【事件の表示】
　特願２０１５−５３８３９４「パターニングデバイス支持体、リソグラフィ装置及びパターニングデバイスの温度制御方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２６年　５月　８日国際公開、ＷＯ２０１４／０６７８０２、平成２７年１２月２１日国内公表、特表２０１５−５３６４７６、請求項の数（９）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
１　手続の経緯
　平成２５年１０月２１日　国際特許出願（優先権主張外国庁受理２０１２　　　　　　　　　　　　　年１０月３１日、２０１３年１月１５日、２０　　　　　　　　　　　　　１３年２月２２日、いずれもアメリカ合衆国）
　平成２８年　２月１０日　拒絶理由通知（同年２月１６日発送）
　平成２８年　５月１２日　意見書・補正書
　平成２８年１０月２０日　拒絶査定（同年１０月２４日送達）
　平成２９年　２月２２日　本件審判請求書・補正書
　平成２９年１２月２６日　拒絶理由通知（同年１２月２７日発送、以下「　　　　　　　　　　　　　当審拒絶理由」という）
　平成３０年　１月３１日　意見書・補正書
２　本願発明
　本願の請求項１−９に係る発明(以下、その順に「本願発明１」等といい、本願発明１−９をまとめて「本願発明」という。）は、平成３０年１月３１日付けの手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１−９に記載された事項により特定される発明であり、本願発明は以下のとおりの発明である。
「【請求項１】
　パターニングデバイスを支持する可動コンポーネントを備えるパターニングデバイス支持体と、
　前記可動コンポーネントの近傍に前記可動コンポーネントと離間して配置され、前記パターニングデバイスの第１の表面を横切るガス流を形成して前記パターニングデバイスの温度を変更するためにガスを供給し、動作時の使用中に前記パターニングデバイスと共に移動するガス入口と、
　前記可動コンポーネント及び前記パターニングデバイスの上方に配置され、前記ガス流を抽出し、動作中の使用時に静止状態に保たれるガス出口と、を備える、リソグラフィシステム。
　【請求項２】
　前記ガス入口は、前記パターニングデバイスの長さに近似する長さのノズルを備える、請求項１に記載のリソグラフィシステム。
　【請求項３】
　前記システム内のある位置で温度を判定する温度センサと、
　前記ガス流の特性を制御し、それによって前記パターニングデバイスの所望の温度を達成するために前記温度センサに動作可能に結合されたコントローラと、をさらに備える、請求項１に記載のリソグラフィシステム。
　【請求項４】
　前記ガス入口及び前記ガス出口は、前記可動コンポーネントの反対端に位置する、請求項１に記載のリソグラフィシステム。
　【請求項５】
　前記可動コンポーネントと前記パターニングデバイスとの上方に配置された固定プレートをさらに備え、
　前記ガス出口は前記固定プレートの開口に結合される、請求項１に記載のリソグラフィシステム。
　【請求項６】
　前記固定プレートの開口の長さは、前記可動コンポーネントの軸に沿った前記パターニングデバイスの全運動範囲に近似する、請求項５に記載のリソグラフィシステム。
　【請求項７】
　前記ガスはヘリウムを含む、請求項１に記載のリソグラフィシステム。
　【請求項８】
　前記可動コンポーネントは、前記パターニングデバイスを微動させるショートストロークモジュールである、請求項１に記載のリソグラフィシステム。
　【請求項９】
　前記可動コンポーネントに実質的に従動する第２の可動コンポーネントをさらに備え、前記ガス入口は前記第２の可動コンポーネントに結合される、請求項８に記載のリソグラフィシステム。」
３　引用文献、引用発明等
（１）引用文献１について
ア　原査定の拒絶の理由に引用された米国特許出願公開第２００９／０２０７３９４号明細書（以下「引用文献１」という。)には、図面とともに次の事項が記載されている。（注：訳は、ファミリー文献である再公表特許２００９−０７８４２２号を参考に当審が訳した。また、下線は当審が付加した。以下、同様である。）
（ア）「BACKGROUND」（背景）の記載
「［０００７］An aspect of the present invention is to provide a stage device that can suppress temperature change on a mask. Another aspect of the present invention is to provide an exposure apparatus that suppress the production of exposure defects. …」
（［０００７］本発明の態様は、
マスクの温度変化を抑制できるステージ装置
（イ）「SUMMARY」（概要）の記載
「［０００９］According to a second aspect of the present invention, there is provided a stage device that includes a mobile member having a retaining section for retaining a mask illuminated by exposure light, the mobile member retaining the mask and moving along a predetermined plane including the illumination position of the exposure light; and an intake structure including an intake port taking in gas, a first gas passage enabling flow of gases from the intake port and a supply port supplying gases flowing from the first gas passage to a surface of the mask retained on the retaining section.」
（［０００９］本発明の第２の態様に従えば、
露光光が照射されている
（ウ）「First Embodiment」（第１実施形態）の記載
「［００４０］Next the mask stage  1  will be described making reference to  FIG. 2 ,  FIG. 3  and  FIG. 4 .  FIG. 2  is a perspective view showing adjacent components to the mask stage  1 , the counter mass  18  and the second plate  13  according to this embodiment.  FIG. 3  is a perspective view enlarging a section of the mask stage  1 .  FIG. 4  is a sectional arrow view along the line A-A in  FIG. 3 .
…
［００８９］In the embodiment, the intake structure  50  including the nozzle member  54  disposed rearward of the mask M moving in the Y axis direction directions as an outlet structure (outlet mechanism, flow control section) which includes an inflow port ( 53 ) into which flows at least a portion of the gas flowing over the upper face Ma of the mask M, a second gas passage ( 52 ) into which flows gas from the inflow port ( 53 ) and an outlet port ( 51 ) from which is discharged gas flowing from the second gas passage ( 52 ). In the description below, the supply port  53  of the nozzle member  54  disposed rearward of the mask M moving in the Y axis direction is termed, as suitable, the inflow port  53 , the first gas passage  52  of the nozzle member  54  is termed the second gas passage  52 , and the intake port  51  of the nozzle member  54  is termed the outlet port  51 .
［００９０］The positional relationship relative to the mask M and structure of the nozzle member  54  functioning as an intake structure disposed at the +Y side of the mask M is the same as the positional relationship relative to the mask M and the structure of the nozzle member  54  functioning as an outlet structure disposed at the -Y side.」
（［００４０］次に、図２、図３及び図４を参照して、マスクステージ１について説明する。図２は、本実施形態に係るマスクステージ１、カウンタマス１８及び第２プレート１３近傍の斜視図、図３は、マスクステージ１の一部を拡大した斜視図、図４は、図３のＡ−Ａ線断面矢視図である。
…
［００８９］本実施形態において、Ｙ軸方向に関して移動するマスクＭの後方に配置されているノズル部材５４を含むインテーク機構５０は、マスクＭの上面Ｍａを通過した気体の少なくとも一部が流入する流入口（５３）と、流入口（５３）より流入した気体が流れる第２通気路（５２）と、第２通気路（５２）を流れた気体を排出する排気口（５１）とを含むアウトレット機構（流れ制御部）として機能する。以下の説明において、Ｙ軸方向に関して移動するマスクＭの後方に配置されているノズル部材５４の供給口５３を適宜、流入口５３、と称し、そのノズル部材５４の第１通気路５２を適宜、第２通気路５２、と称し、そのノズル部材５４の取入口５１を適宜、排気口５１、と称する。
［００９０］なお、マスクＭの＋Ｙ側に配置されている、インテーク機構として機能するノズル部材５４の構造及びマスクＭに対する位置関係と、−Ｙ側に配置されている、アウトレット機構として機能するノズル部材５４の構造及びマスクＭに対する位置関係とは、同じである。）
（エ）「Fourth Embodiment」（第４実施形態）の記載
「［０１１２］A fourth embodiment will be described hereafter. In the description below, the constituent sections which are the same or equivalent to those described in the embodiment above are denoted by the same reference numerals and description thereof will be simplified or omitted.
［０１１３］FIG. 9  shows an example of au intake structure  50 E according to a fourth embodiment. In FIG. 9 , the intake structure  50 B is provided with a passage formation member  64  enabling formation of at least a section of the intake port  51 , the first gas passage  52  and the supply port  53  with the upper face  41  of the first member  28 .
［０１１４］The passage formation member  64  is a plate member having a lower face (control face)  65  that an oppose with the upper face  41  of the first member  28 . The passage formation member  64  forms the intake port  51 , the first gas passage  52  and the supply port  53  between the lower face  65  and the upper face  41 . As shown in  FIG. 9 , the lower face  65  of the passage formation member  64  is inclined with respect to the upper face  41  and the first gas passage  52  gradually narrows from the intake port  51  towards the supply port  53 .
［０１１５］A support device  66  supports the passage formation member  64  to enable movement thereof. The support device  66  includes an actuator and can move the passage formation member  64  in order to adjust the positional relationship of the first member  28  (mask stage  1 ) and the passage formation member  64 .
［０１１６］The support device  66  can move the passage formation member  64  synchronously with the movement of the first member  28  (mask stage  1 ). The support device  66  moves the passage formation member  64  synchronously with the movement of the mask stage  1  to maintain (fix) the positional relationship of the moving mask stage  1  and the passage formation member  64 . Also in the embodiment, temperature increase of the mask M is suppressed.」
（［０１１２］第４実施形態について説明する。以下の説明において、上述の各実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
［０１１３］図９は、第４実施形態に係る
インテーク機構５０Ｅ
［０１１４］流路形成部材６４は、第１部材２８の上面４１と対向可能な下面（制御面）６５を有するプレート部材である。
流路形成部材６４は、下面６５と上面４１との間に、取入口５１、第１通気路５２及び供給口５３を形成する
［０１１５］
流路形成部材６４は、支持装置６６によって移動可能に支持
［０１１６］支持装置６６は、
第１部材２８（マスクステージ１）
支持装置６６は、移動するマスクステージ１と流路形成部材６４との位置関係が維持（固定）されるように、マスクステージ１の移動と同期して流路形成部材６４を移動する
マスクＭ
（オ）Ｆｉｇ．５、Ｆｉｇ．９は、以下のとおりである。
イ　上記ア（ウ）の記載を踏まえて図５を見ると、マスクＭの＋Ｙ側に配置されているノズル部材５４はインテーク機構として機能し、マスクＭの−Ｙ側に配置されているノズル部材５４はアウトレット機構として機能することが理解できる。
ウ　上記ア（ア）〜（エ）の記載を踏まえて上記ア（オ）の図９を見ると、１対の流路形成部材６４の一方は流路の供給側の部材として機能し、他方は流路の排出側の部材として機能することが看取できる。
エ　してみると、引用文献１には、以下の発明が開示されている。
「露光光が照射されているマスクの温度変化を抑制できるステージ装置であって、
　マスクＭを保持する第１部材２８（マスクステージ１）と、
　マスクＭの一方の側の下面６５と上面４１との間に、取入口５１、第１通気路５２及び供給口５３を形成する、インテーク機構として機能する流路形成部材６４と、
　マスクＭの他方の側の下面６５と上面４１との間に、排気口５１、第２通気路５２及び流入口５３を形成する、アウトレット機構として機能する流路形成部材６４と
　移動するマスクステージ１と流路形成部材６４との位置関係が維持（固定）されるように、マスクステージ１の移動と同期して流路形成部材６４を移動する支持装置６６とを備える、
　ステージ装置。」（以下「引用発明１」という。）
（２）引用文献２について
ア　原査定の拒絶の理由に引用された特開平１１−３１６４７号公報（以下「引用文献２」という。)には、図面とともに次の事項が記載されている。
（ア）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レチクル上に描画されたパターンをウェーハ上に投影露光する投影露光装置に関するものである。」
（イ）「【００２７】実施の形態１
図１は、本発明の実施の形態１による投影露光装置を概略的に示す構成図である。
【００２８】図１に示されるように、実施の形態１においては、エンバイロンメンタル・チャンバ２の内部、即ち、投影露光装置１の周辺環境が、クーラ３と、ヒータ４と、送風機５と、ＵＬＰＡフィルタ６とを有する空調ユニットによって、温度管理及び塵埃の除去がなされている。尚、図１における、白抜きの矢印は、エンバイロンメンタル・チャンバ２内におけるクリーンエアの流れを示す。
【００２９】また、図１に示されるように、実施の形態１の投影露光装置１は、例えば、ＡｒＦエキシマレーザ等の光源７と、
レチクル（例えば、４倍レチクル）８を載せるレチクルテーブル９
【００３０】また、実施の形態１の投影露光装置１は、設定温度の±０．１℃の範囲内に
温度調節されたクリーンエアをレチクル８に直接当てることによってレチクル８の温度を調節する第１の温調ユニット（温度調節ユニット）２０を備えている
筐体１ａ
【００３１】図２は、供給部２１を示す構成図である。図２に示されるように、供給部２１は、クーラ２４と、ヒータ２５と、送風機２６と、ＵＬＰＡフィルタ２７とを有する。また、供給部２１は、温度センサ２８と、クーラ２４及びヒータ２５の駆動回路２９と、
温度センサ２８の検出値に基づいてクーラ２４及びヒータ２５の動作を制御する制御回路３０とを有する
（ウ）図１は、以下のとおりである。
　以上によれば、引用文献２には、レチクル冷却システム中のガスの温度を判定する温度センサと制御回路が開示されている。また、上記（ア）、（イ）の記載を踏まえて図１を見ると、ガス流をとどめるためにレチクルテーブルを筐体１ａ中に保持すること、ガス流を循環する経路が看取できる。
（３）引用文献３について
ア　原査定の拒絶の理由に引用された特開２００４−６３８４７号公報（以下「引用文献３」という。)には、図面とともに次の事項が記載されている。
（ア）「【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体集積回路、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド、その他のマイクロデバイス、又はフォトマスク等をリソグラフィ技術を用いて製造する際に使用される露光装置及び露光方法、並びに該露光装置等に適用可能なステージ装置に関する。」
（イ）「【００４５】
この気流生成装置１５０は、気流制御装置１５１、
気体供給装置１５２
（ウ）「【００５８】
上述した実施形態では、環境チャンバ内を窒素ガスによりパージするとともに、ウエハ空間内に窒素ガスを用いて気流を生成するようにしたが、これらのガスとしては、
ヘリウムガス
　上記記載によれば、引用文献３には、露光装置の光学系の冷却用ガスとしてヘリウムを使用すること、気流生成装置に気体供給装置を備えることが記載されている。
　
４　対比・判断
（１）本願発明１と引用発明を対比する。
　引用発明の「マスク」は本願発明１の「可動コンポーネントを備えるパターニングデバイス支持体」に相当し、以下同様に、「第１部材２８（マスクステージ１）」は「可動コンポーネント」に、「流入口５３」が「ガス入口」に、「」が「ガス出口」に、「ステージ装置」が「リソグラフィシステム」にそれぞれ相当する。
　してみると、両者は、
「パターニングデバイスを支持する可動コンポーネントを備えるパターニングデバイス支持体と、
　前記可動コンポーネントの近傍に前記可動コンポーネントと離間して配置され、前記パターニングデバイスの第１の表面を横切るガス流を形成して前記パターニングデバイスの温度を変更するためにガスを供給し、動作時の使用中に前記パターニングデバイスと共に移動するガス入口と、
　前記可動コンポーネント及び前記パターニングデバイスの上方に配置され、前記ガス流を抽出するガス出口と、を備える、リソグラフィシステム。」
の点で一致し、以下の点で相違する。
相違点
　ガス出口に関し、「動作中の使用時に」、本願発明１では「静止状態に保たれる」のに対し、引用発明は「マスクステージ１の移動と同期して」「移動」する点。
（２）以下、上記相違点について検討する。
　引用発明は、アウトレット機構として機能する流路形成部材６４が、マスクステージ１の移動と同期して移動するところ、引用文献１には、流路形成部材６４をマスクステージ１に対して静止させることは記載されていない。引用文献１には、「［０１１６］支持装置６６は、第１部材２８（マスクステージ１）の移動と同期して、流路形成部材６４を移動可能である。」との記載があり、該記載のみによれば、流路形成部材は移動可能なもの（言い換えると、移動しなくてもよいもの）との解釈ができないわけはない。しかしながら、引用文献１のその余の記載を見ても、流路形成部材を移動しないものとする記載や示唆はなく、引用文献１全体の記載を総合すれば、引用文献１には流路形成部材を静止状態に保つ技術は開示されていないものと認める。また、引用文献２、３を見ても、流路形成部材を静止状態に保つ技術は開示されていない。そして、引用発明において、ガス出口を「動作中の使用時に静止状態に保たれる」ようになすことに動機付けがあるともいえない。
　したがって、本願発明１は、当業者であっても引用発明、引用文献２、３記載された技術事項に基づいて容易に発明をすることができたものとはいえない。
　
（２）本願発明２−９について
　本願発明２−９は、本願発明１をさらに減縮する発明であって、本願発明１と同様に、「動作中の使用時に静止状態に保たれるガス出口」との発明特定事項を備える。したがって、本願発明２−９は本願発明１と同様の理由により、当業者であっても、引用発明、引用文献２、３記載された技術事項に基づいて容易に発明をすることができたものとはいえない。
５　原査定の概要及び原査定についての判断
　原査定は、請求項１−２、４、８−９に係る発明は、引用文献１に基づいて、請求項３、５、６に係る発明は、引用文献１、２に基づいて、請求項７に係る発明は、引用文献１、３に基づいて、当業者が容易に想到し得たものであるから、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許を受けることができないというものである。
　しかしながら、本願発明１−９は、上記４のとおり、当業者であっても引用発明、引用文献２、３記載された技術事項に基づいて容易に発明をすることができたものとはいえない。したがって、原査定を維持することはできない。
６　当審拒絶理由について
　当審拒絶理由は、請求項１−９に係る発明（「動作中の使用時に静止状態に保たれるガス出口」を発明特定事項として備える発明）と、請求項１０−２２に係る発明（「ガス流の容積を増幅するガス増幅器」を発明特定事項として備える発明）は、経済産業省令で定める技術的関係を有さず、発明の単一性の要件を満たさないから、この出願は、特許法第３７条に規定する要件を満たしていないというものである。
　平成３０年１月３１日付けの手続補正により、請求項１０−２２が削除された結果、この拒絶理由は解消した。
７　むすび
　以上のとおり、本願発明１−９は、当業者が引用発明および引用文献２、３記載された技術事項に基づいて容易に発明することができたものではない。
　したがって、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。