(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
接着剤成分と、紫外線を照射することにより気体を発生する気体発生剤とを含有する接着剤組成物を介してウエハを支持板に固定する支持板固定工程と、前記支持板に固定されたウエハに処理を施すウエハ処理工程と、前記処理後のウエハに紫外線を照射して前記気体発生剤から気体を発生させて、支持板をウエハから剥離する支持板剥離工程とを有するウエハの処理方法であって、
前記支持板剥離工程において、照射強度１００ｍＷ／ｃｍ２以上の点状の紫外線を用いてウエハの全面を走査するように照射するものであり、
前記支持板剥離工程において、紫外線照射の軌跡がウエハの外周部から中心部に向かって渦巻き状になるように、点状の紫外線を照射することを特徴とするウエハの処理方法。
【請求項２】
接着剤成分と、紫外線を照射することにより気体を発生する気体発生剤とを含有する接着剤組成物を介してウエハを支持板に固定する支持板固定工程と、前記支持板に固定されたウエハに処理を施すウエハ処理工程と、前記処理後のウエハに紫外線を照射して前記気体発生剤から気体を発生させて、支持板をウエハから剥離する支持板剥離工程とを有するウエハの処理方法であって、
前記支持板剥離工程において、照射強度１００ｍＷ／ｃｍ２以上の点状の紫外線を用いてウエハの全面を走査するように照射するものであり、
前記支持板剥離工程において、紫外線照射の軌跡がウエハの全面を往復するように、点状の紫外線を照射することを特徴とするウエハの処理方法。
【請求項３】
接着剤成分と、紫外線を照射することにより気体を発生する気体発生剤とを含有する接着剤組成物を介してウエハを支持板に固定する支持板固定工程と、前記支持板に固定されたウエハに処理を施すウエハ処理工程と、前記処理後のウエハに紫外線を照射して前記気体発生剤から気体を発生させて、支持板をウエハから剥離する支持板剥離工程とを有するウエハの処理方法であって、
前記支持板剥離工程において、照射強度１００ｍＷ／ｃｍ２以上の点状の紫外線を用いてウエハの全面を走査するように照射するものであり、
前記支持板剥離工程において、紫外線照射の軌跡がウエハの一方の半面を往復した後、他方の半面を往復するように、点状の紫外線を照射することを特徴とするウエハの処理方法。
【請求項４】
接着剤成分と、紫外線を照射することにより気体を発生する気体発生剤とを含有する接着剤組成物を介してウエハを支持板に固定する支持板固定工程と、前記支持板に固定されたウエハに処理を施すウエハ処理工程と、前記処理後のウエハに紫外線を照射して前記気体発生剤から気体を発生させて、支持板をウエハから剥離する支持板剥離工程とを有するウエハの処理方法であって、
前記支持板剥離工程において、照射強度１００ｍＷ／ｃｍ２以上の点状の紫外線を用いてウエハの全面を走査するように照射するものであり、
前記支持板剥離工程において、紫外線照射の軌跡がウエハの外周部と中心部とを往復しながらウエハの全面を覆うように、点状の紫外線を照射することを特徴とするウエハの処理方法。
【請求項５】
支持板剥離工程において、点状の紫外線の照射は、ウエハの外周部から開始することを特徴とする請求項１、２、３又は４記載のウエハの処理方法。
【請求項６】
支持板剥離工程において照射する点状の紫外線の照射強度が２０００ｍＷ／ｃｍ２以下であることを特徴とする請求項１、２、３又は４記載のウエハの処理方法。
【請求項７】
支持板剥離工程において照射強度１００ｍＷ／ｃｍ２以上の点状の紫外線を用いてウエハの全面を走査するように照射する際の走査速度が１〜２００ｍｍ／ｓｅｃであることを特徴とする請求項１、２、３又は４記載のウエハの処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、接着剤組成物を介してウエハを支持板に固定した状態でウエハを処理するウエハの処理方法であって、より高い生産効率を実現したウエハの処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体チップの製造工程においては、ウエハの加工時に取扱いを容易にし、破損したりしないようにするためにウエハを支持板に固定することが行われている。例えば、高純度なシリコン単結晶等から切り出した厚膜ウエハを所定の厚さにまで研削して薄膜ウエハとする場合に、接着剤組成物を介して厚膜ウエハを支持板に接着することが行われる。【０００３】
ウエハを支持板に接着する接着剤組成物には、加工工程中にウエハを強固に固定できるだけの高い粘着性とともに、工程終了後にはウエハを損傷することなく剥離できることが求められる（以下、「高接着易剥離」ともいう。）。
高接着易剥離を実現した接着剤組成物として特許文献１には、アゾ化合物等の紫外線を照射することにより気体を発生する気体発生剤を含有する粘着層を有する両面粘着テープを用いたウエハの処理方法が記載されている。特許文献１に記載されたウエハの処理方法では、まず、両面粘着テープを介してウエハを支持板に固定する。その状態で研削工程等を行った後に紫外線を照射すると、気体発生剤から発生した気体がテープの表面とウエハとの界面に放出され、その圧力によって少なくとも一部が剥離される。【０００４】
特許文献１に記載されたウエハの処理方法は、処理後のウエハを損傷することなく、かつ、糊残りもすることなく剥離できることから、極めて優れた方法である。しかしながら、半導体装置のますますの普及により、ウエハの処理方法には常に更なる改良が求められ続けている。特許文献１に記載されたウエハの処理方法も、今日においては生産効率の点で不満足に感じられるようになってきていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−２３１８７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記現状に鑑み、接着剤組成物を介してウエハを支持板に固定した状態でウエハを処理するウエハの処理方法であって、より高い生産効率を実現したウエハの処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、接着剤成分と、紫外線を照射することにより気体を発生する気体発生剤とを含有する接着剤組成物を介してウエハを支持板に固定する支持板固定工程と、前記支持板に固定されたウエハに処理を施すウエハ処理工程と、前記処理後のウエハに紫外線を照射して前記気体発生剤から気体を発生させて、支持板をウエハから剥離する支持板剥離工程とを有するウエハの処理方法であって、前記支持板剥離工程において、照射強度１００ｍＷ／ｃｍ２以上の点状又は線状の紫外線を用いてウエハの全面を走査するように照射するウエハの処理方法である。
以下に本発明を詳述する。【０００８】
本願の発明者は、特許文献１に記載されたウエハの処理方法の全般にわたって生産効率の再検討を行った。そして、処理後のウエハに紫外線を照射して気体発生剤から気体を発生させて支持板をウエハから剥離する工程が律速になっていることを見出した。即ち、紫外線の照射を開始してからウエハと支持板とを剥離可能になるまでに時間がかかり、それによって全体の生産効率に影響を与えていた。
従来のウエハの処理方法では、紫外線はウエハの全面に均一に照射していた。しかしながらこの方法では、紫外線の照射強度が低く、気体の発生による剥離圧力が不充分であったため、剥離に時間を要したものと思われた。これに対して、高照射能の紫外線照射装置を用いることも考えられたが、そもそも現時点ではそれほどまでに大照射量の紫外線照射装置は市販されておらず、仮にあったとしても高価であるうえ、高温を発してウエハに悪影響を与える恐れもある。更に、紫外線をウエハの全面に均一に照射した場合、発生した気体が支持板と接着剤組成物との間に留まることにより、薄く脆弱なウエハを破壊してしまったり、支持板が変形してウエハ側の接着剤組成物が剥離してしまい、支持板のみを剥離することができずにウエハの処理の作業工程に大きな影響を与えてしまったりする恐れもある。
点状又は線状の狭い領域に絞り込むのであれば、１００ｍＷ／ｃｍ２以上の高照射強度で紫外線を照射できる紫外線照射装置は市販されている。そこで本願の発明者は、更に鋭意検討の結果、照射強度１００ｍＷ／ｃｍ２以上の点状又は線状の紫外線を用いてウエハの全面を走査するように照射することにより、気体が発生する部位を制御して、発生した気体が支持板と接着剤組成物との間に留まることがないようにすることができ、かつ、紫外線の照射を開始してからウエハと支持板とを剥離可能になるまでの時間を著しく短縮し、それによって全体の生産効率を改善できることを見出し、本発明を完成した。【０００９】
本発明のウエハの処理方法では、まず、接着剤成分と、刺激により気体を発生する気体発生剤とを含有する接着剤組成物を介してウエハを支持板に固定する支持板固定工程を行う。ウエハを支持板に固定することにより、加工時に取扱いを容易にし、破損したりしないようにすることができる。【００１０】
上記接着剤成分は特に限定されず、非硬化型の接着剤、硬化型の接着剤のいずれを含有するものであってもよい。
上記接着剤成分が非硬化型の接着剤を含有する場合には、後述する支持板剥離工程において接着剤組成物に刺激を与えることにより上記気体発生剤から気体が発生し、発生した気体により柔らかい接着剤成分の全体が発泡して表面に凹凸が形成され、被着体との接着面積が減少して剥離する。
上記接着剤成分が硬化型の接着剤を含有する場合には、後述する支持板剥離工程において接着剤組成物に刺激を与えることにより上記気体発生剤から気体が発生し、発生した気体は硬化した接着剤成分から被着体との界面へと放出され、その圧力によって被着体の少なくとも一部が剥離する。
なかでも、糊残りを生ずることなく確実な剥離を行うことができることから、刺激により弾性率が上昇する硬化型の接着剤を含有することが好ましい。【００１１】
上記非硬化型の接着剤は特に限定されず、例えば、ゴム系接着剤、アクリル系接着剤、ビニルアルキルエーテル系接着剤、シリコーン系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリアミド系接着剤、ウレタン系接着剤、スチレン・ジエンブロック共重合体系接着剤等が挙げられる。【００１２】
上記硬化型の接着剤は特に限定されないが、例えば、重合性ポリマーを主成分として、光重合開始剤や熱重合開始剤を含有する光硬化型接着剤や熱硬化型接着剤が挙げられる。
このような光硬化型接着剤や熱硬化型接着剤は、光の照射又は加熱により接着剤の全体が均一にかつ速やかに重合架橋して一体化するため、重合硬化による弾性率の上昇が著しくなり、接着力が大きく低下する。また、弾性率の上昇した硬い硬化物中で上記気体発生剤から気体を発生させると、発生した気体の大半は外部に放出され、放出された気体は、被着体から粘着剤の接着面の少なくとも一部を剥がし接着力を低下させる。【００１３】
上記重合性ポリマーは、例えば、分子内に官能基を持った（メタ）アクリル系ポリマー（以下、官能基含有（メタ）アクリル系ポリマーという。）をあらかじめ合成し、分子内に上記の官能基と反応する官能基とラジカル重合性の不飽和結合とを有する化合物（以下、官能基含有不飽和化合物という。）と反応させることにより得ることができる。【００１４】
上記官能基含有（メタ）アクリル系ポリマーは、常温で粘着性を有するポリマーとして、一般の（メタ）アクリル系ポリマーの場合と同様に、アルキル基の炭素数が通常２〜１８の範囲にあるアクリル酸アルキルエステル及び／又はメタクリル酸アルキルエステルを主モノマーとし、これと官能基含有モノマーと、更に必要に応じてこれらと共重合可能な他の改質用モノマーとを常法により共重合させることにより得られるものである。上記官能基含有（メタ）アクリル系ポリマーの重量平均分子量は通常２０万〜２００万程度である。【００１５】
上記官能基含有モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸等のカルボキシル基含有モノマー；アクリル酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸ヒドロキシエチル等のヒドロキシル基含有モノマー；アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル等のエポキシ基含有モノマー；アクリル酸イソシアネートエチル、メタクリル酸イソシアネートエチル等のイソシアネート基含有モノマー；アクリル酸アミノエチル、メタクリル酸アミノエチル等のアミノ基含有モノマー等が挙げられる。【００１６】
上記共重合可能な他の改質用モノマーとしては、例えば、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレン等の一般の（メタ）アクリル系ポリマーに用いられている各種のモノマーが挙げられる。【００１７】
上記官能基含有（メタ）アクリル系ポリマーに反応させる官能基含有不飽和化合物としては、上記官能基含有（メタ）アクリル系ポリマーの官能基に応じて上述した官能基含有モノマーと同様のものを使用できる。例えば、上記官能基含有（メタ）アクリル系ポリマーの官能基がカルボキシル基の場合はエポキシ基含有モノマーやイソシアネート基含有モノマーが用いられ、同官能基がヒドロキシル基の場合はイソシアネート基含有モノマーが用いられ、同官能基がエポキシ基の場合はカルボキシル基含有モノマーやアクリルアミド等のアミド基含有モノマーが用いられ、同官能基がアミノ基の場合はエポキシ基含有モノマーが用いられる。  【００１８】
上記光重合開始剤は、例えば、２５０〜８００ｎｍの波長の光を照射することにより活性化されるものが挙げられ、このような光重合開始剤としては、例えば、メトキシアセトフェノン等のアセトフェノン誘導体化合物；ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル系化合物；ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジエチルケタール等のケタール誘導体化合物；フォスフィンオキシド誘導体化合物；ビス（η５−シクロペンタジエニル）チタノセン誘導体化合物、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、クロロチオキサントン、トデシルチオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシメチルフェニルプロパン等の光ラジカル重合開始剤が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。【００１９】
上記熱重合開始剤としては、熱により分解し、重合硬化を開始する活性ラジカルを発生するものが挙げられ、例えば、ジクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエール、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、パラメンタンハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド等が挙げられる。
ただし、本発明の接着剤組成物が高い耐熱性を発揮するためには、上記熱重合開始剤は、熱分解温度が２００℃以上である熱重合開始剤を用いることが好ましい。このような熱分解温度が高い熱重合開始剤は、クメンハイドロパーオキサイド、パラメンタンハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド等が挙げられる。
これらの熱重合開始剤のうち市販されているものとしては特に限定されないが、例えば、パーブチルＤ、パーブチルＨ、パーブチルＰ、パーメンタＨ（以上いずれも日油社製）等が好適である。これら熱重合開始剤は、単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。【００２０】
上記光硬化型接着剤や熱硬化型接着剤は、更に、ラジカル重合性の多官能オリゴマー又はモノマーを含有することが好ましい。ラジカル重合性の多官能オリゴマー又はモノマーを含有することにより、光硬化性、熱硬化性が向上する。
上記多官能オリゴマー又はモノマーは、分子量が１万以下であるものが好ましく、より好ましくは加熱又は光の照射による粘着剤層の三次元網状化が効率よくなされるように、その分子量が５０００以下でかつ分子内のラジカル重合性の不飽和結合の数が２〜２０個のものである。【００２１】
上記多官能オリゴマー又はモノマーは、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート又は上記同様のメタクリレート類等が挙げられる。その他、１，４−ブチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ポリプロピレングリコール＃７００ジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、市販のオリゴエステルアクリレート、上記同様のメタクリレート類等が挙げられる。これらの多官能オリゴマー又はモノマーは、単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。【００２２】
上記気体発生剤は特に限定されず、例えば、アゾ化合物、アジド化合物等の従来公知の気体発生剤を用いることができる。
また、薬液処理、加熱処理又は発熱を伴う処理をウエハに施す場合には、これらの処理によっても剥離しない、即ち、これらの処理に対する耐性に優れる気体発生剤を用いることが好ましい。このような気体発生剤としては、例えば、下記一般式（１）で表されるカルボン酸化合物又はその塩も好適である。このような気体発生剤は、紫外線等の光を照射することにより気体（二酸化炭素ガス）を発生する一方、２００℃程度の高温化でも分解しない高い耐熱性を有する。また、酸、アルカリ、有機溶剤等の薬液に対する耐性にも優れる。このような気体発生剤は、過酷なウエハ処理工程においても反応して気体を発生してしまうことがない。【００２３】
【化１】
0005433113.tif 000002
【００２４】
式（１）中、Ｒ１〜Ｒ７は、それぞれ水素又は有機基を示す。Ｒ１〜Ｒ７は、同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｒ１〜Ｒ７のうちの２つが互いに結合し、環状構造を形成していてもよい。【００２５】
上記一般式（１）における有機基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基等のアルキル基や、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基や、カルボキシル基や、水酸基や、ニトロ基や、フェニル基等の芳香族基や、ナフチル基、フルオレニル基、ピレニル基等の多環式炭化水素基や、ビフェニル基等の環集合炭化水素基や、キサンテニル基等のヘテロ環基等が挙げられる。
なかでも、上記一般式（１）中のＲ３〜Ｒ７のうちの１つが、下記一般式（２）で表される有機基であるか、又は、上記一般式（１）中のＲ３〜Ｒ７のうちの隣り合う２つが互いに結合して下記式（３）で表される環状構造を形成していることが好ましい。【００２６】
【化２】
0005433113.tif 000003
【００２７】
式（２）中、Ｒ８〜Ｒ１２は、それぞれ水素又は有機基を示す。Ｒ８〜Ｒ１２は、同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｒ８〜Ｒ１２のうちの２つが互いに結合し、環状構造を形成していてもよい。
式（３）中、Ｒ１３〜Ｒ１６は、それぞれ水素又は有機基を示す。Ｒ１３〜Ｒ１６は、同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｒ１３〜Ｒ１６のうちの２つが互いに結合し、環状構造を形成していてもよい。
また、上記一般式（１）中のＲ１は、メチル基であることが好ましい。【００２８】
上記式（１）で表されるカルボン酸化合物の具体例としては、例えば、フェニル酢酸、ジフェニル酢酸、トリフェニル酢酸、２−フェニルプロピオン酸、２，２−ジフェニルプロピオン酸、２，２，２−トリフェニルプロピオン酸、２−フェニルブチル酸、α−メトキシフェニル酢酸、マンデリック酸、アトロラクトン酸、ベンジリック酸、トロピック酸、フェニルマロン酸、フェニルコハク酸、３−メチル−２−フェニル酪酸、オルトトルイル酢酸、メタトルイル酢酸、４−イソブチル−α−メチルフェニル酢酸、パラトルイル酢酸、１，２−フェニレンジ酢酸、１，３−フェニレンジ酢酸、１，４−フェニレンジ酢酸、２−メトキシフェニル酢酸、２−ヒドロキシフェニル酢酸、２−ニトロフェニル酢酸、３−ニトロフェニル酢酸、４−ニトロフェニル酢酸、２−（４−ニトロフェニル）プロピオン酸、３−（４−ニトロフェニル）プロピオン酸、４−（４−ニトロフェニル）プロピオン酸、３，４−ジメトキシフェニル酢酸、３，４−（メチレンジオキシ）フェニル酢酸、２，５−ジメトキシフェニル酢酸、３，５−ジメトキシフェニル酢酸、３，４，５−トリメトキシフェニル酢酸、２，４−ジニトロフェニル酢酸、４−ビフェニル酢酸、１−ナフチル酢酸、２−ナフチル酢酸、６−メトキシ−α−メチル−２−ナフチル酢酸、１−ピレン酢酸、９−フルオレンカルボン酸又は９Ｈ−キサンテン−９−カルボン酸等が挙げられる。【００２９】
なかでも上記式（１）で表されるカルボン酸化合物は、下記式（１−１）で表されるケトプロフェン、又は、下記式（１−２）で表される２−キサントン酢酸であることが好ましい。【００３０】
【化３】
0005433113.tif 000004
【００３１】
上記式（１）で表されるカルボン酸化合物の塩も、上記式（１）で表されるカルボン酸化合物に由来する骨格を有することから、光が照射されると容易に脱炭酸を起こし、二酸化炭素ガスを発生させることができる。【００３２】
上記式（１）で表されるカルボン酸化合物の塩は、上記式（１）で表されるカルボン酸化合物と塩基性化合物とを容器中で混合するだけで、複雑な合成経路を経ること簡単に調製することができる。
上記塩基性化合物は特に限定されないが、例えば、アミン、ヒドラジン化合物、水酸化四級アンモニウム塩、ホスフィン化合物等が挙げられる。
上記アミンは特に限定されず、一級アミン、二級アミン及び三級アミンのいずれをも用いることができる。
なかでも上記塩基性化合物は、モノアルキルアミン又はジアルキルアミンが好適である。モノアルキルアミン又はジアルキルアミンを用いた場合には、得られる上記式（１）で表されるカルボン酸化合物の塩の極性を低極性化でき、接着剤成分との溶解性を高めることできる。より好ましくは、炭素数６〜１２のモノアルキルアミン又はジアルキルアミンである。【００３３】
上記気体発生剤は、また、下記一般式（４）、一般式（５）又は一般式（６）で表されるテトラゾール化合物若しくはその塩も好適である。これらの気体発生剤も、紫外線等の光を照射することにより気体（チッソガス）を発生する一方、２００℃程度の高温化でも分解しない高い耐熱性を有する。また、酸、アルカリ、有機溶剤等の薬液に対する耐性にも優れる。これらの気体発生剤は、後述する過酷なウエハ処理工程においても反応して気体を発生してしまうことがない。【００３４】
【化４】
0005433113.tif 000005
【００３５】
式（４）〜（６）中、Ｒ２１、Ｒ２２は、水素、炭素数が１〜７のアルキル基、アルキレン基、フェニル基、メルカプト基、水酸基又はアミノ基を表す。【００３６】
上記一般式（４）〜（６）で表されるテトラゾール化合物の塩も、上記一般式（４）〜（６）で表されるテトラゾール化合物に由来する骨格を有することから、光が照射されるとチッソガスを発生させることができる。
上記一般式（４）〜（６）で表されるテトラゾール化合物の塩は特に限定されず、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等が挙げられる。【００３７】
上記一般式（４）〜（６）で表されるテトラゾール化合物の塩は、上記一般式（４）〜（６）で表されるテトラゾール化合物と塩基性化合物とを容器中で混合するだけで、複雑な合成経路を経ることなく簡単に調製することができる。
上記塩基性化合物は特に限定されないが、例えば、アミン、ヒドラジン化合物、水酸化四級アンモニウム塩、ホスフィン化合物等が挙げられる。
上記アミンは特に限定されず、一級アミン、二級アミン及び三級アミンのいずれをも用いることができる。
なかでも上記塩基性化合物は、モノアルキルアミン又はジアルキルアミンが好適である。モノアルキルアミン又はジアルキルアミンを用いた場合には、得られる上記一般式（４）〜（６）で表されるテトラゾール化合物の塩の極性を低極性化でき、接着剤成分との溶解性を高めることができる。より好ましくは、炭素数６〜１２のモノアルキルアミン又はジアルキルアミンである。【００３８】
上記一般式（４）で表されるテトラゾール化合物又はその塩は特に限定されないが、具体的には例えば、１Ｈ−テトラゾール、５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール、５，５−アゾビス−１Ｈ−テトラゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、５−メチル−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−エチル−１Ｈ−テトラゾール、１−（ジメチルアミノエチル）−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール等が挙げられる。【００３９】
上記一般式（５）で表されるテトラゾール化合物又はその塩は特に限定されないが、具体的には例えば、５，５’−ビステトラゾールジアンモニウム塩等が挙げられる。【００４０】
上記一般式（６）で表されるテトラゾール化合物又はその塩は特に限定されないが、具体的には例えば、５，５’−ビステトラゾールアミンモノアンモニウム塩等が挙げられる。【００４１】
上記気体発生剤の含有量は、上記接着剤成分１００重量部に対する好ましい下限が５重量部、好ましい上限が５０重量部である。上記気体発生剤の含有量が５重量部未満であると、紫外線照射による気体の発生が少なくなり充分な剥離を行うことができないことがあり、５０重量部を超えると、接着剤成分へ溶けきれなくなり接着力が低下してしまうことがある。上記気体発生剤の含有量のより好ましい下限は１０重量部、より好ましい上限は３０重量部である。【００４２】
上記接着剤組成物は、光増感剤を含有してもよい。
上記光増感剤は、上記気体発生剤への光による刺激を増幅する効果を有することから、より少ない光の照射により気体を放出させることができる。また、より広い波長領域の光により気体を放出させることができる。【００４３】
上記光増感剤は、耐熱性に優れるものであれば特に限定されない。
耐熱性に優れた光増感剤は、例えば、アルコキシ基を少なくとも１つ以上有する多環芳香族化合物が挙げられる。なかでも、一部がグリシジル基又は水酸基で置換されたアルコキシ基を有する置換アルコキシ多環芳香族化合物が好適である。これらの光増感剤は、耐昇華性が高く、高温下で使用することができる。また、アルコキシ基の一部がグリシジル基や水酸基で置換されることにより、上記接着剤成分への溶解性が高まり、ブリードアウトを防止することができる。【００４４】
上記多環芳香族化合物は、アントラセン誘導体が好ましい。上記アルコキシ基は、炭素数１〜１８のものが好ましく、炭素数１〜８のものがより好ましい。【００４５】
上記アルコキシ基を少なくとも１つ以上有する多環芳香族化合物は、例えば、９，１０−ジメトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、２−ｔブチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、９−メトキシ−１０−メチルアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジエトキシアントラセン、２−ｔブチル−９，１０−ジエトキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジエトキシアントラセン、９−エトキシ−１０−メチルアントラセン、９，１０−ジプロポキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジプロポキシアントラセン、２−ｔブチル−９，１０−ジプロポキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジプロポキシアントラセン、９−イソプロポキシ−１０−メチルアントラセン、９，１０−ジブトキシアントラセン、９，１０−ジベンジルオキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジベンジルオキシアントラセン、２−ｔブチル−９，１０−ジベンジルオキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジベンジルオキシアントラセン、９−ベンジルオキシ−１０−メチルアントラセン、９，１０−ジ−α−メチルベンジルオキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジ−α−メチルベンジルオキシアントラセン、２−ｔブチル−９，１０−ジ−α−メチルベンジルオキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジ−α−メチルベンジルオキシアントラセン、９−（α−メチルベンジルオキシ）−１０−メチルアントラセン、９，１０−ジ（２−ヒドロキシエトキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ジ（２−カルボキシエトキシ）アントラセン等のアントラセン誘導体等が挙げられる。【００４６】
上記一部がグリシジル基又は水酸基で置換されたアルコキシ基を有する置換アルコキシ多環芳香族化合物は、例えば、９，１０−ジ（グリシジルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ジ（グリシジルオキシ）アントラセン、２−ｔブチル−９，１０−ジ（グリシジルオキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジ（グリシジルオキシ）アントラセン、９−（グリシジルオキシ）−１０−メチルアントラセン、９，１０−ジ（２−ビニルオキシエトキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ジ（２−ビニルオキシエトキシ）アントラセン、２−ｔブチル−９，１０−ジ（２−ビニルオキシエトキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジ（２−ビニルオキシエトキシ）アントラセン、９−（２−ビニルオキシエトキシ）−１０−メチルアントラセン、９，１０−ジ（３−メチル−３−オキセタニルメトキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ジ（３−メチル−３−オキセタニルメメトキシ）アントラセン、２−ｔブチル−９，１０−ジ（３−メチル−３−オキセタニルメメトキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジ（３−メチル−３−オキセタニルメメトキシ）アントラセン、９−（３−メチル−３−オキセタニルメメトキシ）−１０−メチルアントラセン、９，１０−ジ（ｐ−エポキシフェニルメトキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ジ（ｐ−エポキシフェニルメトキシ）アントラセン、２−ｔブチル−９，１０−ジ（ｐ−エポキシフェニルメトキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジ（ｐ−エポキシフェニルメトキシ）アントラセン、９−（ｐ−エポキシフェニルメトキシ）−１０−メチルアントラセン、９，１０−ジ（ｐ−ビニルフェニルメトキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ジ（ｐ−ビニルフェニルメトキシ）アントラセン、２−ｔブチル−９，１−ジ（ｐ−ビニルフェニルメトキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジ（ｐ−ビニルフェニルメトキシ）アントラセン、９−（ｐ−ビニルフェニルメトキシ）−１０−メチルアントラセン、９，１０−ジ（２−ヒドロキシエトキシ）アントラセン、９，１０−ジ（２−ヒドロキシプロポキシ）アントラセン、９，１０−ジ（２−ヒドロキシブトキシ）アントラセン、９，１０−ジ（２−ヒドロキシ−３−ブトキシプロポキシ）アントラセン、９，１０−ジ（２−ヒドロキシ−３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロポキシ）アントラセン、９，１０−ジ（２−ヒドロキシ−３−アリロキシプロポキシ）アントラセン、９，１０−ジ（２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロポキシ）アントラセン、９，１０−ジ（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）アントラセン等が挙げられる。【００４７】
上記光増感剤の含有量は、上記接着剤成分１００重量部に対する好ましい下限が０．０５重量部、好ましい上限が１０重量部である。上記光増感剤の含有量が０．０５重量部未満であると、充分な増感効果が得られないことがあり、１０重量部を超えると、光増感剤に由来する残存物が増え、充分な剥離を行えなくなることがある。上記光増感剤の含有量のより好ましい下限は０．１重量部、より好ましい上限は５重量部である。【００４８】
上記接着剤組成物は、粘着剤としての凝集力の調節を図る目的で、所望によりイソシアネート化合物、メラミン化合物、エポキシ化合物等の一般の粘着剤に配合される各種の多官能性化合物を適宜含有してもよい。
上記接着剤組成物は、可塑剤、樹脂、界面活性剤、ワックス、微粒子充填剤等の公知の添加剤を含有してもよい。【００４９】
本発明のウエハの処理方法に用いる接着剤組成物であって、接着剤成分と、紫外線を照射することにより気体を発生する気体発生剤とを含有する接着剤組成物もまた、本発明の１つである。【００５０】
上記支持板固定工程においてウエハと支持板との接着は、上記接着剤組成物により直接接着してもよいし、少なくとも一方の面に上記接着剤組成物からなる接着剤層を有する両面粘着テープを用いて接着してもよい。【００５１】
上記両面粘着テープは、基材の両面に粘着剤層を有するサポートテープであってもよく、基材を有しないノンサポートテープであってもよい。
上記両面粘着テープがサポートテープである場合、上記基材は、例えば、アクリル、オレフィン、ポリカーボネート、塩化ビニル、ＡＢＳ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ナイロン、ウレタン、ポリイミド等の透明な樹脂からなるシート、網目状の構造を有するシート、孔が開けられたシート等が挙げられる。【００５２】
本発明のウエハの処理方法では、次いで、上記支持板に固定されたウエハに処理を施すウエハ処理工程を行う。
上記ウエハへの処理としては、例えば、ウエハを一定の厚みになるまで研削するグラインド処理等が挙げられる。また、近年では薬液処理、加熱処理又は発熱を伴う処理を施すことも行われる。
上記薬液処理としては、例えば、電解めっき、無電解めっき等のめっき処理や、フッ酸、水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液（ＴＭＡＨ）等によるウェットエッチング処理や、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、モノエタノールアミン、ＤＭＳＯ等によるレジスト剥離プロセスや、濃硫酸、アンモニア水、過酸化水素水等による洗浄プロセス等が挙げられる。
上記加熱処理又は発熱を伴う処理としては、例えば、スパッタリング、蒸着、エッチング、化学気相成長法（ＣＶＤ）、物理気相成長法（ＰＶＤ）、レジスト塗布・パターンニング、リフロー等が挙げられる。【００５３】
本発明のウエハの処理工程は、後述する支持板剥離工程に先立って、上記処理後のウエハの処理面にダイシングテープを貼付するダイシングテープ貼付工程を有してもよい。予めダイシングテープを貼付しておくことにより、支持板剥離工程において支持板を剥離した後、速やかにダイシング工程に進むことができる。【００５４】
本発明のウエハの処理方法では、次いで、上記処理後のウエハに紫外線を照射して気体発生剤から気体を発生させて、支持板をウエハから剥離する支持板剥離工程を行う。上記ウエハと支持板とを接着する接着剤組成物が気体発生剤を含有することにより、紫外線を照射することによりウエハを破損することなく、容易にウエハを支持板から剥離することができる。【００５５】
上記支持板剥離工程においては、照射強度１００ｍＷ／ｃｍ２以上の点状又は線状の紫外線を用いてウエハの全面を走査するように照射する。これにより、紫外線の照射を開始してからウエハと支持板とを剥離可能になるまでの時間を著しく短縮し、それによって全体の生産効率を改善できる。紫外線の照射強度が１００ｍＷ／ｃｍ２未満であると、充分な量の気体が発生せず剥離圧力が低くなって、剥離ができないことがある。好ましくは照射強度２００ｍＷ／ｃｍ２以上、より好ましくは照射強度３００ｍＷ／ｃｍ２以上の点状又は線状の紫外線を用いてウエハの全面を走査するように照射する。
上記指示板剥離工程における点状又は線状の紫外線の照射強度の好ましい上限は２０００ｍＷ／ｃｍ２である。紫外線の照射強度が２０００ｍＷ／ｃｍ２を超えると、発熱量が大きくなり、上記接着剤組成物が焦げてしまうことがある。紫外線の照射強度のより好ましい上限は１７５０ｍＷ／ｃｍ２、更に好ましい上限は１６００ｍＷ／ｃｍ２である。【００５６】
上記支持板剥離工程において、照射強度１００ｍＷ／ｃｍ２以上の点状又は線状の紫外線を用いてウエハの全面を走査するように照射する際の走査速度の好ましい下限は１ｍｍ／ｓｅｃ、好ましい上限は２００ｍｍ／ｓｅｃである。上記走査速度が１ｍｍ／ｓｅｃ未満であると、紫外線の光源からの熱により上記接着剤組成物が焼けてしまうことがあり、２００ｍｍ／ｓｅｃを超えると、上記接着剤組成物からの気体の発生が不充分となることがある。上記走査速度のより好ましい下限は３ｍｍ／ｓｅｃ以上、より好ましい上限は１５０ｍｍ／ｓｅｃであり、更に好ましい上限は１００ｍｍ／ｓｅｃである。【００５７】
上記照射強度１００ｍＷ／ｃｍ２以上の点状の紫外線を用いてウエハの全面を走査するように照射する具体的な方法の一例を、図１を用いて説明する。
図１においては、処理後のウエハ１が、接着剤組成物２を介して支持板３に固定されている。このような状態で、支持板３側から、紫外線照射口４より、照射強度１００ｍＷ／ｃｍ２以上の点状の紫外線を照射する（図１（ａ））。紫外線は点状に照射されることから、ウエハの全面には照射されないが、照射しながら紫外線照射口４を前後左右に動かすことにより、ウエハの全面を走査するように照射することができる（図１（ｂ））。
なお、図１においては紫外線照射口４を動かして走査を行ったが、処理後のウエハ１／接着剤組成物２／支持板３の積層体側を動かしても同様の効果を得ることができる。【００５８】
点状の紫外線を用いてウエハの全面を走査するように紫外線を照射する場合の、走査パターンの一例を示す模式図を図２に示した。
図２（ａ）は、紫外線照射の軌跡がウエハの外周部から中心部に向かって渦巻き状になるように、点状の紫外線を照射する走査パターンである。
図２（ｂ）は、紫外線照射の軌跡がウエハの全面を往復するように、点状の紫外線を照射する走査パターンである。
図２（ｃ）は、紫外線照射の軌跡がウエハの一方の半面を往復した後、他方の半面を往復するように、点状の紫外線を照射する走査パターンである。
図２（ｄ）は、紫外線照射の軌跡がウエハの外周部と中心部とを往復しながらウエハの全面を覆うように、点状の紫外線を照射する走査パターンである。【００５９】
上記照射強度１００ｍＷ／ｃｍ２以上の線状の紫外線を用いてウエハの全面を走査するように照射する具体的な方法の一例を、図３を用いて説明する。
図３においては、処理後のウエハ１が、接着剤組成物２を介して支持板３に固定されている。このような状態で、支持板３側から、紫外線照射口５より、照射強度１００ｍＷ／ｃｍ２以上の線状の紫外線を照射する（図３（ａ））。紫外線は線状に照射されることから、ウエハの全面には照射されないが、照射しながら紫外線照射口５を左右に動かすことにより、ウエハの全面を走査するように照射することができる（図３（ｂ））。
なお、図３においては紫外線照射口５を動かして走査を行ったが、処理後のウエハ１／接着剤組成物２／支持板３の積層体側を、例えばベルトコンベア等に乗せて動かしても同様の効果を得ることができる。【００６０】
例えば、図２（ａ）〜（ｄ）に記載するように、点状又は線状の紫外線の照射は、ウエハの外周部から開始することが好ましい。これにより、より確実に支持板の剥離を行うことができる。
なお、点状の紫外線の照射を行う際の走査の方向は特に限定されず、右回りであっても、左回りであってもよい。また、線状の紫外線の照射を行う際の走査の方向は特に限定されず、右からでも、左からでもよい。【００６１】
上記照射強度１００ｍＷ／ｃｍ２以上の点状又は線状の紫外線を照射できる紫外線照射装置としては特に限定されず、例えば、市販の高圧水銀灯、中圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドランプ、ＬＥＤランプ、スポットＵＶ装置、パルスレーザーＵＶ照射装置、コンベア式ＵＶランプ、スキャン式ＵＶランプ等を用いることができる。
具体的には、例えば、ウシオ電機株式会社製「スポットキュア」や、アイグラフィクス社製「アイグランテージ」等の市販の紫外線照射装置を用いることができる。【００６２】
本発明のウエハの処理方法によれば、気体が発生する部位を制御して、発生した気体が支持板と接着剤組成物との間に留まることがないようにすることができ、かつ、紫外線の照射を開始してからウエハと支持板とを剥離可能になるまでの時間を著しく短縮し、それによって全体の生産効率を改善できる。
本発明のウエハの処理方法により処理されたことウエハもまた、本発明の１つである。
【発明の効果】
【００６３】
本発明によれば、接着剤組成物を介してウエハを支持板に固定した状態でウエハを処理するウエハの処理方法であって、より高い生産効率を実現したウエハの処理方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】照射強度１００ｍＷ／ｃｍ２以上の点状の紫外線を用いてウエハの全面を走査するように照射する方法の一例を説明する模式図である。
【図２】点状の紫外線を用いてウエハの全面を走査するように紫外線を照射する場合の走査パターンの一例を示す模式図である。
【図３】照射強度１００ｍＷ／ｃｍ２以上の線状の紫外線を用いてウエハの全面を走査するように照射する方法の一例を説明する模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００６５】
以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されるものではない。
【００６６】
（参考例１）
（１）粘着テープの調製
温度計、攪拌機、冷却管を備えた反応器を用意し、この反応器内に、２−エチルヘキシルアクリレート９４重量部、アクリル酸１重量部、２−ヒドロキシエチルアクリレート５重量部、ラウリルメルカプカプタン０．０１重量部と、酢酸エチル１８０重量部を加えた後、反応器を加熱して還流を開始した。続いて、上記反応器内に、重合開始剤として１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン０．０１重量部を添加し、還流下で重合を開始させた。次に、重合開始から１時間後及び２時間後にも、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンを０．０１重量部ずつ添加し、更に、重合開始から４時間後にｔ−ヘキシルパーオキシピバレートを０．０５重量部添加して重合反応を継続させた。そして、重合開始から８時間後に、固形分５５重量％、重量平均分子量６０万のアクリル共重合体を得た。
得られたアクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分１００重量部に対して、２−イソシアナトエチルメタクリレート３．５重量部を加えて反応させ、更に、反応後の酢酸エチル溶液の樹脂固形分１００重量部に対して、光重合開始剤（エサキュアワン、日本シイベルヘグナー社製）０．１重量部、ポリイソシアネート系架橋剤（コロネートＬ４５、日本ポリウレタン社製）２．５重量部を混合し接着剤（１）の酢酸エチル溶液を調製した。
【００６７】
接着剤（１）の酢酸エチル溶液の樹脂固形分１００重量部に対して、気体発生剤としてビステトラゾールＮａ塩（増田化学社製）２０重量部、光増感剤として９，１０−ジグリシジルオキシアントラセン１重量部を混合して、接着剤組成物を得た。
【００６８】
得られた接着剤組成物を、片面にコロナ処理を施した厚さ５０μｍの透明なポリエチレンテレフタレートフィルムのコロナ処理面上に、乾燥皮膜の厚さが３０μｍとなるようにドクターナイフで塗工し、１１０℃、５分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。その後、４０℃、３日間静置養生を行い、接着テープを得た。
【００６９】
（２）ウエハの処理
得られた粘着テープを直径２０ｃｍの円形に切断し、直径２０ｃｍ、厚さ約７５０μｍのシリコンウエハに真空中で貼り付けた。シリコンウエハに貼り付けた面と反対の面に、直径２０ｃｍ、厚さ１ｍｍの石英ガラス板を真空中で貼りつけて積層体を得た。
得られた積層体のウエハ側をグラインド研削及び研磨を行い、厚み５０μｍまで研削した。
得られた積層体に対して、ガラス板側からコンベア式ＵＶ照射機（アイグラフィクス社製「アイグランテージ」）を用いて、紫外線照射口を左右に動かしながら２５４ｎｍの紫外線を照射強度３００ｍＷ／ｃｍ２の線状の紫外線をウエハの全面を走査するように照射した。なお、紫外線照射口の移動は走査パターンが図３になるように行い、紫外線の照射開始からウエハ全面の走査完了までの時間が３０秒となるようにした（走査速度：６．５ｍｍ／ｓｅｃ）。その後、ガラス板側から目視にて観察して、気体が充分に発生したのを確認してから、ガラス板とウエハとを剥離した。
上記紫外線の照射からガラス板とウエハとの剥離にまで２分間を要した。
【００７０】
（参考例２）
参考例１と同様の方法により得られた粘着テープを直径２０ｃｍの円形に切断し、直径２０ｃｍ、厚さ約７５０μｍのシリコンウエハに真空中で貼り付けた。シリコンウエハに貼り付けた面と反対の面に、直径２０ｃｍ、厚さ１ｍｍの石英ガラス板を真空中で貼りつけて積層体を得た。
ガラス板側からコンベア式ＵＶ照射機（アイグラフィクス社製「アイグランテージ」）を用いて、紫外線照射口を左右に動かしながら２５４ｎｍの紫外線を照射強度１００ｍＷ／ｃｍ２の線状の紫外線をウエハの全面を走査するように照射した以外は、参考例１と同様の方法でウエハの処理を行った。その後、ガラス板側から目視にて観察して、気体が充分に発生したのを確認してから、ガラス板とウエハとを剥離した。
上記紫外線の照射からガラス板とウエハとの剥離にまで４分３０秒間を要した。
【００７１】
（実施例３）
参考例１と同様の方法により得られた粘着テープを直径２０ｃｍの円形に切断し、直径２０ｃｍ、厚さ約７５０μｍのシリコンウエハに真空中で貼り付けた。シリコンウエハに貼り付けた面と反対の面に、直径２０ｃｍ、厚さ１ｍｍの石英ガラス板を真空中で貼りつけて積層体を得た。
得られた積層体のウエハ側をグラインド研削及び研磨を行い、厚み５０μｍまで研削した。
得られた積層体に対して、ガラス板側からスポットＵＶ（ウシオ電機社製「スポットキュア」）を用いて、紫外線照射口を前後左右に動かしながら２５４ｎｍの紫外線を照射強度５００ｍＷ／ｃｍ２の２ｃｍ×２ｃｍの面積で紫外線をウエハの全面を走査するように照射した。なお、紫外線照射口の移動は図２（ａ）のようになるように行い、紫外線の照射開始からウエハ全面の走査完了までの時間が１８０秒となるようにした（走査速度：１１ｍｍ／ｓｅｃ）。その後、ガラス板側から目視にて観察して、気体が充分に発生したのを確認してから、ガラス板とウエハとを剥離した。
上記紫外線の照射からガラス板とウエハとの剥離にまで４分間を要した。
【００７２】
（実施例４）
参考例１と同様の方法により得られた粘着テープを直径２０ｃｍの円形に切断し、直径２０ｃｍ、厚さ約７５０μｍのシリコンウエハに真空中で貼り付けた。シリコンウエハに貼り付けた面と反対の面に、直径２０ｃｍ、厚さ１ｍｍの石英ガラス板を真空中で貼りつけて積層体を得た。
得られた積層体のウエハ側をグラインド研削及び研磨を行い、厚み５０μｍまで研削した。
得られた積層体に対して、ガラス板側からスポットＵＶ（ウシオ電機社製「スポットキュア」）を用いて、紫外線照射口を前後左右に動かしながら２５４ｎｍの紫外線を照射強度５００ｍＷ／ｃｍ２の２ｃｍ×２ｃｍの面積で紫外線をウエハの全面を走査するように照射した。なお、紫外線照射口の移動は図２（ｂ）のようになるように行い、紫外線の照射開始からウエハ全面の走査完了までの時間が１８０秒となるようにした（走査速度：１１ｍｍ／ｓｅｃ）。その後、ガラス板側から目視にて観察して、気体が充分に発生したのを確認してから、ガラス板とウエハとを剥離した。
上記紫外線の照射からガラス板とウエハとの剥離にまで４分間を要した。
【００７３】
（実施例５）
参考例１と同様の方法により得られた粘着テープを直径２０ｃｍの円形に切断し、直径２０ｃｍ、厚さ約７５０μｍのシリコンウエハに真空中で貼り付けた。シリコンウエハに貼り付けた面と反対の面に、直径２０ｃｍ、厚さ１ｍｍの石英ガラス板を真空中で貼りつけて積層体を得た。
得られた積層体のウエハ側をグラインド研削及び研磨を行い、厚み５０μｍまで研削した。
得られた積層体に対して、ガラス板側からスポットＵＶ（ウシオ電機社製「スポットキュア」）を用いて、紫外線照射口を前後左右に動かしながら２５４ｎｍの紫外線を照射強度５００ｍＷ／ｃｍ２の２ｃｍ×２ｃｍの面積で紫外線をウエハの全面を走査するように照射した。なお、紫外線照射口の移動は図２（ｃ）のようになるように行い、紫外線の照射開始からウエハ全面の走査完了までの時間が２００秒となるようにした（走査速度：１０ｍｍ／ｓｅｃ）。その後、ガラス板側から目視にて観察して、気体が充分に発生したのを確認してから、ガラス板とウエハとを剥離した。
上記紫外線の照射からガラス板とウエハとの剥離にまで４分間を要した。
【００７４】
（実施例６）
参考例１と同様の方法により得られた粘着テープを直径２０ｃｍの円形に切断し、直径２０ｃｍ、厚さ約７５０μｍのシリコンウエハに真空中で貼り付けた。シリコンウエハに貼り付けた面と反対の面に、直径２０ｃｍ、厚さ１ｍｍの石英ガラス板を真空中で貼りつけて積層体を得た。
得られた積層体のウエハ側をグラインド研削及び研磨を行い、厚み５０μｍまで研削した。
得られた積層体に対して、ガラス板側からスポットＵＶ（ウシオ電機社製「スポットキュア」）を用いて、紫外線照射口を前後左右に動かしながら２５４ｎｍの紫外線を照射強度５００ｍＷ／ｃｍ２の２ｃｍ×２ｃｍの面積で紫外線をウエハの全面を走査するように照射した。なお、紫外線照射口の移動は図２（ｄ）のようになるように行い、紫外線の照射開始からウエハ全面の走査完了までの時間が２００秒となるようにした（走査速度：１０ｍｍ／ｓｅｃ）。その後、ガラス板側から目視にて観察して、気体が充分に発生したのを確認してから、ガラス板とウエハとを剥離した。
上記紫外線の照射からガラス板とウエハとの剥離にまで４分間を要した。
【００７５】
（比較例１）
参考例１と同様の方法により得られた粘着テープを直径２０ｃｍの円形に切断し、直径２０ｃｍ、厚さ約７５０μｍのシリコンウエハに真空中で貼り付けた。シリコンウエハに貼り付けた面と反対の面に、直径２０ｃｍ、厚さ１ｍｍの石英ガラス板を真空中で貼りつけて積層体を得た。
得られた積層体のウエハ側をグラインド研削及び研磨を行い、厚み５０μｍまで研削した。
得られた積層体の全面に対して、ガラス板側から超高圧水銀灯を用いて、２５４ｎｍの紫外線をガラス板表面への照射強度が８０ｍＷ／ｃｍ２となるよう照射強度を調節して６分間照射した。
その後、ガラス板側から目視にて観察して、気体が充分に発生したのを確認してから、ガラス板とウエハとを剥離した。
上記紫外線の照射からガラス板とウエハとの剥離にまで１０分間を要した。発生した気体がガラス板と接着テープとの間に溜まってしまい、ウエハ側が一部剥離してしまったため、ガラス板をウエハから剥離するのに時間がかかった。
【産業上の利用可能性】
【００７６】
本発明によれば、接着剤組成物を介してウエハを支持板に固定した状態でウエハを処理するウエハの処理方法であって、より高い生産効率を実現したウエハの処理方法を提供することができる。
【符号の説明】
【００７７】
１  処理後のウエハ
２  接着剤組成物
３  支持板
４  紫外線照射口
５  紫外線照射口
【要約】
本発明は、接着剤組成物を介してウエハを支持板に固定した状態でウエハを処理するウエハの処理方法であって、より高い生産効率を実現したウエハの処理方法を提供することを目的とする。
本発明は、接着剤成分と、紫外線を照射することにより気体を発生する気体発生剤とを含有する接着剤組成物を介してウエハを支持板に固定する支持板固定工程と、前記支持板に固定されたウエハに処理を施すウエハ処理工程と、前記処理後のウエハに紫外線を照射して前記気体発生剤から気体を発生させて、支持板をウエハから剥離する支持板剥離工程とを有するウエハの処理方法であって、前記支持板剥離工程において、照射強度１００ｍＷ／ｃｍ２以上の点状又は線状の紫外線を用いてウエハの全面を走査するように照射するウエハの処理方法である。【図１】
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【図２】
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【図３】
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