【事件の表示】
　特願２０１６−　６７６０１「ラインパターン，光制御部材および光学結像部材の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２９年１０月５日出願公開，特開２０１７−１８１７２２，請求項の数（１１）〕について，次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は，特許すべきものとする。
【理　由】
第１　事案の概要
　１　手続等の経緯
　特願２０１６−６７６０１号（以下「本件出願」という。）は，平成２８年３月３０日に出願された特許出願であって，その手続等の経緯は，概略，以下のとおりである。
平成２８年　６月２１日付け：拒絶理由の通知
平成２８年　８月　８日　　：意見書の提出
平成２８年　８月　８日　　：手続補正書の提出
平成２８年１０月２０日付け：拒絶理由の通知
平成２８年１１月１７日　　：意見書の提出
平成２８年１１月１７日　　：手続補正書の提出
平成２９年　１月１９日付け：拒絶の査定（以下「原査定」という。）
平成２９年　４月２０日　　：審判請求書の提出
平成２９年　４月２０日　　：手続補正書の提出
（この手続補正書による補正を，以下「本件補正」という。）
平成２９年　６月２８日付け：前置報告
　
　２　原査定の概要
　原査定の拒絶の理由は，概略，本件補正前の各請求項に係る発明は，本件出願前に日本国内又は外国において，頒布された刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基づいて，その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない，というものである。
　拒絶査定において示された引用文献は，以下のとおりである。
引用文献１：特開２０１５−４０９１０号公報
引用文献２：特開２００２−３７２６０３号公報
引用文献３：特開２０１０−１０９０９２号公報
　なお，前置報告において，以下の引用文献も追加されている。
引用文献４：特開２０１５−１３１４８１号公報
引用文献５：国際公開第２００７／０９７１２０号
　
　３　本願発明
　本件出願の請求項１−請求項１１に係る発明は，本件補正によって補正された特許請求の範囲の請求項１−請求項１１に記載されたとおりの，以下のものである（以下「本願発明１」−「本願発明１１」という。）。
「【請求項１】
　互いに平行配置された複数の線状部材からなるラインパターンと，前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有する光制御部材における前記ラインパターンの製造方法であり，
　２官能以上の多官能モノマー（Ａ），感放射線性重合開始剤（Ｂ），ならびにフッ素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種を含む化合物（Ｃ）を含有する樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程（ａ）と，ここで前記樹脂組成物の，Ｅ型粘度計により２５℃で測定した粘度が，３００〜１００００ｍＰａ・ｓであり，
　前記ラインパターンの形状に対応する凹凸パターンを有し，前記凹凸パターン表面がフッ素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種を含む化合物により表面処理されている凹凸部材を前記塗膜に押圧し，前記塗膜に放射線を照射する工程（ｂ）と，
　放射線照射後の前記塗膜から前記凹凸部材を分離して，互いに平行配置された複数の，高さが５０〜５００μｍである線状部材からなるラインパターンを得る工程（ｃ）と
を有し，
　前記工程（ｂ）において，前記凹凸部材の塗膜側の環境を減圧し，前記凹凸部材の塗膜側とは反対側の環境を加圧した状態で前記押圧を行い，ここで前記凹凸部材の塗膜側とは反対側の加圧条件を０．１〜３０．０ＭＰａの範囲とし，前記凹凸部材の塗膜側の環境の減圧条件を１５０Ｐａ以下とする
ことを特徴とするラインパターンの製造方法。
　
【請求項２】
　多官能モノマー（Ａ）が，多官能（メタ）アクリレートである請求項１のラインパターンの製造方法。
　
【請求項３】
　前記化合物（Ｃ）の，ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によるポリスチレン換算の重量平均分子量が，１０００〜１０００００である請求項１または２のラインパターンの製造方法。
　
【請求項４】
　前記化合物（Ｃ）が，シリコーン系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤から選ばれる少なくとも１種である請求項１〜３のいずれか１項のラインパターンの製造方法。
　
【請求項５】
　前記化合物（Ｃ）の含有量が，樹脂組成物１００質量％中，０．１〜２０．０質量％である請求項１〜４のいずれか１項のラインパターンの製造方法。
　
【請求項６】
　前記線状部材の，波長５００ｎｍにおける全光線透過率が，７０％以上である請求項１〜５のいずれか１項のラインパターンの製造方法。
　
【請求項７】
　前記線状部材の断面形状が矩形状である請求項１〜６のいずれか１項のラインパターンの製造方法。
　
【請求項８】
　請求項１〜７のいずれか１項の方法によりラインパターンを形成する工程（１）と，
　前記線状部材の側面に光反射面を形成する工程（２）と
を有することを特徴とする光制御部材の製造方法。
　
【請求項９】
　前記線状部材間に透明部材を形成する工程（３）
をさらに有する請求項８の光制御部材の製造方法。
　
【請求項１０】
　互いに平行配置された複数の線状部材からなるラインパターンと，前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有する光制御部材を備える光学結像部材の製造方法であり，
　前記光制御部材を，請求項８または９の方法により製造する
ことを特徴とする光学結像部材の製造方法。
　
【請求項１１】
　第１の光制御部材および第２の光制御部材を備える光学結像部材の製造方法であり，ここで第１の光制御部材および第２の光制御部材は，それぞれ，互いに平行配置された複数の線状部材からなるラインパターンと，前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有しており，
　第１の光制御部材および第２の光制御部材の少なくとも一方を，請求項８または９の方法により製造し，続いて，
　第１の光制御部材および第２の光制御部材を，各々が有するラインパターンが光制御部材の上方から視た場合に交差した状態で配置する
ことを特徴とする光学結像部材の製造方法。」
　
第２　当合議体の判断
　１　引用文献の記載及び引用発明
　(1) 引用文献１の記載
　本件出願の出願前に頒布された刊行物であり，原査定の拒絶の理由において引用された引用文献１には，以下の記載がある。なお，引用文献１の記載に対して付された下線は，当合議体が付したものであり，引用発明の認定に活用した箇所を示す。
　ア　「【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，
帯状の平面光反射部
を一定ピッチで並べて形成した
光制御パネルを安価に製造する方法
【背景技術】
…（省略）…
【０００３】
…（省略）…
そこで，本発明者は，特許文献２に記載のような光学結像方法（装置）を完成した。この光学結像装置６０を図６，図７に示すが，この光学結像装置６０は透明平板６１，６２の内部に，透明平板６１，６２の一方側の面に垂直に多数かつ帯状の平面光反射部６３，６４を並べて形成した第１及び第２の光制御パネル６５，６６を用い，第１及び第２の光制御パネル６５，６６のそれぞれの一面側を，それぞれの平面光反射部６３，６４を直交させた状態で向かい合わせて構成されている。
【０００４】
そして，第１の光制御パネル６５の平面光反射部６３に物体Ｎからの光ｈ１，ｈ２を入射させ，この平面光反射部６３で反射した反射光ｋ１，ｋ２を第２の光制御パネル６６の平面光反射部６４で再度反射させた反射光ｊ１，ｊ２によって，物体Ｎの像をこの光学結像装置６０の反対側に実像Ｎ’として結像させることができる。」
（当合議体注：図６は以下の図である。）
（当合議体注：図７は以下の図である。）
　
　イ　「【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
…（省略）…
【０００８】
本発明はかかる事情に鑑みてなされたもので，透明平板（透明な板状光学材）内に一定間隔で平行配置された平面光反射部を形成するのに最適に用いられる対向する壁面への選択的蒸着方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記目的に沿う本発明に係る対向する壁面への選択的蒸着方法は，例えば，
モールド型を用いて，透明な板状光学材の片側に一定の幅を有する断面四角形の角溝
を，所定ピッチで複数形成する第１工程と，
隣り合う
角溝を形成する土手部
の表面
及び
角溝の底面を，紫外線照射剥離樹脂で覆う第２工程と，
前記
紫外線照射剥離樹脂で
土手部の表面及び
角溝の底面が覆われた加工光学材の表面に金属蒸着する第３工程と，
前記
加工光学材の裏面から紫外線を照射して，表面に金属蒸着された
紫外線照射剥離樹脂を除去する第４工程
を有し，
前記角溝の対向する側面を鏡面（金属反射面）とする。
…（省略）…
【発明を実施するための形態】
【００２０】
続いて，添付した図面を参照しながら，本発明の一実施の形態に係る対向する壁面への選択的蒸着方法に使用するモールド型の製造方法の一例について説明する。
まず，図５を参照しながら，モールド型１０について説明する。
モールド型１０は，同一ピッチで複数の断面矩形の角溝１１が平行に形成され
角溝１１の幅ｗ１と，隣り合う角溝１１を連結する土手部１２の幅ｗ２は，
１００μｍ〜２ｍｍの範囲にあって同一となってい
角溝１１の深さｄ１は，例えばｗ１の１〜４倍程度となって
（当合議体注：図５は以下の図である。）
　
　ウ　「【００２９】
次に，このモールド型１０を使用して（第１，第２の）光制御パネルの製造方法（特に，対向する壁面への選択的蒸着方法）について，図３（Ｇ）〜（Ｊ），図４（Ｋ），（Ｌ）を参照しながら説明する。
図３（Ｇ）に示すように，内底が鏡面状態となった
容器３５を用意
【００３０】
そして，
容器３５の中に透明な紫外線硬化型樹脂３６を入れ
容器３５を水平に保った状態で，モールド型１０の角溝１１の側面１７，１８を垂直状態に保って，
角溝１１の底面１９が完全に紫外線硬化型樹脂３６に漬かるまで
入れ
この後，紫外線硬化型樹脂３６に紫外線を照射し，紫外線硬化型樹脂３６を硬化させて全体を透明な加工光学材３７とする
【００３１】
これによって，図３（Ｉ）に示すように，角溝１１が転写された透明な加工光学材３７が形成される。この加工光学材３７には平行な側面３８，３９を有する断面矩形の角溝４０が所定ピッチ（ａ＋ｂ）で形成される。一定の幅ａを有する角溝４０の対向をする側面３８，３９，底面４１，隣り合う各角溝４０を形成する幅ｂの土手部４２の表面４３の表面粗度Ｒａが，例えば，３０ｎｍ以下の鏡面（超平面）となる。これはモールド型１０の凹凸部３０の表面粗度がそのままコピーされるからである。なお加工光学材３７の底部（裏面）に，例えば図４（Ｋ）に示すような硬質の透明平板（例えば，ガラス板，透明な補強板の一例）３７ａを設けることもできる。この場合は，
容器３５の底に
透明平板３７ａを配置し
…（省略）…
【００３４】
図４（Ｋ）に示す加工光学材３７においては，角溝４０の側面３８，３９に蒸着によって形成された金属反射面（鏡面）４９，５０が残る。角溝４０の部分は空間となっているので，必要な場合は，内部に加工光学材３７と同一又は近似した屈折率を有する透明樹脂を充填する。なお，充填した透明樹脂の露出面に凹凸がある場合には，再度研磨加工を行ってもよい。これによって図４（Ｌ）に示すような第１，第２の光制御パネル６５，６６が形成できる。なお，図４（Ｌ）において，６３ａ，６３ｂは平面光反射部を示す。これによって，図６，図７に示すように光学結像装置が形成され，物体の立体像が再生できる。」
（当合議体注：図３は以下の図である。）
（当合議体注：図４は以下の図である。）
　
　エ　「【００３５】
…（省略）…
なお，板状光学材はモールド型によって加工できる固形状又はゲル状物であってもよい。」
　
　(2) 引用発明
　引用文献１には，光制御パネルを安価に製造する方法（【０００１】）として，【０００９】に記載の方法が開示され，その第一工程として，【００２９】−【００３０】に記載の方法が開示されている。また，引用文献１の【００３１】には，図４（Ｋ）のように透明平板３７ａを用いた態様も記載されている。加えて，引用文献１の【００２０】には，モールド型１０の形状について記載されている。
　そうしてみると，引用文献１からは，以下の発明を把握することができる（モールド型の角溝と，光制御パネルの角溝を区別するため，符号を付して記載した。以下「引用発明」という。）。
「　帯状の平面光反射部６３，６４を一定ピッチで並べて形成した光制御パネル６５，６６を安価に製造する方法であって，
　モールド型１０を用いて，透明な板状光学材の片側に一定の幅を有する断面四角形の角溝４０を，所定ピッチで複数形成する第１工程と，
　隣り合う角溝４０を形成する土手部４２の表面及び角溝４０の底面を，紫外線照射剥離樹脂４５，４６で覆う第２工程と，
　紫外線照射剥離樹脂４５，４６で土手部４２の表面及び角溝４０の底面が覆われた加工光学材３７の表面に，金属蒸着する第３工程と，
　加工光学材３７の裏面から紫外線を照射して，表面に金属蒸着された紫外線照射剥離樹脂４５，４６を除去する第４工程を有し，
　ここで，モールド型１０は，同一ピッチで複数の断面矩形の角溝１１が平行に形成され，角溝１１の幅ｗ１と，隣り合う角溝１１を連結する土手部１２の幅ｗ２は，１００μｍ〜２ｍｍの範囲にあって同一となっていて，角溝１１の深さｄ１は，例えばｗ１の１〜４倍程度となっており，
　第１工程は，
　容器３５を用意し，容器３５の底に透明平板３７ａを配置し，
　容器３５の中に透明な紫外線硬化型樹脂３６を入れ，
　容器３５を水平に保った状態で，モールド型１０の角溝１１の側面１７，１８を垂直状態に保って，角溝１１の底面１９が完全に紫外線硬化型樹脂３６に漬かるまで入れ，
　この後，紫外線硬化型樹脂３６に紫外線を照射し，紫外線硬化型樹脂３６を硬化させて全体を透明な加工光学材３７とする工程である，
　光制御パネル６５，６６を安価に製造する方法。」
　
　(3) 引用文献２の記載
　本件出願の出願前に頒布された刊行物であり，原査定の拒絶の理由において引用された引用文献２には，以下の記載がある。なお，○囲いの数字は，[1]等で代用表記した。
　ア　「【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は，光通信用光学部品（本明細書においては，屈折，反射により光の進行方向を変えたり，回折現象を起こすもののみを「光学部品」といい，単に光を透過するようなものは「光学部品」の範疇には入れない），及びその製造方法に関するものである。
…（省略）…
【０００８】
【発明が解決すべき課題】光通信用の光学部品が有すべき性質としては以下のものがある
[1]波長が800nm以上の近赤外領域で透過率が高いこと
[2]光電子プリント基板に実装される場合，プリント基板のハンダ処理温度（約260℃）に耐えること
[3]樹脂等で形成される場合，その硬化の際の収縮率が小さいこと
[4]数十μｍ〜数mmに成型した場合の形状安定性が良いこと（低内部応力）
[5]耐環境性（特に耐熱性と低吸湿性）が良いこと
　本発明は，このような事情を考慮してなされたもので，以上の[1]〜[5]の条件を満足し，かつ，安価に製造できる光通信用光学部品を提供することを課題とする。
【０００９】また，樹脂を用いて一方の面と他方の面に光学面を有する光通信用光学部品を製造する場合，それぞれの面に形成された光学面の光軸が共通になるような光通信用光学部品の製造方法を提供することを課題とする。」
　
　イ　「【００１０】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するための第１の手段は，アセタールグリコールジアクリレートと少なくとも１種のウレタンアクリレートとを重合した樹脂からなり，専ら800nm以上の波長域で使用されることを特徴とする光通信用光学部品（請求項１）である。
…（省略）…
【００２３】アセタールグリコールジアクリレートと，ウレタンアクリレートとを重合した樹脂の，0.1mm厚における内部透過率の例を図１に示す。図１によると，この樹脂は，400nm以上の可視領域から近赤外域にかけて95％以上の高い内部透過率を有する。また熱変形温度も170℃以上であり，従来の透明樹脂の中で比較的耐熱性が高いＣＲ３９やポリカーボネートに比べ30〜50℃も高い値を示す。」
（当合議体注：図１は以下の図である。）
　ウ　「【００２４】さらにこの樹脂は，後に示すように，260℃，１分の雰囲気を２度通過させても樹脂の形状の変化は見られず，はんだ付けの際の高温に十分耐えうるものである。これは，アセタールグリコールジアクリレートの分子量が比較的小さいので，非常に高い耐熱性を持つことのできる構造になっているためと考えられる。
【００２５】この樹脂は，２種類以上の物質の混合物であるウレタンアクリレートを構成する物質の，種類や混合割合を変化させることで，比重 0.8-1.3程度，屈折率1.4-1.8程度，粘度10-4,800 CPS程度(いずれも25℃)のものが得られる。すなわち，所望の光学特性（屈折率等）や粘度は多官能のウレタンアクリルレートの混合比を変えることによって変えられるので，光通信用光学部品に要求される値とすることができ，光通信用光学部品の製造が容易となる。
【００２６】なお，アセタールグリコールジアクリレートとウレタンアクリルレートの混合物には，公知の光重合開始剤を適量添加することが好ましい。例えば，アセトフェノン系やベンゾイン系，チオキサン系，アシルフォスフィンオキサイド系の光重合開始剤のうちから選択された１種類を用いてもよいし，２種類以上を混合して用いてもよい。
【００２７】本手段に係る光学部品は，たとえば，イオン交換法，フォトサーマル法，イオンビームエッティング法あるいは反応性イオンエッティング法などによって作られたガラス成品をマスターとして電鋳により第１の型を作り，その型にこの樹脂を垂らして，その上からガラスの平板，又はイオン交換法，フォトサーマル法，イオンビームエッティング法あるいは反応性イオンエッティング法などによって成型されたガラスの型を押しつけ，これらのガラスの平板又は型を通して紫外線を照射して，樹脂を硬化させることによって得られる。
【００２８】この製法を用いれば数mm厚の成形品まで作製できる。この方法では，一旦型ができてしまえばあとは成形のみの短時間な加工ですむ。すなわち，従来のフォトレジストを用いた複雑な工程に比べ，安価な製品が提供可能となる。
…（省略）…
【００３２】よって，無機材料からなる基板は平板でよいので，複雑な加工を必要としない。また，樹脂はその厚さを薄くすることができるので，成形収縮率はほとんど無視することができる。よって，ほぼ型通りのものを安定して製造できるので，製作が容易となる。なお，無機材料としてはガラスを使用するのが最も良く，その場合には，ガラスの表面をシラン処理して樹脂との密着性を向上させることが好ましい。」
　
　エ　「【００４９】
【発明の効果】以上説明したように，本発明によれば，光通信に使用するために必要な性能を有する光学素子を，簡単な手法で効率よく，安価に製造することができる。」
　
　(4) 引用文献３の記載
　本件出願の出願前に頒布された刊行物であり，原査定の拒絶の理由において引用された引用文献３には，以下の記載がある。
　ア　「【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は，ナノインプリント用組成物に関する。
…（省略）…
【背景技術】
【０００２】
　ナノインプリント法は，光ディスク製作ではよく知られているエンボス技術を発展させ，凹凸のパターンを形成した金型原器（一般的にモールド，スタンパ，テンプレートと呼ばれる）を，レジストにプレスして力学的に変形させて微細パターンを精密に転写する技術である。
…（省略）…
【０００５】
　このようなナノインプリント法においては，以下のような応用技術が提案されている。
　第一の技術としては，成型した形状（パターン）そのものが機能を持ち，様々なナノテクノロジーの要素部品，あるいは構造部材として応用できる場合である。例としては，各種のマイクロ・ナノ光学要素や高密度の記録媒体，光学フィルム，フラットパネルディスプレイにおける構造部材などが挙げられる。
…（省略）…
【００１０】
　これらの用途においては良好なパターンが形成されることが前提であるが，パターン形成において光ナノインプリント法に関しては，モールドに組成物が十分に充填される必要があり，光インプリント法に用いられる液状硬化組成物は低粘度であることが要求される。
…（省略）…
　また，パターン形成においてナノインプリント法に関しては，モールドとナノインプリント用組成物との剥離性が重要である。マスクと感光性組成物とが接触しないフォトリソグラフィ法に対し，ナノインプリント法においてはモールドとナノインプリント用組成物とが接触する。モールド剥離時にモールドに組成物の残渣が付着すると以降のインプリント時にパターン欠陥となってしまう問題がある。これに対しモールドの表面処理，具体的には，フロロアルキル鎖含有シランカップリング剤をモールド表面に結合させる方法や，モールドのフッ素プラズマ処理，フッ素含有樹脂モールドを用いる方法などにより付着問題を解決するなどの試みがこれまでになされてきた。しかしながら，量産時にはモールドには数万回のインプリント耐久性が求められており，モールド表面処理だけでなく，ナノインプリント用組成物からのモールド剥離性改良が求められている。
…（省略）…
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
…（省略）…
【００１４】
　本発明の目的は，モールド剥離性に優れ，良好なパターンが形成でき，且つモールド汚染の少ないナノインプリント用組成物，これを用いたパターンおよびその形成方法を提供することにある。」
　
　イ　「【課題を解決するための手段】
【００１５】
　本発明者は，特定の構造のフッ素系ポリマーを，特定の割合でナノインプリント用組成物に含有させることで，モールド剥離性に優れると同時に，良好なパターンが形成でき，且つモールド汚染の少ない本発明のナノインプリント用組成物を見出すに至った。すなわち，本発明は，以下の通りである。
【００１６】
［１］　重合性単量体と，光重合開始剤と，フッ素原子またはケイ素原子のうち少なくとも一方を有する官能基と重合性官能基とを有するポリマーとを含有するナノインプリント用組成物であって，前記ポリマーの重量平均分子量が２０００以上であり，前記ポリマーが前記重合性単量体に対し，０．０１〜２０質量％含まれるナノインプリント用組成物。
…（省略）…
【発明の効果】
【００１７】
　本発明によれば，パターン形成性，モールド剥離性に優れ良好なパターンが形成でき，且つモールド汚染の少ないナノインプリント用組成物を提供することができる。また，本発明のパターン形成方法によれば，ラインパターンの欠損がなく，モールドに忠実な本発明のパターンを提供することができる。」
　
　ウ　「【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
…（省略）…
【００１９】
…（省略）…
　なお，本発明でいう“ナノインプリント”とは，およそ数ｎｍから数μｍのサイズのパターン転写をいう。
…（省略）…
【００２０】
［本発明のナノインプリント用組成物］
　本発明のナノインプリント用組成物（以下，単に「本発明の組成物」と称する場合もある）における第１の様態は，重合性単量体（Ａ）と，光重合開始剤（Ｂ）とフッ素原子またはケイ素原子のうち少なくとも一方を有する官能基と重合性官能基とを有するポリマー（Ｃ）（以下，（Ｃ）成分とも言う）とを含有し，前記フッ素原子またはケイ素原子のうち少なくとも一方を有する官能基と重合性官能基とを有するポリマーの重量平均分子量が２０００以上であり，前記フッ素原子またはケイ素原子のうち少なくとも一方を有する官能基と重合性官能基とを有するポリマーが前記重合性単量体に対し，０．０１〜２０質量％含まれることを特徴とする（光）ナノインプリント用組成物である（以下，「光ナノインプリント用硬化組成物」と称する場合もある）。通常，光ナノインプリント法に用いられる硬化性組成物は，重合性官能基を有する重合性単量体と，光照射によって前記重合性単量体の重合反応を開始させる光重合開始剤と，を含み，さらに必要に応じて，溶剤，界面活性剤または酸化防止剤等を含んで構成される。本発明においてはさらに特定の分子量を有する前記（Ｃ）成分を特定の割合で含有する。
【００２１】
＜（Ａ）重合性単量体＞
　重合性単量体としては，例えば，エチレン性不飽和結合含有基を１〜６個有する重合性不飽和単量体；オキシラン環を有する化合物（エポキシ化合物）；ビニルエーテル化合物；スチレン誘導体；フッ素原子を有する化合物；プロペニルエーテルまたはブテニルエーテル等を挙げることができ，硬化性の観点から，エチレン性不飽和結合含有基を１〜６個有する重合性不飽和単量体，が好ましい。
…（省略）…
【００２３】
　他の重合性単量体として，エチレン性不飽和結合含有基を２個有する多官能重合性不飽和単量体を用いることも好ましい。
…（省略）…
【００４４】
＜光重合開始剤（Ｂ）＞
　本発明のナノインプリント硬化性組成物には，光重合開始剤が含まれる。本発明に用いられる光重合開始剤は，光照射により上述の重合性単量体を重合する活性種を発生する化合物であればいずれのものでも用いることができる。光重合開始剤としては，ラジカル重合開始剤が好ましい。また，本発明において，光重合開始剤は複数種を併用してもよい。
…（省略）…
【００５０】
＜（Ｃ）フッ素原子またはケイ素原子のうち少なくとも一方を有する官能基と重合性官能基とを有するポリマー＞
　本発明のナノインプリント硬化性組成物は，フッ素原子またはケイ素原子のうち少なくとも一方を有する官能基と重合性官能基とを有するポリマー（以下，ポリマー（Ｃ）とも言う）を含有し，前記ポリマーの重量平均分子量が２０００以上であり，前記ポリマーが前記重合性単量体に対し，０．０１〜２０質量％含まれることを特徴とする。
…（省略）…
【００５２】
−フッ素原子を有する官能基−
　前記フッ素原子を有する官能基としては，界面偏在性の観点から，フロロアルキル基，フロロアルキルエーテル基が好ましく，界面偏在性の観点から，トリフロロメチル基を有していることがより好ましい。
…（省略）…
【００６２】
−ケイ素原子を有する官能基−
　前記ケイ素原子を有する官能基としては，トリアルキルシリル基，鎖状シロキサン構造，環状シロキサン構造，籠状シロキサン構造などが挙げられ，他の成分との相溶性，モールド剥離性の観点から，トリメチルシリル基またはジメチルシロキサン構造を有する官能基が好ましい。
…（省略）…
【００８３】
−ポリマーの構成−
　前記ポリマー（Ｃ）の分子量範囲は，標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が２０００以上である。好ましくは２０００〜３０００００であり，より好ましくは３０００〜８００００，特に好ましくは５０００〜５００００である。
…（省略）…
【００８８】
−界面活性剤−
　本発明のナノインプリント用組成物には，界面活性剤を含有することが好ましい。
…（省略）…
【００８９】
…（省略）…
　このような界面活性剤を用いることによって，…（省略）…モールド凹部のキャビティ内への本発明の組成物の流動性の向上，モールドとレジストとの間の剥離性の向上，レジストと基板間との密着性の向上，組成物の粘度を下げる等が可能になる。特に，本発明のナノインプリント組成物は，前記界面活性剤を添加することにより，塗布均一性を大幅に改良でき，スピンコーターやスリットスキャンコーターを用いた塗布において，基板サイズに依らず良好な塗布適性が得られる。
…（省略）…
【００９４】
　本発明のナノインプリント用組成物において，溶剤を除く成分の２５℃における粘度は１〜１００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。より好ましくは５〜５０ｍＰａ・ｓ，さらに好ましくは７〜３０ｍＰａ・ｓである。粘度を適切な範囲とすることで，パターンの矩形性が向上し，さらに残膜を低く抑えることができる。
…（省略）…
【０１０９】
　本発明のパターン形成方法で用いられるモールドは，本発明のナノインプリント用組成物とモールド表面との剥離性をさらに向上させ，パターン生産性をより高めるために離型処理を行ったものを用いてもよい。このようなモールドの離型処理としては，例えば，シリコーン系やフッ素系などのシランカップリング剤による処理を挙げることができる。
…（省略）…
【０１１０】
　本発明の組成物を用いてナノインプリントリソグラフィを行う場合，本発明のパターン形成方法では，通常，モールド圧力を０．１〜３０ＭＰａで行うのが好ましい。
…（省略）…
【０１１１】
…（省略）…
　また，本発明に適用される光インプリントリソグラフィにおいては，光照射の際の基板温度は，通常，室温で行われるが，反応性を高めるために加熱をしながら光照射してもよい。光照射の前段階として，真空状態にしておくと，気泡混入防止，酸素混入による反応性低下の抑制，モールドと光ナノインプリント用硬化性組成物との密着性向上に効果があるため，真空状態で光照射してもよい。また，本発明のパターン形成方法中，光照射時における好ましい真空度は，１０-1Ｐａから常圧の範囲である。」
　
　(5) 引用文献４の記載
　本件出願の出願前に電気通信回線を通じて公衆に利用可能となり，前置報告において引用された引用文献４には，以下の記載がある。
　ア　「【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は，新規なナノインプリント用レプリカ金型（以下，単に「レプリカ金型」という）の製造方法に関する。
…（省略）…
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
　したがって，本発明の目的は，高精度のパターン形成能，金型からの離型性，繰り返し耐久性，樹脂フィルム等の基材層とパターン層との密着性，さらには，生産性に優れたレプリカ金型の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
　本発明者等は，上記課題を解決すべく鋭意検討を行った。その結果，重合性単量体光硬化性組成物を塗膜材として用いて，樹脂フィルム等の基材層とパターン層とを含んでなる積層体からなるレプリカ金型を製造するに当たり，基材層上に直接又は間接的に形成した，パターンを転写した塗膜材の光硬化膜面（パターン層）を有する積層体を，真空紫外光を照射した後に，離型処理することで，高精度のパターン形成能，金型からの離型性，繰り返し耐久性，基材層とパターン層との密着性，さらには，生産性に優れたレプリカ金型を製造できることを見出し，本発明を完成するに至った。」
　
　イ　「【００１９】
　なお，本発明により製造されるレプリカ金型は，転写パターンの幅及び間隔が５ｎｍ〜１００μｍであるパターン，更には，５〜５００ｎｍである微細なパターンを有するものであるが，本発明の製法は，勿論，１００μｍを超えるパターンのレプリカ金型にも適用できる。
…（省略）…
【００２２】
　光硬化性組成物は，重合性単量体，珪素化合物および光重合開始剤を含んでなるものである。本発明では，公知の重合性単量体を何ら制限されず用いることができるが，高精度のパターン形成能，金型からの離型性，繰り返し耐久性，樹脂フィルム等の基材層とパターン層との密着性，さらには，生産性に優れていることが重要であり，樹脂フィルム等の基材層との密着性や，生産性の観点から見ると，光硬化性の単量体が好ましい。また，高精度のパターン形成を低圧力で行う場合を勘案すると，一般的に，パターンを形成する光硬化性組成物の粘度が低い方が有利であることから，重合性単量体としては，好ましくは，（メタ）アクリル基（メタクリル基又はアクリル基を意味する）を有する重合性単量体を含有するものが使用される。
…（省略）…
【００２６】
　１分子中に２つの（メタ）アクリル基を有する多官能重合性単量体（２官能重合性単量体）としては，例えば，…（省略）…が挙げられる。
…（省略）…
【００４７】
　
ハロゲン元素を有するアルコキシシラン
　ハロゲン元素を有するアルコキシシランとしては，一般式（３）
【化３】
（式中，Ｒ6及びＲ8は，それぞれ，炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数３〜１０のシクロアルキル基であり；Ｒ7は，含フッ素アルキル基，含フッ素シクロアルキル基又は含フッ素アルコキシエーテル基であり；ａは１〜３の整数であり，ｂは０〜２の整数であり，ただし，ａ＋ｂ＝１〜３であり；Ｒ6，Ｒ7及びＲ8がそれぞれ複数存在する場合には，その複数のＲ6，Ｒ7及びＲ8は，それぞれ同一であっても，異なる基であってもよい）で示されるフッ素化シラン化合物が挙げられる。このフッ素化シラン化合物の加水分解物を使用することにより，基材とパターンとの密着性，及び金型からの離型性を向上することができる。
…（省略）…
【００５８】
　（光重合開始剤）
　本発明において，光重合開始剤は特に制限されるものではなく，重合性単量体を光重合できるものであれば，いかなる光重合開始剤も使用できる。
…（省略）…
【００６７】
　界面活性剤としては，フッ素含有界面活性剤，シリコーン含有界面活性剤，脂肪族系界面活性剤を使用できる。
…（省略）…
【００７８】
　（光硬化性組成物を用いたパターンの転写方法）
　上述した光硬化性組成物を塗膜材として使用し，金型（マスター金型又はマスター金型から形成されたレプリカ金型）のパターンを転写する方法について説明する。
【００７９】
　先ず，光硬化性組成物を，基材上に公知の方法に従って塗布することにより，塗膜を形成する。
…（省略）…
【００８３】
　次に，金型のパターン形成面を前記塗膜と接触させる。
…（省略）…
【００８５】
　本発明で使用される光硬化性組成物は，金型を押し付ける際に比較的低圧でパターンを転写することができる。この際の圧力は，特に制限されるものではないが，０.０１ＭＰａ〜３ＭＰａの範囲である。なお，当然のことながら，上記圧力の上限値以上の圧力でもパターンの転写は可能である。
【００８６】
　その後，パターンが転写された塗膜を光硬化させる。
…（省略）…
【００８７】
　光重合時の雰囲気として，大気下でも重合可能であるが，光重合反応を促進する上で，酸素阻害の少ない雰囲気下での光重合が好ましい。例えば，窒素ガス雰囲気下，不活性ガス雰囲気下，フッ素系ガス雰囲気下，真空雰囲気下等が好ましい。
【００８８】
　光硬化後，硬化した塗膜から金型を分離することにより，基材層と，基材層上に，光硬化した塗膜（光硬化膜）によりパターンが形成されたパターン層との積層体が得られる。
【００８９】
　（レプリカ金型の製造）
　レプリカ金型として使用するためには，上記方法により得られた積層体について，その表面に離型処理を施す。離型処理としては，フッ素を含有するシランカップリング剤等の離型処理剤を反応させることが好ましく行われる。」
　
　ウ　「【実施例】
…（省略）…
【０１１２】
　（レプリカ金型を使用したナノインプリント）
　上記の光硬化性組成物をナノインプリント用組成物として使用し，厚さ１２５μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡績（株）社製，両面易接着処理ＰＥＴフィルム，コスモシャインＡ−４３００）上に数滴滴下し，薄く延ばした後，１２０℃において２分間乾燥して，ナノインプリント用組成物の塗膜がコーティングされたＰＥＴフィルムを得た。上記塗膜がコーティングされたＰＥＴフィルムと，上記で得られた離型処理したレプリカ金型とを，ナノインプリント装置（ＳＣＩＶＡＸ（株）製，Ｘ−３００）にセットし，３００Ｐａまで真空引きした後，上記塗膜がコーティングされたＰＥＴフィルムにレプリカ金型を接触させ，圧力２．０ＭＰａをかけ，ＬＥＤ３６５ｎｍ光源から光を６０秒間照射してＵＶナノインプリントを行った。ＰＥＴフィルムをレプリカ金型から剥離し，レプリカ金型のパターンに対応する（補形をなす）パターンが転写されたＰＥＴフィルムを得た。得られたＰＥＴフィルム上の転写されたパターンの形状を評価するため，ＰＥＴフィルムの上に形成されたパターンをＳＥＭにて観察し，パターンの径および高さを計測した。レプリカ金型を使用したナノインプリントにより形成されたパターンの形状の測定結果を表３に示した。形成されたパターンは，レプリカ金型の作製に使用したシリコン製金型のパターンと同じであった。」
　
　(6) 引用文献５の記載
　本件出願の出願前に電気通信回線を通じて公衆に利用可能となり，前置報告において引用された引用文献５には，以下の記載がある。
　ア　「[0001]　この発明は，細胞培養構造体，細胞培養容器，スフェロイド付き構造体，スフェロイド付き容器およびこれらの製造方法に関するものである。
背景技術
[0002]　今日，創薬の開発において，細胞培養技術によって培養した細胞が，薬剤の薬理活性評価や毒性試験のシミュレーターに利用されている。
…（省略）…
[0008]　そこで，本発明は，形状や大きさ，材質が制御された細胞培養構造体，細胞培養容器，スフェロイド付き構造体およびスフェロイド付き容器を提供することを目的とする。また，これらを簡単かつ短時間で安価に製造する製造方法を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
[0009]　上記目的を達成するために，本発明の細胞培養構造体は，凹凸の幅が３μｍ以下の凹凸構造を有することを特徴とする。
…（省略）…
[0048]　次に，このような細胞培養構造体の製造方法について説明する。細胞培養構造体の製造方法には，加工対象物２００に対し型１００を押圧して型１００に形成された微細なパターン（凹凸構造）を転写するナノインプリント技術を用いることができる。ナノインプリント技術には，熱式のインプリントプロセス技術や光式のインプリントプロセス技術等がある。図２に熱式のインプリントプロセス技術に用いる加工装置１を示す。」
（当合議体注：図２は以下の図である。）
　
　イ　「[0049]　加工装置１は，図２に示すように，所定のパターンを有する型１００と加工対象物２００とを押圧して，型のパターンを加工対象物２００に転写する微細加工装置であって，型１００を保持する型保持部２と，加工対象物２００を保持する加工対象物保持部１２と，加工対象物２００に対する型１００の相対的な位置およびその位置を変化させる変位速度を調節可能な変位手段５と，加工対象物２００に対する型１００の相対的な位置を検出する位置検出手段７と，型１００と加工対象物２００との間の圧力を検出する圧力検出手段８と，型１００を加熱する型加熱手段３と，型１００を冷却する型冷却手段４と，型１００の温度を検出する型温度検出手段３１と，加工対象物２００を加熱する加工対象物加熱手段１３と，加工対象物２００を冷却する加工対象物冷却手段１４と，加工対象物２００の温度を検出する加工対象物温度検出手段１３１と，位置検出手段７，圧力検出手段８，型温度検出手段３１および加工対象物温度検出手段１３１の検出情報に基づいて，変位手段５，型加熱手段３，型冷却手段４，加工対象物加熱手段１３および加工対象物冷却手段１４の作動を制御する制御手段３００と，で主に構成される。
…（省略）…
[0071]　型１００と加工対象物２００とを所定温度に加熱した後，型１００と加工対象物２００とを予め設定した圧力で押圧する。この際，型１００と加工対象物２００との間の圧力は，型１００のパターンを加工対象物２００に転写できる大きさの範囲で，できる限り小さい圧力を用いる方が良い。具体的には，４ＭＰａ以下，好ましくは２ＭＰａ以下，更に好ましくは１．５ＭＰａ以下，更に好ましくは１ＭＰａ以下，更に好ましくは，０．５ＭＰａ以下，更に好ましくは０．２５ＭＰａ以下にするのが良い。これにより，従来よりも比較的小さい圧力で押圧するため，型１００と加工対象物２００との間の密着力を増加させることがなく，型崩れ等を防止して離型を容易にすることができる。
…（省略）…
 [0073]　また，型１００と加工対象物２００とを押圧し，型１００のパターンを加工対象物に転写する際には，型１００と加工対象物２００の雰囲気を真空にする方が好ましい。この場合，パターンの転写前に真空雰囲気にすれば良いが，加工対象物２００の酸化等を考慮すれば，加工対象物２００の加熱前に真空雰囲気にする方が好ましい。真空度としては，例えば４０Ｐａ以下にすれば良い。」
　
　２　対比及び判断
　(1) 対比
　引用発明と本願発明１を対比すると，以下のとおりとなる。
　ア　線状部材，光反射面，光制御部材，ラインパターンの製造方法
　引用発明の「モールド型１０」の形状，及び「第１工程」からみて，引用発明の「土手部４２」（複数）は，互いに平行配置された複数の線状の部材からなるラインパターンということができる。また，引用発明の「第１工程」に加えて「第２工程」−「第４工程」をも勘案すると，引用発明の「平面光反射部６３，６４」は，「土手部４２」の側面に形成された，光を反射する面ということができる。そして，引用発明は，「帯状の平面光反射部６３，６４を一定ピッチで並べて形成した光制御パネル６５，６６を安価に製造する方法」である。
　そうしてみると，引用発明の「土手部４２」，「平面光反射部６３，６４」及び「光制御パネル６５，６６」は，それぞれ，本願発明１の「線状部材」，「光反射面」及び「光制御部材」に相当する。また，引用発明の「第１工程」−「第４工程」のうち「第１工程」は，本願発明１の「光制御部材」を製造する各工程のうち，ラインパターンを製造する工程に対応するから，引用発明の「第１工程」は，本願発明１の「互いに平行配置された複数の線状部材からなるラインパターンと，前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有する光制御部材における前記ラインパターンの製造方法」に相当する。
　
　イ　工程（ａ）
　引用発明の「第１工程」は，「容器３５を用意し，容器３５の底に透明平板３７ａを配置し」，「容器３５の中に透明な紫外線硬化型樹脂３６を入れ」る工程（以下「工程１Ａ」という。）を具備する。
　ここで，引用発明の「透明平板３７ａ」と「紫外線硬化型樹脂３６」との関係に着目してみれば，引用発明の「工程１Ａ」は，「紫外線硬化型樹脂３６」の層を「透明平板３７ａ」の上に形成する工程ということができる。
　そうしてみると，引用発明の（容器３５の中に入れた後の）「紫外線硬化型樹脂３６」と本願発明１の「塗膜」とは，「層」の点で共通し，そして，引用発明の「工程１Ａ」と本願発明１の「工程（ａ）」は，「樹脂組成物の」層「を基板上に形成する工程」の点で共通する。
　
　ウ　工程（ｂ）
　引用発明の「第１工程」は，「容器３５を水平に保った状態で，モールド型１０の角溝１１の側面１７，１８を垂直状態に保って，角溝１１の底面１９が完全に紫外線硬化型樹脂３６に漬かるまで入れ」，「この後，紫外線硬化型樹脂３６に紫外線を照射」する工程（以下「工程１Ｂ」という。）を具備する。
　ここで，引用発明の「第１工程」からみて，引用発明の「モールド型１０」は，引用発明の「土手部４２」（複数）の形状に対応する凹凸パターンを有するといえる。また，引用発明の「工程１Ｂ」は，「モールド型１０」を「角溝１１の底面１９が完全に紫外線硬化型樹脂３６に漬かるまで入れ」，「この後，紫外線硬化型樹脂３６に紫外線を照射」するものであるから，「モールド型１０」を「紫外線硬化型樹脂３６」の層に入れ，「紫外線硬化型樹脂３６」の層に放射線を照射する工程ということができる。
　したがって，引用発明の「モールド型１０」は，本願発明の「凹凸部材」に相当する。また，引用発明の「工程１Ｂ」と本願発明１の「工程（ｂ）」は，「前記ラインパターンの形状に対応する凹凸パターンを有し」「ている凹凸部材を前記」層に入れ，前記層「に放射線を照射する工程」の点で共通する。
　
　エ　工程（ｃ）
　引用発明が「第１工程」以降「第２工程」より前に，「紫外線を照射し」た後の「紫外線硬化型樹脂３６」の層から「モールド型１０」を分離する工程（以下「工程１Ｃ」という。）を具備することは必然である。また，上記アで述べたとおりであるから，引用発明が，「工程１Ｃ」の結果，互いに平衡配置された複数の「土手部４２」からなるラインパターンを得ていることも明らかである。
　そうしてみると，引用発明の「工程１Ｃ」と本願発明１の「工程（ｃ）」は，「放射線照射後の」層「から前記凹凸部材を分離して，互いに平行配置された複数の」「線状部材からなるラインパターンを得る工程（ｃ）」の点で共通する。
　
　(2) 一致点及び相違点
　ア　一致点
　本願発明１と引用発明（の第１工程）は，次の構成で一致ないし共通する。
「　互いに平行配置された複数の線状部材からなるラインパターンと，前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有する光制御部材における前記ラインパターンの製造方法であり，
　樹脂組成物の層を基板上に形成する工程と，
　前記ラインパターンの形状に対応する凹凸パターンを有している凹凸部材を前記層に入れ，前記層に放射線を照射する工程と，
　放射線照射後の前記層から前記凹凸部材を分離して，互いに平行配置された複数の，線状部材からなるラインパターンを得る工程と
を有する
ラインパターンの製造方法。」
　
　イ　相違点
　本願発明１と引用発明は，以下の相違点で相違する。
（相違点１）
　本願発明１の樹脂組成物は，「２官能以上の多官能モノマー（Ａ），感放射線性重合開始剤（Ｂ），ならびにフッ素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種を含む化合物（Ｃ）を含有する」とともに「Ｅ型粘度計により２５℃で測定した粘度が，３００〜１００００ｍＰａ・ｓ」であるのに対して，引用発明の「紫外線硬化型樹脂３６」の組成及び粘度は，このような構成を具備するとは特定されていない点。
　
（相違点２）
　本願発明１の「凹凸部材」は，「凹凸パターン表面がフッ素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種を含む化合物により表面処理されている」ものであるのに対して，引用発明の「モールド型１０」は，このような表面処理がされているとは特定されていない点。
　
（相違点３）
　本願発明１の「線状部材」は，「高さが５０〜５００μｍ」であるのに対して，引用発明の「土手部４２」は，「モールド型１０」の形状からみて，「１００μｍ〜２ｍｍ」の「１〜４倍程度」である「１００μｍ〜８ｍｍ」である点。
　
（相違点４）
　「層」に関して，本願発明１は「塗膜」であり，また，本願発明１の「工程（ｂ）」は，「凹凸部材を前記塗膜に押圧」する工程を含むとともに，「工程（ｂ）において，前記凹凸部材の塗膜側の環境を減圧し，前記凹凸部材の塗膜側とは反対側の環境を加圧した状態で前記押圧を行い，ここで前記凹凸部材の塗膜側とは反対側の加圧条件を０．１〜３０．０ＭＰａの範囲とし，前記凹凸部材の塗膜側の環境の減圧条件を１５０Ｐａ以下とする」ものであるのに対して，引用発明の「工程１Ｂ」は，「容器３５を水平に保った状態で，モールド型１０の角溝１１の側面１７，１８を垂直状態に保って，角溝１１の底面１９が完全に紫外線硬化型樹脂３６に漬かるまで入れ」るものである点。
　
　(3) 判断
　相違点１に関して，引用文献２の【００２５】及び【００２６】には，それぞれ「樹脂は，２種類以上の物質の混合物であるウレタンアクリレートを構成する物質の，種類や混合割合を変化させることで，比重0.8-1.3程度，屈折率1.4-1.8程度，粘度10-4,800 CPS程度(いずれも25℃)のものが得られる」こと，及び「アセタールグリコールジアクリレートとウレタンアクリルレートの混合物には，公知の光重合開始剤を適量添加することが好ましい」ことが記載されている。ここで，１ＣＰＳ＝１ｍＰａ・ｓであるから，引用文献２に記載された樹脂の粘度の数値範囲と，本願発明１の樹脂組成物の粘度の数値範囲は，重複している。
　ここで，引用文献２の樹脂は，光通信用光学部品用の樹脂であり，引用発明のものとは技術分野も求められる性質も相違する。ただし，「ガラスの型を押しつけ，これらのガラスの平板又は型を通して紫外線を照射して，樹脂を硬化させる」（【００２７】）ための樹脂（いわゆる光インプリント用の樹脂）という側面においては，引用発明の樹脂と共通する。
　
　次に，相違点４に関して，引用文献３の【０１１０】及び【０１１１】には，それぞれ「モールド圧力を０．１〜３０ＭＰａで行うのが好ましい」こと，及び「光照射時における好ましい真空度は，１０-1Ｐａから常圧の範囲である」ことが開示されている。また，引用文献４の【００８５】には，金型を押し付ける際の圧力として，「０.０１ＭＰａ〜３ＭＰａの範囲」が開示されている。また，引用文献５の[0071]及び[0073]には，それぞれ「型１００と加工対象物２００との間の圧力は，型１００のパターンを加工対象物２００に転写できる大きさの範囲で，できる限り小さい圧力を用いる方が良い。具体的には，４ＭＰａ以下，好ましくは２ＭＰａ以下，更に好ましくは１．５ＭＰａ以下，更に好ましくは１ＭＰａ以下，更に好ましくは，０．５ＭＰａ以下，更に好ましくは０．２５ＭＰａ以下にするのが良い」こと，及び「型１００と加工対象物２００とを押圧し，型１００のパターンを加工対象物に転写する際には，型１００と加工対象物２００の雰囲気を真空にする方が好ましい。この場合，パターンの転写前に真空雰囲気にすれば良いが，加工対象物２００の酸化等を考慮すれば，加工対象物２００の加熱前に真空雰囲気にする方が好ましい。真空度としては，例えば４０Ｐａ以下にすれば良い。」ことが記載されている。そうしてみると，引用文献３−引用文献５に記載された加圧条件及び減圧条件の数値範囲と，本願発明１の加圧条件及び減圧条件の数値範囲は，部分的に重複している。
　ここで，引用文献３−引用文献５に記載された技術は，いずれもナノインプリントに関するものであり，成型時に極めて高い転写精度が求められるものであるところ，引用発明の光制御パネル６５，６６も，成型時の極めて高い転写精度が求められるものであり（引用文献の【００３１】），両者は，この点において共通する。
　
　ところで，当業者ならば，モールド圧力と樹脂の粘度の間には，密接な関係があることを心得ている。すなわち，モールド圧力が比較的低い場合には樹脂の粘度も比較的低くしなければ成型時の転写精度を確保することができず，逆に，樹脂の粘度が比較的高い場合には，モールド圧力を比較的高くしなければ，成型時の転写精度を確保することができない。そうしてみると，仮に，引用発明と引用文献２に記載された樹脂，並びに，引用文献３−引用文献５に記載された加圧条件及び減圧条件を組み合わせようと考える当業者ならば，引用文献３−引用文献５に記載された樹脂の粘度についても参考にすると考えられる。そこで，引用文献３−引用文献５の記載内容を確認すると，引用文献３の【００９４】には，「本発明のナノインプリント用組成物において，溶剤を除く成分の２５℃における粘度は１〜１００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。より好ましくは５〜５０ｍＰａ・ｓ，さらに好ましくは７〜３０ｍＰａ・ｓである。」と記載されている。また，引用文献４の【００２２】には「一般的に，パターンを形成する光硬化性組成物の粘度が低い方が有利である」と記載され，また，【０１１２】に記載された実施例の光硬化性組成物（【０１０６】）の粘度もその組成からみて極めて低いと考えられる。引用文献５は，熱ナノインプリントであり，そもそも前提が異なるといえる。
　そうしてみると，引用発明に接した当業者が，仮に，引用発明と引用文献２に記載された樹脂，並びに，引用文献３−引用文献５に記載された加圧条件及び減圧条件を組み合わせることに思い到ったとしても，その際に採用する樹脂の粘度は，引用文献２の【００２５】の記載の示唆に従い，「２種類以上の物質の混合物であるウレタンアクリレートを構成する物質の，種類や混合割合を変化させることで」，粘度範囲の最低値である１０ＣＰＳ近くまで低い粘度に調整されたものになると考えられる。
　したがって，仮に，当業者が引用発明と引用文献２に記載された樹脂，並びに，引用文献３−引用文献５に記載された加圧条件及び減圧条件を組み合わせることに思い到ったとしても，相違点１に係る本願発明１の構成に到ることはないと考えられる。そして，本願発明１は，相違点１に係る粘度の樹脂組成物と，相違点４に係る加圧条件及び減圧条件の下でラインパターンの製造を可能とするために，相違点１に係る化合物（Ｃ）及び相違点２に係る表面処理の構成を採用したものと考えることができる。
　
　以上勘案すると，相違点３について検討するまでもなく，当業者が引用発明に基づいて，相違点１，相違点２及び相違点４に係る本願発明１の構成を具備する，本願発明１の「ラインパターンの製造方法」を容易に発明することができたということはできない。
　
　(4) 本願発明２−本願発明１１について
　本願発明２−本願発明７は，いずれも，相違点１，相違点２及び相違点４に係る本願発明１の構成を具備するラインパターンの製造方法である。また，本願発明８及び本願発明９は，いずれも，本願発明１−本願発明７のいずれか１つの方法によりラインパターンを形成する工程を含む，光制御部材の製造方法である。そして，本願発明１０及び本願発明１１は，いずれも，光制御部材を本願発明８又は本願発明９の方法により製造する構成を含む，光学結像部材の製造方法である。
　そうしてみると，本願発明２−本願発明１１は，いずれも，その方法の中に，相違点１，相違点２及び相違点４に係る本願発明１の構成を含むものであるから，本願発明１と同様に，当業者が引用発明に基づいて，容易に発明することができたということはできない。
第３　まとめ
　以上のとおり，原査定の理由によっては，本件出願を拒絶することはできない。
　また，他に本件出願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって，結論のとおり審決する。