(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光を発振させるレーザ発振器と、
前記レーザ発振器から出射されたレーザ光を集光させて加工対象物に当該レーザ光を照射するフォーカス光学系を有する光学ユニットと、
前記フォーカス光学系と前記加工対象物との相対的な位置関係を、前記レーザ光の光軸方向に略垂直な面内方向で変化させるＸＹ移動機構と、
前記加工対象物に対する前記フォーカス光学系の前記光軸方向における位置を変化させるＺ移動機構と、
前記フォーカス光学系と前記加工対象物との前記光軸方向における距離情報を取得する距離情報取得手段と、
前記Ｚ移動機構及び前記ＸＹ移動機構を制御することで、前記レーザ光の焦点位置の調整を行いつつ、当該レーザ光を前記加工対象物に走査させる制御システムと、を備えたレーザ加工装置であって、
前記制御システムは、前記焦点位置の調整を行うために、前記距離情報取得手段によって取得した前記距離情報に基づいて前記フォーカス光学系の前記光軸方向における目標位置を算出し、当該フォーカス光学系の移動指令を前記Ｚ移動機構に出力するフォーカス制御ユニットを有し、
前記フォーカス制御ユニットは、
前記フォーカス光学系と前記加工対象物との前記面内方向における相対的な位置関係の変化に対し、前記距離情報をリアルタイムで取得し、この距離情報に基づいて前記フォーカス光学系の前記光軸方向における前記目標位置を算出するリアルタイム制御モードと、
前記レーザ光が照射される照射範囲における複数の位置情報の各々に対応した複数の前記距離情報を取得し、これら複数の距離情報に基づいて前記フォーカス光学系の前記光軸方向における複数の前記目標位置を算出するバッチ制御モードと、
を切り替え実行可能に構成されており、
前記距離情報の変動量が所定値よりも小さい場合には、前記リアルタイム制御モードを実行し、前記距離情報の変動量が所定値よりも大きい場合には、前記バッチ制御モードを実行することを特徴とするレーザ加工装置。
【請求項２】
レーザ光の光軸方向における焦点位置の調整を行いつつ、当該レーザ光で加工対象物を高速走査することで当該加工対象物に加工を施すレーザ加工方法であって、
前記加工対象物の前記光軸方向における表面位置の変動量が所定値よりも小さい場合には、前記レーザ光が走査される前記加工対象物の走査位置の変化に対し、リアルタイムで前記焦点位置の調整を行い、
前記加工対象物の前記光軸方向における表面位置の変動量が所定値よりも大きい場合には、前記レーザ光が走査される前記加工対象物の走査位置の変化に対し、予め取得した表面位置情報に基づいて前記焦点位置の調整を行うことを特徴とするレーザ加工方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザ光を加工対象物に照射することで加工を行うレーザ加工装置と、この装置を用いたレーザ加工方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、様々な分野でレーザ光が用いられており、そのうちの１つとしてレーザ光を加工対象物に照射することで加工を行うレーザ加工装置がある。レーザ加工装置は、フラットパネルディスプレイ分野等の製造プロセスにおける薄膜基板や、その他の多様な構造物に対して加工を施すために用いられており、レーザ光を集光させて加工対象物に当該レーザ光を照射するフォーカス光学系を有する光学ユニットと、フォーカス光学系と加工対象物との相対的な位置関係を変化させる移動機構と、フォーカス光学系と加工対象物との距離を計測する計測器とを備えたものが知られている。
【０００３】
上記構成を有するレーザ加工装置では、レーザ光と加工対象物との距離が一定に保たれるように当該レーザ光の焦点位置の調整が行われ、当該レーザ光で加工対象物が走査されて、加工対象物がダイレクトに加工される。そのため、マスキング等が不要となり、製造プロセスが簡略化されて低コスト化を実現できる。その一方で、加工面の形状変化が大きい加工対象物や、サイズが大きくかつ厚みが薄いことからそりが大きい加工対象物で、加工前における加工面の矯正が困難なものがある。上記のレーザ加工装置を多用途へ展開する中で、このような加工対象物へ微細な加工を施すことが求められているが、加工面の形状変化が大きい場合や、加工対象物のそりが大きい場合、レーザ光の焦点位置が加工面に合い難いために焦点ずれを起こし、このことが加工形状に影響を与える。そのため、長い焦点深度を有するフォーカス光学系や、加工対象物とフォーカス光学系との相対的な位置を微調整できる移動機構を採用すること等で、レーザ光の焦点ずれを抑えている。
【０００４】
また、計測器で計測されたフォーカス光学系と加工対象物との距離に基づき、フォーカス光学系が移動され、当該フォーカス光学系の焦点位置の調整が行われるが、加工対象物の加工面において、レーザ光が照射される加工点と、上記の距離が計測される計測点とでは、互いに位置がずれている。そのため、上記の加工点と上記の計測点との間の位置ずれ分の補正を行ったうえで、当該加工点におけるフォーカス光学系の光軸方向における目標位置を算出する必要がある。この点に関し、例えば特許文献１には、円筒状回転体の表面に微細な加工を施すためのレーザ加工装置として、フォーカス光学系としてのレーザ加工ヘッド、このレーザ加工ヘッドをレーザ光の光軸方向へ移動させる追従テーブル、及びレーザ加工ヘッドから円筒状回転体の表面までの距離を測定する計測器を備えたものが記載されている。この装置では、レーザ加工ヘッドから円筒状回転体の表面までの距離が計測された計測点に加工ヘッドが整合した時点で、当該加工ヘッドの位置の補正が実行されるように、レーザ加工ヘッドを移動させる追従テーブルが制御されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平６−１１４５７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１のレーザ加工装置では、計測器による距離の計測からレーザ加工ヘッドの移動の制御までの時間に、同文献に記載の数式で算出された遅れ時間が加えられることで、レーザ加工ヘッドからのレーザ光が照射される加工点と、計測器による計測点との間の位置ずれ分が補正されている。上記の遅れ時間の算出は、上記の加工点と上記の計測点との間のロール表面上の寸法をロール表面の周速で除し、除した数値からＰＬＣによる演算時間とレーザ加工ヘッドの移動時間との和を引くことで求められている。
【０００７】
ここで、レーザ光による加工対象物への走査速度が、例えば１０００mm／secというような高速となった場合、レーザ光を光軸方向へ移動させるレーザ加工ヘッドは、非常に短い制御周期で制御されなければならない。しかし、同文献に記載のＰＬＣでは、レーザ光の高い走査速度に対応可能な制御周期は得られず、上記の位置ずれ分の的確な補正をすることができない。従って、レーザ光が加工対象物に高い走査速度で走査される場合では、加工点におけるレーザ光の焦点位置の調整が不十分となり、十分な加工性能を得ることができないという欠点がある。
【０００８】
そこで本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、レーザ光が高い走査速度で走査される場合に、高い加工性能を得ることができるレーザ加工装置及びレーザ加工方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するため、次の技術的手段を講じた。
即ち、本発明のレーザ加工装置は、レーザ光を発振させるレーザ発振器と、前記レーザ発振器から出射されたレーザ光を集光させて加工対象物に当該レーザ光を照射するフォーカス光学系を有する光学ユニットと、前記フォーカス光学系と前記加工対象物との相対的な位置関係を、前記レーザ光の光軸方向に略垂直な面内方向で変化させるＸＹ移動機構と、前記加工対象物に対する前記フォーカス光学系の前記光軸方向における位置を変化させるＺ移動機構と、前記フォーカス光学系と前記加工対象物との前記光軸方向における距離情報を取得する距離情報取得手段と、前記Ｚ移動機構及び前記ＸＹ移動機構を制御することで、前記レーザ光の焦点位置の調整を行いつつ、当該レーザ光を前記加工対象物に走査させる制御システムと、を備えたレーザ加工装置であって、前記制御システムは、前記焦点位置の調整を行うために、前記距離情報取得手段によって取得した前記距離情報に基づいて前記フォーカス光学系の前記光軸方向における目標位置を算出し、当該フォーカス光学系の移動指令を前記Ｚ移動機構に出力するフォーカス制御ユニットを有していることを特徴とするものである。
【００１０】
上記本発明のレーザ加工装置によれば、焦点位置の調整を行うために、距離情報取得手段によって取得した距離情報に基づいてフォーカス光学系の光軸方向における目標位置を算出し、当該フォーカス光学系の移動指令を前記Ｚ移動機構に出力するフォーカス制御ユニットを有する制御システムとしているため、レーザ光の高い走査速度に対応可能な短い制御周期を得ることができる。そのため、レーザ光が、高い走査速度で走査される場合であっても、レーザ光が照射される加工点と、距離情報が取得される計測点との間の位置ずれ分の的確な補正がされ、当該加工点におけるレーザ光の焦点位置の確実な調整を行うことができる。
【００１１】
前記フォーカス制御ユニットは、前記フォーカス光学系と前記加工対象物との前記面内方向における相対的な位置関係の変化に対し、前記距離情報をリアルタイムで取得し、この距離情報に基づいて前記フォーカス光学系の前記光軸方向における前記目標位置を算出するリアルタイム制御モードを実行可能に構成されていることが好ましい。
【００１２】
前記フォーカス制御ユニットを上記のリアルタイム制御モードを実行可能に構成することで、フォーカス系から照射されたレーザ光で加工対象物を走査しながら、当該フォーカス光学系の光軸方向への移動を制御し、当該レーザ光の焦点位置の調整を行うことができるため、加工時間を短縮することができる。
【００１３】
前記フォーカス制御ユニットは、前記レーザ光が照射される照射範囲における複数の位置情報の各々に対応した複数の前記距離情報を取得し、これら複数の距離情報に基づいて前記フォーカス光学系の前記光軸方向における複数の前記目標位置を算出するバッチ制御モードを実行可能に構成されていることが好ましい。
【００１４】
前記フォーカス制御ユニットを上記のバッチ制御モードを実行可能に構成することで、複数の距離情報から得た複数の目標位置を一旦保存し、これら複数の目標位置に基づいてフォーカス光学系の光軸方向への移動を制御し、レーザ光の焦点位置の調整を行うことができる。これにより、距離情報をリアルタイムで取得し難い場合であっても、加工点におけるレーザ光の焦点位置の確実な調整を行うことができる。
【００１５】
前記フォーカス制御ユニットは、前記フォーカス光学系と前記加工対象物との前記面内方向における相対的な位置関係の変化に対し、前記距離情報をリアルタイムで取得し、この距離情報に基づいて前記フォーカス光学系の前記光軸方向における前記目標位置を算出するリアルタイム制御モードと、前記レーザ光が照射される照射範囲における複数の位置情報の各々に対応した複数の前記距離情報を取得し、これら複数の距離情報に基づいて前記フォーカス光学系の前記光軸方向における複数の前記目標位置を算出するバッチ制御モードと、を切り替え実行可能に構成されており、前記距離情報の変動量が所定値よりも小さい場合には、前記リアルタイム制御モードを実行し、前記距離情報の変動量が所定値よりも大きい場合には、前記バッチ制御モードを実行することが好ましい。
【００１６】
前記フォーカス制御ユニットを、このようにリアルタイム制御モードとバッチ制御モードとを切り替え実行可能に構成することで、フォーカス光学系と加工対象物との光軸方向における距離情報の変動量が所定値よりも小さく、当該距離情報を取得し易い場合には、リアルタイム制御モードを実行し、当該距離情報の変動量が所定値よりも大きく、当該距離情報を取得し難い場合には、バッチ制御モードを実行できる。従って、加工面の形状変化が大きい加工対象物やそりが大きい加工対象物に対し、加工点におけるレーザ光の焦点位置の確実な調整を行うことができる。
【００１７】
本発明のレーザ加工方法は、レーザ光の光軸方向における焦点位置の調整を行いつつ、当該レーザ光で加工対象物を高速走査することで当該加工対象物に加工を施すレーザ加工方法であって、前記加工対象物の前記光軸方向における表面位置の変動量が所定値よりも小さい場合には、前記レーザ光が走査される前記加工対象物の走査位置の変化に対し、リアルタイムで前記焦点位置の調整を行い、前記加工対象物の前記光軸方向における表面位置の変動量が所定値よりも大きい場合には、前記レーザ光が走査される前記加工対象物の走査位置の変化に対し、予め取得した表面位置情報に基づいて前記焦点位置の調整を行うことを特徴とするものである。
【００１８】
上記本発明のレーザ加工方法によれば、加工対象物の表面位置の変動量にともなって、焦点位置の調整の仕方を変更できるので、加工面の形状変化が大きい加工対象物やそりが大きい加工対象物に高速走査する場合であっても、加工点におけるレーザ光の焦点位置の確実な調整を行うことができる。
【発明の効果】
【００１９】
上記の通り、本発明によれば、レーザ光が高い走査速度で走査される場合であっても、加工点におけるレーザ光の焦点位置の確実な調整が行われるので、高い加工性能を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一実施形態に係るレーザ加工装置の概略斜視図である。
【図２】ワークに対する走査方向を説明する説明図である。
【図３】光学ユニットの動きを説明するための模式図である。
【図４】制御システムと各モータとの関係を示すブロック図である。
【図５】オートフォーカス制御基板の機能ブロック図である。
【図６】Ｚ軸サーボモータを制御するための構成を示す構成図である。
【図７】リアルタイム制御モードにおける距離情報を取得するタイミングを説明する説明図である。
【図８】（ａ）はバッチ制御モードを説明する説明ブロック図であり、（ｂ）は同モードにおけるワーク上の距離情報を取得する計測点の説明図である。
【図９】検証を行うための機器構成を示す構成図である。
【図１０】（ａ）はアナログ変位計の計測データであり、（ｂ）はフォーカス制御ユニットで検知された計測データである。
【図１１】（ａ）はリアルタイム制御モードで加工を行った場合における、フォーカス制御ユニットが算出したフォーカッシングレンズの目標位置と、Ｚ軸サーボアンプの検出位置とを示すグラフであり、（ｂ）はバッチ制御モードで加工を行った場合における、マトリクスデータによるフォーカッシングレンズの目標位置と、Ｚ軸サーボアンプの検出位置とを示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。図１は、本発明の一実施形態に係るレーザ加工装置としての薄膜レーザパターニング装置（以下、パターニング装置という）１の概略斜視図である。以下の説明において、図１に示すパターニング装置１の前後方向に対応する方向をＸ軸方向３０といい、左右方向に対応する方向をＹ軸方向３１といい、上下方向に対応する方向をＺ軸方向３２という。このパターニング装置１は、レーザ光を加工対象物である基板５０（以下、ワークという）上の所定領域で走査することで、所定のパターニングを行うものであり、レーザ光を発振させる図示しないレーザ発振器と、架台２と、レーザ発振器から出射されたレーザ光を伝送し、ワーク５０へ照射する加工光学系３と、加工光学系３の一部とワーク５０との相対的な位置関係を、Ｘ軸方向３０及びＹ軸方向３１（レーザ光の光軸に垂直な面内方向）で変化させるＸＹ移動機構４と、加工光学系３の一部の位置をＺ軸方向３２（レーザ光の光軸方向）で変化させるＺ軸移動装置５（Ｚ移動機構）と、加工光学系３の一部とワーク５０とのＺ軸方向における距離情報を取得するアナログ変位計（距離情報取得手段）６と、ＸＹ移動機構４及びＺ軸移動装置５等を制御する制御システム７とで主に構成されている。
【００２２】
レーザ発振器は、一般的なレーザ加工装置に適用されるものであり、本実施形態ではエキシマレーザを発生させるものが採用されている。このようなレーザ発振器は、例えば、高い電圧のかかった電極間でガスを電離させ、その際の放電で励起された原子が元に戻ることで発生する光を取り出すように構成されている。なお、レーザ発振器で生成するレーザは、エキシマレーザに限られるものではなく、ワークの性状に対応したＹＡＧレーザ、ＣＯ２レーザ等の他のレーザ光を生成するものであってもよい。
【００２３】
架台２は、設置面上に複数の足部８を介して設置された直方体状の載置台９と、この載置台９の左右側部に固定され、当該載置台９の上方をまたがるように構成された門型部材１０からなる。このうち門型部材１０は、左右両側の柱部１１とこれら柱部１１間に渡された上部材１２とで構成されている。加工光学系３には、レーザ発振器から出射されたレーザ光を所定の波形に成形する図示しない光学レンズ群や、当該レーザ光を微少スポット径のレーザ光としてワークへ照射するフォーカス光学系１３を方形状の筐体内に備えた光学ユニット１４が設けられている。フォーカス光学系１３は、当該フォーカス光学系１３まで伝送されてきたレーザ光を、所定の微少スポット径まで絞ってワーク５０に照射し当該ワーク５０を加工できるように集光するフォーカッシングレンズ１５で構成されている。
【００２４】
図２は、ワーク５０に対する走査方向を説明する説明図である。レーザ光とワーク５０との相対的な位置関係をＸ軸方向及びＹ軸方向で変化させるＸＹ移動機構４は、Ｘ軸移動装置１６とＹ軸移動装置１７で構成されている。Ｘ軸移動装置１６は、載置台９上に設けられたレール機構１８と、このレール機構１８を介して載置台９に移動自在に支持された直方体状のテーブル１９で構成されている（図１参照）。レール機構１８は、載置台９の上面９ａに設けられたＸ軸方向に伸びるレール２０と、このレール２０上をＸ軸方向に移動可能に設けられた板状部材２１と、板状部材２１のＹ軸方向へのずれを抑える補助レール２２と、板状部材２１上に設けられ、上面にテーブル１９が固定された柱状部材２８と、板状部材２１を移動指令どおりに制御可能なＸ軸リニアモータ２３とで構成されている。テーブル１９の上面１９ａには、ワーク５０が動かないように載置されている。Ｘ軸リニアモータ２３が駆動されると、板状部材２１がレール２０上で動かされ、テーブル１９が図２の走査ライン５２で示すようにＸ軸方向３０へ動かされる。これにより、ワーク５０が、光学ユニット１４に備えられたフォーカッシングレンズ１５対して、Ｘ軸方向３０へ最大１０００m/secの速度で相対移動されるようになっている。
【００２５】
Ｙ軸移動装置１７は、門型部材１０の上部材１２に取り付けられており、光学ユニット１４をワーク５０の上方でＹ軸方向３１に移動自在に支持するように構成されている。このＹ軸移動装置１７には、光学ユニット１４を移動指令どおりに制御可能なＹ軸リニアモータ２４が備えられている。Ｙ軸リニアモータ２４が駆動されると、光学ユニット１４が、Ｙ軸方向３１へ動かされる。これにより、光学ユニット１４に備えられたフォーカッシングレンズ１５が、ワーク５０に対してＹ軸方向３１へ相対移動されるようになっている。
【００２６】
図３は、光学ユニット１４の動きを説明するための模式図である。Ｚ軸移動装置５は、光学ユニット１４の近傍に設けられたＺ軸方向３２に伸びるスライドレール２５と、このスライドレール２５にスライド自在に設けられると共に、当該光学ユニット１４及びこれに収容されたフォーカッシングレンズ１５を支持するスライド部材２６とを備えている。スライドレール２５には、スライド部材２６をスライド自在とする図示しないスライド機構と、このスライド機構を動作指令どおりに制御可能なＺ軸サーボモータ２７が設けられている。Ｚ軸サーボモータ２７が駆動されると、スライド部材２６がＺ軸方向３２へスライドし、このスライド部材２６で支持された光学ユニット１４がフォーカッシングレンズ１５と共に、図３に示すようにＺ軸方向３２で上下移動する。光学ユニット１４のＺ軸方向３２における上下移動によって、フォーカッシングレンズ１５に入ったレーザ光が集光されて、ワーク５０の加工面５０ａに当該レーザ光Ｌの焦点が合うように焦点位置５１の調整が行われる。
【００２７】
なお、上記のＸ軸リニアモータ２３、Ｙ軸リニアモータ２４は、それぞれ当該各リニアモータ２３、２４の駆動量を検出する図示しないリニアスケールを有しており、当該リニアスケールで検出された駆動量を出力するようになっている。また、上記のＺ軸サーボモータ２７は、当該Ｚ軸サーボモータ２７の駆動量を検出する図示しないエンコーダを内部に有しており、当該エンコーダで検出された駆動量を出力するようになっている。
【００２８】
アナログ変位計６は、光学ユニット１４のフォーカッシングレンズ１５とワーク５０とのＺ軸方向３２における距離を計測するものであり、当該アナログ変位計６によってワーク５０の加工面５０ａの変位（そり量等）を読み取ることができる。このアナログ変位計６は、加工面５０ａに射出された２つの計測用レーザ光が、当該ワーク５０ａに反射し、反射光として戻ってくる角度の変化を検知することで、距離の計測を行い、それに基づく距離情報を出力するものである。アナログ変位計６は、光学ユニット１４のＸ軸方向における前側面１４ａ及び後側面１４ｂの両方に取り付けられている。なお、光学ユニット１４のフォーカッシングレンズ１５とワーク５０とのＺ軸方向３２における距離を計測できるものであれば、本実施形態のアナログ変位計６に限定するものではない。
【００２９】
制御システム７は、Ｘ軸移動装置１６のＸ軸リニアモータ２３、及びＹ軸移動装置１７のＹ軸リニアモータ２４を制御することで、テーブル１９をＸ軸方向へ移動させると共に、光学ユニット１４をＹ軸方向へ移動させる。光学ユニット１４のフォーカッシングレンズ１５で集光されたレーザ光によるワーク５０への走査は、次のようにして行われる（図２参照）。光学ユニット１４に対してテーブル１９のワーク５０がＸ軸方向３０（例えば、図２上向き方向）へ移動されることで、ワーク５０がレーザ光によって往方向に走査され、その走査後、光学ユニット１４が、Ｙ軸方向３１へ所定距離だけ（例えば、図２の走査ライン５２間のピッチ分）移動され、再び、テーブル１９が逆向き（例えば、図２下向き方向）へ移動されることで、ワーク５０がレーザ光によって復方向へ走査される。これらの走査が繰り返されることで、ワーク５０に対してレーザ光が往復走査される。
【００３０】
それと共に、制御システム７は、レーザ光によるワーク５０の走査中において、アナログ変位計６で取得した上記の距離情報に基づき、Ｚ軸移動装置５のＺ軸サーボモータ２７を制御することで、光学ユニット１４をＺ軸方向３２で移動させて、フォーカッシングレンズ１５とワーク５０とのＺ軸方向３２における相対的な距離を一定に保つように制御する。つまり、この制御システム７は、ワーク５０の加工面５０ａの変位に応じ、当該ワーク５０に照射されるレーザ光の焦点位置５１の調整を行いながら、当該ワーク５０に対してレーザ光をＸ軸方向３０に走査させる。これにより、ワーク５０に対しレーザ光がＸ軸方向３０で往復走査され、当該ワーク５０に加工が施される。
【００３１】
以下、制御システム７についてさらに詳細に説明する。図４は、制御システム７と各リニアモータ２３、２４及びＺ軸サーボモータ２７との関係を示すブロック図である。制御システム７は、Ｘ軸リニアモータ２３へ接続されて電力供給すると共に、当該Ｘ軸リニアモータ２３へ駆動量等の信号を出力するＸ軸リニアアンプ３０と、Ｙ軸リニアモータ２４へ接続されて電力供給すると共に、当該Ｙ軸リニアモータ２４へ駆動量等の信号を出力するＹ軸リニアアンプ３１と、Ｚ軸サーボモータ２７へ接続されて電力供給すると共に、当該Ｚ軸サーボモータ２７へ駆動量等の信号を出力するＺ軸サーボアンプ３２と、さらにＸ軸リニアアンプ３０、Ｙ軸リニアアンプ３１、及びＺ軸サーボアンプ３２へ接続されて、当該Ｚ軸サーボアンプ３２へ向けてＺ軸移動指令（パルス）を出力するフォーカス制御ユニット３４と、Ｘ軸リニアアンプ３０、Ｙ軸リニアアンプ３１に接続されて、それらへＸ軸移動指令（パルス）、Ｙ軸移動指令（パルス）を出力する位置決めユニット２９とを備えている。
【００３２】
各リニアアンプ３０、３１、Ｚ軸サーボアンプ３２は、内蔵された各種の変換器を介して位置決めユニット２９やフォーカス制御ユニット３４から送られてくる各移動指令を、それぞれ上記の各リニアモータ２３、２４、Ｚ軸サーボモータ２７に駆動量（パルス）として送ると共に、当該各リニアモータ２３、２４、Ｚ軸サーボモータ２７の駆動量をそれぞれ位置決めユニット２９、フォーカス制御ユニット３４にフィードバックするフィードバック機能を有する。各リニアアンプ３０、３１には、それぞれ各リニアモータ２３、２４に備えられた各リニアスケールが接続され、Ｚ軸サーボアンプ３２には、Ｚ軸サーボモータ２７に備えられたエンコーダが接続されている。そして、各リニアモータ２３、２４の駆動状態は、それぞれＸ軸リニアアンプ３０、Ｙ軸リニアアンプ３１により確認され、Ｚ軸サーボモータ２７の駆動状態は、Ｚ軸サーボアンプ３２により確認される。各リニアアンプ３０、３１、Ｚ軸サーボアンプ３２は、それぞれ位置決めユニット２９、フォーカス制御ユニット３４から出力された各移動指令に基づいて、それぞれ各リニアモータ２３、２４、Ｚ軸サーボモータ２７に駆動量（パルス）を送り、当該各移動指令が示す速度で当該各リニアモータ２３、２４、Ｚ軸サーボモータ２７を目標位置まで駆動させる。各リニアアンプ３０、３１の各リニアスケール、Ｚ軸サーボアンプ３２のエンコーダから入力される位置情報が目標位置になると、当該各リニアアンプ３０、３１、当該Ｚ軸サーボアンプ３２は、それぞれ各リニアモータ２３、２４、Ｚ軸サーボモータ２７の停止信号をそれぞれ位置決めユニット２９、フォーカス制御ユニット３４へ出力する。位置決めユニット２９は、Ｘ軸リニアアンプ３０、Ｙ軸リニアアンプ３１へ、それぞれＸ軸リニアモータ２３、Ｙ軸リニアモータ２４に対するＸ軸移動指令、Ｙ軸移動指令を出力しつつ、当該各リニアアンプ３０、３１から当該各リニアモータ２３、２４のフィードバック情報を受信することで、当該各リニアモータ２３、２４の動きを制御する。それと共に、Ｘ軸リニアアンプ３０、Ｙ軸リニアアンプ３１は、Ｘ軸リニアモータ２３、Ｙ軸リニアモータ２４のそれぞれのリニアスケールから入力される位置情報として、ワーク５０のＸ軸方向への移動量であるＸ軸移動量（パルス）、及び光学ユニット１４のＹ軸方向への移動量であるＹ軸移動量（パルス）を、フォーカス制御ユニット３４へ出力できるようになっている。
【００３３】
フォーカス制御ユニット３４は、具体的にはオートフォーカス制御基板３５として構成されたものである。図５は、オートフォーカス制御基板３５の機能ブロック図である。オートフォーカス制御基板３５では、図示のようにＣＰＵコア、メモリ、及びパルスコントローラ間においてバスを介してデータが伝送され、Ａ／Ｄ変換部で変換されたデジタル信号がＣＰＵコアへ入り、デジタル入出力部からの信号がＣＰＵコアに伝送されると共にＣＰＵコアからの信号がデジタル入出力部に伝送される。また、パルス入力部からのパルス信号がパルスコントローラに伝送されると共に、パルスコントローラからのパルス信号がパルス入力部に伝送される。
【００３４】
本実施形態で製作したオートフォーカス制御基板３５の仕様は次の通りである。ＣＰＵ：株式会社ルネサンステクノロジ製ＳＨシリーズ、変位計入力：Ａ／Ｄコンバータ、分解能：１２bit、チャンネル数：２、サンプル数：１００k/sec、変換誤差：２bit以内、ＤＩ：１６点、ＤＯ：８点。パルス入力・・入力回路：ＲＳ４２２レベル、入力点数：２点（Ｘ軸・Ｙ軸）、カウント方式：Ａ／Ｂ層４逓倍カウント、分解能：２８bit、許容速度：１Ｍpulse/sec、パルス出力・・出力方式：Ａ／Ｂ層４逓倍カウント、出力パルス数：最大１Ｍpulse/sec。なお、このオートフォーカス制御基板３５は、実際には筐体に収納されており、当該オートフォーカス制御基板３５を機能させるために必要な動作条件や加工内容等の設定を入力するためのキーボードやマウス、コンソールなどの入力デバイス、入力された入力内容を確認するモニタが設けられている。このように構成された本実施形態のフォーカス制御ユニット３４は、Ｘ軸移動指令、Ｙ軸移動指令、Ｚ軸移動指令を、それぞれ１msecの制御周期で出力することが可能となっている。なお、オートフォーカス制御基板の仕様は限定されるものではなく、加工条件や制御する機器等に従って適宜変更されるものである。
【００３５】
図６は、Ｚ軸サーボモータ２７を制御するための機器構成を示す構成図である。フォーカス制御ユニット３４は、同図に示すようにＸ軸リニアアンプ３０からのＸ軸移動量３６（ワーク５０のＸ軸方句への移動量）と、Ｙ軸リニアアンプ３１からのＹ軸移動量３７（光学ユニット１４のＹ軸方向への移動量）を取得する。そして、フォーカス制御ユニット３４は、これら各移動量３６、３７及びアナログ変位計６によって取得した距離情報３８（ワーク５０のそり量）に基づいて、フォーカッシングレンズ１５が設けられた光学ユニット１４のＺ軸方向における目標位置を算出し、当該光学ユニット１４を移動させるためのＺ軸移動指令３９をＺ軸サーボアンプ３２に出力する。
【００３６】
Ｚ軸サーボアンプ３２は、Ｚ軸移動指令３９をＺ軸サーボモータ２７に向けて出力し、当該Ｚ軸サーボモータ２７を当該Ｚ軸移動指令３９に基づいて駆動させる。フォーカッシングレンズ１５が設けられた光学ユニット１４のＺ軸方向３２への制御に関し、１msecの制御周期での出力を可能とされたフォーカス制御ユニット３４により、レーザ光の高い走査速度に対応可能な短い制御周期を得ることができる。また、上記のフォーカス制御ユニット３４により、フォーカス制御ユニット３４の出力時からフォーカッシングレンズ１５の実際の移動開始まで時間が最大でも５msecとなっている。そのため、フォーカス制御ユニット３４の出力時と、フォーカッシングレンズ１５の実際の移動開始時との間の時間差が、非常に小さくなっており、フォーカッシングレンズ１５を高精度で制御することができる。
【００３７】
フォーカス制御ユニット３４には、ワーク５０の加工面５０ａのＺ軸方向３２における変位に応じたフォーカッシングレンズ１５の目標位置の算出方法として、リアルタイム制御モード４０、バッチ制御モード４１、及びこれらを組み合わせたデュアル制御モード４２のプログラムが組み込まれている。これらの制御モード４０、４１、４２により、フォーカッシングレンズ１５で集光されるレーザ光による走査中、当該レーザ光の焦点が常に加工面５０ａに合うように、当該フォーカッシングレンズ１５の焦点位置の調整が行われる。
【００３８】
リアルタイム制御モード４０は、フォーカッシングレンズ１５で集光されるレーザ光によるワーク５０への走査（フォーカッシングレンズ１５とワーク５０とのＸＹ軸方向における相対的な位置関係の変化）に対し、フォーカッシングレンズ１５とワーク５０とのＺ軸方向３２の距離情報３８をリアルタイムで取得して、この距離情報３８に基づいて、当該フォーカッシングレンズ１５のＺ軸方向３２における目標位置を算出するものである。
【００３９】
リアルタイム制御モード４０では、光学ユニット１４に取り付けられたアナログ変位計６が、フォーカッシングレンズ１５とワーク５０との距離（加工面５０ａの変位）を先読みし、この距離情報３８に基づいて、当該フォーカッシングレンズ１５の目標位置が算出され、当該フォーカッシングレンズ１５がＺ軸方向３２に移動される。光学ユニット１４がワーク５０に対して図２の紙面上方向に相対移動する場合には、光学ユニット１４の前後に取り付けられた２つのアナログ変位計６、６のうち、後側のアナログ変位計６（図２紙面上側のアナログ変位計６）でフォーカッシングレンズ１５とワーク５０との距離を計測し、光学ユニット１４がワーク５０に対して図２の紙面下方向に相対移動する場合には、光学ユニット１４の前後に取り付けられた２つのアナログ変位計６、６のうち、前側のアナログ変位計６（図２紙面下側のアナログ変位計６）でフォーカッシングレンズ１５とワーク５０との距離を計測する。
【００４０】
即ち、光学ユニット１４がワーク５０に対してＸ軸方向３０で往復するのと共に、前側のアナログ変位計６と後側のアナログ変位計６とが、互いに切り替えられながら計測を行う。本実施形態では、アナログ変位計６による距離の計測は１ｍsecの周期で行われ、フォーカス制御ユニット３４からＺ軸サーボアンプ３２を介したＺ軸サーボモータ２７へのＺ軸移動指令３９の制御周期は、５０msecの制御周期で行われる。従って、Ｚ軸サーボアンプ３２で駆動される光学ユニット１４のフォーカッシングレンズ１５は、５０msecの制御周期で制御されてＺ軸方向３２に移動する。以上のような構成により、Ｘ軸方向に最大で１０００m/secで移動するワーク５０へ、フォーカッシングレンズ１５を１００μｍの精度で制御することが可能となっている。
【００４１】
リアルタイム制御モード４０におけるフォーカッシングレンズ１５の目標位置の算出は次のようにして行う。図３からわかるように、レーザ光が照射される加工面５０ａの加工点５０ｋの位置と、アナログ変位計６で計測する加工面５０ａの計測点５０ｆの位置とは、Ｘ軸方向３０において互いにずれている。そのため、その位置ずれ分５５だけ、フォーカッシングレンズ１５とワーク５０とが互いに相対移動する時間を補正する必要がある。
【００４２】
図７は、リアルタイム制御モード４０における距離情報３８を取得するタイミングを説明する説明図である。上述のように、アナログ変位計６による距離の計測は１ｍsecの計測周期４３で行われる。フォーカス制御ユニット３４から５０msecで出力されるＺ軸移動指令３９は、当該Ｚ軸移動指令３９の指令時点４４からディレイタイマ時間４５だけ遡った時点４６でのフォーカッシングレンズ１５とワーク５０との距離情報３８から算出される。指令時点４４から遡るディレイタイマ時間４５は、上記の加工点５０ｋの位置が上記の計測点５０ｆの位置からずれている位置ずれ分５５を（図３参照）、フォーカッシングレンズ１５とワーク５０とが互いに相対移動する相対移動時間である。
【００４３】
ここで、Ｚ軸移動指令３９のもととなる上記の距離情報３８は、Ｚ軸移動指令３９の指令時点４４からディレイタイマ時間４５だけ遡った一時点における距離情報３８ａではなく、当該ディレイタイマ時間４５だけ遡った時点４６の前後合わせて３０回の距離情報３８ａを平均した平均値とされる。本実施形態では、Ｚ軸移動指令３９の指令時点４４からディレイタイマ時間４５だけ遡った一時点から前に１５回分（１５msecの計測周期分）、後に１５回分（１５msecの計測周期分）の合計３０回分の平均値が、Ｚ軸移動指令３９のもととなる距離情報３８とされる。
【００４４】
なお、フォーカス制御ユニット３４には、ディレイタイマ時間４５の数倍分の距離情報３８ａが記憶されている。また、上述のように平均する距離情報３８ａの数は、前に１５回と後に１５回に限られるものではなく、前後の回数を互いに変えることや、平均する全体の回数を変えることができる。リアルタイム制御モード４０は、アナログ変位計６での計測が容易な平面状のワークでの利用が特に好ましい。以上のような制御が可能とされた本実施形態のアルタイム制御モード４０を実行することによって、レーザ光でワーク５０を走査しながら、フォーカッシングレンズ１５のＺ軸方向３２への移動を制御し、レーザ光の焦点位置５１の調整を高精度で行うことができるため、加工時間を短縮することができる。
【００４５】
図８（ａ）は、バッチ制御モード４１を説明する説明ブロック図であり、同図（ｂ）は、同モード４１におけるワーク５０上の距離情報６１を取得する計測点の説明図である。バッチ制御モード４１では、ワーク５０の加工面５０ａ内でレーザ光が照射される照射範囲６０における複数の位置情報６２の各々に対応した複数の距離情報６２を取得し、これら複数の距離情報６２に基づいて、フォーカッシングレンズ１５のＺ軸方向３２における複数の目標位置を算出するものである。
【００４６】
複数の目標位置は、マトリクスデータ６３として、次のようにして取得された複数の距離情報６１から算出される。なお、照射範囲６０における複数の位置情報６２は、Ｘ軸移動量３６及びＹ軸移動量３７から取得される。本実施形態におけるワーク５０に照射するレーザ光の照射範囲６０は、１８００ｍｍ×１８００ｍｍの四方形とされており、この照射範囲６０が複数の６０ｍｍ×６０ｍｍのマトリクス区画Ｍ（１列目の第１区画Ｍ１、第２区画Ｍ２・・・・第２９区画Ｍ２９、第３０区画Ｍ３０、２列目の第３１区画Ｍ３１、第３２区画Ｍ３２・・・第３０列目の第８９９区画Ｍ８９９、第９００区画Ｍ９００）に区分されている。各マトリクス区画Ｍでのフォーカッシングレンズ１５とワーク５０との距離の計測点６４は、当該各マトリクス区画Ｍの中心点となる位置である。
【００４７】
複数の距離情報６１は、アナログ変位計６の位置が各マトリクス区画Ｍの計測点６４に対応するように、光学ユニット１４及びワーク５０を順次移動させていき、移動させる毎に、当該アナログ変位計６でとフォーカッシングレンズ１５とワーク５０との距離を計測して取得する。その際、アナログ変位計６の計測点５０ｆの位置と、実際に加工を行う加工点５０ｋの位置との間にはずれが存在する。そのため、取得した複数の距離情報６１は、そのずれに応じて補正される。ここでの、フォーカッシングレンズ１５とワーク５０との距離の計測は、計測点６４に応じて光学ユニット１４の前後に取り付けられた両方のアナログ変位計６、６を用いて取得してもよく、いずれか片方のアナログ変位計６を用いてもよい。
【００４８】
ワーク５０への加工が開始されると、フォーカス制御ユニット３４は、まずフォーカッシングレンズ１５（光学ユニット１４）をワーク５０の第１区画Ｍ１へ位置決めし、マトリクスデータ６３からこの第１区画Ｍ１に対応したフォーカッシングレンズ１５の目標位置を引き出し、この目標位置に基づいたＺ軸移動指令３９を出力する。このＺ軸移動指令３９は、Ｚ軸サーボアンプ３２へ入力され、Ｚ軸サーボモータ２７により、フォーカッシングレンズ１５が適切な量だけＺ軸方向３２へ移動される。続いて、フォーカッシングレンズ１５はワーク５０の第２区画Ｍ２へ位置決めされるが、当該第２区画Ｍ２へ位置決めされる前に、フォーカス制御ユニット３４は、マトリクスデータ６３からこの第２区画Ｍ２に対応したフォーカッシングレンズ１５の目標位置を引き出し、この目標位置に基づいたＺ軸移動指令３９を出力する。
【００４９】
従って、フォーカッシングレンズ１５は、ワーク５０の各区画Ｍで位置決めされた時点で、すでに目標位置まで移動される。フォーカス制御ユニット３４は、このような制御を第１区画〜第９００区画で繰り返し行う。これにより、照射範囲６０の全ての区画Ｍにおいて、レーザ光の焦点位置５１の調整が行われる。上述のリアルタイム制御モード４０における計測は早いサイクルで行われ、ワークの曲面部分に当たった計測用レーザ光がナログ変位計６に戻ってこないため、計測を行うことができない場合がある。このように距離情報をリアルタイムで取得し難い場合であっても、予め得られたマトリクスデータ６３に基づいて制御する上記のバッチ制御モード４１を実行することによって、加工点５０ｋにおけるレーザ光の焦点位置５１の確実な調整を行うことができる。なお、本実施形態のバッチ制御モード４１において、ワーク５０はマトリクス状に区画されているが、ワークの区画はこのような形態に限定されるものではなく、当該区画のサイズを変更することや、当該区画の形状を変更することもできる。
【００５０】
デュアル制御モード４２は、上記のリアルタイム制御モード４０と上記のバッチ制御モード４１とを切り替え実行可能に構成されたものである。このデュアル制御モード４２では、フォーカッシングレンズ１５とワーク５０との距離情報の変動量が所定値よりも小さい場合には、リアルタイム制御モード４０が実行され、当該距離情報の変動量が所定値よりも大きい場合には、当該リアルタイム制御モード４０から切り替えられたバッチ制御モード４１が実行される。例えば、リアルタイム制御モード４０で加工が開始され、取得する距離情報３８の変動量が所定値よりも小さい間は、当該リアルタイム制御モード４０が実行され続け、当該距離情報３８の変動量が所定値よりも大きくなった際には、制御モードがバッチ制御モード４１に切り替えられて実行され、再び距離情報３８の変動量が所定値よりも小さくなったら、制御モードが当該リアルタイム制御モード４０に切り替えられて実行される。
【００５１】
本実施形態における距離情報３８の変動量とは、例えば、任意の位置と位置の間でのフォーカッシングレンズ１５とワーク５０との距離の差のことであり、リアルタイム制御モード４０とバッチ制御モード４１の切り替えの基準となる上記の所定値は、例えば５００  μｍである。なお、切り替えの基準となる距離情報３８の変動量は、アナログ変位計６の性能や加工仕様によって適宜変更される。フォーカス制御ユニット３４を、このようにリアルタイム制御モード４０とバッチ制御モード４１とを切り替え実行可能に構成することで、加工面の形状変化が大きい加工対象物やそりが大きい加工対象物に対し、加工点５０ｋにおけるレーザ光の焦点位置５１の確実な調整を行うことができる。
【００５２】
上記本実施形態のパターニング装置１によれば、レーザ光の高い走査速度に対応可能な短い制御周期を得ることができる。そのため、レーザ光が、高い走査速度で走査される場合においても、レーザ光が照射される加工点５０ｋと、距離情報が取得される計測点５０ｆとの間の位置ずれ分５５の的確な補正がされ、当該加工点５０ｋにおけるレーザ光の焦点位置５１の確実な調整を行うことができる。これにより、レーザ光が高い走査速度で走査される場合であっても、高い加工性能を得ることができる。
【００５３】
また、上記のデュアル制御モード４２によって、次の加工方法が実現できる。即ち、レーザ光のＺ軸方向における焦点位置５１の調整を行いつつ、当該レーザ光でワーク５０を走査することで当該ワーク５０に加工を施すレーザ加工方法であって、ワーク５０のＺ軸方句３２における表面位置の変動量が所定値よりも小さい場合には、レーザ光が走査されるワーク５０の走査位置の変化に対し、リアルタイムでレーザ光の焦点位置５１の調整を行い、ワーク５０のＺ軸方向３２における表面位置の変動量が所定値よりも大きい場合には、レーザ光が走査されるワーク５０の走査位置の変化に対し、予め取得した表面位置情報に基づいてレーザ光の焦点位置５１の調整を行うレーザ加工方法である。ワーク５０のＺ軸方向３２における表面位置とはフォーカッシングレンズ１５とワーク５０との距離の計測で得られた上記の距離情報３８のことであり、表面位置情報とは、上記のマトリクスデータ６３のことである。レーザ光が走査されるワークの走査位置とは、リアルタイム制御モード４０でＸ軸移動量３６及びＹ軸移動量３７から取得される、フォーカッシングレンズ１５とワーク５０との相対的な位置情報のことである。
【００５４】
上記のレーザ加工方法によれば、ワーク５０のＺ軸方向３２における表面位置の変動量にともなって、焦点位置５１の調整の仕方を変更できるので、加工面の形状変化が大きいワークや、そりが大きいワークに高速走査する場合であっても、加工点５０ｋにおけるレーザ光の焦点位置５１の確実な調整を行うことができる。これにより、レーザ光が高い走査速度で走査される場合であっても、高い加工性能を得ることができる。
【実施例】
【００５５】
以下、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの具体例によって限定されるものではない。ワークの加工に先立ち、フォーカス制御ユニットのパルス入出力、フォーカス制御ユニットによるフォーカシングレンズの移動の追従性、及びフォーカシングレンズとワークとの距離の検出の検証を実施した。
【００５６】
（フォーカス制御ユニットのパルス入出力）
図９は、検証を行うための機器構成を示す構成図である。機器構成は、フォーカス制御ユニット３４及びその予備ユニット７０、アナログ変位計６、アナログデータロガー７１、オシロスコープ７２、位置決めユニット２９、Ｘ軸リニアアンプ３０、Ｙ軸リニアアンプ３１、Ｘ軸リニアモータ２３、Ｙ軸リニアモータ２４、Ｚ軸サーボアンプ３２、Ｚ軸サーボモータ２７からなる。アナログ変位計６からの計測データのロギングは、アナログデータロガー７１で行い、ワークのＸ軸移動量、光学ユニット（フォーカッシングレンズ）のＹ軸移動量、及びフォーカッシングレンズへのＺ軸移動指令のロギングは、フォーカス制御ユニット３４で行い、フォーカッシングレンズのＺ軸移動量のロギングは、オシロスコープ７２と予備ユニット７０で行った。
【００５７】
（パルス入力）位置決めユニット２９からの出力により、テーブルをＸ軸方向へ、光学ユニットをＹ軸方向へそれぞれ１０００パルス分移動させ、フォーカス制御ユニット３４にて、テーブルのＸ軸移動量と光学ユニットのＹ軸移動量をカウントした。その結果は、両移動量とも１０００パルスで、当該両移動量を正確にカウントできることを確認した。
【００５８】
（パルス出力）フォーカス制御ユニット３４からマニュアル操作で数十パルスの出力を行い、オシロスコープ７２を用いて実際に出力されたパルス数を確認した。結果は、マニュアル操作で出力したパルス数と同じパルス数をオシロスコープ７２で確認できた。次に、フォーカス制御ユニット３４からのパルス出力速度を５０kppsに設定し、マニュアル操作で１０００パルスの出力を行った。フォーカス制御ユニット３４からの出力パルスをオシロスコープ７２に入力し、パルスの出力時間（出力開始から終了までの時間）を確認した。オシロスコープ７２に表れた波形から、１０００パルスの出力に要した時間は、２０msecであり、フォーカス制御ユニット３４は、設定どおりの５０kppsの速度でパルス出力していることが確認された。
【００５９】
（フォーカシングレンズの移動の追従性）
フォーカス制御ユニット３４からの出力信号に対するフォーカシングレンズの移動の追従性を確認した。フォーカス制御ユニット３４からのＺ軸移動指令としての出力パルスと、フォーカッシングレンズを移動させるＺ軸サーボアンプ３２のＺ軸移動量としての位置検出パルスを、それぞれオシロスコープ７２に入力し、それらの波形を確認した。フォーカス制御ユニット３４からの出力パルス数が、１０００パルスのときのそれぞれの波形から、フォーカス制御ユニット３４のパルス出力開始から約５msec後に、Ｚ軸サーボアンプ３２に接続されたＺ軸サーボモータの駆動が開始された。
【００６０】
（フォーカシングレンズとワークとの距離の検出）
テスト基板のマトリクスデータ（そり量のデータ）を作成することで、フォーカス制御ユニット３４での距離の検知精度の確認を行った。マトリクスデータは、テスト基板を上記の実施形態の図８（ｂ）に示したようにマトリクス区画に区分けし、その第１区画〜第２１区画で作成した。フォーカス制御ユニット３４での距離（そり量）の検知と同時に、アナログ変位計６での距離（そり量）の計測時の計測データのロギングを行った。テスト基板の第１３区画〜第１５区画にビニールテープを貼り、意図的に大きなそりを形成した。図１０（ａ）はアナログ変位計６の計測データであり、（ｂ）はフォーカス制御ユニット３４で検知された計測データによって作成されたマトリクスデータである。
【００６１】
図１０（ａ）及び同図（ｂ）から、テスト基板の第１３区画〜第１５区画に最大５８０μｍのそりが確認でき、フォーカス制御ユニット３４によってテスト基板のそりの検知が可能であることを確認した。フォーカス制御ユニット３４で検知したそり量の変動が、アナログ変位計で計測したそり量の変動よりも大きいことが認められる。その理由は、フォーカス制御ユニット３４の方が、アナログデータロガー７１よりもサンプリング周期が短いため、サンプル数が多くなり、実際のそり量に近い計測ができたからであると考えられる。
【００６２】
（リアルタイム制御モードでのワークの加工）
上記の実施形態におけるレーザ加工装置のフォーカス制御ユニット３４の制御モードをリアルタイム制御モードに設定し、１５００ｍｍ角の基板にレーザ加工を行った。加工方向は図２におけるＸ軸方向の復向き（図２下向き）とし、加工位置はＸ軸の１３００ｍｍの位置から０ｍｍの位置とした。フォーカス制御ユニット３４が算出したフォーカッシングレンズの目標位置と、Ｚ軸サーボアンプ３２が検出したフォーカッシングレンズの実際に移動した検出位置とを比較した。上記の目標位置と検出位置を図１１（ａ）に示す。
【００６３】
図１１（ａ）から、５０msec（Ｘ軸５０ｍｍ）毎に目標位置が変わっており、フォーカス制御ユニット３４の目標位置の算出が５０msec毎に行われていることが認められる。フォーカス制御ユニット３４が算出した目標位置の変化に合わせて、Ｚ軸サーボアンプ３２の検出位置が同図に示すように変化していることから、フォーカス制御ユニット３４からのＺ軸移動指令が５０msec毎に出力され、それに追従してＺ軸の位置の移動が行われていることが認められる。さらに、移動の精度が１００μｍ以下であることが確認できる。
【００６４】
（バッチ制御モードでのワークの加工）
上記の実施形態におけるレーザ加工装置のフォーカス制御ユニット３４の制御モードをバッチ制御モードに設定し、１５００ｍｍ角の基板にレーザ加工を行った。加工方向は図２におけるＸ軸方向の往向き（図２上向き）とし、加工位置はＸ軸の０ｍｍの位置から１３００ｍｍの位置とした。マトリクスデータの各マトリクス区画（Ｘ軸：６０ｍｍ、Ｙ軸６０ｍｍ）でのフォーカッシングレンズの目標位置と、Ｚ軸サーボアンプ３２が検出したフォーカッシングレンズの実際に移動した検出位置とを比較した。上記の目標位置と検出位置を図１１（ｂ）に示す。
【００６５】
図１１（ｂ）から、マトリクス区画毎に目標位置が変化しており、フォーカス制御ユニット３４により各マトリクス区画への移動毎に目標位置が変えられていることが確認できる。その目標位置の変化に合わせてＺ軸サーボアンプ３２の検出位置が同図にように変化していることから、フォーカス制御ユニット３４からのＺ軸移動指令がマトリクス区画の移動毎に出力され、それに追従してＺ軸の位置の移動が行われていることが認められる。さらに、移動の精度が１００μｍ以下であることが確認できる。
【００６６】
上記で開示した本実施形態及び実施例は、本発明に係るレーザ加工装置及びレーザ加工方法の例を示したものであり、ＸＹ軸移動機構、Ｚ軸移動機構の構成、その他の各部の形状、寸法、構成する機器等は適宜変更されるものである。例えば、本実施形態では、レーザ光をワークへ走査するために、フォーカッシングレンズを備える光学ユニットに対してワークを移動させるＸＹ移動機構を開示しているが、それとは逆に、ワークに対して光学ユニットを移動させて、レーザ光をワークへ走査するようなＸＹ移動機構としてもよい。なお、本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内の全ての変更が含まれる。
【符号の説明】
【００６７】
１    パターニング装置
３    加工光学系
６    アナログ変位計
１３  フォーカス光学系
１４  光学ユニット
１５  フォーカッシングレンズ
１６  Ｘ軸移動装置
１７  Ｙ軸移動装置
１９  テーブル
２３  Ｘ軸リニアモータ
２４  Ｙ軸リニアモータ
２７  Ｚ軸サーボモータ
２９  位置決めユニット
３０  Ｘ軸リニアアンプ
３１  Ｙ軸リニアアンプ
３２  Ｚ軸サーボアンプ
３４  フォーカス制御ユニット
３５  オートフォーカス制御基板
３６  Ｘ軸移動量
３７  Ｙ軸移動量
３８、６２  距離情報
３９  Ｚ軸移動指令
４０  リアルタイム制御モード
４１  バッチ制御モード
４２  デュアル制御モード
４５  ディレイタイマ時間
５０  ワーク
５０ｋ  加工点
５０ａ  計測点
５１    焦点位置
５５  位置ずれ分
６３  マトリクスデータ
Ｍ    マトリクス区画
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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