【手続補正書】
【提出日】平成17年3月10日(2005.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
気密な処理室内に少なくともフッ素を含む処理ガスを導入して被処理基板上の被処理膜にプラズマ処理を施した際の、前記処理室内に堆積した堆積物を洗浄除去するプラズマ処理装置の洗浄方法であって、
前記堆積物が堆積した被洗浄部材を洗浄処理液に所定時間接触させて、前記堆積物を化学的に除去する化学洗浄工程と、
前記化学洗浄工程の後に、前記被洗浄部材に洗浄媒体を噴射させて、前記堆積物を物理的に除去する物理洗浄工程と
を有することを特徴とするプラズマ処理装置の洗浄方法。
【請求項２】
請求項１記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、
前記洗浄処理液が、少なくとも有機溶媒を含むことを特徴とするプラズマ処理装置の洗浄方法。
【請求項３】
請求項２記載のプラズマ処理装置の洗浄方法であって、
前記有機溶媒は、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトンのうちの少なくとも一つであることを特徴とするプラズマ処理装置の洗浄方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、
前記物理洗浄工程がドライアイスペレットを圧縮空気によって噴射するＣＯ2 ブラスト洗浄によって行われることを特徴とするプラズマ処理装置の洗浄方法。
【請求項５】
請求項４記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、
前記ＣＯ2 ブラスト洗浄における圧縮空気の圧力が、３．０〜４．２ｋｇ／ｃｍ2 であることを特徴とするプラズマ処理装置の洗浄方法。
【請求項６】
請求項４又は５記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、
前記ＣＯ2 ブラスト洗浄におけるドライアイスペレットの粒径が０．３ｍｍから０．６ｍｍであることを特徴とするプラズマ処理装置の洗浄方法。
【請求項７】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、
前記物理洗浄工程が圧縮空気に高圧水を混入して噴射するエアジェット洗浄によって行われることを特徴とするプラズマ処理装置の洗浄方法。
【請求項８】
請求項７記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、
前記エアジェット洗浄における水圧が７〜１４ＭＰａ、空気圧が０．２〜０．３５ＭＰａであることを特徴とするプラズマ処理装置の洗浄方法。
【請求項９】
請求項１〜８いずれか１項記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、
前記被洗浄部材の表面に、陽極酸化膜又は溶射膜からなる被膜が形成されていることを特徴とするプラズマ処理装置の洗浄方法。
【請求項１０】
請求項１〜９いずれか１項記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、
前記化学洗浄工程と、前記物理洗浄工程の間に、気体を吹き付けて前記被洗浄部材から剥離した前記堆積物を除去するエアパージ工程を有することを特徴とするプラズマ処理装置の洗浄方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０いずれか１項記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、
前記物理洗浄工程の後に、前記被洗浄部材を純水中に浸漬し、当該純水に超音波振動を加える純水超音波洗浄工程を有することを特徴とするプラズマ処理装置の洗浄方法。
【請求項１２】
フッ素を含む処理ガスによる堆積物を洗浄除去する洗浄方法において、
前記堆積物が堆積した被洗浄部材を洗浄処理液に所定時間接触させて、前記堆積物を化学的に除去する化学洗浄工程と、前記化学洗浄工程の後に、前記被洗浄部材に洗浄媒体を噴射させて、前記堆積物を物理的に除去する物理洗浄工程とを有することを特徴とする洗浄方法。
【請求項１３】
気密な処理室内に少なくともフッ素を含む処理ガスを導入して被処理基板上の被処理膜をプラズマ処理するプラズマ処理装置において、
前記プラズマ処理による堆積物が堆積した被洗浄部材を洗浄処理液に所定時間接触させる、前記堆積物の化学的な除去と、その後に、前記被洗浄部材に洗浄媒体を噴射させる、前記堆積物の物理的な除去とが施されたことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項１４】
気密な処理室内に少なくともフッ素を含む処理ガスを導入して被処理基板上の被処理膜にプラズマ処理を施した際の、前記処理室内に堆積した堆積物を洗浄除去するプラズマ処理装置の洗浄方法であって、
前記堆積物が堆積した被洗浄部材に、圧縮気体を吹き付けて前記堆積物を除去する気体吹き付け工程と、
前記気体吹き付け工程の後に、前記被洗浄部材に洗浄媒体を噴射させて、前記堆積物を物理的に除去する物理洗浄工程と
を有することを特徴とするプラズマ処理装置の洗浄方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、
前記物理洗浄工程がドライアイスペレットを圧縮空気によって噴射するＣＯ2 ブラスト洗浄によって行われることを特徴とするプラズマ処理装置の洗浄方法。
【請求項１６】
請求項１５記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、
前記ＣＯ2 ブラスト洗浄における圧縮空気の圧力が、３．０〜４．２ｋｇ／ｃｍ2 であることを特徴とするプラズマ処理装置の洗浄方法。
【請求項１７】
請求項１５又は１６記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、
前記ＣＯ2 ブラスト洗浄におけるドライアイスペレットの粒径が０．３ｍｍから０．６ｍｍであることを特徴とするプラズマ処理装置の洗浄方法。
【請求項１８】
請求項１４記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、
前記物理洗浄工程が圧縮空気に高圧水を混入して噴射するエアジェット洗浄によって行われることを特徴とするプラズマ処理装置の洗浄方法。
【請求項１９】
請求項１８記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、
前記エアジェット洗浄における水圧が７〜１４ＭＰａ、空気圧が０．２〜０．３５ＭＰａであることを特徴とするプラズマ処理装置の洗浄方法。
【請求項２０】
請求項１４〜１９いずれか１項記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、
前記被洗浄部材の表面に、陽極酸化膜又は溶射膜からなる被膜が形成されていることを特徴とするプラズマ処理装置の洗浄方法。
【請求項２１】
請求項１４〜２０いずれか１項記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、
前記物理洗浄工程の後に、前記被洗浄部材を純水中に浸漬し、当該純水に超音波振動を加える純水超音波洗浄工程を有することを特徴とするプラズマ処理装置の洗浄方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
請求項１３の発明は、気密な処理室内に少なくともフッ素を含む処理ガスを導入して被処理基板上の被処理膜をプラズマ処理するプラズマ処理装置において、前記プラズマ処理による堆積物が堆積した被洗浄部材を洗浄処理液に所定時間接触させる、前記堆積物の化学的な除去と、その後に、前記被洗浄部材に洗浄媒体を噴射させる、前記堆積物の物理的な除去とが施されたことを特徴とする。
請求項１４の発明は、気密な処理室内に少なくともフッ素を含む処理ガスを導入して被処理基板上の被処理膜にプラズマ処理を施した際の、前記処理室内に堆積した堆積物を洗浄除去するプラズマ処理装置の洗浄方法であって、前記堆積物が堆積した被洗浄部材に、圧縮気体を吹き付けて前記堆積物を除去する気体吹き付け工程と、前記気体吹き付け工程の後に、前記被洗浄部材に洗浄媒体を噴射させて、前記堆積物を物理的に除去する物理洗浄工程とを有することを特徴とする。
請求項１５の発明は、請求項１４に記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、前記物理洗浄工程がドライアイスペレットを圧縮空気によって噴射するＣＯ2 ブラスト洗浄によって行われることを特徴とする。
請求項１６の発明は、請求項１５記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、前記ＣＯ2 ブラスト洗浄における圧縮空気の圧力が、３．０〜４．２ｋｇ／ｃｍ2 であることを特徴とする。
請求項１７の発明は、請求項１５又は１６記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、前記ＣＯ2 ブラスト洗浄におけるドライアイスペレットの粒径が０．３ｍｍから０．６ｍｍであることを特徴とする。
請求項１８の発明は、請求項１４記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、前記物理洗浄工程が圧縮空気に高圧水を混入して噴射するエアジェット洗浄によって行われることを特徴とする。
請求項１９の発明は、請求項１８記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、前記エアジェット洗浄における水圧が７〜１４ＭＰａ、空気圧が０．２〜０．３５ＭＰａであることを特徴とする。
請求項２０の発明は、請求項１４〜１９いずれか１項記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、前記被洗浄部材の表面に、陽極酸化膜又は溶射膜からなる被膜が形成されていることを特徴とする。
請求項２１の発明は、請求項１４〜２０いずれか１項記載のプラズマ処理装置の洗浄方法において、前記物理洗浄工程の後に、前記被洗浄部材を純水中に浸漬し、当該純水に超音波振動を加える純水超音波洗浄工程を有することを特徴とする。