【手続補正書】
【提出日】平成16年8月19日(2004.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】プラズマディスプレイパネルの製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粉末ガラスと、溶剤と、樹脂とを収納部に収納し、
前記収納部の底面と実質上平行または斜めとなるように前記収納部に配置された板部を実質的に周速４０ｍ／ｓ以上で回転させてペーストを製造し、
前記製造されたペーストをあらかじめ電極パターンが形成されたガラス基板上に塗布し、乾燥および焼成することにより、前記ガラス基板上に透明絶縁膜を製造する、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
前記粉末ガラスの分散粒子径は、実質的に、Ｄ１０が０．４〜０．６μｍであり、Ｄ５０が０．８〜１．２μｍであり、Ｄ９０が１．４〜１．８μｍである請求項１記載の、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
前記粉末ガラスの分散粒子径は、実質的に、Ｄ１０が０．２〜０．８μｍであり、Ｄ５０が１．０〜２．０μｍであり、Ｄ９０が２．５〜４．０μｍである請求項１記載の、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
粉末ガラスと、溶剤と、樹脂とをサンドミル収納部に収納し、
前記サンドミル収納部に配置されたサンドミルを実質的に周速１０ｍ／ｓ以下で運転させてペーストを製造し、
前記製造されたペーストをあらかじめ電極パターンが形成されたガラス基板上に塗布し、乾燥および焼成することにより、前記ガラス基板上に透明絶縁膜を製造する、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】
前記粉末ガラスの分散粒子径は、実質的に、Ｄ１０が０．４〜０．６μｍであり、Ｄ５０が０．８〜１．２μｍであり、Ｄ９０が１．４〜１．８μｍである請求項４記載の、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】
粉末ガラスと、溶剤と、樹脂とを収納部に収納し、
側面に穴またはスリットが設けられ、底面が前記収納部の底面と実質上平行または斜めとなるように前記収納部に配置された円柱部を実質的に周速２０ｍ／ｓ以上で回転させてペーストを製造し、
前記製造されたペーストをあらかじめ電極パターンが形成されたガラス基板上に塗布し、乾燥および焼成することにより、前記ガラス基板上に透明絶縁膜を製造する、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】
前記粉末ガラスの分散粒子径は、実質的に、Ｄ１０が０．２〜０．８μｍであり、Ｄ５０が１．０〜２．０μｍであり、Ｄ９０が２．５〜４．０μｍである請求項６記載の、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】
前記電極パターンを利用して形成された走査電極のｂ値は、実質的に５以下である請求項１から７のいずれか一項に記載の、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項９】
前記粉末ガラスの組成は、実質的に、酸化硼素が２０〜３０ｗｔ％、酸化バリウムが１５〜２０ｗｔ％、酸化アルミニウムが３〜６ｗｔ％である請求項１から８のいずれか一項に記載の、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、たとえば、プラズマディスプレイパネルの製造方法に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、上記従来のこのような課題を考慮し、たとえば、光透過率、ヘイズ、および絶縁耐圧に関する特性がより優れたプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することを目的とするものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
第一の本発明は、粉末ガラスと、溶剤と、樹脂とを収納部に収納し、
前記収納部の底面と実質上平行または斜めとなるように前記収納部に配置された板部を実質的に周速４０ｍ／ｓ以上で回転させてペーストを製造し、
前記製造されたペーストをあらかじめ電極パターンが形成されたガラス基板上に塗布し、乾燥および焼成することにより、前記ガラス基板上に透明絶縁膜を製造する、プラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
第二の本発明は、前記粉末ガラスの分散粒子径は、実質的に、Ｄ１０が０．４〜０．６μｍであり、Ｄ５０が０．８〜１．２μｍであり、Ｄ９０が１．４〜１．８μｍである第一の本発明の、プラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
第三の本発明は、前記粉末ガラスの分散粒子径は、実質的に、Ｄ１０が０．２〜０．８μｍであり、Ｄ５０が１．０〜２．０μｍであり、Ｄ９０が２．５〜４．０μｍである第一の本発明の、プラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
第四の本発明は、粉末ガラスと、溶剤と、樹脂とをサンドミル収納部に収納し、
前記サンドミル収納部に配置されたサンドミルを実質的に周速１０ｍ／ｓ以下で運転させてペーストを製造し、
前記製造されたペーストをあらかじめ電極パターンが形成されたガラス基板上に塗布し、乾燥および焼成することにより、前記ガラス基板上に透明絶縁膜を製造する、プラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
第五の本発明は、前記粉末ガラスの分散粒子径は、実質的に、Ｄ１０が０．４〜０．６μｍであり、Ｄ５０が０．８〜１．２μｍであり、Ｄ９０が１．４〜１．８μｍである第四の本発明の、プラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
第六の本発明は、粉末ガラスと、溶剤と、樹脂とを収納部に収納し、
側面に穴またはスリットが設けられ、底面が前記収納部の底面と実質上平行または斜めとなるように前記収納部に配置された円柱部を実質的に周速２０ｍ／ｓ以上で回転させてペーストを製造し、
前記製造されたペーストをあらかじめ電極パターンが形成されたガラス基板上に塗布し、乾燥および焼成することにより、前記ガラス基板上に透明絶縁膜を製造する、プラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
第七の本発明は、前記粉末ガラスの分散粒子径は、実質的に、Ｄ１０が０．２〜０．８μｍであり、Ｄ５０が１．０〜２．０μｍであり、Ｄ９０が２．５〜４．０μｍである第六の本発明の、プラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
第八の本発明は、前記電極パターンを利用して形成された走査電極のｂ値は、実質的に５以下である第一から第七のいずれかの本発明の、プラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
第九の本発明は、前記粉末ガラスの組成は、実質的に、酸化硼素が２０〜３０ｗｔ％、酸化バリウムが１５〜２０ｗｔ％、酸化アルミニウムが３〜６ｗｔ％である第一から第八のいずれかの本発明の、プラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
また、粉末ガラスは、さらに、酸化鉛、酸化硼素などを含んでいてもよい。なお、従来の透明絶縁膜の材料組成は酸化鉛系ガラスが用いられていた。これは、熱処理時の酸化鉛の流動性が優れており、光透過率や絶縁耐圧が優れた緻密な透明膜が得られやすいということが主な理由である。しかし、環境への影響を考慮し、透明絶縁膜材料も酸化鉛系ガラスから非酸化鉛系ガラスへの転換が要望されており、その候補材料に酸化ビスマスー酸化硼素系ガラス等があるがこの材料は酸化鉛系ガラスよりもさらに、ペースト作製時の粒子破壊による影響が顕著であり、高分散化するために、強分散プロセスを用いて粒子を破壊すると光透過率や絶縁耐圧が大幅に低下してしまう。酸化ビスマスー酸化硼素系ガラスを用いて粒子破壊することなく高分散させた発明のペーストは、光透過率や絶縁耐圧が優れているのみならず、環境負荷も小さいという効果を奏する。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
以下においては、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法にかかる実施の形態について説明する。なお、透明絶縁膜用ペースト、ペースト製造方法、透明絶縁膜製造方法、およびプラズマディスプレイパネルについて説明しながら、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法について説明する。
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０９】
【発明の効果】
以上述べたところから明らかなように、本発明は、たとえば、光透過率、ヘイズ、および絶縁耐圧に関する特性がより優れたプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することができるという長所を有する。