(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子用材料。
【化１】
0005617645.tif 000022
〔式中、ＡｒとＸは互いに結合して８員環以上の環状化合物を形成し、ｍおよびｎは１以上の整数を表し、ｍ個のＡｒは同一でも異なっていてもよく、ｎ個のｍおよびＸは同一でも異なっていても良い。Ａｒは芳香族炭化水素環または芳香族複素環を表す。ＸはＳｉＲ１Ｒ２、ＰＲ３、Ｐ（＝Ｙ）Ｒ４、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＮＲ５、ＣＲ６Ｒ７またはＣ（＝Ｏ）を表し、少なくとも１つのＸがＳｉＲ１Ｒ２、ＰＲ３またはＰ（＝Ｙ）Ｒ４を表す。Ｙは酸素、硫黄またはセレンを表し、Ｒ１からＲ７はそれぞれ置換基を表す。〕
【請求項２】
前記一般式（１）において、ＸはＳｉＲ１Ｒ２、ＰＲ３またはＰ（＝Ｙ）Ｒ４のいずれかであることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料。
【請求項３】
請求項１または２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４】
請求項１または２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料を含有する層が湿式法（ウェットプロセス）により形成されたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項５】
請求項３または４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えたことを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項３または４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えたことを特徴とする照明装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な有機エレクトロルミネッセンス素子用材料、及びこれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子、表示素子、照明装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、発光型の電子ディスプレイデバイスとしてエレクトロルミネッセンスディスプレイ（以下、ＥＬＤと言う）がある。ＥＬＤとして、無機エレクトロルミネッセンス素子や有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬとも言う）が挙げられる。無機エレクトロルミネッセンス素子は平面型光源として使用されてきたが、発光素子を駆動させるためには高電圧が必要である。有機エレクトロルミネッセンス素子においては発光する化合物を含有する発光層、さらに必要に応じて複数の有機化合物層を陰極と陽極で挟んだ構成を有し、発光層に電子および正孔を注入して、再結合させることにより励起子（エキシトン）を生成させ、この励起子が失活する際の光の放出（蛍光・リン光）を利用して発光する素子であり、数Ｖ〜数十Ｖ程度の低電圧で発光が可能であり、更に自己発光型であるために視野角に富み、視認性が高く、薄膜型の完全固体素子であるために省スペース、携帯性の観点からも注目されている。
【０００３】
しかしながら、今後の実用化に向けた有機エレクトロルミネッセンス素子においては、更に効率が高く、長寿命に発光する有機エレクトロルミネッセンス素子の開発が望まれている。
【０００４】
また、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光材料に蛍光材料だけでなくリン光材料の利用が可能なことが明らかとなり鋭意研究開発が行われている。一重項励起子と三重項励起子の生成比は１：３であるが、蛍光材料の場合、励起一重項のみを利用できるのに対し、リン光材料の場合には励起一重項に加えて励起三重項も利用できるため、内部量子効率の上限を１００％とすることができる。このため、蛍光材料に比較してリン光材料を利用した場合、原理的に発光効率が４倍となり、冷陰極管とほぼ同等の性能が得られる可能性があることから照明用途としても注目されている。
【０００５】
一方、有機エレクトロルミネッセンス素子の寿命を改善する手段の一つとして、含有される化合物の構造に着目した研究が進められてきた結果、実用に耐えうる可能性のある材料が幾つか見出されている。
【０００６】
環状構造を有する有機エレクトロルミネッセンス素子用材料については、（チア）カリックスアレーン類のようにアリーレン基とヘテロ原子あるいはアリーレン基とアルキレン基による環状構造を有する材料（例えば、特許文献１、２参照。）、直接アリーレン基を結合した環状化合物材料（例えば、特許文献３参照。）や環状シロキサン構造（例えば特許文献４参照。）が既に開示されている。
【０００７】
しかしながら、これらの環状化合物は、鎖状化合物に比較して素子の安定性に優れるものの、素子として利用した場合には他の材料との相性に課題があり、またリン光波長が長く、青色リン光発光ドーパントを用いた場合に、効率が実用上、不十分であることが明らかとなった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００７−３３５６３８号公報
【特許文献２】特開２００９−２６０２８６号公報
【特許文献３】特開２００７−１６５３７７号公報
【特許文献４】国際公開第０８／０５３９３５号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、高効率、長寿命で、ダークスポットの少ない有機エレクトロルミネッセンス素子、およびこれを用いた表示装置、照明装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の上記目的は、以下の構成１〜６により達成することができる。
具体的に本発明によれば、構成１において、一般式（１）中、ＸはＳｉＲ１Ｒ２、ＰＲ３、Ｐ（＝Ｙ）Ｒ４、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＮＲ５、ＣＲ６Ｒ７またはＣ（＝Ｏ）を表し、少なくとも１つのＸがＳｉＲ１Ｒ２、ＰＲ３またはＰ（＝Ｙ）Ｒ４を表す有機エレクトロルミネッセンス素子用材料が提供される。
【００１１】
１．下記一般式（１）で表されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子用材料。
【００１２】
【化１】
0005617645.tif 000002
【００１３】
〔式中、ＡｒとＸは互いに結合して８員環以上の環状化合物を形成し、ｍおよびｎは１以上の整数を表し、ｍ個のＡｒは同一でも異なっていてもよく、ｎ個のｍおよびＸは同一でも異なっていても良い。Ａｒは芳香族炭化水素環または芳香族複素環を表す。総てのｍが１の場合、少なくとも１つのＸはＳｉＲ１Ｒ２、ＰＲ３またはＰ（＝Ｙ）Ｒ４を表し、ｍが２以上の場合、ＸはＳｉＲ１Ｒ２、ＰＲ３、Ｐ（＝Ｙ）Ｒ４、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＮＲ５、ＣＲ６Ｒ７またはＣ（＝Ｏ）を表す。Ｙは酸素、硫黄またはセレンを表し、Ｒ１からＲ７はそれぞれ置換基を表す。〕
２．前記一般式（１）において、ＸはＳｉＲ１Ｒ２、ＰＲ３またはＰ（＝Ｙ）Ｒ４のいずれかであることを特徴とする前記１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料。
【００１４】
３．前記１または２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００１５】
４．前記１または２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料を含有する層が湿式法（ウェットプロセス）により形成されたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００１６】
５．前記３または４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えたことを特徴とする表示装置。
【００１７】
６．前記３または４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えたことを特徴とする照明装置。
【発明の効果】
【００１９】
本発明により、高効率、長寿命で、ダークスポットの少ない有機エレクトロルミネッセンス素子、およびこれを用いた表示装置、照明装置を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】有機ＥＬ素子から構成される表示装置の一例を示した模式図である。
【図２】表示部の模式図である。
【図３】照明装置の概略図である。
【図４】照明装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明者らは上記課題に鑑み、鋭意検討を行う中で大環状化合物に着目し、その課題を克服することで本発明を達成するに至った。
【００２２】
即ち、大環状化合物の環状構造の一部にＸで表される基を導入した、前記一般式（１）で表される化合物とすることで、素子の安定性を向上させると共に、併用した他の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料との相性が良く、安定した有機エレクトロルミネッセンス素子を提供できることを見出した。また、青色発光リン光ドーパントを用いた場合にも良好な素子性能を示す有機エレクトロルミネッセンス素子を提供できること、さらには塗布製膜可能な材料を提供できることを見出した。
【００２３】
これらの要因としては、環状化合物の一部にＸで表される基を導入した、前記一般式（１）で表される構造にすることで、環全体あるいは環を構成するＡｒ同士の平面性とねじれを適切な程度に調整できたため他材料との相性が良く、膜質が向上したためと予想している。また更にはＸで表される基を導入することでリン光発光波長の長波化を抑制することが可能になったためと考えている。このような要因により、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料を用いて有機エレクトロルミネッセンス素子の有機層を形成した場合、他の材料との相性が良く、化合物だけではなく素子としての安定性に優れること、さらに青色リン光発光ドーパントに対しても高効率な発光が可能になったものと推測している。
【００２４】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料は、前記一般式（１）で表される事を特徴とする。
【００２５】
前記一般式（１）において、Ａｒはそれぞれ同一、あるいは異なっていてもよい芳香族炭化水素環（芳香族炭素環基、アリール基等ともいい、例えば、フェニル基、ｐ−クロロフェニル基、メシチル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、フェナントリル基、インデニル基、ピレニル基、ビフェニリル基等）、芳香族複素環基（例えば、ピリジル基、ピリミジル基、フリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ピラゾリル基、ピラジニル基、トリアゾリル基（例えば、１，２，４−トリアゾール−１−イル基、１，２，３−トリアゾール−１−イル基等））、オキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、チアゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、フラザニル基、チエニル基、キノリル基、ベンゾフリル基、ジベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、インドリル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、ジアザカルボリル基（前記、カルボリニル基のカルボリン環構成する炭素原子の一つが窒素原子で置き換わったもの）、キノキサリニル基、トリアジニル基、キナゾリニル基、フタラジニル基等）であり、より好ましい芳香族炭化水素環として、フェニル基、ナフチル基、フルオレニル基、フェナントリル基、ビフェニリル基、フルオレノニル基が挙げられ、同様により好ましい芳香族複素環基として、ピリジル基、ピリミジル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ピラゾリル基、チエニル基、キノリル基、インドリル基、ジベンゾフリル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、ジアザカルボリニル基が挙げられ、更に好ましくはフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フルオレニル基、ピリジル基、チエニル基、ジベンゾフリル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、ジアザカルバゾリル基が挙げられる。これらＡｒは任意の位置で他のＡｒあるいはＸと結合し、連結位置は同一でも異なっていてもよい。Ａｒは更に置換基を有していても良く、このような置換基として、アルキル基、シクロアルキル基、アルキニル基、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基、複素環基（例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリニル基、オキサゾリジル基等）、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、アミノ基、ハロゲン原子、フッ化炭化水素基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基、ホスホノ基等が挙げられ、好ましい例として、アルキル基、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基、アミノ基、シリル基、ホスホノ基が挙げられ、これら置換基は同一であっても、異なっていても良く、上記の置換基によって更に置換および結合して環を形成しても良い。なお、カルバゾリル基およびその誘導体は炭素−炭素結合、あるいは窒素−炭素結合で結合することが可能であるが、炭素−炭素結合で結合した置換基であることがより好ましい。
【００２６】
ｍは１以上、２０以下の整数を表し、好ましくは２以上、１５以下の整数であり、ｍ個のＡｒは互いに同一であっても、異なっていても良い。
【００２７】
ＸはＳｉＲ１Ｒ２、ＰＲ３、Ｐ（＝Ｙ）Ｒ４、Ｏ、Ｓ、ＮＲ５またはＣＲ６Ｒ７を表し、総てのｍが１である場合、少なくとも１つのＸはＳｉＲ１Ｒ２、ＰＲ３、Ｐ（＝Ｙ）Ｒ４であって、Ｘとして好ましくはＳｉＲ１Ｒ２、ＰＲ３、Ｐ（＝Ｙ）Ｒ４またはＮＲ５であり、より好ましくはＳｉＲ１Ｒ２、ＰＲ３またはＰ（＝Ｙ）Ｒ４であり、さらに好ましくはＳｉＲ１Ｒ２またはＰ（＝Ｙ）Ｒ４である。Ｙは酸素、硫黄またはセレンを表し、好ましくは酸素、硫黄であって、より好ましくは硫黄である。
【００２８】
Ｒ１からＲ７はそれぞれ置換基を表し、置換基としては上述の置換基が挙げられ、好ましくは芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基であって、より好ましくはジベンゾフリル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、ジアザカルバゾリル基、アミノ基であって、これらは更に置換基を有していても良い。
【００２９】
ｎは１以上、２０以下の整数を表し、ｎ個のｍおよびＸは同一でも異なっていてもよい。また、ｍとｎの和は２以上、４０以下であることが好ましく、より好ましくは２以上、２０以下であって、さらに好ましくは３以上１０以下であって、更には４から８のいずれかの整数であることがより好ましい。ｍとｎの大小関係については、特に限定されないが、ｍとｎの差は５より小さい整数であることがより好ましい。
【００３０】
この時、形成される環のサイズについては８員環以上であれば、特に限定されないが、８員環以上、１００員環以下であることが好ましく、より好ましくは１０員環以上、５０員環以下であって、更に好ましくは１０員環以上、３０員環以下である。
【００３１】
以下、本発明に係る化合物を挙げるが、これらに限定されるものではない。なお、本発明に係る化合物はＭａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、１０４１３−１０４２０頁（２００５年）、Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ−Ａ  Ｅｕｒｏｐｅａｎ  Ｊｏｕｒｎａｌ，１１３６−１１５０頁（１９９７年）、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，３３６−３３９頁（１９９０年）、特開２００９−２６０２８６公報等の合成法を参考に合成することができる。
【００３２】
【化２】
0005617645.tif 000003
【００３３】
【化３】
0005617645.tif 000004
【００３４】
【化４】
0005617645.tif 000005
【００３５】
【化５】
0005617645.tif 000006
【００３６】
【化６】
0005617645.tif 000007
【００３７】
【化７】
0005617645.tif 000008
【００３８】
【化８】
0005617645.tif 000009
【００３９】
以下に本発明の化合物の合成例を示す。
【００４０】
《本発明の化合物（１９）の合成》
【００４１】
【化９】
0005617645.tif 000010
【００４２】
＜中間体（Ｃ）の合成＞
別途合成した中間体（Ａ）、５．０ｇと中間体（Ｂ）、２．６ｇをフラスコに入れ、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、２００ｍｌおよびＥｔＯＨ、２０ｍｌを加え、３０分間窒素バブリングした。この溶液に炭酸カリウム、３．０ｇと触媒としてテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム、０．３ｇを加え、窒素気流下、１２時間加熱還流した。放冷後、水、１００ｍｌを加え有機層を抽出し、水洗、硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮した後、カラムクロマトグラフィーによって、中間体（Ｃ）、３．０ｇを得た（収率６０％）。
【００４３】
＜中間体（Ｅ）の合成＞
中間体（Ｃ）、３．０ｇと中間体（Ｄ）、３．６ｇとＤＭＡｃ（ジメチルアセトアミド）３０ｍｌをフラスコに入れ１５分間窒素バブリングした。この溶液に炭酸カリウム、２．１ｇと触媒として銅、０．８ｇを加え、窒素気流下、１５０℃で８時間反応させた。反応終了後、水、２００ｍｌおよび酢酸エチル、２００ｍｌを加え、有機層を抽出、水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮した後、カラムクロマトグラフィーによって中間体（Ｅ）、１．９ｇを得た（収率３９％）。
【００４４】
＜本発明の化合物（１９）の合成＞
中間体（Ｅ）、１．９ｇをフラスコに入れ、窒素気流下、脱水ＴＨＦ、１００ｍｌを加え溶解させた。窒素気流下、この溶液をドライアイス／アセトン浴にて冷却し、−７０℃以下を保ちながらｎ−ＢｕＬｉ（１．６５Ｍ）、３ｍｌおよびＴＨＦ、１０ｍｌの混合溶液を滴下した。そのまま低温で３０分間撹拌した後、ジクロロフェニルホスフィン、０．４ｇとＴＨＦ、１０ｍｌを滴下した。この溶液を室温に戻し、３時間加熱還流させた。反応終了後、有機層を水、５０ｍｌにて２度水洗し、続けて過酸化水素水（３０〜３５．５％）を２倍に希釈した溶液を１００ｍｌ加え、２時間室温にて撹拌した。有機層を中性まで水洗した後、硫酸ナトリウムで乾燥、分取ＧＰＣで精製して本発明の化合物（１９）、０．４ｇを得た（収率２２％）。
【００４５】
《本発明の化合物（２１）および（３２）の合成》
【００４６】
【化１０】
0005617645.tif 000011
【００４７】
【化１１】
0005617645.tif 000012
【００４８】
＜中間体（Ｃ′）の合成＞
窒素気流下、フラスコ内に別途合成した中間体（Ａ′）、１０．０ｇとＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、２００ｍｌを加え、ドライアイス／アセトン浴にて冷却した。−７０℃以下まで冷却後、ｎ−ＢｕＬｉ（１．６５Ｍ）、１５．８ｍｌを滴下し、続けてジクロロジフェニルシラン（Ｂ′）、３．２ｇをＴＨＦ、１５ｍｌと共に滴下した。滴下終了後、３時間かけて徐々に温度を室温に戻した後、水、５０ｍｌを加え、分液、水洗、硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮し、クロマトグラフィーによって精製し、中間体（Ｃ′）、７．４ｇを得た（収率７２％）。
【００４９】
＜中間体（Ｅ′）の合成＞
中間体（Ｃ′）、６．５ｇ、中間体（Ｄ）、３．７ｇとＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）５０ｍｌをフラスコに入れ１５分間窒素バブリングした。この溶液に炭酸カリウム、４．９ｇと［１，１′−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（II）ジクロリドジクロロメタン付加物、０．９ｇを加え、１２０℃で８時間反応させた。放冷後、撹拌しながら水、５００ｍｌを徐々に加え、析出した固体をろ取、トルエンで再結晶を行い中間体（Ｅ′）、５．１ｇを得た（収率６５％）。
【００５０】
＜中間体（Ｆ′）の合成＞
中間体（Ｆ′）、５．０ｇをＤＭＦ（ジメチルホルムアミド）、５０ｍｌに溶解し、氷浴で冷却しながら臭素、０．６ｍｌを加えた。さらにこの溶液を室温で４時間撹拌した後、水、５００ｍｌを加え、トルエンで抽出した。有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄し、さらに水洗、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮したところ、固体が析出したのでこれをろ取し、さらにトルエン／ＴＨＦで再結晶して中間体（Ｆ′）、４．７ｇを得た（収率８２％）。
【００５１】
＜本発明の化合物（３２）の合成＞
窒素気流下、中間体（Ｆ′）、４．５ｇ、ＴＨＦ、４５０ｍｌをフラスコに入れ、ドライアイス／アセトン浴にて冷却し、−７０℃以下を保ちながらｎ−ＢｕＬｉ（１．６５Ｍ）、４．７ｍｌを滴下した。そのまま低温で３０分間撹拌した後、ジクロロフェニルホスフィン（Ｇ′）、０．７ｇとＴＨＦ、５０ｍｌを滴下した。この溶液を徐々に室温に戻した後、８時間加熱還流させた。反応終了後、有機層を水で２度水洗した後、有機層中の不溶解物をろ別した。この溶液をさらに水洗、硫酸マグネシウムで脱水、分取ＧＰＣで精製して本発明の化合物（３２）、０．３８ｇを得た（収率９％）。
【００５２】
＜本発明の化合物（２１）の合成＞
本発明の化合物（３２）、０．３５ｇをＥｔＯＨ、１００ｍｌに溶解し、過酸化水素水（３０〜３５．５％）を３倍に希釈した溶液を５０ｍｌ加え、２時間撹拌した。反応終了後、水酸化ナトリウム水溶液で中和し、溶液を減圧濃縮した。濃縮した反応溶液にＴＨＦ、５０ｍｌを加え、水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥、分取ＧＰＣで精製して本発明の化合物（２１）、０．２７ｇを得た（収率７６％）。
【００５３】
《本発明の化合物（２５）の合成》
【００５４】
【化１２】
0005617645.tif 000013
【００５５】
＜中間体（Ｃ″）の合成＞
窒素気流下、フラスコ内に２，２′−ジブロモビフェニル（Ａ″）、１２．０ｇと脱水Ｅｔ２Ｏ（ジエチルエーテル）、２００ｍｌを加え、ドライアイス／アセトン浴で−７０℃以下に冷却した。この溶液にテトラクロロシラン（Ｂ″）、２６．０ｇをＥｔ２Ｏ、１５０ｍｌの混合溶液を滴下した。そのまま−７０℃以下を保ちながら６時間撹拌し、室温に戻した。析出した固体をろ別し、ろ液を減圧濃縮し、中間体（Ｃ″）、５．０ｇを得た（収率５２％）。
【００５６】
＜中間体（Ｅ″）の合成＞
窒素気流下、１，４−ジブロモベンゼン（Ｄ″）、４．７ｇとＴＨＦ、５０ｍｌを加え、ドライアイス／アセトン浴にて冷却した。−７０℃以下を保ちながら、ｎ−ＢｕＬｉ（１．６５Ｍ）、１２．６ｍｌを加え、低温で１時間撹拌後、この溶液に中間体（Ｃ″）、２．５ｇとＴＨＦ、５０ｍｌの混合溶液を徐々に加えた。滴下終了後、さらに２時間、低温で撹拌した後、昇温し、−１０℃で水、１００ｍｌを加えた。反応液を分液、水洗、硫酸ナトリウムで脱水後、カラムクロマトグラフィーによって精製し、中間体（Ｅ″）、２．１ｇを得た（収率４３％）。
【００５７】
＜本発明の化合物（２５）の合成＞
窒素気流下、中間体（Ｅ″）、２．０ｇとＴＨＦ、２００ｍｌを入れ、ドライアイス／アセトン浴にて冷却した。−７０℃以下を保ちながらｎ−ＢｕＬｉ（１．６５Ｍ）、５．２ｍｌおよびＴＨＦ、１０ｍｌの混合溶液を滴下し、そのまま低温で３０分間撹拌した後、中間体（Ｃ″）、１．１ｇとＴＨＦ、３０ｍｌを滴下した。さらに低温で１時間撹拌した後、この溶液を室温に戻し、４時間加熱還流させた。反応終了後、水を加え、分液、水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥後、分取ＧＰＣで精製して本発明の化合物（２５）、０．３ｇを得た（収率１４％）。
【００５８】
尚、後述する本発明の有機ＥＬ素子の作製に際しては、更に昇華精製を２回行った試料を用いた。
【００５９】
本発明に係る化合物は、有機エレクトロルミネッセンス素子中のいずれの有機層に含まれていても良いが、好ましくはホスト化合物、正孔輸送材料、電子輸送材料として用いられることが好ましく、さらに好ましくはホスト材料、正孔輸送材料として用いられることである。またこの時、各有機層は、本発明に係る化合物単独で構成されていても良いし、他の材料と混合して用いられていても良い。
【００６０】
≪有機ＥＬ素子の構成層≫
本発明の有機ＥＬ素子の構成層について説明する。本発明において、有機ＥＬ素子の層構成の好ましい具体的を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。
（ｉ）陽極／発光層／電子輸送層／陰極
（ii）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
（iii）陽極／正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極
（iv）陽極／正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極バッファー層／陰極
（ｖ）陽極／陽極バッファー層／正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極バッファー層／陰極
本発明の有機ＥＬ素子においては、青色発光層の発光極大波長は４３０〜４８０ｎｍにあるものが好ましく、緑色発光層は発光極大波長が５１０〜５５０ｎｍ、赤色発光層は発光極大波長が６００〜６４０ｎｍの範囲にある単色発光層であることが好ましく、これらを用いた表示素子であることが好ましい。またこれらの少なくとも３層の発光層を積層して白色発光層としたものであっても良い。さらに発光層間には非発光性の中間層を有していても良い。本発明の有機ＥＬ素子としては白色発光層であることが好ましく、これらを用いた照明装置であることが好ましい。
【００６１】
本発明の有機ＥＬ素子を構成する各層について説明する。
【００６２】
≪発光層≫
本発明に係る発光層は、電極または電子輸送層、正孔輸送層から注入されてくる電子および正孔が再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接層との界面であっても良い。
【００６３】
発光層の膜厚の総和に特に制限はないが、膜の均質性や発光時に不必要な高電圧を印加するのを防止し、かつ駆動電流に対する発光色の安定性向上の観点から、２ｎｍ〜５μｍの範囲に調整することが好ましく、更に好ましくは２〜２００ｎｍの範囲に調整され、特に好ましくは１０〜４０ｎｍの範囲である。
【００６４】
本発明の有機ＥＬ素子の発光層には、発光ドーパント（リン光ドーパント（リン光発光性ドーパント基ともいう）や蛍光ドーパント等）化合物と、ホスト化合物を含有する。
【００６５】
（発光性ドーパント化合物）
発光性ドーパント化合物について説明する。
【００６６】
発光性ドーパント化合物としては、蛍光ドーパント化合物、リン光ドーパント化合物を用いる事ができる。
【００６７】
（リン光ドーパント化合物）
本発明に係るリン光ドーパント化合物について説明する。
【００６８】
本発明に係るリン光ドーパント化合物は、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には室温（２５℃）にてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が２５℃において０．０１以上の化合物であると定義されるが、好ましいリン光量子収率は０．１以上である。
【００６９】
上記、リン光量子収率は、第４版実験化学講座７の分光IIの３９８頁（１９９２年版、丸善）に記載の方法により測定できる。溶液中でのリン光量子収率は種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明に係るリン光ドーパント化合物は任意の溶媒のいずれかにおいれ上記リン光収率０．０１以上が達成されれば良い。
【００７０】
リン光ドーパント化合物の発光原理としては２種挙げられ、一つはキャリアが輸送されるホスト化合物上でのキャリアの再結合が起こって、発光性ホスト化合物の励起状態が生成し、このエネルギーをリン光ドーパントに移動させることでリン光ドーパントからの発光を得る、というエネルギー移動型。もう一つはリン光ドーパント化合物自身がキャリアトラップとなり、リン光ドーパント上でキャリアの再結合が生じ、リン光ドーパント化合物からの発光が得られるというキャリアトラップ型であるが、いずれの場合においても、リン光ドーパント化合物の励起状態のエネルギーは、ホスト化合物の励起状態のエネルギーよりも低いことが良好な発光を得るための条件である。
【００７１】
以下にリン光ドーパントとして用いられる公知の化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。また、これらの化合物は、例えば、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４０巻、１７０４〜１７１１頁に記載の方法などにより合成できる。
【００７２】
以下に発光ドーパントの例を挙げるがこれらに限定されない。
【００７３】
【化１３】
0005617645.tif 000014
【００７４】
【化１４】
0005617645.tif 000015
【００７５】
【化１５】
0005617645.tif 000016
【００７６】
【化１６】
0005617645.tif 000017
【００７７】
【化１７】
0005617645.tif 000018
【００７８】
（蛍光ドーパント化合物）
蛍光ドーパント化合物としては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリリウム系色素、オキソベンゾアントラセン系色素、フルオレッセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素または希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。
【００７９】
（発光ホスト化合物（発光ホスト等ともいう））
本発明の有機ＥＬ素子の発光層や発光ユニットに使用される発光ホスト化合物としては、発光層に含有される化合物のうち、その層中での質量比が２０％以上であり、かつ室温（２５℃）においてリン光量子収率が０．１未満の化合物と定義され、好ましくはリン光量子収率が０．０１未満である。また、発光層に含有される化合物のうち、層中での質量比が２０％以上であることが好ましい。
【００８０】
ホスト化合物としては、公知のホスト化合物を単独で使用しても良く、また複数種併用して用いても良い。ホスト化合物を複数種用いることで、キャリアの移動を調整することが可能であり、有機ＥＬ素子の性能をさらに高効率化することができる。また、前記リン光ドーパントとして用いられる公知の化合物を複数種用いることで、異なる発光を混合することが可能となり、これにより任意の発光色を得ることができる。
【００８１】
また、本発明に用いられる発光ホストとしては、低分子化合物でも、繰り返し単位を有する高分子化合物でも良く、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物（蒸着重合性発光ホスト）でも良く、このような化合物を１種または複数種用いても良い。
【００８２】
公知の発光ホスト化合物として、代表的にはカルバゾール誘導体、トリアリールアミン誘導体、芳香族誘導体、含窒素複素環化合物、チオフェン誘導体、フラン誘導体、オリゴアリーレン化合物等の基本骨格を有するもの、またはカルボリン誘導体やジアザカルバゾール誘導体等が挙げられる。
【００８３】
併用しても良い、公知のホスト化合物としては、正孔輸送能、電子輸送能を有しつつ、発光の長波長化を防ぎ、高Ｔｇ（ガラス転移温度）である化合物が好ましい。
【００８４】
公知のホスト化合物の具体例としては、以下の文献に記載されている化合物等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【００８５】
特開２００１−２５７０７６号公報、同２００２−３０８８５５号公報、同２００１−３１３１７９号公報、同２００２−３１９４９１号公報、同２００１−３５７９７７号公報、同２００２−３３４７８６号公報、同２００２−８８６０号公報、同２００２−３３４７８７号公報、同２００２−１５８７１号公報、同２００２−３３４７８８号公報、同２００２−４３０５６号公報、同２００２−３３４７８９号公報、同２００２−７５６４５号公報、同２００２−３３８５７９号公報、同２００２−１０５４４５号公報、同２００２−３４３５６８号公報、同２００２−１４１１７３号公報、同２００２−３５２９５７号公報、同２００２−２０３６８３号公報、同２００２−３６３２２７号公報、同２００２−２３１４５３号公報、同２００３−３１６５号公報、同２００２−２３４８８８号公報、同２００３−２７０４８号公報、同２００２−２５５９３４号公報、同２００２−２６０８６１号公報、同２００２−２８０１８３号公報、同２００２−２９９０６０号公報、同２００２−３０２５１６号公報、同２００２−３０５０８３号公報、同２００２−３０５０８４号公報、同２００２−３０８８３７号公報等。
【００８６】
次に本発明の有機ＥＬ素子の構成層として用いられる、注入層、阻止層、輸送層等について説明する。
【００８７】
≪注入層：電子注入層、正孔輸送層≫
注入層は必要に応じて設け、電子注入層と正孔注入層があり、上記の如く陽極と発光層、または正孔輸送層、および陰極と発光層、または電子輸送層との間に存在させても良い。
【００８８】
注入層とは駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と有機層間に設けられる層のことで「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日、エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）に詳細に記載されており、正孔注入層（陽極バッファー層）電子注入層（陰極バッファー層）とがある。
【００８９】
陽極バッファー層（正孔注入層）は、特開平９−４５５７９号公報、同９−２６００６２号公報、同８−２８８０６９号公報等にもその詳細が記載されており、具体例として銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニンバッファー層、酸化バナジウムに代表される酸化物バッファー層、アモルファスカーボンバッファー層、ポリアニリン（エメラルディン）やポリチオフェン等の導電性高分子を用いた高分子バッファー層などが挙げられる。
【００９０】
陰極バッファー層（電子注入層は）は、特開平６−３２５８７１号公報、同９−１７５７４号公報、同１０−７４５８６号公報等にもその詳細が記載されており、具体的にはストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属バッファー層、フッ化リチウムに代表されるアルカリ金属化合物バッファー層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物バッファー層、酸化アルミニウムに代表される酸化物バッファー層等が挙げられる。
【００９１】
上記バッファー層（注入層）は、ごく薄い膜であることが好ましく、素材にもよるがその膜厚は０．１ｎｍ〜５μｍの範囲が好ましい。
【００９２】
≪阻止層：正孔阻止層、電子阻止層≫
阻止層は上記の如く、有機化合物薄膜の基本構成層の他に必要に応じて設けられるものである。例えば、特開平１１−２０４１５８号公報、同１１−２０４３５９号公報、および「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日、エヌ・ティー・エス社発行）」の２３７頁等に記載されており正孔阻止層（ホールブロック層）がある。
【００９３】
正孔阻止層とは広い意味では電子輸送層の機能を有し、電子を輸送する機能を有しつつ、正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔輸送を阻止することで、電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また後述する電子輸送層の構成を必要に応じて、本発明に係る正孔阻止層として用いる事ができる。
【００９４】
本発明の有機ＥＬ素子の正孔阻止層は、発光層に隣接して設けられていることが好ましい。
【００９５】
正孔阻止層には、前述のホスト化合物として挙げたカルバゾール誘導体、またカルボリン誘導体やジアザカルバゾール誘導体等を含有することが好ましい。
【００９６】
また、発光色の異なる複数の発光層を有する場合、その発光極大波長が最も短波な発光層が、全発光層中、最も陽極に近いことが好ましい。このような場合、該最短波発光層と該発光層の次に陽極に近い発光層との間に正孔阻止層を追加して設ける事が好ましい。さらに、該位置に設けられる正孔阻止層の化合物の５０％質量％以上が、前記最短波発光層のホスト化合物のイオン化ポテンシャルに対し、０．３ｅＶ以上大きいことが好ましい。
【００９７】
イオン化ポテンシャルは化合物のＨＯＭＯ（最高被占分子軌道）レベルにある電子を真空準位に放出するために必要なエネルギーと定義され、例えば、下記に示すような方法により求めることができる。
【００９８】
（１）米国Ｇａｕｓｓｉａｎ社製の分子軌道計算用ソフトウェアであるＧａｕｓｓｉａｎ９８（Ｇａｕｓｓｉａｎ９８、Ｒｅｖｉｓｉｏｎ  Ａ．１１．４，Ｍ．Ｊ．Ｆｒｉｓｃｈ，ｅｔ  ａｌ，Ｇａｕｓｓｉａｎ，Ｉｎｃ．，Ｐｉｔｔｓｂｕｒｇｈ  ＰＡ，２００２．）を用い、キーワードとしてＢ３ＬＹＰ／６−３１Ｇ＊を用いて構造最適化を行うことにより算出した値（ｅＶ単位換算値）の小数点第２位を四捨五入した値としてイオン化ポテンシャルを求めることができる。この計算値が有効な背景には、この手法で求めた計算値と実験値の相関が高いためである。
【００９９】
（２）光電子分光法で直接測定する方法により求めることもできる。きる。例えば、理研計器製の低エネルギー電子分光装置「Ｍｏｄｅｌ  ＡＣ−１」を用いて、あるいは紫外光電子分光として知られている方法を好適に用いることができる。
【０１００】
一方、電子阻止層とは広い意味では正孔輸送層の機能を有し、正孔を輸送する機能を有しつつ電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子輸送を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、後述する正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いる事ができる。
【０１０１】
本発明に係る正孔阻止層、電子阻止層の膜厚として、好ましくは３〜１００ｎｍであり、さらに好ましくは５〜３０ｎｍである。
【０１０２】
≪正孔輸送層≫
正孔輸送層とは正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層、電子阻止層も正孔輸送層に含まれるとみなすことができる。正孔輸送層は単層または複数層設けることができる。
【０１０３】
正孔輸送材料としては、正孔の注入または輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであっても良い。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体およびピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体や導電性高分子（ポリマーやオリゴマー）、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられる。
【０１０４】
正孔輸送材料としては上記のものを使用することができるが、ポルフィリン化合物、芳香族第３級アミン化合物およびスチリルアミン化合物、特に芳香族第３級アミン化合物を用いることが好ましい。また、本発明の有機ＥＬ素子用材料も同様に好ましく用いることができる。
【０１０５】
芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミン（ＴＰＤ）、４，４′−ビス〔Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ〕ビフェニル（α−ＮＰＤ）、４，４′，４″−トリス〔Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴＡ）等が挙げられる。
【０１０６】
さらにこれらの材料を高分子鎖に導入、または高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。またｐ型−Ｓｉ、ｐ型−ＳｉＣ等の無機化合物も正孔輸送材料として使用することができる。また、特開平１１−２５１０６７号公報、Ｊ．Ｈｕａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．著文献（Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ  ８０（２００２），ｐ．１３９）に記載されているような、ｐ型正孔輸送材料を用いることもできる。
【０１０７】
正孔輸送層は上記のような正孔輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、ＬＢ法などの公知の方法によって薄膜化することにより形成することができる。正孔輸送層の膜厚について特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ、好ましくは５〜２００ｎｍである。また、正孔輸送材料は複数種の材料からなる一層構造であっても良い。
【０１０８】
また、不純物をドープしたｐ性の高い正孔輸送層を用いることもできる。
【０１０９】
≪電子輸送層≫
電子輸送層とは電子を輸送する機能を有する材料からなり、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は単層または複数層設けることができる。
【０１１０】
発光層に対して陰極側に隣接する電子輸送層に用いられる電子輸送材料（正孔阻止材料を兼ねる）としては、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができ、例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。更に上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送材料として用いることができる。更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。
【０１１１】
また、８−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス（８−キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑ）、トリス（５，７−ジクロロ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５，７−ジブロモ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（２−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）亜鉛（Ｚｎｑ）等、及びこれらの金属錯体の中心金属がＩｎ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｃａ、Ｓｎ、ＧａまたはＰｂに置き替わった金属錯体も、電子輸送材料として用いることができる。その他、フタロシアニン系材料やその誘導体も電子輸送材料として好ましく用いることができる。また、発光層の材料として例示したジスチリルピラジン誘導体も、電子輸送材料として用いることができるし、正孔注入層、正孔輸送層と同様にｎ型−Ｓｉ、ｎ型−ＳｉＣ等の無機半導体も電子輸送材料として用いることができる。
【０１１２】
電子輸送層は上記電子輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、ＬＢ法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。電子輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５〜２００ｎｍである。電子輸送層は上記材料の１種または２種以上からなる一層構造であってもよい。また、不純物をドープしたｎ性の高い電子輸送層を用いることもできる。
【０１１３】
《陽極》
有機ＥＬ素子における陽極としては、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としては、Ａｕ等の金属、ＣｕＩ、インジウムチンオキシド（ＩＴＯ）、ＳｎＯ２、ＺｎＯ等の導電性透明材料が挙げられる。また、ＩＤＩＸＯ（Ｉｎ２Ｏ３−ＺｎＯ）等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。
【０１１４】
陽極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法やマスクを介してパターンを形成してもよい。あるいは、有機導電性化合物のように塗布可能な物質を用いる場合には、印刷方式、コーティング方式等湿式成膜法を用いることもできる。この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を１０％より大きくすることが望ましく、また陽極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましい。更に膜厚は材料にもよるが、通常は１０〜１０００ｎｍの範囲であり、好ましくは１０〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。
【０１１５】
《陰極》
一方、陰極としては仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）金属（電子注入性金属と称する）、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）混合物、インジウム、リチウム／アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの中で、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）混合物、リチウム／アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。
【０１１６】
陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましく、膜厚は通常１０ｎｍ〜５μｍ、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。なお、発光した光を透過させるため、有機ＥＬ素子の陽極または陰極のいずれか一方が透明または半透明であれば発光輝度が向上し好都合である。
【０１１７】
また、陰極に上記金属を１〜２０ｎｍの膜厚で作製した後に、陽極の説明で挙げた導電性透明材料をその上に作製することで、透明または半透明の陰極を作製することができ、これを応用することで陽極と陰極の両方が透過性を有する素子を作製することができる。
【０１１８】
《支持基板》
本発明の有機ＥＬ素子に用いることのできる支持基板（以下、基体、基板、基材、支持体等ともいう）としては、ガラス、プラスチック等の種類には特に限定はなく、また透明であっても不透明であってもよい。支持基板側から光を取り出す場合には、支持基板は透明であることが好ましい。好ましく用いられる透明な支持基板としては、ガラス、石英、透明樹脂フィルムを挙げることができる。特に好ましい支持基板は、有機ＥＬ素子にフレキシブル性を与えることが可能な樹脂フィルムである。
【０１１９】
樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セルロースエステル類（セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート（ＴＡＣ）、セルロースナイトレート等）またはそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリルあるいはポリアリレート類、アートン（ＪＳＲ製）あるいはアペル（三井化学製）といったシクロオレフィン系樹脂等を挙げられる。
【０１２０】
樹脂フィルムの表面には、無機物、有機物の被膜またはその両者のハイブリッド被膜が形成されていてもよく、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定された、水蒸気透過度（２５±０．５℃、相対湿度（９０±２）％ＲＨ）が０．０１ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下のバリア性フィルムであることが好ましく、更には、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定された酸素透過度が１０−３ｃｍ３／（ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ）以下、水蒸気透過度が１０−３ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下の高バリア性フィルムであることが好ましく、さらには水蒸気透過度が１０−５ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下であることがより好ましい。
【０１２１】
バリア膜を形成する材料としては、水分や酸素等、素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素等を好適に用いることができる。更に該膜の脆弱性を改良するために、これら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることがより好ましい。無機層と有機層の積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。
【０１２２】
バリア膜の形成方法については特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法等を用いることができ、大気圧プラズマ重合法によるものが特に好ましい。
【０１２３】
不透明な支持基板としては、例えば、アルミ、ステンレス等の金属板、フィルムや不透明樹脂基板、セラミック製の基板等が挙げられる。
【０１２４】
本発明の有機ＥＬ素子の発光の室温における外部取り出し量子効率は、１％以上であることが好ましく、より好ましくは５％以上である。ここに、外部取り出し量子効率（％）＝有機ＥＬ素子外部に発光した光子数／有機ＥＬ素子に流した電子数×１００である。
【０１２５】
また、カラーフィルター等の色相改良フィルター等を併用しても、有機ＥＬ素子からの発光色を蛍光体で多色へ変換する色変換フィルターを併用してもよい。色変換フィルターを用いる場合においては、有機ＥＬ素子の発光のλｍａｘは４８０ｎｍ以下が好ましい。
【０１２６】
《封止》
本発明に用いられる封止手段としては、例えば、封止部材と電極、支持基板とを接着剤で接着する方法を挙げることができる。
【０１２７】
封止部材としては、有機ＥＬ素子の表示領域を覆うように配置されておればよく、凹板状でも平板状でもよい。また、透明性、電気絶縁性は特に問わない。
【０１２８】
具体的には、ガラス板、ポリマー板・フィルム、金属板・フィルム等が挙げられる。ポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリスルホン等を挙げることができる。金属板としては、ステンレス、鉄、銅、アルミニウム、マグネシウム、ニッケル、亜鉛、クロム、チタン、モリブテン、シリコン、ゲルマニウム及びタンタルからなる群から選ばれる一種以上の金属または合金からなるものが挙げられる。
【０１２９】
本発明においては、素子を薄膜化できるということからポリマーフィルム、金属フィルムを好ましく使用することができる。更には、ポリマーフィルムは、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定された酸素透過度が１×１０−３ｃｍ３／（ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ）以下、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定された水気透過度（２５±０．５℃、相対湿度（９０±２）％ＲＨ）が１×１０−３ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下のものであることが好ましい。
【０１３０】
接着剤として具体的には、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化及び熱硬化型接着剤、２−シアノアクリル酸エステル等の湿気硬化型等の接着剤を挙げることができる。また、エポキシ系等の熱及び化学硬化型（二液混合）を挙げることができる。また、ホットメルト型のポリアミド、ポリエステル、ポリオレフィンを挙げることができる。また、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を挙げることができる。
【０１３１】
なお、熱硬化型接着剤を用いる場合、有機ＥＬ素子が熱処理により劣化する場合があるので、室温から８０℃までに接着硬化できるものが好ましい。また、前記接着剤中に乾燥剤を分散させておいてもよい。封止部分への接着剤の塗布は市販のディスペンサーを使ってもよいし、スクリーン印刷のように印刷してもよい。
【０１３２】
また、有機層を挟み支持基板と対向する側の電極の外側に該電極と有機層を被覆し、支持基板と接する形で無機物、有機物の層を形成し封止膜とすることも好適にできる。この場合、該膜を形成する材料としては、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素等を用いることができる。更に該膜の脆弱性を改良するために、これら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることが好ましい。これらの膜の形成方法については、特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法等を用いることができる。
【０１３３】
封止部材と有機ＥＬ素子の表示領域との間隙には、気相及び液相では、窒素、アルゴン等の不活性気体やフッ化炭化水素、シリコンオイルのような不活性液体を注入することが好ましい。また真空とすることも可能である。また、内部に吸湿性化合物を封入することもできる。
【０１３４】
吸湿性化合物としては、例えば、金属酸化物（例えば、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム等）、硫酸塩（例えば、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム等）、金属ハロゲン化物、過塩素酸類等が挙げられ、無水塩が好適に用いられる。
【０１３５】
《保護膜、保護板》
有機層を挟み支持基板と対向する側の前記封止膜、あるいは前記封止用フィルムの外側に、素子の機械的強度を高めるために保護膜、あるいは保護板を設けてもよい。特に封止が前記封止膜により行われている場合には、保護膜、保護板を設けることが好ましい。これに使用することができる材料としては、前記封止に用いたのと同様なガラス板、ポリマー板・フィルム、金属板・フィルム等を用いることができるが、軽量、且つ薄膜化ということからポリマーフィルムを用いることが好ましい。
【０１３６】
《光取り出し》
有機ＥＬ素子は空気よりも屈折率の高い（屈折率が１．７〜２．１程度）層の内部で発光し、発光層で発生した光のうち１５％から２０％程度の光しか取り出せないことが一般的に言われている。これは、臨界角以上の角度θで界面（透明基板と空気との界面）に入射する光は、全反射を起こし素子外部に取り出すことができないことや、透明電極ないし発光層と透明基板との間で光が全反射を起こし、光が透明電極ないし発光層を導波し、結果として光が素子側面方向に逃げるためである。
【０１３７】
この光の取り出しの効率を向上させる手法としては、例えば、透明基板表面に凹凸を形成し、透明基板と空気界面での全反射を防ぐ方法（米国特許第４，７７４，４３５号明細書）、基板に集光性を持たせることにより効率を向上させる方法（特開昭６３−３１４７９５号公報）、素子の側面等に反射面を形成する方法（特開平１−２２０３９４号公報）、基板と発光体の間に中間の屈折率を持つ平坦層を導入し、反射防止膜を形成する方法（特開昭６２−１７２６９１号公報）、基板と発光体の間に基板よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法（特開２００１−２０２８２７号公報）、基板、透明電極層や発光層のいずれかの層間（含む、基板と外界間）に回折格子を形成する方法（特開平１１−２８３７５１号公報）等がある。
【０１３８】
本発明においては、これらの方法を本発明の有機ＥＬ素子と組み合わせて用いることができるが、基板と発光体の間に基板よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法、あるいは基板、透明電極層や発光層のいずれかの層間（含む、基板と外界間）に回折格子を形成する方法を好適に用いることができる。本発明はこれらの手段を組み合わせることにより、更に高輝度あるいは耐久性に優れた素子を得ることができる。
【０１３９】
透明電極と透明基板の間に低屈折率の媒質を光の波長よりも長い厚みで形成すると、透明電極から出てきた光は、媒質の屈折率が低いほど外部への取り出し効率が高くなる。
【０１４０】
低屈折率層としては、例えば、エアロゲル、多孔質シリカ、フッ化マグネシウム、フッ素系ポリマー等が挙げられる。透明基板の屈折率は一般に１．５〜１．７程度であるので、低屈折率層は屈折率がおよそ１．５以下であることが好ましい。また、更に１．３５以下であることが好ましい。
【０１４１】
また、低屈折率媒質の厚みは媒質中の波長の２倍以上となるのが望ましい。これは低屈折率媒質の厚みが、光の波長程度になってエバネッセントで染み出した電磁波が基板内に入り込む膜厚になると、低屈折率層の効果が薄れるからである。
【０１４２】
全反射を起こす界面もしくはいずれかの媒質中に回折格子を導入する方法は、光取り出し効率の向上効果が高いという特徴がある。この方法は回折格子が１次の回折や２次の回折といった、所謂ブラッグ回折により、光の向きを屈折とは異なる特定の向きに変えることができる性質を利用して、発光層から発生した光のうち層間での全反射等により外に出ることができない光を、いずれかの層間もしくは、媒質中（透明基板内や透明電極内）に回折格子を導入することで光を回折させ、光を外に取り出そうとするものである。
【０１４３】
導入する回折格子は、二次元的な周期屈折率を持っていることが望ましい。これは発光層で発光する光はあらゆる方向にランダムに発生するので、ある方向にのみ周期的な屈折率分布を持っている一般的な１次元回折格子では、特定の方向に進む光しか回折されず、光の取り出し効率がさほど上がらない。しかしながら、屈折率分布を二次元的な分布にすることにより、あらゆる方向に進む光が回折され、光の取り出し効率が上がる。
【０１４４】
回折格子を導入する位置としては前述の通り、いずれかの層間もしくは媒質中（透明基板内や透明電極内）でもよいが、光が発生する場所である有機発光層の近傍が望ましい。このとき、回折格子の周期は媒質中の光の波長の約１／２〜３倍程度が好ましい。
【０１４５】
回折格子の配列は正方形のラチス状、三角形のラチス状、ハニカムラチス状等、２次元的に配列が繰り返されることが好ましい。
【０１４６】
《集光シート》
本発明の有機ＥＬ素子は基板の光取り出し側に、例えば、マイクロレンズアレイ状の構造を設けるように加工したり、あるいは所謂集光シートと組み合わせたりすることにより、特定方向、例えば、素子発光面に対し正面方向に集光することにより、特定方向上の輝度を高めることができる。
【０１４７】
マイクロレンズアレイの例としては、基板の光取り出し側に一辺が３０μｍでその頂角が９０度となるような四角錐を２次元に配列する。一辺は１０μｍ〜１００μｍが好ましい。これより小さくなると回折の効果が発生して色付く、大きすぎると厚みが厚くなり好ましくない。
【０１４８】
集光シートとしては、例えば、液晶表示装置のＬＥＤバックライトで実用化されているものを用いることが可能である。このようなシートとして、例えば、住友スリーエム社製輝度上昇フィルム（ＢＥＦ）等を用いることができる。プリズムシートの形状としては、例えば、基材に頂角９０度、ピッチ５０μｍの△状のストライプが形成されたものであってもよいし、頂角が丸みを帯びた形状、ピッチをランダムに変化させた形状、その他の形状であってもよい。
【０１４９】
また、発光素子からの光放射角を制御するために、光拡散板・フィルムを集光シートと併用してもよい。例えば、（株）きもと製拡散フィルム（ライトアップ）等を用いることができる。
【０１５０】
《有機ＥＬ素子の作製方法》
本発明の有機ＥＬ素子の作製方法の一例として、陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極からなる有機ＥＬ素子の作製法を説明する。
【０１５１】
まず適当な基体上に所望の電極物質、例えば、陽極用物質からなる薄膜を１μｍ以下、好ましくは１０〜２００ｎｍの膜厚になるように、蒸着やスパッタリング等の方法により形成させ陽極を作製する。
【０１５２】
次に、この上に有機ＥＬ素子材料である正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、正孔阻止層の有機化合物薄膜を形成させる。
【０１５３】
これら各層の形成方法としては、前記の如く蒸着法、ウェットプロセス（スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、印刷法）等があるが、均質な膜が得られやすく、且つピンホールが生成しにくい等の点から、本発明においてはウェットプロセスが好ましく、中でもスピンコート法、インクジェット法、印刷法等の塗布法による成膜が好ましい。
【０１５４】
本発明の有機ＥＬ素子材料を溶解または分散する液媒体としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル等の脂肪酸エステル類、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン、メシチレン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、シクロヘキサン、デカリン、ドデカン等の脂肪族炭化水素類、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ等の有機溶媒を用いることができる。また、分散方法としては、超音波、高剪断力分散やメディア分散等の分散方法により分散することができる。
【０１５５】
これらの層を形成後、その上に陰極用物質からなる薄膜を１μｍ以下、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲の膜厚になるように、例えば、蒸着やスパッタリング等の方法により形成させ、陰極を設けることにより所望の有機ＥＬ素子が得られる。
【０１５６】
また、作製順序を逆にして、陰極、電子注入層、電子輸送層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、陽極の順に作製することも可能である。このようにして得られた多色の表示装置に、直流電圧を印加する場合には陽極を＋、陰極を−の極性として電圧２〜４０Ｖ程度を印加すると発光が観測できる。また、交流電圧を印加してもよい。なお、印加する交流の波形は任意でよい。
【０１５７】
《用途》
本発明の有機ＥＬ素子は、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用いることができる。発光光源として、例えば、照明装置（家庭用照明、車内照明）、時計や液晶用バックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるがこれに限定するものではないが、特に液晶表示装置のバックライト、照明用光源としての用途に有効に用いることができる。
【０１５８】
本発明の有機ＥＬ素子においては、必要に応じ成膜時にメタルマスクやインクジェットプリンティング法等でパターニングを施してもよい。パターニングする場合は、電極のみをパターニングしてもよいし、電極と発光層をパターニングしてもよいし、素子全層をパターニングしてもよく、素子の作製においては、従来公知の方法を用いることができる。
【０１５９】
本発明の有機ＥＬ素子や本発明に係る化合物の発光する色は、「新編色彩科学ハンドブック」（日本色彩学会編、東京大学出版会、１９８５）の１０８頁の図４．１６において、分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタセンシング社製）で測定した結果をＣＩＥ色度座標に当てはめたときの色で決定される。
【０１６０】
また、本発明の有機ＥＬ素子が白色素子の場合には、白色とは、２度視野角正面輝度を上記方法により測定した際に、１０００ｃｄ／ｍ２でのＣＩＥ１９３１表色系における色度がＸ＝０．３３±０．０７、Ｙ＝０．３３±０．１の領域内にあることを言う。
【０１６１】
以下、本発明の有機ＥＬ素子を有する表示装置の一例を図面に基づいて説明する。
【０１６２】
図１は有機ＥＬ素子から構成される表示装置の一例を示した模式図である。有機ＥＬ素子の発光により画像情報の表示を行う、例えば、携帯電話等のディスプレイの模式図である。
【０１６３】
ディスプレイ１は複数の画素を有する表示部Ａ、画像情報に基づいて表示部Ａの画像走査を行う制御部Ｂ等からなる。
【０１６４】
制御部Ｂは表示部Ａと電気的に接続され、複数の画素それぞれに外部からの画像情報に基づいて走査信号と画像データ信号を送り、走査信号により走査線毎の画素が画像データ信号に応じて順次発光して画像走査を行って画像情報を表示部Ａに表示する。
【０１６５】
図２は表示部Ａの模式図である。
【０１６６】
表示部Ａは基板上に、複数の走査線５及びデータ線６を含む配線部と複数の画素３等とを有する。表示部Ａの主要な部材の説明を以下に行う。
【０１６７】
図においては、画素３の発光した光が白矢印方向（下方向）へ取り出される場合を示している。
【０１６８】
配線部の走査線５及び複数のデータ線６はそれぞれ導電材料からなり、走査線５とデータ線６は格子状に直交して、直交する位置で画素３に接続している（詳細は図示していない）。
【０１６９】
画素３は走査線５から走査信号が印加されると、データ線６から画像データ信号を受け取り、受け取った画像データに応じて発光する。
【０１７０】
発光の色が赤領域の画素、緑領域の画素、青領域の画素を適宜同一基板上に並置することによって、フルカラー表示が可能となる。
【０１７１】
図３は照明装置の概略図を示し、有機ＥＬ素子１０１はガラスカバー１０２で覆われている（なお、ガラスカバーでの封止作業は、有機ＥＬ素子１０１を大気に接触させることなく窒素雰囲気下のグローブボックス（純度９９．９９９％以上の高純度窒素ガスの雰囲気下）で行った）。図４は照明装置の断面図を示し、図４において、各々陰極１０５、有機ＥＬ層１０６、透明電極付きガラス基板１０７を示す。なお、ガラスカバー１０２内には窒素ガス１０８が充填され、捕水剤１０９が設けられている。
【実施例】
【０１７２】
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１７３】
なお、実施例において「％」の表示を用いるが、特に断りが無い限り「質量％」を表す。また、実施例において用いられる標準的な化合物と比較化合物を下記に示す。
【０１７４】
【化１８】
0005617645.tif 000019
【０１７５】
【化１９】
0005617645.tif 000020
【０１７６】
実施例１
《有機ＥＬ素子の作製》
〔有機ＥＬ素子１−１の作製〕
１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍのガラス基板上にＩＴＯ（インジウムチンオキサイド）を厚さ２００ｎｍで製膜した基板を用い、ＩＴＯ膜を５０ｍｍ×５０ｍｍの発光面積が得られるようパターニングして陽極電極（ＩＴＯ透明電極）を作成し、イソプロピルアルコールで超音波洗浄し、窒素ガスで乾燥、さらにＵＶオゾン洗浄を行い、透明支持基板を作製した。
【０１７７】
この透明支持基板を市販の真空蒸着装置に入れ、４×１０−４Ｐａ以下まで減圧した後、正孔注入層としてＣｕＰｃ（銅フタロシアニン）を蒸着し、２０ｎｍの正孔注入層を設けた。
【０１７８】
さらに続けてＨＴ−１を２０ｎｍ蒸着し正孔輸送層とし、その上にホスト材料として化合物（１５）とドーパント材料としてＤ−３６をドーパント濃度が６％となるようにした発光層を３０ｎｍ蒸着した。更にＥＴ−１を３０ｎｍ蒸着して電子輸送層とし、引き続きフッ化リチウムを０．５ｎｍ蒸着し電子注入層を形成し、アルミニウム１２０ｎｍを蒸着して陰極を製膜し、有機ＥＬ素子１−１とした。作製後の各素子は、非発光面をガラスケースで覆い、周縁部をエポキシ系接着剤で封止し、評価を実施した。
【０１７９】
≪有機ＥＬ素子１−２〜１−１５の作製≫
有機ＥＬ素子１−１の作製において、表１に記載の様に電子輸送材料、ホスト材料および正孔輸送材料をそれぞれ変更した以外は同様にして、有機ＥＬ素子１−２〜１−１５を作製した。
【０１８０】
≪有機ＥＬ素子１−１〜１−１５の評価≫
下記の方法によって有機ＥＬ素子１−１〜１−１５の効率および安定性を評価した。結果を合わせて表１に示す。
【０１８１】
（効率）
作製した有機ＥＬ素子１−１〜１−１５について、２．５ｍＡ／ｃｍ２の定電流を印加した際の外部取出し量子効率を測定した。なお、測定には分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタセンシング社製）を用いた。表１の効率の値は、有機ＥＬ素子１−１〜１−６に対しては有機ＥＬ素子１−１の測定値を１００とし、有機ＥＬ素子１−７〜１−１１に対しては有機ＥＬ素子１−７の測定値を１００とし、有機ＥＬ素子１−１２〜１−１５に対しては有機ＥＬ素子１−１２の測定値を１００とした場合の相対値で表した。
【０１８２】
（安定性）
作製した有機ＥＬ素子１−１〜１−１５について、初期輝度１０００ｃｄ／ｍ２を与える電流で定電流駆動し、初期輝度の１／２（５００ｃｄ／ｍ２）になる時間を測定し、これを安定性の尺度とした。なお、効率の評価と同様に安定性の値は、有機ＥＬ素子１−１〜１−６に対しては有機ＥＬ素子１−１の測定値を１００とし、有機ＥＬ素子１−７〜１−１１に対しては有機ＥＬ素子１−７の測定値を１００とし、有機ＥＬ素子１−１２〜１−１５に対しては有機ＥＬ素子１−１２の測定値を１００とした場合の相対値で表した。初期輝度が１０００ｃｄ／ｍ２に至らなかった素子については×印で示した。
【０１８３】
（ダークスポット）
安定性評価後の有機ＥＬ素子１−１〜１−１５について、ダークスポットの有無を目視にて確認し、下記の評価基準に従って評価を行った。実用上、◎〜○であることが好ましい。なお、安定性評価で×印であったものについては、評価していない。
【０１８４】
◎：ダークスポットが確認されない
○：ダークスポットが１〜５個確認される
△：ダークスポットが６個以上確認されるが発光面積は素子の半分以上
×：大きくダークスポットが広がり、素子の半分以上が非発光
【０１８５】
【表１】
0005617645.tif 000021
【０１８６】
以上より、本発明の有機ＥＬ素子用材料を用いることで効率と安定性に優れ、ダークスポットの少ない有機ＥＬ素子を提供できることが明らかとなった。
【０１８７】
実施例２
≪白色発光素子および白色照明装置の作製−１≫
陽極として２０ｍｍ×２０ｍｍにパターニング済みのＩＴＯ付きガラス基板上に、上記実施例１と同様にして正孔注入／輸送層としてＨＴ−１を２５ｎｍの厚さで製膜し、さらに化合物（２４）とＤ−３４とＤ−３９をそれぞれ蒸着速度が１００：０．５：８となるように調節し、膜厚４０ｎｍの発光層を設けた。次に正孔阻止層としてＢＡｌｑを１０ｎｍ製膜し、続いてＡｌｑ３を４０ｎｍ製膜し電子輸送層を設けた。引き続き電子注入層としてフッ化リチウムを０．５ｎｍの厚さに形成した後、陰極としてアルミニウム１５０ｎｍを製膜し、非発光面をガラスケースで覆い、エポキシ系接着剤で封止した。
【０１８８】
この素子を用いて図３、図４に示す平面ランプを作製した。この平面ランプに通電したところ、ほぼ白色の光が得られ、照明装置として使用できることが分かった。
【０１８９】
実施例３
≪白色発光素子および白色照明装置の作製−２≫
上記白色発光素子および白色照明装置の作製−１と同じ基板上にポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、Ｂａｙｅｒ製、Ｂａｙｔｒｏｎ  Ｐ  Ａｌ  ４０８３）を純水で７０％に希釈した溶液を３０００ｒｐｍ、３０秒スピンコートした後、乾燥し、膜厚３０ｎｍの正孔輸送層を設けた。
【０１９０】
さらにこの正孔輸送層付き基板を窒素雰囲気下に移し、化合物１３（１２０ｍｇ）、Ｄ−３４（３．５ｍｇ）、Ｄ−７（３．０ｍｇ）をトルエン８ｍｌに溶解した溶液を１０００ｒｐｍ、３０秒スピンコートした後、１００℃で真空減圧乾燥して発光層とした。続いて、この基板を真空蒸着装置に移し、真空度４．０×１０−４Ｐａで電子輸送層としてＡｌｑ３を４０ｎｍの厚さで製膜し、引き続き電子注入層としてフッ化リチウムを０．５ｎｍの厚さに形成した後、陰極としてアルミニウム１５０ｎｍを製膜し、非発光面をガラスケースで覆い、エポキシ系接着剤で封止した。この素子に通電したところ、ほぼ白色の光が得られ、照明装置として使用できることがわかった。
【０１９１】
≪比較の発光素子の作製≫
白色発光素子および白色照明装置の作製−２において化合物１３を比較の化合物１（１２０ｍｇ）、比較の化合物２（１２０ｍｇ）、比較の化合物３（１２０ｍｇ）にそれぞれ変更した以外は同様にして白色発光素子の作製を行った。しかしながら比較の化合物１を用いた場合には、トルエンへの溶解性が不十分で製膜できなかった。また、比較の化合物２および３を用いた場合、製膜はできたものの１００℃真空減圧乾燥時、膜に割れが生じたため、これ以降の操作は実施できなかった。このため、比較の化合物２および３については乾燥条件を２３℃真空減圧に変更して発光層としたが、素子化後、通電しても発光は確認できなかった。
【符号の説明】
【０１９２】
１  ディスプレイ
３  画素
５  走査線
６  データ線
Ａ  表示部
Ｂ  制御部
１０１  有機ＥＬ素子
１０２  ガラスカバー
１０５  陰極
１０６  有機ＥＬ層
１０７  透明電極付きガラス基板
１０８  窒素ガス
１０９  捕水剤
【図１】
0005617645.tif 000023
【図２】
0005617645.tif 000024
【図３】
0005617645.tif 000025
【図４】
0005617645.tif 000026