【事件の表示】
　特願２０１２−６１４７１「基板処理装置，半導体装置の製造方法及びプログラム。」拒絶査定不服審判事件〔平成２５年９月３０日出願公開，特開２０１３−１９７２３２〕について，次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は，成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は，平成２４年３月１９日の出願であって，その主な手続の経緯は，以下のとおりである。
　平成２７年　３月　３日　　　手続補正書提出
　平成２８年　１月　８日付け　拒絶理由通知
　平成２８年　３月１１日　　　意見書及び手続補正書提出
　平成２８年　７月２８日付け　拒絶査定
　平成２８年１０月３１日　　　審判請求書及び手続補正書提出
　平成２９年１１月２１日付け　拒絶理由通知
　平成３０年　１月１９日　　　意見書及び手続補正書提出
　
２．本願発明
　本願の請求項１ないし３に係る発明は，平成３０年１月１９日に提出された手続補正書によって補正された特許請求の範囲の請求項１ないし３に記載された事項により特定されるとおりのものと認めるところ，その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は以下のとおりである。
「　【請求項１】
　真空雰囲気で基板を搬送する搬送室と，
　前記搬送室に隣接し，前記基板を一時的に収容する第１予備室と，
　前記搬送室に隣接し，前記基板を一時的に収容する第２予備室と，
　前記搬送室に設けられ前記基板を搬送する基板搬送部と，
　前記搬送室に隣接して設けられ前記基板を処理する処理室と，
　前記搬送室と前記第１予備室との間に設けられた第１ゲートバルブと，
　前記搬送室と前記処理室との間に設けられた第２ゲートバルブと，
　前記搬送室と前記第２予備室との間に設けられた第３ゲートバルブと，
　前記第１ゲートバルブを開とし，前記基板搬送部が未処理の前記基板を前記第１予備室から前記搬送室内へ搬出して旋回する動作中に，前記第１ゲートバルブの閉と前記第２ゲートバルブの開とを，前記第１ゲートバルブの閉動作が完了すると同時に前記第２ゲートバルブの開動作が開始されるように連続して行い，前記第１ゲートバルブを閉じる時間と前記第２ゲートバルブを開ける時間との合計が前記基板搬送部の旋回動作時間よりも長くなるように前記基板搬送部，前記第１ゲートバルブおよび前記第２ゲートバルブを制御し，
　その後，前記処理室内で処理された処理済みの前記基板を前記処理室内から前記搬送室内へ搬出した後に，前記未処理の基板を前記搬送室内から前記処理室内へ搬入するように前記基板搬送部を制御し，
　その後，前記基板搬送部が前記処理済みの基板を保持して旋回する動作中に，前記第２ゲートバルブの閉と前記第３ゲートバルブの開とを，前記第２ゲートバルブの閉動作が完了すると同時に前記第３ゲートバルブの開動作が開始されるように連続して行い，前記第２ゲートバルブを閉じる時間と前記第３ゲートバルブを開ける時間との合計が前記基板搬送部の旋回動作時間よりも長くなるように前記基板搬送部，前記第２ゲートバルブおよび前記第３ゲートバルブを制御し，
　その後，前記処理済みの前記基板を前記搬送室内から前記第２予備室内へ搬入するように前記基板搬送部を制御する制御部と，
　を有する基板処理装置。」
　
３．引用例の記載事項及び引用発明
　当審で通知した平成２９年１１月２１日付け拒絶理由通知で引用した，本願出願前に頒布された刊行物である再公表特許ＷＯ９７／３４７４２号（以下「引用例」という。）には，以下の事項及び発明が記載されている（なお，下線は，理解の便のために当審で付したものである。）。
　
（１）第１４ページ第３ないし９行
「技術分野
　この発明は半導体製造装置やＬＣＤ製造装置などに適用されるもので，ワーク搬送ロボットを配設した１つのトランスファチャンバに隣接して複数のプロセスチャンバを配設し，ワーク搬送ロボットによってウェハまたはＬＣＤ等のワークを或るプロセンスチャンバから他のプロセスチャンバへ搬送するようにしたマルチチャンバ型の製造装置において，前記ワーク搬送ロボットの効率の良い搬送動作を実現するための改良に関する。」
　
（２）第１４ページ第１０ないし２７行
「背景技術
　この種のマルチチャンバ型の半導体製造装置は，例えば図１６のように構成されている。
　図１６において，ウェハ搬送ロボット１が配設されるトランスファチャンバ２の周囲には，ウェハに対する各種の半導体加工処理を実行するためのプロセスチャンバ３ａ〜３ｅと，外部からワークの搬入を行うためのワーク搬入チャンバ４と，外部へのワークの搬出を行うワーク搬出チャンバ５とが設けられている。
　プロセスチャンバ３ａ〜３ｅとトランスファチャンバ２との間，トランスファチャンバ２とワーク搬入チャンバ４との間，およびトランスファチャンバ２とワーク搬出チャンバ５との間には，開閉自在のゲートバルブ６ａ〜６ｇが夫々設けられており，これらゲートバルブ６ａ〜６ｇを開することによって各チャンバ間が連通されるようになっている。また，トランスファチャンバ２，プロセスチャンバ３ａ〜３ｅおよびワーク搬入搬出チャンバ４，５は真空状態に保たれており，ワーク搬入搬出チャンバ４，５→トランスファチャンバ２→プロセスチャンバ３ａ〜３ｅの順に真空度が高くなるようになっている。なお，
ゲートバルブ６ａ〜６ｇは，真空度を確保するために２つ以上のゲートバルブを同時に開くことはできないという制限がある。すなわち，或るゲートバルブを開く際は，他のゲートバルブが完全に閉まった状態で所要のゲートバルブの開制御を開始する。
　
（３）第１５ページ第１２行ないし第１６ページ第１５行
「係る構成において，ウェハ搬送ロボット１によってウェハＷをプロセスチャンバ３ｃからプロセスチャンバ３ｄに移送する場合の手順は以下のようになる。
　まず，プロセンスチャンバ３ｃ内でウェハＷを支持しているリフタが下降され，ウェハＷがロボット１のハンド１３に載置されると(図１７点Ｐ１)，ハンド１３に内蔵されているウェハ検出センサがオンになる。このオンが確認されると，ロボット１はアーム１１，１２を縮めてウェハＷを点Ｐ２に移動する。そして，ウェハＷの点Ｐ２への移動が終了すると，ロボット１はこの点Ｐ２で一旦停止し，退避終了信号をシステム全体を制御するシステムコントローラ（図示せず）に出力する。
　
システムコントローラでは，上記退避終了信号を受信すると，ゲートバルブ６ｃを閉じる制御を開始する。そして，システムコントローラが，ゲートバルブ６ｃの閉を確認すると，ゲートバルブ６ｄを開する制御を実行する。
　一方，ロボット１は，退避終了信号をシステムコントローラに出力すると，上記ゲートバルブ６ｃ，６ｄの開閉動作に並行して点Ｐ２から点Ｐ３への移動を行い，点Ｐ３に到達すると，ここで再度停止する。そして，ロボット１は，点Ｐ３で停止した時点でゲートバルブ６ｄの開閉状態を確認し，ゲートバルブ６ｄの開を確認した後に，点Ｐ４への移動を開始する。すなわち，ロボット１はゲートバルブ６ｄの開を確認することができるまで，点Ｐ３で待機する。
　点Ｐ４への移動の際，ロボット１は，プロセスチャンバ３ｄのウェハＷを載置するべき位置Ｐ４までアーム１１，１２を伸張し，位置Ｐ４で位置決め停止を行った後に移動終了信号をシステムコントローラに送出する。
　移動終了信号を受信したシステムコントローラでは，プロセンスチャンバ３ｄのリフタを上昇し，ウェハＷをロボット１のハンドからリフタ上に移載する。以上が一連のウェハ搬送動作である。」
　
（４）第１６ページ第１３ないし１５行
「なお，これらの図において，
Ｔはゲートバルブ６ｃの閉を開始してからゲートバルブ６ｄの開を終了するまでに要する時間（システム固有の固定値）であり，これは全てのゲートバルブで共通である。
　
（５）図８（ａ）
　図８（ａ）には，従来の速度パターンと，ゲートバルブ６ｃの閉を開始してからゲートバルブ６ｄの開を終了するまでに要する時間Ｔとの関係が示されている。
　
（６）図１６
　図１６には，マルチチャンバ型の製造装置の全体が示されている。
　
（７）図１７
　図１７には，マルチチャンバ型の製造装置において，ロボット１が移動する点Ｐ１ないしＰ４が示されている。
　
（８）引用発明
　上記（３）における「システムコントローラでは，上記退避終了信号を受信すると，ゲートバルブ６ｃを閉じる制御を開始する。そして，システムコントローラが，ゲートバルブ６ｃの閉を確認すると，ゲートバルブ６ｄを開する制御を実行する。」という記載は，ゲートバルブ６ｃの閉の後にゲートバルブ６ｄの開を行うことを意味するといえる。
　また，上記（４）には「Ｔはゲートバルブ６ｃの閉を開始してからゲートバルブ６ｄの開を終了するまでに要する時間」との記載があり，上記（５）の図８ａを参照すると，ロボット１が点Ｐ２から旋回を開始し（旋回速度が０から上昇し），点Ｐ３で旋回を終了する（旋回速度が０となる）までの時間よりも，Ｔの時間の方が長いことを理解できる。
　これらの事項を，技術常識をふまえて整理すると，引用例には，次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているといえる。
　
「真空状態でウェハＷを搬送するトランスファチャンバ２と， 
　前記トランスファチャンバ２に隣接し，前記ウェハＷの搬入を行うワーク搬入チャンバ４と，
　前記トランスファチャンバ２に隣接し，前記ウェハＷの搬出を行うワーク搬出チャンバ５と
　前記トランスファチャンバ２に設けられ前記ウェハＷを搬送するロボット１と， 
　前記トランスファチャンバ２に隣接して設けられ前記ウェハＷを処理するプロセスチャンバ３ａと，
　前記トランスファチャンバ２に隣接して設けられ前記ウェハＷを処理するプロセスチャンバ３ｃと，
　前記トランスファチャンバ２に隣接して設けられ前記ウェハＷを処理するプロセスチャンバ３ｄと，
　前記トランスファチャンバ２と前記ワーク搬入チャンバ４との間に設けられたゲートバルブ６ｇと，
　前記トランスファチャンバ２と前記プロセスチャンバ３ａとの間に設けられたゲートバルブ６ａと，
　前記トランスファチャンバ２と前記プロセスチャンバ３ｃとの間に設けられたゲートバルブ６ｃと，
　前記トランスファチャンバ２と前記プロセスチャンバ３ｄとの間に設けられたゲートバルブ６ｄと，
　前記トランスファチャンバ２と前記ワーク搬出チャンバ５との間に設けられたゲートバルブ６ｆと，
　前記ゲートバルブ６ｃを開とし，前記ロボット１が前記ウェハＷを前記プロセスチャンバ３ｃから前記トランスファチャンバ２へ搬入して旋回する動作中に，前記ゲートバルブ６ｃの閉の後に前記ゲートバルブ６ｄの開を行い，前記ゲートバルブ６ｃを閉じる時間と前記ゲートバルブ６ｄを開ける時間との合計Ｔが前記ロボット１の旋回動作時間よりも長くなるように前記ロボット１，前記ゲートバルブ６ｃおよび前記ゲートバルブ６ｄを制御し，
　ゲートバルブ６ｄの開を確認した後に，ウェハＷをプロセスチャンバ３ｄに搬入するようにロボット１を制御するシステムコントローラと，を有する半導体製造装置。」
　
４．対比
　本願発明と引用発明を対比すると，引用発明の「真空状態」が本願発明の「真空雰囲気」に相当することは明らかであり，以下同様に，「ウェハＷ」が「基板」に，「トランスファチャンバ２」が「搬送室」に，「ウェハＷの搬入を行うワーク搬入チャンバ４」が「基板を一時的に収容する第１予備室」に，「ウェハＷの搬出を行うワーク搬出チャンバ５」が「基板を一時的に収容する第２予備室」に，「ロボット１」が「基板搬送部」に，「プロセスチャンバ３ａ」が「処理室」に，「ゲートバルブ６ｇ」が「第１ゲートバルブ」に，「ゲートバルブ６ａ」が「第２ゲートバルブ」に，「ゲートバルブ６ｆ」が「第３ゲートバルブ」に，「システムコントローラ」が「制御部」に，「半導体製造装置」が「基板処理装置」に相当する。 
　以上から，本願発明と引用発明は，以下の点で一致及び相違する。
　
＜一致点＞ 
「真空雰囲気で基板を搬送する搬送室と，
　前記搬送室に隣接し，前記基板を一時的に収容する第１予備室と，
　前記搬送室に隣接し，前記基板を一時的に収容する第２予備室と，
　前記搬送室に設けられ前記基板を搬送する基板搬送部と，
　前記搬送室に隣接して設けられ前記基板を処理する処理室と，
　前記搬送室と前記第１予備室との間に設けられた第１ゲートバルブと，
　前記搬送室と前記処理室との間に設けられた第２ゲートバルブと，
　前記搬送室と前記第２予備室との間に設けられた第３ゲートバルブと，
　制御部と，を有する基板処理装置。」 
　
＜相違点１＞
　本願発明の制御部は，「前記第１ゲートバルブを開とし，前記基板搬送部が未処理の前記基板を前記第１予備室から前記搬送室内へ搬出して旋回する動作中に，前記第１ゲートバルブの閉と前記第２ゲートバルブの開とを，前記第１ゲートバルブの閉動作が完了すると同時に前記第２ゲートバルブの開動作が開始されるように連続して行い，前記第１ゲートバルブを閉じる時間と前記第２ゲートバルブを開ける時間との合計が前記基板搬送部の旋回動作時間よりも長くなるように前記基板搬送部，前記第１ゲートバルブおよび前記第２ゲートバルブを制御」するものであるのに対して，引用発明の制御部は，基板搬送部，第１ゲートバルブ及び第２ゲートバルブをどのように制御するか明確でない点。
　
＜相違点２＞
　本願発明の制御部は，「その後，前記処理室内で処理された処理済みの前記基板を前記処理室内から前記搬送室内へ搬出した後に，前記未処理の基板を前記搬送室内から前記処理室内へ搬入するように前記基板搬送部を制御」するものであるのに対して，引用発明の制御部は，基板搬送部をどのように制御するのか明確でない点。
　
＜相違点３＞
　本願発明の制御部は，「その後，前記基板搬送部が前記処理済みの基板を保持して旋回する動作中に，前記第２ゲートバルブの閉と前記第３ゲートバルブの開とを，前記第２ゲートバルブの閉動作が完了すると同時に前記第３ゲートバルブの開動作が開始されるように連続して行い，前記第２ゲートバルブを閉じる時間と前記第３ゲートバルブを開ける時間との合計が前記基板搬送部の旋回動作時間よりも長くなるように前記基板搬送部，前記第２ゲートバルブおよび前記第３ゲートバルブを制御し，その後，前記処理済みの前記基板を前記搬送室内から前記第２予備室内へ搬入するように前記基板搬送部を制御」するものであるのに対して，引用発明の制御部は，処理済みの基板を，別の処理室（プロセスチャンバ３ｄ）内に搬入するように基板搬送部，第２ゲートバルブ及び別の処理室のゲートバルブ（ゲートバルブ６ｄ）を制御している点。
　
５．相違点についての検討及び判断
（１）相違点１について
　ア．引用発明の制御部は，プロセスチャンバ３ｃとプロセスチャンバ３ｄの間の基板の搬送，すなわち処理室と処理室の間の基板の搬送について，ゲートバルブ６ｃを開とし，基板搬送部が基板をプロセスチャンバ３ｃから搬送室内へ搬入して旋回する動作中に，ゲートバルブ６ｃの閉の後にゲートバルブ６ｄの開を行い，ゲートバルブ６ｃを閉じる時間とゲートバルブ６ｄを開ける時間との合計Ｔが基板搬送部の旋回動作時間よりも長くなるように基板搬送部，ゲートバルブ６ｃ及びゲートバルブ６ｄを制御している。
　このような制御を行う理由は，上記３．（２）に示すように，「ゲートバルブ６ａ〜６ｇは，真空度を確保するために２つ以上のゲートバルブを同時に開くことはできないという制限がある」ことによるものであるが，この制限は，ゲートバルブ６ａから６ｇまでの全てを律するものであり，ゲートバルブ６ｇ及び６ａ，すなわち第１ゲートバルブ及び第２ゲートバルブにも同じ制限が生じる。そうすると，引用発明において，第１予備室と処理室の間で基板を搬送する際のゲートバルブの制御を，処理室と処理室の間で基板を搬送する際のゲートバルブの制御と同様に行うという発想は，当業者であれば当然に想到し得る事項にすぎない。
　イ．また，ゲートバルブ６ｃの閉の後にゲートバルブ６ｄの開を行うことについて，上記３．（３）に「システムコントローラが，ゲートバルブ６ｃの閉を確認すると，ゲートバルブ６ｄを開する制御を実行する」と記載されており，これを当業者が実施しようとすれば，ゲートバルブ６ｃの閉を確認した後に，何らかの作業や待ち時間を差し挟むことなく，ゲートバルブ６ｄを開く制御を行うようにすることは通常想到し得る事項である。したがって，当業者であれば，第１ゲートバルブと第２ゲートバルブについても，第１ゲートバルブの閉動作が完了すると同時に第２ゲートバルブの開動作を連続して行うように構成することは明らかである。
　ウ．さらに，上記３．（４）に「Ｔはゲートバルブ６ｃの閉を開始してからゲートバルブ６ｄの開を終了するまでに要する時間（システム固有の固定値）であり，これば全てのゲートバルブで共通である」と記載されているから，ゲートバルブ６ａから６ｇまでの全てについて，時間Ｔは共通であり，当然に，第１予備室の第１ゲートバルブの閉を開始してから処理室の第２ゲートバルブの開を終了するまでの時間Ｔは，基板搬送部の旋回動作時間よりも長い時間といえる。
　エ．そして，引用発明の第１予備室は，基板の搬入を行うためのチャンバであるから，その基板が未処理であることや，当該未処理の基板を基板搬送部で第１予備室から搬送室内へ搬出するように制御することは当然である。
　オ．したがって，引用発明の制御部について，第１ゲートバルブを開とし，基板搬送部が未処理の基板を第１予備室から搬送室内へ搬出して旋回する動作中に，第１ゲートバルブの閉と第２ゲートバルブの開とを，第１ゲートバルブの閉動作が完了すると同時に第２ゲートバルブの開動作が開始されるように連続して行い，第１ゲートバルブを閉じる時間と第２ゲートバルブを開ける時間との合計が基板搬送部の旋回動作時間よりも長くなるように基板搬送部，第１ゲートバルブ及び第２ゲートバルブを制御するように構成することは，当業者が容易に想到できた事項である。
　
（２）相違点２について
　ア．引用発明は，未処理のウェハＷをプロセスチャンバ３ｃに搬入する際の制御については不明であり，また，処理済みのウェハＷを別のプロセスチャンバ３ｄに搬入する際の制御については，ゲートバルブ６ｄの開を確認した後に，ウェハＷをプロセスチャンバ３ｄに搬入するようにロボット１を制御しており，プロセスチャンバ３ｄに基板を搬入する前に，プロセスチャンバ３ｄが空き状態であることを前提としている。
　イ．しかし，複数の基板を同じように処理する際には，処理済み基板の搬出・未処理基板の搬入・未処理基板の処理という一連の動作を連続的に繰り返すことで，効率を高めることが一般的であり，その際に，処理済みの基板を処理室内から搬送室内へ搬出した後に，未処理の基板を搬送室内から処理室内へ搬入するように基板搬送部を制御することは，特開２０１２−５４５３６号公報の段落［００９４］，特開２００４−１４６７１４号公報の段落［００３３］及び特開２００３−２６４２１３号公報の段落［００１７］に示すように周知の技術である。
　ウ．したがって，引用発明においても，基板の処理を連続的に行って効率を高めるように，処理室内で処理された処理済みの基板を処理室内から搬送室内へ搬出した後に，未処理の基板を搬送室内から処理室内へ搬入するように基板搬送部を制御することは，当業者が容易に想到できた事項である。
　
（３）相違点３について
　ア．引用発明では，１つの基板に複数種類の処理を重畳して行うことを前提として，処理済みの基板を，別の処理室内に搬入するように制御を行っているが，基板に何種類の処理を行うかどうかは，基板の仕様に応じて決定すべき事項であるし，１つの基板に１種類の処理のみを行うことは，例えば特開２０１２−５４５３６号公報の段落［００９８］に示すように周知の技術である。また，１つの基板に１種類の処理のみを行う際には，処理済みの基板を第２予備室内に搬入すべきことは当然である。
　したがって，引用発明において，処理済みの基板を，別の処理室内に搬入することに代えて，第２予備室内に搬入するように制御することは，当業者が容易に想到できた事項である。
　イ．そして，上記（１）ア．で説示した理由と同様の理由により，当業者は，引用発明において，処理室と第２予備室の間で基板を搬送する際のゲートバルブの制御は，処理室と処理室の間で基板を搬送する際のゲートバルブの制御と同様に行うことは，当業者であれば当然に想到し得る事項にすぎない。
　ウ．また，上記（１）イ．で説示した理由と同様の理由により，当業者は，第２ゲートバルブの閉動作が完了すると同時に第３ゲートバルブの開動作を連続して行うように構成するといえる。
　エ．さらに，上記（１）ウ．で説示した理由と同様の理由により，処理室の第２ゲートバルブの閉を開始してから第２予備室の第３ゲートバルブの開を終了するまでの時間Ｔは，基板搬送部の旋回動作時間よりも長い時間といえる。
　オ．そして，引用発明の第２予備室は，基板の搬出を行うためのチャンバであるから，その基板が処理済みであることや，当該処理済みの基板を基板搬送部で搬送室内から第２予備室内へ搬入するように制御することは当然である。
　カ．したがって，引用発明の制御部について，基板搬送部が処理済みの基板を保持して旋回する動作中に，第２ゲートバルブの閉と第３ゲートバルブの開とを，第２ゲートバルブの閉動作が完了すると同時に第３ゲートバルブの開動作が開始されるように連続して行い，第２ゲートバルブを閉じる時間と第３ゲートバルブを開ける時間との合計が基板搬送部の旋回動作時間よりも長くなるように基板搬送部，第２ゲートバルブ及び第３ゲートバルブを制御し，その後，処理済みの基板を搬送室内から第２予備室内へ搬入するように基板搬送部を制御することは，当業者が容易に想到できた事項である。
　
（４）作用効果について
　本願発明が奏する作用や効果は，引用発明や周知の技術が奏する作用や効果を超えるものとはいえない。
　
６．意見書における請求人の主張について
　平成３０年１月１９日に提出された意見書において，本願発明と引用発明の差異について，引用例には，本願発明に特有の構成が開示も示唆もされていない旨を主張（第３ページ（ｃ）欄）し，その根拠として，引用例には，未処理の基板と処理済みの基板を入れ替える動作について記載がない旨を主張（第３ページ（ｄ）欄）し，引用例には，ゲートバルブ６ｃの閉動作とゲートバルブ６ｄの開動作を連続して行うことについて記載も示唆もない旨を主張（第３ページ（ｇ）欄）している。
　しかし，基板を入れ替える動作については，上記（２）で説示するように，当業者が容易に想到できた事項であり，上記（１）イ．で説示するように，引用例に記載されたゲートバルブの制御を当業者が実施しようとすれば，ゲートバルブ６ｃの閉動作とゲートバルブ６ｄの開動作を連続して行うように構成することは明らかであるから，請求人の主張は採用できない。
　
７．むすび
　したがって，本願発明は，引用発明，及び周知の技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり，特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから，本願は拒絶すべきものである。
　よって，結論のとおり審決する。