(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
粘着剤層の両面に、第１及び第２剥離シートそれぞれが積層される基材レス両面粘着シートであって、
前記第１剥離シートが、剥離シート基材、下塗層、及び剥離剤層がこの順に設けられて形成されると共に、前記剥離剤層が前記粘着剤層に剥離可能に仮着されており、
前記剥離剤層が付加反応型シリコーン樹脂組成物を硬化して形成されたものであると共に、前記下塗層が、一般式Ｓｉ（ＯＲ１）４で表されるアルコキシシラン化合物（前記一般式において、Ｒ１はアルキル基又はアシル基である。）及び／又はその部分加水分解物の縮合重合体から形成されたものであって、
前記第１剥離シートの前記粘着剤層に対する剥離力が、前記第２剥離シートの前記粘着剤層に対する剥離力より低いことを特徴とする基材レス両面粘着シート。
【請求項２】
前記第１剥離シートの剥離剤層には、軽剥離コントロール剤が含まれないことを特徴とする請求項１に記載の基材レス両面粘着シート。
【請求項３】
前記粘着剤層は、アクリル系共重合体を含むことを特徴とする請求項１に記載の基材レス両面粘着シート。
【請求項４】
前記アクリル系共重合体は、官能基含有モノマーをモノマー単位として０．３〜５．０質量％含むことを特徴とする請求項３に記載の基材レス両面粘着シート。
【請求項５】
基材レス両面粘着シートにおいて使用される軽剥離側の剥離シートであって、
剥離シート基材、下塗層、及び剥離剤層がこの順に設けられて形成され、
前記剥離剤層が付加反応型シリコーン樹脂組成物を硬化して形成されたものであると共に、前記下塗層が、一般式Ｓｉ（ＯＲ１）４で表されるアルコキシシラン化合物（前記一般式において、Ｒ１はアルキル基又はアシル基である。）及び／又はその部分加水分解物の縮合重合体から形成されたものであることを特徴とする剥離シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は基材レス両面粘着シートに関し、特に重剥離シート側の剥離力が比較的低いときにでも良好な剥離性能を提供できる基材レス両面粘着シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、物体間を面接着する粘着シートは種々知られており、粘着シートの１つとして基材レス両面粘着シートが知られている。基材レス両面粘着シートは、粘着剤層の両面に剥離力の相対的に低い軽剥離シートと、剥離力の相対的に高い重剥離シートが積層されて構成され、両面の剥離シートを除去した後には、支持基材を有さない粘着剤層のみとなる両面粘着シートである。基材レス両面粘着シートは、まず軽剥離シートが剥がされ、露出された粘着剤層の一方の面が物体面に接着され、その接着後、さらに重剥離シートが剥がされ、露出された粘着剤層の他方の面が、異なる物体面に接着され、これにより物体間が面接着される。
【０００３】
基材レス両面粘着シートにおいて、重剥離シートの剥離力が高すぎると、重剥離シートを剥離させる際、重剥離シートに粘着剤が部分的に残留してしまう転写不良が生じ、粘着剤の粘着力を低下させるおそれがある。また、重剥離シートの剥離力が高すぎると、重剥離シートを剥離させる際、粘着剤層にジッピング（パルス状の剥離）が生じ、粘着剤層の接着面に凹凸が生じるおそれもある。近年、基材レス両面粘着シートは、その用途が広がりつつあり、偏光板の透過面等に、フィルム等他の部材を貼り合わせるために使用されることがある。このような用途においては、粘着剤層の接着面に凹凸が生じると、光がその接着面で乱反射するので、偏光板の光透過性等を低下させてしまうことになる。
【０００４】
重剥離シートを剥離する際のこれら不都合を解決するためには、重剥離シートの剥離力を低く設定しなければならない。しかし、重剥離シートと軽剥離シートとはその剥離力差を所定値以上にしなければ、軽剥離シートを剥がす際、粘着剤層が追従して軽剥離シートに転着する剥離不良が生じる。そのため、重剥離シートの剥離力を低くしようとすると、それに合わせて軽剥離シートの剥離力も低く設定しなければならない。
【０００５】
従来、基材レス両面粘着シートにおいて、軽剥離シートの剥離力を低くするために、剥離剤組成物中のシリコーン化合物のビニル基の量が調整され、或いは非反応性シリコーンオイル等の軽剥離コントロール剤が剥離剤組成物に加えられることが知られている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平７−４１７３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、特許文献１の構成によれば、剥離剤層の硬化性が低下し、剥離剤のシリコーン化合物が粘着剤層に転移しやすくなり、そのシリコーン化合物の転移によって、粘着剤の粘着力が低下させられるという不都合が生じることがある。
【０００７】
そこで、本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、重剥離シートの剥離力が低い場合でも、剥離シートの剥離が良好で、かつ剥離剤の粘着剤への転移が少ない基材レス両面粘着シートを得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る基材レス両面粘着シートは、粘着剤層の両面に、第１及び第２剥離シートそれぞれが積層される基材レス両面粘着シートであって、第１剥離シートが、剥離シート基材、下塗層、及び剥離剤層がこの順に設けられて形成されると共に、剥離剤層が粘着剤層に剥離可能に仮着されており、剥離剤層が付加反応型シリコーン樹脂組成物を硬化して形成されたものであると共に、下塗層が、アルコキシシラン化合物及び／又はその部分加水分解物の縮合重合体から形成されたものであって、第１剥離シートの粘着剤層に対する剥離力が、第２剥離シートの粘着剤層に対する剥離力より低いことを特徴とする。
【０００９】
第１剥離シートの剥離剤層には、軽剥離コントロール剤が含まれないことが好ましい。また、粘着剤層は、アクリル系共重合体を含むことが好ましく、例えばアクリル系共重合体は、官能基含有モノマーをモノマー単位として０．３〜５．０質量％含む。
【００１０】
アルコキシシラン化合物は、例えば、一般式Ｓｉ（ＯＲ１）ｘ（Ｒ２）４−ｘで表される化合物である。なお、一般式においてｘは２〜４の整数であり、Ｒ１はアルキル基又はアシル基であり、Ｒ２は有機基である。
【００１１】
基材レス両面粘着シートにおいて使用される軽剥離側の剥離シートであって、剥離シート基材、下塗層、及び剥離剤層がこの順に設けられて形成され、剥離剤層が付加反応型シリコーン樹脂組成物を硬化して形成されたものであると共に、下塗層が、アルコキシシラン化合物及び／又はその部分加水分解物の縮合重合体から形成されたものであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明においては、重剥離シートの剥離力が低い場合であっても、軽剥離及び重剥離シートの剥離性を良好にできると共に、粘着剤へのシリコーン化合物の転移を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
図１は、本発明の実施形態に係る基材レス両面粘着シートを示す模式的な断面図である。図１に示すように、基材レス両面粘着シート１０は、粘着剤層１１の両面に、第１および第２剥離シート３１、３２が積層されて構成される。
【００１４】
第１剥離シート３１は、いわゆる軽剥離シートであって、剥離シート基材１３の一方の面に下塗層１４、第１剥離剤層１５が順に積層されて構成され、第１剥離剤層１５が粘着剤層１１に剥離可能に仮着されている。第２剥離シート３２は、いわゆる重剥離シートであって、剥離シート基材２３の一方の面に第２剥離剤層２５が積層されて構成され、第２剥離剤層２５が粘着剤層１１に剥離可能に仮着されている。基材レス両面粘着シート１０は、例えば、第２剥離シート３２の第２剥離剤層２５の上に、粘着剤が塗工された後乾燥されて粘着剤層１１が形成され、次いで、その剥離剤層１１の上に第１剥離シート３１がラミネートされることにより作製されるが、この作製方法に限定されるわけではない。
【００１５】
粘着剤層１１を形成する粘着剤としては、アクリル系粘着剤が使用される。アクリル系粘着剤は、官能基含有モノマーと、アクリル酸エステル、メタアクリル酸エステル等の他のモノマーとを共重合して得られるアクリル系共重合体が主成分として構成され、必要に応じて溶媒、架橋剤、粘着付与剤、充填剤、着色剤、酸化防止剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤等をさらに含んでいても良い。
【００１６】
官能基含有モノマーとしては、例えばアクリル酸、メタアクリル酸等のカルボキシル基含有モノマーが挙げられる。官能基含有モノマーは、アクリル系共重合体を構成するモノマー全体を基準（１００質量％）として、モノマー単位として０．３〜５．０質量％含むことが好ましい。アクリル系共重合体は、官能基を含有することにより、架橋剤との反応で凝集力を調整することができ、粘着剤の基材からのはみ出しを抑制すると共に、粘着力及び耐熱性を向上させることができる。粘着剤に使用される架橋剤としては、特に制限はなく、従来アクリル系粘着剤において慣用されているものの中から適宜選択して用いられ、例えば、ポリイソシアネート化合物、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ジアルデヒド類、メチロールポリマー、アジリジン系化合物、金属キレート化合物、金属アルコキシド、金属塩などが用いられ、好ましくはポリイソシアネート化合物が用いられる。
【００１７】
下塗層１４は、アルコキシシラン化合物及び／又はその部分加水分解物の縮合重合体から形成される。下塗層１４は、剥離シート基材１３と第１剥離剤層１５との密着性を良好にしつつ、第１剥離剤層１５の粘着剤層１１に対する剥離力を低減させる作用を有する。
【００１８】
アルコキシシラン化合物としては、一般式Ｓｉ（ＯＲ１）ｘ（Ｒ２）４−ｘのものが使用される。上記一般式においてｘは２〜４の整数であることが好ましい。上記一般式においてＲ１は、アルキル基又はアシル基のいずれかである。アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜５のアルキル基、アシル基としては例えばアセチル基等の炭素数１〜４のアシル基が挙げられる。
【００１９】
上記一般式においてＲ２は、炭素数１〜１０の有機基であって、例えば無置換又は置換の炭化水素基である。無置換の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ｎ−デシル基等のアルキル基、フェニル基等のアリール基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基等が挙げられる。また、置換炭化水素基としては、γ−グリシドキシプロピル基、γ−メルカプトプロピル基、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル基、γ−メタクリロイルオキシプロピル基等が挙げられる。これらのアルコキシシラン化合物は、１種単独で、或いは２種以上が組み合わされて使用される。
【００２０】
ｘ＝４のアルコキシシラン化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−アセトキシシランなどが挙げられる。ｘ＝３のアルコキシシラン化合物としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｉ−プロピルトリメトキシシラン、ｉ−プロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３，４−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、３，４−エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン等が挙げられる。ｘ＝２のアルコキシシラン化合物としては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジエトキシシラン、ジ−ｉ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｉ−プロピルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン等が挙げられる。
【００２１】
下塗層１４の形成方法は、特に限定されず種々の方法が用いられるが、剥離シート基材１３にアルコキシシラン化合物及び／又はその部分加水分解物を含む塗工液が塗工されて形成されることが好ましい。上記塗工液は、アルコキシシラン化合物及び／又はその部分加水分解物が溶剤に溶解されたものであることが好ましく、溶剤としては有機系の溶剤が好適に用いられる。有機系の溶剤としては、特に限定されないが、例えばエタノール、イソプロパノール等のアルコール溶剤、メチルエチルケトン等のケトン溶剤が用いられる。
【００２２】
下塗層１４の固形分換算の塗工量は、特に限定されるものではないが、０．０１〜０．３ｇ／ｍ２の範囲であることが好ましい。下塗層１４は、塗工量が０．０１ｇ／ｍ２以上となることによって、均質な膜に形成され、また剥離シート基材１３と下塗層１４の密着性、及び下塗層１４と第１剥離剤層１５との密着性が良好になり、さらに第１剥離剤層１５の剥離力を十分に低下させることが可能になる。一方、塗工量が０．３ｇ／ｍ２以下となることにより、塗工面（すなわち、第１剥離剤層１５との接触面）を均質な状態にすることが可能になる。なお、下塗層１４の固形分換算の塗工量は、上記観点から０．０５〜０．２ｇ／ｍ２の範囲であることがより好ましい。
【００２３】
アルコキシシラン化合物及び／又はその部分加水分解物は、加水分解反応と重縮合反応によって縮合重合体をなし、下塗層１４を形成するものである。アルコキシシラン化合物及び／又はその部分加水分解物には、加水分解反応を促進させるために塩酸や硝酸等の酸触媒が加えられていても良い。
【００２４】
アルコキシシラン化合物及び／又はその部分加水分解物は、乾燥させる目的や上記重縮合反応を促進させる目的で、剥離シート基材１３の上に塗工された後加熱処理されることが好ましい。加熱条件としては、上記目的を達成し得る範囲であれば特に限定されないが、通常、加熱温度４０〜１２０℃の範囲で２０秒〜２分程度の加熱時間で加熱されることが好ましい。生産性と熱収縮しわの発生を防止する観点から、加熱温度が８０〜１１０℃程度であって、加熱時間が３０秒〜１分程度であることがより好ましい。
【００２５】
第１及び第２剥離剤層１５、２５は、下塗層１４、剥離シート基材２３それぞれの上に、剥離剤組成物が塗工された後、加熱により、或いは加熱と紫外線等の光照射が併用されて、剥離剤組成物が硬化被膜されて形成される。剥離剤層１５、２５に使用される剥離剤組成物は、付加反応型シリコーン樹脂組成物であって、付加反応型シリコーン樹脂と架橋剤とから成る主剤に、硬化触媒が添加されたものである。剥離剤組成物には、さらに所望により、付加反応抑制剤、密着向上剤などが添加されていても良く、また第２剥離剤層２５の剥離剤組成物には重剥離コントロール剤が添加されていても良い。また、剥離剤塗工後の硬化工程で、加熱に加えて紫外線照射が行われる場合、光開始剤が添加されていても良い。
【００２６】
付加反応型シリコーン樹脂としては、特に制限はなく、従来の熱硬化付加反応型シリコーン樹脂剥離剤に慣用されているものを用いることができ、例えば、分子中に官能基を有するポリオルガノシロキサン等を用いることができる。分子中に官能基を有するポリオルガノシロキサンとしては、例えば分子中に官能基としてアルケニル基を有するポリオルガノシロキサンが使用され、そのアルケニル基としてはビニル基、ヘキセニル基等の炭素数２〜１０のものが例示される。分子中に官能基を有するポリオルガノシロキサンとして、好ましくは、ビニル基を官能基とするポリジメチルシロキサン、ヘキセニル基を官能基とするポリジメチルシロキサン、これらの混合物等の官能基を有するポリジメチルシロキサンが使用され、特に好ましくは硬化性に優れる点からヘキセニル基を官能基とするポリジメチルシロキサンが使用される。
【００２７】
剥離剤組成物の架橋剤としては、例えば、１分子中に少なくとも２個のケイ素原子結合水素原子（ＳｉＨ）を有するポリオルガノハイドロジェンシロキサンの架橋剤が使用される。具体的には、ジメチルハイドロジェンシロキシ基末端封鎖ジメチルシロキサン−メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、トリメチルシロキシ基末端封鎖ジメチルシロキサン−メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、トリメチルシロキシ基末端封鎖ポリ（メチルハイドロジェンシロキサン）、ポリ（ハイドロジェンシルセスキオキサン）等が挙げられる。本実施形態では、架橋剤のＳｉＨと、剥離剤組成物に含有されるアルケニル基との付加反応により、剥離剤層の硬化被膜が形成される。架橋剤は、付加反応型シリコーン樹脂１００質量部に対して、０．１〜１００質量部、好ましくは０．３〜５０質量部使用される。
【００２８】
剥離剤組成物に添加される硬化触媒としては、例えば白金系化合物が使用される。白金系化合物の例としては、微粒子状白金、炭素粉末担体上に吸着された微粒子状白金、塩化白金酸、アルコール変性塩化白金酸、塩化白金酸のオレフィン錯体、パラジウム、ロジウム触媒等が挙げられる。硬化触媒は、付加反応型シリコーン樹脂及び架橋剤の合計量に対し、白金系金属として１〜１０００質量ｐｐｍ程度添加される。
【００２９】
第１及び第２の剥離剤層１５、２５の剥離剤組成物において架橋剤は、硬化性確保のために、例えばアルケニル基に対して等量モル或いは過剰モル添加され、剥離剤層に未反応のケイ素原子結合水素原子（ＳｉＨ）が残されることとなる。ＳｉＨは、剥離剤層の表面付近、すなわち粘着剤層１１との界面付近にも存在することとなり、アクリル系粘着剤の官能基（例えば、カルボキシル基）と弱く結合され、これにより第１及び第２剥離シート３１、３２の剥離力が上昇させられると考えられる。しかし、本実施形態の第１剥離シート３１においては、下塗層１４の重合縮合物がＯＨ基を有し、そのＯＨ基がＳｉＨと弱く結合されるので、ＳｉＨは粘着剤と結合しにくくなる。そのため、ＳｉＨと粘着剤との結合に起因する、第１剥離シート３１の剥離力の上昇が抑えられ、それにより、下塗層１４が第１剥離シート３１の剥離力を低減させていると推定される。
【００３０】
第１剥離剤層１５（軽剥離側）に使用される剥離剤組成物には、剥離力を軽くするための、非反応性シリコーン等の軽剥離コントロール剤が含まれておらず、第１剥離シート３１の粘着剤層１１に対する剥離力は、上述したような下塗層１４の作用によって低下される。なお、非反応性シリコーンとは、例えば分子中にアルケニル基やケイ素原子結合水素原子（ＳｉＨ）を有さないポリオルガノシロキサンであって、剥離剤組成物において付加反応することができないシリコーンのことをいう。
【００３１】
一方、第２剥離剤層２５と剥離シート基材２３との間には、アルコキシシラン化合物及び／又はその部分加水分解物の縮合重合体から形成された下塗層が形成されず、第２剥離シート（重剥離シート）３２は、下塗層の作用によってその剥離力が低減させられることがない。したがって、第１剥離シート３１の粘着剤層１１に対する剥離力は、第２剥離シート３２の粘着剤層１１に対する剥離力より低くなる。
【００３２】
第２剥離剤層２５を形成するための剥離剤組成物には、非反応性シリコーン等の軽剥離コントロール剤は含まれないが、剥離力を重くするために重剥離コントロール剤が含まれていても良い。重剥離コントロール剤としては、Ｒ３Ｒ４Ｒ５ＳｉＯ１／２(Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５は、それぞれ独立に、官能基、例えばヒドロキシル基、シアノ基、エポキシ基などを有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、又はビニル基を示す)からなるＭ単位と、ＳｉＯ４／２単位からなるＱ単位を有するレジン構造のＭＱ樹脂や、ＳｉＯ４／２単位を有するシリカ構造のものが用いられる。これらの中でも、ビニル基を有するＭＱ樹脂がシリコーン化合物の転移量を抑えることができる。
【００３３】
第１及び第２剥離剤層１５、２５を形成するための剥離剤組成物には、それぞれ異なる組成物が使用されても良いが、同一の組成物が使用されても良い。同一の組成物が使用されると、第１及び第２剥離剤層１５、２５の経時変化が略同一になるので、第１剥離シート３１の剥離力と、第２剥離シート３２の剥離力の差を、長期間にわたって一定に維持しやくすなり、第１剥離シート３１を剥離するときの剥離不良等を防止できる。また、第１及び第２剥離剤層１５、２５の剥離剤組成物が互いに同一でない場合、例えば、第２剥離剤層２５の剥離剤組成物は、第１の剥離剤層１５の剥離剤組成物と同一の組成物に重剥離コントロール剤のみが加えられてなるものであっても良い。このような場合でも、第１及び第２剥離剤層１５、２５の経時変化を互いに近似させることができる。
【００３４】
下塗層１４、剥離剤層１５、２５、及び粘着剤層１１の塗工液の塗工方法としては、通常慣用される方法が適宜用いられ、グラビアコート法、リバースグラビアコート法、バーコート法、スプレーコート法等が用いられる。
【００３５】
第１および第２剥離シートの剥離シート基材１３、２３としては、特に限定されるわけではないが、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリアミドフィルム、アクリル樹脂フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、シクロオレフィン樹脂フィルム等のフィルムが挙げられる。
【００３６】
第１剥離シート（軽剥離シート）３１の粘着剤層１１に対する剥離力は、５〜１００ｍＮ／２０ｍｍであることが好ましく、１０〜５０ｍＮ／２０ｍｍであることがさらに好ましい。このように、第１剥離シート３１の剥離力を低く抑えることにより、第２剥離シート３２を低くしても、両剥離シート３１、３２の剥離力差を大きくすることができる。また、第１剥離シート３１の剥離力を一定の値以上とすることによって、使用前に第１剥離シート３１が粘着剤層１１から不意に剥がれたり、第１剥離シート３１が粘着剤層１１から浮いたりすることが防止される。第２剥離シート（重剥離シート）３２の粘着剤層１１に対する剥離力は、２５〜２００ｍＮ／２０ｍｍであることが好ましく、３０〜１００ｍＮ／２０ｍｍであることがさらに好ましい。このように第２剥離シート３２の剥離力を低く抑えることによって、第２剥離シート３２を剥離したときに生じる、第２剥離シート３２への粘着剤の残留や、ジッピング等を防止することができる。
【００３７】
第１剥離シート３１の粘着剤層１１に対する剥離力をＸ［ｍＮ／２０ｍｍ］、第２剥離シート３２の粘着剤層１１に対する剥離力をＹ［ｍＮ／２０ｍｍ］とすると、Ｙ−Ｘ＞２０の関係を満足することが好ましい。２つの剥離シートの剥離力差を２０ｍＮ／２０ｍｍ以上にすることにより、第１剥離シート３１を粘着剤層１１から剥離するときに生じる剥離不良を防止することができる。なお、第１及び第２剥離シート３１、３２の剥離力は、後述するように、ＪＩＳ−Ｚ２０３７に準拠して測定されたものである。
【００３８】
本実施形態では、第１及び第２剥離剤層１５、２５に、軽剥離コントロール剤が加えられておらず、したがって、第１及び第２剥離シート３１、３２から粘着剤層１１へのシリコーン化合物の転移を抑制することができる。例えば、第１及び第２剥離シート３１、３２それぞれを粘着剤層１１から剥離したときの粘着剤層１１へのシリコーン化合物の転移量それぞれは、好ましくは、６．０原子％以下、さらに好ましくは４．０原子％以下となる。本実施形態では、第１及び第２剥離シート３１、３２から粘着剤層１１へのシリコーン化合物の転移が抑えられることによって、粘着剤層１１の粘着力の低下が防止される。
【実施例】
【００３９】
本発明について、以下実施例を用いて説明するが、本発明は以下の実施例の構成に限定されるわけではない。
【００４０】
本発明の基材レス両面粘着シートについての剥離力、剥離性、及びシリコーン化合物転移量の評価方法は以下の通りである。
（１）剥離力
第１及び第２剥離シートの粘着剤層に対する剥離力は、ＪＩＳ−Ｚ２０３７に準拠して、以下のように測定した。第１剥離シートの粘着剤層に対する剥離力は、基材レス両面粘着シートを幅２０ｍｍ、長さ２００ｍｍに裁断した後、第２剥離シートを固定して、引っ張り試験機によって第１剥離シートを３００ｍｍ／分の速度で１８０°の方向に引っ張ることにより測定した。
【００４１】
第２剥離シートの粘着剤層に対する剥離力を測定するときには、まず、基材レス両面粘着シートを、幅２０ｍｍ、長さ２００ｍｍに裁断し、その後、上記条件で第１剥離シートを剥離した粘着シートを、粘着剤層の露出する面がＰＥＴフィルム（三菱化学ポリエステル社製、商品名「ＰＥＴ５０Ｔ−１００」）に密着するように貼り付けた。次いで、ＰＥＴフィルムを固定して、引っ張り試験機によって第２剥離シートを３００ｍｍ／分の速度で１８０°の方向に引っ張ることにより、第２剥離シートの粘着剤に対する剥離力を測定した。
【００４２】
（２）剥離性試験
上記の剥離力測定試験において、第１剥離シートを剥離したときに、粘着剤層の変形若しくは凝集破壊、又は剥離不良の有無を観察し、これらのうちいずれかが有る場合、剥離性を×とした。これらのうちいずれも無い場合には、さらに、第２剥離シートを剥離したときに、粘着剤層の変形若しくは凝集破壊、又は粘着剤層の被着体（ＰＥＴフィルム）への転写不良の有無を観察し、これらが無い場合には剥離性を○に、これらのうちいずれかが有る場合には剥離性を×にした。
【００４３】
（３）シリコーン化合物転移量
シリコーン化合物の転移量は、基材レス両面粘着シートの第１及び第２剥離シートを剥離除去した後の粘着剤層へのシリコーン化合物の転移量をＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）により測定した。Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）の測定条件及び測定値の算出方法は、以下の方法で行ったものとする。なお、第１及び第２剥離シートは、剥離力を測定するときと同様の条件で剥離したものとする。
測定装置：アルバックファイ社製  Ｑｕａｎｔｅｒａ ＳＸＭ
Ｘ線：ＡｌＫα（１４８６．６ｅＶ）        取り出し角度：４５°
測定元素：ケイ素（Ｓｉ）、炭素（Ｃ）、及び酸素（Ｏ）
シリコーン化合物の量は、Ｓｉ／（Ｓｉ＋Ｃ＋Ｏ）の値に１００を乗じて算出し、「原子％」で表示する。
【００４４】
［実施例１］
厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレート製の剥離シート基材の一方の面に、テトラアルコキシシランの部分加水分解物の溶液（コルコート（株）製、商品名「コルコートＮ−１０３Ｘ」、固形分濃度２質量％）を乾燥後の塗工量が約０．１ｇ／ｍ２となるようにマイヤーバーを用いて塗工した後、１００℃で１分間乾燥させて下塗層を形成した。その下塗層の上に、付加反応型シリコーン樹脂剥離剤（信越化学（株）製、商品名「ＫＳ−８４７Ｈ」、固形分濃度３０質量％）１００質量部と、硬化触媒（信越化学（株）製、商品名「ＣＡＴ−ＰＬ−５０Ｔ」、固形分濃度２０質量％）１質量部と、トルエン１９００質量部とから成る剥離剤組成物溶液を、乾燥後の塗工量が約０．２ｇ／ｍ２となるようにマイヤーバーを用いて塗工した。その後、その塗工膜を、１５０℃で約１分間加熱して乾燥及び硬化させることにより剥離剤層を形成して、第１剥離シートを得た。
【００４５】
次に、厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレート製の剥離シート基材の一方の面に、付加反応型シリコーン樹脂剥離剤（信越化学（株）製、商品名「ＫＳ−８４７Ｈ」、固形分濃度３０質量％）１００質量部と、ビニル基を有するＭＱ樹脂からなる重剥離コントロール剤（東レ・ダウコーニング（株）製、商品名「ＳＤ−７２９２」、固形分濃度６５質量％）５質量部と、硬化触媒（信越化学（株）製、商品名「ＣＡＴ−ＰＬ−５０Ｔ」、固形分濃度２０質量％）１質量部と、トルエン２１００質量部とから成る剥離剤組成物溶液を、乾燥後の塗工量が約０．２ｇ／ｍ２となるように、マイヤーバーを用いて塗工した。その後、その塗工膜を、１５０℃で約１分間加熱して乾燥及び硬化させることにより剥離剤層を形成して、第２剥離シートを得た。
【００４６】
得られた第２剥離シートの剥離剤層の上には、さらにアクリル系粘着剤溶液を乾燥後の膜厚が２５μｍとなるように、アプリケータを用いて塗工した後、その塗工膜を１２０℃で１分間乾燥して粘着剤層を形成した。アクリル系粘着剤溶液は、アクリル酸ブチルとアクリル酸とのモノマー基準の質量比が９９：１の共重合体溶液（溶媒：トルエン、固形分濃度４０質量％）１００質量部に、ポリイソシアネート系架橋剤（東洋インキ製造（株）製、商品名「ＢＨＳ８５１５」、固形分濃度３７．５質量％）１質量部を添加混合して得られたものであった。次いで、第１剥離シートの剥離剤層と粘着剤層とを貼り合わせて実施例１の基材レス両面粘着シートを得た。
【００４７】
［比較例１］
下塗層を形成しなかった以外は、実施例１と同様にして基材レス両面粘着シートを得た。
【００４８】
［比較例２］
下塗層を形成せず、さらに第１剥離シートを形成するための剥離剤組成物溶液に軽剥離コントロール剤として非反応性シリコーンオイル（東レダウ・コーニング（株）製、商品名「ＢＹ２４−８５０」、固形分濃度１５質量％）４０質量部を添加したこと以外は、実施例１と同様にして基材レス両面粘着シートを得た。
【００４９】
実施例１及び比較例１、２について、剥離力、剥離性、及びシリコーン化合物転移量を評価した。評価結果は表１の通りである。
【表１】
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【００５０】
表１から明らかなように、実施例１では、第１剥離シートに下塗層を設けることによって、下塗層が設けられなかった比較例１に比べて、その剥離力を２０ｍＮ／２０ｍｍ程度低下させることができた。したがって実施例１では、重剥離シート側の剥離力を低く設定したにもかかわらず、第１及び第２剥離シートの剥離性を良好にすることができた。また実施例１では、第１剥離剤層に、低剥離コントロール剤を配合しないことによって、シリコーン化合物転移量を抑制することができた。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】基材レス両面粘着シートを示す模式的な断面図である。
【符号の説明】
【００５２】
１０  基材レス両面粘着シート
１１  粘着剤層
１３、２３  剥離シート基材
１４  下塗層
１５  第１剥離剤層
２５  第２剥離剤層
３１  第１剥離シート
３２  第２剥離シート
【図１】
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