(57)【要約】  搬送装置Ａは、真空室Ｂ内に配置され、固定ベース１と、固定１ベースに対して旋回可能に保持された旋回ベース２と、旋回ベース２に支持された直線移動機構３Ａ，３Ｂと、直線機構３Ａ，３Ｂに支持されたハンド４Ａ，４Ｂとを備え、直線移動機構３Ａ，３Ｂの作動によりハンド４Ａ，４Ｂに載置したワークＷを搬送するものである。旋回ベース２もしくは直線移動機構３Ａ，３Ｂの下面側の適部に熱輻射板６２，６３，６５が設けられており、真空室Ｂを形成する壁のうち旋回ベース２の下面側と対向する壁に吸熱板６１，６６が設けられている。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空室内に配置され、固定ベースと、この固定ベースに対して旋回可能に保持された旋回ベースと、この旋回ベースに支持された直線移動機構と、この直線移動機構に支持されたハンドとを備え、
上記旋回ベースの所望の旋回位置において上記直線移動機構の作動により上記ハンドに載置したワークを水平に保持しながら搬送する搬送装置であって、
上記旋回ベースもしくは上記直線移動機構の下面側の適部に熱輻射面が設けられており、
上記真空室を形成する壁のうち、上記旋回ベースの下面側と対向する壁の少なくとも一部に熱吸収面が設けられていることを特徴とする、搬送装置。
【請求項２】
上記旋回ベースもしくは上記直線移動機構の上面側の適部に上記ハンド側からの熱を反射する熱反射面が設けられている、請求項１に記載の搬送装置。
【請求項３】
上記熱吸収面は、上記真空室の底面または上記固定ベースの上記真空室への露出面の少なくとも一部に設けられている、請求項１に記載の搬送装置。
【請求項４】
上記熱吸収面によって吸収された熱を外部に放出する冷却手段が設けられている、請求項１に記載の搬送装置。
【請求項５】
上記冷却手段は、上記熱吸収面が設けられた部材に接するように取り回された冷媒循環路を含んで構成されている、請求項４に記載の搬送装置。
【請求項６】
上記直線移動機構は、複数のアームを連結して構成されたリンクアーム機構として構成されており、
このリンクアーム機構の上面側の適部に上記熱反射面が設けられるとともに、上記リンクアーム機構の下面側の適部に上記熱輻射面が設けられている、請求項１に記載の搬送装置。
【請求項７】
上記直線移動機構は、上記旋回ベースに支持され、かつ、上記ハンドを所定の方向に移動案内するためのガイドレールをさらに備えており、
上記ガイドレールと上記ハンドとの間に上記熱反射面が設けられている、請求項６に記載の搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、たとえば加熱された基板等の薄板状のワークを真空雰囲気下において搬送するための搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄板状のワークを真空雰囲気下において搬送するための搬送装置としては、たとえば下記の特許文献１に開示されたものがある。この搬送装置は、旋回ベース上に一対のリンクアーム機構が設けられ、これらリンクアーム機構の各先端部に液晶表示パネル用のガラス基板等の板状ワークを水平に保持可能なハンドが設けられたものである。固定ベース上で旋回ベースが鉛直軸周りに旋回すると、それに伴って一対のリンクアーム機構が旋回させられ、リンクアーム機構が揺動すると、ハンドに保持された板状ワークが水平面内で直線的に移動させられる。これにより、板状ワークが所定位置から他の位置へと搬送させられる。【０００３】
他の搬送装置としては、たとえば下記の特許文献２に開示されたものがある。この搬送装置の旋回ベースには、リンクアーム機構が揺動する際にハンドを支持しながら所定の方向に移動案内するためのガイドレールが固定されている。この構成によれば、板状ワークを保持したハンドをより安定した姿勢で直線的に移動させることができる。【０００４】
このような搬送装置は、たとえば液晶表示パネルの製造工程において、各処理室への板状ワークの搬入あるいは搬出用として多用されている。かかる製造工程では、上記搬送装置は、たとえばクリーンプロセスにおける真空雰囲気下で加熱されたガラス基板を搬送するのに使用される。【０００５】
しかしながら、上記従来の搬送装置では、真空雰囲気下で加熱された板状ワークを搬送する場合、熱的条件の面で使用環境に耐えることができないおそれがあった。すなわち、このような搬送装置の使用においては、たとえば、固定ベースを大気雰囲気下に設置した状態で旋回ベースを真空状態に保たれた搬送室の内部空間に配置する。そして、板状ワークの搬送時には、加熱された当該ワークがハンドに保持されると、当該ワークから放射される輻射熱によってハンドに近接するリンクアーム機構が変形するおそれがあり、これによって搬送精度を確保することが困難になるおそれがある。【０００６】
また、旋回ベースを真空雰囲気下に配置する場合、たとえば旋回ベースの周部などの適所に気密性を保持するための真空シールが設けられる。加熱された板状ワークを搬送する場合、この真空シールが板状ワークからの熱を受けることにより、真空シールの機能が低下して気密性が損なわれるおそれがある。【０００７】
【特許文献１】特開２００５−１８６２５９号公報
【特許文献２】特開２００５−１２５４７９号公報
【発明の開示】
【０００８】
本発明は、このような事情のもとで考え出されたものであって、真空雰囲気下で加熱された板状ワークを搬送する場合において、当該ワークからの熱による不都合を解消ないし低減することができる搬送装置を提供することをその課題としている。
【０００９】
本発明によって提供される搬送装置は、真空室内に配置され、固定ベースと、この固定ベースに対して旋回可能に保持された旋回ベースと、この旋回ベースに支持された直線移動機構と、この直線移動機構に支持されたハンドとを備え、上記旋回ベースの所望の旋回位置において上記直線移動機構の作動により上記ハンドに載置したワークを水平に保持しながら搬送する搬送装置であって、上記旋回ベースもしくは上記直線移動機構の下面側の適部に熱輻射面が設けられており、上記真空室を形成する壁のうち、上記旋回ベースの下面側と対向する壁の少なくとも一部に熱吸収面が設けられていることを特徴としている。
【００１０】
好ましくは、上記旋回ベースもしくは上記直線移動機構の上面側の適部に上記ハンド側からの熱を反射する熱反射面が設けられている。
【００１１】
好ましくは、上記熱吸収面は、上記真空室の底面または上記固定ベースの上記真空室への露出面の少なくとも一部に設けられている。
【００１２】
好ましくは、上記熱吸収面によって吸収された熱を外部に放出する冷却手段が設けられている。
【００１３】
好ましくは、上記冷却手段は、上記熱吸収面が設けられた部材に接するように取り回された冷媒循環路を含んで構成されている。
【００１４】
好ましくは、上記直線移動機構は、複数のアームを連結して構成されたリンクアーム機構として構成されており、このリンクアーム機構の上面側の適部に上記熱反射面が設けられるとともに、上記リンクアーム機構の下面側の適部に上記熱輻射面が設けられている。
【００１５】
好ましくは、上記直線移動機構は、上記旋回ベースに支持され、かつ、上記ハンドを所定の方向に移動案内するためのガイドレールをさらに備えており、上記ガイドレールと上記ハンドとの間に上記熱反射面が設けられている。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明に係る搬送装置の全体斜視図である。
【図２】図１に示す搬送装置の側面図である。
【図３】図１に示す搬送装置の正面図である。
【図４】図２のIV−IV線に沿う部分断面図である。
【図５】アームの断面構造を表す。
【図６】本発明に係る搬送装置が真空室内に配置された状態の一例を示す一部断面側面図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明に係る搬送装置およびこれを備えて構成された冷却構造の好ましい実施形態につき、図面を参照しつつ具体的に説明する。【００１８】
図１ないし図４は、本発明に係る搬送装置を示している。搬送装置Ａは、たとえば液晶表示パネル用の基板等といった薄板状のワークを搬送するためものである。この搬送装置Ａは、図１ないし図３に示すように、固定ベース１と、固定ベース１に対して鉛直軸Ｏｓ周りに旋回可能に保持された旋回ベース２と、旋回ベース２に対して揺動可能に支持された一対のリンクアーム機構３Ａ，３Ｂと、リンクアーム機構３Ａ，３Ｂに各別に支持されたハンド４Ａ，４Ｂと、ハンド４Ａ，４Ｂをそれぞれ所定の水平方向に案内するための２組のガイドレール５Ａ，５Ｂとを備えている。ハンド４Ａ，４Ｂは、上記薄板状のワークＷを水平姿勢で保持するためのものである。【００１９】
固定ベース１は、図４に良く表れているように、中空で略円柱状の外形を有するハウジング１０を備え、その上端壁は外向きに突出するフランジ部１１とされている。フランジ部１１には、中心開口１１Ａが形成されている。【００２０】
さらに、本実施形態では、フランジ部１１の上面には、吸熱板６１が設けられている。この吸熱板６１は、たとえばアルミニウムにアルマイト処理を施した表面が黒色を呈する放射率の大きい材料からなり、その上面が熱吸収面になっている。当該放射率は、たとえば０．９程度である。吸熱板６１の上面には、冷媒循環路としての配管８１が略同心円状に所定の間隔を隔てて設けられている。この配管８１には、たとえば冷媒としての空気を送出するためのポンプ（図示せず）が接続されている。そして、吸熱板６１、配管８１、および上記ポンプは、上記熱吸収面で吸収された熱を外部に放出する冷却手段としての役割を担う。なお、図２および図３において、吸熱板６１にはハッチングを施している。【００２１】
ハウジング１０の内部には、昇降ベース１２が昇降可能に支持されている。昇降ベース１２は、円筒部１２Ａと、当該円筒部１２Ａの下端に設けられた図外の外向きフランジ部を有する。円筒部１２Ａの上端部は、中心開口１１Ａを介して上方に突出している。昇降ベース１２の全体は、たとえばボールネジ機構１３によって上下方向に移動させられるように構成されている。【００２２】
ハウジング１０のフランジ部１１と、昇降ベース１２の下端に設けられた上記外向きフランジ部との間には、この昇降ベース１２の円筒部１２Ａを取り囲むようにしてベローズ１４が設けられている。ベローズ１４は、昇降ベース１２の上下移動に伴って伸縮するものであり、ハウジング１０のフランジ部１１と昇降ベース１２の上記外向きフランジ部との間を気密シールする。【００２３】
旋回ベース２は、ハウジング２０と、その下方に一体的につながる円筒軸２１とを備える。円筒軸２１は、昇降ベース１２の円筒部１２Ａの内部にベアリング２３１を介して回転可能に支持されている。【００２４】
円筒部１２Ａと円筒軸２１との間にはまた、真空シール２４１が設けられている。この真空シール２４１は、当該真空シール２４１よりも上方の空間と、真空シール２４１よりも下方の固定ベース１内の空間とを遮蔽して気密性を保持するものである。【００２５】
円筒軸２１の下端部には、プーリ２１Ａが一体的に形成されており、このプーリ２１Ａと、円筒部１２Ａ内に支持されたモータＭ１の出力軸に取り付けたプーリとの間に無端ベルト２５１が掛け回されている。これにより、モータＭ１を駆動させると、旋回ベース２が鉛直軸Ｏｓ周りに旋回する。【００２６】
旋回ベース２の円筒軸２１には、リンクアーム機構３Ａ，３Ｂを揺動させるための伝動軸２６，２７が同軸状に挿通されている。伝動軸２７は、円筒状の軸とされ、円筒軸２１の内側にベアリング２３２を介して回転可能に支持されている。伝動軸２６は、伝動軸２７の内側にベアリング２３３を介して回転可能に支持されている。【００２７】
旋回ベース２のハウジング２０の下面には、熱輻射板６２が設けられている。この熱輻射板６２は、たとえばアルミニウムにアルマイト処理を施した表面が黒色を呈する放射率の大きい材料からなる。当該放射率は、たとえば０．９程度である。なお、図２および図３において、熱輻射板６２にはハッチングを施している。【００２８】
伝動軸２６，２７の上端部には、プーリ２６Ａ，２７Ａが設けられている。プーリ２６Ａ，２７Ａには、リンクアーム機構３Ａ，３Ｂの回転軸３０との間に無端ベルト２５２，２５３が掛け回されている。一方、伝動軸２６の下端部は円筒部１２Ａ内に支持されたモータＭ２の出力軸に連結されている。伝動軸２７の下端部には、プーリ２７Ｂが設けられており、このプーリ２７Ｂと、円筒部１２Ａ内に支持されたモータＭ３の出力軸に取り付けたプーリとの間に無端ベルト２５４が掛け回されている。モータＭ２，Ｍ３を駆動させると、回転軸３０の回転にともなってリンクアーム機構３Ａ，３Ｂが揺動する。【００２９】
リンクアーム機構３Ａ，３Ｂは、それぞれ、複数のアーム３１〜３４を連結して構成されたものであり、直線移動機構としての機能を担うものである。アーム３１〜３４は、たとえば所定の剛性を有するステンレス等の金属からなる。リンクアーム機構３Ａ，３Ｂの主な構成および動作については、従来のものと同様であるため、詳細な説明を省略する。アーム３１の基端部３１Ａは、旋回ベース２のハウジング２０の上部に設けられた開口にベアリング２３４を介して回転可能に支持されている。基端部３１Ａの下端には、減速機構３５を介して回転軸３０が連結されている。基端部３１Ａとハウジング２０の上部との間には、ベアリング２３４より上位において、気密性を保持するための真空シール２４２が設けられている。これにより、ハウジング２０の内部においては気密シールされる。【００３０】
アーム３１〜３４の上面には、熱反射板７１が設けられている。熱反射板７１は、たとえばステンレス製である。熱反射板７１の上面（ハンド４Ａ，４Ｂに対向する面）は、鏡面仕上げとされており、熱反射面になっている。これにより、当該上面は、放射率が小さくなっており、当該放射率は、たとえば０．１程度である。なお、図１においては、熱反射板７１の記載を省略しており、図２および図３においては、熱反射板７１にハッチングを施している。【００３１】
アーム３１〜３４の下面には、熱輻射板６３が設けられている。この熱輻射板６３は、たとえばアルミニウムにアルマイト処理を施した表面が黒色を呈する放射率の大きい材料からなり、その下面が熱輻射面になっている。当該放射率は、たとえば０．９程度である。なお、図２および図３において、熱輻射板６３にはハッチングを施している。【００３２】
図５は、アーム３１の断面構造の一例を示す。アーム３１の主要部には、その周囲を取り囲むように断熱部材９１が設けられている。熱反射板７１および熱輻射板６３は、セラミックスなどからなる断熱部材９１を介してアーム３１に設けられている。また、アーム３１の側面部分において、熱輻射板６３と同様の構成からなる熱輻射板６４を設けてもよい。他のアーム３２〜３４についても、アーム３１と同様の断面構造を採用することができる。【００３３】
ガイドレール５Ａ，５Ｂは、旋回ベース２のガイド部材２２に支持されており、直線移動機構としての機能を担うものである。具体的には、図４に示すように、旋回ベース２は、ハウジング２０の中央上方につながる支柱部２０Ａを有しており、この支柱部２０Ａの上部にガイド部材２２が一体的に設けられている。【００３４】
ガイド部材２２の下面には、熱輻射板６５が設けられている。この熱輻射板６５は、たとえばアルミニウムにアルマイト処理を施した表面が黒色を呈する放射率の大きい材料からなり、その下面が熱輻射面になっている。当該放射率は、たとえば０．９程度である。なお、図２および図３において、熱輻射板６５にはハッチングを施している。【００３５】
ハンド４Ａは、内側の２つのガイドレール５Ａにスライダ４０Ａを介して支持されている。ハンド４Ｂは、ハンド４Ａの側方を迂回して外側の２つのガイドレール５Ｂにスライダ４０Ｂを介して支持されている。ハンド４Ａ，４Ｂには、ガイド部材２２の長手方向に延びる複数のホーク状の保持片４１Ａ，４１Ｂが一体形成されており、これらの保持片４１Ａ，４１Ｂ上に上記薄板状のワークＷが載置保持される。ハンド４Ｂには、リンクアーム機構３Ｂのアーム３４（図４において左側のもの）の先端部が回転可能に連結されている。ハンド４Ａには、外側のガイドレール５Ｂの下方を通って外側に延びる延長部４２Ａが設けられている。延長部４２Ａには、リンクアーム機構３Ａのアーム３４（図４において右側のもの）の先端部が回転可能に連結されている。【００３６】
ガイド部材２２の上方にはまた、熱反射板７２が設けられている。熱反射板７２は、ハンド４Ａ，４Ｂ（保持片４１Ａ，４１Ｂ）とガイドレール５Ａ，５Ｂとの間に支持部を介して配されており、保持片４１Ａ，４１Ｂ上に加熱されたワークＷが載置された場合に、ワークＷからの熱を反射するためのものである。熱反射板７２は、図１および図４に表れているように、ハンド４Ａ，４Ｂと干渉しないように３片に分割されて設けられている。熱反射板７２は、たとえばステンレス製である。熱反射板７２の上面（ハンド４Ａ，４Ｂに対向する面）は、鏡面仕上げとされており、熱反射面になっている。これにより、当該上面は、放射率が小さくなっており、当該放射率は、たとえば０．１程度である。なお、図２および図３において、熱反射板７２にはハッチングを施している。【００３７】
一方のリンクアーム機構３Ａが揺動すると、それに連動して下側のハンド４Ａが内側２つのガイドレール５Ａに支持されながら水平にスライドする。他方のリンクアーム機構３Ｂが揺動すると、ハンド４Ａに干渉することなく上側のハンド４Ｂが外側２つのガイドレール５Ｂに支持されながら水平にスライドする。その際、ハンド４Ａとリンクアーム機構３Ａとを連結する延長部４２Ａは、ガイド部材２２に妨げられることなくスライドする。これにより、ハンド４Ａ，４Ｂの保持片４１Ａ，４１Ｂに載せられたワークＷが安定した姿勢で搬送される。【００３８】
上記構成の搬送装置Ａは、たとえば液晶表示パネルの製造工程において、プロセスチャンバへワークを搬入し、あるいは搬出するために用いられる。この場合、搬送装置Ａは、たとえば、周部に複数のプロセスチャンバが配置されたトランスポートチャンバ内に真空雰囲気下で配置される。【００３９】
図６は、搬送装置Ａが真空室としてのトランスポートチャンバＢ内に配置された状態の一例を表す。トランスポートチャンバＢの側壁には、ロードロックやプロセスチャンバに連通する通路が設けられており、当該通路には、ロードロックやプロセスチャンバとの間でワークＷを搬送する時にのみ開放するシャッタ（図示せず）が設けられている。トランスポートチャンバＢの底壁には、搬送装置Ａを取り付けるための開口が形成されている。搬送装置Ａは、固定ベース１のフランジ部１１を介してトランスポートチャンバＢに密封状態で固定され、フランジ部１１よりも上方にある要素がトランスポートチャンバＢの内部空間に位置するように配置される。搬送装置Ａのうち当該要素は、真空雰囲気下にある。このような構成により、トランスポートチャンバＢの底壁およびこれにつながる搬送装置Ａのフランジ部１１がトランスポートチャンバＢの内部空間を形成する壁となっている。【００４０】
トランスポートチャンバＢの底壁上面には、吸熱板６６が設けられている。この吸熱板６６は、たとえばアルミニウムにアルマイト処理を施した表面が黒色を呈する放射率の大きい材料からなり、その上面が熱吸収面になっている。当該放射率は、たとえば０．９程度である。吸熱板６６の上面には、冷媒循環路としての配管８２が所定の間隔を隔てて設けられている。この配管８２には、たとえば冷媒としての水を送出するためのポンプ（図示せず）が接続されている。そして、吸熱板６６、配管８２、および上記ポンプは、上記熱吸収面で吸収された熱を外部に放出する冷却手段としての役割を担う。【００４１】
搬送装置Ａの稼動時において、たとえば２５０〜４００℃程度に加熱されたガラス基板等のワークＷを真空雰囲気下で繰り返し搬送すると、ワークＷからの熱を旋回ベース２やリンクアーム機構３Ａ，３Ｂが受けやすい。旋回ベース２やリンクアーム機構３Ａ，３Ｂの回転部分に設けられた真空シール２４１，２４２は、ある程度の温度までは気密性を保つが、所定の耐用温度を越えると気密性を損なうおそれがある。また、アーム３１〜３４等は、ステンレス等の金属からなるため、高温になればなるほど熱膨張によって寸法に大きな誤差が生じるおそれがある。ガイドレール５Ａ，５Ｂについても、熱膨張によって寸法に大きな誤差が生じるおそれがある。【００４２】
これに対し、本実施形態では、リンクアーム機構３Ａ，３Ｂにおけるハンド４Ａ，４Ｂに対向する面やハンド４Ａ，４Ｂとガイドレール５Ａ，５Ｂとの間には、ハンド４Ａ，４Ｂに保持されたワークＷからの熱を反射するための熱放射板７１，７２が設けられている。このため、ワークＷから放射される輻射熱は、当該熱反射板７１，７２の熱反射面によって反射されることになる。したがって、リンクアーム機構３Ａ，３Ｂおよびガイドレール５Ａ，５Ｂが近接するワークＷから直進する輻射熱によって不当に過熱されることは防止される。【００４３】
さらに、本実施形態では、図６に表れているように、旋回ベース２およびリンクアーム機構３Ａ，３Ｂの下面側の適部には熱輻射板６２，６３，６５が設けられている。加えて、トランスポートチャンバＢを形成する壁面のうち旋回ベース２の下面側と対向する壁面（トランスポートチャンバＢの底壁の上面およびこれにつながるフランジ部１１の上面）には、表面に熱吸収面を有する吸熱板６１，６６が設けられており、当該吸熱板６１，６６の熱吸収面上に冷媒循環路としての配管８１，８２が設けられている。このため、上記熱反射板７１，７２で反射されることなく熱反射板７１，７２の周辺をつたう輻射熱や、ワークＷからの熱伝導によって、旋回ベース２やリンクアーム機構３Ａ，３Ｂが熱を受けたとしても、当該熱は、相対的に高温である熱輻射板６２，６３，６５から相対的に低温である吸熱板６１，６６に向けて放射される。そして、吸熱板６１，６６によって吸収された熱は、配管８１，８２を通流する冷媒によってトランスポートチャンバＢの外部に速やかに放出されることになる。したがって、かかる構成は、リンクアーム機構３Ａ，３Ｂやガイドレール５Ａ，５Ｂの過熱を防止するうえで好適である。【００４４】
このように、本実施形態の構成によれば、搬送装置Ａによって加熱されたワークＷを搬送する場合においても、ワークＷからの熱を効率よくトランスポートチャンバＢの外部に排出することが可能になる。このため、リンクアーム機構３Ａ，３Ｂおよびガイドレール５Ａ，５Ｂが熱膨張によって大きな寸法誤差を生じるまで過熱されることはない。したがって、ハンド４Ａ，４Ｂは正確に作動させられ、真空雰囲気下において加熱されたワークＷを精度良く、かつ、スムーズに搬送することができる。また、旋回ベース２やリンクアーム機構３Ａ，３Ｂの回転部分に設けられた真空シール２４１，２４２が気密性を損なうこともない。【００４５】
以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明の範囲は上記した実施形態に限定されるものではない。本発明に係る搬送装置の各部の具体的な構成は、発明の思想から逸脱しない範囲内で種々な変更が可能である。【００４６】
上記実施形態では、冷却手段としては、これを構成する冷媒循環路を、真空室を形成する壁の内側に設けたが、これに代えて、冷媒循環路を、真空室を形成する壁の外側に設けてもよい。また、冷却手段の構成としては、真空室を形成する壁の外側または壁内に放熱フィンを設け、当該放熱フィンをファン冷却するようにしてもよい。【００４７】
さらに、直線移動機構としては、ハンドを案内するためのガイドレールを備えない構成を採用してもよい。また、直線移動機構として、リンクアーム機構に代えて、ガイドレール上に移動可能に支持されたハンドをベルトによって駆動させる機構を採用してもよい。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【手続補正書】
【提出日】平成22年1月12日(2010.1.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空室内に配置され、固定ベースと、この固定ベースに対して旋回可能に保持された旋回ベースと、この旋回ベースに支持された直線移動機構と、この直線移動機構に支持されたハンドとを備え、
上記旋回ベースの所望の旋回位置において上記直線移動機構の作動により上記ハンドに載置したワークを水平に保持しながら搬送する搬送装置であって、
上記旋回ベースもしくは上記直線移動機構の下面側の適部に熱輻射面が設けられており、
上記真空室を形成する壁のうち、上記旋回ベースの下面側と対向する壁の少なくとも一部に熱吸収面が設けられていることを特徴とする、搬送装置。
【請求項２】
上記旋回ベースもしくは上記直線移動機構の上面側の適部に上記ハンド側からの熱を反射する熱反射面が設けられている、請求項１に記載の搬送装置。
【請求項３】
上記熱吸収面は、上記真空室の底面または上記固定ベースの上記真空室への露出面の少なくとも一部に設けられている、請求項１に記載の搬送装置。
【請求項４】
上記熱吸収面によって吸収された熱を外部に放出する冷却手段が設けられている、請求項１に記載の搬送装置。
【請求項５】
上記冷却手段は、上記熱吸収面が設けられた部材に接するように取り回された冷媒循環路を含んで構成されている、請求項４に記載の搬送装置。
【請求項６】
上記直線移動機構は、複数のアームを連結して構成されたリンクアーム機構として構成されており、
このリンクアーム機構の上面側の適部に上記熱反射面が設けられるとともに、上記リンクアーム機構の下面側の適部に上記熱輻射面が設けられている、請求項２に記載の搬送装置。
【請求項７】
上記直線移動機構は、上記旋回ベースに支持され、かつ、上記ハンドを所定の方向に移動案内するためのガイドレールをさらに備えており、
上記ガイドレールと上記ハンドとの間に上記熱反射面が設けられている、請求項６に記載の搬送装置。
【国際調査報告】
2008120294.tif 000009
2008120294.tif 000010
2008120294.tif 000011
2008120294.tif 000012