(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
厚み方向に貫通する複数の収容孔それぞれにウエハを収容した搬送可能なトレイを供給及び回収するためのストック部と、
前記ストック部から供給される前記トレイに収容された前記ウエハに対してプラズマ処理を実行する処理部と、
前記プラズマ処理前の前記トレイが載置される回転テーブルと、
前記回転テーブルを回転させることにより前記回転テーブル上の前記トレイの回転方向の位置決めを行う回転方向位置決め部と、
前記回転テーブルに載置された前記トレイの各収容孔内に前記ウエハが存在するか否かの検出を行うウエハ有無検出部と、
前記トレイを前記ストック部から取り出して前記回転テーブル、前記処理部の順で搬送する搬送機構と
を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
前記ウエハ有無検出部が前記回転テーブルに載置された前記トレイのいずれかの前記収容孔に前記収容されていないことを検出すると、前記搬送機構により前記回転テーブル上の前記トレイを前記処理部に搬送することなく前記ストック部に戻す搬送制御部をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記ウエハ有無検出部は、
前記回転テーブル上の前記トレイの前記収容孔に収容された前記ウエハを検出するための光学式センサと、
前記光学式センサからの信号に基づいて、前記トレイが備える前記収容孔に前記ウエハが存在するか否かを判定する判定部とを備えたことを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記光学式センサは、
前記トレイに向けて検査光を投光する投光器と、
前記トレイの前記収容孔に前記ウエハが収容されていれば前記検査光が遮られて受光されないが、前記トレイの前記収容孔に前記ウエハが収容されていなければ前記検査光が受光される位置に配置された受光器と
を備えたことを特徴とする、請求項３に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記ウエハ有無検出部は、
前記回転テーブル上の前記トレイの前記収容孔を上方から撮像する撮像部と、
前記撮像部により得られた画像に基づいて、前記トレイの前記収容孔に前記ウエハが存在するか否かを判定する判定部とを備えたことを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記ウエハ有無検出部は、前記回転テーブルによる前記トレイの回転中に、前記トレイが備える各収容孔内に前記ウエハが存在するか否かの検出を行うことを特徴とする、請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
前記回転テーブルに対するトレイの中心位置合わせを行うセンタリング機構をさらに備えることを特徴とする、請求項６に記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
前記ウエハ有無検出部が前記トレイのいずれかの前記収容孔に前記ウエハが収容されていないことを検出すると警報を発生する警報発生部をさらに備える、請求項１から請求項７のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項９】
厚み方向に貫通する複数の収容孔それぞれにウエハを収容したトレイを、ストック部から取り出して回転テーブルに載置し、
前記回転テーブルを回転させて前記回転テーブル上の前記トレイの回転方向の位置決めを行い、
前記回転テーブルに載置された前記トレイの各収容孔内に前記ウエハが存在するか否かの検出を行い、
前記回転テーブル上の前記トレイのすべての前記収容孔内に前記ウエハが存在していれば、前記トレイを前記回転テーブルから処理部に搬送して前記ウエハのプラズマ処理を実行し、
前記回転テーブル上の前記トレイのいずれかの前記収容孔に前記ウエハが存在していなければ前記プラズマ処理を実行しないことを特徴とする、プラズマ処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ドライエッチング装置やＣＶＤ装置等のプラズマ処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
プラズマ処理装置では、チャンバ内に設けられたサセプタと呼ばれる支持台に処理対象物としてのウエハを支持させる。次に、密閉状態にしたチャンバ内に高周波電圧を印加するとともにプラズマ発生用のガスを供給してチャンバ内にプラズマを発生させる。ウエハをプラズマに曝露することによってウエハにドライエッチング等のプラズマ処理を施す。
【０００３】
このようなプラズマ処理装置では、複数のウエハを一括して支持台に支持させるため、複数のウエハを収容できるトレイが用いられる（例えば特許文献１）。トレイはウエハよりもやや大きい直径を有する複数の収容孔を備える。各収容孔の内周部の下縁から収容孔の内方に張り出すように張り出し部が設けられている。張り出し部はウエハの下面の外縁を下方から支持してウエハを収容孔の内部に収容する。支持台はトレイが載置されるトレイ載置部及びトレイ載置部から上方に突出して設けられた複数のウエハ支持部を備える。トレイが支持台のトレイ載置部に載置されると、各ウエハ支持部がトレイの各収容孔内に下方から入り込み、各ウエハを張り出し部から持ち上げて支持する。支持台のウエハ支持部に支持された各ウエハは、各ウエハ支持部内に設けられた静電吸着装置によって静電吸着され、支持台の内部に設けられた冷却ガス供給管路より供給される冷却ガス（例えばヘリウムガス）によって各ウエハの冷却がなされる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−１４７３７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記のように、厚み方向に貫通する収容孔を有するトレイによって複数のウエハを一括して支持台に支持させる構成の従来のプラズマ処理装置では個々の収容孔に実際にウエハが収容されているか否かが重要である。すなわち、トレイが備える複数の収容孔のうちウエハが存在しない（ウエハが収容されていない）収容孔がある場合、そのウエハが存在しない収容孔に対応するウエハ支持部は直接プラズマに晒されてしまう。ウエハ支持部がプラズマに晒されると、そのウエハ支持部のみならずプラズマ処理装置全体が故障に至るおそれがある。
【０００６】
そこで本発明は、ウエハが存在しないトレイの収容孔から支持台のウエハ支持部が直接プラズマに晒されることを防止することができるプラズマ処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１の態様は、厚み方向に貫通する複数の収容孔それぞれにウエハを収容した搬送可能なトレイを供給及び回収するためのストック部と、前記ストック部から供給される前記トレイに収容された前記ウエハに対してプラズマ処理を実行する処理部と、前記プラズマ処理前の前記トレイが載置される回転テーブルと、前記回転テーブルを回転させることにより前記回転テーブル上の前記トレイの回転方向の位置決めを行う回転方向位置決め部と、前記回転テーブルに載置された前記トレイの各収容孔内に前記ウエハが存在するか否かの検出を行うウエハ有無検出部と、前記トレイを前記ストック部から取り出して前記回転テーブル、前記処理部の順で搬送する搬送機構とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置を提供する。
【０００８】
具体的には、プラズマ処理装置は、前記ウエハ有無検出部が前記回転テーブルに載置された前記トレイのいずれかの前記収容孔に前記収容されていないことを検出すると、前記搬送機構により前記回転テーブル上の前記トレイを前記処理部に搬送することなく前記ストック部に戻す搬送制御部をさらに備える。
【０００９】
処理部でのプラズマ処理前に、トレイは回転テーブルに載置される。回転テーブル上のトレイに対し、ウエハ有無検出部が各収容孔内にウエハが存在するか否かの検出を行う。その結果、トレイが備える複数の収容孔のうちウエハが存在しない収容孔がある場合にはそのトレイを処理部でのプラズマ処理に供しないようにすることができる。
【００１０】
具体的には、前記ウエハ有無検出部は、前記回転テーブル上の前記トレイの前記収容孔に収容された前記ウエハを検出するための光学式センサと、前記光学式センサからの信号に基づいて、前記トレイが備える前記収容孔に前記ウエハが存在するか否かを判定する判定部とを備える。
【００１１】
好ましくは、前記光学式センサは、前記トレイに向けて検査光を投光する投光器と、前記トレイの前記収容孔に前記ウエハが収容されていれば前記検査光が遮られて受光されないが、前記トレイの前記収容孔に前記ウエハが収容されていなければ前記検査光が受光される位置に配置された受光器とを備える。
【００１２】
この構成によれば、投光器からの検査光を受光器が受光するか否か、すなわちウエハで検査光が遮られるか否かによって収容孔内のウエハの有無を判定するので、判定部は収容孔内のウエハの有無を正確に判定できる。
【００１３】
代案としては、前記ウエハ有無検出部は、前記回転テーブル上の前記トレイの前記収容孔を上方から撮像する撮像部と、前記撮像部により得られた画像に基づいて、前記トレイの前記収容孔に前記ウエハが存在するか否かを判定する判定部とを備える。
【００１４】
前記ウエハ有無検出部は、前記回転テーブルによる前記トレイの回転中に、前記トレイが備える各収容孔内に前記ウエハが存在するか否かの検出を行ってもよい。この構成によれば、トレイの回転方向の位置決め中に各収容孔内にウエハが存在するか否かを検出できるので、処理に要する時間を短縮し、プラズマ処理装置全体でのタクト向上に貢献できる。
【００１５】
この構成により、ウエハ有無検出部が備える検査光の投光方向が固定された１個の光学式センサ又は視野が固定された１個の撮像部により、複数の収容孔についてウエハ有無の検出が可能となる。
【００１６】
前記回転テーブルに対するトレイの中心位置合わせを行うセンタリング機構をさらに備えてもよい。
【００１７】
【００１８】
プラズマ処理装置は、前記ウエハ有無検出部が前記トレイのいずれかの前記収容孔に前記ウエハが収容されていないことを検出すると警報を発生する警報発生部をさらに備えてもよい。
【００１９】
本発明の第２の態様は、厚み方向に貫通する複数の収容孔それぞれにウエハを収容したトレイを、ストック部から取り出して回転テーブルに載置し、前記回転テーブルを回転させて前記回転テーブル上の前記トレイの回転方向の位置決めを行い、前記回転テーブルに載置された前記トレイの各収容孔内に前記ウエハが存在するか否かの検出を行い、前記回転テーブル上の前記トレイのすべての前記収容孔内に前記ウエハが存在していれば、前記トレイを前記回転テーブルから処理部に搬送して前記ウエハのプラズマ処理を実行し、前記回転テーブル上の前記トレイのいずれかの前記収容孔に前記ウエハが存在していなければ前記プラズマ処理を実行しないことを特徴とする、プラズマ処理方法を提供する。
【発明の効果】
【００２０】
本発明では、処理部でウエハに対するプラズマ処理が実行される前のトレイの位置決め段階で、トレイが備える各収容孔内にウエハが存在するか否かの検出を行うようになっており、その結果、トレイが備える複数の収容孔のうちウエハが存在しない収容孔があった場合にはそのトレイを処理部に搬送せずにストック部に戻すことができるため、ウエハが存在しないトレイの収容孔から処理部のウエハ支持部が直接プラズマに晒されてそのウエハ支持部のみならずプラズマ処理装置全体が故障に至ることを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置の斜視図。
【図２】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置の断面平面図。
【図３】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置の断面側面図。
【図４】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置の断面側面図。
【図５Ａ】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置が備えるトレイの斜視図。
【図５Ｂ】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置が備えるトレイの側断面図。
【図６】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置の動作系統を示すブロック図。
【図７】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置が備えるアライメント室の断面斜視図。
【図８】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置が備えるアライメント室内のセンタリング機構の動作説明図。
【図９】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置が備えるアライメント室内のノッチ検出センサ及びウエハ有無検出センサとトレイの位置関係を示す図。
【図１０Ａ】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置が備える処理室内のサセプタの斜視図。
【図１０Ｂ】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置が備える処理室内のサセプタの側断面図。
【図１１Ａ】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置が備える処理室内のサセプタにトレイを載置する手順を示す図。
【図１１Ｂ】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置が備える処理室内のサセプタにトレイを載置する手順を示す図。
【図１１Ｃ】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置が備える処理室内のサセプタにトレイを載置する手順を示す図。
【図１２Ａ】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置が備える処理室内のサセプタにトレイを載置する手順を示す図。
【図１２Ｂ】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置が備える処理室内のサセプタにトレイを載置する手順を示す図。
【図１２Ｃ】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置が備える処理室内のサセプタにトレイを載置する手順を示す図。
【図１３】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置の側断面図。
【図１４】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置のアライメント室内での作業手順を示すフローチャート。
【図１５Ａ】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置の斜視図。
【図１５Ｂ】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置の側断面図。
【図１５Ｃ】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置の側断面図。
【図１５Ｄ】本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置の側断面図。
【図１６】本発明の変形例におけるプラズマ処理装置の側断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１〜図４において、本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置１は処理対象物に対してプラズマ処理（例えばドライエッチング）を施すものであり、ストック部２、搬送室（搬送部）３、アライメント室（アライメント部）４、処理室（処理部）５及び制御装置６（図１及び図３）を備える。ここで、図３は図２における矢視Ａ−Ａ断面図、図４は図２における矢視Ｂ−Ｂ断面図である。
【００２３】
このプラズマ処理装置１では、処理対象物としてのウエハＷを複数枚同時に処理することができるように、図５Ａ及び図５Ｂに示すような搬送可能なトレイ７が用いられる。このトレイ７は薄板円盤状の部材であり、セラミックス材料等の電気絶縁性材料から形成されている。トレイ７には厚さ方向に貫通して設けられてウエハＷよりもやや大きい直径を有する複数（ここでは７つ）の円形の収容孔７ａが設けられている。各収容孔７ａの内周部の下縁部には、その収容孔７ａの内方に張り出したリング状の張り出し部７ｂが設けられている。張り出し部７ｂは収容孔７ａ内に収容されたウエハＷの下面の外縁を支持する。ウエハＷの外縁が張り出し部７ｂによって下方から支持されて収容孔７ａの内部に収容された状態では、ウエハＷの下面は収容孔７ａから下方に露出した状態となる（図５Ｂ）。
【００２４】
この実施の形態におけるトレイ７は、図５Ａに示すように、トレイ７の中心位置に配置された１つの収容孔７ａに１枚のウエハＷを収容する。また、トレイ７の中心位置を中心とする仮想円ＣＬ上に中心が等間隔で並ぶように配置された６つの収容孔７ａに６枚のウエハＷを収容できるようになっている。
【００２５】
図１、図２及び図３において、本実施の形態におけるプラズマ処理装置１のストック部２は、その内部に複数のトレイ７（各トレイ７が備える複数の収容孔７ａのそれぞれにはウエハＷが収容されている）を取り出し及び格納可能に収容したカセット２１を備えている。カセット２１には、ストック部２に設けられた開閉扉２２を介して外部からアクセスすることができる。
【００２６】
図２、図３及び図４において、搬送室３はストック部２に隣接して設けられており、内部にトレイ７を搬送するための搬送機構３０が収容されている。搬送機構３０は搬送アーム３１を備えている。この搬送アーム３１は２つの平行な突起部３１ａを有して平面視において「Ｕ」字の形状をなし、上下軸回りに回転自在な回転軸３２の上部に設けられた水平移動機構３３に取り付けられている。
【００２７】
図２、図３及び図４において、水平移動機構３３は回転軸３２の上端部に固定されて水平面内の方向に延びたベースステージ３３ａと、ベースステージ３３ａに対してベースステージ３３ａの延びる方向に移動自在に設けられた下段ステージ３３ｂと、下段ステージ３３ｂに対してベースステージ３３ａの延びる方向に移動自在に設けられた上段ステージ３３ｃを備える。搬送アーム３１は２つの突起部３１ａの延びる方向をベースステージ３３ａの延びる方向と一致させた状態で上段ステージ３３ｃに取り付けられている。
【００２８】
搬送アーム３１は回転軸３２が回転することによって水平面内で回転し、水平移動機構３３の下段ステージ３３ｂがベースステージ３３ａに対して水平面内で移動するのと連動して上段ステージ３３ｃが下段ステージ３３ｂに対して水平面内で移動することによって水平面内で移動する。
【００２９】
搬送アーム３１の水平面内での回転動作（回転軸３２の回転動作）は、制御装置６が回転軸駆動モータ３２ａ（図３、図４及び図６）の作動制御を行うことによってなされる。また、搬送アーム３１の水平面内での移動動作（ベースステージ３３ａに対する下段ステージ３３ｂの水平面内方向への移動動作及び上段ステージ３３ｃの下段ステージ３３ｂに対する水平面内方向への移動動作）は、制御装置６が水平移動機構３３の内部に設けられた水平移動機構駆動部３３ｄ（図６）の作動制御を行うことによってなされる。制御装置６は、このように搬送アーム３１を水平面内で回転させ、また水平面内で移動させることによって、ストック部２内のトレイ７のアライメント室４への搬送、アライメント室４内のトレイ７の処理室５への搬送、処理室５内のトレイ７のアライメント室４への搬送、及びアライメント室４内のトレイ７のストック部２への搬送を行う。
【００３０】
図２及び図４において、アライメント室４は搬送室３に隣接して設けられている。図７にも示すように、アライメント室４は、内部に回転テーブル４１、センタリング機構４２、透過型の光学式センサ（投光器が投光する検査光を受光器が直接受光する形態の光学式センサ）であるノッチ検出センサ４３、同じく透過型の光学式センサである２つのウエハ有無検出センサ４４Ａ，４４Ｂ、及びトレイ仮置きテーブル４５を備えている。
【００３１】
図４及び図７において、回転テーブル４１は、アライメント室４の底板部４ａに対して水平面内で回転自在に設けられており、搬送室３内の搬送アーム３１によってストック部２から供給されたトレイ７（このトレイ７の各収容孔７ａにはウエハＷが収容されている）が載置される。
【００３２】
回転テーブル４１は、底板部４ａの下方に設けられた回転テーブル駆動モータ４６（図４及び図６）の作動によって回転し、これにより回転テーブル４１上のトレイ７が水平面内で回転する。
【００３３】
センタリング機構４２は、図２、図７及び図８に示すように、アライメント室４の底板部４ａ上に設けられて水平面内の同一軸上を同期して近接又は離間するように設けられた一対の縦方向部材４２ａと、各縦方向部材４２ａに一端側が固定されて縦方向部材４２ａと直交する水平面内方向に延びた一対の横方向部材４２ｂとを備える。各横方向部材４２ｂに２つずつ立設して計４つの当接部材４２ｃが設けられている。一対の縦方向部材４２ａが互いに近接又は離間すると、これに応じて一対の横方向部材４２ｂが互いに近接又は離間するようになっている。ここで、一対の縦方向部材４２ａの近接又は離間動作（すなわち一対の横方向部材４２ｂの近接又は離間動作）は、制御装置６が一対の縦方向部材４２ａの間に設けられたセンタリング機構駆動部４２ｄの作動制御を行うことによってなされる。
【００３４】
制御装置６は、搬送室３内の搬送アーム３１を水平面内で移動させ、搬送アーム３１によってトレイ７を回転テーブル４１に載置させる。その後、制御装置６は、センタリング機構駆動部４２ｄの作動制御を行って一対の縦方向部材４２ａを（したがって一対の横方向部材４２ｂを）互いに近接するように作動させ（図８中に示す矢印Ａ）、一対の横方向部材４２ｂに立設された計４つの当接部材４２ｃをトレイ７の外縁に当接させてトレイ７を挟み込む（図８中の実線で示す当接部材４２ｃ参照）。これにより回転テーブル４１上のトレイ７は、トレイ７の中心位置ｃｔ（図８）が回転テーブル４１の中心位置ＣＴ（図８）と一致する位置に移動して、回転テーブル４１に対する中心位置合わせ（センタリング）がなされる。
【００３５】
制御装置６は、トレイ７のセンタリングを行った後は、センタリング機構駆動部４２ｄの作動制御を行って、一対の縦方向部材４２ａを（したがって一対の横方向部材４２ｂを）互いに離間するように作動させる。これにより、４つの当接部材４２ｃがトレイ７から離れ、トレイ７が回転テーブル４１の回転作動により回転し得るようにする。なお、本実施の形態では、図８に示すように、センタリング機構４２によってトレイ７がセンタリングされた状態では、回転テーブル４１の外縁はトレイ７の仮想円ＣＬの内部領域に収まるようになっている。
【００３６】
図７及び図９において、ノッチ検出センサ４３は、アライメント室４の天井部４ｂ（図
４及び図７）に設けられて検査光Ｌ１を下方に投光する投光器ＨＳ１と、投光器ＨＳ１の直下であって底板部４ａ上に設けられた受光器ＪＳ１とを備える。本実施の形態では、アライメント室４の天井部４ｂはアクリル板等の透明な部材から成っており、ノッチ検出センサ４３は天井部４ｂの上面側に設けられて投光器ＨＳ１から投光される検査光Ｌ１は天井部４ｂを透過して下方に照射されるようになっている。しかし、ノッチ検出センサ４３の投光器ＨＳ１は天井部４ｂの下面側に設けられていてもよい（２つのウエハ有無検出センサ４４Ａ，４４Ｂについても同じ）。
【００３７】
図９において、ノッチ検出センサ４３の投光器ＨＳ１は、センタリング機構４２によってセンタリングがなされたトレイ７が回転テーブル４１により回転されたときに、投光器ＨＳ１が投光する検査光Ｌ１がトレイ７の外縁の一部を切り欠いて形成されたノッチ７ｃを上下方向に通過し得る位置に配置されている。ノッチ検出センサ４３の受光器ＪＳ１は、投光器ＨＳ１が投光した検査光Ｌ１がノッチ７ｃを上下方向に通過したときにその検査光Ｌ１を受光し得る位置に配置されている。
【００３８】
ノッチ検出センサ４３は、トレイ７が載置された回転テーブル４１が回転されている状態で（図９中に示す矢印Ｂ）、投光器ＨＳ１から検査光Ｌ１を投光しつつ、受光器ＪＳ１による検査光Ｌ１の受光状態を観察することによって、トレイ７のノッチ７ｃの位置を検出することができる。制御装置６のアライメント処理部６ａ（図６）は、ノッチ検出センサ４３によりノッチ７ｃの位置が検出されたトレイ７の回転角度（回転テーブル４１の回転軸回りの回転角度）を０度（原点位置）であると認識する。なお、このノッチ７ｃの検出における回転テーブル４１の回転動作は、制御装置６のアライメント処理部６ａが回転テーブル駆動モータ４６の作動制御を行うことによってなされる。
【００３９】
図７及び図９において、アライメント室４に備えられた２つのウエハ有無検出センサ４４Ａ，４４Ｂはそれぞれ、アライメント室４の天井部４ｂに設けられて検査光Ｌ２を下方に投光する投光器ＨＳ２と、投光器ＨＳ２の直下であって、回転テーブル４１の上面（トレイ７の載置面）又は底板部４ａ上に設けられた受光器ＪＳ２とを備える。
【００４０】
各ウエハ有無検出センサ４４Ａ，４４Ｂの投光器ＨＳ２は、センタリング機構４２によってセンタリングがなされたトレイ７が備える収容孔７ａに収容されたウエハＷに検査光Ｌ２を照射し得る位置に設けられている。制御装置６のウエハ有無判定部６ｂ（図６）は、検査光Ｌ２がトレイ７の収容孔７ａを通過して受光器ＪＳ２が検査光Ｌ２を受光した場合（図９）には、ウエハＷが存在するか否かの検出（ウエハ有無検出）の対象となっているトレイ７の収容孔７ａにウエハＷが存在しない（ウエハＷが収容されていない）と判断する。また、ウエハ有無判定部６ｂは、検査光Ｌ２が収容孔７ａ内のウエハＷの上面で反射して受光器ＪＳ２が検査光Ｌ２を受光しなかった場合には、ウエハ有無検出の対象となっているトレイ７の収容孔７ａにウエハＷが存在する（ウエハＷが収容されている）と判断する。すなわち本実施の形態におけるプラズマ処理装置１が備える２つのウエハ有無検出センサ４４Ａ，４４Ｂは、回転テーブル４１に支持されたトレイ７が収容するウエハＷに向けて照射した検査光Ｌ２が検出されるか否かに基づいてウエハ有無検出を行うようになっている。ウエハ有無検出センサ４４Ａ，４４Ｂとウエハ有無判定部６ｂは、本発明におけるウエハ有無検出部を構成する。
【００４１】
本実施の形態では、前述のように、トレイ７はその中心位置に配置された１つの収容孔７ａに１枚のウエハＷを収容するとともに、トレイ７の中心位置を中心とする仮想円ＣＬ上（周辺位置）に中心が等間隔で並ぶように配置された６つの収容孔７ａに６枚のウエハＷを収容するようになっている。この配置に対応して２つのウエハ有無検出センサ、すなわち、回転テーブル４１の中心位置に配置された１つの収容孔７ａについてのウエハ有無検出を行う第１のウエハ有無検出センサ４４Ａと、周辺位置に配置された６つの収容孔７ａについてのウエハ有無検出を行う第２のウエハ有無検出センサ４４Ｂとがある。
【００４２】
ここで、第１のウエハ有無検出センサ４４Ａは、図９に示すように、回転テーブル４１の中心位置のほぼ直上に設けられた投光器ＨＳ２と、回転テーブル４１上の投光器ＨＳ２の直下の位置（したがって回転テーブル４１の中心位置）に埋設された受光器ＪＳ２とを備える。また、第２のウエハ有無検出センサ４４Ｂは、回転テーブル４１の外縁の外側であって、トレイ７の周辺位置に配置された６つの収容孔７ａに内接する仮想円ＳＳ（図８）よりも内側の領域内の任意の位置（例えば仮想円ＣＬ上の任意の位置）の直上に設けられた投光器ＨＳ２と、この投光器ＨＳ２の直下の底板部４ａ上に設けられた受光器ＪＳ２とを備える。ここで、図７に示すように、トレイ仮置きテーブル４５には、各ウエハ有無検出センサ４４Ａ，４４Ｂの投光器ＨＳ２が照射する検査光Ｌ２がトレイ仮置きテーブル４５によって遮られないようにするため、トレイ仮置きテーブル４５の各所には、その厚さ方向に貫通した透孔４５ａが設けられている。
【００４３】
トレイ７の周辺位置の６つの収容孔７ａについてのウエハ有無検出を行う第２のウエハ有無検出センサ４４Ｂは１つである。しかし、センタリングを行った後のトレイ７を回転テーブル４１により回転させることにより、１つの第２のウエハ有無検出センサ４４Ｂによってトレイ７の周辺位置の６つの収容孔７ａについてウエハ有無検出を行うことができる。なお、この回転テーブル４１の回転制御は、制御装置６のウエハ有無判定部６ｂが、回転テーブル駆動モータ４６の作動制御を行うことによってなされる。
【００４４】
また、１つの第２のウエハ有無検出センサ４４Ｂによるトレイ７の周辺位置の６つの収容孔７ａについてウエハ有無検出は、後述するようにノッチ検出センサ４３による７ｃのために回転テーブル４１によりトレイ７を回転させる際に実行される。つまり、ウエハ有無検出はトレイ７の回転角度位置の位置決めのためのノッチ検出と並行して行われる。そのため、アライメント室４での処理に要する時間を短縮し、プラズマ処理装置１全体でのタクト向上に貢献できる。
【００４５】
さらに、本実施の形態におけるプラズマ処理装置１では、上記のように、第２のウエハ有無検出センサ４４Ｂが、回転テーブル４１の外縁の外側であって、トレイ７の周辺位置に配置された６つの収容孔７ａに内接する仮想円ＳＳよりも内側の領域内に検査光Ｌ２を照射するようにすることにより、検出の対象となっているトレイ７の収容孔７ａにウエハＷが存在しない場合であっても、検査光Ｌ２が回転テーブル４１によって反射されることはない。そのため、ウエハＷが存在しない収容孔７ａについて、ウエハＷが存在すると制御装置６のウエハ有無判定部６ｂが誤認することを避けることができる。
【００４６】
図２及び図３において、処理室５は搬送室３とゲートバルブ８を介して繋がっており、ゲートバルブ８を閉じた状態では処理室５は搬送室３とは独立した真空容器として機能する。処理室５は、内部にウエハＷをトレイ７ごと支持する支持台としてのサセプタ５１を備えるとともに、サセプタ５１によって支持されたウエハＷに対してプラズマ処理を施すプラズマ処理部５２（図６）を備えている。
【００４７】
図１０Ａ及び図１０Ｂにおいて、サセプタ５１はトレイ載置部５１ａ及びトレイ載置部５１ａから上方に突出して設けられた複数のウエハ支持部５１ｂを備えている。トレイ載置部５１ａには、アライメント室４内において回転テーブル４１に対するトレイ７の中心位置合わせ（センタリング）と回転方向の位置決めがなされ、搬送室３内の搬送アーム３１によって搬送されたトレイ７（このトレイ７の各収容孔７ａにはウエハＷが収容されている）が載置される。各ウエハ支持部５１ｂは、センタリング及び回転方向位置決め後のトレイ７がトレイ載置部５１ａに載置されると、トレイ７の各収容孔７ａ内に下方から入り込んで各ウエハＷを持ち上げ支持する。
【００４８】
図１０Ａにおいて、サセプタ５１には制御装置６によって制御される昇降ピン駆動機構５３（図６）の作動によって同期して昇降する４つの昇降ピン５４が設けられている。これら４つの昇降ピン５４の上端部には、トレイ７の下面側に設けられた４つの昇降ピン嵌入孔７ｄ（図５Ａ及び図５Ｂ）が上方から嵌入し得るようになっている。トレイ７の４つの昇降ピン嵌入孔７ｄが４つの昇降ピン５４に嵌入した状態で（図１１Ａ及び図１２Ａ）、４つの昇降ピン５４をサセプタ５１に対して下降させる（図１１Ｂ及び図１２Ｂの図中に示す矢印Ｃ）。この下降により、トレイ７はトレイ載置部５１ａに載置され、トレイ７の各収容孔７ａに収容されたウエハＷは、各収容孔７ａ内に下方から入り込んだウエハ支持部５１ｂによって、トレイ７から上方に浮いた状態に支持される（図１１Ｃ及び図１２Ｃ）。
【００４９】
図６において、プラズマ処理部５２は、いずれも制御装置６によってその動作が制御される、ガス供給源５２ａ、真空排気装置５２ｂ、第１の高周波電圧印加装置５２ｃ、直流電圧印加装置５２ｄ、冷媒循環装置５２ｅ、冷却ガス供給装置５２ｆ、及び第２の高周波電圧印加装置５２ｇを備える（図６）。ガス供給源５２ａは、処理室５内にプラズマ発生用のガスを供給する。真空排気装置５２ｂは、処理室５内のガスを真空排気する。第１の高周波電圧印加装置５２ｃは、処理室５の上方に設けられた誘電コイル５５（図３）に高周波電圧を印加する。直流電圧印加装置５２ｄは、各ウエハ支持部５１ｂに設けた静電吸着用電極５６（図１０Ｂ）に直流電圧を印加してウエハ支持部５１ｂ上に載置されたウエハＷをウエハ支持部５１ｂ上に静電吸着させる。冷媒循環装置５２ｅは、サセプタ５１内に設けられた冷媒流路５７（図１０Ｂ）内に温度調節がなされた冷媒を循環させる。冷却ガス供給装置５２ｆは、サセプタ５１内に設けられてウエハ支持部５１ｂの上面に開口する冷却ガス供給管路５８（図１０Ｂ、図１２Ａ、図１２Ｂ、及び図１２Ｃ）内にウエハＷを冷却するための冷却ガス（例えばヘリウムガス）を供給する。第２の高周波電圧印加装置５２ｇは、処理室５内で発生したプラズマをウエハＷ側に引き寄せるバイアスを発生させる。
【００５０】
次に、このプラズマ処理装置１により複数のウエハＷをバッチ処理により一括してプラズマ処理する手順について説明する。制御装置６は先ず、搬送アーム３１を移動させて、ストック部２に供給されている複数のトレイ７（各トレイ７の各収容孔７ａにはウエハＷが収容されている）のうちの１枚を搬送アーム３１により保持させる。その後、制御装置６は、搬送アーム３１を作動させてそのトレイ７をアライメント室４内に移動させる（図１３中に示す矢印Ｄ１）。さらに制御装置６は搬送アーム３１を回転テーブル４１の上方で下降させてトレイ７を回転テーブル４１上に載置する（図１３中に示す矢印Ｄ２）。制御装置６は、トレイ７を回転テーブル４１上に載置した後、搬送アーム３１を搬送室３内に戻す（図１３中に示す矢印Ｄ３）。
【００５１】
制御装置６は、上記のようにしてトレイ７をアライメント室４の回転テーブル４１に載置したら、センタリング機構駆動部４２ｄの作動制御を行ってセンタリング機構４２を作動させ、前述の要領でトレイ７のセンタリングを行う（図１４に示すステップＳＴ１）。そして、トレイ７のセンタリングが終わったら回転テーブル４１を作動させてトレイ７を水平面内で３６０度以上回転させながら、ノッチ検出センサ４３を用いてトレイ７に設けられたノッチ７ｃの検出を行う。
【００５２】
また、制御装置６は、ノッチ検出センサ４３によるノッチ７ｃの検出と並行してウエハ有無検出が実行される。つまり、ノッチ７ｃの検出のために回転テーブル４１を作動させてトレイ７を回転させているときに、２つのウエハ有無検出センサ（第１のウエハ有無検出センサ４４Ａ及び第２のウエハ有無検出センサ４４Ｂ）により、トレイ７の各収容孔７ａについてのウエハ有無検出を行う（図１４に示すステップＳＴ２）。そのためアライメント室４での処理に要する時間を短縮し、プラズマ処理装置１全体でのタクト向上に貢献できる。また、回転テーブル４１でトレイ７を回転させつつウエハＷの有無検出を行うので、トレイ７の中央の収容孔７ａ以外の６個の収容孔７ａについては検査光の投光方向が固定された１個のウエハ検出センサ４４Ｂでウエハ有無検出を実行できる。制御装置６は、このステップＳＴ２において、各収容孔７ａについてのウエハ有無検出を終了した後、ノッチ７ｃを検出した時点でトレイ７の回転（回転テーブル４１の回転）を停止させて、トレイ７の回転方向の原点位置を把握する。
【００５３】
制御装置６は、上記ステップＳＴ２が終了したら、ノッチ７ｃの検出が成功したかどうかの判定を行う（図１４に示すステップＳＴ３）。そして、その結果、ステップＳＴ２におけるノッチ７ｃの検出が失敗したと判定した場合には、このプラズマ処理装置１に設けられるディスプレイ装置等の表示部（警報発生部）６１（図６）にエラーメッセージを表示したうえで、トレイ７をストック部２に返却するための待ち状態に入る（図１４に示すステップＳＴ４）。なお、ステップＳＴ２におけるノッチ７ｃの検出における回転テーブル４１の回転数は予め定めた所定回数（例えば３回）までとし、制御装置６は、回転テーブル４１を所定回数回転させるまでの間にノッチ７ｃを検出できなかった場合にはノッチ７ｃの検出に失敗したとしてステップＳＴ３からステップＳＴ４に進む。
【００５４】
一方、制御装置６のウエハ有無判定部６ｂは、ステップＳＴ３でノッチ７ｃの検出が成功したと判定した場合には、ステップＳＴ２の結果に基づいて、トレイ７が備える複数の収容孔７ａの全てにウエハＷが存在しているか否かの判断を行う（図１４に示すステップＳＴ５）。
【００５５】
ステップＳＴ５において、トレイ７が備える複数の収容孔７ａの全てにウエハＷが存在しているとウエハ有無判定部６ｂが判断しなかった場合、すなわち、トレイ７が備える７つの収容孔７ａのうちウエハＷが存在しない収容孔７ａがある（ウエハなし）と判断した場合には、表示部６１にエラーメッセージ（警告）を表示する（図１４に示すステップＳＴ４）。表示部６１に表示するエラーメッセージの態様はオペレータが認識できるものであれば、文字、図形、記号、ランプの点灯等のいずれでもよい。また、表示部６１に加えた又は表示部６１に代えて音又は音声でエラーメッセージ（警告）を出力する音響出力部を設けてもよい。
【００５６】
また、トレイ７が備える７つの収容孔７ａのうちウエハＷが存在しない収容孔７ａがある（ウエハなし）と判断した場合、トレイ７をストック部２に返却するための待ち状態に入る（図１４に示すステップＳＴ４）。待ち状態はトレイ７をストック部２に返却する条件が充足すると終了する。待ち状態の終了後、制御装置６は回転ステージ４１上のトレイ７を搬送機構３０の搬送アーム３１で保持し、アライメント室４からストック部２のカセット２１に戻す。
【００５７】
一方、ステップＳＴ５で、トレイ７が備える全ての収容孔７ａにウエハＷが存在している（ウエハ有り）とウエハ有無判定部６ｂが判断した場合には、回転テーブル４１を回転させ、ステップＳＴ２で検出したノッチ７ｃの位置に基づくトレイ７の回転方向の位置決めを行う（図１４に示すステップＳＴ６）。また、トレイ７を処理室５に搬送するための待ち状態に入り（図１４に示すステップＳＴ７）、アライメント室４内での処理を終了する。
【００５８】
制御装置６は、ウエハ有無判定部６ｂがいずれかの収容孔７ａにウエハＷが存在しない（ウエハなし）と判断してステップＳＴ４の待ち状態となると、搬送アーム３１を作動させて回転テーブル４１上のトレイ７をストック部２へ返却する。
【００５９】
このように、本実施の形態におけるプラズマ処理装置１では、ウエハＷに対するプラズマ処理が実行される前のトレイ７が回転テーブル４１に支持されている段階で、トレイ７が備える各収容孔７ａ内にウエハＷが存在するか否かの検出（ウエハ有無検出）を行う。その結果、複数の収容孔７ａのうちウエハＷが存在しない収容孔７ａがあった場合には、そのトレイ７は処理室５に搬送されない。
【００６０】
制御装置６は、ウエハ有無判定部６ｂがすべての収容孔７ａにウエハＷが存在すると判断してステップＳＴ７の待ち状態となると、搬送アーム３１を作動させて回転テーブル４１上のトレイ７を保持し、そのトレイ７を搬送室３経由で処理室５のサセプタ５１に載置させる。この動作を図１５Ａ中の矢印Ｅ１と図１５Ｂの矢印Ｅ２で示す。このときトレイ７はアライメント室４において回転テーブル４１に対する中心位置合わせ（センタリング）と回転方向の位置決めがなされているので、トレイ７の下面側に設けられた４つの昇降ピン嵌入孔７ｄにサセプタ５１に設けられた４つの昇降ピン５４の上端部が嵌入し、トレイ７は４つの昇降ピン５４によって支持された状態となる。
【００６１】
制御装置６は、トレイ７を４つの昇降ピン５４に支持させたら、搬送アーム３１を処理室５から退去させる（図１５Ｃ中に示す矢印Ｅ３）。そして、処理室５に設けられたゲートバルブ８を閉止状態にして処理室５を密閉状態にする。
【００６２】
制御装置６は、処理室５を密閉状態にしたら、昇降ピン駆動機構５３の作動制御を行って４つの昇降ピン５４を下降させる。この下降によりトレイ７がサセプタ５１のトレイ載置部５１ａに載置されるとともに、トレイ７の各収容孔７ａに収容されたウエハＷがサセプタ５１のウエハ支持部５１ｂに載置（支持）される（図１５Ｃ）。
【００６３】
制御装置６はトレイ７及びウエハＷをサセプタ５１に載置させたら、ガス供給源５２ａの作動制御を行って処理室５内にプラズマ発生用のガスを供給する。次いで直流電圧印加装置５２ｄを作動させて、ウエハ支持部５１ｂ内の静電吸着用電極５６に直流電圧を印加する。これにより、ウエハ支持部５１ｂ上のウエハＷが静電吸着用電極５６に静電吸着される。
【００６４】
制御装置６は、処理室５内に供給したプラズマ発生用のガスの圧力が所定の圧力に調圧されたことを検知したら、第１の高周波電圧印加装置５２ｃの作動制御を行って誘電コイル５５に高周波電圧を印加する。これにより処理室５内にプラズマが発生する。
【００６５】
制御装置６は、各ウエハＷがウエハ支持部５１ｂ上に静電吸着にて保持された後、冷却ガス供給装置５２ｆを作動させて冷却ガス供給管路５８から各ウエハ支持部５１ｂの下面に冷却ガスを充填させる。更に、制御装置６は第２の高周波電圧印加装置５２ｇの作動制御を行って、処理室５内のプラズマがウエハ支持部５１ｂ上のウエハＷに引き付けられるようにする。これによりウエハＷに対するプウエハ処理（エッチング）が開始される。
【００６６】
制御装置６は、ウエハＷに対するプラズマ処理が開始されて所定時間が経過したら、第２の高周波電圧印加装置５２ｇによる静電吸着用電極５６へのバイアス電圧の印加を停止させて処理室５内でのプラズマ発生を停止させる。次いで、制御装置６は冷却ガス供給装置５２ｆの作動制御を行って冷却ガスの供給を停止させる。冷却ガスの供給停止後、制御装置６はウエハＷの下面の冷却ガスの圧力が十分に低下したタイミングで、ガス供給源５２ａからの処理室５内へのガスの供給を停止させるとともに、第１の高周波電圧印加装置５２ｃによる誘電コイル５５への高周波電圧の印加を停止させる。更に、直流電圧印加装置５２ｄによる静電吸着用電極５６への直流電圧の印加を停止させて、ウエハＷの静電吸着を解除する。ウェウエハ静電吸着を解除した後は、必要に応じて除電処理を実行してウエハＷやトレイ７に残った静電気を除去し、処理部での処理を終了する。
【００６７】
上記処理室５内での処理の実行中、制御装置６は、真空排気装置５２ｂによる処理室５内のガスのプラズマ処理装置１の外部への排出動作と、冷媒循環装置５２ｅによる冷媒流路５７内への冷媒の循環動作を常時実行する。冷媒循環装置５２ｅによる冷媒流路５７内への冷媒の循環動作によりサセプタ５１を通じてウエハＷが冷却され、冷却ガスを通じたウエハＷの冷却と相俟って、高いプラズマ処理効率が維持される。
【００６８】
なお、制御装置６は、上記のように、処理室５内でのウエハＷに対するプラズマ処理を実行している間、搬送アーム３１を作動させて、次にプラズマ処理を行うウエハＷを収容したトレイ７をストック部２から取り出してアライメント室４に搬入する。また、制御装置６は回転テーブル４１上に載置させる。これにより、処理室５内でウエハＷに対するプラズマ処理が行われている間、次にプラズマ処理を行うウエハＷを収容したトレイ７について、回転テーブル４１に対する中心位置合わせ（センタリング）と回転方向の位置決め及びウエハＷの有無検出を実行することができる。
【００６９】
制御装置６は、処理室５内でのウエハＷに対するプラズマ処理が終了したら、昇降ピン駆動機構５３を作動させて４つの昇降ピン５４を上昇させ、トレイ７をサセプタ５１の上方に持ち上げ支持する。なお、４つの昇降ピン５４はその上昇過程でトレイ７の下面側に設けられた昇降ピン嵌入孔７ｄ内に下方から嵌入する。
【００７０】
昇降ピン５４の上昇作動によりトレイ７をサセプタ５１の上方に持ち上げ支持したら、制御装置６はゲートバルブ８を開いて搬送アーム３１を処理室５内に進入させる。また、制御装置６は昇降ピン５４によって持ち上げ支持されたトレイ７を搬送アーム３１によって保持して処理室５から退去させる。そして、そのトレイ７をアライメント室４のトレイ仮置きテーブル４５に載置する（図１５Ｄ。図中に示す矢印Ｆ１，Ｆ２）。引き続いて、既に回転テーブル４１に対する中心位置合わせ（センタリング）と回転方向の位置決めが終了している回転テーブル４１上のトレイ７（次にプラズマ処理を行うウエハＷを収容したトレイ７）を搬送アーム３１によって保持し、アライメント室４から退去させて（図１５Ｄ中に示す矢印Ｆ３）、そのトレイ７を処理室５内へ搬送する。制御装置６は、次にプラズマ処理を行うウエハＷを収容したトレイ７を処理室５内に搬送した後は、搬送アーム３１をアライメント室４に進入させ、トレイ仮置きテーブル４５上のトレイ７（既にプラズマ処理が終了したウエハＷを収容したトレイ７）を保持してアライメント室４から搬出し、ストック部２に戻す。
【００７１】
このように、処理室５から搬出されたトレイ７は一旦トレイ仮置きテーブル４５に載置し、冷却してからストック部２に戻す。これによりプラズマ処理によって高温になったウエハＷ（トレイ７）が高温状態のままストック部２に戻されることが防止される。また、高温になったウエハＷを収容したトレイ７をトレイ仮置きテーブル４５に載置したままの状態で、次にプラズマ処理を行うウエハＷを収容したトレイ７をアライメント室４から取り出して処理室５へ搬送する。これによりプラズマ処理全体に要する時間を短縮して効率よく作業を行うことができる。
【００７２】
トレイ仮置きテーブル４５に載置したトレイ７をストック部２に戻したら、そのトレイ７に収容されたウエハＷについてのバッチ処理が終了する。
【００７３】
以上説明したように、本実施の形態におけるプラズマ処理装置１は、複数（ここでは７つ）の収容孔７ａそれぞれにウエハＷを収容したトレイ７の位置決めが行われるアライメント室４と、トレイ７の複数の収容孔７ａのそれぞれに収容されたウエハＷに対してプラズマ処理が行われる処理室５を備える。また、プラズマ処理装置１は、アライメント室４においてウエハＷを収容したトレイ７を支持して水平面内で回転させる回転テーブル４１と、アライメント室４において回転テーブル４１に対するトレイ７の中心位置合わせを行うセンタリング機構４２と、アライメント室４において回転テーブル４１によりトレイ７を回転させながらトレイ７の回転方向の位置決めを行う回転方向位置決め手段（ノッチ検出センサ４３及び制御装置６のアライメント処理部６ａ）とを備える。さらに、プラズマ処理装置１は、処理室５においてトレイ７が載置されるトレイ載置部５１ａ及びトレイ７がトレイ載置部５１ａに載置されるときにトレイ７の各収容孔７ａ内に下方から入り込んで各ウエハＷを持ち上げ支持する複数のウエハ支持部５１ｂを備えたサセプタ５１（支持台）と、サセプタ５１が備える複数のウエハ支持部５１ｂにより支持された複数のウエハＷにプラズマ処理を施すプラズマ処理部５２（プラズマ処理手段）とを備える。さらにまた、プラズマ処理装置１は、センタリング機構４２による回転テーブル４１に対する中心位置合わせ及び上記回転方向位置決め手段による回転方向の位置決めがなされたトレイ７をアライメント室４の回転テーブル４１から処理室５内のサセプタ５１へ搬送する搬送手段としての搬送アーム３１と、アライメント室４の回転テーブル４１に支持されたトレイ７の各収容孔７ａ内にウエハＷが存在するか否かの検出（ウエハ有無検出）を行うウエハ有無検出部としての２つのウエハ有無検出センサ４４Ａ，Ｂと、制御装置６のウエハ有無判定部６ｂとを備える。
【００７４】
本実施の形態におけるプラズマ処理装置１では、処理室５内でウエハＷに対するプラズマ処理が実行される前のアライメント室４内におけるトレイ７の位置決め段階（センタリング及びトレイ７の回転方向の位置決めの段階）で、トレイ７が備える各収容孔７ａにウエハＷが存在するか否かの検出（ウエハ有無検出）を行うようになっている。その結果、トレイ７が備える複数の収容孔７ａのうちウエハＷが存在しない収容孔７ａがあった場合にはそのトレイ７をサセプタ５１に載置しないようにすることができる。ウエハＷが存在しないトレイ７の収容孔７ａからウエハ支持部５１ｂが直接プラズマに晒されてそのウエハ支持部５１ｂのみならずプラズマ処理装置１全体が故障に至ることを防止することができる。
【００７５】
また、本実施の形態におけるプラズマ処理装置１において、ウエハ有無判定部６ｂは、回転テーブル４１に支持されたトレイ７が収容するウエハＷに向けてウエハ有無検出センサ４４Ａ，４４Ｂから照射した検査光Ｌ２が検出されるか否かに基づいて収容孔７ａ内にウエハＷが存在するか否かの検出を行う。このようにウエハＷで検査光Ｌ２が遮られるか否かによって収容孔７ａ内のウエハＷの有無を判定するので、簡易な構成であるがウエハ有無判定部６ｂは収容孔７ａ内のウエハＷの有無を正確に判定できる。
【００７６】
また、本実施の形態におけるプラズマ処理装置１において、ウエハ有無検出部は、回
転テーブル４１によりトレイ７を回転させながらウエハ有無検出を行う。これにより、ウエハ有無の検出に要する時間を短縮してプラズマ処理装置１における処理作業時間を短縮させることができる。
【００７７】
これまで本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上述の実施の形態に示したものに限定されない。例えば、上述の実施の形態では、トレイ７はその中心位置に配置された１つの収容孔７ａに１枚のウエハＷを収容するとともに、中心位置を中心とする仮想円ＣＬ上に中心が等間隔で並ぶように配置された６つの収容孔７ａに６枚のウエハＷを収容するようになっていたが、これは一例であり、トレイ７が収容し得るウエハＷの枚数や収容孔７ａの配置は自由である。
【００７８】
また、本実施の形態において、ノッチ検出センサ４３はトレイ７の外縁の一部を切り欠いて形成されたノッチ７ｃを検出することができる。ウエハ有無検出手段４４Ａ，Ｂはトレイ７が備える各収容孔７ａにウエハＷが存在するか否かの検出を行うことができればよい。したがって、これらのセンサ４３，４４Ａ，Ｂは必ずしも上述した透過型の光学式センサである必要はなく、反射型の光学式センサ（投光部と、投光部が投光する検査光の反射光を受光する受光部を一体的に備えた形態の光学式センサ）等の他のセンサであってもよい。なお、反射型の光学式センサを用いる場合には、図７に図示される投光器ＨＳ１，ＨＳ２を反射型の光学式センサに置き換えるとともに、受光器ＪＳ１，ＪＳ２をミラーに置き換える。
【００７９】
上述の実施の形態では、回転テーブル４１に支持されたトレイ７が備える各収容孔７ａにウエハＷが存在するか否かの検出を行うウエハ有無検出手段として透過型の光学式センサ（ウエハ有無検出センサ４４Ａ，Ｂ）を用いている。しかし、このような光学式センサに代えてＣＣＤカメラ等の撮像装置を用い、撮像装置によって回転テーブル４１上のトレイ７を上方から撮像することによって得られた画像に基づいてウエハ有無検出を行うようにしてもよい。この場合、ウエハ有無判定部６ｂは撮像装置が撮像した画像に基づいて収容孔７ａにウエハＷが存在するか否かを判定する。回転テーブル４１でトレイ７を回転させつつＣＣＤカメラ等の撮像装置により撮像することで、視野が固定された１個の撮像装置により、複数の収容孔７ａについてウエハ有無の検出が可能となる。
【００８０】
実施形態では回転テーブル４１を含むトレイ７のアライメントのための機構を独立のアライメント室４に配置している。しかし、回転テーブル４１を含むトレイ７のアライメントのための機構を搬送室３内に配置してもよい。この構成にも本発明を適用できる。
【００８１】
ストック部２に関連する具体的な構成は実施の形態のものに限定されない。例えば、図１６に示す変形例のプラズマ処理装置１は、ストック部２に隣接して設けられた移載部８１を備える。移載部８１からストック部２に処理前のウエハＷを収容したトレイ７が供給され、これらのトレイ７はウエハＷの処理後にストック部２から移載部８１に戻される。移載部８１内の移載室８２には移載ロボット８３が収容されている。
【００８２】
移載ロボット８３は、図１６において矢印Ｇ１で概念的に示すように、トレイ７の収容孔７ａにプラズマ処理前のウエハＷを収容する作業、つまりトレイ７へウエハＷを移載する作業を実行する。また、移載ロボット８３は、図１６において矢印Ｇ２で概念的に示すように、ドライエッチング済みのウエハＷをトレイ７から移載する作業を実行する。さらに、移載ロボット８３は、処理前のウエハＷを収容したトレイ７を移載部８１からストック部２に搬入する作業（図１６の矢印Ｈ１）と、処理後のウエハＷを収容したトレイ７をストック部２から移載部８１に搬出する作業（図１４の矢印Ｈ２）とを実行する。
【産業上の利用可能性】
【００８３】
ウエハが存在しないトレイの収容孔から支持台のウエハ支持部が直接プラズマに晒されることを防止することができるプラズマ処理装置を提供する。
【符号の説明】
【００８４】
１  プラズマ処理装置
２  ストック部
３  搬送室（搬送部）
４  アライメント室（アライメント部）
５  処理室（処理部）
６ａ  アライメント処理部（回転方向位置決め部）
６ｂ  ウエハ有無判定部  
７  トレイ
７ａ  収容孔
３０  搬送機構
３１  搬送アーム  
４１  回転テーブル
４２  センタリング機構
４３  ノッチ検出センサ（回転方向位置決め部）
４４Ａ，４４Ｂ  ウエハ有無検出センサ  
５１  サセプタ（支持台）
５１ａ  トレイ載置部
５１ｂ  ウエハ
５２  プラズマ処理部  
８１  移載部
８２  移載室
８３  移載ロボット
Ｗ  ウエハ
Ｌ  検査光
【図１】
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【図２】
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【図３】
0005475124.tif 000004
【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６】
0005475124.tif 000008
【図７】
0005475124.tif 000009
【図８】
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【図９】
0005475124.tif 000011
【図１０Ａ】
0005475124.tif 000012
【図１０Ｂ】
0005475124.tif 000013
【図１１Ａ】
0005475124.tif 000014
【図１１Ｂ】
0005475124.tif 000015
【図１１Ｃ】
0005475124.tif 000016
【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１２Ｃ】
0005475124.tif 000019
【図１３】
0005475124.tif 000020
【図１４】
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【図１５Ａ】
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【図１５Ｂ】
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【図１５Ｃ】
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【図１５Ｄ】
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【図１６】
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