(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハウジング（１）と、放射放出半導体チップ（２）と、放射検出半導体チップ（３）と、を備えるオプトエレクトロニクス半導体コンポーネント（１０）であって、
−  第１のキャビティ（４ａ）と第２のキャビティ（４ｂ）が前記ハウジング（１）の中に形成され、
−  前記放射放出半導体チップ（２）は、放射を生成するのに適している活性層を有し、前記第１のキャビティ（４ａ）の中に配置され、前記第１のキャビティ（４ａ）は、第１のポッティング化合物（５ａ）によりポッティングされ、
−  前記放射検出半導体チップ（３）は、放射を検出するのに適している活性層を有し、前記第２のキャビティ（４ｂ）の中に配置され、前記第２のキャビティ（４ｂ）は、第２のポッティング化合物（５ｂ）によりポッティングされ、
−  吸収材粒子が、前記第２のポッティング化合物（５ｂ）の中に埋め込まれ、前記吸収材粒子は、前記放射放出半導体チップ（２）により放出される放射の少なくとも一部を吸収するのに適しており、
前記放射放出半導体チップ（２）は、可視光を放出するのに適しているＬＥＤであり、前記放射検出半導体チップ（３）は、赤外線放射を検出するのに適している光検出器であり、
前記放射検出半導体チップ（３）は、前記放射放出半導体チップ（２）により放出される放射の波長範囲と異なる波長範囲の放射のみを検出するために設けられており、
前記放射放出半導体チップ（２）は、動作中４００ｎｍと７００ｎｍの間の範囲（両端値を含む）の波長を有する可視光を生成するように設計され、前記放射検出半導体チップ（３）は、８００ｎｍと１５００ｎｍの間の範囲（両端値を含む）の波長を有する赤外線放射を検出するのに適しており、
前記放射検出半導体チップ（３）は、外部の太陽光を検出し、太陽光が検出された場合には前記放射放出半導体チップ（２）をオフとし、太陽光が検出されない場合には前記放射放出半導体チップ（２）をオンとする、
オプトエレクトロニクス半導体コンポーネント（１０）。
【請求項２】
前記ハウジング（１）の底面には、プリント基板（７ａ、８ａ）が、前記第１のキャビティ（４ａ）と前記第２のキャビティ（４ｂ）のベース領域にそれぞれ配置されており、したがって、前記第１のキャビティ（４ａ）と前記第２のキャビティ（４ｂ）の穿孔は、前記ハウジング（１）の底面で閉じており、前記ハウジング（１）のハウジング部材は、前記プリント基板（７ａ、８ａ）の部品取付面の上において部分的に突出しており、したがって、前記プリント基板（７ａ、８ａ）は、前記ハウジング（１）に機械的に固定されている、
請求項１に記載のオプトエレクトロニクス半導体コンポーネント。
【請求項３】
前記放射放出半導体チップ（２）は、前記放射検出半導体チップ（３）を介して通電される、
請求項１または２に記載のオプトエレクトロニクス半導体コンポーネント（１０）。
【請求項４】
キャビティ壁（１ａ、１ｂ）に基づく光学的障壁が、前記放射放出半導体チップ（２）と前記放射検出半導体チップ（３）との間に形成される、
請求項１から３のいずれかに記載のオプトエレクトロニクス半導体コンポーネント（１０）。
【請求項５】
前記ハウジング（１）の前記第１のキャビティ（４ａ）および前記第２のキャビティ（４ｂ）は、一体化された分離スロット（６）により互いに機械的に分離されている、
請求項１から４のいずれかに記載のオプトエレクトロニクス半導体コンポーネント（１０）。
【請求項６】
前記第１のポッティング化合物（５ａ）は、シリコンポッティング化合物であり、前記第２のポッティング化合物（５ｂ）は、エポキシ樹脂ポッティング化合物である、
請求項１から５のいずれかに記載のオプトエレクトロニクス半導体コンポーネント（１０）。
【請求項７】
前記エポキシ樹脂ポッティング化合物（５ｂ）は、前記放射放出半導体チップ（２）により放出される前記放射を吸収するのに適した吸収材粒子を含む、
請求項６に記載のオプトエレクトロニクス半導体コンポーネント（１０）。
【請求項８】
前記放射放出半導体チップ（２）および前記放射検出半導体チップ（３）のそれぞれに対して、成形によりハウジング材料で封入された２つプリント基板（７ａ、７ｂ、８ａ、８ｂ）が、前記ハウジング（１）内において一体化されている、
請求項１から７のいずれかに記載のオプトエレクトロニクス半導体コンポーネント（１０）。
【請求項９】
前記ハウジング（１）は、黒色のエポキシドを含み、および／または、前記ハウジング（１）は、ニッケル、パラジウムおよび金のうち少なくとも１つにより、いくつかの領域で被膜される、
請求項１から８のいずれかに記載のオプトエレクトロニクス半導体コンポーネント（１０）。
【請求項１０】
前記放射放出半導体チップ（２）は、動作中４２０ｎｍと６５０ｎｍの間の範囲（両端値を含む）の波長を有する可視光を生成するように設計され、前記放射検出半導体チップ（３）は、８４０ｎｍと９２０ｎｍの間の範囲（両端値を含む）の波長を有する赤外線放射を検出するのに適している、
請求項１から９のいずれかに記載のオプトエレクトロニクス半導体コンポーネント（１０）。
【請求項１１】
前記ハウジング（１）は、ＱＦＮハウジングである、
請求項１から１０のいずれかに記載のオプトエレクトロニクス半導体コンポーネント（１０）。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれかに記載のオプトエレクトロニクス半導体コンポーネント（１０）をインテリジェント光源として使用する方法であって、
外部放射の検出された部分に基づいて前記放射放出半導体チップ（２）を動作させる方法。
【請求項１３】
ハウジング（１）と、放射放出半導体チップ（２）と、放射検出半導体チップ（３）とを備える、請求項１から１１のいずれかに記載のオプトエレクトロニクス半導体コンポーネント（１０）の製造方法であって、
−  第１のキャビティ（４ａ）と、第２のキャビティ（４ｂ）とを有する前記ハウジング（１）を備えるステップと、
−  前記放射放出半導体チップ（２）を前記第１のキャビティ（４ａ）に配置し、前記第１のキャビティ（４ａ）を第１のポッティング化合物（５ａ）によりポッティングするステップと、
−  前記放射検出半導体チップ（３）を前記第２のキャビティ（４ｂ）に配置し、前記第２のキャビティ（４ｂ）を第２のポッティング化合物（５ｂ）によりポッティングするステップと、を備え、
吸収材粒子が前記第２のポッティング化合物（５ｂ）に埋め込まれ、前記吸収材粒子は、前記放射放出半導体チップ（２）により放出される前記放射の少なくとも一部を吸収するのに適している製造方法。
【請求項１４】
複数の半導体コンポーネント（１０）が共通の方法により製造され、前記半導体コンポーネントは鋸引きにより順次個片化される、
請求項１３に記載のオプトエレクトロニクス半導体コンポーネント（１０）の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、ハウジングと放射放出半導体チップと放射検出半導体チップとを備えるオプトエレクトロニクスコンポーネントに関し、このようなコンポーネントの製造方法およびこのようなコンポーネントの使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
放射放出半導体チップと放射検出半導体チップとを備えるコンポーネントの設計は公知である。しかし、これらの従来のデバイスは、例えば別々の離れたハウジングの中でプリント基板上に互いに離れて配置された半導体チップを備えている。しかし、この結果、このようなデバイスは通常大きなスペースおよび大きなサイズで具体化されたコンポーネント部品が必要となり、これは不利である。このため、製造コストおよび部品コストにも反映されて不利になる。
【発明の概要】
【０００３】
本願発明の目的は、小型のサイズで具体化され、同時に環境の影響に柔軟に対応できるコンポーネントを提案することにある。さらに、本願発明の目的は、このような費用効率が高いコンポーネントを製造する方法を提案することでもある。さらに、本願発明の目的は、柔軟性が高く、同時に信頼性が高いこのようなコンポーネントの使用方法を提案することでもある。
【０００４】
これらの目的は、特に、このような請求項１の特徴を備えるコンポーネントの使用によって、請求項１２の特徴を備えるコンポーネントの使用によって、また請求項１４の特徴を備える、このようなコンポーネントを製造する方法によって、達成される。従属クレームは、このコンポーネントの有利な実施例や、このコンポーネントの使用、その製造方法に関連している。
【０００５】
実施形態では、オプトエレクトロニクス半導体コンポーネントは、ハウジングと放射放出半導体チップと放射検出半導体チップとを備える。第１のキャビティと第２のキャビティは、ハウジングの中に形成される。放射放出半導体チップは、放射を生成するのに適している活性層を有し、第１のキャビティの中に配置されており、第１のキャビティは、第１のポッティング化合物によりポッティングされている。放射検出半導体チップは、放射を検出するのに適している活性層を有しており、第２のポッティング化合物よりポッティングされた第２のキャビティに配置されている。吸収材粒子が第２のポッティング化合物の中に埋め込まれており、この吸収材粒子は、放射放出半導体チップにより放出された放射の少なくとも一部を吸収するのに適している。
【０００６】
放射放出半導体チップと放射検出半導体チップは、共通のハウジングに一体化されている。これにより、特に、小さいサイズであるという特徴を有する小型半導体コンポーネントとすることが可能になり、その結果、材料のコストを低減することができこれは有利である。
【０００７】
第２のポッティング化合物の中の吸収材粒子のために、放射放出半導体チップにより放出された放射を放射検出半導体チップが検出することを防止することができ、これは有利である。したがって、放射検出半導体チップは、外部放射のみを検出することが可能となり、これは有利である。
【０００８】
よって、放射放出半導体チップと放射検出半導体チップとは、動作中にほとんど又は全く相互に影響を及ぼし合うことがない。したがって、例えば、放射検出半導体チップのおかげで、太陽光線に対して柔軟に反応を示すコンポーネントを実現することができ、これは有利である。同時に放射放出半導体チップにより放出された放射が放射検出半導体チップに影響を与えることを防止することが可能である。
【０００９】
放射放出半導体チップは、半導体チップで生成された放射のための放射出口側を有する。
【００１０】
チップ内で生成された放射は、その大部分が放射出口側から取り出されることが好ましい。放射放出半導体チップは、放射出口側の反対側に固定側を有し、固定側により、放射放出半導体チップは、ハウジングの第１のキャビティに配置される。
【００１１】
放射検出半導体チップは、半導体チップ内で検出すべき放射のための、対応する放射入口側を有し、また、放射入口側の反対側に固定側を有し、固定側により、放射検出半導体チップは、ハウジングの第２のキャビティに配置される。
【００１２】
半導体チップの活性層は、それぞれ好ましくは、ｐｎ接合、ダブルヘテロ構造、単一量子井戸（ＳＱＷ）構造、または多重量子井戸（ＭＱＷ）構造を含んでいる。
【００１３】
半導体チップは、それぞれ半導体層列を有しており、例えば、半導体層列は、それぞれ活性層を含む。半導体層列は、それぞれ少なくとも１つのＩＩＩ／Ｖ族半導体材料を含む。
【００１４】
ある実施例においては、放射検出半導体チップは、放射放出半導体チップが放出する放射の波長の範囲とは異なる波長の範囲で放射を検出するために提供される。
【００１５】
好ましくは、放射放出半導体チップは、４００ｎｍと８００ｎｍの間の範囲（両端値を含む）、もしくは４２０ｎｍと６５０ｎｍ（両端値を含む）の間の範囲の波長を有する放射を生成するのに適している。これに代えて、または、これに追加して、放射検出半導体チップは、７５０ｎｍと１５００ｎｍの間の範囲（両端値を含む）もしくは８００ｎｍと１０５０ｎｍの間の範囲（両端値を含む）もしくは８４０ｎｍと９２０ｎｍの間の範囲（両端値を含む）の波長を有する赤外線放射を検出するのに適している。特に、半導体チップは、特定の波長範囲のみに対して、放出もしくは検出、またはその両方を行う。
【００１６】
したがって、放射検出半導体チップは、放射放出半導体チップにより放出された放射の波長範囲外の放射には敏感に反応する。これにより、放射検出半導体チップは、特に、放射放出半導体チップにより放出された放射とは独立である外部の放射のみを検出することが可能となる。
【００１７】
動作中、放射放出半導体チップは、放射検出半導体チップを介して通電される。したがって、放射検出半導体チップは、放射放出半導体チップを通電するためのスイッチとして提供される。したがって、放射放出半導体チップの動作を行うか行わないかは、放射検出半導体チップにより放出される放射に依存する。
【００１８】
一例として、放射が入射する場合、放射検出半導体チップは、放射放出半導体チップのスイッチをオフとし、逆に、もし放射検出半導体チップが放射を検出しないか少量のみの放射しか検出しない場合は、放射放出半導体チップのスイッチをオンとする。
【００１９】
作成中、キャビティ壁に基づく光学的障壁が放射放出半導体チップと放射検出半導体チップとの間に形成される。したがって、放射放出半導体チップにより放出される放射を放射検出半導体チップが直接検出することはできない。それにも拘わらず、放射放出半導体チップにより放出される放射の部分が、通過して放射検出半導体チップのキャビティに入ってきた場合は、その部分がポッティング材料の中にある吸収材粒子によって吸収され、したがって、その放射の部分が放射検出半導体チップに到達することはない。放射放出半導体チップにより放出される放射が放射検出半導体チップに影響を与えるという状況はこのようにして防止できる。したがって、放射検出半導体チップは外部放射の入射に対して高い信頼性で対処することができる。
【００２０】
いわゆる「クロストーク」は、キャビティ壁により回避できる。よって、放射放出半導体チップにより生成された放射が直接通過して放射検出半導体チップに達することを防ぐことが可能である。好ましくは、放射放出半導体チップにより生成する放射が間接的に放射検出半導体チップに影響することがないか、または、あったとしてもそのような放射のうち高々１０−３または高々１０−４の部分が放射検出半導体チップに影響する程度にすぎない。
【００２１】
ある実施例では、ハウジングの第１のキャビティおよび第２のキャビティは、分離スロットにより機械的に互いに分離されている。分離スロットは、特に第１のキャビティのキャビティ壁と第２のキャビティのキャビティ壁の間に形成されている。
【００２２】
ある実施例では、第１のポッティング化合物はシリコンポッティング化合物であり、第２のポッティング化合物はエポキシ樹脂のポッティング化合物である。半導体チップ上のポッティング化合物は、所望の条件にしたがうように構成することができる。一例として、検出すべき放射に敏感に反応するポッティング材料は、第１のキャビティに対するポッティング材料としての機能を果たす。したがって、各ポッティング材料は、材料コストおよび所望の条件に関して最適に構成することができる。
【００２３】
ある実施例では、放射放出半導体チップは、可視光を発光するのに適しているＬＥＤ（発光ダイオード）であり、放射検出半導体チップは、赤外線放射を検出するのに適している光検出器である。
【００２４】
この場合、放射放出半導体チップは、照明に適している。この場合、光検出器は、外部の太陽光を検出し、特に、太陽光に含まれる赤外線放射を検出する。赤外線放射が入射する場合、検出器は、ＬＥＤ（発光ダイオード）のスイッチをオフにする。逆に、もし検出器が赤外線放射を検出しない場合、ＬＥＤのスイッチをオンにし、したがって、太陽光に対して柔軟に反応するコンポーネントを実現することができる。
【００２５】
ある実施例では、各場合においてハウジング材料の成形により封止された２つのプリント基板が半導体チップのためのハウジングに一体化される。プリント基板は、特に、半導体チップと電気的に接触するために提供される。特に、プリント基板は、各場合において第１のキャビティおよび第２のキャビティの底面の少なくともいくつかの領域に形成され、プリント基板の上に半導体チップがそれぞれ直接固定される。
【００２６】
ある実施例では、ハウジングは黒色のエポキシドを含む。これにより、さらに放射放出半導体チップにより放出される放射が、放射検出半導体チップに影響を与えることを防止することができ、これは有利である。
【００２７】
ある実施例では、ハウジングは、ニッケル、パラジウム、金のうち少なくとも１つにより少なくともいくつかの領域で被膜される。このような被膜により、放射放出半導体チップにより放出された、ハウジングの方向またはキャビティ壁の方向を向いた光の一部を放射出口側の方向に反射させることができる。
【００２８】
ある実施例では、ハウジングは、ＱＦＮハウジング（quad flat no leads）である。このようなＱＦＮハウジングは、当業者には知られており、したがってここでは詳細には説明しない。
【００２９】
ある実施例では、半導体コンポーネントは、インテリジェント光源として使用されており、インテリジェント光源は外部放射のうち検出された部分に基づいて放射放出半導体チップを動作させる。もし、外部放射のうち検出された部分が所定の限界値未満である場合は、放射検出半導体チップは、放射放出半導体チップの通電のスイッチをオンにし、したがって放射検出半導体チップは可視光を発光する。すなわち光源として機能する。もし外部放射のうち検出された部分が所定の限界値より大きい場合は、放射検出半導体チップは、放射放出半導体チップの通電のスイッチをオフにし、したがって、放射放出半導体チップは放射を放出しない。その結果、光源はもはや動作しない。
【００３０】
外部放射は、例えば、太陽光、好ましくは赤外線放射である。
【００３１】
ハウジングと、放射放出半導体チップと、放射検出半導体チップとを備えるオプトエレクトロニクス半導体コンポーネントの製造方法であって、前記製造方法は、次の方法ステップを備える。すなわち、
−  第１のキャビティと、第２のキャビティとを有する前記ハウジングを備えるステップと、
−  前記放射放出半導体チップを前記第１のキャビティに配置し、前記第１のキャビティを第１のポッティング化合物によりポッティングするステップと、
−  前記放射検出半導体チップを前記第２のキャビティに配置し、前記第２のキャビティを第２のポッティング化合物によりポッティングするステップと、を備え、
吸収材粒子が前記第２のポッティング化合物に埋め込まれ、前記吸収材粒子は、前記放射放出半導体チップにより放出される前記放射の少なくとも一部を吸収するのに適している。
【００３２】
このオプトエレクトロニクスコンポーネントまたはその使用に関連して述べた特徴は、その方法、製造方法にも適用することができ、また逆も可能である。
【００３３】
共通のハウジングに半導体チップを配置することにより、費用効率が高い、特に小さいスペースが要求される場合に差別化できる製造方法を実現することが可能となる。
【００３４】
ある実施例では、複数の半導体コンポーネントが１つの共通の方法で製造され、この複数の半導体コンポーネントは、鋸引きプロセスにより順次個片化される。これにより、大量生産工程においてこのような半導体コンポーネントを生産することが可能となる。
【００３５】
本発明のさらなる利点と有利な実施例は、図１−４に関して記載された、次に続く例示的な実施形態から明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１Ａ】本発明によるコンポーネントの例示的な実施形態の概略断面図を示している。
【図１Ｂ】図１Ａに関する例示的な実施形態の斜視図を示す。
【図２】図１Ａの例示的な実施形態の回路図を示す。
【図３Ａ】図１Ａの例示的な実施形態の平面図を示す。
【図３Ｂ】図１Ａに関する例示的な実施形態の底面図を示す。
【図４】従来技術の回路図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
例示的な実施形態および図面において、同じ構成要素または同じ機能の構成要素には、それぞれ同じ参照数字を付してある。図面に示した要素と、それらの互いのサイズの関係は原則的に正しい縮尺ではないものとみなされたい。むしろ、便宜上、または深く理解できるようにする目的で、個々の要素（例えば、層、構造部、部品、領域）を、誇張した厚さまたは寸法で示してある。
【００３８】
図４は、従来技術に従ったコンポーネントに関する例示的な回路図の実施形態を示している。このようなコンポーネントは、１つの放射放出半導体チップ２と１つの放射検出半導体チップ３とを備えている。これらの半導体チップは、導電的に互いに接続されている。しかし、従来技術によれば、それぞれの半導体チップは、別々のユニットまたはハウジングの中に配置されている。このケースでは、ハウジングは、互いに離れて距離をおいて配置されている。例えば、プリント基板上に配置されている。しかしながら、このように半導体チップが互いに離れて配置されているため、プリント基板のサイズが小さくなるように具体化されなかった。
【００３９】
抵抗Ｒと電圧レギュレータＶと６ボルト電池Ｂとが、放射放出半導体チップ２と放射検出半導体チップ３との間に配置されている。
【００４０】
図１Ａは本発明に従ったコンポーネント１０の断面図を示している。本発明によるコンポーネント１０は、ハウジング１と放射放出半導体チップ２と放射検出半導体チップ３とを備えている。
【００４１】
ハウジング１は第１のキャビティ４ａと第２のキャビティ４ｂとを有している。キャビティ壁１ａ、１ｂは、第１のキャビティ４ａと第２のキャビティ４ｂとの間に配置されている。この第１のキャビティ４ａと第２のキャビティ４ｂは、例えば、ハウジング１を貫く穿孔（perforations）として形成されている。ハウジングの底面には、プリント基板７ａ、８ａが、第１のキャビティ４ａと第２のキャビティ４ｂのベース領域にそれぞれ配置されており、したがって、第１のキャビティ４ａと第２のキャビティ４ｂの穿孔は、ハウジング１の底面で閉じている。この場合、ハウジング１のハウジングは、プリント基板７ａ、８ａの部品取付面の上において部分的に突出しており、したがって、プリント基板７ａ、８ａは、ハウジング１に機械的に固定されている。一例として、内部にプリント基板７ａ、８ａを有するハウジング１は作成済みのハウジングであり、当業者には、「予め成形されたハウジング」（premolded housing）という用語で知られている。
【００４２】
放射放出半導体チップ２は、第１のキャビティ４ａの中、特に第１のプリント基板７ａの取り付け側の上に配置されている。放射放出半導体チップ２は、例えば、ＬＥＤ（発光ダイオード）であり、好ましくは薄膜ＬＥＤ（発光ダイオード）である。放射放出半導体チップ２は、機械的にかつ導電的に第１のプリント基板７ａの取り付け側上にその下面が接続されている。半導体チップ２は、その上面からボンディングワイヤー９により第２のプリント基板に導電的に接続されており、これにより、放射放出半導体チップ２と導電的に接触することが可能となる。
【００４３】
同様のことが放射検出半導体チップ３にも当てはまり、放射検出半導体チップ３は例えば光検出器である。この半導体チップ３は第２のキャビティ４ｂの中に配置され、第３のプリント基板８ａに機械的にかつ導電的に接続されている。放射検出半導体チップ３は、ボンディングワイヤー９によって第４のプリント基板に対して第２の接触接続を行っている。
【００４４】
第１のプリント基板、第２のプリント基板、第３のプリント基板および第４のプリント基板は、例えば、図１Ｂ、図３Ａおよび図３Ｂにおける例示的な実施形態に関しより詳細に示され、説明されている。
【００４５】
第１のキャビティ４ａおよび第２のキャビティ４ｂの高さは、好ましくは、半導体チップ２、３の高さよりも大きい。したがって、ハウジング、特に、キャビティ壁は、半導体チップ２、３を完全に超えて突出している。キャビティ壁１ａ、１ｂがあるため、半導体チップ２と半導体チップ３との互いに対する光学的クロストークを防止することができる。特に、放射放出半導体チップ２により放出された放射は、放射検出半導体チップ３により直接検出することはできない。
【００４６】
放射放出半導体チップ２と放射検出半導体チップ３は、それぞれ活性層を有している。放射放出半導体チップ２の活性層は、放射を生成するのに適している。放射検出半導体チップ３の活性層は、放射を検出するのに適している。放射検出半導体チップ３は、特に、放射放出半導体チップ２が放出する波長範囲とは異なる波長範囲において放射を検出するために設けられる。これにより、放射検出半導体チップが放射放出半導体チップによって放出される放射に対して敏感に反応しないようにすることができる。
【００４７】
放射放出半導体チップ２は、好ましくは、可視光を発光するのに適しているＬＥＤである。放射検出半導体チップ３は、好ましくは、赤外線放射を検出するのに適している光検出器である。
【００４８】
キャビティ壁１ａ、１ｂによる光学的障壁は、放射放出半導体チップ２と放射検出半導体チップ３との間に形成される。したがって、ＬＥＤにより放出された放射は、光検出器により直接検出することはできない。分離スロットが第２のキャビティ４ｂのキャビティ壁１ａと第１のキャビティ４ａのキャビティ壁１ｂとの間に形成されている。この分離スロットは、ハウジング１の第１のキャビティ４ａと第２のキャビティ４ｂとの間を互いに機械的に分離している。ハウジング１は、分離スロット６にも拘わらず、一体的に具体化されている。
【００４９】
第１のキャビティ４ａの中で、放射放出半導体チップ２は、シリコンポッティング化合物によりポッティングされる。第２のキャビティ４ｂの中で、放射検出半導体チップ３は、エポキシ樹脂のポッティング化合物によりポッティングされ、エポキシ樹脂ポッティング化合物５ｂは、放射放出半導体チップ２により放出される放射の少なくとも一部を吸収するのに適している吸収材粒子を備えている。もし、放射放出半導体チップ２により放出された放射が通過して第２のキャビティ４ｂ内に入った場合には、放射のうち通過した部分がエポキシ樹脂のポッティング化合物５ｂの吸収材粒子により吸収され、従ってその部分は放射検出半導体チップ３に到達しない。よって、放射検出器３がＬＥＤ２により放出される放射により影響を受けることを防止することができる。
【００５０】
この場合、シリコンポッティング化合物５ａとエポキシ樹脂ポッティング化合物５ｂとが第１のキャビティ４ａおよび第２のキャビティ４ｂを完全に充填し、したがって、コンポーネント１０は、好ましくは、ほぼ平面状の面を有する。
【００５１】
ハウジング１は、好ましくは、黒色のエポキシドを含み、少なくともいくつかの領域でニッケル、パラジウムおよび金のうち少なくとも１つで被膜される。一例として、ハウジングは、ＱＦＮハウジングである。
【００５２】
放射放出半導体チップ２は、放射検出半導体チップ３を介して通電される。放射検出半導体チップ３は、放射放出半導体チップ２を通電するためのスイッチとして具体化されており、したがって放射放出半導体チップ２を操作するためのスイッチとして具体化されている。したがって、インテリジェント光源を製造することができ、インテリジェント光源は、外部の放射のうち検出された部分に基づいて放射放出半導体チップ２の動作をさせる。一例として、太陽光の放射は外部放射であると考える。したがって、もし放射検出半導体チップ３が、一定の限界値を超える赤外線波長範囲の放射を検出すると、放射検出器３は、放射放出半導体チップ２の通電のスイッチをオフにし、したがって、放射放出半導体チップ２は放射を放出しない。例えば、もし太陽光の光線のある部分が、コンポーネント１０の付近に存在したなら、その結果コンポーネント１０による照明が不要となる場合が当てはまる。
【００５３】
これに対して、放射検出器３が特定の限界値に満たない外部放射の部分を検出すると、放射検出器３は、放射放出半導体チップ２の通電のスイッチをオンにし、したがって、放射放出半導体チップ２が放射を放出する。すなわち、例えば、もし太陽光の外部の光線の部分が例えば夕方に減少したら、コンポーネントによる発光が必要となる。
【００５４】
半導体チップ２、３の配置が共通であるため、小型のコンポーネント１０を実現することができ、高い信頼性での動作が可能となり、生産と部品コストの点で好都合である。
【００５５】
このようなコンポーネント１０は、大量生産法により生産することができ、例えば、複数のこのようなコンポーネントを同時に生産することができるため、これらのコンポーネントは鋸引きにより順次個片化される。
【００５６】
図１Ｂは、例えば、図１Ａの例示的な実施形態によるコンポーネント１０の斜視図を示す。第１のキャビティ４ａの底面に、第１のプリント基板７ａおよび第２のプリント基板７ｂが配置され、これらにより、放射放出半導体チップ２との電気的接触が可能となる。同様に放射検出半導体チップ３にも当てはまり、放射検出半導体チップ３は第３のプリント基板８ａに配置され導電的に接続され、そして放射検出半導体チップ３の第２の接触接続は、プリント基板８ｂにより実現されている。キャビティ壁１ａとキャビティ壁１ｂの間の分離スロット６にはポッティング化合物がない。別案として、例えば、第１のキャビティ４ａまたは第２のキャビティ４ｂのポッティング化合物を追加的に分離スロット６に導入することもできる。この場合は、コンポーネント１０から放射放出半導体チップ２により放出される放射の放射出口側は、底面とは反対側に設けられる。
【００５７】
その他の点に関しては、図１Ｂの例示的な実施形態は、実質的に図１Ａの例示的な実施形態に一致している。
【００５８】
図２は、例えば図１Ａの例示的な実施形態におけるコンポーネント１０の回路図を示している。回路図で示すように、半導体チップ２、３が１つの共通のハウジング内に配置され、互いに導電的に接続されている。アノードＡおよびカソードＣが、それぞれ半導体チップごとに半導体チップの入力および出力に接続されている。半導体チップ２、３は、さまざまな電気部品を通して互いに接続されている。
【００５９】
平面図、例えば、図１Ａの例示的な実施形態におけるコンポーネント１０は、図３Ａの例示的な実施形態に示されている。半導体チップ２、３に電気的に接触する役割を有するプリント基板７ａ、７ｂ、８ａ、８ｂは、第１のキャビティおよび第２のキャビティの平面図において見ることができる。プリント基板７ａ、７ｂ、８ａ、８ｂは、それぞれ互いに電気的に絶縁された状態で配置されている。特に、電気絶縁性ハウジング材料がプリント基板の間に配置されている。
【００６０】
キャビティは、キャビティ壁により完全に囲まれている。分離スロット６は、２つのキャビティの間に配置されており、分離スロット６には、この例示的な実施形態では、ポッティング材料がない。
【００６１】
その他の点に関しては、図３Ａの例示的な実施形態は、図１Ａの例示的な実施形態に一致している。
【００６２】
図３Ｂは、図３Ａの例示的な実施形態におけるコンポーネント１０の底面図を示している。半導体チップ２、３と電気的に接触する役割を有する個々のプリント基板７ａ、７ｂ、８ａ、８ｂは底面から見ることができる。これらのプリント基板は、互いに電気的に絶縁された状態で配置されている。特に、個々のプリント基板は、互いに間隔を置いて配置されており、この間隔にはハウジング材料１が充填されている。コンポーネント１０は、その底面から外部との電気的な接触が可能であり、例えば、その底面は、外部のプリント基板に取り付けられ、外部のプリント基板に導電的に接続されている。コンポーネント１０は、特に、表面実装コンポーネントである。
【００６３】
その他の点に関しては、図３Ｂの例示的な実施形態は、図３Ａの例示的な実施形態に一致している。
【００６４】
ここまで、本発明について例示的な実施形態に基づいて説明してきたが、本発明はこれらの実施形態に限定されない。本発明は、任意の新規の特徴および特徴の任意の組合せを包含しており、特に、請求項における特徴の任意の組合せを含んでいる。これらの特徴または特徴の組合せは、それ自体が請求項あるいは例示的な実施形態に明示的に記載されていない場合であっても、本発明に含まれる。
【００６５】
［関連出願］
本特許出願は、独国特許出願第１０２０１００５３８０９．４号の優先権を主張し、この文書の開示内容は参照によって本出願に組み込まれている。
【図１Ａ】
0005642885.tif 000002
【図１Ｂ】
0005642885.tif 000003
【図２】
0005642885.tif 000004
【図３Ａ】
0005642885.tif 000005
【図３Ｂ】
0005642885.tif 000006
【図４】
0005642885.tif 000007