(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体を被覆する方法であって、以下の工程
ａ）支持体を準備する工程
ｂ）支持体の少なくとも一面に組成物を施与する工程、その際、該組成物は、無機化合物を含有しており、かつ該無機化合物は、酸化アルミニウムを含有している
ｃ）工程ｂ）で施与された組成物を乾燥させる工程
ｄ）工程ｂ）で組成物が施与された支持体の少なくとも一面上に、少なくとも１の被覆を施与する工程、その際、該被覆は、一般式（Ｚ1）Ｓｉ（ＯＲ）3［式中、Ｚ1は、Ｒ、ＯＲまたはＧｌｙ（Ｇｌｙ＝３−グリシジルオキシプロピル）であり、かつＲは、１〜１８個の炭素原子を有するアルキル基であり、かつ全てのＲは、同じであっても、異なっていてもよい］のシラン、アルミニウムの酸化物粒子、ポリマーおよび開始剤を含有する、および
ｅ）工程ｄ）で施与された被覆を乾燥させる工程
を有する、支持体を被覆する方法。
【請求項２】
工程ａ）の支持体が、軟質の、および／または硬質の支持体であることを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項３】
工程ａ）の支持体が、ニット、織物、ネット、シート、平面状構造物および／または板であることを特徴とする、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
工程ａ）の支持体が、１００℃より高い温度で実質的に温度安定性である、請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
工程ａ）の支持体が、工程ｃ）および／または工程ｅ）の乾燥条件下で実質的に温度安定性であることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
工程ｂ）の酸化アルミニウムが、Ａｌ2Ｏ3、であることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
工程ｂ）の無機化合物が、１ｎｍ〜１００００ｎｍの粒径を有することを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
工程ｂ）の組成物が、懸濁液であり、有利には水性懸濁液であることを特徴とする、請求項１から７までのいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
工程ｂ）の組成物が、開始剤を含有することを特徴とする、請求項１から８までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
開始剤が、酸または塩基であり、有利には水性の酸または塩基であることを特徴とする、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
工程ｂ）の組成物が、ゾルであることを特徴とする、請求項１から１０までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】
工程ｃ）の組成物の乾燥が、５０℃〜１０００℃の間の温度への加熱により実施されることを特徴とする、請求項１から１１までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１３】
工程ｄ）の被覆が、一般式（Ｚ2）zＳｉ（ＯＲ）4-z［式中、Ｒは、１〜８個の炭素原子を有するアルキル基であり、かつＺ2は、ＨaＦbＣnであり、その際、ａおよびｂは整数であり、全てのＲは、同じであっても、異なっていてもよく、ａ＋ｂ＝１＋２ｎであり、ｚ＝１または２であり、かつｎは、１〜１６であるか、またはＺ1が、Ｇｌｙである場合に、Ｚ2は、Ａｍ（Ａｍ＝３−アミノプロピル）であり、ｚ＝１である］の第二のシランを含有していることを特徴とする、請求項１から１２までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１４】
工程ｄ）の被覆が、３−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシランおよび／または３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシランをシランとして、および／または３−アミノプロピルトリメトキシシランおよび／または３−アミノプロピルトリエトキシシランを第二のシランとして含有していることを特徴とする、請求項１から１３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１５】
工程ｄ）の被覆が、シランとしてテトラエトキシシランを、および第二のシランとして、式（ＨaＦbＣn）zＳｉ（ＯＲ）4-zのシランを含有しており、その際、ａおよびｂは整数であり、ａ＋ｂ＝１＋２ｎであり、ｚは１または２であり、ｎは１〜１６であり、かつ全てのＲは、同じであっても、異なっていてもよく、その際、有利には全てのＲが同じであり、かつ１〜６個の炭素原子を有することを特徴とする、請求項１から１４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１６】
工程ｄ）の被覆が、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシランおよび／またはヘキサデシルトリメトキシシランをシランとして、および／または３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルトリエトキシシランを第二のシランとして含有していることを特徴とする、請求項１から１５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１７】
工程ｄ）の被覆が、開始剤として酸または塩基を含有しており、その際、開始剤は有利には水性の酸または塩基であることを特徴とする、請求項１から１６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１８】
工程ｄ）の被覆中に含有されている酸化物粒子の表面が、疎水性であることを特徴とする、請求項１から１７までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１９】
工程ｄ）の被覆の酸化物粒子の表面に、ケイ素原子に結合している有機基Ｘ1+2nＣnが存在しており、その際、ｎは１〜２０であり、かつＸは、水素および／またはフッ素であることを特徴とする、請求項１から１８までのいずれか１項記載の方法。
【請求項２０】
工程ｄ）の被覆のポリマーが、少なくとも３０００ｇ／モルの質量平均分子量を有していることを特徴とする、請求項１から１９までのいずれか１項記載の方法。
【請求項２１】
工程ｄ）の被覆のポリマーが、少なくとも５０の平均重合度を有していることを特徴とする、請求項１から２０までのいずれか１項記載の方法。
【請求項２２】
工程ｄ）の被覆のポリマーが、ポリアミド、ポリエステル、エポキシ樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド縮合物、ウレタン−ポリオール樹脂およびこれらの混合物から成る群から選択されていることを特徴とする、請求項１から２１までのいずれか１項記載の方法。
【請求項２３】
工程ｄ）で、支持体上に、工程ｅ）における乾燥後に支持体上に０．０５〜１０μｍの膜厚を有する乾燥被覆の層が存在しているような量で、被覆を施与することを特徴とする、請求項１から２２までのいずれか１項記載の方法。
【請求項２４】
工程ｂ）および／またはｄ）の被覆の施与の前に、少なくとも１の別の被覆を施与することを特徴とする、請求項１から２３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項２５】
工程ｄ）の被覆の施与の後に、少なくとも１の別の被覆を施与することを特徴とする、請求項１から２４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項２６】
工程ｅ）の被覆の乾燥が、５０℃〜１０００℃の間の温度への加熱により実施されることを特徴とする、請求項１から２５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項２７】
請求項１から２６までのいずれか１項記載の方法により得られる、被覆された支持体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、支持体を被覆する方法、ならびに前記方法により得られる被覆された支持体に関する。
【０００２】
従来技術では、支持体の表面特性を被覆により変化させる、もしくは改善するという要求が存在する。特に被覆によって、硬度、または攻撃的な物質に対する抵抗性を改善することができる。被覆される支持体は、大きく異なった特性を有していてよい。建築材料の分野では、種々の支持体が公知である。支持体として、硬質の、つまり軟質でない支持体、たとえば石、または軟質でないタイルが考えられる。これらは、たとえば家屋の種々の箇所で使用される。しかし軟質の建築材料の極めて広い適用分野もまた存在する。ここでは特に、軟質のタイルが挙げられるが、これはたとえば水泳用プールの水密なライニングとして使用することができる。軟質の建築材料は、土台の表面に適合することができ、その際、支持体の高価な適合が不要であるという利点を有する。さらに軟質の建築材料により、硬質の建築材料によってはまったく達成することができないか、達成することが困難な形状を実現することができる。
【０００３】
これらの支持体全てに共通することは、該支持体が、異なった要求に適合しなくてはならない表面を有していなくてはならないことである。１つの要求は、該支持体が攻撃的な化学薬品または環境の影響に対して抵抗性でなくてはならないということである。他方、別の分野では、建築材料が低い汚染傾向を有している場合に有利である。
【０００４】
その一方で、他の分野、たとえば織布およびニットでは、被覆によって表面特性を改善する可能性が存在する。この場合、複合材の安定性は、ベースとなっている支持体によって保証され、他方、攻撃的な物質に対する抵抗性あるいはまた汚染傾向は、施与される被覆によって保証される。
【０００５】
軟質の支持体の場合、特に施与された被覆が、その構造を損なうことなく軟質の支持体のそれぞれの変形に従うような柔軟性を有していることが必要とされる。軟質の支持体を折り曲げた場合に、支持体の表面に応力が生じる。しかしこの応力は、支持体の被覆が、たとえば亀裂の形成によって損なわれることにつながってはならない。
【０００６】
従って従来技術では、被覆が支持体の変形によって否定的な影響を受けることなく、軟質の支持体上に被覆を施与することが公知である。
【０００７】
ＷＯ９９／１５２６２から、物質透過性の複合材料が公知である。この場合、物質透過性の担体上に被覆を施与し、該被覆をその後、硬化させる。該被覆は、無機成分を含有しており、その際、該無機成分は、周期律表の第３〜第７主族の少なくとも１の元素を含有する金属、半金属または混合金属からの少なくとも１の化合物を含有している。この被覆組成物は、前駆体の加水分解によって得られる。この場合、ゾルが形成され、該ゾルはその後、物質透過性の支持体上に施与される。ＷＯ９９／１５２６２に開示されている物質透過性の複合材料は、該複合材料の曲率半径は極めて低くても、施与された被覆が損なわれることがないことによって優れている。
【０００８】
しかし、このような軟質の支持体の表面特性に影響を与えるためのさらなる要求が存在する。支持体のこのような要求の１つは、たとえばゾル・ゲル法により施与される被覆によって行うことができる。しかし、従来技術に開示されているゾル・ゲル被覆の場合、該被覆は比較的薄い膜厚で施与することができるにすぎないという問題を示す。さらに、従来技術のゾル・ゲル被覆は、軟質の支持体上に施与するためには不適切である。というのも、該被覆は支持体の機械的な変形の際に、亀裂を形成するからである。このような亀裂によって、支持体が被覆によって完全に保護されるということはもはや保証されなくなる。むしろ、攻撃的な物質は、生じた亀裂によって支持体に到達し、かつ該支持体に否定的な影響を与える。
【０００９】
特に、従来技術による方法では、軟質の支持体上に、膜厚の大きいゾル・ゲル被覆を施与することは不可能である。
【００１０】
本発明の根底に存在している技術的な課題は、支持体を環境の影響から確実に保護する被覆を有する被覆された支持体を提供することであり、その際、支持体は軟質であってもよく、かつ被覆は支持体の変形により否定的な影響を受けない。本発明のもう１つの課題は、このような改善された支持体を提供する方法を提供することである。
【００１１】
本発明の技術的な課題は、支持体を被覆する方法であって、以下の工程
ａ）支持体を準備する工程
ｂ）支持体の少なくとも一面に組成物を施与する工程、その際、該組成物は、無機化合物を含有しており、かつ該無機化合物は、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｂ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉの群から選択される少なくとも１の金属および／または半金属またはこれらの混合物、およびＴｅ、Ｓｅ、Ｓ、Ｏ、Ｓｂ、Ａｓ、Ｐ、Ｎ、Ｃ、Ｇａの群から選択される少なくとも１の元素またはこれらの混合物を含有している
ｃ）工程ｂ）で施与された組成物を乾燥させる工程
ｄ）工程ｂ）で組成物が施与された支持体の少なくとも一面上に、少なくとも１の被覆を施与する工程、その際、該被覆は、一般式（Ｚ1）Ｓｉ（ＯＲ）3［式中、Ｚ1は、Ｒ、ＯＲまたはＧｌｙ（Ｇｌｙ＝３−グリシジルオキシプロピル）であり、かつＲは、１〜１８個の炭素原子を有するアルキル基であり、かつ全てのＲは、同じであっても、異なっていてもよい］のシラン、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｙ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｃｅの酸化物またはこれらの混合物から選択される酸化物粒子、ポリマーおよび開始剤を含有する、および
ｅ）工程ｄ）で施与された被覆を乾燥させる工程
を有する、支持体を被覆する方法により解決される。
【００１２】
本発明による方法は、特定の支持体に限定されない。支持体は、連続気泡を有していても、独立気泡を有していてもよい。特に工程ａ）の支持体は、軟質であるか、かつ／または硬質の支持体であってよい。有利な実施態様では、工程ａ）の支持体は、ニット、織物、ネット、シート、平面状構造物および／または板である。
【００１３】
工程ａ）の支持体は有利には１００℃より高い温度でほぼ温度安定性である。有利には工程ａ）の支持体は、工程ｃ）および／またはｅ）の乾燥条件下で、ほぼ温度安定性である。
【００１４】
有利な実施態様では、工程ｂ）の無機化合物は、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｙ2Ｏ3、ＳｉＣ、Ｆｅ2Ｏ3、ＳｉＮ、ＳｉＰ、アルミノケイ酸塩、アルミノリン酸塩、ゼオライト、部分的に交換されているゼオライトまたはこれらの混合物から選択されている。有利なゼオライトはたとえばＺＳＭ−５、Ｎａ−ＺＳＭ−５またはＦｅ−ＺＳＭ−５であるか、または非晶質の微孔質混合酸化物であり、これらは加水分解することができない有機化合物、たとえば酸化バナジウム−酸化ケイ素ガラスまたは酸化アルミニウム−酸化ケイ素−メチルケイ素セスキオキシドガラスを２０パーセントまで含有していてもよい。
【００１５】
有利には工程ｂ）の有機化合物は、１ｎｍ〜１００００ｎｍの粒径を有する。本発明による複合材料が、少なくとも１の無機化合物の少なくとも２の粒径フラクションを有していると有利な場合がある。同様に本発明による支持体は、少なくとも２の無機化合物の少なくとも２の粒径フラクションを有していると有利な場合がある。粒径の比率は、１：１〜１：１００００、有利には１：１〜１：１００であってよい。工程ｂ）の組成物中の粒径フラクションの量比は、有利には０．０１：１〜１：０．０１であってよい。工程ｂ）の組成物は、有利には懸濁液であり、有利には水性懸濁液である。懸濁液は有利には、水、アルコール、酸またはこれらの混合物から選択される液体であってよい。
【００１６】
もう１つの有利な実施態様では、工程ｂ）の無機化合物は、金属および／または半金属を含有する無機化合物の前駆体を加水分解することによって得ることができる。加水分解はたとえば水および／またはアルコールにより行うことができる。加水分解の際に、開始剤が存在していてもよく、開始剤は有利に酸または塩基であり、好ましくは水性の酸または塩基である。
【００１７】
無機化合物の前駆体は、有利には金属硝酸塩、金属ハロゲン化物、金属炭酸塩、金属アルコラート、半金属ハロゲン化物、半金属アルコラートまたはこれらの混合物である。有利な前駆体はたとえばチタンアルコラート、たとえばチタンイソプロピラート、ケイ素アルコラート、たとえばテトラエトキシシラン、ジルコニウムアルコラートである。有利な金属硝酸塩は、たとえば硝酸ジルコニウムである。有利な実施態様では、組成物中に加水分解可能な前駆体に対して、該前駆体の加水分解可能な基を基準として、少なくとも半分のモル比の水、水蒸気または氷が含有されていてよい。
【００１８】
有利な実施態様では、工程ｂ）の組成物はゾルである。有利な実施態様では、市販のゾル、たとえば硝酸チタンゾル、硝酸ジルコニウムゾルまたはシリカゾルを使用することが可能である。
【００１９】
有利には工程ｃ）の組成物の乾燥を、５０℃〜１０００℃の温度への加熱により実施する。有利な実施態様では、１０分〜５時間、５０℃〜１００℃の温度で乾燥させる。
【００２０】
もう１つの有利な実施態様では工程ｄ）で１秒〜１０分間、１００℃〜８００℃の温度で乾燥させる。
【００２１】
工程ｃ）の乾燥は、加熱された空気、熱風、赤外線照射、マイクロ波照射または電気的に発生させた熱により行うことができる。
【００２２】
有利な実施態様では、一般式（Ｚ1）Ｓｉ（ＯＲ）3のＲは、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７および／または１８個の炭素原子を有するアルキル基である。
【００２３】
有利な実施態様では、工程ｄ）の被覆は、一般式（Ｚ2）zＳｉ（ＯＲ）4-z［式中、Ｒは１〜８個の炭素原子を有するアルキル基であり、かつＺ2は、ＨaＦbＣnであり、その際、ａおよびｂは整数であり、すべてのＲは、同じであっても、異なっていてもよく、ａ＋ｂ＝１＋２ｎであり、ｚ＝１または２であり、かつｎは、１〜１６であるか、またはＺ1がＧｌｙである場合には、Ｚ2はＡｍ（Ａｍ＝３−アミノプロピル）であり、ｚ＝１である］の第二のシランを含有する。有利には、ｎは１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５および／または１６である。有利な実施態様では、一般式（Ｚ2）Ｓｉ（ＯＲ）3中のＲは、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５および／または１６個の炭素原子を有するアルキル基である。
【００２４】
もう１つの有利な実施態様では、工程ｄ）の被覆は、３−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシランおよび／または３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシランをシランとして、および／または３−アミノプロピルトリメトキシシランおよび／または３−アミノプロピルトリエトキシシランを第二のシランとして含有している。有利には工程ｄ）の被覆は、シランとしてテトラエトキシシランを、および第二のシランとして式（ＨaＦbＣn）zＳｉ（ＯＲ）4-zのシランを含有しており、その際、ａおよびｂは整数であり、ａ＋ｂ＝１＋２ｎであり、ｚは１または２であり、ｎは１〜１６であり、かつ全てのＲは、同じであっても、異なっていてもよく、その際、有利には全てのＲは、同一であり、かつ１〜６個の炭素原子を含有していてよい。
【００２５】
さらに有利には工程ｄ）の被覆には、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシランおよび／またはヘキサデシルトリメトキシシランがシランとして、および／または３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルトリエトキシシランが第二のシランとして含有されている。
【００２６】
有利な実施態様では、工程ｄ）の被覆中に、開始剤として酸または塩基が含有されており、これらは有利には水性の酸または塩基である。
【００２７】
有利には工程ｄ）の被覆中に含有されている酸化物粒子の表面は疎水性である。工程ｄ）の被覆の酸化物粒子の表面には、有利にはケイ素原子に結合した有機基Ｘ1+2nＣnが存在しており、その際、ｎは１〜２０であり、かつＸは、水素および／またはフッ素である。有機基は同じであっても、異なっていてもよい。有利にはｎは１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９および／または２０である。有利にはケイ素原子に結合している基は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基および／またはペンチル基である。特に有利な実施態様では、トリメチルシリル基が酸化物粒子の表面に結合している。有機基は有利には脱離することができ、かつさらに有利には加水分解することができる。
【００２８】
工程ｄ）の被覆の酸化物粒子は、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｙ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｃｅの酸化物またはこれらの混合物から選択されるものを含有していてもよい。有利には工程ｄ）の被覆の酸化物粒子は、工程ｄ）の反応条件下で、酸化物粒子の表面において部分的に加水分解される。この場合、有利には反応性中心が形成され、該反応性中心は工程ｄ）の被覆の有機ケイ素化合物と反応する。これらの有機ケイ素化合物は、工程ｅ）の乾燥の間に、たとえば−Ｏ−結合により酸化物粒子に共有結合することができる。このことにより、硬化した被覆によって酸化物粒子は共有結合により架橋する。従って、硬化した被覆の膜厚は意外にもはるかに低減することができる。
【００２９】
酸化物粒子は、１０〜１０００ｎｍ、有利には２０〜５００ｎｍ、さらに有利には３０〜２５０ｎｍの平均粒径を有していてよい。被覆が透明であるか、かつ／または無色であるべき場合には、有利には１０〜２５０ｎｍの平均粒径を有する酸化物粒子のみを使用する。平均粒径は、一次粒子の粒径に対するものであるか、または酸化物が凝集体として存在している場合には、凝集体の大きさに対するものである。粒径は光散乱法により測定され、たとえばＨＯＲＩＢＡ  ＬＢ５５０（登録商標）（Ｒｅｔｓｃｈ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社）のタイプの装置によって測定される。
【００３０】
工程ｄ）の被覆中で、ポリマーは有利には少なくとも３０００ｇ／モルの質量平均分子量を有している。有利には質量平均分子量は少なくとも５０００ｇ／モル、さらに有利には少なくとも６０００ｇ／モルおよび最も有利には少なくとも１００００ｇ／モルである。
【００３１】
有利には工程ｄ）の被覆のポリマーは、少なくとも５０の平均重合度を有している。有利な１実施態様では、平均重合度は、少なくとも８０、さらに有利には少なくとも９５、および最も有利には少なくとも１５０である。有利には工程ｄ）の被覆のポリマーは、ポリアミド、ポリエステル、エポキシ樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド縮合物、ウレタン−ポリオール樹脂、またはこれらの混合物から選択される。
【００３２】
有利には工程ｄ）で支持体上に、ｅ）の乾燥後に支持体に、０．０５〜１０μｍの膜厚を有する乾燥した被覆の層が存在するような量で被覆を施与する。有利には乾燥させた支持体上に、０．１μｍ〜９μｍ、さらに有利には０．２〜８μｍ、および最も有利には０．３μｍ〜７μｍの膜厚を有する工程ｄ）の被覆が存在する。
【００３３】
工程ｅ）の被覆の乾燥は、当業者に公知の任意の方法で実施することができる。特に炉中で乾燥を実施することができる。さらに熱風乾燥炉、循環空気式乾燥炉、マイクロ波乾燥炉によるか、または赤外線照射による乾燥は有利である。特に有利には、工程ｃ）の方法および乾燥時間で乾燥を実施することができる。有利な実施態様では、工程ｅ）の被覆は、５０℃〜１０００℃の温度への加熱により乾燥させることができる。
【００３４】
もう１つの有利な実施態様では、工程ｂ）および／またはｄ）の被覆の施与の前に、少なくとも１の別の被覆を施与することができる。これらの別の被覆はたとえば印刷であってもよい。このような印刷は、当業者に慣用の任意の印刷法により、特にオフセット印刷法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法またはインクジェット印刷法により施与することができる。
【００３５】
もう１つの実施態様では、工程ｄ）の被覆の施与後に、少なくとも１の別の被覆を施与することができる。これらの別の被覆は限定されず、かつ当業者に公知の任意の被覆であってよい。特にこれらの被覆は印刷であってもよい。この場合にも印刷は、当業者に慣用の任意の方法により、特にオフセット印刷法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法またはインクジェット印刷法により施与することができる。
【００３６】
本発明の被覆された支持体は、意外なことに、極めて高い柔軟性を有している。支持体が軟質である場合、支持体は、施与された被覆が破壊されるか、または亀裂が生じることなく、折り曲げることができる。特にこのようにして軟質タイル上に被覆を施与することができ、これは、被覆に否定的な影響を与えることなく、土台の表面形状に適合させることができる。被覆として、すでに記載したように、種々の保護層、特に攻撃的な化学薬品または汚れを拒絶する被覆を施与することができる。
【００３７】
さらに意外なことには、本発明による方法により、より厚い被覆を施与することができ、その際、多層法での施与は回避される。このことは、耐引掻性の層をポリマーの平面状構造物の上に施与する場合に特に有利である。さらに、本発明の被覆された支持体は、可逆的に伸縮性であり、かつ摩擦可能であることが意外である。
【００３８】
本発明のもう１つの対象は、前記の方法により得られる被覆された支持体である。
【００３９】
実施例
本発明による例：
組成物の製造：
攪拌容器中に、蒸留水６７４．５６ｇ、エタノール２７１．４８ｇ（９６％）および濃縮された硝酸９３．３７６ｇを装入する。この混合物に、撹拌下でＤｏｌａｐｉｘ  ＣＥ６４（酸化物セラミックを液状にするための有機分散剤兼液状化剤（高分子電解質）、製造業者：Ｚｓｃｈｉｍｍｅｒ＆Ｓｃｈｗａｒｚ  ＧｍｂＨ＆Ｃｏ．ＫＧ、Ｄ−５６１１２  Ｌａｈｎｓｔｅｉｎ）１１．９７ｇを添加する。
【００４０】
その後、該混合物に順次、Ｍａｒｔｉｎｓｗｅｒｋｅの酸化アルミニウムＭＺＳ  １およびＭＺＳ３それぞれ５１８．０４ｇを導入して分散させ、かつ得られた混合物を１２時間、後攪拌する。
【００４１】
該分散液にテトラエトキシシラン１６．６６ｇ、メチルトリエトキシシラン１６．６６ｇおよびグリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン３３．３２ｇを添加し、かつ２４時間、後攪拌する。
【００４２】
該分散液に２５％のアンモニア溶液２．１１７ｇを添加し、かつその後、乾燥後に２２０ｇ／ｍ2の被覆質量が存在するような量で、ＰＥＴ不織布（ポリエチレンテレフタレート不織布、Ｆｒｅｕｄｅｎｂｅｒｇ  ＦＫ  ２２３４５）上に分散液を施与する。施与した組成物をまず室温で乾燥させ、かつ次いで、炉中で１０秒間、２２０℃に加熱する。
【００４３】
被覆の製造：
グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン６２６ｇ中に、Ａｅｒｏｓｉｌ（登録商標）Ｒ８１２Ｓ（Ｄｅｇｕｓｓａ  ＡＧ、トリメチルシリル基で表面変性された二酸化ケイ素）２６．５ｇを分散させる。該分散液に、ビスフェノールＡ２４１ｇおよび１％の塩酸３１．８ｇを、撹拌下に添加する。こうして得られた混合物を、６℃で２４時間貯蔵する。
【００４４】
その後、該混合物１５０．３６ｇに撹拌下で、メチルイミダゾール３．４５ｇおよびＢａｋｅｌｉｔｅ  ＥＰＲ７６０（エポキシ樹脂）１５．３９ｇを添加する。２０時間、後攪拌する。
【００４５】
得られた被覆材料から、２０ｇ／ｍ2（湿潤）をドクターナイフで、ＰＥＴ不織布の、すでに前記組成物が施与された側に施与した。その後、１２０℃で３０分間乾燥させる。
【００４６】
被覆したＰＥＴ不織布は、折り曲げたときに、極めて高い柔軟性を示す。施与された層は、はく離しない。さらに、被覆されたＰＥＴ不織布は、極めて耐引掻性であり、可逆的に伸縮性であり、かつ耐摩耗性である。得られた表面はなめらかであり、亀裂がなく、かつ光沢を有している。さらに、本発明による被覆組成物のポットライフは、明らかに長くなっていることが判明した。従って本発明による被覆組成物はより容易に、かつより効率よく加工することができる。
【００４７】
比較例：
組成物の製造：
前記不織布を、前記の例に相応して前記の例の組成物で被覆し、かつ乾燥させる。
【００４８】
被覆の製造：
グリシジルオキシプロピルトリメトキシシランおよびアミノプロピルトリエトキシシランを、モル比１：１で混合する。該混合物に、１％濃度の硝酸および５％のエタノールを添加する。
【００４９】
こうして得られた被覆組成物を、１時間、後攪拌し、かつ得られた被覆組成物の２０ｇ／ｍ2をドクターナイフで、ＰＥＴ不織布の、すでに前記組成物が施与された側に施与した。その後、１２０℃で３０分間乾燥させた。
【００５０】
比較例は、得られた被覆は、亀裂が貫通しており、粗い表面を有していることを示す。被覆された不織布は、表面が破壊されることなく折り曲げることはできない。比較例の被覆組成物のポットライフは、２時間と極めてわずかであり、このことによって被覆組成物の加工性は否定的な影響を受ける。