(57)【要約】分子を標識化する際の標識化が容易、すなわち、標識化の反応速度が速く、および反応収率が高い標識、ならびにその標識を製造するための前駆体を提供する。式（Ｉ）で表わされるヘキサトリエン−β−カルボニル化合物、式（ＩＩ）で表わされるヘキサトリエン−β−カルボニル化合物、式（ＩＩＩ）で表わされるヘキサトリエン−β−カルボニル化合物および式（ＩＶ）で表わされるヘキサトリエン−β−カルボニル化合物により解決される。2008096760.tif 000292前記式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｘ1、Ｘ2およびＺは明細書中で定義のとおり。
2008096760.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）
【化１】
2008096760.tif 000274
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＲ11または−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｒ3は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1、式−Ｌ1−Ｎ3もしくは式
【化２】
2008096760.tif 000275
で表わされる基であり、
Ｚは、下記式
【化３】
2008096760.tif 000276
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ1は、水素原子、−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされるヘキサトリエン−β−カルボニル化合物。
【請求項２】
一般式（ＩＩ）
【化４】
2008096760.tif 000277
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＲ11または−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−、式−Ａ1−Ｌ1−、下記式
【化５】
2008096760.tif 000278
で表わされる基であり、
Ｚは、下記式
【化６】
2008096760.tif 000279
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、低級アル低級アルコキシ基、アリール基、低級アルール基、ヘテロアリール基または低級ヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされるヘキサトリエン−β−カルボニル化合物。
【請求項３】
一般式（ＩＩＩ）
【化７】
2008096760.tif 000280
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＲ11または−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ3は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1、式−Ｌ1−Ｎ3もしくは式
【化８】
2008096760.tif 000281
で表わされる基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、
【化９】
2008096760.tif 000282
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｍ1は、水素原子、−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされるヘキサトリエン−β−カルボニル化合物。
【請求項４】
一般式（ＩＶ）
【化１０】
2008096760.tif 000283
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＲ11または−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−、式−Ａ1−Ｌ1−、下記式
【化１１】
2008096760.tif 000284
で表わされる基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、下記式
【化１２】
2008096760.tif 000285
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされるヘキサトリエン−β−カルボニル化合物。
【請求項５】
一般式（Ｉ）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＳｉ（ｔ−Ｂｕ）Ｐｈ2または−ＣＨＯで表わされる基を意味し、
Ｒ2は、低級アルキル基または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍで表される基を意味し、
Ｒ3は、水素原子、式−Ｌ1−Ａ1−Ｍで表される基、式−Ｌ1−Ｎ3で表わされる基または式−Ｌ1−Ｃ≡ＣＨを意味し、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基を意味する。
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数を意味する。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数を意味する。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍは、水素原子、またはアシル基を意味する請求項１に記載の化合物。
【請求項６】
一般式（ＩＩ）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨまたは−ＣＨＯで表わされる基を意味し、
Ｒ2は、低級アルキル基を意味し、
Ｒ4は、下記式
【化１３】
2008096760.tif 000286
で表わされる基を意味し、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−で表される基、式−Ａ1−Ｌ1−で表わされる基、または下記式
【化１４】
2008096760.tif 000287
で表わされる基を意味し、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基を意味する。
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数を意味する。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基である請求項２に記載の化合物。
【請求項７】
一般式（ＩＩＩ）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＳｉ（ｔ−Ｂｕ）Ｐｈ2または−ＣＨＯで表わされる基を意味し、
Ｒ3は、水素原子、式−Ｌ1−Ａ1−Ｍで表される基、式−Ｌ1−Ｎ3で表わされる基または式−Ｌ1−Ｃ≡ＣＨを意味し、
Ｒ5は、下記式
【化１５】
2008096760.tif 000288
で表わされる基を意味し、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表される基を意味し、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基を意味する。
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数を意味する。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数を意味する。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手であり、
Ｍは、水素原子またはアシル基を意味する請求項３に記載の化合物。
【請求項８】
一般式（ＩＶ）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＳｉ（ｔ−Ｂｕ）Ｐｈ2または−ＣＨＯで表わされる基を意味し、
Ｒ4は、下記式
【化１６】
2008096760.tif 000289
で表わされる基を意味し、
Ｒ5は、下記式
【化１７】
2008096760.tif 000290
で表わされる基を意味し、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−で表される基、式−Ａ1−Ｌ1−で表わされる基、または下記式
【化１８】
2008096760.tif 000291
で表わされる基を意味し、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表される基を意味し、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基を意味する。
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数を意味する。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数を意味する。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手である請求項４に記載の化合物。
【請求項９】
Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である請求項２に記載の化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である請求項３に記載の化合物および、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である請求項４に記載の化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物を含む検査用組成物。
【請求項１０】
Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である請求項２に記載の化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である請求項３に記載の化合物および、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である請求項４に記載の化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物を含む検査キットであって、
前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物が、検体中のアミノ基を含有する化合物を標識化することにより、前記アミノ基を含有する化合物を検査するキット。
【請求項１１】
放射性金属であるポジトロン放出核種を取り込んだ１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識化された抗体であって、
前記ヘキサトリエン−β−カルボニル化合物が、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基であり、Ｒ4が標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである請求項２に記載の化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基であり、Ｒ5が標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである請求項３に記載の化合物およびＲ1が−ＣＨＯで表わされる基であり、Ｒ4およびＲ5の少なくとも一方が、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである請求項４に記載の化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物である抗体。
【請求項１２】
放射性金属であるポジトロン放出核種を取り込んだ１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識化された抗体を含むＰＥＴ造影剤の製造キットであって、
前記キットが、
Ｒ4が標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである請求項２に記載の化合物、Ｒ5が標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである請求項３に記載の化合物およびＲ4およびＲ5の少なくとも一方が、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである請求項４に記載の化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物、ならびに
標識化される抗体、ならびに
必要に応じて取扱説明書を含むキット。
【請求項１３】
１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識化された抗体であって、
前記ヘキサトリエン−β−カルボニル化合物が、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である請求項２に記載の化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である請求項３に記載の化合物およびＲ1が−ＣＨＯで表わされる基である請求項４に記載の化合物からなる群から選択されるヘキサトリエン−β−カルボニル化合物である抗体。
【請求項１４】
１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識化された抗体の製造キットであって、
前記キットが、
Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である請求項２に記載の化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である請求項３に記載の化合物およびＲ1が−ＣＨＯで表わされる基である請求項４に記載の化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物ならびに
標識化される抗体、ならびに
必要に応じて取扱説明書を含むキット。
【請求項１５】
タンパク質の標識化キットであって、
Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である請求項２に記載の化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である請求項３に記載の化合物およびＲ1が−ＣＨＯで表わされる基である請求項４に記載の化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物ならびに
標識化されるタンパク、ならびに
必要に応じて取扱説明書を含むキット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規ヘキサトリエン−β−カルボニル化合物に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
生体を非侵襲のままで診断する方法として、従来、ＰＥＴ（陽電子放射断層画像)測定、蛍光イメージング、ＭＲＩ（磁気共鳴映像法）等が用いられている。これらの方法では、生体内に存在する、タンパク質、抗体、ペプチド、糖鎖等の分子を標識化、例えば放射性標識を用いて標識化し、その標識を検出することにより、生体における前記分子の分布等をイメージングする。このイメージングを用いて、前記生体の疾患等を診断することが可能である。【０００３】
しかしながら、これらの方法においては、前記標識化法が容易ではないものが多い。例えば半減期が短い11Ｃでラベルされている標識化合物を用いるＰＥＴ測定の場合、標識を製造してからＰＥＴ測定を行うまでの工程を短時間で行う必要がある。そうすると、サイクロトロン、自動合成装置などをＰＥＴ測定を行う医療施設に併設し、かつ、ＰＥＴ測定ごとに前記標識を製造する必要があった（例えば特許文献１参照）。また、これらの方法においては、標識を用いて生体内高分子化合物を標識化する反応速度が遅い、反応収率が低い等の問題も存在し、不安定な生体内分子を標識化することが困難であった。【０００４】
なお、ヘキサトリエン−β−ケト構造を有する化合物は、例えばリジン残基のアミノ基とアザ電子環状反応により、環化を行うことが知られている（例えば非特許文献１、２および３参照）。例えば、下記式に示すヘキサトリエン−β−ケト構造を有する化合物は、ホスホリパーゼＡ2（ＰＬＡ2）のリジン残基と速やかに反応し、Schiff塩基を形成し、その後環化する。【０００５】
【化１９】
2008096760.tif 000003
【０００６】
しかしながら、前記ヘキサトリエン−β−ケト構造を有する化合物で、前記標識化法に用いるのに優れた化合物は、知られていなかった。
【特許文献１】特開２００５−１５４３７４号公報
【非特許文献１】タナカら、Tetrahedron Lett.，１９９８年，第３９巻，ｐ１１８５−１１８８．
【非特許文献２】タナカら、Tetrahedron，１９９９年，第５５巻，ｐ１６５７−１６８６．
【非特許文献３】タナカら、J. of Synth. Org. Chem. Japan，１９９９年，第５７巻，ｐ８７６−８８７．
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで、本発明は、分子を標識化する際の標識化が容易、すなわち、標識化の反応速度が速く、および反応収率が高い標識、ならびにその標識を製造するための前駆体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、
一般式（Ｉ）【０００９】
【化２０】
2008096760.tif 000004
【００１０】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＲ11または−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｒ3は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1、式−Ｌ1−Ｎ3もしくは式【００１１】
【化２１】
2008096760.tif 000005
【００１２】
で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【００１３】
【化２２】
2008096760.tif 000006
【００１４】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【００１５】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ1は、水素原子、−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされるヘキサトリエン−β−カルボニル化合物を提供する。【００１６】
また、本発明は、
一般式（ＩＩ）【００１７】
【化２３】
2008096760.tif 000007
【００１８】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＲ11または−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−、式−Ａ1−Ｌ1−、下記式【００１９】
【化２４】
2008096760.tif 000008
【００２０】
で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【００２１】
【化２５】
2008096760.tif 000009
【００２２】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【００２３】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、低級アル低級アルコキシ基、アリール基、低級アルール基、ヘテロアリール基または低級ヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされるヘキサトリエン−β−カルボニル化合物を提供する。【００２４】
また、本発明は、一般式（ＩＩＩ）【００２５】
【化２６】
2008096760.tif 000010
【００２６】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＲ11または−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ3は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1、式−Ｌ1−Ｎ3もしくは式【００２７】
【化２７】
2008096760.tif 000011
【００２８】
で表わされる基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、【００２９】
【化２８】
2008096760.tif 000012
【００３０】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【００３１】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｍ1は、水素原子、−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされるヘキサトリエン−β−カルボニル化合物を提供する。【００３２】
また、本発明は、
一般式（ＩＶ）【００３３】
【化２９】
2008096760.tif 000013
【００３４】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＲ11または−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−、式−Ａ1−Ｌ1−、下記式【００３５】
【化３０】
2008096760.tif 000014
【００３６】
で表わされる基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【００３７】
【化３１】
2008096760.tif 000015
【００３８】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【００３９】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされるヘキサトリエン−β−カルボニル化合物を提供する。
【発明の効果】
【００４０】
本発明の式（ＩＩ）で表わされる化合物、式（ＩＩＩ）で表わされる化合物、および式（ＩＶ）で表わされる化合物を用いると、不安定で標識困難であった分子を容易に迅速に標識化することが可能であるという利点がある。また、本発明の式（ＩＩ）で表わされる化合物、式（ＩＩＩ）で表わされる化合物、および式（ＩＶ）で表わされる化合物は、本発明の式（Ｉ）で表わされる化合物から容易に得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４１】
本発明は、前記のように、
一般式（Ｉ）【００４２】
【化３２】
2008096760.tif 000016
【００４３】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＲ11または−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｒ3は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1、式−Ｌ1−Ｎ3もしくは式【００４４】
【化３３】
2008096760.tif 000017
【００４５】
で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【００４６】
【化３４】
2008096760.tif 000018
【００４７】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【００４８】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ1は、水素原子、−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされるヘキサトリエン−β−カルボニル化合物である。【００４９】
また、本発明は、一般式（ＩＩ）【００５０】
【化３５】
2008096760.tif 000019
【００５１】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＲ11または−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−、式−Ａ1−Ｌ1−、下記式【００５２】
【化３６】
2008096760.tif 000020
【００５３】
で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【００５４】
【化３７】
2008096760.tif 000021
【００５５】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【００５６】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、低級アル低級アルコキシ基、アリール基、低級アルール基、ヘテロアリール基または低級ヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされるヘキサトリエン−β−カルボニル化合物である。【００５７】
また、本発明は、一般式（ＩＩＩ）【００５８】
【化３８】
2008096760.tif 000022
【００５９】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＲ11または−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ3は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1、式−Ｌ1−Ｎ3もしくは式【００６０】
【化３９】
2008096760.tif 000023
【００６１】
で表わされる基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、【００６２】
【化４０】
2008096760.tif 000024
【００６３】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【００６４】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ｍ1は、水素原子、−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされるヘキサトリエン−β−カルボニル化合物である。【００６５】
また、本発明は、一般式（ＩＶ）【００６６】
【化４１】
2008096760.tif 000025
【００６７】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＲ11または−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−、式−Ａ1−Ｌ1−、下記式【００６８】
【化４２】
2008096760.tif 000026
【００６９】
で表わされる基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【００７０】
【化４３】
2008096760.tif 000027
【００７１】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【００７２】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされるヘキサトリエン−β−カルボニル化合物である。【００７３】
また、本発明は、式（Ｉ）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＳｉ（ｔ−Ｂｕ）Ｐｈ2または−ＣＨＯで表わされる基を意味し、
Ｒ2は、低級アルキル基または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍで表される基を意味し、
Ｒ3は、水素原子、式−Ｌ1−Ａ1−Ｍで表される基、式−Ｌ1−Ｎ3で表わされる基または式−Ｌ1−Ｃ≡ＣＨを意味し、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基を意味し、
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数を意味する。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数を意味する。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍは、水素原子、またはアシル基を意味するのが好ましい。【００７４】
また、本発明は、式（ＩＩ）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨまたは−ＣＨＯで表わされる基を意味し、
Ｒ2は、低級アルキル基を意味し、
Ｒ4は、下記式
【化４４】
2008096760.tif 000028
で表わされる基を意味し、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−で表される基、式−Ａ1−Ｌ1−で表わされる基、または下記式
【化４５】
2008096760.tif 000029
で表わされる基を意味し、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基を意味し、
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数を意味する。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であるのが好ましい。【００７５】
また、本発明は、式（ＩＩＩ）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＳｉ（ｔ−Ｂｕ）Ｐｈ2または−ＣＨＯで表わされる基を意味し、
Ｒ3は、水素原子、式−Ｌ1−Ａ1−Ｍで表される基、式−Ｌ1−Ｎ3で表わされる基または式−Ｌ1−Ｃ≡ＣＨを意味し、
Ｒ5は、下記式
【化４６】
2008096760.tif 000030
で表わされる基を意味し、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表される基を意味し、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基を意味し、
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数を意味する。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数を意味する。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手であり、
Ｍは、水素原子またはアシル基を意味するのが好ましい。【００７６】
また、本発明は、式（ＩＶ）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＳｉ（ｔ−Ｂｕ）Ｐｈ2または−ＣＨＯで表わされる基を意味し、
Ｒ4は、下記式
【化４７】
2008096760.tif 000031
で表わされる基を意味し、
Ｒ5は、下記式
【化４８】
2008096760.tif 000032
で表わされる基を意味し、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−で表される基、式−Ａ1−Ｌ1−で表わされる基、または下記式
【化４９】
2008096760.tif 000033
で表わされる基を意味し、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表される基を意味し、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基を意味し、
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数を意味する。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数を意味する。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手であるのが好ましい。【００７７】
また、本発明の、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＲ11である式（Ｉ）で表わされる化合物は、以下の方法で製造することができる。具体的には、
一般式（Ｘ）【００７８】
【化５０】
2008096760.tif 000034
【００７９】
［前記式中、
Ｒ3は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1、式−Ｌ1−Ｎ3もしくは式【００８０】
【化５１】
2008096760.tif 000035
【００８１】
で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【００８２】
【化５２】
2008096760.tif 000036
【００８３】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基であり、
Ｍ11は、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ａｓ、ＣｕまたはＺｒであり、
Ｒ21は、低級アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、水酸基、アルコキシ基またはハロゲン原子である。【００８４】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ1は、水素原子、−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされる化合物を、一般式（ＸＩ）【００８５】
【化５３】
2008096760.tif 000037
【００８６】
［前記式中、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ31は、ハロゲン原子である。【００８７】
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基である。］
で表わされる化合物で処理して、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＲ11で表わされる基である式（Ｉ）で表わされる化合物を得ることができる。【００８８】
また、本発明の、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨで表わされる基である式（Ｉ）で表わされる化合物は、以下の方法で製造することができる。具体的には、
Ｒ1が−ＣＨ2ＯＲ11で表わされる基である式（Ｉ）で表わされる化合物、すなわち、一般式（Ｉ−１）【００８９】
【化５４】
2008096760.tif 000038
【００９０】
［前記式中、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｒ3は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1、式−Ｌ1−Ｎ3もしくは式【００９１】
【化５５】
2008096760.tif 000039
【００９２】
で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【００９３】
【化５６】
2008096760.tif 000040
【００９４】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【００９５】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ1は、水素原子、−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされる化合物のＲ11を脱離させることによりＲ1が−ＣＨ2ＯＨで表わされる基である式（Ｉ）で表わされる化合物を得ることができる。【００９６】
また、本発明の、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（Ｉ）で表わされる化合物は、以下の方法で製造することができる。具体的には、
Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨで表わされる基である式（Ｉ）で表わされる化合物、すなわち、一般式（Ｉ−２）【００９７】
【化５７】
2008096760.tif 000041
【００９８】
［前記式中、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｒ3は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1、式−Ｌ1−Ｎ3もしくは式【００９９】
【化５８】
2008096760.tif 000042
【０１００】
で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０１０１】
【化５９】
2008096760.tif 000043
【０１０２】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０１０３】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ1は、水素原子、−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされる化合物を酸化することによりＲ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（Ｉ）で表わされる化合物を得ることができる。【０１０４】
また、本発明の、Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、Ｘ1が、式−Ａ1−Ｌ1−または−Ｌ1−Ａ1−で表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物は、以下の方法で製造することができる。具体的には、
一般式（Ｉ−１１）【０１０５】
【化６０】
2008096760.tif 000044
【０１０６】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０１０７】
【化６１】
2008096760.tif 000045
【０１０８】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０１０９】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされる化合物と式Ｒ4−Ｙ1（ＸＩＶ）
［前記式中、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｙ1は、脱離基である。］
で表わされる化合物とをカップリングさせ、Ｙ1−Ｈを除去することで一般式（ＩＩ−１）【０１１０】
【化６２】
2008096760.tif 000046
【０１１１】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｚは、下記式【０１１２】
【化６３】
2008096760.tif 000047
【０１１３】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０１１４】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、低級アル低級アルコキシ基、アリール基、低級アルール基、ヘテロアリール基または低級ヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされる化合物を得るか、または、
一般式（Ｉ−１２）【０１１５】
【化６４】
2008096760.tif 000048
【０１１６】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０１１７】
【化６５】
2008096760.tif 000049
【０１１８】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０１１９】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされる化合物と、式Ｒ4−Ｙ1（ＸＩＶ）
［前記式中、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｙ1は、脱離基である。］
で表わされる化合物とをカップリングさせ、Ｙ1−Ｈを除去することで一般式（ＩＩ−２）【０１２０】
【化６６】
2008096760.tif 000050
【０１２１】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｚは、下記式【０１２２】
【化６７】
2008096760.tif 000051
【０１２３】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０１２４】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、低級アル低級アルコキシ基、アリール基、低級アルール基、ヘテロアリール基または低級ヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされる化合物を得ることができる。【０１２５】
また、本発明の、Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、Ｘ1が、【０１２６】
【化６８】
2008096760.tif 000052
【０１２７】
である式（ＩＩ）で表わされる化合物は、以下の方法で製造することができる。具体的には、
一般式（Ｉ−１３）【０１２８】
【化６９】
2008096760.tif 000053
【０１２９】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０１３０】
【化７０】
2008096760.tif 000054
【０１３１】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０１３２】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされる化合物と、一般式（ＸＶ）【０１３３】
【化７１】
2008096760.tif 000055
【０１３４】
［前記式中、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基である。］
で表わされる化合物とを反応させ、一般式（ＩＩ−３）【０１３５】
【化７２】
2008096760.tif 000056
【０１３６】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｚは、下記式【０１３７】
【化７３】
2008096760.tif 000057
【０１３８】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０１３９】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、低級アル低級アルコキシ基、アリール基、低級アルール基、ヘテロアリール基または低級ヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされる化合物を得ることができる。【０１４０】
また、本発明の、Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、Ｘ1が、【０１４１】
【化７４】
2008096760.tif 000058
【０１４２】
である式（ＩＩ）で表わされる化合物は、以下の方法で製造することができる。具体的には、
一般式（Ｉ−１４）【０１４３】
【化７５】
2008096760.tif 000059
【０１４４】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０１４５】
【化７６】
2008096760.tif 000060
【０１４６】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０１４７】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、低級アル低級アルコキシ基、アリール基、低級アルール基、ヘテロアリール基または低級ヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされる化合物と、一般式（ＸＶＩ）
Ｒ4−Ｎ3      （ＸＶＩ）
［前記式中、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基である。］
で表わされる化合物とを反応させ、一般式（ＩＩ−４）【０１４８】
【化７７】
2008096760.tif 000061
【０１４９】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｚは、下記式【０１５０】
【化７８】
2008096760.tif 000062
【０１５１】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０１５２】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、低級アル低級アルコキシ基、アリール基、低級アルール基、ヘテロアリール基または低級ヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされる化合物を得ることができる。【０１５３】
また、本発明の、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物は、以下の方法で製造することができる。具体的には、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＲ11である式（ＩＩ）で表わされる化合物のＲ11を脱離させることにより、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物を得ることができる。【０１５４】
また、本発明の、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物は、以下の方法で製造することができる。具体的には、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物を酸化することによりＲ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物を得ることができる。【０１５５】
また、本発明の、Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物は、以下の方法で製造することができる。具体的には、一般式（Ｉ−２１）【０１５６】
【化７９】
2008096760.tif 000063
【０１５７】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ3は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1、式−Ｌ1−Ｎ3もしくは式【０１５８】
【化８０】
2008096760.tif 000064
【０１５９】
で表わされる基であり、
Ｚは、【０１６０】
【化８１】
2008096760.tif 000065
【０１６１】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０１６２】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ1は、水素原子、−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされる化合物と、式Ｒ5−Ｌ3−Ｙ2（ＸＶＩＩ）
［前記式中、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ｙ2は、脱離基である。］
で表わされる化合物とをカップリングさせ、Ｙ2−Ｈを除去することにより、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＲ11で表わされる基である一般式（ＩＩＩ）で表わされる化合物を得ることができる。【０１６３】
また、本発明の、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物は、以下の方法で製造することができる。具体的には、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＲ11である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物のＲ11を脱離させることにより、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物を得ることができる。【０１６４】
また、本発明の、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物は、以下の方法で製造することができる。具体的には、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物を酸化することによりＲ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物を得ることができる。【０１６５】
また、本発明の、Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物は、以下の方法で製造することができる。具体的には、一般式（ＩＩ−１１）【０１６６】
【化８２】
2008096760.tif 000066
【０１６７】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−、式−Ａ1−Ｌ1−、下記式【０１６８】
【化８３】
2008096760.tif 000067
【０１６９】
で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０１７０】
【化８４】
2008096760.tif 000068
【０１７１】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０１７２】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、低級アル低級アルコキシ基、アリール基、低級アルール基、ヘテロアリール基または低級ヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされる化合物と、式Ｒ5−Ｌ3−Ｙ2（ＸＶＩＩ）
［前記式中、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ｙ2は、脱離基である。］
で表わされる化合物とをカップリングさせ、Ｙ2−Ｈを除去することでＲ1が−ＣＨ2ＯＲ11で表さされる基である一般式（ＩＶ）で表わされる化合物を得ることができる。【０１７３】
また、本発明の、Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、Ｘ1が、式−Ａ1−Ｌ1−または−Ｌ1−Ａ1−で表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物は、以下の方法で製造することができる。具体的には、一般式（ＩＩＩ−１）【０１７４】
【化８５】
2008096760.tif 000069
【０１７５】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、【０１７６】
【化８６】
2008096760.tif 000070
【０１７７】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０１７８】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされる化合物と式Ｒ4−Ｙ1（ＸＩＶ）
［前記式中、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｙ1は、脱離基である。］
で表わされる化合物とをカップリングさせ、Ｙ1−Ｈを除去することで一般式（ＩＶ−２）【０１７９】
【化８７】
2008096760.tif 000071
【０１８０】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０１８１】
【化８８】
2008096760.tif 000072
【０１８２】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０１８３】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされる化合物を得るか、または、
一般式（ＩＩＩ−２）【０１８４】
【化８９】
2008096760.tif 000073
【０１８５】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、【０１８６】
【化９０】
2008096760.tif 000074
【０１８７】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０１８８】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされる化合物と、式Ｒ4−Ｙ1（ＸＩＶ）
［前記式中、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｙ1は、脱離基である。］
で表わされる化合物とをカップリングさせ、Ｙ1−Ｈを除去することで一般式（ＩＶ−３）【０１８９】
【化９１】
2008096760.tif 000075
【０１９０】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０１９１】
【化９２】
2008096760.tif 000076
【０１９２】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０１９３】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされる化合物を得ることができる。【０１９４】
また、本発明の、Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、Ｘ1が、【０１９５】
【化９３】
2008096760.tif 000077
【０１９６】
である式（ＩＶ）で表わされる化合物は、以下の方法で製造することができる。具体的には、一般式（ＩＩＩ−３）【０１９７】
【化９４】
2008096760.tif 000078
【０１９８】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、【０１９９】
【化９５】
2008096760.tif 000079
【０２００】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０２０１】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされる化合物と、一般式（ＸＶ）【０２０２】
【化９６】
2008096760.tif 000080
【０２０３】
［前記式中、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基である。］
で表わされる化合物とを反応させ、一般式（ＩＶ−４）【０２０４】
【化９７】
2008096760.tif 000081
【０２０５】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０２０６】
【化９８】
2008096760.tif 000082
【０２０７】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０２０８】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされる化合物を得ることができる。【０２０９】
また、本発明の、Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、Ｘ1が、【０２１０】
【化９９】
2008096760.tif 000083
【０２１１】
である式（ＩＶ）で表わされる化合物は、以下の方法で製造することができる。具体的には、一般式（ＩＩＩ−４）【０２１２】
【化１００】
2008096760.tif 000084
【０２１３】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、【０２１４】
【化１０１】
2008096760.tif 000085
【０２１５】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０２１６】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされる化合物と、一般式（ＸＶＩ）
Ｒ4−Ｎ3      （ＸＶＩ）
［前記式中、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基である。］
で表わされる化合物とを反応させ、一般式（ＩＶ−５）【０２１７】
【化１０２】
2008096760.tif 000086
【０２１８】
［前記式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０２１９】
【化１０３】
2008096760.tif 000087
【０２２０】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０２２１】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１２の整数であり、より好ましくは１〜７の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。］
で表わされる化合物を得ることができる。【０２２２】
また、本発明の、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨで表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物は、以下の方法で製造することができる。具体的には、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＲ11である式（ＩＶ）で表わされる化合物のＲ11を脱離させることにより、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨで表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物を得ることができる。【０２２３】
また、本発明の、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物は、以下の方法で製造することができる。具体的には、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨで表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物を酸化することによりＲ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物を得ることができる。【０２２４】
また、本発明は、検査用組成物であって、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）に表わされる化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物および、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物からなる群から選択される１以上を含む。前記組成物は、前記検査が、陽電子断層撮影、蛍光イメージング、核磁気共鳴画像法（ＭＲＩ）、単一光子放射型コンピュータ断層撮影（ＳＰＥＣＴ）またはオートラジオグラフィーにより行われるのが好ましい。【０２２５】
また、本発明は、検査キットであって、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物および、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物を含む検査キットであって、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物が、検体中のアミノ基を含有する化合物を標識化することにより、前記アミノ基を含有する化合物を検査することを特徴とする。【０２２６】
また、本発明は、放射性金属であるポジトロン放出核種を取り込んだ１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識化された抗体であって、
前記ヘキサトリエン−β−カルボニル化合物が、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基であり、Ｒ4が標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである式（ＩＩ）で表わされる化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基であり、Ｒ5が標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである式（ＩＩＩ）で表わされる化合物ならびにＲ1が−ＣＨＯで表わされる基であり、Ｒ4およびＲ5の少なくとも一方が、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである式（ＩＶ）で表わされる化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物であることを特徴とする。【０２２７】
また、本発明は、放射性金属であるポジトロン放出核種を取り込んだ１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識化された抗体を含むＰＥＴ造影剤の製造キットであって、前記キットが、Ｒ4が標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである式（ＩＩ）で表わされる化合物、Ｒ5が標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである式（ＩＩＩ）で表わされる化合物ならびにＲ4およびＲ5の少なくとも一方が、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである式（ＩＶ）で表わされる化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物、ならびに標識化される抗体、ならびに必要に応じて取扱説明書を含むことを特徴とする。【０２２８】
また、本発明は、１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識化された抗体であって、
前記ヘキサトリエン−β−カルボニル化合物が、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物およびＲ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物からなる群から選択されるヘキサトリエン−β−カルボニル化合物であることを特徴とする。【０２２９】
また、本発明は、１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識化された抗体の製造キットであって、前記キットが、
Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物およびＲ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物ならびに
標識化される抗体、ならびに
必要に応じて取扱説明書を含むことを特徴とする。【０２３０】
また、本発明は、タンパク質の標識化キットである。前記タンパク質の標識化キットは、
Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物およびＲ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物ならびに
標識化されるタンパク、ならびに
必要に応じて取扱説明書を含むことを特徴とする。【０２３１】
本願明細書において用いる種々の用語の定義およびその例示は以下のとおりである。【０２３２】
「低級」は、特に指示がなければ、炭素原子１〜６個、好ましくは炭素原子１〜４個を意味する。【０２３３】
「低級アルキル基」ならびに「アル低級アルキル基」、「低級アルコキシ基」および「アル低級アルコキシ基」における「低級アルキル」部分としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル等のような直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１〜６のアルカンの残基を意味する。低級アルキル基および低級アルキル部分の好ましい例としては、炭素数１〜５のアルキルが挙げられる。好ましい炭素数１〜５のアルキルとしては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、ネオペンチル等が挙げられる。【０２３４】
「アリール基」および「アル低級アルキル基」における「アル」部分としては、フェニル、ナフチル、ジヒドロナフチル（例えば１，２−ジヒドロナフチル、１，４−ジヒドロナフチルなど）、テトラヒドロナフチル（例えば１，２，３，４−テトラヒドロナフチルなど）、インデニル、アントリルなどが挙げられる。中でも、アリール基およびアル部分として好ましいのは、炭素数６〜１０のアリールであり、より好ましいのはフェニル、ナフチルである。【０２３５】
「ヘテロアリール基」は、酸素原子、硫黄原子、窒素原子などのヘテロ原子を少なくとも１個有する飽和または不飽和の単環式または多環式複素環基を挙げることができる。ヘテロアリール基の例としては、窒素原子１〜４個を有する３〜８員環（好ましくは５また６員の不飽和複素単環基）であり、例えばピロリル、ピロリニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ジヒドロピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、トリアゾリル、テトラゾリル等；窒素原子１〜４個を有する３〜８員環（好ましくは５または６員）の飽和複素単環基であり、例えばピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジル、ピペラジニル等；窒素原子１〜４個を有する不飽和縮合複素環基、例えばインドリル、イソインドリル、インドリニル、インドリジニル、ベンズイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、インダゾリル、ベンゾトリアゾリル等；酸素原子１〜２個および窒素原子１〜３個を有する３〜８員環（好ましくは５または６員）の不飽和複素単環基、例えばオキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル等；酸素原子１〜２個および窒素原子１〜３個を有する３〜８員環（好ましくは５または６員）の飽和複素単環基、例えばモルホリニル、シドノニル等；酸素原子１〜２個および窒素原子１〜３個を有する不飽和縮合複素環基、例えばベンゾキサゾリル、ベンゾキサジアゾリル等；硫黄原子１〜２個および窒素原子１〜３個を有する３〜８員環（好ましくは５または６員）の不飽和複素単環基、例えばチアゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリル、ジヒドロチアジニル等；硫黄原子１〜２個および窒素原子１〜３個を有する３〜８員環（好ましくは５または６員）の飽和複素単環基、例えばチアゾリジニル等；硫黄原子１〜２個を有する３〜８員環（好ましくは５または６員）の不飽和複素単環基、例えばチエニル、ジヒドロジチイニル、ジヒドロジチオニル等；硫黄原子１〜２個および窒素原子１〜３個を有する不飽和縮合複素環基、例えばベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、４，５，６，７−テトラヒドロベンゾチアゾリル等；酸素原子１個を有する３〜８員環（好ましくは５または６員）の不飽和複素単環基、例えばフリル等；酸素原子１個および硫黄原子１〜２個を有する３〜８員環（好ましくは５または６員）の不飽和複素単環基、例えばジヒドロオキサチイニル等；硫黄原子１〜２個を有する不飽和縮合複素環基、例えばベンゾチエニル、ベンゾジチイニル等；酸素原子１個および硫黄原子１〜２個を有する不飽和縮合複素環基、例えばベンゾキサチイニル；等を挙げることができる。【０２３６】
「芳香族炭化水素から誘導された２価の基」は、芳香族炭化水素から水素２原子を除去した基を意味する。前記芳香族炭化水素から誘導された２価の基の例としては、１，２−フェニレン、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン等が挙げられる。【０２３７】
「アル低級アルキル基」は、前記低級アルキルの任意の炭素原子に、前記アリール基が結合したものを意味する。前記アル低級アルキル基の例としては、炭素数１〜６のアルキルに炭素数６〜１０のアリールが結合したものが挙げられる。前記炭素数１〜６のアルキルに炭素数６〜１０のアリールが結合したものの例としては、ベンジル、フェネチル、３−フェニルプロピル、ベンズヒドリル、トリチル等が挙げられる。前記アル低級アルキル基は、好ましくはベンジル、トリチル等である。【０２３８】
「低級アルコキシ基」は、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、第三級ブトキシ、ペンチルオキシ、第三級ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等が挙げられる。【０２３９】
「アル低級アルコキシ基」は、例えば、ベンジルオキシ、フェネチルオキシ、３−フェニルプロピルオキシ、ベンズヒドリルオキシ、トリチルオキシ等が挙げられる。【０２４０】
「１以上の置換基で置換された低級アルキル基」、「１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基」、「１以上の置換基で置換されたアリール基」、「１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基」、「１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基」、「１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基」および「１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基」における置換基としては、イミノ基、アミノ基、保護されたアミノ基、モノ（またはジ）低級アルキルアミノ基、Ｎ−低級アルキル−保護されたアミノ基、低級アルキル、ヒドロキシ基、保護されたヒドロキシ基、アシルオキシ基、低級アルコキシ基、アシル基、アミノ（低級）アルキル基、保護されたアミノ（低級）アルキル基、ヘテロアリール基、ヒドロキシ基を有するアリール基、カルボキシ基、保護されたカルボキシ基、スルファニル基、保護されたスルファニル基等が挙げられる。【０２４１】
脱離基は、例えば、低級アルコキシ（例えばメトキシ、エトキシ等）、ハロゲン（例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、アシルオキシ、例えば低級アルカノイルオキシ（例えばアセトキシ、プロピオニルオキシ等）、ｐ−トルエンスルホニルオキシ、スクシニルオキシ等が挙げられる。前記脱離基は、ハロゲンが好ましい。【０２４２】
アシル基は、例えば、カルバモイル、脂肪族アシル、および芳香族環または複素環を含有するアシル基が挙げられる。前記脂肪族アシルとしては、飽和または不飽和の非環式または環式のもの、例えば低級アルカノイル（例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、オキサリル、スクシニル、ピバロイルなど）；低級アルコキシカルボニル（例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、第三級ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなど）；低級アルカンスルホニル（例えばメシル、エタンスルホニル、プロパンスルホニル、イソプロパンスルホニル、ブタンスルホニルなど）などが挙げられる。芳香族環または複素環を含有するアシル基としては、アレ−ンスルホニル（例えばベンゼンスルホニル、トシルなど）；アロイル（例えばベンゾイル、トルオイル、キシロイル、ナフトイル、フタロイル、インダンカルボニルなど）；アル低級アルカノイル（例えばフェニルアセチル、フェニルプロピオニルなど）；アル低級アルコキシカルボニル（例えばベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニルなど）などが挙げられる。【０２４３】
「−ＮＨ2で表わされる基の保護基」および「保護されたアミノ基」の保護基としては、アシル（例えば、アセチル、ベンゾイルなど）、トリ低級アルキルシリル（例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリルなど）、低級アルキルジアリールシリル（例えば、（ｔ−ブチル）ジフェニルシリルなど）、１個以上の適当な置換基を有していてもよいアル低級アルキル（例えばベンジル、トリチル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベンジルなど）、アリール低級アルコキシカルボニル（例えば、９−フルオレニルメチルカルボニルなど）、低級アルコキシカルボニル（例えば、ｔ−ブチルオキシカルボニルなど）などが挙げられる。【０２４４】
「保護されたアミノ基」としては、例えば、アシル（例えば、アセチル、ベンゾイルなど）アミノ、トリ低級アルキルシリル（例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリルなど）アミノ、低級アルキルジアリールシリル（例えば、（ｔ−ブチル）ジフェニルシリルなど）アミノ、１個以上の適当な置換基を有していてもよいアル低級アルキル（例えばベンジル、トリチル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベンジルなど）アミノ、アリール低級アルコキシカルボニル（例えば、９−フルオレニルメチルカルボニルなど）アミノ、低級アルコキシカルボニル（例えば、ｔ−ブチルオキシカルボニルなど）アミノなどが挙げられる。【０２４５】
「水酸基の保護基」および「保護されたヒドロキシ基」の保護基ならびに「−ＯＨで表わされる基の保護基」としては、アシル（例えば、アセチル、ベンゾイルなど）、トリ低級アルキルシリル（例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリルなど）、低級アルキルジアリールシリル（例えば、ｔ−ブチルジフェニルシリルなど）、１個以上の適当な置換基を有していてもよいアル低級アルキル（例えばベンジル、トリチル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベンジルなど）、低級アルコキシで置換された低級アルキル（例えば、メトキシメチルなど）、アリールで置換された低級アルキル（例えば、トリチルなど）、低級アルコキシカルボニル（例えば、ｔ−ブチルオキシカルボニルなど）、ヘテロ炭化水素基（例えば、テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル等）等が挙げられる。【０２４６】
「保護されたヒドロキシ基」としては、アシル（例えば、アセチル、ベンゾイルなど）オキシ、トリ低級アルキルシリル（例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリルなど）オキシ、低級アルキルジアリールシリル（例えば、ｔ−ブチルジフェニルシリルなど）オキシ、１個以上の適当な置換基を有していてもよいアル低級アルキル（例えばベンジル、トリチル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベンジルなど）オキシ、低級アルコキシで置換された低級アルキル（例えば、メトキシメチルなど）オキシ、アリールで置換された低級アルキル（例えば、トリチルなど）オキシ、低級アルコキシカルボニル（例えば、ｔ−ブチルオキシカルボニルなど）オキシ、ヘテロ炭化水素基（例えば、テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル等）オキシ等が挙げられる。【０２４７】
「カルボキシ基の保護基」および「保護されたカルボキシ基」の保護基ならびに「−ＣＯ2Ｈで表わされる基の保護基」としては、低級アルキル（例えば、メチル、エチル、ｔ−ブチルなど）、低級アルコキシで置換された低級アルキル（例えば、メトキシメチルなど）、低級アルコキシで置換された低級アルコキシで置換された低級アルキル（例えば、メトキシエトキシメチルなど）、１個以上の適当な置換基を有していてもよいアル低級アルキル（例えばベンジル、トリチル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベンジルなど）、トリアリール低級アルキル（例えば、トリフェニルメチルなど）、トリ低級アルキルシリル（例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリルなど）等が挙げられる。【０２４８】
「保護されたカルボキシ基」としては、低級アルキル（例えば、メチル、エチル、ｔ−ブチルなど）オキシカルボニル、低級アルコキシで置換された低級アルキル（例えば、メトキシメチルなど）オキシカルボニル、低級アルコキシで置換された低級アルコキシで置換された低級アルキル（例えば、メトキシエトキシメチルなど）オキシカルボニル、１個以上の適当な置換基を有していてもよいアル低級アルキル（例えばベンジル、トリチル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベンジルなど）オキシカルボニル、トリアリール低級アルキル（例えば、トリフェニルメチルなど）オキシカルボニル、トリ低級アルキルシリル（例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリルなど）オキシカルボニル等が挙げられる。【０２４９】
「スルファニル基の保護基」および「保護されたスルファニル基」の保護基ならびに「−ＳＨで表わされる基の保護基」としては、低級アルキル（例えば、メチル、エチル、ｔ−ブチルなど）、１個以上の適当な置換基を有していてもよいアル低級アルキル（例えばベンジル、トリチル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベンジルなど）、アリール低級アルコキシカルボニル（例えば、９−フルオレニルメチルカルボニルなど）等が挙げられる。【０２５０】
「保護されたスルファニル基」としては、低級アルキル（例えば、メチル、エチル、ｔ−ブチルなど）チオエーテル、１個以上の適当な置換基を有していてもよいアル低級アルキル（例えばベンジル、トリチル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベンジルなど）チオエーテル、アリール低級アルコキシカルボニル（例えば、９−フルオレニルメチルカルボニルなど）チオエーテル等が挙げられる。【０２５１】
「標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基」の「標識」としては、化合物自体に蛍光発色を有するもの、放射性金属を配位させるもの、放射性同位体を含むもの、ＭＲＩ用の常磁性金属を配位させるもの、目的化合物と親和性を有し混合物から前記目的物を単離またはを精製するために用いられるもの等が挙げられる。前記化合物自体に蛍光発色を有するものとしては、クマリン、ＮＢＤ（７−ニトロベンゾ−２−オキサ−１，３−ジアゾール）、ＢＯＤＩＰＹ（登録商標）、ＴＡＭＲＡ（５−（および−６−）カルボキシテトラメチルローダミン）、ピレン等が挙げられる。前記放射性金属を配位させるものとしては、ポルフォリン、ＤＯＴＡ(１，４，７，１０−テトラアザシクロデカン−１，４，７，１０−テトラ酢酸）、ＤＴＰＡ（ジエチレントリアミンペンタ酢酸）等が挙げられる。前記放射性同位体を含むものとしては、18Ｆ、11Ｃ、13Ｎおよび／または15Ｏを含む誘導体（例えば、トリフルオロ（18Ｆ）ボレート）等が挙げられる。前記ＭＲＩ用の常磁性金属を配位させるものとしては、例えばガドリニウム等が挙げられる。前記目的化合物と親和性を有し混合物から前記目的物を単離またはを精製するために用いられるものとしては、例えばビオチンが挙げられる。「標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基」の例としては、以下の式に示すものが挙げられる。【０２５２】
【化１０４】
2008096760.tif 000088
【０２５３】
本発明の式（Ｉ）で表わされる化合物は、前記のように式（ＩＩ）で表わされる化合物および式（ＩＩＩ）で表わされる化合物を製造するための有用な前駆体である。前記式（ＩＩ）で表わされる化合物および式（ＩＩＩ）で表わされる化合物は、式（ＩＶ）で表わされる化合物の有用な前駆体である。前記式（ＩＩ）で表わされる化合物、式（ＩＩＩ）で表わされる化合物および式（ＩＶ）で表わされる化合物は、前記化合物中にヘキサトリエン−β−ケト部分を有するため、分子に含まれるアミノ基、好ましくはリジン残基のアミノ基と速やかに反応し、Schiff塩基を形成し、その後環化する。したがって、分子を標識化する際の標識化が容易、すなわち、標識化の反応速度が速く、および反応収率が高いという利点がある。また、前記式（ＩＩ）で表わされる化合物、式（ＩＩＩ）で表わされる化合物および式（ＩＶ）で表わされる化合物は、前記化合物中に標識として機能する置換基を有するので、前記分子を追跡する際に有用である。さらに、前記式（Ｉ）で表わされる化合物から、前記のような製造方法により容易に前記式（ＩＩ）で表わされる化合物、式（ＩＩＩ）で表わされる化合物および式（ＩＶ）で表わされる化合物を製造することが可能である。したがって前記式（Ｉ）で表わされる化合物は有用な化合物である。【０２５４】
本発明の式（Ｉ）で表わされる化合物は、
式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＲ11または−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ2は、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｒ3は、水素原子、または式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1、式−Ｌ1−Ｎ3もしくは式【０２５５】
【化１０５】
2008096760.tif 000089
【０２５６】
で表わされる基であり、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基であり、
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ1は、水素原子、−ＮＨ2で表わされる基またはアシル基であり、
Ｍ2は、水素原子、またはアシル基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であるのが好ましい。【０２５７】
また、本発明の式（ＩＩ）で表わされる化合物は、
式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨまたは−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ2は、低級アルキル基または１以上の置換基で置換された低級アルキル基であり、
Ｒ4は、下記式【０２５８】
【化１０６】
2008096760.tif 000090
【０２５９】
で表わされる基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−、式−Ａ1−Ｌ1−、下記式【０２６０】
【化１０７】
2008096760.tif 000091
【０２６１】
で表わされる基であり、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基であり、
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であるのが好ましい。【０２６２】
また、本発明の式（ＩＩＩ）で表わされる化合物は、
式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＲ11または−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ3は、水素原子、または式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1、式−Ｌ1−Ｎ3もしくは式【０２６３】
【化１０８】
2008096760.tif 000092
【０２６４】
で表わされる基であり、
Ｒ5は、下記式【０２６５】
【化１０９】
2008096760.tif 000093
【０２６６】
で表わされる基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基であり、
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｍ1は、水素原子、−ＮＨ2で表わされる基またはアシル基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であるのが好ましい。【０２６７】
また、本発明の式（ＩＶ）で表わされる化合物は、
式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＲ11または−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ4は、下記式【０２６８】
【化１１０】
2008096760.tif 000094
【０２６９】
で表わされる基であり、
Ｒ5は、下記式【０２７０】
【化１１１】
2008096760.tif 000095
【０２７１】
で表わされる基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−、式−Ａ1−Ｌ1−、下記式【０２７２】
【化１１２】
2008096760.tif 000096
【０２７３】
で表わされる基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基であり、
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であるのが好ましい。【０２７４】
また、本発明の式（Ｉ）で表わされる化合物は、式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＳｉ（ｔ−Ｂｕ）Ｐｈ2または−ＣＨＯで表わされる基を意味し、
Ｒ2は、低級アルキル基または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍで表される基を意味し、
Ｒ3は、水素原子、式−Ｌ1−Ａ1−Ｍで表される基、式−Ｌ1−Ｎ3で表わされる基または式−Ｌ1−Ｃ≡ＣＨを意味し、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基を意味し、
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数を意味する。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数を意味する。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍは、水素原子、またはアシル基を意味するのがより好ましい。【０２７５】
また、本発明の式（ＩＩ）で表わされる化合物は、式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨまたは−ＣＨＯで表わされる基を意味し、
Ｒ2は、低級アルキル基を意味し、
Ｒ4は、下記式
【化１１３】
2008096760.tif 000097
で表わされる基を意味し、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−で表される基、式−Ａ1−Ｌ1−で表わされる基、または下記式
【化１１４】
2008096760.tif 000098
で表わされる基を意味し、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基を意味し、
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数を意味する。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であるのがより好ましい。【０２７６】
また、本発明の式（ＩＩＩ）で表わされる化合物は、式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＳｉ（ｔ−Ｂｕ）Ｐｈ2または−ＣＨＯで表わされる基を意味し、
Ｒ3は、水素原子、式−Ｌ1−Ａ1−Ｍで表される基、式−Ｌ1−Ｎ3で表わされる基または式−Ｌ1−Ｃ≡ＣＨを意味し、
Ｒ5は、下記式
【化１１５】
2008096760.tif 000099
で表わされる基を意味し、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表される基を意味し、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基を意味し、
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数を意味する。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数を意味する。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手であり、
Ｍは、水素原子またはアシル基を意味するのがより好ましい。【０２７７】
また、本発明の式（ＩＶ）で表わされる化合物は、式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＳｉ（ｔ−Ｂｕ）Ｐｈ2または−ＣＨＯで表わされる基を意味し、
Ｒ4は、下記式
【化１１６】
2008096760.tif 000100
で表わされる基を意味し、
Ｒ5は、下記式
【化１１７】
2008096760.tif 000101
で表わされる基を意味し、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−で表される基、式−Ａ1−Ｌ1−で表わされる基、または下記式
【化１１８】
2008096760.tif 000102
で表わされる基を意味し、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表される基を意味し、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基を意味し、
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数を意味する。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数を意味する。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手であるのがより好ましい。【０２７８】
また、本発明の式（Ｉ）で表わされる化合物は、
式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨまたは−ＣＨ2−ＯＳｉ（ｔ−Ｂｕ）Ｐｈ2で表わされる基であり、
Ｒ2は、低級アルキル基または式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−ＮＨ−Ｍ2で表わされる基（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数を、Ｍ2は、アシル基である。）であり、
Ｒ3は、水素原子、または式−Ｌ1−ＮＨ−Ｍ1で表わされる基であり（前記式中、Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、Ｍ1は、水素原子またはアシル基である）、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基であるのがさらに好ましい。【０２７９】
また、本発明の式（ＩＩ）で表わされる化合物は、
式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨまたは−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ2は、低級アルキル基であり、
Ｒ4は、下記式【０２８０】
【化１１９】
2008096760.tif 000103
【０２８１】
で表わされる基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−ＮＨ−または式−ＮＨ−Ｌ1−で表わされる基であり（前記式中、Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数である。）で表わされる基である。）、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基であるのがさらに好ましい。【０２８２】
また、本発明の式（ＩＩＩ）で表わされる化合物は、
式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＳｉ（ｔ−Ｂｕ）Ｐｈ2または−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ3は、水素原子、または−ＮＨ2で表わされる基であり、
Ｒ5は、下記式【０２８３】
【化１２０】
2008096760.tif 000104
【０２８４】
で表わされる基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−ＮＨ−Ｌ3−で表わされる基であり
（前記式中、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基である。）、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基であるのが、さらに好ましい。【０２８５】
また、本発明の式（ＩＶ）で表わされる化合物は、
式中、
Ｒ1は、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2−ＯＳｉ（ｔ−Ｂｕ）Ｐｈ2または−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ4は、下記式【０２８６】
【化１２１】
2008096760.tif 000105
【０２８７】
で表わされる基であり、
Ｒ5は、下記式【０２８８】
【化１２２】
2008096760.tif 000106
【０２８９】
で表わされる基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−ＮＨ−または式−ＮＨ−Ｌ1−で表わされる基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−ＮＨ−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基であり、
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数である。）で表わされる基であるのがさらに好ましい。【０２９０】
さらに本発明の式（Ｉ）で表わされる化合物は、
式中、
Ｒ1が、−ＣＨ2ＯＨで表わされる基であり、
Ｒ2が、エチル基であり、
Ｒ3が、−ＮＨ2で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である一般式（Ｉ）で表わされる化合物、
Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＳｉ（ｔ−Ｂｕ）Ｐｈ2で表わされる基であり、
Ｒ2が、−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−ＮＨ−ＣＯ（ｔ−Ｂｕ）Ｐｈ3で表わされる基であり、
Ｒ3が、水素原子であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である一般式（Ｉ）で表わされる化合物、
Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＳｉ（ｔ−Ｂｕ）Ｐｈ2で表わされる基であり、
Ｒ2が、−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−ＮＨ−ＣＯ（ｔ−Ｂｕ）3で表わされる基であり、
Ｒ3が、−ＮＨ−ＣＯ（ｔ−Ｂｕ）3で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である一般式（Ｉ）で表わされる化合物および
Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＨで表わされる基であり、
Ｒ2が、エチル基であり、
Ｒ3が、−ＮＨ−ＣＯ−ＣＨ2−ＮＨ2で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である一般式（Ｉ）で表わされる化合物からなる群から選択されるのがよりさらに好ましい。【０２９１】
このような式（Ｉ）で表わされる化合物は、具体的には、エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（４−（２−アミノアセタミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl(E,E)-4-hydroxy-2-(4-(2-aminoacetamide)styryl)but-2-enoate）（化合物５）、
エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（４−アミノスチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl(E,E)-4-hydroxy-2-(4-aminostyryl)but-2-enoate）（化合物３０）、
２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（４−アミノスチリル）ブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-hydroxy-2-(4-aminostyryl)but-2-enoate）、
２−（２−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシラニルオキシ）−２−スチリルブタ−２−エノエート
（2-(2-N-tert-Butoxycarbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-(tert-butyl-diphenyl-silanyloxy)-2-styrylbut-2-enoate）（化合物４５）、
２−（２−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシラニルオキシ）−２−（４−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノスチリル）ブタ−２−エノエート（2-(2-N-tert-Butoxycarbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-(tert-butyl-diphenyl-silanyloxy)-    2-(4-N-tert-Butoxycarbonylaminostyryl)but-2-enoate）（化合物４６）
等が挙げられる。【０２９２】
さらに本発明の式（ＩＩ）で表わされる化合物は、
式中、
Ｒ1が、−ＣＨ2ＯＨで表わされる基であり、
Ｒ2が、エチル基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０２９３】
【化１２３】
2008096760.tif 000107
【０２９４】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩ）で表わされる化合物、
Ｒ1が、−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ2が、エチル基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０２９５】
【化１２４】
2008096760.tif 000108
【０２９６】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である一般式（Ｉ）で表わされる式（ＩＩ）で表わされる化合物、
Ｒ1が、−ＣＨ2ＯＨで表わされる基であり、
Ｒ2が、エチル基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０２９７】
【化１２５】
2008096760.tif 000109
【０２９８】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩ）で表わされる化合物、
Ｒ1が、−ＣＨ2ＯＨで表わされる基であり、
Ｒ2が、エチル基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０２９９】
【化１２６】
2008096760.tif 000110
【０３００】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩ）で表わされる化合物、
Ｒ1が、−ＣＨ2ＯＨで表わされる基であり、
Ｒ2が、エチル基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０３０１】
【化１２７】
2008096760.tif 000111
【０３０２】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩ）で表わされる化合物、
Ｒ1が、−ＣＨ2ＯＨで表わされる基であり、
Ｒ2が、エチル基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０３０３】
【化１２８】
2008096760.tif 000112
【０３０４】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩ）で表わされる化合物、
Ｒ1が、−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ2が、エチル基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０３０５】
【化１２９】
2008096760.tif 000113
【０３０６】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩ）で表わされる化合物、
Ｒ1が、−ＣＨ2ＯＨで表わされる基であり、
Ｒ2が、エチル基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０３０７】
【化１３０】
2008096760.tif 000114
【０３０８】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩ）で表わされる化合物、
Ｒ1が、−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ2が、エチル基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０３０９】
【化１３１】
2008096760.tif 000115
【０３１０】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩ）で表わされる化合物、
Ｒ1が、−ＣＨ2ＯＨで表わされる基であり、
Ｒ2が、エチル基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０３１１】
【化１３２】
2008096760.tif 000116
【０３１２】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩ）で表わされる化合物および
Ｒ1が、−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ2が、エチル基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０３１３】
【化１３３】
2008096760.tif 000117
【０３１４】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩ）で表わされる化合物からなる群から選択されるのがよりさらに好ましい。【０３１５】
このような式（ＩＩ）で表わされる化合物は、具体的には、
１０−（２−（２−（４−（（１Ｅ，３Ｅ）−３−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシペンタ−１，３，−ジエニル）フェニルアミノ）−２−オキシエチルアミノ）−２−オキソエチル）−１，４，７，１０−テトラアザシクロドデカン−１，４，７−トリ酢酸（10-(2-(2-(4-((1E,3E)-3-ethoxycarbony-5-hydroxypenta-1,3,-dienyl)-phenylamino)-2-oxoethyl-amino)-2-oxoethyl)-1,4,7,10-tetraazacyclododecane-1,4,7-triacetic acid）（化合物７）、
１０−（２−（２−（４−（（１Ｅ，３Ｅ）−３−エトキシカルボニル−５−オキソペンタ−１，３，−ジエニル）−フェニルアミノ）−２−オキソエチルアミノ）−２−オキソエチル）−１，４，７，１０−テトラアザシクロドデカン−１，４，７−トリ酢酸（10-(2-(2-(4-((1E,3E)-3-ethoxycarbony-5-oxopenta-1,3,-dienyl)-phenylamino)-2-oxoethyl-amino)-2-oxoethyl)-1,4,7,10-tetraazacyclododecane-1,4,7-triacetic acid）（化合物８）、
エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（４−（２−（６−（テトラメチルローダミン−５−（および−６）−カルボキサミド）ヘキサンアミド）アセタミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl(E,E)-4-hydroxy-2-(4-(2-(6-(tetramethylrhodamine-5-(and-6)-carboxamido)hexaneamide)acetamide)styryl) but-2-enoate）（化合物１３）、
エチル（Ｅ，Ｅ）−４−オキソ−２−（４−（２−（６−（テトラメチルローダミン−５−（および−６）−カルボキサミド）ヘキサミド）アセタミド）スチリル）ブタ−２−エノエート
（Ethyl(E,E)-4-Oxo-2-(4-(2-(6-(tetramethylrhodamine-5-(and-6)-carboxamido)hexaneamide)acetamide)styryl) but-2-enoate）（化合物１５）、
エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（４−（７−ジエチルアミノクマリン−３−カルボキサミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl(E,E)-4-hydroxy-2-(4-(7-diethylaminocoumarin-3-carboxamide)styryl) but-2-enoate）（化合物３２）、
エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（（４−ヘキサヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−チエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−４−ペンタンアミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl (E,E)-4-hydroxy-2-((4-Hexahydro-2-oxo-1H-thieno[3,4-d]imidazole-4-pentanamide)styryl)but-2-enoate）（化合物３４）、
エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（４−（６−（（４，４−ジフルオロ−５，７−ジメチル−４−ボラ−３ａ，４ａ−ジアザ−ｓ−インダセン−３−プロピオニル）アミノ）ドデカンアミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl(E,E)-4-hydroxy-2-(4-(6-((4,4-difluoro-5,7-dimethyl-4-bora-3a,4a-diaza-s-indacene-3-propionyl)amino)dodecanamide)styryl) but-2-enoate）（化合物３８）、
エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（４−（２−（６−（Ｎ−（７−ニトロベンザ−２−オキサ−１，３−ジアゾール−４−イル）アミノ）ヘキサミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl(E,E)-4-hydroxy-2-(4-(2-(6-(N-(7-nitrobenz-2-oxa-1,3-diazol-4-yl)amino)hexanamide)styryl) but-2-enoate）（化合物３６）、
エチル（Ｅ，Ｅ）−４−オキソ−２−（４−（２−（６−（Ｎ−（７−ニトロベンザ−２−オキサ−１，３−ジアゾール−４−イル）アミノ）ヘキサンアミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl(E,E)-4-oxo-2-(4-(2-(6-(N-(7-nitrobenz-2-oxa-1,3-diazol-4-yl)amino)hexanamide)styryl) but-2-enoate）（化合物３９）、
エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（４−（２−（７−ジエチルアミノクマリン−３−カルボキサミド）アセタミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl(E,E)-4-hydroxy-2-(4-(2-(7-diethylaminocumarin-3-carboxamido)acetamide)styryl)but-2-enoate）（化合物１７）、
エチル（Ｅ，Ｅ）−４−オキソ−２−（４−（２−（７−ジエチルアミノクマリン−３−カルボキサミド）アセタミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl(E,E)-4-oxo-2-(4-(2-(7-diethylaminocumarin-3-carboxamido)acetamide)styryl)but-2-enoate）（化合物１８）
等が挙げられる。【０３１６】
さらに本発明の式（ＩＩＩ）で表わされる化合物は、
式中、
Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＳｉ（ｔ−Ｂｕ）Ｐｈ2で表わされる基であり、
Ｒ3が、水素原子であり、
Ｒ5−Ｘ2−が、
式【０３１７】
【化１３４】
2008096760.tif 000118
【０３１８】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物、
Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＨで表わされる基であり、
Ｒ3が、水素原子であり、
Ｒ5−Ｘ2−が、
式【０３１９】
【化１３５】
2008096760.tif 000119
【０３２０】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物、
Ｒ1が、−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ3が、水素原子であり、
Ｒ5−Ｘ2−が、
式【０３２１】
【化１３６】
2008096760.tif 000120
【０３２２】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物、および
Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＳｉ（ｔ−Ｂｕ）Ｐｈ2で表わされる基であり、
Ｒ3が、−ＮＨ2で表わされる基であり、
Ｒ5−Ｘ2−が、
式【０３２３】
【化１３７】
2008096760.tif 000121
【０３２４】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物からなる群から選択されるのがよりさらに好ましい。【０３２５】
このような式（ＩＩＩ）で表わされる化合物は、具体的には、
２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−オキソ−２−（４−アミノスチリル）ブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl(E,E)-4-Oxo- 2-(4-aminostyryl)but-2-enoate）、
２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシラニルオキシ）−２−スチリルブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl  (E,E)-4-(tert-butyl-diphenyl-silanyloxy)-2-styrylbut-2-enoate）（化合物４８）、
２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−スチリルブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-hydroxy-2-styrylbut-2-enoate）（化合物４９）、
２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−オキソ−２−スチリルブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-Oxo-2-styrylbut-2-enoate）（化合物５０）、
２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシラニルオキシ）−２−（４−アミノスチリル）ブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-(tert-butyl-diphenyl-silanyloxy)-2-(4-aminostyryl)but-2-enoate）（化合物５１）
等が挙げられる。【０３２６】
さらに本発明の式（ＩＶ）で表わされる化合物は、
式中、
Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＳｉ（ｔ−Ｂｕ）Ｐｈ2で表わされる基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０３２７】
【化１３８】
2008096760.tif 000122
【０３２８】
で表わされる基であり、
Ｒ5−Ｘ2−が、
式【０３２９】
【化１３９】
2008096760.tif 000123
【０３３０】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物、
Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＨで表わされる基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０３３１】
【化１４０】
2008096760.tif 000124
【０３３２】
で表わされる基であり、
Ｒ5−Ｘ2−が、
式【０３３３】
【化１４１】
2008096760.tif 000125
【０３３４】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物、
Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＳｉ（ｔ−Ｂｕ）Ｐｈ2で表わされる基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０３３５】
【化１４２】
2008096760.tif 000126
【０３３６】
で表わされる基であり、
Ｒ5−Ｘ2−が、
式【０３３７】
【化１４３】
2008096760.tif 000127
【０３３８】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物、
Ｒ1が、−ＣＨ2ＯＨで表わされる基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０３３９】
【化１４４】
2008096760.tif 000128
【０３４０】
で表わされる基であり、
Ｒ5−Ｘ2−が、
式【０３４１】
【化１４５】
2008096760.tif 000129
【０３４２】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物および
Ｒ1が、−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０３４３】
【化１４６】
2008096760.tif 000130
【０３４４】
で表わされる基であり、
Ｒ5−Ｘ2−が、
式【０３４５】
【化１４７】
2008096760.tif 000131
【０３４６】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物からなる群から選択されるのが、よりさらに好ましい。【０３４７】
このような式（ＩＶ）で表わされる化合物は、具体的には、
２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−オキソ−２−（（６−（Ｎ−（７−ニトロベンゾ−２−オキサ−１，３−ジアゾール−４−イル）アミノ）ヘキサミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-Oxo-2-((6-(N-(7-nitrobenz-2-oxa-1,3-diazol-4-yl)amino)hexanamide)styryl)but-2-enoate）、
２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシラニルオキシ）−２−（（４−ヘキサヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−チエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−４−ペンタミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-(tert-butyl-diphenyl-silanyloxy)-2-((4-Hexahydro-2-oxo-1H-thieno[3,4-d]imidazole-4-pentanamide)styryl)but-2-enoate）（化合物５２）、
２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（（４−ヘキサヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−チエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−４−ペンタアミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-hydroxy-2-((4-Hexahydro-2-oxo-1H-thieno[3,4-d]imidazole-4-pentanamide)styryl)but-2-enoate）（化合物５３）、
２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシラニルオキシ）−２−（（６−（Ｎ−（７−ニトロベンザ−２−オキサ−１，３−ジアゾール−４−イル）アミノ）ヘキサンアミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-(tert-butyl-diphenyl-silanyloxy)-2-((6-(N-(7-nitrobenz-2-oxa-1,3-diazol-4-yl)amino)hexanamide)styryl)but-2-enoate）（化合物５４）、
２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（（６−（Ｎ−（７−ニトロベンザ−２−オキサ−１，３−ジアゾール−４−イル）アミノ）ヘキサミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-hydroxy-2-((6-(N-(7-nitrobenz-2-oxa-1,3-diazol-4-yl)amino)hexanamide)styryl)but-2-enoate）（化合物５５）、
２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−オキソ−２−（（６−（Ｎ−（７−ニトロベンザ−２−オキサ−１，３−ジアゾール−４−イル）アミノ）ヘキサミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-Oxo-2-((6-(N-(7-nitrobenz-2-oxa-1,3-diazol-4-yl)amino)hexanamide)styryl)but-2-enoate）（化合物５６）
等が挙げられる。【０３４８】
以下に本発明の式（Ｉ）で表わされる化合物、式（ＩＩ）で表わされる化合物、式（ＩＩＩ）で表わされる化合物および式（ＩＶ）で表わされる化合物の製造方法を詳細に説明する。【０３４９】
製造方法１
式（Ｉ）で表わされる化合物は、例えば以下の方法により製造することができる。【０３５０】
【化１４８】
2008096760.tif 000132
【０３５１】
前記式中、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｒ3は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1、式−Ｌ1−Ｎ3もしくは式【０３５２】
【化１４９】
2008096760.tif 000133
【０３５３】
で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０３５４】
【化１５０】
2008096760.tif 000134
【０３５５】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基であり、
Ｍ11は、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ａｓ、ＣｕまたはＺｒであり、
Ｒ21は、低級アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、水酸基、アルコキシ基またはハロゲン原子である。【０３５６】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ1は、水素原子、−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ31は、ハロゲン原子である。【０３５７】
具体的には、一般式（ＸＩＩ）で表わされるアセチレン化合物と、式（ＸＩＩＩ）で表わされる金属化合物とをラジカル開始剤（例えばＡＩＢＮ等）の存在下に反応させ、式（Ｘ）で表わされるカップリング化合物を得ることができる。前記反応は、例えば２５〜２００℃、好ましくは７０〜１２０℃で行うことができる。また、前記反応は、非極性溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、トルエン、キシレン等中で行うことができる。【０３５８】
次に、前記式（Ｘ）で表わされる化合物と式（ＸＩ）で表わされるα、β−不飽和ケトン化合物とカップリング反応させ、式（Ｉ−１）で表わされる化合物を得ることができる。なお、前記式（Ｉ−１）で表わされる化合物は、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＲ11で表わされる基である式（Ｉ）で表わされる化合物である。前記カップリング反応は、触媒存在下に行うのが好ましい。前記触媒としては、例えばパラジウム、ニッケル等の触媒、具体的には、Ｐｄ（ｄｂａ）2、Ｐｄ（ＰＰｈ3）4、Ｎｉ（ＰＰｈ3）4、Ｐｄ（ＰＰｈ3）2Ｃｌ2、ＰｄＣｌ2等が挙げられる。前記触媒を用いる場合には、触媒補助剤を用いるのが好ましい。前記触媒補助剤としては、例えば、Ｐ（２−フリル）3、ＰＰｈ3、ｄｂａ（ジベンジリデンアセトン）等が挙げられる。前記反応は、例えば２５〜２００℃、好ましくは７０〜１２０℃で行うことができる。また、前記反応は、非極性溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、トルエン等または極性溶媒、例えばジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジエトキシエタン（ＤＭＥ）等の中で行うことができる。【０３５９】
次に、前記式（Ｉ−１）で表わされる化合物の、Ｒ11を除去して式（Ｉ−２）で表わされる化合物を得ることができる。なお前記式（Ｉ−２）で表わされる化合物は、Ｒ1がＣＨ2ＯＨで表わされる基である式（Ｉ）で表わされる化合物である。Ｒ11は水酸基の保護基であるので、前記保護基の種類に応じて適切な条件で処理をして、Ｒ11を除去することができる。例えば、Ｒ11がテトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル（ＴＨＰ）である場合、前記適切な条件は酸性水での処理、ｐ−トルエンスルホン酸（ｐ−ＴｓＯＨ）での酸処理、ピリジニウムパラトルエンスルホナート（ＰＰＴＳ）での酸処理などである。【０３６０】
次に、前記式（Ｉ−２）で表わされる化合物を酸化して式（Ｉ−３）で表わされる化合物を得ることができる。なお、前記式（Ｉ−３）で表わされる化合物は、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である前記式（Ｉ）で表わされる化合物である。前記酸化条件は、１級アルコールをアルデヒドへ酸化する条件であれば限定されない。前記酸化条件は、例えば、ピリジニウムジクロロクロメート（ＰＤＣ）、デス・マーチン試薬、二酸化マンガン、テトラプロピルアンモニウムパールテネート（ＴＰＡＰ）酸化、石井酸化、スワン（Swern）酸化、コーリー・キム（Corey−Kim）酸化、自然酸化、酵素酸化、ＰｔＯ2酸化等が挙げられる。前記酸化反応は、例えば１０〜１００℃、好ましくは２５〜５０℃で行うことができる。前記酸化反応は、非極性溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、トルエン、キシレン等または極性溶媒、例えばジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジエトキシエタン（ＤＭＥ）等の中で行うことができる。【０３６１】
なお、前記式（ＸＩＩ）で表わされる化合物、前記式（ＸＩＩＩ）で表わされる化合物、前記式（ＸＩ）で表わされる化合物は、市販で入手してもよいし、公知文献を利用して自家製造してもよい。【０３６２】
製造方法２
式（ＩＩ）で表わされる化合物は、例えば以下の方法らにより製造することができる。まず、Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、Ｘ1が、式−Ａ1−Ｌ1−または−Ｌ1−Ａ1−で表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物は、例えば以下の方法により製造することができる。【０３６３】
【化１５１】
2008096760.tif 000135
【０３６４】
前記式（Ｉ−１１）および式（Ｉ−１２）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０３６５】
【化１５２】
2008096760.tif 000136
【０３６６】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０３６７】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０３６８】
また、前記（ＸＩＶ）中、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｙ1は、脱離基である。【０３６９】
また、前記式（ＩＩ−１）および式（ＩＩ−２）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｚは、下記式【０３７０】
【化１５３】
2008096760.tif 000137
【０３７１】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０３７２】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、低級アル低級アルコキシ基、アリール基、低級アルール基、ヘテロアリール基または低級ヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０３７３】
具体的には、例えば、式（Ｉ−１１）で表わされる化合物と式（ＸＩＶ）で表わされる化合物とをカップリングさせ、式Ｙ1−Ｈで表わされる化合物を除去して、式（ＩＩ−１）で表わされる化合物を得ることができる。または、式（Ｉ−１２）で表わされる化合物と式（ＸＩＶ）で表わされる化合物とをカップリングさせ、式Ｙ1−Ｈで表わされる化合物を除去して、式（ＩＩ−２）で表わされる化合物を得ることができる。前記カップリング反応は、例えば１０〜６０℃、好ましくは２５〜４０℃で行うことができる。前記カップリング反応は、非極性溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、トルエン等または極性溶媒、例えばジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジエトキシエタン（ＤＭＥ）等の中で行うことができる。【０３７４】
また、Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、Ｘ1が、【０３７５】
【化１５４】
2008096760.tif 000138
【０３７６】
である式（ＩＩ）で表わされる化合物は、例えば以下の方法により製造することができる。【０３７７】
【化１５５】
2008096760.tif 000139
【０３７８】
前記式（Ｉ−１３）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０３７９】
【化１５６】
2008096760.tif 000140
【０３８０】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０３８１】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０３８２】
また、前記式（ＸＶ）中、Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基である。【０３８３】
また、前記式（ＩＩ−３）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｚは、下記式【０３８４】
【化１５７】
2008096760.tif 000141
【０３８５】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０３８６】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、低級アル低級アルコキシ基、アリール基、低級アルール基、ヘテロアリール基または低級ヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０３８７】
例えば、式（Ｉ−１３）で表わされるアジド化合物と、式（ＸＶ）で表わされるアセチレン化合物とをカップリングさせて式（ＩＩ−３）で表わされる化合物を得ることができる。前記式（ＩＩ−３）で表わされる化合物は、Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、Ｘ1が、【０３８８】
【化１５８】
2008096760.tif 000142
【０３８９】
である式（ＩＩ）で表わされる化合物に対応する。前記カップリングは、（条件ａ）ＣｕＩ、ジイソプロピルエチルアミンおよび２，６−ルチジンまたは（条件ｂ）ＣｕＳＯ4およびアスコルビン酸ナトリウム存在下に行うのが好ましい。前記カップリング反応は、例えば１０〜２００℃、好ましくは２５〜６０℃で行うことができる。前記カップリング反応は、非極性溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、トルエン等または極性溶媒、例えばジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジエトキシエタン（ＤＭＥ）等の中で行うことができる。【０３９０】
また、Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、Ｘ1が、【０３９１】
【化１５９】
2008096760.tif 000143
【０３９２】
である式（ＩＩ）で表わされる化合物は、例えば以下の方法により製造することができる。【０３９３】
【化１６０】
2008096760.tif 000144
【０３９４】
前記式（Ｉ−１４）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０３９５】
【化１６１】
2008096760.tif 000145
【０３９６】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０３９７】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０３９８】
また、前記式（ＸＶ）中、Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基である。【０３９９】
また、前記式（ＩＩ−４）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｚは、下記式【０４００】
【化１６２】
2008096760.tif 000146
【０４０１】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０４０２】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、低級アル低級アルコキシ基、アリール基、低級アルール基、ヘテロアリール基または低級ヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０４０３】
例えば、式（Ｉ−１４）で表わされるアジド化合物と、式（ＸＶ）で表わされるアセチレン化合物とをカップリングさせて式（ＩＩ−４）で表わされる化合物を得ることができる。前記式（ＩＩ−４）で表わされる化合物は、Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、Ｘ1が、【０４０４】
【化１６３】
2008096760.tif 000147
【０４０５】
である式（ＩＩ）で表わされる化合物に対応する。前記カップリングは、（条件ａ）ＣｕＩ、ジイソプロピルエチルアミンおよび２，６−ルチジンまたは（条件ｂ）ＣｕＳＯ4およびアスコルビン酸ナトリウム存在下に行うのが好ましい。前記カップリング反応は、例えば１０〜２００℃、好ましくは２５〜６０℃で行うことができる。前記カップリング反応は、非極性溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、トルエン等または極性溶媒、例えばジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジエトキシエタン（ＤＭＥ）等の中で行うことができる。【０４０６】
また、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨまたは−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物は、例えば以下の方法で製造することができる。【０４０７】
【化１６４】
2008096760.tif 000148
【０４０８】
前記式（ＩＩ−５）で表わされる化合物の、Ｒ11を除去して式（ＩＩ−６）で表わされる化合物を得ることができる。なお前記式（ＩＩ−６）で表わされる化合物は、Ｒ1がＣＨ2ＯＨで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物である。Ｒ11は水酸基の保護基であるので、前記保護基の種類に応じて適切な条件で処理をして、Ｒ11を除去することができる。例えば、Ｒ11がテトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル（ＴＨＰ）である場合、前記適切な条件は酸性水での処理酸性水での処理、ｐ−トルエンスルホン酸（ｐ−ＴｓＯＨ）での酸処理、ピリジニウムパラトルエンスルホナート（ＰＰＴＳ）での酸処理などである。【０４０９】
次に、前記式（ＩＩ−６）で表わされる化合物を酸化して式（ＩＩ−７）で表わされる化合物を得ることができる。なお、前記式（ＩＩ−７）で表わされる化合物は、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である前記式（ＩＩ）で表わされる化合物である。前記酸化条件は、１級アルコールをアルデヒドへ酸化する条件であれば限定されない。前記酸化条件は、例えば、ピリジニウムジクロロクロメート（ＰＤＣ）、デス・マーチン試薬、二酸化マンガン、テトラプロピルアンモニウムパールテネート（ＴＰＡＰ）酸化、石井酸化、スワン（Swern）酸化、コーリー・キム（Corey−Kim）酸化、自然酸化、酵素酸化、ＰｔＯ2酸化等が挙げられる。前記酸化反応は、例えば１０〜１００℃、好ましくは２５〜５０℃で行うことができる。前記酸化反応は、非極性溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、トルエン、キシレン等または極性溶媒、例えばジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジエトキシエタン（ＤＭＥ）等の中で行うことができる。【０４１０】
なお、前記式（ＸＩＶ）で表わされる化合物、前記式（ＸＶ）で表わされる化合物、および前記式（ＸＶＩ）で表わされる化合物は、市販で入手してもよいし、公知文献を利用して自家製造してもよい。【０４１１】
製造方法３
Ｒ1が−ＣＨ2ＯＲ11で表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物は、例えば以下の方法により製造することができる。【０４１２】
【化１６５】
2008096760.tif 000149
【０４１３】
前記式（Ｉ−２１）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ3は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1、式−Ｌ1−Ｎ3もしくは式【０４１４】
【化１６６】
2008096760.tif 000150
【０４１５】
で表わされる基であり、
Ｚは、【０４１６】
【化１６７】
2008096760.tif 000151
【０４１７】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０４１８】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ1は、水素原子、−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０４１９】
また、式（ＸＶＩＩ）中、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｙ2は、脱離基である。【０４２０】
また、式（ＩＩＩ−１１）中、
Ｒ3は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1、式−Ｌ1−Ｎ3もしくは式【０４２１】
【化１６８】
2008096760.tif 000152
【０４２２】
で表わされる基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｚは、【０４２３】
【化１６９】
2008096760.tif 000153
【０４２４】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０４２５】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｍ1は、水素原子、−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０４２６】
具体的には、式（Ｉ−２１）の化合物と、式（ＸＶＩＩ）の化合物とをカップリングさせ、式Ｙ2−Ｈで表わされる化合物を脱離させ、式（ＩＩＩ−１１）で表わされる化合物を得ることができる。なお、式（ＩＩＩ−１１）で表わされる化合物は、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＲ11で表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物である。また、前記式（ＩＩＩ−１１）中、Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表している。前記カップリング反応は、例えば１０〜６０℃、好ましくは２５〜４０℃で行うことができる。前記カップリング反応は、非極性溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、トルエン等または極性溶媒、例えばジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジエトキシエタン（ＤＭＥ）等の中で行うことができる。【０４２７】
また、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨまたは−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物は、例えば以下の方法で製造することができる。【０４２８】
【化１７０】
2008096760.tif 000154
【０４２９】
前記式（ＩＩＩ−１１）で表わされる化合物の、Ｒ11を除去して式（ＩＩＩ−１２）で表わされる化合物を得ることができる。なお前記式（ＩＩＩ−１２）で表わされる化合物は、Ｒ1がＣＨ2ＯＨで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物である。Ｒ11は水酸基の保護基であるので、前記保護基の種類に応じて適切な条件で処理をして、Ｒ11を除去することができる。例えば、Ｒ11がテトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル（ＴＨＰ）である場合、前記適切な条件は酸性水での処理、ｐ−トルエンスルホン酸（ｐ−ＴｓＯＨ）での酸処理、ピリジニウムパラトルエンスルホナート（ＰＰＴＳ）での酸処理などである。【０４３０】
次に、前記式（ＩＩＩ−１２）で表わされる化合物を酸化して式（ＩＩＩ−１３）で表わされる化合物を得ることができる。なお、前記式（ＩＩＩ−１３）で表わされる化合物は、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である前記式（ＩＩＩ）で表わされる化合物である。前記酸化条件は、１級アルコールをアルデヒドへ酸化する条件であれば限定されない。前記酸化条件は、例えば、ピリジニウムジクロロクロメート（ＰＤＣ）、デス・マーチン試薬、二酸化マンガン、テトラプロピルアンモニウムパールテネート（ＴＰＡＰ）酸化、石井酸化、スワン（Swern）酸化、コーリー・キム（Corey−Kim）酸化、自然酸化、酵素酸化、ＰｔＯ2酸化等が挙げられる。前記酸化反応は、例えば１０〜１００℃、好ましくは２５〜５０℃で行うことができる。前記酸化反応は、非極性溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、トルエン、キシレン等または極性溶媒、例えばジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジエトキシエタン（ＤＭＥ）等の中で行うことができる。【０４３１】
なお、前記式（ＸＶＩＩ）で表わされる化合物は、市販で入手してもよいし、公知文献を利用して自家製造してもよい。【０４３２】
製造方法４
式（ＩＶ）で表わされる化合物は、例えば以下の方法らにより製造することができる。まず、Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物は、例えば以下の方法により製造することができる。【０４３３】
【化１７１】
2008096760.tif 000155
【０４３４】
前記式（ＩＩ−１１）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−、式−Ａ1−Ｌ1−、下記式【０４３５】
【化１７２】
2008096760.tif 000156
【０４３６】
で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０４３７】
【化１７３】
2008096760.tif 000157
【０４３８】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０４３９】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、低級アル低級アルコキシ基、アリール基、低級アルール基、ヘテロアリール基または低級ヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０４４０】
また、前記式（ＸＶＩＩ）中、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｙ2は、脱離基である。【０４４１】
また、式（ＩＶ−１）中、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−、式−Ａ1−Ｌ1−、下記式【０４４２】
【化１７４】
2008096760.tif 000158
【０４４３】
で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０４４４】
【化１７５】
2008096760.tif 000159
【０４４５】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０４４６】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０４４７】
具体的には、式（ＩＩ−１１）の化合物と、式（ＸＶＩＩ）の化合物とをカップリングさせ、式Ｙ2−Ｈで表わされる化合物を脱離させ、式（ＩＶ−１）で表わされる化合物を得ることができる。なお、式（ＩＶ−１）で表わされる化合物は、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＲ11で表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物である。また、前記式（ＩＶ−１）中、Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表している。前記カップリング反応は、例えば１０〜６０℃、好ましくは２５〜４０℃で行うことができる。前記カップリング反応は、非極性溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、トルエン等または極性溶媒、例えばジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジエトキシエタン（ＤＭＥ）の中で行うことができる。【０４４８】
また、Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、Ｘ1が、式−Ａ1−Ｌ1−または−Ｌ1−Ａ1−で表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物は、例えば以下の方法で製造することができる。【０４４９】
【化１７６】
2008096760.tif 000160
【０４５０】
前記式（ＩＩＩ−１）および式（ＩＩＩ−２）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、【０４５１】
【化１７７】
2008096760.tif 000161
【０４５２】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０４５３】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０４５４】
また、前記式（ＸＩＶ）中、Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、Ｙ1は、脱離基である。【０４５５】
また、前記式（ＩＶ−２）および式（ＩＶ−３）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０４５６】
【化１７８】
2008096760.tif 000162
【０４５７】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０４５８】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０４５９】
具体的には、例えば、式（ＩＩＩ−１）で表わされる化合物と式（ＸＩＶ）で表わされる化合物とをカップリングさせ、式Ｙ1−Ｈで表わされる化合物を脱離させて、式（ＩＶ−２）で表わされる化合物を得ることができる。または、式（ＩＩＩ−２）で表わされる化合物と式（ＸＩＶ）で表わされる化合物とをカップリングさせ、式Ｙ1−Ｈで表わされる化合物を脱離させて、式（ＩＶ−３）で表わされる化合物を得ることができる。前記カップリング反応は、例えば１０〜６０℃、好ましくは２５〜４０℃で行うことができる。前記カップリング反応は、非極性溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、トルエン等または極性溶媒、例えばジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジエトキシエタン（ＤＭＥ）等の中で行うことができる。【０４６０】
また、Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、Ｘ1が、【０４６１】
【化１７９】
2008096760.tif 000163
【０４６２】
である式（ＩＶ）で表わされる化合物は、例えば以下の方法で製造することができる。【０４６３】
【化１８０】
2008096760.tif 000164
【０４６４】
前記式（ＩＩＩ−３）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、【０４６５】
【化１８１】
2008096760.tif 000165
【０４６６】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０４６７】
前記式（ＸＶ）中、Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基である。【０４６８】
前記式（ＩＶ−４）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０４６９】
【化１８２】
2008096760.tif 000166
【０４７０】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０４７１】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０４７２】
例えば、式（ＩＩＩ−３）で表わされるアジド化合物と、式（ＸＶ）で表わされるアセチレン化合物とをカップリングさせて式（ＩＶ−４）で表わされる化合物を得ることができる。前記式（ＩＶ−４）で表わされる化合物は、Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、Ｘ1が、【０４７３】
【化１８３】
2008096760.tif 000167
【０４７４】
である式（ＩＶ）で表わされる化合物に対応する。前記カップリングは、（条件ａ）ＣｕＩ、ジイソプロピルエチルアミンおよび２，６−ルチジンまたは（条件ｂ）ＣｕＳＯ4およびアスコルビン酸ナトリウム存在下に行うのが好ましい。前記カップリング反応は、例えば１０〜２００℃、好ましくは２５〜６０℃で行うことができる。前記カップリング反応は、非極性溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、トルエン等または極性溶媒、例えばジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジエトキシエタン（ＤＭＥ）等の中で行うことができる。【０４７５】
または、Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、Ｘ1が、【０４７６】
【化１８４】
2008096760.tif 000168
【０４７７】
である式（ＩＶ）で表わされる化合物は、以下の方法で製造することができる。【０４７８】
【化１８５】
2008096760.tif 000169
【０４７９】
前記式（ＩＩＩ−４）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、【０４８０】
【化１８６】
2008096760.tif 000170
【０４８１】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０４８２】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０４８３】
前記式（ＸＶＩ）中、Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基である。【０４８４】
前記式（ＩＶ−５）中、
Ｒ1は、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０４８５】
【化１８７】
2008096760.tif 000171
【０４８６】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０４８７】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ11は、水酸基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０４８８】
例えば、式（ＩＩＩ−４）で表わされるアジド化合物と、式（ＸＶＩ）で表わされるアセチレン化合物とをカップリングさせて式（ＩＶ−５）で表わされる化合物を得ることができる。前記式（ＩＶ−５）で表わされる化合物は、Ｒ1が、−ＣＨ2−ＯＲ11で表わされる基であり、Ｘ1が、【０４８９】
【化１８８】
2008096760.tif 000172
【０４９０】
である式（ＩＶ）で表わされる化合物に対応する。前記カップリングは、（条件ａ）ＣｕＩ、ジイソプロピルエチルアミンおよび２，６−ルチジンまたは（条件ｂ）ＣｕＳＯ4およびアスコルビン酸ナトリウム存在下に行うのが好ましい。前記カップリング反応は、例えば１０〜２００℃、好ましくは２５〜６０℃で行うことができる。前記カップリング反応は、非極性溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、トルエン等または極性溶媒、例えばジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジエトキシエタン（ＤＭＥ）等の中で行うことができる。【０４９１】
また、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨまたは−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物は、例えば以下の方法で製造することができる。【０４９２】
【化１８９】
2008096760.tif 000173
【０４９３】
前記式（ＩＶ−１１）で表わされる化合物の、Ｒ11を除去して式（ＩＶ−１２）で表わされる化合物を得ることができる。なお前記式（ＩＶ−１１）で表わされる化合物は、Ｒ1がＣＨ2ＯＨで表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物である。Ｒ11は水酸基の保護基であるので、前記保護基の種類に応じて適切な条件で処理をして、Ｒ11を除去することができる。例えば、Ｒ11がテトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル（ＴＨＰ）である場合、前記適切な条件は酸性水での処理、ｐ−トルエンスルホン酸（ｐ−ＴｓＯＨ）での酸処理、ピリジニウムパラトルエンスルホナート（ＰＰＴＳ）での酸処理などである。【０４９４】
次に、前記式（ＩＶ−１２）で表わされる化合物を酸化して式（ＩＶ−１３）で表わされる化合物を得ることができる。なお、前記式（ＩＶ−１３）で表わされる化合物は、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である前記式（ＩＶ）で表わされる化合物である。前記酸化条件は、１級アルコールをアルデヒドへ酸化する条件であれば限定されない。前記酸化条件は、例えば、ピリジニウムジクロロクロメート（ＰＤＣ）、デス・マーチン試薬、二酸化マンガン、テトラプロピルアンモニウムパールテネート（ＴＰＡＰ）酸化、石井酸化、スワン（Swern）酸化、コーリー・キム（Corey−Kim）酸化、自然酸化、酵素酸化、ＰｔＯ2酸化等が挙げられる。前記酸化反応は、例えば１０〜１００℃、好ましくは２５〜５０℃で行うことができる。前記酸化反応は、非極性溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、トルエン、キシレン等または極性溶媒、例えばジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジエトキシエタン（ＤＭＥ）等の中で行うことができる。【０４９５】
なお、前記式（ＸＶＩＩ）で表わされる化合物、前記式（ＸＩＶ）で表わされる化合物、前記式（ＸＶ）で表わされる化合物および前期式（ＸＶＩ）で表わされる化合物は、市販で入手してもよいし、公知文献を利用して自家製造してもよい。【０４９６】
なお、スキーム１〜１０の各工程において、必要であれば、各官能基に保護基を導入したり、保護基を脱保護したり、保護基を変更してもよい。なお、官能基の種類に応じた保護基の選択、保護基の導入および保護基の除去は、当該分野で公知の方法に従い、行うことができ、例えば、「有機合成における保護基（"Protective Groups in Organic Synthesis"）, T. Greeneら著、John Wiley & Sons, Inc.出版」等を参照することができる。【０４９７】
また、本発明は、アミノ基を含有する化合物の標識方法である。前記方法は、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物および、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物が、アミノ基を含有する化合物と反応し、前記アミノ基を含有する化合物を前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識化する工程を含む。【０４９８】
前記標識方法は、例えば、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物と、アミノ基を含有する化合物とを溶液（例えば水、緩衝液の溶液）中で例えば室温で混合することにより、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物と、前記アミノ基を含有する化合物とを反応させ、前記アミノ基を含有する化合物を前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識させて行うことができる。【０４９９】
前記標識方法において、前記アミノ基を含有する化合物におけるアミノ基は、好ましくはアミノ酸残基、より好ましくはリジン残基のアミノ基である。【０５００】
また、本発明は、前記のとおり、検査用組成物である。前記検査用組成物は、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物および、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物を含むことを特徴とする。前記検査用組成物は、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物を含む以外に限定されないが、例えば、他の有機化合物（たとえば低分子リガンド）、タンパク質、ペプチド、ＤＮＡ等をさらに含んでもよい。【０５０１】
前記検査用組成物は、陽電子断層撮影、蛍光イメージング、核磁気共鳴画像法（ＭＲＩ）、単一光子放射型コンピュータ断層撮影（ＳＰＥＣＴ）またはオートラジオグラフィーにより行われる検査用であるのが好ましい。前記検査であれば、簡便および高速に生体高分子などの分子のアミノ基を標識化可能であり、イメージングに適当だからである。【０５０２】
また、本発明は、生体中のアミノ基を含有する化合物の分布を測定する方法である。前記測定方法は、
前記生体に対し、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物および、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物を投与して前記生体に前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物を取り込ませる工程、
前記生体において、前記生体中のアミノ基を含有する化合物を、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識化する工程、
前記標識化された前記アミノ基を含有する化合物を、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物中の標識として機能する置換基を検出することにより前記生体中の前記アミノ基を含有する化合物の分布を測定することを特徴とする。【０５０３】
前記測定方法において、１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物を生体へ投与するには、経口投与または非経口投与のいずれの方法によって行ってもよい。経口投与の場合、例えば、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物を胃ゾンデ（経口ゾンデ）または経鼻チューブを用いて投与することができる。または、前記化合物を餌または飲料水と混合して投与することができる。非経口投与の場合、例えば、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物を腹腔内投与、静脈内注射等により、投与することができる。また、マウスやラット等の小動物に対しては、前記化合物を尾静脈内注射により投与することができる。【０５０４】
前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物の投与量は、投与される生体の重量に対して例えば１ｍｇ／ｋｇ〜１００ｍｇ／ｋｇ、好ましくは１ｍｇ／ｋｇ〜５０ｍｇ／ｋｇ、より好ましくは１ｍｇ／ｋｇ〜２０ｍｇ／ｋｇである。【０５０５】
前記測定方法において、前記アミノ基を含有する化合物におけるアミノ基は、好ましくはアミノ酸残基、より好ましくはリジン残基のアミノ基である。【０５０６】
前記測定方法において、前記標識として機能する置換基の検出は、陽電子断層撮影、蛍光イメージング核磁気共鳴画像法（ＭＲＩ）、単一光子放射型コンピュータ断層撮影（ＳＰＥＣＴ）またはオートラジオグラフィーにより行われるのが好ましい。【０５０７】
また、本発明は、前記のとおり、
Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物および、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物を含む検査キットである。前記キットは、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物が、検体中のアミノ基を含有する化合物を標識化することにより、前記アミノ基を含有する化合物を検査することを特徴とする。前記検査キットは、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物を含む以外に限定されないが、例えば、他の有機化合物（例えば、低分子リガンド）、タンパク質、ペプチド、ＤＮＡ等をさらに含んでもよい。【０５０８】
また、本発明は、放射性金属であるポジトロン放出核種を取り込んだ１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識化された抗体を含むＰＥＴ造影剤の製造方法である。前記製造方法では、
Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基であり、Ｒ4が標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである式（ＩＩ）で表わされる化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基であり、Ｒ5が標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである式（ＩＩＩ）で表わされる化合物ならびにＲ1が−ＣＨＯで表わされる基であり、Ｒ4およびＲ5の少なくとも一方が、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである式（ＩＶ）で表わされる化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物、
放射性金属であるポジトロン放出核種、ならびに
抗体を準備する工程と、
前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物に前記ポジトロン放出核種を取り込ませる工程と、
前記ポジトロン放出核種を取り込んだ前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物と前記抗体を反応させて、前記ポジトロン放出核種を取り込んだ前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識化された抗体を得る工程とを含むことを特徴とする。【０５０９】
前記ＰＥＴ造影剤の製造方法において、前記ポジトロン放出核種としては、例えば、68Ｇａ、64Ｃｕ、52Ｆｅ、55Ｃｏ、61Ｃｕ、62Ｃｕ、63Ｚｎ、82Ｒｂ、86Ｙ、89Ｚｒ、110Ｉｎ等が挙げられる。前記ポジトロン放出核種は、塩の形態で存在してもよく、例えば68ＧａＣｌ3、52ＦｅＣｌ3、55ＣｏＣｌ3、61ＣｕＣｌ3、62ＣｕＣｌ3、63ＺｎＣｌ3、82ＲｂＣｌ3、86ＹＣｌ3、89ＺｒＣｌ3、110ＩｎＣｌ3等が挙げられる。【０５１０】
前記ＰＥＴ造影剤の製造方法において、前記抗体としては限定されないが、例えば、anti-HER2 protein抗体（human epidermal growth factor receptor 2）、anti-carcarcinoembryonic antigen（CEA）抗体、anti-celladhesion molecule(CAM)抗体、anti-EGFR（epidermal growth factor receptor）等が挙げられる。【０５１１】
前記ＰＥＴ造影剤の製造方法において、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物に前記ポジトロン放出核種を取り込ませる工程は、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物と、前記ポジトロン放出核種と前記抗体とを、例えば溶液（例えば水、緩衝液の溶液）中で例えば室温で混合することにより、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物と、前記ポジトロン放出核種とを反応させ、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物に前記ポジトロン放出核種を取り込ませて行うことができる。【０５１２】
前記ＰＥＴ造影剤の製造方法において、前記ポジトロン放出核種を取り込んだ前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物と前記抗体を反応させて、前記ポジトロン放出核種を取り込んだ前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識化された抗体を得る工程は、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物と前記抗体を、例えば溶液（例えば水、緩衝液の溶液）中で例えば室温で混合することにより、前記抗体を前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で捕捉して、前記抗体を標識化することができる。前記抗体はアミノ基を含有する抗体であるのが好ましく、リジン残基のアミノ基を含有する抗体であるのがより好ましい。前記抗体がアミノ基を含有する抗体であれば、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物の−ＣＨＯで表わされる基と反応して、前記アミノ基を迅速に収率よく捕捉することが可能だからである。【０５１３】
また、本発明は、前記のとおり、放射性金属であるポジトロン放出核種を取り込んだ１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識化された抗体である。前記抗体においては、前記ヘキサトリエン−β−カルボニル化合物が、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基であり、Ｒ4が標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである式（ＩＩ）で表わされる化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基であり、Ｒ5が標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである式（ＩＩＩ）で表わされる化合物ならびにＲ1が−ＣＨＯで表わされる基であり、Ｒ4およびＲ5の少なくとも一方が、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである式（ＩＶ）で表わされる化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物であることを特徴とする。【０５１４】
前記標識化された抗体において、前記ポジトロン放出核種としては、例えば、68Ｇａ、64Ｃｕ、52Ｆｅ、55Ｃｏ、61Ｃｕ、62Ｃｕ、63Ｚｎ、82Ｒｂ、86Ｙ、89Ｚｒ、110Ｉｎ等が挙げられる。【０５１５】
前記標識化された抗体において、前記抗体としては限定されないが、例えば、anti-HER2 protein抗体（human epidermal growth factor receptor 2）、anti-carcarcinoembryonic antigen（CEA）抗体、anti-celladhesion molecule(CAM)抗体、anti-EGFR（epidermal growth factor receptor）等が挙げられる。【０５１６】
また、本発明は、前記のとおり、放射性金属であるポジトロン放出核種を取り込んだ１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識化された抗体を含むＰＥＴ造影剤の製造キットである。前記キットは、
Ｒ4が標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである式（ＩＩ）で表わされる化合物、Ｒ5が標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである式（ＩＩＩ）で表わされる化合物およびＲ4およびＲ5の少なくとも一方が、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである式（ＩＶ）で表わされる化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物、ならびに
標識化される抗体、ならびに
必要に応じて取扱説明書を含むことを特徴とする。【０５１７】
前記製造キットにおいて、前記抗体としては限定されないが、例えば、anti-HER2 protein抗体（human epidermal growth factor receptor 2）、anti-carcarcinoembryonic antigen（CEA）抗体、anti-celladhesion molecule(CAM)抗体、anti-EGFR（epidermal growth factor receptor）等が挙げられる。【０５１８】
前記製造キットは、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物および標識化される抗体を含む以外に限定されないが、例えば、他の有機化合物（例えば、低分子リガンド）、タンパク質、ペプチド、糖鎖などをさらに含んでもよい。【０５１９】
また、本発明は、１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識化された抗体の製造方法である。前記製造方法は、
Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物およびＲ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物ならびに
抗体を準備する工程、ならびに
前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物と前記抗体を反応させて、前記抗体を１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識化する工程を含むことを特徴とする。【０５２０】
前記標識化された抗体の製造方法において、前記抗体としては限定されないが、例えば、anti-HER2 protein抗体（human epidermal growth factor receptor 2）、anti-carcarcinoembryonic antigen（CEA）抗体、anti-celladhesion molecule(CAM)抗体、anti-EGFR（epidermal growth factor receptor）等が挙げられる。前記抗体としてはアミノ基を含有する抗体であるのが好ましく、リジン残基のアミノ基を含有する抗体であるのがより好ましい。前記抗体がアミノ基を含有する抗体であれば、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物の−ＣＨＯで表わされる基と反応して、前記アミノ基を迅速に収率よく捕捉することが可能だからである。【０５２１】
前記標識化された抗体の製造方法において、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物と前記抗体を反応させる工程は、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物と、前記抗体とを、例えば溶液（例えば水、緩衝液の溶液）中で例えば室温で混合することにより、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物と、前記抗体とを反応させて行うことができる。【０５２２】
前記標識化された抗体の製造方法において、前記抗体はアミノ基を含有する抗体であるのが好ましく、リジン残基のアミノ基を含有する抗体であるのがより好ましい。前記抗体がアミノ基を含有する抗体であれば、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物の−ＣＨＯで表わされる基と反応して、前記アミノ基を迅速に収率よく捕捉することが可能だからである。【０５２３】
また、本発明は、前記のように、１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識化された抗体である。前記抗体において、
前記ヘキサトリエン−β−カルボニル化合物が、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）で表された化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表された化合物ならびにＲ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＶ）で表された化合物からなる群から選択されるヘキサトリエン−β−カルボニル化合物であることを特徴とする。【０５２４】
前記標識化された抗体において、前記抗体としては限定されないが、例えば、anti-HER2 protein抗体（human epidermal growth factor receptor 2）、anti-carcarcinoembryonic antigen（CEA）抗体、anti-celladhesion molecule(CAM)抗体、anti-EGFR（epidermal growth factor receptor）等が挙げられる。前記標識化された抗体において、前記抗体はアミノ基を含有する抗体であるのが好ましく、リジン残基のアミノ基を含有する抗体であるのがより好ましい。前記抗体がアミノ基を含有する抗体であれば、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物の−ＣＨＯで表わされる基と反応して、前記アミノ基を迅速に収率よく捕捉することが可能だからである。【０５２５】
また、発明は、前記のように、１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識化された抗体の製造キットである。前記キットは、
Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物およびＲ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物ならびに
標識化される抗体、ならびに
必要に応じて取扱説明書を含むことを特徴とする。【０５２６】
前記キットは、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物および前記標識化される抗体を含む以外に限定されないが、例えば、他の有機化合物（例えば、低分子リガンド）、タンパク質、ペプチド、糖鎖などをさらに含んでもよい。【０５２７】
前記キットにおいて、前記標識化される抗体としては限定されないが、例えば、anti-HER2 protein抗体（human epidermal growth factor receptor 2）、anti-carcarcinoembryonic antigen（CEA）抗体、anti-celladhesion molecule(CAM)抗体、anti-EGFR（epidermal growth factor receptor）等が挙げられる。前記標識化される抗体において、前記抗体はアミノ基を含有する抗体であるのが好ましく、リジン残基のアミノ基を含有する抗体であるのがより好ましい。前記抗体がアミノ基を含有する抗体であれば、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物の−ＣＨＯで表わされる基と反応して、前記アミノ基を迅速に収率よく捕捉することが可能だからである。【０５２８】
また、本発明は、タンパク質の標識化方法である。前記タンパク質の標識化方法は、
Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物およびＲ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物ならびに
タンパク質を準備する工程、ならびに
前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物と前記タンパク質を反応させて、前記タンパク質を１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識化する工程を含むことを特徴とする。【０５２９】
前記タンパク質の標識化方法において、前記タンパク質としては限定されないが、例えば、サイトカイン、糖タンパク質、膜レセプター等が挙げられる。前記タンパク質の標識化方法において、前記タンパク質はアミノ基を含有するタンパク質であるのが好ましく、リジン残基のアミノ基を含有するタンパク質であるのがより好ましい。前記タンパク質がアミノ基を含有するタンパク質であれば、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物の−ＣＨＯで表わされる基と反応して、前記アミノ基を迅速に収率よく捕捉することが可能だからである。【０５３０】
前記タンパク質の標識化方法において、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物と前記タンパク質を反応させて、前記タンパク質を１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で標識化する工程は、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物と前記タンパク質とを、例えば溶液（例えば水、緩衝液の溶液）中で例えば室温で混合することにより、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物と、前記タンパク質とを反応させ、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物で前記タンパク質を標識して行うことができる。【０５３１】
また、本発明は、前記のとおり、タンパク質の標識化キットである。前記タンパク質の標識化キットは、
Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物およびＲ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物からなる群から選択される１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物ならびに
標識化されるタンパク、ならびに
必要に応じて取扱説明書を含むことを特徴とする。【０５３２】
前記タンパク質の標識化キットにおいて、前記標識化されるタンパク質としては限定されないが、例えば、サイトカイン、糖タンパク質、膜レセプター等が挙げられる。前記タンパク質の標識キットにおいて、前記標識化されるタンパク質はアミノ基を含有するタンパク質であるのが好ましく、リジン残基のアミノ基を含有するタンパク質であるのがより好ましい。前記標識化されるタンパク質がアミノ基を含有するタンパク質であれば、前記１以上のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物の−ＣＨＯで表わされる基と反応して、前記アミノ基を迅速に収率よく捕捉することが可能だからである。【０５３３】
前記標識方法、測定方法、前記タンパク質の標識化方法、検査用組成物、検査キット、前記標識化された抗体、前記抗体の製造キット、または前記タンパク質の標識化キットにおいて、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物は、以下の式（ＩＩ−１００）で表わされる。【０５３４】
【化１９０】
2008096760.tif 000174
【０５３５】
前記式中、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−、式−Ａ1−Ｌ1−、下記式【０５３６】
【化１９１】
2008096760.tif 000175
【０５３７】
で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０５３８】
【化１９２】
2008096760.tif 000176
【０５３９】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０５４０】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、低級アル低級アルコキシ基、アリール基、低級アルール基、ヘテロアリール基または低級ヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０５４１】
前記式（ＩＩ−１００）で表わされる化合物は、前記式中、
Ｒ2は、低級アルキル基または１以上の置換基で置換された低級アルキル基であり、
Ｒ4は、下記式【０５４２】
【化１９３】
2008096760.tif 000177
【０５４３】
で表わされる基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−、式−Ａ1−Ｌ1−、下記式【０５４４】
【化１９４】
2008096760.tif 000178
【０５４５】
で表わされる基であり、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基であるのが好ましい。【０５４６】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基である。【０５４７】
前記式（ＩＩ−１００）で表わされる化合物は、前記式中、
Ｒ2は、低級アルキル基であり、
Ｒ4は、下記式【０５４８】
【化１９５】
2008096760.tif 000179
【０５４９】
で表わされる基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−ＮＨ−または式−ＮＨ−Ｌ1−で表わされる基であり（前記式中、Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数である。）で表わされる基である。）、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基であるのがより好ましい。【０５５０】
前記式（ＩＩ−１００）で表わされる化合物は、
前記式中、Ｒ2が、エチル基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０５５１】
【化１９６】
2008096760.tif 000180
【０５５２】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である一般式（Ｉ）で表わされる式（ＩＩ）で表わされる化合物、
前記式中、
Ｒ2が、エチル基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０５５３】
【化１９７】
2008096760.tif 000181
【０５５４】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩ）で表わされる化合物、および
前記式中、
Ｒ2が、エチル基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０５５５】
【化１９８】
2008096760.tif 000182
【０５５６】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩ）で表わされる化合物からなる群から選択されるのがさらに好ましい。【０５５７】
前記標識方法、測定方法、前記タンパク質の標識化方法、検査用組成物、検査キット、前記標識化された抗体、前記抗体の製造キット、または前記タンパク質の標識化キットにおいて、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物は、以下の式（ＩＩＩ−１００）で表わされる。【０５５８】
【化１９９】
2008096760.tif 000183
【０５５９】
前記式中、
Ｒ3は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1、式−Ｌ1−Ｎ3もしくは式【０５６０】
【化２００】
2008096760.tif 000184
【０５６１】
で表わされる基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、【０５６２】
【化２０１】
2008096760.tif 000185
【０５６３】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０５６４】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｍ1は、水素原子、−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０５６５】
前記式（ＩＩＩ−１００）で表わされる化合物は、前記式中、
Ｒ3は、水素原子、または式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1、式−Ｌ1−Ｎ3もしくは式【０５６６】
【化２０２】
2008096760.tif 000186
【０５６７】
で表わされる基であり、
Ｒ5は、下記式【０５６８】
【化２０３】
2008096760.tif 000187
【０５６９】
で表わされる基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基であるのが好ましい。【０５７０】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｍ1は、水素原子またはアシル基である。【０５７１】
前記式（ＩＩＩ−１００）で表わされる化合物は、前記式中、
Ｒ3は、水素原子、または−ＮＨ2で表わされる基であり、
Ｒ5は、下記式【０５７２】
【化２０４】
2008096760.tif 000188
【０５７３】
で表わされる基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−ＮＨ−Ｌ3−で表わされる基であり
（前記式中、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基である。）、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基であるのがより好ましい。【０５７４】
前記式（ＩＩＩ−１００）で表わされる化合物は、前記式中、
Ｒ3が、水素原子であり、
Ｒ5−Ｘ2−が、
式【０５７５】
【化２０５】
2008096760.tif 000189
【０５７６】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩＩ）で表わされる化合物であるのがさらに好ましい。【０５７７】
前記標識方法、測定方法、前記タンパク質の標識化方法、検査用組成物、検査キット、前記標識化された抗体、前記抗体の製造キット、または前記タンパク質の標識化キットにおいて、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＶ）で表わされる化合物は、以下の式（ＩＶ−１００）で表わされる。【０５７８】
【化２０６】
2008096760.tif 000190
【０５７９】
前記式中、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−、式−Ａ1−Ｌ1−、下記式【０５８０】
【化２０７】
2008096760.tif 000191
【０５８１】
で表わされる基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０５８２】
【化２０８】
2008096760.tif 000192
【０５８３】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０５８４】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０５８５】
前記式（ＩＶ−１００）で表わされる化合物は、前記式中、
Ｒ4は、下記式【０５８６】
【化２０９】
2008096760.tif 000193
【０５８７】
で表わされる基であり、
Ｒ5は、下記式【０５８８】
【化２１０】
2008096760.tif 000194
【０５８９】
で表わされる基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−、式−Ａ1−Ｌ1−、下記式【０５９０】
【化２１１】
2008096760.tif 000195
【０５９１】
で表わされる基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基であるのが好ましい。【０５９２】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数である。）で表わされる基である。【０５９３】
前記式（ＩＶ−１００）で表わされる化合物は、前記式中、
Ｒ4は、下記式【０５９４】
【化２１２】
2008096760.tif 000196
【０５９５】
で表わされる基であり、
Ｒ5は、下記式【０５９６】
【化２１３】
2008096760.tif 000197
【０５９７】
で表わされる基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−ＮＨ−または式−ＮＨ−Ｌ1−で表わされる基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−ＮＨ−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基であるのが好ましい。【０５９８】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数である。）で表わされる基である。【０５９９】
前記式（ＩＶ−１００）で表わされる化合物は、前記式中、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０６００】
【化２１４】
2008096760.tif 000198
【０６０１】
で表わされる基であり、
Ｒ5−Ｘ2−が、
式【０６０２】
【化２１５】
2008096760.tif 000199
【０６０３】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である式（ＩＩＩ）で表わされるのがさらに好ましい。【０６０４】
前記ＰＥＴ造影剤の製造方法および前記標識化された抗体の製造方法において
Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基であり、Ｒ4が標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである式（ＩＩ）で表わされる化合物は、以下の式（ＩＩ−２００）で表わされる。【０６０５】
【化２１６】
2008096760.tif 000200
【０６０６】
前記式中、
Ｒ2は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものであり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−、式−Ａ1−Ｌ1−、下記式【０６０７】
【化２１７】
2008096760.tif 000201
【０６０８】
で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０６０９】
【化２１８】
2008096760.tif 000202
【０６１０】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０６１１】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｍ2は、水素原子、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、低級アル低級アルコキシ基、アリール基、低級アルール基、ヘテロアリール基または低級ヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０６１２】
前記式（ＩＩ−２００）で表わされる化合物は、前記式中、
Ｒ2は、低級アルキル基または１以上の置換基で置換された低級アルキル基であり、
Ｒ4は、下記式【０６１３】
【化２１９】
2008096760.tif 000203
【０６１４】
で表わされる基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−、式−Ａ1−Ｌ1−、下記式【０６１５】
【化２２０】
2008096760.tif 000204
【０６１６】
で表わされる基であり、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基であるのが好ましい。【０６１７】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であるのが好ましい。【０６１８】
前記式（ＩＩ−２００）で表わされる化合物は、前記式中、
Ｒ2は、低級アルキル基であり、
Ｒ4は、下記式【０６１９】
【化２２１】
2008096760.tif 000205
【０６２０】
で表わされる基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−ＮＨ−または式−ＮＨ−Ｌ1−で表わされる基であり（前記式中、Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数である。）で表わされる基である。）、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基であるのがより好ましい。【０６２１】
前記式（ＩＩ−２００）で表わされる化合物は、前記式中、
Ｒ2が、エチル基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０６２２】
【化２２２】
2008096760.tif 000206
【０６２３】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基であるのがさらに好ましい。【０６２４】
前記ＰＥＴ造影剤の製造方法および前記標識化された抗体の製造方法において、
Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基であり、Ｒ5が標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである式（ＩＩＩ）で表わされる化合物は、以下の式（ＩＩＩ−２００）で表わされる。【０６２５】
【化２２３】
2008096760.tif 000207
【０６２６】
前記式中、
Ｒ3は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基、または式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1、式−Ｌ1−Ｎ3もしくは式【０６２７】
【化２２４】
2008096760.tif 000208
【０６２８】
で表わされる基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものであり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、【０６２９】
【化２２５】
2008096760.tif 000209
【０６３０】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０６３１】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｍ1は、水素原子、−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基、または−ＯＨ、−ＣＯ2Ｈ、−ＳＨもしくは−ＮＨ2で表わされる基の保護基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０６３２】
前記式（ＩＩＩ−２００）で表わされる化合物は、前記式中、
Ｒ3は、水素原子、または式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1、式−Ｌ1−Ｎ3もしくは式【０６３３】
【化２２６】
2008096760.tif 000210
で表わされる基であり、
Ｒ5は、下記式【０６３４】
【化２２７】
2008096760.tif 000211
【０６３５】
で表わされる基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基であるのが好ましい。【０６３６】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎは、１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｍ1は、水素原子またはアシル基であるのが好ましい。【０６３７】
前記ＰＥＴ造影剤の製造方法および前記標識化された抗体の製造方法において、
Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基であり、Ｒ4およびＲ5の少なくとも一方が、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものである式（ＩＶ）で表わされる化合物は、以下の式（ＩＶ−２００）で表わされる。【０６３８】
【化２２８】
2008096760.tif 000212
【０６３９】
前記式中、
Ｒ4は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
Ｒ5は、標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基であり、
前記Ｒ4およびＲ5の少なくとも一方の前記標識として機能する置換基で置換されたカルボニル基が、放射性金属を配位させるものであり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−、式−Ａ1−Ｌ1−、下記式【０６４０】
【化２２９】
2008096760.tif 000213
【０６４１】
で表わされる基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、下記式【０６４２】
【化２３０】
2008096760.tif 000214
【０６４３】
で表わされる基、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基である。【０６４４】
前記式中、
Ｌ1は、結合手または式−（ＣＨ2）n−、式−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−、式−（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ−もしくは式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ1は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ2は、結合手または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ａ2は、−Ｏ−、−ＣＯ2−、−Ｓ−または−ＮＨ−で表わされる基であり、
Ｌ3は、結合手、式−（ＣＨ2）n−または−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−（前記式中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１〜２０の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ12は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基であり、
Ｒ13は、水素原子、低級アルキル基、１以上の置換基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換された低級アルコキシ基、アル低級アルキル基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルキル基、アル低級アルコキシ基、１以上の置換基で置換されたアル低級アルコキシ基、アリール基、１以上の置換基で置換されたアリール基、ヘテロアリール基または１以上の置換基で置換されたヘテロアリール基である。【０６４５】
前記式（ＩＶ−２００）で表わされる化合物は、前記式中、
Ｒ4は、下記式【０６４６】
【化２３１】
2008096760.tif 000215
【０６４７】
で表わされる基であり、
Ｒ5は、下記式【０６４８】
【化２３２】
2008096760.tif 000216
【０６４９】
で表わされる基であり、
Ｘ1は、式−Ｌ1−Ａ1−、式−Ａ1−Ｌ1−、下記式【０６５０】
【化２３３】
2008096760.tif 000217
【０６５１】
で表わされる基であり、
Ｘ2は、式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、
Ｚは、芳香族炭化水素から誘導された２価の基または１以上の置換基で置換された芳香族炭化水素から誘導された２価の基であるのが好ましい。【０６５２】
本明細書の記載において、以下の略語を使用する。
ＢＯＣ：ｔ−ブトキシカルボニル、
ＴＢＤＰＳ：ｔ−ブチルジフェニルシリル、
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン、
ＡＩＢＮ：２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、
ＤＭＦ：ジメチルホルムアミド
Ｐｄ2（ｄｂａ）3：トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（０）
Ｐ（２−フリル）3：トリ（２−フリル）ホスフィン
デス−マーチン・ペルヨージナン試薬：１，１，１−トリアセトキシ−１，１−ジヒドロ−１，２−ベンズヨードキソール−３（１Ｈ）−オン、
ＩＢＸ樹脂：（２−ヨードキシ安息香酸）樹脂、
ＥＤＣ：１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩、
ＤＭＡＰ：４−ジメチルアミノピリジン、
ＨＢＴＵ：Ｏ−ベンゾトリアゾール−１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサヒドロホスフェート、
ＰＤＣ：ピリジニウムジクロロメート、
ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸、
Ａｒ：アルゴン
ＴＢＡＦ：テトラブチルアンモニウムフルオライド、
ＰＢＳ：リン酸緩衝化生理食塩水。
【実施例１】
【０６５３】
エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（４−（２−アミノアセタミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl(E,E)-4-hydroxy-2-(4-(2-aminoacetamide)styryl)but-2-enoate）（化合物５）（式（Ｉ）において、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨであり、Ｒ2が−Ｃ2Ｈ5であり、Ｒ3は式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1で表わされる基であり、Ｚは１，４−フェニレンであり、Ｌ1は−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ2−であり、Ａ1は−ＮＨ−であり、Ｍ1はＨである）の製造
前記化合物５は、以下のスキーム１１に従い、製造した。【０６５４】
【化２３４】
2008096760.tif 000218
【０６５５】
１．１  ｐ（Ｅ）−（トリ−ｎ−ブチルスタニル）ビニル−Ｎ−Ｂｏｃ−グリシルアニリン（p(E)-β-(tri-n-butylstanny)lvinyl-N-Boc-Glycylaniline）（化合物２）の製造
（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグリシル）アミノフェニルアセチレン（(N-tert-Butoxycarbonyl-glycyl)aminophenylacetylene）（化合物１）（５８２ｍｇ，２．１２ｍｍｏｌ）の（ＴＨＦ：ベンゼン＝１：１）６ｍＬ溶液に、ＡＩＢＮ（１３ｍｇ，０．０８４ｍｍｏｌ）、Ｂｕ3ＳｎＨ（７４２μＬ，２．７５ｍｍｏｌ）を室温で加えた。前記混合物を９０℃に昇温し、４０分間攪拌した後、減圧濃縮した。残渣をアルミナクロマトグラフィー（ヘキサン中酢酸エチル１０％から２５％まで）により精製し、標題の化合物２を得た（１．０３ｇ，８６％）。【０６５６】
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.43 (d, J = 8.24 Hz, 2H), 7.23 (d, J = 8.39 Hz, 2H), 6.73 (d, J = 19.38 Hz, 2H), 6.65 (d, J = 19.38 Hz, 2H), 5.83 (s, 1H), 4.01 (q, J = 7.12 Hz, 2H), 3.90-3.83 (br m, 2H), 2.69 (s, 3H), 1.92 (s, 3H), 1.46 (tt, J = 26.40, 8.70 Hz, 6H), 1.35 (s, 9H), 1.25 (dd, J = 14.72, 7.40 Hz, 6H), 1.14 (t, J = 7.17 Hz, 4H), 0.81 (t, J = 7.32 Hz, 9H)。【０６５７】
１．２  エチル  （Ｅ，Ｅ）−ｐＮ−Ｂｏｃ−グリシルアニリル）−４−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ブタ−２−エノエート（ethyl (E,E)- pN-Boc-Glycyl-anilyl)-4-(tetrahydro-2H-pyran-2-yloxy)but-2-enoate）（化合物４）の製造
ＤＭＦ（１ｍＬ）溶媒にＰｄ2（ｄｂａ）3（１７ｍｇ，０．０１９ｍｍｏｌ）およびＰ（２−フリル）3（１８ｍｇ，０．０７８ｍｍｏｌ）を加え、生じた混合物を室温で１０分間攪拌した。続いて前記化合物２（５００ｍｇ，０．９８３ｍｍｏｌ）およびエチル（Ｚ）−２−ブロモ−４−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）−２−ブテノエート（Ethyl(Z)-2-Bromo-4-(tetrahydro-2H-pyran-2-yloxy)-2-butenoate）（化合物３）（３４５ｍｇ，１．１８ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（４ｍＬ）溶液を、前記混合物へ室温で滴下して加えた後、ＬｉＣｌ（８２ｍｇ，１．９６ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を１１０℃に昇温し、３０分間攪拌した後、酢酸エチルと３％アンモニア水の入ったマイヤーに反応混合物を加え、酢酸エチルにより抽出を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮を行った。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン中酢酸エチル１０％から５０％）により精製し、標題の化合物４を得た（４７８ｍｇ，７３％）。【０６５８】
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.51 (d, J = 8.39 Hz, 2H), 7.39 (d, J = 8.39 Hz, 2H), 6.85-6.71 (m, 3H), 5.44 (s, 1H), 4.70 (t, J = 3.51 Hz, 1H), 4.60 (dd, J = 14.88, 5.72 Hz, 1H), 4.39 (dd, J = 14.88, 6.48 Hz, 1H), 4.27 (q, J = 7.17 Hz, 2H), 3.94 (d, J = 5.65 Hz, 2H), 3.88 (dt, J = 14.09, 4.92 Hz, 1H), 3.56-3.52 (m, 1H), 1.91-1.82 (m, 1H), 1.75 (tt, J = 11.37, 3.51 Hz, 1H), 1.67-1.51 (m, 3H), 1.48 (s, 9H), 1.34 (t, J = 7.10 Hz, 3H).
ESI-MS : m/z 427.12, [M+Na]+。【０６５９】
１．３  エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（４−（２−アミノアセタミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl(E,E)-4-hydroxy-2-(4-(2-aminoacetamide)styryl)but-2-enoate）（化合物５）の製造
前記化合物４（２０８ｍｇ，０．４２６ｍｍｏｌ）のＭｅＯＨ（３ｍＬ）溶液に０℃で６Ｎ塩酸（３ｍＬ）を滴下により加えた。前記混合物を０℃で１０分間攪拌した後、室温に昇温し、さらに２時間間攪拌した。反応混合物に氷を加え、飽和ＮａＨＣＯ3水溶液および１ＮのＮａＯＨ水溶液を加えて中和した。ＬＨ２０ビーズをつめたカラムに前記反応混合物を通して脱塩を行った後、減圧濃縮し、標題の化合物５を得た（１３０ｍｇ，定量的）。【０６６０】
1H-NMR (CD3OD) δ: 7.61 (2H, d, J = 8.24 Hz), 7.45 (2H, d, J = 8.39 Hz), 6.87 (1H, d, J = 16.33 Hz), 6.79 (1H, d, J = 16.78 Hz), 6.79 (1H, t, J = 6.87 Hz), 4.48 (2H, d, J = 6.10 Hz), 4.26 (2H, q, J = 7.12 Hz), 3.90 (2H, s), 1.33 (3H, t, J = 7.17 Hz).
ESI-MS : m/z 305.17, [M+H]+
【実施例２】
【０６６１】
１０−（２−（２−（４−（（１Ｅ，３Ｅ）−３−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシペンタ−１，３，−ジエニル）フェニルアミノ）−２−オキシエチルアミノ）−２−オキソエチル）−１，４，７，１０−テトラアザシクロドデカン−１，４，７−トリ酢酸（10-(2-(2-(4-((1E,3E)-3-ethoxycarbony-5-hydroxypenta-1,3,-dienyl)-phenylamino)-2-oxoethyl-amino)-2-oxoethyl)-1,4,7,10-tetraazacyclododecane-1,4,7-triacetic acid）（化合物７）（式（ＩＩ）において、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨであり、Ｒ2が−Ｃ2Ｈ5であり、Ｘ1は式−Ｌ1−Ａ1−で表わされる基であり、Ｚは１，４−フェニレンであり、Ｌ1は−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ2−であり、Ａ1は−ＮＨ−であり、Ｒ4は【０６６２】
【化２３５】
2008096760.tif 000219
【０６６３】
である）の製造
前記化合物７は、以下のスキーム１２に従い、製造した。【０６６４】
【化２３６】
2008096760.tif 000220
【０６６５】
前記化合物５（２．４ｍｇ，７．８ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（０．２ｍＬ）溶液に、１，４，７，１０−テトラアザシクロドデカン−１，４，７，１０−テトラ酢酸，  スクシンイミジルエステル（1,4,7,10-tetraazacylcododecane-1,4,7,10-tetraacetic acid, succinimidyl ester）（ＤＯＴＡ−ＮＨＳ）（化合物６）（４．３ｍｇ，８．６μｍｏｌ）およびトリエチルアミン（１０μＬ，７８μｍｏｌ）を室温で加え４時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をＬＨ２０（ＣＨＣｌ3：ＭｅＯＨ：Ｈ2Ｏ＝１：１：０．１の混合物）を用いてゲルろ過を行い表題の化合物７を得た（３．１ｍｇ，５８％）。【０６６６】
ESI-MS : m/z 691.26 [M+H]+ , 713.24 [M+Na]+
【実施例３】
【０６６７】
１０−（２−（２−（４−（（１Ｅ，３Ｅ）−３−エトキシカルボニル−５−オキソペンタ−１，３，−ジエニル）−フェニルアミノ）−２−オキソエチルアミノ）−２−オキソエチル）−１，４，７，１０−テトラアザシクロドデカン−１，４，７−トリ酢酸（10-(2-(2-(4-((1E,3E)-3-ethoxycarbony-5-oxopenta-1,3,-dienyl)-phenylamino)-2-oxoethyl-amino)-2-oxoethyl)-1,4,7,10-tetraazacyclododecane-1,4,7-triacetic acid）（化合物８）（式（ＩＩ）において、Ｒ1が−ＣＨＯであり、Ｒ2が−Ｃ2Ｈ5であり、Ｘ1は式−Ｌ1−Ａ1−で表わされる基であり、Ｚは１，４−フェニレンであり、Ｌ1は−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ2−であり、Ａ1は−ＮＨ−であり、Ｒ4は【０６６８】
【化２３７】
2008096760.tif 000221
【０６６９】
である）の製造
前記化合物８は、以下のスキーム１３に従い、製造した。【０６７０】
【化２３８】
2008096760.tif 000222
【０６７１】
前記化合物７（１．５ｍｇ，２．１μｍｏｌ）のＤＭＦ（０．０９ｍＬ）およびＣＨ2Ｃｌ2（０．２ｍＬ）混合溶液に、デス−マーチン・ペルヨージナン試薬（１．８ｍｇ，４．３μｍｏｌ）を室温で加え２０分間攪拌した。反応混合物をＬＨ２０（ＣＨＣｌ3：ＭｅＯＨ：Ｈ2Ｏ＝１：１：０．１の混合物）を用いてゲルろ過し、標題化合物８のＤＭＦ溶液（４０μＬ）を得た。【０６７２】
ESI-MS : m/z 689.11 [M+H]+
【実施例４】
【０６７３】
エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（４−（２−（６−（テトラメチルローダミン−５−（および−６）−カルボキサミド）ヘキサンアミド）アセタミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl(E,E)-4-hydroxy-2-(4-(2-(6-(tetramethylrhodamine-5-(and-6)-carboxamido)hexaneamide)acetamide)styryl) but-2-enoate）（化合物１３）（式（ＩＩ）において、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨであり、Ｒ2が−Ｃ2Ｈ5であり、Ｘ1は式−Ｌ1−Ａ1−で表わされる基であり、Ｚは１，４−フェニレンであり、Ｌ1は−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ2−であり、Ａ1は−ＮＨ−であり、Ｒ4は【０６７４】
【化２３９】
2008096760.tif 000223
【０６７５】
である）の製造
前記化合物１３は、以下のスキーム１４に従い、製造した。【０６７６】
【化２４０】
2008096760.tif 000224
【０６７７】
前記化合物５（０．２ｍｇ，０．６５μｍｏｌ）のＤＭＦ（２５μＬ）およびＣＨ2Ｃｌ2（２５μＬ）混合溶液に６−（テトラメチルローダミン−５−（および−６）−カルボキサミド）ヘキサン酸、スクシンイミジルエステル（6-(tetramethylrhodamine-5-(and-6)-carboxamido)hexanoic acid, succinimidyl ester）（ＴＡＭＲＡ−ＯＳｕ）（化合物１２）（０．４２ｍｇ，０．６５μｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。反応混合物を分取薄層クロマトグラフィーにより精製して標題の化合物１３を得た（０．６２ｍｇ，定量的）。
ESI-MS : m/z 830.37 [M+H]+
【実施例５】
【０６７８】
エチル（Ｅ，Ｅ）−４−オキソ−２−（４−（２−（６−（テトラメチルローダミン−５−（および−６）−カルボキサミド）ヘキサミド）アセタミド）スチリル）ブタ−２−エノエート
（Ethyl(E,E)-4-Oxo-2-(4-(2-(6-(tetramethylrhodamine-5-(and-6)-carboxamido)hexaneamide)acetamide)styryl) but-2-enoate
）（化合物１５）（式（ＩＩ）において、Ｒ1が−ＣＨＯであり、Ｒ2が−Ｃ2Ｈ5であり、Ｘ1は式−Ｌ1−Ａ1−で表わされる基であり、Ｚは１，４−フェニレンであり、Ｌ1は−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ2−であり、Ａ1は−ＮＨ−であり、Ｒ4は【０６７９】
【化２４１】
2008096760.tif 000225
【０６８０】
である）の製造
前記化合物１５は、以下のスキーム１５に従い、製造した。【０６８１】
【化２４２】
2008096760.tif 000226
【０６８２】
前記化合物１３（０．５ｍｇ，０．６０μｍｏｌ）のＤＭＦ（２５μＬ）およびＣＨ2Ｃｌ2（２５μＬ）混合溶液に、ＩＢＸ樹脂（メルク社製）（化合物１４）（１．３ｍｇ，１．２μｍｏｌ）を加え、室温で１時間おだやかに攪拌した。反応混合物を濾過し、濾液中のＣＨ2Ｃｌ2を減圧濃縮して標題の化合物１５のＤＭＦ溶液を得た。
ESI-MS : m/z 830.37 [M+H]+
【実施例６】
【０６８３】
エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（４−アミノスチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl(E,E)-4-hydroxy-2-(4-aminostyryl)but-2-enoate）（化合物３０）（式（Ｉ）において、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨであり、Ｒ2が−Ｃ2Ｈ5であり、Ｒ3は式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1で表わされる基であり、Ｚは１，４−フェニレンであり、Ｌ1は結合手であり、Ａ1は−ＮＨ−であり、Ｍ1はＨである）の製造
前記化合物３０は、以下のスキーム１６に従い、製造した。【０６８４】
【化２４３】
2008096760.tif 000227
【０６８５】
６．１  （Ｅ）−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（２−（トリ−ｎ−ブチルスタニル）ビニル）フェニルカルバメート（(E)-tert-butyl-4-(2-(tri-n-butylstannyl)vinyl)phenylcarbamate）（化合物２７）の製造
４−エチニル−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアニリン（4-ethynyl-tert-butoxycarbonylaniline）（化合物２６）（５００ｍｇ，２．３０ｍｍｏｌ）のベンゼン（１０ｍＬ）溶液に、ＡＩＢＮ（１３ｍｇ，０．０８４ｍｍｏｌ）およびＢｕ3ＳｎＨ（７４２μＬ，２．７５ｍｍｏｌ）を室温で加えた。前記混合物を９０℃に昇温し、５０分間攪拌した後、減圧濃縮した。得られた残渣をアルミナクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン中１０％酢酸エチル）により精製し、標題の化合物２７を得た（０．９７ｇ，８４％）。【０６８６】
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.31 (dd, J = 14.95, 8.70 Hz, 4H), 6.80 (d, J = 19.53 Hz, 2H), 6.70 (d, J = 19.53 Hz, 2H), 6.46 (s, 1H), 1.58-1.48 (m, 20H), 1.32 (td, J = 14.69, 7.27 Hz, 6H), 0.94 (t, J = 8.09 Hz, 3H), 0.88 (t, J = 7.32 Hz, 9H)。【０６８７】
６．２  エチル(E,E)-4-ヒドロキシ-2-(4-N-tert-ブトキシカルボニルアミノスチリル)ブタ-2-エノエート（Ethyl(E,E)-4-hydroxy-2-(4-N-tert-butoxycarbonylaminostyryl)but-2-enoate）（化合物２９）の製造
ＤＭＦ（２ｍＬ）溶媒にＰｄ2（ｄｂａ）3（１６ｍｇ，０．０１８ｍｍｏｌ）およびＰ（２−フリル）3（１７ｍｇ，０．０７３ｍｍｏｌ）を加え、前記混合物を室温で１０分間攪拌した。続いて前記化合物２７（４５６ｍｇ，０．８９ｍｍｏｌ）およびエチル（Ｚ）−２−ブロモ−４−ヒドロキシ−２−ブテノエート（Ethyl(Z)-2bromo-4-hydroxy-2-butenoate）（化合物２８）（２２５ｍｇ，１．０８ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（８ｍＬ）溶液を前記混合物へ室温で滴下して加えた後、ＬｉＣｌ（７６ｍｇ，１．７９ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を１１０℃に昇温し、４５分間攪拌した後、酢酸エチルと１０％アンモニア水の入ったマイヤーに反応混合物を加え、酢酸エチルにより抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン中１０％から２０％酢酸エチル）により精製し、標題の化合物２９を得た（２７８ｍｇ，８９％）。【０６８８】
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.37 (d, J = 8.85 Hz, 2H), 7.34 (d, J = 8.85 Hz, 2H), 6.80 (t, J = 6.18 Hz, 1H), 6.78 (d, J = 17.09 Hz, 1H), 6.74 (d, J = 16.33 Hz, 1H), 6.52 (s, 1H), 4.56 (d, J = 6.10 Hz, 2H), 4.12 (q, J = 7.17 Hz, 2H), 1.52 (s, 9H), 0.92 (t, J = 7.32 Hz, 3H)。【０６８９】
６．３  エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（４−アミノスチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl(E,E)-4-hydroxy-2-(4-aminostyryl)but-2-enoate）（化合物３０）の製造
前記化合物２９（２３ｍｇ，０．０６６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍＬ）溶液を０℃にし、６Ｎ塩酸（１ｍＬ）を滴下して加えた。０℃で前記混合物を１０分間攪拌した後、室温に昇温し、終夜攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え中和し、その後クロロホルムを用いて抽出した。前記クロロホルム抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＭｅＯＨ中３％から１０％ＣＨＣｌ3）により精製し、標題の化合物３０を得た（１４ｍｇ，８８％）。【０６９０】
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.60 (d, J = 8.54 Hz, 2H), 7.41 (d, J = 8.70 Hz, 2H), 6.82 (t, J = 6.26 Hz, 3H), 6.81 (d, J = 15.72 Hz, 3H), 6.77 (d, J = 16.48 Hz, 3H), 4.57 (d, J = 6.10 Hz, 2H), 4.28 (q, J = 7.12 Hz, 2H), 1.34 (t, J = 7.10 Hz, 3H).
ESI-MS : m/z 384.21, [M+Na]+
【実施例７】
【０６９１】
エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（４−（７−ジエチルアミノクマリン−３−カルボキサミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl(E,E)-4-hydroxy-2-(4-(7-diethylaminocoumarin-3-carboxamide)styryl) but-2-enoate）（化合物３２）（式（ＩＩ）において、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨであり、Ｒ2が−Ｃ2Ｈ5であり、Ｘ1は式−Ｌ1−Ａ1−で表わされる基であり、Ｚは１，４−フェニレンであり、Ｌ1は結合手であり、Ａ1は−ＮＨ−であり、Ｒ4は【０６９２】
【化２４４】
2008096760.tif 000228
【０６９３】
である）の製造
前記化合物３２は、以下のスキーム１７に従い、製造した。【０６９４】
【化２４５】
2008096760.tif 000229
【０６９５】
前記化合物３０（１６ｍｇ，０．０６５ｍｍｏｌ）のＣＨ2Ｃｌ2（２００μＬ）溶液に、７−ジエチルアミノクマリン−３−カルボン酸，  スクシンイミジルエステル（7-diethylaminocoumarin-3-carboxylic acid, succinimidyl ester）（クマリン）（化合物３１）（１８ｍｇ，０．６８ｍｍｏｌ），ＥＤＣ（１５ｍｇ，０．０７８ｍｍｏｌ）およびＤＭＡＰ（９．８ｍｇ，０．０８ｍｍｏｌ）を加え、室温で５時間攪拌した。反応混合物を分取薄層クロマトグラフィー（ＭｅＯＨ中３％ＣＨＣｌ3）により精製し、標題の化合物３２を得た（１０ｍｇ，３２％）。
ESI-MS : m/z 491 [M+H]+ ,513 [M+Na]+
【実施例８】
【０６９６】
エチル  （Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（（４−ヘキサヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−チエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−４−ペンタンアミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl (E,E)-4-hydroxy-2-((4-Hexahydro-2-oxo-1H-thieno[3,4-d]imidazole-4-pentanamide)styryl)but-2-enoate）（化合物３４）（式（ＩＩ）において、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨであり、Ｒ2が−Ｃ2Ｈ5であり、Ｘ1は式−Ｌ1−Ａ1−で表わされる基であり、Ｚは１，４−フェニレンであり、Ｌ1は結合手であり、Ａ1は−ＮＨ−であり、Ｒ4は【０６９７】
【化２４６】
2008096760.tif 000230
【０６９８】
である）の製造
前記化合物３４は、以下のスキーム１８に従い、製造した。【０６９９】
【化２４７】
2008096760.tif 000231
【０７００】
前記化合物３０（１ｍｇ，４μｍｏｌ）のＤＭＦ（１ｍＬ）溶液にビオチン（化合物３３）（１ｍｇ，４μｍｏｌ）、ＨＢＴＵ（１．５ｍｇ，４μｍｏｌ）およびトリエチルアミン（０．８μＬ，６μｍｏｌ）を加え、室温で９時間攪拌した。反応混合物を分取薄層クロマトグラフィー（ＭｅＯＨ中１３％ＣＨＣｌ3）により精製して標題の化合物３４を得た（１．２ｍｇ，６５％）。
ESI-MS : m/z 495.96 [M+Na]+
【実施例９】
【０７０１】
エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（４−（６−（（４，４−ジフルオロ−５，７−ジメチル−４−ボラ−３ａ，４ａ−ジアザ−ｓ−インダセン−３−プロピオニル）アミノ）ドデカンアミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl(E,E)-4-hydroxy-2-(4-(6-((4,4-difluoro-5,7-dimethyl-4-bora-3a,4a-diaza-s-indacene-3-propionyl)amino)dodecanamide)styryl) but-2-enoate）（化合物３８）（式（ＩＩ）において、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨであり、Ｒ2が−Ｃ2Ｈ5であり、Ｘ1は式−Ｌ1−Ａ1−で表わされる基であり、Ｚは１，４−フェニレンであり、Ｌ1は結合手であり、Ａ1は−ＮＨ−であり、Ｒ4は【０７０２】
【化２４８】
2008096760.tif 000232
【０７０３】
である）の製造
前記化合物３８は、以下のスキーム１９に従い、製造した。
【化２４９】
2008096760.tif 000233
【０７０４】
前記化合物３０（０．０６ｍｇ，０．２μｍｏｌ）のＤＭＦ溶液に６−（（４，４−ジフルオロ−５，７−ジメチル−４−ボラ−３ａ，４ａ−ジアザ−ｓ−インダセン−３−プロピオニル）アミノ）ドデカノン酸（6-((4,4-difluoro-5,7-dimethyl-4-bora-3a,4a-diaza-s-indacene-3-propionyl)amino)dodecanoic acid）（ＢＯＤＩＰＹ）（化合物３７）（０．１ｍｇ，０．２μｍｏｌ）、ＨＢＴＵ（０．１ｍｇ，０．２μｍｏｌ）およびトリエチルアミン（０．０５μＬ，０．３μｍｏｌ）を加え、室温で１０時間攪拌した。反応混合物を分取薄層クロマトグラフィー（ＭｅＯＨ中６％ＣＨＣｌ3）により精製して標題の化合物３６を得た。
ESI-MS : m/z 656.39 [M+Na]+
【実施例１０】
【０７０５】
エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（４−（２−（６−（Ｎ−（７−ニトロベンザ−２−オキサ−１，３−ジアゾール−４−イル）アミノ）ヘキサミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl(E,E)-4-hydroxy-2-(4-(2-(6-(N-(7-nitrobenz-2-oxa-1,3-diazol-4-yl)amino)hexanamide)styryl) but-2-enoate）（化合物３６）（式（ＩＩ）において、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨであり、Ｒ2が−Ｃ2Ｈ5であり、Ｘ1は式−Ｌ1−Ａ1−で表わされる基であり、Ｚは１，４−フェニレンであり、Ｌ1は結合手であり、Ａ1は−ＮＨ−であり、Ｒ4は【０７０６】
【化２５０】
2008096760.tif 000234
【０７０７】
である）の製造
前記化合物３６は、以下のスキーム２０に従い、製造した。【０７０８】
【化２５１】
2008096760.tif 000235
【０７０９】
前記化合物３０（１ｍｇ，４μｍｏｌ）のＤＭＦ（１ｍＬ）溶液に６−（Ｎ−（７−ニトロベンザ−２−オキサ−１，３−ジアゾール−４−イル）アミノ）ヘキサン酸（6-(N-(7-nitrobenz-2-oxa-1,3-diazol-4-yl)amino)hexanoic acid）（化合物３５）（１．２ｍｇ，４μｍｏｌ）、ＨＢＴＵ（１．５ｍｇ，４μｍｏｌ）およびトリエチルアミン（０．８μＬ，６μｍｏｌ）を加え、室温で９時間攪拌した。反応混合物を分取薄層クロマトグラフィー（ＭｅＯＨ中６％ＣＨＣｌ3）により精製して標題の化合物３６を得た（０．２ｍｇ，１０％）。
ESI-MS : m/z 546.17 [M+Na]+
【実施例１１】
【０７１０】
エチル（Ｅ，Ｅ）−４−オキソ−２−（４−（２−（６−（Ｎ−（７−ニトロベンザ−２−オキサ−１，３−ジアゾール−４−イル）アミノ）ヘキサンアミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl(E,E)-4-oxo-2-(4-(2-(6-(N-(7-nitrobenz-2-oxa-1,3-diazol-4-yl)amino)hexanamide)styryl) but-2-enoate）（化合物３９）（式（ＩＩ）において、Ｒ1が−ＣＨＯであり、Ｒ2が−Ｃ2Ｈ5であり、Ｘ1は式−Ｌ1−Ａ1−で表わされる基であり、Ｚは１，４−フェニレンであり、Ｌ1は結合手であり、Ａ1は−ＮＨ−であり、Ｒ4は【０７１１】
【化２５２】
2008096760.tif 000236
【０７１２】
である）の製造
前記化合物３９は、以下のスキーム２１に従い、製造した。【０７１３】
【化２５３】
2008096760.tif 000237
【０７１４】
前記化合物３６（０．１ｍｇ，０．２μｍｏｌ）のＣＨ2Ｃｌ2溶液にＰＤＣ（１ｍｇ，２．７μｍｏｌ）を加え、室温で１０分間攪拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＭｅＯＨ中６％ＣＨＣｌ3）により精製して標題の化合物３９を得た。
【実施例１２】
【０７１５】
２−（２−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシラニルオキシ）−２−スチリルブタ−２−エノエート
（2-(2-N-tert-Butoxycarbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-(tert-butyl-diphenyl-silanyloxy)-2-styrylbut-2-enoate）（化合物４５）（式（Ｉ）において、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＴＢＤＰＳであり、Ｒ2が−Ｃ2Ｈ5であり、Ｘ1は式−Ｌ1−Ａ1−で表わされる基であり、Ｚは１，４−フェニレンであり、Ｌ1は結合手であり、Ａ1は−ＮＨ−であり、Ｒ4はＨである）の製造
前記化合物４５は、以下のスキーム２２に従い、製造した。【０７１６】
【化２５４】
2008096760.tif 000238
【０７１７】
１２．１  (E)-β-スチリルトリブチルチン（(E)-β-styryltributyltin）（化合物４３）の製造
フェニルアセチレン（化合物４２）（３００ｍｇ，２．９４ｍｍｏｌ）のベンゼン（６ｍｌ）溶液に、ＡＩＢＮ（１９ｍｇ，０．１１８ｍｍｏｌ）およびＢｕ3ＳｎＨ（１ｍｌ，３．８２ｍｍｏｌ）を室温で加えた。前記混合物を９０℃に昇温し、４０分間攪拌した後、減圧濃縮した。得られた残渣をアルミナカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン）により精製し、標題の化合物４３を得た（９８９ｍｇ，８６％）。【０７１８】
1H-NMR-(500 MHz, CDCl3) δ ppm 7.41 (d, J = 7.5 Hz, 2H ), 7.31 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 7.22 (t, J = 6 Hz, 1H), 6.88 (d, J = 19.5 Hz, 1H), 6.84 (d, J = 19.5 Hz, 1H), 1.55 (m, J = 7.5 Hz, 6H ), 1.34 (m, J = 7 Hz, 6H), 0.972 (t, J = 6 Hz, 6H), 0.904 (t, J = 6 Hz, 9H)。【０７１９】
１２．２  ２−（２−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−オキソ−２−スチリルブタ−２−エノエート（2-(2-N-tert-Butoxycarbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-Oxo-2-styrylbut-2-enoate）（化合物４５）の製造
ＤＭＦ（１ｍＬ）溶媒にＰｄ2（ｄｂａ）3（９．０ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）およびＰ（２−フリル）3（９．１ｍｇ，０．０４ｍｍｏｌ）を加え室温で１０分間攪拌した。前記混合物に前記化合物４３（２３２ｍｇ，０．５９１ｍｍｏｌ）および２−（２−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｚ）−２−ブロモ−４−（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシラニルオキシ）−２−ブテノエート（2-(2-N-tert-Butoxycarbonylaminoethoxy)ethyl (Z)-2-Bromo-4-(tert-butyl-diphenyl-silanyloxy)-2-butenoate）（化合物４４）（３００ｍｇ，０．４９２ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３ｍＬ）溶液を室温で滴下して加えた後、ＬｉＣｌ（４２ｍｇ，０．９８５ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を１１５℃に昇温し、３０分間攪拌した後、酢酸エチルと１０％アンモニア水の入ったマイヤーに反応混合物を加え、酢酸エチルにより抽出を行った。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：ＥｔＯＡｃ＝９：１〜１：１）により精製して標題の化合物４５を得た（２２３ｍｇ，７２％）。【０７２０】
1H-NMR-(500 MHz, CDCl3) δ ppm 7.66 (m, 4H), 7.55 (s, 1H), 7.45 -7.20 (m, 11H), 6.85 (t, J = 6 Hz, 1H), 6.66 (d, J = 16.3 Hz, 1H), 6.56 (d, J = 16.3 Hz, 1H), 4.54 (d, J = 6 Hz, 2H), 4.35 (t, J = 5  Hz, 1H), 3.73 (t, J = 5 Hz, 2H), 3.55 (t, J = 5 Hz, 2H), 3.31 (d, J = 5 Hz, 2H), 1.52 (s, 9H), 1.43 (s, 9H), 1.08 (s, 9H).
【実施例１３】
【０７２１】
２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−スチリルブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-hydroxy-2-styrylbut-2-enoate）（化合物４９）（式（ＩＩＩ）において、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨであり、Ｒ3がＨであり、Ｘ2は式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、Ｚは１，４−フェニレンであり、Ｌ2は−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−であり、Ａ2は−ＮＨ−であり、Ｌ3は結合手であり、Ｒ5は【０７２２】
【化２５５】
2008096760.tif 000239
【０７２３】
である）の製造
前記化合物４９は、以下のスキーム２３に従い、製造した。【０７２４】
【化２５６】
2008096760.tif 000240
【０７２５】
１３．１  ２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシラニルオキシ）−２−スチリルブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl  (E,E)-4-(tert-butyl-diphenyl-silanyloxy)-2-styrylbut-2-enoate）（化合物４８）の製造
前記化合物４５（５．３ｍｇ，８．３７μｍｏｌ）のＣＨ2Ｃｌ2（０．６ｍｌ）溶液にＴＦＡ（１４５μｌ）を加え０℃で２０分間攪拌した。反応液を１ＮのＮａＯＨ水溶液で中和後、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。精製を行わず、Ａｒ雰囲気下、得られた残渣を無水ＣＨ2Ｃｌ2（１ｍｌ）に溶解させ、その溶液に７−ジエチルアミノクマリン−３−カルボン酸，スクシンイミジルエステル（7-diethylaminocoumarin-3-carboxylic acid, succinimidyl ester）（化合物５９）（２．１ｍｇ，５８６μｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：ＥｔＯＡｃ＝９：１〜１：１）により精製して、標題の化合物４８を得た（４．０ｍｇ，６２％，２工程）。
ESI-MS (positive) m/z = 773.7 [(M+H)+]。
１３．２  ２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−スチリルブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-hydroxy-2-styrylbut-2-enoate）（化合物４９）の製造
前記化合物４８（２．０ｍｇ，２．５９μｍｏｌ）のＴＨＦ（５００μｌ）溶液にＴＨＦ中１ＭのＴＢＡＦ溶液（２．５９μｌ）とＴＨＦ中１Ｍの酢酸溶液（２．４９μｌ）を０℃で加え、２時間攪拌した。反応混合物をＣＨＣｌ3で抽出した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮し、得られた残渣を分取薄層シリカゲルクロマトグラフィー（ＣＨＣｌ3：ＭｅＯＨ＝１５：１）により精製して標題の化合物４９を得た（０．５ｍｇ，３６％）。
ESI-MS (positive) m/z = 535.3 [(M+H)+]
【実施例１４】
【０７２６】
２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−オキソ−２−スチリルブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-Oxo-2-styrylbut-2-enoate）（化合物５０）（式（ＩＩＩ）において、Ｒ1が−ＣＨＯであり、Ｒ3がＨであり、Ｘ2は式−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−で表わされる基であり、Ｚは１，４−フェニレンであり、Ｌ2は−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−であり、Ａ2は−ＮＨ−であり、Ｌ3は結合手であり、Ｒ5は【０７２７】
【化２５７】
2008096760.tif 000241
【０７２８】
である）の製造
前記化合物５０は、以下のスキーム２４に従い、製造した。【０７２９】
【化２５８】
2008096760.tif 000242
【０７３０】
前記化合物４９（０．２ｍｇ，０．３７４μｍｏｌ）のＣＨ2Ｃｌ2（２００μｌ）溶液にＰＤＣ（２ｍｇ，５．３２μｍｏｌ）を加えて１０分間攪拌した。反応液はそのままシリカゲルクロマトグラフィー（ＣＨＣｌ3：ＭｅＯＨ＝９０：１〜７０：１）により精製して、標題の化合物５０を得た（１４０μｇ，７０％）。
ESI-MS (positive) m/z = 533.2 [(M+H)+]
【実施例１５】
【０７３１】
２−（２−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシラニルオキシ）−２−（４−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノスチリル）ブタ−２−エノエート（2-(2-N-tert-Butoxycarbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-(tert-butyl-diphenyl-silanyloxy)-    2-(4-N-tert-Butoxycarbonylaminostyryl)but-2-enoate）（化合物４６）（式（Ｉ）において、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＴＢＤＰＳであり、Ｒ2が−Ｌ2−Ａ2−Ｍ2で表わされる基であり、Ｒ3が式−Ｌ1−Ａ1−Ｍ1で表わされる基であり、Ｚは１，４−フェニレンであり、Ｌ1は結合手であり、Ａ1は−ＮＨ−であり、Ｍ1はＢＯＣであり、Ｌ2は−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−であり、Ａ2は−ＮＨ−であり、Ｍ2はＢＯＣである）の製造
前記化合物４６は、以下のスキーム２５に従い、製造した。【０７３２】
【化２５９】
2008096760.tif 000243
【０７３３】
ＤＭＦ（１ｍｌ）溶媒にＰｄ2（ｄｂａ）3（２．１ｍｇ，０．００３ｍｍｏｌ）およびＰ（２−フリル）3（２．１ｍｇ，０．０１２ｍｍｏｌ）を加え室温で１５分間攪拌した。前記混合物に（Ｅ）−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（２−（トリ−ｎ−ブチルスタニル）ビニル）フェニルカルバメート（(E)-tert-butyl-4-(2-(tri-n-butylstannyl)vinyl)phenylcarbamate）（化合物２７）（８０ｍｇ，０．１５８ｍｍｏｌ）および前記化合物４４（８０ｍｇ，０．１３２ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３ｍｌ）溶液を室温で滴下して加えた後、ＬｉＣｌ（１１ｍｇ，０．２６３ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を１１５℃に昇温し、３０分間攪拌した後、酢酸エチルと１０％アンモニア水の入ったマイヤーに反応混合物を加え、酢酸エチルにより抽出を行った。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：ＥｔＯＡｃ＝９：１から１：１）により精製して、標題の化合物４６を得た（４２ｍｇ，４１％）。【０７３４】
1H-NMR-(500 MHz, CDCl3) δ ppm 7.68 (m, 4H), 7.45 -7.10 (m, 11H), 6.89 (t, J = 6 Hz, 1H), 6.72 (d, J = 16.3 Hz, 1H), 6.66 (d, J = 16.3 Hz, 1H), 4.56 (d, J = 6 Hz, 2H), 4.36 (t, J = 5  Hz, 1H), 3.74 (t, J = 5 Hz, 2H), 3.56 (t, J = 5 Hz, 2H), 3.31 (d, J = 5 Hz, 2H), 1.43 (s, 9H), 1.07 (s, 9H).
【実施例１６】
【０７３５】
２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシラニルオキシ）−２−（４−アミノスチリル）ブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-(tert-butyl-diphenyl-silanyloxy)-2-(4-aminostyryl)but-2-enoate）（化合物５１）（式（ＩＩＩ）において、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＴＢＤＰＳであり、Ｒ3は−ＮＨ2であり、Ｒ5は【０７３６】
【化２６０】
2008096760.tif 000244
【０７３７】
であり、Ｚは１，４−フェニレンであり、Ｘ2は−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−であり、Ｌ2は−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−であり、Ａ2は−ＮＨ−であり、Ｌ3は結合手である）の製造
前記化合物５１は、以下のスキーム２６に従い、製造した。【０７３８】
【化２６１】
2008096760.tif 000245
【０７３９】
前記化合物４６（６．２ｍｇ，８．３７μｍｏｌ）のＣＨ2Ｃｌ2（０．６ｍｌ）溶液にＴＦＡ（１４５μｌ）を加え、０℃で２０分間攪拌した。前記混合物を１ＮのＮａＯＨ水溶液で中和後、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。精製を行わず、得られた残渣を無水ＣＨ2Ｃｌ2（１ｍｌ）に溶解させた。前記溶液にＡｒ雰囲気下で化合物５９（２．１ｍｇ，５．８６μｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応液を濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン中１０％から５０％酢酸エチル）により精製して、標題の化合物５１を得た（４．０ｍｇ，６２％，２工程）。
ESI-MS (positive) m/z = 788.5 [(M+H)+]
【実施例１７】
【０７４０】
２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシラニルオキシ）−２−（（４−ヘキサヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−チエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−４−ペンタミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-(tert-butyl-diphenyl-silanyloxy)-2-((4-Hexahydro-2-oxo-1H-thieno[3,4-d]imidazole-4-pentanamide)styryl)but-2-enoate）（化合物５２）（式（ＩＶ）において、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＴＢＤＰＳであり、Ｒ4は【０７４１】
【化２６２】
2008096760.tif 000246
【０７４２】
であり、
Ｒ5は【０７４３】
【化２６３】
2008096760.tif 000247
【０７４４】
であり、Ｚは１，４−フェニレンであり、Ｘ1は−Ｌ1−Ａ1−であり、Ｘ2は−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−であり、Ｌ1は結合手であり、Ａ1は−ＮＨ−であり、Ｌ2は−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−であり、Ａ2は−ＮＨ−であり、Ｌ3は結合手である）の製造
前記化合物５２は、以下のスキーム２７に従い、製造した。【０７４５】
【化２６４】
2008096760.tif 000248
【０７４６】
前記化合物５１（４．９ｍｇ，６．２１μｍｏｌ）の無水ＤＭＦ（１ｍｌ）溶液に、ＨＢＴＵ（３．５４ｍｇ，９．３３μｍｏｌ）およびビオチン（化合物３３）（１．８２ｍｇ，７．４６μｍｏｌ）をＡｒ雰囲気下で加え、室温で２０分間攪拌した。その後前記混合物にトリエチルアミン（１．７３μｌ，１２．４μｍｏｌ）を加えて終夜攪拌した。反応液を減圧濃縮後、得られた残渣を分取薄層シリカゲルクロマトグラフィー（ＣＨＣｌ3：ＭｅＯＨ＝７：１）により精製して、標題化合物５２を得た（４．１ｍｇ，６５％）。
ESI-MS (positive) m/z =1014.4 [(M+H)+]
【実施例１８】
【０７４７】
２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル  （Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（（４−ヘキサヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−チエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−４−ペンタアミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-hydroxy-2-((4-Hexahydro-2-oxo-1H-thieno[3,4-d]imidazole-4-pentanamide)styryl)but-2-enoate）（化合物５３）（式（ＩＶ）において、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＨであり、Ｒ4は【０７４８】
【化２６５】
2008096760.tif 000249
【０７４９】
であり、
Ｒ5は【０７５０】
【化２６６】
2008096760.tif 000250
【０７５１】
であり、Ｚは１，４−フェニレンであり、Ｘ1は−Ｌ1−Ａ1−であり、Ｘ2は−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−であり、Ｌ1は結合手であり、Ａ1は−ＮＨ−であり、Ｌ2は−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−であり、Ａ2は−ＮＨ−であり、Ｌ3は結合手である）の製造
前記化合物５３は、以下のスキーム２８に従い、製造した。【０７５２】
【化２６７】
2008096760.tif 000251
【０７５３】
前記化合物５２（４．１ｍｇ，４．０４μｍｏｌ）のＴＨＦ（１ｍｌ）溶液にＴＨＦ中１ＭのＴＢＡＦ溶液（２．５９μｌ）とＴＨＦ中１Ｍの酢酸溶液（２．４９μｌ）を室温で加え、２時間攪拌した。反応混合物をＣＨＣｌ3で抽出した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣を分取薄層シリカゲルクロマトグラフィー（ＣＨＣｌ3：ＭｅＯＨ＝１０：１）により精製して、標題の化合物５３を得た（０．５ｍｇ，１６％）。
ESI-MS (positive) m/z = 776.5 [(M+H)+]
【実施例１９】
【０７５４】
２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシラニルオキシ）−２−（（６−（Ｎ−（７−ニトロベンザ−２−オキサ−１，３−ジアゾール−４−イル）アミノ）ヘキサンアミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-(tert-butyl-diphenyl-silanyloxy)-2-((6-(N-(7-nitrobenz-2-oxa-1,3-diazol-4-yl)amino)hexanamide)styryl)but-2-enoate）（化合物５４）（式（ＩＶ）において、Ｒ1が−ＣＨ2ＯＴＢＤＰＳであり、Ｒ4は【０７５５】
【化２６８】
2008096760.tif 000252
【０７５６】
であり、
Ｒ5は【０７５７】
【化２６９】
2008096760.tif 000253
【０７５８】
であり、Ｚは１，４−フェニレンであり、Ｘ1は−Ｌ1−Ａ1−であり、Ｘ2は−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−であり、Ｌ1は結合手であり、Ａ1は−ＮＨ−であり、Ｌ2は−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−であり、Ａ2は−ＮＨ−であり、Ｌ3は結合手である）の製造
前記化合物５４は、以下のスキーム２９に従い、製造した。【０７５９】
【化２７０】
2008096760.tif 000254
【０７６０】
前記化合物５１（２．５ｍｇ，３．７１μｍｏｌ）の無水ＤＭＦ（１ｍｌ）溶液に、ＨＢＴＵ（１．８０ｍｇ，４．７６μｍｏｌ）および６−（Ｎ−（７−ニトロベンザ−２−オキサ−１，３−ジアゾール−４−イル）アミノ）ヘキサン酸（6-(N-(7-nitrobenz-2-oxa-1,3-diazol-4-yl)amino)hexanoic acid）（ＮＢＤ−Ｘ）（１．１２ｍｇ，３．８１μｍｏｌ）をＡｒ雰囲気下で加え、室温で２０分間攪拌した。その後トリエチルアミン（０．８８μｌ，６．３５μｍｏｌ）を加えて終夜攪拌した。反応液を減圧濃縮後、得られた残渣を分取薄層シリカゲルクロマトグラフィー（ＣＨＣｌ3：ＭｅＯＨ＝２０：１）により精製して、標題の化合物５４を得た（１．３ｍｇ，３９％）。
ESI-MS (positive) m/z = 1064.6 [(M+H)+]
【実施例２０】
【０７６１】
２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（（６−（Ｎ−（７−ニトロベンザ−２−オキサ−１，３−ジアゾール−４−イル）アミノ）ヘキサミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-hydroxy-2-((6-(N-(7-nitrobenz-2-oxa-1,3-diazol-4-yl)amino)hexanamide)styryl)but-2-enoate）（化合物５５）（式（ＩＶ）において、Ｒ1が−ＣＨＯＨであり、Ｒ4は【０７６２】
【化２７１】
2008096760.tif 000255
【０７６３】
であり、
Ｒ5は【０７６４】
【化２７２】
2008096760.tif 000256
【０７６５】
であり、Ｚは１，４−フェニレンであり、Ｘ1は−Ｌ1−Ａ1−であり、Ｘ2は−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−であり、Ｌ1は結合手であり、Ａ1は−ＮＨ−であり、Ｌ2は−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−であり、Ａ2は−ＮＨ−であり、Ｌ3は結合手である）の製造
前記化合物５５は、以下のスキーム３０に従い、製造した。【０７６６】
【化２７３】
2008096760.tif 000257
【０７６７】
前記化合物５４（１．３ｍｇ，１．２２μｍｏｌ）のＴＨＦ（５００μｌ）溶液にＴＨＦ中１ＭのＴＢＡＦ溶液（１．２２μｌ）とＴＨＦ中１Ｍの酢酸溶液（１．１７μｌ）を０℃で加え、２時間攪拌した。反応混合物はＣＨＣｌ3で抽出した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣を分取薄層シリカゲルクロマトグラフィー（ＣＨＣｌ3：ＭｅＯＨ＝１５：１）により精製して、標題の化合物５５を得た（１．２ｍｇ，９０％）。
ESI-MS (positive) m/z = 826.4 [(M+H)+]
【実施例２１】
【０７６８】
２−（２−（７−ジエチルアミノクマリン）−３−カルボニルアミノエトキシ）エチル（Ｅ，Ｅ）−４−オキソ−２−（（６−（Ｎ−（７−ニトロベンザ−２−オキサ−１，３−ジアゾール−４−イル）アミノ）ヘキサミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（2-(2-(7-diethylaminocoumarin)-3-carbonylaminoethoxy)ethyl (E,E)-4-Oxo-2-((6-(N-(7-nitrobenz-2-oxa-1,3-diazol-4-yl)amino)hexanamide)styryl)but-2-enoate）（化合物５６）（式（ＩＶ）において、Ｒ1が−ＣＨＯであり、Ｒ4は【０７６９】
【化２７４】
2008096760.tif 000258
【０７７０】
であり、
Ｒ5は【０７７１】
【化２７５】
2008096760.tif 000259
【０７７２】
であり、Ｚは１，４−フェニレンであり、Ｘ1は−Ｌ1−Ａ1−であり、Ｘ2は−Ｌ2−Ａ2−Ｌ3−であり、Ｌ1は結合手であり、Ａ1は−ＮＨ−であり、Ｌ2は−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−であり、Ａ2は−ＮＨ−であり、Ｌ3は結合手である）の製造
前記化合物５６は、以下のスキーム３１に従い、製造した。【０７７３】
【化２７６】
2008096760.tif 000260
【０７７４】
前記化合物５５（０．９ｍｇ，１．０９μｍｏｌ）のＣＨ2Ｃｌ2（２００μｌ）溶液にＰＤＣ（２ｍｇ，５．３２μｍｏｌ）を加えて１０分間攪拌した。反応液はそのままシリカゲルクロマトグラフィー（ＣＨＣｌ3中１％から１．５％ＭｅＯＨ）により精製して、標題の化合物５６を得た（６３０μｇ，７０％）。
ESI-MS (positive) m/z = 824.3 [(M+H)+]
【実施例２２】
【０７７５】
エチル（Ｅ，Ｅ）−４−ヒドロキシ−２−（４−（２−（７−ジエチルアミノクマリン−３−カルボキサミド）アセタミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl(E,E)-4-hydroxy-2-(4-(2-(7-diethylaminocumarin-3-carboxamido)acetamide)styryl)but-2-enoate）（化合物１７）（式（ＩＩ）において、Ｒ1が、−ＣＨ2ＯＨで表わされる基であり、
Ｒ2が、エチル基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０７７６】
【化２７７】
2008096760.tif 000261
【０７７７】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である）の製造
前記化合物１７は、以下のスキーム３２に従い、製造した。【０７７８】
【化２７８】
2008096760.tif 000262
【０７７９】
前記化合物５（０．２ｍｇ，０．６５μｍｏｌ）のＣＨ2Ｃｌ2（２００μＬ）溶液に、Ｃｏｕｍａｒｉｎ−ＯＳｕ（化合物１６）（０．２３ｍｇ，０．６５μｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応混合物を分取薄層クロマトグラフィーにより精製し、標題化合物１７を得た（０．２４ｍｇ，６８％）。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ５４８．３７［Ｍ＋Ｈ］＋
【実施例２３】
【０７８０】
エチル（Ｅ，Ｅ）−４−オキソ−２−（４−（２−（７−ジエチルアミノクマリン−３−カルボキサミド）アセタミド）スチリル）ブタ−２−エノエート（Ethyl(E,E)-4-oxo-2-(4-(2-(7-diethylaminocumarin-3-carboxamido)acetamide)styryl)but-2-enoate）（化合物１８）（式（ＩＩ）において、Ｒ1が、−ＣＨＯで表わされる基であり、
Ｒ2が、エチル基であり、
Ｒ4−Ｘ1−が、式【０７８１】
【化２７９】
2008096760.tif 000263
【０７８２】
で表わされる基であり、
Ｚが、１，４−フェニレン基である）の製造
前記化合物１７は、以下のスキーム３３に従い、製造した。【０７８３】
【化２８０】
2008096760.tif 000264
【０７８４】
前記化合物１７（０．５ｍｇ，０．６０μｍｏｌ）のＤＭＦ（５０μＬ）およびＣＨ2Ｃｌ2（５０μＬ）混合溶液に、ＩＢＸ−ｒｅｓｉｎ（化合物１４）（０．９７ｍｇ，０．８７μｍｏｌ）を加え、室温で１時間おだやかに攪拌した。反応混合物を濾過し、濾液のＣＨ2Ｃｌ2を減圧濃縮して標題化合物１８のＤＭＦ溶液を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ５４６．３１［Ｍ＋Ｈ］＋
【実施例２４】
【０７８５】
式（ＩＩ）で表わされる化合物による分子の標識化
実施例２で製造した化合物７を用いて、ソマトスタチンの標識化を確認した。前記標識化の方法については以下のスキーム３４参照。【０７８６】
【化２８１】
2008096760.tif 000265
【０７８７】
２２．１  ガドリニウム（β）−１０−（２−（２−（４−（（１Ｅ，３Ｅ）−３−エトキシカルボニル−５−オキソペンタ−１，３−ジエニル）フェニル）−２−オキソエチルアミノ）−２−オキソエチル）−１，４，７，１０−テトラアザシクロドデカン−１，４，７−トリアセテート（gadolinium(β)-10-(2-(2-(4-((1E,3E)-3-ethoxycarbony-5-oxopenta-1,3,-dienyl)-phenyl)-2-oxoethyl-amino)-2-oxoethyl)-1,4,7,10-tetraazacyclododecane-1,4,7-triacetate）（化合物１０）の製造
実施例２で製造した化合物７（０．５ｍｇ，０．７２μｍｏｌ）の蒸留水（０．１ｍＬ）溶液に、０．１ＭのＧｄＣｌ3溶液を加えた後１分間攪拌し、その後減圧濃縮した。得られた残渣をＤＭＦ（０．０３ｍＬ）およびＣＨ2Ｃｌ2（０．１ｍＬ）の混合溶媒に溶解させ、得られた溶液にデス−マーチン・ペルヨージナン試薬（０．６ｍｇ，１．４μｍｏｌ）を加え、その後室温で２０分間攪拌した。反応混合物をＬＨ２０（ＣＨＣｌ3：ＭｅＯＨ：Ｈ2Ｏ＝１：１：０．１）を用いたゲルろ過により精製して、標題の化合物１０のＤＭＦ溶液（２５μＬ）を得た。
ESI-MS : m/z 844.15, [M+H]+。【０７８８】
２２．２  Ｇｄ−ＤＯＴＡ−２−アミノ−６−（２−（４−（２−アミノアセタミド）フェニル）−４−（エトキシカルボニル）−ε−Ｎ−ピリジン−１（２Ｈ）−イル）−リジン−ソマトスタチン（Gd-DOTA-2-amino-6-(2-(4-(2-aminoacetamido)phenyl)-4-(ethoxycarbonyl)-ε-N-pyridin-1(2H)-yl)-Lysine-somatostatin）（化合物１１）の製造
ソマトスタチン（０．０３２ｍｇ，１９ｎｍｏｌ）を大塚蒸留水（２８μＬ）に溶かし、その溶液へ前記化合物１０（０．５９μｍｏｌ）のＤＭＦ溶液（２５μＬ）を加え、ボルテックスジェネレータにかけた。反応混合物を室温で３０分放置した後、凍結乾燥して標題の化合物１１を得た。
MALDI-TOF-MS : m/z 2475.7 [M+H]+
【実施例２５】
【０７８９】
式（ＩＩ）で表わされる化合物による分子の標識化
実施例３で製造した化合物８を用いて、ヒト血清アルブミン（ＨＳＡ）の標識化を確認した。前記標識化の方法については以下のスキーム３５参照。【０７９０】
【化２８２】
2008096760.tif 000266
【０７９１】
２３．１  ＤＯＴＡ−２−アミノ−６−（２−（４−（２−アミノアセタミド）フェニル）−４−（エトキシカルボニル）−ε−Ｎ−ピリジン−１（２Ｈ）−イル）−リジン−ＨＳＡ（DOTA-2-amino-6-(2-(4-(2-aminoacetamido)phenyl)-4-(ethoxycarbonyl)-ε-N-pyridin-1(2H)-yl)-Lysine-HSA）（化合物１９）および57Ｃｏ−ＤＯＴＡ−２−アミノ−６−（２−（４−（２−アミノアセタミド）フェニル）−４−（エトキシカルボニル）−ε−Ｎ−ピリジン−１（２Ｈ）−イル）−リジン−ＨＳＡ（57Co-DOTA-2-amino-6-(2-(4-(2-aminoacetamido)phenyl)-4-(ethoxycarbonyl)-ε-N-pyridin-1(2H)-yl)-Lysine-HSA）（化合物２０）の製造
ＨＳＡ（０．５ｍｇ，７．５ｎｍｏｌ）をＰＢＳバッファー（１．５ｍＬ）に溶かし、５μＭのＨＳＡ溶液を調製した。前記ＨＳＡ溶液の３２０μＬ（１．６ｎｍｏｌ）をそれぞれ３つのエッペンドルフチューブに加えた。前記化合物８のＤＭＦ溶液（３．３８×１０-2Ｍ）の１．２μＬ（４０ｎｍｏｌ）、２．３μＬ（８０ｎｍｏｌ）および１１．８μＬ（０．４μｍｏｌ）をそれぞれ前記エッペンドルフチューブに加えた。５μＭのＨＳＡ溶液の１６０μＬ（０．８ｎｍｏｌ）を前記エッペンドルフチューブにそれぞれ加え、前記化合物８のＤＭＦ溶液（３．３８×１０-2Ｍ）の１１．８μＬ（０．４μｍｏｌ）をそれぞれに加えた。それぞれの反応混合物を室温で３０分間放置した。ミリポール製分子量３万カットフィルターを使用して精製し、その後濃縮した。それぞれのエッペンドルフチューブ中の内容物についてタンパク質濃度を測定した後、前記内容物の５μＬを別のエッペンドルフチューブに加え、０．２５Ｍ酢酸アンモニウム緩衝液（１５μＬ）および４００μＭの57Ｃｏ溶液（１０μＬ）をそこへ加えた。反応混合物を４１℃で３時間インキュベートした。前記反応混合物へ０．０１Ｍの１，４，７，１０−テトラアザシクロドデカン−１，４，７，１０−テトラ酢酸（1,4,7,10-tetraazacyclododecane-1,4,7,10-tetraacetic acid）（ＤＯＴＡ）溶液の１０μＬを加え、４１℃で１０分間インキュベートした。シリカゲルプレートにそれぞれの反応混合物を１μＬ加え、ＭｅＯＨ：Ｈ2Ｏ＝１：１の展開溶媒で展開した。前記シリカゲルプレートを上下半分に切断し、それぞれのプレートを用いてガンマ線カウンターでガンマ線をカウントした。その結果を図１に示す。【０７９２】
前記化合物８は、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物であり、前記ＨＳＡはアミノ基を含有する化合物である。図１に示すように前記化合物８はソマトスタチンと速やかに反応し、ソマトスタチンを前記化合物８で標識化することが可能であることが確認できた。
【実施例２６】
【０７９３】
式（ＩＩ）で表わされる化合物による分子の標識化
実施例３で製造した化合物８を用いて、緑色蛍光タンパク質（Green Fluorescence Protein）（抗ＧＦＰ抗体）の標識化を確認した。前記標識化の方法については以下のスキーム３６参照。【０７９４】
【化２８３】
2008096760.tif 000267
【０７９５】
抗ＧＦＰ抗体（２０μｇ／μＬ，ＰＢＳ緩衝液，ナカライテスク株式会社製）の溶液２７μＬをＰＢＳ緩衝液（８１μＬ）へ加えて希釈した。抗ＧＦＰ希釈溶液（３．３μＭ，８μＬ，２．６×１０-11ｍｏｌ）を４つのエッペンドルフチューブにそれぞれ加え、化合物８を抗ＧＦＰ抗体に対して１０当量（２４μＭ，５μＬ，２．６×１０-10ｍｏｌ）、５０当量（０．１２ｍＭ，５μＬ，１．３×１０-9ｍｏｌ）、２５０当量（０．６１ｍＭ，５μＬ，６．６×１０-9ｍｏｌ）および１２５０当量（１２ｍＭ，２．７μＬ，３．３×１０-8ｍｏｌ）加えた。前記混合物を１０分間室温で放置した後、ＧＦＰ抗原（大腸菌より培養、ＰＢＳ緩衝液、１０００μＬ）を加え、４℃で１時間反応させた。その後、前記混合物にプロテインＧ（５００μｇ，ＧＥヘルスケア社製）を加え、同温で３０分間放置した。その後、前記混合物を免疫沈降により抗ＧＦＰ標識体（化合物２４）を精製した。それぞれのＧＦＰ蛍光測定（ｅｘｃｉｔａｔｉｏｎ：３９５ｎｍ，ｅｍｉｓｓｉｏｎ：５０９ｎｍ）を行った。その結果を図２に示す。【０７９６】
前記化合物８は、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物であり、前記抗ＧＦＰ抗体はアミノ基を含有する化合物である。図２に示すように前記化合物８は前記抗ＧＦＰ抗体と速やかに反応し、前記抗ＧＦＰ抗体を前記化合物８で標識化することが可能であることが確認できた。
【実施例２７】
【０７９７】
in vivoでの式（ＩＩ）で表わされる化合物の生体内分布の測定
実施例３で製造した化合物８を用いて、in vivoにおけるＡＧＣＫＮＦＦＷＫＴＦＴＳＣ（ソマトスタチン）の分布を測定できることを確認した。前記測定方法については以下のスキーム３７参照。【０７９８】
【化２８４】
2008096760.tif 000268
【０７９９】
２５．１  ＤＯＴＡ−２−アミノ−６−（２−（４−（２−アミノアセタミド）フェニル）−４−（エトキシカルボニル）−ε−Ｎ−ピリジン−１（２Ｈ）−イル）−リジン−ソマトスタチン（DOTA-2-amino-6-(2-(4-(2-aminoacetamido)phenyl)-4-(ethoxycarbonyl)-ε-N-pyridin-1(2H)-yl)-Lysine-somatostatin）（化合物９）の製造
ソマトスタチン（０．１７ｍｇ、０．１０μｍｏｌ）の大塚蒸留水（１５４μＬ）溶液に、実施例３で製造した前記化合物８のＤＭＦ溶液（４０μＬ）を加え、ボルテックスジェネレータにかけた。反応混合物を室温で３０分放置した後、凍結乾燥して標題の化合物９を得た。
MALDI-TOF-MS : m/z 2307.4 [M]+。
２５．２  68Ｇａ−ＤＯＴＡ−２−アミノ−６−（２−（４−（２−アミノアセタミド）フェニル）−４−（エトキシカルボニル）−ε−Ｎ−ピリジン−１（２Ｈ）−イル）−リジン−ソマトスタチン（68Ga-DOTA-2-amino-6-(2-(4-(2-aminoacetamido)phenyl)-4-(ethoxycarbonyl)-ε-N-pyridin-1(2H)-yl)-Lysine-somatostatin）（化合物４１）の製造
68Ｇａ／68Ｇｅジェネレーターから溶出し、精製した68ＧａＣｌ3の１Ｎ塩酸溶液（４００μＬ）を４ＮのＮａＯＨ水溶液で中和した後、前記化合物９に加えた。４０℃で１０分インキュベートした後、ラット（ウィスターラット８Ｗ、オス、２３５ｇ）に注射した（１．６８  ｍＣｉ）。ラットの尾の静脈にプロポフォールを４０ｍｇ／ｋｇの速度で投与し続けて鎮静させておき、ＰＥＴトレーサーを前記ラットの尾の静脈に投与した。そのラットのＰＥＴを画像を図３に示す。ＰＥＴイメージング画像は、投与後３分から７分の積算値を示した。【０８００】
図３に示すように、ラットの心臓にソマトスタチンが分布していることが確認できた。
【実施例２８】
【０８０１】
式（ＩＩ）で表わされる化合物による分子の標識化
実施例５で製造した化合物１５を用いて、抗緑色蛍光タンパク質（anti-GFP(Green Fluorescence Protein)（抗ＧＦＰ抗体））の標識化を確認した。前記測定方法については以下のスキーム３８参照。【０８０２】
【化２８５】
2008096760.tif 000269
【０８０３】
抗ＧＦＰ抗体（２０μｇ／μｌ，ＰＢＳ緩衝液，ナカライテスク株式会社）の２７μＬに、ＰＢＳ緩衝液（８１μＬ）を加え、希釈した。得られた抗ＧＦＰ希釈溶液（３．３μＭ，８μＬ，２．６×１０-11ｍｏｌ）を４つのエッペンドルフチューブにそれぞれ加え、前記化合物１５を抗ＧＦＰ抗体に対して１０当量（２４μＭ，５μＬ，２．６×１０-10ｍｏｌ）、５０当量（０．１２ｍＭ，５μＬ，  １．３×１０-9ｍｏｌ）、２５０当量（０．６１ｍＭ，５μＬ，６．６×１０-9ｍｏｌ）および１２５０当量（１２ｍＭ，２．７μＬ，３．３×１０-8ｍｏｌ）加えた。前記混合物を３０分間室温で放置した後、ＧＦＰ抗原（大腸菌より培養，ＰＢＳ緩衝液，１０００μＬ）を加え、４℃で１時間反応させた。その後、前記混合物にプロテインＧ（５００μｇ，ＧＥヘルスケア社製）を加え、同温で３０分間放置した。その後、前記混合物を免疫沈降により抗ＧＦＰ標識体ＴＡＭＲＡ−ＧＦＰ（化合物２２）を精製した。それぞれ化合物２２のＧＦＰ蛍光測定（ｅｘｃｉｔａｔｉｏｎ：３９５ｎｍ，ｅｍｉｓｓｉｏｎ：５０９ｎｍ）、化合物２１の蛍光測定（ｅｘｃｉｔａｔｉｏｎ：５２２ｎｍ，ｅｍｉｓｓｉｏｎ：５７４ｎｍ）を行った。その結果を図４に示す。【０８０４】
図４に示すように、前記化合物１５は、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物であり、前記抗ＧＦＰ抗体はアミノ基を含有する化合物である。図４に示すように前記化合物１５は前記抗ＧＦＰ抗体と速やかに反応し、前記抗ＧＦＰ抗体を前記化合物１５で標識化することが可能であることが確認できた。
【実施例２９】
【０８０５】
式（ＩＩ）で表わされる化合物による分子の標識化
実施例５で製造した化合物１５を用いて、ヒト血清アルブミン（ＨＳＡ）の標識化を確認した。前記測定方法については以下のスキーム３９参照。【０８０６】
【化２８６】
2008096760.tif 000270
【０８０７】
ＨＳＡ（１．５ｍｇ，０．２２ｎｍｏｌ）をＰＢＳ緩衝液（１０００μＬ）に溶解させ、その溶液（０．２２μＭ，８μＬ，１．８×１０-10ｍｏｌ）を６つのエッペンドルフチューブにそれぞれ加え、前記化合物１５をＨＳＡに対して１０当量（１．６ｍＭ，０．８２μＬ，１．３×１０-9ｍｏｌ）、２０当量（１．６ｍＭ，１．６μＬ，２．６×１０-9ｍｏｌ）、５０当量（１．６ｍＭ，４．１μＬ，６．６×１０-9ｍｏｌ）、１００当量（１６ｍＭ，０．８２μＬ，１．３×１０-8ｍｏｌ）、２５０当量（１６ｍＭ，２．０μＬ，３．２×１０-8ｍｏｌ）および５００当量（１６ｍＭ，４．０μＬ，６．４×１０-8ｍｏｌ）加えた。前記混合物を３０分間室温で放置した後、ＮＡＰカラム（ＧＥヘルスケア社製）を用いてゲルろ過し、プロテインＧ（１０μＬ，ＧＥヘルスケア社製）およびＰＢＳ緩衝液（１００μＬ）を加え、４０℃で３０分間放置した。その後、前記混合物を免疫沈降によりＨＳＡ標識体ＴＡＭＲＡ−２−アミノ−６−（２−（４−（２−アミノアセタミド）フェニル）−４−（エトキシカルボニル）−ε−Ｎ−ピリジン−１（２Ｈ）−イル）−リジン−ＨＳＡ（TAMRA-2-amino-6-(2-(4-(2-aminoacetamido)phenyl)-4-(ethoxycarbonyl)-ε-N-pyridin-1(2H)-yl)-Lysine-HSA）（化合物２５）を精製した。それぞれ化合物２５の蛍光測定（ｅｘｃｉｔａｔｉｏｎ：５２２ｎｍ，ｅｍｉｓｓｉｏｎ：５７６ｎｍ）を行った。その結果を図５に示す。【０８０８】
図５に示すように、前記化合物１５は、Ｒ1が−ＣＨＯで表わされる基である式（ＩＩ）で表わされる化合物であり、前記ＨＳＡはアミノ基を含有する化合物である。図５に示すように前記化合物１５は前記ＨＳＡと速やかに反応し、前記ＨＳＡを前記化合物１５で標識化することが可能であることが確認できた。
【実施例３０】
【０８０９】
式（ＩＩ）で表わされる化合物による分子の標識化
実施例１１で製造した化合物３９を用いて、ＥＬＹＥＮＫＰＲＲＰＹＩＬ（ニューロテンシン）の標識化を確認した。前記測定方法については以下のスキーム４０参照。【０８１０】
【化２８７】
2008096760.tif 000271
【０８１１】
ニューロテンシン（０．３２ｍｇ，０．２ｎｍｏｌ）の水溶液（１００μＬ）に化合物３９（１００μｇ、０．１９μｍｏｌ）のジオキサン溶液（５μｌ）を加え、室温で２時間放置して、化合物４０を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍｚ＝１０９８［Ｍ＋ＮＨ4+＋Ｈ］2+
【実施例３１】
【０８１２】
式（ＩＩＩ）で表わされる化合物による分子の標識化
実施例１４で製造した化合物５０を用いて、ヒト血清アルブミン（ＨＳＡ）の標識化を確認した。前記測定方法については以下のスキーム４１参照。【０８１３】
【化２８８】
2008096760.tif 000272
【０８１４】
ＨＳＡをリン酸緩衝液（０．１Ｍ、ｐＨ７．４）に溶解させて濃度を５．０ｘ１０-5Ｍに調整した。その溶液２００μｌにリン酸緩衝液（０．１Ｍ、ｐＨ７．４）を２０μｌ加えて希釈し、４０℃で５分間プレインキュベートした。その混合物に化合物５０（５０μｇ，０．１μｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（２０μｌ）溶液を加え、４０℃で１時間インキュベートした。反応液に１％酢酸３００μｌを加えて反応をクエンチし、反応液をゲル濾過で精製し、凍結乾燥した。【０８１５】
前記化合物５０とＨＳＡとの反応生成物に対して、４２０ｎｍの励起光を照射して蛍光スペクトルを測定すると、クマリンに特徴的な蛍光である４６０ｎｍ付近の強い蛍光が観測された。その結果、化合物５７の生成を確認した。
【実施例３２】
【０８１６】
式（ＩＶ）で表わされる化合物による分子の標識化
実施例２１で製造した化合物５６を用いて、ヒト血清アルブミン（ＨＳＡ）の標識化を確認した。前記測定方法については以下のスキーム４２参照。【０８１７】
【化２８９】
2008096760.tif 000273
【０８１８】
ＨＳＡをリン酸緩衝液（０．１Ｍ、ｐＨ７．４）に溶解させて濃度を５．０ｘ１０-5Ｍに調整した。その溶液２００μｌにリン酸緩衝液（０．１Ｍ、ｐＨ７．４）を２０μｌ加えて希釈し、４０℃で５分間プレインキュベートした。その混合物に化合物５６（５０μｇ，０．１μｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（２０μｌ）溶液を加え、４０℃で１時間インキュベートした。反応液に１％酢酸３００μｌを加えて反応をクエンチし、反応液をゲル濾過で精製し、凍結乾燥した。【０８１９】
前記化合物５６とＨＳＡとの反応生成物に対して、４２０ｎｍの励起光を照射して蛍光スペクトルを測定すると、クマリンに特徴的な蛍光である４６０ｎｍ付近の強い蛍光が観測された。その結果、化合物５８の生成を確認した。
【産業上の利用可能性】
【０８２０】
本発明のヘキサトリエン−β−カルボニル化合物は、例えばＰＥＴ用として有用である。
【図面の簡単な説明】
【０８２１】
【図１】図１は、実施例２５におけるＨＳＡの導入を示すグラフである。
【図２】図２は、実施例２６における抗体への導入を示すグラフである。
【図３】図３は、実施例２７におけるPET画像である。
【図４】図４は、実施例２８における抗体への導入を示すグラフである。
【図５】図５は、実施例２９における抗体への導入を示すグラフである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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2008096760.tif 000299
2008096760.tif 000300
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