【事件の表示】
　特願２０１２−１９６４２７「光学フィルム、光学フィルム用転写体、画像表示装置及び光学フィルムの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２６年　３月２０日出願公開，特開２０１４−　５２４９７，請求項の数（８）〕について，次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は，特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件拒絶査定不服審判事件に係る出願（以下，「本件出願」という。）は，平成２４年９月６日の出願であって，平成２８年３月２５日付けで拒絶理由が通知され，同年５月２７日に意見書及び手続補正書が提出され，同年１０月３１日付けで拒絶理由が通知され，同年１２月２２日に意見書及び手続補正書が提出され，平成２９年５月８日付けで拒絶理由が通知され，同年７月５日に意見書及び手続補正書が提出されたが，同年９月２９日付けで拒絶査定（以下，「原査定」という。）がなされたものである。
　本件拒絶査定不服審判は，これを不服として，同年１２月７日に請求されたものであって，本件審判の請求と同時に手続補正書が提出された。
第２　本件出願の請求項１ないし８に係る発明
　本件出願の請求項１ないし８に係る発明は，平成２９年１２月７日提出の手続補正書によって補正された請求項１ないし８に記載された事項によって特定されるものと認められるところ，当該請求項１ないし８の記載は次のとおりである。
「【請求項１】
　透明フィルムによる基材と，
　直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層と，
　円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層とが光の透過方向に沿って積層されており，
　前記円偏光板の光学機能層が，透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と，透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と，前記１／２波長板用位相差層及び前記１／４波長板用位相差層間に設けられた配向層とを少なくとも有する多層構造であり，
　前記１／２波長板用位相差層及び前記１／４波長板用位相差層は，位相差層形成樹脂を硬化した物であり，
　前記配向層は，配向層形成樹脂を硬化した物であり，
　前記位相差層形成樹脂及び前記配向層形成樹脂は，フッ素化合物が添加されており，
　前記配向層を形成する前記配向層形成樹脂に添加されるフッ素化合物の濃度は，前記１／２波長板用位相差層を形成する前記位相差層形成樹脂に添加されるフッ素化合物の濃度以上であり，
　前記配向層を形成する前記配向層形成樹脂に添加されるフッ素化合物の濃度は，前記１／４波長板用位相差層を形成する前記位相差層形成樹脂に添加されるフッ素化合物の濃度以下であり，
　前記配向層を形成する前記配向層形成樹脂と，前記１／２波長板用位相差層を形成する前記位相差層形成樹脂と，前記１／４波長板用位相差層を形成する前記位相差層形成樹脂とは，いずれも，添加されるフッ素化合物の濃度が０．３％以下であること，
　を特徴とする光学フィルム。
　　【請求項２】
　前記位相差層形成樹脂及び前記配向層形成樹脂に添加されるフッ素化合物は同一の化合物であること，
　を特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
　　【請求項３】
　透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と，透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と，前記１／２波長板用位相差層及び前記１／４波長板用位相差層間に設けられた配向層とが光の透過方向に沿って積層された多層構造による転写層と，
　前記転写層を保持する支持体とを備え，
　前記１／２波長板用位相差層及び前記１／４波長板用位相差層は，位相差層形成樹脂を硬化した物であり，
　前記配向層は，配向層形成樹脂を硬化した物であり，
　前記位相差層形成樹脂及び前記配向層形成樹脂は，フッ素化合物が添加されており，
　前記配向層を形成する前記配向層形成樹脂に添加されるフッ素化合物の濃度は，前記１／２波長板用位相差層を形成する前記位相差層形成樹脂に添加されるフッ素化合物の濃度以上であり，
　前記配向層を形成する前記配向層形成樹脂に添加されるフッ素化合物の濃度は，前記１／４波長板用位相差層を形成する前記位相差層形成樹脂に添加されるフッ素化合物の濃度以下であり，
　前記配向層を形成する前記配向層形成樹脂と，前記１／２波長板用位相差層を形成する前記位相差層形成樹脂と，前記１／４波長板用位相差層を形成する前記位相差層形成樹脂とは，いずれも，添加されるフッ素化合物の濃度が０．３％以下であること，
　を特徴とする光学フィルム用転写体。
　　【請求項４】
　前記位相差層形成樹脂及び前記配向層形成樹脂に添加されるフッ素化合物は同一の化合物であること，
　を特徴とする請求項３に記載の光学フィルム用転写体。
　　【請求項５】
　前記支持体は，セパレータフィルムであり，
　前記転写層は，前記支持体により被覆される粘着層を備えること，
　を特徴とする請求項３又は請求項４に記載の光学フィルム用転写体。
　　【請求項６】
　透明フィルムによる基材と，
　直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層と，
　円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層とが積層され，
　前記円偏光板の光学機能層は，前記直線偏光板の光学機能層の上に，請求項３又は請求項４に記載の光学フィルム用転写体に設けられた前記転写層であること，
　を特徴とする光学フィルム。
　　【請求項７】
　請求項１及び請求項２及び請求項６のいずれか１項に記載の光学フィルムを配置したこと，
　を特徴とする画像表示装置。
　　【請求項８】
　透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と，透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と，前記１／２波長板用位相差層及び前記１／４波長板用位相差層間に設けられた配向層とが光の透過方向に沿って積層された多層構造による転写層を，前記転写層を保持する支持体上に形成する転写体の製造工程と，
　透明基材に，直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層を形成する直線偏光板の製造工程と，
　前記直線偏光板の光学機能層に，前記転写体の製造工程で生産した前記支持体上の転写層を転写する転写工程とを備え，
　前記転写体の製造工程は，前記１／２波長板用位相差層及び前記１／４波長板用位相差層を，フッ素化合物が添加された位相差層形成樹脂を硬化させることによって形成し，前記配向層を，フッ素化合物が添加された配向層形成樹脂を硬化させることによって形成し，
　前記配向層を形成する前記配向層形成樹脂に添加されるフッ素化合物の濃度は，前記１／２波長板用位相差層を形成する前記位相差層形成樹脂に添加されるフッ素化合物の濃度以上であり，
　前記配向層を形成する前記配向層形成樹脂に添加されるフッ素化合物の濃度は，前記１／４波長板用位相差層を形成する前記位相差層形成樹脂に添加されるフッ素化合物の濃度以下であり，
　前記配向層を形成する前記配向層形成樹脂と，前記１／２波長板用位相差層を形成する前記位相差層形成樹脂と，前記１／４波長板用位相差層を形成する前記位相差層形成樹脂とは，いずれも，添加されるフッ素化合物の濃度が０．３％以下であること，
　を特徴とする光学フィルムの製造方法。」（以下，請求項１ないし８に係る発明をそれぞれ「本件発明１」ないし「本件発明８」という。）
第３　原査定の拒絶の理由の概要
　原査定の拒絶の理由は，概略次のとおりである。
　本件出願の請求項１ないし８（審決注：平成２９年７月５日提出の手続補正書による補正後の請求項１ないし８である。）に係る発明は，引用文献１に記載された発明及び引用文献４や引用文献５等に示される周知技術に基いて，その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない。
　引用文献１：国際公開第２０１１／００７７８４号
　引用文献４：特開２０００−７５１５４号公報
　引用文献５：特開２００２−９０５５９号公報
第４　原査定の拒絶の理由についての判断
１　引用例
（１）引用文献１
　ア　引用文献１の記載
　引用文献１は，本件出願の出願前に電気通信回線を通じて公衆に利用可能となったものであるところ，当該引用文献１には次の記載がある。（下線は，後述する引用発明の認定に特に関係する箇所を示す。）
（ア）　「技術分野
［０００１］　本発明は，積層体の製造方法及び積層体に関する。
背景技術
［０００２］　積層体の製造方法及び積層体に関しては，いくつかの技術が開示されている。
［０００３］　例えば，特開２００４−２２６７５２（特許文献１）には，（１）配向基板上に形成された液晶配向が固定化された液晶物質層１を，接着剤層１を介して再剥離性基板１と接着せしめた後，配向基板を剥離して液晶物質層１を再剥離性基板１に転写し，再剥離性基板１／接着剤層１／液晶物質層１からなる積層体（Ａ）を得る第１工程，（２）積層体（Ａ）と同様にして再剥離性基板２上に液晶物質層２を転写し，再剥離性基板２／接着剤層２／液晶物質層２からなる積層体（Ｂ）を得る第２工程，（３）前記積層体（Ａ）と積層体（Ｂ）を粘・接着剤層を介して貼り合わせ，再剥離性基板１／接着剤層１／液晶物質層１／粘着剤（接着剤）層／液晶物質層２／接着剤層２／再剥離性基板２からなる積層体を得る第３工程，および（４）前記積層体の再剥離性基板１および再剥離性基板２を剥離し，接着剤層１または接着剤層２に偏光板を貼合する第４工程，の各工程を少なくとも経ることを特徴とする光学積層体の製造方法，前記製造方法で得られた光学積層体からなることを特徴とする楕円偏光板または円偏光板などが，開示されている。
・・・（中略）・・・
発明が解決しようとする課題
［０００８］　前記特許文献１に記載の液晶層を有する積層体の製造方法は，多数の工程を有する煩雑な方法であり，より簡便な製造方法が求められている。本発明の第一の目的は，新規な積層体の製造方法を提供することである。
［０００９］　また，液晶層を有する積層体として，より高い光学特性を有する積層体もまた求められる。本発明の第二の目的は，高い光学特性を有する新規な積層体を提供することである。
課題を解決するための手段
［００１０］　本発明は以下の発明を提供する。
［００１１］　　［１］第一の透明樹脂層，第一の高分子液晶層，第二の透明樹脂層，および第二の高分子液晶層を含む積層体の製造方法において，
　（１）液晶配向性を有するモールド面に接した第一の硬化性樹脂の層を形成し，該モールド面に接した状態で前記第一の硬化性樹脂を硬化させて透明樹脂とし，次いで，モールドを剥離してモールド表面の転写により形成された液晶配向性を有する面（ａ）を有する前記第一の透明樹脂層を形成すること，
　（２）前記第一の透明樹脂層の面（ａ）上に液晶性モノマーの層を形成して該液晶性モノマーを配向させ，液晶性モノマーが配向した状態で該液晶性モノマーを重合することにより，または，前記第一の透明樹脂層の面（ａ）上に架橋性高分子液晶の層を形成して該架橋性高分子液晶を配向させ，架橋性高分子液晶が配向した状態で該架橋性高分子液晶を架橋することにより，前記第一の高分子液晶層を形成すること，
　（３）前記
第一の高分子液晶層の側に第二の硬化性樹脂の層を形成し，該第二の硬化性樹脂の層の表面に，液晶配向性を有するモールド面を，当該モールド面の転写により形成される液晶配向方向が前記面（ａ）の液晶配向方向と異なるように接触させ，該モールド面に接した状態で前記第二の硬化性樹脂を硬化させて透明樹脂とし，次いで，モールドを剥離してモールド表面の転写により形成された液晶配向性を有する面（ｂ）を有する前記第二の透明樹脂層を形成する
　（４）前記第二の透明樹脂層の面（ｂ）上に液晶性モノマーの層を形成して該液晶性モノマーを配向させ，液晶性モノマーが配向した状態で該液晶性モノマーを重合することにより，または，前記第二の透明樹脂層の面（ｂ）上に架橋性高分子液晶の層を形成して該架橋性高分子液晶を配向させ，架橋性高分子液晶が配向した状態で該架橋性高分子液晶を架橋することにより，前記第二の高分子液晶層を形成すること，を特徴とする積層体の製造方法。
［００１２］　［２］第一の透明樹脂層，第一の高分子液晶層，第二の透明樹脂層，および第二の高分子液晶層を含む積層体であり，前記第一の透明樹脂層は，前記第一の高分子液晶層に接する面（ａ）を有し，該面（ａ）はモールド表面の転写により形成された液晶配向性を有する面であり，前記第一の高分子液晶層は，前記面（ａ）に接して配向された液晶性モノマーの重合または前記面（ａ）に接して配向された架橋性高分子液晶の架橋により形成された高分子液晶層であり，前記
第二の透明樹脂層は，
第二の高分子液晶層に接する面（ｂ）を有し，該面（ｂ）はモールド表面の転写により形成された液晶配向性を有する面であり
発明の効果
［００１３］・・・（中略）・・・また，本発明の積層体は，高分子液晶層の光学特性の角度依存性が少ない，波長特性の優れた積層体である。さらに，耐溶剤性や耐水性等の化学的，機械的耐久性に優れた積層体である。
　本発明の積層体は，波長板として使用できる。この波長板は，広い波長範囲において広帯域波長板として利用できる。」
（イ）　「発明を実施するための形態
［００１５］　次に，本発明のいくつかの実施形態を，添付する図面を参照して説明することにする。
・・・（中略）・・・
［００１７］　本発明の製造方法においては，まず，［１］液晶配向性を有するモールド面に接した第一の硬化性樹脂の層を形成し，該モールド面に接した状態で前記第一の硬化性樹脂を硬化させて透明樹脂とし，次いで，モールドを剥離してモールド表面の転写により形成された液晶配向性を有する面（ａ）を有する前記第一の透明樹脂層を形成する。
・・・（中略）・・・
［００１９］　液晶配向性を有するモールド面に接した第一の硬化性樹脂の層を形成するには，たとえば，図１（ａ）に示すように，支持基板１１の片側の表面に，第一の硬化性樹脂の層１２を形成する。・・・（中略）・・・
［００２０］　第一の硬化性樹脂は，光硬化性樹脂であることが好ましく，付加重合性不飽和基を有する化合物（例えば，官能性の紫外線硬化性化合物。以下，光重合性化合物と記載する。）および光重合開始剤を含む組成物であることが好ましい。・・・（中略）・・・
［００３４］　さらに，第一の硬化性樹脂は，界面活性剤を含んでいてもよい。界面活性剤を含むことによって，モールドを透明樹脂層１２から剥離することが容易となる。
［００３５］　界面活性剤は，・・・（中略）・・・より好ましくは，フルオロアルキル基を有する化合物を含む。・・・（中略）・・・
［００３６］　
硬化性樹脂に含まれる界面活性剤の量は，モールドの透明樹脂層からの剥離性及び透明樹脂層の表面への重合性液晶性材料溶液の塗布性によって決定される
量が少ない場合には，
モールドを透明樹脂層１２から剥離することが困難になることがある
　
界面活性剤の量は，
光重合性モノマーと光重合開始剤との合計量に対して１〜３質量％が好ましい
・・・（中略）・・・
［００３８］　次に，図１（ｂ）に示すように，第一の硬化性樹脂の層１２に，液晶を配向させるための所望のパターンの反転パターンを有するようにモールド１８を押し当てる。・・・（中略）・・・
［００４１］　次に，第一の硬化性樹脂の層１２にモールド１８を押し当てた状態を保持したまま，第一の硬化性樹脂を硬化させて第一の透明樹脂とする。第一の透明樹脂層は光学的に等方な層である。・・・（中略）・・・
［００４８］　次に，第一の透明層１２’からモールド１８を剥離することによって，図１（ｃ）に示すように，液晶配向性を有する面（ａ）を有する第一の透明樹脂層１２’を支持基板１１上に得る。・・・（中略）・・・
［００５１］　本発明においては，つぎに，［２］前記第一の透明樹脂層の面（ａ）上に液晶性モノマーの層を形成して該液晶性モノマーを配向させ，液晶性モノマーが配向した状態で該液晶性モノマーを重合することにより，または，前記第一の透明樹脂層の面（ａ）上に架橋性高分子液晶の層を形成して該架橋性高分子液晶を配向させ，架橋性高分子液晶が配向した状態で該架橋性高分子液晶を架橋することにより，前記第一の高分子液晶層を形成する。
［００５２］　まず，図１（ｄ）に示すように，第一の透明樹脂の層１２’に，重合性液晶性材料やその溶液を塗布し，重合性液晶性材料の層１４を形成する。
・・・（中略）・・・
［００６６］　重合性液晶性材料は，重合開始剤および界面活性剤を含むことができる。重合開始剤として，硬化性樹脂での光重合開始剤と同様の材料を用いることができる。界面活性剤は，後述のように，重合性液晶性材料が透明樹脂層１２’の面に沿って配向することに寄与する。界面活性剤として，硬化性樹脂での界面活性剤と同様の材料を用いることができる。重合性液晶性材料に含まれる界面活性剤の量は，重合性液晶性材料の配向を適切に制御する範囲とされる。
・・・（中略）・・・
［００６８］　つぎに，重合性液晶性材料層中の重合性液晶性材料のメソゲンを配向させる。例えば，重合性液晶性材料を加熱し，液晶温度範囲に保持することで，液晶性モノマーまたは架橋性基を有する高分子液晶のメソゲンが，第一の方向に配向する。このとき，大気と重合性液晶性材料間に界面活性剤が介在することで，液晶性モノマーまたは架橋性基を有する高分子液晶のメソゲンが，透明樹脂層１２’の面に対して水平に配向し易くなる。
［００６９］　つぎに，重合性液晶性材料のメソゲンが配向した状態を保ったまま重合性液晶性材料を重合硬化または架橋させて高分子液晶層１４’を得る。・・・（中略）・・・
［００７０］　つぎに，［３］前記第一の高分子液晶層の側に第二の硬化性樹脂の層を形成し，該第二の硬化性樹脂の層の表面に，液晶を配向させるためのパターンの反転パターンを表面に有するモールドを，当該モールドの転写により形成される液晶配向方向が前記面（ａ）の液晶配向方向と異なるように接触させ，該モールド面に接した状態で前記第二の硬化性樹脂を硬化させて透明樹脂とし，次いで，モールドを剥離してモールド表面の転写により形成された液晶配向性を有する面（ｂ）を有する前記第二の透明樹脂層を形成する。
［００７１］　図１（ｅ）に示すように，第一の高分子液晶層１４’の表面に，第二の硬化性樹脂を塗布して，第二の硬化性樹脂の層１５を形成する。第二の硬化性樹脂の層は，前記第一の硬化性樹脂と同様の材料を用いて同様の手法にて形成できる。・・・（中略）・・・なお，第一の重合性液晶性材料が界面活性剤を含み，かつ，前記のように，配向方向の制御のために加熱等の処理を行うと，第一の高分子液晶層１４’の表面に界面活性剤が偏在する場合がある。この場合，第一の高分子液晶層１４’の表面をフッ素系溶媒等の溶媒で洗浄することにより，第一の高分子液晶層１４’表面に対する第二の硬化性樹脂の塗布性および密着性が改善される。
［００７２］　次に，図１（ｆ）に示すように，第二の硬化性樹脂の層１５に，所望のパターンの反転のパターンを有するモールド１８を押し当てて，第二の硬化性樹脂の層１５に高分子液晶を第二の方向に配向させるための第二のパターン１６を形成する。・・・（中略）・・・
［００７４］　次に，第二の硬化性樹脂層１５にモールド１８を押し当てた状態を保持したまま，第二の硬化性樹脂層１５に紫外線を照射し，第二の硬化性樹脂を硬化させて，光学的に等方な第二の透明樹脂層１５’を得る。
［００７５］　次に，第二の透明樹脂層１５’からモールド１８を剥離することによって，図１（ｇ）に示すように，高分子液晶を第二の方向に配向させるための第二のパターン１６を有する第二の透明樹脂層１５’を第一の高分子液晶層１４’上に得る。・・・（中略）・・・
［００７６］　つぎに，［４］前記第二の透明樹脂層の面（ｂ）上に液晶性モノマーの層を形成して該液晶性モノマーを配向させ，液晶性モノマーが配向した状態で該液晶性モノマーを重合することにより，または，前記第二の透明樹脂層の面（ｂ）上に架橋性高分子液晶の層を形成して該架橋性高分子液晶を配向させ，架橋性高分子液晶が配向した状態で該架橋性高分子液晶を架橋することにより，前記第二の高分子液晶層を形成する。
［００７７］　図１（ｈ）に示すように，第二の透明樹脂層１５'に第二の重合性液晶性材料の溶液を塗布し，第二の透明樹脂層層１５'に重合性液晶性材料の層１７を形成する。・・・（中略）・・・ここで，第二の重合性液晶性材料としては，前記第一の重合性液晶性材と同様のものが使用でき，好ましい態様も同様である。第一の重合性液晶性材料と第二の重合性液晶性材料とは，同じ材料であっても異なる材料であってもよく，リタデーション値の温度依存性が抑えられるため，同じであるほうが好ましい。・・・（中略）・・・
［００７８］　この後，必要に応じて図（ｉ）に示すように，第一の透明樹脂層１２’から支持基板１１を剥離してもよい。支持基板１１がない場合は，屈曲がより容易でありながら自立するフィルムとしての積層体が得られる。
・・・（中略）・・・
［００８３］　図２は，本発明の積層体の例を概略的に説明する図である。図２に示す積層体（液晶フィルム２０）は，第一の透明樹脂層２１，前記透明樹脂層２１に設けられた第一の高分子液晶層２３，前記高分子液晶層２３に設けられた第二の透明樹脂層２４，及び前記透明樹脂層２４に設けられた第二の高分子液晶層２６を含む。
　液晶フィルム２０においては，第一の透明樹脂２１は，第一の高分子液晶層２３の側において，第一の方向に高分子液晶のメソゲンを配向させるための第一のパターン２２を備えた面（面（ａ））を有する。また，第二の透明樹脂層２４は，第二の高分子液晶層２６の側において，第一の方向と異なる第二の方向に高分子液晶のメソゲンを配向させるための第二のパターン２５を備えた面（面（ｂ））を有する。
［００８４］　積層体１０は，波長板（例えば，１／２波長板，１／４波長板）として機能し，光の偏光状態の変換（例えば，直線偏光（円偏光）から円偏光（直線偏光）への変換）が可能である。
［００８５］　第一の高分子液晶層２３，第二の高分子液晶層２６は，それぞれ第一の方向，第二の方向を軸とする光学異方性を有し，それぞれ波長板として機能する。複数の波長板を積層することで，波長板の広帯域化が図られる。その結果，例えば，約４００ｎｍ（青色）から約８００ｎｍ（赤色）までの広い波長範囲において，
直線偏光（円偏光）を円偏光（直線偏光）に変換することが可能
リタデーションが（ａ）１／４波長（λ／４）の一軸配向性基材１１と，１／２波長（λ／２）の高分子液晶層１３の組み合わせ
により，広帯域の１／４波長板を得ることができる
（ウ）　「［００８９］　［実施例］
　次に，本発明の実施例を具体的に説明することにする。
・・・（中略）・・・
［００９９］　［合成例４］架橋性高分子液晶（Ｂ−２）の合成例
　合成例２で得られた高分子液晶（Ｂ−１）を用いて，
下記の化学反応式（３）に従って，架橋型高分子液晶（Ｂ−２）を得た
［０１００］［化３］
・・・（中略）・・・
［０１０３］・・・（中略）・・・
　［高分子液晶溶液の調製例］
　以下の調製例において，
重合開始剤としてはチバスペシャリティーケミカルズ社製のイルガキュアー１２７（商品名）
界面活性剤としてはセイミケミカル社製のＳ４２０（商品番号）
・・・（中略）・・・
［０１０６］　なお，表３中の
シクロヘキサノン，重合開始剤，および界面活性剤の量は，いずれも架橋性高分子液晶１００質量部に対する量
［０１０７］　［調製例２−１］
　同様に，
表３に示す割合に従って，架橋性高分子液晶溶液（ｂ−２１）を調製した
架橋性高分子液晶（Ｂ−２）の１００質量部
［０１０８］　［調製例２−２］
　
表３に示す割合に従い，シクロヘキサノンを３２５質量部とする以外は，調製例２−１と同様にして，架橋性高分子液晶溶液（ｂ−２２）を得た
・・・（中略）・・・
［０１１２］［表３］
［０１１３］・・・（中略）・・・
　［光硬化性樹脂の調製］
　［調製例３］
・・・（中略）・・・
［０１１４］　［調製例４］
　
撹拌機及び冷却管を装着した３００ｍＬの４つ口フラスコに，７０ｇのトリシクロデカンジメタノールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＤＣＰ），３０ｇのネオペンチルグリコールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＮＰＧ），５．０ｇの光重合開始剤２（チバスペシャリティーケミカルズ社製，ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４），１．０ｇの重合禁止剤１，及び１．５ｇの界面活性剤（セイミケミカル社製，Ｓ４２０）を投入し
フラスコの内部を常温に保ち，遮光した状態で，１時間撹拌して，光硬化性樹脂２を得た
粘度は，５０ｍＰａ・秒
［０１１５］　［例１］
　下記の工程［ａ］，［ｂ］，及び［ｃ］を順次に行うことによって，ガラス基板上に，透明樹脂層及び水平配向した高分子液晶層を有する液晶単層積層体１を得た。
［０１１６］　［ａ］紫外線硬化性樹脂層の作製
　ガラス基板の表面に，光硬化性樹脂２をスピンコート法により塗布して，紫外線硬化性樹脂層を作製した。
［０１１７］　［ｂ］透明樹脂層１の作製
　［ａ］で
得られた紫外線硬化性樹脂層の表面に，ラビング処理したポリイミド付ガラス基板（ＥＨＣ社製水平配向処理基板）を押圧し
ガラス基板の辺が，水平配向処理基板のラビング方向と略平行になるように，
配置を調整し
室温で
７００ｍＪの強度の紫外線を照射することによって，紫外線硬化性樹脂層を硬化させ
前記水平配向処理基板を，硬化した紫外線硬化性樹脂層から剥離することによって，水平配向処理基板のラビング溝が転写された透明樹脂層１を作製し
膜厚は
［０１１８］　［ｃ］高分子液晶層１の作製
　架橋性高分子液晶溶液（ａ−２１）
を透明樹脂層１の上にスピンコート法により塗布し，５０℃で１０分間乾燥し，
１００℃で３分間保持することによって，
に含まれる
のメソゲンの配向処理を行った
架橋性高分子液晶（Ａ−２）のメソゲンが
ガラス基板の表面に対して水平に配向
［０１１９］　
その後，窒素雰囲気下，６０℃で照度２６０ｍＷ／ｃｍ
２
の紫外線を５分間照射して，
の
架橋
を行うことによって，
高分子液晶層１を作製し
［０１２０］　このように，工程［ａ］，［ｂ］，及び［ｃ］の操作を行うことによって，ガラス基板上に，透明樹脂層１，水平配向した高分子液晶層１がこの順序で積層された液晶単層積層体１を得た。
［０１２１］　［例２］
　
工程［ａ］において，光硬化性樹脂２をガラス基板上へスピンコートし，８０℃で５分間乾燥させることによってトルエンを除去し，紫外線硬化樹脂層を作製したことを除いては，例１と同様にして液晶単層積層体２を作製
・・・（中略）・・・
［０１２４］　［例１］〜［例４］で得られた液晶単層積層体の膜厚，リタデーション値，ヘーズ値などを表５に示す。
［０１２５］［表５］
　［例５］
　例１で得られた液晶単層積層体１を用いて，下記の工程［ｄ］及び［ｅ］を順次に行うことによって，液晶複層積層体１を得た。
［０１２６］　［ｄ］配向制御層２の作製
　液晶単層積層体１の
高分子液晶層１上へ，例１と同様にして光硬化性樹脂２を塗布して，紫外線硬化性樹脂層を作製し
紫外線硬化性樹脂層の表面に，ラビング処理したポリイミド付ガラス基板（ＥＨＣ社製水平配向処理基板）を押圧し
透明樹脂層１に形成した溝の方向に対するポリイミド付ガラス基板のラビング溝の方向のなす角度
が６０°であるように，
配置を調整し
室温で
７００ｍＪの紫外線を照射することによって，紫外線硬化性樹脂層を硬化させ
硬化した紫外線硬化性樹脂層からポリイミド付ガラス基板を剥離することによって，ポリイミド付ガラス基板のラビング溝が転写された透明樹脂層２を作製し
厚さは
［０１２７］　［ｅ］高分子液晶層２の作製
　工程［ｄ］で得られた
透明樹脂２の上に，
をスピンコート法によって塗布し，５０℃で１０分間乾燥した後に１００℃で３分間保持することによって，
に含まれる
のメソゲンを
ガラス基板の表面に対して水平に配向させ
［０１２８］　
その後，窒素雰囲気下，６０℃で照度２６０ｍＷ／ｃｍ
２
の紫外線を５分間照射して，
の架橋を行うことによって，高分子液晶層２を作製し
［０１２９］　工程［ａ］，［ｂ］及び［ｃ］に加えて以上の工程［ｄ］及び［ｅ］を実行したことによって，工程［ａ］のガラス基板上に，透明樹脂層１，水平配向した高分子液晶層１，透明樹脂層２，水平配向した高分子液晶層２がこの順序で積層された液晶複層積層体１を得た。
［０１３０］　つぎに，液晶複層積層体１から工程［ａ］の
ガラス基板を剥離することによって，
を得た
［０１３１］　
［例６］
　
液晶単層積層体１を例２で得られた液晶単層積層体２に変更し，表６に示す材料を用いる以外は，例５に示す方法と同様にして液晶ポリマー積層フィルム２を作製した
・・・（中略）・・・
［０１３４］　［例５］〜［例８］で得られた液晶ポリマー積層フィルムの厚さ，リタデーション値，ヘーズ値等を表７に示す。
［０１３５］［表６］
　［広帯域波長板としての評価］
　例５〜例８でそれぞれ得られた液晶ポリマー積層フィルム１〜４の，４５０ｎｍ，５５０ｎｍ，及び６５０ｎｍの波長におけるリタデーション値及び楕円率を測定した。結果を表７に示す。
［０１３６］［表７］
　その結果，４５０〜６５０ｎｍの波長における液晶ポリマー積層フィルム１〜４の楕円率が０．８５以上であり，液晶ポリマー積層フィルム１〜４は，
広帯域四分の一波長板として機能する
　イ　引用文献１に記載された発明
　前記アで摘記した記載から，引用文献１に，例６で得られた液晶ポリマー積層フィルム２として，次の発明が記載されていると認められる。（なお，混乱を避けるため，ガラス基板上に形成した紫外線硬化性樹脂層を「第１紫外線硬化性樹脂層」と，高分子液晶層１上に形成した紫外線硬化性樹脂層を「第２紫外線硬化性樹脂層」と表現した。）
「下記［調製例４］により得られた光硬化性樹脂２をガラス基板上へスピンコートし，８０℃で５分間乾燥させることによってトルエンを除去し，第1紫外線硬化樹脂層を作製し，前記第１紫外線硬化性樹脂層の表面に，ラビング処理したポリイミド付ガラス基板であるＥＨＣ社製水平配向処理基板を，前記ガラス基板の辺が前記水平配向処理基板のラビング方向と略平行になるように配置を調整して，押圧し，室温で７００ｍＪの強度の紫外線を照射することによって，前記第１紫外線硬化性樹脂層を硬化させ，前記水平配向処理基板を，硬化した前記第１紫外線硬化性樹脂層から剥離することによって，前記水平配向処理基板のラビング溝が転写された膜厚が９．０μｍの透明樹脂層１を作製し，
　下記［調製例２−１］により得られた架橋性高分子液晶溶液（ｂ−２１）を前記透明樹脂層１の上にスピンコート法により塗布し，５０℃で１０分間乾燥し，１００℃で３分間保持することによって，前記架橋性高分子液晶溶液（ｂ−２１）に含まれる架橋性高分子液晶（Ｂ−２）のメソゲンを前記ガラス基板の表面に対して水平に配向させ，その後，窒素雰囲気下，６０℃で照度２６０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を５分間照射して，前記架橋性高分子液晶（Ｂ−２）の架橋を行うことによって，膜厚が０．９０μｍの高分子液晶層１を作製し，
　前記高分子液晶層１上へ，前記透明樹脂層１を作製するときと同様にして前記光硬化性樹脂２を塗布して，第２紫外線硬化性樹脂層を作製し，前記第２紫外線硬化性樹脂層の表面に，ラビング処理したポリイミド付ガラス基板であるＥＨＣ社製水平配向処理基板を，前記透明樹脂層１に形成した溝の方向に対する前記水平配向処理基板のラビング溝の方向のなす角度が６０°であるように配置を調整して，押圧し，室温で７００ｍＪの強度の紫外線を照射することによって，前記第２紫外線硬化性樹脂層を硬化させ，前記水平配向処理基板を，硬化した前記第２紫外線硬化性樹脂層から剥離することによって，前記水平配向処理基板のラビング溝が転写された膜厚が８．９μｍの透明樹脂層２を作製し，
　前記透明樹脂層２の上に，下記［調製例２−２］により得られた架橋性高分子液晶溶液（ｂ−２２）をスピンコート法によって塗布し，５０℃で１０分間乾燥した後に１００℃で３分間保持することによって，前記架橋性高分子液晶溶液（ｂ−２２）に含まれる架橋性高分子液晶（Ｂ−２）のメソゲンを前記ガラス基板の表面に対して水平に配向させ，その後，窒素雰囲気下，６０℃で照度２６０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を５分間照射して，前記架橋性高分子液晶（Ｂ−２）の架橋を行うことによって，膜厚が１．８１μｍの高分子液晶層２を作製し，
　前記ガラス基板を剥離することによって得られた液晶ポリマー積層フィルム２であって，
　波長４５０ｎｍにおけるリタデーション値及び楕円率が１１２ｎｍ及び０．８６であり，波長５５０ｎｍにおけるリタデーション値及び楕円率が１３７ｎｍ及び０．９９であり，波長６５０ｎｍにおけるリタデーション値及び楕円率が１５３ｎｍ及び０．９２であり，広帯域四分の一波長板として機能する液晶ポリマー積層フィルム２。
［調製例４］
　撹拌機及び冷却管を装着した３００ｍＬの４つ口フラスコに，７０ｇのトリシクロデカンジメタノールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＤＣＰ），３０ｇのネオペンチルグリコールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＮＰＧ），５．０ｇの光重合開始剤２（チバスペシャリティーケミカルズ社製，ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４），１．０ｇの重合禁止剤１，及び１．５ｇの界面活性剤（セイミケミカル社製，Ｓ４２０）を投入し，フラスコの内部を常温に保ち，遮光した状態で，１時間撹拌することにより，粘度が５０ｍＰａ・秒の光硬化性樹脂２を得た。
［調製例２−１］
　次の割合にしたがい，架橋性高分子液晶溶液（ｂ−２１）を調製する。
下記構造式の架橋性高分子液晶（Ｂ−２）　　　　　　　　１００質量部
シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６３５質量部
重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ社製イルガキュアー１２７）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１質量部
界面活性剤（セイミケミカル社製Ｓ４２０（商品番号））　０．２質量部
［架橋性高分子液晶（Ｂ−２）の構造式］　　　　　　　　　　　　　　
［調製例２−２］
　次の割合にしたがい，シクロヘキサノンを３２５質量部とする以外は，調製例２−１と同様にして，架橋性高分子液晶溶液（ｂ−２２）を調製する。
架橋性高分子液晶（Ｂ−２）　　　　　　　　　　　　　　１００質量部
シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３２５質量部
重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ社製イルガキュアー１２７）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１質量部
界面活性剤（セイミケミカル社製Ｓ４２０（商品番号））　０．２質量部」（以下，「引用発明」という。）
２　本件発明１について
（１）対比
　ア　本件発明１の「円偏光板」とは，本件明細書の【０００２】等の記載によると，入射した直線偏光を円偏光に変換して出射し，入射した円偏光を直線偏光に変換して出射する部材のことを指していると解される。
　しかるに，引用発明の「液晶ポリマー積層フィルム２」は，広帯域四分の一波長板として機能するものであって，引用文献１の［００８５］にも説明されており，技術常識からも明らかなように，直線偏光（円偏光）を円偏光（直線偏光）に変換することが可能であるから，「円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層」からなる「光学フィルム」といえる。
　したがって，引用発明は，本件発明１と，「円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層を有」する「光学フィルム」である点で共通する。
　イ　引用発明の「高分子液晶層１」及び「高分子液晶層２」が，それぞれ１／４波長板及び１／２波長板として機能する層であることは，引用文献１の［００８５］の記載や，引用文献１の表５及び表６に示された液晶単層積層体２（ガラス基板，透明樹脂層１及び高分子液晶層１からなる積層体）のリタデーション値，「高分子液晶層１」及び「高分子液晶層２」の膜厚等から，当業者に自明である。したがって，引用発明の「高分子液晶層１」及び「高分子液晶層２」は，本件発明１の「透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層」及び「透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層」にそれぞれ相当する。
　また，引用発明の「透明樹脂層２」は，「高分子液晶層１」（本件発明１の「１／４波長板用位相差層」に相当する。以下，「（１）対比」欄において，「」で囲まれた引用発明の構成に付した（）中の文言は，当該引用発明の構成に対応する本件発明１の発明特定事項を表す。）と「高分子液晶層２」（１／２波長板用位相差層）の間に位置し，「高分子液晶層２」中の架橋性高分子液晶（Ｂ−２）のメソゲンをガラス基板の表面に対して水平に配向させるという機能を有する層であるから，本件発明１の「１／２波長板用位相差層及び１／４波長板用位相差層間に設けられた配向層」に相当する。
　そして，前記アで述べたように，引用発明は，「円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層」からなる「光学フィルム」であるから，引用発明は，それが有する「円偏光板の光学機能層」が，「透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と，透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と，前記１／２波長板用位相差層及び前記１／４波長板用位相差層間に設けられた配向層とを少なくとも有する多層構造であ」る点で，本件発明１と一致する。
　ウ　引用発明の「高分子液晶層１」（１／４波長板用位相差層）及び「高分子液晶層２」（１／２波長板用位相差層）は，架橋性高分子液晶溶液（ｂ−２１）及び架橋性高分子液晶溶液（ｂ−２２）をそれぞれ塗布，乾燥し，架橋性高分子液晶溶液（ｂ−２１）及び架橋性高分子液晶溶液（ｂ−２２）中の架橋性高分子液晶（Ｂ−２）を架橋することによって得られたものであるところ，当該「架橋性高分子液晶（Ｂ−２）」は「位相差層形成樹脂」といえ，「高分子液晶層１」及び「高分子液晶層２」は「位相差層形成樹脂を硬化した物」といえる。
　したがって，引用発明の「高分子液晶層２」及び「高分子液晶層１」は，本件発明１の「１／２波長板用位相差層」及び「１／４波長板用位相差層」と，「位相差層形成樹脂を硬化した物であ」る点で一致する。
　エ　引用発明の「透明樹脂層２」（配向層）は，光硬化性樹脂２を塗布し，光硬化性樹脂２中のトリシクロデカンジメタノールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＤＣＰ）及びネオペンチルグリコールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＮＰＧ）を硬化することによって得られたものであるところ，当該「トリシクロデカンジメタノールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＤＣＰ）」及び「ネオペンチルグリコールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＮＰＧ）」は「配向層形成樹脂」といえ，「透明樹脂層２」は「配向層形成樹脂を硬化した物」といえる。
　したがって，引用発明の「透明樹脂層２」は，本件発明１の「配向層」と，「配向層形成樹脂を硬化した物であ」る点で一致する。
　オ　ＡＧＣセイミケミカル株式会社のウェブサイトの製品紹介（ＵＲＬ：http://www.seimichemical.co.jp/product/fluoro/properties/）によると，引用発明の架橋性高分子液晶溶液（ｂ−２１），光硬化性樹脂２及び架橋性高分子液晶溶液（ｂ−２２）のいずれにも含有されている「界面活性剤（セイミケミカル社製Ｓ４２０（商品番号））」は，フッ素系界面活性剤である「サーフロン」に属する製品であるから，本件発明１の「フッ素化合物」に相当する。したがって，引用発明の「架橋性高分子液晶（Ｂ−２）」及び「トリシクロデカンジメタノールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＤＣＰ）及びネオペンチルグリコールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＮＰＧ）」は，本件発明１の「位相差層形成樹脂」及び「配向層形成樹脂」と，「フッ素化合物が添加されて」いる点で一致する。
　そして，引用発明の「高分子液晶層１」（１／４波長板用位相差層），「透明樹脂層２」（配向層）及び「高分子液晶層２」（１／２波長板用位相差層）における「界面活性剤（セイミケミカル社製Ｓ４２０（商品番号））」（フッ素化合物）の濃度は，それぞれ，約０．２質量％（≒０．２／（１００＋１＋０．２）×１００），約１．４質量％（≒１．５／（７０＋３０＋５．０＋１．０）×１００）及び約０．２質量％（≒０．２／（１００＋１＋０．２）×１００）である。そうすると，引用発明では，「透明樹脂層２」（配向層）を形成する「トリシクロデカンジメタノールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＤＣＰ）及びネオペンチルグリコールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＮＰＧ）」（配向層形成樹脂）に添加される「界面活性剤（セイミケミカル社製Ｓ４２０（商品番号））」（フッ素化合物）の濃度が，「高分子液晶層２」（１／２波長板用位相差層）を形成する「架橋性高分子液晶（Ｂ−２）」（位相差層形成樹脂）に添加される「界面活性剤（セイミケミカル社製Ｓ４２０（商品番号））」（フッ素化合物）の濃度以上である。また，引用発明では，「高分子液晶層２」（１／２波長板用位相差層）を形成する「架橋性高分子液晶（Ｂ−２）」（位相差層形成樹脂）と「高分子液晶層１」（１／４波長板用位相差層）を形成する「架橋性高分子液晶（Ｂ−２）」（位相差層形成樹脂）に添加される「界面活性剤（セイミケミカル社製Ｓ４２０（商品番号））」（フッ素化合物）の濃度が，０．３質量％以下である。したがって，引用発明は，「配向層を形成する配向層形成樹脂に添加されるフッ素化合物の濃度は，１／２波長板用位相差層を形成する前記位相差層形成樹脂に添加されるフッ素化合物の濃度以上であり，１／２波長板用位相差層を形成する位相差層形成樹脂と，１／４波長板用位相差層を形成する位相差層形成樹脂とは，添加されるフッ素化合物の濃度が０．３％以下である」という本件発明１の発明特定事項に相当する構成を具備している。
　カ　前記アないしオに照らせば，本件発明１と引用発明は，
「円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層を有し，
　前記円偏光板の光学機能層が，透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と，透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と，前記１／２波長板用位相差層及び前記１／４波長板用位相差層間に設けられた配向層とを少なくとも有する多層構造であり，
　前記１／２波長板用位相差層及び前記１／４波長板用位相差層は，位相差層形成樹脂を硬化した物であり，
　前記配向層は，配向層形成樹脂を硬化した物であり，
　前記位相差層形成樹脂及び前記配向層形成樹脂は，フッ素化合物が添加されており，
　前記配向層を形成する前記配向層形成樹脂に添加されるフッ素化合物の濃度は，前記１／２波長板用位相差層を形成する前記位相差層形成樹脂に添加されるフッ素化合物の濃度以上であり，
　前記１／２波長板用位相差層を形成する前記位相差層形成樹脂と，前記１／４波長板用位相差層を形成する前記位相差層形成樹脂とは，添加されるフッ素化合物の濃度が０．３％以下である，
　光学フィルム。」
である点で一致し，次の点で相違する。
相違点１：
　本件発明１は，透明フィルムによる基材と，直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層と，円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層とが光の透過方向に沿って積層された光学フィルムであるのに対して，
　引用発明は，広帯域四分の一波長板として機能する液晶ポリマー積層フィルム２，すなわち，「円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層」からなる光学フィルムであって，透明フィルムによる基材と直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層は積層されていない点。
相違点２：
　本件発明１では，「配向層」を形成する「配向層形成樹脂」に添加される「フッ素化合物」の濃度が，「１／４波長板用位相差層を形成する位相差層形成樹脂」に添加される「フッ素化合物」の濃度以下であり，かつ，０．３％以下であるのに対して，
　引用発明では，「透明樹脂層２」を形成する「トリシクロデカンジメタノールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＤＣＰ）及びネオペンチルグリコールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＮＰＧ）」に添加される「界面活性剤（セイミケミカル社製Ｓ４２０（商品番号））」の濃度は約１．４質量％であって，「高分子液晶層１」を形成する「架橋性高分子液晶（Ｂ−２）」に添加される「界面活性剤（セイミケミカル社製Ｓ４２０（商品番号））」の濃度である約０．２質量％という値を超えており，かつ，０．３質量％も超えている点。
（２）判断
　事案に鑑みて，まず相違点２について判断する。
　ア　引用発明において，「透明樹脂層２」を形成する「トリシクロデカンジメタノールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＤＣＰ）及びネオペンチルグリコールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＮＰＧ）」に添加される「界面活性剤（セイミケミカル社製Ｓ４２０（商品番号））」の量は，引用文献１の［００３６］に説明されているように，モールドの透明樹脂層からの剥離性及び透明樹脂層の表面への重合性液晶性材料溶液の塗布性によって決定されたものであって，光重合性モノマーと光重合開始剤との合計量に対して１ないし３質量％という好ましいとされた範囲内の値に設定されている。
　イ　引用発明において，「配向層を形成する配向層形成樹脂に添加されるフッ素化合物の濃度は，１／２波長板用位相差層を形成する位相差層形成樹脂に添加されるフッ素化合物の濃度以上であり，１／２波長板用位相差層を形成する位相差層形成樹脂と，１／４波長板用位相差層を形成する位相差層形成樹脂とは，添加されるフッ素化合物の濃度が０．３％以下である」という本件発明１の発明特定事項（一致点）に相当する構成を具備しつつ，相違点２に係る本件発明１の発明特定事項に相当する構成をも具備したものとするには，「透明樹脂層２」を形成する「トリシクロデカンジメタノールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＤＣＰ）及びネオペンチルグリコールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＮＰＧ）」に添加される「界面活性剤（セイミケミカル社製Ｓ４２０（商品番号））」の濃度を，「高分子液晶層１」を形成する「架橋性高分子液晶（Ｂ−２）」に添加される「界面活性剤（セイミケミカル社製Ｓ４２０（商品番号））」の濃度であり，「高分子液晶層２」を形成する「架橋性高分子液晶（Ｂ−２）」に添加される「界面活性剤（セイミケミカル社製Ｓ４２０（商品番号））」の濃度でもある「約０．２質量％」という値に変更する必要がある。
　しかしながら，当該「約０．２質量％」という値は，前記アで述べた「モールドの透明樹脂層からの剥離性及び透明樹脂層の表面への重合性液晶性材料溶液の塗布性」から好ましいとされた「１ないし３質量％」という範囲の下限値の１／５程度の量にしかならない。
　そうすると，引用文献１の記載に接した当業者は，引用発明において，「透明樹脂層２」を形成する「トリシクロデカンジメタノールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＤＣＰ）及びネオペンチルグリコールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＮＰＧ）」に添加される「界面活性剤（セイミケミカル社製Ｓ４２０（商品番号））」の濃度を「約０．２質量％」に変更すると，透明樹脂層２を作製するに際して，ＥＨＣ社製水平配向処理基板を透明樹脂層２から剥離することが困難になると理解すると認められる。
　そして，引用文献１の［００１１］や［００１２］の記載等から把握されるように，引用発明において，「透明樹脂層２」を，モールド（ＥＨＣ社製水平配向処理基板）の表面の形状（ラビング溝）を転写する方法で形成することは，必須の構成なのであって，それ以外の方法で形成することについては記載も示唆もされていない。
　ウ　また，原査定で周知例として例示された引用文献４及び引用文献５のいずれにも，モールドのラビング溝を転写して配向層を形成するに際して，配向層に含有させるフッ素系界面活性剤の濃度を「約０．２質量％」程度としても，モールドを配向層から剥離することが困難にならないようにする技術は，記載も示唆もされていない。
　エ　以上によれば，たとえ引用文献４や引用文献５の記載から把握される周知技術の存在を考慮したとしても，当業者は，引用発明において，「透明樹脂層２」を形成する「トリシクロデカンジメタノールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＤＣＰ）及びネオペンチルグリコールジアクリラート（新中村化学工業社製，ＮＫ　エステル　Ａ−ＮＰＧ）」に添加される「界面活性剤（セイミケミカル社製Ｓ４２０（商品番号））」の濃度を「約０．２質量％」に変更しようとすること（すなわち，相違点２に係る本件発明１の発明特定事項に相当する構成を具備したものにすること）はないというべきである。
　したがって，相違点１について検討するまでもなく，本件発明１は，引用発明及び周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものではない。
３　本件発明２ないし８について
　請求項２は，請求項１の記載を引用する形式で記載されており，本件発明２は，本件発明１の発明特定事項を全て有し，これに限定を加えたものに該当するところ，本件発明１が，引用発明及び周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものでない以上，本件発明２も，同様の理由で，引用発明及び周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　本件発明３は，相違点２に係る本件発明１の発明特定事項を具備しており，本件発明３と引用発明とは，少なくとも相違点２と同様の点で相違するところ，引用発明において，相違点２に係る本件発明３の発明特定事項に相当する構成を具備したものとすることは，前記２（２）で述べたとおり，当業者が容易に想到し得たことではないから，本件発明３も，同様の理由で，引用発明及び周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　請求項４ないし６は，請求項３の記載を直接又は間接的に引用する形式で記載されており，本件発明４ないし６は，いずれも，本件発明３の発明特定事項を全て有し，これに限定を加えたものに該当するところ，本件発明３が，引用発明及び周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものでない以上，本件発明４ないし６も，同様の理由で，引用発明及び周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　請求項７は，請求項１又は請求項３の記載を直接又は間接的に引用する形式で記載されており，本件発明７は，本件発明１又は本件発明３の発明特定事項を全て有し，これに限定を加えたものに該当するところ，本件発明１及び本件発明３が，いずれも，引用発明及び周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものでない以上，本件発明７も，同様の理由で，引用発明及び周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　本件発明８は，相違点２に係る本件発明１の発明特定事項を具備しており，本件発明８と引用発明とは，少なくとも相違点２と同様の点で相違するところ，引用発明において，相違点２に係る本件発明８の発明特定事項に相当する構成を具備したものとすることは，前記２（２）で述べたとおり，当業者が容易に想到し得たことではないから，本件発明８も，同様の理由で，引用発明及び周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものではない。
第５　むすび
　以上のとおり，原査定の理由によっては，本件出願を拒絶することはできない。
　また，他に本件出願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって，結論のとおり審決する。