(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（２）で表されるヒドラジン化合物と下記一般式（３）で表される酸ハロゲン化物を反応溶媒中で反応して得られる下記一般式（４）で表される１，２，４−トリアゾロ［３，４−ｂ］−１，３，４−チアジアジン系化合物の製造方法において、該反応溶媒の沸点が１３１℃以上、３００℃以下であり、該反応溶媒が、炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒、エステル系溶媒、スルホン系溶媒、エーテル系溶媒及びアミド系溶媒から選ばれることを特徴とする１，２，４−トリアゾロ［３，４−ｂ］−１，３，４−チアジアジン系化合物の製造方法。
【化１】
0005596314.tif 000014
（式中、Ｒ３は置換基を有してもよい、アルキル基またはシクロアルキル基を表し、Ｒ４は置換基を有してもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、複素環基またはハロゲン化アルキル基を表し、Ａは酸を表し、ｎは０から３の整数を表し、Ｘはハロゲン原子を表す。）
【請求項２】
前記反応溶媒の沸点が１７０℃以上、３００℃以下であることを特徴とする請求項１に記載の１，２，４−トリアゾロ［３，４−ｂ］−１，３，４−チアジアジン系化合物の製造方法。
【請求項３】
前記一般式（４）において、Ｒ４で表される基がアリール基または複素環基であることを特徴とする請求項１に記載の１，２，４−トリアゾロ［３，４−ｂ］−１，３，４−チアジアジン系化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、チアジアジン系化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
１，２，４−トリアゾロ［３，４−ｂ］−１，３，４−チアジアジン系化合物は、写真用カプラーや染料中間体、あるいは有機合成における中間体として広く用いられる、１Ｈ−ピラゾロ［３，２−ｃ］−１，２，４−トリアゾール系化合物の中間体として有用な化合物である。
【０００３】
前記トリアゾール系化合物は従来説明された一般的合成法に記載された方法により、合成することができる（例えば、非特許文献１、特許文献１〜３参照）。しかしながら、第３級アルキル基やアリール基、複素環基に代表される立体障害の大きい置換基を有する前記トリアゾール系化合物の合成にこれらの方法を適用した場合、収率が低下してしまうという問題点を有していた。
【０００４】
そこで、３位及び６位に第３級アルキル基を有する１，２，４−トリアゾロ［３，４−ｂ］−１，３，４−チアジアジン系化合物の製造方法として、アセトニトリル中でヒドラジン化合物をアシル化して反応中間体のヒドラジド化合物を得た後、アセトニトリルを減圧留去して、トルエンと酸化合物を加えて加熱還流して閉環する製造方法（例えば、特許文献４参照）や、ヒドラジンと酸化合物を沸点が１３０℃以下の有機溶媒中で加熱還流してアシル化後、閉環する製造方法（例えば、特許文献５、６参照）等が提案された。
【０００５】
しかし、これらの方法では、原料や反応中間体のヒドラジド化合物の溶解性が低いため反応性が著しく低下し、また懸濁状態である上に反応時に発生する塩酸ガス等の影響で突沸や液面上昇の危険性が高く、特に製造適性に問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許第４，５４０，６５４号明細書
【特許文献２】特開昭６１−２６００８５号公報
【特許文献３】特開昭６３−２３１３４１号公報
【特許文献４】特開平７−１７５１８６号公報
【特許文献５】特開２０００−１４３６６４号公報
【特許文献６】特開２００２−１９３９６８号公報
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】リサーチ・ディスクロージャー（Ｒｅｓｅａｒｃｈ  Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ）１９７４年８月、Ｎｏ．１２４４３
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の課題は、写真用カプラーや染料中間体、あるいは有機合成における中間体として有用な１，２，４−トリアゾロ［３，４−ｂ］−１，３，４−チアジアジン系化合物を高収率で製造する新規な方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の上記課題は、下記項目の各々により達成される。
【００１０】
１．下記一般式（２）で表されるヒドラジン化合物と下記一般式（３）で表される酸ハロゲン化物を反応溶媒中で反応して得られる下記一般式（４）で表される１，２，４−トリアゾロ［３，４−ｂ］−１，３，４−チアジアジン系化合物の製造方法において、該反応溶媒の沸点が１３１℃以上、３００℃以下であり、該反応溶媒が、炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒、エステル系溶媒、スルホン系溶媒、エーテル系溶媒及びアミド系溶媒から選ばれることを特徴とする１，２，４−トリアゾロ［３，４−ｂ］−１，３，４−チアジアジン系化合物の製造方法。
【００１１】
【化１】
0005596314.tif 000002
【００１２】
（式中、Ｒ３は置換基を有してもよい、アルキル基またはシクロアルキル基を表し、Ｒ４は置換基を有してもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、複素環基またはハロゲン化アルキル基を表し、Ａは酸を表し、ｎは０から３の整数を表し、Ｘはハロゲン原子を表す。）
２．前記反応溶媒の沸点が１７０℃以上、３００℃以下であることを特徴とする前記１に記載の１，２，４−トリアゾロ［３，４−ｂ］−１，３，４−チアジアジン系化合物の製造方法。
【００１６】
３．前記一般式（４）において、Ｒ４で表される基がアリール基または複素環基であることを特徴とする前記１に記載の１，２，４−トリアゾロ［３，４−ｂ］−１，３，４−チアジアジン系化合物の製造方法。
【発明の効果】
【００１７】
本発明により、写真用カプラーや染料中間体、あるいは有機合成における中間体として有用な１，２，４−トリアゾロ［３，４−ｂ］−１，３，４−チアジアジン系化合物を高収率で製造する新規な方法を提供することができた。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下本発明の詳細について説明する。
【００１９】
まず、本発明に係る化合物の構造について説明する。
【００２０】
一般式（１）において、Ｒ１は水素原子、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基）、複素環基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基）、スルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基）、アシル基（例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基）、アシルアミノ基（例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、２−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、トリフルオロメチルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基）、アリールスルホニル基（例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基）、シアノ基、ハロゲン化アルキル基（例えば、フッ化メチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、トリクロロメチル基、パーフルオロプロピル基）を表す。
【００２１】
Ｒ１は更に置換基を有していてもよく、該置換基としてはＲ１で挙げた置換基の他、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基）、アルキニル基（例えば、エチニル基、プロパルギル基）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基）、シクロアルコキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基）、シクロアルキルチオ基（例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基）、スルホニルアミノ基（例えば、メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニルアミノ基、ヘキシルスルホニルアミノ基、デシルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基）、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基）、スルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、２−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、２−ピリジルスルフィニル基）、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基）、ニトロ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子）等が挙げられる。
【００２２】
Ｒ２はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ハロゲン化アルキル基を表し、具体的にはそれぞれ上記Ｒ１と同義のものである。Ｒ２は更に置換基を有していてもよく、該置換基としては、Ｒ１で表される各基に置換可能な基として挙げたのと同様の基が挙げられる。
【００２３】
Ｒ２のうち、特にアリール基、複素環基では反応性が向上し、従来公知の方法よりも大幅に反応時間を短縮することが可能である。
【００２４】
一般式（２）、（４）において、Ｒ３はアルキル基、シクロアルキル基を表し、具体的には一般式（１）のＲ１と同義のものが挙げられる。Ｒ４はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ハロゲン化アルキル基を表し、具体的には一般式（１）のＲ２と同義のものが挙げられる。
【００２５】
一般式（２）において、Ａは酸を表す。酸としては、一般式（２）で表される化合物が塩を形成できるものであれば何でもよく、具体例としては、塩酸、臭化水素酸等のハロゲン化水素酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ピクリン酸、フッ化ホウ素酸、過塩素酸等が挙げられる。これらのうち、塩酸、臭化水素酸が好ましく、更に好ましくは塩酸である。ｎは０〜３の整数を表し、好ましくはｎは１である。一般式（３）においてＸはハロゲン原子を表し、好ましくは塩素原子である。
【００２６】
以下に一般式（１）、（４）で表される化合物の代表的具体例を示すが、本発明はこれに限定されない。
【００２７】
【化３】
0005596314.tif 000003
【００２８】
【化４】
0005596314.tif 000004
【００２９】
【化５】
0005596314.tif 000005
【００３０】
【化６】
0005596314.tif 000006
【００３１】
【化７】
0005596314.tif 000007
【００３２】
以下に一般式（２）で表される化合物の代表的具体例を示す。
【００３３】
【化８】
0005596314.tif 000008
【００３４】
【化９】
0005596314.tif 000009
【００３５】
以下に一般式（３）で表される化合物の代表的具体例を示す。
【００３６】
【化１０】
0005596314.tif 000010
【００３７】
【化１１】
0005596314.tif 000011
【００３８】
次に本発明に用いられる反応溶媒について説明する。
【００３９】
本発明の一般式（１）の製造方法において、反応溶媒として、沸点が常圧で１３１℃以上、３００℃以下の有機溶媒が用いられる。
【００４０】
該当する溶媒は炭化水素系溶媒としては、例えば、ｐ−キシレン（沸点１３８℃）、ｍ−キシレン（沸点１３９℃）、ｏ−キシレン（沸点１４４℃）、メシチレン（沸点１６５℃）、シュードクメン（１，２，４−トリメチルベンゼン）（沸点１６９℃）、デカン（沸点１７４℃）、テトラリン（沸点２０７℃）、ドデカン（沸点２１５℃）、テトラデカン（沸点２５４℃）、ヘキサデカン（沸点２８７℃）等が挙げられる。
【００４１】
ハロゲン系溶媒としては、例えば、クロロベンゼン（沸点１３２℃）、１，４−ジクロロブタン（沸点１５５℃）、１，３−ジクロロベンゼン（沸点１７２℃）、１，２−ジクロロベンゼン（沸点１８０℃）、１，２，４−トリクロロベンゼン（沸点２１３℃）、等が挙げられる。
【００４２】
アルコール系溶媒としては、例えば、１−ヘキサノール（沸点１５７℃）、シクロヘキサノール（沸点１６１℃）、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（沸点１８８℃）、１−オクタノール（沸点１９４℃）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（沸点１９４℃）、エチレングリコール（沸点１９８℃）、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（沸点２３０℃）、エチレングリコールモノフェニルエーテル（沸点２４５℃）、トリエチレングリコールモノメチルエーテル（沸点２４９℃）等が挙げられる。
【００４３】
スルホキシド系溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）（沸点１８９℃）、テトラメチレンスルホキシド（沸点２３５−２３７℃）等が挙げられる。
【００４４】
ニトリル系溶媒としては、例えば、ヘキサンニトリル（沸点１６０℃）、ベンゾニトリル（沸点１８８−１９１℃）、オクタンニトリル（沸点２００℃）、デカンニトリル（沸点２３７℃）等が挙げられる。
【００４５】
ケトン系溶媒としては、例えば、ジプロピルケトン（沸点１４３℃）、シクロヘキサノン（沸点１５６℃）、ジイソブチルケトン（沸点１６８℃）、メチルヘキシルケトン（沸点１７３℃）、アセトフェノン（沸点２０２℃）、メチルオクチルケトン（沸点２１１℃）、ブチロフェノン（沸点２２０−２２２℃）、ベンジルエチルケトン（沸点２２６℃）、ベンジルアセトン（沸点２３５−２３７℃）等が挙げられる。
【００４６】
エステル系溶媒としては、例えば、吉草酸エチル（沸点１４６℃）、酢酸ペンチル（沸点１４９℃）、酢酸ヘキシル（沸点１７１℃）、安息香酸メチル（沸点２００℃）、安息香酸エチル（沸点２１３℃）等が挙げられる。
【００４７】
スルホン系溶媒としては、例えば、ジプロピルスルホン（沸点２７０℃）、スルホラン（沸点２８５℃）、ジブチルスルホン（沸点２８７−２９５℃）等が挙げられる。
【００４８】
エーテル系溶媒としては、例えば、ジブチルエーテル（沸点１４２℃）、アニソール（沸点１５４℃）、ジエチレングリコールジメチルエーテル（沸点１６２℃）、ジプロピレングリコールジメチルエーテル（沸点１７１℃）、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル（沸点１７６℃）、アミルエーテル（沸点１８６℃）、ジヘキシルエーテル（沸点１８６℃）、ジエチレングリコールジエチルエーテル（沸点１８９℃）、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル（沸点２１２℃）、トリプロピレングリコールジメチルエーテル（沸点２１５℃）、トリエチレングリコールジメチルエーテル（沸点２１６℃）、ジエチレングリコールジブチルエーテル（沸点２５６℃）、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル（沸点２６１℃）、ジオクチルエーテル（沸点２８６℃）等が挙げられる。
【００４９】
アミド系溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（沸点１５３℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）（沸点１６５℃）、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド（沸点１７７℃）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）（沸点２０２℃）、ホルムアミド（沸点２１０℃）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）（沸点２２５℃）、ヘキサメチルリン酸トリアミド（ＨＭＰＡ）（沸点２３２℃）等が挙げられる。
【００５０】
これらのうち、原料や反応中間体の溶解性の点で好ましくは沸点が１７０℃以上、３００℃以下の溶媒であり、より好ましくは１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、スルホランである。
【００５１】
本発明の反応に用いる反応溶媒の使用量は、一般式（１）、（４）で表されるチアジアジン化合物の理論収量に対して好ましくは０．０５〜２０倍であり、より好ましくは０．１〜１０倍である。
【００５２】
本発明の前記一般式（１）、（４）で表される化合物の製造方法として、好ましくは前記一般式（２）で表されるヒドラジン化合物と前記一般式（３）で表される酸ハロゲン化物を用いる方法が好ましい。
【００５３】
前記一般式（３）で表される酸ハロゲン化物の使用量は、前記一般式（２）で表されるヒドラジン化合物に対し０．１〜２０当量が好ましく、より好ましくは０．２〜５．０当量であり、特に好ましくは０．５〜３．０当量である。
【００５４】
次に反応温度について説明する。本発明の反応では、まずヒドラジン化合物と酸ハロゲン化物が反応して一般式（５）で表される中間体のアシル化合物を生成し、更にワンポットで一般式（５）が脱水閉環して一般式（４）で表される化合物が生成する。
【００５５】
【化１２】
0005596314.tif 000012
【００５６】
第一のアシル化は、使用する溶媒の融点以上沸点以下の任意の温度で実施することが可能であるが、第二の閉環は高温でないと進行しない。
【００５７】
低温では原料及び中間体の溶解度が著しく低下し、還流温度では溶媒の沸騰に加えて、反応で発生する塩酸等のハロゲン化水素ガスの影響により、反応液中から激しく発泡が起こり、反応液面が上昇して反応容器外へ噴出してしまう可能性が高い、及び原料や生成物の分解が生じるという理由により、本発明の反応は室温以上反応液の還流温度より低い温度で実施することが好ましい。
【００５８】
具体的には３０℃以上、１１０℃以下で実施することが好ましい。なお、高温では一般式（２）のヒドラジン化合物が分解しやすいため、第一のアシル化は５０℃以下で反応し、高速液体クロマトグラフィー等で原料のヒドラジン化合物が検出されなくなってから、反応温度を更に上げて閉環を完結させると収率の点でより好ましい。
【００５９】
本発明における反応は冷却管を設置すれば常圧で実施してもよく、発生するハロゲン化水素ガスを反応系外から効率良く除去するために、系内をわずかに減圧状態にして実施してもよい。
【００６０】
また、反応を加速するために、一般式（２）におけるＡで表される酸と同様の酸を別途添加してもよい。酸として好ましくは、塩酸、臭化水素酸、硫酸、トルエンスルホン酸であり、より好ましくは塩酸である。酸は一般式（２）で表されるヒドラジン化合物に対し０．０１〜１００当量用いることが好ましく、好ましくは０．１〜１０当量であり、特に好ましくは０．５〜５当量である。
【実施例】
【００６１】
以下、本発明の具体的実施例を記載するが、本発明の実施態様はこれらに限定されない。
【００６２】
実施例１（化合物（２３）の合成）
化合物（（２）−１）２２．３ｇ（０．１ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）６７ｍｌを３００ｍｌ４頭フラスコ中で室温下撹拌しながら、滴下ロートを用いて化合物（（３）−２５）１８．７６ｇ（０．１１ｍｏｌ）を３０分かけて滴下した。滴下中に固体は完溶した。滴下終了後、反応液を内温１００℃に上げて加熱撹拌した。加熱中の反応溶液は特に発泡や液面上昇は見られず、スムーズに反応を実施することができた。
【００６３】
反応終了は反応液を高速液体クロマトグラフィーにより分析し、反応中間体が検出されなくなった時点とした。反応終了後、放冷し、３０℃以下になったところで１２．５％水酸化ナトリウム水溶液７３．０ｇを加え、３０分撹拌した。析出した結晶をろ過し、トルエン及び水で洗浄後乾燥し、化合物（２３）２８．５ｇを得た（収率９４％）。生成物の構造はＭＡＳＳ及びＮＭＲスペクトルで確認した。
【００６４】
実施例２〜１７
実施例１において、原料、反応溶媒、反応時間を表１の通りに変更した以外は、実施例１と同様の操作を実施した。生成物と収率、加熱中の反応液の状態は表１の通りである。
【００６５】
なお、加熱中の反応液の状態の評価方法は以下の通りである。
【００６６】
Ａ：突沸、液面状態変化なし
Ｂ：発泡、突沸が起こるが、反応に支障なし
Ｃ：発泡、突沸が激しく液面上昇、反応液が噴出しそうになり、反応を中断せざるを得なくなる。
【００６７】
実施例１８
実施例１において、反応溶媒をキシレンとし、反応液の加熱温度を還流温度（内温１３８℃）に変更した以外は、実施例１と同様の操作を行った。原料、生成物と収率、加熱中の反応液の状態は表１の通りである。
【００６８】
実施例１９、２０
実施例１において、滴下ロートで酸ハロゲン化物を３０分かけて滴下するまでは実施例１と同様の操作を行った。滴下終了後、反応液を４５〜５０℃で加熱撹拌し、反応液を高速液体クロマトグラフィーにより分析して、原料の化合物（（２）−１）が検出されなくなったことを確認してから反応液の内温を１００℃に上げて、更に加熱撹拌した。反応終了後は実施例１と同様の操作を行った。原料、生成物と反応時間、収率、加熱中の反応液の状態は表１の通りである。
【００６９】
比較例１
実施例１において、アセトニトリルを反応溶媒として、反応温度を還流温度（内温７８−７９℃）とした以外は実施例１と同様の操作を行った。但し、化合物（（３）−２５）滴下後、反応温度を還流温度（７８〜７９℃）まで上げたところ、反応液が析出と発泡により突沸し、冷却管の途中まで反応液面が上昇してしまい、これ以上の液面上昇を防ぐために還流温度より１〜２℃下げて発泡を抑えて反応を行わざるを得なくなった。
【００７０】
反応が進んで、固体の析出量が減少した約４時間後より還流温度まで加熱しても発泡しなくなった。還流再開以降、反応完結まで８時間加熱還流した。反応終了後は実施例１と同様の操作を行い、化合物（２３）２４．２ｇを得た（収率８０％）。
【００７１】
比較例２、３
実施例１においてトルエンを反応溶媒とし、反応温度を還流温度（内温約１１３℃）とした他は実施例１と同様の反応を行ったが、８時間反応を行っても反応液の高速液体クロマトグラフィーによる分析において、一般式（５）に相当する反応中間体及び目的物は各々単面１％以下の検出率であり、反応は進行しなかった。
【００７２】
比較例４、５
比較例２において原料を表１の通りに変更した以外は、比較例２と同様の操作を実施した。但し、滴下終了後、加熱を開始したところ還流温度に達する前に激しく発泡し、還流反応終了まで発泡が続いた。比較例５においては、酸性条件で加熱しているため、化合物（５）と（６）の混合物として得られた。
【００７３】
比較例６
比較例５において、反応温度を１００℃に変更した以外は、比較例５と同様の操作を実施した。発泡はやや抑えられて反応液面が上昇することはなかったが、反応完結までに７時間を要し、収率も８５％に低下した。
【００７４】
実施した反応の結果を下表に示す。
【００７５】
【表１】
0005596314.tif 000013
【００７６】
表１の通り、沸点が１３１℃以上の溶媒を用いて実施した本発明の反応では、突沸が抑えられ、液面上昇や反応液噴出が見られず製造適性があり、短時間、高収率で目的の１，２，４−トリアゾロ［３，４−ｂ］−１，３，４−チアジアジン系化合物を得ることができた。