(57)【要約】本発明は、従来技術では解決が困難であったモアレ現象が発生せず、高い電磁波シールド性能と適切な網目構造による十分な全光線透過率を両立した光透過性電磁波シールド部材およびその製造方法を提供せんとするものである。  本発明の光透過性電磁波シールド部材は、幾何学形状を有する導電金属網目構造の金属層が透明基材上に形成されてなる光透過性電磁波シールド部材であって、該網目構造の間隔が２００μm以下、網目構造の開口率が８４%以上、かつ導電金属層の厚みが２μｍ以下であることを特徴とするものである。  また、かかる光透過性電磁波シールド部材の製造方法は、幾何学形状を有する網目構造の金属層が透明基材上に形成されてなる光透過性電磁波シールド部材を製造する方法であって、透明基材上に厚み２μｍ以下の金属層を設け、金属層をレーザーアブレーションにより除去して、網目構造の間隔が２００μm以下、かつ網目構造の開口率が８４%以上の網目構造の金属層を形成することを特徴とするものである。
2008029776.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
幾何学形状を有する網目構造の金属層が、透明基材上に形成されてなる光透過性電磁波シールド部材を製造する方法であって、
厚み２μｍ以下の金属層を設ける工程、該金属層をレーザーアブレーションにより除去する工程を有し、
網目構造の間隔が２００μm以下、かつ網目構造の開口率が８４%以上の網目構造の金属層を形成する、光透過性電磁波シールド部材の製造方法。
【請求項２】
前記透明基材上に金属層を設ける手段が，スパッタリング、蒸着、ＣＶＤおよびイオンプレーティングから選ばれた少なくとも１種のドライ製膜プロセスである、請求項１に記載の光透過性電磁波シールド部材の製造方法。
【請求項３】
金属層の少なくとも一方の面側に金属酸化物層を形成する工程を有する、請求項１に記載の光透過性電磁波シールド部材の製造方法。
【請求項４】
前記金属酸化物層を形成する手段が、スパッタリング、蒸着、ＣＶＤおよびイオンプレーティングから選ばれた少なくとも１種のドライ製膜プロセスである、請求項３に記載の光透過性電磁波シールド部材の製造方法。
【請求項５】
前記レーザーアブレーションを行う手段が、紫外線レーザーである、請求項１に記載の光透過性電磁波シールド部材の製造方法。
【請求項６】
前記レーザーアブレーション加工後の光透過性電磁波シールド部材に、めっき処理を行う、請求項１に記載の光透過性電磁波シールド部材の製造方法。
【請求項７】
幾何学形状を有する網目構造の金属層が、透明基材上に形成されてなる光透過性電磁波シールド部材であって、
網目構造の間隔が２００μm以下、網目構造の開口率が８４%以上、かつ、金属層の厚みが２μｍ以下である光透過性電磁波シールド部材。
【請求項８】
透明基材上に、幾何学形状を有する網目構造に形成された金属層と、金属層の少なくとも一方の面側に設けられた厚さ０．０１〜０．１μｍの第１の金属酸化物層とを有する、請求項７に記載の光透過性電磁波シールド部材。
【請求項９】
前記第１の金属酸化物層の厚さが０．０２〜０．０６μｍである、請求項８に記載の光透過性電磁波シールド部材。
【請求項１０】
前記第１の金属酸化物層が酸化銅である、請求項８に記載の光透過性電磁波シールド部材。
【請求項１１】
前記第１の金属酸化物層が、前記金属層の前記透明基材側の面とは反対の面側に設けられている、請求項８に記載の光透過性電磁波シールド部材。
【請求項１２】
第２の金属酸化物層が、前記金属層の前記第１の金属酸化物層が設けられた面側とは反対の面側に設けられている、請求項８に記載の光透過性電磁波シールド部材。
【請求項１３】
前記第２の金属酸化物層が酸化銅である、請求項１２に記載の光透過性電磁波シールド部材。
【請求項１４】
請求項７に記載の光透過性電磁波シールド部材と反射防止層とを備えたフィルター。
【請求項１５】
請求項１４に記載のフィルターを備えたディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波を発生する電気製品であるプラズマディスプレイパネル（PDP）、陰極線管(CRT)、など画像表示部分等に利用する、透視可能な光透過性電磁波シールド部材およびその製造方法、ならびにそれを用いたフィルターおよびディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電気製品から発生する電磁波は、各種精密機器、計器、デジタル機器類への電波障害や人体への影響から、規制が厳しくなってきている。このため、電磁波放出は法的に規制されてきており、例えばＶＣＣＩ（Voluntary Control Council for Interference by data processing equipment electronic office machine）による規制がある。そのため、特に強い電磁波を画像表示部から装置外に放出するＰＤＰでは、光透過性の電磁波シールドシートを反射防止や近赤外線遮蔽など他の機能のあるシートと合わせ、前面フィルターとして画像表示部に直接貼り付けるか、前面フィルター用のガラスまたはプラスチックなどの透明基板に貼り付け、画像表示部に設置して、上記規制を遵守できるように電磁波を遮蔽している。【０００３】
この光透過性の電磁波シールドシートとしては、従来、透明基材に銅箔などの金属層を接着層を介して積層した後、レジストフィルムを貼り付け、露光、現像、エッチング、レジスト剥離するフォトリソグラフィー法を利用して、透明基材上にパターン化した導電性金属層を設けたものが提案されている（特許文献１）。【０００４】
また、透明基材上にパターン化した導電性金属層を設ける別の方法としては、スクリーン印刷法またはオフセット印刷法によりエッチングレジストパターンを形成し、その後導電性金属層をエッチングし、最後にレジストを剥離する方法も提案されている（特許文献２、特許文献３）。  【０００５】
しかしながら、透明基材上に積層した導電性金属層を用いて光透過性電磁波シールドシートを製造するフォトリソグラフィー法は、基材の格子状の導電性金属層（銅箔層）が規則的な間隔の大きな網目構造を有しており、かつ網目交点部の細線の太りがあるため、モアレ現象が発生するという問題を有している。【０００６】
モアレ現象とは、「点または線が幾何学的に規則正しく分布したものを重ね合せた時に生ずる縞状の斑紋」であり、また広辞苑によれば、「点または線が幾何学的に規制正しく分布したものを重ね合わせた時に生ずる縞模様の斑紋。網版印刷物を原稿として網版を複製する時などに起こりやすい」との記載があり、プラズマディスプレイで言えば、画面上に縞模様状の模様が発生する。これは、ディスプレイの前面に設けられる電磁波シールド基板に格子状などの規則的なパターンが設けられている場合、ディスプレイ背面版の、ＲＧＢ各色の画素を仕切る規則正しい格子状の隔壁などとの相互作用により、該モアレ現象が生じるものである。また、電磁波シールド基板に格子状などの規則的なパターンが設けられている場合、この格子の線幅が太いほど、このモアレ現象が発生しやすいという問題がある。【０００７】
またフォトリソグラフィーの工程は複雑かつ長く、低コスト化の市場要求に対して満足いく方法ではなかった。なお、電磁波シールド性とディスプレイ画面の視認性を両立させるためには、パターン化させた導電金属層上に黒色レジスト層を積層させ、その黒色レジストを剥離せずに残すということも提案されているが（特許文献４）、これも結局フォトリソグラフィー法によるものであるので、工程は複雑かつ長く、低コスト化の市場要求に対して満足いく方法といえるものではなかった。【０００８】
一方、スクリーン印刷またはオフセット印刷により光透過性電磁波シールドシートのエッチングパターンを形成する方法は、簡易な装置と単純なプロセスで形成でき、かつコントラスト性能を阻害する金属光沢のある導電性金属層上に直接黒色樹脂層を形成し、ぎらつき感を押さえることができる。そのため、低コスト化の市場要求に十分に答えられるプロセスといえる。しかしながら、これら印刷法では、高精細な線幅を印刷することが難しく、網目パターンの非視認性の点で好ましい２０μｍ以下の細線パターン形成をすることが困難で、表示画面上にモアレ現象が発生しやすかった。また、得られる電磁波シールド部材も光透過性の点で課題の残るものであった。【０００９】
また、導電性繊維で網目構造を作製することで透明電磁波シールドを作製する方法について提案されている（特許文献５）。しかし、この方法で作製した電磁波シールド部材は導電性繊維の線径が太いため，十分なシールド性能を得ようとする場合、開口率が低下し、画面の視認性が低下する欠点があった。【００１０】
また、無電解めっき触媒を透明フィルム上に印刷することで網目パターンを形成し、続いて無電解めっき処理を施すことで電磁波シールドを作製する方法が提案されている（特許文献６）。この方法は無電解めっきの触媒層を印刷で作製するため，網目の線幅を細くすることが困難であるため，めっき後に得られる網目の線幅が２５〜３０μmと太く、十分な視認性を得るための開口率が得ることは困難であった。【００１１】
また、感光材料である銀塩をフィルム上に塗工しマスクパターンを通して紫外線で感光することにより網目パターンを描画し，透明支持体上に網目パターンを作製する方法が提案されている（特許文献７）が、工程が複雑である欠点がある。また、作製した銀塩網目だけでは十分なシールド性能を得ることは困難であり，網目パターンを作製した後、めっきにより導電層を厚付けする必要があるため工程が一層複雑化する欠点があった。
【特許文献１】特許第３３８８６８２号公報
【特許文献２】特開２０００−３１５８９０号公報
【特許文献３】特開２０００−３２３８８９号公報
【特許文献４】特開平９−２９３９８９号公報
【特許文献５】特開２００５−３１１１８９号公報
【特許文献６】特開２００２−３８０９５号公報
【特許文献７】特開２００６−１２９３５号公報
【特許文献８】特開２０００−２２３８８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の目的は、上記した欠点を解消し、従来技術と比較してモアレ現象の発生を抑制した、高い電磁波シールド性能と適切な網目構造による十分な全光線透過率を両立した光透過性電磁波シールド部材およびその製造方法を提供することにある。また本発明のより好ましい態様の目的は、ディスプレイに取り付けた際の視認性を低下させることの無い光透過性電磁波シールド部材およびその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、上記課題を解決するために、次のような手段を採用するものである。すなわち、本発明は以下の（１）から（４）などである。
（１）幾何学形状を有する網目構造の金属層が、透明基材上に形成されてなる光透過性電磁波シールド部材を製造する方法であって、
厚み２μｍ以下の金属層を設ける工程、該金属層をレーザーアブレーションにより除去する工程を有し、
網目構造の間隔が２００μm以下、かつ網目構造の開口率が８４%以上の網目構造の金属層を形成する、光透過性電磁波シールド部材の製造方法。
（２）金属層の少なくとも一方の面側に金属酸化物層を形成する工程を有する、（１）に記載の光透過性電磁波シールド部材の製造方法。
（３）幾何学形状を有する網目構造の金属層が、透明基材上に形成されてなる光透過性電磁波シールド部材であって、
網目構造の間隔が２００μm以下、網目構造の開口率が８４%以上、かつ、金属層の厚みが２μｍ以下である光透過性電磁波シールド部材。
（４）透明基材上に、幾何学形状を有する網目構造に形成された金属層と、金属層の少なくとも一方の面側に設けられた厚さ０．０１〜０．１μｍの第１の金属酸化物層とを有する、（３）に記載の光透過性電磁波シールド部材。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、モアレ現象が発生せず、高い電磁波シールド性能と適切な網目構造による十分な全光線透過率を両立した光透過性電磁波シールド部材を得ることができる。また本発明の好ましい実施態様によれば、さらに画像劣化の少ない光透過性電磁波シールド部材をえることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の光透過性電磁波シールド部材の概略断面図の一例である。
【図２】本発明の光透過性電磁波シールド部材の概略断面図の一例である。
【図３】本発明の光透過性電磁波シールド部材の概略断面図の一例である。
【図４】本発明の光透過性電磁波シールド部材の作製工程を説明する概略断面図である。
【符号の説明】
【００１６】
１：透明基材
２：金属層
３：接着層
４：金属酸化物層
５：第２の金属酸化物層
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明は、前記課題、つまり従来技術では解決が困難であったモアレ現象が発生せず、高い電磁波シールド性能と適切な網目構造による十分な全光線透過率を両立した光透過性電磁波シールド部材について、鋭意検討し、透明電磁波シールド部材の網目構造の間隔を狭く、かつ線幅を小さくしてみたところ、前記課題を見事に解決し、高い開口率を有し、かつ、モアレの問題も生じず，十分なシールド性能を効果的に達成することができることを見いだし、本発明を完成するに至ったものである。そして、本発明の電磁波シールド部材にかかる網目構造を形成するに際し、レーザーブレーションを用いるのが特に有効であることを見いだしたものである。以下に図１〜４を用いて、本発明を実施するための形態について説明する。【００１８】
本発明の光透過性電磁波シールド部材を構成する透明基材１の材質としては、ガラス、プラスチックスなど特に限定されないが、取り扱い性の観点あるいは、巻物形態での製造および加工時に望まれる可とう性の点ではプラスチックスフィルムが好ましい。【００１９】
かかるプラスチックスフィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート（以降ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、或いは、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン系樹脂、或いは、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリアクリロニトリル系樹脂等を溶融または溶液製膜したものを使用することができる。これらの中でも、透明性、耐熱性、耐薬品性、コスト等の点から、ＰＥＴフィルムが最も好ましく使用される。【００２０】
かかる透明基材には、これらプラスチックフィルムの単体又は２種以上の混合物からなる、単層フィルム或いは２層以上の積層フィルムなどを用いることができるが、好ましくは透明基材として全光線透過率が８５％以上であるものがよい。【００２１】
かかる透明基材の厚みは用途に応じたものとすればよく、特に限定されない。本発明にかかる電磁波シールド性ディスプレイが一般的な光学フィルターとして用いられる場合には、好ましくは２５μｍ以上、さらに好ましくは５０μｍ以上であるのがよい。一方、上限に関しては、好ましくは２５０μｍ以下、さらに好ましくは１５０μｍ以下であるのがよい。【００２２】
かかる透明基材上に金属層を設けるためには、該透明基材にも相応の強度が必要であり、それには２５μｍ以上の厚みとすることが好ましい。厚みが５０μｍ以上であると、さらにコシが強くなり、加工時の作業性が増すので好ましい。なお、５０μｍ未満のＰＥＴフィルム等を透明基材として用いる場合は、他のフィルム、例えば紫外線および／または赤外線カット機能付きのＰＥＴフィルム、ハードコートＰＥＴフィルムなどと積層して厚みを厚くしてもよい。【００２３】
また、かかる透明基材としてのフィルムは、通常ロールから巻き出して使用する。そのため、フィルム厚が一定以上であれば巻き出した時にフィルムが平面とならずカールした状態となり易く、平面に直すための工程が必要となる。しかしながら、２５０μｍ以下の厚みで有れば、特別な工程を必要としないで、そのフィルムを用いることができるので好ましい。さらに、１５０μｍ以下の厚みであれば、ディスプレイとしたときに十分な輝度を容易に得ることができるので、透明基材として高透明ＰＥＴフィルム等、高コストな基材を用いる必要がなく、より好ましい。【００２４】
また、透明基材１には、必要に応じて、コロナ放電処理、オゾン吹付処理、プラズマ処理、易接着プライマー塗工処理等の公知の易接着処理を、透明基材１を形成中または形成した後に施しても良い。例えば、ＰＥＴフィルム等では、市販の易接着処理フィルムを用いれば、更なる易接着処理を省略する事もできる。【００２５】
本発明の光透過性電磁波シールド部材は、かかる透明基材の上に幾何学形状を有する網目構造の金属層が形成されてなるものである。なお、透明基材上に直接に金属層が形成されていてもよいし、後述するように透明基材と金属層の間に金属酸化物層が形成されていても構わない。【００２６】
かかる金属層２は、白金、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄など導電性が高い金属のうち１種または２種以上を組み合わせた合金を用いることが出来るが，作製した構造の外的要因に対する安定性から、白金、金、銀、銅が望ましく使用される。かかる金属の中でも、さらにコスト、導電率の観点から銅が最も好ましく使用される。【００２７】
かかる金属層を透明基材上に形成する方法としては、接着層３を介して金属箔を貼り合わせる方法（以降金属箔ラミ法）、または、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレート法、化学蒸着法などのドライプロセス，無電解および電解めっき法などのウェットプロセスのどれか１つの方法、または２つ以上の方法を組合せる方法など特に限定されない。しかしながら、金属箔ラミ法を用いた場合、接着剤層を介して金属層を貼り合わせているため、網目構造を形成した後の開口部分に接着剤が残存し、透明性が低下する場合がある（例えば図２）。また、無電解めっき、電解めっき法ではあらかじめ透明基材上に導通層やめっき触媒層を形成する必要があり、プロセスが複雑になる。以上の観点から導電金属層を透明基材上に形成するプロセスとしては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティングおよび化学蒸着法（ＣＶＤ）などを用いることが好ましい。さらには、金属膜の密着性、電気特性などの観点から真空蒸着法、もしくはスパッタリング法を用いることがより好ましい。【００２８】
本発明にかかる金属層２は、透明基材上に設けられた導電性を有する層であり、この表面抵抗が低い（導電性が高い）ほど、優れた電磁波シールド性を有する。後述するような方法で、この金属層の一部を除去し、例えば格子状などにパターン化することにより、幾何学形状を有する網目構造の金属層とすることができ、電磁波シールド性とディスプレイに取り付ける際に必要な光透過性を両立することができる。【００２９】
金属層２の種類について、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、クロム、チタンなどの金属の内、１種または２種以上を組合せた合金あるいは多層のものを使用することができる。良好な電磁波シールド性を有するための導電性、パターン加工の容易さ、価格面などから、銅、アルミニウムが好ましい。【００３０】
また、金属層の厚みは０．００００１μｍ以上２μｍ以下であることが必要である。金属層は厚いほど電磁波シールド性能が高くなり好ましいが、厚みが２μｍを越えると金属を除去する処理に時間がかかり生産性が低下することや、アブレーション処理時に透明基材自身にも熱がかかり、透明基材が損傷を受け、表面の平滑性、透明性が悪化してしまう。また、金属層の厚みが０．００００１μｍ未満であるとシールド性能が発現せず、また、めっき処理等を施す場合においても電解めっきを行う場合においても電解めっきを行う場合は電気伝導度が不足し、また無電解めっきを行う場合においても金属層がめっき触媒として作用しなくなる。金属層の厚みは好ましくは０．０２〜２μｍであり、より好ましくは０．０２〜１μｍである。金属層の厚みが０．１μｍ以上であれば、十分な電磁波シールド性が得られるので好ましい。【００３１】
本発明の光透過性電磁波シールド部材の製造方法は、厚み２μｍ以下の金属層を設ける工程、および金属層をレーザーアブレーションにより除去する工程を有するが  好ましくは金属層の少なくとも一方の面側に金属酸化物層を形成する工程を有することである（例えば図１、図４）。本発明にかかる第１の金属酸化物層４は、金属層２の少なくとも一方の面側に設けられた層で、後述するような方法で金属層２とともにパターン形状（幾何学形状）を有する網目構造の金属層に形成され、金属層２の金属光沢による表示画像の視認性低下を抑えるものである。第１の金属酸化物層は、金属層２の透明基材１側の面とは反対の面側に設けられていることが好ましい。このように金属酸化物層をディスプレイに設置する際の視聴者側の層に設けることにより、表示画像の視認性低下を軽減することができる。【００３２】
本発明にかかる第１の金属酸化物層４は、光透過性電磁波シールド部材をディスプレイに設置した際に、目的とする表示画像の視認性低下の軽減効果が得られるものであれば、その種類、形成方法は特に限定されないが、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、クロム、チタン、すずなどの金属酸化物の内、１種または２種以上を組合せた合金を使用する。中でも価格や膜の安定性などの点から銅の酸化物、つまり酸化銅が好ましい。【００３３】
第１の金属酸化物層４の厚みは０．０１〜０．１μｍである必要がある。厚みが０．０１μｍ未満であると十分な視認性低下の軽減効果が得られず、また厚みが０．１μｍを超過しても十分な視認性低下の軽減効果が得られないとともに、金属層２とともに、後述する方法でその一部を除去してパターン形状に形成する工程において、加工時間が長くなることやディスプレイに設置した際の視野角が狭くなることから好ましくない。これら視認性低下の軽減効果と加工性などの観点から第１の金属酸化物層の厚みは０．０２〜０．０６μｍであることが好ましい。【００３４】
第１の金属酸化物層４を形成する方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレート法、化学蒸着法、無電解および電解めっき法などの薄膜形成技術の１つの方法、または２以上の方法を組合せる方法など特に限定されないが、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレート法、化学蒸着法が、製造コスト、容易性の点において好ましい。【００３５】
また、第１の金属酸化物層４は、金属層２のいずれかの面に、金属層２とは別の層として設けることが出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、金属層２を形成しながら、金属層２の透明基材側の面のみ、あるいはその反対側の面のみの一部を酸化処理する方法や、金属層２を形成後、その表面を酸化、あるいは水酸化処理する方法でも得られる。【００３６】
また、本発明の電磁波シールド部材では、金属層２の、第１の金属酸化物層４を設けた面側とは反対の面側に、第２の金属酸化物層５を設けるのが好ましい（例えば図３）。第２の金属酸化物層５を設けることにより、パターン形状（幾何学形状を有する網目構造）に形成された金属層の金属光沢による視聴者側からの反射（外光や蛍光灯などが金属層に反射する）だけでなく、ディスプレイ側からの反射（ディスプレイからの画像が金属層に反射する）も低減することがで、さらに画像視認性の低下を低減することができる。第２の金属酸化物層の厚みは、０．０１〜０．１μｍであることが好ましい。厚みが０．０１μｍ以上であれば、金属部の金属光沢による画像視認性の低下をディスプレイ側からも抑えることができる。厚みが０．１μｍ以下であれば、金属層の金属光沢による画像視認性の低下を抑えられるとともに、金属層、および第１の金属酸化物層とともに、その一部を除去してパターン形状を形成する工程において、加工時間が長くなることもない。第２の金属酸化物層５の種類や形成方法は、第１の金属酸化物層４と同様の種類、形成方法を用いることができる。【００３７】
本発明にかかる金属層を、幾何学形状（パターン形状）を有する網目構造に形成する方法としては、網目構造の細線が効率よく形成でき、かつ導網目の交点部の交点太りが少ないことから、レーザーアブレーション法で行うことが好ましい。【００３８】
レーザーアブレーションとは、レーザー光を吸収する固体表面へエネルギー密度の高いレーザー光を照射した場合、照射された部分の分子間の結合が切断され、蒸発することにより、照射された部分の固体表面が削られる現象である。この現象を利用することで固体表面を加工することが出来る。レーザー光は直進性、集光性が高い為、アブレーションに用いるレーザー光の波長の約3倍程度の微細な面積を選択的に加工することが可能であり、レーザーアブレーション法により高い加工精度を得ることが出来る。【００３９】
かかるアブレーションに用いるレーザーは金属が吸収する波長のあらゆるレーザーを用いることが出来る。例えばガスレーザー、半導体レーザー、エキシマレーザー、または半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーを用いることが出来る。また、これら固体レーザーと非線形光学結晶を組み合わせることにより得られる第二高調波光源（ＳＨＧ）、第三高調波光源（ＴＨＧ）、第四高調波光源（ＦＨＧ）を用いることが出来る。【００４０】
かかる固体レーザーの中でも、透明基材を加工しないという観点から、波長が２０４ｎｍから５３３ｎｍの紫外線レーザーを用いることが好ましい。中でも好ましくはＮｄ：ＹＡＧ（ネオジウム：イットリウム・アルミニウム・ガーネット） などの固体レーザーのＳＨＧ（波長５３３ｎｍ）、さらに好ましくはＮｄ：ＹＡＧ などの固体レーザーのＴＨＧ（波長３５５ｎｍ）の紫外線レーザーを用いることが好ましい。【００４１】
かかる気体レーザーの中でもエキシマレーザーを用いることも好ましい。中でもＸｅＦ（キセノンフロライド）、ＸｅＣｌ（キセノンクロライド）、ＫｒＦ（クリプトンフロライド）を用いたエキシマレーザーは波長がそれぞれ３５１、３０５、２４８ｎｍと加工に適した波長であるのみならず、パルスあたりのエネルギーが高いため、大面積の加工に適している。この場合、金属層に形成する幾何学形状（パターン形状）を有する網目構造のマスクを通してレーザーを照射する方法が望ましい。作製する形状の数倍の大きさの形状を有するマスクを作製し、縮小投影する方法が望ましい。使用するマスクはレーザーのエネルギーを吸収しないとうの点から石英ガラス上にクロム膜を形成したものにパターニングを形成する方法が用いられるが、このほかのあらゆるマスクを用いることが出来る。【００４２】
かかるレーザーの発振方式としてはあらゆる方式のレーザーを用いることが出来るが，加工精度の点からパルスレーザーを用い，さらに望ましくはパルス幅がｎｓ以下のパルスレーザーを用いることが好ましい。【００４３】
なお、本発明において幾何学形状を有する網目構造とは、最終的に得られる電磁波シールドシートの光を透過する領域内に存在する金属層で形成された図形のことをいう。【００４４】
かかる幾何学形状を有する網目構造における開口部の形状は、ディスプレイの仕様に応じて任意の形状でよく、例えば直線的な線形状で形成される正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形などの四角形、六角形、八角形、十二角形などその他多角形、または曲線的線形状で形成される円形、楕円形、それ以外の環状形などの幾何学形状が例示でき、さらにこれらの形状の組合せを例示できる。また、開口部の形状は、シート全面に亘って均一もしくは周期的な形状である必要はなく、それぞれの大きさ、形状が異なる開口部から構成されていても良い。【００４５】
しかしながら、幾何学形状の網目構造を形成するのが容易であることから、直線的な線形状で構成される開口部が好ましく、より好ましくは三角形、四角形である。【００４６】
最終的に電磁波シールド部材に形成される幾何学形状を有する網目構造の形状は、シート周縁部への導通が十分確保される形状で有れば、特に限定されない。たとえば幾何学図形を例示することができる。【００４７】
本発明にかかる網目構造の開口率は８４％以上であることが必要である。ここで、本発明における「開口率」とは、透明基材全体の面積に対する網目開口部分の面積の割合、すなわち、光を透過する面積の割合のことである。この開口率が高いほど全光線透過率が高く、高輝度な視認性の良い画像表示装置の作製が可能となる。開口率が８４％未満であると、全光線透過率が低くなり、画像視認性が劣ってしまう。また網目構造の網目部分の割合が多く、つまり網目の線幅が太くなると、モアレ現象が発生し易くなる。また、開口率は好ましくは８４〜９５％であり、より好ましくは８８〜９０％の範囲である。開口率が９５％以下であれば、全光透過率を高くしつつも、網目部分の割合が小さ過ぎることもなく、良好な電磁波シールド性能となり好ましい。【００４８】
ここで、上記網目構造の開口率の測定方法について説明する。すなわち、顕微鏡で観察した写真を輝度分布により２階調化し，開口部の面積を全体の面積で除算することにより、開口率を計算し、この測定をランダムに２０箇所行い，その平均値を開口率としたものである。【００４９】
また、かかる網目構造の間隔は２００μｍ以下であることが必要である。網目構造の間隔は好ましくは１５０μm以下、さらに好ましくは７５μm以下である。網目構造の間隔が２００μｍより大きくなると、モアレが発生し易くなる。また、格子状に金属を配列した網目構造の場合、金属の細線間隔、すなわち網目構造の間隔はシールド性能を決定する重要な要素であり、この間隔が狭いほど高いシールド性能を有する。網目構造の間隔はより細かいほうが望ましいが、加工の精度の点から４０μｍ以上である事が望ましい。【００５０】
ここで、本発明における「網目構造の間隔」について説明する。先ずある網目構造の開口部Ａと、この開口部Ａと少なくとも１辺を共有し隣接する開口部に着目する。次いで、開口部Ａの重心とこれら隣接する開口部の重心との距離を測定する。これら測定した距離の中で、最短距離を開口部Ａの網目の間隔とする。そして、２０ｃｍ四方の電磁波シールド部材から任意に１００箇所の開口部を選択し、これら開口部の網目の間隔の平均値をこの電磁波シールド部材の「網目構造の間隔」とする。【００５１】
かかる網目構造の網目の線幅は、前述の網目間隔と開口率から望ましい線幅が規定されるものであるが、パターンの連続性を確保するために、線幅の下限は３μｍ以上であることが好ましい。また、ディスプレイに用いた際の画像の輝度を十分なものとするためには、かかる網目の線幅の上限は１２μｍ以下であることが好ましい。さらに電磁波シールド性とモワレ防止、非視認性などディスプレイの画質品質も考慮すると、さらに好ましくは９μｍ以下、最も好ましくは６μｍ以下であるのがよい。なお、レーザーアブレーションによれば、かかる線幅や、網目間隔を容易に変更することができる利点がある。【００５２】
本発明において、電磁波シールド性をより高めるためには、最終的な電磁波シールド部材において、金属層の網目の線が分断せずに連続していることが好ましい。【００５３】
さらに、電磁波シールド部材は、ディスプレイ等に組み込んだ場合に、外周の部分がディスプレイ等の枠体に覆われることがある。この場合、外周の部分は光透過性の必要ない部分となる。そのため、このように枠体に覆われる場合には、電磁波シールド部材の外周部において、開口部の形状、開口率は特に限定されず、アースが取りやすいように開口部がなくてもよい
かくして作製された電磁波シールド部材は十分なシールド性能を発揮するが，さらに高い電磁波シールド性能が要求される場合は，レーザーにより加工した網目構造の金属層の上に、電界めっき，無電解めっきなどあらゆる既知の方法でめっき処理を施してもよい。かかるめっき金属層を構成する金属は特に限定されないが、銅、ニッケル、クロム、亜鉛、金、銀、アルミニウム、錫、白金、パラジウム、コバルト、鉄、インジウムなどを用いることができ、１種または２種以上の金属を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、導電性、電解めっき性などの点で、銅を用いることが好ましい。また、その場合めっき後に既知のあらゆる黒化処理を用いてめっき後金属表面を黒化させる（金属表面を酸化する）ことで視認性を向上させる措置をとることが出来る。【００５４】
以上のようにして製造される本発明の電磁波シールドシートは、反射防止層とともにプラズマディスプレイなどに取り付けられるフィルターとして好適に用いられる。【００５５】
ディスプレイは、たとえばＰＤＰ、フィルター、電源回路、ビデオ信号からＰＤＰに合った電気信号に変換する回路、等が１つ筐体のなかに収められてなり、ＰＤＰとフィルターの位置関係は後述する通りである。なお、ディスプレイの筐体には、音声を出すためのスピーカーおよびスピーカーの駆動回路、テレビ電波受信回路等を併設することも可能である。【００５６】
本発明の電磁波シールド部材を用いたフィルターは、ＰＤＰに一般的に次の２つの形態のいずれかで装着される。１つはＰＤＰの前面ガラス板に直接電磁波シールド部材をはりあわせる形態であり、もう１つは別途用意したガラス板などに電磁波シールド部材を貼り合わせ、その貼り合わせ体をＰＤＰの前に若干の空隙をあけて置く形態である。本発明の電磁波シールド部材は、前者の形態で好ましく用いられる。【００５７】
フィルターの構成は、上記２つの形態において、それぞれ以下のようになる。前者の形態では、たとえば、ＰＤＰ側から、衝撃吸収層、電磁波シールド部材（ＰＤＰ側に透明基材）、色調調整層、近赤外線カット層、および反射防止層、となる。後者の形態では、電磁波シールド部材（ＰＤＰ側にパターンを有する樹脂層）、ガラス、色調調整層、近赤外線カット層、および反射防止層、となる。【００５８】
上記各機能を有する層は、各々独立した層であってもよいし、１つの層で複数の機能を発揮するものであってもよい。これらは、限定されるものではないが、それぞれ以下のような構成、組成を有する物を用いることができる。【００５９】
反射防止層は、低屈折率層と高屈折率層の少なくとも２層からなり、高屈折率層をＰＤＰ側に配置する。低屈折率層を形成するには、シランカップリング剤、アルコキシシリル基を有するフッ素樹脂を用いることができる。高屈折率層を形成するには、金属化合物粒子を含有したアクリル系樹脂を用いることができる。金属化合物粒子を併用することは帯電防止効果を得ることができ、塵埃がフィルターに付着することを抑えるので好ましい。それぞれの樹脂は公知の有機溶媒に溶解し、電磁波シールドシートもしくはそれとは別に用意された基材に塗布すればよい。【００６０】
近赤外線カット層は、ジイモニウム系化合物など、近赤外線吸収能を有する色素を電磁波シールドシートの透明基材もしくはそれとは別に用意された基材に塗布することで形成できる。このとき、フタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、ジチオールニッケル錯体系化合物を併用すると、吸収能を高めることができるので好ましい。【００６１】
色調調整層は、例えばポルフィラジン系化合物など、波長５９０ｎｍ付近の可視光線を吸収する色素を電磁波シールドシートの透明基材もしくはそれとは別に用意された基材に塗布して形成することができる。なお、当該色素は、近赤外線吸収能を有する色素とあわせて用い、近高分子樹脂バインダーとともに公知の有機溶媒をもちいて基材に塗布してもよい
【実施例】
【００６２】
各実施例、比較例の評価方法について説明する。
（１）網目構造の線幅、および間隔（ピッチ）
（株）キーエンス製  デジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−２００）を用いて、倍率４５０倍で表面観察を行った。その測長機能を用いて、格子状導電性パターンの線幅、および間隔（ピッチ）（対向する線幅と線幅の間隔）を測長した。各実施例・比較例について、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から、任意の２５箇所（各箇所につき、細線４本と細線間隔１箇所）、計１００本の線幅、および２５箇所の間隔（ピッチ）について計測し、その平均値をそれぞれの寸法とした。
（２）網目構造の開口率
（株）キーエンス製  デジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−２００）を用いて、倍率２００倍で表面観察を行った。その輝度抽出機能（ヒストグラム抽出、輝度レンジ設定０−１７０）を用いて、網目構造の金属層が形成されていない部分（開口部）と網目構造の金属層が形成されている部分とに２値化した。次いで、面積計測機能を用いて、全体の面積、および開口部分の面積を算出、開口部面積を全体の面積で除算することにより開口率を得た。各実施例・比較例について、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の２０箇所について開口率を算出、その平均値を開口率とした。
（３）金属層、金属酸化物層の厚み
ＦＩＢ（集束イオンビーム）マイクロサンプリングシステム（（株）日立製ＦＢ−２０００Ａ）にてサンプル断面を切り出し、その断面を透過型電子顕微鏡（（株）日立製Ｈ−９０００ＵＨＲII、加速電圧３００ｋＶ、観察倍率２０万倍）にて観察し、０．１μｍ未満の金属層、および金属酸化物層の厚みを測長した。各実施例・比較例について、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から、任意の３箇所について計測し、その平均値を金属酸化物層の厚みとした。【００６３】
また、０．１μｍ以上の金属層及び、金属／金属酸化物層の厚みについては（株）キーエンス製  表面形状測定顕微鏡（ＶＦ−７５００）を用いて、倍率２５００倍で表面形状測定を実施、網目構造細線の厚みを計測した。２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から、任意の２０箇所について計測し、その平均値をそのサンプルにおける金属層の厚みとした。
（４）電磁波シールド性
アドバンテスト（株）製スペクトラムアナライザシステム、シールド評価機器（ＴＲ１７０３１Ａを用い、ＫＥＣ（関西電子工業振興センター）法で、１ＭＨｚ〜１ＧＨｚの周波数範囲の電界波減衰（ｄＢ）を測定し、以下の基準で評価した。各実施例・比較例についてサンプルは３枚測定した。
周波数５０ＭＨｚでの電界波減衰：３枚全て４０ｄＢ以上である・・・○
周波数５０ＭＨｚでの電界波減衰：１枚でも４０ｄＢ未満がある・・・×
電界波減衰（ｄＢ）は値が大きいほど電磁波シールド性に優れている。「○」であれば良好な電磁波シールド性を示す。
（５）画像視認性（ディスプレイ画面の視認性）
光透過性電磁波シールド部材をＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）画面の最前面に貼りつけ、正面、上下、左右方向から目視観察を行い、以下基準で評価した。各実施例・比較例についてサンプルは３枚評価した。また、目視観察を行った人数は１人である。
３枚全て画面にムラ、またはぎらつきが発生しない・・・○
１枚または２枚に画面にムラ、またはぎらつきが発生する  ・・・△
３枚すべてに画面ムラ、またはぎらつきが発生する。・・・×
「○」であれば画像視認性の低下がなく、良好な視認性を示す。【００６４】
なお、画像視認性の評価は反透明基材側から観察して行った（透明基材側をＰＤＰ画面の最表面に張付けて、反透明基材側を視認側として観察評価した。）。【００６５】
また、光透過性電磁波シールド部材が金属酸化物層を有している場合は、金属酸化物層側から観察した（金属酸化物層を反透明基材側に有する場合は、反透明基材側を視認側として観察評価した。一方、金属酸化物層を透明基材側に有する場合は、透明基材側を視認側として観察評価した。また、金属酸化物層を反透明基材側と透明基材側の２層有する場合は、反透明基材側と透明基材側からの両方の評価も行った。）。
（６）レーザー加工性
レーザーアブレーションによるパターン化の際に発生する熱により、透明基材が白濁し透明性が損なわれていないかどうか目視で判断した。評価基準は以下のとおり。各実施例・比較例についてサンプルは３枚評価した。また、目視観察を行った人数は１人である。
３枚全て透明基材に白濁がない・・・・○
１枚でも透明基材に白濁がある・・・・×
「○」であればレーザー加工時の熱の影響がなく、良好な透明性を示す。
（７）モアレ
作製した電磁波シールド部材をプラズマテレビ（松下電気産業（株）製  ＶＩＥＲＡ（登録商標）  ＰＸ５０）に密着させながら９０°回転させ、モアレの発生し易さを評価した。モアレが視認されない角度範囲が６０°以上のものを○（良好：モアレが発生しにくい）、６０°未満４０°以上のものを△（普通：ややモアレが発生しやすい）、４０°未満のものを×（不良：モアレが発生し易い）とした。また、その他の理由で計測不能な場合は「−」とした。なお、各実施例・比較例についてそれぞれサンプルを３枚測定し、下記の基準に基づいて各実施理絵・比較例におけるモアレ評価とした。
○（良好：モアレが発生しにくい）  ：３枚のサンプルの評価結果が全て「○」である。
△（普通：ややモアレが発生しにくい）  ：評価結果が「×」「−」のサンプルは無いが、少なくもと１枚のサンプルの評価結果が「△」である。
×（不良：モアレが発生し易い）  ：評価結果が「−」のサンプルは無いが、少なくとも１枚のサンプルの評価結果が「×」である。
−（計測不能）  ：少なくとも１枚のサンプルが計測不能である。【００６６】
以下の各実施例・比較例において、金属層に対して、透明基材がある方向を「透明基材側」、その反対の方向を「反透明基材側」と称する。レーザー以外の加工法を用いた場合は「−」とした。【００６７】
また、金属酸化物層の作製方法については、スパッタリング法（真空度：０．５Ｐａ、ターゲット：銅、導入ガス分率：酸素１００％）にて作製した場合は「スパッタ」、メルテックス社製黒化処理剤（メルテックス（株）製  エンプレート  ＭＢ−４３８Ａ／ＢをＡ／Ｂ／純水＝８／１３／７９の割合で調整）については「ウェット」と記載した。
（実施例１）
厚み１００μmのＰＥＴフィルム（東レ（株）製  ルミラー（登録商標）Ｕ３４）の片面に銅をスパッタリング（真空度：０．５Ｐａ、ターゲット：銅、導入ガス分率：アルゴン１００％）することにより、厚み０．０８μmの銅層がＰＥＴ上に形成されたフィルムを作製した。【００６８】
次いでスパッタリング法（真空度：０．５Ｐａ、ターゲット：銅、導入ガス分率：酸素１００％）にて、銅の上に厚み０．０５μｍの酸化銅を形成した（第１の金属酸化物層）。作製した。【００６９】
フィルムの反透明基材側（スパッタリング面）へ、波長３５５ｎｍのＹＡＧレーザーの第3高調波を照射することで、一辺７０μmの正方形部分内の銅層のみをアブレーションした構造を基本とする、線幅５μm、網目構造間隔が７５μmの網目構造が表面に形成された光透過性電磁波シールド部材を作製した。【００７０】
表１に示すとおり、視認性、電磁波シールド性能、モアレとも良好であった。【００７１】
（実施例２）
実施例１と同様のＰＥＴフィルム上へ、銅を厚み０．３μｍ分だけ真空蒸着（真空度：３×１０−３Ｐａ）した後、さらに酸化銅を厚み０．０３μｍ分だけスパッタリングすることにより、厚み０．３３μｍの金属層がＰＥＴ上に形成されたフィルムを作製した。【００７２】
作製したフィルムの反透明基材側（金属層形成面）へ波長３５５ｎｍのＹＡＧレーザーの第3高調波を照射することで，一辺７０μmの正方形部分内の金属層のみをアブレーションした構造を基本とする線幅５μm、網目構造の間隔が７５μmの網目構造が表面に形成された光透過性電磁波シールド部材を作製した。【００７３】
表１に示すとおり、視認性、電磁波シールド性能、モアレとも良好であった。【００７４】
（実施例３）
実施例２と同様にＰＥＴフィルム上へ、銅を厚み０．５μｍ分だけ真空蒸着した後、さらに酸化銅を厚み０．０３μｍ分だけスパッタリングすることにより、厚み０．５３μｍの金属層がＰＥＴ上に形成されたフィルムを作製した。【００７５】
作製したフィルムの反透明基材側（金属層形成面）へ波長３５５ｎｍのＹＡＧレーザーの第3高調波を照射することで、一辺１４２μmの正方形部分内の金属層のみをアブレーションした構造を基本とする線幅８μm，網目構造の間隔が１５０μmの網目構造が表面に形成された光透過性電磁波シールド部材を作製した。【００７６】
表１に示すとおり、視認性、電磁波シールド性能、モアレとも良好であった。【００７７】
（実施例４）
実施例１と同様のＰＥＴフィルム上へ銅をスパッタリング（真空度：０．５Ｐａ、ターゲット：銅、導入ガス分率：アルゴン１００％）することにより、厚み０．０４μｍの銅層がＰＥＴ上に形成されたフィルムを作製した。【００７８】
作製したフィルムの反透明基材側（スパッタリング面）へ波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザーすることで、一辺１４４μmの正方形部分内の金属層のみをアブレーションした構造を基本とする線幅６μm、網目構造の間隔が１５０μmの網目構造が表面に形成されたフィルムを作製した。【００７９】
このフィルムを下記の電解銅めっき液に浸し、フィルム１００ｃｍ２あたり０．３Ａの電流を流し、５分間電解Ｃｕめっきを行い、胴層の厚みを２．０μｍとした。その後フィルムを取り出し、水洗した後、水分を飛ばすためにフィルムを１２０℃で１分間乾燥した。【００８０】
作製したフィルムを酸化処理剤（メルテックス（株）製  エンプレート  ＭＢ−４３８Ａ／ＢをＡ／Ｂ／純水＝８／１３／７９の割合で調整）で、６０℃、５ｍｉｎの浸せき処理を行った（金属表面の黒化処理）。【００８１】
最終的なＣｕメッキ後の網目構造は、線幅１０μｍ、厚み２．０μｍ（金属酸化物層の厚み：０．２μｍ、金属層の厚み：１．８μｍ）、網目構造の間隔１５０μｍとなった。【００８２】
表１に示すとおり、視認性、電磁波シールド性能、モアレとも良好であった。【００８３】
電解銅メッキ液  ：  ７Ｌの水に硫酸銅溶液ＳＧ（メルテックス（株）製）を６Ｌ入れて撹拌した。次に、９７％硫酸（石津製薬（株）製  硫酸９７％  試薬特級）を２．１Ｌ添加した後、１Ｎの塩酸（ナカライテスク（株）製  Ｎ／１-塩酸）を２８ｍＬ添加した。さらに、この溶液に硫酸銅めっき光沢剤としてロール・アンド・ハース電子材料（株）製カパーグリームＣＬＸ-Ａ、ＣＬＸ-Ｃを各１００ｍＬずつこの順で添加し、最後に水を加えて溶液全体を２０Ｌにした。 
（実施例５）
実施例１と同様のＰＥＴフィルム上に、スパッタリング法（真空度：０．５Ｐａ、ターゲット：銅、導入ガス分率：酸素１００％）にて、厚み０．０４μｍの酸化銅を形成した（第１の金属酸化物層）。【００８４】
次いで、スパッタリング法（真空度：０．５Ｐａ、ターゲット：銅、導入ガス分率：アルゴン１００％）にて、酸化銅の上に厚み０．２μｍの銅を形成した（金属層）。【００８５】
さらにスパッタリング法（真空度：０．５Ｐａ、ターゲット：銅、導入ガス分率：酸素１００％）にて、銅の上に厚み０．１μｍの酸化銅を形成した（第２の金属酸化物層）。【００８６】
作製したフィルムの反透明基材側（酸化銅／銅／酸化銅面側）へ、波長３５５ｎｍのＮｄ：ＹＡＧレーザーの第3高調波を照射し、線幅１０μｍ、間隔（ピッチ）１５０μｍ、開口率８７％の格子状導電性パターンの光透過性電磁波シールド部材を得た。なお、画像視認性については透明基材側、透明基材版対面側、両方から観察して評価した。【００８７】
表１に示すとおり、視認性、電磁波シールド性能、モアレとも良好であった。
（実施例６）
実施例５のサンプルについて、反透明基材側の酸化銅（厚み０．１μｍ）を第１の金属酸化物層となるようにスパッタリング（実施例５の第２の金属酸化物層の酸化銅を、実施例６の第１の金属酸化物層となるようにスパッタリング）し、透明基材側の酸化銅（厚み０．０４μｍ）を第２の金属酸化物層となるようにスパッタリング（実施例５の第１の金属酸化物層の酸化銅を、実施例６の第２の金属酸化物層となるようにスパッタリング）して、その後は実施例５と同様にすることで、光透過性電磁波シールド部材を得た。【００８８】
実施例１と同様に評価した。なお、画像視認性については透明基材側、反透明基材側両方から観察して評価した。表１に示すとおり、視認性、電磁波シールド性能、モアレとも良好であった。
（実施例７）
厚み１００μmのＰＥＴフィルム（東レ（株）製  ルミラー（登録商標）Ｕ３４）の片面に銅をスパッタリング（真空度：０．５Ｐａ、ターゲット：銅、導入ガス分率：アルゴン１００％）することにより、厚み０．０８μmの銅層がＰＥＴ上に形成されたフィルムを作製した。【００８９】
フィルムの反透明基材側（スパッタリング面）へ、波長３５５ｎｍのＹＡＧレーザーの第3高調波を照射することで、一辺７０μmの正方形部分内の銅層のみをアブレーションした構造を基本とする、線幅５μm、網目構造間隔が７５μmの網目構造が表面に形成された光透過性電磁波シールド部材を作製した。【００９０】
表１に示すとおり、視認性は劣るものの、電磁波シールド性能、モアレとも良好であった。
（実施例８）
実施例２と同様にＰＥＴフィルム上へ、銅を厚み０．３μｍ分だけ真空蒸着（真空度：３×１０−３Ｐａ）した（銅層のみ形成し、金属酸化物層は形成しなかった。）。【００９１】
作製したフィルムの反透明基材側（金属層形成面）へ波長３５５ｎｍのＹＡＧレーザーの第3高調波を照射することで，一辺７０μmの正方形部分内の金属層のみをアブレーションした構造を基本とする線幅５μm、網目構造の間隔が７５μmの網目構造が表面に形成された光透過性電磁波シールド部材を作製した。【００９２】
表１に示すとおり、視認性は劣るものの、電磁波シールド性能、モアレとも良好であった。
（実施例９）
実施例２と同様にしてＰＥＴフィルム上へ、銅を厚み０．５μｍ分だけ真空蒸着した（銅層のみ形成し、金属酸化物層は形成しなかった。）。【００９３】
作製したフィルムの反透明基材側（金属層形成面）へ波長３５５ｎｍのＹＡＧレーザーの第3高調波を照射することで、一辺１４２μmの正方形部分内の金属層のみをアブレーションした構造を基本とする線幅８μm，網目構造の間隔が１５０μmの網目構造が表面に形成された光透過性電磁波シールド部材を作製した。【００９４】
表１に示すとおり、視認性は劣るものの、電磁波シールド性能、モアレとも良好であった。
（実施例１０）
実施例１と同様のＰＥＴフィルム上へ銅をスパッタリング（真空度：０．５Ｐａ、ターゲット：銅、導入ガス分率：アルゴン１００％）することにより、厚み０．０４μｍの銅層がＰＥＴ上に形成されたフィルムを作製した（銅層のみ形成し、金属酸化物層は形成しなかった。）。【００９５】
作製したフィルムの反透明基材側（スパッタリング面）へ波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザーすることで、一辺１４４μmの正方形部分内の金属層のみをアブレーションした構造を基本とする線幅６μm、網目構造の間隔が１５０μmの網目構造が表面に形成されたフィルムを作製した。【００９６】
このフィルムを下記の電解銅めっき液に浸し、フィルム１００ｃｍ２あたり０．３Ａの電流を流し、５分間電解Ｃｕめっきを行った（銅層の厚みは２．０μｍ、網目構造の間隔は１０μｍとなった。）。その後フィルムを取り出し、水洗した後、水分を飛ばすためにフィルムを１２０℃で１分間乾燥した。【００９７】
表１に示すとおり、視認性は劣るものの電磁波シールド性能、モアレとも良好であった。【００９８】
電解銅メッキ液  ：  ７Ｌの水に硫酸銅溶液ＳＧ（メルテックス（株）製）を６Ｌ入れて撹拌した。次に、９７％硫酸（石津製薬（株）製  硫酸９７％  試薬特級）を２．１Ｌ添加した後、１Ｎの塩酸（ナカライテスク（株）製  Ｎ／１-塩酸）を２８ｍＬ添加した。さらに、この溶液に硫酸銅めっき光沢剤としてロール・アンド・ハース電子材料（株）製カパーグリームＣＬＸ-Ａ、ＣＬＸ-Ｃを各１００ｍＬずつこの順で添加し、最後に水を加えて溶液全体を２０Ｌにした。
（比較例１）
実施例1と同様の方法で銅層と酸化銅層を作製したフィルムの反透明基材側（銅蒸着面）へ、波長３５５ｎｍのＹＡＧレーザーの第3高調波を照射することで，一辺２３０μmの正方形部分内の銅層のみをアブレーションした構造を基本とする、線幅２０μm、網目構造間隔が２５０μmの銅網目構造が表面に形成された光透過性電磁波シールド部材を作製した。【００９９】
表１に示すとおり、本比較例に示す方法では網目構造の間隔が２００μmより広い為、視認性はよい物の、良好なシールド性能が発揮できないことが確認された。また、モアレの発生頻度も高かった。
（比較例２）
厚み１００μmのＰＥＴフィルム（東レ（株）製  ルミラー（登録商標）Ｕ３４）上へ、１２μmの電界銅箔（三井金属，ＳＱ−ＶＬＰ）をラミネート処理により添合し、ＰＥＴと銅のラミネートフィルムを作製した。【０１００】
得られたフィルムの反透明基材側（銅側）表面に、線幅２５μｍ、１５０μｍ間隔（ピッチ）の網目パターンを水無し平版法で印刷した。インキは紫外線硬化インキ（（株）ティーアンドケイ東華製  ベストキュアー（登録商標）ＵＶ１７１墨インキ）を用い、印刷後、塩化第２鉄溶液でエッチングすることにより、光透過性電磁波シールドフィルムを作製した。【０１０１】
作製した網目の線幅は２０μmであった。エッチング法で作製したフィルムは十分なシールド性能を有しているものの、線幅や交点が太く十分な開口率が得られなかった。この為ＰＤＰディスプレイフィルターとして十分な視認性を得ることが出来なかった。【０１０２】
（比較例３）
厚み１００μmのＰＥＴフィルム（東レ（株）製  ルミラー（登録商標）Ｕ３４）上へ、１２μmの電界銅箔（三井金属，ＳＱ−ＶＬＰ）をラミネート処理により添合し、ＰＥＴと銅のラミネートフィルムを作製した。【０１０３】
得られたフィルムの反透明基材側（銅側表面）に線幅２５μｍ、３００μｍ間隔（ピッチ）の網目パターンを水無し平版法で印刷した。インキは紫外線硬化インキ（（株）ティーアンドケイ東華製  ベストキュアー（登録商標）ＵＶ１７１墨インキ）を用い、印刷後、塩化第２鉄溶液でエッチングすることにより、光透過性電磁波シールドフィルムを作製した。【０１０４】
エッチング後の線幅は２０μmであった。エッチング法で作製したフィルムは十分なシールド性能を有しているものの、網目構造の間隔が３００μmと高い為、モアレの発生頻度が高く、ＰＤＰディスプレイの良好な視認性を確保することが難しかった。
（比較例４）
実施例１と同様のＰＥＴフィルム上へ、銅を厚み２．５μｍ分だけ真空蒸着した後（真空度：３×１０−３Ｐａ）、作製したフィルムの反透明基材側（銅蒸着面）へ波長３５５ｎｍのＹＡＧレーザーの第3高調波を照射することで，一辺１４２μmの正方形部分内の銅層のみをアブレーションした構造を基本とする、線幅８μm、網目構造間隔が１５０μmの銅網目構造が表面に形成された光透過性電磁波シールド部材を作製した。【０１０５】
シールド性能は良好であったが、Ｃｕの膜厚が２μｍ以上と厚い為，基材のＰＥＴフィルムがアブレーション時の熱ダメージにより変形、変色し，ＰＤＰディスプレイの良好な視認性を確保することが難しかった。この為モアレ発生の確認は困難であった。【０１０６】
（実施例１１）
厚み１００μｍのＰＥＴフィルム（東レ（株）製  ルミラー（登録商標）Ｕ３４）にスパッタリング法（真空度：０．５Ｐａ、ターゲット：銅、導入ガス分率：酸素１００％）にて、厚み０．１５μｍの酸化銅を形成した（第１の金属酸化物層）。【０１０７】
次いで、抵抗加熱による真空蒸着法（真空度：３×１０−３Ｐａ）にて銅蒸着を行い、酸化銅の上に厚み０．３μｍの銅を形成した（金属層）。【０１０８】
作製したフィルムの反透明基材側（酸化銅／銅面側）へ、波長３５５ｎｍのＮｄ：ＹＡＧレーザーの第3高調波を照射し、線幅１０μｍ、間隔（ピッチ）１５０μｍ、開口率８７％の格子状導電性パターンの光透過性電磁波シールド部材を得た。【０１０９】
得られた光透過性電磁波シールド部材から、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプルを切り出し、実施例１と同様に評価した。なお、画像視認性については透明基材側から観察して評価した。電磁波シールド性、モアレ、レーザー加工性は良好であったものの画像視認性は低かったが、問題のないレベルであった。
（実施例１２）
厚み１００μｍのＰＥＴフィルム（東レ（株）製  ルミラー（登録商標）Ｕ３４）に、スパッタリング法（真空度：０．５Ｐａ、ターゲット銅、導入ガス分率：酸素１００％）にて、厚み０．１１μｍの酸化銅を形成した（第２の金属酸化物層）。【０１１０】
次いで、スパッタリング法（真空度：０．５Ｐａ、ターゲット：銅、導入ガス分率：アルゴン１００％）にて、酸化銅の上に厚み０．３μｍの銅を形成した（金属層）。【０１１１】
さらにスパッタリング法（真空度：０．５Ｐａ、ターゲット：銅、導入ガス分率：酸素１００％）にて、銅の上に厚み０．００５μｍの酸化銅を形成した（第１の金属酸化物層）。【０１１２】
作製したフィルムの反透明基材側（酸化銅／銅／酸化銅面側）へ、波長３５５ｎｍのＮｄ：ＹＡＧレーザーの第3高調波を照射し、線幅１０μｍ、間隔（ピッチ）１５０μｍ、開口率８７％の格子状導電性パターンの光透過性電磁波シールド部材を得た。【０１１３】
得られた光透過性電磁波シールド部材から、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプルを切り出し、実施例１と同様に評価した。なお、画像視認性については透明基材側、反透明基材側両方から観察して評価した。電磁波シールド性、モアレ、レーザー加工性は良好であったものの画像視認性は低かったが、問題のないレベルであった。
（実施例１３）
実施例１２のサンプルについて、実施例１２の透明基材側の酸化銅（厚み０．１１μｍ）を実施例１３の第１の金属酸化物層となるようにスパッタリング（実施例１２の透明基材側の酸化銅と同様の膜を、実施例１３の反透明基材側の酸化銅の膜として形成した。）し、実施例１２の反透明基材側の酸化銅（厚み０．００５μｍ）を実施例１３の第２の金属酸化物層となるようにスパッタリング（実施例１２の反透明基材側の酸化銅と同様の膜を、実施例１３の透明基材側の酸化銅の膜として形成した。）して、実施例１と同様に評価した。なお、画像視認性については透明基材側、半透明基材側両方から観察して評価した。電磁波シールド性、モアレ、レーザー加工性は良好であったものの画像視認性は低かったが問題のないレベルであった。
（実施例１４）
厚み１００μｍのＰＥＴフィルム（東レ（株）製“ルミラー”（登録商標）Ｕ３４）にスパッタリング法（真空度：０．５Ｐａ、ターゲット銅、導入ガス分率：酸素１００％）にて、厚み０．００５μｍの酸化銅を形成した（第１の金属酸化物層）。【０１１４】
次いで、抵抗加熱による真空蒸着法（真空度：３×１０−３Ｐａ）にて銅蒸着を行い、酸化銅の上に厚み０．３μｍの銅を形成した（金属層）。【０１１５】
作製したフィルム酸化銅／銅面側へ、波長３５５ｎｍのＮｄ：ＹＡＧレーザーの第3高調波を照射し、線幅１０μｍ、間隔（ピッチ）１５０μｍ、開口率８７％の格子状導電性パターンの光透過性電磁波シールド部材を得た。【０１１６】
得られた光透過性電磁波シールド部材から、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプルを切り出し、実施例１と同様に評価した。なお、画像視認性については透明基材側から観察して評価した。電磁波シールド性、モアレ、レーザー加工性は良好であったものの画像視認性は低かったが、問題のないレベルであった。【０１１７】
【表１−１】
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【０１１８】
【表１−２】
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【産業上の利用可能性】
【０１１９】
本発明は、従来技術と比較してモアレ現象の発生を抑制した、高い電磁波シールド性能と適切な網目構造による十分な全光線透過率を両立し、かつディスプレイに取り付けた際、視認性を低下させることの無い光透過性電磁波シールド部材およびその製造方法を提供することにある。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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