(57)【要約】  本発明の液晶表示装置１０は、一対のガラス基板３１，４１の間に液晶層５０を設けてなる液晶パネル１１と、当該液晶パネル１１に照明光を供給する照明装置１２と、を含む液晶表示装置であって、前記一対のガラス基板３１，４１のうち少なくとも一方のガラス基板３１には、輝点欠陥の原因となる輝点欠陥発生部Ｘを遮光可能な位置に、非架橋酸素ホールセンタを含む有色部６０が形成されていることを特徴とする。
2009016867.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対のガラス基板の間に液晶層を設けてなる液晶パネルと、当該液晶パネルに照明光を供給する照明装置と、を含む液晶表示装置であって、
前記一対のガラス基板のうち少なくとも一方のガラス基板には、輝点欠陥の原因となる輝点欠陥発生部を遮光可能な位置に、非架橋酸素ホールセンタを含む有色部が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記有色部が形成されている前記ガラス基板には、少なくともＮａ又はＫのいずれか一方の元素が含有されていることを特徴とする請求の範囲第１項に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記有色部は、前記ガラス基板の厚さ方向全体に亘って形成されていることを特徴とする請求の範囲第１項又は請求の範囲第２項に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
一対のガラス基板の間に液晶層を設けてなる液晶パネルと、当該液晶パネルに照明光を供給する照明装置と、を含む液晶表示装置の製造方法であって、
輝点欠陥が発生した場合に、その輝点欠陥を修正する輝点欠陥修正工程を含み、
前記輝点欠陥修正工程は、
前記一対のガラス基板のうち少なくとも一方のガラス基板において、前記輝点欠陥の原因である輝点欠陥発生部を遮光可能な修正位置を特定する工程と、
特定した前記ガラス基板の前記修正位置に、フェムト秒オーダー以下のレーザーを紫外領域の波長で照射して、有色部を形成する工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記有色部を形成する工程において、少なくとも一方の前記ガラス基板に、非架橋酸素ホールセンタを形成することにより当該ガラス基板を有色化することを特徴とする請求の範囲第４項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記有色部を形成する前記ガラス基板には、少なくともＮａ又はＫのいずれか一方の元素が含有されていることを特徴とする請求の範囲第５項又は請求の範囲第６項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記照明装置側に配される前記ガラス基板の厚さ方向全体に亘って、前記有色部を形成することを特徴とする請求の範囲第４項ないし請求の範囲第６項のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の製造方法として以下のようなものがある。例えば、一対のガラス基板のうち一方のガラス基板にスイッチング素子（例えばＴＦＴ）や画素電極などを設け、他方のガラス基板に対向電極などを設けた後、両ガラス基板を、スペーサを介して貼り合わせる。次に、両ガラス基板の間に液晶を注入して液晶層を形成し、その後両ガラス基板の表面に偏光板をそれぞれ貼り付けて液晶パネルを得る。そして、この液晶パネルに、例えば複数の冷陰極管を光源として備える照明装置を備え付けるという方法である。【０００３】
上記のような液晶表示装置の製造過程では、所定のタイミングで各種検査を行って不良を検出する工程を含む場合がある。例えば、液晶層を形成した後で行う検査では、両ガラス基板を挟むように一対の検査用の偏光板を配置し、検査用のバックライトを点灯させ、スイッチング素子を駆動させることで表示不良の有無を検査する場合がある。【０００４】
このような検査工程において、例えば液晶層内に異物が侵入している場合、光が液晶層内に含まれた異物に当たって乱反射することで、黒表示をしているにも拘らず明るく見える輝点欠陥として検出されることがある。当該輝点欠陥は、表示品質を著しく低下させ、製造の歩留まりを悪化させることとなる。【０００５】
そこで、上記のような輝点欠陥を修正する方法として、例えば特許文献１に開示される技術が知られている。特許文献１には、輝点欠陥が発生している絵素を照射する照射光の照射経路上に位置する入射側の透明基板の表面付近に凹陥加工部を形成し、当該凹陥加工部の側面及び底面を粗面化処理して光散乱領域を形成する方法が開示されている。
【特許文献１】特開平４−３０１６１７号公報
【０００６】
（発明が解決しようとする課題）
しかしながら、特許文献１に記載の発明は、ガラス基板に凹陥加工部を形成するものであるため、当該凹陥加工部を深く形成すると、ガラス基板の強度が低下する問題があった。一方、ガラス基板の強度低下を抑止するために、凹陥加工部の深度を浅いものとすると、当該凹陥加工部と欠陥部との間に一定距離の隙間が存することとなる。このような隙間が存すると、凹陥加工部の外側（すなわち未加工部）から入射した光が、ガラス基板の透過中に廻りこみを起こして欠陥部に到達してしまい、輝点欠陥が修正されない場合があった。
【発明の開示】
【０００７】
本発明は、上記のような事情に基づいてなされたものであって、輝点欠陥が確実に視認不能とされ、高い表示品質を示す液晶表示装置を提供することを目的としている。さらに、液晶表示装置に生じた輝点欠陥を好適に修正可能な工程を含む液晶表示装置の製造方法を提供することを目的としている。
【０００８】
（課題を解決するための手段）
上記課題を解決するために、本発明の液晶表示装置は、一対のガラス基板の間に液晶層を設けてなる液晶パネルと、当該液晶パネルに照明光を供給する照明装置と、を含む液晶表示装置であって、前記一対のガラス基板のうち少なくとも一方のガラス基板には、輝点欠陥の原因となる輝点欠陥発生部を遮光可能な位置に、非架橋酸素ホールセンタを含む有色部が形成されていることを特徴とする。
【０００９】
本発明者は、ガラス基板の強度を低下させない、すなわちガラス基板に凹陥部を形成しない輝点欠陥の修正手段の検討を重ねる中で、ガラスにおける可視光の透過率を低下させるカラーセンタ（着色中心）に着目した。ガラスにおけるカラーセンタは、パーオキシラジカル（≡Ｓｉ−Ｏ−Ｏ＊の構造を有する）、酸素欠損センタ（≡Ｓｉ−Ｓｉ≡、及び、−Ｏ−Ｓｉ＊＊−Ｏ−の構造を有する）、非架橋酸素ホールセンタ（≡Ｓｉ−Ｏ＊の構造を有する）等が知られている。中でも非架橋酸素ホールセンタは、単にガラスに光を照射することで、１つのＳｉと結合してなるＯ（非架橋酸素）から電子を放出させて、分子結合の欠陥（これを非架橋酸素ホールセンタと称する）を生じさせることができる。この非架橋酸素ホールセンタは可視光を吸収するため、一般にガラスは茶系統に着色する。
【００１０】
そこで、本発明の液晶表示装置は、一対のガラス基板のうち少なくとも一方において、輝点欠陥発生部を遮光可能な位置に、この非架橋酸素ホールセンタを形成するものとした。これにより、この非架橋酸素ホールセンタを形成した部分は有色部となって遮光作用を示すため、輝点欠陥発生部を輝点欠陥として視認されないものとすることができ、高い表示品質を有する液晶表示装置が得られることとなった。さらに、非架橋酸素ホールセンタは、その形成により強度劣化を伴い難いため、ガラス基板の強度を低下させない輝点欠陥の修正手段として好適である。
【００１１】
また、本発明の液晶表示装置において、前記有色部が形成されている前記ガラス基板には、少なくともＮａ又はＫのいずれか一方の元素が含有されているものとすることができる。
非架橋酸素ホールセンタを形成するには、非架橋酸素から放出された電子をトラップする媒体が必要である。そこで、Ｎａ又はＫの少なくとも一方の元素が含有されたガラス基板とすることにより、当該Ｎａ、Ｋにより、放出された電子がトラップされることとなり、好適に非架橋酸素ホールセンタを形成することができる。
【００１２】
また、前記有色部は、前記ガラス基板の厚さ方向全体に亘って形成されているものとすることができる。
この場合、輝点欠陥発生部と有色部との間には、有色部が形成されずに元のガラス基板のままとされる部分が介在しないこととなる。これにより、照明装置から供給される光が、ガラス基板の透過中に廻りこみを起こして輝点欠陥発生部に到達することを抑止することができ、輝点欠陥が視認されない良好な表示品質を実現することが可能となる。
【００１３】
次に、上記課題を解決するために、本発明の液晶表示装置の製造方法は、一対のガラス基板の間に液晶層を設けてなる液晶パネルと、当該液晶パネルに照明光を供給する照明装置と、を含む液晶表示装置の製造方法であって、輝点欠陥が発生した場合に、その輝点欠陥を修正する輝点欠陥修正工程を含み、前記輝点欠陥修正工程は、前記一対のガラス基板のうち少なくとも一方のガラス基板において、前記輝点欠陥の原因である輝点欠陥発生部を遮光可能な修正位置を特定する工程と、特定した前記ガラス基板の前記修正位置に、フェムト秒オーダー以下のレーザーを紫外領域の波長で照射して、有色部を形成する工程とを有することを特徴とする。
【００１４】
このような製造方法によれば、一対のガラス基板の少なくとも一方において、輝点欠陥発生部を遮光可能な位置に、有色部を備えた液晶表示装置を提供することが可能となる。このような液晶表示装置によれば、照明装置から供給される光は、この有色部により遮光され輝点欠陥発生部に到達しないため、輝点欠陥を視認不能なものとすることが可能となる。
【００１５】
上記の有色部は、フェムト秒オーダー以下のレーザーを紫外領域の波長で照射することで、ガラス構造に構造欠陥（カラーセンタ）を生じさせることにより形成する。輝点欠陥発生部は非常に微小なものである場合が多く、必要以上の広範囲に有色部を形成することは、広範な非表示領域を生じることに繋がり表示品質の劣化を招くこととなる。そこで、微小領域への照射が可能であるレーザーにより有色部を形成するものとした。
【００１６】
ところで、レーザー照射により有色部を形成する場合、ピコ秒以上のパルス幅を有するレーザーを照射しても有色部を形成することはできるものの、平均的なエネルギー強度が大きすぎるため、レーザー照射点の周辺部位が熱的損傷を受け、有色部の周囲が白濁してしまう場合があった。一方、フェムト秒オーダー以下のレーザーを照射すると、レーザーによる熱が照射点周囲に伝導するより速く照射部分にエネルギーが吸収されるため、レーザー照射点の周辺部位が熱的・化学的な損傷を受けることがない。さらに、フェムト秒オーダー以下のレーザーの波長を紫外領域とすることにより、非線形吸収が起こり易く、構造欠陥を生じさせるのに十分なエネルギーを得ることができる。
【００１７】
このように、本発明の液晶表示装置の製造方法は、ガラス基板において、輝点欠陥発生部を遮光可能な修正位置に、フェムト秒オーダー以下のレーザーを紫外領域の波長で照射して構造欠陥を生じさせることにより、当該修正位置に有色部を形成するものとした。その結果、ガラス基板の強度を低下させることなく、当該有色部で照明装置の光を遮光することで、光が輝点欠陥発生部に到達しないため、輝点欠陥を視認不能なものとすることが可能となった。
【００１８】
また、前記有色部を形成する工程において、少なくとも一方の前記ガラス基板に、非架橋酸素ホールセンタを形成することにより当該ガラス基板を有色化するものとすることができる。
上記した構造欠陥の中には、非常にエネルギーの高い放射線を照射することによって初めて形成可能なものもあり、製造工程への適用が困難な場合がある。有色部を形成可能な構造欠陥のうち、非架橋酸素ホールセンタは、紫外光程度のエネルギーの光を照射することで、１つのＳｉと結合してなるＯ（非架橋酸素）から電子を放出させて、分子結合の欠陥を生じさせることができる。さらに、非架橋酸素ホールセンタの形成は、その形成により強度劣化を伴い難いため、ガラス基板の強度を低下させない輝点欠陥の修正方法として好適である。
【００１９】
また、本発明の液晶表示装置の製造方法において、前記有色部を形成する前記ガラス基板には、少なくともＮａ又はＫのいずれか一方の元素が含有されているものとすることができる。
非架橋酸素ホールセンタを形成するには、非架橋酸素から放出された電子をトラップする媒体が必要である。そこで、ガラスに含有させ易いＮａ又はＫの少なくとも一方の元素が含有されたガラス基板を使用することにより、当該Ｎａ、Ｋにより、放出された電子がトラップされることとなり、好適に非架橋酸素ホールセンタを形成することができる。
【００２０】
また、前記照明装置側に配される前記ガラス基板の厚さ方向全体に亘って、前記有色部を形成するものとすることができる。
このように、ガラス基板の厚さ方向全体に亘って有色部を形成することにより、この有色部と輝点欠陥発生部との間には、有色部が形成されず元のガラス基板のままとされる部分が介在しないこととなる。これにより、照明装置から入射する光が、ガラス基板の透過中に廻りこみを起こして輝点欠陥発生部に到達することがなく、輝点欠陥を確実に修正することが可能となる。
【００２１】
（発明の効果）
本発明によると、輝点欠陥が確実に視認不能とされ、高い表示品質を示す液晶表示装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の実施形態に係る液晶表示装置の概略構成を示す斜視図。
【図２】図１の液晶表示装置のＡ−Ａ線断面図。
【図３】図１の液晶表示装置が備える液晶パネルの要部断面図。
【図４】本実施形態に係る液晶表示装置が奏する作用効果を示す説明図。
【図５】検査対象液晶パネルの点灯検査工程の態様を示す説明図。
【図６】輝点欠陥修正装置の概略構成を示す側面図。
【符号の説明】
【００２３】
１０...液晶表示装置、１１...液晶パネル、１２...バックライト装置（照明装置）、３１，４１...ガラス基板、５０...液晶層、６０...有色部、Ｘ...異物（輝点欠陥発生部）
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
本発明の一実施形態を図１ないし図６によって説明する。
図１は本実施形態に係る液晶表示装置の概略構成を示す斜視図、図２は図１の液晶表示装置のＡ−Ａ線断面図、図３は図１の液晶表示装置が備える液晶パネルの要部断面図、図４は本実施形態に係る液晶表示装置が奏する作用効果を示す説明図、図５は検査対象液晶パネルの点灯検査工程の態様を示す説明図、図６は輝点欠陥修正装置の概略構成を示す側面図である。【００２５】
まず、本実施形態に係る液晶表示装置１０の全体構成について説明する。液晶表示装置１０は、図１及び図２に示すように、矩形をなす液晶パネル１１と、外部光源であるバックライト装置（照明装置）１２とを備え、これらがベゼル１３などにより一体的に保持されるようになっている。バックライト装置１２は、所謂直下型のバックライト装置であって、後述する液晶パネル１１のパネル面（表示面）の背面直下に、当該パネル面に沿って光源（ここでは高圧放電管として冷陰極管１７を用いている）を複数具備した構成となっている。【００２６】
バックライト装置１２は、上面側が開口した略箱型をなすバックライトシャーシ（シャーシ）１４と、バックライトシャーシ１４の開口部を覆うようにして取り付けられる複数の光学部材１５（図示下側から順に拡散板、拡散シート、レンズシート、反射型偏光板）と、これら光学部材１５をバックライトシャーシ１４に保持するためのフレーム１６とを備える。さらに、バックライトシャーシ１４内には、冷陰極管１７と、冷陰極管１７の両端部を保持するためのゴム製のホルダ１８と、冷陰極管１７群及びホルダ１８群を一括して覆うランプホルダ１９と、冷陰極管１７をバックライトシャーシ１４に取り付けるためのランプクリップ２０とが配設されている。なお、当該バックライト装置１２においては、冷陰極管１７よりも光学部材１５側が光出射側となっている。【００２７】
冷陰極管１７は、細長い管状をなしており、その長さ方向（軸線方向）をバックライトシャーシ１４の長辺方向に一致させた状態で、バックライトシャーシ１４内に多数本（図１では１８本）収容されている。一方、冷陰極管１７をバックライトシャーシ１４に対して組み付けるためのランプクリップ２０は、クリップ状の光源保持部材として機能し、合成樹脂製（例えばポリカーボネート製）とされている。【００２８】
さらに、バックライトシャーシ１４の内面側（光源側）には光反射シート１４ａにより光反射面が形成されている。このような光反射シート１４ａを含むバックライトシャーシ１４により、冷陰極管１７から出射された光を拡散板等の光学部材１５側に反射させることが可能となっている。光反射シート１４ａは、例えば光反射性を備えた樹脂シート等により構成することができる。【００２９】
次に液晶パネル１１について説明する。液晶パネル１１は、図３に示すように、一対の基板３０，４０が所定のギャップを隔てた状態で貼り合わされるとともに、両基板３０，４０間に液晶が封入された構成とされ、当該液晶により液晶層５０が形成されている。【００３０】
基板３０は素子基板であって、ガラス基板３１と、このガラス基板３１の液晶層５０側に形成された半導体素子としてのＴＦＴ（薄膜トランジスタ）３２と、当該ＴＦＴ３２に対して電気的に接続された画素電極３３と、これらＴＦＴ３２及び画素電極３３の液晶層５０側に形成された配向膜３４とを備えている。また、ガラス基板３１の液晶層５０側とは反対側には偏光板３５が配設されている。なお、一対の基板３０，４０のうち、当該基板３０（ガラス基板３１）がバックライト装置１２側に配されている。【００３１】
一方、基板４０は対向基板であって、ガラス基板４１と、このガラス基板４１の液晶層５０側に形成されたＲ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）等の各着色部が所定配列で配置されたカラーフィルタ４２と、当該カラーフィルタ４２の液晶層５０側に形成された対向電極４３と、当該対向電極４３の液晶層５０側に形成された配向膜４４とを備えている。また、ガラス基板４１の液晶層５０側とは反対側には偏光板４５が配設されている。【００３２】
なお、上記したガラス基板３１，４１には、微量含有元素としてＮａが１．０ｗｔ％未満（各含有元素を酸化物として算出）の比率で含有されており、この含有Ｎａ群の中には、ガラス構造中の非架橋酸素と結合した状態（≡Ｓｉ−ＯＮａ）で存在しているものもある。【００３３】
さらに、本実施形態では、例えば図３及び図４に示すように、液晶層５０中に輝点欠陥の原因となり得る異物（輝点欠陥発生部）Ｘが混入した場合に、この異物Ｘを遮光する手段が設けられている。具体的には、基板３０のガラス基板３１において、この異物Ｘの射影と平面視で重なる位置に、ガラス基板３１の厚さ方向全体に亘って、濃茶色を呈する有色部６０が形成されている。【００３４】
有色部６０は、そのガラス構造中に非架橋酸素ホールセンタ（≡Ｓｉ−Ｏ＊）を有し、これが可視光域に吸収をもつために濃茶色を呈している。すなわち、冷陰極管１７から出射された光は、この非架橋酸素ホールセンタ（つまり有色部６０）で吸収されるため、ここで遮光され、異物Ｘには到達しないこととなる（図４参照）。【００３５】
このような本実施形態の液晶表示装置１０によると、ガラス基板３１において、輝点欠陥の原因となり得る異物（輝点欠陥発生部）Ｘを遮光可能な位置に、非架橋酸素ホールセンタを含む有色部６０が形成されている。これにより、この有色部６０で照明光が遮光されて異物Ｘに照明光が到達しないため、輝点欠陥が視認されない、高い表示品質を実現することが可能となる。【００３６】
さらに、従来は、上記のような遮光（減光）手段として、ガラス基板に凹部が形成された構造とされていたため、ガラス基板の強度を低下させるおそれがあった。本実施形態では、強度劣化を伴い難い非架橋酸素ホールセンタにより照明光を遮光するものとしているため、ガラス基板の強度の低下を危惧する必要がない。【００３７】
また、本実施形態では、有色部６０はガラス基板３１の厚さ方向全体に亘って形成されている。
この場合、有色部６０と異物Ｘとの間には、有色部６０が形成されていない元のガラス基板３１のままとされる部分が介在しないこととなる。これにより、冷陰極管１７から出射される光が、ガラス基板３１の透過中に廻りこみを起こして異物Ｘに到達することを抑止することができ、輝点欠陥が視認されない高い表示品質を実現することが可能となる。【００３８】
また、本実施形態では、有色部６０が形成されたガラス基板３１には、Ｎａが含有されている。
このＮａにより、非架橋酸素から放出された電子がトラップされるため、電子が再び非架橋酸素に戻ることなく、好適に非架橋酸素ホールセンタを形成することができる。【００３９】
さらに、本実施形態では、有色部６０をバックライト装置１２側のガラス基板３１に配設した。
このように、バックライト装置１２側（すなわち表示面とは反対側）に有色部６０を形成することにより、有色部６０が視認されるおそれがない。【００４０】
次に、液晶表示装置１０の製造方法について説明する。
ここでは、主に修正工程を含む製造工程について説明するものとする。【００４１】
まず、ガラス基板３１を用意し、そのガラス基板３１上にＴＦＴ３２と画素電極３３を形成する。そして、これらＴＦＴ３２及び画素電極３３上に配向膜３４を形成して素子基板とする基板３０を作製する。
一方、上記のガラス基板３１とは別途にガラス基板４１を用意し、そのガラス基板４１上にカラーフィルタ４２を形成し、このカラーフィルタ４２上に対向電極４３を形成し、さらに対向電極４３上に配向膜４４を形成して対向基板とする基板４０を作製する。【００４２】
なお、上記したガラス基板３１，４１には、微量含有元素としてＮａが１．０ｗｔ％未満（各含有元素を酸化物として算出）の比率で含有されており、この含有Ｎａ群の中には、ガラス構造中の非架橋酸素と結合した状態（≡Ｓｉ−ＯＮａ）で存在しているものもある。【００４３】
これら基板３０と基板４０とを所定の間隔を隔てて貼り合わせ、その隙間に液晶を封入することで液晶層５０を形成する。さらに、両基板３０，４０において、液晶層５０側とは反対側の面にそれぞれ偏光板３５，４５を配設して液晶パネル１１を作製する（図３参照）。なお、後述する液晶パネル１１とバックライト装置１２との組み付け工程において、両基板３０，４０のうち基板３０（ガラス基板３１）をバックライト装置１２側に配するものとする。【００４４】
上記製造過程のうち、液晶層５０を形成した後に、表示不良の有無を検査するための点灯検査を行う（以下、この場合の製造途中にある液晶パネルを検査対象液晶パネル１１ａという）。【００４５】
具体的には、図５に示すように、まず、検査対象液晶パネル１１ａの基板３０，４０を挟むようにして一対の検査用の偏光板７１を配置する。次に、検査用のバックライト７２を点灯させるとともに、ガラス基板３１に形成した各配線を検査用回路に接続して、それぞれに適宜に信号を供給することでＴＦＴ３２を駆動させる。こうして液晶層５０を構成する液晶の配向状態を制御することで得られる表示状態を、画像処理或いは検査員の目視などにより検査する。【００４６】
このとき、黒表示させたにも拘らず、点状に輝いて視認される輝点欠陥が検出される場合がある。この輝点欠陥は、液晶層５０内に侵入した異物Ｘに光が当たって乱反射することが原因として発生する場合があり、このような輝点欠陥が検出された場合には、次に示す輝点欠陥修正工程にて当該輝点欠陥の修正を施す。なお、液晶層５０内に異物Ｘが侵入する原因としては、異物Ｘが、液晶を注入する前の段階で基板３０，４０における液晶層５０側の面に付着している場合、また、液晶中に混入している場合などが考えられる。【００４７】
輝点欠陥修正工程は、ガラス基板３１において異物Ｘを遮光可能な修正位置を特定する工程と、特定したガラス基板３１の修正位置にフェムト秒オーダー以下のレーザーを照射して有色部６０を形成する工程とを含む。【００４８】
輝点欠陥修正工程では、図６に示す輝点欠陥修正装置７０を使用して輝点欠陥を修正する。輝点欠陥修正装置７０は、修理対象となる検査対象液晶パネル１１ａを載置するためのステージ７３（図５では図示略）と、ステージ７３を挟むようにして配置される一対の検査用の偏光板７１と、検査用のバックライト７２と、ステージ７３に対して平行及び垂直に移動するＸＹＺ駆動部７４とから構成される。このうちＸＹＺ駆動部７４には、異物Ｘ及びその周辺を撮像するためのＣＣＤカメラ７５と、有色部６０を形成するためのレーザーを照射するレーザー照射部７６とが所定の位置関係で設けられている。なお、ステージ７３は、検査用バックライト７２から出射される光を透過できるようにガラス製とされている。【００４９】
この輝点欠陥修正装置７０を使用して、まず、ガラス基板３１において異物Ｘを遮光可能な修正位置を特定する。始めに、ステージ７３上の所定位置に修理対象となる検査対象液晶パネル１１ａを載置する。このとき、ガラス基板３１が上側となるようにセットする。次に、検査用バックライト７２を点灯させて検査対象液晶パネル１１ａを黒表示させる。この状態で、ＸＹＺ駆動部７４をステージ７３に対して平行に移動させつつＣＣＤカメラ７５により表示状態を撮像し、その撮像結果を画像処理して異物Ｘの位置及び大きさの情報を得る。そして、この情報をもとに、ガラス基板３１において異物Ｘを遮光可能な位置を特定する。【００５０】
続いて、特定したガラス基板３１の修正位置に、有色部６０を形成する工程に移行する。当該工程では、ガラス基板３１に１０−１３秒オーダーのパルス幅を有するフェムト秒レーザーを照射することにより有色部６０を形成する。具体的には、異物Ｘを遮光可能な位置の情報に基づいて、ＸＹＺ駆動部７４を移動させて、これに備わるレーザー照射部７７を、当該異物Ｘを遮光可能な位置の直上へ配置しレーザー照射を行う。なお、本実施形態においては、波長３５０ｎｍ、パルス幅１００ｆｓ、繰り返し周波数１ｋＨｚ、パルスエネルギー１ｍＪ、出力１Ｗの条件にてレーザー照射を行った。【００５１】
上記条件によりレーザーを透光性のあるガラス基板３１に照射すると、そのレーザーの集光点の近傍が濃茶色を呈するようになる。これは、レーザーの集光点で非架橋酸素ホールセンタ（≡Ｓｉ−Ｏ＊）が形成され、当該非架橋酸素ホールセンタが可視光を吸収して濃茶色を呈することによる。このレーザーの集光点を連続的にガラス基板３１の内部で移動させることにより、非架橋酸素ホールセンタが形成される部分を集光点の軌跡に沿った連続領域（すなわち有色部６０）として形成することができる。こうすることで、本実施形態では、ガラス基板３１の厚さ方向全体に亘って非架橋酸素ホールセンタを含む有色部６０を形成した。【００５２】
上記工程を経て輝点欠陥を修正した液晶パネル１１に、別の工程で作製されたドライバ（図示せず）やバックライト装置１２を組み付けて液晶表示装置１０を作製する。【００５３】
以上のような修正工程を含む本実施形態の液晶表示装置１０の製造方法によると、ガラス基板３１において、異物Ｘ（輝点欠陥発生部）を遮光可能な位置に、非架橋酸素ホールセンタを含む有色部６０を具備した液晶表示装置１０が得られる。このような液晶表示装置１０によれば、バックライト装置１２から供給される光が、有色部６０により遮光され異物Ｘに到達しないこととなる。その結果、異物Ｘによる光の乱反射は生じないため、輝点欠陥を視認されないように修正することが可能となる。【００５４】
また、本実施形態では、紫外領域の波長のフェムト秒レーザーを照射することにより、非架橋酸素ホールセンタを形成し、有色部６０を得るものとした。このように、有色部６０の形成をレーザー照射により行うことで、非常に微小な輝点欠陥発生部Ｘに対して必要最小限の範囲で有色部６０を形成することができる。【００５５】
また、フェムト秒レーザーを選択することで、レーザーによる熱が照射点周囲に伝導するより速く照射部位にエネルギーが吸収されるため、レーザー照射点の周囲のガラス基板は熱的・化学的な損傷を受けず、液晶表示装置１０の表示品質が劣化するおそれがない。
さらに、さらに、フェムト秒レーザーの波長を紫外領域とすることにより、非線形吸収が起こり易く、構造欠陥を生じさせるのに十分なエネルギーを得ることができる。【００５６】
＜他の実施形態＞
以上、本発明の実施形態について示したが、本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。【００５７】
（１）上記実施形態では、有色部６０をガラス基板３１の厚さ方向全体に亘って形成するものとしたが、有色部６０の厚さは任意である。この場合、ガラス基板の厚さ方向における有色部６０の形成位置は、例えば液晶層５０側やガラス基板の厚さ方向の中心部等任意である。但し、遮光を確実に行う上では、厚さ方向全体に亘って形成することが好ましい。【００５８】
（２）上記実施形態では、液晶パネル１１に具備されるガラス基板３１，４１に、微量含有元素としてＮａが含有されているものとしたが、Ｎａは少なくともバックライト装置１２側に配されるガラス基板３１に含有されていれば良い。【００５９】
（３）上記実施形態では、液晶パネル１１に具備されるガラス基板３１，４１には、微量含有元素としてＮａが含有されているものとしたが、Ｋが含有されている場合も好適に非架橋酸素ホールセンタを形成することができる。また、Ｋは少なくともバックライト装置１２側に配されるガラス基板３１に含有されていれば良い。【００６０】
（４）上記実施形態では、パルス幅が１００ｆｓのフェムト秒レーザーを照射することにより有色部６０を形成するものとしたが、照射点周囲への損傷を抑止する観点からはパルス幅は小さいほど好ましく、修正効率の許容範囲内で、パルス幅のさらに小さいレーザーを使用しても良い。【００６１】
（５）上記実施形態では、有色部６０を形成するために照射するレーザー波長を３５０ｎｍとしたが、レーザーの波長はガラス基板３１に照射した場合に高効率で非線形吸収を生じさせることができる程度のエネルギー出力があれば良く、１９０ｎｍ〜４００ｎｍの波長が好適である。さらに、その他の照射条件についても、照射対象のガラス基板の組成等により変更し得るものである。【００６２】
（６）上記実施形態では、修正位置を特定する工程と、レーザーを照射して有色部６０を形成する工程とを輝点欠陥修正装置７０により行うものとしたが、当該装置の複雑化を回避すべく、それぞれ別途装置を準備して行うものとしても良い。【００６３】
（７）上記実施形態では、輝点欠陥修正装置７０において、ＣＣＤカメラ７５及びレーザー照射部７６を備えるＸＹＺ駆動部７４が、ステージ７３に対して平行及び垂直方向に移動する構成としたが、固定されたＣＣＤカメラ及びレーザー照射部に対して、ステージが平行及び垂直方向に移動する構成としても良い。【００６４】
（８）上記実施形態では、輝点欠陥は液晶層内５０に侵入した異物Ｘに起因するものとしたが、例えば短絡等に起因して誤作動を生じ得るＴＦＴ３２や画素電極３３等が原因となる場合もあり、その場合にも本発明は適用可能である。【００６５】
（９）上記実施形態では、光源として冷陰極管１７を使用した場合を例示したが、熱陰極管や蛍光管など他の種類の線状光源やＬＥＤなどの点状光源を光源としたものについても本発明は適用可能である。【００６６】
（１０）また、ＴＦＴ３２以外のスイッチング素子を用いた液晶表示装置にも本発明は適用可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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