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　特願２０１５−５０１５９０「有機発光素子」拒絶査定不服審判事件〔平成２５年　９月２６日国際公開，ＷＯ２０１３／１４１６７４，平成２７年　５月１８日国内公表，特表２０１５−５１４２９３，請求項の数（１４）〕について，次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は，特許すべきものとする。
【理　由】
第１　事案の概要
　１　手続等の経緯
　特願２０１５−５０１５９０号（以下「本件出願」という。）は，２０１３年（平成２５年）３月２５日（パリ条約による優先権　２０１２年（平成２４年）３月２３日，同年７月３１日　韓国）を国際出願日とする出願であって，その手続等の経緯の概要は，以下のとおりである。
平成２７年　９月２４日付け：拒絶理由通知書
平成２８年　１月２９日提出：意見書
平成２８年　１月２９日提出：手続補正書
平成２８年　６月２９日付け：拒絶理由通知書
平成２８年１１月２８日提出：意見書
平成２８年１１月２８日提出：手続補正書
平成２９年　４月２８日付け：拒絶査定
平成２９年　９月　８日提出：審判請求書
平成２９年　９月　８日提出：手続補正書
平成３０年　６月　５日付け：拒絶理由通知書
平成３０年　９月　７日提出：意見書
平成３０年　９月　７日提出：手続補正書
　
　２　原査定の概要
　平成２９年４月２８日付け拒絶査定の理由は，概略，本件出願の請求項１〜請求項１７に係る発明は，その優先権主張の日（以下「優先日」という。）前に日本国内又は外国において頒布された刊行物である引用例１に記載された発明に基づいて，その優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであるから，特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない，というものである。
引用例１：特開２００６−２８６６１６号公報
　なお，拒絶査定においては，周知技術等を示す引用例として，特開２００６−１５７０２２号公報，特表２００５−５１００３４号公報，国際公開第２０１１／１２６０９７号，特開２００６−７４０２２号公報，特開２００６−１２８１００号公報，特開平１１−２６１５６号公報及び特開２０１１−８６３８５号公報も挙げられている。
　
　３　当合議体の拒絶の理由の概要
　平成３０年６月５日付け拒絶理由通知書で通知した拒絶の理由（以下「当合議体の拒絶の理由」という。）は，概略，本件出願の請求項１〜請求項１６に係る発明は，その優先日前に日本国内又は外国において電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった引用文献１に記載された発明に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない，というものである。
引用文献１：国際公開第２０１１／０９３１２０号
　なお，拒絶の理由においては，いわゆる副引用例として，特開平１０−２７０１７２号公報（以下「引用文献２」という。）も挙げられている。
　
　４　本願発明
　本件出願の請求項１〜請求項１４に係る発明は，平成３０年９月７日提出の手続補正書によって補正された特許請求の範囲の請求項１〜請求項１４に記載された事項によって特定されるとおりの，以下のものである。
「【請求項１】
　電子注入性電極層と正孔注入性電極層と，
　前記電子注入性電極層と正孔注入性電極層との間に存在し，屈折率が１．７以下の低屈折有機層及び発光層を含む有機積層構造と，
　前記正孔注入性電極層または電子注入性電極層の前記有機積層構造に隣接する面とは反対側面に当接するかまたは隣接して形成されている散乱層と，
　前記散乱層の上部に形成されている平坦層と，を含み，
　前記発光層は，屈折率が１．７〜１．８の電子受容性有機化合物を含み，
　前記低屈折有機層は，前記電子受容性有機化合物および屈折率が１．６６以下の低屈折材料を含み，屈折率が前記発光層よりも小さく，厚さが７０ｎｍ以上であって，
　前記低屈折有機層において，前記電子受容性有機化合物１００重量部に対して１５０重量部以下で前記低屈折材料が含まれ，
　前記平坦層は，屈折率が１．８〜３．５である（ただし，前記平坦層の屈折率が１．８の場合を除く。），有機発光素子。
　
【請求項２】
　基材層をさらに含み，前記正孔注入性電極層，前記有機積層構造及び前記電子注入性電極層が前記基材層上に順に形成されている，請求項１に記載の有機発光素子。
　
【請求項３】
　前記散乱層が前記正孔注入性電極層と前記基材層との間に存在する，請求項２に記載の有機発光素子。
　
【請求項４】
　前記正孔注入性電極層が透明電極層であり，前記電子注入性電極層が反射電極層である，請求項２または３に記載の有機発光素子。
　
【請求項５】
　前記低屈折有機層は，前記電子注入性電極層と当接して形成されている，請求項１から４のいずれか１項に記載の有機発光素子。
　
【請求項６】
　前記低屈折材料は，フッ化リチウム（ＬｉＦ），フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２），フッ化カリウム（ＫＦ），フッ化ナトリウム（ＮａＦ），フッ化アルミニウム（ＡｌＦ２），フッ化バリウム（ＢａＦ２），フッ化ベリリウム（ＢｅＦ２），フッ化カドミウム（ＣｄＦ２），フッ化カルシウム（ＣａＦ２），フッ化セシウム（ＣｓＦ），フッ化トリウム（ＴｈＦ４），フッ化イットリウム（ＹＦ３），塩化鉄（ＦｅＣｌ２），酸化バナジウム（Ｖ２Ｏ５）またはＮａ２Ａｌ３Ｆ１４リン（Ｃｈｉｏｌｏｔｅ）である，請求項１から５のいずれか１項に記載の有機発光素子。
　
【請求項７】
　前記散乱層は，屈折率が１．０〜３．５であり，平均粒径が５０ｎｍ〜２０，０００ｎｍである散乱粒子を含む，請求項１から６の何れか一項に記載の有機発光素子。
　
【請求項８】
　前記散乱層は，凹凸構造を含む，請求項１から７の何れか一項に記載の有機発光素子。
　
【請求項９】
　前記平坦層は，平均粒径が１ｎｍ〜１００ｎｍの高屈折粒子を含む，請求項１から８の何れか一項に記載の有機発光素子。
　
【請求項１０】
　前記高屈折粒子は，ルチル型酸化チタンである，請求項９に記載の有機発光素子。
　
【請求項１１】
　前記散乱層の投影面積は，前記正孔注入性電極層の投影面積に比べて小さく，前記正孔注入性電極層は，前記散乱層の上部及び前記散乱層が形成されていない前記基材層の上部の両方に形成されている，請求項２に記載の有機発光素子。
　
【請求項１２】
　前記有機積層構造と前記電子注入性電極層を保護する封止構造をさらに含み，前記封止構造は，下部に前記散乱層が形成されていない前記正孔注入性電極層の上部に付着している，請求項１１に記載の有機発光素子。
　
【請求項１３】
　前記封止構造は，ガラスカンまたは金属カンであるか，または前記有機積層構造と前記電子注入性電極層の全面を覆っているフィルムである，請求項１２に記載の有機発光素子。
　
【請求項１４】
　請求項１から１３の何れか一項に記載の有機発光素子を含む照明。」
　
第２　当合議体の判断
　１　引用文献１の記載及び引用発明
　(1) 引用文献１の記載
　当合議体の拒絶の理由で引用され，本件出願の優先日前に電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった引用文献１には，以下の記載がある。なお，下線は引用発明の認定や判断等において活用した箇所を示す。
　ア　「技術分野
[0001]　本発明は，有機エレクトロルミネッセンス素子とその素子を用いた照明装置に関する。
背景技術
[0002]　発光型の電子ディスプレイデバイスとして，エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）がある。
…(省略)…
発明が解決しようとする課題
[0012]　本発明は，上記課題に鑑みてなされたものであり，その目的は，光取り出し効率が大幅に向上し，かつ観察角度による色味の変化や輝度のばらつきが小さいエレクトロルミネッセンス素子と，その素子を用いた照明装置を提供することにある。」
　
　イ　「課題を解決するための手段
[0013]　本発明者らは，上記課題について鋭意検討した結果，屈折率１．６５以上，１．８０以下の有機無機複合材料（以下複合材料と称する）中に平均粒径０．１μｍ以上，０．７μｍ以下の光散乱性フィラーを含有する光散乱層を形成した透明基板上に，発光波長によって異なる配光輝度特性を有する有機発光層を形成することにより，従来技術では困難であった高い光取り出し効率と観察角度による色味や輝度の変化の抑制を両立できることを見出した。
[0014]　従って，本発明は以下の構成により達成される。
[0015]　１．透明基板上に透明導電層，電子輸送層を有する有機エレクトロルミネッセンス層および対向電極が順次積層された有機エレクトロルミネッセンス素子において，該透明基板は少なくとも片側の面に，平均粒径１ｎｍ〜２０ｎｍの酸化物ナノ粒子と樹脂材料前駆体からなる有機無機複合材料であって，かつ，硬化後の屈折率が１．６５以上１．８０以下になる該有機無機複合材料に，平均粒径０．１μｍ〜０．７μｍの光散乱性フィラーを添加した塗布液を塗布・乾燥・硬化した光散乱層を有し，かつ，該電子輸送層の膜厚が，４０〜２００ｎｍであることすることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
…(省略)…
[0021]　［透明基板］
…(省略)…
[0022]　透明基材としては，高い光透過性を有していればそれ以外に特に制限はない。
…(省略)…
[0024]　本発明において透明樹脂フィルムの屈折率は，１．５０以上であることが好ましく，さらに１．６０以上，１．８０以下であることが特に好ましい。
…(省略)…
[0028]　
光散乱層は，透明基材との屈折率差が小さいことが良く，屈折率１．６５以上，１．８０以下の複合材料を用いることが好ましく，さらに屈折率１．６５以上，１．７５以下がより好ましい。
[0029]　本発明で言う複合材料とは，有機材料である樹脂と酸化物ナノ粒子等の無機材料が複合化されたものをいい，樹脂中に酸化物ナノ粒子が分散した，いわゆるポリマーナノコンポジット材料やポリマーハイブリッド材料が好ましく用いられる。
…(省略)…
[0031]　本発明に係る複合材料に用いる樹脂としては特に制限はないが，層形成時のコストおよび利便性を考えた場合には硬化性樹脂を用いることが好ましい。
…(省略)…
[0034]　《酸化物ナノ粒子》
　本発明の複合材料に用いられる酸化物ナノ粒子は，該複合材料の屈折率を目的とする値に調整できるものであれば特に制限はなく，使用する波長領域において吸収，発光，蛍光等が生じないものを適宜選択して使用することが好ましい。
…(省略)…
[0054]　《光散乱性フィラー》
　本発明は，光散乱層として屈折率１．６５以上，１．８０以下の酸化物ナノ粒子及び樹脂からなる複合材料中に，平均粒径０．１μｍ以上，０．７μｍ以下の光散乱性フィラーを含有することを特徴の一つとする。
…(省略)…
[0061]　また，
本発明の光散乱層を，透明基材に対し光の入射側の面に形成する場合には，その上に透明導電層が形成されるため，光散乱層の上に平滑化層を形成することが好ましい。平滑化層としては，その表面に透明導電層や有機発光層を形成した際に短絡が生じない程度の平滑性が得られれば良く，一般的な樹脂を使用することができるが，光散乱層との接着性の点や屈折率差がないことが好ましいため，光散乱層のマトリクス樹脂を用いることが好ましい。
[0062]　《光散乱層の形成》
　本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子に用いられる光散乱層は，透明基材上に塗布等の手段により形成される。
…(省略)…
[0064]　〔有機エレクトロルミネッセンス素子の層構成〕
　本発明においては，前記の高屈折率な光散乱層を有する透明基板上に有機エレクトロルミネッセンス層を形成することを特徴の一つとする。
[0065]　ここでいう有機エレクトロルミネッセンス層とは，陽極バッファー層，正孔輸送層，発光層，正孔阻止層，電子輸送層，陰極バッファー層の全部または一部からなる，透明導電層と対向電極の間に形成された層をいう。
…(省略)…
[0071]　本発明の透明導電層とは，透明かつ導電性を有する化合物からなり，電極として作用する層をいう。
…(省略)…
[0072]　
本発明において，有機エレクトロルミネッセンス層で発光した光を，光散乱層に効率良く移動させるためには，透明導電層の屈折率が１．７に近いことが好ましい。従って，本発明の透明導電層は，銀ナノワイヤ等の金属ナノワイヤを導電性高分子材料とともに塗布して形成されたものが良く，屈折率が１．６以上，１．８以下であることが好ましく，膜厚が０．１μｍ以上，０．５μｍ以下であることが好ましい。
…(省略)…
[0087]　《発光層》
　本発明に係る発光層は，電極または電子輸送層，正孔輸送層から注入されてくる電子及び正孔が再結合して発光する層であり，発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接層との界面であってもよい。
[0088]　本発明に係る発光層は，含まれる発光材料が前記要件を満たしていれば，その構成には特に制限はない。
…(省略)…
[0117]　《注入層：電子注入層，正孔注入層》
　注入層は必要に応じて設け，電子注入層と正孔注入層があり，上記の如く陽極と発光層または正孔輸送層の間，及び陰極と発光層または電子輸送層との間に存在させてもよい。
…(省略)…
[0139]　《対向電極》
　本発明の対向電極としては，前記透明導電層に対向する電極をいう。
…(省略)…
[0141]　〔有機エレクトロルミネッセンス素子の作製方法〕
　本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は，透明基材上に複合材料層，透明導電層，有機エレクトロルミネッセンス層，対向電極を順次形成することにより作製できる。
…(省略)…
[0150]　〔用途〕
　本発明に係る面発光体，及び発光パネルは，表示デバイス，ディスプレイ，各種発光光源として用いることができる。
…(省略)…
[0151]　〔照明装置〕
　本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス材料は，また，照明装置として，実質白色の発光を生じる有機ＥＬ素子に適用できる。」
　
　ウ　「実施例
[0158]　以下，実施例を挙げて本発明を説明するが，本発明はこれに限定されない。
[0159]　実施例１
　《複合材料（有機無機複合材料）１の作製》
…(省略)…
[0164]　（樹脂中への粒子分散）
　硬化性樹脂モノマー（フルオレンアクリレート）７０ｍｌと，上記表面処理済ジルコニア分散液（所望の屈折率となる量）３０ｍｌを混合し，重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ１８４を０．４ｇ添加して溶解し複合材料１を得た。
[0165]　（複合材料の評価）
　得られた複合材料１を，平滑なガラス基板上に乾燥膜厚１μｍになるように塗布し，紫外線を照射して硬化させ，薄膜層を形成した試料を作製した。
…(省略)…
[0169]　《複合材料４の作製，評価》
　複合材料１の作製方法と同様にして，チタニアナノ粒子が分散された複合材料４を作製した。
…(省略)…
[0170]　《複合材料５の作製，評価》
　
複合材料４の作製方法において，チタニアナノ粒子の添加量を調整し，複合材料５を作製した。得られたチタニアナノ粒子が分散された樹脂モノマー溶液を平滑なガラス基板上に乾燥膜厚１μｍになるように塗布し，紫外線を照射して硬化させ，複合材料１と同様の方法で評価を行った。その結果，屈折率は１．８０であり，分散されたチタニアナノ粒子の平均粒径は，１８ｎｍであった。
…(省略)…
[0185]　《透明基板１２の作製》
　
複合材料５にシリカ粒子ＫＥ−Ｐ３０（平均粒径０．３μｍ）を２０質量％添加後，超音波分散を行い，光散乱性フィラーを含有した樹脂溶液５Ａを作製し，これを厚さ１２５μｍの二軸延伸ＰＥＮフィルム（帝人デュポン社製；屈折率１．７５）の片面に乾燥膜厚が５μｍになるように塗布し，紫外線を照射して硬化させた。その上に，さらに複合材料５を平滑化層として乾燥膜厚が４μｍになるように塗布し，紫外線を照射して硬化させた。その後，ＰＥＮフィルムの反対側の面に，複合材料５を乾燥膜厚が４μｍになるように塗布し，紫外線を照射して硬化させた。
[0186]　
《有機ＥＬ素子１の作製》
　
透明基板１の片面にＩＴＯ（インジウムチンオキシド；屈折率１．８５）を１００ｎｍ製膜し，パターニングを行った。
[0187]…(省略)…正孔輸送層を設けた。別途用意した基板にて，同条件にて塗布を行い測定したところ，膜厚は２０ｎｍであった。
[0188]…(省略)…発光層を設けた。別途用意した基板にて，同条件にて塗布を行い測定したところ，膜厚は４０ｎｍであった。
…(省略)…
[0189]…(省略)…電子輸送層を設けた。別途用意した基板にて，同条件にて塗布を行い測定したところ，膜厚は３０ｎｍであった。
…(省略)…
[0191]　先ず，フッ化カリウムの入った抵抗加熱ボートに通電し加熱し，基板上にフッ化カリウムからなる電子注入層を３ｎｍ設けた。続いて，アルミニウムの入った抵抗加熱ボートに通電加熱し，蒸着速度１〜２ｎｍ／秒でアルミニウムからなる膜厚１００ｎｍの陰極を設けた。
…(省略)…
[0194]　
《有機ＥＬ素子２の作製》
　
有機ＥＬ素子１の作製と同様の方法により，ＩＴＯ透明導電層，有機エレクトロルミネッセンス層，陰極を形成した。
…(省略)…
[0197]　
《有機ＥＬ素子５〜１４の作製》
　
透明基板３〜１２の表面に，有機ＥＬ素子２の作製と同様の方法により，ＩＴＯ透明導電層，有機エレクトロルミネッセンス層，陰極，光取出し部材を形成し，有機ＥＬ素子５〜１４を作製した。
…(省略)…
[0203]表２
[0204]　表２より，本発明の構成である有機エレクトロルミネッセンス素子は，外部取り出し量子効率が高く，しかも観察角度による輝度および色変化が小さく，白色照明として優れていることが分かる。」
　
　エ　「特許請求の範囲
[請求項１]　
透明基板上に透明導電層，電子輸送層を有する有機エレクトロルミネッセンス層および対向電極が順次積層された有機エレクトロルミネッセンス素子において，
透明基板は少なくとも片側の面に，平均粒径１ｎｍ〜２０ｎｍの酸化物ナノ粒子と樹脂材料前駆体からなる有機無機複合材料であって，かつ，硬化後の屈折率が１．６５以上１．８０以下になる該有機無機複合材料に，平均粒径０．１μｍ〜０．７μｍの光散乱性フィラーを添加した塗布液を塗布・乾燥・硬化した光散乱層を有し，
電子輸送層の膜厚が，４０〜２００ｎｍであ
有機エレクトロルミネッセンス素子。
[請求項２]　前記光散乱層の複合材料と光散乱性フィラーの屈折率差が，０．２〜０．３であることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
[請求項３]　請求項１又は２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を用いることを特徴とする照明装置。」
　
　(2) 引用発明
　引用文献１の[0061]には，「本発明の光散乱層を，透明基材に対し光の入射側の面に形成する場合には，その上に透明導電層が形成されるため，光散乱層の上に平滑化層を形成することが好ましい。」と記載されている。
　そうしてみると，引用文献１には，請求項１に係る発明において，「光散乱層を，透明基材に対し光の入射側の面に形成し，光散乱層の上に平坦化層及び透明導電層をこの順に形成してなる」次の発明が記載されている（以下「引用発明」という。）。
「　透明基板上に透明導電層，電子輸送層を有する有機エレクトロルミネッセンス層および対向電極が順次積層された有機エレクトロルミネッセンス素子において，
　透明基板は少なくとも片側の面に，平均粒径１ｎｍ〜２０ｎｍの酸化物ナノ粒子と樹脂材料前駆体からなる有機無機複合材料であって，かつ，硬化後の屈折率が１．６５以上１．８０以下になる該有機無機複合材料に，平均粒径０．１μｍ〜０．７μｍの光散乱性フィラーを添加した塗布液を塗布・乾燥・硬化した光散乱層を有し，
　電子輸送層の膜厚が，４０〜２００ｎｍであり，
　光散乱層を，透明基材に対し光の入射側の面に形成し，光散乱層の上に平坦化層及び透明導電層をこの順に形成してなる，
　有機エレクトロルミネッセンス素子。」
　
　２　対比及び判断
　(1) 対比
　本件出願の請求項１に係る発明（以下「本願発明１」という。）と引用発明を対比すると，以下のとおりである。
　ア　電子注入性電極層，正孔注入性電極層
　引用発明は，「透明基板上に透明導電層，電子輸送層を有する有機エレクトロルミネッセンス層および対向電極が順次積層された有機エレクトロルミネッセンス素子」である。そして，有機エレクトロルミネッセンス素子に関する技術常識を考慮すると，引用発明の「透明導電層」と「対向電極」は，その一方が電子を注入する性質を具備した電極層であり，その他方が正孔を注入する性質を具備した電極層である。
　したがって，引用発明の「透明導電層」と「対向電極」は，その一方が本願発明１の「電子注入性電極層」に相当するとともに，その他方が本願発明１の「正孔注入性電極層」に相当する。
　
　イ　有機積層構造
　引用発明の「有機エレクトロルミネッセンス素子」は，「透明基板上に透明導電層，電子輸送層を有する有機エレクトロルミネッセンス層および対向電極が順次積層された」ものである。
　そうしてみると，引用発明の「有機エレクトロルミネッセンス層」は，「透明導電層」と「対向電極」の一方と他方との間に存在するものといえる。
　また，引用発明の「有機エレクトロルミネッセンス素子」が少なくとも有機材料からなる発光層を具備すること，及び引用発明の「電子輸送層」が有機材料からなることは技術的にみて明らかであるから，引用発明の「有機エレクトロルミネッセンス層」は，有機積層構造をなすものといえる。
　したがって，引用発明の「有機エレクトロルミネッセンス層」と本願発明１の「有機積層構造」は，「前記電子注入性電極層と正孔注入性電極層との間に存在し」，「発光層を含む有機積層構造」の点で共通する。
　
　ウ　散乱層及び平坦層
　引用発明の「有機エレクトロルミネッセンス素子」は，「光散乱層を，透明基材に対し光の入射側の面に形成し，光散乱層の上に平坦化層及び透明導電層をこの順に形成してなる」ものである。また，引用発明の「光散乱層」及び「平坦化層」は，その文言が意味するとおりの機能を果たす層である。
　そうしてみると，引用発明の「光散乱層」及び「平坦化層」は，それぞれ本願発明１の「散乱層」及び「平坦層」に相当する。また，引用発明の「有機エレクトロルミネッセンス素子」は，その層順からみて，本願発明１の，「前記正孔注入性電極層または電子注入性電極層の前記有機積層構造に隣接する面とは反対側面に当接するかまたは隣接して形成されている散乱層と，前記散乱層の上部に形成されている平坦層と，を含み」という要件を満たす。
　
　エ　有機発光素子
　以上の対比結果，並びに，本願発明１及び引用発明の全体の構成からみて，引用発明の「有機エレクトロルミネッセンス素子」は，本願発明１の「有機発光素子」に相当する。
　
　(2) 一致点及び相違点
　ア　一致点
　本願発明１と引用発明は，次の構成で一致する。
「　電子注入性電極層と正孔注入性電極層と，
　前記電子注入性電極層と正孔注入性電極層との間に存在し，発光層を含む有機積層構造と，
　前記正孔注入性電極層または電子注入性電極層の前記有機積層構造に隣接する面とは反対側面に当接するかまたは隣接して形成されている散乱層と，
　前記散乱層の上部に形成されている平坦層と，を含む，
　有機発光素子。」
　
　イ　相違点
　本願発明１と引用発明は，次の点で相違する。
（相違点１）
　「有機積層構造」について，本願発明１は，「屈折率が１．７以下の低屈折有機層」を含み，「前記発光層は，屈折率が１．７〜１．８の電子受容性有機化合物を含み」，「前記低屈折有機層は，前記電子受容性有機化合物および屈折率が１．６６以下の低屈折材料を含み，屈折率が前記発光層よりも小さく，厚さが７０ｎｍ以上であって」，「前記低屈折有機層において，前記電子受容性有機化合物１００重量部に対して１５０重量部以下で前記低屈折材料が含まれ」という構成を具備するのに対し，引用発明は，この構成を具備するものとは特定されていない点。
　
（相違点２）
　「平坦層」について，本願発明１は「屈折率が１．８〜３．５である（ただし，前記平坦層の屈折率が１．８の場合を除く。）」という構成を具備するのに対して，引用発明は，この構成を具備するものとは特定されていない点。
　
　(3) 判断
　事案に鑑みて，相違点２について判断する。
　引用文献１には，引用発明の「平坦化層」として屈折率が１．８を超えるものを採用することの動機付けとなる記載がないばかりか，以下のとおり，これを阻害する記載があるといえる。
　すなわち，引用発明の平坦化層について，引用文献１の[0061]には，「その表面に透明導電層や有機発光層を形成した際に短絡が生じない程度の平滑性が得られれば良く，一般的な樹脂を使用することができる」と記載されている。
　ここで，一般的な樹脂の屈折率は，高くても１．７程度である。
　また，引用発明の平坦化層について，引用文献１の[0061]には，「光散乱層との接着性の点や屈折率差がないことが好ましいため，光散乱層のマトリクス樹脂を用いることが好ましい。」とも記載されている。そして，引用文献１の[0028]には，「光散乱層は，透明基材との屈折率差が小さいことが良く，屈折率１．６５以上，１．８０以下の複合材料を用いることが好ましく，さらに屈折率１．６５以上，１．７５以下がより好ましい。」と記載されている。
　これら記載は，いずれも，引用発明の「平坦化層」として，屈折率が１．８を超えるものを採用することを阻害する記載といえる。
　
　加えて，引用文献１の[0072]には，「本発明において，有機エレクトロルミネッセンス層で発光した光を，光散乱層に効率良く移動させるためには，透明導電層の屈折率が１．７に近いことが好ましい。従って，本発明の透明導電層は，銀ナノワイヤ等の金属ナノワイヤを導電性高分子材料とともに塗布して形成されたものが良く，屈折率が１．６以上，１．８以下であることが好ましく，膜厚が０．１μｍ以上，０．５μｍ以下であることが好ましい。」と記載されている。
　ここで，有機エレクトロルミネッセンス層で発光した光を，光散乱層に効率良く移動させるためには，引用発明の「平坦化層」の屈折率が，引用発明の「透明導電層」の屈折率よりも高くない方が好ましい。
　したがって，この記載も，引用発明の「平坦化層」として，屈折率が１．８を超えるものを採用することを阻害する記載といえる。
　
　ところで，有機エレクトロルミネッセンス素子の「透明導電層」の材料としては，ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）が一般的であるところ，ＩＴＯの屈折率は１．８５程度である。そして，引用発明の「透明導電層」の材料としてＩＴＯを採用した場合における，引用発明の「透明導電層」の屈折率は，例えば，１．８５であっても良いと考えられる。
　しかしながら，引用文献１の各実施例（[0159]〜[0204]）の平坦化層の屈折率は，最も高いものでも，透明基板１２における１．８０である（[0170]及び[0185]）。そして，引用文献１には，この透明基板１２上にＩＴＯ（屈折率１．８５）を材料とする透明導電層を形成して有機ＥＬ素子１４を形成した実施例が記載され（[0204]，[0197]，[0194]及び[0186]），その評価は，「外部取り出し量子効率が高く，しかも観察角度による輝度および色変化が小さく，白色照明として優れている」（[0204]）というものである。
　そうしてみると，引用文献１には，たとえ引用発明の「透明導電層」としてＩＴＯを採用する場合であっても，平坦化層の屈折率は１．８０であって良いことが記載されているといえる。
　
　以上のとおりであるから，引用文献１の記載内容を考慮すると，たとえ当業者といえども，引用発明において相違点２に係る本願発明１の構成を採用することが，容易であるとはいえない。
　したがって，本願発明１は，引用文献１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるということはできない。
　
　(4) 請求項２〜請求項１４について
　請求項２〜請求項１４に係る発明も，相違点２に係る本願発明１の構成を具備するものである。
　したがって，請求項２〜請求項１４に係る発明も，本願発明１と同じ理由により，引用文献１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるということはできない。
　
　(5) 小括
　当合議体の拒絶の理由によっては，もはや本件出願を拒絶することはできない。
　
　３　原査定についての判断
　(1) 引用例１の記載
　原査定の拒絶の理由で引用され，本件出願の優先日前に頒布された刊行物である引用例１には，以下の記載がある。
　ア　「【特許請求の範囲】
【請求項１】
　電極，エレクトロルミネッセンス層，高屈折率層及び透光体がこの順に配置されてなるエレクトロルミネッセンス素子において，
　高屈折率層及び透光体のそれぞれの光取り出し面側に，光散乱機能を有する層を有することを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子。
…(省略)…
【請求項８】
　高屈折率層が，透明電極層及び透明電極層と同等の屈折率を有する中間層とを有することを特徴とする請求項１ないし７のいずれか一項に記載のエレクトロルミネッセンス素子。」
　
　イ　「【技術分野】
【０００１】
　本発明は，エレクトロルミネッセンス素子に係り，詳しくは光取り出し効率に優れたエレクトロルミネッセンス素子に関するものである。
…(省略)…
【背景技術】
【０００２】
…(省略)…
【０００４】
　エレクトロルミネッセンスディスプレイにおいては，エレクトロルミネッセンス層で発光した光が効率的に取り出されることが好ましいが，発光した光のうち臨界角に近い角度で出射された光は，出射面の透明基板と空気との界面で全反射し，透明基板の内部を面方向に全反射しながら進む導波光（基板モード）となる。また，透明電極層と透明基板との界面で全反射し，透明電極内部，あるいは透明電極とエレクトロルミネッセンス層内部を面方向に進む導波光（薄膜モード）も存在し，これらの導波光は素子内部で吸収されて減衰してしまい，外部へ取り出されない。
…(省略)…
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
　本発明は，電極，エレクトロルミネッセンス層，高屈折率層及び透光体がこの順に配置されてなるエレクトロルミネッセンス素子において，透光体と空気との界面で全反射し，透光体内を面方向に進む導光波のみならず，高屈折率層と透光体との界面で全反射して高屈折率層内部，或いは高屈折率層とエレクトロルミネッセンス層内部を面方向に進む導光波をも低減して，光取り出し効率の高いエレクトロルミネッセンス素子を提供することを課題とする。」
　
　ウ　「【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
…(省略)…
【００１９】
　図１は本発明のエレクトロルミネッセンス素子の実施の形態を示す模式的な断面図である。
（当合議体注：図１は以下の図である。
）
【００２０】
　本発明のエレクトロルミネッセンス素子は，電極１，エレクトロルミネッセンス層２，高屈折率層３及び透光体４がこの順に配置されてなり，高屈折率層３と透光体４のそれぞれの光取り出し面側に光散乱機能を有する層５Ａ，５Ｂが設けられているものである。
…(省略)…
【００２３】
（１）電極
　電極１は，通常陰極として機能する。
…(省略)…
【００２６】
　低仕事関数金属から成る陰極を保護する目的で，エレクトロルミネッセンス層と反対となる側にさらに，仕事関数が高く大気に対して安定な金属層を積層することは素子の安定性を増す上で有効である。この目的のために，アルミニウム，銀，銅，ニッケル，クロム，金，白金等の金属が使われる。さらに，
陰極とエレクトロルミネッセンス層との界面にＬｉＦ，ＭｇＦ
２
，Ｌｉ
２
Ｏ等の極薄絶縁膜（膜厚０．１〜５ｎｍ）を挿入することにより，素子の効率を向上させることができる。
…(省略)…
【００２８】
（２）エレクトロルミネッセンス層
　エレクトロルミネッセンス層２は，電界が印加されることにより発光現象を示す物質により成膜されたものであり，単層構造であっても，機能分離した多層構造であってもよい。
…(省略)…
【００３１】
（３）高屈折率層
　本発明でいう高屈折率層３とは，エレクトロルミネッセンス層２を含む薄膜内部を面方向に進む導波光を取り出すために設けられる，屈折率が通常１．５５以上，好ましくは１．６以上，さらに好ましくは１．７以上，最も好ましくは１．９以上，特に好ましくは２．０以上，通常２．５以下，好ましくは２．２以下の層をいう。
…(省略)…
【００３２】
　高屈折率層３は，少なくとも透明電極層３Ａを有する。高屈折率層３は，透明電極層３Ａの一層からなるものであってもよく，また，図１に示す如く，透明電極層３Ａとこれと同等の屈折率を有する中間層３Ｂとが組み合わされてなる層であってもよい。
…(省略)…
【００３６】
〈１〉透明電極層
　透明電極層３Ａとは，通常エレクトロルミネッセンス素子の陽極として作用する。
…(省略)…
【００４１】
〈２〉透明電極層と同等の屈折率を有する中間層（以下，中間層と称す。）
　中間層３Ｂは透明電極層３Ａに対して，図１に示す如く，光取り出し面側に設けても，エレクトロルミネッセンス層２側に設けても良い。…(省略)…ただし，図１に示す如く，絶縁性の中間層３Ｂを透明電極層３Ａの光取り出し面側に設ける方がより好ましい。
…(省略)…
【００５１】
（４）透光体
　透光体４は通常エレクトロルミネッセンス素子の基板となるものである。
…(省略)…
【００５７】
（５）光散乱機能を有する層
　本発明は，高屈折率層３及び透光体４のそれぞれの光取り出し面側に，光散乱機能を有する層５Ａ，５Ｂを有することを特徴とする。
…(省略)…
【００８０】
［照明装置の構成］
　本発明の照明装置は，上述のような本発明のエレクトロルミネッセンス素子を光源とするものである。」
　
　エ　「【実施例】
【００８３】
…(省略)…
【００８６】
　〈実施例１〉
　透光体（基板）として，旭硝子（株）製無アルカリガラスの光取り出し面に，（株）アドマテックス製シリカ粒子ＳＯ−Ｇ２（平均粒径６００ｎｍ，屈折率１．５）をシリケートオリゴマー（オリゴマー硬化後の屈折率１．５）に分散した前駆体塗布液をスピンコートし，２５０℃で硬化し，光散乱機能を有する層を形成する。
この光散乱機能を有する層の表面粗さＲａは２００ｎｍ程度であり，
…(省略)…
【００９２】
〈実施例２〉
　透光体（
透明基板
として
無アルカリガラスの両面に，
シリカ粒子
（平均粒径６００ｎｍ）をシリケートオリゴマーに分散した前駆体塗布液をディップコートし，２５０℃で硬化し，光散乱機能を有する層を形成
【００９３】
　
透明電極層側となる面に
チタニア粒子
（平均粒径３０ｎｍ）を分散した
ＵＶ硬化樹脂
モノマー塗布液をスピンコートし，硬化して，高屈折率層と
このチタニア粒子複合ＵＶ硬化樹脂層は屈折率１．８程度，膜厚７μｍ程度で，表面粗さＲａは２ｎｍ程度であ
【００９４】
　
このチタニア粒子複合ＵＶ硬化樹脂層上にＩＴＯを膜厚１００ｎｍ程度で常温スパッタして透明電極層を形成し，さらに正孔注入層及び正孔輸送層を形成し，この上にトリス（８−ヒドロキシキノリナート）アルミニウム錯体を膜厚１５０ｎｍ程度で蒸着し，発光層を形成
その後，発光層上にＡｌを膜厚１００ｎｍ程度蒸着し
有機エレクトロルミネッセンス素子
形成
　
　(2) 引用例１発明
　引用例１には，実施例２として，次の発明が記載されている（以下「引用例１発明」という。）。
「　透明基板として無アルカリガラスの両面に，シリカ粒子（平均粒径６００ｎｍ）をシリケートオリゴマーに分散した前駆体塗布液をディップコートし，２５０℃で硬化し，光散乱機能を有する層を形成し，この光散乱機能を有する層の表面粗さＲａは２００ｎｍ程度であり，
　透明電極層側となる面にチタニア粒子（平均粒径３０ｎｍ）を分散したＵＶ硬化樹脂モノマー塗布液をスピンコートし，硬化して，高屈折率層とし，このチタニア粒子複合ＵＶ硬化樹脂層は屈折率１．８程度，膜厚７μｍ程度で，表面粗さＲａは２ｎｍ程度であり，
　このチタニア粒子複合ＵＶ硬化樹脂層上にＩＴＯを膜厚１００ｎｍ程度で常温スパッタして透明電極層を形成し，さらに正孔注入層及び正孔輸送層を形成し，この上にトリス（８−ヒドロキシキノリナート）アルミニウム錯体を膜厚１５０ｎｍ程度で蒸着し，発光層を形成し，その後，発光層上にＡｌを膜厚１００ｎｍ程度蒸着し形成した，
　有機エレクトロルミネッセンス素子。」
　
　(3) 一致点及び相違点
　ア　一致点
　有機エレクトロルミネッセンス素子に関する技術常識を勘案すると，本願発明１と引用例１発明は，次の構成で一致する。
「　電子注入性電極層と正孔注入性電極層と，
　前記電子注入性電極層と正孔注入性電極層との間に存在し，発光層を含む有機積層構造と，
　前記正孔注入性電極層または電子注入性電極層の前記有機積層構造に隣接する面とは反対側面に当接するかまたは隣接して形成されている散乱層と，
　前記散乱層の上部に形成されている平坦層と，を含み，
　前記発光層は，屈折率が１．７〜１．８の電子受容性有機化合物を含む，
有機発光素子。」
　
　イ　相違点
　本願発明１と引用例１発明は，以下の点で相違する。
（相違点Ａ）
　「有機積層構造」について，本願発明１は，「屈折率が１．７以下の低屈折有機層」を含み，「前記低屈折有機層は，前記電子受容性有機化合物および屈折率が１．６６以下の低屈折材料を含み，屈折率が前記発光層よりも小さく，厚さが７０ｎｍ以上であって」，「前記低屈折有機層において，前記電子受容性有機化合物１００重量部に対して１５０重量部以下で前記低屈折材料が含まれ」という構成を具備するのに対し，引用例１発明は，この構成を具備するものとは特定されていない点。
　
（相違点Ｂ）
　「平坦層」について，本願発明１は，「屈折率が１．８〜３．５である（ただし，前記平坦層の屈折率が１．８の場合を除く。）」という構成を具備するのに対し，引用例１発明は，「屈折率１．８程度」である点。
　
　(4) 判断
　事案に鑑みて，相違点Ａについて判断する。
　引用例１の【００２６】には，素子の効率を向上させることを目的として，「陰極とエレクトロルミネッセンス層との界面にＬｉＦ，ＭｇＦ２，Ｌｉ２Ｏ等の極薄絶縁膜」を設けることが記載されている。そして，本願発明１の「屈折率が１．６６以下の低屈折材料」には，「フッ化リチウム（ＬｉＦ），フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）」（請求項６）が含まれる。
　そうしてみると，引用例１発明において，電極（陰極）とエレクトロルミネッセンス層との界面に，本願発明１でいう「屈折率が１．６６以下の低屈折材料」を含む「低屈折有機層」を設けることは，引用例１の記載に従う当業者が，容易に発明できたことといえる。
　しかしながら，引用例１に記載された「極薄絶縁膜」は，「膜厚０．１〜５ｎｍ」であるから，本願発明１の「低屈折率有機層」における「厚さが７０ｎｍ以上」という要件を満たさない。
　したがって，たとえ当業者といえども，引用例１発明，及び上記引用例１に記載された示唆に基づいて，本願発明１を容易に発明することができたということはできない。
　請求項２〜請求項１４に係る発明についても，同様である。
　
　(5) 小括
　原査定の理由によっても，本件出願を拒絶することはできない。
　
　４　むすび
　以上のとおり，原査定の理由及び当合議体の拒絶の理由によっては，本件出願を拒絶することはできない。
　また，他に本件出願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって，結論のとおり審決する。