(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を内部に収容する成膜室と、その基板から所定距離離間させて配置され、成膜原料を前記成膜室内に液体状態で噴射する噴射弁と、を備えてなり、
前記噴射弁に設けられた噴射孔の横断面形状が、短手方向にはほぼ一定寸法であるとともに、長手方向には入口から出口に近づくほど拡開し、出口近傍において少なくとも帯状をなすように構成され、
前記噴射孔の拡開角度が、１８０°以下であり、
前記噴射孔の短手方向の側面と、当該側面に連続する噴射弁の内面とのなす角度が、０°より大きく９０°未満である噴霧式ＣＶＤ成膜装置。
【請求項２】
前記噴射孔の拡開角度が、１３０°以上である請求項１記載の噴霧式ＣＶＤ成膜装置。
【請求項３】
前記噴射孔が２個又は３個設けられている請求項１又は２記載の噴霧式ＣＶＤ成膜装置。
【請求項４】
前記各噴射孔の中心線のなす角度が、９０°より大きく１５０°未満の間に設定されている請求項３記載の噴霧式ＣＶＤ成膜装置。
【請求項５】
基板を内部に収容する成膜室に当該基板から所定距離離間させて設けられ、成膜原料を前記基板に向かって液体状態で噴射するものであり、
前記噴射弁に設けられた噴射孔の横断面形状が、短手方向にはほぼ一定寸法であるとともに、長手方向には入口から出口に近づくほど拡開し、出口近傍において少なくとも帯状をなすように構成され、
前記噴射孔の拡開角度が、１８０°以下であり、
前記噴射孔の短手方向の側面と、当該側面に連続する噴射弁の内面とのなす角度が、０°より大きく９０°未満である噴霧式ＣＶＤ成膜装置用噴射弁。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、成膜装置及びその成膜装置に用いる成膜装置用噴射弁に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近時、ＣＶＤ（化学気相成長法、ＣＶＤ法：Chemical Vapor Deposition）において、特許文献１、２に示すように、成膜室の内部に載置した基板に向かって、その上部に設けた噴射弁から成膜材料を液体状態のまま霧状にして射出するという新たな成膜方式（以下噴霧方式という）が開発されつつある。かかる噴霧方式よれば、気化器や配管等を加熱する必要がないため、装置の小型化や低コスト化を図ることができる。
【０００３】
ところで、この噴霧方式おいては、膜品質を担保するために、噴射弁から噴出した霧状の液体成膜材料を、基板に到達するまでに確実に、かつできるだけ均一な状態で気化（ガス化）させる必要がある。
【０００４】
この要求に対し、単純には、エンジンなどに用いられている燃料噴射弁のように、噴射弁から液体成膜材料を均一な霧状にして広く噴出させればよいと考えがちである。
【０００５】
しかしながら、実際には、そのような構成であると気化が不十分になり、膜品質が悪化する場合がある。すなわち、エンジン用の燃料噴射弁の構造や考え方をそのまま採用することはできないのである。
【０００６】
また、大面積を有する基板上に均一な膜をスループット良く成膜することが困難であるという問題がある。
【特許文献１】特開２００４−１９７１３５号公報
【特許文献２】特開２００７−１３８２４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで本発明は、上記問題点を一挙に解決するためになされたものであり、膜品質を担保でき、しかも装置の小型化や低コスト化を図ることができ、さらに、大面積の基板であっても均一な膜をスループット良く成膜することができる噴霧式のＣＶＤ成膜装置等を提供することをその主たる所期課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
すなわち本発明に係る成膜装置は、基板を内部に収容する成膜室と、その基板から所定距離離間させて配置され、成膜原料を前記成膜室内に液体状態で噴射する噴射弁と、を備えてなり、前記噴射弁に設けられた噴射孔の横断面形状が、短手方向にはほぼ一定寸法であるとともに、長手方向には入口から出口に近づくほど拡開し、出口近傍において少なくとも帯状をなすように構成され、前記噴射孔の拡開角度θＯが１８０°以下であり、前記噴射孔の短手方向の側面と、前記噴射孔の入口近傍における前記側面に連続する噴射弁の内面とのなす角度（エッジ角度）θＥが、０°より大きく９０°未満であることを特徴とする。帯状とは、先端と終端とがあって閉じていない形状であれば良く、直線的に延びるものの他、部分円弧状に湾曲していたり、波状であったり、三角波状であったりするものも含む。また、拡開角度θＯとは、噴射孔の入口から出口に向かって拡開する角度であり、噴射孔の短手方向の一方の側面における入口側端縁部及び出口側端縁部を結ぶ線と、他方の側面における入口側端部及び出口側端縁部を結ぶ線とのなす角度である。
【０００９】
このようなものであれば、成膜原料の、噴射弁から射出された直後の噴霧形状が、概略扇形の薄い膜状となるため、基板に成膜原料が液体のまま到達することを無理なく防止でき、膜の品質を担保できる。
【００１０】
また、エッジ角度θＥを０°より大きく９０°未満の間に設定すると、噴射孔から噴射された成膜原料が広がり易くなり、その角度θＥを９０°以上に設定した場合に比べて、成膜原料と成膜室内の真空雰囲気との接触面積を増大させることができる。その結果、成膜原料の気化効率を向上することができることに加えて、広範囲に均一な濃度のガスを供給することができ、大面積を有する基板にも対応することができる。
【００１１】
また、噴射量は多すぎると、成膜原料が気化せずに基板に達してしまい、噴射量が少なすぎると、成膜のスループットが悪くなることから、所定の範囲内に設定されることが望ましい。
【００１２】
ここで、噴射弁の噴射量は、噴射孔の形状、噴射孔の開閉時間及び成膜原料の供給圧力などによって決定される。
【００１３】
例えば成膜原料の供給圧力を大きくすると、噴射量を多くすることができるが、成膜装置（例えば成膜原料の供給管など）に特別な耐圧構造を持たせる必要が生じ、その供給管などから成膜原料が漏れた場合に危険性が大きいという問題がある。一方、供給圧力を小さくすると、噴射量を少なくすることができるが、成膜原料内に含まれる例えば低沸点有機化合物のみが噴射弁内で沸騰してしまい、そのガスによって噴射孔が塞がってしまい、安定した噴射量を得ることができないという問題がある。また、噴射孔の開閉時間を制御することにより、噴射量を調節することも考えられるが、機械的な問題から噴射孔の開閉時間を短くするのには限界がある。
【００１４】
これに対して、噴射孔の形状を適宜設定することが、噴射量を調節する上で最も好適である。そして、本発明のように、噴射孔の拡開角度θＯに加えて、エッジ角度θＥを０°より大きく９０°未満の間で設定することによって、ガスを広範囲に供給することを担保しつつ、噴射孔の開閉時間及び成膜原料の供給圧力を変更すること無く、噴射弁の噴射量の調節自由度を増やすことができるため、噴射孔の設計自由度を増すことができる。
【００１５】
特に、成膜原料を広範囲に均一に噴霧するためには、前記噴射孔の拡開角度θＯが、約１３０°以上、約１８０°以下の角度に設定されていることが望ましい。特に、成形容易性及びコスト面の観点からすると、より好適には前記噴射孔の拡開角度θＯが、約１７０°以上約１８０°以下、更に最も好適には約１８０°であることが望ましい。また、拡開角度θＯは当然に０°より大きいが、約１３０°未満の場合には、広範囲にガスを形成することが困難となる可能性があり、気化したガスを成膜室内の基板に均一なガス濃度で到達させるためには、噴射弁と基板との距離を十分に取る必要が生じうることから、拡開角度θＯは、上記範囲内においてできるだけ大きい方が望ましい。
【００１６】
また、大面積を有する基板上に成膜する場合であっても、装置の小型化を実現しつつ、広範囲に均一な濃度のガスを供給するためには、前記噴射孔が２個又は３個設けられていることが望ましい。
【００１７】
各噴射弁から噴射された成膜原料が干渉して、気化効率を悪化させないためには、前記各噴射孔の中心線のなす角度が、約９０°より大きく約１５０°以下に設定されていることが望ましい。各噴射孔の中心線のなす角度が約９０°未満であれば、各噴射孔から噴射された成膜原料同士が干渉してしまい、気化効率が低下してしまう。また、各噴射孔の中心線のなす角度が約１５０°よりも大きい場合には、各噴射孔から噴射された成膜原料が、成膜室の壁（噴射弁が取り付けられている壁）に接触してしまい、気化を妨げてしまう。そして、これらの不具合を好適に防止するためには、前記各噴射孔の中心線のなす角度が約１２０°であることが特に望ましい。
【００１８】
また、本発明に係る成膜装置用噴射弁は、基板を内部に収容する成膜室に当該基板から所定距離離間させて設けられ、成膜原料を前記基板に向かって液体状態で噴射するものであり、前記噴射弁に設けられた噴射孔の横断面形状が、短手方向にはほぼ一定寸法であるとともに、長手方向には入口から出口に近づくほど拡開し、出口近傍において少なくとも帯状をなすように構成され、前記噴射孔の拡開角度θＯが１８０°以下であり、前記噴射孔の短手方向の側面と、前記噴射孔の入口近傍における前記側面と連続する噴射弁の内面とのなす角度が、０°よりも大きく９０°未満であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
このように本発明によれば、膜品質を担保でき、しかも装置の小型化や低コスト化を図ることができる。また、大面積の基板であっても均一な膜をスループット良く成膜することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
＜第１実施形態＞
【００２１】
次に、本発明に係る成膜装置の第１実施形態ついて図面を参照して説明する。
【００２２】
＜装置構成＞
【００２３】
本実施形態に係る成膜装置１は、図１に示すように、基板２を内部に保持する成膜室３と、成膜原料を前記成膜室３内に液体のまま直接噴射する噴射弁４と、噴射弁４に液体成膜原料を供給する原料供給管５と、前記噴射弁４等を制御する制御装置１１等を備えており、前記噴射弁４から噴霧射出された前記成膜原料が、途中で気化して加工対象である基板２上に堆積し、薄膜が形成されるように構成したものである。
【００２４】
本実施形態においては、基板２上に例えばNb2O5膜を成膜すべく、その成膜原料として、有機ニオブ化合物である例えばペンタエトキシニオブ（PENb、Nb(OC2H5)5）を用いているが、このペンタエトキシニオブが単体では非常に蒸気圧が低く気化しにくいことから、これに低沸点有機化合物である例えばエタノールを所定比（ここでは例えば１：９、ただしｍｏｌ比）で混合し、その混合溶液を噴射弁４に供給するようにしている。より具体的に説明すると、この混合溶液は、例えばステンレス製の容器６に保存されており、当該容器６に圧入された加圧ガス（Ｎ２、ＨｅあるいはＡｒガス等の不活性ガス）により原料供給管５を通り噴射弁４を介して成膜室３の内部に供給されるように構成している。なお、成膜原料や低沸点有機化合物は上述したものに限られず、例えばペンタエトキシタンタル（Ta(OC2H5)5）とｎ−ペンタン（n-C5H12）との組み合わせや、テトラキスジエチルアミノハフニウム（Hf[N(C2H5)2]4）とベンゼン（C6H6）との組み合わせなどでも構わない。
【００２５】
成膜室３は、図１に示すように、保持機構（図示しない）によって、加工対象となる基板２を保持収容するものであり、その内部収容空間は、成膜室３に噴射された混合溶液中のペンタエトキシニオブが気化するように内部圧力調節されている。つまり、その成膜室３内の圧力が、前記エタノールと混合する前のペンタエトキシニオブの飽和蒸気圧よりも大きく、かつエタノールとペンタエトキシニオブとの混合溶液の飽和蒸気圧よりも小さくなるように、例えば１７〜１００Ｐａ程度に設定されている。この成膜室３には、さらに、基板２を加熱するための基板ヒータ７や、Nb2O5膜を充分に酸化させるための酸素（O2）ガスを供給する酸素供給管９が配設されている。この酸素供給管９は、マスフローコントローラ（ＭＦＣ）１０により酸素（O2）ガスの供給流量を制御されている。
【００２６】
噴射弁４は、図１、図２に示すように、成膜原料を含んだ前記混合溶液を成膜室３内に液体状態（霧状）で直接噴射するものであり、成膜室３の上部（上壁３０１、図２参照）に、基板２の堆積面と対向するように設けられている。
【００２７】
詳述すれば、この噴射弁４は、図２〜図４に示すように、前記混合溶液が内部空間に充填されるものであって、先端部に噴射孔Ｈを貫通させてなるボディ４１、そのボディ４１内に進退可能に配置された弁体４３、弁体４３に互いに逆向きの軸方向に沿った進退力を付与する電磁コイル４２及びバネ４４を備えてなるピボットタイプのものである。但し、進退力を付与するものは、電磁コイル以外のものでも良く、例えば圧電素子でも良い。
【００２８】
ボディ４１は、筒状のボディ本体４１Ａと、そのボディ本体４１Ａの先端に連続して設けられた噴射孔形成部４１Ｂとからなり、ボディ本体４１Ａの先端部には内面が逆円錐形状に構成された弁座４１１が形成してある。噴射孔形成部４１Ｂは、前記弁座４１１からさらに先端側に設けられた中空部分球状のものであり、その壁体に噴射孔Ｈが貫通させてある。
【００２９】
前記弁体４３は、前記弁座４１１に着座する閉止位置と、弁座４１１から離間する開成位置との間で、電磁コイル力とバネ力との大小関係によって、この噴射弁４の軸方向に進退移動するものである。より具体的には、前記制御装置１１から閉止信号が出力されたときには、電磁コイル４２が励磁されず、前記弁体４３がバネ力で閉止位置に保持されて、前記噴射孔Ｈは、ボディ４１の内部空間から遮断される。この状態では液体混合溶液（成膜原料）は噴出しない。また、前記制御装置１１から開成信号が出力されると、電磁コイル４２に電流が流れ、前記弁体４３が開成位置に保持されて、前記噴射孔Ｈがボディ４１の内部空間と連通する。この状態になって、当該噴射孔Ｈから液体混合溶液（成膜原料）が、成膜室３内に霧状に噴出し、減圧沸騰噴霧作用によって気化する。なお噴出圧は、０．１〜１ＭＰａ程度の範囲で可能であるが、０．５ＭＰａ以下に設定することが望ましい。
【００３０】
制御装置１１は、噴射弁４を周期的に開閉させて、前記液体混合溶液を前記成膜室３内に間欠的に供給するものであり、圧力計１２を用いて原料供給管５内の液体混合溶液の圧力を観測しながら、所定量の液体混合溶液が噴出するよう、前記噴射弁４を制御する。
【００３１】
具体的な制御方法は、図６に示すように、液体混合溶液を成膜室３内に供給する時間である供給時間と液体混合溶液を前記成膜室３内に供給しない時間である供給停止時間とを周期的に繰り返すように噴射弁４を制御する。そして、この供給停止時間が、供給時間の約５０倍以上となるようにし、本実施形態では、例えば供給時間を１０［ｍｓ］、供給停止時間を９９０［ｍｓ］としている。供給時間は、例えば基板２の成膜対象面積、成膜室３の圧力、体積あるいは成膜原料（液体混合溶液）などに基づいて設定するようにしている。また、供給時間における噴射量は、例えば０．１ｍｇ／回〜１０ｍｇ／回である。ここで、ｍｇ／回は、噴射弁４が１回の供給時間（上記例示では１０ｍｓ）で噴射する量である。供給停止時間は、供給時間中に成膜室３内に供給され、基板２上に堆積した成膜原料の原子又は分子が泳動し、基板２上で生成された反応副生成物が蒸発するために必要な泳動・蒸発時間と同じかあるいはそれよりも長くなるように設定する。なお、供給時間中にさらに細かくＯＮ／ＯＦＦを繰り返す場合もある。
【００３２】
しかして、この実施形態では、図３、図４、図５に示すように、前記噴射孔Ｈの横断面形状について、短手方向寸法Ｂをほぼ一定にするとともに（図３参照、長手方向からみた噴射孔Ｈの縦断面図である）、長手方向には奥（入口）から出口に近づくほど徐々に拡開するようにし（図４参照、短手方向からみた噴射孔Ｈの縦断面図（Ａ−Ａ線断面図）である）、出口近傍において少なくとも細長い直線帯状（図５参照、出口方向から見た噴射孔Ｈの形状である）となるように構成している。言い換えれば、この噴射孔Ｈが、スリット形状をなし、かつ側方から見て、出口に向かって広がる概略扇形（図４参照）をなすようにしている。
【００３３】
各噴射孔Ｈの各部の詳細寸法は以下の通りである。
【００３４】
すなわち、前記噴射孔Ｈの横断面形状における短手方向の寸法Ｂは、約０．１５ｍｍから約０．２０ｍｍ、前記噴射孔Ｈの奥行き寸法Ｌは、約０．４５ｍｍから約１．４ｍｍ、前記噴射孔Ｈの拡開角度θＯは、約１３０°から約１８０°、前記噴射孔Ｈにおける奥行方向の寸法Ｌは、短手方向の寸法Ｂに対して約３倍から約７倍の間にそれぞれ設定している。なお、図４においては、拡開角度θＯが１８０°の場合を示している。ここで、拡開角度θＯとは、噴射孔Ｈ１の入口から出口に向かって拡開する角度であり、噴射孔Ｈ１の短手方向の一方の側面Ｈ１における入口側端縁部及び出口側端縁部を結ぶ線と、他方の側面Ｈ１における入口側端部及び出口側端縁部を結ぶ線とのなす角度である。
【００３５】
さらに、本実施形態の噴射孔Ｈは、図４の部分拡大断面図に示すように、噴射孔Ｈの短手方向の側面Ｈ１と前記噴射孔Ｈの入口近傍における前記側面Ｈに連続する噴射弁４の内面とのなす角度θＥが、０°より大きく９０°未満（鋭角）である。
【００３６】
具体的には、噴射孔Ｈの側面Ｈ１と、噴射孔Ｈの入口近傍（図４において円で示された部分）において、側面Ｈに連続する噴射孔形成部４１Ｂの内周面４１Ｂ１とのなすエッジ角度θＥが、０°より大きく９０°未満に設定されている（図４参照）。より詳細には、エッジ角度θＥは、噴射孔Ｈの側面Ｈ１と、噴射孔形成部４１Ｂの前記側面Ｈ１と連続する内周面４１Ｂ１における噴射孔側の端部と、のなす角度である。図４においては、エッジ角度θＥは約４０°である。
【００３７】
つまり、本実施形態の噴射孔Ｈは、図４のＡ−Ａ線断面図に示すように、拡開角度θＯの中心Ｃが、噴射孔形成部４１Ｂの内周面４１Ｂ１の半径中心Ｄよりも噴射弁先端側に設けられている。このように、半径中心Ｄを中心として拡開角度θＯを決定するのではなく、半径中心Ｄよりも先端側に位置する中心Ｃにより拡開角度θＯを決定することで、噴射孔Ｈの形状の自由度を増すことができ、成膜室３内の空間、基板２の大きさに合わせて噴霧形状を自由に変えることができるようになる。
【００３８】
次に、噴射弁４の液体成膜材料の蒸気濃度分布を図７に例示する。
【００３９】
図７は、拡開角度θＯが７５°かつエッジ角度θＥが９０°（拡開中心Ｃ及び半径中心Ｄが一致）の場合と、拡開角度θＯが１８０°かつエッジ角度θＥが９０°未満（拡開中心Ｃが半径中心Ｄよりも先端側に位置）の場合、具体的にはエッジ角度θＥが３７．５°の場合において、成膜室３内の各圧力における噴射弁４から噴射した蒸気濃度分布を表示する図である。成膜原料は、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）とｎ−ペンタンとの混合溶液（混合モル割合＝４：６）を用いた。
【００４０】
成膜圧力である１７Ｐａ〜１００Ｐａの範囲を含む全ての圧力において、拡開角度θＯが７５°より拡開角度θＯが１８０°の方が広範囲に均一な蒸気濃度分布を形成していることが分かる。
【００４１】
＜本実施形態の効果＞
【００４２】
このように構成した本実施形態の成膜装置１によれば、噴射弁４から射出された直後の成膜原料（混合溶液）の噴霧形状が、概略扇形の薄い膜状となるため、気化効率が可及的に向上する。そしてその結果、基板２に成膜原料が液体のまま到達することを無理なく防止でき、膜の品質を担保できる。また、図４に示すように、拡開角度θＯを１８０°にした場合には、噴射弁４の製作が容易となり、コストを下げることができる。
【００４３】
また、噴射孔Ｈから噴射された成膜原料が広がり易くなり、成膜原料と成膜室３内の真空雰囲気との接触面積を増大させることができ、その結果、成膜原料の気化効率を向上させることに加えて、広範囲に均一な濃度のガスを供給することができる。
【００４４】
その上、噴射孔Ｈの短手方向の寸法Ｂ、奥行き寸法Ｌ及び拡開角度θＯに加えて、エッジ角度θＥを０°より大きく９０°未満の間で設定することによって、噴射孔Ｈの設計自由度が増し、噴射孔Ｈの開閉時間及び成膜原料の供給圧力を変更すること無く、噴射弁４の噴射量を調節し易くなる。
【００４５】
＜第２実施形態＞
【００４６】
次に、本発明に係る成膜装置の第２実施形態について図面を参照して説明する。
【００４７】
本実施形態に係る成膜装置１は、前記第１実施形態と噴射弁４の構成が異なる。つまり、本実施形態の噴射弁４は、図８に示すように、噴射孔形成部４１Ｂに２個の噴射孔Ｈが設けられている。
【００４８】
この２個の噴射孔Ｈは、図８に示すように、噴射弁４の中心軸（ボディ本体４１Ａの中心軸）に対して対称となるように設けられ、さらに各噴射孔Ｈの中心線のなす角度である孔間角度φを約９０°から約１５０°の間に設定している。噴射孔Ｈの中心線は、短手方向から見て噴射孔Ｈの中心となり、長手方向から見て噴射孔Ｈの中心となるものである。なお、図８は、孔間角度１２０°の噴射弁４を示している。
【００４９】
各噴射孔Ｈの具体的な形状及び寸法は、前記第１実施形態の噴射孔Ｈと同様である。
【００５０】
次に、本実施形態の噴射弁（２孔噴射弁４）による液体成膜材料の噴霧態様を単孔噴射弁４と比較して、図９に例示する。
【００５１】
図９は、噴射弁４により成膜原料の噴射後における、噴射孔Ｈの長手方向から見た噴霧画像を二値化した図である。また、図９は、単孔噴射弁４と２孔噴射弁４（孔間角度φが９０°、１２０°、１５０°）との比較を示す。噴射溶液は、エタノールを使用して、全て同じ噴射量となるように設定した。成膜圧力の条件は１０Ｐａである。
【００５２】
単孔噴射弁４では、液滴分布の濃いものが噴射弁４から遠くまで存在している。一方で、２孔噴射弁４の方は全て効率良く噴霧を形成している。
【００５３】
また、２孔噴射弁４の中では、孔間角度φが９０°の噴射弁４では、各噴射孔Ｈからの噴霧が近く、各噴射孔Ｈからの成膜原料が干渉し、減圧沸騰噴霧を抑制するため好ましくない。一方、孔間角度φが１５０°の噴射弁４では、噴射弁４から噴射された成膜原料は互いに干渉しないが、噴射弁４が取り付けられている成膜室３の上壁３０１（図２参照）に接触している様子が分かる。従って、孔間角度φが１５０°より大きい噴射弁４の場合には、各噴射孔Ｈから噴射された成膜原料が、成膜室３の上壁３０１に接触して、均一なガス分布を妨げることが考えられる。従って、上記２つの不具合を可及的に抑制する孔間角度φとしては、約１２０°が最適であると考えられる。
【００５４】
そして、図９においては、単孔噴射弁４を用いた場合の気化する距離に比べて、２孔噴射弁４を用いた場合の気化する距離の方が短いことが分かる。これにより、大面積の基板２に成膜するものでも成膜室３を小型化することができる。
【００５５】
＜本実施形態の効果＞
【００５６】
このように構成した本実施形態の成膜装置１によれば、前記第１実施形態の効果に加えて、噴射孔Ｈを２個設けているので、大面積を有する基板２であっても広範囲に均一な濃度のガスを供給することができる。また、各噴射孔Ｈの孔間角度φを適宜設定することにより、各噴射孔Ｈから噴出された成膜原料同士が互いに干渉しない構成を簡単に実現することができる。
【００５７】
＜その他の変形実施形態＞
【００５８】
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
【００５９】
前述したように、噴霧が液柱状（中空も含む）にさえならなければよいのであるから、噴射孔Ｈの少なくとも出口形状は、先端と終端とがあって閉じていない帯状であれば良く、前記実施形態のように直線的に延びるものの他、部分円弧状に湾曲していたり、波状であったり、三角波状であったりしても構わない。
【００６０】
また、噴射孔数は３個でも良い。この場合、噴射孔Ｈを噴射弁４の中心軸の周りに等間隔に設けるのがより好適である。
【００６１】
さらに、前記実施形態の噴射弁４の噴射孔形成部４１Ｂは、部分球状をなすものであったが、その他、円柱状、円錐状あるいは角柱状等、又はこれらの組み合わせであっても良い。図１０に噴射孔形成部４１Ｂが円柱状の場合を示す。この場合も当然、噴射孔Ｈの側面Ｈ１と、噴射孔Ｈの入口近傍において、側面Ｈに連続する噴射孔形成部４１Ｂの内周面４１Ｂ１とのなすエッジ角度θＥが、０°より大きく９０°未満に設定されている。
【００６２】
加えて、前記実施形態では、噴射弁４を基板２に対向するように、成膜室３の上部に設けるようにしていたが、基板２に対向するように、成膜室３の下部に設けるようにしてもよいし、噴射弁４を基板２に対向するように、成膜室３の側面に設けるようにしても良い。
【００６３】
その上、前記実施形態では噴射孔Ｈの短手方向の側面Ｈ１は平面であったが、その他、例えば、短手方向の側面Ｈ１を出口方向に向かって膨出した湾曲面としても良いし（図１１参照）、出口方向とは反対側に凹んだ湾曲面としても良い。
【００６４】
その他本発明はその趣旨を逸脱しない範囲で種々変形が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明の第１実施形態に係る成膜装置の概略構成図。
【図２】同実施形態における噴射弁の内部構造を示す構造図。
【図３】同実施形態における噴射孔の詳細を示す部分断面図。
【図４】同実施形態における噴射孔の詳細を示す部分断面図。
【図５】同実施形態における噴射孔の出口から見た部分詳細図。
【図６】同実施形態における噴射弁への制御信号図。
【図７】同実施形態における噴射弁の実際の蒸気濃度分布を示す実験データ。
【図８】本実施形態の第２実施形態に係る噴射孔の詳細を示す部分断面図。
【図９】同実施形態における噴射弁の実際の噴霧形状を示す実験データ。
【図１０】その他の変形実施形態の噴射孔の詳細を示す部分断面図。
【図１１】その他の変形実施形態の噴射孔の詳細を示す部分断面図。
【符号の説明】
【００６６】
１・・・成膜装置
２・・・基板
３・・・成膜室
４・・・噴射弁
Ｈ・・・噴射孔
θＯ・・・拡開角度
θＥ・・・エッジ角度
φ・・・各噴射弁の中心線のなす角度（孔間角度）
【図１】
0005430841.tif 000002
【図２】
0005430841.tif 000003
【図３】
0005430841.tif 000004
【図４】
0005430841.tif 000005
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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