(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線位相差コントラストイメージング用の格子であって、
第１のサブ格子と、
少なくとも第２のサブ格子と、を有し、
前記サブ格子の各々は、或るピッチを伴って周期的に配されるバー及び間隙を有する本体構造を有し、
前記サブ格子は、Ｘ線ビームの方向に連続的に配され、
前記サブ格子は、Ｘ線ビームに垂直な方向に互いにずらされて位置付けられており、前記ずれのオフセット量が、前記ピッチの半分量の一部である、格子。
【請求項２】
前記サブ格子の投影は、前記サブ格子の前記ピッチより小さい有効ピッチをもつ有効格子を与える、請求項１に記載の格子。
【請求項３】
前記サブ格子が同じピッチをもつ、請求項１又は２に記載の格子。
【請求項４】
前記サブ格子のうち１つのサブ格子のピッチが、前記サブ格子のうち他のサブ格子のピッチの倍数である、請求項１又は２に記載の格子。
【請求項５】
前記サブ格子は等しいバー／間隙比を有する、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の格子。
【請求項６】
各サブ格子の高さは、設計波長においてπ位相シフトを生成する、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の格子。
【請求項７】
前記サブ格子が単一のウェハ上に配される、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の格子。
【請求項８】
対象の位相コントラスト画像を生成するＸ線システムの検出器装置であって、
Ｘ線源と、
ソース格子と、
位相格子と、
アナライザ格子と、
検出器と、を有し、
前記Ｘ線源が、Ｘ線の多色スペクトルを生成するように構成され、前記格子の少なくとも１つが、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の格子である、検出器装置。
【請求項９】
対象の位相コントラストデータを生成するＸ線システムであって、請求項８に記載の検出器装置を有するＸ線システム。
【請求項１０】
関心対象を検査するための位相コントラストイメージング方法であって、
通常のＸ線源のＸ線放射線ビームをソース格子に適用して、前記ビームを分割するステップと、
前記分割されたビームを位相格子に適用して、前記分割されたビームをアナライザ面において再結合するステップと、
前記再結合されたビームをアナライザ格子に適用するステップと、
前記アナライザ格子の１周期にわたって横方向に前記アナライザ格子をステッピングさせながら、センサにより生画像データを記録するステップと、を含み、
前記格子の少なくとも１つが請求項１乃至７のいずれか１項に記載の格子である、方法。
【請求項１１】
関心対象の検査のためのコンピュータプログラムが記憶されたコンピュータ可読媒体であって、前記プログラムは、Ｘ線システムのプロセッサによって実行されるとき、
通常のＸ線源のＸ線放射線ビームをソース格子に適用して、ビームを分割する処理と、
前記分割されたビームを位相格子に適用して、前記分割されたビームをアナライザ面において再結合する処理と、
前記再結合されたビームをアナライザ格子に適用する処理と、
前記アナライザ格子の１周期にわたって横方向にアナライザ格子をステッピングさせながら、センサにより生画像データを記録する処理と、
をコンピュータに実行させるプログラムであり、前記格子の少なくとも１つが請求項１乃至７のいずれか１項に記載の格子である、コンピュータ可読媒体。
【請求項１２】
関心対象の検査のためのプログラムであって、前記プログラムは、Ｘ線システムのプロセッサによって実行されるとき、
通常のＸ線源のＸ線放射線ビームをソース格子に適用して、ビームを分割する処理と、
前記分割されたビームを位相格子に適用して、前記分割されたビームをアナライザ面において再結合する処理と、
前記再結合されたビームをアナライザ格子に適用する処理と、
前記アナライザ格子の１周期にわたって横方向に前記アナライザ格子をステッピングさせながら、センサにより生画像データを記録する処理と、
をコンピュータに実行させるプログラムであり、前記格子の少なくとも１つが請求項１乃至７のいずれか１項に記載の格子である、プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｘ線位相差コントラストイメージング用格子、検出器装置、対象の位相コントラスト画像を生成するＸ線システム、及び関心対象を検査するための位相コントラストイメージング方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線による位相コントラストイメージングは、通常の振幅コントラスト画像と比べて低い吸収標本のコントラストを増大させるために使用される。これは、患者のような対象に適用されるより少ない放射線を使用することを可能にする。位相コントラストイメージングに関する波の位相を使用することを可能にするために、波は、時間及び空間の両方について明確に規定される位相関係を有することを必要とする。時間的コヒーレンスは、単色Ｘ線放射線を適用することによって提供されることができる。更に、シンクロトロンソースから十分なコヒーレンスを有するＸ線を得ることが知られている。これらの方法は、より高い費用及び複雑さの不利益に関連するので、国際公開第２００４／０７１２９８Ａ１号明細書において、インコヒーレントＸ線源、第１のビームスプリッタ格子、第２のビーム再結合器格子、光学アナライザ格子及び画像検出器を光路中に含む、位相コントラストＸ線画像を生成する装置を提供することが提案されている。更に最近では、位相差コントラストイメージング（ＤＰＣ）においてより高いＸ線エネルギーを使用することも提案されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
この推移の深刻な障害は、高アスペクト比を有する位相格子及び吸収格子の生産である。第１の格子のトールボット距離及びゆえに２つの格子の距離が一定に保たれる場合、位相格子のアスペクト比Ｒは、Ｅ３／２のように増大する。ここで、ＥはＸ線エネルギーである。トールボットという語は、回折格子による横方向の周期的な波分布がある場合、画像が、格子平面から離れる規則的な距離で繰り返され、かかる規則的な距離がトールボット長と呼ばれることに言及する。例えばシリコンから作られる格子の最新技術による製造のアスペクト比Ｒの限界は、（数ミクロンの領域における）ピッチ、表面ラフネス等のような多くのファクタに依存して、現在１５乃至２０のレンジにある。位相差コントラストイメージングのために使用できるエネルギーのレンジは、今日、約３０−４０ｋｅＶになっていることが明らかになっている。
【０００４】
それゆえ、高アスペクト比を有する格子を提供するニーズがある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の例示の実施形態によれば、Ｘ線位相差コントラストイメージング用の格子であって、第１のサブ格子及び少なくとも第２のサブ格子を有する格子が提供される。サブ格子の各々は、或るピッチを伴って周期的に配置されるバー及び間隙を有する本体構造を有する。サブ格子は、Ｘ線ビームの方向に連続的に配置される。更に、サブ格子は、Ｘ線ビームに垂直な方向に互いにずらされて位置付けられる。
【０００６】
利点の１つは、格子の機能がサブ格子の組み合わせである該格子が提供されることである。複数のサブ格子に機能を分散させることによって、サブ格子の製造が容易にされる。
【０００７】
例示の実施形態において、サブ格子の投影は、サブ格子のピッチより小さい有効ピッチを有する有効格子を与える。
【０００８】
例えば、決定された有効ピッチを有する格子を提供するために、各々が格子の予め決められた有効ピッチの２倍量のピッチをもつ２つのサブ格子を提供することが可能である。言い換えると、ただ１つの格子からなる等価な格子は、複数のサブ格子を有する本発明による格子と同じアスペクト比を提供するために、より一層小さい間隙を必要とする。
【０００９】
アスペクト比は、間隙の高さ／幅比によって規定される。サブ格子の組み合わせは、サブ格子のアスペクト比の効果的な組み合わせであるアスペクト比をもつ格子を与える。
【００１０】
例示の実施形態において、サブ格子は同じピッチをもつ。
【００１１】
従って、１つのタイプのサブ格子を提供することが可能であり、言い換えると、単一のタイプのサブ格子を生成し又は製造することだけが必要であり、かかるサブ格子は、本発明の格子を形成するために第１及び少なくとも第２のサブ格子の形で足し合わせられる。
【００１２】
他の例示の実施形態において、サブ格子のうち１つのサブ格子のピッチは、サブ格子のうち別のサブ格子のピッチの倍数である。
【００１３】
これは、例えば、構造上の見地又は他の見地により異なるサブ格子を製造する可能性を提供する。
【００１４】
例えば、中間ピッチをもつ第１のサブ格子は、より大きいピッチをもつ第２及び第３のサブ格子と組み合わせられることができる。第２及び第３の格子は、第１の格子のピッチの２倍の大きさのピッチをもつことができる。一例において、第１の格子は、第２及び第３の格子の間に配置され、サンドイッチのように形成される。有効格子は、例えば第１の格子の中間ピッチの半量のピッチである有効ピッチをもつ。当然ながら、第２及び第３の格子は、互いに対して及び第１の格子のピッチに対してオフセットされる。
【００１５】
別の例示の実施形態において、サブ格子は、等しいバー／間隙比を有する。
【００１６】
言い換えると、間隙の幅は、１つの行に配置されるバーの幅と同じである。例えば、バー／間隙比（ｓ／ｔ）は約１／１である。これは、容易な製造プロセスを可能にし、互いに対するサブ格子の位置付け及びずれを提供し、ゆえに本発明の格子を形成する。
【００１７】
他の例示の実施形態において、ずれのオフセット量は、ピッチの何分の一かである。
【００１８】
他の例示の実施形態において、ずれのオフセット量は、ピッチの半分である。
【００１９】
他の例示の実施形態において、ずれのオフセット量は、半ピッチの何分の一かである。
【００２０】
例えば、同じピッチを有し、１／１のバー／間隙比を有する、第１及び第２のサブ格子は、サブ格子のピッチよりずっと小さい有効ピッチをもつ有効格子を形成するように組み合わせられることができる。
【００２１】
他の例示の実施形態において、有効格子は、Ｘ線ビームの方向における側壁によって規定される。つまり、ピッチは、間隙を規定する側壁の形のバーのエッジによって規定される。これは、例えば１／１の間隙／バー比を有する等しいピッチをもつサブ格子から始まる有効ピッチを与え、かかる有効ピッチは、第１又は第２のサブ格子のピッチの４分の１である。
【００２２】
例えば、約１／１のバー／間隙比（ｓ／ｔ）を有するサブ格子の場合、以下の結果が与えられる。サブ格子（ｎ）の数が規定され、ｚによって示される有効ピッチもまた予め決められる場合、サブ格子のピッチは、下式から得られる：
ａ  ＝  ２  ＊  ｎ  ＊  ｚ
こうして、計算されたピッチをもつサブ格子を準備する場合、２つのサブ格子は、以下のオフセット量を有して互いにずらされて配置されなければならない：
ｄ  ＝  １／２  ＊  １／ｎ  ＊  ａ  ＝  ｚ
【００２３】
他の例示の実施形態において、バー／間隙比（ｓ／ｔ）が１より小さい場合、以下の状況が生じる。サブ格子の数（ｎ）及び有効ピッチ（ｚ）が知られていて、バーの幅（ｓ）が有効ピッチに等しい（ｓ＝ｚ）場合、ピッチは、以下の通りである：
ａ  ＝  ２  ＊  ｎ  ＊  ｚ
【００２４】
更に、サブ格子は、以下のオフセット量を有して互いにずらされて配置されなければならない：
ｄ  ＝  １／ｎ  ＊  ａ  ＝  ２  ＊  ｚ
【００２５】
更に、ピッチを計算し、有効ピッチと同じサイズであるバーの幅を知っている場合、間隙の幅を決定することが可能であることに注意すべきである。間隙の幅が、サブ格子を製造するための障害をなお示す場合、サブ格子の数が増大され、それによりピッチを増大し、結果として、製造に適したより大きい間隙の幅を生じさせる。
【００２６】
他の例示の実施形態において、各サブ格子の高さは、設計波長においてπ位相シフトを生成する。
【００２７】
これは、位相コントラスト画像に適した波長の正しい位相シフトを確実にするという利点を提供する。
【００２８】
他の例示の実施形態において、設計波長は、格子が使用される装置の目的に従って予め決められる。
【００２９】
他の例示の実施形態において、サブ格子は単一のウェハ上に配置される。
【００３０】
これは、他の製造及び組立ステップに関する容易なハンドリングを可能にする。他の利点は、アライメントが製造中に行われ、正しい位置決めが容易にされることである。
【００３１】
代替の例示の実施態様において、各サブ格子は、個々のウェハ上に配置される。
【００３２】
これは、より簡単な製造プロセスを提供し、個々のニーズに従って組み合わせられることができる異なるタイプの格子を提供することを可能にする。
【００３３】
他の例示の実施形態において、サブ格子は、バー及び間隙を覆う付加の金層を有するシリコンから製造される。例えば、このようなサブ格子は、吸収格子のために使用されることができる。
【００３４】
他の例示の実施形態において、金層は、位相格子を提供するために適用されない。
【００３５】
本発明の例示の実施形態によって、対象の位相コントラスト画像を生成するＸ線システムの検出器装置であって、Ｘ線源、ソース格子、位相格子、アナライザ格子及び検出器を有し、Ｘ線源がＸ線の多色スペクトルを生成するように適応され、格子の少なくとも１つが上述の実施形態の１つによる格子である、検出器装置が、提供される。
【００３６】
これは、小さい有効ピッチをもつ格子を有する検出器装置を提供するが、それらが少なくとも２つのサブ格子の組み合わせによって形成されるという事実により、これらのサブ格子は、より大きなピッチ格子で製造されることができる。
【００３７】
例示の実施形態において、検出器装置は、焦点検出器装置である。
【００３８】
更に、例示の実施形態において、対象の位相コントラストデータを生成するＸ線システムであって、上述の例示の実施形態の検出器装置を有するＸ線システムが提供される。
【００３９】
更に、別の例示の実施形態において、関心対象を検査するための位相コントラストイメージングの方法であって、通常のＸ線源のＸ線放射線ビームをソース格子に適用して、ビームを分割するステップと、分割されたビームを位相格子に適用して、分割されたビームをアナライザ面において再結合するステップと、再結合されたビームをアナライザ格子に適用するステップと、アナライザ格子の１周期にわたって横方向にアナライザ格子をステッピングさせながら、センサにより生画像データを記録するステップと、を含み、前記格子の少なくとも１つが上述の実施形態のうちの１つの格子である、方法が提供される。
【００４０】
方法の例示の実施形態において、ソース格子、位相格子及びアナライザ格子は、第１のサブ格子及び少なくとも第２のサブ格子を有する上述の例示の実施形態のうちの１つによる格子を有する。
【００４１】
利点は、小さい有効ピッチをもつが、より大きいピッチをもつサブ格子を有する格子を提供する可能性にある。言い換えると、より高いＸ線エネルギーに適しているが、格子が有効ピッチより大きいピッチをもつので、製造するのがより容易である格子が提供されることができる。
【００４２】
本発明の他の例示の実施形態によれば、関心対象の検査のためのコンピュータプログラムであって、Ｘ線システムのプロセッサによって実行される際、上述の方法の各ステップをシステムに実施させるコンピュータプログラムが記憶されたコンピュータ可読媒体が提供される。
【００４３】
本発明の他の例示の実施形態によれば、関心対象を検査するためのプログラム要素であって、Ｘ線システムのプロセッサによって実行される際、上述の方法の各ステップをシステムに実施させるプログラム要素が提供される。
【００４４】
本発明のこれらの及び他の見地は、図面を参照して以下に記述される例示の実施形態から明らかになる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】Ｘ線システムの一例を概略的に示す図。
【図２】それぞれ異なる格子を有するＸ線システムの検出装置を概略的に示す図。
【図３】２つのサブ格子を有する格子の第１の実施形態を概略的に示す図。
【図４】３つのサブ格子を有する他の実施形態を概略的に示す図。
【図５】２つのサブ格子を有する他の実施形態を概略的に示す図。
【図６】３つのサブ格子を有する他の例示の実施形態を概略的に示す図。
【図７】４つのサブ格子を有する他の例示の実施形態を概略的に示す図。
【図８】３つのサブ格子を有する他の例示の実施形態を概略的に示す図。
【図９】３つのサブ格子を有する他の例示の実施形態を概略的に示す図。
【図１０】単一ウェハ上に配置される２つのサブ格子を有する他の例示の実施形態を概略的に示す図。
【図１１】２つのサブ格子を有する他の例示の実施形態を示す図。
【図１２】Ｘ線システムの検出器装置用の位相格子としての図２の装置を概略的に示す図。
【図１３】Ｘ線システムの検出器装置用の位相格子としての図５の装置を概略的に示す図。
【図１４】図１２及び図１３の２つのサブ格子と等価な単一の格子を示す図。
【図１５】検出器装置用の吸収格子としての図２の装置を概略的に示す図。
【図１６】検出器装置用の吸収格子としての図５の装置を概略的に示す図。
【図１７】図１５及び図１６の２つのサブ格子と等価な単一の格子を示す図。
【図１８】本発明による位相コントラストＸ線画像を生成する方法を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００４６】
図１は、対象の位相コントラスト画像を生成するための検査装置を有するＸ線撮像システム１０を概略的に示している。検査装置は、通常のＸ線源によりＸ線放射線ビームを生成するために設けられるＸ線放射線源１２を有するＸ線画像取得装置を有する。テーブル１４が、検査されるべき被検体を受け入れるために設けられる。更に、Ｘ線像検出モジュール１６は、Ｘ線放射線源１２の向かい側に位置し、すなわち、放射線プロシージャの間、被検体は、Ｘ線放射線源１２と検出モジュール１６との間に位置する。後者は、データをデータ処理ユニット又は計算ユニット１８に送信し、それは、検出モジュール１６及び放射線源１２の双方に接続される。計算ユニット１８は、検査室内の空間を節約するために、テーブル１４の下に位置する。当然ながら、計算ユニット１８は、例えば別のラボラトリのような異なる場所に位置してもよい。
【００４７】
更に、表示装置２０が、例えば臨床医でありうるＸ線撮像システムを操作する人に対し情報を表示するために、テーブル１４の近傍に配置される。好適には、表示装置は、検査状況に依存して個々の調整を可能にするように移動可能に搭載される。更に、インタフェースユニット２２が、ユーザによって情報を入力するように構成される。基本的に、画像検出モジュール１６は、被検体をＸ線放射線に暴露することによって画像データを生成し、前記画像データは、データ処理ユニット１８において更に処理される。図示される実施形態は、いわゆるＣタイプＸ線画像取得装置であることに注意すべきである。Ｘ線画像取得装置は、Ｃ形のアームを具備し、その場合、画像検出モジュール１６は、Ｃアームの一端に配置され、Ｘ線放射線源１２は、Ｃアームの反対の端部にある。Ｃアームは、移動可能に搭載されることができ、テーブル１４上に位置する関心対象の周囲を回転されることができる。言い換えると、それぞれ異なるビュー方向を有する画像を取得することが可能である。
【００４８】
図２は、対象２６の位相コントラスト画像を生成するＸ線システムの焦点検出器装置２４を概略的に示している。通常のＸ線源２８が提供され、Ｘ線放射線ビーム３０をソース格子３２に適用して、ビーム３０を分割する。分割されたビームは更に、位相格子３４に適用されて、分割されたビームをアナライザ面において再結合する。例えば図２に示される患者又はサンプルである対象２６は、ソース格子３２と位相格子３４との間に配置される。位相格子３４の後ろで分割されたビームを再結合した後、再結合されたビーム３０は、アナライザ格子３６に適用される。最後に、検出器３８が提供され、アナライザ格子３６がアナライザ格子３６の１周期にわたって横方向にステッピングされる間、センサにより生画像データを記録する。本発明のサブ格子を有する格子３４、３６の少なくとも１つの構造が以下に記述される。本発明によるサブ格子は、ソース格子３２にも適用されうることに留意されたい。
【００４９】
図３乃至図９に、本発明による格子のそれぞれ異なる例示の実施形態が図示されており、少なくとも２つのサブ格子を有している。
【００５０】
図３に、第１のサブ格子１１２ａ及び第２のサブ格子１１４ａが示されている。サブ格子１１２ａ、１１４ａは各々が、ピッチａａによって周期的に配置されるバー１２２ａ及び間隙１２４ａを有する本体構造１２０ａを有する。サブ格子１１２ａ、１１４ａは、Ｘ線ビーム（図３乃至図９に図示せず）の方向に連続的に配置される。より容易な理解のために、サブ格子は水平方向に図示されているが、図２のサブ格子は垂直方向に配置される。簡単に述べると、図３乃至図１７において、Ｘ線ビームの方向は、ページの上部からページの下部に延びる。
【００５１】
サブ格子１１２ａ、１１４ａは、Ｘ線ビームに垂直な方向において、互いに対する変位（ずれ）ｄａを伴って位置付けられる。言い換えると、サブ格子１１４ａは、サブ格子１１２ａに対してオフセットｄａを伴って配置され、それにより、サブ格子１１４ａは、サブ格子１１２ａに対して右の方へシフトされる。
【００５２】
図３のサブ格子１１２ａ、１１４ａは、同じピッチａａをもつ。
【００５３】
更に、サブ格子１１２ａ、１１４ａは、等しいバー／間隙比（ｓａ／ｔａ）を有する。それゆえ、バー１２２ａの幅ｓａは、間隙１２４ａの幅ｔａに等しい。
【００５４】
ずれｄａは、ピッチａａの半分量の一部又は何分の一かである。
【００５５】
サブ格子１１２ａ、１１４ａの投影は、サブ格子１１２ａ、１１４ａのピッチａａより小さい有効ピッチｚａをもつ（ライン１３１ａによって表される）有効格子１３０ａを与える。図３において、ずれｄａは、有効ピッチｚａに等しい。
【００５６】
他の例示の実施形態において、格子は、３つのサブ格子１１２ｂ、１１４ｂ、１１６ｂを有する。
【００５７】
異なる例示の実施形態における同様の特徴は、異なる実施形態を示すために文字を付加された同じ参照数字を有する。請求項のより容易な理解のために、請求項の参照数字は、文字の添え字なしで示されている。
【００５８】
図４の各サブ格子は同じピッチａｂを有する。ここでも、バー／間隙比（ｓｂ／ｔｂ）は１／１である。
【００５９】
サブ格子１１２ｂ、１１４ｂ、１１６ｂは更に、バー１２２ｂ及び間隙１２４ｂを有する本体構造１２０ｂを有する。間隙及びバー１２４ｂ、１２２ｂは、図３の個々の幅と比べてより大きい幅を有するが、有効格子１３０ｂは、図３の有効ピッチｚａと同じ有効ピッチｚｂを伴って達成される。
【００６０】
図５において、格子は、２つのサブ格子１１２ｃ及び１１４ｃを有する。サブ格子は更に、バー１２２ｃ及び間隙１２４ｃを有する本体構造１２０ｃを有する。間隙１２４ｃの幅は、バー１２２ｃの幅より大きく、それゆえ、バー／間隙比（ｓｃ／ｔｃ）は１より小さい。２つのサブ格子１１２ｃ及び１１４ｃは、有効格子１３０ｃ及び有効ピッチｚｃが上述した図の例と同じであるように配置される。図５において、バーの幅ｓｃは有効ピッチｚｃに等しい。間隙ｔｃの幅は、バーの幅ｓｃの３倍である。サブ格子のピッチｚｃは、両方のサブ格子について同じであり、下式によって計算されることができる：
ａ  ＝  ２  ＊  ｎ  ＊  ｚ
ここで、ｎはサブ格子の数であり、ｚは有効ピッチである。
【００６１】
他の例示の実施形態において、３つのサブ格子１１２ｄ、１１４ｄ、１１６ｄが、上述したのと同様のやり方で提供される。同じ有効格子１３０ｄが提供されるが、サブ格子のより大きい数のため、間隙の幅は、図５のサブ格子と比べてより大きくすることができる。
【００６２】
これは、図７にも示されており、図に、４つのサブ格子１１２ｅ、１１４ｅ、１１６ｅ及び１１８ｅが示されている。ここで、４つのサブ格子は、同じピッチｚｅを有し、以下のオフセットを伴って配置される：
ｄｅ  ＝  ２  ＊  ｚｅ
ｚｅは、有効ピッチであり、有効格子１３０ｅに対するサブ格子の各々の概略的な記述の以下のより良い理解のために示される。
【００６３】
図８の他の例示の実施形態において、３つのサブ格子１１２ｆ、１１４ｆ、１１６ｆが提供されており、サブ格子の１つ、すなわち図８の中央のサブ格子１１４ｆは、他のサブ格子１１２ｆ及び１１６ｆのピッチａｆ１とは異なるピッチａｆ２をもつ。事実、第１及び第３のサブ格子１１２ｆ、１１６ｆのピッチａｆ１は、中央のサブ格子１１４ｆのピッチａｆ２の倍数である。事実、サブ格子のピッチの比は、１／２である。それゆえ、上側のサブ格子１１２ｆのピッチａｆ１は、第２のサブ格子１１４ｆのピッチａｆ１の２倍である。ここでもまた、上記の実施形態と同様の有効ピッチをもつ有効格子１３０ｆが達成される。
【００６４】
図８において、すべての３つのサブ格子のバーの幅は、同じサイズを有するが、図９に示される他の例示の実施形態では、サブ格子のバーの幅は異なっている。図９では、中央のサブ格子１１４ｇが、上下のサブ格子１１２ｇ、１１６ｇのピッチａｇ１の半分量であるピッチａｇ２をもつように、３つのサブ格子１１２ｇ、１１４ｇ及び１１６ｇが配置される。ラインによって下に図示される有効ピッチをもつ有効格子１３０ｇが、上述の実施形態の有効ピッチと同じであるように、３つのサブ格子が互いにオフセットされる。
【００６５】
例えば本体構造の物質にエッチングされる間隙は、より広く、ゆえに製造中に適用するのがより容易であるので、互いにオフセッされて配置されるサブ格子を提供することは、サブ格子のより容易な製造を可能にする。しかしながら、サブ格子の投影は、サブ格子のピッチより小さい有効ピッチをもつ有効格子を与える。
【００６６】
他の例示の実施形態において、サブ格子１１２ｈ、１１４ｈが、図１０に示されるように、単一のウェハ１１１ｈ上に配置される。ここで、オフセット量ｄｈだけオフセットされたピッチａｈを有する２つのサブ格子が提供され、有効ピッチｚｈを与える。
【００６７】
他の例示の実施形態において、２つのサブ格子は、それらの閉じた側又は平坦な側が互いに隣り合って配置されるように、配置される（図１１）。これは、２つの個別のサブ格子が製造され、それらが互いに取り付けられることができるという利点を提供し、それにより、２つのサブ格子の互いに対する更なる位置付け又はアライメントステップが必要ない。
【００６８】
図１２に、２つのサブ格子１１２ｋ及び１１４ｋを有する位相格子用の格子が示されている。サブ格子は各々が、同じピッチ及びバー／間隙比、すなわちｓ／ｔ＝１／１、を有する。図１４は、２つのサブ格子１１２ｋ、１１４ｋの有効ピッチと同じピッチを達成するために、ただ１つの格子を提供する場合の等価な格子１３２を示している。サブ格子のピッチａｈは、等価な格子１３２のピッチｚｅより大きいことが分かる。
【００６９】
同じ有効ピッチをもつ同じ有効格子は、同じピッチａｌを有する位相格子の場合、２つのサブ格子１１２ｌ、１１４ｌを提供することによって達成されることもできるが、図１２のサブ格子と異なって、バー／間隙比（ｓ／ｔ）は１より小さく、図１３の例示の実施形態では、バー／間隙比は１／３である。等価なものは、図１２の例と同じである（図１４を参照）。
【００７０】
図１５及び図１６には、高アスペクト比を有する吸収格子に関する同様の構造が提供されている。図１５には、１／１のバー／間隙比と共に同じピッチをもつ２つのサブ格子１１２ｍ、１１４ｍが図示されており、図１６では、２つのサブ格子１１２ｎ、１１４ｎが、１より小さいバー／間隙比を有する。サブ格子は、付加の金層１３６ｍ、１３６ｎを有するシリコン本体構造１３４ｊを有する。これは、説明の便宜上サブ格子の下に図示されている有効金格子１３８を与える。
【００７１】
図１７は、単一の格子のみを提供する場合の等価な格子１４０及び金層による結果として得られるピッチ１４２を示している。高アスペクト比を有する格子を提供するために、格子は、図１２、図１３、図１５及び図１６に示される２つのサブ格子の組み合わせと同じ有効格子を提供するように、より小さい間隙を具備しなければならないことが分かる。それゆえ、図１４及び図１７に示される等価な単一の格子と比べて、本発明によるサブ格子は、より容易であり、ゆえにより安価であり、より経済的なやり方で製造されることができる。
【００７２】
サブ格子は、例えば位相コントラストＸ線イメージングにおいて、単一の格子に代わって使用されることができる。
【００７３】
方法の例示の実施形態におけるステップが図１８に示されている。第１のステップにおいて、通常のＸ線源２８のＸ線放射線ビームがソース格子３２に適用され（５２）、そこで、ビームが分割される（５４）。ソース格子３２は、２つのサブ格子（図１８に図示せず）を有し、２つのサブ格子は、Ｘ線ビームの方向に連続的に配置され、Ｘ線ビームに垂直な方向に互いにずらされて位置付けられている。
【００７４】
分割されたビームは、関心対象２６に向かって送信され（５６）、ビームは対象２６を通過し、そこで吸収及び屈折５８が発生する。ビームは更に位相格子３４に適用され、そこで、分割されたビームは、アナライザ面６２において再結合される（６０）。ここでも、位相格子３４は、２つのサブ格子（図１８に図示せず）を有する。再結合されたビームは、アナライザ格子３６に適用され（６４）、アナライザ格子３６もまた、２つのサブ格子（図１８に図示せず）を示す。更に、センサ３８は、アナライザ格子３６がアナライザ格子の１周期にわたって横方向にステッピングされる（７０）間に生画像データ６８を記録する（６６）。最後に、生データ６８は、制御ユニット１８に送信され（７２）、そこで、データが計算（７４）されて表示データに入れられ（７６）、ディスプレイ２０上に画像が表示される（７８）。
【００７５】
本発明は、図面及び上述の説明において詳しく図示され記述されているが、このような図示及び記述は、説明的又は例示的なものであって、制限的なものとして考えられるべきではない。本発明は、開示される実施形態に制限されない。
【００７６】
「有する、含む(comprising)」という語は、他の構成要素又はステップを除外せず、「a」又は「an」は、複数性を除外しないことに注意すべきである。更に、それぞれ異なる実施形態に関連して記述されている構成要素は、組み合わせられることが可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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