(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学物質を気化して供給するための容器であって、
ディップチューブ入口と、
少なくとも１つのバッフルディスクと、
環状の偏向突起と、
肩部と、
レベルセンサと、を備え、
ディップチューブ入口は、前記容器のベース部の近傍にて終端し、
前記バッフルディスクは、
下方側に向かって開口する浅い円錐として構成され、
前記ディップチューブの出口と前記容器の出口との間に位置決めされ、且つ、
該バッフルディスクと前記容器の側壁の内表面との間に、狭い環状の空間を形成するように構成され、
前記偏向突起は、前記側壁上において、径方向内側に突出するように、前記バッフルディスクの近傍に設けられ、
前記バッフルディスクおよび前記偏向突起は、前記容器の出口に入り込む液体の液滴を最小化することができ、
前記肩部は、前記偏向突起の最内端から軸方向下側に離隔して設けられた、径方向内側に突出する環状の端部を有し、
前記レベルセンサは、前記容器のベース部の近傍にて終端し、前記容器は、該レベルセンサの端部の上方に液面レベルを有することができる、容器。
【請求項２】
前記偏向突起は、前記少なくとも１つのバッフルディスクの最外端よりも径方向内側に位置する最内端を有する、請求項１に記載の容器。
【請求項３】
前記偏向突起は、該偏向突起の最内端の下側において肩部を有し、
前記肩部は、前記偏向突起の最内端を越えないように、前記容器の側壁の内表面から径方向内側に突出する、請求項２に記載の容器。
【請求項４】
前記少なくとも１つのバッフルディスク、前記偏向突起、および前記肩部は、前記容器の上部に配置される、請求項３に記載の容器。
【請求項５】
前記偏向突起は、上側のバッフルディスクと下側のバッフルディスクとの間において、該上側のバッフルディスクおよび該下側のバッフルディスクから軸方向に離隔して設けられる、請求項１に記載の容器。
【請求項６】
前記偏向突起は、２つのバッフルディスクから、軸方向下側に離隔して設けられる、請求項１に記載の容器。
【請求項７】
前記容器の出口へ至る入口は、前記容器の出口に入り込む液体を最小化することができる屈曲構造を有する、請求項１に記載の容器。
【請求項８】
前記容器の出口へ至る入口は、前記容器の出口に入り込む液体を最小化することができるＴ字構造を有する、請求項１に記載の容器。
【請求項９】
前記容器は、円筒形状を有する、請求項１に記載の容器。
【請求項１０】
化学物質を気化して供給するための、円筒状の気化ガス発生用容器であって、
搬送ガスを前記容器内に供給可能なディップチューブ入口と、
円形且つ下方側にて凹む形状を有するバッフルディスクと、
環状の偏向突起と、
肩部と、
レベルセンサと、を備え、
前記バッフルディスクは、
前記ディップチューブ入口の出口端と、前記容器の出口との間に位置決めされ、且つ、
該バッフルディスクの最外周縁端と、前記容器の側壁の内表面との間に、狭い環状の空間を形成するように構成され、
前記偏向突起は、
前記側壁上において、径方向内側に突出するように、前記バッフルディスクの近傍に設けられ、
前記バッフルディスクの最外周縁端よりも径方向内側に位置する最内端を有し、
前記容器から気化ガスとして液体を供給するために、前記搬送ガスが前記容器の液体内容物を通って気泡化された場合に、前記容器の出口に入り込む液体の液滴を最小化することができ、
前記肩部は、前記偏向突起の最内端から軸方向下側に離隔して設けられた、径方向内側に突出する環状の端部を有し、
前記レベルセンサは、前記容器のベース部の近傍にて終端し、前記容器は、該レベルセンサの端部の上方に液面レベルを有することができる、気化ガス発生用容器。
【請求項１１】
化学物質を気化して供給するための、液体供給用容器であって、
少なくとも１つのバッフルディスクと、
環状の偏向突起と、
肩部と、
レベルセンサと、を備え、
前記バッフルディスクは、
下方側に向かって開口する浅い円錐として構成され、
ディップチューブ出口の入口端と、前記液体供給用容器の入口との間に位置決めされ、且つ、
該バッフルディスクと前記容器の側壁の内表面との間に、狭い環状の空間を形成するように構成され、
前記偏向突起は、
前記側壁上において、径方向内側に突出するように、前記バッフルディスクの近傍に設けられ、
前記バッフルディスクの最外端よりも径方向内側に位置する最内端を有し、
前記液体供給用容器への入口に入り込む液体の液滴を最小化することができ、
前記肩部は、前記偏向突起の最内端から軸方向下側に離隔して設けられた、径方向内側に突出する環状の端部を有し、
前記レベルセンサは、前記容器のベース部の近傍にて終端し、前記容器は、該レベルセンサの端部の上方に液面レベルを有することができる、液体供給用容器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本特許出願は、２００９年３月１９日に出願された米国特許出願シリアルＮｏ．１２／４０７，２７９号の部分的継続出願である。
【背景技術】
【０００２】
電子機器製造業は、化学プリカーサ容器を用いる。この容器は、電子機器製造リアクタ（すなわち、化学蒸着「ＣＶＤ」を実行するための装置）に供給するために、液体化学物質を、化学物質の気化ガスに変換する。ＣＶＤは、例えば、集積回路またはコンピュータチップのような電子機器製造の構築において、層、フィルム、および他の堆積物を形成するのに、好ましい技術である。ある量の化学プリカーサの搬送する、および貯蔵する効率性のために、液体または固体は、供給源として好ましい。しかしながら、産業においては、気化ガス（すなわち、ＣＶＤ）の形態で、装置領域にて化学プリカーサを実際に供給するのが望まれる。代替的には、ある製造は、直接液体注入法（ｄｉｒｅｃｔ  ｌｉｑｕｉｄ  ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ：「ＤＬＩ」）を用いて行われる。しかしながら、その場合であっても、液体は、供給後に装置内で気化される。
【０００３】
ＣＶＤにおいて気化ガスの供給を利用した場合、容器は、典型的には、不活性搬送ガスを有する。不活性搬送ガスは、容器を通過され、または気泡化され（すなわち、バブラー）、不活性搬送ガス内に取り込まれた化学プリカーサの気化ガスを、装置へと搬送する。バブラーは、典型的には、下方チューブ入口を有し、該下方チューブ入口において、搬送ガスが、液体の化学プリカーサの液面下で、容器内へ導入される。ここで、搬送ガスは、液体の化学プリカーサを通って、気泡化する。このとき、搬送ガスが液体を気泡として浮上させるにつれて、化学プリカーサを取り込み、次いで、化学プリカーサの液面上に設置された出口によって、容器またはバブラーから流出する。
【０００４】
化学プリカーサを、例え小さな液滴であったとしても、液体の形態として、出口を通って容器から流出させてしまうことは、好ましくない。このようなバブラーの供給物としては、均一な気化ガスが好ましい。これは、腐食、不均一な流れ、ならびに、製造および容器の遮断の間に出口パイプに蓄積して粒子を形成し得るエアロゾル液滴を回避し、清掃の頻度を下げる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
産業において、この課題に対処するための、種々の形態のバブラー用スプラッシュガードが、試されてきた。これらは、例えば、米国特許出願２００８／０１４３００２号公報、米国特許６，５２０，２１８号公報、欧州特許出願１３２９５４０号、米国特許出願２００４／００１３５７７号公報、欧州特許出願０４２０５９６号公報、米国特許５，５８９，１１０号公報、米国特許７，０７７，３８８号公報、米国特許出願２００３／００４２６３０号公報、米国特許５，７７６，２５５号公報、および、米国特許４，４５０，１１８号公報に記載されている。スプラッシュガードの機能を提供するための、これら試みの各々は、所望の性能を満足するものではなかった。しかしながら、本発明は、以下に開示するように、化学プリカーサの高流量、高真空下における流れ、または、高い差圧状態における流れを可能としつつ、高レベルのスプラッシュガード機能を提供することに成功した。これについて、以下に説明する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、以下の構成を備える容器に関するものである。本容器は、ディップチューブ入口と、少なくとも１つのバッフルディスクと、環状の偏向突起と、肩部と、レベルセンサとを備える。ここで、ディップチューブ入口は、容器のベース部の近傍にて終端する。バッフルディスクは、下方側に向かって開口する浅い円錐として構成され、ディップチューブの出口と容器の出口との間に位置決めされ、且つ、該バッフルディスクと容器の側壁の内表面との間に、狭い環状の空間を形成するように構成される。偏向突起は、側壁上において、径方向内側に突出するように、バッフルディスクの近傍に設けられる。バッフルディスクおよび偏向突起は、容器の出口に入り込む液体の液滴を最小化することができる。肩部は、偏向突起の最内端から軸方向下側に離隔して設けられた、径方向内側に突出する環状の端部を有する。レベルセンサは、容器のベース部の近傍にて終端し、容器は、該レベルセンサの端部の上方に液面レベルを有することができる。
【０００７】
好ましくは、偏向突起は、少なくとも１つのバッフルディスクの最外端よりも径方向内側に位置する最内端を有する。
【０００８】
好ましくは、偏向突起は、該偏向突起の最内端の下側において肩部を有し、肩部は、偏向突起の最内端を越えないように、容器の側壁の内表面から径方向内側に突出する。
【０００９】
好ましくは、少なくとも１つのバッフルディスク、偏向突起、および肩部は、容器の上部に配置される。
【００１０】
好ましくは、偏向突起は、上側のバッフルディスクと下側のバッフルディスクとの間において、該上側のバッフルディスクおよび該下側のバッフルディスクから軸方向に離隔して設けられる。
【００１１】
好ましくは、偏向突起は、２つのバッフルディスクから、軸方向下側に離隔して設けられる。
【００１２】
好ましくは、容器の出口へ至る入口は、容器の出口に入り込む液体を最小化することができる屈曲構造を有する。
【００１３】
好ましくは、容器の出口へ至る入口は、容器の出口に入り込む液体を最小化することができるＴ字構造を有する。
【００１４】
好ましくは、容器は、円筒形状を有する。
【００１５】
また、本発明は、円筒状の気化ガス発生用容器に関する。本発明に係る気化ガス発生用容器は、搬送ガスを容器内に供給可能なディップチューブ入口と、円形且つ下方側にて凹む形状を有するバッフルディスクと、環状の偏向突起と、肩部と、レベルセンサとを備える。ここで、バッフルディスクは、ディップチューブ入口の出口端と、容器の出口との間に位置決めされ、且つ、該バッフルディスクの最外周縁端と、容器の側壁の内表面との間に、狭い環状の空間を形成するように構成される。偏向突起は、側壁上において、径方向内側に突出するように、バッフルディスクの近傍に設けられ、バッフルディスクの最外周縁端よりも径方向内側に位置する最内端を有し、容器から気化ガスとして液体を供給するために、搬送ガスが容器の液体内容物を通って気泡化された場合に、容器の出口に入り込む液体の液滴を最小化することができる。肩部は、偏向突起の最内端から軸方向下側に離隔して設けられた、径方向内側に突出する環状の端部を有する。レベルセンサは、容器のベース部の近傍にて終端し、容器は、該レベルセンサの端部の上方に液面レベルを有することができる。
【００１６】
また、本発明は、液体供給用容器に関する。本発明に係る液体供給用容器は、少なくとも１つのバッフルディスクと、環状の偏向突起と、肩部と、レベルセンサとを備える。ここで、バッフルディスクは、下方側に向かって開口する浅い円錐として構成され、ディップチューブ出口の入口端と、液体供給用容器の入口との間に位置決めされ、且つ、該バッフルディスクと容器の側壁の内表面との間に、狭い環状の空間を形成するように構成される。偏向突起は、側壁上において、径方向内側に突出するように、バッフルディスクの近傍に設けられ、バッフルディスクの最外端よりも径方向内側に位置する最内端を有し、液体供給用容器への入口に入り込む液体の液滴を最小化することができる。肩部は、偏向突起の最内端から軸方向下側に離隔して設けられた、径方向内側に突出する環状の端部を有する。レベルセンサは、容器のベース部の近傍にて終端し、容器は、該レベルセンサの端部の上方に液面レベルを有することができる。
【００１７】
また、本発明は、容器から化学プリカーサを供給するプロセスに関する。本プロセスは、容器のディップチューブを通して、搬送ガスを搬送するステップと、液体化学プリカーサを、容器から搬送ガス内に取り込むステップと、バッフルディスクの最外端と容器の側壁の内表面との間の狭い環状の空間において、狭い環状の空間側壁上にて径方向内側に突出するように設けられた偏向突起と、少なくとも１つのバッフルディスクとを通過するように、化学プリカーサおよび搬送ガスを搬送するステップとを備える。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施形態の一部の概略側面図である。
【図２】本発明の一実施形態の概略的な側方部分断面図である。
【図３】本発明の第２の実施形態の概略的な側方部分断面図である。
【図４】本発明の第３の実施形態の概略的な側方部分断面図である。
【図５】本発明の第４の実施形態の概略的な側方部分断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明は、高真空または高流量の条件における動作のために構成された、気化ガス発生バブラー容器である。本構成は、エアロゾル液滴が、供給ライン出口内に飛散または移送されてしまうのを防止する。ここで、エアロゾル液滴の、供給ライン出口内への飛散または移送は、化学物質の異常な質量流量をもたらすことになる。
【００２０】
半導体製造者は、高価値の化学物質を使用し始めている。これら化学物質は、真空のチャンバまたは装置内においてウェハ上に堆積させるために搬送するのが、非常に困難である。本発明のバブラー容器は、エアロゾル液滴が容器の出口に飛散および形成されることなく、液体化学物質を、高真空下の気化ガスとして、容器から供給するのを可能とするものである。ここで、エアロゾル液滴が容器の出口に飛散および形成されることは、結果的に、化学物質の異常な質量供給率へと繋がってしまう。本発明は、低表面構成を備えており、この構成によって、化学物質の気化ガスを含む搬送ガスの一定の飽和を、残留化学物質の極低いレベルまで下げることが、可能となる。それにも関わらず、本発明は、容器における化学物質のレベルが高い場合でさえも、化学物質の異常な質量供給率をもたらす、容器の出口におけるエアロゾル液滴の飛散および形成を防止する。従来は、高真空動作または高流量動作用に用いられる容器は、化学物質の部分的なチャージ（すなわち、５０％フル）のみで、使用する必要があった。これにより、半導体製造者は、容器をより頻繁に交換する必要があり、増加した容器処理費用のために、化学物質のコストが増大してしまっていた。本発明は、最高レベルの液体化学物質から極低レベルの液体化学物質まで、容器を用いることを可能とし、半導体装置のダウンタイムを低減する。また、出口において煙霧性の化学物質粒子を制限するのに効果的であるので、出口および処理チャンバまたは装置に通じる全ての供給パイプに堆積する煙霧性の液滴の分解によって起こり得る、微粒子の発生を、低減することができる。本説明においては、垂直面にてシリンダ軸を有する、円筒状の容器を備えることが、好ましい。したがって、軸および径の記載は、このタイプの容器の形状と方向に関する。
【００２１】
本発明は、容器の側壁の内表面上に設けられた、径方向内側に突出する、環状の偏向突起を用いる。また、本発明は、偏向突起とともに、容器の上部に配置された、１以上のバッフルディスクを用いる。この構成により、化学プリカーサが取り込まれた搬送ガスを、狭い環状空間において、偏向突起の径方向最内端と、バッフルディスクの外側部とに、複雑に流すことによって、容器の出口に間接的に搬送する。なお、上記狭い環状空間は、バブラーの側壁の内表面の内径と、バッフルディスクの最外径（または、円周もしくは外周の端部）との間に形成される空間である。この構成について、本発明の好ましい実施形態を参照して説明する。
【００２２】
図１は、本発明のバブラー容器１０を示している。バブラー容器１０は、ディップチューブ入口１４を有する円筒状のバブラー側壁１２を備える。ディップチューブ入口１４は、液体化学プリカーサの液面の下方に位置する入口端にて終端している。なお、液体化学プリカーサの液面は、凡そ線１５にて示されており、容器のベース部１３の上方に位置している。
【００２３】
スプラッシュガードは、（１）バッフルディスク２４と、（２）側壁１２の内表面２３上において径方向内側に突出する、環状の偏向突起２２とを備える。ここで、バッフルディスク２４は、好ましくは円形状の、最外周縁端形状を有し、例えば下方側に向かって開口する浅い円錐のように、下方側にて凹んでいる。バッフルディスク２４および偏向突起２２は、協働して、容器１０から流出する化学プリカーサ用に複雑な流路を形成する。バッフルディスク２４は、下方側にて凹んでおり、化学プリカーサが出口１６に直接的に流れるのをさらに妨害するとともに、貯蔵された化学プリカーサへ合体した液滴を落下させることによって戻すために、凝集した化学プリカーサを収集する（図示せず）。バッフルディスク２４は、容器１０の側壁１２の、円筒状の内表面２３の内径よりも僅かに小さい直径を有する。バッフルディスク２４の最外周縁端と、容器１０の側壁１２の内表面２３との間の空間は、ガスが該空間を最小限の圧力降下で通過可能とするのに、十分である。しかしながら、該空間は、ディップチューブを通る搬送ガスの高い流量の下、または、大きな圧力変動の下における、バブラーの液体内容物から放出され得る液体の通過を最小限とするのに十分な程度に、狭い。容器１０は、上部１７および下部１１と、例示的な液面レベル１５とを備える。液面レベル１５は、充填の程度および供給期間に基づいて変動するが、典型的には、偏向突起２２およびバッフルディスク２４の下方側、且つ、入口１４およびレベルセンサ２８の端部（それぞれ、２７ａおよび２７ｂ）の上方に位置する。
【００２４】
図２は、ディップチューブ１４を省略した、本実施形態に係る容器の内部構造を、別個示している。レベルセンサ２８は、容器の中央に示されており、液体化学物質のレベルを監視する。レベルセンサ２８は、容器１０のベース部１３の近傍で終端している。バルブ３０は、入口１４を経て容器の下部に送る、プッシュまたは搬送ガスの導入を制御する。容器の下部において、搬送ガスは、液体化学物質を通って気泡化し、該搬送ガスの気泡内に化学物質の気化ガスを取り込む。入口ディップチューブ１４の下端を流出するときの、搬送ガスの気泡化作用によって、液体化学物質が激しく撹拌される。また、バルブ２６が開放されているときの、出口１６における高真空によっても、液体化学物質が激しく（厳に）撹拌される。これらのうちのいずれかによって、液体化学物質が、出口１６に向かって気泡となり、または飛散する。容器またはバブラー１０の側壁１２と関連付けられた、径方向内側に突出する、環状の偏向突起２２は、気泡化または飛散した液体の化学物質のいずれも、バッフルディスク２４の最外端近傍から偏向させるように、作用する。これにより、偏向突起２２は、搬送ガスに取り込まれた化学物質の気化ガスではなく、液体の化学物質が該入口端３２に吸い込まれてしまうことから、出口１６の入口端３２を保護する。バッフルディスク２４および偏向突起２２は、容器１０から流出する化学プリカーサ用の、複雑な流路３８を形成する。
【００２５】
好ましい実施形態において、偏向突起２２は、ステンレス鋼材の固体ピースから、容器またはバブラー１０をフライス加工する間に、側壁１２の一部から形成される。偏向突起２２は、断面円錐状の構造を有してもよく、その最内端３４にて終端する。なお、偏向突起２２の最内端３４は、バッフルディスク２４の最外端３６の径方向内側に位置する。偏向突起２２は、側壁１２の内表面２３の周囲全体に亘って形成された環状リムであってもよい。バッフルディスク２４と偏向突起２２との組み合わせによって、搬送ガスおよび取り込まれた化学物質の気化ガスのための、複雑な流路３８が形成される。このような流路は、液相の化学物質にとっては、流れて通過することが、非常に困難である。
【００２６】
好ましくは、バッフルディスク２４は、（気化ガスが通過するには十分であるが、液体が通過するのは困難であるような）極狭い流路を形成するように、偏向突起２２から軸方向上側に離隔して（すなわち、互いに近接して）、設けられる。代替的には、バッフルディスク２４は、偏向突起２２から軸方向下側に離隔して設けられてもよい。さらに、代替的には、本発明は、複数のバッフルディスクを想定している。例えば、図３に示すように、バッフルディスク２４が、偏向突起２２から軸方向上側に離隔して設けられ、バッフルディスク２４ａが、偏向突起２２から軸方向下側に離隔して設けられる。または、図５に示すように、２つのバッフルディスク２４、２４ｂが、偏向突起２２から軸方向上側に離隔して設けられる。または、図４に示すように、２つのバッフルディスク２４、２４ｄが、偏向突起２２から軸方向下側に離隔して設けられる。または、偏向突起が、各バッフルディスクの軸方向上側および軸方向下側に、離隔して設けられる。または、複数のバッフルディスクおよび偏向突起が、設けられる。好ましくは、全てのバッフルディスクおよび偏向突起が、上記に定義したように、互いに近接する。
【００２７】
実験によって、以下の事項が示された。すなわち、気泡は、容器またはバブラー１０の側壁１２を、入口ディップチューブ１４の端部から上方に向かって移動し、このとき、容器１０の側壁１２の内表面２３近傍にて、液体飛沫の潜在的な流れを最大限に生成する。したがって、一実施形態においては、偏向突起２２は、肩部２１を有し、該肩部２１は、偏向突起２２の最内端３４から軸方向下側に離隔して設けられた、径方向内側に突出する環状の端部として、形成される。偏向突起２２および肩部２１は、以下のように構成される。すなわち、偏向突起２２が、肩部２１の径方向内側への突出を越えるようにして、径方向内側へ突出している。この肩部は、偏向突起２２の全体部分と一体的であってもよく、偏向突起と同時に、ステンレス鋼（または他の材料）の単一部材から機械加工されてもよい。肩部２１は、２つの機能を果たす。肩部２１は、内表面２３に対して急峻な角度を形成し、これにより、内表面を上昇する液体の流れの方向を、容器１０の内部へと変え、バッフルディスク２４および偏向突起２２のそれぞれの端部によって形成される、複雑な流路３８から離れるように、液体の流れを導く。また、偏向突起２２上に集まったいずれの液体も、肩部２１に排出され、次いで、容器またはバブラー１０の下部に貯蔵された液体化学物質内に、落下して戻されることになる。
【００２８】
バッフルディスク２４および偏向突起２２は、好ましくは、容器の上方領域１７に配置されるように示されている。しかしながら、当業者が理解するように、容器内に充填された化学物質の標準上限、ヘッドスペース、またはフリーボードの上方（少なくともレベル１５の上方）の位置となる限り、バッフルディスク２４および偏向突起２２が、他の位置に配置されることも考えられることを、理解されるであろう。
【００２９】
本実施形態においては、偏向突起２２および肩部２１が、互いに一体的となっており、且つ、側壁に一体的に設けられている。しかしながら、偏向突起２２および肩部２１は、例えば、溶接、摩擦嵌合、または、ボルト、螺子、および同様の固定具による機械的固定によって側壁に取り付けられた、個別の部材であってもよい。仮に個別の部材であったとしても、偏向突起２２および肩部２１は、互いに一体的であってもよいし、互いに分離した部材であってもよい。
【００３０】
偏向突起２２、肩部２１、およびバッフルディスク２４は、出口１６を通って供給される化学物質のための複雑な流路３８を、協働して形成する。ある例において、高真空または高流量の下で、液体は、液面１５の上方で泡立って、容器１０の上方領域１７のヘッドスペース内に至る傾向がある。偏向突起２２、肩部２１、およびバッフルディスク２４によって形成された複雑な流路３８は、このような泡が出口１６に達するのを実質的に防止する。
【００３１】
ある実施形態に関して、ステンレス鋼について述べたが、本発明は、軟鉄、モネル合金、ニッケル合金、および、当業者に公知である類似の製造材料を含む、異なる金属、ガラス、および樹脂を用いてもよい。
【００３２】
本発明は、電子機器製造システムのＣＶＤ装置に連結される容器の出口および下流側パイプに、液滴が取り込まれてしまうのを、優れて最小化することができる。単一のバッフルディスクまたは複数のバッフルディスクを、偏向突起と組み合わせて用いることによって、バブラーの出口１６に液滴が取り込まれてしまうのを、所望のように最小化することができる。
【００３３】
上記バッフルディスクは、凹みを有する円形のディスクであって、円筒容器またはバブラーの側壁の内径よりも僅かに小さいものとして示された。しかしながら、容器の側壁内にて、単に狭い環状空間を提供する、如何なる形状の如何なるバッフルも、本発明の範囲内であることを、理解されるであろう。同様に、径方向内側に滑らかに突出する端部、または、滑らかな環状湾曲からいくらか逸れた部分を含む端部を有する、如何なる形態の偏向突起も、本発明の一部として考えられるものである。
【００３４】
ステンレス鋼を用いることが好ましいが、硬質形態である、如何なる不活性材料が、スプラッシュガードに用いられてもよい。樹脂、金属合金、粉体金属、織物、繊維、およびセラミックは、全て考えられ得るものである。
【００３５】
また、容器１０は、製造物の反対方向への流れにおいて用いられてもよい。ここでは、出口１６は、容器１０に貯蔵された液体上に圧力水頭を形成するための加圧ガス入口として機能する。そして、上述した気化ガスの供給とは逆に、加圧ガスを用いて、容器から、液体供給用のディップチューブ１４外へと、供給液体を液相として搬送する。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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