(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された前記基板に処理液を供給するノズルと、
前記基板保持部に対して昇降自在に設けられた昇降部材と、
前記基板保持部に保持された前記基板の下面に処理液およびガスの少なくとも１つを供給する下面側供給管を有する軸部材と、
前記昇降部材を昇降駆動する昇降駆動部と、を備え、
前記基板保持部は、保持ベースと、前記保持ベースに移動自在に設けられ、各々が当該基板の周縁部に係合する係合位置と当該基板を開放する開放位置との間で付勢力付与機構の付勢力によって移動する第１係合部材および第２係合部材と、を有し、
前記第１係合部材に、前記昇降部材の外周面に当接した第１当接部が連結され、
前記第２係合部材に、前記昇降部材の外周面に当接した第２当接部が連結され、
前記昇降部材は、前記軸部材を内側に通すように円筒状に形成され、前記昇降部材の外周面に設けられた、当該昇降部材の昇降方向において互いに異なる位置に配置された上側被当接部および下側被当接部を有し、
前記第１当接部が前記上側被当接部に当接している場合、前記第１係合部材は前記係合位置に移動すると共に、前記第２係合部材は前記開放位置に移動し、
前記第２当接部が前記下側被当接部に当接している場合、前記第１係合部材は前記開放位置に移動すると共に、前記第２係合部材は前記係合位置に移動し、
前記ノズルから前記基板に処理液を供給している間、前記昇降部材の昇降方向の位置は、前記第１当接部が前記上側被当接部に当接する、または前記第２当接部が前記下側被当接部に当接するように変化し、前記軸部材の昇降方向の位置は変化しないことを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
前記昇降部材の前記上側被当接部および前記下側被当接部は、当該昇降部材の外周面に対して凹状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項３】
前記上側被当接部の下部は、前記昇降部材の昇降方向において、前記下側被当接部の上部と同じ位置または当該下側被当接部の当該上部より下方に配置されていることを特徴とする請求項１または２に記載の液処理装置。
【請求項４】
前記第１当接部および前記第２当接部は、前記昇降部材の外周面において昇降方向に転動自在なローラを含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の液処理装置。
【請求項５】
前記ノズルは、前記基板保持部に保持された前記基板の上面に処理液を供給するように構成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の液処理装置。
【請求項６】
前記基板保持部を回転駆動する回転軸を含む回転駆動部を更に備え、
前記昇降部材は、前記回転軸に連結されて、前記基板保持部と共に回転することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の液処理装置。
【請求項７】
前記基板保持部は、前記基板の周方向に互いに交互に配置された３つの前記第１係合部材および３つの前記第２係合部材を有し、
前記昇降部材は、前記第１係合部材および前記第２係合部材に対応する３つの前記上側被当接部および３つの前記下側被当接部を有していることを特徴とする請求項６に記載の液処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を水平に保持して液処理を行う液処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製品の製造プロセスやフラットパネルディスプレー（ＦＰＤ）の製造プロセスにおいては、被処理基板である半導体ウエハやガラス基板に処理液を供給して液処理を行うプロセスが多用されている。このようなプロセスとして、例えば、基板に付着したパーティクルやコンタミネーション等を除去する洗浄処理などがある。
【０００３】
洗浄処理を実施する液処理装置として、半導体ウエハ等の基板をスピンチャックに保持し、ウエハを水平に回転させた状態でウエハの上面に処理液（薬液、リンス液等）を供給して洗浄処理を行う枚葉式の回転洗浄装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−２０９２５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、ウエハを洗浄処理する際、ウエハの周縁部が、スピンチャックの保持部によって保持されている。このため、保持部によって保持されているウエハの領域に処理液が到達しにくくなり、当該領域およびその周辺領域を洗浄処理することが困難になっていた。
【０００６】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、基板に液処理が行われない未処理領域が形成されることを防止する液処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、基板を水平に保持する基板保持部と、前記基板保持部に保持された前記基板に処理液を供給するノズルと、前記基板保持部に対して昇降自在に設けられた昇降部材と、前記昇降部材を昇降駆動する昇降駆動部と、を備え、前記基板保持部は、保持ベースと、前記保持ベースに移動自在に設けられ、各々が当該基板の周縁部に係合する係合位置と当該基板を開放する開放位置との間で付勢力付与機構の付勢力によって移動する第１係合部材および第２係合部材と、を有し、前記第１係合部材に、前記昇降部材の外周面に当接した第１当接部が連結され、前記第２係合部材に、前記昇降部材の外周面に当接した第２当接部が連結され、前記昇降部材は、その外周面に設けられた、当該昇降部材の昇降方向において互いに異なる位置に配置された上側被当接部および下側被当接部を有し、前記第１当接部が前記上側被当接部に当接している場合、前記第１係合部材は前記係合位置に移動すると共に、前記第２係合部材は前記開放位置に移動し、前記第２当接部が前記下側被当接部に当接している場合、前記第１係合部材は前記開放位置に移動すると共に、前記第２係合部材は前記係合位置に移動することを特徴とする液処理装置を提供する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の液処理装置によれば、基板に液処理が行われない未処理領域が形成されることを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、本実施の形態による液処理装置を含む液処理システムを上方から見た平面図である。
【図２】図２は、図１の液処理システムにおける液処理装置の側面断面図である。
【図３】図３は、図２に示す液処理装置における基板保持部およびその周辺に位置する構成要素を示す縦断面図であって、昇降筒部材が下降位置に位置付けられた状態を示す縦断面図である。
【図４】図４は、ウエハが保持された基板保持部を示す平面図である。
【図５】図５は、図２に示す液処理装置における基板保持部およびその周辺に位置する構成要素を示す縦断面図であって、昇降筒部材が中間位置に位置付けられた状態を示す縦断面図である。
【図６】図６は、図２に示す液処理装置における基板保持部およびその周辺に位置する構成要素を示す縦断面図であって、昇降筒部材が上昇位置に位置付けられた状態を示す縦断面図である。
【図７】図７は、昇降筒部材を部分的に拡大した断面図である。
【図８】図８（ａ）は、図７のＡ−Ａ線断面を示す図であり、図８（ｂ）は、図７のＢ−Ｂ線断面を示す図である。
【図９】図９は、回転駆動部の回転軸と昇降筒部材との連結構造の詳細を示す図である。
【図１０】図１０は、本実施の形態による液処理方法の各工程における昇降筒部材の位置およびリフトベースの位置を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
【００１１】
まず、図１を用いて、本発明の実施の形態による液処理装置を含む液処理システムについて説明する。
【００１２】
図１に示すように、液処理システム１００は、外部から被処理基板としての半導体ウエハ等の基板（以下、ウエハＷという）を収容したキャリアを載置するための載置台１０１と、キャリアに収容されたウエハＷを取り出すための搬送アーム１０２と、搬送アーム１０２によって取り出されたウエハＷを載置するための棚ユニット１０３と、棚ユニット１０３に載置されたウエハＷを受け取り、当該ウエハＷを液処理装置１０内に搬送する搬送アーム１０４と、を備えている。図１に示すように、液処理システム１００には、複数（図１に示す態様では８個）の液処理装置１０が設けられている。
【００１３】
また、各液処理装置１０の側壁には、搬送アーム１０４により液処理チャンバ２０内へウエハＷを搬入したり液処理チャンバ２０からウエハＷを搬出したりするための開口１１が設けられている。この開口１１には、当該開口１１を開閉するためのシャッタ１２が設けられている。
【００１４】
次に、本実施の形態による液処理装置１０の概略的な構成について図２および図３を用いて説明する。
【００１５】
図２に示すように、本実施の形態による液処理装置１０は、ウエハＷが収容され、この収容されたウエハＷの液処理が行われる液処理チャンバ２０と、液処理チャンバ２０の上方に設けられ、当該液処理チャンバ２０内に清浄な空気をダウンフローとして供給するエアフード８０と、を備えている。
【００１６】
このうち液処理チャンバ２０内には、ウエハＷを水平に保持して回転させるための基板保持部２１が設けられている。基板保持部２１に保持されたウエハＷの径方向周囲にはリング状のドレインカップ４６（後述）が設けられている。このドレインカップ４６は、ウエハＷの液処理を行う際に当該ウエハＷに供給された後の処理液を回収して排出するために設けられている。
【００１７】
次に、液処理装置１０の各構成要素の詳細について図３乃至図９を用いて説明する。
【００１８】
図３に示すように、基板保持部２１は、ウエハＷを水平に離間して保持するチャックベース（保持ベース）２２と、チャックベース２２上に昇降自在に設けられたリフトベース２３と、リフトベース２３上に設けられ、ウエハＷの下面を支持する複数のリフトピン２４と、チャックベース２２に回動自在に設けられた６つのチャック部材３１、３２（係合部材）と、を有している。
【００１９】
リフトベース２３は、後述するリフトロッド７１によって押し上げられて、チャックベース２２から離れて上昇する。すなわち、リフトベース２３は、チャックベース２２上に載置された下降位置と、この下降位置から上昇した上昇位置との間で昇降する。このうち、リフトベース２３が下降位置に位置付けられている場合、ウエハＷの周囲には、後述の回転カップ４５が位置付けられる（図３および図５参照）。また、図６に示すように、リフトベース２３が上昇位置に位置付けられている場合、ウエハＷは回転カップ４５よりも上方に位置付けられ、搬送アーム１０４（図１参照）によってウエハＷを搬入出する。なお、リフトピン２４は、周方向に等間隔で３つ設けられているが、図３においては、便宜上、２つのリフトピン２４のみを表示している。
【００２０】
６つのチャック部材３１、３２は、図４に示すように、ウエハＷの周方向に互いに交互に配置された３つの第１チャック部材３１および３つの第２チャック部材３２からなっている。これら３つの第１チャック部材３１または３つの第２チャック部材３２によって、ウエハＷは安定して保持される。なお、第１チャック部材３１および第２チャック部材３２は、ウエハＷの周方向に等間隔で配置されていることが好ましいが、ウエハＷを安定して保持可能であれば、等間隔に配置されることに限られない。
【００２１】
各チャック部材３１、３２は、ウエハＷの周縁部に係合する係合位置と当該ウエハＷを開放する開放位置との間で回動（移動）する。すなわち、各チャック部材３１、３２は、回動支点３１ａ、３２ａを中心に回動するようにチャックベース２２に取り付けられ、係合位置において、ウエハＷの側面に接触すると共にウエハＷの下面のうちの周縁側部分に接触してウエハＷに係合する。ここで、図３においては、左側に示した第１チャック部材３１が係合位置に位置付けられている状態を示し、右側に示した第２チャック部材３２が開放位置に位置付けられている状態を示している。また、各チャック部材３１、３２は、チャックベース２２の周縁部に形成された周縁貫通穴２２ａを介して上方に延びるように形成されている。なお、ウエハＷの周縁部にチャック部材３１、３２を係合させてウエハＷを保持している間、ウエハＷはリフトピン２４からわずかに離間している。
【００２２】
このような基板保持部２１は、ウエハＷと共に回転するように構成されている。すなわち、液処理装置１０は、液処理チャンバ２０に固定されたフレーム１３と、このフレーム１３に取り付けられ、基板保持部２１を回転駆動する回転駆動部２５（例えば、回転モータ）と、を有している。回転駆動部２５は円筒状の回転軸２６を含み、この回転軸２６はチャックベース２２に連結されており、チャックベース２２は回転駆動部２５によって回転する。また、リフトベース２３は、チャックベース２２上に載置された下降位置に位置付けられている場合、チャックベース２２と回転方向で係合して、チャックベース２２と共に回転する。このようにして、基板保持部２１に保持されたウエハＷは、水平に回転するように構成されている。
【００２３】
図３に示すように、基板保持部２１に保持されたウエハＷの上方に、当該ウエハＷの上面に処理液を供給する上面側処理液ノズル３５が設けられている。この上面側処理液ノズル３５はノズル支持アーム３７によって支持されている。また、上面側処理液ノズル３５に処理液供給部３８が連結されている。処理液供給部３８は、酸性処理液（例えば、希フッ酸（ＤＨＦ）など）、アルカリ性処理液（例えば、アンモニア水と過酸化水素を混合したアンモニア過水（ＳＣ１）など）およびリンス処理液（例えば、純水など）を選択的に上面側処理液ノズル３５に供給するように構成されている。
【００２４】
ノズル支持アーム３７には、上面側処理液ノズル３５に隣接して上面側乾燥ガスノズル３６が設けられている。この上面側乾燥ガスノズル３６に乾燥ガス供給部３９が連結されている。乾燥ガス供給部３９は、乾燥ガス（例えば、Ｎ２ガスなどの不活性ガス）を上面側乾燥ガスノズル３６に供給するように構成されている。
【００２５】
また、チャックベース２２に保持されたウエハＷの下方に、当該ウエハＷの下面に処理液または乾燥ガスを選択的に供給する昇降軸部材４０が設けられている。すなわち、昇降軸部材４０は、基板保持部２１に保持されたウエハＷの下面に処理液を供給する下面側処理液供給管４１と、当該ウエハＷの下面に乾燥ガスを供給する下面側乾燥ガス供給管４２と、を有している。このうち下面側処理液供給管４１には、上述した処理液供給部３８が連結されており、酸性処理液、アルカリ性処理液およびリンス処理液が、上面側処理液ノズル３５と同期して選択的に供給される。下面側乾燥ガス供給管４２には、上述した乾燥ガス供給部３９が連結されており、乾燥ガスが、上面側乾燥ガスノズル３６と同期して供給される。
【００２６】
昇降軸部材４０は、リフトベース２３の中央部に設けられた貫通穴およびチャックベース２２の中央部に設けられた貫通穴を通って、ウエハＷの下面に近接した位置に延びている。このようにして、下面側処理液供給管４１および下面側乾燥ガス供給管４２から、ウエハＷの下面に処理液または乾燥ガスが供給される。また、昇降軸部材４０は、後述するように、リフトベース２３と連動して昇降するように構成されている。すなわち、リフトベース２３が、後述するリフトロッド７１によって押し上げられる際、昇降軸部材４０も上昇する。
【００２７】
昇降軸部材４０の上端には、ヘッド部材４３が設けられている。このヘッド部材４３は、後述する空気供給路９０としての昇降筒部材５０から送られてくる空気の流れる向きを、ウエハＷの径方向に変えて、ウエハＷとリフトベース２３との間に形成されたウエハ下方空間９６に空気を供給する。このヘッド部材４３とリフトベース２３とにより、後述する空気供給路９０の供給口９２が形成されている。
【００２８】
基板保持部２１に保持されたウエハＷの径方向周囲には、リング状の回転カップ４５が配設されている。この回転カップ４５は、図示しない接続部により、チャックベース２２と一体的に回転する。また、回転カップ４５は、基板保持部２１により支持されたウエハＷを側方から囲っている。このため、回転カップ４５は、ウエハＷの液処理を行う際に、ウエハＷから側方に飛散した処理液を受けることができる。また、回転カップ４５は、上方に開口する回転カップ開口部４５ａを有しており、ウエハＷの搬入出の際に、ウエハＷは、リフトベース２３と共に回転カップ開口部４５ａを通って昇降する。
【００２９】
また、回転カップ４５の径方向周囲には、リング状のドレインカップ（回収カップ）４６が設けられている。このドレインカップ４６は、基板保持部２１の側方（より具体的には回転カップ４５の側方）に設けられており、ウエハＷから側方に飛散した処理液を回収する。すなわち、回転カップ４５とチャックベース２２との間の隙間から側方に飛散した処理液が、ドレインカップ４６によって回収される。なお、ドレインカップ４６は、液処理チャンバ２０内において、回転することなく、その位置が固定されている。
【００３０】
ドレインカップ４６の下方には、液処理チャンバ２０内の雰囲気を排出する排出部４７が設けられている。具体的には、液処理チャンバ２０内の雰囲気と共に、ドレインカップ４６により回収された処理液が、排出部４７にて排出される。排出部４７には気液分離部（図示せず）が接続されており、排出部４７から排出された処理液およびガスが分離されて排液および排気が行われる。
【００３１】
次に、チャック部材３１、３２を係合位置と開放位置との間で回動させる機構について説明する。
【００３２】
昇降筒部材５０は、下降位置と、下降位置より上方に位置する中間位置と、中間位置よりさらに上方に位置する上昇位置とに、位置付けられる。ここで、図３は、昇降筒部材５０が下降位置に位置付けられている状態を示し、図５は、昇降筒部材５０が中間位置に位置付けられている状態を示し、図６は、昇降筒部材５０が上昇位置に位置付けられている状態を示している。また、図７は、昇降筒部材５０が各位置に位置付けられた場合における昇降筒部材５０と、第１ローラ５５ａ（後述）および第２ローラ５６ａ（後述）との配置関係を示している。
【００３３】
すなわち、昇降筒部材５０は、第１チャック部材３１を係合位置に回動させる下降位置と、第２チャック部材３２を係合位置に回動させる中間位置との間で昇降する。さらに、昇降筒部材５０は、中間位置と上昇位置との間で昇降可能になっており、昇降筒部材５０が上昇位置に位置付けられている場合（図６参照）、第１チャック部材３１および第２チャック部材３２は、共に開放位置に位置付けられる。
【００３４】
図３および図７に示すように、昇降筒部材５０は、その外周面に設けられた、昇降筒部材５０の昇降方向において互いに異なる位置に配置された上側被当接部５１および下側被当接部５２を有している。概略的には、上側被当接部５１は、下側被当接部５２より上方に配置され、下側被当接部５２は、上側被当接部５１より下方に配置されている。また、上側被当接部５１および下側被当接部５２は、昇降筒部材５０の外周面に対して凹状に形成されている。なお、本実施の形態においては、凹状の上側被当接部５１は、昇降筒部材５０の上端まで延びており、図３においては段付状に示されている。さらに、上側被当接部５１および下側被当接部５２は、図８（ａ）、（ｂ）に示すように、第１チャック部材３１および第２チャック部材３２に対応する角度で、互いに離間して、周方向に等間隔にそれぞれ３つ設けられている。
【００３５】
一方、図３に示すように、各第１チャック部材３１に、昇降筒部材５０の外周面に当接した第１当接部５５が連結されている。第１当接部５５が上側被当接部５１に当接している場合、第１チャック部材３１は係合位置に回動すると共に、第２チャック部材３２は開放位置に回動する。詳細には、第１チャック部材３１にリンク部材５７の一端がリンクピン３１ｂにて結合されている。このリンクピン３１ｂは、第１チャック部材３１の回動支点３１ａの上方に配置されている。リンク部材５７の他端には、上述した第１当接部５５が連結されている。また、リンク部材５７は、後に詳述するように、バネ部材５８（図４参照）の付勢力によって、昇降筒部材５０の側に付勢されている。さらに、第１当接部５５は、昇降筒部材５０の外周面において昇降方向に転動自在な円筒状の第１ローラ５５ａを含んでいる。このような構成により、昇降筒部材５０の外周面に当接している第１当接部５５が、昇降筒部材５０の昇降によって凹状の上側被当接部５１に進出して当接した場合、リンク部材５７およびリンクピン３１ｂが昇降筒部材５０の側に移動して、第１チャック部材３１が回動支点３１ａを中心に（図３における時計方向に）回動して、係合位置に位置付けられる。
【００３６】
同様にして、各第２チャック部材３２に、昇降筒部材５０の外周面に当接した第２当接部５６が連結されている。第２当接部５６が下側被当接部５２に当接している場合、第１チャック部材３１は開放位置に回動すると共に、第２チャック部材３２は係合位置に回動する。詳細には、第２チャック部材３２にリンク部材５７の一端がリンクピン３２ｂにて結合されている。このリンクピン３２ｂは、第２チャック部材３２の回動支点３２ａの上方に配置されている。リンク部材５７の他端には、上述した第２当接部５６が連結されている。また、リンク部材５７は、後に詳述するように、バネ部材５８（図４参照）の付勢力によって、昇降筒部材５０の側に付勢されている。さらに、第２当接部５６は、昇降筒部材５０の外周面において昇降方向に転動自在な円筒状の第２ローラ５６ａを含んでいる。このような構成により、昇降筒部材５０の外周面に当接している第２当接部５６が、昇降筒部材５０の昇降によって凹状の下側被当接部５２に進出して当接した場合、リンク部材５７およびリンクピン３２ｂが昇降筒部材５０の側に移動して、第２チャック部材３２が回動支点３２ａを中心に（図３における反時計方向に）回動して、係合位置に位置付けられる（図５参照）。
【００３７】
第１ローラ５５ａおよび第２ローラ５６ａは、図４に示すように、圧縮バネとして機能するバネ部材（付勢力付与機構）５８によって昇降筒部材５０の側に付勢されている。すなわち、バネ部材５８の一端は、リンク部材５７に固定されたリンク側端部５７ａに連結され、他端は、チャックベース２２に固定されたベース側端部２２ｂに連結されている。このようにして、バネ部材５８は、リンク部材５７を介してローラ５５ａ、５６ａを昇降筒部材５０の側に付勢している。このことにより、各チャック部材３１、３２は、係合位置の側にそれぞれ付勢され、ウエハＷを保持する。
【００３８】
なお、図４に示すように、本実施の形態においては、各リンク部材５７には、一対のバネ部材５８が連結されており、これら一対のバネ部材５８の間にリンク部材５７が介在されている。このようにして、第１当接部５５、第２当接部５６およびリンク部材５７の移動をスムーズにし、第１チャック部材３１および第２チャック部材３２の回動をスムーズにしている。
【００３９】
このバネ部材５８の付勢力によって、昇降筒部材５０が下降位置に位置付けられている場合、図３および図７に示すように、第１ローラ５５ａが上側被当接部５１に進出し、３つの第１チャック部材３１が係合位置に位置付けられてウエハＷを保持する。この場合、第２ローラ５６ａは昇降筒部材５０の外周面に乗り上げ、第２チャック部材３２は開放位置に位置付けられる。
【００４０】
また、昇降筒部材５０が中間位置に位置付けられている場合、図５および図７に示すように、バネ部材５８の付勢力によって第２ローラ５６ａが下側被当接部５２に進出し、３つの第２チャック部材３２が係合位置に位置付けられてウエハＷを保持する。この場合、第１ローラ５５ａは昇降筒部材５０の外周面に乗り上げ、第１チャック部材３１は開放位置に位置付けられる。
【００４１】
さらに、昇降筒部材５０が上昇位置に位置付けられている場合、図６および図７に示すように、第１ローラ５５ａおよび第２ローラ５６ａは共に昇降筒部材５０の外周面に乗り上げ、第１チャック部材３１および第２チャック部材３２は共に開放位置に位置付けられる。
【００４２】
ところで、図７に示すように、昇降筒部材５０の上側被当接部５１の下部５１ａは、下側被当接部５２の上部５２ａと、昇降筒部材５０の昇降方向において同じ位置（高さ）に配置されている。このことにより、上側被当接部５１と下側被当接部５２とが昇降筒部材５０の昇降方向においてオーバーラップする領域を形成することができる。このため、ウエハＷに係合するチャック部材３１、３２を切り替える際（すなわち、昇降筒部材５０が下降位置から中間位置に上昇する場合または中間位置から下降位置に下降する場合）、第１ローラ５５ａおよび第２ローラ５６ａが対応する上側被当接部５１または下側被当接部５２に同時に進出した状態（図７における同時進出位置）となり、ウエハＷは、一時的に第１チャック部材３１および第２チャック部材３２によって保持される。このため、ウエハＷに係合するチャック部材３１、３２を切り替える際に、ウエハＷがリフトピン２４に載置されることを防止すると共に第１チャック部材３１および第２チャック部材３３のいずれによってもウエハＷが保持されない状態を回避することができ、チャック部材３１、３２の切替をスムーズに行うことができる。なお、上側被当接部５１の下部５１ａが、下側被当接部５２の上部５２ａより下方に配置されて、上側被当接部５１と下側被当接部５２とが昇降筒部材５０の昇降方向においてオーバーラップする領域を増大させてもよい。
【００４３】
昇降筒部材５０は、昇降シリンダ（昇降駆動部）６０によって昇降するように構成されている。すなわち、昇降シリンダ５０は、図３に示すように、フレーム１３に固定された昇降シリンダ６０に、昇降連結部材６１を介して連結されており、昇降連結部材６１を介して昇降する。また、上述した昇降軸部材４０は、円筒状の昇降筒部材５０の内側を通って延びており、昇降筒部材５０は、昇降軸部材４０に対しても昇降自在に構成されている。
【００４４】
昇降筒部材５０には、回転駆動部２５の回転軸２６が連結されている。具体的には、図９に示すように、回転軸２６の下端部に回転軸フランジ６５が固定され、この回転軸フランジ６５から複数の嵌合ピン６６が下方に延びている。昇降筒部材５０には昇降筒フランジ６７が固定され、この昇降筒フランジ６７に、嵌合ピン６６が摺動自在に嵌合する嵌合穴６８が設けられている。各嵌合ピン６６が昇降筒フランジ６７の嵌合穴６８に嵌合することにより、昇降筒部材５０は回転軸２６と共に回転し、各嵌合ピン６６が対応する嵌合穴６８内を摺動することにより、昇降筒部材５０は回転軸２６に対して昇降する。このようにして、昇降筒部材５０は、回転軸２６を介して基板保持部２１と共に回転駆動すると共に回転軸２６に昇降自在に連結されている。また、昇降連結部材６１は、ベアリング６２を用いて昇降筒部材５０に連結されており、昇降筒部材５０と共に回転することはなく、昇降筒部材５０は昇降連結部材６１に対して回転自由になっている。
【００４５】
昇降連結部材６１には昇降ガイド部材６３が設けられている。この昇降ガイド部材６３は、フレーム１３に固定されたガイドレール１４に案内されて当該ガイドレール１４に沿って昇降する。このことにより、昇降筒部材５０は、鉛直方向にスムーズに昇降できる。
【００４６】
なお、本実施の形態においては、図５に示すように、昇降筒部材５０が中間位置にある場合、昇降連結部材６１の上面が、後述するリフト連結部材７２の下面に当接している。この場合、昇降シリンダ６０の上昇力が、後述するリフトシリンダ７０によって抑えられて、昇降連結部材６１に連結された昇降筒部材５０が必要以上に上昇することを防止している。
【００４７】
次に、リフトベース２３を押し上げる機構について説明する。
【００４８】
リフトベース２３は、フレーム１３に固定されたリフトシリンダ（リフト駆動部）７０によって昇降するように構成されている。すなわち、リフトシリンダ７０によってリフトロッド７１が押し上げられて、リフトベース２３がチャックベース２２から離れて上昇する。このリフトロッド７１は、リフトシリンダ７０にリフト連結部材７２を介して連結されている。より具体的には、リフトロッド７１の下端はリフト連結部材７２に固定され、リフトロッド７１の上端はリフトベース２３の下面に当接自在になっている。すなわち、リフトベース２３が下降位置に位置付けられている場合、リフトロッド７１の上端は、リフトベース２３の下面から離間しているが、リフトベース２３をチャックベース２２から上昇させる際にリフトベース２３の下面に当接する。また、リフトロッド７１は、チャックベース２２に設けられた貫通穴を通って上方に延びている。このようにして、リフトシリンダ７０は、リフトロッド７１を介して、リフトベース２３をチャックベース２２から上昇させる。
【００４９】
また、リフト連結部材７２は、後述する空気供給路９０の昇降供給管９４に連結され、この昇降供給管９４には昇降軸部材４０が固定されている。このようにして、リフトシリンダ７０は、リフトベース２３を上昇させる際、リフト連結部材７２および昇降供給管９４を介して昇降軸部材４０を、その上端部に設けられたヘッド部材４３と共に上昇させる。なお、昇降供給管９４と昇降筒部材５０とは、互いに昇降自由になっている。すなわち、昇降筒部材５０の内面に、昇降供給管９４の外面が摺動自在に嵌合している。このことにより、昇降筒部材５０は、昇降供給管９４に対して昇降自由かつ回転自由に構成されている。
【００５０】
なお、リフト連結部材７２には、リフトガイド部材７３が設けられている。このリフトガイド部材７３は、上述したガイドレール１４に案内されて当該ガイドレール１４に沿って昇降する。このことにより、リフトロッド７１とリフトベース２３が鉛直方向にスムーズに昇降できる。
【００５１】
次に、図２を用いて、エアフード８０について説明する。
【００５２】
エアフード８０には、基板保持部２１に保持されたウエハＷの上方に設けられ、ウエハＷに向かって空気を送り込む（供給する）ファン（空気供給部）８１が設けられている。また、エアフード８０内において、ファン８１の下方にフィルタ部材８２が設けられている。このフィルタ部材８２は、ファン８１から送り込まれた空気から塵埃などを取り除いて空気を清浄化する。フィルタ部材８２には、ＵＬＰＡフィルタ（Ultra Low Penetration Air Filter）を用いることが好適である。また、フィルタ部材８２の下方には、整流部材８３が離間して設けられている。この整流部材８３は、フィルタ部材８２により清浄化された空気を整流して、ウエハＷへのダウンフローを形成する。整流部材８３には、複数の開口８３ａを有するパンチング板を用いることが好適である。
【００５３】
次に、ウエハＷとリフトベース２３との間に形成されたウエハ下方空間９６に空気を供給する空気供給路９０について説明する。
【００５４】
図２に示すように、基板保持部２１に保持されたウエハＷの下面とリフトベース２３との間に形成されたウエハ下方空間９６に、ファン８１から供給された空気を吸引して供給する空気供給路９０が設けられている。ウエハＷが回転している間、遠心力によってウエハ下方空間９６の圧力が低下して負圧になることから、このウエハ下方空間９６の圧力と吸引口９１（後述）における圧力との差によって、ファン８１から供給された空気が、空気供給路９０によって吸引されてウエハ下方空間９６に供給される。
【００５５】
本実施の形態においては、空気供給路９０は、フィルタ部材８２と整流部材８３との間に形成された空気供給空間９５の空気を吸引するように構成されている。すなわち、空気供給路９０は、空気供給空間９５に配置され、空気供給空間９５の空気を吸引する吸引口９１と、ウエハ下方空間９６に配置され、吸引口９１から吸引された空気をウエハ下方空間９６に供給する供給口９２と、を有している。また、吸引口９１は、平面視で（図２において、ウエハＷを上方から見た場合）、ドレインカップ４６の外側に配置されている。
【００５６】
また、本実施の形態においては、図２および図３に示すように、空気供給路９０は、一端に吸引口９１が設けられたチャンバ側供給管９３と、チャンバ側供給管９３に連結された昇降自在な上述の昇降供給管９４と、円筒状の回転軸２６の内側を通る円筒状の昇降筒部材５０（貫通供給管）と、昇降軸部材４０の上端に設けられたヘッド部材４３とにより主に構成されている。すなわち、吸引口９１から吸引された空気は、チャンバ側供給管９３、昇降供給管９４および昇降筒部材５０を通って供給口９２に送られる。なお、チャンバ側供給管９３は、昇降供給管９４の昇降に追従できるように柔軟性を有している。
【００５７】
チャンバ側供給管９３は、空気供給空間９５から、液処理チャンバ２０の内部を通って当該液処理チャンバ２０の外部に抜けるように形成されている。そして、チャンバ側供給管９３のうちエアフード８０内の部分および液処理チャンバ２０内の部分は、平面視で、ドレインカップ４６の外側に配置されている。このようにして、ドレインカップ４６の上方の領域には、チャンバ側供給管９３が配置されることを防止し、ドレインカップ４６で囲まれる領域に供給される清浄な空気のダウンフローが乱れることを防止している。
【００５８】
上述したように、昇降供給管９４の内側および昇降筒部材５０の内側には、ウエハＷの下面に処理液を供給する下面側処理液供給管４１を有する昇降軸部材４０が設けられている。昇降供給管９４の内面および昇降筒部材５０の内面と昇降軸部材４０の外面との間に形成された空間が供給される空気の流路となっている。
【００５９】
図３に示すように、昇降筒部材５０の内面には、昇降筒部材５０の内側を通る空気に旋回流を発生させる羽根（旋回流発生機構）９７が設けられている。昇降筒部材５０はウエハＷと共に回転するため、ウエハＷが回転している間、羽根９７は回転する。このことにより、昇降筒部材５０の内側を通る空気に旋回流を発生させ、ウエハ下方空間９６に強制的に空気を送り込むことができ、ウエハ下方空間９６に供給される空気の流量を増大させることができる。このため、ウエハ下方空間９６の圧力が過剰に低下することを抑制することができる。とりわけ、ウエハＷの回転数が増大するにつれて、遠心力によってウエハ下方空間９６の圧力が低下する傾向にあるが、ウエハＷの回転数に応じて旋回流を強めてウエハ下方空間９６に供給される空気の流量を強制的に増大させることができ、ウエハ下方空間９６の圧力が過剰に低下することをより一層抑制できる。
【００６０】
また、空気供給路９０の供給口９２は、昇降軸部材４０の上端に設けられたヘッド部材４３とリフトベース２３とにより形成されている。このヘッド部材４３により、昇降筒部材５０から送られてくる空気の流れる向きを、ウエハＷの径方向に変えてウエハ下方空間９６に空気を供給する。
【００６１】
昇降供給管９４は、上述したように、リフト連結部材７２に連結されており、リフトシリンダ７０によって昇降する。また、昇降供給管９４は、上述したように、昇降筒部材５０に対して昇降自由になっている。このようにして、昇降供給管９４は、リフトベース２３と共に昇降する。
【００６２】
また、空気供給路９０の吸引口９１の流路断面積は、供給口９２の流路断面積（とりわけ供給口９２における最小流路断面積）と同一となっている。このことにより、圧力損失による空気の流量の低下を防止することができると共に、吸引口９１の周囲の雰囲気の流れが乱れることを抑制することができる。なお、同一とは、厳密な意味での同一という意味に限られることはなく、同一とみなすことができる程度の製造誤差等を含む意味として用いている。
【００６３】
また、図２に示すように、液処理装置１０は、その全体の動作を統括制御するコントローラ（制御部）２００を有している。コントローラ２００は、液処理装置１０の全ての機能部品（例えば、基板保持部２１、回転駆動部２５、昇降シリンダ６０、リフトシリンダ７０、ファン８１等）の動作を制御する。コントローラ２００は、ハードウエアとして例えば汎用コンピュータと、ソフトウエアとして当該コンピュータを動作させるためのプログラム（装置制御プログラムおよび処理レシピ等）とにより実現することができる。ソフトウエアは、コンピュータに固定的に設けられたハードディスクドライブ等の記憶媒体に格納されるか、あるいはＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ、フラッシュメモリ等の着脱可能にコンピュータにセットされる記憶媒体に格納される。このような記憶媒体が図２において参照符号２０１で示されている。プロセッサ２０２は必要に応じて図示しないユーザーインターフェースからの指示等に基づいて所定の処理レシピを記憶媒体２０１から呼び出して実行させ、これによってコントローラ２００の制御の下で液処理装置１０の各機能部品が動作して所定の処理が行われる。コントローラ２００は、図１に示す液処理システム１００全体を制御するシステムコントローラであってもよい。  
【００６４】
次に、上述した液処理装置１０を用いたウエハＷの洗浄処理方法について、図１０を用いて説明する。以下に示す洗浄処理の一連の工程は、コントローラ２００が液処理装置１０の各機能部品の動作を制御することにより行われる。
【００６５】
まず、液処理チャンバ２１内の基板保持部２１にウエハＷが保持される（ステップＳ１）。
【００６６】
この場合、まず、リフトシリンダ７０によって、リフトロッド７１を介してリフトベース２３が上昇位置に上昇する。このことにより、リフトベース２３が、回転カップ４５およびドレインカップ４６よりも上方に位置付けられる。この場合、リフトベース２３と共に昇降供給管９４および昇降軸部材４０が上昇し、昇降筒部材５０が上昇位置に上昇する。また、液処理チャンバ２０の開口１１（図１参照）に設けられたシャッタ１２が開けられる。
【００６７】
続いて、液処理装置１０の外部から、ウエハＷが搬送アーム１０４により開口１１を通って液処理チャンバ２０内に搬入される。搬入されたウエハＷは、リフトベース２３上のリフトピン２４に移載される。リフトピン２４にウエハＷが載置された後、搬送アーム１０４はチャンバ２０から退避する。
【００６８】
次いで、ファン８１から空気の供給が開始される。このことにより、エアフード８０から液処理チャンバ２０内に清浄化された空気がダウンフローで供給される。すなわち、ファン８１から送り込まれた空気が、フィルタ部材８２によって清浄化されて、整流部材８３によってダウンフローとしてウエハＷに向けて供給される。この供給された空気が排出部４７で排気されることにより、液処理チャンバ２０内の雰囲気の置換が行われる。なお、以下に示す各工程においても、エアフード８０から清浄化された空気の供給が続けられ、液処理チャンバ２０内に、酸性処理液のミスト、またはアルカリ性処理液のミストが滞留することを防止している。
【００６９】
次に、リフトシリンダ７０によって、リフトベース２３を下降位置に下降する。このことにより、リフトベース２３がチャックベース２２に載置される。その後、リフトシリンダ７０が駆動され続けて、リフトロッド７１およびリフト連結部材７２が更に下降する。このことにより、リフトロッド７１の上端がリフトベース２３の下面から離間する。
【００７０】
リフトベース２３が下降する際、昇降筒部材５０は中間位置に下降する。すなわち、リフトベース２３が下降している間、その途中のタイミングで、リフト連結部材７２の下面が昇降連結部材６１の上面に当接し、リフトシリンダ７０によって、リフト連結部材７２と共に昇降連結部材６１が下降する。このことにより、昇降筒部材５０が上昇位置から中間位置に下降する。この際、第２チャック部材３２に連結された第２ローラ５６ａが、バネ部材５８の付勢力によって昇降筒部材５０の凹状の下側被当接部５２に進出して当接する。このことにより、第２チャック部材３２が開放位置から係合位置に回動してウエハＷの周縁部にそれぞれ係合し、ウエハＷがリフトピン２４から第２チャック部材３２に受け渡される。
【００７１】
基板保持部２１の第２チャック部材３２にウエハＷが保持された後、回転駆動部２５によって、基板保持部２１のチャックベース２２の回転を開始し、ウエハＷの回転速度が所定の回転速度となるまで加速される。このようにして、３つの第２チャック部材３２により保持されているウエハＷが所定の回転速度で回転する。この際、チャックベース２２は、回転軸２６を介して回転駆動部２５により回転駆動され、チャックベース２２上に載置されているリフトベース２３も回転し、回転軸２６に連結されている昇降筒部材５０も同期して回転する。
【００７２】
ウエハＷを保持した基板保持部２１が回転すると、遠心力によりウエハＷの下面とリフトベース２３との間に形成されたウエハ下方空間９６から空気がウエハＷの径方向周囲に排出され、当該ウエハ下方空間９６の圧力が低下する。このため、空気供給路９０の吸引口９１において、エアフード８０内のフィルタ部材８２と整流部材８３との間に形成された空気供給空間９５から清浄化された空気が、必要量吸引される。吸引された空気は、チャンバ側供給管９３、昇降供給管９４および昇降筒部材５０を通って供給口９２に流れ、当該供給口９２からウエハ下方空間９６に供給される。このようにして、ウエハ下方空間９６の圧力が過剰に低下することが抑制される。とりわけ、本実施の形態によれば、昇降筒部材５０の内面に羽根９７が設けられていることから、ウエハＷの回転数に応じてウエハ下方空間９６に供給される空気の流量を強制的に増大させることができ、ウエハ下方空間９６の圧力が過剰に低下することをより一層抑制することができる。なお、ウエハ下方空間９６の圧力は、過剰に低下していなければよく、ウエハＷが撓んだり破損したりしない程度に微負圧になっていることが好ましい。このことにより、回転しているウエハＷをウエハ下方空間９６の側に引き寄せることができ、チャック部材３１、３２によって安定して保持することができる。また、以下に示す各工程においても、ウエハＷが回転している間、ウエハＷの回転数に応じて、空気供給路９０によってウエハ下方空間９６に清浄化された空気の供給が続けられる。
【００７３】
ウエハＷの回転速度が所定の回転速度に達した後、ウエハＷの酸性処理（酸性処理液による液処理を、便宜上、酸性処理として記す）が行われる（ステップＳ２）。すなわち、ウエハＷが所定の回転速度で回転した状態で、処理液供給部３８から上面側処理液ノズル３５および下面側処理液供給管４１に酸性処理液が送られて、上面側処理液ノズル３５からウエハＷの上面に酸性処理液が供給されると共に、下面側処理液供給管４１から当該ウエハＷの下面に酸性処理液が供給され、ウエハＷが酸性処理される。ウエハＷの上面および下面に供給された酸性処理液は、ウエハＷの回転により生じる遠心力によってウエハＷの径方向周囲に飛散し、回転カップ４５によって受けられる。回転カップ４５によって受けられた酸性処理液は、回転カップ４５とチャックベース２２との間の隙間を通って径方向周囲に流れ、ドレインカップ４６によって回収される。回収された酸性処理液は、液処理チャンバ２０内の雰囲気と共に排出部４７に送られて排出される。
【００７４】
ウエハＷの酸性処理が行われている間、ウエハＷを保持するチャック部材３１、３２が切り替えられる。すなわち、ウエハＷが第２チャック部材３２により保持された状態で、所定時間、酸性処理が行われ、その後、ウエハＷを保持するチャック部材３１、３２が第１チャック部材３１に切り替えられて、所定時間、酸性処理が行われる。
【００７５】
この場合、昇降シリンダ６０によって、昇降筒部材５０が中間位置から下降位置に下降する。この際、第１チャック部材３１に連結された第１ローラ５５ａが、バネ部材５８の付勢力によって昇降筒部材５０の上側被当接部５１に進出して当接する。このことにより、第１チャック部材３１が開放位置から係合位置に回動してウエハＷの周縁部にそれぞれ係合する。一方、第２チャック部材３２に対応する下側被当接部５２に進出していた第２ローラ５６ａは、昇降筒部材５０の円筒状の外周面に乗り上げて後退し、第２チャック部材３２は、係合位置から開放位置に回動し、ウエハＷの周縁部をそれぞれ開放する。このことにより、ウエハＷを保持するチャック部材３１、３２が切り替わり、切り替わった３つの第１チャック部材３１によってウエハＷが水平状態で保持される。このため、３つの第２チャック部材３２によって覆われていたウエハＷの領域が露出され、当該領域とその周辺領域においても酸性処理が行われる。なお、ウエハＷが第２チャック部材３２により保持された状態で酸性処理が行われる時間と、ウエハＷが第１チャック部材３１により保持された状態で酸性処理が行われる時間は、同等にすることが好ましい。このことにより、ウエハＷの酸性処理をより一層均一化させることができる。
【００７６】
ところで、ウエハＷを保持するチャック部材３１、３２が切り替わる際、一時的に第１チャック部材３１および第２チャック部材３２によってウエハＷは保持される。すなわち、昇降筒部材５０の上側被当接部５１の下部５１ａが、下側被当接部５２の上部５２ａと昇降方向において同じ位置（高さ）に配置されていることから、昇降筒部材５０の下降に伴い、下側被当接部５２に進出していた第２ローラ５６ａが昇降筒部材５０の外周面に乗り上げる前に、第１ローラ５５ａが当該上側被当接部５１に進出する。このことにより、一時的に第１チャック部材３１および第２チャック部材３２が、共に係合位置に位置付けられる。その後、昇降筒部材５０がさらに下降することにより、第２ローラ５６ａが昇降筒部材５０の外周面に乗り上げ、第２チャック部材３２が係合位置から開放位置に回動する。このようにして、ウエハＷを保持するチャック部材３１、３２が切り替えられる。
【００７７】
ウエハＷの酸性処理が終了した後、ウエハＷはリンス処理される（ステップＳ３）。この場合、処理液供給部３８から上面側処理液ノズル３５および下面側処理液供給管４１に純水が送られて、上面側処理液ノズル３５からウエハＷの上面に純水が供給されると共に、下面側処理液供給管４１からウエハＷの下面に純水が供給される。
【００７８】
ウエハＷのリンス処理が行われている間、ウエハＷを保持するチャック部材３１、３２が切り替えられる。すなわち、ウエハＷが第１チャック部材３１により保持された状態で、所定時間、リンス処理が行われ、その後、ウエハＷを保持するチャック部材３１、３２が第２チャック部材３２に切り替えられて、所定時間、リンス処理が行われる。
【００７９】
この場合、昇降シリンダ６０によって、昇降筒部材５０が下降位置から中間位置に上昇する。この際、第２チャック部材３２に連結された第２ローラ５６ａが、バネ部材５８の付勢力によって昇降筒部材５０の下側被当接部５２に進出して当接する。このことにより、第２チャック部材３２が開放位置から係合位置に回動してウエハＷの周縁部にそれぞれ係合する。一方、第１チャック部材３１に対応する上側被当接部５１に進出していた第１ローラ５５ａは、昇降筒部材５０の円筒状の外周面に乗り上げて後退し、第１チャック部材３１は、係合位置から開放位置に回動し、ウエハＷの周縁部をそれぞれ開放する。このことにより、切り替わった３つの第２チャック部材３２によってウエハＷが水平状態で保持される。このため、ウエハＷを保持するチャック部材３１、３２が切り替わり、３つの第１チャック部材３１によって覆われていたウエハＷの領域が露出され、当該領域とその周辺領域においてもリンス処理が行われる。なお、ウエハＷが第１チャック部材３１により保持された状態でリンス処理が行われる時間と、ウエハＷが第２チャック部材３２により保持された状態でリンス処理が行われる時間は、同等にすることが好ましい。このことにより、ウエハＷのリンス処理をより一層均一化させることができる。
【００８０】
ところで、ウエハＷを保持するチャック部材３１、３２が切り替わる際、昇降筒部材５０が中間位置から下降位置に下降する場合と同様に、一時的に第１チャック部材３１および第２チャック部材３２によってウエハＷは保持される。すなわち、昇降筒部材５０の上昇に伴い、上側被当接部５１に進出していた第１ローラ５５ａが昇降筒部材５０の外周面に乗り上げる前に、第２ローラ５６ａが当該下側被当接部５２に進出する。このことにより、一時的に第１チャック部材３１および第２チャック部材３２が、共に係合位置に位置付けられる。その後、昇降筒部材５０がさらに上昇することにより、第１ローラ５５ａが昇降筒部材５０の外周面に乗り上げ、第１チャック部材３１が係合位置から開放位置に回動する。このようにして、ウエハＷを保持するチャック部材３１、３２が切り替えられる。
【００８１】
ウエハＷのリンス処理が終了した後、ウエハＷはアルカリ性処理（アルカリ性処理液による液処理を、便宜上、アルカリ性処理として記す）される（ステップＳ４）。この場合、処理液供給部３８から酸性処理と同様にして、上面側処理液ノズル３５を介してウエハＷの上面にアルカリ性処理液が供給されると共に、下面側処理液供給管４１を介してウエハＷの下面にアルカリ性処理液が供給される。ウエハＷの上面および下面に供給されたアルカリ性処理液は、ドレインカップ４６により回収されて、排出部４７に送られて排出される。
【００８２】
ウエハＷのアルカリ性処理が行われている間、上述した酸性処理と同様にして、昇降筒部材５０が中間位置から下降位置に下降して、ウエハＷを保持しているチャック部材が、第２チャック部材３２から第１チャック部材３１に切り替えられる。このことにより、３つの第２チャック部材３２によって覆われていたウエハＷの領域が露出され、当該領域とその周辺領域においてもアルカリ性処理が行われるようになる。
【００８３】
続いて、ステップＳ３と同様にして、ウエハＷがリンス処理される（ステップＳ５）。
【００８４】
ウエハＷのリンス処理が終了した後、ウエハＷは乾燥処理される（ステップＳ６）。この場合、乾燥ガス供給部３９から上面側乾燥ガスノズル３６を介してウエハＷの上面に乾燥ガスが供給されると共に、下面側乾燥ガス供給管４２を介してウエハＷの下面に乾燥ガスが供給される。ウエハＷの上面および下面に供給された乾燥ガスは、酸性処理液およびアルカリ性処理液と同様に、ドレインカップ４６により回収されて、排出部４７に送られて排出される。
【００８５】
ウエハＷの乾燥処理が行われている間、上述した酸性処理およびアルカリ性処理と同様にして、昇降筒部材５０が中間位置から下降位置に下降して、ウエハＷを保持しているチャック部材３１、３２が、第２チャック部材３２から第１チャック部材３１に切り替えられる。このことにより、３つの第２チャック部材３２によって覆われていたウエハＷの領域が露出され、当該領域とその周辺領域においても乾燥処理が行われるようになる。
【００８６】
ウエハＷの乾燥処理が終了した後、ウエハＷの回転速度を減速して、ウエハＷの回転を停止する。このことにより、ウエハ下方空間９６の圧力が、液処理チャンバ２０内の圧力の負圧状態が解消され、空気供給路９０によるウエハ下方空間９６への空気の供給は停止する。
【００８７】
その後、ウエハＷが基板保持部２１から取り出されて液処理チャンバ２０から搬出される（ステップＳ７）。
【００８８】
この場合、まず、昇降シリンダ６０によって、昇降筒部材５０が下降位置から中間位置に上昇する。次に、昇降シリンダ６０およびリフトシリンダ７０によって、リフトベース２３が、その下降位置から上昇位置に上昇すると共に、昇降筒部材５０が、その中間位置から上昇位置に上昇する。このことにより、ウエハＷは、チャック部材３１、３２から開放されて、リフトピン２４上に載置される。また、ウエハＷは、リフトベース２３の上昇に伴い回転カップ４５およびドレインカップ４６より上方に位置付けられる。そして、液処理チャンバ２０の開口１１（図１参照）に設けられたシャッタ１２が開けられる。その後、開口１１を介して液処理装置１０の外部から搬送アーム１０４が液処理チャンバ２０内に入り、リフトピン２４に載置されているウエハＷが搬送アーム１０４に移載され、ウエハＷは液処理装置１０の外部に搬出される。このようにして、本実施の形態による一連のウエハＷの液処理が完了する。
【００８９】
このように本実施の形態によれば、各処理工程（酸性処理工程、アルカリ性処理工程、リンス処理工程、乾燥処理工程）において、昇降筒部材５０が昇降することにより、ウエハＷを保持するチャック部材３１、３２が切り替えられる。このことにより、ウエハＷのうち切替前にウエハＷを保持していたチャック部材３１、３２と接触していた領域が露出され、当該領域においても各種処理を行うことができる。とりわけ、ウエハＷの当該領域がチャック部材３１、３２に接触している間、当該領域の周辺領域も各種処理が困難になっているが、上述のようにウエハＷを保持するチャック部材３１、３２を切り替えることにより、当該周辺領域にも各種処理を行うことができる。このため、ウエハＷに、各種処理が行われない未処理領域が形成されることを防止し、ウエハＷの各種処理を均一化させることができる。
【００９０】
また、本実施の形態によれば、チャック部材３１、３２の切替を、昇降筒部材５０を昇降させることによって行うことができる。このことにより、チャック部材３１、３２の切替を、任意のタイミングで行うことができる。
【００９１】
また、本実施の形態によれば、昇降筒部材５０の上側被当接部５１および下側被当接部５２は、昇降筒部材５０の外周面に対して凹状に形成されている。このことにより、昇降筒部材５０の機械加工を簡素化することができる。
【００９２】
また、本実施の形態によれば、上側被当接部５１の下部５１ａは、下側被当接部５２の上部５２ａと、昇降筒部材５０の昇降方向において同じ位置に配置されている。このことにより、ウエハＷに係合するチャック部材３１、３２を切り替える際、第１ローラ５５ａおよび第２ローラ５６ａが対応する上側被当接部５１または下側被当接部５２に同時に進出した状態となり、ウエハＷを、一時的に第１チャック部材３１および第２チャック部材３２によって保持することができる。このため、ウエハＷに係合するチャック部材３１、３２を切り替える際に、ウエハＷが第１チャック部材３１および第２チャック部材３２のいずれにも保持されない状態を回避してウエハＷがリフトピン２４に載置されることを防止し、チャック部材３１、３２の切替をスムーズに行うことができる。また、ウエハＷの回転を止めることなく、チャック部材３１、３２の切替を行うことができ、ウエハＷの液処理の効率が低下することを防止できる。
【００９３】
また、本実施の形態によれば、第１チャック部材３１に連結された第１当接部５５は、昇降筒部材５０の昇降方向に転動自在な第１ローラ５５ａを含んでいる。このことにより、第１当接部５５が昇降筒部材５０の昇降にスムーズに追従することができる。このため、第１チャック部材３１がスムーズに回動することができる。同様にして、第２チャック部材３２に連結された第２当接部５６は、昇降筒部材５０の昇降方向に転動自在な第２ローラ５６ａを含んでいることにより、第２当接部５６が昇降筒部材５０の昇降にスムーズに追従することができ、第２チャック部材３２がスムーズに回動することができる。この結果、チャック部材３１、３２を切り替える際、チャック部材３１、３２によりウエハＷに衝撃が与えられることを防止し、ウエハＷの周縁部が、第１チャック部材３１または第２チャック部材３２の回動によって破損することを防止できる。
【００９４】
また、本実施の形態によれば、昇降筒部材５０は円筒状に形成されている。このことにより、ウエハＷの下面に処理液を供給するための下面側処理液供給管４１を、昇降筒部材５０の内側に通すことができる。このため、ウエハＷの下面を液処理すると共に、ウエハＷに未処理領域が形成されることを防止できる。
【００９５】
また、本実施の形態によれば、昇降筒部材５０は、基板保持部２１と共に回転する。このことにより、第１チャック部材３１および第２チャック部材３２の係合位置または開放位置を維持することができる。すなわち、昇降筒部材５０の上側被当接部５１または下側被当接部５２に進出し、第１チャック部材３１および第２チャック部材３２と共に回転している第１ローラ５５ａまたは第２ローラ５６ａを、その進出状態に維持することができる。このため、回転しているウエハＷを確実に保持することができる。
【００９６】
また、本実施の形態によれば、ウエハＷが回転している間、遠心力によって、ウエハＷとリフトベース２３との間に形成されたウエハ下方空間９６の圧力が低下して負圧になり、エアフード８０内のフィルタ部材８２と整流部材８３との間に形成された空気供給空間９５と、ウエハ下方空間９６の圧力との差によって、空気供給路９０により、空気供給空間９５から清浄化された空気を吸引して、ウエハ下方空間９６に供給することができる。このことにより、ウエハ下方空間９６の圧力が過剰に低下することを抑制でき、当該ウエハ下方空間９６の圧力低下によってウエハＷが撓んだりまたは破損したりすることを抑制できる。すなわち、ウエハ下方空間９６の圧力が低下すると、ウエハＷが撓んだり破損したりする可能性があるが、本実施の形態によれば、当該ウエハ下方空間９６の圧力が過剰に低下することを抑制しているため、ウエハＷの撓みおよび破損を防止できる。また、このように、ウエハ下方空間９６の圧力が過剰に低下することを抑制するために、ファン８１から液処理チャンバ２０に供給される空気を用いているため、ウエハＷの撓みおよび破損を防止するためのランニングコストを、例えば、Ｎ２ガスなどを用いる場合に比べて、確実に低減させることができる。この結果、ウエハＷの撓みおよび破損を低ランニングコストで防止することができる。
【００９７】
また、本実施の形態によれば、空気供給路９０の吸引口９１が、平面視で、ドレインカップ４６の外側に配置されている。このことにより、液処理チャンバ２０内のドレインカップ４６で囲まれる領域に供給される清浄な空気のダウンフローが乱れることを防止できる。このため、清浄化された空気を効率良くウエハＷに向けて供給することができ、液処理チャンバ２０内の雰囲気を効率良く置換することができる。
【００９８】
また、本実施の形態によれば、空気供給路９０の吸引口９１の流路断面積は、供給口９２の流路断面積と同一になっている。このことにより、圧力損失による空気の流量の低下を防止することができると共に、吸引口９１の周囲の雰囲気の流れが乱れることを抑制できる。このため、清浄化された空気を効率良くウエハＷに向けて供給することができ、液処理チャンバ２０内の雰囲気を効率良く置換することができる。
【００９９】
また、本実施の形態によれば、空気供給路９０は、回転駆動部２５の円筒状の回転軸２６の内側を通っている。このことにより、ウエハ下方空間９６において、最も圧力が低下する傾向にある略中央部分に空気を供給することができ、ウエハ下方空間９６の圧力が過剰に低下することを効果的に抑制することができる。
【０１００】
また、本実施の形態によれば、空気供給路９０の昇降供給管９４の内側に、ウエハＷの下面に処理液を供給するための下面側処理液供給管４１が設けられている。このことにより、ウエハＷの下面を液処理すると共に、ウエハ下方空間９６の圧力が過剰に低下することを抑制してウエハＷの撓みおよび破損を防止できる。
【０１０１】
また、本実施の形態によれば、昇降筒部材５０の内側に、ウエハＷの下面に処理液を供給するための下面側処理液供給管４１が設けられている。このため、ウエハＷの下面を液処理すると共に、ウエハＷの撓みおよび破損を防止できる。
【０１０２】
さらに、本実施の形態によれば、昇降筒部材５０の内面に、昇降筒部材５０を通る空気に旋回流を発生させる羽根９７が設けられている。このことにより、ウエハＷの回転数に応じて旋回流を強め、ウエハ下方空間９６に供給される空気の流量を強制的に増大させることができる。このため、ウエハ下方空間９６の圧力が過剰に低下することをより一層抑制することができる。
【０１０３】
なお、本実施の形態による液処理装置は、上記の態様に限定されるものではなく、様々な変更を加えることができる。
【０１０４】
例えば、本実施の形態においては、上側被当接部５１および下側被当接部５２が、昇降筒部材５０の外周面に対して凹状に形成されている例について説明したが、このことに限られることはなく、上側被当接部５１および下側被当接部５２は、昇降筒部材５０の外周面に対して凸状に形成されていてもよい。この場合、例えば、チャック部材３１、３２とリンク部材５７とを連結しているリンクピン３１ｂ、３２ｂを、チャック部材３１、３２の回動支点３１ａ、３２ａの下方に配置させることにより、上側被当接部５１（または下側被当接部５２）により、対応する第１当接部５５（または第２当接部５６）を後退させて、第１チャック部材３１（または第２チャック部材３２）を開放位置から係合位置に回動させることができる。
【０１０５】
また、本実施の形態においては、各処理工程において、ウエハＷを保持するチャック部材３１、３２が１回切り替わる例について説明した。このことに限られることはなく、ウエハＷを保持するチャック部材３１、３２は、複数回切り替わるようにしてもよい。また、酸性処理、アルカリ性処理および乾燥処理においては、初めに第２チャック部材３２によってウエハＷを保持して、その後にウエハＷを保持するチャック部材３１、３２が第２チャック部材３２から第１チャック部材３１に切り替わる例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、初めに第１チャック部材３１によってウエハＷを保持して、その後に第１チャック部材３１から第２チャック部材３２に切り替わるようにしてもよい。同様に、リンス処理においては、初めに第１チャック部材３１によってウエハＷを保持して、その後にウエハＷを保持するチャック部材３１、３２が第１チャック部材３１から第２チャック部材３２に切り替わる場合に限られることはなく、初めに第２チャック部材３２によってウエハＷを保持して、その後に第２チャック部材３２から第１チャック部材３１に切り替わるようにしてもよい。すなわち、各処理工程においてウエハＷを保持するチャック部材３１、３２は、少なくとも１回チャック部材３１、３２が切り替わるのであれば、第１チャック部材３１および第２チャック部材３２のいずれであってもよい。
【０１０６】
また、本実施の形態においては、チャック部材３１、３２を回動するための昇降筒部材５０が筒状に形成されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、ウエハＷの下面に処理液または乾燥ガスを供給しない場合、中実状の昇降部材を用いることもできる。
【０１０７】
また、本実施の形態においては、第１当接部５５は、昇降筒部材５０の昇降方向に転動自在な円筒状の第１ローラ５５ａを含み、第２当接部５６は、昇降筒部材５０の昇降方向に転動自在な円筒状の第２ローラ５６ａを含んでいる例について説明した。しかしながら、第１当接部５５および第２当接部５６は、円筒状のローラ５５ａ、５６ａの代わりに、上側被当接部５１または下側被当接部５２に進出自在な球体を含んでいてもよい。
【０１０８】
また、本実施の形態においては、第１チャック部材３１および第２チャック部材３２が、係合位置と開放位置との間で回動する例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、第１チャック部材３１および第２チャック部材３２が、係合位置と開放位置との間で直線状に移動するように構成してもよい。
【０１０９】
また、本実施の形態においては、付勢力付与機構としてのバネ部材５８により、チャック部材３１、３２が係合位置の側に付勢されている例について説明したが、これに限られることはなく、例えば、圧力空気を用いてチャック部材３１、３２を付勢してもよく、あるいは、磁石を用いてチャック部材３１、３２を付勢してもよい。
【０１１０】
また、本実施の形態においては、空気供給路９０が設けられている例について説明しているが、これに限られることはない。
【０１１１】
さらに、本実施の形態においては、ウエハＷを洗浄する洗浄処理液（酸性処理液、アルカリ性処理液など）をウエハＷに供給してウエハＷを洗浄処理（液処理）する例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、ウエハＷにエッチング液、めっき液、現像液などを供給して、ウエハＷをエッチング処理、メッキ処理、現像処理する場合にも適用することができる。
【符号の説明】
【０１１２】
１０    液処理装置
２１    基板保持部
２２    チャックベース
２５    回転駆動部
２６    回転軸
３１    第１チャック部材
３２    第２チャック部材
３５    上面側処理液ノズル
４１    下面側処理液供給管
４６    ドレインカップ
５０    昇降筒部材
５１    上側被当接部
５１ａ  下部
５２    下側被当接部
５２ａ  上部
５５    第１当接部
５５ａ  第１ローラ
５６    第２当接部
５６ａ  第２ローラ
５８    バネ部材
６０    昇降シリンダ
Ｗ      ウエハ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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