(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
延伸されたハードコート用基材フィルムであって、総アシル基置換度が２．８０〜２．９５の範囲であり、かつ下記の二種類の化合物を含むセルロースエステルを含有することを特徴とするハードコート用基材フィルム。
化合物（１）：分子内にヒドロキシ基を有さないアクリルモノマーＡとヒドロキシ基を有するアクリルモノマーＢとの共重合体であり、その重量平均分子量が３０，０００超２５０，０００以下である。
化合物（２）：分子内にヒドロキシ基を有さないアクリルモノマーＣの重合体であり、重量平均分子量が３００〜３０００の範囲内である。
【請求項２】
前記ハードコート用基材フィルムの幅手方向の動的粘弾性を２５〜２００℃の範囲で１Ｈｚにて測定したときに得られる動的粘弾性損失正接の最大値ｔａｎδｍａｘが、０．８５〜１．００の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載のハードコート用基材フィルム。
【請求項３】
前記化合物（１）を構成するアクリルモノマーＡとアクリルモノマーＢとのモル比が、９７：３〜８５：１５の範囲内であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のハードコート用基材フィルム。
【請求項４】
芳香族基を末端に有するポリエステルを含有していることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載のハードコート用基材フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、適切な光学性能を維持しながら、表面加工適性（硬度、密着性）に優れたハードコート用基材フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
昨今、自動車搭載用の液晶ディスプレイ、大型液晶テレビのディスプレイ、携帯電話、ノートパソコン等の普及から液晶表示装置（以下「ＬＣＤ」ともいう。）の需要が旺盛である。このようなＬＣＤには、偏光フィルムや位相差フィルムなどの基材フィルムが使用されている。【０００３】
ＬＣＤの需要が増加し、これに合わせ使用される偏光板についても薄膜化、軽量化、高生産化が要望されている。さらに、ＬＣＤの大画面化に伴い、部材としての偏光板保護フィルム、位相差フィルム等の基材フィルムも薄膜化、広面積化が求められている。【０００４】
偏光板保護フィルムとしては、表面の硬度向上及び低コスト化のため総アシル基置換度が２．８０〜２．９５である所謂トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムが使用されることが多い。しかしながら、薄膜化したＴＡＣの偏光板保護フィルムを液晶表示装置の最表面に使用した場合、ハードコート層を設けた後、経時でハードコート層の膜剥がれを生じやすいという問題があった。【０００５】
このような問題を解決する手段として、エチレン性不飽和ポリマーや芳香族末端ポリマーによりハードコート用基材フィルムを改質する技術が提案されている（例えば特許文献１参照。）しかしながら、このようなポリマーを添加した場合には解決手段としては、必ずしも十分ではなく、偏光子との密着性は良いが、ハードコート層との密着性改良が不十分であったり、硬度が低下するという問題があり、更なる改良が望まれている。【０００６】
また、硬度については、延伸する事により向上するが、延伸を行うことによりヘイズも上昇するため、硬度とヘイズを同時に改良することは困難であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００７−３９１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記問題・状況にかんがみてなされたものであり、その解決課題は、表面加工適性（偏光子及びハードコート層との密着性）に優れ、かつ硬度やヘイズの劣化が少ないハードコート用基材フィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。【００１０】
１．延伸されたハードコート用基材フィルムであって、総アシル基置換度が２．８０〜２．９５の範囲であり、かつ下記の二種類の化合物を含むセルロースエステルを含有することを特徴とするハードコート用基材フィルム。
化合物（１）：分子内にヒドロキシ基を有さないアクリルモノマーＡとヒドロキシ基を有するアクリルモノマーＢとの共重合体であり、その重量平均分子量が３０，０００超２５０，０００以下である。
化合物（２）：分子内にヒドロキシ基を有さないアクリルモノマーＣの重合体であり、重量平均分子量が３００〜３０００の範囲内である。【００１１】
２．前記ハードコート用基材フィルムの幅手方向の動的粘弾性を２５〜２００℃の範囲で１Ｈｚにて測定したときに得られる動的粘弾性損失正接の最大値ｔａｎδｍａｘが、０．８５〜１．００の範囲内であることを特徴とする前記第１項に記載のハードコート用基材フィルム。【００１２】
３．前記化合物（１）を構成するアクリルモノマーＡとアクリルモノマーＢとのモル比が、９７：３〜８５：１５の範囲内であることを特徴とする前記第１項又は第２項に記載のハードコート用基材フィルム。【００１３】
４．芳香族基を末端に有するポリエステルを含有していることを特徴とする前記第１項から第３項までのいずれか一項に記載のハードコート用基材フィルム。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の上記手段により、適切な光学性能を維持しながら、表面加工適性（硬度、密着性）に優れたハードコート用基材フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明のハードコート用基材フィルムの製造方法を示すフローシート
【図２】スライドガラス上にグリセリンを滴下した状態を示す模式図
【図３】グリセリン上に試料フィルムを置いた状態を示す模式図
【図４】試料フィルム上にグリセリンを滴下した状態を示す模式図
【図５】グリセリン上にカバーガラスを置いた状態を示す模式図
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明のハードコート用基材フィルムは、延伸されたハードコート用基材フィルムであって、総アシル基置換度が２．８０〜２．９５の範囲であり、かつ前記の二種類の化合物（化合物（１）及び化合物（２））を含むセルロースエステルを含有することを特徴とする。この特徴は、請求項１から請求項４までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００１７】
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記ハードコート用基材フィルムの幅手方向の動的粘弾性を２５〜２００℃の範囲で１Ｈｚにて測定したときに得られる動的粘弾性損失正接の最大値ｔａｎδｍａｘが、０．８５〜１．００の範囲内であることが好ましい。また、前記化合物（１）を構成するアクリルモノマーＡとアクリルモノマーＢとのモル比が、８５：１５の範囲内であることが好ましい。さらに、本発明のハードコート用基材フィルム芳香族基を末端に有するポリエステルを含有していることが好ましい。
【００１８】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態について詳細な説明をする。
【００１９】
（本発明のハードコート用基材フィルムの概要）
本発明のハードコート用基材フィルムは、延伸されたハードコート用基材フィルムであって、総アシル基置換度が２．８０〜２．９５の範囲であり、かつ下記の二種類の化合物を含むセルロースエステルを含有することを特徴とする。
化合物（１）：分子内にヒドロキシ基を有さないアクリルモノマーＡとヒドロキシ基を有するアクリルモノマーＢとの共重合体であり、その重量平均分子量が３０，０００超２５０，０００以下である。好ましい重量平均分子量は、４０，０００超２３０，０００以下である。
化合物（２）：分子内にヒドロキシ基を有さないアクリルモノマーＣの重合体であり、重量平均分子量が３００〜３０００の範囲内である。
【００２０】
本発明のハードコート用基材フィルムは、上記特徴を有することにより、適切な光学性能を維持しながら、優れた表面加工適性（硬度、密着性）を発現する。
【００２１】
当該優れた表面加工適性は、延伸により分子同士の相溶性と分子の配向性が改善されることで発現できると考えられる。すなわち、アクリル樹脂単独では、透明性が高いが脆いという欠点があるところ、セルロースエステルと混合することで脆性は改善される。また、化合物（１）のヒドロキシ基が延伸時にセルロースエステルと相互作用することにより分子同士が適切に配向し、低分子量の化合物（２）が相溶性を保つことによりヘイズ上昇を抑えていると考えられる。
【００２２】
本発明においては、本発明のハードコート用基材フィルムの幅手方向の動的粘弾性を２５〜２００℃の範囲で１Ｈｚにて測定したときに得られる動的粘弾性損失正接ｔａｎδ（＝損失弾性率／貯蔵弾性率）の最大値ｔａｎδｍａｘが、０．８５〜１．００の範囲内であるように調整されていることが好ましい。
【００２３】
当該ｔａｎδｍａｘを所定の範囲内に制御する方法としては、前記化合物（１）と化合物（２）の含有率及び延伸率を調整することで行うことができる。
【００２４】
なお、本発明においては、下記条件で動的粘弾性を測定した。なお、試料はあらかじめ２３℃５５％ＲＨの雰囲気下２４時間調湿したものを使用し、湿度５５％ＲＨ、下記条件で昇温させながら測定した。
【００２５】
測定装置：ティーエイインスツルメント社製  ＲＳＡIII
試料：幅５ｍｍ、長さ５０ｍｍ（ギャップ２０ｍｍに設定）
測定条件：引張モード
測定温度：２５〜２００℃
昇温条件：５℃／ｍｉｎ
周波数：１Ｈｚ
本発明において、延伸の条件としては、延伸温度は１５０〜１７０℃、延伸倍率は１．２〜１．５倍であることが好ましい。
【００２６】
＜セルロースエステル＞
本発明のハードコート用基材フィルムは、総アシル基置換度が２．８０〜２．９５の範囲であるセルロースエステルを含有することを特徴とする。
【００２７】
本発明に用いるセルロースエステルは、数平均分子量が、１２５０００〜１５５０００の範囲内であることが好ましい。
【００２８】
なお、アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。
【００２９】
本発明に係るセルロースエステルは、アセチル基置換度が２．８０〜２．９５の範囲内であることが好ましく、さらに、２．８４〜２．９４の範囲内であることが好ましい。
【００３０】
数平均分子量（Ｍｎ）は、１２５０００〜１５５０００であり、１２９０００〜１５２０００であることが好ましい。
【００３１】
さらに、重量平均分子量（Ｍｗ）は、２６５０００〜３１００００の範囲内であることが好ましい。また、Ｍｗ／Ｍｎは、１．９〜２．１であることが好ましい。
【００３２】
本発明に係るセルロースエステルの平均分子量（Ｍｎ、Ｍｗ）及び分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。測定条件は以下の通りである。
【００３３】
溶媒：      メチレンクロライド
カラム：    Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：  ０．１質量％
検出器：    ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：    Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：      １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：  標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝２，８００，０００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
【００３４】
本発明に係るセルロースエステルは、特開平１０−４５８０４号、特開２００５−２８１６４５号公報に記載の方法を参考にして合成することができる。
【００３５】
また、セルロースエステルは、セルロースエステル中の微量金属成分は、鉄（Ｆｅ）成分については、１ｐｐｍ以下であることが好ましい。カルシウム（Ｃａ）成分は６０ｐｐｍ以下、好ましくは０〜３０ｐｐｍである。マグネシウム（Ｍｇ）成分については、０〜７０ｐｐｍであることが好ましく、特に０〜２０ｐｐｍであることが好ましい。鉄（Ｆｅ）分の含量、カルシウム（Ｃａ）分含量、マグネシウム（Ｍｇ）分含量等の金属成分は、絶乾したセルロースエステルをマイクロダイジェスト湿式分解装置（硫硝酸分解）、アルカリ溶融で前処理を行った後、ＩＣＰ−ＡＥＳ（誘導結合プラズマ発光分光分析装置）を用いて分析することができる。
【００３６】
本発明に係るセルロースエステルには、本発明の性能を妨げない範囲（１０質量％以下）で、例えば、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステルを混合してもよい。
【００３７】
更に、置換基をグラフト重合させたセルロースを全セルロースエステル中に２％〜２０％混合、もしくは、全酢綿の平均置換度が２．７５〜２．８５となるようにセルロースジアセテートを混合することは、高リターデーション化及び、延伸後のフィルムの脆性劣化を防ぐ上で、好ましい。
【００３８】
置換基をグラフト重合させたセルロースとしては、下記一般式（１）又は（２）で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルであることが好ましい。
【００３９】
【化１】
0005617922.tif 000002
【００４０】
以下にＡの具体例を挙げる。
Ａ−１  −ＣＨ２ＣＨ２−
Ａ−２  −ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−
Ａ−３  −ＣＨ＝ＣＨ−
Ａ−４
【００４１】
【化２】
0005617922.tif 000003
【００４２】
Ａ−５
【００４３】
【化３】
0005617922.tif 000004
【００４４】
Ａ−６  −ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２−
以下Ｂの具体例を挙げる。
Ｂ−１  −ＣＨ２ＣＨ２−
Ｂ−２  −ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−
Ｂ−３
【００４５】
【化４】
0005617922.tif 000005
【００４６】
Ｂ−４
【００４７】
【化５】
0005617922.tif 000006
【００４８】
本発明における前記一般式（１）又は（２）で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルは、未置換のヒドロキシ基（水酸基）を有するセルロース、又はアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、フタリル基等のアシル基によってすでに一部のヒドロキシ基（水酸基）が置換されているセルロースエステルの存在下で、多塩基酸又はその無水物と多価アルコールとのエステル化反応、又はＬ−ラクチド、Ｄ−ラクチドの開環重合、Ｌ−乳酸、Ｄ−乳酸の自己縮合を行わせることによって得ることができる。
【００４９】
エステル化反応に用いる多塩基酸無水物として、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水フマル酸が挙げられるが特に限定されない。
【００５０】
エステル化反応に用いることができる多価アルコールとして、グリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコールなどが挙げられるが特に限定されない。
【００５１】
エステル化反応は、無触媒で反応をすることもできるが、公知のルイス酸触媒などを用いることができる。使用できる触媒としてはスズ、亜鉛、チタン、ビスマス、ジルコニウム、ゲルマニウム、アンチモン、ナトリウム、カリウム、アルミニウムなどの金属及びその誘導体が挙げられ、特に誘導体については金属有機化合物、炭酸塩、酸化物、ハロゲン化物が好ましい。具体的にはオクチルスズ、塩化スズ、塩化亜鉛、塩化チタン、アルコキシチタン、酸化ゲルマニウム、酸化ジルコニウム、三酸化アンチモン、アルキルアルミニウムなどを例示することができる。また、触媒としてパラトルエンスルホン酸に代表される酸触媒を用いることもできる。また、カルボン酸とアルコールとの脱水反応を促進するためにカルボジイミド、ジメチルアミノピリジンなど公知の化合物を添加してもよい。
【００５２】
係る反応は、セルロースエステル及びその他の反応させる化合物を溶解させることが可能な有機溶媒中における反応によってもよいし、剪断力を付加しながら加熱攪拌が可能なバッチ式ニーダーを用いた反応によるものであってもよいし、一軸或いは二軸のエクストルーダーを用いた反応によるものであってもよい。
【００５３】
繰り返し単位は、当該部分のセルロースに対して０．５〜１９０質量％の範囲で適宜含有させることができる。
【００５４】
セルロースエステルの置換度は、適宜選択することができるが、２．２〜２．９５であることが熱可塑性、熱加工性の点から好ましい。
【００５５】
本発明に係るセルロースエステルにおいて、セルロースのヒドロキシ基（水酸基）部分の水素原子が脂肪族アシル基との脂肪酸エステルであるとき、脂肪族アシル基は炭素原子数が２〜２０で具体的にはアセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、ラウロイル、ステアロイル等が挙げられる。
【００５６】
繰り返し単位は、当該部分のセルロースに対しての数平均分子量として３００〜１００００であり、５００〜８０００であることが熱加工性の点から好ましい。なお、当該セルロースエステルが有する繰り返し単位のみの数平均分子量は、エステル化反応する前のセルロースエステルと反応後のセルロースエステルをポリスチレン換算したＧＰＣデータ又は、１Ｈ−ＮＭＲ（日本電子製ＪＮＭ−ＥＸ−２７０：溶媒：重塩化メチレン）により比較して求めた。
【００５７】
繰り返し単位をセルロースに導入する際に副反応として、一般式（１）又は（２）で表される繰り返し単位を有するオリゴマー、ポリエステルが生成することあるが、これらの化合物は可塑剤として作用することから精製により必ずしも完全に除去する必要はなくセルロースエステルに含んでもよい。含有量としてはセルロースエステルに対して３０質量％以下であればセルロースエステルの性質を大きく変化させることは少ない。可塑性の点から、好ましくは０．５〜２０質量％である。
【００５８】
これらのオリゴマー、ポリエステルの数平均分子量は、３００〜１００００であり、可塑性の点から好ましくは５００〜８０００である。
【００５９】
《アクリルモノマーと（共）重合体》
本発明において用いるセルロースエステルは、下記の二種類の化合物を含有することを特徴とする。
【００６０】
化合物（１）：分子内にヒドロキシ基を有さないアクリルモノマーＡとヒドロキシ基を有するアクリルモノマーＢとの共重合体であり、その重量平均分子量が３０，０００超２５０，０００以下である。
【００６１】
化合物（２）：分子内にヒドロキシ基を有さないアクリルモノマーＣの重合体であり、重量平均分子量が３００〜３０００の範囲内である。
【００６２】
分子内にヒドロキシ基（水酸基）を有しないアクリルモノマーＡ又はＣは、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、等、又は上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができる。中でも、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）であることが好ましい。
【００６３】
なお、アクリルモノマーＡとＣは、異なっていても同一であってもよいが、異なっていることが好ましい。
【００６４】
アクリルモノマーＢは、ヒドロキシ基（水酸基）を有するモノマー単位として、アクリル酸又はメタクリル酸エステルが好ましく、例えば、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、又はこれらアクリル酸をメタクリル酸に置き換えたものを挙げることが出来、好ましくは、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）及びメタクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）である。
【００６５】
本発明に係る重合体Ｘは、分子内に芳香環とヒドロキシ基（水酸基）を有しないアクリルモノマーＡと分子内に芳香環を有せず、ヒドロキシ基（水酸基）を有するアクリルモノマーＢとアクリルモノマーＡとを共重合して得られた重量平均分子量２０００以上、３００００以下の重合体である。
【００６６】
〈化合物（１）：共重合体〉
本発明に係る化合物（１）は、分子内にヒドロキシ基を有さないアクリルモノマーＡとヒドロキシ基を有するアクリルモノマーＢとの共重合体であり、その重量平均分子量が３０，０００超２５０，０００以下である。
【００６７】
好ましくは、アクリルモノマーＡは分子内に芳香環とヒドロキシ基（水酸基）を有しないアクリル又はメタクリルモノマー、アクリルモノマーＢは分子内に芳香環を有せずヒドロキシ基（水酸基）を有するアクリル又はメタクリルモノマーである。
【００６８】
本発明に係る好ましい化合物（１）は、下記一般式（１）で表される。
【００６９】
一般式（１）
−［ＣＨ２−Ｃ（−Ｒ１）（−ＣＯ２Ｒ２）］ｍ−［ＣＨ２−Ｃ（−Ｒ３）（−ＣＯ２Ｒ４−ＯＨ）−］ｎ
上記一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ３は、それぞれ水素原子又はメチル基を表す。Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｒ４は−ＣＨ２−、−Ｃ２Ｈ４−又はＣ３Ｈ６−を表す。ｍ、及びｎは、モル組成比を表す。ただしｍ≠０、ｎ≠０、ｍ＋ｎ＝１００である。
【００７０】
化合物（１）を構成するモノマー単位において、ヒドロキシ基（水酸基）とは、ヒドロキシ基（水酸基）のみならずエチレンオキシド連鎖を有する基を含む。
【００７１】
アクリルモノマーＡ及びアクリルモノマーＢのモル組成比ｍ：ｎは９７：３〜８５：１５の範囲内が好ましく、更に好ましくは９５：５〜９０：１０の範囲である。
【００７２】
また、アクリルモノマーＢのモル組成比が上記範囲を超えると製膜時にヘイズが出る傾向がある。また、アクリルモノマーＢが無い場合、又は少ない場合には脆性が著しく劣化する。
【００７３】
化合物（１）の分子量は、重量平均分子量が３０，０００超２５０，０００以下である。なお、当該範囲外では硬度が低くなる。
【００７４】
〈化合物（２）：重合体〉
本発明に係る化合物（２）は、分子内にヒドロキシ基を有さないアクリルモノマーＣの重合体であり、重量平均分子量が３００〜３０００の範囲内である。なお、当該範囲外では製膜時にヘイズが出る傾向がある。
【００７５】
本発明に係る化合物（１）及び化合物（２）の重量平均分子量は、公知の分子量調節方法で調整することができる。そのような分子量調節方法としては、例えば、四塩化炭素、ラウリルメルカプタン、チオグリコール酸オクチル等の連鎖移動剤を添加する方法等が挙げられる。
【００７６】
また、重合温度は、通常、室温から１３０℃、好ましくは５０℃から１００℃で行われるが、この温度又は重合反応時間を調整することで可能である。
【００７７】
重量平均分子量の測定方法は、下記の方法により求めることができる。
【００７８】
（平均分子量測定方法）
重量平均分子量Ｍｗ、数平均分子量Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定した。
【００７９】
測定条件は以下の通りである。
【００８０】
溶媒：      メチレンクロライド
カラム：    Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：  ０．１質量％
検出器：    ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：    Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：      １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：  標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。
【００８１】
化合物（１）及び化合物（２）を合成するには、通常の重合では分子量のコントロールが難しく、分子量を余り大きくしない方法で、かつできるだけ分子量を揃えることのできる方法を用いることが望ましい。
【００８２】
かかる重合方法としては、クメンペルオキシドやｔ−ブチルヒドロペルオキシドのような過酸化物重合開始剤を使用する方法、重合開始剤を通常の重合より多量に使用する方法、重合開始剤の他にメルカプト化合物や四塩化炭素等の連鎖移動剤を使用する方法、重合開始剤の他にベンゾキノンやジニトロベンゼンのような重合停止剤を使用する方法、更に特開２０００−１２８９１１号又は同２０００−３４４８２３号公報にあるような一つのチオール基と２級のヒドロキシ基（水酸基）とを有する化合物、或いは、該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等を挙げることが出来、何れも本発明において好ましく用いられる。
【００８３】
化合物（１）のヒドロキシ基（水酸基）価は、３０〜１５０［ｍｇＫＯＨ／ｇ］であることが好ましい。
【００８４】
（ヒドロキシ（水酸基）価の測定方法）
ヒドロキシ（水酸基）価の測定は、ＪＩＳ  Ｋ  ００７０（１９９２）に準ずる。このヒドロキシ基（水酸基）価は、試料１ｇをアセチル化させたとき、ヒドロキシ基（水酸基）と結合した酢酸を中和するのに必要とする水酸化カリウムのｍｇ数と定義される。
【００８５】
具体的には試料Ｘｇ（約１ｇ）をフラスコに精秤し、これにアセチル化試薬（無水酢酸２０ｍｌにピリジンを加えて４００ｍｌにしたもの）２０ｍｌを正確に加える。フラスコの口に空気冷却管を装着し、９５〜１００℃のグリセリン浴にて加熱する。１時間３０分後、冷却し、空気冷却管から精製水１ｍｌを加え、無水酢酸を酢酸に分解する。
【００８６】
次に電位差滴定装置を用いて０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液で滴定を行い、得られた滴定曲線の変曲点を終点とする。
【００８７】
更に空試験として、試料を入れないで滴定し、滴定曲線の変曲点を求める。ヒドロキシ基（水酸基）価は、次の式によって算出する。
【００８８】
ヒドロキシ（水酸基）価＝｛（Ｂ−Ｃ）×ｆ×２８．０５／Ｘ｝＋Ｄ
式中、Ｂは空試験に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍｌ）、Ｃは滴定に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍｌ）、ｆは０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液のファクター、Ｄは酸価、また、２８．０５は水酸化カリウムの１ｍｏｌ量５６．１１の１／２を表す。
【００８９】
上述の化合物（１）は何れもセルロースエステルとの相溶性に優れ、蒸発や揮発もなく生産性に優れ、偏光板用保護フィルムとしての保留性がよく、透湿度が小さく、寸法安定性に優れている。
【００９０】
化合物（１）のセルロースエステルフィルム中での含有量は、下記式（ｉ）を満足する範囲であることが好ましい。化合物（１）の含有量をＸ（質量％＝（化合物（１）の質量／セルロースエステルの質量）×１００）、化合物（２）の含有量をＹ（質量％）とすると、
式（ｉ）  １≦Ｘ＋Ｙ≦２０（質量％）
式（ｉ）の（Ｘ＋Ｙ）の好ましい範囲は、２〜１０質量％である。
【００９１】
化合物（１）と化合物（２）は、後述するドープ液を構成する素材として直接添加、溶解するか、もしくはセルロースエステルを溶解する有機溶媒に予め溶解した後ドープ液に添加することができる。
【００９２】
（可塑剤）
本発明のハードコート用基材フィルムは、必要に応じて可塑剤を含有することが好ましい。
【００９３】
可塑剤は特に限定されないが、好ましくは、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤及び多価アルコールエステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、アクリル系可塑剤等から選択される。
【００９４】
そのうち、可塑剤を二種以上用いる場合は、少なくとも一種は多価アルコールエステル系可塑剤であることが好ましい。
【００９５】
多価アルコールエステル系可塑剤は２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。
【００９６】
本発明に好ましく用いられる多価アルコールは次の一般式（Ｐａ）で表される。
【００９７】
一般式（Ｐａ）：    Ｒ１−（ＯＨ）ｎ
但し、Ｒ１はｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数、ＯＨ基はアルコール性、及び／又はフェノール性水酸基を表す。
【００９８】
好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００９９】
アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。
【０１００】
特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。
【０１０１】
多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。
【０１０２】
好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１０３】
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖又は側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は１〜２０であることが更に好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
【０１０４】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。
【０１０５】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。
【０１０６】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、メトキシ基或いはエトキシ基などのアルコキシ基を１〜３個を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好ましい。
【０１０７】
多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、３００〜１５００であることが好ましく、３５０〜７５０であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
【０１０８】
多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でもよいし、二種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は、全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。
【０１０９】
以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。
【０１１０】
【化６】
0005617922.tif 000007
【０１１１】
【化７】
0005617922.tif 000008
【０１１２】
【化８】
0005617922.tif 000009
【０１１３】
【化９】
0005617922.tif 000010
【０１１４】
グリコレート系可塑剤は特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることができる。
【０１１５】
アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。
【０１１６】
フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。
【０１１７】
クエン酸エステル系可塑剤としては、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。
【０１１８】
脂肪酸エステル系可塑剤として、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。
【０１１９】
リン酸エステル系可塑剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。
【０１２０】
多価カルボン酸エステル化合物としては、２価以上、好ましくは２価〜２０価の多価カルボン酸とアルコールのエステルよりなる。また、脂肪族多価カルボン酸は２〜２０価であることが好ましく、芳香族多価カルボン酸、脂環式多価カルボン酸の場合は３価〜２０価であることが好ましい。
【０１２１】
多価カルボン酸は次の一般式（Ｐｂ）で表される。
【０１２２】
一般式（Ｐｂ）：    Ｒ２（ＣＯＯＨ）ｍ（ＯＨ）ｎ
（但し、Ｒ２は（ｍ＋ｎ）価の有機基、ｍは２以上の正の整数、ｎは０以上の整数、ＣＯＯＨ基はカルボキシ基、ＯＨ基はアルコール性又はフェノール性水酸基を表す）
好ましい多価カルボン酸の例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１２３】
トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸のような３価以上の芳香族多価カルボン酸又はその誘導体、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸のような脂肪族多価カルボン酸、酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸のようなオキシ多価カルボン酸などを好ましく用いることができる。特にオキシ多価カルボン酸を用いることが、保留性向上などの点で好ましい。
【０１２４】
本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステル化合物に用いられるアルコールとしては特に制限はなく公知のアルコール、フェノール類を用いることができる。
【０１２５】
例えば炭素数１〜３２の直鎖又は側鎖を持った脂肪族飽和アルコール又は脂肪族不飽和アルコールを好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。
【０１２６】
また、シクロペンタノール、シクロヘキサノールなどの脂環式アルコール又はその誘導体、ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどの芳香族アルコール又はその誘導体なども好ましく用いることができる。
【０１２７】
多価カルボン酸としてオキシ多価カルボン酸を用いる場合は、オキシ多価カルボン酸のアルコール性又はフェノール性の水酸基をモノカルボン酸を用いてエステル化しても良い。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１２８】
脂肪族モノカルボン酸としては炭素数１〜３２の直鎖又は側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。
【０１２９】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることができる。
【０１３０】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。
【０１３１】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上もつ芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。特に酢酸、プロピオン酸、安息香酸であることが好ましい。
【０１３２】
多価カルボン酸エステル化合物の分子量は特に制限はないが、分子量３００〜１０００の範囲であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
【０１３３】
本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステルに用いられるアルコール類は一種類でも良いし、二種以上の混合であっても良い。
【０１３４】
本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステル化合物の酸価は１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。酸価を上記範囲にすることによって、レターデーションの環境変動も抑制されるため好ましい。
【０１３５】
なお、酸価とは、試料１ｇ中に含まれる酸（試料中に存在するカルボキシ基）を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。酸価はＪＩＳ  Ｋ００７０に準拠して測定したものである。
【０１３６】
特に好ましい多価カルボン酸エステル化合物の例を以下に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１３７】
例えば、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート（ＡＴＥＣ）、アセチルトリブチルシトレート（ＡＴＢＣ）、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が挙げられる。
【０１３８】
ポリエステル系可塑剤は特に限定されないが、分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有するポリエステル系可塑剤を用いることができる。
【０１３９】
ポリエステル系可塑剤としては、特に限定されないが、例えば、下記一般式（Ｐｃ）で表せる芳香族基を末端に有するエステル（「芳香族末端エステル」ともいう。）を可塑剤として用いることができる。
【０１４０】
一般式（Ｐｃ）：  Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
（式中、Ｂはベンゼンモノカルボン酸残基、Ｇは炭素数２〜１２のアルキレングリコール残基又は炭素数６〜１２のアリールグリコール残基又は炭素数が４〜１２のオキシアルキレングリコール残基、Ａは炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸残基又は炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸残基を表し、またｎは１以上の整数を表す。）
一般式（Ｐｃ）中、Ｂで示されるベンゼンモノカルボン酸残基とＧで示されるアルキレングリコール残基又はオキシアルキレングリコール残基又はアリールグリコール残基、Ａで示されるアルキレンジカルボン酸残基又はアリールジカルボン酸残基とから構成されるものであり、通常のポリエステル系可塑剤と同様の反応により得られる。
【０１４１】
本発明で使用されるポリエステル系可塑剤のベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ一種又は二種以上の混合物として使用することができる。
【０１４２】
本発明に用いることのできるポリエステル系可塑剤の炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール、２−エチル１，３−ヘキサンジオール、２−メチル１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、一種又は二種以上の混合物として使用される。
【０１４３】
特に炭素数２〜１２のアルキレングリコールがセルロースエステルとの相溶性に優れているため、特に好ましい。
【０１４４】
また、上記芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、一種又は二種以上の混合物として使用できる。
【０１４５】
芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ一種又は二種以上の混合物として使用される。炭素数６〜１２のアリーレンジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５ナフタレンジカルボン酸、１，４ナフタレンジカルボン酸等がある。
【０１４６】
本発明で使用されるポリエステル系可塑剤は、数平均分子量が、好ましくは３００〜１５００、より好ましくは４００〜１０００の範囲が好適である。また、その酸価は、０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは酸価０．３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものである。
【０１４７】
以下、本発明に用いることのできる芳香族末端エステル系可塑剤の合成例を示す。
【０１４８】
〈サンプルＮｏ．１（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器にフタル酸４１０部、安息香酸６１０部、ジプロピレングリコール７３７部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．４０部を一括して仕込み窒素気流中で攪拌下、還流凝縮器を付して過剰の１価アルコールを還流させながら、酸価が２以下になるまで１３０〜２５０℃で加熱を続け生成する水を連続的に除去した。次いで２００〜２３０℃で１．３３×１０４Ｐａ〜最終的に４×１０２Ｐａ以下の減圧下、留出分を除去し、この後濾過して次の性状を有する芳香族末端エステル系可塑剤を得た。
【０１４９】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；４３４００
酸価                      ；０．２
以下に、本発明に用いることのできる芳香族末端エステル系可塑剤の具体的化合物を示すが、本発明はこれに限定されない。
【０１５０】
【化１０】
0005617922.tif 000011
【０１５１】
【化１１】
0005617922.tif 000012
【０１５２】
本発明においては、可塑剤として、特に当該芳香族基を末端に有するポリエステルを含有させることが好ましい。
【０１５３】
（紫外線吸収剤）
本発明のハードコート用基材フィルムは、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。紫外線吸収剤は４００ｎｍ以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としており、特に波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以下であることが好ましく、よりさらに好ましくは５％以下である。
【０１５４】
本発明に用いられる紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。
【０１５５】
紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、ハードコート用基材フィルムの乾燥膜厚が３０〜２００μｍの場合は、ハードコート用基材フィルムに対して０．５〜１０質量％が好ましく、０．６〜４質量％がさらに好ましい。
【０１５６】
（微粒子）
本発明のハードコート用基材フィルムは、微粒子を含有することが滑り性、保管安定性の観点で好ましい。
【０１５７】
微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等を挙げることができる。微粒子は珪素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。
【０１５８】
二酸化珪素については疎水化処理をされたものが滑り性とヘイズを両立する上で好ましい。４個のシラノール基のうち、２個以上が疎水性の置換基で置換わったものが好ましく、３個以上が置換わったものがより好ましい。疎水性の置換基はメチル基であることが好ましい。
【０１５９】
二酸化珪素の一次粒径は２０ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。
【０１６０】
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１６１】
酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１６２】
ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１６３】
これらの中でもアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖがハードコート用基材フィルムのヘイズを低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく、本発明に於いてはアエロジルＲ８１２が最も好ましく用いられる。本発明のハードコート用基材フィルムにおいては、少なくとも一方の面の動摩擦係数が０．２〜１．０であることが好ましい。
【０１６４】
（染料）
本発明のハードコート用基材フィルムには、色味調整のため染料を添加することもできる。例えば、フィルムの黄色味を抑えるために青色染料を添加してもよい。好ましい染料としてはアンスラキノン系染料が挙げられる。
【０１６５】
＜ハードコート用基材フィルムの製造方法＞
本発明のハードコート用基材フィルムは通常の溶液流延法、溶融流延法のいずれの方法でも製造することができる。
【０１６６】
本発明のハードコート用基材フィルムの溶液流延法による製造は、セルロースエステル及び前記添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープを無限に移行する無端の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸又は幅保持する工程、さらに乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻取る工程により行われる。
【０１６７】
ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースエステルの濃度は、濃い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステルの濃度が濃過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、さらに好ましくは、１５〜２５質量％である。
【０１６８】
ドープで用いられる溶剤は、単独で用いても二種以上を併用してもよい。セルロースエステルの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤として特に好ましくはメチレンクロライド又は酢酸メチルが挙げられ、貧溶剤として、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。
【０１６９】
また、ドープ中には水が０．０１〜２質量％含有していることが好ましい。また、セルロースエステルの溶解に用いられる溶媒は、フィルム製膜工程で乾燥によりフィルムから除去された溶媒を回収し、これを再利用して用いられる。
【０１７０】
上記記載のドープを調製する時の、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱できる。
【０１７１】
次に、このセルロースエステル溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下の濾材が好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの濾材がより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの濾材がさらに好ましい。
【０１７２】
濾材さらには特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。
【０１７３】
ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶剤の常圧での沸点以上で、且つ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差（差圧という）の上昇が小さく、好ましい温度は４５〜１２０℃であり、４５〜７０℃がより好ましく、４５〜５５℃であることがさらに好ましい。
【０１７４】
濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は１．６ＭＰａ以下であることが好ましく、１．２ＭＰａ以下であることがより好ましく、１．０ＭＰａ以下であることがさらに好ましい。
【０１７５】
ついで、ドープの流延について説明する。
【０１７６】
流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルトもしくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。
【０１７７】
流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤の沸点未満の温度で、好ましい支持体温度は０〜４０℃であり、５〜３０℃がさらに好ましい。
【０１７８】
ハードコート用基材フィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましく、さらに好ましくは２０〜４０質量％又は６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％又は７０〜１２０質量％である。
【０１７９】
本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。
【０１８０】
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
尚、Ｍはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。
【０１８１】
又はドコート用基材フィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、さらに乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、さらに好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。
【０１８２】
フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。
【０１８３】
本発明のハードコート用基材フィルムを作製するためには、金属支持体より剥離した直後のウェブの残留溶剤量の多いところで多いところで長手方向（ＭＤ方向）に延伸し、さらにウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅手方向（ＴＤ方向）に延伸を行うことが好ましい。
【０１８４】
ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で熱風で行うことが好ましい。
【０１８５】
ウェブの乾燥工程における乾燥温度は９０℃〜２００℃が好ましく、より好ましくは１１０℃〜１９０℃である。乾燥温度は段階的に高くしていくことが好ましい。
【０１８６】
好ましい乾燥時間は、乾燥温度にもよるが、５分〜６０分が好ましく、１０分〜３０分がより好ましい。
【０１８７】
ハードコート用基材フィルムの膜厚は、特に限定はされないが１０〜２００μｍが用いられる。特に膜厚は１０〜１００μｍであることが特に好ましい。さらに好ましくは２０〜６０μｍである。
【０１８８】
本発明のハードコート用基材フィルムは、幅１〜４ｍのものが用いられる。生産性の観点から幅１．６〜４ｍのものが好ましく用いられ、特に好ましくは１．８〜３．６ｍである。４ｍを超えると搬送が困難となる。
【０１８９】
（延伸操作）
延伸操作は、フィルムの長手方向（ＭＤ方向）、及び幅手方向（ＴＤ方向）に対して、逐次又は同時に延伸することができる。互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的にはＭＤ方向に１．０〜２．０倍、ＴＤ方向に１．０７〜２．０倍の範囲とすることが好ましく、ＭＤ方向に１．０〜１．５倍、ＴＤ方向に１．０７〜２．０倍の範囲で行うことが好ましい。
【０１９０】
例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用してＭＤ方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げてＭＤ方向に延伸する方法、同様に横方向に広げてＴＤ方向に延伸する方法、或いはＭＤ／ＴＤ方向同時に広げてＭＤ／ＴＤ両方向に延伸する方法などが挙げられる。
【０１９１】
製膜工程のこれらの幅保持或いは幅手方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。
【０１９２】
テンター内などの製膜工程でのフィルム搬送張力は温度にもよるが、１２０Ｎ／ｍ〜２００Ｎ／ｍが好ましく、１４０Ｎ／ｍ〜２００Ｎ／ｍがさらに好ましい。１４０Ｎ／ｍ〜１６０Ｎ／ｍが最も好ましい。
【０１９３】
延伸する際は、本発明のフィルムのガラス転移温度をＴｇとすると（Ｔｇ−３０）〜（Ｔｇ＋１００）℃、より好ましくは（Ｔｇ−２０）〜（Ｔｇ＋８０）℃、さらに好ましく（Ｔｇ−５）〜（Ｔｇ＋２０）℃である。
【０１９４】
ハードコート用基材フィルムのＴｇは、フィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率によって制御することができる。本発明の用途においてはフィルムの乾燥時のＴｇは１１０℃以上が好ましく、さらに１２０℃以上が好ましい。
【０１９５】
従ってガラス転移温度は１９０℃以下、より好ましくは１７０℃以下であることが好ましい。このとき、フィルムのＴｇはＪＩＳ  Ｋ７１２１に記載の方法などによって求めることができる。
【０１９６】
本発明では、延伸する際の温度は１５０℃以上、延伸倍率は１．１５倍以上にすると、表面が適度に粗れるため好ましい。フィルム表面を粗らすことは、滑り性を向上させるのみでなく、表面加工性、特にクリアーハードコートの密着性が向上するため好ましい。平均表面粗さＲａは、好ましくは２．０ｎｍ〜４．０ｎｍ、より好ましくは２．５ｎｍ〜３．５ｎｍである。その際、フィルム中には先に述べた疎水化処理された二酸化珪素微粒子を含有していることが好ましく、特にＲ９７２Ｖ及びＲ８１２がヘイズ安定性向上のために好ましい。
【０１９７】
ハードコート用基材フィルムは延伸後、熱固定されることが好ましいが、熱固定はその最終ＴＤ方向延伸温度より高温で、Ｔｇ−２０℃以下の温度範囲内で通常０．５〜３００秒間熱固定することが好ましい。この際、２つ以上に分割された領域で温度差が１〜１００℃となる範囲で順次昇温しながら熱固定することが好ましい。
【０１９８】
熱固定されたフィルムは通常Ｔｇ以下まで冷却され、フィルム両端のクリップ把持部分をカットし巻き取られる。この際、最終熱固定温度以下、Ｔｇ以上の温度範囲内で、ＴＤ方向及び／又はＭＤ方向に０．１〜１０％弛緩処理することが好ましい。
【０１９９】
また冷却は、最終熱固定温度からＴｇまでを、毎秒１００℃以下の冷却速度で徐冷することが好ましい。冷却、弛緩処理する手段は特に限定はなく、従来公知の手段で行えるが、特に複数の温度領域で順次冷却しながらこれらの処理を行うことがフィルムの寸法安定性向上の点で好ましい。
【０２００】
尚、冷却速度は、最終熱固定温度をＴ１、フィルムが最終熱固定温度からＴｇに達するまでの時間をｔとした時、（Ｔ１−Ｔｇ）／ｔで求めた値である。
【０２０１】
これら熱固定条件、冷却、弛緩処理条件のより最適な条件は、フィルムを構成するセルロースエステルや可塑剤等の添加剤種により異なるので、得られた二軸延伸フィルムの物性を測定し、好ましい特性を有するように適宜調整することにより決定すればよい。
【０２０２】
本発明のハードコート用基材フィルムの遅相軸又は進相軸がフィルム面内に存在し、製膜方向とのなす角をθ１とするとθ１は−１°以上＋１°以下であることが好ましく、−０．５°以上＋０．５°以下であることがより好ましい。
【０２０３】
このθ１は配向角として定義でき、θ１の測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器）を用いて行うことができる。θ１が各々上記関係を満たすことは、表示画像において高い輝度を得ること、光漏れを抑制又は防止することに寄与し、カラー液晶表示装置においては忠実な色再現を得ることに寄与できる。
【０２０４】
＜物性、光学特性＞
本発明のハードコート用基材フィルムの透湿度は、４０℃、９０％ＲＨで１０〜１２００ｇ／ｍ２・２４ｈが好ましく、さらに２０〜１０００ｇ／ｍ２・２４ｈが好ましく、２０〜８５０ｇ／ｍ２・２４ｈが特に好ましい。透湿度はＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に記載の方法に従い測定することができる。
【０２０５】
本発明のハードコート用基材フィルムは、３０℃での貯蔵弾性率が、ＭＤ方向に３．２〜４．７ＧＰａ、ＴＤ方向に４．７〜７．０ＧＰａであることが、縦ツレが改良されて好ましい。貯蔵弾性率はｔａｎδと同じ測定で求めることができる。
【０２０６】
本発明のハードコート用基材フィルムは脆性指標となる引裂き強度が３５ｍＮ以上であることが好ましく、５０ｍＮ以上であることがより好ましい。
【０２０７】
本発明のハードコート用基材フィルムの破断伸度は５〜８０％であることが好ましく８〜５０％であることがさらに好ましい。
【０２０８】
本発明のハードコート用基材フィルムの可視光透過率は９０％以上であることが好ましく、９３％以上であることがさらに好ましい。
【０２０９】
本発明のハードコート用基材フィルムのヘイズは１％未満であることが好ましく０〜０．４％であることが特に好ましい。
【０２１０】
本発明のハードコート用基材フィルムは、下記式で表されるリターデーション値Ｒｏが０〜１５０ｎｍ、Ｒｔが−１００〜３００ｎｍであることが好ましく、特に好ましくはＲｏが０〜１０ｎｍ、Ｒｔが０〜１００ｎｍである。
【０２１１】
式（ｉ）  Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）  Ｒｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
（式中、Ｒｏはフィルム面内リターデーション値、Ｒｔはフィルム厚さ方向リターデーション値、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚さ方向の屈折率、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
上記リターデーションは、例えばＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株））を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、波長が５９０ｎｍで求めることができる。
【０２１２】
本発明においては、Ｒｔ≧０．８５ｎｍ／膜厚１μｍであることが好ましい。コントラストと視野角を確保する為には薄膜で且つ、一定以上のＲｔであることが好ましく、例えば３０〜５０μｍであればＲｔは２６〜２００ｎｍ、５０〜７０μｍであればＲｔは４３〜２００ｎｍであることが好ましい。単位膜厚に対するＲｔは、０．９〜５．０ｎｍ／膜厚１μｍであることがより好ましく、１．０〜５．０ｎｍ／膜厚１μｍであることが更に好ましい。
【０２１３】
（ハードコート層）
本発明のハードコート用基材フィルムには、ハードコート層を設けることができる。
【０２１４】
本発明では、高硬度を発揮する点から、ハードコート層の膜厚（ドライ膜厚）は３〜３０μｍであり、好ましくは５〜１５μｍの範囲内であることが好ましい。
【０２１５】
高硬度は、ＬＣＤ等の表示装置の表面における使用や偏光板化工程において傷が付きにくいことから望まれおり、本発明でいう高硬度とは、硬度の指標で有る鉛筆硬度が３Ｈ以上であり、より好ましくは４Ｈ以上である。
【０２１６】
鉛筆硬度は、作製したハードコートフィルムを温度２３℃、相対湿度５５％の条件で２時間以上調湿した後、ＪＩＳ  Ｓ  ６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００が規定する鉛筆硬度評価方法に従い測定した値である。
【０２１７】
又はドコートのマルテンス硬さ（ＨＭｓ）が、４００Ｎ／ｍｍ２以上、８００Ｎ／ｍｍ２以下であることが好ましい。
【０２１８】
マルテンス硬さ（ビッカース硬さ）とは、ビッカース圧子及び稜線同士の角度が１１５度の三角錐圧子を用いた微小硬度計で、フィルムのハードコート表面を、ハードコート層の膜厚の略１／１０の厚さまで圧子を押し込んだ時の負荷試験力−押し込み深さ曲線において、該負荷試験力−押し込み深さ曲線から求められる最大負荷試験力（Ｆｍａｘ）の５０％値から９０％値までの押し込み深さが負荷試験力の平方根に比例する傾き（ｍ）より、下記式で定義される値をいう。
【０２１９】
１ＨＭｓ＝１／（２６．４ｍ２）
本発明に係るクリアーハードコート層は、公知のものがそのまま使用することができる。
【０２２０】
ハードコート層を形成する樹脂バインダーとしては、活性エネルギー線硬化樹脂が好ましい。活性エネルギー線硬化樹脂とは、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいう。
【０２２１】
活性エネルギー線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性エネルギー線硬化樹脂層が形成される。
【０２２２】
活性エネルギー線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、特に、紫外線硬化樹脂が機械的膜強度（耐擦性、鉛筆硬度）に優れる点から好ましい。
【０２２３】
紫外線硬化樹脂としては、多官能アクリレートが好ましい。該多官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。
【０２２４】
ここで、多官能アクリレートとは、分子中に２個以上のアクリロイルオキシ基及び／又はメタクロイルオキシ基を有する化合物である。これらの化合物は、それぞれ単独又は二種以上を混合して用いられる。
【０２２５】
また、上記モノマーの２量体、３量体等のオリゴマーであってもよい。エネルギー活性線硬化性樹脂の添加量は、ハードコート層形成組成物中（以下、ハードコート層塗布液とも言う。）では、固形分中の１５質量％以上７０質量％未満であることが好ましい。
【０２２６】
又はドコート層にはエネルギー活性線硬化性樹脂の硬化促進のため、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤量としては、質量比で、光重合開始剤；エネルギー活性線硬化性樹脂＝２０：１００〜０．０１：１００で含有することが好ましい。
【０２２７】
光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。
【０２２８】
ハードコート層には、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又はゼラチン等の親水性樹脂等のバインダーを用いることもできる。又はドコート層には滑り性や屈折率を調整するために無機化合物又は有機化合物の粒子を含んでもよい。
【０２２９】
これらの微粒子粉末の平均粒径としては、０．０１〜５μｍが好ましく０．１〜５．０μｍ、さらに、０．１〜４．０μｍであることが特に好ましい。また、粒径の異なる二種以上の微粒子を含有することが好ましい。硬化性樹脂組成物と微粒子の割合は、硬化性樹脂組成物１００質量部に対して、０．１〜３０質量部となるように配合することが望ましい。
【０２３０】
本発明においては、ハードコート層に重合性不飽和基を有する有機化合物によって表面処理された反応性シリカ粒子（Ｘａ）を含有させることが好ましい。以下、重合性不飽和基を有する有機化合物によって表面処理された反応性シリカ粒子（Ｘａ）について説明する。
【０２３１】
〈シリカ粒子〉
シリカ粒子としては、公知のものを使用することができる。また、その形状は、球状でも不定形のものでもよく、通常のコロイダルシリカに限らず中空粒子、多孔質粒子、コア／シェル型粒子等であっても構わない。
【０２３２】
また、動的光散乱法で求めたシリカ粒子の数平均粒子径は３０ｎｍ以上が好ましく、さらに好ましくは３０〜２００ｎｍであり、特に好ましくは、４０〜８０ｎｍである。
【０２３３】
市販品としては、例えば、コロイダルシリカとして、日産化学工業（株）製ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ等を挙げることができる。
【０２３４】
〈重合性不飽和基を有する有機化合物〉
反応性シリカ粒子（Ｘａ）は、重合性不飽和基を有する有機化合物（以下、「有機化合物（Ｘ）」という）で表面処理することによって得られる。反応性シリカ粒子（Ｘａ）の製造に用いられる有機化合物（Ｘ）は、重合性不飽和基、好ましくはエチレン性不飽和基を有する化合物であり、さらに、下記一般式（ａ）に示す基を含む有機化合物であることが好ましい。
【０２３５】
また、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］基を含み、さらに、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−］基及び［−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］基の少なくとも１つを含むものであることが好ましい。また、この有機化合物は、分子内にシラノール基を有する化合物又は加水分解によってシラノール基を生成する化合物であることが好ましい。
【０２３６】
【化１２】
0005617922.tif 000013
【０２３７】
［一般式（ａ）中、Ｕは、ＮＨ、Ｏ（酸素原子）又はＳ（イオウ原子）を示し、Ｖは、Ｏ又はＳを示す。］
［１］エチレン性不飽和基
有機化合物（Ｘ）に含まれるエチレン性不飽和基としては特に制限はないが、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基を好適例として挙げることができる。
【０２３８】
このエチレン性不飽和基は、活性ラジカル種により付加重合をする構成単位である。
【０２３９】
［２］前記一般式（ａ）に示す基
有機化合物に含まれる前記式（ａ）に示す基［−Ｕ−Ｃ（＝Ｖ）−ＮＨ−］は、具体的には、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−］、［−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］、［−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］、［−ＮＨ−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−］、及び［−Ｓ−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−］の６種である。これらの基は、一種単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
【０２４０】
中でも、熱安定性の観点から、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］基と、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−］基及び［−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］基の少なくとも１つとを併用することが好ましい。
【０２４１】
前記式（ａ）に示す基［−Ｕ−Ｃ（＝Ｖ）−ＮＨ−］は、分子間において水素結合による適度の凝集力を発生させ、硬化物にした場合、優れた機械的強度、基材や隣接層との密着性に優れる。
【０２４２】
［３］シラノール基又は加水分解によってシラノール基を生成する化合物
シラノール基を生成する化合物としては、ケイ素原子にアルコキシ基、アリールオキシ基、アセトキシ基、アミノ基、ハロゲン原子等が結合した化合物を挙げることができるが、ケイ素原子にアルコキシ基又はアリールオキシ基が結合した化合物、即ち、アルコキシシリル基含有化合物又はアリールオキシシリル基含有化合物が好ましい。
【０２４３】
［４］好ましい態様
好ましい具体例としては、例えば、下記一般式（ｂ）に示す化合物を挙げることができる。
【０２４４】
【化１３】
0005617922.tif 000014
【０２４５】
一般式（ｂ）中、Ｒ２１、Ｒ２２は、同一でも異なっていてもよく、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基若しくはアリール基であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、フェニル、キシリル基等を挙げることができる。ここで、ｊは、１〜３の整数である。
【０２４６】
［（Ｒ２１Ｏ）ｊＲ２２３−ｊＳｉ−］で示される基としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリフェノキシシリル基、メチルジメトキシシリル基、ジメチルメトキシシリル基等を挙げることができる。このような基のうち、トリメトキシシリル基又はトリエトキシシリル基等が好ましい。
【０２４７】
Ｒ２３は、炭素数１〜１２の脂肪族又は芳香族構造を有する２価の有機基であり、鎖状、分岐状又は環状の構造を含んでいてもよい。具体例として、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ヘキサメチレン、シクロヘキシレン、フェニレン、キシリレン、ドデカメチレン等を挙げることができる。
【０２４８】
Ｒ２４は、２価の有機基であり、通常、分子量１４から１万、好ましくは、分子量７６から５００の２価の有機基の中から選ばれる。具体例として、ヘキサメチレン、オクタメチレン、ドデカメチレン等の鎖状ポリアルキレン基；シクロヘキシレン、ノルボルニレン等の脂環式又は多環式の２価の有機基；フェニレン、ナフチレン、ビフェニレン、ポリフェニレン等の２価の芳香族基；及びこれらのアルキル基置換体、アリール基置換体を挙げることができる。
【０２４９】
また、これら２価の有機基は炭素及び水素原子以外の元素を含む原子団を含んでいてもよく、ポリエーテル結合、ポリエステル結合、ポリアミド結合、ポリカーボネート結合を含むこともできる。
【０２５０】
Ｒ２５は、（ｋ＋１）価の有機基であり、好ましくは、鎖状、分岐状又は環状の飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基の中から選ばれる。
【０２５１】
Ｚは、活性ラジカル種の存在下、分子間架橋反応をする重合性不飽和基を分子中に有する１価の有機基を示す。また、ｋは、好ましくは、１〜２０の整数であり、さらに好ましくは、１〜１０の整数、特に好ましくは、１〜５の整数である。
【０２５２】
一般式（ｂ）で示される化合物の具体例として、下記（ｂ−１）又は下記（ｂ−２）で示される化合物が挙げられる。
【０２５３】
【化１４】
0005617922.tif 000015
【０２５４】
［（ｂ−１）及び（ｂ−２）中、「Ａｃｒｙｌ」は、アクリロイル基を示す。「Ｍｅ」は、メチル基を示す。］
有機化合物（Ｘ）の合成は、例えば、特開平９−１００１１１号公報に記載された方法を用いることができる。好ましくは、メルカプトプロピルトリメトキシシランとイソホロンジイソシアネートをジブチルスズジラウレート存在下で混合し、６０〜７０℃で数時間程度反応させた後に、ペンタエリスリトールトリアクリレートを添加して、さらに６０〜７０℃で数時間程度反応させることにより製造される。
【０２５５】
〈（Ｘａ）反応性シリカ粒子〉
有機化合物（Ｘ）をシリカ粒子と混合し、加水分解させ、両者を結合させる。
【０２５６】
シリカ粒子への有機化合物（Ｘ）の結合量は、反応性シリカ粒子（Ｘａ）を１００質量％として、好ましくは、０．０１質量％以上であり、さらに好ましくは、０．１質量％以上、特に好ましくは、１質量％以上である。上記範囲において分散性に優れ、得られる硬化物の機械強度にも優れる。
【０２５７】
また、反応性シリカ粒子（Ｘａ）製造時の原料中のシリカ粒子の配合割合は、好ましくは、５〜９９質量％であり、さらに好ましくは、１０〜９８質量％である。反応性シリカ粒子（Ｘａ）を構成するシリカ粒子の含有量は、６５〜９５質量％であることが好ましい。
【０２５８】
ハードコート層用塗布組成物中の、反応性シリカ粒子（Ｘａ）の含有量は、組成物中の固形分全量を１００質量％としたときに、５〜８０質量％が好ましく、１０〜８０質量％がより好ましい。該範囲の割合で用いることで、組成物中で安定に存在し、本発明の目的効果も発揮しやすい。
【０２５９】
ハードコート層の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることができる。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることができる。
【０２６０】
ハードコート層形成組成物には、溶媒が含まれていてもよく、必要に応じて適宜含有し、希釈されたものであってもよい。
【０２６１】
ハードコート層は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１で規定される中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．００１〜０．１μｍのクリアーハードコート層、又は微粒子等を添加しＲａが０．１〜１μｍに調整された防眩性ハードコート層であってもよい。
【０２６２】
中心線平均粗さ（Ｒａ）は光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばＷＹＫＯ社製非接触表面微細形状計測装置ＷＹＫＯ  ＮＴ−２０００を用いて測定することができる。
【０２６３】
ハードコート層はフッ素系化合物やシリコーン化合物を含有しても良い。また、以下に示す界面活性剤を含有してもよい。
【０２６４】
フッ素系化合物、シリコーン化合物及び界面活性剤は、前記エネルギー活性線硬化性樹脂との含有質量比率をフッ素系化合物、シリコーン化合物及び界面活性剤：活性光線硬化樹脂＝０．０５：１００〜５．００：１００で用いることがハードコート層形成組成物中及びハードコート層で安定して存在する。
【０２６５】
ハードコート層にはさらに、硬化助剤としてポリウレタン樹脂の側鎖にビニル基とカルボキシ基を有し、重量平均分子量が１００００以上３００００以下であり、且つ、二重結合当量が５００以上２０００以下であるポリマーやポリマーの側鎖にビニル基を有し、重量平均分子量（Ｍｗ）が１００００以上１０００００以下であり、二重結合当量が１０００以下、ポリマーＴｇが−５０℃以上１２０℃以下であるアクリルポリマー、他官能チオール化合物等を含有させてもよい。市販品としては昭和電工社製、商品名カレンズＭＴシリーズ等が挙げられる。
【０２６６】
また、フッ素−アクリル共重合体樹脂を含有しても良い。フッ素−アクリル共重合体樹脂の市販品としては、日本油脂株式会社の商品名、モディパーＦ−２００、モディパーＦ−６００、モディパーＦ−２０２０等が挙げられる。
【０２６７】
又はドコート層の屈折率は２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、屈折率を１．４〜２．２の範囲に調整することが好ましい。屈折率を調整する手段は、金属酸化物微粒子等を添加することで達成できる。金属酸化また、用いる金属酸化物微粒子の屈折率は１．８０〜２．６０であるものが好ましく、１．８５〜２．５０であるものがさらに好ましい。
【０２６８】
金属酸化物微粒子の種類は、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム−スズ（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが特に好ましい。特にアンチモン酸亜鉛粒子を含有することが好ましい。
【０２６９】
これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒子径は１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲であり、１０〜１５０ｎｍであることが特に好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。
【０２７０】
金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理してもよい。
【０２７１】
（塗工工程）
本発明に係るハードコート層、例えば、クリアーハードコート層は次のような公知の方法で塗設することができる。
【０２７２】
クリアーハードコート層を塗設する際の溶媒としては、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒の中から適宜選択し、或いはこれらを混合し利用できる。
【０２７３】
好ましくは、プロピレングリコールモノ（炭素数１〜４のアルキル基）アルキルエーテル又はプロピレングリコールモノ（炭素数１〜４のアルキル基）アルキルエーテルエステルを５質量％以上、さらに好ましくは５〜８０質量％以上含有する溶媒が用いられる。
【０２７４】
クリアーハードコート層を光硬化反応により硬化皮膜層を形成するための光源としては、紫外線を発生する光源であればいずれでも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。
【０２７５】
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０〜１００００ｍＪ／ｃｍ２程度あればよく、好ましくは、５０〜２０００ｍＪ／ｃｍ２である。近紫外線領域〜可視光線領域にかけてはその領域に吸収極大のある増感剤を用いることによって使用できる。
【０２７６】
紫外線硬化性樹脂組成物は塗布乾燥された後、紫外線を光源より照射するが、照射時間は０．５秒〜５分がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率などから３秒〜２分がより好ましい。
【０２７７】
（機能性層）
本発明のハードコート用基材フィルム製造に際し、延伸の前又は後で帯電防止層、バックコート層、易滑性層、接着層、バリアー層、防眩層、反射防止層、光学補償層等の機能性層を塗設してもよい。
【０２７８】
＜偏光板、液晶表示装置＞
本発明のハードコート用基材フィルムは、偏光板に用いることができる。
【０２７９】
偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明のハードコート用基材フィルムの偏光子側をアルカリ鹸化処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。
【０２８０】
もう一方の面には本発明のハードコート用基材フィルムを用いても、また別のハードコート用基材フィルムを用いてもよい。市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、以上コニカミノルタオプト（株）製）も好ましく用いられる。
【０２８１】
本発明に係る偏光板を液晶表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた液晶表示装置を作製することができる。本発明のハードコート用基材フィルムは、ＳＴＮ、ＴＮ、ＯＣＢ、ＨＡＮ、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）、ＩＰＳなどの各種駆動方式の液晶表示装置に用いることができる。特に好ましくは、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）型、及びＩＰＳ型液晶表示装置である。
【実施例】
【０２８２】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【０２８３】
＜ハードコート用基材フィルム１０１の作製＞
化合物（１）の合成：
攪拌機、２個の滴下ロート、ガス導入管及び温度計の付いたガラスフラスコに、表２記載の種類及び比率のモノマー混合液４０ｇ、連鎖移動剤のメルカプトプロピオン酸３．０ｇ及びトルエン３０ｇを仕込み、９０℃に昇温した。【０２８４】
その後、一方の滴下ロートから、表２記載の種類及び比率のモノマー混合液６０ｇを３時間かけて滴下すると共に、同時にもう一方のロートからトルエン１４ｇに溶解したアゾビスイソブチロニトリル０．６ｇを３時間かけて滴下した。その後更に、トルエン５６ｇに溶解したアゾビスイソブチロニトリル０．６ｇを２時間かけて滴下した後、更に２時間反応を継続させ化合物（１）を得た。【０２８５】
化合物（２）の合成：
特開２０００−１２８９１１号公報に記載の重合方法により塊状重合を行った。すなわち、攪拌機、窒素ガス導入管、温度計、投入口及び環流冷却管を備えたフラスコにモノマーとして下記メチルアクリレートを投入し、窒素ガスを導入してフラスコ内を窒素ガスで置換した下記チオグリセロールを攪拌下添加した。【０２８６】
チオグリセロール添加後、４時間重合を行い、内容物を室温に戻し、それにベンゾキノン５質量％テトラヒドロフラン溶液を２０質量部添加し、重合を停止させた。内容物をエバポレーターに移し、８０℃で減圧下、テトラヒドロフラン、残存モノマー及び残存チオグリセロールを除去し、化合物（２）を得た。【０２８７】
表２記載の、ＭＡ、ＭＭＡ、ＨＥＭＡ、ＢｚＭＡはそれぞれ以下の化合物の略称である。【０２８８】
ＭＡ：メチルアクリレート
ＭＭＡ：メチルメタクリレート
ＨＥＭＡ：２−ヒドロキシエチルメタクリレート
ＢｚＭＡ：２−ベンジルメタクリレート
化合物（１）及び（２）の重量平均分子量は下記測定法により測定した。【０２８９】
＜分子量測定＞
重量平均分子量の測定は、高速液体クロマトグラフィーを用いて測定した。【０２９０】
測定条件は以下の通りである。【０２９１】
溶媒：      メチレンクロライド
カラム：    Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６，Ｋ８０５，Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：  ０．１質量％
検出器：    ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：    Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：      １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：  標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜３００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。【０２９２】
（二酸化珪素分散液の調製）
アエロジルＲ８１２（日本アエロジル（株）製）          １０質量部
（一次粒子の平均径７ｎｍ）
エタノール                                            ９０質量部
以上をディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。二酸化珪素分散液に８８質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合し、二酸化珪素分散希釈液を作製した。微粒子分散希釈液濾過器（アドバンテック東洋（株）：ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−１Ｎ）で濾過した。【０２９３】
（ドープ組成物の調製）
セルローストリアセテート                              ９０質量部
（リンター綿から合成されたセルローストリアセテート、アセチル基置換度２．９０、Ｍｎ＝１４００００）
化合物（１）                                        ７．５質量部
化合物（２）                                        ２．５質量部
ポリエステル化合物（表２参照）                      ２．５質量部
チヌビン９２８（チバ・ジャパン（株）製）            ２．５質量部
二酸化珪素分散希釈液                                    ４質量部
メチレンクロライド                                  ４３２質量部
エタノール                                            ３８質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープ液を調製した。【０２９４】
次に、ベルト流延装置を用い、ステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が１００％になるまで溶剤を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。セルロースエステルフィルムのウェブを３５℃で溶剤を蒸発させ、１．６５ｍ幅にスリットし、１６０℃の乾燥温度で乾燥させた。【０２９５】
乾燥を始めたときの残留溶剤量は２０％であった。その後、１２０℃の乾燥装置内を多数のロールで搬送させながら１５分間乾燥させた後、フィルム両端に幅１５ｍｍ、高さ１０μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、ハードコート用基材フィルム１０１を得た。ハードコート用基材フィルムの残留溶剤量は０．２％であり、膜厚は４０μｍ、巻数は６０００ｍであった。【０２９６】
なお、ハードコート用基材フィルム１０１の平均表面粗さＲａは２．２ｎｍ、３０℃における貯蔵弾性率はＭＤ方向に５．０ＧＰａ、ＴＤ方向に４．５ＧＰａ、ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向（搬送方向）の延伸倍率は１．１０倍であった。【０２９７】
このハードコート用基材フィルム１０１に、下記ハードコート層塗布組成物１を孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、ダイコータにより塗布し、７０℃で乾燥後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量を０．３Ｊ／ｃｍ２として塗布層を硬化させ、さらに加熱処理ゾーンにおいて、１３０℃で５分間、搬送張力３００Ｎ／ｍで加熱処理し、ドライ膜厚７μｍのハードコート層を形成し、ハードコートフィルム１０１を作製し、巻き取った。【０２９８】
（ハードコート層組成物）
下記材料を攪拌、混合しハードコート層塗布組成物１とした。【０２９９】
ペンタエリスリトールトリアクリレート              ２０．０質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ５０．０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート          ３０．０質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート          ３０．０質量部
イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製）            ５．０質量部
フッ素−シロキサングラフトポリマーＩ（３５質量％）  ５．０質量部
シーホスターＫＥＰ−５０（粉体のシリカ粒子、平均粒径０．４７〜０．６１μｍ、日本触媒株式会社製）                      ２４．３質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                ２０質量部
酢酸メチル                                            ４０質量部
メチルエチルケトン                                    ６０質量部
《フッ素−シロキサングラフトポリマーＩの調製》
以下、フッ素−シロキサングラフトポリマーＩの調整に用いた素材の市販品名を示す。【０３００】
ラジカル重合性フッ素樹脂（Ａ）：セフラルコートＣＦ−８０３（水酸基価６０、数平均分子量１５，０００；セントラル硝子（株）製）
片末端ラジカル重合性ポリシロキサン（Ｂ）：サイラプレーンＦＭ−０７２１（数平均分子量５，０００；チッソ（株）製）
ラジカル重合開始剤：パーブチルＯ（ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート；日本油脂（株）製）
硬化剤：スミジュールＮ３２００（ヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット型プレポリマー；住化バイエルウレタン（株）製）
（ラジカル重合性フッ素樹脂（Ａ）の合成）
機械式撹拌装置、温度計、コンデンサー及び乾燥窒素ガス導入口を備えたガラス製反応器に、セフラルコートＣＦ−８０３（１５５４質量部）、キシレン（２３３質量部）、及び２−イソシアナトエチルメタクリレート（６．３質量部）を入れ、乾燥窒素雰囲気下で８０℃に加熱した。８０℃で２時間反応し、サンプリング物の赤外吸収スペクトルによりイソシアネートの吸収が消失したことを確認した後、反応混合物を取り出し、ウレタン結合を介して５０質量％のラジカル重合性フッ素樹脂（Ａ）を得た。【０３０１】
（フッ素−シロキサングラフトポリマーＩの調製）
機械式撹拌装置、温度計、コンデンサー及び乾燥窒素ガス導入口を備えたガラス製反応器に、上記合成したラジカル重合性フッ素樹脂（Ａ）（２６．１質量部）、キシレン（１９．５質量部）、酢酸ｎ−ブチル（１６．３質量部）、メチルメタクリレート（２．４質量部）、ｎ−ブチルメタクリレート（１．８質量部）、ラウリルメタクリレート（１．８質量部）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（１．８質量部）、ＦＭ−０７２１（５．２質量部）、及びパーブチルＯ（０．１質量部）を入れ、窒素雰囲気中で９０℃まで加熱した後、９０℃で２時間保持した。パーブチルＯ（０．１部）を追加し、さらに９０℃で５時間保持することによって、重量平均分子量が１７１，０００である３５質量％フッ素−シロキサングラフトポリマーＩの溶液を得た。【０３０２】
重量平均分子量はＧＰＣにより求めた。また、フッ素−シロキサングラフトポリマーＩの質量％はＨＰＬＣ（液体クロマトグラフィー）により求めた。【０３０３】
＜ハードコート用基材フィルム１０２の作製＞
１０１の作製において、１．６５ｍ幅にスリットした後、テンターでＴＤ方向（フィルムの幅手方向）に１．３倍に延伸しながら、１６０℃の乾燥温度で乾燥させた。このときテンターで延伸を始めたときの残留溶剤量は２０％であった。その後、１２０℃の乾燥装置内を多数のロールで搬送させながら１５分間乾燥させた後、２．２ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１５ｍｍ、高さ１０μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、ハードコート用基材フィルム１０２を得た。ハードコート用基材フィルムの残留溶剤量は０．２％であり、膜厚は４０μｍ、巻数は６０００ｍであった。【０３０４】
尚、平均表面粗さＲａは３．０ｎｍ、３０℃における貯蔵弾性率はＭＤ方向に４．１ＧＰａ、ＴＤ方向に５．５ＧＰａステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向の延伸倍率は１．０１倍であった。【０３０５】
セルロースエステル、化合物（１）及び（２）を表１及び２に記載のように変更し、ハードコート用基材フィルム１０２と同様にして各種ハードコート用基材フィルム（１０３〜１１５）を作製した。また、これらのハードコート用基材フィルムにクリアーハードコート層を設けた。【０３０６】
【表１】
0005617922.tif 000016
【０３０７】
【表２】
0005617922.tif 000017
【０３０８】
＜ハードコート用基材フィルムの動的粘弾性の測定＞
下記条件でハードコート用基材フィルムの動的粘弾性ｔａｎδｍａｘを測定した。なお、試料は、あらかじめ２３℃５５％ＲＨの雰囲気下２４時間調湿したものを使用し、湿度５５％ＲＨ、下記条件で昇温させながら測定した。【０３０９】
測定装置：ティーエイインスツルメント社製  ＲＳＡIII
試料：幅５ｍｍ、長さ５０ｍｍ（ギャップ２０ｍｍに設定）
測定条件：引張モード
測定温度：２５〜２１０℃
昇温条件：５℃／ｍｉｎ
周波数：１Ｈｚ
＜鉛筆硬度の測定＞
２３℃５５％ＲＨの雰囲気下２４時間調湿したハードコートフィルム試料を、同条件下ＪＩＳＫ５４００が規定する鉛筆硬度評価法に従い、クリアーハードコート層の面を１ｋｇのおもりを用いて各硬度の鉛筆で引っ掻きを５回繰り返し、傷が１本までの硬度を測定した。数字か高いほど、高硬度を示す。【０３１０】
＜内部ヘイズの評価＞
作製したセルロースエステルフィルムを、２３℃５５％ＲＨの環境にて５時間以上調湿した後、下記方法により内部ヘイズ値を評価した。【０３１１】
まず、フィルム以外の測定器具のブランクヘイズ１を測定する。
１．きれいにしたスライドガラスの上にグリセリンを一滴（０．０５ｍｌ）たらす。このとき液滴に気泡が入らないように注意する。ガラスは見た目がきれいでも汚れていることがあるので必ず洗剤で洗浄したものを使用する（図２参照）。
２．その上にカバーガラスを乗せる。カバーガラスは押さえなくてもグリセリンは広がる。
３．ヘイズメーターにセットしブランクヘイズ１を測定する。【０３１２】
次いで以下の手順で、試料を含めたヘイズ２を測定する。
４．スライドガラス上にグリセリン０．０５ｍｌを滴下する（図２参照）。
５．その上に測定する試料フィルムを気泡が入らないように乗せる（図３参照）。
６．試料フィルム上にグリセリン０．０５ｍｌを滴下する（図４参照）。
７．その上にカバーガラスを載せる（図５参照）。
８．上記のように作製した積層体（上から、カバーガラス／グリセリン／試料フィルム／グリセリン／スライドガラス）をヘイズメーターにセットしヘイズ２を測定する。
９．（ヘイズ２）−（ヘイズ１）＝（本発明のセルロースエステルフィルムの内部ヘイズ）を算出する。【０３１３】
上記測定にて使用したガラス、グリセリンを以下の通りである。【０３１４】
ガラス：ＭＩＣＲＯ  ＳＬＩＤＥ  ＧＬＡＳＳ  Ｓ９２１３  ＭＡＴＳＵＮＡＭＩ
グリセリン：関東化学製  鹿特級（純度＞９９．０％）  屈折率１．４７
また、ヘイズ値は、日本電色工業株式会社製ＮＤＨ２０００を用いて測定した。【０３１５】
測定したヘイズ値によって下記ランク分けを行った。【０３１６】
Ａ：０．０４未満
Ｂ：０．０４以上０．０８未満
Ｃ：０．０８以上０．１２未満
Ｄ：０．１２以上
上記評価結果を表３に示す。【０３１７】
【表３】
0005617922.tif 000018
【０３１８】
表３に示した結果から明らかなように、比較例と比べ、本発明に係る実施例の動的粘弾性ｔａｎδｍａｘは適切な範囲内にある上に、高硬度で、かつ内部ヘイズ値が低いことが分かる。【０３１９】
すなわち、本発明の手段により、適切な光学性能を維持しながら、表面加工適性（硬度、密着性）に優れたハードコート用基材フィルムを提供できることが分かる。
【符号の説明】
【０３２０】
１  主ドープ仕込み釜
２  ドープ送液ポンプ
５  前後巻回ドラム
７  ステンレスベルト
８  剥離ロール
９  ウェブ
１０Ａ、１０Ｂ  ロール搬送乾燥装置
１１  温風（乾燥風）
１２  テンター
１３  フィルム巻き取り装置
Ａ  流延ダイ
【図１】
0005617922.tif 000019
【図２】
0005617922.tif 000020
【図３】
0005617922.tif 000021
【図４】
0005617922.tif 000022
【図５】
0005617922.tif 000023