【手続補正書】
【提出日】平成17年5月10日(2005.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
層を定義するフォトリソグラフィ・マスク用の、前記層内の第１及び第２造形クラスの造形を定義するパターンを処理する段階と、
第１造形解像度レベル用の位相偏移ウィンドウ対に関する第１レイアウト寸法と、第２造形解像度レベル用の位相偏移ウィンドウ対に関する第２レイアウト寸法とを定義する段階と、
前記第１造形クラスに対して前記位相偏移ウィンドウ対に関する第１レイアウト寸法を使用する段階と、前記第２造形クラスに対して前記位相偏移ウィンドウ対に関する第２レイアウト寸法を使用する段階とを含む、複数の位相偏移ウィンドウ対をレイアウトする段階と、
前記複数の位相偏移ウィンドウ対内の位相偏移ウィンドウに第１及び第２位相偏移値を割り当てる段階と、から成ることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記処理する段階は、前記パターン内の造形の寸法を識別するレイアウトファイルを読む段階と、前記レイアウトファイルを処理して前記第１及び第２造形クラス内の造形を識別する段階と、を含んでいることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１造形クラス内の造形は、第１線幅を有する線セグメントを有し、前記第２造形クラス内の造形は、第２線幅を有する線セグメントを有しており、前記第１線幅は前記第２線幅より狭いことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第１造形クラス内の造形は、第１幅を有するトランジスタゲートに対応する線セグメントであり、前記第２造形クラス内の造形は、第２幅を有する相互接続線に対応する線セグメントであり、前記第１幅は前記第２幅より狭いことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記層は、ポリシリコンを含んでいることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記第１及び第２位相偏移値は、θ度位相偏移と（１８０＋θ）度位相偏移を含んでいることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記位相偏移ウィンドウ対は、更に、前記対になった第１及び第２ウィンドウの間に配置された不透明区域を含んでいることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記第１及び第２ウィンドウの間の不透明区域は、前記第１クラスの位相偏移ウィンドウ対内の第１幅と、前記第２クラスの位相偏移ウィンドウ対内の第２幅とを有していることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記層内に追加の造形を定義する不透明領域と透明領域とを備えた相補形マスクをレイアウトする段階を含んでいることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記相補形マスクは二進マスクを備えていることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記位相偏移マスクと前記相補形マスクのレイアウトを定義する機械読み取り可能レイアウトファイルを製作する段階を含んでいることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記位相偏移マスクと前記相補形マスクを製作する段階を含んでいることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記位相偏移マスクと前記相補形マスクを使用して集積回路を製作する段階を含んでいることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記第１レイアウト寸法は第１レイアウト幅を含み、前記第２レイアウト寸法は第２レイアウト幅を含んでおり、前記第１レイアウト幅は前記第２レイアウト幅より大きいことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
集積回路内の材料の層を定義するためのマスクのセットにおいて、
それぞれの位相偏移ウィンドウが定義した層内の構造を定義するための、不透明分野内の複数の位相偏移ウィンドウ対を有する第１マスクであって、前記複数の位相偏移ウィンドウ内の位相偏移ウィンドウは、それぞれの第１及び第２クラスのウィンドウを備えており、前記第１クラスは、第１レイアウト幅に基づく幅寸法を有しており、前記第２クラスは、第２レイアウト幅に基づく幅寸法を有しており、前記第１レイアウト幅は前記第２レイアウト幅よりも大きくなっている、第１マスクと、
第２の不透明な区域と透明な区域とを有する第２マスクであって、前記複数の位相偏移ウィンドウが定義した構造を相互接続し、前記位相偏移ウィンドウが定義した構造の消去を防ぐための、前記層内の相互接続構造を定義する第２マスクと、を備えていることを特徴とするマスクのセット。
【請求項１６】
前記層は、ポリシリコンを含んでいることを特徴とする請求項１５に記載のマスクのセット。
【請求項１７】
前記第１及び第２クラスのウィンドウ内の一対のウィンドウに対して位相偏移値を割り当てることを含んでおり、前記一対のウィンドウの一方のウィンドウはθ度の位相偏移を有し、前記一対のウィンドウの他方のウィンドウは（１８０＋θ）度の位相偏移を有していることを特徴とする請求項１５に記載のマスクのセット。
【請求項１８】
前記一対のウィンドウは、更に、前記一方のウィンドウと前記他方のウィンドウの間に配置された不透明区域を含んでいることを特徴とする請求項１７に記載のマスクのセット。
【請求項１９】
前記不透明区域は、前記第１クラスのウィンドウの一対のウィンドウの間に第１幅を有し、前記第２クラスのウィンドウの一対のウィンドウの間に第２幅を有していることを特徴とする請求項１８に記載のマスクのセット。
【請求項２０】
命令を記憶するメモリを含んでいるデータ処理システムを備えている装置において、前記命令は、実行する際に、
層を定義するリソグラフィ・マスク用の、前記層内の第１及び第２造形クラス内の造形を定義する、パターンを処理し
第１造形解像度レベル用の位相偏移ウィンドウ対に関する第１レイアウト寸法と、第２造形解像度レベル用の位相偏移ウィンドウ対に関する第２レイアウト寸法を定義し、
前記第１造形クラスに対して前記位相偏移ウィンドウ対に関する第１レイアウト寸法を使用し、前記第２造形クラスに対して前記位相偏移ウィンドウ対に関する第２レイアウト寸法を使用して、複数の位相偏移ウィンドウ対をレイアウトし、
前記複数の位相偏移ウィンドウ対の位相偏移ウィンドウに第１及び第２位相偏移値を割り当てる、コマンドを含んでいることを特徴とする装置。
【請求項２１】
前記命令は、前記パターン内の造形の寸法を識別するレイアウトファイルを読み、前記レイアウトファイルを処理して前記第１及び第２造形クラス内の造形を識別するコマンドを含んでいることを特徴とする請求項２０に記載の装置。
【請求項２２】
前記第１造形クラス内の造形は、第１線幅を有する線セグメントを有し、前記第２造形クラス内の造形は、第２線幅を有する線セグメントを有しており、前記第１線幅は前記第２線幅より狭いことを特徴とする請求項２０に記載の装置。
【請求項２３】
前記命令は、前記層内に追加の造形を定義する不透明領域と透明領域とを備えた相補形マスクをレイアウトするためのコマンドを含んでいることを特徴とする請求項２０に記載の装置。
【請求項２４】
前記命令は、前記位相偏移マスクと前記相補形マスクのレイアウトを定義する機械読み取り可能レイアウトファイルを製作するためのコマンドを含んでいることを特徴とする請求項２０に記載の装置。
【請求項２５】
命令を記憶する機械読み取り可能な記憶媒体を備えている物品において、前記命令は、実行する際に、
層を定義するリソグラフィ・マスク用の、前記層内の第１及び第２造形クラス内の造形を定義する、パターンを処理し
第１造形解像度レベル用の位相偏移ウィンドウ対に関する第１レイアウト寸法と、第２造形解像度レベル用の位相偏移ウィンドウ対に関する第２レイアウト寸法を定義し、
前記第１造形クラスに対して前記位相偏移ウィンドウ対に関する第１レイアウト寸法を使用し、前記第２造形クラスに対して前記位相偏移ウィンドウ対に関する第２レイアウト寸法を使用して、複数の位相偏移ウィンドウ対をレイアウトし、
前記複数の位相偏移ウィンドウ対の位相偏移ウィンドウに第１及び第２位相偏移値を割り当てる、コマンドを含んでいることを特徴とする物品。
【請求項２６】
前記命令は、前記パターン内の造形の寸法を識別するレイアウトファイルを読み、前記レイアウトファイルを処理して前記第１及び第２造形クラス内の造形を識別するコマンドを含んでいることを特徴とする請求項２５に記載の物品。
【請求項２７】
前記第１造形クラス内の造形は、第１線幅を有する線セグメントを有し、前記第２造形クラス内の造形は、第２線幅を有する線セグメントを有しており、前記第１線幅は前記第２線幅より狭いことを特徴とする請求項２５に記載の物品。
【請求項２８】
通信媒体上で送信される、命令を含む信号を備えている機械読み取り可能な通信において、前記命令は、実行する際に、
層を定義するリソグラフィ・マスク用の、前記層内の第１及び第２造形クラス内の造形を定義する、パターンを処理し
第１造形解像度レベル用の位相偏移ウィンドウ対に関する第１レイアウト寸法と、第２造形解像度レベル用の位相偏移ウィンドウ対に関する第２レイアウト寸法を定義し、
前記第１造形クラスに対して前記位相偏移ウィンドウ対に関する第１レイアウト寸法を使用し、前記第２造形クラスに対して前記位相偏移ウィンドウ対に関する第２レイアウト寸法を使用して、複数の位相偏移ウィンドウ対をレイアウトし、
前記複数の位相偏移ウィンドウ対の位相偏移ウィンドウに第１及び第２位相偏移値を割り当てる、コマンドを含んでいることを特徴とする通信。
【請求項２９】
前記命令は、前記パターン内の造形の寸法を識別するレイアウトファイルを読み、前記レイアウトファイルを処理して前記第１及び第２造形クラス内の造形を識別するコマンドを含んでいることを特徴とする請求項２８に記載の通信。
【請求項３０】
層を定義するリソグラフィ・マスク用の、前記層内の第１及び第２造形クラス内の造形を定義する、パターンを処理するための手段と、
第１造形解像度レベル用の位相偏移ウィンドウ対に関する第１レイアウト寸法と、第２造形解像度レベル用の位相偏移ウィンドウ対に関する第２レイアウト寸法を定義するための手段と、
前記第１造形クラスに対して前記位相偏移ウィンドウ対に関する第１レイアウト寸法を使用し、前記第２造形クラスに対して前記位相偏移ウィンドウ対に関する第２レイアウト寸法を使用することを含む、複数の位相偏移ウィンドウ対をレイアウトするための手段と、
前記複数の位相偏移ウィンドウ対の位相偏移ウィンドウに第１及び第２位相偏移値を割り当てるための手段と、を含んでいることを特徴とする装置。