(57)【要約】  ガスや水分などの透過を防止できるガスバリアフィルムを提供する。【解決手段】ガスバリアフィルムは、基材と、基材の少なくともその一方の主表面に成膜されかつ凹部を有するガスバリア膜と、からなるガスバリアフィルムであって、凹部に充填された充填材料からなる埋め込み部を有する。凹部を有するガスバリア膜上に充填材料からなる埋め込み膜を成膜し、埋め込み膜への払拭部材の接触により埋め込み膜を延伸、除去しつつ、ガスバリア膜の凹部に充填材料を堆積させて埋め込み部を形成する。
2008026499.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材の少なくともその一方の主表面に成膜されかつ凹部を有するガスバリア膜と、からなるガスバリアフィルムであって、前記凹部に充填された充填材料からなる埋め込み部を有することを特徴とするガスバリアフィルム。
【請求項２】
前記基材はプラスチック又はプラスチックを母材として母材と異なる有機若しくは無機材料を混合したプラスチック複合材料あるいは金属箔からなることを特徴とする請求項１記載のガスバリアフィルム。
【請求項３】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と異なる材料であることを特徴とする請求項１又は２記載のガスバリアフィルム。
【請求項４】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と同一材料であることを特徴とする請求項１又は２記載のガスバリアフィルム。
【請求項５】
前記ガスバリア膜は多層膜であることを特徴とする請求項１記載のガスバリアフィルム。
【請求項６】
前記基材はプラスチック又はプラスチックを母材として母材と異なる有機若しくは無機材料を混合したプラスチック複合材料あるいは金属箔からなることを特徴とする請求項５記載のガスバリアフィルム。
【請求項７】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と異なる材料であることを特徴とする請求項５又は６記載のガスバリアフィルム。
【請求項８】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と同一材料であることを特徴とする請求項５又は６記載のガスバリアフィルム。
【請求項９】
基材と、前記基材の少なくともその一方の主表面に成膜されかつ凹部を有するガスバリア膜と、からなるガスバリアフィルムのガスバリアフィルム製造方法であって、前記基材の前記表面に凹部を有するガスバリア膜を成膜する工程と、前記凹部を有するガスバリア膜上に充填材料からなる埋め込み膜を成膜する工程と、前記埋め込み膜への払拭部材の接触により前記埋め込み膜を延伸、除去しつつ、前記ガスバリア膜の前記凹部に前記充填材料を堆積させて埋め込み部を形成する工程とを含むことを特徴とするガスバリアフィルム製造方法。
【請求項１０】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と異なる材料であることを特徴とする請求項９記載のガスバリアフィルム製造方法。
【請求項１１】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と同一材料であることを特徴とする請求項９記載のガスバリアフィルム製造方法。
【請求項１２】
基材と、前記基材の少なくともその一方の主表面に成膜されかつ凹部を有するガスバリア膜と、からなるガスバリアフィルムのガスバリアフィルム製造方法であって、前記基材の前記表面に凹部を有するガスバリア膜を成膜する工程と、前記凹部を有するガスバリア膜上に充填材料からなる埋め込み膜を成膜する工程と、前記埋め込み膜への払拭部材の接触により前記埋め込み膜を延伸、除去しつつ、前記ガスバリア膜の前記凹部に前記充填材料を堆積させて埋め込み部を形成する工程と、埋め込み部を形成した後に酸化や窒化等の後処理工程とを含むことを特徴とするガスバリアフィルム製造方法。
【請求項１３】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と異なる材料であることを特徴とする請求項１２記載のガスバリアフィルム製造方法。
【請求項１４】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と同一材料であることを特徴とする請求項１２記載のガスバリアフィルム製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガスバリアフィルム及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ表示パネル自体を可撓性とすべく、複数の有機ＥＬ素子が樹脂基板上に形成された有機ＥＬ表示パネルが開発されている。その樹脂基板として合成樹脂、プラスチックなどが用いられている。有機ＥＬ素子は、電流の注入によって発光するエレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬという）を呈する有機化合物材料からなる発光層を含む１以上の有機薄膜を陽極及び陰極で挟んだ形態の自発光デバイスである。【０００３】
有機ＥＬデバイスのように酸素や湿気を嫌うデバイスをプラスチック基材上に作製する場合、酸化シリコンなどの無機ガスバリア膜を樹脂基板上に成膜してデバイスを保護する必要がある。したがって、樹脂基板として高いガスバリア性能のガスバリアフィルムが求められている。【０００４】
しかし、成膜された無機ガスバリア膜は通常ミクロンオーダの貫通孔、ピンホールなどの欠陥部である凹部を有しており、その部分からのガス侵入によるデバイス劣化を防ぎ切れない。【０００５】
通常の無機ガスバリア膜はミクロンオーダの欠陥部を有しているので、その欠陥部を補うためには他の膜を介してガスバリア膜を多層化することにより、ガスの透過を遅延させる手法がとられている。【０００６】
先行技術によるガスバリア膜付きフィルムにおいては、ミクロンオーダの欠陥部を有したままこれをデバイス基板として用いている。あるいは、ガスバリア性能改善のために中間層などを介してガスバリア膜を積層して用いているが、個々の膜に存在するミクロンオーダ欠陥部は単層膜の場合と同様である。【０００７】
先行技術によるガスバリア膜の場合には、ミクロンオーダの欠陥部分を有したままになっているので、その部分からのガス透過を防止することはできない。たとえ積層化した場合にも、各層の欠陥部自体を改善できる訳ではなく、各層に存在する欠陥部の位置が空間的に離れていることを利用して、時間的にガスの透過を遅延させるに過ぎない（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００３−２８２２３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
そこで本発明は、酸素などガスや水分などの透過を防止できるガスバリアフィルムを提供することが一例として挙げられる。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明のガスバリアフィルムは、基材と、前記基材の少なくともその一方の主表面に成膜されかつ凹部を有するガスバリア膜と、からなるガスバリアフィルムであって、前記凹部に充填された充填材料からなる埋め込み部を有することを特徴とする。【００１０】
本発明のガスバリアフィルム製造方法は、基材と、前記基材の少なくともその一方の主表面に成膜されかつ凹部を有するガスバリア膜と、からなるガスバリアフィルムのガスバリアフィルム製造方法であって、前記基材の前記表面に凹部を有するガスバリア膜を成膜する工程と、前記凹部を有するガスバリア膜上に充填材料からなる埋め込み膜を成膜する工程と、前記埋め込み膜への払拭部材の接触により前記埋め込み膜を延伸、除去しつつ、前記ガスバリア膜の前記凹部に前記充填材料を堆積させて埋め込み部を形成する工程とを含むことを特徴とする。【００１１】
以上の構成によれば、成膜工程により生じたガスバリア膜のミクロンオーダの欠陥部（凹部）を他の材料あるいは同一の材料により充填することで欠陥部自体を埋め込み部としている。ガスバリア膜欠陥部の穴埋めは液状物を塗布することでも可能であるが、塗布充填材料自体に高いガスバリア性を期待できない。非欠陥部にも充填材料が塗布されてしまうため、逆にガスバリア性を損なうことが考えられる。これに対し本発明の場合、充填材料がたとえば金属のように、それ自体に高いガスバリア性を有するものであり、かつ又、それを欠陥部のみに配することができるため、ガスバリア性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明による実施形態のガスバリアフィルムを示す概略部分断面図である。
【図２】本発明による実施形態のガスバリアフィルム製造方法を説明するプラスチック基材を示す概略部分断面図である。
【図３】本発明による実施形態のガスバリアフィルム製造方法を説明するプラスチック基材を示す概略部分断面図である。
【図４】本発明による実施形態のガスバリアフィルム製造方法を説明するプラスチック基材を示す概略部分断面図である。
【図５】本発明による他の実施形態のガスバリアフィルムを示す概略部分断面図である。
【図６】本発明による他の実施形態のガスバリアフィルムを示す概略部分断面図である。
【図７】本発明による他の実施形態のガスバリアフィルムを示す概略部分断面図である。
【符号の説明】
【００１３】
ＰＨ  凹部
１１  基材
１２  ガスバリア膜
１３  埋め込み膜
２０  払拭部材
１１１  平滑化層
１３１  埋め込み部
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明による有機ＥＬ素子及びその製造方法の実施形態を図面を参照しつつ説明する。
【００１５】
図１はガスバリアフィルムの概略部分拡大断面図を示す。
【００１６】
実施形態のガスバリアフィルムは、基材１１と、欠陥部である凹部ピンホール（以下ＰＨ）を有しかつ少なくともその一方の主表面に成膜したガスバリア膜１２と、からなり、ガスバリア膜の欠陥部ＰＨを充填材料で充填した埋め込み部１３１を有することを特徴とする。
【００１７】
充填材料はガスバリア膜材料と異なる材料例えば、金属、金属酸化物、金属窒化物、樹脂であるか、あるいはガスバリア膜材料と同一の材料である。効果的に欠陥部を被覆するためには、金属のように延性を有する材料が望ましい。一方でガスバリア性は金属自身よりも、その酸化物や窒化物の方が高い場合がある。しかしながら、金属酸化物や金属窒化物は延性に乏しいため、欠陥部を良好に被覆することが難しい。よって、被覆する際には金属を用い、後処理（酸化や窒化処理）によってそのガスバリア性を向上させることにより、欠陥部被覆率が高くかつガスバリア性の高い被覆部を得ることが可能となる。
【００１８】
ガスバリアフィルム製造方法は、ガスバリア膜上に成膜した充填材料の薄膜を化学機械研磨（ＣＭＰ：Chemical Mechanical Polishing）法、テープラッピング（研磨）、ロール研磨などの機械的な方法で延伸、除去しつつ、ガスバリア膜の欠陥部にのみ充填材料が堆積されることを特徴とする。
【００１９】
始めに、スパッタ、真空蒸着、化学気相成長（ＣＶＤ）などのドライな成膜法、あるいは印刷、スピンコートなどのウエットな成膜方法の常法により、基材上にガスバリア膜を成膜する。次に、ガスバリア膜の上に充填材料の金属膜を積層する。次に、ＣＭＰ法などにより、金属膜を延伸しつつ除去する。金属膜では、蒸着などのドライな成膜法では、下層の欠陥部は上層にも反映されてしまい、ガスバリア膜の欠陥部をうまく被覆することができ難いが、ＣＭＰ法により延伸しつつ除去するので、結果的にガスバリア膜の欠落部にのみ金属が充填されたガスバリア膜となる。
【００２０】
このように、実施形態においては、ガスバリア膜の欠陥部を別の（あるいは同種の）充填材料で被覆してあるので、ガス侵入を大幅に低減できる。また、機械的な方法による研磨効果で平滑なガスバリア表面を得ることができるため、そのうえに積層される電極や薄膜デバイスの欠陥部（電極間ショートなど）を低減する効果を奏する。
【００２１】
上記したプロセスを基材１１上で繰り返し行うことにより、埋め込み部を有する多層ガスバリア膜を形成することができる。
【００２２】
ガスバリア膜は例えば窒化酸化シリコン、酸化シリコン、炭化シリコン、炭化酸化シリコン、アルミナ、酸化チタン、窒化チタンからなる。
【００２３】
基材材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリカーボネート、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェノキシエーテル、ポリアリレート、フッ素樹脂、ポリプロピレン、ポリエチレンナフタレート、ポリオレフィンなどのプラスチックフィルムが適用できる。
【００２４】
さらに、基材としては、ガラス線維などの骨材をプラスチック中に含有混合して強度を向上させた材料、例えば、繊維強化プラスチック（FRP：Fiber Reinforced Plastics）を用い得る。基材には弾性率が低いプラスチックと弾性率の高い材料との複合材料として用いることができる。強化材にはガラス線維の他、炭素繊維（CFRP）、芳香族ポリアミド繊維などを用いることができる。母材として、不飽和ポリエステルなどの熱硬化性樹脂や、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂を使用できる。メチルメタアクリレートなどの熱可塑性樹脂を用いた繊維強化熱可塑性プラスチック（FRTP：Fiber Reinforced Thermo Plastics）も用い得る。基材成型方法としては、あらかじめ骨材と樹脂を混合したシート状のものを金型で圧縮成型するSMCプレス法などや、金型に繊維骨材を敷き、硬化剤を混合した樹脂を脱泡しながら多重積層してゆくハンドレイアップ法やスプレイアップ法などがある。
【００２５】
あるいは基材として、ステンレス等からなる金属箔を用いることができる。
【００２６】
このように、基材はプラスチック又はプラスチックを母材として母材と異なる有機若しくは無機材料を混合したプラスチック複合材料あるいは金属箔から構成される。
【００２７】
図２〜図４はガスバリアフィルム製造工程におけるプラスチックからなる基材を示す概略部分断面図を示す。
【００２８】
まず、図２に示すように、清浄なプラスチック基材１１上に、例えば酸化シリコンからなるガスバリア膜１２を、例えば真空蒸着法により形成する。ガスバリア膜１２の表面に凹部ＰＨがある。
【００２９】
次に、図３に示すように、埋め込み膜１３をガスバリア膜１２の凹部ＰＨがある表面上に所定の膜厚で堆積させ、埋め込み膜１３形成する。埋め込み膜１３の表面には、凹部ＰＨおよびそれ以外の平坦表面によって生じた、凹凸が形成されている。この埋め込み膜１３は、例えば、銅Ｃｕ、アルミニウムＡｌ、タングステンＷ、金Ａｕ、銀Ａｇ、シリコンＳｉ、ニッケルＮｉ、チタンＴｉ、インジウムＩｎ、マグネシウムＭｇのいずれか、または、それらの合金、またはそれらの酸化物あるいは炭化物、窒化物を含む。などの材料を、例えば、メッキ法、ＣＶＤ法、ＰＶＤ法、スパッタ法などにより、形成する。埋め込み膜１３は、例えば、埋め込み部材料が銅でガスバリア膜１２が酸化シリコンのような場合には、銅は酸化シリコンへの拡散係数が大きく酸化されやすいため、酸素透過を防止する。なお、埋め込み膜１３をガスバリア膜１２の形成材料と同じ材料から、形成してもよい。
【００３０】
次に、図４に示すように、ガスバリア膜１２上の余分な埋め込み膜１３をＣＭＰ法によって除去し、平坦化して、埋め込み部１３１が形成される。具体的には、埋め込み膜１３表面上に研磨液（図示せず）を供給し、払拭部材２０を埋め込み膜１３の表面の凸部に接触させ、相対移動させて、すなわち、払拭部材２０で全面を研磨液とともに払拭し、選択的に埋め込み膜１３を除去する。
【００３１】
払拭部材２０は、例えば円形状であり、図示しない平坦支持テーブル上に固定されたプラスチック基材１１の埋め込み膜１３に接触して埋め込み膜１３を払拭する面を有しており、例えば、弾塑性体材料、柔らかいブラシ状の材料、スポンジ状の材料、多孔質状の材料などから形成される。例えばポリビニルアセタール（ＰＶＡ）、発泡ウレタン、テフロン発泡体、テフロン繊維不織布、メラミン樹脂、エポキシ樹脂などの樹脂からなる多孔質体などで構成されていてもよい。
【００３２】
なお、ＣＭＰ法によって、埋め込み膜１３を除去した後に、アルミナ粒子などを含む研磨液がＣＭＰ加工に寄与したのち磨滅せずに残留するので、プラスチック基材１１を洗浄する。
【００３３】
払拭部材２０の保持手段は、払拭部材２０を埋め込み膜１３へ押圧するとともに、払拭部材２０を所定の回転軸を中心に回転させる。また、払拭部材２０の保持手段をその払拭面に対して平行な面上に平行移動させる平行移動手段をさらに有する。払拭部材２０の保持手段により相対移動させながら接触することで、埋め込み膜１３表面を均一に延伸しつつ除去できる。相対移動は払拭部材２０を所定の回転軸を中心に回転可能とすれば可能であるが、シート状の払拭部材２０も利用できる。
【００３４】
このように、埋め込み膜１３表面と払拭部材２０を相対移動させることで払拭部材２０により払拭し、埋め込み膜１３を除去することができ、低い押圧で効率的に埋め込み膜１３表面の段差を緩和あるいは平坦化できる。
【００３５】
図５は、本発明による他の実施形態のガスバリアフィルムを示す。このガスバリアフィルムでは、ガスバリア膜１２をプラスチック基材１１の上下両面に施したので、プラスチック基材１１を透過するガス量あるいは速度を更に低減することが可能となる。また、プラスチック基材１１とガスバリア膜１２との特性の違いによって生じる反りを軽減することが可能となる。
【００３６】
図６は、本発明によるさらなる他の実施形態のガスバリアフィルムを示す。このガスバリアフィルムでは、ガスバリア膜１２をプラスチック基材１１の周囲面に施したので、プラスチック基材端面からのガス透過をも抑制することができる。また、プラスチック基材１１の吸湿に伴う寸法変化や光学的変化なども抑制できる。
【００３７】
図７は、本発明によるさらなる他の実施形態のガスバリアフィルムを示す。このガスバリアフィルムでは、あらかじめプラスチック基材１１の表面に平滑化層１１１を全面に成膜し、平滑化層１１１上にガスバリア膜１２を施したので、さらにガス透過を抑制することができる。また、上記実施形態と同様にプラスチック基材１１の上下両面若しくは周囲全面におけるガスバリア膜１２及びプラスチック基材１１の間に平滑化層１１１を設けることもできる。また、この例において基材はステンレス等からなる金属箔でもよく、その場合、平滑化層１１１には絶縁性を有する材料が用いられる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【手続補正書】
【提出日】平成20年6月17日(2008.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材の少なくともその一方の主表面に成膜されかつ凹部を有するガスバリア膜と、からなるガスバリアフィルムであって、前記凹部に充填された充填材料からなる埋め込み部を有すること、前記充填材料が金属、金属酸化物、金属炭化物又は金属窒化物を含むこと、を特徴とするガスバリアフィルム。
【請求項２】
前記基材はプラスチック又はプラスチックを母材として母材と異なる有機若しくは無機材料を混合したプラスチック複合材料あるいは金属箔からなることを特徴とする請求項１記載のガスバリアフィルム。
【請求項３】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と異なる材料であることを特徴とする請求項１又は２記載のガスバリアフィルム。
【請求項４】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と同一材料であることを特徴とする請求項１又は２記載のガスバリアフィルム。
【請求項５】
前記ガスバリア膜は多層膜であることを特徴とする請求項１記載のガスバリアフィルム。
【請求項６】
前記基材はプラスチック又はプラスチックを母材として母材と異なる有機若しくは無機材料を混合したプラスチック複合材料あるいは金属箔からなることを特徴とする請求項５記載のガスバリアフィルム。
【請求項７】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と異なる材料であることを特徴とする請求項５又は６記載のガスバリアフィルム。
【請求項８】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と同一材料であることを特徴とする請求項５又は６記載のガスバリアフィルム。
【請求項９】
基材と、前記基材の少なくともその一方の主表面に成膜されかつ凹部を有するガスバリア膜と、からなるガスバリアフィルムのガスバリアフィルム製造方法であって、前記基材の前記表面に凹部を有するガスバリア膜を成膜する工程と、前記凹部を有するガスバリア膜上に充填材料からなる埋め込み膜を成膜する工程と、前記埋め込み膜への払拭部材の接触により前記埋め込み膜を延伸、あるいは研磨しつつ、前記ガスバリア膜の前記凹部に前記充填材料を堆積させて埋め込み部を形成する工程とを含むこと、前記充填材料が金属、金属酸化物、金属炭化物又は金属窒化物を含むこと、を特徴とするガスバリアフィルム製造方法。
【請求項１０】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と異なる材料であることを特徴とする請求項９記載のガスバリアフィルム製造方法。
【請求項１１】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と同一材料であることを特徴とする請求項９記載のガスバリアフィルム製造方法。
【請求項１２】
基材と、前記基材の少なくともその一方の主表面に成膜されかつ凹部を有するガスバリア膜と、からなるガスバリアフィルムのガスバリアフィルム製造方法であって、前記基材の前記表面に凹部を有するガスバリア膜を成膜する工程と、前記凹部を有するガスバリア膜上に充填材料からなる埋め込み膜を成膜する工程と、前記埋め込み膜への払拭部材の接触により前記埋め込み膜を延伸、あるいは研磨しつつ、前記ガスバリア膜の前記凹部に前記充填材料を堆積させて埋め込み部を形成する工程と、埋め込み部を形成した後に酸化や窒化等の後処理工程とを含むことを特徴とするガスバリアフィルム製造方法。
【請求項１３】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と異なる材料であることを特徴とする請求項１２記載のガスバリアフィルム製造方法。
【請求項１４】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と同一材料であることを特徴とする請求項１２記載のガスバリアフィルム製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月7日(2008.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材の少なくともその一方の主表面に成膜されかつ凹部を有するガスバリア膜と、からなるガスバリアフィルムであって、前記凹部に充填された充填材料からなる埋め込み部を有すること、前記充填材料が金属を含むこと、を特徴とするガスバリアフィルム。
【請求項２】
前記基材はプラスチック又はプラスチックを母材として母材と異なる有機若しくは無機材料を混合したプラスチック複合材料あるいは金属箔からなることを特徴とする請求項１記載のガスバリアフィルム。
【請求項３】
（削除）
【請求項４】
（削除）
【請求項５】
前記ガスバリア膜は多層膜であることを特徴とする請求項１記載のガスバリアフィルム。
【請求項６】
前記基材はプラスチック又はプラスチックを母材として母材と異なる有機若しくは無機材料を混合したプラスチック複合材料あるいは金属箔からなることを特徴とする請求項５記載のガスバリアフィルム。
【請求項７】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と異なる材料であることを特徴とする請求項５又は６記載のガスバリアフィルム。
【請求項８】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と同一材料であることを特徴とする請求項５又は６記載のガスバリアフィルム。
【請求項９】
基材と、前記基材の少なくともその一方の主表面に成膜されかつ凹部を有するガスバリア膜と、からなるガスバリアフィルムのガスバリアフィルム製造方法であって、前記基材の前記表面に凹部を有するガスバリア膜を成膜する工程と、前記凹部を有するガスバリア膜上に充填材料からなる埋め込み膜を成膜する工程と、前記埋め込み膜への払拭部材の接触により前記埋め込み膜を延伸しつつ、前記ガスバリア膜の前記凹部に前記充填材料を堆積させて埋め込み部を形成する工程とを含むこと、前記充填材料が金属を含むこと、を特徴とするガスバリアフィルム製造方法。
【請求項１０】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と異なる材料であることを特徴とする請求項９記載のガスバリアフィルム製造方法。
【請求項１１】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と同一材料であることを特徴とする請求項９記載のガスバリアフィルム製造方法。
【請求項１２】
基材と、前記基材の少なくともその一方の主表面に成膜されかつ凹部を有するガスバリア膜と、からなるガスバリアフィルムのガスバリアフィルム製造方法であって、前記基材の前記表面に凹部を有するガスバリア膜を成膜する工程と、前記凹部を有するガスバリア膜上に充填材料からなる埋め込み膜を成膜する工程と、前記埋め込み膜への払拭部材の接触により前記埋め込み膜を延伸しつつ、前記ガスバリア膜の前記凹部に前記充填材料を堆積させて埋め込み部を形成する工程と、埋め込み部を形成した後に酸化処理又は窒化処理の後処理工程とを含むことを特徴とするガスバリアフィルム製造方法。
【請求項１３】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と異なる材料であることを特徴とする請求項１２記載のガスバリアフィルム製造方法。
【請求項１４】
前記充填材料は前記ガスバリア膜の材料と同一材料であることを特徴とする請求項１２記載のガスバリアフィルム製造方法。
【請求項１５】
前記金属を酸化処理又は窒化処理で後処理する工程とを含を特徴とする請求項９記載のガスバリアフィルム製造方法。
【請求項１６】
前記金属は酸化処理又は窒化処理で後処理されたことを特徴とする請求項１記載のガスバリアフィルム。
【国際調査報告】
2008026499.tif 000010
2008026499.tif 000011
2008026499.tif 000012
2008026499.tif 000013