(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の方向及びこれと直交する第２の方向に複数の画素が配列される液晶表示装置に用いられるカラーフィルタであって、
基板と、
前記基板の上に設けられる遮光層と、
少なくとも前記第１の方向において前記遮光層と部分的に重なる複数の着色層とを備え、
前記遮光層及び前記着色層の重なり部の前記第１の方向における幅が表示領域の全体に渡って変動し、かつ、前記重なり部の幅の変動程度が表示領域全体で一様であり、
スリット状に形成され光を透過する複数の透過部を有し、前記透過部の幅或いは隣接する前記透過部のピッチの少なくとも一方の寸法がランダムに異なる露光マスクを、複数の露光ヘッドの各々に装着して、前記基板全面に対して繰り返し露光を行うことによって、前記遮光層及び前記着色層の少なくとも一方が形成される、カラーフィルタ。
【請求項２】
前記遮光層及び前記着色層の少なくとも一方の配列ピッチがランダムに異なることによって、前記重なり部の幅の変動程度が表示領域全体で一様である、請求項１に記載のカラーフィルタ。
【請求項３】
前記遮光層及び着色層の少なくとも一方の幅がランダムに異なることによって、前記重なり部の幅の変動程度が表示領域全体で一様である、請求項１に記載のカラーフィルタ。
【請求項４】
前記遮光層及び前記着色層の少なくとも一方の配列ピッチがランダムに異なり、かつ、前記遮光層及び前記着色層の少なくとも一方の幅がランダムに異なることによって、前記重なり部の幅の変動程度が表示領域全体で一様である、請求項１に記載のカラーフィルタ。
【請求項５】
前記遮光層及び着色層の少なくとも一方の配列ピッチが３画素毎に異なることによって、前記重なり部の幅の変動程度が表示領域全体で一様である、請求項１に請求記載のカラーフィルタ。
【請求項６】
前記遮光層及び着色層の少なくとも一方の幅が３画素毎に異なることによって、前記重なり部の幅の変動程度が表示領域全体で一様である、請求項１または５に記載のカラーフィルタ。
【請求項７】
第１の方向及びこれと直交する第２の方向に複数の画素が配列される液晶表示装置であって、
カラーフィルタと、
前記カラーフィルタと対向する対向基板と、
前記カラーフィルタと前記対向基板との間に封入される液晶とを備え、
前記カラーフィルタは、
基板と、
前記基板の上に設けられる遮光層と、
少なくとも前記第１の方向において前記遮光層と部分的に重なる複数の着色層とを備え、
前記遮光層及び前記着色層の重なり部の前記第１の方向における幅が表示領域の全体に渡って変動し、かつ、前記重なり部の幅の変動程度が表示領域全体で一様であり、
スリット状に形成され光を透過する複数の透過部を有し、前記透過部の幅或いは隣接する前記透過部のピッチの少なくとも一方の寸法がランダムに異なる露光マスクを、行列状に配置された複数の露光ヘッドの各々に装着して、前記基板全面に対して繰り返し露光を行うことによって、前記遮光層及び前記着色層の少なくとも一方が形成される、液晶表示装置。
【請求項８】
請求項１に記載のカラーフィルタを製造するために、行列状に配置された複数の露光ヘッドの各々に装着され、露光ヘッド下を移送される基板上の被露光領域に逐次的に露光することで、遮光層及び着色層の少なくとも一方を形成するための露光マスクであって、
スリット状に形成され、光を透過する複数の透過部を備え、
前記透過部の幅或いは隣接する透過部のピッチの少なくとも一方の寸法がランダムに異なる、露光マスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ及び液晶表示装置、並びにカラーフィルタを製造するための露光マスクに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年の液晶表示装置の大型化に伴い、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの大型化が要求されている。カラーフィルタの製造工程では、フォトリソグラフィ法によって着色層及びブラックマトリクスをパターニングするが、原寸大の露光マスクを用いる一括露光方式では、大型の露光マスクが必要となる。このような大型の露光マスクは非常に高価であるため、カラーフィルタの製造コストが高くなる問題がある。【０００３】
この問題を解決するため、露光ヘッドを複数個搭載した露光機を用い、それぞれの露光ヘッドに小型の露光マスクを装着して、露光対象となる基板全面に対して繰り返し露光を行う方式（以下「小型マスク連続露光方式」という）が採用される場合がある。【０００４】
図７は、小型マスク連続露光方式における露光マスクの配置図である。【０００５】
露光マスク１８は、複数の露光ヘッドにそれぞれ装着され、Ｘ軸方向に整列する２行に配置されている。各フォトマスクに形成されたマスクパターンのピッチが一定となるように、隣接する露光ヘッドに装着した露光マスク１８の間には他の行の露光ヘッドに装着した露光マスク１８が隙間なく配置されている。【０００６】
より詳細には、各行の露光マスクには間隔が設けられており、間隔に位置するパターンの焼き付けが他の行に並置されているマスクによって各々補完される。例えば、図中の位置Ｐ１に配置される露光マスク１８によって露光される部分と、位置Ｐ２に配置される露光マスク１８で露光される部分との間の部分は、位置Ｐ３に配置される露光マスク１８によって露光される。これにより、Ｘ軸方向における各露光パターンの端部同士が繋ぎ合わされる（以下、この繋ぎ合わされる部分のことを「繋ぎ部」という）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００７−１２１３４４号公報
【特許文献２】特開２００８−２１６５９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
小型マスク連続露光方式では、露光ヘッド間の露光照度の差、基板に対する光軸のズレ、露光マスクのパターンのズレ、露光マスクと基板との位置ズレ等が発生することにより、繋ぎ部おいて着色層のパターンの膜厚、線幅、位置が急激に変化するという問題がある。【０００９】
図８は、繋ぎ部付近における液晶表示装置の簡略構成を模式的に示す断面図である。【００１０】
Ｘ軸方向において、着色層１４はブラックマトリクス１３に部分的に重なり合って、重なり部１５を形成する。繋ぎ部をまたいで着色層のパターンの線幅や位置が変化すると、例えば図８に示すように、繋ぎ部（図８において、Ｌで表す）より左側の領域（以下「領域Ａ」という）と繋ぎ部より右側（以下「領域Ｂ」という）とで重なり部１５の幅が変化する。このように繋ぎ部を境界に、基板１２と対向基板１６との間に封入された液晶１７の配向状態が変化するため、液晶表示装置において局所的なムラとして強調されて視認されてしまう。【００１１】
それ故に、本発明は、局所的な表示ムラが目立たず、表示品質に優れた液晶表示装置を構成できるカラーフィルタ及びカラーフィルタを製造するための露光マスクの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、第１の方向及びこれと直交する第２の方向に複数の画素が配列される液晶表示装置に用いられるカラーフィルタに関するものである。このカラーフィルタは、基板と、基板の上に設けられるブラックマトリクスと、少なくとも第１の方向においてブラックマトリクスと部分的に重なる複数の着色層とを備える。ブラックマトリクス及び着色層の重なり部の第１の方向における幅は表示領域の全体に渡って変動し、かつ、重なり部の幅の変動程度は表示領域全体で一様であり、スリット状に形成され光を透過する複数の透過部を有し、透過部の幅或いは隣接する透過部のピッチの少なくとも一方の寸法がランダムに異なる露光マスクを、複数の露光ヘッドの各々に装着して、基板全面に対して繰り返し露光を行うことによって、遮光層及び着色層の少なくとも一方が形成される。
【発明の効果】
【００１３】
本発明に係るカラーフィルタを用いると、重なり部の幅の変動を表示領域全体に一様に分布させることができるため、露光時における繋ぎ部分の着色パターンの形成ムラが発生した場合でも、着色パターンのムラが目立たず、表示品質に優れた液晶表示装置およびこれに用いられるカラーフィルタを実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、本発明の実施形態に係るカラーフィルタの簡略構成を示す断面図である。
【図２】図２は、透過部のピッチをランダムに変動させた露光マスクの模式図である。
【図３】図３は、透過部の幅をランダムに変動させた露光マスクの模式図である。
【図４】図４は、透過部のピッチ及び幅をランダムに変動させた露光マスクの模式図である。
【図５】図５は、３本毎に透過部のピッチを変動させた露光マスクの模式図である。
【図６】図６は、３本毎に透過部の幅を変動させた露光マスクの模式図である。
【図７】図７は、小型マスク連続露光方式における露光マスクの配置図である。
【図８】図８は、繋ぎ部分における液晶表示装置の簡略構成を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
図１は、本発明の実施形態に係るカラーフィルタの簡略構成を示す断面図である。
【００１６】
本発明の実施形態に係るカラーフィルタ１は、Ｘ軸及びＹ軸方向に配列される複数の画素を有する液晶表示装置に用いられるものであり、基板２と、ブラックマトリクス３と、着色層４とを備える。着色層４は、赤、緑及び青に対応する色のレジストを用いてリソグラフィにより基板２上に、Ｘ軸方向においてブラックマトリクス３と部分的に重なるように形成される。重なり部５は、上述のブラックマトリクス３と着色層４とが重なった部分をいう。重なり部５付近では着色層４の高さ（Ｚ軸方向）が変化するため、後述するように、液晶の配向に影響を与える。
【００１７】
上述したように、小型マスク連続露光方式では、露光ヘッドの位置ずれや露光条件のばらつきにより、重なり部５の幅が設計値よりずれてしまう場合がある（図１）。このような重なり部５の幅の変動は、液晶分子の配向性のばらつきに繋がるため、画素領域上で局所的に表示ムラを生じる。そこで、本発明に係るカラーフィルタ１では、図１に示すような重なり部５の幅の変動を意図的に表示領域の全体に発生させ、かつ、その変動の程度（重なり部５の幅のばらつき）を表示領域全体で一様に分布させている。より詳細には、一つの露光ヘッドで露光される露光領域に形成される重なり部５は、少なくとも２種類の幅を有する。そして、当該露光領域内では、Ｘ軸方向において、重なり部５の幅の切り替わり（重なり幅が変化する部分）が少なくとも２回以上発生する。また、いずれの露光ヘッドで露光される露光領域においても、重なり部５の幅の分散が一定となる。この結果、局所的な傾向変動（表示ムラ）が相対的に視認しづらくなり、画素領域全体をマクロ的に見た際の画像品質を向上させることができる。
【００１８】
次に、本実施形態に係るカラーフィルタを製造するために使用する露光マスク８について図２〜６を用いて説明する。
【００１９】
図２は、透過部のピッチをランダムに変動させた露光マスクの模式図である。
【００２０】
露光マスク８Ａは、光を透過するスリット状の透過部９を備えており、例えば基板表面全体をクロムで蒸着した後、透過部９に相当する部分のクロムを除去したものであれば好適に用いられる。
【００２１】
図２に示す露光マスク８Ａでは、透過部９の各々は同一幅であるが図２に示すようにピッチＰ１〜Ｐ４が一定ではない。ここでピッチとは、隣接する透過部の仮想中心線の間隔である。また等ピッチとは、透過部の仮想中心線が等間隔になるように配置したピッチである。
【００２２】
この露光マスク８Ａを複数用いて小型マスク連続露光方式によりカラーフィルタを製作すると、着色層４のピッチの変動が、表示領域全体で一様に同程度に分布する。着色層４のピッチが異なると、重なり部５の幅が変動するため、重なり部５の幅の変動が表示領域全体に一様に同程度で分布する。
【００２３】
図３は、透過部の幅をランダムに変動させた露光マスクの模式図である。
【００２４】
露光マスク８Ｂでは、透過部９の各々は等ピッチに配列されているが、図３に示すように幅Ｗ１〜Ｗ５が一定ではない。
【００２５】
この露光マスク８Ｂを用いて小型マスク連続露光方式により製作したカラーフィルタ１は、着色層４の幅の変動が表示領域全域に一様に同程度で分布される。着色層４の幅が異なると、重なり部５の幅が変動するため、重なり部５の幅の変動が表示領域全体に一様に同程度で分布される。
【００２６】
図４は、透過部のピッチ及び幅をランダムに変動させた露光マスクの模式図である。
【００２７】
露光マスク８Ｃでは、透過部９のピッチＰ１〜Ｐ４と、透過部９の幅Ｗ１〜Ｗ５とをランダムに変動させている。
【００２８】
この露光マスク８Ｃを用いて小型マスク連続露光方式により製作したカラーフィルタ１は、着色層４の幅及びピッチの変動が、表示領域全域に一様に同程度で分布する。着色層４の幅が異なると、重なり部５の幅が変動する。また、着色層４のピッチが異なることによっても、重なり部５の幅が変動する。この結果、重なり部５の幅の変動が表示領域全体に一様に同程度で分布する。
【００２９】
図５は、３本毎に透過部のピッチを変動させた露光マスクの模式図である。
【００３０】
露光マスク８Ｄは、透過部９の各々は同一幅であるが、図５に示すように、配列ピッチが３本毎にＰ５とＰ６の間で交互に繰り返し変化する。
【００３１】
この露光マスク８Ｄを用いて小型マスク連続露光方式により製作したカラーフィルタ１は、着色層４のピッチが表示領域全域に渡って、３画素毎に繰り返し変動する。着色層４のピッチが異なると重なり部５の幅も異なるため、重なり部５の幅は表示領域全体に渡って３画素毎に繰り返し変動する。このように３画素毎に重なり部を規則的に繰り返し変動させても、液晶表示装置において表示領域全体に細かいムラが現れ、局所的変動による特定個所に強調されるムラは視認されなくなる。
【００３２】
図６は、３本毎に透過部の幅を変動させた露光マスクの模式図である。
【００３３】
露光マスク８Ｅは、透過部９の各々の配列ピッチは同一であるが、図６に示すように、各々の幅が３本毎にＷ６とＷ７の間で交互に繰り返し変化する。
【００３４】
この露光マスク８Ｅを用いて小型マスク連続露光方式により製作したカラーフィルタ１は、着色層４の幅が表示領域全域に渡って、３画素毎に繰り返し変動する。着色層４の幅が異なると重なり部５の幅も異なるため、重なり部５の幅は表示領域全体に渡って３画素毎に繰り返し変動する。
【００３５】
以上説明した図２〜６の露光マスクを用いて小型マスク連続露光方式により着色層を形成すると、１つの露光マスクで形成したレジストパターンには、ピッチや幅の変動が局所的に生じる。ただし、この露光マスクを複数枚用いて基板に逐次パターンを形成すると、露光マスク単体のパターンが基板全体に均等に焼き付けられることによって、１つの露光マスクで生じる局所的な変動が画素領域の全体に分散する。この結果、仮に露光ヘッドの位置ずれや露光条件のばらつきによって重なり部の幅が変動したとしても、その重なり部の幅の変動を、画素領域全体に渡って意図的に設けられた重なり部の幅のばらつきに紛れさせることができる。したがって、上記の露光マスクを用いて小型マスク連続露光方式によって作成された本実施形態のカラーフィルタによれば、位置ずれ等によるカラーパターンの寸法や位置の局所的な変動が目立ちにくく、画素領域全体を見たときに画質にムラのない液晶表示装置を実現できる。
【００３６】
尚、本実施形態においては、カラーフィルタの着色層のピッチ及び幅を変動させているが、着色層の代わりにブラックマトリクスのピッチや幅を変動させても良いし、着色層およびブラックマトリクスを共に変動させても良い。着色層においても、赤、緑及び青色全てについてピッチや幅変動させても良いし、特定の色のみ変動させても良い。
【００３７】
また、本実施形態においては、露光マスク全体で全ての透過部のピッチや幅を変化させた例や、特定数の透過部等にピッチや幅を変化させた例を説明したが、露光マスク内のより限られた範囲内の透過部のみ、そのピッチや幅を変化させても良い。この場合でも、小型マスク連続露光方式では、複数のマスクを用いるため画素領域全体に重なり部の寸法のばらつきを分散させることができる。
【００３８】
更に、本実施形態においては、遮光層としてブラックマトリクスを用いているが、特にこれに限定されない。例えば、基板上に形成される金属薄膜からなる電極層でも良い。
【実施例】
【００３９】
以下に、本発明を具体的に実施した実施例について説明する。実施例１〜５は、それぞれ図２〜６に示した露光マスクを用いて、画素領域全体に着色パターンの寸法ばらつきを発生させたものである。また、実施例６〜１０は、それぞれ図２〜６に示した露光マスクを用いて、画素領域全体にブラックマトリクスの寸法ばらつきを発生させたものである。【００４０】
まず、基板上にフォトリソグラフィ法により黒色顔料分散レジストにてブラックマトリクスパターン、着色層エリア周辺の帯状遮光領域、周辺ダミーパターンおよび位置合わせのためのアライメントマークを形成した。【００４１】
次に、基板上に赤色顔料、透明樹脂およびエチレン性不飽和二重結合を有するモノマー、光重合開始剤及び重合禁止剤を含有し、かつ、波長３４０〜３８０ｎｍのレーザー照射で硬化可能な着色レジストを精密スリットコーターにて塗布した。【００４２】
基板上のレジストへの露光は小型マスク連続露光方式により実施した。図７に示したものと同様に、６版の露光マスクを１行に並置し、各露光マスク間の空隙を補完する形で、同様に６版のフォトマスクを後方１行に配置した。基板をＹ軸方向に移送しながら、基板に成膜したレジスト上に露光マスクのストライプ状の透過部を介して順次照射することにより、ストライプ状の着色層パターンを順次焼き付けた。尚、露光マスクと基板との位置合わせは、基板上のブラックマトリクスパターンと露光マスクのパターンとの位置関係をＣＣＤカメラで画像認識することで逐次露光位置を調整して行った。【００４３】
その後、現像、水洗、ベーク工程を経て、赤色の着色層が形成される。以下、緑色及び青色の着色層についても同様の工程にて順次基板上に設け、カラーフィルタを形成した。【００４４】
（実施例１）
実施例１に係る露光マスクは、図２に示す露光マスクの透過部の配列ピッチを−１．５μｍ〜＋１．５μｍの範囲で、０．０５μｍ刻みでランダムにオフセットさせたものを用いた。尚、−１．５μｍ〜＋１．５μｍの範囲で０．０５μｍ刻みの場合、変動量０μｍも含めて６１通りのオフセットが可能となるが、各通りのオフセットの発生頻度がほぼ同じとなるようにし、バラツキに偏りの生じないようにオフセットを実施した。【００４５】
露光条件の最適化により、隣接露光ヘッド間のパターンエッジの位置ズレは１μｍ以内に収めることができたため、実施例１に係るカラーフィルタでは、繋ぎ部における局所的なパターン幅や位置の変動を、カラーフィルタ全域に一様に分布させた着色層ピッチの変動幅±１．５μｍに紛れさせることができた。【００４６】
これにより、液晶表示装置において、基板全面の画素ピッチの変動による細かなムラが表示領域全体に満遍なく一様に発生するが、マクロ的に観察した場合、繋ぎ部の着色層の幅や位置の局所的な変動によるムラが強調されなくなった。【００４７】
（実施例２）
実施例２に係る露光マスクは、図３に示す露光マスクの透過部の全ての幅を−１．５μｍ〜＋１．５μｍの範囲で、０．０５μｍ刻みでランダムに変動させた。尚、−１．５μｍ〜＋１．５μｍの範囲で０．０５μｍ刻みの場合、線幅変動量０μｍも含めて６１通りのオフセットが可能となるが、各通りのオフセットの発生頻度がほぼ同じとなるようにし、バラツキに偏りの生じないようにオフセットを実施した。【００４８】
露光条件の最適化により、隣接露光ヘッド間のパターンエッジの位置ズレは１μｍ以内に収めることができたため、繋ぎ部における局所的なパターン幅や位置の変動を、カラーフィルタ全域に一様に分布させた画素幅の変動±１．５μｍに紛れさせることができた。【００４９】
（実施例３）
実施例３に係る露光マスクは、図４に示す露光マスクの透過部の配列ピッチを−１．５μｍ〜＋１．５μｍの範囲で、０．０５μｍ刻みでランダムにオフセットさせたものを用いた。尚、−１．５μｍ〜＋１．５μｍの範囲で０．０５μｍ刻みの場合、変動量０μｍも含めて６１通りのオフセットが可能となる。ただし、ここでは、各通りのオフセットの発生頻度がほぼ同じとなり、バラツキに偏りの生じないようにオフセットを実施した。更に、露光マスクの透過部の全ての幅を−１．５μｍ〜＋１．５μｍの範囲で、０．０５μｍ刻みでランダムに変動させた。尚、−１．５μｍ〜＋１．５μｍの範囲で０．０５μｍ刻みの場合、線幅変動量０μｍの場合も含めて６１通りのオフセットが可能となるが、各通りのオフセットの発生頻度がほぼ同じとなるようにし、バラツキに偏りの生じないようにオフセットを実施した。【００５０】
露光条件の最適化により、隣接露光ヘッド間のパターンエッジの位置ズレは１μｍ以内に収めることができたため、繋ぎ部における局所的なパターン幅や位置の変動を、カラーフィルタ全域に一様に分布させた着色層のピッチの変動±１．５μｍおよび画素幅の変動±１．５μｍに紛れさせることができた。【００５１】
（実施例４）
実施例４に係る露光マスクは、図５に示す露光マスクの透過部のピッチを３画素（約１ｍｍ）毎に配列ピッチを設計値から、図５のＸ軸方向における一方向に０．５μｍずらしたものと、他方向に０．５μｍずらしたものを交互に配列した。【００５２】
露光条件の最適化により、隣接露光ヘッド間のパターンエッジの位置ズレは１μｍ以内に収めることができたため、繋ぎ部における局所的なパターン幅や位置の変動を、カラーフィルタ全域に一様に分布させた着色層ピッチの変動±１．５μｍに紛れさせることができた。【００５３】
（実施例５）
実施例５に係る露光マスクは、図６に示す露光マスクの透過部の幅を基準値から０．５μｍ増やしたものと、逆に０．５μｍ減じさせたものを３画素（約１ｍｍ）毎に交互に配置した。【００５４】
露光条件の最適化により、パターンエッジの位置ズレは１μｍ以内に収めることができたため、繋ぎ部における局所的なパターン幅や位置の変動を、カラーフィルタ全域に一様に分布させた着色層の幅変動±１．５μｍに紛れさせることができた。【００５５】
（実施例６）
実施例６に係る露光マスクは、図２に示す露光マスクの透過部の配列ピッチを−１．５μｍ〜＋１．５μｍの範囲で、０．０５μｍ刻みでランダムに変動させたものを用いた。尚、−１．５μｍ〜＋１．５μｍの範囲で０．０５μｍ刻みの場合、変動量０μｍも含めて６１通りのオフセットが可能となるが、各通りオフセットの発生頻度がほぼ同じとなるようにし、バラツキに偏りの生じないようにオフセットを実施した。【００５６】
露光条件の最適化により、隣接露光ヘッド間のパターンエッジの位置ズレは１μｍ以内に収めることができたため、実施例６に係るカラーフィルタでは、繋ぎ部における局所的なパターン幅や位置の変動を、カラーフィルタ全域に一様に分布させたブラックマトリクスのピッチの変動±１．５μｍに紛れさせることができた。【００５７】
これにより、液晶表示装置において、基板全面のブラックマトリクスのピッチの変動による細かなムラが表示領域全体に満遍なく一様に発生するが、マクロ的に観察した場合、局所的な変動による特定個所のムラが強調されなくなった。【００５８】
（実施例７）
実施例７に係る露光マスクは、図３に示す露光マスクの透過部の幅を全てのスリットパターンの線幅を−１．５μｍ〜＋１．５μｍの範囲で、０．０５μｍ刻みでランダムに変動させた。尚、−１．５μｍ〜＋１．５μｍの範囲で０．０５μｍ刻みの場合、線幅変動量０μｍも含めて６１通りのオフセットが可能となるが、各通りのオフセットの発生頻度がほぼ同じとなるようにし、バラツキに偏りの生じないようにオフセットを実施した。【００５９】
露光条件の最適化により、隣接露光ヘッド間のパターンエッジの位置ズレは１μｍ以内に収めることができたため、繋ぎ部における局所的なパターン幅や位置の変動を、カラーフィルタ全域に一様に分布させたブラックマトリクスの幅の変動±１．５μｍに紛れさせることができた。【００６０】
（実施例８）
実施例８に係る露光マスクは、図４に示す露光マスクの透過部の幅を全てのスリットパターンの線幅を−１．５μｍ〜＋１．５μｍの範囲で、０．０５μｍ刻みでランダムに変動させた。尚、−１．５μｍ〜＋１．５μｍの範囲で０．０５μｍ刻みの場合、線幅変動量０μｍも含めて６１通りのオフセットが可能となる。ただし、ここでは、各通りのオフセットの発生頻度がほぼ同じとなり、バラツキに偏りの生じないようにオフセットを実施した。更に、露光マスクの透過部の全ての幅を−１．５μｍ〜＋１．５μｍの範囲で、０．０５μｍ刻みでランダムに変動させた。尚、−１．５μｍ〜＋１．５μｍの範囲で０．０５μｍ刻みの場合、線幅変動量０μｍの場合も含めて６１通りのオフセットが可能となるが、各通りのオフセットの発生頻度がほぼ同じとなるようにし、バラツキに偏りの生じないようにオフセットを実施した。【００６１】
露光条件の最適化により、隣接露光ヘッド間のパターンエッジの位置ズレは１μｍ以内に収めることができたため、繋ぎ部における局所的なパターン幅や位置の変動を、カラーフィルタ全域に一様に分布させたブラックマトリクスのピッチの変動±１．５μｍ及びブラックマトリクスの幅の変動±１．５μｍに紛れさせることができた。【００６２】
（実施例９）
実施例９に係る露光マスクは、図５に示す露光マスクの透過部を３画素（約１ｍｍ）毎に配列ピッチを、図５のＸ軸方向における一方向に０．５μｍずらしたものと、他方向に０．５μｍずらしたものを交互に配列した。【００６３】
露光条件の最適化により、隣接露光ヘッド間のパターンエッジの位置ズレは１μｍ以内に収めることができたため、繋ぎ部における局所的なパターン幅や位置の変動を、カラーフィルタ全域に一様に分布させたブラックマトリクスのピッチの変動±１．５μｍに紛れさせることができた。【００６４】
（実施例１０）
実施例１０に係る露光マスクは、図６に示す露光マスクの透過部の幅を基準値から０．５μｍ増やしたものと、逆に０．５μｍ減じさせたものを３画素（約１ｍｍ）毎に交互に配置した。【００６５】
露光条件の最適化により、パターンエッジの位置ズレは１μｍ以内に収めることができたため、繋ぎ部における局所的なパターン幅や位置の変動を、カラーフィルタ全域に一様に分布させたブラックマトリクスの幅変動±１．５μｍに紛れさせることができた。
【産業上の利用可能性】
【００６６】
本発明は、カラーフィルタを備えた液晶表示装置等に利用できる。
【符号の説明】
【００６７】
１  カラーフィルタ
２、１２  基板
３、１３  ブラックマトリクス
４、１４  着色層
５、１５  重なり部
８Ａ〜８Ｄ、１８  露光マスク
９、  透過部
１０  液晶表示装置
１６  対向基板
１７  液晶
【図１】
0005633820.tif 000002
【図２】
0005633820.tif 000003
【図３】
0005633820.tif 000004
【図４】
0005633820.tif 000005
【図５】
0005633820.tif 000006
【図６】
0005633820.tif 000007
【図７】
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【図８】
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