【手続補正書】
【提出日】平成16年5月11日(2004.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
すなわち、本発明の第１の発明によれば、下記の一般式（１）で表されるホウ酸ポリオキシアルキレンエステルを含有することを特徴とするプラスチック成形用機能性薬剤が提供される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
【化３】
2004067780.tif 000001
［式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、それぞれ水素基又は炭化水素基から選択された基であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ０〜３０の整数であり、かつ、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＝６〜８０を満足する。］
炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ドコシル基、フェニル基、トリル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
一般式（１）で表わされるホウ酸ポリオキシアルキレンの具体例としては、下記の化学式（２）〜（２７）にて表わされる化合物が挙げられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
Ｒ１（ＯＣＨ２ＣＨ２）ａ（ＯＣＨ２ＣＨＣＨ３）ｂＯＲ２      （２８）
［式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ水素基又は炭化水素基から選択された基であり、ａ及びｂは、それぞれ０〜３０の整数から選択された数である。］
炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ドコシル基、フェニル基、トリル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
一般式（２８）で表わされるポリオキシアルキレンの具体例としては、下記の化合物が挙げられる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノオクチルエーテル、ジエチレングリコールモノデシルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキサデシルエーテル、ジエチレングリコールモノオクタデシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノオクチルエーテル、トリエチレングリコールモノデシルエーテル、トリエチレングリコールモノヘキサデシルエーテル、トリエチレングリコールモノオクタデシルエーテル
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
テトラエチレングリコールモノメチルエーテル、テトラエチレングリコールモノエチルエーテル、テトラエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノオクチルエーテル、テトラエチレングリコールモノデシルエーテル、テトラエチレングリコールモノヘキサデシルエーテル、テトラエチレングリコールモノオクタデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、テトラエチレングリコールモノエチルエーテル、ポリエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ポリエチレングリコールモノブチルエーテル、ポリエチレングリコールモノオクチルエーテル、ポリエチレングリコールモノデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノヘキサデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノオクタデシルエーテル
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノオクチルエーテル、ジプロピレングリコールモノデシルエーテル、ジプロピレングリコールモノヘキサデシルエーテル、ジプロピレングリコールモノオクタデシルエーテル
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノオクチルエーテル、トリプロピレングリコールモノデシルエーテル、トリプロピレングリコールモノヘキサデシルエーテル、トリプロピレングリコールモノオクタデシルエーテル、テトラプロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノエチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、テトラプロピレングリコールモノブチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノオクチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノデシルエーテル、テトラプロピレングリコールモノヘキサデシルエーテル、テトラプロピレングリコールモノオクタデシルエーテル
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
ポリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレンテトラエチレングリコールモノエチルエーテル、ポリプロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、ポリプロピレングリコールモノブチルエーテル、ポリプロピレングリコールモノオクチルエーテル、ポリプロピレングリコールモノデシルエーテル、ポリプロピレングリコールモノヘキサデシルエーテル、ポリプロピレングリコールモノオクタデシルエーテル
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３１】
合成例１
・化学式（２）のホウ素ポリオキシアルキレンの製造例
窒素置換した７０００ｍｌのコンデンサー付きガラス製三口フラスコにトリエチルボレート（Ｂ（ＯＣ２Ｈ５）３）１４６ｇ（１モル）、ジブチルスズジラウレート１．２ｇ及びベンゼン５００ｍｌを入れた。
次いで、トリプロピレングリコール−トリエチレングリコールモノメチルエーテル９９６ｇ（３モル）を投入しながら攪拌機で速やかに均一に混合した。
次いで、攪拌機で攪拌しながら９５℃の温浴にて１３時間加熱し、副生成物であるエタノールと、ベンゼンを単蒸留操作で留去させながら反応させ、さらに未反応物を除去し化学式（２）のホウ素ポリオキシアルキレン９９４ｇ（０．９９モル）を得た。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３２】
合成例２
・化学式（５）のホウ素ポリオキシアルキレンの製造例
窒素置換した７０００ｍｌのコンデンサー付きガラス製三口フラスコにトリエチルボレート（Ｂ（ＯＣ２Ｈ５）３）１４６ｇ（１モル）、ジブチルスズジラウレート１．２ｇ及びベンゼン５００ｍｌを入れた。
次いで、トリプロピレングリコール−トリエチレングリコールモノメチルエーテル６６４ｇ（２モル）と、トリプロピレングリコール−トリエチレングリコール３２４ｇ（１モル）とを投入しながら攪拌機で速やかに均一に混合した。
次いで、攪拌機で攪拌しながら９５℃の温浴にて１３時間加熱し、副生成物であるエタノールと、ベンゼンを単蒸留操作で留去させながら反応させ、さらに未反応物を除去し化学式（５）のホウ素ポリオキシアルキレン９８０ｇ（０．９９モル）を得た。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３３】
合成例３
・化学式（２３）のホウ素ポリオキシアルキレンの製造例
窒素置換した７０００ｍｌのコンデンサー付きガラス製三口フラスコにトリエチルボレート（Ｂ（ＯＣ２Ｈ５）３）１４６ｇ（１モル）、ジブチルスズジラウレート１．２ｇ及びベンゼン５００ｍｌを入れた。
次いで、ペンタコサエチレングリコールモノメチルエーテル２２６４ｇ（２モル）と、ヘキサデシルアルコール２４２ｇ（１モル）とを投入しながら攪拌機で速やかに均一に混合した。
次いで、攪拌機で攪拌しながら９５℃の温浴にて１３時間加熱し、副生成物であるエタノールと、ベンゼンを単蒸留操作で留去させながら反応させ、さらに未反応物を除去し化学式（２３）のホウ素ポリオキシアルキレン２４７８ｇ（０．９９モル）を得た。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３５】
合成例５
・化学式（１２）のホウ素ポリオキシアルキレンの製造例
窒素置換した７０００ｍｌのコンデンサー付きガラス製三口フラスコにトリエチルボレート（Ｂ（ＯＣ２Ｈ５）３）１４６ｇ（１モル）、ジブチルスズジラウレート１．２ｇ及びベンゼン５００ｍｌを入れた。
次いで、エイコサエチレングリコール１７９６ｇ（２モル）及びエイコサエチレングリコールモノメチルエーテル９１１ｇ（１モル）とを投入しながら攪拌機で速やかに均一に混合した。
次いで、攪拌機で攪拌しながら９５℃の温浴にて１３時間加熱し、副生成物であるエタノールと、ベンゼンを単蒸留操作で留去させながら反応させ、さらに未反応物を除去し化学式（１２）のホウ素ポリオキシアルキレン２６７２ｇ（０．９９モル）を得た。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４１】
実施例３
・粘稠物質付着防止剤（１）の調製及び評価
合成例４で準備した化学式（１９）のホウ酸ポリアルキレングリコール１００重量部、トリエチルアミン１５重量部、エタノール２０重量部及び水２０重量部からなる粘稠物質付着防止剤（１）を調製した。
これを、エアゾールスプレー缶から調理場の排気ダクトの送風機やダクト表面に噴射した。但し、比較のため、５ｃｍ×５ｃｍの面積部分には、非噴射部分を設けた。
噴射後、３０日経過した時、表面を観察したところ、非噴射部分には、粘稠物質が約６ｇ付着していたが、粘稠物質付着防止剤（１）を噴射した部分は、５ｃｍ×５ｃｍの面積当たり約０．８ｇしか付着していなかった。
また、非噴射部分の粘稠物質は、濡れ雑巾で簡単にふき取れず、クレンザーを用いないと除去出来なかったが、粘稠物質付着防止剤（１）を噴射した部分は濡れ雑巾で簡単にふき取れた。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４４】
実施例５
・帯電防止剤（１）の調製
合成例５で準備した化学式（１２）のホウ酸ポリアルキレングリコール５０重量部、合成例３で準備した化学式（２３）のホウ酸ポリアルキレングリコール５０重量部、及びアミノ基含有化合物としてトリエチルアミン１５重量部からなる帯電防止剤（１）を調製した。
・帯電防止剤配合ポリエチレン樹脂組成物（１）の調製
高圧法低密度ポリエチレン（メルトマスフローレート２．０ｇ／１０ｍｉｎ、密度０．９３ｇ／ｍｌ）１００重量部に帯電防止剤（１）０．２重量部を混合し、連続混練押出機（但し、Ｋ．Ｃ．Ｋ社製  ＫＣＫ８０×２−３５ＶＥＸ型）を使用して、シリンダー温度１９０℃にて、帯電防止剤配合ポリエチレン樹脂組成物（１）を製造した。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４６】
比較例３
・帯電防止剤（２）の準備
公知の帯電防止剤（２）としてステアリルアミンの酸化エチレン２モル付加体を準備した。
・帯電防止剤配合ポリエチレン樹脂組成物（２）の調製
高圧法低密度ポリエチレン（メルトマスフローレート２．０ｇ／１０ｍｉｎ、密度０．９３ｇ／ｍｌ）１００重量部に帯電防止剤（２）０．２重量部を混合し、連続混練押出機（但し、Ｋ．Ｃ．Ｋ社製  ＫＣＫ８０×２−３５ＶＥＸ型）を使用して、シリンダー温度１９０℃にて、帯電防止剤配合ポリエチレン樹脂組成物（２）を製造した。