【手続補正書】
【提出日】平成17年6月14日(2005.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【書類名】      明細書
【発明の名称】  焼却炉用バグフィルタ装置と焼却炉用排ガス処理システム
【特許請求の範囲】
【請求項１】  焼却炉の排ガス処理に使用するバグフィルタに於いて、該フィルタ材の排ガス流入側の表面にろ過助剤を被着させるものとなしたことを特徴とする焼却炉用バグフィルタ装置。
【請求項２】  焼却炉の排ガス経路に上流側から順にバグフィルタ及び吸着剤収容形固定層式吸着塔を設け、この際、バグフィルタのフィルタ材の排ガス流入側の表面にろ過助剤を被着するほか、排ガスの処理中にはフィルタ材のクリーニングは行われないことを特徴とする焼却炉用排ガス処理システム。
【請求項３】  吸着剤収容形固定層式吸着塔が密閉した箱体内の縦方向へ一対の通気壁で活性炭群を挟持する排ガスの処理室を一定距離で対向配置し、対向処理室間の内方側空間へ排ガスを流入させると共に各処理室外方側空間に向け排出させる構成となしたことを特徴とする請求項２記載の焼却炉用排ガス処理システム。
【請求項４】  焼却炉が火葬炉であることを特徴とする請求項２又は３記載の焼却炉用排ガス処理システム。
【請求項５】  バグフィルタが、フィルタ材の排ガス流入側の表面に付着したダストを焼却炉の運転停止状態の下でジェットパルスで逆洗するものとしたクリーニング手段を備えていることを特徴とする請求項２、３又は４記載の焼却炉用排ガス処理システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】  
【発明の属する技術分野】
本発明は、焼却炉や火葬炉の排ガスからダイオキシン類が放出されるのを阻止するための排ガス処理に於ける焼却炉用バグフィルタ装置及び同処理システムに関する。
【０００２】  
【従来の技術】
焼却炉や火葬炉から排出される排気ガスには猛毒のダイオキシン類が含まれていることは知られているが、これを効率よく経済的に除去することが要望されている。
この際、火葬炉は斎場という限られた場所に設置されるため、ダイオキシン類の除去手段はコンパクトなものである必要がある。
【０００３】  
【発明が解決しようとする課題】  
本発明は、焼却炉や火葬炉の排ガスに含まれるダイオキシン類の除去に適した排ガス処理に於ける焼却炉用バグフィルタ装置及び同処理システムを提供することを目的とする。
【０００４】  
【課題を解決するための手段】  
上記目的を達成するため本発明の焼却炉用バグフィルタ装置は、請求項１に記載したように、フィルタ材の排ガス流入側の表面にろ過助剤を被着されるものとなすのであり、且つ処理システムは焼却炉の排ガス経路に上流側から順にバグフィルタ及び吸着材収容形固定層式吸着塔を設け、この際、バグフィルタのフィルタ材の排ガス流入側の表面にろ過助剤を被着するほか、排ガスの処理中にはフィルタ材のクリーニングは行われないようにする。
【０００５】  
これによれば、バグフィルタのろ過性能がろ過助材により飛躍的に向上するため、バグフィルタは排ガスに含まれる粒子状ダイオキシン類及び、ダイオキシン類の付着したその他のダストの殆どを除去するものとなる。そして、吸着剤収容形固定層式吸着塔はバグフィルタから流出した排ガスに含まれるガス状のダイオキシン類を簡易な構造により安定的に吸着除去するのであり、この際、バグフィルタによるダスト除去が吸着剤収容形固定層式吸着塔内の吸着剤の汚れを抑制するため、吸着剤収容形固定層式吸着塔はダイオキシン類を長期に亘って良好且つ安定的に吸着除去するものとなる。
【０００６】  
上記吸着剤収容形固定層式吸着塔は請求項３に記載したように、密閉した箱体内の縦方向へ一対の通気壁で活性炭群を挟持する排ガスの処理室を一定距離で対向配置し、対向処理室間の内方側空間へ排ガスを流入させると共に各処理室外方側空間に向け排出させる構成となす。これによれば、ダイオキシン類の除去性能が経済的且つ安定的となり、また装置がコンパクトとなる。
【０００７】  
この発明の焼却炉としては、請求項４に記載したように火葬炉となすのが特に有益である。これによれば、一回の火葬時間が凡そ１〜１．５時間程度のバッチ処理となるという火葬炉の運転特性や、排ガス中のダスト（煤煙）の濃度が１００ｍｇ／Ｎｍ３以下であり煤煙排ガスに含まれる塩酸や硫黄酸化物等の吸着質ガスが少ないという火葬炉の排ガス特性から、該バグフィルタと吸着剤収容形固定層式吸着塔の組合せがダイオキシン類を除去する上で特に有効となるほか、吸着剤収容形固定層式吸着塔の吸着剤の吸着能力がさらに長期に亘って維持されるものとなる。
【０００８】  
さらに、バグフィルタは、請求項５に記載したようにフィルタ材の排ガス流入側の表面に付着したダストを焼却炉の運転停止状態の下でジェットパルスで逆洗するものとしたクリーニング手段を備えたものとなす。これによれば、クリーニング手段の作動時に於けるダイオキシン類がフィルタ布材を通り抜けて外気に放出される事態がより確実に阻止されるものとなる。
【０００９】  
【発明の実施の形態】  
図１は本発明に係る焼却炉用バグフィルタ装置と焼却炉用排ガス処理システムの一実施例を示す構成図であり、この図に於いて、１は焼却炉の一種としての火葬炉、２は空気冷却部、３はバグフィルタ装置、４は吸着剤収容形固定層式吸着塔、５はブロア、そして６ａ〜６ｄは排ガス経路をなす排ガス管である。
【００１０】  
火葬炉１は現在一般に使用されているものであって主燃焼室１ａと再燃焼室１ｂを備え、主燃焼室１ａは主燃焼バーナを具備し、再燃焼室は１ｂ再燃焼バーナを具備したものとなされている。
【００１１】  
空気冷却部２は火葬炉１から排出された高温の排ガスを急激に２００℃（好ましくは１３０〜１８０℃）以下に冷却しバグフィルタ装置３へ向け流出させるものとなされている。この際、排ガスを急冷させる手段としては排ガスに外気を流入させたり或いは水等の冷却媒体と排ガスとの間で熱交換を行わせるようにする。
【００１２】  
バグフィルタ装置３は空気冷却部２から流出した排ガスが流入してろ過材を通過することにより排ガスに含まれたダストや粒子状のダイオキシン類を除去し、このように処理された排ガスを吸着剤収容形固定層式吸着塔４へ向け流出させるためのもので、詳細には次のようになされている。
【００１３】  
即ち、バグフィルタ装置３は内部を気密状空間となされた本体ケーシング３ａを備えており、このケーシング３ａの内方上部にフィルタ材７ａからなる細長状の袋体となされたろ過材としての複数のフィルタバグ７を吊り下げ状に配設した仕切壁８を設け、この仕切壁８の下側空間を排ガス流入側空間ａとなされ、仕切壁８の上側空間を排ガス流出側空間ｂとなされている。
【００１４】  
各バグフィルタ７は排ガス流入側空間ａに面したフィルタ材７ａ表面に図２、図３に示すようにろ助剤としてのプリコート剤９を被着されて緻密ろ過層１０を形成されており、この際、プリコート剤９には有害ガスとの接触でそれとの反応や変質を生じず長期的に安定である無機質、例えば珪藻土やクレイ（粘土）等が使用される。このプリコート剤９がフィルタ材７ａの表面の織り目に進入することにより厚さ凡そ１００μ〜２００μ程度の緻密ろ過層１０を形成する。この緻密ろ過層１０はプリコート剤９の粒子９ａがフィルタ材７ａの繊維ｓの間隙に比べ密状に構成され、しかも通気性を良好に保持されるものとなされている。
【００１５】  
排ガス流入側空間ａの側面を被うケーシング３ａ部分には空気冷却部２から流出した排ガスをこの流入側空間ａに流入させるための排ガス入り口管１１ａを固着されており、また排ガス流入側空間ａの内方には、この排ガス入り口管１１ａから流入した排ガスの流れを遮って排ガスの流れ方向を上下向きに変化させるための邪魔板１２が固定してある。
【００１６】  
排ガス流入側空間ａの底部は下方へ向かうに伴って狭巾となされたホッパ部ｃとなされ、このホッパ部ｃの最下部に前後向きのスクリュウコンベア１３が形成されている。このスクリュウコンベア１３はモータ１４に回転駆動されホッパ部ｃの最下部に溜まったダストや粒子状のダイオキシン類を開閉弁１５付の開口を通じて他所へ搬送するものとなしてある。
【００１７】  
一方、排ガス流出側空間ｂの側面を被うケーシング３ａ部分にはこの流出側空間ｂ内の排ガスを吸着剤収容形固定層式吸着塔４へ向け流出させるための排ガス出口管１１ｂを固着しており、またこの排ガス流出側空間ｂの内方には各フィルタバグ７の内方に圧縮空気を瞬時に噴出すること、即ち圧縮空気のジェットパルスを生じさせることを繰り返すものとした公知のクリーニング手段であるジェットパルス逆洗手段１６が設けてある。このジェットパルス逆洗手段１６は瞬時に噴出された圧縮空気の圧力波がその対応するフィルタバグ７を振動させ、バグフィルタ装置３の排ガス流入側空間ａに面した表面に付着したダストやダイオキシン類の粒子を払い落とすように作用するもので、火葬炉１の運転が停止された状態の下で作動し得るものとなされている。なお、逆洗とはジェットパルスがバグフィルタの排ガス流れ方向の逆向きに進行してフィルタバグ７に付着したダストを除去することをいう。
【００１８】  
吸着剤収容形固定層式吸着塔４はバグフィルタ装置３から流出した排ガスが流入して吸着剤の粒子間隙間等を通過することにより排ガスに含まれたダイオキシン類を吸着除去してブロアへ向け流出させるためのもので、詳細には次のようになされている。
【００１９】  
即ち、図４は本発明に係る吸着剤収容形固定層式吸着塔４を示す平面図、図５は図４のｘ−ｘ部を示す断面図、図６は前記固定層式吸着塔４の側面図である。
これらの図に於いて、１７は方形状の箱形ケーシングであり、これの内部空間ｄは一対の通気壁１８ａ、１８ｂによりダイオキシン類吸着剤の一例としての活性炭１９群を層状に挟持するための排気ガス処理室２０を縦方向へ向け一定距離間で対向配設してある。ここに、ダイオキシン類吸着剤としては、活性炭に代えて活性コークス等を使用することも差し支えない。そして、対向した処理室２０、２０間区域を排ガス流入側空間ｅとなされ、一方、各処理室２０、２０の外側区域のそれぞれを排ガス流出側空間ｆ、ｆとなされている。
【００２０】  
各処理室２０の上面をなす箱形ケーシング上面壁１７ａに各処理室２０内の空間を開口させるための四角筒部材２１、２１を突設して、この四角筒部材２１、２１のそれぞれの上端開口箇所に開閉蓋２２、２２を装着し、また各処理室２０の下面をなす箱形ケーシング下面壁１７ｂに処理室２０内の空間を開口させるためのホッパ状筒体２３を垂下状に固着し、この筒体２３の下端開口箇所にも開閉蓋２４、２４を装着している。この際、各通気壁１８ａ、１８ｂは多数の透孔ｇを形成されたものとなされ、各透孔ｇは例えば直径凡そ数ｍｍ程度の開（細）孔となされている。
【００２１】  
上記処理室２０、２０内に活性炭１９を満たす際は、上側の四角筒部材２１を通じて直径凡そ数ｍｍの造粒活性炭１９を供給するのであり、こうして形成された活性炭１９群の層厚は低圧損構造となすべく凡そ４００ｍｍ程度となされる。
【００２２】  
２５は前記箱形ケーシング下面壁１７ｂに連続して形成した単一の排気空間室であり、この空間室２５は各ガス流出空間ｆ、ｆにこれの底面に形成された通気路ｈ、ｈを介して連通させてある。なお、この排気空間室２５は前記箱形ケーシング１７の上側に連続して形成してもよいものである。
【００２３】  
図６に於いて排ガス流入側空間ｅの左面となる箱体ケーシング左面壁１７ｃに火葬炉１の排気ガスを流入させるための排ガス管６ｂが接続され、また排気空間室２５の右面壁にはこの内方に存在する排気ガスを前記ブロアー５へ向け流出させるための排ガス管６ｃが接続される。
【００２４】  
吸着剤収容形固定層式吸着塔４の使用中には、火葬炉１の排気ガスが凡そ１３０℃から１８０℃程度の温度となされて排ガス管６ｂを通じることにより排ガス流入側空間ｅ内に流入し、続いて活性炭１９群の存在した一対の処理室２０、２０を同時並行的に通過して排ガス流出側空間ｆ、ｆ内に流入し、続いて排気空間室２５に集められた後、排ガス管６ｃを通じて前記ブロア５へ向け流出される。
【００２５】  
この際、各処理室２０、２０内では活性炭１９群がこれの粒間を通過する排気ガスに含まれるダイオキシン類を吸着して除去するのであり、この作用中に於ける活性炭固定層式吸着塔４全体の圧力損失はガス流速０．３ｍ／ｓｅｃから０．４ｍ／ｓｅｃの下で、凡そ０．５ｋｐａ程度以下の低圧損となる。
【００２６】  
また各処理室２０、２０内の活性炭１９群のダイオキシン類吸着能力は、火葬炉１の排気ガスが硫黄酸化物 等の吸着質ガスを多く含まないという特性を有することから比較的長く維持されるのであり、従って活性炭１９群は処理室２０内で固定的に存在させても性能や保守管理上の不都合はない。また本例の活性炭固定層式吸着塔４は活性炭１９を定期的に交換される固定活性炭層を有するもの（固定層式）であるため、ダイオキシン類は常に高い効率で安定的に除去される。
【００２７】  
処理室２０内の活性炭１９群のダイオキシン類吸着能力が不十分となり排気ガスによるダイオキシン類排出量が０．１ｎｇ−ＴＥＱ／Ｎｍ３に近づいてきたときは、下側のホッパ状筒体２３の開閉蓋２４、２４を開放してその活性炭１９群を外方へ取り出し、新しい活性炭１９を既述のように四角筒部材２１、２１を通じてその上方から供給する。
【００２８】  
この際、活性炭１９群は処理室２０、２０内からその自重により外方へ落下するのであり、またホッパ状筒体２３が処理室２０の底面をその開口箇所へ向けて下り傾斜となすため、活性炭１９群はその自重のみで処理室２０の底面上に残留することなく完全に落下するものとなる。
【００２９】  
次に本発明の排ガス処理システムの使用例及び作動について説明する。
火葬炉１の主燃焼室１ａ内に棺を納置した後、火葬炉１を運転状態となすのであり、一方ではブロア５を作動させて火葬炉１内で発生した排ガスを吸引させる。火葬炉１の運転状態では主燃焼室バーナに供給された燃料が棺と共に燃焼し、この燃焼により生じた排ガスは再燃焼室１ｂ内に流入し、ここで未燃ガス及び臭気成分等が再燃焼して分解される。この主燃焼室１ａ内及び再燃焼室１ｂ内での燃焼温度はダイオキシン類の発生を抑制するため凡そ８００℃以上に保持される。
【００３０】  
火葬炉１で生成された排ガスは、ダスト濃度が凡そ１００ｍｇ／Ｎｍ３となって空気冷却部２に流入し、ここで２００℃以下に急冷される。これにより、排ガス中に含まれるダイオキシン類の粒子化が促進され、バグフィルタ装置３や吸着剤収容形固定層式吸着塔４の内方に於いてダイオキシン類の再合成が生じるのを抑制された状態となる。
【００３１】  
空気冷却部２から流出した排ガスは、バグフィルタ装置３へ向け流動し、排ガス入り口管１１ａを経て排ガス流入空間ａ内に流入するのであり、この排ガスは邪魔板１２にその流れを分散されて複数のフィルタバグ７に均等化されて到達し、次にプリコート剤９を被着されたフィルタ材７ａを排ガス流出側空間ｂへ向け通過することによりろ過される。
【００３２】  
このろ過の状況を図３により微視的に観察すると、排ガスはプリコート剤９の直径凡そ１０μ程度の比較的小さな粒子９ａ群からなる緻密ろ過層１０の粒子間を通過し、さら直経凡そ１５μ〜２０μの繊維ｓからなるフィルタ材７ａの比較的荒い織り目を経て排ガス流出側空間ｂ内に達する。この排ガスの通過により、排ガス中に含まれダイオキシン類の付着した灰粒子や粒子状のダイオキシン類が緻密ろ過層１０により効果的に分離されて緻密ろ過層１０表面に残留する。そして排ガスの通過時間の経過により灰粒子等はダスト層ｊとなって緻密ろ過層１０表面に堆積する。
【００３３】  
ここで、フィルタ材７ａの表面にプリコート剤９による緻密ろ過層１０が形成されていない場合についてのろ過状況を比較のため参考的に示すと、図３に示すように、灰粒子がフィルタ材７ａの繊維ｓの間隙内に深く進入する傾向となり、排ガスろ過抵抗を増大させ、処理能力の低下を惹き起こすのみならず、運転条件によってはフィルタ材７ａを通過するものも生じてしまうのである。
【００３４】  
上記した緻密ろ過層１０上に於けるダスト層ｊの堆積厚さが一定大きさを越えると、排ガスの通過により生じる圧損が過大となり、排ガスの処理が適切に行えなくなる。これを回避するため、焼却炉１の運転が停止されている状態の下でジェットパルス逆洗手段１６を作動させ、ダスト層ｊをフィルタバグ７から分離させて落下させるようにする。この分離されたダスト層ｊ成分は排ガス流入側空間ａの最下部に落下するのであり、このダストの排出に際しては、開閉弁１５を開放操作した後、スクリューコンベア１３を作動させる。
【００３５】  
ところで、火葬炉１の運転中にジェットパルス逆洗手段１６を作動させると、ダスト層ｊの灰分粒子やダイオキシン類粒子の一部が緻密ろ過層１０を排ガス流出方向へ移動して排ガス流出側空間ｂ内に流れ込む恐れがあるため、火葬炉１の運転中にはジェットパルス逆洗手段１６によるクリーニング処理は行わないことが要請されるのであるが、この要請に応えるか否かについて、本発明の具体的な運転条件を例にとって説明すると、次のとおりである。
【００３６】  
即ち、ろ過速度ＦＶ、排ガス入り口管１１ａ内での排ガス中のダスト濃度Ｃｉ、火葬炉１の一回焼却処理の運転時間Ｈを、ＦＶ＝１．０〜２．０ｍ３／ｍｉｎ．ａｔ２００℃以下、Ｃｉ＝１００ｍｇ／Ｎｍ３  、Ｈ＝１〜１．５ｈｒであるとする。
この場合、緻密ろ過層１０表面のダスト量Ｍは、
Ｍ＝Ｃｉ＊ＦＶａ＊６０＊Ｈ      で表される。
ここに、ＦＶａ＝（１．５〜２．００）＊２７３／（２７３＋２００）
＝０．８７〜１．１５Ｎｍ３  ／ｍｉｎ．／ｍ２
従って、Ｍ＝５．２２〜１０．４ｇ／ｍ２
このダスト量Ｍの平均厚さｔは、ダスト層ｊ成分の嵩比重を０．５とすると、
ｔ＝１０．４〜２０．８μｍ      となる。
【００３７】  
即ち、火葬炉１により一回火葬処理した場合、緻密ろ過層１０の表面上に凡そ１０．４〜２０．８μｍ厚のダスト層ｊが形成されるのである。この厚さのダスト層ｊは緻密ろ過層１０の表面上のダスト負荷としては小さいものであり、従って火葬炉１の運転中にクリーニング処理を行うことは必要とならず、上記要請に応え得るものである。実際に於いては、多くの場合、緻密ろ過層１０のクリーニング処理は一日一回程度行うことで足りるものとなっている。
【００３８】  
排ガス流出側空間ｂ内に達した排ガスのダスト濃度はプリコート剤９による緻密ろ過層１０の形成されてない通常のバグフィルタによる場合のそれの１０分の１程度である１ｍｇ／Ｎｍ３となり、灰分粒子等に付着したダイオキシン類や粒子化されたダイオキシン類はほぼ１００％捕集除去された状態となる。この状態となされた排ガスが排ガス出口管１１ｂを経て吸着剤収容形固定層式吸着塔４へ向け流出する。
【００３９】  
この排ガスが吸着剤収容形固定層式吸着塔４に到達すると、先ず排ガス流入側空間ｄ内に流入し、続いて活性炭１９の収容された一対の処理室２０、２０を同時並行的に通過して排ガス流出側空間ｆ、ｆ内に流入し、続いて排気空間室２５に集められた後、ブロアー５へ向け流出する。
【００４０】  
この際、各処理室２０、２０内では活性炭１９群がこれの粒間を通過する排ガスに含まれるガス状のダイオキシン類を吸着除去するのであり、この作用中に於ける吸着剤収容形固定層式吸着塔４全体の圧力損失はガス流速０．３ｍ／ｓｅｃから０．４ｍ／ｓｅｃの下で、凡そ０．５ｋｐａ程度以下となる。
【００４１】  
また各処理室２０、２０内の活性炭１９群のダイオキシン類吸着能力は、火葬炉１の排ガスが硫黄酸化物 等の吸着質ガスを多く含まないという特性を有することから比較的長く維持されるのであり、従って活性炭１９群は処理室２０内で固定的に存在させても性能や保守管理上の不都合は全くない。
【００４２】  
さらには活性炭１９群には該バグフィルタ装置３により殆どのダストを除去された後の排ガスが流入するため、活性炭１９の汚れ進行が大幅に抑制されてそのダイオキシン類吸着能力が長期に亘って維持される。  
【００４３】  
このような排ガスの処理中、処理室２０内の活性炭１９群のダイオキシン吸着能力が不十分となり、排ガスによるダイオキシン類排出量が０．１ｎｇ−ＴＥＱ／Ｎｍ３に近づいてきたときは、下側のホッパ状筒体２３の開閉蓋２４、２４を開放してその活性炭１９群を外方へ取り出し、新しい活性炭１９を既述のように四角筒部材２１、２１を通じてその上方から供給する。
【００４４】  
この際、活性炭１９群は処理室２０、２０内からその自重により外方へ落下するのであり、またホッパ状筒体２３が処理室２０の底面をその開口箇所へ向けて下り傾斜となすため、活性炭１９群はその自重のみで処理室２０の底面上に残留することなく完全に落下するものとなる。
【００４５】  
上記吸着剤収容形固定層式吸着塔４の排気空間室２５から流出した排ガスはブロアー５の吸引口に吸引されて吐出口から噴出されるのであり、この噴出された排ガスは図示しない煙突を経て大気に放出される。
【００４６】  
【発明の効果】  
以上の如く構成した本発明によれば、次のような効果が得られる。
即ち、請求項１に係るバグフィルタ装置及び該装置を使用した請求項２に記載のものによれば、バグフィルタのろ過性能がろ過助材により飛躍的に向上して粒子状のダイオキシン類の殆どが除去され、また吸着剤収容形固定層式吸着塔がダスト濃度の小さい排ガスに含まれるガス状のダイオキシン類を吸着除去するため、焼却炉の排ガスに含まれるダイオキシン類を長期に亘って経済的且つ効果的且つ安定的に除去することができ、しかも全体構成を比較的簡易な構造となすことが可能である。
【００４７】  
請求項３に記載したものによれば、比較的安価な吸着剤でガス状のダイオキシン類を安定的に吸着除去することができる。
【００４８】  
請求項４に記載したものによれば、一回処理時間が１〜１．５時間程度のバッチ処理が行われるという火葬炉の運転特性や、ダスト濃度が１００ｍｇ／Ｎｍ３そ以下であり塩酸や硫黄酸化物等の吸着質ガスの濃度が小さいという排ガス特性から、吸着剤収容形固定層式吸着塔の吸着剤の吸着能力がさらに長期に亘って維持されるものとなって経済的であり、またバグフィルタのクリーニング処理を火葬炉の作動停止中に支障なく行うことが可能となるためダイオキシン類の大気放出を一層確実に阻止することができる。さらには吸着剤収容形固定層式吸着塔に達する前の排ガスからバグフィルタで殆どのダイオキシン類を除去するため吸着剤収容形固定層式吸着塔の処理能力は比較的小さくて済むようになり、このことが排ガス処理装置の全体形状をコンパクトとなし斎場に便利に設置し得るものとなすのである。
【００４９】  
請求項５に記載したものによれば、ダイオキシン類を大気へ放出させることなくバグフィルタの緻密ろ過層を掃除することができ、粒子状のダイオキシン類の除去を一層確実にしかも省力的に行うことができる。
【図面の簡単な説明】  
【図１】  
本発明に係る焼却炉用排ガス処理システムの一実施例を示す構成図である。
【図２】  
前記排ガス処理システムのバグフィルタ装置に於ける緻密ろ過層のダスト堆積状態を示す部分断面でＡは概要図でＢは拡大図ある。
【図３】  
バグフィルタ装置のフィルタ材表面のダスト堆積状態を示す部分断面図でＡは概要図でＢは拡大図あるある。
【図４】  
前記排ガス処理システムの吸着剤収容形固定層式吸着塔を示す平面図である。
【図５】  
図４のｘ−ｘ部を示す断面図である。
【図６】  
前記固定層式吸着塔の側面図である。
【符号の説明】  
１  焼却炉
３  バグフィルタ装置
４  吸着剤収容形固定層式吸着塔
６ａ〜６ｄ  排ガス管（排ガス経路）
７ａ  フィルタ材
９  プリコート剤（ろ過助剤）
１６  ジェットパルス逆洗手段（クリーニング手段）
１９  活性炭（吸着剤）