＸ線モノクロメータとしては、特許文献１は、有機・無機を問わずに、層間の界面が原子レベルできれいに整然とする限り、任意のものを用いることのできるＸ線モノクロメータが開示されている。また、特許文献２には、層空間に有機カチオンを包摂した、層状構造を有する粘土、及び雲母鉱物を、前記構造周期性材料に用いたＸ線モノクロメータが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平６−２７３００号公報
【特許文献２】特開昭６３−９４２００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上記の文献では、改善すべき課題がある。特許文献１に開示されているＸ線モノクロメータは、微小角度（３°以下）でＸ線を入射させる。そのために、Ｘ線モノクロメータに照射されるＸ線の幅が大きくなり、モノクロメータの長さ、及びローランド円を大きくしなければならない。したがって、Ｘ線モノクロメータが用いられるＸ線分光装置を大きくしなければならないという課題があった。
【００１０】
また、特許文献２に開示されているＸ線モノクロメータは、数μｍ以下の粒子状のゾル溶液からＸ線モノクロメータの人工多層膜を作製している。そのため、粘土、及び雲母鉱物の結晶子サイズが比較的小さく、１００ｎｍより大きな膜厚の凹凸が人工多層膜に形成され、Ｘ線の分光性能が限定されることがあるという課題があった。
【００１１】
本発明は、この様な背景技術に鑑みてなされたものであり、Ｘ線分光性能が良好で、かつ比較的小型に設計可能なＸ線モノクロメータ及びその製造方法を提供するものである。
また、本発明は上記のＸ線モノクロメータを用いたＸ線分光装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の課題を解決するＸ線モノクロメータは、ローランド円の直径を曲率半径として湾曲する凹面を有する基板の前記凹面上に形成された、アルキル鎖からなる有機物とシリカからなる無機酸化物が交互に積層した有機−無機層状膜から構成されるＸ線モノクロメータであって、前記有機−無機層状膜へローランド円の円周上から入射するＸ線の入射角が１０°以上であり、前記有機−無機層状膜の表面粗さの最大高さＲｙが１００ｎｍ以下であり、かつ前記有機−無機層状膜の有機物と無機酸化物が交互に前記基板の湾曲した凹面の法線方向に構造周期を有して積層されていることを特徴とする。
【００１３】
上記の課題を解決するＸ線分光装置は、ローランド円の直径を曲率半径として湾曲する凹面を有する基板と、前記基板の前記凹面上に形成された、上記のＸ線モノクロメータと、前記ローランド円の円周上に配置されたＸ線源およびＸ線検出器とを有することを特徴とする。
【００１４】
上記の課題を解決するＸ線モノクロメータの製造方法は、有機物と、無機酸化物の前駆体とを含む反応液を準備する工程と、ローランド円の直径を曲率半径として湾曲する基板の凹面上に前記反応液を用いて有機−無機層状膜を形成する工程とを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、Ｘ線分光性能が良好で、かつ比較的小型に設計可能なＸ線モノクロメータ及びその製造方法を提供することができる。
また、本発明は上記のＸ線モノクロメータを用いたＸ線分光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】Ｘ線モノクロメータ及びＸ線分光装置を示す概略図である。
【図２】Ｘ線モノクロメータに用いる基板を示す概略図である。
【図３】本発明の実施例及び比較例で用いる基板を示す概略図である。
【図４】本発明のＸ線モノクロメータにおける有機物と無機酸化物が交互に積層した有機−無機層状膜の一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に係るＸ線モノクロメータは、ローランド円の直径を曲率半径として湾曲する凹面を有する基板の前記凹面上に形成された、有機物と無機酸化物が交互に積層した有機−無機層状膜から構成されるＸ線モノクロメータであって、前記有機−無機層状膜へローランド円の円周上から入射するＸ線の入射角が１０°以上であり、前記有機−無機層状膜の表面粗さの最大高さＲｙが１００ｎｍ以下であり、かつ前記有機−無機層状膜の有機物と無機酸化物が交互に前記基板の湾曲した凹面の法線方向に構造周期を有して積層されていることを特徴とする。
【００１９】
本発明を、図１に示すＸ線モノクロメータ及びＸ線分光装置に基づいて説明する。本発明のＸ線モノクロメータ１１は、ローランド円の直径を曲率半径として湾曲する凹面を有する基板１８の前記凹面上に形成された、有機物と無機酸化物が交互に積層した有機−無機層状膜から構成されるＸ線モノクロメータである。Ｘ線モノクロメータの有機−無機層状膜は、基板１８の凹面の法線方向１９の構造周期（以下、法線構造周期）を有する。ローランド円とは、図１における円１４のことを示す。すなわち、蛍光Ｘ線を示す試料等のＸ線源１２、Ｘ線検出器１３、及びＸ線モノクロメータ１１が、その円周上に配置される円である。
【００２０】
図１において、入射角θが小さいほうが、入射Ｘ線１６がＸ線モノクロメータに照射される面積が大きくなることがわかる。よって、Ｘ線の入射角θが小さい場合、発散した入射Ｘ線１６をＸ線モノクロメータ１１で反射して、反射Ｘ線１７をＸ線検出器１３において集光させるには、より大きな面積のＸ線モノクロメータを用いなくてはならない。また、それに伴いローランド円の直径も大きくしなければならない。これは、Ｘ線モノクロメータを用いたＸ線分光装置が大きくなることを意味する。
【００２１】
そのため、本発明のＸ線モノクロメータにおいては、入射するＸ線の入射角θが１０°以上になるように設計することが好ましい。そのために、Ｘ線モノクロメータの有機−無機層状膜の面積を、ローランド円の円周上から１０°以上、好ましくは１５°以上の角度で入射するＸ線を検出可能な大きさに縮小することができる。Ｘ線を１０°以上の広角で入射することにより、比較的小型に設計可能なＸ線モノクロメータ及びそれを用いたＸ線分光装置とすることができる。
【００２２】
後述のように、前記有機−無機層状膜は、前駆体として用いる有機分子等を適切に選択することにより、法線構造周期を調整することが可能である。よって、対象となるＸ線の波長領域に応じて、法線構造周期を適宜調整することができ、式１に従ってＸ線入射角θが１０°以上になるように設計することができる。
【００２３】
本発明における有機−無機層状膜とは、無機酸化物と有機物が交互に積層した構造の膜であり、その積層周期が、法線構造周期となる。これらの法線構造周期は、Ｂｒａｇｇ−Ｂｒｅｎｔａｎｏ配置のθ−２θスキャニングＸ線回折によって測定することができる。
【００２４】
図４は本発明のＸ線モノクロメータにおける有機物と無機酸化物が交互に積層した有機−無機層状膜の一例を示す概略図である。図４において、４１は基板、４２は無機物、４３は有機物、４４は構造周期を示す。
【００２５】
本発明のＸ線モノクロメータにおける有機−無機層状膜の厚さは、５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以上６００ｎｍ以下が望ましい。
また、法線構造周期の厚さは、２ｎｍ以上５０ｎｍ以下、好ましくは３ｎｍ以上２０ｎｍ以下が望ましい。
【００２６】
また、本発明における有機−無機層状膜は、後述のように、前駆体反応液から化学反応を通して作製される。そのため、前記有機−無機層状膜は分子、あるいは原子が結合して作製されるため、その結晶子サイズは大きく、基板全面に渡って均一な膜が形成される。そのため、有機−無機層状膜の表面粗さの最大高さＲｙが１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下にすることができ、Ｘ線の分光性能を高くすることができる。本発明における有機−無機層状膜は、厳密な意味での結晶ではないが、構造周期を有する結晶性の膜であるため、「結晶子」という表現を用いる。結晶子とは、具体的には、結晶性を有する局所的な構造体であり、そのサイズはＸ線回折におけるＳｃｈｅｒｒｅｒ法によって算出することができる。
【００２７】
本発明に係るＸ線モノクロメータの製造方法は、有機物と、無機酸化物の前駆体とを含む反応液を準備する工程と、ローランド円の直径を曲率半径として湾曲する基板の凹面に前記反応液を用いて有機−無機層状膜を形成する工程とを有することを特徴とする。
【００２８】
また、本発明に係るＸ線モノクロメータの製造方法は、有機物と、無機酸化物の前駆体とを含む反応液を準備する工程と、ローランド円の直径を曲率半径として湾曲する基板の凹面に前記反応液を用いて有機−無機層状膜を形成する工程と、前記有機−無機層状膜から有機物を除去する工程とを有することを特徴とする。
【００２９】
本発明において、有機−無機層状膜は、従来公知のいずれの方法も用いて作製することが可能である。例えば、有機物である界面活性剤、無機酸化物の前駆体、酸、溶媒を含んだ溶液を基板上に塗布して、溶媒が蒸発する際に膜が形成される方法等を用いることができる。また、アルキル鎖含有のシロキサンオリゴマー、あるいは有機部分を含むシランカップリング剤等を含んだ反応液を基板上に塗布して、膜を形成することもできる。前記シロキサンオリゴマーを用いた場合には、法線構造周期の分布がより狭く、Ｘ線分光性能が良好なＸ線モノクロメータを提供することができる。
【００３０】
本発明において有機−無機層状膜の形成方法は、前駆体液を基板上に塗布することにより、比較的速いプロセスによって膜が形成されるため、製造時間を短縮することができ、低コストでＸ線モノクロメータを提供することができる。さらに、ドライプロセスで作製される人工多層膜と異なり、本発明における有機−無機層状膜は、前述のようなウェットプロセスによって作製することが可能であり、プロセスの精密制御を要せず、簡便にＸ線モノクロメータを提供することができる。
【００３１】
本発明において、有機−無機層状膜の無機酸化物は、例えば、シリカ、チタニア、ジルコニア等を挙げることができる。十分な強度の反射Ｘ線を検出できる限り、Ｘ線波長分解能の観点から電子密度の低い材料を用いることが好ましく、例えば、シリカを用いることによりＸ線の波長分解能を向上させることができる。
【００３２】
有機物は、例えば界面活性剤に代表される両親媒性分子、シロキサンオリゴマーのアルキル鎖部分等を挙げることができる。用いる有機物を適切に選択することにより、膜における有機物の集合体サイズを制御し、膜の法線構造周期の制御が可能となる。例えば、ポリエチレンオキシドを親水部とする非イオン性界面活性剤を有機分子として使用する場合、ポリエチレンオキシドの鎖長が長くなるにつれて、膜の法線構造周期が大きくなる。すなわち、分光対象となるＸ線の波長領域に応じて、適宜、適切な有機分子を選択し、法線構造周期を調整し、Ｘ線の入射角度が１０°以上となるＸ線モノクロメータを作製できる。
【００３３】
前記有機−無機層状膜が、アルキル鎖からなる有機物と、シリカからなる無機酸化物が交互に積層した構造からなることが好ましい。
本発明において、前記有機−無機層状膜を形成する工程が、前記反応液を前記基板の凹面に塗布する工程であることが好ましい。また、前記反応液が、有機無機オリゴマーあるいはシランカップリング剤からなる前駆体を含有することが好ましい。
【００３４】
本発明において、基板の材質は、膜の作製プロセスにおいて損傷を受けない限り、特に限定されず、例えば、ガラス等を用いることができる。
本発明において、基板上面の形状は、ローランド円の直径を曲率半径として湾曲した凹面である。図２のＸ線源２２、及びＸ線検出器２１が配置された断面方向の軸２４の方向に湾曲した凹面であることが好ましい。さらに、軸２５、すなわち前記断面の垂直方向にも湾曲していることによって、より高強度でＸ線を検出することのできる。なお、軸２４の方向のみに湾曲した凹面上に形成されたものを円筒湾曲型モノクロメータ、軸２４、及び軸２５の方向に湾曲した凹面上に形成されて物を球状湾曲型モノクロメータと称する。
【００３５】
基板上面は、膜が形成される面であり、均一で平滑な膜を作製するために、反応液の濡れ性を向上させる表面処理を施すことができる。例えば、親水性の反応液を用いる場合には、オゾンアッシング等によって表面の有機物を除去し、基板上面を親水化することができる。
【００３６】
次に、本発明のＸ線モノクロメータを用いたＸ線分光装置について述べる。
本発明に係るＸ線分光装置は、ローランド円の直径を曲率半径として湾曲する凹面を有する基板と、前記基板の前記凹面上に形成された、上記のＸ線モノクロメータと、前記ローランド円の円周上に配置されたＸ線源およびＸ線検出器とを有することを特徴とする。
【００３７】
本発明のＸ線分光装置においては、図１のように、Ｘ線源、Ｘ線検出器、及びＸ線モノクロメータが配置される。Ｘ線源からの入射Ｘ線の入射角、及びＸ線検出器への反射Ｘ線の反射角θを連動してスキャンすることにより、Ｂｒａｇｇ条件（式１）に対応した波長のＸ線がＸ線検出器によって測定される。
【００３８】
Ｘ線の波長が比較的長い場合、Ｘ線の光路長にもよるが、分光装置内の空気等のガスによっても吸収、あるいは散乱される。そのため、適宜、Ｘ線源、Ｘ線検出器、及びＸ線モノクロメータの配置される部分をチャンバーで覆い、減圧することが好ましい。
【００３９】
本発明によれば、ローランド円の直径を曲率半径として湾曲する凹面を有する基板上に、電子密度の低い材料であり、かつ平滑に形成することのできる、有機物と無機酸化物が交互に積層し有機−無機層状膜を形成させることによって、Ｘ線分光性能が良好で、かつＸ線を１０°以上の広角で入射することを特徴とした比較的小型に設計可能なＸ線モノクロメータ、及びそれを用いたＸ線分光装置を提供できる。
【実施例１】
【００４０】
以下、実施例を用いて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれに限定されない。
本実施例は、有機物の層と無機酸化物の層が交互に積層した有機−無機層状膜による球状湾曲型モノクロメータを、反応液を基板上に塗布することによって作製し、その性能を検討する例である。
【００４１】
まず、図３に示す湾曲した凹面を有するガラス基板（たて２５ｍｍ、よこ２５ｍｍ、高さ１０ｍｍ）準備する。基板の該凹面は、軸３１、及び軸３２の２方向に曲率半径を２００ｍｍ（ローランド円の直径）として球状型に湾曲している。ガラス基板は、アセトン、イソプロピルアルコール、及び純水で洗浄し、オゾン装置中で表面をクリーニングする。
【００４２】
次に、層状膜の前駆体である、アルキル鎖含有のシロキサンオリゴマーを合成する。デシルトリクロロシラン０．１１ｍｏｌをジエチルエーテル２５０ｍＬに溶解してアイスバス中で激しく撹拌しながら、テトラヒドロフラン３５０ｍＬ、ジエチルエーテル３６５ｍＬ、純水６．５ｍＬ、及びアニリン３３．０ｍＬの混合溶液を滴下する。２時間の撹拌の後、沈殿物をフィルタろ過によって除去し、ろ液にヘキサンを添加した後に溶媒を蒸発させて固形物を得る。
【００４３】
この固形物を吸引ろ過によって分離した後、冷やしたアセトンで十分洗浄し、真空乾燥をする。テトラヒドロフラン中に乾燥後の固形物を溶解し、２９Ｓｉ  ＮＭＲを測定すると、固形物が、Ｃ１０Ｈ２１Ｓｉ（ＯＳｉ（ＯＭｅ）３）３の構造を有するアルキル鎖含有のシロキサンオリゴマーであることが確認できる。
【００４４】
次に、シロキサンオリゴマー、テトラメトキシシラン、テトラヒドロフラン、純水、及び塩酸を混合して、モル比が順番に、１：２：１５：１４：０．００５になるように調整する。固形分を撹拌して溶解し、２．５時間後にテトラヒドロフランを加え、モル比が１：２：６０：１４：０．００５になるように調整する。
【００４５】
この溶液を、図３に示すガラス基板の面３Ｒの位置を下にして、反応液中に浸し、面３Ｌの位置の方から毎秒２ｍｍの速度で引き上げ、基板上に反応液をディップコートする。ディップコート後の基板は、２０℃、湿度４０％の恒温恒湿器中に入れて１日以上保持してＸ線モノクロメータを作製する。形成された膜の厚さは２００ｎｍ（平均）である。形成された膜の一部を剥離して、電子顕微鏡で観察すると、電子顕微鏡によって層状構造を有する膜が形成されていることが確認される。
【００４６】
Ｘ線マイクロビーム（３μｍφ、８ｋｅＶ）を用いたθ−２θスキャニングＸ線回折測定で、作製したＸ線モノクロメータを分析すると、法線構造周期が膜の各位置において３．２３ｎｍであることを確認できる。また、接触式表面段差計により、膜の表面粗さが最大高さＲｙにおいて５０ｎｍであることがわかる。
【００４７】
次に、図１のように、Ｘ線源１２（炭素３０％、窒素１０％、水素６０％含有のサンプルからの蛍光Ｘ線）、Ｘ線検出器１３、及び作製したＸ線モノクロメータ１１を、半径１００ｍｍのローランド円の円周上に配置し、Ｘ線源１２、及びＸ線源を連動させてＸ線分光装置を作製する。ローランド円の部分を真空チャンバーで覆い、減圧下で測定を行う。θを１５°から４５°の範囲でスキャンすると、１．６７ｎｍから４．５６ｎｍの波長範囲までのＸ線スペクトルを測定でき、炭素及び窒素の、それぞれの固有Ｘ線を、θ＝４３．７°、及び２９．３°において確認することができる。その分光性能は、半値幅で０．０７８ｎｍである。
【００４８】
（比較例１）
本比較例は、合成雲母による球状湾曲型モノクロメータを作製し、その性能を検討する例である。
【００４９】
まず、図３に示す湾曲した凹面を有するガラス基板を準備する。基板の該凹面は、軸３１、及び軸３２の２方向に曲率半径を２００ｍｍ（ローランド円の直径）として球状型に湾曲している。ガラス基板は、アセトン、イソプロピルアルコール、及び純水で洗浄し、オゾン装置中で表面をクリーニングする。
【００５０】
次に、前記基板に塗布する塗布液を調整する。合成雲母ナトリウムテニオライト１０ｇに、ｎ−ブチルアミン塩酸塩水溶液（０．４Ｍ）を５０ｍＬに加えて２時間攪拌する。精製水で数回洗浄して、攪拌処理を行った後、ポリオキシエチレンラウリルアミン塩酸塩水溶液（５ｗｔ％）を２００ｍＬ加えて２４時間イオン交換処理を行う。得られる懸濁液をブフナーロートで減圧脱水し、精製水で数回洗浄する。洗浄物を８０℃で乾燥させてから、ベンゼン中に入れ、ホモジナイザーで分散させる。このベンゼン懸濁液を前記基板上に塗布し、室温乾燥させた後、１１０℃で乾燥させる。
【００５１】
Ｘ線マイクロビーム（３μｍφ、８ｋｅＶ）を用いたθ−２θスキャニングＸ線回折測定で、作製したＸ線モノクロメータを分析すると、法線構造周期が膜の各位置において３．４８ｎｍであることを確認できる。また、接触式表面段差計により、膜の表面粗さが最大高さＲｙにおいて８５０ｎｍであることがわかる。
【００５２】
次に、図１のように、Ｘ線源１２（炭素３０％、窒素１０％、水素６０％含有のサンプルからの蛍光Ｘ線）、Ｘ線検出器１３、及び作製したＸ線モノクロメータ１１を、半径１００ｍｍのローランド円の円周上に配置し、Ｘ線源１２、及びＸ線源を連動させてＸ線分光装置を作製する。ローランド円の部分を真空チャンバーで覆い、減圧下で測定を行う。θを１５°から４５°の範囲でスキャンすると、１．８０ｎｍから４．９２ｎｍの波長範囲までのＸ線スペクトルを測定でき、炭素及び窒素の、それぞれの固有Ｘ線を、θ＝４０．０°、及び２７．０°において確認することができる。その分光性能は、半値幅で０．１２ｎｍである。
【産業上の利用可能性】
【００５３】
本発明にかかるＸ線モノクロメータは、比較的小型に設計でき、Ｘ線分光性能が高く、Ｘ線分光装置に利用することができる。
【符号の説明】
【００５４】
１１  Ｘ線モノクロメータ
１２  Ｘ線源
１３  Ｘ線検出器
１４  ローランド円（中心：Ａ）
１５  ローランド円の直径を曲率半径とする円弧（中心：Ｂ）
１６  入射Ｘ線
１７  反射Ｘ線
１８  基板
【図１】
0005538840.tif 000003
【図２】
0005538840.tif 000004
【図３】
0005538840.tif 000005
【図４】
0005538840.tif 000006