(57)【要約】本発明の無機粒子含有組成物は、テルペン骨格を有し、且つ、２５℃における粘度が１０，０００〜１，０００，０００ｍＰａ・ｓである有機化合物（Ａ１）と、無機粒子とを含み、有機化合物（Ａ１）の含有量が、無機粒子含有組成物中に含まれる有機化合物全量に対して５０質量％〜９５質量％である。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
テルペン骨格を有し、且つ、２５℃における粘度が１０，０００〜１，０００，０００ｍＰａ・ｓである有機化合物（Ａ１）と、
無機粒子と、を含む無機粒子含有組成物であって、
前記有機化合物（Ａ１）の含有量が、前記無機粒子含有組成物中に含まれる有機化合物全量に対して５０質量％〜９５質量％である、無機粒子含有組成物。
【請求項２】
前記有機化合物（Ａ１）が、下記構造式（１）で表わされるイソボルニルシクロヘキサノールである、請求項１に記載の無機粒子含有組成物。
【化１】
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【請求項３】
前記無機粒子含有組成物中に含まれる有機化合物は、３００℃で１０分間加熱したときの加熱残分が１質量％以下である、請求項１又は２に記載の無機粒子含有組成物。
【請求項４】
２５℃における粘度が１０，０００〜１，０００，０００ｍＰａ・ｓであり、且つ、３００℃で１０分間加熱したときの加熱残分が１質量％以下である有機化合物（Ａ２）と、
無機粒子と、を含む無機粒子含有組成物であって、
前記有機化合物（Ａ２）の含有量が、前記無機粒子含有組成物中に含まれる有機化合物全量に対して５０質量％〜９５質量％である、無機粒子含有組成物。
【請求項５】
下記一般式（２）で表される化合物を更に含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の無機粒子含有組成物。
【化２】
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［式（２）中、Ｘは、ハロゲン原子、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、アミノ基若しくは炭素数１〜２０のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、アミノ基、メルカプト基、炭素数１〜１０のアルキルメルカプト基、アルキル基の炭素数が１〜１０のカルボキシアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、又は、複素環からなる基を示し、ｍ及びｎは、ｍが２以上の整数であり、ｎが０以上の整数であり、且つ、ｍ＋ｎ＝６を満たすように選ばれる整数であり、ｎが２以上の整数の時、２以上のＸは各々同一であっても異なるものであってもよい。］
【請求項６】
基板上に、請求項１〜５のいずれか一項に記載の無機粒子含有組成物を塗工して無機粒子含有組成物層を設ける工程と、
前記無機粒子含有組成物層を加熱する工程と、
を備える、無機物層の形成方法。
【請求項７】
前記基板が、プラズマディスプレイ用基板であり、前記無機粒子がガラス粒子であり、前記無機物層としてプラズマディスプレイ用誘電体層を形成する、請求項６に記載の無機物層の形成方法。
【請求項８】
前記基板が、プラズマディスプレイ用基板であり、前記無機粒子が蛍光体粒子であり、前記無機物層としてプラズマディスプレイ用蛍光体層を形成する、請求項６に記載の無機物層の形成方法。
【請求項９】
請求項７に記載の無機物層の形成方法により形成されたプラズマディスプレイ用誘電体層、及び／又は、請求項８に記載の無機物層の形成方法により形成されたプラズマディスプレイ用蛍光体層を備える、プラズマディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、無機粒子含有組成物、無機物層の形成方法及びプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
平板ディスプレイの１つとして、プラズマ放電により発光する蛍光体の層を設けることによって多色表示を可能にしたプラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰと記す）が知られている。ＰＤＰは、ガラスからなる平板状の前面板と背面板とが互いに平行かつ対向して配設され、両者はその間に設けられたバリアリブにより一定の間隔に保持されており、前面板、背面板及びバリアリブに囲まれた空間で放電する構造になっている。このような空間には、表示のための電極、誘電体層、蛍光体層等が付設され、放電によって封入ガスから発生する紫外線によって蛍光体が発光させられ、この光を観察者が視認できるようになっている。【０００３】
ところで、上述の電極、誘電体層、蛍光体層の作製は従来、以下のように行われている。まず、電極、誘電体又は蛍光体の材料として、金属若しくは金属酸化物の粒子、誘電体用ガラスフリット等のガラス粒子又は蛍光体粒子を有機高分子バインダと溶剤との混合物に分散させたスラリー液又はペーストをそれぞれ用意し、これをスクリーン印刷、ダイコーティング等の塗布方法によってガラス基板上に塗布し、その後塗膜を焼成することにより樹脂成分などの有機物を除去して電極、誘電体層又は蛍光体層が形成される（例えば、特許文献１を参照）。
【特許文献１】特開平１１−３４９３４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記方法で用いられる有機高分子バインダは、良好な塗膜形成のためには有効であるが、以下の問題点を有している。すなわち、有機高分子バインダを分解させるためには、高温が必要であり、多大なエネルギーを要する。また、有機高分子バインダを使用すると、分解生成物が電気炉内の壁に堆積する問題がある。更に、有機高分子バインダが分解中に炭化するなどして残存すると、気泡や膨れが発生したり、放電中に徐々に気化して放電特性に悪影響を及ぼしたりするなどの問題が生じることがある。【０００５】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、所望の無機体或いは無機物層を従来よりも低エネルギーで形成できるとともに有機化合物に起因する悪影響を低減することが可能な無機粒子含有組成物を提供することを目的とする。本発明はまた、かかる無機粒子含有組成物を用いる無機物層の形成方法、及び、かかる無機物層の形成方法によって形成された無機物層を備えるプラズマディスプレイを提供することも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決する本発明の第１の無機粒子含有組成物は、テルペン骨格を有し、且つ、２５℃における粘度が１０，０００〜１，０００，０００ｍＰａ・ｓである有機化合物（Ａ１）と、無機粒子とを含む無機粒子含有組成物であって、有機化合物（Ａ１）の含有量が、上記無機粒子含有組成物中に含まれる有機化合物全量に対して５０質量％〜９５質量％であることを特徴とする。【０００７】
なお、本発明において、テルペン骨格を有するとは、イソプレン単位の倍数である構造を有することを意味する。【０００８】
本発明における有機化合物の粘度は、例えば、ＪＩＳ  Ｚ  ８８０３、ＪＩＳ  Ｋ７１１７に準拠した方法により２５℃で測定することができる。【０００９】
本発明の無機粒子含有組成物によれば、上記構成を有することにより、良好な塗膜を形成できるとともに、テルペン骨格を有する上記有機化合物（Ａ１）が比較的低温で除去可能であることから、塗膜を焼成するに際して有機化合物の含有量を従来よりも小さくすることができる。よって、本発明の無機粒子含有組成物によれば、従来よりも低エネルギーで所望の無機体或いは無機物層を形成でき、且つ、有機化合物に起因する悪影響を低減することが可能となる。また、電気炉内の壁に堆積する分解生成物の量を低減することも可能となる。なお、有機化合物（Ａ１）の含有量が、上記無機粒子含有組成物中に含まれる有機化合物全量に対して５０質量％未満であると、良好な塗膜を形成することが困難となり、９５質量％を超えると、塗工が困難となる。【００１０】
本発明の第１の無機粒子含有組成物においては、組成物の粘度を好適な範囲に設定しやすい点で、上記有機化合物が、下記構造式（１）で表わされるイソボルニルシクロヘキサノールであることが好ましい。
【化１】
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【００１１】
また、本発明の第１の無機粒子含有組成物において、無機粒子含有組成物に含まれる有機化合物は、３００℃で１０分間加熱したときの加熱残分が１質量％以下であることが好ましい。この場合、焼成して得られる無機体或いは無機物層において、有機化合物に起因する悪影響を更に低減することができる。【００１２】
また、上記課題を解決する本発明の第２の無機粒子含有組成物は、２５℃における粘度が１０，０００〜１，０００，０００ｍＰａ・ｓであり、且つ、３００℃で１０分間加熱したときの加熱残分が１質量％以下である有機化合物（Ａ２）と、無機粒子とを含む無機粒子含有組成物であって、有機化合物（Ａ２）の含有量が、上記無機粒子含有組成物中に含まれる有機化合物全量に対して５０質量％〜９５質量％であることを特徴とする。【００１３】
本発明の第１及び第２の無機粒子含有組成物は、下記一般式（２）で表される化合物を更に含むことが好ましい。
【化２】
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式（２）中、Ｘは、ハロゲン原子、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、アミノ基若しくは炭素数１〜２０のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、アミノ基、メルカプト基、炭素数１〜１０のアルキルメルカプト基、アルキル基の炭素数が１〜１０のカルボキシアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、又は、複素環からなる基を示し、ｍ及びｎは、ｍが２以上の整数であり、ｎが０以上の整数であり、且つ、ｍ＋ｎ＝６を満たすように選ばれる整数であり、ｎが２以上の整数の時、２以上のＸは各々同一であっても異なるものであってもよい。【００１４】
本発明の第１及び第２の無機粒子含有組成物は、プラズマディスプレイパネルの電極、誘電体層又は蛍光体層を形成するために用いられることが好ましい。【００１５】
また、本発明は、基板上に本発明の第１又は第２の無機粒子含有組成物から形成される無機粒子含有組成物層を設ける工程と、無機粒子含有組成物層を加熱する工程とを備える無機物層の形成方法を提供する。【００１６】
本発明の無機物層の形成方法によれば、本発明の第１又は第２の無機粒子含有組成物を用いることにより、基板上に所望の無機物層を低エネルギーで形成することができる。また、本発明の無機物層の形成方法によれば、有機化合物に起因する悪影響が十分低減された無機物層を形成することが可能となる。【００１７】
本発明の無機物層の形成方法においては、上記基板が、プラズマディスプレイ用基板であり、上記無機粒子がガラス粒子であり、上記無機物層としてプラズマディスプレイ用誘電体層を形成することができる。【００１８】
また、本発明の無機物層の形成方法においては、上記基板が、プラズマディスプレイ用基板であり、上記無機粒子が蛍光体粒子であり、上記無機物層としてプラズマディスプレイ用蛍光体層を形成することができる。【００１９】
本発明はまた、上記本発明の無機物層の形成方法により形成されたプラズマディスプレイ用誘電体層、及び／又は、上記本発明の無機物層の形成方法により形成されたプラズマディスプレイ用蛍光体層を備えるプラズマディスプレイを提供する。【００２０】
また、本発明は、基板上に、無機粒子としてガラス粒子を含有する本発明の第１又は第２の無機粒子含有組成物から形成される無機粒子含有組成物層を設ける工程と、無機粒子含有組成物層を焼成する工程とを備える無機層の形成方法により形成された誘電体層を提供する。【００２１】
また、本発明は、基板上に、無機粒子として金属粒子又は金属酸化物粒子を含有する本発明の第１又は第２の無機粒子含有組成物から形成される無機粒子含有組成物層を設ける工程と、無機粒子含有組成物層を焼成する工程とを備える無機層の形成方法により形成された電極を提供する。【００２２】
また、本発明は、プラズマディスプレイパネル用背面基板上に、無機粒子として蛍光体粒子を含有する本発明の第１又は第２の無機粒子含有組成物から形成される無機粒子含有組成物層を設ける工程と、無機粒子含有組成物層を焼成する工程とを備える無機層の形成方法により形成された蛍光体層を提供する。【００２３】
また、本発明は、本発明の電極、本発明の誘電体層又は本発明の蛍光体層を備えるプラズマディスプレイパネルを提供する。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、所望の無機体或いは無機物層を従来よりも低エネルギーで形成できるとともに有機化合物に起因する悪影響を低減することが可能な無機粒子含有組成物を提供することができる。また、本発明によれば、本発明の無機粒子含有組成物を用いる無機物層の形成方法、及び、本発明の無機物層の形成方法によって形成された無機物層を備えるプラズマディスプレイを提供することができる。また、本発明によれば、本発明の無機粒子含有組成物を用いることで、従来よりも低エネルギーで形成可能な電極、誘電体層及び蛍光体、並びに、これらの電極、誘電体層又は蛍光体を備えるプラズマディスプレイを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明に係る誘電体層の形成方法の一実施形態を説明するための模式断面図である。
【図２】本発明に係る蛍光体層の形成方法の一実施形態を説明するための模式断面図である。
【図３】本発明のプラズマディスプレイパネルを示す要部断面図である。
【図４】テルソルブＭＴＰＨと溶剤（Ｂ）又は溶剤（Ｃ）とを混合した混合物の粘度と、溶剤（Ｂ）又は溶剤（Ｃ）の添加量との関係を示す図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一要素には同一符号を付すこととし、重複する説明は省略する。また、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。【００２７】
＜無機粒子含有組成物＞
本発明の第１の実施形態に係る無機粒子含有組成物は、テルペン骨格を有し、且つ、２５℃における粘度が１０，０００〜１，０００，０００ｍＰａ・ｓである有機化合物（Ａ１）（以下、有機化合物（Ａ１）と略称する場合もある）と、無機粒子とを含む。また、本実施形態の無機粒子含有組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、上記有機化合物（Ａ１）以外の有機化合物からなる溶剤を含有してもよい。【００２８】
本実施形態においては、有機化合物（Ａ１）として、下記構造式（１）で表わされるイソボルニルシクロヘキサノールを用いることが好ましい。
【化３】
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【００２９】
上記式（１）で表わされるイソボルニルシクロヘキサノールとしては、「テルソルブＭＴＰＨ」（日本テルペン化学社製、商品名）が商業的に入手可能である。【００３０】
また、有機化合物（Ａ１）は、３００℃で１０分間加熱したときの加熱残分が１質量％以下であるものが好ましい。なお、加熱環境は、大気中である。このような有機化合物（Ａ１）を用いた場合、焼成して得られる無機体において、有機化合物に起因する悪影響を更に低減することができる。上記条件を満足する有機化合物（Ａ１）としては、上記式（１）で表わされるイソボルニルシクロヘキサノールが挙げられる。【００３１】
本実施形態の無機粒子含有組成物における有機化合物（Ａ１）の含有量は、無機粒子含有組成物全量を基準として２０〜９５質量％が好ましく、３０〜９０質量％がより好ましく、４０〜９０質量％が更により好ましく、４０〜６０質量％が最も好ましい。有機化合物（Ａ１）の含有量を上記範囲内とすることにより、範囲外の場合に比べて均一な塗膜を形成しやすくなるという効果が得られやすくなる。【００３２】
また、本実施形態の無機粒子含有組成物における有機化合物（Ａ１）の含有量は、無機粒子含有組成物中に含まれる有機化合物全量を基準として５０〜９５質量であるが、５５〜９５質量％が好ましく、６０〜９０質量％がより好ましく、７０〜９０質量％が特に好ましい。有機化合物（Ａ１）の含有量を上記範囲内とすることにより、範囲外の場合に比べて均一な塗膜を形成しやすくなるという効果が得られやすくなる。【００３３】
無機粒子としては、形成する無機体或いは無機物層の用途に応じて適宜選択すればよく、例えば、金属粒子、金属酸化物粒子、ガラス粒子、蛍光体粒子などが挙げられる。金属粒子としては、金粉、銀粉などが挙げられる。また、これら粒子に結着材として後述するガラス粒子を添加してもよい。金属酸化物粒子としては、酸化ルテニウム、酸化銅、酸化錫、ＩＴＯなどが挙げられる、また、これら粒子に結着材として後述するガラス粒子を添加してもよい。【００３４】
金属粒子及び金属酸化物粒子の平均粒径は、０．０１〜２０μｍが好ましく、０．１〜１０μｍがより好ましい。【００３５】
ガラス粒子は、低融点であることが好ましく、その軟化点が３００〜６００℃の範囲内にあることが好ましい。ガラス粒子の軟化点が３００℃未満であると、有機化合物（Ａ１）が完全に除去されない段階でガラス粒子が溶融し、これにより有機物が残留して着色などの問題が生じやすくなる傾向がある。一方、この軟化点が６００℃を超えるとガラス基板に歪みなどが発生しやすくなる傾向がある。【００３６】
ガラス粒子としては、例えば、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系）、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系（ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系）、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系）、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系（ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系）、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系）、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系）、酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系）、酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系（Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系）、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（Ｂｉ２Ｏ３−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系）、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系（Ｂｉ２Ｏ３−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系）等のガラス粒子が挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。【００３７】
ガラス粒子の平均粒径は、０．０１〜２０μｍが好ましく、０．１〜１０μｍがより好ましい。【００３８】
蛍光体粒子としては、金属酸化物を主体とする蛍光体が挙げられ、赤色発色の蛍光体としては、例えば、Ｙ２Ｏ２Ｓ：Ｅｕ、Ｚｎ３（ＰＯ４）２：Ｍｎ、Ｙ２Ｏ３：Ｅｕ、ＹＶＯ４：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ３：Ｅｕ等が挙げられる。青色発色の蛍光体としては、例えば、ＺｎＳ：Ａｇ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ｇａ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ｃｕ，Ｇａ，Ｃｌ、ＺｎＳ：Ａｇ＋Ｉｎ２Ｏ３、Ｃａ２Ｂ５Ｏ９Ｃｌ：Ｅｕ２＋、（Ｓｒ，Ｃａ，Ｂａ，Ｍｇ）１０（ＰＯ４）６Ｃｌ２：Ｅｕ２＋、Ｓｒ１０（ＰＯ４）６Ｃｌ２：Ｅｕ２＋、ＢａＭｇＡｌ１４Ｏ２３：Ｅｕ２＋、ＢａＭｇＡｌ１６Ｏ２６：Ｅｕ２＋等が挙げられる。緑色発色の蛍光体としては、例えば、ＺｎＳ：Ｃｕ、Ｚｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ、ＺｎＳ：Ｃｕ＋Ｚｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ、Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ、Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２：Ｃｅ、ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ、Ｙ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚｎ、ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ＋Ｉｎ２Ｏ３、ＬａＰＯ４：Ｃｅ，Ｔｂ、ＢａＯ・６Ａｌ２Ｏ３：Ｍｎ等が挙げられる。【００３９】
蛍光体粒子の平均粒径は、０．０１〜２０μｍが好ましく、０．１〜１０μｍがより好ましい。【００４０】
本実施形態の無機粒子含有組成物が無機粒子として金属粒子又は金属酸化物粒子を含む場合、かかる無機粒子含有組成物は電極の形成に好適なものとなる。また、ガラス粒子を含む場合、かかる無機粒子含有組成物は誘電体層の形成に好適なものとなる。また、蛍光体粒子を含む場合、かかる無機粒子含有組成物は蛍光体層の形成に好適なものとなる。【００４１】
本実施形態の無機粒子含有組成物における無機粒子の含有量は、基板に対する塗工性を向上できる観点から、組成物全量を基準として５〜８０質量％が好ましく、１０〜７０質量％がより好ましく、１０〜６０質量％が更により好ましく、３０〜５０質量％が最も好ましい。【００４２】
本実施形態の無機粒子含有組成物は、塗膜の平坦性の点で、沸点が１５０〜２５０℃の範囲にある溶剤（以下、溶剤（Ｂ）という場合もある。）を更に含むことが好ましい。なお、本明細書において溶剤の沸点は、大気圧下での値を指す。【００４３】
沸点が１５０〜２５０℃の範囲にある溶剤としては、例えば、ホロン（沸点：１９８℃）、シクロヘキサノン（沸点：１５５℃）、メチルシクロヘキサノン（沸点：１７０℃）等のケトン系溶剤、メチルフェニルエーテル（沸点：１５３℃）、エチルフェニルエーテル（１７２℃）、メトキシトルエン（沸点：１７２℃）、ベンジルエチルエーテル（沸点：１８９℃）、ジエチレングリコールジメチルエーテル（沸点：１６０℃）、ジエチレングリコールジエチルエーテル（沸点：１８８℃）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（沸点：１９４℃）、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（沸点：２３１℃）、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（沸点：２４７℃）、エチレングリコールモノブチルエーテル（沸点：１７１℃）、エチレングリコールモノイソアミルエーテル（沸点：１８１℃）等のエーテル系溶剤、１−ヘキサノール（沸点：１５７℃）、１−ヘプタノール（沸点：１７６℃）、２−ヘプタノール（沸点：１６０℃）、３−ヘプタノール（沸点：１５６℃）、１−オクタノール（沸点：１９５℃）、２−オクタノール（沸点：１７９℃）、２−エチル−１−ヘキサノール（沸点：１８４℃）、シクロヘキサノール（沸点：１６１℃）、１−メチルシクロヘキサノール（沸点：１５５℃）、２−メチルシクロヘキサノール（沸点：１６５℃）、３−メチルシクロヘキサノール（沸点：１７３℃）、４−メチルシクロヘキサノール（沸点：１７４℃）、フルフリルアルコール（沸点：１７０℃）、エチレングリコール（沸点：１９８℃）、プロピレングリコール（沸点：１８７℃）、１，２−ブチレングリコール（沸点：１９１℃）、ヘキシレングリコール（沸点：１９７℃）、３−メチル−３−メトキシブタノール（沸点：１７４℃）等のアルコール系溶剤、３−メトキシ−３−メチル−１−ブチルアセテート（沸点：１８８℃）、エチレングリコールモノアセテート（沸点：１８２℃）、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（沸点：２４７℃）等のアセテート系溶剤、プロピレンカーボネート（沸点：２４１℃）等の環状カーボネート系溶剤、γ−ブチロラクトン（沸点：２０４℃）等のラクトン系溶剤、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（沸点：２０２℃）等のピロリドン系溶剤、α−ピネン（沸点：１５６℃）、β−ピネン（沸点：１６１℃）、リモネン（沸点：１７７℃）、ターピネオール（沸点：２１７℃）、ジヒドロターピネオール（沸点：２０７℃）、ジヒドロターピニルアセテート（沸点：２２０℃）等のテルペン系溶剤、ジメチルホルムアミド（沸点：１５３℃）、ジメチルスルホキシド（沸点：１８９℃）などが挙げられる。これらは単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。【００４４】
これらの中でも、シクロヘキサノール、ターピネオール、ジヒドロターピネオール、ジヒドロターピニルアセテート等の脂環式基と水酸基又はエステル基とを有する化合物が好ましく、ターピネオール、ジヒドロターピネオール、ジヒドロターピニルアセテート等のテルペンアルコール又はテルペンエステル等のテンルペン系溶剤を含有させることがより好ましい。これにより、基板上に塗布された本発明の無機粒子含有組成物を乾燥したときに、基板面の温度分布に起因して発生する膜厚のばらつきなどのムラをより確実に低減することができる。【００４５】
ターピネオールは、ガムテレビン油から誘導された、下記式で示されるα−，β−，γ−ターピネオールの異性体混合物であり、「ターピネオールＣ」（日本テルペン化学社製、商品名）が商業的に入手可能である。
【化４】
2008149748.tif 000006
【００４６】
ジヒドロターピネオールは、下記式で示される、ガムテレビン油から誘導されるターピネオールに水素添加した化合物であり、日本テルペン化学より商業的に入手可能である。
【化５】
2008149748.tif 000007
【００４７】
ジヒドロターピニルアセテートは、下記式で示される、ガムテレビン油から誘導されるターピネオールに水素添加及びエステル化した化合物であり、日本テルペン化学より商業的に入手可能である。
【化６】
2008149748.tif 000008
【００４８】
乾燥後の塗膜にムラが発生するのを防止する観点から、本発明の無機粒子含有組成物における溶剤（Ｂ）の含有量は、組成物に含まれる有機化合物全量（有機化合物（Ａ１）を含む）に対して３〜４８質量％であることが好ましく、３〜４３質量％であることがより好ましく、３〜３８質量％であることが特に好ましく、８〜２８質量％であることが最も好ましい。【００４９】
また、本実施形態の無機粒子含有組成物においては、塗膜の乾燥性を制御する目的で、沸点が１５０℃未満の溶剤（以下、溶剤（Ｃ）という場合もある。）を更に含有させてもよい。更に、本実施形態の無機粒子含有組成物は、乾燥後の塗膜にムラが発生するのを防止しつつ塗膜の乾燥時間を更に短縮する観点から、上記溶剤（Ｂ）に加えて沸点が１５０℃未満の溶剤（Ｃ）を併用することができる。【００５０】
沸点が１５０℃未満の溶剤としては、例えば、アルコール系有機溶剤（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール等）、芳香族系有機溶剤（ベンゼン、トルエン、キシレン等）、ケトン系溶剤（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等）、エーテル系溶剤（テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル）、酢酸エチル、メチルプロピルジグリコール、ヘキシルカルビトール、ブチルプロピレンジグルコール、ベンジルアルコール、ブチルカルビトール、ＤＢＥシンナー（デュポン株式会社：商品名）、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロヘキサノン等が挙げられる。【００５１】
本実施形態の無機粒子含有組成物における溶剤の含有量は、特に制限されないが、有機化合物（Ａ１）と混合したときの混合物の２５℃における粘度が５００〜５００００ｍＰａ・ｓとなるように設定することが好ましく、１０００〜２５０００ｍＰａ・ｓとなるように設定することがより好ましく、１０００〜１００００ｍＰａ・ｓとなるように設定することが特に好ましく、更に、無機粒子含有組成物における粘度が後述する範囲となるように設定することが好ましい。【００５２】
例えば、有機化合物（Ａ１）としてテルソルブＭＴＰＨと無機粒子とからなる無機粒子含有組成物では、塗工可能な粘度に調整することは困難である。そこで、溶剤（Ｂ）又は溶剤（Ｃ）を用いて粘度を調整することが好ましいが、粘度低下及び粘度低下率が大きい溶剤は、添加量の僅かな違いによる粘度変化が大きいため、粘度制御を厳密に管理する必要があるので好ましくない。粘度制御の容易性の観点から、溶剤（Ｂ）又は溶剤（Ｃ）の配合により無機粒子含有組成物の粘度を調整する場合は、添加量を増加しても、粘度低下及び粘度低下率が小さくなるものを選択することが好ましい。【００５３】
図４は、有機化合物（Ａ１）としてのテルソルブＭＴＰＨと上記溶剤（Ｂ）又は上記溶剤（Ｃ）とを混合したときの混合物の２５℃における粘度と、溶剤（Ｂ）又は溶剤（Ｃ）の添加量との関係を示す図である。ここで、Ｘ軸の溶剤（Ｂ）又は溶剤（Ｃ）の添加量とは、テルソルブＭＴＰＨと上記溶剤（Ｂ）又は上記溶剤（Ｃ）との混合物中の溶剤（Ｂ）又は溶剤（Ｃ）の質量％を示す。また、図４中、ａはｎ−ヘキサン、ｂはジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ｃはメチルシクロヘキサン、ｄはシクロヘキサン、ｅはジヒドロターピニルアセテート、ｆはシクロヘキサノール、ｇはターピネオール（「ターピネオールＣ」）、ｈはジヒドロターピネオールを混合したときのそれぞれの混合物の粘度変化を示すグラフである。【００５４】
テルソルブＭＴＰＨと、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の溶剤（Ｃ）との混合系では、溶剤（Ｃ）を２０質量％程度配合すると混合物の粘度が５００ｍＰａ・ｓ以下となり、添加量の増加に伴う粘度低下率（図４におけるグラフの傾き）も大きい。それに対して、テルソルブＭＴＰＨと、シクロヘキサノール、ターピネオール、ジヒドロターピネオール、ジヒドロターピニルアセテート等の脂環式基と水酸基又はエステル基とを有する化合物等の溶剤（Ｂ）との混合系では、溶剤（Ｂ）を３０質量％程度配合しても混合物の粘度は５００ｍＰａ・ｓ以上を保ち、添加量の増加に伴う粘度低下率は小さい。【００５５】
このような傾向から、溶剤（Ｂ）の中でもシクロヘキサノール、ターピネオール、ジヒドロターピネオール、ジヒドロターピニルアセテート等の脂環式基と水酸基又はエステル基とを有する化合物を用いることが粘度制御の容易性の点で好ましい。なお、本実施形態においては、溶剤（Ｂ）及び溶剤（Ｃ）のうちから複数種を組み合わせることにより、粘度制御の容易性と塗膜の乾燥性制御との両立を図ることも可能である。【００５６】
本実施形態の無機粒子含有組成物が、上記溶剤（Ｂ）及び上記溶剤（Ｃ）からなる群より選択される１種以上の溶剤を含む場合、係る溶剤の含有量は、組成物に含まれる有機化合物全量に対して３〜３０質量％であることが好ましい。【００５７】
また、本実施形態の無機粒子含有組成物は、下記一般式（２）で表わされる化合物を更に含むことが好ましい。この場合、無機粒子含有組成物の塗膜を焼成した後に有機化合物の残重量を更に低減することができる。
【化７】
2008149748.tif 000009
式（２）中、Ｘは、ハロゲン原子、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、アミノ基若しくは炭素数１〜２０のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、アミノ基、メルカプト基、炭素数１〜１０のアルキルメルカプト基、アルキル基の炭素数が１〜１０のカルボキシアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、又は、複素環からなる基を示し、ｍ及びｎは、ｍが２以上の整数であり、ｎが０以上の整数であり、且つ、ｍ＋ｎ＝６を満たすように選ばれる整数であり、ｎが２以上の整数の時、２以上のＸは各々同一であっても異なるものであってもよい。【００５８】
上記一般式（２）で表わされる化合物としては、例えば、カテコール、レゾルシノール（レゾルシン）、ヒドロキノン、２−メチルカテコール、３−メチルカテコール、４−メチルカテコール、２−エチルカテコール、３−エチルカテコール、４−エチルカテコール、２−プロピルカテコール、３−プロピルカテコール、４−プロピルカテコール、２−ｎ−ブチルカテコール、３−ｎ−ブチルカテコール、４−ｎ−ブチルカテコール、２−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、３−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、４−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、３，５−ｄｉ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール等のアルキルカテコール、２−メチルレゾルシノール、４−メチルレゾルシノール、５−メチルレゾルシノール（オルシン）、２−エチルレゾルシノール、４−エチルレゾルシノール、２−プロピルレゾルシノール、４−プロピルレゾルシノール、２−ｎ−ブチルレゾルシノール、４−ｎ−ブチルレゾルシノール、２−ｔｅｒｔ−ブチルレゾルシノール、４−ｔｅｒｔ−ブチルレゾルシノール等のアルキルレゾルシノール、メチルヒドロキノン、エチルヒドロキノン、プロピルヒドロキノン、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ｄｉ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン等のアルキルヒドロキノン、ピロガロール、フロログルシンなどが挙げられる。これらの中でも、特にヒドロキノンが好ましい。これらは単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。【００５９】
上記一般式（２）で表わされる化合物を用いる場合、その含有量は、組成物に含まれる有機化合物全量に対して０．０１〜１０質量％が好ましく、０．０５〜５質量％がより好ましく、０．１〜２質量％が更により好ましい。上記一般式（２）で表わされる化合物の含有量を上記範囲内とすることにより、範囲外の場合に比べて塗膜焼成後の有機化合物の残重量をより有効に低減することができる。【００６０】
本実施形態の無機粒子含有組成物は、２５℃における粘度が１０００〜１０００００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２０００〜６００００ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、２５００〜５００００ｍＰａ・ｓであることが特に好ましい。無機粒子含有組成物の粘度が１０００ｍＰａ・ｓより小さい場合は、無機粒子含有組成物の保存中に無機粒子が沈降しやすくなり、一方、粘度が１０００００ｍＰａ・ｓより大きい場合は、塗膜の平坦性が低下する傾向がある。【００６１】
また、本実施形態の無機粒子含有組成物中に含まれる有機化合物は、３００℃で１０分間加熱したときの加熱残分が１質量％以下であることが好ましい。【００６２】
本実施形態の無機粒子含有組成物には、無機粒子含有組成物中に含まれる有機化合物の３００℃で１０分間加熱したときの加熱残分が１質量％以下となる範囲内であれば、必要に応じて、例えば、有機バインダ樹脂、染料、発色剤、可塑剤、顔料、重合禁止剤、表面改質剤、安定剤、密着性付与剤、熱硬化剤等を添加することができる。【００６３】
但し、重量平均分子量が５０００〜１００００００の有機バインダ樹脂を添加した場合、無機粒子含有組成物中に含まれる有機化合物の３００℃で１０分間加熱したときの加熱残分を１質量％以下にするのは困難である。そのため、重量平均分子量が５０００〜１００００００の有機バインダ樹脂を添加する場合、その含有量は、無機粒子含有組成物中に含まれる有機化合物全量を基準として、０〜１質量％とすることが好ましく、０〜０．５質量％とすることがより好ましく、０質量％（すなわち添加しないこと）が特に好ましい。【００６４】
本実施形態の無機粒子含有組成物は、例えば、有機化合物（Ａ１）を上記溶剤と混合し、次いで、上記無機粒子を添加し、これらを公知の混合手段により混合することにより調製することができる。【００６５】
本発明の第２の実施形態に係る無機粒子含有組成物は、２５℃における粘度が１０，０００〜１，０００，０００ｍＰａ・ｓであり、且つ、３００℃で１０分間加熱したときの加熱残分が１質量％以下である有機化合物（Ａ２）（以下、有機化合物（Ａ２）と略称する場合もある）と、無機粒子とを含み、有機化合物（Ａ２）の含有量が、無機粒子含有組成物中に含まれる有機化合物全量に対して５０質量％〜９５質量％である。また、本実施形態の無機粒子含有組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、上記有機化合物（Ａ２）以外の溶剤を含有してもよい。【００６６】
上記有機化合物（Ａ２）としては、テルペン系化合物が好ましく、上記式（１）で表わされるイソボルニルシクロヘキサノールがより好ましい。【００６７】
第２の実施形態に係る無機粒子含有組成物に含まれる無機粒子及びその含有量、有機化合物（Ａ２）以外の溶剤及びその含有量、その他の添加剤については、上述した第１の実施形態に係る無機粒子含有組成物におけるものと同様にすることができる。【００６８】
また、第２の実施形態に係る無機粒子含有組成物の粘度は、上述した第１の実施形態に係る無機粒子含有組成物の場合と同様の範囲とすることが好ましい。【００６９】
第２の実施形態に係る無機粒子含有組成物は、例えば、有機化合物（Ａ２）を上記溶剤と混合し、次いで、上記無機粒子を添加し、これらを公知の混合手段により混合することにより調製することができる。【００７０】
＜誘電体層及び蛍光体層の形成方法、誘電体層及び蛍光体層、並びにプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）＞
次に、本発明の無機物層の形成方法の具体例として、誘電体層及び蛍光体層の形成方法の好適な実施形態について説明する。本実施形態に係る誘電体層の形成方法は、基板上に、無機粒子としてガラス粒子を含む上述の本発明の無機粒子含有組成物から形成される無機粒子含有組成物層を設ける工程と、その組成物層を加熱する工程とを有するものである。以下、ＰＤＰ用前面基板を構成する前面ガラス基板上に誘電体層を形成する実施形態について図１を参照しつつ説明する。図１は、本実施形態の誘電体層の形成方法を説明するための模式断面図である。【００７１】
図１（ａ）に示すように、先ず、表示電極５２が設けられた前面ガラス基板４０を用意する。【００７２】
次に、図１（ｂ）に示すように、前面ガラス基板４０の電極５２が設けられている側に本発明の無機粒子含有組成物を塗布し乾燥して、無機粒子含有組成物層１を形成する。本実施形態においては、無機粒子として上述した低融点のガラス粒子を含有する無機粒子含有組成物を用いることが好ましい。この場合の無機粒子含有組成物層１は、ガラス含有組成物層である。【００７３】
塗布方法としては、例えば、スクリーン印刷、ナイフコート法、ロールコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、ダイコート法、カーテンコート法等が挙げられる。乾燥温度としては、特に制限は無いが、６０℃〜３５０℃が好ましく、１００℃〜３５０℃がより好ましく、１５０℃〜３００℃が特に好ましい。乾燥時間は１分間〜２時間程度とすることが好ましく、１分間〜１時間程度とすることが好ましい。なお、この加熱乾燥工程において、有機化合物は９０質量％以上除去されることが好ましく、９５質量％以上除去されることがより好ましく、９９％質量以上除去されることが特に好ましい。乾燥工程において、有機化合物の残留物低減及び無機粒子の変色を抑制できる観点から、加熱雰囲気の酸素濃度を１０体積％以下とすることが好ましく、０〜５体積％とすることがより好ましく、０〜３体積％とすることが特に好ましい。加熱機器内の酸素濃度は自然状態では大気中の酸素濃度と同等の約２０体積％である。この酸素濃度を１０体積％以下とする手段としては、加熱機器内を窒素、又はアルゴン、ヘリウム、ネオン等の不活性ガスで置換すること、真空ポンプを用いることなどが挙げられ、その酸素濃度は可能なかぎり低い値であることが好ましい。酸素濃度の測定は、酸素濃度計により容易に行なうことができ、市販の酸素濃度計としては、酸素濃度計ＬＣ−７５０Ｌ（東レエンジニアリング社製）等が挙げられる。【００７４】
次に、前面ガラス基板４０上に設けられた無機粒子含有組成物層１を焼成して焼結体である誘電体層７０を得る（図１（ｃ）を参照）。焼成方法としては、例えば、電気炉中に基板と上記無機粒子含有組成物層との積層体を収容して加熱する方法、ホットプレート上に上述の積層体を載置して加熱する方法等が挙げられる。【００７５】
焼成温度は、上記無機粒子含有組成物層が十分に焼結する温度であれば特に限定されないが、最高温度が３００〜７００℃であることが好ましく、３００〜６００℃であることがより好ましく、４００℃〜６００℃であることが特に好ましい。焼成時間は、５分間〜２時間程度が好ましい。また、焼成は大気中で実施されることが好ましい。【００７６】
上記の焼成工程を経ることにより、無機粒子含有組成物層中の有機成分は揮発し、無機成分のみの誘電体層が形成されると考えられる。【００７７】
本実施形態の誘電体層の形成方法によれば、本発明の無機粒子含有組成物から無機粒子含有組成物層１を形成し、これを乾燥することにより、焼成に際して無機粒子含有組成物層１に含まれる有機成分を従来よりも少なくできることから、より低エネルギーで焼成工程を完了して良好な誘電体層を形成することができ、また電気炉などへの分解生成物の堆積を十分低減することが可能となる。【００７８】
本実施形態の誘電体層の形成方法により得られる基板上に誘電体層を備えた積層体は、ＰＤＰ用前面基板（ＰＤＰ用基板）として好適に用いることができる。【００７９】
次に、本発明に係る蛍光体層の形成方法の好適な実施形態について説明する。本実施形態に係る蛍光体層の形成方法は、基板上に、無機粒子として蛍光体粒子を含む上述の本発明の無機粒子含有組成物から形成される無機粒子含有組成物層を設ける工程と、その組成物層を加熱する工程とを有するものである。以下、ＰＤＰ用背面ガラス基板上に蛍光体層を形成する実施形態について図２を参照しつつ説明する。図２は、本実施形態の蛍光体層の形成方法を説明するための模式断面図である。【００８０】
まず、アドレス電極５４が設けられた背面ガラス基板４１を用意する。次に、背面ガラス基板４１の電極５４が設けられている側に背面誘電体層７２を形成する。形成した誘電体層７２上に、バリアリブ８０を形成する（図２（ａ）を参照）。【００８１】
次に、隣り合うバリアリブ８０の間隙に、無機粒子として蛍光体粒子を含む本発明に係る無機粒子含有組成物を塗布し、無機粒子含有組成物層１’を形成する（図２（ｂ）を参照）。【００８２】
塗布方法としては、例えば、スクリーン印刷、ナイフコート法、ロールコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、ダイコート法、カーテンコート法、ディスペンサー塗布法等が挙げられる。【００８３】
次に、無機粒子含有組成物層１’を乾燥し、焼成することにより無機物層としての蛍光体層９０を形成する（図２（ｃ）を参照）。【００８４】
乾燥温度としては、特に制限は無いが、６０〜２００℃程度とすることが好ましく、乾燥時間は１分間〜１時間程度とすることが好ましい。【００８５】
焼成方法としては、例えば、電気炉中に背面基板と上記無機粒子含有組成物層との積層体を収容して加熱する方法、ホットプレート上に上述の積層体を載置して加熱する方法等が挙げられる。【００８６】
焼成温度は、上記無機粒子含有組成物層中の有機成分が完全に除去される温度であれば特に限定されないが、最高温度が３００〜７００℃であることが好ましく、３００〜６００℃であることがより好ましい。焼成時間は、５分間〜２時間程度が好ましい。また、焼成は大気中で実施されることが好ましい。【００８７】
また、本実施形態の蛍光体層の形成方法においては、無機粒子含有組成物層１’の乾燥条件を、酸素濃度が１０体積％以下、好ましくは０〜５体積％、より好ましくは０〜３体積％である雰囲気下、１５０〜３５０℃、好ましくは１７０〜３００℃、より好ましくは２００〜２８０℃での加熱とすることにより、有機化合物をほぼ全量除去することが可能である。この場合、焼成工程を省略することができ、工程が簡略化された蛍光体層の形成方法が実現可能となる。【００８８】
本実施形態においては、不活性ガス雰囲気下で加熱することが好ましい。また、加熱温度は、１５０〜３００℃程度とすることが好ましく、加熱時間は、１分間〜１時間程度とすることが好ましい。具体的な条件としては、例えば、２５０℃、３０分間加熱する条件が挙げられる。【００８９】
本実施形態の蛍光体層の形成方法によれば、焼成に際して無機粒子含有組成物層に含まれる有機化合物由来の不純物を従来よりも少なくできることから、有機化合物由来の不純物の残留による蛍光体層９０の性能低下を抑制することができる。また、本実施形態の蛍光体層の形成方法によれば、焼成工程を省略することができ、工程が簡略化された蛍光体層の形成方法が実現可能となる。【００９０】
本実施形態の蛍光体層の形成方法により得られる蛍光体層を備えた積層体２００は、ＰＤＰ用背面基板（ＰＤＰ用基板）として好適に用いることができる。【００９１】
次に、本実施形態の方法により形成された誘電体層及び蛍光体層を備えたＰＤＰの一実施形態について図３を参照しつつ説明する。【００９２】
図３は、本発明によるＰＤＰの一実施形態を示す部分斜視図である。図３に示すＰＤＰ３００は、ＰＤＰ用前面基板１００と、ＰＤＰ用背面基板２００とで主として構成される。ＰＤＰ用前面基板１００は、積層体３と、積層体３における前面誘電体層７０の表面を覆うように設けられた保護層７１とで構成されている。積層体３は、主に前面ガラス基板４０と帯状の表示電極５２と前面誘電体層７０とを順に積層して構成されている。前面誘電体層７０は、本発明の無機粒子含有組成物から形成される無機粒子含有組成物層を加熱して得られるものである。ＰＤＰ用背面基板２００は、背面ガラス基板４１と、背面ガラス基板４１上に設けられた帯状のアドレス電極５４と、背面ガラス基板４１及びアドレス電極５４上に設けられた背面誘電体層７２と、背面誘電体層７２上に設けられたバリアリブ８０と、バリアリブ８０の壁面及び背面誘電体層７２の表面を覆うように形成された蛍光体層９０とで主として構成されている。蛍光体層９０は、本発明の無機粒子含有組成物から形成される無機粒子含有組成物層を加熱して得られるものである。そして、ＰＤＰ用前面基板１００とＰＤＰ用背面基板２００とは、保護層７１とバリアリブ８０とが互いに密着するように貼り合わされて、蛍光体層９０及び保護層７１で囲まれた放電空間７６が形成されている。なお、ＰＤＰ３００において、ガラス基板４０、４１、保護層７１、背面誘電体層７２、バリアリブ８０、及び電極５２、５４等の構成部材は、従来公知の材料及び方法で形成することができる。背面誘電体層７２は、本発明の無機物層の形成方法により形成されていてもよい。【００９３】
このように構成されるＰＤＰ３００は、前面誘電体層７０及び蛍光体層９０が従来よりも低エネルギーで形成され、有機化合物に起因する悪影響が十分低減されているため、放電特性、製造コスト及び環境の点で優れたものである。【００９４】
また、本実施形態においては、電極５２を本発明の無機粒子含有組成物を用いて形成してもよい。この場合、基板４０上に、無機粒子として上述した金属粒子又は金属酸化物粒子を含有する無機粒子含有組成物を塗布して無機粒子含有組成物層を形成し、これを乾燥し、焼成することにより電極を形成することができる。【００９５】
塗布方法としては、例えば、スクリーン印刷、ナイフコート法、ロールコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、ダイコート法、カーテンコート法等が挙げられる。乾燥温度としては、特に制限は無いが、６０〜２００℃程度とすることが好ましく、乾燥時間は１分間〜１時間程度とすることが好ましい。【００９６】
焼成方法としては、例えば、電気炉中に基板と上記無機粒子含有組成物層との積層体を収容して加熱する方法、ホットプレート上に上述の積層体を載置して加熱する方法等が挙げられる。【００９７】
焼成温度は、上記無機粒子含有組成物層が十分に焼結する温度であれば特に限定されないが、最高温度が３００〜７００℃であることが好ましく、３００〜６００℃であることがより好ましい。焼成時間は、５分間〜２時間程度が好ましい。また、焼成は大気中で実施されることが好ましい。【００９８】
上記のように、電極、誘電体層又は蛍光体層が本発明の無機粒子含有組成物を用いて形成されたＰＤＰを用いたプラズマディスプレイは、表示特性、製造コスト及び環境の点で優れたものとなる。特に、電極、誘電体層及び蛍光体層のすべてが本発明の無機粒子含有組成物を用いて形成された場合、表示特性、製造コスト及び環境の点で更に優れたものとなる。
【実施例】
【００９９】
以下、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。【０１００】
＜無機粒子含有組成物の作製＞
（実施例１）
先ず、撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、イソボルニルシクロヘキサノール「テルソルブＭＴＰＨ」（日本テルペン化学社製、商品名）を７７質量部、及び、「ターピネオールＣ」（日本テルペン化学社製、商品名、沸点２１７℃）を２３質量部仕込み、撹拌しながら、これを窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、８０℃±２℃に保ちながら３時間撹拌を続け、均一な溶液とした。その後、室温まで冷却し溶液を取り出した。得られた溶液の２５℃における粘度は５７００ｍＰａ・ｓであった。【０１０１】
なお、テルソルブＭＴＰＨの２５℃における粘度は、６７８，０００ｍＰａであり、３００℃における１０分間の加熱残分は０．０２８質量％であった。また、ターピネオールＣの２５℃における粘度は、３５ｍＰａであり、３００℃における１０分間の加熱残分は０．０２０質量％であった。【０１０２】
次に、上記で得られた溶液５７．７質量部に、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系ガラスフリット４２．３質量部を加え、ビーズミルを用いて１５分間混合、分散した。続いて、この分散液を、３０μｍ角の開口部を有する濾布に通過させて濾過し、実施例１の無機粒子含有組成物の溶液を調製した。得られた無機粒子含有組成物溶液の２５℃における粘度は、１７０００ｍＰａ・ｓであった。【０１０３】
（実施例２）
先ず、撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、イソボルニルシクロヘキサノール「テルソルブＭＴＰＨ」（日本テルペン化学社製、商品名）を８４質量部、及び、「ターピネオールＣ」（日本テルペン化学社製、商品名、沸点２１７℃）を１６質量部仕込み、撹拌しながら、これを窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、８０℃±２℃に保ちながら３時間撹拌を続け、均一な溶液とした。その後、室温まで冷却し溶液を取り出した。得られた溶液の２５℃における粘度は１６８００ｍＰａ・ｓであった。【０１０４】
次に、上記で得られた溶液５７．７質量部に、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系ガラスフリット４２．３質量部を加え、ビーズミルを用いて１５分間混合、分散した。続いて、この分散液を、３０μｍ角の開口部を有する濾布に通過させて濾過し、実施例２の無機粒子含有組成物の溶液を調製した。得られた無機粒子含有組成物溶液の２５℃における粘度は、５０２００ｍＰａ・ｓであった。【０１０５】
（実施例３）
先ず、撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、イソボルニルシクロヘキサノール「テルソルブＭＴＰＨ」（日本テルペン化学社製、商品名）を５７質量部、及び、「ターピネオールＣ」（日本テルペン化学社製、商品名、沸点２１７℃）を４３質量部仕込み、撹拌しながら、これを窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、８０℃±２℃に保ちながら３時間撹拌を続け、均一な溶液とした。その後、室温まで冷却し溶液を取り出した。得られた溶液の２５℃における粘度は３４０ｍＰａ・ｓであった。【０１０６】
次に、上記で得られた溶液５７．７質量部に、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系ガラスフリット４２．３質量部を加え、ビーズミルを用いて１５分間混合、分散した。続いて、この分散液を、３０μｍ角の開口部を有する濾布に通過させて濾過し、実施例３の無機粒子含有組成物の溶液を調製した。得られた無機粒子含有組成物溶液の２５℃における粘度は、１１００ｍＰａ・ｓであった。【０１０７】
（実施例４）
先ず、撹拌機、還流冷却機、及び温度計を備えたフラスコに、日本テルペン製イソボルニルシクロヘキサノール「テルソルブＭＴＰＨ」８０質量部、和光純薬工業製シクロヘキサノール２０質量部を仕込み、撹拌しながら、窒素ガス雰囲気下で６０℃に昇温し、６０℃±２℃に保ちながら１時間撹拌を続け、均一に分散した。その後、室温まで冷却し溶液を取り出した。溶液の粘度は８７００ｍＰａ・ｓであった。【０１０８】
次に、上記で得られた溶液６５質量部に、緑色発色の蛍光体：Ｚｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ（最大粒径１５μｍ）３５質量部を加え、ビーズミルを用いて１５分間混合、分散した。続いて、この分散液を、３０μｍ角の開口部を有する濾布に通過させて濾過し、実施例４の無機粒子含有組成物を調製した。得られた無機粒子含有組成物の粘度は、２０２００ｍＰａ・ｓであった。【０１０９】
（実施例５）
先ず、撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、イソボルニルシクロヘキサノール「テルソルブＭＴＰＨ」（日本テルペン化学社製、商品名）を８０質量部、及び、「ターピネオールＣ」（日本テルペン化学社製、商品名、沸点２１７℃）を２０質量部仕込み、撹拌しながら、これを窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、８０℃±２℃に保ちながら３時間撹拌を続け、均一な溶液とした。その後、室温まで冷却し溶液を取り出した。得られた溶液の２５℃における粘度は１８８５０ｍＰａ・ｓであった。【０１１０】
次に、上記で得られた溶液に、ヒドロキノン２質量部を加え、コンディショニングミキサーＭＸ２０１（シンキー（株）製）を用いて１０分間混合し、完全に溶解した。この溶液５７．７質量部に、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系ガラスフリット４２．３質量部を加え、ビーズミルを用いて１５分間混合、分散した。続いて、この分散液を、３０μｍ角の開口部を有する濾布に通過させて濾過し、実施例５の無機粒子含有組成物の溶液を調製した。得られた無機粒子含有組成物溶液の２５℃における粘度は、４３０００ｍＰａ・ｓであった。【０１１１】
（比較例１）
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、「ターピネオールＣ」（日本テルペン化学製、商品名、沸点２１７℃）を９２質量部仕込み、撹拌しながら、懸濁重合法によって得られた重量平均分子量７００，０００のポリメタクリル酸エチル８質量部を加えた。これを窒素ガス雰囲気下で１２０℃に昇温し、１２０℃±２℃に保ちながら３時間撹拌を続け、ポリメタクリル酸エチルを溶解した。その後、室温まで冷却し樹脂溶液を取り出した。得られた樹脂溶液の２５℃における粘度は３７００ｍＰａ・ｓであった。【０１１２】
次に、上記で得られた樹脂溶液５５．５質量部（固形分８質量部）に、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系ガラスフリット４４．５質量部を加え、ビーズミルを用いて１５分間混合、分散した。続いて、この分散液を、３０μｍ角の開口部を有する濾布に通過させて濾過し、比較例１の無機粒子含有組成物の溶液を調製した。得られた無機粒子含有組成物溶液の２５℃における粘度は、１１０００ｍＰａ・ｓであった。【０１１３】
（比較例２）
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、イソボルニルシクロヘキサノール「テルソルブＭＴＰＨ」（日本テルペン化学社製、商品名）を５質量部、「ターピネオールＣ」（日本テルペン化学製、商品名、沸点２１７℃）を９０質量部仕込み、撹拌しながら、エチルセルロース１０ｃｐ（和光純薬製）５質量部を加えた。これを窒素ガス雰囲気下で１２０℃に昇温し、１２０℃±２℃に保ちながら３時間撹拌を続け、エチルセルロースを溶解した。その後、室温まで冷却し樹脂溶液を取り出した。得られた樹脂溶液の２５℃における粘度は３２０００ｍＰａ・ｓであった。【０１１４】
次に、上記で得られた樹脂溶液５５．５質量部（固形分５質量％）に、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系ガラスフリット４４．５質量部を加え、ビーズミルを用いて１５分間混合、分散した。続いて、この分散液を、３０μｍ角の開口部を有する濾布に通過させて濾過し、比較例２の無機粒子含有組成物の溶液を調製した。得られた無機粒子含有組成物溶液の２５℃における粘度は、６００００ｍＰａ・ｓであった。【０１１５】
上記の実施例及び比較例で示した粘度は、２５℃の温度下でＥ型粘度計（東機産業社製、型番：ＥＨＤ型）の２０ｒｐｍの回転速度で測定した値である。【０１１６】
上記で得られた実施例１〜５及び比較例１〜２の無機粒子含有組成物溶液について、以下に示す方法に基づいて塗膜状態及び熱重量分析による重量変化を評価した。得られた結果を表２に示す。【０１１７】
［塗膜状態の評価］
ガラス板上に、実施例１〜５及び比較例１〜２の無機含有組成物溶液を、アプリケータ（テスター産業製）を用いてウエット膜厚が５０μｍとなるように塗布し、塗布後の塗膜表面に発生するゆず肌状のゆらぎの消失時間を測定した。そして、以下の評価基準に基づいて塗膜状態を評価した。
Ａ：３０秒以内に消失（平坦性に優れる）。
Ｂ：１分以内に消失（平坦性に問題なし）。
Ｃ：１分以内に消失しない（平坦性に問題あり）。【０１１８】
［乾燥後の塗膜状態の評価］
ガラス板上に、実施例１〜５及び比較例１〜２の無機粒子含有組成物溶液を、アプリケータ（テスター産業製）を用いてウエット膜厚が５０μｍとなるように塗布し、積層体をそれぞれ得た。続いて、これらの積層体を１５０℃の乾燥機中で３０分間乾燥した。そして、以下の評価基準に基づいて塗膜状態を評価した。
Ａ：均一で平坦な塗膜が形成されている。
Ｂ：表面に僅かなムラが確認される。
Ｃ：ベナールセル（六角形状の対流渦状ムラ）が発生。【０１１９】
［有機化合物の加熱残分評価］
実施例１〜５及び比較例１〜２における無機粒子を混合する前の溶液を、ソーダガラス製、直径４５ｍｍ、肉厚２ｍｍの時計皿上に約１ｇを秤量し、３００℃の乾燥機中で１０分間乾燥し、乾燥後残留物の重量を測定し、下記の式により有機化合物の加熱残分をそれぞれ計算した。
有機化合物の加熱残分(％)＝（加熱後の溶液重量／加熱前の溶液重量）×１００【０１２０】
［塗膜を３００℃で１０分間加熱した後の熱重量分析］
ガラス板上に、実施例１〜５及び比較例１〜２の無機粒子含有組成物溶液を、アプリケータ（テスター産業製）を用いてウエット膜厚が５０μｍとなるように塗布し、積層体をそれぞれ得た。続いて、これらの積層体を３００℃の乾燥機中で１０分間乾燥した。乾燥後の無機粒子含有組成物の塗膜をスパチュラを用いてかきとり、これを測定試料とし、熱重量分析（ＴＧ）にて６００℃まで昇温したときの重量減少率を求めた。なお、この重量減少率の値が小さいことは、無機粒子含有組成物の焼成時の分解生成物が少ないことを表す。重量減少率の値が小さくなるほど、電気炉内の壁等への分解生成物堆積を低減できる効果はより大きくなる。
熱重量分析の測定条件は以下のとおりである。
測定機器：ＴＧ／ＤＴＡ−６２００（エスアイアイ・ナノテクノロジー社製）
昇温速度：５℃／ｍｉｎ
測定温度：２０〜６００℃
雰囲気：空気中、２００ｍｌ／ｍｉｎ
サンプリング量：１０ｍｇ【０１２１】
また、重量減少率は下記式により算出した。
【数１】
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【０１２２】
［塗膜を１５０℃で３０分間加熱した後の熱重量分析］
ガラス板上に、実施例１〜５及び比較例１〜２の無機粒子含有組成物溶液を、アプリケータ（テスター産業製）を用いてウエット膜厚が５０μｍとなるように塗布し、積層体をそれぞれ得た。続いて、これらの積層体を１５０℃の乾燥機中で３０分間乾燥した。乾燥後の無機粒子含有組成物の塗膜をスパチュラを用いてかきとり、これを測定試料とし、熱重量分析（ＴＧ）にて６００℃まで昇温したときの重量減少率を上記式により求めた。なお、熱重量分析の測定条件は前記した条件と同様である。【０１２３】
【表１】
2008149748.tif 000011
【０１２４】
表２に示すように、実施例１〜５の無機粒子含有組成物溶液は、良好な塗膜を形成できるとともに、乾燥によって比較例１及び２に比べてより多くの有機成分が除去されることが分かる。また、表２に示すように、実施例５の無機粒子含有組成物溶液によれば、高温での加熱条件で乾燥する場合、実施例１〜４の無機粒子含有組成物溶液に比べて有機化合物の加熱残分をより低減できることが分かる。実施例１〜５の無機粒子含有組成物溶液によれば、焼成時に必要なエネルギーを低減できるとともに、焼成時に電気炉内に堆積する分解生成物の量を低減することができ、電気炉への負担を軽減することが可能となる。
【産業上の利用可能性】
【０１２５】
本発明によれば、所望の無機体或いは無機物層を従来よりも低エネルギーで形成できるとともに有機化合物に起因する悪影響を低減することが可能な無機粒子含有組成物を提供することができる。また、本発明によれば、本発明の無機粒子含有組成物を用いる無機物層の形成方法、及び、本発明の無機物層の形成方法によって形成された無機物層を備えるプラズマディスプレイを提供することができる。また、本発明によれば、本発明の無機粒子含有組成物を用いることで、従来よりも低エネルギーで形成可能な電極、誘電体層及び蛍光体層、並びに、これらの電極、誘電体層又は蛍光体層を備えるプラズマディスプレイを提供することができる。 
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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