(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）下記Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤを含む材料をＡ、Ｂ、Ｃ及びＤの合計量に対して以下の割合で混合して顔料溶液を得る混合工程と、
Ａ：下記一般式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、それらの塩及び水和物からなる群より選択される少なくとも１種：５〜２５質量％
Ｂ：疎水性構造単位と親水性構造単位からなる水不溶性ポリマー：１〜１５質量％
Ｃ：界面活性剤：１〜１５質量％
Ｄ：酸、混合酸、及び酸又は混合酸と有機溶媒との混合溶媒からなる群より選択される少なくとも１種の酸溶媒：５０〜８２．６質量％
（ｉｉ）ｐＨ８〜１３の条件下で、前記混合工程で得られた顔料溶液と、前記酸溶媒（Ｄ）に対しては相溶性を有するが前記アゾ顔料に対しては貧溶媒となる水系溶媒とを混合し、前記アゾ顔料の微粒子を析出させて顔料分散体を得る析出・分散工程と、
を含むことを特徴とする水系顔料分散体の製造方法。
一般式（１）：
【化１】
0005608514.tif 000029
（一般式（１）中、Ｚは５〜６員ヘテロ環を表し、Ｙ１、Ｙ２、Ｒ１１、Ｒ１２は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｇ１、Ｇ２は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、Ｗ１、Ｗ２はそれぞれ独立にアルコキシ基、アミノ基、アルキル基又はアリール基を表す。）
【請求項２】
前記水不溶性ポリマー（Ｂ）が、アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも一方に由来する構造単位を含むポリマーであり、酸価が４５ｍｇＫＯＨ／ｇ〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇであることを特徴とする請求項１に記載の水系顔料分散体の製造方法。
【請求項３】
前記界面活性剤（Ｃ）が、前記顔料溶液中で溶解していることを特徴とする請求項１又は２に記載の水系顔料分散体の製造方法。
【請求項４】
前記混合工程において、更に、水を混合する工程を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の水系顔料分散体の製造方法。
【請求項５】
前記酸溶媒（Ｄ）が、酸又は混合酸と有機溶媒との混合溶媒であり、該有機溶媒の量が該酸溶媒全量に対して３０〜９０質量％であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の水系顔料分散体の製造方法。
【請求項６】
前記酸溶媒（Ｄ）が、酸又は混合酸と有機溶媒との混合溶媒であり、前記混合工程において、更に、水を混合する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の水系顔料分散体の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された水系顔料分散体。
【請求項８】
請求項７に記載の水系顔料分散体を含むインクジェット記録用水性インク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水系顔料分散体の製造方法、水系顔料分散体及びインクジェット記録用水性インクに係り、より詳細には特定の構造を有するアゾ顔料を含む水系顔料分散体の製造方法、水系顔料分散体及びインクジェット記録用水性インクに関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット用被記録媒体として様々な媒体が使用されてきており、インクジェット専用紙のみならず、市販の普通紙、上質紙やコート紙やアート紙などの印刷媒体でも高品位の画質が求められている。普通紙や印刷媒体で耐水性や耐光性等の堅牢性を与えるインク色材として顔料が好ましく、コストの観点も含めて水性顔料インクでの検討が種々行われている。しかし、一般に水性顔料インクでは、顔料が分散された粒子の状態で存在しているため、光の散乱を受けやすく、得られる画像の透明性に欠けるという欠点を有する。また該粒子の凝集や沈降が起こりやすく、染料インクと比較して保存安定性や吐出安定性に劣るとされている。このような顔料インクの有する問題点を克服すべく、様々な試みがなされている。
【０００３】
例えば、特許文献１や特許文献２では、顔料インクのインク保存性、インクヘッドの目詰まりなどの改善に寄与し得る顔料粒子の一次粒径分布幅を規定し、その粒度分布を実現するための方法として、顔料粒子と界面活性剤と顔料不溶性媒体とを混合する方法を開示している。そして、該方法によれば、顔料分散時に、顔料粒子表面に界面活性剤が吸着しているため、顔料の晶析による結晶成長期において最適な一次粒子制御を可能とし、所望の粒径及び粒径分布を有する顔料分散液を得ることができると記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−１２８９５５号公報
【特許文献２】特開２００３−１１３３４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１及び２に記載の方法では、顔料の分散状態の改善を顔料粒子表面に吸着している界面活性剤のみにほとんど依存しているため、それだけでは顔料の晶析による結晶成長の段階において媒体中に含まれる顔料粒子を全て一次粒子まで解砕された状態とすることは難しい。また得られた顔料分散体中では水溶性高分子が顔料粒子表面に吸着しているため、これにより、顔料分散組成物、及びそれを用いて作成したインクの粘度が上昇したり、顔料が凝集して粒子径の大きい二次粒子を形成したりする可能性が高い。従って、当該方法については、保存安定性、耐溶剤性やノズル開口部での目詰まりの発生に関して、更に改善する必要がある。
なお、特許文献１及び２では、この方法に使用される顔料の構造は特に規定されておらず、当該方法が一般的に使用されている顔料の多くに有効であるとの解釈ができるが、特許文献１及び２の実施例を参照してもそのような事実は認められない。また、顔料の構造が特に規定されていないことから、顔料の構造よって大きく異なるとされる耐溶剤性や耐光姓などの堅牢性については全く検討がされていないと考えられる。
【０００６】
本発明は、水系顔料分散体や水性インクにおける上記課題に着目してなされたものであって、その目的は、分散粒子径が小さく、保存安定性、吐出安定性、及び耐溶剤性の全てに優れた水系顔料分散体の製造方法、水系顔料分散体及びインクジエット用水性インクを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、特定の構造を有するア
ゾ顔料と、界面活性剤、水不溶性ポリマー、酸溶媒を混合した顔料溶液を、一定のｐＨ条
件下において、前記酸溶媒に対しては相溶性を有するが前記アゾ顔料に対しては貧溶媒と
なる水系溶媒と混合し、アゾ顔料の微粒子を析出させて顔料分散体を得ることにより、前
記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、上記課題は以下の手段により達成することができる。
＜１＞
（ｉ）下記Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤを含む材料をＡ、Ｂ、Ｃ及びＤの合計量に対して以下の割合で混合して顔料溶液を得る混合工程と、
Ａ：下記一般式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、それらの塩及び水和物からなる群より選択される少なくとも１種：５〜２５質量％
Ｂ：疎水性構造単位と親水性構造単位からなる水不溶性ポリマー：１〜１５質量％
Ｃ：界面活性剤：１〜１５質量％
Ｄ：酸、混合酸、及び酸又は混合酸と有機溶媒との混合溶媒からなる群より選択される少なくとも１種の酸溶媒：５０〜８２．６質量％
（ｉｉ）ｐＨ８〜１３の条件下で、前記混合工程で得られた顔料溶液と、前記酸溶媒（Ｄ）に対しては相溶性を有するが前記アゾ顔料に対しては貧溶媒となる水系溶媒とを混合し、前記アゾ顔料の微粒子を析出させて顔料分散体を得る析出・分散工程と、
を含むことを特徴とする水系顔料分散体の製造方法。
一般式（１）：
【化１】
0005608514.tif 000002
（一般式（１）中、Ｚは５〜６員ヘテロ環を表し、Ｙ１、Ｙ２、Ｒ１１、Ｒ１２は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｇ１、Ｇ２は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、Ｗ１、Ｗ２はそれぞれ独立にアルコキシ基、アミノ基、アルキル基又はアリール基を表す。）
＜２＞
前記水不溶性ポリマー（Ｂ）が、アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも一方に由来する構造単位を含むポリマーであり、酸価が４５ｍｇＫＯＨ／ｇ〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇであることを特徴とする＜１＞に記載の水系顔料分散体の製造方法。
＜３＞
前記界面活性剤（Ｃ）が、前記顔料溶液中で溶解していることを特徴とする＜１＞又は＜２＞に記載の水系顔料分散体の製造方法。
＜４＞
前記混合工程において、更に、水を混合する工程を含むことを特徴とする＜１＞〜＜３＞のいずれか一項に記載の水系顔料分散体の製造方法。
＜５＞
前記酸溶媒（Ｄ）が、酸又は混合酸と有機溶媒との混合溶媒であり、該有機溶媒の量が該酸溶媒全量に対して３０〜９０質量％であることを特徴とする＜１＞〜＜４＞に記載の水系顔料分散体の製造方法。
＜６＞
前記酸溶媒（Ｄ）が、酸又は混合酸と有機溶媒との混合溶媒であり、前記混合工程において、更に、水を混合する工程を含むことを特徴とする＜１＞に記載の水系顔料分散体の製造方法。
＜７＞
＜１＞〜＜６＞のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された水系顔料分散体。
＜８＞
＜７＞に記載の水系顔料分散体を含むインクジェット記録用水性インク。
本発明は、前記＜１＞〜＜８＞に係る発明であるが、以下、それ以外の事項（例えば、下記〔１〕〜〔６〕）についても記載している。
【０００８】
〔１〕
（ｉ）下記Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤを含む材料を混合して顔料溶液を得る混合工程と、
Ａ：下記一般式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、それらの塩及び水和物からなる群より選択される少なくとも１種
Ｂ：水不溶性ポリマー
Ｃ：界面活性剤
Ｄ：酸、混合酸及び酸と有機溶媒との混合溶媒からなる群より選択される少なくとも１種の酸溶媒
（ｉｉ）ｐＨ８〜１３の条件下で、前記混合工程で得られた顔料溶液と、前記酸溶媒（Ｄ）に対しては相溶性を有するが前記アゾ顔料に対しては貧溶媒となる水系溶媒とを混合し、前記アゾ顔料の微粒子を析出させて顔料分散体を得る析出・分散工程と、
を含むことを特徴とする水系顔料分散体の製造方法。
【化１】
0005608514.tif 000003
（一般式（１）中、Ｚは５〜６員ヘテロ環を表し、Ｙ１、Ｙ２、Ｒ１１、Ｒ１２は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｇ１、Ｇ２は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、Ｗ１、Ｗ２はそれぞれ独立にアルコキシ基、アミノ基、アルキル基又はアリール基を表す。）
〔２〕
前記水不溶性ポリマー（Ｂ）が、アクリル系ポリマー又はメタクリル系ポリマーであり、酸価が４５ｍｇＫＯＨ／ｇ〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇであることを特徴とする〔１〕に記載の水系顔料分散体の製造方法。
〔３〕
前記界面活性剤（Ｃ）が、前記顔料溶液中で溶解していることを特徴とする〔１〕又は〔２〕に記載の水系顔料分散体の製造方法。
〔４〕
前記混合工程において、更に、水を混合する工程を含むことを特徴とする〔１〕〜〔３〕のいずれか一項に記載の水系顔料分散体の製造方法。
〔５〕
〔１〕〜〔４〕のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された水系顔料分散体。
〔６〕
〔５〕に記載の水系顔料分散体を含むインクジェット記録用水性インク。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、特定の構造を有するアゾ顔料と、界面活性剤、水不溶性ポリマー、酸溶媒を混合した顔料溶液を、一定のｐＨ条件下において、前記酸溶媒に対しては相溶性を有するが前記アゾ顔料に対しては貧溶媒となる水系溶媒と混合し、アゾ顔料の微粒子を析出させて顔料分散体を得ることにより、分散粒子径が小さく、保存安定性、吐出安定性、及び耐溶剤性の全てに優れた水系顔料分散体の製造方法、該製造方法で作製された水系顔料分散体、及びインクジエット用水性インクを提供することができる。
本発明の水系顔料分散体は、例えば、インクジェットなどの印刷用のインク、電子写真用のカラートナー、ＬＣＤ、ＰＤＰなどのディスプレーやＣＣＤなどの撮像素子で用いられるカラーフィルター、塗料、着色プラスチック等に使用することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
＜水系顔料分散体の製造方法＞
本発明の水系顔料分散体の製造方法は、材料を混合することによって顔料溶液を得る工程と、該顔料溶液において特定の水系溶媒を用いて顔料の微粒子を析出させ、顔料分散体を得る析出・分散工程とを含む。
【００１１】
１．混合工程
混合工程は、下記Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤを含む材料を混合して顔料溶液を得る工程である。
Ａ：下記一般式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、それらの塩及び水和物からなる群より選択される少なくとも１種
Ｂ：水不溶性ポリマー
Ｃ：界面活性剤
Ｄ：酸、混合酸及び酸と有機溶媒との混合溶媒からなる群より選択される少なくとも１種の酸溶媒
【００１２】
【化２】
0005608514.tif 000004
【００１３】
（一般式（１）中、Ｚは５又は６員のヘテロ環を表し、Ｙ１、Ｙ２、Ｒ１１、Ｒ１２は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｇ１、Ｇ２は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、Ｗ１、Ｗ２はそれぞれ独立にアルコキシ基、アミノ基、アルキル基又はアリール基を表す。）
【００１４】
上記Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤの混合割合は特に限定はされないが、Ａ：５〜２５質量％、Ｂ：１〜１５質量％、Ｃ：１〜１５質量％、Ｄ：５０〜１００質量％であることが好ましく、Ａ：８〜１５質量％、Ｂ：１〜８質量％、Ｃ：３〜１０質量％、Ｄ：７０〜１００質量％であることがより好ましい。また材料には、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤの他に有機溶剤、水など任意の成分を含むことができる。
混合方法については特に制限はなく、通常使用される混合攪拌装置を使用することができる。
【００１５】
Ａ：一般式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、それらの塩及び水和物
一般式（１）で表されるアゾ顔料は、平均一次粒子径が１０〜７０ｎｍであることが好ましく、２５〜６０ｎｍであることがより好ましい。この範囲とすることで、良好な体積平均粒子径と多分散性指数（粒度分布幅）、例えば、体積平均粒子径（Ｍｖ）が４０〜１２０ｎｍ、多分散性指数（ＰＤＩ）が１．０〜１.６の範囲などを有する水系顔料分散体を容易に得ることができる傾向にある。平均一次粒子径のコントロールは、後述するソルベントソルトミリング等による顔料の磨砕工程等によって行うこともできる。
なお、本発明において、平均粒子径及び粒径分布は、ナノトラック粒度分布測定装置ＵＰＡ−ＥＸ１５０（日機装（株）製）を用いて、動的光散乱法により体積平均粒径を測定することにより求められる。
【００１６】
一般式（１）で表される化合物は、その特異的な構造により色素分子の分子内・分子間相互作用を形成しやすく、水又は有機溶媒等に対する溶解性が低く、好ましい形態のアゾ顔料とすることができる。
顔料は、水や有機溶媒等に分子分散状態で溶解させて使用する染料とは異なり、媒体中に分子集合体等の粒子として微細に分散させて用いるものである。
【００１７】
Ｗ１、Ｗ２はそれぞれ独立にアルコキシ基、アミノ基、アルキル基又はアリール基を表す。
Ｗ１、Ｗ２で表されるアルコキシ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルコキシ基が挙げられ、その中でも特に炭素数１から８の置換若しくは無置換のアルコキシ基が好ましく、更に炭素数１から４の置換若しくは無置換のアルコキシ基が好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基等が挙げられる。特に好ましくはメトキシ基である。
【００１８】
Ｗ１、Ｗ２で表されるアミノ基としては、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、好ましくは、アミノ基、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアニリノ基が挙げられ、その中でもアミノ基、炭素数１から８の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から１８の置換若しくは無置換のアニリノ基が好ましく、更にアミノ基、炭素数１から４の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から１２の置換若しくは無置換のアニリノ基が好ましく、例えば、アミノ基（−ＮＨ２）、メチルアミノ基（−ＮＨＣＨ３）、ジメチルアミノ基｛−Ｎ（ＣＨ３）２｝、アニリノ基（−ＮＨＰｈ）、Ｎ−メチル−アニリノ基｛−Ｎ（ＣＨ３）Ｐｈ｝、ジフェニルアミノ基｛−Ｎ（Ｐｈ）２｝等が挙げられる。特に好ましくはアミノ基である。
【００１９】
Ｗ１、Ｗ２で表されるアルキル基としては、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルキル基が挙げられ、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えば、アルコキシ基、アルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。詳細には、アルキル基としては、好ましくは、炭素数１から３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２―エチルヘキシル基等が挙げられ、シクロアルキル基としては、好ましくは、炭素数３から３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等が挙げられ、ビシクロアルキル基としては、好ましくは、炭素数５から３０の置換若しくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基等が挙げられる。
【００２０】
Ｗ１、Ｗ２で表されるアリール基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリール基が挙げられ、その中でも、炭素数６から１８の置換若しくは無置換のアリール基が好ましく、更に炭素数６から１２の置換若しくは無置換のアリール基が好ましく、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基等が挙げられる。
【００２１】
好ましいＷ１、Ｗ２としては、それぞれ独立にアルコキシ基、アミノ基又はアルキル基が挙げられ、中でもアルコキシ基、又はアミノ基が好ましく、総炭素数１〜５のアルコキシ基、アミノ基（−ＮＨ２基）、総炭素数１〜５のアルキルアミノ基が更に好ましく、総炭素数１〜３のアルコキシ基又は総炭素数１〜３のアルキルアミノ基が特に好ましく、その中でもメトキシ基が最も好ましい。Ｗが総炭素数１〜５のアルコキシ基、アミノ基、総炭素数１〜５のアルキルアミノ基の場合、色素分子が分子内及び分子間で相互作用（水素結合やπ−πスタッキング）を強固に形成しやすくなり、より安定な分子配列の構造（例えば３次元ネットワーク）を構成しやすくなることで、良好な色相、高い堅牢性（耐光・耐ガス・耐熱・耐水・耐薬品）の点で好ましい。
【００２２】
一般式（１）において、Ｒ１１、Ｒ１２はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ１１、Ｒ１２が置換基を表す場合の置換基としては、炭素数１〜１２の直鎖又は分岐鎖アルキル基、炭素数７〜１８の直鎖又は分岐鎖アラルキル基、炭素数２〜１２の直鎖又は分岐鎖アルケニル基、炭素数２〜１２の直鎖又は分岐鎖アルキニル基、炭素数３〜１２の直鎖又は分岐鎖シクロアルキル基、炭素数３〜１２の直鎖又は分岐鎖シクロアルケニル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、２−メチルスルホニルエチル、３−フェノキシプロピル、トリフルオロメチル、シクロペンチル）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子）、アリール基（例えば、フェニル、４−ｔ−ブチルフェニル、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル）、ヘテロ環基（例えば、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシ基、アミノ基、アルキルオキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、２−メチルスルホニルエトキシ）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、３−ｔ−ブチルオキシカルボニルフェノキシ、３−メトキシカルボニルフェニルオキシ、アシルアミノ基（例えば、アセトアミド、ベンズアミド、４−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）ブタンアミド）、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ、ブチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルブチルアミノ）、アリールアミノ基（例えば、フェニルアミノ、２−クロロアニリノ）、ウレイド基（例えば、フェニルウレイド、メチルウレイド、Ｎ，Ｎ−ジブチルウレイド）、スルファモイルアミノ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、オクチルチオ、２−フェノキシエチルチオ）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、２−ブトキシ−５−ｔ−オクチルフェニルチオ、２−カルボキシフェニルチオ）、アルキルオキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ）、アルキルスルホニルアミノ基及びアリールスルホニルアミノ基（例えば、メチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、ｐ−トルエンスルホニルアミノ）、カルバモイル基（例えば、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル）、スルファモイル基（例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、スルホニル基（例えば、メチルスルホニル、オクチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル）、アルキルオキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル）、ヘテロ環オキシ基（例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、アゾ基（例えば、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾ）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ）、カルバモイルオキシ基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）、シリルオキシ基（例えば、トリメチルシリルオキシ、ジブチルメチルシリルオキシ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェノキシカルボニルアミノ）、イミド基（例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ヘテロ環チオ基（例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２，４−ジ−フェノキシ−１，３，５−トリアゾール−６−チオ、２−ピリジルチオ）、スルフィニル基（例えば、３−フェノキシプロピルスルフィニル）、ホスホニル基（例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル）、アシル基（例えば、アセチル、３−フェニルプロパノイル、ベンゾイル）、イオン性親水性基（例えば、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基及び４級アンモニウム基）が挙げられる。
【００２３】
一般式（１）において、好ましいＲ１１、Ｒ１２はそれぞれ独立に、置換若しくは無置換の総炭素数１〜８のアシルアミノ基、置換若しくは無置換の総炭素数１〜１２のアルキル基、置換若しくは無置換の総炭素数６〜１８のアリール基、又は置換若しくは無置換の総炭素数４〜１２のヘテロ環基であり、より好ましくは、総炭素数１〜８の直鎖アルキル基又は分岐アルキル基、置換若しくは無置換の総炭素数６〜１８のアリール基であり、その中でも総炭素数１〜８の直鎖アルキル基又は分岐アルキル基が好ましく、更に詳細にはメチル基、ｉ−プロピル基又はｔ−ブチル基が好ましく、特にｉ−プロピル基又はｔ−ブチル基が好ましく、その中でもｔ−ブチル基が最も好ましい。
Ｒ１１、Ｒ１２を総炭素数の小さい（炭素数１〜４）直鎖アルキル基又は分岐アルキル基にすることで、色素分子配列が立体的に制御（一定の距離・角度で配列）しやすくなる。その結果、色素分子が安定な分子内・分子間相互作用（水素結合やπ−πスタッキング）を有する構造が形成されやすく、より安定な分子配列の構造（例えば３次元ネットワーク）を構成しやすくなることで、良好な色相、着色力、高い画像堅牢性（耐光・耐ガス・耐熱・耐水・耐薬品）の点で好ましい。
【００２４】
一般式（１）において、Ｚは５又は６員のヘテロ環基を表し、それらは更に縮環していてもよい。Ｚとして好ましくは、５又は６員の置換若しくは無置換のヘテロ環基であり、より好ましくは、６員含窒素ヘテロ環基であり、特に好ましくは、炭素数３から１０の６員含窒素ヘテロ環基である。
【００２５】
前記Ｚで表されるヘテロ環基の例には、置換位置を限定しないで例示すると、ピリジル、ピラジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、トリアジニル、キノリニル、イソキノリニル、キナゾリニル、シンノリニル、フタラジニル、キノキサリニル、ピロリル、インドリル、フリル、ベンゾフリル、チエニル、ベンゾチエニル、ピラゾリル、イミダゾリル、ベンズイミダゾリル、トリアゾリル、オキサゾリル、ベンズオキサゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、イソチアゾリル、ベンズイソチアゾリル、チアジアゾリル、イソオキサゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリジニル、チアゾリニル、スルホラニルなどが挙げられる。
【００２６】
好ましいヘテロ環基の例は、ピリジル、ピリミジニル、Ｓ−トリアジニル、ピリダジニル、ピラジニル、１，２，４−チアジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、イミダゾリルであり、より好ましくは、ピリジル、ピリミジニル、Ｓ−トリアジニル、ピリダジニル、ピラジニルであり、特に色相、着色力、画像堅牢性の点から、ピリミジニル、Ｓ−トリアジニルが好ましく、更に４，６−に置換基を有するピリミジニル、２位に炭素数１〜４のアルコキシ基を有するＳ−トリアジニルが色相と画像堅牢性の点から好ましく、その中でも特に４，６−に置換基を有するピリミジニルが良好な画像の光堅牢性向上の点から最も好ましい。
【００２７】
Ｚをピリミジニル基、Ｓ−トリアジニル基にすることでビス型アゾ色素がアミノ基、含窒素６員ヘテロ環とで分子内水素結合を形成しやすくなり、色素分子配列が立体的に制御（一定の距離・角度、平面性で配列）しやすくなる。その結果、色素分子が安定な分子内・分子間相互作用（水素結合やπ−πスタッキング）を有する構造が形成されやすく、より安定な分子配列の構造（例えば３次元ネットワーク）を構成しやすくなることで、良好な色相、着色力、高い画像堅牢性（耐光・耐ガス・耐熱・耐水・耐薬品）の点で好ましい。
【００２８】
Ｇ１、Ｇ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、特に好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロプロピル基、ベンジル基、２−フェネチル基、ビニル基、アリル基、エチニル基、プロパルギル基、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基が好ましく、更に水素原子、メチル基、フェニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基が好ましく、その中でも総炭素数１〜８の直鎖アルキル基又は分岐アルキル基、２−ピリジル基、２，６−ピリミジニル基、２，５−ピラジニル基が好ましく、総炭素数１〜３のアルキル基がより好ましい。更に色相と画像堅牢性の観点から、水素原子、メチル基が好ましく、その中でも色相と光堅牢性向上の点からメチル基が特に好ましい。
【００２９】
Ｙ１、Ｙ２が置換基を表す場合の該置換基の例は、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。Ｙの例として特に好ましくは、水素原子、アルキル基（例えば、メチル基）アリール基（例えば、フェニル基）、ヘテロ環基（例えば２−ピリジル基）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基）であり、更に水素原子、総炭素数１〜４の直鎖又は分岐アルキル基、フェニル基、メチルチオ基である。更に色相と画像堅牢性の観点から、水素原子、メチル基が好ましく、その中でも色相と光堅牢性向上の点から水素原子が特に好ましい。
【００３０】
Ｇ１、Ｇ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｗ１、Ｗ２、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｚが、更に置換基を有する場合の置換基としては、下記の置換基（以下「置換基Ｊ」と称する場合がある）を挙げることができる。
【００３１】
（置換基Ｊ）
例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。
【００３２】
置換基Ｊの各基について更に説明する。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が挙げられる。
【００３３】
アルキル基としては、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルキル基が挙げられ、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えば、アルコキシ基、アルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。詳細には、アルキル基としては、好ましくは、炭素数１から３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２―エチルヘキシル基等が挙げられ、シクロアルキル基としては、好ましくは、炭素数３から３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等が挙げられ、ビシクロアルキル基としては、好ましくは、炭素数５から３０の置換若しくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基等が挙げられる。
【００３４】
アラルキル基としては、置換若しくは無置換のアラルキル基が挙げられ、置換若しくは無置換のアラルキル基としては、炭素原子数が７〜３０のアラルキル基が好ましい。例えばベンジル基及び２−フェネチル基を挙げられる。
【００３５】
アルケニル基としては、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルケニル基が挙げられ、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を包含する。詳細には、アルケニル基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基等が挙げられ、シクロアルケニル基としては、好ましくは、炭素数３から３０の置換若しくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３から３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基等が挙げられ、ビシクロアルケニル基としては、置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５から３０の置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基等が挙げられる。
【００３６】
アルキニル基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。
【００３７】
アリール基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリール基、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基等が挙げられる。
【００３８】
ヘテロ環基としては、好ましくは、５又は６員の置換若しくは無置換の芳香族若しくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３から３０の５又は６員の芳香族のヘテロ環基、例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。
【００３９】
アルコキシ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基等が挙げられる。
【００４０】
アリールオキシ基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基等が挙げられる。
【００４１】
シリルオキシ基としては、好ましくは、炭素数０から２０の置換若しくは無置換のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ジフェニルメチルシリルオキシ基等が挙げられる。
【００４２】
ヘテロ環オキシ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換のヘテロ環オキシ基、例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基等が挙げられる。
【００４３】
アシルオキシ基としては、好ましくは、ホルミルオキシ基、炭素数２から３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【００４４】
カルバモイルオキシ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基等が挙げられる。
【００４５】
アルコキシカルボニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えば、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【００４６】
アリールオキシカルボニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【００４７】
アミノ基としては、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、好ましくは、アミノ基、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアニリノ基、例えば、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基等が挙げられる。
【００４８】
アシルアミノ基としては、好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基等が挙げられる。
【００４９】
アミノカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基等が挙げられる。
【００５０】
アルコキシカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。
【００５１】
アリールオキシカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。
【００５２】
スルファモイルアミノ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基等が挙げられる。
【００５３】
アルキル又はアリールスルホニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基等が挙げられる。
アルキルチオ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルチオ基、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基等が挙げられる。
【００５４】
アリールチオ基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基等が挙げられる。
【００５５】
ヘテロ環チオ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基等が挙げられる。
【００５６】
スルファモイル基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ‘−フェニルカルバモイル）スルファモイル基等が挙げられる。
【００５７】
アルキル又はアリールスルフィニル基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、６から３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基等が挙げられる。
【００５８】
アルキル又はアリールスルホニル基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基等が挙げられる。
【００５９】
アシル基としては、好ましくは、ホルミル基、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数２から３０の置換若しくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基、２−ピリジルカルボニル基、２−フリルカルボニル基等が挙げられる。
【００６０】
アリールオキシカルボニル基としては、好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル基等が挙げられる。
【００６１】
アルコキシカルボニル基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【００６２】
カルバモイル基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基等が挙げられる。
【００６３】
アリール又はヘテロ環アゾ基としては、好ましくは炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３から３０の置換若しくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ等が挙げられる。
【００６４】
イミド基としては、好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基等が挙げられる。
【００６５】
ホスフィノ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基等が挙げられる。
【００６６】
ホスフィニル基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基等が挙げられる。
【００６７】
ホスフィニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基等が挙げられる。
【００６８】
ホスフィニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基が挙げられる。
【００６９】
シリル基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基等が挙げられる。
【００７０】
上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、該水素原子が上記の置換基で置換されていても良い。そのような置換基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【００７１】
なお、前記一般式（１）で表される化合物の好ましい置換基の組み合わせについては、種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【００７２】
本発明の一般式（１）で表されるアゾ顔料として特に好ましい組み合わせは、以下の（イ）〜（ホ）を含むものである。
【００７３】
（イ）Ｗ１、Ｗ２はそれぞれ独立に、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基）、アミノ基（例えば、−ＮＨ２基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基）、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、シクロプロピル基）又はアリール基（例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）が好ましく、その中でもアルコシキ基、アミノ基又はアルキル基が好ましく、更にアルコキシ基、アミノ基が好ましく、更に好ましくは、総炭素数１〜５のアルコキシ基、アミノ基（−ＮＨ２基）、総炭素数１〜５のアルキルアミノ基であり、特に好ましくは、総炭素数１〜３のアルコキシ基、アミノ基（−ＮＨ２基）、総炭素数１〜３のアルキルアミノ基であり、更に、メトキシ基（−ＯＣＨ３基）、エトキシ基（−ＯＣ２Ｈ５基）、アミノ基（−ＮＨ２基）が好ましく、その中でもメトキシ基（−ＯＣＨ３基）が最も好ましい。
【００７４】
（ロ）Ｒ１１、Ｒ１２はそれぞれ独立に、水素原子、又は置換基（例えば、置換若しくは無置換の総炭素数１〜８のアシルアミノ基、置換若しくは無置換の総炭素数１〜１２のアルキル基、置換若しくは無置換の総炭素数６〜１８のアリール基、又は置換若しくは無置換の総炭素数４〜１２のヘテロ環基）が好ましく、より好ましくは、総炭素数１〜８の直鎖アルキル基又は分岐アルキル基であり、更にメチル基、ｉ−プロピル基又はｔｅｒｔ−ブチル基が好ましく、特にｉ−プロピル基又はｔ−ブチル基が好ましく、その中でもｔ−ブチル基が最も好ましい。
【００７５】
（ハ）Ｚは、二価の５〜６員ヘテロ環基を表し、それらは更に縮環していてもよい。Ｚとして好ましくは、５又は６員の置換若しくは無置換の含窒素ヘテロ環が挙げられ、更に好ましくは、６員の置換若しくは無置換の含窒素ヘテロ環である。例えば、ピロール環、ピラゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアジアゾール環、チオフェン環、フラン環、ピリジン環、ピリミジン環、トリアジン環、ピリダジン環、ピラジン環が好ましく、特に好ましくは、６員含窒素ヘテロ環、具体的には炭素数３から１０の６員含窒素ヘテロ環基である。更に好ましいヘテロ環の例は、ピリジン環、ピリミジン環、Ｓ−トリアジン環、ピリダジン環、ピラジン環であり、より好ましくは、ピリジン環、ピリミジン環、Ｓ−トリアジン環、ピリダジン環、ピラジン環であり、更に好ましくは、ピリミジン環、Ｓ−トリアジン環であり、特にピリミジン環、Ｓ−トリアジン環が好ましく、更に４，６−に置換基を有するピリミジン環、２位に炭素数１〜４のアルコキシ基を有するＳ−トリアジン環が好ましく、その中でも４，６−に置換基を有するピリミジン環が最も好ましい。
【００７６】
（ニ）Ｇ１、Ｇ２はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、特に好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、シクロプロピル基、ベンジル基、２−フェネチル基、ビニル基、アリル基、エチニル基、プロパルギル基、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基が好ましく、更に水素原子、メチル基、フェニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基が好ましく、その中でもメチル基、２−ピリジル基、２，６−ピリミジニル基、２，５−ピラジニル基が好ましく、メチル基が最も好ましい。
【００７７】
（ホ）Ｙ１、Ｙ２はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基（例えば、メチル基）アリール基（例えば、フェニル基）、ヘテロ環基（例えば２−ピリジル基）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基）であり、更に水素原子、メチル基、フェニル基、メチルチオ基であり、その中でも水素原子が最も好ましい。
【００７８】
本発明は、一般式（１）で表されるアゾ顔料の互変異性体もその範囲に含むものである。
一般式（１）は、化学構造上取りうる数種の互変異性体の中から極限構造式の形で示しているが、記載された構造以外の互変異性体であってもよく、複数の互変異性体を含有した混合物として用いても良い。
例えば、一般式（１）で表される顔料には、下記一般式（１’）で表されるアゾ−ヒドラゾンの互変異性体が考えられる。本発明は、一般式（１）で表されるアゾ顔料の互変異性体である以下の一般式（１’）で表される化合物もその範囲に含むものである。
【００７９】
【化３】
0005608514.tif 000005
【００８０】
（一般式（１’）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｗ１、Ｗ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｇ１、Ｇ２及びＺは一般式（１）中のＲ１１、Ｒ１２、Ｗ１、Ｗ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｇ１、Ｇ２及びＺと同義である。）
【００８１】
本発明の上記一般式（１）で表されるアゾ顔料のうち、好ましくは下記一般式（２）で表されるアゾ顔料である。
【００８２】
【化４】
0005608514.tif 000006
【００８３】
上記一般式（２）中のＧ１、Ｇ２、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｗ１、Ｗ２、Ｙ１及びＹ２は、上記一般式（１）中のＧ１、Ｇ２、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｗ１、Ｗ２、Ｙ１及びＹ２と同義である。
Ｈｅｔ．は、上記一般式（１）中のＺが構成するヘテロ環を表し、Ｘ１１、Ｘ１２はそれぞれ独立にＨｅｔ．が構成するヘテロ環中のそれぞれヘテロ原子を表す。
【００８４】
また、本発明において、一般式（１）で表されるアゾ顔料は、分子内水素結合又は分子内交叉水素結合を形成する置換基を有することが好ましい。少なくとも１個以上の分子内交叉水素結合を形成する置換基を有することが好ましく、より好ましくは少なくとも３個以上の分子内水素結合を形成する置換基を有する場合が挙げられ、更に少なくとも３個以上の分子内水素結合を形成する置換基を有し、かつ、それらの水素結合の少なくとも２個が分子内交叉水素結合を形成する置換基を有する場合が特に好ましい。
【００８５】
一般式（１）で表されるアゾ顔料のうち、前述したように特に好ましいアゾ顔料の一般式の例としては、上記一般式（２）で表されるアゾ顔料を挙げることができる。
【００８６】
この構造が好ましい要因としては、一般式（２）で示すようにアゾ顔料構造に含有するヘテロ環を構成する窒素原子、水素原子及びヘテロ原子（アゾ基又はその互変異性体であるヒドラゾン基の窒素原子とカルボニル基の酸素原子又はアミノ基の窒素原子）が少なくとも１個以上の分子内の交叉水素結合（分子内水素結合）を容易に形成し易いことが挙げられる。
更に好ましくは、上記一般式（２）で示すようにアゾ顔料構造に含有するヘテロ環基を構成する窒素原子、アミノ基の水素原子及びヘテロ原子（アゾ基又はその互変異性体であるヒドラゾン基の窒素原子とカルボニル基の酸素原子又はアミノ基の窒素原子）が少なくとも４個以上の分子内水素結合を容易に形成し易く、かつ、少なくとも２個以上の分子内の交叉水素結合を容易に形成し易いことが挙げられる。
その結果、分子の平面性が上がり、更に分子内・分子間相互作用（水素結合・π−πスタッキング）が向上し、例えば一般式（２）で表されるアゾ顔料の結晶性が高くなり（高次構造を形成し易くなり）、顔料としての要求性能である、光堅牢性、熱安定性、湿熱安定性、耐水性、耐ガス性及び又は耐溶剤性が大幅に向上するため、最も好ましい例となる。
【００８７】
また、本発明では、一般式（１）〜（２）で表される化合物中に同位元素（例えば、２Ｈ、３Ｈ、１３Ｃ、１５Ｎ）を含有していても適用できる。
【００８８】
本発明では、効果の点から、一般式（１）〜（２）で表されるアゾ顔料のうち以下の一般式（１０）で表されるアゾ顔料が更に好ましく、一般式（１１）で表されるアゾ顔料が特に好ましい。
【００８９】
【化５】
0005608514.tif 000007
【００９０】
（一般式（１０）中、Ｚは５又は６員の含窒素ヘテロ環を表し、Ｗ１、Ｗ２はそれぞれ独立にアルコキシ基、アミノ基、アルキル基又はアリール基を表す。）
【００９１】
【化６】
0005608514.tif 000008
【００９２】
（一般式（１１）中、Ｚ’は６員含窒素ヘテロ環を表す。）
一般式（１１）中、Ｚ’が表す６員含窒素ヘテロ環としては、一般式（１）中のＺが表す６員含窒素ヘテロ環と同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
【００９３】
以下に前記一般式（１）〜（２）で表されるアゾ顔料の具体例を以下に示すが、本発明に用いられるアゾ顔料は、下記の例に限定されるものではない。また、以下の具体例の構造は化学構造上取りうる数種の互変異性体の中から極限構造式の形で示されるが、記載された構造以外の互変異性体構造のものであっても良いことは言うまでもない。
【００９４】
【化７】
0005608514.tif 000009
【００９５】
【化８】
0005608514.tif 000010
【００９６】
【化９】
0005608514.tif 000011
【００９７】
【化１０】
0005608514.tif 000012
【００９８】
【化１１】
0005608514.tif 000013
【００９９】
【化１２】
0005608514.tif 000014
【０１００】
【化１３】
0005608514.tif 000015
【０１０１】
【化１４】
0005608514.tif 000016
【０１０２】
【化１５】
0005608514.tif 000017
【０１０３】
【化１６】
0005608514.tif 000018
【０１０４】
【化１７】
0005608514.tif 000019
【０１０５】
【化１８】
0005608514.tif 000020
【０１０６】
【化１９】
0005608514.tif 000021
【０１０７】
【化２０】
0005608514.tif 000022
【０１０８】
【化２１】
0005608514.tif 000023
【０１０９】
【化２２】
0005608514.tif 000024
【０１１０】
上記の中でも、本発明の効果の点から、Ｐｉｇ．−１，Ｐｉｇ．−１８，Ｐｉｇ．−２５が好ましい。
本発明では、化合物の構造によって互変異性体が存在する場合においても、本発明においては代表的な形の一つで記載しているが、本発明の記述と異なる互変異性体も本発明のアゾ顔料に含まれる。また、本発明のアゾ顔料の塩、水和物も本発明のアゾ顔料に含まれる。
【０１１１】
本発明の一般式（１）で表される顔料は、化学構造式が一般式（１）又はその互変異性体であれば良く、多形とも呼ばれるいかなる結晶形態の顔料であっても良い。
【０１１２】
結晶多形は、同じ化学組成を有するが、結晶中におけるビルディングブロック（分子又はイオン）の配置が異なることを言う。結晶構造によって化学的及び物理的性質が決定され、各多形は、レオロジー、色、及び他の色特性によってそれぞれ区別することができる。また、異なる多形は、Ｘ−Ｒａｙ  Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ（粉末Ｘ線回折測定結果）やＸ−Ｒａｙ  Ａｎａｌｙｓｉｓ（Ｘ線結晶構造解析結果）によって確認することもできる。
本発明の一般式（１）〜（２）で表される顔料に結晶多形が存在する場合、どの多形であってもよく、また２種以上の多形の混合物であっても良いが、結晶型が単一のものを主成分とすることが好ましい。すなわち結晶多形が混入していないものが好ましく、単一の結晶型を有するアゾ顔料の含有量はアゾ顔料全体に対し７０％〜１００％、好ましくは８０％〜１００％、より好ましくは９０％〜１００％、更に好ましくは９５％〜１００、特に好ましくは１００％である。単一の結晶型を有するアゾ顔料を主成分とすることで、色素分子の配列に対して規則性が向上し、分子内・分子間相互作用が強まり高次な３次元ネットワークを形成しやすくなる。その結果として色相の向上・光堅牢性・熱堅牢性・湿度堅牢性・酸化性ガス堅牢性及び耐溶剤性等、顔料に要求される性能の点で好ましい。
アゾ顔料における結晶多形の混合比は、単結晶Ｘ線結晶構造解析、粉末Ｘ線回折（ＸＲＤ）、結晶の顕微鏡写真（ＴＥＭ）、ＩＲ（ＫＢｒ法）等の固体の物理化学的測定値から確認できる。
【０１１３】
本発明において、一般式（１）で表されるアゾ顔料は、酸基のある場合には、酸基の一部あるいは全部が塩型のものであってもよく、塩型の顔料と遊離酸型の顔料が混在していてもよい。上記の塩型の例としてＮａ、Ｌｉ、Ｋ等のアルカリ金属の塩、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等のアルカリ土類金属の塩、アルキル基若しくはヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウムの塩、又は有機アミンの塩が挙げられる。有機アミンの例として、低級アルキルアミン、ヒドロキシ置換低級アルキルアミン、カルボキシ置換低級アルキルアミン及び炭素数２〜４のアルキレンイミン単位を２〜１０個有するポリアミン等が挙げられる。これらの塩型の場合、その種類は１種類に限られず複数種混在していてもよい。
【０１１４】
更に、本発明で使用する顔料の構造において、その１分子中に酸基が複数個含まれる場合は、その複数の酸基は塩型あるいは酸型であり互いに異なるものであってもよい。
【０１１５】
本発明において、前記一般式（１）で表されるアゾ顔料は、結晶中に水分子を含む水和物であっても良い。
【０１１６】
次に上記一般式（１）で表されるアゾ顔料の製造方法の一例について説明する。例えば、下記一般式（Ａ）で表されるヘテロ環アミンを酸性条件でジアゾニウム化し、下記一般式（Ｂ）で表される化合物とカップリング反応を行い、常法による後処理を行って上記一般式（１）で表されるアゾ顔料を製造することができる。
【０１１７】
【化２３】
0005608514.tif 000025
【０１１８】
（一般式（Ａ）及び（Ｂ）中、Ｇ、Ｙ、Ｗ、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｚは一般式（１）中の対応するＧ１、Ｇ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｗ１、Ｗ２、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｚと同義である。）
【０１１９】
上記一般式（Ａ）で表されるヘテロ環アミンは、一般的には公知慣用の方法、例えば、Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ，４１，１９５８，１０５２〜１０５６やＨｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ，４２，１９５９，３４９〜３５２等に記載の方法、及び、それに準じた方法で製造することができる。
上記一般式（Ｂ）で表される化合物は、国際公開第０６／０８２６６９号や特開２００６−５７０７６号公報に記載の方法、及び、それに準じた方法で製造することができる。
上記一般式（Ａ）で表されるヘテロ環アミンのジアゾニウム化反応は、例えば、硫酸、リン酸、酢酸、塩酸、メタンスルホン酸などの酸性溶媒中、亜硝酸ナトリウム、ニトロシル硫酸、亜硝酸イソアミル等の試薬を１５℃以下の温度で１０分〜６時間程度反応させることで行うことができる。
カップリング反応は、上述の方法で得られたジアゾニウム塩と上記一般式（Ｂ）で表される化合物とを４０℃以下、好ましくは、２５℃以下で１０分〜１２時間程度反応させることで行うことができる。
このようにして反応させたものは、結晶が析出しているものもあるが、一般的には反応液に水、あるいはアルコール系溶媒を添加し、結晶を析出させ、結晶を濾取することができる。また、反応液にアルコール系溶媒、水等を添加して結晶を析出させて、析出した結晶を濾取することができる。濾取した結晶を必要に応じて洗浄・乾燥して、一般式（１）で表されるアゾ顔料を得ることができる。
【０１２０】
上記の製造方法によって、上記一般式（１）で表される化合物は粗アゾ顔料（クルード）として得られるが、本発明において顔料として用いる場合、混合工程に供する前に、後処理を行うことが望ましい。一次粒子径をコントロールするためである。この後処理の方法としては、例えば、ソルベントソルトミリング、ソルトミリング、ドライミリング、ソルベントミリング、アシッドペースティング等の磨砕処理、溶媒加熱処理などによる顔料粒子制御工程、樹脂、界面活性剤及び分散剤等による表面処理工程が挙げられる。
【０１２１】
一般式（１）で表される化合物について、後処理によって一次粒子径を１０〜７０ｎｍとする場合には、溶媒加熱処理及び／又はソルベントソルトミリングを行うことが好ましく、ソルベントソルトミリングを行うことがより好ましい。
溶媒加熱処理に使用される溶媒としては、例えば、水、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、イソプロパノール、イソブタノール等のアルコール系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の極性非プロトン性有機溶媒、氷酢酸、ピリジン、又はこれらの混合物等が挙げられる。上記で挙げた溶媒に、更に無機又は有機の酸又は塩基を加えても良い。溶媒加熱処理の温度は所望する顔料の一次粒子径の大きさによって異なるが、本発明においては、４０〜１５０℃が好ましく、６０〜１００℃が更に好ましい。また、処理時間は、３０分〜２４時間が好ましい。
【０１２２】
ソルベントソルトミリングは、例えば、アゾ顔料、その互変異性体、それらの塩及び水和物からなる群より選択される少なくとも１種（以下、「アゾ顔料等」という場合がある）と、水溶性無機塩と、水溶性有機溶剤とを含む混合物を混練機に仕込み、その中で混練する磨砕工程である。
上記水溶性無機塩としては、通常用いられる水溶性無機塩を特に制限なく用いることができる。具体的には、例えば塩化ナトリウム、塩化カリウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム等の無機塩を用いることが好ましい。また、使用する水溶性無機塩の平均粒子径は、０．５〜５０μｍが好ましく、１〜２０μｍがより好ましく、１〜１０μｍが更に好ましい。当該無機塩の使用量は、アゾ顔料等に対して１〜３０質量倍とすることができ、生産性の観点から３〜２０質量倍とするのが好ましく、５〜１５質量倍とするのがより好ましい。
水溶性有機溶剤としては、水に溶解し、アゾ顔料等と上記水溶性無機塩を実質的に溶解しないものが好ましく、混練時の温度上昇により溶剤が蒸発し易い状態になるため、安全性の点から高沸点溶剤が好ましい。水溶性有機溶剤は粗アゾ顔料と水溶性無機塩とを含む混合物を混練に適用可能な硬さに調整するために用いることができる。このような水溶性有機溶剤としては、例えばジエチレングリコール、グリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、液体ポリエチレングルコール、液体ポリプロピレングリコール、２−（メトキシメトキシ）エタノール、２−ブトキシエタノール、２ー（イソペンチルオキシ）エタノール、２−（ヘキシルオキシ）エタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングルコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、１−エトキシ−２−プロパノール、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコール又はこれらの混合物が挙げられる。当該水溶性有機溶剤の使用量は、アゾ顔料等に対して０．１〜５質量倍が好ましい。混練温度は、２０〜１３０℃が好ましく、４０〜１１０℃が特に好ましい。混練機としては、例えばニーダーやミックスマーラー等が使用できる。
【０１２３】
Ｂ：界面活性剤
本発明における界面活性剤としては、ノニオン、カチオン、アニオン、ベタイン界面活性剤など、当該技術分野において、通常、使用されるものを挙げることができるが、混合工程において作製される顔料溶液中に溶解できる。界面活性剤は、低分子界面活性剤であることが好ましい。界面活性剤が該顔料溶液中に溶解し、更に該界面活性剤が流動性が高い低分子界面活性剤であることによって、界面活性剤の顔料分散効果が十分に得られるからである。
本発明における低分子界面活性剤としては、分子内に親水部と疎水部を合わせ持つ構造を有する化合物等が有効に使用することができ、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤のいずれも使用することができる。
低分子界面活性剤の分子量は100〜10000であることが好ましく、150〜4000であることがより好ましい。
【０１２４】
アニオン系界面活性剤の具体例としては、例えば、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸カリウム、ナトリウムジオクチルスルホサクシネート、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテ硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸ナトリウム、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム、ｔ−オクチルフェノキシエトキシポリエトキシエチル硫酸ナトリウム塩等が挙げられ、これらの１種、又は２種以上を選択することができる。
ノニオン性界面活性剤の具体例としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、オキシエチレン・オキシプロピレンブロックコポリマー、ｔ−オクチルフェノキシエチルポリエトキシエタノール、ノニルフェノキシエチルポリエトキシエタノール等が挙げられ、これらの１種、又は２種以上を選択することができる。
カチオン性界面活性剤としては、テトラアルキルアンモニウム塩、アルキルアミン塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジウム塩、イミダゾリウム塩等が挙げられ、具体的には、例えば、ジヒドロキシエチルステアリルアミン、２−ヘプタデセニル−ヒドロキシエチルイミダゾリン、ラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、セチルピリジニウムクロライド、ステアラミドメチルピリジウムクロライド等が挙げられる。
【０１２５】
Ｃ：水不溶性ポリマー
本発明における水不溶性ポリマーは、有機溶剤に溶解し、一般式（１）で表されるアゾ顔料の少なくとも一部を被覆して分散媒に分散可能な樹脂であれば特に制限はない。例えば、エチレン性不飽和基を有するモノマーの共重合体である、ノニオン性高分子化合物、アニオン性高分子化合物、カチオン性高分子化合物及び両性高分子化合物等を挙げることができる。
【０１２６】
本発明における水不溶性ポリマーは、分散媒中で安定的に存在することができ、凝集物の付着又は堆積を緩和し、付着した凝集物の除去の容易化の観点から、疎水性構造単位と親水性構造単位とからなる樹脂であることが好ましい。
【０１２７】
疎水性構造単位としては、例えば、親水性構造単位に属しない（例えば親水性の官能基を有しない）例えば（メタ）アクリレート類、（メタ）アクリルアミド類、スチレン類、及びビニルエステル類などのビニルモノマー類等に由来の構造単位、並びに主鎖をなす原子に連結基を介して芳香環を有する疎水性構造単位を挙げることができる。これらの構造単位は、１種単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
【０１２８】
前記（メタ）アクリレート類としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレートなどが挙げられ、中でも、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレートが好ましく、特にメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレートが好ましい。
前記（メタ）アクリルアミド類としては、例えば、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアリル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アリル（メタ）アクリルアミドなどの（メタ）アクリルアミド類が挙げられる。
前記スチレン類としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ｎ−ブチルスチレン、ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えばｔ−Ｂｏｃなど）で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレン、ビニルナフタレン等などが挙げられ、中でも、スチレン、α−メチルスチレンが好ましい。
前記ビニルエステル類としては、例えば、ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、及び安息香酸ビニルなどのビニルエステル類が挙げられる。中でも、ビニルアセテートが好ましい。
【０１２９】
「主鎖をなす原子に連結基を介して芳香環を有する疎水性構造単位」では、芳香環は連結基を介して水不溶性ポリマーの主鎖をなす原子と結合され、水不溶性ポリマーの主鎖をなす原子に直接結合しない構造を有するので、疎水性の芳香環と親水性構造単位との間に適切な距離が維持されるため、水不溶性ポリマーと顔料との間で相互作用が生じやすく、強固に吸着して分散性が更に向上する。
【０１３０】
親水性構造単位としては、親水性基を含むモノマーに由来する構造単位であれば特に制限はない。前記親水性基としてはアニオン性、カチオン性、及び非イオン性のいずれであってもよい。本発明において前記親水性構造単位は、分散性の観点から、アニオン性親水性基を含む構造単位の少なくとも１種を含むことが好ましく、アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも一方に由来する構造単位を含むことが好ましい。
本発明において親水性構造単位は、１種単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
【０１３１】
本発明における水不溶性ポリマーはアクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも一方に由来する構造単位を含むアクリル系ポリマー又はメタクリル系ポリマーであることが好ましいが、その他の親水性構造単位を含んでいてもよい。その他の親水性構造単位としては、非イオン性の親水性基又はカチオン性の親水性基を有するモノマーに由来の構造単位が挙げられる。
【０１３２】
このように本発明における水不溶性ポリマーがアニオン性基を有する場合、水不溶性ポリマーの酸価としては、顔料分散性、保存安定性の観点から、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上８５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上８５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが特に好ましい。
なお、酸価とは、水不溶性ポリマーの１ｇ中のアニオン性基を完全に中和するのに要するＫＯＨの質量（ｍｇ）で定義され、ＪＩＳ規格（ＪＩＳＫ００７０、１９９２）記載の方法により測定されるものである。
【０１３３】
非イオン性又はカチオン性の「親水性の官能基」としては、水酸基、アミノ基、（窒素原子が無置換の）アミド基、及び後述のポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のアルキレンオキシドが挙げられる。
【０１３４】
非イオン性又はカチオン性の親水性基を有するモノマーとしては、例えば、非イオン性又はカチオン性の親水性の官能基を有する（メタ）アクリレート類、（メタ）アクリルアミド類、及びビニルエステル類等のビニルモノマー類に由来する構造単位を挙げることができる。
【０１３５】
非イオン性又はカチオン性の親水性基を有する親水性構造単位を形成するモノマーとしては、エチレン性不飽和結合等の重合体を形成しうる官能基と非イオン性又はカチオン性の親水性の官能基とを有していれば、特に制限はなく、公知のモノマーから選択することができる。具体的な例としては、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、アミノエチルアクリレート、アミノプロピルアクリレート、アルキレンオキシド重合体を含有する（メタ）アクリレートを好適に挙げることができる。
【０１３６】
非イオン性又はカチオン性の親水性基を有する親水性構造単位は、対応するモノマーの重合により形成することができるが、重合後のポリマー鎖に親水性の官能基を導入してもよい。
【０１３７】
非イオン性の親水性基を有する親水性構造単位は、アルキレンオキシド構造を有する親水性の構造単位がより好ましい。アルキレンオキシド構造のアルキレン部位としては、親水性の観点から、炭素数１〜６のアルキレン部位が好ましく、炭素数２〜６のアルキレン部位がより好ましく、炭素数２〜４のアルキレン部位が特に好ましい。また、アルキレンオキシド構造の重合度としては、１〜１２０が好ましく、１〜６０がより好ましく、１〜３０が特に好ましい。
【０１３８】
また、非イオン性の親水性基を有する親水性構造単位は、水酸基を含む親水性の構造単位であることも好ましい態様である。構造単位中の水酸基数としては、特に制限はなく、水不溶性ポリマーの親水性、重合時の溶媒や他のモノマーとの相溶性の観点から、１〜４が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２が特に好ましい。
【０１３９】
本発明における水不溶性ポリマーとしては、親水性構造単位と疎水性構造単位との組成は各々の親水性、疎水性の程度にも影響するが、親水性構造単位の割合が１５質量％以下であることが好ましい。このとき、疎水性構造単位は、水不溶性ポリマーの質量全体に対して、８０質量％を超える割合であるのが好ましく、８５質量％以上であるのがより好ましい。
親水性構造単位の含有量が１５質量％以下であると、単独で水性媒体中に溶解する成分量が抑えられ、顔料の分散などの諸性能が良好になり、インクジェット記録時には良好なインク吐出性が得られる。
【０１４０】
親水性構造単位の好ましい含有割合は、水不溶性ポリマーの全質量に対して、０質量％を超え１５質量％以下の範囲であり、より好ましくは２〜１５質量％の範囲であり、更に好ましくは５〜１５質量％の範囲であり、特に好ましくは８〜１２質量％の範囲である。
【０１４１】
水不溶性ポリマー中に含まれる芳香環基の含有割合は、水不溶性ポリマーの全質量に対して、２７質量％以下であるのが好ましく、２５質量％以下であるのがより好ましく、２０質量％以下であることが更に好ましい。中でも、１５〜２０質量％であるのが好ましく、１７〜２０質量％の範囲がより好ましい。芳香族環の含有割合が前記範囲内であると、耐擦過性が向上する。
【０１４２】
本発明における水不溶性ポリマーの分子量としては、質量平均分子量（Ｍｗ）で３万以上が好ましく、３万〜１５万がより好ましく、更に好ましくは３万〜１０万であり、特に好ましくは３万〜８万である。分子量が３万以上であると、分散剤としての立体反発効果が良好になる傾向があり、立体効果により顔料へ吸着し易くなる。
また、数平均分子量（Ｍｎ）では１，０００〜１００，０００の範囲程度のものが好ましく、３，０００〜５０，０００の範囲程度のものが特に好ましい。数平均分子量が前記範囲内であると、顔料における被覆膜としての機能又はインク組成物の塗膜としての機能を発揮することができる。本発明における水不溶性ポリマーは、アルカリ金属や有機アミンの塩の形で使用されることが好ましい。
【０１４３】
また、本発明における水不溶性ポリマーの分子量分布（質量平均分子量／数平均分子量）としては、１〜６の範囲が好ましく、１〜４の範囲がより好ましい。分子量分布が前記範囲内であると、インクの分散安定性、吐出安定性を高められる。
【０１４４】
数平均分子量及び質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）で測定される。ＧＰＣは、ＨＬＣ−８０２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）を用い、カラムとして、ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺ２００（いずれも東ソー（株）製、４．６ｍｍＩＤ×１５ｃｍ）の３本用い、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を、標準物質としてポリスチレンを用いて換算することにより求められる分子量である。条件としては、試料濃度を０．３５質量％、流速を０．３５ｍｌ／ｍｉｎ、サンプル注入量を１０μｌ、測定温度を４０℃とし、ＩＲ検出器を用いて行なう。また、検量線は、東ソー（株）製「標準試料ＴＳＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ，ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ」：「Ｆ−４０」、「Ｆ−２０」、「Ｆ−４」、「Ｆ−１」、「Ａ−５０００」、「Ａ−２５００」、「Ａ−１０００」、「ｎ−プロピルベンゼン」の８サンプルから作製するものである。
【０１４５】
本発明における水不溶性ポリマーは、種々の重合方法、例えば溶液重合、沈澱重合、懸濁重合、沈殿重合、塊状重合、乳化重合により合成することができる。重合反応は、回分式、半連続式、連続式等の公知の操作で行なうことができる。重合の開始方法は、ラジカル開始剤を用いる方法、光又は放射線を照射する方法等がある。これらの重合方法、重合の開始方法は、例えば、鶴田禎二「高分子合成方法」改定版（日刊工業新聞社刊、１９７１）や大津隆行、木下雅悦共著「高分子合成の実験法」化学同人、昭和４７年刊、１２４〜１５４頁に記載されている。
前記重合方法のうち、特にラジカル開始剤を用いた溶液重合法が好ましい。溶液重合法で用いられる溶剤には、通常用いられる溶剤を特に制限なく用いることができる。溶剤は、１種単独で又は２種以上を併用してもよい。また、水との混合溶媒として用いてもよい。重合温度は、生成するポリマーの分子量、開始剤の種類などと関連して設定する必要があり、通常は０℃〜１００℃程度であるが、５０〜１００℃の範囲で重合を行なうことが好ましい。反応圧力は、適宜選定可能であるが、通常は１〜１００ｋｇ／ｃｍ２であり、特に１〜３０ｋｇ／ｃｍ２程度が好ましい。反応時間は、５〜３０時間程度である。得られた樹脂は、再沈殿などの精製を行なってもよい。
【０１４６】
Ｄ：酸、混合酸及び酸と有機溶媒との混合溶媒（酸溶媒）
混合工程で使用される酸とは、アゾ化合物を完溶させないまでも、わずかでも溶解できる酸を意味し、好ましくはアゾ化合物を完溶させる酸である。酸には無機酸（鉱酸とも呼ばれる）及び有機酸が使用でき、無機酸としては、例えば、塩酸、リン酸、硫酸が挙げられ、好ましくはリン酸、硫酸であり、更に好ましくは硫酸である。有機酸には、例えば、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸が挙げられ、好ましくは酢酸、プロピオン酸、メタンスルホン酸であり、更に好ましくは酢酸、メタンスルホン酸である。また、これらの酸は単独で用いても良いし、混合して用いても良い。
【０１４７】
混合酸としては、例えば、リン酸／酢酸、硫酸／酢酸、メタンスルホン酸／酢酸、酢酸／プロピオン酸が挙げられ、好ましくは硫酸／酢酸、硫酸／プロピオン酸、硫酸／酢酸／プロピオン酸、メタンスルホン酸／酢酸であり、更に好ましくは硫酸／酢酸、硫酸／酢酸／プロピオン酸であり、その中でも硫酸／酢酸が特に好ましい。これら混合酸の質量比は１／（０．１〜２０）が好ましく、１／（０．５〜１０）がより好ましく、更に好ましくは１／（１〜１０）である。更に、この混合酸は３種以上であっても良い。例えば硫酸／酢酸／プロピオン酸[質量比は１／（０．５〜１０）／（０．５〜１０）の範囲が好ましい]、メタンスルホン酸／酢酸／プロピオン酸［質量比は１／（０．５〜１０）／（０．５〜１０）の範囲が好ましい］が挙げられる。
【０１４８】
酸又は混合酸を有機溶媒との混合溶媒として用いる場合には、酸又は混合酸を完全に溶解させるために、酸に対して高い溶解度をもつ溶剤を、有機溶媒に添加することができる。具体的には、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブチルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、アセトン、酢酸エチルなどを用いることができる。有機溶媒の量は、酸溶媒全量に対して、３０質量％〜９０質量％であることが好ましい。
酸溶媒は水を0.05質量％以上含むことが好ましく、好ましくは0.2質量％〜50質量％含むことが好ましい。
【０１４９】
混合工程で使用される酸の量は、有機顔料を均一に溶解可能な量であり、特に限定されないが、過剰量用いることが好ましい。無機酸又は有機酸の場合を問わず、好ましくは有機顔料に対して３〜５００モル当量であり、より好ましくは１０〜５００モル当量であり、更に好ましくは３０〜２００モル当量である。
【０１５０】
なお、混合工程においては、顔料の分散性及び得られる顔料分散体の物性調整の観点から、上に説明したＡ〜Ｄの材料の他に、更に、水を混合する工程を含むことが好ましい。水を混合する工程により、貧溶媒と混合して粒子形成する際の攪拌時間を短くすることが可能となる。更に混合される水の量は、該混合工程で得られる混合液の全量に対し、０．５質量％〜２０質量％であることが好ましく、１質量％〜１０質量％であることが好ましい。
混合される水としては、例えば、イオン交換水、限外濾過水、逆浸透水、蒸留水等の純水や超純水が好ましい。更に、カビやバクテリア等の発生を防ぐ目的で紫外線処理、過酸化水素水処理等により滅菌された水が用いられることが好ましい。
【０１５１】
２．析出・分散工程
析出・分散工程は、上記混合工程で得られた顔料溶液について、ｐＨ８〜１３の条件下で、前記酸溶媒に対しては相溶性を有するが前記アゾ顔料に対しては貧溶媒となる水系溶媒を混合することによって、アゾ顔料の微粒子を析出させ、その顔料分散体を得る工程である。
【０１５２】
水系溶媒としては、上述のように酸溶媒と相溶する又は均一に混ざるものであって、前記アゾ顔料の貧溶媒となるものが使用される。アゾ顔料の貧溶媒としては、アゾ顔料の溶解度が０．０２質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以下であることがより好ましい。アゾ顔料の貧溶媒への溶解度には、特に下限はないが、０．０００００１質量％以上が実際的である。この溶解度は酸溶媒の存在下で溶解された場合の溶解度であってもよい。また、酸溶媒と水系溶媒との相溶性又は均一混合性は、酸溶媒の水系溶媒に対する溶解量が３０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましい。酸溶媒の水系溶媒に対する溶解量に特に上限はないが、任意の割合で混じり合うことが実際的である。
【０１５３】
水系溶媒としては、このように酸溶媒に相溶し、アゾ顔料が不溶若しくは難溶であれば、特に制限はなく、例えば、水性溶媒（例えば、水、又は塩酸、水酸化ナトリウム水溶液）、アルコール化合物溶媒、ケトン化合物溶媒、エーテル化合物溶媒、芳香族化合物溶媒、二硫化炭素溶媒、脂肪族化合物溶媒、ニトリル化合物溶媒、ハロゲン化合物溶媒、エステル化合物溶媒、イオン性液体、これらの混合溶媒などが挙げられ、水性溶媒、アルコール化合物溶媒、ケトン化合物溶媒、エーテル化合物溶媒、エステル化合物溶媒、又はこれらの混合物が好ましく、水性溶媒、アルコール化合物溶媒又はエステル化合物溶媒がより好ましい。
【０１５４】
アルコール化合物溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、１−メトキシ−２−プロパノールなどが挙げられる。ケトン化合物溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが挙げられる。エーテル化合物溶媒としては、例えば、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどが挙げられる。芳香族化合物溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエンなどが挙げられる。脂肪族化合物溶媒としては、例えば、ヘキサンなどが挙げられる。ニトリル化合物溶媒としては、例えば、アセトニトリルなどが挙げられる。ハロゲン化合物溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、トリクロロエチレン、ヨードホルムなどが挙げられる。エステル化合物溶媒としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、２−（１−メトキシ）プロピルアセテートなどが挙げられる。イオン性液体としては、例えば、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムとＰＦ6-との塩などが挙げられる。
【０１５５】
析出・分散工程を行う際の貧溶媒としての水系溶媒の条件に特に制限はなく、常圧から亜臨界、超臨界条件の範囲を選択できる。常圧での温度は−３０〜１００℃が好ましく、−１０〜６０℃がより好ましく、０〜３０℃が特に好ましい。
【０１５６】
析出・分散工程は、ｐＨ８〜１３の条件下で行われる。ｐＨの値をこの範囲とすることで、アゾ顔料を望ましい粒子径で析出させることができる。ｐＨ値の調整に用いられるｐＨ調整剤としては、製造工程及び得られる顔料分散体に悪影響を及ぼさずにｐＨを所望の値に調整できるものであれば特に制限はなく、例えば、アルコールアミン類（例えば、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２−アミノ−２−エチル−１，３プロパンジオールなど）、アルカリ金属水酸化物（例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど）、アンモニウム水酸化物（例えば、水酸化アンモニウム、第４級アンモニウム水酸化物）、ホスホニウム水酸化物、アルカリ金属炭酸塩などが挙げられる。
【０１５７】
また、アゾ顔料微粒子を生成させる際の調製スケールは、特に限定されないが、水系溶媒の混合量が１〜１０００Ｌの調製スケールであることが好ましく、１〜５００Ｌの調製スケールであることがより好ましい。
【０１５８】
＜水系顔料分散体＞
本発明の製造方法により作製される本発明の水系顔料分散体は、一般式（１）で表されるアゾ顔料、界面活性剤、水不溶性ポリマー、溶媒を含み、例えば、体積平均粒子径（Ｍｖ）が４０〜１２０ｎｍのように小さく、多分散性指数（ＰＤＩ）が１．０〜１.６の範囲のように粒度分布幅が非常に狭いことが好ましい。ここで、多分散性指数（ＰＤＩ）は、ＰＤＩ＝（Ｄ９０−Ｄ１０）／Ｄ５０〔式中、Ｄ９０、Ｄ５０、Ｄ１０は、それぞれ分布関数ｄＧ＝Ｆ（Ｄ）ｄＤ（Ｇは顔料粒子数、Ｄは粒径）の積分が、顔料粒子の全粒子数の０．９（９０個数％）、０．５（５０個数％）及び０．１（１０個数％）に等しい粒径を表す。〕の式より求められる。つまり、上記関係式において、粒度分布が狭いほど、ＰＤＩはゼロに近づき、逆に、粒度分布が広い、つまり多分散性が大きいほど、ＰＤＩは大きくなる。
【０１５９】
本発明の水系顔料分散体は、本発明の製造方法により作製されるため、体積平均粒子径が小さい。また粒度分布幅が狭いため、粗大粒子の沈降や、微細粒子の凝集が起こりにくく、保存安定性と吐出性に非常に優れ、更に耐溶剤性に優れるという利点を有する。
なお、本発明の水系顔料分散体は、粗大粒子の含有量については特に限定はされないが、吐出性、透明性や保存安定性の観点から、粒子径が０．５μｍ以上の粗大粒子の個数濃度が０個／ｍｌ以上１．２×１０７個／ｍｌ未満であることが好ましく、０個／ｍｌ以上５．０×１０６個／ｍｌ未満であることがより好ましい。
【０１６０】
＜インクジェット記録用水性インク＞
次に、本発明のインクジェット記録用水性インクについて説明する。本発明のインクジェット記録用水性インク（以下、「インク」という場合がある）は、本発明の水系顔料分散体及び水性媒体を含む。
【０１６１】
本発明のインク中の水系顔料分散体の含有割合は、特に限定はされないが、記録媒体上に形成した画像の色相、色濃度、彩度、透明性等を考慮すると、１〜１００質量％の範囲が好ましく、３〜２０質量％の範囲が特に好ましく、その中でも３〜１０質量％の範囲が最も好ましい。
また、本発明のインクの顔料含有量は、例えば０．１質量％〜２０質量％であり、０．２質量％〜１０質量％が好ましく、１質量％〜１０質量％が更に好ましい。このように特定のアゾ顔料を用いた本発明のインクジエット用水性インクでは、顔料含有量が少なくても良好な印画濃度を得ることができる。
【０１６２】
・水性媒体
本発明のインクジェット記録用水性インクは水性媒体を含む。水性媒体としては、純水、超純水など上記分散媒と同様のものや、水溶性有機溶剤が挙げられる。水溶性有機溶剤は乾燥防止剤、湿潤剤あるいは浸透促進剤の目的で使用される。
ノズルのインク噴射口において該インクが乾燥することによる目詰まりを防止する目的で乾燥防止剤が用いられ、乾燥防止剤や湿潤剤としては、水より蒸気圧の低い水溶性有機溶剤が好ましい。また、インクを紙により良く浸透させる目的で浸透促進剤として、水溶性有機溶剤が好適に使用される。
【０１６３】
水溶性有機溶媒の例として、グリセリン、１，２，６−ヘキサントリオール、トリメチロールプロパン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ペンタエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリオキシエチレングリセリルエーテル、ポリオキシプロピレングリセリルエーテル、２−ブテン−１，４−ジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、１，２−オクタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、１，２−ペンタンジオール、４−メチル−１，２−ペンタンジオール等のアルカンジオール（多価アルコール類）；ヴルコース、マンノース、フルクトース、リボース、キシロース、アラビノース、ガラクトース、アルドン酸、グルシトール、（ソルビット）、マルトース、セロビオース、ラクトース、スクロース、トレハロース、マルトトリオース等の糖類；糖アルコール類；ピアルロン酸類；尿素類等のいわゆる固体湿潤剤；エタノール、メタノール、ブタノール、プロパノール、イソプロパノールなどの炭素数１〜４のアルキルアルコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｉｓｏ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｉｓｏ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｉｓｏ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｉｓｏ−プロピルエーテルなどのグリコールエーテル類；２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ホルムアミド、アセトアミド、ジメチルスルポキシド、ソルビット、ソルビタン、アセチン、ジアセチン、トリアセチン、スルホラン等が挙げられ、これらの１種又は２種以上を用いることができる。
【０１６４】
乾燥防止剤や湿潤剤の目的としては，ポリオール化合物が有用であり、例えば、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、３−メチル−１，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、テトラエチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、ポリエチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，２，６−ヘキサントリオール、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１６５】
浸透剤の目的としては、ポリオール化合物が好ましく、脂肪族ジオールとしては、例えば、２−エチル−２−メチル−１，３−プロパンジオール、３，３−ジメチル−１，２−ブタンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、２，４−ジメチル−２，４−ペンタンジオール、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオール、５−ヘキセン−１，２−ジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオールなどが挙げられる。これらの中でも、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールが好ましい例として挙げることができる。
【０１６６】
本発明に使用される水性媒体は、単独で使用しても、２種類以上混合して使用しても構わない。水性媒体の好ましい例として、グリセリン、ジプロピレングリコール、ポリオキシエチレングリセリルエーテル、ポリオキシプロピレングリセリルエーテルを挙げることができる。
水性溶媒水溶性有機溶媒の含有量としては、好ましくは５質量％以上６０質量％以下、より好ましくは、１０質量％以上４０質量％以下で使用される。
本発明に使用される水の添加量は特に制限は無いが、好ましくは、１０質量％以上９９質量％以下であり、より好ましくは、３０質量％以上８０質量％以下である。更に好ましくは、５０質量％以上７０質量％以下である。
【０１６７】
・その他成分
本発明のインクには、その他の添加剤を含有してもよい。その他の添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、褪色防止剤、防黴剤、ｐＨ調整剤、防錆剤、酸化防止剤、乳化安定剤、防腐剤、消泡剤、粘度調整剤、分散安定剤、キレート剤等の公知の添加剤が挙げられる。
【０１６８】
紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、サリチレート系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、ニッケル錯塩系紫外線吸収剤、などが挙げられる。
【０１６９】
褪色防止剤としては、各種の有機系及び金属錯体系の褪色防止剤を使用することができる。有機の褪色防止剤としてはハイドロキノン類、アルコキシフェノール類、ジアルコキシフェノール類、フェノール類、アニリン類、アミン類、インダン類、クロマン類、アルコキシアニリン類、ヘテロ環類などがあり、金属錯体としてはニッケル錯体、亜鉛錯体などがある。
【０１７０】
防黴剤としてはデヒドロ酢酸ナトリウム、安息香酸ナトリウム、ナトリウムピリジンチオン−１−オキシド、ｐ−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、ソルビン酸ナトリウム、ペンタクロロフェノールナトリウムなどが挙げられる。これらはインク中に０．０２〜１．００質量％使用するのが好ましい。
【０１７１】
防錆剤としては、例えば、酸性亜硫酸塩、チオ硫酸ナトリウム、チオジグリコール酸アンモン、ジイソプロピルアンモニウムニトライト、四硝酸ペンタエリスリトール、ジシクロヘキシルアンモニウムニトライトなどが挙げられる。
【０１７２】
酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤（ヒンダードフェノール系酸化防止剤を含む）、アミン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、りん系酸化防止剤などが挙げられる。
【０１７３】
キレート剤としては、例えば、エチレンジアミン四酢酸ナトリウム、ニトリロ三酢酸ナトリウム、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸ナトリウム、ジエチレントリアミン五酢酸ナトリウム、ウラミル二酢酸ナトリウムなどが挙げられる。
【０１７４】
・樹脂微粒子
本発明のインクには樹脂微粒子あるいはポリマーラテックスを含有してもよい。樹脂微粒子あるいはポリマーラテックスとしては、アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、スチレン−ブタジエン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、アクリル−スチレン系樹脂、ブタジエン系樹脂、スチレン系樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋スチレン系樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン系樹脂、パラフィン系樹脂、フッ素系樹脂等を用いることができる。アクリル系樹脂、アクリル−スチレン系樹脂、スチレン系樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋スチレン系樹脂を好ましい例として挙げることができる。
【０１７５】
樹脂微粒子の好ましい例として、自己分散性ポリマー微粒子を挙げることができる。自己分散性ポリマー微粒子とは、他の界面活性剤の不存在下に、ポリマー自身が有する官能基（特に、酸性基又はその塩）によって、水性媒体中で分散状態となりうるビニルポリマーであって、遊離の乳化剤を含有しないビニルポリマーの微粒子を意味する。ここで分散状態とは、水性媒体中にビニルポリマーが液体状態で分散された乳化状態（エマルジョン）、及び、水性媒体中にビニルポリマーが固体状態で分散された分散状態（サスペンジョン）の両方の状態を含むものである。本発明ではビニルポリマーが固体状態で分散された分散状態となりうるビニルポリマーであることが好ましい。
【０１７６】
本発明で好ましく用いられる自己分散性ポリマー微粒子は、自己分散性の観点から、親水性の構成単位と芳香族基含有モノマーに由来する構成単位とを含むビニルポリマーを含むことが好ましい。
【０１７７】
前記親水性の構成単位は、親水性基含有モノマーに由来するものであれば特に制限はなく、１種の親水性基含有モノマーに由来するものであっても、２種以上の親水性基含有モノマーに由来するものであってもよい。前記親水性基としては、特に制限はなく、解離性基であってもノニオン性親水性基であってもよい。前記親水性基は、自己分散促進の観点、形成された乳化又は分散状態の安定性の観点から、解離性基であることが好ましく、アニオン性の解離基であることがより好ましい。前記解離性基としては、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基などが挙げられ、中でも、インク組成物を構成した場合の定着性の観点から、カルボキシル基が好ましい。解離性基含有モノマーとしては、例えば、不飽和カルボン酸モノマー、不飽和スルホン酸モノマー、不飽和リン酸モノマー等が挙げられる。
【０１７８】
不飽和カルボン酸モノマーとして具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、２−メタクリロイルオキシメチルコハク酸等が挙げられる。不飽和スルホン酸モノマーとして具体的には、スチレンスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、３−スルホプロピル（メタ）アクリレート、ビス−（３−スルホプロピル）−イタコン酸エステル等が挙げられる。
不飽和リン酸モノマーとして具体的には、ビニルホスホン酸、ビニルホスフェート、ビス（メタクリロキシエチル）ホスフェート、ジフェニル−２−アクリロイロキシエチルホスフェート、ジフェニル−２−メタクリロイロキシエチルホスフェート、ジブチル−２−アクリロイロキシエチルホスフェート等が挙げられる。分散安定性、吐出安定性の観点から、不飽和カルボン酸モノマーが好ましく、アクリル酸及びメタクリル酸がより好ましい。
【０１７９】
前記芳香族基含有モノマーは、芳香族基と重合性基とを含む化合物であれば特に制限はない。前記芳香族基は芳香族炭化水素に由来する基であっても、芳香族複素環に由来する基であってもよい。水性媒体中での粒子形状安定性の観点から、芳香族炭化水素に由来する芳香族基であることが好ましい。また前記重合性基は、縮重合性の重合性基であっても、付加重合性の重合性基であってもよい。本発明においては水性媒体中での粒子形状安定性の観点から、付加重合性の重合性基であることが好ましく、エチレン性不飽和結合を含む基であることがより好ましい。
【０１８０】
芳香族基含有モノマーは、芳香族炭化水素に由来する芳香族基とエチレン性不飽和結合とを有するモノマーであることが好ましく、芳香族基含有（メタ）アクリレートモノマーであることがより好ましい。前記芳香族基含有モノマーとしては、例えば、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、スチレン系モノマー等が挙げられる。中でも、ポリマー鎖の親水性と疎水性のバランスとインク定着性の観点から、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、及びフェニル（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、フェノキシエチル（メタ）アクリレートであることがより好ましく、フェノキシエチルアクリレートであることが特に好ましい。
【０１８１】
なお、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート又はメタクリレートを意味する。自己分散性ポリマー微粒子は、芳香族基含有（メタ）アクリレートモノマーに由来する構成単位を含み、その含有量が１０質量％〜９５質量％であることが好ましい。芳香族基含有（メタ）アクリレートモノマーの含有量が１０質量％〜９５質量％であることで、自己乳化又は分散状態の安定性が向上し、更にインク粘度の上昇を抑制することができる。自己分散状態の安定性、芳香環同士の疎水性相互作用による水性媒体中での粒子形状の安定化、粒子の適度な疎水化による水溶性成分量の低下の観点から、１５質量％〜９０質量％であることがより好ましく、１５質量％〜８０質量％であることがより好ましく、２５質量％〜７０質量％であることが特に好ましい。
【０１８２】
自己分散性ポリマー微粒子は、例えば、芳香族基含有モノマーからなる構成単位と、解離性基含有モノマーからなる構成単位とから構成することができるが、必要に応じて、その他の構成単位を更に含んで構成することができる。
前記その他の構成単位を形成するモノマーとしては、前記芳香族基含有モノマーと解離性基含有モノマーと共重合可能なモノマーであれば特に制限はない。中でも、ポリマー骨格の柔軟性やガラス転移温度（Ｔｇ）制御の容易さの観点から、アルキル基含有モノマーであることが好ましい。
【０１８３】
前記アルキル基含有モノマーとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート等の水酸基を有するエチレン性不飽和モノマー；ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等のジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート；Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎーヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシブチル（メタ）アクリルアミド等のＮ−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリルアミド；Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ｎ−，イソ）ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ｎ−、イソ）ブトキシエチル（メタ）アクリルアミド等のＮ−アルコキシアルキル（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
【０１８４】
本発明における自己分散性ポリマー微粒子を構成するビニルポリマーの分子量範囲は、質量平均分子量で、３０００〜２０万であることが好ましく、５０００〜１５万であることがより好ましく、１００００〜１０万であることが更に好ましい。質量平均分子量を３０００以上とすることで水溶性成分量を効果的に抑制することができる。また、質量平均分子量を２０万以下とすることで、自己分散安定性を高めることができる。
【０１８５】
なお、質量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフ（ＧＰＣ）によって測定することできる。
【０１８６】
自己分散性ポリマー微粒子を構成するビニルポリマーは、ポリマーの親疎水性制御の観点から、芳香族基含有（メタ）アクリレートモノマーを共重合比率として１５〜９０質量％とカルボキシル基含有モノマーとアルキル基含有モノマーとを含み、酸価が２５〜１００であって、質量平均分子量が３０００〜２０万であることが好ましく、芳香族基含有（メタ）アクリレートモノマーを共重合比率として１５〜８０質量％とカルボキシル基含有モノマーとアルキル基含有モノマーとを含み、酸価が２５〜９５であって、質量平均分子量が５０００〜１５万であることがより好ましい。
【０１８７】
自己分散性ポリマー微粒子の平均粒径は、１０ｎｍ〜１μｍの範囲が好ましく、１０〜２００ｎｍの範囲がより好ましく、２０〜１００ｎｍの範囲が更に好ましく、２０〜５０ｎｍの範囲が特に好ましい。
【０１８８】
自己分散性ポリマー微粒子の添加量はインクに対して、０．５〜２０質量％が好ましく、３〜２０質量％がより好ましく、５〜１５質量％が更に好ましい。
自己分散性ポリマー微粒子のガラス転移温度Ｔｇは３０℃以上であることが好ましく、４０℃以上がより好ましく、５０℃以上が更に好ましい。
また、ポリマー粒子の粒径分布に関しては、特に制限は無く、広い粒径分布を持つもの、又は単分散の粒径分布を持つもの、いずれでもよい。また、単分散の粒径分布を持つポリマー微粒子を、２種以上混合して使用してもよい。
【０１８９】
・プリント性を向上させる液体組成物
本発明には、プリント性を向上させる液体組成物を印字媒体に付与することが好ましい例として挙げることができる。
本発明に用いることができるプリント性を向上させる液体組成物の好ましい一例として、インクのｐＨを変化させることにより凝集物を生じさせる液体組成物を挙げることができる。このとき、液体組成物のｐＨは１〜６であることが好ましく、ｐＨは２〜５であることがより好ましく、ｐＨは３〜５であることが更に好ましい。液体組成物の成分として、ポリアクリル酸、酢酸、グリコール酸、マロン酸、リンゴ酸、マレイン酸、アスコルビン酸、コハク酸、グルタル酸、フマル酸、クエン酸、酒石酸、乳酸、スルホン酸、オルトリン酸、ピロリドンカルボン酸、ピロンカルボン酸、ピロールカルボン酸、フランカルボン酸、ビリジンカルボン酸、クマリン酸、チオフェンカルボン酸、ニコチン酸、若しくはこれらの化合物の誘導体、又はこれらの塩等の中から選ばれることが好ましい。これらの化合物は、１種類で使用されてもよく、２種類以上併用されてもよい。
【０１９０】
また、本発明に用いることができるプリント性を向上させる液体組成物の好ましい一例として、多価金属塩あるいはポリアリルアミンを添加した処理液を挙げることができる。液体組成物の成分として、多価金属塩として周期表の２Ａ属のアルカリ土類金属（例えば、マグネシウムとカルシウム）；周期表の３Ｂ属の遷移金属（例えば、ランタン）；周期表の３Ａ属からのカチオン（例えば、アルミニウム）；ランタニド類（例えば、ネオジム）；及びポリアリルアミン、ポリアリルアミン誘導体、を挙げることができる。好ましい例として、カルシウムとマグネシウムを挙げることができる。カルシウム又はマグネシウムの対塩として好ましく採用されるアニオンは、カルボン酸塩（蟻酸、酢酸、安息香酸塩など）、硝酸塩、塩化物、及びチオシアン酸塩を挙げることができる。処理液への添加量として、当該塩は約１〜約１０質量％、好ましくは約１．５〜約７質量％、より好ましくは約２〜約６質量％の範囲の量で処理液中に存在させることができる。
【０１９１】
本発明に使用される水性媒体は、単独で使用しても、２種類以上混合して使用しても構わない。水性媒体の含有量としては、インク全体の１質量％以上６０質量％以下、好ましくは、５質量％以上４０質量％以下で使用される。インク中の水性媒体量が１質量％よりも少ない場合には、十分な光学濃度が得られない場合が存在し、逆に、６０質量％よりも多い場合には、液体の粘度が大きくなり、インク液体の噴射特性が不安定になる場合が存在する。
【０１９２】
・インク物性
本発明のインクの好ましい物性は以下の通りである。インクの表面張力は、２０ｍＮ／ｍ以上６０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましい。より好ましくは、２０ｍＮ以上４５ｍＮ／ｍ以下であり、更に好ましくは、２５ｍＮ／ｍ以上３５ｍＮ／ｍ以下である。表面張力が２０ｍＮ／ｍ未満となると記録ヘッドのノズル面に液体が溢れ出し、正常に印字できない場合がある。一方、６０ｍＮ／ｍを超えると、印字後の記録媒体への浸透性が遅くなり、乾燥時間が遅くなる場合がある。
なお、上記表面張力は、前記同様ウイルヘルミー型表面張力計を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で測定した。
【０１９３】
インクの粘度は、１．２ｍＰａ・ｓ以上８．０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、より好ましくは１．５ｍＰａ・ｓ以上６．０ｍＰａ・ｓ未満、更に好ましくは１．８ｍＰａ・ｓ以上４．５ｍＰａ・ｓ未満である。粘度が８．０ｍＰａ・ｓより大きい場合には、吐出性が低下する場合がある。一方、１．２ｍＰａ・ｓより小さい場合には、長期噴射性が悪化する場合がある。
なお、上記粘度（後述するものを含む）の測定は、回転粘度計レオマット１１５（Ｃｏｎｔｒａｖｅｓ社製）を用い、２３℃でせん断速度を１４００ｓ−１として行った。
【０１９４】
インクには、前記各成分に加えて、上記の好ましい表面張力及び粘度となる範囲で、水が添加される。水の添加量は特に制限は無いが、好ましくは、インク全体に対して、１０質量％以上９９質量％以下であり、より好ましくは、３０質量％以上８０質量％以下である。
【実施例】
【０１９５】
以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。また、記載中の「部」及び「％」は、特に断らない限り質量部及び質量％を意味するものとする。
【０１９６】
［合成例１］
（顔料の合成）
例示化合物（Ｐｉｇ．−１）の合成
例示化合物（Ｐｉｇ．−１）の合成スキームを下記に示す。
【０１９７】
【化２４】
0005608514.tif 000026
【０１９８】
（１）中間体（ａ）の合成
シアノ酢酸メチル２９．７ｇ（０．３モル）にオルトギ酸トリメチル４２．４ｇ（０．４モル）、無水酢酸２０．４ｇ（０．２モル）、ｐ−トルエンスルホン酸０．５ｇを加えて１１０℃（外温）に加熱し、反応系から生じる低沸点成分を留去しながら２０時間攪拌した。この反応液を減圧濃縮した後、シリカゲルカラム精製を行い前記中間体（ａ）を１４．１ｇ（黄色粉末、収率３０％）で得た。得られた中間体（ａ）のＮＭＲ測定結果は以下の通りである。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）７．９６（ｓ，１Ｈ），４．１５（ｓ，３Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ）
【０１９９】
（２）中間体（ｂ）の合成
メチルヒドラジン７．４ｍＬ（１４１ミリモル）にイソプロパノール１５０ｍＬを加えて１５℃（内温）に冷却し、この混合液に中間体（ａ）７．０ｇ（４９．６ミリモル）を徐々に添加した後、５０℃に加熱して１時間４０分攪拌した。この反応液を減圧濃縮した後、シリカゲルカラム精製を行い前記中間体（ｂ）を１０．５ｇ（白色粉末、収率５０％）で得た。得られた中間体（ｂ）のＮＭＲ測定結果は以下の通りである。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）７．６０（ｓ，１Ｈ），  ４．９５（ｂｒｓ，２Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），３．６０（ｓ，３Ｈ）
【０２００】
（３）中間体（ｃ）の合成
ヒドラジン１水和物３８７ｍＬ（７．９８モル）にメタノール２９８ｍＬを加えて１０℃（内温）に冷却し、この混合液に４，６−ジクロロピリミジン１４９ｇ（１．００モル）を徐々に添加（内温２０℃以下）した後、氷浴をはずし、室温まで昇温し、同温度にて３０分攪拌した。その後更に加熱して内温６０℃まで昇温し、同温度にて５時間攪拌した。反応終了後、水７５０ｍＬを加えた後、氷冷して内温が８℃になるまで冷却し、析出した結晶をろ取、水でかけ洗いし、イソプロパノールでかけ洗いした。室温にて３６時間乾燥を行い前記中間体（ｃ）を１１９ｇ（白色粉末、収率８４．５％）で得た。得られた中間体（ｃ）のＮＭＲ測定結果は以下の通りである。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ｄ−ＤＭＳＯ）７．８０（ｓ，１Ｈ），７．５２（ｓ，２Ｈ），５．９８（ｓ，１Ｈ），４．１３（ｓ，４Ｈ）
【０２０１】
（４）中間体（ｄ）の合成
中間体（ｃ）５０ｇ（３５７ミリモル）に、水１２８ｍＬを加えて室温で攪拌した。この懸濁液にピバロイルアセトニトリル９８．２ｇ（７８５ミリモル）を加え、同温度にて１２Ｍ塩酸水をｐＨ３になるように滴加した後、内温が５０℃になるまで加熱し、同温度にて６時間攪拌した。反応終了後、８Ｎの水酸化カリウム水溶液を加えて中和し、ｐＨ６．４にした。氷冷し内温が１０℃になるまで冷却し、析出した結晶をろ取、水でかけ洗いした。得られた結晶を減圧下６０℃にて乾燥し、得られた粗精製物にトルエン３０ｍＬを加え、６０℃に加熱して溶解させた。得られた溶液を室温にて１２時間静置し、析出した結晶をろ取、冷却したトルエンでかけ洗いし、減圧下６０℃にて乾燥し、前記中間体（ｄ）を８７．７ｇ（白色粉末、収率６９．３％）で得た。得られた中間体（ｄ）のＮＭＲ測定結果は以下の通りである。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ｄ−ＤＭＳＯ）８．７４（ｓ，１Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ），６．８７（ｓ，４Ｈ），５．３５（ｓ，２Ｈ），１．２４（ｓ，１８Ｈ）
【０２０２】
（５）例示化合物（Ｐｉｇ．−１）の合成
酢酸５５ｍＬとプロピオン酸３７ｍＬの混合液に室温にて中間体（ｂ）９．２ｇを溶解させた。氷冷して内温を−３℃まで冷却し、内温が−３℃〜４℃でニトロシル硫酸の４０質量％硫酸溶液を１０分かけて滴下した。内温４℃にて１時間攪拌した後、尿素０．２ｇを加え、その後、内温を−３℃に冷却し、更に１０分攪拌し、ジアゾニウム塩溶液を得た。別に中間体（ｄ）１０ｇをアセトン１５０ｍＬに完溶させた後、内温を１７℃に冷却し、上述のジアゾニウム塩溶液に内温−３℃〜３℃の範囲内で２５分かけて添加した。添加完了後、３℃で３０分攪拌した後、氷浴をはずし、３０分かけて室温まで昇温させた。室温にて３０分攪拌した後、得られた結晶を濾別し、アセトン１５０ｍＬでかけ洗いし、更に水１００ｍＬでかけ洗いした。得られた結晶を乾燥せずに水４００ｍＬに懸濁させ、８規定の水酸化カリウム水溶液を添加して、ｐＨを５．７にした。室温にて２０分間攪拌した後、得られた結晶を濾別し、水で十分にかけ洗いしたのち、アセトン８０ｍＬをかけ洗いした。得られた結晶を室温にて、１２時間乾燥させた。
【０２０３】
得られた結晶をアセトン５８０ｍＬに懸濁させた後、還流下３０分間攪拌した。その後、１０分間かけて室温に冷却し、得られた結晶を濾別し、室温にて５時間乾燥させ、例示化合物（Ｐｉｇ．−１）を１８．０ｇ得た。収率９３．１％。
透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）観察による平均一次粒子径の測定として、カーボン膜を貼り付けたＣｕ２００メッシュに希釈した分散体を滴下した後乾燥させ、ＴＥＭ（日本電子製１２００ＥＸ）で１０万倍に拡大した画像から、重なっていない独立した粒子３００個の長径を測定した平均値を平均一次粒子径として算出した（以下、ＴＥＭ観察により算出した平均一次粒子径を単に平均一次粒子径と記述する。）。得られた顔料の平均一次粒子径を測定したところ８８０ｎｍであった。
【０２０４】
［合成例２］
（顔料の合成）
例示化合物（Ｐｉｇ．−１８）の合成
例示化合物（Ｐｉｇ．−１８）の合成スキームを下記に示す。
【０２０５】
【化２５】
0005608514.tif 000027
【０２０６】
（１）中間体（ａ）の合成
シアノ酢酸メチル２９．７ｇ（０．３モル）にオルトギ酸トリメチル４２．４ｇ（０．４モル）、無水酢酸２０．４ｇ（０．２モル）、ｐ−トルエンスルホン酸０．５ｇを加えて１１０℃（外温）に加熱し、反応系から生じる低沸点成分を留去しながら２０時間攪拌した。この反応液を減圧濃縮した後、シリカゲルカラム精製を行い前記中間体（ａ）を１４．１ｇ（黄色粉末、収率３０％）で得た。得られた中間体（ａ）のＮＭＲ測定結果は以下の通りである。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）７．９６（ｓ，１Ｈ），４．１５（ｓ，３Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ）
【０２０７】
（２）中間体（ｂ）の合成
メチルヒドラジン７．４ｍＬ（１４１ミリモル）にイソプロパノール１５０ｍＬを加えて１５℃（内温）に冷却し、この混合液に中間体（ａ）７．０ｇ（４９．６ミリモル）を徐々に添加した後、５０℃に加熱して１時間４０分攪拌した。この反応液を減圧濃縮した後、シリカゲルカラム精製を行い前記中間体（ｂ）を１０．５ｇ（白色粉末、収率５０％）で得た。得られた中間体（ｂ）のＮＭＲ測定結果は以下の通りである。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）７．６０（ｓ，１Ｈ），４．９５（ｂｒｓ，２Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），３．６０（ｓ，３Ｈ）
【０２０８】
（３）中間体（ｃ’）の合成
メタノール１．１Ｌに水１３６ｍＬを加えて、炭酸水素ナトリウム１８２ｇ（２．１７モル）を添加し、室温にて攪拌した。同温度にて塩化シアヌル２００ｇ（１．０８モル）を分割添加した。添加終了後、内温を３０℃まで昇温した。同温度にて３０分間攪拌した後、水５００ｍＬを加え、析出した固体を濾別し、水５００ｍＬ、メタノール３００ｍＬでかけ洗い後、乾燥を行い、前記中間体（ｃ’）を１６８ｇ（白色粉末、収率８６．２％）で得た。得られた中間体（ｃ’）のＮＭＲ測定結果は以下の通りである。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）４．１４（ｓ，３Ｈ）
【０２０９】
（４）中間体（ｄ’）の合成
ヒドラジン１水和物３６３ｍＬ（７．４６モル）に水６７３ｍＬを加えて１０℃（内温）に冷却し、この混合液に中間体（ｃ’）１６８ｇ（９３４ミリモル）を徐々に添加（内温２０℃以下）した後、氷浴をはずし、室温まで昇温し、同温度にて３０分攪拌した。反応液から析出した結晶をろ取、水７００ｍＬ、アセトニトリル１Ｌでかけ洗い後、乾燥を行い前記中間体（ｄ’）の粗精製物（白色粉末）を得た。
【０２１０】
（５）中間体（ｅ）の合成
中間体（ｄ’）の疎精製物に、エチレングリコール４８０ｍＬを加えて室温で攪拌した。この懸濁液にピバロイルアセトニトリル２５７ｇ（２．０６モル）を加え、内温が５０℃になるまで加熱した。同温度にて１２Ｍ塩酸水をｐＨ３になるように滴下した後、内温が８０℃になるまで加熱して３時間攪拌した。反応終了後、氷冷し内温が８℃になるまで冷却し、析出した結晶をろ取、水でかけ洗い後、シリカゲルカラム精製を行い、前記中間体（ｅ）を１０５ｇ（白色粉末、２工程収率２９．２％）で得た。得られた中間体（ｅ）のＮＭＲ測定結果は以下の通りである。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ｄ−ＤＭＳＯ）７．００（ｓ，４Ｈ），５．３５（ｓ，２Ｈ），４．０５（ｓ，３Ｈ），５．３５（ｓ，２Ｈ），１．２２（ｓ，１８Ｈ）
【０２１１】
（６）例示化合物（Ｐｉｇ．−１８）の合成
酢酸１２５ｍＬと硫酸２４ｍＬの混合液を氷冷し、内温を３℃まで冷却した。同温度にてニトロシル硫酸２６．４ｇを添加し、続いて、同温度にて中間体（ｂ）１１．６ｇを分割添加して溶解させた。同温度にて１時間攪拌した後、同温度にて尿素１．２ｇを分割添加し、同温度にて１５分間攪拌し、ジアゾニウム塩溶液を得た。別に、中間体（ｅ）１１．６ｇをメタノール４０５ｍＬに室温にて完溶させ、氷冷して内温を−３℃に冷却した。同温にて、上述のジアゾニウム塩溶液を内温が３℃以下になるように分割添加し、添加終了後、２時間攪拌した。氷浴をはずし、室温にて１０分間攪拌した後、析出した結晶を濾別し、メタノール１５０ｍＬでかけ洗いし、更に水１００ｍＬでかけ洗いした。得られた結晶を乾燥せずに水７５０ｍＬに懸濁させ、８規定の水酸化カリウム水溶液を添加して、ｐＨを５．７にした。室温にて２０分間攪拌した後、得られた結晶を濾別し、水で十分にかけ洗いしたのち、メタノール８０ｍＬでかけ洗いした。得られた結晶を室温にて、１２時間乾燥させ、例示化合物（Ｐｉｇ．−１８）を２０．３ｇ得た。収率９４．０％
得られた例示化合物（Ｐｉｇ．−１８）をエタノール/水になじませ、透過型顕微鏡ＴＥＭ（日本電子製１２００ＥＸ）にて平均一次粒子径を測定したところ１１００ｎｍであった。
【０２１２】
［合成例３］
（水不溶性ポリマー（Ｐ−１）の合成）
下記モノマー組成の３成分の全量が１００質量部になるように混合し、更に重合開始剤として２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１質量部添加し、窒素ガス置換を十分に行い、合成混合液を得た。
【０２１３】
フェノキシエチルメタクリレート                                ５０質量部
メチルメタクリレート                                          ３９質量部
メタクリル酸                                                  １１質量部
２−メルカプトエタノール                                    ０．１質量部
【０２１４】
次に、メチルエチルケトン１００質量部を窒素雰囲気下で撹拌しながら７５℃まで昇温させた。７５℃、攪拌状態で上記合成混合液を３時間にわたって滴下した。更に７５℃、攪拌状態で５時間反応を続けた。その後、反応合成物を２５℃まで自然冷却した後、固形分が４０％になるようにメチルエチルケトンを加えて希釈し、ＧＰＣより求めた質量平均分子量（Ｍｗ）が４００００であり、ＪＩＳ規格（ＪＩＳ  Ｋ  ００７０：１９９２）記載の方法により求めた酸価が７１．７ｍｇＫＯＨ／ｇである水不溶性ポリマー溶液を得た。
【０２１５】
［合成例４］
（水不溶性ポリマー（Ｐ−２）の合成）
合成例１におけるモノマー組成を下記モノマー組成に変えた以外は合成例１と同様にしてビニルポリマー（Ｐ−２）の溶液を得た。ＧＰＣより求めた質量平均分子量（Ｍｗ）が４２０００であり、ＪＩＳ規格（ＪＩＳ  Ｋ  ００７０：１９９２）記載の方法により求めた酸価が９８．３ｍｇＫＯＨ／ｇである水不溶性ポリマー溶液を得た。
【０２１６】
フェノキシエチルメタクリレート                                ５０質量部
メチルメタクリレート                                          ３５質量部
メタクリル酸                                                  １５質量部
２−メルカプトエタノール                                    ０．１質量部
【０２１７】
［実施例１］
１．顔料溶液の調製
下記組成にて各成分を調製し、３０分間攪拌混合し、顔料溶液１を得た。
Ｐｉｇ．−１                              ５．００質量部
ニトロシル硫酸                          ４０．００質量部
テトラヒドロフラン                      ４０．００質量部
Ｐ−２                                    ６．５０質量部
アクアロンＫＨ−１０（第一工業製薬社製）  ６．００質量部
超純水                                    ２．５０質量部
【０２１８】
２．水系顔料分散体の調製
高速攪拌条件下において、顔料溶液１：１００質量部を、シリンジポンプを用いて０．１ＮＫＯＨ水溶液：１０００質量部に１００ｍＬ／ｍｉｎで液中添加し、その後３０分間後攪拌を実施した。得られた分散液のｐＨは１２．３であった。
得られた液を限外濾過膜にて精製・濃縮し、顔料固形分濃度１５％の水系顔料分散体１を得た。得られた水系顔料分散体１のｐＨは９．０であった。
【０２１９】
３．インクジェット記録用水性インクの調製
下記組成にて各成分を合計１００質量部になるように調整・攪拌し、孔径１μｍのフィルターを用いて吸引ろ過を行い、水性顔料インク１を得た。
水系顔料分散体１                          ３５質量部
グリセリン                                １５質量部  
ジエチレングリコールモノエチルエーテル      ５質量部
オレフィンＥ１０１０                        １質量部
イオン交換水                                    残部
【０２２０】
［実施例２］
１．顔料溶液の調製
下記組成にて各成分を調製し、３０分間攪拌混合し、顔料溶液２を得た。
Ｐｉｇ．−１８                                          ５．００質量部
テトラヒドロフラン                                    ４０．２５質量部
メタンスルホン酸                                      ４０．２５質量部
Ｐ−１                                                  ６．００質量部
アクアロンＫＨ−１０（第一工業製薬社製：界面活性剤））  ６．００質量部
超純水                                                  ２．５０質量部
【０２２１】
２．水系顔料分散体の調製
高速攪拌条件下において、顔料溶液２：１００質量部を、シリンジポンプを用いて０．１ＮＮａＯＨ水溶液：１０００質量部に１００ｍＬ／ｍｉｎで液中添加し、その後３０分間攪拌を実施した。得られた分散液のｐＨは１２．１であった。
得られた液を限外濾過膜にて精製・濃縮し、顔料固形分濃度１５％の水系顔料分散体１を得た。得られた水系顔料分散体２のｐＨは９．１であった。
【０２２２】
３．インクジェット記録用水性インクの調製
水系顔料分散体１を水系顔料分散体２に変えた以外は実施例１と全て同様の方法にてインク２を得た。
【０２２３】
［実施例３］
１．顔料溶液の調製
下記組成にて各成分を調製し、３０分間攪拌混合し、顔料溶液３を得た。
Ｐｉｇ．−１                                ５．００質量部
テトラヒドロフラン                        ４１．２５質量部
ニトロシル硫  酸                          ４１．２５質量部
Ｐ−２                                      ６．５０質量部
アクアロンＫＨ−１０（第一工業製薬社製）    ６．００質量部
【０２２４】
２．水系顔料分散体の調製
高速攪拌条件下において、顔料溶液３：１００質量部を、シリンジポンプを用いて０．１ＮＫＯＨ水溶液：１０００質量部に１００ｍＬ／ｍｉｎで液中添加し、その後６時間攪拌を実施した。得られた分散液のｐＨは１２．２であった。
得られた液を限外濾過膜にて精製・濃縮し、顔料固形分濃度１５％の水系顔料分散体３を得た。
得られた水系顔料分散体２のｐＨは８．９であった。
【０２２５】
３．インクジェット記録用水性インクの調製
水系顔料分散体１を水系顔料分散体３に変えた以外は実施例１と全て同様の方法にてインク３を得た。
【０２２６】
［実施例４］
１．顔料溶液の調製
下記組成にて各成分を調製し、３０分間攪拌混合し、顔料溶液４を得た。
Ｐｉｇ．−１                              ５．００質量部
ニトロシル硫酸                          ４０．００質量部
テトラヒドロフラン                      ４０．００質量部
Ｐ−２                                    ６．５０質量部
オレフィンＥ１０１０（界面活性剤）        ６．００質量部
超純水                                    ２．５０質量部
【０２２７】
２．水系顔料分散体の調製
高速攪拌条件下において、顔料溶液４：１００質量部をシリンジポンプを用いて０．１ＮＫＯＨ水溶液：１０００質量部に１００ｍＬ／ｍｉｎで液中添加し、その後３０分間後攪拌を実施した。得られた分散液のｐＨは１２．０であった。
得られた液を限外濾過膜にて精製・濃縮し、顔料固形分濃度１５％の水系顔料分散体４を得た。得られた水系顔料分散体４のｐＨは９．０であった。
【０２２８】
３．インクジェット記録用水性インクの調製
水系顔料分散体１を水系顔料分散体４に変えた以外は実施例１と全て同様の方法にてインク４を得た。
【０２２９】
［比較例１］
１．顔料溶液の調製
下記組成にて各成分を調製し、３０分間攪拌混合し、顔料溶液５を得た。
ＰＹ７４（Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー７４）
１．００質量部
テトラヒドロフラン                    ２６．２５質量部
メタンスルホン酸                      ５８．２５質量部
Ｐ−１                                  ６．００質量部
アクアロンＫＨ−１０（第一工業製薬社製）６．００質量部
超純水                                  ２．５０質量部
【０２３０】
２．水系顔料分散体の調製
高速攪拌条件下において、顔料溶液５：１００質量部を、シリンジポンプを用いて０．１ＮＮａＯＨ水溶液：１０００質量部に１００ｍＬ／ｍｉｎで液中添加し、その後３０分間攪拌を実施した。得られた分散液のｐＨは１２．１であった。
得られた液を限外濾過膜にて精製・濃縮し、顔料固形分濃度１５％の水系顔料分散体５を得た。得られた水系顔料分散体２のｐＨは９．１であった。
【０２３１】
３．インクジェット記録用水性インクの調製
水系顔料分散体１を水系顔料分散体５に変えた以外は実施例１と全て同様の方法にてインク５を得た。
【０２３２】
［比較例２］
１．顔料溶液の調製
下記組成にて各成分を調製し、３０分間攪拌混合し、顔料溶液６を得た。
Ｐｉｇ．−１                              ５．００質量部
ジメチルスルホキシド                    ７８．００質量部
ナトリウムメトキシド                      ５．００質量部
Ｐ−２                                    ６．００質量部
アクアロンＫＨ−１０（第一工業製薬社製）  ６．００質量部
【０２３３】
２．水系顔料分散体の調製
高速攪拌条件下において、顔料溶液６：１００質量部を、シリンジポンプを用いて０．１ＮＮａＯＨ水溶液：１０００質量部に１００ｍＬ／ｍｉｎで液中添加し、その後３０分間攪拌を実施した。得られた分散液のｐＨは１２．８であった。
得られた液を限外濾過膜にて精製・濃縮し、顔料固形分濃度１５％の水系顔料分散体６を得た。
得られた水系顔料分散体６のｐＨは９．３であった。
【０２３４】
３．インクジェット記録用水性インクの調製
水系顔料分散体１を水系顔料分散体６に変えた以外は実施例１と全て同様の方法にてインク６を得た。
【０２３５】
［比較例３］
１．顔料溶液の調製
下記組成にて各成分を調製し、３０分間攪拌混合した。
Ｐｉｇ．−１８                                          ５．００質量部
メタノール                                            ４８．００質量部
ナトリウムエトキシド２８％メタノール溶液              ３５．００質量部
Ｐ−１                                                  ６．００質量部
アクアロンＫＨ−１０（第一工業製薬社製）                ６．００質量部
しかし、液内においてゲル状の物質が発生してしまい、均一な溶解液を得ることができなかった。
【０２３６】
［比較例４］
１．顔料溶液の調製
下記組成にて各成分を調製し、３０分間攪拌混合し、顔料溶液８を得た。
Ｐｉｇ．−１                                  ５．００質量部
ニトロシル硫酸                              ４０．００質量部
テトラヒドロフラン                          ４０．００質量部
Ｐ−２                                        ６．５０質量部
アクアロンＫＨ−１０（第一工業製薬社製）      ６．００質量部
超純水                                        ２．５０質量部
【０２３７】
２．水系顔料分散体の調製
高速攪拌条件下において、顔料溶液８：１００質量部を、シリンジポンプを用いて０．０１ＮＫＯＨ水溶液：１０００質量部に１００ｍＬ／ｍｉｎで液中添加し、その後３０分間後攪拌を実施した。得られた分散液のｐＨは１．８であった。
得られた液を限外濾過膜にて精製・濃縮し、顔料固形分濃度１５％の水系顔料分散体８を得た。得られた水系顔料分散体８のｐＨは９．３であった。
【０２３８】
３．インクジェット記録用水性インクの調製
水系顔料分散体１を水系顔料分散体８に変えた以外は実施例１と全て同様の方法にてインク８を得た。
【０２３９】
［比較例５］
１．顔料溶液の調製
下記組成にて各成分を調製し、３０分間攪拌混合し、顔料溶液９を得た。
Ｐｉｇ．−１                                  ５．００質量部
ニトロシル硫酸                              ４０．００質量部
テトラヒドロフラン                          ４０．００質量部
Ｐ−２                                        ６．５０質量部
アクアロンＫＨ−１０（第一工業製薬社製）      ６．００質量部
超純水                                        ２．５０質量部
【０２４０】
２．水系顔料分散体の調製
高速攪拌条件下において、顔料溶液９：１００質量部を、シリンジポンプを用いて１ＮＫＯＨ水溶液：１０００質量部に１００ｍＬ／ｍｉｎで液中添加し、その後３０分間後攪拌を実施した。得られた分散液のｐＨは１３．８であった。
得られた液を限外濾過膜にて精製・濃縮し、顔料固形分濃度１５％の水系顔料分散体９を得た。得られた水系顔料分散体９のｐＨは８．９であった。
【０２４１】
３．インクジェット記録用水性インクの調製
水系顔料分散体１を水系顔料分散体９に変えた以外は実施例１と全て同様の方法にてインク９を得た。
【０２４２】
［比較例６］
１．顔料溶液の調製
下記組成にて各成分を調製し、３０分間攪拌混合し、顔料溶液１０を得た。
Ｐｉｇ．−１                                  ５．００質量部
ニトロシル硫酸                              ４０．００質量部
テトラヒドロフラン                          ４０．００質量部
Ｐ−２                                        ６．５０質量部
アクアロンＫＨ−１０（第一工業製薬社製）      ６．００質量部
超純水                                        ２．５０質量部
【０２４３】
２．水系顔料分散体の調製
高速攪拌条件下において、顔料溶液１０：１００質量部を、シリンジポンプを用いて超純水１０００質量部に１００ｍＬ／ｍｉｎで液中添加し、その後３０分間後攪拌を実施した。得られた分散液のｐＨは１.３であった。
得られた液を限外濾過膜にて精製・濃縮し、顔料固形分濃度１５％の水系顔料分散体１０を得た。得られた水系顔料分散体１０のｐＨは９．０であった。
【０２４４】
３．インクジェット記録用水性インクの調製
水系顔料分散体１を水系顔料分散体１０に変えた以外は実施例１と全て同様の方法にてインク１０を得た。
【０２４５】
［比較例７］
１．顔料溶液の調製
下記組成にて各成分を調製し、３０分間攪拌混合し、顔料溶液１１を得た。
Ｐｉｇ．−１                                  ５．００質量部
ニトロシル硫酸                              ４３．００質量部
テトラヒドロフラン                          ４３．００質量部
Ｐ−２                                        ６．５０質量部
超純水                                        ２．５０質量部
【０２４６】
２．水系顔料分散体の調製
高速攪拌条件下において、顔料溶液１１：１００質量部を、シリンジポンプを用いて０．１ＮＫＯＨ水溶液：１０００質量部に１００ｍＬ／ｍｉｎで液中添加し、その後３０分間後攪拌を実施した。得られた分散液のｐＨは１２．３であった。
得られた液を限外濾過膜にて精製・濃縮し、顔料固形分濃度１５％の水系顔料分散体１１を得た。得られた水系顔料分散体１１のｐＨは９．２であった。
【０２４７】
３．インクジェット記録用水性インクの調製
水系顔料分散体１を水系顔料分散体１１に変えた以外は実施例１と全て同様の方法にてインク１１を得た。
【０２４８】
［比較例８］
１．顔料溶液の調製
下記組成にて各成分を調製し、３０分間攪拌混合し、顔料溶液１２を得た。
Ｐｉｇ．−１                                  ５．００質量部
ニトロシル硫酸                              ４３．２５質量部
テトラヒドロフラン                          ４３．２５質量部
アクアロンＫＨ−１０（第一工業製薬社製）      ６．００質量部
超純水                                        ２．５０質量部
【０２４９】
２．水系顔料分散体の調製
高速攪拌条件下において、顔料溶液１２：１００質量部を、シリンジポンプを用いて０．１ＮＫＯＨ水溶液：１０００質量部に１００ｍＬ／ｍｉｎで液中添加し、その後３０分間後攪拌を実施した。得られた分散液のｐＨは１２．２であった。
得られた液を限外濾過膜にて精製・濃縮し、顔料固形分濃度１５％の水系顔料分散体１２を得た。得られた水系顔料分散体１２のｐＨは９．０であった。
【０２５０】
３．インクジェット記録用水性インクの調製
水系顔料分散体１を水系顔料分散体１２に変えた以外は実施例１と全て同様の方法にてインク１２を得た。
【０２５１】
〔評価〕
（インクの保存安定性）
作製した各インクをＰＥＴ製容器に入れて密栓し、７０℃恒温槽中で５日間保存し、保存前後の粘度及び平均粒子径を測定した。また、同様の方法で保存前の顔料含有ビニルポリマー粒子水分散体の粘度及び平均粒子径も測定した。粘度は、Ｒ１００型粘度計（東機産業社製）により２５℃、コーンの回転数２０〜１００ｒｐｍの条件にて測定した。平均粒子径は、ナノトラック粒度分布測定装置ＵＰＡ−ＥＸ１５０（日機装（株）製）を用い、動的光散乱法により体積平均粒子径Ｍｖ、累積９０％粒子径（Ｄ９０）、累積５０％粒子径（Ｄ５０）、累積１０％粒子径（Ｄ１０）を測定した。
ＰＤＩ＝（Ｄ９０−Ｄ１０）／Ｄ５０〔式中、Ｄ９０、Ｄ５０、Ｄ１０は、それぞれ分布関数ｄＧ＝Ｆ（Ｄ）ｄＤ（Ｇは顔料粒子数、Ｄは粒径）の積分が、顔料粒子の全粒子数の０．９（９０個数％）、０．５（５０個数％）及び０．１（１０個数％）に等しい粒径を表す。〕に従い、ＰＤＩを算出した。
それぞれの測定値を指標にして、下記の評価基準にしたがって顔料含有ビニルポリマー粒子水分散体の安定性の評価をした。評価結果を表１に示す。
【０２５２】
＜評価基準＞
Ａ：粘度、平均粒子径及びＰＤＩともに、保存前の値の±１０％未満。
Ｂ：粘度、平均粒子径及びＰＤＩいずれかの値が、保存前の値の±１０％以上。
Ｃ：粘度、平均粒子径及びＰＤＩともに、保存前の値の±１０％以上。
【０２５３】
（インクの耐溶剤性）
作製した各インク７５質量部にトリエチレングリコールモノブチルエーテル１５質量部を添加し、得られた混合液をＰＥＴ製容器に入れて密栓し、６０℃恒温槽中で１４日間保存し、保存前後の粘度及び平均粒子径を測定した。また、同様の方法で保存前のインクの粘度及び平均粒子径も測定した。粘度は、Ｒ１００型粘度計（東機産業社製）により２５℃、コーンの回転数２０〜１００ｒｐｍの条件にて測定した。平均粒子径は、ナノトラック粒度分布測定装置ＵＰＡ−ＥＸ１５０（日機装（株）製）を用い、動的光散乱法により体積平均粒子径Ｍｖ、累積９０％粒子径（Ｄ９０）、累積５０％粒子径（Ｄ５０）、累積１０％粒子径（Ｄ１０）を測定した。
ＰＤＩ＝（Ｄ９０−Ｄ１０）／Ｄ５０〔式中、Ｄ９０、Ｄ５０、Ｄ１０は、それぞれ分布関数ｄＧ＝Ｆ（Ｄ）ｄＤ（Ｇは顔料粒子数、Ｄは粒径）の積分が、顔料粒子の全粒子数の０．９（９０個数％）、０．５（５０個数％）及び０．１（１０個数％）に等しい粒径を表す。〕に従い、ＰＤＩを算出した。
それぞれの測定値を指標にして、下記の評価基準にしたがって顔料含有ビニルポリマー粒子水分散体の安定性の評価をした。評価結果を表１に示す。
【０２５４】
＜評価基準＞
Ａ：粘度、平均粒子径及びＰＤＩともに、保存前の値の±５％未満。
Ｂ：粘度、平均粒子径及びＰＤＩともに、保存前の値の±５〜１０％以内。
Ｃ：粘度、平均粒子径及びＰＤＩともに、保存前の値の±１０％以上。
【０２５５】
（吐出精度評価）
作製した顔料インク組成物をＰＥＴ製容器に密栓し７０℃恒温槽中で５日間保存した。インクジェット記録装置として、富士フイルムＤｉｍａｔｉｘ社製ＤＭＰ−２８３１プリンターを用い、インク液滴量２ｐＬで吐出周波数２０ｋＨｚ、ノズル配列列方向×搬送方向１６×１２００ｄｏｔ／２５．４ｍｍで１０ｃｍライン印字した。記録媒体として富士フイルム社製画彩写真仕上げＰｒｏを用いた。印字サンプルの打滴開始部から５ｃｍの部位のライン間の距離を王子計測機器製ドットアナライザイーＤＡ−６０００で測定し、その標準偏差を算出し、吐出の方向精度を評価した。評価結果を表１に示す。
【０２５６】
＜評価基準＞
Ａ・・・標準偏差が３μｍ未満
Ｂ・・・標準偏差が３μｍ以上４μｍ未満
Ｃ・・・標準偏差が４μｍ以上５μｍ未満
Ｄ・・・標準偏差が５μｍ以上
【０２５７】
（耐光性）
作製した顔料インク組成物をインクジェット記録装置として、セイコーエプソン社製ＰＸ−Ｖ６３０を用い、Ｄｍａｘのイエロー単色ベタ画像を印字した。記録媒体として富士フイルム社製画彩写真仕上げＰｒｏを用いた。イエロー単色ベタ画像部をＯＤ＝１．０となるように作成し、それぞれについて、キセノン褪色試験を実施した。キセノン暴露日数１４日時点でのＯＤを測定し下記の基準に従って評価した。評価結果を表１に示す。
【０２５８】
＜評価基準＞
Ａ・・・ＯＤの低下が３０％未満。
Ｂ・・・ＯＤ低下が３０％以上〜５０％未満。
Ｃ・・・ＯＤ低下が５０％以上。
【０２５９】
（耐擦性）
上記吐出安定性評価と同様に、インクジェット記録装置として、６００ｄｐｉ、２５６ノズルの試作プリントヘッドを備えたインクジェット装置を用意した。これに、上記で得られたインクジェット記録用水性インクを７０℃環境下に５日間保存して得た水性インクを装填し、ＦＸ−Ｌ紙（富士ゼロックス（株）製）にイエロー単色ベタ画像を印画した。ベタ画像の印画面を外側に向けて文鎮（質量４７０ｇ、サイズ１５ｍｍ×３０ｍｍ×１２０ｍｍ）に巻きつけ、別の白紙のＦＸ−Ｌ紙上で３往復擦った（荷重２６０ｋｇ／ｍ２に相当）。擦った後の印画面を目視により観察し、予め定めておいた限度見本に照合して、下記評価基準に従って、目視による官能評価を行った。評価結果を表１に示す。
【０２６０】
＜評価基準＞
ＡＡ    ・・・  傷がつかなかった。
Ａ      ・・・  わずかに（２箇所以下）傷がついた。
Ｂ      ・・・  ３〜１０箇所の傷がついたが、実用上の許容レベルだった。
Ｃ      ・・・  １１箇所以上の傷がつき、実用上問題があるレベルだった。
【０２６１】
【表１】
0005608514.tif 000028