(57)【要約】  基板上の絶縁層に形成されたコンタクトホール内にカルコゲナイド膜を形成する方法であって、前記カルコゲナイド膜と同一組成のターゲットを準備する段階と、前記ターゲットの直径をＴ（ｍ）、前記ターゲットと前記基板との間の距離をＬ（ｍ）とした場合に、前記距離Ｌと前記ターゲットの直径Ｔとの比Ｌ／Ｔを、０．５以上かつ１．５以下に設定する段階と、前記基板にバイアス電力を印加し、前記ターゲットにスパッタリング電力を印加するスパッタリング工程により、前記コンタクトホール内にカルコゲナイド膜を形成する段階と、を含む、カルコゲナイド膜の形成方法。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の絶縁層に形成されたコンタクトホール内にカルコゲナイド膜を形成する方法であって、
前記カルコゲナイド膜と同一組成のターゲットを準備する段階と、
前記ターゲットの直径をＴ（ｍ）、前記ターゲットと前記基板との間の距離をＬ（ｍ）とした場合に、前記距離Ｌと前記ターゲットの直径Ｔとの比Ｌ／Ｔを、０．５以上かつ１．５以下に設定する段階と、
前記基板にバイアス電力を印加し、前記ターゲットにスパッタリング電力を印加するスパッタリング工程により、前記コンタクトホール内にカルコゲナイド膜を形成する段階と、を含むカルコゲナイド膜の形成方法。
【請求項２】
前記基板の表面積をＳｓ（ｃｍ２）、前記基板に印加するバイアス電力をＰｓ（Ｗ）、前記ターゲットの表面積をＳｔ（ｃｍ２）、前記ターゲットに印加するスパッタリング電力をＰｔ（Ｗ）としたとき、前記基板のパワー密度Ｄｓの前記ターゲットのパワー密度Ｄｔに対する比Ｄｓ／Ｄｔは、下記の式（１）
Ｄｓ／Ｄｔ＝（Ｐｓ×Ｓｔ）／（Ｐｔ×Ｓｓ）≦０．１    …（１）を満たす、請求項１記載のカルコゲナイド膜のスパッタリング方法。
【請求項３】
前記基板のパワー密度Ｄｓ及び前記ターゲットのパワー密度Ｄｔを最適化することにより、前記コンタクトホール内に前記カルコゲナイド膜をその化学量論的組成を維持しつつ密に充填する、請求項２記載のカルコゲナイド膜の形成方法。
【請求項４】
前記カルコゲナイド膜は、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅからなる群から選択される少なくとも１種を含有してなるカルコゲン化合物からなることを特徴とする請求項１記載のカルコゲナイド膜の形成方法。
【請求項５】
前記カルコゲン化合物は、Ｔｅを３０重量％以上かつ６０重量％以下、Ｇｅを１０重量％以上かつ７０重量％以下、Ｓｂを１０重量％以上かつ４０重量％以下、Ｓｅを１０重量％以上かつ７０重量％以下含有し、かつ、これらＴｅ、Ｇｅ、Ｓｂ及びＳｅの含有率の合計が１００重量％以下である、請求項４記載のカルコゲナイド膜の形成方法。
【請求項６】
カルコゲナイド膜を含む記録素子の製造方法であって、
基板上に、上部が拡径されたコンタクトホールを有する絶縁層を形成する段階と、
前記コンタクトホール内に第１の電極を形成する段階と、
前記カルコゲナイド膜と同一組成のターゲットを準備する段階と、
前記ターゲットの直径をＴ（ｍ）、前記ターゲットと前記基板との間の距離をＬ（ｍ）とした場合に、前記距離Ｌと前記ターゲットの直径Ｔとの比Ｌ／Ｔを、０．５以上かつ１．５以下に設定する段階と、
前記基板にバイアス電力を印加し、前記ターゲットにスパッタリング電力を印加するスパッタリング工程により、前記第１の電極上に記録層となるカルコゲナイド膜を形成する段階と、
前記カルコゲナイド膜上に第２の電極を形成する段階と、を含む記録素子の製造方法。
【請求項７】
前記基板の表面積をＳｓ（ｃｍ２）、前記基板に印加するバイアス電力をＰｓ（Ｗ）、前記ターゲットの表面積をＳｔ（ｃｍ２）、前記ターゲットに印加するスパッタリング電力をＰｔ（Ｗ）としたとき、前記基板のパワー密度Ｄｓの前記ターゲットのパワー密度Ｄｔに対する比Ｄｓ／Ｄｔは、下記の式（１）
Ｄｓ／Ｄｔ＝（Ｐｓ×Ｓｔ）／（Ｐｔ×Ｓｓ）≦０．１    …（１）を満たす、請求項６記載の記録素子の製造方法。
【請求項８】
前記基板のパワー密度Ｄｓ及び前記ターゲットのパワー密度Ｄｔを最適化することにより、前記コンタクトホール内に前記カルコゲナイド膜をその化学量論的組成を維持しつつ密に充填する、請求項７記載の記録素子の製造方法。
【請求項９】
前記カルコゲナイド膜は、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅからなる群から選択される少なくとも１種を含有してなるカルコゲン化合物からなることを特徴とする請求項６記載の記録素子の製造方法。
【請求項１０】
前記カルコゲン化合物は、Ｔｅを３０重量％以上かつ６０重量％以下、Ｇｅを１０重量％以上かつ７０重量％以下、Ｓｂを１０重量％以上かつ４０重量％以下、Ｓｅを１０重量％以上かつ７０重量％以下含有し、かつ、これらＴｅ、Ｇｅ、Ｓｂ及びＳｅの含有率の合計が１００重量％以下である、請求項９記載の記録素子の製造方法。
【請求項１１】
前記第１及び第２の電極は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｒｕ、Ｐｔ、Ｉｒからなる群から選択される少なくとも１種を含有してなる、請求項６記載の記録素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スパッタリングによるカルコゲナイド膜の形成方法に関し、更に詳しくは、相変化メモリ等の不揮発動作可能な高集積度メモリの記録層に好適に用いられ、内部に空隙やクラック等の欠陥が無く、緻密かつ化学量論的組成のカルコゲナイド膜を成膜することが可能な、スパッタリングによるカルコゲナイド膜の形成方法に関するものである。
本発明はまた、上記カルコゲナイド膜の形成方法を含む記録素子の製造方法、特に、抵抗変化型記録素子の製造方法に関するものである。
本願は、２００７年１月２５日に、日本に出願された特願２００７−１５０５９号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯用電話機や携帯用情報端末等の携帯用機器においては、画像データ等の多量の情報を取り扱うニーズが高まっており、これらの携帯用機器に搭載される記憶素子についても、高速、低消費電力、大容量かつ小型の不揮発性メモリへの要求が高まっている。中でも、カルコゲン化合物を利用した、結晶状態により抵抗値が変化する抵抗変化型不揮発性メモリ（抵抗変化型記憶素子）は、高集積化かつ不揮発動作可能なメモリとして注目を集めている（例えば、特許文献１等参照）。
この抵抗変化型不揮発性メモリは、記録層となるカルコゲナイド膜を２つの電極で挟持した単純な構造で、室温にても記録状態を安定に維持することができるので、１０年を越える記憶保持も十分可能な優れたメモリである。
【特許文献１】特開２００４−３４８９０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、従来の抵抗変化型不揮発性メモリでは、高集積化するために、単純に素子サイズを微細化していくと、隣接する素子との間隔が極めて狭くなってしまい、例えば、１つの素子の記録層を相変化させるためにその上下の電極に所定の電圧を印加すると、この下部電極からの発熱が隣接する素子へ悪影響を及ぼす虞があるという問題点があった。【０００４】
そこで、基板上に熱伝導率の低い絶縁層を成膜し、この絶縁層に小径の孔を形成し、この孔にカルコゲン化合物を埋め込むことにより、素子を分離する構造が考えられるが、この構造では、孔にカルコゲン化合物を密に埋め込むことが難しく、緻密なカルコゲナイド膜を得ることが難しい。
また、カルコゲン化合物が揮発性のカルコゲン元素を含んでいるために、成膜過程で揮発性のカルコゲン元素の一部が揮発し、得られたカルコゲナイド膜の組成が化学量論的組成からずれてしまうために、化学量論的組成を維持した状態でカルコゲナイド膜を成膜することは難しい。【０００５】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、内部に空隙やクラック等の欠陥が無く、緻密かつ化学量論的組成のカルコゲナイド膜を成膜することができる、スパッタリングによるカルコゲナイド膜の形成方法を提供することを目的とする。
本発明のさらなる目的は、上記カルコゲナイド膜の形成方法を応用した記録素子の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者等は、スパッタリングによるカルコゲナイド膜の形成方法について鋭意検討を行った結果、絶縁層のコンタクトホール内にカルコゲナイド膜をスパッタリングにより形成する際に、カルコゲナイド膜と同一組成のターゲットを用い、このターゲットの直径をＴ（ｍ）、このターゲットと前記基板との間の距離をＬ（ｍ）とした場合に、前記ターゲットの直径に対する前記距離の比Ｌ／Ｔを、０．５以上かつ１．５以下とすれば、内部に空隙やクラック等の欠陥が無く、緻密かつ化学量論的組成のカルコゲナイド膜を成膜することが可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。【０００７】
本発明は、基板上の絶縁層に形成されたコンタクトホール内にカルコゲナイド膜を形成する方法であって、前記カルコゲナイド膜と同一組成のターゲットを準備する段階と、前記ターゲットの直径をＴ（ｍ）、前記ターゲットと前記基板との間の距離をＬ（ｍ）とした場合に、前記距離Ｌと前記ターゲットの直径Ｔとの比Ｌ／Ｔを、０．５以上かつ１．５以下に設定する段階と、前記基板にバイアス電力を印加し、前記ターゲットにスパッタリング電力を印加するスパッタリング工程により、前記コンタクトホール内にカルコゲナイド膜を形成する段階と、を含むカルコゲナイド膜の形成方法を提供する。【０００８】
また、本発明は、カルコゲナイド膜を含む記録素子の製造方法であって、基板上に、上部が拡径されたコンタクトホールを有する絶縁層を形成する段階と、前記コンタクトホール内に第１の電極を形成する段階と、前記カルコゲナイド膜と同一組成のターゲットを準備する段階と、前記ターゲットの直径をＴ（ｍ）、前記ターゲットと前記基板との間の距離をＬ（ｍ）とした場合に、前記距離Ｌと前記ターゲットの直径Ｔとの比Ｌ／Ｔを、０．５以上かつ１．５以下に設定する段階と、前記基板にバイアス電力を印加し、前記ターゲットにスパッタリング電力を印加するスパッタリング工程により、前記第１の電極上に記録層となるカルコゲナイド膜を形成する段階と、前記カルコゲナイド膜上に第２の電極を形成する段階と、を含む記録素子の製造方法を提供する。【０００９】
上記カルコゲナイド膜の形成方法及び記録素子の製造方法では、前記基板の表面積をＳｓ（ｃｍ２）、そのバイアス電力をＰｓ（Ｗ）、前記ターゲットの表面積をＳｔ（ｃｍ２）、そのスパッタリング電力をＰｔ（Ｗ）としたとき、前記基板のパワー密度Ｄｓの前記ターゲットのパワー密度Ｄｔに対する比Ｄｓ／Ｄｔは、下記の式（１）
Ｄｓ／Ｄｔ＝（Ｐｓ×Ｓｔ）／（Ｐｔ×Ｓｓ）≦０．１    …（１）を満たすことが好ましい。【００１０】
前記基板のパワー密度Ｄｓ及び前記ターゲットのパワー密度Ｄｔを最適化することにより、前記コンタクトホール内に前記カルコゲナイド膜をその化学量論的組成を維持しつつ密に充填することが好ましい。
前記カルコゲナイド膜は、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅからなる群から選択される少なくとも１種を含有してなるカルコゲン化合物からなることが好ましい。
前記カルコゲン化合物は、Ｔｅを３０重量％以上かつ６０重量％以下、Ｇｅを１０重量％以上かつ７０重量％以下、Ｓｂを１０重量％以上かつ４０重量％以下、Ｓｅを１０重量％以上かつ７０重量％以下含有し、かつ、これらＴｅ、Ｇｅ、Ｓｂ及びＳｅの含有率の合計が１００重量％以下であることが好ましい。【００１１】
前記第１及び第２の電極は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｒｕ、Ｐｔ、Ｉｒからなる群から選択される少なくとも１種を含有してなることが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の、スパッタリングによるカルコゲナイド膜の形成方法によれば、カルコゲナイド膜と同一組成のターゲットの直径をＴ（ｍ）、このターゲットと前記基板との間の距離をＬ（ｍ）とした場合に、距離Ｌとターゲットの直径Ｔとの比Ｌ／Ｔを、０．５以上かつ１．５以下としたので、スパッタリングレートを最適条件に維持した状態で絶縁層のコンタクトホール内に、内部に空隙やクラック等の欠陥が無く、緻密かつ化学量論的組成のカルコゲナイド膜を成膜することができる。
また、前記基板にバイアス電力を印加し、前記ターゲットにスパッタリング電力を印加することにより、揮発性のカルコゲン元素を含む膜の組成を化学量論的組成に維持した状態で、緻密なカルコゲナイド膜を成膜することができる。【００１３】
本発明の、カルコゲナイド膜を記録層として含む記録素子の製造方法によれば、カルコゲナイド膜と同一組成のターゲットの直径をＴ（ｍ）、このターゲットと前記基板との間の距離をＬ（ｍ）とした場合に、距離Ｌとターゲットの直径Ｔとの比Ｌ／Ｔを、０．５以上かつ１．５以下としたので、スパッタリングレートを最適条件に維持した状態で、コンタクトホール内に、内部に空隙やクラック等の欠陥が無く、緻密かつ化学量論的組成のカルコゲナイド膜を成膜することができる。
また、前記基板にバイアス電力を印加し、前記ターゲットにスパッタリング電力を印加することにより、揮発性のカルコゲン元素を含む膜の組成を化学量論的組成に維持した状態で、緻密なカルコゲナイド膜を成膜することができる。
したがって、記録層を、内部に空隙やクラック等の欠陥が無く、緻密かつ化学量論的組成のカルコゲナイド膜により構成した記録素子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一実施形態の、スパッタリングによるカルコゲナイド膜の形成方法に用いられるスパッタリング装置を示す概略断面図である。
【図２】相変化型メモリを作製する際に用いられるシリコンウエハを示す断面図である。
【図３】シリコンウエハ上に形成された本実施形態の相変化型メモリを示す断面図である。
【図４】被覆率（ｔＢ／ｔｉ）及びスパッタリングレートとＬ／Ｔとの関係を示す図である。
【図５】カルコゲナイド膜におけるカルコゲン元素の含有比と（Ｐｓ×Ｓｔ）／（Ｐｔ×Ｓｓ）（＝Ｄｓ／Ｄｔ）との関係を示す図である。
【図６】試料にバイアス電力Ｐｓ（Ｗ）を印加しつつスパッタリングによりカルコゲナイド膜を形成した場合のカルコゲナイド膜の断面形状を示す走査型電子顕微鏡像である。
【図７】試料にバイアス電力Ｐｓ（Ｗ）を印加せずにスパッタリングによりカルコゲナイド膜を形成した場合のカルコゲナイド膜の断面形状を示す走査型電子顕微鏡像である。
【図８】従来のスパッタリング方法により成膜したカルコゲナイド膜の断面形状を示す走査型電子顕微鏡像である。
【符号の説明】
【００１５】
１…静電チャック付き冷却ステージ  ２…試料  ３…ターゲット  ４…マグネット  ５、６…電源  １１…シリコンウエハ  １２…絶縁層  １３…コンタクトホール  １３ａ…拡径部  １４…タングステン（Ｗ）  １５…窒化チタン（ＴｉＮ）  １６…下部電極（第１の電極）  １７…カルコゲナイド膜  １８…上部電極（第２の電極）
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明の、スパッタリングによるカルコゲナイド膜の形成方法を実施するための最良の形態について説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。【００１７】
図１は、本発明の一実施形態の、スパッタリングによるカルコゲナイド膜の形成方法に用いられるスパッタリング装置を示す概略断面図であり、図において、１は真空チャンバ（図示略）内に設けられた静電チャック付き冷却ステージ、２は静電チャック付き冷却ステージ１上に静電気により吸着固定された円板状の基板からなる試料、３は試料２の上面に対向配置されたターゲット、４はターゲット３の上部側に設けられターゲット３を磁力により固定するためのマグネット、５は試料２にバイアス電力Ｐｓ（Ｗ）を印加する電源、６はターゲット３にスパッタリング電力Ｐｔ（Ｗ）を印加する電源である。【００１８】
このターゲット３と試料２との間の距離をＬ（ｍ）、このターゲット３の直径をＴ（ｍ）とすると、この距離Ｌとターゲット３の直径Ｔとの比Ｌ／Ｔは、０．５以上かつ１．５以下、好ましくは０．７以上かつ１．３以下となるように調整されている。【００１９】
このターゲット３としては、成膜するカルコゲナイド膜と同一組成の材料であるカルコゲン化合物からなるターゲット材が好適であり、このカルコゲン化合物としては、例えば、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅからなる群から選択される少なくとも１種を含有してなるカルコゲン化合物が挙げられる。より具体的には、Ｔｅを３０重量％以上かつ６０重量％以下、Ｇｅを１０重量％以上かつ７０重量％以下、Ｓｂを１０重量％以上かつ４０重量％以下、Ｓｅを１０重量％以上かつ７０重量％以下含有し、かつ、これらＴｅ、Ｇｅ、Ｓｂ及びＳｅの含有率の合計が１００重量％以下のカルコゲン化合物が挙げられる。
このカルコゲン化合物としては、例えば、Ｇｅ２Ｓｂ２Ｔｅ５、ＧｅＳｂ２Ｔｅ５、ＧｅＳｅ等が挙げられる。【００２０】
試料２としては、カルコゲナイド膜を形成するためのコンタクトホールを有するものであればよく、例えば、図２に示すようなシリコンウエハ（基板）１１が好適である。
このシリコンウエハ１１は、カルコゲナイド膜を記録層とする相変化型メモリ（抵抗変化型記録素子）を作製する際に用いられるウエハであり、シリコン基板の半導体回路等（図示略）の上に形成された酸化ケイ素からなる絶縁層１２に、この半導体回路に達するコンタクトホール１３が形成され、このコンタクトホール１３の上部は拡径された拡径部１３ａとされている。この拡径部１３ａを除くコンタクトホール１３内には、タングステン（Ｗ）１４及び窒化チタン（ＴｉＮ）１５の２層構造からなる相変化型メモリの下部電極（第１の電極）１６が形成されている。【００２１】
この下部電極１６は、後述するカルコゲナイド膜の上に形成される上部電極（第２の電極）１８と同様、導電性を有するものであればよく、上記の組成の他、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｒｕ、Ｐｔ、Ｉｒからなる群から選択される少なくとも１種を含有してなる導電性を有する金属、合金、金属酸化物、金属窒化物のいずれかが好適に用いられる。【００２２】
次に、上記のスパッタリング装置を用いて、図２に示すシリコンウエハ１１の拡径部１３ａ内にカルコゲナイド膜を成膜する。
この成膜に際しては、揮発性のカルコゲン元素を含む膜の組成を化学量論的組成に維持した状態で、緻密なカルコゲナイド膜を成膜するために、電源５を用いて試料２にバイアス電力Ｐｓ（Ｗ）を印加するとともに、電源６を用いてターゲット３にスパッタリング電力Ｐｔ（Ｗ）を印加する。【００２３】
これらバイアス電力Ｐｓ（Ｗ）及びスパッタリング電力Ｐｔ（Ｗ）を最適化するためには、試料２の表面積をＳｓ（ｃｍ２）、そのバイアス電力をＰｓ（Ｗ）、ターゲット３の表面積をＳｔ（ｃｍ２）、そのスパッタリング電力をＰｔ（Ｗ）としたとき、試料２のパワー密度Ｄｓのターゲット３のパワー密度Ｄｔに対する比Ｄｓ／Ｄｔは、下記の式（１）
Ｄｓ／Ｄｔ＝（Ｐｓ×Ｓｔ）／（Ｐｔ×Ｓｓ）≦０．１    …（１）を満たす必要がある。【００２４】
これらバイアス電力Ｐｓ（Ｗ）及びスパッタリング電力Ｐｔ（Ｗ）を最適化することにより、揮発性カルコゲン元素の揮発が最小限に抑制され、したがって、成膜されるカルコゲナイド膜の組成もターゲット３と同一組成となり、カルコゲナイド膜の化学量論的組成が維持される。また、膜内に空隙等が生じ難くなるので、膜の緻密性も向上することとなる。
これにより、図３に示すように、シリコンウエハ１１の拡径部１３ａ内に、空隙等の欠陥が極めて少なく、緻密であり、化学量論的組成が維持されたカルコゲナイド膜１７が成膜される。このカルコゲナイド膜１７は、相変化型メモリの場合、記録層となるもので、平坦性に優れているので、化学的機械研磨（ＣＭＰ）等は不要である。【００２５】
次いで、このカルコゲナイド膜１７上に上部電極（第２の電極）１８を形成する。この上部電極１８は、下部電極１６と同様、導電性を有するものであればよく、例えば、タングステン（Ｗ）及び窒化チタン（ＴｉＮ）の２層構造の電極等、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｒｕ、Ｐｔ、Ｉｒからなる群から選択される少なくとも１種を含有してなる導電性を有する金属、合金、金属酸化物、金属窒化物のいずれかからなる単層構造または積層構造のものが好適である。
以上により、カルコゲナイド膜１７を記録層とする相変化型メモリ１９を作製することができる。【００２６】
次に、本実施形態の、スパッタリングによるカルコゲナイド膜の形成方法について、本発明者等が行った実験結果について説明する。
図４は、被覆率（ｔＢ／ｔｉ）及びスパッタリングレートと、ターゲット３と試料２との間の距離Ｌ（ｍ）とターゲット３の直径Ｔ（ｍ）との比Ｌ／Ｔとの関係を示す図である。ここで、被覆率（ｔＢ／ｔｉ）とは、コンタクトホール１３を含む絶縁層１２上にカルコゲナイド膜を成膜したとき、拡径部１３ａの底面に成膜されたカルコゲナイド膜の膜厚（ｔＢ）と、拡径部１３ａ外の絶縁層１２上に成膜されたカルコゲナイド膜の膜厚（ｔｉ）との比である。【００２７】
図４によれば、カルコゲナイド膜の面内均一性を確保するために被覆率（ｔＢ／ｔｉ）を０．７以上とした場合、Ｌ／Ｔは０．５以上となる。また、カルコゲナイド膜の生産性を考慮してスパッタリングレートを１．０とした場合、Ｌ／Ｔは１．５以下となる。したがって、被覆率（ｔＢ／ｔｉ）及びスパッタリングレートの双方を満足するＬ／Ｔの範囲は、０．５以上かつ１．５以下、好ましくは０．７以上かつ１．３以下となる。【００２８】
図５は、カルコゲナイド膜におけるカルコゲン元素の含有比（含有率）と（Ｐｓ×Ｓｔ）／（Ｐｔ×Ｓｓ）（＝Ｄｓ／Ｄｔ）との関係を示す図である。
ここでは、カルコゲナイド膜の組成を、Ｇｅ２Ｓｂ２Ｔｅ５とした。
図５によれば、（Ｐｓ×Ｓｔ）／（Ｐｔ×Ｓｓ）が０．１を超えると、Ｇｅ、Ｔｅ等のカルコゲン元素含有比が急激に低下し、さらに０．３５を超えると、カルコゲン元素含有比が０．２以下と著しく低下することが分かる。【００２９】
図６は、Ｌ／Ｔ＝１．０の条件下にて、試料２にバイアス電力Ｐｓ（Ｗ）を印加しつつカルコゲナイド膜をスパッタリングにより形成した場合の拡径部１３ａ内におけるカルコゲナイド膜の断面形状を示す走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）像である。
図７は、Ｌ／Ｔ＝１．０の条件下にて、試料２にバイアス電力Ｐｓ（Ｗ）を印加せずにカルコゲナイド膜をスパッタリングにより形成した場合の拡径部１３ａ内におけるカルコゲナイド膜の断面形状を示す走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）像である。
図８は、従来のスパッタリング方法であるＬ／Ｔ＝０．２の条件下にて、試料２上にカルコゲナイド膜をスパッタリングにより形成した場合の拡径部１３ａ内におけるカルコゲナイド膜の断面形状を示す走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）像である。【００３０】
これらの図によれば、試料２にバイアス電力Ｐｓ（Ｗ）を印加した場合、拡径部１３ａ内に成膜されたカルコゲナイド膜は所定の厚みが確保され、しかも表面が平坦化されており、膜質が良好であることが分かった。
また、試料２にバイアス電力Ｐｓ（Ｗ）を印加しなかった場合、拡径部１３ａ内に成膜されたカルコゲナイド膜の表面には円錐状の突起が形成されているものの、所定の厚みが確保され、しかも表面が平坦化されており、膜質が良好であることが分かった。
一方、従来例の場合、拡径部１３ａ内に成膜されたカルコゲナイド膜の厚みは極めて薄く、膜の電気的特性についてもバラツキが大きく、膜質に劣るものであった。【００３１】
以上説明したように、本実施形態の、スパッタリングによるカルコゲナイド膜の形成方法によれば、カルコゲナイド膜と同一組成のターゲット３の直径をＴ（ｍ）、このターゲット３と試料２との間の距離をＬ（ｍ）とした場合に、ターゲット３の直径Ｔに対する距離Ｌの比Ｌ／Ｔを０．５以上かつ１．５以下としたので、スパッタリングレートを最適条件に維持した状態で、コンタクトホール１３の拡径部１３ａ内に、内部に空隙やクラック等の欠陥が無く、緻密かつ化学量論的組成のカルコゲナイド膜１７を成膜することができる。【００３２】
また、試料２にバイアス電力を印加したので、揮発性のカルコゲン元素を含む膜の組成を化学量論的組成に維持した状態で、表面が平坦であり、しかも緻密なカルコゲナイド膜を成膜することができる。
したがって、記録層を、内部に空隙やクラック等の欠陥が無く、緻密かつ化学量論的組成のカルコゲナイド膜により構成した抵抗変化型記録素子を提供することができる。
【産業上の利用可能性】
【００３３】
本発明は、内部に空隙やクラック等の欠陥が無く、緻密かつ化学量論的組成のカルコゲナイド膜の形成、及び、このようなカルコゲナイド膜を記録層として有する抵抗変化型記憶素子の製造に利用することができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【国際調査報告】
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