(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
カセットからガラス基板を取り出す取り出し装置と、前記取り出し装置により前記カセットから取り出されたガラス基板を検査する検査装置と、前記カセットを撮像する撮像装置とを備え、前記カセットが、ガラス基板を収納可能な収納位置を複数有すると共に、各収納位置にガラス基板が挿入される溝部を有する、ガラス基板検査システムであって、
前記収納位置毎に、前記収納位置から前記ガラス基板を取り出す動作を前記取り出し装置に行わせる実行部と、
前記撮像装置により撮像された画像に、前記複数の収納位置に対応する複数の処理領域を設定し、各処理領域を画像処理して、前記収納位置毎に、前記ガラス基板の有無を判定する有無判定部と、
前記各処理領域の画像処理によって、前記収納位置毎に、前記収納位置に有る前記ガラス基板の板厚が所定範囲内であるか否かを判別する板厚判別部とを有し、
前記実行部は、前記有無判定部により前記ガラス基板が無いと判定された収納位置に対する取り出し動作をスキップさせ、且つ、前記板厚判別部により前記板厚が所定範囲外と判別されたガラス基板の収納位置に対する取り出し動作をスキップさせ、
前記撮像装置は、搬送路上の停止位置にある前記カセットを撮像するカメラと、前記停止位置にある前記カセットを照らす光源とを有し、
前記板厚判定部は、前記収納位置に有る前記ガラス基板における前記光源からの光を前記カメラに向けて反射する光反射部分の画像に基づいて、前記収納位置に有る前記ガラス基板の板厚が所定範囲内であるか否かを判別する、ガラス基板検査システム。
【請求項２】
前記実行部は、前記板厚判別部により前記板厚が所定範囲外と判別されたガラス基板がある場合、前記カセットの全ての収納位置に対する前記取り出し動作を中止させる請求項１に記載のガラス基板検査システム。
【請求項３】
前記複数の処理領域は所定方向に並び、
前記各処理領域の前記所定方向の寸法は、前記画像を前記所定方向に３つ以上に分割した区域毎に設定される請求項１または２に記載のガラス基板検査システム。
【請求項４】
前記有無判定部は、前記各処理領域を画像処理して前記各処理領域の特徴値を抽出し、抽出した特徴値を基準値と比較して前記収納位置毎に前記ガラス基板の有無を判定し、
前記複数の処理領域は所定方向に並び、
前記各処理領域の特徴値と比較する基準値は、前記画像を前記所定方向に３つ以上に分割した区域毎に設定される請求項１〜３のいずれか１項に記載のガラス基板検査システム。
【請求項５】
前記カセットは、上方が開放された箱状であって、上縁に直線状部分を有し、
前記ガラス基板検査システムは、前記撮像装置により撮像された画像を画像処理することにより、前記カセットの前記直線状部分と前記撮像装置との位置関係が正常状態か否かを判断する状態判断部をさらに有し、
前記実行部は、前記状態判断部により前記位置関係が異常状態であると判断された場合、前記カセットの全ての収納位置に対する前記取り出し動作を中止させる請求項１〜４のいずれか１項に記載のガラス基板検査システム。
【請求項６】
前記ガラス基板は、中心部に円孔を有する磁気記録媒体用ガラス基板である請求項１〜５のいずれか１項に記載のガラス基板検査システム。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のガラス基板検査システムによる検査工程を有するガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板検査システム、およびガラス基板製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ガラス基板を検査するシステムとして、カセットからガラス基板を取り出す取り出し装置と、取り出し装置によりカセットから取り出されたガラス基板の主平面を検査する検査装置とを備えるものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
また、カセットに収納されたガラス基板の収納状況を検査する検査装置として、カセット全体を撮像する撮像装置を備え、撮像装置により撮像された画像を画像処理して収納状況を検査する装置が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−９５３７２号公報
【特許文献２】特開２０１１−７０７２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
未検査のガラス基板を収納するカセットは、ガラス基板を収納可能な収納位置を複数有し、各収納位置にガラス基板を１枚ずつ収納可能であるが、一部の収納位置にガラス基板が収納されていないことがある。
【０００６】
従来の取り出し装置は、制御装置による制御下で、カセットの収納位置毎に収納位置からガラス基板を取り出す動作を行う。この動作は全ての収納位置に対して行われ、ガラス基板のない収納位置に対しても行われるので、検査効率が悪かった。
【０００７】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、検査効率に優れたガラス基板検査システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様によれば、
カセットからガラス基板を取り出す取り出し装置と、前記取り出し装置により前記カセットから取り出されたガラス基板を検査する検査装置と、前記カセットを撮像する撮像装置とを備え、前記カセットが、ガラス基板を収納可能な収納位置を複数有すると共に、各収納位置にガラス基板が挿入される溝部を有する、ガラス基板検査システムであって、
前記収納位置毎に、前記収納位置から前記ガラス基板を取り出す動作を前記取り出し装置に行わせる実行部と、
前記撮像装置により撮像された画像に、前記複数の収納位置に対応する複数の処理領域を設定し、各処理領域を画像処理して、前記収納位置毎に、前記ガラス基板の有無を判定する有無判定部と、
前記各処理領域の画像処理によって、前記収納位置毎に、前記収納位置に有る前記ガラス基板の板厚が所定範囲内であるか否かを判別する板厚判別部とを有し、
前記実行部は、前記有無判定部により前記ガラス基板が無いと判定された収納位置に対する取り出し動作をスキップさせ、且つ、前記板厚判別部により前記板厚が所定範囲外と判別されたガラス基板の収納位置に対する取り出し動作をスキップさせ、
前記撮像装置は、搬送路上の停止位置にある前記カセットを撮像するカメラと、前記停止位置にある前記カセットを照らす光源とを有し、
前記板厚判定部は、前記収納位置に有る前記ガラス基板における前記光源からの光を前記カメラに向けて反射する光反射部分の画像に基づいて、前記収納位置に有る前記ガラス基板の板厚が所定範囲内であるか否かを判別する、ガラス基板検査システムが提供される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、検査効率に優れたガラス基板検査システムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の一実施形態によるガラス基板検査システムの側面図
【図２】カセットにガラス基板が収容された状態の一例の上面図
【図３】検査装置におけるスピンドルの一例の説明図（１）
【図４】検査装置におけるスピンドルの一例の説明図（２）
【図５】カセットの搬送方向視における撮像装置の一例の説明図
【図６】カメラにより撮像される画像の一例の模式図
【図７】カメラにより撮像される画像の一例の部分拡大図
【図８】状態判断部が行う処理の一例のフローチャート
【図９】有無判定部が行う処理の一例のフローチャート
【図１０】板厚判別部が行う処理の一例のフローチャート
【図１１】有無判定部および板厚判別部により作製されるテーブルの一例の概略図
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の一実施形態について、図面を参照して説明する。以下の図面において、同一のまたは対応する構成には、同一のまたは対応する符号を付して、説明を省略する。
【００１２】
図１は、本発明の一実施形態によるガラス基板検査システムの側面図である。以下の各図中、Ｘ方向はカセット３０の長手方向、Ｚ方向は上下方向を表す。なお、Ｘ方向、およびＺ方向は互いに直交する方向である。
【００１３】
ガラス基板検査システム１０は、カセット３０からガラス基板２０を取り出す取り出し装置４０と、取り出し装置４０によりカセット３０から取り出されたガラス基板２０を検査する検査装置５０とを備える。検査装置５０の検査結果に基づいて、ガラス基板２０は欠陥の無い良品と、欠陥の有る不良品とに分類される。良品と不良品とは異なる回収カセットに収納される。
【００１４】
また、ガラス基板検査システム１０は、カセット３０を撮像する撮像装置６０と、撮像装置６０および取り出し装置４０にこの順でカセット３０を搬送する搬送装置７０とをさらに備える。搬送装置７０は例えばベルトコンベアなどで構成され、カセット３０をＸ方向に搬送する搬送路を形成する。搬送路の上流側には、搬送路上にカセット３０を供給する供給装置が設けられ、搬送路の下流側には、搬送路上のカセット３０を回収する回収装置が設けられている。搬送路上には、搬送方向（Ｘ方向）に間隔をおいて複数のカセット３０が並ぶ。
【００１５】
また、ガラス基板検査システム１０は、取り出し装置４０、検査装置５０、撮像装置６０、および搬送装置７０を制御する制御装置８０をさらに備える。
【００１６】
（ガラス基板）
ガラス基板２０は、例えば磁気記録媒体用のガラス基板である。ガラス基板２０は、円盤状であって、中心部に円孔２１（図５参照）が貫通形成されている。
【００１７】
なお、本実施形態のガラス基板２０は磁気記録媒体用であるが、例えば、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用、光ピックアップ素子や光学フィルタなどの光学部品用、またはフォトマスク用であってよく、用途は特に限定されない。
【００１８】
ガラス基板２０のガラスの種類は、用途に応じて適宜選択され、例えば、アモルファスガラスでもよいし、結晶化ガラスでもよく、表層に強化層を有する強化ガラスでもよい。強化ガラスは、化学強化ガラスでも風冷強化ガラスでもよい。
【００１９】
ガラス基板２０の製造方法は、特に限定されず、例えば、フロート法、フュージョン法、プレス法、リドロー法などが用いられる。
【００２０】
（カセット）
図２は、カセットにガラス基板が収納された状態の一例の上面図ある。以下の各図中、Ｘ方向はカセット３０の長手方向、Ｙ方向はカセット３０の幅方向を表す。なお、Ｘ方向および、Ｙ方向は互いに直交する方向である。図２は、板厚の異なるガラス基板２０Ａ、２０Ｂがカセット３０に収納された状態を示している。また、図２は、複数の収納位置の一部にガラス基板２０が収納されていない状態を示している。
【００２１】
カセット３０は上方に開放された箱形状であり、カセット３０の内側側面３１には仕切り部３２が突設されている。仕切り部３２はカセット３０の長手方向（Ｘ方向）に間隔をおいて複数形成され、仕切り部３２同士の間隔はガラス基板２０の板厚よりも大きい。ガラス基板２０は、仕切り部３２同士の間に形成される溝部３３に挿入され、１枚ずつ分離した状態でカセット３０内に収納される。カセット３０は、ガラス基板２０を収納可能な収納位置を複数（例えば２５個）有し、複数の収納位置が所定方向（Ｘ方向）に間隔をおいて並ぶ。
【００２２】
カセット３０は、開口縁に、互いに平行な２つの直線状部分３４〜３５を有する。各直線状部分３４〜３５の長手方向は、複数の収納位置が並ぶ方向（Ｘ方向）と平行である。
【００２３】
（取り出し装置）
取り出し装置４０は、図１に示すように、カセット３０からガラス基板２０を取り出す装置である。取り出し時、カセット３０は搬送路上の所定位置で一時停止されてよく、停止位置を位置決めするストッパーが搬送路上に配設されてよい。
【００２４】
取り出し装置４０は、搬送路に対しＸ方向に移動可能な可動体４１、Ｚ方向に伸縮可能な伸縮アーム４２、伸縮アーム４２の下端部に設けられるチャック機構４３などで構成される。
【００２５】
可動体４１は、ガイドレール４５などで移動可能に支持されており、モータなどの駆動源４６によって移動される。可動体４１には、伸縮アーム４２の上端部が固定されている。
【００２６】
伸縮アーム４２は、例えば、空気圧シリンダや油圧シリンダなどの流体圧シリンダで構成され、上下方向（Ｚ方向）に伸縮可能である。伸縮アーム４２が伸縮することで、チャック機構４３が可動体４１に対して昇降する。
【００２７】
チャック機構４３は、一般的な構成であってよく、例えば図１に示すようにガラス基板２０の内周を複数箇所で把持する機構でもよいし、ガラス基板２０の内周と外周を挟持する機構でもよい。
【００２８】
取り出し装置４０は、後述の実行部８１による制御下で、収納位置毎に、収納位置からガラス基板２０を取り出す動作を行う。取り出し動作は、取り出し装置４０の構成に応じて適宜選択されるが、本実施形態では下記の（１）〜（５）の動作を含む。（１）カセット３０と可動体４１とのＸ方向位置合わせを行う。位置合わせは、可動体４１の移動および／またはカセット３０の移動によって行われる。（２）伸縮アーム４２を伸ばし、チャック機構４３をカセット３０内に挿入させる。（３）可動体４１をＸ方向に移動させ、一の収納位置にチャック機構４３を移動する。このとき、一の収納位置にガラス基板２０が収納されていれば、ガラス基板２０の円孔２１にチャック機構４３が挿入される。（４）チャック機構４３を駆動する。このとき、一の収納位置にガラス基板２０が収納されていれば、チャック機構４３がガラス基板２０をチャックする。（５）伸縮アーム４２を縮め、チャック機構４３をカセット３０から取り出す。上記（１）〜（５）の一連の取り出し動作は、収納位置毎に行われ、カセット３０の長手方向（Ｘ方向）一端側から他端側に向けて順次行われる。なお、取り出し装置４０は複数であってもよく、例えば２つの場合、取り出し動作は、カセット３０の長手方向両端側から中央に向けて順次行われる。
【００２９】
なお、本実施形態の取り出し装置４０は、カセット３０の上方からガラス基板２０を引き上げる装置であるが、カセット３０の下方からリフト機構によりガラス基板２０をカセット３０の上方に突き上げてからチャック機構４３（ガラス基板２０の内周を複数箇所で把持する機構でもよいし、ガラス基板２０の内周と外周を挟持する機構でもよいし、ガラス基板２０の外周を複数箇所で把持する機構でもよい。）がガラス基板２０をチャックする装置であってもよい。
【００３０】
取り出し装置４０によって取り出されたガラス基板２０は、図示されない搬送ハンドに渡される。搬送ハンドは、一般的な構成であってよく、例えばガラス基板２０の外周を複数箇所で把持する機構を有する。搬送ハンドは、取り出し装置４０から受け取ったガラス基板２０を検査装置５０に渡し、検査装置５０のスピンドル５４にセットする。
【００３１】
（検査装置）
検査装置５０は、ガラス基板２０を検査する光学式自動検査装置（ＡＯＩ：Ａｕｔｏｍａｔｉｃ  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｉｎｓｐｅｃｔｉｏｎ）である。検査装置５０は、ガラス基板２０の主平面２２に光を照射し、照射位置からの散乱光（または反射光）を受光する。
【００３２】
例えば、検査装置５０は、図１に示すように、ガラス基板２０の主平面２２にレーザ光を照射するレーザ光源５１と、レーザ光の照射位置からの散乱光（または反射光）を受光する受光素子５２と、ガラス基板２０を回転させるスピンドル５４とを含む。レーザ光源５１とガラス基板２０の間にはレーザ光を集光する集光レンズなどの光学系５３が設けられ、光学系５３によってガラス基板２０の主平面２２にスポット光が形成される。スポット光は、スピンドル５４と共に回転するガラス基板２０の主平面２２上で渦巻き状に走査される。主平面２２に存在する欠陥にスポット光が当たると、受光素子５２の受光量が増加または減少する。受光素子５２は光電変換素子などで構成され、受光量に応じた信号を制御装置８０に送信する。制御装置８０は、受光素子５２からの信号に基づいて欠陥の有無を判定し、欠陥の無い良品と、欠陥の有る不良品とに分類する。良品と不良品とは、異なる回収カセットに収納される。欠陥の種類としては、例えば、クラック、凹凸、付着物などがある。
【００３３】
なお、本実施形態の検査装置５０は、ガラス基板２０の一方の主平面２２を検査するが、両方の主平面２２、２３を検査してもよい。
【００３４】
図３〜図４は、検査装置５０におけるスピンドルの一例の説明図である。スピンドル５４は、ガラス基板２０の内周を把持して、ガラス基板２０と共に回転する。スピンドル５４は、一般的な構成であってよく、例えばガラス基板２０の内周を裏面側から支持する筒状部５５、筒状部５５の内側に配設され筒状部５５に対して軸方向に移動可能な軸部５６、および軸部５６の移動に伴って径方向にスライド可能な把持爪５７などで構成される。軸部５６は円錐台状の頭部５８を有し、頭部５８は図中右側に行くほど径方向内方に向かうテーパ面５９を外周に有する。頭部５８の周りに複数の把持爪５７が配設され、各把持爪５７は頭部５８のテーパ面５９に接触している。
【００３５】
図３に示す状態から、軸部５６が右方向に移動すると、図４に示すように、把持爪５７が径方向外方にスライドしてガラス基板２０の内周面に押し付けられ、ガラス基板２０を把持する。一方、図４に示す状態から、軸部５６が左方向に移動すると、図３に示すように、把持爪５７が径方向内方にスライドしてガラス基板２０の内周面から離れ、ガラス基板２０の把持が解除される。図３に示す状態では、ガラス基板２０をスピンドル５４から抜き取ることが可能である。
【００３６】
（撮像装置）
図５は、カセット３０の搬送方向視における撮像装置の説明図である。図５は、カセット３０を破断して示す。
【００３７】
撮像装置６０は、搬送装置７０により搬送されるカセット３０を撮像するカメラ６１と、カセット３０を照らす光源６２と、カメラ６１および光源６２を支持する支持部材６３とを備える。
【００３８】
カメラ６１は、例えば、ＣＣＤカメラやＣＭＯＳカメラなどで構成され、搬送路上の所定位置の上方に設置され、カセット３０全体を上方から撮像する。撮像時、カセット３０は搬送路上の所定位置で一時停止されてよく、停止位置を位置決めするストッパーが搬送路上に配設されてよい。撮像時、上面視においてカメラ６１の光軸がカセット３０の中心と一致する。
【００３９】
光源６２は、カメラ６１の撮像領域に入らないように、上面視においてカセット３０と重ならない位置に配置され、カセット３０の斜め上方に配置される。光源６２は、図１に示すようにカセット３０の直線状部分３４と平行な方向（Ｘ方向）な線光源である。光源６２が直線状部分３４の全体を均等に照明するように、光源６２の長さは直線状部分３４の長さよりも長く、光源６２の輝度は光源６２の長手方向に略均一である。
【００４０】
光源６２は、図５に示すように２つの直線状部分３４、３５のうち、一方の直線状部分３４寄りに設置されている。一方の直線状部分３４を選択的に照らすため、光源６２は、一般的な蛍光灯に比べて指向性の高いＬＥＤ光源で構成されてよい。
【００４１】
光源６２に照らされるカセット３０内のガラス基板２０は、光源６２からの光をカメラ６１に向けて反射する光反射部分２６を有する。光反射部分２６は、ガラス基板２０の外縁２７にある。
【００４２】
図６は、撮像装置によって撮像される画像の一例の模式図である。図７は、撮像装置によって撮像される画像の一例の部分拡大図である。図６〜図７において、図面を見やすくするため、カセット３０の仕切り部３２や溝部３３などの図示を省略する。また、カセット３０の直線状部分３４の画像３４Ｇ、およびガラス基板２０の光反射部分２６の画像２６Ｇを点模様で示す。点模様で示す部分は、その他の部分に比べて画素の輝度（明度）が高い部分である。
【００４３】
撮像装置６０により撮像される画像９０（以下、「全体画像９０」ともいう）は、カセット３０の画像３０Ｇと、カセット３０内に収納される各ガラス基板２０の画像２０Ｇとを含む。カセット３０の画像３０Ｇは、カセット３０の上縁の直線状部分３４の画像３４Ｇを含む。各ガラス基板２０の画像２０Ｇは、光反射部分２６の画像２６Ｇを含む。
【００４４】
同じ板厚のガラス基板２０のみがカセット３０に収容されている場合、全体画像９０のＸ方向中央からＸ方向両端に向かうほど、光反射部分２６の画像２６ＧのＸ方向幅Ｗ（図７参照）が小さく（または大きく）なることがある。これはカメラ６１のレンズ収差の影響によるものである。なお、この影響を除去するため、カメラ６１のレンズとして、テレセントリックレンズを用いてもよい。
【００４５】
一方、図６に示すように、板厚の異なるガラス基板２０Ａ、２０Ｂがカセット３０に収容されている場合、光反射部分２６Ａ、２６Ｂの画像２６ＡＧ、２６ＢＧのＸ方向幅は、ガラス基板２０Ａ、２０Ｂの板厚に応じた大きさとなる。
【００４６】
（制御装置）
制御装置８０は、全体画像９０を画像処理し、画像処理の結果に基づいて取り出し装置４０を制御する。制御装置８０は、ＣＰＵや記録媒体（例えば、ＲＯＭやＲＡＭ）などを含むコンピュータとして構成される。制御装置８０は、後述の実行部８１、状態判断部８２、有無判定部８３、および板厚判別部８４に対応するコンピュータプログラムを記録媒体に格納している。制御装置８０は、これらのコンピュータプログラムをＣＰＵに実行させることにより、実行部８１、状態判断部８２、有無判定部８３、および板厚判別部８４が有する機能を実現する。
【００４７】
なお、制御装置８０の代わりに、状態判断部８２、有無判定部８３および板厚判定部８４を含む画像処理装置と、実行部８１を含むＰＬＣ（Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ  Ｌｏｇｉｃ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）とを用いてもよい。ＰＬＣは画像処理装置と情報を送受信可能に構成される。
【００４８】
（実行部）
実行部８１は、収納位置毎に、収納位置からガラス基板２０を取り出す動作を取り出し装置４０に行わせる。このとき、カセット３０は搬送路上の所定の位置で一時停止されてよい。実行部８１の詳細については後述する。
【００４９】
（状態判断部）
状態判断部８２は、全体画像９０を画像処理することにより、カセット３０の直線状部分３４と、撮像装置６０との位置関係が正常状態か否かを判断する。
【００５０】
図８は、状態判断部が行う処理の一例のフローチャートである。図８に示すＳ１０１以降の処理は、例えば、制御装置８０が撮像装置６０から画像データを受信したときに開始される。
先ず、状態判断部８２は、画素の輝度（明度）が閾値以上か否かによって全体画像９０を２値化処理する（例えば、白い画素と黒い画素に分ける）（ステップＳ１０１）。
【００５１】
次いで、状態判断部８２は、２値化処理した画像をラベリング処理し（連続する白い画素、または連続する黒い画素に同じ番号を割り振り）（ステップＳ１０２）、直線状部分３４の画像３４を検出する（ステップＳ１０３）。なお、ラベリング処理の速度を向上するため、ラベリング処理の前に、２値化処理した画像中の不要部分をマスクし、不要部分をラベリング処理の対象から外してよい。
【００５２】
次いで、状態判断部８２は、直線状部分３４の画像３４Ｇの特徴値（例えば、全体画像９０中の占有面積、全体画像９０中の基準線に対する傾き、全体画像９０における画像座標など）を抽出する（ステップＳ１０４）。
【００５３】
次いで、状態判断部８２は、抽出した特徴値と基準値とを比較し（ステップ１０５）、カセット３０の直線状部分３４と、撮像装置６０との位置関係が正常状態か否か判断する（ステップＳ１０６）。基準値は、試験により決定され、記録媒体に予め記録されたものを読み出して用いる。
【００５４】
例えば、状態判断部８２は、特徴値と基準値との差の絶対値が閾値以下の場合、上記位置関係が正常状態であると判断する。一方、状態判断部８２は、特徴値と基準値との差の絶対値が閾値を超える場合、上記位置関係が異常状態であると判断する。
【００５５】
上記位置関係が異常状態であると判断された場合、何らかの原因で、搬送路上にカセット３０が正しくセットされていないので、制御装置８０は、ガラス基板検査システム１０の所定の動作を停止すると共に、ディスプレイなどの表示部、ランプ、ブザーなどを制御して、異常をユーザに通知する。ユーザは、異常となった原因を調べ、原因を取り除いた後、ガラス基板検査システム１０の停止を解除する。ユーザは、原因を取り除かずに、ガラス基板検査システム１０の停止を解除することも可能である。詳しくは後述するが、異常と判断されたカセット３０は取り出し装置４０による処理の対象から外され、次のカセットから処理の対象とされてよい。
【００５６】
なお、本実施形態の状態判断部８２は、直線状部分３４の画像３４Ｇの画像座標を検出するため、２値化処理およびラベリング処理を行うが、画像処理の方法は特に限定されない。例えば、状態判断部８２は、テンプレートを用いたパターンマッチング処理を行ってもよく、この場合、直線状部分３４の画像３４Ｇとテンプレートとの類似度が閾値を超えるか否かに応じて、正常状態か否か判断する。また、状態判断部８２は、画素の輝度が急変する箇所を微分（１次微分または２次微分）で求め、直線状部分３４の輪郭線の画像座標を検出してもよい。
【００５７】
（有無判定部）
有無判定部８３は、全体画像９０を画像処理して、収納位置毎に、ガラス基板２０の有無を判定する。
【００５８】
図９は、有無判定部が行う処理の一例のフローチャートである。図９に示すＳ２０１以降の処理は、例えば、制御装置８０が撮像装置６０から画像データを受信したときに開始される。
【００５９】
なお、Ｓ２０１以降の処理は、状態判断部８２により上記位置関係が正常状態であると判断されたときに行われ、異常状態であると判断されたときに行われなくてもよい。
【００６０】
先ず、有無判定部８３は、複数の収納位置に対応する複数の処理領域９１を画像９０に設定する（ステップＳ２０１）。処理領域９１の数は収納位置の数（即ち、溝部３３の数）と同じである。複数の処理領域９１がＸ方向に並ぶ。処理領域９１同士は図６に示すように離れていても、接していてもよい。
【００６１】
各処理領域９１の画像座標は、試験などにより設定され、記録媒体に予め記録されたものを読み出して用いる。試験は各収納位置にガラス基板２０を一枚ずつ収納して行われ、各処理領域９１の画像座標は、対応するガラス基板２０の光反射部分２６の画像２６Ｇが各処理領域９１に含まれるように設定される。
【００６２】
各処理領域９１の画像座標は、状態判定部８２により検出される直線状部分３４の画像座標に基づいて補正されてよい。
【００６３】
各処理領域９１のＸ方向寸法（以下、単に「領域サイズ」という）は、全体画像９０をＸ方向に３つに分割した区域９０ａ〜９０ｃ毎に設定されてもよい。Ｘ方向端部の区域９０ａ、９０ｃにおける領域サイズＤａ、Ｄｃ（Ｄａ＝Ｄｃ）は、Ｘ方向中央部の区域９０ｂにおける領域サイズＤｂよりも小さく（または大きく）設定される（図においてはＤａ＝Ｄｂ＝Ｄｃ）。この設定は、板厚が同じガラス基板２０の光反射部分２６の画像２６ＧのＸ方向幅Ｗ（図７参照）がＸ方向端部側ほど小さく（または大きく）なるのに合わせて行われる。よって、カメラ６１のレンズ収差の影響を低減することができる。
【００６４】
なお、本実施形態では、全体画像９０をＸ方向に３つの区域９０ａ〜９０ｃに分割しているが、分割数は３つ以上であればよく、特に限定されない。例えば、分割数は収納位置の数と同じであってもよい。
【００６５】
なお、本実施形態では、処理領域９１のＸ方向寸法を調整する目的と、後述の目的（処理領域９１から抽出した特徴値と比較する基準値を調整する目的）との両方の目的で分割を行うが、いずれか一方の目的で分割を行ってもよい。
【００６６】
次いで、有無判定部８３は、各処理領域９１の画像を、画素の輝度（明度）が閾値以上か否かによって２値化処理する（例えば、白い画素と黒い画素に分ける）（ステップＳ２０２）。白い画素は輝度が閾値以上の画素であり、黒い画素は輝度が閾値未満の画素である。
【００６７】
次いで、有無判定部８３は、２値化処理した各処理領域９１の画像を、ラベリング処理する（連続する白い画素に同じ番号を割り振る）（ステップＳ２０３）。
【００６８】
次いで、有無判定部８３は、処理領域９１毎に、光反射部分２６の画像２６Ｇが含まれているか否かを検出する（ステップＳ２０４）。例えば、連続する白い画素の面積（特徴値）が基準値以上の場合に画像２６Ｇが含まれており、基準値未満の場合に画像２６Ｇが含まれていないと検出される。
【００６９】
上記基準値は、区域９０ａ〜９０ｃ毎に設定されてもよい。例えば、Ｘ方向端部の区域９０ａ、９０ｃにおける基準値は、Ｘ方向中央部の区域９０ｃにおける基準位置よりも小さく（または大きく）設定される。この設定は、板厚が同じガラス基板２０の光反射部分２６の画像２６ＧのＸ方向幅Ｗ（図７参照）がＸ方向端部側ほど小さく（または大きく）なるのに合わせて行われる。よって、カメラ６１のレンズ収差の影響を低減することができる。
【００７０】
次いで、有無判定部８３は、ステップＳ２０４の結果に基づいて、各処理領域９１と対応する収納位置にガラス基板２０が有るか否かを判定する（ステップＳ２０５）。具体的には、一の処理領域９１に画像２６Ｇが含まれている場合、一の処理領域９１と対応する収納位置にガラス基板２０が有ると判定される。また、一の処理領域９１に画像２６Ｇが含まれていない場合、一の処理領域９１と対応する収納位置にガラス基板２０が無いと判定される。
【００７１】
最後に、有無判定部８３は、収納位置の識別情報（例えば、識別番号）と、ガラス基板２０の有無とを対応付けたテーブル（図１１参照）を記録媒体に記録する（ステップＳ２０６）。テーブルは、カセット３０を識別するためのＩＤと対応付けて記録される。
【００７２】
なお、本実施形態の有無判定部８３は、処理領域９１毎に、光反射部分２６の画像２６Ｇが含まれているか否かを判定するため、２値化処理およびラベリング処理を行うが、画像処理の方法は特に限定されない。例えば、有無判定部８３は、テンプレートを用いたパターンマッチング処理を行うことにより、光反射部分２６の画像２６Ｇを検出し、判定を行ってもよい。また、有無判定部８３は、画素の輝度が急変する箇所を微分（１次微分または２次微分）で求め、光反射部分２６の画像２６Ｇの輪郭線を検出し、判定を行ってもよい。
【００７３】
（板厚判別部）
板厚判別部８４は、全体画像９０を画像処理して、収納位置毎に、収納位置に有るガラス基板２０の板厚が所定範囲内であるか否かを判別する。ガラス基板の製造ライン上で、板厚の異なる複数種類のガラス基板が製造される場合に、複数種類のガラス基板が誤って混じるのを検知できる。板厚判別部８４は、有無判定部８３によりガラス基板２０が無いと判定された収納位置について後述の処理を行わなくてよい。
【００７４】
なお、有無判定部８３の処理と、板厚判別部８４の処理とは、いずれの処理が先に実施されてもよいし、同時に実施されてもよい。
【００７５】
図１０は、板厚判別部が行う処理の一例を示すフローチャートである。図１０に示すＳ３０１以降の処理は、例えば、制御装置８０が撮像装置６０から画像データを受信したときに開始される。
【００７６】
なお、Ｓ３０１以降の処理は、状態判断部８２により上記位置関係が正常状態であると判断されたときに行われ、異常状態であると判断されたときに行われなくてもよい。
【００７７】
先ず、板厚判別部８４は、各処理領域９１における画素の輝度の変化を調べ、光反射部分２６の画像２６ＧのＸ方向幅Ｗ（以下、単に「画像幅Ｗ」ともいう）を検出する（ステップＳ３０１）。画像幅Ｗは、輝度がＸ方向に急変する２点９２、９３（図７参照）間の距離として算出される。
【００７８】
輝度の変化を調べるライン９４はＸ方向に延びる。ライン９４は、全体画像９０に含まれる１つまたは複数の画像２６ＧのＹ方向重心を通るラインであってもよいし、試験により設定され、記録媒体に予め記録されたラインであってもよい。
【００７９】
次いで、板厚判別部８４は、検出した画像幅Ｗが基準範囲内か否かを調べる（ステップＳ３０２）。上記基準範囲は、区域９０ａ〜９０ｃ毎に設定されてもよい。例えば、Ｘ方向端部の区域９０ａ、９０ｃにおける基準範囲の下限値、上限値は、Ｘ方向中央部の区域９０ｂにおける基準範囲の下限値、上限値よりも小さく（または大きく）設定される。この設定は、板厚が同じガラス基板２０の光反射部分２６の画像２６ＧのＸ方向幅Ｗ（図７参照）がＸ方向端部側ほど小さく（または大きく）なるのに合わせて行われる。よって、カメラ６１のレンズ収差の影響を低減することができる。
【００８０】
次いで、板厚判別部８４は、ステップＳ３０２の調査結果に基づいて、ガラス基板２０の板厚が所定範囲内であるか否かを判別する（ステップＳ３０３）。具体的には、画像幅Ｗが基準範囲内の場合、ガラス基板２０の板厚が所定範囲内であると判別される。また、画像幅Ｗが基準範囲外の場合、ガラス基板２０の板厚が所定範囲外であると判別される。
【００８１】
最後に、板厚判別部８４は、収納位置の識別情報（例えば、識別番号）と、ガラス基板２０の板厚の判別結果とを対応付けたテーブル（図１１参照）を記録媒体に記録する（ステップＳ３０４）。図１１に示すテーブルにおいて、「○」は板厚が所定範囲内であると判別されたことを、「×」は板厚が所定範囲外であると判別されたことを、「−」はガラス板が無いため板厚の判別を行わなかったことをそれぞれ意味する。
【００８２】
（実行部）
実行部８１は、状態判断部８２の判断結果、有無判定部８３の判定結果、および板厚判別部８４の判別結果に基づいて、各収納位置からガラス基板２０を取り出す動作を取り出し装置４０に実行させる。実行部８１は、記録媒体に記録されたテーブル（図１１参照）を参照して処理を行う。
【００８３】
例えば、実行部８１は、状態判断部８２により上記位置関係が異常状態であると判断された場合、カセット３０の全ての収納位置に対する取り出し動作を取り出し装置４０に行わせない。この場合、何らかの原因で、搬送路上にカセット３０が正しくセットされていないからである。
【００８４】
また、実行部８１は、有無判定部８３によりガラス基板２０が無いと判定された収納位置に対する取り出し動作を取り出し装置４０に行わせず、スキップさせる。実行部８１は、ガラス基板２０が有ると判定された収納位置に対する取り出し動作のみを取り出し装置４０に行わせるので、無駄な取り出し動作が行われず、検査効率が向上する。
【００８５】
また、実行部８１は、板厚判別部８４により板厚が所定範囲外と判別されたガラス基板２０の収納位置に対する取り出し動作を取り出し装置４０に行わせず、スキップさせる。実行部８１は、板厚が所定範囲内にあると判別されたガラス基板２０の収納位置に対する取り出し動作のみを取り出し装置４０に行わせる。これにより、取り出し装置４０や検査装置５０において所望の板厚のガラス基板２０のみをチャックするので、ガラス基板２０にかかる負荷が安定化し、ガラス基板２０の破損が防止され、ひいては、ガラス基板検査システム１０が設置されるクリーンルームの汚染が防止される。また、検査装置５０において所望の板厚のガラス基板２０のみを検査するので、レーザ光の焦点がずれるのを防止することができ、誤った検査結果が得られるのを防止することができる。
【００８６】
さらに、実行部８１は、板厚判別部８４により板厚が所定範囲外と判別されたガラス基板がある場合、カセット３０の全ての収納位置に対する取り出し動作を取り出し装置４０に行わせなくてもよい。この場合、規格外のガラス基板２０がカセット３０に混入しているので、ガラス基板２０の製造ラインに異常があるためである。制御装置８０は、ガラス基板検査システム１０の所定の動作を停止すると共に、ディスプレイなどの表示部、ランプ、ブザーなどを制御して異常をユーザに通知する。ユーザは異常となった原因を調べ、原因を取り除いた後、ガラス基板検査システム１０の停止を解除する。ユーザは、原因を取り除かずに、停止を解除することも可能である。
【００８７】
（ガラス基板の製造方法）
ガラス基板の製造方法は、ガラス基板の用途に応じて選択され、例えば、ガラス基板の用途が磁気記録媒体用の場合、以下の（１）〜（６）の工程を有する。（１）ガラスの素板を加工して、中心部に円孔を有する円盤状のガラス基板を作製する。（２）ガラス基板の外周および内周の角部を面取りする。（３）ガラス基板の表面および裏面（両主面）をラッピング加工する。ラッピング加工では、遊離砥粒ラップ（例えば、アルミナ砥粒や炭化ケイ素砥粒などの砥粒と、金属製の定盤とが用いられる）または固定砥粒ラップ（例えば、ダイヤモンド砥粒などの砥石を含む固定砥粒工具が用いられる）を用いる。（４）ガラス基板の外周面や内周面（面取り部を含む）を端面研磨する。（５）ガラス基板の両主面を研磨する。主面研磨では、ラッピング加工よりも平均粒子直径の小さい砥粒と、樹脂製の研磨パッドとが用いられる。主平面研磨の回数に制限はなく、研磨パッドや研磨剤が異なる複数種類の主面研磨を実施しても良い。（６）ガラス基板を洗浄して乾燥し、磁気記録媒体用ガラス基板を製造する。この磁気記録媒体用ガラス基板上に磁性層などの薄膜を形成することで、磁気ディスクを製造できる。
【００８８】
また、磁気記録媒体用のガラス基板の製造方法は、上記（１）〜（６）の工程間に、ガラス基板洗浄（工程間洗浄）やガラス基板表面（ガラス基板の全面又は一部（例えば、主平面、内周端面及び外周端面のうち少なくとも一部））のエッチング（工程間エッチング）を実施しても良い。また、ガラス基板の表層に強化層を形成する強化工程（例えば、化学強化工程）を研磨工程前、または研磨工程後、あるいは研磨工程間で実施しても良い。
【００８９】
ところで、上記（１）〜（６）の工程の実施時、これらの工程または工程間でのガラス基板の搬送時に、ガラス基板にキズが生じることがある。そこで、本実施形態では、上記（６）の工程の後に、上記ガラス基板検査システム１０による検査工程を実施する。これによって、磁気ディスクの歩留まりや製造コストを改善できる。
【００９０】
なお、本実施形態では、上記（６）の工程の後に、検査工程を実施するとしたが、本発明はこれに限定されない。即ち、検査工程は、ガラス板を加工する加工工程後に実施されれば良く、例えば、上記（４）の工程と上記（５）の工程との間に実施されても良い。さらに、本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法に限らず、ＦＰＤ用ガラス基板やフォトマスク用ガラス基板の製造方法など、一般的なガラス板の製造方法に適用されても良い。
【００９１】
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に制限されることはない。本発明の範囲を逸脱することなく、上記の実施形態に種々の変形および置換を加えることができる。
【００９２】
例えば、本実施形態のガラス基板検査システム１０は、カセット３０を撮像する撮像装置６０を有するが、別の装置を有してもよい。別の装置としては、例えば、カセット３０にレーザ光を照射する光源と、レーザ光がカセット３０に収納されるガラス基板２０で反射されたとき、反射光を受光する受光素子とで構成されるセンサなどが挙げられる。このセンサは、光源および受光素子がカセット３０の長手方向（Ｘ方向）と平行な方向に複数並ぶラインセンサであってよい。受光素子は、レーザ光がカセット３０を通過（透過）したとき、透過光を受光するものであってもよい。この場合、受光素子は、カセット３０を基準として、光源と反対側に配置される。
【符号の説明】
【００９３】
１０  ガラス基板検査システム
２０  ガラス基板
２１  円孔
２４、２５  主平面
３０  カセット
３４  直線状部分
４０  取り出し装置
５０  検査装置
６０  撮像装置
６１  カメラ
６２  光源
８０  制御装置
８１  実行部
８２  状態判断部
８３  有無判定部
８４  板厚判別部
９０  撮像装置によって撮像される画像
９０ａ〜９０ｃ  区域
９１  処理領域
【図１】
0005532025.tif 000002
【図２】
0005532025.tif 000003
【図３】
0005532025.tif 000004
【図４】
0005532025.tif 000005
【図５】
0005532025.tif 000006
【図６】
0005532025.tif 000007
【図７】
0005532025.tif 000008
【図８】
0005532025.tif 000009
【図９】
0005532025.tif 000010
【図１０】
0005532025.tif 000011
【図１１】
0005532025.tif 000012