【事件の表示】
　上記当事者間の特許第４９９６６０２号発明「硬質膜被覆された物体およびその製造方法」の特許無効審判事件について、次のとおり審決する。
【結　論】
　特許第４９９６６０２号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１〜５〕、〔６〜１０〕について訂正することを認める。
　特許第４９９６６０２号の請求項１〜３、６〜１０に係る発明についての特許を無効とする。
　特許第４９９６６０２号の請求項４及び５についての本件審判請求を却下する。
　審判費用は、被請求人の負担とする。
【理　由】
第１　手続の経緯
　特許第４９９６６０２号（以下「本件特許」という。）についての手続の概要は、以下のとおりである。
　平成１８年　７月　４日　国際出願（優先権主張外国庁受理２００５年７月４日、ドイツ）
　平成２４年　５月１８日　特許権の設定登録
　平成２８年　３月　１日　本件審判請求
　平成２８年　４月　７日　請求人：手続補正書
　平成２８年　７月１３日　被請求人：審判事件答弁書、訂正請求書
　平成２８年　８月１２日　被請求人：手続補正書
　平成２８年１０月１８日　審理事項通知
　平成２９年　１月１０日　請求人：口頭審理陳述要領書
　平成２９年　１月１０日　被請求人：口頭審理陳述要領書
　平成２９年　１月２４日　口頭審理
　平成２９年　２月１４日　審決の予告
　平成２９年　５月２３日　被請求人：訂正請求書、上申書
　平成２９年　６月　５日　手続補正指令書（方式）
　平成２９年　７月１０日　被請求人：手続補正書（方式）
第２　訂正の適否
１　訂正の内容 
　手続補正書（方式）によって補正された平成２９年５月２３日付け訂正請求書による訂正（以下、「本件訂正」という。）の内容は、以下のとおりである。なお、下線は訂正箇所を示す。
（１）訂正事項１
　特許請求の範囲の請求項１の
「単層または多層の層構造を有する硬質膜被覆された物体であり、前記層構造はプラズマ励起を行わずにＣＶＤにより作成されたＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を少なくとも１つ有し」を、
「単層または多層の層構造を有する硬質膜被覆された物体であり、前記層構造はプラズマ励起を行わ
ない
型の
（２）訂正事項２
　特許請求の範囲の請求項１の
「前記Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９３の化学量論係数および０．４１２ｎｍ〜０．４０５ｎｍの格子定数ａfccを有する立方晶ＮａＣｌ構造の単相の層として存在し」を、
「前記Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、ｘ＞０．７５〜ｘ＝
０．９０
０．４０８５
（３）訂正事項３
　特許請求の範囲の請求項１の
「前記Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、その主要な相がｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９３の化学量論係数および０．４１２ｎｍ〜０．４０５ｎｍの格子定数ａfccを有する立方晶ＮａＣｌ構造を有するＴｉ1-xＡｌxＮからなり、かつ別の相としてＴｉ1-xＡｌxＮがウルツ鉱構造として、および／またはＮａＣｌ構造のＴｉＮxとして含有されている多相の層であり」を、
「前記Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、その主要な相がｘ＞０．７５〜ｘ＝
０．９０
０．４０７５
（４）訂正事項４
　特許請求の範囲の請求項１の
「Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の塩素含有率が、０．０５〜０．９原子％の範囲である、
硬質膜被覆された物体」を、
「Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の塩素含有率が、０．０５〜０．９原子％の範囲であ
り
前記Ｔｉ
1-x
Ａｌ
x
Ｎ硬質皮膜の硬度の値が、２５００ＨＶ〜３１５０ＨＶの範囲である
（５）訂正事項５
　特許請求の範囲の請求項４を削除する。
（６）訂正事項６
　特許請求の範囲の請求項５を削除する。
（７）訂正事項７
　特許請求の範囲の請求項６の
「ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９３の化学量論係数を有する少なくとも１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する」を、
「ｘ＞０．７５〜ｘ＝
０．９０
　なお、本件訂正の請求がされたため、平成２８年７月１３日付けの訂正の請求は、特許法第１３４条の２第６項の規定により、取り下げられたものとみなす。
２　判断
（１）請求項１〜５からなる一群の請求項に係る訂正
　ア　訂正事項１について
　訂正事項１は、訂正前の請求項１の「プラズマ励起を行わずにＣＶＤにより作成されたＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」との、物の発明が製造方法によって特定され、発明が明確であることという要件を欠く特定事項を、製造方法によらずに特定して、発明が明確であることという要件を満たすように訂正しようとするものであるから、特許法第１３４条の２第１項ただし書き第３号に規定する明瞭でない記載の釈明を目的とするものである。
　訂正事項１に関する記載として、願書に添付された明細書（以下、「本件特許明細書」という。）には、「本発明による硬質膜被覆された物体は、前記層構造がプラズマ励起を行わずにＣＶＤにより作成された少なくとも１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜により被覆されて」いること（段落【００１０】）が記載されており、「プラズマ励起を行わないＣＶＤ型のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」は、本件特許明細書に実質的に記載されているといえるから、訂正事項１は、願書に添付された明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された事項の範囲内においてなされたものであり、新規事項の追加に該当せず、特許法第１３４条の２第９項で準用する第１２６条第５項に規定する要件を満足する。
　そして、訂正事項１は、そのカテゴリーや対象、目的を変更するものでないから、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものに該当せず、特許法第１３４条の２第９項で準用する第１２６条第６項に規定する要件を満足する。
　イ　訂正事項２について
　訂正事項２は、訂正前の請求項１の「立方晶ＮａＣｌ構造の単相の層として存在」する「Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」の化学量論係数ｘが「ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９３」であることを「ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９０」に減縮し、さらに、格子定数ａfccが「０．４１２ｎｍ〜０．４０５ｎｍ」であることを「０．４１２ｎｍ〜０．４０８５ｎｍ」に減縮するものであるから、特許法第１３４条の２第１項ただし書き第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そして、訂正前の請求項１には、「立方晶ＮａＣｌ構造の単相の層として存在」する「Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」の化学量論係数ｘが「ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９３」であること、及び、格子定数ａfccが「０．４１２ｎｍ〜０．４０５ｎｍ」であることが記載されており、これらの数値範囲を減縮することで新たな技術事項が追加されるものでもないから、訂正事項２は、願書に添付された明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された事項の範囲内においてなされたものであり、新規事項の追加に該当せず、特許法第１３４条の２第９項で準用する第１２６条第５項に規定する要件を満足する。
　また、訂正事項２は、訂正前の請求項１を減縮するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものに該当せず、特許法第１３４条の２第９項で準用する第１２６条第６項に規定する要件を満足する。
　ウ　訂正事項３について
　訂正事項３は、訂正前の請求項１の「多相の層」の主要な相である「立方晶ＮａＣｌ構造を有するＴｉ1-xＡｌxＮ」の化学量論係数ｘが「ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９３」であることを「ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９０」に減縮し、さらに、格子定数ａfccが「０．４１２ｎｍ〜０．４０５ｎｍ」であることを「０．４１２ｎｍ〜０．４０７５ｎｍ」に減縮するものであるから、特許法第１３４条の２第１項ただし書き第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そして、訂正前の請求項１には、「多相の層」の主要な相である「立方晶ＮａＣｌ構造を有するＴｉ1-xＡｌxＮ」の化学量論係数ｘが「ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９３」であること、及び、格子定数ａfccが「０．４１２ｎｍ〜０．４０５ｎｍ」であることが記載されており、これらの数値範囲を減縮することで新たな技術事項が追加されるものでもないから、訂正事項３は、願書に添付された明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された事項の範囲内においてなされたものであり、新規事項の追加に該当せず、特許法第１３４条の２第９項で準用する第１２６条第５項に規定する要件を満足する。
　また、訂正事項３は、訂正前の請求項１を減縮するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものに該当せず、特許法第１３４条の２第９項で準用する第１２６条第６項に規定する要件を満足する。
　エ　訂正事項４について
　訂正事項４は、訂正前の請求項１の「前記Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」の硬度について、その値が「２５００ＨＶ〜３１５０ＨＶの範囲」であることを特定するものであるから、特許法第１３４条の２第１項ただし書き第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そして、訂正前の請求項４には、「前記Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の硬度の値は、２５００ＨＶ〜３８００ＨＶの範囲である」ことが記載されており、この数値範囲を減縮することで新たな技術事項が追加されるものでもないから、訂正事項４は、願書に添付された明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された事項の範囲内においてなされたものであり、新規事項の追加に該当せず、特許法第１３４条の２第９項で準用する第１２６条第５項に規定する要件を満足する。
　また、訂正事項４は、訂正前の請求項１を減縮するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものに該当せず、特許法第１３４条の２第９項で準用する第１２６条第６項に規定する要件を満足する。
　オ　訂正事項５について
　訂正事項５は、訂正前の請求項４を削除するものであるから、特許法第１３４条の２第１項ただし書き第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そして、訂正事項５は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり、また、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないから、特許法第１３４条の２第９項で準用する第１２６条第５項及び第６項に規定する要件を満足する。
　カ　訂正事項６について
　訂正事項６は、訂正前の請求項５を削除するものであるから、特許法第１３４条の２第１項ただし書き第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そして、訂正事項６は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり、また、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないから、特許法第１３４条の２第９項で準用する第１２６条第５項及び第６項に規定する要件を満足する。
　キ　一群の請求項について
　訂正前の請求項２〜５は、訂正前の請求項１を引用しているから、訂正事項１〜６に係る本件訂正は、一群の請求項１〜５に対して請求されたものであり、特許法第１３４条の２第３項の規定を満足する。
（２）請求項６〜１０からなる一群の請求項に係る訂正
　ア　訂正事項７について
　訂正事項７は、訂正前の請求項６の「Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」の化学量論係数ｘが「ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９３」であることを「ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９０」に減縮するものであるから、特許法第１３４条の２第１項ただし書き第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そして、訂正前の請求項６には、「Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」の化学量論係数ｘが「ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９３」であることが記載されており、この数値範囲を減縮することで新たな技術事項が追加されるものでもないから、訂正事項７は、願書に添付された明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された事項の範囲内においてなされたものであり、新規事項の追加に該当せず、特許法第１３４条の２第９項で準用する第１２６条第５項に規定する要件を満足する。
　また、訂正事項７は、訂正前の請求項６を減縮するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものに該当せず、特許法第１３４条の２第９項で準用する第１２６条第６項に規定する要件を満足する。
　イ　一群の請求項について
　訂正前の請求項７〜１０は、訂正前の請求項６を引用しているから、訂正事項７に係る本件訂正は、一群の請求項６〜１０に対して請求されたものであり、特許法第１３４条の２第３項の規定を満足する。
３　訂正の結論
　以上のとおり、本件訂正は、特許法第１３４条の２第１項ただし書き第１号及び第３号に掲げる事項を目的とするものであり、かつ、同条第３項、並びに、同条第９項において準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合するので、訂正後の請求項〔１〜５〕、〔６〜１０〕について訂正を認める。
第３　当事者の請求及び主張 
１　請求人の請求及び主張
（１）請求人は、「特許第４９９６６０２号の請求項１〜１０に係る発明についての特許を無効にする。審判費用は被請求人の負担とする。」との審決を求めた。
（２）証拠
　請求人が提出した証拠は、以下のとおりである。
甲第１号証：特開２００１−３４１００８号公報
甲第２号証：Yi Jun Liu et al., Using Simultaneous Deposition and Rapid Growth to Produce Nanostructured Composite Films of AlN/TiN by Chemical Vapor Deposition, Journal of the American Ceramic Society, 1996, Vol.79, No.5, p.1335-1342
甲第３号証：米国特許第６０４００１２号明細書
甲第４号証：R.Prange et al., Plasma-enhanced CVD of (Ti,Al)N films from chloridic precursors in a DC glow discharge, Surface and Coatings Technology, 2000, Vol.133-134, p.208-214
甲第５号証：「Jahresbericht 2005」, Fraunhofer-Institut fur Keramische Technologien und Systeme, p.56
甲第６号証：ＪＩＳ Ｚ ２２４４（２００９）ビッカース硬さ試験−試験方法
甲第７号証：独立行政法人物質・材料研究機構他，透過型電子顕微鏡のＥＤＳ分析のエネルギー分解能を一桁向上−新開発の分光装置により、ナノ組織の超高精度分析を実現−，平成２１年９月２５日記者会配布資料
甲第８号証：１９９７年から２０００年４月に販売された「エネルギー分散形Ｘ線分析装置ＥＭＡＸ−７０００シリーズ」のカタログ，堀場製作所
甲第９号証：特開２００１−１１６３２号公報
甲第１０号証：ヨーロッパ特許出願第０６７７７５７４号の２０１４年４月１６日付け異議手続資料
甲第１１号証：Rainer Cremer et al., Determination of the cubic to hexagonal structure transition in the metastable system TiN-AlN, Journal of Analytical Chemistry, 1998, Vol.361, p.642-645
甲第１２号証：鈴木壽編著，「超硬合金と焼結硬質材料 基礎と応用」，丸善株式会社，昭和６１年２月２０日，第２０５−２０６頁
甲第１３号証：I.Endler et al., Novel Aluminum-Rich Ti1-xAlxN Coatings by LPCVD, ２００８年４月２８日から５月２日に米国サンディエゴで開催されたＩＣＭＣＴＦの講演資料
　なお、甲第１号証〜甲第６号証は、審判請求書とともに、甲第７号証〜甲第１３号証は、平成２９年１月１０日付け口頭審理陳述要領書とともに提出された。
（３）請求人の主張の概要は、以下のとおりである。
　審判請求書及び口頭審理陳述要領書の記載によれば、請求人は、訂正前の請求項１〜１０に係る特許について、以下の無効理由１〜３を主張するものと認められる。
［無効理由１］
ア　本件特許の請求項１の記載は、以下の（ア）〜（ウ）の点において、特許法第３６条第６項第２項に違反しているから、本件特許の請求項１〜５に係る特許は、特許法第１２３条第１項第４号の規定により無効とされるべきものである。
（ア）請求項１の「プラズマ励起を行わずにＣＶＤにより作成されたＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」の記載はプロダクト・バイ・プロセス・クレームに該当し、特許発明の物を具体的に把握することができない。
（イ）請求項１の「０．４１２ｎｍ〜０．４０５ｎｍの格子定数ａfccを有する」との記載において、格子定数の数値範囲を規定したことの意味が不明であり、特許発明の意義を把握することができない。
（ウ）請求項１の「主要な相」に関して、「別な相」の存在割合がどの程度を超えなければ、立方晶が「主要な相」であると言えるのかが不明である。
イ　本件特許の請求項８の記載は、「前で直接に」との記載の意味が不明である点において、特許法第３６条第６項第２項に違反しているから、本件特許の請求項８に係る特許は、特許法第１２３条第１項第４号の規定により無効とされるべきものである。
［無効理由２］
ア　本件特許の請求項１について、以下の（ア）〜（ウ）の点において、その記載が特許法第３６条第６項第１号に違反しているか、本件特許明細書の記載が特許法第３６条第４項第１号に違反しているから、本件特許の請求項１〜５に係る特許は、特許法第１２３条第１項第４号の規定により無効とされるべきものである。
（ア）請求項１に係る発明は、化学量論係数をｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９３に特定しているところ、本件特許明細書には、化学量論係数をｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９３の範囲に限定した理由が記載されておらず、化学量論係数の数値を限定することによって、何が、いかにして解決されたかを把握することができない。
（イ）請求項１に係る発明は、格子定数ａfccを０．４１２ｎｍ〜０．４０５ｎｍに特定しているところ、格子定数の数値を限定することによって、何が、いかにして解決されたかが本件特許明細書に記載されていない。
（ウ）請求項１に係る発明において、選択的に記載された硬質皮膜の第２の構成では、「その主要な相がｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９３の化学量論係数」と記載されているが、本件特許明細書の「例２」には、ｘの測定値は記載されておらず、また、「例２」以外には、第２の構成をサポートする記載がない。
イ　本件特許の請求項４について、請求項４に係る発明は、硬度を２５００ＨＶ〜３８００ＨＶの範囲に特定しているところ、本件特許明細書には、２５００ＨＶ〜３８００ＨＶの範囲に限定した理由が記載されておらず、また、「例１」の硬さ測定が適切に行われていない点において、その記載が特許法第３６条第６項第１号に違反しているか、本件特許明細書の記載が特許法第３６条第４項第１号に違反しているから、本件特許の請求項４に係る特許は、特許法第１２３条第１項第４号の規定により無効とされるべきものである。
ウ　本件特許の請求項５について、請求項５に係る発明は、Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜が、アモルファスの層成分を０〜３０質量％含有するを特定しているところ、本件特許明細書には、アモルファスの層成分を０〜３０質量％含有する硬質皮膜は記載されておらず、特許法第３６条第６項第１号に違反しているか、本件特許明細書の記載が特許法第３６条第４項第１号に違反しているから、本件特許の請求項５に係る特許は、特許法第１２３条第１項第４号の規定により無効とされるべきものである。
［無効理由３］
ア　本件特許の請求項１、２、６、７及び１０に係る発明は、甲第１号証に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許法第２９条第１項の規定に違反して特許されたものであり、特許法第１２３条第１項第２号の規定により無効とされるべきものである。
イ　本件特許の請求項３に係る発明は、甲第１号証に記載された発明と実質的に同一であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許法第２９条第１項の規定に違反して特許されたものであるか、あるいは、甲第４号証の記載を参酌すれば、甲第１号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できた発明であるから、特許法第２９条第２項の規定に違反して特許されたものであり、特許法第１２３条第１項第２号の規定により無効とされるべきものである。
ウ　本件特許の請求項４に係る発明は、甲第１号証に記載された発明と実質的に同一であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許法第２９条第１項の規定に違反して特許されたものであるか、あるいは、甲第４号証及び甲第５号証の記載を参酌すれば、甲第１号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できた発明であるから、特許法第２９条第２項の規定に違反して特許されたものであり、特許法第１２３条第１項第２号の規定により無効とされるべきものである。
エ　本件特許の請求項８及び９に係る発明は、甲第１号証に記載された発明と実質的に同一であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許法第２９条第１項の規定に違反して特許されたものであるか、あるいは、甲第２号証及び甲第３号証の記載を参酌すれば、甲第１号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できた発明であるから、特許法第２９条第２項の規定に違反して特許されたものであり、特許法第１２３条第１項第２号の規定により無効とされるべきものである。
２　被請求人の反論
（１）被請求人は、「本件審判の請求は成り立たない。審判費用は請求人の負担とする。」との審決を求めた。
（２）証拠
　被請求人が提出した証拠は、以下のとおりである。
乙第１号証：I.Endler et al., Novel TiAlN and TiAlCN Coatings by LPCVD, ２０１０年８月２４日〜２６日にドイツ国ダルムシュタットで開催されたＭＥＳ ２０１０の講演資料
乙第２号証：S.PalDey et al., Single layer and multilayer wear resistant coatings of (Ti,Al)N: a review, Materials Science and Engineering, 2003, Vol.A342, p.58-79
乙第３号証：I.Endler et al., Novel aluminum-rich Ti1-xAlxN coatings by LPCVD, Surface  Coatings Technology, 2008, Vol.203, p.530-533
乙第４号証：I.Endler et al., Aluminium-rich Ti1-xAlxN coatings by CVD, Proc. Euro PM 2006, 2006.10, Vol.1, p.219-224
乙第５号証：David Holec et al., Phase stability and alloy-related trends in Ti-Al-N, Zr-Al-N and Hf-Al-N systems from first principles, Surface  Coatings Technology, 2011, Vol.206, p.1698-1704
　なお、乙第１号証〜乙第４号証は、審判事件答弁書とともに、乙第５号証は、平成２９年１月１０日付け口頭審理陳述要領書とともに提出された。
第４　本件発明
　本件訂正により訂正された請求項１〜３、６〜１０に係る発明（以下、「本件発明１〜３、６〜１０」ということもある。）は、訂正特許請求の範囲の請求項１〜１０に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
【請求項１】
　単層または多層の層構造を有する硬質膜被覆された物体であり、前記層構造はプラズマ励起を行わないＣＶＤ型のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を少なくとも１つ有し、
　前記Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９０の化学量論係数および０．４１２ｎｍ〜０．４０８５ｎｍの格子定数ａfccを有する立方晶ＮａＣｌ構造の単相の層として存在し、かつＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の塩素含有率が、０．０５〜０．９原子％の範囲であるか、または、
　前記Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、その主要な相がｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９０の化学量論係数および０．４１２ｎｍ〜０．４０７５ｎｍの格子定数ａfccを有する立方晶ＮａＣｌ構造を有するＴｉ1-xＡｌxＮからなり、かつ別の相としてＴｉ1-xＡｌxＮがウルツ鉱構造として、および／またはＮａＣｌ構造のＴｉＮxとして含有されている多相の層であり、かつＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の塩素含有率が、０．０５〜０．９原子％の範囲であり、
前記Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の硬度の値が、２５００ＨＶ〜３１５０ＨＶの範囲である硬質膜被覆された物体。
【請求項２】
　前記Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の塩素含有率が、０．１〜０．５原子％の範囲であることを特徴とする、請求項１記載の硬質膜被覆された物体。
【請求項３】
　前記Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の酸素含有率が、０．１〜５原子％の範囲であることを特徴とする、請求項１記載の硬質膜被覆された物体。
【請求項４】（削除）
【請求項５】（削除）
【請求項６】
　ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９０の化学量論係数を有する少なくとも１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する、単層または多層の層構造を有する硬質膜被覆された物体の製造方法であって、反応器中、前駆体としてチタンハロゲン化物、アルミニウムハロゲン化物および反応性の窒素化合物を使用し、これらを高温で混合して、プラズマ励起を行わずにＣＶＤにより７００℃〜９００℃の範囲の温度で物体を被覆することを特徴とする、少なくとも１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する、単層または多層の層構造を有する硬質膜被覆された物体の製造方法。
【請求項７】
　前記反応性窒素化合物として、ＮＨ3および／またはＮ2Ｈ4を使用することを特徴とする、請求項６記載の方法。
【請求項８】
　前記前駆体を反応器中、堆積帯域の前で直接に混合することを特徴とする、請求項６記載の方法。
【請求項９】
　前記前駆体混合物を、１５０℃〜９００℃の範囲の温度で実施することを特徴とする、請求項６記載の方法。
【請求項１０】
　前記被覆を、１０2Ｐａ〜１０5Ｐａの範囲の圧力で実施することを特徴とする、請求項６記載の方法。
第５　無効理由１についての当審の判断
１　本件発明１について
（１）特許請求の範囲の記載は、特許を受けようとする発明が明確であることが必要なところ、本件発明１の「プラズマ励起を行わないＣＶＤ型のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」との特定事項、「０．４１２ｎｍ〜０．４０８５ｎｍ」または「０．４１２ｎｍ〜０．４０７５ｎｍ」の「格子定数ａfcc」を有するとの特定事項、及び、「主要な相」との特定事項によって、本件発明１が明確であるかを検討する。
（２）「プラズマ励起を行わないＣＶＤ型のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」との特定事項の検討
　ア　「プラズマ励起を行わないＣＶＤ型のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」の「ＣＶＤ型」は、皮膜を特定する用語として、一般的に使用されているものでないから、「プラズマ励起を行わないＣＶＤ型のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」が、どのような特徴を有している「Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」を示しているのかが明確でない。
　イ　「プラズマ励起を行わないＣＶＤ型のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」が、「Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」が、プラズマ励起を行わないＣＶＤ膜であることを示していると仮定して検討すると、プラズマ励起を行わないＣＶＤ膜は、「プラズマ励起を行わない」とのＣＶＤによる製造方法に関する技術的な特徴が付された記載であるため、「プラズマ励起を行わないＣＶＤ型のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」は、プラズマ励起を行わないＣＶＤとの製造方法によって「Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」を特定するものといえる。
　そうしてみると、上記特定事項は、本件発明１の「硬質膜被覆された物体」という物の発明に関して、その「Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」を、プラズマ励起を行わないＣＶＤによる製造方法によって特定するものといえる。
　ここで、物の発明に係る特許請求の範囲にその物を製造方法が記載されている場合において、当該特許請求の範囲の記載が特許法第３６条第６項第２号にいう「発明が明確であること」という要件に適合するといえるのは、出願時において当該物をその構造又は特性により直接特定することが不可能であるか、又はおよそ実際的でないという事情（以下「不可能・非実際的事情」という）が存在するときに限られると解するのが相当である（最高裁第二小法廷平成２７年６月５日　平成２４年（受）第１２０４号、平成２４年（受）第２６５８号）。
　上記不可能・非実際的事情に関して、被請求人は、蒸着手段の違いによって特性が異なるし、蒸着手段が異なっても成膜条件を調整することで類似した特性が得られる場合もあるので、従来知られたパラメータや特性で特定することは不可能であり、およそ実際的でない旨を主張している（審判事件答弁書の７．III．（２）Ｂ．ア．）。さらに、被請求人は、請求項１に記載された化学量論係数、結晶構造、格子定数及び塩素含有率の数値範囲は、プラズマ励起を行わないＣＶＤ法を必須とすることのみで得られる値であるので、プラズマ励起を行わないＣＶＤ法と特定している旨、及び、プラズマ励起を行わないＣＶＤ法により、「層組成の均一性」、「低内部圧縮応力」及び「高い弾性モジュール」の物性を特定する旨を主張している（口頭審理陳述要領書の５．（２））。
　しかしながら、被請求人の「請求項１に記載された化学量論係数、結晶構造、格子定数及び塩素含有率の数値範囲は、プラズマ励起を行わないＣＶＤ法を必須とすることのみで得られる値であるので、プラズマ励起を行わないＣＶＤ法と特定している」旨の主張は、請求項１に係る発明が、化学量論係数、結晶構造、格子定数及び塩素含有率といった、構造又は特性により直接特定できることを意味し、プラズマ励起を行わないＣＶＤとの製造方法で特定することに、本件特許に係る出願時に不可能・非実際的事情があるとはいえない。
　また、審判事件答弁書における不可能・非実際的事情に関する主張は、蒸着手段や成膜条件によって、得られる特性が異なることを単に主張しているにすぎないから、プラズマ励起を行わないＣＶＤとの製造方法が、「層組成の均一性」、「低内部圧縮応力」及び「高い弾性モジュール」の物性を特定する旨の主張がなされても、これら物性により直接特定することが、本件特許に係る出願時に不可能・非実際的事情があったと理解できない。
　さらに、不可能・非実際的事情に関する上記主張は、製造方法による特定が一定の特性を意味しないことを主張するものでもあるから、当該主張によれば、プラズマ励起を行わないＣＶＤとの製造方法による特定はそもそも不明確なことになる。
　したがって、「Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」を、プラズマ励起を行わないＣＶＤとの製造方法によって特定することに、不可能・非実際的事情が存在すると認められないから、「プラズマ励起を行わないＣＶＤ型のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」との特定事項は明確であるとはいえない。
　ウ　被請求人は、「プラズマ励起を行わないＣＶＤ型のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」との特定事項は、Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の状態を示すことで構造を特定しているので、製造方法によって特定するものであるとはいえない旨を主張している（上申書の４．ＩＩ．（２）ア．）。
　しかしながら、プラズマ励起を行わないＣＶＤ膜は、物の構造又は特性を特定する用語として、その概念が定着しているものであるといえないから、被請求人の上記主張は妥当でない。
（３）「格子定数ａfcc」に関する特定事項の検討
　「０．４１２ｎｍ〜０．４０８５ｎｍ」または「０．４１２ｎｍ〜０．４０７５ｎｍ」の「格子定数ａfcc」を有するとの特定事項は、結晶構造に関わる特定であり、本件発明１の「立方晶ＮａＣｌ構造の単相の層として存在」する「Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」あるいは「立方晶ＮａＣｌ構造を有するＴｉ1-xＡｌxＮからな」る「主要な相」の結晶構造を特定するものであるから、「０．４１２ｎｍ〜０．４０８５ｎｍ」または「０．４１２ｎｍ〜０．４０７５ｎｍ」の「格子定数ａfcc」を有するとの特定事項は明確である。
（４）「主要な相」との特定事項の検討
　「主要」とは、「おもだっていて重要なこと」（広辞苑第六版、株式会社岩波書店）を意味する用語であるから、本件発明１の硬質皮膜における「主要な相」とは、「おもだっていて重要な相」、すなわち、課題を解決するために重要な相を意味することは明らかである。
　したがって、本件発明１の「主要な相」との特定事項は明確である。
（５）まとめ
　上記（３）及び（４）で検討したとおり、本件発明１の「０．４１２ｎｍ〜０．４０８５ｎｍ」または「０．４１２ｎｍ〜０．４０７５ｎｍ」の「格子定数ａfcc」を有するとの特定事項、及び、「主要な相」との特定事項は明確であるが、上記（２）で検討したとおり、本件発明１の「プラズマ励起を行わないＣＶＤ型のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」との特定事項は不明確であるから、本件発明１は明確であるといえない。また、本件発明１を引用する本件発明２〜３も同様に明確であるといえない。
２　本件発明８について
　本件発明８の「前で直接に」との特定事項が、本件発明８を不明確にしているかを検討する。
　請求項８には、「前記前駆体を反応器中、堆積帯域の前で直接に混合すること」と記載されており、前記特定事項の「前」が、「堆積帯域」の前の帯域を示していることは明らかであるし、前記特定事項の「直接」が、前駆体の混合を直接行うことを示していることも明らかであるから、前記特定事項が本件発明８を不明確にしているとはいえない。
　したがって、本件発明８は明確である。
３　無効理由１のまとめ
　本件特許の特許請求の範囲の請求項１〜３の記載は、特許法第３６条第６項第２号に適合していない。
　本件特許の特許請求の範囲の請求項８の記載は、特許法第３６条第６項第２号に適合している。
第６　無効理由２についての当審の判断
１　本件発明１について
（１）サポート要件の検討
ア　本件特許の発明の解決しようとする課題は、本件特許明細書の「本発明は、少なくとも１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する単層または多層の層構造により硬質膜被覆された物体において、実質的に改善された耐摩耗性および耐酸化性を達成するという課題に基づいている。」（段落【０００８】）との記載からみて、耐摩耗性及び耐酸化性を改善した硬質膜被覆された物体を提供することといえる。
　そうしてみると、本件発明１が、発明の詳細な説明に記載された発明であるというためには、本件発明１が、発明の詳細な説明に記載された発明であり、発明の詳細な説明の記載により、当業者が上記課題を解決できると認識できる範囲のものであること、すなわち、本件発明１が、発明の詳細な説明に記載され、かつ、耐摩耗性及び耐酸化性を改善した硬質膜被覆された物体であることを、発明の詳細な説明の記載により当業者が認識できる範囲のものであることを要する。
　そこで、本件発明１の「単層または多層の層構造を有する硬質膜被覆された物体であり、前記層構造はプラズマ励起を行わないＣＶＤ型のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を少なくとも１つ有し」、「前記Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９０の化学量論係数および０．４１２ｎｍ〜０．４０８５ｎｍの格子定数ａfccを有する立方晶ＮａＣｌ構造の単相の層として存在し」、「前記Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の硬度の値が、２５００ＨＶ〜３１５０ＨＶの範囲である硬質膜被覆された物体」に関する発明（以下、「本件発明１Ａ（単相のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する硬質膜被覆された物体）」という。）、及び、「単層または多層の層構造を有する硬質膜被覆された物体であり、前記層構造はプラズマ励起を行わないＣＶＤ型のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を少なくとも１つ有し」、「前記Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、その主要な相がｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９０の化学量論係数および０．４１２ｎｍ〜０．４０７５ｎｍの格子定数ａfccを有する立方晶ＮａＣｌ構造を有するＴｉ1-xＡｌxＮからなり、かつ別の相としてＴｉ1-xＡｌxＮがウルツ鉱構造として、および／またはＮａＣｌ構造のＴｉＮxとして含有されている多相の層であり」、「前記Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の硬度の値が、２５００ＨＶ〜３１５０ＨＶの範囲である硬質膜被覆された物体」に関する発明（以下、「本件発明１Ｂ（多相のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する硬質膜被覆された物体）」という。）のそれぞれが、発明の詳細な説明に記載され、かつ、耐摩耗性及び耐酸化性を改善した硬質膜被覆された物体であることを、発明の詳細な説明の記載により当業者が認識できる範囲のものであるかについて検討する。
イ　本件発明１Ｂ（多相のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する硬質膜被覆された物体）について検討すると、本件特許明細書の発明の詳細な説明の例２（段落【００２６】〜【００２８】）には、ＮａＣｌ構造（立方晶）のＴｉ1-xＡｌxＮ相とウルツ鉱構造（六方晶）のＡｌＮ相との不均一混合物が存在し、立方晶のＴｉ1-xＡｌxＮ相の格子定数がａfcc＝０．４０７５ｎｍであるＴｉ1-xＡｌxＮ層で被覆したＳｉ３Ｎ４切削用セラミックが記載され、その硬度が３１５０ＨＶ［０．０１］であって、空気中で１０５０℃まで耐酸化性であること、及び、該Ｔｉ1-xＡｌxＮ層は公知の標準的なＣＶＤ法により析出されることが記載されている。
　しかしながら、例２には、ＮａＣｌ構造のＴｉ1-xＡｌxＮ相の化学量論係数ｘについて記載されていない。
　そして、発明の詳細な説明に「６７％までのＡｌＮ含有率でＮａＣｌ構造を有する単相のＴｉＡｌＮ層を製造することが可能である。・・・このような立方晶のＴｉＡｌＮ層は、比較的高い硬度および耐摩耗性を有している。しかし６７％を超えるＡｌＮ含有率では、立方晶および六方晶のＴｉＡｌＮからなる混合物が生じ、かつ７５％を超えるＡｌＮ割合では、それより軟質で、かつ耐摩耗性ではない六方晶のウルツ鉱構造が生じるのみである。」（段落【０００２】）と記載されているように、Ｔｉ1-xＡｌxＮは、化学量論係数ｘが大きくなると立方晶となり難いとの技術常識が存在するといえるが、このような技術常識を考慮しても、例２のＮａＣｌ構造のＴｉ1-xＡｌxＮ相の化学量論係数ｘの具体的な値は不明である。
　したがって、ＮａＣｌ構造のＴｉ1-xＡｌxＮ相の化学量論係数ｘの具体的な値が不明な例２の記載に基づいて、「立方晶ＮａＣｌ構造を有するＴｉ1-xＡｌxＮからな」る「主要な相」が、「ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９０の化学量論係数」である本件発明１Ｂ（多相のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する硬質膜被覆された物体）が、そもそも発明の詳細な説明に記載されているといえない。
ウ　被請求人は、例２の格子定数０．４０７５ｎｍからヴェガード則を適用して算出する立方晶のＴｉ1-xＡｌxＮの化学量論ｘは０．９０未満となるから、本件発明１Ｂ（多相のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する硬質膜被覆された物体）は、発明の詳細な説明に記載され、かつ、上記課題を解決できると、当業者が認識できる旨を主張している（上申書の４．ＩＩ．（２）イ．）。
　しかしながら、ヴェガード則は化学量論係数から物性値を簡易且つ近似的に見積るものにすぎず、また、Ｔｉ1-xＡｌxＮ膜の格子定数は、化学量論係数ｘだけでなく、膜中の応力等によっても変化することから、例２で測定したＮａＣｌ構造のＴｉ1-xＡｌxＮ相の格子定数に基づいて、例２における化学量論係数を直ちに決定できない。
　よって、被請求人の主張は採用できない。
　また、被請求人が主張するように、例２の立方晶のＴｉ1-xＡｌxＮの化学量論ｘが０．９０未満の特定な値であると仮定しても、Ｔｉ1-xＡｌxＮの化学量論係数ｘが大きくなると立方晶となり難いとの技術常識からみて、本件発明１Ｂ（多相のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する硬質膜被覆された物体）の立方晶ＮａＣｌ構造を有するＴｉ1-xＡｌxＮからなる主要な相が、上記特定な値を超えて０．９０までの範囲については、発明の詳細な説明に記載されているといえない。
エ　本件発明１Ａ（単相のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する硬質膜被覆された物体）について検討すると、本件特許明細書の発明の詳細な説明の例１（段落【００２１】〜【００２５】）には、立方晶のＴｉ1-xＡｌxＮ相のみからなり、格子定数がａfcc＝０．４０８５ｎｍであり、化学量論係数がｘ＝０．９０であるＴｉ1-xＡｌxＮ層で被覆したＷＣ／Ｃｏ超硬合金スローアウェイチップが記載され、その硬度が３０７０ＨＶ［０．０５］であって、空気中で１０００℃まで耐酸化性であること、Ｔｉ1-xＡｌxＮ層は熱ＣＶＤ法により析出されることが記載されているから、プラズマ励起を行わないＣＶＤ型のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有し、前記Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、０．９０の化学量論係数および０．４０８５ｎｍの格子定数ａfccを有する立方晶ＮａＣｌ構造の単相の層として存在する硬質膜被覆された物体が耐酸化性を有していると認識できる。
　また、例１の硬度３０７０ＨＶ［０．０５］は、下記（２）イで検討するとおり、Ｔｉ1-xＡｌxＮ層自体の硬度を示しておらず、ＷＣ／Ｃｏ超硬合金スローアウェイチップを含めた硬度であると認められるところ、ＷＣ／Ｃｏ超硬合金スローアウェイチップの硬度が１４００〜１８００ｋｇｆ／ｍｍ２（甲第１２号証の表１．３３参照）であることを考慮すると、Ｔｉ1-xＡｌxＮ層自体の硬度は、３０７０ＨＶより大きくなると認められる。そして、７５％を超えるＡｌＮ割合の六方晶ＴｉＡｌＮ層の硬度（２５００ＨＶ未満、乙第２号証の図４参照）より大きければ、耐摩耗性を有しているといえるから、例１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、耐摩耗性も改善しているといえる。
　さらに、上記イで検討した、Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、化学量論係数ｘが大きくなると立方晶となり難いとの技術常識に従えば、Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の化学量論係数ｘが小さい方が立方晶となり易いといえ、また、Ｔｉ1-xＡｌxＮの格子定数ａfccは、Ｔｉ1-xＡｌxＮの化学量論係数ｘが小さいほど、ＴｉＮの格子定数に近づき、大きくなる傾向があるから、上記例１で化学量論係数がｘ＝０．９０、格子定数がａfcc＝０．４０８５ｎｍのＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜が立方晶ＮａＣｌ構造の単相の層として存在することが確認されていれば、化学量論係数がｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９０の範囲、あるいは、格子定数がａfcc＝０．４１２ｎｍ〜０．４０８５ｎｍの範囲のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜が立方晶ＮａＣｌ構造の単相の層として存在できると、当業者であれば当然に認識できるものである。
　そうしてみると、本件発明１Ａ（単相のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する硬質膜被覆された物体）については、発明の詳細な説明に記載され、かつ、耐摩耗性及び耐酸化性を改善した硬質膜被覆された物体であることを、発明の詳細な説明の記載により当業者が認識できる範囲のものであるといえる。
オ　上記イ及びウで検討したとおり、本件発明１Ｂ（多相のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する硬質膜被覆された物体）は、発明の詳細な説明に記載された発明といえないから、上記エの検討にかかわらず、本件発明１及び本件発明１を引用する本件発明２〜３は、発明の詳細な説明に記載された発明といえない。
（２）実施可能要件の検討
ア　本件発明１Ｂ（多相のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する硬質膜被覆された物体）の実施可能要件について検討すると、上記（１）イで検討したとおり、本件発明１Ｂ（多相のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する硬質膜被覆された物体）は、発明の詳細な説明に記載されているといえないから、発明の詳細な説明には、本件発明１Ｂ（多相のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する硬質膜被覆された物体）を当業者が実施できる程度に記載されているとはいえない。
イ　本件発明１Ａ（単相のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する硬質膜被覆された物体）の実施可能要件について検討すると、発明の詳細な説明の例１（段落【００２１】〜【００２５】）には、立方晶のＴｉ1-xＡｌxＮ相のみからなり、格子定数がａfcc＝０．４０８５ｎｍであり、化学量論係数がｘ＝０．９０であるＴｉ1-xＡｌxＮ層で被覆したＷＣ／Ｃｏ超硬合金スローアウェイチップであって、その硬度が３０７０ＨＶ［０．０５］であるものを製造することが記載されている。
　そして、Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の化学量論係数ｘが小さい方が立方晶となり易いといえ、また、Ｔｉ1-xＡｌxＮの格子定数ａfccは、Ｔｉ1-xＡｌxＮの化学量論係数ｘが小さいほど、ＴｉＮの格子定数に近づき、大きくなる傾向があることを考慮すれば、本件発明１Ａ（単相のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する硬質膜被覆された物体）は、上記例１の記載から当業者が格別の試行錯誤を要することなく実施できるものといえる。
　この点に関して、請求人は、本件特許明細書の例１の「厚さ６μｍの灰黒色の層」に対して測定された「３０７０ＨＶ［０．０５］」は、試験力０．０５ｋｇｆとビッカース硬度から算出されるくぼみの対角線長さの平均値（０．００５５ｍｍ）と、膜厚６μｍ（０．００６ｍｍ）との関係が、ＪＩＳ Ｚ ２２４４（甲第６号証）の「試料（試験片）又は試験対象層の厚さは、くぼみの対角線長さの１．５倍以上」の規定を満足していないため、例１の硬さ測定は適切に行われていないから実施可能要件を満たしていない旨を主張している（審判請求書の第１１頁第４〜１２行）。
　しかしながら、ＪＩＳ Ｚ ２２４４（甲第６号証）に記載された事項を踏まえると、例１の層のみの硬さを測定することに、当業者の過度の試行錯誤を要するとまではいえないから、例１の硬度測定は層のみの硬さを適切に測定していないとしても、実施可能要件違反であるとはいえない。
　よって、請求人の上記主張は採用できない。
ウ　上記アで検討したとおり、発明の詳細な説明には、本件発明１Ｂ（多相のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する硬質膜被覆された物体）を当業者が実施できる程度に記載されているとはいえないから、上記イの検討にかかわらず、本件特許明細書の発明の詳細な説明には、本件発明１及び本件発明１を引用する本件発明２〜３を当業者が実施できる程度に記載されているとはいえない。
２　無効理由２のまとめ
　本件特許の特許請求の範囲の請求項１〜３の記載は、特許法第３６条第６項第１号に適合していない。
　また、本件特許明細書の発明の詳細な説明の記載は、特許法第３６条第４項第１号に適合していない。
第７　無効理由３についての当審の判断
１　甲号証に記載された事項
（１）甲第１号証
　本件特許に係る出願の優先日前に頒布された刊行物である甲第１号証には以下の事項が記載されている。なお、下線は当審が付した（以下、同様である。）。
ア　「【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、切削工具、耐摩工具等として用いる被覆工具に関し、より詳しくは、窒化チタンアルミニウム膜を被覆してなる工具
イ　「【０００６】
本発明に係る窒化チタンアルミニウム膜被覆工具は、窒化チタンアルミニウム膜が
結晶構造を立方晶とし、六方晶が混在していない膜とすることで、結晶性が高く緻密で耐摩耗性の優れた窒化チタンアルミニウム膜が実現
【０００７】また、本発明は、前記窒化チタンアルミニウム膜中にアルミニウム含有量が０．３〜６０質量％であることが好ましく、１０〜５０質量％が更に好ましく、２０〜４５質量％であることが最も好ましい。
窒化チタンアルミニウム膜中のアルミニウム含有量が０．３〜６０質量％であることにより、膜の耐酸化性が向上し、更に良好な性能が実現されており
ウ　「【０００９】
本発明は、前記窒化チタンアルミニウム膜が、原料ガスとして少なくともチタンのハロゲン化ガス、アルミニウムのハロゲン化ガスおよびＮＨ
３
ガスを用い、７００〜９００℃で熱ＣＶＤ法により成膜することにより製造される。
エ　「【００１２】
【実施例】次に本発明の被覆工具を実施例によって具体的に説明するが、これら実施例により本発明が限定されるものではない。ＷＣ７２質量％、ＴｉＣ８質量％、（Ｔａ、Ｎｂ）Ｃ１１質量％、Ｃｏ９質量％の組成よりなるスローアウェイチップの
切削工具用超硬合金基板を熱ＣＶＤ炉内にセットし
温度：７００〜９００℃、原料ガスをＴｉＣｌ
４
ガス：０．０５〜４．０ｖｏｌ％、ＡｌＣｌ
３
ガス：０．０３〜２．５ｖｏｌ％、ＮＨ
３
ガス：０．０５〜３．０ｖｏｌ％、の範囲で変化させ、残部はＨ
２
とＮ
２
のキャリヤーガスとして毎分６０００ｍｌだけＣＶＤ炉内に流し、成膜圧力：２．７〜１５．９ＫＰａの範囲で変化させた条件で反応させることにより厚さ８μｍの、様々な窒化チタンアルミニウム膜を成膜し、表１に示す試料番号１〜３２の本発明例を得た。
【００１３】
【表１】
【００１４】図１は試料番号１１の工具側面平坦部の皮膜部分を測定面として、理学電気株株式会社製のＸ線回折装置、ＲＵ−２００ＢＨを用いて２θ−θ走査法により２θ＝１０〜１４５゜の範囲で測定した、本発明品の代表的Ｘ線回折パターンである。Ｘ線源にはＣｕＫα１線（λ＝０．１５４０５ｎｍ）を用い、バックグラウンドは装置に内蔵されたソフトにより除去した。図１のＸ線回折パターンから求めた本発明品の窒化チタンアルミニウム膜の各ピークの２θ値とＸ線回折強度および各２θ値から求めた格子定数とを表２にまとめて示す。図１と表２より、
本発明品の窒化チタンアルミニウム膜はＸ線回折パターンが立方晶構造のＸ線回折パターンと良く一致していることがわかる。
・・・
【００１６】膜の残留応力は理学電気（株）製のＸ線回折装置（ＲＵ−２００ＢＨ）と応力測定用ソフト（Ｍａｎｕａｌ Ｎｏ．ＭＪ１３０２６Ａ０１）を用いてΨ一定法（θ−２θ連動スキャン）により測定した。
作製した膜の組成は堀場製作所製のエネルギー分散形Ｘ線分析装置（ＥＤＸ）ＥＭＡＸ−７０００を用い測定した。
分析した本発明品の窒化チタンアルミニウム膜のＡｌ含有量およびＣｌ含有量並びに残留応力の符号の測定結果を表１に併記する。
（２）甲第２号証
　本件特許に係る出願の優先日前に頒布された刊行物である甲第２号証には以下の事項が記載されている。
ア　「
　　Fig.2 Detailed diagram of the reactor.」
イ　「Streams of the metal chlorides containing He as the carrier gas were mixed with NH3 containing He in a premixing zone of the reactor, which was kept at 733 K to avoid solidification of adduct compounds, AlCl3(NH3)x and TiCl4(NH3)y. ・・・ Details of the reactor system are schematically shown in Fig.2. The reactor consisted of three zones: a premixing zone, a deposition zone, and a particle collection zone.」（第１３３６頁右欄第３３行〜第１３３７頁左欄第７行、当審仮訳：ＡｌＣｌ3(ＮＨ3)x及びＴｉＣｌ4(ＮＨ3)yの付加物化合物の固化を避けるために７３３Ｋに保持した反応容器の予混合ゾーンにおいて、キャリヤーガスであるＨｅを含む金属塩化物の流れを、Ｈｅを含むＮＨ3と混合した。・・・反応容器の詳細は図２に模式的に示す。反応容器は予混合ゾーン、堆積ゾーン及び粒子捕獲ゾーンの３領域から構成される。）
（３）甲第３号証
　本件特許に係る出願の優先日前に頒布された刊行物である甲第３号証には以下の事項が記載されている。
　ア　「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　イ　「The reducing gas is preferably chosen from among nitrogen and ammonia, ammonia being preferred. The mixing operation is generally performed at a temperature of 523 to 773 K.」（第６欄第３４〜３７行、当審仮訳：還元ガスは、好ましくは窒素およびアンモニアから選択され、アンモニアが好ましい。混合操作は、一般に５２３〜７７３Ｋの温度で行われる。）
　ウ　「According to FIG. 1, the reactor 1 comprises a chemical vapour deposition enclosure 2 having a deposition chamber 3 making it possible to treat the substrate or substrates at the desired temperature, and a chlorination chamber 4 or intermediate chamber in which is placed an aluminium and titanium alloy 5 in solid form, the chlorination chamber e.g. being in the form of a tube sealed by a perforated base, which is supplied with chlorine by the pipe 6.
　A not shown mixing zone is also provided for receiving the products resulting from the chlorination process and hydrogen, reducing gas, such as ammonia, and optionally a carrier gas such as argon, which are preferably laterally injected via the pipe 7.」（第８欄第４１〜５３行、当審仮訳：図１によると、反応容器１は、希望温度での基板又は複数の基板を処理できる蒸着室３がある化学気相成長包囲体２、及び、塩素接触チャンバ４又は固体状態のアルミニウムチタン合金を保持する中間チャンバ、例えば、穿孔された基盤に密閉された管としてのパイプ６から塩素が供給される塩素接触チャンバから構成される。明示されていない混合領域は、塩素接触工程での生成物と、パイプ７を介して遅れて供給される水素、アンモニアのような還元ガス、任意にアルゴンのようなキャリアガスを受け入れるために設けられている。）
（４）甲第４号証
　本件特許に係る出願の優先日前に頒布された刊行物である甲第４号証には以下の事項が記載されている。
　ア　「(Ti,Al)N films have been deposited on nitrided hot work tool steel AISI H11 (0.38%C, 5.0%Cr, 1.2%Mo, 0.4%V) and ISO K 15 cemented carbide insert tips by means of PECVD in a pulsed DC glow discharge from TiCl4-AlCl3-H2-N2-Ar gaseous mixtures.」(第２０９頁左欄第３３〜３７行、当審仮訳：(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ膜は、ＴｉＣｌ４−ＡｌＣｌ３−Ｈ２−Ｎ２−Ａｒ混合ガスから、パルス直流ブロー放電のＰＥＣＶＤによって、窒化熱間工具鋼ＡＩＳＩ Ｈ１１（０．３８％Ｃ、５．０％Ｃｒ、１．２％Ｍｏ、０．４％Ｖ）及びＩＳＯ Ｋ１５超硬合金インサートチップ上に堆積された。)
　イ　「The layers contained between 0.5 and 2.0 at.% oxygen.」(第２０９頁右欄下から第１１〜１０行、当審仮訳：層は０．５〜２．０ａｔ％の酸素を含む。)
　ウ　「
Fig.6. Microhardness of the Ti1-xAlxN films as a function of their Al content.」（第２１２頁）
（５）甲第５号証
　甲第５号証には以下の事項が記載されている。
　ア　「Bei PVD-Schichten bleibt die fur die hohe Harte verantwortliche kubische Struktur nur bis zu einem x=0,65 erhalten.」（第５６頁中欄第３６〜４０行、当審仮訳：ＰＶＤコーティングでは、ｘ＝０．６５までの範囲で高硬度をもたらす立方晶昌構造が維持される。）
（６）甲第７号証
　甲第７号証には以下の事項が記載されている。
ア　「２．分析機能を付与した透過型電子顕微鏡は、高い空間分解能で極微細組織解析を行えることから、幅広い研究分野で基盤的なツールとなっている。Ｘ線分析はその組成分析に広く用いられているが、従来の半導体検出器はエネルギー分解能が１３０−１４０ｅＶと低いため、近接するＸ線ピークを分解できなかった。」（第１頁概要の第８〜１１行）
イ　「［２］半導体検出器（ＳＳＤ）では分離できないピークの組
例えば次のピークの組は、エネルギー分解能１３０ｅＶ程度のＳＳＤでは分離できないが、エネルギー分解能が１０ｅＶだと全て分離して観察できる。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」（第９頁【補足試料】）
（７）甲第８号証
　甲第８号証は１９９７年から２０００年４月に販売された「エネルギー分散形Ｘ線分析装置ＥＭＡＸ−７０００シリーズ」のカタログであって、検出器に関して、以下の事項が記載されている。
ア　「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」（第９頁）
２　当審の判断
（１）甲第１号証に記載された発明
ア　甲第１号証には、上記１（１）アによれば、窒化チタンアルミニウム膜を被覆してなる被覆工具が記載されており、上記１（１）イによれば、前記窒化チタンアルミニウム膜は、結晶構造を立方晶とし、六方晶が混在していない膜であるといえ、さらに、上記１（１）ウによれば、前記窒化チタンアルミニウム膜が、原料ガスとして少なくともチタンのハロゲン化ガス、アルミニウムのハロゲン化ガスおよびＮＨ３ガスを用い、７００〜９００℃で熱ＣＶＤ法により成膜することが記載されている。さらに、甲第１号証には、上記１（１）エによれば、熱ＣＶＤ炉内に基板をセットし、ＴｉＣｌ４ガス、ＡｌＣｌ３ガス及びＮＨ３ガスの原料ガスをＣＶＤ炉内に流して、温度７００〜９００℃、成膜圧力２．７〜１５．９ＫＰａの範囲で反応させることで、窒化チタンアルミニウム膜を成膜することが記載され、表１の試験番号３１に注目すると、前記窒化チタンアルミニウム膜の結晶構造はＸ線回折パターンから立方晶であり、堀場製作所製のエネルギー分散形Ｘ線分析装置（ＥＤＸ）ＥＭＡＸ−７０００を用い測定した窒化チタンアルミニウム膜の組成が、Ａｌ含有量が８０．８質量％、Ｃｌ含有量が０．７質量％であることが記載されている。
イ　上記記載事項を、本件請求項１の記載ぶりに則して整理すると、甲第１号証には、「熱ＣＶＤ法により成膜した窒化チタンアルミニウム膜が被覆してなる被覆工具であって、前記窒化チタンアルミニウム膜は、堀場製作所製のエネルギー分散形Ｘ線分析装置（ＥＤＸ）ＥＭＡＸ−７０００を用いて測定した窒化チタンアルミニウム膜の組成が、Ａｌ含有量８０．８質量％、Ｃｌ含有量０．７質量％であり、結晶構造が立方晶であり、六方晶が混在していない膜である、被覆工具」の発明（以下、「甲１発明１」という。）が記載されているといえる。
ウ　上記記載事項を、本件請求項６の記載ぶりに則して整理すると、甲第１号証には、「窒化チタンアルミニウム膜で被覆してなる被覆工具の製造方法であって、前記窒化チタンアルミニウム膜は、堀場製作所製のエネルギー分散形Ｘ線分析装置（ＥＤＸ）ＥＭＡＸ−７０００を用いて測定した組成が、Ａｌ含有量８０．８質量％、Ｃｌ含有量０．７質量％であり、熱ＣＶＤ炉内にＴｉＣｌ４ガス、ＡｌＣｌ３ガス及びＮＨ３ガスの原料ガスを流し、熱ＣＶＤにより７００〜９００℃の温度範囲、２．７〜１５．９ＫＰａの圧力範囲で、前記窒化チタンアルミニウム膜を被覆する被覆工具の製造方法」の発明（以下、「甲１発明２」という。）が記載されているといえる。
（２）本件発明１の検討
ア　本件発明１と甲１発明１を対比すると、甲１発明１の「熱ＣＶＤ法により成膜した窒化チタンアルミニウム膜」、「窒化チタンアルミニウム膜が被覆してなる被覆工具」は、それぞれ、本件発明１の「プラズマ励起を行わないＣＶＤ型のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」、「Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を少なくとも１つ有」する「単層または多層の層構造を有する硬質膜被覆された物体」に相当する。
　したがって、本件発明１と甲１発明１とは、
「単層または多層の層構造を有する硬質膜被覆された物体であり、前記層構造はプラズマ励起を行わないＣＶＤ型のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を少なくとも１つ有する硬質膜被覆された物体」
の点で一致し、以下の点で一応相違している。
（相違点１）
　本件発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、「ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９０の化学量論係数および０．４１２ｎｍ〜０．４０８５ｎｍの格子定数ａfccを有する立方晶ＮａＣｌ構造の単相の層として存在し、かつＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の塩素含有率が、０．０５〜０．９原子％の範囲である」、あるいは、「その主要な相がｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９０の化学量論係数および０．４１２ｎｍ〜０．４０７５ｎｍの格子定数ａfccを有する立方晶ＮａＣｌ構造を有するＴｉ1-xＡｌxＮからなり、かつ別の相としてＴｉ1-xＡｌxＮがウルツ鉱構造として、および／またはＮａＣｌ構造のＴｉＮxとして含有されている多相の層であり、かつＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の塩素含有率が、０．０５〜０．９原子％の範囲である」のに対して、甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、「堀場製作所製のエネルギー分散形Ｘ線分析装置（ＥＤＸ）ＥＭＡＸ−７０００を用いて測定した窒化チタンアルミニウム膜の組成が、Ａｌ含有量８０．８質量％、Ｃｌ含有量０．７質量％であり、結晶構造が立方晶であるであり、六方晶が混在していない膜である」点。
（相違点２）
　本件発明１は、Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の硬度の値が２５００ＨＶ〜３１５０ＨＶの範囲であることを特定しているのに対して、甲１発明１は、Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の硬度は明示されていない点。
イ　相違点１について検討する。
（ア）甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の組成について検討する。
　上記１（６）ア及びイによれば、Ｘ線分析装置の半導体検出器のエネルギー分解能は１３０〜１４０ｅＶであり、窒素のＫα１ピークとチタンのＬα１ピークのＸ線のエネルギー差６０ｅＶより大きいため、チタン存在下で窒素のエネルギー分散形Ｘ線分析ができないことは技術常識といえるし、上記１（７）アによれば、甲１発明１で用いられている堀場製作所製のエネルギー分散形Ｘ線分析装置ＥＭＡＸ−７０００の検出器のエネルギー分解能が１３８ｅＶ〜１４９ｅＶであるといえる。
　これらのことを考慮すると、甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の組成分析では、窒素は測定されておらず、甲１発明１のＡｌ含有量及びＣｌ含有量は、Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜のアルミニウム、チタン及び塩素の合計量を１００質量％とした値を示しているといえる。
　そうしてみると、甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜のアルミニウム、チタン及び塩素の合計量に対するＡｌ、Ｔｉ、Ｃｌのそれぞれの含有量は、８０．８質量％、１８．５質量％、０．７質量％となり、Ａｌの原子量を２７．０、Ｔｉの原子量を４７．９、Ｃｌの原子量を３５．５として原子％に換算すると、Ａｌ含有量８８．０６原子％、Ｔｉ含有量１１．３６原子％、Ｃｌ含有量０．５８原子％となる。
　そして、本件発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の化学量論係数ｘは、ＡｌとＴｉの原子数の和を１としたときのＡｌの原子数の割合であるから、甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜のＡｌとＴｉの含有量から化学量論係数ｘを算出すると、その化学量論係数ｘは０．８９（＝８８．０６／（８８．０６＋１１．３６））であり、本件発明１の「ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９０の化学量論係数」を満足している。
　また、本件発明１の「塩素含有率」は具体的な定義がなされていないところ、「Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の塩素含有率」と記載されていることから、Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を構成する原子数に対するＣｌ原子の割合を示していると理解される。そこで、甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の塩素含有量（０．５８原子％）を、窒素含有量がアルミニウム含有量（８８．０６原子％）とチタン含有量（１１．３６原子％）の合計と等しくなることを考慮して、本件発明１の「塩素含有率」に換算すると、甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の塩素含有率は０．２９原子％（＝０．５８／（８８．０６×２＋１１．３６×２）×１００）となるから、本件発明１の「Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の塩素含有率が、０．０５〜０．９原子％の範囲である」ことを満足している。
（イ）甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜が立方晶の単相の膜であるかを検討する。
　Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、化学量論係数ｘが大きくなると立方晶となり難いとの技術常識（本件特許明細書の段落【０００２】）を踏まえると、甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、化学量論係数ｘが０．８９であり、ＡｌＮ成分が多いため、立方晶のＴｉ1-xＡｌxＮ相以外に、安定に形成し得る相は、六方晶のＴｉ1-xＡｌxＮ相や六方晶のＡｌＮ相といえる。
　しかしながら、甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、六方晶が混在していない膜であるから、甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、立方晶のＴｉ1-xＡｌxＮの単相の膜であるといえる。
（ウ）甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の格子定数について検討する。
　Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の格子定数は、その皮膜の組成やその皮膜を成膜する際の条件によって定まるものであるところ、上記（ア）及び（イ）で検討したように、本件発明１と甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、「ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９０の化学量論係数を有する立方晶ＮａＣｌ構造の単相の層として存在し、かつＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の塩素含有率が、０．０５〜０．９原子％の範囲である」点で実質的に相違するものではない。
　しかも、本件特許明細書の段落【００１０】、【００１４】、【００１５】及び【００１８】の記載によれば、本件発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、前駆体としてチタンハロゲン化物、アルミニウムハロゲン化物およびＮＨ3を使用し、これらを高温で混合して、７００℃〜９００℃の範囲の温度、１０2Ｐａ〜１０5Ｐａの範囲の圧力でプラズマ励起を用いずにＣＶＤにより物体に被覆することで形成されるものであるところ、甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、上記１（１）エによれば、温度が７００〜９００℃の範囲、成膜圧力：２．７〜１５．９ＫＰａの範囲で、原料ガスとして、ＴｉＣｌ4ガス、ＡｌＣｌ3ガス、ＮＨ3ガスを用いて、熱ＣＶＤにより、切削工具用超硬合金基板に被覆して形成されたものであるから、両者のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は実質的に同じ条件の成膜方法によって形成されたものである。
　これらの事項を踏まえると、甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜における、化学量論係数ｘが０．８９である立方晶のＴｉ1-xＡｌxＮの格子定数ａfccは、本件発明１の「０．４１２ｎｍ〜０．４０８５ｎｍの格子定数ａfcc」を満たしていると認められる。
（エ）したがって、甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、「ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９０の化学量論係数および０．４１２ｎｍ〜０．４０８５ｎｍの格子定数ａfccを有する立方晶ＮａＣｌ構造の単相の層として存在し、かつＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の塩素含有率が、０．０５〜０．９原子％の範囲である」といえるから、相違点１は実質的な相違点といえない。
ウ　上記相違点２について検討すると、上記イ（ア）及び（イ）で検討したとおり、本件発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜と、甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、化学量論係数、塩素含有率、結晶構造で何ら相違するものでないし、また、上記イ（ウ）で検討したように、本件発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜と、甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、実質的に同じ条件の成膜方法によって形成されたものであるから、甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜も、硬度の値が、２５００ＨＶ〜３１５０ＨＶの範囲であるものと認められる。
　したがって、相違点２は実質的な相違点といえない。
エ　以上で検討したとおり、上記相違点１及び上記相違点２は実質的な相違点といえず、本件発明１は、甲第１号証に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないものである。
（３）本件発明２の検討
　本件発明２は、本件発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の塩素含有率を「０．１〜０．５原子％の範囲である」ことに特定するものである。
　本件発明２と甲１発明１を対比すると、上記（２）イ（ア）で検討したとおり、甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の塩素含有率は０．２９原子％であるから、新たに、実質的な相違点が存在するものとはならない。
　したがって、本件発明２は、甲第１号証に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないものである。
（４）本件発明３の検討
　本件発明３は、本件発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の「酸素含有率が、０．１〜５原子％の範囲である」ことに特定するものである。
　本件発明３と甲１発明１を対比すると、本件発明３は、Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の酸素含有率が０．１〜５原子％の範囲であることを特定しているのに対して、甲１発明１は、Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の酸素含有率は明示されていない点で一応相違する（以下、「相違点３」という。）。
　上記相違点３について検討すると、上記（２）イ（ウ）で検討したように、本件発明３のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜と、甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、実質的に同じ条件の成膜方法によって形成されたものであるから、甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜も、酸素含有率が０．１〜５原子％の範囲であるものと認められる。
　したがって、相違点３は実質的な相違点といえず、本件発明３は、甲第１号証に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないものである。
（５）本件発明６の検討
ア　本件発明６と甲１発明２を対比すると、甲１発明２の「熱ＣＶＤ」、「窒化チタンアルミニウム膜」、「窒化チタンアルミニウム膜が被覆してなる被覆工具の製造方法」、「ＴｉＣｌ4ガス」、「ＡｌＣｌ3ガス」、「ＮＨ3ガス」は、それぞれ、本件発明６の「プラズマ励起を行わずにＣＶＤ」、「Ｔｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜」、「少なくとも１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する、単層または多層の層構造を有する硬質膜被覆された物体の製造方法」、「チタンハロゲン化物」、「アルミニウムハロゲン化物」、「反応性の窒素化合物」に相当する。
　また、甲１発明２において、「熱ＣＶＤ炉内にＴｉＣｌ4ガス、ＡｌＣｌ3ガス及びＮＨ3ガスの原料ガスを流」すことにより、前記原料ガスが「高温で混合」していることは明らかである。
　したがって、本件発明６と甲１発明２とは、
「少なくとも１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する、単層または多層の層構造を有する硬質膜被覆された物体の製造方法であって、反応器中、前駆体としてチタンハロゲン化物、アルミニウムハロゲン化物および反応性の窒素化合物を使用し、これらを高温で混合して、プラズマ励起を行わずにＣＶＤにより７００℃〜９００℃の範囲の温度で物体を被覆することを特徴とする、少なくとも１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜を有する、単層または多層の層構造を有する硬質膜被覆された物体の製造方法」
の点で一致し、以下の点で一応相違している。
（相違点４）
　本件発明６のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、「ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９０の化学量論係数」を有しているのに対して、甲１発明２のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜は、「堀場製作所製のエネルギー分散形Ｘ線分析装置（ＥＤＸ）ＥＭＡＸ−７０００を用いて測定した窒化チタンアルミニウム膜の組成が、Ａｌ含有量８０．８質量％、Ｃｌ含有量０．７質量％」である点。
イ　上記相違点４について検討すると、上記（２）イ（ア）で検討したと同様に、甲１発明２の「堀場製作所製のエネルギー分散形Ｘ線分析装置（ＥＤＸ）ＥＭＡＸ−７０００を用いて測定した窒化チタンアルミニウム膜の組成が、Ａｌ含有量８０．８質量％、Ｃｌ含有量０．７質量％」であるＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜の化学量論係数ｘは０．８９であり、本件発明６の「ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９０の化学量論係数」を満足している。
ウ　以上で検討したとおり、相違点４は実質的な相違点といえず、本件発明６は、甲第１号証に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないものである。
（６）本件発明７の検討
　本件発明７は、本件発明６の反応性窒素化合物を「ＮＨ3および／またはＮ2Ｈ4」に特定するものである。
　本件発明７と甲１発明２を対比すると、上記（５）で検討したとおり、甲１発明２は、ＮＨ3ガスを使用するものであるから、新たに、実質的な相違点が存在するものとはならない。
　したがって、本件発明７は、甲第１号証に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないものである。
（７）本件発明８の検討
　本件発明８は、本件発明６の前駆体の混合に関して、「反応器中、堆積帯域の前で直接に混合する」ことに特定するものである。
　本件発明８と甲１発明２を対比すると、本件発明８は、前駆体を「反応器中、堆積帯域の前で直接に混合」しているのに対して、甲１発明２は、前駆体を混合する場所は明示されていない点で相違する（以下、「相違点５」という。）。
　上記相違点５を検討すると、上記１（２）ア及びイに記載されているように、ＣＶＤにおいて、前駆体を反応器中の堆積帯域の前で直接に混合することは、通常行われている手段であるから、甲１発明２においても、熱ＣＶＤ炉内に導入されたＴｉＣｌ４ガス、ＡｌＣｌ３ガス及びＮＨ３ガスの原料ガスは、堆積帯域の前で直接に混合されていると認められる。仮にそうでないとしても、当該原料ガスを堆積帯域の前で直接に混合することは、甲第２号証の上記１（２）ア及びイの記載を参酌すれば当業者が容易に想到し得たものである。
　したがって、本件発明８は、甲第１号証に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないものである。または、本件発明８は、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
（８）本件発明９の検討
　本件発明９は、本件発明６の前駆体の混合に関して、「１５０℃〜９００℃の範囲の温度で実施する」ことに特定するものである。
　本件発明９と甲１発明２を対比すると、本件発明９は、前駆体の混合を「１５０℃〜９００℃の範囲の温度で実施」しているのに対して、甲１発明２は、前駆体を混合する温度は明示されていない点で相違する（以下、「相違点６」という。）。
　上記相違点６を検討すると、前駆体の混合は通常堆積温度以下で行われるものであるし、上記１（２）ア及びイに記載されているように、ＡｌＣｌ3(ＮＨ3)x及びＴｉＣｌ4(ＮＨ3)xの付加物化合物の固化が生じない温度（７３３Ｋ（４６０℃））とすることが技術常識であるから、甲１発明２においても、前駆体の混合は１５０℃〜９００℃の範囲の温度で行われていると認められる。仮にそうでないとしても、前駆体の混合を１５０℃〜９００℃の範囲の温度で実施することは、甲第２号証の上記１（２）ア及びイの記載を参酌すれば当業者が容易に想到し得たものである。
　したがって、本件発明９は、甲第１号証に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないものである。または、本件発明９は、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
（９）本件発明１０の検討
　本件発明１０は、本件発明６の被覆を「１０2Ｐａ〜１０5Ｐａの範囲の圧力で実施すること」に特定するものである。
　本件発明１０と甲１発明２を対比すると、甲１発明２の被覆は、２．７〜１５．９ＫＰａの圧力範囲で行われていることから、新たに、実質的な相違点が存在するものとはならない。
　したがって、本件発明１０は、甲第１号証に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないものである。
（１０）被請求人の主張の検討
ア　被請求人は、ＥＤＸは窒素も分析することができるものであるから、甲第１号証に記載された「Ａｌ含有量」は、窒化チタンアルミニウム膜のＴｉとＡｌとＣｌとＮの合計量を１００質量％とした場合のＡｌ含有量であり、甲第１号証に記載された窒化チタンアルミニウム膜のＴｉとＡｌのモル比は不明である旨を主張している（答弁書の７．ＩＩＩ．（２）Ｄ．）。
　しかしながら、上記（２）イ（ア）で検討したとおり、ＥＤＸはＴｉ存在下で窒素は分析できず、甲第１号証に記載された「Ａｌ含有量」は、窒化チタンアルミニウム膜のＴｉとＡｌとＣｌの合計量を１００質量％とした場合のＡｌ含有量であると認められるから、被請求人の上記主張は採用できない。
イ　被請求人は、甲第１号証の図１のＸ線回折パターン図に、立方晶のＴｉＡｌＮ相のピーク以外の他のピークが示されていること、及び、甲第２号証の記載に基づき、非晶質ＡｌＮが８００℃未満の堆積温度で生じることが技術常識であることを根拠として、甲第１号証に記載された窒化チタンアルミニウム膜は、立方晶のＮａＣｌ構造を有する単相の膜でない旨を主張している（答弁書の７．ＩＩＩ．（２）Ｄ．、及び、上申書４．ＩＩ．（２）ウ．（ｉ））。
　しかしながら、甲第１号証の図１は、Ａｌ含有量が少ない窒化チタンアルミニウム膜である試験番号１１のＸ線回折パターン図であり、Ａｌ含有量が多い窒化チタンアルミニウム膜である試験番号３１に基づく甲１発明１においても、同様なＸ線回折パターン図となっているとは認められない。
　また、甲第２号証には、大気圧ＣＶＤにより高速析出することでＡｌＮ／ＴｉＮ複合膜を形成する方法において、非晶質ＡｌＮが８００℃未満の堆積温度で生じることが記載されているが、甲第２号証に記載された製造条件は、甲第１号証に記載された窒化チタンアルミニウム膜の製造条件と異なっていることから、甲第１号証に記載された窒化チタンアルミニウム膜が非晶質ＡｌＮを含有しているとは認められない。
　したがって、被請求人の上記主張は採用できない。
ウ　被請求人は、本件発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ皮膜を製造するためには、ＴｉＣｌ4及びＡｌＣｌ3の供給とＮＨ3の供給とは別々に行い、ＣＶＤ反応器内の堆積帯域の直前にて両気体を混合した上で、ＣＶＤ反応器内の所定圧力とし、該圧力から生じるＣＶＤ反応器内の気体の線速度が重要であり、本件特許の成膜方法は、甲第１号証に記載された成膜方法と異なっているため、本件発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ皮膜と、甲１発明１のＴｉ1-xＡｌxＮ硬質皮膜とは相違する旨を主張している（上申書４．ＩＩ．（２）ウ．（ｉｉ））。
　しかしながら、上記（７）で検討したとおり、前駆体ガスを別々にＣＶＤ反応器に導入し、堆積帯域の直前にて混合することは、通常行われているガスの供給方法であり、甲第１号証に記載された成膜方法においても、ＴｉＣｌ4ガス、ＡｌＣｌ3ガス、ＮＨ3ガスは別々に供給され、堆積帯域の直前で混合されているといえるし、上記（９）で検討したとおり、甲第１号証に記載された成膜方法の反応容器内の圧力は、本件特許の成膜方法と実質的に相違するものでない。
　さらに、ＣＶＤ反応器内の気体の線速度は、本件特許明細書で具体的に説明されていないところ、ＣＶＤ反応器内の圧力で気体の線速度が決まるとすると、本件特許の成膜方法の反応容器内圧力と実質的に相違しない甲第１号証に記載された成膜方法においても、同様な気体の線速度となっているといえる。
　そうしてみると、本件特許の成膜方法と甲第１号証に記載された成膜方法は異なっているとはいえないから、被請求人の上記主張は妥当でない。
３　無効理由３のまとめ
　本件発明１〜３、６〜１０は、甲第１号証に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないものである。
　また、本件発明８及び９は、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
第８　むすび
　以上のとおりであるから、本件特許の請求項１〜３に係る特許は、特許請求の範囲の記載が特許法第３６条第６項第１号及び第２号の規定する要件を満たしておらず、また、発明の詳細な説明の記載が同条第４項第１号の規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるし、本件特許の請求項１〜３、６〜１０に係る特許は、同法第２９条第１項第３号に該当し、同項の規定に違反し、また、同条第２項の規定に違反してなされたものである。
　本件特許の請求項４及び５に係る特許は、訂正により削除されたため、これらに対して請求人がした本件審判請求について、対象となる請求項が存在しないものとなった。
　審判に関する費用については、特許法第１６９条第２項で準用する民事訴訟法第６１条の規定により、被請求人の負担すべきものとする。
　よって、結論のとおり審決する。