(57)【要約】  リフロー処理による光学素子の変形を防止した撮像装置の製造方法は、２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で５０〜５００００ｍＰａｓの粘度を有する熱硬化性樹脂材料を硬化して光学素子を成形する工程、前記光学素子を電子部品とともに基板上に載置する工程、及び、前記光学素子と、前記電子部品と、前記基板とをリフロー処理に供し、前記光学素子と前記電子部品とを前記基板に実装する工程を有するものである。【特許請求の範囲】
【請求項１】
２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で５０〜５００００ｍＰａｓの粘度を有する熱硬化性樹脂材料を硬化して光学素子を成形する工程、
前記光学素子を電子部品とともに基板上に載置する工程、及び、
前記光学素子と、前記電子部品と、前記基板とをリフロー処理に供し、前記光学素子と前記電子部品とを前記基板に実装する工程、
を有することを特徴とする撮像装置の製造方法。
【請求項２】
請求の範囲第１項に記載の撮像装置の製造方法により製造されたことを特徴とする撮像装置。
【請求項３】
２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で５０〜５００００ｍＰａｓの粘度を有する熱硬化性樹脂材料を硬化して成形され、
電子部品とともに基板上に載置された状態でリフロー処理に供され、前記電子部品とともに前記基板に実装される撮像装置の製造方法に用いられることを特徴とする光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は撮像装置の製造方法等に関し、特にリフロー処理により光学素子を電子部品とともに基板に実装する撮像装置の製造方法、その方法により得られる撮像装置、及びその方法に用いられる光学素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、光学特性や機械的強度等が優れているという観点で、光学素子（主にはレンズ）として一般に無機ガラス材料が用いられているが、光学素子が使用される機器の小型化が進むにつれ、光学素子の小型化も必要になり、無機ガラス材料では加工性の問題から、曲率（Ｒ）の大きなものや複雑な形状のものを作製することが困難になってきている。また、無機ガラス材料はプラスチック材料と比較すると比重が大きいため、光学素子として用いられた場合、光学系の重量が重くなる他、光学素子を駆動させる必要がある際には、駆動電圧を高く設定する必要があり、装置の大型化や消費電力が大きくなるという問題があった。【０００３】
このことから加工がしやすく、比重の小さいプラスチック材料が検討され、使用されるようになってきている。光学素子用のプラスチック材料としては、ポリオレフィン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン等の透明性が良好な熱可塑性樹脂が挙げられる。また、プラスチック材料を成形する場合、無機ガラス材料に比較すると金型の寿命が非常に長くなる為、製造コストを大幅に削減することができる。【０００４】
一方、回路基板上にＩＣ（Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔｓ）チップその他の電子部品を実装する場合において、回路基板の所定位置に予め金属ペースト（例えば半田ペースト）を塗布（ポッティング）しておき、その位置に電子部品を載置した状態で当該回路基板をリフロー処理（加熱処理）に供し、当該回路基板に電子部品を実装する技術により、低コストで電子モジュールを製造する技術が開発されている（例えば、特許文献１）。【０００５】
近年では、回路基板に対し電子部品のほかに光学素子を更に載置した状態で、光学素子と一体化された光学モジュールとして、上記のような半田リフロー処理をおこなうことにより、撮像装置の生産システムにおいて更なる生産効率の向上が望まれている。【０００６】
当然ながら、上述のリフロー処理を取り入れた生産システムにより製造させる光学モジュールにおいても、高コストなガラス製の光学素子よりも、低コストで製造可能なプラスチック製の光学素子を用いることが望まれている。【０００７】
この点、従来の光学素子用樹脂材料として用いられてきた熱可塑性樹脂は比較的低い温度で軟化、溶融するため加工性は良好であるが、成形された光学素子は、熱により変形しやすいという欠点をもつ。光学素子を組み込んだ電子部品を半田リフロー処理によって基板に実装するような場合は光学素子自体も２６０℃程度の加熱条件に曝されることになるが、耐熱性の低い熱可塑性樹脂からなる光学素子では形状劣化を起こし、問題となる。【０００８】
そこで、本発明者らは、リフロー処理で製造される撮像素子に用いられる光学素子用のその他のプラスチック材料としてエポキシ系樹脂（特許文献２，３参照）やシリコーン系樹脂（特許文献４参照）のような熱硬化性樹脂の使用を検討した。熱硬化性樹脂は、硬化前は液状であるか又は流動性を示すとともに、加熱により硬化する樹脂材料であり、熱可塑性樹脂と同様に加工性は良好である。硬化後は熱可塑性樹脂のように過熱により溶融しにくい為、熱による変形も小さい。
【特許文献１】特開２００１−２４３２０号公報
【特許文献２】特開平１１−７４４２０号公報
【特許文献３】特開２００４−３０７０１１号公報
【特許文献４】特開２００４−１８６１６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上記特許文献２〜４で開示されているような熱硬化性樹脂を用いても、成形時の圧力（射出圧）が低い場合には、金型への樹脂材料の充填量が不足する結果、成形される光学素子が樹脂密度の低いものとなってしまい、リフロー処理によって変形を起こすことが分かった。一方、単純に成形時の圧力を高くしても、金型から樹脂材料が漏れてしまう結果、やはり成形時に十分な圧力を加えることができず、リフロー処理によって変形を起こすことが分かった。更に、金型から樹脂材料が漏れるのを防止すべく樹脂材料の粘度を高くし過ぎると、樹脂材料の流動性が低くなる結果、内部に歪を残したまま樹脂材料が硬化してしまい、この歪がリフロー処理により解消されて変形を起こす場合のあることが分かった。このような変形は通常熱硬化性樹脂が用いられる接着剤としての用途や薄膜コート等の分野では問題になることはないが、光ピックアップ装置用の光学素子や、撮像装置用の光学素子等の精密機器に用いられる光学素子として使用する場合、問題となる。【００１０】
したがって、本発明の主な目的は、リフロー処理による光学素子の変形を防止することのできる撮像装置の製造方法を提供することにあり、本発明の他の目的は、当該製造方法により得られる撮像装置と、当該製造方法に好適に使用される光学素子とを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の一態様によれば、
２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で５０〜５００００ｍＰａｓの粘度を有する熱硬化性樹脂材料を硬化して光学素子を成形する工程、
前記光学素子を電子部品とともに基板上に載置する工程、及び、
前記光学素子と、前記電子部品と、前記基板とをリフロー処理に供し、前記光学素子と前記電子部品とを前記基板に実装する工程、
を有する撮像装置の製造方法が提供される。【００１２】
好ましくは、本発明の他の態様によれば、上記撮像装置の製造方法により製造された撮像装置が提供される。【００１３】
更に本発明の他の態様によれば、
２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で５０〜５００００ｍＰａｓの粘度を有する熱硬化性樹脂材料を硬化して成形され、
電子部品とともに基板上に載置された状態でリフロー処理に供され、前記電子部品とともに前記基板に実装される撮像装置の製造方法に用いられる光学素子が提供される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で５０ｍＰａｓ以上の粘度を有する熱硬化性樹脂材料によって光学素子が成形されているので、成形時に樹脂材料に高い圧力を加えても、金型から樹脂材料が漏れることがない。従って、樹脂密度の高い光学素子を成形することができるため、リフロー処理による光学素子の変形を防止することができる。【００１５】
また、２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で５００００ｍＰａｓ以下の粘度を有する熱硬化性樹脂材料によって光学素子が成形されているので、内部に歪を残したまま樹脂材料が硬化した後、この歪がリフロー処理によって解消してしまうのを防止することができる。従って、リフロー処理による光学素子の変形を、より確実に防止することができる。熱硬化性樹脂材料の粘度は、２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で８０ｍＰａｓ以上、１００００ｍＰａｓ以下であることが更に好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の好ましい実施形態で使用される撮像装置の概略斜視図である。
【図２】本発明の好ましい実施形態で使用される撮像装置の一部を拡大した概略的な断面図である。
【図３】本発明の好ましい実施形態における撮像装置の製造方法を概略的に説明するための図面である。
【図４】本発明の好ましい実施例におけるリフロー条件（リフロープロファイル）の概略を示す図面である。
【符号の説明】
【００１７】
１００  撮像装置
１  回路基板
２  カメラモジュール
３  カバーケース
４  撮像用開口
５  基板モジュール
６  レンズモジュール
１０  サブ基板
１０ａ  装着孔
１１  ＣＣＤイメージセンサ
１２  封止樹脂
１５  レンズケース
１５ａ  ホルダ部
１５ｂ  装着部
１６  レンズ
１７  カラー部材
１８  半田
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、図面を参照しながら本発明の好ましい実施形態について説明する。
［１］撮像装置
本実施形態に係る撮像装置１００は、図１に示す通り、携帯電話などの移動情報端末機器の電子回路を構成する電子部品が実装される回路基板１を有しており、回路基板１にはカメラモジュール２が実装されている。カメラモジュール２はＣＣＤイメージセンサとレンズを組み合わせた小型の基板実装用カメラであり、電子部品が実装された回路基板１をカバーケース３内に組み込んだ完成状態では、カバーケース３に設けられた撮像用開口４を介して撮像対象の画像取込ができるようになっている。なお、図１では、カメラモジュール２以外の電子部品の図示を省略している。【００１９】
図２に示す通り、カメラモジュール２は基板モジュール５（図３（ａ）参照）とレンズモジュール６（図３（ｃ）参照）より構成され、基板モジュール５を回路基板１に実装することにより、カメラモジュール２全体が回路基板１に実装される。基板モジュール５は、撮像用の受光素子であるＣＣＤイメージセンサ１１をサブ基板１０上に実装した受光モジュールであり、ＣＣＤイメージセンサ１１上面は封止樹脂１２で封止されている。【００２０】
ＣＣＤイメージセンサ１１の上面には、光電変換を行う画素が多数格子状に配列された受光部（図示略）が形成されており、この受光部に光学画像を結像させることにより各画素に蓄電された電荷を画像信号として出力する。サブ基板１０は鉛フリーの半田１８によって回路基板１に実装され、これによりサブ基板１０が回路基板１に固定されるとともに、サブ基板１０の接続用電極（図示略）と回路基板１上面の回路電極（図示略）とが電気的に導通している。【００２１】
レンズモジュール６はレンズ１６を支持するレンズケース１５を備えている。レンズケース１５の上部にはレンズ１６が保持されており、レンズケース１５の上部はレンズ１６を保持するホルダ部１５ａとなっている。レンズケース１５の下部はサブ基板１０に設けられた装着孔１０ａ内に挿通されてレンズモジュール６をサブ基板１０に固定する装着部１５ｂとなっている。この固定には、装着部１５ｂを装着孔１０ａに圧入して固定する方法や、接着材によって接着する方法などが用いられる。
［２］レンズ
レンズ１６は、被写体からの反射光をＣＣＤイメージセンサ１１の受光部上に結像するためのものである。
［３］レンズの樹脂材料
レンズ１６は特定の熱硬化性樹脂材料（以下、単に「樹脂材料」とする）から構成されており、当該樹脂材料は、粘度が２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で５０〜５００００ｍＰａｓとなっているとともに、熱膨張係数が特許文献２，３で開示されているようなエポキシ系樹脂と同等程度となっている。【００２２】
具体的には、レンズ１６を構成する樹脂材料は、アリルエステル系樹脂組成物、（ポリ）エステル（メタ）アクリレート系樹脂組成物、ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂組
成物、エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂組成物、エポキシ系樹脂組成物またはシリコーン系樹脂組成物などの何れかを主成分として含有している。
［３．１］樹脂組成物
［３．１．１］アリルエステル系樹脂組成物
アリルエステル系樹脂組成物としては、以下のアリルエステル系樹脂組成物（I）〜（VI）の何れかを用いることができる。
［３．１．１．１］アリルエステル系樹脂組成物（I）
アリルエステル系樹脂組成物（I）とは、下記に示す成分（α）を必須成分とする組成物であって、該組成物を硬化して得られる硬化物の２５℃での屈折率が１．５８以上かつ２３℃での比重が１．４０以下のものである。【００２３】
成分（α）：一般式（１）で表される基の少なくとも一種以上を末端基として有し、下記一般式（２）で表される基を繰り返し単位として有する化合物
一般式（１）【００２４】
【化１】
2009004929.tif 000002
【００２５】
（式中、Ｒ1はそれぞれ独立にアリル基またはメタリル基のいずれかを表し、Ａ1はそれぞれ独立に２価のカルボン酸あるいはカルボン酸無水物から誘導された有機残基を表す。）
一般式（２）【００２６】
【化２】
2009004929.tif 000003
【００２７】
（式中、Ａ2はそれぞれ独立に２価のカルボン酸あるいはカルボン酸無水物から誘導された有機残基を表し、Ｘは、それぞれ独立の有機残基でありかつ２個以上の水酸基を有する臭素含有化合物から誘導された有機残基を必須成分とする一種以上の有機残基を表す。ただし、Ｘはエステル結合によって、さらに上記一般式（１）を末端基とし、上記一般式（２）を繰り返し単位とする分岐構造を有することが出来る。）
［３．１．１．２］アリルエステル系樹脂組成物（II）
アリルエステル系樹脂組成物（II）とは、下記に示す成分（α）を全硬化性成分に対して１０質量％〜６０質量％、下記に示す成分（β）を全硬化性成分に対して１０質量％〜９０質量％だけ含有する組成物であって、該組成物を硬化して得られる硬化物の２５℃での屈折率が１．５８以上かつ２３℃での比重が１．４０以下のものである。【００２８】
成分（α）：一般式（１）で表される基の少なくとも一種以上を末端基として有し、一般式（２）で表される基を繰り返し単位として有する化合物
成分（β）：下記一般式（３）及び下記一般式（４）で表される化合物からなる群から選ばれた少なくとも一種以上の化合物
一般式（３）【００２９】
【化３】
2009004929.tif 000004
【００３０】
（式中、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立にアリル基またはメタリル基のいずれかを表す。）
一般式（４）【００３１】
【化４】
2009004929.tif 000005
【００３２】
（式中、Ｒ4及びＲ5は、それぞれ独立にアリル基またはメタリル基のいずれかを表す。）
［３．１．１．３］アリルエステル系樹脂組成物（III）
アリルエステル系樹脂組成物（III）とは、下記に示す成分（α）を全硬化性成分に対して１０質量％〜６０質量％、成分（β）を全硬化性成分に対して１０質量％〜９０質量％、成分（γ）を全硬化性成分に対して０質量％〜２０質量％だけ含有する組成物であって、該組成物を硬化して得られる硬化物の２５℃での屈折率が１．５８以上かつ２３℃での比重が１．４０以下のものである。【００３３】
成分（α）：一般式（１）で表される基の少なくとも一種以上を末端基として有し、一般式（２）で表される基を繰り返し単位として有する化合物
一般式（１）【００３４】
【化５】
2009004929.tif 000006
【００３５】
（式中、Ｒ1はそれぞれ独立にアリル基またはメタリル基のいずれかを表し、Ａ1はそれぞれ独立に２価のカルボン酸あるいはカルボン酸無水物から誘導された有機残基を表す。）
一般式（２）【００３６】
【化６】
2009004929.tif 000007
【００３７】
（式中、Ａ2はそれぞれ独立に２価のカルボン酸あるいはカルボン酸無水物から誘導された有機残基を表し、Ｘは、それぞれ独立の有機残基でありかつ２個以上の水酸基を有する臭素含有化合物から誘導された有機残基を必須成分とする一種以上の有機残基を表す。ただし、Ｘはエステル結合によって、さらに上記一般式（１）を末端基とし、上記一般式（２）を繰り返し単位とする分岐構造を有することが出来る。）
成分（β）：下記一般式（３）及び下記一般式（４）で表される化合物からなる群から選ばれた少なくとも一種以上の化合物
一般式（３）【００３８】
【化７】
2009004929.tif 000008
【００３９】
（式中、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立にアリル基またはメタリル基のいずれかを表す。）
一般式（４）【００４０】
【化８】
2009004929.tif 000009
【００４１】
（式中、Ｒ4及びＲ5は、それぞれ独立にアリル基またはメタリル基のいずれかを表す。）
成分（γ）：ジベンジルマレート、ジフェニルマレート、ジベンジルフマレート、ジフェニルフマレート、２−フェニル安息香酸（メタ）アリル、３−フェニル安息香酸（メタ）アリル、４−フェニル安息香酸（メタ）アリル、α−ナフトエ酸（メタ）アリル、β−ナフトエ酸（メタ）アリル、ｏ−クロロ安息香酸（メタ）アリル、ｍ−クロロ安息香酸（メタ）アリル、ｐ−クロロ安息香酸（メタ）アリル、２，６−ジクロロ安息香酸（メタ）アリル、２，４−ジクロロ安息香酸（メタ）アリル、ｏ−ブロモ安息香酸（メタ）アリル、ｍ−ブロモ安息香酸（メタ）アリル、ｐ−ブロモ安息香酸（メタ）アリルからなる群より選ばれる少なくとも一種以上の化合物
なお、本明細書記載の「全硬化性成分」とは、アリルエステル系樹脂組成物（I）〜（III）のいずれかに含まれる重合性成分の総量を意味する。【００４２】
一般式（１）において、Ｒ1はそれぞれ独立に、アリル基またはメタリル基のいずれかを表す。また、一般式（１）において、Ａ1は、それぞれ独立に、２価のカルボン酸あるいはカルボン酸無水物から誘導される有機残基を表す。また、一般式（２）においてＡ2は、それぞれ独立に、２価のカルボン酸あるいはカルボン酸無水物から誘導される有機残基を表す。さらに、一般式（２）において、Ｘは、それぞれ独立の有機残基でありかつ２個以上の水酸基を有する臭素含有化合物から誘導された有機残基を必須成分する一種以上の有機残基を表す。【００４３】
ここで言う「Ｒ1はそれぞれ独立に」とは、アリルエステル系樹脂組成物（I）〜（III）の必須成分である一般式（１）で表される末端基中のＲ1で表される部分のすべてがアリル基であっても、メタリル基であっても、また、一部がアリル基で他部がメタリル基であってもいいことを意味する。【００４４】
一般式（１）中のＡ1及び一般式（２）中のＡ2は２価のカルボン酸あるいはカルボン酸無水物から誘導される有機残基を表す。ここでいう「２価のカルボン酸あるいはカルボン酸無水物」としては、以下に記す化合物を例示することができる。ただし、いうまでもなく、これらの具体例に限定されるものではない。【００４５】
コハク酸あるいはその酸無水物、グルタル酸あるいはその酸無水物、アジピン酸、マロン酸あるいはその酸無水物、２−メチルコハク酸あるいはその酸無水物等の脂肪族ジカルボン酸あるいはその無水物、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸あるいはその酸無水物、４−メチルシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸あるいはその酸無水物等の脂環構造を有するジカルボン酸あるいはその無水物、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸あるいはその無水物、ビフェニル−２，２’−ジカルボン酸（以下、「ジフェン酸」とも記す。）あるいはその無水物、ビフェニル−３，３’−ジカルボン酸、ビフェニル−４，４’−ジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸あるいはその無水物を挙げることができる。【００４６】
上記の中では、化合物の高屈折率の維持の面から、特にテレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸あるいはその無水物、ビフェニル−２，２’−ジカルボン酸あるいはその無水物、ビフェニル−３，３’−ジカルボン酸、ビフェニル−４，４’−ジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸あるいはその無水物が好ましく、さらに好ましいのは、イソフタル酸、ビフェニル−２，２’−ジカルボン酸あるいはその無水物である。【００４７】
また、ここで言う「Ａ1はそれぞれ独立に」又は「Ａ2はそれぞれ独立に」とは、アリルエステル系樹脂組成物（I）〜（III）の必須成分である成分（α）中の一般式（１）で表される末端基中のＡ1で表される部分及びアリルエステル系樹脂組成物（I）〜（III）の必須成分である成分（α）中の一般式（２）で表される繰り返し単位のＡ2で表される部分（以下、「Ａ1」及び「Ａ2」をまとめて「Ａ」と表現する。）のすべてが同一構造を有する２価のカルボン酸あるいはカルボン酸無水物から誘導される有機残基であっても、すべてが異なる構造を有する２価のカルボン酸あるいはカルボン酸無水物から誘導される有機残基であっても、また、一部が同一構造を有する２価のカルボン酸から誘導される有機残基で他部が異なる構造の構造を有する２価のカルボン酸から誘導される有機残基であってもいいことを意味する。【００４８】
即ち、アリルエステル系樹脂組成物（I）〜（III）の必須成分である成分（α）の一例である下記構造式（１６）においては、その構造中に含まれるｋ個のＡのそれぞれが独立であることを意味する。
構造式（１６）【００４９】
【化９】
2009004929.tif 000010
【００５０】
（構造式（１６）において、Ａはそれぞれ独立に、２価のカルボン酸から誘導される有機残基を表し、ｋは２以上の整数を表す。また、Ｘは２個以上の水酸基を有する臭素含有化合物から誘導された有機残基を表す。）
例えば、構造式（１６）におけるｋ個のＡは、すべて異なった構造を有する２価のカルボン酸あるいはその無水物から誘導される有機残基（即ち、ｋ種類の構造を有する２価のカルボン酸あるいはその無水物から誘導される有機残基が１つずつ）であっても、すべて同一の構造を有する２価のカルボン酸あるいはその無水物から誘導される有機残基（即ち、１種類の構造を有する２価のカルボン酸あるいはその無水物から誘導される有機残基がｋ個）であっても、あるいはｋ個のＡの内、いくらかは同一の構造を有する２価のカルボン酸あるいはその無水物から誘導される有機残基であり、他のいくらかは別の種類の構造を有する２価のカルボン酸あるいはその無水物から誘導される有機残基であるといった混合構造であってもいっこうに差し支えない。【００５１】
さらに、ここで言う「Ｘはそれぞれ独立の有機残基であり」とは、一般式（２）で表される繰り返し単位の一例である下記構造式（１７）においては、その繰り返し構造中に含まれるｍ個のＸのそれぞれが独立の有機残基であることを意味する。【００５２】
【化１０】
2009004929.tif 000011
【００５３】
構造式（１７）
（構造式（１７）において、Ｘは、それぞれ独立の有機残基でありかつ２個以上の水酸基を有する臭素含有化合物から誘導された有機残基を必須成分する一種以上の有機残基を表し、ｍは０又は１以上の整数を表す。また、ｎは０または１以上の整数を表し、Ａは、それぞれ独立に２価のカルボン酸あるいはその無水物から誘導される有機残基である。）
例えば、構造式（１７）におけるｍ個のＸは、すべて異なった臭素含有化合物から誘導される有機残基（即ち、ｍ種類の臭素含有化合物から誘導される有機残基が１つずつ）であっても、すべて同一の臭素含有化合物から誘導される有機残基（即ち、１種類の臭素含有化合物から誘導される有機残基がｍ個）であっても、あるいはｍ個のＸの内、いくらかは同一の臭素含有化合物から誘導される有機残基であり、他のいくらかは別の種類の臭素含有化合物から誘導する有機残基であるといった混合構造であってもいっこうに差し支えない。さらには、その混合構造も、全部が完全にランダムであっても一部は繰り返してもかまわない。【００５４】
さらに、「２個以上の水酸基を有する臭素含有化合物から誘導された有機残基を必須成分する一種以上の有機残基」とは、一般式（２）で表される繰り返し単位の一例である構造式（１７）においては、その繰り返し構造中に含まれるｍ個のＸの中の一部あるいは全部に臭素含有化合物から誘導された有機残基を含むことを意味する。【００５５】
例えば、構造式（１７）におけるｍ個のＸは、すべて臭素含有化合物から誘導される有機残基（即ち、少なくとも一種以上の臭素含有化合物から誘導される有機残基がｍ個）であっても、ｍ個のＸの内、いくらかは臭素含有化合物から誘導される有機残基であり、他のいくらかは別の種類の化合物から誘導する有機残基であるといった混合構造であってもいっこうに差し支えない。さらには、その混合構造も、全部が完全にランダムであっても一部は繰り返してもかまわない。【００５６】
さらに、Ｘはエステル結合によって、さらに一般式（１）を末端基とし、一般式（２）を繰り返し単位とする分岐構造を有することが出来る。すなわち、例えばＸに３価の臭素含有アルコールの一例である２，４，６−トリブロモ−１，３，５−トリ（ヒドロキシエチル）ベンゼンから誘導された有機残基が存在した場合、アリルエステル系樹脂組成物（I）〜（III）の必須成分である成分（α）は下記構造式（１８）で表される部分構造を有することが出来る。
構造式（１８）【００５７】
【化１１】
2009004929.tif 000012
【００５８】
もちろん、Ｘは、それぞれ独立の有機残基でありかつ２個以上の水酸基を有する臭素含有化合物から誘導された有機残基を必須成分する一種以上の有機残基である。また、Ａは、それぞれ独立に２価のカルボン酸あるいはその酸無水物から誘導される有機残基である。【００５９】
一般式（２）におけるＸは、それぞれ独立の有機残基でありかつ２個以上の水酸基を有する臭素含有化合物から誘導された有機残基を必須成分する一種以上の有機残基を表す。ここでいう「２個以上の水酸基を有する臭素含有化合物」としては、以下のようなものがある。ただし、いうまでもなく、これらの具体例に限定されるものではない。
構造式（１９）【００６０】
【化１２】
2009004929.tif 000013
【００６１】
さらに、下記一般式（５）あるいは下記一般式（６）で表される２個以上の水酸基を有する臭素含有化合物を用いても良い。
一般式（５）【００６２】
【化１３】
2009004929.tif 000014
【００６３】
（式中、Ｒ6は、それぞれ独立に下記構造式（１）〜下記構造式（３）で表される有機基から選ばれる少なくとも一種以上を表し、Ｒ7は、それぞれ独立に下記構造式（４）〜下記構造式（６）から選ばれる少なくとも１種を表す。また、式中、ａ、ｂはそれぞれ独立に０あるいは１〜１０の整数を表し、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3、Ｚ4、Ｚ5、Ｚ6、Ｚ7及びＺ8はそれぞれ独立に臭素、塩素及び水素から選ばれる少なくとも一種以上の置換基であることを表しかつＺ1、Ｚ2、Ｚ3、Ｚ4、Ｚ5、Ｚ6、Ｚ7及びＺ8の少なくとも１つが臭素であることを表す。また、式中、Ｙは下記構造式（７）あるいは下記構造式（８）から選ばれるいずれかの有機基を表す。）
一般式（６）【００６４】
【化１４】
2009004929.tif 000015
【００６５】
（式中、Ｒ8は、それぞれ独立に下記構造式（９）〜下記構造式（１１）で表される有機基から選ばれる少なくとも一種以上を表し、Ｒ9は、それぞれ独立に下記構造式（１２）〜下記構造式（１４）から選ばれる少なくとも１種を表す。また、式中、ｃ、ｄはそれぞれ独立に０あるいは１〜１０の整数を表し、Ｚ9、Ｚ10、Ｚ11、Ｚ12、Ｚ13、Ｚ14、Ｚ15及びＺ16はそれぞれ独立に臭素、塩素及び水素から選ばれる少なくとも一種以上の置換基であることを表しかつＺ9、Ｚ10、Ｚ11、Ｚ12、Ｚ13、Ｚ14、Ｚ15及びＺ16の少なくとも１つが臭素であることを表す。）
構造式（１）【００６６】
【化１５】
2009004929.tif 000016
【００６７】
構造式（２）【００６８】
【化１６】
2009004929.tif 000017
【００６９】
構造式（３）【００７０】
【化１７】
2009004929.tif 000018
【００７１】
構造式（４）【００７２】
【化１８】
2009004929.tif 000019
【００７３】
構造式（５）【００７４】
【化１９】
2009004929.tif 000020
【００７５】
構造式（６）【００７６】
【化２０】
2009004929.tif 000021
【００７７】
構造式（７）【００７８】
【化２１】
2009004929.tif 000022
【００７９】
構造式（８）【００８０】
【化２２】
2009004929.tif 000023
【００８１】
構造式（９）【００８２】
【化２３】
2009004929.tif 000024
【００８３】
構造式（１０）【００８４】
【化２４】
2009004929.tif 000025
【００８５】
構造式（１１）【００８６】
【化２５】
2009004929.tif 000026
【００８７】
構造式（１２）【００８８】
【化２６】
2009004929.tif 000027
【００８９】
構造式（１３）【００９０】
【化２７】
2009004929.tif 000028
【００９１】
構造式（１４）【００９２】
【化２８】
2009004929.tif 000029
【００９３】
一般式（５）中、「Ｒ6は、それぞれ独立に」とは、ａ個のＲ6のすべてが同一構造の有機基を有していても、すべてが異なる構造の有機基であっても、また、一部が同一構造の有機基であり、他部が異なる構造の有機基であってもいいことを意味する。ただし、Ｒ6は構造式（１）〜構造式（３）で表される有機基の中から選ばれる必要がある。【００９４】
また、一般式（５）中、「Ｒ7はそれぞれ独立に」とは、ｂ個のＲ7のすべてが同一構造の有機基を有していても、すべてが異なる構造の有機基であっても、また、一部が同一構造の有機基であり、他部が異なる構造の有機基であってもいいことを意味する。ただし、Ｒ7は構造式（４）〜構造式（６）で表される有機基から選ばれる必要がある。【００９５】
さらに、一般式（５）中、ａ、ｂはそれぞれ独立に０あるいは１〜１０の整数を表す。【００９６】
また、Ｙは構造式（７）あるいは構造式（８）から選ばれるいずれかの有機基を表す。【００９７】
一般式（５）で表される２個以上の水酸基を有する臭素含有化合物の具体例としては、２，２−ビス〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジブロモフェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−（２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジブロモフェニル〕プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパンの３ｍｏｌエチレンオキサイド付加物、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパンの４ｍｏｌプロピレンオキサイド付加物、２，２−ビス〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジブロモフェニル〕メタン、２，２−ビス〔４−（２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジブロモフェニル〕メタン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）メタンの３ｍｏｌエチレンオキサイド付加物、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）メタンの４ｍｏｌプロピレンオキサイド付加物等を挙げることができる。ただし、いうまでもなく、これらの具体例に限定されるものではない。【００９８】
上記の臭素含有化合物の中では、原料の入手の容易さから、２，２−ビス〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジブロモフェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−（２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジブロモフェニル〕プロパンが好ましく使用される。より好ましくは、、２，２−ビス〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジブロモフェニル〕プロパンである。【００９９】
一般式（６）中、「Ｒ8は、それぞれ独立に」とは、ｃ個のＲ8のすべてが同一構造の有機基を有していても、すべてが異なる構造の有機基であっても、また、一部が同一構造の有機基であり、他部が異なる構造の有機基であってもいいことを意味する。ただし、Ｒ8は構造式（９）〜構造式（１１）で表される有機基の中から選ばれる必要がある。【０１００】
また、一般式（６）中、「Ｒ9は、それぞれ独立に」とは、ｄ個のＲ9のすべてが同一構造の有機基を有していても、すべてが異なる構造の有機基であっても、また、一部が同一構造の有機基であり、他部が異なる構造の有機基であってもいいことを意味する。ただし、Ｒ9は構造式（１２）〜構造式（１４）で表される有機基から選ばれる必要がある。【０１０１】
さらに、一般式（６）中、ｃ、ｄはそれぞれ独立に０あるいは１〜１０の整数を表す。【０１０２】
一般式（６）で表される２個以上の水酸基を有する臭素含有化合物の具体例としては、４，４’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−３，３’，５，５’−テトラブロモジフェニル，４，４’−ビス（２−ヒドロキシプロポキシ）−３，３’，５，５’−テトラブロモジフェニル，４，４’−ジヒドロキシ−３，３’，５，５’−テトラブロモジフェニルのエチレンオキサイド３ｍｏｌ付加物，４，４’−ジヒドロキシ−３，３’，５，５’−テトラブロモジフェニルのプロピレンオキサイド３ｍｏｌ付加物等を挙げることができる。ただし、いうまでもなく、これらの具体例に限定されるものではない。【０１０３】
上記の臭素含有化合物の中では、４，４’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−３，３’，５，５’−テトラブロモジフェニル，４，４’−ビス（２−ヒドロキシプロポキシ）−３，３’，５，５’−テトラブロモジフェニルが好ましく使用される。特に好ましいのは、４，４’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−３，３’，５，５’−テトラブロモジフェニルである。【０１０４】
また、２個以上の水酸基を有する臭素含有化合物と併用して他のアルコールを用いることができる。その具体例として、以下の化合物を挙げることができる。ただし、いうまでもなく、これらの具体例に限定されるものではない。【０１０５】
１，４−ジ（ヒドロキシメチル）ベンゼン、１，３−ジ（ヒドロキシメチル）ベンゼン、１，２−ジ（ヒドロキシメチル）ベンゼン、ビス〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕メタン、１，１−ビス〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕シクロヘキサン、２，２−ビス〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン、ビス〔４−（２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕メタン、１，１−ビス〔４−（２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕シクロヘキサン、２，２−ビス〔４−（２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕プロパン、ビスフェノールＡエチレンオキサイド３ｍｏｌ付加物、ビスフェノールＦエチレンオキサイド４ｍｏｌ付加物、ビスフェノールＺエチレンオキサイド３ｍｏｌ付加物、１，４−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、１，３−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、１，２−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ジフェニル、３，３’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ジフェニル、２，２’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ジフェニル等をあげることができる。【０１０６】
アリルエステル系樹脂組成物（I）〜（III）の必須成分である成分（α）の繰り返し単位である一般式（２）で表される基の繰り返し回数に、特に制限はない。様々な繰り返し回数を有する材料を混合して用いてもかまわない。また、繰り返し回数が０である化合物（即ち、下記一般式（８）で表される化合物）と繰り返し回数が１以上の整数である化合物とを併用して用いてもいっこうに問題ない。ただし、繰り返し回数は１以上であることが好ましい。【０１０７】
なお、本明細書では、アリルエステル系樹脂組成物（I）〜（III）の必須成分である成分（α）には、残存する下記一般式（８）で表される化合物は含まれないものと定義する。【０１０８】
即ち、成分（α）を製造する際の原料として、イソフタル酸ジアリルを使用し、イソフタル酸ジアリルが残存した場合には、残存したイソフタル酸ジアリルは成分（α）には含まれず、アリルエステル系樹脂組成物（II），（III）の必須成分である成分（β）に含まれることを意味する。【０１０９】
さらに、成分（α）を製造する際の原料として、コハク酸ジアリルを使用し、コハク酸ジアリルが残存した場合には、残存したコハク酸ジアリルは成分（α）と成分（β）のどちらにも含まれないことを意味する。
一般式（８）【０１１０】
【化２９】
2009004929.tif 000030
【０１１１】
（式中、Ａは、２価のカルボン酸あるいはカルボン酸無水物から誘導される有機残基を表し、Ｒ12，Ｒ13はそれぞれ独立にアリル基またはメタリル基のいずれかを表す。）
また、一般式（８）中のＡは、２価のカルボン酸あるいはカルボン酸無水物から誘導される有機残基を表す。ここでいう「２価のカルボン酸あるいはカルボン酸無水物」としては、以下に記す化合物を例示することができる。ただし、いうまでもなく、これらの具体例に限定されるものではない。【０１１２】
コハク酸あるいはその酸無水物、グルタル酸あるいはその酸無水物、アジピン酸、マロン酸あるいはその酸無水物、２−メチルコハク酸あるいはその酸無水物等の脂肪族ジカルボン酸あるいはその無水物、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸あるいはその酸無水物、４−メチルシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸あるいはその酸無水物等の脂環構造を有するジカルボン酸あるいはその無水物、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸あるいはその無水物、ビフェニル−２，２’−ジカルボン酸あるいはその無水物、ビフェニル−３，３’−ジカルボン酸、ビフェニル−４，４’−ジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸あるいはその無水物を挙げることができる。【０１１３】
上記の中では、化合物の高屈折率の維持の面から、特にテレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸あるいはその無水物、ビフェニル−２，２’−ジカルボン酸あるいはその無水物、ビフェニル−３，３’−ジカルボン酸、ビフェニル−４，４’−ジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸あるいはその無水物が好ましく、さらに好ましいのは、イソフタル酸、ビフェニル−２，２’−ジカルボン酸あるいはその無水物である。【０１１４】
アリルエステル系樹脂組成物（I）〜（III）の必須成分である成分（α）の繰り返し単位である一般式（２）で表される基の繰り返し回数は、通常１〜３０の整数であることが好ましい。繰り返し回数が３０を越えた化合物からのみなる成分（α）をプラスチックレンズ用組成物に用いた場合、アリル基の濃度が低くなるために、硬化時に硬化遅延を起こしたり化合物の一部が未硬化で残存して硬化物の機械特性などの物性低下に影響を及ぼす恐れがあったり、さらに極端な粘度上昇を起こす可能性がある点などで好ましくない。好ましくは、成分（α）中のすべての化合物の繰り返し回数が１〜３０の範囲の整数であり、より好ましくは１〜２０の範囲の整数であり、さらに好ましくは１〜１０の範囲の整数である。【０１１５】
アリルエステル系樹脂組成物（I）〜（III）の必須成分である成分（α）の製造の際には、その製造条件によっては原料である一般式（８）で表される化合物が残存することもあるが、一般式（８）で表される化合物を除去することなく、そのままプラスチックレンズ用組成物に使用しても何ら差し支えない。しかし、アリルエステル系樹脂組成物（I）
〜（III）に使用する場合、全硬化性成分に対して一般式（８）で表される化合物が９０質量％より多く存在することは、臭素の含有量が少なくなりすぎ、硬化物の屈折率が小さくなりすぎるために好ましいこととは言えない。【０１１６】
アリルエステル系樹脂組成物中の成分（α）の配合量は全硬化性成分に対し１０質量％〜６０質量％であることが好ましい。さらに好ましくは、１５質量％〜５０質量％であり、特に好ましくは、２０質量％〜４５質量％である。【０１１７】
アリルエステル系樹脂組成物中の成分（α）の配合量が全硬化性成分に対し１０質量％未満であることは、プラスチックレンズ用組成物を硬化して得られる硬化物の屈折率を１．５８以上に保持しかつアッベ数を３０以上に維持することが困難になり、好ましいこととは言えない。また、アリルエステル系樹脂組成物中の成分（α）の配合量が全硬化性成分に対し６０質量％を越える場合には、組成物の粘度が極端に高くなりかつ硬化物の比重が１．４０を越えてしまう可能性が高いので好ましいこととは言えない。【０１１８】
また、アリルエステル系樹脂組成物には、成分（β）を組成物の粘度を調整しかつ硬化物の屈折率を１．５８以上に維持する目的で使用することが好ましい。
一般式（３）【０１１９】
【化３０】
2009004929.tif 000031
【０１２０】
（式中、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立にアリル基またはメタリル基のいずれかを表す。）
一般式（４）【０１２１】
【化３１】
2009004929.tif 000032
【０１２２】
（式中、Ｒ4及びＲ5は、それぞれ独立にアリル基またはメタリル基のいずれかを表す。）
一般式（３）及び一般式（４）で表される化合物の配合量は、使用する化合物の種類によっても異なるが、全硬化性成分に対し１０質量％〜９０質量％の範囲で使用することが好ましい。さらに好ましくは、４０質量％〜８０質量％であり、特に好ましくは、５０質量％〜８０質量％である。一般式（３）及び一般式（４）で表される化合物の配合量が全硬化性成分に対し１０質量％未満である場合には、組成物の粘度が極端に高くなり好ましいこととは言えない。また、一般式（３）及び一般式（４）で表される化合物の配合量が全硬化性成分に対し９０質量％を越えて場合には、プラスチックレンズ用組成物を硬化して得られる硬化物の屈折率を１．５８以上に保持しかつアッベ数を３０以上に維持することが困難になり、好ましいこととは言えない。【０１２３】
なお、本明細書に記載の「アッベ数」とは、光学ガラスの分散の程度を表す量であり、その詳細は、「物理学辞典−縮刷版−（物理化学辞典編集委員会 編、（株）培風館 発行） １９８９年１１月３０日 初版第３刷」の「アッベ数」の項に記載がある。【０１２４】
また、本明細書に記載のアッベ数の値は、アタゴ社製「アッベ屈折計１Ｔ」によって測定されたもので、下式で表される値である。
アッベ数（νD）＝（ｎD−１）／（ｎF−ｎC）
（式中、ｎD，ｎF及びｎCは、それぞれフラウンホーファーのｄ線（波長５７８．６ｎｍ），Ｆ線（４８６．１ｎｍ）及びＣ線（６５６．３ｎｍ）に対する２５℃での屈折率を意味する。）
アリルエステル系樹脂組成物（I）〜（III）の必須成分である成分（α）は、例えば以下の方法で製造できる。【０１２５】
一般式（５）で表される化合物の少なくとも一種を一定の割合で使用し、これらの化合物と、２個以上の水酸基を有する臭素含有化合物の少なくとも一種以上を必須成分とする一種以上の臭素含有化合物とを、触媒存在下、エステル交換反応を行う工程により目的とする化合物を得ることができる。もちろん、これに限定されるものではなく、必要に応じて精製等の工程が入ってもいっこうに差し支えない。【０１２６】
前記工程で用いる触媒としては、一般にエステル交換反応に用いることが可能な触媒であれば特に制限はない。有機金属化合物が特に好ましく、具体的にはテトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタン、ジブチル錫オキサイド、ジオクチル錫オキサイド、ハフニウムアセチルアセトナート、ジルコニウムアセチルアセトナート等を挙げることができるがこれに限定されるわけではない。中でもジブチル錫オキサイド、ジオクチル錫オキサイドが好ましい。【０１２７】
この工程における反応温度には特に制限はないが、好ましくは１００℃〜２３０℃の範囲、より好ましくは１２０℃〜２００℃の範囲である。特に溶媒を用いた場合は、その沸点により制限を受けることがある。【０１２８】
また、この工程では通常溶媒を用いることはないが、必要に応じて溶媒を用いることもできる。エステル交換反応を阻害することがなければ、用いることが可能な溶媒としては特に制限はない。具体的にはベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン等を挙げることができるがこれに限定されるわけではない。中でもベンゼン、トルエンが好ましい。しかし、前述のように溶媒を用いることなく実施することも可能である。【０１２９】
アリルエステル系樹脂組成物（I）〜（III）の必須成分である成分（α）を得るためには、一般式（８）で表される化合物のカルボキシレートの総数が、２個以上の水酸基を有する臭素含有化合物の少なくとも一種以上を必須成分とする一種以上の臭素含有化合物の水酸基の総数よりも多くする必要がある。あまりに前記一般式（８）で表される化合物のカルボキシレートの総数と前記臭素含有化合物の水酸基の総数の比率が１／１に近いと、生成した成分（α）の数平均分子量が極端に大きくなり、アリルエステル系樹脂組成物（I）〜（III）には使用できなくなる。前記一般式（８）で表される化合物のカルボキシレートの総数と前記臭素含有化合物の水酸基の総数の比率は、４／３〜１０／１の範囲が好ましく、より好ましくは３／２〜８／１であり、さらに好ましくは、２／１〜７／１の範囲である。【０１３０】
一方、アリルエステル系樹脂組成物（I），（II）に、主に該組成物の粘度調製を目的として、成分（α）あるいは成分（β）と共重合可能な化合物を、当該アリルエステル系樹脂組成物（I），（II）に含まれる全硬化性成分に対して２０質量％を越えない範囲において、一種以上加えることができ、且つ好ましい。【０１３１】
該化合物としては、（メタ）アクリル基、ビニル基、（メタ）アリル基有するモノマー等が挙げられる。具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ビニルアセテート、ビニルベンゾエート、ジフェニルマレート、ジベンジルマレート、ジブチルマレート、ジメトキシエチルマレート、ジフェニルフマレート、ジベンジルフマレート、ジブチルフマレート、ジメトキシエチルフマレート等を挙げることができる。【０１３２】
なお、本明細書に記載の「（メタ）アクリル」とは、アクリル及びメタクリルを意味する。さらに、本明細書に記載の「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート及びメタクリレートを意味する。【０１３３】
更に（メタ）アリル基を有するモノマーとしては、α−ナフトエ酸（メタ）アリル、β−ナフトエ酸（メタ）アリル、２−フェニル安息香酸（メタ）アリル、３−フェニル安息香酸（メタ）アリル、４−フェニル安息香酸（メタ）アリル、安息香酸（メタ）アリル、ｏ−クロロ安息香酸（メタ）アリル、ｍ−クロロ安息香酸（メタ）アリル、ｐ−クロロ安息香酸（メタ）アリル、２，６−ジクロロ安息香酸（メタ）アリル、２，４−ジクロロ安息香酸（メタ）アリル、２，４，６−トリクロロ安息香酸（メタ）アリル、ｏ−ブロモ安息香酸（メタ）アリル、ｍ−ブロモ安息香酸（メタ）アリル、ｐ−ブロモ安息香酸（メタ）アリル、２，６−ジブロモ安息香酸（メタ）アリル、２，４−ジブロモ安息香酸（メタ）アリル、２，４，６−トリブロモ安息香酸（メタ）アリル、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジ（メタ）アリル、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸ジ（メタ）アリル、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸ジ（メタ）アリル、４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸ジ（メタ）アリル、１−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸ジ（メタ）アリル、３−メチル−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸ジ（メタ）アリル、４−メチル−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸ジ（メタ）アリル、エンディック酸ジ（メタ）アリル、クロレンド酸ジ（メタ）アリル、３，６−メチレン−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸ジ（メタ）アリル等を挙げることができる。さらに、ＰＰＧ社製商品名ＣＲ−３９に代表されるポリエチグリコールビス（（メタ）アリルカーボネート）樹脂を挙げることができる。もちろん、これらの具体例に限定されるものではなく、硬化して得られるプラスチックレンズの物性を損なわない範囲であれば、その他のモノマー等の使用も可能である。【０１３４】
上記の成分（α）あるいは成分（β）と共重合可能な化合物の中で、比重を小さくしかつ硬化物の高屈折率の維持することのバランスを考慮すると、好ましいものとしては、ジベンジルマレート、ジフェニルマレート、ジベンジルフマレート、ジフェニルフマレート、２−フェニル安息香酸（メタ）アリル、３−フェニル安息香酸（メタ）アリル、４−フェニル安息香酸（メタ）アリル、α−ナフトエ酸（メタ）アリル、β−ナフトエ酸（メタ）アリル、ｏ−クロロ安息香酸（メタ）アリル、ｍ−クロロ安息香酸（メタ）アリル、ｐ−クロロ安息香酸（メタ）アリル、２，６−ジクロロ安息香酸（メタ）アリル、２，４−ジクロロ安息香酸（メタ）アリル、ｏ−ブロモ安息香酸（メタ）アリル、ｍ−ブロモ安息香酸（メタ）アリル、ｐ−ブロモ安息香酸（メタ）アリルを挙げることができ、特に好ましいものとしては、ジベンジルマレート、ジフェニルマレート、ジベンジルフマレート、ジフェニルマレート、２−フェニル安息香酸（メタ）アリル、３−フェニル安息香酸（メタ）アリル、４−フェニル安息香酸（メタ）アリル、α−ナフトエ酸（メタ）アリル、β−ナフトエ酸（メタ）アリルを挙げることができる。【０１３５】
なお、本明細書に記載の「（メタ）アリル」とは、アリル及びメタリルを意味する。【０１３６】
また、アリルエステル系樹脂組成物（I）〜（III）は、該組成物を硬化して得られる硬化物の２５℃での屈折率（ｎD）が１．５８以上でなければならない。好ましくは、１．５８５以上の屈折率である。硬化物の２５℃での屈折率（ｎD）が１．５８未満の場合には、目的とする高屈折レンズを取得したことにならない。【０１３７】
本明細書の記載の「屈折率」とは、真空中の光の速度ｃと媒質中の位相速度υとの比ｃ／υのことであり、詳細は、「物理学辞典−縮刷版−（物理化学辞典編集委員会 編、（株）培風館 発行） １９８９年１１月３０日 初版第３刷」の「屈折率」の項に記載がある。【０１３８】
さらに、本明細書に記載の屈折率の値は、フラウンホーファーのｄ線（波長５８７．６ｎｍ）に対する屈折率で、アタゴ社製「アッベ屈折計１Ｔ」を用いて２５℃で測定された値である。なお、アタゴ社製「アッベ屈折計１Ｔ」の屈折率の測定原理は、全反射の臨界角を測定する方法であり、その詳細は、「物理学辞典−縮刷版−（物理化学辞典編集委員会 編、（株）培風館 発行） １９８９年１１月３０日 初版第３刷」の「屈折計」の項の「（１）全反射の臨界角を測定する方法」の部分に記載がある。【０１３９】
また、アリルエステル系樹脂組成物（I）〜（III）は、該組成物を硬化して得られる硬化物の２３℃での比重が１．４０以下でなければならない。さらに好ましくは１．３９以下である。該組成物を硬化して得られる硬化物の２３℃での比重が１．４０より大きい場合には、目的とする軽量のプラスチックレンズを得たことにはならない。【０１４０】
本明細書に記載の「比重」とは、物質の質量と、その物質と同体積の標準物質（４℃、標準大気圧における水）の質量との比であり、詳細は、「物理学辞典−縮刷版− （物理化学辞典編集委員会 編、（株）培風館発行） １９８９年１１月３０日初版第３刷」の「比重」の項に記載がある。【０１４１】
なお、本明細書に記載の硬化物の比重の値は、ＪＩＳ Ｋ７１１２の浮沈法（測定温度２３℃）によって測定された値である。
［３．１．１．４］アリルエステル系樹脂組成物（IV）
アリルエステル系樹脂組成物（IV）とは、アリルエステル系樹脂組成物（I）〜（III）の何れかの全硬化性成分１００質量部に対して、紫外線吸収剤及び／または光安定剤を０．０１質量部〜２質量部含有するものである。【０１４２】
アリルエステル系樹脂組成物（IV）には、耐候性を向上させる目的で紫外線吸収剤や光安定剤を使用する。紫外線吸収剤や光安定剤としては、組成物中の配合できるものであれば特に制限はないが、具体的には以下に示すような化合物を挙げることができる。ただし、いうまでもなく、これらの具体例に限定されるものではない。【０１４３】
なお、本明細書に記載の「紫外線吸収剤」とは、太陽光線及び蛍光灯などの光エネルギーを吸収して熱エネルギー等に変換する材料を意味する。また、本明細書に記載の「光安定剤」とは、光酸化劣化で生成するラジカルを捕捉する材料を意味する。【０１４４】
まず、紫外線吸収剤の具体例としては、下記構造式（１５）で表されるベンゾトリアゾール構造単位を有する化合物を挙げることができる。
構造式（１５）【０１４５】
【化３２】
2009004929.tif 000033
【０１４６】
上記構造単位を有する化合物の具体例としては、下記構造式（２０）〜下記構造式（３５）で示される化合物をあげることができる。
構造式（２０）【０１４７】
【化３３】
2009004929.tif 000034
【０１４８】
構造式（２１）【０１４９】
【化３４】
2009004929.tif 000035
【０１５０】
構造式（２２）【０１５１】
【化３５】
2009004929.tif 000036
【０１５２】
構造式（２３）【０１５３】
【化３６】
2009004929.tif 000037
【０１５４】
構造式（２４）【０１５５】
【化３７】
2009004929.tif 000038
【０１５６】
構造式（２５）【０１５７】
【化３８】
2009004929.tif 000039
【０１５８】
構造式（２６）【０１５９】
【化３９】
2009004929.tif 000040
【０１６０】
構造式（２７）【０１６１】
【化４０】
2009004929.tif 000041
【０１６２】
構造式（２８）【０１６３】
【化４１】
2009004929.tif 000042
【０１６４】
構造式（２９）【０１６５】
【化４２】
2009004929.tif 000043
【０１６６】
構造式（３０）【０１６７】
【化４３】
2009004929.tif 000044
【０１６８】
構造式（３１）【０１６９】
【化４４】
2009004929.tif 000045
【０１７０】
構造式（３２）【０１７１】
【化４５】
2009004929.tif 000046
【０１７２】
構造式（３３）【０１７３】
【化４６】
2009004929.tif 000047
【０１７４】
構造式（３４）【０１７５】
【化４７】
2009004929.tif 000048
【０１７６】
構造式（３５）【０１７７】
【化４８】
2009004929.tif 000049
【０１７８】
また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の具体例としては、下記構造式（３６）〜下記構造式（４０）の化合物を挙げることができる。
構造式（３６）【０１７９】
【化４９】
2009004929.tif 000050
【０１８０】
構造式（３７）【０１８１】
【化５０】
2009004929.tif 000051
【０１８２】
構造式（３８）【０１８３】
【化５１】
2009004929.tif 000052
【０１８４】
構造式（３９）【０１８５】
【化５２】
2009004929.tif 000053
【０１８６】
構造式（４０）【０１８７】
【化５３】
2009004929.tif 000054
【０１８８】
さらに、下記構造式（４１）のようなトリアジン系紫外線吸収剤や下記構造式（４２）のような蓚酸アニリド系紫外線吸収剤を用いることもできる。
構造式（４１）【０１８９】
【化５４】
2009004929.tif 000055
【０１９０】
構造式（４２）【０１９１】
【化５５】
2009004929.tif 000056
【０１９２】
光安定剤の具体例として、下記構造式（４３）〜下記構造式（５０）、下記構造式（５２）及び下記構造式（５４）〜下記構造式（５７）に示されるようなヒンダードアミン系光安定剤（以下、「ＨＡＬＳ」と略する。）を挙げることができる。
構造式（４３）【０１９３】
【化５６】
2009004929.tif 000057
【０１９４】
構造式（４４）【０１９５】
【化５７】
2009004929.tif 000058
【０１９６】
構造式（４５）【０１９７】
【化５８】
2009004929.tif 000059
【０１９８】
構造式（４６）【０１９９】
【化５９】
2009004929.tif 000060
【０２００】
構造式（４７）【０２０１】
【化６０】
2009004929.tif 000061
【０２０２】
構造式（４８）【０２０３】
【化６１】
2009004929.tif 000062
【０２０４】
構造式（４９）【０２０５】
【化６２】
2009004929.tif 000063
【０２０６】
ただし、Ｒ14，Ｒ15，Ｒ16，Ｒ17のすべてが水素原子であるものは除く。
構造式（５０）【０２０７】
【化６３】
2009004929.tif 000064
【０２０８】
構造式（５０）中、Ｒは、下記構造式（５１）で表される有機残基である。
構造式（５１）【０２０９】
【化６４】
2009004929.tif 000065
【０２１０】
構造式（５２）【０２１１】
【化６５】
2009004929.tif 000066
【０２１２】
構造式（５２）中、Ｒは、下記構造式（５３）で表される有機残基である。
構造式（５３）【０２１３】
【化６６】
2009004929.tif 000067
【０２１４】
構造式（５４）【０２１５】
【化６７】
2009004929.tif 000068
【０２１６】
構造式（５５）【０２１７】
【化６８】
2009004929.tif 000069
【０２１８】
構造式（５６）【０２１９】
【化６９】
2009004929.tif 000070
【０２２０】
構造式（５７）【０２２１】
【化７０】
2009004929.tif 000071
【０２２２】
上記紫外線吸収剤や光安定剤を添加すると、その硬化は未添加系に比べ良くなることは確かであるが、化合物によっては硬化時に着色を伴うものもある。【０２２３】
上記紫外線吸収剤あるいは光安定剤の中で、硬化物の耐候性の改善効果及びアリルエステル系樹脂組成物（IV）を硬化する際の着色の度合いを考慮すると、ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤が好ましい。【０２２４】
さらに好ましくは、構造式（２１）〜構造式（２５）、構造式（２７）、構造式（３１）、構造式（３３）、構造式（３４）の様な分子内にヒンダードフェノール構造を有するもの、あるいは構造式（３５）の様な重合性不飽和基を有するものである。【０２２５】
また、紫外線吸収剤と光安定剤はそれぞれ単独で、或いは二種以上を、さらには両者を一種以上併用してもいっこうにかまわない。【０２２６】
上記紫外線吸収剤や光安定剤の使用量は、全硬化性成分に対して０．００１質量％〜２質量％であることが好ましく、さらに好ましくは、０．０５質量％〜１．５質量％の範囲である。０．０５質量％未満の添加量では劣化防止効果を十分発現できず、また、２質量％を越えて用いることは硬化時の着色及び経済的なことを考慮しても好ましいことではない。
［３．１．１．５］アリルエステル系樹脂組成物（V）
アリルエステル系樹脂組成物（V）とは、アリルエステル系樹脂組成物（I）〜（IV）の何れかの全硬化性成分１００質量部に対して、酸化防止剤を０．０１質量部〜５質量部含有するものである。【０２２７】
酸化防止剤には、一般的なフェノール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤等を使用することができる。これらのそれぞれ系の異なる酸化防止剤は、それぞれ単独で用いても、同系の酸化防止剤を二種以上併用しても、さらには系の異なる酸化防止剤二種以上を併用してもかまわない。【０２２８】
フェノール系酸化防止剤の具体例としては、以下のような化合物を挙げることができる。
構造式（５８）【０２２９】
【化７１】
2009004929.tif 000072
【０２３０】
構造式（５９）【０２３１】
【化７２】
2009004929.tif 000073
【０２３２】
構造式（６０）【０２３３】
【化７３】
2009004929.tif 000074
【０２３４】
構造式（６１）【０２３５】
【化７４】
2009004929.tif 000075
【０２３６】
構造式（６２）【０２３７】
【化７５】
2009004929.tif 000076
【０２３８】
構造式（６３）【０２３９】
【化７６】
2009004929.tif 000077
【０２４０】
構造式（６４）【０２４１】
【化７７】
2009004929.tif 000078
【０２４２】
構造式（６５）【０２４３】
【化７８】
2009004929.tif 000079
【０２４４】
構造式（６６）【０２４５】
【化７９】
2009004929.tif 000080
【０２４６】
構造式（６７）【０２４７】
【化８０】
2009004929.tif 000081
【０２４８】
ホスファイト系酸化防止剤の具体例としては、以下のような化合物を挙げることができる。
構造式（６８）【０２４９】
【化８１】
2009004929.tif 000082
【０２５０】
構造式（６９）【０２５１】
【化８２】
2009004929.tif 000083
【０２５２】
構造式（７０）【０２５３】
【化８３】
2009004929.tif 000084
【０２５４】
構造式（７１）【０２５５】
【化８４】
2009004929.tif 000085
【０２５６】
構造式（７２）【０２５７】
【化８５】
2009004929.tif 000086
【０２５８】
構造式（７３）【０２５９】
【化８６】
2009004929.tif 000087
【０２６０】
構造式（７４）【０２６１】
【化８７】
2009004929.tif 000088
【０２６２】
構造式（７５）【０２６３】
【化８８】
2009004929.tif 000089
【０２６４】
構造式（７６）【０２６５】
【化８９】
2009004929.tif 000090
【０２６６】
構造式（７７）【０２６７】
【化９０】
2009004929.tif 000091
【０２６８】
構造式（７８）【０２６９】
【化９１】
2009004929.tif 000092
【０２７０】
構造式（７９）【０２７１】
【化９２】
2009004929.tif 000093
【０２７２】
チオエーテル系酸化防止剤の具体例としては、以下のような化合物を挙げることができる。
構造式（８０）【０２７３】
【化９３】
2009004929.tif 000094
【０２７４】
構造式（８１）【０２７５】
【化９４】
2009004929.tif 000095
【０２７６】
構造式（８２）【０２７７】
【化９５】
2009004929.tif 000096
【０２７８】
構造式（８３）【０２７９】
【化９６】
2009004929.tif 000097
【０２８０】
構造式（８４）【０２８１】
【化９７】
2009004929.tif 000098
【０２８２】
構造式（８５）【０２８３】
【化９８】
2009004929.tif 000099
【０２８４】
これらの酸化防止剤の中で、着色せずかつ硬化阻害を起こさないものが好ましいことを考慮すると、ホスファイト系酸化防止剤が好ましい。さらに好ましくは、構造式（７１）〜構造式（７６）及び構造式（７８）〜構造式（７９）のような、アリーロキシ基とアルキロキシ基あるいはアルケニロキシ基が共に同一のリン原子に結合しているポスファイト系酸化防止剤が好ましい。【０２８５】
また、これらの酸化防止剤は、紫外線吸収剤や光安定剤と併用してもいっこうにかまわない。【０２８６】
これら酸化防止剤の使用量は、全硬化性成分に対して０．０１質量％〜５質量％であることが好ましく、さらに好ましくは、０．１質量％〜３質量％の範囲である。０．０１質量％未満の添加量では劣化防止効果を十分発現できず、また、５質量％を越えて用いることは経済的なことを考慮しても好ましいことではない。【０２８７】
また、アリルエステル系樹脂組成物には、２，５−ビス〔５−ｔ−ブチルベンゾオキサゾリル（２）〕チオフェン等の蛍光増白剤等を添加してもよい。
［３．１．１．６］アリルエステル系樹脂組成物（VI）
アリルエステル系樹脂組成物（VI）とは、アリルエステル系樹脂組成物（I）〜（V）の何れかの全硬化性成分１００質量部に対して、少なくとも一種以上のラジカル重合開始剤０．１質量部〜１０質量部を含有するものである。【０２８８】
アリルエステル系樹脂組成物（VI）には、硬化剤としてラジカル重合開始剤を添加することが可能でありかつ好ましい。【０２８９】
アリルエステル系樹脂組成物（VI）に添加可能なラジカル重合開始剤には、特に制限はない。硬化して得られるプラスチックレンズの光学特性などの物性値に悪影響を及ぼすものでなければ、公知のもので構わない。【０２９０】
しかし、アリルエステル系樹脂組成物に使用されるラジカル重合開始剤は、硬化されるべき組成物中に存在する他の成分に可溶であり、かつ３０℃〜１２０℃でフリーラジカルを発生するものが望ましい。添加可能なラジカル重合開始剤の具体例としては、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジシクロヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーベンゾエート等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。硬化性の点から、好ましくは下記一般式（７）で表される構造を有するラジカル重合開始剤である。
一般式（７）【０２９１】
【化９９】
2009004929.tif 000100
【０２９２】
（式中、Ｒ10及びＲ11は、それぞれ独立に炭素数１〜炭素数１０のアルキル基、置換アルキル基、フェニル基及び置換フェニル基から選ばれる基を表す。）
一般式（７）で表されるラジカル重合開始剤の具体例としては、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−３−メトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネート等を挙げることができる。【０２９３】
これらの中で好ましいものは、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネートであり、さらに好ましくはジイソプロピルパーオキシジカーボネートである。【０２９４】
ラジカル重合開始剤の添加量は、アリルエステル系樹脂組成物（I）〜（V）中に含まれる全硬化性成分１００質量部に対して０．１質量部〜１０質量部の範囲、好ましくは１質量部〜５質量部の範囲である。０．１質量部未満では、該組成物の硬化が不十分になる恐れがある。また、１０質量部を越えて添加することは、経済上好ましくない。【０２９５】
アリルエステル系樹脂組成物（I）〜（VI）の粘度は、組成物の濾過性（即ち、濾過速度）及び注型の作業性（即ち、型への流し込み易さと充填速度）を考慮した場合、２５℃で５００ｍＰａ・ｓ以下あることが一般的であり、好ましくは、４００ｍＰａ・ｓ以下であり、さらに好ましくは、３００ｍＰａ・ｓ以下である。【０２９６】
なお、ここでいう「粘度」とは、回転粘度計により測定されるもので、回転粘度計の詳細については「岩波理化学辞典第３版 １９７７年６月１日第３版第８刷発行」に記載がある。【０２９７】
アリルエステル系樹脂組成物（I）〜（VI）には、プラスチックレンズの性能向上に使用される一般的な染料、顔料等の着色剤、離型剤などの添加剤を添加しても構わない。【０２９８】
着色剤としては、例えば、アントラキノン系、アゾ系、カルボニウム系、キノリン系、キノンイミン系、インジゴイド系、フタロシアニン系などの有機顔料、アゾイック染料、硫化染料などの有機染料、チタンイエロー、黄色酸化鉄、亜鉛黄、クロムオレンジ、モリブデンレッド、コバルト紫、コバルトブルー、コバルトグリーン、酸化クロム、酸化チタン、硫化亜鉛、カーボンブラックなどの無機顔料などが挙げられる。【０２９９】
離型剤としては、ステアリン酸、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸アミド、フッ素系化合物類、シリコン化合物類などが挙げられる。【０３００】
染料、顔料等の着色剤、離型剤などの添加剤の添加総量は、アリルエステル系樹脂組成物中に含まれる全硬化性樹脂成分に対して１質量％以下であることが望ましい。【０３０１】
なお、以上のようなアリルエステル系樹脂組成物としては、例えば特開２００３−６６２０１号公報に開示のものなど、従来より公知のものを用いることができる。
［３．１．２］（ポリ）エステル（メタ）アクリレート系樹脂組成物
（ポリ）エステル（メタ）アクリレート系樹脂組成物とは、（ポリ）エステル（メタ）アクリレートを主成分として含有する樹脂組成物である。【０３０２】
ここで、（ポリ）エステル（メタ）アクリレートとは、主鎖にエステル結合を１つ以上有する（メタ）アクリレートであり、例えば、脂環式変性ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート（日本化薬社製の「Ｒ−６２９」又は「Ｒ−６４４」）、カプロラクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、エチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド変性フタル酸（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性コハク酸（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等の単官能（ポリ）エステル（メタ）アクリレート類；
ピバリン酸エステルネオペンチルグリコ−ルジ（メタ）アクリレ−ト、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコ−ルジ（メタ）アクリレ−ト、エピクロルヒドリン変性フタル酸ジ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパン又はグリセリン１モルに１モル以上のε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン又はメチルバレロラクトン等の環状ラクトン化合物を付加して得たトリオールのモノ、ジ又はトリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトール又はジトリメチロールプロパン１モルに１モル以上のε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン又はメチルバレロラクトン等の環状ラクトン化合物を付加して得たトリオールのモノ、ジ、トリ又はテトラ（メタ）アクリレート；ジペンタエリスリトール１モルに１モル以上のε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン又はメチルバレロラクトン等の環状ラクトン化合物を付加して得たトリオールのモノ、又はポリ（メタ）アクリレートのトリオール、テトラオール、ペンタオール又はヘキサオール等の多価アルコールのモノ（メタ）アクリレート又はポリ（メタ）アクリレート；
（ポリ）エチレングリコール、（ポリ）プロピレングリコール、（ポリ）テトラメチレングリコール、（ポリ）ブチレングリコール、（ポリ）ペンタンジオール、（ポリ）メチルペンタンジオール、（ポリ）ヘキサンジオール等のジオール成分と、マレイン酸、フマル酸、コハク酸、アジピン酸、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、イタコン酸、シトラコン酸、ヘット酸、ハイミック酸、クロレンディック酸、ダイマー酸、アルケニルコハク酸、セバチン酸、アゼライン酸、２，２，４−トリメチルアジピン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、テレフタル酸、２−ナトリウムスルホテレフタル酸、２−カリウムスルホテレフタル酸、イソフタル酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、５−カリウムスルホイソフタル酸、オルソフタル酸、４−スルホフタル酸、１，１０−デカメチレンジカルボン酸、ムコン酸、シュウ酸、マロン酸、グルタン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸等の多塩基酸からなるポリエステルポリオールの（メタ）アクリレート；上記ジオール成分と多塩基酸とε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン又はメチルバレロラクトンとからなる環状ラクトン変性ポリエステルジオールの（メタ）アクリレート等の多官能（ポリ）エステル（メタ）アクリレート類等が好適である。
［３．１．３］ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂組成物
ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂組成物とは、ウレタン（メタ）アクリレートを主成分として含有する樹脂組成物である。【０３０３】
ここで、ウレタン（メタ）アクリレートとは、主鎖にウレタン結合を１つ以上有する（メタ）アクリレートであり、少なくとも１つの（メタ）アクリロイルオキシ基を有するヒドロキシ化合物とイソシアネート化合物との反応によって得られる化合物であることが好適である。【０３０４】
上記少なくとも１つの（メタ）アクリロイルオキシ基を有するヒドロキシ化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート又はグリシジル（メタ）アクリレート−（メタ）アクリル酸付加物、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等の各種の水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物や、上記の水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物とε−カプロラクトンとの開環反応物等が好適である。【０３０５】
上記イソシアネート化合物としては、例えば、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−キシレンジイソシアネート、ｍ−キシレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、３，３′−ジメチルジフェニル−４，４′−ジイソシアネート、３，３′−ジエチルジフェニル−４，４′−ジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート類；イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、４，４′−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、水添キシレンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、リジンジイソシアネート等の脂肪族又は脂環構造のジイソシアネート類；イソシアネートモノマーの一種類以上のビュレット体又は、上記ジイソシアネート化合物を３量化したイソシアヌレート体等のポリイソシアネート；これらイソシアネート化合物と各種のポリオールとのウレタン化反応によって得られるポリイソシアネート等が好適である。【０３０６】
上記ポリイソシアネートの製造原料としてのポリオールとしては、例えば、（ポリ）エチレングリコール、（ポリ）プロピレングリコール、（ポリ）ブチレングリコール、（ポリ）テトラメチレングリコール等の（ポリ）アルキレングリコール類；エチレングリコール、プロパンジオール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ペンタメチレングリコール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール等のアルキレングリコール類の、エチレンオキシド変性物、プロピレンオキシド変性物、ブチレンオキシド変性物、テトラヒドロフラン変性物、ε−カプロラクトン変性物、γ−ブチロラクトン変性物、δ−バレロラクトン変性物、メチルバレロラクトン変性物等；
エチレンオキシドとプロピレンオキシドの共重合体、プロピレングリコールとテトラヒドロフランの共重合体、エチレングリコールとテトラヒドロフランの共重合体、ポリイソプレングリコール、水添ポリイソプレングリコール、ポリブタジエングリコール、水添ポリブタジエングリコール等の炭化水素系ポリオール類；アジピン酸、ダイマー酸等の脂肪族ジカルボン酸と、ネオペンチルグリコール、メチルペンタンジオール等のポリオールとのエステル化反応物である脂肪族ポリエステルポリオール類；テレフタル酸等の芳香族ジカルボン酸とネオペンチルグリコール等のポリオールとのエステル化反応物である芳香族ポリエステルポリオール類；ポリカーボネートポリオール類；アクリルポリオール類；ポリテトラメチレンヘキサグリセリルエーテル（ヘキサグリセリンのテトラヒドロフラン変性物）等の多価水酸基化合物；上記の多価水酸基含有化合物の末端エーテル基のモノ及び多価水酸基含有化合物；上記の多価水酸基含有化合物と、フマル酸、フタル酸、イソフタル酸、イタコン酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸等のジカルボン酸とのエステル化により得られる多価水酸基含有化合物；グリセリン等の多価水酸基化合物と、動物、植物の脂肪酸エステルとのエステル交換反応により得られるモノグリセリド等の多価水酸基含有化合物等が好適である。
［３．１．４］エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂組成物
エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂組成物とは、エポキシ（メタ）アクリレートを主成分として含有する樹脂組成物である。【０３０７】
ここで、エポキシ（メタ）アクリレートとは、１官能以上のエポキシドと（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートであり、エポキシドとしては、例えば、（メチル）エピクロルヒドリンと、水添ビスフェノールＡ、水添ビスフェノールＳ、水添ビスフェノールＦ、それらのエチレンオキシド、プロピレンオキシド変性物等から合成されるエピクロルヒドリン変性水添ビスフェノール型エポキシ樹脂；３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート等の脂環式エポキシ樹脂；トリグリシジルイソシアヌレート等のヘテロ環含有のエポキシ樹脂等の脂環式エポキシド；
（メチル）エピクロルヒドリンと、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ、ビスフェノールＦ、それらのエチレンオキシド、プロピレンオキシド変性物等から合成されるエピクロルヒドリン変性ビスフェノール型のエポキシ樹脂；フェノールノボラック型エポキシ樹脂；クレゾールノボラック型エポキシ樹脂；ジシクロペンタジエンと各種フェノール類と反応させて得られる各種ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂のエポキシ化物；２，２′，６，６′−テトラメチルビフェノールのエポキシ化物、フェニルグリシジルエーテル等の芳香族エポキシド；
（ポリ）エチレングリコール、（ポリ）プロピレングリコール、（ポリ）ブチレングリコール、（ポリ）テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール等のグリコール類の（ポリ）グリシジルエーテル；グリコール類のアルキレンオキシド変性物の（ポリ）グリシジルエーテル；トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、グリセリン、ジグリセリン、エリスリトール、ペンタエリスリトール、ソルビトール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール等の脂肪族多価アルコールの（ポリ）グリシジルエーテル；脂肪族多価アルコールのアルキレンオキシド変性物の（ポリ）グリシジルエーテル等のアルキレン型エポキシド；
アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸等のカルボン酸のグリシジルエステル、多価アルコールと多価カルボン酸とのポリエステルポリオールのグリシジルエーテル；グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレートの共重合体；高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化アマニ油、エポキシ化大豆油、エポキシ化ひまし油、エポキシ化ポリブタジエン等の脂肪族エポキシ樹脂等が好適である。【０３０８】
なお、以上のような（ポリ）エステル（メタ）アクリレート系樹脂組成物、ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂組成物及びエポキシ（メタ）アクリレート系樹脂組成物としては、例えば特開２００６−１３１８７６号公報に開示のものなど、従来より公知のものを用いることができる。
［３．１．５］エポキシ系樹脂組成物
エポキシ系樹脂組成物とは、エポキシ樹脂を主成分として含有する樹脂組成物である。【０３０９】
ここで、主成分のエポキシ樹脂としては、例えば、ポリフェノール化合物のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂等が挙げられる。【０３１０】
ポリフェノール化合物のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂としては、他のビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、４，４’−ビフェニルフェノール、テトラメチルビスフェノールＡ、ジメチルビスフェノールＡ、テトラメチルビスフェノールＦ、ジメチルビスフェノールＦ、テトラメチルビスフェノールＳ、ジメチルビスフェノールＳ、また、テトラメチル−４，４’−ビフェノール、ジメチル−４，４’−ビフェニルフェノール、１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−［４−（１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）エチル）フェニル］プロパン、２，２’−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、トリスヒドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ジイソプロピリデン骨格を有するフェノール類、１，１−ジ−４−ヒドロキシフェニルフルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、フェノール化ポリブタジエン等のポリフェノール化合物のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂が挙げられる。【０３１１】
各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂としては、フェノール、クレゾール類、エチルフェノール類、ブチルフェノール類、オクチルフェノール類、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、ナフトール類等の各種フェノールを原料とするノボラック樹脂、キシリレン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ビフェニル骨格含有フェノールノボラック樹脂、フルオレン骨格含有フェノールノボラック樹脂等の各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物が挙げられる。【０３１２】
脂環式エポキシ樹脂としては３，４−エポキシシクロヘキシルメチル３’，４’−シクロヘキシルカルボキシレート等シクロヘキサン等の脂肪族骨格を有する脂環式エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂としては１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ペンタエリスリトール、キシリレングリコール誘導体等の多価アルコールのグリシジルエーテル類、複素環式エポキシ樹脂としてはイソシアヌル環、ヒダントイン環等の複素環を有する複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂としてはヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等のカルボン酸類からなるエポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂としてはアニリン、トルイジン、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン誘導体、ジアミノメチルベンゼン誘導体等のアミン類をグリシジル化したエポキシ樹脂、ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂としてはブロム化ビスフェノールＡ、ブロム化ビスフェノールＦ、ブロム化ビスフェノールＳ、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化クレゾールノボラック、クロル化ビスフェノールＳ、クロル化ビスフェノールＡ等のハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂が挙げられる。【０３１３】
これらエポキシ樹脂は、性状が液状であっても固体であっても良いが、硬化温度と溶融粘度、作業性を考慮して適当なものを選択する。固体のエポキシ樹脂の場合は、ビスフェノール型液状エポキシ樹脂と加熱溶解させて用いるが、取り扱いやすさから、加熱溶解混合後の粘度が、５０万ｍＰａ・ｓ以下になるような混合比率で使用するのが良い。【０３１４】
また、これらエポキシ樹脂の使用にあたっては特に制限はないが、透明性の観点から着色性の少ないものがより好ましい。通常ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、４，４’−ビフェニルフェノール、テトラメチル−４，４’−ビフェノール、１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−［４−（１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）エチル）フェニル］プロパン、トリスヒドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、２，６−ジｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン、ジイソプロピリデン骨格を有するフェノール類、１，１−ジ−４−ヒドロキシフェニルフルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類のグリシジル化物である多官能エポキシ樹脂、フェノール、クレゾール類、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ、ナフトール類等の各種フェノールを原料とするノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ビフェニル骨格含有フェノールノボラック樹脂、フルオレン骨格含有フェノールノボラック樹脂等の各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル３’，４’−シクロヘキシルカルボキシレート等のシクロヘキサン骨格を有する脂環式エポキシ樹脂、１，６−ヘキサンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールのグリシジルエーテル類、トリグリシジルイソシアヌレート、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステルが好ましく用いられる。更に、これらエポキシ樹脂は耐熱性付与等必要に応じ１種又は２種以上の混合物として併用することが出来る。【０３１５】
エポキシ樹脂成分の組成物中に占める割合は、使用するエポキシ樹脂の当量によるが、ビスフェノール型液状エポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂全体として組成物中に３０重量％〜８０重量％、好ましくは３０重量％〜７０重量％程度である。【０３１６】
また、エポキシ系樹脂組成物には、硬化剤としての液状酸無水物が添加されることが好ましい。このような液状酸無水物としては、常温で液状、かつ透明性を有しているものであれば良く、具体的には、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ドデシル無水コハク酸、無水メチルナジック酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸とヘキサヒドロ無水フタル酸の混合物、メチルノルボルナン−２，３−ジカルボン酸無水物、無水２、４−ジエチルグルタル酸、等が挙げられる。【０３１７】
これらのうち、シクロヘキサン骨格及び／又はノルボルナン骨格を有するジカルボン酸無水物が好ましく、例えば、新日本理化株式会社より、ＭＨ−７００（メチルヘキサヒドロ無水フタル酸とヘキサヒドロ無水フタル酸の混合物）、ＨＮＡ−１００（メチルノルボルナン−２，３−ジカルボン酸無水物）等の商品名で入手することが出来る。【０３１８】
なお、液状酸無水物としては、やはり透明性等の物性の妨げにならない範囲内で、他の硬化剤を組み合わせて用いることが出来る。他の硬化剤としては、他の酸無水物系硬化剤、フェノール系硬化剤、アミン系硬化剤等エポキシ樹脂の硬化剤として通常用いられているものであれば特に制限はない。【０３１９】
他の酸無水物系硬化剤の具体例としては、フタル酸無水物、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、エチレングリコール無水トリメリット酸無水物、ビフェニルテトラカルボン酸無水物等の芳香族カルボン酸無水物、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸等の脂肪族カルボン酸の無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ナジック酸無水物、ヘット酸無水物、ハイミック酸無水物等の脂環式カルボン酸無水物等が挙げられる。【０３２０】
フェノール系硬化剤としては例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、４，４’−ビフェニルフェノール、テトラメチルビスフェノールＡ、ジメチルビスフェノールＡ、テトラメチルビスフェノールＦ、ジメチルビスフェノールＦ、テトラメチルビスフェノールＳ、ジメチルビスフェノールＳ、テトラメチル−４，４’−ビフェノール、ジメチル−４，４’−ビフェニルフェノール、１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−［４−（１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）エチル）フェニル］プロパン、２，２’−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、トリスヒドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ジイソプロピリデン、テルペン骨格を有するフェノール類、１，１−ジ−４−ヒドロキシフェニルフルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、フェノール化ポリブタジエン、フェノール、クレゾール類、エチルフェノール類、ブチルフェノール類、オクチルフェノール類、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、ナフトール類、テルペンジフェノール類等の各種フェノールを原料とするノボラック樹脂、キシリレン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ビフェニル骨格含有フェノールノボラック樹脂、フルオレン骨格含有フェノールノボラック樹脂、フラン骨格含有フェノールノボラック樹脂等の各種ノボラック樹脂等が挙げられる。【０３２１】
また、エポキシ系樹脂組成物には、カルボン酸末端ポリエステル固形樹脂が添加されることが好ましい。ここで、カルボン酸末端ポリエステル固形樹脂とは、一種類以上の多価カルボン酸と一種類以上の多価アルコールを脱水縮合反応させて得られるポリエステル樹脂の末端のアルコール性水酸基に、多価カルボン酸（無水物）を反応させた、末端がカルボン酸の固形樹脂を示す。多価カルボン酸としては、例えば、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、フマル酸、アジピン酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸等の二価カルボン酸、トリメリット酸等の三価以上のカルボン酸が挙げられる。多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、１，３−プロピレングリコール等の二価アルコール、ペンタエリスリトール等の三価以上のアルコールが挙げられる。これらエポキシ系樹脂組成物に用いるカルボン酸末端ポリエステル固形樹脂は、例えば、ユピカコートＧＶ２３０、ユピカコートＧＶ２５０という商品名（日本ユピカ株式会社）で、市場より容易に入手することが出来る。【０３２２】
このようなカルボン酸末端ポリエステル固形樹脂は、エポキシ樹脂の硬化剤として作用し、硬化剤である上記の液状酸無水物と加熱溶解して用いられる。一般に低粘度である液状酸無水物と混合して用いることにより、硬化時の高温においても、ある程度の粘度を保つことが可能になり、固形樹脂と同じ程度の形状を保持できるようになり、耐湿性、反り性等の物性も向上する。この時、混合する際に低分子量の前記液状酸無水物が揮発しないような温度で溶解するものを選択する必要がある。具体的には、軟化点が７０℃〜１２０℃、好ましくは７０〜１１０℃、より好ましくは７０℃〜１０５℃である。なお、軟化点の測定は環球法に従って行われる。【０３２３】
また、カルボン酸末端ポリエステル固形樹脂を選択する際は、酸価が６０〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇのものが良い。酸価が６０ｍｇＫＯＨ／ｇより小さい場合は、硬化物の架橋密度が低くなり、耐湿性、耐熱性に悪影響を及ぼし、１００ｍｇＫＯＨ／ｇより大きいと硬化物の弾性率が高くなり、耐ヒートサイクル性、耐半田リフロー性に悪影響を及ぼす恐れがある。なお、酸価の測定は通常用いられている、ＫＯＨによる酸塩基滴定法に従って行われる。【０３２４】
更に、透明性を損ねないよう、色調の良好なものを選択する必要がある。具体的にはガードナー法で、３以下、好ましくは２以下、更に好ましくは１以下である。このようなカルボン酸末端ポリエステル固形樹脂は、例えば、日本ユピカ株式会社より、ＧＶ−２５０等の商品名で入手することが出来る。なお、ガードナー法による色相判断は、ＪＩＳＫ ５６００に定められたガードナー色基準に従って行われる。【０３２５】
カルボン酸末端ポリエステル固形樹脂の使用割合は、硬化剤全体に対し、１０〜８０重量％、好ましくは２０〜７０重量％、更に好ましくは３０〜６０重量％の範囲である。【０３２６】
また、酸無水物とカルボン酸末端ポリエステル固形樹脂を混合した硬化剤の使用割合は、ビスフェノール型液状エポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂全体１当量に対し、０．４〜１．２当量、好ましくは１．６〜１．１当量、更に好ましくは０．８〜１．０当量の範囲である。【０３２７】
また、エポキシ系樹脂組成物には、硬化促進剤が添加されることが好ましい。このような硬化促進剤としては、通常のエポキシ樹脂の硬化促進剤として機能するものであればよく、また、本実施形態のエポキシ系樹脂組成物においては、促進剤を２種以上組み合わせて使用しても差し支えない。、具体的には、２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２，４−ジアミノ−６（２’−メチルイミダゾール（１’））エチル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−６（２’−ウンデシルイミダゾール（１’））エチル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−６（２’−エチル，４−メチルイミダゾール（１’））エチル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−６（２’−メチルイミダゾール（１’））エチル−ｓ−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、２-メチルイミダゾールイソシアヌル酸の２：３付加物、２−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、２−フェニル−３，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール、２−フェニル−４−ヒドロキシメチル−５−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニル−３，５−ジシアノエトキシメチルイミダゾールの各種イミダゾール類、及び、それらイミダゾール類とフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ナフタレンジカルボン酸、マレイン酸、蓚酸等の多価カルボン酸との塩類、ジシアンジアミド等のアミド類、１，８−ジアザ−ビシクロ（５．４．０）ウンデセン−７等のジアザ化合物、及び前記化合物のフェノール類、多価カルボン酸類、テトラフェニルボレートとの塩類、又はホスフィン酸類との塩類、テトラブチルアンモニュウムブロマイド、セチルトリメチルアンモニュウムブロマイド、トリオクチルメチルアンモニュウムブロマイド等のアンモニウム塩、トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート等の他のホスフィン類、２，４，６−トリスアミノメチルフェノール等のフェノール類、アミンアダクト、及びこれら硬化剤をマイクロカプセルにしたマイクロカプセル型硬化促進剤等が挙げられる。上記促進剤のうち、硬化物の透明性、低反り性、経時安定性を付与する理由から、１，８−ジアザ−ビシクロ（５．４．０）ウンデセン−７のテトラフェニルボレート塩が特に好ましい。また、硬化促進剤は、ビスフェノール型液状エポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂全体１００重量部に対し通常０．１〜５重量部の範囲で使用される。経時安定性、着色性、低反り性の面から、０．１〜３重量部で使用するのが好ましい。【０３２８】
なお、以上のようなエポキシ系樹脂組成物としては、例えば特開２００６−３３５８９４号公報に開示のものなど、従来より公知のものを用いることができる。
［３．１．６］シリコーン系樹脂組成物
シリコーン系樹脂組成物しては、加熱による重合反応によって、シロキサン結合骨格による三次元網状構造となるものであれば、特に制限はなく、一般に高温、長時間の加熱で硬化性を示し、一度硬化すると加熱により再軟化し難い性質を有する。【０３２９】
このシリコーン系樹脂組成物は、本実施の形態においては、ポリオルガノシロキサン樹脂を主成分として含有している。当該ポリオルガノシロキサン樹脂は下記の一般式（９）を構成単位として含むもので、その形状が鎖状、環状、網状形状を呈していてもよい。【０３３０】
（（Ｒ１）（Ｒ２）ＳｉＯ２）ｍ  …  （９）
上記一般式（９）中、「Ｒ１」及び「Ｒ２」は同種又は異種の置換又は非置換の１価の炭化水素基を示す。具体的に、「Ｒ１」及び「Ｒ２」としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基、またはこれらの基の炭素原子に結合した水素原子をハロゲン原子、シアノ基、アミノ基などで置換した基、例えばクロロメチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、シアノメチル基、γ−アミノプロピル基、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピル基などが例示される。「Ｒ１」及び「Ｒ２」は水酸基およびアルコキシ基から選択される基であってもよい。また、上記一般式（９）中、「ｍ」は５０以上の整数を示す。【０３３１】
上記ポリオルガノシロキサン樹脂は、通常、トルエン、キシレン、石油系溶剤のような炭化水素系溶剤、またはこれらと極性溶剤との混合物に溶解して用いられる。また、相互に溶解しあう範囲で、組成の異なるものを配合して用いても良い。【０３３２】
上記ポリオルガノシロキサン樹脂の製造方法は、特に限定されるものではなく、公知のいずれの方法も用いることができる。例えば、オルガノハロゲノシランの一種または二種以上の混合物を加水分解ないしアルコリシスすることによって得ることができ、ポリオルガノシロキサン樹脂は、一般にシラノール基またはアルコキシ基等の加水分解性基を含有し、これらの基をシラノール基に換算して１〜１０重量％含有する。【０３３３】
これらの反応は、オルガノハロゲノシランを溶融しうる溶媒の存在下に行うのが一般的である。また、上記ポリオルガノシロキサン樹脂は、分子鎖末端に水酸基、アルコキシ基またはハロゲン原子を有する直鎖状のポリオルガノシロキサンを、オルガノトリクロロシランと共加水分解して、ブロック共重合体を合成する方法によっても得ることができる。このようにして得られるポリオルガノシロキサン樹脂は一般に残存するＨＣｌを含むが、保存安定性が良好なことから、１０ｐｐｍ以下、好ましくは１ｐｐｍ以下のものを使用するのが良い。
［３．２］添加剤
以上の樹脂組成物には、必要に応じて各種添加剤を配合することができる。例えば、ポリアミド樹脂や微粉シリカ、有機ベントナイト、アクリルオリゴマーなどの公知慣用の増粘剤；シリコーン系やフッ素系、共重合樹脂系などの消泡剤および／またはレベリング剤；シランカップリング剤；フタル酸ジ−２−エチルヘキシルやフタル酸ジノニル、アジピン酸ジオクチルなどの可塑剤；テトラブロムビスフェノールＡなどの臭素化合物やリン酸エステルなどの難燃剤；脂肪酸エステルや脂肪酸アミドなどの帯電防止剤、のような公知慣用の添加剤類を配合することができる。樹脂組成物と増粘剤との混合割合や混合方法については、樹脂材料の粘度が２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で５０〜５００００ｍＰａｓとなる限りにおいて、任意に選択可能である。
［３．３］樹脂材料の成形
以上の樹脂材料を硬化させて得られる光学用材料の形状は、用途に応じて種々とりうるので特に限定されないが、例えばフィルム状、シート状、チューブ状、ロッド状、塗膜状、バルク状等の形状とすることができる。【０３３４】
成形する方法としては、従来の熱硬化性樹脂の成形方法をはじめとして、例えばキャスト法、プレス法、注型法、トランスファー成形法、コーティング法、ＬＩＭ法等の種々の成形方法を適用することができ、本実施の形態においては従来より公知の射出成形法が用いられている。【０３３５】
成形型は、研磨ガラス、硬質ステンレス研磨板、ポリカーボネート板、ポリエチレンテレフタレート板、ポリメチルメタクリレート板等を適用することができる。【０３３６】
また、成形型との離型性を向上させるために、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリテトラフルオロエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリイミドフィルム等を適用することができる。【０３３７】
成形時に、必要に応じて各種処理を施すこともできる。例えば、成形時に発生するボイドの抑制のために、組成物あるいは一部反応させた組成物を、遠心、減圧等により脱泡する処理、プレス時に一旦圧力を開放する処理等を適用することもできる。【０３３８】
本発明で得られる硬化物は、光学用材料をはじめ各種用途に使用できる。【０３３９】
光学用材料とは、可視光、赤外線、紫外線、Ｘ線、レーザー等の光をその材料中を通過させる用途に用いる材料一般を示す。【０３４０】
より具体的には、ランプタイプ、ＳＭＤタイプ等のＬＥＤ用封止材の他、以下のようなものが挙げられる。【０３４１】
液晶ディスプレイ分野における基板材料、導光板、プリズムシート、偏向板、位相差板、視野角補正フィルム、接着剤、偏光子保護フィルム等の液晶用フィルム等の液晶表示装置周辺材料である。また、次世代フラットパネルディスプレイとして期待されるカラーＰＤＰ（プラズマディスプレイ）の封止材、反射防止フィルム、光学補正フィルム、ハウジング材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤；ＬＥＤ表示装置に使用されるＬＥＤのモールド材、ＬＥＤの封止材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤；プラズマアドレス液晶（ＰＡＬＣ）ディスプレイにおける基板材料、導光板、プリズムシート、偏向板、位相差板、視野角補正フィルム、接着剤、偏光子保護フィルム；有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）ディスプレイにおける前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、またフィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）における各種フィルム基板、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤である。【０３４２】
光記録分野では、ＶＤ（ビデオディスク）、ＣＤ／ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ／ＲＷ、ＤＶＤ−Ｒ／ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＭＯ／ＭＤ、ＰＤ（相変化ディスク）、光カード用のディスク基板材料、ピックアップレンズ、保護フィルム、封止材、接着剤等である。【０３４３】
光学機器分野では、スチールカメラのレンズ用材料、ファインダプリズム、ターゲットプリズム、ファインダーカバー、受光センサー部である。また、ビデオカメラの撮影レンズ、ファインダーである。またプロジェクションテレビの投射レンズ、保護フィルム、封止材、接着剤等である。光センシング機器のレンズ用材料、封止材、接着剤、フィルム等である。【０３４４】
光部品分野では、光通信システムでの光スイッチ周辺のファイバー材料、レンズ、導波路、素子の封止材、接着剤等である。光コネクタ周辺の光ファイバー材料、フェルール、封止材、接着剤等である。光受動部品、光回路部品ではレンズ、導波路、ＬＥＤの封止材、ＣＣＤの封止材、接着剤等である。光電子集積回路（ＯＥＩＣ）周辺の基板材料、ファイバー材料、素子の封止材、接着剤等である。【０３４５】
光ファイバー分野では、装飾ディスプレイ用照明・ライトガイド等、工業用途のセンサー類、表示・標識類等、また通信インフラ用及び家庭内のデジタル機器接続用の光ファイバーである。【０３４６】
半導体集積回路周辺材料では、ＬＳＩ、超ＬＳＩ材料用のマイクロリソグラフィー用のレジスト材料である。【０３４７】
自動車・輸送機分野では、自動車用のランプリフレクタ、ベアリングリテーナー、ギア部分、耐蝕コート、スイッチ部分、ヘッドランプ、エンジン内部品、電装部品、各種内外装品、駆動エンジン、ブレーキオイルタンク、自動車用防錆鋼板、インテリアパネル、内装材、保護・結束用ワイヤーネス、燃料ホース、自動車ランプ、ガラス代替品である。また、鉄道車輌用の複層ガラスである。また、航空機の構造材の靭性付与剤、エンジン周辺部材、保護・結束用ワイヤーネス、耐蝕コートである。【０３４８】
建築分野では、内装・加工用材料、電気カバー、シート、ガラス中間膜、ガラス代替品、太陽電池周辺材料である。農業用では、ハウス被覆用フィルムである。【０３４９】
次世代の光・電子機能有機材料としては、有機ＥＬ素子周辺材料、有機フォトリフラクティブ素子、光−光変換デバイスである光増幅素子、光演算素子、有機太陽電池周辺の基板材料、ファイバー材料、素子の封止材、接着剤等である。【０３５０】
光学用材料の他の用途としては、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂が使用される一般の用途が挙げられ、例えば、接着剤、塗料、コーティング剤、成形材料（シート、フィルム、ＦＲＰ等を含む）、絶縁材料（プリント基板、電線被覆等を含む）、封止剤の他、他樹脂等への添加剤等が挙げられる。【０３５１】
接着剤としては、土木用、建築用、自動車用、一般事務用、医療用の接着剤の他、電子材料用の接着剤が挙げられる。これらのうち電子材料用の接着剤としては、ビルドアップ基板等の多層基板の層間接着剤、ダイボンディング剤、アンダーフィル等の半導体用接着剤、ＢＧＡ補強用アンダーフィル、異方性導電性フィルム（ＡＣＦ）、異方性導電性ペースト（ＡＣＰ）等の実装用接着剤等が挙げられる。【０３５２】
封止剤としては、コンデンサ、トランジスタ、ダイオード、発光ダイオード、ＩＣ、ＬＳＩ等用のポッティング、ディッピング、トランスファーモールド封止、ＩＣ、ＬＳＩ類のＣＯＢ、ＣＯＦ、ＴＡＢ等用のポッティング封止、フリップチップ等用のアンダーフィル、ＢＧＡ、ＣＳＰ等のＩＣパッケージ類実装時の封止（補強用アンダーフィル）等を挙げることができる。
［４］撮像装置の製造方法
続いて、図３を参照しながら、本実施形態に係る撮像装置１００の製造方法について説明する。【０３５３】
始めに、基板モジュール５とレンズモジュール６とを組み立て、図３（ａ）に示す通り、レンズケース１５内に予め装着されたカラー部材１７の下端部がサブ基板１０の上面に当接するまでレンズケース１５の装着部１５ｂをサブ基板１０の装着孔１０ａに挿通・固定し、カメラモジュール２を形成する。【０３５４】
その後、図３（ｂ）に示す通り、予め半田１８が塗布（ポッティング）された回路基板１の所定の実装位置にカメラモジュール２やその他の電子部品を載置する。その後、図３（ｃ）に示す通り、カメラモジュール２やその他の電子部品を載置した回路基板１をベルトコンベア等でリフロー炉（図示略）に移送し、当該回路基板１をリフロー処理に供して２６０℃程度の温度で加熱する。その結果、半田１８が溶融してカメラモジュール２がその他の電子部品と一緒に回路基板１に実装される。【０３５５】
以上の本実施形態によれば、２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で５０ｍＰａｓ以上の粘度を有する熱硬化性樹脂材料によってレンズ１６が成形されているので、成形時に樹脂材料に高い圧力を加えても、金型から樹脂材料が漏れることがない。従って、樹脂密度の高いレンズ１６を成形することができるため、リフロー処理によるレンズ１６の変形を防止することができる。【０３５６】
また、２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で５００００ｍＰａｓ以下の粘度を有する熱硬化性樹脂材料によってレンズ１６が成形されているので、内部に歪を残したまま樹脂材料が硬化した後、この歪がリフロー処理によって解消してしまうのを防止することができる。従って、リフロー処理によるレンズ１６の変形を、より確実に防止することができる。【０３５７】
また、２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で５００００ｍＰａｓ以下の粘度を有する熱硬化性樹脂材料によってレンズ１６が成形されているので、成形時に樹脂材料を金型内に十分に行き渡らせることができる。従って、微細な形状のレンズ１６を成形することができる。
【実施例】
【０３５８】
［実施例（１）］
ＰＰＧ社製のアリルエステル系樹脂組成物「ＣＲ６０７」（商品名）にアクリルオリゴマー系増粘剤としてデュポン社製「エルバサイト」（商品名）を添加して熱硬化性の樹脂材料を生成し、射出圧５０ＭＰＡで金型内に射出し、１６０℃で５分間加熱し成形を行った。なお、増粘剤の添加量は、樹脂材料の粘度が２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で６０ｍＰａｓとなるように調整した。
［実施例（２）］
ＰＰＧ社製のアリルエステル系樹脂組成物「ＣＲ６０７」（商品名）にアクリルオリゴマー系増粘剤としてデュポン社製「エルバサイト」（商品名）を添加して熱硬化性の樹脂材料を生成し、射出圧５０ＭＰＡで金型内に射出し、１６０℃で５分間加熱し成形を行った。なお、増粘剤の添加量は、樹脂材料の粘度が２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で８０ｍＰａｓとなるように調整した。
［実施例（３）］
ＰＰＧ社製のアリルエステル系樹脂組成物「ＣＲ６０７」（商品名）にアクリルオリゴマー系増粘剤としてデュポン社製「エルバサイト」（商品名）を添加して熱硬化性の樹脂材料を生成し、射出圧５０ＭＰＡで金型内に射出し、１６０℃で５分間加熱し成形を行った。なお、増粘剤の添加量は、樹脂材料の粘度が２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で１００ｍＰａｓとなるように調整した。
［実施例（４）］
昭和電工社製のアリルエステル系樹脂組成物「ＤＤ２０１」（商品名）に増粘剤として上述の「エルバサイト」を添加して熱硬化性の樹脂材料を生成し、射出圧５０ＭＰＡで金型内に射出し、１６０℃で５分間加熱し成形を行った。なお、増粘剤の添加量は、樹脂材料の粘度が２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で４０００ｍＰａｓとなるように調整した。
［実施例（５）］
昭和電工社製のアリルエステル系樹脂組成物「ＤＤ２０１」（商品名）に増粘剤として上述の「エルバサイト」を添加して熱硬化性の樹脂材料を生成し、射出圧５０ＭＰＡで金型内に射出し、１６０℃で５分間加熱し成形を行った。なお、増粘剤の添加量は、樹脂材料の粘度が２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で９０００ｍＰａｓとなるように調整した。
［実施例（６）］
昭和電工社製のアリルエステル系樹脂組成物「ＤＤ２０１」（商品名）に増粘剤として上述の「エルバサイト」を添加して熱硬化性の樹脂材料を生成し、射出圧５０ＭＰＡで金型内に射出し、１６０℃で５分間加熱し成形を行った。なお、増粘剤の添加量は、樹脂材料の粘度が２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で１２０００ｍＰａｓとなるように調整した。
［実施例（７）］
東レダウ社製のシリコーン系樹脂組成物「ＳＲ７０１０」（商品名）を熱硬化性の樹脂材料として使用し、射出圧５０ＭＰＡで金型内に射出し、１６０℃で５分間加熱し成形を行った。この樹脂材料の粘度は、２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で１８０００ｍＰａｓであった。
［実施例（８）］
信越化学社製のシリコーン系熱硬化性樹脂組成物「ＬＰＳ４０２」（商品名）を熱硬化性の樹脂材料として使用し、射出圧５０ＭＰＡで金型内に射出し１６０℃で５分間加熱し、成形を行った。この樹脂材料の粘度は、２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で４５０００ｍＰａｓであった。
［比較例（１）］
ＰＰＧ社製のアリルエステル系樹脂組成物「ＣＲ６０７」（商品名）を熱硬化性の樹脂材料として使用し、射出圧５０ＭＰＡで金型内に射出し、１６０℃で５分間加熱し成形を行った。この樹脂材料の粘度は、２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で３０ｍＰａｓであった。
［比較例（２）］
信越化学社製のシリコーン系樹脂組成物「ＬＰＳ４０２」（商品名）に増粘剤としてフュームドシリカを添加して熱硬化性の樹脂材料を生成し、射出圧５０ＭＰＡで金型内に射出し、１６０℃で５分間加熱し成形を行った。なお、増粘剤の添加量は、樹脂材料の粘度が２３℃、５００Ｈｚの測定条件下で６００００ｍＰａｓとなるように調整した。
［変形の評価］
以上の実施例（１）〜（８）及び比較例（１），（２）の各成型体をリフロー処理に供するとともに、リフロー処理前後における面形状変化を３次元測定機（ＵＡ３Ｐ、松下電器産業製）によって測定して評価した。結果を下記の表１に示す。なお、表中の標記は以下の基準に従っている。また、リフロー処理の条件は図４（上部実線部）に示す通りとした。具体的には図４において、「平均ランプアップ速度（ＴｓｍａｘからＴｐまでの速度）」を最大３℃／秒とし、「プレヒート最小温度（Ｔｓｍｉｎ）」を１５０℃とし、「プレヒート最大温度（Ｔｓｍａｘ）」を２００℃とし、「プレヒート時間（ｔｓｍｉｎからｔｓｍａｘまでの時間）」を６０〜１８０秒とし、「維持温度（ＴＬ）」を２１７℃とし、「維持時間（ｔＬ）」を６０〜１５０秒とし、「ピーク温度（Ｔｐ）」を２６０℃とし、「ピーク時間（ｔｐ）」を２０〜４０秒とし、「ランプダウン速度」を最大６℃／秒とし、「２５℃からピーク温度までの時間」を最大８分とした。【０３５９】
【表１】
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【０３６０】
◎：形状差（面形状変化）が２００ｎｍ未満である。【０３６１】
○：形状差（面形状変化）が２００以上、５００ｎｍ未満である。【０３６２】
×：形状差（面形状変化）が５００ｎｍ以上である。
［まとめ］
以上から、実施例（１）〜（８）に係る樹脂材料はリフロー処理によっても変形し難いことがわかり、当該樹脂材料で構成した光学素子が電子部品とともに基板に実装される撮像装置を製造するのに有用であることがわかった。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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