Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月8日(2005.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体光学スイッチを製造するための方法であって、
導波路板に複数の交差点を備える格子を形成するステップと、
前記格子に光ファイバの直立部分を挿入するステップと、
前記導波路板の前記直立部分の間に分け入るようにして、梯子の横桟を挿入するステップと、
前記梯子の横桟を配向するステップと、
前記格子の交差点においてある角度で前記光ファイバを選択的に切削するステップと、
ヒータがそれぞれの切削された交差点に位置するように、メサ上に少なくとも１つのヒータを含んでいるヒータ板の上に導波路板を配置するステップとからなる方法。
【請求項２】
前記梯子の横桟を配向するステップが、前記梯子の横桟を押し込み、擦れ合うようにして所定位置に設けるステップを含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
さらに、前記梯子の横桟における散乱光を観測することによって、前記梯子の横桟の配向に修正を施すステップを含む請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記光ファイバを選択的に切削するステップが、さらに前記梯子の横桟における光を観測することによって、鋸による切削箇所を選択的に位置決めするステップを含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
さらに、前記鋸による切削箇所を平滑にして、良好な反射のための鏡面が得られるようにするステップを含む請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記切削箇所を平滑にするステップが、エポキシのバックウィッキングを施すステップを含む請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記ヒータ板が、さらに前記メサ上に第２のヒータを含む請求項１に記載の方法。
【請求項８】
さらに、前記導波路板の切削箇所に低表面エネルギ層を設けて、液体の動きにくさを低減するステップを含む請求項１に記載の方法。
【請求項９】
さらに、前記ヒータ板に液体になじむ高表面エネルギ層を設けて、液体がリザーバに戻るのを助長するステップを含む請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
光ファイバの格子を含む導波路板であって、面の１つの反射率が高くなるように、格子の交差点が切削されている導波路板と、
前記導波路板の下方に配置されているヒータ板であって、メサ上のヒータとトレンチを有し、それによって、液体を含むリザーバが形成され、該リザーバ内に気泡を有する流体が含まれているヒータ板とからなり、
気泡が前記ヒータ上にあるときにはスイッチがＯＮになり、気泡が前記ヒータ上からなくなるとスイッチがＯＦＦになる流体光学スイッチ。
【請求項１１】
さらに、第１のメサの近くに配置されている前記メサ上の第２のヒータが含まれ、
気泡が第１のヒータの上に位置するときにはスイッチがＯＮになり、気泡が第２のヒータの上に位置するときにはスイッチがＯＦＦになる請求項１０に記載の流体光学スイッチ。
【請求項１２】
光ファイバの格子を含む導波路板であって、面の１つの反射率が高くなるように、各交差点が切削され、ベントを備えている導波路板と、
前記導波路板の下方に配置されているヒータ板であって、メサ上のヒータとトレンチを有し、該ヒータが前記交差点の１つに近接し、かつ前記ベントの近くにあるヒータ板と、
トレンチ内の流体と、該トレンチが流体のためのリザーバであり、
前記リザーバ内に配置され、流体の噴射を生じさせる働きをする流体噴射装置とからなり、
噴射された流体が前記メサを被うときにはスイッチがＯＦＦになり、噴射された流体が前記交差点から流出するとスイッチがＯＮになるベント付き流体光学スイッチ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月24日(2004.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷媒体上に画像を形成するための取替え可能な消耗品を有する形式の印刷装置であって、
入力信号に応答して、前記取替え可能な消耗品の包装のグラフィック画像を印刷するための状態を決定する制御装置と、
前記制御装置に接続され、グラフィック画像情報を含む記憶装置であって、前記取替え可能な消耗品の包装の画像を印刷するための状態が発生すると、前記印刷装置が前記取替え可能な消耗品の包装のグラフィック画像を形成する、記憶装置と、
を備えている印刷装置。
【請求項２】
前記記憶装置が前記取替え可能な消耗品上に配置されている、請求項１に記載の印刷装置。
【請求項３】
前記印刷装置に画像情報を提供するホストをさらに含み、該ホストは消耗品画像情報を含み、印刷媒体上に形成される、前記取替え可能な消耗品の画像が、前記ホストによって提供される画像情報に基づいている、請求項１に記載の印刷装置。
【請求項４】
前記記憶装置が半導体記憶装置である、請求項１に記載の印刷装置。
【請求項５】
取替え可能な消耗品を有する印刷装置用の消耗品を選択する方法であって、
制御信号を受信するステップと、
前記制御信号に基づいて、包装された取替え可能な消耗品のグラフィック画像を印刷するための状態を決定するステップと、
前記グラフィック画像を印刷するための状態が発生すると、前記包装された取替え可能な消耗品のグラフィック画像を印刷媒体上に形成するステップと、
を含む、消耗品を選択する方法。
【請求項６】
前記印刷媒体上の前記包装された取替え可能な消耗品のグラフィック画像を、前記取替え可能な消耗品と関連付けられる包装と目で見て照合することにより、複数の取替え可能な消耗品から、前記取替え可能な消耗品を識別するステップをさらに含む、請求項５に記載の、消耗品を選択する方法。
【請求項７】
ホスト及び前記印刷装置のうちの１つに、前記包装された取替え可能な消耗品のグラフィック画像情報をローディングするステップをさらに含む、請求項５に記載の、消耗品を選択する方法。
【請求項８】
印刷媒体上に画像を形成するための印刷装置であって、該印刷装置は、該印刷装置とともに使用するために構成されたホストから画像情報を受信することができ、該印刷装置は、取替え可能な消耗品を有し、
包装された取替え可能な消耗品のグラフィック画像を印刷するための状態を示す信号を受信する受信装置と、
前記受信装置に接続され、前記包装された取替え可能な消耗品の画像を印刷するための状態を示す前記信号が存在する場合に、前記包装された取替え可能な消耗品のグラフィック画像を前記印刷媒体上に形成するための画像情報を受信する印刷制御装置と、
を備えている印刷装置。
【請求項９】
前記印刷装置と関連付けられ、前記包装された取替え可能な消耗品のグラフィック画像を含む記憶装置をさらに備えている、請求項８に記載の印刷装置。
【請求項１０】
前記包装された取替え可能な消耗品のグラフィック画像を印刷するための状態を示す前記信号が前記印刷装置によって発生される、請求項８に記載の印刷装置。
【請求項１１】
前記包装された取替え可能な消耗品のグラフィック画像を印刷するための状態を示す前記信号がホスト装置によって発生される、請求項８に記載の印刷装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月8日(2004.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置の保守及び修理のための情報の提供またはサービスの提供を行う自動車試験・診断システムであって、
ユーザによる操作に応答してコマンドを送り出すユーザ・インターフェイスと、該コマンドに応答して情報にアクセスする処理手段を含んでおり、関連レコード間移行能力によって、記憶されている情報レコードから構成される技術データベースに対するアクセスを可能にし、さらに、データベース内における情報の特定部分への選択的アクセスを可能にする、集中制御手段と、
前記集中制御手段と試験を受ける自動車のシステムに電気的に結合され、ユーザ・インターフェイスを介して入力されるコマンドに応答する、少なくとも１つの計測モジュールと、
前記集中制御手段と前記試験を受ける自動車のシステムのオン・ボード・コンピュータに電気的に結合され、さらに少なくとも１つの計測器モジュールと並列的に結合されている、通信リンクモジュールとを設けて成る自動車試験診断システム。
【請求項２】
前記集中制御手段と前記少なくとも１つの計測モジュールはＩＥＥＥ１３９４バスによって電気的に結合されることを特徴とする、請求項１に記載の自動車試験診断システム。
【請求項３】
前記集中制御手段が、集中制御メモリ手段をさらに含んでおり、前記技術データベースが、技術データベース・メモリ記憶手段から前記集中制御メモリ手段に転送されること、及び、前記技術データベース記憶手段が前記集中制御メモリ手段に電気的に結合されている時にデータ転送が行われることを特徴とする、請求項１または２に記載の自動車試験診断システム。
【請求項４】
前記技術データベース・メモリ記憶手段が取り外し可能であることを特徴とする、請求項３に記載の自動車試験診断システム。
【請求項５】
技術データベース・メモリ記憶手段がＣＤ−ＲＯＭであることを特徴とする、請求項３または４に記載の自動車試験診断システム。
【請求項６】
前記集中制御手段は集中制御メモリ手段をさらに含み、前記集中制御メモリ手段に前記自動車試験診断システムを制御するためのアプリケーション・プログラムが記憶されていることを特徴とする、請求項１から５のいずれかに記載の自動車試験診断システム。
【請求項７】
前記集中制御手段に電気的に結合されたドッキング・ステーション手段をさらに含むことを特徴とする、請求項１から６のいずれかに記載の自動車試験診断システム。
【請求項８】
前記ドッキング・ステーション手段はさらに、技術データベース・メモリ記憶手段を含むことを特徴とする請求項７に記載の自動車試験診断システム。
【請求項９】
前記少なくとも１つの計測モジュールは、試験対象の自動車のバッテリーに電気的に結合されていることを特徴とする、請求項１から８のいずれかに記載の自動車試験診断システム。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの計測モジュールは、電源を内蔵していることを特徴とする、請求項１から９のいずれかに記載の自動車試験診断システム。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月17日(2004.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ：
【化１】
1998109965.tif 000001
［式中、
Ｒ１は−Ｈ、−ＯＨ、−Ｏ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）、−ＯＣＯ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）、−Ｏ（ＣＯ）Ｏ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）、−ＣＯＡｒ、−ＯＣＯＡｒ、−Ｏ（ＣＯ）ＯＡｒ（Ａｒはフェニルもしくは場合により置換されていることのあるフェニルである）、または−ＯＳＯ２−（Ｃ４−Ｃ６アルキル）であり；
Ｒ２は−ＯＨ、−Ｏ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）、−ＯＣＯ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）、−Ｏ（ＣＯ）Ｏ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）、−ＣＯＡｒ、−ＯＣＯＡｒ、−Ｏ（ＣＯ）ＯＡｒ（Ａｒはフェニルもしくは場合により置換されていることのあるフェニルである）、または−ＯＳＯ２−（Ｃ４−Ｃ６アルキル）であり；
Ｒ３およびＲ４は各々独立して、−Ｃ１−Ｃ４アルキル、または組み合わさって、１−ピペリジニル、１−ピロリジニル、メチル−１−ピロリジニル、ジメチル−１−ピロリジニル、４−モルホリノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、または１−ヘキサメチレンイミノを形成し；および
ｎは２または３である；
の化合物、またはその医薬的に許容され得る塩もしくは溶媒和物。
【請求項２】
Ｒ３とＲ４が組み合わさって１−ピペリジニルを形成する、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
１−［２−［４−（６，６Ａ，１１，１１Ａ−テトラヒドロ−９−メトキシ−５Ｈ−ベンゾ［ａ］フルオレン−１１−イル）フェノキシ］エチル］ピロリジン；
１−［２−［４−（６，６Ａ，１１，１１Ａ−テトラヒドロ−９−メトキシ−５Ｈ−ベンゾ［ａ］フルオレン−１１−イル）フェノキシ］エチル］ピロリジン  塩酸塩；
［２−（４−メトキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−６−メトキシナフチ−１−イル］［４−（１−ピペリジニル−２−エトキシ）フェニル］カルビノール；
１−［２−［４−（６，６Ａ，１１，１１Ａ−テトラヒドロ−３，９−ジメトキシ−５Ｈ−ベンゾ［ａ］フルオレン−１１−イル）フェノキシ］エチル］ピペリジン；
［２−（４−メトキシフェニル）−３，４−ジヒドロナフチ−１−イル］［４−（１−ピペリジニル−２−エトキシ）フェニル］カルビノール；および
１−［２−［４−（６，６Ａ，１１，１１Ａ−テトラヒドロ−９−メトキシ−５Ｈ−ベンゾ［ａ］フルオレン−１１−イル）フェノキシ］エチル］ピペリジン
よりなる群から選択される請求項１の化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月6日(2004.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
３，５，５−トリメチルシクロヘキサ−２−エン−１−オン（α−イソホロン）を触媒により異性化することによる３，５，５−トリメチルシクロヘキサ−３−エン−１−オン（β−イソホロン）の製法において、反応混合物から、単離の間に蒸留により、０．５〜７５重量％までがβ−イソホロンからなる混合物を取り出し、かつこれから、β−イソホロンを真空蒸留により単離する（精製蒸留）することを特徴とする、３，５，５−トリメチルシクロヘキサ−３−エン１−オン（β−イソホロン）の製法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月1日(2004.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のコンベヤーベルトモジュールを用いて、そのモジュールの相互に嵌合するリンク端部を通る開口部でジャーナル支承されたヘッドレス軸ピン棒により旋回自在に相互連結している前記リンク端部を有するコンベヤーベルトにおいて、そのベルト縁部の近くのモジュール（２１、２２）は２つの隣接するジャーナル支承する開口部（３６、３７）の間の位置においてモジュールに横方向に配置された往復通路用キャビティ（３５）があり、該キャビティ（３５）の中を移動できる摺動可能のシャットルプラグ（４１）の収容のための寸法を有する一方のジャーナル支承する開口部（３７）を遮断し、前記往復通路キャビティ（３５）は、軸ピン棒を適所に保持し、軸ピン棒の取外しを可能にする別の固有のプラグ位置を提供する経路と、前記往復通路用キャビティ（３５）内に合致する移動可能のプラグ（４１）と、前記シャットルプラグ（４１）の上にあってジャーナル支承された軸ピン棒（７５）をコンベヤーベルトの前記縁部を離れることなく適所に保持させるため一方の固定閉塞位置にシャットルプラグ（４１）を、双安定的に保持する選択的に位置決めできる戻り止め手段（４５）とを形成することを特徴とするコンベヤーベルト。
【請求項２】
可撓性アーム（４３）を備えるプラスチック製シャットルプラグ（４１）が、前記プラグ（４１）より弾性的かつ一体的に伸び、前記戻り止め手段（４５）が可撓性アームの上の一体部材からなり、双安定固定閉塞位置に前記プラグ（４１）を保持するため、ベルトの縁部とジャーナル支承した軸ピン棒の間の位置に軸ピン棒をジャーナル支承する開口部（３７）を入れて、前記可撓性アーム（４３）の弾性撓みにより固定を外すことを特徴とする請求項１記載のコンベヤーベルト。
【請求項３】
前記往復通路用キャビティ（３５）がベルト縁部構造部材（２３）の近くのモジュール（２１、２２）の１つを貫通し、またリンク端部開口部と前記盲内端部で交差する２つの軸ピン棒をジャーナル支承する開口部（３６、３７）の間の場所に位置決めされた１つの盲内端部（３４）と１つの開放端部を備えることを特徴とする請求項１記載のコンベヤーベルト
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月17日(2004.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
石油流体中に懸濁した樹脂、またはアスファルテン等の重質留分を濾過するために、請求項７ないし10のいずれかに記載の限外濾過装置を利用する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
ポリマーまたは蛋白を濾過するために、請求項７ないし10のいずれかに記載の限外濾過装置を利用する方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
Ｘ線スペクトラムおよび／または中性子拡散スペクトラムを直接較正するために、請求項７ないし10のいずれかに記載の限外濾過装置を利用する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月14日(2004.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
プロモータとしてのアルカリ金属タングステン酸塩を含有する、メチルメルカプタンの合成のための酸化アルミニウムの成形体からなる触媒において、プロモータが、完成触媒の全重量に対して１５重量％を上回り４０重量％までの量で施与されているタングステン酸セシウムであることを特徴とする、酸化アルミニウムの成形体からなる触媒。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月21日(2004.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応チャンバにガスを供給する為の面板であって：
ガス流路用の複数の孔が形成されたシャワーヘッドと；
前記シャワーヘッドに取り付けられた湾曲する壁と；
を備える、前記面板。
【請求項２】
ガスを反応チャンバに供給する面板において：
上面、下面、側面を有するシャワーヘッドであって、前記シャワーヘッドは、前記上面及び前記下面間に伸びたガス流路用の複数の孔が形成されている、前記シャワーヘッドと；
前記シャワーヘッドに連結された壁と；
前記面板内の溝であって、前記溝は、前記壁と前記シャワーヘッドの前記側面に隣接し、これらの間にある、前記溝と；
を備える、前記面板。
【請求項３】
前記壁は、１から４ｍｍの範囲の厚みを有する、請求項１または２記載の面板。
【請求項４】
フランジを更に備え、前記壁は、前記シャワーヘッド及び前記フランジ間に連結されている、請求項１〜３のいずれか一項に記載の面板。
【請求項５】
ガスを供給する面板において：
ガス流路用の複数の孔が形成されたシャワーヘッドと；
フランジと；
前記シャワーヘッド及び前記フランジ間に連結された壁と；
を備え、
前記壁は、１から４ｍｍの範囲の厚みを有する、前記面板。
【請求項６】
ガスを供給する面板において：
ガス流路用の複数の孔が形成されたシャワーヘッドと；
フランジと；
前記シャワーヘッド及び前記フランジ間に連結された壁と；
を備え、
前記壁は、前記シャワーヘッド及び前記フランジ間に熱的抵抗を与え、この熱的抵抗は、前記シャワーヘッドの熱的抵抗より、遙かに大きい、前記面板。
【請求項７】
前記面板が金属であり、前記フランジから前記シャワーヘットまでの電気接触を与える、請求項４〜６のいずれか一項に記載の前記面板。
【請求項８】
前記面板が、アルミニウムである、請求項１〜７のいずれか一項に記載の面板。
【請求項９】
前記シャワーヘッドの周囲に連結されたリムであって、前記壁を含む、前記リムを更に備える、請求項１〜８のいずれか一項に記載の面板。
【請求項１０】
前記リムは、ガス流路用孔が形成されていない、請求項９記載の面板。
【請求項１１】
前記壁は、撓み、前記シャワーヘッドの径方向に湾曲する、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の面板。
【請求項１２】
前記壁は、前記シャワーヘッドの熱的歪みを許容する為に、撓み、前記シャワーヘッドの径方向に湾曲する、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の面板。
【請求項１３】
前記壁は、前記シャワーヘッドの熱膨張を許容する為に、撓み、前記シャワーヘッドの径方向に湾曲する、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の面板。
【請求項１４】
前記面板は、金属の単体である、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の面板。
【請求項１５】
反応チャンバにおいて：
反応チャンバボディと；
シャワーヘッド及び壁を含む面板と；
を備え、
前記シャワーヘッドは、ガス流路用の複数の孔が形成され；
前記壁は、前記シャワーヘッド及び前記反応チャンバボディ間に連結され、前記壁は、前記シャワーヘッドを前記反応チャンバボディ内で支持し；
前記壁が湾曲する、前記反応チャンバ。
【請求項１６】
反応チャンバにおいて：
反応チャンバボディと；
シャワーヘッド及び壁を含む面板と；
を備え、
前記シャワーヘッドは、上面、下面、側面を備え；
前記シャワーヘッドは、前記上面及び前記下面間に伸びるガス流路用の複数の孔が形成され；
前記壁は、前記シャワーヘッド及び前記反応チャンバボディ間に連結され、前記壁が前記シャワーヘッドを前記反応チャンバボディ内に支持し；
前記面板は、溝を含み、前記溝は、前記壁と前記シャワーヘッドの前記側面に隣接し、これらの間にある、前記反応チャンバ。
【請求項１７】
前記壁は、１から４ｍｍの範囲の厚みを有する、請求項１５または１６記載の反応チャンバ。
【請求項１８】
反応チャンバにおいて：
反応チャンバボディと；
シャワーヘッド及び壁を含む面板と；
を備え、
前記シャワーヘッドは、ガス流路用の複数の孔が形成され；
前記壁は、前記シャワーヘッド及び前記反応チャンバボディ間に連結され、前記壁は、前記シャワーヘッドを前記反応チャンバボディ内で支持し；
前記壁が１から４ｍｍの範囲の厚みを有する、前記反応チャンバ。
【請求項１９】
反応チャンバにおいて：
前記反応チャンバボディに連結されたフランジを更に備え；
前記壁は、前記シャワーヘッド及び前記壁間に連結されている、請求項１５〜１８のいずれか一項に記載の前記反応チャンバ。
【請求項２０】
反応チャンバにおいて：
反応チャンバボディと；
シャワーヘッド、フランジ、壁を含む面板と；
を備え、
前記シャワーヘッドは、ガス流路用の複数の孔が形成され；
前記フランジは、前記反応チャンバボディに連結され；
前記壁は、前記シャワーヘッド及び前記フランジ間に熱的抵抗を与え、この熱的抵抗は、前記シャワーヘッドの熱的抵抗より、遙かに大きい；
前記反応チャンバ。
【請求項２１】
前記面板が金属であり、前記フランジから前記シャワーヘッドまでの電気接触を与える、請求項１９または２０に記載の反応チャンバ。
【請求項２２】
前記面板は、アルミニウムである、請求項１５〜２１のいずれか一項に記載の反応チャンバ。
【請求項２３】
前記シャワーヘッドの周囲に連結されたリムであって、前記壁を含む、前記リムを更に備える、請求項１５〜２２のいずれか一項に記載の反応チャンバ。
【請求項２４】
前記リムは、ガス流路用孔が形成されていない、請求項２３記載の反応チャンバ。
【請求項２５】
前記壁は、撓み、前記シャワーヘッドの径方向に湾曲する、請求項１５〜２４のいずれか一項に記載の反応チャンバ。
【請求項２６】
前記壁は、前記シャワーヘッドの熱的歪みを許容する為に、撓み、前記シャワーヘッドの径方向に湾曲する、請求項１５〜２４のいずれか一項に記載の反応チャンバ。
【請求項２７】
前記壁は、前記シャワーヘッドの熱膨張を許容する為に、撓み、前記シャワーヘッドの径方向に湾曲する、請求項１５〜２４のいずれか一項に記載の反応チャンバ。
【請求項２８】
前記面板は、金属の単体である、請求項１５〜２７のいずれか一項に記載の反応チャンバ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月16日(2004.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セクター単位で主データを記録または再生するための符号記録媒体であって、
スクランブルデータとスクランブルされた主データとがセクター毎に記録されており、
前記スクランブルデータは、前記主データをスクランブルするための予め定められた複数の擬似乱数系列の初期値のいずれかによって表されており、
前記複数の擬似乱数系列のそれぞれは、前記擬似乱数系列の初期値から始まる複数の乱数を含み、
前記主データは、前記スクランブルデータを表す初期値を有する擬似乱数系列と前記主データとに対して論理演算を順次実行することによってスクランブルされている、符号記録媒体。
【請求項２】
前記複数の擬似乱数系列のそれぞれは、最大長周期系列である、請求項１に記載の符号記録媒体。
【請求項３】
前記スクランブルデータは、前記主データのセクターがスクランブルされるか否かを示す、請求項１に記載の符号記録媒体。
【請求項４】
前記スクランブルデータは、乱数に基づいて設定される、請求項１に記載の符号記録媒体。
【請求項５】
前記スクランブルデータは、同一セクター上で何回主データを書き換えたかに応じて設定される、請求項１に記載の符号記録媒体。
【請求項６】
セクター単位で主データをスクランブルし、記録媒体に記録する符号記録装置であって、
前記主データをスクランブルするための予め定められた複数の擬似乱数系列の初期値のいずれかを表すスクランブルデータを生成するスクランブルデータ生成手段と、
前記スクランブルデータに応じて前記複数の擬似乱数系列のうちのいずれかを生成する擬似乱数系列生成手段と、
前記擬似乱数系列生成手段によって生成された擬似乱数系列と前記主データとに対して論理演算を順次実行することによって、前記主データをスクランブルするスクランブル手段と、
前記スクランブル手段によってスクランブルされた主データを変調する変調手段と、
前記変調手段によって変調された主データを前記スクランブルデータとともに前記記録媒体に記録する記録手段と
を備えた、符号記録装置。
【請求項７】
前記変調手段によって変調された主データに含まれる０ビットの個数と１ビットの個数との差を表す演算値を求める演算手段と、
前記演算値を判定する判定手段と
をさらに備えた、請求項６に記載の符号記録装置。
【請求項８】
前記擬似乱数系列生成手段は、前記スクランブルデータだけでなく、前記記録媒体の各セクターを識別するためのセクター識別データに応じて、前記擬似乱数系列を生成する、請求項６に記載の符号記録装置。
【請求項９】
前記スクランブルデータ生成手段は、前記複数の擬似乱数系列の初期値をそれぞれ表す複数のスクランブルデータを所定の順序で生成する、請求項６に記載の符号記録装置。
【請求項１０】
前記スクランブルデータ生成手段は、乱数に基づいて前記複数の擬似乱数系列のうちのいずれかを選択し、前記選択された擬似乱数系列の初期値を表すスクランブルデータを生成する、請求項６に記載の符号記録装置。
【請求項１１】
記録媒体から主データを再生する符号再生装置であって、
前記記録媒体には、スクランブルデータとスクランブルされた主データとがセクター毎に記録されており、前記スクランブルデータは、前記主データをスクランブルするための予め定められた複数の擬似乱数系列の初期値のいずれかによって表されており、前記複数の擬似乱数系列のそれぞれは、前記擬似乱数系列の初期値から始まる複数の乱数を含み、前記主データは、前記スクランブルデータを表す初期値を有する擬似乱数系列と前記主データとに対して論理演算を順次実行することによってスクランブルされており、
前記符号再生装置は、
前記記録媒体から前記スクランブルデータを読み出す読み出し手段と、
前記読み出し手段によって読み出されたスクランブルデータに応じて、前記スクランブルされた主データを逆スクランブルするための擬似乱数系列を生成する擬似乱数系列生成手段と、
前記擬似乱数系列生成手段によって生成された擬似乱数系列と前記スクランブルされた主データとに対して論理演算を順次実行することによって、スクランブルされる以前の主データを復元する逆スクランブル手段と
を備えた、符号再生装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月4日(2004.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体ウェハ基板の少なくとも表面に、少なくとも１つの半導体チップに接続される複数の第１の導体を有し、前記半導体ウェハ基板の少なくとも前記表面で、前記第１の導体に電気的に接続された第２の導体を具備したことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
半導体ウェハ基板の少なくとも表面に、少なくとも１つの半導体チップに接続される複数の第１の導体を有し、前記半導体ウェハ基板の少なくとも前記表面及び裏面で、前記第１の導体に電気的に接続された第２の導体を具備したことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
前記半導体ウェハ基板は、積層された複数の絶縁膜を有し、前記各絶縁膜には導電性配線が形成され、前記半導体ウェハ基板は複数の開口部を有し、前記開口部の内壁には絶縁膜が形成され、前記開口部の内部には、前記第１の導体と前記第２の導体に接続された第３の導体が形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項２のいずれかに記載の半導体装置。
【請求項４】
前記請求項１又は２に記載の半導体装置のいずれか一方、又は両方の半導体装置を２つ以上積層し、複数の前記第２の導体を相互に接続したことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
前記第１の導体と前記第２の導体の下に保護膜が形成されていることを特徴とする請求項４記載の半導体装置。
【請求項６】
前記半導体ウェハ基板で、前記半導体チップ以外の前記各半導体ウェハ基板の表面又は裏面に絶縁材料が形成され、前記各半導体ウェハ基板のパッドは前記絶縁膜内に形成された導電性材料により接続されたことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の半導体装置。
【請求項７】
前記第１、第２の導体は、前記パッドであり、前記パッドは前記半導体チップに設けられた接続材料を収容する凹部を有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明の半導体装置の第１の態様は、半導体ウェハ基板の少なくとも表面に、少なくとも１つの半導体チップに接続される複数の第１の導体を有し、前記半導体ウェハ基板の少なくとも前記表面で、前記第１の導体に電気的に接続された第２の導体を具備している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の半導体装置の第２の態様は、半導体ウェハ基板の少なくとも表面に、少なくとも１つの半導体チップに接続される複数の第１の導体を有し、前記半導体ウェハ基板の少なくとも前記表面及び裏面で、前記第１の導体に電気的に接続された第２の導体を具備している。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
図３（ｂ）は、図３（ａ）の変形例を示すものであり、図３（ａ）と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。図（ｂ）に示す例の場合、前記開口部２２が１回のエッチングにより形成されている。また、ウェハ２１の裏面にも例えばポリイミドからなり、ウェハ基板の補強を兼ねた保護膜３４が形成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月19日(2005.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
ただし、ＩＩＲフィルタ１６ａに設けられているデジタル加算器２０１は、デジタル乗算器２０２，デジタル加算器２０から供給されるデータD202，D20に対して、D202−D20の減算処理を行う構成になっており、ＩＩＲフィルタ１６ｂに設けられているデジタル加算器２０１は、デジタル乗算器２０２，デジタル加算器２０から供給されるデータD202，D20に対して、−D20−D202の減算処理を行う構成になっている点で、ＩＩＲフィルタ１６ａと１６ｂの構成が異なっている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
次に、図２中のデジタル乗算器２５について説明する。デジタル乗算器２５の被乗算係数b0は、次のようにして決められている。上記数（２）に示した係数b0＝０．０１６３９３４４３に最も近い２のべき乗（２n）の値を選択することにより、デジタル乗算器２５の被乗算係数b0を２-6（＝０．０１５６２５）の値に決める。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
次に、図３に示したバンドパスフィルタ１６の構成法を説明する。図３中の前段のフィルタ１６ａと後段のフィルタ１６ｂは、共に図２に示したデジタルバンドパスフィルタ１６を変形した構成とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
更に、フィルタ１６ａ中のデジタル乗算器２０２とフィルタ１６ｂ中のデジタル乗算器２０２のそれぞれの被乗算係数a1，a1の値を適宜に選択することで、図１２に示した双峰特性を有するデジタルバンドパスフィルタを形成する。尚、それぞれの被乗算係数a1，a1を２のべき乗（２n）の値にすることで、フィルタ１６ａ中のデジタル乗算器２０２とフィルタ１６ｂ中のデジタル乗算器２０２を、図４又は図５に示したのと同様のデコーダ回路によって構成することで、簡素な構成を実現する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
次に、図６に示した補間フィルタ１７の構成法を説明する。尚、図６中の前段と中段と後段の各フィルタ１７ａ，１７ｂ，１７ｃの構成は同じであるので、前段のフィルタ１７ａの構成法を代表して説明する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
かかる最適化を行うと、係数a1は２-2、係数a2は２-1、係数b0は２-2となる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
尚、以上の説明では、図４、図５、図７、図８、図９に示したように、デジタル乗算器２４，２５，２６，２０２，３１，３２，３３をデコーダ回路で構成する場合を説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。デジタル乗算器２４，２５，２６，２０２，３１，３２，３３をビットシフトが可能なバイナリシフトレジスタ等で構成してもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月12日(2005.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子部品と前記電子部品に接続される電気配線と信号光を送受信する光部品とが配設された電気信号配線基板と、
前記光部品と、前記光部品自体あるいは前記光部品と異なる光部品との間で前記信号光を伝送するための導光路を有する光信号配線基板とを備え、
前記電気信号配線基板と前記光信号配線基板とが対面して配置されてなることを特徴とする光送受信システム。
【請求項２】
前記光信号配線基板における導光路は、
前記光信号配線基板上に配設された第１の導光路と、
前記第１の導光路の端部と前記電気信号配線基板に実装された光部品とを光学的に接続する第２の導光路とから
構成されてなる請求項１に記載の光送受信システム。
【請求項３】
前記第１の導波路と前記第２の導波路とは一体形成されてなる請求項２に記載の光送受信システム。
【請求項４】
前記電気信号配線基板は、前記第２の導光路の端部に係合し、前記第２の導光路を前記光部品に光学的に結合するガイドを有してなる請求項２または３に記載の光送受信システム。
【請求項５】
前記光信号配線基板および電気信号配線基板の一方は、突起部を有し、前記光信号配線基板および電気信号配線基板の他方は、前記光信号配線基板を前記電気信号配線基板に実装したときに、前記突起部に係合して前記光信号配線基板と前記電気信号配線基板とを互いに対面するように保持する係合部を有してなる請求項１〜４の何れか１項に記載の光送受信システム。
【請求項６】
前記電気信号配線基板または光信号配線基板の何れかは、前記光信号配線基板を前記電気信号配線基板に実装したときに、前記電気信号配線基板と前記光信号配線基板との間隔を規定するスペーサを備えてなる請求項１〜５の何れか１項に記載の光送受信システム。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月6日(2004.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空容器内にガスを供給しつつ排気して所定の圧力に制御しながら、コイルまたはアンテナに高周波電圧を印加することにより誘電板を介して真空容器内に電磁波を導入することによってプラズマを発生させ、基板を処理するプラズマ処理方法において、電磁波導入面を構成する複数の誘電板のそれぞれの内部を通してガスを真空容器内に導入することを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項２】
真空容器内にガスを供給しつつ排気して所定の圧力に制御しながら、コイルまたはアンテナに高周波電圧を印加することにより誘電板を介して真空容器内に電磁波を導入することによってプラズマを発生させ、基板を処理するプラズマ処理方法において、誘電板とは別に誘電板と基板との間に第２誘電板を配置し、誘電板と第２誘電板との間の空間を誘電板内の排気通路を通して排気することを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項３】
真空容器と、真空容器内にプロセスガスを供給するガス供給手段と、真空容器の壁面に設けられた誘電板を介して真空容器内に電磁波を導入するコイルまたはアンテナと、コイルまたはアンテナに高周波電圧を印加する高周波電源と、真空容器内で基板を載置する電極とを備えたプラズマ処理装置において、電磁波導入面を構成する複数の誘電板のそれぞれの内部にガス供給手段を配設したことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項４】
真空容器と、真空容器内にプロセスガスを供給するガス供給手段と、真空容器の壁面に設けられた誘電板を介して真空容器内に電磁波を導入するコイルまたはアンテナと、コイルまたはアンテナに高周波電圧を印加する高周波電源と、真空容器内で基板を載置する電極とを備えたプラズマ処理装置において、誘電板とそれとは別に誘電板と基板との間に第２誘電板を配置し、誘電板と第２誘電板の間に空間を排気する排気通路を誘電板内に配設したことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項５】
誘電板の材質がガラスまたはセラミックまたはポリイミド樹脂であることを特徴とする請求項３又は４記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
第２誘電板の材質がガラスまたはセラミックまたはポリイミド樹脂であることを特徴とする請求項４記載のプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明のプラズマ処理方法は、真空容器内にガスを供給しつつ排気して所定の圧力に制御しながら、コイルまたはアンテナに高周波電圧を印加することにより誘電板を介して真空容器内に電磁波を導入することによってプラズマを発生させ、基板を処理するプラズマ処理方法において、電磁波導入面を構成する複数の誘電板のそれぞれの内部を通してガスを真空容器内に導入するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
この構成によれば、誘電体から成る誘電板の内部を通してガスを供給するため、金属汚染、腐食によるダスト発生を防止することができ、またガス供給手段が誘電体で構成されているので高周波電源の出力エネルギーを損失させることなく真空容器内のガス流れを均一に制御することができ、効率的に均一な処理ができ、特に電磁波導入面を構成する複数の誘電板のそれぞれの内部を通してガスを真空容器内に導入することで、大面積の基板の場合にも複数の誘電板から真空容器内に均一にガスを供給でき、大面積の基板の場合にも処理速度の均一性を大きく向上することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明のプラズマ処理装置は、真空容器と、真空容器内にプロセスガスを供給するガス供給手段と、真空容器の壁面に設けられた誘電板を介して真空容器内に電磁波を導入するコイルまたはアンテナと、コイルまたはアンテナに高周波電圧を印加する高周波電源と、真空容器内で基板を載置する電極とを備えたプラズマ処理装置において、電磁波導入面を構成する複数の誘電板のそれぞれの内部にガス供給手段を配設したものであり、上記方法を実施してその効果を奏することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
（第１の実施形態）
まず、第１の実施形態について図１を参照して説明する。図１において、真空容器１内に適当なガスを供給しつつ排気を行って真空容器１内を適当な圧力に保ちながら、コイルまたはアンテナ２に高周波電源３により高周波電圧を印加すると、誘電板４を介して真空容器１内に電磁波が導入され、真空容器１内にプラズマ９が発生し、真空容器１の電極５上に載置された被処理基板６に対してエッチング、堆積、表面改質等のプラズマ処理を行うことができる。このとき、図１に示すように、電極５にも電極用高周波電源７により高周波電圧を印加することで、被処理基板６に到達するイオンエネルギーを制御することができる。８は、大面積の被処理基板６に対応する電磁波導入面を構成するために複数の誘電板４を支持するように配設されているアルミニウムやステンレスなどの金属製の格子状の支持枠である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、複数の誘電板のそれぞれの内部を通して真空容器内にガスを導入することで、大面積の基板の場合にも複数の誘電板から真空容器内に均一にガスを供給でき、大面積の基板の場合にも処理速度の均一性を大きく向上することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月18日(2005.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマー粒子の水性ディスパージョンの調製方法であって、
ａ）ｉ）少なくとも１つのＣ８からＣ３０アルキル（メタ）アクリレートモノマー、
ｉｉ）前記Ｃ８からＣ３０アルキル（メタ）アクリレートモノマーの合計重量に基づいて０．１０重量％以下の量で存在する、少なくとも１つの鎖分岐モノマー、および
ｉｉｉ）少なくとも１つの乳化剤、
を含む疎水性モノマー液滴の水性エマルションを調製する工程、
ｂ）前記Ｃ８からＣ３０アルキル（メタ）アクリレートモノマーを、前記鎖分岐モノマーと、少なくとも１つのフリーラジカル開始剤を用いて重合し、該鎖分岐モノマーは非ゲル化ポリマー鎖を有するポリマー粒子となり、該非ゲル化ポリマー鎖は少なくとも１００，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量を有するものとする工程、を含む調製方法。
【請求項２】
ポリマー粒子がさらに少なくとも１つの硬質相および少なくとも１つの軟質相を含み、該硬質相は該ポリマー粒子のそれぞれの外側に提供される、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１つの硬質相が少なくとも１つの硬質ポリマーシェルを含み、該硬質ポリマーシェルは少なくとも２５℃の少なくとも１つのガラス転移温度を有し、該硬質ポリマーシェルはポリマー粒子の存在下に少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマーを重合することにより提供される、請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つの硬質ポリマーシェルが内側ポリマーシェルと外側ポリマーシェルを有し、該内側ポリマーシェルは前記ポリマー粒子のそれぞれに隣接して位置し、該外側ポリマーシェルが該内側ポリマーシェルの外側に位置し、該内側ポリマーシェルはポリマー粒子の存在下に少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマーを重合することにより提供され、該外側ポリマーシェルは該ポリマー粒子と該内側ポリマーシェルの両者の存在下に少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマーを引き続いて重合することにより提供される、請求項３記載の方法。
【請求項５】
前記ポリマー粒子の水性ディスパージョンに、複数の第２のポリマー粒子を加える工程であり、該第２のポリマー粒子が前記硬質ポリマーシェルの外側に位置する工程をさらに含む、請求項３記載の方法。
【請求項６】
前記少なくとも１つの硬質相が複数の第２のポリマー粒子を含む、請求項２記載の方法。
【請求項７】
ｔ−アルキル基が少なくとも５個の炭素原子を有する、ｔ−アルキルハイドロペルオキシド、ｔ−アルキルペルオキシド、ｔ−アルキルペルエステルの少なくとも１つと、任意の少なくとも１つの異なるオキシダントを用いて、重合されていないモノマーの量を減少させる工程をさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記疎水性モノマー液滴の水性エマルションが、高剪断手段を用いて調製され、３０ミクロン未満の平均液滴直径を与える、請求項１記載の方法。
【請求項９】
前記疎水性モノマー液滴の水性エマルションが、少なくとも１つの疎水性モノマーキャリアをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項１０】
前記ポリマー粒子の水性ディスパージョンから水を除去し、該ポリマー粒子をウェットケーキ、粉末、タブレット、ペレット、ビーズ、フィルム、および押出物の少なくとも１つの形態にする少なくとも１つの工程をさらに含む、請求項１から９のいずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月17日(2005.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明で使用されるβ−ジチオフォスホリル化プロピオン酸の添加量は潤滑油基油１００重量部に対し０．００５〜０．５重量部、好ましくは０．００５〜０．２重量部、とくに好ましくは０．０１〜０．１重量部である。添加量が０．００５重量部未満では十分な効果が得られず、０．５重量部を越えても潤滑性能が飽和し、熱酸化安定性、加水分解安定性、腐食性を低下させるので好ましくない。なお、下記一般式（２）のりん酸トリアリールとの組み合わせの場合におけるβ−ジチオフォスホリル化プロピオン酸の添加量は潤滑油基油１００重量部に対し０．００１〜０．１重量部、好ましくは０．００５〜０．０５重量部である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明では前記の必須成分のほかに更に性能を向上させるため、必要に応じて通常使用される種々の追加的添加剤が適宜使用できる。これらには、酸化防止剤、防錆剤、金属不活性剤、清浄分散剤、耐摩耗剤、極圧剤、摩擦調整剤、流動点降下剤、粘度指数向上剤、抗乳化剤、消泡剤等の公知の潤滑油添加剤を挙げることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月9日(2004.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平均粒径が１０〜５００ｎｍのカーボンブラック粒子と平均粒径が５〜１０００ｎｍの無機化合物粒子との組成物から成り、無機化合物粒子の割合がカーボンブラック粒子に対して１〜３０重量％であることを特徴とする黒色顔料。
【請求項２】
無機化合物粒子が無機酸化物である請求項１に記載の黒色顔料。
【請求項３】
無機酸化物が、酸化亜鉛、酸化チタン及び酸化ケイ素の群から選択される１種以上である請求項２に記載の黒色顔料。
【請求項４】
無機化合物粒子の屈折率が１．５〜３である請求項１〜３の何れかに記載の黒色顔料。
【請求項５】
少なくとも光重合開始剤と光重合性モノマーとを含有する光重合性組成物において、平均粒径が１０〜５００ｎｍのカーボンブラック粒子と平均粒径が５〜１０００ｎｍの無機化合物粒子とを配合して成り、無機化合物粒子の割合がカーボンブラック粒子に対して１〜３０重量％であることを特徴とする黒色光重合性組成物。
【請求項６】
光重合性モノマーがアクリル系モノマーである請求項５に記載の黒色光重合性組成物。
【請求項７】
無機化合物粒子の屈折率が１．５〜３である請求項５又は６に記載の黒色光重合性組成物。
【請求項８】
無機化合物粒子が無機酸化物である請求項５〜７の何れかに記載の黒色光重合性組成物。
【請求項９】
無機酸化物が、酸化亜鉛、酸化ケイ素および酸化チタンの群から選択される１種以上である請求項５〜８の何れかに記載の黒色光重合性組成物。
【請求項１０】
インク用である請求項５〜９の何れかに記載の黒色光重合性組成物。
【請求項１１】
塗料用である請求項５〜９の何れかに記載の黒色光重合性組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月9日(2005.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自動動作して適時にエレベーターの出入口を開閉する戸に対して、一つの押しボタンからなり人為操作されて上記戸の上記自動動作を制止する手動操作ボタンと、
この手動操作ボタンに対して配置されこの手動操作ボタンの表面に戸閉動作又は戸開動作を表示する戸開表示手段及び戸閉表示手段と、
上記戸の上記自動動作による戸開時には上記戸閉表示手段の付勢を指令し、上記戸の上記自動動作による戸閉時には上記戸開表示手段の付勢を指令する手動開閉制御手段と
を備えたエレベーターの戸の手動操作ボタン装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【課題を解決するための手段】
この発明に係るエレベーターの戸の手動操作ボタン装置においては、自動動作して適時にエレベーターの出入口を開閉する戸に対して、一つの押しボタンからなり人為操作されて戸の自動動作を制止する手動操作ボタンと、この手動操作ボタンに対して配置されこの手動操作ボタンの表面に戸閉動作又は戸開動作を表示する戸開表示手段及び戸閉表示手段と、戸の自動動作による戸開時には戸閉表示手段の付勢を指令し、戸の自動動作による戸閉時には戸開表示手段の付勢を指令する手動開閉制御手段とが設けられる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月22日(2004.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
プロキラルなＮ−アシル化されたＺ−β−アミノアクリル酸のＥ／Ｚ−混合物を水素添加のために使用する、請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。