【事件の表示】
　特願２０１３−５０６７１３「構造物体を検査するための光学装置及び方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２３年１１月　３日国際公開、ＷＯ２０１１／１３５２３１、平成２５年　７月１１日国内公表、特表２０１３−５２８７９１、請求項の数（１９）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯　
特許出願：　平成２３年４月１９日
（パリ条約による優先権主張（外国庁受理２０１０年４月２６日、フランス）を伴う国際出願）
手続補正：　平成２７年５月７日
手続補正：　平成２８年４月２０日 （以下、「補正２」という。）
補正２の却下：　平成２８年７月２５日（送達日：同年８月２日）  
拒絶査定：　平成２８年７月２５日（送達日：同年８月２日）
拒絶査定不服審判の請求：　平成２８年１２月２日 
手続補正：　平成２８年１２月２日 
拒絶理由通知：　平成２９年７月２０日
（以下、「当審拒絶理由」という。発送日：同年同月２５日）
手続補正：　平成２９年９月２５日（以下、「本件補正」という。）
第２　本願発明
　本願請求項１−１９に係る発明（以下、それぞれ「本願発明１」−「本願発明１９」という。）は、本件補正により補正された特許請求の範囲の請求項１−１９に記載された事項により特定されるものと認められるところ、本願発明は以下のとおりの発明である。
「【請求項１】
　構造物体（４）例えばウェハを検査するための顕微鏡装置であって、
−カメラ（１）、
−前記カメラ（１）において視野に応じて前記物体（４）の画像を生成することができ、かつ、前記物体（４）の側に配置された遠位レンズ（３）を含む光学画像化手段（２）、
−複数の赤外線波長を有する測定ビーム（６）を含み、かつ、前記測定ビーム（６）の逆反射と１つの光学参照との干渉によって測定を行うことのできる低コヒーレンス赤外線干渉計（５）、及び
−前記測定ビームが遠位レンズ（３）を通過するように、及び、前記測定ビームが、画像化手段（２）の視野に実質的に含まれる測定領域中で前記物体（４）を照射するように、前記干渉計の光ファイバに由来する前記測定ビームを前記光学画像化手段（２）に導入するための光学結合手段（７）とコリメータ
を含む顕微鏡装置において：
−前記測定ビームの一部が前記コリメータにおいて前記光ファイバ中に反射して前記光学参照を発生するように、前記光ファイバ及び前記コリメータが配置されており、そして
−前記低コヒーレンス赤外線干渉計（５）が、固定参照（４４）を備えるアームと時間遅延ライン（４５）を備えるアームとを含むデコード干渉計を含み、前記低コヒーレンス赤外線干渉計（５）の測定範囲が、前記アーム間の光路長差によって及び前記遅延ライン（４５）の最大ストロークによって決定され、前記物体に対する前記ビームが対象範囲とする光学距離に近い光学距離に相当する測定範囲において発生する前記測定ビームの逆反射（６）のみによって測定が行われるように、低コヒーレンス赤外線干渉計が調整されること
を特徴とする顕微鏡装置。
　　【請求項２】
　前記遠位レンズ（３）が、可視波長で画像を生成するように設計されていることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
　　【請求項３】
　前記遠位レンズ（３）が、顕微鏡レンズを含むことを特徴とする、請求項１又は２に記載の装置。
　　【請求項４】
　前記測定ビーム（６）が、１１００〜１７００ナノメートルの波長を含むことを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の装置。
　　【請求項５】
　前記視野及び前記測定領域の寸法を実質的に同一の割合で同時に修正するように、光学画像手段（２）の倍率を変更するための第１の倍率手段（３、８）をさらに含むことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の装置。
　　【請求項６】
　前記第１の倍率手段（３、８）が、様々な倍率を有する光学部品を備えるタレット及び可変倍率光学部品のうち、少なくとも一方の部品を含むことを特徴とする、請求項５に記載の装置。
　　【請求項７】
　前記視野に対して前記測定領域の寸法を修正するために、前記測定ビーム（６）の倍率を修正するための第２の倍率手段（９）をさらに含むことを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の装置。
　　【請求項８】
　前記物体（４）及び前記光学画像化手段（２）に関する相対変位手段（１０）をさらに含むことを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の装置。
　　【請求項９】
　前記物体（４）及び前記測定ビーム（６）に関する相対変位手段（１１）をさらに含むことを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の装置。
　　【請求項１０】
　前記遠位レンズ（３）を介して前記物体（４）を照射するように配置され、かつ可視波長の光線（２５）を生成する照明手段（１２）をさらに含むことを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の装置。
　　【請求項１１】
　前記カメラ（１）において、前記物体の画像と重ね合わされた干渉縞を生成し、そこから前記物体（４）の表面のトポグラフィを導き出すことのできる全視野干渉計（１３）を、前記遠位レンズ（３）の位置にさらに含むことを特徴とする、請求項１０に記載の装置。
　　【請求項１２】
　前記全視野干渉計が、前記測定ビーム（６）の波長に対して実質的に透過性である二色性部品（３０、３１、３２）を含むことを特徴とする、請求項１１に記載の装置。
　　【請求項１３】
　前記画像化手段から見て前記物体の裏側に配置され、１マイクロメートルよりも高い波長を有する光源を含み、かつ、前記カメラ（１）上に前記物体（４）の透過による画像形成を可能にする照明手段（１４）をさらに含むことを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の装置。
　　【請求項１４】
　前記低コヒーレンス赤外線干渉計（５）が、前記測定範囲において：
−前記測定ビームの波長に対して実質的に透過性である材料の少なくとも１つの層の光学的厚さ、
−少なくともその高い部分及び少なくともその低い部分が前記測定領域に含まれているパターンの高さ、
−前記測定ビーム（６）と前記物体（４）との接触点の、前記測定範囲における絶対高さの要素のうちの少なくとも１つの測定を可能にすることを特徴とする、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の装置。
　　【請求項１５】
　前記カメラ（１）によって検出可能な少なくとも１つの波長を含み、かつ前記測定ビーム（６）と重ね合わされる観察ビーム（１５）をさらに含むことを特徴とする、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の装置。
　　【請求項１６】
　前記測定領域の表示を含む、前記視野の画像を生成することができる、デジタル処理及び表示手段（１６）をさらに含むことを特徴とする、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の装置。
　　【請求項１７】
　構造物体（４）例えばウェハを検査するための方法であって：
−カメラ（１）において、視野に応じて物体（４）の画像を生成するステップと、前記物体（４）の側に配置されるように遠位レンズ（３）を用意するステップ、及び
−複数の赤外線波長を有する測定ビーム（６）を発射する低コヒーレンス赤外線干渉計（５）を用いて、該測定ビーム（６）の逆反射と１つの光学参照との干渉による測定を行うステップ
を含む方法において：
−前記測定ビームが前記遠位レンズ（３）を通過するように、及び、前記測定ビームが前記画像化手段（２）の前記視野に実質的に含まれる測定領域中で前記物体（４）を照射するように、前記干渉計の光ファイバに由来する前記測定ビームを前記光学画像化手段（２）に導入するための光学結合器（７）及びコリメータを用意するステップ、
−前記測定ビームの一部を前記コリメータにおいて前記光ファイバ中に反射させて前記光学参照を発生させるステップ、そして
−固定参照（４４）を備えるアームと時間遅延ライン（４５）を備えるアームとを含むデコード干渉計を含む前記低コヒーレンス赤外線干渉計（５）において、前記低コヒーレンス赤外線干渉計（５）の測定範囲が、前記アーム間の光路長差及び前記遅延ライン（４５）の最大ストロークによって決定され、前記物体に対する前記ビームが対象範囲とする光学距離に近い光学距離に相当する測定範囲において発生する前記測定ビームの逆反射（６）のみによって測定が行われるように、低コヒーレンス赤外線干渉計を調整するステップを更に含むことを特徴とする、前記方法。
　　【請求項１８】
　前記視野の前記画像内の前記測定領域の位置が、事前の較正の間に記憶されることを特徴とする、請求項１７に記載の方法。
　　【請求項１９】
　前記カメラ（１）及び前記低コヒーレンス赤外線干渉計（５）からの情報が、前記物体（４）の三次元表示を生成するために組み合わされることを特徴とする、請求項１７又は１８に記載の方法。」
第３　引用文献、引用発明等
１．引用文献１について
　原査定の拒絶の理由に引用された引用文献１（特開２００４−２９４１５５号公報）には、図面とともに次の事項が記載されている。（下線は当審による。以下同様。）
「【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば
薄膜の屈折率及び厚さなど、
を測定することができる装置
「【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳しく説明する。図１は、本発明の測定装置の一実施形態を示した概略構成図である。図中符号１は光源を示し、３は被測定物を示す。
光源光は低コヒーレンス光であることが好ましく、光源１としては、広帯域なバンド幅を有する光を出射できるものが好ましく用いられ、例えばＳＬＤ（ｓｕｐｅｒ−ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ  ｄｉｏｄｅ：スーパールミネセントダイオード）
被測定物３は、薄板や薄膜等、光の屈折率が異なる媒質の界面間に挟まれた層状であり、光源光を透過可能で、かつ光学的一様な層とみなせるものが適用される。
被測定物３は、光源光の光軸方向が厚さ方向と一致するように保持、固定されている。被測定物３の表裏両面のうちの光源１側の一方の面（以下、前面という）が最表面を成していてもよく、該前面上に光源光を透過する層が設けられていてもよい。また被測定物３の他方の面（以下、後面という）が最表面を成していてもよく、該後面上に被測定物３と屈折率が異なる層が設けられていてもよい。被測定物３の厚さは、使用する広帯域光源１のコヒーレンス長よりも、被測定物の厚さと屈折率の積の値が小さいと分解能の関係により測定が困難になる。一方、厚過ぎると被測定物の前面に焦点を位置させたときの反射光量と、後面に焦点を位置させたときの反射光量との差が大きくなるので、１０μｍ〜１０ｍｍ程度が好ましく、より好ましくは１０μｍ〜２ｍｍ程度である。
【００１２】
本実施形態の装置において、
光源１から出射された光は、第１の光ファイバ１１、サーキュレータ２、および第２の光ファイバ１２を順に経て測定部２０に至るように構成され
サーキュレータ２は３つのポートを有しており、それぞれに第１の光ファイバ１１、第２の光ファイバ１２、第３の光ファイバ１３が接続されている。サーキュレータ２は、第１の光ファイバ１１から第２の光ファイバ１２へは光が通り、第２の光ファイバ１２から第３の光ファイバ１３へも光が通るが、これらの逆向きには光は戻らないように構成されている。
第１の光ファイバ１１、第２の光ファイバ１２、および第３の光ファイバ１３としては、一般的な伝送用光ファイバが用いられ、石英系ガラスファイバが好適に用いられる。」
「【００１４】
測定部２０において、第２の光ファイバ１２から出射された光は、コリメータ２１で平行光とされた後、半透鏡２２へ入射される。
半透鏡２２は、入射光の一部を反射し一部を透過する特性を有しており、該半透鏡２２の透過光は集光レンズ２３によって集光され、該集光光が被測定物３へ照射される。
そして被測定物３の反射光（以下、検査光ということもある）が、集光レンズ２３を経て半透鏡２２を透過した後、コリメータ２１を経て第２の光ファイバ１２に入射される
一方、半透鏡２２の反射光（以下、参照光ということもある）はコリメータ２１を経て第２の光ファイバ１２に入射される。
「【００１６】
このように測定部２０から第２の光ファイバ１２へは、検査光および参照光が入射され、該
検査光の光信号と参照光の光信号の両方を含む光が第２の光ファイバ１２、サーキュレータ２、および第３の光ファイバ１３を順に経て干渉部３０に至るように構成されている。
干渉部３０は、第３の光ファイバ１３からの出射光の光路上に設けられたコリメータ３１、ビームスプリッタ３２、および第１のミラー３５と、前記ビームスプリッタ３２内で第３の光ファイバ１３からの出射光の光路と直交する光軸を有する第２のミラー３６と、前記ビームスプリッタ３２を挟んで前記第２のミラー３６と対峙する位置関係にあるコリメータ３７を備えている。
【００１７】
干渉部３０では、第３の光ファイバ１３から出射された光がコリメータ３１で平行光とされた後、ビームスプリッタ（分岐手段かつ合波手段）３２で、直進する第１の分岐光路３３と、入射方向に対して直交する第２の分岐光路３４に分岐される。
第１の分岐光路３３を進む光は、第１のミラー３５で反射され、該反射光は第１の分岐光路３３と平行に前記ビームスプリッタ３２に入射される。
一方、第２の分岐光路３４を進む光は、第２のミラー３６で反射され、該反射光は第２の分岐光路３３と平行に前記ビームスプリッタ３２に入射される。
そして、ビームスプリッタ３２は、第２のミラー３６からの反射光を直進させるとともに、第１のミラー３５からの反射光を、その入射方向に対して直交する方向に進行方向を変えるように構成されており、これによって
第１のミラー３５の反射光と第２のミラーの反射光が合波され
干渉光を生成し、
受光器（検出手段）４に入射され、干渉光強度が検出される
「【００１９】
また第１のミラー３５は、第１の分岐光路３３の光軸方向に沿って、進退可能な第１のステージ３８（光路長補正手段）上に固定されており、
第２のミラー３６は、第２の分岐光路３４の光軸方向に沿って、微動可能な第２のステージ３９（光路長可変手段）上に固定され
「【００２３】
本実施形態の装置にあっては、第３の光ファイバ１３から出射される光は、半透鏡２２からの反射光（参照光）と被測定物３からの反射光（検査光）とを含んでいる。したがってこれをビームスプリッタ３２で分岐した２つの分岐光（第１の分岐光路３３の伝搬光および第２の分岐光路３４の伝搬光）の光強度に関しては、いずれも参照光に由来するピークと検査光に由来するピークとを含んでおり、該２つのピークの時間軸上のずれは半透鏡２
２の反射面から被測定物３の前面までの距離Ｘに相当する。
そこで、前記第１の分岐光路３３と第２の分岐光路３４の光路長差を前記Ｘとほぼ等しくした状態で、前記２つの分岐光を合波して得られる干渉光強度を最大とすれば、
参照光と検査光（前面からの反射光）とが干渉し合う状態（第１の状態）に初期設定する
この後、
第１のステージ３８を固定し、光源光の焦点を被測定物３の後面上に移動させて、受光器４で検出される干渉光強度が最大となるように第２のステージ３９を移動させれば、参照光と検査光（後面からの反射光）とが干渉し合う状態（第２の状態）に設定することができる。
【００２４】
このように第１の状態から第２の状態に移行させたときの、前記測定部ステージ２５の移動量（ｚ）と前記第２のステージ３９の移動量（ΔＬ）の値から、被測定物３の位相屈折率ｎと厚さｔを、
導出することができる。
すなわち、低コヒーレンス光を被測定物３に対して集光させる集光レンズ２３の開口数をＳ、被測定物３の位相屈折率をｎ、被測定物３の屈折率波長分散量をΔｎとする。波長分散量Δｎ＜＜１と近似すると、被測定物３の位相屈折率ｎは下記数式（１）で表される。
数式（１）中の波長分散量Δｎは、前記ΔＬおよびｚと、定数ａおよびｂを用いて、下記数式（２）で表される。ここで定数ａおよびｂは、実験的に得られており、被測定物３が固体である場合はａが０．０２４１、ｂが１．６９となり、被測定物３が液体である場合はａが０．０４６０、ｂが１．５３となる。
さらに被測定物３の厚さｔは、ここで求められる被測定物３の位相屈折率ｎ、波長分散量Δｎと、前記ΔＬとｚを用いて下記数式（３）で表される。」
「【００３４】
【実施例】
以下、具体的な実施例を示して本発明の効果を明らかにする。
（実施例１）
図１に示す構成の測定装置を作製した。
光源１としては、発振中心波長λＣ＝８２０ｎｍのＳＬＤを用いた。このＳＬＤの半値全幅（ＦＷＨＭ）は△λ＝２０ｎｍである。
・・・」
　上記記載より、引用文献１には次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。（なお、発明の詳細な説明における、対応する記載の段落番号を括弧書きで示す。以下同様。）
「薄膜の屈折率及び厚さなどを測定することができる装置（【０００１】）であって、
　光源光は低コヒーレンス光であることが好ましく、光源１としては、広帯域なバンド幅を有する光を出射できるものが好ましく用いられ、例えば発振中心波長λＣ＝８２０ｎｍ、半値全幅（ＦＷＨＭ）は△λ＝２０ｎｍであるＳＬＤ（ｓｕｐｅｒ−ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ  ｄｉｏｄｅ：スーパールミネセントダイオード）であり（【００１１】、【００３４】）、
　光源１から出射された光は、第１の光ファイバ１１、サーキュレータ２、および第２の光ファイバ１２を順に経て測定部２０に至るように構成され（【００１２】）、測定部２０において、第２の光ファイバ１２から出射された光は、コリメータ２１で平行光とされた後、半透鏡２２へ入射され、半透鏡２２の透過光は集光レンズ２３によって集光され、該集光光が被測定物３へ照射され、そして被測定物３の反射光（以下、検査光ということもある）が、集光レンズ２３を経て半透鏡２２を透過した後、コリメータ２１を経て第２の光ファイバ１２に入射され、一方、半透鏡２２の反射光（以下、参照光ということもある）はコリメータ２１を経て第２の光ファイバ１２に入射され（【００１４】）、検査光の光信号と参照光の光信号の両方を含む光が第２の光ファイバ１２、サーキュレータ２、および第３の光ファイバ１３を順に経て干渉部３０に至るように構成されており（【００１６】）、干渉部３０では、第３の光ファイバ１３から出射された光がコリメータ３１で平行光とされた後、ビームスプリッタ（分岐手段かつ合波手段）３２で、直進する第１の分岐光路３３と、入射方向に対して直交する第２の分岐光路３４に分岐され、第１の分岐光路３３を進む光は、第１のミラー３５で反射され、該反射光は第１の分岐光路３３と平行に前記ビームスプリッタ３２に入射され、一方、第２の分岐光路３４を進む光は、第２のミラー３６で反射され、該反射光は第２の分岐光路３３と平行に前記ビームスプリッタ３２に入射され、第１のミラー３５の反射光と第２のミラーの反射光が合波されて干渉光を生成し、受光器（検出手段）４に入射されて干渉光強度が検出されるように構成され（【００１７】）、
　また第１のミラー３５は、第１の分岐光路３３の光軸方向に沿って、進退可能な第１のステージ３８（光路長補正手段）上に固定されており、第２のミラー３６は、第２の分岐光路３４の光軸方向に沿って、微動可能な第２のステージ３９（光路長可変手段）上に固定され（【００１９】）、参照光と検査光（前面からの反射光）とが干渉し合う状態（第１の状態）に初期設定した後、第１のステージ３８を固定し、光源光の焦点を被測定物３の後面上に移動させて、受光器４で検出される干渉光強度が最大となるように第２のステージ３９を移動させれば、参照光と検査光（後面からの反射光）とが干渉し合う状態（第２の状態）に設定することができ、このように第１の状態から第２の状態に移行させたときの、前記測定部ステージ２５の移動量（ｚ）と前記第２のステージ３９の移動量（ΔＬ）の値から、被測定物３の位相屈折率ｎと厚さｔを導出することができる（【００２３】、【００２４】）、装置。」
２．引用文献２について
　また、原査定の拒絶の理由に引用された引用文献２（特開２００６−２６６８６１号公報）には、図面とともに次の事項が記載されている。
「【００４２】
［装置構成］
  本発明に係る光画像計測装置の第１の実施形態の構成を図１、２を参照して説明する。図１は、本実施形態に係る光画像計測装置１の光学系の概略構成の一例を表し、図２は、その制御系の構成の一例を表している。
【００４３】
  
光画像計測装置１は、被測定物体の画像計測を行うための光学系（計測光学系）と、画像計測に先立って被測定物体を観察するための光学系（観察光学系）とを備えている。
【００４４】
〔計測光学系〕
  本実施形態に係る光画像計測装置１は、
低コヒーレントな計測光Ｈを出力する広帯域光源２
【００４５】
  
広帯域光源２は、ＳＬＤ
近赤外域ＳＬＤ
「【００５０】
  なお、本実施形態においては、反射体としての被測定物体Ｏ及び参照鏡８とハーフミラー６とによって形成される
マイケルソン型の干渉計が用いられている
「【００５７】
〔観察光学系〕
  被測定物体Ｏを観察するための観察光学系は、たとえば可視領域の観察光Ｍを出射する観察光源１２と、観察光Ｍを集光する集光レンズ１３と、観察光Ｍの光路を信号光Ｓの光路に合成して観察光Ｍを被測定物体Ｏに照射するハーフミラー１４とを含んでいる。ハーフミラー１４は、本発明の「合成手段」の一例に相当する。また、観察光源１２、集光レンズ１３及びハーフミラー１４は、本発明の「照明光学系」の一例に相当する。
【００５８】
  
被測定物体Ｏに照射された観察光Ｍは、被測定物体Ｏにより反射され、
結像レンズ１７によって観察用ＣＣＤカメラ２３の受光面上に結像される。
【００５９】
  ビームスプリッタ１５は、本発明の「分岐手段」の一例に相当するもので、観察光Ｍの波長の光を反射し、干渉光Ｌの波長の光を透過させるダイクロイックミラーなどが用いられる。
【００６０】
  観察用ＣＣＤカメラ２３は、本発明の「観察用受光手段」の一例に相当し、計測用ＣＣＤカメラ２１、２２と同様に、観察光検出用の蓄積型の２次元光センサアレイである。
この観察用ＣＣＤカメラ２３は、観察光Ｍを受光して光電変換を施して検出信号を生成し、
信号処理部２０に出力する。信号処理部２０は、この検出信号に基づいて
、被測定物体Ｏの観察画像をモニタ装置３０に表示させる。
　したがって、上記引用文献２には、
「被測定物体の画像計測を行うための光学系（計測光学系）と、画像計測に先立って被測定物体を観察するための光学系（観察光学系）とを備える光画像計測装置１であって（【００４３】）、
　計測光学系は、低コヒーレントな計測光Ｈを出力する広帯域光源２として近赤外域ＳＬＤを含むマイケルソン型の干渉計が用いられており（【００４４】、【００４５】、【００５０】）、
　観察光学系では、被測定物体Ｏに照射された観察光Ｍは、被測定物体Ｏにより反射され、結像レンズ１７によって観察用ＣＣＤカメラ２３の受光面上に結像され（【００５７】、【００５８】）、この観察用ＣＣＤカメラ２３は、観察光Ｍを受光して光電変換を施して検出信号を生成し、信号処理部２０に出力して、信号処理部２０は、この検出信号に基づいて、被測定物体Ｏの観察画像をモニタ装置３０に表示させる（【００６０】）光画像計測装置」
　が記載されている。
３．引用文献３について
　また、原査定の拒絶の理由に引用された引用文献３（米国特許出願公開第２００８／００６２４２９号明細書）には、図面とともに次の事項が記載されている。
「［００９２］The present invention takes advantage of the observed backscattering behavior for incipient caries and uses this effect, in combination with fluorescence effects described previously in the background section, to provide an improved capability for dental imaging to detect caries. The inventive technique, hereafter referred to as 
fluorescence imaging with reflectance enhancement (FIRE)
「［０１２５］
Optical coherence tomography (OCT)
［０１２６］In an OCT imaging system for living tissue, light from a low-coherence source, such as an LED or other light source, can be used. This light is directed down two different optical paths: a reference arm of known length and a sample arm, which goes to the tooth. Reflected light from both reference and sample arms is then recombined, and interference effects are used to determine characteristics of the underlying features of the sample. Interference effects occur when the optical path lengths of the reference and sample arms are equal within the coherence length of the light source. As the path length difference between the reference arm and the sample arm is changed the depth of penetration in the sample is modified in a similar manner. Typically in biological tissues NIR light of around 1300 nm can penetrate about 3-4 mm as is the case with dental tissue. In a time domain OCT system the reference arm delay path relative to the sample arm delay path is alternately increased monotonically and decreased monotonically to create depth scans at a high rate. To create a 2-dimensional scan the sample measurement location is changed in a linear manner during repetitive depth scans.
［０１２７］Referring to  FIG. 13A , there is shown
 an embodiment of imaging apparatus  10  using both FIRE imaging methods and OCT imaging.
［０１２８］
The FIRE area imaging works in combination with an OCT imaging optical system as described in the following. An OCT imager  70  directs light for OCT scanning into the optical path that is shared with the FIRE imaging components.
４．引用文献４について
　また、原査定の拒絶の理由に引用された引用文献４（特表２００９−５１１８８９号公報）には、図面とともに次の事項が記載されている。
「【０００１】
  本発明は、対象物のパターンの高さを測定する方法に関するものである。また、本発明は、その方法を実施する装置に関するものである。茲で、「パターンの高さを測定すること」とは、一つ又はそれ以上のパターンの高さを測定することを意味する。例えば、階段状の形状を有するパターンの場合、段ごとの高さを測定することが可能である。
【０００２】
  本発明の適用分野は、表面が構造化されて、光を反射するようになっている対象物のパターンの高さを測定する分野である。更に明確で且つ限定的でない
適用分野の例は、特に、シリコンウェーハへのマイクロパターンのリソグラフィー及びエッチングである。
「【０００８】
  
低コヒーレンス測定干渉法
広スペクトル光源によって照射されるマイケルソン型干渉計を含む装置
「【００３９】
  
図２を参照しながら、本発明による測定装置の一実施例について説明する。
その発光手段は、赤外線中で幅が３０ナノメートルの波長連続体を放射する超発光ダイオードを有している。
　・・・
【００４１】
  集光され、フィルタリングされた光は、次に、対象波長及び対象伝搬モードのために、分割成分間における位相差に関する情報を抽出する手段に送られる。その抽出手段は，光学的相関計１０を有し、その光学的相関計は、限定されるものではないが，一般的には，
一定の長さのレフレクターアーム１１（ｆｉｘｅｄ  ｌｅｎｇｔｈ  ｒｅｆｌｅｃｔｏｒ  ａｒｍ）と、可動ミラー上に配置された可変長さのアーム１２（ｖａｒｉａｂｌｅ  ｌｅｎｇｔｈ  ａｒｍ）（遅延線とも呼ばれている）を備えたマイケルソン型干渉計
三つのピークが干渉信号に基づいて検出される。換言すれば、位相差を有する三つの分割成分が検出される。」
「【００４４】
  本発明による測定装置は、エッチング操作中にｉｎ‐ｓｉｔｕ測定を行うために、エッチング装置に直接搭載することができる。図３は、本発明による測定装置を、プラズマエッチングに適用したものを示している。この測定装置は、まず、
図２に示した装置と同じ部品を有している部分２４を含み、更に、照射手段と連携して白色光で測定領域の撮像を可能にするカメラと、
を有し
【００４５】
  図３に示した測定装置は、更に、照射手段を有する部分２４を対象物１４に対して変位させるための手段１５と、測定分析手段２６を有している。その変位手段１５は、二つ又は三つの軸線に沿ってモーターライズさせてもモーターライズさせなくてもよくて、対象物の表面上で入射光４の測定点を正確に移動させることを可能にする。測定分析手段２６は、ソフトウェアによる測定分析手段と、測定又は分析されたデータを表示する手段を含んでいてもよい。」
５．引用文献５について
　また、原査定の拒絶の理由に引用された引用文献５（米国特許出願公開第２００６／００４４５６６号明細書）には、図面とともに次の事項が記載されている。
「［００４５］FIG. 4  shows schematically an embodiment for measuring a sample  22  according to the invention. The embodiment of  FIG. 4  is similar to that of  FIG. 2 , except that 
a partial reflection (PR) reflector  26
 ［００４６］Besides reflectometry, the setup of  FIG. 4  also serves as an OCT system, where  
26  becomes a reference reflector
Reflector  26  defines a reference optical path
「［００５６］ For embodiments of  FIGS. 4 and 5 , 
reflector  26  may be a PR coating on the end surface of fiber  46 
「［００５９］ In  FIG. 10 , 
lens system  30  is introduced to collimate a beam from fiber  80  and couple a collimated beam  114  into fiber  82 . A PR filter  87  is placed perpendicular to beam  114 . Filter  87  has two surfaces coated with PR and AR coatings.
第４　対比・判断
１．本願発明１について
（１）対比
　本願発明１と引用発明とを対比すると、次のことがいえる。
　まず、引用発明における「薄膜の屈折率及び厚さなどを測定することができる装置」と、本願発明１における「構造物体（４）例えばウェハを検査するための顕微鏡装置」とは、「構造物体を検査するための装置」である点で共通するといえる。
　また、引用発明においては、光源について、「低コヒーレンス光」で「広帯域なバンド幅を有する光を出射できるもの」が好ましいとされ、その例として「発振中心波長λＣ＝８２０ｎｍ、半値全幅（ＦＷＨＭ）は△λ＝２０ｎｍであるＳＬＤ」が挙げられているところから、「光源１から出射された光」は本願発明における「複数の赤外線波長を有する測定ビーム」に相当し、その「低コヒーレンス光」であることが好ましいとされる「光源１から出射された光」が「半透鏡２２へ入射され」て「被測定物３の反射光（以下、検査光ということもある）」と「半透鏡２２の反射光（以下、参照光ということもある）」とが「干渉部３０に至るように構成されて」いるのであるから、引用発明と本願発明１とは、「複数の赤外線波長を有する測定ビームを含み、かつ、前記測定ビームの逆反射と１つの光学参照との干渉によって測定を行うことのできる低コヒーレンス赤外線干渉計」を含む「装置」である点で共通するといえる。
　次に、引用発明においては、「第１のミラー３５の反射光と第２のミラーの反射光が合波されて干渉光を生成し」て「干渉光強度が検出される」ものであって、「第１のミラー３５」は、測定時に固定される「第１のステージ３８（光路長補正手段）上に固定されており」、また「第２のミラー３６は、・・・微動可能な第２のステージ３９（光路長可変手段）上に固定され」て「参照光と検査光（後面からの反射光）とが干渉し合う状態（第２の状態）に設定する」ものであるから、上記「第１のミラー３５」及び「第１のステージ３８」並びに「第２のミラー３６」及び「第２のステージ３９」が、それぞれ本願発明１の「固定参照（４４）を備えるアーム」並びに「時間遅延ライン（４５）を備えるアーム」に相当する。また干渉計の測定原理を鑑みれば、その測定範囲が両ステージ間の光路長差及び前記第２のステージの微動可能な範囲によって決定されることや、対象範囲とする光学距離に近い光学距離に相当する測定範囲において発生する反射のみによって測定が行われるように調整が行われることは明らかといえる。そうすると、引用発明は「前記低コヒーレンス赤外線干渉計（５）が、固定参照（４４）を備えるアームと時間遅延ライン（４５）を備えるアームとを含むデコード干渉計を含み、前記低コヒーレンス赤外線干渉計（５）の測定範囲が、前記アーム間の光路長差によって及び前記遅延ライン（４５）の最大ストロークによって決定され、前記物体に対する前記ビームが対象範囲とする光学距離に近い光学距離に相当する測定範囲において発生する前記測定ビームの逆反射（６）のみによって測定が行われるように、低コヒーレンス赤外線干渉計が調整される」点で本願発明１と共通するといえる。
　したがって、本願発明１と引用発明との間には、次の一致点、相違点があるといえる。
（一致点）
　構造物体（４）例えばウェハを検査するための装置であって、
−複数の赤外線波長を有する測定ビーム（６）を含み、かつ、前記測定ビーム（６）の逆反射と１つの光学参照との干渉によって測定を行うことのできる低コヒーレンス赤外線干渉計（５）、
を含む装置において：
−前記低コヒーレンス赤外線干渉計（５）が、固定参照（４４）を備えるアームと時間遅延ライン（４５）を備えるアームとを含むデコード干渉計を含み、前記低コヒーレンス赤外線干渉計（５）の測定範囲が、前記アーム間の光路長差によって及び前記遅延ライン（４５）の最大ストロークによって決定され、前記物体に対する前記ビームが対象範囲とする光学距離に近い光学距離に相当する測定範囲において発生する前記測定ビームの逆反射（６）のみによって測定が行われるように、低コヒーレンス赤外線干渉計が調整されること
を特徴とする装置。」
（相違点）
（相違点１）本願発明１は「顕微鏡」装置であるのに対し、引用発明は撮像手段を有しておらず、「顕微鏡」装置ではない点。
（相違点２）本願発明１は「カメラ（１）、前記カメラ（１）において視野に応じて前記物体（４）の画像を生成することができ、かつ、前記物体（４）の側に配置された遠位レンズ（３）を含む光学画像化手段（２）」という構成を備えるのに対し、引用発明はそのような構成を備えていない点。
（相違点３）本願発明１は「−前記測定ビームが遠位レンズ（３）を通過するように、及び、前記測定ビームが、画像化手段（２）の視野に実質的に含まれる測定領域中で前記物体（４）を照射するように、前記干渉計の光ファイバに由来する前記測定ビームを前記光学画像化手段（２）に導入するための光学結合手段（７）とコリメータ」という構成を備えるのに対し、引用発明はそのような構成を備えていない点。
（相違点４）本願発明１は「前記測定ビームの一部が前記コリメータにおいて前記光ファイバ中に反射して前記光学参照を発生するように、前記光ファイバ及び前記コリメータが配置され」るという構成を備えるのに対し、引用発明は光ファイバ及びコリメータを有しているものの、「測定ビームの一部が」「コリメータにおいて」「光ファイバ中に反射して」「光学参照を発生する」という構成を備えていない点。
２）相違点についての判断
　本願発明１の内容に鑑みて、上記相違点４について検討する。
　相違点４に係る本願発明１の「測定ビームの一部が」「コリメータにおいて」「光ファイバ中に反射して」「光学参照を発生する」という構成は上記引用文献２ないし５のいずれにも記載も示唆もされていない。
　したがって、上記相違点１ないし３について判断するまでもなく、本願発明１は、当業者であっても、引用文献１ないし５に基づいて容易に発明できたものとはいえない。
２．本願発明２−１６について
　本願発明２ないし１６も、本願発明１の「測定ビームの一部が」「コリメータにおいて」「光ファイバ中に反射して」「光学参照を発生する」という構成と同一の構成を備えるものであるから、本願発明１と同じ理由により、当業者であっても、引用文献１ないし５に基づいて容易に発明できたものとはいえない。
３．本願発明１７について
　本願発明１７は、本願発明１に対応する方法の発明であり、本願発明１の「測定ビームの一部が」「コリメータにおいて」「光ファイバ中に反射して」「光学参照を発生する」という構成に対応する構成を備えるものであるから、本願発明１と同様の理由により、当業者であっても、引用文献１ないし５に基づいて容易に発明できたものとはいえない。
４．本願発明１８−１９について
　本願発明１８ないし１９も、本願発明１７の「測定ビームの一部が」「コリメータにおいて」「光ファイバ中に反射して」「光学参照を発生する」という構成に対応する構成と同一の構成を備えるものであるから、本願発明１７と同じ理由により、当業者であっても、引用文献１ないし５に基づいて容易に発明できたものとはいえない。
第５　原査定の概要及び原査定についての判断
１．理由１（特許法第１７条の２第３項について）
　原査定の理由１は、請求項１の「前記低コヒーレンス赤外線干渉計（５）が、固定参照（４４）を備えるアームと時間遅延ライン（４５）を備えるアームとを含むデコード干渉計を含み、前記物体（４）の界面を含む測定範囲内に発生する前記測定ビームの逆反射（６）のみによって、前記光学参照を有する使用可能な干渉を生じ、かつ前記光学画像化手段（２）内の寄生反射が前記干渉に有意に寄与しないように、前記アーム間の光路長差及び前記遅延ライン（４５）の最大ストロークが調整される」との記載、及び請求項１７の同様の記載について、該記載の技術的事項は、翻訳文等に記載した事項の範囲内のものではなく、特許法第１７条の２第３項に規定する要件を満たしていないというものである。
　しかしながら、本件補正において請求項１及び１７が補正された結果、これらの記載は翻訳文等の記載事項の範囲内となった。したがって、原査定を維持することはできない。
２．理由２（特許法第２９条第２項について）
　原査定の理由２は、請求項１−１９について上記引用文献１ないし５に基づいて、当業者が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないというものである。しかしながら、本件補正により補正された請求項１−１９は、「測定ビームの一部が」「コリメータにおいて」「光ファイバ中に反射して」「光学参照を発生する」という構成、もしくはそれに対応する構成を有するものとなっており、上記のとおり、本願発明１−１９は、当業者であっても、引用文献１ないし５に基づいて容易に発明できたものとはいえない。したがって、原査定を維持することはできない。
第６　当審拒絶理由について
　当審では、請求項１、１７の記載が不明確なため、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていないとの拒絶の理由を通知しているが、本件補正によって補正された結果、この拒絶の理由は解消した。
第７　むすび
　以上のとおり、本願発明１−１９は、当業者が引用文献１ないし５に基づいて容易に発明をすることができたものではない。
　したがって、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。