(57)【要約】  本発明は、待機スジ、塗布ムラ、はじきが発生せず、表面平滑性に優れた感光性樹脂層を形成可能な感光性樹脂組成物、転写フィルムおよびパターン形成方法を提供することを課題とする。本発明の感光性樹脂組成物は、（Ａ）無機粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）式（１）で表される化合物を含有し、ＨＬＢ値が２〜８の特定添加剤、（Ｄ）エチレン性不飽和基含有化合物および（Ｅ）光重合開始剤を含有する。2008096782.tif 000013［式（１）中、Ｒ1は単結合または二価の有機基を示し、Ｒは炭素数２〜８のアルキレン基を示し、Ｒ2は水素原子または一価の有機基を示し、ｘ、ｙおよびｎは整数を示す。］
2008096782.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）無機粒子、
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、
（Ｃ）下記式（１）で表される化合物を含有し、ＨＬＢ値が２〜８の添加剤、
（Ｄ）エチレン性不飽和基含有化合物、および
（Ｅ）光重合開始剤
を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
【化１】
2008096782.tif 000012
［式（１）中、Ｒ1は単結合または二価の有機基を示し、Ｒは炭素数２〜８のアルキレン基を示し、Ｒ2は水素原子または一価の有機基を示し、ｘ、ｙおよびｎは整数を示す。］
【請求項２】
前記無機粒子（Ａ）が４００〜６００℃の軟化点を有するガラス粉末であることを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記添加剤（Ｃ）が、前記アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）１００重量部に対して０．５〜５重量部の量で含まれることを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】
前記エチレン性不飽和基含有化合物（Ｄ）が、多官能（メタ）アクリレートであることを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の感光性樹脂組成物から得られる感光性樹脂層を有することを特徴とする転写フィルム。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれかに記載の感光性樹脂組成物から得られる感光性樹脂層を基板上に形成する工程と、
該樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程と、
該樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程と、
該パターンを焼成処理する工程と
を含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項７】
請求項５に記載の転写フィルムを用いて、該転写フィルムを構成する感光性樹脂層を基板上に転写する工程と、
該樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程と、
該樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程と、
該パターンを焼成処理する工程と
を含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項８】
請求項６または７に記載のパターン形成方法により、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、誘電体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれる部材を形成することを特徴とするフラットパネルディスプレイ用部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂組成物、転写フィルムおよびパターン形成方法に関する。より詳細には、フラットパネルディスプレイなどのディスプレイパネルや、電子部品の高度実装材料に用いられる微細な回路パターンを有する回路基板の製造において、精度の高いパターンを形成する場合に好適に使用することができる感光性樹脂組成物、該組成物からなる感光性樹脂層を有する転写フィルム、該組成物もしくは転写フィルムを用いたパターン形成方法、ならびに該パターン形成方法によりフラットパネルディスプレイ用部材を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、回路基板やディスプレイパネルにおけるパターン加工に対して、高密度化および高精細化の要求が高まっている。このような要求が高まっているディスプレイパネルの中でも、特にプラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」ともいう。）やフィールドエミッションディスプレイ（以下「ＦＥＤ」ともいう。）などのフラットパネルディスプレイ（以下「ＦＰＤ」ともいう。）が注目されている。【０００３】
図１は交流型のＰＤＰの断面形状を示す模式図である。図１において、１０１および１０２は互いに対向するよう配置されたガラス基板、１０３は隔壁であり、ガラス基板１０１、ガラス基板１０２、隔壁１０３によりセルが区画形成されている。１０４はガラス基板１０１に固定された透明電極であり、１０５は透明電極１０４の抵抗を下げる目的で該透明電極１０４上に形成されたバス電極であり、１０６はガラス基板１０２に固定されたアドレス電極である。１０７はセル内に保持された蛍光物質であり、１０８は透明電極１０４およびバス電極１０５を被覆するようガラス基板１０１の内面に形成された誘電体層であり、１０９はアドレス電極１０６を被覆するようガラス基板１０２の内面に形成された誘電体層であり、１１０は、例えば酸化マグネシウムよりなる保護膜である。また、カラーＰＤＰにおいては、コントラストの高い画像を得るため、ガラス基板と誘電体層との間に、カラーフィルター（赤色・緑色・青色）やブラックマトリックスなどを設けたり、発光輝度を高めるために前面隔壁を設けたりすることがある。【０００４】
このようなＰＤＰにおいて、隔壁１０３、誘電体層１０８および１０９はガラス焼結体により形成され、隔壁は、例えば幅３０〜６０μｍ、高さ１００〜１５０μｍである。【０００５】
ＦＰＤ部材である隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、誘電体、カラーフィルターおよびブラックマトリックス等の形成方法としては、（１）基板上に、非感光性樹脂を所望のパターンとなるようにスクリーン印刷し、これを焼成するスクリーン印刷法、（２）基板上に感光性樹脂層を形成し、所望のパターンが描かれたフォトマスクを介して、前記感光性樹脂層に赤外線または紫外線を照射した上で現像することにより、基板上に所望のパターンを残存させ、これを焼成するフォトリソグラフィー法などが知られている（たとえば、特許文献１参照）。【０００６】
これらの製造方法において、基板上に無機粒子含有樹脂層を形成する方法としては、該無機粒子含有樹脂層を予め可撓性を有する支持フィルム上に形成した転写フィルムを作製し、該転写フィルムにおける無機粒子含有樹脂層を基板に加熱圧着することにより、基板上に無機粒子含有樹脂層を形成する方法（以下「フィルム法」ともいう。）が、膜厚均一性および表面平滑性に優れた無機粒子含有樹脂層を形成する観点から、好ましく用いられている。【０００７】
しかしながら、このフィルム法に感光性材料を適用する場合、構成成分として低分子量体や親水性基を多く含む組成を設計する必要があるため、以下の問題が障害となる。【０００８】
第一に、重剥離性の支持フィルム（剥離力３０〜１００ｇ／２５ｍｍ）を用いて転写する場合、支持フィルムを一部剥した状態で保持すると、支持フィルムの剥離部分と非剥離部分との境界線において無機粒子含有感光性樹脂層表面に待機スジと呼ばれるスジ状の凹みや突起が形成されてしまうという問題が生じることがある。このような問題を解決するために、無機粒子含有感光性樹脂層中の樹脂含有量を少なくしたり、高分子量の樹脂を用いることが考えられる。しかしながら、樹脂の分子量を高くすると、パターン形成時の現像性が悪化することがある。また、樹脂量を少なくすると、転写フィルムの転写性が悪化することがある。【０００９】
第二に、軽剥離性の支持フィルム（剥離力１〜１０ｇ／２５ｍｍ）を用いる場合、塗布ムラやはじきが生じ、表面平滑性に優れた無機粒子含有感光性樹脂層が得られないという問題が生じることがある。また、上記のような塗布ムラやはじきといった問題は感光性ペーストをガラス基板に塗布する際にも発生することが多い。
【特許文献１】特開平１１−４４９４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、待機スジや、塗布ムラやはじきが発生せず、表面平滑性に優れた無機粒子含有感光性樹脂層を形成することが可能な無機粒子含有感光性樹脂組成物、該樹脂層を有する転写フィルム、およびこれらを用いて精度の高いパターンを形成する方法を提供することを課題とする。【００１１】
また、本発明は、アスペクト比およびパターン形状に優れた部材を、簡単な工程により形成することができるＦＰＤ用部材の製造方法を提供することも課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討を行った。その結果、特定の添加剤を含む無機粒子含有感光性樹脂組成物を用いることにより、待機スジや塗布ムラ等が発生せず、表面平滑性に優れた感光性樹脂層を有する転写フィルムが得られ、これを用いて精度の高いパターンを形成することができることを見出し、本発明を完成するに至った。【００１３】
すなわち、本発明に係る感光性樹脂組成物は、（Ａ）無機粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）下記式（１）で表される化合物からなり、ＨＬＢ値が２〜８の添加剤（以下「特定添加剤」ともいう。）、（Ｄ）エチレン性不飽和基含有化合物および（Ｅ）光重合開始剤を含有することを特徴とする。【００１４】
【化１】
2008096782.tif 000003
【００１５】
［式（１）中、Ｒ1は単結合または二価の有機基を示し、Ｒは炭素数２〜８のアルキレン基を示し、Ｒ2は水素原子または一価の有機基を示し、ｘ、ｙおよびｎは整数を示す。］
【発明の効果】
【００１６】
本発明の無機粒子含有感光性樹脂組成物を用いることにより、待機スジや塗布ムラがなく、表面平滑性に優れた感光性樹脂層を有する転写フィルムが得られ、精度の高いパターンを形成することができる。したがって、本発明の転写フィルムは、フラットパネルディスプレイの各表示セルを構成する部材の形成ならびに電子部品の高度実装材料の部材の形成に好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】交流型ＦＰＤ（具体的には、ＰＤＰ）の断面形状を示す模式図である。
【符号の説明】
【００１８】
１０１  ガラス基板
１０２  ガラス基板
１０３  背面隔壁
１０４  透明電極
１０５  バス電極
１０６  アドレス電極
１０７  蛍光物質
１０８  誘電体層
１０９  誘電体層
１１０  保護層
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明に係る感光性樹脂組成物、転写フィルムおよびパターン形成方法について、詳細に説明する。【００２０】
〔感光性樹脂組成物〕
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ａ）無機粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）特定添加剤、（Ｄ）エチレン性不飽和基含有化合物および（Ｅ）光重合開始剤を含有する。【００２１】
＜無機粒子（Ａ）＞
本発明の組成物に用いられる無機粒子（Ａ）は、形成材料の種類によって異なる。特にＦＰＤを構成する誘電体および隔壁形成材料に使用される無機粒子としては、ガラス粉末などが挙げられる。【００２２】
本発明の組成物に用いられるガラス粉末としては、軟化点が４００〜６００℃の低融点ガラス粉末を挙げることができる。ガラス粉末の軟化点が上記範囲よりも低いと、上記組成物から形成された感光性樹脂層の焼成工程において、樹脂などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉末が溶融してしまうことがある。そのため、形成される部材中に有機物質の一部が残留し、その結果、誘電体層や隔壁などの部材が着色されて、その光透過率が低下するおそれがある。一方、ガラス粉末の熱軟化点が上記範囲を超えると、高温で焼成する必要があるために、ガラス基板に歪みなどが発生しやすい。【００２３】
上記ガラス粉末としては、たとえば、（１）Ｂｉ2Ｏ3−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3系、（２）Ｂｉ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3系、（３）Ｂｉ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｎａ2Ｏ系、（４）ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−Ａｌ2Ｏ3系、（５）ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−Ｎａ2Ｏ系、（６）ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ系、（７）ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−ＺｒＯ2−ＭｇＯ系、（８）ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−ＺｒＯ2−ＣａＯ系、（９）ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−ＺｒＯ2−ＭａＯ系、（１０）ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−ＺｒＯ2−ＳｒＯ系などのガラス粉末を挙げることができる。【００２４】
上記ガラス粉末の平均粒子径は、作製しようとするパターンの形状を考慮して選ばれるが、パターン形成上、好ましくは０．０１〜１０μｍ、より好ましくは０．１〜８μｍである。また、ガラス粉末の比表面積は、パターン形成上、０．１〜３００ｍ2／ｇであることが好ましい。【００２５】
また、焼成後のパターンの形状を維持するために、ガラス粉末と、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＺｎＯ、ＳｉＯ2等のフィラーとを併用してもよい。しかし、熱軟化点、熱膨張係数および屈折率の制御の観点から、前記フィラーは、ガラス粉末１００重量部に対して１〜４０重量部、より好ましくは５〜３０重量部の範囲の量で用いることが望ましい。【００２６】
上記ガラス粉末は、ＦＰＤの誘電体および隔壁以外の構成要素（例えば、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリスク等）を形成するための組成物中に含有されていてもよい。この場合のガラス粉末の含有量は、用途によって異なるが、ガラス粉末を含む無機粒子全量１００重量部に対して、通常９０重量部以下、好ましくは８０重量部以下である。【００２７】
ＦＰＤ、ＬＣＤ、有機ＥＬ、プリント回路基板、多層回路基板、モジュール、インダクタおよびＬＳＩなどの電極形成材料に使用される無機粒子としては、Ａｌ、Ａｇ、Ａｇ−Ｐｄ合金、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕなどを挙げることができる。これらの中では、大気中で焼成した場合においても酸化による導電性の低下が生じず、比較的安価なＡｇを用いることが好ましい。【００２８】
電極形成材料に使用される無機粒子の形状としては、特に限定されず、たとえば、粒状、球状、フレーク状などが挙げられ、同じ形状の無機粒子を用いても、異なる２種以上の形状の無機粒子を混合して用いてもよい。また、平均粒径としては、好ましくは０．０１〜１０μｍ、より好ましくは０．０５〜８μｍであり、異なる平均粒径を有する無機粒子を混合して使用することもできる。【００２９】
ＦＰＤ、ＬＣＤ、有機ＥＬ素子などの透明電極形成材料に使用される無機粒子としては、酸化インジウム、酸化錫、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモン含有酸化錫（ＡＴＯ）、フッ素添加酸化インジウム（ＦＩＯ）、フッ素添加酸化錫（ＦＴＯ）、フッ素添加酸化亜鉛（ＦＺＯ）、ならびに、Ａｌ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｉｎ、ＳｎおよびＴｉから選ばれた１種もしくは２種以上の金属を含有する酸化亜鉛微粒子などを挙げることができる。ＰＤＰの抵抗体形成材料に使用される無機粒子としては、ＲｕＯ２などからなる粒子を挙げることができる。【００３０】
ＰＤＰの蛍光体形成材料に使用される無機粒子は、
赤色用としては、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕ3+、Ｙ2ＳｉＯ5：Ｅｕ3+、Ｙ3Ａｌ5Ｏ12：Ｅｕ3+、ＹＶＯ4：Ｅｕ3+、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ3+、Ｚｎ3（ＰＯ4）2：Ｍｎなどが挙げられ、
緑色用としては、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ、ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｍｎ、ＬａＰＯ4：（Ｃｅ，Ｔｂ）、Ｙ3（Ａｌ，Ｇａ）5Ｏ12：Ｔｂなどが挙げられ、
青色用としては、Ｙ2ＳｉＯ5：Ｃｅ、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ2+、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ2+、（Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ）10（ＰＯ4）6Ｃｌ2：Ｅｕ2+、（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：Ａｇなどが挙げられる。【００３１】
ＰＤＰ、ＬＣＤ、有機ＥＬ素子などのカラーフィルター形成材料に使用される無機粒子は、赤色用としてはＦｅ2Ｏ3など、緑色用としてはＣｒ2Ｏ3など、青色用としてはＣｏＯ・Ａｌ2Ｏ3などを挙げることができる。【００３２】
ＰＤＰ、ＬＣＤ、有機ＥＬ素子などのブラックストライプ（マトリックス）形成材料に使用される無機粒子としては、例えば、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎなどの金属およびその酸化物、複合酸化物、炭化物、窒化物、硫化物、けい化物、ほう化物や、カーボンブラック、グラファイトなどが挙げられる。これらは、１種単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。これらの中では、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、ＮｉおよびＴｉの群から選ばれた金属粒子、金属酸化物粒子および複合酸化物粒子が好ましい。また、上記無機粒子の平均粒径は、好ましくは０．０１〜１０μｍ、より好ましくは０．０５〜５μｍ、特に好ましくは０．１〜２μｍである。【００３３】
本発明の組成物における無機粒子（Ａ）の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）１００重量部に対して、１００〜２０００重量部、好ましくは１３０〜１０００重量部の範囲である。無機粒子（Ａ）の含有量が前記範囲内であることにより、形状が良好なパターンを形成することができる。【００３４】
＜アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）＞
本発明の感光性樹脂組成物に用いられるアルカリ可溶性樹脂（Ｂ）としては、種々の樹脂を用いることができる。本発明において「アルカリ可溶性」とは、目的とする現像処理が可能な程度に、アルカリ性の現像液に溶解する性質をいう。【００３５】
上記アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）としては、後述するアルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｂ１）と（メタ）アクリル酸誘導体（Ｂ２）との共重合体が好ましい。また、ＳＨ基を有するアルカリ可溶性樹脂（以下「ＳＨ基含有樹脂」ともいう。）も好適に用いることができる。前記ＳＨ基含有樹脂は、光照射により、後述するエチレン性不飽和基含有化合物（Ｄ）とエン−チオール反応して樹脂自体がさらに重合するため、ＳＨ基を有しない樹脂に比べて高感度であり、さらに、この重合により樹脂の分子量が大きくなるため、現像後のパターン形状が良好となる。【００３６】
上記ＳＨ基含有樹脂は、少なくとも１つのＳＨ基を有し、アルカリ可溶性であれば特に限定されないが、例えば、ＳＨ基を有する（メタ）アクリル樹脂が好ましい。前記ＳＨ基を有する（メタ）アクリル樹脂は、たとえば、１分子中に少なくとも２つのＳＨ基を有する化合物（以下「ＳＨ基含有化合物（Ｂ３）」ともいう）の存在下で、アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｂ１）と（メタ）アクリル酸誘導体（Ｂ２）とを共重合することにより製造することができる。【００３７】
上記アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｂ１）としては、たとえば、
（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等のカルボキシル基含有モノマー類；
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（α-ヒドロキシメチル）アクリレート等の水酸基含有モノマー類；
ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン等のフェノール性水酸基含有モノマー類
などのアルカリ可溶性官能基と不飽和結合を有するモノマーが挙げられる。これらの中では、（メタ）アクリル酸、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルが好ましい。【００３８】
上記アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｂ１）を共重合させることにより、樹脂（Ｂ）にアルカリ可溶性を付与することができる。このアルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｂ１）由来の構成単位の含有量は、樹脂（Ｂ）の全構成単位中、通常、５〜９０重量％、好ましくは１０〜８０重量％、特に好ましくは１５〜７０重量％である。【００３９】
上記（メタ）アクリル酸誘導体（Ｂ２）としては、上記アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｂ１）と共重合可能な（メタ）アクリル酸誘導体であれば特に限定されないが、たとえば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、トチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（-メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等の上記モノマー（Ｂ１）以外の（メタ）アクリレート類などが挙げられる。【００４０】
また、本発明では、上記（メタ）アクリル酸誘導体（Ｂ２）の代わりに、あるいは上記（メタ）アクリル酸誘導体（Ｂ２）に加えて、たとえば、スチレン、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等から得られるポリマーの一方の鎖末端に、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマーなどを用いてもよい。【００４１】
上記ＳＨ基含有化合物（Ｂ３）としては、ＳＨ基含有カルボン酸と多価アルコールとのエステルが挙げられる。ＳＨ基含有カルボン酸としては、チオグリコール酸または３−メルカプトプロピオン酸などが挙げられる。多価アルコールとしては、エチレングリコール、テトラエチレングリコール、ブタンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、ソルビトールなどが挙げられる。【００４２】
上記ＳＨ基含有化合物（Ｂ３）は上記共重合反応において、連鎖移動剤として作用し、得られるアルカリ可溶性樹脂（Ｂ）には、好ましくは、主にその末端にＳＨ基が形成されると考えられる。また、作業上の臭気という観点からも上記化合物（Ｂ３）を使用することが好ましい。【００４３】
上記ＳＨ基含有化合物（Ｂ３）は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。上記化合物（Ｂ３）の使用量は、上記共重合に使用する全モノマー１００重量部に対して０．５〜１０重量程度である。【００４４】
上記共重合の際、ラジカル重合開始剤を使用することが好ましい。ラジカル重合開始剤としては、ビニル単量体の重合に用いられるラジカル重合開始剤を使用できる。例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチルニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、１，１’−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボニトリル）、ジメチルー２，２’−アゾビスイソブチレート、４，４’−アゾビス（４−シアノバレリック酸）等のアゾ化合物；ｔ−ブチルパーオキシビバレート、ｔ−ブチルパーオキシ２−エチルヘキサノエート、クミルパーオキシ２−エチルヘキサノエート等のパーオキシエステル類の有機過酸化物等を挙げることができる。これらのラジカル重合開始剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらのラジカル重合開始剤の使用量は、上記共重合に使用する全モノマー１００重量部に対して０．１〜１０重量程度である。【００４５】
このようにして得られたアルカリ可溶性樹脂（Ｂ）の重量平均分子量（以下「Ｍｗ」ともいう。）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値で、好ましくは５，０００〜１００，０００、より好ましくは１０，０００〜５０，０００である。Ｍｗが前記範囲よりも低いと、現像後の膜荒れが発生しやすくなり、また、Ｍｗが前記範囲を超えると、未露光部の現像液に対する溶解性が低下し、解像度が低下する場合がある。Ｍｗは、上記モノマーの共重合割合、組成、連鎖移動剤、重合温度などの条件を適宜選択することにより制御することができる。【００４６】
連鎖移動剤としては、例えば、α−メチレンスチレンダイマー、ｔ−ドデシルメルカプタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオン酸）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタンなどが挙げられる。【００４７】
上記アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）のガラス転移温度（Ｔｇ）は、０〜１２０℃、好ましくは１０〜１００℃である。ガラス転移温度が前記範囲よりも低いと、塗膜にタックを生じやすく、ハンドリングがしにくい傾向にある。また、ガラス転移温度が前記範囲を超えると、支持体であるガラス基板との密着性が悪くなり、転写できないことがある。なお、前記ガラス転移温度は、上記モノマー（Ｂ１）、（メタ）アクリル酸誘導体（Ｂ２）の量を変更することによって適宜調節することがでる。【００４８】
上記アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）の酸価は、好ましくは２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは３０〜１６０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲である。酸価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下では露光後の未露光部分が速やかにアルカリ現像液で除去しにくく、高精細なパターン形成が困難となる傾向にある。また、酸価が２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以上になると、露光光によって硬化した部分もアルカリ現像液に浸食されやすくなり、高精細なパターン形成が困難となる傾向にある。【００４９】
本発明の組成物における上記アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）の含有量は、上記無機粒子（Ａ）１００重量部に対して５〜１００重量部、好ましくは１０〜７５重量部の範囲である。アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）の含有量が前記範囲内であることにより、形状が良好なパターンを形成することができる。【００５０】
＜特定添加剤（Ｃ）＞
本発明の感光性樹脂組成物で用いられる特定添加剤（Ｃ）は、下記式（１）で表される化合物からなり、ＨＬＢ（Hydrophile-Lypophile Balance；親水親油バランス）値が２〜８、好ましくは４〜８、さらに好ましくは５〜７である。なお、ＨＬＢ値は、親水基の式量を基に、計算式：ＨＬＢ値＝２０×（親水基の重量％）
により求めることができる（グリフィン法）。【００５１】
【化２】
2008096782.tif 000004
【００５２】
式（１）中、Ｒ1は単結合または二価の有機基を示し、Ｒは炭素数２〜８のアルキレン基を示し、Ｒ2は水素原子または一価の有機基を示し、ｘ、ｙおよびｎは整数を示す。【００５３】
上記式（１）中の複数のＲは、それぞれ同一でも、異なっていてもよく、炭素数２〜８の直鎖状または分岐状のアルキレン基であり、該アルキレン基は置換されていてもよい。具体的なＲとしては、下記の構造式で示されるものが挙げられる。【００５４】
【化３】
2008096782.tif 000005
【００５５】
ｘとｙの比率は、（８０／２０）＜（ｘ／ｙ）＜（９９／１）、好ましくは（９０／１０）＜（ｘ／ｙ）＜（９５／５）、さらに好ましくは（９２／８）＜（ｘ／ｙ）＜（９４／６）である。【００５６】
上記式（１）で表される化合物は、２，０００〜３０，０００の重量平均分子量（ポリスチレン換算）を有することが好ましい。重量平均分子量が２，０００未満だと感光性樹脂組成物を塗布する際に塗布ムラやはじきが発生したり、塗布後に乾燥させる際に昇華したりするおそれがある。昇華した添加剤が乾燥炉内壁に析出すると、乾燥炉内を汚染するおそれがある。さらに析出した添加剤が、乾燥炉壁面から落下しサンプル表面に付着することにより歩留まりの低下を引き起こすおそれもある。また、重量平均分子量が３０，０００を超えるとパターン形成時の現像性が悪下することがある。【００５７】
上記特定添加剤（Ｃ）を用いることにより、離型剤付き支持フィルム上に無機粒子含有感光性樹脂組成物を塗布する際に発生する可能性がある塗布ムラやはじきを防止したり、待機スジを抑制し、表面平滑性に優れた無機粒子含有感光性樹脂層を形成することができる。【００５８】
上記特定添加剤（Ｃ）としては、好ましくはシリコーン系界面活性剤、より好ましくはポリエーテル基を側鎖に導入したポリエーテル変性シリコーンオイルが挙げられる。【００５９】
上記ポリエーテル変性シリコーンオイルとしては、たとえば、
東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製「ＦＺ−２１０１（７）」「ＦＺ−２１０４（８）」、「ＦＺ−７００１（５）」、「ＦＺ−７００２（８）」、「ＳＨ３７４９（６）」、「ＳＨ３７７３Ｍ（８）」、「ＳＨ８４００（７）」；
信越化学工業（株）社製「ＫＦ−３５２Ａ（７）」、「ＫＦ−９４５（４）」、「ＫＦ−６０１２（７）」、「ＫＦ−６０１５（５）」、「ＫＦ−６０１７（５）」、「ＫＦ−６０２０（４）」、「Ｘ−２２−４５１５（５）」、「Ｘ−２２−６１９１（２）」
などが挙げられる（かっこ内の数字はＨＬＢ値を示す。）。【００６０】
上記特定添加剤（Ｃ）は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、本発明の組成物における特定添加剤（Ｃ）の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）１００重量部に対して、０．５〜５重量部、好ましくは１〜４重量部、より好ましくは１．５〜３重量部の範囲である。前記範囲の量で添加することにより、表面平滑性に優れた感光性樹脂層を形成することができる。特定添加剤（Ｃ）の量が５重量部よりも多すぎるとペースト感度の低下やパターン特性が劣化することがある。また、特定添加剤の量が０．５重量部よりも少な過ぎると塗布ムラやはじきが生じ、表面平滑性に優れた感光性樹脂層が得られず、感光性樹脂層表面に待機スジと呼ばれるスジ状の凹みや突起が形成されてしまう。【００６１】
＜エチレン性不飽和基含有化合物（Ｄ）＞
本発明の感光性樹脂組成物に用いられるエチレン性不飽和基含有化合物（Ｄ）としては、エチレン性不飽和基を含有し、後述する光重合開始剤（Ｅ）により、ラジカル重合反応し得る化合物であれば特に限定はされないが、一般的に、（メタ）アクリレート化合物が用いられる。【００６２】
このような（メタ）アクリレート化合物としては、たとえば、
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、イソ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフロロデシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、イソデキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチル２-ヒドロキシプロピルフタレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、オクタフロロペンチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、トリフロロエチル（メタ）アクリレート、アミノエチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、チオフェノール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類；
アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、２，５−ヘキサンジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリグリセロールジ（メタ）アクリレート等のジ（メタ）タクリレート類；
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ベンジルメルカプタン（メタ）アクリレート、下記式（２）で表される基を少なくとも１つ有する化合物等の多官能（メタ）アクリレート類
などが挙げられる。【００６３】
上記の中では多官能（メタ）アクリレート類が好ましく、より好ましくは下記式（２）で表される基を少なくとも１つ有する化合物であり、さらに好ましくは下記式（２）で表される基を少なくとも３つ有する化合物であり、特に好ましくは下記式（３）で表される化合物である。【００６４】
【化４】
2008096782.tif 000006
【００６５】
式（２）中、Ｒ3は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ4は２価の有機基を表し、Ｒ5は１価の有機基を表す。【００６６】
ＺＯＣＨ（ＣＨ2ＯＺ）2      （３）
式（３）中、Ｚは下記式（４）で表される。【００６７】
【化５】
2008096782.tif 000007
【００６８】
式（４）中、ｎは１〜１０の実数を表す。ｎが前記範囲にある化合物を用いることによって、現像や焼成による寸法変化の少ないパターンを形成することができる。【００６９】
エチレン性不飽和基含有化合物（Ｄ）として上記化合物を用いることにより、パターン焼成後に大幅な収縮が生じず、高精細のパターンを形成することができるとともに、熱分解性に優れた感光性樹脂組成物が得られる。【００７０】
上記式（３）で表される化合物は、下記式（５）で示されるように、トリス（ポリオキシプロピレン）グリセリルエーテルとメタクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチルとを付加反応させることによって得られる。【００７１】
【化６】
2008096782.tif 000008
【００７２】
上記式（５）中、Ｚは上記式（４）で表され、Ｒは下記式（６）で表される。【００７３】
【化７】
2008096782.tif 000009
【００７４】
式（６）中、ｎは１〜１０の実数である。【００７５】
なお、上記式（４）中のｎは、上記式（３）で表される化合物のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）から、下記式により求めたポリオキシプロピレンの平均重合度である。【００７６】
式（４）の平均重合度（ｎ）＝｛（Ｍｗ−ポリオキシプロピレン以外の部位の分子量（＝２０１））／オキシプロピレン部位の分子量（＝５８）｝÷３
また、式（６）中のｎは、トリス（ポリオキシプロピレン）グリセリルエーテルのＧＰＣにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）から、下記式により求めたポリオキシプロピレンの平均重合度である。【００７７】
式（６）の平均重合度（ｎ）＝｛（Ｍｗ−ポリオキシプロピレン以外の部位の分子量（＝９２））／オキシプロピレン部位の分子量（＝５８）｝÷３
上記トリス（ポリオキシプロピレン）グリセリルエーテルの重量平均分子量（Ｍｗ）は２７０〜１８００が好ましい。トリス（ポリオキシプロピレン）グリセリルエーテルの重量平均分子量が前記範囲にあると、現像や焼成による寸法変化の少ないパターンを形成することができる。【００７８】
上記付加反応に用いられる触媒としては、酸が好適である。酸としては、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、トリクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、ピルビン酸、グリコール酸等の脂肪族モノカルボン酸；シュウ酸、マレイン酸、オキサロ酢酸、マロン酸、フマル酸、酒石酸、クエン酸等の脂肪族多価カルボン酸；安息香酸、テレフタル酸等の芳香族カルボン酸；ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、ｐ−トルエンスルホン酸キノリニウム塩等の芳香族スルホン酸またはその塩；硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸マグネシウム、硫酸カルシウム、硫酸ニッケル、硫酸銅、硫酸ジルコニウム等の硫酸塩；硫酸水素ナトリウム、硫酸水素カリウム等の硫酸水素塩；硫酸、塩酸、リン酸、ポリリン酸等の鉱酸；リンバ等のモリブデン酸、リンタングストモリブデン酸、ケイタングストモリブデン酸等のヘテロポリ酸；酸性ゼオライト；ベースレジンがフェノール系樹脂またはスチレン系樹脂であり、ゲル型、ポーラス型またはマクロポーラス型の何れかの形態を示し、かつ、スルホン酸基およびアルキルスルホン酸基からなる群より選ばれる少なくとも一種のイオン交換基を有する酸性イオン交換樹脂などが挙げられる。【００７９】
上記触媒は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。上記の中でも、シュウ酸、マレイン酸、硫酸水素カリウム、塩酸、硫酸、リン酸が好ましい。他の酸触媒の場合、付加反応の触媒として作用するほか、ビニルエーテルのカチオン重合開始剤として作用することがある。したがって、温度コントロールを厳密に行う必要があるが、なかでも塩酸の場合、カチオン重合開始剤としては作用せず、付加反応にのみ選択的に効くため、温度コントロール幅が広く、製造面で非常に有利であり、特に好ましい触媒である。【００８０】
上記触媒の使用量としては、付加反応に用いるトリス（ポリオキシプロピレン）グリセリルエーテルおよびメタクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチルの使用量や、トリス（ポリオキシプロピレン）グリセリルエーテルの種類に応じて適宜設定すればよい。なお、収率、触媒の安定性、生産性および経済性を考慮すれば、触媒の使用量は、例えば、メタクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル１００重量部に対して、好ましくは０．０００５重量部以上、より好ましくは０．００１重量部以上である。また、好ましくは３重量部以下、より好ましくは１重量部以下である。【００８１】
上記エチレン性不飽和基含有化合物（Ｄ）は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明の組成物における上記エチレン性不飽和基含有化合物（Ｄ）の含有量は、上記アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）１００重量部に対して、通常２０〜２００重量部、好ましくは３０〜１００重量部の範囲である。エチレン性不飽和基含有化合物（Ｄ）の含有量が少なすぎると、露光部が現像液によって浸食されやすくなり、パターンを形成することができない。含有量が多すぎると、長時間の現像工程となり生産上好ましくない。さらに、焼成時に収縮が大きくなり、剥れの原因となる。【００８２】
＜光重合開始剤（Ｅ）＞
本発明の感光性樹脂組成物に用いられる光重合開始剤（Ｅ）としては、たとえば、
ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、ビス（Ｎ、Ｎ―ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、ビス（Ｎ、Ｎ―ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、カンファーキノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−〔４’−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンなどのカルボニル化合物；
アゾイソブチロニトリル、４−アジドベンズアルデヒドなどのアゾ化合物もしくはアジド化合物；
メルカプタンジスルフィド、メルカプトベンゾチアゾールなどの有機硫黄化合物；
ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキシド、クメンハイドロパーオキシド、パラメタンハイドロパーオキシドなどの有機パーオキシド；
１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−（２−フラニル）エチレニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどのトリハロメタン類；
２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールなどのイミダゾール二量体
などを挙げることができる。【００８３】
これらは１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。上記光重合開始剤（Ｅ）を用いることにより、精度の高いパターンを形成することができる。本発明の組成物における上記光重合開始剤（Ｅ）の含有量は、上記アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）１００重量部に対して、０．５〜２０重量部、好ましくは１〜１０重量部の範囲である。【００８４】
＜増感剤＞
本発明の感光性樹脂組成物には、感度を向上させるために、増感剤を添加してもよい。増感剤としては、たとえば、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールなどが挙げられる。【００８５】
上記増感剤は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、増感剤の中には光重合開始剤としても使用できるものがある。上記増感剤は、上記エチレン性不飽和基含有化合物（Ｄ）１００重量部に対して、通常０．０１〜１０重量部、より好ましくは０．０５〜５重量部の範囲となる量で添加することができる。増感剤の量が少なすぎると、光感度を向上させる効果が発揮されないことがあり、増感剤の量が多すぎると、露光部の残存率が小さくなりすぎることがある。【００８６】
＜溶媒＞
本発明の感光性樹脂組成物には、溶液の粘度を調整するために、有機溶媒を加えてもよい。有機溶媒としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メトキシプロピルアセテート、ジエチルケトン、メチルブチルケトン、ジプロピルケトン、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ｎ−ペンタノール、ジアセトンアルコール、４−メチル−２−ペンタノール、シクロヘキサノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テルピネオール、ブチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸アミル、乳酸エチル、乳酸−ｎ−ブチルなどが挙げられる。上記有機溶媒は、１種単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。【００８７】
＜その他＞
本発明の感光性樹脂組成物は、任意成分として、密着助剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、溶解促進剤などの各種添加剤を含有してもよい。【００８８】
＜感光性樹脂組成物の調製＞
本発明の感光性樹脂組成物は、上記無機粒子（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）、特定添加剤（Ｃ）、エチレン性不飽和基含有化合物（Ｄ）および光重合開始剤（Ｅ）、ならびに必要に応じて溶媒や各種添加剤を所定の組成比となるように調合した後、３本ロールや混練機で均質に混合分散して調製される。【００８９】
上記組成物の粘度は、無機粒子、増粘剤、有機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加量によって適宜調整することができるが、その範囲は１００〜２００，０００ｍ・Pasであることが好ましい。【００９０】
〔転写フィルム〕
本発明の感光性フィルムは、支持フィルムと、その上に形成された、上記感光性樹脂組成物から得られる感光性樹脂層とを有し、該感光性樹脂層の表面に保護フィルムが設けられていてもよい。【００９１】
＜支持フィルム＞
上記転写フィルムを構成する支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓性を有することにより、ロールコータによってペースト状組成物を塗布することができ、感光性フィルムをロール状に巻回した状態で保存および供給することができる。なお、支持フィルムの厚さとしては、使用に適した範囲であればよく、たとえば２０〜１００μｍである。【００９２】
支持フィルムを形成する樹脂としては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどが挙げられる。【００９３】
上記支持フィルムにおける無機粒子含有感光性樹脂層が形成される面は、ジメチルシロキサン化合物などの離型剤を用いた離型処理が施されていることが好ましい。これにより、ディスプレイパネル用部材および電子部品用部材を形成する際に、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。【００９４】
さらに、無機粒子含有感光性樹脂層の表面に設けられていてもよい保護フィルム層としては、上記支持フィルムと同様の可撓性を有する樹脂フィルムを用いることができ、その表面（感光性樹脂層と接する面）は離型処理が施されていることが好ましい。【００９５】
＜転写フィルムの製造方法＞
上記転写フィルムは、支持フィルム上に本発明の感光性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて感光性樹脂層を形成することにより得られる。乾燥後は、ロール状に巻くか、保護フィルムをラミネートする。また、上記転写フィルムは、支持フィルムおよび保護フィルムのそれぞれに感光性樹脂組成物を塗布して感光性樹脂層を形成し、互いの樹脂層面を重ね合わせて圧着する方法によっても、好適に形成することができる。【００９６】
上記組成物を支持フィルム上に塗布する方法としては、膜厚が大きく（例えば１０μｍ以上）、かつ、均一性に優れた塗膜を効率よく形成することができる方法であれば特に限定されない。例えば、ナイフコータによる塗布方法、ロールコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコータによる塗布方法、ダイコータによる塗布方法、ワイヤーコータによる塗布方法などが挙げられる。【００９７】
塗膜の乾燥条件は、乾燥後における溶剤の残存割合が２重量％以内となるように適宜調整すればよく、例えば、５０〜１５０℃の乾燥温度で０．５〜６０分間程度である。【００９８】
上記のようにして形成された無機粒子含有感光性樹脂層の厚みは、３０〜３００μｍ、好ましくは５０〜２００μｍである。【００９９】
〔パターン形成方法〕
本発明のパターン形成方法は、上記感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を基板上に形成する工程（樹脂層形成工程）、該樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程（露光工程）、該樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程（現像工程）、および該パターンを焼成処理する工程（焼成工程）を含む。【０１００】
＜樹脂層形成工程＞
この工程では、本発明の感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を基板上に形成する。感光性樹脂層の形成方法としては、たとえば、上記感光性樹脂組成物を基板上に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて形成する方法や、上記転写フィルムを用いて、該転写フィルムを構成する感光性樹脂層を基板上に転写して形成する方法などが挙げられる。【０１０１】
上記組成物を基板上に塗布する方法としては、膜厚が大きく（例えば１０μｍ以上）、かつ、均一性に優れた塗膜を効率よく形成することができる方法であれば特に限定されない。例えば、ナイフコーターによる塗布方法、ロールコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコータによる塗布方法、ダイコータによる塗布方法、ワイヤーコータによる塗布方法などが挙げられる。【０１０２】
塗膜の乾燥条件は、乾燥後における溶剤の残存割合が２重量％以内となるように適宜調整すればよく、例えば、５０〜１５０℃の乾燥温度で０．５〜６０分間程度である。【０１０３】
上記のようにして形成された感光性樹脂層の厚みは、３０〜３００μｍ、好ましくは５０〜２００μｍである。なお、組成物を塗布をｎ回繰り返すことで、ｎ層（ｎは２以上の整数を示す）の樹脂層を有する積層体を形成してもよい。【０１０４】
一方、上記転写フィルムを基板上にラミネートして、感光性樹脂層を基板上に転写することにより、基板上に膜厚均一性に優れた樹脂層を容易に形成することができ、形成されるパターンの膜厚均一化を図ることができる。感光性樹脂層を転写する際、上記転写フィルムを用いてｎ回転写を繰り返すことにより、ｎ層（ｎは２以上の整数を示す）の樹脂層を有する積層体を形成してもよい。あるいは、ｎ層の樹脂層からなる積層体が支持フィルム上に形成された転写フィルムを用いて基板上に一括転写することにより、前記積層体を形成してもよい。【０１０５】
転写フィルムを用いた転写工程の一例を示せば以下のとおりである。必要に応じて用いられる転写フィルムの保護フィルム層を剥離した後、基板の表面に感光性樹脂層の表面が当接するように転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着した後、樹脂層から支持フィルムを剥離除去する。これにより、基板の表面に感光性樹脂層が転写されて密着した状態となる。【０１０６】
転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が４０〜１４０℃、加熱ローラによるロール圧が０．１〜１０ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０ｍ／分である。また、基板は予熱されていてもよく、予熱温度は、例えば４０〜１４０℃である。【０１０７】
本発明で用いられる基板材料としては、例えば、ガラス、シリコーン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族アミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなどの絶縁性材料からなる板状部材が挙げられる。この板状部材の表面には、必要に応じて、シランカップリング剤などによる薬品処理；プラズマ処理；イオンプレーティング法、スパッタリング法、気相反応法、真空蒸着法などによる薄膜形成処理などの前処理が施されていてもよい。本発明においては、基板として、耐熱性を有するガラス基板を用いることが好ましい。このようなガラス基板としては、例えば、旭硝子（株）製「ＰＤ２００」などが挙げられる。【０１０８】
＜露光工程＞
上記樹脂層形成工程により基板上に感光性樹脂層を形成後、露光装置を用いて露光を行う。露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法を採用することができる。用いるマスクは、感光性樹脂層の有機成分の種類によって、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。露光用マスクの露光パターンは、目的によって異なるが、たとえば、１０〜５００μｍ幅のストライプもしくは格子である。また、フォトマスクを用いずに、赤色や青色の可視光レーザー光、Ａｒイオンレーザーなどで直接描画する方法を用いてもよい。【０１０９】
露光装置としては、平行光露光機、散乱光露光機、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機等を用いることができる。また、大面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に感光性樹脂組成物を塗布した後に、搬送しながら露光を行うことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。【０１１０】
露光の際に使用される活性光源は、たとえば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー光などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好ましく、その光源としては、たとえば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプなどが使用できる。これらの中では超高圧水銀灯が好適である。【０１１１】
露光条件は、塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ／ｃｍ2の出力の超高圧水銀灯を用いて０．０５〜１分間露光を行なう。この場合、波長フィルターを用いて露光光の波長領域を狭くすることによって、光の散乱を抑制し、パターン形成性を向上させることができる。【０１１２】
上記のようにして露光することにより、樹脂層にパターンの潜像を形成する。なお、樹脂層上に被覆されている支持フィルムを剥離しない状態で露光を行うことが好ましい。【０１１３】
＜現像工程＞
上記露光後、感光部分と非感光部分の現像液に対する溶解度差を利用して、樹脂層を現像して樹脂層のパターンを形成する。現像方法（例えば、浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法、ブラシ法など）および現像処理条件（例えば、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度など）などは、樹脂層の種類に応じて適宜選択、設定すればよい。【０１１４】
現像工程で用いられる現像液としては、樹脂層中の有機成分を溶解可能な有機溶媒を使用できる。また、前記有機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。樹脂層中にカルボキシル基等の酸性基を持つ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。【０１１５】
上記アルカリ水溶液としては、たとえば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア水溶液、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどが挙げられる。【０１１６】
上記アルカリ水溶液の濃度は、通常０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部が除去されないことがあり、一方、アルカリ濃度が高すぎると、パターン部を剥離させるおそれや、非可溶部を腐食させるおそれがある。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。【０１１７】
上記アルカリ水溶液には、ノニオン系界面活性剤や有機溶剤などの添加剤が含有されていてもよい。なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。【０１１８】
＜焼成工程＞
上記現像後の樹脂層残留部（樹脂層のパターン）における有機物質を焼失させるために、焼成炉にて樹脂層のパターンを焼成処理する。【０１１９】
焼成雰囲気は、組成物や基板の種類によって異なるが、空気、オゾン、窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。【０１２０】
焼成処理条件は、樹脂層残留部中の有機物質が焼失されることが必要であるため、通常、焼成温度が３００〜１０００℃、焼成時間が１０〜９０分間である。例えば、ガラス基板上にパターン形成する場合は、３５０〜６００℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行う。【０１２１】
＜加熱工程＞
上記転写、露光、現像、焼成の各工程中に、必要に応じて、乾燥または予備反応の目的で、５０〜３００℃の加熱工程を導入してもよい。【０１２２】
〔ＦＰＤ部材等の製造方法〕
上記工程を含む本発明のパターン形成方法により、誘電体、電極、抵抗体、蛍光体、隔壁、カラーフィルター、ブラックマトリックス等のＦＰＤ用部材や、電子部品の回路パターン等を形成することができる。このような本発明のＦＰＤ用部材の製造方法は、ＰＤＰの製造方法に適している。
【実施例】
【０１２３】
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例により何ら限定されるものではない。【０１２４】
なお、以下において、「部」および「％」は、特に断りのない限り、それぞれ「重量部」および「重量％」を示す。【０１２５】
また、以下において、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（東ソー株式会社製「ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ」）により測定したポリスチレン換算の値である。ＧＰＣ測定は、ＧＰＣカラムとして東ソー株式会社製「ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ  ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ」を用い、溶媒としてテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を用い、測定温度４０℃の条件で行った。【０１２６】
以下の実施例等における各種評価は下記のようにして行った。【０１２７】
＜分散性評価＞
混練りすることにより調製したペースト状の感光性樹脂組成物の分散性を、グラインドゲージ（ガードナー株式会社製、スケール０〜２５μｍ）を用いて評価した。分散後の感光性樹脂組成物のグラインドメーター値が３μｍ以内であれば○、３〜５μｍ以内であれば△、５μｍを超えるものは×とした（表１および２参照）。【０１２８】
＜塗布性評価＞
作製した転写フィルムの塗布性を膜厚測定により評価した。転写フィルムの膜厚分布が１８０±３μｍ以下であれば○、１８０±３〜１０μｍ以内であれば△、１８０±１０μｍを超えるものは×とした（表１および２参照）。【０１２９】
＜待機スジ評価＞
支持フィルムを一部剥した状態で１０分間保持した後、支持フィルムの剥離部分と非剥離部分との境界線を非接触三次元形状測定装置（型番：ＮＨ−３  三鷹光器（株））で測定した。待機スジが２μｍ以下のものは剥離強度も小さかった。【０１３０】
＜焼成後のパターンの評価＞
パネルを切断して小片にし、パターン断面を走査型電子顕微鏡（日立製作所製「Ｓ４２００」）で観察し、パターンの幅および高さを計測した。幅および高さが所望の規格±５μｍ以内であれば○、規格から一部外れるもの；規格±５μｍを超えて１０μｍ以内であれば△、規格±１０μｍを超えるものは×とした（表１および２参照）。なお、ピッチ幅２００μｍ、一辺１５０μｍの格子状パターンを有するマスクを用いて評価した。【０１３１】
＜合成例１＞
ベンジルメタクリレート５０ｇ、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸５０ｇ、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）１ｇおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオン酸）（堺化学工業（株）製）５ｇを、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、プロピレングリコールモノメチルエーテル１５０部中で均一になるまで攪拌した。次いで、７０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後、室温まで冷却してメタクリル樹脂（以下「アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１）」という）を得た。このアルカリ可溶性樹脂（Ｂ１）の重合率は９８％であり、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１）のＭｗは１７，０００であり、Ｔｇは６４℃であった。【０１３２】
＜合成例２＞
攪拌装置、温度計、コンデンサーおよび窒素ガス導入管を備えた１リットルのフラスコに、トリス（ポリオキシプロピレン）グリセリルエーテル（Ｍｗ３００、和光純薬工業（株）製）３００ｇ（水酸基＝３ｍｏｌ）および塩酸１．５６ｇ（３５％水溶液、ＨＣｌ成分として０．０１５ｍｏｌ）を入れて攪拌し、メタクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル６００ｇ（３ｍｏｌ）を発熱に注意しながらゆっくり滴下した。発熱が緩やかになったところで６０℃に昇温し、４時間反応を行った。このようにして得られた反応物をＩＲにより分析したところ、水酸基に起因する３５００ｃｍ-1付近のピークはほぼ消失しており、目的とするエチレン性不飽和基含有化合物（以下「多官能メタクリレート（Ｄ１）」という）を得た。【０１３３】
＜調製例１＞
ガラス粉末としてＢ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系ガラス粉末（軟化点５６０℃）９０部、フィラーとしてＳｉＯ2１０部、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１）２５部、特定添加剤（Ｃ１）として信越化学工業（株）社製「Ｘ−２２−６１９１」（ＨＬＢ値：２）０．５部、多官能メタクリレート（Ｄ１）１０部、光重合開始剤として２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン０．５部、増感剤として２，４−ジエチルチオキサントン０．１部、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン０．０５部、密着剤として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン０．２部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル３０部を混練りすることにより、感光性樹脂組成物（以下「組成物（ａ１）」という。）を調製した。【０１３４】
＜調製例２〜１４＞
調製例１と同様にして、表１の実施例２〜８および表２の比較例１〜６に示す組成を有する感光性樹脂組成物（以下「組成物（ａ２）〜（ａ１４）」という。）を調製した。【０１３５】
〔実施例１〕
＜転写フィルムの作製＞
調製例１で得られた組成物（ａ１）を、予め離型処理したＰＥＴフィルム（剥離力４．５ｇ／２５ｍｍ、ピューレックスＡ４３：帝人デュポンフィルム（株）製）よりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ５０μｍ）上に、ロールコーターを用いて塗布して塗膜を形成した。形成された塗膜を１００℃で１０分間乾燥することにより溶剤を除去して、厚さ９０μｍの感光性樹脂層を形成した。乾燥後のフィルムを目視で観察したところ、塗りむらはなく、均一に形成できていた。次いで、同様のフィルムをもう１枚作成し、２枚のフィルムの感光性樹脂層を互いに貼り合せて、加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度を速度０．５ｍ／分とした。このようにして、感光性樹脂層（厚さ１８０μｍ）を有する転写フィルム（以下「転写フィルム（１）」という）を作製した。【０１３６】
＜転写工程＞
得られた転写フィルム（１）の一方の支持フィルムを剥離して、６インチパネル用のガラス基板の表面に感光性樹脂層を重ね合わせ、感光性樹脂層を加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。これにより、ガラス基板の表面に感光性樹脂層が転写されて密着した状態となった。転写された感光性樹脂層の厚みを測定したところ、１８０μｍ±２μｍの範囲にあった。【０１３７】
＜露光工程＞
基板上に形成された感光性樹脂層に対して、露光用マスク（線幅７０μｍ、ピッチ２００μｍのネガ型ストライプパターン）を介して、超高圧水銀灯によりｉ線（波長３６５ｎｍの紫外線）を照射した。照射量は１００ｍＪ／ｃｍ2とした。露光後、感光性樹脂層より支持フィルムを剥離除去した。【０１３８】
＜現像工程＞
露光処理された感光性樹脂層に対して、０．５質量％の炭酸ナトリウム水溶液（２３℃）を現像液とするシャワー法により現像処理を行った。これにより、紫外線が照射されていない未硬化の感光性樹脂層の部分を除去した。次いで、超純水による水洗処理および乾燥処理を行った。これにより、隔壁パターンを形成した。【０１３９】
＜焼成工程＞
隔壁パターンが形成されたガラス基板を、焼成炉内で６００℃の温度雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理した。これにより、ガラス基板の表面に隔壁が形成されてなるパネル材料が得られた。【０１４０】
得られたパネル材料における隔壁の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、断面形状の底面の幅および高さを測定した。その結果、底面の幅が７０μｍ±３μｍ、高さが１２０μｍ±２μｍであり、寸法精度がきわめて高いものであり、かつ隔壁のエッヂがシャープなパターンが形成できたことがわかった。また、残さやパターンの剥がれ、変形は観察されなかった。このように、特定添加剤（Ｃ１）を添加した組成物（ａ１）を用いて作製した転写フィルムは、転写フィルムの作製時に組成物（ａ１）を支持フィルム上に均一に塗布することが可能なため、優れたパターンを形成できることがわかった。【０１４１】
〔実施例２〜４〕
実施例１と同様に、調製例２〜４で得られた組成物（ａ２）〜（ａ４）を用いて感光性樹脂層（厚さ１８０μｍ）を有する転写フィルム（以下「転写フィルム（２）〜（４）」という）を作製した。実施例１と同様の工程で転写し、露光、現像、焼成した感光性樹脂層の評価結果を表１に示した。【０１４２】
〔実施例５〕
＜転写フィルムの作製＞
調製例５で得られた組成物（ａ５）を、予め離型処理したＰＥＴフィルム（剥離力４．５ｇ／２５ｍｍ、ピューレックスＡ４３：帝人デュポンフィルム（株）製）よりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ５０μｍ）上に、ロールコーターを用いて塗布して塗膜を形成した。形成された塗膜を１００℃で２０分間乾燥することにより溶剤を除去して、厚さ１８０μｍの感光性樹脂層を形成した。乾燥後のフィルムを目視で観察したところ、塗りむらはなく、均一に形成できていた。さらに、この感光性樹脂層上に予め離型処理したＰＥＴフィルムよりなる保護フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）を積層し、厚さ１８０±２μｍの感光性樹脂層を有する転写フィルム（以下「転写フィルム（５）」という）を作製した。【０１４３】
転写フィルム（１）のかわりに転写フィルム（５）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、ガラス基板の表面に隔壁が形成されてなるパネル材料を作製した。得られたパネル材料における隔壁の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、断面形状の底面の幅および高さを測定した。その結果、底面の幅が７０μｍ±３μｍ、高さが１２０μｍ±２μｍであり、寸法精度がきわめて高いものであり、かつ隔壁のエッヂがシャープなパターンが形成できたことがわかった。また、残さやパターンの剥がれ、変形は観察されなかった。このように、特定添加剤（Ｃ４）を添加した組成物（ａ５）を用いて作製したフィルムは、転写フィルムの作製時に組成物（ａ５）を支持フィルム上に均一に塗布することが可能なため、優れたパターンを形成できることがわかった。【０１４４】
〔実施例６〜８〕
実施例５と同様に、調製例６〜８で得られた組成物（ａ６）〜（ａ８）を用いて感光性樹脂層（厚さ１８０μｍ）を有する転写フィルム（以下「転写フィルム（６）〜（８）」という）を作製した。転写フィルム（１）のかわりに転写フィルム（６）〜（８）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、ガラス基板の表面に隔壁が形成されてなるパネル材料を作製した。評価結果を表１に示す。【０１４５】
【表１】
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【０１４６】
表１中、ＭＴＰＭＰは２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、ＤＥＴＸは２，４−ジエチルチオキサントン、ＰＧＭＥはプロピレングリコールモノメチルエーテルを示す。また、特定添加剤については、
Ｃ１： Ｘ−２２−６１９１［信越化学工業（株）社製］
Ｃ２： ＫＦ−９４５      ［信越化学工業（株）社製］
Ｃ３： ＦＺ−７００１    ［東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）社製］
Ｃ４： ＳＨ３７４９      ［東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）社製］
Ｃ５： ＳＨ８４００      ［東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）社製］
Ｃ６： ＦＺ−７００２    ［東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）社製］
を示す。【０１４７】
〔比較例１〕
＜転写フィルムの作製＞
調製例９で得られた組成物（ａ９）を、予め離型処理したＰＥＴフィルム（剥離力４．５ｇ／２５ｍｍ、ピューレックスＡ４３：帝人デュポンフィルム（株）製）よりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ５０μｍ）上に、ロールコーターを用いて塗布して塗膜を形成した。形成された塗膜を１００℃で１０分間乾燥することにより溶剤を除去して、厚さ１８０μｍの感光性樹脂層を形成した。乾燥後のフィルムを目視で観察したところ、塗りむらがあり、均一に形成できていなかった。さらに、この感光性樹脂層上に予め離型処理したＰＥＴフィルムよりなる保護フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）を積層し、厚さ１８０±１０μｍの感光性樹脂層を有する転写フィルム（以下「転写フィルム（９）」という）を作製した。【０１４８】
転写フィルム（１）のかわりに転写フィルム（９）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、ガラス基板の表面に隔壁が形成されてなるパネル材料を作製した。得られたパネル材料における隔壁の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、断面形状の底面の幅および高さを測定した。その結果、底面の幅が１００μｍ±５μｍ、高さが１２０μｍ±５μｍであり、寸法精度が低く、かつ隔壁の中央部でエグレが生じたパターンしか得られなかった。このように、本発明の特定添加剤の要件であるＨＬＢ値２〜８を満たさないレベリング剤を添加した組成物（ａ９）を用いて作製したフィルムは、転写フィルムの作製時に組成物（ａ９）を支持フィルム上に均一に塗布することができず、優れたパターンを形成することができなかった。【０１４９】
〔比較例２〜６〕
比較例１と同様に、調製例１０〜１４で得られた組成物（ａ１０）〜（ａ１４）を用いて感光性樹脂層（厚さ１８０μｍ）を有する転写フィルム（以下「転写フィルム（１０）〜（１４）」という）を作製した。転写フィルム（９）のかわりに転写フィルム（１０）〜（１４）を用いたこと以外は比較例１と同様にして、ガラス基板の表面に隔壁が形成されてなるパネル材料を作製した。評価結果を表２に示す。【０１５０】
【表２】
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【０１５１】
表２中、ＭＴＰＭＰは２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、ＤＥＴＸは２，４−ジエチルチオキサントン、ＰＧＭＥはプロピレングリコールモノメチルエーテルを示す。また、レベリング剤については、
Ｃ７：  ＳＦ８４２８        ［東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）社製］
Ｃ８：  ＫＦ−６１５Ａ      ［信越化学工業（株）社製］
Ｃ９：  ＫＦ−６４２        ［信越化学工業（株）社製］
Ｃ１０：ＦＺ−２１６２      ［東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）社製］
Ｃ１１：レオドールＭＳ−６０［花王（株）社製、Ｃ17Ｈ35ＣＯ−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2ＯＨ］
を示す。【０１５２】
＜調製例１５＞
無機粒子としてＢ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系ガラス粉末（熱軟化点５５０℃）９０部、アルカリ可溶性樹脂（Ａ１）３０部、多官能メタアクリレート（Ｂ１）１０部、光重合開始剤として２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン０．５部、２，４−ジエチルチオキサントン０．１部、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン０．０５部、密着助剤として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン０．２部、特定添加剤としてＳＨ８４００（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）０．１部およびＦＺ−７００１（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）０．３部、溶剤としてテルピネオール３０部を混練りすることにより、組成物（以下「組成物（ａ１５）」という。）を調製した。【０１５３】
＜調製例１６＞
無機粒子としてＢ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系ガラス粉末（熱軟化点５５０℃）９０部、アルカリ可溶性樹脂（Ａ１）３０部、多官能メタアクリレート（Ｂ１）１０部、光重合開始剤として２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン０．５部、２，４−ジエチルチオキサントン０．１部、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン０．０５部、密着助剤として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン０．２部、溶剤としてテルピネオール３０部を混練りすることにより、組成物（以下「組成物（ａ１６）」という。）を調製した。【０１５４】
〔実施例９〕
調製例１５で得られた組成物（ａ１５）をガラス基板上にスクリーン印刷により塗布した後、１００℃のクリーンオーブンで３０分間乾燥して、厚さ９０μｍの無機粉体含有樹脂層を形成した。この樹脂層上に組成物（ａ１５）をスクリーン印刷にて再度塗布した後、１００℃のクリーンオーブンで３０分間乾燥して、厚さ１８０μｍの無機粉体含有樹脂層を形成した。この無機粒子含有樹脂層の厚みを測定したところ、１８０μｍ±２μｍの範囲にあった。露光工程以降は、実施例１と同様にして、ガラス基板の表面に隔壁が形成されてなるパネル材料を作製した。【０１５５】
得られたパネル材料における隔壁の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、断面形状の底面の幅および高さを測定した。その結果、底面の幅が７０μｍ±３μｍ、高さが１２０μｍ±２μｍであり、寸法精度がきわめて高いものであり、かつ隔壁のエッヂがシャープなパターンが形成できたことがわかった。また、残さやパターンの剥がれ、変形は観察されなかった。このように、特定添加剤を添加した組成物（ａ１５）は、スクリーン印刷によりガラス基板上に均一に塗布することが可能なため、優れたパターンを形成できることがわかった。【０１５６】
〔比較例７〕
調製例１６で得られた組成物（ａ１６）をガラス基板上にスクリーン印刷により塗布した後、１００℃のクリーンオーブンで３０分間乾燥して、厚さ９０μｍの無機粉体含有樹脂層を形成した。この樹脂層上に組成物（ａ１６）をスクリーン印刷にて再度塗布した後、１００℃のクリーンオーブンで３０分間乾燥して、厚さ１８０μｍの無機粉体含有樹脂層を形成した。この無機粒子含有樹脂層の厚みを測定したところ、１８０μｍ±１０μｍの範囲にあった。露光工程以降は、実施例１と同様にして、ガラス基板の表面に隔壁が形成されてなるパネル材料を作製した。【０１５７】
得られたパネル材料における隔壁の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、断面形状の底面の幅および高さを測定した。その結果、底面の幅が１００μｍ±５μｍ、高さが１２０μｍ±７μｍであり、寸法精度が低く、かつ隔壁の中央部でエグレが生じたパターンしか得られなかった。このように、特定添加剤を添加していない組成物（ａ１６）は、スクリーン印刷によりガラス基板上に均一に塗布することができず、優れたパターンを形成することができなかった。
【図１】
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【国際調査報告】
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