(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａ）(1)化学式：
（ＳｉＯ４／２）（ＲａＲｂ２ＳｉＯ１／２）ｘ
（式中、Ｒａは、炭素原子１〜６個を有するアルキル基、炭素原子２〜６個を有するアルケニル基、および炭素原子２〜６個を有するアルキニル基からなる群から選択され、Ｒｂは、炭素原子２〜６個を有するアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アクリレート基、およびメタクリレート基からなる群から選択され、かつ、ｘは１．０５〜４の数である）
の単位を有するシロキサンと、
(2)環状ポリシロキサンと
の重合生成物であって、前記シロキサンと前記環状ポリシロキサンとが重合触媒の存在下で重合されたものである重合生成物を含む、ＳｉＯ４／２単位を１個より多く有し、２５℃において３０，０００〜１，２５０，０００ｍＰａ・秒の粘度を有するエアロゾル抑制剤と、
Ｂ）硬化性ポリシロキサンと
を含む、剥離コーティング組成物。
【請求項２】
前記重合触媒が、トリフルオロメタンスルホン酸としてさらに定義される、請求項１記載の剥離コーティング組成物。
【請求項３】
前記重合触媒が、ホスファゼン塩基触媒としてさらに定義される、請求項１に記載の剥離コーティング組成物。
【請求項４】
前記エアロゾル抑制剤が、ＳｉＯ４／２単位を２〜４個有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の剥離コーティング組成物。
【請求項５】
前記エアロゾル抑制剤が、前記１個より多いＳｉＯ４／２単位のそれぞれに結合した４ブロックの（ＣＨ３）２ＳｉＯ２／２単位を有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の剥離コーティング組成物。
【請求項６】
前記エアロゾル抑制剤が、前記組成物１００重量部当たり１〜５重量部の量で存在する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の剥離コーティング組成物。
【請求項７】
Ａ）化学式：
（ＳｉＯ４／２）（ＲａＲｂ２ＳｉＯ１／２）ｘ
（式中、Ｒａは、炭素原子１〜６個を有するアルキル基、炭素原子２〜６個を有するアルケニル基、および炭素原子２〜６個を有するアルキニル基からなる群から選択され、Ｒｂは、炭素原子１〜６個を有するアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アクリレート基、およびメタクリレート基からなる群から選択され、かつ、ｘは１．０５〜４の数である）
の単位を有するシロキサンと、環状ポリシロキサンとを、重合触媒の存在下で重合させて、ＳｉＯ４／２単位を１個より多く有し、２５℃において３０，０００〜１，２５０，０００ｍＰａ・秒の粘度を有するエアロゾル抑制剤を生成させる工程と、
Ｂ）前記エアロゾル抑制剤と、硬化性ポリシロキサンとを混合して剥離コーティング組成物を調製する工程と
を含む、剥離コーティング組成物の調製方法。
【請求項８】
Ａ）化学式：
（ＳｉＯ４／２）（ＲａＲｂ２ＳｉＯ１／２）ｘ
（式中、Ｒａは、炭素原子１〜６個を有するアルキル基、炭素原子２〜６個を有するアルケニル基、および炭素原子２〜６個を有するアルキニル基からなる群から選択され、Ｒｂは、炭素原子１〜６個を有するアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アクリレート基、およびメタクリレート基からなる群から選択され、かつ、ｘは１．０５〜４の数である）
の単位を有するシロキサンと、環状ポリシロキサンとを、重合触媒の存在下で重合させて、ＳｉＯ４／２単位を１個より多く有し、２５℃において３０，０００〜１，２５０，０００ｍＰａ・秒の粘度を有するエアロゾル抑制剤を調製する工程と、
Ｂ）前記エアロゾル抑制剤と、硬化性ポリシロキサンとを混合して剥離コーティング組成物を調製する工程と、
Ｃ）前記剥離コーティング組成物を、剥離コーティングプロセスにおいて基材に適用する工程と
を含む、剥離コーティングプロセスにおいて基材をコーティングする方法。
【請求項９】
前記エアロゾル抑制剤が、２５℃で３０，０００〜１２０，０００ｍＰａ・秒の粘度を有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の剥離コーティング組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、剥離コーティング組成物およびその調製方法に関する。この剥離コーティング組成物は、エアロゾル抑制剤と、硬化性ポリシロキサンとを含む。本発明は、この剥離コーティング組成物で基材をコーティングする方法にも関する。
【背景技術】
【０００２】
シリコーンを含む剥離コーティング組成物は、当分野で周知であり、例えば、片面ライナーおよび両面ライナーへの適用などの広範な用途に用いられている。片面ライナーの例には、感圧接着ラベルのための裏紙が含まれ、典型的には、接着力を低下させることなく一時的に維持することが求められる。両面ライナーの例には、転写テープおよび粘着フィルムのための間紙が含まれる。これらの両面ライナーには、テープおよびフィルムの保護を提供し、巻出し特性を確保することが求められる。
【０００３】
剥離コーティング組成物は、基材、例えば、片面ライナーおよび両面ライナーなどに、約３０５メーター／分以上の速度の高速剥離コーティングプロセスにおいて適用され得る。これらの基材に適用される際に、剥離コーティング組成物は、組成物の粒子を含み、空気中に微細に分散される「ミスト」を形成する傾向がある。これらのミストは、無駄となるだけでなく、製造施設の機械および床に付着することにより製造の妨げになる。
剥離コーティング組成物は、種々の合成方法によって形成させることができる。これらの方法は、典型的には、収率が低く、コストが高く、かつ、高速剥離コーティングプロセスにおいて使用される場合にミストを生じる傾向が低減された剥離コーティング組成物を製造することができない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】米国特許第６，８０６，３３９号
【特許文献２】米国特許第４，６０９，５７４号
【特許文献３】国際公開第０３／０９３３６９号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
したがって、高速剥離コーティングプロセスにおいて、ミストを最小限に抑えて基材に適用することができる剥離コーティング組成物を提供する機会が残されている。剥離コーティング組成物の調製方法および基材にその剥離コーティング組成物を適用する方法を開発する機会も残されている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、エアロゾル抑制剤と硬化性ポリシロキサンを含む剥離コーティング組成物であって、エアロゾル抑制剤が、ＳｉＯ４／２単位を１個より多く有し、かつ、重合触媒の存在下でのシロキサンと環状ポリシロキサンとの重合によって製造されたものである、組成物を提供する。
【０００７】
本発明は、剥離コーティング組成物の調製方法であって、エアロゾル抑制剤と硬化性ポリシロキサンとを混合して剥離コーティング組成物を形成させる工程を含む方法も提供する。本発明はさらに、剥離コーティングプロセスにおいて基材をコーティングする方法であって、基材にこの剥離コーティング組成物を適用する工程を含む方法を提供する。
【０００８】
本発明の剥離コーティング組成物は、費用効率が高い方法で調製され、ミストを低減しながらさまざまな基材に適用される。高速剥離コーティングプロセスに用いられる場合には、エアロゾル抑制剤が剥離コーティングの微粒化を最小限に抑え、これによって無駄および妨げを低減する。具体的には、エアロゾル抑制剤の１個より多いＳｉＯ４／２単位が、このミスト低減効果に寄与すると考えられる。加えて、エアロゾル抑制剤は、シロキサンと環状ポリシロキサンとの重合触媒の存在下での重合によって効率的に生成する。この触媒は、広範なシロキサンのマトリックスにおいてＳｉＯ４／２単位の組み込みを効率的に促し、これによってエアロゾル抑制剤を製造する。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明は、剥離コーティング組成物（以下、単に「組成物」と呼ぶ）を提供する。この組成物は、エアロゾル抑制剤と硬化性ポリシロキサンとを含む。いかなる理論に拘束されることも意図しないが、エアロゾル抑制剤が、組成物がミストを生成する傾向、すなわち、組成物が微粒化して空気中に分散した微細粒子を形成する傾向を低減すると考えられる。組成物がミストを生成する傾向は、組成物の基材への適用時に測定する。
【００１０】
エアロゾル抑制剤は、１個より多いＳｉＯ４／２単位（Ｑ単位）を有し、ＳｉＯ４／２単位を１より大きな任意のいかなる数または割合で有することもできる。１つの実施態様では、エアロゾル抑制剤は、ＳｉＯ４／２単位を１．０５〜４個有する。あるいは、エアロゾル抑制剤は、ＳｉＯ４／２単位を少なくとも２個有していてもよく、ＳｉＯ４／２単位を２〜４個有していてもよい。説明のみを目的として、ＳｉＯ４／２単位の化学構造を以下に示す。
【化１】
0005475647.tif 000002
【００１１】
エアロゾル抑制剤は、Ｒｂ２ＳｉＯ２／２単位（Ｄ単位）を含んでいてもよい。Ｒｂは、独立に、炭素原子１〜６個を有するアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アクリレート基、およびメタクリレート基からなる群から選択することができる。アルキル基には、これらだけに限定されないが、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、およびこれらの混合が含まれ得る。典型的には、Ｒｂはメチル基である。説明のみを目的として、Ｒｂ２ＳｉＯ２／２単位の化学構造を以下に示す。
【化２】
0005475647.tif 000003
【００１２】
エアロゾル抑制剤は、１個より多いＳｉＯ４／２単位のそれぞれに結合した少なくとも１個のＲｂ２ＳｉＯ２／２単位を含んでいてよい。あるいは、エアロゾル抑制剤は、１個より多いＳｉＯ４／２単位にそれぞれに結合した４ブロックの（ＣＨ３）２ＳｉＯ２／２単位を有していてもよい。この（ＣＨ３）２ＳｉＯ２／２単位のブロックは、個々の（ＣＨ３）２ＳｉＯ２／２単位を２０〜４００個含んでいてよいが、この範囲に限定されない。１つの実施態様では、エアロゾル抑制剤は、１個より多いＳｉＯ４／２単位のそれぞれに結合した（ＣＨ３）２ＳｉＯ２／２単位１２０〜５００個からなるブロックを有する。典型的には、エアロゾル抑制剤は、ＳｉＯ４／２単位４個と、この４個のＳｉＯ４／２単位のそれぞれに結合した（ＣＨ３）２ＳｉＯ２／２単位１２０〜５００個からなるブロックとを、エアロゾル抑制剤が（ＣＨ３）２ＳｉＯ２／２単位を合計１０００〜５０００個有することとなるように有する。説明のみを目的として、１個のＳｉＯ４／２単位に結合した（ＣＨ３）２ＳｉＯ２／２単位の鎖の化学構造を以下に示す（式中、ｎは、２０〜４００の数である）。
【化３】
0005475647.tif 000004
【００１３】
エアロゾル抑制剤は、ＲａＲｂ２ＳｉＯ１／２単位（Ｍ単位）を含む。Ｒｂは、上述したＲｂと同じである。Ｒａは、炭素原子１〜６個を有するアルキル基、炭素原子２〜６個を有するアルケニル基、および炭素原子２〜６個を有するアルキニル基からなる群から選択されることが好ましい。典型的には、Ｒａはビニル基を含む。説明のみを目的として、ＲａＲｂ２ＳｉＯ１／２単位の化学構造を以下に示す。
【化４】
0005475647.tif 000005
【００１４】
典型的には、エアロゾル抑制剤は、少なくとも１個のＲｂ２ＳｉＯ２／２単位のそれぞれに結合したＲａＲｂ２ＳｉＯ１／２単位を含み、これによってエアロゾル抑制剤を官能化された末端基でキャップする。説明のみを目的として、この配置の代表的な化学構造を以下に示す。
【化５】
0005475647.tif 000006
【００１５】
典型的には、エアロゾル抑制剤は、ＳｉＯ４／２単位４個と、この４個のＳｉＯ４／２単位それぞれに結合した１２０〜５００個の（ＣＨ３）２ＳｉＯ２／２単位とを、エアロゾル抑制剤が（ＣＨ３）２ＳｉＯ２／２単位を合計１０００〜５０００個有するように有する。このエアロゾル抑制剤は、好ましくは、ＲａＲｂ２ＳｉＯ１／２単位８個、すなわち、８個の末端（ＣＨ３）２ＳｉＯ２／２単位のそれぞれに１個末端結合したＲａＲｂ２ＳｉＯ１／２単位も有し、これによってエアロゾル抑制剤を官能化された末端基でキャップする。説明のみを目的として、この特定の好ましいエアロゾル抑制剤の化学構造を以下に示す。
【化６】
0005475647.tif 000007
式中、ｎは２０〜４００の数である。
【００１６】
エアロゾル抑制剤は、２５℃で、４，５００〜１，２５０，０００、あるいは１０，０００〜６００，０００、あるいは３０，０００〜１２０，０００ｍＰａ・秒（ｃＰ）の粘度を有する。粘度は、少なくとも部分的に、エアロゾル抑制剤の大きさおよび構造に依存する。このため、エアロゾル抑制剤は、特定の粘度に限定されないことが企図されている。しかし、１つの実施態様では、エアロゾル抑制剤は、２５℃で１，２５０，０００ｍＰａ・秒（ｃＰ）より高い粘度を有するガムである。
【００１７】
エアロゾル抑制剤は、１，０００〜６，０００、あるいは１，０００〜４，０００の重合度を有することも好ましい。１つの実施態様では、エアロゾル抑制剤は、１，０００より高い重合度を有する。別の実施態様では、エアロゾル抑制剤は、少なくとも２，０００の重合度を有する。さらに別の実施態様では、エアロゾル抑制剤は、約４，０００の重合度を有する。重合度は、ポリマーの鎖中の繰返しサブユニットの数の測定値である。
【００１８】
エアロゾル抑制剤は、組成物１００重量部当たり、１〜１０、あるいは１〜５、あるいは１〜４重量部の量で存在する。しかし、エアロゾル抑制剤は、エアロゾル抑制剤の粘度が２５℃で４，５００ｍＰａ・秒未満、あるいは１，０００ｍＰａ・秒未満である場合には、組成物の最高１００重量％までの量で用いることが予定されている。エアロゾル抑制剤は、化学式：（ＳｉＯ４／２）（ＲａＲｂ２ＳｉＯ１／２）ｘの単位を有するシロキサンと、以下に記述する環状ポリシロキサンとの重合生成物を含む。好ましくは、シロキサンと、環状ポリシロキサンとを、０．２：９９．８〜４：９６、あるいは０．５：９９．５〜２：９８、あるいは０．６：９９．４〜１．２：９８．８の重量比で重合させる。
【００１９】
シロキサンは、化学式：（ＳｉＯ４／２）（ＲａＲｂ２ＳｉＯ１／２）ｘ（式中、ＲａおよびＲｂは、上述したとおりであり、ｘは１．０５〜４、あるいは１．２〜４の数である）の単位を有する。説明のみを目的として、好ましくは、シロキサンは、２個の（ＳｉＯ４／２）（ＲａＲｂ２ＳｉＯ１／２）ｘ（式中、ｘは２である）を含む以下に示す化学構造を有する。
【化７】
0005475647.tif 000008
このシロキサンは、２４６〜２，０００ｇ／モルの重量平均分子量を有する。このシロキサンは、好ましくは、２５℃で２０〜５０ｍＰａ・秒の粘度を有する。
【００２０】
シロキサンは、例えば、約１モルの（Ｃ２Ｈ５Ｏ）４Ｓｉを、約１モルの（（ＣＨ２ＣＨ）（ＣＨ３）２Ｓｉ）２Ｏおよび約０．０００５モルのトリフルオロメタンスルホン酸と反応させることによって生成させることができる。シロキサンを生成させる際に、化学量論的に過剰の水を使用することもできる。シロキサンの生成は、前述の試薬に限定されず、当分野で知られている任意の適切な試薬を用いる任意の適切な反応（例えば、参照により本明細書に組み込む米国特許第６，１４７，２４３号に記載の方法など）によって生成させることが可能である。
【００２１】
エアロゾル抑制剤の製造において用いる環状ポリシロキサンは、典型的には、二官能性シロキシ単位を含む。１つの実施態様では、環状ポリシロキサンの二官能性シロキシ単位は、少なくとも１個のアルキル基を含む。このアルキル基の適切な非限定的例には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピルブチル、およびイソブチルが含まれる。典型的には、環状ポリシロキサンは、二官能性であり、メチル基を含む。環状ポリシロキサンは、Ｒａ２ＳｉＯ２／２単位（Ｄ単位）（式中、Ｒａは上述したものと同じである）を３〜１０個含んでいてよい。環状ポリシロキサンは、Ｒａ２ＳｉＯ２／２繰返し単位（式中、各Ｒａは、メチルである）を３〜６個含むジアルキルシロキサン環であってよい。環状ポリシロキサンは、シクロトリシロキサン、シクロテトラシロキサン（例えば、オクタメチルシクロテトラシロキサンなど）、シクロペンタシロキサン（例えば、デカメチルシクロペンタシロキサンなど）、シクロヘキサシロキサン、およびこれらの混合物からなる群から選択される。説明のみを目的として、デカメチルシクロペンタシロキサンおよびオクタメチルシクロテトラシロキサンの化学構造を以下に示す。
【化８】
0005475647.tif 000009
環状ポリシロキサンは、典型的には、１００〜７５０、あるいは１５０〜５００、あるいは２７５〜３７５ｇ／モルの分子量を有する。環状ポリシロキサンは、Dow Corning Corporation（Midland、MI）から、Dow Corning(登録商標)244 FluidおよびDow Corning(登録商標)245 Fluidの商標名で商業的に入手可能である。
【００２２】
エアロゾル抑制剤を生成させるために、シロキサンと環状ポリシロキサンとを、重合触媒の存在下で重合させる。エアロゾル抑制剤を生成させる反応の種類は、選択する個々の触媒に応じて酸触媒反応であっても塩基触媒反応であってもよい。したがって、重合触媒は、強酸触媒、強塩基触媒、およびこれらの混合物からなる群から選択することができる。強酸触媒は、トリフルオロメタンスルホン酸などであってよい。重合触媒は、典型的には、強塩基触媒である。典型的には、この強塩基触媒は、ホスファゼン塩基触媒である。このホスファゼン塩基触媒は、当分野で知られている任意のものであってよいが、典型的には、以下の化学式を有する：
（（Ｒｃ２Ｎ）３Ｐ＝Ｎ）ｔ（Ｒｃ２Ｎ）３−ｔＰ＝ＮＲｄ
（式中、ＲｃおよびＲｄは、独立に、水素原子、炭化水素、およびこれらの混合からなる群から選択され、ｔは１〜３の数である）。Ｒｃが炭化水素である場合、この炭化水素は、炭素原子を１個〜４個有する。各Ｒｃは、各位置において同じかまたは異なっており、２個のＲｃは、同じ窒素（Ｎ）原子に結合し、連結して、好ましくは５員または６員の複素環を構成することができる。Ｒｄが炭化水素である場合は、この炭化水素は、炭素原子を１個〜２０個、あるいは１個〜１０個有する。
【００２３】
あるいは、ホスファゼン塩基触媒は、塩であってよく、以下の代替的な化学構造を有していてよい。
［（（Ｒｃ２Ｎ）３Ｐ＝Ｎ）ｔ（Ｒｃ２Ｎ）３−ｔＰ＝Ｎ（Ｈ）Ｒｄ］＋［Ａ−］；または
［（（Ｒｃ２Ｎ）３Ｐ＝Ｎ）ｓ（Ｒｃ２Ｎ）４−ｓＰ］＋［Ａ−］
（式中、Ｒｃ、Ｒｄ、およびｔは上述したとおりであり、ｓは１〜４の数である）。Ａは、陰イオンであり、フッ化物、ヒドロキシド、シラノレート、アルコキシド、カーボネート、およびビカーボネートからなる群から選択される。１つの実施態様では、ホスファゼン塩基は、アミノホスファゼニウムヒドロキシドである。シロキサンと環状ポリシロキサンとは、組成物１００万重量部当たり０．１〜１００、あるいは１〜５０、あるいは５〜２０重量部のホスファゼン塩基触媒の存在下で重合させる。
【００２４】
エアロゾル抑制剤に加えて、本組成物は、当分野で知られている任意の硬化性ポリシロキサンも含む。典型的には、硬化性ポシリロキサンは、５０〜５００，あるいは１００〜３００、あるいは約１６０の重合度を有する。この硬化性ポリシロキサンは、１個より多いＳｉＯ４／２単位、少なくとも１５個のＲａ２ＳｉＯ２／２単位、および少なくとも１個のＲａＲｂ２ＳｉＯ１／２単位を含む分岐状シロキサンを含むことができる。硬化性ポリシロキサンは、参照により本明細書に組み込む米国特許第６，８０６，３３９号に記載されているものであることができる。硬化性ポリシロキサンのさらなる例は、米国特許第４，６０９，５７４号にポリジオルガノシロキサンとして、国際公開第０３／０９３３６９号にオルガノケイ素ポリマーとして開示されている（両文献を参照により本明細書に組み込む）。
【００２５】
硬化性ポリシロキサンは、架橋剤、ホスファゼン塩基触媒とは異なる触媒、阻害剤、剥離力調節剤（release force modifier）、およびこれらの組合せをさらに含んでいてよい。架橋剤は、オルガノ水素ポリシロキサン架橋剤であってよく、硬化性ポリシロキサン中のＳｉ−Ｈ基の総数と、硬化性ポリシロキサン中の脂肪族不飽和炭化水素基の数との比が、約０．９：１〜３：１、あるいは１．１：１〜２．５：１、あるいは１．２：１〜２：１となる量で存在させることができる。典型的には、架橋剤は、少なくとも３個のＳｉ−Ｈ基を含み、下記一般化学式：
Ｒｇ３ＳｉＯ１／２（（ＣＨ３）２ＳｉＯ２／２）ｉ（Ｒｇ２ＳｉＯ２／２）ｊ）ＳｉＯ１／２Ｒｈ３
（式中、Ｒｇ３は、炭素原子１〜４個を有するアルキル基および水素からなる群から選択され、ｉは０以上の数であり、ｊはｉ＋ｊが８〜１００となる数である）
を有することができる。
【００２６】
硬化性ポリシロキサン中の触媒には、第ＶＩＩＩ族の金属（例えば、白金、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、およびイリジウム）の錯体または化合物が含まれる。典型的な触媒には、クロロ白金酸、アセチルアセトナート白金、および第一白金ハライドと不飽和化合物との錯体〔例えば、エチレン、プロピレン、オルガノビニルシロキサン、およびスチレンと、ＰｔＣｌ２、ＰｔＣｌ３、およびＰｔ（ＣＮ）３との錯体〕を含む白金化合物および錯体が含まれる。あるいは、触媒は、ＲｈＣｌ３（Ｂｕ２Ｓ）３などのロジウム錯体であってよい。
【００２７】
硬化性ポリシロキサン中の阻害剤には、エチレン性および／または芳香族性の不飽和アミド、アセチレン化合物、エチレン性不飽和イソシアネート、オレフィン性シロキサン、不飽和炭化水素ジエステル、共役エンイン類、ヒドロペルオキシド類、ニトリル類およびジアジリジン類、メチルブチノール、ジメチルヘキシノール、エチニルシクロヘキサノール、トリメチル（３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オキシ）シラン、マレエート〔例えば、ビス（２−メトキシ−１−メチルエチル）マレエートなど〕、フマレート（例えば、ジエチルフマレート）、フマレート／アルコール混合物（ベンジルアルコール、１−オクタノール、および／またはエチルシクロヘキシル−１−オールを含む）、ならびにこれらの混合物が含まれ得る。当分野で知られているとおり、阻害剤は、あらかじめ定められた温度より低い温度で起こる組成物の硬化を、阻害および／または遅延させるために利用する。この阻害剤は、組成物に必須ではないこと、およびこの阻害剤の不存在下では組成物は周囲温度で硬化可能であることが理解されるべきである。
【００２８】
硬化性ポリシロキサン中の剥離力調節剤は、アルケニル化されたシリコーン、アルケニル化されたポリジオルガノシロキサン、炭素原子１４〜３０個を有する１種以上の第一級アルケン、および／または炭素原子１〜１０個を有する１種以上の分岐状アルケンを含むことができる。アルケニル化されたシリコーンは、少なくとも１個のアルケニル化されたＭＱ樹脂（ここで、Ｍ単位およびＱ単位は、任意の適切な比で存在していてよい）を含んでいてよい。Ｍ単位には、トリアルキルシロキシ基および／またはジアルキルアルケニルシロキシ基が含まれ得る。アルケニル基は、シクロヘキセニル、ビニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、および／またはヘキセニル基であってよい。典型的には、アルケニル基は、ビニル基またはヘキセニル基である。アルキル基は、任意の適切なアルキル基であってよいが、最も好ましくはメチル基である。アルケニル化ポリジオルガノシロキサンは、典型的には、炭素原子１〜６個を有するアルキル基および／またはアルケニル基（例えば、ビニル基またはヘキセニル基など）を含むアルキル基を含むＤ単位を含むアルケニル化ジアルキルシリル末端ポリジオルガノシロキサンを含む。１個以上の一級アルケンは、炭素原子１０〜３０個を有する任意の一級アルケン（例えば、テトラデセンおよびオクタデセンなど）を含んでいてよい。
【００２９】
剥離力調節剤としての分岐状アルケンは、以下の化学式を有していてよい。
【化９】
0005475647.tif 000010
式中、ｌはメチレン基の数であり、ｍは分岐状アルキル基の数であり、ｌおよびｍのそれぞれは、０〜２０であり且つランダムに分布している。加えて、ｏ、ｐ、およびｑは、１〜１２の数である。典型的には、各分岐状アルケン中の炭素原子の合計数は少なくとも２０である。典型的には、硬化性ポリシロキサンは、硬化性ポリシロキサン１００重量部当たり１５〜７５重量部の剥離力調節剤を含む。
【００３０】
本組成物は、ジアルキルアルケニルシリル末端ポリジオルガノシロキサン、反応性希釈剤、接着促進剤、溶媒、香料、防腐剤、浴寿命延長剤およびフィラー（例えば、シリカ、石英、および石灰の粉末）をさらに含んでいてよい。浴寿命延長剤の好適な例には、第一級または第二級アルコール、炭素原子を１０個未満有する脂肪族および芳香族アルコール（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、フェノール、およびシクロヘキサノールなど）、カルボン酸、環状エーテル、ならびにこれらの混合物が含まれる。
【００３１】
本発明は、本組成物の調製方法も提供する。この方法は、エアロゾル抑制剤と硬化性ポリシロキサンとを混合して組成物を形成させる工程を含む。
【００３２】
組成物は、エアロゾル抑制剤と、硬化性ポリシロキサンとを、いずれかの任意成分を加えて単に混合することによって調製することができるが、組成物を別個の部分または容器（すなわちキットの形態）で準備することがより好ましい。このような場合には、エアロゾル抑制剤、硬化性ポリシロキサン、およびいずれかの任意成分を、組成物を基材に適用する際に混合する。このキットは、エアロゾル抑制剤を含む第一の部分と、硬化性ポリシロキサンを含む第二の部分とを含んでいてよく、いずれかあるいは全ての任意成分が第一の部分および／または第二の部分のいずれかに含まれることが想定される。
【００３３】
本発明はさらに、剥離コーティングプロセスにおいて基材をコーティングする方法を提供する。この基材のコーティング方法は、組成物を調製する工程と、その後この組成物を基剤に適用する工程とを含む。好適な基材の例には、紙、金属、プラスチック、段ボール、織物、フィルム、およびこれらの組合せが含まれる。フィルムには、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、配向ポリプロピレン、二軸配向ポリプロピレン、およびこれらの組合せが含まれる。
【００３４】
本組成物は、典型的には、３０５ｍ／秒より高い速度で基材に適用されるが、当業者に所望される場合には、より遅い速度で適用することができる。本組成物は、溶媒なしでも、溶媒中でも、あるいは水中油型のエマルジョンの部分としても適用することができる。典型的には、組成物は、実質的に溶媒を含まない。用語「実質的に含まない」には、本方法において、組成物の０．５重量％未満の溶媒量が含まれる。
【００３５】
本組成物は、ラボラトリー２ロールコーター（Euclid Tool and Machines社製、Bay City、ＭＩ）および付属のModel 8520 DustTrak(登録商標)Aerosol Mnonitor装置（TSI Corporation社製、St. Parl、ＭＮ）を使用して、約４５７ｍ／分の速度で測定して、５０ｍｇ／ｍ３未満、あるいは２０ｍｇ／ｍ３未満、あるいは５ｍｇ／ｍ３未満のミストを生成する。ミストの測定は環境的な変数に敏感であるため、ミストを測定するための機器全体を実験フード内に配置して、ミスト形成の測定に対するいかなる空気の乱流の影響も最小限に抑える。真空クリーナーを各ロール表面に取り付けて、測定点を通過したミストを吸い取る。一貫性のある結果を得るために、上部ブレードおよび上部ローラーの圧力設定を、それぞれ約７０，０００Ｐａおよび約３４５，０００Ｐａに保持し、下部ブレードを好ましくはドクターブレードとして使用して、上部ロールおよび下部ロールに供給される組成物の量を制御することが好ましい。
【００３６】
ミストが生成した後で、空気中に浮遊する組成物粒子は、DustTrak(登録商標)Aerosol Monitorに導かれ、分析される。DustTrak(登録商標) Monitorは、1分当たり約３リットルの速度で吸引される空気試料中のエアロゾル粒子の総数を、設定した採取時間の間測定することができる。以下の実施例では、ミストを、３２秒の採取時間の測定によって決定した。
【実施例】
【００３７】
一連のエアロゾル抑制剤（抑制剤１〜６）を調製した。抑制剤１〜６のそれぞれについて、シロキサン、環状ポリシロキサン、および希釈剤を、反応槽内で２５℃にて混合し、混合物を形成させた。その後、この混合物にホスファゼン塩基触媒を添加し、混合物を２５℃にて十分に混合した。次いで、得られた混合物を、約１４０℃〜１５０℃の所望の反応温度に昇温し、この温度にて、形成される抑制剤１〜６の粘度が安定化するのに十分な時間混合した。その後、任意の錯化剤を、反応が完結すると同時に添加して、ホスファゼン塩基触媒の活性を阻害し、抑制剤１〜６を安定化した。各反応物質の化学的な同定および量を表１に示す。この表において、全ての量は重量部で示す。加えて、各抑制剤１〜６およびシロキサン自体を評価して、ビニル濃度％、粘度（ｃｓ）、重量平均分子量、多分散度、Ｍ単位のＱ単位に対する比、およびＳｉＯ２／４単位とジメチルシロキサン単位との当量比を決定した。これらの評価結果も表１に示す。
【表１Ａ】
0005475647.tif 000011
【表１Ｂ】
0005475647.tif 000012
【００３８】
２０８．３３グラム（１モル）の（Ｃ２Ｈ５Ｏ）４Ｓｉと、１８６．４０グラム（１モル）の（（ＣＨ２ＣＨ）（ＣＨ３）２Ｓｉ）２Ｏとを反応させ、０．０８グラム（０．０００５モル）のトリフルオロメタンスルホン酸、次いで３６．９３グラム（２．０５モル）のＨ２Ｏを添加することによって、シロキサンを形成させた。
【００３９】
環状ポリシロキサンは、デカメチルシクロペンタシロキサンである。
【００４０】
ホスファゼン塩基触媒は、トリメチルアミンヒドロキシドホスファゼンである。
【００４１】
希釈剤は、カリウムシラノレートであり、カリウム１個当たり１０，０００の当量重量を有する。
【００４２】
錯化剤は、トリメチルシリルホスフェートであり、Gelest, Inc社（Morrisville、ＰＡ）から、トリス（トリメチルシリル）ホスフェートの商品名で商業的に入手可能である。
【００４３】
ビニル濃度％は、抑制剤１〜６またはシロキサン中のビニル基の重量割合を表し、当分野で周知のヨウ素滴定法を用いて算出した。
【００４４】
抑制剤１〜６およびシロキサンの粘度は、LV 4スピンドルを使用するBrookfield Viscometerを使用して室温で測定した。
【００４５】
抑制剤１〜６およびシロキサンの重量平均分子量は、当分野で周知のゲル浸透クロマトグラフィー法を用いて測定した。
【００４６】
抑制剤１〜６およびシロキサンの多分散度は、当分野で周知のゲル浸透クロマトグラフィー法を用いて測定した。
【００４７】
抑制剤１〜６およびシロキサンのＭ単位のＱ単位に対する比は、当分野で周知の２９ＳｉＮＭＲ法で測定した。
【００４８】
加えて、２つの比較エアロゾル抑制剤（比較抑制剤１および２）も形成させた。比較抑制剤１および２は、それぞれ、メチル水素シロキサン（Ａ）、アルケニルシロキサン（Ｂ）、不飽和有機化合物（Ｃ）、および触媒（Ｄ）を２５℃で一緒に混合して、混合物を形成させることによって調製した分岐状シリコーンポリマーを含んでいた。混合物の温度を、反応温度に昇温し、この混合物を、その温度にて、全てのビニル基が完全にヒドロシリル化して粘度が安定化するのに十分な時間混合した。反応が完結するとすぐに、この混合物に阻害剤（Ｅ）を添加して触媒（Ｄ）の活性を阻害し、分岐状シリコーンポリマーを安定化させた。前述の反応物質の化学的同定および量を表２に示す。表２において、特に指定しない限り、全ての量を重量部で示す。比較抑制剤１および２の反応条件、シラン基（ＳｉＨ）のビニル基に対する比、および粘度も表２に示す。比較抑制剤１および２はそれぞれ、米国特許第６，８０５，９１４号にさらに記載されている。
【表２】
0005475647.tif 000013
【００４９】
メチル水素シロキサン（Ａ）は、トリメチルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン-ポリメチル水素シロキサンコポリマーであって、約１０の総平均重合度を有し、約５０モル％のメチル水素基をシロキサン鎖上に有し、かつ粘度が２５℃で約５ｍＰａ・秒のコポリマーである。
【００５０】
アルケニルシロキサン（Ｂ１）は、ジメチルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサンポリマーであって、約５の総平均重合度を有し、かつ粘度が２５℃で約３ｍＰａ・秒のコポリマーである。
【００５１】
アルケニルシロキサン（Ｂ２）は、ジメチルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサンポリマーであって、約１３０の総平均重合度を有し、かつ粘度が２５℃で約３００ｍＰａ・秒のコポリマーである。
【００５２】
不飽和有機化合物（Ｃ）は、Sigma Aldrich社（St. Louis、ＭＯ）から商業的に入手可能なアルファメチルスチレンである。
【００５３】
触媒（Ｄ）は、クロロ白金酸とジビニルテトラメチルジシロキサンとから形成された、０．６７重量％の白金を含む可溶性白金錯体である。
【００５４】
阻害剤（Ｅ）は、ビス（２−メチル−１−メチルエチル）マレエートである。
【００５５】
抑制剤１〜６ならびに比較抑制剤１および２を形成させた後、抑制剤１〜６ならびに比較抑制剤１および２の試料を、それぞれ、硬化性ポリシロキサンと混合して、本組成物（組成物１〜９）の試料ならびに比較組成物（比較組成物１および２）の試料を調製した。
【００５６】
硬化性ポリシロキサンは、２１．６グラムの（ビニル（ＣＨ３）２ＳｉＯ１／２）４）（ＳｉＯ４／２）ポリシロキサンと、５９２グラムのオクタメチルシクロテトラシロキサンと、１．２グラムのトリフルオロメタンスルホン酸とを混合し、反応混合物を形成させることによって調製した。この反応混合物を、８０℃〜９０℃の温度にて６時間撹拌した後、室温に冷却した。次いで、約１グラムの炭酸カルシウムを添加し、この混合物を３時間撹拌した。最後に、この混合物を約１５０℃の温度および４０ミリバールの圧力下で２時間ストリッピングさせた。
【００５７】
組成物１〜９ならびに比較組成物１および２中の抑制剤１〜６ならびに比較抑制剤１および２の量を、それぞれ、下記表３に示す。表３において、特に指定しない限り、全ての量は重量％である。
【表３Ａ】
0005475647.tif 000014
【表３Ｂ】
0005475647.tif 000015
【表３Ｃ】
0005475647.tif 000016
【００５８】
調製後、組成物１〜９ならびに比較組成物１および２のそれぞれの試料を、２−ロールコーターのローラーに、約４５７メートル／分の速度で適用し、ミストの生成を測定した。組成物１〜９ならびに比較組成物１および２のそれぞれのミストの生成量を決定するために、１０回の別個のミスト測定を記録し、平均した。組成物１〜９ならびに比較組成物１および２のそれぞれについての平均測定値を、標準偏差を含めて下記表４に示す。比較組成物１は、４回の別個の実験でミストを試験した。４０回の個々のミスト測定からの全ての平均値および全標準偏差を下記表４に示す。
【表４】
0005475647.tif 000017
【００５９】
ミストの平均値の測定結果は、本発明の組成物１〜９が、比較組成物１および２と比較して低減されたミスト生成量で基材に適用可能であることを実証している。このミスト生成の低減により、製造の煩雑さが軽減され、組成物の無駄な消費が低減され、これによって製造コストを削減することができる。
【００６０】
明らかに、上述した教示に照らして、本発明を幅広く変更し、変化させることが可能である。本発明は、添付のクレームの範囲内において、とりわけ具体的に記載した以外の方法で実施することができる。