(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の少なくとも片面に導電性高分子を含む透明導電層が積層され、透明導電層のｎｄが１１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下で、かつ表面抵抗が１Ω／□以上５×１０５Ω／□以下であり、
前記透明導電層が、内部が中空となった粒子を少なくとも含むことを特徴とする透明導電層積層基材。
ただし、ｎは、波長５５０ｎｍにおける透明導電層の平均屈折率を示し、ｄは、透明導電層の物理膜厚を示し、ｎｄはそれぞれを乗じた値である。
【請求項２】
前記導電性高分子が、下記一般式（１）で表される繰返し単位からなるポリカチオン状態であるポリチオフェンと、ポリアニオンとからなることを特徴とする請求項１に記載の透明導電層積層基材。
【化１】
0005569081.tif 000004
（式中、Ｒ１およびＲ２は、相互に独立した水素または炭素数１〜４のアルキル基、又は共に置換される炭素数１〜１２のアルキレン基を表す。）
【請求項３】
請求項１又は２に記載の透明導電層積層基材を含むタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材に透明導電層が積層された透明導電層積層基材に関する。このような積層基材は、タッチパネル、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、プラズマディスプレイ、太陽電池等に、透明電極機能および/または電磁波シールドを付与するために用いることができる。
【背景技術】
【０００２】
従来、上記透明電極や電磁波シールド材として透明導電層積層基材が好適に用いられている。透明導電層積層基材としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のフィルム表面の少なくとも片面に、酸化インジウムと、酸化錫を、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等のドライプロセスによって設けたものが知られている。
【０００３】
しかし、一般的にドライプロセスにより得られる透明導電性フィルムは、その透明導電層が硬く脆いため保管、加工、使用中等にクラックが発生して表面抵抗が増大したりすることがあった。
【０００４】
一方、基材に導電性高分子を塗布により積層（ウエットプロセス）した導電層は柔軟性があるため、クラックが発生し難い。また、ドライプロセスと比較すると製造コストがかからず、製造スピードも一般的には数倍速いので生産性に優れる。
【０００５】
このような導電性高分子には、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロールおよびこれらの誘導体などが知られている。しかし透明性と導電性がトレードオフとなるため開発の初期段階では高い導電性が得られないために帯電防止用途などに使用が限定されていた。また、導電性高分子の色味も強いものであった。
【０００６】
最近では製法の改良などによりこれらの問題が改善されてきている。中でもポリチオフェン誘導体とドーパントからなる複合体の分散体は、化学的安定性や得られる導電層が高い導電性と透明性に優れている。例えば、特許文献１の導電性高分子は、近年の改良（特許文献２および３）等の例にもあるように、高透明かつ高導電性を達成している。
【０００７】
これらのポリチオフェン系導電性高分子に溶媒、バインダー樹脂、界面活性剤、安定剤等を配合することにより、成膜性、基材に対する密着性に優れた導電性被膜を形成可能である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１−３１３５２１号公報
【特許文献２】特開２００２−１９３９７２号公報
【特許文献３】特開２００３−２８６３３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、これらの改良された透明導電性フィルムも、依然透明性が不十分であり、タッチパネルなどへの適用へはさらなる改善が求められている。  
上記課題を鑑み、本発明の目的は、透明導電層の表面反射が抑制され、優れた透明性を呈する導電性フィルムとしての透明導電層積層基材を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、上記課題を達成するため鋭意検討した結果、透明導電層の光学膜厚を規定し基材に積層した場合、透過率が向上して透明性に優れた透明導電層積層基材が得られることを見出し、本発明に到達した。
【００１１】
本発明によれば、基材の少なくとも片面に導電性高分子を含む透明導電層が積層され、透明導電層のｎｄが１１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下で、かつ表面抵抗が１Ω／□以上５×１０５Ω／□以下であり、前記透明導電層が、内部が中空となった粒子を少なくとも含むことを特徴とする透明導電層積層基材（ただし、ｎは、波長５５０ｎｍにおける透明導電層の平均屈折率を示し、ｄは、透明導電層の物理膜厚を示し、ｎｄはそれぞれを乗じた値）を提供することができる。また、本発明は、透明導電層積層基材を含むタッチパネルを提供することができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の透明導電層積層基材は、透明導電層の光学膜厚を規定し基材に積層されているため、光の表面反射率を低減させることができ、優れた透明導電層積層基材が得られるので、タッチパネル、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、プラズマディスプレイ、太陽電池等に、透明電極機能および/または電磁波シールド材として好適に使用できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の透明導電層積層基材の断面図の一例である。
【図２】本発明の透明導電層積層基材の断面図の一例である。
【図３】塗布装置の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の透明導電層積層基材を、図面を用いて説明する。図１及び２はそれぞれ本発明の透明導電層積層基材の断面図の一例を示すものである。
【００１５】
図１中、（１）は基材、（２）はハードコート層、（３）は透明導電層である。本発明の透明導電層積層基材は、基材（１）の少なくとも片面に透明導電層（３）が積層されたものである。このような構成を有するものであれば、例えば、図２のように、基材（１）と透明導電層（３）との間に、ハードコート層等の他の機能層（４）が、本発明の目的を損なわない限りにおいて積層されていてもよい。
【００１６】
このように本発明の透明導電層積層基材は、基材の少なくとも片面に、透明導電層が積層され、透明導電層のｎｄが１１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下である必要がある。
【００１７】
ここで、ｎは、波長５５０ｎｍにおける透明導電層の平均屈折率を示し、ｄは、透明導電層の物理膜厚を示し、ｎｄはそれぞれを乗じた値であり、ｎｄの測定は反射分光膜厚計（Ｆｉｌｍｅｔｒｉｃｓ社製Ｆ−２０）を用い４００〜９００ｎｍにおける反射スペクトルの干渉波形からピークバレー法を用いてフィッティングさせることにより算出した。
【００１８】
ｎｄが１１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下のとき反射スペクトルが可視光の範囲３８０〜７８０ｎｍにおいて１つの極小値を示す。その結果、可視光反射率が減少し、透過率・透明性が向上する。
【００１９】
さらに、透明導電層の屈折率が低いほうが上記の極小値が小さくなるため透過率・透明性が向上し好ましい。
【００２０】
透明導電層の屈折率を下げる方法としては、導電性物質の屈折率を下げる方法、屈折率の低いバインダーを混合する方法、屈折率の低い固体及び／または気体粒子を分散する方法等があげられる。とくに、内部が中空となった粒子を分散するのが、添加量が少量で効果的に屈折率が低くなり好ましい。
【００２１】
内部が中空となった粒子としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４０）、または、Ｎａ３ＡｌＦ６（氷晶石、屈折率１．３３）等の低屈折材料からなり、粒子内部に空隙を有する粒子が挙げられる。粒子内部に空隙を有する粒子は、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。具体的には、中空シリカ粒子、多孔質シリカ粒子、シェル（殻）構造のシリカ粒子等が挙げられる。
【００２２】
また、内部に空隙を有するシリカ粒子としては、粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、透明導電層が白化して透明導電層積層基材の透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による透明導電層における粒子の不均一性等の問題が生じる。
【００２３】
また、同様に透明導電層の下側に位置する層の屈折率は、高いほうが上記の極小値は小さくなり好ましい。透明導電層の下側に位置する層とは、図１又は図２の場合、基材又はハードコート層であり、透明導電層の下側に位置する層であれば他の機能層でもよい。透明導電層の下側に位置する層の屈折率を高くする方法としては、屈折率の高い基材を使用する方法や、屈折率の高い層を積層する方法等があげられる。
【００２４】
さらに本発明の透明導電層積層基材は、その透明導電塗膜層の表面抵抗が１Ω／□以上５×１０５Ω／□の範囲にあることが好ましい。該表面抵抗がその範囲の上限を超えると、透明電極機能、電磁波シールド機能が発現しなくなる。一方、下限未満にするには透明導電材料が多く必要になり、透明性が悪くなる、コストが増大する等の問題があり好ましくない。特に好ましい表面抵抗は１００Ω／□〜２０００Ω／□の範囲である。
【００２５】
次に、本発明における透明導電層積層は、特に制限されないが、下記一般式（２）で表される繰返し単位からなるポリカチオン状のポリチオフェンと、ポリアニオンとから構成される導電性高分子（ａ）からなることが好ましい。
【化２】
0005569081.tif 000002
【００２６】
この導電性高分子（ａ）を構成するポリチオフェンのＲ１およびＲ２は、相互に独立した水素または炭素数が１〜４のアルキル基、又は共に置換される炭素数が１〜１２のアルキレン基を表す。Ｒ１およびＲ２が共に置換される炭素数が１〜１２のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、１，２−エチレン基および１，３−プロピレン基、２，３−ブチレン基、１，２−シクロヘキシレン基などが挙げられ、特に、１，２−エチレン基が好ましい。これら置換基は、さらに置換基内で炭素数１〜１２のアルキル基もしくはフェニル基を含んでもよい。
【００２７】
一方、導電性高分子（ａ）を構成するポリアニオンとしては、例えばポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリマレイン酸などのポリカルボン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸などのポリスルホン酸などがあげられる。
【００２８】
本発明における透明導電層は、基材の少なくとも一方の面に積層される本発明の透明導電層は基材上に透明導電塗液を塗布し塗膜を形成する工程、塗膜を乾燥し溶媒を除去する工程により形成される。さらに、透明導電塗膜に硬化性を持たせた場合は、熱や電離放射線等の硬化方法で適宜硬化する工程を含む。
【００２９】
本発明における透明導電層を形成するための塗液は、上述の導電性高分子を主成分として溶媒に溶解あるいは分散させた溶液を用いるが、必要に応じて適当な高分子材料をバインダーとして添加することができる。
【００３０】
本発明における透明導電層を形成するための塗液には、いわゆるハジキ、ムラなどの塗膜欠陥の発生を防止するために、表面調整剤と呼ばれる添加剤を加えても良い。表面調整剤は、その働きに応じて、レベリング剤、消泡剤、界面張力調整剤、表面張力調整剤とも呼ばれるが、いずれも形成される塗膜の表面張力を一定にする働きや低下させる働きを備える。
【００３１】
表面調整剤として通常用いられる添加剤としては、シリコーン系添加剤、フッ素系添加剤、アクリル系添加剤等が挙げられる。シリコーン系添加剤にあっては、ポリジメチルシロキサンを基本構造とする誘導体であり、ポリジメチルシロキサン構造の側鎖を変性したものが用いられる。例えば、ポリエーテル変性ジメチルシロキサンがシリコーン添加剤として用いられる。また、フッ素系添加剤としては、パーフルオロアルキル基を備える化合物が用いられる
また、塗液中に先に述べた表面調整剤のほかにも、他の機能性添加剤を加えても良い。ただし、これらの添加剤は形成される透明導電層の透明性を損なわないほうが好ましい。機能性添加剤としては、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、撥水剤、密着性向上剤、安定剤などを使用でき、それにより、形成される透明導電層自体に機能を持たせたり、また、耐久性を向上したりすることができる。
【００３２】
このとき、基材としては、ガラスやプラスチックフィルムなどを用いることができる。プラスチックフィルムとしては適度の透明性、機械強度を有していれば良い。例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）等のフィルムを用いることができる。中でも、液晶表示装置の前面にハードコートフィルムを設ける場合、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）は光学異方性がないため、好ましく用いられ、液晶表示装置の前面に用いない場合はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が機械的強度、耐熱性、コスト等のバランスに優れ、好ましく用いられる。
【００３３】
基材へのコーティング方法は、ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、バーコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等を用いることができる。
【００３４】
図３に、一例として塗布装置の模式図を示した。塗布装置は、ダイヘッド３０と塗液タンク３２が配管３１によって接続され、送液ポンプ３３によって、塗液タンク３２の透明導電膜形成用塗液がダイヘッド３０内に送液される構造となっている。ダイヘッド３０に送液された塗液はスリット間隙から塗液を吐出し、基材１１上に塗膜が形成される。巻き取り式の基材１１を用い回転ロール３５を使用することにより、ロール・ツー・ロール方式により連続して基材上に塗膜を形成することができる。
【００３５】
塗液を塗布し、基材上に形成された塗膜は溶媒を除去するために乾燥される。  
なお、乾燥手段としては加熱、送風、熱風などが例示される。また、自然乾燥により溶媒を除去することも可能である。
【００３６】
透明導電塗膜に熱硬化性を持たせた場合は、上記溶媒除去と同時あるいは続いて硬化のための熱を加える、及び／または別途、後工程で熱を加えることにより硬化させることができる。
【００３７】
透明導電塗膜に電離放射線硬化性を持たせた場合は、電離放射線として紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。電子線は、５０〜１０００ＫｅＶのエネルギーを有するのが好ましい。１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線がより好ましい。
【００３８】
本発明において、ハードコート層を形成するハードコート剤は、電離放射線硬化型アクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマーを含有することが好ましい。電離放射線硬化型アクリレートとしては、特に限定しないが、透明導電層４の積層時の温度に耐え、透明性を維持できる樹脂が好ましい。さらに硬化後の機械特性、透明性、耐薬品性、耐熱性はもちろんのこと、塗布加工時の低粘度化等の諸物性を考慮した場合、具体的には３次元架橋の期待出来る３官能以上のアクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマーが好ましい。３官能以上のアクリレートとしては、トリメチロールプロパントリアクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ポリエステルアクリレート等が好ましいが、特に好ましいのは、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレートおよびポリエステルアクリレートである。これらは単独で用いても良いし、２種以上併用しても構わない。
【００３９】
また、これら３官能以上のアクリレートの他にエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリオールアクリレート等のいわゆるアクリル系樹脂を使用することが可能である。これらの樹脂は、いずれのコート方法用いても工業的な製造を考慮すると５分以内で硬化できるものが望ましい。また、これらの樹脂は、架橋性オリゴマー、単官能または多官能モノマー、光重合開始剤、光開始助剤などを含むものである。
【００４０】
架橋性オリゴマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等のアクリルオリゴマーが好ましい。具体的にはポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート、ポリウレタンのジアクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート等がある。
【００４１】
単官能または多官能モノマーとしては、（メタ）アクリル酸エステル等のアクリルモノマーが好ましい。具体的には２官能の（メタ）アクリル酸エステルとしてはトリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等がある。３官能の（メタ）アクリル酸エステルとしてはトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等がある。４官能の（メタ）アクリル酸エステルとしてはテトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等がある。６官能の（メタ）アクリル酸エステルとしてはジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等がある。
【００４２】
本発明では、ハードコート剤に含まれるアクリレートオリゴマーあるいはアクリレートモノマーが、分子中に1以上の水酸基と複数のアクリロイル基を持つことが特に好ましい。
【００４３】
分子中に１以上の水酸基と複数のアクリロイル基を有する化合物としては、以下のものが挙げられる。
【００４４】
（１）水酸基を少なくとも２つ有する化合物であるポリオールの誘導体で、水酸基を少なくとも１つ有するヒドロキシ（メタ）アクリレート。  
ポリオールとしては、任意の適切なポリオールが用いられる。例えば、エチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカングリコール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステル、シクロヘキサンジメチロール、１，４−シクロヘキサンジオール、スピログリコール、トリシクロデカンメチロール、水添ビスフェノールＡ、エチレンオキサイド付加ビスフェノールＡ、プロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ、トリメチロールエタン、トリジメチロールプロパン、グリセリン、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グルコース類
が挙げられる。
【００４５】
具体例としては、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４６】
（２）二官能以上のエポキシ化合物とアクリル酸を反応せしめて得られる化合物。
【００４７】
例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物、プロピレングリコールジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物、１，６−へキサンジオールジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物、グリセリンジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物等の（メタ）アクリル２官能化合物や、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物、グリセロールエポキシトリ（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル３官能化合物などが挙げられるが、これに限定されるものではない。  
これらすべての成分は単独で用いてもよく、混合体であってもよく、組み合わせて用いてもよい。
【００４８】
本発明において、活性エネルギー線が紫外線である場合には、光増感剤（光重合開始剤）を添加する必要があり、ラジカル発生型の光重合開始剤としてベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルメチルケタールなどのベンゾインとそのアルキルエーテル類；アセトフェノン、２、２、−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、などのアセトフェノン類；メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−アミルアントラキノンなどのアントラキノン類；チオキサントン、２、４−ジエチルチオキサントン、２、４−ジイソプロピルチオキサントンなどのチオキサントン類；アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールなどのケタール類；ベンゾフェノン、４、４−ビスメチルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類及びアゾ化合物などがある。これらは単独または２種以上の混合物として使用でき、さらにはトリエタノ
ールアミン、メチルジエタノールアミンなどの第３級アミン；２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸エチルなどの安息香酸誘導体等の光開始助剤などと組み合わせて使用することができる。
【００４９】
前記、光重合開始剤の添加量は主成分のアクリレートに対して０．１〜１０重量％であり好ましくは２〜８重量％である。下限値未満ではハードコート層の硬化が不十分となり好ましくない。また、上限値を超える場合は、ハードコート層の黄変が生じたり、耐候性が低下するため好ましくない。
【００５０】
光硬化型樹脂を硬化させるのに用いる光は紫外線、電子線、あるいはガンマ線などであり、電子線あるいはガンマ線の場合、必ずしも光重合開始剤や光開始助剤を含有する必要はない。これらの線源としては、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプや加速電子などが使用できる。
【００５１】
溶剤については、前記の主成分のアクリレートを溶解するものであれば特に限定しない。具体的には、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、等が挙げられる。これらの溶剤は１種を単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００５２】
基材へのコーティング方法は、特に限定されるものではないが、実用的には、ダイコーター、カーテンフローコーター、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、スピンコーター、マイクログラビアコーター等によるコーティングが一般的である。
【実施例】
【００５３】
以下に実施例を示す。 
（比較例５）
基材として１２５ｕｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（Ｕ４６：東レ社製）を用いた。塗液として、透明導電性高分子（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）分散塗料（Ｓ３０５：アグフア社製）を用いた。そしてダイコーター塗布装置を用い乾燥硬化後のｎｄが１３０ｎｍとなるようにＰＥＴフィルム上に塗布し１３０℃で１８０秒加熱し、透明導電層積層基材を得た。
【００５４】
（比較例６）ｎｄが１１０ｎｍとなること以外は（比較例５）と同様にして透明導電層積層基材を得た。
【００５５】
（比較例７）ｎｄが１５０ｎｍとなること以外は（比較例５）と同様にして透明導電層積層基材を得た。
【００５６】
（比較例１）ｎｄが１００ｎｍとなること以外は（比較例５）と同様にして透明導電層積層基材を得た。
【００５７】
（比較例２）ｎｄが１６０ｎｍとなること以外は（比較例５）と同様にして透明導電層積層基材を得た
（実施例１）
基材として１２５ｕｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レＵ４６ＴＤ−８０Ｕ）を用いた。塗液として、透明導電性高分子（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）分散塗料（Ｓ３０５：アグフア社製）と中空シリカ粒子アルコール分散液（日揮触媒化成社製、平均粒子径６０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％）をそれぞれの固形分比で１：１で混合し用いた。そしてダイコーター塗布装置を用い乾燥硬化後のｎｄが１３０ｎｍとなるようにＰＥＴフィルム上に塗布し１３０℃で１８０秒加熱し、透明導電層積層基材を得た。
【００５８】
（実施例２）ｎｄが１１０ｎｍとなること以外は（実施例１）と同様にして透明導電層積層基材を得た。
【００５９】
（実施例３）ｎｄが１５０ｎｍとなること以外は（実施例１）と同様にして透明導電層積層基材を得た。
【００６０】
（比較例３）ｎｄが１００ｎｍとなること以外は（実施例１）と同様にして透明導電層積層基材を得た。
【００６１】
（比較例４）ｎｄが１６０ｎｍとなること以外は（実施例１）と同様にして透明導電層積層基材を得た
以下の表１に、実施例１〜３及び比較例１〜７に用いた透明導電塗液をまとめたものとそこで得られた透明導電層積層基材フィルムについての評価をまとめて記載した。
【表１】
0005569081.tif 000003
【００６２】
評価は「ｎｄ」、「表面抵抗率」、「透過率」、「反射率」の評価をおこなった。以下に、その評価方法の詳細を示す。
【００６３】
なお、参考例として、実施例１〜３及び比較例１〜７に用いた１２５ｕｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レＵ４６ＴＤ−８０Ｕ）の評価も記載した。
【００６４】
・「ｎｄ」
反射分光膜厚計（Ｆｉｌｍｅｔｒｉｃｓ社製Ｆ−２０）を用い４００〜９００ｎｍにおける反射スペクトルの干渉波形からピークバレー法を用いてフィッティングさせることにより算出した。
【００６５】
・「表面抵抗率」
ＪＩＳ  Ｋ７１９４に従い、ロレスタＧＰ（三菱化学社製：ＭＣＰ−Ｔ６００）を用いて測定した。
【００６６】
・「透過率」
ＪＩＳ  Ｋ７１５０に従い、ヘイズメーター（日本電色社製：ＮＤＨ２０００）により測定した。
【００６７】
・「反射率」
透明導電層積層の裏面側をサンドペーパーで粗面化しさらに、粗面上に艶消し黒色塗料（アサヒペン水性多用途スプレー）を塗布し、分光光度計（日立ハイテク社製Ｕ４１００）で３８０〜７８０ｎｍの透明導電層積層側の入射角度５°での反射率を測定した。その測定値をＪＩＳ  Ｚ８７０１に従い、Ｃ光源２度視野のＹ値を１００で除して％で示した。
【図１】
0005569081.tif 000005
【図２】
0005569081.tif 000006
【図３】
0005569081.tif 000007