【事件の表示】
　特願２０１６−１１３５９９「積層膜、表示装置及び入力装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２９年１２月１４日出願公開、特開２０１７−２２００１１、請求項の数（３）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成２８年６月７日の出願であって、平成２９年７月５日付けで拒絶理由通知がされ、平成２９年８月２３日付けで手続補正がされ、平成２９年９月１２日付けで拒絶査定がなされ、これに対して平成２９年１２月１日に審判の請求がされると同時に手続補正がされたものである。
第２　原査定の概要
　原査定（平成２９年９月１２日付け拒絶査定）の概要は次のとおりである。
　本願請求項１−３に係る発明は、以下の引用文献１−３に基づいて、その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下、「当業者」という。）が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。（なお、「引用文献２」が主引用例として引用された。）
引用文献等一覧
　１．特開２０１６−５８０５５号公報
　２．特表２０１６−５００８５３号公報
　３．特表２０１４−５１３３３５号公報
第３　本願発明
　本願請求項１−３に係る発明（以下、それぞれ「本願発明１」−「本願発明３」という。）は、平成２９年１２月１日付けの手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１−３に記載された事項により特定される発明であり、本願発明１−３は以下のとおりの発明である。
「【請求項１】
　第１層、第２層及び第３層がこの順に積層された積層膜であって、
　第１層が、電気抵抗率が１５μΩ・ｃｍ以下である金属薄膜であり、
　第２層が４０原子％以上６１原子％以下の窒素を含むアルミニウム窒化膜又は４０原子％以上６１原子％以下の窒素と、酸素（Ｏ）、銅（Ｃｕ）、イットリウム（Ｙ）、ケイ素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、ネオジム（Ｎｄ）うち少なくとも１つを含むアルミニウム合金窒化膜であり、
　第３層が５０原子％以上６０原子％以下の酸素と、ネオジム（Ｎｄ）を含み、かつ、銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、炭素（Ｃ）の少なくとも１つを含むアルミニウム合金酸化膜、又は５０原子％以上６０原子％以下の酸素及び１原子％以上１０原子％以下の窒素と、ネオジム（Ｎｄ）と含み、かつ、銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、炭素（Ｃ）の少なくとも１つを含むアルミニウム合金酸窒化膜であり、
　前記第２層の膜厚が２０ｎｍ〜２００ｎｍ、かつ、前記第３層の膜厚が１５ｎｍ〜２００ｎｍである積層膜。
　　【請求項２】
　請求項１に記載の積層膜を備えた表示装置。
　　【請求項３】
　請求項１に記載の積層膜を備えた入力装置。」
第４　引用文献、引用発明等
１．引用文献２について
　原査定の拒絶の理由に引用された引用文献２（特表２０１６−５００８５３号公報）には、図面とともに、以下の事項が記載されている（下線は当審付与。以下同様。）。
（１）　【請求項２０】−【請求項２２】
「【請求項２０】
　
前記中間層の厚さは５ｎｍ〜５０ｎｍである
【請求項２１】
　
前記暗色化層の厚さは２０ｎｍ〜１５０ｎｍである
（２）　段落【００１９】
「【００１９】
　そこで、本出願の一実現例は、従来のＩＴＯに基づいた透明伝導性薄膜層を用いたタッチスクリーンパネルと差別化することができ、金属微細パターン電極の隠蔽性および外部光に対する反射および回折特性が改善された
タッチスクリーンパネルに適用できる伝導性構造体
（３）　段落【００２２】
「【００２２】
　本出願の一実現例による
伝導性構造体は、伝導性層と暗色化層との間に少なくとも１つの中間層を含む
（４）　段落【００３１】
「【００３１】
　具体的には、前記暗色化層は吸光性を有するため、伝導性層自体へ入射する光と伝導性層から反射する光の量を減少させることによって伝導性層による反射率を下げることができる。また、前記暗色化層は伝導性層に比べて低い反射率を有することができる。これにより、使用者が直接伝導性層を見る場合に比べて光の反射率を下げることができるため、伝導性層の視認性を大幅に改善させることができる。」
（５）　段落【００６５】−【００６７】
「【００６５】
　例えば、
前記暗色化層は、金属の酸化物、金属の窒化物、金属の酸窒化物および金属の炭化物からなる群から選択される１つまたは２つ以上を含んで用いることができる
前記金属は、ニッケル（Ｎｉ）、バナジウム（Ｖ）、タングステン（Ｗ）、タンタル（Ｔａ）、モリブデン（Ｍｏ）、ニオブ（Ｎｂ）、チタン（Ｔｉ）、鉄（Ｆｅ）、クロム（Ｃｒ）、コバルト（Ｃｏ）、アルミニウム（Ａｌ）および銅（Ｃｕ）からなる群から選択される１つまたは２つ以上であっても良い
具体的には、前記暗色化層は、銅の酸化物、銅の窒化物、銅の酸窒化物、アルミニウムの酸化物、アルミニウムの窒化物またはアルミニウムの酸窒化物を含むことができる
【００６６】
　本出願の一実現例において、
前記中間層は、金属の酸化物、金属の窒化物、金属の酸窒化物および金属の炭化物からなる群から選択される１つまたは２つ以上を含んで用いることができる
前記金属は、ニッケル（Ｎｉ）、バナジウム（Ｖ）、タングステン（Ｗ）、タンタル（Ｔａ）、モリブデン（Ｍｏ）、ニオブ（Ｎｂ）、チタン（Ｔｉ）、鉄（Ｆｅ）、クロム（Ｃｒ）、コバルト（Ｃｏ）、アルミニウム（Ａｌ）および銅（Ｃｕ）からなる群から選択される１つまたは２つ以上であっても良い
具体的には、
前記中間層
は、銅の酸化物、銅の窒化物、銅の酸窒化物、アルミニウムの酸化物、アルミニウムの窒化物またはアルミニウムの酸窒化物を含むことができる
【００６７】
　本出願の一実現例において、
前記中間層または暗色化層は、誘電性物質および金属のうち少なくとも１つを含むことができる
前記金属は金属または金属の合金であっても良い
前記金属としては鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）および銀（Ａｇ）のうちから選択される金属を含むことができ
鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）および銀（Ａｇ）のうちから選択される２以上の金属の合金であっても良いが、これらのみに限定されるものではない
（６）　段落【００７５】
「【００７５】
　本出願の一実現例において、
前記伝導性層の材料は比抵抗１×１０
−６
Ω・ｃｍ〜３０×１０
−６
Ω・ｃｍの物質が好適であり、好ましくは１×１０
−６
Ω・ｃｍ〜７×１０
−６
Ω・ｃｍであって
（７）　段落【００７７】−【００７８】
「【００７７】
　本出願の一実現例において、
前記伝導性層の材料の具体的な例としては、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、ネオジム（Ｎｄ）、モリブデン（Ｍｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、その酸化物およびその窒化物からなる群から選択される１つまたは２つ以上を含むことができる
【００７８】
　
本出願の一実現例において、前記伝導性層、中間層および暗色化層は同一の金属を含むことができる。同一の金属を含む場合、同一のエッチャントを用いて工程作業が可能であるので工程上の利点があり、生産速度面にも有利であるので製造過程で有利な効果がある
（８）　段落【００８６】
「【００８６】
　本出願の一実現例において、前記伝導性層はアルミニウムを含み、前記中間層および暗色化層はアルミニウムの酸化物、アルミニウムの窒化物またはアルミニウムの酸窒化物を含むことができる。
具体的には、
前記中間層は全体組成のうち窒素の原子百分率（Ａｏｍｉｃ　ｐｅｒｃｅｎｔ）が０％超過２０％未満であるアルミニウムの酸窒化物を含み、前記暗色化層は全体組成のうち窒素の原子百分率（Ａｏｍｉｃ　ｐｅｒｃｅｎｔ）が２０％以上４５％以下であるアルミニウムの酸窒化物を含むことができる
（９）　段落【００９０】−【００９１】
「【００９０】
　
中間層がアルミニウムの酸窒化物を含む場合、前記中間層の厚さは具体的には１０ｎｍ〜４０ｎｍであっても良く、より具体的には２０ｎｍ〜３０ｎｍであっても良い
【００９１】
　本出願の一実現例において、
前記暗色化層の厚さは２０ｎｍ〜１５０ｎｍであっても良い。具体的には２０ｎｍ〜１００ｎｍ、より具体的には４０ｎｍ〜８０ｎｍまたは４０ｎｍ〜６０ｎｍであっても良い
（１０）　段落【０１０８】
「【０１０８】
　図２によれば、
基材１００、伝導性層３００、中間層４００、暗色化層２００の順に配置され
（１１）　段落【０１２５】
「【０１２５】
　例えば、中間層と暗色化層の形成時にＡｌＯｘＮｙ（ｘおよびｙはＡｌ１原子に対する各々のＯおよびＮの原子数の比）のようにＡｌ金属ターゲットを用いて反応性スパッタリング（ｒｅａｃｔｉｖｅ　ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）方法を利用すれば、Ｏ２および／またはＮ２のような反応性ガスの分圧調節で工程を行うことができる。」
（１２）　段落【０１５８】−【０１５９】
「【０１５８】
　＜
実施例８〜１２
　
伝導性層である厚さ８０ｎｍのＡｌ電極上に
ＡｌＯｘＮｙ（０＜ｘ、０＜ｙ＜０．３）を３０ｎｍ厚さで中間層を蒸着した後、中間層上にＡｌＯｘＮｙ（０＜ｘ、０．３≦ｙ＜１）を厚さ４０ｎｍ（実施例８）、５０ｎｍ（実施例９）、６０ｎｍ（実施例１０）、７０ｎｍ（実施例１１）、８０ｎｍ（実施例１２）で暗色化層を蒸着して伝導性構造体を製造した
【０１５９】
　実施例８〜１２の可視光線領域波長の反射率を測定して図１２に示す。図１２から、実施例８〜１２は３００〜８００ｎｍ可視光線の全体波長領域で平均反射率が２０％以下であることを確認することができ、実施例８〜１０は３００〜８００ｎｍ可視光線の全体波長領域で平均反射率１０％以下であることを確認することができる。」
　したがって、関連図面に照らし、引用文献２には、特に「実施例８〜１２」に着目すると、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
「タッチスクリーンパネルに適用できる伝導性構造体であって、
　伝導性構造体は、伝導性層と暗色化層との間に少なくとも１つの中間層を含むものであり、
　前記伝導性層の材料は比抵抗１×１０−６Ω・ｃｍ〜３０×１０−６Ω・ｃｍの物質が好適であり、好ましくは１×１０−６Ω・ｃｍ〜７×１０−６Ω・ｃｍであって、
　基材１００、伝導性層３００、中間層４００、暗色化層２００の順に配置され、
　伝導性層である厚さ８０ｎｍのＡｌ電極上に、
　ＡｌＯｘＮｙ（０＜ｘ、０＜ｙ＜０．３）を３０ｎｍ厚さで中間層を蒸着した後、中間層上に、
　ＡｌＯｘＮｙ（０＜ｘ、０．３≦ｙ＜１）を厚さ４０ｎｍ、５０ｎｍ、６０ｎｍ、７０ｎｍ、８０ｎｍで暗色化層を蒸着して製造した、
伝導性構造体。」
２．引用文献１について
　また、原査定の拒絶の理由に引用された、上記引用文献１（特開２０１６−５８０５５号公報）には、以下の記載がある。
（１）　段落【００３７】
「【００３７】
　実施の態様１Ａ：
第１層と第２層の二層構造からなる電極
　図４は、本発明の電極の一構造例を示す概略断面図である。図４の電極構造２０Ａにおいて、透明基板２４は、ガラスやプラスチック等からなる基板を用いることができる。
透明基板２４上には、Ａｌ膜またはＡｌ合金膜からなる第１層２１、一部が窒化しているＡｌ合金からなる第２層２２が少なくとも形成されている
（２）　段落【００５２】
「【００５２】
　
例えば、上記Ａｌ−Ｘ合金の窒化物をＡｌ−Ｘ−Ｎｙで表した場合、Ａｌ原子とＸ群元素原子と窒素原子との総和を分母としたときの、窒素原子の含有比率ｙは、１４原子％以上５７原子％以下の範囲内とすることが挙げられる
窒素原子比率が５８原子％の場合は、所望とする消衰係数が得られない場合があるが、窒素原子比率を５７原子％以下とすることによって所望とする消衰係数が得られやすくなる
　これらの記載から、引用文献１には、第１層と第２層の二層構造からなる電極において、光の吸収率を示す「消衰係数」を所望の値とするために、アルミニウム合金窒化膜を第２層として用いる場合に、窒素原子の含有比率を１４−５７原子％とすることが記載されていると認定できる。
３．引用文献３について
　また、原査定の拒絶の理由に引用された、上記引用文献３（特表２０１４−５１３３３５号公報）には、以下の記載がある。
（１）　【請求項１】
「【請求項１】
　基材と、
　導電性パターン層と、
　
ＡｌＯｘＮｙ（０≦ｘ≦１．５、０≦ｙ≦１）を含む暗色化パターン層
　前記ＡｌＯｘＮｙにおいて、ｘおよびｙは、Ａｌ１原子に対するそれぞれのＯおよびＮの原子数の比を意味する。」
（２）　段落【００１６】
「【００１６】
　本発明の一実施形態にかかる導電性構造体は、
ＡｌＯｘＮｙ（０≦ｘ≦１．５、０≦ｙ≦１）を含む暗色化パターン層を含むことができる
さらに具体的には、ＡｌＯｘＮｙ（０≦ｘ≦０．６、０．３≦ｙ≦０．８）の場合、暗色化パターン層の形成により効果的である
（３）　段落【００４９】
「【００４９】
　本発明の一実施形態において、
前記導電性パターン層の材料の具体例としては
アルミニウム
ネオジム、
の合金
　これらの記載から、引用文献３には、導電性パターン層と暗色化パターン層の二層構造からなる電極において、導電性パターン層の反射度を下げるために積層する暗色化パターン層の組成として、ＡｌＯｘＮｙ（０≦ｘ≦１．５，０≦ｙ≦１）を用いること（上記（１）、（２））、及び、導電性パターン層の材料として、アルミニウム、ネオジムの合金を用いること（上記（３））が記載されていると認定できる。
第５　対比・判断
１．本願発明１について
（１）　対比
　本願発明１と引用発明とを対比すると、次のことがいえる。
ア　引用発明の「伝導性層３００、中間層４００、暗色化層２００の順に配置され」た「伝導性構造体」は、本願発明１の「第１層、第２層及び第３層がこの順に積層された積層膜」に相当する。
イ　「第１層」（「伝導性層」）について、引用発明の「前記伝導性層の材料は比抵抗１×１０−６Ω・ｃｍ〜３０×１０−６Ω・ｃｍの物質が好適であり、好ましくは
１×１０
−６
Ω・ｃｍ〜７×１０
−６
Ω・ｃｍ
厚さ８０ｎｍのＡｌ電極
ウ　「第２層」（「中間層」）について、引用発明の「ＡｌＯｘＮｙ（０＜ｘ、０＜ｙ＜０．３）を３０ｎｍ厚さで」蒸着した「中間層」は、本願発明１の「第２層が
４０原子％以上６１原子％以下の窒素を含むアルミニウム窒化膜
４０原子％以上６１原子％以下の
、銅（Ｃｕ）、イットリウム（Ｙ）、ケイ素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、ネオジム（Ｎｄ）うち少なくとも１つ
合金
所定量の
を含む
エ　「第３層」（「暗色化層」）について、引用発明の「ＡｌＯｘＮｙ（０＜ｘ、０．３≦ｙ＜１）を厚さ４０ｎｍ、５０ｎｍ、６０ｎｍ、７０ｎｍ、８０ｎｍで」蒸着した「暗色化層」は、本願発明１の「第３層が
５０原子％以上６０原子％以下の酸素と、ネオジム（Ｎｄ）を含み、かつ、銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、炭素（Ｃ）の少なくとも１つを含むアルミニウム合金酸化膜、又は５０原子％以上６０原子％以下の
１原子％以上１０原子％以下の
と、ネオジム（Ｎｄ）と含み、かつ、銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、炭素（Ｃ）の少なくとも１つ
合金
所定量の
所定量の
オ　引用発明の「中間層」が「３０ｎｍ厚さで」、「暗色化層」が「厚さ４０ｎｍ、５０ｎｍ、６０ｎｍ、７０ｎｍ、８０ｎｍで」あることは、本願発明１の「前記第２層の膜厚が２０ｎｍ〜２００ｎｍ、かつ、前記第３層の膜厚が１５ｎｍ〜２００ｎｍである」ことに相当する。
　したがって、本願発明１と、引用発明との間には、次の一致点、相違点があるといえる。
［一致点］
「第１層、第２層及び第３層がこの順に積層された積層膜であって、
　第１層が、電気抵抗率が１５μΩ・ｃｍ以下である金属薄膜であり、
　第２層が所定量の窒素と、酸素（Ｏ）を含むアルミニウムを含む窒化膜であり、
　第３層が所定量の酸素及び所定量の窒素を含むアルミニウムを含む酸窒化膜であり、
　前記第２層の膜厚が２０ｎｍ〜２００ｎｍ、かつ、前記第３層の膜厚が１５ｎｍ〜２００ｎｍである積層膜。」
［相違点１］
　「第２層」（「中間層」）の組成について、本願発明１では、「第２層が４０原子％以上６１原子％以下の窒素を含むアルミニウム窒化膜又は
４０原子％以上６１原子％以下の窒素
銅（Ｃｕ）、イットリウム（Ｙ）、
チタン（Ｔｉ）、ネオジム（Ｎｄ）うち少なくとも１つを含む
合金
０＜ｘ
０＜ｙ＜０．３
［相違点２］
　「第３層」（「暗色化層」）の組成について、本願発明１では、「第３層が５０原子％以上６０原子％以下の酸素と、ネオジム（Ｎｄ）を含み、かつ、銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、炭素（Ｃ）の少なくとも１つを含むアルミニウム合金酸化膜、又は
５０原子％以上６０原子％以下の酸素
１原子％以上１０原子％以下の窒素
ネオジム（Ｎｄ）と
銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、炭素（Ｃ）の少なくとも１つを含む
合金
０＜ｘ
０．３≦ｙ＜１
（２）　［相違点１］についての判断
ア　主引用例である「引用文献２」には、「第２層」（「中間層」）の組成に関する他の記載として、段落【００８６】に、「
前記中間層は
窒素の原子百分率
が０％超過２０％未満であるアルミニウムの酸窒化物
前記中間層
は、
金属
を含むことができる
前記金属は
金属の合金であっても良い
　しかし、引用発明の「中間層」として、「４０原子％以上６１原子％以下の窒素」を含む、アルミニウム「合金」窒化膜を採用する点は、引用文献２には記載されておらず、示唆されているともいえない。
イ　「引用文献１」には、第１層と第２層の二層構造からなる電極において、光の吸収率を示す「消衰係数」を所望の値とするために、
アルミニウム合金窒化膜
窒素原子の含有比率を１４−５７原子％とすること
　しかし、そもそも、引用発明の伝導性層、中間層、暗色化層の三層構造における「中間層」の構成として、引用文献１の二層構造の「第２層」の構成を採用することの動機付けや起因は見いだし難い。
　仮に、引用文献１の「第２層」の構成を引用発明の「中間層」の構成として採用することが想定できたとしても、「４０原子％以上６１原子％以下の窒素」を含むような、本願発明の［相違点１］に係る構成は必ずしも得られないことが明らかである。
ウ　「引用文献３」には、導電性パターン層と暗色化パターン層の二層構造からなる電極において、導電性パターン層の反射度を下げるために積層する暗色化パターン層の組成として、ＡｌＯｘＮｙ（０≦ｘ≦１．５，０≦ｙ≦１）を用いることが記載されている（上記第４、３を参照。）。
　しかし、そもそも、引用発明の伝導性層、中間層、暗色化層の三層構造における「中間層」の構成として、引用文献３の二層構造の「暗色化パターン層」の構成を採用することの動機付けや起因は見いだし難い。
　仮に、引用文献３の「暗色化パターン層」を引用発明の「中間層」として採用することが想定できたとしても、「４０原子％以上６１原子％以下の窒素」を含むような、本願発明の［相違点１］に係る構成は必ずしも得られないことが明らかである。
エ　また、「第２層が４０原子％以上６１原子％以下の窒素を含むアルミニウム窒化膜又は４０原子％以上６１原子％以下の窒素と、酸素（Ｏ）、銅（Ｃｕ）、イットリウム（Ｙ）、ケイ素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、ネオジム（Ｎｄ）うち少なくとも１つを含むアルミニウム合金窒化膜であ」る構成が、周知技術であるともいえない。
　よって、当業者といえども、引用発明及び引用文献１、引用文献３に記載された技術的事項、周知技術から、本願発明の上記［相違点１］に係る、「第２層が４０原子％以上６１原子％以下の窒素を含むアルミニウム窒化膜又は４０原子％以上６１原子％以下の窒素と、酸素（Ｏ）、銅（Ｃｕ）、イットリウム（Ｙ）、ケイ素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、ネオジム（Ｎｄ）うち少なくとも１つを含むアルミニウム合金窒化膜であ」るという構成を容易に想到することはできない。
（３）　［相違点２］についての判断
　主引用例である「引用文献２」には、「第３層」（「暗色化層」）の組成に関する他の記載として、段落【００８６】に、「
前記暗色化層は
窒素の原子百分率
が２０％以上４５％以下であるアルミニウムの酸窒化物を含む
暗色化層は、
金属
を含むことができる
前記金属は
金属の合金であっても良い
　また、段落【００７７】−【００７８】に、伝導性層の材料として、「銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、
ネオジム（Ｎｄ）
　しかし、引用発明の「暗色化層」として、「５０原子％以上６０原子％以下の酸素」と「１原子％以上１０原子％以下の窒素」を含み、「ネオジム（Ｎｄ）」を必須の要素として含む、アルミニウム「合金」酸窒化膜を採用する点は、引用文献２には記載されておらず、示唆されているともいえない。
　また、「第３層」（「暗色化層」）の組成として、「５０原子％以上６０原子％以下の酸素」と「１原子％以上１０原子％以下の窒素」を含み、「ネオジム（Ｎｄ）」を必須の要素として含む、アルミニウム「合金」酸窒化膜という構成は、「引用文献１」（上記第４、２を参照。）、「引用文献３」（上記第４、３を参照。）に記載されておらず、周知技術であるともいえない。
　よって、当業者といえども、引用発明及び引用文献１、引用文献３に記載された技術的事項、周知技術から、本願発明の上記［相違点２］に係る、「第３層が５０原子％以上６０原子％以下の酸素と、ネオジム（Ｎｄ）を含み、かつ、銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、炭素（Ｃ）の少なくとも１つを含むアルミニウム合金酸化膜、又は５０原子％以上６０原子％以下の酸素及び１原子％以上１０原子％以下の窒素と、ネオジム（Ｎｄ）と含み、かつ、銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、炭素（Ｃ）の少なくとも１つを含むアルミニウム合金酸窒化膜であ」るという構成を容易に想到することはできない。
（４）　まとめ
　したがって、本願発明１は、当業者であっても、引用発明及び引用文献１、引用文献３に記載された技術的事項、周知技術に基づいて容易に発明できたものであるとはいえない。
２．本願発明２−３について
　本願発明２−３は、いずれも、本願発明１の上記［相違点１］の、「第２層が４０原子％以上６１原子％以下の窒素を含むアルミニウム窒化膜又は４０原子％以上６１原子％以下の窒素と、酸素（Ｏ）、銅（Ｃｕ）、イットリウム（Ｙ）、ケイ素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、ネオジム（Ｎｄ）うち少なくとも１つを含むアルミニウム合金窒化膜であ」るという構成、及び、上記［相違点２］の、「第３層が５０原子％以上６０原子％以下の酸素と、ネオジム（Ｎｄ）を含み、かつ、銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、炭素（Ｃ）の少なくとも１つを含むアルミニウム合金酸化膜、又は５０原子％以上６０原子％以下の酸素及び１原子％以上１０原子％以下の窒素と、ネオジム（Ｎｄ）と含み、かつ、銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、炭素（Ｃ）の少なくとも１つを含むアルミニウム合金酸窒化膜であ」るという構成と同一の構成を備えるものである。
　よって、本願発明１と同じ理由により、本願発明２−３も、当業者であっても、引用発明及び引用文献１、引用文献３に記載された技術的事項、周知技術に基づいて容易に発明できたものであるとはいえない。
第６　原査定について
　審判請求時の補正により補正された、本願発明１−３は、「第２層が４０原子％以上６１原子％以下の窒素を含むアルミニウム窒化膜又は４０原子％以上６１原子％以下の窒素と、酸素（Ｏ）、銅（Ｃｕ）、イットリウム（Ｙ）、ケイ素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、ネオジム（Ｎｄ）うち少なくとも１つを含むアルミニウム合金窒化膜であ」るという事項、及び、上記［相違点２］の、「第３層が５０原子％以上６０原子％以下の酸素と、ネオジム（Ｎｄ）を含み、かつ、銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、炭素（Ｃ）の少なくとも１つを含むアルミニウム合金酸化膜、又は５０原子％以上６０原子％以下の酸素及び１原子％以上１０原子％以下の窒素と、ネオジム（Ｎｄ）と含み、かつ、銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、炭素（Ｃ）の少なくとも１つを含むアルミニウム合金酸窒化膜であ」るという事項を有するものであり、当業者であっても、拒絶査定において引用された引用文献１−３に基づいて、容易に発明できたものとはいえない。したがって、原査定の理由を維持することはできない。
第７　むすび
　以上のとおり、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。