(57)【要約】  近接場光ヘッドは、磁気記録媒体の表面に対向するスライダの対向面上に形成され、前記対向面と接している側面を持つと共に、前記側面の前記対向面と接する側の反対側から前記近接場光を発生させる近接場光発生素子と、前記近接場光発生素子の前記側面上の少なくとも一部に形成された薄膜状の第1の磁極と、前記対向面に対し略垂直なコイル軸を有し、前記コイル軸を中心として前記第1の磁極と前記側面とに亘って巻回されたコイルと、前記第1の磁極と前記コイルを絶縁する絶縁層とを備える。
2009019981.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導入された光束を用いて近接場光を発生させて、一定方向に回転する磁気記録媒体を加熱すると共に、該磁気記録媒体に磁界を与えて磁化反転を生じさせ情報を記録させる近接場光ヘッドであって、
前記磁気記録媒体の表面から所定距離だけ浮上した状態で配置され、前記磁気記録媒体の表面に対向する対向面を有するスライダと、
前記対向面上に形成され、前記対向面と接している側面を持つと共に、前記側面の前記対向面と接する側の反対側から前記近接場光を発生させる近接場光発生素子と、
前記近接場光発生素子の前記側面上の少なくとも一部に形成された薄膜状の第1の磁極と、
前記対向面に対し略垂直なコイル軸を有し、前記コイル軸を中心として前記第1の磁極と前記側面に亘って巻回されたコイルと、
前記第1の磁極と前記コイルを絶縁する絶縁層とを備えることを特徴とする近接場光ヘッド。
【請求項２】
前記近接場光発生素子が、前記近接場光を発生させる開口を先端部に有する錐体あるいは錐台であることを特徴とする請求項１に記載の近接場光ヘッド。
【請求項３】
前記近接場光発生素子が、前記近接場光を発生させる開口を有し、
前記近接場光発生素子の前記第1の磁極の一部分が、前記開口の輪郭部分の一部を構成し、かつ、前記スライダの前記対向面上に形成された第２の磁極を備えることを特徴とする請求項１に記載の近接場光ヘッド。
【請求項４】
前記開口の輪郭部分の内、前記光束の偏光に対して略垂直な特定輪郭部分が少なくとも1カ所備えることを特徴とする請求項２及び請求項３のいずれかに記載の近接場光ヘッド。
【請求項５】
前記特定輪郭部分の一部が前記第1の磁極の一部分を構成することを特徴とする請求項４に記載の近接場光ヘッド。
【請求項６】
前記特定輪郭部分の一部は前記第1の磁極の一部分と重ね合わせられる金属膜を備えることを特徴とする請求項５に記載の近接場光ヘッド。
【請求項７】
前記第１の磁極と前記第２の磁極が、薄膜状の磁性体からなる外部配線によって接続され、前記第１の磁極、前記第２の磁極及び前記外部配線が磁気回路構造を形成することを特徴とする請求項３に記載の近接場光ヘッド。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載の近接場光ヘッドと、
前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能とされ、該磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在な状態で、前記近接場光ヘッドを先端側で支持するビームと、
前記近接場光発生素子に前記光束を入射させる光源と、
前記ビームの基端側を支持すると共に、該ビームを前記磁気記録媒体の表面に平行な方
向に向けて移動させるアクチュエータと、
前記磁気記録媒体を前記一定方向に回転させる回転駆動部と、
前記コイルに電流を供給すると共に前記光源の動作を制御する制御部とを備えていることを特徴とする情報記録再生装置。
【請求項９】
前記光源と接続され前記スライダに対して平行に配置された状態で該スライダに固定された光束導入手段を備え、
前記光束は、前記光束導入手段を介して、前記近接場光発生素子に入射されることを特徴とする請求項８に記載の情報記録再生装置。
【請求項１０】
前記光源は、前記スライダ上の所定の位置に配置されており、
前記光束は、前記光源から前記近接場光発生素子に入射されることを特徴とする請求項８に記載の情報記録再生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近接場光を利用して磁気記録媒体に各種の情報を超高密度で記録することができる近接場光ヘッド及び該近接場光ヘッドを有する情報記録再生装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータ機器におけるハードディスク等の容量増加に伴い、単一記録面内における情報の記録密度が増加している。例えば、磁気ディスクの一枚当たりの記録容量を多くするためには、面記録密度を高くする必要がある。ところが、記録密度が高くなるにつれて、記録媒体上で１ビット当たりの占める記録面積が小さくなっている。このビットサイズが小さくなると、１ビットの情報が記録された状態のポテンシャルエネルギーが、室温の熱エネルギーに近くなり、記録した情報が熱揺らぎ等のために反転したり、消えてしまったりする等の熱減磁の問題が生じてしまう。【０００３】
一般的に用いられてきた面内記録方式では、磁化の方向が記録媒体の面内方向に向くように磁気を記録する方式であるが、この方式では上述した熱減磁による記録情報の消失等が起こり易い。そこで、このような不具合を解消するために、記録媒体に対して垂直な方向に磁化信号を記録する垂直記録方式に移行しつつある。この方式は、記録媒体に対して、単磁極を近づける原理で磁気情報を記録する方式である。この方式によれば、記録磁界が記録膜に対してほぼ垂直な方向を向く。垂直な磁界で記録された情報は、記録膜面内においてＮ極とＳ極とがループを作り難いため、エネルギー的に安定を保ち易い。そのため、この垂直記録方式は、面内記録方式に対して熱減磁に強くなっている。【０００４】
しかしながら、近年の記録媒体は、より大量且つ高密度情報の記録再生を行いたい等のニーズを受けて、さらなる高密度化が求められている。そのため、隣り合う磁区同士の影響や、熱揺らぎを最小限に抑えるために、保磁力の強いものが記録媒体として採用され始めている。そのため、上述した垂直記録方式であっても、記録媒体に情報を記録することが困難になっていた。【０００５】
そこで、この不具合を解消するために、近接場光により磁区を局所的に加熱して一時的に保磁力を低下させ、その間に書き込みを行うハイブリッド磁気記録方式（近接場光アシスト磁気記録方式）が提案されている。このハイブリッド磁気記録方式は、微小領域と、近接場光ヘッドに形成された光の波長以下のサイズに形成された光学的開口との相互作用により発生する近接場光を利用する方式である。このように、光の回折限界を超えた微小な光学的開口、即ち、近接場光発生素子を有する近接場光ヘッドを利用することで、従来の光学系において限界とされていた光の波長以下となる領域における領域を加熱することが可能となる。よって、従来の光情報記録再生装置等を超える記録ビットの高密度化を図ることができる。【０００６】
なお、近接場光発生素子は、上述した光学的微小開口によるものだけでなく、例えば、ナノメートルサイズに形成された突起部により構成しても構わない。この突起部によっても、光学的微小開口と同様に近接場光を発生させることができる。【０００７】
上述したハイブリッド磁気記録方式による記録ヘッドとしては、各種のものが提供されているが、その１つとして、光スポットのサイズを縮小して記録密度の増大化を図った磁気記録ヘッドが知られている（例えば、特開２００４−１５８０６７号公報（特許文献１）及び特開２００５−４９０１号公報（特許文献２））。【０００８】
この磁気記録ヘッドは、主に主磁極と、補助磁極と、同一平面上で螺旋状に設けられ、その螺旋の中心軸を前記主磁極が通るような構造の導体パターンが絶縁体の内部に形成されたコイル巻線と、照射されたレーザ光から近接場光を発生させる金属散乱体と、金属散乱体に向けてレーザ光を照射する平面レーザ光源と、照射されたレーザ光を集束させるレンズとを備えている。これら各構成品は、ビームの先端に固定されたスライダの先端面に取り付けられている。【０００９】
主磁極は、一端側が記録媒体に対向した面となっており、他端側が補助磁極に接続されている。つまり、主磁極及び補助磁極は、１本の磁極（単磁極）を垂直方向に配置した単磁極型垂直ヘッドを構成している。また、コイル巻線は、主磁極と補助磁極との間を一部が通過するように補助磁極に固定されている。これら主磁極、補助磁極及びコイル巻線は、全体として電磁石を構成している。【００１０】
主磁極の先端には、金等からなる上記金属散乱体が取り付けられている。また、金属散乱体から離間した位置に上記平面レーザ光源が配置されると共に、該平面レーザ光源と金属散乱体との間に上記レンズが配置されている。【００１１】
上述した各構成品は、スライダの先端面側から、補助磁極、コイル巻線、主磁極、金属散乱体、レンズ、平面レーザ光源の順に取り付けられている。【００１２】
このように構成された磁気記録ヘッドを利用する場合には、近接場光を発生させると同時に記録磁界を印加することで、記録媒体に各種の情報を記録している。【００１３】
即ち、平面レーザ光源からレーザ光を照射させる。このレーザ光は、レンズによって集束され、金属散乱体に照射される。すると金属散乱体は、内部の自由電子がレーザ光の電場によって一様に振動させられるのでプラズモンが励起されて先端部分に近接場光を発生させる。その結果、記録媒体の磁気記録層は、近接場光によって局所的に加熱され、一時的に保磁力が低下する。【００１４】
また、上記レーザ光の照射と同時に、コイル巻線の導体パターンに駆動電流を供給することで、主磁極に近接する記録媒体の磁気記録層に対して記録磁界を局所的に印加する。これにより、保磁力が一時的に低下した磁気記録層に各種の情報を記録することができる。つまり、近接場光と磁場との協働により、記録媒体への記録を行うことができる。【００１５】
更に、上述した磁気記録ヘッドに対して、さらに予熱機構を組み合わせた磁気記録ヘッドも知られている（例えば、特開２００５―７８６８９号公報（特許文献３））。【００１６】
この磁気記録ヘッドは、上述した主磁極と補助磁極との間に、予熱機構である抵抗ヒータを備えている。この抵抗ヒータは、主磁極及び金属散乱体に比べて先端面積が大きいので、加熱する対象領域が広く温度勾配が低い。そのため、抵抗ヒータは、記録媒体の磁気記録層に対して、予め予熱する程度の熱しか加えることができないようになっている。【００１７】
このように構成された磁気記録ヘッドによれば、予め抵抗ヒータによって磁気記録層を予熱できるので、近接場光を発生させる金属散乱体における発熱を低減することができる。よって、温度上昇による金属散乱体の劣化や、損傷の可能性等を低下させることができ、耐久性の向上化を図ることができる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
しかしながら、上述した従来の磁気記録ヘッドには、まだ以下の課題が残されていた。即ち、上記特許文献１及び２に記載されている磁気記録ヘッドでは、平面レーザ光源から金属散乱体にレーザ光を照射することで近接場光を発生させているが、該近接場光を効率良く発生させるためには、できるだけ金属散乱体の先端にレーザ光を照射する必要がある。【００１９】
その一方、レーザ光、レンズや平面レーザ光源を、記録媒体に対して干渉しないように配置する必要がある。【００２０】
そのため、特許文献１に記載されている磁気記録ヘッドは、平面レーザ光源から金属散乱体に向けて斜めにレーザ光を照射すると共に半円形状のレンズを使用することで、上述した条件を満足させている。【００２１】
ところが、この条件を満足させるために、金属散乱体に対してレーザ光の光軸が斜めになると共に半円形状のレンズを使用せざるを得なかった。そのため、効率良く近接場光を発生させることが難しくなってしまい、レーザ光の出力を上げざるを得なかった。その結果、レーザ平面光源や金属散乱体が過度に発熱する恐れがあり、信頼性に劣るものであった。【００２２】
また、主磁極に対して所定の間隔を空けた状態で、レンズ及びレーザ平面光源を平行に配置する必要があるが、実際上スライダの先端にこのような配置で作りこむことは困難であり、仮に作りこめたとしてもコンパクトにまとめることができず、小型化を図ることが難しいものであった。【００２３】
なお、平面レーザ光源やレンズに代えて光導波路を使用したり、ミラーを利用したりすることでレーザ光を金属散乱体に向けて直線で照射させたりすることも考えられるが、より構成が複雑化してしまいやはり小型化を図ることが難しいものであった。【００２４】
更に、金属散乱体は、走査方向の最後端に位置するように主磁極の外側に設けられているので、磁気記録層に情報を記録する際に、記録磁界を印加している位置に対して効率良く加熱を行うことが困難なものであった。つまり、記録媒体の回転に伴って磁気記録層は、補助磁極、磁極、金属散乱体の順に移動するので、近接場光で加熱される前に記録磁界が印加されてしまう。そのため、記録磁界が印加された領域外に、近接場光による加熱温度のピーク位置がきてしまい、書き込みの信頼性が劣るものであった。【００２５】
特に、近接場光による温度勾配は、記録媒体の走査方向に対して遅れる傾向にあるので、加熱温度のピーク位置が金属散乱体の真下からずれてしまうと考えられる。この点を考慮すると、実際には加熱温度のピーク位置が記録磁界の印加領域からさらに外れる方向にずれてしまい、正確な書き込みを行えない可能性が高かった。【００２６】
一方、特許文献３に記載されている磁気記録ヘッドは、主磁極と補助磁極との間に抵抗ヒータ等の予熱機構を備えているので、上述した近接場光を発生させる効率性の問題点、書き込みの信頼性の問題点を解消する構成にはなっているが、その反面、構成品としてさらに予熱機構が加わるので、構成がさらに煩雑になり大型化してしまう不都合があった。【００２７】
ところで、特許文献１と２と３に記載されている磁気記録ヘッドは、同一平面上に導体を螺旋状に巻いたコイル巻線構造を有する。そのコイルの中心軸上で発生する磁界強度は、以下の式(1)で説明することができる。Hは磁界、iはコイルに流れる電流、ｒはコイルの中心軸から巻線までの距離である。
H＝i/２r                                    (１)
磁界強度Ｈはｒに反比例するので、ｒが大きければ大きいほどＨは小さくなり、コイル中心軸から近い巻線と遠い巻線の発生する磁界強度の差が大きい。そのため、流す電流iに対する発生磁界の損失が大きく、磁界発生効率が比較的に悪い。特に、特許文献１〜３では、記録媒体と向い合う磁極の先端部分とコイルとが互いに離れて配置されているため、コイルの発生磁界が磁極の先端部分に到達するまでに大きく低減することがあり、書き込むみの信頼性を向上させることができないことがあった。
【課題を解決するための手段】
【００２８】
そこで、本発明は以上の点に鑑みてなされたものであり、小型化を図りながら近接場光を効率良く発生させることができると共に、より強力かつ高効率の磁界を発生させることができる近接場光ヘッドを提供することを目的とする。【００２９】
上記課題を解決するために本発明の近接場光ヘッドは、導入された光束から近接場光を発生させて、一定方向に回転する磁気記録媒体を加熱すると共に、該磁気記録媒体に磁界を与えて磁化反転を生じさせ情報を記録させる近接場光ヘッドであって、前記磁気記録媒体の表面から所定距離だけ浮上した状態で配置され、前記磁気記録媒体の表面に対向する対向面を有するスライダと、前記対向面上に形成され、前記対向面と接している側面を持つと共に、前記側面の前記対向面と接する側の反対側から前記近接場光を発生させる近接場光発生素子と、前記近接場光発生素子の前記側面上の少なくとも一部に形成された薄膜状の第1の磁極と、前記対向面に対し略垂直なコイル軸を有し、前記コイル軸を中心として前記第1の磁極と前記側面に亘って巻回されたコイルと、前記第1の磁極と前記コイルを絶縁する絶縁層とを備えることを特徴とするものである。【００３０】
また本発明は、前記近接場光発生素子が、前記近接場光を発生させる開口を先端部に有する錐体あるいは錐台であることを特徴とするものである。【００３１】
また本発明は、前記近接場光発生素子の前記第1の磁極の一部分が前記開口の輪郭部分の一部を構成し、かつ、前記スライダの前記対向面上に形成された第２の磁極を備えることを特徴とするものである。【００３２】
また本発明は、前記開口の輪郭部分の内、前記光束の偏光に対して略垂直な特定輪郭部分が少なくとも1カ所備えることを特徴とするものである。【００３３】
また本発明は、前記特定輪郭部分の一部が前記第1の磁極の一部分を構成することを特徴とするものである。【００３４】
また本発明は、前記特定輪郭部分の一部は前記第1の磁極の一部分と重ね合わせられる金属膜を備えることを特徴とするものである。【００３５】
また本発明は、前記第１の磁極と前記第２の磁極が、薄膜状の磁性体からなる外部配線によって接続され、前記第１の磁極、前記第２の磁極及び前記外部配線が磁気回路構造を形成することを特徴とするものである。【００３６】
また本発明は、前記光源と接続され前記スライダに対して平行に配置された状態で該スライダに固定された光束導入手段を備え、前記光束は、前記光束導入手段を介して、前記近接場光発生素子に入射されることを特徴とするものである。【００３７】
また本発明は、前記光源は、前記スライダ上の所定の位置に配置されており、前記光束は、前記光源から前記近接場光発生素子に入射されることを特徴とするものである。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明に係る近接場光ヘッドを有する情報記録再生装置の第１実施形態を示す構成図である。
【図２】図１に示す近接場光ヘッドの拡大断面図と、コアを中心とした拡大断面図である。
【図３】図２に示す近接場光ヘッドを、ディスク面側から見た図である。
【図４】図３に示す近接場光ヘッドのコアを端面側から見た拡大斜視図である。
【図５】図３に示す近接場光ヘッドのコアを端面側から見た拡大斜視図である。
【図６】図４に示す近接場光ヘッドの磁気記録部の詳細な構造を示す、拡大斜視図と拡大上面図、また、コアとコイル構造の断面を示す断面図である。
【図７】図６に示すコイル構造の製造方法を示す断面図である。
【図８】本発明に係る近接場光ヘッドの第２実施形態を示す、磁気記録部のディスク面側から見た拡大斜視図である。
【図９】本発明に係る近接場光ヘッドの第３実施形態を示す、磁気記録部のディスク面側から見た拡大斜視図である。
【図１０】本発明に係る近接場光ヘッドの第４実施形態を示す、磁気記録部のディスク面側から見た拡大斜視図である。
【図１１】本発明に係る近接場光ヘッドの第５実施形態を示す、磁気記録部のディスク面側から見た拡大斜視図である。
【発明の実施するための最良の形態】
【００３９】
（実施の形態１）
以下、本発明に係る近接場光記録素子、近接場光ヘッド及び情報記録再生装置の第１実施形態を、図１から図７を参照して説明する。なお、本実施形態の情報記録再生装置１は、磁気記録層ｄ４を有するディスク（磁気記録媒体）Ｄに対して、垂直記録方式で書き込みを行う装置である。また、本実施形態では、ディスクＤが回転する空気の流れを利用して近接場光ヘッド２を浮かせた空気浮上タイプを例に挙げて説明する。
【００４０】
図１に本実施形態の情報記録再生装置１の概略を示す。情報記録再生装置１は、近接場光ヘッド２と、ディスクDの表面（磁気記録媒体の表面）に平行なＸＹ方向に移動可能とされ、ディスクＤの表面に平行で且つ互いに直交する２軸（Ｘ軸、Ｙ軸）回りに回動自在な状態で近接場光ヘッド２を先端側で支持するビーム３と、光導波路４の基端側から該光導波路４に対して光束Ｌ（図２（a）に示す）を入射させる光信号コントローラ（光源）５と、ビーム３の基端側を支持すると共に、該ビーム３をディスクＤの表面に平行なＸＹ方向に向けてスキャン移動させるアクチュエータ６と、ディスクＤを一定方向に回転させるスピンドルモータ（回転駆動部）７と、情報に応じて変調した電流を後述するコイル２１に対して供給すると共に、光信号コントローラ５の作動を制御する制御部８と、これら各構成品を内部に収容するハウジング９とを備えている。
【００４１】
また、該光導波路４を必要としなく、近接場光ヘッド２上に光信号コントローラ５が直接搭載されていて（図２（ｂ）に示す）、制御部８から動作制御を受ける構造であってもよい。
【００４２】
ハウジング９は、アルミニウム等の金属材料により、上面視四角形状に形成されていると共に、内側に各構成品を収容する凹部９ａが形成されている。また、このハウジング９には、凹部９ａの開口を塞ぐように図示しない蓋が着脱可能に固定されるようになっている。凹部９ａの略中心には、上記スピンドルモータ７が取り付けられており、該スピンドルモータ７に中心孔を嵌め込むことでディスクＤが着脱自在に固定される。凹部９ａの隅角部には、上記アクチュエータ６が取り付けられている。このアクチュエータ６には、軸受１０を介してキャリッジ１１が取り付けられており、該キャリッジ１１の先端にビーム３が取り付けられている。そして、キャリッジ１１及びビーム３は、アクチュエータ６の駆動によって共に上記ＸＹ方向に移動可能とされている。なお、キャリッジ１１及びビーム３は、ディスクＤの回転停止時にアクチュエータ６の駆動によって、ディスクＤ上から退避するようになっている。また、近接場光ヘッド２とビーム３とで、サスペンション１２を構成している。また、光信号コントローラ５は、アクチュエータ６に隣接するように凹部９ａ内に取り付けられている。そして、このアクチュエータ６に隣接して、上記制御部８が取り付けられている。
【００４３】
図２（ａ）と（ｂ）には上記近接場光ヘッド２とディスクＤの断面図を、図２（ｃ）には図２（ａ）と（ｂ）のコア１６とその近傍の拡大図を示し、近接場光ヘッド２の詳細な構造を説明する。
【００４４】
上記近接場光ヘッド２は、導入された光束Ｌから近接場光Ｒを発生させてディスクＤを加熱すると共に、ディスクＤに磁界を与えて磁化反転を生じさせ情報を記録させるものである。即ち、近接場光ヘッド２は、ディスク面Ｄ１から所定距離Ｈだけ浮上した状態で配置され、ディスク面Ｄ１に対向する対向面１５ａを有するスライダ１５と、該スライダ１５に固定され、近接場光Ｒを発生させるコア１６と、コア１６内に光束Ｌを導入させる図２（ａ）に示す光導波路４、あるいは図２（ｂ）に示す光信号コントローラ５及びレンズ２６と、コア１６に形成された第１の磁極１８と、磁極１８に磁界を発生させる磁気コイル２０を備えている。
【００４５】
スライダ１５は、石英ガラス等の光透過性材料によって、略直方体状に形成されている。このスライダ１５は、対向面１５ａをディスクＤに対向させた状態で、ジンバル部２５を介してビーム３の先端にぶら下がるように支持されている。このジンバル部２５は、ディスク面Ｄ１に垂直なＺ方向、Ｘ軸回り及びＹ軸回りにのみ変位するように動きが規制された部品である。これによりスライダ１５は、上述したようにディスク面Ｄ１に平行で且つ互いに直交する２軸（Ｘ軸、Ｙ軸）回りに回動自在とされている。
【００４６】
スライダ１５の対向面１５aには、回転するディスクＤによって生じた空気流の粘性から、浮上するための圧力を発生させる凸状部１５ｂが形成されている。本実施形態では、レール状に並ぶように、長手方向に沿って延びた凸状部１５ｂを２つ形成している場合を例にしている。但し、この場合に限定されるものではなく、スライダ１５をディスク面Ｄ１から離そうとする正圧とスライダ１５をディスク面Ｄ１に引き付けようとする負圧とを調整して、スライダ１５を最適な状態で浮上させるように設計されていれば、どのような凹凸形状でも構わない。なお、この凸状部１５ｂの表面はＡＢＳ（Air Bearing Surface）と呼ばれる。
【００４７】
スライダ１５は、この２つの凸状部１５ｂによってディスク面Ｄ１から浮上する力を受けていると共に、ビーム３によってディスク面Ｄ１側に押さえ付けられる力を受けている。スライダ１５は、この両者の力のバランスによって、上述したようにディスク面Ｄ１から所定距離Ｈだけ離間した状態で浮上する。
【００４８】
更に、コア１６の端面１６ｂは、光束Ｌが内部に導入されたときに近接場光Ｒを発生させるサイズに形成されている。即ち、コア１６の端面１６ｂの開口サイズは、光束Ｌの波長よりも遥かに微細なサイズ（例えば、一辺が数十ｎｍ程度のサイズ）となるように設計されており、通常の伝播光を透過させることがないが、近接場光Ｒを近傍に漏れ出させることを可能にしている。
【００４９】
また、スライダ１５の上面には、コア１６の真上に当たる位置にレンズ２６が形成されている。このレンズ２６は、例えば、グレースケールマスクを用いたエッチングによって形成される非球面のマイクロレンズである。更に、スライダ１５の上面には、図２（a）に示すように、光ファイバー等の光導波路４が取り付けられている。この光導波路４は、先端が略４５度にカットされたミラー面４ａとなっており、該ミラー面４ａがレンズ２６の真上に位置するように取り付け位置が調整されている。そして、光導波路４は、ビーム３及びキャリッジ１１等を介して光信号コントローラ５に引き出されて接続されている。
【００５０】
これにより光導波路４は、光信号コントローラ５から入射された光束Ｌを先端側まで導き、ミラー面４ａで反射させて向きを変えた後、レンズ２６に出射することができるようになっている。また、出射された光束Ｌは、レンズ２６によって集束した後、スライダ１５を透過してコア１６の底面１６ａに導入されるようになっている。
【００５１】
また、スライダ１５の上面には、図２（ｂ）に示すように、半導体レーザなどからなる光信号コントローラ５が直接取り付けられていてもよく、それにより光束Lを直接レンズ２６に出射することもできる。
【００５２】
また、スライダ１５の先端面１５ｃには、図２及び図３に示すように、ディスクＤの磁気記録層ｄ４から漏れ出ている磁界の大きさに応じて電気抵抗が変換する磁気抵抗効果膜２７が形成されている。この磁気抵抗効果膜２７は、コア１６の端面１６ｂと略同じ幅で形成されている。また、この磁気抵抗効果膜２７には、図示しないリード膜等を介して制御部８からバイアス電流が供給されている。これにより制御部８は、ディスクＤから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することでき、この電圧の変化から信号の再生を行っている。即ち、磁気抵抗効果膜２７は、再生素子として機能している。
【００５３】
なお、本実施形態のディスクＤは、少なくとも、ディスク面Ｄ１に垂直な方向に磁化容易軸を有する垂直記録層ｄ４と、高透磁率材料からなる軟磁性層ｄ２との２層で構成される垂直２層膜ディスクを使用する。このようなディスクＤとしては、例えば、図２に示すように、基板ｄ１上に、軟磁性層ｄ２と、中間層ｄ３と、垂直記録層ｄ４と、保護層ｄ５と、潤滑層ｄ６とを順に成膜したものを使用する。
【００５４】
基板ｄ１としては、例えば、アルミ基板やガラス基板等である。軟磁性層ｄ２は、高透磁率層である。中間層ｄ３は、垂直記録層ｄ４の結晶制御層である。垂直記録層ｄ４は、垂直異方性磁性層となっており、例えばＣｏＣｒＰｔ系合金が使用される。保護層ｄ５は、垂直記録層ｄ４を保護するためのもので、例えばＤＬＣ（ダイヤモンド・ライク・カーボン）膜が使用される。潤滑層ｄ６は、例えば、フッ素系の液体潤滑材が使用される。
【００５５】
図３には、近接場光ヘッド２の対向面１５a上の構造を示す。
【００５６】
凸状部１５ｂが対抗面１５aの両端側に設けられ、それらの略中間の位置にコア１６が形成されている。コア１６は前記中間の位置に沿って対抗面１５aのどの位置に形成されても良いが、磁気抵抗効果膜２７に可能な限り近い位置に形成されたほうが望ましい。また、コア１６の斜面上には第１の磁極１８とコイル２０が設けられていて、そのコイル２０は、制御部８からの情報に応じて変調された電流が供給される配線Wと、コイル配線接続部Cを介して接続されている。また、第１の磁極（主磁極）１８は補助磁極１９と薄膜状の回路２３によって接続されている。
【００５７】
図４はコア１６の拡大図である。図４（a）にはコア１６の側面１６ｃ上に第1の磁極１８が形成された構造を、図４（ｂ）には、側面１６ｄ上に第1の磁極１８が形成された構造を示す。図４に示すように、コア１６に形成された４つの側面１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ及び１６ｆの内、ディスクＤの移動方向に沿うように並んだ互いに向い合う２つの側面（１６ｃ、１６ｄ）のいずれの一つの側面上に、上記第１の磁極１８が形成されている。該磁極１８は、例えば、磁性体材料を蒸着等の薄膜成膜技術によって側面１６ｃまたは１６ｄ上に形成されたものである。このように、第１の磁極１８が近接場光Ｒの発生部である開口（端面１６ｂ）と接するように配置されることより、局在化した近接場光Ｒの発生ポイントに極力近い位置に記録磁界を発生させることができる。そのため、近接場光Ｒによって保磁力が低下したディスクＤの局所的な位置に対して、ピンポイントで記録磁界を発生させることができる。その結果、近接場光Ｒと磁極１８で発生した記録磁界とを協働させたハイブリッド磁気記録方式により情報の記録を行うことができる。しかも垂直記録方式で記録を行うので、熱揺らぎ現象等の影響を受け難く、安定した記録を行うことができる。よって、書き込みの信頼性を高めることができる。
【００５８】
上記コア１６は、スライダ１５と同様に石英ガラス等の光透過性材料で形成されており、図４に示すように、底面１６ａと端面１６ｂと４つの側面１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ及び１６ｆとを有する四角錐台状に形成されている。具体的には、長方形の底面１６ａと、該底面１６ａより小さな面積で同一形状（平面視長方形状）に形成され、底面１６ａから所定距離離間した位置に配された端面１６ｂと、底面１６ａ及び端面１６ｂの頂点をそれぞれ結んで形成された４つの側面１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ及び１６ｆを有するように加工されている。
【００５９】
但し、コア１６としては、４つの側面１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ及び１６ｆを有する場合に限定されるものではなく、平面視多角形状（例えば、６角形状や８角形状）の底面及び端面と、これら底面及び端面のそれぞれの頂点を結ぶ複数の側面（例えば、底面及び端面が６角形状の場合には６面）とを有するコアとしても構わない。即ち、底面及び端面が平面視多角形状に形成された角錐台状のコアであれば構わない。なお、底面及び端面は、共に同じ形状でなくても構わない。また、図５（a）に示すようなコア１６が端面１６ｂを有しない構造でも構わない。つまり、該錐台構造だけではなく、少なくもと一側面を持つ構造、例えば、対向面１５aから突出している段構造や、凹み構造でも構わない。
【００６０】
このように構成されたコア１６は、図２に示すように、底面１６ａをスライダ１５の対向面１５ａに面接触させた状態で固定されている。この際、互いに対向する２つの側面1６ｃと１６ｄが、スライダ１５の長手方向、即ち、ディスクＤの移動方向に沿って並ぶように固定されている。なお、コア１６とスライダ１５とをそれぞれ別々に作製した後、互いを固定しても構わないし、石英ガラス等から一体的に作製しても構わない。特に、一体的に作製することで、製造工程の簡略化、製造時間の短縮化等を図ることができるので、より好ましい。
【００６１】
また、底面１６ａを対向面１５ａに面接触させているので、コア１６の端面１６ｂも同様にスライダ１５の対向面１５ａ及びディスク面Ｄ１に対して平行状態となっている。この際、端面１６ｂの高さが凸状部１５ｂの高さと同じになるように、コア１６の高さが設定されている。
【００６２】
ここでコア１６の端面１６ｂは、上述したように底面１６ａよりも小さいサイズで該底面１６ａと同じ形状に形成されているので、４つの側面１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ及び１６ｆは端面１６ｂに向かうにしたがって向い合う側面１６ｃと１６ｄの間隔が漸次狭まる斜面状態となっている。特に、コア１６の端面１６ｂのサイズは、局在化した近接場光Ｒを発生させる極微小サイズである。
【００６３】
一方、コイル２０は、図３と図４に示すように、対向面１５ａに対し略垂直なコイル軸Ａを有し、前記コイル軸Ａを中心として前記第1の磁極１８と前記側面１６ｄ（または、１６ｃ）、１６ｅ及び１６ｆの全周とに亘って螺旋状に巻回されている。
【００６４】
この際コイル２０は、ショートしないように、隣り合う線材間、磁極１８との間が絶縁状態とされている。また、このコイル２０は、対向面１５ａ上の配線Ｗとビーム３やキャリッジ１１を介して制御部８に電気的に接続されており、該制御部８から情報に応じて変調された電流が供給されるようになっている。即ち、磁極１８及びコイル２０は、全体として電磁石を構成している。
【００６５】
制御部８からの電流を図４（a）、（ｂ）のコイル２０のＩ方向へ流すことにより、磁極１８からディスクＤに対して垂直方向の記録磁界を発生させることができる。すると、磁極１８側から発生した磁束が、図２に示すように、ディスクＤの垂直記録層ｄ４を真っ直ぐ通り抜けて軟磁性層ｄ２に達する。これによって、垂直記録層ｄ４の磁化をディスク面Ｄ１に対して垂直に向けた状態で記録を行うことができる。
【００６６】
また、図５（ｂ）に示すように、磁極１８と前記側面１６ｄ（または、１６ｃ）、１６ｅ及び１６ｆの全周とに亘って巻回されるコイル２０の本数を単数にしても、磁気記録に必要とされる十分な磁界を得ることができる。
【００６７】
また、コイル２０は、コイル軸Ａを中心として主磁極１８と前記側面１６ｄ（または、１６ｃ）、１６ｅ及び１６ｆに亘って巻かれていればよく、１巻き未満であっても、１巻き以上であってもよい。
【００６８】
図６にコイル２０がコア１６上に巻回されている詳細な様子を示す。図６（ａ）はコア１６の斜視図であり、図６（ｂ）はコア１６の上面図である。また、図６（ｃ）は図６（ｂ）のＡ−Ａ´での断面図を示す。
【００６９】
コイル２０と磁極１８のそれぞれを絶縁するために、絶縁膜２１ａ、２１ｂ及び２１ｃが形成されている。絶縁膜２１ａはコイル２０とコイル配線接続部Cとが重なる際の絶縁のため、絶縁膜２１ｂは磁極１８とコイル２０の絶縁の為に形成されている。また、絶縁膜２１ｃはコイル２０のショート防止の為、コイル２０全体を覆うように、コア１６の斜面１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ及び１６ｆ上、絶縁膜２１ａと２１ｂ上、及び磁極１８上に形成されている。
【００７０】
コイル２０は、略円筒上に導体を螺旋状に巻いたコイル、いわゆる、ソレノドコイル構造と類似な構造となっている。このように、従来の構成のように同一平面上においてコイルが螺旋状に巻かれている構成ではなく、コイル２０が磁極１８と側面１６ｄ、１６ｅ及び１６ｆの全周とに亘って螺旋状に巻かれる構成であるため、従来の構造よりもコイル２０の全体の磁界強度を高めることができる。また、記録磁界発生部の直ぐ近傍にコイルを形成する構造となっているため、磁界の損失を極端に低減させることが可能である。
【００７１】
また、コイル２０を、１巻分のコイル（単コイル）、あるいは１巻き未満のコイルに形成することでも、磁気記録に必要とされる十分な磁界を得ることが可能になる。すなわち、従来の磁気記録ヘッドに搭載されている平面上に導体を螺旋状に巻いたコイル構造よりも、コイル２０に流す電流に対する発生磁界の損失が少なくなり、より強力かつ高効率の磁界を発生させることができる。また、磁気発生部の構造が従来よりもシンプルになるため、ヘッドの小型化を図ることが可能になる。
【００７２】
次に、このように構成された情報記録再生装置１により、ディスクＤに各種の情報を記録再生する場合について以下に説明する。
【００７３】
まず、スピンドルモータ７を駆動させてディスクＤを一定方向に回転させる。次いで、アクチュエータ６を作動させて、キャリッジ１１を介してビーム３をＸＹ方向にスキャンさせる。これにより、図１に示すように、ディスクＤ上の所望する位置に近接場光ヘッド２を位置させることができる。この際、近接場光ヘッド２は、スライダ１５の対向面１５ａに形成された２つの凸状部１５ｂによって浮上する力を受けると共に、ビーム３等によってディスクＤ側に所定の力で押さえ付けられる。近接場光ヘッド２は、この両者の力のバランスによって、図２に示すようにディスクＤ上から所定距離Ｈ離間した位置に浮上する。
【００７４】
また、近接場光ヘッド２は、ディスクＤのうねりに起因して発生する風圧を受けたとしても、ジンバル部２５によってＺ方向、ＸＹ軸回りに変位することができるようになっているので、うねりに起因する風圧を吸収することができる。そのため、近接場光ヘッド２を安定した状態で浮上させることができる。
【００７５】
ここで、情報の記録を行う場合、制御部８は光信号コントローラ５を作動させると共に、情報に応じて変調した電流をコイル２０に供給する。
【００７６】
光信号コントローラ５は、制御部８からの指示を受けて光束Ｌを光導波路４の基端側から入射させる。入射した光束Ｌは、光導波路４内を先端側に向かって進み、図２に示すようにミラー面４ａで略９０度向きを変えて光導波路４内から出射する。出射した光束Ｌは、レンズ２６によって集束された状態でスライダ１５内部を透過すると共に、レンズ２６の略真下に設けられたコア１６の内部に底面１６ａ側から入射する。つまり、光束Ｌは、光束導入手段（光導波路４及びレンズ２６）によってスライダ１５の上面側から一直線にコア１６に向かって導入される。
【００７７】
コア１６の内部に導入された光束Ｌは、底面１６ａ側から端面１６ｂ側に向かって進み、図２（ｂ）に示すように、ディスク面Ｄ１に対向する端面１６ｂから近接場光Ｒとして外部に漏れ出す。つまり、コア１６の端面１６ｂから近接場光Ｒを発生させることができる。
【００７８】
このように、スライダ１５の上面側からコア１６の端面１６ｂに向けて略一直線に光束Ｌを導入できるので、従来の光の入れ方とは異なり光束Ｌをスライダ１５の上面から容易に導入できると共に、効率良く近接場光Ｒを発生させることができる。この近接場光Ｒによって、ディスクＤの磁気記録層ｄ４は局所的に加熱されて一時的に保磁力が低下する。
【００７９】
なお、コア１６の側面１６ｃに形成された第１の磁極１８を光非透過性の材料から形成することが好ましい。こうすることで、磁極１８が形成された側面１６ｃからコア１６の外部に光束Ｌが漏れてしまうことを防止でき、光束Ｌを端面１６ｂにより集光させて、近接場光Ｒを効率良く発生させることができる。
【００８０】
一方、制御部８によってコイル２０に電流が供給されると、電磁石の原理により電流磁界が磁極１８内に磁束を発生させるので、磁極１８からディスクＤに対して垂直方向の記録磁界を発生させることができる。すると、磁極１８側から発生した磁束が、図２に示すように、ディスクＤの垂直記録層ｄ４を真っ直ぐ通り抜けて軟磁性層ｄ２に達する。これによって、垂直記録層ｄ４の磁化をディスク面Ｄ１に対して垂直に向けた状態で記録を行うことができる。
【００８１】
これにより、近接場光Ｒによって保磁力が低下した磁気記録層ｄ４の局所的な位置に対して、ピンポイントで記録磁界を作用させることができる。なお、この記録磁界は、記録する情報に応じて向きが反転する。
【００８２】
そして、ディスクＤの磁気記録層ｄ４は、記録磁界を受けると、前記記録磁界の向きに応じて磁化の方向が反転する。その結果、ディスクＤに情報の記録を行うことができる。つまり、近接場光Ｒと磁極１８で発生した記録磁界とを協働させた、近接場光アシスト磁気記録方式により情報の記録を行うことができる。
【００８３】
次に、ディスクＤに記録された情報を再生する場合には、スライダ１５の先端面１５ｃに形成されている磁気抵抗効果膜２７が、ディスクＤの磁気記録層ｄ４から漏れ出ている磁界を受けて、その大きさに応じて電気抵抗が変化する。よって、磁気抵抗効果膜２７の電圧が変化する。これにより制御部８は、ディスクＤから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することができる。そして制御部８は、この電圧の変化から信号の再生を行うことで、情報の再生を行うことができる。
【００８４】
また、近接場光Ｒを発生させるコア１６は、底面１６ａ及び端面１６ｂがディスク面Ｄ１やスライダ１５の対向面１５ａと平行になるように設けられているので、光束導入手段１７はスライダ１５の上面から光束Ｌを容易且つ確実に導入することができる。
【００８５】
また、スライダ１５の対向面１５ａにコア１６を固定すると共に、コア１６の側面１６ｃに磁極１８を形成するだけで、近接場光Ｒの発生と記録磁界の発生とを同時に達成することができるので、従来のように複雑な構成にすることなく、シンプルな構造にすることができる。よって、構成を簡略化することができ、小型化を図ることができる。また、コア１６の底面１６ａ側から導入された光束Ｌは、安定的に端面１６ｂに向かうので効率良く近接場光Ｒを発生させることができる。よって、近接場光Ｒと記録磁界とをより効率良く協働させることができる。
【００８６】
更に、従来とは異なり、磁極１８と接しているところから近接場光Ｒを発生させることができるので、記録磁界が作用する範囲内に、近接場光Ｒによる加熱温度のピーク位置を入れることができる。特に、記録磁界のピーク位置に対して、近接場光Ｒによる加熱の温度勾配のピーク位置がずれるとしても、加熱温度のピーク位置を記録磁界の範囲内に留めておくことができる。従って、ディスクＤの局所的な位置に対して確実に記録を行うことができ、信頼性の向上及びディスクのさらなる高記録密度化を図ることができる。また、第１の磁極１８がディスクＤの移動方向に沿って並んでいるので、磁極１８を確実にディスクＤのトラック上に位置させることができる。従って、隣接するトラックに記録された情報に影響を与えることなく、所望するトラックに対して情報を正確に記録することができる。
【００８７】
図７はコア１６の斜面上と磁極１８上にコイル２０が巻回されている構造の製造方法の概略図（図６（ｂ）のＡ−Ａ´断面と図６（ａ）の上面）である。
【００８８】
Ｓ１からＳ４の各行は作製ステップを示す。まずステップＳ１で、スライダ１５の対向面１５a上に形成したコア１６の側面１６ｃ上に磁極１８を、パーマロイなどの磁性材料を用い形成する。その次に、側面１６ｅ上にコイル配線接続部CをＡｕなどの導電性材料を用い形成する。磁極１８とコイル配線接続部Cの成膜はスパッタリングや真空蒸着などの薄膜作製工程を用い行う。特に、斜方蒸着手段を用いると、効果的である。磁極１８とコイル２０´のパターニングは、磁性材料と導電性材料を成膜し、その上にフォトレジストをパターングした後、ドライエッチング法またはウエットエッチング法を用い、行うことができる。また、磁極１８とコイル配線接続部Cのパターニングの他の手段として、斜面１６ｃと１６ｅ上にフォトレジストをパターニングし、前記パターニングされたフォトレジスト上に磁性材料と導電性材料を成膜した後、リフトオフする方法もある。
【００８９】
次にステップＳ２において、磁極１８またはコイル配線接続部Cとコイル２０との絶縁のため、絶縁膜２１aと２１ｂをコイル配線接続部Cと磁極１８上に形成する。絶縁層２１aと２１ｂは、例えば、ＳＵ−８のようなフォトレジストなどを用いれば、容易に形成することができる。また、絶縁層２１aと２１ｂの形成後、それらの上面２１ａ´と２１ｂ´を研磨した場合は上面が平坦化されることで、常に均一な膜厚を得ることができ、且つパターン精度の良いコイル２０を絶縁層２１aと２１ｂの上に形成することができる。
【００９０】
次にステップＳ３において、コイル２０の形成は、コイル配線接続部Cと同様な材料を用い、コイル配線接続部Cと接続するように形成する。コイル２０は、１回のフォトレジストリソグラフィ工程と成膜工程でコイル２０の配線全部を形成することもできるし、または、各斜面上と磁極１８上にそれぞれレジストパターニングを行い、コイル２０の配線の一部をそれぞれ形成し、それらがつながるようにすることによって、コイル２０を形成しても良い。また、コイル２０の形成方法は、上記のドライエッチング法やウエットエッチング法、または、リフトオフ法のいずれを用いても構わない。
【００９１】
最後にステップＳ４において、コイル２０のショートや損傷などを防止するため、絶縁膜２１ｃが、コイル２０全体を覆うように、コイル２０と、コア１６の斜面１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ及び１６ｆ上、絶縁膜２１ａと２１ｂ上、及び磁極１８上に形成される。絶縁膜２１ｃは絶縁膜２１ａと２１ｂの形成に用いた同様な材料を使い、フォトレジストリソグラフィ法で形成することができる。
【００９２】
上記のリフトオフ法を用いる場合、特に、２層レジストリフトオフ法を用いることで、高精度なコイル２０のパターンを形成することができる。
【００９３】
また、コイル２０を別途作製し、コア１６に載せる方法であっても、コア１６の斜面上と磁極１８上にコイル２０が巻回されている構造を形成することができる。
【００９４】
上述したように本実施形態の近接場光ヘッド２によれば、小型化を図りながら近接場光Ｒを効率良く発生させることができると共に、より強力かつ高効率の磁界を発生させることができ、書き込みの信頼性を向上することができる。
【００９５】
また、本実施形態の情報記録再生装置１によれば、上述した近接場光ヘッド２を備えているので、該情報記録再生装置１自体の小型化も図ることができ、また、書き込みの信頼性が高まって高品質化を図ることができる。
【００９６】
また、近接場光ヘッド２のコア１６は、側面１６ｃまたは１６ｄと磁極１８との間にそれぞれ金属膜が形成されてもよく、磁極１８が形成された側面１６ｃまたは１６ｄ以外の側面１６ｅと１６ｆ上に金属膜が形成されていても良い。側面１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ及び１６ｆ上に形成された金属膜表面から表面プラズモンが励起され、光強度の強い近接場光Ｒとなって外部に漏れ出す。コア１６の内部に導入された光束Ｌは端面１６ｂに向かう途中でコア１６の外部に漏れることがない。従って、光束Ｌを無駄なく端面１６ｂに集光することができ、より効率良く光強度の強い近接場光Ｒを発生することができる。その結果、ディスクＤをより効率良く加熱することができ、情報の記録をさらに容易に行うことができる。
（実施の形態２）
次に、本発明に係る近接場光ヘッドの第２実施形態について、図８を参照して説明する。
【００９７】
なお、第２実施形態において第１実施形態と同一の構成については、同一の符号を付しその説明を省略する。
【００９８】
図８には、コア３６として三角錐台を用いた構造を示しており、コア３６の端面３６ｂの輪郭の内、入射光Ｌの偏光方向Ｐに対して略垂直な輪郭（特定輪郭部分）が少なくとも1カ所備える場合の一例を示す。そのとき、入射光Ｌの偏光方向Ｐが端面３６ｂの輪郭３６ｇに対して略垂直になるように制御される。また、該輪郭３６ｇと磁極３８は接している。
【００９９】
このような構造は、図４と図５に示す構造に比べ、磁極３８の近傍に更に局在化した高エネルギーを持つ、近接場光Rを発生させることが可能になるので、極微細な領域の熱アシストが可能で、情報の超高密度記録に適している。なお、輪郭３６ｇが少なくとも１カ所備えられていてもよいし、輪郭３６ｇが１カ所のみ備えられていてもよい。これにより、輪郭３６ｇが複数個所備えられているときよりも、さらに局在化した高エネルギーを持つ近接場Ｒを発生させることができる。また、輪郭３６ｇは、入射光Ｌの偏光方向Ｐに対して略垂直な特定輪郭部分であるものとして説明しているが、これに限定されずに、入射光Ｌの偏光方向Ｐに対して垂直でない輪郭部分であってもよいのは勿論のことである。
【０１００】
また、斜面３６ｃ上には磁極３８が形成され、いわゆるシングルポール構造となっている。また、コイル３０が磁極３８や斜面３６ｄと３６e上を巻回し、磁極３８とコイル３０が電磁石を構成している。
【０１０１】
また、制御部８からの情報に応じて変調した電流をコイル３０のＩ方向へ流すことにより、磁極３８からディスクＤに対して垂直方向の記録磁界を発生させることができる。すると、磁極３８側から発生した磁束が、図２に示すように、ディスクＤの垂直記録層ｄ４を真っ直ぐ通り抜けて軟磁性層ｄ２に達する。これによって、垂直記録層ｄ４の磁化をディスク面Ｄ１に対して垂直に向けた状態で記録を行うことができる。
【０１０２】
また、磁極３８に巻回するコイル３０の本数を単数にしても、磁気記録に必要とされる十分な磁界を得ることができる。
【０１０３】
また、製造方法においても、スライダ１５の対向面１５a上に三角錐体のコア３６を形成した後、図４、図５及び図６に示す構造の絶縁膜やコイルなどの作製時に用いるフォトマスクのパターンのみを変更することで、作製工程が増えることなく、図４、図５及び図６に示す構造の作製方法とほぼ同一方法で、図８に示す構造を作製することができる。
（実施の形態３）
次に、本発明に係る近接場光ヘッドの第３実施形態について、図９の（ａ）と（ｂ）を参照して説明する。なお、第３実施形態において第１実施形態と第２実施形態と同一の構成については、同一の符号を付しその説明を省略する。
【０１０４】
図９の（ａ）は図６に示す構造と同様な四角錐台構造であって、更にコア１６の斜面（１６ｃ、１６ｄ、１６e、１６ｆ）上に金属膜（M１、M２、M３、M４）が形成されている。また、図９の（ｂ）は図７に示す構造と同様な三角錐台構造であって、更にコア３６の斜面（３６ｃ、３６ｄ、３６e）上に金属膜（M１１、M１２、M１３）が形成されている。
【０１０５】
該金属膜は、導入された光束Lがコア１６または３６の外部に漏れてしまうことを防止するための遮光膜機能を持つか、あるいは、金属の表面プラズモン効果を得るために形成されている。そうすることで、光束Ｌをより集光させることができ、近接場光Rを効率良く発生させることができると共に、該プラズモン効果により、更に強度が加わった局在化した高エネルギーを持つ、近接場光Rを発生させることができる。
【０１０６】
また、遮光膜としてはAlなどの金属材料を用いて、プラズモン効果膜としてはAuなどの金属材料を用いれば有効である。
【０１０７】
図９の（a）に示すコア１６の斜面（１６ｃ、１６ｄ、１６e、１６ｆ）上の金属膜M１、M２、M３及びM４の構成については、それら全てを遮光機能を有する膜として形成しても良いし、それらの全てをプラズモン効果機能を有する膜として形成しても良い。
【０１０８】
また、コア１６の斜面（１６ｃ、１６ｄ、１６e、１６ｆ）上に遮光膜とプラズモン効果膜が混在するように形成しても良くて、例えば、プラズモン効果膜は単数にし、遮光膜を複数して形成する。また、そのとき、光束Ｌはその偏光方向がプラズモン効果膜と接している端面１６ｂの輪郭とほぼ垂直になるように制御されながら導入されても構わない。
【０１０９】
例えば、金属膜M１のみを主にプラズモン効果を得るための膜として形成し、金属膜M２、M３及びM４は遮光膜として形成する。そして、光束Ｌの偏光方向Ｐが端面１６ｂの輪郭１６ｇに対して略垂直になるように導入される。そうすると、輪郭１６ｇに局在化された高エネルギーを持つ、近接場光Rが発生する。
【０１１０】
また、図９の（ｂ）に示す金属膜M１１、M１２及びM１３の構成も、全てを遮光膜として形成しても良いし、全てをプラズモン効果膜として形成しても良い。また、遮光膜とプラズモン効果膜が混在するように形成しても良い。そのとき、入射光Ｌが偏光方向Ｐを持つように制御されながら導入されても構わない。
【０１１１】
例えば、M１１のみをプラズモン効果膜として形成し、M１２とM１３は遮光膜として形成する。そして、入射光Ｌの偏光方向Ｐが端面３６ｂの輪郭３６ｇに対して略垂直になるように導入される。そうすると、輪郭３６ｇに局在化された高エネルギーを持つ、近接場光R´が発生する。
【０１１２】
また、図９の（ｂ）に示すコア３６の斜面（３６ｃ、３６ｄ、３６e）上の金属膜M１１、M１２及びM１３の形成やその効果については、図９（a）に示す金属膜M１、M２、M３及びM４とほぼ同様である。
【０１１３】
例えば、金属膜M１１のみを主にプラズモン効果を得るための膜として形成し、金属膜M１２とM１３は遮光膜として形成する。そして、光束Ｌの偏光方向Ｐが端面３６ｂの輪郭３６ｇに対して略垂直になるように導入される。そうすると、輪郭３６ｇに局在化された高エネルギーを持つ、近接場光R´が発生する。
【０１１４】
それによって、実施の形態１と２の効果に加え、更に強力な近接場光R´の発生が可能であるため、ディスクDの極微細な領域を効率よく加熱することができ、情報の超高密度記録に適している。
【０１１５】
また、図９（a）に示す構造の製造方法については、コア１６を対向面１５a上に形成した後、まず、各斜面上にAlまたはAuなど導電性材料を用い、金属膜M１、M２、M３、及びM４を形成する。形成方法は斜方蒸着やリフトオフ法などを利用すれば簡単に形成することができる。次に、金属膜M１、M２、M３、及びM４と磁極１８やコイル２０との絶縁のための絶縁層（図省略）を形成する。その後の、磁極１８やコイル２０などの形成に関しては図７に示す作製方法とほぼ同様な方法を用い形成することができる。
【０１１６】
図９（ｂ）の構造の作製方法に関しても、コア３６の斜面上にAlまたはAuなどの導電性材料を用い、金属膜M１１、M１２、及びM１３を形成する。次に、金属膜M１１、M１２、及びM１３と磁極３８やコイル３０との絶縁のための絶縁層を形成した後、図７に示す構造の磁極やコイルなどの形成方法を用いることで図９（ｂ）の構造を作製することが可能である。
（実施の形態４）
次に、本発明に係る近接場光ヘッドの第４実施形態について、図１０を参照して説明する。図１０（a）はコアが四角錐台である場合の一例であり、また図１０（ｂ）はコアが三角錐台である場合の一例を示す。なお、第４実施形態において第１実施形態、第２実施形態、及び第3の実施形態と同一の構成については、同一の符号を付しその説明を省略する。
【０１１７】
図４、図５あるいは図８には、コア１６あるいは３６の側面１６ｃあるいは３６ｃ上に主磁極として磁極１８あるいは３８のみが形成され、コイル２０あるいは３０が磁極１８あるいは３８の周囲を巻回している、いわゆるシングルポール構造を示しているが、図１０に示す構造には、主磁極としての磁極１８あるいは３８が形成されると共に、補助磁極（リターンポール）の機能をする磁極１９が、コア１６あるいは３６が配置する対向面１５ａ上に設けられている。その位置は、ディスクＤの移動方向の略逆方向に、磁極１８あるいは３８からの記録磁界（図省略）が補助磁極１９へ流れるようにする位置であれば、対向面１５ａ上のどの位置であっても構わない。
【０１１８】
そうなると、磁極１８あるいは３８側から発生した記録磁界が、図２に示すように、ディスクＤの垂直記録層ｄ４を真っ直ぐ通り抜けて軟磁性層ｄ２に達する。これによって、垂直記録層ｄ４の磁化をディスク面Ｄ１に対して垂直に向けた状態で記録を行うことができる。また、軟磁性層ｄ２に達した磁束は、該軟磁性層ｄ２を経由して補助磁極１９に戻る。補助磁極１９に戻るときには垂直記録層ｄ４に既に記録されている記録磁化の方向に影響を与える、つまり磁化を反転させる、ことはない。これは、補助磁極１９の面積が、主磁極１８あるいは３８の面積よりも大きいので磁束密度が小さく、磁化を反転させるほどの力が生じないためである。つまり、主磁極１８あるいは３８側でのみ記録を行うことができる。
【０１１９】
図１０の（ａ）と（ｂ）に示す構造は、記録方式が垂直磁気記録の場合に限定される構造であるが、コア１６あるいは３６として示している近接場光発生素子が少なくとも一側面を持つ突出構造あるいは凹み構造であれば使用が可能になる。また、スライダ１５の構造に応じて、前記近接場光発生素子や磁極１８と３８及び補助磁極１９の設計自由度が高い。
【０１２０】
また、製造方法においては、補助磁極１９の形成を除いて図４と図５あるいは図８に示す構造を作製した後、補助磁極１９を別途に対向面１５a上に設けても良いし、磁極１８あるいは３８の形成時に用いるフォトマスクに補助磁極１９のパターンを入れ、磁極１８あるいは３８の形成時に補助磁極１９を同時に形成しても良い。
（実施の形態５）
次に、本発明に係る近接場光ヘッドの第５実施形態について、図１１を参照して説明する。なお、第５実施形態において第１実施形態から第４実施形態までと同一の構成については、同一の符号を付しその説明を省略する。
【０１２１】
図１１は、図１０（a）に示す構造の主磁極１８が補助磁極１９と薄膜状の回路２３によって接続されている構造の一例を示す。また、図１１に示すコア１６の構造は少なくとも一側面を持ち、前記一側面上に主磁極を有する突出構造あるいは凹み構造であれば使用が可能になる。
【０１２２】
図１１に示す構造は、磁極１８、１９と回路２３とが完全な磁気回路構造を形成することで、図２に示す記録磁界を効率よく主磁極１８から補助磁極１９へ伝搬させることが可能である。
【０１２３】
回路２３の作製方法に関しては、コア１６が形成されている対向面１５a上に、主磁極１８や補助磁極１９の形成時に用いた磁性材料と同様な材料を用いて形成できる。また、磁極１８と１９のパターニングの際用いるフォトマスクに、回路２３のパターンを入れることで、磁極１８と１９の形成時に、回路２３を同時かつ簡便に形成することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１２４】
本発明によれば、小型化を図りながら近接場光を効率良く発生させることができると共に、より強力かつ高効率の磁界を発生させることができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【国際調査報告】
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