(57)【要約】  本発明は、多数枚（例えば、１６万枚）プリントを行っても、良好な２次転写性と良好なクリーニングブレードによるクリーニング性を維持し、文字画像の中抜けがなく、文字再現性に優れた高品質のトナー画像が継続して得られる中間転写体を提供する。前記中間転写体は、電子写真感光体の表面に担持されたトナー像を中間転写体に１次転写した後、該トナー像を該中間転写体から転写材に２次転写する手段を有する画像形成装置に用いる中間転写体であって、樹脂基体の外周に、弾性層を設け、その上に表面層を設けたもので、該表面層の層厚が１０〜５００ｎｍであり、該中間転写体の表面のナノインデンテーション法で測定したヤング率が０．１〜５．０ＧＰａであり、該中間転写体の表面のヤング率が表面層を形成する前の弾性層のヤング率より０．０〜２．０ＧＰａ大きいことを特徴とする。
2008146743.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子写真感光体の表面に担持されたトナー像を中間転写体に１次転写した後、該トナー像を該中間転写体から転写材に２次転写する手段を有する画像形成装置に用いる中間転写体において、
該中間転写体は樹脂基体の外周に、弾性層を設け、その上に表面層を設けたもので、
該表面層の層厚が１０〜５００ｎｍであり、
該中間転写体の表面のナノインデンテーション法で測定したヤング率が０．１〜５．０ＧＰａであり、
該中間転写体の表面のナノインデンテーション法で測定したヤング率が弾性層のナノインデンテーション法で測定したヤング率より０．０〜２．０ＧＰａ大きいことを特徴とする中間転写体。
【請求項２】
前記中間転写体の表面のナノインデンテーション法で測定したヤング率が０．１〜２．０ＧＰａであり、
該中間転写体の表面のナノインデンテーション法で測定したヤング率が弾性層のナノインデンテーション法で測定したヤング率より０．０〜２．０ＧＰａ大きいことを特徴とする請求の範囲第１項に記載の中間転写体。
【請求項３】
前記中間転写体の表面のナノインデンテーション法で測定したヤング率が０．１〜１．０ＧＰａであり、
該中間転写体の表面のナノインデンテーション法で測定したヤング率が弾性層のナノインデンテーション法で測定したヤング率より０．０〜１．０ＧＰａ大きいことを特徴とする請求の範囲第１項に記載の中間転写体。
【請求項４】
前記表面層の層厚が、３０〜３００ｎｍであることを特徴とする請求の範囲第１項〜第３項の何れか１項に記載の中間転写体。
【請求項５】
前記表面層は、１層以上の硬質層、又は１層以上の硬質層と低表面エネルギー層で構成されていることを特徴とする請求の範囲第１項〜第４項の何れか１項に記載の中間転写体。
【請求項６】
前記硬質層が、金属酸化物、ケイ素化合物、炭素膜のうち少なくとも１つから形成された層であることを特徴とする請求の範囲第５項に記載の中間転写体。
【請求項７】
前記低表面エネルギー層が、フッ素、又はケイ素を含有する層であることを特徴とする請求の範囲第５項又は第６項に記載の中間転写体。
【請求項８】
前記弾性層が、１層以上の弾性層、又は１層以上の弾性層と中間層で構成されていることを特徴とする請求の範囲第１項〜第７項の何れか１項に記載の中間転写体。
【請求項９】
前記中間層が、金属酸化物、ケイ素化合物、炭素膜のうち少なくとも１つから形成された層であることを特徴とする請求の範囲第８項に記載の中間転写体。
【請求項１０】
前記弾性層のナノインデンテーション法で測定したヤング率が０．１〜２．０ＧＰａであることを特徴とする請求の範囲第１項〜第９項に記載の中間転写体。
【請求項１１】
前記弾性層のナノインデンテーション法で測定したヤング率が０．１〜１．０ＧＰａであることを特徴とする請求の範囲第１項〜第９項に記載の中間転写体。
【請求項１２】
前記弾性層が、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エチレン−プロピレン共重合体のうち少なくとも１つから形成された層であることを特徴とする請求の範囲第１項〜第１１項に記載の中間転写体。
【請求項１３】
前記樹脂基体のナノインデンテーション法で測定したヤング率が５．０〜１５ＧＰａであることを特徴とする請求の範囲第１項〜第１２項に記載の中間転写体。
【請求項１４】
前記樹脂基体が、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイドのうち少なくとも１つから形成されたものであることを特徴とする請求の範囲第１項〜第１３項に記載の中間転写体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、中間転写体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電子写真感光体（以下、単に感光体ともいう）の表面に担持されたトナー像を転写材に転写する方式として、中間転写体を用いた画像形成方式が知られている。この画像形成方式は電子写真感光体から転写材にトナー像を転写する工程内に、もう一つの転写工程を入れ、電子写真感光体から中間転写体にトナー像を１次転写した後、中間転写体のトナー像を転写材に２次転写することで最終画像を得る方式である。この方式は、色分解された原稿画像をブラック、シアン、マゼンタ、イエロー等のトナーによる減色混合を用いて再現する、いわゆるフルカラー画像形成装置における各色トナー像を感光体から順番に中間転写体に１次転写し、最後に中間転写体から全色のトナー像を転写材に２次転写する多重転写方式である。【０００３】
中間転写体としては、弾性層を有する中間転写体が開示されている（例えば、特許文献１〜３）。【０００４】
弾性層を有する中間転写体を用いると、トナー像への集中荷重の低減が図られることから、トナー像中の文字画像の中抜けの問題が解決される点で注目されつつある。【０００５】
特許文献１では、弾性体上に無機コーティング層を設けてクリーニング性を改良し、中間転写体表面のトナーによる汚染を防止する例が報告されている。又特許文献２では、高硬度で平滑な被覆層を弾性体上に形成する例が報告されている。しかし、これらを中間転写体として用いた場合、弾性体上に形成された被覆層が硬いために中間転写体から転写材への転写性能が抑制され、結果として文字画像の中抜けやトナーの飛び散りといった問題が発生する。【０００６】
一方、特許文献３では、表面に結合されるフッ素化合物が非常に軟らかいためにクリーニングブレードでの摩耗により擦り傷が発生し、画像の劣化を引き起こすといった問題が発生する。
【特許文献１】特開２０００−２０６８０１号公報
【特許文献２】特開２００６−２５９５８１号公報
【特許文献３】特開２００３−１６５８５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、多数枚（例えば、１６万枚）プリントを行っても、良好な２次転写性と良好なクリーニングを維持し、文字画像の中抜けがなく、文字再現性に優れた高品質のトナー画像が継続して得られる中間転写体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、以下の構成を採ることにより達成される。【０００９】
１．電子写真感光体の表面に担持されたトナー像を中間転写体に１次転写した後、該トナー像を該中間転写体から転写材に２次転写する手段を有する画像形成装置に用いる中間転写体において、
該中間転写体は樹脂基体の外周に、弾性層を設け、その上に表面層を設けたもので、
該表面層の層厚が１０〜５００ｎｍであり、
該中間転写体の表面のナノインデンテーション法で測定したヤング率が０．１〜５．０ＧＰａであり、
該中間転写体の表面のナノインデンテーション法で測定したヤング率が弾性層のナノインデンテーション法で測定したヤング率より０．０〜２．０ＧＰａ大きいことを特徴とする中間転写体。【００１０】
２．前記中間転写体の表面のナノインデンテーション法で測定したヤング率が０．１〜２．０ＧＰａであり、
該中間転写体の表面のナノインデンテーション法で測定したヤング率が弾性層のナノインデンテーション法で測定したヤング率より０．０〜２．０ＧＰａ大きいことを特徴とする前記１に記載の中間転写体。【００１１】
３．前記中間転写体の表面のナノインデンテーション法で測定したヤング率が０．１〜１．０ＧＰａであり、
該中間転写体の表面のナノインデンテーション法で測定したヤング率が弾性層のナノインデンテーション法で測定したヤング率より０．０〜１．０ＧＰａ大きいことを特徴とする前記１に記載の中間転写体。【００１２】
４．前記表面層の層厚が、３０〜３００ｎｍであることを特徴とする前記１〜３の何れか１項に記載の中間転写体。【００１３】
５．前記表面層は、１層以上の硬質層、又は１層以上の硬質層と低表面エネルギー層で構成されていることを特徴とする前記１〜４の何れか１項に記載の中間転写体。【００１４】
６．前記硬質層が、金属酸化物、ケイ素化合物、炭素膜のうち少なくとも１つから形成された層であることを特徴とする前記５に記載の中間転写体。【００１５】
７．前記低表面エネルギー層が、フッ素、又はケイ素を含有する層であることを特徴とする前記５又は６に記載の中間転写体。【００１６】
８．前記弾性層が、１層以上の弾性層、又は１層以上の弾性層と中間層で構成されていることを特徴とする前記１〜７の何れか１項に記載の中間転写体。【００１７】
９．前記中間層が、金属酸化物、ケイ素化合物、炭素膜のうち少なくとも１つから形成された層であることを特徴とする前記８に記載の中間転写体。【００１８】
１０．前記弾性層のナノインデンテーション法で測定したヤング率が０．１〜２．０ＧＰａであることを特徴とする前記１〜９に記載の中間転写体。【００１９】
１１．前記弾性層のナノインデンテーション法で測定したヤング率が０．１〜１．０ＧＰａであることを特徴とする前記１〜９に記載の中間転写体。【００２０】
１２．前記弾性層が、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エチレン−プロピレン共重合体のうち少なくとも１つから形成された層であることを特徴とする前記１〜１１に記載の中間転写体。【００２１】
１３．前記樹脂基体のナノインデンテーション法で測定したヤング率が５．０〜１５ＧＰａであることを特徴とする前記１〜１２に記載の中間転写体。【００２２】
１４．前記樹脂基体が、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイドのうち少なくとも１つから形成されたものであることを特徴とする前記１〜１３に記載の中間転写体。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の中間転写体は、多数枚（例えば、１６万枚）プリントを行っても、良好な２次転写性と良好なクリーニング特性を維持し、文字画像の中抜けが無く、文字再現性に優れた高品質のトナー画像が継続して得られる優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】中間転写体の層構成を示す概念断面図である。
【図２】ナノインデンテーション法による測定装置の一例を示す模式図である。
【図３】ナノインデンテーション法で得られた典型的な荷重−変位曲線を示す。
【図４】圧子と試料の接触している状態の模式図を示す。
【図５】中間転写体の硬質層を製造する第１の製造装置の説明図である。
【図６】中間転写体の硬質層を製造する第２の製造装置の説明図である。
【図７】プラズマにより中間転写体の硬質層を製造する第１のプラズマ成膜装置の説明図である。
【図８】ロール電極の一例を示す概略図である。
【図９】固定電極の一例を示す概略図である。
【図１０】本発明の中間転写体が使用可能な画像形成装置の一例を示す断面構成図である。
【符号の説明】
【００２５】
１７０  中間転写体
１７５  樹脂基体
１７６  弾性層
１７７  表面層
１７８  硬質層
１７９  低表面エネルギー層
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
本発明者等は、柔軟な弾性層を樹脂基体と硬い表面層で挟む構造とし、表面層の膜厚を特定の膜厚とし、中間転写体表面のナノインデンテーション法で測定したヤング率、中間転写体表面のナノインデンテーション法で測定したヤング率と弾性層のナノインデンテーション法で測定したヤング率との差を特定の値とすることで中間転写体として最適な弾性層の性質、表面層の性質を引き出すことができることを見出した。その結果、転写性向上とその維持、クリーニング性の維持、文字画像の中抜け発生防止、文字再現性の維持等の優れた特性を発現させることができた。【００２７】
柔軟な弾性層を樹脂基体と硬い表面層で挟む構造の中間転写体が、上記のような優れた特性を発現できるようになった理由はよく判っていないが、次のようなことが考えられる。【００２８】
感光体表面に形成されたトナー像を中間転写体へ１次転写する際、中間転写体の表面はトナーに押されて変形すると考えられる。ここで、中間転写体の中間部となる弾性層が軟らかく表面層が硬い場合は、この変形量が小さくなり、トナーと中間転写体との接触面積が小さくなる。その結果、中間転写体から転写材への２次転写性が向上すると考えられる。一方、トナーと中間転写体との接触面積が小さくなることで、１次転写性能の低下が懸念されるが、本発明で規定したヤング率を超えない範囲では１次転写性能の低下が起こらないことが判った。つまり、中間転写体のヤング率を本発明で規定した値とすることで、弾性体のもつ１次転写性能を損なうことなく、２次転写性能を向上させることができる。【００２９】
又、中間転写体は、中間転写体上のトナーを転写材へ２次転写した後、中間転写体上に転写されずに残った転写残トナーをクリーニング部材（例えば、クリーニングブレードやファーブラシ）によりクリーニングされる。中間転写体の表面が本発明で規定する表面層を有すると、クリーニング部材により中間転写体表面を傷つけることなく、転写残トナーが良好にクリーニングされる。その結果、多数枚プリントしてもクリーニング不良に伴うプリント画像汚れがなく、高品質のトナー画像を継続して得ることができる。【００３０】
又、中間転写体は、その表面に低表面エネルギー層を設けることで、さらなる２次転写効率の向上や異物付着の抑制を図ることができる。【００３１】
本発明の中間転写体は、以下の特性を有するものである。
１．樹脂基体の外周に、弾性層を設け、その上に表面層を設けた構造
２．表面層の層厚が、１０〜５００ｎｍ、好ましくは３０〜３００ｎｍ
３．中間転写体表面のナノインデンテーション法による測定したヤング率が、０．１〜５．０ＧＰａ、好ましくは０．１〜１．０ＧＰａ
４．中間転写体表面のナノインデンテーション法により測定したヤング率が弾性層のナノインデンテーション法により測定したヤング率より０．０〜２．０ＧＰａ大きい、好ましくは０．０〜１．０ＧＰａ大きい。【００３２】
上記特性とすることで、多数枚プリントを行っても、高い転写特性が確保でき、文字画像の中抜けがなく、クリーニング部材により傷が付かず、高品質のトナー画像を得ることができる。【００３３】
以下、本発明について詳細に説明する。【００３４】
本発明の中間転写体は、樹脂基体の外周に弾性層を設け、その上に表面層を設けたものである。尚、表面層は、１層以上の硬質層、又は１層以上の硬質層と低表面エネルギー層で構成される。【００３５】
図１は、中間転写体の層構成の一例を示す概念断面図である。【００３６】
図において、１７０は中間転写体、１７５は樹脂基体、１７６は弾性層、１７７は表面層、１７８は硬質層、１７９は低表面エネルギー層を示す。【００３７】
図１の（ａ）は、樹脂基体１７５の外周に弾性層１７６を設け、その上に表面層１７７として硬質層１７８を設けた層構成の中間転写体１７０である。【００３８】
図１の（ｂ）は、樹脂基体１７５の外周に弾性層１７６を設け、その上に表面層１７７として硬質層１７８を設けさらにその上に低表面エネルギー層１７９を設けた層構成の中間転写体１７０である。【００３９】
中間転写体の層構成は、図１の（ａ）、図１の（ｂ）の何れでも良いが、クリーニング性の点では硬質層の上に低表面エネルギー層を設けた図１の（ｂ）の層構成が好ましい。【００４０】
次に、樹脂基体、弾性層、表面層について説明する。【００４１】
〈樹脂基体〉
樹脂基体は、クリーニング部材であるクリーニングブレードから中間転写ベルトに加わる負荷で中間転写体が変形することを回避し、転写部への影響を低減させる剛性を有するものである。樹脂基体は、ナノインデンテーション法により測定したヤング率が５．０〜１５．０ＧＰａの範囲内の材料を用いて形成することが好ましく、８．０〜１５．０ＧＰａの範囲内の材料がより好ましい。【００４２】
この様な性能を発現する材料として、例えば、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリフッ化ビニリデン、ポリイミド、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ポリエーテル、エーテルケトン、ポリエステル、ポリエーテル、エーテルケトン、ポリアミド、ポリフロロエチレン−エチレン共重合体等の樹脂材料が挙げられ、またこれらを主原料としてなる樹脂材料が挙げられる。これらの中ではポリイミド、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイドが好ましい。これらの樹脂材料のナノインデンテーション法により測定したヤング率は５．０ＧＰａを超えるものであり、厚み５０〜２００μｍで、樹脂基体としての機械特性を満足する。【００４３】
又、樹脂基体を形成する材料としては、さらに、前述の樹脂材料と下記の弾性材料とをブレンドした材料を使用することも可能である。弾性材料としては、例えば、ポリウレタン、塩素化ポリイソプレン、ＮＢＲ、クロロピレンゴム、ＥＰＤＭ、水素添加ポリブタジエン、ブチルゴム、シリコーンゴム等が挙げられる。これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。【００４４】
この中でも、ポリフェニレンサルファイド或いはポリイミド樹脂を含有することが好ましい。ポリイミド樹脂は、ポリイミド樹脂の前駆体であるポリアミック酸の加熱により形成される。又、ポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物や、その誘導体とジアミンのほぼ等モル混合物を有機極性溶媒に溶解させ、溶液状態で反応させることにより得られる。【００４５】
尚、本発明では、樹脂基体にポリイミド系樹脂を使用する場合、樹脂基体におけるポリイミド系樹脂の含有率が５１％以上であることが好ましい。【００４６】
本発明に係る樹脂基体は、樹脂材料に導電性物質を添加して、電気抵抗値（体積抵抗率）を１０５〜１０１１Ω・ｃｍに調製したシームレスベルトやドラムが好ましい。【００４７】
樹脂材料に添加する導電性物質としては、カーボンブラックを使用することができる。カーボンブラックとしては、中性又は酸性カーボンブラックを使用することができる。導電性物質の使用量は、使用する導電性物質の種類によっても異なるが中間転写体の体積抵抗値及び表面抵抗値が所定の範囲になるように添加すれば良く、通常、樹脂材料１００質量部に対して１０〜２０質量部、好ましくは１０〜１６質量部である。【００４８】
〈弾性層〉
本発明に係る弾性層は、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エチレン−プロピレン共重合体のうち少なくとも１つから形成することができる。【００４９】
又、弾性層は、前述の樹脂材料と弾性材料とをブレンドした材料を用いて形成した層でもよい。弾性材料としては、例えば、ポリウレタン、塩素化ポリイソプレン、ニトリルゴム、クロロプレンゴム、エチレン−プロピレン共重合体、水素添加ポリブタジエン、ブチルゴム、シリコーンゴム等が挙げられる。これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。【００５０】
また、弾性層は、表面層のクラック抑制の目的で、中間層を含めた構成としてもよい。中間層は、弾性層のヤング率が０．１〜５．０ＧＰａを超えなければ製法や膜厚は限定されないが、内部応力が小さく、クラックの発生しにくい層が形成できる大気圧プラズマ法が好ましい。中間層の素材や厚さで、弾性層全体としてのヤング率を制御できる。【００５１】
弾性層のナノインデンテーション法で測定したヤング率は、０．１〜２．０ＧＰａが好ましく、０．１〜１．０ＧＰａがより好ましい。【００５２】
弾性層の膜厚は、１００〜５００μｍが好ましい。【００５３】
本発明に係る弾性層は、弾性材料に導電性物質を分散させて、電気抵抗値（体積抵抗率）を１０５〜１０１１Ω・ｃｍに調製した層が好ましい。【００５４】
弾性層に添加する導電性物質としては、カーボンブラック、酸化亜鉛、酸化スズ、炭化ケイ素等を使用することができる。カーボンブラックとしては、中性又は酸性カーボンブラックを使用することができる。導電性物質の使用量は、使用する導電性物質の種類によっても異なるが弾性層の体積抵抗値及び表面抵抗値が所定の範囲になるように添加すればよく、通常、弾性材料１００質量部に対して１０〜２０質量部、好ましくは１０〜１６質量部である。【００５５】
〈表面層〉
表面層は、硬質層、又は硬質層と低表面エネルギー層で構成される。【００５６】
表面層を積層した中間転写体表面のナノインデンテーション法により測定したヤング率は、０．１〜５．０ＧＰａ、好ましくは０．１〜２．０ＧＰａ、より好ましくは０．１〜１．０ＧＰａである。【００５７】
（硬質層）
本発明に係る硬質層は、金属酸化物膜、金属酸化窒化物膜、金属窒化物膜、ケイ素膜、或いは炭素膜であることが好ましい。具体的には、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、窒化ケイ素、酸化チタン、酸化窒化チタン、窒化チタン又は酸化アルミニウム等の金属酸化物、金属窒化物膜、（また、アモルファスカーボン層（のちの記述、実施例ではＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン））等が挙げられ、これらの中では酸化ケイ素膜が好ましい。又、それらの混合物からなる無機化合物も好ましい。【００５８】
本発明における硬質層は１層以上あれば良い。硬質層の層は、弾性層直上から、弾性層から最も離れた硬質層の表面に向かって、徐々に硬度が高くなる、或いは徐々に密度が高くなるような構造としても良い。【００５９】
硬質層の膜厚は、１０〜５００ｎｍ、好ましくは２０〜４００ｎｍ、より好ましくは３０〜３００ｎｍである。製法としては、内部応力が小さく、クラックの発生しにくい層が形成できる大気圧プラズマ法が好ましい。【００６０】
膜厚は、「ＭＸＰ２１（マックサイエンス社製）」を用いて測定して得られた値である。具体的な膜厚の測定は、以下の方法で行うことができる。【００６１】
Ｘ線源のターゲットには銅を用い、４２ｋＶ、５００ｍＡで作動させる。インシデントモノクロメータには多層膜パラボラミラーを用いる。入射スリットは０．０５ｍｍ×５ｍｍ、受光スリットは０．０３ｍｍ×２０ｍｍを用いる。２θ／θスキャン方式で０から５°をステップ幅０．００５°、１ステップ１０秒のＦＴ法にて測定を行う。得られた反射率曲線に対し、マックサイエンス社製Ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｉｔｙ  Ａｎａｌｙｓｉｓ  Ｐｒｏｇｒａｍ  Ｖｅｒ．１を用いてカーブのフィッティングを行い、実測値とフィッティングカーブの残差平方和が最小になるように各パラメータを求める。各パラメータから積層膜の膜厚を求める。【００６２】
硬質層の膜厚が１０ｎｍ未満であると耐久性や表面強度が不足するため、厚紙への転写などにより擦り傷が発生し、最終的には薄膜が不均一に摩耗し転写率の低下や転写ムラが発生しやすくなる。１０００ｎｍを越えると密着性や屈曲耐性が不足するため多数枚使用において、割れや剥離が生じ易くなる上、成膜に必要な時間も増加するため生産上の観点からも好ましくない。【００６３】
（低表面エネルギー層）
本発明に係る低表面エネルギー層は、フッ素又はケイ素を含有する層である。低表面エネルギー層の膜厚は、１〜１０ｎｍが好ましい。表面エネルギー層の形成方法は特に限定されないが、フッ素又はケイ素を含有する塗布液を硬質層の上に塗布して形成することができる。【００６４】
次に、ナノインデンテーション法によるヤング率の測定方法について説明する。【００６５】
〈ナノインデンテーション法によるヤング率の測定〉
中間転写体表面のナノインデンテーション法によるヤング率は、中間転写体の表面を直接測定して求めた値である。【００６６】
弾性層のナノインデンテーション法によるヤング率は、樹脂基体に弾性層を形成した時点、或いは表面層まで設けた中間転写体から表面層を除去して測定して求めた値である。【００６７】
ナノインデンテーション法によるヤング率の測定方法は、微小なダイヤモンド圧子を薄膜に押し込みながら荷重と押し込み深さ（変位量）の関係を測定し、測定値から塑性変形硬さを算出する方法である。【００６８】
特に１μｍ以下の薄膜の測定に対して、樹脂基体の物性の影響を受けにくく、又、押し込んだ際に薄膜に割れが発生しにくいという特徴を有している。一般に非常に薄い薄膜の物性測定に用いられている。【００６９】
図２は、ナノインデンテーション法によりヤング率を測定する測定装置の一例を示す模式図である。【００７０】
図２において、３１はトランスデューサー、３２は先端形状が正三角形のダイヤモンドＢｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子、１７０は中間転写体、１７５は樹脂基体、１７６は弾性層、１７７は表面層を示す。【００７１】
この測定装置はトランスデューサー３１と先端形状が正三角形のダイヤモンドＢｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子３２を用いて、μＮオーダーの荷重を加えながらナノメートルの精度で変位量を測定をすることができる。この測定には例えば市販の「ＮＡＮＯ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  ＸＰ／ＤＣＭ」（ＭＴＳ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社／ＭＳＴ  ＮＡＮＯ  Ｉｎｓｔｕｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いることができる。【００７２】
図３は、ナノインデンテーション法により硬度測定で得られた典型的な荷重−変位曲線を示す。【００７３】
図４は、圧子と試料の接触している状態の模式図を示す。【００７４】
硬さＨは、下記式（１）から求められる。【００７５】
式（１）
Ｈ＝Ｐｍａｘ／Ａ
ここで、Ｐは、圧子に加えられた最大荷重であり、Ａは、そのときの圧子と試料間の接触射影面積である。【００７６】
接触射影面積Ａは、図４におけるｈｃを用いて、下記式（２）で表すことができる。【００７７】
式（２）
Ａ＝２４．５ｈｃ２
ここでｈｃは、図４に示すように接触点の周辺表面の弾性へこみにより、全体の押し込み深さｈより浅くなり、下記式（３）で表される。【００７８】
式（３）
ｈｃ＝ｈ−ｈｓ
ここでｈｓは、弾性によるへこみの量であり、圧子の押し込み後の荷重曲線の勾配（図４の勾配Ｓ）と圧子形状から下記式（４）
式（４）
ｈｓ＝ε×Ｐ／Ｓ
と表される。【００７９】
ここで、εは圧子形状に関する定数で、Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子では０．７５である。【００８０】
この様な測定装置を用いて、中間転写体表面及び弾性層の硬度を測定することができる。【００８１】
測定条件
測定機：ＮＡＮＯ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  ＸＰ／ＤＣＭ（ＭＴＳ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社製）
測定圧子：先端形状が正三角形のダイヤモンドＢｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子
測定環境：２０℃、６０％ＲＨ
測定試料：５ｃｍ×５ｃｍの大きさに中間転写体を切断して測定試料を作製
最大荷重設定：２５μＮ
押し込み速度：最大荷重２５μＮに５ｓｅｃで達する速度で、時間に比例して加重を印加する
尚、測定は各資料ともランダムに１０点測定し、その平均値をナノインデンテーション法により測定した硬度とする。【００８２】
次に、中間転写体の作製方法の一例を挙げて説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。【００８３】
（樹脂基体）
本発明における中間転写体の樹脂基体としては、樹脂材料に導電性物質を含有させてなるシームレスベルトを用いることができる。【００８４】
本発明に用いられる樹脂基体は、従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。例えば、樹脂に導電性物質を混合した材料を押出機により溶融し、環状ダイやＴダイにより押し出して急冷することにより製造することができる。【００８５】
樹脂基体は、その上に弾性層を形成する前に、樹脂基体の表面をコロナ処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理などの表面処理を行っても良い。【００８６】
さらに、弾性層と樹脂基体との間には、密着性の向上を目的として、アンカーコート剤層を形成しても良い。このアンカーコート剤層に用いられるアンカーコート剤としては、ポリエステル樹脂、イソシアネート樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、エチレンビニルアルコール樹脂、ビニル変性樹脂、エポキシ樹脂、変性スチレン樹脂、変性シリコーン樹脂、及びアルキルチタネート等を、１又は２種以上併せて使用することができる。これらのアンカーコート剤には、従来公知の添加剤を加えることもできる。上記のアンカーコート剤は、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、ディップコート、スプレーコート等の公知の方法により樹脂基体上にコーティングし、溶剤、希釈剤等を乾燥除去することやＵＶ硬化させることによりアンカーコーティングすることができる。上記のアンカーコート剤の塗布量としては、０．１〜５ｇ／ｍ２（乾燥状態）程度が好ましい。【００８７】
（弾性層）
弾性層用のコーティング液が収容されている槽中に、樹脂基体を垂直に立てた状態で入れて浸漬させる。この時、浸漬を数回繰り返して所定の厚さの塗膜を形成させた後、コーティング液中から引き上げる。次に、乾燥し溶剤を除去した後、加熱処理（例えば６０〜１５０℃×６０分間）を行い、弾性層を作製する。【００８８】
なお、中間層が、弾性層中に中間層が含まれるとき、中間層については、下記硬質層と同じ製法により形成できる。中間層の素材や厚さで、弾性層全体としてのヤング率を制御できる。【００８９】
（硬質層）
硬質層は、大気圧プラズマＣＶＤ法により形成することができる。【００９０】
以下、大気圧プラズマＣＶＤ法により形成する装置及び方法、又使用するガスについて説明する。【００９１】
図５は、中間転写体の硬質層を製造する第１の製造装置の説明図である。【００９２】
中間転写体の第１の製造装置（放電空間と薄膜堆積領域が略同一なダイレクト方式）は樹脂基体１７５上に形成した弾性層１７６上に、表面層となる硬質層１７８を形成するもので、シームレスベルト状の中間転写体１７０の樹脂基体１７５を巻架して矢印方向に回転するロール電極２０と従動ローラ２０１、及び、弾性層１７６表面に硬質層１７８を形成する成膜装置である大気圧プラズマＣＶＤ装置３より構成されている。【００９３】
大気圧プラズマＣＶＤ装置３は、ロール電極２０の外周に沿って配列された少なくとも１式の固定電極２１と、固定電極２１とロール電極２０との対向領域で且つ放電が行われる放電空間２３と、少なくとも原料ガスと放電ガスとの混合ガスＧを生成して放電空間２３に混合ガスＧを供給する混合ガス供給装置２４と、放電空間２３等に空気の流入することを軽減する放電容器２９と、固定電極２０に接続された第１の電源２５と、ロール電極２１に接続された第２の電源２６と、使用済みの排ガスＧ’を排気する排気部２８とを有している。【００９４】
混合ガス供給装置２４は無機酸化物層、無機窒化物層から選ばれる少なくとも１つの層の膜を形成する原料ガスと、窒素ガス或いはアルゴンガス等の希ガスを混合した混合ガスを放電空間２３に供給する。又、酸化還元反応による反応促進のための酸素ガス又は水素ガスを混合することがより好ましい。【００９５】
又、従動ローラ２０１は張力付与手段２０２により矢印方向に牽引され、樹脂基体１７５に所定の張力を掛けている。張力付与手段２０２は樹脂基体１７５の掛け替え時等は張力の付与を解除し、容易に樹脂基体１７５の掛け替え等を可能としている。【００９６】
第１の電源２５は周波数ω１の電圧を出力し、第２の電源２６は周波数ω２の電圧を出力し、これらの電圧により放電空間２３に周波数ω１とω２とが重畳された電界Ｖを発生する。そして、電界Ｖにより混合ガスＧをプラズマ化して混合ガスＧに含まれる原料ガスに応じた膜（硬質層１７８）が弾性層１７６の表面に堆積される。【００９７】
尚、複数の固定電極の内、ロール電極の回転方向下流側に位置する複数の固定電極と混合ガス供給装置で硬質層１７８を積み重ねるように堆積し、硬質層１７８の厚さを調整するようにしても良い。【００９８】
又、複数の固定電極の内、ロール電極の回転方向最下流側に位置する固定電極と混合ガス供給装置で硬質層１７８を堆積し、より上流に位置する他の固定電極と混合ガス供給装置で、例えば硬質層１７８と弾性層１７６との接着性を向上させる接着層等、他の層を形成しても良い。【００９９】
又、硬質層１７８と弾性層１７６との接着性を向上させるために、硬質層１７８を形成する固定電極と混合ガス供給装置の上流に、アルゴンや酸素などのガスを供給するガス供給装置と固定電極を設けてプラズマ処理を行い、弾性層１７６の表面を活性化させるようにしても良い。【０１００】
以上説明したように、シームレスベルトである中間転写体を１対のローラに張架し、１対のローラの内一方を１対の電極の一方の電極とし、一方の電極としたローラの外周面の外側に沿って他方の電極である少なくとも１の固定電極を設け、これら１対の電極間に大気圧又は大気圧近傍下で電界を発生させプラズマ放電を行わせ、中間転写体表面に薄膜を堆積・形成する構成を取ることにより、転写性が高く、クリーニング性及び耐久性が高い中間転写体を製造することを可能としている。【０１０１】
図６は、中間転写体の硬質層を製造する第２の製造装置の説明図である。【０１０２】
中間転写体の第２の製造装置２ｂは複数の樹脂基体上に設けられた弾性層上に同時に硬質層を形成するもので、主として弾性層上に硬質層を形成する複数の成膜装置２ｂ１及び２ｂ２より構成されている。【０１０３】
第２の製造装置２ｂ（ダイレクト方式の変形で、対向したロール電極間で放電と薄膜堆積を行う方式）は、第１の成膜装置２ｂ１と所定の間隙を隔てて略鏡像関係に配置された第２の成膜装置２ｂ２と、第１の成膜装置２ｂ１と第２の成膜装置２ｂ２との間に配置された少なくとも原料ガスと放電ガスとの混合ガスＧを生成して放電空間２３ｂに混合ガスＧを供給する混合ガス供給装置２４ｂとを有している。【０１０４】
第１の成膜装置２ｂ１はシームレスベルト状の中間転写体の樹脂基体１７５を巻架して矢印方向に回転するロール電極２０ａと従動ローラ２０１と矢印方向に従動ローラ２０１を牽引する張力付与手段２０２とロール電極２０ａに接続された第１の電源２５とを有し、第２の成膜装置２ｂ２はシームレスベルト状の中間転写体の樹脂基体１７５を巻架して矢印方向に回転するロール電極２０ｂと従動ローラ２０１と矢印方向に従動ローラ２０１を牽引する張力付与手段２０２とロール電極２０ｂに接続された第２の電源２６とを有している。【０１０５】
又、第２の製造装置２ｂはロール電極２０ａとロール電極２０ｂとの対向領域に放電が行われる放電空間２３ｂを有している。【０１０６】
混合ガス供給装置２４ｂは無機酸化物層、無機窒化物層から選ばれる少なくとも１つの層の膜を形成する原料ガスと、窒素ガス或いはアルゴンガス等の希ガスを混合した混合ガスを放電空間２３ｂに供給する。又、酸化還元反応による反応促進のための酸素ガス又は水素ガスを混合することがより好ましい。【０１０７】
第１の電源２５は周波数ω１の電圧を出力し、第２の電源２６は周波数ω２の電圧を出力し、これらの電圧により放電空間２３ｂに周波数ω１とω２とが重畳された電界Ｖを発生する。そして、電界Ｖにより混合ガスＧをプラズマ化（励起）し、プラズマ化（励起）した混合ガスを第１の成膜装置２ｂ１の弾性層１７６及び第２の成膜装置２ｂ２の弾性層１７６の表面に晒し、プラズマ化（励起）した混合ガスに含まれる原料ガスに応じた膜（硬質層）が第１の成膜装置２ｂ１の樹脂基体１７５上に設けた弾性層１７６及び第２の成膜装置２ｂ２の樹脂基体１７５上に設けた弾性層１７６の表面に同時に堆積・形成される。【０１０８】
ここで、対向するロール電極２０ａとロール電極２０ｂとは所定の間隙を隔てて配置されている。【０１０９】
以下に弾性層１７６上に硬質層１７８を形成する大気圧プラズマＣＶＤ装置の形態について詳細に説明する。【０１１０】
尚、下記の図７は図５の主として破線部を抜き出したものである。【０１１１】
図７は、プラズマにより中間転写体の硬質層を製造する第１のプラズマ成膜装置の説明図である。【０１１２】
図７を参照して、硬質層１７８の形成に好適に用いられる大気圧プラズマＣＶＤ装置の一例を説明する。【０１１３】
大気圧プラズマＣＶＤ装置３は、樹脂基体を着脱可能に巻架して回転駆動させる少なくとも１対のローラと、プラズマ放電を行う少なくとも１対の電極とを有し、前記１対の電極の内、一方の電極は前記１対のローラの内の一方のローラで、他方の電極は前記一方のローラに前記樹脂基体を介して対向する固定電極であり、前記一方のローラと前記固定電極との対向領域において発生するプラズマに、前記弾性層が晒されて前記硬質層を堆積・形成される中間転写体の製造装置であり、例えば放電ガスとして窒素を用いる場合に一方の電源により高電圧を掛け他方の電源により高周波を掛けることにより安定して放電を開始し且つ放電を継続するため好適に用いられる。【０１１４】
大気圧プラズマＣＶＤ装置３は前述したように混合ガス供給装置２４、固定電極２１、第１の電源２５、第１のフィルタ２５ａ、ロール電極２０、ロール電極を矢印方向に駆動回転させる駆動手段２０ａ、第２の電源２６、第２のフィルタ２６ａとを有しており、放電空間２３でプラズマ放電を行わせて原料ガスと放電ガスを混合した混合ガスＧを励起させ、励起した混合ガスＧ１を弾性層表面１７６ａに晒し、その表面に硬質層１７８（表面層１７７）を堆積・形成するものである。【０１１５】
そして、固定電極２１に第１の電源２５から周波数ω１の第１の高周波電圧が印加され、ロール電極２０に第２の電源２６から周波数ω２の高周波電圧が印加されるようになっており、それにより、固定電極２１とロール電極２０との間に電界強度Ｖ１で周波数ω１と電界強度Ｖ２で周波数ω２とが重畳された電界が発生し、固定電極２１に電流Ｉ１が流れ、ロール電極２０に電流Ｉ２が流れ、電極間にプラズマが発生する。【０１１６】
ここで、周波数ω１と周波数ω２の関係、及び、電界強度Ｖ１と電界強度Ｖ２及び放電ガスの放電を開始する電界強強度ＩＶとの関係が、ω１＜ω２で、Ｖ１≧ＩＶ＞Ｖ２、又は、Ｖ１＞ＩＶ≧Ｖ２を満たし、前記第２の高周波電界の出力密度が１Ｗ／ｃｍ2以上となっている。【０１１７】
窒素ガスが放電を開始する電界強強度ＩＶは３．７ｋＶ／ｍｍである為、少なくとも第１の電源２５から印可する電界強度Ｖ１は３．７ｋＶ／ｍｍ、又はそれ以上とし、第２の高周波電源６０から印可する電界強度Ｖ２は３．７ｋＶ／ｍｍ、又はそれ未満とすることが好ましい。【０１１８】
又、第１の大気圧プラズマＣＶＤ装置３に利用可能な第１の電源２５（高周波電源）としては、
印加電源記号    メーカー            周波数            製品名
Ａ１        神鋼電機            ３ｋＨｚ    ＳＰＧ３−４５００
Ａ２        神鋼電機            ５ｋＨｚ    ＳＰＧ５−４５００
Ａ３        春日電機          １５ｋＨｚ    ＡＧＩ−０２３
Ａ４        神鋼電機          ５０ｋＨｚ    ＳＰＧ５０−４５００
Ａ５        ハイデン研究所  １００ｋＨｚ＊  ＰＨＦ−６ｋ
Ａ６        パール工業      ２００ｋＨｚ    ＣＦ−２０００−２００ｋ
Ａ７        パール工業      ４００ｋＨｚ    ＣＦ−２０００−４００ｋ
Ａ８        ＳＥＲＥＮ  ＩＰＳ  １００〜４６０ｋＨｚ    Ｌ３００１
等の市販のものを挙げることができ、何れも使用することができる。【０１１９】
又、第２の電源２６（高周波電源）としては、
印加電源記号    メーカー            周波数            製品名
Ｂ１        パール工業      ８００ｋＨｚ    ＣＦ−２０００−８００ｋ
Ｂ２        パール工業          ２ＭＨｚ    ＣＦ−２０００−２Ｍ
Ｂ３        パール工業  １３．５６ＭＨｚ    ＣＦ−５０００−１３Ｍ
Ｂ４        パール工業        ２７ＭＨｚ    ＣＦ−２０００−２７Ｍ
Ｂ５        パール工業      １５０ＭＨｚ    ＣＦ−２０００−１５０Ｍ
Ｂ６        パール工業  ２０〜９９．９ＭＨｚ  ＲＰ−２０００−２０／１００Ｍ等の市販のものを挙げることができ、何れも使用することができる。【０１２０】
尚、上記電源の内、＊印はハイデン研究所インパルス高周波電源（連続モードで１００ｋＨｚ）である。それ以外は連続サイン波のみ印加可能な高周波電源である。【０１２１】
本発明において、第１及び第２の電源から対向する電極間に供給する電力は、固定電極２１に１Ｗ／ｃｍ２以上の電力（出力密度）を供給し、放電ガスを励起してプラズマを発生させ、薄膜を形成する。固定電極２１に供給する電力の上限値としては、好ましくは５０Ｗ／ｃｍ２、より好ましくは２０Ｗ／ｃｍ２である。下限値は、好ましくは１．２Ｗ／ｃｍ２である。尚、放電面積（ｃｍ２）は、電極において放電が起こる範囲の面積のことを指す。【０１２２】
又、ロール電極２０にも、１Ｗ／ｃｍ２以上の電力（出力密度）を供給することにより、高周波電界の均一性を維持したまま、出力密度を向上させることができる。これにより、さらなる均一高密度プラズマを生成でき、さらなる成膜速度の向上と膜質の向上が両立できる。好ましくは５Ｗ／ｃｍ２以上である。ロール電極２０に供給する電力の上限値は、好ましくは５０Ｗ／ｃｍ２である。【０１２３】
ここで高周波電界の波形としては、特に限定されない。連続モードと呼ばれる連続サイン波状の連続発振モードと、パルスモードと呼ばれるＯＮ／ＯＦＦを断続的に行う断続発振モード等があり、そのどちらを採用してもよいが、少なくともロール電極２０に供給する高周波は連続サイン波の方がより緻密で良質な膜が得られるので好ましい。【０１２４】
又、固定電極２１と第１の電源２５との間には、第１フィルタ２５ａが設置されており、第１の電源２５から固定電極２１への電流を通過しやすくし、第２の電源２６からの電流をアースして、第２の電源２６から第１の電源２５への電流が通過しにくくなるようになっており、ロール電極２０と第２の電源２６との間には、第２フィルタ２６ａが設置されており、第２の電源２６からロール電極２０への電流を通過しやすくし、第１の電源２１からの電流をアースして、第１の電源２５から第２の電源２６への電流を通過しにくくするようになっている。【０１２５】
電極には前述したような強い電界を印加して、均一で安定な放電状態を保つことができる電極を採用することが好ましく、固定電極２１とロール電極２０には強い電界による放電に耐えるため少なくとも一方の電極表面には下記の誘電体が被覆されている。【０１２６】
以上の説明において、電極と電源の関係は、固定電極２１に第２の電源２６を接続して、ロール電極２０に第１の電源２５を接続しても良い。【０１２７】
図８は、ロール電極の一例を示す概略図である。【０１２８】
ロール電極２０の構成について説明すると、図８（ａ）において、ロール電極２０は、金属等の導電性母材２００ａ（以下、「電極母材」ともいう。）に対しセラミックスを溶射後、無機材料を用いて封孔処理したセラミック被覆処理誘電体２００ｂ（以下、単に「誘電体」ともいう。）を被覆した組み合わせで構成されている。又、溶射に用いるセラミックス材としては、アルミナ・窒化ケイ素等が好ましく用いられるが、この中でもアルミナが加工し易いので、さらに好ましく用いられる。【０１２９】
又、図８（ｂ）に示すように、金属等の導電性母材２００Ａにライニングにより無機材料を設けたライニング処理誘電体２００Ｂを被覆した組み合わせでロール電極２０’を構成してもよい。ライニング材としては、ケイ酸塩系ガラス、ホウ酸塩系ガラス、リン酸塩系ガラス、ゲルマン酸塩系ガラス、亜テルル酸塩ガラス、アルミン酸塩ガラス、バナジン酸塩ガラス等が好ましく用いられるが、この中でもホウ酸塩系ガラスが加工し易いので、さらに好ましく用いられる。【０１３０】
金属等の導電性母材２００ａ、２００Ａとしては、銀、白金、ステンレス、アルミニウム、チタニウム、チタン合金、鉄等の金属等が挙げられるが、加工やコストの観点からステンレスが好ましい。【０１３１】
尚、本実施の形態においては、ロール電極の母材２００ａ、２００Ａは、冷却水による冷却手段を有するステンレス製ジャケットロール母材を使用している（不図示）。【０１３２】
図９は、固定電極の一例を示す概略図である。【０１３３】
図９（ａ）において、角柱或いは角筒柱の固定電極２１及び２１ａ、２１ｂは上記記載のロール電極２０と同様に、金属等の導電性母材２１０ｃに対しセラミックスを溶射後、無機材料を用いて封孔処理したセラミック被覆処理誘電体２１０ｄを被覆した組み合わせで構成されている。又、図９（ｂ）に示すように、角柱或いは角筒柱型の固定電極２１’は金属等の導電性母材２１０Ａへライニングにより無機材料を設けたライニング処理誘電体２１０Ｂを被覆した組み合わせで構成してもよい。【０１３４】
以下に、中間転写体の製造方法の工程の内、樹脂基体１７５上に形成した弾性層１７６上に、硬質層１７８を堆積・形成する成膜工程の例を、図５及び７を参照して説明する。【０１３５】
図５及び７において、ロール電極２０及び従動ローラ２０１に樹脂基体１７５を張架後、張力付与手段２０２の作動により樹脂基体１７５に所定の張力を掛け、次いでロール電極２０を所定の回転数で回転駆動する。【０１３６】
混合ガス供給装置２４から混合ガスＧを生成し、放電空間２３に放出する。【０１３７】
第１の電源２５から周波数ω１の電圧を出力して固定電極２１に印加し、第２の電源２６から周波数ω２の電圧を出力してロール電極２０に印加し、これらの電圧により放電空間２３に周波数ω１とω２とが重畳された電界Ｖを発生させる。【０１３８】
電界Ｖにより放電空間２３に放出された混合ガスＧを励起しプラズマ状態にする。そして、弾性層表面にプラズマ状態の混合ガスＧを晒し混合ガスＧ中の原料ガスにより無機酸化物層、無機窒化物層から選ばれる少なくとも１つの層の膜、即ち硬質層１７８（表面層１７７）を弾性層１７６上に形成する。【０１３９】
このようにして形成される硬質層は、複数設け、複数層からなる硬質層としても良いが、当該複数層の内、最低１層は、ＸＰＳ測定による炭素原子の含有量測定で、炭素原子０．１〜２０原子％含むことが好ましく、さらに当該炭素原子含有層は弾性層により近い層であることがより好ましい。【０１４０】
例えば、上記の大気圧プラズマＣＶＤ装置３においては、１対の電極間（ロール電極２０と固定電極２１）で混合ガス（放電ガス）をプラズマ励起させ、このプラズマ中に存在する炭素原子を有する原料ガスをラジカル化して弾性層１７６の表面に晒すものである。そして、この弾性層１７６の表面に晒された炭素含有分子や炭素含有ラジカルが、硬質層の中に含有される。【０１４１】
放電ガスとは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、窒素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等及びそれらの混合物などが挙げられる。これらの中でも窒素、ヘリウム、アルゴンが好ましく用いられ、特に窒素がコストも安く好ましい。【０１４２】
又、硬質層を形成するための原料ガスとしては、常温で気体又は液体の有機金属化合物、特にアルキル金属化合物や金属アルコキシド化合物、有機金属錯体化合物が用いられる。これら原料における相状態は常温常圧において必ずしも気相である必要はなく、混合ガス供給装置２４で加熱或いは減圧等により溶融、蒸発、昇華等を経て気化し得るものであれば、液相でも固相でも使用可能である。【０１４３】
原料ガスとしては、放電空間でプラズマ状態となり、薄膜を形成する成分を含有するものであり、有機金属化合物、有機化合物、無機化合物等である。【０１４４】
例えば、ケイ素化合物として、シラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、テトラｎ−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｎ−ブトキシシラン、テトラｔ−ブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサン、ビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルビニルシラン、ビス（エチルアミノ）ジメチルシラン、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ジエチルアミノトリメチルシラン、ジメチルアミノジメチルシラン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシクロトリシラザン、ヘプタメチルジシラザン、ノナメチルトリシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、テトラキスジメチルアミノシラン、テトライソシアナートシラン、テトラメチルジシラザン、トリス（ジメチルアミノ）シラン、トリエトキシフルオロシラン、アリルジメチルシラン、アリルトリメチルシラン、ベンジルトリメチルシラン、ビス（トリメチルシリル）アセチレン、１，４−ビストリメチルシリル−１，３−ブタジイン、ジ−ｔ−ブチルシラン、１，３−ジシラブタン、ビス（トリメチルシリル）メタン、シクロペンタジエニルトリメチルシラン、フェニルジメチルシラン、フェニルトリメチルシラン、プロパルギルトリメチルシラン、テトラメチルシラン、トリメチルシリルアセチレン、１−（トリメチルシリル）−１−プロピン、トリス（トリメチルシリル）メタン、トリス（トリメチルシリル）シラン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、テトラメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルシクロテトラシロキサン、Ｍシリケート５１などが挙げられるがこれらに限定されない。【０１４５】
チタン化合物としては、テトラジメチルアミノチタンなどの有機金属化合物、モノチタン、ジチタンなどの金属水素化合物、二塩化チタン、三塩化チタン、四塩化チタンなどの金属ハロゲン化合物、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタンなどの金属アルコキシドなどが挙げられるがこれらに限定されない。【０１４６】
アルミニウム化合物としては、アルミニウムｎ−ブトキシド、アルミニウムｓ−ブトキシド、アルミニウムｔ−ブトキシド、アルミニウムジイソプロポキシドエチルアセトアセテート、アルミニウムエトキシド、アルミニウムヘキサフルオロペンタンジオネート、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウム（III）２，４−ペンタンジオネート、ジメチルアルミニウムクロライドなどが挙げられるがこれらに限定されない。【０１４７】
又、これらの原料は、単独で用いても良いが、２種以上の成分を混合して使用するようにしても良い。【０１４８】
又、前記のように硬質層の硬度は、成膜速度や添加ガス量比などによって調整することができる。【０１４９】
上記のような方法によって硬質層１７８を弾性層１７６表面に形成することにより、転写性が高く、クリーニング性及び耐久性が高い中間転写体を提供することができる。【０１５０】
アモルファスカーボン層（膜）を形成するための原料ガスとしては、常温で気体又は液体の有機化合物ガス、特に炭化水素ガスが用いられる。これら原料における相状態は常温常圧において必ずしも気相である必要はなく、混合ガス供給装置２４で加熱或いは減圧等により溶融、蒸発、昇華等を経て気化し得るものであれば、液相でも固相でも使用可能である。原料ガスとしての炭化水素ガスについては、例えば、ＣＨ４、Ｃ２Ｈ６、Ｃ３Ｈ８、Ｃ４Ｈ１０等のパラフィン系炭化水素、Ｃ２Ｈ２、Ｃ２Ｈ４等のアセチレン系炭化水素、オレフィン系炭化水素、ジオレフィン系炭化水素、さらには芳香族炭化水素等全ての炭化水素を少なくとも含むガスが使用可能である。さらに炭化水素以外でも、例えば、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、ＣＯ、ＣＯ２等少なくとも炭素元素を含む化合物であれば使用可能である。【０１５１】
又、これらの原料は、単独で用いても良いが、２種以上の成分を混合して使用するようにしても良い。【０１５２】
（低表面エネルギー層）
低表面エネルギー層は、低表面エネルギー状態を形成できる層のことである。【０１５３】
低表面エネルギー層を形成する化合物としては、ポリシロキサン化合物、フッ化アルキル重合体化合物、高級脂肪酸炭化水素化合物が好ましく用いられる。これらの中では、ポリシロキサン化合物が好ましい。【０１５４】
次に、本発明の中間転写体を用いた画像形成方法、画像形成装置について説明する。【０１５５】
《画像形成方法、画像形成装置》
本発明の中間転写体は、電子写真方式の複写機、プリンタ、ファクシミリ等の画像形成装置に好適に用いられる。画像形成方法は、感光体の表面に担持されたトナー像をその表面に１次転写し、転写されたトナー像を保持し、保持したトナー像を記録紙等の転写材の表面に中間転写体を用いて２次転写するものであれば良い。中間転写体は、ベルト状のものでも、ドラム状のものでも良い。【０１５６】
本発明の中間転写体を有する画像形成装置について、タンデム型フルカラー複写機を例に取り説明する。【０１５７】
図１０は、カラー画像形成装置の１例を示す断面構成図である。【０１５８】
このカラー画像形成装置１０は、タンデム型フルカラー複写機と称せられるもので、自動原稿送り装置１３と、原稿画像読み取り装置１４と、複数の露光手段１３Ｙ、１３Ｍ、１３Ｃ、１３Ｋと、複数組の画像形成部１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋと、中間転写体ユニット１７と、給紙手段１５及び定着手段１２４とから成る。【０１５９】
画像形成装置の本体１２の上部には、自動原稿送り装置１３と原稿画像読み取り装置１４が配置されており、自動原稿送り装置１３により搬送される原稿ｄの画像が原稿画像読み取り装置１４の光学系により反射・結像され、ラインイメージセンサＣＣＤにより読み込まれる。【０１６０】
ラインイメージセンサＣＣＤにより読み取られた原稿画像を光電変換されたアナログ信号は、図示しない画像処理部において、アナログ処理、Ａ／Ｄ変換、シェーディング補正、画像圧縮処理等を行った後、露光手段１３Ｙ、１３Ｍ、１３Ｃ、１３Ｋに各色ごとのデジタル画像データとして送られ、露光手段１３Ｙ、１３Ｍ、１３Ｃ、１３Ｋにより対応する第１の像担持体としてのドラム状の感光体（以下感光体とも記す）１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋに各色の画像データの潜像を形成する。【０１６１】
画像形成部１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋは、垂直方向に縦列配置されており、感光体１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋの図示左側方にローラ１７１、１７２、１７３、１７４を巻回して回動可能に張架された半導電性でシームレスベルト状の第２の像担持体である本発明の中間転写体（以下中間転写ベルトと記す）１７０が配置されている。【０１６２】
そして、本発明の中間転写ベルト１７０は図示しない駆動装置により回転駆動されるローラ１７１を介し矢印方向に駆動されている。【０１６３】
イエロー色の画像を形成する画像形成部１０Ｙは、感光体１１Ｙの周囲に配置された帯電手段１２Ｙ、露光手段１３Ｙ、現像手段１４Ｙ、１次転写手段としての１次転写ローラ１５Ｙ、クリーニング手段１６Ｙを有する。【０１６４】
マゼンタ色の画像を形成する画像形成部１０Ｍは、感光体１１Ｍ、帯電手段１２Ｍ、露光手段１３Ｍ、現像手段１４Ｍ、１次転写手段としての１次転写ローラ１５Ｍ、クリーニング手段１６Ｍを有する。【０１６５】
シアン色の画像を形成する画像形成部１０Ｃは、感光体１１Ｃ、帯電手段１２Ｃ、露光手段１３Ｃ、現像手段１４Ｃ、１次転写手段としての１次転写ローラ１５Ｃ、クリーニング手段１６Ｃを有する。【０１６６】
黒色画像を形成する画像形成部１０Ｋは、感光体１１Ｋ、帯電手段１２Ｋ、露光手段１３Ｋ、現像手段１４Ｋ、１次転写手段としての１次転写ローラ１５Ｋ、クリーニング手段１６Ｋを有する。【０１６７】
トナー補給手段１４１Ｙ、１４１Ｍ、１４１Ｃ、１４１Ｋは、現像装置１４Ｙ、１４Ｍ、１４Ｃ、１４Ｋにそれぞれ新規トナーを補給する。【０１６８】
ここで、１次転写ローラ１５Ｙ、１５Ｍ、１５Ｃ、１５Ｋは、図示しない制御手段により画像の種類に応じて選択的に作動され、それぞれ対応する感光体１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋに中間転写ベルト１７０を押圧し、感光体上の画像を転写する。【０１６９】
この様にして、画像形成部１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋにより感光体１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋ上に形成された各色の画像は、１次転写ローラ１５Ｙ、１５Ｍ、１５Ｃ、１５Ｋにより、回動する中間転写ベルト１７０上に逐次転写されて、合成されたカラー画像が形成される。【０１７０】
即ち、中間転写ベルトは感光体の表面に担持されたトナー画像をその表面に１次転写され、転写されたトナー画像を保持する。【０１７１】
又、給紙カセット１５１内に収容された記録媒体としての転写材Ｐは、給紙手段１５により給紙され、次いで複数の中間ローラ１２２Ａ、１２２Ｂ、１２２Ｃ、１２２Ｄ、レジストローラ１２３を経て、２次転写手段としての２次転写ローラ１１７まで搬送され、２次転写ローラ１１７により中間転写体上の合成されたトナー画像が転写材Ｐ上に一括転写される。【０１７２】
即ち、中間転写体上に保持したトナー画像を被転写物の表面に２次転写する。【０１７３】
ここで、２次転写手段６は、ここを転写材Ｐが通過して２次転写を行う時にのみ、転写材Ｐを中間転写ベルト１７０に圧接させる。【０１７４】
カラー画像が転写された転写材Ｐは、定着装置１２４により定着処理され、排紙ローラ１２５に挟持されて機外の排紙トレイ１２６上に載置される。【０１７５】
一方、２次転写ローラ１１７により転写材Ｐにカラー画像を転写した後、転写材Ｐを曲率分離した中間転写ベルト１７０は、クリーニング手段８により残留トナーが除去される。【０１７６】
ここで、中間転写体は前述したような回転するドラム状のものに置き換えても良い。【０１７７】
次に、中間転写ベルト１７０に接する１次転写手段としての１次転写ローラ１５Ｙ、１５Ｍ、１５Ｃ、１５Ｋ、と、２次転写ローラ１１７の構成について説明する。【０１７８】
１次転写ローラ１５Ｙ、１５Ｍ、１５Ｃ、１５Ｋは、例えば外径８ｍｍのステンレス等の導電性芯金の周面に、ポリウレタン、ＥＰＤＭ、シリコーン等のゴム材料に、カーボン等の導電性物質を分散させたり、イオン性の導電材料を含有させたりして、体積抵抗が１０５〜１０９Ω・ｃｍ程度のソリッド状態又は発泡スポンジ状態で、厚さが５ｍｍ、ゴム硬度が２０〜７０°程度（アスカー硬度Ｃ）の半導電弾性ゴムを被覆して形成される。【０１７９】
２次転写ローラ１１７は、例えば外径８ｍｍのステンレス等の導電性芯金の周面に、ポリウレタン、ＥＰＤＭ、シリコーン等のゴム材料に、カーボン等の導電性物質を分散させたり、イオン性の導電材料を含有させたりして、体積抵抗が１０5〜１０9Ω・ｃｍ程度のソリッド状態又は発泡スポンジ状態で、厚さが５ｍｍ、ゴム硬度が２０〜７０°程度（アスカー硬度Ｃ）の半導電弾性ゴムを被覆して形成される。【０１８０】
〈転写材〉
本発明に用いられる転写材としては、トナー画像を保持する支持体で、通常画像支持体、転写材或いは転写紙といわれるものである。具体的には薄紙から厚紙までの普通紙、アート紙やコート紙等の塗工された印刷用紙、市販されている和紙やはがき用紙、ＯＨＰ用のプラスチックフィルム、布等の各種転写材を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【実施例】
【０１８１】
以下に実施例を挙げて、本発明を具体的に説明するが、本発明の実施形態はこれに限定されるものではない。【０１８２】
《中間転写体の作製》
以下の手順で中間転写体を作製した。【０１８３】
（樹脂基体の準備）
樹脂基体１の準備
膜厚１００μｍの導電性物質を含有するポリイミド（ＰＩ）からなるシームレスレスベルトを準備し「樹脂基体１」とした。【０１８４】
樹脂基体２の準備
膜厚１００μｍの導電性物質を含有するポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）からなるシームレスベルトを準備し「樹脂基体２」とした。【０１８５】
樹脂基体３の準備
膜厚１００μｍの導電性物質を含有するポリエステルからなるシームレスベルトを準備し「樹脂基体３」とした。【０１８６】
樹脂基体４の準備
膜厚５００μｍの導電性物質を含有するクロロプレンゴム（ＣＲ）＋エチレン−プロピレン−ジエンゴム（ＥＰＤＭ）からなるシームレスベルトを準備し「樹脂基体４」とした。【０１８７】
〈中間転写体１の作製〉
（弾性層の作製）
上記で準備した「樹脂基体１」の外周に、ウレタンゴムからなる厚さ１５０μｍの「弾性層１」をディッピング塗布法により設けた。【０１８８】
（硬質層の作製）
次に、上記の「弾性層１」の上に、図５のプラズマ放電処理装置を用いて、硬質層を形成した。【０１８９】
硬質層の形成材料としては、酸化ケイ素を用いた。この時のプラズマ放電処理装置の各電極を被覆する誘電体は対向する両電極共に、セラミック溶射加工により片肉で１ｍｍ厚のアルミナを被覆したものを使用した。被覆後の電極間隙は、１ｍｍに設定した。又誘電体を被覆した金属母材は、冷却水による冷却機能を有するステンレス製ジャケット仕様であり、放電中は冷却水による電極温度コントロールを行いながら実施した。【０１９０】
硬質層の成膜条件を表１に示す。各原料ガスは、加熱することで蒸気を生成し、あらかじめ原料が凝集しないように余熱を行った放電ガス及び反応ガスと混合・希釈した後、放電空間への供給を行った。【０１９１】
（酸化ケイ素の硬質層形成条件）
放電ガス：Ｎ２ガス
反応ガス：０２ガスを全ガスに対し１９体積％
原料ガス：テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）を全ガスに対し１．４体積％
低周波側電源電力（神鋼電機製高周波電源（５０ｋＨｚ））：１０Ｗ／ｃｍ２
高周波側電源電力（パール工業製高周波電源（１３．５６ＭＨｚ））：５Ｗ／ｃｍ２で変化
〈中間転写体２の作製〉
中間転写体１の硬質層の作製において用いた反応ガスをＯ２（１９体積％）からＨ２（４体積％）に、原料ガスをテトラエトキシシラン（１．４体積％）からアルミニウムｓ−ブトキシド（０．００５体積％）に変更、また弾性層に中間層を設けた以外は、中間転写体１と同様にして「中間転写体２」を作製した。
（酸化ケイ素の中間層形成条件）
放電ガス：Ｎ２ガス
反応ガス：Ｈ２ガスを全ガスに対し４体積％
原料ガス：テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）を全ガスに対し１．４体積％
低周波側電源電力（神鋼電機製高周波電源（５０ｋＨｚ））：１０Ｗ／ｃｍ２
高周波側電源電力（パール工業製高周波電源（１３．５６ＭＨｚ））：５Ｗ／ｃｍ２で変化
〈中間転写体３の作製〉
中間転写体１の作製において用いた放電ガスをＮ２からＡｒに、反応ガスを用いずに、原料ガスをテトラエトキシシラン（１．４体積％）からＣＨ４（０．０５体積％）に変更した以外は、中間転写体１と同様にして「中間転写体３」を作製した。【０１９２】
〈中間転写体４の作製〉
中間転写体１で作製した硬質層の上に、さらにフッ素を含有する下記塗布液をディッピング塗布して低表面エネルギー層（膜厚５ｎｍ）を設けた以外は同様にして「中間転写体４」を作製した。【０１９３】
塗布液
カップリング剤「オプツールＤＳＸ」（ダイキン社製）              １質量部
希釈液「ＳＯＬ−１」（ダイキン社製）                        １００質量部
〈中間転写体５の作製〉
中間転写体１で用いた弾性層をウレタンゴムからクロロプレンゴムに変更し、その上に中間転写体１と同じ硬質層を設け、さらにその上にシリコーンを含有する下記塗布液をディッピング塗布し、５０℃で１時間乾燥して低表面エネルギー層（膜厚１０ｎｍ）を設けた以外は同様にして「中間転写体５」作製した。【０１９４】
塗布液
シリコーン樹脂（信越化学社製；商品名Ｘ−４０−２２６９）        １００質量部
ｎ−ヘキサン                                                    ４００質量部
〈中間転写体６〜９の作製〉
中間転写体１の硬化層の膜厚を表１のように変更した以外は同様にして「中間転写体６〜９」を作製した。
〈中間転写体１０の作製〉
中間転写体１の弾性層に、中間転写体２と同様に中間層を設けた（但し厚みを１μｍとした）以外は同様にして「中間転写体１０」を作製した。【０１９５】
〈中間転写体１１の作製〉
中間転写体１の作製で用いた樹脂基体１を樹脂基体２に変更、弾性層を形成せず、硬質層の膜厚を２００ｎｍから２５０ｎｍに変更して「中間転写体１１」を作製した。【０１９６】
〈中間転写体１２の作製〉
中間転写体１の作製で用いた樹脂基体１を樹脂基体３に変更、弾性層のウレタンゴムをニトリルゴム（ＮＢＲ）に変更し、硬質層の膜厚を２００ｎｍから１０００ｎｍに変更して「中間転写体１２」を作製した。【０１９７】
〈中間転写体１３の作製〉
ウレタンエラストマ−原料を混合機で攪拌混合し、金属ベルトを配置した型に注型し、９０℃で６時間硬化した後研磨し、上記金属ベルトの外周に肉厚０．３ｃｍの半導電性弾性体を有するシームレスベルト「中間転写体１３」を作製した。【０１９８】
〈中間転写体１４の作製〉
中間転写体３の作製で用いた樹脂基体１を樹脂基体４に変更、弾性層を形成せず、硬質層の膜厚を１００ｎｍから１０００ｎｍに変更して「中間転写体１４」を作製した。【０１９９】
表１に、上記中間転写体の基体、弾性層、表面層（硬質層、低表面エネルギー層）の構成と膜厚、中間転写体表面と弾性層のヤング率、ヤング率差（中間転写体表面−弾性層）を示す。【０２００】
【表１】
2008146743.tif 000003
【０２０１】
尚、膜厚、ナノインデンテーション法によるヤング率の測定は前記の測定装置を用い、前記測定方法で測定して得られた値である。【０２０２】
《評価》
〈画像形成装置〉
上記で作製した中間転写体の評価は、画像形成装置「ｍａｇｉｃｏｌｏｒ５４４０ＤＬ（コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製）」に装着して行った。【０２０３】
尚、画像形成には体積基準におけるメディアン粒径（Ｄ５０）が４．５μｍのトナーと６０μｍのコートキャリアよりなる２成分現像剤を使用した。【０２０４】
プリント環境は、低温低湿（１０℃、２０％ＲＨ）と高温高湿（３３℃、８０％ＲＨ）で１６万枚のプリントを行った。転写材は、Ａ４版の上質紙（６４ｇ／ｍ２）を用いた。【０２０５】
プリント原稿は、画素率が７％の文字画像（３ポイント、５ポイント）、カラー人物顔画像（ハーフトーンを含むドット画像）、ベタ白画像、ベタ画像がそれぞれ１／４等分にあるオリジナル画像（Ａ４版）を用いた。【０２０６】
〈評価〉
（１次転写率）
１次転写率の評価は、低温低湿（１０℃、２０％ＲＨ）環境で、初期と１６万枚プリント終了後の転写率で行った。１次転写率は、画素濃度が１．３０のソリッド画像（２０ｍｍ×５０ｍｍ）を感光体上に形成したと時、感光体上に形成されたトナー像のトナー質量と中間転写体上に転写された後、感光体上に残った転写残のトナー質量を求め、下記式より転写率を求めた。【０２０７】
１次転写率（％）＝（（感光体上に形成されたトナーの質量−感光体上に残った転写残のトナー質量）／感光体上に形成されたトナー像のトナー質量）×１００
尚、１次転写率は９５％以上を良好と評価した。【０２０８】
（２次転写率）
２次転写率の評価は、低温低湿（１０℃、２０％ＲＨ）環境で、初期と１６万枚プリント終了後の転写率で行った。２次転写率は、画素濃度が１．３０のソリッド画像（２０ｍｍ×５０ｍｍ）を形成したと時、転写材上に転写されたトナーの質量と中間転写体上に形成されたトナー像のトナー質量を求め、下記式より転写率を求めた。【０２０９】
２次転写率（％）＝（転写材上に転写されたトナーの質量／中間転写体上に形成されたトナー像のトナー質量）×１００
尚、２次転写率は９５％以上を良好と評価した。【０２１０】
（文字画像の中抜け）
文字画像の中抜けの評価は、高温高湿（３３℃、８０％ＲＨ）で初期の１０枚と１６万枚プリント終了後の１０枚を取り出し、文字画像をルーペで拡大観察して、文字画像の中抜け発生程度を評価した。【０２１１】
評価基準
◎：文字画像の中抜けの発生が、１０枚全てのプリント画像で３個以下で良好
○：文字画像の中抜けの発生が、４個以上、１９個以下が１枚以上発生するが実用上問題なし
×：文字画像の中抜けの発生が、２０個以上が１枚以上発生し、実用上問題有り。【０２１２】
（中間転写体上のフィルミング）
中間転写体上のフィルミングは、１万枚プリント終了後に、中間転写体を取り出し、その表面のフィルミング状態を目視で観察し評価した。【０２１３】
評価基準
◎：中間転写体に全くフィルミングが見られず
○：中間転写体に薄くフィルミングが見られるが、実用上問題ないレベル
×：中間転写体の一周にフィルミングが見られ、実用上問題となるレベル。【０２１４】
（ブレードクリーニング性）
ブレードクリーニング性の評価は、低温低湿（１０℃、２０％ＲＨ）環境でプリントを行い、ブレードクリーニングでクリーニングした後の中間転写体の表面を目視観察し、その表面に残存するトナーの程度と、プリントして得られたプリント画像にクリーニング不良に起因する画像汚れの発生程度で評価した。【０２１５】
尚、プリント中にブレードクリーニングのめくれの発生もクリーニング性不良として評価した。【０２１６】
評価基準
◎：１６万枚まで、中間転写体上にクリーニング残トナーが認められず、プリント画像にもクリーニング不良に起因する画像汚れなし
○：１６万枚で、中間転写体上にクリーニング残トナーが認められるが、プリント画像にクリーニング不良に起因する画像汚れなし
×：１０万枚で、中間転写体上にクリーニング残トナーが認められ、プリント画像にもクリーニング不良に起因する画像汚れが有り実用上問題。【０２１７】
表２に、評価結果を示す。【０２１８】
【表２】
2008146743.tif 000004
【０２１９】
表２の結果から明らかなように、本発明である「中間転写体１〜７」は、初期および１６万枚プリント後の２次転写率、ブレードクリーニング性、文字画像の中抜け、耐久性（フィルミング）の何れの評価項目も良好な結果が得られたが、中間転写体８〜１４（比較）は評価項目の何れかに問題があり、本発明の中間転写体とは明らかに異なる結果となった。
【図１】
2008146743.tif 000005
【図２】
2008146743.tif 000006
【図３】
2008146743.tif 000007
【図４】
2008146743.tif 000008
【図５】
2008146743.tif 000009
【図６】
2008146743.tif 000010
【図７】
2008146743.tif 000011
【図８】
2008146743.tif 000012
【図９】
2008146743.tif 000013
【図１０】
2008146743.tif 000014
【国際調査報告】
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