(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
切断したガラス板の切断端面を含む端部を面取りするガラス端部処理方法であって、
処理ガスを、互いに対向する一対の電極どうしの間に画成された流路に流すとともに前記一対の電極間への電界印加によってプラズマを生成することによって前記流路を放電空間とし、前記処理ガスに前記ガラス板に対するエッチング能を付与するプラズマ生成工程と、
前記付与後の処理ガスを、前記流路からノズルヘッドに送る工程と、
前記処理ガスを前記ノズルヘッドから吹き出して、前記放電空間から離れて配置された前記ガラス板の前記端部に接触させる処理工程と、
を含むことを特徴とするガラス端部処理方法。
【請求項２】
前記処理工程では、前記処理ガスを前記ガラス板の両側から前記端部に局所的に吹き付けることを特徴とする請求項１に記載のガラス端部処理方法。
【請求項３】
前記処理工程と併行して、前記ガラス板の前記端部の周辺のガスを局所的に吸引して排気する排気工程を行なうことを特徴とする請求項１又は２に記載のガラス端部処理方法。
【請求項４】
前記処理ガスがフッ素含有成分を含み、かつ前記処理ガスに水素含有添加成分を添加したうえで、前記処理ガスを前記プラズマ生成工程に供することを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載のガラス端部処理方法。
【請求項５】
前記処理ガスが、空気、窒素、酸素、又は希ガスを含むことを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載のガラス端部処理方法。
【請求項６】
切断したガラス板の切断端面を含む端部を面取りするガラス端部処理装置であって、
互いの間に処理ガスを流す流路を画成するように対向する一対の電極を含み、これら電極間への電界印加によりプラズマを生成することによって前記流路が放電空間となり、前記処理ガスに前記ガラス板に対するエッチング能を付与するプラズマ生成部と、
前記ガラス板を前記放電空間から離して支持する支持手段と、
前記流路に連なり、前記付与後の処理ガスを吹き出して前記端部に接触させるノズルヘッドと、
を備えたことを特徴とするガラス端部処理装置。
【請求項７】
前記ノズルヘッドが、互いに対向する一対の吹出し口を有し、各吹出し口から前記処理ガスを吹き出し、前記一対の吹出し口どうしの間に前記ガラス板の前記端部が配置されることを特徴とする請求項６に記載のガラス端部処理装置。
【請求項８】
前記ノズルヘッドの前記ガラス板を向く側面には、前記ガラス板の前記端部を受け入れる凹溝部が形成され、前記一対の吹出し口が、前記凹溝部の前記側面への開口部を挟んで対向し、前記凹溝部の奥側の内周には、前記凹溝部内のガスを吸引して排気する排気口が設けられていることを特徴とする請求項７に記載のガラス端部処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、ガラス板の端部を面取り処理する方法及び装置に関し、特にミクロンオーダーの厚みの薄肉ガラスに適したガラス端部処理方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラスの製造工程では、ガラス板を長尺に連続成形した後、適宜な長さに切断している。また、液晶テレビディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（以下「ＦＰＤ」と略記する。）の製造工程では、マザーガラスと呼ばれる大型のガラス基板をテレビサイズに切断している。ガラスの切断方法としては、先端にダイヤモンドが付いたガラス切りでガラス表面にキズをつけ、このキズを起点にして破断する方法がよく使われている。この切断方法によれば、切断端面に微細なクラックが多数存在しており、そのクラックを起点に更にガラスが割れるおそれがあった。このようなクラックを取り除くために、砥石等を使って研磨することが知られている（特許文献１、２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−０４９４４９号公報
【特許文献２】特開２００９−１５７０９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
例えばＦＰＤ用のガラス板は、近年、薄肉化が進んでおり、数十μｍ〜数百μｍ程度の厚みのものが登場している。しかし、ガラスは薄くなるほど、クラックを起点とする割れを起こしやすい。厚みがミクロンオーダーになると、研磨用の砥石を接触させるだけでも簡単に割れてしまう。そのため、このような薄肉ガラスのクラックを研磨にて除去することは困難である。
本発明は、ガラス板が薄肉であっても、割れないようにしながら切断端面のクラックを除去することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記問題点を解決するために、本発明方法は、切断したガラス板の切断端面を含む端部を面取りする端部処理方法であって、
処理ガスの流路内でプラズマを生成し、前記処理ガスに前記ガラス板に対するエッチング能又は溶解能を付与するプラズマ生成工程と、
前記付与後の処理ガスを前記端部に接触させる処理工程と、
を含むことを特許請求しない特徴とし、切断したガラス板の切断端面を含む端部を面取りするガラス端部処理方法であって、
処理ガスを、互いに対向する一対の電極どうしの間に画成された流路に流すとともに前記一対の電極間への電界印加によってプラズマを生成することによって前記流路を放電空間とし、前記処理ガスに前記ガラス板に対するエッチング能を付与するプラズマ生成工程と、
前記付与後の処理ガスを、前記流路からノズルヘッドに送る工程と、
前記処理ガスを前記ノズルヘッドから吹き出して、前記放電空間から離れて配置された前記ガラス板の前記端部に接触させる処理工程と、
を含むことを特許請求する特徴とする。
ガス接触により処理するものであるから、処理工程中にガラス板が割れるのを防止できる。そして、処理ガスのエッチング作用又は溶解作用によって、ガラス板の端部を面取りしながら、切断端面のクラックを除去できる。
【０００６】
前記処理工程では、前記処理ガスを前記ガラス板の両側から前記端部に局所的に吹き付けることが好ましい。これによって、ガラス板の端部を両側から面取り処理することができ、ガラス板の端部の片側だけが面取りされて反対側が尖るのを回避できる。
【０００７】
前記処理工程と併行して、前記ガラス板の前記端部の周辺のガスを局所的に吸引して排気する排気工程を行なうことが好ましい。これによって、ガラス板の中央部が処理ガスによって損傷するのを防止又は抑制できる。
【０００８】
前記処理ガスがフッ素含有成分を含み、かつ前記処理ガスに水素含有添加成分を添加したうえで、前記処理ガスを前記プラズマ生成工程に供することにしてもよい。これによって、処理ガスにエッチング能を付与でき、ガラス板の端部をドライエッチングによって面取りできる。
【０００９】
フッ素含有成分として、ＰＦＣ（パーフルオロカーボン）やＨＦＣ（ハイドロフルオロカーボン）等のフッ素含有化合物が挙げられる。ＰＦＣとして、ＣＦ４、Ｃ２Ｆ６、Ｃ３Ｆ８、Ｃ３Ｆ８等が挙げられる。ＨＦＣとして、ＣＨＦ３、ＣＨ２Ｆ２、ＣＨ３Ｆ等が挙げられる。更に、フッ素含有成分として、ＳＦ６、ＮＦ３、ＸｅＦ２等のＰＦＣ及びＨＦＣ以外のフッ素含有化合物を用いてもよく、Ｆ２を用いてもよい。
水素含有添加成分としては、水（Ｈ２Ｏ）を用いることが好ましい。水素含有添加成分は、水の他、ＯＨ基含有化合物や過酸化水素であってもよく、これらの混合物でもよい。ＯＨ基含有化合物として、アルコールが挙げられる。
【００１０】
前記処理ガスが、空気、窒素、酸素、又は希ガスを含んでいてもよい。この場合、処理ガスをプラズマ化することによって処理ガスに溶解能を付与でき、ガラス板の端部を溶解して面取りできる。処理ガスは、空気、窒素、酸素、又は希ガスの混合ガスであってもよい。
【００１１】
本発明装置は、切断したガラス板の切断端面を含む端部を面取りする端部処理装置であって、
前記ガラス板を支持する支持手段と、
処理ガスを流す流路を有し、前記流路内でプラズマを生成して、前記処理ガスに前記ガラス板に対するエッチング能又は溶解能を付与するプラズマ生成部と、
前記付与後の処理ガスを前記端部に接触させる処理部と、
を備えたことを特許請求しない特徴とし、切断したガラス板の切断端面を含む端部を面取りするガラス端部処理装置であって、
互いの間に処理ガスを流す流路を画成するように対向する一対の電極を含み、これら電極間への電界印加によりプラズマを生成することによって前記流路が放電空間となり、前記処理ガスに前記ガラス板に対するエッチング能を付与するプラズマ生成部と、
前記ガラス板を前記放電空間から離して支持する支持手段と、
前記流路に連なり、前記付与後の処理ガスを吹き出して前記端部に接触させるノズルヘッドと、
を備えたことを特許請求する特徴とする。
処理部（ノズルヘッド）は、ガス接触により処理するものであるから、ガラス板が割れるのを防止できる。そして、処理ガスのエッチング作用又は溶解作用によって、ガラス板の端部を面取りしながら、切断端面のクラックを除去できる。この結果、ガラス板が上記クラックを起点にして割れるのを回避することができる。
【００１２】
前記処理部が、互いに対向する一対の吹出し口を有し、各吹出し口から前記処理ガスを吹き出し、前記一対の吹出し口どうしの間に前記ガラス板の前記端部が配置されていてもよい。これによって、ガラス板の端部に両側から処理ガスを吹き付けることができる。よって、ガラス板の端部を両側から面取り処理することができ、ガラス板の端部の片側だけが面取りされて反対側が尖るのを回避できる。
【００１３】
前記処理部の前記ガラス板を向く側面には、前記ガラス板の前記端部を受け入れる凹溝部が形成され、前記一対の吹出し口が、前記凹溝部の前記側面への開口部を挟んで対向し、前記凹溝部の奥側の内周には、前記凹溝部内のガスを吸引して排気する排気口が設けられていることが好ましい。これによって、処理ガスを凹溝部の内部に一時的に滞留させてガラス板の端部に万遍なく、かつ十分に接触させることができ、ガラス板の端部をきれいに、かつ確実に面取り処理できる。また、処理ガスが凹溝部からガラス板の中央部へ漏れるのを防止でき、ガラス板の中央部が処理ガスによって損傷を受けるのを防止できる。
【００１４】
前記プラズマ生成部は、種々の構造を採用できる。
前記プラズマ生成部が、互いの間に前記流路を画成するように対向する一対の電極を含み、これら電極どうしの間に電界が印加されて前記プラズマが生成されるようになっていてもよい。
前記プラズマ生成部が、軸体と、前記軸体を同軸に囲む筒体からなる電極構造を含み、前記軸体及び前記筒体どうしの間ないしは前記軸体の先端に前記プラズマを発生させ、かつ前記電極構造の軸線が、前記ガラス板の前記端部に向けられ、前記処理ガスが、前記軸線に沿って前記端部へ向けて流れるようになっていてもよい。
【００１５】
上記のプラズマ生成及び面取り処理は、大気圧近傍下にて行なうことが好ましい。ここで、大気圧近傍とは、１．０１３×１０４〜５０．６６３×１０４Ｐａの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡便化を考慮すると、１．３３３×１０４〜１０．６６４×１０４Ｐａが好ましく、９．３３１×１０４〜１０．３９７×１０４Ｐａがより好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、処理ガスのエッチング作用又は加熱作用によって、ガラス板の端部を面取りしながら、切断端面のクラックを除去できる。ガス接触により処理するものであるから、ガラス板が割れるのを防止しながら、クラックの除去を行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の第１実施形態に係るガラス端部処理装置の解説図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線に沿う、上記ガラス端部処理装置のノズルヘッドの平面断面図である。
【図３】上記ノズルヘッドの前側部分を拡大して示す側面断面図である。
【図４】上記ノズルヘッドの吹出し部の変形例を示す側面断面図である。
【図５】本発明の第２実施形態に係るガラス端部処理装置の解説断面図である。
【図６（ａ）】実施例１におけるガラス板の端部の処理前の写真である。
【図６（ｂ）】実施例１におけるガラス板の端部の処理後の写真である。
【図７】実施例２におけるガラス板の端部の処理後の写真である。
【図８】実施例３におけるガラス板の端部の処理後の写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態を図面にしたがって説明する。
［第１実施形態］
図１〜図３は、本発明の第１実施形態を示したものである。処理対象のガラス板９は、例えばＦＰＤ用のガラス基板である。ガラス板９の厚みは、例えば５０μｍ〜１００μｍ程度である。図において、ガラス板９の厚さは誇張されている。
【００１９】
ガラス板９は、マザーガラスをテレビサイズに切断したものである。切断には、先端にダイヤモンドが付いたガラス切りが用いられる。このガラス切りにてマザーガラスの表面にキズをつけ、このキズを起点にして破断する。これによって、ガラス板９が切り出される。図３に示すように、ガラス板９の端部９ｆは、上記切断により生じた切断端面９ｅ並びに角部９ｃ，９ｄを含む。同図において上側の角部９ｃは、ガラス板９の上面９ａ（上側の主面）と切断端面９ｅとが交差して形成されている。同図において下側の角部９ｄは、ガラス板９の下面９ｂ（下側の主面）と切断端面９ｅとが交差して形成されている。切断端面９ｅ（図３）には、微細なクラックが多数存在する。このクラックを除去するためにガラス端部処理装置１によってガラス板９の端部９ｆを面取り処理する。
【００２０】
図１に示すように、第１実施形態のガラス端部処理装置１は、支持手段３と、移動手段４と、プラズマ生成部１０と、ノズルヘッド２０（処理部）を備えている。支持手段３は、ガラス板９を水平に支持する。詳細な図示は省略するが、支持手段３によるガラス板９の支持態様は、特に限定がなく、載置、吸着、把持、クランプ、掛止、張架等が挙げられる。具体的には、支持手段３は、例えばガイドロール、コンベア、移動ステージ、マニピュレータ、ロボットアーム等にて構成されている。
【００２１】
支持手段３に移動手段４が接続されている。支持手段３に移動手段４が一体に組み込まれていてもよい。移動手段４は、支持手段３ひいてはガラス板９をノズルヘッド２０に対して図１の紙面と直交する巾方向（図２参照）に移動させる。好ましくは、移動手段４は、支持手段３ひいてはガラス板９をノズルヘッド２０に対して前後方向（図１の左右方向）に進退させたり、前後方向の位置を調節したり、水平方向に９０°置きに回転させたりでき、更に好ましくは支持手段３ひいてはガラス板９を昇降させたり、高さ調節したりすることができる。具体的には、移動手段４は、上記支持手段３の駆動部、及び該駆動部の出力伝達機構にて構成されている。駆動部としては、モータ、ポンプ、流体圧アクチュエータ等が挙げられる。出力伝達機構としては、ベルト、プーリ、ギア列、リードスクリュー、スライドガイド等が挙げられる。
【００２２】
図１に示すように、プラズマ生成部１０は、処理ガス供給源１１と、プラズマ生成部１３を有している。処理ガス供給源１１には、プラズマ化前（エッチング能付与前）の処理ガスが蓄えられている。処理ガスは、フッ素含有成分と希釈成分を含む。希釈成分を省略してもよい。
【００２３】
ここでは、フッ素含有成分としてＣＦ４が用いられている。フッ素含有成分として、ＣＦ４に代えて、Ｃ２Ｆ６、Ｃ３Ｆ８、Ｃ３Ｆ８等の他のＰＦＣ（パーフルオロカーボン）を用いてもよく、ＣＨＦ３、ＣＨ２Ｆ２、ＣＨ３Ｆ等のＨＦＣ（ハイドロフルオロカーボン）を用いてもよく、ＳＦ６、ＮＦ３、ＸｅＦ２、Ｆ２等を用いてもよい。
【００２４】
希釈成分としては、例えばＡｒが用いられている。希釈成分として、Ａｒに代えて、Ｈｅ、Ｎｅ、Ｋｒ等の他の希ガスを用いてもよく、Ｎ２等の他の不活性ガスを用いてもよい。希釈成分は、フッ素含有成分を希釈する役割の他、キャリアガスとしての役割及びプラズマ生成用のガスとしての役割を担っている。
【００２５】
処理ガス供給源１１からプラズマ化前処理ガス供給路１１ａが延びている。供給路１１ａに水素含有添加成分供給源１２が接続されている。水素含有添加成分は、水蒸気（Ｈ２Ｏ）である。水素含有添加成分供給源１２は、水の気化器にて構成されている。
【００２６】
気化器１２内に水が液状態で蓄えられている。プラズマ化前処理ガス（ＣＦ４＋Ａｒ）が、気化器１２内の液中に導入されてバブリングされる。或いは、気化器１２内の液面より上側部分に処理ガスを導入し、上記上側部分の飽和蒸気を処理ガスにて押し出してもよい。これによって、処理ガスに水蒸気が添加される。気化器１２を温度調節することによって、水の蒸気圧ひいては添加量を調節できる。或いは、処理ガスの一部を気化器１２内に導入し、処理ガスの残部は気化器１２を迂回させ、上記一部と残部の流量比を調節することによって、水の添加量を調節してもよい。
【００２７】
水素含有添加成分として、水に代えて、ＯＨ基含有化合物、過酸化水素等を用いてもよい。ＯＨ基含有化合物として、アルコールが挙げられる。
【００２８】
気化器１２より下流の供給路１１ａがプラズマ生成部１３へ延びている。プラズマ生成部１３は、一対の電極１４，１４を含む。これら電極１４，１４が互いに対向して配置され、両電極１４，１４間に狭いギャップ状の流路１５が形成されている。流路１５の上流端（図１において上端）に供給路１１ａが連なっている。ここでは、一対の電極１４，１４は、平行平板電極を構成しているが、これに限られず、同軸円筒電極等であってもよい。
【００２９】
少なくとも一方の電極１４の対向面に固体誘電体層（図示省略）が設けられている。一方の電極１４が電源（図示省略）に接続されている。他方の電極１４が電気的に接地されている。上記電源は、例えば直流電力をパルス状の高周波に変換して電極１４に供給する。この高周波電力の印加によって電極１４，１４間に大気圧プラズマ放電が生成され、流路１５が放電空間になる。
【００３０】
流路１５の下流端（図１において下端）からプラズマ化後処理ガス供給路１６が引き出されている。供給路１６は、耐フッ素性樹脂製のチューブ等にて構成され、ノズルヘッド２０へ延びている。
【００３１】
図１及び図２に示すように、ノズルヘッド２０（処理部）は、本体２１を備えている。ヘッド本体２１は、巾方向（図１の紙面と直交方向）に長い直方体形状になっている。本体２１の前側面（図１において左）が、支持手段３ひいてはガラス板９へ向けられている。図１に示すように、ヘッド本体２１の前側面すなわちガラス板９を向く側面に、半円形の断面の凹溝部２２が形成されている。図２に示すように、凹溝部２２は、巾方向に延び、ヘッド本体２１の巾方向の両端面に達している。凹溝部２２の断面形状は、半円形に限られず、四角形でもよく、三角形でもよく、その他の形状でもよい。凹溝部２２の本体２１の前側面への開口部の厚さ（上下方向の寸法）は、例えば１０ｍｍ程度である。
【００３２】
図１に示すように、ヘッド本体２１の前側部（図１において左）には、一対の吹出し口２３，２３が設けられている。一対の吹出し口２３，２３が、凹溝部２２の前側面への開口部を挟んで上下に対向している。図２に示すように、各吹出し口２３は、ヘッド２０の巾方向に延びるスリット状になっている。吹出し口２３の開口厚さ（図１において左右方向の寸法）は、０．数ｍｍ〜１ｍｍ程度である。
【００３３】
吹出し口２３の上記開口厚さを調節可能にしてもよい（図４の変形例参照）。例えば、吹出し口２３を構成する前後の壁が接近離間することで、吹出し口２３の開口厚さを調節できる。又は、吹出し口２３の内部又は下端部に調節板を前後に位置調節可能に設けて、吹出し口２３の上記開口厚さを調節してもよい。
【００３４】
吹出し口２３は、巾方向に延びるスリットに代えて、巾方向に分散して配置された多数（複数）の小孔にて構成されていてもよい。或いは、吹出し口２３が、単一の小孔にて構成されていてもよい。
【００３５】
図１に示すように、ヘッド本体２１の後側面（図１において右）には供給ポート２４が設けられている。供給ポート２４に供給路１６の先端部が連なっている。ヘッド本体２１内には、吹出案内路２５が形成されている。吹出案内路２５は、供給ポート２４から延び、かつ二手に分岐し、一対の吹出し口２３にそれぞれ連なっている。図示は省略するが、案内路２５には、ポート２４からのガスを巾方向に均一に分散させる整流部が設けられている。整流部は、例えば巾方向に延びるチャンバー（図４の変形例参照）や、複数段に分岐しながら巾方向に拡がるトーナメント状ないしはツリー状の通路等にて構成されている。
【００３６】
図１に示すように、上記凹溝部２２が、ガラス板９の端部９ｆを受け入れる。これによって、一対の吹出し口２３，２３の間にガラス板９の端部９ｆが配置される。詳細には、図３に拡大して示すように、ガラス板９の切断端面９ｅが、上下の吹出し口２３，２３よりも凹溝部２２の僅かに奥側（図３において右）に位置するよう配置される。ガラス板９の切断端面９ｅが、前後方向（図３において左右）に上下の吹出し口２３，２３とほぼ同じ位置に配置されてもよい。ガラス板９の切断端面９ｅが、上下の吹出し口２３，２３より前側（図３において左）に多少引っ込んで配置されてもよい。
【００３７】
図１及び図２に示すように、ヘッド本体２１における凹溝部２２の奥側（図１において右）の内面には、排気口２６が設けられている。排気口２６の開口厚さ（図１において上下方向の寸法）は、吹出し口２３の開口厚さより大きく、１ｍｍ〜数ｍｍ程度である。図２に示すように、排気口２６は、ヘッド２０の巾方向に延びるスリット状になっている。排気口２６は、スリットに代えて、巾方向に分散して配置された多数（複数）の孔にて構成されていてもよい。図１に示すように、ガラス板９は、排気口２６と同じ水平面上に配置される。ガラス板９の切断端面９ｅが、排気口２６と対面している。
【００３８】
ヘッド本体２１の内部には、排気案内路２７が形成されている。排気案内路２７の前側（図１において左）の端部が、排気口２６に連なっている。図示は省略するが、排気案内路２７には、凹溝部２２内のガスを排気口１６の巾方向（図１の紙面直交方向）に均一に吸引するための整流部が設けられている。整流部は、例えばヘッド２０の巾方向に延びるチャンバーや、トーナメント状ないしはツリー状の通路等にて構成されている。ヘッド本体２１の背部（図１において右）には、排気ポート２８が設けられている。排気案内路２７の後側（図１において右）の端部が、排気ポート２８に連なっている。排気ポート２８から排気路２ａが延びている。排気路２ａが排気手段２に連なっている。排気手段２は、吸引ポンプや除害設備を含む。
【００３９】
上記構成のガラス端部処理装置１によってガラス板９の切断端面９ｅを面取り処理する方法を説明する。
処理ガス供給源１１において、フッ素含有成分と希釈成分を混合してプラズマ化前処理ガス（ＣＦ４＋Ａｒ）を生成する。処理ガスの各成分の体積流量比は、ＣＦ４：Ａｒ＝１：１〜１：１００程度が好ましい。この処理ガスに気化器１２にて水を添加する。水添加後かつプラズマ化前の処理ガス（ＣＦ４＋Ａｒ＋Ｈ２Ｏ）の露点は、５℃〜２５℃程度が好ましい。この処理ガスを供給路１１ａに沿ってプラズマ生成部１３へ送り、電極１４間の流路１５に導入する。
【００４０】
そして、流路１５内でプラズマを生成し、処理ガスにガラス板９に対するエッチング能を付与する（プラズマ生成工程）。すなわち、上記処理ガスの供給と併行して、不図示の電源から電極１４に電力を供給し、電極１４，１４間に電界を印加する。これによって、電極１４，１４間に大気圧プラズマが生成され、流路１５が放電空間になる。このプラズマによって処理ガスがプラズマ化（分解、励起、ラジカル化、イオン化を含む）され、ＨＦ、ＣＯＦ２等のフッ素系反応成分が生成される。フッ素系反応成分は、酸化シリコン等のガラス成分に対するエッチング能を有する。
【００４１】
上記プラズマ化後すなわちエッチング能付与後の処理ガスを流路１５から供給路１６に導出し、ノズルヘッド２０へ送る。ノズルヘッド２０においては、上記処理ガスを供給ポート２４から案内路２５を経て上下の吹出し口２３，２３へ案内する。そして、上下の吹出し口２３，２３から処理ガスを吹き出す。
【００４２】
図３において矢印付き太線ｇにて示すように、上側の吹出し口２３からの処理ガスは、ガラス板９の端部９ｆの上側部分に吹き付けられる。下側の吹出し口２３からの処理ガスは、ガラス板９の端部９ｆの下側部分に吹き付けられる。併行して、排気手段２によって、凹溝部２２内のガスを排気口２６に吸い込む。これによって、処理ガスが、ガラス板９の端部９上を角部９ｃ，９ｄから切断端面９ｅへ回り込むように流れ、更に排気口２６へ向けて流れる。
【００４３】
この流通過程で処理ガス中のＨＦ等のフッ素系反応成分がガラス端部９ｆの角度９ｃ，９ｄ及び切断端面９ｅと接触し、これらの被接触部分９ｃ，９ｄ，９ｅのガラス成分を構成するシリコン酸化物とエッチング反応を起こす（処理工程）。この結果、角度９ｃ，９ｄがＲ面取りされるとともに、切断端面９ｅの微細クラックが消失する。
【００４４】
処理ガスをガラス板９の両側から吹き付けることで、ガラス端部９ｆを上下両側から面取り処理することができる。ガラス端部９ｆの上側部分又は下側部分だけが面取りされて反対側が尖るのを回避できる。処理ガスが凹溝部２２の内部に一時的に滞留してガラス板端部９ｆに万遍なくかつ十分に接触するため、ガラス端部９ｆをきれいに、かつ確実に面取り処理できる。
【００４５】
処理工程は、砥石等の部材をガラス板９に物理的に接触させるのではなく、ガス接触によってガラス端部９の処理を行なうものである。したがって、ガラス板９の厚みが小さく、例えばミクロンオーダーであっても、面取り時にガラス板９が割れるのを確実に防止できる。
【００４６】
処理ガスは、ガラス板９の端部９ｆに接触した後、ガラス板９から離れるように流れるから、ガラス板９の中央部がフッ素系反応成分よって損傷するのを防止できる。エッチング処理済みの処理ガス及びエッチング反応によって生じた副生成物は、排気口２６に吸い込まれ、排気案内路２７、排気ポート２８、排気路２ａを順次経て、排気手段２の除害装置にて除害処理されたうえで排出される。
【００４７】
さらに、移動手段４によってガラス板９をヘッド２０の巾方向に移動する。これによって、ガラス板９の１つの端部９ｆをその全長にわたって面取り処理できる。上記１つの端部９ｆの面取り処理を終了した後、ガラス板９を水平に９０°又は１８０°回転させ、別の端部９ｆを上記と同様にして面取り処理する。なお、ガラス板９の４つの端部のうち、ガラス切り等で切断した側でない端部については、本面取り処理を行なう必要はない。このようにして、ガラス板９の全周にわたって端面９ｅのクラックを除去できる。したがって、その後のＦＰＤの製造工程やテレビの組立工程等において、ガラス板９が上記クラックを起点にして割れるおそれを回避又は低減することができる。
【００４８】
次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において既述の形態と重複する構成に関しては図面に同一符号を付して説明を省略する。
図４は、ノズルヘッド２０の吹出し部の変形例を示したものである。同図のノズルヘッド２０の前側部（図４において左）には、上下一対の吹出部材４０が設けられている。これら吹出部材４０は、２０の巾方向（図４の紙面と直交する方向）に延びる平板状になっている。
【００４９】
上側の吹出部材４０が、ヘッド本体２１の前側面の凹溝部２２より上側の部分に被さっている。上側の吹出部材４０の下端面は、斜め下側かつ後側（図４において右）を向く斜面になっている。下側の吹出部材４０が、ヘッド本体２１の前側面の凹溝部２２より下側の部分に被さっている。下側の吹出部材４０の上端面は、斜め上側かつ後側を向く斜面になっている。
【００５０】
ヘッド本体２１の前側部には、凹溝部２２を挟んで上下に一対の凸部２９が形成されている。これら凸部２９は、凹溝部２２に近づくにしたがって前側へ突出されている。上側の凸部２９は、斜め上側かつ前側を向く斜面を有している。上側の吹出部材４０及び凸部２９の斜面どうしの間に上側の吹出し口２３が形成されている。下側の凸部２９は、斜め下側かつ前側を向く斜面を有している。下側の吹出部材４０及び凸部２９の斜面どうしの間に下側の吹出し口２３が形成されている。
【００５１】
上下の吹出部材４０は、ネジ４５によってヘッド本体２１にそれぞれ固定されている。吹出部材４０のネジ４５を通すネジ孔４４は、長軸を上下に向けた長孔になっている。これによって、吹出部材４０の上下方向の位置を調節することができる。したがって、吹出部材４０の吹出し口２３を画成する斜面を凸部２９に対して接近離間させることができる。この結果、吹出し口２３の開口厚さを調節することができる。
【００５２】
ヘッド本体２１の前側面には、上下に一対の凹溝が形成され、各凹溝の開口が吹出部材４０にて塞がれることによって、整流部２５ａが形成されている。整流部２５ａは、２０の巾方向（図４の紙面と直交する方向）に延びている。各整流部２５ａが、吹出案内路２５に連なるとともに、対応する吹出し口２３に連なっている。
【００５３】
エッチング能付与後の処理ガスが、吹出案内路２５から上下の整流部２５ａに導入されて巾方向（図４の紙面と直交する方向）されたうえで、上下の吹出し口２３からそれぞれ斜めに吹き出される。この吹出し流ｇは、排気口２６からの吸引によって後側（図４において右）へ向きを変えながら、ガラス板９の端部９ｆに接触する。これによって、ガラス端部９ｆを面取り処理できる。その後、処理ガスは、排気口２６に吸い込まれる。
【００５４】
［第２実施形態］
図５は、本発明の第２実施形態を示したものである。第２実施形態のガラス端部処理装置１Ｘは、同軸共振器型のプラズマトーチ３０と、支持手段３と、処理ガス供給源５を備えている。第２実施形態のプラズマトーチ３０は、プラズマ生成工程を行なうプラズマ生成部と、処理工程を行なう処理部とを兼ねている。詳述すると、プラズマトーチ３０は、軸体３１と筒体３２からなる同軸二重円筒型の電極構造を含む。プラズマトーチ３０の中心軸線Ｌ３０が垂直に向けられている。軸体３１は、所定長さの棒状（直線状）の導体にて構成され、プラズマトーチ３０の垂直な軸線Ｌ３０上に配置されている。
【００５５】
筒体３２は、円筒形状の導体にて構成され、軸体３１と同軸をなして軸体３１を囲んでいる。筒体３２は、電気的に接地されている。筒体３２の上端部は、導体からなる蓋体３３にて塞がれている。筒体３２の下端部は、軸体３１より下に位置し、かつ開口されている。筒体３２の内直径は、数ｍｍ程度である。
【００５６】
図示は省略するが、給電線が、高周波電源から延びてプラズマトーチ３０に接続されている。給電線は、同軸ケーブルからなり、その外側導体が筒体３２に接続され、芯線が軸体３１の長さ方向の所定位置に接続されている。芯線が蓋体３３に接続されていてもよい。
【００５７】
軸体３１と筒体３２との間に環状の流路３４が形成されている。処理ガス供給源５から処理ガス供給路５ａがプラズマトーチ３０へ延びている。供給路５ａの先端が、流路３４の上端部（上流端）に接続されている。筒体３２の下端開口が、流路３４の下端部（下流端）の噴出口を構成している。
【００５８】
第２実施形態では、処理ガスとして、空気が用いられており、特にクリーンドライエア（以下「ＣＤＡ」と略記する。）が用いられている。処理ガスとして、空気ないしはＣＤＡに代えて、窒素又は酸素を用いてもよく、ヘリウム、ネオン、アルゴン等の希ガスを用いてもよく、これらの混合ガスを用いてもよい。混合比は任意に設定できる。例えば、窒素と酸素をそれぞれ０〜１００％の範囲で混合したガスを処理ガスとして用いることができる。ガス種に応じて、プラズマトーチ３０に給電するマイクロ波と反射波のマッチングを取る。
【００５９】
第２実施形態の支持手段３は、プラズマトーチ３０の直下においてガラス板９を垂直に支持している。プラズマトーチ３０の軸線Ｌ３０がガラス板９の端部９ｆに向けられている。ガラス板９の切断端面９ｅが、プラズマトーチ３０と対面している。第２実施形態の移動手段４は、ガラス板９をその主面９ａ，９ｂに沿う水平方向（図５の紙面と直交する方向）に移動させる。
【００６０】
ガラス端部処理装置１Ｘによってガラス板９の切断端部９ｆを面取り処理する方法を説明する。
処理ガス供給源５から処理ガス（ＣＤＡ）をプラズマトーチ３０の流路３４に導入する。処理ガスは、流路３４内を軸線Ｌ３０に沿って流れ、流路３４の下端の噴出口からガラス板９の端部９ｆへ向けて下方へ吹き出される。
【００６１】
併行して、不図示の高周波電源からプラズマトーチ３０に所定波長のマイクロ波電力を供給する。このマイクロ波によって軸体３１が共振し、軸体３１の先端（下端）の付近で電界強度が最大になる。これによって、軸体３１の先端において処理ガスが大気圧近傍下でプラズマ化され、プラズマＰが発生する（プラズマ生成工程）。プラズマＰは、処理ガスの流れに沿って軸体３１よりも下方へ延びる。プラズマＰ中の処理ガスは、プラズマＰによって高温になり、ガラス９に対する溶解熱を付与される。この溶解熱付与後の処理ガスが、ガラス板９の端部９ｆに局所的に接触する。これによって、ガラス板９の端部９ｆが局所的に加熱されて溶解し、角部９ｃ，９ｄがＲ面取りされるとともに、切断端面９ｅのクラックが消失する。砥石等の部材をガラス９に接触させる必要がないため、処理工程時にガラス板９が割れるのを確実に防止できる。
【００６２】
プラズマＰ内を通過後の処理ガスは急速に失活して低温化する。したがって、処理ガスが、ガラス板９の端部９ｆから更に下方へ流れてガラス板９の中央部に接触しても、ガラス板９の中央部が熱損傷を受けるのを回避できる。ガラス板９の端部９ｆがプラズマＰの先端（下端）付近に位置するように、ガラス板９とプラズマトーチ３０の間隔を調節することが好ましい。
【００６３】
更に、移動手段４によってガラス板９を移動させることで、ガラス板９の全周にわたって端部９ｆをＲ面取り処理する。
【００６４】
本発明は、上記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改変をなすことができる。
例えば、ガラス板９は、ＦＰＤ用基板に限られず、ガラスの製造工程においてガラスの連続体から切り出されたガラス板であってもよい。
ガラス板９の位置が固定され、処理部２０，３０が移動手段によってガラス板９の端部９ｆの延び方向（図２の巾方向）に沿って移動されるようになっていてもよい。
第１実施形態において、吹出し口２３を、ガラス板９に対し斜めに配置してもよい。吹出し口２３からの処理ガスが、ガラス板９に対して斜めに、ガラス端部９ｆひいてはガラス板９の外側へ向けて吹き出されるようにしてもよい。
第１実施形態において、本体２１ひいてはガラス端部９を受け入れる凹溝部２２を省略してもよい。各吹出し口２３及び排気口２６が本体２１とは別の筒状のノズルによって構成されていてもよい。
第２実施形態において、プラズマトーチ３０をガラス板９を挟んで両側に一対設けてもよい。プラズマトーチ３０の軸線Ｌ３０がガラス板９の主面９ａ，９ｂに対し、直交していてもよく、斜めになっていてもよい。プラズマトーチ３０の軸線Ｌ３０は、垂直（鉛直）でなくてもよく、水平になっていてもよく、鉛直に対し斜めになっていてもよい。
第２実施形態において、プラズマトーチ３０の下方に、ガラス板９の端部９ｆの周辺のガスを吸引する排気手段を設けてもよい。
プラズマトーチ３０の軸体３１が管形状であってもよく、この管形状の軸体３１の内部が処理ガスを通す流路になっていてもよい。
プラズマトーチ３０は、同軸共振器型に限られず、アーク型でもよく、誘導結合型でもよい。
筒体３２は、全体的にストレートな円筒であるが、例えばアーク型のプラズマトーチの場合、筒体３２の下端部（先端部）が下方へ向かって縮径していてもよい。軸体３１と筒体３２との間にプラズマが生成されるようにしてもよい。
【実施例１】
【００６５】
本発明の実施例を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
実施例１では、第１実施形態のガラス端部処理装置１と実質的に同じ構造の装置を使用した。該装置のノズルヘッド２０の巾（図１の紙面と直交する方向の寸法）は、約１０ｃｍであった。吹出し口２３の巾（図１の紙面と直交する方向の寸法）は、約６ｃｍであった。吹出し口２３の開口厚さ（図１の左右方向の寸法）は、０．５ｍｍであった。凹溝部２２の開口厚さ（上下方向の寸法）は、１０ｍｍであった。
ガラス板９の巾（図１の紙面と直交する方向の寸法）は、約６ｃｍであった。ガラス板９の厚みは、５０μｍであった。
【００６６】
処理ガスとして、ＣＦ４  ０．１Ｌ／ｍｉｎ、Ａｒ  ０．９Ｌ／ｍｉｎの混合ガスを用いた。この混合ガスに水蒸気を添加した。添加後のガス露点を１２．６℃に調整した。
【００６７】
プラズマ生成部１０への供給電力は、直流で２７０Ｗとした。この直流電力を周波数４０ｋＨｚのパルス波に変換し、電極１４間に印加電圧１３ｋＶｐ−ｐをかけ、大気圧プラズマを発生させて、上記処理ガスを分解して活性化し、エッチング能を付与した（プラズマ生成工程）。
【００６８】
この処理ガスをノズルヘッド２０へ送り、ガラス板９の端部９ｆに５分間吹き付けた（処理工程）。排気口２６からの排気強さは、大気と排気配管２ａの圧力差が１００Ｐａになるように調整した。
ノズルヘッド２０とガラス板９の位置は固定であり、相対移動はしなかった。
【００６９】
図６は、マイクロスコープによるガラス板９の端部９ｆの観察画像である。同図（ａ）は、処理前を示し、同図（ｂ）は、処理後を示す。処理によって、ガラス板９の端部９ｆを面取りすることができ、かつ端面のクラックを除去することができた。
なお、図６（ｂ）において、ガラス板９の下面の端部の近くの部分が少し欠けているのは、観察時に入ったキズ又はゴミと思われる。
【実施例２】
【００７０】
実施例２では、第２実施形態（図５）のガラス端部処理装置１Ｘと実質的に同じ構造の装置を使用した。該装置のプラズマトーチ３０の筒体３２の内直径は４ｍｍであった。ガラス板９の寸法は、実施例１と同じであった。
【００７１】
処理ガスとして、ＣＤＡ  １５Ｌ／ｍｉｎを用いた。
プラズマトーチ３０への供給電力は１５０Ｗであり、周波数は２４５０ＭＨｚであった。
この電力供給によって大気圧下でプラズマＰを生成し、処理ガスにプラズマＰの熱を付与した（プラズマ生成工程）。
この処理ガスをガラス板９の端部９ｆに吹き付けた（処理工程）。
プラズマトーチ３０の先端（下端）とガラス板９の端面９ｅまでの距離は、５ｍｍとした。
プラズマトーチ３０を固定し、ガラス板９を４５ｍｍ／ｓｅｃの速さで搬送した。
【００７２】
図７は、処理後のガラス板９の端部９ｆをマイクロスコープによって観察した画像である。処理によって、ガラス板９の端部９ｆを面取りすることができ、かつ端面のクラックを除去することができた。
【実施例３】
【００７３】
実施例２と同一のガラス端部処理装置において、ガラス板９の移動速度を６０ｍｍ／ｓｅｃとし、それ以外の処理条件は実施例２と同じにして処理を行なった。
図８は、処理後のガラス板９の端部９ｆをマイクロスコープによって観察した画像である。処理によって、ガラス板９の端部９ｆを面取りすることができ、かつ端面のクラックを除去することができた。実施例２と比べ、面取りのＲが若干小さかった。搬送速度ないしは処理時間を調節することによって、面取り度合いを調節できることが確認された。
なお、実施例２のサンプル９の観察画像（図７）は白っぽいのに対し、実施例３のサンプル９の観察画像（図８）が黒っぽくなっているのは、単に採光の方向の違いによるものである。
【産業上の利用可能性】
【００７４】
本発明は、例えばＦＰＤの製造に適用できる。
【符号の説明】
【００７５】
１，１Ｘ  ガラス端部処理装置
２      排気手段
２ａ    排気路
３      支持手段
４      移動手段
５      処理ガス供給源
５ａ    処理ガス供給路
９      ガラス板
９ａ    上面（主面）
９ｂ    下面（主面）
９ｃ，９ｄ  角部
９ｅ    切断端面
９ｆ    端部
１０    プラズマ生成部
１１    処理ガス供給源
１１ａ  エッチング能付与前処理ガス供給路
１２    水素含有添加成分供給源（気化器）
１３    プラズマ生成部
１４    電極
１５    流路
１６    エッチング能付与後処理ガス供給路
１６ａ  分岐路
２０    ノズルヘッド（処理部）
２１    ヘッド本体
２２    凹溝部
２３    吹出し口
２４    供給ポート
２５    吹出案内路
２５ａ  整流部
２６    排気口
２７    排気案内路
２８    排気ポート
２９    凸部
３０    プラズマトーチ（プラズマ生成部、処理部）
３１    中心電極
３２    筒電極
３４    流路
４０    吹出部材
４４    ネジ孔
４５    ネジ
Ｌ３０   プラズマトーチの軸線
Ｐ      プラズマ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６（ａ）】
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【図６（ｂ）】
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【図７】
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【図８】
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