(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
シール材を介して前記第１基板と対向するように配置される第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板の間に挟持される液晶層と、
前記第１基板の前記液晶層側に配置され、画素領域における前記液晶層に電圧を印加する第１電極と、
前記第１基板の前記画素領域と前記シール材との間に設けられた周辺領域に配置される第２電極と、
前記第２基板の前記液晶層側に配置され、前記第１電極及び前記第２電極に対向するように配置される対向電極と、
前記第２基板の前記周辺領域の前記画素領域との境界に配置され、前記第２基板から前記第１基板に向かう方向から見たとき、前記第２電極と一部が重なる遮光膜と、
前記第１基板に配置され、前記第２電極に対して、前記液晶層に電圧を印加するための電位を供給する電源供給手段と、
を備え、
前記第２基板から前記第１基板に向かう方向から見たとき、前記対向電極は前記第２電極と少なくとも一部が重なることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記第２電極は複数個配置され、少なくとも部分的に、互いに電気的に接続されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記シール材は、光を照射することによって硬化することを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記遮光膜は、前記周辺領域における前記画素領域との境界に位置する境界領域に少なくとも部分的に配置され、前記周辺領域に入射する光を遮光することを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記第２電極に印加される電圧は、交流電圧であることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記画素領域と前記周辺領域との間に位置するダミー画素領域に配置され、前記第１電極を模擬するダミー電極を有するダミー画素をさらに備え、
前記第２電極は、前記ダミー電極と互いに電気的に接続されており、
前記電源供給手段は、前記ダミー電極を介して、前記第２電極に電位を供給することを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
ダミートランジスタが前記ダミー画素に前記電位を供給することを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置。
【請求項８】
前記電源供給手段は、前記第１基板上に設けられた電源供給回路を含んでいることを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた、例えば液晶プロジェクタ等の電子機器の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の電気光学装置では、例えばＴＦＴ（Thin Film Transistor）アレイ基板上に、マトリクス状に配列された複数の画素電極を備えており、これらの配列された平面領域が画像表示領域とされる。画像表示領域の額縁は、例えばＴＦＴアレイ基板上に形成された、ブラックマトリクスやブラックマスク等と称される内蔵遮光膜によって規定される（特許文献１参照）。或いは、このような内蔵遮光膜に代えて又は加えて、対向基板上に、額縁遮光膜が形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−９０６７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述した技術においては、例えば遮光膜を形成するために製造時の工程数やコストが増加してしまう。特に、装置の小型化や表示する画像の高精細化等が求められる場合には、装置構成の複雑化や、それに伴う各部材のレイアウトの制限等も招くおそれがある。以上のように、上述した技術には、製造工程における不利益が数多く生じてしまうという技術的問題点がある。
【０００５】
本発明は、例えば上述した問題点に鑑みなされたものであり、簡易な構成で周辺領域を遮光することが可能な電気光学装置及び電子機器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の電気光学装置は上記課題を解決するために、互いに対向するようにシール材を介して配置される第１及び第２基板と、該第１及び第２基板間に挟持される液晶層と、前記第１基板の前記液晶層側に、画素領域における前記液晶層に電圧を印加する第１電極と、前前記画素領域と前記シール材との間に設けられた周辺領域に第２電極と、前記画素領域と前記周辺領域との間に、前記第２電極と一部が重なるように設けられた遮光膜と、前記第２電極に対して、前記液晶層に電圧を印加するための電源電位を供給する電源供給手段とを備える。
【０００７】
本発明の第１の電気光学装置によれば、例えば複数のデータ線及び複数の走査線が交差するように設けられており、データ線から画素領域における第１電極への画像信号の供給が制御され、所謂アクティブマトリクス方式による画像表示が可能となる。より具体的には、各画素は、トランジスタのゲート電極に走査線より走査信号が供給されることにより選択状態となり、トランジスタの半導体層の一方のソースドレイン領域がデータ線と互いに電気的に接続され、且つ他方のソースドレイン領域が第１電極と互いに電気的に接続されることにより、トランジスタを介して、第１電極にデータ線から画像信号が供給される。第１電極は、画像信号に応じて液晶層に電圧を印加する。これにより、液晶層に含まれる液晶分子の傾きが制御され、画素領域に画像が表示される。
【０００８】
第１電極は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材料からなる電極であり、データ線及び走査線の交差に対応して、画素領域にマトリクス状に複数設けられている。他方で、画素領域の周辺に位置する周辺領域には、第２電極が設けられている。尚、ここでの「周辺領域」とは、例えば各種駆動回路等が設けられる領域であり、実質的に画像の表示に寄与しない領域を意味している。
【０００９】
第２電極には、電源供給手段によって電源電位が供給される。電源供給手段は、例えば画素領域の各画素を駆動する駆動回路等のような画像表示に用いられる電源を供給する電源であってもよいし、第２電極専用の電源であってもよい。言い換えれば、電源供給手段は、液晶層を駆動できるような電圧を印加するための電源電位を供給できるものであれば、どのようなものであっても構わない。
【００１０】
第２電極は、供給された電源電位によって液晶層に電圧を印加し、周辺領域を液晶層によって遮光する。具体的には、例えば第２電極が周辺領域における液晶層において黒を表示させるような電圧を印加することで、周辺領域は遮光される。尚、液晶層は電圧を印加した際に黒表示を行うようなものであってもよいし、逆に電圧を印加しない場合に黒表示を行うようなものであってもよい。即ち、第２電極は、電圧を印加することで、周辺領域に入射する光が液晶層を通過するか否かを切り換えることが可能とされている。
【００１１】
本発明では特に、上述したように、周辺領域における液晶層を制御することで、周辺領域に入射する光を遮光している。よって、例えば遮光膜等の遮光用の部材を別途設けなくとも、周辺領域を確実に遮光することができる。従って、製造工程の工数及び製造コストを低減させることができる。また、電源供給手段として既存の電源配線等を用いるように構成すれば、遮光膜を設ける場合と比べて、簡易な構成で遮光を実現することができる。これにより、設計段階におけるレイアウトの自由度を高めることが可能である。
【００１２】
以上説明したように、本発明の第１の電気光学装置によれば、周辺領域の液晶層に対して電圧を印加できるような構成とすることで、液晶層による周辺領域の遮光を実現している。よって、簡易な構成で周辺領域を遮光することができる。
【００１３】
本発明の第２の電気光学装置は上記課題を解決するために、互いに対向するようにシール材を介して配置される第１及び第２基板と、該第１及び第２基板間に挟持される液晶層と、前記第１基板の前記液晶層側に、画素領域における前記液晶層に電圧を印加する第１電極と、前記画素領域と前記シール材との間に設けられた周辺領域に第２電極と、前記画素領域と前記周辺領域との間に、前記第２電極と一部が重なるように設けられた遮光膜と、前記第２電極に対して、前記液晶層に電圧を印加するための電位を供給する電源供給手段とを備える。
【００１４】
本発明の第２の電気光学装置によれば、上述した第１の電気光学装置と同様に、第２電極に印加される電圧によって、周辺領域における液晶層を制御することができる。これにより、液晶層によって周辺領域に入射する光を遮光することが可能となる。従って、例えば遮光膜等の遮光用の部材を別途設けなくとも、周辺領域を確実に遮光することができる。
【００１５】
尚、本発明において、電源供給手段から第２電極に供給される電位は特に制限はなく、液晶層を制御できるような電位であれば、どのような電位であってもよい。即ち、第２電極に供給される電位は、例えば装置における他の駆動に用いられる電位を分岐させて供給させるようなものであってもよいし、遮光用の液晶制御専用に供給される電位であってもよい。
【００１６】
以上説明したように、本発明の第２の電気光学装置によれば、周辺領域の液晶層に対して電圧を印加できるような構成とすることで、液晶層による周辺領域の遮光を実現している。よって、簡易な構成で周辺領域を遮光することができる。
【００１７】
本発明の電気光学装置の一態様では、前記第２電極は、少なくとも部分的に、互いに電気的に接続されている。
【００１８】
この態様によれば、第２電極が、少なくとも部分的に、互いに電気的に接続されているため、例えば一の第２の電極に電源電位を供給するようにすれば、一の第２の電極と電気的に接続された他の第２の電極にも電源電位が供給される。よって、周辺領域における構造を、より簡易なものとすることができる。第２の電極は、好ましくは、ベタ状の電極（即ち、周辺領域の全面と重なるような一の電極）とされる。
【００１９】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記シール材は、光を照射することによって硬化する。
【００２０】
この態様によれば、周辺領域における第１及び第２基板間には、第１及び第２基板を互いに貼り合わせるように設けられたシール材が備えられている。尚、シール材には、典型的には、グラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されており、第１及び第２基板間の間隔を規定する機能も備えている。
【００２１】
本態様では、シール材は例えば紫外線等の光を照射することによって硬化する。即ち、製造工程では、シール材が第１及び第２基板間に配置された後に、基板を介してシール材に光が照射されることで、シール材が硬化し第１基板及び第２基板が固定される。
【００２２】
ここで仮に、周辺領域に遮光膜等の遮光用の部材が形成されているとすると、シール材に対して光を照射することが困難となってしまう。即ち、シール材を硬化するための光も遮光されてしまうおそれがある。
【００２３】
しかるに本態様では特に、周辺領域における遮光は液晶によって行われている。よって、遮光膜等によってシール材硬化用の光が遮光されてしまうことがない。また、液晶を駆動することで、液晶を光が通過するか否かを変更できるため、好適にシール材に光を照射することが可能となる。よって、より好適に装置を製造することが可能となる。
【００２４】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記周辺領域における前記画素領域との境界に位置する境界領域に少なくとも部分的に設けられており、前記周辺領域に入射する光を遮光する境界遮光膜を更に備える。
【００２５】
この態様によれば、周辺領域における画素領域との境界に位置する境界領域には少なくとも部分的に境界遮光膜が設けられている。境界遮光膜は、典型的には、画素領域の周囲に沿ってライン状に設けられる。尚、このような境界遮光膜は、例えば周辺領域全体を覆うような遮光膜と比べると、簡単な工程で形成することが可能であり、他の部材の配置を妨げてしまう可能性も極めて少ない。
【００２６】
境界遮光膜を設けることで、境界領域における遮光能力を高めることができる。即ち、境界領域では、液晶による遮光と境界遮光膜による遮光とが行われるため、境界領域以外の周辺領域と比べて遮光能力が高い。これにより、境界領域周辺において画像がぼやけて表示されてしまうことを防止することができる。従って、より高品質な画像を表示することが可能となる。
本発明の一態様の電気光学装置は、第１基板と、シール材を介して前記第１基板と対向するように配置される第２基板と、前記第１基板と前記第２基板の間に挟持される液晶層と、前記第１基板の前記液晶層側に配置され、画素領域における前記液晶層に電圧を印加する第１電極と、前記第１基板の前記画素領域と前記シール材との間に設けられた周辺領域に配置される第２電極と、前記第２基板の前記液晶層側に配置され、前記第１電極及び前記第２電極に対向するように配置される対向電極と、前記第２基板の前記周辺領域の前記画素領域との境界に配置され、前記第２基板から前記第１基板に向かう方向から見たとき、前記第２電極と一部が重なる遮光膜と、前記第１基板に配置され、前記第２電極に対して、前記液晶層に電圧を印加するための電位を供給する電源供給手段と、を備え、前記第２基板から前記第１基板に向かう方向から見たとき、前記対向電極は前記第２電極と少なくとも一部が重なることを特徴とする電気光学装置。
【００２７】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記第２電極に印加される電圧は、交流電圧である。
【００２８】
この態様によれば、第２電極には、液晶層を駆動するための電圧として交流電圧が印加される。即ち、第２電極に印加される電圧の電圧値は周期的に変化する。よって、例えば同一の電位が印加され続けることによる焼き付き等を効果的に防止することができる。従って、より好適に周辺領域を遮光することが可能となる。
【００２９】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記画素領域及び前記周辺領域間に位置するダミー画素領域に設けられており、前記第１電極を模擬するダミー電極を有するダミー画素を備え、前記第２電極は、前記ダミー電極と互いに電気的に接続されており、
前記電源供給手段は、前記ダミー電極を介して、前記第２電極に電位を供給する。
【００３０】
この態様によれば、画素領域及び周辺領域間に位置するダミー領域には、画素領域における画素を模擬するダミー画素が設けられている。ダミー画素は、画素領域に設けられた画素に含まれる第１電極を模擬するダミー電極を有しており、典型的には、画素に対するスイッチング制御を行うトランジスタを模擬するダミートランジスタも有している。即ち、ダミー画素は、画素と概ね同様の動作を行うような構成とされている。但し、ダミー画素が設けられているダミー画素領域は、画像表示に起因しない領域である。
【００３１】
本態様では、第２電極は、上述したダミー画素におけるダミー電極と電気的に接続されている。尚、第２電極とダミー電極との接続部は、１つであってもよいし、複数設けられていてもよい。そして特に、電源供給手段から第２電極に供給される遮光用の電位は、ダミー電極を介して供給される。即ち、電源供給手段は、ダミー電極に電位を供給することで、間接的に第２電極に電位を供給する。
【００３２】
上述したように構成すれば、遮光用の電極がダミー電極を介して供給されるため、第２電極に電位を供給するための配線や回路等を別途設けなくとも済む。従って、より簡易な構成で、液晶層を制御することによる周辺領域の遮光を実現できる。
【００３３】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記電源供給手段は、前記第１基板上に設けられた電源供給回路を含んでいる。
【００３４】
この態様によれば、電源供給手段に、第１基板上に設けられた電源供給回路が含まれているため、この電源供給回路を用いて、より好適に第２電極に電位を供給することができる。尚、電源供給回路は、典型的には、遮光用の電位を供給する専用の回路として設けられる。
【００３５】
具体的には、例えば電源供給回路が電圧昇降機能を有することで、より適切な値の電位を容易に供給することが可能となる。また、直流交流変換機能を有することで、容易に交流電圧を供給することが可能となる。
【００３６】
本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置（但し、その各種態様も含む）を具備する。
【００３７】
本発明の電子機器によれば、上述した本発明に係る電気光学装置を具備してなるので、製造工程の工数及び製造コストを低減させることが可能な、投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明の電子機器として、例えば電子ペーパなどの電気泳動装置等も実現することも可能である。
【００３８】
本発明の作用及び他の利得は、次に説明する発明を実施するための形態から明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】実施形態に係る電気光学装置の全体構成を示す平面図。
【図２】図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【図３】実施形態に係る電気光学装置の画像表示領域を構成する複数の画素における各種素子、配線等の等価回路図である。
【図４】周辺領域における液晶層が光を遮光する際の液晶分子を概念的に示す断面図である。
【図５】周辺領域における液晶層が光を通過させる際の液晶分子を概念的に示す断面図である。
【図６】比較例に係る電気光学装置の構成を示す断面図である。
【図７】実施形態に係る電気光学装置の変形例を示す断面図（その１）である。
【図８】実施形態に係る電気光学装置の変形例を示す断面図（その２）である。
【図９】本実施形態に係る電気光学装置の変形例を示す平面図である。
【図１０】図９に示す変形例に係る電気光学装置の構成を概念的に示す断面図であるである。
【図１１】電気光学装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクタの構成を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
以下では、本発明の実施形態について図を参照しつつ説明する。
【００４１】
＜電気光学装置＞
本実施形態に係る電気光学装置について、図１から図８を参照して説明する。尚、以下の実施形態では、本発明の電気光学装置の一例である駆動回路内蔵型のＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例にとる。
【００４２】
先ず、本実施形態に係る電気光学装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。ここに図１は、本実施形態に係る電気光学装置の全体構成を示す平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【００４３】
図１及び図２において、本実施形態に係る電気光学装置では、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とが対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０は、例えば石英基板、ガラス基板等の透明基板や、シリコン基板等である。対向基板２０は、例えば石英基板、ガラス基板等の透明基板である。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間には、液晶層５０が封入されている。液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で所定の配向状態をとる。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、本発明の「第１電極」の一例である複数の画素電極が設けられた画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材５２により相互に接着されている。尚、ここでの画像表示領域１０ａは、本発明の「画素領域」の一例である。
【００４４】
シール材５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射等により硬化させられたものである。シール材５２中には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（即ち、基板間ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されている。尚、ギャップ材を、シール材５２に混入されるものに加えて若しくは代えて、画像表示領域１０ａ又は画像表示領域１０ａの周辺に位置する周辺領域に、配置するようにしてもよい。
【００４５】
周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿うようにして設けられている。更に、このように画像表示領域１０ａの両側に設けられた二つの走査線駆動回路１０４間をつなぐため、ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺に沿うようにして複数の配線１０５が設けられている。
【００４６】
ＴＦＴアレイ基板１０上には、対向基板２０の４つのコーナー部に対向する領域に、両基板間を上下導通材で接続するための上下導通端子１０６が配置されている。これらにより、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。
【００４７】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、駆動素子である画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。この積層構造の詳細な構成については図２では図示を省略してあるが、この積層構造の上に、ＩＴＯ等の透明材料からなる画素電極９ａが、画素毎に所定のパターンで島状に形成されている。
【００４８】
画素電極９ａは、対向電極２１に対向するように、ＴＦＴアレイ基板１０上の画像表示領域１０ａに形成されている。ＴＦＴアレイ基板１０における液晶層５０の面する側の表面、即ち画素電極９ａ上には、配向膜１６が画素電極９ａを覆うように形成されている。尚、本実施形態に係る電気光学装置では特に、画像表示領域１０ａの周辺に位置する周辺領域においても画素電極９ａと同様の電極が形成されている。周辺領域における構成については後に詳述する。
【００４９】
対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０との対向面上に、遮光膜２３が形成されている。遮光膜２３は、例えば対向基板２０における対向面上に平面的に見て、格子状に形成されている。対向基板２０において、遮光膜２３によって非開口領域が規定され、遮光膜２３によって区切られた領域が、例えばプロジェクタ用のランプや直視用のバックライトから出射された光を透過させる開口領域となる。尚、遮光膜２３をストライプ状に形成し、該遮光膜２３と、ＴＦＴアレイ基板１０側に設けられたデータ線等の各種構成要素とによって、非開口領域を規定するようにしてもよい。
【００５０】
遮光膜２３上には、ＩＴＯ等の透明材料からなる対向電極２１が複数の画素電極９ａと対向するように形成されている。また遮光膜２３上には、画像表示領域１０ａにおいてカラー表示を行うために、開口領域及び非開口領域の一部を含む領域に、図２には図示しないカラーフィルタが形成されるようにしてもよい。対向基板２０の対向面上における、対向電極２１上には、配向膜２２が形成されている。
【００５１】
尚、図１及び図２に示したＴＦＴアレイ基板１０上には、これらのデータ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４等の駆動回路に加えて、画像信号線上の画像信号をサンプリングしてデータ線に供給するサンプリング回路、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該電気光学装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。
【００５２】
続いて、本実施形態に係る電気光学装置の画素部の電気的な構成について、図３を参照して説明する。ここに図３は、本実施形態に係る電気光学装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路図である。
【００５３】
図３において、画像表示領域１０ａを構成するマトリクス状に形成された複数の画素の各々には、画素電極９ａ及びＴＦＴ３０が形成されている。ＴＦＴ３０は、画素電極９ａに電気的に接続されており、本実施形態に係る電気光学装置の動作時に画素電極９ａをスイッチング制御する。画像信号が供給されるデータ線６ａは、ＴＦＴ３０のソースに電気的に接続されている。データ線６ａに書き込む画像信号Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎは、この順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線６ａ同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。
【００５４】
ＴＦＴ３０のゲートには、走査線３ａが電気的に接続されており、本実施形態に係る電気光学装置は、所定のタイミングで、走査線３ａにパルス的に走査信号Ｇ１、Ｇ２、・・・、Ｇｍを、この順に線順次で印加するように構成されている。画素電極９ａは、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ３０を一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎが所定のタイミングで書き込まれる。画素電極９ａを介して電気光学物質の一例としての液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎは、対向基板に形成された対向電極との間で一定期間保持される。
【００５５】
液晶層５０（図２参照）を構成する液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能とする。ノーマリーホワイトモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が減少し、ノーマリーブラックモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が増加され、全体として電気光学装置からは画像信号に応じたコントラストをもつ光が出射される。
【００５６】
ここで保持された画像信号がリークすることを防ぐために、画素電極９ａと対向電極２１（図２参照）との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量７０が付加されている。蓄積容量７０は、画像信号の供給に応じて各画素電極９ａの電位を一時的に保持する保持容量として機能する容量素子である。蓄積容量７０の一方の電極は、画素電極９ａと並列してＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続され、他方の電極は、定電位となるように、電位固定の容量線３００に電気的に接続されている。蓄積容量７０によれば、画素電極９ａにおける電位保持特性が向上し、コントラスト向上やフリッカの低減といった表示特性の向上が可能となる。
【００５７】
次に、本実施形態に係る電気光学装置のより具体的な構成及び動作について、図４から図８を参照して説明する。ここに図４は、周辺領域における液晶層が光を遮光する際の液晶分子を概念的に示す断面図であり、図５は、周辺領域における液晶層が光を通過させる際の液晶分子を概念的に示す断面図である。また図６は、比較例に係る電気光学装置の構成を示す断面図である。図７及び図８は夫々、本実施形態に係る電気光学装置の変形例を示す断面図である。図９は、本実施形態に係る電気光学装置の変形例を示す平面図であり、図１０は、図９に示す変形例に係る電気光学装置の構成を概念的に示す断面図である。尚、図４から図１０では、説明に必要となる構成要素のみを図示し、図１及び図２に示したような基板上の詳細な部材を適宜省略して図示している。
【００５８】
図４において、本実施形態に係る電気光学装置では、画像表示領域１０ａの周辺に位置する周辺領域（即ち、図１におけるデータ線駆動回路１０１や走査線駆動回路１０４が設けられている領域）にも液晶層５０が存在している。また、液晶層を挟持するＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０上には、本発明の「第２電極」の一例である周辺電極９ｂ及び対向電極２１が設けられている。周辺電極９ｂは、周辺領域にベタ状の電極として形成されており、ＴＦＴアレイ基板１０上に配置された本発明の「電源供給手段」の一例である電源配線２００とコンタクトホール８０を介して電気的に接続されている。
【００５９】
画像を表示する際には、画像表示領域１０ａにおける画素電極９ａに画像に応じた電圧が印加され、液晶層５０における液晶分子５５が制御される。より具体的には、印加される電圧の値に応じて、液晶分子５５が夫々異なる角度で傾くように制御される。これにより、例えば光源等から入射される入射光が偏光され、画像が表示されることとなる。
【００６０】
他方で、周辺領域は、例えばデータ線駆動回路１０１や走査線駆動回路１０４等に光が入射しないように遮光されている。即ち、仮に周辺領域に入射光が入射したとしても、入射光が周辺領域を通過して出射されないような構成とされている。
【００６１】
具体的には、先ず電源配線２００から電源電位がコンタクトホール８０を介して周辺電極９ｂに供給される。周辺電極９ｂは、供給された電源電位によって液晶層５０に電圧を印加し、光が液晶層５０を通過しないように（例えば、黒表示を行うように）、液晶分子５５を制御する。よって、入射光は液晶層５０によって遮光され、ＴＦＴアレイ基板１０には達しない。よって、光リーク電流等に起因する装置の不具合等を効果的に防止することができる。また、入射光が装置から出射されないため、光漏れ等によって表示される画像の品質が低下してしまうことを防止することができる。
【００６２】
図５において、周辺電極９ｂによる電圧の印加を停止させれば、入射光が液晶層５０を通過するようにすることもできる。これにより、例えばＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間に設けられたシール材５２（図１及び図２参照）を硬化させるために紫外線を照射する際等に、照射する紫外線が遮光されてしまうことを防止できる。よって、シール材５２を適切に硬化することができる。
【００６３】
尚、上述した実施形態では、周辺電極９ｂに電圧を印加することで遮光を行う方式、所謂、液晶がノーマリーホワイトモードである場合を例にとり説明したが、例えばノーマリーブラックモードであっても、上述した動作と逆の動作を行うことで、適切に周辺領域を遮光することができる。また、液晶層５０における液晶は、例えばＴＮ（Twisted Nematic）方式やＶＡ（Vertical Alignment）方式など、白表示（即ち、入射した光を透過させるようにする表示）及び黒表示（即ち、入射した光を透過させない用にする表示）を行えるものであれば、どのような液晶を用いてもよい。
【００６４】
図６において、仮に電源配線２００が周辺電極９ｂに接続されていないとすると、液晶層５０を駆動することができないため、周辺領域を遮光するために別途遮光用部材を設けることが求められてしまう。ここで、図に示すように対向基板２０側に設けられた遮光膜２５及びＴＦＴアレイ基板１０側に設けられた遮光膜２６によって入射光を遮光する場合には、製造工程において遮光膜２５及び２６を設けるための工程が増加するため、製造工程の高度複雑化及びコストの増大を招いてしまう。また、遮光膜２５及び２６が配置されることにより、他の部材のレイアウトが制限されてしまうため、設計における自由度が低下してしまう。また、遮光膜２５及び２６を設けた後は、周辺領域は常に遮光された状態となる。よって、上述したように遮光状態（図４参照）と入射光を通過させる状態（図５参照）とを切り換えることができない。
【００６５】
上述した比較例に係る場合と比べて、本実施形態に係る電気光学装置では、電源配線２００と周辺電極９ｂとをコンタクトホール８０によって電気的に接続するだけでよいため、比較的簡単な構成で実現可能である。また、周辺電極９ｂに供給される電位は、液晶層５０を駆動できるようなものでありさえすればよいため、例えばデータ線駆動回路１０１や走査線駆動回路１０４等の既存の駆動回路の電源配線を用いることも可能である。
【００６６】
更に、周辺電極９ｂに供給される電位は、電源配線以外の配線を用いて供給されるものであってもよい。即ち、周辺電極９ｂに供給される電位は、電源電位以外の電位であってもよい。具体的には、対向電極２１に供給される共通電位がよい。また、例えば遮光用の電位を供給するための専用回路を設ければ、遮光用の電位として適切な電位を容易に周辺電極９ｂに供給することが可能である。
【００６７】
図７に示すように、本実施形態に係る電気光学装置では、周辺領域における画像表示領域１０ａとの境界に境界遮光膜２７が設けられてもよい。境界遮光膜を設けることで、画像表示領域１０ａと周辺領域との境界における遮光能力をより高めることができる。よって、例えば表示される画像の輪郭をより鮮明に表示させることが可能となる。従って、高品質な画像を表示させることができる。
【００６８】
図８に示すように、周辺電極９ｂは、ベタ状の電極でなく画素電極９ａと同様のパターンで設けられてもよい。このように周辺電極９ｂが設けられている場合には、例えば図に示すように、電源配線からコンタクトホール８０、中継層２１０、コンタクトホール８１の順で電源電位が各周辺電極９ｂに供給される。また、複数の周辺電極９ｂが互いに同電位になるのであれば、複数の電源から電源が供給されるように構成されても構わない。
【００６９】
図９及び図１０に示すように、画像表示領域１０ａと周辺領域との間には、ダミー画素が配置されるダミー画素領域１０ｄが設けられていてもよい。この場合、ダミー画素におけるダミー電極９ｄと、周辺電極９ｂとが互いに電気的に接続されるように構成すれば、周辺電極９ｂに電位を供給するための配線を別途設けなくとも済む。
【００７０】
具体的には、ダミー画素において、ダミートランジスタ３０ｄからコンタクトホール８２を介してダミー電極９ｄに供給される電位（即ち、ダミー画素を動作させるための電位）が、ダミー電極９ｄを介して周辺電極９ｂに供給されるように構成すれば、ダミー電極９ｄに供給される電位で周辺領域における液晶分子５５を制御し、周辺領域の遮光を行うことが可能となる。即ち、ダミー電極９ｄに黒表示を行うような電位を供給するようにしておけば、ダミー電極９ｄを介して周辺電極９ｂに供給される電位によって、周辺領域の遮光が行われる。これにより、図４から図８等で示した電源配線２００、並びに電源配線２００と周辺電極９ｂとを互いに電気的に接続するコンタクトホール８０及び８１等は必要ない。よって、より簡易な構成で、周辺領域の遮光を実現することが可能となる。
【００７１】
更に、ダミー画素領域１０ｄから周辺領域の一部にまで延びるように遮光膜２７を設けることで、より効果的な遮光が可能となる。尚、ダミー画素は、典型的には、画像表示領域１０ａの周辺に４から１２画素程度設けられる。このため、遮光膜２７を３００から８００μｍ程度の幅とすれば、より好適に遮光を行うことができる。
【００７２】
以上説明したように、本実施形態に係る電気光学装置によれば、周辺領域の液晶層５０に対して電圧を印加できるような構成とすることで、液晶層５０による周辺領域の遮光を実現している。よって、簡易な構成で周辺領域を遮光することができる。
【００７３】
＜電子機器＞
次に、上述した電気光学装置である液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。ここに図９は、プロジェクタの構成例を示す平面図である。以下では、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクタについて説明する。
【００７４】
図９に示されるように、プロジェクタ１１００内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット１１０２が設けられている。このランプユニット１１０２から射出された投射光は、ライトガイド１１０４内に配置された４枚のミラー１１０６及び２枚のダイクロイックミラー１１０８によってＲＧＢの３原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇに入射される。
【００７５】
液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇの構成は、上述した液晶装置と同等であり、画像信号処理回路から供給されるＲ、Ｇ、Ｂの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズム１１１２に３方向から入射される。このダイクロイックプリズム１１１２においては、Ｒ及びＢの光が９０度に屈折する一方、Ｇの光が直進する。従って、各色の画像が合成される結果、投射レンズ１１１４を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。
【００７６】
ここで、各液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇによる表示像について着目すると、液晶パネル１１１０Ｇによる表示像は、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂによる表示像に対して左右反転することが必要となる。
【００７７】
尚、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇには、ダイクロイックミラー１１０８によって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルタを設ける必要はない。
【００７８】
尚、図９を参照して説明した電子機器の他にも、モバイル型のパーソナルコンピュータや、携帯電話、液晶テレビや、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。
【００７９】
また、本発明は上述の各実施形態で説明した液晶装置以外にも反射型液晶装置（ＬＣＯＳ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ、ＳＥＤ）、有機ＥＬディスプレイ、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）、電気泳動装置等にも適用可能である。
【００８０】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【符号の説明】
【００８１】
３ａ…走査線、６ａ…データ線、９ａ…画素電極、９ｂ…周辺電極、９ｄ…ダミー電極、１０…ＴＦＴアレイ基板、１０ａ…画像表示領域、１０ｄ…ダミー画素領域、２０…対向基板、２１…対向電極、２５、２６…遮光膜、２７…境界遮光膜、３０…ＴＦＴ、３０ｄ…ダミートランジスタ、５０…液晶層、５２…シール材、５５…液晶分子、１０１…データ線駆動回路、１０２…外部回路接続端子、１０４…走査線駆動回路、８０、８１、８２…コンタクトホール、２００…電源配線、２１０…中継層、１１００…プロジェクタ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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