(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素を作製する方法であって、
ａ）前記装置又は前記構成要素の表面の少なくとも一部分に、それぞれ、非金属コーティングを形成する工程であって、前記コーティングが少なくとも１つの官能基を有するものである、工程と、
ｂ）前記非金属コーティングの表面の少なくとも一部分に、少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物を適用する工程と、
ｃ）前記少なくとも部分的にフッ素化された化合物の少なくとも１つの官能基を、前記非金属コーティングの少なくとも１つの官能基と反応させて、共有結合を形成する工程と、
を含み、
前記非金属コーティングが、イオン衝撃条件下でプラズマ蒸着によって形成されたダイヤモンド状ガラスであり、
前記非金属コーティングの前記少なくとも１つの官能基が活性水素を有する、方法。
【請求項２】
前記非金属コーティングがケイ素、酸素、及び水素を含み、所望により炭素を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記非金属コーティングが、無水素ベースで少なくとも約２０原子％の炭素及び少なくとも約３０原子％のケイ素と酸素との合計を含有するダイヤモンド状ガラスである、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記非金属コーティングのケイ素対酸素の比率が２未満である、請求項２又は３に記載の方法。
【請求項５】
前記少なくとも部分的にフッ素化された化合物の前記少なくとも１つの官能基が加水分解性基を有し、及び／又は、
前記少なくとも部分的にフッ素化された化合物の前記少なくとも１つの官能基がシラン基であり、及び／又は、
前記少なくとも部分的にフッ素化された化合物がポリフルオロポリエーテルセグメントを含み、所望により、前記ポリフルオロポリエーテルセグメントは、約１０００以上の重量平均分子量を有し、及び／又は、全フッ素化ポリフルオロポリエーテルセグメントであり、前記全フッ素化ポリフルオロポリエーテルセグメントの繰り返し単位において、連続する炭素原子の数が最高６であり、及び／又は、
前記少なくとも１つの官能基を含む前記少なくとも部分的にフッ素化された化合物がポリフルオロポリエーテルシランであり、及び／又は、
前記非金属コーティングが実質的に無フッ素であり、及び／又は、
適用に応じて、前記非金属コーティングが前記装置の前記表面上又は前記装置構成要素の前記表面上に形成されて、前記非金属コーティングが前記表面と共有結合する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素であって、前記装置又は前記構成要素のそれぞれの表面の少なくとも一部分の非金属コーティングと、前記非金属コーティングと結合されたフッ素含有コーティングと、を含み、前記フッ素含有コーティングが、前記非金属コーティングと少なくとも１つの共有結合を共有する少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含み、
前記非金属コーティングが、イオン衝撃条件下でプラズマ蒸着によって形成されたダイヤモンド状ガラスである、医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素。
【請求項７】
前記フッ素含有コーティングが、Ｏ−Ｓｉ基における結合を含む複数の共有結合によって、前記非金属コーティングに共有結合される、請求項６に記載の装置又は構成要素。
【請求項８】
医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素であって、前記装置又は構成要素のそれぞれの表面の少なくとも一部分にプラズマ蒸着された非金属コーティングを含み、前記コーティングがイオン衝撃条件下でプラズマ蒸着されたダイヤモンド状ガラスである、医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素。
【請求項９】
医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素であって、前記装置又は構成要素の表面の少なくとも一部分にダイヤモンド状ガラスコーティングを含み、
前記ダイヤモンド状ガラスコーティングが、イオン衝撃条件下でプラズマ蒸着によって形成される、医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素。
【請求項１０】
前記医薬品吸入装置が定量吸入器又はドライパウダー吸入器である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記医薬品吸入装置が定量吸入器又はドライパウダー吸入器である、請求項６〜９のいずれか一項に記載の医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、医薬品吸入装置及びそのような装置の構成要素、並びにそのような装置及び構成要素を作製する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
定量加圧吸入器（ＭＤＩ）のような加圧吸入器及びドライパウダー吸入器を含む医薬品吸入装置（ＤＰＩ）は、薬剤の送達に広く使用されている。
【０００３】
医薬品吸入装置は、典型的に、複数のハードウェア構成要素（ＭＤＩの場合は、例えばガスケットシール、定量バルブ（フェルール、バルブ本体、バルブステム、タンク、バネ保持カップ及びシールのような個々の構成要素を含む）、容器及び作動装置を含む）、並びに保管中に医薬品製剤と接触している場合がある又は送達中に医薬品製剤と接触する場合がある多数の内面を具備する。特定の構成要素にとって望ましい材料が、その表面特性（例えば表面エネルギー）及び／又は医薬品製剤との相互作用に関して不適当であることが発見されることがよくある。例えば、ＭＤＩに通常使用される材料（例えばバルブステムに使われるアセタールポリマー、あるいは容器に使われる深絞りステンレススチール又はアルミニウム）の比較的高い表面エネルギーは、対応する構成要素の表面への懸濁製剤中の薬剤粒子の不可逆な付着を引き起こす場合があり、これは結果的に医薬品送達の均一性に影響を及ぼす。同様の影響がＤＰＩでも観察される。構成要素と医薬品製剤との間に起こり得る望ましくない相互作用のその他の例としては、薬剤劣化の促進、薬剤の吸着若しくは製剤成分の浸透、又はプラスチック材料からの化学物質の抽出を挙げることができる。ＤＰＩの場合、周囲の水の浸透及び吸着がしばしば問題となる。また、比較的高い表面エネルギーを有する材料が特定の構成要素（例えば定量バルブ及び／又はその個々の構成要素）に使用されると、医薬品吸入装置の可動構成要素の動作に望ましくない影響を及ぼす場合がある。
【０００４】
定量吸入器の特定の構成要素又は表面に多様なコーティングが提案されてきた。例えば、欧州特許第６４２９９２号、国際特許公開第９６／３２０９９号、国際特許公開第９６／３２１５０−１、国際特許公開第９６／３２３４５号、国際特許公開第９９／４２１５４号、国際特許公開第０２／４７８２９号、国際特許公開第０３／０２４６２３号、国際特許公開第０２／３０４９８号、国際特許公開第０１／６４２７３号、国際特許公開第９１／６４２７４−５号、国際特許公開第０１／６４５２４号、及び国際特許公開第０３／００６１８１号を参照されたい。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
多くの異なるコーティングが提案されてきたが、医薬品吸入装置及び構成要素に提供されるコーティングシステムの望ましい表面特性（例えば低い表面エネルギー）と共に望ましい構造保全性（例えば付着力、耐久性、頑強性及び／又は装置の寿命期間にかけた劣化抵抗）を有する医薬品吸入装置及びその構成要素、並びにそのような医薬品吸入装置及び構成要素を提供する方法の必要性は、今なおある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の態様において、医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素を作製する方法が提供され、この方法は、
ａ）医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素の表面の少なくとも一部分に、それぞれ、非金属コーティングを形成する工程であって、このコーティングが少なくとも１つの官能基を有するものである、工程と、
ｂ）この非金属コーティングの表面の少なくとも一部分に、少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物を適用する工程と、
ｃ）共有結合を形成するために、前記少なくとも部分的にフッ素化された化合物の少なくとも１つの官能基を、前記非金属コーティングの少なくとも１つの官能基と反応させる工程と、
を含む。
【０００７】
本発明の追加的な態様は、前述の方法に従って作製された装置及び構成要素と、医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素のそれぞれの表面の少なくとも一部分に非金属コーティングを含む医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素と、この非金属コーティングと結合されたフッ素含有コーティングと、を含み、このフッ素含有コーティングは、非金属コーティングと少なくとも１つの共有結合を共有する少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む。
【０００８】
本明細書に記述されるような、少なくとも部分的にフッ素化された化合物に共有結合されたそのような非金属コーティングの適用は、そのような装置及び構成要素の表面に提供されるシステムの望ましい構造保全性と共に、望ましい表面特性（例えば、低い表面エネルギー）を提供する。
【０００９】
そのような望ましい構造保全性は、非金属コーティングが実質的に無フッ素（より好ましくは無フッ素）である特定の好ましい実施形態によって更に促進され得る。あるいは、又は加えて、構造保全性は、非金属コーティングが装置又は構成要素の表面の少なくとも一部分に共有結合される特定の好ましい実施形態において更に促進され得る。あるいは、又は加えて、他の特定の好ましい実施形態では、構造保全性並びに不透性は、イオン衝撃条件下でプラズマ蒸着される非金属コーティングによって更に促進され得る。
【００１０】
本発明の更なる態様は、医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素のそれぞれの表面の少なくとも一部分にプラズマ蒸着された非金属コーティングを含む医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素を含み、このコーティングは、イオン衝撃条件下でプラズマ蒸着され、かつ実質的に無フッ素（又は、より好ましくは無フッ素）である。本発明の他の態様は、医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素のそれぞれの表面の少なくとも一部分にダイヤモンド状ガラスコーティングを含む医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素を含む。そのような医薬品吸入装置及び構成要素（特に、そのような構成要素を備える医薬品吸入装置）は、驚くほど望ましい表面特性と共に、非常に好ましい構造保全性を示す。
【００１１】
従属請求の範囲は、本発明の更なる実施形態を定義する。
【００１２】
本発明は、方法又は器具形態において様々な組み合わせで、以下の項目リストにより更に特徴づけることができる。
【００１３】
１．医薬品吸入装置を作製する方法であって、
ａ）装置の表面の少なくとも一部分に非金属コーティングを形成する工程であって、このコーティングが少なくとも１つの官能基を有するものである、工程と、
ｂ）非金属コーティングの表面の少なくとも一部分に、少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物を適用する工程と、
ｃ）共有結合を形成するために、少なくとも部分的にフッ素化された化合物の少なくとも１つの官能基を、非金属コーティングの少なくとも１つの官能基と反応させる工程と、
を含む、方法。
【００１４】
２．医薬品吸入装置構成要素を作製する方法であって、
ａ）構成要素の表面の少なくとも一部分に非金属コーティングを形成する工程であって、このコーティングが少なくとも１つの官能基を有するものである、工程と、
ｂ）非金属コーティングの表面の少なくとも一部分に、少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物を適用する工程と、
ｃ）共有結合を形成するために、少なくとも部分的にフッ素化された化合物の少なくとも１つの官能基を、非金属コーティングの少なくとも１つの官能基と反応させる工程と、
を含む、方法。
【００１５】
３．非金属コーティングの少なくとも１つの官能基が活性水素を有する、項目１又は２に記載の方法。
【００１６】
４．活性水素を有する非金属コーティングの少なくとも１つの官能基が、ヒドロキシル基（−ＯＨ）、チオール基（−ＳＨ）、アミン基（−ＮＨ−又は−ＮＨ２）、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）又はアミド基（−ＣＯＮＨ−又は−ＣＯＮＨ２）からなる群から選択される、項目３に記載の方法。
【００１７】
５．活性水素を有する非金属コーティングの少なくとも１つの官能基が、ヒドロキシル基（−ＯＨ）及びカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）からなる群から選択される、項目４に記載の方法。
【００１８】
６．非金属コーティングの少なくとも１つの官能基がヒドロキシル基（−ＯＨ）である、項目５に記載の方法。
【００１９】
７．非金属コーティングの少なくとも１つの官能基がシラノール基（−Ｓｉ−ＯＨ）である、項目１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【００２０】
８．非金属コーティングが複数の官能基を含む、項目１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【００２１】
９．非金属コーティングの形成の前に、装置又は構成要素の表面が、適用に応じて、酸素プラズマ又はアルゴンプラズマに、特定する酸素プラズマに、更に特定するとイオン衝撃条件下での酸素プラズマに曝露される、項目１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【００２２】
１０．非金属コーティングがプラズマ蒸着によって形成される、項目１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【００２３】
１１．非金属コーティングがイオン衝撃条件下でプラズマ蒸着によって形成される、項目１０に記載の方法。
【００２４】
１２．非金属コーティングがケイ素、酸素、及び水素を含む、項目１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【００２５】
１３．ケイ素、酸素、及び水素を含む非金属コーティングの形成が、オルガノシリコン又は水素化ケイ素のうちの少なくとも１つを含むガスのイオン化を含む、項目１２に記載の方法。
【００２６】
１４．ガスがオルガノシリコンを含む、項目１３に記載の方法。
【００２７】
１５．オルガノシリコンが、トリメチルシラン、トリエチルシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、テトラメチルシラン、テトラエチルシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、テトラメチルシクロテトラシロキサン、テトラエチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビストリメチルシリルメタン、及びこれらの混合物からなる群から選択される、項目１４に記載の方法。
【００２８】
１６．オルガノシリコンが、トリメチルシラン、トリエチルシラン、テトラメチルシラン、テトラエチルシラン、ビストリメチルシリルメタン、及びこれらの混合物からなる群から選択される、項目１５に記載の方法。
【００２９】
１７．オルガノシリコンがテトラメチルシランである、項目１６に記載の方法。
【００３０】
１８．ガスが水素化ケイ素、特定すると、ＳｉＨ４（四水素化ケイ素）、Ｓｉ２Ｈ６（ジシラン）、及びこれらの混合物からなる群から選択される水素化ケイ素である、項目１３に記載の方法。
【００３１】
１９．ガスが酸素を更に含む、項目１３〜１８のいずれか一項に記載の方法。
【００３２】
２０．非金属コーティングが炭素を更に含む、項目１２〜１９のいずれか一項に記載の方法。
【００３３】
２１．非金属コーティングが、無水素ベースで少なくとも約２０原子％の炭素及び少なくとも約３０原子％のケイ素＋酸素を含有するダイヤモンド状ガラスである、項目２０に記載の方法。
【００３４】
２２．ダイヤモンド状ガラスが、無水素ベースで少なくとも約２５原子％の炭素と、約１５〜約５０原子％のケイ素と、約１５〜約５０原子％の酸素とを含有する、項目２１に記載の方法。
【００３５】
２３．ダイヤモンド状ガラスが、無水素ベースで約３０〜約６０原子％の炭素と、約２０〜約４５原子％のケイ素と、約２０〜約４５原子％の酸素とを含有する、項目２２に記載の方法。
【００３６】
２４．ダイヤモンド状ガラスが、無水素ベースで約３０〜約５０原子％の炭素と、約２５〜約３５原子％のケイ素と、約２５〜約４５原子％の酸素とを含有する、項目２３に記載の方法。
【００３７】
２５．ダイヤモンド状ガラスが、無水素ベースで約３０〜約３６原子％の炭素と、約２６〜約３２原子％のケイ素と、約３５〜約４１原子％の酸素とを含有する、項目２４に記載の方法。
【００３８】
２６．非金属コーティングのケイ素対酸素の比率が２未満である、項目１２〜２５のいずれか一項に記載の方法。
【００３９】
２７．非金属コーティングが、少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物の適用の前に、酸素プラズマ又はコロナ処理に、特定すると酸素プラズマに、更に特定するとイオン衝撃条件下での酸素プラズマに曝露される、項目１〜２６のいずれか一項に記載の方法。
【００４０】
２８．少なくとも部分的にフッ素化された化合物の少なくとも１つの官能基が加水分解性基を有する、項目１〜２７のいずれか一項に記載の方法。
【００４１】
２９．少なくとも部分的にフッ素化された化合物の少なくとも１つの官能基がシラン基である、項目１〜２８のいずれか一項に記載の方法。
【００４２】
３０．シラン基が、少なくとも１つの加水分解性基、特定すると少なくとも２つの加水分解性基、更に特定すると３つの加水分解性基を含む、項目２９に記載の方法。
【００４３】
３１．少なくとも部分的にフッ素化された化合物がポリフルオロポリエーテルセグメント、特定すると全フッ素化ポリフルオロポリエーテルセグメントを含む、項目１〜３０のいずれか一項に記載の方法。
【００４４】
３２．少なくとも部分的にフッ素化された化合物が、全フッ素化ポリフルオロポリエーテルセグメントを含み、全フッ素化ポリフルオロポリエーテルセグメントの繰り返し単位において、連続する炭素原子の数が最高６であり、特定すると最高４であり、更に特定すると最高３であり、最も特定すると最高２である、項目３１に記載の方法。
【００４５】
３３．少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物がポリフルオロポリエーテルシランであり、特定すると多官能性ポリフルオロポリエーテルシランであり、更に特定すると二官能性ポリフルオロポリエーテルシランである、項目１〜３２のいずれか一項に記載の方法。
【００４６】
３４．ポリフルオロポリエーテルシランの１つ若しくは複数のポリフルオロポリエーテルセグメントが、窒素−ケイ素結合又は硫黄−ケイ素結合を含む官能基を介して官能性シラン基と連結されていない、項目３３に記載の方法。
【００４７】
３５．ポリフルオロポリエーテルシランの１つ若しくは複数のポリフルオロポリエーテルセグメントが、炭素−ケイ素結合を含む官能基を介して官能性シラン基と連結されている、項目３３又は３４に記載の方法。
【００４８】
３６．ポリフルオロポリエーテルシランの１つ若しくは複数のポリフルオロポリエーテルセグメントが、−Ｃ（Ｒ）２−Ｓｉ官能基を介して官能性シラン基と連結され、式中Ｒが独立して水素又はＣ１〜４アルキル基であり、更に特定すると水素である、項目３５に記載の方法。
【００４９】
３７．ポリフルオロポリエーテルシランの１つ若しくは複数のポリフルオロポリエーテルセグメントが、−（ＣＲ２）ｋ−Ｃ（Ｒ）２−Ｓｉ官能基を介して官能性シラン基と連結され、式中ｋが少なくとも２でありＲが独立して水素又はＣ１〜４アルキル基であり、更に特定すると水素である、項目３６に記載の方法。
【００５０】
３８．ポリフルオロポリエーテルシランが式Ｉａ：
Ｒｆ［Ｑ−［Ｃ（Ｒ）２−Ｓｉ（Ｙ）３−ｘ（Ｒ１ａ）ｘ］ｙ］ｚ          Ｉａ
であり、
式中、
Ｒｆは、一価又は多価ポリフルオロポリエーテルセグメントであり、
Ｑは有機二価又は三価の連結基であり、
各Ｒは独立して水素又はＣ１〜４アルキル基であり、
各Ｙは独立して加水分解性基であり、
Ｒ１ａはＣ１〜８アルキル基又はフェニル基であり、
ｘは０又は１又は２であり、
ｙは１又は２であり、
ｚは１、２、３、又は４である、
項目３３〜３６のいずれか一項に記載の方法。
【００５１】
３９．ポリフルオロポリエーテルセグメントＲｆが、−（ＣｎＦ２ｎＯ）−、−（ＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、−（ＣＦ（Ｚ）ＣｎＦ２ｎＯ）−、−（ＣｎＦ２ｎＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、−（ＣＦ２ＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される全フッ素化繰り返し単位を含み、式中、ｎが１〜６の整数であり、Ｚがペルフルオロアルキル基、酸素含有ペルフルオロアルキル基、ペルフルオロアルコキシ基、又は酸素置換ペルフルオロアルコキシ基であり、それぞれが直鎖、分枝状、又は環状であることができ、１〜５の炭素原子と、酸素含有又は酸素置換であるとき最高４の酸素原子と、を有することができ、Ｚを含む繰り返し単位では、連続する炭素原子の数が最高６である、項目３８に記載の方法。
【００５２】
４０．ｎが１〜４の整数であり、Ｚを含む繰り返し単位では、連続する炭素原子の数が最高４である、項目３９に記載の方法。
【００５３】
４１．ｎが１〜３の整数であり、Ｚを含む繰り返し単位では、連続する炭素原子の数が最高３である、項目３９又は４０に記載の方法。
【００５４】
４２．ポリフルオロポリエーテルセグメントＲｆが、−（ＣｎＦ２ｎＯ）−、−（ＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される全フッ素化繰り返し単位を含み、式中ｎが１又は２であり、Ｚが−ＣＦ３基である、項目３９〜４１のいずれか一項に記載の方法。
【００５５】
４３．Ｚが１であり、Ｒｆが、Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−、ＣＦ３Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２−、Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ２ＣＦ２−、Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ２ＣＦ２−、Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−、及びＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｐ（ＣＦ２Ｏ）Ｘ−からなる群から選択され、式中ＸがＣＦ２−、Ｃ２Ｆ４−、Ｃ３Ｆ６−、Ｃ４Ｆ８−であり、ｐの平均値が３〜５０である、項目３８〜４０のいずれか一項に記載の方法。
【００５６】
４４．Ｚが２であり、Ｒｆが、−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２−、−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２−、−（ＣＦ２）３Ｏ（Ｃ４Ｆ８Ｏ）ｐ（ＣＦ２）３−、−ＣＦ（ＣＦ３）−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｐＯ−ＣｔＦ２ｔ−Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−からなる群から選択され、式中ｔが２、３又は４であり、ｍが１〜５０であり、ｐが３〜４０である、項目３８〜４０のいずれか一項に記載の方法。
【００５７】
４５．Ｒｆが、−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２−、及び−ＣＦ（ＣＦ３）−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｐＯ−（ＣｔＦ２ｔ）−Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−からなる群から選択され、式中ｔが２、３又は４であり、ｍ＋ｐ又はｐ＋ｐ又はｐの平均値が約４〜約２４である、項目４４に記載の方法。
【００５８】
４６．Ｑが、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−（ＣＨ２）ｋ−、−Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｒ）−（ＣＨ２）ｋ−、−（ＣＨ２）ｋ−、−ＣＨ２Ｏ−（ＣＨ２）ｋ−、−Ｃ（Ｏ）Ｓ−（ＣＨ２）ｋ−、−ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−（ＣＨ２）ｋ−からなる群から選択され、
【００５９】
【化１】
0005571560.tif 000002
【００６０】
式中Ｒは水素又はＣ１〜４アルキルであり、ｋは２〜約２５である、
項目３８〜４５のいずれか一項に記載の方法。
【００６１】
４７．Ｑが、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）（ＣＨ２）２−、−ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、又は−ＣＨ２−ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−（ＣＨ２）２−からなる群から選択され、式中Ｒは水素又はＣ１〜４アルキルであり、ｙは１である、項目４６に記載の方法。
【００６２】
４８．Ｒが水素である、項目３６〜４７のいずれか一項に記載の方法。
【００６３】
４９．Ｘが０である、項目３８〜４８のいずれか一項に記載の方法。
【００６４】
５０．各加水分解性基が独立して水素基、ハロゲン基、アルコキシ基、アシロキシ基、ポリアルキレンオキシ基、及びアリールオキシ基からなる群から選択される、項目２８若しくは３０、又は項目３８〜４９のいずれか一項に記載の方法。
【００６５】
５１．各加水分解性基が独立してアルコキシ基、アシロキシ基、アリールオキシ基、及びポリアルキレンオキシ基からなる群から選択される、項目５０に記載の方法。
【００６６】
５２．各加水分解性基が独立してアルコキシ基、特定するとアルコキシ基−ＯＲ’であり、式中各Ｒ’が独立してＣ１〜６アルキル基、更に特定するとＣ１〜４アルキル基である、項目５０又は５１に記載の方法。
【００６７】
５３．Ｒｆが、−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２−であり、Ｑ−Ｃ（Ｒ）２−Ｓｉ（Ｙ’）３−ｘ（Ｒ１ａ）ｘがＣ（Ｏ）ＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＲ’）３であり、式中Ｒ’がメチル又はエチルであり、ｍが１〜５０であり、ｐが３〜４０であり、特定すると、ｍ＋ｐ又はｐ＋ｐ又はｐの平均値が約４〜約２４であり、更に特定すると、ｍ及びｐがそれぞれ約９〜１２である、項目３８〜４２のいずれか一項又は項目４４〜５２のいずれか一項に記載の方法。
【００６８】
５４．ポリフルオロポリエーテルセグメントの重量平均分子量が約１０００以上、特定すると約１８００以上である、項目３１〜５３のいずれか一項に記載の方法。
【００６９】
５５．７５０未満の重量平均分子量を有するポリフルオロポリエーテルセグメントを有するポリフルオロポリエーテルシランの量が、ポリフルオロポリエーテルシランの総量の１０重量％以下であり、特定するとポリフルオロポリエーテルシランの総量の５重量％以下であり、更に特定するとポリフルオロポリエーテルシランの総量の１重量％以下であり、最も特定するとポリフルオロポリエーテルシランの総量の０重量％である、項目３３〜５３のいずれか一項に記載の方法。
【００７０】
５６．非金属コーティングが実質的に無アミン、無アミド及び／又は無チオール官能基であり、特定すると非金属コーティングが無アミン、無アミド及び／又は無チオール官能基である、項目５又は６に直接又は間接に依存して項目３０〜５５のいずれか一項に記載の方法。
【００７１】
５７．非金属コーティングが実質的に無フッ素、特定すると無フッ素である、項目１〜５６のいずれか一項に記載の方法。
【００７２】
５８．少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物が有機溶媒を更に含む、項目１〜５７のいずれか一項に記載の方法。
【００７３】
５９．有機溶媒がフッ素化溶媒及び／又は低級アルコールである、項目５８に記載の方法。
【００７４】
６０．少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物が酸を更に含む、項目５８又は５９に記載の方法。
【００７５】
６１．少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物が水を更に含む、項目１〜６０のいずれか一項に記載の方法。
【００７６】
６２．少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物が、非フッ素化架橋剤、特定すると、それぞれの化合物が１分子当たり少なくとも２つの加水分解性基を有する、１つ以上の非フッ素化化合物を含む架橋剤を更に含む、項目１〜６１のいずれか一項に記載の方法。
【００７７】
６３．非フッ素化化合物が、式ＩＩの化合物であり、
Ｓｉ（Ｙ２）４−ｇ（Ｒ５）ｇ                ＩＩ
式中Ｒ５は非加水分解性基を表し、
Ｙ２は加水分解性基を表し、
ｇは０、１又は２である、
項目６２に記載の方法。
【００７８】
６４．架橋剤が、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、オクタデシルトリエトキシ−シラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン３−トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、及びこれらの混合物からなる群から選択される化合物を含む、項目６２又は６３に記載の方法。
【００７９】
６５．少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物が、噴霧、浸漬、ローリング、刷毛塗り、延展、スピンコーティング又はフローコーティング、特定すると噴霧又は浸漬によって適用される、項目１〜６４のいずれか一項に記載の方法。
【００８０】
６６．組成物を適用した後に硬化工程を更に含む、項目１〜６５のいずれか一項に記載の方法。
【００８１】
６７．硬化が、約４０℃〜約３００℃の範囲の高温で行われる、項目６６に記載の方法。
【００８２】
６８．適用に応じて、非金属コーティングが装置の表面上又は装置構成要素の表面上に形成されて、非金属コーティングがこの表面と共有結合する、項目１〜６７のいずれか一項に記載の方法。
【００８３】
６９．適用に応じて、装置の表面又は装置構成要素の表面が、保管又は医薬品吸入装置からの送達の際に、薬剤又は医薬製剤と接触している又は接触することになる表面である、項目１〜６８のいずれか一項に記載の方法。
【００８４】
７０．適用に応じて、装置の表面又は装置構成要素の表面が、装置の可動構成要素と接触する表面である、又は装置の可動構成要素の表面である、項目１〜６９のいずれか一項に記載の方法。
【００８５】
７１．医薬品吸入装置が定量吸入器又はドライパウダー吸入器である、項目１〜７０のいずれか一項に記載の方法。
【００８６】
７２．項目１に直接又は間接に依存して項目１、又は項目３〜７１のいずれか一項に従って作製される、医薬品吸入装置。
【００８７】
７３．項目２に直接若しくは間接に依存して項目２、又は項目３〜７１のいずれか一項に従って作製される、医薬品吸入装置構成要素。
【００８８】
７４．医薬品吸入装置であって、装置の表面の少なくとも一部分の非金属コーティングと、この非金属コーティングと結合されたフッ素含有コーティングと、を含み、このフッ素含有コーティングが、この非金属コーティングと少なくとも１つの共有結合を共有する少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む、医薬品吸入装置。
【００８９】
７５．医薬品吸入装置構成要素であって、構成要素の表面の少なくとも一部分の非金属コーティングと、この非金属コーティングと結合されたフッ素含有コーティングと、を含み、このフッ素含有コーティングが、この非金属コーティングと少なくとも１つの共有結合を共有する少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む、構成要素。
【００９０】
７６．フッ素含有コーティングが、複数の共有結合によって、非金属コーティングに共有結合される、項目７４に記載の装置又は項目７５に記載の構成要素。
【００９１】
７７．フッ素含有コーティングが、Ｏ−Ｓｉ基における結合、特定するとＳｉ−Ｏ−Ｓｉ基における結合を含む複数の共有結合によって、非金属コーティングに共有結合される、項目７４に依存して項目７４若しくは７６に記載の装置、又は項目７５に依存して項目７５若しくは７６に記載の構成要素。
【００９２】
７８．非金属コーティングがケイ素及び酸素を含む、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目７４若しくは項目７６〜７７のいずれか一項に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目７５若しくは項目７６〜７７のいずれか一項に記載の構成要素。
【００９３】
７９．非金属コーティングが炭素を更に含む、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目７８に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目７８に記載の構成要素。
【００９４】
８０．非金属コーティングのケイ素対酸素の比率が２未満である、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目７８若しくは７９のいずれか一項に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目７８若しくは７９のいずれか一項に記載の構成要素。
【００９５】
８１．非金属コーティングが実質的に無フッ素、より特定すると無フッ素である、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目７４若しくは項目７６〜８０のいずれか一項に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目７５若しくは項目７６〜８０のいずれか一項に記載の構成要素。
【００９６】
８２．非金属コーティングが、装置又は構成要素のそれぞれの表面の少なくとも一部分に共有結合される、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目７４若しくは項目７６〜８１のいずれか一項に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目７５若しくは項目７６〜８１のいずれか一項に記載の構成要素。
【００９７】
８３．非金属コーティングがプラズマ蒸着コーティングである、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目７４若しくは項目７６〜８２のいずれか一項に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目７５若しくは項目７６〜８２のいずれか一項に記載の構成要素。
【００９８】
８４．非金属コーティングが、イオン衝撃条件下でのプラズマ蒸着コーティングである、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目８３に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目８３に記載の構成要素。
【００９９】
８５．非金属コーティングがダイヤモンド状ガラスコーティングである、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目７４若しくは項目７６〜８４のいずれか一項に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目７５若しくは項目７６〜８４のいずれか一項に記載の構成要素。
【０１００】
８６．ダイヤモンド状ガラスコーティングが、無水素ベースで少なくとも約２０原子％の炭素及び少なくとも約３０原子％のケイ素＋酸素を含有する、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目８５に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目８５に記載の構成要素。
【０１０１】
８７．ダイヤモンド状ガラスコーティングが、無水素ベースで少なくとも約２５原子％の炭素、約１５〜約５０原子％のケイ素、及び約１５〜約５０原子％の酸素を含有する、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目８６に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目８６に記載の構成要素。
【０１０２】
８８．ダイヤモンド状ガラスコーティングが、無水素ベースで約３０〜約６０原子％の炭素、約２０〜約４５原子％のケイ素、及び約２０〜約４５原子％の酸素を含有する、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目８７に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目８７に記載の構成要素。
【０１０３】
８９．ダイヤモンド状ガラスコーティングが、無水素ベースで約３０〜約５０原子％の炭素、約２５〜約３５原子％のケイ素、及び約２５〜約４５原子％の酸素を含有する、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目８８に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目８８に記載の構成要素。
【０１０４】
９０．ダイヤモンド状ガラスコーティングが、無水素ベースで約３０〜約３６原子％の炭素、約２６〜約３２原子％のケイ素、及び約３５〜約４１原子％の酸素を含有する、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目８９に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目８９に記載の構成要素。
【０１０５】
９１．少なくとも部分的にフッ素化された化合物の少なくとも１つの官能基がシラン基である、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目７４若しくは項目７６〜９０のいずれか一項に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目７５若しくは項目７６〜９０のいずれか一項に記載の構成要素。
【０１０６】
９２．少なくとも部分的にフッ素化された化合物がポリフルオロポリエーテルセグメント、特定すると全フッ素化ポリフルオロポリエーテルセグメントを含む、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目７４若しくは項目７６〜９１のいずれか一項に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目７５若しくは項目７６〜９１のいずれか一項に記載の構成要素。
【０１０７】
９３．少なくとも部分的にフッ素化された化合物が、全フッ素化ポリフルオロポリエーテルセグメントを含み、全フッ素化ポリフルオロポリエーテルセグメントの繰り返し単位において、連続する炭素原子の数が最高６であり、特定すると最高４であり、更に特定すると最高３であり、最も特定すると最高２である、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目７４若しくは項目７６〜９２のいずれか一項に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目７５若しくは項目７６〜９２のいずれか一項に記載の構成要素。
【０１０８】
９４．少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物がポリフルオロポリエーテルシランであり、特定すると多官能性ポリフルオロポリエーテルシランであり、更に特定すると二官能性ポリフルオロポリエーテルシランである、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目７４若しくは項目７６〜９３のいずれか一項に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目７５若しくは項目７６〜９３のいずれか一項に記載の構成要素。
【０１０９】
９５．１つ若しくは複数のポリフルオロポリエーテルセグメントが、窒素−ケイ素結合又は硫黄−ケイ素結合を含む官能基を介してシラン基と連結されていない、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目９４に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目９４に記載の構成要素。
【０１１０】
９６．１つ若しくは複数のポリフルオロポリエーテルセグメントが、炭素−ケイ素結合を含む官能基を介して、特定すると式中Ｒが独立して水素又はＣ１〜４アルキル基である−Ｃ（Ｒ）２−Ｓｉ官能基を介して、更に特定すると式中ｋが少なくとも２でありＲが独立して水素又はＣ１〜４アルキル基である−（ＣＲ２）ｋ−Ｃ（Ｒ）２−Ｓｉ官能基を介して、シラン基と連結されている、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目９４若しくは９５に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目９４若しくは９５に記載の構成要素。
【０１１１】
９７．フッ素含有コーティングが、式Ｉｂのポリフルオロポリエーテルシラン物質を含むポリフルオロポリエーテル含有コーティングであり、
Ｒｆ［Ｑ−［Ｃ（Ｒ）２−Ｓｉ（Ｏ−）３−ｘ（Ｒ１ａ）ｘ］ｙ］ｚ        Ｉｂ
少なくとも１つの共有結合を非金属コーティングと共有し、
式中、
Ｒｆは、一価又は多価ポリフルオロポリエーテルセグメントであり、
Ｑは有機二価又は三価の連結基であり、
各Ｒは独立して水素又はＣ１〜４アルキル基であり、
Ｒ１ａはＣ１〜８アルキル又はフェニル基であり、
ｘは０又は１又は２であり、
ｙは１又は２であり、
ｚは１、２、３、又は４である、
項目７４に直接若しくは間接に依存して項目９４若しくは９５に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目９４若しくは９５に記載の構成要素。
【０１１２】
９８．非金属コーティングと共有される少なくとも１つの共有結合が、Ｓｉ（Ｏ−）３−ｘにおける酸素原子への結合である、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目９７に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目９７に記載の構成要素。
【０１１３】
９９．ポリフルオロポリエーテセグメントＲｆが、−（ＣｎＦ２ｎＯ）−、−（ＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、−（ＣＦ（Ｚ）ＣｎＦ２ｎＯ）−、−（ＣｎＦ２ｎＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、−（ＣＦ２ＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される全フッ素化繰り返し単位を含み、式中ｎは１〜６の整数であり、Ｚはそれぞれが直鎖、分枝状、又は環状であることができ、酸素含有又は酸素置換であるとき１〜５個の炭素原子及び最高４の酸素原子を有するペルフルオロアルキル基、酸素含有ペルフルオロアルキル基、ペルフルオロアルコキシ基、又は酸素置換ペルフルオロアルコキシ基であり、Ｚを含む繰り返し単位において、連続する炭素原子の数が最高６である、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目９７若しくは９８に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目９７若しくは９８に記載の構成要素。
【０１１４】
１００．ｎが１〜４の整数であり、Ｚを含む繰り返し単位において、連続する炭素原子の数が最高４である、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目９９に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目９９に記載の構成要素。
【０１１５】
１０１．ｎが１〜３の整数であり、Ｚを含む繰り返し単位において、連続する炭素原子の数が最高３であり、更に特定すると、ポリフルオロポリエーテルセグメントＲｆが、−（ＣｎＦ２ｎＯ）−、−（ＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される全フッ素化繰り返し単位を含み、式中ｎが１又は２であり、Ｚが−ＣＦ３基である、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目１００に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目１００に記載の構成要素。
【０１１６】
１０２．ｚが１であり、Ｒｆが、Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−、ＣＦ３Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２−、Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ２ＣＦ２−、Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ２ＣＦ２−、Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−、及びＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｐ（ＣＦ２Ｏ）Ｘ−からなる群から選択され、式中ＸがＣＦ２−、Ｃ２Ｆ４−、Ｃ３Ｆ６−、Ｃ４Ｆ８−であり、ｐの平均値が３〜５０である、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目９７〜１００のいずれか一項に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目９７〜１００のいずれか一項に記載の構成要素。
【０１１７】
１０３．ｚが２であり、Ｒｆが、−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２−、
−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−
−ＣＦ（ＣＦ３）−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｐＯ−ＣｔＦ２ｔ−Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−、
−ＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２−、−（ＣＦ２）３Ｏ（Ｃ４Ｆ８Ｏ）ｐ（ＣＦ２）３−からなる群から選択され、式中ｔが２、３又は４であり、ｍが１〜５０であり、ｐが３〜４０である、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目９７〜１００のいずれか一項に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目９７〜１０１のいずれか一項に記載の構成要素。
【０１１８】
１０４．Ｒｆが、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２−、及び
−ＣＦ（ＣＦ３）−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｐＯ−（ＣｔＦ２ｔ）−Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−からなる群から選択され、式中ｔが２、３又は４であり、ｍ＋ｐ又はｐ＋ｐ又はｐの平均値が約４〜約２４である、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目１０３に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目１０３に記載の構成要素。
【０１１９】
１０５．Ｑが、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−（ＣＨ２）ｋ−、−Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｒ）−（ＣＨ２）ｋ−、−（ＣＨ２）ｋ−、
−ＣＨ２Ｏ−（ＣＨ２）ｋ−、−Ｃ（Ｏ）Ｓ−（ＣＨ２）ｋ−、−ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−（ＣＨ２）ｋ−からなる群から選択され、
【０１２０】
【化２】
0005571560.tif 000003
【０１２１】
式中Ｒが水素又はＣ１〜４アルキルであり、ｋが２〜約２５である、
項目７４に直接若しくは間接に依存して項目９７〜１０４のいずれか一項に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目９７〜１０４のいずれか一項に記載の構成要素。
【０１２２】
１０６．Ｑが、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）（ＣＨ２）２−、−ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、又は−ＣＨ２−ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−（ＣＨ２）２−からなる群から選択され、式中Ｒが水素又はＣ１〜４アルキルであり、ｙが１である、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目１０５に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目１０５に記載の構成要素。
【０１２３】
１０７．Ｒが水素である、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目９６〜１０６のいずれか一項に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目９６〜１０６のいずれか一項に記載の構成要素。
【０１２４】
１０８．ｘが０である、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目９７〜１０７のいずれか一項に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目９７〜１０７のいずれか一項に記載の構成要素。
【０１２５】
１０９．Ｒｆが−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２−であり、Ｑ−Ｃ（Ｒ）２−Ｓｉ（Ｏ−）３−ｘ（Ｒ１ａ）ｘがＣ（Ｏ）ＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（Ｏ−）３であり、式中ｍが１〜５０であり、ｐが３〜４０であり、特定すると、ｍ＋ｐ又はｐ＋ｐ又はｐの平均値が約４〜約２４であり、更に特定するとｍ及びｐがそれぞれ約９〜１２である、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目９７〜１０１のいずれか一項若しくは項目１０３〜１０８のいずれか一項に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目９７〜１０１のいずれか一項若しくは項目１０３〜１０８のいずれか一項に記載の構成要素。
【０１２６】
１１０．ポリフルオロポリエーテルセグメントの重量平均分子量が約１０００以上、特定すると約１８００以上である、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目９２〜１０９のいずれか一項に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目９２〜１０９のいずれか一項に記載の構成要素。
【０１２７】
１１１．ポリフルオロポリエーテルセグメントの重量平均分子量が約６０００以下、特定すると約４０００以下である、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目９２〜１１０のいずれか一項に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目９２〜１１０のいずれか一項に記載の構成要素。
【０１２８】
１１２．７５０未満の重量平均分子量を有するポリフルオロポリエーテルセグメントを有するポリフルオロポリエーテルシランの量が、ポリフルオロポリエーテルシランの総量の１０重量％以下であり、特定するとポリフルオロポリエーテルシランの総量の５重量％以下であり、更に特定するとポリフルオロポリエーテルシランの総量の１重量％以下であり、最も特定するとポリフルオロポリエーテルシランの総量の０重量％である、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目９４〜１１１のいずれか一項に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目９４〜１１１のいずれか一項に記載の構成要素。
【０１２９】
１１３．非金属コーティングが実質的に無窒素及び／又は無硫黄であり、特定すると無窒素及び／又は無硫黄である、項目７４に直接若しくは間接に依存して項目９１〜１１２のいずれか一項に記載の装置、又は項目７５に直接若しくは間接に依存して項目９２〜１１２のいずれか一項に記載の構成要素。
【０１３０】
１１４．医薬品吸入装置であって、装置の表面の少なくとも一部分にプラズマ蒸着された非金属コーティングを含み、このコーティングが、イオン衝撃条件下でプラズマ蒸着され、実質的に無フッ素、特定すると無フッ素である、医薬品吸入装置。
【０１３１】
１１５．医薬品吸入装置構成要素であって、構成要素の表面の少なくとも一部分にプラズマ蒸着された非金属コーティングを含み、このコーティングが、イオン衝撃条件下でプラズマ蒸着され、実質的に無フッ素、特定すると無フッ素である、構成要素。
【０１３２】
１１６．非金属コーティングが、装置又は構成要素のそれぞれの表面の少なくとも一部分に共有結合される、項目１１４に記載の装置又は項目１１５に記載の構成要素。
【０１３３】
１１７．非金属コーティングがケイ素、酸素、及び水素を含む、項目１１４に依存して項目１１４若しくは１１６に記載の装置、又は項目１１５に依存して項目１１５若しくは１１６に記載の構成要素。
【０１３４】
１１８．非金属コーティングが炭素を更に含む、項目１１４に直接若しくは間接に依存して項目１１７に記載の装置、又は項目１１５に直接若しくは間接に依存して項目１１７に記載の構成要素。
【０１３５】
１１９．非金属コーティングのケイ素対酸素の比率が２未満である、項目１１４に直接若しくは間接に依存して項目１１７若しくは１１８に記載の装置、又は項目１１５に直接若しくは間接に依存して項目１１７若しくは１１８に記載の構成要素。
【０１３６】
１２０．医薬品吸入装置であって、装置の表面の少なくとも一部分にダイヤモンド状ガラスコーティングを含む、医薬品吸入装置。
【０１３７】
１２１．医薬品吸入装置構成要素であって、構成要素の表面の少なくとも一部分にダイヤモンド状ガラスコーティングを含む、医薬品吸入装置構成要素。
【０１３８】
１２２．ダイヤモンド状ガラスコーティングが、無水素ベースで少なくとも約２０原子％の炭素及び少なくとも約３０原子％のケイ素＋酸素を含有する、項目１２０に記載の装置、又は項目１２１に記載の構成要素。
【０１３９】
１２３．ダイヤモンド状ガラスコーティングが、無水素ベースで少なくとも約２５原子％の炭素、約１５〜約５０原子％のケイ素、及び約１５〜約５０原子％の酸素を含有する、項目１２０に依存して項目１２２に記載の装置、又は項目１２１に依存して項目１２２に記載の構成要素。
【０１４０】
１２４．ダイヤモンド状ガラスコーティングが、無水素ベースで約３０〜約６０原子％の炭素、約２０〜約４５原子％のケイ素、及び約２０〜約４５原子％の酸素を含有する、項目１２０に直接若しくは間接に依存して項目１２３に記載の装置、又は項目１２１に直接若しくは間接に依存して項目１２３に記載の構成要素。
【０１４１】
１２５．ダイヤモンド状ガラスコーティングが、無水素ベースで約３０〜約５０原子％の炭素、約２５〜約３５原子％のケイ素、及び約２５〜約４５原子％の酸素を含有する、項目１２０に直接若しくは間接に依存して項目１２４に記載の装置、又は項目１２１に直接若しくは間接に依存して項目１２４に記載の構成要素。
【０１４２】
１２６．ダイヤモンド状ガラスコーティングが、無水素ベースで約３０〜約３６原子％の炭素、約２６〜約３２原子％のケイ素、及び約３５〜約４１原子％の酸素を含有する、項目１２０に直接若しくは間接に依存して項目１２５に記載の装置、又は項目１２１に直接若しくは間接に依存して項目１２５に記載の構成要素。
【０１４３】
１２７．ダイヤモンド状ガラスコーティングのケイ素対酸素の比率が２未満である、項目１２０に直接若しくは間接に依存して項目１２０若しくは項目１２２〜１２６のいずれか一項に記載の装置、又は項目１２１に直接若しくは間接に依存して項目１２０若しくは項目１２２〜１２６のいずれか一項に記載の構成要素。
【０１４４】
１２８．適用に応じて、装置の表面又は装置構成要素の表面が、保管又は医薬品吸入装置からの送達の際に、薬剤又は医薬製剤と接触している又は接触することになる表面である、項目７４〜１２７のいずれか一項に記載の装置又は構成要素。
【０１４５】
１２９．適用に応じて、装置の表面又は装置構成要素の表面が、装置の可動構成要素と接触する表面である、又は装置の可動構成要素の表面である、項目７４〜１２８のいずれか一項に記載の方法。
【０１４６】
１３０．医薬品吸入装置が定量吸入器又はドライパウダー吸入器である、項目７４〜１２９のいずれか一項に記載の装置又は構成要素。
【０１４７】
１３１．構成要素が定量吸入器の構成要素であって、構成要素が作動装置、エアゾール容器、フェルール、バルブ本体、バルブステム、及び圧縮バネからなる群から選択される、項目７５若しくは１１５に直接若しくは間接に依存して項目７３若しくは７５、又は項目７６〜１１３のいずれか一項に記載の、あるいは項目１１５若しくは１２１に直接若しくは間接に依存して項目１１６〜１１９のいずれか一項に記載の、あるいは項目１２１に直接若しくは間接に依存して項目１２２〜１２７のいずれか一項に記載の、構成要素。
【０１４８】
１３２．構成要素がドライパウダー吸入器の構成要素であって、構成要素が、パウダー容器、密封パウダー容器を開くために使用される構成要素、デアグロメレーションチャンバを少なくとも部分的に画定する構成要素、デアグロメレーションシステムの構成要素、フローチャネルを少なくとも部分的に画定する構成要素、用量輸送構成要素、混合チャンバを少なくとも部分的に画定する構成要素、作動チャンバを少なくとも部分的に画定する構成要素、マウスピース、及びノーズピースからなる群から選択される構成要素である、項目７５若しくは１１５に直接若しくは間接に依存して項目７３若しくは７５、又は項目７６〜１１３のいずれか一項に記載の、あるいは項目１１５若しくは１２１に直接若しくは間接に依存して項目１１６〜１１９のいずれか一項に記載の、あるいは項目１２１に直接若しくは間接に依存して項目１２２〜１２７のいずれか一項に記載の構成要素。
【０１４９】
１３３．構成要素が医薬品吸入装置用の呼吸作動装置の構成要素、又は呼吸調整装置の構成要素、又はスペーサ、又はスペーサの構成要素、又は用量カウンタの構成要素である、項目７５若しくは１１５に直接若しくは間接に依存して項目７３若しくは７５、又は項目７６〜１１３のいずれか一項に記載の、あるいは項目１１５若しくは１２１に直接若しくは間接に依存して項目１１６〜１１９のいずれか一項に記載の、あるいは項目１２１に直接若しくは間接に依存して項目１２２〜１２７のいずれか一項に記載の、構成要素。
【０１５０】
１３４．装置が定量吸入器であり、吸入器が製剤並びにＨＦＡ  １３４ａ及び／又はＨＦＡ  ２２７を含む医薬品エアゾール製剤を含む、項目７４若しくは１１４に直接若しくは間接に依存して項目７２若しくは７４、又は項目７６〜１１３のいずれか一項に記載の、あるいは項目１１４若しくは１２０に直接若しくは間接に依存して項目１１６〜１１９のいずれか一項に記載の、あるいは項目１２０に直接若しくは間接に依存して項目１２２〜１２７のいずれか一項に記載の、装置。
【０１５１】
１３５．医薬品エアゾール製剤が実質的に無エタノールである、項目１３４に記載の装置。
【０１５２】
１３６．医薬品エアゾール製剤が無エタノールである、項目１３５に記載の装置。
【０１５３】
１３７．医薬品エアゾール製剤が実質的に無界面活性剤である、項目１３４〜１３６のいずれか一項に記載の装置。
【０１５４】
１３８．医薬品エアゾール製剤が無界面活性剤である、項目１３７に記載の装置。
【０１５５】
１３９．医薬品エアゾール製剤が、前記製剤に分散された薬剤を含む、項目１３４〜１３８のいずれか一項に記載の装置。
【０１５６】
１４０．医薬品エアゾール製剤の医薬品製剤が、アルブテロール、テルブタリン、イプラトロピウム、オキシトロピウム、チオトロピウム、ベクロメタゾン、フルニソリド、ブデソニド、モメタゾン、シクレソニド、クロモリンナトリウム、ネドクロミルナトリウム、ケトチフェン、アゼラスチン、エルゴタミン、シクロスポリン、サルメテロール、フルチカゾン、フォルモテロール、プロカテロール、インダカテロール、ＴＡ２００５、オマリズマブ、ジレウトン、インスリン、ペンタミジン、カルシトニン、ロイプロリド、α−１−アンチトリプシン、インターフェロン、トリアムシノロン、及び製薬上許容されるこれらの塩及びエステル並びに混合物からなる群から選択される薬剤を含む、項目１３４〜１３９のいずれか一項に記載の装置。
【０１５７】
本発明の上述の「課題を解決するための手段」は、本発明の開示される各実施形態又は全ての実施を記載することを目的としていない。以下の説明により、例示的な実施形態をより具体的に例示する。本出願の全体にわたる複数の箇所で、実施例の一覧によって指針が与えられており、それらの例は、個別に及び様々な組み合わせで使用されることができる。いずれの場合にも、記載した一覧は、代表的な群としてのみ役立つものであり、排他的な一覧として解釈されるべきではない。
【図面の簡単な説明】
【０１５８】
ここで、本発明について、添付図面に即して記載する。
【図１ａ】当該技術分野で既知の加圧定量吸入器の概略的断面図。
【図１ｂ】吸入器の一部分の拡大図。
【図２】加圧定量吸入器に使用される当該技術分野で既知の更なる定量バルブの概略的断面図。
【図３】加圧定量吸入器に使用される当該技術分野で既知の更なる定量バルブの概略的断面図。
【図４】加圧定量吸入器に使用される当該技術分野で既知の更なる定量バルブの概略的断面図。
【図５】加圧定量吸入器に使用される当該技術分野で既知の更なる定量バルブの概略的断面図。
【図６】プラズマ蒸着に好適な例示的装置、具体的にはイオン衝撃条件下での、基材（例えば、医薬品吸入装置構成要素）の表面の少なくとも一部分の非金属コーティングのプラズマ蒸着に好適な例示的装置の概略的断面図。
【図７】プラズマ蒸着に好適な例示的装置、具体的にはイオン衝撃条件下での、基材（例えば、医薬品吸入装置構成要素）の表面の少なくとも一部分の非金属コーティングのプラズマ蒸着に好適な例示的装置の概略的断面図。
【発明を実施するための形態】
【０１５９】
本発明は、本明細書で説明する本発明の、特有であり、好適であり、望ましく、好都合であり、有利でありかつ好ましい態様のすべての組み合わせを網羅していることを理解されたい。
【０１６０】
本発明のより良く理解するために、代表的な周知の加圧定量吸入器（図１）並びに加圧定量吸入器用のいくつかの既知の定量バルブ（図２〜５）についてまず以下に説明する。具体的には、図１ａは、定量ディスペンサー（１００）、具体的には定量バルブ（１０）が装着されたエアゾール容器（１）を含む吸入器を示す（静止中の位置で図示）。
【０１６１】
定量吸入器用エアゾール容器は、典型的に、アルミニウム又はアルミニウム合金で作製される。エアゾール容器は、ステンレススチール、ガラス、プラスチック、及びセラミックのようなその他の材料で作製することもできる。
【０１６２】
図１ａを再び参照すると、バルブは、通常、バルブアセンブリの一部として概して提供されるキャップ又はフェルール（１１）（典型的には、アルミニウム又はアルミニウム合金で作製される）を介して容器に固定される。例示のバルブは、３Ｍ社（米国ミネソタ州セントポール）が市販するスプレーマイザー（SPRAYMISER）（商品名）である。図１ａで示すように、容器／バルブディスペンサーには、典型的に、マウスピースのような適切な患者用ポート（６）を含む作動装置（５）が設けられる。鼻腔への投与では、患者ポートは一般に、適切な形態（例えば、小径の管であり、多くの場合、上方に傾斜している）で提供される。作動装置は、通常プラスチック製であり、例えばポリプロピレン又はポリエチレンである。図１ａで見られるように、容器の内壁（２）及びこの容器内に位置付けられた定量バルブの部分の外壁は、エアゾール製剤（４）が収容される製剤チャンバ（３）を画定する。具体的な定量バルブ及び／又は充填システムに依存して、エアゾール製剤は、コールドフィリング（冷却された製剤を容器内に充填した後、容器に定量バルブを装着する）か、圧送注入（定量バルブを容器に装着してから、バルブを介して容器内に製剤を圧送して充填する）のいずれかによって容器に充填される。
【０１６３】
定量吸入器に使用されるエアゾール製剤は、典型的に、薬剤又は薬剤の組み合わせと、ＨＦＡ  １３４ａ、ＨＦＡ  ２２７、及びこれらの混合物からなる群から選択される液化噴射剤とを含む。所望又は必要に応じて、エアゾール製剤は、界面活性剤のような賦形剤、共溶媒（例えば、エタノール）、ＣＯ２、又は微粒子充填剤を含むことができる。薬剤は、液化噴射剤中に懸濁した微粒子形態（一般に、サイズ中央値は１〜１０マイクロメートルの範囲）で提供することができる。あるいは、薬剤は、製剤中の溶液（例えば溶解されている）であってもよい。２つ以上の薬剤の組み合わせが含まれる場合は、全ての薬剤を懸濁させる又は溶液とするか、あるいは１つ以上の薬剤を懸濁させると同時に１つ以上の薬剤を溶液にすることができる。薬剤は、薬物、ワクチン、ＤＮＡフラグメント、ホルモン、又は他の治療剤であることができる。薬剤の量は、一吸入当たりの必要用量及び利用可能なバルブのサイズ（典型的に２５、５０、又は６３マイクロリットルであるが、特に大きい用量が必要とされる場合は１００マイクロリットルを含む場合がある）によって決定される。好適な薬物としては、呼吸障害を治療するためのもの、例えば気管支拡張剤、抗炎症剤（副腎皮質ホルモン）、抗アレルギー剤、抗喘息剤、抗ヒスタミン剤、及び抗コリン剤が挙げられる。また、吸入による送達のために治療用タンパク質及びペプチドを採用することもできる。吸入による送達のために採用され得る代表的な薬物としては、アルブテロール、テルブタリン、イプラトロピウム、オキシトロピウム、チオトロピウム、ベクロメタゾン、フルニソリド、ブデソニド、モメタゾン、シクレソニド、クロモリンナトリウム、ネドクロミルナトリウム、ケトチフェン、アゼラスチン、エルゴタミン、シクロスポリン、サルメテロール、フルチカゾン、フォルモテロール、プロカテロール、インダカテロール、ＴＡ２００５、オマリズマブ、ジレウトン、インスリン、ペンタミジン、カルシトニン、ロイプロリド、α−１−アンチトリプシン、インターフェロン、トリアムシノロン、及び製薬上許容されるこれらの塩及びエステル（硫酸アルブテロール、フマル酸フォルモテロール、キシナホ酸サルメテロール、ジプロピオン酸ベクロメタゾン、トリアムシノロンアセトニド、プロピオン酸フルチカゾン、臭化チオトロピウム、酢酸ロイプロリド、及びフロ酸モメタゾンなど）が挙げられるが、これらに限定されない。
【０１６４】
以下に記述する、本発明の実施形態は、低量の界面活性剤（製剤に対して０．００５重量％）を含む、又は実質的に無界面活性剤（薬物に対して０．０００１重量％未満）若しくは無界面活性剤である、医薬品エアゾール製剤を含む定量吸入器に関して特に有用である。あるいは、又は加えて、以下に詳述する実施形態は、低量のエタノール（製剤に対して５重量％）を含有する、又は実質的に無エタノール（製剤に対して０．１重量％未満）若しくは無エタノールである、医薬品エアゾール製剤を含む定量吸入器に特に有用である。
【０１６５】
図１ａに示すバルブ（図１ｂに更に見易く図示されている）は、内部バルブ本体（１３）によって一部が画定された定量チャンバ（１２）を含み、これをバルブステム（１４）が貫通する。バルブステムは、圧縮バネ（１５）によって外側に付勢されており、内部タンクシール（１６）及び外側ダイヤフラムシールとスライド密封係合している。このバルブは、また、ボトル空け（bottle emptier）の形状の第２のバルブ本体（２０）を含む。
【０１６６】
（多様な、特に少なくとも２つのバルブ本体を含む定量バルブについて明確に説明するために、以下、定量チャンバを部分的に画定するバルブ本体を「主要」バルブ本体と呼び、その他のタイプのバルブ本体（例えば、プレ計量領域、プレ計量チャンバ、バネケージ及び／又はボトル空け（bottle emptier））を「二次」バルブ本体と呼ぶ。）
図１ａに戻ると、エアゾール製剤（４）は、製剤チャンバから、二次バルブ本体のフランジ（２３）と主要バルブ本体との間の環状空間（２１）を通って、二次バルブ本体（２０）と主要バルブ本体（１３）との間に提供されたプレ計量チャンバ（２２）に入ることができる。バルブを作動（発射）するには、図１ａ及びｂに示す静止位置から、バルブステム（１４）を容器に対して内方に押して、製剤が定量チャンバからバルブステムの側穴（１９）を通り、ステム出口（２４）を通って作動装置ノズル（７）に入り、患者に向けて出ることを可能にする。バルブステム（１４）を解放すると、製剤は環状空間（２１）を通ってバルブ内に入り（具体的にはプレ計量チャンバ（２２）内に入る）、次にプレ計量チャンバからバルブステムの溝（１８）を通ってタンクシール（１６）を通過し、定量チャンバ（１２）に入る。
【０１６７】
上述したように、図２〜５は、ｐＭＤＩに使用される他の既知の定量バルブを示す。図１に図示されるバルブと同様に、図２〜５のバルブは、典型的に、フェルールを介してエアゾール容器に装着され、それによって製剤チャンバは容器の内壁と、容器内に位置付けられた部分のバルブの外壁とによって画定される。理解の促進及び比較のために、それぞれのバルブの類似した構成要素は、図において同様の参照番号で識別される。
【０１６８】
図２は、米国特許第５，７７２，０８５号（参照により本明細書に組み込まれる）に開示及び記述されているものと概して類似したタイプの定量バルブ（１０）を示す。このバルブは、その静止位置にて図示されており、バルブ本体（２０）及びバルブステム（１４）を含む。製剤容器内に収容されているエアゾール製剤の圧力下で外側に付勢されているバルブステムには、内側シール及び外側シール（１６及び１７）が設けられている。押して発射するタイプの図１及び図３〜５のバルブとは異なり、この図のバルブは解放して発射するタイプのバルブである。バルブを作動させるには、まずバルブステム（１４）を上方に押して製剤チャンバ（図示せず）に入れると、外側シール（１７）がバルブ本体の外部に設けられた出口（２５）を越えて内側に進み、次に内側シール（１６）が内側に進み、バルブ本体の内壁から係合解除され、それによって定量チャンバ（１２）が上昇して製剤チャンバに入ることにより、製剤が定量チャンバに入ることができ（バルブのプライミング位置と呼ばれる）、次にバルブステムが解放されて外側に移動し、内側シールが再びバルブ本体と係合し、次に外側シールが出口を越えて外側に進み、定量チャンバを出口と連通させて、製剤が出口を通って患者へと進む。
【０１６９】
図３は、国際特許公開第２００４／０２２１４２号（参照により本明細書に組み込まれる）に開示及び記述されているものと概して類似したタイプの定量バルブ（１０）を示す。バルブはその静止位置で図示されており、二次バルブ本体（２０）と、圧縮バネ（１５）によって外側に付勢されたバルブステム（１４）とを含む。バルブには内側シール（１６）と外側ダイヤフラムシールとが設けられ、バルブステムはダイヤフラムシールとスライド密封係合している。このバルブにおいて、二次バルブ本体は、製剤チャンバ（図示せず）とプレ計量チャンバ（２２）との連通を提供する３つのスロット（２１、２つが見えている）を有するバネケージハウジングの形態である。このバルブは、バルブの作動と同時に形成される移動性定量チャンバを含む。バルブの作動の間、バルブステム（１４）が容器に対して内側に押されるにつれて、バルブステム（１４）の錐体部分（２７）の下位表面（２８）と主要バルブ本体（１３）の上位の傾斜面（３１）との間に定量チャンバ（１２、見えていない）が形成される。エアゾール製剤はバルブステムの錐体部分のショルダ（３０）の周囲に沿って通過し、この形成される定量チャンバ内に入り、バルブステムが錐体部分の上位表面（２９）に更に押し入れられるにつれて、内側シール（１６）とフェイスシールを形成し、それによって定量チャンバを密封する。バルブステムが更に内側に移動するにつれて、製剤が定量チャンバからバルブステムの側穴（１９）及びバルブステムのステム出口（２４）を通過し、続いて典型的には作動装置ノズル（７、図示せず）を介して、患者に向かって出ることが可能になる。
【０１７０】
図４は、ベスパック社（Bespak）（英国ノーフォーク州キングスリン、バーゲンウェイ、ＰＥ３０  ２ＪＪ（Bergen Way, King’s Lynn, Norfolk, PE30 2JJ, UK））から供給されている市販の定量バルブＢＫ３５７（商品名）を、その静止位置で図示している。バルブは、製剤チャンバ（図示せず）とプレ計量チャンバ（２２）との間の連通を可能にする２つのスロット（２１）と、頂上の開口部（２１’）と、を有するバネケージの形態である第２のバルブ本体（２０）を含む。バルブは、また、２つの構成要素（１４ａ、１４ｂ）で作られたバルブステム（１４）を含み、このバルブステムは圧縮バネ（１５）によって外側に付勢され、主要バルブ本体（１３）によって部分的に画定された定量チャンバ（１２）を通過する。バルブステムは、内側シール（１６）及び外側ダイヤフラムシール（１７）とスライド密封係合している。エアゾール製剤は、プレ計量チャンバ（２２）からステム（１４）の上位部分（１４ａ）の側穴（３３ａ、３３ｂ）を通って定量チャンバ（１２）に入ることができる。図１に図示したバルブと同様に、バルブを作動（発射）するには、バルブステム（１４）を容器に対して内側に押して、定量の製剤が定量チャンバからバルブステムの側穴（１９）及びステム出口（２４）を通り、次に典型的には作動ノズル（７、図示せず）を通って、患者に向かって出ることを可能にする。
【０１７１】
図５は、バロア社（Valois SAS）医薬営業部門（Ｒｏｕｔｅ  ｄｅｓ  Ｆａｌａｉｓｅｓ，２７１００  ｌｅ  Ｖａｕｄｒｅｕｉｌ、フランス）から供給されている商品名がＲＣＳの市販の定量バルブであり、静止位置で図示されている。バルブは、製剤チャンバ（図示せず）とプレ計量チャンバ（２２）との間の連通を可能にする３つのスロット（２１、２つが見えている）を有するバネケージの形態である二次バルブ本体（２０）を含む。このバルブは、また、圧縮バネ（１５）によって外側に付勢される２つの構成要素（１４ａ、１４ｂ）からなるバルブステムを含み、主要バルブ本体（１３）によって部分的に画定された定量チャンバ（１２）を通過する。バルブステムは、内側シール（１６）及び外側ダイヤフラムシール（１７）とスライド密封係合している。エアゾール製剤は、プレ計量チャンバ（２２）から、バルブステムの上位部分（１４ａ）に設けられる側穴（３３）及び内部チャネル（３４）を通って定量チャンバに入ることができる。図１に図示したバルブと同様に、バルブを作動（発射）するには、バルブステム（１４）を容器に対して内側に押して、製剤が定量チャンバからバルブステムの側穴（１９）及びステム出口（２４）を通り、次に典型的には作動ノズル（７、図示せず）を通って患者に向かって出ることを可能にする。
【０１７２】
定量バルブに使用されるエラストマーシールを除き、典型的に、そのようなバルブの構成要素は金属（例えばステンレススチール、アルミニウム又はアルミニウム合金）又はプラスチック製である。例えば、圧縮バネは一般に金属製であり、具体的には、従来の材料としてのステンレススチールである。圧縮バネは、また、アルミニウム製又はアルミニウム合金製であってもよい。バルブステム及びバルブ本体は、一般に金属及び／又はプラスチック製であり、金属としては通常ステンレススチールが使用され（その他の使用可能な金属としては、アルミニウム、アルミニウム合金、及びチタンが挙げられる）、プラスチックとしては通常ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）及び／又はアセタールが使用される（その他の使用可能なポリマーとしては、ポリエーテルエーテルケトン、ナイロン、その他のポリエステル（テトラブチレンテレフタレートなど）、ポリカーボネート及びポリエチレンが挙げられる）。
【０１７３】
保管又は医薬品吸入装置からの送達の際に薬剤又は医薬品製剤と接触している又は接触することになる医薬品吸入装置（例えば、定量吸入器、又はドライパウダー吸入器のパウダー容器のエアゾール容器、作動装置、フェルール、バルブ本体、又は圧縮バネ）の１つ若しくはそれ以上の構成要素の表面の好ましくは少なくとも一部分、より好ましくは全面が、本明細書に記述された方法に従って処置される。最も好ましくは、保管又は吸入器からの送達の際に薬剤又は医薬品製剤と接触していない又は接触することにならない任意の１つ若しくはそれ以上の表面（存在する場合）を含む、構成要素の全面が、本明細書に記述された方法に従って処置される。あるいは、又は加えて、保管又は医薬品吸入装置からの送達の際に可動構成要素と接触する又は可動である医薬品吸入装置の１つ若しくはそれ以上の構成要素の表面の好ましくは少なくとも一部分、より好ましくは全面が、本明細書に記述された方法に従って処置される。定量吸入器のそのような構成要素の例としては、例えば、定量バルブのバルブ本体、バルブステム、又は圧縮バネが挙げられる。
【０１７４】
特定すると、本発明による、又は本発明による方法に従って作製された医薬品吸入装置構成要素は、定量吸入器の構成要素である。構成要素は、エアゾール容器、作動装置、フェルール、バルブ本体（例えば、主要バルブ本体及び／又は二次バルブ本体）、バルブステム、及び圧縮バネからなる群から選択することができる。あるいは、本発明による、又は本発明による方法に従って作製された医薬品吸入装置構成要素は、ドライパウダー吸入器の構成要素である。この構成要素は、少なくとも部分的にパウダー容器を画定する構成要素（例えば、多用量リザーバ容器又は一回用量ブリスター若しくはカプセル）、密封パウダー容器を開封するために使用される構成要素（例えば、一回用量ブリスター又はカプセルを開封する穿刺器）、デアグロメレーションチャンバを少なくとも部分的に画定する構成要素、デアグロメレーションシステムの構成要素、フローチャネルを少なくとも部分的に画定する構成要素、用量輸送構成要素（例えば、構成要素と、用量を輸送するために構成要素が動くハウジングとの間に入れられる一回用量の粉末を収容する寸法の凹みを有する用量ロッド、用量ホイール、又は用量シリンダー）、混合チャンバを少なくとも部分的に画定する構成要素、作動チャンバを少なくとも部分的に画定する構成要素（例えば、吸入の前に用量が分配される保持チャンバ）、マウスピース及びノーズピースからなる群から選択することができる。
【０１７５】
本発明の特定の態様による実施形態は、医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素（例えば、定量吸入器のエアゾール容器、定量バルブ若しくはその構成要素、又はドライパウダー吸入器のパウダー容器）の表面の少なくとも一部分に非金属コーティングを形成することを含み、このコーティングは少なくとも１つの官能基を有し、少なくとも１つの官能基は、少なくとも部分的にフッ素化された化合物の少なくとも１つの官能基と共有結合を形成することができる。
【０１７６】
本明細書で使用される用語「少なくとも１つの官能基」は、概して、好ましい実施形態として「複数の官能基」を含むことと理解されたい。
【０１７７】
非金属コーティングの少なくとも１つの官能基は、望ましくは、活性水素を含む。この少なくとも１つの官能基は、好ましくはヒドロキシル基（−ＯＨ）、チオール基（−ＳＨ）、アミン基（−ＮＨ−又は−ＮＨ２）、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、アミド基（−ＣＯＮＨ−又は−ＣＯＮＨ２）、又はそのような基の混合物であり、より好ましくはヒドロキシル基、カルボキシル基、又はそのような基の混合物であり、最も好ましくはヒドロキシル基である。
【０１７８】
好ましくは、前述の非金属コーティングを形成する工程は、ケイ素、酸素、及び水素を含むコーティングを形成すること、より好ましくは、炭素、ケイ素、酸素、及び水素を含む非金属コーティングを形成することを含む。
【０１７９】
本明細書に記述される非金属コーティングは、多様な既知のコーティング技術によって形成することができる。しかし、プラズマ蒸着、より望ましくはイオン衝撃条件下でのプラズマ蒸着によるそのようなコーティングの適用が望ましいことがわかっている。
【０１８０】
特定すると、非金属コーティング（更に特定すると、ケイ素、酸素、及び水素を含むコーティング、最も特定すると、ケイ素、酸素、水素、及び炭素を含むコーティング）は、望ましくは、選択的に酸素のような適切な補助ガスの存在下で適切な１つ若しくはそれ以上のモノマーをプラズマ重合することによって、例えばマイクロ波、誘導結合、ＤＣ及びＲＦ（高周波）のプラズマ蒸着に用いられる従来の条件を用いて、基材の表面にポリマーコーティングを提供するために基材上に重合種がプラズマ蒸着で形成されることによって、提供され得る。
【０１８１】
より望ましくは、非金属コーティング（更に特定すると、ケイ素、酸素、水素を含むコーティング、最も特定すると、炭素、ケイ素、酸素、水素を含むコーティング）は、イオン衝撃条件下でのプラズマ蒸着によって提供される。ここで、プラズマ蒸着は、プラズマ（選択的に酸素などの適切な補助ガスの存在下で、適切な１つ若しくはそれ以上のソース化合物から形成されるプラズマ）の生成と同時にイオンシースが形成されるやり方で、また、コーティング対象の表面を有する基材を、プラズマ蒸着中に基材がイオンシース内に納まるようにプラズマチャンバ内に配置して、実行される。イオンシースの形成の説明は、Ｂｒｉａｎ  Ｃｈａｐｍａｎ，Ｇｌｏｗ  Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ  Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ，１５３（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｙ＆Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ  １９８０）に見られる。ＲＦプラズマ蒸着では、これは、概して、ＲＦ給電電極を使用して、コーティングされる基材をＲＦ給電電極の近くに位置付けることによって達成することができる。マイクロ波プラズマ蒸着及び誘導結合プラズマ蒸着では、これは、マイクロ波又は誘導結合プラズマシステムに、それぞれ、電極を提供し、この電極を付勢し（通常は、負の付勢）、この付勢された電極の近くに基材を位置付けることによって達成することができる。ＤＣプラズマ蒸着では、これは、陰電極又は負に付勢された電極の近くに基材を位置付けることによって達成することができる（例えば、１０ｎｍ以下の薄いコーティングを提供するために）。このようにして、プラズマ蒸着はイオン衝撃条件下で生じる。更に、プラズマに形成された重合種がイオン衝撃にさらされるので、それらの重合種は、とりわけ基材への蒸着の前及び／又は蒸着と同時に分裂して、有利で密度が高くランダムな共有結合システムを基材表面に提供することが可能になる。そのような非晶性共有結合システム（特定すると、ケイ素、酸素、及び水素を含むシステムであり、更に特定すると、加えて炭素を含むシステム）は、金属、ポリマー、ガラス、及びセラミックを含む多くの基材に対して（例えば共有結合による）優れた付着力を示す。そのような共有結合性の非晶性システムは、例えば、バルブステム又は圧縮バネのような複雑に形成された構成要素に「シャープな」コーティングを提供する。そのような共有結合性の非晶性システム（特定すると、ケイ素、酸素、及び水素を含むシステムであり、更に特定すると、加えて炭素を含むシステム）は、典型的に透明又は半透明である故、望ましい。更に、そのような非晶性の共有結合システムは、有利な高い原子パッキング密度、典型的には、１立方センチメートル当たりのグラム原子数単位で約０．２０〜約０．２８（特定すると、約０．２２〜約０．２６）の範囲のグラム原子数密度を示す。ポリマーコーティング（例えば、プラズマポリマーコーティング）のグラム原子数密度は、通常約０．１８である。そのように高い原子パッキング密度は、最低限の多孔性と、液体又は気体材料に対する優れた拡散抵抗と、優秀な「ダイヤモンド状」の硬度とを有するコーティングの提供を可能にする。ナノインデンターを使用して測定されたそのようなコーティングのマイクロ硬度は、概して、好ましくは少なくとも１ＧＰａであり、より好ましくは少なくとも２ＧＰａである。そのようなコーティングは、また、低い摩擦係数／表面エネルギーを有利にも有する。本明細書で概して「ダイヤモンド状ガラス」と呼ばれる、炭素を更に含むそのようなコーティングは、ダイヤモンド様硬度と共に望ましい可撓性を示し、望ましい長期的耐久性、特に、可動構成要素（例えば、圧縮バネ）又は移動によって他の構成要素と接触する構成要素（例えば、バルブステム、バルブ本体）におけるコーティングの有利な長期的耐久性を可能にする。ナノインデンターを使用して測定されたそのようなコーティングのマイクロ弾性率は、概して、好ましくは少なくとも１１ＧＰａであり、より好ましくは少なくとも１３ＧＰａである。前述のコーティングの望ましい特性故に、それらは、単独で、又は少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物が上に適用されるコーティングとして、医薬品吸入装置又はその構成要素におけるコーティングとしての使用に特に有利である。後者に関しての場合もまた、望ましい高い原子パッキング密度によって、そのような非金属コーティングは、少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物の適用の際に、後の結合のための密な分布と、活性水素（例えば、ヒドロキシル基（−ＯＨ）及び／又はカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、特にヒドロキシル基）を有する官能基のような多数の官能基と、の提供を可能にする。
【０１８２】
イオン衝撃条件下でのプラズマ蒸着によってもたらされる、ケイ素、酸素、及び水素を含むコーティングは、望ましくは、２未満のケイ素対酸素の比率を有する。
【０１８３】
ダイヤモンド状ガラスコーティング（例えば、イオン衝撃条件下でのプラズマ蒸着によってもたらされる、炭素、ケイ素、酸素、及び水素を含むコーティング）は、好ましくは、無水素ベースで少なくとも約２０原子％の炭素及び少なくとも約３０原子％のケイ素＋酸素を含有し、より好ましくは、少なくとも約２５原子％の炭素及び約１５〜約５０原子％のケイ素及び約１５〜約５０原子％の酸素を含有し、更により好ましくは約３０〜約６０原子％の炭素及び約２０〜約３５原子％のケイ素及び約２０〜約４５原子％の酸素を含有し、なお更により好ましくは約３０〜約５０原子％の炭素及び約２５〜約３５原子％のケイ素及び約２５〜約４５原子％の酸素を含有し、最も好ましくは約３０〜約３６原子％の炭素及び約２６〜約３２原子％のケイ素及び約３５〜約４１原子％の酸素を含有する。ダイヤモンド状ガラスコーティングは、望ましくは、２未満のケイ素対酸素の比率を有する。「無水素ベース」とは、コーティングに大量に存在していても水素を検出しない化学分析用電子分光法（ＥＳＣＡ）のような方法によって確立された、材料の原子組成を指す。かなり高い量のケイ素及び酸素と有意な量の炭素との組み合わせは、（ダイヤモンド状炭素コーティングのようなガラス又は非晶性炭素コーティングと異なり）ダイヤモンド状ガラスコーティングを可撓性にする。また、この組み合わせにより、ダイヤモンド状ガラスコーティングは、（コーティング内に比較的高い固有の応力を有するために剥がれ落ちやすい傾向を有するダイヤモンド状炭素コーティングと異なり）比較的低い固有の応力を有し、したがって優れた長期的付着力及び耐久性を有する。このように、ダイヤモンド状ガラスコーティングは、（例えば定量バルブの圧縮バネのように）それ自体が移動する、又は（例えば定量バルブのバルブステムのように）他の構成要素と共に若しくはそれらに対して移動する医薬品吸入装置構成要素の１つ若しくはそれ以上の表面へのコーティングとして特に有利である。ダイヤモンド状ガラスコーティング、並びに、ダイヤモンド状ガラス作製方法及びダイヤモンドガラス蒸着用装置作製方法は、米国特許第６，６９６，１５７号（デビッド（David）ら）に記述されており、この特許の内容全体は本明細書に組み込まれる。
【０１８４】
イオン衝撃条件下でのプラズマ蒸着はプラズマ重合と区別されるものと認識されたい。更に、プラズマ重合技術においては、プラズマ蒸着は、（例えば、従来のマイクロ波又は誘導結合プラズマシステムを使用して）イオンシースが形成されないか、又はイオンシースが形成されるとしても、ポリマーでコーティングされる基材が任意のイオンシースの外に配置されるやり方で実行される。例えば、ＲＦ給電電極を使用するＲＦプラズマシステムに関しては、プラズマ重合のため、すなわち基材にポリマーを蒸着するために、基材は接地電極の近くに位置付けられるか、又は浮動電極に置かれる（すなわち電気的に隔離され、ＲＦプラズマ蒸着中に形成される任意のイオンシースの外に位置付けられる）。
【０１８５】
本明細書に使用される用語「プラズマ蒸着（plasma deposition）」は、特に他に指定しない限り、とりわけプラズマ重合、並びにイオン衝撃条件下でのプラズマ重合を含むものと理解され、いずれのケースでも、イオン衝撃条件下でのプラズマ蒸着が好ましいものと理解される。同様に、本明細書に使用される「プラズマ蒸着された（plasma deposited）」という用語は、特に他に指定しない限り、とりわけプラズマ重合された、並びにイオン衝撃条件下でプラズマ蒸着されたと理解され、いずれのケースでも、イオン衝撃条件下でプラズマ蒸着されることが好ましいと理解される。
【０１８６】
本明細書に記述するようにプラズマ蒸着により非金属コーティングを形成することは、米国特許第６，６９６，１５７号（デビッド（David）ら）及び第６，８７８，４１９号（デビッド（David）ら）に記載されているもののように、ＲＦ（高周波）源を電源とする少なくとも１つの電極及び少なくとも１つの接地電極を有する容量結合型システムを有する適した反応チャンバ内で実施できる。図６は、プラズマ蒸着、特にイオン衝撃条件下でのプラズマ蒸着に好適な代表的装置（２００）を図示し、接地されたチャンバ（１２０）（ここでは接地電極としても作用する）を示し、このチャンバからポンピングスタック（図示せず）によって空気が除去される。プラズマを形成するためのガス又はガス類は、通常、反応器の壁を通ってチャンバ中心の出口ポンピングポートに向かって内側へ放射状に射出される。基材（１４０）は、典型的に、それ自体が医薬品吸入装置構成要素であるか、あるいは、続いて構成要素を形成又は加工することができるワークピースであり、好ましくは、ＲＦ給電電極（１６０）の近くに配置される。電極（１６０）は、ポリテトラフルオロエチレン支持体（１８０）によってチャンバ（１２０）から絶縁されている。図７は、プラズマ蒸着の別の代表的な装置（２００）、具体的にはイオン衝撃条件下でのプラズマ蒸着を図示し、１つ（図７に図示）若しくはそれ以上の基材（１４０）（この場合も、そのような基材は、典型的に、それ自体が医薬品吸入装置構成要素であるか、あるいは続いてそのような構成要素を形成又は加工することができるワークピースである）は、蒸着の間に混転され、そのような混転は、好ましくも、基材の表面での均一な蒸着を可能にする。ここで、チャンバ（１２０）は管であり、具体的には石英管であり、この管の両端はフランジ（図示せず）、とりわけアルミニウムフランジによって密封される。各端のフランジには、典型的に、ポートが設けられ、一端のポートはポンピングスタック（図示せず）に接続されており、もう一端のポートはガス供給システム（図示せず）に接続されている。この接続システムと相まったポートは、好ましくは、プラズマ蒸着の間の管、したがってチャンバの回転を可能にするように構成及び配列される。典型的に、充填の後に空気はポンピングスタックによって出口ポンピングポートを通してチャンバから除去され、プラズマを形成する１つ若しくはそれ以上のガスは、概して、もう一方の端にある入口ガスポートを通して注入され、次に、それ（ら）のガスがチャンバを通って出口ポンピングポートに向かう。ＲＦ給電電極（１６０）は、有利なことに、管の湾曲に一致する弧として構成され、管のすぐ下に、しかし狭い間隙によって管と分離されて、位置付けられる。チャンバ及びＲＦ給電電極は、好ましくは、反対の接地電極として作用するハウジング（１３０）、具体的には穿孔金属製のハウジングに収容される。図６に示されるシステムと同様に、典型的に、電力はＲＦ電源（１７０）によって、適合する回路網（１７５）を介して提供される。そのようなシステムでの処置の間に、チャンバ（１２０）は有利なことに回転されるので、コーティングされる１つ若しくはそれ以上の基材（１４０）は混転する。混転は、望��しくは、管の中にバッフル（１２５）を含めることによって促進される。適切な程度に基材を充填すると共に、プラズマ蒸着中に適切な速度で混転を行うことによって、コーティング対象の基材は管の下位部分に見られることになるので、ＲＦ給電電極（１６０）の近くに好ましくは配置され、したがって基材はイオンシース内に位置付けられることになる。
【０１８７】
プラズマ蒸着の前に、基材を酸素プラズマ又は代わりにアルゴンプラズマ、望ましくは酸素プラズマに曝露することが望ましい。基材をイオン衝撃条件下で酸素プラズマに曝露する（すなわち、酸素プラズマ処置の間にイオンシースを生成し、イオンシース内に基材を位置付ける）のが最も望ましい。典型的に、この前処理のために、チャンバ内の圧力は１．３Ｐａ（１０ｍＴｏｒｒ）〜２７Ｐａ（２００ｍＴｏｒｒ）に維持される。プラズマは、５００Ｗ〜３０００ＷのＲＦ出力レベルで生成される。
【０１８８】
また、アセトン又はエタノールのような有機溶媒での溶媒洗浄工程を、上述のような酸素又はアルゴンプラズマへの曝露の前に含めることができる。
【０１８９】
図６の代表的な装置を参照すると、イオン衝撃条件下でのプラズマ蒸着では、基材はチャンバ内のＲＦ給電電極（図６の略図のような）の近くに位置付けられるので、基材はイオンシース内に納まることになる。プラズマ重合では、コーティング対象の基材は浮動電位でチャンバに位置付けられることになり、基材はイオンシース内に納まらないように位置付けられる。あるいは、プラズマ重合では、（チャンバを接地電極として作用させる代わりに）追加的な接地電極を設ける代替システムを用い、コーティング対象の基材を接地電極の近くに位置付けることができる。
【０１９０】
チャンバは典型的に、空気及びあらゆる不純物を除去するのに必要な程度まで排気される。これは、チャンバに接続されたポンプスタックで真空ポンプによって達成され得る。ソースガスが所望の流量でチャンバに導入されるが、この流量は反応器の寸法、電極の表面積、及び基材の表面積に依存する。ガスは、通常、望ましくは酸素である。
【０１９１】
ケイ素、酸素、及び水素を含むプラズマ蒸着コーティング又は炭素、ケイ素、酸素、及び水素を含むプラズマ蒸着コーティングの提供では、プラズマ蒸着の間に、ガスは適切なオルガノシリコン及び／又は水素化ケイ素化合物を更に含み、流量は、プラズマ蒸着を実行するために適切な圧力を確立するのに十分であり、典型的に、０．１３Ｐａ〜１３０Ｐａ（０．００１Ｔｏｒｒ〜１．０Ｔｏｒｒ）である。内径が約５５ｃｍで高さが約２０ｃｍの円筒形反応器の場合、流量は典型的に約５０〜約５００標準立方センチメートル／分（ｓｃｃｍ）である。このプラズマ蒸着の圧力及び温度（約５０℃未満）では、ガスは蒸気形態を維持する。ＲＦ電界が給電電極に印加されると、ガスがイオン化されプラズマが発生する。ＲＦ発生したプラズマ内で、エネルギーは電子を通じてプラズマへと結合する。プラズマは、電極間の電荷キャリアとして作用する。プラズマは、反応チャンバ全体に充満でき、典型的に着色した雲として目に見える。
【０１９２】
プラズマは、また、少なくともＲＦ給電電極の近くにイオンシースを形成する。イオンシースは、典型的に電極周辺のより暗い領域として現れる。イオンシースの深さは、通常約１ｍｍ〜約５０ｍｍの範囲であり、使用されるガスの種類及び濃度、チャンバ内の圧力、電極間の間隔、並びに電極の相対的寸法など要因に依存する。例えば、減圧はイオンシースの寸法を増大させるであろう。電極が異なる寸法であるとき、より小さい電極の周辺には、より大きく、より強力なイオンシースが形成されるであろう。一般に、電極寸法の差が大きいほど、イオンシースの寸法の差が大きく、イオンシース前後の電圧の増大は、イオン衝撃エネルギーを増大させるであろう。
【０１９３】
好ましい実施形態において、１つ若しくはそれ以上の表面がコーティングされる基材はイオンシース内に位置付けられ、電極に向かって加速するイオンは、プラズマから基材上に蒸着される種を衝撃し、したがって、基材は、プラズマから蒸着されるイオン衝撃された種に曝露される。その結果生じるプラズマ内の反応性種が基材の表面で反応してコーティングを形成し、その組成はプラズマ内でイオン化されているガスの組成によって制御される。コーティングを形成する種が有利なことに共有結合によって基材の表面に付着するので、コーティングは有利なことに基材に共有結合される。
【０１９４】
ケイ素、酸素、及び水素を含むコーティング、より好ましくは炭素、ケイ素、酸素、及び水素を含むコーティングの形成を含む好ましい実施形態では、プラズマ蒸着は、少なくとも１つのオルガノシリコン又は水素化ケイ素化合物を含むガスをイオン化する工程を含む。典型的には、オルガノシリコン又は水素化ケイ素化合物のうちの少なくとも１つのケイ素が、ガス混合物の少なくとも約５原子％の量で存在する。それゆえ、酸素のような反応性ガス又はアルゴンのような不活性ガスがオルガノシリコン又は水素化ケイ素源の化合物と共に混合された場合、ガス混合物中のケイ素の原子％は、混合物中の構成成分ガスの体積（又はモル）流量に基づいて計算される。炭素、ケイ素、酸素、及び水素を含むコーティングの形成を含む実施形態では、ガスは、望ましくはオルガノシリコンを含む。特定すると、トリメチルシラン、トリエチルシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、テトラメチルシラン、テトラエチルシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、テトラメチルシクロテトラシロキサン、テトラエチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、及びビストリメチルシリルメタンのうちの少なくとも１つを含む。更に特定すると、オルガノシリコンは、トリメチルシラン、トリエチルシラン、テトラメチルシラン、テトラエチルシラン、及びビストリメチルシリルメタンのうちの少なくとも１つを含み、最も特定すると、オルガノシリコンは、テトラメチルシランを含む。加えて、あるいは代わりに、（例えば、２０原子％未満の炭素（無水素ベースで）を有する又は炭素を有さないケイ素、酸素、及び水素を含むコーティングの提供では）ガスは、水素化ケイ素を含んでもよい。水素化ケイ素は、ＳｉＨ４（四水素化ケイ素）及び／又はＳｉ２Ｈ６（ジシラン）、特定すると、ＳｉＨ４（四水素化ケイ素）を含み得る。
【０１９５】
好ましくは、ガスは酸素を更に含む。
【０１９６】
ガスは、追加的な１つ若しくはそれ以上のガスを更に含むことができる。追加的なガスの各々は、別々に又は互いと合わせて添加できる。ガスは、特にイオン衝撃条件下でのプラズマ蒸着では、アルゴン及び／又は水素を更に含むことができる。アルゴン（通常、蒸着されたコーティングに組み込まれない）の適用がイオン衝撃を強化する一方、水素の適用は高いパッキング密度の形成を促進し、かつ追加的な水素源を提供する。選択的に、ガスは、アンモニア及び／又は窒素を更に含むことができる。しかし、以下に詳述する、少なくとも１つのシラン基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物が適用される特定の好ましい実施形態では、アンモニア及び窒素ガスを使用することも、硫黄含有ガスを使用することも望ましくない。更に、少なくとも１つのシラン基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物が適用される特定の好ましい実施形態では、医薬品吸入装置の寿命期間にわたるコーティングシステムの耐久性及び／又は頑強性という点で望ましくないと判断されたケイ素−窒素又はケイ素−硫黄結合の形成が最小化されるか又は回避されるように、本明細書に記述するような非金属コーティングは、実質的に無アミン基であるか、無アミン基であり、かつ実質的に無アミド基であるか、無アミド基であり、かつ実質的に無チオール基であるか、無チオール基であるのが望ましい。したがって、好ましい実施形態において、非金属コーティングは有利なことに実質的に無窒素（例えば、最高約５原子％の窒素（無水素ベースで））であり、特定すると、無窒素である。また、好ましい実施形態において、非金属コーティングは有利には実質的に無硫黄（例えば、最高約１原子％の硫黄（無水素ベースで））であり、特定すると、無硫黄である。選択的に、ガスは、例えば四フッ素化炭素のようなフッ素源を更に含んでもよい。しかし、（概して、及び特定して、イオン衝撃条件下でのプラズマ蒸着では）非金属コーティングにはフッ素を含まないことが好ましい。フッ素を含めることは、（特に基材表面への非金属コーティングの付着並びに非金属コーティングの全体的な耐久性において）非金属コーティングの構造保全性という点で概して望ましくないことが判断された。また、少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物が非金属コーティングに適用される実施形態では、フッ素を含めることは、非金属コーティングへの、適用されるフッ素含有組成物の付着という点で望ましくない。したがって、本発明の特定の態様において、及び本発明の他の態様の好ましい実施形態において、非金属コーティングは有利には実質的に無フッ素（例えば、最高約１原子％のフッ素（無水素ベースで）であり、特定すると無フッ素である。
【０１９７】
非金属コーティングのプラズマ蒸着は、典型的に、約１〜約１００ｎｍ／秒の範囲の速度で起こる。速度は、圧力、出力、ガス濃度、ガスの種類、電極の相対的寸法等を含む条件に依存する。一般に、蒸着速度は、出力、圧力、及びガス濃度の増大と共に増大するが、速度は上限に近づき得る。
【０１９８】
望ましくは、非金属コーティングのプラズマ蒸着は、コーティングが約５ｎｍ〜約５０００ｎｍの範囲の厚さを有するような時間をかけて実行される。概して、この範囲内では、少なくとも約１０ｎｍ、より好ましくは少なくとも約５０ｎｍ、最も好ましくは少なくとも約１００ｎｍの厚さを有するコーティングを提供することが好ましい。また、前述の範囲内では、概して、約１０００ｎｍ未満、より好ましくは最高約９５０ｎｍ、更により好ましくは最高約８００ｎｍ、なお更により好ましくは最高約６７５ｎｍ、最も好ましくは最高約５５０ｎｍの厚さを有するコーティングを提供することが好ましい。
【０１９９】
非金属コーティングが形成された後（特定するとケイ素、酸素、及び水素を含む非金属コーティング、更に特定すると炭素、ケイ素、酸素、水素を含む非金属コーティングであって、プラズマ蒸着によるもの）、非金属コーティングの表面を、好ましくは酸素プラズマに、より好ましくは（例えば、非金属コーティングの表面に追加的なシラノール基を形成するために又は形成する）イオン衝撃条件下で酸素プラズマに曝露する。そのような処置は、少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物が適用される実施形態に特に有利である。そのような処置では、プラズマチャンバの圧力は、典型的に、１．３Ｐａ（１０ｍＴｏｒｒ）〜２７Ｐａ（２００ｍＴｏｒｒ）に維持され、酸素プラズマは約５０Ｗ〜約３０００ＷのＲＦ出力レベルで生成される。
【０２００】
本発明の特定の態様による実施形態は、非金属コーティングの表面の少なくとも一部分に、少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物を適用する工程と、共有結合を形成するために、この少なくとも部分的にフッ素化された化合物の少なくとも１つの官能基を、この非金属コーティングの少なくとも１つの官能基と反応させる工程と、を含む。好ましくは、組成物は、非金属コーティングの全面に適用される。
【０２０１】
上述したように、少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物を適用する前に、望ましくは非金属コーティングを酸素プラズマに、より望ましくはイオン衝撃条件下で酸素プラズマに曝露する。あるいは、好ましくは、非金属コーティングを、少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物を適用する前にコロナ処理に曝露する。
【０２０２】
望ましくは、この少なくとも部分的にフッ素化された化合物は、表面特性の強化並びにコーティング効率及び構造保全性の強化のために、ポリフルオロポリエーテルセグメント、好ましくは全フッ素化ポリフルオロポリエーテルセグメントを含む。連続する炭素原子の数が望ましくは最高６、より望ましくは最高４、更により望ましくは最高３、最も望ましくは最高２である炭素の短鎖を含む全フッ素化繰り返し単位を含むポリフルオロポリエーテルセグメントの使用は、適用されたフッ素含有コーティングの耐久性／可撓性を促進すると共に、全フッ素化部分の生体蓄積可能性を最小化する。
【０２０３】
望ましくは、少なくとも部分的にフッ素化された化合物の少なくとも１つの官能基は、加水分解性基（例えば、水の存在下で、選択的に酸性又は塩基性条件下で縮合反応を受けることができる基を生成する加水分解性（例えばシラノール基））を含む。
【０２０４】
望ましくは、少なくとも部分的にフッ素化された化合物の少なくとも１つの官能基はシラン基である。
【０２０５】
好ましくは、このシラン基は、少なくとも１つの加水分解性基、より好ましくは少なくとも２つの加水分解性基、最も好ましくは３つの加水分解性基を含む。加水分解性基は、同一でも異なっていてもよい。
【０２０６】
望ましくは、加水分解性基は、水素、ハロゲン、アルコキシ、アシロキシ、アリールオキシ及びポリアルキレンオキシからなる群から選択される基であり、より望ましくは、アルコキシ、アシロキシ、アリールオキシ及びポリアルキレンオキシからなる群から選択される基であり、更により望ましくは、アルコキシ、アシロキシ及びアリールオキシからなる群から選択される基であり、最も望ましくはアルコキシ基（例えば、ＯＲ’であり、各Ｒ’は独立してＣ１〜６アルキル基、特定するとＣ１〜４アルキル基）である。
【０２０７】
望ましくは、少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物は、ポリフルオロポリエーテルシランであり、より望ましくは多官能性ポリフルオロポリエーテルシランであり、最も望ましくは二官能性ポリフルオロポリエーテルシランである。
【０２０８】
本明細書で使用される用語「多官能性ポリフルオロポリエーテルシラン」は、概して、複数の官能性シラン基で官能化された多価のポリフルオロポリエーテルセグメントを意味するものと理解され、本明細書で使用される用語「二官能性ポリフルオロポリエーテルシラン」は、概して、複数の官能性シラン基（特定すると、２〜４の官能性シラン基、更に特定すると、２つの官能性シラン基）で官能化された二価のポリフルオロポリエーテルセグメントを意味するものと理解される。
【０２０９】
多官能性ポリフルオロポリエーテルシラン、特に二官能性ポリフルオロポリエーテルシランの使用が、高い適用効率及び被覆並びに非金属コーティングへの広範な結合（共有結合）及びフッ素含有コーティング自体の中での架橋とを可能にして、適用されたフッ素含有コーティングの構造保全性を促進することがわかった。
【０２１０】
安定性及び／又は攻撃（例えば、エタノール、薬物、及び／又は医薬品吸入製剤の他の潜在的構成要素による）に対する抵抗性の強化のために、望ましくは、１つ若しくはそれ以上のポリフルオロポリエーテルセグメントは、窒素−ケイ素結合又は硫黄−ケイ素結合を含む官能基を介してシラン基と連結されていない。特定すると、適用されたフッ素含有コーティングの安定性及び攻撃に対する抵抗性の強化のために、ポリフルオロポリエーテルセグメントは、炭素−ケイ素結合、更に特定すると、−Ｃ（Ｒ）２−Ｓｉ官能基であり式中Ｒが独立して水素又はＣ１〜４アルキル基（好ましくは水素）、最も特定すると、−（Ｃ（Ｒ）２）ｋ−Ｃ（Ｒ）２−Ｓｉ官能基であり式中ｋが少なくとも２（好ましくは２〜約２５、より好ましくは２〜約１５、最も好ましくは２〜約１０）を含む官能基を介してシラン基と連結されているのが望ましい。ｋが少なくとも２である−（Ｃ（Ｒ）２）ｋ−を含めることは、有利なことに、曲げ強度を付加的に提供する。
【０２１１】
好ましくは、少なくとも１つのシラン基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物は、式Ｉａのポリフルオロポリエーテルシランであり、
Ｒｆ［Ｑ−［Ｃ（Ｒ）２−Ｓｉ（Ｙ）３−ｘ（Ｒ１ａ）ｘ］ｙ］ｚ          Ｉａ
式中、
Ｒｆは、一価又は多価ポリフルオロポリエーテルセグメントであり、
Ｑは有機二価又は三価の連結基であり、
各Ｒは独立して水素又はＣ１〜４アルキル基であり、
各Ｙは独立して加水分解性基であり、
Ｒ１ａはＣ１〜８アルキル又はフェニル基であり、
ｘは０又は１又は２であり、
ｙは１又は２であり、
ｚは１、２、３、又は４である。
【０２１２】
式Ｉａによるポリフルオロポリエーテルシランの適用は、該当する場合、医薬品吸入装置又はその構成要素の表面の少なくとも一部分の非金属コーティング、及び非金属コーティングに結合されたポリフルオロポリエーテル含有コーティングを含む医薬品吸入装置又はその構成要素の提供を好ましくは可能にするものであり、このポリフルオロポリエーテル含有コーティングは、以下の式Ｉｂのポリフルオロポリエーテルシラン物質を含み、
Ｒｆ［Ｑ−［Ｃ（Ｒ）２−Ｓｉ（Ｏ−）３−ｘ（Ｒ１ａ）ｘ］ｙ］ｚ        Ｉｂ
これは少なくとも１つの共有結合を非金属コーティングと共有し、
式中、
Ｒｆは、一価又は多価ポリフルオロポリエーテルセグメントであり、
Ｑは有機二価又は三価の連結基であり、
各Ｒは独立して水素又はＣ１〜４アルキル基であり、
Ｒ１ａはＣ１〜８アルキル又はフェニル基であり、
ｘは０又は１又は２であり、
ｙは１又は２であり、
ｚは１、２、３、又は４である。
【０２１３】
有利なことに、非金属コーティングと共有される少なくとも１つの共有結合は、Ｓｉ（Ｏ−）３−ｘにおける酸素原子への結合である。好ましいことに、そのようなポリフルオロポリエーテル含有コーティングは、典型的に、透明又は半透明である。
【０２１４】
一価又は多価ポリフルオロポリエーテルセグメント、Ｒｆは、飽和又は不飽和であってよい直鎖、分枝状、及び／又は環状構造を含み、２つ以上の鎖内酸素原子を含む。Ｒｆは、好ましくは全フッ素化基である（すなわち、すべてのＣ−Ｈ結合がＣ−Ｆ結合によって置換されている）。ただし、２個の炭素原子に対して水素原子が１つ以下で存在するならば、フッ素原子の代わりに水素原子が存在してもよい。水素原子が存在する場合、好ましくは、Ｒｆは少なくとも１つのペルフルオロメチル基を含む。
【０２１５】
特定の実施形態では、一価又は多価ポリフルオロポリエーテルセグメント、Ｒｆは、−（ＣｎＦ２ｎ）−、−（ＣｎＦ２ｎＯ）−、−（ＣＦ（Ｚ））−、−（ＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、−（ＣＦ（Ｚ）ＣｎＦ２ｎＯ）−、−（ＣｎＦ２ｎＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、−（ＣＦ２ＣＦ（Ｚ）Ｏ）−及びこれらの組み合わせからなる群から選択される全フッ素化繰り返し単位を含み、Ｚはペルフルオロアルキル基、酸素含有ペルフルオロアルキル基、ペルフルオロアルコキシ基、又は酸素置換ペルフルオロアルコキシ基であり、この各々が直鎖、分枝状、又は環状であることができ、１〜５個の炭素原子及び酸素含有又は酸素置換の場合には４個までの酸素原子を有することができる。Ｚを含む単位では、単位当たりの連続する合計炭素原子数は、最高６（より望ましくは最高４、最も望ましくは最高３）が望ましい。オリゴマー又はポリマーの性質であることから、これらの化合物は混合物として存在し、そのような使用に適している。全フッ素化繰り返し単位は、ランダム、ブロック、又は交互の順序で配列されることができる。好ましくは、ポリフルオロポリエーテルセグメントは、−（ＣｎＦ２ｎＯ）−、−（ＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、−（ＣＦ（Ｚ）ＣｎＦ２ｎＯ）−、−（ＣｎＦ２ｎＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、−（ＣＦ２ＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される全フッ素化繰り返し単位を含み、より好ましくは、−（ＣｎＦ２ｎＯ）−、−（ＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される全フッ素化繰り返し単位を含む。これらの実施形態のいくつかでは、ｎは１〜４、又は１〜３、又は１若しくは２の整数である。これらの実施形態のいくつかでは、Ｚは−ＣＦ３基である。
【０２１６】
上記実施形態のいずれか１つを含む特定の実施形態では、Ｒｆは一価であり、ｚは１である。これらの実施形態のいくつかでは、Ｒｆは、ＣｎＦ２ｎ＋１−、ＣｎＦ２ｎ＋１Ｏ−、及びＸ’ＣｎＦ２ｎＯ−からなる群から選択される基で終端され、式中、Ｘ’は水素である。これらの実施形態のいくつかでは、末端基はＣｎＦ２ｎ＋１−又はＣｎＦ２ｎ＋１Ｏ−であり、式中、ｎは１〜６又は１〜３の整数である。これらの実施形態のいくつかでは、Ｒｆのおよその平均構造はＣ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−、ＣＦ３Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２−、Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ２ＣＦ２−、Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ２ＣＦ２−、又はＣ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−、又はＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｐ（ＣＦ２Ｏ）Ｘ−であり（式中ＸはＣＦ２−、Ｃ２Ｆ４−、Ｃ３Ｆ６−、Ｃ４Ｆ８−である）、ｐの平均値は３〜５０である。
【０２１７】
適用されたフッ素含有コーティングの高い構造保全性を、適用効率及び被覆の強化並びに非金属コーティングへの広範な結合及びフッ素含有コーティング自体の内部連結によって促進するために、Ｒｆは、好ましくは多価であり、ｚは２、３又は４であり、より好ましくはＲｆは二価であり、ｚは２である。これらの実施形態のいくつかでは、Ｒｆのおよその平均構造は、−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２−、−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−、−（ＣＦ２）３Ｏ（Ｃ４Ｆ８Ｏ）ｐ（ＣＦ２）３−、−ＣＦ（ＣＦ３）−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｐＯ−ＣｔＦ２ｔ−Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−（式中ｔは２〜４）からなる群から選択され、ｍは１〜５０であり、ｐは３〜４０である。これらの実施形態のいくつかでは、Ｒｆは、−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２−、及び−ＣＦ（ＣＦ３）−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｐＯ−（ＣｔＦ２ｔ）−Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−からなる群から選択され、ｔは２、３又は４であり、ｍ＋ｐ又はｐ＋ｐ又はｐの平均値は約４〜約２４である。
【０２１８】
上記の構造式は、およその平均構造であり、ランダムに分布される全フッ素化繰り返し単位の数はｐ及びｍによって決まる。更に、上述のもののようなポリフルオロポリエーテルシランは、また、典型的に、オリゴマー及び／又はポリマーの分布を含むので、ｐ及び／又はｍは非整数である場合があり、数はこの分布のおよその平均である。
【０２１９】
有機二価又は三価の連結基Ｑは、飽和又は不飽和であってよい直鎖、分枝状、又は環状の構造を含むことができる。有機二価又は三価の連結基Ｑは、硫黄、酸素、及び窒素からなる群から選択される１つ以上のヘテロ原子を任意に含有し、及び／又はエステル、アミド、スルホンアミド、カルボニル、カーボネート、ウレイレン、及びカルバメートからなる群から選択される１つ以上の官能基を任意に含有する。ここでも、曲げ強度Ｑは、好ましいことに、２つ以上の炭素原子を有するセグメントを含み、Ｑのセグメントは、シラン含有部分の−Ｃ（Ｒ）２−基に直接結合される（すなわち、式Ｉａでは−Ｃ（Ｒ）２−Ｓｉ（Ｙ）３−ｘ（Ｒ１ａ）ｘであり、式Ｉｂでは−Ｃ（Ｒ）２−Ｓｉ（Ｏ−）３−ｘ（Ｒ１ａ）ｘである）。そのような実施形態では、概して、Ｑは約２５以下の炭素原子を含む。Ｑは、好ましくは、加水分解、及び求核攻撃のようなその他の化学的形質転換に対して実質的に安定である。１つを超えるＱ基が存在するとき、Ｑ基は同一であっても異なっていてもよい。
【０２２０】
上述の任意の実施形態を含め、特定の実施形態では、Ｑは、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−（ＣＨ２）ｋ−、−Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｒ）−（ＣＨ２）ｋ−、−（ＣＨ２）ｋ−、−ＣＨ２Ｏ−（ＣＨ２）ｋ−、−Ｃ（Ｏ）Ｓ−（ＣＨ２）ｋ−、−ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−（ＣＨ２）ｋ−などの有機連結基を含み、
【０２２１】
【化３】
0005571560.tif 000004
【０２２２】
式中、Ｒは水素又はＣ１〜４アルキルであり、ｋは２〜約２５である。これらの実施形態のいくつかでは、ｋは２〜約１５又は２〜約１０である。
【０２２３】
好ましくは、Ｑは二価の連結基であり、ｙは１である。特定すると、Ｑは、好ましくは１〜約１５個の炭素原子を含み、かつ選択的に１〜４個のへテロ原子及び／又は１〜４個の官能基を含有する、飽和又は不飽和炭化水素基である。これらの実施形態のいくつかでは、Ｑは、１〜約１０個の炭素原子を含有し、任意に１〜４個のヘテロ原子及び／又は１〜４個の官能基を含有する、直鎖炭化水素である。これらの実施形態のいくつかでは、Ｑは１つの官能基を含有する。これらの実施形態のいくつかでは、Ｑは好ましくは、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）（ＣＨ２）２−、−ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、又は−ＣＨ２−ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−（ＣＨ２）２−であり、式中Ｒは水素又はＣ１〜４アルキルである。
【０２２４】
Ｒが存在する上記実施形態のいずれか１つを含む特定の実施形態では、Ｒは水素である。
【０２２５】
式Ｉａの加水分解性基Ｙは同一でも異なっていてもよく、加水分解が可能であり、例えば、水の存在下で、任意に酸性又は塩基性条件下で、縮合反応を受けることができる基、例えばシラノール基を生成することができる。
【０２２６】
望ましくは、式Ｉａの各Ｙは独立して、水素、ハロゲン、アルコキシ、アシロキシ、アリールオキシ、及びポリアルキレンオキシからなる群から選択される基であり、より望ましくは、各Ｙは独立してアルコキシ、アシロキシ、アリールオキシ、及びポリアルキレンオキシからなる群から選択される基であり、更により望ましくは、各Ｙは独立してアルコキシ、アシロキシ、及びアリールオキシからなる群から選択される基であり、最も望ましくは、各Ｙは独立してアルコキシ基である。
【０２２７】
本明細書に記述された任意の関連する実施形態を含む特定の実施形態では、
好ましくは、アルコキシは−ＯＲ’であり、アシロキシは−ＯＣ（Ｏ）Ｒ’であり、式中各Ｒ’は独立して低級アルキル基であり、選択的に１つ以上のハロゲン原子によって置換されている。特定の実施形態では、Ｒ’は好ましくはＣ１〜６アルキルであり、より好ましくはＣ１〜４アルキルである。Ｒ’は、直鎖又は分枝状アルキル基であることができる。
【０２２８】
好ましくは、アリールオキシは−ＯＲ”であり、式中、Ｒ”は、独立してハロゲン原子及び１つ以上のハロゲン原子によって任意に置換されたＣ１〜４アルキルから選択された１つ以上の置換基によって任意に置換されたアリールである。特定の実施形態では、Ｒ”は、好ましくは非置換又は置換Ｃ６〜１２アリールであり、より好ましくは非置換又は置換Ｃ６〜１０アリールである。
【０２２９】
好ましくは、ポリアルキレンオキシは、−Ｏ−（ＣＨＲ４−ＣＨ２Ｏ）ｑ−Ｒ３であり、式中、Ｒ３はＣ１〜４アルキルであり、Ｒ４は水素又はメチルであり、Ｒ４の少なくとも７０％は水素であり、ｑは１〜４０、好ましくは２〜１０である。
【０２３０】
上記実施形態のいずれか１つを含む特定の実施形態では、ｘは０である。
【０２３１】
式Ｉａによる化合物を含め、上記の実施形態のいずれか１つを含む特定の実施形態では、Ｒｆは、−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２−であり、Ｑ−Ｃ（Ｒ）２−Ｓｉ（Ｙ）３−ｘ（Ｒ１ａ）ｘはＣ（Ｏ）ＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＲ’）３であり、式中、Ｒ’はメチル又はエチルである。式Ｉｂによる物質を含め、上記の実施形態のいずれか１つを含む特定の実施形態では、Ｒｆは、−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２−であり、Ｑ−Ｃ（Ｒ）２−Ｓｉ（Ｏ−）３−ｘ（Ｒ１ａ）ｘはＣ（Ｏ）ＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（Ｏ−）３である。これらの実施形態のいくつかでは、ｍ及びｐはそれぞれ約９〜１２である。
【０２３２】
上記の式Ｉａの化合物は、標準的技術を用いて合成できる。例えば、米国特許第３，８１０，８７４号（ミッチ（Mitsch）ら）によると、市販の又は容易に合成されるペルフルオロポリエーテルエステル（又はそれらの官能性誘導体）を３−アミノプロピルアルコキシシランのような官能化されたアルコキシシランと組み合わせることができる。
【０２３３】
特定の実施形態では、ポリフルオロポリエーテルセグメントの重量平均分子量は、約１０００以上であり、より望ましくは約１８００以上である。より高い重量平均分子量は耐久性を更に促進し、かつ生体蓄積可能性を最小化する。使用及び適用の便宜上、概して、ポリフルオロポリエーテルセグメントの重量平均分子量は、望ましくは最高約６０００であり、より望ましくは最高約４０００である。
【０２３４】
上述のポリフルオロポリエーテルシランは、オリゴマー及び／又はポリマーの分布を通常含む。望ましくは、ポリフルオロポリエーテル含有コーティングの構造保全性を促進し、かつ生体蓄積可能性を最小化するために、重量平均分子量が７５０未満のポリフルオロポリエーテルセグメントを有する（そのような分布における）ポリフルオロポリエーテルシランの量は、その分布におけるポリフルオロポリエーテルシランの総量の１０重量％以下（より望ましくは５重量％以下、更により望ましくは１重量％以下、最も望ましくは０％）である。
【０２３５】
上記実施形態のいずれか１つを含む特定の実施形態では、少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物は、有機溶媒を更に含む。
【０２３６】
少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物がポリフルオロポリエーテルシランである上記実施形態のいずれか１つを含む特定の実施形態では、ポリフルオロポリエーテルシランは、望ましくは、ポリフルオロポリエーテルシランと有機溶媒とを含む組成物として適用される。典型的に使用される有機溶媒又は有機溶媒ブレンドは、少なくとも約０．０１重量％のポリフルオロポリエーテルシラン、特定すると式Ｉａの１つ以上のシランを溶解することができる。溶媒又は溶媒の混合物は、水に対する溶解度が少なくとも約０．１重量％であり、これらの実施形態のいくつかでは、酸に対する溶解度が少なくとも約０．０１重量％であることが望ましい。
【０２３７】
適した有機溶媒、又は溶媒の混合物は、メタノール、エタノール、及びイソプロパノールのような脂肪族アルコール、アセトン及びメチルエチルケトンのようなケトン、酢酸エチル及びギ酸メチルのようなエステル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル及びジプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＤＰＭ）のようなエーテル、アルカンのような炭化水素溶媒、例えば、ヘプタン、デカン、及びパラフィン溶媒、ペルフルオロヘキサン及びペルフルオロオクタンのようなフッ素化炭化水素、ペンタフルオロブタンのような部分的にフッ素化された炭化水素、メチルペルフルオロブチルエーテル及びエチルペルフルオロブチルエーテルのようなヒドロフルオロエーテルから選択できる。上記実施形態のいずれか１つを含む特定の実施形態では、有機溶媒はフッ素化溶媒であり、これはフッ素化炭化水素、部分的にフッ素化された炭化水素、及びハイドロフルオロエーテルを含む。これらの実施形態のいくつかでは、フッ素化溶媒は、ハイドロフルオロエーテルである。これらの実施形態のいくつかでは、ハイドロフルオロエーテルは、メチルペルフルオロブチルエーテルである。上記実施形態のいずれか１つを含む特定の実施形態では、有機溶媒がフッ素化溶媒である場合を除いて、有機溶媒は低級アルコールである。これらの実施形態のいくつかでは、低級アルコールは、メタノール、エタノール、イソプロパノール、及びこれらの混合物からなる群から選択される。これらの実施形態のいくつかでは、低級アルコールはエタノールである。
【０２３８】
上記の任意の実施形態を含め、有機溶媒が低級アルコールであり組成物が少なくとも１つのシラン基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む特定の実施形態では、組成物は、好ましくは、酸を更に含む。これらの実施形態のいくつかでは、酸は、酢酸、クエン酸、ギ酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ペルフルオロ酪酸、硫酸、及び塩酸からなる群から選択される。これらの実施形態のいくつかでは、酸は塩酸である。
【０２３９】
少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物は、架橋反応に関与することができる非フッ素化架橋剤を好ましくは更に含むことができる。好ましくは、そのような架橋剤は、それぞれの化合物が少なくとも２つの加水分解性基を有する１つ以上の非フッ素化化合物を含む。有利なことに、そのような架橋剤は、１分子当たり少なくとも２つの加水分解性基を有するケイ素の１つ以上の非フッ素化化合物を含む。好ましくは、この加水分解性基は、式ＩＩによりケイ素に直接結合される。
【０２４０】
Ｓｉ（Ｙ２）４−ｇ（Ｒ５）ｇ                ＩＩ
式中Ｒ５は非加水分解性基を表し、
Ｙ２は加水分解性基を表し、
ｇは０、１又は２である。
【０２４１】
非加水分解性基Ｒ５は、概して、少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的に（フッ素化された）化合物を含む組成物の適用中に使用される条件下では加水分解能力がない。例えば、非加水分解性基Ｒ５は、独立して炭化水素基から選択することができる。ｇが２であれば、この非加水分解性基は同一であっても異なっていてもよい。好ましくは、ｇは０又は１であり、より好ましくは、ｇは０である。加水分解性基Ｙ２は同一であっても異なっていてもよく、架橋剤が縮合反応を受けることができるように、適切な条件下、例えば酸性水性条件又は塩基性水性条件下で通常加水分解可能である。加水分解性基は、加水分解すると、シラノール基のような、縮合反応を受けることが可能な基を生成することが好ましい。典型的かつ好ましい加水分解性基の例には、式Ｉａに関して記述したものが挙げられる。好ましくは、Ｙ２はアルコキシ、−ＯＲ６であり、より好ましくはＲ６がＣ１〜４アルキルであるアルコキシである。
【０２４２】
架橋剤に使用するのに好ましい非フッ素化ケイ素化合物の代表的な例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、オクタデシルトリエトキシ−シラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、及びこれらの混合物が挙げられる。好ましくは、この架橋剤は、ケイ素のＣ１〜Ｃ４テトラ−アルコキシ誘導体を含み、より好ましくは、この架橋剤はテトラエトキシシランを含む。
【０２４３】
非フッ素化架橋剤に対する少なくとも部分的にフッ素化された化合物の量は、約１０：１から約１：１００に変わることができ、好ましくは約１：１から約１：５０に、最も好ましくは約１：２から約１：２０に変わることができる。
【０２４４】
特定の実施形態、例えば、加水分解性基を含む組成物では、この組成物は更に水を含むことができる。
【０２４５】
少なくとも１つの官能基（特定すると１つのシラン基）を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物（上記の任意の実施形態を含む）を、非金属コーティングの表面の少なくとも一部分に、様々なコーティング方法を用いて適用することができる。このような方法としては、噴霧、浸漬、スピンコーティング、ローリング、刷毛塗り、延展、フローコーティングが挙げられるが、これらに限定されない。好ましい適用方法には、噴霧及び浸漬が挙げられる。上記の任意の実施形態を含む特定の実施形態に関して、少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物は、上記の任意の実施形態において、非金属コーティングが形成される基材の少なくとも一部分を組成物に浸漬することによって適用される。あるいは、上記の任意の実施形態を含む特定の実施形態に関して、上述の任意の実施形態を含む、少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物は、非金属コーティングが形成される基材の少なくとも一部分を組成物で噴霧することによって適用される。
【０２４６】
組成物が少なくとも１つのシラン基（特定するとポリフルオロポリエーテルシラン、又は更に特定すると式Ｉａの実施形態の任意の１つ）を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含み、非金属コーティングがケイ素、酸素、及び水素、例えば−ＳｉＯＨを伴うものを含む好ましい実施形態において、組成物を適用をすると、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ基における結合を含む共有結合の形成によって、極めて耐久性のあるコーティングが形成される。そのような耐久性コーティングの調製では、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ基を形成するための縮合が起こり、それによって硬化が起こるように、上記の加水分解性基の加水分解を引き起こすための十分な水が存在しなくてはならない。水は、例えば、処理用組成物中又は基材表面に吸着されて存在できる。典型的には、適用が、室温にて、含水雰囲気中、例えば、相対湿度が約３０％〜約８０％の雰囲気で実行される場合、耐久性コーティングの調製に十分な水が存在する。
【０２４７】
適用は、典型的には、基材を通常、室温（典型的に約２０℃〜約２５℃）で処理用組成物に接触させることによって実行される。あるいは、例えば６０℃〜１５０℃の温度で予め加熱した基材に処理用組成物を適用してもよい。適用後、処理された基材は、周囲温度又は（好ましくは）高温（例えば、４０℃〜３００℃）にて、乾燥及び硬化に十分な時間にわたり、乾燥及び硬化させることができる。所望又は必要に応じて、処理用組成物は熱反応開始剤を更に含んでもよい。あるいは、又はそれに加えて、処理用組成物の適用後、処理された基材を照射（例えば紫外線照射器などの手段）によって硬化してもよい（これも所望又は必要に応じて）。ここで、処理用組成物は典型的に光開始剤を更に含み、硬化は、処理用組成物に使用される光開始剤のタイプ及び存在それぞれに依存して、それ自体が既知の方法で行われる。
【０２４８】
処理後のプロセスは、余分な材料を取り除くためのすすぎ工程（例えば、所望又は必要に応じて乾燥／硬化の前又は後に）を含み、次いで乾燥工程が続いてもよい。
【０２４９】
好ましくは、フッ素含有コーティングの厚さは少なくとも約２０ｎｍであり、好ましくは少なくとも約３０ｎｍであり、最も好ましくは少なくとも約５０ｎｍである。これらの実施形態のいくつかでは、厚さは最高約３００ｎｍであり、好ましくは最高約２００ｎｍであり、より好ましくは最高約１５０ｎｍであり、最も好ましくは最高約１００ｎｍである。
【０２５０】
非金属コーティング及びフッ素含有コーティングを含む本明細書に記述した実施形態では、これら２つのコーティングを組み合わせた厚さは約２５〜約５２００ｎｍの範囲であることができる。この範囲内で、これら２つのコーティングを組み合わせた厚さは約１０００ｎｍ未満であり、より好ましくは最高約９５０ｎｍであり、更により好ましくは最高約８５０ｎｍであり、なお更により好ましくは約７５０ｎｍであり、最も好ましくは最高約６５０ｎｍである。
【０２５１】
本発明の追加的な態様は、前述の方法に従って作製された装置及び構成要素、該当する場合は医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素の表面の少なくとも一部分に非金属コーティング、及び非金属コーティングと結合されたフッ素含有コーティングを含む医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素を含み、このフッ素含有コーティングは、非金属コーティングと少なくとも１つの共有結合を共有する少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物を含む。
【０２５２】
好ましくは、フッ素含有コーティングは、複数の共有結合によって、より好ましくはＯ−Ｓｉ基における結合を含む共有結合によって、より望ましくはＳｉ−Ｏ−Ｓｉ基における結合を含む共有結合によって、非金属コーティングに共有結合される。好ましくは、非金属コーティング（フッ素含有コーティングに共有結合される）はケイ素及び酸素を含み、より好ましくは炭素、ケイ素、及び酸素を含む。少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物を含む組成物の適用前の非金属コーティングの特定の組成に依存して、組成物の適用後に非金属コーティング（フッ素含有コーティングに共有結合される）は水素を含む場合と含まない場合がある。しかし、概して、非金属コーティング（フッ素含有コーティングに共有結合される）は水素を更に含む。望ましくは、非金属コーティングは実質的に無フッ素であり、より好ましくは無フッ素である。望ましくは、非金属コーティングは実質的に無窒素であり、より好ましくは無窒素である。望ましくは、非金属コーティングは実質的に無硫黄であり、より好ましくは無硫黄である。望ましくは、非金属コーティングは、適用に応じて、装置又は構成要素の表面の少なくとも一部分に共有結合される。望ましくは、非金属コーティングはプラズマ蒸着コーティングであり、より望ましくは、イオン衝撃条件下で蒸着されたプラズマ蒸着コーティングである。望ましくは、非金属コーティングはダイヤモンド状ガラスコーティングである。好ましくは、少なくとも部分的にフッ素化された化合物の官能基は、シラン基である。好ましくは、少なくとも部分的にフッ素化された化合物はポリフルオロポリエーテルセグメント、より好ましくは全フッ素化ポリフルオロポリエーテルセグメントを含む。望ましくは、少なくとも１つの官能基を含む少なくとも部分的にフッ素化された化合物は、ポリフルオロポリエーテルシランであり、より望ましくは多官能性ポリフルオロポリマーシランであり、最も望ましくは二官能性ポリフルオロポリエーテルシランである。望ましくは、そのようなポリフルオロポリエーテルシランにおいて、１つ若しくはそれ以上のポリフルオロポリエーテルセグメントは、炭素−ケイ素官能基を介してシランセグメントに連結される。
【０２５３】
本発明の更なる態様は、医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素のそれぞれの表面の少なくとも一部分にプラズマ蒸着された非金属コーティングを含む医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素を含み、このコーティングは、イオン衝撃条件下でプラズマ蒸着され、実質的に無フッ素（又は、より好ましくは無フッ素）である。望ましくは、非金属コーティングは、装置又は構成要素のそれぞれの表面の少なくとも一部分に共有結合される。好ましくは、非金属コーティングはケイ素、酸素、及び水素を含み、より好ましくは、炭素、ケイ素、酸素、及び水素を含む。これらの実施形態では、非金属コーティングにおけるケイ素対酸素の比率は２未満であるのが好ましい。
【０２５４】
本発明の他の態様は、医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素のそれぞれの表面の少なくとも一部分にダイヤモンド状ガラスコーティング（上記に詳述）を含む医薬品吸入装置又は医薬品吸入装置構成要素を含む。
【０２５５】
所望の表面特性及び構造保全性を有する医薬品吸入装置及びその構成要素の提供以外に、本明細書に記述したような医薬品吸入装置及び構成要素を提供する方法が、その万能性及び／又はそのような医薬品吸入装置の多様な構成要素の作製への広範な適用性において有利であり、そのような構成要素は、大きく異なる材料で作製された大きく異なる形状及び形態を有する。例えば、本明細書に記述した方法は、有利なことに、ＭＤＩエアゾール容器、特定するとアルミニウム又はアルミニウム合金製の従来のＭＤＩエアゾール容器並びにステンレススチールのような他の金属製のＭＤＩエアゾール容器の内面の少なくとも一部（好ましくは内面の全面、より好ましくは全面）にコーティングを提供するために用いることができる。本明細書に記述した方法は、更に有利なことに、バルブステム又はバルブ本体、特定するとＰＢＴ又はアセタールのようなポリマー製のバルブステム又はバルブ本体の表面の少なくとも一部分（好ましくは全面）にコーティングを提供するために用いることができる。事実、ほとんど変更せず又は全く変更せずに同じ方法（化学品、プロセス条件など）を用いて、アルミニウム又はアルミニウム合金製ＭＤＩ容器並びに金属製及び／又はポリマー製バルブステム及びバルブ本体（典型的にステンレススチール及び／又はＰＢＴ及び／又はアセタール）、並びに圧縮バネ（典型的にステンレススチール製）及び作動装置（典型的にポリエチレン又はポリプロピレン製）をコーティングすることができる。これは、大規模な製造及びコーティング、並びにコーティング用製造プロセス、施設及び／又は設備の合理化にとって特に有利であると同時に、構成要素の基本材料の選択に関して自由が与えられ、場合によっては構成要素の基本材料の可能性が広がる。
【０２５６】
上で詳述したように、特定の実施形態（特に、本明細書で述べられるように単独の、又はフッ素含有コーティングでオーバーコーティングされる、ダイヤモンド状ガラスコーティングを含む実施形態）は、非常に好ましい不透性の特徴を有する。これらのコーティングは、ＤＰＩパウダー容器又はＭＤＩエアゾール容器で使用するのに特に有利である。更に、それらの非常に好ましい不透性の特徴により、そのようなコーティングは、外側から内側への水分の浸透、容器材料から若しくは容器材料へのエアゾール製剤の浸透、及び／又はエアゾール製剤への容器材料の抽出の可能性のためにこれまで使用不可とされてきたプラスチック又は他の材料で作製された容器（例えばＭＤＩエアゾール容器）の使用を可能にする。更に、本明細書に記述したような透明又は半透明のコーティングを用いて、患者が容易に容器の内容物を（すなわち、中身が空で交換の必要があるかを）観察できる点で有利であり得る透明又は半透明プラスチック製ＭＤＩエアゾール容器を提供することができる。
【０２５７】
また、本明細書に記述した方法を用いて、ネブライザ、ポンプスプレー器、鼻腔ポンプ、加圧されていない作動装置又はそのような装置の構成要素を含む他の医薬品吸入装置を提供することができる。したがって、本明細書に記述した医薬品吸入装置又は構成要素は、ネブライザ、ポンプスプレー器、鼻腔ポンプ、加圧されていない作動装置又はそのような装置の構成要素を含む他の医薬品吸入器であってもよい。
【０２５８】
また、本明細書に記述された方法を用いて、呼吸作動式装置、呼吸調整装置、スペーサ、用量カウンタ、又はそのような装置、スペーサ、及びカウンタのそれぞれの個別の構成要素のような、医薬品吸入装置に用いられる他の構成要素を提供することもできる。したがって、本明細書に記述された構成要素は、呼吸作動式装置、呼吸調整装置、スペーサ、用量カウンタ、又はそのような装置、スペーサ、及びカウンタのそれぞれの個別の構成要素であってもよい。医薬品吸入装置の用量カウンタの構成要素（１つ若しくはそれ以上）の提供に関して、本明細書に記述したコーティングの望ましい表面特性及び構造保全性（特に、耐久性及び磨耗抵抗）により、そのようなコーティングを用量カウンタの１つ若しくはそれ以上の構成要素（特に、１つ若しくはそれ以上の可動構成要素及び／又は可動構成要素と接触する１つ若しくはそれ以上の構成要素）に提供することは、乾いた潤滑によって促進される用量カウンタの滑らかな動作を提供する。
【０２５９】
本発明の目的及び利点は、下記の実施例によって更に例示されるが、これらの実施例において列挙された特定の材料及びその量は、他の諸条件及び詳細と同様に本発明を過度に制限するものと解釈すべきではない。
【実施例】
【０２６０】
（ＣＨ３Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ２）３Ｎ（Ｈ）Ｃ（Ｏ）ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）９〜１０（ＣＦ２Ｏ）９〜１０ＣＦ２Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３の調製
ＣＨ３ＯＣ（Ｏ）ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）９〜１０（ＣＦ２Ｏ）９〜１０ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３（商品名「フォンブリンズディール（FOMBLIN ZDEAL）」でソルベイ・ソレクシス（Solvay Solexis）（テキサス州ヒューストン）から得られるペルフルオロポリエーテルジエステル（５０グラム（ｇ））を、オーブン乾燥した１００ｍＬ丸底フラスコに窒素雰囲気下で加え、電磁攪拌器を用いて室温で急速に攪拌した。このフラスコに、３−アミノプロピルトリメトキシシラン（商品名「シルクエストＡ−１１１０（SILQUEST A-1110）」でＧＥシリコーンズ（GE Silicones）（コネチカット州ウィルトン）から入手）（９．１ｇ）を一部加えた。最初は混合物は二相であったが、試薬が混合されると、混合物は濁った。反応による約５０℃の温度の発熱が観察された。反応を６０℃で２時間継続した後、徐々に反応物を室温に冷却すると、やや曇りのある薄黄色の液体となった。反応は、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）による過剰な３−アミノプロピルトリメトキシシランの観察及びフーリエ変換赤外分光法（ＦＴＩＲ）による未反応エステル官能基の観察によって観測され、３−アミノプロピルトリメトキシシランの添加後９０分以内に完了することがわかった。
【０２６１】
反応生成物を高速で攪拌し、フラスコ内の圧力を１３３Ｐａ（１ｍｍＨｇ）まで徐々に低下させて、突沸を最小限に抑えた。メタノール副生成物を２時間かけてフラスコから蒸留し、５７．５ｇの（ＣＨ３Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ２）３Ｎ（Ｈ）Ｃ（Ｏ）ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）９〜１０（ＣＦ２Ｏ）９〜１０ＣＦ２Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３をフラスコから回収した（平均分子量は約２４００であり、７５０未満の重量平均分子量を有するポリフルオロポリエーテルセグメントを伴うシランの分留はゼロである）。
【０２６２】
特に他に明記されない限り、実施例では以下に説明するようにプラズマ処理及びそれに続くシラン処理を実行した。
【０２６３】
プラズマ処理法
例示の構成要素／基材を、ＰＴＦＥ支持体及び中央ガスポンピングによってチャンバから隔離された６６ｃｍ（２６インチ）の低ＲＦ給電電極で反応性イオンエッチング用に構成されたプラズマサームモデル（Plasmatherm Model）３０３２（プラズマサーム（Plasmatherm）（ニュージャージー州クレッソン）から入手可能なバッチプラズマシステム）で処理した。接地されたチャンバを、ドライメカニカルポンプ（エドワーズ（Edwards）モデルｉＱＤＰ８０、ボックエドワーズ（Boc Edwards））で支持されたルーツ型送風機（エドワーズモデルＥＨ１２００、ボックエドワーズ（Boc Edwards）、英国ウエストサセックス州（West Sussex））に接続した。プラズマは、５ｋＷ、１３．５６ＭＨｚ固体発生装置（マサチューセッツ州ウィルミントン（Wilmington）のＭＫＳパワー・ジェネレーターズ・アンド・サブシステムズ（MKS Power Generators and Subsystems）より入手可能なＲＦプラズマプロダクツモデル（RF Plasma Products Model）ＲＦ５０Ｓ０）及び高周波インピーダンス整合ネットワーク（プラズマサーム（Plasmatherm）より入手可能なプラズマサームモデル（Plasmatherm Model）ＡＭＮ−３０）を動力とした。システムは、公称ベース圧力が０．６７Ｐａ（５ｍＴｏｒｒ）であった。ガスの流量は、ＭＫＳパワー・ジェネレーターズ・アンド・サブシステムズ（MKS Power Generators and Subsystems）より入手可能な流量制御装置によって制御された。蒸着される構成要素／基材を、低給電電極上に配置した（したがって、プラズマ生成の際に形成されるイオンシースに位置付けられた）。
【０２６４】
プラズマ処理は以下の工程を含んだ。
【０２６５】
工程１．例示の構成要素／基材を、最初に酸素ガス（９９．９９％、ＵＨＰグレード、ペンシルバニア州プラムステッドヴィル（Plumsteadville）のスコット・スペシャルティ・ガシズ（Scott Specialty Gases）より入手可能）を５００標準立方センチメートル／分（ｓｃｃｍ）の流量で流し、圧力を６．９パスカル（Ｐａ）（５２ミリトール（ｍｔｏｒｒ））及びプラズマ出力１０００ワットを維持することによって、酸素プラズマ中で処理した。この酸素プライミング工程を、６０秒間実施した。
【０２６６】
工程２．酸素プラズマプライミングに続いて、テトラメチルシラン（９９．９％、ＮＭＲグレード、ミズーリ州セントルイス（St. Louis）のシグマ−アルドリッチ・ケミカルズ（Sigma-Aldrich Chemicals）より入手可能）を導入した。酸素流量を５００ｓｃｃｍに維持しながら、テトラメチルシラン蒸気をチャンバ内に流量１５０ｓｃｃｍにて導入した。圧力を８．５Ｐａ（６４ｍｔｏｒｒ）に維持し、プラズマ出力を１０００Ｗに維持した。処理時間は６０秒であり、蒸着速度は約１７０ｎｍ／分とした。
【０２６７】
工程３．テトラメチルシランガスを、その後遮断し、酸素ガスを流量５００ｓｃｃｍで流し続けた。圧力を６．９Ｐａ（５２ｍｔｏｒｒ）に維持し、プラズマ出力を１０００Ｗで供給した。この蒸着後酸素プラズマ処理の最終工程を、６０秒間持続させた。
【０２６８】
各工程で用いた出力密度は０．２７ワット／平方センチメートルであった。
【０２６９】
典型的に、最高５０の例示の構成要素／基材のバッチを低給電電極上のトレーに置き、上述の３工程処理を３回行った。処理と処理との間にチャンバを雰囲気に発散させ、（構成要素／基材、及びトレー上のそれらの位置を再分布するために）トレーを取り外して振った後、低給電電極上に再び配置した。
【０２７０】
シリコンウェファー基材に蒸着されたそのようなコーティングの試料のマイクロ硬度（Ｈ）及び弾性率（Ｅ）を、ＭＴＳ  ＤＣＭナノインデンター（MTS DCM Nanoindenter）（ＭＴＳナノインスツルメンツ（MTS Nano Instruments）（米国テネシー州オークリッジ、スカーボロロード７０１、＃１００、３７８３０（701 Scarboro Road Suite 100 Oak Ridge, TN 37830））を使用して測定した。コーティングの試験は、上面から試料をプローブし行った。全ての実験で、ダイヤモンドのベルコビッチ（Berkovich）プローブを使用した。空間的ドリフトは最大０．０１ｎｍ／秒に維持した。一定ひずみ速度実験は、深さ１００ｎｍを目標として（いくつかのケースでは２００ｎｍ）、０．０５／秒で実行して、基材から有効に独立した結果を得る深さ（この深さは５０ｎｍ）を確定した。動的励起周波数７５ｈｚ及びインデンターの振幅１ｎｍを一定に保った。結果は、試料の異なる位置で行った１０〜１５測定値に関して報告される。
【０２７１】
コーティングがイオン衝撃条件下で蒸着されなかったことを除き、上述したのと同じ試験方法を用いて、蒸着されたコーティングのマイクロ硬度及び弾性率を測定した。１つのケースでは、基材を浮動電位に置き、基材がイオンシースの外になるように配置し、別のケースでは、このシステムを（接地電極として機能するチャンバの代わりに）接地電極を含むように修正し、基材を接地電極上に置いた。
【０２７２】
０．７ＧＰａ（浮動電位）及び０．２ＧＰａ（接地電極）と比較し、イオン衝撃条件下で蒸着されたプラズマ蒸着コーティング（すなわち、基材が給電電極上に配置されたもの）の測定マイクロ硬度は２．５ＧＰａであった。
【０２７３】
９．２ＧＰａ（浮動電位）及び２．６ＧＰａ（接地電極）と比較し、イオン衝撃条件下で蒸着されたプラズマ蒸着コーティング（すなわち、基材が給電電極上に配置されたもの）の測定弾性率は１７．５ＧＰａであった。
【０２７４】
シラン処理法
ＨＦＥ−７１００フルイド（ミネソタ州セントポール（St. Paul）の３Ｍ社（3M Company）から商品名「ノベック（NOVEC）ＨＦＥ−７１００」で入手可能）中０．１％の（ＣＨ３Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ２）３Ｎ（Ｈ）Ｃ（Ｏ）ＣＦ２（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）９〜１０（ＣＦ２Ｏ）９〜１０ＣＦ２Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３溶液（３リットル（Ｌ））を、室温で４Ｌのビーカー内に入れた。ビーカーをディップコーター内に設置した。上述の方法によりプラズマ処理した各代表的構成要素／基材をこの溶液の上に垂直に固定し、この溶液中に導入して全体を液面下に沈降させ、少なくとも５秒間、定位置に保持した。例示の構成要素（１つ若しくはそれ以上）を溶液から引き出して、ドレーンさせてからアルミニウムのパンに載せた。次いで、パンを１２０℃にて６０分間オーブンに入れた。次に例示の構成要素を少なくとも２４時間置いておいた。このシラン処理法によってもたらされたコーティングの厚みは、典型的に、約２０〜１００ｎｍの範囲であった。
【０２７５】
（実施例１）
５０ｍｃｌの定量チャンバを有する商品名「スプレーマイザー（SPRAYMISER）」（３Ｍ社（3M Company）（米国ミネソタ州セントポール）で市販されているタイプの定量バルブのステンレススチール圧縮バネ及びステンレススチール主要バルブ本体を処理した。次に、コーティングされた構成要素を組み入れてバルブを構築した。対照バルブも、コーティングされていないバネ及び主要バルブ本体を使用して構築した。
【０２７６】
微粒子薬物のモデル基材として、ブリリアントブルー食用染料（ワーナー・ジェンキンソン・ヨーロッパ社（Warner Jenkinson Europe Ltd.）（英国ノーフォーク州キングズリン、オールドメドーロード（Oldmeadow Road, King’s Lynn, Norfolk）ＰＥ  ３０  ４  ＬＡから市販）を、過半数の微粒子が１〜３マイクロメートルの範囲となるように流体エネルギーミルを使用して微紛化して使用した。
【０２７７】
コーティングされた構成要素を含む例示のバルブの特性を対照バルブと比較評価するために、以下のモデル製剤を含む缶にバルブ（例示のバルブ３つ及び対照バルブ３つ）を圧着して、６つの試験ユニットを提供した。
【０２７８】
【表１】
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【０２７９】
＊ＤＭＶインターナショナルファーマ（DMV International Pharma）から商品名ファーマトース（Pharmatose）３２５Ｍで入手した微粉化ラクトース一水和物を、アベスチン（Avestin）Ｃ５０高圧ホモジナイザーを用いて処理して、過半数の粒子を０．２〜１マイクロメートルの範囲にした。
【０２８０】
各試験ユニットを５回作動してプライムした後、５０回作動させた。その後、ユニットを−６０℃に冷却し、バルブを缶から外した。バルブを慎重に解体した。各バネ及び主要バルブ本体を１０ｍｌの脱イオン水で洗浄して、構成要素に蒸着したブリリアントブルー（Brilliant Blue）食用染料を定量的に収集し、収集された染料の量を、６２９ｎｍの波長での吸光度の分光分析により測定した。結果を下表（表１）にまとめる。
【０２８１】
【表２】
0005571560.tif 000006
【０２８２】
（実施例２）
５０ｍｃｌの定量チャンバを有する、商品名ＢＫ３５７（ベスパック（Bespak plc）（英国ノーフォーク州キングスリン、バーゲンウェイ（Bergen Way, Kings Lynn Norfolk）ＰＥ  ３０  ２ＪＪ）で市販されているタイプのバルブのアセタールバルブステム及びＰＢＴ主要バルブ本体を処理した。次に、コーティングされた構成要素を組み入れてバルブを構築した。コーティングされていないバルブステム及び主要バルブ本体を有するバルブを対照として用いた。以下のモデル製剤を含む缶にバルブ（例示のバルブ３つ及び対照のバルブ３つ）を圧着して、６つの試験ユニットを提供した。
【０２８３】
【表３】
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【０２８４】
各試験ユニットを５回作動してプライムした後、８９回作動させた。その後、ＪＪロイド引張試験機を使用して、ユニットそれぞれのバルブ力プロファイル（作動に必要な力及びバルブステムによってバルブ復帰ストロークに付加される力）を測定し（３回繰り返し、３回作動）、次に、バルブステムとシールとの間の摩擦（すなわちバルブ摩擦）を計算した。測定されたバルブ摩擦平均値を表２に記載する。
【０２８５】
処理された構成要素を有する定量バルブの戻り力測定値は、６．４〜９．７ニュートンの範囲であった。力の測定の後、ユニットを−６０℃に冷却し、バルブを缶から外した。バルブを慎重に解体し、各バルブステム及び主要バルブ本体の蒸着を、実施例１に記述したように測定し、結果を表２にまとめる。
【０２８６】
【表４】
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【０２８７】
（実施例３）
６３ｍｃｌ定量チャンバを有する図１に示したものと類似のタイプの定量バルブ用の、いずれもステンレス製である圧縮バネ、主要バルブ本体、及び加工バルブステムを処理した。次に、処理された構成要素を組み入れてバルブを構築した。対照バルブも、未処理の圧縮バネ、主要バルブ本体、及び加工バルブステムを用いて従来の方法で構築した。（過半数の粒子が１〜３マイクロメートルの範囲内である）１．９７ｍｇ／ｍｌの硫酸アルブテロールとＨＦＡ  １３４ａとからなる製剤を含む缶にバルブ（例示のバルブ５つ及び対照バルブ５つ）を圧着して、１０個の試験ユニットを提供した。各試験ユニットを５回作動してプライムした後、２００回作動させた。その後、ユニットそれぞれのバルブ力プロファイル（作動するために必要な力及びバルブステムがバルブ復帰ストロークに付加される力）を、実施例２に記述したように測定した。測定されたバルブ摩擦の結果を表３に報告する。処理された構成要素で組み立てられた定量バルブの戻り力は、５．８〜１１．６ニュートンの範囲であることがわかった。実施例２と同様に、蒸着の測定を実行した。ここでユニットを穿刺して、残りの液体内容物を排出し、バルブを取り外して慎重に解体した。薬物の検査が行われる各構成要素を蓋付きの管に配置した。５ｍｌの試料希釈液（４５：５５の比率のメタノール：０．１％リン酸溶液）を各管に分配し、希釈液を分配した直後に蓋を戻した。次に、各管を音波洗浄器に２分間置いて、次いで反転及び旋回によって１分間やさしく振って、構成要素上の硫酸アルブテロールの蒸着を定量的に収集した。次に、各管からのアリコートを、ＨＰＬＣ分析に送って、蒸着した硫酸アルブテロールの量を測定した。結果を表３にまとめる。
【０２８８】
【表５】
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【０２８９】
＊試料の汚染のため測定せず
（実施例４）
この実施例では、例示の構成要素／基材を以下の混転プラズマ処理法で処理して、ダイヤモンド状ガラスコーティングのみを有する構成要素を提供した。
【０２９０】
混転プラズマ処理法
例示の構成要素／基材を、カスタム構築された混転円筒形プラズマシステムにて処理した。直径１５ｃｍ、長さ３０ｃｍの石英管（４つの内部バッフルを有する）であるチャンバに、アルミニウム製端フランジを真空グレードシーラント（Ｔｏｒｒ−Ｓｅａｌ）によって取り付ける。端フランジのそれぞれに直径３．８ｃｍ（１．５インチ）のステンレス管が設けられ、１つはロータリシールで、機械式ポンプ（レイボルド（Leybold）モデルＤ６５ＢＣＳ（米国ペンシルベニア州エクスポート）で支持されたルーツ型送風機（アルカテル（Alcatel）モデルＲＳＶ６００（フランス、アヌシー（Annecy））に接続し、もう１つはロータリシールでガス供給システムに接続した。プラズマは、水平軸の石英管の下に位置付けられた幅１５ｃｍ、長さ２５ｃｍの、６ｍｍの厚さの銅の外部電極によって生成した。石英管との間に２ｍｍの間隙を空けて１５ｃｍの幅の電極が石英管の湾曲と一致するように、銅の電極を円の弧に巻いた。接地された反対電極として、またファラデー（Faraday）シールドとしても作用する穿孔金属シート製のハウジング内に石英管アセンブリ全体を納めて、プラズマシステムを包囲する自由空間に電磁放射線が逃げないよう防いだ。はるかに大きい穿孔金属接地構造物内に、より小さい給電電極が位置付けられて、非対称プラズマシステムが構築された。プラズマは、１ｋＷ、１３．５６ＭＨｚの固体発電機（セレン（Seren）、モデル番号Ｒ１００１（米国ニュージャージー州バインランドのセレンＩＰＳ社（Seren IPS, Inc.）より入手可能）及び高周波数インピーダンス整合ネットワーク（Ｒｆプラズマプロダクツ（Rf Plasma Products）モデルＡＭＮ−１０（米国コロラド州フォートコリンズのアドバンスド・エナジー（Advanced Energy）より入手可能）で出力させた。システムは、公称ベース圧力が０．６７Ｐａ（５ｍＴｏｒｒ）であった。ガスの流量は、マサチューセッツ州ウィルミントンのＭＫＳパワー・ジェネレーターズ・アンド・サブシステムズ（MKS Power Generators and Subsystems）より入手可能な流量制御装置によって制御した。蒸着される構成要素／基材を石英管の中に、給電電極に隣接するイオンシース内に本質的に位置付けて配置し、給電電極を石英管の真下に位置付けた。石英管を毎分１．２回転のゆっくりした速度で一定に回転させた。
【０２９１】
プラズマ処理は以下の工程を含み、各工程は０．５３ワット／平方ｃｍの出力密度を使用した。
【０２９２】
工程１．例示の構成要素／基材を最初に、酸素ガス（９９．９９％、ＵＨＰグレード、ペンシルバニア州プラムステッドヴィル（Plumsteadville）のスコット・スペシャルティ・ガシズ（Scott Specialty Gases）より入手可能）を１００標準立方センチメートル／分（ｓｃｃｍ）の流量で流し、圧力を６．９パスカル（Ｐａ）（１２０ミリトール（ｍｔｏｒｒ））及びプラズマ出力２００ワットを維持することによって、酸素プラズマ中で処理した。この酸素プライミング工程を、３００秒間実施した。
【０２９３】
工程２．酸素プラズマプライミングに続いて、テトラメチルシラン（９９．９％、ＮＭＲグレード、ミズーリ州セントルイス（St. Louis）のシグマ−アルドリッチ・ケミカルズ（Sigma-Aldrich Chemicals）より入手可能）を導入した。酸素流量を３０ｓｃｃｍに維持しながら、テトラメチルシラン蒸気を、チャンバ内に、流量６０ｓｃｃｍにて導入した。圧力を１３〜２０Ｐａ（１００〜１５０ｍｔｏｒｒ）に維持し、プラズマ出力を２００Ｗに維持した。処理時間は９００秒であった。
【０２９４】
（蒸着されたダイヤモンド状ガラスフィルムをその元来の蒸着表面状態で残すために、酸素プラズマによる後処理は行わなかった）。
【０２９５】
典型的に、最高５００個の例示の構成要素／基材を石英管の中に配置し、この石英管を毎分１．２回転で回転しながらプラズマ処理工程１及び２を行った。蒸着と蒸着との間に研磨パッドを使い、結果的に生じた塵を真空吸引して、石英の壁に蓄積した蒸着を洗浄した。この洗浄は、前に行われた蒸着による、石英の壁上の物質／蓄積物が蒸着中に剥がれ落ち、作られつつある薄膜の中に入り込み、作られつつある膜に欠陥を引き起こす可能性を防ぐために行われた。膜の蒸着後、石英管チャンバを大気に放出させ、構成要素を取り出した。
【０２９６】
実施例３で使用したタイプの圧縮バネ、主要バルブ本体、及び加工バルブステムを、前述の混転プラズマ処理法によって処理した。次に、処理した構成要素をバルブに組み込んで構築し、これらのバルブ（５つの例示のバルブ）を、実施例３で使用したタイプの硫酸アルブテロール製剤を収容する缶に圧着し、実施例３に記述したように硫酸アルブテロール蒸着の測定を実行した。結果を表４にまとめる。
【０２９７】
【表６】
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【図１ａ】
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【図１ｂ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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