(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＦＯＵＰの搬送領域の雰囲気と基板搬送領域の雰囲気とを区画する隔壁に形成され、開閉ドアにより開閉される搬送口の口縁部に、ＦＯＵＰの基板取り出し口の口縁部を密着させ、前記開閉ドアに設けられた蓋体取り外し機構を、ＦＯＵＰの蓋体の前面側の開口部を介して蓋体内に進入させて蓋体とＦＯＵＰ本体との係合を解除し、当該蓋体を保持するように構成されたＦＯＵＰの開閉装置において、
前記搬送口の口縁部に密着したＦＯＵＰと、前記開閉ドアとの間に形成される閉塞された空間の雰囲気を排気する排気口と、
前記開閉ドアに設けられ、前記蓋体の前面側の開口部を介して蓋体の内部空間に進入して、当該内部空間にパージガスを吐出し、前記内部空間の雰囲気を蓋体における当該開口部とは異なる開口部から前記閉塞空間へと排出するためのパージガス吐出部と、
を備え、
前記パージガス吐出部は、前記蓋体取り外し機構に設けられていることを特徴とする蓋体開閉装置。
【請求項２】
ＦＯＵＰの搬送領域の雰囲気と基板搬送領域の雰囲気とを区画する隔壁に形成され、開閉ドアにより開閉される搬送口の口縁部に、ＦＯＵＰの基板取り出し口の口縁部を密着させ、前記開閉ドアに設けられた蓋体取り外し機構を、ＦＯＵＰの蓋体の前面側の開口部を介して蓋体内に進入させて蓋体とＦＯＵＰ本体との係合を解除し、当該蓋体を保持するように構成されたＦＯＵＰの開閉装置において、
前記搬送口の口縁部に密着したＦＯＵＰと、前記開閉ドアとの間に形成される閉塞された空間の雰囲気を排気する排気口と、
前記開閉ドアに設けられ、前記蓋体の前面側の開口部を介して蓋体の内部空間に進入して、当該内部空間の雰囲気を排気するための排気部と、
を備え、
前記排気部は、前記蓋体取り外し機構に設けられていることを特徴とする蓋体開閉装置。
【請求項３】
ＦＯＵＰの搬送領域は大気雰囲気であり、基板搬送領域は不活性ガス雰囲気であり、且つ前記パージガスは不活性ガスであることを特徴とする請求項１に記載の蓋体開閉装置。
【請求項４】
前記パージガス吐出部は、水平軸まわりに回転する回転体と、当該回転体に設けられるパージガスの吐出口と、を備えることを特徴とする請求項１または３記載の蓋体開閉装置。
【請求項５】
前記排気部は、水平軸まわりに回転する回転体と、当該回転体に設けられる排気口と、を備えることを特徴とする請求項２記載の蓋体開閉装置。
【請求項６】
前記回転体は、前記水平軸に直交する柱状部材であり、前記吐出口または排気口は、前記柱状部材の長さ方向に開口し、且つ当該柱状部材の回転軸の軸方向に開口していることを特徴とする請求項４または５記載の蓋体開閉装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＦＯＵＰの一部を構成する基板の取り出し口を塞ぐ蓋体を開閉する蓋体開閉装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造装置の一つとして、例えば多数の半導体ウエハ（以下ウエハという）に対してバッチで熱処理を行う縦型熱処理装置がある。この縦型熱処理装置は大気雰囲気中に設けられており、ウエハを格納したＦＯＵＰと呼ばれるキャリアが搬送されるキャリア搬送領域と、前記ウエハを基板保持具であるウエハボートに移載して熱処理炉への搬送を行うウエハ搬送領域と、これらの領域間に設けられる隔壁と、を備えている。前記ウエハ搬送領域は、キャリア搬送領域よりも清浄度を高くすると共にウエハの自然酸化膜の発生などを防止するために、その雰囲気が大気から窒素に置換され、酸素の濃度が低く抑えられている。この酸素濃度としては、例えば数ｐｐｍ以下の濃度に抑えることが要求される場合がある。
【０００３】
前記隔壁にはウエハの搬送口が形成され、この搬送口はFIMS（Front-opening Interface Mechanical Standard）規格に従った開閉ドアにより開閉される。前記開閉ドアは、キャリア前面に設けられる蓋体を取り外すための取り外し機構を備えている。つまり開閉ドアには、キャリア内とウエハ搬送領域との間でウエハを受け渡すために蓋体を開閉する役割と、上記のようにウエハ搬送領域を低酸素濃度に保つために、キャリア搬送領域から隔離する役割とが求められる。
【０００４】
前記蓋体を取り外す工程を具体的に説明すると、キャリアの前面が前記隔壁に密着した状態で、前記取り外し機構が蓋体の内部空間に設けられた当該蓋体をキャリアに対して係合させるための係合機構に作用して、この係合を解除する。そして蓋体取り外し機構が、前記係合が解除された蓋体を保持した状態で開閉ドアが蓋体取り外し機構と共にウエハ搬送領域側へ向けて移動して、キャリア内がウエハ搬送領域に開放される。ところが、このように開閉ドアが移動したときに、前記内部空間に滞留していた大気がウエハ搬送領域へと漏れ出してしまうことによって、ウエハ搬送領域中の窒素濃度が低下すると共に酸素濃度が上昇する。その結果としてウエハに所望の処理が行えなくなるおそれがある。
【０００５】
特許文献１には、異物を除去するために蓋体の表面にガスを吐出するノズルを備えたロードポートについて示されているが、上記のように蓋体の内部の大気を除去するには不十分である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１０−５６２９６（段落００１７、図１Ａ）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は、蓋体の内部空間を介してＦＯＵＰの搬送領域の雰囲気が基板搬送領域に混入することを抑えることができる技術を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の蓋体開閉装置は、ＦＯＵＰの搬送領域の雰囲気と基板搬送領域の雰囲気とを区画する隔壁に形成され、開閉ドアにより開閉される搬送口の口縁部に、ＦＯＵＰの基板取り出し口の口縁部を密着させ、前記開閉ドアに設けられた蓋体取り外し機構を、ＦＯＵＰの蓋体の前面側の開口部を介して蓋体内に進入させて蓋体とＦＯＵＰ本体との係合を解除し、当該蓋体を保持するように構成されたＦＯＵＰの開閉装置において、
前記搬送口の口縁部に密着したＦＯＵＰと、前記開閉ドアとの間に形成される閉塞された空間の雰囲気を排気する排気口と、
前記開閉ドアに設けられ、前記蓋体の前面側の開口部を介して蓋体の内部空間に進入して、当該内部空間にパージガスを吐出し、前記内部空間の雰囲気を蓋体における当該開口部とは異なる開口部から前記閉塞空間へと排出するためのパージガス吐出部と、
を備え、
前記パージガス吐出部は、前記蓋体取り外し機構に設けられていることを特徴とする。
【０００９】
本発明の他の蓋体開閉装置は、ＦＯＵＰの搬送領域の雰囲気と基板搬送領域の雰囲気とを区画する隔壁に形成され、開閉ドアにより開閉される搬送口の口縁部に、ＦＯＵＰの基板取り出し口の口縁部を密着させ、前記開閉ドアに設けられた蓋体取り外し機構を、ＦＯＵＰの蓋体の前面側の開口部を介して蓋体内に進入させて蓋体とＦＯＵＰ本体との係合を解除し、当該蓋体を保持するように構成されたＦＯＵＰの開閉装置において、
前記搬送口の口縁部に密着したＦＯＵＰと、前記開閉ドアとの間に形成される閉塞された空間の雰囲気を排気する排気口と、
前記開閉ドアに設けられ、前記蓋体の前面側の開口部を介して蓋体の内部空間に進入して、当該内部空間の雰囲気を排気するための排気部と、
を備え、
前記排気部は、前記蓋体取り外し機構に設けられていることを特徴とする蓋体開閉装置
【００１１】
また、例えばＦＯＵＰの搬送領域は大気雰囲気であり、基板搬送領域は不活性ガス雰囲気であり、且つ前記パージガスは不活性ガスである
【００１２】
ところで、ＦＯＵＰとはFront-Opening Unified Podの略であり、一般的にはその径が３００ｍｍであるウエハ用の搬送、保管を目的としたキャリアであるが、ここでいうＦＯＵＰの収納対象となる基板は、後述するようにウエハに限られるものではないし、その径が３００ｍｍに限られることもない。また、ＦＯＵＰ本体と蓋体とを係合する機構は、実施の形態で述べるような回動部の回動により直動部が昇降する構成であることに限られず、蓋体の内部に進入した蓋体取り外し機構により係合の解除がなされるものすべてが含まれる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の蓋体開閉装置は、ＦＯＵＰの蓋体の内部空間にパージガス吐出部が進入して、当該内部空間の雰囲気を排出するか、前記内部空間に排気部が進入して前記雰囲気を排気する。また、蓋体の前面に対向する多数の吐出口からパージガスを吐出して前記内部空間の雰囲気を排出するか、蓋体の前面に対向する多数の排気口から内部空間の雰囲気を排気する。従って、蓋体の内部空間を介してＦＯＵＰの搬送領域の雰囲気が基板搬送領域に混入することを抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の蓋体開閉装置が適用された縦型熱処理装置の縦断側面図である。
【図２】前記縦型熱処理装置の平面図である。
【図３】キャリア及び前記縦型熱処理装置に設けられる開閉ドアの縦断側面図である。
【図４】前記キャリア及び前記開閉ドアの横断平面図である。
【図５】キャリア及び前記開閉ドアが設けられる開口部の斜視図である。
【図６】前記キャリアの蓋体の縦断正面図である。
【図７】前記開閉ドアに設けられる蓋体の取り外し機構の斜視図である。
【図８】前記開閉ドアに設けられるキーの横断平面図である。
【図９】前記キーの縦断側面図である。
【図１０】前記蓋体が取り外される様子を示す工程図である。
【図１１】前記蓋体が取り外される様子を示す工程図である。
【図１２】前記蓋体が取り外される様子を示す工程図である。
【図１３】前記蓋体が取り外される様子を示す工程図である。
【図１４】前記蓋体が取り外される様子を示す工程図である。
【図１５】前記キーの他の構成を示す斜視図である。
【図１６】前記キーの他の構成を示す斜視図である。
【図１７】前記取り外し機構の他の構成を示す斜視図である。
【図１８】前記取り外し機構による蓋体の内部空間のパージを示す説明図である。
【図１９】前記取り外し機構による蓋体の内部空間のパージを示す説明図である。
【図２０】前記取り外し機構による蓋体の内部空間のパージを示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
（第１の実施形態）
本発明に係る蓋体開閉装置が組み込まれた縦型熱処理装置について説明する。図１は縦型熱処理装置１の縦断側面図、図２は縦型熱処理装置１の平面図である。図中１１は縦型熱処理装置１の外装体を構成する筐体であり、この筐体１１内には、被処理体であるウエハＷを収納した容器であるキャリアＣが装置に対して搬入、搬出されるためのキャリア搬送領域Ｓ１と、キャリアＣ内のウエハＷを搬送して後述の熱処理炉内に搬入するための移載領域であるウエハ搬送領域Ｓ２とが形成されている。キャリアＣは既述のＦＯＵＰである。
【００１６】
キャリア搬送領域Ｓ１とウエハ搬送領域Ｓ２とは隔壁２により仕切られている。キャリア搬送領域Ｓ１は大気雰囲気である。一方、ウエハ搬送領域Ｓ２は搬入されたウエハＷに酸化膜が形成されることを防ぐために、不活性ガス雰囲気例えば窒素（Ｎ２）ガス雰囲気とされており、キャリア搬送領域Ｓ１よりも清浄度が高く且つ低酸素濃度に維持されている。以降の装置の説明では、キャリア搬送領域Ｓ１及びウエハ搬送領域Ｓ２の配列方向を縦型熱処理装置１の前後方向とする。
【００１７】
キャリア搬送領域Ｓ１について説明する。キャリア搬送領域Ｓ１は、第１の搬送領域１２と、第１の搬送領域１２の後方側（ウエハ搬送領域Ｓ２側）に位置する第２の搬送領域１３とからなる。第１の搬送領域１２の左右方向には、キャリアＣを各々載置する２つの第１の載置台１４が設けられている。各第１の載置台１４の載置面には、キャリアＣを位置決めするピン１５が例えば３個所に設けられている。
【００１８】
第２の搬送領域１３には、第１の載置台１４に対して前後に並ぶように、左右に２つの第２の載置台１６が配置されている。各第２の載置台１６は前後に移動自在に構成されている。第２の載置台１６の載置面にも第１の載置台１４と同様にキャリアＣを位置決めするピン１５が、３個所に設けられている。また、前記載置面にはキャリアＣを固定するためのフック１６ａが設けられている。第２の搬送領域１３の上部側にはキャリアＣを保管するキャリア保管部１８が設けられている。キャリア保管部１８は２段以上の棚により構成されており、各棚は左右に２つのキャリアＣを載置することができる。図１では前記棚が２段である例を示している。
【００１９】
そして第２の搬送領域１３には、キャリアＣを第１の載置台１４と第２の載置台１６とキャリア保管部１８との間で搬送するキャリア搬送機構２１が設けられている。このキャリア搬送機構２１は左右に伸び、且つ昇降自在なガイド部２１ａと、このガイド部２１ａにガイドされながら左右に移動する移動部２１ｂと、この移動部２１ｂに設けられ、キャリアＣを保持して水平方向に搬送する関節アーム２１ｃと、を備えている。また、第２の搬送領域１３の天井部にはＨＥＰＡフィルタまたはＵＬＰＡフィルタを備えたフィルタユニット１９が設けられており、これらのフィルタにより清浄化されたエアを下方に向けて供給する。
【００２０】
隔壁２には、キャリア搬送領域Ｓ１とウエハ搬送領域Ｓ２とを連通させるウエハＷの搬送口２０が設けられている。搬送口２０には、当該搬送口２０をウエハ搬送領域Ｓ２側から塞ぐ開閉ドア５が設けられている。開閉ドア５には駆動機構５０が接続されており、駆動機構５０により開閉ドア５は前後方向及び上下方向に移動自在に構成され、搬送口２０が開閉される。この開閉ドア５及び搬送口２０の周囲の構成については後に詳述する。
【００２１】
ウエハ搬送領域Ｓ２には、下端が炉口として開口された縦型の熱処理炉２２が設けられ、この熱処理炉２２の下方側には、多数枚のウエハＷを棚状に保持するウエハボート２３が断熱部２４を介してキャップ２５の上に載置されている。キャップ２５は昇降機構２６の上に支持されており、この昇降機構２６によりウエハボート２３が熱処理炉２２に対して搬入あるいは搬出される。
【００２２】
またウエハボート２３と隔壁２の搬送口２０との間には、ウエハ搬送機構２７が設けられている。このウエハ搬送機構２７は、左右に伸びるガイド機構２７ａに沿って移動すると共に鉛直軸回りに回動する移動体２７ｂに、５枚の進退自在なアーム２７ｃを設けて構成され、ウエハボート２３と第２の載置台１６上のキャリアＣとの間でウエハＷを搬送する。
【００２３】
図３、図４は夫々キャリアＣ、ウエハＷの搬送口２０及び開閉ドア５の縦断側面図、横断平面図であり、図５は搬送口２０及びキャリアＣの斜視図である。図３及び図４では前記第２の載置台１６によりキャリアＣが、ウエハ搬送領域Ｓ２との間でウエハＷを受け渡すための受け渡し位置に移動した状態を示している。これら図３〜図５を用いてキャリアＣについて説明すると、キャリアＣは容器本体であるキャリア本体３１と、蓋体４１とからなり、キャリア本体３１の左右には、ウエハＷの裏面側周縁部を支持する支持部３２が多段に設けられる。キャリア本体３１の前面にはウエハＷの取り出し口３３が形成されている。図中３４は前記取り出し口３３の開口縁部であり、開口縁部３４の内周側の左右の上下には各々係合溝３５が形成されている。
【００２４】
キャリア本体３１の上部には、既述のキャリア搬送機構２１がキャリアＣを搬送するために把持する把持部３６が設けられる。また、図３に示すようにキャリア本体３１の下部には凹部３７と溝部３８とが設けられ、凹部３７は第１の載置台１４及び第２の載置台１６のピン１５に嵌合する。溝部３８は、第２の載置台１６のフック１６ａに係合し、この係合によってキャリア本体３１が第２の載置台１６に固定される。
【００２５】
キャリアＣの蓋体４１について、図６の縦断正面図も参照しながら説明する。蓋体４１には内部空間４２が形成されており、内部空間４２の左右には各々水平軸回りに回動する円板状の回動部４３が設けられている。回動部４３は、後述のキー６７に係合する係合孔４４と、スリット４５とを備えている。各回動部４３の上下には直動部４６が設けられている。直動部４６の基端側には、蓋体４１の厚さ方向に伸びると共に前記スリット４５に進入するピン４６ａが設けられている。回動部４３が９０度回動することにより、スリット４５の移動に合わせて当該スリット４５内をピン４６ａが移動して直動部４６が上下に移動し、直動部４６の先端をなす係合部４７が、蓋体４１の側面側に設けられた開口部４８を介して蓋体４１の外部へ出入する。図中４６ｂは、直動部４６のガイドである。蓋体４１の外部へと突出した係合部４７が、容器本体３１の開口縁部３４の係合溝３５に係合することにより、蓋体４１が容器本体３１に固定される。
【００２６】
なお、図６中左側の係合部４７は、前記固定を行うために蓋体４１の外部へ突出した状態、右側の係合部４７は、前記固定を解除するために内部空間４２に引き込んだ状態を示している。実際には左右の係合部４７で互いに揃って、内部空間４２への引き込み及び蓋体４１の外部への突出が行われる。
【００２７】
蓋体４１の前面には回動部４３の係合孔４４に重なるようにキー６７の差し込み口４０が開口している。また、前記前面には複数箇所に開口部４９が形成されている。開口部４９の形状、位置及び数は図を見やすくするために実機とは異なるように示している。この各開口部４９は蓋体４１の内外で圧力を調整する目的と蓋体４１を軽量化する目的で設けられている。
【００２８】
続いて、開閉ドア５及びウエハＷの搬送口２０の構成について説明する。搬送口２０におけるキャリア搬送領域Ｓ１側の口縁部には、キャリア本体３１の開口縁部３４が当接する位置にシール部材５１が設けられている。また、搬送口２０における側縁部側には図４に示すようにＮ2ガス供給管５２が垂直に設けられている。このＮ2ガス供給管５２は上下にガス供給口５３を備え、ウエハＷの受け渡し位置におけるキャリアＣと開閉ドア５とに囲まれる閉塞空間５４にＮ2ガスを供給する。また搬送口２０の下端部には、横長の排気口５５が設けられている。図中５５ａは横方向における排気の偏りを抑えるために排気口５５に設けられた多孔質体である。
【００２９】
開閉ドア５は、その周縁部がキャリア搬送領域Ｓ１側へ向けて屈曲された箱体として形成されており、この箱体の開口縁にはシール部材５６が設けられ、当該シール部材５６を介して開閉ドア５は搬送口２０の縁部に密着する。
【００３０】
開閉ドア５のキャリア搬送領域Ｓ１側には、蓋体４１の取り外し機構６が設けられている。この取り外し機構６は、蓋体４１に対向する対向板６１を備え、対向板６１は進退機構６２により前後方向に移動自在に構成される。図中６１ａは蓋体４１に対向する対向面である。図７は対向板６１の構成を示す斜視図である。対向板６１の内部には内部空間６３が形成され、この内部空間６３には水平軸回りに回動する円形状の回動部６４と、回動部６４に接続され、当該回動部６４を回動させるためのエアシリンダ６５とが設けられている。回動部６４の回転中心から対向面６１ａを突き抜けるように横方向に棒状の接続部６６が伸びており、接続部６６の先端には例えば円い棒状のキー（ラッチピン）６７が設けられている。キー６７は、蓋体４１の回動部４３の係合孔４４と係合するように形成されている。キー６７の形状としてはこの係合が行えるものであればよいので図示した円柱形状には限られず、例えば角柱形状であったり、これら円柱または角柱の角部を丸く形成したものであってもよい。
【００３１】
図８にその縦断側面、図９にその縦断正面を示すようにキー６７は、その長さ方向の両端と、接続部６６の延長方向と、前記延長方向から見た左右方向とに夫々ガス吐出口６８を備えたパージガス吐出部として構成されている。各ガス吐出口６８の口径は例えば１ｍｍ〜２ｍｍである。各ガス吐出口６８の上流側は、前記接続部６６、回動部６４に夫々形成されたガス流路６６ａ、６４ａに接続されており、ガス流路６４ａは配管６９に連通している。配管６９の上流側はＮ2ガスの供給源６０に接続されている。配管６９はいわゆるフレキシブル配管として構成され、回動部６４の回動を阻害しないようにこの回動に追従して撓むように構成されている。
【００３２】
この縦型熱処理装置１には、例えばコンピュータからなる制御部１Ａが設けられている。制御部１Ａはプログラム、メモリ、ＣＰＵからなるデータ処理部などを備えており、前記プログラムには制御部１Ａから縦型熱処理装置１の各部に制御信号を送り、既述の各処理工程を進行させるように命令（各ステップ）が組み込まれている。その制御信号によりキャリアＣの搬送、ウエハＷの搬送、蓋体４１の開閉、開閉ドア５の開閉、蓋体４１へのＮ2ガスの供給などの動作が制御され、後述のようにウエハＷの搬送及び処理が行われる。このプログラムは、コンピュータ記憶媒体例えばフレキシブルディスク、コンパクトディスク、ハードディスク、ＭＯ（光磁気ディスク）及びメモリーカードなどの記憶媒体に格納されて制御部１Ａにインストールされる。
【００３３】
次に上述の実施の形態の作用について説明する。先ずクリーンルームの天井部に沿って移動する図示しない自動搬送ロボットによりキャリアＣが第１の載置台１４に載置される。続いてキャリア搬送機構２１により前記キャリアＣが第２の載置台１６に搬送され、フック１６ａにより第２の載置台１６に固定され、第２の載置台１６が隔壁２へ向けて移動し、図１０に示すようにキャリアＣの開口縁部３４が隔壁２の搬送口２０の周りのシール部材５１に気密に当接する。
【００３４】
続いてガス供給口５３からＮ2ガスがキャリアＣと開閉ドア５との間の閉塞空間５４に供給され、排気口５５に流れて排気されて、閉塞空間５４が大気雰囲気から窒素雰囲気に置換される。そして対向板６１が蓋体４１に向けて前進し、キー６７が蓋体４１の前面の差し込み口４０を介して蓋体４１の内部空間４２に進入し、図１１に示すように回動部４３の係合孔４４に差し込まれて回動部４３と係合すると、図１２に示すようにキー６７のガス吐出口６８からＮ2ガスが吐出される。
【００３５】
図１２中矢印で示すようにガス吐出口６８から吐出されたＮ2ガスは、蓋体４１の前面側の開口部４９及び側面側の開口部４８から閉塞空間５４へと流れて排気される。このＮ2ガスの流れにより、蓋体４１の内部空間４２に残留していた大気が閉塞空間５４へとパージされて閉塞空間５４から排気され、内部空間４２が速やかにＮ2雰囲気に置換される。なお、図１２では図の煩雑化を避けるために、前記内部空間４２の回動部４３及び直動部４６を省略している。
【００３６】
ガス吐出口６８からＮ2ガスの吐出が停止すると、キー６７が９０度回動して蓋体４１の回動部４３が回動し、それによって直動部４６の先端の係合部４７が蓋体４１内に引き込まれ、当該係合部４７と容器本体３１の係合溝３５との係合が解除されることにより、蓋体４１のキャリア本体３１に対する結合が解除され、キー６７に蓋体４１が保持される。そして、図１３に示すように取り外し機構６が、キー６７により蓋体４１を保持した状態で開閉ドア５へ向けて後退して、キャリア本体３１のウエハＷの取り出し口３３が開放される。
【００３７】
その後、開閉ドア５が後退した後、下降して搬送口２０から退避し、図１４に示すようにキャリアＣ内がウエハ搬送領域Ｓ２に開放され、ウエハ搬送機構２７によりキャリアＣ内のウエハＷが順次取り出されてウエハボート２３に移載される。キャリアＣ内のウエハＷが空になると、上述と逆の動作でキャリアＣの蓋体４１が閉じられると共にキャリア本体３１に固定される。然る後、第２の載置台１６が後退してキャリアＣが隔壁２から離れ、キャリア搬送機構２１によりキャリア保管部１８に搬送されて一時的に保管される。一方、ウエハＷが搭載されたウエハボート２３は熱処理炉２２内に搬入されて、ウエハＷに熱処理例えばＣＶＤ、アニール処理、酸化処理などが行われる。その後、処理を終えたウエハＷをキャリアＣに戻すときも、キャリアＣからウエハＷを払い出すときと同様の手順で蓋体４１が開放される。
【００３８】
上記の縦型熱処理装置１によれば、蓋体４１の取り外し機構６にガスノズルとして構成されたキー６７が設けられ、当該キー６７がキャリアＣの蓋体４１の内部空間４２に進入して、Ｎ2ガスを吐出する。これによって内部空間４２の大気が、排気が行われている閉塞空間５４へパージされるため、開閉ドア５が開かれたときに蓋体４１と共にキャリア搬送領域Ｓ１の大気雰囲気が持ち込まれることが防がれる。従って、ウエハ搬送領域Ｓ２の清浄度が保たれると共に酸素濃度の上昇が抑えられる。その結果として、ウエハＷの歩留りの低下を抑えることができる。また、内部空間４２に進入したキー６７からＮ2ガスを吐出しているため、前記大気のパージを速やかに、且つ確実に行うことができる。
【００３９】
この第１の実施形態においては、対向板６１の表面に蓋体４１の前面側の開口部４９と対向する位置にキー６７とは別のガスノズルを設け、キー６７を内部空間４２に進入させるときに当該ガスノズルも内部空間４２に進入させ、当該ガスノズルからＮ2ガスを吐出させて、内部空間４２のパージを行ってもよい。ただし、上記のようにキー６７にガスノズルが組み込まれた構成とすることで装置の部品点数を少なくすることができるので有利である。
【００４０】
また、キー６７からＮ2ガスを吐出するタイミングとしては上記の例に限られず、キー６７が差し込まれてから開閉ドア５が開くまでの間に行われればよい。即ち、例えばキー６７の回動中及び容器本体３１に対する固定が解除された蓋体４１を開閉ドア５へ向けて搬送中に前記Ｎ2ガスの吐出を行ってもよく、このように蓋体４１の取り外し動作とＮ2ガスの吐出とを並行して行うことで、スループットの向上を図ることができる。
【００４１】
上記の例では取り外し機構６の回動部６４に配管６９が接続されているが、このように構成されることに限られず、図１５のように構成されていてもよい。配管６９は基部７１に接続され、この基部７１上に前記回動部６４が設けられている。そして、回動部６４はこの基部７１に対して既述のエアシリンダ６５により回動自在に構成され、基部７１には配管６９と回動部６４の流路６４ａとを接続する流路７２が形成されている。つまり、基部７１はいわゆるロータリー継手として構成されている。この場合、回動部６４の回動に応じて配管６９が撓む必要が無いので、配管６９は硬質な配管として構成してもよい。
【００４２】
（第１の実施形態の変形例）
また、他に第１の実施形態の変形例として、キー６７からＮ2ガスの吐出を行う代わりにキー６７から排気を行ってもよい。図１６は、配管６９の上流側にＮ2ガスの供給源６０の代わりに真空ポンプなどにより構成される排気機構７４が接続された例を示しており、それによってキー６７は排気部をなし、ガス吐出口６８は排気口として構成されている。第１の実施形態と同様にキー６７が蓋体４１の内部空間４２に進入してから開閉ドア５が開かれるまでの間に前記排気口６８から排気が行われ、内部空間４２の大気雰囲気が除去されることで、第１の実施形態と同様にウエハ搬送領域Ｓ２の雰囲気が乱れることを抑えることができる。
【００４３】
（第２の実施形態）
続いて、第２の実施形態について、第１の実施形態との差異点を中心に説明する。この第２の実施形態における蓋体４１の取り外し機構６の斜視図を図１７に示している。この取り外し機構６ではキー６７にガス吐出口６８が形成されていない代わりに。取り外し機構６の対向板６１の対向面６１ａにおける面方向に多数のガスの吐出口７３が開口している。このガス吐出口７３は、対向板６１の内部空間６３に接続されている。そして、ガス供給管６９の下流端はこの内部空間６３に開口し、内部空間６３に吐出されたＮ2ガスがガス吐出口７３から対向板６１の厚さ方向に吐出される。つまり、この例では対向板６１がシャワーヘッド状のパージガス吐出部として形成されている。
【００４４】
例えばキー６７が蓋体４１の回動部４３に係合した状態で、図１８に示すようにガス吐出口７３からＮ2ガスが吐出され、Ｎ2ガスは蓋体４１の前面側の開口部４９のうち、対向面６１ａに重なる領域に形成された開口部４９から内部空間４２に供給される。そして、前記Ｎ2ガスは、前面側の開口部４９のうち対向面６１ａの外側に形成された開口部４９及び側面側の開口部４８を介して閉塞空間５４に排出される。これによって、この第２の実施形態も、第１の実施形態と同様の効果を奏する。
【００４５】
この第２の実施形態においてガス吐出口７３からＮ2ガスを吐出するタイミングとしては、第１の実施形態と同様、図１９に示すように取り外し機構６の後退中に行ってもよいし、その他にキー６７の回動中に行ってもよい。また図２０に示すようにキャリアＣが受け渡し位置に移動してからキー６７が内部空間４２に進入するまでにＮ2ガスを吐出してもよいが、キー６７が内部空間４２に進入しているときに吐出を行うことで、ガス吐出口７３が蓋体４１に近接して速やかに内部空間４２のパージを行えるため好ましい。
【００４６】
この第２の実施形態では、蓋体４１の前面側の開口部４９がキャリアＣごとに異なっても、蓋体４１の内部空間４２のパージを行えるように対向板６１をシャワーヘッド形状に構成している。また、対向面６１ａを多孔質体により構成することで、対向面６１ａ全体からＮ2ガスが吐出されるように構成してもよい。このように構成することで、より確実にＮ2ガスを内部空間４２にＮ2ガスを供給することができる。また、第１の実施形態の変形例で説明したようにＮ2ガスの供給源６０に代わり排気機構７４を接続し、ガス吐出口７３を排気口として形成して内部空間４２を排気してもよい。前記排気は、上記のＮ2ガスの供給を行うタイミングと同様のタイミングで行うことができる。
【００４７】
また、第１の実施形態及び第２の実施形態において、配管６９にイオナイザを介設し、イオンを含んだガスを蓋体４１に供給し、蓋体４１に付着するパーティクルの除去が容易に行われるように構成してもよい。また、第１の実施形態及び第２の実施形態を共に装置に適用してもよい。また、被処理体が半導体ウエハである例について説明したが、被処理体はこれに限られずガラス基板やＬＣＤ基板であってもよい。また、開閉ドア５及び隔壁２は大気雰囲気と不活性ガス雰囲気とを区画することに限られず、例えば互いに湿度が異なるように制御された領域を区画する構成であってもよい。
【符号の説明】
【００４８】
Ｃ      ウエハ
Ｗ      キャリア
Ｓ１    キャリア搬送領域
Ｓ２    ウエハ搬送領域
２      隔壁
２０    搬送口
３１    キャリア本体
３３    取り出し口
４１    蓋体
４２    内部空間
４８    側面側の開口部
４９    前面側の開口部
５      開閉ドア
５４    閉塞空間
５５    排気口
６      取り外し機構
６１    対向板
６８    ガス吐出口
６９    配管
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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