(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
あるフィールド内における選択可能な位置にレーザ・ビームを方向付けるようにそれぞれが配列された複数の選択的方向可変ミラー，
上記複数の選択的方向可変ミラーの方向を感知するように動作し，かつ複数のミラーが向けられている角度方向を表すミラー方向出力を提供するように動作する複数のミラー方向センサ，および
上記複数の選択的方向可変ミラーの向きを自動的に較正する自動較正サブシステムを備え，
上記自動較正サブシステムは，
上記選択的方向可変ミラーのそれぞれの上記フィールドと少なくとも同じ大きさの領域を有するターゲットであって，上記ターゲット上へのレーザ・ビームの照射を示す光学的に視認可能なマーキングを提供し，書換可能でありかつ光学的に視認可能な複数の基準マーキングを有するターゲット，
上記複数の選択的方向可変ミラーの各々のそれぞれが上記レーザ・ビームを上記ターゲット上の選択可能な位置に方向付けている間，上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれについての上記フィールドに上記ターゲットを選択的に位置決めするターゲット・ポジショナ，
上記ターゲット上への上記レーザ・ビームの照射後の上記ターゲットを検視するように動作し，かつターゲット画像を出力するカメラを備える光学センサ，ならびに
上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれを既知の方向に向け，上記光学センサから出力される上記ターゲット画像を用いて，上記レーザ・ビーム照射マーキングの座標値とその期待値とを相関させ，かつ上記ミラー方向センサによって提供される上記ミラー方向出力と上記レーザ・ビーム照射マーキングの座標値とを相関させることによって，上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれについての角度方向に関する較正出力を提供する処理ユニットを備える，
光学システム。
【請求項２】
上記光学システムは較正フェーズおよび生産フェーズにおいて動作可能なものである，
請求項１に記載の光学システム。
【請求項３】
上記較正フェーズは，
上記複数のミラーのそれぞれの方向を第１の方向に合わせ，
上記複数のミラー方向センサを用いて上記複数のミラーのそれぞれの第１の方向を感知し，かつ複数のミラーが向けられている角度方向を表すミラー方向出力を提供し，
上記ターゲットを上記ターゲット・ポジショナに固定し，
上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれ１つずつについて，
上記ターゲット・ポジショナを位置決めすることによって上記ターゲットを選択
的に位置決めして，上記複数の選択的方向可変ミラーのうちの１つのミラーの上記
フィールドにおいて上記複数の選択的方向可変ミラーのうちの上記１つのミラーが
上記レーザ・ビームを上記ターゲット上の選択可能な位置に向けている間に，上記
ターゲット上に複数のレーザ・ビーム照射マーキングを生成し，
上記ターゲット上への上記レーザ・ビームの照射後の上記ターゲットを検視し，
上記ターゲット画像を出力し，かつ上記ターゲット画像に基づいて上記複数の選
択的方向可変ミラーのうちの上記１つのミラーについて複数のレーザ・ビーム照射
マーキングの座標値を提供し，かつ
上記複数のレーザ・ビーム照射マーキングを消去し，そして，
上記レーザ・ビーム照射マーキングの座標値とその期待値とを相関させ，かつ上記ミラー方向出力と上記レーザ・ビーム照射マーキングの座標値とを相関させることによって，上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれについての較正出力を提供する，
請求項２に記載の光学システム。
【請求項４】
上記較正フェーズは，
上記複数のミラーのそれぞれの方向を第１の方向に合わせ，
上記複数のミラー方向センサを用いて上記複数のミラーのそれぞれの第１の方向を感知し，かつ複数のミラーが向けられている角度方向を表すミラー方向出力を提供し，
上記ターゲットを上記ターゲット・ポジショナに固定し，
上記複数の選択的方向可変ミラーの各々のそれぞれが上記レーザ・ビームを上記ターゲット上の選択可能な位置に方向付けている間，上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれについての上記フィールドに上記ターゲット・ポジショナを位置決めすることによって上記ターゲットを選択的に位置決めし，上記ターゲット上に複数のレーザ・ビーム照射マーキングを生成し，
上記ターゲット上への上記レーザ・ビームの照射後の上記ターゲットを検視し，ターゲット画像を出力し，かつ上記ターゲット画像に基づいて上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれについて複数のレーザ・ビーム照射マーキングの座標値を提供し，
上記レーザ・ビーム照射マーキングの座標値とその期待値とを相関させ，かつ上記ミラー方向出力と上記レーザ・ビーム照射マーキングの座標値とを相関させることによって，上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれについての較正出力を提供する，
請求項２に記載の光学システム。
【請求項５】
上記生産フェーズは，レーザ穿孔フェーズ，レーザ切断フェーズおよびレーザ加工フェーズの少なくとも一つを含む，請求項２に記載の光学システム。
【請求項６】
上記ターゲットは，
基板，
上記基板の上面に形成されたフォトクロミック層，
上記フォトクロミック層上に積層された透明層，
上記基板の底面に形成された金属層，および
上記金属層の底面に結合された熱電クーラを備える，
請求項１から５のいずれ一項に記載の光学システム。
【請求項７】
上記視認可能な複数の基準マーキングが上記フォトクロミック層中に形成されている，  請求項６に記載の光学システム。
【請求項８】
上記複数のミラー方向センサを含む複数の調整可能ミラー・マウントを備えている，
請求項１から７のいずれか一項に記載の光学システム。
【請求項９】
上記複数のミラー・マウントのそれぞれが２つの回転自由度を有している，
請求項８に記載の光学システム。
【請求項１０】
上記複数のミラー・マウントは，上記複数のミラーが取付けられた複数のガルバノメトリック・モータを備えている，請求項８または９に記載の光学システム。
【請求項１１】
上記レーザ・ビームを生成するレーザを備えている，請求項１から１０のいずれか一項に記載の光学システム。
【請求項１２】
あるフィールド内における選択可能な位置にレーザ・ビームを方向付けるように配列された複数の選択的方向可変ミラーを較正する方法であって，
上記複数のミラーのそれぞれの方向を第１の方向に合わせ，
上記複数のミラーのそれぞれの上記第１の方向を感知し，かつ複数のミラーが向けられている角度方向を表すミラー方向出力を提供し，
上記選択的方向可変ミラーのそれぞれの上記フィールドと少なくとも同じ大きさの領域を有するターゲットであって，上記ターゲット上へのレーザ・ビームの照射を示す光学的に視認可能なマーキングを提供し，書換可能でありかつ光学的に視認可能な複数の基準マーキングを有するターゲットを，ターゲット・ポジショナに固定し，
上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれ１つずつについて，
上記ターゲット・ポジショナを位置決めすることによって上記ターゲットを選択
的に位置決めし，上記複数の選択的方向可変ミラーのうちの１つのミラーの上記フ
ィールドにおいて，上記複数の選択的方向可変ミラーのうちの上記１つのミラーが
上記レーザ・ビームを上記ターゲット上の選択可能な位置に向けている間に，上記
ターゲット上に複数のレーザ・ビーム照射マーキングを生成し，
上記ターゲット上への上記レーザ・ビームの照射後の上記ターゲットを検視し，
上記ターゲット画像を出力し，かつ上記ターゲット画像に基づいて上記複数の選択
的方向可変ミラーうちの上記１つのミラーについて複数のレーザ・ビーム照射マー
キングの座標値を提供し，かつ
上記複数のレーザ・ビーム照射マーキングを消去し，そして，
上記レーザ・ビーム照射マーキングの座標値とその期待値とを相関させ，かつ上記ミラー方向センサによって提供される上記ミラー方向出力と上記レーザ・ビーム照射マーキングの座標値とを相関させることによって，上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれについての角度方向に関する較正出力を提供する，
方法。
【請求項１３】
上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれ１つずつについて，上記消去に続いて上記ターゲットを冷却する，
請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
あるフィールド内における選択可能な位置にレーザ・ビームを方向付けるように配列された複数の選択的方向可変ミラーを較正する方法であって，
上記複数のミラーのそれぞれの方向を第１の方向に合わせ，
上記複数のミラーのそれぞれの上記第１の方向を感知し，かつ複数のミラーが向けられている角度方向を表すミラー方向出力を提供し，
上記選択的方向可変ミラーのそれぞれの上記フィールドと少なくとも同じ大きさの領域を有するターゲットであって，上記ターゲット上へのレーザ・ビームの照射を示す光学的に視認可能なマーキングを提供し，書換可能でありかつ光学的に視認可能な複数の基準マーキングを有するターゲットを，ターゲット・ポジショナに固定し，
上記複数の選択的方向可変ミラーの各々のそれぞれが上記レーザ・ビームを上記ターゲット上の選択可能な位置に方向付けている間，上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれについての上記フィールドに上記ターゲット・ポジショナを位置決めすることによって上記ターゲットを選択的に位置決めし，上記ターゲット上に複数のレーザ・ビーム照射マーキングを生成し，
上記ターゲット上への上記レーザ・ビームの照射後の上記ターゲットを検視し，ターゲット画像を出力し，かつ上記ターゲット画像に基づいて上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれについて複数のレーザ・ビーム照射マーキングの座標値を提供し，
上記レーザ・ビーム照射マーキングの座標値とその期待値とを相関させ，かつ上記ミラー方向センサによって提供される上記ミラー方向出力と上記レーザ・ビーム照射マーキングの座標値とを相関させることによって，上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれについての角度方向に関する較正出力を提供する，
方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（関連出願の相互参照）
２００８年１月１０日付けの米国仮特許出願第６１／０２０，２７３号「多重レーザ・ビーム位置決めおよびエネルギー配給システム」（Multiple Laser Beam Positioning and Energy Delivery System）を参照して，その開示内容をこの明細書中に参考として援用するとともに，その優先権を米国特許法施行規則（ＣＦＲ）第１．７８（ａ）項および（５）（ｉ）項に基づいて主張する。
【０００２】
本願は，同日出願され，この発明の譲渡人に譲渡されたＰＣＴ特許出願「多重ビーム穿孔システム」（Multiple Beam Drilling System）に関連し，その開示内容についてもこの明細書中に参考として援用する。
【０００３】
この発明は包括的には装置較正に関し，具体的にはレーザ・ビーム（複数）の方向付け（to direct laser beams）に用いられる多重ステアリング・ミラーの較正（calibration of multiple steering mirrors）に関する。
【背景技術】
【０００４】
長年にわたって，基板のような対象物の穿孔，溶融，または切断等を目的に動作する製造システムにおいてレーザ・ビームが利用されている。製造時間を短縮するために，このシステムでは多重レーザ・ビーム（multiple laser beams）を利用することができ，そのような多重ビーム・システムの精度要求がコンスタントに増加している。
【０００５】
参照してその開示内容をここに援用するミュラーその他による米国特許第6,615,099号には，「偏向装置」（“deflection device”）を用いて動作するレーザ処理装置を較正する処理が記載されている。この処理は，はじめに較正板（a calibration plate）の画像を生成して上記偏向装置によって起こされる撮像エラー（imaging errors）を決定する。上記較正板はテスト板によって置換えられ，その上にテスト・パターンが書込まれかつ測定されて光学偏差（an optical offset）が決定される。上記撮像エラーおよび光学偏差を補償することによって上記装置において被工作物が処理される。
【発明の概要】
【０００６】
この発明は，レーザ・ビームを方向付けるために用いられる多重ミラー（複数ミラー）を較正する，改良されたシステムおよび方法を提供するものである。
【０００７】
すなわち，この発明による好ましい実施形態による光学システムは，あるフィールド内における選択可能な位置に（a selectable location within a field）レーザ・ビームを方向付ける（向ける）ように（to direct）それぞれが配列された複数の選択的方向可変ミラー（selectably directable mirrors），上記複数の選択的方向可変ミラーの方向（向き）（the orientation）を感知する（to sense）ように動作し，かつ複数のミラー方向出力を提供する（to provide mirror orientation outputs）ように動作する複数のミラー方向センサ，および上記複数の選択的方向可変ミラーを自動的に較正する自動較正サブシステムを備え，上記自動較正サブシステムは，上記選択的方向可変ミラーのそれぞれの上記フィールドと少なくとも同じ大きさの領域を有するターゲットであって，上記ターゲット上へのレーザ・ビームの照射（衝突）（impingement）による光学的に視認可能な指標（indication）を提供し，書換可能でありかつ光学的に視認可能な複数の基準マーキングを有するターゲット，上記複数の選択的方向可変ミラーの各々のそれぞれが（each respective one of the selectably directable mirrors）上記レーザ・ビームを上記ターゲット上の選択可能な位置に方向付けている間，上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれについての上記フィールド（the fields of respective ones of the selectably directable mirrors）に上記ターゲットを選択的に位置決めするターゲット・ポジショナ，上記ターゲット上への上記レーザ・ビームの照射後の上記ターゲットを検視する（to view）ように動作し，かつ複数のレーザ・ビーム照射出力を提供する（to provide laser beam impingement outputs）ように動作する光学センサ，ならびに上記複数のミラー方向出力および上記複数のレーザ・ビーム照射出力に応じて較正出力を提供する（to provide a calibration output）ように動作する相関器を備えている。
【０００８】
この発明の好ましい実施形態によると，上記光学システムは較正フェーズおよび生産フェーズにおいて動作可能なものである。
【０００９】
好ましくは，上記較正フェーズは，上記複数のミラーのそれぞれの方向（向き）を第１の方向に合わせ（orienting each of the plurality of mirrors in a first orientation），上記複数のセンサを用いて上記複数のミラーのそれぞれの上記第１の方向を感知し，かつ複数のミラー方向出力を提供し，上記ターゲットを上記ターゲット・ポジショナに固定し，上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれ１つずつについて（for each one of the plurality of selectably directable mirrors），上記ターゲット・ポジショナを位置決めすることによって上記ターゲットを選択的に位置決めして，上記複数の選択的方向可変ミラーのうちの１つのミラーの上記フィールドにおいて（in the field of the one of the plurality of selectably directable mirrors）上記複数の選択的方向可変ミラーのうちの上記１つのミラーが上記レーザ・ビームを上記ターゲット上の選択可能な位置に向けている間に，上記ターゲット上に複数のレーザ・ビーム照射マーキング（laser beam impingement markings）を生成し，上記ターゲット上への上記レーザ・ビームの照射後の上記ターゲットを検視し，かつ上記複数の選択的方向可変ミラーうちの上記１つのミラーについて複数のレーザ・ビーム照射出力を提供し，かつ上記複数のレーザ・ビーム照射マーキングを消去し，そして，上記複数のミラー方向出力および上記複数のレーザ・ビーム照射出力を相関させる（correlating）ことによって上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれについての較正出力を提供する。
【００１０】
あるいは，上記較正フェーズは，上記複数のミラーのそれぞれの方向を第１の方向に合わせ，上記複数のセンサを用いて上記複数のミラーのそれぞれの上記第１の方向を感知し，かつ複数のミラー方向出力を提供し，上記ターゲットを上記ターゲット・ポジショナに固定し，上記複数の選択的方向可変ミラーの各々のそれぞれが上記レーザ・ビームを上記ターゲット上の選択可能な位置に方向付けている間，上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれについての上記フィールドに上記ターゲット・ポジショナを位置決めすることによって上記ターゲットを選択的に位置決めし，上記ターゲット上への上記レーザ・ビームの照射後の上記ターゲットを検視し，かつ複数のレーザ・ビーム照射出力を提供し，上記複数のミラー方向出力および上記複数のレーザ・ビーム照射出力を相関させることによって上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれについての較正出力を提供する。
【００１１】
好ましくは，上記生産フェーズは，レーザ穿孔フェーズ，レーザ切断フェーズおよびレーザ加工フェーズの少なくとも一つを含む。
【００１２】
この発明の好ましい実施形態によると，上記ターゲットは，基板，上記基板の上面に形成されたフォトクロミック層，上記フォトクロミック層上に積層された透明層，上記基板の底面に形成された金属層，および上記金属層の底面に結合された熱電クーラを備える。さらに，上記視認可能な複数の基準マーキングが上記フォトクロミック層中に形成されている。
【００１３】
好ましくは，上記光学システムは，上記複数のミラー方向センサを含む複数の調整可能ミラー・マウントを備えている。さらに，上記複数のミラー・マウントのそれぞれが２つの回転自由度を有している。これに加えてまたは代えて，上記複数のミラー・マウントは，上記複数のミラーが取付けられた複数のガルバノメトリック・モータを備えている。
【００１４】
この発明の好ましい実施形態によると，上記光学システムはまた上記レーザ・ビームを生成するレーザを備えている。
【００１５】
この発明の他の好ましい実施形態によると，あるフィールド内における選択可能な位置にレーザ・ビームを方向付けるように配列された複数の選択的方向可変ミラーを較正する方法が提供され，この方法は，上記複数のミラーのそれぞれの方向を第１の方向に合わせ，上記複数のミラーのそれぞれの上記第１の方向を感知し，かつ複数のミラー方向出力を提供し，上記選択的方向可変ミラーのそれぞれの上記フィールドと少なくとも同じ大きさの領域を有するターゲットであって，上記ターゲット上へのレーザ・ビームの照射による光学的に視認可能な指標を提供し，書換可能でありかつ光学的に視認可能な複数の基準マーキングを有するターゲットをターゲット・ポジショナに固定し，上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれ１つずつについて，上記ターゲット・ポジショナを位置決めすることによって上記ターゲットを選択的に位置決めして，上記複数の選択的方向可変ミラーのうちの１つのミラーの上記フィールドにおいて上記複数の選択的方向可変ミラーのうちの上記１つのミラーが上記レーザ・ビームを上記ターゲット上の選択可能な位置に向けている間に，上記ターゲット上に複数のレーザ・ビーム照射マーキングを生成し，上記ターゲット上への上記レーザ・ビームの照射後の上記ターゲットを検視し，かつ上記複数の選択的方向可変ミラーうちの上記１つのミラーについて複数のレーザ・ビーム照射出力を提供し，かつ上記複数のレーザ・ビーム照射マーキングを消去し，そして上記複数のミラー方向出力および上記複数のレーザ・ビーム衝突出力を相関させることによって上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれについての較正出力を提供する。
【００１６】
好ましくは，上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれ１つずつについて，上記消去に続いて上記ターゲットを冷却する。
【００１７】
この発明の他の好ましい実施形態によると，あるフィールド内における選択可能な位置にレーザ・ビームを方向付けるように配列された複数の選択的方向可変ミラーを較正する方法も提供され，この方法は，上記複数のミラーのそれぞれの方向を第１の方向に合わせ，上記複数のミラーのそれぞれの上記第１の方向を感知し，かつ複数のミラー方向出力を提供し，上記選択的方向可変ミラーのそれぞれの上記フィールドと少なくとも同じ大きさの領域を有するターゲットであって，上記ターゲット上へのレーザ・ビームの照射により光学的に視認可能な指標を提供し，書換可能でありかつ光学的に視認可能な複数の基準マーキングを有するターゲットをターゲット・ポジショナに固定し，上記複数の選択的方向可変ミラーの各々のそれぞれが上記レーザ・ビームを上記ターゲット上の選択可能な位置に方向付けている間，上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれについての上記フィールドに上記ターゲット・ポジショナを位置決めすることによって上記ターゲットを選択的に位置決めし，上記ターゲット上への上記レーザ・ビームの照射後の上記ターゲットを検視し，かつ複数のレーザ・ビーム照射出力を提供し，上記複数のミラー方向出力および上記複数のレーザ・ビーム照射出力を相関させることによって上記複数の選択的方向可変ミラーのそれぞれについての較正出力を提供する。
【００１８】
この発明は，図面と合わせて示した実施形態に関する以下の詳細な説明からより深い理解が得られる。図面の簡単な説明は，以下の通りである。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】この発明の実施形態によるミラー較正装置の概略模式図である。
【図２Ａ】この発明の実施形態による，上記装置において用いられるターゲットの概略模式図である。
【図２Ｂ】この発明の実施形態による，上記装置において用いられるターゲットの概略模式図である。
【図３】この発明の実施形態による，第１の較正モードにおける上記装置の動作の異なるステージの概略模式図である。
【図４】この発明の実施形態による，ターゲット明示マークの概略模式図である。
【図５】この発明の実施形態による，較正テーブルまたは較正式の生成における，上記装置の処理ユニットによって実行されるステップを示す概略フローチャートである。
【図６】この発明の実施形態による，上記装置の第２の較正モードを図示する概略模式図である。
【図７】この発明の実施形態による，第２のモードを実施する上記処理ユニットによって実行されるステップを示す概略フローチャートである。
【実施例】
【００２０】
図１を参照して，図１はこの発明の実施形態によるミラー較正装置20を模式的に示す概略図である。装置20は，処理ユニット36によって全体的に制御され，かつ典型的には上記装置のオペレータによって操作される光学システムを備えている。
【００２１】
処理ユニット36は典型的には汎用コンピュータ・プロセッサを備え，それがこの明細書に記載の機能（複数）を実行するためにソフトウエアにおいてプログラムされている。このソフトウエアは，たとえば，ネットワークを介して，電子的形態で上記プロセッサにダウンロードすることができる。これに代えてまたは加えて，光学記憶媒体，磁気記憶媒体または電子記憶媒体といった有形媒体に上記ソフトウエアを設けてもよい。さらにこれに代えて，上記プロセッサの機能の少なくとも一部については，専用ハードウエアまたはプログラマブル・ハードウエアによって実行してもよい。
【００２２】
装置20は，選択的に方向を変更することができる（選択的方向可変）ミラー群（a set of selectably directable mirrors）38を備え，各方向可変ミラーのそれぞれの方向（向き）が処理ユニット36によって生成される指令によって個別に制御され，上記指令によって処理ユニットは方向が合わせられるべき各ミラーを選択することができる。上記方向可変ミラー（複数）は方向（向き）を合わせることができる（方向付け可能）（方向設定可能）ミラー（orientable mirrors）とも呼ばれ，上記方向付け可能ミラー（複数）に照射される（衝突する）（impinge）ビーム（複数）のステアリング・ミラー（複数）（steering mirrors）として機能する。装置20は，ここではカメラを備えるものとする光学センサ44を含み，上記光学センサ44が上記複数のミラーのそれぞれの向きを較正する上記装置の自動較正サブシステム47の一部として用いられる。サブ・システム47の要素（elements）としては，カメラ44としても参照されるセンサ44に加えて，可動テーブル（a movable table）42，書換可能ターゲット（a rewritable target）40，および相関器（a correlator）として動作する処理ユニット36を含む。自動較正サブ・システム47の上記要素の機能（the functions of the elements）を以下詳細に説明する。
【００２３】
典型的には，一旦上記ミラー（複数）の較正が完了すると，カメラ44は上記装置において必要とされず，上記カメラを取外すことができる。これに代えて上記カメラをその位置に留めておいてもよい。一旦上記方向付け可能ミラー（複数）の較正が完了すると，装置20はレーザ穿孔設備（a laser drilling facility）21として用いることができ，そこで上記複数の方向付け可能ミラーは，上記装置の生産フェーズにおいて各レーザ・サブビーム（respective laser sub-beams）の方向を合わせて可動テーブル42上に載置された材料（図１において図示略）に多数の孔を穿孔するために用いられる。上記穿孔に加えて，上記生産フェーズの設備を，穿孔と同様な工程，たとえば材料の切断および／または加工にも用いることができることは理解されよう。したがって，後述する説明から明らかになるように，装置20のいくつかの要素は，上記装置の較正フェーズにおいて方向付け可能ミラー38を較正するために用いられる要素に対応する第１の機能と，上記装置の生産フェーズにおいてレーザ穿孔のために用いられる要素に対応する第２の機能の，二重の機能を実行する。また後述するように，装置20の上記較正フェーズは多数の異なるモードにおいて実行することができる。
【００２４】
装置20はレーザ22を備え，このレーザ22は典型的には固体レーザであり，紫外線波長のパルス（複数）からなる単一レーザ・ビーム24（a single laser beam 24 of pulses at an ultra-violet wavelength）を生成する。上記ビームのパラメータ（複数）が処理ユニット36からの指令にしたがって設定される。この発明の一実施態様では，上記ビームは，約100ｋＨｚの繰返速度（繰返周波数）で生成される，およそ30nsのパルス（複数）から構成される。各パルスは100μＪのオーダーのエネルギーを有し，したがって上記ビームの平均パワーはおよそ10Ｗである。ビーム24は円筒状レンズ26を通過してそこで実質的に平行ビームとして集光され，平行ビームが音響光学型偏光器（ＡＯＤ：Acousto-Optic Deflector）28に進む。レーザ・パルスのほぼすべてのエネルギーを上記生産フェーズにおいて使用することができる。この明細書に記述する較正フェーズにおいて，上記レーザ・パルス・エネルギーは，典型的にはターゲットに対する損傷を避けるために十分に低められる。
【００２５】
ＡＯＤ28は処理ユニット36から高周波（ＲＦ：Radio-Frequency）の駆動入力を受取る。このＲＦ入力によって上記入射平行レーザ・ビーム（the incident collimated laser beam）は回折されて一または複数のサブ・ビーム（sub-beams）29となる。サブ・ビーム（複数）29は，典型的には２次元面内において生成される。処理ユニット36は，ＡＯＤ28への上記ＲＦ入力のパラメータを変更することによって，上記サブ・ビームの数，および上記サブ・ビーム間のエネルギー分布を選択することができる。この発明の実施形態において用いることができるＡＯＤの一例は，仏国Saint-Remy-Les-ChevreuseのAA Optoelectronic 社製のthe part MQ180-A0,2-UVである。
【００２６】
複数のサブ・ビーム29は中継レンズ30によって第１のミラー群32に送られる。ミラー群（Mirrors）32は，各入射ビームを３次元サブ・ビーム群41として第２のミラー群34に向けて反射するように方向が合わせられている（oriented）。簡単化のために，図１において上記３次元サブ・ビーム群のうちの一つのビームの経路39のみが示されている。以下の説明において，必要に応じて，上記サブ・ビーム群41の各ビームを添字によって区別する。したがって，図１に示すように，20個のミラー34および20個のミラー38が存在する場合，サブ・ビーム群41はサブ・ビーム41Ａ，41Ｂ，・・・，41Ｔを含む。適当な場合には，以下の記述において，区別が必要な要素（elements）にも対応する文字が添えられる。たとえば，はじめにサブ・ビーム29Ｂからサブ・ビーム41Ｂが生成され，その後サブ・ビーム41Ｂはミラー32Ｂおよび34Ｂによって反射され，最後に方向付け可能ミラー38Ｂによって反射される。ミラー群32および34は典型的には位置および方向が固定されており，ミラー群34から反射された３次元サブ・ビーム群が互いに略平行となるように構成されている。
【００２７】
ミラー群34において反射された３次元サブ・ビーム群が，方向付け可能ミラー群38におくられる。ミラー群32，ミラー群34およびミラー群38の間には，ビーム調整および中継用の光学素子（複数）が設けられており，分かりやすくするために，図１では，レンズ35によって概略的に示されている。上記ビーム調整および中継用の光学素子（複数）によって，ミラー群38によって反射されたサブ・ビーム群は平行かつ幅狭（collimated and narrow）になる。以下の説明では，サブ・ビーム群41を生成する装置20の要素（elements），すなわち，要素22，26，28，30，32，34および35を，サブ・ビーム生成システム33とも呼ぶ。
【００２８】
ミラー群38の各ミラーは，マウント群において（in a set of mounts），それぞれのステアリング・アセンブリ（respective steering assembly）に結合（連結）されており，上記ステアリング・アセンブリをこの明細書中において調整可能マウント（adjustable mount）43と呼ぶ。上記マウント群の各マウント43は処理ユニット36によって個別に制御され，上記処理ユニット36は，特定のマウントの向き（the orientation of a specific mount），したがってそのマウントに結合されたミラーの向きを，そのマウントの特性にしたがう制限範囲内において方向付ける（direct）ことができる。各マウントは，そのマウントの向きにしたがって上記マウントに結合（連結）された上記ミラーの向き（方向）を感知するセンサ45を備え，上記センサが対応する出力を処理ユニット36に提供することによって，上記処理ユニットは上記マウントおよびそのミラーの向き（方向）を認識する。
【００２９】
この発明の実施形態において必ずしも必要ではないが，簡単化のために，ここでは，一例として，処理ユニット36は，一般に等しい総合立体角にしたがって（by generally the same overall solid angle），各ミラーの向きを変化させることができるものとする。さらに，各マウントは，典型的には，初期状態において，その「ヌル方向」（its “null orientation”），すなわち処理ユニット36がその向きを変える上記マウントの方向が，ほぼ同じであり，そのそれぞれで反射されるサブ・ビームが可動テーブル42に対してほぼ直交するものとして設定されているものとする。一例として，各マウント43は，２つの回転自由度（two degrees of rotational freedom）を有しており，取付けられたミラーを，上記ミラーのヌル方向と交差するそれぞれが直交する面内において，２つの独立した角度θ，φによって回転させることができるものとする。典型的には，マウント群43はミラー群38が取付られた複数のガルバノメトリック・モータ（galvanometric motors, to which are attached mirrors 38）を用いて，必要とされる２軸ミラー・ステアリング（the two-axis mirror steering）を実現する。
【００３０】
テーブル42は，上記処理ユニット36からのコマンドにしたがって，直交するｘ，ｙおよびｚ方向において移動可能である。この明細書で説明する装置20の較正フェーズにおいて，処理ユニット36は典型的にはビーム生成システム33を構成し，テーブル42上に載置された書込可能ターゲット40上に一度に一つのサブ・ビームのみを照射する。挿入図48に示すように，テーブル42はミラー群38のそれぞれのミラーのためにターゲット40の位置を移動させる。ターゲットの各位置は，異なるミラーのそれぞれの動作フィールド（a respective field of operation of a different mirror）に対応する。
【００３１】
上述したように，各ミラー38にはそれぞれサブ・ビーム41が入射する。各ミラー38はその後そのそれぞれのサブ・ビーム41を上記ミラーの向きにしたがって反射する。上記ミラーの物理的な位置が異なるので，各ミラーのヌル方向はほぼ同一であるが，各ミラー38による反射サブ・ビームはそれぞれ異なる動作フィールドをカバーする。
【００３２】
図２Ａおよび図２Ｂは，この発明の実施形態によるターゲット40を模式的に示す概略図である。図２Ａは上記ターゲットの上面を示す。図２Ｂは上記ターゲットの一部の断面を示す。ミラー（複数）のそれぞれの動作フィールドと少なくとも同じ大きさの領域を持つターゲットがテーブル42にセットされる。ターゲット40の形状および寸法は，典型的には上記動作フィールド（複数）のうち最も大きいフィールド（the largest of such fields of operation）よりも大きいものが選択される。次に説明するように，ターゲット40は，一例としては円形であり，約50mmの直径を有するものとする。
【００３３】
ターゲット40は，基板64上に構築された多層（複数レイヤ）のターゲット（a multi-layered target）である。基板64は，典型的にはZerodur（商標）ガラスのような低熱膨張材（a low thermal expansion material）であり，装置20の運転温度範囲において，上記ターゲットの寸法および上記ターゲット中の要素（elements）の寸法は実質的に変化しない。金属層66が基板64の底面に形成されており，熱電クーラ68（TEC）が金属層66の底面に結合されている。ＴＥＣ68は，処理ユニット36によって，必要に応じてターゲット40を加温（加熱）および冷却するために用いられる。
【００３４】
フォトクロミック層（調光層）（a photochromic layer）62が基板64の上面に形成されており，保護透明層60が上記フォトクロミック層62上に積層されている。保護透明層60は，空気中の酸素と上記フォトクロミック層との相互作用を最小にして上記フォトクロミック層を光化学的劣化から保護する。フォトクロミック層62は，レーザ22からの照射によって照射されるまでは可視光に対して透明である。上記照射が行われると，照射されたフォトクロミック材料上の範囲にフォトクロミック反応が生じる。上記反応は，特定のスペクトル帯域，典型的には可視範囲のスペクトルおよび典型的には10数nmの帯域幅において，照射範囲を実質的に不透明にする。したがって，上記照射によって，ターゲット40上の照射範囲には可視マークまたは指標（visible marks or indications）が効果的に書き込まれる。
【００３５】
上記フォトクロミック層62は，サーマル・ディケイ（熱崩壊）（thermal decay）によって上記マークが消滅するまでの間，十分に長い期間にわたって上記ターゲットに書込まれた上記書込可視マークを保持する。上記崩壊は典型的には簡単なアレニウスの法則にしたがい，この法則のもとにおいて崩壊率はｅｘｐ(−Ｅａ／ｋＴ)に比例する。ここでＥａは材料の活性化エネルギー，ｋはボルツマン定数，Ｔは絶対温度である。典型的には，上記崩壊時間は数時間になるように設計される。上記マークはＴＥＣ68を用いて適度の熱を上記ターゲットに与えることで消去することができ，結果的に上昇した温度によって上記崩壊率がかなり増大する。上記マークの消去の後，上記ターゲットは典型的にはＴＥＣ68によって冷却され，上記ターゲットへの別の照射によって新たな可視マークを再書込みすることができる。上述したように，冷却は，典型的には上記マークを長い時間にわたって保持するために必要とされる。
【００３６】
ターゲット40上にはまた複数の基準マーク（fiducial marks）50Ｆが形成されている。この基準マーク50Ｆの使用については後述する。典型的には，上記基準マーク50Ｆは，基板64の上面上かつフォトクロミック層62内に，クロム等の金属を積層することによって形成される。ターゲット40内の基準マークの構造の一例が図２Ｂに示されており，ここでは基準マーク50Ｆのうちの基準マーク54，56が断面において示されている。
【００３７】
ターゲット40は，フォトクロミック層に書込まれた基準マーク（the fiducial marks）およびマーク（the marks）の両方が，それらの隣接周囲（their immediate surroundings）と比較して高いコントラストを持つことができるように構成されている。センサ44によって用いられる検査照射（examining radiation）は，典型的には高コントラストを生成するように選択される。上記マークの高コントラストは，典型的には，有色フォームにおけるフォトクロミック材吸収帯のピークまたはそれに近いピークの出射波長を有するＬＥＤ照明を用いることによって達成される。基板64は，上記高コントラストを得るために，典型的には，拡散されて構成されている。
【００３８】
図３は，この発明の実施形態による，第１の較正モードにおける装置20の動作の異なるステ−ジを模式的に示す概略図である。第１の較正モードにおいて，テーブル42は，ターゲット40を連続的に移動させるターゲット・ポジショナ（位置決め装置）として動作し，各位置において，ターゲット40は各ミラー38の動作フィールドを包含する。各ミラーについて，上記ターゲットは上記ミラーによって反射されたサブ・ビームによって照射され，上記ミラーは上記ミラーの動作フィールド内において選択可能な位置に上記サブ・ビームを向ける。すべてのミラーによって照射が行われた後，テーブル42は上記ターゲットをミラー群の動作フィールド（複数）の外に移動させ，かつセンサ44の視野内に（into the field of view of sensor 44）移動させる。
【００３９】
図３は図１の挿入図48に対応するもので，テーブル41によって異なる４つの位置Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３およびＰ４に連続的に位置決めされたターゲット40を示している。各位置は異なるミラーの動作フィールドに対応し，第１の４つのミラー（the first four mirrors）を較正シーケンスにおける一例とする。照射される第１の４つのミラーを，一例として，ミラー38Ｇ，38Ｆ，38Ｐおよび38Ｑとし，ここではミラーＭ１，Ｍ２，Ｍ３およびＭ４と呼ぶ。必要に応じて，次の説明において特定のミラー38をミラーＭｎで表す。ｎは正の整数である。
【００４０】
ターゲット40が位置Ｐ１にあるとき，処理ユニット36は，典型的には上述したように低められたパルス・エネルギーを持つサブ・ビーム41Ｇを作動させ，他のサブ・ビーム41を作動させないようにする。サブ・ビーム41Ｇが作動されている間，処理ユニット36は，ミラーＭ１への入射サブ・ビームについて，ミラーＭ１に結合されたマウント43を用いて少数の既知の異なる向きａ１，ａ２，・・・にミラーＭ１を回転させる。各特定の向きは，ミラーＭ１に取付けられた上記マウント43の２つの回転角度θ，φの組合わせであって，向きａ１は順序対（an ordered pair）（θ（ａ１），φ（ａ１））としてより完全に記述されることは理解されよう。しかしながら，必要な場合を除いて，簡略化のために，以下の説明では各向きを符号および添字によって表す。
【００４１】
ここでは，一例として，既知の異なる向きの数が５つであって，したがって上記異なる向きは，｛α１｝としても記述される｛ａ１，ａ２，・・・，ａ５｝から構成されるものとする。｛α１｝における各向きについて，ミラーＭ１からのビームはz軸に対するある角度（an angle）で反射され，ｚ軸を含む平面内に存在する。上記既知の異なる向きのそれぞれについて所定時間の間（a period of time），処理ユニット36は上記ミラーを固定したまま維持し，上記反射サブ・ビームによってターゲット40は上記所定時間の間照射される。異なる向き｛ａ１，ａ２，・・・，ａ５｝における照射は，層62（図２Ｂ）に，｛１Ｘ｝としても記述される各マーク｛1X1，1X2，・・・，1X5｝を形成する。典型的には，｛α１｝の向き（方向）は，マーク｛１Ｘ｝がミラーＭ１の動作フィールド全体にわたってほぼ均等に分布するように選択される。処理ユニット36は，上記反射サブ・ビームによって形成されるマークが，センサ44によって容易に識別されるのに十分なコントラストを持つように十分な長さを有しつつも可能な限り短い上記時間を選択する。上記した典型的なレーザでは，典型的な上記所定時間において各マークを形成するのに約10パルスを用いることができ，上記所定時間は約100μｓである。
【００４２】
マーク｛１Ｘ｝の作成を終えると，処理ユニット36はサブ・ビーム41Ｇをスイッチ・オフし，ターゲット40を位置Ｐ２に位置させるべくテーブル42を位置決めする。そこではミラーＭ２の動作フィールドが上記ターゲットによって包含される。ターゲット40が位置Ｐ２にあるとき，処理ユニット36はサブ・ビーム41Ｆを作動して，他のサブ・ビーム41が作動しないようにする。サブ・ビーム41Ｆが作動しているとき，処理ユニット36は，その入射サブ・ビームについて，少数の異なる既知の向き｛α２｝にミラーＭ２を回転させる。典型的には，ここでは，セット｛α２｝における異なる向きの数はセット｛α１｝における数と同じとする。しかしながら，必ずしも同数である必要はなく，他の実施態様において上記数を異なるものとすることができる。
【００４３】
セット｛α２｝における複数の向きは，ターゲット40上へのサブ・ビーム41Ｆの反射によって作成される｛２Ｘ｝としても記述されるマーク｛2X1，2X2，．．．，2X5｝が，マーク｛１Ｘ｝から分離（区別）されるように，選択される。この分離は，センサ44が各マーク｛２Ｘ｝から各マーク｛１Ｘ｝を区別することができるのに十分なものとなるように選択される。マーク｛２Ｘ｝は実質的にマーク｛１Ｘ｝と同様に形成される。マーク｛２Ｘ｝の形成を終えると，処理ユニット36はテーブル42を移動してターゲット40を位置Ｐ３に位置決めする。そこではターゲットはミラー３の動作フィールドを包含する。その後に位置Ｐ４に移動され，そこではターゲットはミラー４の動作フィールドを包含する。
【００４４】
｛３Ｘ｝とも記述されるミラーＭ３についてのマーク｛3X1，3X2，．．．，3X5｝，および｛４Ｘ｝とも記述されるミラーＭ４についてのマーク｛4X1，4X2，．．．，4X5｝は，実質的に上述したマーク｛１Ｘ｝と同様にして，サブ・ビーム41Ｐおよび41Ｑをそれぞれ用いて形成される。
【００４５】
図３においては，分かりやすくするために，各マークのセット｛１Ｘ｝，｛２Ｘ｝，｛３Ｘ｝および｛４Ｘ｝が，同一のセットについては同じシンボルを用い，かつセットごとに異なるシンボルを用いて示されている。サブ・ビームによって実際に作成されるマークの形状は処理ユニット36の制御に基づく。いくつかの実施形態では，同一セットであるか異なるセットであるかにかかわらず，すべてのマークは実質的に同一の形状を持つ。たとえば，すべてのマークは，実際上，ターゲット40上の単一ポイント（single points）とすることができ，照射中に移動されないミラーが用いられて，各向きにおいて，照射によって特定マークについてのポイントが形成される。上記ポイントは，典型的には，約20μｍから約70μｍの範囲の直径を持つ。
【００４６】
これに代えて，他の実施態様においては，マークを２以上の異なる形状で形成することができる。構造（structure）を有するマークは，処理ユニット36が特定の向きにミラーを動かすことによって，単一ポイントのグループとして（as groups of single points）形成され，したがって上記ミラーからの反射されたサブ・ビームは上記ターゲット上に所定パターンを形成する。使用することができるパターンの例としては，三角または四角の辺および／または頂点（the sides and/or vertices of a triangle or rectangle）を含むが，他の有用なパターンも使用することができる。一つのマークを複数ポイントのグループとして形成することによって，ポイントの位置の決定をより精密に行うことができ，したがってミラーの較正をより精密に行うことができる。
【００４７】
処理ユニット36は，第１の４つのミラーについて上述した処理をすべてのミラー38に対して行う。すなわち，各ミラー38はターゲット40上にマーク群を生成し，処理ユニット36は他のマーク群から分離するように上記マーク群を位置決めする。ターゲット40がセンサ44によって検査されるときに上記分離は十分なものであるので，上記センサ44は，処理ユニット36とともに，異なるマーク群を区別することができる。
【００４８】
図４はこの発明の実施形態によるターゲット40を模式的に示す概略図である。ターゲット40には，上述した20個のミラー38Ａ，38Ｂ，．．．，38Ｔを用いて上記ターゲットを照射した後の，作成された典型的なマーク（複数）が現れており，ここでは各ミラーが上記ターゲット上に５つのマークを生成している。図４において，上記マークを単一ポイントとしているが，マークの一部または全部を，上述したようにポイントのグループとしてもよいのは理解されよう。
【００４９】
図１に戻って，較正されるべきすべてのミラー38について，ターゲット40への照射のための使用が終わると，テーブル42が上記ターゲットをセンサ44の視野内に移動させる。図５を参照して後述するように，処理ユニット36はセンサ44によって形成されたターゲット40の画像を用いて，各ミラー38についての較正テーブルを形成する。
【００５０】
図５は，この発明の実施形態による，各ミラー38についての較正テーブルまたは式（calibration tables or equations）を生成するときに，処理ユニット36によって実行されるステップを示す概略的なフローチャート100である。フローチャート100のステップの記載は上述した装置20の動作の記載に沿うものとし，装置20の第１の較正モードに対応するものとする。
【００５１】
最初の位置決めステップ102において，ターゲット40がテーブル42に固定され，処理ユニット36は，上記ターゲットがミラーＭ１の動作フィールド内に入るように上記テーブルを位置決めする。
【００５２】
最初の照射ステップ104において，処理ユニット36は適切なサブ・ビーム，ここではサブ・ビーム41Ｇを作動する。上記処理ユニットは次に，上記ターゲット上に複数のマークを形成するために，所定の複数位置にミラーＭ１の向きを合わせる。ミラーＭ１についての上記マークは｛１Ｘ｝である。
【００５３】
次の位置決めステップ106はステップ102に記載の動作を繰返し，上記ターゲットが別のミラー38の動作フィールド内に入るように，上記処理ユニット36は上記テーブルを位置決めする。
【００５４】
次の照射ステップ108は，ステップ106において位置決めされたミラーについてステップ104の動作を繰返す。
【００５５】
決定ステップ110において，処理ユニット36は，すべてのミラー38が上述した較正プロセスのステップを経たかを確認するためのチェックを行う。上記プロセスを経ていないミラーが存在する場合，処理ユニット36はステップ106に戻る。
【００５６】
すべてのミラーが上記較正プロセスを経た場合，ターゲット置換ステップ112において，処理ユニット36は，ターゲット40がセンサ44の視野内に入るようにテーブル42を移動し，処理ユニット36はセンサ44を用いてターゲット40およびそのマークの画像を取得する。
【００５７】
分析ステップ114において，取得された上記ターゲットの上記基準マークの画像（images of the fiducial marks）を用いて，上記処理ユニットは，ターゲット40上の各マークの実際（ｘ，ｙ）値（actual (x,y) values）を決定し，上記実際値（the actual values）と，｛１Ｘ｝，｛２Ｘ｝．．．の理論上の期待値（the theoretical expected values）を相関させる（互いに関係づける）（correlates）。上記期待値をここではＥ｛１Ｘ｝，Ｅ｛２Ｘ｝．．．と記載する。上記相関（関係づけ）（the correlation）は処理ユニット36によって自動的に実行することができる。たとえば，｛Ｘ１｝，｛Ｘ２｝，．．．の各期待値について，上記期待値に最も近い（closest）実際値（ｘ，ｙ）を有するマークは，対応マーク（the corresponding mark）と仮定される。これに代えて，装置のオペレータが処理ユニット36の少なくとも一部をアシストして上記相関を実行してもよい。
【００５８】
処理ユニット36は，各ミラー38について，上記ミラーのマーク（複数）の実際値（ｘ，ｙ）（複数）を選択する。選択された値から，処理ユニット36は，相関器として機能して，各ミラーについて，ミラーの向き（複数）（orientations of the mirror）と上記ミラーのサブ・ビームの反射によって形成された実際値（ｘ，ｙ）（複数）との関係性（相関）（a relationship）を生成する。処理ユニット36は，典型的には従来技術において周知である内挿（interpolation）および／または外挿（extrapolation）の処理を用いて上記関係性（相関）を生成する。処理ユニット36は，ミラー（複数）について決定された上記関係性（相関）（複数）を，利便性のある何らかの形式で，たとえば各ミラーごとの較正テーブル中に，および／または各ミラーについての式として，記憶することができる。上記式の一般式は次のとおりである。
【００５９】
（ｘ，ｙ）＝ｆMn（θ，φ）                                        （１）
ここで，ｆMnは，上記処理ユニットによって決定されるミラーＭｎについての関数である。
【００６０】
各テーブルまたは式における（ｘ，ｙ）の値には，各ミラーＭｎの物理的に異なる位置を考慮に入れてもよいことは理解されよう。
【００６１】
ステップ114を終えると，フローチャート110は典型的には終了する。これに加えて，上記ターゲットを装置20のさらなる較正に利用可能にするために，破線116で示すように，消去ステップ118においてターゲット40上のマークを消去するようにしてもよい。
【００６２】
上述の第１の較正モードの説明から，ステップ114で説明したように，すべてのミラー38はターゲット40の一回の検査および分析を用いて自動的に較正することができるのが理解されよう。したがってすべてのミラー38の較正のための時間は短い。
【００６３】
図６は，この発明の実施形態による，装置20の第２の較正モードを模式的に示す概略図であり，図７は上記第２のモードを実現するために実行されるステップの概略フローチャート150である。次に説明する相違は別にして，上記第２の較正モードは概略的には第１の較正モードと同様であり，図１および図６の両方において同一の参照符号によって示される要素は，構成および動作において実質的に同様である。
【００６４】
第１の較正モードと異なり，第２の較正モードでは，各ミラーはターゲット40を用いて個々に較正される。各ミラーが較正されると，その較正に用いられた上記ターゲットのマークは消去され，かつ上記ターゲットは別のミラーの較正に用いられる。
【００６５】
フローチャート150において，位置決めステップ152は実質的にステップ102と同じである（図５）。
【００６６】
最初の照射ステップ154は実質的にステップ104と同じである。しかしながら，一度に一つのミラーのみが較正されるので，各較正に用いられるマークの数を非常に多くの数とすることができる。たとえば，第１の較正モードにおいて上記した例示に用いられた５つのマークに代えて，第２の較正モードにおいて用いられる典型的なマークの数はほぼ１００である。
【００６７】
置換ステップ156において，処理ユニット36はテーブル42を移動してターゲット40をセンサ44の視野内にもたらし，かつ処理ユニット36はセンサ44を用いてターゲット40およびそのマークの画像を取得する。
【００６８】
消去ステップ158において，処理ユニット36は熱電クーラ68（図２Ｂ）を作動して，上記ターゲットを十分に温め，ステップ154で作成されたマークを消去する。マークが消去されると，処理ユニットは典型的にはＴＥＣ68を作動して上記ターゲットを冷却し，上述したように，後続の照射によってマークされるべき状態にする。
【００６９】
決定ステップ160において，処理ユニット36はすべてのミラーについて処理が完了したこと，すなわちステップ154，156および158が各ミラーに行われたかどうかをチェックする。
【００７０】
すべてのミラーについての処理を終えていない場合，置換ステップ162において，処理ユニットは，テーブルをそこに取付けられたターゲット40とともに移動し，上記ターゲットを別のミラーのフィールド内にもたらし，そしてフローチャートはステップ154の始めに戻る。
【００７１】
決定ステップ160がすべてのミラーの処理が完了したことを返答すると，次に分析ステップ164において，処理ユニット36はステップ156において取得された画像のそれぞれを分析する。分析ステップ164は概略的には上述した分析ステップ114と同様である。上記分析に基づいて，処理ユニット36は，各ミラーについて，典型的には較正テーブルおよび／または較正式の形態で，各ミラーについての関係性（相関）を生成する。
【００７２】
その後フローチャート150は終了する。
【００７３】
上述の説明では，装置20によるミラー38の２つの較正モードが記述されている。第１のモードは，装置のすべてのミラーを，ミラーのフィールド（複数）およびセンサの視野間におけるターゲット40のワンパス（one pass）を用いて較正することができる。第２のモードでは，ミラーのフィールドとセンサ44の視野との間の上記ターゲットの複数回のパス（multiple passes）が必要とされる。第１の較正モードは，すべてのミラーを短時間で較正することができる。第２の較正モードは典型的には第１モードよりも時間がかかるが，第２モードによってもたらされる較正は典型的には非常に精緻である。
【００７４】
上述した２つのモードは例示であって，他のモードの較正も装置20によって実施できることは理解されよう。たとえば，ミラー38をグループに組織して，各グループのミラーを第１のモードとして上述したように実質的に較正し，しかしながら各ミラーについて例示した５つのマーク数よりも多いマークを用いる。その後，上記ターゲットが消去され，残りのミラーのグループについて第１のモードにおいて較正することができる。ミラーをグループに組織することによって，装置のオペレータは，較正の精度を所望のレベルに選択することができ，較正に要する時間を選択することができる。
【００７５】
当然のことながら，上述の実施形態は一例として挙げたものであって，この発明，上記図示および説明した内容には何ら限定されない。むしろ，この発明の範囲には，上述した様々な特徴のコンビネーションおよびサブ・コンビネーション，ならびに上記説明の解釈によって当業者が想起し得る，従来技術に開示されていない変形例および改良例が含まれる。
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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