(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の両面の内、一方の面に光硬化性樹脂製の第１の光学部材、他方の面に光硬化性樹脂製の第２の光学部材を設けたウエハレンズを製造するためのウエハレンズの製造方法であって、
前記第１の光学部材の光学面形状に対応した成形面を複数有する第１の成形型を準備する工程と、
前記第２の光学部材の光学面形状に対応した成形面を複数有する第２の成形型を準備する工程と、
前記基板の一方の面と前記第１の成形型の成形面との間に前記光硬化性樹脂を充填する第１充填工程と、
前記基板の他方の面と前記第２の成形型の成形面との間に前記光硬化性樹脂を充填する第２充填工程と、
前記第１充填工程で充填された前記光硬化性樹脂に光照射して硬化を進める第１硬化工程と、
前記第２充填工程で充填された前記光硬化性樹脂に光照射して硬化を進める第２硬化工程と、
前記第１硬化工程後、加熱処理を行う第１加熱工程と、
前記第２硬化工程後、加熱処理を行い第２加熱工程と、
前記第１加熱工程後、前記光硬化性樹脂から第１の成形型を離型する第１離型工程と、
前記第２加熱工程後、前記光硬化性樹脂から第２の成形型を離型する第２離型工程と、
前記第１離型工程及び第２離型工程によって前記基板の両面に形成された光学部材の両方に対して一括でポストキュアを行う工程と、
を有することを特徴とするウエハレンズの製造方法。
【請求項２】
前記第１硬化工程では、前記第１の成形型の側から光照射し、
前記第２硬化工程では、前記第２の成形型の側から光照射することを特徴とする請求項１に記載のウエハレンズの製造方法。
【請求項３】
前記第１加熱工程及び第２加熱工程では、前記ポストキュアの温度よりも低い温度で加熱処理を行うことを特徴とする請求項１又は２に記載のウエハレンズの製造方法。
【請求項４】
前記第１離型工程後に前記第２充填工程の処理を行うことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のウエハレンズの製造方法。
【請求項５】
前記第１離型工程後に前記基板の前記第１の光学部材が形成された面に対してスペーサーを取り付ける工程を備えることを特徴とする請求項４に記載のウエハレンズの製造方法。
【請求項６】
前記第１離型工程前に前記第２硬化工程の処理を行うことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のウエハレンズの製造方法。
【請求項７】
前記第１離型工程又は前記第２離型工程後に前記光学部材に対して反射防止膜を形成する反射防止膜形成工程を備え、
前記反射防止膜形成工程では、前記反射防止膜の形成と同時に前記ポストキュアを行うことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載のウエハレンズの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の一面又は両面に光硬化性樹脂製の光学部材を設けたウエハレンズを製造するためのウエハレンズ製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光学レンズの製造分野においては、ガラス平板に熱硬化性樹脂等の硬化性樹脂からなるレンズ部（光学部材）を設けることで、耐熱性の高い光学レンズを得る技術が検討されている（例えば、特許文献１参照）。【０００３】
更に、この技術を適用した光学レンズの製造方法としては、ガラス平板の表面に金属膜からなり、入射する光量の調整を行う絞りを形成し、さらに、絞りの表面に硬化樹脂からなる光学部材を複数設けたいわゆる「ウエハレンズ」を形成する。その後、複数のレンズを一体化された状態で、スペーサーをはさんだり光学面と同時成形された突出部を突き当てたりして積み重ねて、接着し複数の組レンズを形成し、この形成後にガラス平板部をカットする方法が開発されている。この製造方法によれば、光学レンズの製造コストを低減することができる。【０００４】
ところで、ウエハレンズを、ガラス基板の表裏両面に光学部材を設けた両面レンズアレイを製造する方法としては、まず、ガラス基板の一方の面に硬化性樹脂を充填し、完全に硬化させた後、離型する。さらに、ガラス基板の他方の面に硬化性樹脂を充填し、完全に硬化させて離型する方法がある。また、別の方法として、ガラス基板の両面にそれぞれ硬化性樹脂を充填し、同時にＵＶ照射して完全に硬化させた後に、片面ずつ離型する方法が知られている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第３９２６３８０号公報
【特許文献２】特開２００６−１０６２２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述のようなガラス基板の片面ずつに硬化性樹脂を充填して完全硬化させた後、離型する場合、離型時にガラス基板の反りが発生して精度が落ちるという問題がある。また、ガラス基板の両面に同時に硬化性樹脂を充填して完全硬化させた後、離型する場合は、一度に両面の硬化性樹脂を硬化させるため、硬化時間が長く、または両面から露光するために露光装置が複雑になるという問題がある。【０００７】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、反りの発生を抑制でき、露光時間の短縮化及び装置の単純化を図ることのできるウエハレンズの製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するため、請求項１に記載の発明は、基板の両面の内、一方の面に光硬化性樹脂製の第１の光学部材、他方の面に光硬化性樹脂製の第２の光学部材を設けたウエハレンズを製造するためのウエハレンズの製造方法であって、
前記第１の光学部材の光学面形状に対応した成形面を複数有する第１の成形型を準備する工程と、
前記第２の光学部材の光学面形状に対応した成形面を複数有する第２の成形型を準備する工程と、
前記基板の一方の面と前記第１の成形型の成形面との間に前記光硬化性樹脂を充填する第１充填工程と、
前記基板の他方の面と前記第２の成形型の成形面との間に前記光硬化性樹脂を充填する第２充填工程と、
前記第１充填工程で充填された前記光硬化性樹脂に光照射して硬化を進める第１硬化工程と、
前記第２充填工程で充填された前記光硬化性樹脂に光照射して硬化を進める第２硬化工程と、
前記第１硬化工程後、加熱処理を行う第１加熱工程と、
前記第２硬化工程後、加熱処理を行い第２加熱工程と、
前記第１加熱工程後、前記光硬化性樹脂から第１の成形型を離型する第１離型工程と、
前記第２加熱工程後、前記光硬化性樹脂から第２の成形型を離型する第２離型工程と、
前記第１離型工程及び第２離型工程によって前記基板の両面に形成された光学部材の両方に対して一括でポストキュアを行う工程と、
を有することを特徴とする。
【００１３】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のウエハレンズの製造方法において、前記第１硬化工程では、前記第１の成形型の側から光照射し、前記第２硬化工程では、前記第２の成形型の側から光照射することを特徴とする。
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載のウエハレンズの製造方法において、前記第１加熱工程及び第２加熱工程では、前記ポストキュアの温度よりも低い温度で加熱処理を行うことを特徴とする。
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のいずれか一項に記載のウエハレンズの製造方法において、前記第１離型工程後に前記第２充填工程の処理を行うことを特徴とする。
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載のウエハレンズの製造方法において、前記第１離型工程後に前記基板の前記第１の光学部材が形成された面に対してスペーサーを取り付ける工程を備えることを特徴とする。
請求項６に記載の発明は、請求項１〜３のいずれか一項に記載のウエハレンズの製造方法において、前記第１離型工程前に前記第２硬化工程の処理を行うことを特徴とする。
【００１５】
請求項７に記載の発明は、請求項１〜６のいずれか一項に記載のウエハレンズの製造方法において、前記第１離型工程又は前記第２離型工程後に前記光学部材に対して反射防止膜を形成する反射防止膜形成工程を備え、前記反射防止膜形成工程では、前記反射防止膜の形成と同時に前記ポストキュアを行うことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、離型時に発生し易い基板の反りを抑制することができる。また、ポストキュアを行うことで、硬化時間を短縮することができる。特に第１及び第２成形工程では、基板の片面から露光するために露光装置も単純化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】ウエハレンズ集合体の概略構成を示す斜視図である。
【図２】マスター、サブマスターの概略構成を示す斜視図である。
【図３】末端に加水分解可能な官能基の一例としてアルコキシラン基を使用した離型剤と、マスター表面のＯＨ基との反応図である。
【図４】サブマスターの製造方法を説明するための図面である。
【図５】ウエハレンズの製造方法を説明するための図面である。
【図６】ウエハレンズ集合体の製造方法を説明するための図面である。
【図７】ウエハレンズの製造方法を説明するための図面である。
【図８】ウエハレンズ集合体の製造方法を説明するための図面である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、図面を参照しながら本発明の好ましい実施形態について説明する。
【００１９】
［第１の実施形態］
図１は、ウエハレンズ集合体の概略構成を示す斜視図である。
【００２０】
ウエハレンズ集合体１００は、ウエハレンズ１とウエハレンズ１Ｂとが間にスペーサー７を介在させて積層されて構成されている。
【００２１】
＜ウエハレンズ＞
ウエハレンズ１は円形状のガラス基板３と複数のレンズ部４，５とを有しており（図５参照）、ガラス基板３の表裏両面に複数のレンズ部４，５がアレイ状に配置された構成を有している。レンズ部４，５には、光学面の表面に回折溝や段差等の微細構造が形成されていてもよい。
【００２２】
レンズ部４，５は樹脂４Ａ，５Ａで形成されている（図５参照）。この樹脂４Ａ，５Ａとしては、硬化性樹脂材料が用いられる。硬化性樹脂材料としては大きく分けて光硬化性樹脂と熱硬化性樹脂とに分類され、樹脂４Ａ，５Ａは光硬化性樹脂を用いる。
【００２３】
光硬化性樹脂としては、例えばアクリル樹脂やアリルエステル樹脂などを用いることができ、これら樹脂はラジカル重合により反応硬化させることができる。その他の光硬化性樹脂としては、例えばエポキシ系の樹脂などを用いることができ、当該樹脂はカチオン重合により反応硬化させることができる。
【００２４】
以下、上記各樹脂について詳細を次に記す。
【００２５】
（アクリル樹脂）
重合反応に用いられる（メタ）アクリレートは特に制限はなく、一般的な製造方法により製造された下記（メタ）アクリレートを使用することができる。エステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、エーテル（メタ）アクリレート、アルキル（メタ）アクリレート、アルキレン（メタ）アクリレート、芳香環を有する（メタ）アクリレート、脂環式構造を有する（メタ）アクリレートが挙げられる。これらを１種類又は２種類以上を用いることができる。
【００２６】
特に脂環式構造を持つ（メタ）アクリレートが好ましく、酸素原子や窒素原子を含む脂環構造であってもよい。例えば、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘプチル（メタ）アクリレート、ビシクロヘプチル（メタ）アクリレート、トリシクロデシル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレートや、イソボロニル（メタ）アクリレート、水添ビスフェノール類のジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。また特にアダマンタン骨格を持つと好ましい。例えば、２−アルキル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート（特開２００２−１９３８８３号公報参照）、アダマンチルジ（メタ）アクリレート（特開昭５７−５００７８５号公報参照）、アダマンチルジカルボン酸ジアリル（特開昭６０―１００５３７号公報参照）、パーフルオロアダマンチルアクリル酸エステル（特開２００４−１２３６８７号公報参照）、新中村化学製  ２−メチル−２−アダマンチルメタクリレート、１，３−アダマンタンジオールジアクリレート、１，３，５−アダマンタントリオールトリアクリレート、不飽和カルボン酸アダマンチルエステル（特開２０００−１１９２２０号公報参照）、３，３’−ジアルコキシカルボニル−１，１’ビアダマンタン（特開２００１−２５３８３５号公報参照）、１，１’−ビアダマンタン化合物（米国特許第３３４２８８０号明細書参照）、テトラアダマンタン（特開２００６−１６９１７７号公報参照）、２−アルキル−２−ヒドロキシアダマンタン、２−アルキレンアダマンタン、１，３−アダマンタンジカルボン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル等の芳香環を有しないアダマンタン骨格を有する硬化性樹脂（特開２００１−３２２９５０号公報参照）、ビス（ヒドロキシフェニル）アダマンタン類やビス（グリシジルオキシフェニル）アダマンタン（特開平１１−３５５２２号公報、特開平１０−１３０３７１号公報参照）等が挙げられる。
【００２７】
また、その他反応性単量体を含有することも可能である。（メタ）アクリレートであれば、例えば、メチルアクリレート、メチルメタアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタアクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタアクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタアクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、などが挙げられる。
【００２８】
多官能（メタ）アクリレートとして、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールセプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００２９】
（アリルエステル樹脂）
アリル基を持ちラジカル重合による硬化する樹脂で、例えば次のものが挙げられるが、特に以下のものに限定されるわけではない。
【００３０】
芳香環を含まない臭素含有（メタ）アリルエステル（特開２００３−６６２０１号公報参照）、アリル（メタ）アクリレート（特開平５−２８６８９６号公報参照）、アリルエステル樹脂（特開平５−２８６８９６号公報、特開２００３−６６２０１号公報参照）、アクリル酸エステルとエポキシ基含有不飽和化合物の共重合化合物（特開２００３−１２８７２５号公報参照）、アクリレート化合物（特開２００３−１４７０７２号公報参照）、アクリルエステル化合物（特開２００５−２０６４号公報参照）等が挙げられる。
【００３１】
（エポキシ樹脂）
エポキシ樹脂としては、エポキシ基を持ち光又は熱により重合硬化するものであれば特に限定されず、硬化開始剤としても酸無水物やカチオン発生剤等を用いることができる。エポキシ樹脂は硬化収縮率が低いため、成形精度の優れたレンズとすることができる点で好ましい。
【００３２】
エポキシの種類としては、ノボラックフェノール型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂が挙げられる。その一例として、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、２，２’−ビス（４−グリシジルオキシシクロヘキシル）プロパン、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカーボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）−５，５−スピロ−（３，４−エポキシシクロヘキサン）−１，３−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、１，２−シクロプロパンジカルボン酸ビスグリシジルエステル等を挙げることができる。
【００３３】
硬化剤は硬化性樹脂材料を構成する上で使用されるものであり特に限定はない。また、本発明において、硬化性樹脂材料と、添加剤を添加した後の光学材料の透過率を比較する場合、硬化剤は添加剤には含まれないものとする。硬化剤としては、酸無水物硬化剤やフェノール硬化剤等を好ましく使用することができる。酸無水物硬化剤の具体例としては、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、４−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、あるいは３−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸と４−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸との混合物、テトラヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸等を挙げることができる。また、必要に応じて硬化促進剤が含有される。硬化促進剤としては、硬化性が良好で、着色がなく、熱硬化性樹脂の透明性を損なわないものであれば、特に限定されるものではないが、例えば、２−エチル−４−メチルイミダゾール（２Ｅ４ＭＺ）等のイミダゾール類、３級アミン、４級アンモニウム塩、ジアザビシクロウンデセン等の双環式アミジン類とその誘導体、ホスフィン、ホスホニウム塩等を用いることができ、これらを１種、あるいは２種以上を混合して用いてもよい。
【００３４】
レンズ部４，５の表面には、反射防止膜９（図１拡大図参照）がそれぞれ形成されている。反射防止膜９は２層構造を有している。レンズ部４，５の表面に対して第１層９１が形成され、その上に第２層９２が形成されている。
【００３５】
第１層９１は屈折率１．７以上の高屈折率材料から構成された層であり、好ましくはＴａ２Ｏ５，Ｔａ２Ｏ５とＴｉＯ２との混合物，ＺｒＯ２，ＺｒＯ２とＴｉＯ２との混合物のいずれかで構成されている。第１層９１はＴｉＯ２，Ｎｂ２Ｏ３，ＨｆＯ２で構成されてもよい。第２層９２は屈折率１．７未満の低屈折率材料から構成された層であり、好ましくはＳｉＯ２から構成されている。
【００３６】
反射防止膜９は第１層９１，第２層９２がともに蒸着等の手法により形成されており、詳しくは、第１層９１，第２層９２は、その成膜温度がリフロー処理に供される半田等の導電性ペーストの溶融温度に対し−４０〜＋４０℃（好ましくは−２０〜＋２０℃）の範囲に保持されながら、形成されている。
【００３７】
なお、第１層９１，第２層９２の上にさらに第１層９１，第２層９２を交互に積層し、反射防止膜９を全体で２〜７層構造としてもよい。この場合、レンズ部４，５に直に接触する層はレンズ部４，５の種類に応じて、高屈折率材料の層としてもよいし、低屈折率材料の層としてもよい。本実施形態ではレンズ部４，５に直に接触する層が高屈折率材料の層となっている。
【００３８】
ウエハレンズ１の製造にあたっては、図２のマスター成形型１０（以下、単に「マスター１０」とする），サブマスター成形型２０（以下、単に「サブマスター２０」とする）が使用される。
【００３９】
マスター１０はサブマスター２０を製造する際に用いる母型であり、サブマスター２０はウエハレンズ１（レンズ部５）を成形する際に用いる成形型である。サブマスター２０はウエハレンズ１を量産するのに複数回にわたり使用され、その使用目的、使用頻度などにおいてマスター１０とは異なるものである。本実施形態では、マスター１０を精密加工用成形型の一例として使用している。
【００４０】
＜マスター＞
図２（ａ）に示す通り、マスター１０は直方体状のベース部１２に対し複数の凸部１４がアレイ状に形成されている。凸部１４はウエハレンズ１のレンズ部５に対応する部位であり、略半球形状に突出している。なお、マスター１０の外形状は、このように四角形であっても良いし円形であっても良い。本発明の権利範囲はこの差異によって制約されないが、以降は四角形状を例にして説明する。
【００４１】
凸部１４の表面（成形面）形状は、ガラス基板３上に成形転写するレンズ部５の光学面形状（ガラス基板３とは反対の面の形状）に対応するポジ形状となっている。
【００４２】
マスター１０の材料としては、切削や研削などの機械加工によって光学面形状を創製する場合には、金属または金属ガラスを用いることができる。分類としては鉄系の材料とその他合金が挙げられる。鉄系としては、熱間金型、冷間金型、プラスチック金型、高速度工具鋼、一般構造用圧延鋼材、機械構造用炭素鋼、クロム・モリブデン鋼、ステンレス鋼が挙げられる。その内、プラスチック金型としては、プリハードン鋼、焼入れ焼戻し鋼、時効処理鋼がある。プリハードン鋼としては、ＳＣ系、ＳＣＭ系、ＳＵＳ系が挙げられる。さらに具体的には、ＳＣ系はＰＸＺがある。ＳＣＭ系はＨＰＭ２、ＨＰＭ７、ＰＸ５、ＩＭＰＡＸが挙げられる。ＳＵＳ系は、ＨＰＭ３８、ＨＰＭ７７、Ｓ−ＳＴＡＲ、Ｇ−ＳＴＡＲ、ＳＴＡＶＡＸ、ＲＡＭＡＸ−Ｓ、ＰＳＬが挙げられる。また、鉄系の合金としては特開２００５−１１３１６１号公報や特開２００５−２０６９１３号公報が挙げられる。非鉄系の合金は主に、銅合金、アルミ合金、亜鉛合金がよく知られている。例としては、特開平１０−２１９３７３号公報、特開２０００−１７６９７０号公報に示されている合金が挙げられる。金属ガラスの材料としては、ＰｄＣｕＳｉやＰｄＣｕＳｉＮｉなどがダイヤモンド切削における被削性が高く、工具の磨耗が少ないので適している。また、無電解や電解のニッケル燐メッキなどのアモルファス合金もダイヤモンド切削における被削性が良いので適している。これらの高被削性材料は、マスター１０全体を構成しても良いし、メッキやスパッタなどの方法によって特に光学転写面の表面だけを覆っても良い。
【００４３】
また、マスター１０の材料として、機械加工はやや難しいが、ガラスを用いることもできる。マスター１０にガラスを用いれば、光を通すというメリットも得られる。一般的に使用されているガラスであれば特に限定されない。
【００４４】
特に、マスター１０のモールド成形用材料としては、低融点ガラスや、金属ガラスのように低温で容易に流動性が確保できる材料が挙げられる。低融点ガラスを使用すれば、ＵＶ硬化性の材料を成形する際にサンプルの金型側からも照射できるようになるため有利である。低融点ガラスとしては、ガラス転移点が６００℃程度またはそれ以下のガラスで、ガラス組成がＺｎＯ−ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３、ＰｂＯ−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３、ＰｂＯ−Ｐ２Ｏ５−ＳｎＦ２などが挙げられる。また、４００℃以下で溶融するガラスとして、ＰｂＦ２−ＳｎＦ２−ＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５及びその類似構造品が挙げられる。具体的な材料として、Ｓ−ＦＰＬ５１、Ｓ−ＦＰＬ５３、Ｓ−ＦＳＬ  ５、Ｓ−ＢＳＬ  ７、Ｓ−ＢＳＭ  ２、Ｓ−ＢＳＭ  ４、Ｓ−ＢＳＭ  ９、Ｓ−ＢＳＭ１０、Ｓ−ＢＳＭ１４、Ｓ−ＢＳＭ１５、Ｓ−ＢＳＭ１６、Ｓ−ＢＳＭ１８、Ｓ−ＢＳＭ２２、Ｓ−ＢＳＭ２５、Ｓ−ＢＳＭ２８、Ｓ−ＢＳＭ７１、Ｓ−ＢＳＭ８１、Ｓ−ＮＳＬ  ３、Ｓ−ＮＳＬ  ５、Ｓ−ＮＳＬ３６、Ｓ−ＢＡＬ  ２、Ｓ−ＢＡＬ  ３、Ｓ−ＢＡＬ１１、Ｓ−ＢＡＬ１２、Ｓ−ＢＡＬ１４、Ｓ−ＢＡＬ３５、Ｓ−ＢＡＬ４１、Ｓ−ＢＡＬ４２、Ｓ−ＢＡＭ  ３、Ｓ−ＢＡＭ  ４、Ｓ−ＢＡＭ１２、Ｓ−ＢＡＨ１０、Ｓ−ＢＡＨ１１、Ｓ−ＢＡＨ２７、Ｓ−ＢＡＨ２８、Ｓ−ＢＡＨ３２、Ｓ−ＰＨＭ５２、Ｓ−ＰＨＭ５３、Ｓ−ＴＩＬ  １、Ｓ−ＴＩＬ  ２、Ｓ−ＴＩＬ６、Ｓ−ＴＩＬ２５、Ｓ−ＴＩＬ２６、Ｓ−ＴＩＬ２７、Ｓ−ＴＩＭ  １、Ｓ−ＴＩＭ  ２、Ｓ−ＴＩＭ  ３、Ｓ−ＴＩＭ  ５、Ｓ−ＴＩＭ  ８、Ｓ−ＴＩＭ２２、Ｓ−ＴＩＭ２５、Ｓ−ＴＩＭ２７、Ｓ−ＴＩＭ２８、Ｓ−ＴＩＭ３５、Ｓ−ＴＩＭ３９、Ｓ−ＴＩＨ  １、Ｓ−ＴＩＨ  ３、Ｓ−ＴＩＨ  ４、Ｓ−ＴＩＨ  ６、Ｓ−ＴＩＨ１０、Ｓ−ＴＩＨ１１、Ｓ−ＴＩＨ１３、Ｓ−ＴＩＨ１４、Ｓ−ＴＩＨ１８、Ｓ−ＴＩＨ２３、Ｓ−ＴＩＨ５３、Ｓ−ＬＡＬ７、Ｓ−ＬＡＬ  ８、Ｓ−ＬＡＬ  ９、Ｓ−ＬＡＬ１０、Ｓ−ＬＡＬ１２、Ｓ−ＬＡＬ１３、Ｓ−ＬＡＬ１４、Ｓ−ＬＡＬ１８、Ｓ−ＬＡＬ５４、Ｓ−ＬＡＬ５６、Ｓ−ＬＡＬ５８、Ｓ−ＬＡＬ５９、Ｓ−ＬＡＬ６１、Ｓ−ＬＡＭ  ２、Ｓ−ＬＡＭ  ３、Ｓ−ＬＡＭ  ７、Ｓ−ＬＡＭ５１、Ｓ−ＬＡＭ５２、Ｓ−ＬＡＭ５４、Ｓ−ＬＡＭ５５、Ｓ−ＬＡＭ５８、Ｓ−ＬＡＭ５９、Ｓ−ＬＡＭ６０、Ｓ−ＬＡＭ６１、Ｓ−ＬＡＭ６６、Ｓ−ＬＡＨ５１、Ｓ−ＬＡＨ５２、Ｓ−ＬＡＨ５３、Ｓ−ＬＡＨ５５、Ｓ−ＬＡＨ５８、Ｓ−ＬＡＨ５９、Ｓ−ＬＡＨ６０、Ｓ−ＬＡＨ６３、Ｓ−ＬＡＨ６４、Ｓ−ＬＡＨ６５、Ｓ−ＬＡＨ６６、Ｓ−ＬＡＨ７１、Ｓ−ＬＡＨ７９、Ｓ−ＹＧＨ５１、Ｓ−ＦＴＭ１６、Ｓ−ＮＢＭ５１、Ｓ−ＮＢＨ  ５、Ｓ−ＮＢＨ  ８、Ｓ−ＮＢＨ５１、Ｓ−ＮＢＨ５２、Ｓ−ＮＢＨ５３、Ｓ−ＮＢＨ５５、Ｓ−ＮＰＨ  １、Ｓ−ＮＰＨ  ２、Ｓ−ＮＰＨ５３、Ｐ−ＦＫ０１Ｓ、Ｐ−ＦＫＨ２Ｓ、Ｐ−ＳＫ５Ｓ、Ｐ−ＳＫ１２Ｓ、Ｐ−ＬＡＫ１３Ｓ、Ｐ−ＬＡＳＦ０３Ｓ、Ｐ−ＬＡＳＦＨ１１Ｓ、Ｐ−ＬＡＳＦＨ１２Ｓ等が挙げられるが特にこれらに限定される必要はない。
【００４５】
また、金属ガラスも同様にモールドにより、容易に成形することができる。金属ガラスとしては特開平８−１０９４１９号公報、特開平８−３３３６６０号公報、特開平１０−８１９４４号公報、特開平１０−９２６１９号公報、特開２００１−１４００４７号公報、特開２００１−３０３２１８号公報、特表２００３−５３４９２５号公報のような構造が挙げられているが、特にこれらに限定される必要はない。
【００４６】
＜サブマスター＞
図２（ｂ）に示す通り、精密加工用成形型の一例であるサブマスター２０は、主には成形部２２と基材２６とで構成されている。成形部２２には複数の凹部２４がアレイ状に形成されている。凹部２４の表面（成形面）形状はウエハレンズ１におけるレンズ部５に対応するネガ形状となっており、この図では略半球形状に凹んでいる。
【００４７】
ここで、「サブマスター２０」は、「レンズ部５」を成形するための成形型であり、図５に示す「サブマスター２０Ｂ」は、「レンズ部４」を成形するための成形型であり、これらを区別している。「サブマスター２０Ｂ」は、基本的に「サブマスター２０」と同様の構成及び材料であり、凹部２４の表面形状がレンズ部４に対応するネガ形状となっているだけであるので、ここではサブマスター２０についてのみ詳細に説明する。
【００４８】
本実施形態では、サブマスター２０をウエハレンズ１のレンズ部５の成形に用いる例を示すが、これに限らず、サブマスター２０（の構成）は表面に微細でかつ精密な凹凸形状（ナノサイズスケールの凹凸形状）を形成することが要求される光学素子や精密素子などの成形にも適用可能であって、例えば単品のレンズや複数のレンズをアレイ状に配置したレンズアレイの成形、パターンドメディアの基材の成形、ナノインプリント技術におけるナノホールの成形技術などにも応用可能である。
【００４９】
≪成形部≫
成形部２２は、樹脂２２Ａによって形成されている。樹脂２２Ａとしては、離型性の良好な樹脂、特に透明樹脂が好ましい。離型剤を塗布しなくても離型できる点で優れる。樹脂としては、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれでも構わない。
【００５０】
光硬化性樹脂としては、フッ素系樹脂が挙げられ、熱硬化性樹脂としては、フッ素系樹脂やシリコーン系樹脂が挙げられる。中でも、離型性の良好なもの、つまり硬化させた時の表面エネルギーの低い樹脂が好ましい。熱可塑性樹脂としては、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマーなどの透明で比較的離型性の良いオレフィン系樹脂が挙げられる。なお、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、オレフィン系樹脂の順に離型性が良好となる。この場合、基材２６は無くても構わない。このような樹脂を使用することにより、撓ませることができるので離型の際にさらに優位となる。
【００５１】
以下、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、熱可塑性樹脂について詳細に説明する。
【００５２】
（フッ素系樹脂）
フッ素系樹脂としては、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＰＦＡ（テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体）、ＦＥＰ（テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体（４，６フッ素化））、ＥＴＦＥ（テトラフルオロエチレン・エチレン共重合体）、ＰＶＤＦ（ポリビニリデンフルオライド（２フッ化））、ＰＣＴＦＥ（ポリクロロトリフルオロエチレン（３フッ化））、ＥＣＴＦＥ（クロロトリフルオロエチレン・エチレン共重合体）、ＰＶＦ（ポリビニルフルオライド）等が挙げられる。
【００５３】
フッ素系樹脂の優位点としては、離型性、耐熱性、耐薬品性、絶縁性、低摩擦性などだが、欠点としては、結晶性なので透明性に劣る。融点が高いので、成形時に高温（３００℃程度）が必要である。
【００５４】
また、成形方法は、射出成形、押出成形、ブロー成形、トランスファー成形などであり、その中でも特に、光透過性に優れ、射出成形や押出成形も可能なＦＥＰ、ＰＦＡ、ＰＶＤＦ等が好ましい。
【００５５】
溶融成形可能なグレートとしては、例えば、旭硝子製  Ｆｌｕｏｎ  ＰＦＡ、住友３Ｍ社製  Ｄｙｎｅｏｎ  ＰＦＡ、Ｄｙｎｅｏｎ  ＴＨＶ  等が挙げられる。特に、Ｄｙｎｅｏｎ  ＴＨＶシリーズは、低融点（１２０℃程度）なので、比較的低温で成形でき、高透明なので好ましい。
【００５６】
また、熱硬化性のアモルファスフッ素樹脂として、旭硝子製  サイトップ  グレードＳも高透過率、良離型性で好ましい。
【００５７】
（シリコーン系樹脂）
シリコーン系樹脂には、１液湿気硬化型のものと、２液付加反応型、２液縮合型のものがある。
【００５８】
優位点としては、離型性、柔軟性、耐熱性、難燃性、透湿性、低吸水性、透明グレードが多いなどだが、欠点としては、線膨張率が大きいなどがある。
【００５９】
特に、ＰＤＭＳ（ポリジメチルシロキサン）構造を含むような、型取り用途のシリコーン樹脂が離型性良好で好ましく、ＲＴＶエラストマーの、高透明グレードが望ましい。例えば、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製  ＴＳＥ３４５０（２液混合、付加型）、旭化成ワッカーシリコーン製  ＥＬＡＳＴＯＳＩＬ  Ｍ  ４６４７（２液型ＲＴＶシリコーンゴム）、また、信越シリコーン製のＫＥ−１６０３（２液混合、付加型ＲＴＶゴム）、東レダウコーニング製のＳＨ−９５５５（２液混合、付加型ＲＴＶゴム）、ＳＹＬＧＡＲＤ  １８４、シルポット１８４、ＷＬ−５０００シリーズ（感光性シリコーンバッファー材料、ＵＶによりパターニング可能）等が好ましい。
【００６０】
成形方法は、２液型ＲＴＶゴムの場合、室温硬化または加熱硬化である。
【００６１】
シリコーン系樹脂の利点は、マスター１０から簡単に離型でき、転写性に優れる点である一方で、欠点は、やわらかく脆いため、レンズ部５の成形の際に、数１０〜１００ショット程度しかもたない点である。これを補うため、シリコーン系樹脂に転写させたあと、さらにＮｉ（ニッケル）をコーティングする。コート方法は、電鋳、蒸着、スパッタリング、など何れでもよい。これでショット数は向上する。しかし、レンズ部５への離型性が、そんなによくない。そこで、Ｎｉコートの上からさらに、離型剤を塗布する。このように成形部２２の樹脂２２ＡをＰＤＭＳとし、かつ、その表面にＮｉコートし、さらに、離型剤を塗布することによって、マスター１０及びレンズ部５からの離型性を良好にしつつ、サブマスター２０の寿命を延ばすことができる。また、サブマスター２０も作りやすく、コストダウンにもつながる。
【００６２】
離型剤としては、シランカップリング剤構造のように、末端に加水分解可能な官能基が結合した材料、すなわち、金属の表面に存在するＯＨ基との間で脱水縮合又は水素結合等を起こして結合するような構造を有するものが挙げられる。末端がシランカップリング構造を持ち、他端が離型性機能を持つ離型剤の場合、サブマスターの表面にＯＨ基が形成されていればいるほど、サブマスター表面の共有結合する箇所が増え、より強固な結合ができる。その結果、何ショット成形をしても、離型効果は薄れることなく、耐久性が増す。また、プライマー（下地層、ＳｉＯ２コートなど）が不要となるので、薄膜を保ったまま耐久性向上の効果を得ることができる。
【００６３】
末端に加水分解可能な官能基が結合した材料とは、好ましくは官能基としてアルコキシシラン基やハロゲン化シラン基、４級アンモニウム塩、リン酸エステル基などからなる材料が挙げられる。また、末端基に、例えばトリアジンチオールのような、金型と強い結合を起こすような基でもよい。具体的には、次の一般式で示されるアルコキシシラン基（下記一般式（Ｂ））又はハロゲン化シラン基（下記一般式（Ｃ））を有するものである。
【００６４】
−Ｓｉ（ＯＲ１）ｎＲ２（３−ｎ）  …（Ｂ）
−ＳｉＸｍＲ３（３−ｍ）          …（Ｃ）
ここで、Ｒ１およびＲ２はアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基など）、ｎおよびｍは１，２または３、Ｒ３はアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基など）またはアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基など）である。Ｘはハロゲン原子（例えば、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）である。
【００６５】
また、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＸがＳｉに２以上結合している場合には、上記の基または原子の範囲内で、例えば２つのＲｍがアルキル基とアルコキシ基であるように異なっていてもよい。
【００６６】
アルコキシシラン基−ＳｉＯＲ１およびハロゲン化シラン基−ＳｉＸは、水分と反応して−ＳｉＯＨとなり、さらにこれがガラス、金属等の型材料の表面に存在するＯＨ基との間で脱水縮合または水素結合等を起こして結合する。
【００６７】
図３は、末端に加水分解可能な官能基の一例としてアルコキシシラン基を使用した離型剤と、マスター１０表面のＯＨ基との反応図を示している。
【００６８】
図３（ａ）中、−ＯＲはメトキシ（−ＯＣＨ３）やエトキシ（−ＯＣ２Ｈ５）を表し、加水分解によりメタノール（ＣＨ３ＯＨ）やエタノール（Ｃ２Ｈ５ＯＨ）を発生して、図３（ｂ）のシラノール（−ＳｉＯＨ）となる。その後、部分的に脱水縮合して、図３（ｃ）のようにシラノールの縮合体となる。さらに、図３（ｄ）のようにマスター１０（無機材料）表面のＯＨ基と水素結合により吸着し、最後に図３（ｅ）のように脱水して、−Ｏ−  化学結合（共有結合）する。なお、図３ではアルコキシシラン基の場合を示したが、ハロゲン化シラン基の場合も基本的に同様の反応が起こる。
【００６９】
すなわち本発明に使用する離型剤は、その一端でサブマスター表面に化学結合し、他端に機能性基を配向して、サブマスターを被うこととなり、薄くて耐久性に優れた均一な離型層を形成することができる。
【００７０】
離型性機能を持つ側の構造として好ましいのは、表面エネルギーの低いもの、例えば、フッ素置換炭化水素基や炭化水素基である。
【００７１】
（機能性側がフッ素系の離型剤）
フッ素置換炭化水素基としては、特に分子構造の一端にＣＦ３（ＣＦ２）ａ−基や、ＣＦ３・ＣＦ３・ＣＦ（ＣＦ２）ｂ−基などのパーフルオロ基（ａおよびｂは整数）を持つフッ素置換炭化水素基が好ましく、また、パーフルオロ基の長さが炭素数にして２個以上が好ましく、ＣＦ３（ＣＦ２）ａ−のＣＦ３につづくＣＦ２基の数は５以上が適切である。
【００７２】
また、パーフルオロ基は直鎖である必要はなく、分岐構造を有していてもよい。さらに、近年の環境問題対応として、ＣＦ３（ＣＦ２）ｃ−（ＣＨ２）ｄ−（ＣＦ２）ｅ−のような構造でもよい。この場合、ｃは３以下、ｄは整数（好ましくは１）、ｅは４以下である。
【００７３】
上記のフッ素離型剤は通常は固体であるが、これをサブマスターの表面に塗布するには、有機溶剤に溶解した溶液とする必要がある。離型剤の分子構造によって異なってくるが、多くはその溶媒としてフッ化炭化水素系の溶剤またはそれに若干の有機溶媒を混合したものが適している。溶媒の濃度は特に限定ないが、必要とする離型膜は特に薄いことが特徴であるので、濃度は低いもので充分であり、１〜３質量％でよい。
【００７４】
この溶液をサブマスター表面に塗布するには、浸漬塗布、スプレー塗布、ハケ塗り、スピンコート等の通常の塗布方法を用いることができる。塗布後は通常は自然乾燥で溶媒を蒸発させて乾燥塗膜とするが、このとき塗布された膜厚はとくに規定するべきものではないが、２０μｍ以下が適当である。
【００７５】
具体例としては、ダイキン工業製  オプツールＤＳＸ、デュラサーフＨＤ−１１００、ＨＤ−２１００、住友３Ｍ製  ノベックＥＧＣ１７２０、竹内真空被膜製  トリアジンチオールの蒸着、ＡＧＣ製  アモルファスフッ素  サイトップ  グレードＭ、エヌアイマテリアル製  防汚コートＯＰＣ−８００等が挙げられる。
【００７６】
（機能性側が炭化水素系の離型剤）
炭化水素基としては、ＣｎＨ２ｎ＋１  のように直鎖でもよいし、分岐していてもよい。シリコーン系離型剤がこの分類に含まれる。
【００７７】
従来、オルガノポリシロキサン樹脂を主成分とする組成物であり、撥水性を示す硬化皮膜を形成する組成物としては数多くの組成物が知られている。例えば、特開昭５５−４８２４５号公報には水酸基含有メチルポリシロキサン樹脂とα，ω−ジヒドロキシジオルガノポリシロキサンとオルガノシランからなり、硬化して離型性、防汚性に優れ、撥水性を示す皮膜を形成する組成物が提案されている。また、特開昭５９−１４０２８０号公報にはパーフルオロアルキル基含有オルガノシランとアミノ基含有オルガノシランを主成分とするオルガノシランの部分共加水分解縮合物を主剤とする組成物であり、撥水性、撥油性に優れた硬化皮膜を形成する組成物が提案されている。
【００７８】
具体例としては、ＡＧＣセイミケミカル製  モールドスパット、マツモトファインケミカル製  オルガチックスＳＩＣ−３３０，４３４、東レダウケミカル製  ＳＲ−２４１０などが挙げられる。また、自己組織化単分子膜として、日本曹達製  ＳＡＭＬＡＹ  が挙げられる。
【００７９】
（熱可塑性樹脂）
熱可塑性樹脂としては、脂環式炭化水素系樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂及びポリイミド樹脂等の透明樹脂が挙げられるが、これらの中では、特に脂環式炭化水素系樹脂が好ましく用いられる。サブマスター２０を熱可塑性樹脂で構成すれば、従来から実施している射出成形技術をそのまま転用することができ、サブマスター２０を容易に作製することができる。また熱可塑性樹脂が脂環式炭化水素系樹脂であれば、吸湿性が非常に低いため、サブマスター２０の寿命が長くなる。また、シクロオレフィン樹脂等の脂環式炭化水素系樹脂は、耐光性・光透過性に優れるため、活性光線硬化性樹脂を硬化させるために、ＵＶ光源等の短波長の光を用いた場合も劣化が少なく、金型として長期間用いることができる。
【００８０】
脂環式炭化水素系樹脂としては、下記式（１）で表されるものが例示される。
【００８１】
【化１】
0005617636.tif 000002
【００８２】
上記式（１）中、「ｘ」、「ｙ」は共重合比を示し、０／１００≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。「ｎ」は０、１又は２で置換基Ｑの置換数を示す。「Ｒ１」は炭素数２〜２０の炭化水素基群から選ばれる１種又は２種以上の（２＋ｎ）価の基である。「Ｒ２」は水素原子であるか、又は炭素及び水素からなり、炭素数１〜１０の構造群から選ばれる１種若しくは２種以上の１価の基である。「Ｒ３」は炭素数２〜２０の炭化水素基群から選ばれる１種又は２種以上の２価の基である。「Ｑ」はＣＯＯＲ４（Ｒ４は水素原子であるか、又は炭化水素からなり、炭素数１〜１０の構造群から選ばれる１種又は２種以上の１価の基である。）で表される構造群から選ばれる１種又は２種以上の１価の基である。
【００８３】
前記一般式（１）において、Ｒ１は、好ましくは炭素数２〜１２の炭化水素基群から選ばれる１種ないし２種以上の２価の基であり、より好ましくは下記一般式（２）（式（２）中、ｐは０〜２の整数）で表される２価の基であり、更に好ましくは前記一般式（２）において、ｐが０または１である２価の基である。
【００８４】
【化２】
0005617636.tif 000003
【００８５】
Ｒ１の構造は、１種のみ用いても２種以上併用しても構わない。Ｒ２の例としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基等が挙げられるが、好ましくは、水素原子、及び／又はメチル基であり、最も好ましくは水素原子である。Ｒ３の例としては、この基を含む構造単位の好ましい例として、ｎ＝０の場合、例えば、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）（但し、式（ａ）〜（ｃ）中、Ｒ１は前述の通り）などが挙げられる。また、ｎは好ましくは０である。
【００８６】
【化３】
0005617636.tif 000004
【００８７】
本実施形態において共重合のタイプは特に制限されるものではなく、ランダム共重合、ブロック共重合、交互共重合等、公知の共重合のタイプを適用することができるが、好ましくはランダム共重合である。
【００８８】
また、本実施形態で用いられる重合体は、本実施形態の成形方法によって得られる製品の物性を損なわない範囲で、必要に応じて他の共重合可能なモノマーから誘導される繰り返し構造単位を有していてもよい。その共重合比は特に限定されることはないが、好ましくは２０モル％以下、さらに好ましくは１０モル％以下であり、それ以上共重合させた場合には、光学特性を損ない高精度の光学部品が得られない恐れがある。この時の共重合のタイプは特に限定はされないが、ランダム共重合が好ましい。
【００８９】
サブマスター２０に適用される好ましい熱可塑性脂環式炭化水素系重合体のもう一つの例としては、脂環式構造を有する繰り返し単位が、下記一般式(４)で表される脂環式構造を有する繰り返し単位（ａ）と、下記式(５)及び／又は下記式（６）及び／又は下記式（７）で表される鎖状構造の繰り返し単位（ｂ）とを合計含有量が９０質量％以上になるように含有し、さらに繰り返し単位（ｂ）の含有量が１質量％以上１０質量％未満である重合体が例示される。
【００９０】
【化４】
0005617636.tif 000005
【００９１】
【化５】
0005617636.tif 000006
【００９２】
【化６】
0005617636.tif 000007
【００９３】
【化７】
0005617636.tif 000008
【００９４】
式（４）、式（５）、式（６）及び式（７）中、Ｒ２１〜Ｒ３３は、それぞれ独立に水素原子、鎖状炭化水素基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシ基、エーテル基、エステル基、シアノ基、アミノ基、イミド基、シリル基、及び極性基（ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシ基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、又はシリル基）で置換された鎖状炭化水素基等を表す。具体的に、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子を挙げることができ、極性基で置換された鎖状炭化水素基としては、例えば炭素原子数１〜２０、好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜６のハロゲン化アルキル基が挙げられる。鎖状炭化水素基としては、例えば炭素原子数１〜２０、好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜６のアルキル基：炭素原子数２〜２０、好ましくは２〜１０、より好ましくは２〜６のアルケニル基が挙げられる。
【００９５】
上記式（４）中のＸは、脂環式炭化水素基を表し、それを構成する炭素数は、通常４個〜２０個、好ましくは４個〜１０個、より好ましくは５個〜７個である。脂環式構造を構成する炭素数をこの範囲にすることで複屈折を低減することができる。また、脂環式構造は単環構造に限らず、例えばノルボルナン環などの多環構造のものでもよい。
【００９６】
脂環式炭化水素基は、炭素−炭素不飽和結合を有してもよいが、その含有量は、全炭素−炭素結合の１０％以下、好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下である。脂環式炭化水素基の炭素−炭素不飽和結合をこの範囲とすることで、透明性、耐熱性が向上する。また、脂環式炭化水素基を構成する炭素には、水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシ基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、シリル基、及び極性基（ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシ基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、又はシリル基）で置換された鎖状炭化水素基等が結合していてもよく、中でも水素原子又は炭素原子数１〜６個の鎖状炭化水素基が耐熱性、低吸水性の点で好ましい。
【００９７】
また、上記式（６）は、主鎖中に炭素−炭素不飽和結合を有しており、上記式（７）は主鎖中に炭素−炭素飽和結合を有しているが、透明性、耐熱性を強く要求される場合、不飽和結合の含有率は、主鎖を構成する全炭素−炭素間結合の、通常１０％以下、好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下である。
【００９８】
本実施形態においては、脂環式炭化水素系共重合体中の、一般式（４）で表される脂環式構造を有する繰り返し単位（ａ）と、一般式（５）及び／又は一般式（６）及び／又は一般式（７）で表される鎖状構造の繰り返し単位（ｂ）との合計含有量は、質量基準で、通常９０％以上、好ましくは９５％以上、より好ましくは９７％以上である。合計含有量を上記範囲にすることで、低複屈折性、耐熱性、低吸水性、機械強度が高度にバランスされる。
【００９９】
上記脂環式炭化水素系共重合体を製造する製造方法としては、芳香族ビニル系化合物と共重合可能なその他のモノマーとを共重合し、主鎖及び芳香環の炭素−炭素不飽和結合を水素化する方法が挙げられる。
【０１００】
水素化前の共重合体の分子量は、ＧＰＣにより測定されるポリスチレン（またはポリイソプレン）換算重量平均分子量（Ｍｗ）で、１，０００〜１，０００，０００、好ましくは５，０００〜５００，０００、より好ましくは１０，０００〜３００，０００の範囲である。共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）が過度に小さいと、それから得られる脂環式炭化水素系共重合体の成形物の強度特性に劣り、逆に過度に大きいと水素化反応性に劣る。
【０１０１】
上記の方法において使用する芳香族ビニル系化合物の具体例としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−プロピルスチレン、α−イソプロピルスチレン、α−ｔ−ブチルスチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、２，４−ジイソプロピルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン、５−ｔ−ブチル−２−メチルスチレン、モノクロロスチレン、ジクロロスチレン、モノフルオロスチレン、４−フェニルスチレン等が挙げられ、スチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン等が好ましい。これらの芳香族ビニル系化合物は、それぞれ単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１０２】
共重合可能なその他のモノマーとしては、格別な限定はないが、鎖状ビニル化合物及び鎖状共役ジエン化合物等が用いられ、鎖状共役ジエンを用いた場合、製造過程における操作性に優れ、また得られる脂環式炭化水素系共重合体の強度特性に優れる。
【０１０３】
鎖状ビニル化合物の具体例としては、例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン等の鎖状オレフィンモノマー；１−シアノエチレン（アクリロニトリル）、１−シアノ−１−メチルエチレン（メタアクリロニトリル）、１−シアノ−１−クロロエチレン（α−クロロアクリロニトリル）等のニトリル系モノマー；１−（メトキシカルボニル）−１−メチルエチレン（メタアクリル酸メチルエステル）、１−（エトキシカルボニル）−１−メチルエチレン（メタアクリル酸エチルエステル）、１−（プロポキシカルボニル）−１−メチルエチレン（メタアクリル酸プロピルエステル）、１−（ブトキシカルボニル）−１−メチルエチレン（メタアクリル酸ブチルエステル）、１−メトキシカルボニルエチレン（アクリル酸メチルエステル）、１−エトキシカルボニルエチレン（アクリル酸エチルエステル）、１−プロポキシカルボニルエチレン（アクリル酸プロピルエステル）、１−ブトキシカルボニルエチレン（アクリル酸ブチルエステル）などの（メタ）アクリル酸エステル系モノマー、１−カルボキシエチレン（アクリル酸）、１−カルボキシ−１−メチルエチレン（メタクリル酸）、無水マレイン酸などの不飽和脂肪酸系モノマー等が挙げられ、中でも、鎖状オレフィンモノマーが好ましく、エチレン、プロピレン、１−ブテンが最も好ましい。
【０１０４】
鎖状共役ジエンは、例えば、１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、及び１，３−ヘキサジエン等が挙げられる。これら鎖状ビニル化合物及び鎖状共役ジエンの中でも鎖状共役ジエンが好ましく、ブタジエン、イソプレンが特に好ましい。これらの鎖状ビニル化合物及び鎖状共役ジエンは、それぞれ単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１０５】
重合反応は、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等、特別な制約はないが、重合操作、後工程での水素化反応の容易さ、及び最終的に得られる炭化水素系共重合体の機械的強度を考えると、アニオン重合法が好ましい。
【０１０６】
アニオン重合の場合には、開始剤の存在下、通常０℃〜２００℃、好ましくは２０℃〜１００℃、特に好ましくは２０℃〜８０℃の温度範囲において、塊状重合、溶液重合、スラリー重合等の方法を用いることができるが、反応熱の除去を考慮すると、溶液重合が好ましい。この場合、重合体及びその水素化物を溶解できる不活性溶媒を用いる。溶液反応で用いる不活性溶媒は、例えばｎ−ブタン、ｎ−ペンタン、ｉｓｏ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｉｓｏ−オクタン等の脂肪族炭化水素類；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン、メチルシクロヘキサン、デカリン等の脂環式炭化水素類；ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類等が挙げられる。上記アニオン重合の開始剤としては、例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、ヘキシルリチウム、フェニルリチウムなどのモノ有機リチウム、ジリチオメタン、１，４−ジオブタン、１，４−ジリチオー２−エチルシクロヘキサン等の多官能性有機リチウム化合物などが使用可能である。
【０１０７】
水素化前の共重合体の芳香環やシクロアルケン環などの不飽和環の炭素−炭素二重結合や主鎖の不飽和結合等の水素化反応を行う場合は、反応方法、反応形態に特別な制限はなく、公知の方法にしたがって行えばよいが、水素化率を高くでき、且つ水素化反応と同時に起こる重合体鎖切断反応の少ない水素化方法が好ましく、例えば、有機溶媒中、ニッケル、コバルト、鉄、チタン、ロジウム、パラジウム、白金、ルテニウム、及びレニウムから選ばれる少なくとも１つの金属を含む触媒を用いて行う方法が挙げられる。水素化反応は、通常１０℃〜２５０℃であるが、水素化率を高くでき、且つ、水素化反応と同時に起こる重合体鎖切断反応を小さくできるという理由から、好ましくは５０℃〜２００℃、より好ましくは８０℃〜１８０℃である。また水素圧力は、通常０．１ＭＰａ〜３０ＭＰａであるが、上記理由に加え、操作性の観点から、好ましくは１ＭＰａ〜２０ＭＰａ、より好ましくは２ＭＰａ〜１０ＭＰａである。
【０１０８】
このようにして得られた、水素化物の水素化率は、１Ｈ−ＮＭＲによる測定において、主鎖の炭素−炭素不飽和結合、芳香環の炭素−炭素二重結合、不飽和環の炭素−炭素二重結合のいずれも、通常９０％以上、好ましくは９５％以上、より好ましくは９７％以上である。水素化率が低いと、得られる共重合体の低複屈折性、熱安定性等が低下する。
【０１０９】
水素化反応終了後に水素化物を回収する方法は特に限定されていない。通常、濾過、遠心分離等の方法により水素化触媒残渣を除去した後、水素化物の溶液から溶媒を直接乾燥により除去する方法、水素化物の溶液を水素化物にとっての貧溶媒中に注ぎ、水素化物を凝固させる方法を用いることができる。
【０１１０】
これら熱可塑性樹脂製のサブマスターの表面にも、Ｎｉコートし、離型剤を付与させることが、耐久性の観点から好ましい。
【０１１１】
≪基材≫
基材２６は、サブマスター２０の成形部２２のみでは強度に劣る場合でも、基材に樹脂を貼り付けることでサブマスター２０の強度が上がり、何回も成形することができるという、裏打ち材のことである。
【０１１２】
基材２６としては、石英、シリコーンウェハ、金属、ガラス、樹脂等、平滑性の出ているものなら何れでもよい。
【０１１３】
透明性の観点で、サブマスター２０の上からでも下からでもＵＶ照射できるという点を考慮すると、透明な型、例えば石英やガラスや透明樹脂等が好ましい。透明樹脂は、熱可塑性樹脂でも熱硬化性樹脂でもＵＶ硬化性樹脂でも何れでも良く、樹脂中に、微粒子が添加されていて線膨張係数を下げる等の効果があってもよい。このように樹脂を使用することによって、ガラスより撓むので離型する際により離型し易いが、樹脂は線膨張係数が大きいので、ＵＶ照射の際に熱が発生すると、形状が変形してきれいに転写することができないという欠点がある。
【０１１４】
次に、図４〜図６を参照しながら、ウエハレンズ１、１Ｂ及びウエハレンズ集合体１００の製造方法について説明する。
【０１１５】
まず、マスター１０Ａからサブマスター２０を成形する。ここで、「マスター１０Ａ」とは、「レンズ部５」を成形する「サブマスター２０」を成形するための母型を言い、「レンズ部４」を成形する「サブマスター２０Ｂ」を成形するための「マスター」（図示しない）と区別したものである。
【０１１６】
図４（ａ）に示す通り、マスター１０Ａ上に樹脂２２Ａを塗布し、マスター１０Ａの凸部１４を樹脂２２Ａに転写し、樹脂２２Ａを硬化させ、樹脂２２Ａに対し複数の凹部２４を形成する。これにより、成形部２２が形成される。
【０１１７】
樹脂２２Ａは、熱硬化性であっても光硬化性であっても、揮発硬化性（溶媒が揮発して硬化する、ＨＳＱ（ハイドロゲンシルセスキオキサン等））であってもよい。高精度な成形転写性を重視する場合は、硬化に熱をかけないため樹脂２２Ａの熱膨張の影響が少ないＵＶ硬化性や揮発硬化性樹脂による成形が好ましいが、これに限られるものではない。硬化後のマスター１０Ａとの剥離性が良い樹脂２２Ａが、剥離時に大きな力を必要としないため、成形光学面形状などを不用意に変形されることなく、より好ましい。
【０１１８】
樹脂２２Ａ（成形部２２の材料）、樹脂５Ａ（レンズ部５の材料）が硬化性樹脂である場合において、マスター１０Ａの光学面形状（凸部１４）は、好ましくは樹脂２２Ａの硬化収縮や樹脂５Ａの硬化収縮を見越して設計する。
【０１１９】
マスター１０Ａ上に樹脂２２Ａを塗布する場合には、スプレーコート，スピンコート等の手法を用いる。この場合、真空引きしながら樹脂２２Ａを塗布してもよい。真空引きしながら樹脂２２Ａを塗布すれば、樹脂２２Ａに気泡を混入させずに樹脂２２Ａを硬化させることができる。
【０１２０】
また、マスター１０Ａの表面に上述した離型剤を塗布して、離型性を向上させてもよい。
【０１２１】
離型剤を塗布する場合、マスター１０Ａの表面改質を行う。具体的には、マスター１０Ａの表面にＯＨ基を立たせる。表面改質の方法は、ＵＶオゾン洗浄、酸素プラズマアッシング等、マスター１０Ａの表面にＯＨ基を立たせる方法なら何でもよい。
【０１２２】
樹脂２２Ａが光硬化性樹脂である場合には、マスター１０Ａの上方に配置した光源５０を点灯させ光照射する。
【０１２３】
光源５０としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、蛍光灯、ブラックライト、Ｇランプ、Ｆランプ等が挙げられ、線状光源であってもよいし点状光源であってもよい。高圧水銀ランプは、３６５ｎｍ、４３６ｎｍに狭いスペクトルを持つランプである。メタルハライドランプは、水銀灯の一種で、紫外域における出力は高圧水銀ランプよりも数倍高い。キセノンランプは、最も太陽光に近いスペクトルを持つランプである。ハロゲンランプは長波長の光を多く含んでおり、近赤外光がほとんどであるランプである。蛍光灯は光の三原色に均等な照射強度を持っている。ブラックライトはピークトップを３５１ｎｍに持ち、３００ｎｍ〜４００ｎｍの近紫外光を放射するライトである。
【０１２４】
光源５０から光照射する場合には、複数の線状又は点状の光源５０を格子状に配置して樹脂２２Ａの全面に一度に光が到達するようにしてもよいし、線状又は点状の光源５０を樹脂２２Ａの表面に対し平行にスキャニングして樹脂２２Ａに順次光が到達するようにしてもよい。この場合、好ましくは光照射時の輝度分布や照度（強度）分布を測定し、その測定結果に基づき照射回数，照射量，照射時間等を制御する。
【０１２５】
樹脂２２Ａを光硬化させた後（サブマスター２０の作製後）においては、サブマスター２０に対しポストキュア（加熱処理）をおこなってもよい。ポストキュアをおこなえば、サブマスター２０の樹脂２２Ａを完全に硬化させることができ、サブマスター２０の型寿命を延ばすことができる。
【０１２６】
樹脂２２Ａが熱硬化性樹脂である場合には、加熱温度、加熱時間を最適な範囲で制御しながら樹脂２２Ａを加熱する。樹脂２２Ａは射出成形、プレス成形、光照射してその後に冷却する等の手法でも成形することができる。
【０１２７】
図４（ｂ）に示す通り、成形部２２（樹脂２２Ａ）の裏面（凹部２４とは反対の面）に対して基材２６を装着し、成形部２２を裏打ちする。
【０１２８】
基材２６は石英であってもよいし、ガラス板であってもよく、十分な曲げ強度とＵＶ透過率を有することが重要である。成形部２２と基材２６との密着性を高めるために、基材２６に対しシランカップリング剤を塗布するなどの処理を行ってもよい。
【０１２９】
なお、上記のように、マスター１０Ａの凸部１４を樹脂２２Ａに転写し樹脂２２Ａが硬化した後（つまり成形部２２が形成された後）に、基材２６を装着する（室温で裏打ちする）場合には、接着剤を使う。
【０１３０】
逆に、マスター１０Ａの凸部１４を樹脂２２Ａに転写し樹脂２２Ａが硬化する前に、基材２６を装着する（室温で裏打ちする）ようにしてもよい。この場合には、接着剤を使用せずに、樹脂２２Ａの付着力により基材２６を張り付かせるか、又は基材２６にカップリング剤を塗布し付着力を強くして樹脂２２Ａに対し基材２６を付着させる。
【０１３１】
また、成形部２２（樹脂２２Ａ）を基材２６で裏打ちする際には、公知の真空チャック装置２６０を用い、この真空チャック装置２６０の吸引面２６０Ａに基材２６を吸引保持しつつ、当該吸引面２６０Ａをマスター１０Ａにおける凸部１４の成形面に対し平行な状態として、成形部２２を基材２６で裏打ちすることが好ましい。これにより、マスター１０Ａにおける凸部１４の成形面に対してサブマスター２０の裏面２０Ａ（基材２６側の面）が平行となり、サブマスター２０において凹部２４の成形面が裏面２０Ａと平行となる。従って、後述のようにサブマスター２０によってレンズ部５を成形する際に、サブマスター２０の基準面、つまり裏面２０Ａを凹部２４の成形面と平行にすることができるため、レンズ部５が偏芯したり、厚みにばらつきを有したりするのを防止し、レンズ部５の形状精度を向上させることができる。また、真空チャック装置２６０によってサブマスター２０を吸引保持するため、真空排気のオン／オフのみによってサブマスター２０を着脱することができる。従って、サブマスター２０の配置を容易に行なうことができる。
【０１３２】
ここで、凹部２４の成形面に対して裏面２０Ａが平行であるとは、具体的には、凹部２４の成形面における中心軸に対して裏面２０Ａが垂直であることをいう。
【０１３３】
また、サブマスター２０は、基材２６で裏打ちしつつ硬化させて形成するのが好ましいが、裏打ち前に硬化させて形成しても良い。基材２６で裏打ちしつつ硬化させる方法としては、例えば樹脂２２Ａとして熱硬化性樹脂を用い、マスター１０Ａと基材２６との間に当該樹脂２２Ａを充填した状態でこれらをベーク炉に投入する方法や、樹脂２２ＡとしてＵＶ硬化性樹脂を用いるとともに、基材２６としてＵＶ透過性の基板を用い、マスター１０Ａと基材２６との間に当該樹脂２２Ａを充填した状態で基材２６の側から樹脂２２Ａに対してＵＶ光を照射する方法などがある。
【０１３４】
また、真空チャック装置２６０の吸引面２６０Ａはセラミック材料で作るのが好ましい。この場合には、吸引面２６０Ａの硬度が高くなり、サブマスター２０（基材２６）の着脱によって当該吸引面２６０Ａに傷が付き難いため、吸引面２６０Ａの面精度を高く維持することができる。また、このようなセラミック材料としては、窒化珪素やサイアロンを用いるのが好ましい。この場合には、線膨張係数が１．３ｐｐｍと小さいため、温度変化に対して吸引面２６０Ａの平面度を高く維持することができる。
【０１３５】
なお、本実施の形態においては、マスター１０Ａにおける凸部１４の成形面に対して吸引面２６０Ａを平行な状態にする手法としては、以下のような手法を用いている。
【０１３６】
まず、マスター１０Ａの表裏面を高精度に平行化しておく。これにより、マスター１０Ａにおいて、凸部１４の成形面と裏面とが平行となる。
【０１３７】
また、このマスター１０Ａを裏面（凸部１４とは反対側の面）側から支持する支持面２６０Ｂと、吸引面２６０Ａとに対して、それぞれ基準部材２６０Ｃ、２６０Ｄを突設しておく。ここで、これらの基準部材２６０Ｃ、２６０Ｄの形状は、支持面２６０Ｂ及び吸引面２６０Ａが互いに平行な状態でマスター１０Ａとサブマスター２０とが当接したときにガタツキ無く互いに当接する形状とする。
【０１３８】
これにより、基準部材２６０Ｃ、２６０Ｄ同士を当接させることによって、吸引面２６０Ａに対してマスター１０Ａの支持面２６０Ｂ、ひいてはマスター１０における凸部１４の成形面が平行となる。
【０１３９】
但し、上記のような手法において、基準部材は支持面２６０Ｂ及び吸引面２６０Ａの少なくとも一方に設ければ良く、例えば支持面２６０Ｂのみに基準部材を設ける場合には、この基準部材の形状は、支持面２６０Ｂ及び吸引面２６０Ａが互いに平行な状態でマスター１０Ａとサブマスター２０とが当接したときに、吸引面２６０Ａに対してガタツキ無く当接する形状とすれば良い。同様に、吸引面２６０Ａのみに基準部材を設ける場合には、この基準部材の形状は、支持面２６０Ｂ及び吸引面２６０Ａが互いに平行な状態でマスター１０Ａとサブマスター２０とが当接したときに、支持面２６０Ｂに対してガタツキ無く当接する形状とすれば良い。
【０１４０】
図４（ｃ）に示す通り、マスター１０Ａから成形部２２と基材２６とを離型し、サブマスター２０が形成される。
【０１４１】
樹脂２２ＡとしてＰＤＭＳ（ポリジメチルシロキサン）などの樹脂を使い、さらに、Ｎｉコートした上で、その表面に離型剤を塗布しておくと、マスター１０との離型性が非常によいので、マスター１０からの剥離に大きな力を必要とせず、成形光学面を歪ませたりする事が無いのでよい。
【０１４２】
なお、同様の手順でマスター（図示しない）から、レンズ部４に対応するネガ形状の凹部２４を有するサブマスター２０Ｂ（図５（ｅ）参照）も形成しておく。
【０１４３】
これにより、レンズ部５に対応するサブマスター２０（第１の成形型）と、レンズ部４に対応するサブマスター２０Ｂ（第２の成形型）の準備が完了する。
【０１４４】
続いて、レンズ部４、５を成形する。
【０１４５】
まず、ガラス基板３とサブマスター２０との間に樹脂５Ａを充填し硬化させる。より詳細には、図５（ａ）に示す通り、ガラス基板３上に樹脂５Ａを塗布し、樹脂５Ａが塗布されたガラス基板３に対しサブマスター２０を上方から押圧することによって樹脂５Ａを硬化させる。
【０１４６】
サブマスター２０を上方から押圧する場合には、真空引きしながら押圧してもよい。真空引きしながら押圧すれば、樹脂５Ａに気泡を混入させずに樹脂５Ａを硬化させることができる。
【０１４７】
樹脂５Ａが塗布されたガラス基板３に対してサブマスター２０を上方から押圧するのに代えて、図示しないが、サブマスター２０の凹部２４に対して樹脂５Ａを充填し、充填した樹脂５Ａに対して上方からガラス基板３を押圧しながら樹脂５Ａを硬化させる構成としてもよい。
【０１４８】
ガラス基板３を押圧する場合に、ガラス基板３は、サブマスター２０と軸合わせをするための構造が付与されているのが好ましい。ガラス基板３が円形状を呈している場合には、例えばＤカット、Ｉカット、マーキング、切欠き部等を形成しておくのが好ましい。ガラス基板３を多角形状としてもよく、この場合にはサブマスター２０との軸合わせが容易である。
【０１４９】
樹脂５Ａを硬化させる場合において、樹脂５Ａは光硬化性樹脂であるので、サブマスター２０の上方に配置した光源５２を点灯させサブマスター２０側から光照射してもよいし、ガラス基板３の下方に配置した光源５４を点灯させガラス基板３側から光照射してもよいし、光源５２、５４の両方を同時に点灯させサブマスター２０側とガラス基板３側との両側から光照射してもよい（図５（ｂ）参照）。
【０１５０】
光源５２、５４としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、蛍光灯、ブラックライト、Ｇランプ、Ｆランプ等を使用でき、線状光源であってもよいし点状光源であってもよい。
【０１５１】
光源５２、５４から光照射する場合には、複数の線状又は点状の光源５２、５４を格子状に配置して樹脂５Ａに一度に光が到達するようにしてもよいし、線状又は点状の光源５２、５４をサブマスター２０、ガラス基板３に対し平行にスキャニングして樹脂５Ａに順次光が到達するようにしてもよい。この場合、好ましくは光照射時の輝度分布や照度（強度）分布を測定し、その測定結果に基づき照射回数、照射量、照射時間等を制御する。
【０１５２】
樹脂５Ａが硬化すると、レンズ部５が形成される。
【０１５３】
その後、サブマスター２０を離型する前に、一旦、プレ加熱（第１加熱工程）を行う。詳細には、後述するポストキュアの温度より低く短時間（例えば、８０℃、１０分）で行う。離型前にプレ加熱を行い、離型後に後述のポストキュアを行うことによって、レンズ部５の面形状の転写精度が良好となる。また、ＵＶ照射時間を５０％程度に短くしても離型前のプレ加熱により、ＵＶ照射１００％と同様の面転写精度が得られる。その結果、ＵＶ照射時間の短縮が可能となり、電力の省エネ、ＵＶランプの長寿命化、成形装置占有時間の短縮により製造効率が向上する。
【０１５４】
次いで、図５（ｃ）に示す通り、レンズ部５及びガラス基板３をサブマスター２０から離型する（第１離型工程）。ここで、樹脂５Ａが光硬化性樹脂のうち、特にエポキシ樹脂の場合には、光照射しても反応が完全に進行しないため、離型した際にガラス基板３の反りが発生しにくい。
【０１５５】
図５（ｄ）に示す通りスペーサー７を用意する。
【０１５６】
スペーサー７は、ガラス又は透明な樹脂で構成された円盤状を呈する部材であり、ウエハレンズ１のレンズ部４、５に対応する位置に開口部７１が形成されている（当該開口部７１からレンズ部４、５が露出するようになっている）。
【０１５７】
そして、レンズ部５に対してスペーサー７を載置する。詳しくは、ガラス基板３の上面又はスペーサー７の下面に接着剤（図示しない）を塗布し、レンズ部５が開口部７１から露出するようにスペーサー７を載置する。
【０１５８】
次いで、図５（ｅ）に示す通り、スペーサー７を接着した状態で上下反転させる。反転させた状態のまま、ガラス基板３上にさらに樹脂４Ａを塗布し、樹脂４Ａが塗布されたガラス基板３に対しサブマスター２０Ｂを上方から押圧することによって樹脂４Ａを硬化させる。
【０１５９】
樹脂４Ａの硬化に当たっては、樹脂４Ａも光硬化性樹脂であるので、上述したようにサブマスター２０Ｂの上方から光源５２を照射することによって硬化させる（図５（ｆ）参照）。
【０１６０】
レンズ部４を形成する場合も同様に、樹脂４Ａへの気泡混入を防止するため、サブマスター２０Ｂを押圧する際に、真空引きしながら樹脂４Ａを充填してもよい。さらに、図示しないが、サブマスター２０Ｂの凹部２４に対して樹脂４Ａを充填し、充填した樹脂４Ａに対して上方からガラス基板３を押圧しながら樹脂４Ａを硬化させる構成としてもよい。
【０１６１】
樹脂４Ａが硬化すると、レンズ部４が形成される。
【０１６２】
その後、サブマスター２０Ｂを離型する前に、一旦、プレ加熱（第２加熱工程）を行う。この際のプレ加熱も、上述と同様に後述のポストキュアの温度より低く短時間で行う。これによって、レンズ部４の面形状の転写精度が良好となる。
【０１６３】
次いで、図５（ｇ）に示す通り、サブマスター２０Ｂをレンズ部４から離型する（第２離型工程）。ここで、樹脂４Ａも光硬化性樹脂のうち、特にエポキシ樹脂の場合には、光照射しても反応が完全に進行しないため、離型した際にガラス基板３の反りが発生しにくい。
【０１６４】
そして、離型後、両面のレンズ部４、５に対して一括してポストキュアし加熱硬化させる（ポストキュア工程）。ポストキュアは、例えば１５０℃、１時間行う。このようにして、レンズ部４、５、ガラス基板３及びスペーサー７からなる第２成形体６（以下、単に「成形体６」とする）が形成される。ここでは、上述のように光照射して離型した後でも、ガラス基板３に反りが発生していないため、ガラス基板３が平坦な状態で両面のレンズ部４，５に対して一括してポストキュアを行うので、ポストキュア後もガラス基板３に反りがなく、レンズ部４、５を完全に硬化させることができる。
【０１６５】
次いで、図５（ｈ）に示す通り成形体６の表面に反射防止膜９を形成する（反射防止膜形成工程）。はじめに、真空蒸着装置（図示しない）内に成形体６を装着し、装置内の圧力を所定圧力（例えば２×１０−３Ｐａ）まで減圧すると共に、真空蒸着装置上部のヒーターより成形体６を所定温度（例えば２４０℃）の温度になるまで加熱する。
【０１６６】
その後、反射防止膜９の第１層９１（図１参照）を構成する蒸着源を用いて第１層９１を形成する。特にこの場合、成膜温度を、リフロー処理で溶融しようとする導電性ペーストの溶融温度に対し−４０〜＋４０℃の範囲内で保持する。
【０１６７】
例えば、第１層９１として（Ｔａ２Ｏ５＋５％ＴｉＯ２）膜を形成する場合には、蒸発源としてオプトラン社製ＯＡ６００を用い、電子銃加熱により当該蒸着源を蒸発させればよい。蒸着中は、真空蒸着装置内部の圧力が１．０×１０−２ＰａまでＯ２ガスを導入し、蒸着速度を０．５ｎｍ／ｓｅｃの条件にコントロールしながら成膜するのがよい。そしてリフロー処理で溶融しようとする導電性ペーストの溶融温度が例えば２４０℃である場合には、成膜温度（蒸着装置内の温度）を２００〜２８０℃の範囲内で保持する。
【０１６８】
その後、成形体６の両面に第１層９１を形成するため、蒸着装置内部の反転機構により成形体６を反転させ、上記と同様にしてその裏面にも第１層９１を形成する（第２層９２の裏面への成膜についても同様である。）。
【０１６９】
その後、第１層９１の上に続けて、第２層９２（図１参照）を構成する蒸着源を用いて第２層９２を形成する。この場合も、第１層９１を形成する場合と同様に、成膜温度を、リフロー処理で溶融しようとする導電性ペーストの溶融温度に対し−４０〜＋４０℃の範囲内で保持する。
【０１７０】
例えば、第２層９２としてＳｉＯ２膜を形成する場合には、真空蒸着装置内部の圧力が１．０×１０−２ＰａまでＯ２ガスを導入し、蒸着速度を０．５ｎｍ／ｓｅｃの条件にコントロールしながら成膜するのがよい。そしてリフロー処理で溶融しようとする導電性ペーストの溶融温度が例えば２４０℃である場合には、成膜温度（蒸着装置内の温度）を２００〜２８０℃の範囲内で保持する。
【０１７１】
以上の工程により、成形体６の表面に反射防止膜９を形成することができ、ガラス基板３の両面にレンズ部４、５が形成されたウエハレンズ１が製造される。
【０１７２】
なお、上述した手順では、ポストキュア工程後、反射防止膜９を蒸着形成するとしたが、ポストキュア工程を行わずに、反射防止膜９の蒸着形成時に（蒸着装置内で）ポストキュアを同時に行うようにしてもよい。具体的には、蒸着の際に通常、真空引きに４０分かかるが、これをもう少し延ばして６０分とすれば、ポストキュアかつ反射防止膜９の形成を同時に行うことができる。このようにポストキュア及び反射防止膜９の形成を同時に行うことによって、工程の短縮化を図れ、しかも、酸素フリーの雰囲気で樹脂硬化させることができ、着色の問題を防ぐことができる。
【０１７３】
一方、図５（ａ）〜図５（ｄ）と同様の手順を行い、ガラス基板３、レンズ部５及びスペーサー７からなる第１成形体６Ｂ（以下、単に「成形体６Ｂ」とする）を成形する（図６（ａ）参照）。そして、成形体６Ｂに対しても、ポストキュア及び反射防止膜９の形成を行っておく。なお、上述の成形体６を成形する工程と、成形体６Ｂを成形する工程とは、いずれを先に行っても構わない。
【０１７４】
次いで、図６（ａ）に示す通り、成形体６をスペーサー７側が下面となるように支持面２６０Ｂに載置する。成形体６Ｂもスペーサー７側が下面となるように、レンズ部５が設けられていない側の平坦面を真空チャック装置２６０の吸引面２６０Ａで吸引保持する。真空チャック装置２６０は、上述のサブマスター２０成形時に使用した真空チャック装置２６０と同様のものである。吸引面２６０Ａは平面精度が高く維持されており、成形体６Ｂのレンズ部５が設けられていない側の面も平坦面であるため、平面度が高い状態で成形体６Ｂを吸引保持することができる。また、樹脂を硬化する光に対する透過性が高い石英ガラスで出来ている。
【０１７５】
図６（ｂ）に示す通り、吸引面２６０Ａを、成形体６のレンズ部４の成形面に対して平行な状態として、成形体６及び成形体６Ｂを接合することによって接合体８１とする（第１接合工程）。このとき、成形体６Ｂのスペーサー７の下面又は成形体６のガラス基板３の上面に接着剤（図示しない）を塗布し、ガラス基板３上にスペーサー７を載置し、真空チャック装置２６０の上方より光源５２を照射することによって接合する。
【０１７６】
図６（ｃ）に示す通り、成形体６Ｂのガラス基板３上に樹脂４Ａを塗布し、樹脂４Ａが塗布されたガラス基板３に対しサブマスター２０Ｂを上方から押圧することによって樹脂４Ａを硬化させる。
【０１７７】
樹脂４Ａの硬化に当たっては、図５（ｆ）と同様に、樹脂４Ａが光硬化性樹脂であるので、上述したようにサブマスター２０Ｂの上方から光源５２を照射することによって硬化させる。
【０１７８】
レンズ部４を形成する場合も同様に、樹脂４Ａへの気泡混入を防止するため、サブマスター２０Ｂを押圧する際に、真空引きしながら樹脂４Ａを充填してもよい。さらに、図示しないが、サブマスター２０Ｂの凹部２４に対して樹脂４Ａを充填し、充填した樹脂４Ａに対して上方からガラス基板３を押圧しながら樹脂４Ａを硬化させる構成としてもよい。
【０１７９】
樹脂４Ａが硬化すると、レンズ部４が形成される。
【０１８０】
その後、レンズ部４の面形状の転写精度を良好とするために、サブマスター２０Ｂを離型する前に、一旦、プレ加熱を行うことが好ましい。この際のプレ加熱も、上述と同様に後述のポストキュアの温度より低く短時間で行う。
【０１８１】
次いで、図６（ｄ）に示す通り、サブマスター２０Ｂをレンズ部４から離型する。離型後、レンズ部４に対してポストキュアし加熱硬化させる。ポストキュアは、例えば１５０℃、１時間行う。
【０１８２】
最後に、図５（ｈ）と同様の手順で成形体６Ｂのレンズ部４の表面に反射防止膜９を形成する。ここでも、反射防止膜９の形成と同時にポストキュアを行って、上述のポストキュア工程を省略してもよい。
【０１８３】
以上のようにして、ウエハレンズ１に対してウエハレンズ１Ｂがスペーサー７を介して積層されてなるウエハレンズ集合体１００が製造される。
【０１８４】
本発明の第１の実施形態によれば、ガラス基板３の一方の面に樹脂５Ａを充填して硬化させた後、離型し、その後、他方の面に樹脂４Ａを充填して硬化させた後、離型し、次いで、ガラス基板３の両面のレンズ部４、５に対して一括でポストキュアを行う。つまり、離型時には樹脂４Ａ、５Ａが完全に硬化しておらず、ガラス基板３に反りが発生していない。そのため、ガラス基板３が平坦な状態で両面のレンズ部４、５に対して一括してポストキュアを行うことによって、ポストキュア後もガラス基板３に反りがなく、レンズ部４、５を完全に硬化させることができる。
【０１８５】
また、ガラス基板３の片面毎に樹脂４Ａ、５Ａを硬化させるため、硬化時間の短縮化を図ることができる。しかも、ポストキュアを行う前の状態では、樹脂４Ａ、５Ａを完全に硬化させずに、ポストキュア工程時で両面の樹脂４Ａ、５Ａを一括して完全に硬化させるので、この点においても硬化時間を短縮することができる。さらに、樹脂４Ａ、５Ａを光照射によって硬化させる際には、ガラス基板３の片面から露光するために露光装置（光源５２、５４）も単純化することができる。
【０１８６】
なお、第１の実施の形態においては、２つの成形型を準備し、ガラス基板の両面に光学部材であるレンズ部を形成するもので説明したが、これに限るものでなく、ガラス基板の一方の面のみにレンズ部を形成したものにも適用可能である。
【０１８７】
即ち、光学部材の光学面形状に対応した成形面を複数有する成形型を準備し、基板の一面と成形型の成形面との間に光硬化性樹脂を充填する充填工程と、光硬化性樹脂に対して光照射により硬化を進める光硬化工程と、光硬化工程で硬化の進んだ光硬化性樹脂に対して加熱処理を行う加熱工程と、加熱工程後、光硬化性樹脂から前記成形型を離型する離型工程と、を有するウエハレンズの製造方法とすることで、レンズ部の面形状の転写が良好となる。
【０１８８】
更に、離型工程後に、基板の一面に形成された光学部材に対してポストキュアを行うことで、硬化時間の短縮化を図ることができる。
【０１８９】
また、第１の実施の形態においては、両面のレンズ部４、５に対して一括してポストキュアを行う例で説明したが、レンズ部４の形成時にポストキュア工程を行い、レンズ部５の形成時に再度ポストキュア工程を行うようにしてもよい。
【０１９０】
［第２の実施形態］
第２の実施形態では、ガラス基板３の両面に樹脂４Ａ、５Ａを充填して光照射により同時に硬化させた後、離型し、その後、両面のレンズ部４，５に対して一括してポストキュアを行う点で、第１の実施形態と異なる。以下、図７を参照しながらウエハレンズ１の製造方法について説明する。
【０１９１】
まず、図７（ａ）、（ｂ）に示す通り、図５（ａ）、（ｂ）と同様の手順を行い、ガラス基板３の一方の面に樹脂５Ａを充填し硬化させ、レンズ部５を形成する。
【０１９２】
その後、図７（ｃ）に示す通り、レンズ部５及びガラス基板３をサブマスター２０から離型せずに、そのままの状態で上下反転させる。反転させた状態のまま、ガラス基板３上にさらに樹脂４Ａを塗布し、樹脂４Ａが塗布されたガラス基板３に対しサブマスター２０Ｂを上方から押圧することによって樹脂４Ａを硬化させる。
【０１９３】
樹脂４Ａの硬化に当たっては、樹脂４Ａが光硬化性樹脂であるので、上述したようにサブマスター２０Ｂの上方又はサブマスター２０の下方から光源５２、５４を照射することによって硬化させてもよいし、両方の光源５２、５４を使用してもよい。
【０１９４】
なお、この際に、樹脂４Ａだけでなく樹脂５Ａのいずれも硬化させることができるので、特に図７（ｂ）において樹脂５Ａを硬化させなくてもよく、図７（ｂ）における硬化工程を省略してもよい。
【０１９５】
レンズ部４を形成する場合も同様に、樹脂４Ａへの気泡混入を防止するため、サブマスター２０Ｂを押圧する際に、真空引きしながら樹脂４Ａを充填してもよい。さらに、図示しないが、サブマスター２０Ｂの凹部２４に対して樹脂４Ａを充填し、充填した樹脂４Ａに対して上方からガラス基板３を押圧しながら樹脂４Ａを硬化させる構成としてもよい。
【０１９６】
樹脂４Ａが硬化すると、レンズ部４が形成される（成型工程：図７（ｄ）参照）。
【０１９７】
その後、サブマスター２０、２０Ｂを離型する前に、一旦、プレ加熱を行う。詳細には、後述するポストキュアの温度より低く短時間（例えば、８０℃、１０分）で行う。離型前にプレ加熱を行い、離型後に後述のポストキュアを行うことによって、レンズ部４、５の面形状の転写精度が良好となる。また、上述のようにＵＶ照射時間を５０％程度に短くしても、ＵＶ照射１００％と同様の面転写精度が得られる。その結果、ＵＶ照射時間の短縮が可能となり、電力の省エネ、ＵＶランプの長寿命化、成形装置占有時間の短縮により製造効率が向上する。
【０１９８】
次いで、図７（ｅ）に示す通り、片側のサブマスター２０Ｂをレンズ部４から離型し、もう片側のサブマスター２０をレンズ部５から離型する（第３離型工程）。離型後、レンズ部４，５に対して一括してポストキュアし加熱硬化させる（ポストキュア工程）。ポストキュアは、例えば１５０℃、１時間行う。
【０１９９】
ポストキュア後、図５（ｈ）と同様の手順でレンズ部４、５の表面に反射防止膜９を形成する（反射防止膜形成工程：図７（ｆ）参照）。ここでも、反射防止膜９の形成と同時にポストキュアを行って、上述のポストキュア工程を省略してもよい。
【０２００】
さらに、図７（ｇ）に示す通りスペーサー７に対してレンズ部５を載置する。詳しくは、ガラス基板３の下面又はスペーサー７の上面に接着剤（図示しない）を塗布し、スペーサー７に対してガラス基板３を載置する。以上のようにしてガラス基板３の両面にレンズ部４、５が形成されたウエハレンズ１が製造される。
【０２０１】
なお、図７（ｆ）、（ｇ）では、ポストキュア後にレンズ部４、５の表面に反射防止膜９を形成し、その後、スペーサー７を接着したが、この順に限らず、離型後に先にスペーサー７に対してガラス基板３を載置して、レンズ部４、５、ガラス基板３及びスペーサー７からなる成形体６を成形しておき、次いで、この成形体６のレンズ部４、５の表面に反射防止膜９を形成する順番としても良い。そして、この反射防止膜８の形成時に、同時にポストキュア工程を行って、上述のポストキュア工程を省略しても良い。
【０２０２】
また、第２の実施形態においても上述のウエハレンズ１を使用して、第１の実施形態の図６と同様の手順でウエハレンズ集合体１００を製造することができる。
【０２０３】
本発明の第２の実施形態によれば、ガラス基板３の両面に樹脂４Ａ、５Ａを充填して硬化させた後、両面のサブマスター２０、２０Ｂを離型し、その後、ガラス基板３の両面のレンズ部４、５に対して一括でポストキュアを行う。つまり、離型時には樹脂４Ａ、５Ａが完全に硬化しておらず、ガラス基板３に反りが発生していない。そのため、ガラス基板３が平坦な状態で両面のレンズ部４，５に対して一括してポストキュアを行うことによって、ポストキュア後もガラス基板３に反りがなく、レンズ部４、５を完全に硬化させることができる。また、ポストキュア工程時で両面の樹脂４Ａ、５Ａを一括して完全に硬化させるので、硬化時間を短縮することができる。
【０２０４】
［第３の実施形態］
図８を参照しながら、ウエハレンズ１、１Ｂ及びウエハレンズ集合体１００の製造方法について説明する。
【０２０５】
上記第１の実施形態では、成形体６Ｂ（一方の面のみにレンズ部５が設けられた第１成形体）と、成形体６（両面にレンズ部４，５が設けられた第２成形体）とを接合することによってウエハレンズ集合体１００を製造する場合を説明したが、第３の実施形態は、第１の実施形態の成形体６の代わりに、一方の面のみにレンズ部５が設けられた第２成形体６Ｃ（以下、単に「成形体６Ｃ」とする）を使用して、この成形体６Ｃと第１の実施形態と同様の成形体６Ｂとを接合することによってウエハレンズ集合体１００を製造する場合である。
【０２０６】
まず、図５（ａ）〜（ｃ）と同様の手順を行い、ガラス基板３及びレンズ部５からなる成形体６Ｃを成形する。そして、成形体６Ｃに対しても、ポストキュア及び反射防止膜９の形成を行っておく（図８（ａ）参照）。
【０２０７】
一方、図５（ａ）〜（ｄ）と同様の手順を行い、ガラス基板３、レンズ部５及びスペーサー７からなる成形体（第１成形体）６Ｂを成形する。そして、成形体６Ｂに対してポストキュア及び反射防止膜９の形成を行っておく（図８（ａ）参照）。
【０２０８】
図８（ａ）に示す通り、成形体６Ｂをスペーサー７側が上面となり、レンズ部５が設けられていない側の平坦面が下面となるように支持面２６０Ｂに載置する。成形体６Ｃもレンズ部５が設けられていない側の平坦面を真空チャック装置２６０の吸引面２６０Ａで吸引保持する。真空チャック装置２６０は、上述のサブマスター２０成形時に使用した真空チャック装置２６０と同様のものである。吸引面２６０Ａは平面精度が高く維持されており、成形体６Ｃのレンズ部５が設けられていない側の面も平坦面であるため、平面度が高い状態で成形体６Ｃを吸引保持することができる。
【０２０９】
図８（ｂ）に示す通り、吸引面２６０Ａを、成形体６Ｂのレンズ部５の成形面に対して平行な状態として、成形体６Ｂ及び成形体６Ｃを接合することによって接合体８２とする。このとき、成形体６Ｂのスペーサー７の上面又は成形体６Ｃのガラス基板３の下面に接着剤（図示しない）を塗布し、成形体６Ｂのスペーサー７上に成形体６Ｃのガラス基板３を載置し、真空チャック装置２６０の上方より光源５２を照射することによって接合する。
【０２１０】
図８（ｃ）に示す通り、成形体６Ｃのガラス基板３上に樹脂４Ａを塗布し、樹脂４Ａが塗布されたガラス基板３に対しサブマスター２０Ｂを上方から押圧することによって樹脂４Ａを硬化させる。
【０２１１】
樹脂４Ａの硬化に当たっては、上述の図５（ｆ）と同様に、樹脂４Ａが光硬化性樹脂であるので、上述したようにサブマスター２０Ｂの上方から光源５２を照射することによって硬化させる（図８（ｄ）参照）。
【０２１２】
レンズ部４を形成する場合も同様に、樹脂４Ａへの気泡混入を防止するため、サブマスター２０Ｂを押圧する際に、真空引きしながら樹脂４Ａを充填してもよい。さらに、図示しないが、サブマスター２０Ｂの凹部２４に対して樹脂４Ａを充填し、充填した樹脂４Ａに対して上方からガラス基板３を押圧しながら樹脂４Ａを硬化させる構成としてもよい。
【０２１３】
樹脂４Ａが硬化すると、レンズ部４が形成される。
【０２１４】
次いで、図８（ｅ）に示す通り、サブマスター２０Ｂをレンズ部４から離型する。離型後、レンズ部４に対してポストキュアし加熱硬化させる。ポストキュアは、例えば１５０℃、１時間行う。
【０２１５】
さらに、図８（ｆ）に示す通り、成形体６Ｃのガラス基板３に対してスペーサー７を載置する。詳しくは、ガラス基板３の上面又はスペーサー７の下面に接着剤（図示しない）を塗布し、ガラス基板３に対してスペーサー７を載置する。
【０２１６】
次いで、図５（ｈ）と同様の手順で成形体６Ｃのレンズ部４及びスペーサー７の表面に反射防止膜９を形成する。ここでも、反射防止膜９の形成と同時にポストキュアを行って、上述のポストキュア工程を省略してもよい。
【０２１７】
図８（ｇ）に示す通り、スペーサー７を接着した状態で成形体６Ｂ及び成形体６Ｃを上下反転させる。反転させた状態のまま、成形体６Ｂのガラス基板３上にさらに樹脂４Ａを塗布し、樹脂４Ａが塗布されたガラス基板３に対しサブマスター２０Ｂを上方から押圧することによって樹脂４Ａを硬化させる。
【０２１８】
樹脂４Ａの硬化に当たっては、上述の図５（ｆ）と同様に、樹脂４Ａが光硬化性樹脂であるので、上述したようにサブマスター２０Ｂの上方から光源５２を照射することによって硬化させる。
【０２１９】
レンズ部４を形成する場合も同様に、樹脂４Ａへの気泡混入を防止するため、サブマスター２０Ｂを押圧する際に、真空引きしながら樹脂４Ａを充填してもよい。さらに、図示しないが、サブマスター２０Ｂの凹部２４に対して樹脂４Ａを充填し、充填した樹脂４Ａに対して上方からガラス基板３を押圧しながら樹脂４Ａを硬化させる構成としてもよい。
【０２２０】
樹脂４Ａが硬化すると、レンズ部４が形成される。
【０２２１】
次いで、図８（ｈ）に示す通り、サブマスター２０Ｂをレンズ部４から離型する。離型後、レンズ部４に対してポストキュアし加熱硬化させる。ポストキュアは、例えば１５０℃、１時間行う。
【０２２２】
最後に、図５（ｈ）と同様の手順で成形体６Ｂのレンズ部４の表面に反射防止膜９を形成する。ここでも、反射防止膜９の形成と同時にポストキュアを行って、上述のポストキュア工程を省略してもよい。
【０２２３】
以上のようにして、ウエハレンズ１Ｂに対してウエハレンズ１Ｃがスペーサー７を介して積層されてなるウエハレンズ集合体１００が製造される。
【０２２４】
なお、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
【０２２５】
上記第１の実施形態では、２枚のウエハレンズを積層させてなるウエハレンズ集合体１００を製造する場合について説明したが、３枚以上のウエハレンズを積層させてウエハレンズ集合体を製造する場合も同様の手順で製造することができる。
【０２２６】
例えば、図６（ｄ）のように２枚のウエハレンズ１，１Ｂを積層させてなるウエハレンズ集合体１００を製造後、図６（ａ）と同様の成形体（第１成形体）６Ｂを成形しておく。そして、図６（ａ）〜図６（ｄ）と同様の手順で、ウエハレンズ集合体１００に対して成形体６Ｂを接合した後、成形体６Ｂの上面にレンズ部４を形成する。これらの工程（図６（ａ）〜（ｄ））を繰り返すことによって３枚以上のウエハレンズを積層させてなるウエハレンズ集合体を製造することができる。この場合も、常に、成形体６Ｂの一方の面が平坦面であるから、この平坦面を真空チャック装置２６０の吸引面２６０Ａで吸引保持することによって平面度の高い状態で接合することができる。
【０２２７】
また、第２の実施形態において、図７（ｂ）の状態から上下反転させるとしたが、反転させなくても良い。この場合、サブマスター２０Ｂに樹脂４Ａを充填しておき、この樹脂４Ａ上にガラス基板３と樹脂５Ａを充填したサブマスター２０を載置して、その後、図７（ｄ）と同様に光照射する。又は、はじめにサブマスター２０の凹部２４が上面となるようにサブマスター２０を配置し、このサブマスター２０に樹脂５Ａを充填する（図７（ａ）の上下反転した状態）。次いで、光照射して樹脂５Ａを硬化する（図７（ｂ）の上下反転した状態）。その後、図７（ｃ）と同様にしてガラス基板３上に樹脂４Ａを塗布し、樹脂４Ａを硬化させる。
【符号の説明】
【０２２８】
１、１Ｂ  ウエハレンズ
３  ガラス基板（基板）
４Ａ、４Ｂ  樹脂
４、５    レンズ部（光学部材）
７  スペーサー
９  反射防止膜
２０  サブマスター（第１のサブマスター成形型）
２０Ｂ  サブマスター（第２のサブマスター成形型）
１００  ウェハレンズ集合体
２６０  真空チャック装置
２６０Ａ  吸引面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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