(57)【要約】光学積層体として充分な硬度を有し、かつ、良好な防眩性を発揮する光学積層体を提供する。光透過性基材及び上記光透過性基材上に設けられたハードコート層を有する光学積層体であって、上記ハードコート層は、クリアハードコート層Ａ及びハードコート層Ｂの二層からなり、上記ハードコート層Ｂは、最表面が凹凸形状を有するものであり、凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとし、ψをＲｚ／Ｓｍとした場合に、０．００１０≦ψ≦０．１４であり、０．２５≦θａ≦５．０であり、上記クリアハードコート層Ａと光透過性基材との界面が実質的に存在しない光学積層体。
2008020613.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基材及び前記光透過性基材上に設けられたハードコート層を有する光学積層体であって、
前記ハードコート層は、クリアハードコート層Ａ及びハードコート層Ｂの二層からなり、
前記ハードコート層Ｂは、最表面が凹凸形状を有するものであり、凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとし、ψをＲｚ／Ｓｍとした場合に、
０．００１０≦ψ≦０．１４であり、
０．２５≦θａ≦５．０であり、
前記クリアハードコート層Ａと光透過性基材との界面が実質的に存在しないことを特徴とする光学積層体。
【請求項２】
Ｒｚは、０．３〜５．０μｍであり、
Ｓｍは、４０〜４００μｍであり、
０．００２０≦ψ≦０．０８０である請求項１記載の光学積層体。
【請求項３】
ハードコート層Ｂは、６以上の官能基を有するウレタン（メタ）アクリレート系化合物を含む組成物Ｂを用いて形成されてなる請求項１又は２記載の光学積層体。
【請求項４】
ウレタン（メタ）アクリレート系化合物は、質量平均分子量が１０００〜５００００である請求項３記載の光学積層体。
【請求項５】
干渉縞が実質的に存在しない請求項１、２、３又は４記載の光学積層体。
【請求項６】
クリアハードコート層Ａは、質量平均分子量が２００以上であり、かつ、３以上の官能基を有する化合物Ａを含んでなる請求項１、２、３、４又は５記載の光学積層体。
【請求項７】
化合物Ａは、少なくとも一種の（メタ）アクリレート系化合物及び／又はウレタン（メタ）アクリレート系化合物である請求項６記載の光学積層体。
【請求項８】
反射防止用積層体である請求項１、２、３、４、５、６又は７記載の光学積層体。
【請求項９】
表面ヘイズ値が、０．５〜３０以下である請求項１、２、３、４、５、６、７又は８記載の光学積層体。
【請求項１０】
ＪＩＳ  Ｋ５４００による鉛筆硬度試験において、加重４．９Ｎのとき、４Ｈ以上である請求項１、２、３、４、５、６、７、８又は９記載の光学積層体。
【請求項１１】
請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０記載の光学積層体の製造方法であって、
トリアセチルセルロースを原料とする光透過性基材表面に、クリアハードコート層Ａ用組成物を塗布し、クリアハードコート層Ａを形成する工程と、
前記クリアハードコート層Ａ上にハードコート層Ｂ用組成物を塗布し、ハードコート層Ｂを形成する工程とを有する
ことを特徴とする光学積層体の製造方法。
【請求項１２】
最表面に請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０記載の記載の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置。
【請求項１３】
偏光素子を備えてなる偏光板であって、
前記偏光素子の表面に、請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０記載の光学積層体を該光学積層体におけるハードコート層が存在する面と反対の面に備えることを特徴とする偏光板。
【請求項１４】
最表面に請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０記載の光学積層体、又は、請求項１３記載の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学積層体、偏光板及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の画像表示装置においては、一般に最表面に反射防止のための光透過性基材を用いた光学積層体が設けられている。このような反射防止用光学積層体は、光の散乱や干渉によって、像の写り込みを抑制したり反射率を低減したりするものである。【０００３】
上記反射防止用積層体としては、光透過性基材上にハードコート層を形成したものが知られている。このようなハードコート層は、これらの光透過性基材は静電気による塵芥の付着や、汚れの付着、擦り傷や引っかき傷を生じることによって、透明性を損ないやすいという問題を解決するためのものである。このようなハードコート層上に所望の機能（例えば、帯電防止性、防汚性、反射防止性等）を付与した光学積層体も知られている。このようなハードコート層に付与する機能の一つとして、ハードコート層表面に凹凸を付与することによって得られる防眩性が知られている。【０００４】
しかしながら、このように光透過性基材表面にハードコート層を形成すると、光透過性基材表面の反射光とハードコート層表面の反射光とが干渉して干渉縞が発生して、外観が損なわれるという問題があった。また、光透過性基材が非晶質オレフィンポリマー（ＣＯＰ）等である場合は、ハードコート層との密着性が乏しいため、ハードコート層の積層が更に難しいものであった。また、ＣＯＰ自身の硬度が鉛筆硬度でＢ以下と非常に弱いものが多いため、単純に従来のハードコート層を形成しただけでは充分な硬度が得られなかった。【０００５】
特許文献１には、複数の透明層を形成してなり、界面を特定の性状とすることで干渉縞の発生を抑制した光学フィルムが記載されている。しかし、表面に凹凸を形成して防眩性を得ることは記載されていない。【０００６】
【特許文献１】特開２００５−１０７００５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記現状に鑑み、光学積層体として充分な硬度を有し、かつ、良好な防眩性を発揮する光学積層体を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、光透過性基材及び上記光透過性基材上に設けられたハードコート層を有する光学積層体であって、上記ハードコート層は、クリアハードコート層Ａ及びハードコート層Ｂの二層からなり、上記ハードコート層Ｂは、最表面が凹凸形状を有するものであり、凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとし、ψをＲｚ／Ｓｍとした場合に、
０．００１０≦ψ≦０．１４であり、
０．２５≦θａ≦５．０であり、
上記クリアハードコート層Ａと光透過性基材との界面が実質的に存在しないことを特徴とする光学積層体である。
上記Ｒｚは、０．３〜５．０μｍであり、
Ｓｍは、４０〜４００μｍであり、
０．００２０≦ψ≦０．０８０であることが好ましい。【０００９】
上記ハードコート層Ｂは、６以上の官能基を有するウレタン（メタ）アクリレート系化合物を含む組成物Ｂを用いて形成されてなることが好ましい。
上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物は、質量平均分子量が１０００〜５００００であることが好ましい。
上記光学積層体は、干渉縞が実質的に存在しないことが好ましい。
上記クリアハードコート層Ａは、質量平均分子量が２００以上であり、かつ、３以上の官能基を有する化合物Ａを含んでなることが好ましい。
上記化合物Ａは、少なくとも一種の（メタ）アクリレート系化合物及び／又はウレタン（メタ）アクリレート系化合物であることが好ましい。【００１０】
本発明は、反射防止用積層体であってもよい。
上記光学積層体は、表面ヘイズ値が、０．５〜３０以下であることが好ましい。
上記光学積層体は、ＪＩＳ  Ｋ５４００による鉛筆硬度試験において、加重４．９Ｎのとき、４Ｈ以上であることが好ましい。
本発明は、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光素子の表面に、上記光学積層体を該光学積層体におけるハードコート層が存在する面と反対の面に備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明は、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなる画像表示装置であって、上記透過性表示体の表面に、上記光学積層体又は上記偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
以下、本発明を詳細に説明する。【００１１】
本発明の光学積層体は、光透過性基材とその上に設けられたクリアハードコート層Ａとの界面が実質的に存在しないものであるため干渉縞を防止することができるものであり、更に表面に凹凸形状を有するものであることから、良好な防眩性をも得ることができる。更に、光透過性基材とハードコート層との密着性が良好なものとなり、通常ハードコート層の積層が困難であったＣＯＰ等にもハードコート層を積層することができる。したがって、本発明により干渉縞を防止し、優れた防眩性が得られ、充分な硬度を有する光学積層体を得ることができる。【００１２】
本発明の光学積層体は、二層からなるハードコート層を形成することにより充分な硬度を得ることができるものである。上記ハードコート層は、クリアハードコート層Ａ及びハードコート層Ｂの二層からなるが、本発明の光学積層体は、上層となるハードコート層Ｂの表面の凹凸形状を上述の範囲のものとすることによって、光学的性質をコントロールし、これによって良好な防眩性を同時に得ることができるものである。なお、ここでクリアハードコート層は、ハードコード層中及び層表面での光散乱を生じず、透明性を有するハードコート層を意味するものである。【００１３】
本発明の光学積層体は、上記クリアハードコート層Ａと光透過性基材との界面が実質的に存在しないものである。上記「界面が（実質的に）存在しない」とは、１）二つの層面が重なり合ってはいるが実際に界面が存在しないこと、及び２）屈折率からみて両者の面に界面が存在していないと判断されることを包含する。【００１４】
「界面が（実質的に）存在しない」の具体的な基準としては、光学積層体の干渉縞観察による。すなわち、光学積層体の裏面に黒テープを貼り、３波長蛍光灯の照射下で光学積層体の上から目視にて観察する。このとき、干渉縞が確認できる場合は、別途に断面をレーザー顕微鏡により観察すると界面が確認されることから、これを「界面が存在する」と認定する。一方、干渉縞が確認できない場合又は極めて弱い場合は、別途に断面をレーザー顕微鏡により観察すると界面が見られないか又は極めて薄くしか見えない状態となることから、これを「界面が実質的に存在しない」と認定する。すなわち、本発明の光学積層体は、干渉縞が実質的に存在しないことが望ましい。なお、レーザー顕微鏡は、各界面からの反射光を読み取り、非破壊的に断面観察できる。これは、各層に屈折率差がある場合のみ、界面として観察されるものであるため、界面が観察されない場合は、屈折率的にも差がない、界面がないと考えることができる。【００１５】
断面の外観性状において、クリアハードコート層Ａの断面相がクリアハードコート層Ａから光透過性基材中にかけて連続的に存在する構成を有することから、クリアハードコート層Ａと光透過性基材とが実質的に一体となった構造を効果的に維持できる結果、本発明の光学積層体は干渉縞を抑制することができ、更に、高い密着性を発揮することができる。この、密着性に優れ、光透過性基材よりも高硬度となった積層体の上に、ハードコート層Ｂを積層することで、充分な硬度を得ることができる。【００１６】
上記クリアハードコート層Ａは、バインダー樹脂からなることが好ましい。本明細書において、上記樹脂は、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分を包含する概念である。上記バインダー樹脂としては透明性を有するものであれば特に限定されず、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂（塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）との混合物、又は、熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。また、本発明の好ましい態様によれば、電離放射線硬化型樹脂と熱硬化型樹脂とを少なくとも含んでなる樹脂を用いることができる。【００１７】
上記電離放射線硬化型樹脂としては、（メタ）アクリレート基等のラジカル重合性官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能化合物と（メタ）アルリレート等の反応生成物（例えば多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）、等を挙げることができる。なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。【００１８】
上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。【００１９】
電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類、プロピオフェノン類、ベンジル類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。【００２０】
光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いることが好ましい。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型樹脂１００質量部に対し、０．１〜１０質量部であることが好ましい。【００２１】
上記電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂と併用して使用することもできる。上記電影放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができ、これによってより優れた艶黒感を得ることができる。上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性という観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。【００２２】
本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材の材料がトリアセチルセルロース「ＴＡＣ」等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。セルロース系樹脂を用いることにより、光透過性基材と帯電防止層（必要に応じて）との密着性及び透明性を向上させることができる。【００２３】
上記バインダー樹脂として使用できる熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を併用して使用することもできる。【００２４】
上記バインダー樹脂としては、質量平均分子量が２００以上であり、かつ、３以上の官能基を有する化合物Ａを用いることが好ましい。このような化合物Ａを用いることにより、干渉縞の発生を効果的に抑制することができる。【００２５】
上記質量平均分子量は、２００以上であればよいが、好ましくは２５０以上、より好ましくは３００以上、最も好ましくは３５０以上である。上記質量平均分子量の上限としては特に限定されないが、例えば、４万程度とすることができる。また、上記官能基の数としては３以上であれば特に限定されないが、好ましくは４以上、より好ましくは５以上とすることができる。上記官能基の数の上限としては特に限定されないが、例えば、１５程度とすることができる。【００２６】
上記化合物Ａとしては特に限定されず、例えば、（メタ）アクリレート系化合物、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物等を挙げることができる。上記（メタ）アクリレート系化合物及びウレタン（メタ）アクリレート系化合物としては特に限定されず、例えば、上記の質量平均分子量及び官能基数を有するポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。上記化合物Ａとしては、上述の化合物を単独で、又は、二種以上を組み合わせて使用してよい。上記化合物Ａとしては、公知又は市販のものを用いることができる。【００２７】
上記クリアハードコート層Ａにおける化合物Ａの含有量（固形分）としては特に限定されないが、例えば、５０〜１００質量％とすることができる。上記含有量は、好ましくは９０〜１００質量％である。【００２８】
上記クリアハードコート層Ａは、上記バインダー樹脂及び必要に応じて添加剤を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、クリアハードコート層Ａ用組成物として用い、上記組成物による塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより得ることができる。【００２９】
上記溶剤としては、バインダー樹脂の種類及び溶解性に応じて選択し使用することができ、少なくとも固形分（複数のポリマー及び硬化性樹脂前駆体、重合開始剤、その他添加剤）を均一に溶解できる溶剤であればよい。そのような溶剤としては、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、水、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合溶剤であってもよい。
好ましくは、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ジエチルケトン、ＰＧＭＥ（プロピレングリコールモノメチルエーテル）等である。【００３０】
上記溶剤は、基材に対して浸透性を持つ溶剤を使用することが好ましい。浸透性溶剤の「浸透性」とは、光透過性基材に対する浸透性、膨潤性、湿潤性等のすべての概念を包含する意である。浸透性溶剤の具体例としては、ケトン類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、エステル類；蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、含窒素化合物；ニトロメタン、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、グリコール類；メチルグリコール、メチルグリコールアセテート、エーテル類；テトラヒドロフラン、１，４―ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル、ハロゲン化炭化水素；塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン、グリコールエーテル類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート、その他、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレンが挙げられ、またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくはエステル類、ケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトンなどが挙げられる。
その他、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコールなどのアルコール類や、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類も、上記溶剤と混合して用いることができる。上記浸透性溶剤を使用することにより、光透過性基材とクリアハードコート層Ａとの間の界面による干渉縞が防止でき、かつ密着性が高まり好ましい。【００３１】
クリアハードコート層Ａ用組成物中における溶剤は、固形分含有量が５〜８０質量％程度となるように適宜設定すればよい。上記浸透性溶剤を使用する場合、上記浸透性溶剤を溶剤全量中１０〜１００質量％、特に５０〜１００質量％使用することが好ましい。【００３２】
上記添加剤としては特に限定されず、クリアハードコート層Ａの硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御する、防眩性を付与する等の目的に応じて、上述以外の樹脂、分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤等を添加していてもよい。【００３３】
上記クリアハードコート層Ａは、上記クリアハードコート層Ａ用組成物を、基材に塗布し、必要に応じて乾燥し、そして活性エネルギー線照射により硬化させて形成することが好ましい。
上記クリアハードコート層Ａ用組成物を塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。【００３４】
上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射を挙げることができる。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。【００３５】
上記クリアハードコート層Ａ用組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用することができる。【００３６】
本発明の光学積層体は、更にハードコート層Ｂを有するものである。上記ハードコート層Ｂは、光学積層体最表面に設けられた層であり、表面に凹凸形状を有するものである。上記ハードコート層Ｂの表面形状において、ψ及びθａが上述の範囲内となることによって防眩性、ギラツキの防止、艶黒感等の黒色再現性等の性質を同時に得ることができる。特に、防眩性に優れる凹凸形状としてψは、０．００２０≦ψ≦０．０８０であることがより好ましく、θａは、０．３≦θａ≦２．２であることがより好ましい。【００３７】
更に、上記ハードコート層Ｂの表面凹凸形状は、１０点平均粗さ（Ｒｚ）が０．３〜５．０μｍであることが好ましく、凹凸の平均間隔Ｓｍ（μｍ）が４０〜４００μｍであることが好ましい。上記Ｒｚ及びＳｍが上記範囲となることにより、更に、良好な防眩性、ギラツキの防止、黒色再現性を得ることができるため好ましい。【００３８】
本発明による光学積層体最表面は、凹凸形状を有する。なお、本明細書におけるＳｍ，θａ及びＲｚは、以下の方法によって得られた値である。Ｒｚ（μｍ）とは、１０点平均粗さを表すものであり、Ｓｍ（μｍ）とは、この表面形状の凹凸の平均間隔を表し、θａ（度）は凹凸部の平均傾斜角を表す。これらの定義は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４に従い、表面粗さ測定器（型番：ＳＥ−３４００／（株）小坂研究所製）の取り扱い説明書（１９９５，０７，２０改訂）にも記載されている。θａ（度）は角度単位であり、傾斜を縦横比率で表したものがΔａである場合、θａ（度）＝１／ｔａｎΔａ＝１／（各凹凸の極小部と極大部の差（各凸部の高さに相当）の総和／基準長さ）で求められる。ここで、「基準長さ」とは、下記の測定条件と同じである。
本発明による光学積層体の表面粗さを表すパラメーター（Ｓｍ、θａ、Ｒｚ）を測定する場合、例えば、上記表面粗さ測定器を用いて、下記の測定条件により測定を行うことができ、この測定は本発明にあっては好ましいものである。
１）表面粗さ検出部の触針：
型番／ＳＥ２５５５Ｎ（２μ標準）（株）小坂研究所製
（先端曲率半径２μｍ／頂角：９０度／材質：ダイヤモンド）
２）表面粗さ測定器の測定条件：
基準長さ（粗さ曲線のカットオフ値λｃ）：０．８ｍｍ
評価長さ（基準長さ（カットオフ値λｃ）×５）：４．０ｍｍ
触針の送り速さ：０．１ｍｍ／ｓ【００３９】
凹凸の平均粗さＲｚと凹凸の平均間隔Ｓｍとの比率ψは、ψ≡Ｒｚ／Ｓｍで定義し、凹凸の平均粗さＲｚと凹凸の平均間隔Ｓｍの比を取ることで、凹凸の傾斜の傾きを示す指標として用いることができる。凹凸の平均粗さＲｚと凹凸の平均間隔Ｓｍとの比率ψは、ψ≡Ｒｚ／Ｓｍで定義し、凹凸の平均粗さＲｚと凹凸の平均間隔Ｓｍの比を取ることで、凹凸の傾斜の傾き角を示す指標として用いることができる。【００４０】
なお、これらの数値は、ハードコート層Ｂの形成に使用する樹脂種や凹凸形成に使用される粒子の粒子径や配合量、膜厚等を調整することによって、適宜所望の範囲のものとすることができる。凹凸形状の形成方法は特に限定されず、公知の方法を使用することができる。【００４１】
上記ハードコート層Ｂは、６以上の官能基を有するウレタン（メタ）アクリレート系化合物からなることが好ましい。上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物としては、少なくとも１種の質量平均分子量が１０００〜５００００（好ましくは１５００〜４００００）であるウレタン（メタ）アクリレート系化合物を好適に用いることができる。上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物としては特に限定されず、例えば、市販品としては、荒川化学社製；ＢＳ３７１（１０官能以上、分子量約４万）、根上工業社製；ＨＤＰ（１０官能、分子量４５００）、日本合成化学工業社製；紫光ＵＶ１７００Ｂ（１０官能、分子量２０００）等を挙げることができる。【００４２】
また、本発明では、上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物に加え、さらに３以上６以下の官能基を有する（メタ）アクリレート系化合物（但し、上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物を除く。）を併用することもできる。上記（メタ）アクリレート系化合物としては特に限定されず、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の少なくとも１種を好適に用いることができる。
ハードコート層Ｂ中における上記（メタ）アクリレート系化合物及び上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物の合計の含有割合（固形分）としては特に限定されないが、例えば、１０〜１００質量％が好ましく、２０〜１００質量％がより好ましい。これらの化合物以外の成分として、後記の添加剤のほか、３未満の官能基を有する化合物等が含まれていても良い。
また、ハードコート層Ｂにおける上記（メタ）アクリレート系化合物と上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物との割合としては特に限定されないが、上記（メタ）アクリレート系化合物と上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物との合計１００質量％中、上記（メタ）アクリレート系化合物が０〜９０質量％（特に５〜９０質量％）とし、上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物が１００〜１０質量％（特に９５〜１０質量％）とすることが望ましい。【００４３】
上記ハードコート層Ｂの形成方法としては特に限定されず、例えば、樹脂及び微粒子を含有するハードコート層Ｂ用組成物を用いて凹凸形状を有したハードコート層Ｂを形成する方法（方法１）；微粒子を添加しないで、樹脂等のみを含んだハードコート層Ｂ用組成物を用いて凹凸形状を有したハードコート層Ｂを形成する方法（方法２）；何らかの賦型材を使用し凹凸形状をエンボスする処理を用いてハードコート層Ｂを形成する方法（方法３）等を挙げることができる。以下、これらの方法１〜３をそれぞれ具体的に説明する。【００４４】
（方法１）樹脂及び微粒子を含有するハードコート層Ｂ用組成物を用いて凹凸形状を有したハードコート層Ｂを形成する方法
上記方法１によって使用される微粒子は、球状、例えば真球状、楕円状等のものであってよく、真球状であることがより好ましい。また、何種類かの微粒子を同時に用いることもできる。上記微粒子の各種類毎の平均粒子径（μｍ）は、１．０μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましく、上限が１５．０μｍであり下限が、３．５μｍであるものがより好ましい。なお、上記微粒子の平均粒子径は、レーザー回折法やコールター法（電気抵抗法）などによって測定した値である。また、上記微粒子は、凝集粒子であってもよく、凝集粒子である場合は、二次粒子径が上記範囲内であることが好ましい。【００４５】
上記微粒子は、各種類の微粒子１種類毎に対し、微粒子全体の８０％以上（好ましくは９０％以上）が、平均粒子径±１．０（好ましくは０．３）μｍの範囲内にあることが好ましい。これによって、得られる光学積層体の凹凸形状の均一性を良好なものとすることができる。【００４６】
上記微粒子は、特に限定されず、無機系、有機系のものが使用することができ、好ましくは透明性のものがよい。有機系材料により形成されてなる微粒子の具体例としては、プラスチックビーズを挙げることができる。プラスチックビーズとしては、スチレンビーズ（屈折率１．６０）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９〜１．５３）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４〜１．５８）、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒドビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。上記プラスチックビーズは、その表面に疎水性基を有することが好ましく、例えば、スチレンビーズを挙げることができる。無機系微粒子としては、不定形シリカ等を挙げることができる。【００４７】
上記不定形シリカは、分散性が良好な粒径０．５〜５μｍのシリカビーズを使用することが好ましい。上記不定形シリカの含有量は、バインダー樹脂に対して１〜３０質量部であることが好ましい。以下で詳述するハードコート層Ｂ用組成物の粘度上昇を生じることなく上記不定形シリカの分散性を良好なものとするために、平均粒径や、添加量を変更させるとともに、粒子表面への有機物処理の有無も変更して使用することができる。粒子表面に有機物処理を施す場合には、疎水化処理が好ましい。【００４８】
上記有機物処理には、ビーズ表面に化合物を化学的に結合させる方法や、ビーズ表面とは化学的な結合なしに、ビーズを形成する組成物にあるボイドなどに浸透させるような物理的な方法があり、どちらを使用してもよい。一般的には、水酸基またはシラノール基等のシリカ表面の活性基を利用する化学的処理法が、処理効率の観点で好ましく用いられる。処理に使用する化合物としては、上述活性基と反応性の高いシラン系、シロキサン系、シラザン系材料などが用いられる。例えば、メチルトリクロロシラン等の、直鎖アルキル単置換シリコーン材料、分岐アルキル単置換シリコーン材料、或いはジ−ｎ−ブチルジクロロシラン、エチルジメチルクロロシラン等の多置換直鎖アルキルシリコーン化合物や、多置換分岐鎖アルキルシリコーン化合物が挙げられる。同様に、直鎖アルキル基若しくは分岐アルキル基の単置換、多置換シロキサン材料、シラザン材料も有効に使用することができる。【００４９】
必要機能に応じ、アルキル鎖の末端、乃至中間部位に、ヘテロ原子、不飽和結合基、環状結合基、芳香族官能基等を有するものを使用しても構わない。これらの化合物は、含まれるアルキル基が疎水性を示すため、被処理材料表面を、親水性から疎水性に容易に変換することが可能となり、未処理では親和性の乏しい高分子材料とも、高い親和性を得ることができる。【００５０】
上記微粒子に加えて、更に平均粒子径が異なる第二微粒子、第三微粒子等の複数種の微粒子を含んでいてもよい。上記微粒子は、上記粒子径を有する第一の微粒子とその平均粒子径が異なる第二微粒子をさらに含んでなるものがより好ましい。なお、上記第二微粒子、第三微粒子は、第一微粒子とは異なる成分からなる微粒子であってもよい。【００５１】
本発明にあっては、各微粒子とも、異なる成分からなる微粒子である場合、第一微粒子の平均粒子径をＲ（μｍ）とし、第二微粒子の平均粒子径をｒ（μｍ）とした場合に、下記式（Ｉ）：
０．２５Ｒ（好ましくは０．５０）≦ｒ≦１．０Ｒ（好ましくは０．７５）    （Ｉ）
を満たすものが好ましい。
ｒが０．２５Ｒ以上であることにより、塗布液の分散が容易となり、粒子が凝集することがない。また、塗布後の乾燥工程においてフローティング時の風の影響を受けることなく、均一な凹凸形状を形成することができる。第三微粒子の平均粒子径をｒ’（μｍ）とした場合に、第二微粒子ｒと第三微粒子ｒ’においても、上記と同じ関係が好ましい。（０．２５ｒ（好ましくは０．５０ｒ）≦ｒ’≦１．０ｒ（好ましくは０．７５ｒ））但し、第一、第二、第三微粒子とも、同じ成分からなる場合には、粒子径は必ず異なることが好ましい。【００５２】
また、本発明の別の態様によれば、樹脂と、（第一）微粒子と、第二微粒子との単位面積当りの総質量比が、（第一）微粒子の単位面積当りの総質量をＭ１、第二微粒子の単位面積当りの総質量をＭ２、樹脂の単位面積当りの総質量をＭとした場合に、下記の式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）：
０．０８≦（Ｍ１＋Ｍ２）／Ｍ≦０．３６    （ＩＩ）
０≦Ｍ２≦４．０Ｍ１    （ＩＩＩ）
を満たすものが好ましい。【００５３】
上記第二、第三等の微粒子としては、特に限定されず、上記第一の微粒子と同様の無機系、有機系のものを使用することができる。上記第二の微粒子の含有量は、上記第一の微粒子の含有量に対して、３〜１００質量％であることが好ましい。第三の微粒子は、第二の微粒子と同様の配合量であってよい。【００５４】
上記ハードコート層Ｂは、上記微粒子及び硬化型樹脂を含有するハードコート層Ｂ用組成物により形成することができる。上記硬化型樹脂としては、透明性のものが好ましく、例えば、上記クリアハードコート層Ａにおいてバインダー樹脂として例示した樹脂を使用することができる。【００５５】
上記ハードコート層Ｂは、微粒子と樹脂とを適切な溶剤、例えば、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）又はこれらの混合物に混合して得たハードコート層Ｂ用組成物をクリアハードコート層Ａ上に塗布することにより形成することができる。ハードコート層Ｂ用組成物中における溶剤は、固形分含有量が５〜８０質量％程度となるように適宜設定すればよい。【００５６】
本発明の好ましい態様によれば、上記ハードコート層Ｂ用組成物に、フッ素系又はシリコーン系等のレベリング剤を添加することが好ましい。レベリング剤を添加した上記ハードコート層Ｂ用組成物は、塗布適性が向上し、かつ、耐擦傷性という効果を付与することができる。レベリング剤は、耐熱性が要求されるフィルム状光透過性基材（例えばトリアセチルセルロースやポリエチレンテレフタレート）に好ましくは利用される。【００５７】
上記ハードコート層Ｂ用組成物を光透過性基材に塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。上記ハードコート層Ｂ用組成物の塗布後に、必要に応じて乾燥と紫外線硬化を行う。紫外線源又は電子線源の具体例としては、上記クリアハードコート層Ａについて述べたものを挙げることができる。【００５８】
（方法２）微粒子を添加しないで、ポリマー等のみを含んだハードコート層Ｂ用組成物を用いて凹凸形状を有したハードコート層Ｂを形成する方法
上記方法は、ポリマーと硬化性樹脂前駆体とからなる群から選択される少なくとも二種の成分を組合せ、適切な溶媒を用いて混合したハードコート層Ｂ用組成物をクリアハードコート層Ａ上に付与して形成する方法である。【００５９】
方法２による凹凸形状は、例えば、ポリマーと硬化性樹脂前駆体とからなる群から選択される少なくとも二種の成分を含むハードコート層Ｂ用組成物（以下これを「相分離型ハードコート層Ｂ用組成物」と記す）を用いて形成することができる。このような方法においては、ポリマーと硬化性樹脂前駆体とからなる群から選択される少なくとも二種の成分を、適切な溶媒と共に混合した相分離型ハードコート層Ｂ用組成物を用いることにより、液相からのスピノーダル分解により、相分離構造を有する被膜を形成することができる。【００６０】
上記相分離型ハードコート層Ｂ用組成物は、クリアハードコート層Ａ上に塗布した後、溶媒を乾燥等により蒸発又は除去する過程で、ポリマーと硬化性樹脂前駆体とからなる群から選択される少なくとも二種の成分の間でスピノーダル分解による相分離が生じ、相間距離が比較的規則的な相分離構造を形成させることができる。【００６１】
上記スピノーダル分解は、溶媒の除去に従って発生する相分離の進行に伴って共連続相構造を形成し、さらに相分離が進行すると、連続相が自らの表面張力により非連続化し、液滴相構造（球状、真球状、円盤状や楕円体状等の独立相の海島構造）となる。従って、相分離の程度によって、共連続相構造と液滴相構造との中間的構造（上記共連続相から液滴相に移行する過程の相構造）も形成できる。上記方法２においては、このようなスピノーダル分解による、海島構造（液滴相構造又は一方の相が独立又は孤立した相構造）、共連続相構造（又は網目構造）、又は、共連続相構造と液滴相構造とが混在した中間的構造によって、溶媒乾燥後にはハードコート層Ｂの表面に微細な凹凸が形成されるものである。【００６２】
このような溶媒の蒸発を伴うスピノーダル分解は、相分離構造のドメイン間の平均距離が規則性又は周期性を有するものとなるため、最終的に形成される凹凸形状も規則性又は周期性を有するものとすることができる点で好ましいものである。スピノーダル分解により形成された相分離構造は、ポリマー中の硬化性官能基又は硬化性樹脂前駆体を硬化させることにより固定化できる。硬化性官能基又は硬化性樹脂前駆体の硬化は、硬化性樹脂前駆体の種類に応じて、加熱、光照射等、あるいはこれらの方法の組合せにより行うことができる。加熱温度は、上記スピノーダル分解によって形成された相分離構造を維持できる条件である限り、特に限定されず、例えば、５０〜１５０℃であることが好ましい。光照射による硬化は、上記クリアハードコート層Ａと同様の方法で行うことができる。光硬化性を有する相分離型ハードコート層Ｂ用組成物においては、光重合開始剤を含有することが好ましい。上記硬化性を有する成分は、硬化性官能基を有するポリマーであっても、硬化性樹脂前駆体であってもよい。【００６３】
上記ポリマーと硬化性樹脂前駆体とからなる群から選択される少なくとも二種の成分は、液相でのスピノーダル分解によって相分離する組み合せを選択して使用することが好ましい。相分離する組み合わせとしては、例えば、（ａ）複数のポリマー同士が互いに非相溶で相分離する組み合わせ、（ｂ）ポリマーと硬化性樹脂前駆体とが非相溶で相分離する組み合わせ、（ｃ）複数の硬化性樹脂前駆体同士が互いに非相溶で相分離する組み合わせ等が挙げられる。これらの組み合わせのうち、（ａ）複数のポリマー同士の組み合わせや、（ｂ）ポリマーと硬化性樹脂前駆体との組み合わせが好ましく、特に（ａ）複数のポリマー同士の組み合わせが好ましい。【００６４】
相分離構造において、ハードコート層Ｂの表面に凹凸形状が形成され、かつ表面硬度を高める点からは、少なくとも島状ドメインを有する液滴相構造であるのが有利である。なお、ポリマーと上記硬化性樹脂前駆体とで構成された相分離構造が海島構造である場合、ポリマー成分が海相を形成してもよいが、表面硬度の観点から、ポリマー成分が島状ドメインを形成するのが好ましい。島状ドメインの形成により、乾燥後にはハードコート層Ｂの表面に所望の光学特性を発揮する凹凸形状が形成される。【００６５】
上記相分離構造のドメイン間の平均距離は、通常、実質的に規則性又は周期性を有しており、表面粗さのＳｍに相当する。ドメインの平均相間距離は、例えば、４０〜４００μｍ、好ましくは６０〜２００μｍ程度であってもよい。上記相分離構造のドメイン間の平均距離は、樹脂の組合わせの選択（特に溶解性パラメータに基づく樹脂の選択）等によって調整することができる。このようにドメイン間の平均距離を調整することによって、最終的に得られるフィルム表面の凹凸間の距離を所望の値とすることができる。【００６６】
上記ポリマーとしては、セルロース誘導体（例えば、セルロースエステル類、セルロースカーバメート類、セルロースエーテル類）、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、有機酸ビニルエステル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、オレフィン系樹脂（脂環式オレフィン系樹脂を含む）、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂、ポリスルホン系樹脂（例えば、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン）、ポリフェニレンエーテル系樹脂（例えば、２，６−キシレノールの重合体）、シリコーン樹脂（例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン）、ゴム又はエラストマー（例えば、ポリブタジエン、ポリイソプレン等のジエン系ゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム）等が挙げられ、これらの単独又は二種以上を組み合わせて使用できる。複数のポリマーのうち、少なくとも１つのポリマーが、硬化性樹脂前駆体の硬化反応に関与する官能基、例えば、（メタ）アクリロイル基等の重合性基を有していてもよい。ポリマー成分としては、熱硬化性であっても熱可塑性であってもよいが、熱可塑性樹脂であることがより好ましい。【００６７】
上記ポリマーは、非結晶性で有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶なものであることが好ましい。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。【００６８】
上記セルロース誘導体のうちセルロースエステル類の具体例としては、例えば、脂肪族有機酸エステル、例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート等のセルロースアセテート類；セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等のＣ１−６有機酸エステル；セルロースフタレート、セルロースベンゾエート等のＣ７−１２芳香族カルボン酸エステル等の芳香族有機酸エステル；リン酸セルロース、硫酸セルロース等の無機酸エステル；酢酸・硝酸セルロースエステル等の混合酸エステル；セルロースフェニルカーバメート等のセルロースカーバメート類；シアノエチルセルロース等のセルロースエーテル類；ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のヒドロキシＣ２−４アルキルセルロース；メチルセルロース、エチルセルロース等のＣ１−６アルキルセルロース；カルボキシメチルセルロース又はその塩、ベンジルセルロース、アセチルアルキルセルロース等が挙げられる。【００６９】
上記スチレン系樹脂としては、スチレン系単量体の単独又は共重合体（例えば、ポリスチレン、スチレン−α−メチルスチレン共重合体、スチレン−ビニルトルエン共重合体）、スチレン系単量体と他の重合性単量体［例えば、（メタ）アクリル系単量体、無水マレイン酸、マレイミド系単量体、ジエン類］との共重合体等が含まれる。スチレン系共重合体としては、例えば、スチレン−アクリロニトリル共重合体（ＡＳ樹脂）、スチレンと（メタ）アクリル系単量体との共重合体［例えば、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸共重合体等］、スチレン−無水マレイン酸共重合体等が挙げられる。好ましいスチレン系樹脂としては、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル系単量体との共重合体［例えば、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体等のスチレンとメタクリル酸メチルを主成分とする共重合体］、ＡＳ樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体等が含まれる。【００７０】
上記（メタ）アクリル系樹脂としては、（メタ）アクリル系単量体の単独又は共重合体、（メタ）アクリル系単量体と共重合性単量体との共重合体等が使用できる。（メタ）アクリル系単量体の具体例としては、（メタ）アクリル酸；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル等の（メタ）アクリル酸Ｃ１−１０アルキル；（メタ）アクリル酸フェニル等の（メタ）アクリル酸アリール；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート；（メタ）アクリロニトリル；トリシクロデカン等の脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレート等が例示できる。共重合性単量体の具体例としては、上記スチレン系単量体、ビニルエステル系単量体、無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸等が例示でき、これらの単量体は、単独又は二種以上組み合わせて使用できる。【００７１】
上記（メタ）アクリル系樹脂としては、ポリメタクリル酸メチル等のポリ（メタ）アクリル酸エステル、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸エステル−スチレン共重合体（ＭＳ樹脂等）等が挙げられる。好ましい（メタ）アクリル系樹脂の具体例としては、ポリ（メタ）アクリル酸メチル等のポリ（メタ）アクリル酸Ｃ１−６アルキル、特にメタクリル酸メチルを主成分（５０〜１００質量％、好ましくは７０〜１００質量％程度）とするメタクリル酸メチル系樹脂が挙げられる。【００７２】
上記有機酸ビニルエステル系樹脂の具体例としては、ビニルエステル系単量体の単独又は共重合体（ポリ酢酸ビニル、ポリプロピオン酸ビニル等）、ビニルエステル系単量体と共重合性単量体との共重合体（エチレン−酢酸ビニル共重合体、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、酢酸ビニル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体等）又はそれらの誘導体が挙げられる。ビニルエステル系樹脂の誘導体の具体例としては、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアセタール樹脂等が含まれる。【００７３】
上記ビニルエーテル系樹脂の具体例としては、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルプロピルエーテル、ビニルｔ−ブチルエーテル等のビニルＣ１−１０アルキルエーテルの単独又は共重合体；ビニルＣ１−１０アルキルエーテルと共重合性単量体との共重合体（ビニルアルキルエーテル−無水マレイン酸共重合体等）等を挙げることができる。【００７４】
上記ハロゲン含有樹脂の具体例としては、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニリデン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。【００７５】
上記オレフィン系樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィンの単独重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体等の共重合体が挙げられる。脂環式オレフィン系樹脂の具体例としては、環状オレフィン（例えば、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン）の単独又は共重合体（例えば、立体的に剛直なトリシクロデカン等の脂環式炭化水素基を有する重合体）、上記環状オレフィンと共重合性単量体との共重合体（例えば、エチレン−ノルボルネン共重合体、プロピレン−ノルボルネン共重合体）等が例示できる。脂環式オレフィン系樹脂の具体例としては、商品名「アートン（ＡＲＴＯＮ）」、商品名「ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）」等として入手できる。【００７６】
上記ポリエステル系樹脂としては、テレフタル酸等の芳香族ジカルボン酸を用いた芳香族ポリエステル、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリＣ２−４アルキレンテレフタレートやポリＣ２−４アルキレンナフタレート等のホモポリエステル、Ｃ２−４アルキレンアリレート単位（Ｃ２−４アルキレンテレフタレート及び／又はＣ２−４アルキレンナフタレート単位）を主成分（例えば、５０質量％以上）として含むコポリエステル等を挙げることができる。コポリエステルの具体例としては、ポリＣ２−４アルキレンアリレートの構成単位のうち、Ｃ２−４アルキレングリコールの一部を、ポリオキシＣ２−４アルキレングリコール、Ｃ６−１０アルキレングリコール、脂環式ジオール（シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェノールＡ等）、芳香環を有するジオール（フルオレノン側鎖を有する９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡ−アルキレンオキサイド付加体等）等で置換したコポリエステル、芳香族ジカルボン酸の一部を、フタル酸、イソフタル酸等の非対称芳香族ジカルボン酸、アジピン酸等の脂肪族Ｃ６−１２ジカルボン酸等で置換したコポリエステルが含まれる。ポリエステル系樹脂の具体例としては、ポリアリレート系樹脂、アジピン酸等の脂肪族ジカルボン酸を用いた脂肪族ポリエステル、ε−カプロラクトン等のラクトンの単独又は共重合体も含まれる。好ましいポリエステル系樹脂は、通常、非結晶性コポリエステル（例えば、Ｃ２−４アルキレンアリレート系コポリエステル等）等のように非結晶性である。【００７７】
上記ポリアミド系樹脂としては、ナイロン４６、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２等の脂肪族ポリアミド、ジカルボン酸（例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸等）とジアミン（例えば、ヘキサメチレンジアミン、メタキシリレンジアミン）とから得られるポリアミド等が挙げられる。ポリアミド系樹脂の具体例としては、ε−カプロラクタム等のラクタムの単独又は共重合体であってもよく、ホモポリアミドに限らずコポリアミドであってもよい。【００７８】
上記ポリカーボネート系樹脂としては、ビスフェノール類（ビスフェノールＡ等）をベースとする芳香族ポリカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等の脂肪族ポリカーボネート等が含まれる。【００７９】
上記ポリマーとしては、硬化性官能基を有するポリマーを用いることもできる。上記硬化性官能基は、ポリマー主鎖中に存在するものであっても、側鎖に存在するものであってもよいが、側鎖に存在することがより好ましい。上記硬化性官能基としては、縮合性基や反応性基（例えば、ヒドロキシル基、酸無水物基、カルボキシル基、アミノ基又はイミノ基、エポキシ基、グリシジル基、イソシアネート基）、重合性基（例えば、ビニル、プロペニル、イソプロペニル基、ブテニル、アリル等のＣ２−６アルケニル基、エチニル、プロピニル、ブチニル等のＣ２−６アルキニル基、ビニリデン等のＣ２−６アルケニリデン基、又はこれらの重合性基を有する基（例えば、（メタ）アクリロイル基）等が挙げられる。これらの官能基のうち、重合性基が好ましい。【００８０】
上記硬化性官能基を側鎖に導入する方法としては、例えば、反応性基や縮合性基等の官能基を有する熱可塑性樹脂と、上記官能基との反応性基を有する重合性化合物とを反応させる方法等を挙げることができる。【００８１】
上記反応性基や縮合性基等の官能基を有する熱可塑性樹脂としては、カルボキシル基又はその酸無水物基を有する熱可塑性樹脂（例えば、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂）、ヒドロキシル基を有する熱可塑性樹脂（例えば、ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、セルロース誘導体、ポリアミド系樹脂）、アミノ基を有する熱可塑性樹脂（例えば、ポリアミド系樹脂）、エポキシ基を有する熱可塑性樹脂（例えば、エポキシ基を有する（メタ）アクリル系樹脂やポリエステル系樹脂）等が例示できる。また、スチレン系樹脂やオレフィン系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂等の熱可塑性樹脂に、上記官能基を共重合やグラフト重合で導入した樹脂であってもよい。【００８２】
上記重合性化合物は、カルボキシル基又はその酸無水物基を有する熱可塑性樹脂と反応させる場合は、エポキシ基やヒドロキシル基、アミノ基、イソシアネート基等を有する重合性化合物等を用いることができる。ヒドロキシル基を有する熱可塑性樹脂と反応させる場合は、カルボキシル基又はその酸無水物基やイソシアネート基等を有する重合性化合物等が挙げられる。アミノ基を有する熱可塑性樹脂と反応させる場合は、カルボキシル又はその酸無水物基やエポキシ基、イソシアネート基等を有する重合性化合物等が挙げられる。エポキシ基を有する熱可塑性樹脂と反応させる場合は、カルボキシル基又はその酸無水物基やアミノ基等を有する重合性化合物等が挙げられる。【００８３】
上記重合性化合物のうち、エポキシ基を有する重合性化合物としては、例えば、エポキシシクロヘキセニル（メタ）アクリレート等のエポキシシクロＣ５−８アルケニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテル等が例示できる。ヒドロキシル基を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシＣ１−４アルキル（メタ）アクリレート、エチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のＣ２−６アルキレングリコール（メタ）アクリレート等が例示できる。アミノ基を有する重合性化合物としては、例えば、アミノエチル（メタ）アクリレート等のアミノＣ１−４アルキル（メタ）アクリレート、アリルアミン等のＣ３−６アルケニルアミン、４−アミノスチレン、ジアミノスチレン等のアミノスチレン類等が例示できる。イソシアネート基を有する重合性化合物としては、例えば、（ポリ）ウレタン（メタ）アクリレートやビニルイソシアネート等が例示できる。カルボキシル基又はその酸無水物基を有する重合性化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸や無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸又はその無水物等が例示できる。【００８４】
代表的な例としては、カルボキシル基又はその酸無水物基を有する熱可塑性樹脂とエポキシ基含有化合物、特に（メタ）アクリル系樹脂（（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリル酸エステル共重合体等）とエポキシ基含有（メタ）アクリレート（エポキシシクロアルケニル（メタ）アクリレートやグリシジル（メタ）アクリレート等）の組み合わせが挙げられる。具体的には、（メタ）アクリル系樹脂のカルボキシル基の一部に重合性不飽和基を導入したポリマー、例えば、（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリル酸エステル共重合体のカルボキシル基の一部に、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチルアクリレートのエポキシ基を反応させて、側鎖に光重合性不飽和基を導入した（メタ）アクリル系ポリマー（サイクロマーＰ、ダイセル化学工業（株）製）等が使用できる。【００８５】
熱可塑性樹脂に対する硬化反応に関与する官能基（特に重合性基）の導入量は、熱可塑性樹脂１ｋｇに対して、０．００１〜１０モルであることが好ましく、より好ましくは０．０１〜５モル、さらに好ましくは０．０２〜３モル程度である。【００８６】
上記硬化性樹脂前駆体は、熱や活性エネルギー線（紫外線や電子線等）等により反応する官能基を有する化合物であり、熱や活性エネルギー線等により硬化又は架橋して樹脂（特に硬化又は架橋樹脂）を形成可能な化合物である。上記樹脂前駆体としては、例えば、熱硬化性化合物又は樹脂［エポキシ基、重合性基、イソシアネート基、アルコキシシリル基、シラノール基等を有する低分子量化合物（例えば、エポキシ系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂）］、活性光線（紫外線等）により硬化可能な光硬化性化合物（例えば、光硬化性モノマー、オリゴマーの紫外線硬化性化合物）等が例示でき、光硬化性化合物は、ＥＢ（電子線）硬化性化合物等であってもよい。なお、光硬化性モノマー、オリゴマーや低分子量であってもよい光硬化性樹脂等の光硬化性化合物を、単に「光硬化性樹脂」という場合がある。【００８７】
上記光硬化性化合物は、例えば、単量体、オリゴマー（又は樹脂、特に低分子量樹脂）であってよく、単量体としては、例えば、単官能性単量体［（メタ）アクリル酸エステル等の（メタ）アクリル系単量体、ビニルピロリドン等のビニル系単量体、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート等の橋架環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレート等］、少なくとも２つの重合性不飽和結合を有する多官能性単量体［エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリオキシテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート等の（ポリ）オキシアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、アダマンタンジ（メタ）アクリレート等の橋架環式炭化水素基を有するジ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の３〜６程度の重合性不飽和結合を有する多官能性単量体］が例示できる。【００８８】
オリゴマー又は樹脂としては、ビスフェノールＡ−アルキレンオキサイド付加体の（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート（ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、ノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート等）、ポリエステル（メタ）アクリレート（例えば、脂肪族ポリエステル型（メタ）アクリレート、芳香族ポリエステル型（メタ）アクリレート等）、（ポリ）ウレタン（メタ）アクリレート（例えば、ポリエステル型ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル型ウレタン（メタ）アクリレート）、シリコーン（メタ）アクリレート等が例示できる。これらの光硬化性化合物は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。【００８９】
上記硬化性樹脂前駆体は、短時間で硬化できる光硬化性化合物が好ましく、例えば、紫外線硬化性化合物（モノマー、オリゴマーや低分子量であってもよい樹脂等）、ＥＢ硬化性化合物である。特に、実用的に有利な樹脂前駆体は、紫外線硬化性樹脂である。さらに、耐擦傷性等の耐性を向上させるため、光硬化性樹脂は、分子中に２以上（好ましくは２〜６、さらに好ましくは２〜４程度）の重合性不飽和結合を有する化合物であるのが好ましい。硬化性樹脂前駆体の分子量としては、ポリマーとの相溶性を考慮して５０００以下、好ましくは２０００以下、さらに好ましくは１０００以下程度である。【００９０】
上記ポリマー及び上記硬化性樹脂前駆体は、ガラス転移温度が、例えば、−１００℃〜２５０℃、好ましくは−５０℃〜２３０℃、さらに好ましくは０〜２００℃程度（例えば、５０〜１８０℃程度）であることが好ましい。なお、表面硬度の観点から、ガラス転移温度は、５０℃以上（例えば、７０〜２００℃程度）、好ましくは１００℃以上（例えば、１００〜１７０℃程度）であるのが有利である。ポリマーの質量平均分子量は、例えば、１，０００，０００以下、好ましくは１，０００〜５００，０００程度の範囲から選択できる。【００９１】
上記硬化性樹脂前駆体は、必要に応じて、硬化剤と併用して使用してもよい。例えば、熱硬化性樹脂前駆体では、アミン類、多価カルボン酸類等の硬化剤を併用してもよい。硬化剤の含有量は、硬化性樹脂前駆体１００質量部に対して０．１〜２０質量部、好ましくは０．５〜１０質量部、さらに好ましくは１〜８質量部（特に１〜５質量部）程度であり、３〜８質量部程度であってもよい。上記光硬化性樹脂前駆体は、光重合開始剤を併用して使用してもよい。上記光重合開始剤としては、上記表面調整層において使用することができるものとして例示した化合物を使用することができる。【００９２】
上記硬化性樹脂前駆体は、硬化促進剤と併用して使用してもよい。例えば、光硬化性樹脂は、光硬化促進剤、例えば、第三級アミン類（例えば、ジアルキルアミノ安息香酸エステル）、ホスフィン系光重合促進剤等を含んでいてもよい。【００９３】
上記方法２においては、上述したようなポリマー及び硬化性樹脂前駆体とからなる群から少なくとも二種の成分を選択して使用するものである。上記（ａ）複数のポリマー同士が互いに非相溶で相分離する組み合わせの場合、上述したポリマーを適宜組み合わせて使用することができる。例えば、第１の樹脂がスチレン系樹脂（ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体等）である場合、第２の樹脂は、セルロース誘導体（例えば、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル類）、（メタ）アクリル系樹脂（ポリメタクリル酸メチル等）、脂環式オレフィン系樹脂（ノルボルネンを単量体とする重合体等）、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂（上記ポリＣ２−４アルキレンアリレート系コポリエステル等）等を使用することができる。また、例えば、第１のポリマーがセルロース誘導体（例えば、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル類）である場合、第２のポリマーは、スチレン系樹脂（ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体等）、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂（ノルボルネンを単量体とする重合体等）、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂（上記ポリＣ２−４アルキレンアリレート系コポリエステル等）等を使用することができる。複数の樹脂の組合せにおいて、少なくともセルロースエステル類（例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等のセルロースＣ２−４アルキルカルボン酸エステル類）を用いてもよい。【００９４】
第１のポリマーと第２のポリマーとの割合（質量比）は、例えば、第１のポリマー／第２のポリマーが、１／９９〜９９／１、好ましくは５／９５〜９５／５、さらに好ましくは１０／９０〜９０／１０程度の範囲から選択でき、通常、２０／８０〜８０／２０程度、特に３０／７０〜７０／３０程度である。【００９５】
スピノーダル分解により生成された相分離構造は、活性光線（紫外線、電子線等）や熱等により最終的に硬化し、硬化樹脂を形成する。そのため、ハードコート層Ｂに耐擦傷性を付与でき、耐久性を向上できる。【００９６】
硬化後の耐擦傷性の観点から、複数のポリマーのうち、少なくとも一つのポリマー、例えば、互いに非相溶なポリマーのうち一方のポリマー（第１のポリマーと第２のポリマーとを組み合わせる場合、特に両方のポリマー）が硬化性樹脂前駆体と反応可能な官能基を側鎖に有するポリマーであるのが好ましい。【００９７】
相分離構造を形成するためのポリマーとしては、上記非相溶な２つのポリマー以外にも、上記熱可塑性樹脂や他のポリマーが含まれていてもよい。【００９８】
上記複数のポリマー同士の組み合わせに、更に、上記硬化性樹脂前駆体（特に複数の硬化性官能基を有するモノマー又はオリゴマー）を併用して使用することもできる。この場合、硬化後の耐擦傷性の観点から、上記複数のポリマーのうち一方のポリマー（特に両方のポリマー）が硬化反応に関与する官能基（上記硬化性樹脂前駆体の硬化に関与する官能基）を有する熱可塑性樹脂であってもよい。熱可塑性樹脂と硬化性樹脂前駆体とは、互いに非相溶であることが好ましい。この場合、少なくとも１つのポリマーが樹脂前駆体に対して非相溶であればよく、他のポリマーは上記樹脂前駆体と相溶してもよい。【００９９】
ポリマーと硬化性樹脂前駆体との割合（質量比）は、特に制限されず、例えば、ポリマー／硬化性樹脂前駆体が、５／９５〜９５／５程度の範囲から選択でき、表面硬度の観点から、好ましくは５／９５〜６０／４０程度であり、さらに好ましくは１０／９０〜５０／５０、特に１０／９０〜４０／６０程度である。【０１００】
ポリマーを互いに非相溶な複数のポリマーで構成して相分離する場合、硬化性樹脂前駆体は、非相溶な複数のポリマーのうち、少なくとも１つのポリマーと加工温度付近で互いに相溶する組合せで使用することが好ましい。すなわち、互いに非相溶な複数のポリマーを、例えば、第１の樹脂と第２の樹脂とで構成する場合、硬化性樹脂前駆体は少なくとも第１の樹脂又は第２の樹脂のどちらかと相溶すればよく、好ましくは両方のポリマー成分と相溶してもよい。両方のポリマー成分に相溶する場合、第１の樹脂及び硬化性樹脂前駆体を主成分とした混合物と、第２の樹脂及び硬化性樹脂前駆体を主成分とした混合物との少なくとも二相に相分離する。【０１０１】
選択した複数のポリマーの相溶性が低い場合、溶媒を蒸発させるための乾燥過程でポリマー同士が有効に相分離し、ハードコート層Ｂの機能が向上する。複数のポリマー相分離性は、双方の成分に対する良溶媒を用いて均一溶液を調製し、溶媒を徐々に蒸発させる過程で、残存固形分が白濁するか否かを目視にて確認することにより簡便に判定できる。【０１０２】
通常、相分離した二相の成分は互いに屈折率が異なる。上記相分離した二相の成分の屈折率の差は、例えば、０．００１〜０．２であることが好ましく、より好ましくは０．０５〜０．１５である。【０１０３】
上記相分離型ハードコート層Ｂ用組成物において、溶媒は上記ポリマー及び硬化性樹脂前駆体の種類及び溶解性に応じて選択し使用することができ、少なくとも固形分（複数のポリマー及び硬化性樹脂前駆体、反応開始剤、その他添加剤）を均一に溶解できる溶媒であればよく、湿式スピノーダル分解において使用することができる。そのような溶媒としては、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、水、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合溶媒であってもよい。【０１０４】
上記相分離型ハードコート層Ｂ用組成物中の溶質（ポリマー及び硬化性樹脂前駆体、反応開始剤、その他添加剤）の濃度は、相分離が生じる範囲及び流延性やコーティング性等を損なわない範囲で選択でき、例えば、１〜８０質量％、好ましくは５〜６０質量％、さらに好ましくは１５〜４０質量％（特に２０〜４０質量％）程度である。【０１０５】
（方法３）凹凸形状をエンボスする処理を用いてハードコート層Ｂを形成する方法
方法３は、樹脂からなる被膜層を形成し、被膜層表面に対して、凹凸形状を付与する賦型処理を行って凹凸形状を有するハードコート層Ｂを形成する方法である。このような方法は、ハードコート層Ｂが有する凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型を用いた賦型処理によって好適に行うことができる。逆の凹凸形状を有する型はエンボス版、エンボスロール等が挙げられる。【０１０６】
方法３においては、ハードコート層Ｂ用組成物を付与してから凹凸型で賦型してもよいし、ハードコート層Ｂ用組成物をクリアハードコート層Ａを設けた光透過性基材と凹凸型の界面に供給し、ハードコート層Ｂ用組成物を凹凸型とクリアハードコート層Ａの間に介在させて、凹凸形状の形成とクリアハードコート層Ｂの形成とを同時に行ってもよい。ハードコート層Ｂ用組成物は、微粒子を含有していても、していなくともどちらでも、目的に応じて選択できる。本発明においては、エンボスローラーにかえて、平板状のエンボス板を用いることもできる。【０１０７】
エンボスローラー又は平板状のエンボス板等に形成されている凹凸型面は、サンドブラスト法又はビーズショット法等の公知の種々の方法により、形成することができる。サンドブラスト法によるエンボス版（エンボスローラー）を用いて形成されたハードコート層Ｂは、その上側に凹形状が多数分布した形状となる。ビーズショット法によるエンボス版（エンボスローラー）を用いて形成されたハードコート層Ｂは、上側に凸形状が多数分布した形状となる。【０１０８】
ハードコート層Ｂの表面に形成された凹凸形状の平均粗さが同じ場合に、上側に凸部が多数分布した形状を有しているハードコート層Ｂは、上側に凹部が多数分布した形状を有しているものと比較して、室内の照明装置等の写り込みが少ないとされている。このことから、本発明の好ましい態様によれば、ビーズショット法によりハードコート層Ｂの凹凸形状と同一形状に形成された凹凸型を利用してハードコート層Ｂの凹凸形状を形成することが好ましい。【０１０９】
凹凸型面を形成するための型材としては、プラスチック、金属、木等を使用することができ、これらの複合体であってもよい。上記凹凸型面を形成するための型材としては、強度、繰返使用による耐摩耗性の観点から、金属クロムが好ましく、経済性等の観点から、鉄製エンボス版（エンボスローラー）の表面にクロムをメッキしたものが好ましい。【０１１０】
サンドブラスト法又はビーズショット法により凹凸型を形成する際に、吹き付ける粒子（ビーズ）の具体例としては、金属粒子、シリカ、アルミナ、又はガラス等の無機質粒子が挙げられる。これらの粒子の粒子径（直径）としては、１００μｍ〜３００μｍ程度であることが好ましい。これらの粒子を型材に吹き付ける際には、これら粒子を高速の気体と共に吹き付ける方法が挙げられる。この際、適切な液体、例えば、水等を併用してよい。また、本発明にあっては、凹凸形状を形成した凹凸型には、使用時の耐久性を向上させる目的で、クロムメッキ等を施してから使用することが好ましく、硬膜化、及び腐食防止の上で好ましい。【０１１１】
上記ハードコート層Ｂ用組成物は、上記クリアハードコート層Ａについて述べた添加剤等を添加していてもよい。【０１１２】
本発明の光学積層体においては、クリアハードコート層Ａとハードコート層Ｂとを積層した状態で、加重４．９Ｎにおいて鉛筆硬度４Ｈ以上であることが望ましい。この積層体は、ビッカース硬度は５５０Ｎ／ｍｍ以上であることが望ましい。【０１１３】
上記クリアハードコート層Ａ及びハードコート層Ｂの厚みは、所望の特性等に応じて適宜設定できるが、０．１〜１００μｍであることが好ましく、０．８〜２０μｍであることがより好ましい。上記厚みは、以下の方法によって測定することができる。【０１１４】
（層厚：合計厚みの測定方法）
共焦点レーザー顕微鏡（ＬｅｉｃａＴＣＳ−ＮＴ：ライカ社製：倍率「３００〜１０００倍」）にて、光学積層体の断面を透過観察し、界面の有無を判断し下記の評価基準で判断した。具体的には、ハレーションのない鮮明な画像を得るため、共焦点レーザー顕微鏡に、湿式の対物レンズを使用し、かつ、光学積層体の上に屈折率１．５１８のオイルを約２ｍｌ乗せて観察し判断した。オイルの使用は、対物レンズと光学積層体との間の空気層を消失させるために用いた。凹凸形状を有するハードコート層Ｂは、測定によって得られた１画面につき  最表面の凹凸の最大凸部、最小凹部の基材からの膜厚を１点ずつ計２点測定し、それを５画面分、計１０点測定し、平均値を算出した。クリアハードコート層Ａの膜厚は、１画面につき、膜厚を１点ずつ測定し、５画面分、計５点測定し、平均値を算出することにより測定した。
上記レーザー顕微鏡は、各層に屈折率差があることによって非破壊断面観察できる。よって、もし、屈折率差が不明瞭であったり、差が０に近い場合には、クリアハードコート層Ａ及びハードコート層Ｂの厚みは、各層の組成の違いで層を観察できるＳＥＭ及びＴＥＭ断面写真観察によっても、同様に５画面分を観察し、各平均値を求めることができる。【０１１５】
本発明の光学積層体においては、ハードコート層Ｂの凹凸形状による表面ヘイズ値が、０．２〜３０であることが好ましい。この範囲が好ましいのは、０．２以上のヘイズが伴わない凹凸形状では、防眩性が不足するし、３０より大きいヘイズを伴う凹凸形状では、防眩性は優れるが、画面が白っぽくマットになりすぎ、黒色再現性が得られないからである。
「表面ヘイズ」は、以下のように求められる。ハードコート層Ｂ（表面調整層、又は、後述する任意の層が形成されている場合は、その任意の層のうち最外層）の凹凸上にペンタエリスリトールトリアクリレート等のアクリルモノマーとその他オリゴマーやポリマーを適宜混合したものをトルエン等で希釈し、適宜開始剤等を添加し、固形分６０％としたものをワイヤーバーで乾燥膜厚が８μｍとなるように塗布、乾燥、硬化する。これによって、ハードコート層Ｂ（任意の層が形成されている場合は、その任意の層のうち最外層）の表面凹凸がつぶれ、平坦な層となる。ただし、このハードコート層Ｂや任意の層を形成する組成物中にレベリング剤等が入っていることで、リコート剤がはじきやすく濡れにくいような場合は、あらかじめ防眩フィルムをケン化処理（２ｍｏｌ／ｌ  のＮａＯＨ（又はＫＯＨ）溶液  ５５度  ３分浸したのち、水洗し、キムワイプで水滴を完全に除去した後、５０度オーブンで１分乾燥）により、親水処理を施すとよい。この表面を平坦にしたフィルムは、表面凹凸によるヘイズをもたない、内部ヘイズだけを持つ状態となっている。このヘイズを、内部ヘイズとして求めることができる。そして、内部ヘイズを、元のフィルムのヘイズ（全体ヘイズ）から差し引いた値が、表面凹凸だけに起因するヘイズ（表面ヘイズ）として求められる。【０１１６】
本発明の光学積層体は、クリアハードコート層Ａ及びハードコート層Ｂの二層からなるハードコート層を有する光学積層体である。上記光学積層体は、必要に応じてクリアハードコート層Ａとハードコート層Ｂとの間にプライマー層を設けてもよい。上記プライマー層としては特に限定されず、例えば、ポリウレタン樹脂系のプライマー塗料等の公知のプライマー塗料により形成することができる。上記プライマー塗料は、干渉縞防止の観点から、クリアハードコート層Ａに対して浸透性を持つ溶剤を使用することが好ましい。このような溶剤としては、上述の浸透性溶剤を挙げることができる。【０１１７】
本発明の光学積層体は、上記ハードコート層Ｂ上に更に表面調整層を設けてなることが好ましい。上記表面調整層を設けることにより、ハードコート層Ｂと一体となって防眩性機能を発揮する。すなわち、表面調整層を上記ハードコート層Ｂ上に形成させることにより、ハードコート層Ｂの凹凸形状は滑らかになり、更に、上記範囲の表面粗さパラメータを持たせることで、充分な防眩性を付与しつつ、極めて艶黒感の高い防眩性積層体を作製することができる。特に、艶黒感に優れる凹凸形状としてψは、０．００２０≦ψ≦０．００８０であることがより好ましく、θａは、０．３≦θａ≦０．８であることがより好ましい。【０１１８】
本発明の光学積層体が、上記ハードコート層Ｂ上に表面調整層を形成する場合、光学積層体表面の凹凸形状の光学特性値（ψ、Ｓｍ、θａ、Ｒｚ）は、表面調整層を含む光学積層体の最表面（表面調整層の表面）の値である。【０１１９】
表面調整層は、ハードコート層Ｂの凹凸形状を形成している表面粗さにおいて凹凸スケール（凹凸の山高さと山間隔）の１／１０以下のスケールで凹凸形状に沿って存在している微細な凹凸部を目止めして、スムージングを掛けて滑らかな凹凸（凸部はなだらかな山状で、凹部は、谷状ではなく、ほぼ平坦な形状）を形成させること、又は、凹凸の山間隔や山高さ、山の頻度（個数）の調整をすることが可能となる。凹凸形状の凹部を、比較的平坦にすることで、黒色階調に優れ、黒が濡れたような黒（艶黒）にすることが可能となる。また、表面調整層は、帯電防止、屈折率調整、高硬度化、防汚染性等を付与することを目的として形成されるものであってもよい。表面調整層の層厚（硬化時）は０．６μｍ以上１５μｍ以下（１２μｍ以下が好ましい）であることが好ましく、より好ましくは下限が３μｍであり上限が８μｍである。なお、上記表面調整層の厚みは、上述の方法でハードコート層の厚みＡを測定したのち、表面調整層を積層したハードコート層＋表面調整層の厚みＢを測定し、このＢからＡの値を差し引いて算出した値である。（ハードコート層と、表面調整層のバインダー樹脂に屈折率差がある場合には、完成した製品の、上記Ｂを測定した後に、Ａを測定して算出も可能である。）上記層厚が０．６μｍ未満であると、防眩性は良好であるが、艶黒感が改善しない場合がある。層厚が１５μｍを超えた場合は、艶黒感は非常に優れるが、防眩性が改善しないという問題を生じる場合がある。【０１２０】
上記表面調整層は、樹脂バインダーを含有するものである。上記樹脂バインダーとしては特に限定されないが、透明性のものが好ましく、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、熱硬化型樹脂等を硬化して得られるもの等を挙げることができる。より好ましくは電離放射線硬化型樹脂である。電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、熱硬化型樹脂としては特に限定されず、上記ハードコート層の形成に使用できるものとして例示した樹脂を使用することができる。【０１２１】
上記表面調整層は、流動性を調整する有機微粒子や無機微粒子等の流動性調整剤を含有するものであってもよい。上記流動性調整剤として使用することができる有機微粒子又は無機微粒子の形状は特に制限されるものではなく、例えば、球状、板状、繊維状、不定形、中空等のいずれのものでも良い。特に、好ましい流動性調整剤は、コロイダルシリカである。【０１２２】
本発明において「コロイダルシリカ」とは、コロイド状態のシリカ粒子を水又は有機溶媒に分散させたコロイド溶液を意味する。上記コロイダルシリカの粒子径（直径）は、１〜５０ｎｍ程度の超微粒子のものであることが好ましい。なお、本発明におけるコロイダルシリカの粒子径は、ＢＥＴ法による平均粒子径（ＢＥＴ法により表面積を測定し、粒子が真球であるとして換算して平均粒子径を算出する）である。【０１２３】
上記コロイダルシリカは、公知のものであり、市販のものとしては、例えば、「メタノールシリカゾル」、「ＭＡ−ＳＴ−Ｍ」、「ＩＰＡ−ＳＴ」、「ＥＧ−ＳＴ」、「ＥＧ−ＳＴ−ＺＬ」、「ＮＰＣ−ＳＴ」、「ＤＭＡＣ−ＳＴ」、「ＭＥＫ」、「ＸＢＡ−ＳＴ」、「ＭＩＢＫ−ＳＴ」（以上、日産化学工業（株）製品、いずれも商品名）、「ＯＳＣＡＬ１１３２」、「ＯＳＣＡＬ１２３２」、「ＯＳＣＡＬ１３３２」、「ＯＳＣＡＬ１４３２」、「ＯＳＣＡＬ１５３２」、「ＯＳＣＡＬ１６３２」、「ＯＳＣＡＬ１１３２」（以上、触媒化成工業（株）製品、いずれも商品名）で市販されているものを挙げることができる。【０１２４】
上記有機微粒子又は無機微粒子は、表面調整層のバインダー樹脂質量１００に対し、微粒子質量が５〜３００で含まれていることが好ましい（微粒子質量／バインダー樹脂質量＝Ｐ／Ｖ比＝５〜３００／１００）。５未満であると、凹凸形状への追随性が不充分となるため、艶黒感等の黒色再現性と防眩性とを両立することが困難になる場合がある。３００を超えると、密着性や耐擦傷性など物性面で不良が起こるため、この範囲以内がよい。添加量は、添加する微粒子によって変化するが、コロイダルシリカの場合には、添加量は５〜８０が好ましい。８０を超えると、それ以上添加しても防眩性が変化しない領域となるため、添加する意味がなくなることと、これを超えると下層との密着性不良が起こるため、この範囲以下にすることがよい。【０１２５】
光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものが好ましい。光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、又は、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテートが挙げられる。【０１２６】
上記光透過性基材としては、また、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）フィルムも使用することができる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂等が用いられている基材であり、例えば、日本ゼオン（株）製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト（株）製  スミライトＦＳ−１７００、ＪＳＲ（株）製アートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学（株）製アペル（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製のＴｏｐａｓ（環状オレフィン共重合体）、日立化成（株）製オプトレッツＯＺ−１０００シリーズ（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ（株）製のＦＶシリーズ（低複屈折率、低光弾性率フィルム）も好ましい。【０１２７】
上記光透過性基材は、上記熱可塑性樹脂を柔軟性に富んだフィルム状体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性樹脂の板を使用することも可能であり、又は、ガラス板の板状体のものを使用してもよい。【０１２８】
光透過性基材の厚さは、２０μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは上限が２００μｍであり、下限が３０μｍである。光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さを超える厚さであってもよい。基材は、その上に防眩層、帯電防止層等を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。【０１２９】
本発明の光学積層体は、光透過性等が損なわれない範囲内で、必要に応じてハードコート層上に他の層（低屈折率層、防汚層、帯電防止層、接着剤層、他のハードコート層等）の１層又は２層以上を適宜形成することができる。なかでも、低屈折率層を有することが好ましい。これらの層は、公知の反射防止用積層体と同様のものを採用することもできる。【０１３０】
上記低屈折率層は、外部からの光（例えば蛍光灯、自然光等）が光学積層体の表面にて反射する際、その反射率を低くするという役割を果たす層である。上記低屈折率層は、その屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下であることが好ましい。
また、低屈折率層の乾燥厚みは限定されないが、通常は３０ｎｍ〜１μｍ程度の範囲内から適宜設定すれば良い。【０１３１】
上記低屈折率層としては、好ましくは１）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する樹脂、２）低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、３）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂、４）シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれかにより構成される。上記フッ素系樹脂以外の樹脂については、上記ハードコート層用組成物を構成する樹脂と同様の樹脂を用いることができる。【０１３２】
上記フッ素系樹脂としては、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体を用いることができる。重合性化合物は、特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基、熱硬化する極性基等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。この重合性化合物に対し、重合体とは、上記のような反応性基などを一切もたないものである。【０１３３】
電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ‐２，２‐ジメチル‐１，３‐ジオキソールなど）を例示することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとして、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物；分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物などもある。【０１３４】
熱硬化性極性基として好ましいのは、例えば水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基である。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカなどの無機超微粒子との親和性にも優れている。熱硬化性極性基を持つ重合性化合物としては、例えば、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品などを挙げることができる。【０１３５】
電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全または部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。【０１３６】
また、フッ素系樹脂としては、例えば、次のようなものを挙げることができる。上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；上記含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体など。これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も使うことができる。【０１３７】
上記シリコーン成分としては特に限定されず、例えば、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーンなどが例示される。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。【０１３８】
ポリジメチルシロキサン系重合物が特性上の接触角を大きくすることが可能なことから好ましく使用される。かかるシロキサンの具体例としては、末端にシラノール基を有するポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリメチルビニルシロキサンなどのポリアルキル、ポリアルケニル、又は、ポリアリールシロキサンに各種架橋剤、例えばテトラアセトキシシラン、テトラアルコキシキシシラン、テトラエチルメチルケトオキシムシラン、テトライソプロペニルシラン等の四官能シラン、さらにはアルキル又はアルケニルトリアセトキシシラン、トリケトオキシムシラン、トリイソプロペニルシラントリアルコキシシランなどの３官能シランなどを添加混合したもの、場合によってはあらかじめ反応させたものが挙げられる。【０１３９】
さらには、以下のような化合物からなる非重合体又は重合体も、フッ素系樹脂として用いることができる。すなわち、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基のようなイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオールのようなフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物等を用いることができる。【０１４０】
また、上記したフッ素原子を持つ重合性化合物や重合体とともに、ハードコート層用組成物に記載したような各樹脂成分を混合して使用することもできる。更に、反応性基等を硬化させるための硬化剤、塗工性を向上させたり、防汚性を付与させたりするために、各種添加剤、溶剤を適宜使用することができる。【０１４１】
このほか、低屈折率層は、ＳｉＯ２からなる薄膜で構成することもできる。例えば、蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法等の気相法、ＳｉＯ２ゾルを含むゾル液からＳｉＯ２ゲル膜を形成する液相法等のいずれで形成されたものであっても良い。さらに、ＳｉＯ２以外にも、ＭｇＦ２の薄膜等の素材でも低屈折率層を構成し得る。特に、下層に対する密着性が高いという点で、ＳｉＯ２薄膜が好ましい。また、上記の手法のうち、プラズマＣＶＤ法によるときは、有機シロキサンを原料ガスとし、他の無機質の蒸着源が存在しない条件で行うことが好ましい。また、この場合、被蒸着体をできるだけ低温度に維持して行うことが好ましい。【０１４２】
低屈折率層の形成にあっては、例えば原料成分を含む組成物（低屈折率層用組成物）を用いて形成することができる。より具体的には、原料成分（樹脂等）及び必要に応じて添加剤（例えば、後述の「空隙を有する微粒子」、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等）を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、低屈折率層用組成物として用い、上記組成物による塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより低屈折率層を得ることができる。なお、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等の添加剤は、特に限定されず、公知のものを挙げることができる。【０１４３】
上記低屈折率層においては、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることができる。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、被膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。この微粒子を使用した低屈折率層は、屈折率を１．３０〜１．４５に調節することが可能である。【０１４４】
空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に記載された方法によって調製されたシリカ微粒子を挙げることができる。また、特開平７−１３３１０５号公報、特開２００２−７９６１６号公報、特開２００６−１０６７１４号公報等に記載された製法によって得られるシリカ微粒子であってもよい。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０〜１．４５程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。【０１４５】
被膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラム及び表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、又は断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体例としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業（株）製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。【０１４６】
「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍ以上であり上限が１００ｎｍ以下であり、より好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が８０ｎｍ以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。なお、上記平均粒子径は、動的光散乱法等によって測定した値である。「空隙を有する微粒子」は、上記低屈折率層中にマトリックス樹脂１００質量部に対して、通常０．１〜５００質量部程度、好ましくは１０〜２００質量部程度とするのが好ましい。【０１４７】
上記溶剤としては特に限定されず、例えば、ハードコート層用組成物で上述したものが挙げられ、好ましくは、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ジエチルケトン、ＰＧＭＥ等である。【０１４８】
上記低屈折率層用組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、ハードコート層の形成で上述した公知の装置を使用して混合することができる。【０１４９】
塗膜の形成方法は、公知の方法に従えば良い。例えば、ハードコート層の形成で上述した各種方法を用いることができる。【０１５０】
低屈折率層の形成においては、上記低屈折率層用組成物の粘度を好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｃｐｓ（２５℃）、好ましくは０．７〜３ｃｐｓ（２５℃）の範囲のものとすることが好ましい。可視光線の優れた反射防止膜を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ基材に対する密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。【０１５１】
得られた塗膜の硬化方法は、組成物の内容等に応じて適宜選択すれば良い。例えば、紫外線硬化型であれば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化させれば良い。硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤が添加されることが好ましい。【０１５２】
低屈折率層の膜厚（ｎｍ）ｄＡは、下記式（Ｖ）：
ｄＡ＝ｍλ／（４ｎＡ）    （Ｖ）
（上記式中、
ｎＡは低屈折率層の屈折率を表し、
ｍは正の奇数を表し、好ましくは１を表し、
λは波長であり、好ましくは４８０〜５８０ｎｍの範囲の値である）
を満たすものが好ましい。【０１５３】
また、本発明にあっては、低屈折率層は下記数式（ＶＩ）：
１２０＜ｎＡｄＡ＜１４５    （ＶＩ）
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。【０１５４】
上記防汚層は、光学積層体の最表面に汚れ（指紋、水性又は油性のインキ類、鉛筆等）が付着しにくく、又は付着した場合でも容易に拭取ることができるという役割を担う層である。本発明の好ましい態様によれば、低屈折率層の最表面の汚れ防止を目的として防汚層を設けても良く、特に低屈折率層が形成された光透過性基材の一方の面と反対の両側に防汚層が設けることが好ましい。防汚層の形成により、光学積層体に対して防汚性と耐擦傷性のさらなる改善を図ることが可能となる。低屈折率層がない場合でも、最表面の汚れ防止を目的として防汚層を設けても良い。【０１５５】
防汚層は、一般的には、防汚染剤及び樹脂を含む組成物により形成することができる。上記防汚染剤は、光学積層体の最表面の汚れ防止を主目的とするものであり、光学積層体の耐擦傷性を付与することもできる。上記防汚染剤としては、フッ素系化合物、ケイ素系化合物、又はこれらの混合化合物が挙げられる。より具体的には、２−パーフロロオクチルエチルトリアミノシラン等のフロロアルキル基を有するシランカップリング剤等が挙げられ、特に、アミノ基を有するものが好ましくは使用することができる。上記樹脂としては特に限定されず、上述のハードコート層用組成物で例示した樹脂を挙げることができる。【０１５６】
防汚層は、例えばハードコート層Ｂの上に形成することができる。特に、防汚層が最表面になるように形成することが望ましい。防汚層は、例えばハードコート層Ｂ自身に防汚性能を付与することにより代替することもできる。【０１５７】
本発明の光学積層体は、更に帯電防止層を有するものであってもよい。上記帯電防止層は、帯電防止剤及び樹脂を含む組成物により形成することができる。上記樹脂としては特に限定されず、上述のハードコート層用組成物で例示した樹脂を挙げることができる。【０１５８】
上記帯電防止剤としては特に限定されず、例えば、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性化合物；スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性化合物；アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物；アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物；スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物；上記有機金属化合物のアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等を挙げることができる。上記に列記した化合物を高分子量化した化合物も使用することができる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基又は金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマー又はオリゴマー又は官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。【０１５９】
上記帯電防止剤としては、導電性ポリマーも挙げることができる。導電性ポリマーとしては特に限定されず、例えば、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、ポリイソシアナフテン、脂肪族共役系のポリアセチレン、ポリアセン、ポリアズレン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、ポリチエニレンビニレン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフト又はブロック共重合した高分子である導電性複合体や、これら導電性ポリマーの誘導体等を挙げることができる。
なかでも、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール等の有機系帯電防止剤を使用することがより好ましい。上記有機系帯電防止剤を使用することによって、優れた帯電防止性能を発揮すると同時に、光学積層体の全光線透過率を高めるとともにヘイズ値を下げることも可能になる。また、導電性向上や、帯電防止性能向上を目的として、有機スルホン酸や塩化鉄等の陰イオンを、ドーパント（電子供与剤）として添加することもできる。ドーパント添加効果も踏まえ、特にポリチオフェンは透明性、帯電防止性が高く、好ましい。上記ポリチオフェンとしては、オリゴチオフェンも好適に使用することができる。上記導電性ポリマーの誘導体としては特に限定されず、例えば、ポリフェニルアセチレン、ポリジアセチレンのアルキル基置換体等を挙げることができる。【０１６０】
上記帯電防止剤は、導電性金属酸化物微粒子であってもよい。上記導電性金属酸化物微粒子としては特に限定されず、例えば、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の値はすべて屈折率を表すものである。）、Ｓｂ２Ｏ２（１．７１）、ＳｎＯ２（１．９９７）、ＣｅＯ２（１．９５）、酸化インジウム錫（略称ＩＴＯ；１．９５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．００）、Ａｌ２Ｏ３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称ＡＴＯ；２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称  ＡＺＯ；２．０）等を挙げることができる。微粒子とは、平均粒子径が１ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものをいい、平均粒子径が０．１ｎｍ〜０．１μｍのものであることが超微粒子をバインダーに分散した折、ヘイズがほとんどなく、全光線透過率が良好な高透明な膜を形成できる組成物を作製できるという観点からみて好ましい。上記導電性金属酸化物微粒子の平均粒子径は、動的光散乱法等によって測定することができる。【０１６１】
本発明は、ハードコート層Ｂの表面の形状をコントロールし、そのθａ及びψを上述の範囲内とすることによって所望の効果を得ることができるものである。すなわち、本発明の光学積層体の表面の形状をコントロールすることによって、光学特性をコントロールするものである。ここで、上記「光学積層体の表面」は、上記光学積層体が上述の任意の層を有する場合においても、空気と接する最表面を意味するものであって、このような最表面の凹凸形状の光学特性値が、本発明における光学積層体の表面凹凸形状の光学特性値と一致するものである。【０１６２】
本発明の光学積層体において、上記クリアハードコート層Ａ及びハードコート層Ｂ、更に必要に応じて形成される任意の層からなる積層体の総厚は、４〜２５μｍであることが好ましい。上記総厚を上記範囲とすることで、目的とする硬度等の物性を得ることができ、かつ、製造安定性に優れ、割れ、カール（ハードコート層を設けることで光学積層体がカールしてしまい、その後の工程に悪影響を与える）を防止できるために好ましい。【０１６３】
このような本発明の光学積層体は、例えば、トリアセチルセルロースを原料とする光透過性基材表面に、クリアハードコート層Ａ用組成物を塗布し、クリアハードコート層Ａを形成する工程と、前記クリアハードコート層Ａ上にハードコート層Ｂ用組成物を塗布し、ハードコート層Ｂを形成する工程とを有する方法により製造することができる。このような本発明の光学積層体の製造方法も、本発明の一つである。【０１６４】
本発明の光学積層体の製造方法において、上記クリアハードコート層Ａを形成する工程、及び、ハードコート層Ｂを形成する工程としては、上述したクリアハードコート層Ａを形成する方法、及び、ハードコート層Ｂを形成する方法と同様の方法が挙げられる。
このような本発明の光学積層体の製造方法によると、トリアセチルセルロースを原料とする光透過性基材と、該光透過性基材上に形成したクリアハードコート層Ａとの界面を実質的に存在しないものとすることができる。【０１６５】
偏光素子の表面に、本発明による光学積層体を該光学積層体におけるハードコート層が存在する面と反対の面を設けることによって、偏光板とすることができる。このような偏光板も、本発明の一つである。【０１６６】
上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材（好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム）にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。【０１６７】
本発明は、最表面に上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置でもある。上記画像表示装置は、ＬＣＤ等の非自発光型画像表示装置であっても、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ等の自発光型画像表示装置であってもよい。【０１６８】
上記非自発光型の代表的な例であるＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は本発明の偏光板が形成されてなるものである。【０１６９】
本発明が上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。【０１７０】
上記自発発光型画像表示装置であるＰＤＰは、表面ガラス基板と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した光学積層体を備えるものでもある。【０１７１】
上記自発発光型画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行なうＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。【０１７２】
本発明の画像表示装置は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。
【発明の効果】
【０１７３】
本発明により、充分な硬度と良好な防眩性を同時に有する光学積層体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１７４】
【図１】実施例で使用した光学積層体の製造装置の一例である
【符号の説明】
【０１７５】
４０  エンボス装置
４１  光透過性基材
４２  凹凸形状
４３  コーティングヘッド
４４  ハードコート層Ｂ用組成物
４５ａ  ニップローラー
４５ｂ  剥離ローラ
４６  パイプ
４７  エンボスローラー
４８  硬化装置
４９  スリット
【発明を実施するための最良の形態】
【０１７６】
本発明の内容を下記の実施例により説明するが、本発明の内容はこれらの実施例に限定して解釈されるものではない。特別に断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【実施例】
【０１７７】
クリアハードコート層Ａ用組成物の調製
クリアハードコート層Ａ用組成物１
ポリエステルアクリレート（東亞合成社製；Ｍ９０５０、３官能、分子量４１８）    １０質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ０．４質量部
メチルエチルケトン（以下、「ＭＥＫ」という）    １０質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してクリアハードコート層Ａ用組成物１を調製した。【０１７８】
クリアハードコート層Ａ用組成物２
ポリエステルアクリレート    ５質量部
（東亞合成社製；Ｍ９０５０、３官能、分子量４１８）
ウレタンアクリレート    ５質量部
（日本化薬社製；ＤＰＨＡ４０Ｈ、１０官能、分子量約７０００）
重合開始剤（イルガキュア１８４）    ０．４質量部
ＭＥＫ    １０質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してクリアハードコート層Ａ用組成物２を調製した。【０１７９】
クリアハードコート層Ａ用組成物３
ポリエチレングリコールジアクリレート    ２質量部
（東亞合成社製；Ｍ２４０、２官能、分子量３０２）
ウレタンアクリレート    ６質量部
（日本化薬社製；ＤＰＨＡ４０Ｈ、１０官能、分子量約７０００）
ウレタンアクリレート    ２質量部
（荒川化学社製；ＢＳ３７１、１０官能以上、分子量約４万）
重合開始剤（イルガキュア１８４）    ０．４質量部
ＭＥＫ    １０質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してクリアハードコート層Ａ用組成物３を調製した。【０１８０】
クリアハードコート層Ａ用組成物４
ウレタンアクリレート    １０質量部
（日本合成社製；紫光ＵＶ３５２０−ＴＬ、２官能、分子量１４０００）
重合開始剤（イルガキュア１８４）    ０．４質量部
ＭＥＫ    １０質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してクリアハードコート層Ａ用組成物４を調製した。【０１８１】
ハードコート層Ｂ用組成物
ハードコート層Ｂ用組成物１
（紫外線硬化型樹脂）
多官能ウレタンアクリレートＵＶ１７００Ｂ（日本合成化学工業（株）１０官能、分子量２０００、屈折率１．５１）    ０．９質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１）    ２．１質量部
ポリメチルメタクリレート（分子量７５，０００）    ０．２２質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ０．１２６質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ０．０２１質量部
（透光性第一微粒子）
単分散アクリルビーズ（粒子径５μｍ、屈折率１．５３５）    ０．４４質量部
（透光性第二微粒子）
不定形シリカ（平均粒子径１．５μｍ、粒子表面に疎水有機処理あり）    ０．０４４質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤    ０．０１１質量部
上記材料に、トルエン／シクロヘキサノン＝８／２の混合溶剤を添加し、十分混合し、固形分４０．５質量％の組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過してハードコート層Ｂ用組成物１を調製した。【０１８２】
ハードコート層Ｂ用組成物２
（紫外線硬化型樹脂）
多官能ウレタンアクリレートＵＶ１７００Ｂ（日本合成化学工業（株）１０官能、分子量２０００、製屈折率１．５１）    １．１０質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１）    １．１０質量部
イソシアヌル酸変性ジアクリレート  Ｍ２１５（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）    １．２１質量部
ポリメチルメタクリレート（分子量７５，０００）    ０．３４質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ０．２２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ０．０４質量部
（透光性第一微粒子）
単分散アクリルビーズ（粒子径９．５μｍ、屈折率１．５３５）    ０．８２質量部
（透光性第二微粒子）
不定形シリカインキ（平均粒子径１．５μｍ、固形分６０％、シリカ成分は全固形分の１５％）    １．７３質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤    ０．０２質量部
（溶剤）
トルエン    ５．８８質量部
シクロヘキサノン    １．５５質量部
上記材料を十分混合し、固形分４０．５質量％の組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過してハードコート層Ｂ用組成物２を調製した。【０１８３】
ハードコート層Ｂ用組成物３
（紫外線硬化型樹脂）
多官能ウレタンアクリレートＵＶ１７００Ｂ（日本合成化学工業（株）１０官能、分子量２０００、製屈折率１．５１）    ３０質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）    ７０質量部
（ポリマー）
ポリメチルメタクリレート（分子量７５０００）    １０質量部
（透光性第一微粒子）
単分散アクリルビーズ（粒径７．０μｍ、屈折率１．５３５）    ２０質量部
（透光性第二微粒子）
単分散スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．６０）    ２．５質量部
（透光性第三微粒子）
不定形シリカ（平均粒子径２．５μｍ  粒子表面に有機疎水処理あり）    ２質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ６質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    １質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤    ０．０４５質量部
（溶剤）
トルエン    １５８質量部
シクロヘキサノン    ３９．５質量部
上記材料を適宜添加して十分混合した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分４０．５質量％のハードコート層Ｂ用組成物３とした。【０１８４】
ハードコート層Ｂ用組成物４
（紫外線硬化型樹脂）
多官能ウレタンアクリレートＵＶ１７００Ｂ（日本合成化学工業（株）製、１０官能、分子量２０００、屈折率１．５１）    ３０質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）    ７０質量部
（ポリマー）
ポリメチルメタクリレート（分子量７５０００）    １０質量部
（透光性第一微粒子）
単分散アクリルビーズ（粒径７．０μｍ、屈折率１．５３５）    ２０質量部
（透光性第二微粒子）
単分散スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．６０）    １６．５質量部
（透光性第三微粒子）
不定形シリカ（平均粒子径２．５μｍ）    ２質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ６質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    １質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤    ０．０４５質量部
（溶剤）
トルエン    １７４．４質量部
シクロヘキサノン    ４３．６質量部
上記材料を適宜添加して十分混合した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分４０．５質量％のハードコート層Ｂ用組成物４とした。【０１８５】
ハードコート層Ｂ用組成物５
（紫外線硬化型樹脂）
多官能ウレタンアクリレート  ＢＳ３７１（荒川化学製、１０官能以上、分子量約４万、屈折率１．５１）    ６質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１）    １４質量部
セルロースアセテートプロピオネート（分子量５０，０００）    ０．４質量部
（光硬化開始剤）  
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    １．２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ０．２質量部
（微粒子）  
不定形シリカ（平均粒径１．５μｍ）    ０．８８質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤    ０．０１２質量部
（溶剤）
トルエン    ３５．４質量部
メチルイソブチルケトン    ６．７質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分３５質量％のハードコート層Ｂ用組成物５を調製した。【０１８６】
ハードコート層Ｂ用組成物６
（紫外線硬化型樹脂）
多官能ウレタンアクリレートＵＶ１７００Ｂ（日本合成化学工業（株）製、屈折率１．５１）    １６質量部
イソシアヌル酸変性ジアクリレートＭ２１５（東亞合成（株）製）    ２質量部
ポリメチルメタクリレート（分子量７５，０００）    ２質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    １．２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ０．２質量部
（微粒子）
単分散スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．６０）    ０．５質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤    ０．０１３２質量部
上記材料と、トルエン：シクロヘキサノンが６：４の溶剤を、全固形分が４０％となるように添加して十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層Ｂ用組成物６を調製した。【０１８７】
ハードコート層Ｂ用組成物７
（樹脂）
酢酸プロピオン酸セルロースエステル（イーストマンケミカル社製、ＣＡＰ４８２−２０）    ０．９５質量部
反応性オリゴマー［（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリル酸エステル共重合体のカルボキシル基の一部に、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチルアクリレートを付加させた化合物；ダイセル・ユーシービー（ＵＣＢ）（株）製、サイクロマーＰ］    １６．２５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）    １５．８質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）    １．２５質量部
（溶剤）
メチルエチルケトン    ５１質量部
ブタノール    １７質量部
上記材料を適宜添加して十分混合した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分３３．５質量％のハードコート層Ｂ用組成物７とした。【０１８８】
ハードコート層Ｂ用組成物８
（紫外線硬化型樹脂）
多官能ウレタンアクリレート  ＢＳ３７１（荒川化学製  １０官能以上、分子量約４万、屈折率１．５１）    ８質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１）    １２質量部
セルロースアセテートプロピオネート（分子量５０，０００）    ０．４質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    １．２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ０．２質量部
（微粒子）
不定形シリカ（平均粒径１．５μｍ、シランカップリング剤による表面疎水処理あり）    ０．４６質量部
不定形シリカ（平均粒径１．０μｍ、シランカップリング剤による表面疎水処理あり）    ０．４６質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤    ０．０１２質量部
（溶剤）
トルエン    １５．６質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート    ２０．３質量部
メチルイソブチルケトン    ６．３質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分３５質量％ハードコート層Ｂ用組成物８を調製した。【０１８９】
ハードコート層Ｂ用組成物９
（紫外線硬化型樹脂）
多官能ウレタンアクリレートＵＶ１７００Ｂ（日本合成化学工業（株）製屈折率１．５１）    １８質量部
ポリメチルメタクリレート（分子量７５，０００）    ２質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    １．３２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ０．２２質量部
（微粒子）
単分散アクリルスチレンビーズ（粒径７．０μｍ、屈折率１．５５）    １．５質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤    ０．０９質量部
上記材料と、トルエン：シクロヘキサノンが８：２の溶剤を、全固形分が４５質量％となるように添加して十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層Ｂ用組成物９を調製した。【０１９０】
ハードコート層Ｂ用組成物１０
（紫外線硬化型樹脂）
多官能ウレタンアクリレート  ＨＤＰ（根上工業社製、１０官能、分子量４５００、屈折率１．５１）    １０質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１）    ４０質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    １．５０質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    １．５０質量部
ＰＥＴＡを４０℃オーブン中で１時間温めた後、２種類の光硬化開始剤をゆっくりと添加しながら攪拌し、４０℃オーブンで更に１時間温め、その後、再攪拌し光硬化開始剤を完全に溶解させ、固形分１００質量％のハードコート層Ｂ用組成物１０として調製した。【０１９１】
ハードコート層Ｂ用組成物１１
（紫外線硬化型樹脂）
多官能ウレタンアクリレートＵＶ６３００Ｂ（日本合成化学工業（株）製屈折率１．５１）    ２０質量部
ＭＥＫ分散コロイダルシリカ（粒径１０〜２０ｎｍ、固形分３０％）    ２０質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    １．２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ０．２質量部
（微粒子）
単分散スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．６０）    １．９質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤  １０−２８（大日精化（株）製）    ０．０９質量部
上記材料と、トルエン：シクロヘキサノンが８：２の溶剤を、全固形分が４０質量％となるように添加して十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層Ｂ用組成物１１を調製した。【０１９２】
ハードコート層Ｂ用組成物１２
（紫外線硬化型樹脂）
多官能ウレタンアクリレート  ＨＤＰ（根上工業社製、１０官能、分子量４５００、屈折率１．５１）    １０質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１）    １０質量部
セルロースアセテートプロピオネート（分子量５０，０００）    ０．４質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    １．２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ０．２質量部
（微粒子）
不定形シリカ（平均粒径１．５μｍ、シランカップリング剤による表面疎水処理あり）    ０．８８質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤    ０．０１２質量部
（溶剤）
トルエン    ３５質量部
メチルイソブチルケトン    ６．７質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分３５質量％のハードコート層Ｂ用組成物１２を調製した。【０１９３】
ハードコート層Ｂ用組成物１３
（熱硬化型樹脂）
ポリエステル樹脂  バイロン２００（東洋紡（株）製、屈折率１．５５）    １００質量部
（硬化剤）
イソシアネート系ＸＥＬ硬化剤（ザ・インクテック（株）製）    ２．７質量部
（微粒子）
アクリルビーズ  （積水化成工業（株）製、ＭＢＸ−８、平均粒径８μｍ、屈折率  １．４９）    １８０質量部
（溶剤）
トルエン    １３０質量部
メチルエチルケトン    １００質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分５０質量％のハードコート層Ｂ用組成物１３を調製した。【０１９４】
ハードコート層Ｂ用組成物１４
（熱硬化型樹脂）
ポリエステル樹脂  バイロン２００（東洋紡（株）製、屈折率１．５５）    １００質量部
（硬化剤）
イソシアネート系ＸＥＬ硬化剤（ザ・インクテック（株）製）    ２．７質量部
（微粒子）
アクリルビーズ（積水化成工業（株）製、ＭＢＸ−５、平均粒径５μｍ、屈折率  １．４９）    １２０質量部
（溶剤）
トルエン    １３０質量部
メチルエチルケトン    １００質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分５０質量％のハードコート層Ｂ用組成物１４を調製した。【０１９５】
表面調整層用組成物
表面調整層用組成物１
（紫外線硬化型樹脂）
ＵＶ１７００Ｂ（日本合成化学工業（株）製、屈折率１．５１）    ３１．１質量部
アロニックスＭ３１５（商品名、東亞合成（株）製イソシアヌール酸のエチレンオキサイド３モル付加物のトリアクリレート）    １０．４質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    １．４９質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ０．４１質量部
（防汚剤）
ＵＴ−３９７１（日本合成化学工業（株）製）    ２．０７質量部
（溶剤）
トルエン    ５２５．１８質量部
シクロヘキサノン    ６０．２８質量部
上記成分を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分４０．５質量％の表面調整層用組成物１を調製した【０１９６】
表面調整層用組成物２（Ｐ／Ｖ＝３０／１００）
コロイダルシリカスラリー（ＭＩＢＫ分散；固形分４０％、平均粒径２０ｎｍ）    ２．９１質量部
ＵＶ−１７００Ｂ（紫外線硬化型樹脂；日本合成化学工業製  固形分６０％ＭＩＢＫ）    ６．１０質量部
アロニックスＭ２１５（紫外線硬化型樹脂；東亞合成（株）製イソシアヌール酸のエチレンオキサイド２モル付加物のジアクリレート固形分６０％ＭＩＢＫ）    １．５２質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ０．０１８質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ０．００３質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤  １０−２８（大日精化製）    ０．００８５質量部
（溶剤）
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン    ２．０６質量部
シクロヘキサノン    ０．４１質量部
上記成分を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、固形分約４５質量％の表面調整層用組成物２を調製した。【０１９７】
低屈折率層用組成物
中空シリカスラリー（ＩＰＡ，ＭＩＢＫ分散、固形分２０％、粒径５０ｎｍ）    ９．５７質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート  ＰＥＴ３０（紫外線硬化型樹脂；日本化薬製）    ０．９８１質量部
ＡＲ１１０（フッ素ポリマー；固形分１５％ＭＩＢＫ溶液；ダイキン工業製）    ６．５３質量部
イルガキュア１８４（光硬化開始剤；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）    ０．０６９質量部
シリコーン系レベリング剤    ０．１５７質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）    ２８．８質量部
メチルイソブチルケトン    ５３．９質量部
上記成分を攪拌の後、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、固形分４質量％の低屈折率層用組成物を調製した。これは、屈折率が１．４０である。【０１９８】
実施例１
クリアハードコート層Ａの形成
セルローストリアセテートフィルム（厚み８０μｍ）の片面に、クリアハードコート層Ａ用組成物１を約１２μｍ塗布した。７０℃にて６０秒乾燥し、紫外線４０ｍＪ／ｃｍ２を照射して下地用のクリアハードコート層Ａを形成した。
ハードコート層Ｂの形成
さらに、クリアハードコート層Ａの上に、ハードコート層Ｂ用組成物１をコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１０を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させハードコート層Ｂを形成した。
表面調整層の形成
さらにハードコート層Ｂの上に、表面調整層用組成物１を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃６を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、表面調整層を積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の積層体の総厚：約１９μｍ）【０１９９】
実施例２
クリアハードコート層Ａの形成
セルローストリアセテートフィルム（厚み８０μｍ）の片面に、クリアハードコート層Ａ用組成物２を、約６μｍ塗布した。７０℃にて６０秒乾燥し、紫外線４０ｍＪ／ｃｍ２を照射して下地用のクリアハードコート層Ａを形成した。
ハードコート層Ｂの形成
さらに、クリアハードコート層Ａの上に、ハードコート層Ｂ用組成物２をコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１４を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させハードコート層Ｂを形成した。
表面調整層の形成
さらにハードコート層Ｂの上に、表面調整層用組成物１を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１４を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、表面調整層を積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の積層体の総厚：約２２．５μｍ）【０２００】
実施例３
クリアハードコート層Ａの形成
セルローストリアセテートフィルム（厚み８０μｍ）の片面に、クリアハードコート層Ａ用組成物３を、約１２μｍ塗布した。７０℃にて６０秒乾燥し、紫外線４０ｍＪ／ｃｍ２を照射して下地用のクリアハードコート層Ａを形成した。
ハードコート層Ｂの形成
さらに、クリアハードコート層Ａの上に、ハードコート層Ｂ用組成物３をコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃２４を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、ハードコート層Ｂを積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の積層体の総厚：約２５μｍ）【０２０１】
実施例４
クリアハードコート層Ａの形成
セルローストリアセテートフィルム（厚み８０μｍ）の片面に、クリアハードコート層Ａ用組成物３を、約１２μｍ塗布した。７０℃にて６０秒乾燥し、紫外線４０ｍＪ／ｃｍ２を照射して下地用のクリアハードコート層Ａを形成した。
ハードコート層Ｂの形成
さらに、クリアハードコート層Ａの上に、ハードコート層Ｂ用組成物３をコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃２４を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が４０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、ハードコート層Ｂを積層した。
低屈折率層の形成
さらにハードコートＢ層の上に、低屈折率層用組成物を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃２を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、低屈折率層を積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の防眩層の総厚：約２５μｍ）【０２０２】
実施例５
クリアハードコート層Ａの形成
セルローストリアセテートフィルム（厚み８０μｍ）の片面に、クリアハードコート層Ａ用組成物１を、約１２μｍ塗布した。７０℃にて６０秒乾燥し、紫外線４０ｍＪ／ｃｍ２を照射して下地用のクリアハードコート層Ａを形成した。
ハードコート層Ｂの形成
さらに、クリアハードコート層Ａの上に、ハードコート層Ｂ用組成物４をコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１４を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させハードコート層Ｂを形成した。
表面調整層の形成
さらにハードコート層Ｂの上に、表面調整層用組成物２を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１０を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、表面調整層を積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の積層体の総厚：約２４μｍ）【０２０３】
実施例６
クリアハードコート層Ａの形成
セルローストリアセテートフィルム（厚み８０μｍ）の片面に、クリアハードコート層Ａ用組成物２を、約１２μｍ塗布した。７０℃にて６０秒乾燥し、紫外線４０ｍＪ／ｃｍ２を照射して下地用のクリアハードコート層Ａを形成した。
ハードコート層Ｂの形成
さらに、クリアハードコート層Ａの上に、ハードコート層Ｂ用組成物５をコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃６を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、ハードコート層Ｂを積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の積層体の総厚：約１５μｍ）【０２０４】
実施例７
クリアハードコート層Ａの形成
セルローストリアセテートフィルム（厚み８０μｍ）の片面に、クリアハードコート層Ａ用組成物３を、約１０μｍ塗布した。７０℃にて６０秒乾燥し、紫外線４０ｍＪ／ｃｍ２を照射して下地用のクリアハードコート層Ａを形成した。
ハードコート層Ｂの形成
さらに、クリアハードコート層Ａの上に、ハードコート層Ｂ用組成物６をコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１０を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、ハードコート層Ｂを積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の積層体の総厚：約１６μｍ）【０２０５】
実施例８
クリアハードコート層Ａの形成
セルローストリアセテートフィルム（厚み８０μｍ）の片面に、クリアハードコート層Ａ用組成物２を、約１０μｍ塗布した。７０℃にて６０秒乾燥し、紫外線４０ｍＪ／ｃｍ２を照射して下地用のクリアハードコート層Ａを形成した。
ハードコート層Ｂの形成
さらに、クリアハードコート層Ａの上に、ハードコート層Ｂ用組成物７をコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃２４を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、ハードコート層Ｂを積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の積層体の総厚：約１８μｍ）【０２０６】
実施例９
プライマー層の形成
アートンフィルム（膜厚１００μｍ、ＪＳＲ（株）製）に、変性ポリオレフィン系プライマー（ユニストールＰ９０１、三井化学（株）製）を、３μｍの膜厚で塗工し、プライマー層を形成した。
クリアハードコート層Ａの形成
さらに、上記プライマー層の上に、クリアハードコート層Ａ用組成物１を、約１０μｍ塗布した。７０℃にて６０秒乾燥し、紫外線４０ｍＪ／ｃｍ２を照射して下地用のクリアハードコート層Ａを形成した。
ハードコート層Ｂの形成
さらに、クリアハードコート層Ａの上に、ハードコート層Ｂ用組成物８をコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃６を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、ハードコート層Ｂを積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の積層体の総厚：約１６μｍ）【０２０７】
実施例１０
クリアハードコート層Ａの形成
セルローストリアセテートフィルム（厚み８０μｍ）の片面に、クリアハードコート層Ａ用組成物３を、約５μｍ塗布した。７０℃にて６０秒乾燥し、紫外線４０ｍＪ／ｃｍ２を照射して下地用のクリアハードコート層Ａを形成した。
ハードコート層Ｂの形成
さらに、クリアハードコート層Ａの上に、ハードコート層Ｂ用組成物９をコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃３４を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、ハードコート層Ｂを積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の積層体の総厚：約２５μｍ）【０２０８】
実施例１１
クリアハードコート層Ａの形成
セルローストリアセテートフィルム（厚み８０μｍ）の片面に、クリアハードコート層Ａ用組成物１を、約５μｍ塗布した。７０℃にて６０秒乾燥し、紫外線４０ｍＪ／ｃｍ２を照射して下地用のクリアハードコート層Ａを形成した。
エンボスローラーの調製
鉄製のローラーを準備し、ローラーの表面に、１００メッシュ（粒径分布；１０６μｍ〜１５０μｍ）のガラスビーズを用いて、ビーズショットを行なうことにより、凹凸を形成し、得られた凹凸面にクロムを厚みが５μｍになるようメッキして、エンボスローラとした。ビーズショットの際の吹付け圧力、吹付けノズルとローラーとの間隔等を調整することにより、本発明の光学積層体が有する防眩層の凹凸形状の光学特性に合致したエンボスローラーを作成した。
プライマー層の形成
ポリウレタン樹脂系のプライマー塗料（ザ・インクテック（株）製、ケミカルマットニス用メジウム主剤、硬化剤；ＸＥＬ硬化剤（Ｄ））を、主剤／硬化剤／溶剤の質量比を、１０／１／３．３の割合で混合した組成物を用いて、ハードコートＡ層上へグラビアコーティングを行ない、乾燥して、厚み３μｍのプライマー層を形成した。溶剤としては、トルエン／メチルエチルケトン＝１／１のものを用いた。
ハードコートＢ層の形成
図１で表した製造装置（エンボス装置４０）に、調製したエンボスローラーを装着し、また、調製したハードコート層Ｂ用組成物１０をコーティングヘッドの液溜めに供給した。液溜めは４０℃で常に保温した。上記クリアハードコート層Ａ及びプライマー層を有する基材を、エンボスローラに供給した。ハードコート層Ｂ用組成物１０をエンボスローラに塗布し、上記基材をその組成物上に重ね、ゴムローラでラミネートし、続いて、フィルム側より、紫外線光源を用いて紫外線を２００ｍｊ照射し硬化させ、エンボスローラより剥離し、防眩性光学積層体を形成した。（基材上の防眩層の総厚：約２０μｍ）【０２０９】
実施例１２
クリアハードコート層Ａの形成
セルローストリアセテートフィルム（厚み８０μｍ）の片面に、クリアハードコート層Ａ用組成物２を、約１２μｍ塗布した。７０℃にて６０秒乾燥し、紫外線４０ｍＪ／ｃｍ２を照射して下地用のクリアハードコート層Ａを形成した。
ハードコート層Ｂの形成
さらに、クリアハードコート層Ａの上に、ハードコート層Ｂ用組成物１１をコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１２を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、ハードコート層Ｂを積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の積層体の総厚：約１８μｍ）【０２１０】
実施例１３
クリアハードコート層Ａの形成
セルローストリアセテートフィルム（厚み８０μｍ）の片面に、クリアハードコート層Ａ用組成物１を、約１２μｍ塗布した。７０℃にて６０秒乾燥し、紫外線４０ｍＪ／ｃｍ２を照射して下地用のクリアハードコート層Ａを形成した。
ハードコート層Ｂの形成
さらに、クリアハードコート層Ａの上に、ハードコート層Ｂ用組成物１２をコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃６を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、ハードコート層Ｂを積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の積層体の総厚：約１５μｍ）【０２１１】
比較例１
クリアハードコート層Ａの形成
セルローストリアセテートフィルム（厚み８０μｍ）の片面に、クリアハードコート層Ａ用組成物４の組成物樹脂を、約６μｍ塗布した。７０℃にて６０秒乾燥し、紫外線４０ｍＪ／ｃｍ２を照射して下地用のクリアハードコート層Ａを形成した。
ハードコート層Ｂの形成
さらに、クリアハードコート層Ａの上に、ハードコート層Ｂ用組成物１３をコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃２４を用いて塗布し、８０℃のオーブン中で２分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させ、塗膜を熱硬化させ、ハードコート層Ｂを積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の積層体の総厚：約２４μｍ）【０２１２】
比較例２
ハードコート層Ｂの形成
セルローストリアセテートフィルム（厚み８０μｍ）の片面に、ハードコート層Ｂ用組成物１４をコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃２８を用いて塗布し、８０℃のオーブン中で２分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、塗膜を熱硬化させ、ハードコート層Ｂを積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の積層体の総厚：約２０μｍ）【０２１３】
得られた光学積層体について、ψ、θａ、Ｒｚ及びＳｍを測定した。基準長さは０．８ｍｍである。また、以下の評価方法に基づいて評価を行った。結果を表１に示す。
（１）干渉縞有無試験
光学積層体のハードコート層と逆の面に、裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、ハードコート層の面から光学積層体を、３０Ｗ三波長管灯下で目視により観察し、下記評価基準にて評価した。
評価基準
評価○：干渉縞の発生はなかった。
評価×：干渉縞の発生があった。【０２１４】
（２）鉛筆硬度試験
作製した光学積層体を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験用鉛筆（硬度４Ｈ）を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−５４００が規定する鉛筆硬度評価方法に従い、４．９Ｎの荷重にて実施した。
評価基準
評価○：傷なし／測定回数＝４／５，５／５
評価×：傷なし／測定回数＝０／５，１／５，２／５，３／５【０２１５】
【表１】
2008020613.tif 000003
【０２１６】
本発明の光学積層体は、良好な鉛筆硬度を有し、干渉縞のみられないものであることが示された。
【産業上の利用可能性】
【０２１７】
本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の反射防止用フィルムとして使用することができる。
【図１】
2008020613.tif 000004
【国際調査報告】
2008020613.tif 000005
2008020613.tif 000006
2008020613.tif 000007
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