【手続補正書】
【提出日】平成17年1月31日(2005.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動ステージと、
前記移動ステージを駆動するための駆動手段と、
前記移動ステージの設置部に固設された被固設部材に設けられる参照面で反射される光と、前記移動ステージに設けられる対象面で反射される光とで生成される干渉光により前記移動ステージの位置を検出する干渉計位置検出手段と、
前記参照面に局所的に生じる振動を検出する振動検出手段と、
前記干渉計位置検出手段より出力される信号と、前記振動検手段より出力される信号とに基づいて前記駆動手段の駆動制御を行う制御手段と、
を有することを特徴とする位置決め装置。
【請求項２】
請求項１に記載の位置決め装置において、
前記移動ステージの移動速度を検出する速度検出手段をさらに有し、
前記制御手段は、前記速度検出手段から出力される信号と、前記干渉計位置検出手段から出力される信号とをフィードバック信号として用いるとともに前記振動検出手段から出力される信号をフィードフォワード信号として用い、前記駆動手段の駆動制御を行うことを特徴とする位置決め装置。
【請求項３】
請求項２に記載の位置決め装置において、
前記制御手段は、前記振動検出手段から出力される信号に所定のゲインを乗じて前記駆動手段から発する推力値に変換することを特徴とする位置決め装置。
【請求項４】
移動ステージと、
前記移動ステージを駆動するための駆動手段と、
前記移動ステージの設置部に固設された被固設部材に設けられる参照面で反射される光と、前記移動ステージに設けられる対象面で反射される光とで生成される干渉光により前記移動ステージの位置を検出する干渉計位置検出手段と、
前記参照面に局所的に生じる振動を検出する振動検出手段と、
前記移動ステージの移動速度を検出する速度検出手段とを有する位置決め装置の位置決め方法において、
前記干渉計位置検出手段および前記速度検出手段から出力される信号に基づいて前記駆動手段をフィードバック制御しつつ、前記振動検出手段から出力される信号に所定のゲインを与えて前記駆動手段から発する推力値に変換、出力して前記駆動手段をフィードフォワード制御することを特徴とする位置決め装置の位置決め方法。
【請求項５】
マスクステージに設置されるマスク基板に形成されたパターンを、投影光学系を介して基板ステージに設置される基板に露光する露光装置であって、
請求項１〜３のいずれか１項に記載の位置決め装置を具備することを特徴とする露光装置。
【請求項６】
移動ステージと、
前記移動ステージを駆動する駆動装置と、
前記移動ステージに設けられた対象面からの反射光と参照面からの反射光とを用いて前記移動ステージの位置に関する情報を検出する干渉計装置と、
前記参照面に局所的に生じる振動に関する情報を検出する振動検出手段と、
前記干渉計装置で得られた前記移動ステージの位置に関する情報と、前記振動検出手段で得られた情報とに基づいて前記駆動装置を制御する制御装置と、を備えることを特徴とする位置決め装置。
【請求項７】
基板上に所定のパターンを形成する露光装置であって、
請求項６に記載の位置決め装置を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項８】
請求項７に記載の露光装置において、
前記基板上に前記所定のパターンを投影するための投影光学系と、
該投影光学系を支持する定盤と、をさらに備え、
前記参照面は前記投影光学系に設置されていることを特徴とする露光装置。
【請求項９】
移動ステージに設けられた対象面からの反射光と参照面からの反射光とによって前記移動ステージの位置に関する情報を検出する干渉計装置を用いた位置決め方法であって、
前記参照面に局所的に生じる振動に関する情報を検出し、該検出結果と前記干渉計装置で得られた位置に関する情報とに基づいて前記移動ステージを位置決めすることを特徴とする位置決め方法。
【請求項１０】
移動ステージに載置された基板上に所定のパターンを形成する露光方法であって、
請求項９に記載の位置決め方法を用いることを特徴とする露光方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【課題を解決するための手段】
一実施の形態を示す図３に対応付けて本発明を説明する。
（１）  請求項１に記載の発明は、移動ステージＷＳと；移動ステージＷＳを駆動するための駆動手段７６と；移動ステージＷＳの設置部に固設された被固設部材４６に設けられる参照面７２で反射される光と、移動ステージＷＳに設けられる対象面ＷＳｒで反射される光とで生成される干渉光により移動ステージＷＳの位置を検出する干渉計位置検出手段７８と；参照面７２に局所的に生じる振動を検出する振動検出手段９２と；干渉計位置検出手段７８より出力される信号と、振動検手段９２より出力される信号とに基づいて駆動手段７６の駆動制御を行う制御手段８０とを有することにより上述した目的を達成する。
（２）  請求項２に記載の発明は、移動ステージＷＳの移動速度を検出する速度検出手段７４をさらに有し；制御手段８０は、速度検出手段７４から出力される信号と、干渉計位置検出手段７８から出力される信号とをフィードバック信号として用いるとともに振動検出手段９２から出力される信号をフィードフォワード信号として用い、駆動手段７６の駆動制御を行うものである。
（３）  請求項３に記載の発明において制御手段８０は、振動検出手段９２から出力される信号に所定のゲインを乗じて駆動手段７６から発する推力値に変換するものである。
（４）  請求項４に記載の発明は、移動ステージＷＳと；移動ステージＷＳを駆動するための駆動手段７６と；移動ステージＷＳの設置部に固設された被固設部材４６に設けられる参照面７２で反射される光と、移動ステージＷＳに設けられる対象面ＷＳｒで反射される光とで生成される干渉光により移動ステージＷＳの位置を検出する干渉計位置検出手段７８と；参照面７２に局所的に生じる振動を検出する振動検出手段９２と；移動ステージの移動速度を検出する速度検出手段７４とを有する位置決め装置の位置決め方法に適用される。そして、干渉計位置検出手段７８および速度検出手段７４から出力される信号に基づいて駆動手段７６をフィードバック制御しつつ、振動検出手段９２から出力される信号に所定のゲインを与えて駆動手段７６から発する推力値に変換、出力して駆動手段７６をフィードフォワード制御するものである。
（５）  請求項５に記載の発明は、マスクステージＲＳに設置されるマスク基板Ｒに形成されたパターンを、投影光学系４６を介して基板ステージＷＳに設置される基板Ｗに露光する露光装置であって、請求項１〜３のいずれか１項に記載の位置決め装置を具備するものである。
（６）  請求項６に記載の発明は、移動ステージＷＳと；移動ステージＷＳを駆動する駆動装置７６と；移動ステージＷＳに設けられた対象面ＷＳｒからの反射光と参照面７２からの反射光とを用いて移動ステージＷＳの位置に関する情報を検出する干渉計装置７８と；参照面７２に局所的に生じる振動に関する情報を検出する振動検出手段９２と；干渉計装置７８で得られた移動ステージＷＳの位置に関する情報と；振動検出手段９２で得られた情報とに基づいて駆動装置７６を制御する制御装置８０とを備えるものである。
（７）  請求項９に記載の発明は、移動ステージＷＳに設けられた対象面ＷＳｒからの反射光と参照面７２からの反射光とによって移動ステージＷＳの位置に関する情報を検出する干渉計装置７８を用いた位置決め方法に適用される。そして、参照面７２に局所的に生じる振動に関する情報を検出し、その検出結果と干渉計装置７８で得られた位置に関する情報とに基づいて移動ステージＷＳを位置決めするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
【発明の効果】
以上に説明したように、
（１）  請求項１に記載の発明によれば、干渉計位置検出より出力される信号と、振動検出手段より出力される信号とに基づいて駆動手段の駆動制御を行うので、ローカル弾性振動の影響によって干渉計位置検出手段による移動ステージの位置検出結果に生じる誤差の影響を低減することが可能である。これにより、ウェハステージの位置決めを速やかに行い、露光装置のスループットを向上することができる。また、請求項６，９に記載の発明によっても、同様に、ローカル弾性振動の影響によって生じる移動ステージの位置決め誤差の影響を低減することができる。
（２）  請求項２または４に記載の発明によれば、速度検出手段から出力される信号と、干渉計位置検出手段から出力される信号とをフィードバック信号として用い、振動検出手段から出力される信号をフィードフォワード信号として用いることにより、移動ステージの位置制御安定性に優れ、かつ干渉計位置検出手段から出力される信号に、ローカル弾性振動による誤差が重畳することによる移動ステージ位置決め性能の低下を抑制できる。
（３）  請求項３に記載の発明によれば、振動検出手段から出力される信号に所定のゲインを乗じて駆動手段から発する推力値に変換することにより、優れた制御応答性を得ることができる。これによりローカル弾性振動による影響を減じ、移動ステージの位置決めに要する時間の短縮が可能である。
（４）  請求項５，７，８，１０に記載の発明によれば、露光装置で発生するローカル弾性振動の影響を低減してマスクステージおよび基板ステージの位置決めに要する時間を短くすることができる。これにより、スループットの高い露光装置を提供することができる。