(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
気化室を有するベースと、このベースに設置したタンクと、このタンクからの液体を前記気化室へ供給するノズルと、前記ベースの掛け面に施した摺動材とを備え、前記気化室の表面に無機化合物を主成分とし、硬度の高い水で希釈した皮膜形成剤を施し、前記摺動材を塗布後前記ベースを加熱し、その後前記ベース及び前記気化室を冷却した後、前記気化室に前記皮膜形成剤を塗布したことを特徴とするアイロン。
【請求項２】
前記皮膜形成剤の熱処理温度が、前記摺動材の焼成温度より低いことを特徴とする請求項１記載のアイロン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、気化室を備えたアイロンに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、気化室の親水性を向上させるために、気化室の表面に皮膜形成成分として耐熱性樹脂が用いられている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−２６０２９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、従来の構成では気化室が２５０℃に加熱され、そこに水滴が滴下されスチームを発生するため、熱と酸化により塗料の変質は避けられず皮膜の耐久性が乏しいという問題があった。また、親水速度が遅いため、水が気化しきれず湯滴となって噴出するという問題もあった。
【０００５】
このような欠点を補うために、無機系の皮膜形成剤として、従来、珪酸ソーダ、コロイダルシリカ、エチルシリケートのような珪素系の無機化合物が利用されていた。
【０００６】
しかし、このような化合物を皮膜形成剤として用いた場合、水以外の希釈剤を用いることが出来ず、これを塗布する際に素地を余熱させなければならないため、作業性が悪くなるとともに、親水性をあげるために、無機化合物を多量に入れなければならないが、形成後の皮膜は無機化合物が浮き出し、スチームとともに無機化合物が噴出してしまうという欠点があった。
【０００７】
そこで本発明は、上記問題点に鑑み、作業性が良く、無機化合物をスチームとともに噴出させないことが可能なアイロンを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１の発明のアイロンでは、気化室を有するベースと、このベースに設置したタンクと、このタンクからの液体を前記気化室へ供給するノズルと、前記ベースの掛け面に施した摺動材とを備え、前記気化室の表面に無機化合物を主成分とし、硬度の高い水で希釈した皮膜形成剤を施し、前記摺動材を塗布後前記ベースを加熱し、その後前記ベース及び前記気化室を冷却した後、前記気化室に前記皮膜形成剤を塗布したことを特徴とする。
【０００９】
請求項２の発明のアイロンでは、前記皮膜形成剤の熱処理温度が、前記摺動材の焼成温度より低いことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
請求項１の発明によれば、硬度の高い水に含まれている無機質により吸水性があがり、親水性を高めることができる。また、多量の水を気化室に供給しても瞬時に気化することができるので湯滴となってかけ面より噴出することがないので、使用者に火傷を負わすといった恐れがなくなる。無機質が気化室表面に出てこないため、スチームと共に無機質が噴出することがなくなるため、白い粉が噴出する、布地が汚れるといったクレームをなくすことができる。また、摺動材成形時の焼成後の熱を利用して、ベースや気化室等の基材を余熱することができるので、わざわざ基材を加熱するという１工程を省くことができる。１工程減らすことにより、製造コストを削減することができるので安価なアイロンを提供することができる。
【００１１】
請求項２の発明によれば、前記皮膜形成剤の熱処理温度が、前記摺動材の焼成温度より低いことで、摺動材成形時の焼成後の熱を利用して、ベースや気化室等の基材を余熱することができるので、わざわざ基材を加熱するという１工程を省くことができる。１工程減らすことにより、製造コストを削減することができるので安価なアイロンを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の第１実施例におけるアイロンの平面図である。
【図２】同上、アイロンの側面図である。
【図３】同上、図１におけるＡ−Ａ断面図である。
【図４】同上、図１におけるＢ−Ｂ断面図である。
【図５】同上、ベースの平面図である。
【図６】本発明の第２実施例におけるアイロンの側面図である。
【図７】同上、ベースの平面図である。
【図８】同上、アイロンの製造工程を示すフロー図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、添付図面を参照しながら、本発明におけるアイロンの好ましい各実施例を説明する。なお、これらの各実施例において、同一箇所には同一符号を付し、共通する部分の説明は重複するため極力省略する。
【実施例１】
【００１４】
図１〜図５に本発明の第１実施例を示しており、１はアイロン本体であり、このアイロン本体１は加熱手段としてのヒータ２を埋設したベース３を下部に備えている。
【００１５】
ベース３の底面には、掛け面部材４が具備され、前記掛け面部材４に固着されたナット等の締結部材５によりベース３と密着している。
【００１６】
ベース３の内部には、ヒータ２の近傍に位置して蒸気室すなわち気化室６が形成され、この気化室６に連通する噴出孔７がベース３の下面に設けられる。
【００１７】
気化室６は、ベース３に形成されず別体であってもよい。
【００１８】
また、８はベース３の上部に設けられたカバーであり、９はカバー８の上方に設けられたハンドルであり、ハンドル９の前方には、水タンクに相当する容器たるカセットタンク１０がアイロン本体１に対し、着脱自在に設けられる。
【００１９】
カセットタンク１０は、例えば合成樹脂で形成され、上面から見た形状が略Ｕ字状で、その両側がハンドル９の前端部側から後端部側の両端にかけて跨るように配置されている。
【００２０】
１１は、カセットタンク１０の前部に設けられた開閉自在な注水口蓋であり、ここからカセットタンク１０内に水を収容し、かつカセットタンク１０内の不用水を破棄できるようになっている。
【００２１】
またカセットタンク１０のロック機構は、カセットタンク１０の一側面にやや突出して、タンクロック釦１２が設けられており、このタンクロック釦１２を操作することにより上下動する昇降体１３が、弾性部材たるスプリング１４により常時上方に付勢されている。
【００２２】
そして、昇降体１３の上部に突設したロック部１５が、ハンドル９の前面に形成した孔部１６に係止する構成になっている。
【００２３】
カセットタンク１０の内部には、弁装置１７が設けられており、この弁装置１７の下部には、気化室６に連通する導水路たる通水継手１８が設けられている。
【００２４】
弁装置１７は、支持体１９により、直立状態かつ摺動自在に支持されたスチーム開閉棒２０と、支持体１９の凹部底面上に設けられたパッキン２１と、このパッキン２１を常時、支持体１９の凹部底面側に付勢して、密着状態を保護する付勢部材としてのスプリング２２とを備え、スチーム開閉棒２０の下端部に形成した弾性を有する弁体２３は、カセットタンク１０の底面に形成した流出孔２４の中心部に臨んで設けられている。
【００２５】
また、通水継手１８とベース３との間には、ベース３からの熱を遮断する遮熱板２５が介在している。
【００２６】
この遮熱板２５の下方には、気化室６の上部開口部を覆うようにして、蓋体２６が設けられている。
【００２７】
２７は、通水継手１８の途中に設けられたノズルであり、このノズル２７を開閉する開閉弁２８が、前記遮熱板２５及び蓋体２６に共通して設けられた開口部２９より、ベース３の凹部３０に向けて下方に突出している。
【００２８】
このベース３の凹部３０には、感熱応動体に相当する反転式のバイメタル３１が収容されており、凹部３０の近傍にある気化室６が所定の温度に達すると、バイメタル３１が凹部３０の内部で反転し、スプリング３２の付勢に抗して開閉弁２７を押し上げることにより、ノズル２７を開くよう構成されている。
【００２９】
前記ハンドル９は、把持部に相当する把手部３３の他に、この把手部３３の下方に位置するアイロン本体１の腹部３４と把手部３３との間に、手を入れるための空洞３５を形成してある。
【００３０】
なお、ここでいう腹部３４とは、カセットタンク１０の両側を除く把手部３３に対向したアイロン本体１の平坦状の中央上面部を指すものである。
【００３１】
ハンドル９の上部には、ベース３の設定温度を変えるための設定釦３６が配設されており、ハンドル９の内部には、ヒータ２を適宜通断電することにより、ベース３を所定の温度に制御する温度制御装置３７が設けられる。
【００３２】
この温度制御装置３７は、具体的には、前記設定釦３６のスイッチ部３８や複数の発光ダイオードすなわちLED３９の他に、現在の設定温度を記憶保持し、設定釦３６の受付を可能にするコンデンサなどの蓄電装置４０などを基板４１の上面に実装して構成される。LED３９の光は、把手部３３に貼付された温度表示銘板４２を透過し、現在の設定温度を表示する。
【００３３】
以下に本実施例のアイロンの特徴的部位について説明すると、気化室６には、イトロ処理による特殊プライマー層（酸化珪素膜）４３（図５の斜線部分）が施されており、これは一般に、燃焼化学気相蒸着（ＣＣＶＤ）法と称される手法で製造され、火炎中に特殊プライマ−成分（シラン化合物）を微量混合させ、炎と同時に吐出し、気化室６にナノレベル（略ナノメートル単位程度）の膜厚の特殊プライマー層（酸化珪素膜）４３を形成させている。
【００３４】
次に、上記構成のスチームアイロンにおける動作の説明をする。予め注水口蓋11から水をカセットタンク１０内に収容するとともに、このカセットタンク１０をハンドル９の前部から差し込むと、カセットタンク１０の上面がスプリング14に抗してロック部15を押し下げ、最終的に孔部16にロック部が係止することで、カセットタンク１０がアイロン本体１の所定位置にセットされる。
【００３５】
次いで、アイロン本体１を載置台に載置した状態で、電源コードをコンセントに差し込むと、載置台の電源接点からアイロン本体１内の温度制御装置３７および蓄電装置４０に電源が供給される。温度制御装置３７においては、初期状態として切状態の設定モードが先ず設定され、操作パネル（図示せず）の「切」に対応するLED３９が点灯する。なお、この切状態では、安全のためにヒータ２への通電は行なわない。その後、設定釦３６を押動操作すると、設定モードは「切」から「低」、「中」、「高」の順に切換わり、これに対応するLED３９が点灯する。そして、「切」以外の設定モードに切換わると、温度制御装置３７によりヒータ２が通電される。
【００３６】
温度制御装置３７は、アイロン本体１が載置台に載置中であるか離脱中であるかをアイロン載置検知手段（図示せず）により検知する。アイロン本体１が引き続き載置台に載置される状態では、ベース３が温度設定手段（図示せず）にて設定した温度に達するまで、ヒータ２によるベース３への加熱が行なわれる。このとき、温度制御装置３７は、ベース３が設定温度に近い適温範囲内であるか否かを、温度検知手段（図示せず）からの検知出力により判断する。そして、ベース３の温度が適温範囲を外れているときは、設定温度に対応する温度表示銘板４２のLEDを点滅状態にし、ブザー（図示せず）による報知は行なわないようにして、ベース３が不適温状態であることを使用者に知らせる。一方、ベース３の温度が適温範囲内にあるときには、設定温度に対応する温度表示銘板４２のLED３９を点灯状態にするとともに、ブザー（図示せず）を一定時間鳴動させて、使用者にアイロン掛けが可能なことを報知する。そして、温度制御装置３７は、アイロン本体１が載置台に載置されている限り、ベース３の温度が適温範囲内に維持されるように、ヒータ２を通断電制御するとともに、ベース３の温度が適温か不適温であるかに拘らず、前述の手順に戻る。
【００３７】
その後、アイロン掛けのためにアイロン本体１を載置台から離脱すると、載置台からアイロン本体１側への電源供給が遮断され、ヒータ２は断電状態となる。温度制御装置３７は、蓄電装置４０からの給電により引き続き動作するが、ベース３の温度が適温範囲よりも下がったとき、あるいは、設定釦３６を操作することにより、それまでよりも高温に切換わったときに、LED３９を利用して、アイロン本体１の載置台への載置を促す給電報知または表示を行なう。
【００３８】
アイロン掛けを行なう場合、アイロン本体１の空洞３５から手を差し入れた後、ハンドル９の取手部３３を掌で抱えるようにして握る、この際取手部35の後端部の幅を略中央部より徐々に広げるとともに、高さを下げることによりアイロン掛け最中にアイロン本体１が手から抜け出ないようにしてある。また、ベース３の先端部に対する目視を良好にするために、カセットタンク１０の前端面は、アイロン本体１の後方側に向けて比較的大きく倒れるように傾斜させてあるが、本実施例におけるカセットタンク１０の両側は、充分な水量を収容できるだけの高さを確保してあるので、従来のような水タンクの容量不足を解消することが可能になる。
【００３９】
使用者はアイロン掛けをする場合に、布のしわの状態に応じて、スチームの状態及び噴霧の状態を切り替えて使用する。つまり、通常のスチームアイロンとして使用する場合は、スチーム開閉棒２０を上昇させてカセットタンク１０内の水を気化室６に供給し、常時スチームを噴出しながらアイロン掛けを行う。また、がんこなしわを伸ばそうとする時には、操作釦（図示せず）を操作して強力なスチームを噴出させるか、もしくは、操作釦（図示せず）を操作してミストを噴霧し、布に水分を吸収させてアイロン掛けを行う。
【００４０】
本実施例では、気化室６にイトロ処理により特殊プライマー層（酸化珪素膜）４３を施したことにより、二酸化珪素を主成分とするナノレベルの粒子が気化室６に多数形成される。このナノレベルの粒子は二酸化珪素からなるので、一部Ｓｉ−ＯＨ結合を有し、これにより気化室６の親水性が向上する。
【００４１】
また、二酸化珪素を主成分とするナノレベルの粒子は無機物であり、且つ、平均の直径が数十ｎｍ（ナノメートル)であるため、高分子の分子鎖の運動による影響を受けず、時間経過によってもベース３や気化室６等の基材内部に入り込むことがないため、密着性が維持される。
【００４２】
更に、イトロ処理と同時にプライマー層４３が形成するので、従来の前処理＋プライマー塗布・乾燥からなる工程と比べて、作業時間を大幅に短縮できる。以上より、作業性が良く、気化室６に形成された特殊プライマー層（酸化珪素膜）４３の密着性も良好のため、長期にわたって安定した親水性を発揮することが可能なアイロンを提供できる。
【００４３】
以上のように本実施例は、気化室６を有するベース３と、このベース３に設置したタンク１０と、このタンク１０からの液体である水を気化室６へ供給するノズル２７とを備え、気化室６の表面はイトロ処理を施して形成されることにより、作業性が良く、気化室６に形成された特殊プライマー層（酸化珪素膜）４３の密着性も良好のため、長期にわたって安定した親水性を発揮することが可能なアイロンを提供できる。
【実施例２】
【００４４】
次に、本発明の第２実施例におけるアイロンを図６〜図８に基づき説明する。下記に記す以外のアイロン本体１の構成については前記第１実施例と重複するため説明は省略する。本実施例のアイロンの掛け面部材４は、熱伝導性の良い金属プレートからなり、掛け面５０表面にはボロンを分散含有した複合メッキ皮膜等の摺動材５１が施されている。また、気化室６の表面には、皮膜形成剤５２（図７の斜線部分）が施されている。ここで、皮膜形成剤５２は、コロイダルシリカのような珪素系の無機化合物であり、この皮膜形成剤５２は硬度の高い水で希釈されている。ここで、水の硬度は硬度１２０以上とし、皮膜形成剤５２はコロイダルシリカ等の珪素系の無機化合物の濃度が１０％以下とならない程度に希釈されたものである。
【００４５】
図８に示すように製造工程としては、まずベース３の掛け面５０に摺動材５１を塗布し（ステップＳ１０１）、その後ベース３を加熱して約４００℃で摺動材５１を焼成する（ステップＳ１０２）。焼成後、ベース３及び気化室６を皮膜形成剤の熱処理温度である約２００℃まで自然冷却した後（ステップＳ１０３）、気化室６に皮膜形成剤５２を塗布し、約２００℃のベース３及び気化室６の熱により皮膜形成剤５２を焼成する（ステップＳ１０４）。
【００４６】
以上のように本実施例は請求項１に対応しており、気化室６を有するベース３と、このベース３に設置したタンク１０と、このタンク１０からの液体である水を気化室６へ供給するノズル２７と、ベース３の掛け面５０に施した摺動材５１を備え、気化室６の表面に無機化合物を主成分とした皮膜形成剤５２を塗布し、皮膜形成剤５２を硬度の高い水で希釈したものである。
【００４７】
この場合、硬度の高い水に含まれているＣａ（カルシウム）及びＭｇ（マグネシウム）等の無機質により吸水性があがり、親水性を高めることができる。また、硬度の高い水のＣａ及びＭｇは水によく分散されているため、皮膜形成剤５２を希釈した場合においても無機質として表面に出ることがない。これにより、多量の水を気化室６に供給しても瞬時に気化することができるので湯滴となって掛け面５０より噴出することがないので、使用者に火傷を負わすといった恐れがなくなる。無機質が気化室６表面に出てこないため、スチームと共に無機質が噴出することがなくなるため、白い粉が噴出する、布地が汚れるといったクレームをなくすことができる。
【００４８】
また、本実施例は請求項１に対応しており、皮膜形成剤５２は、摺動材５１を施した後に塗布したものであることにより、摺動材５１成形時の焼成後の熱を利用して、ベース３や気化室６等の基材を余熱することができるので、わざわざ基材を加熱するという１工程を省くことができる。１工程減らすことにより、製造コストを削減することができるので安価なアイロンを提供することができる。
【００４９】
なお、本発明は、上記各実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で変更可能である。例えば、着脱式のカセットタンク１０に限らず、上記ロック機構を備えていない固定式の水タンクであってもよい。また、水タンクを備えないドライ専用のアイロンであってもよい。また、コードレスアイロンに限らず、コード付きのアイロンであってもよい。
【符号の説明】
【００５０】
１  アイロン本体
３  ベース
６  気化室
１０  タンク
２７  ノズル
５０  掛け面
５１  摺動材
５２  皮膜形成剤
【図１】
0005433497.tif 000002
【図２】
0005433497.tif 000003
【図３】
0005433497.tif 000004
【図４】
0005433497.tif 000005
【図５】
0005433497.tif 000006
【図６】
0005433497.tif 000007
【図７】
0005433497.tif 000008
【図８】
0005433497.tif 000009