(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶層を挟持して対向配置された第１基板及び第２基板を有し、
前記第１基板には、互いに絶縁された状態で交差するように形成された複数の走査線及び信号線と、前記走査線及び信号線によって区画されたサブ画素毎に形成された画素電極を備え、
前記第２基板には、平面視で前記走査線及び信号線と重畳するように形成された遮光層と、前記走査線及び信号線によって区画されたサブ画素毎に形成された、赤色、緑色及び青色のフィルター層を含むカラーフィルター層を備え、
前記第１基板及び第２基板の前記液晶層側の表面にラビング処理された配向膜が形成され、前記第１基板及び第２基板の少なくとも一方には柱状スペーサーが形成され、それぞれ異なる色の前記カラーフィルター層を有する複数のサブ画素で１画素が構成された液晶表示パネルであって、
前記１画素内の１以上のサブ画素は他の色のサブ画素よりも前記遮光層の面積を広くすることによって開口率が小さくされており、当該開口率が小さくされているサブ画素は緑色のサブ画素を含み、
前記遮光層の面積を広くした領域は、平面視で前記柱状スペーサーを起点とした前記ラビング処理の方向の下流側に位置するラビング処理が正常に行われない領域と重畳しており、当該ラビング処理が正常に行われない領域を被覆する部分の前記遮光層の形状は、前記柱状スペーサーを前記ラビング処理の方向へ所定の仰角でもって投射したときの投影形状と略同一であり、
前記ラビング処理が正常に行われない領域を被覆する部分の前記遮光層は、前記ラビング処理が正常に行われない領域を被覆しない部分の前記遮光層と分断されている
ことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
前記柱状スペーサーの断面は長方形の角柱状である
ことを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
前記ラビング処理が正常に行われない領域を被覆する部分の前記遮光層の形状は、方形状であり、幅及び長さは前記柱状スペーサーを前記ラビング処理の方向へ前記所定の仰角でもって投射したときの幅及び長さよりも大きい
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項４】
前記柱状スペーサーは高さが高いものと低いものとが混在している
ことを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の液晶表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透過率が他の色のサブ画素の透過率と異なるサブ画素を有し、柱状スペーサ
ーの配向乱れ領域における光学特性の低下を低減した液晶表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルはＣＲＴ（陰極線管）と比較して軽量、薄型、低消費電力という特徴が
あるため、表示用として多くの電子機器に使用されている。液晶表示パネルは、所定方向
に整列した液晶分子の向きを電界により変えて、液晶層の光の透過量を変化させて画像を
表示させるものである。これには、外光が液晶層に入射し、反射板で反射されて再び液晶
層を透過して出射される反射型のものと、バックライト装置からの入射光が液晶層を透過
する透過型のものと、その両方の性質を備えた半透過型のものとがある。
【０００３】
また、液晶表示パネルの液晶層に電界を印加する方法として、縦電界方式のものと横電
界方式のものとがある。縦電界方式の液晶表示パネルは、液晶層を挟んで配置される一対
の電極により、概ね縦方向の電界を液晶分子に印加するものである。この縦電界方式の液
晶表示パネルとしては、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＶＡ（Vertical Alignment）
モード、ＭＶＡ（Multi-domain Vertical Alignment）モード、ＥＣＢ（Electrically Co
ntrolled Birefringence）モード等のものが知られている。
【０００４】
また、横電界方式の液晶表示パネルは、液晶層を挟んで配置される一対の基板のうちの
一方の内面側に一対の電極が互いに絶縁して設けられており、概ね横方向の電界を液晶分
子に対して印加するものである。この横電界方式の液晶表示パネルとしては、一対の電極
が平面視で重ならないＩＰＳ（In-Plane Switching）モードのものと、重なるＦＦＳ（Fr
inge Field Switching）モードのものとが知られている。横電界方式の液晶表示パネルは
広い視野角を得ることができるという効果があるので、近年、多く用いられるようになっ
てきている。
【０００５】
また、液晶表示パネルにはモノクロ表示型のものやカラー表示型のものが存在している
。カラー表示型の液晶表示パネルの１画素（１ピクセル）の色は、例えばＲ（赤）、Ｇ（
緑）、Ｂ（青）の光３原色のカラーフィルターを個別に備えている各サブ画素を透過した
光の混色によって定まる。例えば８ビットの０階調〜２５５階調に対応した電圧がＲ、Ｇ
、Ｂの各サブ画素に印加されると各サブ画素の輝度は２５６種類となり、それらの各サブ
画素の輝度の組み合わせによって１画素で多くの色を表示することができるようになる。
このようなＲ、Ｇ、Ｂの各サブ画素で１画素が形成されている液晶表示パネルでは、Ｒ、
Ｇ、Ｂの全てのサブ画素を同一階調で点灯させることによって白色表示を得ている。
【０００６】
しかしながら、液晶表示パネル内の各層の形成誤差やプロセス変動などにより、Ｒ、Ｇ
、Ｂの各サブ画素の色度や輝度バランスが崩れ、Ｒ、Ｇ、Ｂの各サブ画素に同一階調の電
圧が印加されても白色にならないことがある。また、樹脂層などの透明な材料が完全な無
色ではなく、例えば、黄色がかっていることがある。また、一般的に、人間の眼は青系統
の色の光に対して最も感度が低く、赤系統の色の光に対する感度がそれに次ぎ、緑系統の
色の光に対して最も感度が高いという特徴がある。このような問題点を簡単な構造で解決
する方法として、下記特許文献１に示されているように、遮光層の面積を調整することに
よって、Ｒ、Ｇ、Ｂの少なくとも１つのサブ画素の開口率を小さく調整する方法（以下、
この方法を「面積変調」と称する。）が考えられている。
【０００７】
一方、液晶表示パネルには液晶層の厚さを一定に保つために球状スペーサーや柱状スペ
ーサーなどのスペーサーが使用されている。球状スペーサーは表示領域の液晶層中に散布
されるものである。球状スペーサーが表示領域の液晶層中に散布されると、液晶分子の配
向を乱してしまうため、光漏れの原因となる。これに対して、柱状スペーサーはアレイ基
板上やカラーフィルター基板上に一体的に形成されるので、光が通過する部分を避けて遮
光領域に配設することができ、良好な表示品位を得ることが可能である。このために、柱
状スペーサーは多くの液晶表示パネルに使用されている。
【０００８】
柱状スペーサーは、面積密度（表示領域における単位面積辺りの密度） が増加すると
、基板面に垂直な外力に対する変形強度が強くなるが、基板面に平行な外力に対しては摩
擦力が強くなって外力から開放されてもずれが戻らなくなってしまうことがある。また、
柱状スペーサーの面積密度が増加すると、大きな外力が加わったときに変形が小さくなる
が、液晶層への衝撃が大きくなるので、低温時に衝撃を受けた際に気泡が発生し易くなる
。この気泡は、常温常圧下で液晶中に溶け込んでいた気体の溶解量が低温時に飽和状態に
達し、表示面に衝撃が加わった場合に発生するものといわれている。したがって、柱状ス
ペーサーは適正な面積密度となるように配置する必要がある。
【０００９】
また、下記特許文献２に示されているように、従来の長さの主柱状スペーサーよりも少
し短い補助柱状スペーサーを備えた２段式柱状スペーサーを用いた液晶表示パネルも知ら
れている。この２段式柱状スペーサーを用いると、補助柱状スペーサーは一方の基板と離
間しているため、所定以上の大きな外力が加わったときには主柱状スペーサーが変形した
後に補助柱状スペーサーが対向する基板と接触するようになるので、それ以上の液晶表示
パネルの変形を防止することができるようになる。また、基板面に平行な外力が加わった
後に外力から開放されたときには、補助柱状スペーサーは一方の基板と離間するために摩
擦が少なく、ズレが容易に基の状態に戻るようになる。
【００１０】
この柱状スペーサーは、少なくとも一方の基板に形成され、その後、配向膜が成膜され
、この配向膜にはラビング処理が行われる。ラビング処理は、回転するラビング布で配向
膜をこすることによって、配向膜に一方向に沿った多数の微細な溝を形成するものである
。液晶層に電界が印加されない状態では、液晶分子はラビング処理の方向に従って整列す
る。しかしながら、柱状スペーサーは凸部となるので、ラビング布の毛足がラビング処理
時に柱状スペーサーに当たることにより窪むため、柱状スペーサーが尾を引いたような形
状の領域では正常なラビング処理が行われず、液晶分子の配向が乱れることとなる。この
ような液晶分子の配向が乱れた領域は、透過率が減少するなど、光学特性が低下する。こ
の対策として、下記特許文献３には、液晶分子の配向が乱れた領域が画素電極と重ならな
いようにラビング処理の方向を設定した液晶表示パネルが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００５−  ９９４５５号公報
【特許文献２】特開２００７−３３４００３号公報
【特許文献３】特開平１１−１７４４６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、液晶表示パネルにおいては、液晶分子の配向の乱れ防止のためにラビン
グ処理の方向を変更することは困難である。例えば、画素電極等にスリットが形成された
横電界方式の液晶表示パネルにおいてはラビング処理の方向はスリットの延在方向に対し
て最適な角度（例えば、５度）に設定され、また、ＥＣＢモードの液晶表示パネルにおい
てはラビング処理の方向は偏光板の偏光方向に対して最適な角度（例えば、４５度）に設
定される。このような柱状スペーサーによる液晶分子の配向の乱れの問題は、上記特許文
献１に示されるような面積変調が行われている液晶表示パネルにおいても生じる。
【００１３】
発明者等は、上述のような面積変調が行われている液晶表示パネルにおける柱状スペー
サーによる液晶分子の配向の乱れの問題点を解決すべく種々検討を重ねた。その結果、面
積変調が行われている液晶表示パネルは他の色のサブ画素よりも遮光領域の面積を広くさ
れたサブ画素が存在することから、この遮光領域の面積を広くされたサブ画素の遮光領域
の配置を最適化することによって、柱状スペーサーによる液晶分子の配向の乱れに起因す
る表示画質の低下を抑制することができることを見出し、本発明を完成するに至ったので
ある。
【００１４】
すなわち、本発明は、面積変調が行われている液晶表示パネルにおいて、柱状スペーサ
ーの存在に起因する液晶分子の配向不良に基づく表示画質の低下を抑制した液晶表示パネ
ルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達成するため、本発明の液晶表示パネルは、
液晶層を挟持して対向配置された第１基板及び第２基板を有し、
前記第１基板には、互いに絶縁された状態で交差するように形成された複数の走査線及
び信号線と、前記走査線及び信号線によって区画されたサブ画素毎に形成された画素電極
を備え、
前記第２基板には、
平面視で前記走査線及び信号線と重畳するように形成された遮光層と、前記走査線及び
信号線によって区画されたサブ画素毎に形成されたカラーフィルター層を備え、
前記第１基板及び第２基板の前記液晶層側の表面にラビング処理された配向膜が形成さ
れ、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方には柱状スペーサーが形成され、そ
れぞれ異なる色の前記カラーフィルター層を有する複数のサブ画素で１画素が構成された
液晶表示パネルであって、
前記１画素内の１以上のサブ画素は他の色のサブ画素よりも遮光層の面積を広くするこ
とによって開口率が小さくされており、
前記遮光層の面積を広くした領域は、平面視で前記柱状スペーサーを起点とした前記ラ
ビング処理方向の下流側に位置するラビング処理が正常に行われない領域と重畳している
ことを特徴とする。
【００１６】
本発明の液晶表示パネルは、それぞれ異なる色のカラーフィルター層を有する複数のサ
ブ画素で１画素が構成されており、しかも、１画素内の１以上のサブ画素は他の色のサブ
画素よりも遮光層の面積を広くすることによって開口率が小さくされている。このような
構成とすることにより、液晶表示パネルの１画素を形成する各色のサブ画素の透過率を調
整する面積変調が行われ、ホワイトバランスを適切に保つことができる。
【００１７】
また、液晶表示パネルに対して行われるラビング処理は、微細な毛足を有するラビング
布を回転させながら配向膜をこすることにより、一方向に沿った多数の微細な溝を配向膜
に形成するものである。しかしながら、柱状スペーサーは突起物であるから、ラビング処
理時に柱状スペーサーと接触した部分のラビング布は一旦窪んでしまう。このラビング布
の窪んだ部分が元の状態に戻るまではある程度の時間が必要であり、また、ラビング布の
窪んだ部分では正常にラビング処理が行われない。そのため、一旦窪んだラビング布が元
の形状に戻るまでの間、柱状スペーサーを起点としてラビング処理方向の下流側にラビン
グ処理が正常に行われない領域が生じる。このラビング処理が正常に行われない領域では
、液晶層の液晶分子の配向が正常に行われないため、透過率やコントラスト等の光学特性
が低下してしまう。
【００１８】
本発明の液晶表示パネルにおいては、面積変調用のサブ画素における遮光層の面積を広
くした領域は平面視でラビング処理が正常に行われない領域と重畳するようになされてい
る。そのため、本発明の液晶表示パネルによれば、面積変調が行われるサブ画素の遮光層
とは別個に柱状スペーサーによるラビング処理が正常に行われない領域に対応する追加の
遮光層を形成しなくてもすむため、面積変調が行われるサブ画素の余分な透過率の低下を
抑制しながら、ホワイトバランスを適切に保って正確に白色表示ができるようになる。
【００１９】
なお、本発明の液晶表示パネルにおいては、柱状スペーサーは、第１基板及び第２基板
のどちらに形成してもよく、軸方向（長さ方向）に直角な方向の断面は、円形状、楕円形
状、方形状、三角形状等、任意の形状とすることができ、更に、軸方向の断面は方形状又
は台形状であってもよい。
【００２０】
また、本発明の液晶表示パネルにおいては、前記カラーフィルター層は赤色、緑色及び
青色のカラーフィルター層を含み、前記開口率が小さくされているサブ画素は、緑色のサ
ブ画素を含むことが好ましい。
【００２１】
緑色は人の視感度が高いので、ホワイトバランス調整のために他の色のサブ画素よりも
開口率が小さくされるサブ画素は緑色のサブ画素であることが多い。柱状スペーサーを緑
色のサブ画素に配設すると、ラビング処理が正常に行われない領域が緑色のサブ画素領域
に形成されるが、このラビング処理が正常に行われない領域に基づく透過率の低下は特に
目立って感じられる。本発明の液晶表示パネルでは、面積変調を行うために必要とする遮
光層の面積の増大領域をラビング処理が正常に行われない領域の遮光用に兼ねさせている
。そのため、本発明の液晶表示パネルによれば、面積変調のための開口率低下用の遮光層
とは別個の柱状スペーサーによるラビング処理が正常に行われない領域を遮光するための
遮光層を形成しなくてもすむため、緑色のサブ画素の余分な透過率の低下を抑制しながら
、ホワイトバランスを適切に保って正確に白色表示ができるようになる。なお、ホワイト
バランスを精密に制御するために、緑色のサブ画素のみでなく、他の色のサブ画素、例え
ば赤色のサブ画素又は青色のサブ画素に対しても上述の構成を採用することも可能である
。
【００２２】
また、本発明の液晶表示パネルにおいては、前記ラビング処理が正常に行われない領域
を被覆する前記遮光領域の形状は、前記柱状スペーサーを前記ラビング処理の方向へ所定
の仰角でもって投射したときの投影形状と実質的に同一とされていることが好ましい。
【００２３】
液晶表示パネルにおけるラビング処理が正常に行われない領域の形状は、柱状スペーサ
ーをラビング処理の方向へ所定の仰角でもって投射したときの投影形状に類似しており、
その幅は実質的に柱状スペーサーを投影したときの幅に等しい。従って、本発明の液晶表
示パネルによれば、ラビング処理が正常に行われない領域を被覆する遮光領域の形状を、
柱状スペーサーをラビング処理の方向へ所定の仰角でもって投射したときの投影形状と実
質的に同一となるようにしたので、面積変調が行われるサブ画素の余分な透過率の低下を
抑制しながら、ホワイトバランスを適切に保って正確に白色表示ができるようになる。な
お、所定の仰角は、ラビング布の回転径、回転速度、移動速度等によって変化するので、
実験的に定めればよい。
【００２４】
また、本発明の液晶表示パネルにおいては、前記ラビング処理が正常に行われない領域
を被覆する前記遮光領域の形状は、方形状であり、幅及び長さは前記柱状スペーサーを前
記ラビング処理の方向へ所定の仰角でもって投射したときの幅及び長さよりも大きいこと
が好ましい。
【００２５】
本発明の液晶表示パネルにおいては、ラビング処理が正常に行われない領域を被覆する
遮光領域の形状を方形状（長方形状又は正方形状）としたので、簡単にラビング処理が正
常に行われない領域を被覆する遮光領域を形成することができるようになる。更に、本発
明の液晶表示パネルにおいては、ラビング処理が正常に行われない領域を被覆する遮光領
域の幅及び長さを、柱状スペーサーをラビング処理の方向へ所定の仰角でもって投射した
ときの幅及び長さよりも大きくしている。そのため、本発明の液晶表示パネルによれば、
第１基板及び第２基板を対向配置した際に位置ずれ等が生じても、ラビング処理が正常に
行われない領域を確実に遮光することができ、ホワイトバランスが崩れ難くなる。
【００２６】
また、本発明の液晶表示パネルにおいては、前記柱状スペーサーは高さが高いものと低
いものとが混在していることが好ましい。
【００２７】
柱状スペーサーの高さが高いものと低いものとが混在していると、高さが低い柱状スペ
ーサーは第１基板及び第２基板の少なくとも一方と当接しない状態となる。そのため、本
発明の液晶表示パネルによれば、所定以上の大きな外力が加わったときには、第１基板及
び第２基板の一方が変形して高さが低い柱状スペーサーと接触するので、第１基板及び第
２基板の一方のそれ以上の変形を抑制することができるようになる。また、外力が取り除
かれたときには、高さが低い柱状スペーサーは第１基板及び第２基板の一方とは離間して
おり、しかも、第１基板及び第２基板の一方に平行な外力に対しての摩擦が少ないので、
外力から開放されときのずれが戻りやすくなる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】第1実施形態の１画素分のアレイ基板の概要を示す平面図である。
【図２】第1実施形態の図１のII−II線の断面図である。
【図３】第1実施形態の図１のIII−III線の断面図である。
【図４】第２実施形態の１画素分のアレイ基板の概要を示す平面図である。
【図５】第３実施形態の１画素分のアレイ基板の概要を示す平面図である。
【図６】図６Ａは楕円柱状の柱状スペーサーの例を示す図であり、図６Ｂは四角柱状の柱状スペーサーの例を示す図であり、図６Ｃは第４実施形態の１画素分のアレイ基板の概要を示す部分平面図である。
【図７】第５実施形態の１画素分のアレイ基板の概要を示す部分平面図である。
【図８】図８Ａは第６実施形態の２画素分のアレイ基板の概要を示す平面図であり、図８Ｂは図８ＡのVIIIＢ−VIIIＢ線の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、実施形態及び図面を参照して本発明を実施するための形態を説明するが、以下に
示す実施形態は、本発明をここに記載したものに限定することを意図するものではなく、
本発明は特許請求の範囲に示した技術思想を逸脱することなく種々の変更を行ったものに
も均しく適用し得るものである。
【００３０】
なお、ここで述べるアレイ基板及びカラーフィルター基板の「表面」とは各種配線が形
成された面ないしは液晶と対向する側の面を示すものとする。また、この明細書における
説明のために用いられた各図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大
きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて表示しており、必ずしも実際の寸法
に比例して表示されているものではない。
【００３１】
［第１実施形態］
第１実施形態の液晶表示パネル１０Ａの１画素１１Ａの要部の構成を図１〜図３を用い
て説明する。液晶表示パネル１０Ａは、図２及び図３に示すように、液晶層ＬＣがアレイ
基板ＡＲとカラーフィルター基板ＣＦで挟持される構成となっている。図示省略したが、
液晶表示パネル１０Ａは行方向及び列方向に複数個整列したサブ画素を有している。１サ
ブ画素は、アレイ基板ＡＲ上に形成されている走査線１３及び信号線１４によって区画さ
れた領域からなる。１画素１１Ａは、図１に示すように、例えばＲ（赤）、Ｇ（緑）及び
Ｂ（青）の３色表示のサブ画素１２ＲＡ、１２ＧＡ及び１２ＢＡで構成され、これらの各
サブ画素を透過してきた色の光の混色で各画素の色が定まる。
【００３２】
アレイ基板ＡＲは透明な絶縁性を有するガラスや石英、プラスチック等からなる第１透
明基板１５を基体としている。第１透明基板１５上には、図１に示すように、液晶層ＬＣ
に面する側に、アルミニウムやモリブデン等の金属からなる走査線１３が図１のＸ軸方向
（行方向）に延在するように形成されている。走査線１３からはゲート電極Ｇが各サブ画
素１２ＲＡ、１２ＧＡ、１２ＢＡの左下に延在するように形成されている。
【００３３】
また、走査線１３とゲート電極Ｇを覆うようにして窒化ケイ素や酸化ケイ素等からなる
透明なゲート絶縁膜１６が積層されている。そして、平面視でゲート電極Ｇと重なるゲー
ト絶縁膜１６上には非晶質シリコンや多結晶シリコンなどからなる半導体層１７が形成さ
れている。ゲート絶縁膜１６上にはアルミニウムやモリブデン等の金属からなる複数の信
号線１４が、各サブ画素１２ＲＡ、１２ＧＡ、１２ＢＡの左側に図１のＹ軸方向（列方向
）に延在するように形成されている。この信号線１４からはソース電極Ｓが延在され、こ
のソース電極Ｓは半導体層１７の表面と部分的に接触している。
【００３４】
更に、信号線１４及びソース電極Ｓと同一の材料で同時に形成されたドレイン電極Ｄが
ゲート絶縁膜１６上に設けられており、このドレイン電極Ｄはソース電極Ｓと近接配置さ
れて半導体層１７と部分的に接触している。１画素は略正方形であるので、これを３等分
するサブ画素１２ＲＡ、１２ＧＡ、１２ＢＡは走査線１３側が短辺で信号線１４側が長辺
の長方形となる。ゲート電極Ｇ、ゲート絶縁膜１６、半導体層１７、ソース電極Ｓ、ドレ
イン電極Ｄによってスイッチング素子となるＴＦＴが構成され、それぞれのサブ画素１２
ＲＡ、１２ＧＡ、１２ＢＡにこのＴＦＴが形成されている。
【００３５】
さらに、信号線１４、薄膜トランジスターＴＦＴ及びゲート絶縁膜１６の露出部分を覆
うようにして例えば窒化ケイ素や酸化ケイ素等からなる透明なパッシベーション膜１８が
積層されている。そして、パッシベーション膜１８を覆うようにして、例えばフォトレジ
スト等の透明樹脂材料からなる層間樹脂膜１９が積層されている。そして、層間樹脂膜１
９を覆うようにしてＩＴＯ（Indium Thin Oxide）ないしＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）等
の透明導電性材料からなる下電極２０が形成されている。層間樹脂膜１９とパッシベーシ
ョン膜１８を貫通してドレイン電極Ｄに達するコンタクトホール２１が形成されており、
このコンタクトホール２１を介して下電極２０とドレイン電極Ｄとが電気的に接続されて
いる。そのため、下電極２０は画素電極として作動する。
【００３６】
下電極２０を覆うようにして、例えば窒化ケイ素や酸化ケイ素等からなる透明な電極間
絶縁膜２２が積層されている。そして、電極間絶縁膜２２を覆うようにしてＩＴＯないし
ＩＺＯ等の透明導電性材料からなる上電極２３が形成されている。本実施形態の液晶表示
パネル１０Ａでは、この上電極２３は、表示領域の周辺部でコモン配線に接続されており
（図示省略）、共通電極として作動する。
【００３７】
上電極２３には、図１に示すように、複数のスリット状開口２４が等間隔で平行に形成
されている。このスリット状開口２４はフォトリソグラフィー法によって上電極２３の表
面に塗布されたフォトレジスト材料を露光及び現像した後、エッチングすることによって
形成される。ＴＦＴと平面視で重畳する上電極２３上には、感光性及び絶縁性を有する樹
脂、例えば、アクリル樹脂からなる柱状スペーサー２５がフォトリソグラフィー法によっ
て形成されている。なお、この柱状スペーサーの幅は約８〜１０μｍ程度とされている。
そして、上電極２３及び柱状スペーサー２５を覆うように、例えばポリイミドからなる第
１配向膜２６が積層されている。第１配向膜２６には図１のＸ軸と平行（走査線１３と平
行）な方向にラビング処理が施されている。
【００３８】
ラビング処理は、微細な毛足を有するラビング布を回転させながら配向膜をこすること
により、一方向に沿った多数の微細な溝を第１配向膜２６に形成するものである。ラビン
グ処理の方向は、ここではスリット状開口２４の延在方向に対して所定角α傾斜するよう
にされている。このラビング処理によって、第１配向膜２６の表面に接している液晶層Ｌ
Ｃの液晶分子を液晶分子を一方向に配向させることができるようになる。αの最適値は、
種々の条件により異なるが、３度〜１５度が好ましく、ここでは５度とされている。
【００３９】
また、カラーフィルター基板ＣＦは、透明な絶縁性を有するガラスや石英、プラスチッ
ク等からなる第２透明基板２７を基体としている。第２透明基板２７の表面には、走査線
１３、信号線１４及びＴＦＴと平面視で重畳する位置に遮光性を有する樹脂又は金属材料
からなる遮光層２８が形成され、更に、サブ画素１２ＲＡ、１２ＧＡ、１２ＢＡ毎に異な
る色の光（たとえば、Ｒ、Ｇ、Ｂあるいは無色）を透過するカラーフィルター層２９が遮
光層２８によって被覆されていない領域に形成されている。
【００４０】
そして、遮光層２８及びカラーフィルター層２９を覆うようにして例えばフォトレジス
ト等の透明樹脂材料からなるオーバーコート層３０が積層されている。オーバーコート層
３０は異なる色のカラーフィルター層２９による段差を平坦にし、また、遮光層２８やカ
ラーフィルター層２９から流出する不純物が液晶層ＬＣに入らないように遮断するために
形成されているものである。そして、オーバーコート層３０を覆うようにして、例えばポ
リイミドからなる第２配向膜３１が形成されている。第２配向膜３１には第１配向膜２６
とは逆方向のラビング処理が施されている。このようにして形成されたアレイ基板ＡＲ及
びカラーフィルター基板ＣＦを互いに対向させ、両基板の周囲にシール材（図示省略）を
設けることにより両基板を貼り合せ、両基板間にホモジニアス配向の液晶を充填すること
により本実施形態に係る液晶表示パネル１０Ａが得られる。
【００４１】
上述の構成により、サブ画素１２ＲＡ、１２ＧＡ、１２ＢＡでは、ＴＦＴがＯＮ状態に
なると、下電極２０と上電極２３との間に電界が発生し、液晶層ＬＣの液晶分子の配向が
変化する。これにより、液晶層ＬＣの光透過率が変化してＦＦＳモードで画像を表示する
こととなる。また、下電極２０と上電極２３が電極間絶縁膜２２を挟んで対向する領域は
、補助容量を形成し、ＴＦＴがＯＦＦ状態になったときに下電極２０と上電極２３との間
の電界を所定時間保持する。
【００４２】
次に、第１実施形態の液晶表示パネル１０Ａにおける面積変調の態様と柱状スペーサー
２５との関係について説明する。赤色のサブ画素１２ＲＡ、緑色のサブ画素１２ＧＡ及び
青色のサブ画素１２ＢＡの下電極２０と上電極２３との間には、例えば８ビットの階調（
０階調〜２５５階調）に対応した電圧が印加され、それぞれ２５６階調の濃度で表示する
ことができる。設計上は、全てのサブ画素１２ＲＡ、１２ＧＡ、１２ＢＡが同時に同一の
階調となっていれば、白表示となる。
【００４３】
しかしながら、従来の液晶表示パネルでは、液晶表示パネル内の液晶分子の挙動の差異
やプロセス変動などにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの色度や輝度バランスが崩れて、全てのサブ画素
に同一階調の電圧が印加されても、完全な白色にならないことがある。また、樹脂層など
の透明な材料が完全な無色ではなく、例えば、黄色がかっていることがある。また、一般
的に、人間の眼は、青系統に対する視感度が最も低く、赤系統に対する視感度がそれに次
ぎ、緑系統の色の光に対して感度が高いという特徴がある。このため、第１実施形態の液
晶表示パネル１０Ａでは、緑色のサブ画素１２ＧＡに追加の遮光層２８ａＡ（図１参照）
部分を形成することによって、緑色のサブ画素１２ＧＡの開口率が赤色のサブ画素１２Ｒ
Ａ及び青色のサブ画素１２ＢＡの開口率よりも小さくなるようにして面積変調を行い、正
確に白色表示ができるようにされている。なお、図１においては、図面を見やすくするた
め、遮光層２８のうち、追加の遮光層２８ａＡ部分のみハッチングを付与してあり、その
他の部分の遮光層のハッチングは省略してある（以下、同様。）。
【００４４】
柱状スペーサー２５は、例えばアレイ基板ＡＲのＴＦＴと平面視で重畳する上電極２３
上に形成される。なお、柱状スペーサー２５は１画素（３サブ画素）毎に１個設けてもよ
く、複数画素毎に１個設けてもよい。柱状スペーサー２５が形成された後に第１配向膜２
６が形成され、第１配向膜２６は図１の右方向に向かってラビング処理される。柱状スペ
ーサー２５は突起であるから、ラビング処理時に柱状スペーサー２５と接触した部分のラ
ビング布は一旦窪む。しかしながら、このラビング布の窪んだ部分が元の状態に戻るまで
はある程度の時間が必要であり、また、ラビング布の窪んだ部分では正常にラビング処理
が行われない。
【００４５】
そのため、一旦窪んだラビング布が元の形状に戻るまでの間、柱状スペーサーを起点と
してラビング処理方向の下流側にラビング処理が正常に行われない領域３２が生じる。こ
のラビング処理が正常に行われない領域３２では液晶層ＬＣの液晶分子の配向が正常に行
われないため、透過率やコントラスト等の光学特性が低下する。このラビング処理が正常
に行われない領域３２の形状は、図２に示すように、柱状スペーサー２５をラビング処理
の方向へ所定の仰角βでもって投射したときの投影形状に類似しており、その幅は実質的
に柱状スペーサー２５を投影したときの幅Ｗ１に等しく、長さＬ１（それぞれ図１参照）
は短い場合には柱状スペーサー２５の幅の約８μｍ程度であり、長い場合には１００μｍ
程度となることがある。なお、１００μｍは約一画素分の幅であるから、第１実施形態の
液晶表示パネル１０Ａの表示領域全体に亘って生じる場合もある。なお、この所定の仰角
βは、ラビング布の回転径、回転速度、移動速度等によって変化するので、実験的に定め
ればよい。
【００４６】
ただし、ラビング処理時に柱状スペーサー２５と接触した部分のラビング布は一旦窪む
が、ラビング布が備えている弾性力のため、窪みの深さは、柱状スペーサー２５の中心側
と接触した部分が最も深く、柱状スペーサー２５の周辺側と接触した部分では浅くなって
いる。そのため、ラビング布が柱状スペーサー２５と接触した後は、柱状スペーサー２５
の周辺側と接触した部分は早く元の状態に戻るが、柱状スペーサー２５の中心側と接触し
た部分は元の状態に戻るまでより時間がかかる。そのため、ラビング処理が正常に行われ
ない領域３２の形状は、必ずしも長方形状となるわけではないが、幅が細いので、実質的
に長方形状と見なすことができる。
【００４７】
また、緑色は人の視感度が高いので、ホワイトバランス調整のために他の色のサブ画素
よりも開口率が小さくされるサブ画素は緑色のサブ画素であることが多い。しかしながら
、柱状スペーサー２５を緑色のサブ画素に配設することによってラビング処理が正常に行
われない領域３２が緑色のサブ画素領域に形成されると、このラビング処理が正常に行わ
れない領域３２に基づく透過率の低下は特に目立って感じられる。
【００４８】
そこで、第１実施形態の液晶表示パネル１０Ａでは、このラビング処理が正常に行われ
ない領域３２が緑色のサブ画素１２ＧＡの表示領域（開口部）側で視認できないようにす
るため、平面視でラビング処理が正常に行われない領域３２と重畳するように、追加の遮
光層２８ａＡ部分を遮光層２８の一部の幅を太くすることにより形成している。このよう
な構成とすることにより、面積変調を行うために必要とする遮光層２８の面積の増大領域
を追加の遮光層２８ａＡ部分に兼ねさせることができるようになる。そのため、第１実施
形態の液晶表示パネル１０Ａによれば、面積変調のための開口率低下用の遮光層とは別個
に柱状スペーサー２５によるラビング処理が正常に行われない領域３２に対応する追加の
遮光層を形成しなくてもすむため、緑色のサブ画素１２ＧＡの余分な透過率の低下を抑制
しながら、ホワイトバランスを適切に保って正確に白色表示ができるようになる。
【００４９】
［第２実施形態］
次に、第２実施形態の液晶表示パネル１０Ｂを、図４を用いて説明する。なお、図４は
第１実施形態の液晶表示パネル１０Ａにおける図１に対応する３サブ画素分の平面図であ
る。そこで、第２実施形態の液晶表示パネル１０Ｂにおいては、第１実施形態の液晶表示
パネル１０Ａと構成が同一の部分については同一の参照符号を付与し、添え字「Ａ」があ
る参照符号については添え字を「Ｂ」に変え、その詳細な説明は省略する。
【００５０】
第２実施形態の液晶表示パネル１０Ｂと第１実施形態の液晶表示パネル１０Ａとの間の
主要な構成の相違点は、上電極に形成されているスリット状開口２４の延在方向と形状及
びそれに伴うラビング方向の相違である。すなわち、第１実施形態の液晶表示パネル１０
Ａでは、スリット状開口２４の延在方向は、全て走査線１３に沿って横方向に所定角α傾
いて延在するものである。それに対し、第２実施形態の液晶表示パネル１０Ｂでは、１画
素１１Ｂを構成する各サブ画素１２ＲＢ、１２ＧＢ及び１２ＢＢのそれぞれの上電極２３
に形成されているスリット状開口２４の延在方向は、信号線１４に沿った縦長の形状であ
り、かつ、「く」字状に屈曲されている。そのため、ラビング処理の方向は、第１実施形
態の液晶表示パネル１０Ａでは走査線１３に平行な方向であるのに対し、第２実施形態の
液晶表示パネル１０Ｂでは信号線１４に平行な方向となっている。
【００５１】
ここで、第２実施形態の液晶表示パネル１０Ｂのスリット状開口２４について詳細に説
明する。サブ画素１２ＲＢ、１２ＧＢ、１２ＢＢは縦長であるため、第１実施形態の液晶
表示パネル１０Ａのようにスリット状開口２４を横方向に延在させると、スリット状開口
２４の両端の数が多くなる。このスリット状開口２４の端部は液晶分子の異常配向領域と
なって開口率の低下に繋がる。そこで、第２実施形態の液晶表示パネル１０Ｂでは、スリ
ット状開口２４の延在方向を縦方向にすることにより、スリット状開口２４の端部の数を
少なくし、開口率の低下を低減している。
【００５２】
また、第２実施形態の液晶表示パネル１０Ｂでは、スリット状開口２４を「く」字状と
したことにより、スリット状開口２４の延在方向はラビング処理の方向に対して＋５度及
び−５度傾斜している部分が存在する。全てのスリット状開口２４をラビング処理の方向
に対して時計方向あるいは反時計方向に傾くようにすると、液晶分子が一方向にねじれる
ため、視角方向によって色が変化する現象が現れる。これは、液晶分子を見る方向によっ
て見かけのリタデ−ションが変化するためである。第２の実施形態の液晶表示パネル１０
Ｂでは、スリット状開口２４の延在方向が時計方向に対して＋５度傾くドメインと−５度
傾くドメインを設けているため、視角方向によって色が変化する現象が互いに相殺されて
抑制されるようになる。
【００５３】
なお、第２実施形態の液晶表示パネル１０Ｂの柱状スペーサー２５は、第１実施形態の
液晶表示パネル１０Ａの場合と同様に、緑色のサブ画素１２ＧＢのアレイ基板ＡＲのＴＦ
Ｔと平面視で重畳する上電極２３上に形成されている。そして、第１配向膜（図示省略）
には、図４におけるＹ軸（信号線１４の延在方向）と平行な方向にラビング処理が施され
ている。そのため、第２実施形態の液晶表示パネル１０Ｂにおいては、ラビング処理が正
常に行われない領域３２は緑色のサブ画素１２ＧＢの信号線１４に沿って上方に向かって
発生する。
【００５４】
そこで、第２実施形態の液晶表示パネル１０Ｂでは、ラビング処理が正常に行われない
領域３２がサブ画素１２ＧＢの表示領域（開口部）側で視認できないようにするため、追
加の遮光層２８ａＢ部分を遮光層２８の一部の幅を太くすることにより形成している。こ
のような構成とすることにより、面積変調を行うために必要とする遮光層２８の面積の増
大領域を追加の遮光層２８ａＢ部分に兼ねさせることができるようになる。
【００５５】
［第３実施形態］
次に、第３実施形態の液晶表示パネル１０Ｃを、図５を用いて説明する。なお、図５は
第１実施形態の液晶表示パネル１０Ａにおける図１に対応する３サブ画素分の平面図であ
る。そこで、第３実施形態の液晶表示パネル１０Ｃにおいては、第１実施形態の液晶表示
パネル１０Ａと構成が同一の部分については同一の参照符号を付与し、添え字「Ａ」があ
る参照符号については添え字を「Ｃ」に変え、その詳細な説明は省略する。
【００５６】
第３実施形態の液晶表示パネル１０Ｃと第１実施形態の液晶表示パネル１０Ａとの間の
主要な構成の相違点は、上電極２３に形成されているスリット状開口２４の延在方向と形
状及びそれに伴うラビング方向の相違である。すなわち、第１実施形態の液晶表示パネル
１０Ａでは、スリット状開口２４の延在方向は、全て走査線１３に沿って横方向に所定角
α傾いて延在している。それに対し、第３実施形態の液晶表示パネル１０Ｃでは、１画素
１１Ｃを構成する各サブ画素１２ＲＣ、１２ＧＣ及び１２ＢＣのそれぞれの上電極２３に
形成されているスリット状開口２４の延在方向は、信号線１４に沿って縦方向に傾いて延
在しており、しかも、一部が「く」字状に屈曲されている。そのため、ラビング処理の方
向は、第１実施形態の液晶表示パネル１０Ａでは走査線１３に平行な方向であるのに対し
、第３実施形態の液晶表示パネル１０Ｃでは走査線１３に対して約７０度傾斜している。
【００５７】
更に、第３実施形態の液晶表示パネル１０Ｃでは、スリット状開口２４は延在方向がラ
ビング処理の方向に対して＋５度傾くドメインと−５度傾くドメインを設けている。この
ようにラビングの方向を傾斜させることにより、偏光サングラスを使用した状態で視認し
た際の輝度低下を低減したり、携帯電話等において表示部の向きの縦横変更した際にも正
常に視認できるようにすることができるようになる。
【００５８】
第３実施形態の液晶表示パネル１０Ｃの柱状スペーサー２５は、第１実施形態の液晶表
示パネル１０Ａの場合と同様に、緑色のサブ画素１２ＧＣにおけるアレイ基板ＡＲのＴＦ
Ｔと平面視で重畳する上電極２３上に形成されている。そして、第１配向膜２６には図５
の右上方に向かって走査線１３とは７０度傾斜する方向にラビング処理が施されているた
め、ラビング処理が正常に行われない領域３２は緑色のサブ画素１２ＧＣの右上方に向か
って発生する。そこで、第３実施形態の液晶表示パネル１０Ｃでは、追加の遮光層２８ａ
Ｃがラビング処理が正常に行われない領域３２の全域と重畳するように、平面視で柱状ス
ペーサー２５の形成位置から図５の右上方向に延在するように形成されている。この第３
実施形態の液晶表示パネル１０Ｃにおいても、面積変調を行うために必要とする遮光層２
８の面積の増大領域を追加の遮光層２８ａＣ部分に兼ねさせることができるようになる。
【００５９】
［第４実施形態］
第１実施形態〜第３実施形態の液晶表示パネル１０Ａ〜１０Ｃの柱状スペーサー２５は
円柱状であったが、本発明は円柱状以外の形状の柱状スペーサーにも適用することができ
る。このような円柱状以外の柱状スペーサーの例及びその柱状スペーサーを用いた第４実
施形態の液晶表示パネル１０Ｄの構成を図６Ａ〜図６Ｃを用いて説明する。なお、図６Ｃ
に示したように、第４実施形態の液晶表示パネル１０Ｄでは、１画素１１Ｄを構成する各
サブ画素１２ＲＤ、１２ＧＤ及び１２ＢＤのそれぞれの上電極２３に形成されているスリ
ット状開口２４の延在方向及び形状は、第３実施形態の液晶表示パネル１０Ｃの場合と同
様である。そこで、第４実施形態の液晶表示パネル１０Ｄにおいては、第３実施形態の液
晶表示パネル１０Ｃと構成が同一の部分については同一の参照符号を付与ないし一部の参
照符号を削除し、添え字「Ｃ」がある参照符号については添え字を「Ｄ」に変え、その詳
細な説明は省略する。
【００６０】
本発明の液晶表示パネルにおいては、柱状スペーサー２５の形状は、図６Ａに示すよう
に楕円柱状のもであってもよく、図６Ｂに示すように四角柱状のものであってもよい。こ
のように柱状スペーサー２５が円柱でないときは、図６Ａ及び図６Ｂに示すように、ラビ
ング処理の方向Ａ１〜Ａ３によってラビング処理が正常に行われない領域３２の幅及び面
積が変化する。したがって、ラビング処理が正常に行われない領域３２の幅及び面積が小
さくなるように柱状スペーサー２５の向きを設定することが好ましい。
【００６１】
例えば、図６Ｃに示すように柱状スペーサー２５の断面が長方形の角柱状であるときは
、ラビング処理の方向が長辺の方向になるようにすれば、ラビング処理が正常に行われな
い領域３２の幅Ｗ２が細くなり、また、柱状スペーサー２５によるラビング処理の抵抗も
小さくなるため、ラビング処理が正常に行われない領域３２の面積も小さくなる。このよ
うな構成とすると、面積変調を行うために必要とする遮光層２８の面積の増大領域を追加
の遮光層２８ａＤ部分に兼ねさせることができるようになるとともに、ラビング処理が正
常に行われない領域３２を完全に遮光することができるようになる。
【００６２】
なお、図６Ａ〜図６Ｃにおいては、軸方向（長さ方向）に直角な方向の断面が楕円形状
及び方形状のものを示したが、その他に三角形状のものも使用することができ、更に、軸
方向の断面は方形状のもの、すなわち太さが一様のものを示したが、台形状のもの、すな
わち太さが変化している錐体状のものも使用することができる。
【００６３】
［第５実施形態］
次に、第５実施形態の液晶表示パネル１０Ｅを図７を用いて説明する。なお、図７に示
したように、第５実施形態の液晶表示パネル１０Ｅでは、１画素１１Ｅを構成する各サブ
画素１２ＲＥ、１２ＧＥ及び１２ＢＥのそれぞれの上電極２３に形成されているスリット
状開口２４の延在方向は、第２実施形態の液晶表示パネル１０Ｂの場合と同様に、信号線
１４に沿った縦長の形状であり、かつ、「く」字状に屈曲されている。そこで、第５実施
形態の液晶表示パネル１０Ｅにおいては、第２実施形態の液晶表示パネル１０Ｂと構成が
同一の部分については同一の参照符号を付与ないし一部の参照符号を削除し、添え字「Ｂ
」がある参照符号については添え字を「Ｅ」に変え、その詳細な説明は省略する。
【００６４】
第１〜第４実施形態の液晶表示パネル１０Ａ〜１０Ｄの柱状スペーサー２５はいずれも
アレイ基板ＡＲのＴＦＴと平面視で重畳する上電極２３上に形成されているが、本発明は
他の位置に形成される柱状スペーサーに対しても適用することができる。例えば、図７に
示した第５実施形態の液晶表示パネル１０Ｅでは、柱状スペーサー２５は走査線１３と平
面視で重畳する上電極２３上に形成されている。
【００６５】
この第５実施形態の液晶表示パネル１０Ｅにおけるスリット状開口２４の延在方向は、
図４に示した第２実施形態の液晶表示パネル１０Ｂと同様であるので、ラビング方向は信
号線１４と平行な方向となっている。そのため、ラビング処理が正常に行われない領域３
２は、柱状スペーサーを起点として信号線１４と平行に形成される。そのため、このラビ
ング処理が正常に行われない領域３２を遮光するための追加の遮光層２８ａＥは、面積変
調に必要な面積を確保するため、ＴＦＴ側から走査線１３側だけでなく信号線１４側にも
延在するように形成されている。この第５実施形態の液晶表示パネル１０Ｅにおいても、
面積変調を行うために必要とする遮光層２８の面積の増大領域を追加の遮光層２８ａＥ部
分に兼ねさせることができるようになるとともに、ラビング処理が正常に行われない領域
３２を完全に遮光することができるようになる。
【００６６】
［第６実施形態］
次に、第６実施形態の液晶表示パネル１０Ｆを図８を用いて説明する。図８Ａは第６実
施形態の液晶表示パネル１０Ｆの２画素分の平面図であり、図８Ｂは図８ＡのVIIIＢ−VI
IIＢ線の断面図である。この第６実施形態の液晶表示パネル１０Ｆは、高さが異なる複数
種類の柱状スペーサーを備えている以外は、図４に示した第２実施形態の液晶表示パネル
１０Ｂと実質的に同様の構成となっている。そこで、第６実施形態の液晶表示パネル１０
Ｆにおいては、第２実施形態の液晶表示パネル１０Ｂと構成が同一の部分については同一
の参照符号を付与ないし一部の参照符号を削除し、添え字「Ｂ」がある参照符号について
は添え字を「Ｆ」に変え、その詳細な説明は省略する。
【００６７】
図８に示すように、第６実施形態の液晶表示パネル１０Ｆは、アレイ基板ＡＲに形成さ
れた柱状スペーサーとして、第２実施形態の液晶表示パネル１０Ｂの柱状スペーサー２５
と同様の構成である主柱状スペーサー２５ａの他に、主柱状スペーサー２５ａよりも高さ
がＨだけ低い副柱状スペーサー２５ｂを備えている。すなわち、副柱状スペーサー２５ｂ
は、主柱状スペーサー２５ａと同一工程で、緑色のサブ画素１２ＧＦのアレイ基板ＡＲの
ＴＦＴと平面視で重畳する上電極２３上に形成されている。副柱状スペーサー２５ｂも、
柱状スペーサー２５と同様に、第１配向膜２６で覆われている。そして、副柱状スペーサ
ー２５ｂの高さは柱状スペーサー２５の高さよりも所定の高さＨだけ低く形成されている
。したがって、主柱状スペーサー２５ａの表面に形成された第１配向膜２６はカラーフィ
ルター基板ＣＦの第２配向膜３１と当接しているが、副柱状スペーサー２５ｂの先端に成
膜された第１配向膜２６はカラーフィルター基板ＣＦの第２配向膜３１と当接していない
。
【００６８】
このような構成の２段式柱状スペーサーでは、所定以上の大きな外力が加わったときに
は、カラーフィルター基板ＣＦが変形してカラーフィルター基板ＣＦと副柱状スペーサー
２５ｂとが互いに接触するので、カラーフィルター基板ＣＦのそれ以上の変形を抑制止す
ることができる。また、外力が取り除かれたときには、副柱状スペーサー２５ｂはカラー
フィルター基板ＣＦとは離間しており、しかも、カラーフィルター基板ＣＦ面に平行な外
力に対しての摩擦が少ないので、外力から開放されときのずれが戻りやすい。
【００６９】
図８に示すように、副柱状スペーサー２５ｂに基づくラビング処理が正常に行われない
領域３２ｂの長さＬ２は主柱状スペーサー２５ａのラビング処理が正常に行われない領域
３２ａの長さＬ１よりも短くなっている。副柱状スペーサー２５ｂのラビング処理が正常
に行われない領域３２ｂに対しても、主柱状スペーサー２５ａの追加の遮光層２８ａＦａ
と同様に追加の遮光層２８ａＦｂが遮光層２８を延在することによって形成されている。
主柱状スペーサー２５ａ及び副柱状スペーサー２５ｂの数が多い２段式柱状スペーサーの
液晶表示パネル１０Ｆは、複数画素毎に１個ずつ柱状スペーサーを設ける場合よりもラビ
ング処理が正常に行われない領域の数が多くなるが、大きな外力が加わってもカラーフィ
ルター基板ＣＦの大きな変形を抑制することができるようになる。しかも、この第６実施
形態の液晶表示パネル１０Ｆにおいても、面積変調を行うために必要とする遮光層２８の
面積の増大領域を追加の遮光層２８ａＦａ及び２８ａＦｂ部分に兼ねさせることができる
ようになるとともに、ラビング処理が正常に行われない領域３２ａ及び３２ｂを完全に遮
光することができるようになる。
【００７０】
上述した第１実施形態〜第６実施形態の液晶表示パネル１０Ａ〜１０Ｆに示されるよう
に、ラビング処理の方向によってラビング処理が正常に行われない領域３２、３２ａ及び
３２ｂの形成位置が変化するので、追加の遮光層２８ａＡ〜２８ａＥ、２８ａＦａ及び２
８ａＦｂはそれぞれラビング処理の方向に対応して形成される。なお、ＥＣＢモードの液
晶表示パネルの場合は、ラビング処理の方向は偏光板の偏光方向に対して４５度に設定さ
れるので、第３実施形態の液晶表示パネル１０Ｃの場合と同様に、ラビング処理が正常に
行われない領域は走査線に対して傾斜した方向に発生する。
【００７１】
なお、上述した各実施形態で形成した追加の遮光層は、カラーフィルター基板ＣＦに形
成されている遮光層２８を延在することにより形成した例を示したが、これに限らず、追
加の遮光層を遮光層２８とは分断されている孤立した遮光層として形成してもよい。また
、上述の液晶表示パネルとしては何れもＦＦＳモードで作動するものを示したが、ＴＮモ
ード、ＩＰＳモード、ＥＣＢモードなど、他のラビング処理工程が用いられる液晶表示パ
ネルにも適用することができる。また、上記各実施形態では柱状スペーサー２５をアレイ
基板ＡＲ側に形成した例を示したが、カラーフィルター基板ＣＦ側に形成した場合におい
ても同様に適用可能である。
【符号の説明】
【００７２】
１０Ａ〜１０Ｆ…液晶表示パネル  １１Ａ〜１１…１画素  １２ＲＡ〜１２ＲＦ：（赤
の）サブ画素  １２ＧＡ〜１２ＧＦ：（緑の）サブ画素  １２ＢＡ〜１２ＢＦ：（青の）
サブ画素  １３…走査線  １４…信号線  １５…透明基板  １６…ゲート絶縁膜  １７…
半導体層  １８…パッシベーション膜  １９…層間樹脂膜  ２０…下電極  ２１…コンタ
クトホール  ２２…電極間絶縁膜  ２３…上電極  ２４…スリット状開口  ２５…柱状ス
ペーサー  ２５ａ…主柱状スペーサー  ２５ｂ…副柱状スペーサー  ２６…配向膜  ２７
…透明基板  ２８…遮光層  ２８ａＡ〜２８ａＥ、２８ａＦａ、２８ａＦｂ：追加の遮光
層  ２９…カラーフィルター層  ３０…オーバーコート層  ３１…配向膜  ３２、３２ａ
、３２ｂ…ラビング処理が正常に行われない領域  ＡＲ…アレイ基板  ＣＦ…カラーフィ
ルター基板  Ｄ…ドレイン電極  Ｇ…ゲート電極  ＬＣ…液晶層  Ｓ…ソース電極  ＴＦ
Ｔ…薄膜トランジスター
【図１】
0005433333.tif 000002
【図２】
0005433333.tif 000003
【図３】
0005433333.tif 000004
【図４】
0005433333.tif 000005
【図５】
0005433333.tif 000006
【図６】
0005433333.tif 000007
【図７】
0005433333.tif 000008
【図８】
0005433333.tif 000009