(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気的に動作される放電によって、光学放射、特にＥＵＶ放射又は軟Ｘ線を生成する装置であって、
前記電極間のガス媒体内のプラズマの点火を可能にする互いから離間されて放電空間内に配されている少なくとも２つの電極と、
前記放電空間を通って移動する１つ又は幾つかの表面に液体材料を塗布する装置と、
塗布された前記液体材料を少なくとも部分的に蒸発させ、これにより前記ガス媒体の少なくとも一部を生成する、前記表面上への１つ又は幾つかのパルスエネルギービームを指向するエネルギービーム装置と、
を有する装置において、
前記エネルギービーム装置は、各放電の時間間隔内で、前記表面上に前記パルスエネルギービームの少なくとも２つの連続的なパルスを供給するように設計されており、
当該装置は、生成される前記光学放射の特性及び／又は前記放電によって生成される高速イオンの量に基づいて前記２つの連続的なパルス間の時間遅延を制御する制御ユニットを更に有する、
装置。
【請求項２】
前記エネルギービーム装置は、３００ｎｓ以下の相互時間遅延によって少なくとも２つの連続的なパルスを供給するように設計されている、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記液体材料を塗布する装置は、前記電極の少なくとも一方の表面に前記液体材料を塗布し、前記電極の前記少なくとも一方は、動作中、回転状態にされることができる回転可能な輪として設計されている、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記生成される光学放射の特性を測定する放射センサ及び／又は前記放電によって生成される高速イオンの量を決定するｄＩ／ｄｔプローブを更に有する、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記制御ユニットは、前記放電によって生成される高速イオンの最小量及び／又は最大のＥＵＶ出力を達成するように、前記２つの連続的なパルス間の時間遅延を制御するように設計されている、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
電気的に動作される放電によって、光学放射、特にＥＵＶ放射又軟Ｘ線を生成する方法であって、
生成されるべき放射を発するプラズマが、放電空間内の少なくとも２つの電極間のガス媒体内で点火され、
前記ガス媒体は、液体材料から少なくとも部分的に生成され、前記液体材料は、前記放電空間内で移動する１つ又は複数の表面に塗布されると共に、少なくとも部分的に、１つ又は複数のパルスエネルギービームによって蒸発され、
前記パルスエネルギービームの少なくとも２つの連続的なパルスが、前記表面上への各放電の時間間隔内で供給され、
生成される前記光学放射の特性及び／又は前記放電によって生成される高速イオンの量が検出され、前記２つの連続的なパルス間の時間遅延がこの検出の測定に基づいて制御される、
方法。
【請求項７】
前記少なくとも２つの連続的なパルスは、３００ｎｓの相互時間遅延によって供給される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記２つの連続的なパルス間の時間遅延は、最大のＥＵＶ出力及び／又は最小量の高速イオンを達成するように、制御される、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記電極の少なくとも一方は、動作中、回転するように設定されており、前記液体材料は、前記電極の前記少なくとも一方の表面に塗布される、請求項６に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気的に動作される放電によって、光学放射（特に、ＥＵＶ放射又は軟Ｘ線）を生成する方法及び装置であって、生成されるべき前記放射を発するプラズマが、放電空間内の少なくとも２つの電極間のガス媒体内で点火され、前記ガス媒体は、前記放電空間内で移動している１つ又は幾つかの表面に塗布されると共に１つ又は幾つかのパルスエネルギービームによって少なくとも部分的に蒸発される液体材料から少なくとも部分的に生成される、方法及び装置に関する。このような放電ベースの光源は、（特に、約１ｎｍと２０ｎｍとの間の波長範囲において）ＥＵＶ放射又は軟Ｘ線を発する場合、主に、ＥＵＶリソグラフィ及び計測学の分野において必要である。
【背景技術】
【０００２】
上述の種類の光源において、前記放射は、パルス電流によって生成される熱プラズマから発される。非常に強力なＥＵＶ放射生成装置は、必要なプラズマを生成するために金属蒸気によって動作される。このような装置の例は、国際出願公開第２００５／０２５２８０ Ａ２号に示されている。この既知のＥＵＶ放射生成装置において、前記金属蒸気は、前記放電空間内の表面に塗布されると共に少なくとも部分的にパルスエネルギービーム（特にレーザビーム）によって蒸発される溶融金属から生成される。この装置の好ましい実施例において、前記２つの電極は、前記装置の動作中に回転される回転可能に取り付けられた形成電極輪である。前記電極輪は、回転中に、溶融金属を備える容器内に浸漬する。パルスレーザビームは、塗布された溶融金属から前記金属蒸気を生成するために、前記電極のうちの一方の表面に直接的に指向される。この金属蒸気雲は、２つ目の電極に向かって広がり、帯電コンデンサバンクに接続されている前記２つの電極間の短絡をもたらし、従って、放電を点火する。前記電気回路の低いインダクタンスのために、前記プラズマを１００ｎｓの周りの数十ｅＶまで加熱する数十ｋＡによる電気的パルスが、生成される。この加熱によって所望のイオン化段階が励起され、前記ＥＵＶ領域内の放射は、ピンチプラズマから発される。この変換効率は、ＥＵＶ放射の割合として規定され、即ち２πｓｒにおいて発される１３．５ｎｍを中心とする２％の帯域幅であり、このエネルギーは、最初は、前記コンデンサバンクに貯蓄されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ＥＵＶスキャナ内へのＥＵＶ放射の供給のために、パルス当たりに生成されるＥＵＶの放射の量だけでなく、前記ＥＵＶスキャナによって使用されることができる割合も、興味深い。このことは、約１ｍｍの直径を有する球体から生じている放射のみに当てはまる。正確な直径は、収集光学装置の立体角及びスキャナのエタンデュに依存している。特に、所謂"Aachener Lampe"の上述のもののような、放電生成されるプラズマに関して、生成されたＥＵＶ放射の全てが、上述の収集可能ボリューム内の中央に位置されるわけではないことが知られている。このことは、主に前記プラズマの中心と前記電極の一方との間の広い領域に起因するものであり、この領域からＥＵＶも発される。この低い輝度にもかかわらず、この領域から発されるエネルギーの全体量は、大きいボリュームのために、依然として著しいものである。収集可能変換効率（ＣＣＥ：Corrective Conversion Efficiency）は、収集可能ＥＵＶ放射と電気的パルスエネルギとの比であり、従って、当該ＥＵＶ生成の全体的な効率に関する測定基準（metric）である。
【０００４】
本発明の目的は、向上された収集可能変換効率によって電気的に動作される放電によって光学放射（特に、ＥＵＶ放射又は軟Ｘ線）を生成する方法及び装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
この目的は、添付の請求項１及び９に記載の装置及び方法によって達成される。当該方法及び装置の有利な実施例は、添付の従属請求項の主題であり、更に、本明細書の以下の部分に記載される。
【０００６】
提案される方法において、生成されるべき放射を発するプラズマは、放電空間内の少なくとも２つの電極間のガス媒体において点火される。前記ガス媒体は、液体材料（特に、溶融金属）から少なくとも部分的に生成され、前記放電空間内で移動する１つ又は幾つかの表面に塗布されると共に、１つ又は幾つかのパルスエネルギービームによって少なくとも部分的に蒸発され、このエネルギービームは、例えば、イオン又は電子ビームであっても良く、好ましい実施例においては、レーザビームである。前記パルスエネルギービームのパルスが生成され、各放電の時間間隔において、前記パルスエネルギービームの少なくとも２つの連続的なパルスが、塗布された液体材料を蒸発させる表面上へ指向される。
【０００７】
対応する装置は、互いから離間されて放電空間内に配される少なくとも２つの電極であって、前記電極の間のガス媒体内でのラズマの点火を可能にする少なくとも２つの電極と、前記放電空間内で移動する１つ又は幾つかの表面に液体材料を塗布する装置と、前記表面上へ１つ又は複数のパルスエネルギービームを指向するエネルギービーム装置であって、塗布された液体材料を少なくとも部分的に蒸発させ、これにより前記ガス媒体の少なくとも一部を生成するエネルギービーム装置とを有する。前記エネルギービーム装置は、各放電の時間間隔において、前記表面上の前記パルスエネルギービームの少なくとも２つの連続的なパルスを供給するように設計されている。そうでない場合、提案される当該装置は、参照によって本明細書に組み込まれる国際出願公開第２００５／０２５２８０ Ａ２号に記載されている装置のように構成されることができる。
【０００８】
提案される方法及び装置の主な見地は、各電極放電のための１つだけのエネルギービームのパルスの供給だけでなく、各放電又は電流パルスの時間間隔内の少なくとも２つの連続的なパルスの供給である。前記時間間隔は、対応する放電を点火する第１のエネルギービームパルスの供給によって開始し、前記コンデンサバンクが対応する電流パルスの後に放電されたときに終了する。各放電中の２つ以上の連続的なパルスによる液体材料の蒸着のため、前記プラズマの空間分布、従って生成される放射の空間分布は、放電当たり１つのみの単一のエネルギービームパルスを使用する場合よりも、ボリュームが更に凝縮されている。このことは、結果として、前記生成される放射のより多くがスキャナによって使用されることができるように、収集可能変換効率の上昇をもたらす。更に濃縮された放射の放出の他の有利な点は、高輝度領域が１つの単一のパルスによる場合よりも、収集ボリュームの中央の近くに位置されることにあり、前記放射が使用されるスキャナの光学性能を向上する。
【０００９】
当該方法及び装置の有利な実施例において、前記少なくとも２つの連続的なパルスが、３００ｎｓ以下の小さい相互時間遅延によって供給される。このよう短い時間間隔によって、前記収集可能変換効率の著しい向上が、ただ１つの単一のパルスの使用と比較して達成される。前記少なくとも２つの連続的なパルスは、各々適切なタイミングを達成するために自身のトリガーを有している２つの別個のエネルギービーム源（特に、レーザ源）を使用することによって、生成されることができる。ただ１つの単一のエネルギービーム源を使用することもでき、前記エネルギービーム源の前記パルスエネルギービームは、２つ以上の部分的なビームに分けられる。次いで、前記単一のパルス間の遅延は、異なる部分的なビームのための異なる遅延線によって達成される。１つのビームを幾つかの部分的なビームに分けるのに適切な（特にレーザビームの場合）ビームスプリッタは、従来技術において知られている。 
【００１０】
用途に依存して、幾つかのパラメータは、対応する用途に対して最大の収集可能変換効率を得るために最適化されることができる。これらのパラメータは、連続的なパルス間の時間遅延、連続的なパルスの偏光、連続的なパルスの波長、移動表面上の連続的なパルスの時間的及び空間的な輝度分布、並びに前記移動表面上への前記パルスの入射角である。このことは、２つ以上の連続的なパルスの各々が、他の偏向、波長、移動表面上の空間的及び時間的な輝度分布、及び移動表面上へ入射角を有することも意味する。前記空間的な輝度分布は、各個々のレーザビームのための別個の光学装置によって制御されることができる。この最適化は、上述のパラメータの１つ若しくは全て又は何らかの可能な組み合わせによって実施されることができる。
【００１１】
有利な実施例において、上述のパラメータの少なくとも１つは、診断ユニットによる適切な測定値に基づいて制御される。これらの測定は、当該収集可能ボリューム内のＥＵＶ収率を含むことができ、前記プラズマによって発される高速イオンの量の測定を含むこともできる。例えば、後方照明されたＣＣＤカメラ又はフォトダイオードのような、適切な放射検出器によって前記ＥＵＶ収率を測定する場合、前記パラメータは、有利には、前記収集可能ボリューム内の最大のＥＵＶ収率を得るように最適化されている。高速イオンの出力を測定する場合、前記パラメータは、前記収集器をスパッタすることができる高速イオンの最も低い出力を達成するように制御されることができる。上述の場合における前記対応する装置は、当該測定の結果に基づいて、上述のパラメータのうちの少なくとも１つを制御する制御ユニットを有する。
【００１２】
高速イオンの出力を測定するために、小さいピックアップコイルは、コンデンサバンク又は前記電極システムの付近に位置されることができる。このコイルは、前記電流の時間微分に比例する電圧を生成する。両方とも前記磁場に比例しているからである。こういうわけで、このピックアップコイルは、ｄＩ／ｄｔプローブとも称される。時間に対するｄＩ／ｄｔ信号の依存性から、高速イオンの生成がうまく抑制されるか否かの情報を与えるピンチ力学が、導出されることができる。１０ｋｅＶよりも大きい運動エネルギーを有する高速イオンは、有害である。これらは、殆ど、デブリ緩和システム（debris mitigation system）によって停止されることができないので、この結果、これらが、収集器ミラーの光学コーティングをスパッタ除去するからである。少なくとも１年の収集器の寿命を達成するために、高速イオンの生成の成功裏の低減も必要である。このことは、上述の制御ユニットによって得ることができる。
【００１３】
前記少なくとも２つの連続的なパルスは、前記表面（特に、移動電極表面）の移動方向に対して前記移動表面の同じ横方向の場所に供給されることができる。有利な実施例において、前記連続的なパルスは、この移動方向に対して異なる横方向の場所に供給される。このことは、前記表面に供給される前記液体材料の良好な使用を可能にし、生成されたプラズマの良好な空間分布を達成するのに使用されることもできる。この文脈において、「横方向」なる語は、前記表面の移動方向に対して垂直な前記表面上の方向を意味する。この技術によって、前記放電ボリュームは、このボリュームが通常小さい延長部を有する方向において延長されることができる。放電雲又はボリュームの空間的変動のみが、単一のパルスのみの供給と比較して変化しないので、前記放電ボリュームの相対的な変動は、このような技術によってより小さい。更に、前記移動表面上のエネルギービームパルスの衝突点を適切に分布させることによって、（前記放電ボリュームである）発光ボリュームは、前記発光ボリュームを光学システムの受け入れ領域（例えば、リソグラフィスキャナの光学システム）に最良に適応させるための正しい仕方で形成されることができるので、前記生成される放射の更に有効な使用を可能にする。
【００１４】
各放電内の連続的なパルスの横方向の位置を変化させることに加えて又はこの代わりに、少なくとも２つの異なる放電の、好ましくは連続的な放電の前記パルスのグループが（各パルスのグループは、対応する放電の前記連続的なパルスで形成されている）、前記異なる横方向の位置に供給されることができる。
【００１５】
有利な実施例において、前記エネルギービームパルス（各放電内の連続的なパルス又は異なる放電の前記パルスのグループの何れか）は、衝突点の周期的な繰り返しのパターンが前記移動表面上に達成されるように、前記移動表面に供給される。このパターンは、結果として、対応する表面の移動、前記パルス間の時間間隔、及び前記パルスの横方向の分布の組み合わせになる。例えば、前記パターンは、およそ衝突点の円形分布に選択されることができ、又は３つのパルス若しくはパルスのグループから生じている３つの衝撃点を有するように選択されることができ、これらの衝突点の各々は、二等辺三角形の角を形成する。
【００１６】
上述で提案された診断及び制御ユニットは、更に、発光ボリューム、又は収集可能なボリューム内のＥＵＶ輝度の所望の幾何学的配置が達成されるように、前記パルス又はパルスグループの横方向の位置を制御するのに使用されることもできる。
【００１７】
提案されている当該方法及び装置は、添付の請求項の範囲を制限することなく、添付の図面に関連して以下に記載される。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】ＥＵＶ放射又は軟Ｘ線を生成する装置の模式的な図を示している。
【図２】１つの放電の期間内で供給される連続的なパルス間の時間遅延を示していている模式的なブロック図である。
【図３】従来技術による１つの単一のレーザーパルスによって生成されるプラズマによって発されるＥＵＶ放射の模式的な像である。
【図４】本発明による２つの連続的なレーザーパルスによって生成されるプラズマによって発される前記ＥＵＶの模式的な像である。
【図５】本発明の一実施例による前記移動表面上の衝突点のパターンの模式的な図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
図１は、本方法が利用されることができると共に本発明の装置の一部であり得るＥＵＶ放射又は軟Ｘ線を生成するための装置の模式的な側面図を示している。この装置には、真空チャンバ内に配されている２つの電極１、２を有している。ディスク形電極１、２は、回転可能に取り付けられており、即ちこれらは、動作中、回転軸３の周りを回転する。この回転において、電極１、２は、対応する容器４、５内に部分的に浸漬する。これらの容器４、５の各々は、溶融金属６（この場合、液体スズ）を含んでいる。溶融金属６が、約３００℃の温度に、即ちスズの２３０℃の溶融点よりも僅かに高い温度に保持される。容器４、５内の溶融金属６は、前記容器に接続されている加熱装置又は冷却装置（図示略）によって、上述の動作温度に維持される。この回転において、電極の表面１、２は、液体金属薄膜が前記電極を形成するように、前記液体金属によって濡らされる。電極１、２上の液体金属の層の厚さは、典型的には０．５から４０μｍの範囲に、ストリッパ１１によって制御されることができる。電極１、２への電流は、絶縁されたフィードスルー８を介してコンデンサバンク７に接続されている溶融金属６を介して供給される。
【００２０】
このような装置によって、前記電極の表面は、前記電極のベース材料の放電摩耗が生じないように、連続的に再生される。前記溶融電極を通る前記電極輪の回転は、結果として、前記電極と前記溶融金属との間の緊密な熱的接触をもたらし、前記ガス放電によって加熱される前記電極輪は、自身の熱を前記溶融金属に対して効果的に放出することができる。前記電極輪と前記溶融金属との間の低いオーム抵抗は、更に、ＥＵＶ放射生成のための十分に熱いプラズマを生成するのに必要な非常により高い電流の伝導を可能にする。前記電流又は精巧な電流コンタクトを供給する前記コンデンサバンクの回転は、必要とされない。前記電流は、前記溶融金属の外側から１つの又は幾つかのフィードスルーを介して静止して供給されることができる。
【００２１】
前記電極輪は、有利には、１０−４ｈＰａ（１０−４ｍｂａｒ）よりも低い基本的な真空を備える真空システム内に配される。高電圧（例えば、２〜１０ｋＶの電圧）が、如何なる制御されていない電気的絶縁破壊も伴うことなく、前記電極に印加されることができる。この電気的な絶縁破壊は、パルスエネルギービームの適切なパルス（この例においては、レーザパルス）によって制御された態様において開始する。レーザーパルス９は、図に示されているように、２つの電極間の最も狭い点において電極１、２の一方に集束される。結果として、前記電極上の金属薄膜の一部１、２が蒸発し、前記電極のギャップを越えてブリッジする。このことは、コンデンサバンク７からの非常に高い電流を伴うこの点における破裂放電をもたらす。前記電流は、前記金属蒸気（この文脈においては燃料とも称する）を、前記金属蒸気がイオン化されてピンチプラズマ１５内の所望のＥＵＶ放射を発する高温まで、加熱する。
【００２２】
前記燃料が前記装置から漏出するのを防止するために、デブリ緩和ユニット１０が、前記装置の前に配される。このデブリ緩和ユニット１０は、前記装置からの放射の真っ直ぐな通過を可能にするが、当該装置から出る道筋における大量のデブリ粒子を保持する。前記装置のハウジング１４のコンタミネーションを回避するために、スクリーン１２は、電極１、２とハウジング１４との間に配されることができる。付加的な金属スクリーン１３は、電極１、２間に配されることができ、凝縮した金属が、２つの容器４、５内に流れ戻ることを可能にする。
【００２３】
このようなＥＵＶ生成装置によって、従来技術によって使用される及び構成される場合、１つの単一のレーザーパルスは、各放電を開始するように使用される。図３は、このような装置内の１つの単一のレーザーパルスによって生成されるプラズマによって発されるＥＵＶ放射の模式的な像を示している。低輝度放出領域の可視性を向上するために、対数関数的な尺度がとられる。異なる輝度は、この像に描かれている異なるシェルによっておおよそ示されている。外側のシェルが、最低輝度を示しており、最も奥のシェルが、最高輝度に関連している。閉じられている円は、典型的には、ＥＵＶスキャナのための収集可能ボリュームを示している。この像から分かるように、収集可能ボリューム２０の外側においても、ＥＵＶ放射が発される。低輝度にもかかわらず、収集可能ボリューム２０の外側の領域によって発されるエネルギーの全体量は、この大きいボリュームにより、依然として著しい。図３に示されているようなプラズマにおいて、このことは、生成される放射の約半分のみがＥＵＶスキャナにおいて使用されることができることを意味する。このプラズマのこの収集可能変換効率は、０．８％に等しい。このことは、１つ単一のレーザーパルスのみがこのようなＥＵＶ生成装置内のスズの蒸着のために使用されている場合に達成されることができる最大値に近い。
【００２４】
収集可能変換効率を増大させるために、当該方法及び装置において、放電当たり２つ以上のレーザーパルスが、このスズ雲を生成するように使用される。図２は、実施例を示しており、僅か２５ｎｓの時間差による２つの連続的なレーザーパルス１８が、スズを蒸発させるために使用されている。この図において、電流パルスの継続期間１９が、点線によって示されており、この電流パルス１９の初めにおける２つの連続的なパルスが、示されている。この例において、２つ目のレーザーパルスが、電流パルス１９の形成の前に既に供給されている。２つの連続的なレーザーパルス間の遅延は、前記２つ目のレーザーパルスが、放電中に供給されるように（図２内の点線を参照）、増大されることもできる。発されるＥＵＶ放射の得られる空間輝度分布は、図３の像と直接的に比較されることができる図４に示されている。生成されるＥＵＶ放射の全体量は、図３のものと類似しているが、空間分布は、閉じられた円によって示されている収集可能ボリューム２０内にはるかに集中され、ＥＵＶスキャナによって使用されることができる。このプラズマの収集可能変換効率は、約１．３％であり、各プラズマ放電に対して１つのみの単一のレーザーパルスの使用と比較して、５０％よりも高い効率の改善を意味する。当業者にとって、提案されている当該方法が、図２に示されている２つの連続的なレーザーパルスに限定されるものではないことは明らかである。３つ以上の連続的なレーザーパルスも、前記収集可能変換効率を改善するために、放電ごとに供給されることもできる。
【００２５】
前記連続的なレーザーパルス間の適切なタイミングは、各々これら自身のトリガーによって異なるレーザーを使用することにより及び／又はビームスプリッタ及び遅延ラインを使用することにより、達成されることができる。両方の手段が、図１による装置を適切に変更することによって、利用されることができる。
【００２６】
各放電における連続的なパルス又は異なる放電のパルスのグループを前記移動電極表面に対する同じ横方向の位置において供給する代わりに、これらのパルスは、回転電極輪の表面の移動方向に対して異なる横方向の場所において供給されることもできる。このようなレーザーパルスの分布又は前記スズの表面に対するレーザーパルスの衝突によって、１つ又は幾つかの放電を通じて平均して、従来技術と比較して直径の方向に高い延在部を有しているプラズマピンチ又は放射を発するボリュームが、形成されている。半径方向におけるこのような大きい直径又は延長部によって、相対的な空間変動が、減少される。図１の装置のみが、このような前記電極輪の表面上のレーザーパルスの分布を得るのに適応化されていなければならない。このことは、前記電極輪上の異なる横方向の場所に集中する幾つかのレーザー光源を使用することによって又は前記レーザー光源と前記電極輪の表面との間の回転又は走査光学装置を使用することによって、達成されることができる。
【００２７】
図５は、移動電極表面上へのレーザーパルスの供給のこのような横方向の変化によって達成されることができる衝突パターンの例を示している。パルス間又はパルスのグループ間の時間間隔に依存して、図５ａ及び図５ｂに示されているような衝突点１６のパターン１７が、前記表面上に達成される。２つのレーザーパルス又はレーザーパルスのグループが、前記電極輪の回動速度と比較して非常に短い時間間隔で供給される場合、図５ａのようなパターンが、達成される。前記パルスの全てが、同じ時間間隔において供給される場合、図５ｂに示されているようなジグザクのパターンが、達成される。
【００２８】
パターンのための３つのレーザーパルス又はレーザーパルスのグループを使用して、二等辺三角形に近い構造が、図５ｃに示されているように達成されることができる。衝突点１６の各々は、前記三角形の角にある。このようなパターンは、向上された出力の電力の有利な点を、ＥＵＶ放射の大きい放出領域又はボリュームの有利な点と組み合わせる。この放出領域は、図５ａ乃至５ｄの右側における閉じられている円によって示されている。このために、３つのレーザーパルス又はパルスのグループが、前記電極輪の回転速度と比較して、時間的に非常に短い間隔において供給されることができる。次いで、次の放電が、図５ｃから認識されることができるように、大きい時間間隔の後に生成される。
【００２９】
本発明は、添付図面及び上述の記載において、詳細に説明及び記載されたが、このような図例及び説明は、説明的なもの又は例示的なものとみなされるべきであり、限定的なものとみなされるべきではない。本発明は、開示されている実施例に限定されるものではない。上述の種々の実施例と添付請求項とが、組み合わされることもできる。開示されている実施例に対する他の変形は、添付図面、本明細書及び添付請求項の熟慮により、添付請求項に記載の本発明を実施する際に、当業者によって理解され行われることができる。例えば、連続的なパルスの供給は、２つの連続的なパルスの供給に限定されるものではない。収集可能変換効率の所望の向上を達成するために、３つ以上のレーザー又は連続的なパルスを使用することもできる。本発明は、ＥＵＶ放射又は軟Ｘ線に限定されるものではなく、電気的に動作される放電によって発される如何なる種類の光学放射にも適用されることができる。
【００３０】
「有する」という語は、他の構成要素又はステップの存在を排除するものではなく、単数形の構成要素は、複数のこのような構成要素を排除するものではない。特定の手段が、相互に異なる従属請求項において引用されているという単なる事実は、これらの手段の組み合わせが有利になるように使用されることができないと示すものではない。前記請求項における符号は、これらの請求項の範囲を制限するものとして解釈されてはならない。
【符号の説明】
【００３１】
１    電極
２    電極
３    回転軸
４    容器
５    容器
６    溶融金属
７    コンデンサバンク
８    フィードスルー
９    レーザーパルス
１０  デブリ緩和ユニット
１１  ストリッパ
１２  シールド
１３  金属スクリーン
１４  ハウジング
１５  ピンチプラズマ
１６  衝撃点
１７  パターン
１８  連続的なレーザーパルス
１９  電流パルス
２０  収集可能ボリューム
【図１】
0005608173.tif 000002
【図２】
0005608173.tif 000003
【図３】
0005608173.tif 000004
【図４】
0005608173.tif 000005
【図５】
0005608173.tif 000006