(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板、高分子透明基板、第２の導電層及び接着層を備える静電容量式タッチパネルユニットであって、
前記透明基板は、第１側及び第２側を有し、前記第２側には、少なくとも１つの第１の導電層が設けられ、
前記高分子透明基板は、第３側及び第４側を有し、前記第３側には、前記第１の導電層が貼合され、
前記第２の導電層は、前記高分子透明基板の第３側又は第４側に設けられ、
前記接着層は、前記透明基板と前記高分子透明基板との間に設けられ、
遮蔽物をさらに備え、前記遮蔽物は、前記透明基板と前記第１の導電層との間の前記透明基板に近接する側辺に設けられることを特徴とする静電容量式タッチパネルユニット。
【請求項２】
前記透明基板は、ガラス基板又は透明高分子基板であることを特徴とする請求項１に記載の静電容量式タッチパネルユニット。
【請求項３】
前記高分子透明基板は、ポリエチレンテレフタラート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリメタクリル酸メチル又は環状オレフィン共重合体からなることを特徴とする請求項１に記載の静電容量式タッチパネルユニット。
【請求項４】
前記接着層は、光学樹脂又は光学接着剤からなることを特徴とする請求項１に記載の静電容量式タッチパネルユニット。
【請求項５】
前記第１の導電層及び前記第２の導電層は、透明導電層であり、前記透明導電層は、ゲルの塗布、電気鍍金、蒸着又はスパッタリングによって形成される薄膜構造であり、前記薄膜構造は、ＩＴＯ、ＩＺＯ又はＡＴＯからなることを特徴とする請求項１に記載の静電容量式タッチパネルユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、静電容量式タッチパネルユニットに関し、特に、大幅な薄型化を実現できる上、製造コストを低減できる静電容量式タッチパネルユニットに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、タッチパネルの技術が向上するに伴い、スマートフォン、タブレット型パソコン、ＭＰ５など、表示機能を有する携帯型電子装置には、従来の空間を占拠する機械式のボタンの代わりに、タッチパネルが採用されている。
【０００３】
従来のタッチパネル中、携帯型電子装置に多く使用されているのは、静電容量式タッチパネルである。一般の静電容量式タッチパネルは、透明基板の底面上にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）層が配置される。透明基板の底面周縁は、配線領域とされる。ＩＴＯ層上には、複数の電極が形成される。配線領域上には、複数の導線が配置され、複数の導線は、複数の電極と電気的に接続される。上述の導線は非透明であるため、電子装置を製造するメーカは、タッチパネルを取得した際、保護板底部周縁にインク層を塗布した上、タッチパネルの上面に接着層を設け、保護板を接着する。これにより、保護板底面のインク層がタッチパネルの配線領域に対応し、タッチパネルの配線領域内の導線が遮蔽される。しかし、インク層及び接着層の使用により、製造工程が複雑化し、材料コストが増大する上、電子装置全体の厚さが増大する。このため、携帯型電子装置の軽量化及び薄型化を実現できない。従って、これらの問題の改善が求められていた。  
また、ある業者は、フォトリソグラフィ技術によってタッチパネルの薄型化を実現しているが、製造コストが大幅に増大するという欠点を有する。
【０００４】
従来のタッチパネルは、以下（１）及び（２）に示す欠点を有する。
【０００５】
（１）厚さが厚い。
【０００６】
（２）製造コストが高い。
【０００７】
なお、透明な基板や導電層を備えた静電容量式のタッチパネルとしては、特許文献１及び２などに開示されているものがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１１−２５３５４６号公報
【特許文献２】特許第４６８３１６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の主な目的は、大幅な薄型化を実現することができる静電容量式タッチパネルユニットを提供することにある。
【００１０】
本発明のもう一つの目的は、製造コストを大幅に低減することができる静電容量式タッチパネルユニットを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上述の課題を解決するために、本発明の静電容量式タッチパネルは、透明基板、高分子透明基板、第２の導電層及び接着層を含む。
【００１２】
透明基板は、第１側及び第２側を有する。第２側には、少なくとも１つの第１の導電層が設けられる。高分子透明基板は、第３側及び第４側を有する。第３側には、第１の導電層が貼合される。第２の導電層は、高分子透明基板の第３側又は第４側に設けられる。接着層は、透明基板と高分子透明基板との間に設けられる。遮蔽物をさらに備え、前記遮蔽物は、前記透明基板と前記第１の導電層との間の前記透明基板に近接する側辺に設けられる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の静電容量式タッチパネルユニットの構造設計により、従来のタッチパネルが実現できなかった大幅な薄型化を実現することができる上、製造コストを大幅に低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の第１実施形態による静電容量式タッチパネルユニットを示す斜視図である。
【図２】本発明の第１実施形態による静電容量式タッチパネルユニットを示す断面図である。
【図３】本発明の第２実施形態による静電容量式タッチパネルユニットを示す断面図である。
【図４】本発明の第３実施形態による静電容量式タッチパネルユニットを示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明の目的、特徴および効果を示す実施形態を図面に沿って詳細に説明する。
【００１６】
（第１実施形態）
図１及び図２を参照する。図１は、本発明の第１実施形態による静電容量式タッチパネルユニットを示す斜視図である。図２は、本発明の第１実施形態による静電容量式タッチパネルユニットを示す断面図である。図１及び図２に示すように、本発明の第１実施形態による静電容量式タッチパネルユニット１は、透明基板１１、高分子透明基板１２、第２の導電層１３及び接着層１４を含む。
【００１７】
透明基板１１は、第１側１１１及び第２側１１２を有する。第２側１１２には、少なくとも１つの第１の導電層１１２１が設けられる。
【００１８】
高分子透明基板１２は、第３側１２１及び第４側１２２を有する。第３側１２１には、第１の導電層１１２１が貼合される。
【００１９】
第２の導電層１３は、高分子透明基板１２の第３側１２１又は第４側１２２に設けられる。本実施形態においては、第２の導電層１３は、第３側１２１に設けられる。
【００２０】
接着層１４は、透明基板１１と高分子透明基板１２との間に設けられる。
【００２１】
透明基板１１は、ガラス基板又は透明高分子基板である。本実施形態においては、ガラス基板を例示するが、これのみに限定されない。
【００２２】
高分子透明基板１２は、ポリエチレンテレフタラート（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  Ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ：ＰＥＴ）、ポリカーボネート（Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ：ＰＣ）、ポリエチレン（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ：ＰＥ）、ポリ塩化ビニル（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ｃｈｌｏｒｉｄｅ：ＰＶＣ）、ポリプロピレン（Ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ：ＰＰ）、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ：ＰＳ）、ポリメタクリル酸メチル（Ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ：ＰＭＭＡ）又は環状オレフィン共重合体（Ｃｙｃｌｉｃ  Ｏｌｅｆｉｎ  Ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＣ）からなる。本実施形態においては、ポリエチレンテレフタラートからなる高分子透明基板１２を例示するが、これのみに限定されない。
【００２３】
接着層１４は、光学樹脂又は光学接着剤からなる。
【００２４】
（第２実施形態）
図３を参照する。図３は、本発明の第２実施形態による静電容量式タッチパネルユニットを示す断面図である。図３に示すように、本発明の第２実施形態による静電容量式タッチパネルユニットは、一部構造が第１実施形態と同一であるため、同一部分は、ここでは繰り返して述べない。本発明の第２実施形態による静電容量式タッチパネルユニットにおいては、第２の導電層１３が高分子透明基板１２の第４側１２２に設けられる。
【００２５】
（第３実施形態）
図４を参照する。図４は、本発明の第３実施形態による静電容量式タッチパネルユニットを示す断面図である。図４に示すように、本発明の第３実施形態による静電容量式タッチパネルユニットは、一部構造が第１実施形態と同一であるため、同一部分は、ここでは繰り返して述べない。本発明の第３実施形態による静電容量式タッチパネルユニットにおいては、静電容量式タッチパネルユニット１が遮蔽物２を有する。遮蔽物２は、透明基板１１と第１の導電層１１２１との間の透明基板１１に近接する側辺に設けられる。
【００２６】
前述の第１実施形態〜第３実施形態中の第１の導電層１１２１及び第２の導電層１３は、透明導電層である。透明導電層は、ゲルの塗布、電気鍍金、蒸着又はスパッタリングによって形成される薄膜構造である。薄膜構造は、ＩＴＯ、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）又はＡＴＯ（Ａｎｔｉｍｏｎｙ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）からなる。
【００２７】
本発明の静電容量式タッチパネルユニット１の構造設計により、従来のタッチパネルが実現できなかった大幅な薄型化を実現することができる上、製造コストを大幅に低減することができる。
【符号の説明】
【００２８】
１  静電容量式タッチパネルユニット
１１  透明基板
１１１  第１側
１１２  第２側
１１２１  第１の導電層
１２  高分子透明基板
１２１  第３側
１２２  第４側
１３  第２の導電層
１４  接着層
２  遮蔽物
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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