(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される重合性化合物。
【化１】
0005408841.tif 000107
（式（１）中、Ｚ1−Ｘ1−及びＺ2−Ｘ2−は、下記式（２）で表される構造であり、Ｒ1は、−Ｒ’、−ＯＲ’、−ＣＯ−Ｒ’又は−ＯＣＯ−Ｒ’を表し、Ｒ’は、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８の分岐を有してもよいアルキル基又は置換基を有してもよい６員環を表し、該アルキル基中の−ＣＨ2−は硫黄原子又は酸素原子で置換されていてもよく、該アルキル基中の水素原子は、ハロゲン原子又はニトリル基で置換されていても良い。上記置換基は、水素原子、ハロゲン原子、ニトリル基、炭素原子数１〜８の分岐を有してもよいアルキル基、炭素原子数１〜８の分岐を有してもよいアルコキシ基、炭素原子数２〜８の分岐を有してもよいアルケニル基を表し、該アルキル基、該アルコキシ基及び該アルケニル基中の−ＣＨ2−は、硫黄原子又は酸素原子で置換されていてもよく、該アルキル基、該アルコキシ基及び該アルケニル基中の水素原子は、ハロゲン原子又はニトリル基で置換されていてもよい。Ｌ1及びＬ2は、相互に独立して、単結合、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−の何れか一種を表し、ｍは１〜４の整数を表し、複数あるＲ1は各々異なるものであってもよい。）
【化２】
0005408841.tif 000108
（式（２）中、Ｒ2は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ3は単結合、炭素原子数１〜８の分岐を有してもよいアルキレン基、若しくはエーテル結合及び／又はエステル結合で中断された炭素原子数２〜８の分岐を有してもよいアルキレン基を表し、ｎは１〜５の整数を表し、ｎが２以上の整数の場合、複数あるＲ3は各々異なるものであってもよい。）
【請求項２】
上記一般式（１）中、Ｌ1が−ＣＯＯ−、Ｌ2が−ＯＣＯ−で表される請求項１記載の重合性化合物。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の重合性化合物を含有する重合性組成物。
【請求項４】
さらに、液晶化合物を含有する請求項３記載の重合性組成物。
【請求項５】
さらに、光学活性化合物を含有し、コレステリック液晶相を発現する請求項３又は４記載の重合性組成物。
【請求項６】
さらに、ラジカル重合開始剤を含有する請求項３〜５の何れか１項に記載の重合性組成物。
【請求項７】
請求項３〜６の何れか１項に記載の重合性組成物を光重合させることにより作製された重合体。
【請求項８】
光学異方性を有するものである請求項７記載の重合体。
【請求項９】
請求項７又は８記載の重合体を使用してなるディスプレイ用光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、置換基を有する一のベンゼン環と二のナフタレン環とが直鎖上に並んだ重合性化合物及び該重合性化合物を含有する重合性組成物に関する。該重合性組成物を重合してなる重合体は、特に薄膜化した場合の製膜制御、液晶の配向保持及び硬化性の点で優れ、ディスプレイ用の光学フィルム、偏光プリズム等の光学材料として有用なものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶物質はＴＮ型やＳＴＮ型に代表されるディスプレイ表示等の液晶分子の可逆的運動を利用した表示媒体への応用以外にも、その配向性と屈折率、誘電率、磁化率、弾性率、熱膨張率等の物理的性質の異方性を利用して、位相差板、偏光板、光偏光プリズム、輝度向上フィルム、ローパス・フィルター、各種光フィルター等の光学異方体への応用が検討されている。
【０００３】
また、光学異方体のコントラスト比に関わるリターデーションＲは、Ｒ＝Δｎ・ｄ（式中、ｎは光学（屈折率）異方性、ｄは膜厚）によって表される。Ｒは特定の値に設定する必要があるので、Δｎを大きくすればｄを小さくすることができる。このように光学異方体を薄膜化できると、重合時の液晶の配向制御が容易となり、製造時の歩留まりが改善されて製造効率が向上する等の効果を得ることが可能である。
【０００４】
上記光学異方体の製造は、例えば、重合性官能基を有する液晶化合物又はこの液晶化合物を含有する重合性組成物を液晶状態で均一に配向させた後、液晶状態を保持したまま紫外線等のエネルギー線を照射することにより光重合が発生して重合体を製造することができるが、液晶化合物の配向状態を均一にかつ半永久的に固定化することが求められる。
【０００５】
この重合体に用いられる重合性組成物において、液晶相発現温度が高い場合、エネルギー線による光重合だけでなく意図しない熱重合も誘起されて液晶分子の均一な配向状態が失われるため、所望する配向の固定が困難である。従って、硬化時の温度管理を容易にするために、室温付近で液晶相を示す重合性組成物が求められる。
【０００６】
また、重合体は重合性組成物を基板に塗布して重合することによって得られるが、非重合性化合物が含まれると得られる重合体の強度が不足したり、膜内に応力歪みが残存したりする欠点がある。また非重合性化合物を溶媒などで取り除くと、膜の均質性が保てずムラが生じたりする問題がある。従って、膜厚が均一な重合体を得るためには重合性組成物を溶剤に溶かしたものを塗工する方法が好ましく用いられ、液晶化合物又はそれを含む重合性組成物の溶媒溶解性が良好であることが必要とされる。
【０００７】
光学異方体に用いられる重合性液晶化合物としては、重合性官能基が(メタ)アクリル基である化合物は重合反応性が高く、高い透明性を有する重合物が得られるので、光学異方体としての利用が盛んに検討されている。
【０００８】
（メタ）アクリル基として（メタ）アクリロイルオキシ基を重合性基として有する化合物としては、例えば、特許文献１には、フェニレン基及び又はシクロヘキシル基を含む単量体が開示され、特許文献２には、シアノ基で置換されたフェニレン基を含む反応性液晶化合物が開示され、特許文献３には、ジアクリレート化合物を含むネマチック液晶組成物が開示され、特許文献４には、フェニレン基を含む液晶化合物の混合物が開示され、特許文献５には、メソゲンジオール化合物を（メタ）アクリロイルオキシ基と反応させた化合物が開示されている。
【０００９】
一般に、重合体の膜厚が厚い場合、重合性組成物中の液晶分子の配向制御が困難で重合体の透過率が低下したり、着色が現れたりする等の問題がある。一方、膜厚の薄い重合体を作製しようとすると、薄膜化により膜の全範囲にわたって良好な配向制御が得られるものの膜厚制御が困難で表面が不均一になったり、結晶化しやすくなったりする問題があった。また、製膜の際、配向制御した液晶状態の安定性が乏しく、紫外線照射等の硬化前に配向が乱れる場合があり、従来既知の重合性組成物では満足できる重合体は得られなかった。
【００１０】
【特許文献１】特開平２−６９２７号公報
【特許文献２】特開平６−１６６１６号公報
【特許文献３】特開平６−２４０２６０号公報
【特許文献４】特表平１１−５１３３６０号公報
【特許文献５】特表２００５−５２１５３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
従って、本発明の目的は、光学（屈折率）異方性（Δｎ）が大であり、室温付近で液晶相を示し、溶媒溶解性に優れる重合性化合物及び該重合性化合物を含有する重合性組成物であって、該重合性化合物又は該重合性組成物を硬化して得られる重合体が、均一な膜制御、耐熱性、配向制御及び光学特性に優れる重合性化合物及び重合性組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者等は、上記課題を解決するため、鋭意検討を行った結果、特定の化学構造を有する重合性化合物を利用することにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、下記一般式（１）で表される重合性化合物を提供することにより、上記目的を達成したものである。
【００１３】
【化１】
0005408841.tif 000002
（式（１）中、Ｚ1−Ｘ1−及びＺ2−Ｘ2−は、下記式（２）で表される構造であり、Ｒ1は、−Ｒ’、−ＯＲ’、−ＣＯ−Ｒ’又は−ＯＣＯ−Ｒ’を表し、Ｒ’は、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８の分岐を有してもよいアルキル基又は置換基を有してもよい６員環を表し、該アルキル基中の−ＣＨ2−は硫黄原子又は酸素原子で置換されていてもよく、該アルキル基中の水素原子は、ハロゲン原子又はニトリル基で置換されていても良い。上記置換基は、水素原子、ハロゲン原子、ニトリル基、炭素原子数１〜８の分岐を有してもよいアルキル基、炭素原子数１〜８の分岐を有してもよいアルコキシ基、炭素原子数２〜８の分岐を有してもよいアルケニル基を表し、該アルキル基、該アルコキシ基及び該アルケニル基中の−ＣＨ2−は、硫黄原子又は酸素原子で置換されていてもよく、該アルキル基、該アルコキシ基及び該アルケニル基中の水素原子は、ハロゲン原子又はニトリル基で置換されていてもよい。Ｌ1及びＬ2は、相互に独立して、単結合、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−の何れか一種を表し、ｍは１〜４の整数を表し、複数あるＲ1は各々異なるものであってもよい。）
【化２】
0005408841.tif 000003
（式（２）中、Ｒ2は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ3は単結合、炭素原子数１〜８の分岐を有してもよいアルキレン基、若しくはエーテル結合及び／又はエステル結合で中断された炭素原子数２〜８の分岐を有してもよいアルキレン基を表し、ｎは１〜５の整数を表し、ｎが２以上の整数の場合、複数あるＲ3は各々異なるものであってもよい。）
【００１４】
また、本発明は、上記一般式（１）中、Ｌ1が−ＣＯＯ−、Ｌ2が−ＯＣＯ−で表される重合性化合物を提供するものである。
【００１７】
また、本発明は、上記重合性化合物を含有する重合性組成物を提供するものである。
【００１８】
また、本発明は、さらに、液晶化合物を含有する重合性組成物を提供するものである。
【００１９】
また、本発明は、さらに、光学活性化合物を含有し、コレステリック液晶相を発現する重合性組成物を提供するものである。
【００２０】
また、本発明は、さらに、ラジカル重合開始剤を含有する重合性組成物を提供するものである。
【００２１】
また、本発明は、上記重合性組成物を光重合させることにより作製された重合体を提供するものである。
【００２２】
また、本発明は、光学異方性を有するものである重合体を提供するものである。
【００２３】
また、本発明は、上記重合体を使用してなるディスプレイ用光学フィルムを提供するものである。
【発明の効果】
【００２４】
本発明の重合性化合物、及び該重合性化合物を含有する重合性組成物は、室温付近において液晶状態で重合可能であり、溶媒溶解性に優れる。該重合性化合物及び該重合性組成物を光重合させることにより作製される本発明の重合体は、均一な膜状態を維持し、配向制御及び光学特性に優れた液晶物質として有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明の重合性化合物、該重合性化合物を含有する重合性組成物及び該重合性組成物を光重合させることにより作製される本発明の重合体について、その好ましい実施形態に基づき詳細に説明する。
【００２６】
先ず、本発明の重合性化合物について説明する。
上記一般式（１）中のＸ1及びＸ2で表される炭素原子数１〜８の分岐を有してもよいアルキレン基としては、メチレン、エチレン、プロピレン、メチルエチレン、ブチレン、１−メチルプロピレン、２−メチルプロピレン、１，２−ジメチルプロピレン、１，３−ジメチルプロピレン、１−メチルブチレン、２−メチルブチレン、３−メチルブチレン、４−メチルブチレン、２，４−ジメチルブチレン、１，３−ジメチルブチレン、ペンチレン、へキシレン、ヘプチレン、オクチレン等が挙げられる。
上記一般式（１）中のＲ’で表される炭素原子数１〜８の分岐を有してもよいアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、ヘプチル、２−ヘプチル、３−ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル又は２−エチルヘキシル等が挙げられる。
【００２７】
上記一般式（１）中のＸ1、Ｘ2及びＲ’で表される置換基を有してもよい６員環とは、ベンゼン環又はシクロヘキサン環を表わす。本発明においては、ベンゼン環又はシクロヘキサン環中の炭素原子が、窒素原子又は硫黄原子で置換されたものであってもよく、窒素原子で置換された６員環としては、例えば、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、ピペリジン又はピペラジン等が挙げられ、硫黄原子で置換された６員環としては、例えば、チオピラン又はチオピリリウム等が挙げられる。
【００２８】
上記６員環の置換基としては、炭素原子数１〜８の分岐を有してもよいアルキル基、炭素原子数１〜８の分岐を有してもよいアルコキシ基、炭素原子数２〜８の分岐を有してもよいアルケニル基を表し、該アルキル基、該アルコキシ基及び該アルケニル基中の−ＣＨ2−は、硫黄原子又は酸素原子で置換されていてもよく、該アルキル基、該アルコキシ基及び該アルケニル基中の水素原子は、ハロゲン原子又はニトリル基で置換されていてもよい。
【００２９】
上記炭素原子数１〜８の分岐を有してもよいアルキル基としては、上記一般式（１）中のＲ’の説明で例示したものが挙げられる。
上記炭素原子数１〜８の分岐を有してもよいアルコキシ基としては、例えば、メチルオキシ、エチルオキシ、クロロメチルオキシ、トリフルオロメチルオキシ、シアノメチルオキシ、エチルオキシ、ジクロロエチルオキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、第二ブチルオキシ、第三ブチルオキシ、イソブチルオキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ、第三アミルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、イソヘプチルオキシ、第三ヘプチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ、イソオクチルオキシ、第三オクチルオキシ又は２−エチルヘキシルオキシ等が挙げられる。
【００３０】
上記炭素原子数２〜８の分岐を有してもよいアルケニル基としては、例えば、ビニル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル、オクテニル等が挙げられる。
【００３１】
本発明の重合性化合物の中でも、上記一般式（１）において、Ｌ1が−ＣＯＯ−、Ｌ2が−ＯＣＯ−であるものが、液晶相発現温度範囲が広く、溶媒溶解性に優れるため好ましく、また、Ｚ1−Ｘ1−及びＺ2−Ｘ2−が、上記式（２）で表されるものが、上記の特性に加え、さらに液晶配向の制御に優れるため好ましい。
【００３２】
上記一般式（１）に表される化合物の具体的な構造としては、下記化合物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．６４が挙げられる。ただし、本発明は以下の化合物により制限を受けるものではない。
【００３３】
【化３】
0005408841.tif 000004
【００３４】
【化４】
0005408841.tif 000005
【００３５】
【化５】
0005408841.tif 000006
【００３６】
【化６】
0005408841.tif 000007
【００３７】
【化７】
0005408841.tif 000008
【００３８】
【化８】
0005408841.tif 000009
【００３９】
【化９】
0005408841.tif 000010
【００４０】
【化１０】
0005408841.tif 000011
【００４１】
【化１１】
0005408841.tif 000012
【００４２】
【化１２】
0005408841.tif 000013
【００４３】
【化１３】
0005408841.tif 000014
【００４４】
【化１４】
0005408841.tif 000015
【００４５】
【化１５】
0005408841.tif 000016
【００４６】
【化１６】
0005408841.tif 000017
【００４７】
【化１７】
0005408841.tif 000018
【００４８】
【化１８】
0005408841.tif 000019
【００４９】
【化１９】
0005408841.tif 000020
【００５０】
【化２０】
0005408841.tif 000021
【００５１】
【化２１】
0005408841.tif 000022
【００５２】
【化２２】
0005408841.tif 000023
【００５３】
【化２３】
0005408841.tif 000024
【００５４】
【化２４】
0005408841.tif 000025
【００５５】
【化２５】
0005408841.tif 000026
【００５６】
【化２６】
0005408841.tif 000027
【００５７】
【化２７】
0005408841.tif 000028
【００５８】
【化２８】
0005408841.tif 000029
【００５９】
【化２９】
0005408841.tif 000030
【００６０】
【化３０】
0005408841.tif 000031
【００６１】
【化３１】
0005408841.tif 000032
【００６２】
【化３２】
0005408841.tif 000033
【００６３】
【化３３】
0005408841.tif 000034
【００６４】
【化３４】
0005408841.tif 000035
【００６５】
【化３５】
0005408841.tif 000036
【００６６】
【化３６】
0005408841.tif 000037
【００６７】
【化３７】
0005408841.tif 000038
【００６８】
【化３８】
0005408841.tif 000039
【００６９】
【化３９】
0005408841.tif 000040
【００７０】
【化４０】
0005408841.tif 000041
【００７１】
【化４１】
0005408841.tif 000042
【００７２】
【化４２】
0005408841.tif 000043
【００７３】
【化４３】
0005408841.tif 000044
【００７４】
【化４４】
0005408841.tif 000045
【００７５】
【化４５】
0005408841.tif 000046
【００７６】
【化４６】
0005408841.tif 000047
【００７７】
【化４７】
0005408841.tif 000048
【００７８】
【化４８】
0005408841.tif 000049
【００７９】
【化４９】
0005408841.tif 000050
【００８０】
【化５０】
0005408841.tif 000051
【００８１】
【化５１】
0005408841.tif 000052
【００８２】
【化５２】
0005408841.tif 000053
【００８３】
【化５３】
0005408841.tif 000054
【００８４】
【化５４】
0005408841.tif 000055
【００８５】
【化５５】
0005408841.tif 000056
【００８６】
【化５６】
0005408841.tif 000057
【００８７】
【化５７】
0005408841.tif 000058
【００８８】
【化５８】
0005408841.tif 000059
【００８９】
【化５９】
0005408841.tif 000060
【００９０】
【化６０】
0005408841.tif 000061
【００９１】
【化６１】
0005408841.tif 000062
【００９２】
【化６２】
0005408841.tif 000063
【００９３】
【化６３】
0005408841.tif 000064
【００９４】
【化６４】
0005408841.tif 000065
【００９５】
【化６５】
0005408841.tif 000066
【００９６】
【化６６】
0005408841.tif 000067
【００９７】
上記一般式（１）で表される重合性化合物の好ましい配合割合は、本発明の重合性組成物１００質量部に対して、少なくとも５０質量部以上であることが好ましく、特に好ましくは７０質量部以上である。上記一般式（１）で表される重合性化合物の比率が５０より少ないと、重合性組成物の配向制御や膜厚の制御が困難となる場合がある。
【００９８】
本発明の重合性化合物は、その製造方法については特に限定されず、公知の反応を応用して製造することができるが、例えば、フェノール基に対して（メタ）アクリル酸ハロゲン化物をエステル化したり、（メタ）アクリロイル基を有する化合物のカルボン酸基をメタンスルホニルクロリドでメシル化した後、フェノール基を有す化合物とエステル化することによって製造することができる。
【００９９】
本発明の重合性化合物は、液晶材料に配合され、耐熱性、耐溶剤性、透明性、光学特性及び液晶配向固定化に優れた光学異方体作製用材料として好ましく用いられる他、液晶配向膜、液晶配向制御剤、コーティング材、保護板作製材料等に用いることができる。
【０１００】
次に、本発明の重合性組成物について説明する。
本発明の重合性組成物は、本発明の重合性化合物、その他の成分として、従来既知の液晶化合物若しくは液晶類似化合物、又はそれらの混合物を配合することによって得られるものであり、該液晶化合物としては、例えば、特願２００５−２１０８６８号公報の明細書段落[００３１]〜[００５８]、[００６３]〜[００８６]、及び特開２００５−１５４７３号公報明細書段落[０１７２]〜[０３１４]に示されている化合物等が挙げられる。
上記液晶化合物の中でも、重合性官能基を有する液晶化合物が好ましく用いられる。
重合性官能基としては、（メタ）アクリロイルオキシ基、フルオロアクリル基、クロロアクリル基、トリフルオロメチルアクリル基、オキシラン環（エポキシ）、オキセタン環、スチレン化合物（スチリル基）、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルケトン基、マレイミド基、フェニルマレイミド基等が好ましい。
また、液晶化合物の含有量は特に制限されず、本発明の重合性化合物の効果が損なわれない範囲であれば良い。
【０１０１】
本発明の重合性組成物は、少なくとも室温付近、具体的には３０℃以下で液晶相を示すことが好ましく、特に２５℃以下で液晶相を示すことがより好ましい。
【０１０２】
本発明の重合性組成物には、必要に応じて用いられる他の単量体（エチレン性不飽和結合を有する化合物）をラジカル重合開始剤と共に溶剤に溶解して溶液にすることができる。
【０１０３】
上記他の単量体としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、第二ブチル（メタ）アクリレート、第三ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、アリルオキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、１−フェニルエチル（メタ）アクリレート、２−フェニルエチル（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）アクリレート、ジフェニルメチル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、ペンタクロルフェニル（メタ）アクリレート、２−クロルエチル（メタ）アクリレート、メチル−α−クロル（メタ）アクリレート、フェニル−α−ブロモ（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１,４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル、ジアセトンアクリルアミド、スチレン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン等が挙げられる。
【０１０４】
ただし、本発明の重合性組成物を用いて作製される重合体の耐熱性及び光学特性を付与するために、他の単量体の含有量は、本発明の重合性組成物１００質量部に対して、５０質量部以下が好ましく、特に３０質量部以下がより好ましい。
【０１０５】
上記ラジカル重合開始剤としては、例えば、過酸化ベンゾイル、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフェニルスルホニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド等が挙げられる。
【０１０６】
また、上記ラジカル重合開始剤と増感剤の組合せも好ましく使用することができる。かかる増感剤としては、例えば、チオキサントン、フェノチアジン、クロロチオキサントン、キサントン、アントラセン、ジフェニルアントラセン、ルプレン等が挙げられる。上記ラジカル重合開始剤及び／又は上記増感剤を添加する場合は、本発明の重合性組成物１００質量部に対して、１０質量部以下であることが好ましく、５質量部以下がさらに好ましく、０．１〜３質量部の範囲内がより好ましい。
【０１０７】
上記溶剤としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ｎ−ブチルベンゼン、ジエチルベンゼン、テトラリン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ｔ−ブチルアルコール、ジアセトンアルコール、グリセリン、モノアセチレン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ヘキシレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブなどである。溶剤は単一化合物であってもよいし、または混合物であってもよい。これらの溶剤の中でも、沸点が６０〜２５０℃のものが好ましく、６０〜１８０℃のものが特に好ましい。６０℃より低いと塗布工程で溶媒が揮発して膜の厚さにムラが生じやすく、２５０℃より高いと脱溶媒工程で減圧しても溶媒が残留したり、高温での処理による熱重合を誘起したりして配向性が低下する場合がある。
【０１０８】
また、本発明の重合性組成物に、さらに光学活性化合物を含有させることによって、液晶骨格のらせん構造を内部に有する高分子を得ることができ、コレステリック液晶相を固定化させることができる。かかる光学活性化合物を含有させる場合、本発明の重合性組成物（但し、溶剤を除く）１００質量部に対し、０．１〜１００質量部の範囲内が好ましく、１〜５０質量部がより好ましい。かかる光学活性化合物としては、例えば下記〔化６７〕〜〔化８５〕の化合物を挙げることができる。
【０１０９】
【化６７】
0005408841.tif 000068
【０１１０】
【化６８】
0005408841.tif 000069
【０１１１】
【化６９】
0005408841.tif 000070
【０１１２】
【化７０】
0005408841.tif 000071
【０１１３】
【化７１】
0005408841.tif 000072
【０１１４】
【化７２】
0005408841.tif 000073
【０１１５】
【化７３】
0005408841.tif 000074
【０１１６】
【化７４】
0005408841.tif 000075
【０１１７】
【化７５】
0005408841.tif 000076
【０１１８】
【化７６】
0005408841.tif 000077
【０１１９】
【化７７】
0005408841.tif 000078
【０１２０】
【化７８】
0005408841.tif 000079
【０１２１】
【化７９】
0005408841.tif 000080
【０１２２】
【化８０】
0005408841.tif 000081
【０１２３】
【化８１】
0005408841.tif 000082
【０１２４】
【化８２】
0005408841.tif 000083
【０１２５】
【化８３】
0005408841.tif 000084
【０１２６】
【化８４】
0005408841.tif 000085
【０１２７】
【化８５】
0005408841.tif 000086
【０１２８】
また、本発明の重合性組成物は、空気界面側に分布する排除体積効果を有する界面活性剤をさらに含有させることが好ましい。界面活性剤は重合性組成物を支持基板などに塗布することを容易にしたり、液晶相の配向を制御したりする等の効果を得られるものが好ましい。かかる界面活性剤としては、例えば、４級アンモニウム塩、アルキルアミンオキサイド、ポリアミン誘導体、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物、ポリエチレングリコール及びそのエステル、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸アミン類、アルキル置換芳香族スルホン酸塩、アルキルリン酸塩、ペルフルオロアルキルスルホン酸塩、ペルフルオロアルキルカルボン酸塩、ペルフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、ペルフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩等が挙げられる。界面活性剤の好ましい使用割合は、界面活性剤の種類、組成物の成分比などに依存するが、本発明の重合性組成物１００質量部に対して０．０１〜５質量部の範囲であることが好ましく、０．０５〜１質量部の範囲内がより好ましい。
【０１２９】
また、本発明の重合性組成物には、必要に応じて添加物をさらに含有してもよい。重合性組成物の特性を調製するための添加物としては、例えば、保存安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、無機物、有機物等の微粒子化物、ポリマー等の機能性化合物等が挙げられる。
【０１３０】
上記保存安定剤は、重合性組成物の保存安定性を向上させる効果を付与することができる。使用できる安定剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、２−ナフチルアミン類、２−ヒドロキシナフタレン類等が挙げられる。これらを添加する場合は、本発明の重合性組成物１００質量部に対して、１質量部以下であることが好ましく、０．５質量部以下が特に好ましい。
【０１３１】
上記酸化防止剤としては、特に制限がなく公知の化合物を使用することができ、例えば、ヒドロキノン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、トリフェニルホスファイト、トリアルキルホスファイト等が挙げられる。
【０１３２】
上記紫外線吸収剤としては、特に制限がなく公知の化合物を使用することができ、例えば、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物又はニッケル錯塩系化合物等によって紫外線吸収能をもたせたものであってもよい。
【０１３３】
上記微粒子化物は光学（屈折率）異方性（Δｎ）を調整したり、重合体の強度を上げたりするために用いることができる。微粒子化物の材質としては無機物、有機物、金属などが挙げられ、凝集防止のため、微粒子化物は０．００１〜０．１μｍの粒子径が好ましく利用することができ、さらに好ましくは０．００１〜０．０５μｍの粒子径である。粒子径の分布はシャープであるものが好ましい。本発明の重合性組成物１００質量部に対して、微粒子化物は、０．１〜３０質量部の範囲内で好ましく使用することができる。
【０１３４】
上記無機物としては、例えば、セラミックス、フッ素金雲母、フッ素四ケイ素雲母、テニオライト、フッ素バーミキュライト、フッ素ヘクトライト、ヘクトライト、サポナイト、スチブンサイト、モンモリロナイト、バイデライト、カオリナイト、フライポンタイト、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｆｅ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＦ2、ＳｉＯ2、ＳｒＣＯ3、Ｂａ（ＯＨ）2、Ｃａ（ＯＨ）2、Ｇａ（ＯＨ）3、Ａｌ（ＯＨ）3、Ｍｇ（ＯＨ）2、Ｚｒ（ＯＨ）4等が挙げられる。尚、炭酸カルシウムの針状結晶などの微粒子は光学異方性を有し、このような微粒子によって重合体の光学異方性を調節できる。上記有機物としては、例えばカーボンナノチューブ、フラーレン、デンドリマー、ポリビニルアルコール、ポリメタクリレート、ポリイミド等が挙げられる。
【０１３５】
上記ポリマーは、重合体の電気特性や配向性を制御することができ、上記溶剤に可溶性の高分子化合物が好ましく使用することができる。かかる高分子化合物としては、例えば、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア、ポリエポキサイド、ポリエステル、ポリエステルポリオール等が挙げられる。
【０１３６】
次に、本発明の重合体について説明する。
本発明の重合体は、上記重合性組成物を溶媒に溶解した後、支持基板に塗布して、重合性組成物中の液晶分子を配向させた状態で脱溶媒し、次いでエネルギー線を照射して重合することにより得ることができる。
【０１３７】
上記支持基板としては、特に限定されないが、好ましい例としてはガラス板、ポリエチレンテレフタレート板、ポリカーボネート板、ポリイミド板、ポリアミド板、ポリメタクリル酸メチル板、ポリスチレン板、ポリ塩化ビニル板、ポリテトラフルオロエチレン板、セルロース板、シリコン板、反射板、シクロオレフィンポリマー、方解石板等が挙げられる。このような支持基板上にポリイミド配向膜又はポリビニルアルコール配向膜を施したものが特に好ましく使用することができる。
【０１３８】
上記支持基板に塗布する方法としては、公知の方法を用いることができ、例えばカーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法及び流延成膜法等を用いることができる。尚、上記重合体の膜厚は用途等に応じて適宜選択されるが、好ましくは０．０５〜１０μｍの範囲から選択される。
【０１３９】
本発明の重合性組成物中の液晶分子を配向させる方法としては、例えば支持基板上に事前に配向処理を施す方法が挙げられる。配向処理を施す好ましい方法としては、各種ポリイミド系配向膜又はポリビニルアルコール系配向膜からなる液晶配向層を支持基板上に設け、ラビング等の処理を行う方法が挙げられる。また、支持基板上の組成物に磁場や電場等を印加する方法等も挙げられる。
【０１４０】
本発明の重合性組成物を重合させる方法は熱又は電磁波を用いる公知の方法を適用できる。電磁波による重合反応としては、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合、配位重合、リビング重合等があげられる。重合性組成物が液晶相を示す条件下で、重合を行なわせることが容易だからである。また磁場や電場を印加しながら架橋させることも好ましい。支持基板上に形成した液晶（共）重合体は、そのまま使用してもよいが、必要に応じて、支持基板から剥離したり、他の支持基板に転写したりして使用してもよい。
【０１４１】
上記電磁波の好ましい種類は、紫外線、可視光線、赤外線等である。電子線、Ｘ線などの電磁波を用いてもよい。通常は、紫外線または可視光線が好ましい。好ましい波長の範囲は１５０〜５００ｎｍである。さらに好ましい範囲は２５０〜４５０ｎｍであり、最も好ましい範囲は３００〜４００ｎｍである。光源は、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、またはショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）などが挙げられるが、超高圧水銀ランプが好ましく使用することができる。光源からの光はそのまま重合性組成物に照射してもよく、フィルターによって選択した特定の波長（または特定の波長領域）を重合性組成物に照射してもよい。好ましい照射エネルギー密度は、２〜５０００ｍＪ／ｃｍ2であり、さらに好ましい範囲は１０〜３０００ｍＪ／ｃｍ2であり、特に好ましい範囲は１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2である。好ましい照度は０．１〜５０００ｍＷ/ｃｍ2であり、さらに好ましい照度は１〜２０００ｍＷ／ｃｍ2である。重合性組成物が液晶相を有するように、電磁波を照射するときの温度を設定できるが、好ましい照射温度は１００℃以下である。１００℃以上の温度では熱による重合が起こりうるので良好な配向が得られないときがある。
【０１４２】
本発明の重合体は、光学異方性を有する成形体として利用することができる。この成形体の用途としては、例えば、位相差板（１／２波長板、１／４波長板など）、偏光素子、二色性偏光板、液晶配向膜、反射防止膜、選択反射膜、視野角補償膜等の光学補償に用いることができる。その他にも、液晶レンズ、マイクロレンズ等の光学レンズ、高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ）電子ペーパー、デジタルペーパー等の情報記録材料にも利用することができる。
【０１４３】
以下、合成例、製造例及び実施例をもって本発明を更に説明する。しかしながら、本発明は以下の合成例、製造例及び実施例によって制限を受けるものではない。尚、下記合成例１〜４及び６〜１０は、本発明の重合性化合物の製造例を示すものであり、下記製造例１は、本発明の重合性組成物の調製例、及び該重合性組成物を用いた本発明の重合体の製造例を示すものであり、下記実施例１及び２は、本発明の重合体の評価例を示すものである。
【０１４４】
〔合成例１〕（化合物Ｎｏ．５の製造）
化合物Ｎｏ．５を〔化８６〕に示す反応式に従い、下記の手順で合成した。
【０１４５】
【化８６】
0005408841.tif 000087
【０１４６】
窒素雰囲気下において、６−（６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）ナフタレン−２−カルボン酸１３．７０ｇ（４０．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｇに溶解し、−３０℃まで冷却後、メタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）５．５０ｇ（４８．０１ｍｍｏｌ）を加え、トリエチルアミン（ＴＥＡ）１０．５１ｇを滴下した。滴下終了後、１時間攪拌し、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）０．０２ｇ（０．１５ｍｍｏｌ）及びメチルヒドロキノン２．４８ｇ（１９．９８ｍｍｏｌ）を加え、０℃以下の温度条件で１時間攪拌した。攪拌後、水５００ｍｌに加えて生じた析出物をろ別し、さらにメタノール溶液に該析出物を添加し、攪拌による洗浄を行い、ろ別して白色結晶１２．２ｇを得た（収率７９％）。得られた白色結晶について分析を行ったところ、目的物である化合物Ｎｏ．５と同定した。これらの分析結果について下記に示す。
【０１４７】
（１）1Ｈ−ＮＭＲ［ＣＤＣｌ3］（ｐｐｍ）
１．４−２．０（ｍ：１６Ｈ）、２．３（ｓ：３Ｈ）、４．２（ｑ：８Ｈ）、５．７−６．５（ｍ：６Ｈ）、７．１−７．３（ｍ：７Ｈ）、７．８（ｔ：４Ｈ）、８．１（ｄ：２Ｈ）、８．７（ｓ：２Ｈ）
【０１４８】
（２）ＩＲ［ＫＢｒ錠剤法］（ｃｍ-1）
４７８、５６７、６７５、７４５、８０６、８７２、８９９、９３７、１０１５、１０６１、１１７３、１２００、１２７７、１３３９、１３９３、１４１６、１４７０、１６２８、１７２４、２８６２、２９３９、３０６２
【０１４９】
（３）相転移温度
この化合物を示差走査熱量分析装置（サーモプラスＤＳＣ−８２３０；（株）リガク）にて、窒素雰囲気下（５０ｍｌ／ｍｉｎ）、５℃／ｍｉｎの速度で室温（２０〜３０℃）から１５０℃まで測定した結果、下記の相転移温度を確認した。
【０１５０】
【化８７】
0005408841.tif 000088
【０１５１】
〔合成例２〕  （化合物Ｎｏ．１４の製造）
化合物Ｎｏ．１４を〔化８８〕に示す反応式に従い、下記の手順で合成した。
【０１５２】
【化８８】
0005408841.tif 000089
【０１５３】
窒素雰囲気下において、６−（２−アクリロイルオキシエトキシ）ナフタレン−２−カルボン酸１０ｇ（３４．９３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）４５ｇに溶解し、−３０℃まで冷却後、メタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）４．４ｇ（３８．４１ｍｍｏｌ）を加え、トリエチルアミン（ＴＥＡ）９．５４ｇを滴下した。滴下終了後、１時間攪拌し、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）０．０４ｇ（０．２９ｍｍｏｌ）及びプロピルヒドロキノン２．３９ｇ（１５．７０ｍｍｏｌ）を加え、０℃以下の温度を保ちながら、１時間攪拌した。攪拌後、酢酸エチル４０ｇ及び水２０ｇを加えて油水分離を行い、有機層を抽出して水洗を行った。洗浄後、有機層に硫酸マグネシウム塩を加えて脱水し、ろ過、減圧濃縮を行い、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：トルエン）で精製し、白色結晶６．０ｇを得た（収率５６％）。得られた白色結晶について分析を行ったところ、目的物である化合物Ｎｏ．１４と同定した。これらの分析結果について下記に示す。
【０１５４】
（１）1Ｈ−ＮＭＲ［ＣＤＣｌ3］（ｐｐｍ）
０．９５（ｔ：３Ｈ）、１．６９（ｑ：２Ｈ）、２．６４（ｔ：２Ｈ）、４．３０−４．５１（ｍ：４Ｈ）、４．５１−４．７３（ｍ：４Ｈ）、５．７８−６．６２（ｍ：６Ｈ）、７．１０−７．４０（ｍ：７Ｈ）、７．８２（ｄ：２Ｈ）、７．９３（ｄ：２Ｈ）、８．１９（ｄ：２Ｈ）、８．７２（ｓ：２Ｈ）
【０１５５】
（２）ＩＲ［ＫＢｒ錠剤法］（ｃｍ-1）
４７１、５９０、７４５、８１０、９５３、１０６９、１１６９、１１９２、１２７３、１４１１、１４７７、１６２８、１７２４、２８７０、３４２５
【０１５６】
（３）相転移温度
この化合物を示差走査熱量分析装置（サーモプラスＤＳＣ−８２３０；（株）リガク）にて、窒素雰囲気下（５０ｍｌ／ｍｉｎ）、５℃／ｍｉｎの速度で室温（２０〜３０℃）から１５０℃まで測定した結果、下記の相転移温度を確認した。
【０１５７】
【化８９】
0005408841.tif 000090
【０１５８】
〔合成例３〕（化合物Ｎｏ．１８の製造）
化合物Ｎｏ．１８を〔化９０〕に示す反応式に従い、下記の手順で合成した。
【０１５９】
【化９０】
0005408841.tif 000091
【０１６０】
窒素雰囲気下において、６−（６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）ナフタレン−２−カルボン酸１３．７０ｇ（４０．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｇに溶解し、−３０℃まで冷却後、メタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）５．５０ｇ（４８．０１ｍｍｏｌ）を加え、トリエチルアミン（ＴＥＡ）１０．５１ｇを滴下した。滴下終了後、１時間攪拌し、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）０．０２ｇ（０．１５ｍｍｏｌ）及びプロピルヒドロキノン３．０４ｇ（１９．９８ｍｍｏｌ）を加え、０℃以下の温度を保ちながら１時間攪拌した。攪拌後、酢酸エチル４０ｇ及び水２０ｇを加えて油水分離を行い、有機層を抽出して水洗を行った。洗浄後、有機層に硫酸マグネシウム塩を加えて脱水し、ろ過、減圧濃縮を行い、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：トルエン）で精製し、さらに、メタノール／トルエンの混合溶媒にて晶析を行い、白色結晶１１．０ｇを得た（収率６９％）。得られた白色結晶について分析を行ったところ、目的物である化合物Ｎｏ．１８と同定した。これらの分析結果について下記に示す。
【０１６１】
（１）1Ｈ−ＮＭＲ［ＣＤＣｌ3］（ｐｐｍ）
０．９（ｔ：３Ｈ）、１．３−２．１（ｍ：１８Ｈ）、２．６（ｔ：２Ｈ）、４．２（ｑ：８Ｈ）、５．７−６．５（ｍ：６Ｈ）、７．０−７．３（ｍ：７Ｈ）、７．８（ｔ：４Ｈ）、８．２（ｄ：２Ｈ）、８．７（ｓ：２Ｈ）
【０１６２】
（２）ＩＲ［ＫＢｒ錠剤法］（ｃｍ-1）
４７１、５０２、５８６、７４５、８０６、９４１、９６１、９９１、１０６５、１１６９、１１９６、１２７３、１３３９、１３９３、１４７０、１６２４、１７２４、２８６２、２９３９、３０６２
【０１６３】
（３）相転移温度
この化合物を示差走査熱量分析装置（サーモプラスＤＳＣ−８２３０；（株）リガク）にて、窒素雰囲気下（５０ｍｌ／ｍｉｎ）、５℃／ｍｉｎの速度で室温（２０〜３０℃）から１５０℃まで測定した結果、下記の相転移温度を確認した。
【０１６４】
【化９１】
0005408841.tif 000092
【０１６５】
〔合成例４〕（化合物Ｎｏ．２２の製造）
化合物Ｎｏ．２２を〔化９２〕に示す反応式に従い、下記の手順で合成した。
【０１６６】
【化９２】
0005408841.tif 000093
【０１６７】
窒素雰囲気下において、６−（６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）ナフタレン−２−カルボン酸１３．７０ｇ（４０．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｇに溶解し、−３０℃まで冷却後、メタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）５．５０ｇ（４８．０１ｍｍｏｌ）を加え、トリエチルアミン（ＴＥＡ）１０．５１ｇを滴下した。滴下終了後、１時間攪拌し、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）０．０２ｇ（０．１５ｍｍｏｌ）及びｔ−ブチルヒドロキノン３．３２ｇ（１９．９７ｍｍｏｌ）を加え、５０℃以下の温度で２時間攪拌した。撹拌後、酢酸エチル６０ｇ及び水２０ｇを加えて油水分離を行い、有機層を抽出して水洗を行った。洗浄後、有機層に硫酸マグネシウム塩を加えて脱水し、ろ過、減圧濃縮を行い、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：トルエン）で精製し、さらに、メタノール／トルエンの混合溶媒にて晶析を行い、白色結晶７．７ｇを得た（収率４７％）。得られた白色結晶について分析を行ったところ、目的物である化合物Ｎｏ．２２と同定した。これらの分析結果について下記に示す。
【０１６８】
（１）1Ｈ−ＮＭＲ［ＣＤＣｌ3］（ｐｐｍ）
１．３−２．０（ｍ：２５Ｈ）、４．２（ｑ：８Ｈ）、５．７−６．５（ｍ：６Ｈ）、７．２−７．４（ｍ：７Ｈ）、７．９（ｔ：４Ｈ）、８．２（ｄ：２Ｈ）、８．７（ｓ：２Ｈ）
【０１６９】
（２）ＩＲ［ＫＢｒ錠剤法］（ｃｍ-1）
４７８、７４８、８１０、８５６、８９５、９３４、９６４、９８８、１０１１、１０６１、１１６５、１１７０、１２７３、１３８９、１４７０、１６２４、１７２８、２８５８、２９４７
【０１７０】
（３）相転移温度
この化合物を示差走査熱量分析装置（サーモプラスＤＳＣ−８２３０；（株）リガク）にて、窒素雰囲気下（５０ｍｌ／ｍｉｎ）、５℃／ｍｉｎの速度で室温（２０〜３０℃）から１５０℃まで測定した結果、下記の相転移温度を確認した。
【０１７１】
【化９３】
0005408841.tif 000094
【０１７２】
〔合成例５〕（化合物Ｎｏ．２４の製造）
化合物Ｎｏ．２４を〔化９４〕に示す反応式に従い、下記の手順で合成した。
【０１７３】
【化９４】
0005408841.tif 000095
【０１７４】
窒素雰囲気下において、６−アクリロイルオキシルナフタレン−２−カルボン酸１４．５３ｇ（５９．９８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）８０ｇに溶解し、−３０℃まで冷却後、メタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）８．２５ｇ（７２．０２ｍｍｏｌ）を加え、トリエチルアミン（ＴＥＡ）１５．７７ｇを滴下した。滴下終了後、１時間攪拌し、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）０．０４ｇ（０．２９ｍｍｏｌ）及び２−フェニルヒドロキノン５．５９ｇ（３０．０２ｍｍｏｌ）を加え、０℃以下の温度を保ちながら、１時間攪拌した。攪拌後、酢酸エチル４０ｇ及び水４０ｇを加えて油水分離を行い、有機層を抽出して水洗を行った。洗浄後、有機層に硫酸マグネシウム塩を加えて脱水し、ろ過、減圧濃縮を行い、残渣をトルエンにて洗浄し、白色結晶９．８ｇを得た（収率５２％）。得られた白色結晶について分析を行ったところ、目的物である化合物Ｎｏ．２４と同定した。これらの分析結果について下記に示す。
【０１７５】
（１）1Ｈ−ＮＭＲ［ＣＤＣｌ3］（ｐｐｍ）
６．０−６．８（ｍ：６Ｈ）、７．２−８．３（ｍ：２４Ｈ）、８．６（ｓ：１Ｈ）、８．８（ｓ：１Ｈ）
【０１７６】
（２）ＩＲ［ＫＢｒ錠剤法］（ｃｍ-1）
４７８、７０２、７４１、７６４、８０６、９１４、９３４、９８８、１０１８、１０７６、１１５７、１１８４、１２４６、１２６５、１４００、１４７４、１５０４、１６２８、１７２４、２８５８
【０１７７】
（３）相転移温度
この化合物を示差走査熱量分析装置（サーモプラスＤＳＣ−８２３０；（株）リガク）にて、窒素雰囲気下（５０ｍｌ／ｍｉｎ）、５℃／ｍｉｎの速度で室温（２０〜３０℃）から１５０℃まで測定した結果、１７１．７℃において融点を確認した。
【０１７８】
〔合成例６〕（化合物Ｎｏ．２５の製造）
化合物Ｎｏ．２５を〔化９５〕に示す反応式に従い、下記の手順で合成した。
【０１７９】
【化９５】
0005408841.tif 000096
【０１８０】
窒素雰囲気下において、６−（６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）ナフタレン−２−カルボン酸１３．７０ｇ（４０．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｇに溶解し、−３０℃まで冷却後、メタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）５．５０ｇ（４８．０１ｍｍｏｌ）を加え、トリエチルアミン（ＴＥＡ）１０．５１ｇを滴下した。滴下終了後、１時間攪拌し、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）０．０２ｇ（０．１５ｍｍｏｌ）及びフェニルヒドロキノン３．７２ｇ（１９．９８ｍｍｏｌ）を加え、０℃以下の温度を保ちながら１時間攪拌した。攪拌後、酢酸エチル６０ｇ及び水２０ｇを加えて油水分離を行い、有機層を抽出して水洗を行った。洗浄後、有機層に硫酸マグネシウム塩を加えて脱水し、ろ過、減圧濃縮を行い、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：トルエン）で精製し、さらに、メタノール／トルエンの混合溶媒にて晶析を行って、白色結晶１３．３ｇを得た（収率８０％）。得られた白色結晶について分析を行ったところ、目的物である化合物Ｎｏ．２５と同定した。これらの分析結果について下記に示す。
【０１８１】
（１）1Ｈ−ＮＭＲ［ＣＤＣｌ3］（ｐｐｍ）
１．４−２．０（ｍ：１６Ｈ）、４．１（ｑ：８Ｈ）、５．７−６．５（ｍ：６Ｈ）、７．１−８．２（ｍ：１８Ｈ）、８．５（ｓ：１Ｈ）、８．７（ｓ：１Ｈ）
【０１８２】
（２）ＩＲ［ＫＢｒ錠剤法］（ｃｍ-1）
４７８、５８３、６９８、７４５、８１０、８５６、８７６、８９９、９４１、９８８、１０２２、１０６１、１１１９、１１６５、１２００、１２７３、１３４２、１３８９、１４０８、１４７４、１６２４、１７２０、２８５８、２９３９、３０６７
【０１８３】
（３）相転移温度
この化合物を示差走査熱量分析装置（サーモプラスＤＳＣ−８２３０；（株）リガク）にて、窒素雰囲気下（５０ｍｌ／ｍｉｎ）、５℃／ｍｉｎの速度で室温（２０〜３０℃）から１５０℃まで測定した結果、下記の相転移温度を確認した。
【０１８４】
【化９６】
0005408841.tif 000097
【０１８５】
〔合成例７〕（化合物Ｎｏ．２７の製造）
化合物Ｎｏ．２７を〔化９７〕に示す反応式に従い、下記の手順で合成した。
【０１８６】
【化９７】
0005408841.tif 000098
【０１８７】
窒素雰囲気下において、６−（６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）ナフタレン−２−カルボン酸１３．７０ｇ（４０．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｇに溶解し、−３０℃まで冷却後、メタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）５．５０ｇ（４８．０１ｍｍｏｌ）を加え、トリエチルアミン（ＴＥＡ）１０．５１ｇを滴下した。滴下終了後、１時間攪拌し、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）０．０２ｇ及びメトキシヒドロキノン２．８０ｇ（１９．９８ｍｍｏｌ）を加え、０℃以下を保ちながら１時間攪拌した。撹拌後、酢酸エチル６０ｇ及び水２０ｇを加えて油水分離を行って有機層を抽出して水洗を行った。洗浄後、有機層に硫酸マグネシウム塩を加えて脱水し、ろ過、減圧濃縮を行い、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：トルエン）で精製し、さらに、メタノール／酢酸エチルの混合溶媒にて晶析を行い、白色結晶５．６ｇを得た（収率３６％）。得られた白色結晶について分析を行ったところ、目的物である化合物Ｎｏ．２７と同定した。これらの分析結果について下記に示す。
【０１８８】
（１）1Ｈ−ＮＭＲ［ＣＤＣｌ3］（ｐｐｍ）
１．４−２．１（ｍ：１６Ｈ）、３．８（ｓ：３Ｈ）、４．２（ｑ：８Ｈ）、５．７−６．５（ｍ：６Ｈ）、６．９−７．３（ｍ：７Ｈ）、７．８（ｔ：４Ｈ）、８．１（ｄ：２Ｈ）、８．７（ｓ：２Ｈ）
【０１８９】
（２）ＩＲ［ＫＢｒ錠剤法］（ｃｍ-1）
４７５、５８３、７４５、８１０、８５３、９４５、１０３４、１０６１、１１７３、１２７３、１３４２、１３８９、１４７０、１５０８、１６２４、１７２８、２８６２、２９３９
【０１９０】
（３）相転移温度
この化合物を示差走査熱量分析装置（サーモプラスＤＳＣ−８２３０；（株）リガク）にて、窒素雰囲気下（５０ｍｌ／ｍｉｎ）、５℃／ｍｉｎの速度で室温（２０〜３０℃）から１５０℃まで測定した結果、下記の相転移温度を確認した。
【０１９１】
【化９８】
0005408841.tif 000099
【０１９２】
〔合成例８〕（化合物Ｎｏ．４０の製造）
化合物Ｎｏ．４０を〔化９９〕に示す反応式に従い、下記の手順で合成した。
【０１９３】
【化９９】
0005408841.tif 000100
【０１９４】
窒素雰囲気下において、６−（６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）ナフタレン−２−カルボン酸１３．７０ｇ（４０．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｇに溶解し、−３０℃まで冷却後、メタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）５．５０ｇ（４８．０１ｍｍｏｌ）を加え、トリエチルアミン（ＴＥＡ）１０．５１ｇを滴下した。滴下終了後、１時間攪拌し、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）０．０２ｇ（０．１５ｍｍｏｌ）及び２，５−ジヒドロキシフェニルエチルケトン３．３２ｇ（１９．９８ｍｍｏｌ）を加え、０℃以下の温度を保ちながら１時間攪拌した。撹拌後、酢酸エチル４０ｇ及び水２０ｇを加えて油水分離を行い、有機層を抽出して水洗を行った。洗浄後、有機層に硫酸マグネシウム塩を加えて脱水し、ろ過、減圧濃縮を行い、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：トルエン）で精製し、さらに、メタノール／酢酸エチルの混合溶媒で洗浄し、白色結晶８．６ｇを得た（収率５３％）。得られた白色結晶について分析を行ったところ、目的物である化合物Ｎｏ．４０と同定した。これらの分析結果について下記に示す。
【０１９５】
（１）1Ｈ−ＮＭＲ［ＣＤＣｌ3］（ｐｐｍ）
１．１（ｔ：３Ｈ）、１．４−２．０（ｍ：１６Ｈ）、２．９（ｑ：２Ｈ）、４．２（ｑ：８Ｈ）、５．７−６．５（ｍ：６Ｈ）、７．２−８．２（ｍ：１５Ｈ）、６．７（ｓ：２Ｈ）
【０１９６】
（２）ＩＲ［ＫＢｒ錠剤法］（ｃｍ-1）
４７８、７４５、８１０、８７２、９３７、９８８、１０６１、１１２３、１１８０、１２７３、１３４２、１３８９、１４１２、１４７０、１６２４、１６９０、１７２４、２８６２、２９３９
【０１９７】
（３）相転移温度
この化合物を示差走査熱量分析装置（サーモプラスＤＳＣ−８２３０；（株）リガク）にて、窒素雰囲気下（５０ｍｌ／ｍｉｎ）、５℃／ｍｉｎの速度で室温（２０〜３０℃）から１５０℃まで測定した結果、下記の相転移温度を確認した。
【０１９８】
【化１００】
0005408841.tif 000101
【０１９９】
〔合成例９〕（化合物Ｎｏ．４７の製造）
化合物Ｎｏ．４７を〔化１０１〕に示す反応式に従い、下記の手順で合成した。
【０２００】
【化１０１】
0005408841.tif 000102
【０２０１】
窒素雰囲気下において、６−（６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）ナフタレン−２−カルボン酸１３．７０ｇ（４０．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｇに溶解し、−３０℃まで冷却後、メタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）５．５０ｇ（４８．０１ｍｍｏｌ）を加え、トリエチルアミン（ＴＥＡ）１０．５１ｇを滴下した。滴下終了後、１時間攪拌し、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）０．０２ｇ（０．１５ｍｍｏｌ）及び２，５−ジヒドロキシ安息香酸メチル３．３６ｇ（１９．９８ｍｍｏｌ）を加え、０℃以下の温度を保ちながら、１時間攪拌した。攪拌後、酢酸エチル４０ｇ及び水２０ｇを加えて油水分離を行い、有機層を抽出して水洗を行った。洗浄後、有機層に硫酸マグネシウム塩を加えて脱水し、ろ過、減圧濃縮を行い、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：トルエン）で精製し、さらに、メタノール／酢酸エチルの混合溶媒で洗浄して、白色結晶８．６ｇを得た（収率５３％）。得られた白色結晶について分析を行ったところ、目的物である化合物Ｎｏ．４７と同定した。これらの分析結果について下記に示す。
【０２０２】
（１）1Ｈ−ＮＭＲ［ＣＤＣｌ3］（ｐｐｍ）
１．５−２．０（ｍ：１６Ｈ）、３．７（ｓ：３Ｈ）、４．２（ｑ：８Ｈ）、５．７−６．５（ｍ：６Ｈ）、７．３−８．２（ｍ：１５Ｈ）、８．７（ｓ：２Ｈ）
【０２０３】
（２）ＩＲ［ＫＢｒ錠剤法］（ｃｍ-1）
４７５、５４８、５８６、６７５、７４１、７７２、８１０、８５６、８７６、９１４、９４１、９８０、１０１５、１０５７、１１２６、１１６９、１２００、１２７７、１３４２、１３８９、１４０８、１４３５、１４７０、１６２４、１７２０、１７３２、２８６２、２９４７、３０６３
【０２０４】
（３）相転移温度
この化合物を示差走査熱量分析装置（サーモプラスＤＳＣ−８２３０；（株）リガク）にて、窒素雰囲気下（５０ｍｌ／ｍｉｎ）、５℃／ｍｉｎの速度で室温（２０〜３０℃）から１５０℃まで測定した結果、下記の相転移温度を確認した。
【０２０５】
【化１０２】
0005408841.tif 000103
【０２０６】
〔合成例１０〕（化合物Ｎｏ．５９の製造）
化合物Ｎｏ．５９を〔化１０３〕に示す反応式に従い、下記の手順で合成した。
【０２０７】
【化１０３】
0005408841.tif 000104
【０２０８】
窒素雰囲気下において、６−（２−（２−アクリロイルオキシエトキシ）エトキシ）ナフタレン−２−カルボン酸５ｇ（１５．１４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２０ｇに溶解し、−３０℃まで冷却後、メタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）１．９１ｇ（１６．６７ｍｍｏｌ）を加え、トリエチルアミン（ＴＥＡ）４．１２ｇを滴下した。滴下終了後、１時間攪拌し、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）０．０２ｇ（０．１５ｍｍｏｌ）及びプロピルヒドロキノン１．０４ｇ（６．８３ｍｍｏｌ）を加え、０℃以下の温度を保ちながら、１時間攪拌した。攪拌後、酢酸エチル４０ｇ及び水２０ｇを加えて油水分離を行い、有機層を抽出して水洗を行った。洗浄後、有機層に硫酸マグネシウム塩を加えて脱水し、ろ過、減圧濃縮を行い、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：トルエン／酢酸エチル混合溶媒）で精製し、白色結晶２．２ｇを得た（収率４１％）。得られた白色結晶について分析を行ったところ、目的物である化合物Ｎｏ．５９と同定した。これらの分析結果について下記に示す。
【０２０９】
（１）1Ｈ−ＮＭＲ［ＣＤＣｌ3］（ｐｐｍ）
０．９４（ｔ：３Ｈ）、１．６９（ｑ：２Ｈ）、２．６３（ｔ：２Ｈ）、３．７４−４．０２（ｍ：８Ｈ）、４．２０−４．５０（ｍ：８Ｈ）、５．７０−６．６０（ｍ：６Ｈ）、７．０６−７．４０（ｍ：７Ｈ）、７．８１（ｄｄ：２Ｈ）、７．９１（ｄ：２Ｈ）、８．１８（ｄｄ：２Ｈ）、８．７１（ｓ：２Ｈ）
【０２１０】
（２）ＩＲ［ＫＢｒ錠剤法］（ｃｍ-1）
４７８、７４８、８１０、９４９、１０６９、１１４２、１１６９、１１９６、１２７７、１４０８、１４７７、１６２４、１７２４、２８７８、３４３３
【０２１１】
（３）相転移温度
この化合物を示差走査熱量分析装置（サーモプラスＤＳＣ−８２３０；（株）リガク）にて、窒素雰囲気下（５０ｍｌ／ｍｉｎ）、５℃／ｍｉｎの速度で室温（２０〜３０℃）から１５０℃まで測定した結果、下記の相転移温度を確認した。
【０２１２】
【化１０４】
0005408841.tif 000105
【０２１３】
〔製造例１〕（重合体の作製）
下記の手順（［１］試料の調製、［２］支持基板の製作、［３］支持基板への塗布）に従い本発明の重合性組成物から重合体を作製した。
【０２１４】
［１］重合性組成物溶液の調製
表１に記載の重合性組成物１．０ｇを溶媒（シクロヘキサノン／２−ブタノン＝１／１（質量比））４．０ｇに添加して溶解し、ラジカル重合開始剤（Ｎ−１９１９；株式会社ＡＤＥＫＡ製）０．０３ｇを加えて完全に溶解した後に、０．４５μｍフィルターでろ過処理を実施して重合性組成物溶液を調製した。
【０２１５】
［２］支持基板の製作
中性洗剤で洗浄後、純水で洗い流し乾燥したガラス板にポリビニルアルコール５％水溶液をスピンコーターで均一に塗工し、１００℃で３分間乾燥させた。乾燥後、ガラス基板に支持されたポリビニルアルコールの表面をレーヨン布で一定方向に擦り、支持基板を製作した。
【０２１６】
［３］支持基板への塗布
上記［１］で調製した重合性組成物溶液を、上記［２］で製作した支持基板上にスピンコーターで塗工を行った。塗工は膜厚が約１．０μｍになるようにスピンコーターの回転数及び時間を調整して実施した。塗工後、ホットプレートを用いて１００℃で３分間乾燥して室温下で３分間冷却した後に、高圧水銀灯（１２０Ｗ／ｃｍ2）で２０秒間照射し、膜を硬化させて重合体を得た。
【０２１７】
〔実施例１、２及び比較例１〜３〕
上記の方法で得られた重合体について、下記の試験を実施し、これらの結果について表１に併せて示す。
【０２１８】
（１）膜表面の状態
得られた重合体の膜表面を目視で観察し、膜表面が滑らかな場合は○、膜表面の一部にムラがあったり、タックがあったりした場合は△、膜表面に凹凸が生じていたり、白濁した場合は×とした。
【０２１９】
（２）配向の均質性
重合体の均質性について偏光顕微鏡を用いて評価した。試料を、クロスニコル下で重合体を設置したステージを回転させることによって、重合体の配向状態を観察し、膜の均質性について評価した。重合体の配向が均一に得られていれば○、配向が得られても不均一であれば△、重合体に結晶等が発生して配向が全く得られていなければ×とした。
【０２２０】
（３）リターデーション（Ｒ）
上記製造例１で得た重合体に対して、偏光顕微鏡を用いてセナルモン法に基づいて、室温２５℃で波長５４６ｎｍにおけるリターデーション（Ｒ）を測定した。
【０２２１】
（４）膜厚（ｄ）
得られた重合体に対して、触針式表面形状測定器（Ｄｅｋｔａｋ６Ｍ；（株）アルバック製）を用いて室温２５℃で膜厚（ｄ）を測定した。
【０２２２】
（５）光学（屈折率）異方性（△ｎ）
重合体の光学（屈折率）異方性は、下記式（３）のリターデーション関係式において上記のリターデーション（Ｒ）及び膜厚（ｄ）を代入して算出した。
光学（屈折率）異方性（Δｎ）＝リターデーション（Ｒ）／膜厚（ｄ）  ・・・（３）
【０２２３】
【表１】
0005408841.tif 000106
【０２２４】
上記表１において、本発明の重合性化合物ではない比較化合物１又は比較化合物２を用いて作製した重合体は、重合性化合物が溶媒に溶解しなかったり、あるいは室温付近で液晶相が発現しなかったりして、液晶相の固定化が得られなかった。また、比較化合物３の重合性化合物を用いて作製した重合体は、液晶相の固定化は可能であったが、膜表面の一部に配向にムラが有り、リターデーションや光学（屈折率）異方性（Δｎ）などの光学特性は満足できるものではなかった。
【０２２５】
それに対して、実施例１及び実施例２より、本発明の重合性化合物を使用して作製した重合体は、配向が均一であり、光学（屈折率）異方性（Δｎ）が大きい重合体が得られた。
【０２２６】
以上より、本発明の重合性化合物を使用して作製した重合体は、均一な製膜制御及び優れた光学特性が得られるものであり、ディスプレイ用光学フィルムに好適に用いることができる。