(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工物とレーザ加工システムを提供するステップを含む、被加工物の面取りをレーザ加工する方法であって、
前記被加工物は上面と底面を有し、
前記加工システムは、レーザビームを出射するレーザと、前記レーザビームを方向付ける光学部品と、前記レーザビームを前記被加工物に対して移動させる移動制御部とを備え、
前記レーザビームは、前記光学部品および前記移動制御部と協調して、前記被加工物から材料を除去するように動作し、
前記方法は、
前記移動制御部に前記レーザビームを互いに隣接する複数の経路に沿って移動させるステップ、
前記光学部品に前記レーザビームをフォーカスさせて前記材料を前記面から除去し、面取りを形成するステップ、
を有することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記被加工物は、実質的に前記レーザビームに対して透明であり、面取りは前記被加工物の前記底面上に形成される
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記被加工物は、実質的に前記レーザビームに対して透明であり、面取りは前記被加工物の前記上面と前記底面の双方に形成される
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記光学部品と前記移動制御部は協調動作し、前記レーザビームに、前記被加工物の前記上面または前記底面に対して実質的に直角に前記被加工物を横断させる
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記光学部品と前記移動制御部は協調動作し、前記レーザビームに、前記被加工物の前記上面に対して実質的に平行な角度と実質的に直角な角度の間の１以上の複数角度で、前記経路に対して実質的に直角に、前記被加工物を横断させ、これにより直線傾斜の面取りを形成する
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記光学部品と前記移動制御部は協調動作し、前記レーザビームに、前記被加工物の前記上面に対して実質的に平行な角度と実質的に直角な角度の間の１以上の複数角度で、前記経路に対して実質的に直角に、前記被加工物を横断させ、これにより丸い面取りを形成する
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の技術的対象の分野は、ガラスまたはガラス類似物品のレーザ加工に関する。特に、当該物品の上面または底面に隣接する端部または当該物品の内部に向かってレーザ加工されている部分が面取りされている形状に、物品をレーザ加工することに関する。より具体的には、ガラスまたはガラス類似物品を単一の製造作業で面取りするレーザ加工に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラスまたはサファイヤ、セラミック、もしくはガラスセラミックのようなガラス類似物品において面取り形状をレーザ加工することは、望ましいことである。これは、端部に面取りを追加することにより、当該端部を取り扱うときに切り傷や引っ掻き傷が生じにくくなる点でより安全になり、チップやひび割れが生じにくくなり、一般的には端部がより強くなるからである。面取りした端部は望ましいが、１回の製造作業で面取りされた端部を有する物品を生成する方法は存在していない。面取りされた端部を生成する従来の方法は、１回の作業でスルーカットまたは溝のような形状を生成し、さらに１以上の工程を実施して面取りを生成する。
【０００３】
面取りは、２つの隣接する面によって形成された、端部上の斜面である。この斜面は、通常は斜面が隣接する端部において概ね適切な角度となっているが、その他の角度も可能である。図１は、面取りを有さない物品１０の概略断面図である。この場合、側部２４、２６は当該物品を上面２０から底面２２に向かって加工することによって形成されている。端部１２、１４、１６、１８では、上面２０と底面２２が側部２４、２６に隣接する。図２は、上面２０と側部２４、２６が隣接する端部に面取り３２、３４が追加されている点のみが異なる、同一物品１０を示す。面取りは、底面２２が側部２４、２６に隣接する端部１８、１６に、上面の面取り３２、３４に代えて、またはこれに加えて、追加することもできる。図２に示す直線斜面の面取りに代えて、丸い面取りが望ましい場合もある。図３は、上面２０が側部２４、２６に隣接する位置において丸い面取り５２、５４を有する、同一物品１０を示す。
【０００４】
ガラス切断は従来、機械加工によって実現されてきた。これは、ガラスをスクライブした後、機械切断加工するものである。近年、レーザ技術がガラス切断に適用されるようになってきている。これは通常、局所熱源として冷却ノズルとともにレーザを用い、レーザビームの通過が描く軌跡に沿って応力と微小クラックを生成し、ガラスを切断する。この合応力と微小クラックは、ガラスを砕断して設計した軌跡に沿って分離するには十分である場合もあるし、ガラスを分離する破断工程をその後に要する場合もある。冷却源を用いずレーザのみを利用する既存技術には、ＭＬＢＡ（複数レーザビーム吸収）切断技術がある。これは、米国特許出願第２００７／００３９９３２号：脆性材料から作られている部品を応力なしに配置して分離加工する装置、米国特許出願第２００７／０１７０１６２号：半導体材料を裁断する方法および装置に記載されている。後者は、近赤外線（ＩＲ）レーザ源を反射ミラーのペアと組み合わせて用い、分離経路に沿ってガラスにおける光子エネルギーの体積吸収を最大化し、十分な熱応力が生成されるようにして、追加の力を加える必要なく部品を破断する。しかしこの技術は、事前クラックとして機能させるため、最初に機械的切り欠きを必要とする。レーザ生成応力は、初期クラックを伝搬させて分離を生じさせる。ガラスまたはその他の脆性材料を切断するその他の方法は、米国特許第５，６０９，２８４号：非金属材料を分離する方法に記載されている。これは、ＣＯ２源を用いてガラスを加熱し、続いて冷却ノズルを用いて応力を生成し、切断経路に沿ってマイクロクラックを初期生成し、次に機械破断ステップを実施してガラスを分離する。これら方法は、加工端部上に面取りを形成することについて触れていない。
【０００５】
ガラスおよびガラス類似物品のレーザ加工は、面内に形状を加工するために実施することができる。例えば、液体を保持する凹部を加工する、または、当該物品にプッシュボタンのような制御を適用する、もしくは電気信号、液体、光が当該物品を通過する経路としてビアを提供するためにスルーホールを加工する、などである。米国特許第６，１４３，３８２号：良質なホールを有するガラス基板は、ガラスに良質なホールを穴開けする方法を記載しているが、この方法はガラスに銀分子を添加してレーザエネルギーの吸収を促進することを必要とする。他の米国特許第６，７５６，５６３号：ガラスを含む基板にホールを形成するシステムおよび方法は、ガラス基板にホールを形成する方法を記載している。これらアプローチは、形成したホール上に面取りを形成することについて述べていない。米国特許出願第２００６／０１２７６４０号：良質なホールを有するガラス基板およびこれを生産する方法は、レーザを用いてガラス基板にホールを穴開けすること、およびこれに続いて強酸によるウエットエッチングを用いてホール上に丸い端部を形成することについて述べている。しかしこれは、製造プロセスに追加作業と装置を追加する、１以上の追加工程を必要とする。この従来技術は、例えば当該物品に加工されたホールやその他の開口のような物品の内部に向かう形状上に面取りを生成することの困難性を示す。これら端部を面取りすることは、追加の製造工程に加えて、特別な装置と治具を必要とする場合もある。
【０００６】
米国特許第６，５２１，８６２号：レーザ処置を用いてディスクエッジ面の面取り品質を改善する装置および方法は、面取り部を機械的に擦り、その後にレーザで若干溶融させることによって、ガラスディスク上に滑らかな面取りを生成する方法を記載している。これは滑らかな面取りを生成することができるが、許容可能な品質を有する面取りを実現するため、少なくとも２つの追加製造工程および少なくとも２つの別々の機械を必要とする。
【０００７】
したがって必要なのは、１回の製造作業で、外部レーザ切断端部および内部レーザ切断端部の双方に、高品質な傾斜または曲線面取りを形成することができる、ガラスまたはガラス類似物品に形状を形成する方法および装置である。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、１回の製造作業でガラスまたはガラス類似材料に面取り形状を形成する方法である。１回の製造作業において、加工対象物品はレーザ加工装置上に固定され、所望形状が物品に対してレーザ加工され、物品が装置から除去される前に、当該形状を形成した同じレーザ加工装置を用いて、１以上の加工形状端部が面取りされる。このようにして面取りを追加すると製造作業に工程が追加される一方で、必要な追加時間は最小化される。これは、物品がレーザ加工装置上に固定されている間に面取りが追加され、これにより物品を装置から除去して物品を別の装置上に固定して面取りを生成する必要がなくなるからである。１回の作業で形状と面取りを生成することにより、物品を再固定する必要がなくなり、作業を実施する装置を追加する必要がなくなり、これにより面取りを有する物品を生産するために必要な時間と費用を削減することができる。本発明において、レーザパラメータを変化させ、装置または治具を変更することなく、様々なサイズと形状の面取りを生成することができる。さらに、レーザパラメータを適切に変更することにより、製造作業や装置を追加することなく、所望レベルの面の滑らかさと仕上がりを実現することができる。
【０００９】
本発明の実施形態は、図４に示す、ガラスまたはガラス類似材料のブランク６２からレーザ加工する物品６０の上面図に示されている。破線６４、６６、６８は、レーザビームがたどる３つの代表経路である。レーザビームは、線６４と６８の間の加工する物品６０の周囲で、切断深さを変えて面取りを生成するためレーザパラメータを変更しながら、最大Ｎ経路をたどる。Ｎは１から通常１００未満までの値である。実際の経路数は、面取りの所望サイズと仕上がりに依拠する。アプリケーションによっては、１以上の経路に沿ってレーザパラメータが調整され、レーザがブランク６２を完全に切断しできるようにし、物品６０をブランク６２から完全分離することを実現するものもある。これは通常、焦点距離を変化させて材料を切断底面から除去しながら、同じ経路に沿って２回以上通過することを必要とする。他のアプリケーションにおいて、レーザ経路とパラメータを調整し、ホール、ブラインドホール、その他の形状のような面取り形状を、物品に加工することができる。この場合、レーザは物品６０を完全に貫通してもよいし、しなくてもよい。図５は、ブランク６２からレーザ加工する物品６０の断面図を示す。同図は、図４の線７０の断面図である。図５は、上面７８に対して垂直にブランク６２へ入射する、Ｎ個の経路候補のなかの３つを表す複数レーザビーム７２、７４、７６を示す。
【００１０】
図６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄは、レーザビームによるブランク６２における切断の進行を示す。図６ａは、図４と図５に示す経路をたどるレーザによる最初の１以上のレーザ切断後の、ブランク６２における初期面取り９０を示す。図６ｂは、経路に沿ってさらにレーザ切断した後の面取り９２を示す。図６ｃは、完成した面取り９４を示す。図６ｄにおいて、レーザビームはブランク６２を裁断し、端部に適切な面取りを有する物品６０を形成する。この場合、面取りは非対称であり、斜面は物品６０に向かっている。レーザパラメータと経路を変えることにより、面取りは要望に応じて、対称形状となり、より小さくなり、より大きくなり、または丸くすることができる。この方法は、材料を加工するために用いるレーザ光線の波長に対して透明または不透明な材料に適用することができる。
【００１１】
図１２ａと１２ｂは、使用される波長のレーザ光線に対して透明な材料に面取りを形成するために用いる、本発明の実施形態を示す。この方法において、レーザビーム１４２をフォーカスし、バルク材料１４６の面１４３において一定角度αで材料を初期アブレートするのに十分なレーザエネルギーを集中する。レーザビームは、面に対して角度を有するが、経路１４０に対して垂直に維持されている。バルク材料１４６に面取りを加工する際に、焦点は、材料加工の進行にしたがって、加工面ではなくカーフの底部から一定距離にセットされる。材料はレーザ光線に対して透明であるので、焦点上の材料のみがアブレートされる。経路が変わるのにともなって焦点を材料のより深い位置に変えることにより、角度を付けた加工を材料に施すことができる。図７ａは、レーザビームを透明材料１０８の面にフォーカスすることによって形成する、初期面取り１００を示す。図７ｂは、レーザビームを材料面の下にフォーカスし、図４と図５に示す経路に沿って移動させることにより、材料に向かってより深く切断された面取り１０２を示す。図７ｃにおいて、面取り１０４は完成している。図７ｄにおいて、レーザは面取り１０４の終端から始めて、切断部１０７上を経路に沿って１回以上直接移動する。レーザは、物品１０９がバルク材料１０８から分離されるまで、通過する毎に切断部１０７上でより深い位置にフォーカスされる。使用するレーザ光線の波長に対して透明な材料の場合において、面取りは物品の底面に向かって加工することができる。これは、レーザビーム焦点を加工する材料の範囲内に調整することによって実現される。レーザビームのフルエンスが焦点以外において材料のアブレーション閾値よりも低くなるようにレーザパラメータを調整する。焦点では、ビームフルエンスＪ／ｃｍ２は、アブレーション閾値よりも大きくなる。
【００１２】
本発明の他実施形態を、図８ａと８ｂに示す。この実施形態において、レーザビームは図４に示す経路に沿って移動するが、レーザが材料に入射する角度は材料上のまたは材料内の経路位置に応じて変わる。図８ａは、３つの代表レーザビームと角度を示す。レーザビーム１１０は角度α１、レーザビーム１１２は角度α２、レーザビーム１１４は角度αＮである。Ｎは整数であり、αＮ＞α２＞α１である。図８ｂは、バルク材料１１８上の１つの代表経路１１６と上面図を示す。経路上の矢印（そのうち１つを符号１１９で示している）は、レーザビームが材料１１８に入射する角度が、物品１１７がバルク材料１１８から加工される際に、経路１１６に対して常に直角であることを示す。この手法の利点は、より少ない通過回数で面取りの仕上がり品質を良好に制御できることである。ただし、被加工物に対するレーザビームの角度を制御することができる装置を必要とする。
【００１３】
図９は、本発明の他実施形態を示す。図９は、バルク材料１２８に入射するレーザビーム１２０、１２２、１２４を示す側面図である。この実施形態において、経路に沿ってレーザビームを材料に対して移動させる機構（図示せず）は、その経路を変更せず、レーザビームが材料に向けられる角度が変更される。レーザビームは、バルク材料１２８上の経路を移動するのにともなって、経路に対して垂直な面内のみで点１２６を中心として回転する。これにより、面取りの形状とサイズをより一層制御することができるが、機構が若干複雑であるためコストがかかる。図１０は、この方法を用いてバルク材料１２８に加工された面取り１３０を示す。図１１は、加工切断１３２によってバルク材料１２８から分離された物品１２９を示す。加工切断１３２は、面に対して垂直なレーザビーム１２１で材料を加工することにより、面取りの底部から材料１２８の底部に向かって伸張する。
【００１４】
図１２ａは、本発明の他実施形態を示す。この実施形態は、材料を加工するために用いる光の波長に対して透明な材料に対して適用することができる。図１２ａに示すように、レーザビーム（図示せず）はバルク材料１４６上の経路１４０に沿って移動する。矢印は、レーザビームが材料に対して有する角度が経路に対して常に直角であることを示す。図１２ｂは、材料に対して角度αを有するレーザビーム１４２を示す。図７ａ〜７ｄは、レーザを経路に沿って通過する毎にさらに深くフォーカスし、これにより材料をアブレートして面取り加工することによって、材料にレーザ加工された面取り１００、１０２、１０４を示す。面取りは、上面１４３に加工することもできるし、底面１４４に加工することもできる。この手法の利点は、透明材料の場合において、被加工物に対するレーザの角度を加工中に変える必要がないことである。これにより、装置はこの方法をよりシンプルかつより低コストに実装することができる。また、この手法では除去される材料が少なくなり、加工速度が上昇する。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】レーザ加工する物品を示す。
【図２】レーザ加工および面取りする物品を示す。
【図３】レーザ加工および丸く面取りする物品を示す。
【図４】１回の製造工程で面取りをレーザ加工する経路例を示す。
【図５】レーザ加工する材料に対して直角に入射するレーザビームを示す。
【図６ａ】レーザ加工する面取りの初期状態を示す。
【図６ｂ】面取りのさらなるレーザ加工を示す。
【図６ｃ】完成したレーザ加工面取りを示す。
【図６ｄ】最終分離切断したレーザ加工面取りを示す。
【図７ａ】透明材料にレーザ加工された面取りの初期状態を示す。
【図７ｂ】透明材料へのさらなる面取りレーザ加工を示す。
【図７ｃ】完成した透明材料への面取りレーザ加工を示す。
【図７ｄ】最終分離切断した透明材料へのレーザ加工面取りを示す。
【図８ａ】角度をつけたレーザビームを用いる本発明の他実施形態を示す。
【図８ｂ】角度を付けたレーザビームがレーザビーム経路に対してどのように配置されるかを示す。
【図９】単一の経路を共有する角度をつけたレーザビームを用いる、本発明の他実施形態を示す。
【図１０】レーザ加工した面取りを示す。
【図１１】最終切断したレーザ加工面取りを示す。
【図１２ａ】単一経路に沿って角度をつけたレーザビームを用いて面取りを加工する、他実施形態を示す。
【図１２ｂ】図１２ａの実施形態で用いる角度例を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の目的の１つは、１回の製造作業でガラスまたはガラス類似材料に面取り形状をレーザ加工できるようにすることである。ガラスまたはガラス類似材料をアブレートすることができるレーザビームを生成および制御し、材料を固定し、レーザビームを材料に対して移動させることができる装置の例は、本発明の出願人である、オレゴン州ポートランドのＥｌｅｃｔｒｏ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ，Ｉｎｃ．が製造する、ＭＭ５８００レーザ加工システムである。
【００１７】
レーザビームは、連続波（ＣＷ）でもよいし、パルスでもよい。所望のアブレーションレートを得るため制御するレーザパラメータには、波長、平均パワー、空間分布、スポットサイズ、移動速度が含まれる。パルスレーザの場合は、パルス幅、パルスエネルギー、パルス時間分布、繰り返し周波数を制御して所望のアブレーションを得ることができる。レーザ波長は、例えばＣＯ２レーザが出射する１０．６ミクロン波長の赤外線（ＩＲ）から、３倍または４倍の３５５ｎｍ未満の紫外線（ＵＶ）領域で動作する固体レーザまでの範囲をとることができる。平均パワーは、数十ワットまでの範囲をとることができる。空間分布は、ガウス分布でもよいし、変形または切り取ったガウス分布でもよいし、シルクハットのような形状を有する分布でもよいし、環状分布でもよい。本発明の出願人に特許されている、米国特許第６，７９１，０６０号：固体ＵＶガウス分布ビームを用いてビアを形成するビーム整形および投射結像を参照されたい。スポットサイズは通常、数ミクロンから１００ミクロン超の範囲をとることができる。レーザビームがアブレートする材料面に対して移動する速度例は、除去する材料の量に応じて、数ｍｍ／ｓから５００ｍｍ／ｓの範囲をとることができる。パルスレーザについては、パルス幅はフェムト秒パルスから数十ナノ秒までの範囲をとることができる。パルスエネルギーは、パルス幅に応じて、数マイクロジュール／パルスから数百ミリジュールまでの範囲をとることができる。パルスは、ガウス時間分布を有することもできるし、より速い立ち上がりおよび／または立ち下がりを有するような形状または切り取られた形状を有することもできる。パルスはまた、より複雑な調整された時間分布を有するように生成することもできる。このタイプのパルスについては、本発明の出願人に特許されている、米国特許第７，３４８，５１６号：空間的に調整されたパワープロファイルを有するレーザパルスによってリンク加工する方法およびレーザシステムを参照されたい。このために用いるパルスレーザの繰り返し周波数は、数ｋＨｚから１ＭＨｚ超までの範囲をとることができる。
【００１８】
本発明の１実施形態において、図４と図５を参照すると、物品６０は、ガラスまたはガラス類似材料のブランク６２から加工される。この材料は、使用するレーザ光の波長に対して不透明であると仮定する。レーザビーム７２は、ブランク６２の上面７８に対して垂直に向けられ、レーザビームが材料に入射する地点においてレーザパワーが加工する材料のアブレーション閾値を超過するようにフォーカスされる。レーザパラメータが所望のアブレーションレートを得るために選択されると、レーザビームは、物品６０をブランク６２から分離する最終裁断に平行な経路６４に沿って材料のアブレートを開始する。レーザビームは、所望量の材料がアブレートされるまで、この経路を１回以上たどる。この結果は、初期面取り９０として図６ａに示されている。レーザビームは、以前にたどった経路に隣接する経路、例えば経路６６をたどり、材料をさらにアブレートする。面取りを形成するため、レーザパラメータを調整し、各隣接経路においてさらに材料をアブレートする。例えば、レーザパワーを増加し、パルス幅を増加し、経路の通過回数を増加させ、これらを組み合わせ、または他のパラメータ変更を制御して面取りを形成することができる。これは、図６ｂにおいて中間面取り９２として示されている。これは、経路６８のような経路に到達するまで繰り返され、図６ｃに示す結果が最終面取りとして得られる。この時点でレーザは、材料を裁断する（９８）ようにレーザアブレートすることにより、物品６０をブランク６２から分離完了する。
【００１９】
図１２ａと１２ｂは、本発明の他実施形態を示す。この実施形態は、ガラスまたはガラス類似材料が材料１４６をアブレートするために用いるレーザ光線の波長に対して透明であることを必要とする。この実施形態において、レーザは面取りする物品１４７周囲の単一経路１４０をたどる。レーザビーム１４２は、所望面取りの角度αに合致するように、バルク材料１４６の面１４３に対して角度を有する。経路１４０上の矢印（そのなかの１つは符号１４５で示している）は、レーザビームがバルク材料１４６の面１４３に対して角度を有する一方で、経路１４０に対して直角に維持されていることを示す。面取りを加工することは、レーザビーム１４２が経路を複数回数通過することを必要とする場合がある。この実施形態は、Ｊ／ｃｍ２で測定するレーザビームフルエンスが焦点においてのみ材料のアブレーション閾値を超え、ビーム内のその他の点では超えないように、レーザビームパラメータを調整することを必要とする。各通過において、レーザ焦点は材料が除去されるにつれて材料のより深い位置に調整され、材料をカーフの底部においてアブレートする。図７ａ〜７ｄは、この過程を示している。図７ａにおいて、最初のビーム通過が面取り１００の加工を開始する。図７ｂにおいて、レーザビーム１４２の焦点は、経路１４０周囲を通過して面取りを形成するカーフ１０２の底部からさらに材料を加工するのにともない、アブレーション点を材料のより深い位置に移動させるように調整される。図７ｃにおいて、経路１４０周囲をさらに通過した後、面取りを形成するカーフ１０４が完成する。図７ｄにおいて、レーザビーム焦点（図示せず）は、材料１０９の面１４３に対して直角に移動するように調整され、レーザビームが各通過において材料１０９のより深い位置にフォーカスされるのにともない物品１０９をバルク材料１０８から分離する切断部１０７を形成する。使用するレーザ光線の波長に対して透明な材料の場合は、切断部は物品１０９の底面１４４上に面取り（図示せず）を形成する。
【００２０】
本発明の他実施形態において、レーザビームは、経路が変わるのにともなってレーザビームが材料に入射する角度を変えながら、複数の隣接経路に沿って複数回通過し、面取りを形成する。図８ａに示すように、レーザビーム１１０、１１２、１１４は、レーザビームがバルク材料１１８に入射する角度が上面１１５に対してどのように変化するかを示す。図８ａに示すように、経路が面取りの開始部から端部の外側に移動するのにともない、レーザビームが面に入射する角度は、レーザビーム１１０の角度α１からレーザビーム１１２の角度α２を介してレーザビーム１１４の角度αＮに変化する。Ｎは整数であり、上面１１５周囲の経路数に等しい。αＮ＞α２＞α１である。図８ｂは、この実施形態の上面図を示す。同図は、バルク材料１１８を加工する物品１１７から分離する経路例１１６を、矢印で示す。同矢印は、レーザビームが上面１１５に対して角度を有し、経路１１６に対して直角であることを示す。この実施形態により、曲がったまたは複数傾斜を有する面取りを容易に形成することができるが、被加工物に対するレーザビームの角度を制御して変えるための装置を必要とする。
【００２１】
本発明の他実施形態において、レーザビーム角度は被加工物に対して変化する。この実施形態において、被加工物に対するレーザビームの角度を変える装置は、レーザビームの角度を、被加工物から一定距離離れた点の周囲の面内で変えるように設計されている。さらにこの角度を変える装置は、回転して、レーザビームが角度を変える平面を、レーザビームが被加工物上でたどる経路に対して直角に維持する。この構成は、図９を参照するとより明確である。図９において、レーザビーム１２０、１２２、１２４は、点１２６の周囲で角度を変える。点１２６は、経路（図示せず）に沿ってバルク材料１２８に対して移動し、点１２６と材料１２５の面の間の一定関係を維持して、点１２６が経路の直上にくるようにする。面取りが加工されるにともなって、レーザビーム１２０、１２２、１２４は、角度を変えながら複数回通過する。レーザビーム焦点は、材料が除去されるにともなって変化し、バルク材料１２８の面上に維持される。図１０と図１１は、この実施形態を用いて加工される面取り１３０を示す。物品１２９をバルク材料１２８から分離する切断部は、レーザビーム１２１を材料１２５の面に対して直角に維持し、物品１２９が切断部１３２によってバルク材料１２８から分離されるまで経路周囲を通過させることにより形成される。
【００２２】
当業者にとって、本発明の原理から逸脱することなく、上述の本発明の実施形態の詳細部分に多くの変更をなすことができることは、明らかであろう。したがって本発明の範囲は、特許請求の範囲のみによって定められる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６ａ】
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【図６ｂ】
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【図６ｃ】
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【図６ｄ】
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【図７ａ】
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【図７ｂ】
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【図７ｃ】
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【図７ｄ】
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【図８ａ】
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【図８ｂ】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２ａ】
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【図１２ｂ】
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