(57)【要約】  撥液性に優れた隔壁と、膜厚均一性に優れたインク層を有する画素とを得ることが可能な、隔壁と画素が形成された基板の製造方法を提供する。  １分子内にフッ素原子含有基またはケイ素原子含有基を有する側鎖と、エチレン性二重結合を有する側鎖と、を有する重合体（Ａ）を含む感光性組成物を基板に塗布する工程［１１］、感光性組成物の塗膜を乾燥する工程［１２］、露光工程［１３］、現像工程［１４］、ポスト露光工程［１５］を経て、基板上に隔壁を形成し、隔壁で区分された領域であるドット内にインクを注入する工程［２１］、インクの塗膜を乾燥する工程［２２］を経て、ひとつのドット内のインク層の膜厚の最大値をｈ１、最小値をｈ２とするとき（ｈ１−ｈ２）／ｈ１＜０．３である膜を形成して画素を得ることを特徴とする隔壁と画素が形成された基板の製造方法。
2008149776.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
隔壁と画素が形成された基板を製造する方法であって、
基板に下記感光性組成物を塗布する工程［１１］、感光性組成物の塗膜を乾燥する工程［１２］、露光工程［１３］、現像工程［１４］、ポスト露光工程［１５］を経て、基板上に隔壁を形成し、
前記隔壁で区分された領域であるドット内にインクを注入する工程［２１］、インクの塗膜を乾燥する工程［２２］を経て、ひとつのドット内のインク層の膜厚の最大値をｈ１、最小値をｈ２とするとき（ｈ１−ｈ２）／ｈ１＜０．３である膜を形成して画素を得ることを特徴とする隔壁と画素が形成された基板の製造方法。
感光性組成物：１分子内に下記式１で表される基または下記式２で表される基を有する側鎖と、エチレン性二重結合を有する側鎖と、を有する重合体（Ａ）を含む感光性組成物。
−ＣＦＸＲｆ  （１）
式１中、Ｘは水素原子、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒｆはエーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数２０以下の水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換されたアルキル基、またはフッ素原子を示す。
−（ＳｉＲ１Ｒ２Ｏ）ｎ−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３  （２）
式２中、Ｒ１、Ｒ２は独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示し、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜１０の有機基を示し、ｎは１〜２００の整数を示す。
【請求項２】
前記インクを注入する工程［２１］がインクジェット法、スプレーコート法、またはスクリーン印刷法により行われる請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記ポスト露光工程［１５］の後であって、前記ドット内にインクを注入する工程［２１］の前に、隔壁を加熱処理するポストベーク工程［１６］を有する、請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記インクを乾燥する工程［２２］の後に、インク層を加熱処理する工程［２３］を有する、請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】
前記ポスト露光工程［１５］において、超高圧水銀灯または高圧水銀灯を用いて露光する、請求項１〜４のいずれかに記載の製造方法。
【請求項６】
前記ポスト露光工程［１５］において、低圧水銀灯を用い露光量５００ｍＪ／ｃｍ２以下で露光する、請求項１〜４のいずれかに記載の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の製造方法によって基板上に隔壁と画素を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれかに記載の製造方法によって基板上に隔壁と画素を形成することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばインクジェット記録技術法により作製される、隔壁と画素が形成された基板を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、カラーフィルタや有機ＥＬ等の光学素子の製造方法としてインクジェット記録技術法を利用した低コスト化プロセスが提案されている。
例えば、カラーフィルタの製造においては、隔壁をフォトリソグラフィにより形成した後に、隔壁で区分された領域であるドット内にＲ（レッド）、Ｇ（グリーン）、Ｂ（ブルー）のインクをインクジェット法により噴射・塗布し、着色層を有する画素が形成される。
有機ＥＬ表示素子の製造においては、隔壁をフォトリソグラフィにより形成した後に、隔壁で区分された領域であるドット内に正孔輸送材料、発光材料の溶液インクをインクジェット法により噴射・塗布し、正孔輸送層、発光層等を有する画素が形成される。【０００３】
インクジェット法においては、隣り合う画素間におけるインクの混色の発生を防ぐ必要がある。そのため、隔壁は、インクジェットの塗出液である水や有機溶剤等をはじく性質、いわゆる撥液性を有することが要求されている。
一方、インクジェット法においては、インク層の膜厚均一性に優れた画素を形成する必要がある。そのため、隔壁で区分された領域であるドットはインクに対して濡れる性質、いわゆる親液性を有することが要求されている。【０００４】
特許文献１には、感光性組成物を基板上に塗布し、乾燥、露光、現像、加熱処理を行うことによって隔壁を形成することが開示されている。【０００５】
【特許文献１】特開２００５−６０５１５号公報
【特許文献２】国際公開第２００４／７９４５４号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、上記従来の方法で形成された隔壁で区分された領域であるドット内に、インクジェット法によりインクを注入しインク層を形成すると、インク層の膜厚が不均一になることがあった。このようなものでカラーフィルタや有機ＥＬ表示素子を作製すると、隔壁近傍のインク層の膜厚が薄くなり、隔壁周辺が白く見えるいわゆる白抜け現象が起こる場合があった。特に、隔壁の解像度を上げるためには露光工程の露光量を低くすることが望ましいところ、低露光量で形成された隔壁を形成したときに、画素のインク層の膜厚不均一性が顕著であった。【０００７】
そこで本発明は、露光工程の露光量が低くとも、撥液性に優れた隔壁と、膜厚均一性に優れたインク層を有する画素とを得ることが可能な、隔壁と画素が形成された基板の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、隔壁と画素が形成された基板を製造する方法であって、基板に下記感光性組成物を塗布する工程［１１］、感光性組成物の塗膜を乾燥する工程［１２］、露光工程［１３］、現像工程［１４］、ポスト露光工程［１５］を経て、基板上に隔壁を形成し、前記隔壁で区分された領域であるドット内にインクを注入する工程［２１］、インクの塗膜を乾燥する工程［２２］を経て、ひとつのドット内のインク層の膜厚の最大値をｈ１、最小値をｈ２とするとき（ｈ１−ｈ２）／ｈ１＜０．３である膜を形成して画素を得ることを特徴とする隔壁と画素が形成された基板の製造方法を提供する。【０００９】
感光性組成物：１分子内に下記式１で表される基または下記式２で表される基を有する側鎖と、エチレン性二重結合を有する側鎖と、を有する重合体（Ａ）を含む感光性組成物。
−ＣＦＸＲｆ  （１）
式１中、Ｘは水素原子、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒｆはエーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数２０以下の水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換されたアルキル基、またはフッ素原子を示す。
−（ＳｉＲ１Ｒ２Ｏ）ｎ−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３  （２）
式２中、Ｒ１、Ｒ２は独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示し、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜１０の有機基を示し、ｎは１〜２００の整数を示す。【００１０】
本発明における感光性組成物に含まれる重合体（Ａ）は、式１で表される基または式２で表される基を有する側鎖を有するため、表面移行性を示し、乾燥工程［１２］において塗膜表面近傍に移行する。よって、感光性組成物を硬化して得られる隔壁の上部表面はインクに対する撥液性を発現する。【００１１】
また、重合体（Ａ）はエチレン性二重結合を有する側鎖を有しているため露光工程［１３］において硬化反応させ塗膜表面に固定することが可能である。しかし露光工程［１３］の露光量が低い場合には重合体（Ａ）の一部の分子が硬化反応せず、かつ現像工程で系内から除去されずに隔壁内に残存することがある。従来の方法では、上記未反応の残存分子は、現像工程［１４］の後に行われるポストベーク工程［１６］において、隔壁上部表面から隔壁の側面またはドットにマイグレートしてドットを汚染していたと考えられる。【００１２】
本発明においては現像工程［１４］の後に、ポスト露光工程［１５］を有するため、重合体（Ａ）の硬化反応が充分に行われ、未反応の残存分子がドットにマイグレートすることが起こりにくい。すなわち、隔壁上部表面はインクに対する撥液性に優れ、隔壁の側面またはドットはインクに対する親液性に優れる。よって、隔壁の側面またはドットはインクの濡れ性が高いので、インクはドット内に均一に濡れ拡がりやすく、隔壁の側面でインクをはじくこともないため、形成されるインク層の膜厚の最大値をｈ１、最小値をｈ２とした場合に、（ｈ１−ｈ２）／ｈ１＜０．３となるような膜厚均一性の高いインク層を得ることが可能となる。【００１３】
本発明において、ポスト露光工程［１５］によって隔壁は充分硬化し、インク中の溶媒に対する耐性を備えるため、ポストベーク工程［１６］による硬化は必ずしも必要としない。一方、隔壁の耐熱性を高めるため、あるいは、隔壁から揮発成分を除去する目的で、ポスト露光工程の後にポストベーク工程［１６］を採用することが好ましい。【００１４】
また本発明は、上記の製造方法によって基板上に隔壁と画素を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。
また本発明は、上記の製造方法によって基板上に隔壁と画素を形成することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の製造方法によれば、露光工程の露光量が低くとも、撥液性に優れた隔壁とインク層の膜厚均一性に優れた画素を形成することができる。よって本発明の製造法によって形成された隔壁と画素を有するカラーフィルタや有機ＥＬ素子は、インクの混色が抑えられ、またインク層の膜厚均一性に優れる。
隔壁内には未反応の残存分子が残りにくいので、デバイス形成後の長期間にわたってマイグレートすることなく、デバイスの信頼性を低下させることがない。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】例１で得られた隔壁と画素の超深度形状測定顕微鏡による表面観察像。
【図２】例６で得られた隔壁と画素の超深度形状測定顕微鏡による表面観察像。
【図３】例４で得られた隔壁の走査型電子顕微鏡による断面観察像。
【符号の説明】
【００１７】
１：隔壁
２：画素
３：インク層の線ａ−ａに沿った断面の膜厚プロファイル
４：インク層の線ｂ−ｂに沿った断面の膜厚プロファイル
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明をさらに詳細に説明する。なお、本明細書において特に説明のない場合、％は質量％を表す。【００１９】
まず、本発明の製造法においては、下記工程［１１］〜工程［１５］を経て隔壁を形成し（任意に工程［１６］を採用してもよい。）、下記工程［２１］、工程［２２］を経て画素を形成する（任意に工程［２３］を採用してもよい。）。【００２０】
基板に感光性組成物を塗布する工程［１１］
最初に、基板の表面に本発明における感光性組成物を塗布し、感光性組成物の塗膜を形成する。本発明における感光性組成物については後述する。
感光性組成物の塗布方法としては、スピンコート法、スプレー法、スリットコート法、ロールコート法、バーコート法などが挙げられる。
塗膜の厚さは、基材の材質、用途にもよるが、好ましくは０．３〜３００μｍ、より好ましくは１〜６０μｍである。【００２１】
基板としては、その材質は特に限定されるものではないが、例えば、各種ガラス板；ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート等）、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスルホン、ポリイミド、ポリ（メタ）アクリル樹脂等の熱可塑性プラスチックシート；エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル等の熱硬化性樹脂の硬化シート等を挙げることができる。特に、耐熱性の点からガラス板または耐熱性プラスチックが好ましく用いられる。またポスト露光を、隔壁が形成されていない裏面（基板側）から行うこともあるため、透明基板であることが好ましい。【００２２】
また金属ブラックマトリックスや樹脂ブラックマトリックス等のブラックマトリックスが形成されている基板を用いることもできる。その場合ブラックマトリックス上に隔壁を形成することが好ましい。
また酸化インジウム錫（ＩＴＯ）等の透明電極やクロムやモリブデン等の金属配線が製膜された基板を用いることもできる。【００２３】
感光性組成物の塗膜を乾燥する工程［１２］
次に、塗膜を真空乾燥や加熱乾燥することによって、感光性組成物に含まれる希釈剤を揮発させる。塗膜の外観のムラを発生させず、効率よく乾燥させるために、真空乾燥と加熱乾燥を併用することがより好ましい。感光性組成物の各成分の種類、配合割合などによっても異なるが、真空乾燥は５００〜１０Ｐａ、１０〜３００秒間程度、加熱乾燥は５０〜１２０℃、１０〜２０００秒間程度の幅広い範囲で行うことが好ましい。【００２４】
露光工程［１３］
次に、塗膜の一部を露光する。露光は所定パターンのマスクを介して行うことが好ましい。照射する光としては、可視光；紫外線；遠紫外線；ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ２エキシマレーザー、Ｋｒ２エキシマレーザー、ＫｒＡｒエキシマレーザー、Ａｒ２エキシマレーザー等のエキシマレーザー；Ｘ線；電子線等が挙げられる。
波長１００〜６００ｎｍの電磁波が好ましく、３００〜５００ｎｍの範囲に分布を有する光線がより好ましく、ｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｇ線（４３６ｎｍ）が特に好ましい。
照射装置として、公知の超高圧水銀灯やディープＵＶランプ等を用いることができる。露光量は、好ましくは５〜１０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲であり、より好ましくは５０〜４００ｍＪ／ｃｍ２であり、特に好ましくは５０〜１００ｍＪ／ｃｍ２である。露光量が５ｍＪ／ｃｍ２以下の場合、隔壁の硬化が不十分で、その後の現像で溶解や剥離が起こるため好ましくない。露光量が１０００ｍＪ／ｃｍ２を超えると高い解像度が得られなくなる傾向にある。【００２５】
現像工程［１４］
露光工程の後、現像液により現像し、未露光部分を除去する。現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水などの無機アルカリ類；エチルアミン、ｎ−プロピルアミンなどの第１級アミン類；ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミンなどの第２級アミン類；トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、Ｎ−メチルピロリドンなどの第３級アミン類；ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアルコールアミン類；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリンなどの第４級アンモニウム塩；ピロール、ピペリジン等の環状アミン類；のアルカリ類からなるアルカリ水溶液を用いることができる。また上記アルカリ水溶液に、メタノール、エタノールなどの水溶性有機溶媒、界面活性剤などを適当量添加した水溶液を現像液として使用することもできる。【００２６】
現像時間（現像液に接触させる時間）は、５〜１８０秒間が好ましい。また現像方法は液盛り法、ディッピング法、シャワー法などのいずれでもよい。現像後、高圧水洗や流水洗浄を行い、圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、基板上の水分を除去できる。【００２７】
ポスト露光工程［１５］
次に、再度、露光を行う。ポスト露光は基板全面に対して行うことが好ましい。ポスト露光は隔壁が形成されている表面、または隔壁が形成されていない裏面（基板側）のいずれから行ってもよい。また、表裏両面から露光してもよい。ブラックマトリックスが形成された基板上に隔壁を形成する場合は、表面から露光することが好ましい。好ましい露光量としては、５０ｍＪ／ｃｍ２以上であり、より好ましくは２００ｍＪ／ｃｍ２以上であり、さらに好ましくは１０００ｍＪ／ｃｍ２以上であり、特に好ましくは２０００ｍＪ／ｃｍ２以上である。露光量は３０００ｍＪ／ｃｍ２以下が好ましい。【００２８】
照射する光としては、紫外線が好ましく、光源として、超高圧水銀灯または高圧水銀灯を用いることが好ましい。これらの光源は隔壁の硬化に寄与する６００ｎｍ以下の光を発光し、かつ、隔壁の酸化分解の原因となる２００ｎｍ以下の光の発光が少ないため、好ましく用いられる。さらに水銀灯に用いられている石英管ガラスが２００ｎｍ以下の光をカットする光学フィルター機能を有することが好ましい。【００２９】
また光源として低圧水銀灯を用いることもできる。ただし、低圧水銀灯は２００ｎｍ以下の波長の発光強度も高く、オゾンの生成により隔壁の酸化分解が起こり易いため、多量の露光を行うことは好ましくない。露光量は５００ｍＪ／ｃｍ２以下であることが好ましく、３００ｍＪ／ｃｍ２以下がさらに好ましい。【００３０】
隔壁を加熱処理するポストベーク工程［１６］
続いて、隔壁を加熱処理することが好ましい。ホットプレート、オーブンなどの加熱装置により、好ましくは１５０〜２５０℃で、５〜９０分間加熱処理を行ってもよい。加熱温度は１８０℃以上がより好ましい。隔壁を加熱処理することにより、隔壁の耐薬品性が向上し、塗布したインクに含まれる溶媒により隔壁が膨潤したり、インクが滲むことを防ぐことができる。【００３１】
上記のようなフォトリソグラフィ工程を経ることによって、隔壁が得られる。本発明における感光性組成物が黒色着色剤を含む場合には、形成される隔壁はブラックマトリックスとしての機能が付与される。
得られる隔壁の幅の平均は、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは４０μｍ以下であり、特に好ましくは２０μｍ以下である。隔壁の幅の平均は、１０μｍ以上が好ましい。また、隔壁の高さの平均は、好ましくは０．０５〜５０μｍ、より好ましくは０．２〜１０μｍ、特に好ましくは０．５〜３μｍである。
得られる隔壁の形状は、特に限定されず、逆テーパー、矩形、順テーパーのいずれの形状でもよい。隔壁の上部表面のみが撥液性を示し、隔壁の側面は親液性を示すため、隔壁の形状に依存せずにインク層は優れた均一性を奏することができる。
また隔壁の側壁と隔壁の底面のおりなすテーパー角の好ましい範囲は、３０°〜１５０°である。テーパー角が小さすぎても大きすぎてもコントラストが低下するため好ましくない。
また、隔壁で区分された領域であるドットの幅の平均は、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下である。ドットひとつのサイズ（面積）は、好ましくは５０００μｍ２以上１５００００μｍ２以下であり、より好ましくは１００００μｍ２以上１２００００μｍ２以下であり、特に好ましくは１５０００μｍ２以上１０００００μｍ２である。ドットのサイズが小さすぎるとインクジェットで所望のドットにインクを着弾させるのが難しくなるため、好ましくない。一方、ドットのサイズが大きすぎると着弾したインクがドットに均一に濡れ拡がることが難しくなるため、好ましくない。【００３２】
次に、画素を形成する方法について説明する。
隔壁で区分された領域であるドット内にインクを注入する工程［２１］
インクを注入する塗布方法としては、インクジェット法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、スピンコート法、スリットコート法、ロールコート法、またはバーコート法等が挙げられる。なかでも、インクジェット法、スプレーコート法、またはスクリーン印刷法が大面積の基板にも比較的容易に塗布可能であるため好ましく、さらに多様なインクを同時に製膜することが可能であるインクジェット法が特に好ましい。【００３３】
インクジェット装置としては、インク吐出方式によりピエゾ方式やサーマル方式が挙げられるが、ピエゾ方式の装置を用いることが好ましい。サーマル方式の場合、インクを吐出する際に加熱をするため、その熱によってインクが変質するおそれがあるが、ピエゾ方式の場合、インクは加熱されることがないからである。吐出される液の液滴は５〜５００ｐＬであることが好ましい。液滴が小さすぎるとインクの飛翔途中で溶媒が蒸発してしまうことや微小気流の影響を受けて着弾精度が低下するおそれがある。液滴が大きすぎると微小な画素が得られにくくなるおそれがある。【００３４】
インクの塗膜を乾燥する工程［２２］
次に、インクの塗膜を真空乾燥や加熱乾燥することによって、溶剤を揮発する。また外観のムラを発生させず、効率よく乾燥させるために、真空乾燥と加熱乾燥を併用することがより好ましい。各成分の種類、配合割合などによっても異なるが、真空乾燥は１０〜５００Ｐａ（絶対圧）、１０〜３００秒間程度、加熱乾燥は５０〜１２０℃、１０〜２０００秒間程度の幅広い範囲で行うことが好ましい。用いるインクの溶剤の沸点が低い場合には、必ずしも真空乾燥や加熱乾燥を行うことなく、室温で１０〜２０００秒間程度静置しておくだけでも良い。【００３５】
インク層を加熱処理する工程［２３］
次いで、ホットプレート、オーブンなどの加熱装置により、好ましくは１５０〜２５０℃で、５〜９０分間加熱処理を行ってもよい。加熱処理することにより、インクが熱硬化性の成分を含んでいる場合、その硬化反応を促進し、実用上必要とされる耐薬品性や耐熱性をインク層に付与することができる。
画素ひとつのサイズ（面積）は、好ましくは５０００μｍ２以上１５００００μｍ２以下であり、より好ましくは１００００μｍ２以上１２００００μｍ２以下であり、特に好ましくは１５０００μｍ２以上１０００００μｍ２である。【００３６】
次に、本発明のカラーフィルタの製造方法を説明する。【００３７】
本発明の製造方法を用いてカラーフィルタを製造する場合、隔壁にブラックマトリックスとしての機能を付与するために、感光性組成物は黒色着色剤を含んでいることが好ましい。その場合、上記隔壁の形成工程により、ブラックマトリックスとしての機能を有する隔壁を形成した後、隔壁で区分された領域内に、インクジェット法によって青、緑、赤色のカラーインクを注入する塗布工程、乾燥工程、加熱処理工程を経て画素を形成する。【００３８】
またあらかじめブラックマトリックスが形成された基板を用いることもできる。その場合、上記隔壁の形成方法により、ブラックマトリックス上に隔壁を形成した後、隔壁で区分された領域内であるドット内に、好ましくはインクジェット法によって、青、緑、赤色のカラーインクをそれぞれ注入する塗布工程［２１］、インクの塗膜を乾燥する工程［２２］、インク層を加熱処理する工程［２３］を経て画素が形成される。
形成される画素の形状は、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、４画素配置型等の公知のいずれの配列とすることも可能である。【００３９】
青、緑、赤色のカラーインクは、主に着色成分と、バインダー樹脂成分と、溶剤とを含む。
着色成分としては、耐熱性、耐光性などに優れた顔料または染料を用いることが好ましい。
バインダー樹脂成分としては、透明で耐熱性に優れた樹脂が好ましく、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられるが、これに限定されるものでない。
インクが水性である場合、溶剤は水および必要に応じて水溶性有機溶媒からなり、バインダー樹脂成分として水溶性樹脂または水分散性樹脂を含有し、必要に応じて各種助剤を含有する。
インクが油性である場合、溶剤は有機溶剤であり、バインダー樹脂成分として有機溶剤に可溶な樹脂を含有し、必要に応じて各種助剤を含有する。【００４０】
画素形成後、保護膜層を形成することが好ましい。保護膜層は表面平坦性を上げる目的と隔壁や画素のインクからの溶出物が液晶層に到達するのを遮断することができる。保護膜層を形成する場合は、事前に隔壁の撥液性を除去することが好ましい。撥液性を除去しない場合、オーバーコート用塗布液をはじき、均一な膜厚が得られないおそれがある。隔壁の撥液性を除去する方法としては、プラズマアッシング処理や光アッシング処理等が挙げられる。
さらに必要に応じて、カラーフィルタを用いて製造される液晶パネルの高品位化のためにフォトスペーサーをブラックマトリックス上に形成することが好ましい。【００４１】
カラーフィルタを液晶パネルに用いる場合、輝度と色純度がともに高いことが求められている。しかし、画素内のカラーインク層の膜厚均一性が低いと、理想的な平坦膜に比べて、輝度は膜厚の厚い部分の影響を受けて低下する傾向にあり、色純度は膜厚の薄い部分の影響を受けて低下する傾向にある。そのため、液晶パネルの品位を保つために、カラーフィルタのひとつのカラーインク層の最も厚い部分の膜厚をｈ１、最も薄い部分の膜厚をｈ２とした場合に、（ｈ１−ｈ２）／ｈ１＜０．３となることが望ましい。本発明の製造方法を用いてカラーフィルタを製造すると、（ｈ１−ｈ２）／ｈ１＜０．３の膜厚均一性を有するカラーインク層が得られるため好ましい。（ｈ１−ｈ２）／ｈ１＜０．２の膜厚均一性を有するカラーインク層を得ることがより好ましい。【００４２】
次に、本発明の有機ＥＬ表示素子の製造方法を説明する。
最初に、ガラス等の透明基板に酸化インジウム錫（ＩＴＯ）等の透明電極をスパッタ法等によって製膜し、必要に応じて所望のパターンに透明電極をエッチングする。次に、本発明の製造方法を用いて隔壁を形成する。その後、インクジェット法を用いて隔壁間のドットに正孔輸送材料、発光材料の溶液を順次塗布、乾燥して、正孔輸送層、発光層を形成する。【００４３】
正孔輸送材料としては、例えばチオフェン系導電性高分子（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の塗布液を用いることができる。また、発光材料としては、π共役ポリマー系発光材料と色素含有ポリマー系発光材料を用いることができる。π共役ポリマー系発光材料としては、ポリフルオレン（ＰＦ）誘電体（赤色，緑色，青色）、ポリスパイロ（Ｐｏｌｙ−Ｓｐｉｒｏ）誘電体（赤色、緑色、青色）、ポリパラフェニレン誘電体またはポリチオフェン誘電体などが挙げられる。色素含有ポリマー系発光材料としては、燐光または蛍光の低分子色素をポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）に分散した発光材料である色素分散ＰＶＫ（赤色、緑色、青色）などが挙げられる。溶剤としては、正孔輸送材料の溶媒としては水等の高極性の溶剤を用いることが好ましく、発光材料の溶媒としては、キシレン等の低極性の溶剤を用いることが好ましく用いられる。
その後アルミニウム等の電極を蒸着法等によって形成することによって、有機ＥＬ表示素子の画素が得られる。【００４４】
正孔輸送層や発光層の膜厚が画素内でばらついていた場合、膜厚の薄い部分に電界が集中してしまい、材料の劣化が促進される傾向にある。そのため、有機ＥＬパネルの品位を保つために、正孔輸送層や発光層の最も厚い部分の膜厚をｈ１、最も薄い部分の膜厚をｈ２とした場合に、（ｈ１−ｈ２）／ｈ１＜０．３となることが望ましい。本発明を用いて有機ＥＬ素子を製造すると、（ｈ１−ｈ２）／ｈ１＜０．３の膜厚均一性を有する正孔輸送層や発光層が得られるため好ましい。（ｈ１−ｈ２）／ｈ１＜０．２の膜厚均一性を有する正孔輸送層や発光層を得ることがより好ましい。【００４５】
次に、本発明における隔壁形成材料である感光性組成物について説明する。
なお、以下の具体的化合物名において、（メタ）アクリロイル基とはアクリロイル基とメタクリロイル基の両者を意味する総称として使用する。（メタ）アクリレートとはアクリレートとメタクリレートの両者を意味する総称として使用する。（メタ）アクリル酸とはアクリル酸とメタクリル酸の両者を意味する総称として使用する。（メタ）アクリルアミドとはアクリルアミドとメタクリルアミドの両者を意味する総称として使用する。
本明細書において式１で表される基を、基（１）という。他の基も同様である。
本明細書において式（１１）で表される単量体を、単量体（１１）という。他の単量体も同様である。【００４６】
本発明における重合体（Ａ）は、基（１）または基（２）を有する側鎖と、エチレン性二重結合を有する側鎖とを有する。
−ＣＦＸＲｆ  （１）
式１中、Ｘは水素原子、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒｆはエーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数２０以下の水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換されたアルキル基、またはフッ素原子を示す。
−（ＳｉＲ１Ｒ２−Ｏ）ｎ−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３  （２）
式２中、Ｒ１、Ｒ２は独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示し、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜１０の有機基を示し、ｎは１〜２００の整数を示す。【００４７】
基（１）または基（２）を有する側鎖は、重合反応によって直接形成しても、重合反応後の化学変換によって形成してもよい。また、エチレン性二重結合を有する側鎖は重合反応後の化学変換によって形成できる。【００４８】
上記式１中のＲｆが、エーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数２０以下の水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換されたアルキル基である場合、前記アルキル基中の水素原子はフッ素原子以外の他のハロゲン原子に置換されていてもよい。他のハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。また、エーテル性酸素原子は、該アルキル基の炭素−炭素結合間に存在してもよく、該アルキル基の末端に存在してもよい。また該アルキル基の構造は、直鎖構造、分岐構造、環構造、または部分的に環を有する構造が挙げられ、直鎖構造が好ましい。【００４９】
上記式１で表される基の具体例としては、以下が挙げられる。
−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＨＦ２、−（ＣＦ２）２ＣＦ３、−（ＣＦ２）３ＣＦ３、−（ＣＦ２）４ＣＦ３、−（ＣＦ２）５ＣＦ３、−（ＣＦ２）６ＣＦ３、−（ＣＦ２）７ＣＦ３、−（ＣＦ２）８ＣＦ３、−（ＣＦ２）９ＣＦ３、−（ＣＦ２）１１ＣＦ３、−（ＣＦ２）１５ＣＦ３、
−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）５ＣＦ３、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ３（ｐは１〜８の整数）、
−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｑＣ６Ｆ１３（ｑは１〜４の整数）、
−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｒＣ３Ｆ７（ｒは１〜５の整数）。【００５０】
上記基（１）としては、パーフルオロアルキル基または水素原子１個を含むポリフルオロアルキル基であることが好ましく、パーフルオロアルキル基が特に好ましい（ただし、前記アルキル基は、エーテル性酸素原子を有するものを含む。）。これによって、感光性組成物から形成される隔壁は撥液性が良好となる。また、上記基（１）の全炭素数は４〜６が好ましい。この場合、隔壁に充分な撥液性が付与されるとともに、重合体（Ａ）と感光性組成物を構成する他の成分との相溶性が良好であり、感光性組成物を塗布し塗膜を形成したときに重合体（Ａ）同士が凝集することがなく、外観の良好な隔壁が形成できる。【００５１】
上記式２において、Ｒ１、Ｒ２はシロキサン単位毎に同一でも異なっていてもよい。感光性組成物から形成される隔壁が優れたインク転落性を示すことから、Ｒ１、Ｒ２は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基であることが好ましく、水素原子、メチル基、またはフェニル基であることがより好ましく、すべてのシロキサン単位のＲ１、Ｒ２がメチル基であることが特に好ましい。また、Ｒ３が有機基である場合、窒素原子、酸素原子等が含まれていてもよく、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜５の炭化水素基であることが好ましい。ｎは１〜１００の整数が好ましく、２〜８０の整数がより好ましい。【００５２】
エチレン性二重結合としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基等の付加重合性の不飽和基等が挙げられる。それらの基の水素原子の一部またはすべてが、炭化水素基により置換されていてもよい。炭化水素基としては、メチル基が好ましい。【００５３】
重合体（Ａ）は、基（１）を有する単量体（ａ１）または基（２）を有する単量体（ａ２）と反応性基を有する単量体（ａ３）とを含む２種以上の単量体を共重合し、次いで得られた共重合体と前記反応性基と結合し得る官能基とエチレン性二重結合とを有する化合物（ｚ１）とを反応させることにより製造できる。【００５４】
基（１）を有する単量体（ａ１）としては、下記式１１で表される単量体が好ましい。
ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＯＯ−Ｙ−ＣＦＸＲｆ  （１１）
式１１中、Ｒ４は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、またはトリフルオロメチル基を示し、Ｙは単結合または炭素数１〜６のフッ素原子を含まない２価有機基を示し、Ｒｆはエーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数２０以下の水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換されたアルキル基、またはフッ素原子を示す。
単量体（１１）において−ＣＦＸＲｆの好ましい態様は、基（１）に関して説明したのと同様である。単量体（１１）において、入手の容易さから、Ｙは炭素数２〜４のアルキレン基であることが好ましい。【００５５】
単量体（１１）の例としては、以下が挙げられる。
ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＯＯＲ５ＣＦＸＲｆ
ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＯＯＲ５ＮＲ６ＳＯ２ＣＦＸＲｆ
ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＯＯＲ５ＮＲ６ＣＯＣＦＸＲｆ
ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）Ｒ７ＣＦＸＲｆ
ここで、Ｒ４は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒ５は炭素数１〜６のアルキレン基を示し、Ｒ６は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ７は単結合または炭素数１〜４のアルキレン基を示し、Ｒｆは上記と同じ意味を示す。【００５６】
Ｒ５の具体例としては、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−、
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）−、−ＣＨ２（ＣＨ２）３ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２）−、等が挙げられる。【００５７】
Ｒ７の具体例としては、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）−、等が挙げられる。【００５８】
単量体（１１）の具体例としては、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。単量体（１１）は１種を用いてもよく、２種以上を併用してもよい。【００５９】
基（２）を有する単量体（ａ２）としては、下記単量体（２１）が好ましい。
ＣＨ２＝ＣＲ８ＣＯＯ−Ｚ−（ＳｉＲ１Ｒ２Ｏ）ｎ−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３  （２１）
式２１中、Ｒ８は水素原子またはメチル基を示し、Ｚは単結合または炭素数１〜６の２価有機基を示し、Ｒ１、Ｒ２は独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示し、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜１０の有機基を示し、ｎは１〜２００の整数を示す。
単量体（ａ２１）においてＲ１、Ｒ２、Ｒ３、ｎの好ましい態様は、上記基（２）に関して説明したのと同様である。【００６０】
Ｚは炭素数１〜６の２価炭化水素基が好ましい。具体例としては下記が挙げられる。
−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−、
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）−、
−ＣＨ２（ＣＨ２）３ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２）−等。
上記単量体（２１）は１種を用いてもよく、２種以上を併用してもよい。【００６１】
反応性基を有する単量体（ａ３）としては、水酸基を有する単量体、エチレン性二重結合を有する酸無水物単量体、カルボキシ基を有する単量体、エポキシ基を有する単量体等が挙げられる。なお、単量体（ａ３）は、基（１）および基（２）を実質的に含まないことが好ましい。【００６２】
共重合した後の単量体（ａ３）の有する反応性基が、当該反応性基と結合し得る官能基とエチレン性二重結合とを有する化合物（ｚ１）と反応することにより、エチレン性二重結合を有する側鎖を有する重合体（Ａ）が形成されることとなる。【００６３】
水酸基を有する単量体の具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。【００６４】
さらに、水酸基を有する単量体としては、末端が水酸基であるポリオキシアルキレン鎖を有する単量体であってもよい。例えば、ＣＨ２＝ＣＨＯＣＨ２Ｃ６Ｈ１０ＣＨ２Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｋＨ（ここで、ｋは１〜１００の整数、以下同じ。）、ＣＨ２＝ＣＨＯＣ４Ｈ８Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｋＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｋＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｋＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｍ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｊＨ（ここで、ｍは０〜１００の整数であり、ｊは１〜１００の整数であり、ｍ＋ｊは１〜１００である。以下同じ。）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｍ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｊＨ等が挙げられる。【００６５】
エチレン性二重結合を有する酸無水物単量体の具体例としては、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、無水メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸、無水３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸、無水ｃｉｓ−１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸、２−ブテン−１−イルサクシニックアンハイドライド等が挙げられる。
カルボキシ基を有する単量体の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ケイ皮酸、もしくはそれらの塩が挙げられる。
エポキシ基を有する単量体の具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレートが挙げられる。【００６６】
重合体（Ａ）はさらに酸性基を有する側鎖を有することが好ましい。露光工程で硬化反応しなかった重合体（Ａ）の一部の分子は、それらが酸性基を有する側鎖を有することにより、現像工程において隔壁表面から洗い流され、隔壁内には固定化されなかった残存分子が残りにくい。ポスト露光工程の前段階で隔壁間のドットにマイグレートする可能性のある分子をより減らすことができ、ドットの親液性をより高くすることができる。【００６７】
酸性基としては、カルボキシ基、フェノール性水酸基、およびスルホン酸基からなる群から選ばれる１以上の酸性基が好ましい。
酸性基を有する側鎖は、酸性基を有する単量体（ａ４）の重合反応によって形成してもよいし、重合反応後の化学変換によって形成してもよい。【００６８】
酸性基を有する単量体（ａ４）としては、カルボキシ基を有する単量体、フェノール性水酸基を有する単量体、スルホン酸基を有する単量体等が挙げられる。酸性基を有する単量体（ａ４）としてカルボキシ基を有する単量体を用い、上記反応性基を有する単量体（ａ３）としてもカルボキシ基を有する単量体を用いるときは、最終的にエチレン性二重結合が導入されず、カルボキシ基として残るものを単量体（ａ４）とみなすこととする。【００６９】
フェノール性水酸基を有する単量体としては、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン等が挙げられる。またこれらのベンゼン環の１個以上の水素原子が、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基等のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基等のアルコキシ基；ハロゲン原子；アルキル基の１個以上の水素原子がハロゲン原子に置換されたハロアルキル基；ニトロ基；シアノ基；アミド基等に置換された単量体が挙げられる。【００７０】
スルホン酸基を有する単量体としては、ビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸、（メタ）アリルスルホン酸、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アリルオキシプロパンスルホン酸、（メタ）アクリル酸−２−スルホエチル、（メタ）アクリル酸−２−スルホプロピル、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロキシプロパンスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸が挙げられる。【００７１】
本発明における重合に用いる単量体には、基（１）を有する単量体（ａ１）、基（２）を有する単量体（ａ２）、反応性基を有する単量体（ａ３）、および酸性基を有する単量体（ａ４）以外のその他の単量体（ａ５）が含まれていてもよい。
その他の単量体（ａ５）としては、炭化水素系オレフィン類、ビニルエーテル類、イソプロペニルエーテル類、アリルエーテル類、ビニルエステル類、アリルエステル類、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、芳香族ビニル化合物、クロロオレフィン類、共役ジエン類が挙げられる。これらの化合物には、官能基が含まれていても良く、官能基としては、例えば、カルボニル基、アルコキシ基等が挙げられる。特に、隔壁の耐熱性に優れることから、（メタ）アクリル酸エステル類または（メタ）アクリルアミド類が好ましい。【００７２】
重合体（Ａ）は、例えば、以下の方法によって合成できる。まず、単量体を溶媒に溶解して加熱し、重合開始剤を加えて共重合させる。共重合反応においては、必要に応じて連鎖移動剤を存在させるのが好ましい。単量体、重合開始剤、溶媒および連鎖移動剤は連続して添加してもよい。【００７３】
前記溶媒としては、例えばエタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、エチレングリコール等のアルコール類；アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール等のセルソルブ類；２−（２−メトキシエトキシ）エタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール等のカルビトール類；メチルアセテート、エチルアセテート、ｎ−ブチルアセテート、エチルラクテート、ｎ−ブチルラクテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールジアセテート、グリセリントリアセテート等のエステル類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等が挙げられる。【００７４】
重合開始剤としては、公知の有機過酸化物、無機過酸化物、アゾ化合物等が挙げられる。有機過酸化物、無機過酸化物は、還元剤と組み合わせて、レドックス系触媒として使用することもできる。【００７５】
有機過酸化物としては、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、イソブチリルパーオキシド、ｔ−ブチルヒドロパーオキシド、ｔ−ブチル−α−クミルパーオキシド等が挙げられる。無機過酸化物としては、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過酸化水素、過炭酸塩等が挙げられる。アゾ化合物としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）二塩酸塩等が挙げられる。【００７６】
連鎖移動剤としては、ｎ−ブチルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｔ−ブチルメルカプタン、チオグリコール酸エチル、チオグリコール酸２−エチルヘキシル、２−メルカプトエタノール等のメルカプタン類；クロロホルム、四塩化炭素、四臭化炭素等のハロゲン化アルキルが挙げられる。【００７７】
上記のようにして得られた共重合体と、反応性基と結合し得る官能基とエチレン性二重結合とを有する化合物（ｚ１）とを反応させることにより重合体（Ａ）が得られる。【００７８】
反応性基に対する、当該反応性基と結合し得る官能基とエチレン性二重結合とを有する化合物（ｚ１）との組み合わせとして、例えば以下の組み合わせが挙げられる。
（１）水酸基に対し、エチレン性二重結合を有する酸無水物、
（２）水酸基に対し、イソシアネート基とエチレン性二重結合を有する化合物、
（３）水酸基に対し、塩化アシル基とエチレン性二重結合を有する化合物、
（４）酸無水物に対し、水酸基とエチレン性二重結合を有する化合物、
（５）カルボキシ基に対し、エポキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物、
（６）エポキシ基に対し、カルボキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物。【００７９】
エチレン性二重結合を有する酸無水物の具体例としては、上記した例が挙げられる。イソシアネート基とエチレン性二重結合を有する化合物の具体例としては、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、１，１−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネートが挙げられる。塩化アシル基とエチレン性二重結合を有する化合物の具体例としては、（メタ）アクリロイルクロライドが挙げられる。水酸基とエチレン性二重結合を有する化合物の具体例としては、上記した水酸基を有する単量体の例が挙げられる。エポキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物の具体例としては、上記したエポキシ基を有する単量体の例が挙げられる。カルボキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物の具体例としては、上記したカルボキシ基を有する単量体の例が挙げられる。
上記の組み合わせとしては、水酸基に対し、１，１−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネートを用いることが特に好ましい。重合体（Ａ）は側鎖１つにつきエチレン性二重結合を２つ以上有する側鎖を有することとなり、重合体（Ａ）の隔壁表面への固定化が優れるからである。【００８０】
共重合体と、反応性基と結合し得る官能基とエチレン性二重結合とを有する化合物（ｚ１）を反応させる際は、反応に用いる溶媒としては、上記共重合体の合成において例示した溶媒を使用できる。【００８１】
また、重合禁止剤を配合することが好ましい。重合禁止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールが挙げられる。
また、触媒や中和剤を加えてもよい。例えば、水酸基を有する共重合体と、イソシアネート基とエチレン性二重結合を有する化合物を反応させる場合、錫化合物等を用いることができる。水酸基を有する共重合体と、塩化アシル基とエチレン性二重結合を有する化合物を反応させる場合、塩基性触媒を用いることができる。【００８２】
共重合させる単量体全質量に対する各単量体の好ましい割合は以下のとおりである。基（１）を有する単量体（ａ１）を用いる場合のその割合は２０〜８０質量％が好ましく、３０〜６０質量％がより好ましい。基（２）を有する単量体（ａ２）を用いる場合のその割合は０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％がより好ましい。基（１）または基（２）の該割合が高いほど、本発明の重合体（Ａ）は形成される塗膜硬化物からなる隔壁の表面張力を下げる効果に優れ、隔壁に高い撥液性を付与する。一方、該割合が高すぎると、隔壁と基板との密着性が低くなるおそれがある。反応性基を有する単量体（ａ３）の割合は２０〜７０質量％が好ましく、３０〜５０質量％がより好ましい。この範囲であると重合体（Ａ）の隔壁への固定化や現像性が良好となる。酸性基を有する単量体（ａ４）の割合は２〜２０質量％が好ましく、４〜１２質量％がより好ましい。この範囲であると露光工程で固定化されなかった残存分子が現像工程において隔壁から洗い流されやすい。その他の単量体（ａ５）の割合は７０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。この範囲であるとアルカリ溶解性、現像性が良好である。【００８３】
共重合体と化合物（ｚ１）とは、［化合物（ｚ１）の官能基］／［共重合体の反応性基］の当量比の値が０．５〜２．０となるように仕込むことが好ましい。当量比が高いほど、重合体（Ａ）の隔壁への固定化が良好となる。一方、当量比が高すぎると、未反応の化合物（ｚ１）である不純物が多くなり、塗膜外観が悪化する。より好ましくは、０．８〜１．５である。なお、反応性基を有する単量体（ａ３）と酸性基を有する単量体（ａ４）の両方としてカルボキシ基を有する単量体を使用する場合は、重合体（Ａ）の酸価が所定の値となるように、共重合体と化合物（ｚ１）の仕込み量を調節すればよい。【００８４】
重合体（Ａ）が基（１）を有する場合、重合体（Ａ）のフッ素原子の含有率は５〜３５質量％が好ましい。含有率が高いほど、重合体（Ａ）は隔壁の表面張力を下げる効果に優れ、隔壁に高い撥液性を付与する。一方、含有率が高すぎると、隔壁と基板との密着性が低くなるおそれがある。重合体（Ａ）におけるフッ素原子の含有率は、下限は１０質量％がより好ましく、上限は３０質量％であることがより好ましい。【００８５】
重合体（Ａ）が基（２）を有する場合、重合体（Ａ）のケイ素原子の含有率は０．５〜３０質量％が好ましい。含有率が高いほど、重合体（Ａ）は隔壁の表面張力を下げる効果およびインク転落性を上げる効果を付与する。一方、含有率が高すぎると、隔壁と基板との密着性が低くなるおそれがある。重合体（Ａ）におけるケイ素原子の含有率は、下限は０．５質量％がより好ましく、上限は１０質量％がより好ましい。【００８６】
重合体（Ａ）は、分子内に２個以上１００個以下のエチレン性二重結合を有することが好ましい。より好ましくは６個以上５０個以下である。この範囲であると重合体（Ａ）の隔壁への固定化および現像性が良好となる。【００８７】
重合体（Ａ）の酸価は１００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下が好ましく、１０〜５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）がより好ましい。この範囲であると露光工程で固定化されなかった残存分子が現像工程において隔壁から洗い流されやすい。なお、酸価は樹脂１ｇを中和するのに必要な水酸化カリウムの質量（単位ｍｇ）であり、本明細書においては単位をｍｇＫＯＨ／ｇと記載する。【００８８】
重合体（Ａ）の重量平均分子量は、５００以上１５０００未満が好ましく、１０００以上１００００未満がより好ましい。この範囲であるとアルカリ溶解性、現像性が良好である。【００８９】
本発明において、感光性組成物の全固形分における重合体（Ａ）の割合は０．１〜３０質量％が好ましい。該割合が高いと、形成される隔壁の表面張力を下げる効果に優れ、隔壁に高い撥液性を付与する。一方、該割合が高すぎると、隔壁と基板との密着性が低くなるおそれがある。組成物の全固形分における重合体（Ａ）の割合は、下限は０．１５質量％がより好ましく、上限は２０質量％がより好ましい。【００９０】
本発明における重合体（Ａ）は、基（１）を有する側鎖と基（２）を有する側鎖の両方を１分子内に有していてもよい。また本発明における感光性組成物は、基（１）を有する側鎖を有する重合体（Ａ）と、基（２）を有する側鎖を有する重合体（Ａ）の両方を含んでいてもよい。これらの場合、感光性組成物は、特に高い撥液性、高いインク転落性を同時に発現できる。【００９１】
本発明における感光性組成物は、アルカリ可溶性感光性樹脂（Ｂ）を含むことが好ましい。アルカリ可溶性感光性樹脂（Ｂ）は１分子内に酸性基とエチレン性二重結合とを有することが好ましい。アルカリ可溶性感光性樹脂（Ｂ）が酸性基を有することにより未露光部はアルカリ現像液にて除去される。また、エチレン性二重結合を有することにより、露光部はアルカリ現像液にて除去されない。したがって隔壁を形成することができる。アルカリ可溶性感光性樹脂（Ｂ）は実質的に基（１）または基（２）を含有しないことが好ましい。【００９２】
酸性基としては、カルボキシ基、フェノール性水酸基、スルホン酸基およびリン酸基からなる群から選ばれる１以上の酸性基が挙げられる。エチレン性二重結合としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基等の付加重合性の不飽和基等が挙げられる。それらの基の水素原子の一部またはすべてが、炭化水素基により置換されていてもよい。炭化水素基としては、メチル基が好ましい。【００９３】
アルカリ可溶性感光性樹脂（Ｂ）としては、例えば、エチレン性二重結合を有する単量体の共重合体であって、酸性基を有する側鎖とエチレン性二重結合を有する側鎖とを有する重合体（Ｂ−１）、エポキシ樹脂にエチレン性二重結合と酸性基とを導入した樹脂（Ｂ−２）が挙げられる。【００９４】
上記重合体（Ｂ−１）は、基（１）を有する単量体（ａ１）や基（２）を有する単量体（ａ２）を使用しない以外は、上記重合体（Ａ）と同様の方法で製造することができる。リン酸基を有するエチレン性不飽和単量体としては、２−（メタ）アクリロイルオキシエタンリン酸が挙げられる。【００９５】
上記樹脂（Ｂ−２）としては、エポキシ樹脂と、カルボキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物との反応物に、さらに多塩基性カルボン酸またはその無水物を反応させて得られる化合物が好ましい。【００９６】
上記樹脂（Ｂ−２）の製造に用いられるエポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂、下記式（Ｂ−２１）で表されるビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂（ただし、ｓは１〜５０を示し、２〜１０が好ましい。）、下記式（Ｂ−２２）で表されるエポキシ樹脂（ただし、Ｒ７、Ｒ8、Ｒ９、Ｒ１０は独立に水素原子、塩素原子または炭素数１〜５のアルキル基のいずれかを示し、ｔは０〜１０を示す。）が挙げられる。【００９７】
【化１】
2008149776.tif 000003
【００９８】
エポキシ樹脂に、カルボキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物を反応させることにより、エポキシ樹脂にエチレン性二重結合が導入される。ついで、これに多塩基性カルボン酸またはその無水物を反応させることにより、酸性基としてカルボキシ基を導入することができる。特に上記式（Ｂ−２２）で表されるエポキシ樹脂にカルボキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物を反応させた後に、多塩基性カルボン酸無水物を反応させる場合は、ジカルボン酸無水物およびテトラカルボン酸二無水物の混合物を反応させるのが好ましい。ジカルボン酸無水物とテトラカルボン酸二無水物の比率を変化させることにより分子量を制御できるからである。【００９９】
エポキシ樹脂にエチレン性二重結合と酸性基とを導入した樹脂（Ｂ−２）の市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＣＲ−１０６９、Ｋ−４８Ｃ、ＣＣＲ−１１０５、ＣＣＲ−１１１５、ＣＣＲ−１１６３Ｈ、ＣＣＲ−１１６６Ｈ、ＣＣＲ−１１５９Ｈ、ＴＣＲ−１０２５、ＴＣＲ−１０６４Ｈ、ＴＣＲ−１２８６Ｈ、ＺＡＲ−１５３５Ｈ、ＺＦＲ−１１２２Ｈ、ＺＦＲ−１１２４Ｈ、ＺＦＲ−１１８５Ｈ、ＺＦＲ−１４９２Ｈ、ＺＣＲ−１５７１Ｈ、ＺＣＲ１５６９Ｈ、ＺＣＲ−１５８０Ｈ、ＺＣＲ１５８１Ｈ、ＺＣＲ１５８８Ｈ（以上、日本化薬社製）等が挙げられる。【０１００】
アルカリ可溶性感光性樹脂（Ｂ）の酸価は１０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、３０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましい。この範囲であると感光性組成物のアルカリ溶解性、現像性が良好である。【０１０１】
アルカリ可溶性感光性樹脂（Ｂ）は、１分子内に３個以上のエチレン性二重結合を有することが好ましく、１分子内に６個以上のエチレン性二重結合を有することがより好ましい。露光部分と未露光部分とのアルカリ溶解度に差がつきやすく、より少ない露光量での微細なパターン形成が可能となるからである。【０１０２】
アルカリ可溶性感光性樹脂（Ｂ）の重量平均分子量は、５００以上２００００未満が好ましく、２０００以上１５０００未満がより好ましい。この範囲であると感光性組成物のアルカリ溶解性、現像性が良好である。【０１０３】
アルカリ可溶性感光性樹脂（Ｂ）は、さらに、架橋反応しうる基としてカルボキシル基または水酸基を有することが好ましい。本発明における感光性組成物が、カルボキシル基または水酸基と反応し得る基を２つ以上有する化合物である熱硬化剤（Ｅ）をさらに含む場合、現像後の加熱処理によりアルカリ可溶性感光性樹脂（Ｂ）と架橋反応し、隔壁の架橋密度が増大し、耐熱性が向上するからである。酸性基であるカルボキシ基、フェノール性水酸基は架橋反応しうる基でもある。アルカリ可溶性感光性樹脂（Ｂ）が酸性基としてスルホン酸基、リン酸基を有している場合は、架橋反応しうる基としてカルボキシ基、フェノール性水酸基、アルコール性水酸基のいずれか１以上を有することが好ましい。【０１０４】
感光性組成物の全固形分におけるアルカリ可溶性感光性樹脂（Ｂ）の割合は、５〜８０質量％が好ましく、１０〜６０質量％がより好ましい。当該範囲であると感光性組成物のアルカリ現像性が良好である。【０１０５】
本発明における感光性組成物は、光重合開始剤（Ｃ）を含有することが好ましい。光重合開始剤（Ｃ）は、光によりラジカルを発生する化合物からなることが好ましい。
光重合開始剤（Ｃ）としては、ベンジル、ジアセチル、メチルフェニルグリオキシレート、９，１０−フェナンスレンキノン等のα−ジケトン類；ベンゾイン等のアシロイン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル類；チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、チオキサントン−４−スルホン酸等のチオキサントン類；ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；アセトフェノン、２−（４−トルエンスルホニルオキシ）−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、２，２’−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−メトキシアセトフェノン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等のアセトフェノン類；アントラキノン、２−エチルアントラキノン、カンファーキノン、１，４−ナフトキノン等のキノン類；２−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル等のアミノ安息香酸類；フェナシルクロライド、トリハロメチルフェニルスルホン等のハロゲン化合物；アシルホスフィンオキシド類；ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド等の過酸化物；１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、エタノン  １−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾイル−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等のオキシムエステル類等が挙げられる。【０１０６】
これらの光重合開始剤は、１種を用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。特に、上記アミノ安息香酸類、上記ベンゾフェノン類等は、その他の光ラジカル発生剤と共に用いられて、増感効果を発現することがある。また、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、ｎ−ブチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、ジエチルアミノエチルメタクリレート等の脂肪族アミン類も同じく光ラジカル発生剤と共に用いられて、増感効果を発現することがある。【０１０７】
感光性組成物の全固形分における光重合開始剤（Ｃ）の割合は、０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％がより好ましい。当該範囲であると感光性組成物の感度が良好である。【０１０８】
感光性組成物は、２個以上のエチレン性二重結合を有し、かつ酸性基を有しないラジカル架橋剤（Ｄ）を含むことが好ましい。これにより、さらに感光性組成物の光硬化性が向上し、低露光量での隔壁形成が促進される。【０１０９】
ラジカル架橋剤（Ｄ）の具体例としては、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ウレタンアクリレート等が挙げられる。これらは１種を用いてもよく、２種以上を併用してもよい。【０１１０】
感光性組成物の全固形分におけるラジカル架橋剤（Ｄ）の割合は、１０〜６０質量％が好ましく、１５〜５０質量％がより好ましい。当該範囲であると感光性組成物のアルカリ現像性が良好となる。【０１１１】
感光性組成物は、必要に応じ熱硬化剤（Ｅ）を含有することが好ましい。隔壁の耐熱性、耐透水性を向上しうるからである。
熱硬化剤（Ｅ）としては、例えば、アミノ樹脂、２個以上のエポキシ基を有する化合物、２個以上のヒドラジノ基を有する化合物、ポリカルボジイミド化合物、２個以上のオキサゾリン基を有する化合物、２個以上のアジリジン基を有する化合物、多価金属類、２個以上のメルカプト基を有する化合物、ポリイソシアネート化合物等が挙げられる。【０１１２】
上記の熱硬化剤（Ｅ）のうち、アミノ樹脂、２個以上のエポキシ基を有する化合物または２個以上のオキサゾリン基を有する化合物が特に好ましい。形成された隔壁の耐薬品性が向上するからである。【０１１３】
感光性組成物の全固形分における熱硬化剤（Ｅ）の割合は、１〜５０質量％が好ましく、５〜３０質量％がより好ましい。当該範囲であると感光性組成物のアルカリ現像性が良好となる。【０１１４】
感光性組成物は、必要に応じてシランカップリング剤（Ｆ）を含有することが好ましい。これにより、隔壁の基板に対する密着性を向上できる。
シランカップリング剤の具体例としては、テトラエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、ポリオキシアルキレン鎖含有トリエトキシシラン、イミダゾールシラン等が挙げられる。これらは１種を用いてもよく、２種以上を併用してもよい。【０１１５】
さらに、感光性組成物においては、必要に応じ着色剤（Ｇ）を使用することができる。これにより、隔壁を着色することが可能となる。【０１１６】
ブラックマトリックスである隔壁を形成するための黒色感光性組成物を調整するには、例えばカーボンブラック、アニリンブラック、アントラキノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、具体的には、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、６、７、１２、２０、３１等を用いることができる。また、赤色顔料、青色顔料、緑色顔料等の有機顔料や無機顔料の混合物を用いることもできる。【０１１７】
黒色顔料としては、価格、遮光性の大きさからカーボンブラックが好ましく、カーボンブラックは、樹脂などで表面処理されていてもよい。また、色調を調整するため、青色顔料や紫色顔料を併用することができる。【０１１８】
カーボンブラックとしては、ＢＥＴ法による比表面積が５０〜２００ｍ２／ｇであるものが好ましい。比表面積が５０ｍ２／ｇ未満のカーボンブラックを用いる場合には、隔壁（ブラックマトリックス）の着色力が低下する傾向にあり、所望の遮蔽性を得るためには多量のカーボンブラックを配合する必要があり、２００ｍ２／ｇより大きいカーボンブラックを用いる場合には、カーボンブラックに分散助剤が過度に吸着してしまい、諸物性を発現させるためには多量の分散助剤を配合する必要が生じる傾向にある。
また、カーボンブラックとしては、光に対する感度の点から、フタル酸ジブチルの吸油量が１２０ｃｃ／１００ｇ以下のものが好ましく、少ないものほどより好ましい。【０１１９】
さらに、カーボンブラックのレーザー回折散乱法による平均粒子径は、下限は４０ｎｍ以上、上限は２００ｎｍ以下であることが好ましい。平均粒子径が小さすぎると、高濃度に分散させることが困難になるおそれがあり、経時安定性の良好な感光性組成物が得られ難い。平均粒子径が大きすぎると、パターンの直線性の劣化を招く恐れがある。【０１２０】
感光性組成物の全固形分における着色剤（Ｇ）の割合は、１５〜５０質量％が好ましく、３０〜４０質量％がより好ましい。含有量が少ないと所望の遮光性が得られず、多いと感度や解像度の低下を招くおそれがあるため当該範囲が好ましい。【０１２１】
感光性組成物においては、必要に応じて硬化促進剤、増粘剤、可塑剤、消泡剤、レベリング剤、ハジキ防止剤、紫外線吸収剤等を使用することができる。【０１２２】
感光性組成物は、希釈剤を添加して基材に塗布することが好ましい。
希釈剤としては、重合体（Ａ）の説明で例示した各種の単量体を反応性希釈性として用いることができる。また、重合体（Ａ）を合成するときに使用する溶媒の説明で例示した溶媒を用いることができる。その他には、ｎ−ブタン、ｎ−ヘキサン等の鎖式炭化水素、シクロヘキサン等の環式飽和炭化水素、トルエン、キシレン、ベンジルアルコール等の芳香族炭化水素等が挙げられる。これらは１種を用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。【０１２３】
本発明における感光性組成物は、隔壁の幅の平均が、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以下であるパターン形成に用いることができる。また、ドットの幅の平均が、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下であるパターン形成に用いることができる。また、隔壁の高さの平均が好ましくは０．０５〜５０μｍ、より好ましくは０．２〜１０μｍ、特に好ましくは０．５〜３μｍのパターン形成に用いることができる。【０１２４】
感光性組成物から形成される隔壁の撥液性は、水およびキシレンの接触角で見積もることができ、水の接触角が９０度以上が好ましく、９５度以上がより好ましい。また、キシレンの接触角が３５度以上が好ましく、４０度以上がより好ましい。
【実施例】
【０１２５】
以下に、合成例および実施例を掲げて本発明を具体的に説明するが、これにより本発明は限定されない。なお、以下で、特に断らない限り、部および％は質量基準である。
重量平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によりポリスチレンを標準物質として測定した値である。
含フッ素重合体（Ａ）に含まれるフッ素原子の含有率は、以下の手法で測定した。得られた含フッ素樹脂を１２００℃で完全に燃焼分解させ、発生したガスを５０ｇの水に吸収させた。得られた水溶液のフッ化物イオン量を定量し、含フッ素重合体（Ａ）に含まれるフッ素原子の含有率を算出した。
酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）、１分子中のエチレン性二重結合の数は、原料である単量体の配合割合から算出した理論値である。【０１２６】
以下の各例において用いた化合物の略号を示す。
Ｃ６ＦＭＡ：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６Ｆ、
ＤＭＳ：ジメチルシリコーン鎖含有メタクリレート（信越化学工業社製、商品名Ｘ−２２−１７４ＤＸ）、
ＭＡＡ：メタクリル酸、
２ＨＥＭＡ：２−ヒドロキシエチルメタクリレート、
ＡＡ：アクリル酸、
ＭＭＡ：メチルメタクリレート、
ＩＢＭＡ：イソボルニルメタクリレート、
２ＭＥ：２−メルカプトエタノール、
Ｖ７０：２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）（和光純薬社製、商品名Ｖ−７０）、
ＭＯＩ：２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、
ＢＥＩ：１，１−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート
ＤＢＴＤＬ：ジブチル錫ジラウレート、
ＢＨＴ：２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、
ＩＲ９０７：ラジカル開始剤（チバスペシャルティケミカルズ社製、商品名ＩＲＧＡＣＵＲＥ−９０７）、
ＩＲ３６９：ラジカル開始剤（チバスペシャルティケミカルズ社製、商品名ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３６９）。
ＯＸＥ０１：１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（チバスペシャルティケミカルズ社製、商品名ＯＸＥ０１）、
ＯＸＥ０２：エタノン  １−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾイル−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）（チバスペシャルティケミカルズ社製、商品名ＯＸＥ０２）、
ＤＥＡＢ：４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、
ＤＥＴＸ−Ｓ：イソプロピルチオキサンソン（日本化薬社製、商品名ＤＥＴＸ−Ｓ）、
Ｄ３１０：ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬社製、商品名ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｄ−３１０）、
ＣＣＲ１１１５：クレゾールノボラック型エポキシアクリレート（日本化薬社製、商品名ＣＣＲ−１１１５：固形分６０質量％。）、
ＺＦＲ１４９２Ｈ：ビスフェノールＦ型エポキシアクリレート（日本化薬社製、商品名ＺＦＲ−１４９２Ｈ：固形分６５質量％。）、
Ｄ３１０：ジペンタエリスリトールペンタアクリレート：（日本化薬社製、商品名ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｄ−３１０）、
１５７Ｓ６５：ビスフェノールＡノボラック型（ジャパンエポキシレジン社製、商品名エピコート１５７Ｓ６５）、
ＫＢＭ４０３：３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業社製、商品名ＫＢＭ−４０３）、
ＤＥＧＤＭ：ジエチレングリコールジメチルエーテル、
ＣＢ：カーボンブラック（平均二次粒径＝１２０ｎｍ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液、ＣＢ分２０質量％、固形分２５質量％）、
有機顔料：混合有機顔料分散液（平均粒径＝８０ｎｍ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液、有機顔料分２０質量％、固形分２５質量％）。【０１２７】
＜重合体（Ａ１）〜（Ａ５）、（Ｒ１）の合成＞
［合成例１］
（重合反応）
撹拌機を備えた内容積１Ｌのオートクレーブに、アセトン（５５６．０ｇ）、Ｃ６ＦＭＡ（９６．０ｇ）、ＭＡＡ（４．８ｇ）、２−ＨＥＭＡ（９６．０ｇ）、ＭＭＡ（４３．２ｇ）、連鎖移動剤２−ＭＥ（６．２ｇ）および重合開始剤Ｖ−７０（４．５ｇ）を仕込み、窒素雰囲気下に撹拌しながら、４０℃で１８時間重合させ、共重合体１の溶液を得た。該共重合体１の重量平均分子量は５６００であった。
得られた共重合体１のアセトン溶液に水を加え再沈精製し、次いで石油エーテルにて再沈精製し、真空乾燥し、共重合体１の２３７ｇを得た。【０１２８】
（エチレン性二重結合の導入）
温度計、撹拌機、加熱装置を備えた内容量５００ｍＬのガラス製フラスコに、共重合体１（１００ｇ）、ＭＯＩ（４７．７ｇ）、ＤＢＴＤＬ（０．１９ｇ）、ＢＨＴ（２．４ｇ）およびアセトン（１００ｇ）を仕込み、撹拌しながら、３０℃で１８時間重合させ、含フッ素重合体（Ａ１）の溶液を得た。得られた含フッ素重合体（Ａ１）のアセトン溶液に水を加え再沈精製し、次いで石油エーテルにて再沈精製し、真空乾燥し、重合体（Ａ１）の１３５ｇを得た。重量平均分子量は８８００であった。【０１２９】
［合成例２〜６］
共重合体１の合成において、原料の配合（単位：ｇ）を表１のように変更した他は同様の重合反応により、共重合体２〜６を得た。次に、重合体（Ａ１）の合成において、原料の配合（単位：ｇ）を表２のように変更した他は同様の反応により、エチレン性二重結合を有する側鎖を有する重合体（Ａ２）〜（Ａ５）、エチレン性二重結合を有する側鎖を有しない重合体（Ｒ１）を得た。
得られた重合体の重量平均分子量、重合体におけるフッ素原子の含有率、１分子中のエチレン性二重結合（Ｃ＝Ｃ）の数、酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）を表２に示した。【０１３０】
【表１】
2008149776.tif 000004
【０１３１】
【表２】
2008149776.tif 000005
【０１３２】
＜アルカリ可溶性感光性樹脂（Ｂ１）の合成＞
［合成例７］
撹拌機を備えた内容積１Ｌのオートクレーブに、アセトン（５５５．０ｇ）、ＡＡ（９６．０ｇ）、２−ＨＥＭＡ（９６．０ｇ）、ＩＢＭＡ（４８．０ｇ）、連鎖移動剤ＤＳＨ（９．７ｇ）および重合開始剤Ｖ−７０（７．１ｇ）を仕込み、窒素雰囲気下に撹拌しながら、４０℃で１８時間重合させ、重合体７の溶液を得た。該重合体７の重量平均分子量は９８００であった。
得られた重合体７のアセトン溶液に水を加え再沈精製し、次いで石油エーテルにて再沈精製し、真空乾燥し、重合体７の２４０ｇを得た。【０１３３】
次いで、温度計、撹拌機、加熱装置を備えた内容量３００ｍＬのガラス製フラスコに、重合体７（１００ｇ）、ＭＯＩ（４８．３ｇ）、ＤＢＴＤＬ（０．１９ｇ）、ＢＨＴ（２．４ｇ）およびアセトン（１００ｇ）を仕込み、撹拌しながら、３０℃で１８時間重合させ、アルカリ可溶性感光性樹脂（Ｂ１）の溶液を得た。
得られたアルカリ可溶性感光性樹脂（Ｂ１）のアセトン溶液に水を加え再沈精製し、さらに石油エーテルにて再沈精製し、真空乾燥し、アルカリ可溶性感光性樹脂（Ｂ１）の１４８ｇを得た。アルカリ可溶性感光性樹脂（Ｂ１）の重量平均分子量は１３２００であった。【０１３４】
＜感光性組成物の調製＞
エチレン性二重結合を有する側鎖を有する含フッ素重合体（Ａ１）〜（Ａ５）、エチレン性二重結合を有する側鎖を有しない含フッ素重合体（Ｒ１）、アルカリ可溶性感光性樹脂（Ｂ１）、光重合開始剤（Ｃ）およびその他の成分を表３に示す割合（質量部）で配合して、感光性組成物１〜７を調製した。【０１３５】
【表３】
2008149776.tif 000006
【０１３６】
＜隔壁と画素の形成＞
上記調製した感光性組成物を用い、以下の例１〜８に示す方法で、基板に隔壁と画素を形成した。【０１３７】
［例１］
ガラス基板上にスピンナーを用いて、感光性組成物１を塗布した後、１００℃で２分間ホットプレート上で乾燥した。塗膜の上方に、格子パターンが形成されているマスク（ライン＝２０μｍ、格子スペース＝１００μｍ×２００μｍ）を３０μｍのギャップで設置し、超高圧水銀灯により１００ｍＪ／ｃｍ２を照射した。次いで基板を界面活性剤入り０．１質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用い、２５℃で４０秒間現像処理を行い、水で洗浄し、乾燥させ、隔壁を形成した。
次いで、隔壁形成面側（表側）から超高圧水銀灯により２０００ｍＪ／ｃｍ２を照射し、さらに２００℃で１時間加熱処理を行い、平均膜厚２．０μｍの隔壁が形成された基板を得た。
隔壁で区分された１００μｍ×２００μｍの領域内に、インクジェット装置を用いて、緑色の顔料を含んだ固形分２５％の熱硬化型インクを注入した後、１００℃で５分間ホットプレート上で乾燥した。インク層の加熱硬化後の体積は４０ｐＬであった。次いで２００℃で３０分間加熱処理を行い、画素を形成した。【０１３８】
［例２］
ガラス基板上にスピンナーを用いて、感光性組成物２を塗布した後、１００℃で２分間ホットプレート上で乾燥した。塗膜の上方に、格子パターンが形成されているマスク（ライン＝２０μｍ、格子スペース＝１００μｍ×２００μｍ）を３０μｍのギャップで設置し、超高圧水銀灯により２００ｍＪ／ｃｍ２を照射した。次いで基板を界面活性剤入り０．１質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用い、２５℃で４０秒間現像処理を行い、水で洗浄し、乾燥させ、隔壁を形成した。
次いで、隔壁形成面側（裏側）から超高圧水銀灯により３０００ｍＪ／ｃｍ２を照射し、さらに２００℃で１時間加熱処理を行い、平均膜厚２．０μｍの隔壁が形成された基板を得た。
例１と同様にして、隔壁で区分された領域内にインクを注入し、インク層を形成し、画素を形成した。【０１３９】
［例３］
ガラス基板上にスピンナーを用いて、感光性組成物３を塗布した後、１００℃で２分間ホットプレート上で乾燥した。塗膜の上方に、格子パターンが形成されているマスク（ライン＝２０μｍ、格子スペース＝１００μｍ×２００μｍ）を３０μｍのギャップで設置し、超高圧水銀灯により２００ｍＪ／ｃｍ２を照射した。次いで基板を界面活性剤入り０．１質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用い、２５℃で４０秒間現像処理を行い、水で洗浄し、乾燥させ、隔壁を形成した。
次いで、隔壁形成面側（表側）から超高圧水銀灯により３０００ｍＪ／ｃｍ２を照射し、さらに２００℃で１時間加熱処理を行い、平均膜厚２．０μｍの隔壁が形成された基板を得た。
例１と同様にして、隔壁で区分された領域内にインクを注入し、インク層を形成し、画素を形成した。【０１４０】
［例４］
ガラス基板上にスピンナーを用いて、感光性組成物４を塗布した後、１００℃で２分間ホットプレート上で乾燥した。塗膜の上方に、格子パターンが形成されているマスク（ライン＝２０μｍ、格子スペース＝１００μｍ×２００μｍ）を３０μｍのギャップで設置し、超高圧水銀灯により１００ｍＪ／ｃｍ２を照射した。次いで基板を界面活性剤入り０．１質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用い、２５℃で４０秒間現像処理を行い、水で洗浄し、乾燥させ、隔壁を形成した。
次いで、を隔壁形成面側（表側）から超高圧水銀灯により２００ｍＪ／ｃｍ２を照射し、さらに２００℃で１時間加熱処理を行い、平均膜厚２．０μｍの隔壁が形成された基板を得た。
例１と同様にして、隔壁で区分された領域内にインクを注入し、インク層を形成し、画素を形成した。【０１４１】
［例５］
クロムブラックマトリックスが形成されているガラス基板上にスピンナーを用いて、感光性組成物５を塗布した後、１００℃で２分間ホットプレート上で乾燥した。塗膜の上方に、格子パターンが形成されているマスク（ライン＝２０μｍ、格子スペース＝１００μｍ×２００μｍ）を３０μｍのギャップで設置し、超高圧水銀灯により１００ｍＪ／ｃｍ２を照射した。次いで基板を界面活性剤入り０．１質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用い、２５℃で４０秒間現像処理を行い、水で洗浄し、乾燥させ、隔壁を形成した。
次いで、超高圧水銀灯により４０００ｍＪ／ｃｍ２を隔壁形成面側（表側）から照射し、平均膜厚２．０μｍの隔壁が形成された基板を得た。
例１と同様にして、隔壁で区分された領域内にインクを注入し、インク層を形成し、画素を形成した。【０１４２】
［例６］
ガラス基板上にスピンナーを用いて、感光性組成物１を塗布した後、１００℃で２分間ホットプレート上で乾燥した。塗膜の上方に、格子パターンが形成されているマスク（ライン＝２０μｍ、格子スペース＝１００μｍ×２００μｍ）を３０μｍのギャップで設置し、超高圧水銀灯により１００ｍＪ／ｃｍ２を照射した。次いで基板を界面活性剤入り０．１質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用い、２５℃で４０秒間現像処理を行い、水で洗浄し、乾燥させ、隔壁を形成した。
次いで、２００℃で１時間加熱処理を行い、平均膜厚２．０μｍの隔壁が形成された基板を得た。
例１と同様にして、隔壁で区分された領域内にインクを注入し、インク層を形成し、画素を形成した。【０１４３】
［例７］
ガラス基板上にスピンナーを用いて、感光性組成物６を塗布した後、１００℃で２分間ホットプレート上で乾燥した。塗膜の上方に、格子パターンが形成されているマスク（ライン＝２０μｍ、格子スペース＝１００μｍ×２００μｍ）を３０μｍのギャップで設置し、超高圧水銀灯により２００ｍＪ／ｃｍ２を照射した。次いで基板を界面活性剤入り０．１質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用い、２５℃で４０秒間現像処理を行い、水で洗浄し、乾燥させ、隔壁を形成した。
次いで、隔壁形成面側（表側）から超高圧水銀灯により３０００ｍＪ／ｃｍ２を照射し、さらに２００℃で１時間加熱処理を行い、平均膜厚２．０μｍの隔壁が形成された基板を得た。
例１と同様にして、隔壁で区分された領域内にインクを注入し、インク層を形成し、画素を形成した。【０１４４】
［例８］
ガラス基板上にスピンナーを用いて、感光性組成物７を塗布した後、１００℃で２分間ホットプレート上で乾燥した。塗膜の上方に、格子パターンが形成されているマスク（ライン＝２０μｍ、格子スペース＝１００μｍ×２００μｍ）を３０μｍのギャップで設置し、超高圧水銀灯により２００ｍＪ／ｃｍ２を照射した。次いで基板を界面活性剤入り０．１質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用い、２５℃で４０秒間現像処理を行い、水で洗浄し、乾燥させ、隔壁を形成した。
次いで、隔壁形成面側（表側）から超高圧水銀灯により３０００ｍＪ／ｃｍ２を照射し、さらに２００℃で１時間加熱処理を行い、平均膜厚２．０μｍの隔壁が形成された基板を得た。
例１と同様にして、隔壁で区分された領域内にインクを注入し、インク層を形成し、画素を形成した。【０１４５】
［例９］
クロムブラックマトリックスが形成されているガラス基板上にスピンナーを用いて、感光性組成物５を塗布した後、１００℃で２分間ホットプレート上で乾燥した。塗膜の上方に、格子パターンが形成されているマスク（ライン＝２０μｍ、格子スペース＝１００μｍ×２００μｍ）を３０μｍのギャップで設置し、超高圧水銀灯により４０００ｍＪ／ｃｍ２を照射した。次いで基板を界面活性剤入り０．１質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用い、２５℃で４０秒間現像処理を行い、水で洗浄し、乾燥させ、隔壁を形成した。
次いで、２００℃で１時間加熱処理を行い、平均膜厚２．０μｍの隔壁が形成された基板を得た。
露光量が多かったため、隔壁の線幅が太ってしまい、現像により隔壁で区分された領域が得られなかったため、インクの注入は行わなかった。【０１４６】
＜評価＞
隔壁と画素が形成された基板について、現像性、隔壁の形状、隔壁の線幅、撥水撥油性、インクジェット塗布性を以下に示す方法で測定、評価した。それらの結果を表４にまとめて示す。
（現像性）
完全に現像できたものを○、現像されない部分があったものを×と記載した。
（隔壁の形状）
基板を切断し、隔壁の断面形状を走査型電子顕微鏡（日立製作所社製）で観察した。
図３は例４で得られた隔壁の断面形状の観察像を表している。
（隔壁の線幅）
隔壁の上底と下底（透明基板に接する隔壁の線幅）の線幅を超深度形状測定顕微鏡（キーエンス社製）により測定した。
（撥液性）
マスクを使用しない以外は、例１〜９において隔壁を形成した条件と同様にして、ガラス基板に感光性組成物の塗膜硬化物からなる膜を形成し、膜表面の撥液性を評価した。具体的には、膜表面の水およびキシレンの接触角（度）により評価した。接触角とは、固体と液体が接触する点における液体表面に対する接線と固体表面がなす角で、液体を含む方の角度で定義した。この角度が大きいほど膜の撥液性が優れることを意味する。水の接触角９５度以上を○、９０度以上９５度未満を△、９０度未満を×と表記した。キシレンの接触角４０度以上を○、３５度以上４０度未満を△、３５度未満を×と表記した。【０１４７】
（インク層の膜厚均一性）
インク層の膜厚均一性を超深度形状測定顕微鏡（キーエンス社製）により測定した。膜厚の最大値をｈ１、最小値をｈ２とするとき、（ｈ１−ｈ２）／ｈ１の値を表記した。
図１は例１で得られた隔壁と画素の表面観察像を表している。図１における（Ａ）はインク層の線ａ−ａに沿った断面の膜厚プロファイルを表しており、画素中央において当該インク層の膜厚の最大値が示された。図１における（Ｂ）は（Ａ）と同一のインク層の線ｂ−ｂに沿った断面の膜厚プロファイルを表しており、画素の画像上部において当該インク層の膜厚の最小値が示された。膜厚最大値は２．０２μｍ、膜厚最小値は１．６５μｍであったため、（ｈ１−ｈ２）／ｈ１＝０．１８であった。
図２は例６で得られた隔壁と画素の表面観察像を表している。この場合、矢印で示す画素部の角の部分にインクの濡れていない領域があったため、膜厚最小値は０μｍであり、（ｈ１−ｈ２）／ｈ１は１であった。【０１４８】
【表４】
2008149776.tif 000007
【０１４９】
例６は、ポスト露光を行っていないため、インク層の膜厚均一性が劣る。例７はエチレン性二重結合を有する側鎖を有しない含フッ素重合体を含んでいるため、撥液性がやや劣り、インク層の膜厚均一性が劣る。例８は、本発明における重合体（Ａ）を含んでいないため、撥液性、インク層の膜厚均一性が劣る。
【産業上の利用可能性】
【０１５０】
本発明の製造方法は、カラーフィルタの隔壁と画素、液晶表示素子のＩＴＯ電極の隔壁と画素、有機ＥＬ表示素子の隔壁と画素、回路配線基板の隔壁と画素等の電子デバイスの隔壁と画素の製造に好適に用いられる。
なお、２００７年５月３０日に出願された日本特許出願２００７−１４３６３８号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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