(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置本体(1)と、
その装置本体(1)の内部で、搬送方向に離間して並列され、上下に対向する上ローラ(2)と下ローラ(3)の多数の対と、
装置本体(1)に固定されて、各下ローラ(3)の両端部を支持する一対の下ローラ支持体(4)と、
装置本体(1)に対して上下動自在に取付られ、各上ローラ(2)の両端を支持する一対の上ローラ支持体(5)と、を具備し、
被搬送用の基板が前記下ローラ(3)と上ローラ(2)との間を搬送され、
下ローラ(3)と上ローラ(2)との隙間がその基板の厚みに略整合するように、一対の各上ローラ支持体(5)が昇降手段(6a)を介し、所定高さ移動できるように構成して、全ての上ローラ(2)の両端を所定寸法昇降させ、
前記昇降手段(6a)は、
搬送方向に離間して一対の各上ローラ支持体(5)に、それぞれ取り付けた複数のカム枠(6)と、
各カム枠(6)を貫通する一対のカム軸(8)と、
各カム軸(8)に取付られて、その各カム枠(6)に摺接し、カム枠(6)を上下動させる複数のカム(7)と、を具備し、
下ローラ(3)と上ローラ(2)との隙間がその基板の厚みに略整合するように、前記一対のカム軸(8)をそれぞれ所定角度回転させて停止し、その状態を保持することにより、複数の各カム(7)、カム枠(6)、一対の上ローラ支持体(5)を介して、全ての上ローラ(2)の両端を所定寸法昇降させるように構成した基板搬送装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板搬送装置において、
前記一対のカム軸(8)を同期して所定角度回転するように構成した基板搬送装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２のいずれかに記載の基板搬送装置において、
搬送方向に直交する方向で、各下ローラ支持体(4)に並列して各上ローラ支持体(5)が配置され、その下ローラ支持体(4)にガイド(13)が上ローラ支持体(5)側へ突設され、そのガイド(13)に上ローラ支持体(5)が上下動自在に案内された基板搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プリント配線板（ＰＣＢサブプレートを含む）を基板製造装置の内部に導く基板搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板製造装置の内部は、複数の部屋に分かれ、現像室、エッチング室、剥離室、洗浄室、乾燥室等を有する。基板は、その各室を搬送装置によって移動する。その搬送装置は、上下に対向する一対のローラが搬送方向に多数並列され、その上下一対のローラに基板が挟持されて移動する。各ローラの回転軸には、樹脂材からなる多数の円板が軸線方向に定間隔に離間して配置されている。その回転軸の端部は駆動軸に伝動歯車を介して連結され、上下一対の回転軸は互いに逆向きに回転する。
次に、基板はその用途に応じその厚みが異なる。基板搬送装置は、その基板の厚みに、一定範囲で自動調整できるように形成されている。その調整は、上側ローラの軸方向の両端が、上方が開放したＵ字状のスリットに収納され、その最下端位置から上方に移動できるように形成されている。基板の厚みが厚くなると、その厚さに押されて上側ローラが上方に移動する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−６４８８４号公報
【特許文献２】特開２０１１−１１６５２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
基板の厚みが厚くなると、上側ローラを、その厚みに押されて上方に移動するようにした基板搬送装置には、次の欠点がある。
基板の厚みに応じて上下動する搬送装置は、上側ローラの自重を利用し、基板を上側ローラと下側ローラに挟持させて移動するものである。ところが、比較的基板が薄いと、ローラの自重による負荷が基板に加わり、基板にダメージを与える場合がある。そのダメージにより、不良品が生じる場合がある。
そこで、本発明は上側ローラの自重による基板のダメージを可及的に少なくする基板搬送装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
請求項１に記載の本発明は、装置本体(1)と、
その装置本体(1)の内部で、搬送方向に離間して並列され、上下に対向する上ローラ(2)と下ローラ(3)の多数の対と、
装置本体(1)に固定されて、各下ローラ(3)の両端部を支持する一対の下ローラ支持体(4)と、
装置本体(1)に対して上下動自在に取付られ、各上ローラ(2)の両端を支持する一対の上ローラ支持体(5)と、を具備し、
被搬送用の基板が前記下ローラ(3)と上ローラ(2)との間を搬送され、
下ローラ(3)と上ローラ(2)との隙間がその基板の厚みに略整合するように、一対の各上ローラ支持体(5)が昇降手段(6a)を介し、所定高さ移動できるように構成して、全ての上ローラ(2)の両端を所定寸法昇降させ、
前記昇降手段(6a)は、
搬送方向に離間して一対の各上ローラ支持体(5)に、それぞれ取り付けた複数のカム枠(6)と、
各カム枠(6)を貫通する一対のカム軸(8)と、
各カム軸(8)に取付られて、その各カム枠(6)に摺接し、カム枠(6)を上下動させる複数のカム(7)と、を具備し、
下ローラ(3)と上ローラ(2)との隙間がその基板の厚みに略整合するように、前記一対のカム軸(8)をそれぞれ所定角度回転させて停止し、その状態を保持することにより、複数の各カム(7)、カム枠(6)、一対の上ローラ支持体(5)を介して、全ての上ローラ(2)の両端を所定寸法昇降させるように構成した基板搬送装置である。
【０００７】
請求項２に記載の本発明は、請求項１に記載の基板搬送装置において、
前記一対のカム軸(8)を同期して所定角度回転するように構成した基板搬送装置である。
【０００８】
請求項３に記載の本発明は、請求項１又は請求項２のいずれかに記載の基板搬送装置において、
搬送方向に直交する方向で、各下ローラ支持体(4)に並列して各上ローラ支持体(5)が配置され、その下ローラ支持体(4)にガイド(13)が上ローラ支持体(5)側へ突設され、そのガイド(13)に上ローラ支持体(5)が上下動自在に案内された基板搬送装置である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の基板搬送装置は、装置本体１に一対の下ローラ支持体４を固定すると共に、その装置本体１に対して一対の上ローラ支持体５を上下動自在に案内し、下ローラ３と上ローラ２との隙間が基板の厚みに略整合するように、一対の各上ローラ支持体５を、昇降手段6aを介し、所定高さ移動できるように構成して、全ての上ローラ２の両端を所定寸法昇降させるものである。
その昇降手段6aとして、一対のカム軸８をそれぞれ所定角度回転させて停止し、その状態を保持することにより、複数のカム７、カム枠６、一対の上ローラ支持体５を介して、全ての上ローラ(2)の両端を所定寸法昇降させるものである。
そのため、基板に加わる上ローラの荷重を最適に設定し、搬送に伴う基板へのダメージを防止できるとともに、簡単な構造で、全ての上下のローラ２，３間の隙間を迅速に、基板の厚みに略整合させることができる。それにより、各種厚さの基板の変化に対応して、それらの搬送を迅速に行うことができる。特に、カム軸８に取付た複数のカム７と、カム枠６、一対の上ローラ支持体５を利用するため、僅かな基板の厚みの違いにも正確に且つ迅速に対応することができる。
【００１１】
上記構成に加えて、請求項２に記載のように、一対のカム軸8を互いに同期して所定角度回転するように構成した場合には、全ての上ローラ２を所定高さ同時に昇降することができ、各種厚さの基板の変化に対応して、それらの搬送を迅速に行うことができる。
【００１２】
上記構成に加えて、請求項３に記載のように、各下ローラ支持体４に並列して上ローラ支持体５を配置し、その下ローラ支持体４にガイド13を突設し、そのガイド13に上ローラ支持体５を上下動自在に案内した場合には、よりコンパクトで且つ簡単な構造で、各上ローラ２を昇降することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の基板搬送装置の要部説明図。
【図２】同横断面図であって、図３のII−II矢視断面図。
【図３】同装置の縦断面図。
【図４】同装置に用いられる上ローラ支持体５の要部正面図。
【図５】同上ローラ支持体５の上下動の説明図であって、図３のV−V矢視断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
次に、図面に基づいて本発明の実施の形態につき説明する。
本発明は、エッチング装置の内部に配置された基板搬送装置であって、図１〜図３に示すごとく、多数の上下一対の上ローラ２と下ローラ３との間に挟持されて、図示しない基板を搬送させるものである。その上ローラ２、下ローラ３は軸2b、軸3bに多数の円板2a、円板3aが軸線方向に固定されたものである。そして、本発明の特徴とするところは、上ローラ２が上ローラ支持体５に支持され、その上ローラ支持体５が昇降手段6aを介して上下動自在に配置されたことである。
【００１５】
この実施例では、昇降手段6aはカム駆動モータ10と、その回転軸に設けられたウォーム11と、それに歯合するウォームギア12と、ウォームギア12を有するカム軸８と、そのカム軸８に取り付けられたカム７と、カム７が摺接するカム枠６と、そのカム枠６が固定された上ローラ支持体５とからなる。
【００１６】
以下、より詳細に説明する。
この搬送装置は、図２に示すごとく、筐体からなる装置本体１の内部に設けられている。その装置本体１に板状の一対の下ローラ支持体４が同図に示すごとく、互いに平行に配置され、その長手方向両端が装置本体１に図１に示す如く、溶接等の手段により固定されている。各下ローラ支持体４は、上方から下方へ長方形のスリットがその長手方向に定間隔に多数配置されている。そして、各スリットに下ローラ３の軸3bの両端が下軸受15（図２）を介して回転自在に軸支されている。軸3bには、その軸線方向に定間隔に多数の樹脂製の円板3aが設けられている。軸3bの一端には、一対のヘリカルギアからなる伝動歯車14を介して、ローラ駆動軸９に連結されている。なお、上ローラ２の端部と下ローラ３の端部とは、図示しない一対の平歯車で歯合され、互いに逆向きに回転する。その歯合するかみ合い高さ以下に上ローラ２の前記昇降が行われる。
【００１７】
一対の下ローラ支持体４にはそれぞれ、装置本体１の幅方向外側に支持板13ａが突設され、その支持板13ａの端部に上ローラ支持体５が上下動自在に支持されている。
即ち、支持板13ａの端面に、図１および図３に示すごとく、この例では上下一対のボルト13ｃが固定され、そのボルト13ｃの軸部が上ローラ支持体５のガイド孔20を貫通する。このガイド孔20は上下方向に長軸の長円形を有し、それに上下一対のボルト13cが貫通する。そのボルト13ｃの軸部がガイド板13bを貫通し、ボルト13cの頭部の内側に、ガイド板13ｂが保持され、そのガイド板13ｂと支持板13ａの端面とで上ローラ支持体５を挟持する。そして、その支持板13ａとガイド板13ｂとボルト13ｃとでガイド13を形成し、それによって上ローラ支持体５を上下動自在に支持している。
【００１８】
その上ローラ支持体５は、図１に示すごとく、その上端面から細長い多数のスリットがその長手方向に定間隔に離間して配置されている。その配置のピッチは、下ローラ支持体４のそれに整合する。各スリットは、その下部に首部を有し、その首部の下方に円形の軸受支持部が形成されている。そして、その軸受支持部に下ローラ３の軸3bが遊嵌されている。スリットの首部の上側には、方形口が形成され、それに上ローラ２の軸2bが上軸受16を介して回転自在に軸支されている。上ローラ支持体５には、その外面側に図１，図５に示すごとく、複数の矩形のカム枠６の一端が固定されている。そして、そのカム枠６にカム軸８が貫通され、カム軸８にカム７が固定され、その外面がカム枠６内面に摺接する。
【００１９】
カム７は、その外周が図５に示すごとく、多角形に形成され、回転角θ（この例では15度）ごとにその半径が異なる。この例では、一例として、基点である０度において、軸心からの半径が22.0ｍｍであり、回転角θが15度変るごとにカム軸８の軸心からの半径が0.1ｍｍ小さくなり、285度の位置でその半径は20.1ｍｍになり、基点から1.9ｍｍ減少する。次いで、300度において、半径が大きくなり、一例として300度では、20.8ｍｍとなり、315度では21.0ｍｍとなり、330度では21.5ｍｍ、345度では22.0ｍｍとなり、その半径のまま起点０に戻る。
【００２０】
そこで、カム軸８を15度回転するごとに上ローラ支持体５を0.1ｍｍづつ下降することができる。その０度である基点の検出のため、カム軸８の端部には図３に示すごとく、その基点位置に起点凸部18が突設され、それに対向し、起点検出器17が配置されている。この起点検出器17は、装置本体１にブラケット23を介して設けられ、その入力信号が図示しない制御装置に入力される。
【００２１】
次に、カム軸８には、図１に示すごとく、その外周にウォームギア12が固定され、そのウォームギア12にウォーム11が歯合され、そのウォーム11がカム駆動モータ10の軸に固定されている。そして、このカム駆動モータ10、ウォーム11、ウォームギア12、カム枠６、カム７、上ローラ支持体５とにより、昇降手段6aを構成する。
装置本体１の内部には、その搬送方向の上流側からエッチング室と洗浄室と乾燥室とが存在し、エッチング室および洗浄室には図３に示すごとく、多数のノズル19が搬送方向に定間隔に配置されている。そのノズル19は、搬送される基板に上方および下方から液体を供給する。
【００２２】
（作用）
基板搬送装置の各要素である上ローラ２と下ローラ３は、図３に示すごとく、上下方向に対向し多数並列されている。下ローラ３は、その円板3aの位置が常に一定である。上ローラ２はその円板2aが昇降手段6a、上ローラ支持体５を介して上下動自在に配置されている。
図示しない制御装置に、上ローラ２と下ローラ３のクリアランスが入力され、それに応じて昇降手段6aが起動する。即ち、上ローラ２と下ローラ３との間隔が基板の厚みに略整合するように、カム駆動モータ10が駆動される。その回転は、ウォーム11、ウォームギア12、カム軸８、カム７、カム枠６を介して、上ローラ支持体５を昇降させる。
【００２３】
例えば、搬送される基板の厚みが従前のものより、0.1ｍｍ薄い場合には、カム７が15度回転し、その位置で停止する。それにより、上ローラ支持体５が0.1ｍｍ下降する。それにより、上ローラ２と下ローラ３との隙間が0.1ｍｍ縮小する。なお、上ローラ２はその両端が一対の上ローラ支持体５にそれぞれ上軸受16を介して軸支され、各上ローラ支持体５が昇降手段6aを介して昇降する。
【００２４】
なお、基点位置では、上ローラ２と下ローラ３との間隔が最も広い。基板がその厚み以下の場合に、本装置の昇降手段6aが起動される。上ローラ２と下ローラ３との間隔が最も広い以上に、基板の厚みが厚い場合には、その厚みに押されて、上ローラ支持体５の両端がスリット内を上昇する。
【符号の説明】
【００２５】
１  装置本体
２  上ローラ
2a  円板
2b  軸
３  下ローラ
3a  円板
3b  軸
４  下ローラ支持体
５  上ローラ支持体
６  カム枠
6a  昇降手段
【００２６】
７  カム
８  カム軸
９  ローラ駆動軸
10  カム駆動モータ
11  ウォーム
12  ウォームギア
13  ガイド
13a 支持板
13b ガイド板
13c ボルト
【００２７】
14  伝動歯車
15  下軸受
16  上軸受
17  起点検出器
18  起点凸部
19  ノズル
20  ガイド孔
21  下ローラ貫通部
22  上ローラ貫通部
23  ブラケット
【要約】
【課題】  上下一対の上ローラ２、下ローラ３に挟持されて基板を搬送する搬送装置において、上ローラ２の自重により、基板にダメージを与えることのない搬送装置の提供。
【解決手段】  下ローラ３の軸3bを固定し、上ローラ２の軸2bを昇降手段6aを介して、上下動自在に支持する。
【選択図】        図１【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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