Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月4日(2004.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディジタル情報に認証情報を付加する情報処理装置であって、
前記ディジタル情報に基づいて認証情報を生成する生成手段と、
前記認証情報と前記ディジタル情報から得られる情報を取得する取得手段と、
前記取得された情報に基づいて、前記認証情報を電子透かしとして前記ディジタル情報に埋め込む埋め込み手段と、
前記取得された情報を出力する出力手段と
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記認証情報と前記ディジタル情報から得られる情報は、埋め込み処理を行わない位置情報であることを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
ディジタル情報と認証情報より得られた取得情報に基づいて、前記認証情報が電子透かしとして埋め込まれたディジタル情報を認証する情報処理装置であって、
前記取得情報に基づいて、前記ディジタル情報から電子透かしとして埋め込まれている認証情報を第１の認証情報として抽出する抽出手段と、
前記第１の認証情報を電子透かしとして前記ディジタル情報から除去し、仮オリジナルディジタル情報に復元する電子透かし除去手段と、
前記仮オリジナルディジタル情報に基づき、第２の認証情報を生成する生成手段と、
前記第１の認証情報と前記第２の認証情報を比較する比較手段と
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項４】
前記比較手段において前記第１の認証情報と前記第２の認証情報が等しい場合は、前記ディジタル情報は改ざんされていないと通知し、また、等しくない場合は、改ざんされているとして通知する通知手段を有することを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記取得情報は、埋め込み処理が行わない位置情報であることを特徴とする請求項３又は４に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記認証情報は、ディジタル署名であることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記認証情報は、ＭＡＣであることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記認証情報は、前記ディジタル署名、且つ／或いは、ＭＡＣに加えて、更に、日付情報、位置情報、時間情報、装置の固有情報、署名者の固有情報のうち少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項６又７に記載の情報処理装置。
【請求項９】
ディジタル情報に認証情報を付加する情報処理装置の制御方法であって、
前記ディジタル情報に基づいて認証情報を生成する生成工程と、
前記認証情報と前記ディジタル情報から得られる情報を取得する取得工程と、
前記取得された情報に基づいて、前記認証情報を電子透かしとして前記ディジタル情報に埋め込む埋め込み工程と、
前記取得された情報を出力する出力工程と
を有することを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【請求項１０】
ディジタル情報と認証情報より得られた取得情報に基づいて、前記認証情報が電子透かしとして埋め込まれたディジタル情報を認証する情報処理装置の制御方法であって、
前記取得情報に基づいて、前記ディジタル情報から電子透かしとして埋め込まれている認証情報を第１の認証情報として抽出する抽出工程と、
前記第１の認証情報を電子透かしとして前記ディジタル情報から除去し、仮オリジナルディジタル情報に復元する電子透かし除去工程と、
前記仮オリジナルディジタル情報に基づき、第２の認証情報を生成する生成工程と、
前記第１の認証情報と前記第２の認証情報を比較する比較工程と
を有することを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【請求項１１】
コンピュータが読み込み実行することで、ディジタル情報に認証情報を付加する情報処理装置として機能するコンピュータプログラムであって、
前記ディジタル情報に基づいて認証情報を生成する生成手段と、
前記認証情報と前記ディジタル情報から得られる情報を取得する取得手段と、
前記取得された情報に基づいて、前記認証情報を電子透かしとして前記ディジタル情報に埋め込む埋め込み手段と、
前記取得された情報を出力する出力手段
として機能することを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項１２】
コンピュータが読み込み実行することで、ディジタル情報と認証情報より得られた取得情報に基づいて、前記認証情報が電子透かしとして埋め込まれたディジタル情報を認証する情報処理装置として機能するコンピュータプログラムであって、
前記取得情報に基づいて、前記ディジタル情報から電子透かしとして埋め込まれている認証情報を第１の認証情報として抽出する抽出手段と、
前記第１の認証情報を電子透かしとして前記ディジタル情報から除去し、仮オリジナルディジタル情報に復元する電子透かし除去手段と、
前記仮オリジナルディジタル情報に基づき、第２の認証情報を生成する生成手段と、
前記第１の認証情報と前記第２の認証情報を比較する比較手段
として機能することを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項１３】
請求項１１又は１２に記載のプログラムを格納し、コンピュータが読み取り可能なコンピュータ可読記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
かかる本発明の課題を解決するため、例えば本発明における、認証情報を不可する側の情報処理装置は以下の構成を備える。すなわち、
ディジタル情報に認証情報を付加する情報処理装置であって、
前記ディジタル情報に基づいて認証情報を生成する生成手段と、
前記認証情報と前記ディジタル情報から得られる情報を取得する取得手段と、
前記取得された情報に基づいて、前記認証情報を電子透かしとして前記ディジタル情報に埋め込む埋め込み手段と、
前記取得された情報を出力する出力手段とを有する。
また、認証する側の装置である情報処理装置は以下の構成を備える。すなわち、
ディジタル情報と認証情報より得られた取得情報に基づいて、前記認証情報が電子透かしとして埋め込まれたディジタル情報を認証する情報処理装置であって、
前記取得情報に基づいて、前記ディジタル情報から電子透かしとして埋め込まれている認証情報を第１の認証情報として抽出する抽出手段と、
前記第１の認証情報を電子透かしとして前記ディジタル情報から除去し、仮オリジナルディジタル情報に復元する電子透かし除去手段と、
前記仮オリジナルディジタル情報に基づき、第２の認証情報を生成する生成手段と、
前記第１の認証情報と前記第２の認証情報を比較する比較手段とを有する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月8日(2004.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マルチファンクションキー型、特にナビゲーションキー型のアクチュエータ部材であって、並進方向および回転方向の可動性が制限されるように取り付けられた剛性のボタンと、複数の作動部位、例えば圧力検知部位を有する別個の検出器構成部品とから成り、前記ボタンが、使用者がボタンに加えた圧力の位置、大きさ、および／または方向に応じて、それぞれ前記構成部品の前記作動部位のうちのそれぞれ１つと接触するように構成された形成物を下側に備えており、アクチュエータ部材が、三角形の隅に配置された３つの作動部位（４、４’、５）を備えること、ならびに前記作動部位（４、４’）のうち最初の２つの間に配置された非作動支承部位（７）が、単独でまたは第３の部位（５）とともに、対応する形成物（６または６’）が前記作動部位（４、４’）の一方と接触して、例えば前記作動部位（４、４’）の一方を押圧または押下することによって作動させるまで、それぞれの側にある前記最初の２つの作動部位（４、４’）の一方に向けて、前記非作動部位（７）を支点として回転することによって、前記ボタン（２）が傾動できるようにすることを特徴とするアクチュエータ部材。
【請求項２】
非作動部位（７）が、第３の作動部位（５）とともにボタン（２）のピボットエッジまたは仮想回転軸を規定し、３つの作動部位（４、４’、５）が二等辺三角形の隅に配置され、非作動部位（７）が、最初の２つの作動部位（４および４’）の間を延びる前記三角形の底辺の中央にあることを特徴とする、請求項１に記載のアクチュエータ部材（１）。
【請求項３】
最初の２つの作動部位（４および４’）を作動させる閾値圧力値がほぼ等しいこと、ならびに第３の部位（５）を作動させる閾値圧力値が、前記最初の２つの作動部位（４および４’）を作動させる閾値圧力値よりもかなり大きく、好ましくは少なくとも約２倍であることを特徴とする、請求項１に記載のアクチュエータ部材（１）。
【請求項４】
非作動支承部位（７）が、最初の２つの作動部位（４および４’）よりも突き出ている形成物にあり、また、ボタン（２）の下側の対応する形成物（６”）が、好ましくはボタン（２）を押圧または押下することによって、第３の作動部位（５）と接触して作動させるまで、その下側の適切な形成物（８）が前記部位（７）の接触領域上で支承される状態で回転することによって、ボタン（２）を第３の作動部位（５）に向けて傾動できるようにすることを特徴とする、請求項１に記載のアクチュエータ部材（１）。
【請求項５】
形成物（６、６’、６”）の接触領域、および／または作動部位（４、４’、４”）および非作動部位（７）の接触領域が、表面接触領域であることを特徴とする、請求項１に記載のアクチュエータ部材（１）。
【請求項６】
非作動支承部位（７）と、ボタン（２）の下側に位置する対応する向かい合う形成物（８）との間の接触が、点接触またはほぼ点接触であり、前記部位（７）または前記形成物（８）の接触領域が、表面接触領域であることを特徴とする、請求項１に記載のアクチュエータ部材（１）。
【請求項７】
第３の作動部位（５）と、ボタン（２）の下側の対応する形成物（６”）との間の接触が、点接触またはほぼ点接触であり、最初の２つの作動部位（４および４’）とボタン（２）の対応する形成物（６および６’）の間の接触も、点接触またはほぼ点接触であることを特徴とする、請求項６に記載のアクチュエータ部材（１）。
【請求項８】
形成物（６、６’、６”）が、半球型またはド−ム型の突き出した形成物であり、作動部位（４、４’、４”）も突き出した形成物であり、形成物（６、６’、６”）とそれぞれ向かい合う作動部位（４、４’、５）の累積高さが、非作動支承部位（７）とボタン（２）の下側の対応する形成物（８）の累積高さと、ほぼ同一で等しいことを特徴とする、請求項６または７に記載のアクチュエータ部材（１）。
【請求項９】
最初の２つの作動部位（４、４’）が、例えばメニューまたはテーブル内で反対方向にスクロールまたは移動する、反対のコマンドまたは機能に対応し、第３の作動部位（５）が、検証または確認のコマンドまたは機能に対応することを特徴とする、請求項１に記載のアクチュエータ部材（１）。
【請求項１０】
圧力検出器部品（３）が、一体型構造であり、ボタン（２）を透過によって照明する構成部品を収容する、ボタンの方向に開いた空洞または貫通開口（３’）を備え、ボタンが透過性材料製であることを特徴とする、請求項１に記載のアクチュエータ部材（１）。
【請求項１１】
ボタン（２）がインサート成形によって取り付けられていることを特徴とする、請求項１に記載のアクチュエータ部材（１）。
【請求項１２】
多数のキー、および装置の表示手段上に表示される複数の機能を選択するための少なくとも１つのマルチファンクションキー、例えばナビゲーションキーを備えるキーパッドを含む装置であって、マルチファンクションキーが、並進方向および回転方向の可動性が制限されるように取り付けられた剛性のボタンと、３つの作動部位を有する別個の検出器構成部品から成るアクチュエータ部材（１）とを含み、前記ボタンが、それぞれ三角形の隅に配置された前記構成部品の作動部位（４、４’、５）のうちのそれぞれ１つと接触するようにされた形成物を下側に備え、非作動部位（７）が前記部位（４、４’）のうち最初の２つの間に配置され、単独でまたは第３の部位（５）とともに、対応する形成物（６または６’）が、作動させるために前記作動部位（４、４’）の一方と接触するまで、それぞれ反対側に位置する前記最初の２つの作動部位（４、４’）の一方に向けて、前記非作動部位（７）を支点として回転することによって、前記ボタン（２）を傾動させることができることを特徴とする装置。
【請求項１３】
ボタン（２）が、キーパッド（９）の製作中に、インサート成形によって他のキーと一体に製作されることを特徴とする、請求項１２に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月26日(2004.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁性基板上にシリコンを含む非晶質半導体膜を堆積し、前記非晶質半導体膜の一部の領域に結晶化を助長する触媒元素をロール式処理法により添加した後、前記非晶質半導体膜を熱処理することにより結晶化することを特徴とする結晶質半導体膜の作製方法。
【請求項２】
絶縁性基板上にシリコンを含む非晶質半導体膜を堆積し、前記非晶質半導体膜の全面に結晶化を助長する触媒元素をロール式処理法により添加した後、前記非晶質半導体膜を熱処理することにより結晶化することを特徴とする結晶質半導体膜の作製方法。
【請求項３】
絶縁性基板上にシリコンを含む非晶質半導体膜を堆積し、前記非晶質半導体膜の全面に結晶化を助長する触媒元素をディップ式処理法により添加した後、前記非晶質半導体膜を熱処理することにより結晶化することを特徴とする結晶質半導体膜の作製方法。
【請求項４】
絶縁性基板上にシリコンを含む非晶質半導体膜を堆積し、前記非晶質半導体膜の全面に結晶化を助長する触媒元素をスプレー式処理法により添加した後、前記非晶質半導体膜を熱処理することにより結晶化することを特徴とする結晶質半導体膜の作製方法。
【請求項５】
絶縁性基板上にシリコンを含む非晶質半導体膜を堆積し、前記非晶質半導体膜の全面に結晶化を助長する触媒元素をシャワー式処理法により添加した後、前記非晶質半導体膜を熱処理することにより結晶化することを特徴とする結晶質半導体膜の作製方法。
【請求項６】
絶縁性基板上にシリコンを含む非晶質半導体膜を堆積し、前記非晶質半導体膜上にマスク絶縁膜を堆積し、前記非晶質半導体膜の一部の領域が露出するように前記マスク絶縁膜の一部の領域に開口領域を形成し、前記マスク絶縁膜上からロール式処理法により結晶化を助長する触媒元素を添加することによって、前記非晶質半導体膜の露出した一部の領域に前記触媒元素を添加した後、前記非晶質半導体膜を熱処理することにより結晶化することを特徴とする結晶質半導体膜の作製方法。
【請求項７】
絶縁性基板上にシリコンを含む非晶質半導体膜を堆積し、前記非晶質半導体膜上にマスク絶縁膜を堆積し、前記非晶質半導体膜の一部の領域が露出するように前記マスク絶縁膜の一部の領域に開口領域を形成し、前記マスク絶縁膜上からデッィプ式処理法により結晶化を助長する触媒元素を添加することによって、前記非晶質半導体膜の露出した一部の領域に前記触媒元素を添加した後、前記非晶質半導体膜を熱処理することにより結晶化することを特徴とする結晶質半導体膜の作製方法。
【請求項８】
絶縁性基板上にシリコンを含む非晶質半導体膜を堆積し、前記非晶質半導体膜上にマスク絶縁膜を堆積し、前記非晶質半導体膜の一部の領域が露出するように前記マスク絶縁膜の一部の領域に開口領域を形成し、前記マスク絶縁膜上からスプレー式処理法により結晶化を助長する触媒元素を添加することによって、前記非晶質半導体膜の露出した一部の領域に前記触媒元素を添加した後、前記非晶質半導体膜を熱処理することにより結晶化することを特徴とする結晶質半導体膜の作製方法。
【請求項９】
絶縁性基板上にシリコンを含む非晶質半導体膜を堆積し、前記非晶質半導体膜上にマスク絶縁膜を堆積し、前記非晶質半導体膜の一部の領域が露出するように前記マスク絶縁膜の一部の領域に開口領域を形成し、前記マスク絶縁膜上からシャワー式処理法により結晶化を助長する触媒元素を添加することによって、前記非晶質半導体膜の露出した一部の領域に前記触媒元素を添加した後、前記非晶質半導体膜を熱処理することにより結晶化することを特徴とする結晶質半導体膜の作製方法。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項に於いて、前記触媒元素は、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｕから選択された一種または複数種類の元素を含んだ溶液を使用して添加することを特徴とする結晶質半導体膜の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月6日(2004.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の半導体領域において、
前記半導体領域内に、基板温度が−１０℃よりも低い条件下で第１のイオン注入を行なってアモルファス領域を形成するプレアモルファス工程と、
前記プレアモルファス工程の後に、前記アモルファス領域に第２のイオン注入を行う工程と、
前記第２のイオン注入を行う工程後、活性化処理を行う工程と、を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
基板の半導体領域において、
前記半導体領域内に、基板温度が−１０℃よりも低い条件下で第１のイオン注入を行なってアモルファス領域を形成するプレアモルファス工程と、
前記アモルファス領域上に金属膜を堆積する工程と、
前記半導体領域に対してアニールを行い、シリサイド層を形成する工程とを備えたことを特徴とする、半導体装置の製造方法。
【請求項３】
基板の半導体領域において、
前記半導体領域内に、第１のイオン注入を行なった後、前記半導体領域に対して３００℃以上４５０℃以下の温度でアニールを行うプレアモルファス工程と、
前記プレアモルファス工程の後に、前記アモルファス領域に第２のイオン注入を行う工程と、
前記第２のイオン注入を行う工程後、活性化処理を行う工程と、を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項４】
基板の半導体領域において、
前記半導体領域内に、第１のイオン注入を行なった後、前記半導体領域に対して３００℃以上４５０℃以下の温度でアニールを行うプレアモルファス工程と、
前記アモルファス領域上に金属膜を堆積する工程と、
前記半導体領域に対してアニールを行い、シリサイド層を形成する工程と、を備えたことを特徴とする、半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記第１のイオン注入は、Ａｓ，もしくはＧｅを注入することを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
基板の半導体領域において、
前記半導体領域に対して、ドーズ量が１×１０15atoms・ｃｍ-2以上の条件でIV族のイオン注入を行いアモルファス領域を形成するプレアモルファス工程と、
前記プレアモルファス工程の後に、前記アモルファス領域に第２のイオン注入を行う工程と、
前記第２のイオン注入を行う工程後、活性化処理を行う工程と、を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項７】
基板の半導体領域において、
前記半導体領域に対して、ドーズ量が１×１０15atoms・ｃｍ-2以上の条件でIV族のイオン注入を行いアモルファス領域を形成するプレアモルファス工程と、
前記アモルファス領域上に金属膜を堆積する工程と、
前記半導体領域に対してアニールを行い、シリサイド層を形成する工程とを備えたことを特徴とする、半導体装置の製造方法。
【請求項８】
基板の半導体領域において、
前記半導体領域内に、ヒ素（Ａｓ），リン（Ｐ），ハロゲン元素及び不活性ガス元素のうち少なくともいずれか１つのイオンを注入しアモルファス領域を形成するプレアモルファス工程と、
前記プレアモルファス工程の後に、前記アモルファス領域に第２のイオン注入を行う工程と、
前記第２のイオン注入を行う工程後、活性化処理を行う工程と、を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項９】
基板の半導体領域において、
前記半導体領域内に、ヒ素（Ａｓ），リン（Ｐ），ハロゲン元素及び不活性ガス元素のうち少なくともいずれか１つのイオンを注入しアモルファス領域を形成するプレアモルファス工程と、
前記アモルファス領域上に金属膜を堆積する工程と、
前記半導体領域に対してアニールを行い、シリサイド層を形成する工程とを備えたことを特徴とする、半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
前記第２のイオン注入は、ボロンを注入することを特徴とする、請求項１、３、６、または８に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
基板の半導体領域において、
前記基板の上面にある第１の半導体領域に、第１のアモルファス領域を形成するとともに、基板の裏面にある第２の半導体領域に、第２のアモルファス領域を形成する工程と、
前記第１及び前記第２のアモルファス領域を加熱する工程と、
前記第１及び第２のアモルファス領域の回復レートから前記第１及び第２のアモルファス領域の温度をそれぞれ求めるとともに、前記第１及び前記第２のアモルファス領域の温度差から基板の熱伝導率を求め、基板の各部の温度管理を行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月16日(2004.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】固相シートの製造方法および該固相シートを用いた太陽電池
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成長面を有する基体を、金属材料もしくは半導体材料のうち少なくともいずれか一方を含有する材料の融液に接触させ、前記材料を基体に成長させることで、前記材料の固相シートを製造する方法において、基体表面は周縁溝により周辺部と前記周縁溝で囲まれた内側部に区画されており、基体表面に形成される固相シートは前記周縁溝で内側部分と周辺部分とに分離されることを特徴とする固相シートの製造方法。
【請求項２】
成長面を有する基体を、金属材料もしくは半導体材料のうち少なくともいずれか一方を含有する材料の融液に接触させ、前記材料を基体に成長させることで、前記材料の固相シートを製造する方法において、基体表面は周縁溝により周辺部と前記周縁溝で囲まれた内側部に区画されるとともに、前記周辺部と内側部の一部が連続していることを特徴とする固相シートの製造方法。
【請求項３】
成長面を有する基体を、金属材料もしくは半導体材料のうち少なくともいずれか一方を含有する材料の融液に接触させ、前記材料を基体に成長させることで、前記材料の固相シートを製造する方法において、基体表面は周縁溝により周辺部と基体の周縁溝で囲まれた内側部に区画されるとともに、前記周辺部と内側部の一部が基体の進行方向の前後に少なくとも１箇所形成されていることを特徴とする固相シートの製造方法。
【請求項４】
冷却された回転体の外周に配置された平坦な基体表面を金属材料もしくは半導体材料のうち少なくともいずれか一方を含有する材料の融液に接触させることによってその基体表面上に固相シートを形成することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の固相シートの製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の固相シートの製造方法を用いて前記内側部の表面に形成された固相シートを製品として用いたことを特徴とする太陽電池。
【請求項６】
前記基体表面の前記周縁溝で区画される内側部を複数の表面領域に分割する分割溝が形成されており、内側部に分割溝で分割された複数の固相シートが得られることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の固相シートの製造方法。
【請求項７】
周縁溝の横断面は全体として実質的にＶ字状に形成させられていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の固相シートの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月17日(2004.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブルートゥース・ワイヤレス通信規格に準拠するようにフォーマットされたデータ・パケット（１０）のプリアンブル（１８）を検出する方法であって、
前記ブルートゥース・ワイヤレス通信規格に準拠するようにフォーマットされており、且つプリアンブル（１８）を含むデータ・パケット（１０）を含むデータ信号を受信するステップ（３４）と、
前記データ信号を表す波形を導き出すステップ（３８、４０）
とを含み、
基準余弦信号波形を画定するステップ（５０）と、
相関結果を生成するために、前記基準余弦信号波形と、前記データ信号を表す前記波形との相関をとるステップ（４２、５２）と、
前記相関結果に従って、前記データ信号内の前記プリアンブルを識別するステップ（５４）と、
前記プリアンブルとは別の、前記データ・バケット（１０）の一部分（２０）を、所定の基準と比較し（６０）、そのような比較の結果に従って、前記プリアンブルの識別を確定するステップ
とによって特徴付けられることからなる、方法。
【請求項２】
前記データ信号を表す前記波形は、前記データ・パケット内のデータに従って、前記データ信号の変調の特性を表すために導き出される（３８，４０）、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記データ信号は、周波数偏移変調された信号であり、
前記データ信号を表す前記波形は、時間の関数として前記データ信号の周波数偏移を表すために導き出される（３８，４０）ことからなる、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記プリアンブルとは別の、前記データ・パケットの前記一部分（２０）は、前記データ・パケット（１０）内に同期語（２０）の一部を含む、請求項１乃至３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記プリアンブルとは別の、前記データ・パケットの前記一部分（２０）は、前記同期語（２０）の最上位６ビットを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
ブルートゥース・ワイヤレス通信規格に準拠するようにフォーマットされたデータ・パケット（１０）のプリアンブル（１８）を検出するための装置であって、
前記ブルートゥース・ワイヤレス通信規格に準拠するようにフォーマットされており、且つプリアンブル（１８）を含むデータ・パケット（１０）を含むデータ信号を受信するための、且つ、前記データ信号を表す波形を導き出す（３８、４０）ための、受信器（３４）
を備え、
基準余弦信号波形を画定するための手段（５０）と、
相関結果を生成するために、前記基準余弦信号波形と、前記データ信号を表す前記波形との相関をとるための相関器（４２、５２）と、
前記相関結果に従って、前記データ信号内の前記プリアンブルを識別するための手段（５４）と、
前記プリアンブルとは別の、前記データ・バケット（１０）の一部分（２０）を、所定の基準と比較するための手段（６０）、及びそのような比較の結果に従って、前記プリアンブルの識別を確定するための手段
とによって特徴付けられることからなる、装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月25日(2005.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】情報記録媒体、情報記録方法、及び情報再生方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のＥＣＣブロックに含まれる一部のデータの組み合わせにより生成される物理セクタデータを記録するための物理セクタ領域を複数備えたことを特徴とする情報記録媒体。
【請求項２】
前記ＥＣＣブロックは、所定の工程を得て生成されるものであって、
前記所定の工程において、
第１のバイト数で構成されるデータセクタが生成され、
前記データセクタを複数集めてセクタブロックが生成され、
前記セクタブロックをｎ個に分割してｎ個の分割ブロックが生成され、
これらｎ個の分割ブロック夫々に対して個別にパリティを付加してｎ個の互いに独立した前記ＥＣＣブロックが生成される、
ことを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体。
【請求項３】
前記ＥＣＣブロックは、所定の工程を得て生成されるものであって、
前記所定の工程において、
データＩＤを含み且つ第１のバイト数で構成されるデータセクタが生成され、
前記データセクタを複数集めてセクタブロックが生成され、
前記セクタブロックをｎ個に分割してｎ個の分割ブロックが生成され、
前記分割ブロックを構成する列方向のデータを符号化して外符号パリティが生成され、
前記分割ブロックを構成する行方向のデータを符号化して内符号パリティが生成され、
前記分割ブロックに対して生成された外符号パリティ及び内符号パリティが付加され、ｎ個の互いに独立した前記ＥＣＣブロックが生成され、
ことを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体。
【請求項４】
前記ＥＣＣブロックは、所定の工程を得て生成されるものであって、
前記所定の工程において、
データＩＤを含み且つ第１のバイト数で構成されたデータセクタが生成され、
前記データセクタに含まれるデータを所定位置に配置換えして、配置換え済みのセクタデータが生成され、
前記配置換え済みセクタデータを複数集めてセクタブロックが生成され、
前記セクタブロックをｎ個に分割してｎ個の分割ブロックが生成され、
前記分割ブロックを構成する列方向のデータを符号化して外符号パリティが生成され、
前記分割ブロックを構成する行方向のデータを符号化して内符号パリティが生成され、
前記分割ブロックに対して生成された外符号パリティ及び内符号パリティを付加して、ｎ個の互いに独立した前記ＥＣＣブロックが生成される、
ことを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体。
【請求項５】
前記物理セクタデータは、
前記データセクタの一部と前記内符号パリティの一部で構成される第２のバイト数のデータライン、及び前記外符号パリティの一部だけで構成される前記第２のバイト数のデータラインの集合体で構成され、この集合体のデータラインの総数がｎの整数倍である、
ことを特徴とする請求項３又は４に記載の情報記録媒体。
【請求項６】
前記物理セクタデータは、
前記データＩＤを含むとともに、このデータＩＤを特定の位置に配置したデータ構造を有する、
ことを特徴とする請求項３又は４に記載の情報記録媒体。
【請求項７】
前記物理セクタデータは、
前記データＩＤを含むとともに、このデータＩＤを先頭に配置し、且つ前記外符号のパリティの一部だけで構成されるデータラインを最終ラインとして配置したデータ構造を有する、
ことを特徴とする請求項３又は４に記載の情報記録媒体。
【請求項８】
前記物理セクタ領域は、
前記物理セクタデータの中から所定の法則に基づき順番に抽出されるデータが順番に記録される領域である、
ことを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体。
【請求項９】
情報記録媒体に対して情報を記録する情報記録方法であって、
複数のＥＣＣブロックに含まれる一部のデータの組み合わせにより物理セクタデータを生成し、この物理セクタデータを前記情報記録媒体上の物理セクタ領域に記録することを特徴とする情報記録方法。
【請求項１０】
複数のＥＣＣブロックに含まれる一部のデータの組み合わせにより生成される物理セクタデータが記録された物理セクタ領域を複数備えた情報記録媒体を再生する情報再生方法であって、
前記情報記録媒体上の所定数の物理セクタ領域から物理セクタデータを読み出し、読み出した物理セクタデータから複数のＥＣＣブロックを生成し、読み出した物理セクタデータを再生する再生工程を備えたことを特徴とする情報再生方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
この発明の目的は、上記したような事情に鑑み成されたものであって、下記に示す情報記録媒体、情報記録方法、情報再生方法を提供することにある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
（２）バーストエラー長の訂正能力を大幅に改善したＥＣＣブロック構造から生成したセクタデータを記録することが可能な情報記録方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
（３）バーストエラー長の訂正能力を大幅に改善したＥＣＣブロック構造から生成されるセクタデータが記録された情報記録媒体を再生することが可能な情報再生方法。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決し目的を達成するために、この発明の情報記録媒体、情報記録方法、情報再生方法は、以下のように構成されている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０４】
この発明によれば下記の情報記録媒体、情報記録方法、情報再生方法を提供できる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０６】
（２）バーストエラー長の訂正能力を大幅に改善したＥＣＣブロック構造から生成したセクタデータを記録することが可能な情報記録方法。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０７】
（３）バーストエラー長の訂正能力を大幅に改善したＥＣＣブロック構造から生成されるセクタデータが記録された情報記録媒体を再生することが可能な情報再生方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月1日(2004.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】データ再生装置及びデータ記録再生装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円盤状の記録媒体上に、溝部または溝間部から構成されるトラックが半径方向に揺動して形成され、前記トラック上にデータが記録される記録媒体を用いてデータの再生を行うデータ再生装置において、
データ再生時に前記揺動に同期した第１クロックを生成する第１クロック生成手段と、
クロック周波数が前記第１クロックに等しく、かつクロックの位相タイミングが前記記録媒体から再生させる再生信号に同期している第２のクロックを用いてデータ再生を行うデータ再生手段を有することを特徴とするデータ再生装置。
【請求項２】
円盤状の記録媒体上に溝部または溝間部から構成されるトラックが半径方向に揺動して形成され前記トラック上にデータが記録される記録媒体を用いてデータの記録再生を行うデータ記録再生装置において、
データ記録時に前記揺動に同期した第１クロックを生成する第１クロック生成手段と、
前記第１クロックを基準信号としてデータ記録を行うデータ記録手段と、
データ再生時にクロック周波数が前記第１クロックに等しくかつクロックの位相タイミングが前記記録媒体から再生させる再生信号に同期している第二のクロックを用いてデータ再生を行うデータ再生手段を有することを特徴とするデータ記録再生装置。
【請求項３】
円盤状の記録媒体上に溝部または溝間部から構成されるトラックが半径方向に揺動して形成され前記トラック上にデータが記録される記録媒体を用いてデータの再生を行うデータ再生装置において、
データ再生時に前記揺動に同期した第１クロックを生成する第１クロック生成手段と、
再生されたデータを等化する等化手段と、等化されたデータから位相ずれを検出する位相検出手段と、
前記位相検出手段の出力をフィルタ処理するループフィルタと、
前記ループフィルタの出力を用いて位相シフトを行い生成する前記第２クロックを用いて、データ再生を行うデータ再生手段を有することを特徴とするデータ再生装置。
【請求項４】
円盤状の記録媒体上に溝部または溝間部から構成されるトラックが半径方向に揺動して形成され前記トラック上にデータが記録される記録媒体を用いてデータの記録再生を行うデータ記録再生装置において、
データ記録時に前記揺動に同期した第１クロックを生成する第１クロック生成手段と、
前記第１クロックを基準信号としてデータ記録を行うデータ記録手段と、
再生されたデジタルデータから位相ずれを検出する位相検出手段と、
前記位相検出手段の出力をフィルタ処理するループフィルタと、
前記ループフィルタの出力を用いて位相シフトを行い生成する前記第２クロックを用いて、データ再生を行うデータ再生手段を有することを特徴とするデータ記録再生装置。
【請求項５】
円盤状の記録媒体上に溝部または溝間部から構成されるトラックが半径方向に揺動して形成され前記トラック上にデータが記録される記録媒体を用いてデータの再生を行うデータ再生装置において、
再生されたデータを等化する等化手段と、等化されたデータから位相ずれを検出する位相検出手段と、
前記位相検出手段の出力をフィルタ処理するループフィルタと、
前記揺動から周波数を検出しかつ前記ループフィルタの出力から前記周波数を変化させる周波数同期手段と、
周波数同期手段の出力からクロックを生成しデータ再生を行うデータ再生手段を有することを特徴とするデータ再生装置。
【請求項６】
円盤状の記録媒体上に溝部または溝間部から構成されるトラックが半径方向に揺動して形成され前記トラック上にデータが記録される記録媒体を用いてデータの再生を行うデータ記録再生装置において、
データ記録時に前記揺動に同期した第１クロックを生成する第１クロック生成手段と、
前記第１クロックを基準信号としてデータ記録を行うデータ記録手段と、
データ再生時に再生されたデジタルデータから位相ずれを検出する位相検出手段と、
前記位相検出手段の出力から周波数のずれを検出するループフィルタと、
前記揺動から周波数を検出しかつ前記ループフィルタの出力から前記周波数を変化させる周波数同期手段と、
周波数同期手段の出力からクロックを生成しデータ再生を行うデータ再生手段と、
前記クロックを基準信号としてデータ記録を行うデータ記録手段を有することを特徴とするデータ記録再生装置。
【請求項７】
円盤状の記録媒体上に溝部または溝間部から構成されるトラックが半径方向に揺動して形成され前記トラック上にデータが記録される記録媒体を用いてデータの再生を行うデータ再生装置において、
データ再生時に前記揺動に同期した第１クロックを生成する第１クロック生成手段と、
再生されたデータを等化する等化手段と、等化されたデータから位相ずれを検出する位相検出手段と、
前記位相検出手段の出力をフィルタ処理するループフィルタと、
前記再生されたデータを前記ループフィルタの出力を用いて補完を行う補間手段と、
前記補間手段路から出力される補間されたデータを用いてデータ再生を行うデータ再生手段を有することを特徴とするデータ再生装置。
【請求項８】
円盤状の記録媒体上に溝部または溝間部から構成されるトラックが半径方向に揺動して形成され前記トラック上にデータが記録される記録媒体を用いてデータの再生を行うデータ記録再生装置において、
データ記録時に前記揺動に同期した第１クロックを生成する第１クロック生成手段と、
前記第１クロックを基準信号としてデータ記録を行うデータ記録手段と、
データ再生時に前記揺動に同期した第１クロックを生成する第１クロック生成手段と、
再生されたデータを等化する等化手段と、等化されたデータから位相ずれを検出する位相検出手段と、
前記位相検出手段の出力をフィルタ処理するループフィルタと、
前記再生されたデータを前記ループフィルタの出力を用いて補完を行う補間手段と、
前記補間手段路から出力される補間されたデータを用いてデータ再生を行うデータ再生手段を有することを特徴とするデータ記録再生装置。
【請求項９】
請求項３または５または７に記載のデータ再生装置であって、
前記位相検出手段は過去のサンプル値及び過去の振幅仮判定結果から位相誤差を検出し、
前記位相検出手段の入力を作成する等化器は等化波形があらかじめ定められた目標クラスのパーシャルレスポンス波形となるよう等化を行うことを特徴とするデータ再生装置。
【請求項１０】
請求項４または６または８に記載のデータ記録再生装置であって、
前記位相検出手段は過去のサンプル値及び過去の振幅仮判定結果から位相誤差を検出し、
前記位相検出手段の入力を作成する等化器は等化波形があらかじめ定められた目標クラスのパーシャルレスポンス波形となるよう等化を行うことを特徴とするデータ記録再生装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月5日(2004.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
案内溝が形成された円盤状の基板上に、有機色素を含む記録層および反射層を形成してなり、波長６００〜７００ｎｍのレーザー光にて記録／再生を行う光記録媒体において、基板のランド幅が溝幅の１．３〜１．７倍であるランド上に、プリフォーマット情報がランドプリピットとして形成されており、該ランドプリピットの底部における、案内溝と平行な方向の最大長が０．２０〜０．３１μｍであることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
案内溝の、光学溝形状測定による溝幅が０．２８〜０．３１μｍであることを特徴とする、請求項１記載の光記録媒体。
【請求項３】
ランドプリピットが、基板のランド幅内に収まる略円形であることを特徴とする、請求項１または２記載の光記録媒体。
【請求項４】
未記録の状態における記録層の溝深さが、同じ位置の基板の溝深さの６０〜７５％であり、記録層の膜厚がランド部で１０〜５０ｎｍ、溝部で８０〜１０５ｎｍであることを特徴とする、請求項１ないし３のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項５】
縦横等倍の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）像で見た、記録層の溝の壁面の傾斜角が１０〜４０°であることを特徴とする、請求項１ないし４のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項６】
光記録媒体の記録層表面の、面振れ加速度が±５ｍ/ｓ2 以内であることを特徴とする、請求項１ないし５のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項７】
円盤状の基板上に、有機色素を含む記録層および反射層を形成してなる光記録媒体において、光記録媒体の記録層表面の、面振れ加速度が±５ｍ/ｓ2 以内であることを特徴とする光記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
すなわち本発明は、
（１）案内溝が形成された円盤状の基板上に、有機色素を含む記録層および反射層を形成してなり、波長６００〜７００ｎｍのレーザー光にて記録／再生を行う光記録媒体におい
て、基板のランド幅が溝幅の１．３〜１．７倍であるランド上に、プリフォーマット情報がランドプリピットとして形成されており、該ランドプリピットの底部における、案内溝と平行な方向の最大長が０．２０〜０．３１μｍであることを特徴とする光記録媒体、
および
（２）円盤状の基板上に、有機色素を含む記録層および反射層を形成してなる光記録媒体において、光記録媒体の記録層表面の、面振れ加速度が±５ｍ/ｓ2 以内であることを特
徴とする光記録媒体に存する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月29日(2004.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
複数の電極部を有する第１電極層と、前記第１電極層に対向する第２電極層と、前記第１及び第２電極層に挟持され、前記第１及び第２電極層への印加電圧に応じた位相変化を通過する光ビームに生じせしめる液晶と、を有する収差補正素子であって、前記第１電極層は複数の位置合わせ用の位置マーカを含むことを特徴とする収差補正素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明による収差補正素子は、複数の電極部を有する第１電極層と、第１電極層に対向する第２電極層と、第１及び第２電極層に挟持され、第１及び第２電極層への印加電圧に応じた位相変化を通過する光ビームに生じせしめる液晶と、を有する収差補正素子であって、第１電極層は複数の位置合わせ用の位置マーカを含むことを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月12日(2005.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
媒体上に光レーザーを用いてマークを書くことにより、情報を記録する情報記録方法において、
最短マークを形成する際の記録波形に対応する第１のチャネルデータと、マーク間の最短スペースを形成する際の記録波形に対応する第２のチャネルデータとは非対称であり、
前記第１のチャネルデータ及び前記第２のチャネルデータを含むチャネルデータを前記光レーザの記録波形に変換して、前記媒体に、最短マークと最短スペースの長さが略等しくなるように記録することを特徴とする情報記録方法。
【請求項２】
媒体上に光レーザーを用いてマークを書くことにより、情報を記録する情報記録方法において、
ユーザービットをチャネルビットに変換する変調符号として８−１４符号を用い、前記チャネルビットを前記光レーザの記録波形に変換して、前記媒体に、最短マークとマーク間の最短スペースが略等しくなるように記録することを特徴とする情報記録方法。
【請求項３】
前記チャネルデータをＮＲＺ変換し、前記最短マークに相当するパルスの長さを検出窓幅の半分分短くすることによって、前記最短マークとマーク間の最短スペースが略等しくなるように記録することを特徴とする請求項２記載の情報記録方法。
【請求項４】
媒体上に光レーザーを用いてマークを書くことにより、情報を記録し、前記マークの反射光の強度による再生信号から情報を再生する情報記録再生方法において、
最短マークを形成する際の記録波形に対応する第１のチャネルデータと、マーク間の最短スペースを形成する際の記録波形に対応する第２のチャネルデータとは非対称であり、
前記第１のチャネルデータ及び前記第２のチャネルデータを含むチャネルデータを前記光レーザの記録波形に変換して、前記媒体に、最短マークと最短スペースの長さが略等しくなるように記録し、
前記マークの反射光の強度による再生信号から前記再生信号の立上り及び立ち下がりに対応した第１及び第２のタイミング信号を検出し、前記第１及び第２のタイミング信号から独立に第１及び第２の同期信号及びクロック信号を形成し、前記第１及び第２の同期信号及びクロック信号に基づいて前記マークから得られる第１及び第２のタイミング信号からデータを独立に再生し、前記独立に再生されたデータを合成して復調することを特徴とする情報記録再生方法。
【請求項５】
前記記録は、ユーザービットをチャネルビットに変換する変調符号として８−１４符号を用いることを特徴とする請求項４記載の情報記録再生方法。
【請求項６】
媒体上に光レーザーを用いてマークを書くことにより、情報を記録し、前記マークの反射光の強度による再生信号から情報を再生する情報記録再生方法において、
最短マークを形成する際の記録波形に対応する第１のチャネルデータと、マーク間の最短スペースを形成する際の記録波形に対応する第２のチャネルデータとは非対称であり、
前記第１のチャネルデータ及び前記第２のチャネルデータを含むチャネルデータを前記光レーザの記録波形に変換して、前記媒体に、最短マークと最短スペースの長さが略等しくなるように記録し、
前記マークの反射光の強度による再生信号からパーシャルレスポンス方式を用いてデジタルデータを再生することを特徴とする情報記録再生方法。
【請求項７】
前記パーシャルレスポンスのインパルス応答長は３ビット以上であることを特徴とする請求項６記載の情報記録再生方法。
【請求項８】
前記記録は、ユーザービットをチャネルビットに変換する変調符号として８−１４符号を用いることを特徴とする請求項６記載の情報記録再生方法。
【請求項９】
記録媒体に照射するためのレーザを駆動するためのレーザ駆動回路と、
ユーザーデータをチャネルデータに８−１４変調する符号化回路と、
前記符号化回路から受け取ったＮＲＺ形式のデータを、最短マーク長に相当するパルス長さを検出窓幅の半分分だけ短くするマーク長補正回路と、
前記マーク長補正回路からのデータを、電圧波形に変換する記録波形発生回路とを有することを特徴とする情報記録装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月15日(2004.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
表面に案内溝を有する第一基板上に、少なくとも金属反射層、色素を含有する記録層が順に積層され、更に少なくとも接着層、第二基板が順に積層され、該記録層により、該案内溝の凹凸が平坦化されている光記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
あらかじめ情報が記録されたＲＯＭ部と、追記が可能な領域であって案内溝があらかじめ設けられた部分とを併せ持つ第一基板上に、少なくとも金属反射層、色素を含有する記録層が順に積層され、更に少なくとも接着層、第二基板が順に積層され、該記録層により、該案内溝の凹凸が平坦化されている光記録媒体。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
【課題を解決するための手段】
上記課題は、次の１）〜２６）の発明（以下、本発明１〜２６という）によって解決される。
１）  表面に案内溝を有する基板上に、少なくとも金属反射層、色素を含有する記録層、及び保護層が順に積層され、該記録層により、該案内溝の凹凸が平坦化されている光記録媒体。
２）  表面に案内溝を有する第一基板上に、少なくとも金属反射層、色素を含有する記録層が順に積層され、更に少なくとも接着層、第二基板が順に積層され、該記録層により、該案内溝の凹凸が平坦化されている光記録媒体。
３）  あらかじめ情報が記録されたＲＯＭ（再生専用）部と、追記が可能な領域であって案内溝があらかじめ設けられた部分とを併せ持つ基板上に、少なくとも金属反射層、色素を含有する記録層、及び保護層が順に積層され、該記録層により、該案内溝の凹凸が平坦化されている光記録媒体。
４）  あらかじめ情報が記録されたＲＯＭ部と、追記が可能な領域であって案内溝があらかじめ設けられた部分とを併せ持つ第一基板上に、少なくとも金属反射層、色素を含有する記録層が順に積層され、更に少なくとも接着層、第二基板が順に積層され、該記録層により、該案内溝の凹凸が平坦化されている光記録媒体。
５）  記録層が色素を含有する記録層材料の溶液を塗布することにより形成されたものである１）〜４）のいずれかに記載の光記録媒体。
６）  記録層の次に緩衝層が積層されている１）〜５）のいずれかに記載の光記録媒体。
７）  緩衝層が有機物質からなることを特徴とする６）記載の光記録媒体。
８）  緩衝層を構成する材料のガラス転移温度が１００〜２００℃の範囲にある６）又は７）記載の光記録媒体。
９）  緩衝層が接着性材料よりなり、接着層を兼ねるものである６）〜８）のいずれかに記載の光記録媒体。
１０）  緩衝層が、最外層に相当する保護層又は第二基板の変形によるピット形成を助長する機能を有する６）〜９）のいずれかに記載の光記録媒体。
１１）  情報の記録・再生を最外層に相当する保護層又は第二基板側から行う１）〜１０）のいずれかに記載の光記録媒体の記録・再生方法。
１２）  緩衝層が有する最外層に相当する保護層又は第二基板の変形によるピット形成を助長する機能を利用して、１０）記載の光記録媒体に記録を行う記録方法。
１３）  案内溝を有する基板（第一基板）上に、少なくとも、基板より屈折率の高い下引き層と、色素を含有する塗布型記録層が順に設けられ、該下引き層により該基板表面に存在する案内溝凹凸が平坦化されている光記録媒体。
１４）  記録層上に、保護層が設けられている１３）記載の光記録媒体。
１５）  １３）記載の光記録媒体上に、第二基板が、接着層を介して一定の空間を隔てて設けられているエアーサンドイッチ型光記録媒体。
１６）  案内溝を有する基板（第一基板）上に、少なくとも、基板より屈折率の高い下引き層、色素を含有する塗布型記録層、及び金属反射層が順に設けられ、該下引き層により該基板表面に存在する案内溝凹凸が平坦化されている光記録媒体。
１７）  金属反射層が、金、銀、アルミニウム又はその合金から選ばれた少なくとも一つの材料からなる１６）記載の光記録媒体。
１８）  金属反射層上に、保護層が設けられている１６）又は１７）記載の光記録媒体。
１９）  最上層である金属反射層又は保護層の上に、接着層を介して第二基板が貼り合わされている１６）〜１８）の何れかに記載の光記録媒体。
２０）  基板上のトラッキング用案内溝のトラックピッチ（Ｐ）が、０．８×λ／ＮＡ≦Ｐ≦１．３×λ／ＮＡ〔λ：記録・再生波長（μｍ）、ＮＡ：対物レンズの開口数〕である１３）〜１９）の何れかに記載の光記録媒体。
２１）  下引き層が光学的に多重干渉効果を有する構造である１３）〜２０）の何れかに記載の光記録媒体。
２２）  下引き層が記録・再生波長域に実用上吸収能を有しない色素を主成分とする材料からなる１３）〜２１）の何れかに記載の光記録媒体。
２３）  案内溝グルーブ部（凹部）及び案内溝ランド部（凸部）に、透明な基板側から光を照射して情報の記録・再生を行う１３）〜２２）の何れかに記載の光記録媒体の記録・再生方法。
２４）  記録・再生波長が４００〜５５０ｎｍである２３）記載の光記録・再生方法。
２５）  下引き層を、沸点が１２０℃以上の溶媒を用いて溶液塗布法により形成する１３）〜２２）の何れかに記載の光記録媒体の製造方法。
２６）  記録層を、下引き層を溶解しない溶媒を用いて溶液塗布法により形成する１３）〜２２）の何れかに記載の光記録媒体の製造方法。