Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年4月4日(2003.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
(15)  Feng. S., et al., P.N.A.S (USA) 92:12,408-15 (1995), "Specific interactions outside the proline-rich core  of two classes of Src homology 3 ligands"
【配列表】
2003522116.tif 000001
2003522116.tif 000002
2003522116.tif 000003
2003522116.tif 000004
2003522116.tif 000005
2003522116.tif 000006
2003522116.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成15年3月31日(2003.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】心臓疾患診断用免疫学的製剤、心臓疾患判断用キット、心臓疾患の判断方法。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒトミトコンドリアアデニレートキナーゼアイソザイム２（ＡＫ２）又は３（ＡＫ３）に結合する抗体又はその一部を含む、心臓疾患診断用免疫学的製剤。
【請求項２】
前記ヒトミトコンドリアアデニレートキナーゼアイソザイムは、ＡＫ３である、請求項１記載の心臓疾患診断用免疫学的製剤。
【請求項３】
前記抗体またはその一部が検出マーカーと連結された、請求項１又は２記載の心臓疾患診断用免疫学的製剤。
【請求項４】
前記検出マーカーは、放射性同位元素、酵素、化学発光化合物（chemoluminescent  compound）、フルオレセイン、フィコビリプロテイン、希土類キレート、ロダミン、酵素補助因子（enzyme  cofactor）、ストレプトアビジン及びビオチンからなる群より選ばれる、請求項３記載の心臓疾患診断用免疫学的製剤。
【請求項５】
ヒトミトコンドリアアデニレートキナーゼアイソザイム２（ＡＫ２）又は３（ＡＫ３）に結合し、検出マーカーと連結した抗体又はその一部を、製薬学上許容できる担体とともに含む、心臓疾患診断用キット。
【請求項６】
前記ヒトミトコンドリアアデニレートキナーゼアイソザイムは、ＡＫ３である、請求項５記載の心臓疾患診断用キット。
【請求項７】
前記検出マーカーは、放射性同位元素、酵素、化学発光化合物（chemoluminescent  compound）、フルオレセイン、フィコビリプロテイン、希土類キレート、ロダミン、酵素補助因子（enzyme  cofactor）、ストレプトアビジン及びビオチンからなる群より選ばれる、請求項５又は６記載の心臓疾患診断用キット。
【請求項８】
更に、対照試料を含む、請求項５又は６記載の心臓疾患診断用キット。
【請求項９】
（１）ヒトミトコンドリアアデニレートキナーゼアイソザイム２（ＡＫ２）又は３（ＡＫ３）に結合する抗体またはその一部を、それぞれ生物学的試料と対照試料とに接触させることにより免疫複合体を形成させ、
（２）上記工程(１)で得られた免疫複合体を検出し、
（３）検出結果を比較する工程を含むことを特徴とする心臓疾患の判断方法。
【請求項１０】
前記ヒトミトコンドリアアデニレートキナーゼアイソザイムは、ＡＫ３である、請求項９記載の心臓疾患の診断方法。
【請求項１１】
生物学的試料は、尿、血液、血清及び血漿からなる群より選ばれることを特徴とする、請求項９記載の診断方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
（技術分野）
本発明は、心臓疾患診断用免疫学的製剤、心臓疾患診断用キット及び心臓疾患の診断方法に関するもので、さらに詳細には心筋梗塞、狭心症のような心臓疾患の診断指標として心筋特異的な発現を有するアデニレートキナーゼアイソザイムＡＫ３を利用することを特徴とする心臓疾患診断用免疫学的製剤、心臓疾患診断用キット及び心臓疾患の診断方法に関するものである。ＡＫ３を利用することにより、判別力が優れ、誤診の可能性が少なく、診断が容易かつ正確となる技術である。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（発明の開示）
本発明の目的は、上述した従来の技術の技術的要求に対応するもので、上記の理想的な心筋梗塞の診断指標の条件を全部満足させる診断指標候補物質が特に心筋細胞中に存在し、さらに細胞レベル下（subcellular）の分布が相異するヒトミトコンドリアアデニレートキナーゼアイソザイムを特異的に認識する抗−AK抗体を利用することによって正確性及び感度が優秀で検査を容易にするヒトミトコンドリアアデニレートキナーゼアイソザイムを利用した、心臓疾患診断用免疫学的製剤、心臓疾患診断用キット及び心臓疾患の診断方法を提供することである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月23日(2004.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）ボツリヌス毒素、および
（ｂ）組換え産生アルブミン
を含有する医薬組成物。
【請求項２】  （ａ）Ａ型ボツリヌス毒素、および
（ｂ）組換え産生アルブミン
を含有する請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】  アセチルトリプトファネート並びにその塩および誘導体をも含有する請求項１または２に記載の医薬組成物。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成16年6月28日(2004.6.28)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項３】  内刃機構はそれぞれ先端及び基端を有する長尺軸を含み、基端は刃移動機構まで延出するとともに、切刃が長尺軸の先端に設けられており、長尺軸は刃移動機構によって先端側に進められるまで完全に中空軸内に位置させられることを特徴とする請求項２に記載のリーマ。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項４】  刃移動機構は長尺軸の基端と係合するように構成及び配置されており、刃移動機構の操作に応じて両方の刃を先端側或いは基端側に移動させることを特徴とする請求項３に記載のリーマ。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項５】  刃移動機構は、回転させられた時の回転方向及び回転の程度に応じて、細長中空軸内において刃を先端側或いは基端側に移動させる調節ねじを含むことを特徴とする請求項４に記載のリーマ。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項６】  リーマの基端に設けられ、リーマの外側から認識することができ、且つ刃の中空軸内における先端側或いは基端側への相対移動を示すことにより切刃の位置を表示する表示機構を更に含むことを特徴とする請求項５に記載のリーマ。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１３】  拡張可能なリーマであって、
ａ）基端及び先端を有する長尺軸と、長尺軸の先端に回動可能に係合される一対の刃部材と、長尺軸に隣接して配置される一対の細長刃ガイドと、細長刃ガイドはそれぞれ案内溝を有し、各刃部材の少なくとも一部が案内溝の中の１個と作用的に係合されており、
ｂ）長尺軸及び一対の細長刃ガイドの略周囲に配置される細長中空管と、細長中空管は長尺軸に対して長手方向の相対移動が可能であり、
ｃ）中空係合筒及びそこから延出する少なくとも１個の把持部材とを含むハンドルと、中空係合筒は細長中空管と係合する第１端部及び制御握りを有する第２端部とを含み、制御握りは細長中空管と作用的に係合されており、制御握りが回転された時、細長中空管は長尺軸に対して長手方向に相対移動して、一対の刃部材を引き込み位置と拡張位置の間で移動させる
ことを特徴とするリーマ。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１４】  拡張可能なリーマであって、
ａ）基端及び先端を有する長尺軸と、長尺軸の先端に回動可能に係合される一対の刃部材と、長尺軸の先端には１個の刃部材の少なくとも一部を滑りながら且つ移動させながら収容するように構成及び配置された一対の刃溝が備えられており、
ｂ）長尺軸の略周囲に配置される細長中空管と、長尺軸は細長中空管に対して長手方向の相対移動が可能であり、
ｃ）長尺軸の基端に作用的に係合されると共に細長中空管の近くに位置される回転ハンドルと、回転ハンドルが回転されると、長尺軸は細長中空管に対して長手方向に相対的に移動して、一対の刃部材を引き込み位置と拡張位置の間で移動させる
ことを特徴とするリーマ。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
図１０〜図１７には本発明の別の実施例が示されている。図１０〜図１７には、本発明のリーマがより簡単に構成されて示されている。図１４に示すように、閉じた刃を有するリーマ９０の直径は約５ｍｍ以下である。リーマ９０は上側交差靭帯等の柄部管に開口を形成するために利用されてもよい。また、細長管及び筒１００は長ロッド９２を保持し、その先端には刃を先端側或いは基端側に移動させる回転ハンドル９６が取り付けられている。長ロッド９２の端部には２個の同様の刃１１４、１１６が位置の移動が可能となるように旋回軸１１８により取り付けられている。刃１１４、１１６はそれぞれ、外側へ滑らかに移動することができるように傾斜レバー面を有している。切り欠き又は係止部１２６が管１００の底に達することにより、それ以上の移動は抑止される。ハンドルは、軸９２が切断位置にあるか或いは切断を行なわないように前に押されているかを使用者が確認することができるように加工された平らな溝１０７を有する。第２の溝１０６には使用者が保持クリップ１０８を取り外すことができる窓口が設けられており、リーマを以下に説明するように取り外すことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月6日(2003.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】格納部内での貨物の配置を最適化するための装置を有した、車両用格納式ルーフ
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月28日(2003.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４７】
排出装置が、第１および第２の部品から成り、そのうちの一方のみが回転可能である、請求項４６に記載のディスペンサ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７３】
排出装置部材およびアダプタが、指標部材を有する、請求項６８に記載のディスペンサ。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７４】
アダプタ内に配置された多数の通路が、環状の形状で配置されている、請求項６８に記載のディスペンサ。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７５】
アダプタ部材が、異なる色である、請求項６８に記載のディスペンサ。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７６】
アダプタ部材が、プラスチック材料から成る、請求項７５に記載のディスペンサ。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
従来技術は、様々なサイズの開口を備える回転可能な排出装置を有する濃縮物流通路を備える回転可能なエダクタ・タイプのディスペンサか、摺動する開ベンチュリかのいずれかを提供している。摺動と回転の両方をする排出装置ならびにバルブを備え、様々な濃度の化学濃縮物を様々な流速で供給することができる分配装置は提供していない。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（好ましい実施形態の説明）
図１および２を参照すると、ディスペンサ１０は、容器または瓶１６と接続するための容器コネクタ１４を備える本体部材１２を有する。好ましいコネクタ・システムは共通に所有された２００１年１１月９日に提出された出願番号１０／０３７，５６９によって完全に記載されており、本明細書にその教示を組み込む。本体部材１２の一方の端部には、加圧された水をディスペンサに供給するためのホース・アタッチメント１８がある。ハンドル１７が、アタッチメント１８の下に設けられている。他方の端部には、混合された化学溶液を分配するためのスパウト２２およびノズル２０がある。可撓性のチューブ１５が、ノズル２０とスパウト２２の間に延びている。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
図１０〜１４は、排出装置２４とは別個の構成部品として形成された希釈調節部材５０の代替となる実施形態を示している。これらの図中で一般に１０１として示されているこの実施形態では、希釈調節部材は、希釈調節デバイス１１２が中に嵌合される希釈調節ハウジング１０２を備える。ハウジング１０２は、水および化学濃縮物の流れのための中央通路１１０を備える。ハウジング１０２はまた、側壁１０４に楕円形部分１０５を備え、端壁１０６に円筒形部分１０７を備える５本のＬ字型通路１０３を有する。環状の調節デバイス１１２が、環状のハウジング１０２の内側に摩擦可能に嵌合され、水および化学濃縮物のための中央通路１１１も有している。図１３を見れば最もよくわかるように、調節デバイス１１２およびアダプタは、それを通って前側面１１５から後側面１１７へ通路１１４が延びている、環状の本体１１３を有する。これらの通路はまた、後側面１１７の管状部材１１６を通って延びている。これらの管状部材１１６は、希釈調節ハウジング１０２内の通路１０３の円筒形部分１０７内に嵌合する。通路１１４は、様々な寸法の収縮孔１２２を有する。別法として、１つまたは複数の収縮孔が、洗浄機能を提供するために遮蔽されている。方向突起１１８が、後側面１１７から延びて、調節ハウジング１０２の方向要素１０９内に嵌入する。このことは、管状部材１１６の部分１０７内への方向付けを容易にする。突起１２０が、排出装置２６との接触のために前側面１１５から延び、各排出装置間の隙間２７を提供する。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
シール２３内の開口２３ａと様々な通路９０〜９４との方向付けは、図７に示す指標によって容易にされる。
混合された溶液は、その後、ノズル２０を通り、スパウト２２内に配置されたチューブ１５を通って流出する。この例でのチューブ１５は、可撓性であり、排出装置２４が本体部材１２から内側および外側に移動することを可能にする。製品はチューブ１５およびスパウト２２を通過する。これは、バケットまたは瓶を充填するときに使用される位置である。前に説明したように、低速流の状態は、瓶を充填するときに使用されるが、高速流の状態は、バケットなどの大きな容器を充填するために使用される。スパウト２２は、ディスペンサをバケットに架けることを可能にする。必要に応じて、「スクラバ・ウォッシャ」などを充填する目的で、またはディスペンサを壁に取り付けるとき、ホース（図示せず）をスパウト２２に接続することができる。ディスペンサ１０は、ノズル２０と従来型のスプレー・ヘッド（図示せず）のアタッチメントとの交換によってスプレー・ユニットに容易に変換することができる。前にも述べたように、溶液の濃度は、希釈調節部材５０とともに排出装置２４を回転することによって容易に調節することができる。希釈調節部材に伴う低速および高速の流れの状態によって、複数のディスペンサ・ヘッドの使用が除去される。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2004517717.tif 000001
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2004517717.tif 000002
【手続補正１２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2004517717.tif 000003
【手続補正１３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2004517717.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月11日(2005.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基体上の湿潤被膜の均一性を改善するための方法であって、前記基体に対する同一または実質的に同一な複数の接触周期を有する十分な数のピックアンドプレース装置の湿潤表面部分に、前記被膜を接触および再接触させて、被膜が全くない状態から平均被膜厚さの２００％の過剰な範囲の被膜厚さ欠陥を平均被膜厚さの８５％から１１５％の範囲に転換するステップを含む方法。
【請求項２】  基体上の湿潤被膜の均一性を改善するための方法であって、前記基体に対する同一または実質的に同一な複数の接触周期を有する少なくとも５つのピックアンドプレース装置の湿潤表面部分に、前記被膜を接触および再接触させるステップを含む方法。
【請求項３】  移動するウェブを被覆するための方法であって、前記ウェブ上に厚さ変化を有する湿潤被膜を塗布するステップと、前記湿潤被膜を前記ウェブとの接触周期を有する１つ以上のロールの湿潤表面部分と接触および再接触させるステップと、前記厚さ変化の周期、前記厚さ変化の大きさまたは少なくとも１つのロールの接触周期を変えて被膜欠陥を低減または最小化するステップとを含む方法。
【請求項４】  基体上の異なる位置で周期的に湿潤被膜に接触および再接触可能であるとともに、前記基体に対する同一または実質的に同一な複数の接触周期を有する少なくとも５つのピックアンドプレース装置を備える改善ステーション。
【請求項５】  不均等な被膜を基体に塗布する塗布ステーションと、前記基体上の異なる位置で周期的に前記塗布被膜に接触および再接触可能な複数のピックアンドプレース装置を備える改善ステーションとを備える塗布装置であって、前記基体に対する同一または実質的に同一な複数の接触周期を有するピックアンドプレース装置の数が、被膜が全くない状態から平均被膜厚さの２００％の過剰な範囲の被膜厚さ欠陥が平均被膜厚さの８５％から１１５％の範囲に転換されるために十分な数である塗布装置。
【請求項６】  不均等な被膜を基体に塗布する塗布ステーションと、前記基体上の異なる位置で周期的に前記塗布被膜に接触および再接触可能であるとともに、前記基体に対する同一または実質的に同一な複数の接触周期を有する少なくとも５つのピックアンドプレース装置を備える改善ステーションとを備える塗布装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月7日(2005.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ａ）表面を有する回転支持体であって、該表面が有限長の着脱可能な基材で少なくとも部分的に覆われている回転支持体と、
ｂ）前記回転支持体上の前記基材に対して挟まれている少なくとも１本の装着ロールであって、前記回転支持体の回転周期と等しくない回転周期を有する少なくとも１本の装着ロールと、
ｃ）任意量の塗料液を前記基材又は前記装着ロールに塗るための塗布器と、
ｄ）前記回転支持体および前記基材を複数回回転させ、それにより前記装着ロールのぬれ表面部分を前記基材に繰り返して接触させる移動装置と、
を具備する装置。
【請求項２】  ａ）有限長の着脱可能な基材で少なくとも部分的に覆われる表面を有する回転支持体を用意して、
ｉ）前記支持体と、前記回転支持体の回転周期と等しくない回転周期を有する少なくとも１本の装着ロールとの間に、前記基材を挟むことと、
ｉｉ）任意量の塗料液を前記基材又は前記装着ロールに塗ることと、
を何れかの順序で実行するステップと、
ｂ）前記回転支持体および前記基材を複数回回転させ、それにより前記装着ロールのぬれ表面部分を前記基材に繰り返して接触させるステップと、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月15日(2004.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  運動方向を有する支持体上の湿潤塗膜の均一性を改善するための方法であって、
ａ）回転しまたは前記運動方向に移動する２つ以上のピックアンドプレイス装置、または
ｂ）回転しまたは前記運動方向と反対方向に移動する４つ以上のピックアンドプレイス装置
の湿潤表面部分に、第１の位置の前記湿潤塗膜を接触させることと、
前記支持体の長さ方向に沿って前記第１の位置とは異なる該支持体上の位置において、前記湿潤表面部分に前記湿潤塗膜を再接触させることと、
を含む方法。
【請求項２】  運動方向を有する支持体に塗膜を塗布する方法であって、
不均一な湿潤塗膜を前記支持体に塗布することと、
ａ）回転しまたは前記運動方向に移動する２つ以上のピックアンドプレイス装置、または
ｂ）回転しまたは前記運動方向と反対方向に移動する４つ以上のピックアンドプレイス装置
の湿潤表面部分に、第１の位置の前記湿潤塗膜を接触させることと、
前記支持体の長さ方向に沿って前記第１の位置とは異なる該支持体上の位置において、前記湿潤表面部分に前記湿潤塗膜を再接触させることと、
を含む方法。
【請求項３】  運動方向を有する支持体上の湿潤塗膜の均一性を改善するための改善ステーションであって、
ａ）回転しまたは前記運動方向に移動する２つ以上のピックアンドプレイス装置、または
ｂ）回転しまたは前記運動方向と反対方向に移動する４つ以上のピックアンドプレイス装置を含み、
前記ピックアンドプレイス装置は、前記支持体上の第１の位置における前記湿潤塗膜との接触、及び前記支持体の長さ方向に沿って前記第１の位置とは異なる該支持体上の位置における前記湿潤塗膜との再接触を周期的に行うことができる、改善ステーション。
【請求項４】  運動方向を有する支持体に不均一な塗膜を塗布するための塗布ステーションと、
ａ）回転しまたは前記運動方向に移動する２つ以上のピックアンドプレイス装置、または
ｂ）回転しまたは前記運動方向と反対方向に移動する４つ以上のピックアンドプレイス装置を含む改善ステーションと、
を有し、
前記ピックアンドプレイス装置は、前記支持体上の第１の位置における前記塗膜との接触、及び前記支持体の長さ方向に沿って前記第１の位置とは異なる該支持体上の複数の位置における前記塗膜との再接触を周期的に行うことができる、
装置。
【請求項５】  塗膜を第１の支持体に塗布するための塗布ステーションと、
前記塗膜に対する接触および再接触を、前記第１の支持体上の互いに異なる位置で行い、前記塗膜が前記第１の支持体上でより均一になるようにする、２つ以上のピックアンドプレイス装置と、
前記塗膜を前記第１の支持体から第２の支持体に転写するための転写ステーションと、
を有する装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月22日(2004.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】テープディスペンサー物品
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  テクスチャ表面及び格子状表面の少なくとも一方を有する曲線テープコアを備え、該曲線テープコアが、該テープコアからの高さを有するサイド部分を備えて構成される、テープディスペンサー物品。
【請求項２】  回旋状に巻かれた感圧粘着テープの複数の層をさらに備える、請求項１に記載のテープディスペンサー物品。
【請求項３】  前記サイド部分の前記高さが、前記回旋状に巻かれた感圧粘着テープの複数の層の初期厚みと少なくとも同じ高さである、請求項２に記載のテープディスペンサー物品。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月19日(2003.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
縁取りプレスであって：
ベースプレートを備え；
ベースプレートから離間していて、複数のポストでベースプレートに支持されたクラウンを備え；
クラウンに結合されていて、ホームポジションと縁取りポジションとの間で摺動可能に複数のポストに設けられたプレスラムを備え；
クラウンに設けられた複数のサーボモータを備え、各サーボモータはローラースクリューに機械的に結合されていて、サーボモータの作動は、プレスラムをポスト上で上昇または下降するようにするためにローラースクリューを回転するためのものであり；
クラウンに設けられた複数の液圧式アクチュエータを備え、各液圧式アクチュエータは、プレスラムが縁取りポジションの上方にある場合にプレスラムの開口部を通ってクラウンから下方へ延びたロッドを備えていて、前記ロッドはプレスラムがホームポジションにある場合にプレスラムの上方にあり、各ロッドは、プレスラムの頂面に設けられた別個のブロックと接触するように操作可能であり、液圧アクチュエータの作動は、ロッドを通してプレスラムへのブロックに縁取り圧力を提供する；
プレス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2004517733.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月1日(2004.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  多角形の基本形状と動作確実性が概ね高い切削形状とを有し、頂面（１１）と、底面（１２）と、互いに対向した第２の対の側面（１４）と２つの鋭角コーナ（１５）並びに２つの鈍角コーナ（１６）において交わる互いに対向した第１の対の側面（１３）からなる４つの周側面（１３，１４）と、前記頂面上の切屑表面（１７）と前記周側面に沿った逃げ面（１８）との間に形成された２つの材料切削用切刃（１９）とを備え、前記切刃が、それぞれ、一方側で主刃部（２０）をなし、他方側で鋭角コーナ（１５）に関連して形成された丸い副刃部（２１）をなしており、前記副刃部が前記主刃部（２０）の延長上に延びていると共に、前記主刃部（２０）の各々の少なくとも一部が弧状になっているフライス用スローアウェイチップインサートにおいて、
前記底面（１２）には、先端に向かって細くなるテーパ状断面形状を有した溝（３９）によって離間した複数の平行な畝（３８）を備えたタイプの少なくとも１つの接続表面（４）が形成され、前記少なくとも１つ接続表面（４）は、チップインサートを支持するフライスヘッド（１）の切屑溝（２）に関連した相似形の接続表面（５）と協働するようになっており、２つの前記切刃（１９）が境界状の周囲材料部分上に形成され、前記チップインサートの前記頂面上の谷状表面が前記周囲材料部分に対してさら穴状になっており、前記インサートチップをインサート台座に固定するための締結手段（２９）を受容するために、高く盛り上がっている材料部分（２７）が前記谷状表面（２６）の中央に形成されていることを特徴とするフライス用スローアウェイチップインサート。
【請求項２】  前記盛り上がっている材料部分は、前記中央孔（２５）の周囲に形成されたカラー（２７）からなり、ネジ（２９）の形態の固定要素の一部であるネジ頭部（２８）が前記中央孔（２５）に埋まって保護された状態で収容され得るようになっている、請求項１に記載のフライス用スローアウェイチップインサート。
【請求項３】  前記カラー（２７）は、楕円形状を有しており、実質的に前記チップインサートの前記鈍角コーナ（１６）の間を結ぶ方向に斜めに延びている、請求項２に記載のフライス用スローアウェイチップインサート。
【請求項４】  畝を備えた２つの接続表面（４）が前記チップインサートの中央孔（２５）の両側に形成され互いに離間しており且つ前記中央孔から離間している、請求項２又は請求項３に記載のフライス用スローアウェイチップインサート。
【請求項５】  前記主刃部（２０）の弧の高さ（Ｂ）は、前記主刃部の両端部（２２，２３）の間に延びる仮想上の弦（Ｋ）の長さ（ＬK）の０．０５〜１％である、請求項１から請求項４の何れか一項に記載のフライス用スローアウェイチップインサート。
【請求項６】  前記チップインサートの形状が、前記接続表面（４）の前記畝（３８）及び前記溝（３９）と平行に延び且つ２つの前記主刃部の中間に位置する第１の座標軸であるＸ軸と、前記Ｘ軸に対して直角に延び且つ前記チップインサートの前記鋭角コーナ（１５）の中間に位置する第２の座標軸であるＹ軸とからなる仮想座標系の２つの座標軸に関して対称となっており、前記副刃部（２１）の最も近くに位置する前記主刃部（２０）の前端部（２２）が前記主刃部の後端部（２３）よりも前記Ｘ軸から離れた距離に位置するために、前記主刃部（２０）の各々が前記Ｘ軸に対して斜めに延びている、請求項１から請求項５の何れか一項に記載のフライス用スローアウェイチップインサート。
【請求項７】  前記主刃部（２０）と前記Ｘ軸との間の傾斜角度（α）は、０．５〜３°の範囲内である、請求項６に記載のフライス用スローアウェイチップインサート。
【請求項８】  前記主刃部（２０）と前記Ｘ軸との間の傾斜角度（α）は、１．５〜２°の範囲内である、請求項７に記載のフライス用スローアウェイチップインサート。
【請求項９】  前記チップインサートは偏菱形の基本形状を有し、弧状の前記主刃部（２０）が前記チップインサートの長い側面（１３）に沿って延びている、請求項１から請求項８の何れか一項に記載のフライス用スローアウェイチップインサート。
【請求項１０】  前記切刃（１９）の各々は、互いに接続している前記切屑表面（１７）及び前記逃げ面（１８）の両方を研削することによって鋭くなるように研削される、請求項１から請求項９の何れか一項に記載のフライス用スローアウェイチップインサート。
【請求項１１】  前記逃げ面（１８）は、前記切刃（１９）から、細い台座表面（３３）を規定する肩部（３２）まで延びている、請求項１から請求項１０の何れか一項に記載のフライス用スローアウェイチップインサート。
【請求項１２】  前記逃げ面（１８）の面積は前記台座表面（３３）の面積よりも小さい、請求項１１に記載のフライス用スローアウェイチップインサート。
【請求項１３】  前記主刃部（２０）の弧の高さ（Ｂ）は、前記主刃部が平坦な表面を生成させるために要求される仮想弧の公称高さよりも大きく、弧の高さを大きくすることにより、前記主刃部が凹状に湾曲した表面を確実に生成させるようにしている、請求項１から請求項１２の何れか一項に記載のフライス用スローアウェイチップインサート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
主切屑表面１７並びに副切屑表面３４は、内側に、谷状表面２６へ向かって下方内向きに斜めに延びる遷移表面３６へ変化していることを指摘しておかねばならない。この遷移表面３６は凹状に湾曲していることが好都合である。主切刃１９が鋭利に研削されているかいないかにかかわらず、所望であれば、副切刃３５は未研削のままの状態とすることができる。しかしながら、副切刃は、単研磨されてもよく、より正確には逃げ面３７のみを研磨することによって単研磨されてもよい。副切屑表面３４は、有利には、凹状に湾曲した形状になっていてもよい。このような凹状に湾曲した形状は、プレス成形と関連して直接的に得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月27日(2004.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
熱膨張係数の調整は、本発明の材料を連結要素として高温型燃料電池の場合にまたはピエゾ−または誘電体と一緒に使用する時に特に有利である。それらの熱膨張係数は２０℃〜６００℃の間の温度において約３．５〜６．５×１０-6Ｋ-1の範囲内にある。この様な適切な熱膨張係数を有する層は慣用の連結要素、例えば銀、パラジウムまたは白金よりなるものの場合よりも一様に小さい機械的応力をもたらす。これらは同じ温度範囲内において実質的に大きな膨張係数を有する（Ａｇでは２２．５×１０-6Ｋ-1、Ｐｄでは１３．５×１０-6Ｋ-1およびＰｔでは９．８×１０-6Ｋ-1）。更に記載の実施例組成ｌ）、ｍ）およびｎ）はピエゾ−または誘電体の元素を含有しており、その結果非常に良好な化学的相容性および小さいピエゾ−および誘電特性が一様にセラミックスの改善された長期間安定性を保証する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
それ故に本発明の思想の特別な実施態様は、内部コネクターまたはカソードに連結層として適用されそして有利な以下の化学組成を有するセラミックス材料に関する：
Ａ’1-x-y Ａ”x Ｂ’1-a-b Ｂ”a Ｂ"'b Ｏ3 
［式中、Ａ’＝（Ｙ，Ｓｃ，Ｃｅ，Ｌａ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ）
Ａ”＝（Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ）
Ｂ’＝（Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ）
Ｂ”＝（Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｗ，Ｚｒ）  
Ｂ"'＝（Ｃｕ，Ｂｉ）
ｘ＝０〜０．６、  ｙ＝０〜０．２
ａ＝０〜１  および  ｂ＝０〜０．８である］
以下の組成の従来の化合物が特に有利な組成であることが実証されている：
Ａ’1-x-y Ａ”x Ｍｎ1-a-b Ｂ”a Ｃｕb Ｏ3 
［式中、Ａ’＝（Ｌａ，Ｐｒ，Ｎｄ）
Ａ”＝（Ｃａ，Ｓｒ）
Ｂ”＝（Ｃｒ，Ｆｅ，Ｃｏ）  
ｘ＝０〜０．４、  ｙ＝０〜０．１
ａ＝０〜０．６  および  ｂ＝０. １〜０．６である］
連結要素と鋼材との間の境界層に高温が負荷される間に中でもクロマート、例えばＣａＣｒＯ4 が生じるので、Ａ”の割合をできるだけ少なく、特にｘ＝０に選択する。しかしながらこの選択はＡ”の割合の減少と共に同様に低下する必要な導電性に実質的に依存する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
更に０．２までの割合でＢ”＝（Ｐｂ，Ｚｒ，Ｔｉ）を添加するのが有利である（これについては、実施例組成物ｌ）〜ｎ）参照）。この規模での添加は化学的拡散傾向を低下させそして連結要素とＰＺＴ−セラミックスとの間の化学的相互作用を低減させる。これらの材料は公知の方法に従って分級技術によって活性物質またはセンサー中にまたは上で導電路に加工することを可能とし、その際に接続工程はセラミックス成型体の製造後または該製造と同時に行うことができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
図５はプレス成形された試験体の収縮挙動の測定値を示している。図４に示した長手方向の変化は材料の潜在性および傾向から見たそれの焼結挙動を示しているが、例えば高温型燃料電池の接続工程の間の収縮は現実に近い条件のもとでのみ試験してもよい。この目的のために、かゝる燃料電池を実施例１の接点材料ＬＣＣ−Ａよりなるペーストで被覆し、ガラス−ハンダで密封しそして上側および下側の内部コネクター板の間に電池スタックのシュミレーションのために光学的観察装置を備えた炉中に入れる。接合の間に構成要素連結体の上に僅かな負荷を掛けそして接点相の厚さおよびガラス−ハンダの厚さの変化を測定する。図５の曲線経過から、実際に使用した場合に接点層が約４０％程収縮することがわかる。更にセラミックスの収縮は使用したガラス−ハンダの焼結挙動に良好に適合している。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月22日(2004.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  石英るつぼの製造装置（１０）であって、
底壁部分及び側壁部分を有し内部に空所を画成する中空鋳型であって、前記壁がそれらを通してのガスの流通を容易にするために複数の通路を含んでいる中空鋳型（１４）と、
前記鋳型（１４）を鉛直軸線の回りに回転させるための前記鋳型（１４）用の回転可能な支持体と、
石英粒子を前記壁に引寄せかつガスを除去するために前記中空鋳型の壁及び底部を通して加えられる真空と、
前記中空鋳型（１４）の少なくとも一部分を包囲するシュラウド（２６）と、
前記シュラウド（２６）と前記中空鋳型（１４）との間の空隙にガスを供給するように配置された１以上のガス入口と、
前記シュラウド（２６）及び前記中空鋳型（１４）の少なくとも一部分を包囲するハウジングと、
前記シュラウド（２６）と前記鋳型（１４）との間の前記空隙から流出することのあるガスを排出するように配置された１以上のガス出口と
を含む装置（１０）。
【請求項２】  融解及び焼結後にるつぼ（２０）の取出しを可能にするため、前記鋳型（１４）の通路に連結された圧縮空気源をさらに含む請求項１記載の装置（１０）。
【請求項３】  真空管路を前記中空鋳型（１４）に連結するための回転真空連結継手を含む請求項１記載の装置（１０）。
【請求項４】  前記真空が７５０００Ｐａ未満である請求項１記載の装置（１０）。
【請求項５】  真空管路に連通したガス組成分析装置を含む請求項１記載の装置（１０）。
【請求項６】  前記シュラウド（２６）が前記中空鋳型（１４）の底部外側、側壁及び上面外周部を包囲する請求項１記載の装置（１０）。
【請求項７】  １以上の電気加熱部材をさらに含む請求項１記載の装置（１０）。
【請求項８】  前記ハウジングが前記シュラウド（２６）と共にガスシール（３６）を形成する請求項１記載の装置（１０）。
【請求項９】  前記ハウジングがフードから成る請求項１記載の装置（１０）。
【請求項１０】  外気に対して正圧の制御雰囲気（３８）を生み出すことを容易にするため、前記フードが前記シュラウド（２６）に十分に接近している請求項９記載の装置（１０）。
【請求項１１】  前記１以上のガス出口が前記ハウジング内のダクトを含む請求項１記載の装置（１０）。
【請求項１２】  前記１以上のガス出口が前記フードと前記シュラウド（２６）との間の空隙を含む請求項１０記載の装置（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月5日(2003.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
小粒子のアレイを制御可能に充填する方法であって、
小粒子源を設けるステップと、
レーザビームの分布を制御するステップであって、選択されたレーザビームパターンを供給して、アレイの特定の場所に光トラップを形成するようにする、制御するステップと、
前記レーザビームの分布を時間経過とともに変えるステップであって、前記光トラップの場所に、時間変化する前記小粒子のアレイを形成する、変えるステップとを含む方法。
【請求項２】
前記レーザビームの分布を変える前記ステップは、前記レーザビームに回折光学要素を適用することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記回折光学要素はコンピュータによって供給される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
粒子源を設ける前記ステップは、圧力差を加えることによって、前記光トラップのうちの露出された光トラップを通って前記粒子を流すことを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
永久的に前記アレイを形成するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
永久的に前記アレイを形成する前記ステップは、（ａ）前記アレイを基板上に転写すること、（ｂ）前記アレイのまわりで懸濁されている流体をゲル化することのうちの少なくとも１つを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記レーザビームは、動的に再構成されて、時間変化する前記小粒子のアレイについての光学的要件に応じて前記アレイを変える、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
光トラップのアレイを制御可能に操作する方法であって、
レーザビームを供給するステップと、
前記レーザビームの分布を制御するステップであって、選択されたレーザビームを供給して、特定の場所に光トラップを形成するようにする、制御するステップと、
前記レーザビームの分布を時間経過とともに変えるステップであって、時間変化する前記光トラップのパターンを形成する、変えるステップとを含む方法。
【請求項９】
前記レーザビームは、動的に再構成されて、光学的要件に応じて前記光トラップを変える、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記トラップのアレイは検査のために生体媒質を操作する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
操作する前記ステップは、対象物の形状を調整することを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記光学的要件は画像解析を含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記光学的要件に対する前記アレイの応答は、（ａ）前記光トラップのうちの少なくとも１つの位置の変化、（ｂ）前記光トラップのうちの少なくとも１つの強度および形状、（ｃ）新たな光トラップの導入、および（ｄ）前記光トラップのうちの存在する１つの除去、のうちの少なくとも１つを含む、請求項１または８に記載の方法。
【請求項１４】
前記レーザビームの分布を変える前記ステップは、回折光学要素を作動状態／非作動状態にすることを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１５】
前記レーザビームの分布を変える前記ステップは、前記レーザビームに空間光変調器を適用することを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１６】
前記レーザビームの分布を変える前記ステップは、共役面で前記レーザビームを非作動状態にすることを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１７】
前記レーザビームの分布を変える前記ステップは、前記レーザビームに対して時間変化するホログラム制御信号を適用することを含む、請求項１または８に記載の方法。
【請求項１８】
前記レーザビームの分布を変える前記ステップは、共役物体面で前記レーザビームの一部を遮断するステップを含む、請求項１または８に記載の方法。
【請求項１９】
前記レーザビームを遮断する前記ステップは、ナイフエッジを前記レーザビームに挿入することを含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
少なくとも１つの粒子を供給するステップであって、前記光トラップの少なくとも１つを通って前記粒子を流す、供給するステップをさらに含む、請求項８に記載の方法。
【請求項２１】
コンピュータソフトウェアを実行するステップであって、複数の時間および空間位置にわたって、少なくとも１つの対象物の操作を含む製造プロセスを実施する、実行するステップをさらに含む、請求項８に記載の方法。
【請求項２２】
光トラップのアレイを制御可能に操作する装置であって、
レーザビーム源と、
前記レーザビームの分布を制御する手段であって、選択されたレーザビームパターンを供給して、特定の場所に光トラップを形成するようにする、制御する手段と、
前記レーザビームの分布を時間経過とともに変える手段であって、時間変化する前記光トラップのパターンを形成する、変える手段と、を備える装置。
【請求項２３】
前記レーザビームは、動的に再構成されて、光学的な要件に応じて前記光トラップを変えるようにする、請求項２２に記載の装置。
【請求項２４】
前記光学的要件は、検査のために生体媒質を操作するための指示を提供する命令シーケンス源を含む、請求項２３に記載の装置。
【請求項２５】
操作する前記手段は、空間光変調器を含む、請求項２４に記載の装置。
【請求項２６】
前記光学的要件は、実行可能なコンピュータ解析プログラムによるコンピュータ画像検査を含む、請求項２３に記載の装置。
【請求項２７】
前記光学的要件に対する前記アレイの応答は、（ａ）前記光トラップのうちの少なくとも１つの位置の変化、（ｂ）前記光トラップのうちの少なくとも１つの強度および形状、（ｃ）新たな光トラップの導入、および（ｄ）前記光トラップのうちの存在する１つの除去のうちの少なくとも１つの機能性を果たす実行可能なコンピュータプログラムを含む、請求項２２に記載の装置。
【請求項２８】
前記レーザビームの分布を変える前記ステップは、回折光学要素を作動状態／非作動状態にするデバイスを含む、請求項２２に記載の装置。
【請求項２９】
前記レーザビームの分布を変える前記ステップは、共役物体面で前記レーザビームの一部を遮断するナイフエッジを含む、請求項２２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月4日(2003.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸性ガス吸収性タブレットであって、比較的十分な重量割合にて少なくとも１種の吸着剤、結合剤、一つの塩基性塩、および第２の塩基性塩を含み、しかも該一つの塩基性塩が主として該吸着剤と連合されており、そして該第２の塩基性塩が主として該結合剤と連合されている酸性ガス吸収性タブレット。
【請求項２】
一つの塩基性塩が、ナトリウムおよびカリウムの炭酸塩および重炭酸塩から成る群から選択される、請求項１に記載の酸性ガス吸収性タブレット。
【請求項３】
一つの塩基性塩および第２の塩基性塩が、ナトリウムおよびカリウムの炭酸塩および重炭酸塩から成る群から選択される、請求項１に記載の酸性ガス吸収性タブレット。
【請求項４】
一つの塩基性塩が、ナトリウムおよびカリウムの炭酸塩から成る群から選択され、そして第２の塩基性塩が、ナトリウムおよびカリウムの重炭酸塩から成る群から選択される、請求項１に記載の酸性ガス吸収性タブレット。
【請求項５】
電子デバイスから酸性ガスを吸収する方法であって、比較的十分な重量割合にて少なくとも１種の吸着剤、結合剤、主として該吸着剤と連合された一つの塩基性塩、および主として該結合剤と連合された第２の塩基性塩を含む酸性ガス吸収性タブレットを用意し、そして該酸性ガス吸収性タブレットを該電子デバイス中に設置する工程を含む方法。
【請求項６】
一つの塩基性塩が、ナトリウムおよびカリウムの炭酸塩および重炭酸塩から成る群から選択される、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
一つの塩基性塩および第２の塩基性塩が、ナトリウムおよびカリウムの炭酸塩および重炭酸塩から成る群から選択される、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
一つの塩基性塩が、ナトリウムおよびカリウムの炭酸塩から成る群から選択され、そして第２の塩基性塩が、ナトリウムおよびカリウムの重炭酸塩から成る群から選択される、請求項５に記載の方法。
【請求項９】
酸性ガスが発生する電子デバイスにおいて使用される酸性ガス吸収性タブレットであり、しかも該酸性ガス吸収性タブレットが、比較的十分な重量割合にて少なくとも１種の吸着剤、結合剤、主として該吸着剤と連合された一つの塩基性塩、および主として該結合剤と連合された第２の塩基性塩を含む、酸性ガス吸収性タブレット。
【請求項１０】
一つの塩基性塩が、ナトリウムおよびカリウムの炭酸塩および重炭酸塩から成る群から選択される、請求項９に記載の酸性ガス吸収性タブレット。
【請求項１１】
一つの塩基性塩および第２の塩基性塩が、ナトリウムおよびカリウムの炭酸塩および重炭酸塩から成る群から選択される、請求項９に記載の酸性ガス吸収性タブレット。
【請求項１２】
一つの塩基性塩が、ナトリウムおよびカリウムの炭酸塩から成る群から選択され、そして第２の塩基性塩が、ナトリウムおよびカリウムの重炭酸塩から成る群から選択される、請求項９に記載の酸性ガス吸収性タブレット。
【請求項１３】
酸性ガス吸収性タブレットであって、重量により約７３％と９３％の間の量の吸着剤、４．２％と２５．１％の間の量のポリビニルピロリジノン、約０．４％と６．７％の間の量の重炭酸カリウム、約０．２％と８．４％の間の量の炭酸カリウムおよび０％と３０％の間の量の水を含む酸性ガス吸収性タブレット。
【請求項１４】
吸着剤が、活性炭とシリカゲルの配合物である、請求項１３に記載の酸性ガス吸収性タブレット。
【請求項１５】
配合物が、全部の活性炭または全部のシリカゲルを含めて任意の割合にある、請求項１４に記載の酸性ガス吸収性タブレット。
【請求項１６】
吸着剤が約７８％と８８％の間の量にて存在し、ポリビニルピロリジノンが約８．３％と１６．８％の間の量にて存在し、重炭酸カリウムが約１．４％と３．９％の間の量にて存在し、炭酸カリウムが約０．８％と４．２％の間の量にて存在し、そして水が約０％と１５％の間の量にて存在する、請求項１３に記載の酸性ガス吸収性タブレット。
【請求項１７】
吸着剤が、活性炭とシリカゲルの配合物である、請求項１６に記載の酸性ガス吸収性タブレット。
【請求項１８】
配合物が、全部の活性炭または全部のシリカゲルを含めて任意の割合にある、請求項１７に記載の酸性ガス吸収性タブレット。
【請求項１９】
吸着剤が約８０％と８５％の間の量にて存在し、ポリビニルピロリジノンが約９．２％と１０．９％の間の量にて存在し、重炭酸カリウムが約２．６％と３．１％の間の量にて存在し、炭酸カリウムが約１．６％と２．５％の間の量にて存在し、そして水が約０％と２％の間の量にて存在する、請求項１３に記載の酸性ガス吸収性タブレット。
【請求項２０】
吸着剤が、活性炭とシリカゲルの配合物である、請求項１９に記載の酸性ガス吸収性タブレット。
【請求項２１】
配合物が、全部の活性炭または全部のシリカゲルを含めて任意の割合にある、請求項２０に記載の酸性ガス吸収性タブレット。
【請求項２２】
酸性ガス吸収性タブレットを製造するための混合物を作る方法であって、吸着剤および第１の塩基性塩を用意し、該吸着剤および該第１の塩基性塩をブレンドして第１の混合物を生成させ、結合剤および第２の塩基性塩を用意し、該結合剤および該第２の塩基性塩をブレンドして第２の混合物を生成させ、そして該第１の混合物および該第２の混合物をブレンドする工程を含む、混合物を作る方法。
【請求項２３】
第１の塩基性塩および第２の塩基性塩が、ナトリウムおよびカリウムの炭酸塩および重炭酸塩から成る群から選択される、請求項２２に記載の混合物を作る方法。
【請求項２４】
第１の塩基性塩が、ナトリウムおよびカリウムの炭酸塩から成る群から選択され、そして第２の塩基性塩が、ナトリウムおよびカリウムの重炭酸塩から成る群から選択される、請求項２２に記載の混合物を作る方法。
【請求項２５】
吸着剤が、活性炭とシリカゲルの配合物である、請求項２２に記載の混合物を作る方法。
【請求項２６】
第１の塩基性塩および第２の塩基性塩が、ナトリウムおよびカリウムの炭酸塩および重炭酸塩から成る群から選択される、請求項２５に記載の混合物を作る方法。
【請求項２７】
第１の塩基性塩が、ナトリウムおよびカリウムの炭酸塩から成る群から選択され、そして第２の塩基性塩が、ナトリウムおよびカリウムの重炭酸塩から成る群から選択される、請求項２５に記載の混合物を作る方法。
【請求項２８】
配合物が、全部の活性炭または全部のシリカゲルを含めて任意の割合にある、請求項２５に記載の混合物を作る方法。
【請求項２９】
第１の塩基性塩および第２の塩基性塩が、ナトリウムおよびカリウムの炭酸塩および重炭酸塩から成る群から選択される、請求項２８に記載の混合物を作る方法。
【請求項３０】
第１の塩基性塩が、ナトリウムおよびカリウムの炭酸塩から成る群から選択され、そして第２の塩基性塩が、ナトリウムおよびカリウムの重炭酸塩から成る群から選択される、請求項２８に記載の混合物を作る方法。