【手続補正書】
【提出日】平成16年2月23日(2004.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空容器内にガスを導入しつつ真空排気して所定の圧力に維持し、真空容器内に配置した電極に対向して設けられたアンテナに高周波電力を印加してプラズマを発生するプラズマ処理方法において、前記アンテナを覆うアンテナカバーとして、石英やアルミナ等のセラミックからなる部材で、かつその表面に凹凸を有しかつ機械加工によるマイクロクラックがないか若しくはマイクロクラックの除去処理を行ったものを用いることを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項２】
アンテナカバーの表面形状を作成する際に、表面形状を作成する金型を用意し、この金型をアンテナカバー構成部材の表面に押し当て、高温に加熱して形状を転写することを特徴とする請求項１記載のプラズマ処理方法。
【請求項３】
アンテナカバーの表面形状を作成する際に、３％以下の濃度のフッ酸を使用しながらバフ研磨することを特徴とする請求項１記載のプラズマ処理方法。
【請求項４】
アンテナカバーの表面形状を作成する際に、ブラスト処理を行った後、１０％以上の濃度のフッ酸を使用して表面処理することを特徴とする請求項１記載のプラズマ処理方法。
【請求項５】
真空容器と、真空容器内を真空排気する排気手段と、真空容器内にガスを導入するガス導入手段と、被処理物を載置する電極と、真空容器内において前記電極に対向して設けられたアンテナとを備えたプラズマ処理装置において、前記アンテナを覆うアンテナカバーを設け、このアンテナカバーを、石英やアルミナ等のセラミックからなり、その表面に凹凸を有しかつ機械加工によるマイクロクラックがないか若しくはマイクロクラックの除去処理を行った部材にて構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項６】
アンテナカバーの表面形状として、所定の高低差を持つ凹凸形状を形成し、かつその凹凸形状の表面にさらに細かい高低差を持つ凹凸形状を形成したことを特徴とする請求項５記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
アンテナカバーの表面形状を、１０〜３０μｍの高低差を持つ凹凸形状とし、かつその凹凸表面にさらに細かい１〜５μｍの高低差を持つ凹凸形状を形成したことを特徴とする請求項６記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
１０〜３０μｍの高低差を持つ凹凸形状を１ｍｍの範囲内に１５〜３０個形成した請求項７記載のプラズマ処理装置。
【請求項９】
１〜５μｍの高低差を持つ凹凸形状は３０〜７０μｍの範囲内に５〜３０個形成した請求項７又は８記載のプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
【課題を解決するための手段】
本発明のプラズマ処理方法は、真空容器内にガスを導入しつつ真空排気して所定の圧力に維持し、真空容器内に配置した電極に対向して設けられたアンテナに高周波電力を印加してプラズマを発生するプラズマ処理方法において、前記アンテナを覆うアンテナカバーとして、石英やアルミナ等のセラミックからなる部材で、かつその表面に凹凸を有しかつ機械加工によるマイクロクラックがないか若しくはマイクロクラックの除去処理を行ったものを用いるものであり、表面の凹凸によりデポの高い密着力が得られてデポの剥離によるダストを生じず、またマイクロクラックの剥離によるダストを生じず、ダストのない清浄な雰囲気での処理を実現できて微細加工デバイスの歩留りを向上できる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、アンテナカバーの表面形状を作成する際に、表面形状を作成する金型を用意し、この金型をアンテナカバー構成部材の表面に押し当て、高温に加熱して形状を転写すると、マイクロクラックのない表面形状の構成部材を得ることができ、上記効果が確実に得ることができ、特に石英からなるアンテナカバー構成部材に形状を転写すると、アンテナカバー構成部材が石英からなる場合に適用できて、特に効果的である。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、アンテナカバーの表面形状を作成する際に、３％以下の濃度のフッ酸を使用しながらバフ研磨すると、マイクロクラックを確実に除去して上記効果を奏することができる。また、アンテナカバーの表面形状を作成する際に、ブラスト処理を行った後、１０％以上の濃度のフッ酸を使用して表面処理すると、所要範囲内に所定の高低差を持つ凹凸形状を形成し、かつその凹凸形状の表面にさらに細かい凹凸形状を形成することができ、マイクロクラックがなく、かつ表面の凹凸によりデポの高い密着力が得られ、さらに高い効果を奏することができる。これらは、アンテナカバー構成部材が、アルミナ、石英等のセラミックからなる場合には特に効果を発揮する。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
また、本発明のプラズマ処理装置は、真空容器と、真空容器内を真空排気する排気手段と、真空容器内にガスを導入するガス導入手段と、被処理物を載置する電極と、真空容器内において前記電極に対向して設けられたアンテナとを備えたプラズマ処理装置において、前記アンテナを覆うアンテナカバーを設け、このアンテナカバーを、石英やアルミナ等のセラミックからなり、その表面に凹凸を有しかつ機械加工によるマイクロクラックがないか若しくはマイクロクラックの除去処理を行った部材にて構成したものであり、表面の凹凸によりデポの高い密着力が得られてデポの剥離によるダストを生じず、またマイクロクラックの剥離によるダストを生じず、ダストのない清浄な雰囲気での処理を実現できて微細加工デバイスの歩留りを向上できる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、アンテナカバーの表面形状として、所定の高低差を持つ凹凸形状を形成し、かつその凹凸形状の表面にさらに細かい高低差を持つ凹凸形状を形成すると、表面に高い密度で凹凸が存在することで、安定したデポの密着度が得られ、さらにダストのない清浄な雰囲気での処理を実現できて微細加工デバイスの歩留りを向上できる。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
さらに、アンテナカバーの表面形状を、１０〜３０μｍの高低差を持つ凹凸形状（１ｍｍの範囲内に１５〜３０個形成すると好適である。）とし、かつその凹凸表面にさらに細かい１〜５μｍの高低差を持つ凹凸形状（３０〜７０μｍの範囲内に５〜３０個形成すると好適である。）を形成すると、さらに高い効果を得ることができる。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
【発明の効果】
本発明のプラズマ処理方法及び装置によれば、以上のように真空容器内のアンテナカバーの表面形状、表面処理、洗浄方法を最適化することにより、アンテナカバー表面より発生するダスト、及びデポの剥離によるダストの発生を抑制することができ、デバイスパターンの微細化によりダストの対象粒径がより小さくなっても、清浄な雰囲気での処理を確保してデバイスの歩留りを向上できるとともに装置のダウンタイムを短縮することができる。