(57)【要約】  レンズホルダ(16)を被加工レンズ(2)に、ホルダ中心(O)をレンズの加工中心位置(21)に一致させて取付ける。被加工レンズ(2)に軸ずれ測定用マーク(81a,81b)をレンズホルダ(16)の基準位置マーク(80a,80b)と一致させて表示し、被加工レンズ(2)の周面を一次加工する。一次加工後、基準位置マーク(80a,80b)と軸ずれ測定用マーク(81a,81b)により被加工レンズ(2)の軸ずれを測定する。軸ずれが生じている場合は、レンズホルダ(16)を被加工レンズ(2)から取り外して保持し直すことにより、軸ずれを補正し、しかる後二次加工する。
2008114781.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工レンズをレンズ保持手段によって保持する工程と、前記レンズ保持手段を被加工レンズとともにレンズ回転軸に装着する工程と、前記被加工レンズの周面を加工具によって一次加工および二次加工する工程とを備えた眼鏡レンズの縁摺り加工方法において、
前記レンズ保持手段によって前記被加工レンズを保持する工程は、このレンズ保持手段の中心と前記被加工レンズの加工中心とを一致させて保持する工程と、前記被加工レンズの一方の光学面に軸ずれ測定用マークを前記レンズ保持手段に表示されている基準位置マークと一致するように表示する工程とを備え、
一次加工後に被加工レンズの軸ずれを補正する工程をさらに備えていることを特徴とする眼鏡レンズの縁摺り加工方法。
【請求項２】
請求項１記載の眼鏡レンズの縁摺り加工方法において、
被加工レンズの軸ずれを補正する工程は、一次加工後に被加工レンズをレンズ保持手段とともにレンズ回転軸から取り外して基準位置マークと軸ずれ測定用マークにより前記被加工レンズの軸ずれを測定する軸ずれ測定工程と、前記被加工レンズの一方の光学面を前記レンズ保持手段によって前記軸ずれ測定用マークと前記基準位置マークを一致させて再度保持することにより、前記軸ずれ測定工程によって測定された被加工レンズの軸ずれを補正する軸ずれ補正工程と、前記レンズ保持手段を被加工レンズとともに前記レンズ回転軸に再装着する工程と、
を備えたことを特徴とする眼鏡レンズの縁摺り加工方法。
【請求項３】
請求項１記載の眼鏡レンズの縁摺り加工方法において、
被加工レンズの軸ずれを補正する工程は、一次加工後に被加工レンズをレンズ保持手段とともにレンズ回転軸から取り外して基準位置マークと軸ずれ測定用マークから前記被加工レンズの軸ずれを測定し、加工形状データを補正する加工形状データ補正工程を備え、
二次加工工程は、前記加工形状データ補正工程によって補正された加工形状データに基づいて被加工レンズを加工することを特徴とする眼鏡レンズの縁摺り加工方法。
【請求項４】
請求項２記載の眼鏡レンズの縁摺り加工方法において、
一次加工工程によって加工された被加工レンズの一次形状は、眼鏡フレームの枠形状に適合する玉型形状が内接する円よりも大きい円形と、前記玉型形状と相似形でこれより大きい玉型形状のうちのいずれか一方であり、二次加工工程によって加工された被加工レンズの二次形状は、眼鏡フレームの枠形状に適合する玉型形状と、これより僅かに大きい玉型形状のうちのいずれか一方であることを特徴とする眼鏡レンズの縁摺り加工方法。
【請求項５】
請求項３記載の眼鏡レンズの縁摺り加工方法において、
一次加工工程によって加工された被加工レンズの一次形状は、眼鏡フレームの枠形状に適合する玉型形状が内接する円よりも大きい円形と、前記玉型形状と相似形でこれより大きい玉型形状のうちのいずれか一方であり、前記二次加工工程によって加工された前記被加工レンズの二次形状は、眼鏡フレームの枠形状に適合する玉型形状と、これより僅かに大きい玉型形状のうちのいずれか一方であることを特徴とする眼鏡レンズの縁摺り加工方法。
【請求項６】
請求項２記載の眼鏡レンズの縁摺り加工方法において、
被加工レンズの軸ずれ測定工程は、画像処理および目視のうちのいずれか一方によって行なうことを特徴とする眼鏡レンズの縁摺り加工方法。
【請求項７】
請求項３記載の眼鏡レンズの縁摺り加工方法において、
軸ずれ測定工程は、画像処理によって行なうことを特徴とする眼鏡レンズの縁摺り加工方法。
【請求項８】
請求項１記載の眼鏡レンズの縁摺り加工方法において、
基準位置マークは、被加工レンズを保持する以前と、未加工レンズに軸ずれ測定用マークを表示するときと同時のうちのいずれか一方によって表示されることを特徴とする眼鏡レンズの縁摺り加工方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、眼鏡レンズの縁摺り加工方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
未加工の円形レンズ（以下、アンカットレンズまたは被加工レンズともいう）の周面を研削加工し、眼鏡フレームの枠形状に適合する玉型形状の眼鏡レンズを製作する際に、レンズの保持力が弱いと研削砥石から受ける加工抵抗によってレンズの軸ずれが生じることがある。すなわち、レンズ回転軸に対して実際のレンズの加工中心位置がずれる。このレンズの軸ずれは、乱視軸がないレンズの場合は、加工中心位置に対して直交する方向（半径方向）のずれであり、乱視軸があるレンズの場合は、加工中心位置に対して直交する方向のずれと加工中心位置に対して回転方向のずれとが含まれる。このため、従来はこのような問題を解決するために、レンズ保持力を大きくしたり、あるいは特開２００３−３００１３８号公報、特開平１１−３３３６８４号公報、特開平１１−３３３６８５号公報、特開２００２−１８２０１１号公報および特開２００４−１２２３０２号公報に記載されているような縁摺り加工装置および縁摺り加工方法や粘着テープを用いる方法等が種々提案されている。【０００３】
特開２００３−３００１３８号公報に記載されているレンズ加工方法および加工装置は、予め仕上げ加工するレンズの設計データを必要とせず、レンズの周面の加工精度を向上させるようにしたものである。このため、このレンズ加工方法は、眼鏡フレームのレンズ枠形状データまたは眼鏡に適合できる形状データに基づいて被加工レンズを荒加工した後、レンズの形状を測定している。そして、測定により得られた荒加工形状データに基づいてレンズを眼鏡フレームの枠形状に適合する形状または眼鏡に適合する形状に仕上げ加工するようにしたものである。【０００４】
特開平１１−３３３６８４号公報に記載されている眼鏡レンズ加工装置は、軸ずれやレンズの破損、コート割れを防止して精度の高い加工を行うようにしたものである。このため、この眼鏡レンズ加工装置は、固定用カップを介して被加工レンズが装着される第１レンズチャック軸と、この第１レンズチャック軸と同軸に配置され被加工レンズを押さえるためのレンズ押え部材が取り付けられた第２レンズチャック軸と、これらのレンズチャック軸の回転角のずれを検出する回転ずれ検出手段と、この回転ずれ検出手段による検出結果に基づいて被加工レンズを加工する加工制御手段とを備えている。【０００５】
特開平１１−３３３６８５号公報に記載されている眼鏡レンズ加工装置は、加工途中の被加工レンズの形状に対応させて適切な条件での加工を行うようにしたものである。このため、この眼鏡レンズ加工装置は、サーボモータに設けられているエンコーダによってキャリッジの移動量（レンズチャック軸と砥石回転軸との軸間距離）を検出し、この検出信号を制御部に送り、制御部でその入力信号によってレンズ回転角に対する加工途中の形状を測定し、この加工途中の形状に対応させて加工圧（回転トルクの設定値）を変更するようにしている。具体的には、レンズチャック軸から加工完了部分までの距離が離れている場合、キャリッジの下降により加工圧を弱くして加工を開始し、加工完了までの距離が短くなるにしたがって徐々に加工圧を上げている。このようにレンズ加工径によって加工圧を変化させることにより、軸ずれを抑制し、精度の高い加工を行うことができるとしている。【０００６】
特開２００２−１８２０１１号公報および特開２００４−１２２３０２号公報に記載されている技術は、被加工レンズとレンズ保持手段との間に両面粘着テープや被膜を形成して滑りを防止するようにしたものである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、例えば特開２００４−１２２２３８号公報に開示されているように、近年レンズの撥水性を高めるために光学面に撥水膜層を形成した眼鏡レンズが普及しつつある。このような撥水膜層が形成された被加工レンズを縁摺り加工する場合、撥水膜層があるために光学面が現在普及している他のレンズに比べて非常に高い平滑性を有する。すなわち、レンズ表面が滑り易いために、上述した特開２００３−３００１３８号公報、特開平１１−３３３６８４号公報および特開平１１−３３３６８５号公報に記載されているような従来の加工装置では、レンズを確実に保持することが難しく、縁摺り加工中にレンズ保持手段とレンズとの間に滑りが生じ、被加工レンズを所定の玉型形状に加工することが困難であるという問題がでてきた。特に、レンズ度数が高いマイナスレンズの場合は、外周縁部の肉厚がきわめて厚いために、加工開始時の加工抵抗が大きくて軸ずれし易く、精度の高い加工を行なうことが困難である。【０００８】
特開２００２−１８２０１１号公報および特開２００４−１２２３０２号公報に記載されている粘着テープや被膜を形成してレンズ保持力を高めることにより軸ずれを防止する方法は、レンズ表面とテープまたは被膜との間に空気が侵入すると、レンズ保持力が低下するため、滑性の高いレンズや外周縁部の肉厚が相対的に厚いレンズの場合は、軸ずれを完全には防止することができないという問題があった。【０００９】
一方、レンズ保持力を大きくする方法は、レンズ自体を破損させたり、レンズ表面に施されているコーティング膜を損傷させてしまうおそれがあるため、保持力の増大には限度があった。【００１０】
本発明は上記したような従来の問題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、防汚処理が施された滑性の高いレンズや外周縁部の肉厚が相対的に厚いレンズであっても、最終的には軸ずれのない精度の高い眼鏡レンズを得ることができる眼鏡レンズの縁摺り加工方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために本発明に係る眼鏡レンズの縁摺り加工方法は、被加工レンズをレンズ保持手段によって保持する工程と、前記レンズ保持手段を被加工レンズとともにレンズ回転軸に装着する工程と、前記被加工レンズの周面を加工具によって一次加工および二次加工する工程とを備えた眼鏡レンズの縁摺り加工方法において、前記レンズ保持手段によって前記被加工レンズを保持する工程は、このレンズ保持手段の中心と前記被加工レンズの加工中心とを一致させて保持する工程と、前記被加工レンズの一方の光学面に軸ずれ測定用マークを前記レンズ保持手段に表示されている基準位置マークと一致するように表示する工程を備え、一次加工後に被加工レンズの軸ずれを補正する工程をさらに備えているものである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明においては、一次加工工程においては格別な軸ずれ防止対策を講じずに加工して軸ずれを測定し、軸ずれが生じている場合は、レンズ保持手段によってレンズを保持し直して軸ずれを補正した後、二次加工を行なうようにしているので、二次加工時における軸ずれの発生を防止することができる。すなわち、一次加工は、アンカットレンズの縁摺り加工であるため、加工開始時の加工抵抗が大きく、外径が大きいレンズや撥水膜層により滑性の高いレンズの場合は軸ずれが生じ易い。一方、二次加工時のレンズの外径は小さくなっているため加工抵抗が小さく、滑性の高いレンズや一次加工時のレンズが外径の大きいアンカットレンズであっても格別大きなレンズ保持力で保持する必要がなく、一般のレンズと同様に軸ずれするおそれが少ない。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、本発明に係る眼鏡レンズの縁摺り加工方法に用いられる縁摺り加工装置の概略透視図である。
【図２】図２は、被加工レンズをレンズ回転軸に装着した状態を示す図である。
【図３】図３は、被加工レンズにレンズホルダを装着する様子を示す斜視図である。
【図４】図４は、レンズ形状測定部によるレンズ形状の測定状態を示す図である。
【図５Ａ】図５Ａは、被加工レンズにレンズホルダを装着した状態を示す図である。
【図５Ｂ】図５Ｂは、軸ずれと回転角のずれを示す図である。
【図５Ｃ】図５Ｃは、回転角のずれを示す図である。
【図６】図６は、被加工レンズの保護膜層を示す要部の断面図である。
【図７】図７は、縁摺り加工のフローチャートである。
【図８】図８は、本発明の他の実施例の縁摺り加工のフローチャートである。
【図９】図９は、被加工レンズの軸ずれを測定する様子を示す図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明する。
図１〜図５において、全体を符号１で示す眼鏡レンズの縁摺り加工装置は、未加工の円形レンズからなる被加工レンズ２を縁摺り加工して所望の玉型形状の眼鏡レンズ２Ａ（図５Ａ）を製造するための装置であって、床面に設置された箱型の筐体３を備えている。この筐体３の内部には、被加工レンズ２がレンズ保持手段を介して装着されるレンズ回転軸４と、このレンズ回転軸４を軸線方向（Ｘ方向）に移動させる第１のレンズ回転軸移動機構５と、同じくレンズ回転軸４を軸線と直交する水平な方向（Ｙ方向）に移動させる第２のレンズ回転軸移動機構６と、被加工レンズ２を縁摺り加工する加工具７と、この加工具７の回転駆動機構８と、装置全体を制御する制御部（図示せず）と、被加工レンズ２の光学面２ａ、２ｂを測定するレンズ形状測定部９と、被加工レンズ２の面取り加工機構１０等が組み込まれている。また、筐体３の上面には、被加工レンズ２のレンズ情報、眼鏡フレームの情報、加工条件等を入力する各種操作ボタン、表示装置等を備えた操作パネル（図示せず）が設けられている。【００１５】
被加工レンズ２は、注型重合法によって形成された円形（例えば、直径８０φｍｍ）のプラスチック製マイナスレンズからなる。【００１６】
被加工レンズ２の光学基材としては、例えば、メチルメタクリレートと一種以上の他のモノマーとの共重合体、ジエチルグリコールビスアリルカーボネートと一種以上の他のモノマーとの共重合体、ポリカーボネート、ウレタン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリチオウレタン、エン−チオール反応を利用したスルフィド、硫黄を含むビニル重合体等が挙げられ、中でもウレタン系光学基材とアリル系光学基材が好適であるが、これに限定されるものではない。また、本発明における光学基材としては、プラスチック光学基材であると好ましく、眼鏡用プラスチック光学基材であるとさらに好ましい。【００１７】
被加工レンズ２の各光学面２ａ、２ｂには、図６に示すように表面全体に保護膜層６４と撥水膜層６７とが積層した状態で形成されている。保護膜層６４は、レンズの光学特性、耐久性、耐擦傷性等を向上させるために形成されるもので、通常ハードコート膜層６５と反射防止膜層６６とで構成されている。【００１８】
最下層のハードコート膜層６５は、眼鏡レンズ自体の硬度を高めるとともに耐擦傷性を向上させるために形成されるものであり、材料としては、例えば、シリコン系樹脂などの有機物質が用いられる。ハードコート膜層６５は、溶剤からなるシリコン系樹脂を浸漬法またはスピンコート法によって塗布した後、加熱炉によって加熱し硬化させることにより形成される。このようなハードコート膜層６５の形成方法は、従来からよく知られている方法である。【００１９】
中間層の反射防止膜層６６は、反射防止効果と耐擦傷効果を高めるために形成されるものである。また、この反射防止膜層６６は、異なった複数の材質によって形成されることにより、多層の反射防止膜層を形成している。反射防止用材料としては、例えば、Ｚｒ，Ｔｉ，Ｓｎ，Ｓｉ，Ｉｎ，Ａｌ等の金属酸化物または珪素酸化物やＭｇＦ2 が用いられる。このような多層反射防止膜層６６は、例えば上記した特開平１１−３３３６８５号公報に記載されている真空蒸着法によって形成される。【００２０】
また、多層反射防止膜層６６としては、良好な膜強度および密着性を得るためにイオンアシスト法で形成されることが好ましい。この反射防止膜のハイブリッド層以外の膜構成層は、良好な反射防止効果、耐擦傷性等の物性を得るために、高屈折率層として酸化タンタル（Ta2Ｏ5）層とする。この酸化タンタル層は各層中にそれぞれ酸化タンタルを少なくとも５０重量％含有し、さらに、８０重量％以上含有することが好ましい。【００２１】
イオンアシスト法において、出力に関する好ましい範囲は、特に、良好な反応を得る観点から、加速電圧５０〜７００ｖ、加速電流３０〜２５０ｍＡである。イオンアシスト法を実施する際に使用されるイオン化ガスは、成膜中の反応性、酸化防止の点からアルゴン（Ａｒ）、またはアルゴンと酸素の混合ガスを用いることが好ましい。【００２２】
本発明におけるハイブリッド層に使用される無機物質としては、二酸化ケイ素を含有することが必要であり、その他、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化イットリウムおよび酸化ニオブから選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。複数の無機物質を用いる場合は、それらを物理的に混合してもよいし、また複合酸化物であってもよく、具体的には二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）、−酸化アルミニウム（Ａｌ2 Ｏ3 ）等がある。これらのうち二酸化ケイ素単独、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも１種類の無機酸化物が好ましい。【００２３】
本発明におけるハイブリッド層に使用される有機物質としては、膜厚の制御、蒸着速度の制御の観点から、常温、常圧下で、液体状態にある有機ケイ素化合物および／または常温、常圧下で液体であるケイ素非含有有機化合物が用いられる。【００２４】
有機ケイ素化合物としては、例えば、以下の一般式（ａ）〜（ｄ）で表されるいずれかの構造を有することが好ましい。【００２５】
一般式（ａ）：シラン・シロキサン化合
【化１】
2008114781.tif 000003
【００２６】
一般式（ｂ）：シラザン化合物
【化２】
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【００２７】
一般式（ｃ）：シクロシロキサン化合物
【化３】
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【００２８】
一般式（ｄ）：シクロシラザン化合物
【化４】
2008114781.tif 000006
【００２９】
一般式（ａ）〜（ｄ）において、式中のｍ、ｎは、それぞれ独立に０以上の整数を表す。また、Ｘ1〜Ｘ8はそれぞれ独立に水素、炭素数１〜６の炭化水素基（飽和・不飽和双方を含む）、−ＯＲ1基、−ＣＨ2ＯＲ2基、−ＣＯＯＲ3基、−ＯＣＯＲ4基、−ＳＲ5基、−ＣＨ2ＳＲ6 基、−ＮＲ72基、または、−ＣＨ2ＮＲ82基[Ｒ1〜Ｒ8は水素または炭素数１〜６の炭化水素基（飽和・不飽和双方を含む）]を表し、Ｘ1〜Ｘ8は上記の任意の官能基であればよく、すべて同じ官能基でもよいし、すべて異なるものでもよい。【００３０】
Ｒ1〜Ｒ8で示される炭素数１〜６の炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ビニル基、アリル基、エチニル基、フェニル基、シクロヘキシル基、プロピニル基、イソプロペニル基等が挙げられる。【００３１】
一般式（ａ）で表せる具体的な化合物としては、トリメチルシラノール、テトラメチルシラン、ジエチルシラン、ジメチルエトキシシラン、ヒドロキシメチルトリメチルシラン、メトキシトリメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、メチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、メルカプトメチルトリメチルシラン、アミノメチルトリメチルシラン、ジメチルジメチルアミノシラン、エチニルトリメチルシラン、ジアセトキシメチルシラン、アリルジメチルシラン、トリメチルビニルシラン、メトキシジメチルビニルシラン、アセトキシトリメチルシラン、トリメトキシビニルシラン、ジエチルメチルシラン、エチルトリメチルシラン、エトキシトリメチルシラン、ジエトキシメチルシラン、エチルトリメトキシシラン、ジメチルアミノトリメチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルシラン、フェニルシラン、ジメチルジビニルシラン、2-プロピニロキシトリメチルシラン、ジメチルエトキシエチニルシラン、ジアセトキシジメチルシラン、アリルトリメチルシラン、アリロキシトリメチルシラン、エトキシジメチルビニルシラン、イソプロペノキシトリメチルシラン、アリルアミノトリメチルシラン、トリメチルプロピルシラン、トリメチルイソプロピルシラン、トリエチルシラン、ジエチルジメチルシラン、ブチルジメチルシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメチルイソプロポキシシラン、トリエチルシラノール、ジエトキシジメチルシラン、プロピルトリメトキシシラン、ジエチルアミノジメチルシラン、ビス（エチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラン、トリ（ジメチルアミノ）シラン、メチルフェニルシラン、メチルトリビニルシラン、ジアセトキシメチルビニルシラン、メチルトリアセトキシシラン、アリロキシジメチルビニルシラン、ジエチルメチルビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルビニルシラン、ブチルジメチルヒドロキシメチルシラン、1-メチルプロポキシトリメチルシラン、イソブトキシトリメチルシラン、ブトキシトリメチルシラン、ブチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、イソプロピルアミノメチルトリメチルシラン、ジエチルアミノトリメチルシラン、メチルトリ（ジメチルアミノ）シラン、ジメチルフェニルシラン、テトラビニルシラン、トリアセトキシビニルシラン、テトラアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、ジアリルジメチルシラン、1,1-ジメチルプロピニロキシトリメチルシラン、ジエトキシジビニルシラン、ブチルジメチルビニルシラン、ジメチルイソブトキシビニルシラン、アセトキシトリエチルシラン、トリエトキシビニルシラン、テトラエチルシラン、ジメチルジプロピルシラン、ジエトキシジエチルシラン、ジメチルジプロポキシシラン、エチルトリエトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルフェニルビニルシラン、フェニルトリメチルシラン、ジメチルヒドロキシメチルフェニルシラン、フェノキシトリメチルシラン、ジメトキシメチルフェニルシラン、フェニルトリメトキシシラン、アニリノトリメチルシラン、1-シクロヘキセニロキシトリメチルシラン、シクロヘキシロキシトリメチルシラン、ジメ��ルイソペンチロキシビニルシラン、アリルトリエトキシシラン、トリプロピルシラン、ブチルジメチル−３−ヒドロキシプロピルシラン、ヘキシロキシトリメチルシラン、プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ジメチルフェニルビニルシラン、トリメチルシリルベンゾネート、ジメチルエトキシフェニルシラン、メチルトリイソプロペノキシシラン、メトキシトリプロピルシラン、ジブトキシジメチルシラン、メチルトリプロポキシシラン、ビス（ブチルアミノ）ジメチルシラン、ジビニルメチルフェニルシラン、ジアセトキシメチルフェニルシラン、ジエチルメチルフェニルシラン、ジエトキシメチルフェニルシラン、トリイソプロポキシビニルシラン、２−エチルヘキシロキシトリメチルシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ジフェニルシラン、ジフェニルシランジオールフェニルトリビニルシラン、トリエチルフェニルシラン、フェニルトリエトキシシラン、テトラアリロキシシラン、フェニルトリ（ジメチルアミノ）シラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、ジフェニルメチルシラン、ジアリルメチルフェニルシラン、ジメチルジフェニルシラン、ジメトキシジフェニルシラン、ジアニリノジメチルシラン、ジフェニルエトキシメチルシラン、トリペンチロキシシラン、ジフェニルジビニルシラン、ジアセトキシジフェニルシラン、ジエチルジフェニルシラン、ジエトキシジフェニルシラン、ビス（ジメチルアミノ）ジフェニルシラン、テトラブチルシラン、テトラブトキシシラン、トリフェニルシラン、ジアリルジフェニルシラン、トリヘキシルシラン、トリフェノキシビニルシラン、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ペンタメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、１，３−ジメトキシテトラメチルジシロキサン、１，３−ジエチニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−ジエトキシテトラメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、１，３−ジブチル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンなどの化合物が挙げられる。【００３２】
一般式（ｂ）で表される具体的な化合物としては、１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、ヘキサメチルジシラザン、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシラザンなどの化合物が挙げられる。【００３３】
一般式（ｃ）で表される具体的な化合物としては、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ヘキサエチルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサンなどの化合物が挙げられる。【００３４】
一般式（ｄ）で表される具体的な化合物としては、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルシクロトリシラザン、１，１，３，３，５，５，７，７−オクタメチルシクロテトラシラザンなどの化合物が挙げられる。【００３５】
これらの有機ケイ素化合物の数平均分子量は、ハイブリッド膜中の有機成分の制御、膜自体の強度の点から、好ましくは、４８〜６００、特に好ましくは、１４０〜５００である。【００３６】
さらに、ハイブリッド層を構成するケイ素非含有有機化合物は、その側鎖または末端に反応性基を含有する炭素および水素を必須成分とするものが好ましく、より具体的には一般式（e）〜(g)で表される化合物が好ましく用いられる。【００３７】
一般式（ｅ）：片末端にエポキシ基を有する炭素および水素を必須成分とするケイ素非含有有機化合物
【化５】
2008114781.tif 000007
【００３８】
一般式（ｆ）：両末端にエポキシ基を有する炭素および水素を必須成分とするケイ素非含有有機化合物
【化６】
2008114781.tif 000008
【００３９】
一般式（ｇ）：二重結合を含む、炭素および水素を必須成分とするケイ素非含有有機化合物
ＣＸ9Ｘ10＝ＣＸ11Ｘ12 ・・・（ｇ）【００４０】
一般式（ｅ）、（ｆ）において、Ｒ9は水素、または酸素を含んでいてもよい炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｒ10は、酸素を含んでいてもよい炭素数１〜７の二価の炭化水素基を表す。一般式（ｇ）において、Ｘ9〜Ｘ12はそれぞれ独立に水素、炭素数１〜１０の炭化水素基、または炭素数１〜１０の炭素、水素を必須成分とし、さらに酸素および窒素の少なくとも一方を必須成分とする有機基を表す。【００４１】
一般式（ｅ）の化合物の具体例としては、メチルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、デジルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｓｅｃ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、２−メチルオクチルグリシジルエーテル、グリシドール、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテルなどが挙げられる。【００４２】
一般式（ｆ）の化合物の具体例としては、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルなどが挙げられる。【００４３】
一般式（ｇ）の具体例としてはエチレン、プロピレン、塩化ビニル、フッ化ビニル、アクリルアミド、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾール、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、メタクリル酸、グリシジルメタクリレート、酢酸ビニル、スチレンなどがあげられる。【００４４】
また、一般式（ｅ）〜（ｇ）で表される化合物の数平均分子量は、ハイブリッド膜中の有機成分の制御およびハイブリッドの膜強度を考慮して、好ましくは、２８〜４０００、特に好ましくは、１４０〜３６０である。【００４５】
本発明における常温、常圧下で液体である有機ケイ素化合物および／または常温、常圧下で液体であるケイ素非含有有機化合物（以下「有機物質」ということがある）の成膜方法としては、ハイブリッド層を形成する際には、無機物質、有機物質それぞれを別の蒸着源にて同時に蒸着して成膜するのが好ましい。具体的には、無機物質を電子銃等を用いて加熱することにより気化させ、有機物質を外部タンクに貯蔵し、このタンク内でこの有機物質を気化させ、無機物質と有機物質を同時に蒸着させる方法が好ましい。【００４６】
なお、蒸着速度の制御の観点から、有機物質を貯蔵する外部タンクを加熱・減圧してこの有機物質をチャンバー内に供給し、酸素ガスおよび／またはアルゴンガスを用いイオンアシスト成膜するのが好ましい。さらに、本発明では有機物質が常温・常圧で液体であり、溶媒を使用する必要がなく、直接加熱して蒸着することができる。また、有機物質の導入口は、無機物質蒸発源真上に設けるのが耐衝撃性、耐摩耗性向上に効果的であり、有機ケイ素化合物を下部より、その側鎖または末端に反応性基を含有する炭素および水素を必須成分とするケイ素非含有有機化合物を上部より供給するのが好ましい。【００４７】
外部タンクの加熱温度は、その有機物質の蒸発温度により異なるが、３０〜２００℃、好ましくは５０〜１５０℃とすることが適当な蒸着速度を得るという点から好ましい。【００４８】
本発明におけるハイブリッド層の有機物質の好ましい膜内含有率は、特に良好な物性改質効果が得られる点を考慮して、０．０２０〜２５重量％である。【００４９】
本発明における好ましい膜厚および屈折率の範囲は以下の通りである。なお、ここでλは光の波長を示す。
第１層  ０．００５λ〜１．２５λ  １．４１〜１．５０
第２層  ０．００５λ〜０．１０λ  ２．００〜２．３５
第３層  ０．００５λ〜１．２５λ  １．４１〜１．５０
第４層  ０．０５λ〜０．４５λ  ２．００〜２．３５
第５層  ０．００５λ〜０．１５λ  １．４１〜１．５０
第６層  ０．０５λ〜０．４５λ  ２．００〜２．３５
第７層  ０．２λ〜０．２９λ  １．４１〜１．５０
かかる膜構成にすることにより、目的とする物性が容易に得られる。【００５０】
最上層の撥水膜層６７は、凸側光学面２ａと凹側光学面２ｂの平滑度を高めて防汚性を向上させるとともに、水やけを防止するために形成されるもので、最近では滑り性のよい超撥水レンズが普及しつつある。撥水材としては、例えばフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む撥水原料等が用いられている。【００５１】
撥水膜層６７の原料および形成方法は、特開２００４−１２２２３８号公報に記載されている方法を用いることが好ましい。その方法としては、溶媒で希釈したフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を減圧下であって、この有機ケイ素化合物の蒸着開始温度以上から有機ケイ素化合物の分解温度を超えない範囲で、加熱開始から蒸着を９０秒以内、好ましくは１０秒以内に完結させることが好ましい。このような蒸着時間を達成する方法としては、有機ケイ素化合物に電子ビームを照射する方法が好ましく用いられる。【００５２】
フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物としては、下記一般式（ｈ）で表されるもの、または下記単位式（ｉ）で表されるものが好ましい。【００５３】
【化７】
2008114781.tif 000009
【００５４】
式（ｈ）中、ＲＦは炭素数１〜１６の直鎖状のパーフルオロアルキル基、Ｘは水素または炭素数１〜５の低級アルキル基、Ｒ11は加水分解可能な基、ｋは１〜５０の整数、ｒは０〜２の整数、ｐは１〜１０の整数である。
ＣｑＦ2ｑ+１ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＮＨ2）3 ・・・（ｉ）
ただし、ｑは１以上の整数である。【００５５】
ここで、上記Ｒ11で示される加水分解可能な基としてはアミノ基、アルコキシ基、特にアルキル部が炭素数１〜２であるアルコキシ基、塩素原子等が挙げられる。【００５６】
また、上記式（ｉ）で表される化合物の具体例としては、ｎ−ＣＦ3ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＮＨ2）3；ｎ−トリフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）プロピルシラザン、ｎ−Ｃ3Ｆ7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＮＨ2）3；ｎ−ヘプタフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）ペンチルシラザン、ｎ−Ｃ4Ｆ9ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＮＨ2）3；ｎ−ノナフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）ヘキシルシラザン、ｎ−Ｃ6Ｆ13ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ2（ＮＨ2）3；ｎ−トリデオフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）オクチルシラザン、ｎ−Ｃ8Ｆ17ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＮＨ2）3；ｎ−ヘプタデカフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）デシルシラザン等を例示することができる。【００５７】
また、撥水膜層６７の原料として、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物と、ケイ素非含有のパーフルオロポリエーテルとの２成分を主成分とする原料を用いることもでき、さらにはこれらの原料からなる第１層を形成し、この第１層上に接して、ケイ素非含有のパーフルオロポリエーテルを主成分とする原料を用いて第２層を形成することにより、撥水膜層を形成することも好適である。【００５８】
ケイ素非含有のパーフルオロポリエーテルは、ケイ素を含有しない以下の構造式（ｊ）
−（Ｒ12Ｏ）− ・・・（ｊ）
式（ｊ）中、Ｒ12は炭素数１〜３のパーフルオロアルキレン基である。
で表される単位からなるものが好ましく用いられ、平均分子量が１０００〜１００００、特に２０００〜１００００のものが好ましい。Ｒは炭素数１〜３のパーフルオロアルキレン基であり、具体的にはＣＦ2、ＣＦ2−ＣＦ2、ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2、ＣＦ（ＣＦ2）ＣＦ2等の基が挙げられる。これらのパーフルオロポリエーテルは常温で液状であり、いわゆるフッ素オイルと称されるものである。【００５９】
また、本発明の眼鏡レンズは、反射防止膜層の下に、密着性を向上させるために、下地層として、後述するハイブリッド層形成の際に触媒作用のある金属、例えば、ニッケル（Ｎｉ）、銀（Ａｇ）、白金（Ｐｔ）、ニオブ（Ｎｂ）およびチタニウム（Ｔｉ）から選ばれる少なくとも１種類からなる層を施すことができる。特に好ましい下地層は、より良好な耐衝撃性を付与させるために、ニオブからなる金属層である。金属層を下地層として用いた場合、下地層の上に設けられるハイブリッド層の反応が進みやすくなり、分子内編み目構造を有する物質が得られ、耐衝撃性が向上する。【００６０】
最上層の撥水膜層６７が内部に２層構造を有し、第一撥水層および第２撥水層からなることも本願発明に好適である。例えば撥水膜層６７として、下記一般式(Ｉ)で示されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物と、下記一般式（II−１）、（II−２）および（II−３）の中から選ばれた少なくとも一種のシラン化合物との混合物を含有する蒸着材料を光学部材上に蒸着して第１撥水層を形成し、その上に下記一般式(III)で示されるパーフルオロポリエーテル−ポリシロキサン共重合体変性シランと溶媒を含有する浸漬材料に浸漬して第２撥水層を形成することにより、２層からなる撥水膜層６７を形成する。
一般式(Ｉ)
【化８】
2008114781.tif 000010
【００６１】
一般式（Ｉ）中において、Ｒｆは、式：−（ＣkＦ2kＯ）−（ｋは１〜６の整数である）で表わされる単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する二価の基である。Ｒは独立に炭素原子数１〜８の一価炭化水素基である。Ｘは独立に加水分解性基またはハロゲン原子である。ｎおよびｎ’はそれぞれ０〜２の整数であり、ｍおよびｍ’はそれぞれ１〜５の整数であり、ａおよびｂはそれぞれ２または３である。【００６２】
一般式（II）
【化９】
2008114781.tif 000011
Ｒ’は有機基であり、Ｒ’’はアルキル基である。【００６３】
一般式(III)
【化１０】
2008114781.tif 000012
【００６４】
一般式(III)中、Ｒｇは、式：−（ＣjＦ2jＯ）−（ｊは１〜５の整数である）で表わされる繰り返し単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する二価の基であり、繰り返し単位数が３０〜６０であり、異なるｊの繰り返し単位を同時に含んでいてもよい。Ｒ1は同一または異なっていてもよい炭素数１〜４のアルキル基またはフェニル基、ｗは３０〜１００、ａ，ｂおよびｃは、それぞれ独立に１〜５の整数、Ｒ2は炭素数１〜４のアルキル基またはフェニル基、Ｘ1は加水分解性基、ｄは２または３、ｙは１〜５の整数である。
以下、一般式（Ｉ）〜(III)の化合物について説明する。【００６５】
一般式（Ｉ）において、Ｒｆ基は、式：−（ＣkＦ2kＯ）−（式中、ｋは１〜６、好ましくは１〜４の整数であり、一般式（Ｉ）中のＣｋＦ2kＯの配列はランダムである。）で表わされる単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する二価の基である。なお、一般式（Ｉ）中のｎおよびｎ’がいずれも０である場合、一般式（Ｉ）中の酸素原子（Ｏ）に結合するＲｆ基の末端は、酸素原子ではない。【００６６】
ここで、Ｒｆは、二価の直鎖型パーフルオロポリエーテル基であり、各種鎖長のパーフルオロポリエーテル基が含まれるが、好ましくは炭素数１〜６程度のパーフルオロポリエーテル基を繰返し単位とする二価の直鎖型パーフルオロポリエーテルである。この二価の直鎖型パーフルオロポリエーテルとしては、例えば、以下に示すようなものが挙げられる。
−ＣＦ2ＣＦ2Ｏ（ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）rＣＦ2ＣＦ2−
−ＣＦ2（ＯＣ2Ｆ4）s−（ＯＣＦ2）t−
上記化学構造式中のｒ、ｓおよびｔはそれぞれ１以上の整数を示す。具体的には１〜５０、より好ましくは１０〜４０の範囲が好ましい。なお、パーフルオロポリエーテルの分子構造は、これら例示したものに限定されるものではない。【００６７】
一般式（Ｉ）において、Ｘは加水分解性基またはハロゲン原子である。Ｘが加水分解性基である場合としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシ基；アリロキシ基、イソプロペノキシ等のアルケニルオキシ基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシロキシ基；ジメチルケトオキシム基、メチルエチルケトオキシム基、ジエチルケトオキシム基、シクロペンタノキシム基、シクロヘキサノキシム基等のケトオキシム基；Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基等のアミノ基；Ｎ−メチルアセトアミド基、Ｎ−エチルアセトアミド基、Ｎ−メチルベンズアミド基等のアミド基；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノオキシ基等のアミノオキシ基等を挙げることができる。
また、上記Ｘがハロゲン原子である場合としては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
これらの中で、メトキシ基、エトキシ基、イソプロペノキシ基および塩素原子が好適である。【００６８】
一般式（Ｉ）において、Ｒは炭素原子数１〜８の一価炭化水素基であり、Ｒが複数存在する場合には、Ｒは互いに同一でも異なってもよい。Ｒの具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基等が挙げられる。これらの中でも炭素原子数１〜３の一価炭化水素基が好ましく、特にメチル基が好適である。【００６９】
一般式（Ｉ）において、ｎおよびｎ’はそれぞれ０〜２の整数であり、好ましくは１である。ｎとｎ’は互いに同一であっても異なっていてもよい。また、ｍおよびｍ’はそれぞれ１〜５の整数であり、３であることが好ましい。ｍとｍ’は互いに同一であっても異なっていてもよい。【００７０】
次に、ａおよびｂは各々２または３であり、加水分解および縮合反応性、および被膜の密着性の観点から、３であることが好ましい。【００７１】
一般式（Ｉ）で表されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物の分子量は、特に制限されないが、安定性、取扱い易さ等の点から、数平均分子量で５００〜２０，０００、好ましくは１０００〜１０，０００のものが適当である。【００７２】
一般式（Ｉ）で表されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物の具体例としては、例えば、下記構造式で示されるものが挙げられる。但し、下記例示に限定されるものではない。
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ（ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）lＣＦ2ＣＦ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨＳｉ（ＯＣＨ3）3
（ＣＨ3Ｏ）2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ（ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）lＣＦ2ＣＦ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2（ＯＣ2Ｆ4）p（ＯＣＦ2）qＯＣＦ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3
（ＣＨ3Ｏ）2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2（ＯＣ2Ｆ4）p（ＯＣＦ2）qＯＣＦ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＦ2（ＯＣ2Ｆ4）p（ＯＣＦ2）ｑＯＣＦ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3
（Ｃ2Ｈ5Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2（ＯＣ2Ｆ4）p（ＯＣＦ2）qＯＣＦ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3【００７３】
一般式（Ｉ）の化合物は、１種単独でも２種以上を組合せても使用することができる。また、場合により、上記フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物とその部分加水分解縮合物とを組み合わせて使用することができる。さらに、後述する一般式(III)で示されるようなパーフルオロポリエーテル−ポリシロキサン共重合体変性シランを組み合わせて使用することもできる。【００７４】
一般式（Ｉ）で表されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物は、溶媒で希釈されたものを用いるとよい。使用できる溶媒としては、例えば、フッ素変性脂肪族炭化水素系溶剤（パーフルオロヘプタン、パーフルオロオクタン等）、フッ素変性芳香族炭化水素系溶剤（１，３−ジ（トリフルオロメチル）ベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン等）、フッ素変性エーテル系溶剤（メチルパーフルオロブチルエーテル、パーフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）等）、フッ素変性アルキルアミン系溶剤（パーフルオロトリブチルアミン、パーフルオロトリペンチルアミン等）、炭化水素系溶剤（石油ベンジン、ミネラルスピリッツ、トルエン、キシレン等）、ケトン系溶剤（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等）、アルコール溶剤（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−プロパノール等）等が挙げられる。これらは１種単独でも２種以上を組み合わせてもよい。これらのなかでも、変性シランの溶解性、濡れ性等の点で、フッ素変性された溶剤が好ましく、特に、１，３−ジ（トリフルオロメチル）ベンゼン、パーフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）、およびパーフルオロトリブチルアミンが好ましい。【００７５】
一般式（II−１）、（II−２）および（II−３）の中から選ばれた少なくとも一種のシラン化合物は、
一般式（II−１）    Ｒ’−Ｓｉ(ＯＲ’’)3
一般式（II−２）    Ｓｉ(ＯＲ’’)4
一般式（II−３）    ＳｉＯ（ＯＲ’’）3Ｓｉ（ＯＲ’’）3
からなる。【００７６】
Ｒ’は有機基であり、炭素数１〜５０（好ましくは１〜１０）のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基等）、エポキシエチル基、グリシジル基、アミノ基等が挙げられ、これらは置換されていてもよい。Ｒ’’は炭素数１〜４８のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基等）であり、メチル基またはエチル基が好ましい。【００７７】
一般式（II−１）〜（II−３）で表されるシラン化合物の具体例としては、例えば、構造式、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＮＨ2、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＮＨ2、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）4Ｓｉ、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）3Ｓｉ-Ｏ-Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3等が挙げられる。但し、上記例示に限定されるものではない。【００７８】
一般式（II−１）〜（II−３）のシラン化合物は、１種単独でも２種以上を組合せても使用することができる。
シラン化合物は、一般式（II−１）の化合物を単独あるいは他の成分より多く用いることがより好ましい。【００７９】
一般式(III)のパーフルオロポリエーテル−ポリシロキサン共重合体変性シラン
【化１１】
2008114781.tif 000013
【００８０】
一般式(III)において、Ｒｇ基は、式：−（ＣjＦ2jＯ）−（ｊは１〜５の整数であり、好ましくは１〜３の整数であり、一般式（III）中のＣjＦ2jＯの配列はランダムである。）で表わされる繰り返し単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する二価の基であり、繰り返し単位数が３０〜６０（好ましくは３０〜５０）であり、異なるｊの繰り返し単位を同時に含んでいてもよい。【００８１】
ここで、Ｒｇは、二価の直鎖型パーフルオロポリエーテル基であり、各種鎖長のパーフルオロポリエーテル基が含まれるが、好ましくは炭素数１〜５程度のパーフルオロポリエーテル基を繰返し単位とする二価の直鎖型パーフルオロポリエーテルである。この二価の直鎖型パーフルオロポリエーテルとしては、例えば、以下に示すようなものが挙げられる。
−ＣＦ2ＣＦ2Ｏ（ＣＦ2ＣＦＣＦ2Ｏ）kＣＦ2ＣＦ2−
−ＣＦ2（ＯＣ2Ｆ4）p−（ＯＣＦ2）q−
上記化学構造式中のｋ、ｐおよびｑはそれぞれ１以上の整数を示す。ｋおよびｐ＋ｑは３０〜６０の範囲が好ましい。なお、パーフルオロポリエーテルの分子構造は、これら例示したものに限定されるものではない。【００８２】
一般式(III)において、Ｒ1は同一または異なっていてもよい炭素数１〜４のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基）またはフェニル基である。
一般式(III)において、ｗは３０〜１００であり、３０〜６０であると好ましい。ａ、ｂおよびｃは、それぞれ独立に１〜５の整数であり、１〜３であると好ましい。
一般式(III)において、Ｒ2は炭素数１〜４のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基）またはフェニル基である。【００８３】
一般式(III)において、Ｘ1は加水分解性基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシ基；アリロキシ基、イソプロペノキシ等のアルケニルオキシ基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシロキシ基；ジメチルケトオキシム基、メチルエチルケトオキシム基、ジエチルケトオキシム基、シクロペンタノキシム基、シクロヘキサノキシム基等のケトオキシム基；Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基等のアミノ基；Ｎ−メチルアセトアミド基、Ｎ−エチルアセトアミド基、Ｎ−メチルベンズアミド基等のアミド基；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノオキシ基等のアミノオキシ基等を挙げることができる。これらの基中で、メトキシ基、エトキシ基、イソプロペノキシ基が好適である。【００８４】
一般式(III)において、ｄは２または３で、加水分解および縮合反応性、および被膜の密着性の観点から考えると３であることが好ましい。ｙは１〜５の整数であり、１〜３であると好ましい。
一般式(III)の化合物は、１種単独でも２種以上を組合せても使用することもある。【００８５】
本発明で使用するプラスチック基材の材質は、特に限定されず、例えば、メチルメタクリレート単独重合体、メチルメタクリレートと１種以上の他のモノマーとの共重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート単独重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートと１種以上の他のモノマーとの共重合体、イオウ含有共重合体、ハロゲン共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリチオウレタン、エピチオ基を有する化合物を原料とする重合体などが挙げられる。【００８６】
エピチオ基を有する化合物の例としては、ビス（β−エピチオプロピルチオ）メタン、１，２−ビス（β−エピチオプロピルチオ）エタン、１，３−ビス（β−エピチオプロピルチオ）プロパン、１，２−ビス（β−エピチオプロピルチオ）プロパン、１−（β−エピチオプロピルチオ）−２−（β−エピチオプロピルチオメチル）プロパン、１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ブタン、１，３−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ブタン、１−（β−エピチオプロピルチオ）−３−（β−エピチオプロピルチオメチル）ブタン、１，５−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ペンタン、１−（β−エピチオプロピルチオ）−４−（β−エピチオプロピルチオメチル）ペンタン、１，６−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ヘキサン、１−（β−エピチオプロピルチオ）−５−（β−エピチオプロピルチオメチル）ヘキサン、１−（β−エピチオプロピルチオ）−２−〔（２−β−エピチオプロピルチオエチル）チオ〕エタン、１−（β−エピチオプロピルチオ）−２−［〔２−（２−β−エピチオプロピルチオエチル）チオエチル〕チオ］エタン等の鎖状有機化合物等が挙げられる。また、テトラキス（β−エピチオプロピルチオメチル）メタン、１，１，１−トリス（β−エピチオプロピルチオメチル）プロパン、１，５−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−２−（β−エピチオプロピルチオメチル）−３−チアペンタン、１，５−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−２，４−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３−チアペンタン、１−（β−エピチオプロピルチオ）−２，２−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−４−チアヘキサン、１，５，６−トリス（β−エピチオプロピルチオ）−４−（β−エピチオプロピルチオメチル）−３−チアヘキサン、１，８−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−４−（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６−ジチアオクタン、１，８−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−４，５ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６−ジチアオクタン、１，８−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−４，４−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６−ジチアオクタン、１，８−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−２，４，５−トリス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６−ジチアオクタン、１，８−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−２，５−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６−ジチアオクタン、１，９−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−５−（β−エピチオプロピルチオメチル）−５−〔（２−β−エピチオプロピルチオエチル）チオメチル〕−３，７−ジチアノナン、１，１０−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−５，６−ビス〔（２−β−エピチオプロピルチオエチル）チオ〕−３，６，９−トリチアデカン、１，１１−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−４，８−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン、１，１１−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−５，７−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン、１，１１−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−５，７−〔（２−β−エピチオプロピルチオエチル）チオメチル〕−３，６，９−トリチアウンデカン、１，１１−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−４，７−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン等の分岐状有機化合物およびこれらの化合物のエピスルフィド基の水素の少なくとも１個がメチル基で置換された化合物等が挙げられる。さらには１，３および１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオ）シクロヘキサン、１，３および１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）シクロヘキサン、ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）シクロヘキシル〕メタン、２，２−ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）シクロヘキシル〕プロパン、ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）シクロヘキシル〕スルフィド、２，５−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−１，４−ジチアン、２，５−ビス（β−エピチオプロピルチオエチルチオメチル）−１，４−ジチアン等の環状脂肪族有機化合物およびこれらの化合物のエピスルフィド基の水素の少なくとも１個がメチル基で置換された化合物、および１，３および１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ベンゼン、１，３および１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）ベンゼン、ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）フェニル〕メタン、２，２−ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）フェニル〕プロパン、ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）フェニル〕スルフィド、ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）フェニル〕スルフォン、４，４’−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ビフェニル等の芳香族有機化合物およびこれらの化合物のエピスルフィド基の水素の少なくとも１個がメチル基で置換された化合物等が挙げられる。【００８７】
図１および図４において、レンズ回転軸４は、軸線を一致させて水平に配置された第１、第２のレンズ回転軸４Ａ、４Ｂで構成され、レンズ保持ユニット１５に配設されている。レンズ保持ユニット１５は、装置の左右方向（Ｘ方向）において対向する一対の支持部１５ａ、１５ｂを有し、一方の支持部１５ａによって第１のレンズ回転軸４Ａを回転自在に軸支し、他方の支持部１５ｂによって第２のレンズ回転軸４Ｂを回転自在にかつ軸線方向に移動自在に軸支している。第１、第２のレンズ回転軸４Ａ、４Ｂの互いに対向する先端には、図２に示すように被加工レンズ２のレンズ保持手段を構成するレンズホルダ１６とレンズ押え１７がそれぞれ着脱自在に取付けられている。【００８８】
レンズ保持ユニット１５の他方の支持部１５ｂには、レンズ回転軸用駆動モータ１８が固定されており、この駆動モータ１８の回転がプーリ、歯付きベルト等の回転伝達手段１９を介して第１、第２のレンズ回転軸４Ａ、４Ｂにそれぞれ伝達されるように構成されている。したがって、第１、第２のレンズ回転軸４Ａ、４Ｂは同期して駆動される。レンズ回転軸用駆動モータ１８としては、回転速度が可変でしかも正逆回転可能なパルスモータが用いられる。また、レンズ保持ユニット１５の他方の支持部１６ｂの内部には、第２のレンズ軸４Ｂを第１のレンズ軸４Ａに対して進退移動させる駆動モータ（図示せず）が組み込まれている。【００８９】
第１のレンズ回転軸移動機構５は、筐体３の底板３０上に平行に設置されたＸ方向に長い前後一対のＸ軸リニアガイド３１と、これらのＸ軸リニアガイド３１に沿ってＸ方向に移動自在なＸ方向テーブル３２と、このＸ方向テーブル３２をＸ軸リニアガイド３１に沿って移動させるＸ方向テーブル用駆動モータ３３等で構成されている。【００９０】
第２のレンズ回転軸移動機構６は、Ｘ方向テーブル３２の上面に平行に設置されたＹ方向に延在する左右一対のＹ軸リニアガイド３５と、これらのＹ軸リニアガイド３５に沿ってＹ方向に移動自在なＹ方向テーブル３６と、このＹ方向テーブル３６をＹ軸リニアガイド３５に沿って移動させるＹ方向テーブル用駆動モータ３７と、Ｙ方向テーブル３６上に設置されたレンズ保持ユニット１５等で構成されている。このため、レンズ回転軸４の動作は、３方向、すなわち軸線回りの回転と、軸線と直交する左右方向（Ｘ方向）および前後方向（Ｙ方向）の移動である。これら３方向の動作は、制御部により被加工レンズ２の形状加工データに基づいて数値制御される。【００９１】
被加工レンズ２の周面２ｃを研削加工する加工具７としては、図２に示すように円筒状に形成されたダイヤモンドホイール等の砥石が用いられ、回転駆動機構８の加工具回転軸４０に取付けられている。また、加工具７は、一次加工用（荒加工用）の研削砥石７Ａと、二次加工用（仕上げ加工用）の研削砥石７Ｂとで構成されている。二次加工用研削砥石７Ｂの外周面には、左右対称なＶ字状の環状溝からなるヤゲン用溝４１が形成されている。【００９２】
加工具７の回転駆動機構８は、筐体３の底板３０上に設置されたフレーム４４と、このフレーム４４の上端に片持ち支持された加工具回転軸４０と、この加工具回転軸４０を回転させるインバータ形式の加工具用駆動モータ４５と、この加工具用駆動モータ４５の回転を加工具回転軸４４に伝達するプーリ、歯付きベルト等の回転伝達機構４６等で構成されている。加工具回転軸４０は、レンズ回転軸４と平行でこれより前方に位置している。【００９３】
レンズ形状測定部９は、図４に示すように、互いに対向して配設され被加工レンズ２の各光学面２ａ、２ｂをトレースする左右一対の測定子５０Ａ、５０Ｂと、これらの測定子５０Ａ、５０Ｂを接近離間させる駆動モータ（図示せず）と、測定子５０Ａ、５０Ｂの軌跡から被加工レンズ２の各光学面２ａ、２ｂおよび周面２ｃ、２ｄ、２ｅの両端エッジ部、すなわち凸面側外周縁５１Ａ、５２Ａ、５３Ａと凹面側外周縁５１Ｂ、５２Ｂ、５３Ｂの位置を演算処理し被加工レンズ２の形状情報を測定する演算処理装置（図示せず）とを備えている。なお、図４において、２ｃは被加工レンズ２を縁摺り加工する以前の周面、２ｄは一次加工後の周面、２ｅは二次加工後の周面である。【００９４】
レンズ形状測定部９による被加工レンズ２の形状測定に際しては、被加工レンズ２を回転させ、左右の測定子５０Ａ、５０Ｂを互いに接近させて被加工レンズ２の各光学面２ａ、２ｂに押し付け、この状態でレンズ保持ユニット１５を前後方向に移動させると、被加工レンズ２の形状を測定することができる。【００９５】
面取り機構１０は、被加工レンズ２の二次加工後の各エッジ部５３Ａ、５３Ｂを面取り加工するもので、左右一対の面取り用加工具６０、６０と、これらの面取り用加工具６０を駆動する面取り用駆動モータ６１と、この駆動モータ６１の回転を各面取り用加工具６０に伝達するプーリ、ベルト等の回転伝達機構６２とで構成されている。面取り用加工具６０としては、ダイヤモンドホイール等の研削ツールが用いられる。【００９６】
次に、上記構造からなる眼鏡レンズの縁摺り加工装置１による被加工レンズ２の縁摺り加工の手順を図７に示すフローチャートに基づいて説明する。
先ず、発注側である眼鏡店が製造側であるレンズメーカーの工場へ製造者が必要とする眼鏡レンズの情報をオンラインで送信する（ステップＳ１）。眼鏡店は、レンズの製造、納品を工場に依頼する際に、レンズの材質、処方値、レンズの加工指定値、眼鏡枠情報、アイポイント位置を指定するレイアウト情報、ヤゲンモード、ヤゲン位置、ヤゲン形状等のレンズ製造に必要な各種情報を工場に送る。眼鏡枠情報は、３次元レンズ枠形状データ、近似曲面定義データ、フレームＰＤ（またはＤＢＬ）、あおり角、周長などである。【００９７】
このような眼鏡店から工場への眼鏡レンズの製造依頼は、特に撥水膜層が形成されているレンズの製造を依頼する場合等において有効である（撥水膜層が形成されていると眼鏡店での一次加工が困難なため）。【００９８】
工場では、眼鏡店からの眼鏡レンズの製造に必要な各種情報を取得すると、これらの情報に基づいて加工形状データ、玉型形状情報、レイアウト情報、加工指示情報等を作成し縁摺り加工装置１に入力する（ステップＳ２）。【００９９】
次に、作業者が在庫として保管してあるアンカットレンズの中から注文のレンズに適合するレンズを被加工レンズ２として選択し、その凸側光学面２ａをレンズホルダ１６によって保持する（ステップＳ３）。【０１００】
レンズホルダ１６は、図３に示すように金属製の軸部７０と、この軸部７０に一体成形された弾性材料からなる保持カップ７１とで構成されている。また、保持カップ７１は、軸７０に固定された軸部７１Ａと、この軸部７１Ａの先端面に一体に設けられたレンズ保持部７１Ｂとで構成されている。レンズ保持部７１Ｂは、矩形板状に形成されていて、前面がレンズ２の凸側光学面２ａと略同一の曲率半径の凹面からなるレンズ保持面７２を形成しており、リープテープ７３が貼着されている。レンズホルダ１６による被加工レンズ２の保持は、リープテープ７３を凸側光学面２ａに押し付けて貼着すればよい。このとき、図５Ａに示すようにレンズホルダ１６の中心Ｏと被加工レンズ２の加工の際の回転中心である加工中心位置２１とを一致させてレンズホルダ１６を被加工レンズ２に取付ける。また、レンズに乱視軸がある場合は、その方向も所定の角度に合わせて取付ける。被加工レンズ２の加工中心位置２１は、眼鏡枠のフレームセンターＢまたは被加工レンズ２の光学中心Ｃである。【０１０１】
次に、作業者が被加工レンズ２の凸側光学面２ａに２つの軸ずれ測定用マーク８１ａ、８１ｂ（図５Ａ〜図５Ｃ）を表示する（ステップＳ４）。レンズホルダ１６には、予め２つの基準位置マーク８０ａ、８０ｂが表示されており、これらのマーク８０ａ、８０ｂと一致するように軸ずれ測定用マーク８１ａ、８１ｂを表示する。レンズホルダ１６の基準位置マーク８０ａ、８０ｂは、中心Ｏを通る互いに直交する２本の直線からなり、レンズ保持部７１Ｂの背面に表示されている。なお、これらの基準位置マーク８０ａ、８０ｂは、被加工レンズ２を保持する前に予めレンズホルダ１６に表示されるが、これに限らず被加工レンズ２を保持した後、レンズホルダ１６と被加工レンズ２に基準位置マーク８０ａ、８０ｂと軸ずれ測定用マーク８１ａ、８１ｂとを同時に表示してもよい。【０１０２】
被加工レンズ２の軸ずれ測定用マーク８１ａ、８１ｂは、加工中心位置２１を通る互いに直交する２本の直線で構成されており、レンズホルダ１６によって保持された後、適宜なインクによって基準位置マーク８０ａ、８０ｂと連続した直線を形成するように表示される。また。これらのマーク８１ａ、８１ｂは線幅が異なり、一方のマーク８１ａが他方のマーク８１ｂより太く表示されている。【０１０３】
次に、被加工レンズ２をレンズ回転軸４に装着する（ステップＳ５）。レンズ回転軸４への装着に際しては、先ず被加工レンズ２を保持しているレンズホルダ１６を第１のレンズ回転軸４Ａに装着する。このレンズホルダ１６の装着は、軸部７０を第１のレンズ回転軸４Ａの先端面に形成されている凹陥部に嵌合することにより行なうことができる。【０１０４】
次に、第２のレンズ回転軸４Ｂを前進させてこの回転軸の先端に取付けられているレンズ押え１７を被加工レンズ２の凹側光学面２ｂに弾性部材８５（図２）を介して押し付ける。これにより、被加工レンズ２の凸側と凹側の光学面２ａ、２ｂの加工中心位置２１がレンズホルダ１６とレンズ押え１７とによって挟持保持され、レンズ回転軸４へのレンズの装着が終了する。【０１０５】
次に、レンズ回転軸４を低速回転させ、被加工レンズ２の周面２ｃを加工具７により加工形状データに基づいて一次加工する（ステップＳ６）。この一次加工は、一次加工用研削砥石７Ａによって周面２ｃを研削し、被加工レンズ２を一次形状にする。一次加工による被加工レンズ２の一次形状は、眼鏡フレームの枠形状に適合する玉型形状２Ａ（図５Ａ〜図５Ｃ）が内接する円よりも大きい円形または玉型形状２Ａと相似形でこれより二次加工の加工代分だけ大きい玉型形状である。玉型形状２Ａが内接する円よりも大きい円８８は、玉型形状２Ａの最大半径Ｒ（図５Ｂ）に二次加工時の加工代を加えた値と等しいか、この値より若干大きい半径を有する円（例えば、５０φｍｍ）である。【０１０６】
被加工レンズ２の一次加工が終了すると、作業者は被加工レンズ２をレンズ回転軸４から取り外して被加工レンズ２の軸ずれを測定する（ステップＳ７）。被加工レンズ２に撥水膜層が形成されている場合、一般のレンズと同程度のレンズ保持力で被加工レンズ２を保持して一次工すると、加工抵抗が大きいため軸ずれが生じ易く、軸ずれが生じたまま二次加工すると不良品となる。【０１０７】
そこで、一次加工が終了すると、レンズホルダ１６を第１のレンズ回転軸４Ａから取り外して基準位置マーク８０ａ、８０ｂと軸ずれ測定用マーク８１ａ、８１ｂにより軸ずれしたか否かを判定する。【０１０８】
図５Ｂは、一次加工により加工中心位置２１がレンズホルダ１６の中心ＯからＸ方向に−Ｘ1 、Ｙ方向に−Ｙ1 だけ軸ずれし、回転角が基準位置マーク８０ａに対して反時計方向に−θ1 だけ軸ずれした場合を示す。図５Ｃは加工中心位置２１がレンズホルダ１６の中心Ｏに対して軸ずれせず、回転角のみが基準位置マーク８０ａに対して反時計方向にθ2 だけ軸ずれした場合を示す。【０１０９】
軸ずれしている場合は、加工中心位置２１のレンズホルダ１６の中心Ｏに対するＸ、Ｙ方向のずれ量（Ｘ1 、Ｙ1 ）と回転角（θ1 、θ2 ）を測定する。軸ずれを測定した結果、例えば加工中心位置２１のＸ、Ｙ方向のずれ量がそれぞれ±０．５ｍｍ以上であるかまたは回転角が±５°以上のいずれかであった場合は、加工中心位置２１が軸ずれしていると判定し、それ以下の場合は軸ずれなしと判定する。なお、軸ずれ量と回転角の許容値はレンズの種類や度数によって異なる。例えば、対象レンズが単焦点レンズの乱視軸であると、前述の回転角度のずれが±２°以下であれば眼鏡レンズの規格を満たすことがあるため公差については適宜選択をすることとする。【０１１０】
このような軸ずれの測定は、作業者が目視または公知の画像処理によって行なう。画像処理による場合は、目視に比べてずれ量を正確に測定することができる利点がある。なお、画像処理による加工形状データの補正についてはさらに後述する。【０１１１】
測定の結果、軸ずれが生じたと判定した場合は、レンズホルダ１６によって被加工レンズ２を再保持して軸ずれを補正する（ステップＳ８）。すなわち、レンズホルダ１６を被加工レンズ２から取り外し、レンズホルダ１６の中心Ｏと被加工レンズ２１の加工中心位置２１とを一致させるとともに、基準位置マーク８０ａ、８０ｂと軸ずれ測定用マーク８１ａ、８１ｂとを一致させてレンズホルダ１６を被加工レンズ２に再装着すると、軸ずれが補正される。なお、軸ずれが許容値以下である場合は、レンズホルダ１６を被加工レンズ２から取り外す必要がない。【０１１２】
次に、被加工レンズ２を上記したステップＳ５と同じ手順にしたがってレンズ回転軸４に再装着する（ステップＳ９）。【０１１３】
レンズ回転軸４への装着が終了すると、レンズ回転軸４を回転させ、一次加工された被加工レンズ２の周面２ｄを加工形状データに基づいて二次加工用研削砥石７Ｂで二次加工し、二次形状にする（ステップＳ１０）。二次加工による被加工レンズ２の二次形状は、眼鏡枠の玉型形状２Ａに適合する玉型形状、またはこれより僅かに大きい玉型形状である。眼鏡枠の玉型形状より僅かに大きい玉型形状は、眼鏡店からの注文により眼鏡店での最終仕上げ加工を行なう際の加工代を残しておくためである。このような二次加工による被加工レンズの二次形状は、一次形状と同様に予め算出して加工形状データとして制御部に入力しておく。【０１１４】
ここで、本実施例においては、一般のリム付き眼鏡フレームに装着される眼鏡レンズの製造を対象しているため、ヤゲン用溝４１を有する研削用砥石７Ｂを用いたが、リムを備えない眼鏡フレーム（縁無し眼鏡フレーム）に装着される眼鏡レンズやナイロールフレームに装着される眼鏡レンズを製造する場合は、研削砥石７Ｂを縁無し眼鏡フレーム用またはナイロールフレーム用の研削砥石に交換して被加工レンズ２の周面を縁摺り加工すればよい。【０１１５】
次に、二次加工が終了すると、被加工レンズ２をレンズ回転軸４から外して被加工レンズ２の軸ずれを測定する（ステップＳ１１）。この軸ずれは、前述したステップＳ７と同様に基準位置マーク８０ａ、８０ｂが軸ずれ測定用マーク８１ａ、８１ｂに対してずれているか否かによって判定する。二次加工の場合は、一次加工後の外径が小さい被加工レンズ２を加工するため、加工抵抗が小さく、撥水膜層が形成されているレンズであっても軸ずれするおそれがほとんどないか、または軸ずれを所定の許容値以内に納めることができるため、精度の高い加工を行なうことができる。また、軸ずれ測定用マーク８１ａ、８１ｂが基準位置マーク８０ａ、８０ｂに対してずれていないことを作業者が目視によって確認することで、被加工レンズ２が軸ずれしていないことを保証することができる。【０１１６】
二次加工が終了すると面取り加工する（ステップＳ１２）。面取り加工は、被加工レンズ２をレンズ回転軸４とともに回転させ、周面２ｅのエッジ部５３Ａ、５３Ｂに面取り用加工具６０を押し当てることで行うことができる。面取り時の加工具６０の制御データとして用いられる加工具６０の面取り軌跡データは、二次加工後の被加工レンズ２の周面２ｅにおける各エッジ部５３Ａ、５３Ｂの位置データを算出し、次いでこのエッジ部の位置データに基づいて算出する。【０１１７】
面取り加工が終了すると、被加工レンズ２をレンズ回転軸４から取り外し、光学性能および外観検査を行う（ステップＳ１３）。【０１１８】
検査で合格品と判定された被加工レンズ１２は、眼鏡レンズとして包装され発注元である眼鏡店へ出荷される（ステップＳ１４）。【０１１９】
眼鏡店では、工場から眼鏡レンズを受け取ると、光学性能および外観を検査する。そして、適正であると判断した場合、眼鏡レンズが装用者が選定した眼鏡フレームの枠形状に適合する玉型形状であれば、その眼鏡フレームにはめ込み、装用者に引き渡す。一方、眼鏡レンズが眼鏡フレームの枠形状よりも若干大きい玉型形状である場合は、眼鏡店で眼鏡フレームの枠形状に適合するように最終仕上げ加工して眼鏡フレームにはめ込み、装用者に引き渡す。眼鏡店での最終仕上げ加工は、レンズ自体の形状が小さいため、加工抵抗が小さく、撥水膜層が形成されているレンズであっても軸ずれするおそれが少ない。【０１２０】
このように、本実施例においては、被加工レンズの軸ずれを補正する工程が、一次加工後に被加工レンズをレンズ保持手段とともにレンズ回転軸から取り外して基準位置マークと軸ずれ測定用マークにより前記被加工レンズの軸ずれを測定する軸ずれ測定工程と、前記被加工レンズの一方の光学面を前記レンズ保持手段によって前記軸ずれ測定用マークと前記基準位置マークを一致させて再度保持することにより、前記軸ずれ測定工程によって測定された被加工レンズの軸ずれを補正する軸ずれ補正工程と、前記レンズ保持手段を被加工レンズとともに前記レンズ回転軸に再装着する工程とを備えているので、二次加工においては一般のレンズと同様に軸ずれすることなく加工することができる。すなわち、本実施例では、一次加工時の被加工レンズ２の軸ずれを許容している。また、一次加工によって被加工レンズ２が軸ずれすると、その軸ずれ量と方向を測定し、レンズホルダ１６によって被加工レンズ２を再度保持することにより軸ずれを補正するようにしている。このように、二次加工時に被加工レンズ２の軸ずれを補正しておくと、二次加工時のレンズ自体の形状は小さくなっているため、撥水膜層が形成されているレンズであっても、格別大きなレンズ保持力でレンズを保持しなくても軸ずれ量を許容値以内に納めることができる。したがって、被加工レンズ２が滑性の高いレンズや一次加工時のレンズが外径の大きいアンカットレンズであっても、一次加工工程においては格別な軸ずれ防止対策を講じる必要がなく、二次加工においては格別大きなレンズ保持力で保持せずとも一般のレンズと同様に軸ずれすることなく高い精度で加工することができることが確認された。【０１２１】
図８は本発明の他の実施例を示すフローチャートである。
本実施例は、上記した実施例と軸ずれ補正の仕方が異なる。すなわち、本実施例における軸ずれの測定と補正（ステップＳ２７）は、画像処理によって軸ずれを測定し、縁摺り加工装置１の加工形状データ自体を補正するようにしたものである。【０１２２】
以下、その手順について説明する。
画像処理による軸ずれを測定する場合は、図９に示すようにラインセンサ９０をレンズホルダ１６の中心Ｏを通る直線上に配置しておく。また、予めレンズホルダ１６と被加工レンズ２に線の太さがそれぞれ異なる少なくとも２つの基準位置マーク８０ａ、８０ｂと軸ずれ測定用マーク８１ａ、８１ｂとを互いに一致するように表示しておく。マーク８０ａと８０ｂ、８１ａと８１ｂの線の太さを異ならせておくと、レンズ２上の光学中心（Ｃ）、装用状態での上下左右方向等のレイアウトが識別可能となる。【０１２３】
一次加工が終了すると、被加工レンズ２をレンズホルダ１６とともにレンズ回転軸４から取外し、基準位置マーク８０ａ、８０ｂと軸ずれ測定用マーク８１ａ、８１ｂとをラインセンサ９０によって撮像する。撮像に際しては、被加工レンズ２を矢印方向に回転させての基準位置マーク８０ａ、８０ｂと軸ずれ測定用マーク８１ａ、８１ｂの座標値を読み取る。ここでマークがずれている場合は、そのずれ量を計算する。ずれていない場合は、被加工レンズ２をレンズ回転軸４に再び装着して二次加工を実施する。【０１２４】
軸ずれの量の算出に当たって、基準位置はずれていない場合のレンズホルダ１６の中心Ｏとする。言い換えれば、レンズホルダ１６の２つの基準位置マーク８０ａ、８０ｂを延長した直線の交差する位置とする。そして、被加工レンズ２上の軸ずれ測定用マーク８１ａ、８１ｂを延長した直線が交差する点２１’の座標値を算出し、軸ずれによる被加工レンズ２上の加工中心位置を特定する（以下、加工中心位置２１’という）。【０１２５】
次に、レンズ回転軸４に垂直な方向へのずれ量としてレンズホルダ１６の中心Ｏを基準とした加工中心位置２１’までの距離と方向を算出して補正値Ａ（Ｘ、Ｙ）とする。補正値Ａによる縁摺り加工装置１の加工中心位置がレンズホルダ１６の中心Ｏからずれた被加工レンズ２上の加工中心２１’とする。また、回転方向のずれ量として各軸ずれ測定用マーク８１ａ、８１ｂと基準位置マーク８０ａ、８０ｂとのなす角度を算出し、補正値Ｂとする。そして、補正値Ａと補正値Ｂに基づいて加工形状データの加工中心を補正して二次加工を行なう。【０１２６】
このように、画像処理によって被加工レンズ２の軸ずれを測定した後、被加工レンズ２の加工形状データ自体の加工軸中心を補正し、この補正された加工形状データに基づいて二次加工すると、被加工レンズ２が実際に軸ずれしていてもレンズホルダ１６を被加工レンズ２から取り外して再保持する必要がないので、上記した実施例に比べて作業工数が少なく縁摺り加工に要する時間を大幅に短縮することができる利点がある。なお、ステップＳ２１〜Ｓ２６、ステップ２８〜ステップ３３は、図７に示したステップＳ１〜Ｓ６、ステップＳ９〜ステップ１４と全く同じであるため、その説明を省略する。【０１２７】
このように、本実施例によれば、被加工レンズの軸ずれを補正する工程が、一次加工後に被加工レンズをレンズ保持手段とともにレンズ回転軸から取り外して基準位置マークと軸ずれ測定用マークから前記被加工レンズの軸ずれを測定し、加工形状データを補正する加工形状データ補正工程とを備え、二次加工工程が前記加工形状データ補正工程によって補正された加工形状データに基づいて被加工レンズを加工するので、すなわち、測定された軸ずれ量とその方向に対応させて加工形状データ自体を補正するので、被加工レンズがレンズ保持手段に対して軸ずれしていても、レンズ保持手段をレンズから外してレンズを再保持する必要がなく、軸ずれしたままの状態で二次加工することができる。したがって、軸ずれを補正するためのレンズ保持手段による再保持工程を必要とせず、レンズの縁摺り加工に要する時間を短縮することができる。【０１２８】
また、本実施例によれば、一次加工工程によって加工された被加工レンズの一次形状が、眼鏡フレームの枠形状に適合する玉型形状が内接する円よりも大きい円形と、前記玉型形状と相似形でこれより大きい玉型形状のうちのいずれか一方であり、二次加工工程によって加工された被加工レンズの二次形状が、眼鏡フレームの枠形状に適合する玉型形状と、これより僅かに大きい玉型形状のうちのいずれか一方である。【０１２９】
また、本実施例によれば、軸ずれ測定工程を画像処理および目視のうちのいずれか一方によって行なうことができる。【０１３０】
さらに、本実施例によれば、基準位置マークを、被加工レンズを保持する以前と、未加工レンズに軸ずれ測定用マークを表示するときと同時のうちのいずれか一方によって表示することができる。【０１３１】
なお、上記した実施例においては、二次加工によって装用者が選定した眼鏡フレームの枠形状に適合した玉型形状または枠形状よりも若干大きい玉型形状に二次加工して眼鏡店に納品する場合について説明したが、眼鏡店の依頼によっては一次加工のみを行った一次形状の被加工レンズを納品する場合も考えられる。その場合、軸ずれが生じているレンズについては、加工中心位置２１’に加えて、軸ずれ量とその方向を眼鏡店に知らせる。眼鏡店では、一次加工された被加工レンズを受け取ると、加工中心位置２１を保持して眼鏡フレームの枠形状に適合した形状に仕上げ加工し、その眼鏡フレームにはめ込むことにより眼鏡が完成する。  
【産業上の利用可能性】
【０１３２】
本発明に係る縁摺り加工方法は、眼眼レンズの縁摺り加工に用いて有用である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【手続補正書】
【提出日】平成20年11月28日(2008.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工レンズをレンズ保持手段によって保持する工程と、前記レンズ保持手段を被加工レンズとともにレンズ回転軸に装着する工程と、前記被加工レンズの周面を加工具によって一次加工する工程と、一次加工後に被加工レンズの軸ずれを補正する工程と、軸ずれ補正後に被加工レンズを二次加工する工程とを備え、
前記レンズ保持手段によって前記被加工レンズを保持する工程は、このレンズ保持手段の中心と前記被加工レンズの加工中心とを一致させて保持する工程と、前記被加工レンズの一方の光学面に軸ずれ測定用マークを前記レンズ保持手段に表示されている基準位置マークと一致するように表示する工程とを備え、
前記一次加工後に被加工レンズの軸ずれを補正する工程は、一次加工後に被加工レンズをレンズ保持手段とともにレンズ回転軸から取り外して基準位置マークと軸ずれ測定用マークにより前記被加工レンズの軸ずれを測定する軸ずれ測定工程と、前記被加工レンズの一方の光学面を前記レンズ保持手段によって前記軸ずれ測定用マークと前記基準位置マークを一致させて再度保持することにより、前記軸ずれ測定工程によって測定された被加工レンズの軸ずれを補正する軸ずれ補正工程と、前記レンズ保持手段を被加工レンズとともに前記レンズ回転軸に再装着する工程と、
を備えたことを特徴とする眼鏡レンズの縁摺り加工方法。
【請求項２】
（削除）
【請求項３】
（削除）
【請求項４】
請求項１記載の眼鏡レンズの縁摺り加工方法において、
一次加工工程によって加工された被加工レンズの一次形状は、眼鏡フレームの枠形状に適合する玉型形状が内接する円よりも大きい円形と、前記玉型形状と相似形でこれより大きい玉型形状のうちのいずれか一方であり、二次加工工程によって加工された被加工レンズの二次形状は、眼鏡フレームの枠形状に適合する玉型形状と、これより僅かに大きい玉型形状のうちのいずれか一方であることを特徴とする眼鏡レンズの縁摺り加工方法。
【請求項５】
（削除）
【請求項６】
請求項１記載の眼鏡レンズの縁摺り加工方法において、
被加工レンズの軸ずれ測定工程は、画像処理および目視のうちのいずれか一方によって行なうことを特徴とする眼鏡レンズの縁摺り加工方法。
【請求項７】
（削除）
【請求項８】
請求項１記載の眼鏡レンズの縁摺り加工方法において、
基準位置マークは、被加工レンズを保持する以前と、未加工レンズに軸ずれ測定用マークを表示するときと同時のうちのいずれか一方によって表示されることを特徴とする眼鏡レンズの縁摺り加工方法。
【国際調査報告】
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