(57)【要約】本発明の液晶表示装置１０は、一対のガラス基板３１，４１の間に液晶層５０を設けてなる液晶パネル１１と、当該液晶パネル１１に照明光を供給する照明装置１２と、を含む液晶表示装置であって、前記一対のガラス基板３１，４１のうち少なくとも一方のガラス基板３１には、輝点欠陥の原因となる輝点欠陥発生部Ｘを遮光可能な位置に、当該ガラス基板３１の内部に形成された空隙部６１と、前記空隙部６１から当該ガラス基板３１の前記液晶層５０とは反対側の表面に貫通する貫通部６２とから構成される外部連通空隙部６３が設けられ、当該外部連通空隙部６３内に遮光層６０が形成されていることを特徴とする。
2009019914.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対のガラス基板の間に液晶層を設けてなる液晶パネルと、当該液晶パネルに照明光を供給する照明装置と、を含む液晶表示装置であって、
前記一対のガラス基板のうち少なくとも一方のガラス基板には、輝点欠陥の原因となる輝点欠陥発生部を遮光可能な位置に、当該ガラス基板の内部に形成された空隙部と、前記空隙部から当該ガラス基板の前記液晶層とは反対側の表面に貫通する貫通部とから構成される外部連通空隙部が設けられ、
当該外部連通空隙部内に遮光層が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記貫通部は、少なくとも２箇所、若しくは環状に形成されていることを特徴とする請求の範囲第１項に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記遮光層は、前記輝点欠陥発生部の前記ガラス基板面への投影面積に対して、その１．０倍〜１．４倍の面積を有することを特徴とする請求の範囲第１項又は請求の範囲第２項に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記遮光層は、前記一対のガラス基板のうち前記照明装置側に配されるガラス基板に形成されていることを特徴とする請求の範囲第１項ないし請求の範囲第３項のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
一対のガラス基板の間に液晶層を設けてなる液晶パネルと、当該液晶パネルに照明光を供給する照明装置と、を含む液晶表示装置の製造方法であって、
輝点欠陥が発生した場合に、その輝点欠陥を修正する輝点欠陥修正工程を含み、
前記輝点欠陥修正工程は、
前記一対のガラス基板のうち少なくとも一方のガラス基板において、前記輝点欠陥の原因である輝点欠陥発生部を遮光可能な修正位置を特定する工程と、
特定した前記ガラス基板の前記修正位置に、フェムト秒オーダー以下のパルス幅のレーザーを照射して、当該ガラス基板の内部の平板状部位と、その部位から当該ガラス基板の前記液晶層とは反対側の表面に繋がる環状部位とからなるガラス変質部を形成するガラス変質部形成工程と、
前記ガラス変質部を除去して外部連通空隙部を形成する外部連通空隙部形成工程と、
前記外部連通空隙部に遮光材を注入し、これを固化させて遮光層を形成する遮光層形成工程と、を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記外部連通空隙部形成工程において、前記ガラス基板の内部に空隙部を形成し、前記空隙部から当該ガラス基板の前記液晶層とは反対側の表面に貫通する貫通部を形成することを特徴とする請求の範囲第５項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記外部連通空隙部形成工程において、前記貫通部を少なくとも２箇所、若しくは環状に形成することを特徴とする請求の範囲第６項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記遮光層形成工程において、当該遮光層を、前記輝点欠陥発生部の前記ガラス基板面への投影面積に対して、その１．０倍〜１．４倍の面積となるように形成することを特徴とする請求の範囲第５項ないし請求の範囲第７項のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記一対のガラス基板のうち前記照明装置側に配するガラス基板に、前記遮光層を形成することを特徴とする請求の範囲第５項ないし請求の範囲第８項のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の製造方法として以下のようなものがある。例えば、一対のガラス基板のうち一方のガラス基板にスイッチング素子（例えばＴＦＴ）や画素電極などを設け、他方のガラス基板に対向電極などを設けた後、両ガラス基板を、スペーサを介して貼り合わせる。次に、両ガラス基板の間に液晶を注入して液晶層を形成し、その後両ガラス基板の表面に偏光板をそれぞれ貼り付けて液晶パネルを得る。そして、この液晶パネルに、例えば複数の冷陰極管を光源として備える照明装置を備え付けるという方法である。【０００３】
上記のような液晶表示装置の製造過程では、所定のタイミングで各種検査を行って不良を検出する工程を含む場合がある。例えば、液晶層を形成した後で行う検査では、両ガラス基板を挟むように一対の検査用の偏光板を配置し、検査用のバックライトを点灯させ、スイッチング素子を駆動させることで表示不良の有無を検査する場合がある。【０００４】
このような検査工程において、例えば液晶層内に異物が侵入している場合、光が液晶層内に含まれた異物に当たって乱反射することで、黒表示をしているにも拘らず明るく見える輝点欠陥として検出されることがある。当該輝点欠陥は、表示品質を著しく低下させ、製造の歩留まりを悪化させることとなる。【０００５】
そこで、上記のような輝点欠陥を修正する方法として、例えば特許文献１に開示される技術が知られている。特許文献１には、一対の基板のうちの少なくとも一方の基板の液晶層側とは反対側の表面位置であって、輝点不良が生じている部分に光学的に重なる表面位置に凹部を形成し、該凹部内に遮光材を設け、該遮光材を設けた凹部内に硬化性樹脂を充填してその表面を平坦化する方法が開示されている。
【特許文献１】特開２００５−１８９３６０公報
【０００６】
（発明が解決しようとする課題）
しかしながら、特許文献１に記載の発明は、ガラス基板に凹部を形成し、そこに遮光材を充填するものであるため、当該凹部を深く形成すると、ガラス基板の強度が低下し、場合によってはガラス基板が破損する問題があった。一方、ガラス基板の強度低下を抑止するために、凹部の深度を浅いものとすると、当該凹部と輝点不良が生じている部分との間に一定距離の隙間が存することとなる。このような隙間が存すると、凹部の外側（すなわち未加工部）から入射した光が、ガラス基板の透過中に廻りこみを起こして輝点不良が生じている部分に到達してしまい、輝点欠陥が修正されない場合があった。
【発明の開示】
【０００７】
本発明は、上記のような事情に基づいてなされたものであって、輝点欠陥が確実に視認不能とされ、高い表示品質を示す液晶表示装置を提供することを目的としている。さらに、液晶表示装置に生じた輝点欠陥を好適に修正可能な工程を含む液晶表示装置の製造方法を提供することを目的としている。
【０００８】
（課題を解決するための手段）
上記課題を解決するために、本発明の液晶表示装置は、一対のガラス基板の間に液晶層を設けてなる液晶パネルと、当該液晶パネルに照明光を供給する照明装置と、を含む液晶表示装置であって、前記一対のガラス基板のうち少なくとも一方のガラス基板には、輝点欠陥の原因となる輝点欠陥発生部を遮光可能な位置に、当該ガラス基板の内部に形成された空隙部と、前記空隙部から当該ガラス基板の前記液晶層とは反対側の表面に貫通する貫通部とから構成される外部連通空隙部が設けられ、当該外部連通空隙部内に遮光層が形成されていることを特徴とする。
【０００９】
このように、ガラス基板において、空隙部と当該空隙部からガラス基板表面に貫通する貫通部とから構成される外部連通空隙部に、遮光材が注入されてなる遮光層が形成されることにより、ガラス基板の強度の低下をほとんど伴うことなく、輝点欠陥が視認不能とされる液晶表示装置が得られる。
【００１０】
従来の遮光層の形成では、ガラス基板の表面に凹部のような大きな空隙を形成し、そこに遮光材を充填する手段を採用する場合があり、この空隙を形成する際にガラス基板の強度が低下し、ひいては破損してしまう場合があった。
そこで、本発明においては、遮光材の流路としての外部連通空隙部が形成される構成とすることにより、ガラス基板に形成する空隙を最小限の容積とすることができることとなり、ガラス基板の強度が低下し難いものとすることが可能となった。
【００１１】
また、本発明の液晶表示装置において、前記貫通部は、少なくとも２箇所、若しくは環状に形成されているものとすることができる。
この場合、貫通部から遮光材を注入すると、外部連通空隙部に溜まっていた空気が、異なる貫通部、若しくは環状貫通部の遮光材注入部とは異なる部分から排出されることとなり、緻密な遮光層を形成することができる。
【００１２】
また、前記遮光層は、前記輝点欠陥発生部の前記ガラス基板面への投影面積に対して、その１．０倍〜１．４倍の面積を有するものとすることができる。
このように、遮光層の面積が比較的小さいものとされた場合も、確実に照明光を遮光することが可能となる。
【００１３】
従来の凹部を形成する遮光層では、ガラス基板の強度低下を回避するために凹部の深度を浅いものとする必要があり、その結果、輝点欠陥発生部との距離が大きくなるため、輝点欠陥発生部のガラス基板面への投影面積に対して１．５倍以上の面積を有する遮光層が必要であった。このような大きな面積の遮光層を設けることは、当該遮光層の形成部分が黒点として視認されることに繋がるおそれがあった。
【００１４】
一方、本発明に係る遮光層においては、上述のように外部連通空隙部の形成というガラス基板の強度が低下し難い手段を採用しているため、遮光層をガラス基板の深い位置に形成することができる。すなわち、遮光層を輝点欠陥発生部に近設することが可能であるため、遮光層の面積を比較的小さいものとしても、照明装置から供給される光が、ガラス基板の透過中に廻りこみを起こして輝点欠陥発生部に到達することを抑止することができ、輝点欠陥が視認されない良好な表示品質を実現することが可能となる。
【００１５】
また、前記遮光層は、前記一対のガラス基板のうち前記照明装置側に配されるガラス基板に形成されているものとすることができる。
この場合、遮光層は当該液晶表示装置の表示面とは反対側に形成されるため、表示を視る者にこの遮光層が視認されることを抑止することが可能となる。
【００１６】
次に、上記課題を解決するために、本発明の液晶表示装置の製造方法は、一対のガラス基板の間に液晶層を設けてなる液晶パネルと、当該液晶パネルに照明光を供給する照明装置と、を含む液晶表示装置の製造方法であって、輝点欠陥が発生した場合に、その輝点欠陥を修正する輝点欠陥修正工程を含み、前記輝点欠陥修正工程は、前記一対のガラス基板のうち少なくとも一方のガラス基板において、前記輝点欠陥の原因である輝点欠陥発生部を遮光可能な修正位置を特定する工程と、特定した前記ガラス基板の前記修正位置に、フェムト秒オーダー以下のパルス幅のレーザーを照射して、当該ガラス基板の内部の平板状部位と、その部位から当該ガラス基板の前記液晶層とは反対側の表面に繋がる環状部位とからなるガラス変質部を形成するガラス変質部形成工程と、前記ガラス変質部を除去して外部連通空隙部を形成する外部連通空隙部形成工程と、前記外部連通空隙部に遮光材を注入し、これを固化させて遮光層を形成する遮光層形成工程と、を有することを特徴とする。
【００１７】
このような製造方法によれば、ガラス基板に外部連通空隙部を形成し、そこに遮光材を注入することで遮光層を形成するため、ガラス基板表面に凹部を形成する手段に比してガラス基板の強度低下を伴い難く、確実に輝点欠陥を修正することが可能となる。
【００１８】
さらに、最終的に遮光層となるガラス変質部の形成にフェムト秒オーダー以下のパルス幅のレーザーを使用するものとした。フェムト秒オーダー以下のレーザーをガラスに照射することにより、ガラスによる光エネルギーの吸収、ガラスへのエネルギー移乗、拡散などの過程を経てガラスの状態に様々な変化をもたらし、ガラス内部に変質部を誘起させることができる。また、レーザー照射は、例えばドリル等に比して自由度の高い加工が可能であるため、輝点欠陥発生部の形状に応じた遮光層を形成することができる。
ところで、レーザー照射によりガラス変質部を形成する場合、ピコ秒以上のパルス幅を有するレーザーを照射してもガラス変質部を形成することはできるものの、平均的なエネルギー強度が大きすぎるため、レーザー照射点の周辺部位が熱的損傷を受け、ガラス変質部の周囲が白濁してしまう場合があった。一方、フェムト秒オーダー以下のレーザーを照射すると、レーザーによる熱が照射点周囲に伝導するより速く照射部分にエネルギーが吸収されるため、レーザー照射点の周辺部位が熱的・化学的な損傷を受けることがない。
【００１９】
このように、本発明の液晶表示装置の製造方法は、ガラス基板において、輝点欠陥発生部を遮光可能な修正位置に、フェムト秒オーダー以下のレーザーを照射してガラス変質部を形成する。そして、当該ガラス変質部を例えばエッチングにより除去することで外部連通空隙部を形成し、この外部連通空隙部に遮光材を注入することにより遮光層を形成するものとした。その結果、ガラス基板の強度を低下させることなく、当該遮光層で照明装置の光を遮光することで、光が輝点欠陥発生部に到達しないため、輝点欠陥を視認不能なものとすることが可能となった。
【００２０】
また、前記外部連通空隙部形成工程において、前記ガラス基板の内部に空隙部を形成し、前記空隙部から当該ガラス基板の前記液晶層とは反対側の表面に貫通する貫通部を形成するものとすることができる。
このように、ガラス基板の表面に貫通する貫通部を伴う外部連通空隙部を形成することにより、ガラス基板の表面から貫通部を通じて遮光材を注入することができる。
【００２１】
また、前記外部連通空隙部形成工程において、前記貫通部を少なくとも２箇所、若しくは環状に形成するものとすることができる。
この場合、貫通部から遮光材を注入すると、外部連通空隙部に溜まっていた空気が、その貫通部とは異なる貫通部、若しくは環状の貫通部のうち遮光材注入部とは異なる部分から排出されることとなり、円滑に遮光材を注入することができるとともに、緻密な遮光層を形成することができる。
【００２２】
また、前記遮光層形成工程において、当該遮光層を、前記輝点欠陥発生部の前記ガラス基板面への投影面積に対して、その１．０倍〜１．４倍の面積となるように形成するものとすることができる。
このように、遮光層の面積が比較的小さいものとされた場合も、確実に照明光を遮光することが可能となる。
本発明に係る遮光層においては、外部連通空隙部の形成というガラス基板の強度が低下し難い手段を採用しているため、遮光層をガラス基板の深い位置に形成することができる。すなわち、遮光層を輝点欠陥発生部に近設することが可能であるため、遮光層の面積を比較的小さいものとしても、照明装置から供給される光が、ガラス基板の透過中に廻りこみを起こして輝点欠陥発生部に到達することを抑止することができ、輝点欠陥が視認されない良好な表示品質を実現することが可能となる。
【００２３】
また、前記一対のガラス基板のうち前記照明装置側に配するガラス基板に、前記遮光層を形成するものとすることができる。
この場合、遮光層を当該液晶表示装置の表示面とは反対側に形成することとなるため、表示を視る者にこの遮光層が視認されることを抑止することが可能となる。
【００２４】
（発明の効果）
本発明によると、輝点欠陥が確実に視認不能とされ、高い表示品質を示す液晶表示装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の実施形態に係る液晶表示装置の概略構成を示す斜視図。
【図２】図１の液晶表示装置のＡ−Ａ線断面図。
【図３】図１の液晶表示装置が備える液晶パネルの要部垂直断面図。
【図４】図１の液晶表示装置が備える液晶パネルの要部水平断面図。
【図５】本実施形態に係る液晶表示装置が奏する作用効果を示す説明図。
【図６】検査対象液晶パネルの点灯検査工程の態様を示す説明図。
【図７】輝点欠陥修正装置の概略構成を示す側面図。
【図８】図１の液晶表示装置の製造方法について一工程を示す説明図。
【図９】図１の液晶表示装置の製造方法について一工程を示す説明図。
【図１０】図１の液晶表示装置の製造方法について一工程を示す説明図。
【図１１】液晶表示装置の一変形例について要部構成を示す垂直断面図。
【図１２】図１１の液晶表示装置の要部構成を示す水平断面図。
【図１３】液晶表示装置の一変形例について要部構成を示す垂直断面図。
【図１４】図１３の液晶表示装置の要部構成を示す水平断面図。
【図１５】液晶表示装置の一変形例について要部構成を示す垂直断面図。
【図１６】図１５の液晶表示装置の要部構成を示す水平断面図。
【符号の説明】
【００２６】
１０…液晶表示装置、１１…液晶パネル、１２…バックライト装置（照明装置）、３１，４１…ガラス基板、５０…液晶層、６０…遮光層、６１…空隙部、６２…貫通部、６３…外部連通空隙部、６４…ガラス変質部、６４ａ…平板状部位、６４ｂ…環状部位、Ｘ…異物（輝点欠陥発生部）
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
本発明の一実施形態を図１ないし図１０によって説明する。
図１は本実施形態に係る液晶表示装置の概略構成を示す斜視図、図２は図１の液晶表示装置のＡ−Ａ線断面図、図３は図１の液晶表示装置が備える液晶パネルの要部垂直断面図、図４は同じく液晶パネルの要部水平断面図、図５は本実施形態に係る液晶表示装置が奏する作用効果を示す説明図、図６は検査対象液晶パネルの点灯検査工程の態様を示す説明図、図７は輝点欠陥修正装置の概略構成を示す側面図、図８から図１０は図１の液晶表示装置の製造方法について一工程を示す説明図である。【００２８】
まず、本実施形態に係る液晶表示装置１０の全体構成について説明する。液晶表示装置１０は、図１及び図２に示すように、矩形をなす液晶パネル１１と、外部光源であるバックライト装置（照明装置）１２とを備え、これらがベゼル１３などにより一体的に保持されるようになっている。バックライト装置１２は、所謂直下型のバックライト装置であって、後述する液晶パネル１１のパネル面（表示面）の背面直下に、当該パネル面に沿って光源（ここでは高圧放電管として冷陰極管１７を用いている）を複数具備した構成となっている。【００２９】
バックライト装置１２は、上面側が開口した略箱型をなすバックライトシャーシ（シャーシ）１４と、バックライトシャーシ１４の開口部を覆うようにして取り付けられる複数の光学部材１５（図示下側から順に拡散板、拡散シート、レンズシート、反射型偏光板）と、これら光学部材１５をバックライトシャーシ１４に保持するためのフレーム１６とを備える。さらに、バックライトシャーシ１４内には、冷陰極管１７と、冷陰極管１７の両端部を保持するためのゴム製のホルダ１８と、冷陰極管１７群及びホルダ１８群を一括して覆うランプホルダ１９と、冷陰極管１７をバックライトシャーシ１４に取り付けるためのランプクリップ２０とが配設されている。なお、当該バックライト装置１２においては、冷陰極管１７よりも光学部材１５側が光出射側となっている。【００３０】
冷陰極管１７は、細長い管状をなしており、その長さ方向（軸線方向）をバックライトシャーシ１４の長辺方向に一致させた状態で、バックライトシャーシ１４内に多数本（図１では１６本）収容されている。一方、冷陰極管１７をバックライトシャーシ１４に対して組み付けるためのランプクリップ２０は、クリップ状の光源保持部材として機能し、合成樹脂製（例えばポリカーボネート製）とされている。【００３１】
さらに、バックライトシャーシ１４の内面側（光源側）には光反射シート１４ａにより光反射面が形成されている。このような光反射シート１４ａを含むバックライトシャーシ１４により、冷陰極管１７から出射された光を拡散板等の光学部材１５側に反射させることが可能となっている。光反射シート１４ａは、例えば光反射性を備えた樹脂シート等により構成することができる。【００３２】
次に液晶パネル１１について説明する。液晶パネル１１は、図３に示すように、一対の基板３０，４０が所定のギャップを隔てた状態で貼り合わされるとともに、両基板３０，４０間に液晶が封入された構成とされ、当該液晶により液晶層５０が形成されている。【００３３】
基板３０は素子基板であって、ガラス基板３１と、このガラス基板３１の液晶層５０側に形成された半導体素子としてのＴＦＴ（薄膜トランジスタ）３２と、当該ＴＦＴ３２に対して電気的に接続された画素電極３３と、これらＴＦＴ３２及び画素電極３３の液晶層５０側に形成された配向膜３４とを備えている。また、ガラス基板３１の液晶層５０側とは反対側には偏光板３５が配設されている。なお、一対の基板３０，４０のうち、当該基板３０（ガラス基板３１）がバックライト装置１２側に配されている。【００３４】
一方、基板４０は対向基板であって、ガラス基板４１と、このガラス基板４１の液晶層５０側に形成されたＲ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）等の各着色部が所定配列で配置されたカラーフィルタ４２と、当該カラーフィルタ４２の液晶層５０側に形成された対向電極４３と、当該対向電極４３の液晶層５０側に形成された配向膜４４とを備えている。また、ガラス基板４１の液晶層５０側とは反対側には偏光板４５が配設されている。【００３５】
さらに、本実施形態では、例えば図３及び図４に示すように、液晶層５０中に輝点欠陥の原因となり得る異物（輝点欠陥発生部）Ｘが混入した場合、この異物Ｘを遮光する手段が設けられている。具体的には、基板３０のガラス基板３１において、この異物Ｘの射影と平面視で重なる位置に、遮光層６０が形成されている。【００３６】
遮光層６０は、ガラス基板３１の内部に形成された空隙部６１と、この空隙部６１の外周部に沿った環状をなし、ガラス基板３１のうち液晶層５０とは反対側の表面（すなわち偏光板３５側）に貫通する貫通部６２とから構成される外部連通空隙部６３に、遮光材が充填された状態で形成されている。
さらに、図４に示すように、遮光層６０と異物Ｘとを平面視した場合、遮光層６０の外形は異物Ｘの形に沿った形状に形成されており、遮光層６０のガラス基板３１面への投影面積は、異物Ｘの投影面積の約１．１倍とされている。【００３７】
なお、空隙部６１は、ガラス基板３１の平面方向に沿った平板状空間をなし、その板面が上述の輝点欠陥発生部を主として遮光する機能を有している。また、貫通部６２は、空隙部６１と基板平面視において重なる位置に形成され、空隙部６１と基板外部とを繋ぐ機能を有している。【００３８】
このような本実施形態の液晶表示装置１０によると、ガラス基板３１において輝点欠陥の原因となり得る異物（輝点欠陥発生部）Ｘを遮光可能な位置に、遮光層６０が設けられているため、異物Ｘには光が到達せず輝点欠陥が視認されない（図５参照）。
さらに、この遮光層６０は、空隙部６１と貫通部６２とからなる外部貫通空隙部６３に、遮光材が注入されることにより形成されたものである。このように、遮光材の流路として必要最小限の容積の外部連通空隙部６３が形成される構成とされているため、遮光層６０を形成する際に、ガラス基板３１の強度が低下し難いものとなっている。【００３９】
また、本実施形態では、空隙部６１の外周に沿った環状の貫通部６２が形成され、遮光層６０を構成している。
このような環状の貫通部６２によると、貫通部６２から遮光材を注入した場合、外部連通空隙部６３に溜まっていた空気が、貫通部６２の遮光材注入部とは異なる部分から排出されるため、緻密な遮光層６０が得られる。【００４０】
また、本実施形態では、遮光層６０は、異物Ｘのガラス基板３１面への投影面積に対して約１．１倍の面積を有するものとされている。
このように、遮光層６０の面積が比較的小さいものとされた場合も、以下に示す理由により、確実に遮光効果を奏することが可能となる。
本実施形態に係る遮光層６０は、上述のように外部連通空隙部６３の形成というガラス基板３１の強度が低下し難い手段を採用しているため、遮光層６０をガラス基板３１の深い位置に形成しても、ガラス基板３１が破損するおそれがない。そのため、異物Ｘに近接された遮光層６０を備えるものとすることができるため、遮光層６０の面積を比較的小さいものとしても、バックライト装置１２から供給される光が、ガラス基板３１の透過中に廻りこみを起こして異物Ｘに到達することを抑止することができ、輝点欠陥が視認されない良好な表示品質を実現することが可能となる。【００４１】
また、本実施形態では、遮光層６０は、一対のガラス基板３１，４１のうちバックライト装置１２側に配されるガラス基板３１に形成されている。
この場合、遮光層６０は表示面とは反対側に形成されていることとなるため、表示を視る者にこの遮光層６０が視認されることを抑止することが可能となる。【００４２】
次に、液晶表示装置１０の製造方法について説明する。
ここでは、主に修正工程を含む製造工程について説明するものとする。【００４３】
まず、ガラス基板２１を用意し、そのガラス基板２１上にＴＦＴ２２と画素電極２３を形成する。そして、これらＴＦＴ２２及び画素電極２３上に配向膜２４を形成して素子基板とする基板２０を作製する。
一方、上記のガラス基板２１とは別途にガラス基板３１を用意し、そのガラス基板３１上に対向電極３２を形成し、さらに対向電極３２上に配向膜３３を形成して対向基板とする基板３０を作製する。【００４４】
これら基板２０と基板３０とを所定の間隔を隔てて貼り合わせ、その隙間に液晶を封入することで液晶層４０を形成する。さらに、両基板２０，３０において、液晶層４０側とは反対側の面にそれぞれ偏光板２５，３４を配設して液晶パネル１１を作製する（図３参照）。なお、後述する液晶パネル１１とバックライト装置１２との組み付け工程において、両基板２０，３０のうち基板２０（ガラス基板２１）をバックライト装置１２側に配するものとする。【００４５】
上記製造過程のうち、液晶層５０を形成した後に、表示不良の有無を検査するための点灯検査を行う（以下、この場合の製造途中にある液晶パネルを検査対象液晶パネル１１ａという）。【００４６】
具体的には、図６に示すように、まず、検査対象液晶パネル１１ａの基板３０，４０を挟むようにして一対の検査用の偏光板７１を配置する。次に、検査用のバックライト７２を点灯させるとともに、ガラス基板３１に形成した各配線を検査用回路に接続して、それぞれに適宜に信号を供給することでＴＦＴ３２を駆動させる。こうして液晶層５０を構成する液晶の配向状態を制御することで得られる表示状態を、画像処理或いは検査員の目視などにより検査する。【００４７】
このとき、黒表示させたにも拘らず、点状に輝いて視認される輝点欠陥が検出される場合がある。この輝点欠陥は、液晶層５０内に侵入した異物Ｘに光が当たって乱反射することが原因として発生する場合があり、このような輝点欠陥が検出された場合には、次に示す輝点欠陥修正工程にて当該輝点欠陥の修正を施す。なお、液晶層５０内に異物Ｘが侵入する原因としては、異物Ｘが、液晶を注入する前の段階で基板３０，４０における液晶層５０側の面に付着している場合、また、液晶中に混入している場合などが考えられる。【００４８】
輝点欠陥修正工程は、ガラス基板３１において輝点欠陥の原因である異物Ｘを遮光可能な修正位置を特定する工程と、特定したガラス基板３１の修正位置に、フェムト秒オーダー以下のパルス幅のレーザーを照射して、当該ガラス基板にガラス変質部６４を形成するガラス変質部形成工程と、当該ガラス変質部６４を除去して外部連通空隙部６３を形成する外部連通空隙部形成工程と、当該外部連通空隙部６３に遮光材を注入し、これを固化させて遮光層６０を形成する遮光層形成工程と、を含む。【００４９】
輝点欠陥修正工程では、図７に示す輝点欠陥修正装置７０を使用して輝点欠陥を修正する。輝点欠陥修正装置７０は、修理対象となる検査対象液晶パネル１１ａを載置するためのステージ７３（図６では図示略）と、ステージ７３を挟むようにして配置される一対の検査用の偏光板７１と、検査用のバックライト７２と、ステージ７３に対して平行及び垂直に移動するＸＹＺ駆動部７４とから構成される。このうちＸＹＺ駆動部７４には、異物Ｘ及びその周辺を撮像するためのＣＣＤカメラ７５と、ガラス変質部を形成するためのレーザーを照射するレーザー照射部７６と、遮光材を注入するためのディスペンサ７７とが所定の位置関係で設けられている。なお、ステージ７３は、検査用バックライト７２から出射される光を透過できるようにガラス製とされている。【００５０】
この輝点欠陥修正装置７０を使用して、まず、ガラス基板３１において異物Ｘを遮光可能な修正位置を特定する。始めに、ステージ７３上の所定位置に修理対象となる検査対象液晶パネル１１ａを載置する。このとき、ガラス基板３１が上側となるようにセットする。次に、検査用バックライト７２を点灯させて検査対象液晶パネル１１ａを黒表示させる。この状態で、ＸＹＺ駆動部７４をステージ７３に対して平行に移動させつつＣＣＤカメラ７５により表示状態を撮像し、その撮像結果を画像処理して異物Ｘの位置及び大きさの情報を得る。そして、この情報をもとに、ガラス基板３１において異物Ｘを遮光可能な修正位置を特定する。【００５１】
次に、特定したガラス基板３１の修正位置に、ガラス変質部６４を形成する工程に移行する。当該工程では、ガラス基板３１に１０−１３秒オーダーのパルス幅を有するフェムト秒レーザーを照射することによりガラス変質部６４を形成する。具体的には、異物Ｘを遮光可能な位置の情報に基づいて、ＸＹＺ駆動部７４を移動させて、これに備わるレーザー照射部７６を、当該異物Ｘを遮光可能な位置の直上へ配置しレーザー照射を行う。なお、本実施形態においては、波長７８０ｎｍ、パルス幅１００ｆｓ、繰り返し周波数１ｋＨｚ、パルスエネルギー１ｍＪ、出力１Ｗの条件にてレーザー照射を行った。【００５２】
ガラス基板３１において、上記レーザーを集光した位置は、瞬間的に高温・高圧化することによりガラス構造の変質が生じる。このレーザーの集光点を連続的にガラス基板３１の内部で移動させることにより、図８に示すように、集光点の軌跡に沿った連続領域としてガラス変質部６４を形成することができる。
本実施形態では、異物Ｘのガラス基板３１へ射影した形状と重なる平板状部位６４ａと、その部位の外周部からガラス基板３１の液晶層５０とは反対側の表面に繋がる環状部位６４ｂとからなるガラス変質部６４を形成した。【００５３】
続いて、上述したガラス変質部６４を除去して外部連通空隙部６３を形成する工程に移行する。本実施形態では、ガラス変質部６４の除去手段としてフッ酸によるウェットエッチングを選択した。当手段によると、ガラス変質部６４では通常のガラス構造の部位に比べて５０倍のエッチング速度を示したため、ガラス変質部６４のみを容易にエッチングすることができ、その結果、図９に示すように、当該ガラス変質部６４が空洞化した外部連通空隙部６３が得られた。
当該外部連通空隙部６３は、ガラス変質部６４の形状に倣ったものであるため、ガラス基板３１の平面方向に形成された平板状の空隙部６１と、当該空隙部６１からガラス基板３１の液晶層５０とは反対側の表面に貫通する環状の貫通部６２とから構成されることとなる。【００５４】
次に、上述した外部連通空隙部６３に遮光材を注入して遮光層６０を形成する工程に移行する。この工程では、まず、ＸＹＺ駆動部７４を移動させて、ディスペンサ７７を、外部連通空隙部６３を構成する貫通部６２の直上に配置する。そして、当該ディスペンサ７７から遮光性のカシュー樹脂を注入して外部連通空隙部６３内に充填させた後、これを固化させて遮光層６０を形成する（図１０参照）。なお、ここで形成した遮光層６０は、異物Ｘのガラス基板３１への投影面積に対して、その約１．１倍の面積を有するものとなった。また、遮光層６０は、異物Ｘのガラス基板３１へ射影した形状と重なる平板状遮光部位６０ａと、その部位の外周部からガラス基板３１の液晶層５０とは反対側の表面に繋がる環状遮光部位６０ｂとからなる。【００５５】
上記工程を経て輝点欠陥を修正した液晶パネル１１に、別の工程で作製されたドライバ（図示せず）やバックライト装置１２を組み付けて液晶表示装置１０を作製する。【００５６】
以上のような修正工程を含む本実施形態の液晶表示装置１０の製造方法によると、ガラス基板３１に外部連通空隙部６３を形成し、そこに遮光材を注入することで遮光層６０を形成するものとしている。
このように、遮光層６０の形成に際して、凹部のような大きな空隙ではなく、遮光材を注入するのに必要な注入路としての空隙を形成するものとしているため、ガラス基板３１の強度低下を伴い難く、確実に輝点欠陥を修正することが可能となる。【００５７】
また、本実施形態では、フェムト秒レーザーを照射することにより、最終的に遮光層６０となるガラス変質部６４を形成するものとしている。
このように、遮光層６０の形成手段として、加工自由度の高いレーザー照射を選択することにより、異物Ｘの形状、大きさ等に応じた遮光層６０を形成することができるため、遮光面積を必要最小限にすることができる。
さらに、フェムト秒レーザーを選択することにより、レーザーによる熱が集光点周囲に伝導するより速く照射部分にエネルギーが吸収されるため、レーザー集光点の周囲のガラス基板は熱的・化学的な損傷を受けず、液晶表示装置１０の表示品質が劣化するおそれがない。【００５８】
また、本実施形態では、ガラス基板３１の平面方向に空隙部６１を形成し、当該空隙部６１からガラス基板３１の液晶層５０とは反対側の表面に貫通する貫通部６２とを形成することにより、外部連通空隙部６３を得るものとしている。
このように、ガラス基板３１の表面に貫通する貫通部６２を伴う外部連通空隙部６３を形成することにより、ガラス基板３１の表面から貫通部６２を通じて遮光材を注入することができる。【００５９】
＜他の実施形態＞
以上、本発明の実施形態について示したが、本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。【００６０】
（１）上記実施形態では、遮光層６０を形成する際に、空隙部６１の外周に沿った環状の貫通部６２を形成するものとしたが、例えば図１１及び図１２に示すように、空隙部８１の内部からガラス基板３１の表面に貫通する２箇所の貫通部８２を形成することで遮光層８０を得るものとしても良い。【００６１】
（２）上記実施形態では、遮光層６０を形成する際に、空隙部６１の外周に沿った環状の貫通部６２を形成するものとしたが、例えば図１３及び図１４に示すように、空隙部８６の内部からガラス基板３１の表面に貫通する環状の貫通部８７を形成することで遮光層８５を得るものとしても良い。【００６２】
（３）上記実施形態では、遮光層６０を形成する際に、空隙部６１の外周に沿った環状の貫通部６２を形成するものとしたが、例えば図１５及び図１６に示すように、空隙部９１の内部からガラス基板３１の表面に貫通する１箇所の貫通部９２を形成することで遮光層９０を得るものとしても良い。ただし、遮光材を注入する際に空気を排出し易くする観点から、貫通部は２箇所以上若しくは環状に形成することが好ましい。【００６３】
（４）上記実施形態では、外部連通空隙部６３の全体に遮光材が充填されるものとしたが、少なくとも遮光材が空隙部６１に注入されていれば、同様の遮光効果を得ることができる。つまり、必ずしも貫通部６２に遮光材が充填されている必要はない。【００６４】
（５）上記実施形態では、遮光層６０をバックライト装置１２側に配された基板３０（ガラス基板３１）に形成するものとしたが、バックライト装置１２側とは反対側（すなわち表示面側）の基板４０（ガラス基板４１）に形成するものとしても良い。【００６５】
（６）上記実施形態では、パルス幅が１００ｆｓのフェムト秒レーザーを照射することによりガラス変質部６４を形成するものとしたが、照射点周囲への損傷を抑止する観点からはパルス幅は小さいほど好ましく、修正効率の許容範囲内で、パルス幅のさらに小さいレーザーを使用しても良い。【００６６】
（７）上記実施形態では、ガラス変質部６４を形成するために照射するレーザー波長を７８０ｎｍとしたが、レーザーの波長はガラス基板３１を通過する場合に当該レーザーが吸収され難い波長であれば良く、７５０ｎｍ〜８５０ｎｍの波長が好適である。さらに、その他の照射条件についても、照射対象のガラス基板の組成等により変更し得るものである。【００６７】
（８）上記実施形態では、修正位置を特定する工程と、レーザーを照射してガラス変質部６４を形成する工程と、外部連通空隙部６３に遮光材を注入する工程とを輝点欠陥修正装置７０により行うものとしたが、当該装置の複雑化を回避すべく、それぞれ別途装置を準備して行うものとしても良い。【００６８】
（９）上記実施形態では、輝点欠陥修正装置７０において、ＣＣＤカメラ７５、レーザー照射部７６、及びディスペンサ７７を備えるＸＹＺ駆動部７４が、ステージ７３に対して平行及び垂直方向に移動する構成としたが、固定されたＣＣＤカメラ、レーザー照射部、及びディスペンサに対して、ステージが平行及び垂直方向に移動する構成としても良い。【００６９】
（１０）上記実施形態では、輝点欠陥は液晶層内５０に侵入した異物Ｘに起因するものとしたが、例えば短絡等に起因して誤作動を生じ得るＴＦＴ３２や画素電極３３等が原因となる場合もあり、その場合にも本発明は適用可能である。【００７０】
（１１）また、ＴＦＴ３２以外のスイッチング素子を用いた液晶表示装置にも本発明は適用可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【国際調査報告】
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