(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動自在に設けられた搬送基体と、
基板を真空吸着して保持するように構成され、基板の受け渡しを行う前進位置と基板を保持して待機する後退位置との間で進退自在に前記搬送基体に設けられた保持部材と、を備えた基板搬送装置において、
前記搬送基体は、その側面に沿って前後方向に伸び、通電される誘導線を備え、
前記保持部材は、
一端が基板を吸着する吸引孔として開口する吸引路と、
前記吸引路の他端側に設けられた真空ポンプと、
前記真空ポンプに給電するためのバッテリーと、
前記搬送基体の側面に対向する移動枠と、
前記保持部材の進退時に電磁誘導により電流を発生させるために前記誘導線に近接して前記移動枠に設けられ、前記バッテリーを充電するための受電部をなすコイルと、
前記基板の吸着または解除のための信号を、当該保持部材の外に設けられた制御部から受信するための通信部と、を備えたことを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記搬送基体には、前記保持部材として各々互いに上下に間隔をおいて配置された第１の保持部材及び第２の保持部材が設けられ、これら保持部材の各々が請求項１に記載された構成を備えていることを特徴とする請求項１記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記保持部材は、前記吸引路内の圧力を検出する圧力検出部を備え、
前記通信部は、前記圧力検出部にて検出した検出値に応じた検出信号を当該保持部材の外に設けられた制御部に送信する機能を備えたことを特徴とする請求項１または２記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記吸引路には電磁弁が設けられ、
基板の吸着が行われた後は、電磁弁を閉じると共に前記真空ポンプを停止するように構成されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記搬送基体は、前記保持部材に設けられた前記通信部に対して通信を行うための通信部と、コントローラとを備え、
前記コントローラは、前記圧力検出部から送られた圧力検出値が減圧確認用のしきい値以下になったときに、真空ポンプの停止指令を前記通信部を介して保持部材側に送信するように構成されていることを特徴とする請求項３に記載の基板搬送装置。
【請求項６】
移動自在に設けられた搬送基体と、基板の受け渡しを行う前進位置と基板を保持して待機する後退位置との間で進退自在に前記搬送基体に設けられた保持部材と、を備え、
この保持部材は、一端が基板を吸着する吸引孔として開口する吸引路と、この吸引路の他端側に接続された真空ポンプと、前記搬送基体の側面に対向する移動枠と、を備え、
前記搬送基体は、その側面に沿って前後方向に伸び、通電される誘導線を備えた基板搬送装置を用い、
前記保持部材を、基板を保持していない状態で前進させると共に前記真空ポンプを作動させ、当該保持部材が基板を受け取る工程と、
次いで前記吸引路の吸引状態を維持したまま前記保持部材を後退させる工程と、
次に保持部材を、基板を保持している状態で前進させ、前記吸引路内の圧力を大気圧に復帰させる工程と、
続いて基板を前記保持部材から受け渡す工程と、
前記保持部材の進退時に、前記誘導線に近接して前記移動枠に設けられたコイルに電磁誘導により電流が発生し、バッテリーを充電する工程と、
前記バッテリーから前記真空ポンプに給電する工程と、を含むことを特徴とする基板搬送方法。
【請求項７】
前記搬送基体には、前記保持部材として各々互いに上下に間隔をおいて配置された第１の保持部材及び第２の保持部材が設けられ、これら保持部材の各々が請求項６に記載された構成を備えていることを特徴とする請求項６記載の基板搬送方法。
【請求項８】
前記保持部材を後退させる工程は、前記吸引路内の圧力を前記保持部材に設けられた圧力検出部により検出し、その圧力検出値が減圧確認用のしきい値以下であることを確認した後に行われ、
基板を前記保持部材から受け渡す工程は、前記吸引路内の圧力を前記圧力検出部により検出し、その圧力検出値が大気圧に復帰していることを確認した後に行われることを特徴とする請求項６または７記載の基板搬送方法。
【請求項９】
基板の吸着が行われた後は、前記吸引路に設けられた電磁弁を閉じ、前記真空ポンプを停止する工程が行われることを特徴とする請求項６ないし８のいずれか一項に記載の基板搬送方法。
【請求項１０】
前記搬送基体は、前記保持部材に設けられた通信部に対して通信を行うための通信部と、コントローラとを備え、
前記コントローラは、前記圧力検出部から送られた圧力検出値が減圧確認用のしきい値以下になったときに、真空ポンプの停止指令を前記通信部を介して保持部材側に送信する工程を行うことを特徴とする請求項８に記載の基板搬送方法。
【請求項１１】
基板を真空吸着して搬送する基板搬送装置に用いられるコンピュータプログラムが記憶された記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項６ないし１０のいずれか一つに記載の基板搬送方法を実施するためのものであることを特徴とする記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を真空吸着して搬送する技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウエハや液晶ディスプレイ用のガラス基板などの基板を大気中で搬送する手法の一つとして、例えば特許文献１に記載されているように、搬送アーム（ピンセットなどとも呼ばれる保持部材を総称している）に設けられた真空吸引孔（いわゆるバキュームチャック）に基板を吸着保持する方法がある。このように搬送アームに基板を吸着保持することにより、搬送アームの加減速度を大きくしても基板の位置ずれや落下が起こらない利点がある。
【０００３】
バキュームチャックタイプの基板搬送装置は、搬送基体に進退自在に設けられた搬送アーム内に吸引路を形成すると共に、この吸引路の基端側に真空配管を接続して構成される。そして、この配管は基板搬送装置が組み込まれる基板処理装置、例えばレジスト膜を形成する塗布、現像装置の用力系の格納領域に配置された真空ポンプまで引き回される。
【０００４】
しかしながら、基板搬送機構が受け持つ搬送領域が大きくなると、例えば直線搬送路や上下搬送路の寸法が大きくなると、真空配管が長くなり真空配管内の容積が大きくなるため、基板を吸着するのに必要な圧力に到達するまでの時間が長くかかっていた。このため、搬送アームが基板を受け取ってから進退動作を開始するまでの時間が長くなり、搬送アームの加速度が大きくできるとはいっても、基板の搬送効率が必ずしも高いとはいえない場合があった。また、例えば塗布、現像装置はモジュール数が多くなりかつ装置の小型化を図る傾向にあり、装置内は構造物が立て込んでいてスペースも狭く、無理に真空配管を配置しようとすると複雑な構造となり、配管に負荷がかかってしまうため、真空配管を引き回しにくい環境にあった。
【０００５】
ここで、特許文献２には、小型ポンプと小型のバッテリーを搭載し携帯し持ち運び可能な基板搬送装置が記載されているが、保持部材にはポンプやバッテリーは搭載されておらず、吸着部まで屈曲自在な配管が引き回されている。特許文献３に記載の基板搬送装置は、真空ポンプ等は搬送ハンドの外に設けられており、吸着部までは配管が引き回されている。特許文献４には、基板を真空吸着し進退自在な搬送アームを備え、自動搬送車（ＡＧＶ）に搭載された基板搬送装置が記載されているが、ＡＧＶに搭載されたバッテリーやコンプレッサから搬送アームまで配管を引き回さなければならない。このことから、特許文献２、特許文献３及び特許文献４のいずれにおいても、本発明の課題の解決方法は記載されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許２６７３２３９号公報
【特許文献２】特開平５−３３７８６７号公報
【特許文献３】特開平９−２７５１２９号公報
【特許文献４】特開２００２−２０３８８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明はこのような背景の下になされたものであり、その目的は基板を保持部材に真空吸着して搬送するにあたって、保持部材の外における真空配管の引き回しが不要で、速やかに基板を搬送することができる技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の基板搬送装置は、
移動自在に設けられた搬送基体と、
基板を真空吸着して保持するように構成され、基板の受け渡しを行う前進位置と基板を保持して待機する後退位置との間で進退自在に前記搬送基体に設けられた保持部材と、を備えた基板搬送装置において、
前記搬送基体は、その側面に沿って前後方向に伸び、通電される誘導線を備え、
前記保持部材は、
一端が基板を吸着する吸引孔として開口する吸引路と、
前記吸引路の他端側に設けられた真空ポンプと、
前記真空ポンプに給電するためのバッテリーと、
前記搬送基体の側面に対向する移動枠と、
前記保持部材の進退時に電磁誘導により電流を発生させるために前記誘導線に近接して前記移動枠に設けられ、前記バッテリーを充電するための受電部をなすコイルと、
前記基板の吸着または解除のための信号を、当該保持部材の外に設けられた制御部から受信するための通信部と、を備えたことを特徴とする。
【０００９】
また本発明の基板搬送方法は、
移動自在に設けられた搬送基体と、基板の受け渡しを行う前進位置と基板を保持して待機する後退位置との間で進退自在に前記搬送基体に設けられた保持部材と、を備え、
この保持部材は、一端が基板を吸着する吸引孔として開口する吸引路と、この吸引路の他端側に接続された真空ポンプと、前記搬送基体の側面に対向する移動枠と、を備え、
前記搬送基体は、その側面に沿って前後方向に伸び、通電される誘導線を備えた基板搬送装置を用い、
前記保持部材を、基板を保持していない状態で前進させると共に前記真空ポンプを作動させ、当該保持部材が基板を受け取る工程と、
次いで前記吸引路の吸引状態を維持したまま前記保持部材を後退させる工程と、
次に保持部材を、基板を保持している状態で前進させ、前記吸引路内の圧力を大気圧に復帰させる工程と、
続いて基板を前記保持部材から受け渡す工程と、
前記保持部材の進退時に、前記誘導線に近接して前記移動枠に設けられたコイルに電磁誘導により電流が発生し、バッテリーを充電する工程と、
前記バッテリーから前記真空ポンプに給電する工程と、を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明は、基板を保持部材に真空吸着して搬送するにあたって、保持部材に真空ポンプ及びバッテリーを設けると共に、搬送基体から誘導線及び受電部をなすコイルを利用してバッテリーを充電し、バッテリーからの電力により真空ポンプを動作するようにしている。従って保持部材の外に真空配管（吸引路）を引き回す必要がないため、構成が簡素化され、また吸引路が短いため速やかな基板の搬送を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施形態に係る基板搬送装置を示す斜視図である。
【図２】前記基板搬送装置を示す縦断側面図である。
【図３】前記基板搬送装置を示す平面図である。
【図４】前記基板搬送装置の電子部品の接続を示すブロック図である。
【図５】本発明の実施形態に係るウエハの搬送手順を説明する縦断側面図である。
【図６】本発明の実施形態に係るウエハの搬送手順を説明するフロー図である。
【図７】本発明における他の実施形態に係る、基板搬送装置を示す斜視図である。
【図８】本発明における他の実施形態に係る、基板搬送装置を示す背断面図である。
【図９】本発明における他の実施形態に係る基板搬送装置における送電部及び受電部を示す縦断側面図である。
【図１０】本発明における他の実施形態に係る基板搬送装置における送電部及び受電部を示す斜視図である。
【図１１】本発明の実施形態に係る基板搬送装置を備えた塗布、現像装置を示す平面図である。
【図１２】前記塗布、現像装置を示す斜視図である。
【図１３】前記塗布、現像装置を示す縦断側面図である。
【図１４】前記塗布、現像装置における処理ブロックを示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の基板搬送装置の実施形態は、図１〜図３に示すように、概ね直方体形状の搬送基体１と、この搬送基体１に進退自在に各々設けられ、互いに上下に重なるように配置された保持部材である第１のアーム（上側のアーム）２ａ及び第２のアーム（下側のアーム）２ｂを備えている。搬送基体１は、図２に示すように、駆動軸１１を介して駆動機構１２により支持されており、この駆動機構１２により鉛直軸回りに回転することができ、また昇降できるように構成されている。また、搬送基体１は、アーム２ａ、２ｂの前進方向を前方とすると、後端側に垂立部１３を備えており、この垂立部１３には、第１のアーム２ａ及び第２のアーム２ｂへ夫々電磁誘導による非接触給電を行うための送電部である送電コイル１４ａ、１４ｂが各アーム２ａ、２ｂの高さ位置に応じた位置に設けられている。
【００１３】
更に搬送基体１は、図３に示すように、各アーム２ａ、２ｂとの間で通信を行うための送受信部１７を備えている。また、搬送基体１には、アーム２ａ、２ｂを夫々進退させるための図示しない移動機構が設けられ、更に基板搬送装置の外部から引き回される、図示しない電源ケーブルや外部の制御部６との間で通信を行うための通信ケーブルが接続されている。
【００１４】
次に、第１のアーム２ａ及び第２のアーム２ｂの構成について詳述するが、両アーム２ａ、２ｂは同様な構造であるため、代表して第１のアーム２ａについて説明する。第１のアーム２ａは、図１及び図３に示すように、ウエハＷのサイズに対応する馬蹄形状に形成されたウエハＷの保持部分３ａと、この保持部分３ａの中間部位から後方側に水平に伸びる柄部分４ａとからなる。ウエハＷ保持部分３ａは、内周縁における左右位置及び後方位置の３ヶ所に保持爪３１ａが突出して設けられ、各保持爪３１ａにはウエハＷを真空吸着するための吸引孔３２ａが開口している。ウエハＷは、これら保持爪３１ａにて周縁部が保持され、真空吸着されることとなる。
【００１５】
柄部分４ａにおける後端は概ねＬ字形の移動枠５ａに固定されており、この移動枠５ａの垂直部分は、搬送基体１内の進退機構例えばベルト機構のベルトに固定されて進退できるように構成されている。また、柄部分４ａの後端側には、搬送基体１の垂立部１３に設けられた送電コイル１４ａに対向するように受電部である受電コイル４４ａが設けられており、第１のアーム２ａが最後部まで後退した位置（後退位置）に置かれている時には送電コイル１４ａから受電コイル４４ａへ電磁誘導により非接触で給電できるようになっている。
【００１６】
柄部分４ａは、図３に示すように、中央に長方形状の開口部４０ａが形成され、この開口部４０ａを囲む部分にバッテリー４１ａ、圧力検出部４５ａ及び通信部である送受信部４７ａが設けられている。前記開口部４０ａ内には、小型の真空ポンプ４２ａが取り付けられている。ウエハ保持部分３ａの内部には、前記吸引孔３２ａに連通する吸引路３３ａが形成されており、吸引路３３ａの基端側は電磁弁４３ａを介して前記真空ポンプ４２ａに接続されている。圧力検出部４５ａは、吸引路３３ａ内の圧力を検出するためのものである。バッテリー４１ａは、受電コイル４４ａから供給された電荷を蓄電し、真空ポンプ４２ａ、圧力検出部４５ａ及び電磁弁４３ａなどの電子部品に給電すると共に、後述する搬送基体１に対して送受信を行うのに必要な通信機器に給電する役割を持っている。
【００１７】
第１のアーム２ａ及び第２のアーム２ｂに設けられている各部品について、電力供給及び電気信号の経路を図４にブロック図として示してある。図４中、コンバータ４６ａ、４６ｂは、バッテリー４１ａ、４１ｂからの電圧を所定の直流電圧に設定して真空ポンプ４２ａ、４２ｂなどに供給するためのものである。ソレノイド４３１ａ、４３１ｂは、図３に示した電磁弁４３ａ、４３ｂに設けられているものであり、給電及びその停止により吸引路３３ａ、３３ｂを開閉する。Ｉ／Ｆボード（インターフェイスボード）４８ａ、４８ｂは、搬送基体１の送受信部１７から送受信部４７ａ、４７ｂに送られた動作制御信号（通信用の信号）を各部に対応する形式の信号に変換して、ソレノイド４３１ａ、４３１ｂ、真空ポンプ４２ａ、４２ｂに対して出力すると共に、圧力検出部４５ａ、４５ｂからの圧力検出信号を通信用の信号に変換して送受信部４７ａ、４７ｂを介して搬送基体１の送受信部１７に送信する役割を有する。
【００１８】
搬送基体１には、図４に示すように、インバータ１８、Ｉ／Ｏボード（入出力ボード）１６及びコントローラ１５が設けられている。インバータ１８は、基板搬送装置の外部からの図示しない電源を介して供給された電力を所定のレベル及び周波数の電力に変換して送電コイル１４ａ、１４ｂに送るためのものである。コントローラ１５は、前記外部からの電力に基づいて電源電圧が確保され、次のような機能を有する。  
ａ）  第１のアーム２ａまたは第２のアーム２ｂがプロセスモジュールに向かって前進し始めるときに、基板搬送装置の外に設けられた制御部６から図示しない信号ケーブルを介して送られる制御信号に基づいて、Ｉ／Ｏボード（入出力ボード）１６及び送受信部１７を介して、第１のアーム２ａまたは第２のアーム２ｂに、電磁弁４３ａ、４３ｂを開にし（ソレノイド４３１ａ、４３１ｂに通電し）かつ真空ポンプ４２ａ、４２ｂを駆動する旨の指令信号を出力する。  
ｂ）  第１のアーム２ａまたは第２のアーム２ｂ側から送られた圧力検出値を減圧確認用の設定値と比較し、圧力検出値が設定値以下になったときには、ウエハＷの真空吸着が確立されたと判断し、圧力検出値が送られた第１のアーム２ａまたは第２のアーム２ｂに対して電磁弁４３ａ、４３ｂを閉にし（ソレノイド４３１ａ、４３１ｂの通電を遮断し）かつ真空ポンプ４２ａ、４２ｂを停止する旨の指令信号を出力し、判断結果（比較結果）を前記制御部６に知らせる。  
ｃ）  第１のアーム２ａまたは第２のアーム２ｂがウエハＷの受け渡し位置まで前進したことを制御部６から知らされたときに、第１のアーム２ａまたは第２のアーム２ｂに電磁弁４３ａ、４３ｂを開にする旨の指令信号を出力すると共に、対応するアーム２ａ、２ｂから送られた圧力検出値を大気復帰確認用の設定値と比較し、圧力検出値が設定値を越えたときには大気復帰が確立されたと判断して判断結果を制御部６に知らせる。
【００１９】
また、基板搬送装置の外部にある制御部６は、例えばコンピュータからなり、不図示のプログラム格納部を有している。このプログラム格納部には、上述のコントローラ１５の機能及び後述する基板搬送装置の動作を制御するための命令が組まれた例えばソフトウエアからなるプログラムが格納されている。このプログラムが制御部６に読み出されることで、制御部６は本基板搬送装置の動作を制御する。このプログラムは、例えばハードディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスクまたはメモリーカードなどの記憶媒体に記憶され、この記憶媒体からコンピュータ内のメモリであるプログラム格納部にインストールされる。
【００２０】
次に、上述の実施形態における作用について、図５及び図６を参照しながら説明する。今、図５に示すように、基板搬送装置の第１のアーム２ａはウエハＷを保持しておらず、第２のアーム２ｂはウエハＷ２を吸着保持しており、各アーム２ａ、２ｂ共に待機位置に後退している状態で、プロセスモジュールの前に搬送基体１が移動しているものとする（図５（ａ））。図６のフロー図では、この状態をステップＳ１とする。このとき、各アーム２ａ、２ｂの受電コイル４４ａ、４４ｂは搬送基体１の送電コイル１４ａ、１４ｂから電磁誘導により受電しており、この受電電力により各バッテリー４１ａ、４１ｂが充電される。
【００２１】
次いで、基板搬送装置の外の制御部６からの制御信号により、搬送基体１の進退機構が駆動されて第１のアーム２ａが前進する。そして、例えば第１のアーム２ａの前進直前にあるいは第１のアーム２ａの前進中に、制御部６から搬送基体１のコントローラ１５、送受信部１７及び第１のアーム２ａの送受信部４７ａを介して真空ポンプ４２ａに動作信号が送られ、これにより真空ポンプ４２ａはバッテリー４１ａからの電力により作動する（ステップＳ２）。第１のアーム２ａの前進動作が終了すると、続いて、駆動機構１２により搬送基体１を僅かに上昇させることで第１のアーム２ａを僅かに上昇させて、モジュール内にて昇降ピンにより突き上げられている処理済みのウエハＷ１を、第１のアーム２ａのウエハ保持部分３ａの保持爪３１ａ上で受け取り、吸引孔３２ａの吸引により吸着する（図５（ｂ）及びステップＳ３）。第１のアーム２ａにウエハＷ１が受け渡されると、バッテリー４１ａからの給電により動作する圧力検出部４５ａから第１のアーム２ａの吸引路３３ａ内の圧力検出値が搬送基体１のコントローラ１５に送信され、圧力検出値が所定値（減圧確認用のしきい値）以下であるか否か判定される（ステップＳ４）。圧力検出値が所定の値を越えているときには、真空ポンプ４２ａを作動させてからの経過時間を確認する（ステップＳ５）。圧力検出値が減圧確認用のしきい値を越えている状態が予め設定した時間を経過して継続している場合にはアラーム信号を搬送基体１のコントローラ１５を介して制御部６に送信し、これによりアラームが発せられる（ステップＳ６）。圧力検出値が設定時間を経過する前に前記所定値以下になったときには、第１のアーム２ａ上へのウエハＷ１の真空吸着が確立されたとコントローラ１５が判断し、コントローラ１５の指令信号が第１のアーム２ａに送られ、ソレノイド４３１ａが作動して第１のアーム２ａの電磁弁４３ａが閉じられ、真空ポンプ４２ａが停止する（ステップＳ７）。
【００２２】
また、コントローラ１５は、基板搬送装置の外の制御部６に真空吸着の確立判断信号を送信し、これにより制御部６は搬送基体１の進退機構に制御信号を出力して、第１のアーム２ａを後退させると共に第２のアーム２ｂを前進させ（図５（ｃ）、（ｄ））、ウエハＷ２を当該プロセスモジュール内に搬入する（ステップＳ８）。その後、搬送基体１のコントローラ１５からの指令信号により、第２のアーム２ｂの電磁弁４３ｂを開くこと（ソレノイド４３１ｂをオフにすること）でウエハＷ２の第２のアーム２ｂ上への吸引を解除する（ステップＳ９）。
【００２３】
第２のアーム２ｂの圧力検出部４５ｂの圧力検出値は常時コントローラ１５に送られており、コントローラ１５は圧力検出値が大気復帰用のしきい値以上になったか否か、即ち大気圧に復帰したか否かを判断する（ステップＳ１０）。大気圧に達していない場合には、電磁弁４３ｂを開いてからの経過時間が予め設定した時間を経過しているか否かを判断し（ステップＳ１１）、経過している場合には搬送基体１のコントローラ１５がアラーム信号を制御部６に送信する（ステップＳ１２）。
【００２４】
前記圧力検出値が大気圧に復帰している場合には、コントローラ１５がその旨を制御部６に送信し、駆動機構１２により搬送基体１を僅かに下降させることで第２のアーム２ｂを僅かに下げ、第２のアーム２ｂからプロセスモジュール内の昇降ピンにウエハＷ２が受け渡される（ステップＳ１３）。その後、制御部６からの指令信号により第２のアーム２ｂが後退し（ステップＳ１４）、こうしてプロセスモジュールに対して処理済みのウエハＷ１及び未処理のウエハＷ２の交換動作が終了する。なお、各アーム２ａ、２ｂでは、後退した状態において夫々送電コイル１４ａ、１４ｂ及び受電コイル４４ａ、４４ｂを介してバッテリー４１ａ、４１ｂに随時充電が行われる。
【００２５】
上述の実施形態によれば、ウエハＷをアーム２ａ、２ｂに真空吸着して搬送するにあたって、アーム２ａ、２ｂに真空ポンプ４２ａ、４２ｂ及びバッテリー４１ａ、４１ｂを設けると共に、搬送基体１から送電コイル１４ａ、１４ｂ及び受電コイル４４ａ、４４ｂを介してバッテリー４１ａ、４１ｂを充電し、バッテリー４１ａ、４１ｂからの電力により真空ポンプ４２ａ、４２ｂを動作するようにしている。従ってアーム２ａ、２ｂの外に吸引路３３ａ、３３ｂを引き回す必要がなく、吸引路３３ａ、３３ｂが短くて済むことから真空引きに必要な時間も短くなり、このため速やかにウエハＷの搬送を行うことができ、高い搬送効率が得られる。
【００２６】
また、吸引路３３ａ、３３ｂの引き回しが不要であることから、配管抵抗を抑えるための複雑な配管構造を採用しなくて済む上、特に搬送エリアを含む構造物間のスペースが狭い場合には装置内が簡素化され、非常に有効である。そして、アーム２ａ、２ｂに圧力検出部４５ａ、４５ｂを設け、圧力検出値を搬送基体１側のコントローラ１５に送ってこのコントローラ１５で圧力検出値の大小を判断し、判断結果に基づいてアーム２ａ、２ｂ側に真空ポンプ４２ａ、４２ｂや電磁弁４３ａ、４３ｂの動作指令信号を送信すると共に、基板搬送装置の外の制御部６に前記判断結果を送るようにしている。従って、アーム２ａ、２ｂにおいては、信号処理の負荷が小さいため、その分の消費電力を低減できるので、バッテリー４１ａ、４１ｂの小型化に寄与できる。
【００２７】
そしてまた、吸引路３３ａ、３３ｂ内の圧力が所定の圧力まで減圧した後は、電磁弁４３ａ、４３ｂを閉じると共に真空ポンプ４２ａ、４２ｂを停止するようにしていることから、真空ポンプ４２ａ、４２ｂの消費電力が少なくて済み、この点からもバッテリー４１ａ、４１ｂの小型化を図ることができる。バッテリー４１ａ、４１ｂの小型化を図ることにより、アーム２ａ、２ｂ全体の重量を小さくできる上、搬送基体１からアーム２ａ、２ｂへの送電量も少なくてよいことから、アーム２ａ、２ｂの後退位置における停止時間を送電のために特別に確保しなくて済むので、搬送の高速化を妨げることもない。
【００２８】
次に、本発明における他の実施形態について、図７〜図１０を用いて説明する。なお、両アーム２ａ、２ｂは同じ構造であるため、代表して第１のアーム２ａについてのみ述べる。この実施形態が先の実施形態と異なる主な点は、アーム２ａにおける柄部分の左右両側に移動枠が一体化している点、搬送基体１の送電部からアーム２ａの受電部への送電がアーム２ａの進退移動中にも行うことができる点、真空ポンプ４２ａや圧力検出部４５ａの配置レイアウトが異なる点、である。具体的には、図７に示すように、柄部分４ａにて各々左右方向に横長の矩形の開口部８０ａ、８１ａが前後に並んで形成されており、前方側の開口部８０ａ内には、真空ポンプ４２ａが設けられると共に、後方側の開口部８１ａには、バッテリー４１ａが設けられている。また、柄部分４ａにおける開口部８０ａ、８１ａから外れた部位には、圧力検出部４５ａが設けられている。
【００２９】
次に、送電部及び受電部に関して説明する。搬送基体１の側面には、図８に示すように、移動枠７５ａの移動路に沿って伸びるように鉄芯であるコア部７１ａが設けられている。なお、移動枠７５ａは、柄部分４ａの片方の縁で屈曲された部位を指すものとする。図９に示すように、このコア部７１ａには上下に並ぶように突条部７６ａが２段設けられており、これら突条部７６ａ、７６ａの先端部には各々突条部７６ａ、７６ａに沿ってつまり移動枠７５ａの移動路に沿って誘導線７２ａ、７２ａが配置されている。図１０に示すように、これら誘導線７２ａ、７２ａは、前端側（図７中保持部分３ａ側）で互に接続されており、基端側は搬送基体１のインバータ１８に繋がっている。言い換えると、１本の誘導線７２ａが、前端側で折り返されて、２段ある突条部７６ａ、７６ａに夫々配置され、搬送基体１のインバータ１８に接続しているということができる。つまり、この例では、誘導線７２ａは一重のコイルを形成していることになり、コア部７１ａ及び誘導線７２ａにより送電部が構成される。
【００３０】
前記移動枠７５ａには、図８及び図９に示すように、鉄芯であるＥ型のコア部７４ａが設けられ、Ｅ型部分の上下２つの凹部７８ａ、７８ａに前記搬送基体１側のコア部７１ａの突条部７６ａ、７６ａが入り込んだ状態となっている。また、Ｅ型部分の中央の突起部７７ａにはピックアップコイル７３ａが巻き付けられており、このピックアップコイル７３ａはバッテリー４１ａに接続されている。このため、アーム２ａが進退移動する場合にも誘導線７２ａに直流電流を供給することにより、電磁誘導によりピックアップコイル７３ａに電流が発生することとなる。この例では、Ｅ型のコア部７４ａ及びピックアップコイル７３ａにより、受電部が構成されている。
【００３１】
このような実施形態においても、バッテリー４１ａへの送電方式が異なる他は、図６に示した一連の動作と同様の動作となる。このような実施形態によれば、先の実施形態の効果に加えて、アーム２ａにおける搬送基体１に対する進退位置に寄らずに常に充電可能なため、バッテリー４１ａにおける電気量不足のリスクを軽減することができる利点がある。
【００３２】
なお、上述の実施形態では、アーム２ａ、２ｂと搬送基体１との間で、リアルタイムで無線通信による信号の送受信を行っている。この場合、何らかの異常によりアーム２ａ、２ｂが動作途中で停止したとしても、アーム２ａ、２ｂには常に無線通信により制御信号が送られるため、引き続き、圧力検出部４５ａ、４５ｂ、ソレノイド４３１ａ、４３１ｂ及び真空ポンプ４２ａ、４２ｂの制御を行うことができる。一方で、通信が必要なタイミングはアーム２ａ、２ｂが前進位置及び後退位置に止まっているときに限られる。このことから、このアーム２ａ、２ｂの前進位置及び後退位置に赤外線ポートを設け、赤外線通信により信号の送受信を行ってもよい。
【００３３】
また第１のアーム２ａあるいは第２のアーム２ｂにおいては圧力を検出して圧力検出値を搬送基体１のコントローラ１５に送り、当該コントローラ１５にて圧力検出値と減圧確認用の設定値または大気復帰確認用の設定値と比較し、その比較結果に基づいて制御指令信号を第１のアーム２ａまたは第２のアーム２ｂあるいは基板搬送装置の外の制御部６に送信している。このように構成することにより、第１のアーム２ａあるいは第２のアーム２ｂにおける電力消費を抑え、バッテリー４１ａ、４１ｂの小型化に寄与するようにしているが、第１のアーム２ａあるいは第２のアーム２ｂにて圧力検出値と前記設定値とを比較して制御指令を作成する処理を行うようにしてもよく、この場合には例えば小型のコントローラをアーム２ａ、２ｂに搭載することになる。このような場合も含めると、本発明ではアーム２ａ、２ｂから圧力検出部４５ａ、４５ｂにて検出した検出値に応じた検出信号（上述実施形態では圧力検出値あるいは比較結果に対応する信号）をコントローラ１５に送信しているということができる。
【００３４】
そしてまた、上述の実施の形態では説明の便宜上、搬送基体１に設けられたコントローラ１５、基板搬送装置外に設けられた制御部６といったように制御機能部として用語を使い分けているが、前記コントローラ１５及び制御部６は、いずれも広い概念では制御部に相当する。言い換えれば、上述の実施形態は、この広い概念としての制御部を、搬送基体１に設けたコントローラ１５と基板搬送装置外の制御部６とに分散させたものであるが、本発明では、搬送基体１にコントローラ１５を設けずに、基板搬送装置外に制御部６を集約させるようにしてもよい。
【００３５】
続いて、本発明の基板搬送装置を塗布、現像装置８に設けた実施の形態について、その一例を説明する。図１１は塗布、現像装置８に露光装置Ｃ４が接続されたレジストパターン形成システムの平面図を示しており、図１２は同システムの斜視図である。また、図１３は同システムの縦断側面図である。  
この塗布、現像装置８には、キャリアブロックＣ１が設けられている。このキャリアブロックＣ１は、載置台８２上に載置された密閉型のキャリア８３から受け渡しアーム８４がウエハＷを取り出して処理ブロックＣ２に受け渡し、処理ブロックＣ２から受け渡しアーム８４が処理済みのウエハＷを受け取ってキャリア８３に戻すように構成されている。
【００３６】
前記処理ブロックＣ２は、図１３に示すように、現像処理を行うための第１のブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１、レジスト膜の下層に形成される反射防止膜の形成処理を行うための第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２、レジスト膜の塗布を行うための第３のブロック（ＣＯＴ層）Ｂ３、レジスト膜の上層側に形成される保護膜の形成を行うための第４のブロック（ＩＴＣ層）Ｂ４を、下から順に積層して構成されている。またその他に、処理ブロックＣ２には、キャリアブロックＣ１及び処理ブロックＣ２内の上記各ブロックＢ１〜Ｂ４の間におけるウエハＷの受け渡しを仲介するための棚ユニットＵ５、この棚ユニットＵ５におけるウエハＷの棚間の移動を行うための受け渡しアームＤ１、上記各ブロックＢ１〜Ｂ４及びインターフェイスブロックＣ３の間におけるウエハＷの受け渡しを仲介するための棚ユニットＵ６が設けられている。
【００３７】
処理ブロックＣ２の各層は平面のレイアウトが同様に構成されているため、第３のブロック（ＣＯＴ層）Ｂ３を例に挙げて説明する。ＣＯＴ層Ｂ３は、塗布膜としてレジスト膜を形成するためのレジスト膜形成モジュール８９と、このレジスト膜形成モジュール８９にて行われる処理の前処理及び後処理を行うための加熱・冷却系の処理モジュール群を構成する棚ユニットＵ１〜Ｕ４と、前記レジスト膜形成モジュール８９と加熱・冷却系の処理モジュール群Ｕ１〜Ｕ４との間に設けられ、これらの間でウエハＷの受け渡しを行う搬送アームＡ３と、により構成されている。前記棚ユニットＵ１〜Ｕ４は、搬送アームＡ３が移動する搬送領域Ｒ１に沿って配列され、夫々加熱モジュール及び冷却モジュールが積層されることにより構成される。
【００３８】
第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２、第４のブロック（ＩＴＣ層）Ｂ４については、上述したＣＯＴ層Ｂ３におけるレジスト膜形成モジュール８９に相当する、反射防止膜形成モジュール、保護膜形成モジュールが夫々設けられ、これらモジュールにおいてレジストの代わりに塗布液として反射防止膜形成用の薬液、保護膜形成用の薬液が夫々ウエハＷに供給されることを除けばＣＯＴ層Ｂ３と同様の構成である。
【００３９】
第１のブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１については、一つのＤＥＶ層Ｂ１内にレジスト膜形成モジュール８９に対応する現像モジュールが２段に積層されており、この現像モジュールの前処理及び後処理を行うための加熱・冷却系の処理モジュール群を構成する棚ユニットが設けられている。そして、当該ＤＥＶ層Ｂ１内には、これら２段の現像モジュールと前記加熱・冷却系の処理モジュールとに、ウエハＷを搬送するための搬送アームＡ１が設けられている。つまり、２段の現像モジュールに対して搬送アームＡ１が共通化されている構成となっている。
【００４０】
更に、処理ブロックＣ２には、図１１及び図１３に示すように、棚ユニットＵ５が設けられ、キャリアブロックＣ１からのウエハＷは前記棚ユニットＵ５の一つの受け渡しユニット、例えば第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２に対応する受け渡しユニットＣＰＬ２に順次搬送される。第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２内の搬送アームＡ２は、この受け渡しユニットＣＰＬ２からウエハＷを受け取って各ユニット（反射防止膜形成モジュール及び加熱・冷却系の処理ユニット群）に搬送し、これらユニットにてウエハＷには反射防止膜が形成される。
【００４１】
その後、ウエハＷは棚ユニットＵ５の受け渡しユニットＢＦ２、受け渡しアームＤ１、棚ユニットＵ５の受け渡しユニットＣＰＬ３に順次搬送され、そこで例えば２３℃に温度調整された後、搬送アームＡ３を介して第３のブロック（ＣＯＴ層）Ｂ３に搬入され、レジスト膜形成モジュール８９にてレジスト膜が形成される。更に、ウエハＷは、搬送アームＡ３により棚ユニットＵ５の受け渡しユニットＢＦ３に受け渡される。なお、レジスト膜が形成されたウエハＷは、第４のブロック（ＩＴＣ層）Ｂ４にて更に保護膜が形成される場合もある。この場合は、ウエハＷは、受け渡しユニットＢＦ３から受け渡しアームＤ１及び受け渡しユニットＣＰＬ４を介して搬送アームＡ４に受け渡され、保護膜の形成された後搬送アームＡ４により受け渡しユニットＴＲＳ４に受け渡される。
【００４２】
一方、ＤＥＶ層Ｂ１内の上部には、棚ユニットＵ５に設けられた受け渡しユニットＣＰＬ１１から棚ユニットＵ６に設けられた受け渡しユニットＣＰＬ１２にウエハＷを直接搬送するための専用の搬送手段であるシャトルアーム８５が設けられている。レジスト膜や更に保護膜の形成されたウエハＷは、受け渡しユニットＢＦ３あるいはＴＲＳ４から受け渡しユニットＣＰＬ１１に受け渡しアームＤ１を介して受け渡され、ここからシャトルアーム８５により棚ユニットＵ６の受け渡しユニットＣＰＬ１２に直接搬送されて、インターフェイスブロックＣ３に設けられたインターフェイスアーム８６よりインターフェイスブロックＣ３に取り込まれることになる。なお、図１３中のＣＰＬが付されている受け渡しユニットは温調用の冷却ユニットを兼ねており、ＢＦが付されている受け渡しユニットは複数枚のウエハＷを載置可能なバッファユニットを兼ねている。
【００４３】
次いで、ウエハＷはインターフェイスアーム８６により露光装置Ｃ４に搬送されて、ここで所定の露光処理が行われる。その後、ウエハＷは、インターフェイスアーム８６を介して棚ユニットＵ６の受け渡しユニットＴＲＳ６に載置され処理ブロックＣ２に戻される。戻されたウエハＷは、第１のブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１にて現像処理が行われ、搬送アームＡ１により棚ユニットＵ５の受け渡しユニットＴＲＳ１に受け渡される。その後、受け渡しアーム８４を介してキャリア８３に戻される。本発明の基板搬送装置は、この塗布、現像装置８内の搬送アームＡ１〜Ａ４に適用されている。
【００４４】
ここで、本発明の基板搬送装置が設けられている、例えばＣＯＴ層Ｂ３の搬送アームＡ３について、搬送アームＡ１〜Ａ４を代表して、図１４を参照しながら説明する。搬送アームＡ３は、搬送領域Ｒ１に沿って移動する水平移動部８７と、水平移動部８７を上下に昇降する昇降基体８８とを備え、この昇降基体８８に、搬送基体１が鉛直軸まわりに回転自在に設けられている。
【００４５】
塗布、現像装置８は、前述した、例えばコンピュータからなる制御部６を備えており、この制御部６のプログラム格納部には塗布、現像処理を行うための命令が組まれたプログラムが格納される。前記プログラムに従って制御部６及びコントローラ１５から制御信号が出力され、ウエハＷの搬送や各モジュールの動作などが制御される。前記プログラムも既述の記憶媒体に収納された状態で前記プログラム格納部に格納される。
【００４６】
この塗布、現像装置８における実施例についても、本発明の基板搬送装置は、前述の図５及び図６に示した一連の動作と同様にして、各プロセスモジュールに対して処理済みのウエハＷ及び未処理のウエハＷの交換動作を行う。
【符号の説明】
【００４７】
Ｗ      ウエハ
１      搬送基体
１４ａ、１４ｂ    送電コイル
１５    コントローラ
１７    搬送基体の送受信部
２ａ    第１のアーム（上側のアーム）
２ｂ    第２のアーム（下側のアーム）
３ａ、３ｂ    ウエハ保持部分
３１ａ、３１ｂ    保持爪
３２ａ、３２ｂ    吸引孔
３３ａ、３３ｂ    吸引路
４ａ、４ｂ    柄部分
４１ａ、４１ｂ    バッテリー
４２ａ、４２ｂ    真空ポンプ
４３ａ、４３ｂ    電磁弁
４４ａ、４４ｂ    受電コイル
４５ａ、４５ｂ    圧力検出部
４７ａ、４７ｂ    アームの送受信部
５ａ、５ｂ    移動枠
６      搬送基体の外にある制御部
７２ａ、７２ｂ    誘導線
７３ａ、７３ｂ    ピックアップコイル
８      塗布、現像装置
８２    載置台
８３    キャリア
８４    受け渡しアーム
８５    シャトルアーム
８６    インターフェイスアーム
８７    水平移動部
８８    昇降基体
８９    レジスト膜形成モジュール
Ａ１〜Ａ４    処理ブロックにおける搬送アーム
Ｄ１    受け渡しアーム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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