【事件の表示】
　特願２０１２−　９８２４２「樹脂製エンコーダスケール、エンコーダ、樹脂製エンコーダスケールの製造方法およびエンコーダの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２５年１０月３１日出願公開、特開２０１３−２２４９１０、請求項の数（２１）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成２４年４月２３日の出願であって、平成２７年８月１４日付けで拒絶理由が通知され、平成２７年１０月１６日付けで手続補正がなされ、平成２８年３月２５日付けで拒絶理由が通知され、平成２８年５月２４日付けで手続補正がなされ、平成２８年１０月２４日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成２９年１月３１日に拒絶査定不服審判が請求され、同時に手続補正がなされ、当審において、平成２９年９月２０日付けで拒絶理由が通知され、平成２９年１１月２２日付けで手続補正がなされたものである。
第２　原査定の概要
　原査定（平成２８年１０月２４日付け拒絶査定）の概要は次のとおりである。
１．（進歩性）この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　　　　　記　　　（引用文献等については引用文献等一覧参照）
●理由１（特許法第２９条第２項）について
・請求項　１、２５
・引用文献　１−９
・請求項２
・引用文献　１−９
・請求項　３−５、２６
・引用文献　１−１０
・請求項　６−７
・引用文献　１−１１
・請求項　８
・引用文献　１−１２
・請求項　９−２４
・引用文献　１−１３
　　　　　　　　　　　　　　＜引用文献等一覧＞
１．特開２００４−４５３９１号公報
２．特開２００４−１７７２８７号公報
３．特開２００６−３３７３２１号公報
４．特開平４−９３６１１号公報（周知技術を示す文献）
５．特開昭５８−１５０１５４号公報（周知技術を示す文献）
６．実願昭６０−４７２１号（実開昭６１−１２２５６６号）のマイクロフィルム（周知技術を示す文献）
７．特開平６−３２３８７２号公報（周知技術を示す文献）
８．特開２００３−２１５４２号公報（周知技術を示す文献）
９．特開平６−２０１９０６号公報（周知技術を示す文献）
１０．特開２００３−１６６８５５号公報（周知技術を示す文献）
１１．特開昭６３−８３６１２号公報（周知技術を示す文献）
１２．特開２０００−３５２５２７号公報（周知技術を示す文献）
１３．特開２００１−７９８５４号公報（周知技術を示す文献）
第３　当審拒絶理由の概要
　当審拒絶理由の概要は次のとおりである。
理由１ 
　この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
 　　　　　記　　　（引用文献等については引用文献等一覧参照）
請求項１〜２１に係る発明について
　本願の請求項１〜２１に係る発明は、引用例１に記載された発明（引用発明１）及び周知技術（引用例２、引用例３）に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
理由２ 
　この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願の日前の特許出願であって、その出願後に特許掲載公報の発行又は出願公開がされた下記の特許出願の願書に最初に添付された明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された発明と同一であり、しかも、この出願の発明者がその出願前の特許出願に係る上記の発明をした者と同一ではなく、またこの出願の時において、その出願人が上記特許出願の出願人と同一でもないので、特許法第２９条の２の規定により、特許を受けることができない。
 　　　　　記　　　（引用文献等については引用文献等一覧参照）
請求項１〜２１に係る発明について
　本願の請求項１〜２１に係る発明は、先願１の願書に最初に添付された明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された発明と同一である。
 　　　　　　　　　　　引　用　文　献　等　一　覧
引用例１：特開２００６−３３７３２１号公報
引用例２：特開平４−９３６１１号公報
引用例３：実願昭６０−４７２１号（実開昭６１−１２２５６６号）のマイクロフィルム
先願１：特願２０１２−４８２１７号（特開２０１３−１８１９６４号）
第４　本願発明
　本願の請求項１〜２１に係る発明（以下、それぞれ「本願発明１」〜「本願発明２１」という。）は、平成２９年１１月２２日付け手続補正書で補正された特許請求の範囲の請求項１〜２１に記載された事項により特定される発明であり、本願発明１〜２１は以下のとおりの発明である。
「　【請求項１】
　反射型の光学方式のエンコーダで用いられ、位置測定用の目盛パターンを備える樹脂製エンコーダスケールであって、
　透明な樹脂部材から成る前記目盛パターンは、前記樹脂部材の成形表面がブラスト面により樹脂成型された状態で粗面とされた光の反射率の低い低反射部と、前記樹脂部材の前記低反射部に対して突出して形成され、前記樹脂部材の成形表面が樹脂成型された状態で鏡面とされて前記低反射部より光の反射率の高い高反射部とを備え、
　前記高反射部および前記低反射部を備えて前記目盛パターンとなる成形表面に反射膜が設けられ、
　前記高反射部となる成形表面の表面粗さＲａが０．０５μｍ以下で、前記低反射部となる成形表面の表面粗さＲａが０．１μｍ以上であることを特徴とする樹脂製エンコーダスケール。
　　【請求項２】
　前記低反射部に対する前記高反射部の突出高さが、１００μｍ未満とされていることを特徴とする請求項１に記載の樹脂製エンコーダスケール。
　　【請求項３】
　前記高反射部の光の反射率が５０％以上、前記低反射部の光の反射率が２５％以下に設定され、前記高反射部と前記低反射部との反射率の差が２５％以上であることを特徴とする請求項１または２に記載の樹脂製エンコーダスケール。
　　【請求項４】
　反射型の光学方式のエンコーダであって、
　請求項１〜３のいずれか１項に記載のエンコーダスケールと、
　前記エンコーダスケールに向けて光を出射する発光素子を有するとともに、前記発光素子から出射されて前記エンコーダスケールにより反射される光を受光する受光素子を有するヘッドとを備え、
　前記エンコーダスケールに対して前記ヘッドが相対的に移動した際に、前記目盛パターンにおける前記低反射部と前記高反射部との光の反射率の違いによる前記受光素子の受光量の変化に基づいて、前記エンコーダスケールに対する前記ヘッドの位置を計測することを特徴とするエンコーダ。
　　【請求項５】
　前記エンコーダは、前記ヘッドの相対移動方向に沿った帯状に前記エンコーダスケールの一方の端から他方の端まで形成されたリファレンストラックを有し、
　前記リファレンストラックは前記高反射部と同様の表面粗さを有することを特徴とする請求項４に記載のエンコーダ。
　　【請求項６】
　前記リファレンストラックにより反射した光に基づく信号を用いて、
　前記エンコーダスケールにおける前記高反射部と前記低反射部との切り替わりを判定することを特徴とする請求項５に記載のエンコーダ。
　　【請求項７】
　前記リファレンストラックと前記エンコーダスケールとの間には段差が設けられ、前記リファレンストラックの方が前記エンコーダスケールに比べて低いことを特徴とする請求項６に記載のエンコーダ。
　　【請求項８】
　反射型の光学方式のエンコーダで用いられ、光の反射率が低い低反射部と、前記低反射部より光の反射率が高い高反射部と、を組み合わせた位置測定用の目盛パターンが設けられた樹脂製エンコーダスケールの製造方法であって、
　前記目盛パターンに対応してブラスト加工されたブラスト面と鏡面加工された鏡面とを組み合わせた成形パターンが本体の成形面に直接設けられた金型に、透明な樹脂を射出することにより、前記金型の鏡面により成形された鏡面である前記高反射部と、前記金型のブラスト面により成形された粗面である前記低反射部とを組み合わせた前記目盛パターンを有する前記樹脂製エンコーダスケールを成形するとともに、前記樹脂製エンコーダスケールを成形後、前記金型を用いて成形した鏡面である前記高反射部と、前記金型を用いて成形した粗面である前記低反射部とに反射膜を設け、
　前記金型は、前記成形パターンが形成される前記成形面に表面粗さＲａが０．１μｍ以上となるようにブラスト加工によりブラスト面を形成した後に、当該ブラスト面の前記成形パターンの前記鏡面となる部分に、切削による鏡面加工により表面粗さＲａが０．０５μｍ以下となるように前記鏡面を形成し、前記鏡面と前記鏡面より突出した前記ブラスト面とからなる前記成形パターンが形成され、
　前記金型を用いて樹脂成形した前記エンコーダスケールは、前記樹脂製エンコーダスケールの前記高反射部の前記反射膜の下の被成形面の表面粗さＲａが０．０５μｍ以下で、前記樹脂製エンコーダスケールの前記低反射部の前記反射膜の下の被成形面の表面粗さＲａが０．１μｍ以上であり、前記樹脂製エンコーダスケールの前記低反射部に対して前記高反射部が突出して形成されていることを特徴とする樹脂製エンコーダスケールの製造方法。
　　【請求項９】
　前記樹脂製エンコーダスケールの前記高反射部の前記反射膜の下の被成形面の表面粗さＲａが０．０１μｍ以下で、前記樹脂製エンコーダスケールの前記低反射部の前記反射膜の下の被成形面の表面粗さＲａが１．０μｍ以上であることを特徴とする請求項８に記載の樹脂製エンコーダスケールの製造方法。
　　【請求項１０】
　前記低反射部に対する前記高反射部の突出高さが、１００μｍ未満とされていることを特徴とする請求項８または９に記載の樹脂製エンコーダスケールの製造方法。
　　【請求項１１】
　前記樹脂製エンコーダスケールの前記高反射部の光の反射率が５０％以上、前記低反射部の光の反射率が２５％以下に設定され、前記高反射部と前記低反射部との反射率の差が２５％以上であることを特徴とする請求項８〜１０のいずれか１項に記載の樹脂製エンコーダスケールの製造方法。
　　【請求項１２】
　前記樹脂製エンコーダスケールには、射出成形により帯状に前記目盛パターンの一方の端から他方の端まで形成されたリファレンストラックを設け、
　前記リファレンストラックは、前記金型の鏡面加工されたリファランストラック用鏡面で成形することにより、前記高反射部と同様の表面粗さを有することを特徴とする請求項８〜１１のいずれか１項に記載の樹脂製エンコーダスケールの製造方法。
　　【請求項１３】
　前記リファレンストラックと前記目盛パターンとの間には段差を設け、前記リファレンストラックの方を前記目盛パターンに比べて低くすることを特徴とする請求項１２に記載の樹脂製エンコーダスケールの製造方法。
　　【請求項１４】
　光の反射率が低い低反射部と、前記低反射部より光の反射率が高い高反射部とを組み合わせた位置測定用の目盛パターンが設けられた樹脂製エンコーダスケールを有する反射型の光学方式のエンコーダの製造方法であって、
　前記目盛パターンに対応して、ブラスト加工されたブラスト面と鏡面加工された鏡面とを組み合わせた成形パターンが本体の成形面に直接設けられた金型に、透明な樹脂を射出することにより、前記金型のブラスト面により成形された粗面である低反射部と、前記金型の鏡面により成形された鏡面であり、前記低反射部より光の反射率が高い高反射部と、を組み合わせた目盛パターンを有する前記樹脂製エンコーダスケールを成形する工程Ａと、
　前記樹脂製エンコーダスケールに向けて光を出射する発光素子と、前記発光素子から出射されて前記樹脂製エンコーダスケールにより反射される光を受光する受光素子と、を有するヘッドを設ける工程Ｂと、
　前記樹脂製エンコーダスケールを成形した後、前記高反射部と、前記低反射部に反射膜を設ける工程Ｃと、
　を含み、
　前記金型は、前記成形パターンが形成される前記成形面に表面粗さＲａが０．１μｍ以上となるようにブラスト加工によりブラスト面を形成した後に、当該ブラスト面の前記成形パターンの前記鏡面となる部分に、切削による鏡面加工により表面粗さＲａが０．０５μｍ以下となるように前記鏡面を形成し、前記鏡面と前記鏡面より突出した前記ブラスト面とからなる前記成形パターンが形成され、
　前記金型を用いて樹脂成形した前記エンコーダスケールは、前記樹脂製エンコーダスケールの前記高反射部の前記反射膜の下の被成形面の表面粗さＲａが０．０５μｍ以下で、
前記樹脂製エンコーダスケールの前記低反射部の前記反射膜の下の被成形面の表面粗さＲａが０．１μｍ以上であり、前記樹脂製エンコーダスケールの前記低反射部に対して前記高反射部が突出して形成されていることを特徴とするエンコーダの製造方法。
　　【請求項１５】
　前記工程Ａは、前記目盛パターンとしてアブソリュートパターンとインクリメンタルパターンとを有する樹脂性エンコーダスケールを成形することを特徴とする請求項１４に記載のエンコーダの製造方法。
　　【請求項１６】
　前記樹脂製エンコーダスケールの前記高反射部の被成形面の表面粗さＲａが０．０１μｍ以下で、前記樹脂製エンコーダスケールの前記低反射部の被成形面の表面粗さＲａが１．０μｍ以上であることを特徴とする請求項１４または１５に記載のエンコーダの製造方法。
　　【請求項１７】
　前記低反射部に対する前記高反射部の突出高さが、１００μｍ未満とされていることを特徴とする請求項１４〜１６のいずれか１項に記載のエンコーダの製造方法。
　　【請求項１８】
　前記樹脂製エンコーダスケールの前記高反射部の光の反射率が５０％以上、前記低反射部の光の反射率が２５％以下に設定され、前記高反射部と前記低反射部との反射率の差が２５％以上であることを特徴とする請求項１４〜１７のいずれか１項に記載のエンコーダの製造方法。
　　【請求項１９】
　前記樹脂製エンコーダスケールには、射出成形により帯状に前記目盛パターンの一方の端から他方の端まで形成されたリファレンストラックを設け、
　前記リファレンストラックは、前記金型の鏡面加工されたリファランストラック用鏡面で成形することにより、前記高反射部と同様の表面粗さを有することを特徴とする請求項１４〜１８のいずれか１項に記載のエンコーダの製造方法。
　　【請求項２０】
　前記リファレンストラックと前記目盛パターンとの間には段差を設け、前記リファレンストラックの方を前記目盛パターンに比べて低くすることを特徴とする請求項１９に記載のエンコーダの製造方法。
　　【請求項２１】
　前記リファレンストラックは、反射した光に基づく信号を用いて、前記目盛パターンを光学的に読み取った際の信号における前記高反射部と前記低反射部との切り替わりを判定するためのトラックであることを特徴とする請求項１９または２０に記載のエンコーダの製造方法。」
第５　当審における理由１について
１　引用例、引用発明等
（１）引用例１
　当審で引用した、本願の出願前に頒布された刊行物である引用例１（特開２００６−３３７３２１号公報）には、図面とともに、次の事項が記載されている（下線は当審で付与した。）。
ア　「【０００１】
  本発明は、光学スケール、及び、その製造方法に係り、特に、長尺のリニアエンコーダやリニアスケールに用いるのに好適な、光学スケール、及び、その製造方法に関する。」
イ　「【０００８】
  本発明は、
鏡面と、物理的にあらされた粗面でなる格子を有する
【０００９】
  又、
前記格子に反射膜を形成して、反射型光学スケール
鏡面部の反射率を向上させ
ウ　「【００１４】
  以下図面を参照して、反射型光学スケールに適用した本発明の実施形態を詳細に説明する。
【００１５】
  本発明の第１実施形態は、図１に示す如く、
スケール素材１０の鏡面に、フォトレジストでパターニング後、サンドブラストにより表面を粗化し、鏡面部と粗面部で反射光の明暗を生成するようにし
エ　「【００２３】
  加工後の形状を図２に示す。形成された
サンドブラスト加工面（粗面）１２の表面粗さは、未加工面（鏡面）１４に対しＲａで０．０４μｍか、それ以上の粗さが望ましい。
【００２４】
  
スケール素材１０としては、表面が鏡面のもの、例えばステンレス、鉄、アルミニウム等の金属やガラスを用いることができる。
反射型光学スケールの場合は、更に鏡面部の反射率を向上させるために、
金、銀、アルミニウム等の高反射率材料でなる反射膜１６を付けてもよい。
オ　「【００２５】
  発明者が確認したところ、従来製法によるガラススケールと、表面が鏡面のステンレスに対して本発明のサンドブラストにより格子状に粗化した反射型スケールの、同じ検出ヘッドを用いた際の検出信号の強度比は１：０．７４であり、十分使用可能であることが確認できた。
【００２６】
  なお、前記実施形態においては、サンドブラストにより鏡面が粗化されていたが、鏡面を粗化する方法はこれに限定されず、例えばブラシロール等を用いて、他の方法で物理的に鏡面をあらすことも可能である。
【００２７】
  又、前記実施形態においては、本発明が、
長尺の反射型リニアエンコーダに適用され
カ　引用例１の図２には、スケール素材１０における鏡面部（図２における１４（鏡面））が、粗面部（図２における１２（粗面））より突出していることが記載されている。
　したがって、引用例１には、次の発明（以下、「引用発明１」という。）が記載されているものと認められる（括弧内は、認定の根拠とした記載の段落番号である。）。
「鏡面と、物理的にあらされた粗面でなる格子を有し（【０００８】）、前記格子に反射膜を形成して、鏡面部の反射率を向上させた反射型光学スケール（【０００９】）であって、
　長尺の反射型リニアエンコーダに適用され（【００２７】）、
　スケール素材１０の鏡面に、サンドブラストにより表面を粗化し、鏡面部と粗面部で反射光の明暗を生成するようにし（【００１５】）、
　スケール素材１０における鏡面部は、粗面部より突出し（図２、図３）、
サンドブラスト加工面（粗面）１２の表面粗さは、未加工面（鏡面）１４に対しＲａで０．０４μｍか、それ以上の粗さが望ましく（【００２３】）、
　スケール素材１０としては、表面が鏡面のもの、例えばステンレス、鉄、アルミニウム等の金属やガラスを用いることができ（【００２４】）、
  反射型光学スケールの場合は、更に鏡面部の反射率を向上させるために、金、銀、アルミニウム等の高反射率材料でなる反射膜１６を付けてもよい（【００２４】）、反射型光学スケール（【０００９】）。」
（２）引用例２
　当審で引用した、本願の出願前に頒布された刊行物である引用例２（特開平４−９３６１１号公報）には、次の事項が記載されている。
「この他にも、例えば特開昭５８−１５０１５４号公報等に開示されているように、位置検出用ギヤの金型に予め鏡面仕上げ部と粗面部を設け、位置検出用ギヤを樹脂成形して鏡面仕上げ部を光反射部とし、粗面部を光非反射部としたものがある。」（第２頁右上欄第９〜１３行）
（３）引用例３
　当審で引用した、本願の出願前に頒布された刊行物である引用例３（実願昭６０−４７２１号（実開昭６１−１２２５６６号）のマイクロフィルム）には、次の事項が記載されている（下線は、当審で付与した。）。
ア　「（考案の属する分野）
本考案は、
回転体における光学式センサーを用いた回転数検出装置
イ　「（考案の目的）
本考案は、回転体の反射板を一部品で作り、コスト低減を計ること及び一部品の反射板の反射面を最短の製造工程で作ることを目的とする。
本考案は上記目的のために、直流機の
回転反射板、
反射面に直接濃淡パターンの平面粗さをほどこすことにより、樹脂材料で作る場合、一体成形が可能になり、さらに、一体成形をほどこす加工工程で濃淡パターンの粗さを変化させることにより、光センサーにもどる光信号の光量を従来技術よりも大きくでき、
ウ　「本考案は、反射面の濃淡パターン粗さの濃部及び淡部の加工粗さを変化させることにより出力を自由に変化できる。
　
また反射面の濃淡パターン粗さの淡部の粗さを薄くしてやることにより、出力の向上を計る
　
さらに、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）の材料などを使用し、それをシボ加工などをすることによって上記の反射板を治具により一体成形することができ、
　したがって、引用例３には、次の技術的事項が記載されているものと認められる。
「回転体における光学式センサーを用いた回転数検出装置であって（「ア」より）、
　回転反射板の反射面に直接濃淡パターンの平面粗さをほどこすことにより、樹脂材料で作る場合、一体成形が可能になり、さらに、一体成形をほどこす加工工程で濃淡パターンの粗さを変化させることにより、光センサーにもどる光信号の光量を従来技術よりも大きくでき（「イ」より）、
　また反射面の濃淡パターン粗さの淡部の粗さを薄くしてやることにより、出力の向上を計り（「ウ」より）、
　さらに、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）の材料などを使用し、それをシボ加工などをすることによって上記の反射板を治具により一体成形することができる（「ウ」より）、
  回転体における光学式センサーを用いた回転数検出装置（「ア」より）。」
２　対比・判断
（１）本願発明１について
ア　対比
　本願発明１と引用発明１とを対比する。
（ア）引用発明１における「反射型光学スケール」を「反射型リニアエンコーダに適用」したものが、本願発明１における「反射型の光学方式のエンコーダ」に相当する。
（イ）引用発明１における「格子」は、「反射型光学スケール」を「長尺の反射型リニアエンコーダに適用」したものにおいては、本願発明１におけるのと同様に、「位置測定用の目盛パターン」として用いられるものである。
（ウ）引用発明１における「反射型光学スケール」の「スケール素材１０」は、「例えばステンレス、鉄、アルミニウム等の金属やガラスを用いることができ」るから、引用発明１における「反射型光学スケール」を「反射型リニアエンコーダに適用」したものと、本願発明１における「樹脂製エンコーダスケール」とは、「エンコーダスケール」の点で共通する。
（エ）上記（ウ）を踏まえると、引用発明１における「格子」を「スケール素材１０の鏡面に、サンドブラストにより表面を粗化し、鏡面部と粗面部で反射光の明暗を生成するようにし」、「
スケール素材１０における鏡面部は、粗面部より突出」し
（オ）引用発明１における「反射型光学スケールの場合は、更に鏡面部の反射率を向上させるために、金、銀、アルミニウム等の高反射率材料でなる反射膜１６を付け」ることと、本願発明１における「前記高反射部および前記低反射部を備えて前記目盛パターンとなる成形表面に反射膜が設けられ」ることとは、「前記高反射部および前記低反射部を備えて前記目盛パターンとなる表面に反射膜が設けられ」る点で共通する。
（カ）引用発明１における「サンドブラスト加工面（粗面）１２の表面粗さは、未加工面（鏡面）１４に対しＲａで０．０４μｍか、それ以上の粗さ」であることと、本願発明１における「前記高反射部となる成形表面の表面粗さＲａが０．０５μｍ以下で、前記低反射部となる成形表面の表面粗さＲａが０．１μｍ以上である」こととは、「前記低反射部となる表面の粗さが、前記高反射部となる表面の粗さに対し、Ｒａで０．０５μｍか、それ以上の粗さである」点で共通する。
　したがって、本願発明１と引用発明１との間には、次の一致点、相違点があるといえる。
（一致点）
「反射型の光学方式のエンコーダで用いられ、位置測定用の目盛パターンを備えるエンコーダスケールであって、
　部材から成る前記目盛パターンは、前記部材の表面が粗面とされた光の反射率の低い低反射部と、前記部材の前記低反射部に対して突出して形成され、前記部材の表面が鏡面とされて前記低反射部より光の反射率の高い高反射部とを備え、
　前記高反射部および前記低反射部を備えて前記目盛パターンとなる表面に反射膜が設けられ、
　前記低反射部となる表面の粗さが、前記高反射部となる表面の粗さに対し、Ｒａで０．０５μｍか、それ以上の粗さであることを特徴とする樹脂製エンコーダスケール。」
（相違点１）
　本願発明１では、エンコーダスケールが「目盛パターンを備える樹脂製エンコーダスケール」であって、その目盛パターンは「透明な樹脂部材から成」る「成形表面」に形成され、粗面とされた光の反射率の低い低反射部は、「前記樹脂部材の成形表面がブラスト面により樹脂成型された状態で粗面とされた」ものであり、鏡面とされて前記低反射部より光の反射率の高い高反射部は「前記樹脂部材の成形表面が樹脂成型された状態で鏡面とされ」た構成を備えるものであるのに対し、引用発明１では、反射型光学スケールのスケール素材１０は、例として「ステンレス、鉄、アルミニウム等の金属やガラス」を用いることが挙げられているだけで、「樹脂」を用いることについては示されておらず、したがって、「反射光の明暗を生成する」「格子」となる「鏡面部と粗面部」は、「スケール素材１０の鏡面に、サンドブラストにより表面を粗化し」て形成している点。
（相違点２）
　本願発明１では、「前記高反射部となる成形表面の表面粗さＲａが０．０５μｍ以下で、前記低反射部となる成形表面の表面粗さＲａが０．１μｍ以上である」のに対し、引用発明１では、サンドブラスト加工面（粗面）１２の表面粗さは、未加工面（鏡面）１４に対しＲａで０．０４μｍか、それ以上の粗さであることは示されているものの、鏡面部及び粗面部におけるそれぞれの表面粗さＲａの数値範囲は示されていない点。
イ　相違点についての判断
　そこで、上記相違点１について検討すると、例えば引用例２、引用例３に記載されているように、「
光センサーの光を反射する光学式の位置検出装置を、反射面に直接濃淡パターンの平面粗さをほどこすことにより、樹脂材料で作る場合、
　しかし、
（ア）　引用例２、引用例３には、「金型に予め鏡面仕上げ部と粗面部を設け」る際、金型に具体的にどのようにして鏡面仕上げ部と粗面部を設けているのか明らかでなく、したがって、金型における鏡面仕上げ部と粗面部との間に高低差があるのか否か、また、仮に高低差があるとしても、どちらが突出しているのかは、一義的に定め得ないものである。
（イ）引用発明１では、鏡面部と粗面部の格子を形成するにあたり、反射型光学スケールのスケール素材１０の表面（鏡面）をサンドブラストにより粗化して形成したため、結果的に、
スケール素材１０における鏡面部が、粗面部より突出し
樹脂材料で作り、
鏡面部は、粗面部より突出し」たものとなるか否かは、当業者といえども一義的に予測し得ないことである。
　また、周知技術を適用する際に、引用発明１の「鏡面部は、粗面部より突出し」た状態を積極的に維持すべき理由も見当たらない。
（ウ）よって、引用発明１に前記周知技術を適用し、上記相違点１に係る本願発明１の構成を作出したとしても、その結果、引用発明１における「
スケール素材１０における鏡面部」が依然として「粗面部より突出」したものとなるかは当業者といえども予測することができず
（エ）したがって、上記相違点２について判断するまでもなく、本願発明１は、当業者であっても、引用発明１及び周知技術（引用例２、引用例３）に基づいて容易に発明をすることができたものとはいえない。
（２）本願発明２〜７について
　本願発明２〜７も、本願発明１における、「目盛パターンを備える樹脂製エンコーダスケール」であって、その目盛パターンは「透明な樹脂部材から成」る「成形表面」に形成され、粗面とされた光の反射率の低い低反射部は、「前記樹脂部材の成形表面がブラスト面により樹脂成型された状態で粗面とされた」ものであり、鏡面とされて前記低反射部より光の反射率の高い高反射部は「前記樹脂部材の成形表面が樹脂成型された状態で鏡面とされた構成と同一の構成を備えるものであるから、本願発明１と同じ理由により、当業者であっても、引用発明１及び周知技術（引用例２、引用例３）に基づいて容易に発明をすることができたものとはいえない。
（３）本願発明８〜１３について
　本願発明８は、本願発明１における、「目盛パターンを備える樹脂製エンコーダスケール」であって、その目盛パターンは「透明な樹脂部材から成」る「成形表面」に形成され、粗面とされた光の反射率の低い低反射部は、「前記樹脂部材の成形表面がブラスト面により樹脂成型された状態で粗面とされた」ものであり、鏡面とされて前記低反射部より光の反射率の高い高反射部は「前記樹脂部材の成形表面が樹脂成型された状態で鏡面とされた構成と同様な、「目盛パターンが設けられた樹脂製エンコーダスケールの製造方法であって」、「前記目盛パターンに対応してブラスト加工されたブラスト面と鏡面加工された鏡面とを組み合わせた成形パターンが本体の成形面に直接設けられた金型に、透明な樹脂を射出することにより、前記金型の鏡面により成形された鏡面である前記高反射部と、前記金型のブラスト面により成形された粗面である前記低反射部とを組み合わせた前記目盛パターンを有する前記樹脂製エンコーダスケールを成形する」とともに、「前記金型」は、「前記鏡面と前記鏡面より突出した前記ブラスト面とからなる前記成形パターンが形成され」る構成を備えるものである。
　よって、本願発明８は、本願発明１と同じ理由により、当業者であっても、引用発明１及び周知技術（引用例２、引用例３）に基づいて容易に発明をすることができたものとはいえない。
　また、本願発明９〜１３は、本願発明８と同一の構成を備えるものであるから、本願発明８と同じ理由により、本願発明９〜１３は、当業者であっても、引用発明１及び周知技術（引用例２、引用例３）に基づいて容易に発明をすることができたものとはいえない。
（４）本願発明１４〜２１について
　本願発明１４は、本願発明１における、「目盛パターンを備える樹脂製エンコーダスケール」であって、その目盛パターンは「透明な樹脂部材から成」る「成形表面」に形成され、粗面とされた光の反射率の低い低反射部は、「前記樹脂部材の成形表面がブラスト面により樹脂成型された状態で粗面とされた」ものであり、鏡面とされて前記低反射部より光の反射率の高い高反射部は「前記樹脂部材の成形表面が樹脂成型された状態で鏡面とされた構成と同様な、「目盛パターンが設けられた樹脂製エンコーダスケールを有する反射型の光学方式のエンコーダの製造方法であって」、「前記目盛パターンに対応して、ブラスト加工されたブラスト面と鏡面加工された鏡面とを組み合わせた成形パターンが本体の成形面に直接設けられた金型に、透明な樹脂を射出することにより、前記金型のブラスト面により成形された粗面である低反射部と、前記金型の鏡面により成形された鏡面であり、前記低反射部より光の反射率が高い高反射部と、を組み合わせた目盛パターンを有する前記樹脂製エンコーダスケールを成形する工程Ａ」を含み、「前記樹脂製エンコーダスケールの前記低反射部に対して前記高反射部が突出して形成されている」構成を備えるものである。
　よって、本願発明１４は、本願発明１と同じ理由により、当業者であっても、引用発明１及び周知技術（引用例２、引用例３）に基づいて容易に発明をすることができたものとはいえない。
　また、本願発明１５〜２１は、本願発明１４と同一の構成を備えるものであるから、本願発明１４と同じ理由により、本願発明１５〜２１は、当業者であっても、引用発明１及び周知技術（引用例２、引用例３）に基づいて容易に発明をすることができたものとはいえない。
第６　当審における理由２について
１　引用先願等
　当審における理由２で引用された、本願の日前の特許出願であって、その出願後に特許掲載公報の発行又は出願公開がされた特願２０１２−４８２１７号（特開２０１３−１８１９６４号）（以下、「引用先願」という。）の願書に最初に添付された明細書、特許請求の範囲又は図面（以下、「出願当初明細書等」という。）には、次の事項が記載されている。
ア　「【解決手段】光源から放出した光の反射光を用いて可動物体の機械的な変位を電気的なパルス信号に変換するエンコーダのスリット盤であって、前記スリット盤は高反射率部と低反射率部とを備え、前記高反射率部は平滑面であり、前記低反射率部は微細な凹凸が周期的に形成された凹凸面であることを特徴としている。」（フロントページ）
イ　「【０００１】
  本発明は、可動物体の機械的な変位を、光源から放出した光の反射光を用いて電気的なパルスに変換するためのエンコーダのスリット盤およびそのスリット盤を使用したエンコーダに関する。」
ウ　「【００４３】
  以下、図面を参照しながら本発明の好ましい実施の形態について説明する。
  なお、本明細書において、上位に位置する部材と下位に位置する部材が同一形状である場合、同じ符号を付している。
【００４４】
  また、本明細書書において「上」とは、例えば図１（Ｂ）において凹凸面１４ａが形成された側をいう。「下」あるいは「裏」とは樹脂層３０から見て基材１６側をいう。
  また、以下の説明において、
「スリット」とは、低反射率部のことをいい、「スリット盤」とは、低反射率部と高反射率部が形成された盤をいう。
【００４５】
  図１（Ａ）は本発明の一実施例に係る反射型ロータリーエンコーダに使用されたスリット盤１０の概略を示したもので、図１（Ｂ）は、図１（Ａ）のＢ−Ｂ線方向の一部拡大断面図である。
【００４６】
  このスリット盤１０には、外周部に高反射率部１２と低反射率部１４とからなる光学変調トラック８が環状に形成されている。
  このようなスリット盤１０は、例えば、図１(Ｂ)の断面図に示したように、基材１６と金属膜２０と樹脂層３０との積層体により構成されている。そして、樹脂層３０側に配置された光源（図示せず）から、回転するスリット盤１０に対し光を照射して、スリット盤１０の樹脂層３０側に配置された受光素子によって、樹脂層３０内を通った光が金属膜２０の高反射率部１２の領域に到達した場合の光信号と、低反射率部１４の領域に到達した場合の光信号を検知して、機械的変位を読み取っている。あるいは、このようなスリット盤を用いたエンコーダをＮＣマシーンなどに搭載することにより、ＮＣマシーンに微細な動きを行わすこともできる。
【００４７】
  以下、このような金属膜２０の基本形状を有する基材１６について説明する。
  基材１６は、例えば、熱可塑性樹脂からなるもので、例えば、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレイト、シクロオレフィンポリマー、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ナイロンのいずれかで形成されることが好ましい。
【００４８】
  本実施例では、
基材１６が高透明性を備えたポリカーボネート（ＰＣ）
  そして、
基材１６において、
高反射率部１２に相当する部分は平滑面（ミラー面）１２ａで構成されている。また、基材１６において、
低反射率部１４に相当する部分は、凹凸面１４ａで構成されている。
【００４９】
  
低反射率部１４を構成する凹凸面１４ａには、
微細な凸部１８と微細な凹部１９とが周期的に形成されている。
【００５０】
  本実施例では、図３に示したように、凸部１８の中心を通る断面形状が二等辺三角形の円錐形に形成され、そのアスペクト比（高さＨ／周期Ｐ）は０．５〜３．０の範囲に設定されている。
【００５１】
  
このような構造体はモスアイ構造と称され
【００５２】
  このように基材１６の低反射率部１４の凹凸面１４ａに反射防止構造が具備されているため、低反射率部１４での反射は極めて小さい。
  このような
スリット盤１０の基材１６は、微細な凹凸面１４ａを含めて射出成形で形成することができる。
エ　「【００５７】
  このように
低反射率部１４を
微細な凹凸面１４ａで構成した基材１６の上層に
金属膜２０を形成すれば、今度は樹脂の凹凸面と相似形の金属層を形成することができる。
【００５８】
  本発明は、このように製作容易性を考慮して、図１（Ｂ）に示したように、
先ず基材１６の表面に平滑面１２ａと微細の凹凸面１４ａとを設けている。そして、その上層に同一形状の金属膜２０を設けている。
【００５９】
  金属膜２０としては、アルミニウム、クロム、金、銀が単独またはそれらの１つを含む合金であることが好ましい。
  これらの金属または合金により金属膜２０を形成すれば、平滑面１２ａでの反射効率が良好である。また、均一の膜を形成する上で好適である。
【００６０】
  
金属膜２０の上層に配置される樹脂層３０は、
高透明性であることが好ましい。
オ　「【００６７】
  以上、本発明の一実施例について説明したが、本発明は上記実施例に何ら限定されない。
  例えば、上記実施例では、低反射率部１４の微細な凹凸を、すなわち凹凸面１４ａを、中心を通る断面が二等辺三角形状の円錐形の周期構造としているが、これに代え、図６（Ａ）に示したように、微細な凹凸を柱状物３２とすることもできる。微細な凹凸の柱状物は、熱可塑性樹脂により射出成形で形成することもでき、あるいはナノインプリントで形成することができる。」
カ　「【００７０】
  また、図６（Ｂ）に示す断面台形状の微細な凹凸３５でも低反射率部１４からの反射を低く抑えることが可能となる。
  さらに、上記実施例では、スリット盤１０に対し、例えば図１（Ｂ）において矢印Ｃ方向から光を照射し、その反射光で情報を得るようにしているが、図１（Ｂ）あるいは図７に矢印Ｄで示したように、スリット盤１０の裏側から光を照射しても良い。
【００７１】
  換言すれば、例えば、図８に示した反射型のロータリーエンコーダ５０において、発光素子５２と受光素子５４に対してスリット盤１０を裏返しの向きに配置しても良い。
  このように、本実施例の
スリット盤１０は、裏返しの向き
からの光であっても、金属膜２０からの反射光で情報を得ることができる。
【００７２】
  この樹脂層３４の材料としては、高透明性であることが好ましい。
  この場合、基材１６は、光源から照射される波長λの光に対し、少なくとも７０％以上の透過率を有することが好ましい。また、微細な凹凸面１４ａを構成する凸部の周期をＰ、光源から放出した光の波長をλ、基材１６の屈折率をｎ2としたとき、Ｐ＜λ／ｎ2である必要がある。
【００７３】
  このような条件であれば、裏側からの光で必要な情報を得ることができる。
  本実施例で得られるスリット盤１０は、ロータリーエンコーダあるいは
リニアエンコーダのスリット盤
反射型のエンコーダに適用する
【００７４】
  さらに、本実施例により、
インクリメントパターン
を有する
　したがって、引用先願の出願当初明細書等には、次の発明（以下、「引用先願発明」という。）が記載されているものと認められる（括弧内は、認定の根拠とした記載の段落番号等である。）。
「インクリメントパターンを有する（【００７４】）リニアエンコーダのスリット盤（【００７３】）であって、反射型のエンコーダに適用され（【００７３】）、
　ここで「スリット」とは、低反射率部のことをいい、「スリット盤」とは、低反射率部と高反射率部が形成された盤をいい（【００４４】）、
　スリット盤１０の基材１６は、微細な凹凸面１４ａを含めて射出成形で形成することができ（【００５２】）、　基材１６が高透明性を備えたポリカーボネート（ＰＣ）であり（【００４８】）、基材１６において、高反射率部１２に相当する部分は平滑面（ミラー面）１２ａで構成されており、また、基材１６において、低反射率部１４に相当する部分は、凹凸面１４ａで構成されており（【００４８】）、
  低反射率部１４を構成する凹凸面１４ａには、、微細な凸部１８と微細な凹部１９とが周期的に形成されており（【００４９】）、このような構造体はモスアイ構造と称され（【００５１】）、
　低反射率部１４を微細な凹凸面１４ａで構成した基材１６の上層に金属膜２０を形成すれば、今度は樹脂の凹凸面と相似形の金属層を形成することができ（【００５７】）るので、先ず基材１６の表面に平滑面１２ａと微細の凹凸面１４ａとを設けており、そして、その上層に同一形状の金属膜２０を設け（【００５８】）、
　金属膜２０の上層に配置される樹脂層３０は、高透明性であることが好ましく（【００６０】）、
  スリット盤１０は、裏返しの向きからの光であっても、金属膜２０からの反射光で情報を得ることができる、
　リニアエンコーダのスリット盤（【００７３】）。」
  
２　対比・判断
（１）本願発明１について
ア　対比
　本願発明１と引用先願発明とを対比すると、次のことがいえる。
（ア）引用先願発明における「インクリメントパターンを有するリニアエンコーダのスリット盤」は、「反射光で情報を得ることができ」る「反射型のエンコーダに適用され」るものであるから、本願発明１における「反射型の光学方式のエンコーダで用いられ、位置測定用の目盛パターンを備える樹脂製エンコーダスケール」に相当する。
（イ）引用先願発明における「樹脂層３０」は、「高透明性であることが好まし」く、「表面に平滑面１２ａと微細の凹凸面１４ａとを設け」「上層に同一形状の金属膜２０を設け」た「基材１６」の「金属膜２０の上層に配置される」ように設けられているのであるから、引用先願発明における「樹脂層３０」の表面（「基材１６」側の面）は、「基材１６」の表面と相補的な表面形状を有していることは明らかである。
　よって、
ａ　引用先願発明における「樹脂層３０」が、「高透明性」であり、「基材１６」の表面の「インクリメントパターン」と相補的な形状を有していることが、本願発明１における「透明な樹脂部材から成る前記目盛パターン」を備えることに相当する。
ｂ　引用先願発明における「高透明性である」「樹脂層３０」は、「基材１６」と「同一形状の」「金属膜２０の上層に配置される」ように設けられ、「基材１６」における「高反射率部１２に相当する部分」である「平滑面（ミラー面）１２ａ」と、「低反射率部１４に相当する部分」である「凹凸面１４ａ」と相補的な形状を有していることと、本願発明１における「前記樹脂部材の成形表面がブラスト面により樹脂成型された状態で粗面とされた光の反射率の低い低反射部と、前記樹脂部材の前記低反射部に対して突出して形成され、前記樹脂部材の成形表面が樹脂成型された状態で鏡面とされて前記低反射部より光の反射率の高い高反射部とを備え」た点とは、「前記樹脂部材の表面が粗面とされた光の反射率の低い低反射部と、前記樹脂部材の表面が鏡面とされて前記低反射部より光の反射率の高い高反射部とを備え」ている点で共通する。
ｃ　引用先願発明における「樹脂層３０」が、「基材１６」の「平滑面１２ａと微細の凹凸面１４ａ」の「上層」に設けられた「同一形状」の「金属膜２０の上層に配置され」ていることと、本願発明１における「前記高反射部および前記低反射部を備えて前記目盛パターンとなる成形表面に反射膜が設けられ」ていることとは、「前記高反射部および前記低反射部を備えて前記目盛パターンとなる表面に反射膜が設けられ」いる点で共通する。
ｄ　引用先願発明における「樹脂層３０」は、（平滑面（ミラー面）１２ａで構成された高反射率部１２と、凹凸面１４ａで構成された低反射率部１４とから構成される）「基材１６」の「上層」に設けられた「同一形状」の「金属膜２０の上層に配置され」ていることから、「樹脂層３０」は、その表面（「基材１６」側の面）が、「基材１６」の表面の相補的形状となるように、「高反射率部１２に相当する」「平滑面（ミラー面）１２ａ」及び「低反射率部１４に相当する」「凹凸面１４ａ」で構成されていることは明らかである。
　よって、「樹脂層３０」の表面（「基材１６」側の面）が、「高反射率部１２に相当する」「平滑面（ミラー面）１２ａ」及び「低反射率部１４に相当する」「凹凸面１４ａ」で構成されていることと、本願発明１における「前記高反射部となる成形表面の表面粗さＲａが０．０５μｍ以下で、前記低反射部となる成形表面の表面粗さＲａが０．１μｍ以上である」こととは、「前記高反射部となる表面の表面粗さより、前記低反射部となる表面の表面粗さが大きい」点で共通する。
　したがって、本願発明１と引用先願発明との間には、次の一致点、相違点があるといえる。
（一致点）
「反射型の光学方式のエンコーダで用いられ、位置測定用の目盛パターンを備える樹脂製エンコーダスケールであって、
  透明な樹脂部材から成る前記目盛パターンは、前記樹脂部材の表面が粗面とされた光の反射率の低い低反射部と、前記樹脂部材の表面が鏡面とされて前記低反射部より光の反射率の高い高反射部とを備え、
  前記高反射部および前記低反射部を備えて前記目盛パターンとなる表面に反射膜が設けられ、
  前記高反射部となる表面の表面粗さより、前記低反射部となる表面の表面粗さが大きいことを特徴とする樹脂製エンコーダスケール。」
（相違点１）
　本願発明１では、透明な樹脂部材から成る目盛パターンにおける、光の反射率の低い低反射部が「前記樹脂部材の成形表面がブラスト面により樹脂成型された状態で粗面とされ」たものであり、前記低反射部より光の反射率の高い高反射部が、「前記樹脂部材の前記低反射部に対して突出して形成され」、「前記樹脂部材の成形表面が樹脂成型された状態で鏡面とされ」たものであるという構成を備えるのに対し、引用先願発明では、高透明性である樹脂層３０の表面（「基材１６」側の面）は、基材１６の平滑面（ミラー面）１２ａに構成された高反射率部１２に相当する部分、及び、基材１６の凹凸面１４ａで構成された低反射率部１４に相当する部分のそれぞれと相補的な形状を有していることは明らかであるものの、基材１６の平滑面（ミラー面）１２ａと相補的な形状を有している面が、基材１６の凹凸面１４ａと相補的な形状を有している面より突出しているか、明らかでなく、しかも、高透明性である樹脂層３０を、どのようにして基材１６の表面の金属膜２０の上層に配置しているのか明らかでない点。
（相違点２）
　本願発明１では、前記高反射部となる「成形」表面の表面粗さＲａが「０．０５μｍ以下」で、前記低反射部となる「成形」表面の表面粗さＲａが「０．１μｍ以上」であるのに対し、引用先願発明では、高透明性である樹脂層３０を、どのようにして基材１６の表面の金属膜２０の上層に配置しているのか明らかでなく、しかも、樹脂層３０の、基材１６の高反射率部１２に相当する部分と相補的な形状を有している部分の表面粗さＲａも、基材１６の低反射率部１４に相当する部分と相補的な形状を有している部分の表面粗さＲａも、示されていない点。
イ　判断
　上記相違点１について検討すると、引用先願発明における「樹脂層３０」は、下記図７（便宜のため、図面の上下を逆にしている。）に示すとおり、
基材１６の凹凸面１４ａで構成された低反射率部１４と平滑面（ミラー面）１２ａで構成された高反射率部１２との上層（上図では下層）の金属膜２０の上（上図では下）に配置されているのであるから、常識的に見て、樹脂層３０は、基材１６の凹凸面１４ａで構成された低反射率部１４及び平滑面（ミラー面）１２ａで構成された高反射率部１２と（金属膜２０を介して）一体となるように形成されていると考えるのが自然であって、樹脂層３０の表面（「基材１６」側の面）を、例えばブラスト面と平滑面（ミラー面）とを有する金型を用いて樹脂成形し、樹脂層３０の成形表面（「基材１６」側の面）が、ブラスト面により樹脂成型された状態で凹凸面とされた低反射率部と、樹脂成型された状態で平滑面（ミラー面）とされた高反射率部とからなるものとし、さらに高反射率部が低反射率部に対して突出して形成されたものとすることは、通常考えられないことである。
　よって、上記相違点１は実質的な相違点であるから、上記相違点２が実質的な相違点である否かについて判断するまでもなく、本願発明１は引用先願発明と同一ではない。
（２）本願発明２〜７について
　本願発明２〜７も、本願発明１における、透明な樹脂部材から成る目盛パターンにおける、光の反射率の低い低反射部が「前記樹脂部材の成形表面がブラスト面により樹脂成型された状態で粗面とされ」ものであり、前記低反射部より光の反射率の高い高反射部が、「前記樹脂部材の成形表面が樹脂成型された状態で鏡面とされ」たものであるという構成と同一の構成を備えるものであるから、本願発明１と同じ理由により、本願発明２〜７は、引用先願発明と同一ではない。
（３）本願発明８〜１３について
　本願発明８は、本願発明１における、透明な樹脂部材から成る目盛パターンにおける、光の反射率の低い低反射部が「前記樹脂部材の成形表面がブラスト面により樹脂成型された状態で粗面とされ」ものであり、前記低反射部より光の反射率の高い高反射部が、「前記樹脂部材の成形表面が樹脂成型された状態で鏡面とされ」たものであるという構成と同様な、「前記目盛パターンに対応してブラスト加工されたブラスト面と鏡面加工された鏡面とを組み合わせた成形パターンが本体の成形面に直接設けられた金型に、透明な樹脂を射出することにより、前記金型の鏡面により成形された鏡面である前記高反射部と、前記金型のブラスト面により成形された粗面である前記低反射部とを組み合わせた前記目盛パターンを有する前記樹脂製エンコーダスケールを成形する」とともに、「前記金型」は、「前記鏡面と前記鏡面より突出した前記ブラスト面とからなる前記成形パターンが形成され」る構成を備えるものであるから、本願発明１と同じ理由により、本願発明８は、引用先願発明と同一ではない。
　また、本願発明９〜１３は、本願発明８と同一の構成を備えるものであるから、本願発明８と同じ理由により、本願発明９〜１３は、引用先願発明と同一ではない。
（４）本願発明１４〜２１について
　本願発明１４は、本願発明１における、透明な樹脂部材から成る目盛パターンにおける、光の反射率の低い低反射部が「前記樹脂部材の成形表面がブラスト面により樹脂成型された状態で粗面とされ」ものであり、前記低反射部より光の反射率の高い高反射部が、「前記樹脂部材の成形表面が樹脂成型された状態で鏡面とされ」たものであるという構成と同様な、「前記目盛パターンに対応して、ブラスト加工されたブラスト面と鏡面加工された鏡面とを組み合わせた成形パターンが本体の成形面に直接設けられた金型に、透明な樹脂を射出することにより、前記金型のブラスト面により成形された粗面である低反射部と、前記金型の鏡面により成形された鏡面であり、前記低反射部より光の反射率が高い高反射部と、を組み合わせた目盛パターンを有する前記樹脂製エンコーダスケールを成形する工程Ａ」を備え、「前記樹脂製エンコーダスケールの前記低反射部に対して前記高反射部が突出して形成されている」構成を備えるものであるから、本願発明１と同じ理由により、本願発明１４は、引用先願発明と同一ではない。
　また、本願発明１５〜２１は、本願発明１４と同一の構成を備えるものであるから、本願発明１４と同じ理由により、本願発明１５〜２１は、引用先願発明と同一ではない。
第７　原査定について
１　原査定において引用された引用文献等
（１）引用文献１
　原査定の拒絶の理由に引用された引用文献１（特開２００４−４５３９１号公報）には、次の事項が記載されている（下線は、当審で付与した。）。
「【００３９】
請求項１２に記載のエンコーダは、固定部材と、前記固定部材に対して相対移動可能に設けられた可動部材とを備え、前記固定部材に対する前記可動部材の相対移動量を検出するエンコーダにおいて、前記固定部材および前記可動部材の少なくともいずれか一方は、ナノスケール物質を含んだ合成樹脂で形成され表面が鏡面状である本体と、前記本体の表面に所定のピッチで形成された光非反射部とを備えていることを特徴とする。
【００４０】
ナノスケール物質を含んだ合成樹脂は、表面を鏡面状にすることができる。そこで、ナノスケール物質を含んだ合成樹脂で鏡面状の表面を有する本体を形成し、この表面に所定のピッチで光を反射しない光非反射部を形成すれば、光電式エンコーダのスケールを形成することができる。
光非反射部は
本体を射出成形した後、
表面を光を反射しないように削ってもよい。
「【００６６】
（変形例２）
第１実施形態の変形例２として、メインスケール１４２の変形例２を図５に示す。
第１実施形態においては、静電容量式エンコーダであってメインスケール１４は導電部１
５および絶縁部１６から構成されたが、この変形例２は光電式エンコーダであって、メインスケール１４２は光反射部３１と光非反射部３２とからなる光学格子を備えて構成されている。
【００６７】
このメインスケール１４２は、カーボンナノファイバを含んだ合成樹脂で表面が鏡面状に形成された本尺１１（本体）の表面に所定のピッチで光非反射部３２が形成された構成である。
この光非反射部３２は、表面を粗く削って光を反射しないようにしたものである。
スライダ２１の検出ヘッドは、メインスケール１４２に光を照射する光源と、メインスケール１４２から反射された光を受光する光受光部とを備えたものとすればよい。
【００６８】
このような構成によれば、第１実施形態と同様の効果に加えて、簡便に光電式エンコーダを形成することができ、製造効率を向上させることができるとともに、低コスト化を図ることができる。」
（２）引用文献２
　原査定の拒絶の理由に引用された引用文献２（特開２００４−１７７２８７号公報）には、図面とともに、次の事項が記載されている（下線は、当審で付与した。）。
「【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。
図１に、本発明に係るアクチュエータの第１実施形態の概略構成図を示す。
図１において、本第１実施形態のアクチュエータは、往復動作する、例えば光スキャナーの可動部の変位検出機能を備えるものであり、発光部１と、可動部２と、符号化手段３と、検出部４と、を備えて構成されている。」
「【００２０】
また、上記可動部２の光走査面の隅部には、符号化手段３が設けられている。この符号化手段３は、発光部１より発射された光ビームに可動部２の変位、本第１実施形態では可動部２の振れ角に応じて強度変調を与えて出射するものであり、光ビームを高レベルで出射する高出射部と光ビームを低レベルで出射する低出射部とを交互に設けて構成している。例えば、
符号化手段３は、
、高出射部としての光反射部５と、低出射部としての光吸収部６とを交互に複数配列して形成してもよく、
【００２１】
具体的には、図２（ａ）に示す
符号化手段３は、可動部２の表面２ａの光走査面の隅部に所定幅の光吸収部６を等ピッチで複数配列して形成したものであり、光走査面に、
金属酸化物等の光吸収層をエッチングして形成することができる。
「【００２４】
図２（ａ）〜（ｃ）に示すいずれの符号化手段３も、入射光を光反射部５で反射させると共に光吸収部６で吸収させて、符号化手段３上を走査する光ビームに強度変調を与えて出射させるこができる。この場合、検出部４は、符号化手段３における光ビームの反射光を検出できるように可動部２に対して発光部１と同じ側に配置される。
【００２５】
また、図３（ａ）に示す
符号化手段３は、可動部２の表面２ａに所定幅の反射面５と所定幅の光乱反射部７としての溝部７ａを交互に配列して形成したものである。その形成方法の一例は、
（ａ）シリコン基板等から成る可動部２の表面２ａに鏡面の光走査面を形成し、
可動部２の表面２ａをエッチングして溝部７ａを形成する。なお、溝部７ａの底部は鏡面ではないため該溝部７ａで反射する光は乱反射し光乱反射部７となる。
可動部２の表面２ａに所定幅の光反射部５と所定幅の光乱反射部７が交互に配列された符号化手段３を形成することができる。
【００２６】
また、図３（ｂ）に示す
符号化手段３は、可動部２の表面２ａの隅部に所定幅の溝部７ａを等ピッチで配列して形成し、その後表面２ａ上に光走査面となる高反射率の反射層５ａをメッキまたはスパッタリング等により形成している。この場合も、溝部７ａが光乱反射部７として機能し、相隣り合う溝部７ａに挟まれた部分が光反射部５となる。
（３）引用文献３
　原査定において、周知技術を示す文献として引用された引用文献３（特開２００６−３３７３２１号公報）は、当審拒絶理由において引用された引用例１であり、その記載内容は、上記「第５」「１」「（１）引用例１」のとおりである。
（４）引用文献４
　原査定において、周知技術を示す文献として引用された引用文献４（特開平４−９３６１１号公報）は、当審拒絶理由において引用された引用例２であり、その記載内容は、上記「第５」「１」「（２）引用例２」のとおりである。
（５）引用文献５
　原査定において、周知技術を示す文献として引用された引用文献５（特開昭５８−１５０１５４号公報）には、図面とともに、次の事項が記載されている（下線は、当審で付与した。）。
「（２４ｂ）は
位置検出ギヤ（２４）のカム部（２４ａ）が設けられた面と反体側の面に設けられた鏡面部
は位置検出ギヤ（２４）が回転した時に粗面部（２４ｃ）と交互になる反射部（２４ｂ１）〜（２４ｂ３）とから形成されている。また前記鏡面部（２４ｂ）粗面部（２４ｃ）は合成樹脂の成形品からなる位置検出ギヤ（２４）の金型にあらかじめ鏡面仕上げ部とシボ等による粗面部を有することにより形成されている。
（６）引用文献６
　原査定において、周知技術を示す文献として引用された引用文献６（実願昭６０−４７２１号（実開昭６１−１２２５６６号）のマイクロフィルム）は、当審拒絶理由において引用された引用例３であり、その記載内容は、上記「第５」「１」「（３）引用例３」のとおりである。
（７）引用文献７
　原査定において、周知技術を示す文献として引用された引用文献７（特開平６−３２３８７２号公報）には、図面とともに、次の事項が記載されている（下線は、当審で付与した。）。
「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は物体の移動や回転を計測するために産業用工作機械や計測機械などの分野で利用される
エンコーダ
「【００２１】
【発明の効果】以上のように、請求項１の発明によれば、零点位置検出用パターンまたはそれ以外の周囲を拡散面に形成し、請求項２の発明によれば、零点位置検出用パターンまたはそれ以外の周囲を回析格子としたので、反射面、透過面以外によって零点位置を検出することができ、エッチングを施さなくても容易に零点位置検出用パターンが形成できる。この結果、
レプリカスケールを応用して零点位置検出用パターンを形成することにより、型への加工だけで済むため、安価で、かつ高精度な零点位置検出装置を得ることができる
（８）引用文献８
　原査定において、周知技術を示す文献として引用された引用文献８（特開２００３−２１５４２号公報）には、図面とともに、次の事項が記載されている（下線は、当審で付与した。）。
「【００１４】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して、本発明の一側面としての変位量を検出する検出装置１０について説明する。なお、添付図面の各図において、同一の参照番号を付した部材は同一部材を表すものとし、重複説明は省略する。
検出装置１０は回転体の回転軸の回転変位量を絶対情報として検出する装置であって、
検出装置１０は、ディスク１００と、光ヘッド２００と、マスク３００と、検出器４００とを有する。
光ヘッド２００はディスク１００に照射される光束の焦点位置がディスク１００上になるように配置される。また、検出器４００は光ヘッド２００の後述するビームスプリッタ２２０を介しディスク１００により反射された回折光を検出可能な位置に設けられている。
【００１５】ディスク１００は回転体の変位量を表示する機能を有する。ディスク１００は当該ディスク１００の表面に凹凸によって形成されたパターン１１０を有し、かかるパターン１１０はディスク１００の変位（回転）方向、即ち、ディスクの周方向に所定の間隔で設けられている（パターン１１０ａ乃至１１０ｄ（以下、特に断らない限り、パターン１１０はパターン１１０ａ乃至１１０ｄを総括するものとする。））。本実施形態においては、
ディスク１００は円板形状を有する薄板であって、透明な（即ち、光を透過する）ポリカーボネイド樹脂で射出成形法によって形成され、その表面には反射層（例えば、Ａｌ、Ａｕなどの薄膜）が形成されている。
射出成形法でディスク１００を作成することは一度パターン１１０を含むディスク１００の金型を成形してしまえばディスク１００の量産が容易であり、安価にディスク１００を成形することができる。また、射出成形法はミクロン単位でパターン１１０を成形可能であり、
分解能を高めることができる。」
（９）引用文献９
　原査定において、周知技術を示す文献として引用された引用文献９（特開平６−２０１９０６号公報）には、図面とともに、次の事項が記載されている（下線は、当審で付与した。）。
「【００１６】また、鏡面の高反射率領域と粗面の低反射率領域が等間隔で配列されてのが望ましく、高反射率領域と低反射率領域が例えばレリーフパターンの谷と山の位置に配置されている。そして、粗面の表面の粗さはＲａ：０．０８μｍ〜２μｍの範囲にあることが望ましい。」
「【００３１】上記において、パターン版１６は、図３（ｃ）に示すような、不透明の繰り返し模様１１上に粗面のフォトレジスト１２の繰り返しパターンがのった繰り返しパターン体にＮｉをメッキをすることにより作製しているが、この代わりに、図３（ｃ）のような繰り返しパターン体をそのまま用いて同図（ｄ）〜（ｆ）のような複製を１回以上繰り返して、その複製を同図（ｄ）〜（ｆ）の工程の複製用版である樹脂パターン版１６として用いてもよい。
【００３２】次に、図３（ｆ）の複製に、図４の拡大図に示すように、
樹脂層１８側から、接着性向上のためのイオンボンバード処理を行った後、接着層としてのＳｉＯ層２０をまず成膜し、次に、この接着層２０上に反射膜となるアルミニウム層２１を成膜し、最後に、増反射膜兼耐磨耗層となるＳｉＯ層２２を再度成膜して、エンコーダ１用光反射体を完成する。
（１０）引用文献１０
　原査定において、周知技術を示す文献として引用された引用文献１０（特開２００３−１６６８５５号公報）には、図面とともに、次の事項が記載されている（下線は、当審で付与した。）。
「【００１９】したがって、本発明の目的は、従来技術のスケールと同じ位置決め精度を持ちながら、温度補正が不要な反射式の光学式エンコーダを提供することにある。」
「【００３４】このスケール１０は、例えば以下の方法で具体的に形成できる。まずベッド５１の側壁面上の
スケール１０を設ける面を、研削加工などにより鏡面に仕上げる。次に、この表面に一定の周期ｐでレーザ加工を施し、スリット列となる散乱面１２を目盛として形成し、未加工部分を反射面１１とする。
（１１）引用文献１１
　原査定において、周知技術を示す文献として引用された引用文献１１（特開昭６３−８３６１２号公報）には、図面とともに、次の事項が記載されている（下線は、当審で付与した。）。
「〔絶対値エンコーダのパターン構成〕
第５図は絶対値エンコーダのパターンを示す図、第６図は第１図の絶対値エンコーダの部分の回路図である。第１１図，第１２図に示した発受光素子のバラツキによる欠点をなくすため、
絶対値エンコーダのパターンは、前述のように、３グループ化され、しかもグループ内には
透明なリファレンストラックＤ１，Ｄ２，Ｄ３が設けてある。
（１２）引用文献１２
　原査定において、周知技術を示す文献として引用された引用文献１２（特開２０００−３５２５２７号公報）には、図面とともに、次の事項が記載されている（下線は、当審で付与した。）。
「【００２５】図４は第２の実施例のスケールの断面図を示し、
光学スケール１３の第１領域１３ａと第２領域１３ｂの面の高さが異なっている。
（１３）引用文献１３
　原査定において、周知技術を示す文献として引用された引用文献１３（特開２００１−７９８５４号公報）には、図面とともに、次の事項が記載されている（下線は、当審で付与した。）。
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学パネル用金型及びその製造方法に関し、詳しくは
拡散面と鏡面とを有するプリズム形状によって光方向を制御することができる光学パネルを成形するための光学パネル用金型及びその製造方法
「【００３３】一方、本発明の図３に示した面構成を持つ光学パネル１にあっては、図６に示すように、
光学パネル１のプリズムアレイ面４側から入射した光線Ａは、プリズムの略傾斜面（鏡面２）で一度屈折し、パネル内を通過した後、出射する際にも屈折し、狙いの方向へ光を向けることが可能であり、また、略垂直面（拡散面３）に近い位置に入射した光線Ｂは、プリズムの略傾斜面（鏡面２）で一度屈折した後、略垂直面（拡散面３）で拡散されるため、狙いの方向とは逆の方向へ光を強く出射することはなく、パネル全体としては、図７に示すように、一方向へ光方向を制御する効果に優れている。
「【００３６】図１１〜図１６は、上記構成の
光学パネル１を成形するための光学パネル用金型１１の製造工程
光学パネル用金型１１におけるプリズムアレイ形状面１４が形成される金型型部ブロック１０には、拡散面３を形成するための拡散面形成用金型部１３と、鏡面２を形成するための鏡面形成用金型部１２とを備えている。ここでは、一つの拡散面形成用金型部１３が光学パネル１の一つの拡散面３（図６）に対応し、一つの鏡面形成用金型部１２が光学パネル１の一つの鏡面２（図６）に対応しており、金型型部ブロック１０には、拡散面形成用金型部１３と鏡面形成用金型部１２とが交互に複数個連続したプリズムアレイ形状面１４が構成されている。
【００３７】次に、金型型部ブロック１０（ワーク）にプリズムアレイ形状面１４を形成するにあたっては、先ず図１１に示すように、
拡散面形成用金型部１３を形成するための第１の面１３ａ（略垂直面）
鏡面形成用金型部１２を形成するための第２の面１２ａ（略傾斜面）
「【００４３】上記のように単結晶ダイヤモンドからなる
切削工具６を用いて第２の面１２ａを鏡面２に仕上げて鏡面形成用金型部１２が形成され、目的とする拡散面形成用金型部１３と鏡面形成用金型部１２とが交互に複数個連続して形成されたプリズムアレイ形状面１４を有する光学パネル用金型１１を製造することができる。」
【００４５】しかして、
プリズムアレイ形状面１４を概略形状に切削加工した後に、ブラスト加工による拡散面形成用金型部１３の形成工程と、鏡面仕上げによる鏡面形成用金型部１２の形成工程とを行う
２　原査定についての判断
　平成２９年１１月２２日付けの補正により、補正後の請求項１、８、１４は「透明な樹脂部材から成る前記目盛パターンは、前記樹脂部材の成形表面がブラスト面により樹脂成型された状態で粗面とされた光の反射率の低い低反射部と、前記樹脂部材の前記低反射部に対して突出して形成され、前記樹脂部材の成形表面が樹脂成型された状態で鏡面とされて前記低反射部より光の反射率の高い高反射部とを備え」という技術的事項を有するものとなった。
　当該「透明な樹脂部材から成る前記目盛パターンは、前記樹脂部材の成形表面がブラスト面により樹脂成型された状態で粗面とされた光の反射率の低い低反射部と、前記樹脂部材の前記低反射部に対して突出して形成され、前記樹脂部材の成形表面が樹脂成型された状態で鏡面とされて前記低反射部より光の反射率の高い高反射部とを備え」は、原査定における引用文献１〜１３（なお、引用文献３、４、６は、当審拒絶理由における引用例１、２、３）には記載されておらず、本願出願前における周知技術でもないので、本願発明１〜２１は、当業者であっても、原査定における引用文献１〜１３に基づいて容易に発明できたものではない。したがって、原査定を維持することはできない。
第８　むすび
　以上のとおり、原査定の理由によって、本願を拒絶することはできない。
　他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。