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【手続補正書】
【提出日】平成16年8月6日(2004.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチックを 150℃以上の温度で加熱処理した後、低沸点成分を除去し、冷却、固化することを特徴とするプラスチックの処理方法。
【請求項２】
プラスチックを 150℃以上の温度で加熱処理した後、低沸点成分を除去し、冷却、固化した後、粉砕を施すことを特徴とするプラスチックの処理方法。
【請求項３】
低沸点成分を除去して得られた処理物を、低沸点成分除去時の処理温度から冷却開始後10分以内に100 ℃以下に冷却、固化することを特徴とする請求項１または２記載のプラスチックの処理方法。
【請求項４】
前記プラスチックが、二種類以上のプラスチックを含む混合物であることを特徴とする請求項１〜３いずれかに記載のプラスチックの処理方法。
【請求項５】
前記二種類以上のプラスチックを含む混合物が、廃プラスチックおよび／または容器包装材料であることを特徴とする請求項４に記載のプラスチックの処理方法。
【請求項６】
前記プラスチックが、塩素含有プラスチックおよび該塩素含有プラスチックとは異なる他の１種類以上のプラスチックを含む混合物であることを特徴とする請求項１〜５いずれかに記載のプラスチックの処理方法。
【請求項７】
前記プラスチックが、塩素含有プラスチックであることを特徴とする請求項１〜３いずれかに記載のプラスチックの処理方法。
【請求項８】
プラスチックを 150℃以上の温度で加熱処理した後、および／または低沸点成分を除去した後、処理物中の不溶分を除去し、その後、冷却、固化することを特徴とする請求項１〜７いずれかに記載のプラスチックの処理方法。
【請求項９】
請求項１〜８いずれかに記載のプラスチックの処理方法で得られたプラスチック処理物である固体燃料。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれかに記載のプラスチックの処理方法で得られたプラスチック処理物である鉱石用還元剤。
【請求項１１】
プラスチックを 150℃以上の温度で加熱処理する熱処理工程と、低沸点成分を除去する低沸点成分の除去工程と、冷却し、固化したプラスチック処理物の塊を得る冷却・固化工程を順次施すことを特徴とするプラスチック処理物の製造方法。
【請求項１２】
前記冷却・固化工程が、前記低沸点成分除去後の処理物を低沸点成分の除去工程の処理温度から冷却開始後10分以内に100 ℃以下に冷却し、固化したプラスチック処理物の塊を得る工程であることを特徴とする請求項11に記載のプラスチック処理物の製造方法。
【請求項１３】
前記熱処理工程後および／または前記低沸点成分の除去工程後に不溶分を除去する不溶分の除去工程を施すことを特徴とする請求項11又は12に記載のプラスチック処理物の製造方法。
【請求項１４】
前記プラスチックが、二種以上の異種のプラスチック混合物であることを特徴とする請求項11〜13のいずれかに記載のプラスチック処理物の製造方法。
【請求項１５】
前記二種以上の異種のプラスチック混合物が廃プラスチックおよび／または容器包装材料であることを特徴とする請求項14に記載のプラスチック処理物の製造方法。
【請求項１６】
前記冷却・固化工程に続き、前記プラスチック処理物の塊を所定の大きさに粉砕する粉砕工程を施すことを特徴とする請求項11〜15のいずれかに記載のプラスチック処理物の製造方法。
【請求項１７】
前記粉砕工程を施し、鉱石用還元剤又は固体燃料とすることを特徴とする請求項16に記載のプラスチック処理物の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
前記した第１の発明、第２の発明においては、低沸点成分を除去して得られた処理物を、低沸点成分除去時の処理温度から冷却開始後10分以内に100 ℃以下に冷却、固化することが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、前記した第１の発明、第２の発明においては、前記プラスチックが、二種類以上のプラスチックを含む混合物であることが、より好ましい。また、前記二種類以上のプラスチックを含む混合物が、廃プラスチックおよび／または容器包装材料であることがより好ましい。
さらには、前記した第１の発明、第２の発明においては、前記プラスチックが、塩素含有プラスチックおよび該塩素含有プラスチックとは異なる他の１種類以上のプラスチックを含む混合物であることが、より好ましい。
また、前記した第１の発明、第２の発明においては、前記プラスチックが、塩素含有プラスチックであることが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
第３の発明は、前記した第１の発明、第２の発明のプラスチックの処理方法で得られたプラスチック処理物である固体燃料である。
第４の発明は、前記した第１の発明、第２の発明のプラスチックの処理方法で得られたプラスチック処理物である鉱石用還元剤である。
第５の発明は、プラスチックを 150℃以上の温度で加熱処理する熱処理工程と、低沸点成分を除去する低沸点成分の除去工程と、冷却し、固化したプラスチック処理物の塊を得る冷却・固化工程を順次施すことを特徴とするプラスチック処理物の製造方法である。
また、前記した第５の発明においては、前記前記冷却・固化工程が、前記低沸点成分除去後の処理物を低沸点成分の除去工程の処理温度から冷却開始後10分以内に100 ℃以下に冷却し、固化したプラスチック処理物の塊を得る工程であることが好ましい。
また、前記した第５の発明においては、前記熱処理工程後および／または前記低沸点成分の除去工程後に不溶分を除去する不溶分の除去工程を施すことが好ましい。
また、前記した第５の発明においては、前記プラスチックが、二種以上の異種のプラスチック混合物であることが好ましく、さらに、前記二種以上の異種のプラスチック混合物が廃プラスチックおよび／または容器包装材料であることが好ましい。
また、前記した第５の発明においては、前記冷却・固化工程に続き前記プラスチック処理物の塊を所定の大きさに粉砕する粉砕工程を施すことが好ましい。
また、第５の発明においては、前記プラスチック処理物の塊を所定の大きさに粉砕する前記粉砕工程を施し、鉱石用還元剤又は固体燃料とすることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月7日(2004.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
このピストンの摺動も、高粘度物の排出と連動して、一定時間を経過しながら行われる
ものとなる。従って、高粘度物が排出されている間は、ピストンの下端部が第１シリンダ
ー内に配置しているので、この下端部が第１シリンダーの内周に密着して、エアゾール内
容物の流通経路を塞いでいる。そのため、エアゾール内容物の外部への噴出は起こらず、
押釦の操作者は、このエアゾール内容物の噴出前の一定時間内に室外に退去する事ができ
る。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
その退去した後に、高粘度物が排出されて、ピストンの上端部は収納室への挿入を完了
するので、ピストンの下端部の第２シリンダー側への移動も終了する。この第２シリンダ
ーの内径は、第１シリンダーの内径よりも径大に形成しているので、ピストン下端部の外
周面と第２シリンダーの内周面との間には、一定の連通間隔が形成される。この連通間隔
を介して、第１シリンダーと噴出ノズルとが連通しているので、第１シリンダー内のエア
ゾール内容物は、この連通間隔を通過した後、噴出ノズルから室内に連続的に噴出するも
のとなる。また、この一定時間の経過後は、ピストンの下端部が第２シリンダー内に常に
位置しているので、以後のエアゾール内容物の噴射に何ら支障を生じる事がない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
また、第２シリンダー(１４)は、第１シリンダー(１３)よりも径大に形成している。そ
のため、エアゾール内容物の噴射圧力でピストン(１６)の下端部(１７)が、第２シリンダ
ー(１４)内に移動した状態で、この第２シリンダー(１４)の内周とピストン(１６)の下端
部(１７)の外周面との間に、エアゾール内容物の連通間隔(２３)を形成可能となる。する
と、この連通間隔(２３)及び噴出路(２７)を介して、第１シリンダー(１３)と、押釦(８)
の上端に設けた噴射ノズル(２４)とが連通する。また、この第２シリンダー(１４)側への
ピストン(１６)の摺動に伴って、収納室(２１)内にピストン(１６)の上端部(１８)を深く
挿入するものとなる。この挿入により、上端部(１８)は、収納室(２１)の高粘度物(２０)
を、排出孔(２２)を介して回収部(２５)側に押し出し可能としている。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月23日(2004.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザービームを被加工物上の加工位置に導くと共に、前記レーザービームを集束して加工位置に照射することにより、被加工物に穴開け加工するレーザー加工方法において、
前記被加工物に設定された複数の加工位置に対して、レーザービームを順次走査することで穴開け加工をし、次いで再度レーザービームを前記複数の加工位置に対して順次走査することで第２回走査以降の穴開け加工をし、各加工位置での穴開け加工を完成することを特徴とするレーザー加工方法。
【請求項２】
各回の走査による穴開け加工を行うのに要する時間が、１０ｍｓ以上である請求項１記載のレーザー加工方法。
【請求項３】
レーザービームを出射するレーザー発振器と、前記レーザービームを分岐する分岐手段と、前記分岐手段により分岐された各レーザービームをそれぞれ被加工物上の加工位置に導く集束手段と、前記集束手段により集束したレーザービームを走査する走査手段とを有するレーザー加工装置において、
前記分岐手段で分岐された各レーザービームの分岐点から走査手段を経て集束手段により集束された集束点までの光路長が同一距離になるように光路を構成したことを特徴とするレーザー加工装置。
【請求項４】
レーザービームを出射するレーザー発振器と、前記レーザービームを分岐する分岐手段と、前記分岐手段により分岐された各レーザービームをそれぞれ被加工物上の加工位置に導く集束手段と、前記集束手段により集束したレーザービームを走査する走査手段とを有するレーザー加工装置において、
前記走査手段及び集束手段を一体的に保持して構成された２つのレーザー照射部が、互いのレーザー照射領域が隣接する配設間隔となるように、それぞれの保持機構が各レーザー照射部を片持ち支持すると共に、各保持機構の片持ち支持部位が互いに外側に位置するように配置されてなることを特徴とするレーザー加工装置。
【請求項５】
分岐された各レーザービームによりそれぞれ異なる加工パターンを加工したとき、先に加工が終了した側のレーザービームを被加工物より上流側に配設した遮蔽板に照射させるレーザービーム遮蔽手段を設けた請求項３または４記載のレーザー加工装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本願の第１発明は、レーザービームを被加工物上の加工位置に導くと共に、前記レーザービームを集束して加工位置に照射することにより、被加工物に穴開け加工するレーザー加工方法において、前記被加工物に設定された複数の加工位置に対して、レーザービームを順次走査することで穴開け加工をし、次いで再度レーザービームを前記複数の加工位置に対して順次走査することで第２回走査以降の穴開け加工をし、各加工位置での穴開け加工を完成することを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本願の第２発明は、レーザービームを出射するレーザー発振器と、前記レーザービームを分岐する分岐手段と、前記分岐手段により分岐された各レーザービームをそれぞれ被加工物上の加工位置に導く集束手段と、前記集束手段により集束したレーザービームを走査する走査手段とを有するレーザー加工装置において、前記分岐手段で分岐された各レーザービームの分岐点から走査手段を経て集束手段により集束された集束点までの光路長が同一距離になるように光路を構成したことを特徴とする。なお本願の第２発明の装置を用いて、分岐された各レーザービームにより請求項１に記載される穴開け加工を行うことが好ましい。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本願の第３発明は、レーザービームを出射するレーザー発振器と、前記レーザービームを分岐する分岐手段と、前記分岐手段により分岐された各レーザービームをそれぞれ被加工物上の加工位置に導く集束手段と、前記集束手段により集束したレーザービームを走査する走査手段とを有するレーザー加工装置において、前記走査手段及び集束手段を一体的に保持して構成された２つのレーザー照射部が、互いのレーザー照射領域が隣接する配設間隔となるように、それぞれの保持機構が各レーザー照射部を片持ち支持すると共に、各保持機構の片持ち支持部位が互いに外側に位置するように配置されてなることを特徴とする。なお本願の第３発明の装置を用いて、２つのレーザー照射部により請求項１に記載される穴開け加工を行うことが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月27日(2004.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
カーボン膜の成膜系内の０．５μｍパーティクル量を１０００個ｆｔ3／ｍｉｎ以下とする方法には特に限定はないが、例えば、カーボン膜の成膜プロセスの開始に先立ち、成膜装置のチャンバ内部を発塵量が３０００個ｆｔ3／ｍｉｎ以下、特に１０００個ｆｔ3／ｍｉｎ以下、中でも特に３００個ｆｔ3／ｍｉｎ以下の布で清掃し、チャンバ壁面等に付着しているパーティクル等、成膜系内のダストを取り除く方法が例示される。さらに、この清掃後に、成膜系内をポンプ等で吸引し、成膜系内に浮遊しているダストを除去すると、より好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
スパッタリングでは、カソードにスパッタリングするターゲット材を配置し、カソードを負電位にすると共に、ターゲット材の表面にプラズマを発生させることにより、ターゲット材（その原子）を弾き出して、対向して配置した基板の表面に付着させ、堆積することにより成膜する。
第１スパッタリング手段５６および第２スパッタリング手段５８は、共に、スパッタリングによって基板表面に成膜を行うものであり、第１スパッタリング手段５６は、カソード６８、ターゲット材７０の配置部、シャッタ７２および高周波（ＲＦ）電源７４等を有して構成され、他方、第２スパッタリング手段５８は、カソード７６、ターゲット材７０の配置部、シャッタ７８および直流電源８０等を有して構成される。
上記構成より明らかなように、第１スパッタリング手段５６と第２スパッタリング手段５８は、配置位置および電源が異なる以外は基本的に同じ構成を有するので、以下の説明は、異なる部分以外は、第１スパッタリング手段５６を代表例として行う。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
［比較例］
カーボン保護膜２４を成膜する前の真空チャンバ５２内壁面の清掃を発塵量３０００個ｆｔ3／ｍｉｎの布を用いて行った以外、および布による清掃を行わずに真空掃除器によって吸い取りのみを行った以外は、前記実施例と同様にして、下層保護膜２０、中間層２２およびカーボン保護膜２４の３層構成の保護膜を有するサーマルヘッド１０を作製した。
なお、実施例と同様に、排気掃除器によるパーティクル排出後の真空チャンバ５２内部の０．５μｍパーティクル量を測定したところ、５０００個ｆｔ3／ｍｉｎの布を用いた例では５０００個ｆｔ3／ｍｉｎ、真空掃除器によるパーティクル排除のみの例では８０００個ｆｔ3／ｍｉｎであった。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月3日(2004.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
第１研磨部３４ａ（第２研磨部３４ｂ、第３研磨部３４ｃ）は、基本的に、押圧手段３６と、テープＴの走行手段３８とを有して構成される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
押圧手段３６は、テープＴを案内する、頂点を下方とする三角形状に配置されている３つのガイドローラ３６ａ、３６ｂおよび３６ｃを、下部に有する。
押圧手段３６は、図示しない昇降手段を有するもので、通常は上方に移動しており、サーマルヘッド１０を保持するパレット３２が所定位置に搬送されると、昇降手段によって下方に移動され、加工位置においてテープＴをサーマルヘッド１０に押圧する。
図示例においては、一例として、押圧手段３６は鉛直方向に昇降するので、従って、加工位置は、ガイドローラ３６ｂの下方となる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
次いで、パレット３２は、図中右方向に移動して、図２中ｂで示される、第２研磨部３４ｂに対応する位置に至り、ここから、第１研磨部３４ａによる処理の際と逆方向（図２下方向）の、テープＴの走行方向と直交する方向に搬送され、図２中ｃで示される位置に搬送される。この搬送の際に、サーマルヘッド１０は、先と同様にして、第２研磨部３４ｂの加工位置において♯８０００のテープＴによって研磨処理される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
サーマルヘッド１０ａの研磨処理が終了すると、押圧ローラ７２が上昇して、再度、搬送手段によってパレット６２が搬送され、次のサーマルヘッド１０ｂが加工位置に来た時点で停止する（図４に示される状態）。サーマルヘッド１０ｂの位置が確認されると、押圧ローラ７２が下降してサーマルヘッド１０ｂの研磨処理を行う。
この研磨処理が終了すると、以下、同様にして、押圧ローラ７２が上昇し、次のサーマルヘッド１０ｃが加工位置に搬送されて研磨処理され、さらに、同様にサーマルヘッド１０ｄおよび１０ｅの研磨処理が行われる。
全てのサーマルヘッド１０の研磨処理が終了すると、パレット６２は、搬送手段によって、次工程やラッピング装置６０の外部に搬送される。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月3日(2004.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
すなわち、本発明のサーマルヘッド１０は、蓄熱層１６が形成された領域を超えて基板１２上にプラス電極層１８とマイナス電極層２０が直接形成された領域をつなぐことなく、下層保護膜２２の上にカーボン保護膜２４を形成することにより、下層保護膜２２にピンホールが形成されても、プラス電極層１８上のピンホールとマイナス電極層２０上のピンホールとがカーボン保護膜２４で接続されることがない。
従って、本発明のサーマルヘッド１０は、前述のプラス電極層１８側の下層保護膜２２のピンホールからカーボン保護膜２４に至り、カーボン保護膜２４を通過して、マイナス電極層２０側の下層保護膜２２のピンホールからマイナス電極層２０に流れる、異常電流の発生を防止して、これに起因する電極層の破壊や駆動ＩＣ等の各種の素子への悪影響をなくし、長期にわたって高い信頼性を有するサーマルヘッドを実現することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
スパッタリングでは、カソードにスパッタリングするターゲット材を配置し、カソードを負電位にすると共に、ターゲット材の表面にプラズマを発生させることにより、ターゲット材（その原子）を弾き出して、対向して配置した基板の表面に付着させ、堆積することにより成膜する。
第１スパッタリング手段５６および第２スパッタリング手段５８は、共に、スパッタリングによって基板表面に成膜を行うものであり、第１スパッタリング手段５６は、カソード６８、ターゲット材７０の配置部、シャッタ７２および高周波（ＲＦ）電源７４等を有して構成され、他方、第２スパッタリング手段５８は、カソード７６、ターゲット材７０の配置部、シャッタ７８および直流電源８０等を有して構成される。
上記構成より明らかなように、第１スパッタリング手段５６と第２スパッタリング手段５８は、配置位置および電源が異なる以外は基本的に同じ構成を有するので、以下の説明は、異なる部分以外は、第１スパッタリング手段５６を代表例として行う。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
第２スパッタリング手段５８において、ターゲット材７０の表面にプラズマを発生する際には、直流電源８０のマイナス側を直接カソード７６に接続し、スパッタリングのための電圧を印加する。
両電源の出力や性能には特に限定はなく、目的とする成膜に必要にして十分な性能を有するものを選択すればよい。例えば、カーボン保護膜２４の形成を行う装置であれば、最高出力１０ｋｗの負電位の直流電源を用い、変調器によって２ｋＨｚ〜１００ｋＨｚでパルス状に変調できるように構成した直流電源を用いればよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
図示例の成膜装置５０は、マイクロ波とＥＣＲ磁場とによってプラズマを発生させる、マイクロＥＣＲ波放電を利用するプラズマＣＶＤでカーボン保護膜２４等の成膜を行うものであり、プラズマ発生手段６０は、マイクロ波電源８６、磁石８８、マイクロ波導波管９０、同軸変調器９２、誘電体板９４、放射状アンテナ９６等を有して構成される。
マイクロ波電源８６は、カーボン保護膜２４等の成膜に必要にして十分な出力を有するものを適宜選択すればよい。また、ＥＣＲ磁場発生用の磁石８８としては、所望の磁場を形成できる永久磁石や電磁石を適宜用いればよい。真空チャンバ５２内へのマイクロ波の導入は、マイクロ波導波管９０、同軸変調器９２、誘電体板９４等を用いて行われる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月9日(2004.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ドデシルベンゼンスルホン酸リチウム塩を０．０２〜２重量％含有するポリエステルフィルムの少なくとも片面に、ガラス転移温度が、−２０℃以上、６０℃未満であるポリエステル樹脂を構成成分とする積層膜が設けられてなることを特徴とする積層ポリエステルフィルム。
【請求項２】
積層膜において、ガラス転移温度が、−２０℃以上、６０℃未満のポリエステル樹脂（Ａ）と、ガラス転移温度が、６０℃以上、１１０℃以下のポリエステル樹脂（Ｂ）の混合物を主たる構成成分としてなり、かつ、ポリエステル樹脂（Ａ）とポリエステル樹脂（Ｂ）の固形分重量比が、１５／８５〜９０／１０であることを特徴とする請求項１に記載の積層ポリエステルフィルム。
【請求項３】
ポリエステル樹脂（Ａ）、あるいは、ポリエステル樹脂（Ｂ）の少なくとも一つが、スルホン酸塩基を含有する化合物を、該ポリエステル樹脂の酸成分に対し、０．４〜３０モル％共重合されてなることを特徴とする請求項１または２に記載の積層ポリエステルフィルム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月21日(2005.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
上記通孔３９の内側にその先端部を内嵌し、結合ピン４１により上記トラニオン６と結合固定した、円管状の駆動ロッド２９ａの先端部で、この結合ピン４１を挿通した部分よりもこの駆動ロッド２９ａの中央に寄った部分（図１の左寄り部分）に、この駆動ロッド２９ａの内外両周面同士を連通させる連通孔４２を形成している。又、この駆動ロッド２９ａの先端部外周面で上記通孔３９の内周面の軸方向中間部と対向する部分に小径部４８を形成し、この小径部４８の外周面と上記通孔３９の中間部内周面との間に、軸方向両端部が塞がれた、円筒状の空間３７を形成している。そして、この空間３７により、上記連通孔４２よりも上記駆動ロッド２９ａの先端寄り部分に存在する、上記第二の給油孔３４ａの上流端開口と、上記連通孔４２とを互いに連通させている。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月28日(2005.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
不動態処理表面層を有するステンレス鋼製物品であって、該不動態処理表面層が、実質的に、Ｃｒ２Ｏ３およびＦｅ２Ｏ３を有する酸化物成分と、ゼロ価のＦｅとゼロ価のＣｒを有する金属成分とでなり、該金属成分に対する該酸化物成分の比が８：１を超えている不動態表面層である、ステンレス鋼製物品。
【請求項２】
前記ステンレス鋼が、オーステナイト系ステンレス鋼である、請求項１に記載のステンレス鋼製物品。
【請求項３】
前記ステンレス鋼が、ＡＩＳＩ−３１６に規定されたステンレス鋼である、請求項２に記載のステンレス鋼製物品。
【請求項４】
前記不動態処理層の露出面の全Ｃｒ：Ｆｅ比が少なくとも１：１である、請求項１に記載のステンレス鋼製物品。
【請求項５】
前記不動態処理層の最大酸素濃度を示す深さにおける全Ｃｒ：Ｆｅ比が少なくとも１．５：１である、請求項１に記載のステンレス鋼製物品。
【請求項６】
電解研磨された内側面に不動態処理表面層を有するステンレス鋼鋼管であって、該不動態処理表面層が、実質的に、Ｃｒ２Ｏ３およびＦｅ２Ｏ３を有する酸化物成分と、ゼロ価のＦｅとゼロ価のＣｒを有する金属成分とでなり、酸化物成分の金属成分に対する比が８：１を超えている、ステンレス鋼鋼管。
【請求項７】
前記ステンレス鋼が、オーステナイト系ステンレス鋼である、請求項６に記載のステンレス鋼鋼管。
【請求項８】
前記ステンレス鋼が、ＡＩＳＩ−３１６Ｌに規定されたステンレス鋼である、請求項７に記載のステンレス鋼鋼管。
【請求項９】
機械的に研磨された表面に不動態処理表面層を有するステンレス鋼製物品であって、該不動態表面層が、実質的に、Ｃｒ２Ｏ３およびＦｅ２Ｏ３を有する酸化物成分と、ゼロ価のＦｅとゼロ価のＣｒを有する金属成分とでなり、酸化物成分の金属成分に対する比が８：１を超えている、ステンレス鋼製物品。
【請求項１０】
前記ステンレス鋼が、オーステナイト系ステンレス鋼である、請求項９に記載のステンレス鋼製物品。
【請求項１１】
前記ステンレス鋼が、ＡＩＳＩ−３１６に規定されたステンレス鋼である、請求項１０に記載のステンレス鋼製物品。
【請求項１２】
前記不動態処理層の露出面の全Ｃｒ：Ｆｅ比が少なくとも１：１である、請求項９に記載のステンレス鋼製物品。
【請求項１３】
前記不動態処理層の最大酸素濃度を示す深さにおける全Ｃｒ：Ｆｅ比が少なくとも１．５：１である、請求項９に記載のステンレス鋼製物品。
【請求項１４】
前記不動態処理層の露出面の全Ｃｒ：Ｆｅ比が少なくとも１：１である、請求項６に記載のステンレス鋼鋼管。
【請求項１５】
前記不動態処理層の最大酸素濃度を示す深さにおける全Ｃｒ：Ｆｅ比が少なくとも１．５：１である、請求項６に記載のステンレス鋼鋼管。
【請求項１６】
機械的に研磨された内周面に不動態処理表面層を有するステンレス鋼鋼管であって、該不動態処理表面層が、実質的に、Ｃｒ２Ｏ３およびＦｅ２Ｏ３を有する酸化物成分と、ゼロ価のＦｅとゼロ価のＣｒを有する金属成分とでなり、酸化物成分の金属成分に対する比が８：１を超えている、ステンレス鋼鋼管。
【請求項１７】
前記ステンレス鋼が、オーステナイト系ステンレス鋼である、請求項１６に記載のステンレス鋼鋼管。
【請求項１８】
前記ステンレス鋼が、ＡＩＳＩ−３１６に規定されたステンレス鋼である、請求項１７に記載のステンレス鋼鋼管。
【請求項１９】
前記不動態処理層の露出面の全Ｃｒ：Ｆｅ比が少なくとも１：１である、請求項１６に記載のステンレス鋼鋼管。
【請求項２０】
前記不動態処理層の最大酸素濃度を示す深さにおける全Ｃｒ：Ｆｅ比が少なくとも１．５：１である、請求項１６に記載のステンレス鋼鋼管。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月22日(2004.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明で使用する高融点バインダ繊維は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）の方法で測定した融点が１５０℃以上であることが好ましい。この場合１５０℃未満であると十分な耐熱性のある紙状物が得られない問題を生ずるので好ましくない。具体的にはポリパラフェニレンスルフィド繊維、全芳香族ポリエステル繊維、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体繊維等が本発明に適用できる。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
〔試料作成に用いた湿式抄紙法〕
１０リットルの水を入れたポリバケツ中に往復回転式アジテーターの羽根を入れ攪拌し、この中に、上記フィブリル化した耐熱性の主体繊維１００％、あるいは上記フィブリル化した耐熱性の主体繊維９０％と高融点バインダ繊維１０％の配合率になるように秤量した原料繊維８ｇを投入し、３分間混合攪拌し分散した。その後、合成粘剤（ダイヤフロック社製  商品名：ＡＣＲＹＰＥＲＳＥ）を原料繊維に対して、１１重量％添加し、更に２分間攪拌して抄造用原料液を調製した。この分散液から規定量を採取し、ＴＡＰＰＩに規定する標準手漉き装置を用いて、湿紙を作成した。その後、プレス脱水を行い、１３０℃に加熱調整したヤンキー式ドライヤーを用いて、湿紙の乾燥を行い、坪量約６０ｇ／ｍ２  の一次シートを得た。なお、実施例１７，１８，１９，２０，２１，２２，２３，２４は、耐熱性の主体繊維として、フィブリル化した繊維とフィブリル化しない繊維とを混合して使用した。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月3日(2005.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】繊維断面が海島構造を有し、該島成分が結晶性ポリエステル（Ａ）、該海成分が抽出可能な樹脂（Ｂ）からなる分散媒成分中に結晶性樹脂（Ｃ）からなる分散成分とブロック共重合体（Ｄ）からなる分散成分が存在している混合体から構成され、かつ下記条件（１）〜（５）
（１）結晶性樹脂（Ｃ）が結晶性ポリエステル又は結晶性ポリアミドであること、（２）ブロック共重合体（Ｄ）が、芳香族ポリエステルからなるハードブロックと、脂肪族ポリエーテル、脂肪族ポリエステル、脂肪族ポリカーボネート、脂肪族ポリエーテルエステル、脂肪族ポリエステルカーボネートの少なくとも１つからなるソフトブロックからなること、（３）該繊維中における結晶性ポリエステル（Ａ）／［結晶性樹脂（Ｃ）とブロック共重合体（Ｄ）の合計］の比が９０／１０〜４０／６０（重量比）であること、繊維断面における結晶性ポリエステル（Ａ）からなる島の数が5以上であり、かつ個々の島の太さが０．００５〜０．５デニールであること、（５）繊維断面における結晶性樹脂（Ｃ）からなる島の数とブロック共重合体（Ｄ）からなる島の数の合計が２5以上であり、かつ結晶性ポリエステル（Ａ）からなる島の数の5倍以上であること、を満たしている多成分系繊維。
【請求項２】請求項１記載の多成分系繊維から不織布を形成し、得られた不織布から該多成分系繊維中の樹脂（Ｂ）を抽出除去し、そして該不織布表面を毛羽立てるか、または該不織布表面に樹脂層を形成することからなる皮革様シートの製造方法。
【請求項３】結晶性ポリエステル（Ａ）からなる極細繊維および結晶性樹脂（Ｃ）からなる超極細繊維とブロック共重合体（Ｄ）からなる超極細繊維から構成された繊維束からなる皮革様シートであって、該繊維束が以下の条件（１）〜（５）、（１）結晶性樹脂（Ｃ）が結晶性ポリエステル又は結晶性ポリアミドであること、（２）ブロック共重合体（Ｄ）が、芳香族ポリエステルからなるハードブロックと、脂肪族ポリエーテル、脂肪族ポリエステル、脂肪族ポリカーボネート、脂肪族ポリエーテルエステル、脂肪族ポリエステルカーボネートの少なくとも１つからなるソフトブロックからなること、（３）繊維束断面における結晶性ポリエステル（Ａ）／［結晶性樹脂（Ｃ）とブロック共重合体（Ｄ）の合計］の比が９０／１０〜４０／６０（重量比）であること、（４）繊維束断面における結晶性ポリエステル（Ａ）からなる極細繊維の本数が5本以上であり、かつ個々の極細繊維の太さが０．００５〜０．５デニールであること、（５）繊維束断面における結晶性樹脂（Ｃ）からなる超極細繊維とブロック共重合体（Ｄ）からなる超極細繊維の合計が２5本以上であり、かつ結晶性ポリエステル（Ａ）からなる極細繊維の本数の5倍以上であること、を満足していることを特徴とする皮革様シート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
すなわち本発明は、このような方法に用いられる特定の繊維に関するものであり、つまり、繊維断面が海島構造を有し、該島成分が結晶性ポリエステル（Ａ）、該海成分が抽出可能な樹脂（Ｂ）からなる分散媒成分中に結晶性樹脂（Ｃ）とブロック共重合体（Ｄ）の２成分からなる分散成分が存在している混合体から構成され、かつ下記条件（１）〜（５）
（１）結晶性樹脂（Ｃ）が結晶性ポリエステル又は結晶性ポリアミドであること、（２）ブロック共重合体（Ｄ）が、芳香族ポリエステルからなるハードブロックと、脂肪族ポリエーテル、脂肪族ポリエステル、脂肪族ポリカーボネート、脂肪族ポリエーテルエステル、脂肪族ポリエステルカーボネートの少なくとも１つからなるソフトブロックからなること、（３）該繊維中における結晶性ポリエステル（Ａ）／［結晶性樹脂（Ｃ）とブロック共重合体（Ｄ）の合計］の比が９０／１０〜４０／６０（重量比）であること、（４）繊維断面における結晶性ポリエステル（Ａ）からなる島の数が5以上であり、かつ個々の島の太さが０．００５〜０．５デニールであること、（５）繊維断面における結晶性樹脂（Ｃ）からなる島の数とブロック共重合体（Ｄ）からなる島の数の合計が２5以上であり、かつ結晶性ポリエステル（Ａ）からなる島の数の5倍以上であること、を満たしている多成分系繊維である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
さらに本発明は、このような方法により製造された皮革様シートに関するものであり、つまり、結晶性ポリエステル（Ａ）からなる極細繊維および結晶性樹脂（Ｃ）とブロック共重合体（Ｄ）からなる超極細繊維で構成された繊維束からなる皮革様シートであって、該繊維束が以下の条件（１）〜（５）、（１）結晶性樹脂（Ｃ）が結晶性ポリエステル又は結晶性ポリアミドであること、（２）ブロック共重合体（Ｄ）が、芳香族ポリエステルからなるハードブロックと、脂肪族ポリエーテル、脂肪族ポリエステル、脂肪族ポリカーボネート、脂肪族ポリエーテルエステル、脂肪族ポリエステルカーボネートの少なくとも１つからなるソフトブロックからなること、（３）該繊束断面における結晶性ポリエステル（Ａ）／結晶性樹脂（Ｃ）とブロック共重合体（Ｄ）の合計の比が９０／１０〜４０／６０（重量比）であること、（４）繊維束断面における結晶性ポリエステル（Ａ）からなる島の本数が5本以上であり、かつ個々の島の太さが０．００５〜０．５デニールであること、（５）繊維束断面における結晶性樹脂（Ｃ）からなる極細繊維とブロック共重合体（Ｄ）からなる超極細繊維の合計が２5本以上であり、かつ結晶性ポリエステル（Ａ）からなる極細繊維の本数の5倍以上であること、を満足していることを特徴とする皮革様シートである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
上述した結晶性ポリエステル（Ａ）のうち、皮革様シートの染色堅牢性、耐久性などをより良好にする点から、ガラス転移温度が５０℃以上、特に６０℃以上である結晶性ポリエステルが好ましい。なおガラス転移温度は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）により測定される。さらに、本発明に用いられる多成分系繊維は、上記結晶性ポリエステル（Ａ）と結晶性樹脂（Ｃ）、およびブロック共重合体（Ｄ）を複合紡糸するが、ブロック共重合体（Ｄ）の紡糸時の耐熱安定性の観点から、紡糸温度は２９０℃以下であることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月27日(2005.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリンダ錠への操作により上下駆動されるスライダと、
スライダの駆動方向によりいずれか一方が選択されて回転駆動され、室外側引き戸内の初期位置から室内側引き戸内に進入して室内側引き戸内に配置された鎌形ロック部材を室外側引き戸の係入孔に進退させる一対の操作レバーとを錠ケースに配置して室外側引き戸内に収容され、
前記一対の操作レバーがコイル部が無拘束状態で操作レバーの後方に配置され、脚部が各操作レバーに各々遊嵌されるトーションスプリングにより初期位置側に付勢される引き戸錠の室外側引き戸用錠装置。
【請求項２】
前記操作レバーは同軸上に積層状態で軸支されるとともに、各操作レバーには前記トーションスプリングの脚部に形成されたリング部が遊嵌されるピンが各々背向方向に突設され、
前記スライダには、移動方向により一方がいずれか一方の操作レバーのピンに干渉して該操作レバーを回転駆動する干渉部が設けられる請求項１記載の引き戸錠の室外側引き戸用錠装置。
【請求項３】
室外側引き戸内から進退する操作レバーにより上下駆動されるロック操作プレートと、
ロック操作プレートの駆動方向により回転方向が選択され、室外側引き戸の係入孔に進退して室外側引き戸を施解錠する鎌形ロック部材と、
圧縮スプリングにより室外側に付勢され、飛び出し側ストローク終端位置においてのみロック操作プレートの施錠方向への移動を禁止する室外側引き戸の検知部材とを錠ケースに配置して室内側引き戸に収容され、
前記検知部材は、ドライバが挿通可能な径を有し、かつ、鎌形ロック部材が係入孔を臨む位置において室外側引き戸に設けられた位置決め孔を望む中空部を有して中空筒状に形成される引き戸錠の室内側引き戸用錠装置。
【請求項４】
前記ロック操作プレートに連結され、ロック操作プレートの上下動により前記検知部材の中空部を開放、閉塞する表示プレートを有し、
検知部材の中空部の開閉によりロック状態の確認が可能な請求項３記載の引き戸錠の室内側引き戸用錠装置。
【請求項５】
室外側引き戸に収容され、該引き戸に装着されたシリンダ錠への操作により上下駆動されるスライダと、
スライダの駆動方向によりいずれか一方が選択されて回転駆動され、室外側引き戸内の初期位置から室内側引き戸内に進入して該室内側引き戸内のロック操作プレートを上下いずれかの方向に駆動する一対の操作レバーと、
室内側引き戸に収容され、前記ロック操作プレートにより駆動されて室外側引き戸内に進退する鎌形ロック部材とを有し、
前記一対の操作レバーはコイル部が無拘束状態で操作レバーの後方に配置され、脚部が各操作レバーに各々遊嵌されるトーションスプリングにより初期位置側に付勢される引き戸錠。
【請求項６】
シリンダ錠への操作により上下駆動されるスライダと、
スライダの駆動方向によりいずれか一方が選択されて回転駆動され、室外側引き戸内の初期位置から室内側引き戸内に進入して室内側引き戸内に配置された鎌形ロック部材を室外側引き戸の係入孔に進退させる一対の操作レバーとを錠ケースに配置して室外側引き戸内に収容され、
前記シリンダ錠は、キー挿入開孔を室外側引き戸表面に露出させて室外側壁面に固定される化粧座に固定され、
前記スライダは、前記シリンダ錠のロータにより回転させられるピニオンの歯が噛み合う矩形開口を所定ピッチで開設してあり、
前記シリンダ錠のロータの端部に固定された角芯が前記ピニオンの中心に軸方向に貫通した角穴に嵌合する引き戸錠の室外側引き戸用錠装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月31日(2004.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に有機分子膜からなるパターンを形成し、該有機分子膜パターン上に薄膜を形成するための溶液を供給し、該有機分子膜パターン上に前記薄膜を選択的に形成することを特徴とする薄膜パターンの製造方法。
【請求項２】
前記薄膜パターンの薄膜部分が、前記有機分子膜パターンにおける有機分子膜部分であって、チオール基を有するチオール系カップリング剤からなる有機分子膜上に形成されることを特徴とする請求項１記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項３】
前記有機分子膜パターンが、チオール基を有するチオール系カップリング剤から構成される部分とフルオロ基を有するカップリング剤から構成される部分からなり、該チオール基を有するチオール系カップリング剤から構成される部分に、選択的に薄膜を形成することを特徴とする請求項１記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項４】
前記薄膜が金属である請求項１乃至３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
有機金属錯体を含む溶液を前記有機分子膜パターンが形成された基板に塗布、又は有機金属錯体を含む溶液に前記有機分子膜パターンが形成された基板を浸漬して金属の薄膜をパターン形成させる請求項１乃至４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記有機分子金属錯体を含む組成物をインク吐出方式によって前記有機分子膜パターンが形成された基板に供給し、金属の薄膜パターン形成する請求項１乃至４のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
基板にフルオロ基を有する有機分子膜パターンを形成する工程と、前記フルオロ基を有する有機分子膜パターンのフルオロ基を有する膜が無い部分に、チオール系カップリング剤からなる有機分子膜を選択的に形成する工程と、前記フルオロ基を有する有機分子膜及びチオール系カップリング剤からなる有機分子膜から構成されるパターン上に金属薄膜を形成するための材料を含む溶液を供給し、前記チオール基を有する有機分子膜上に、金属薄膜を選択的に形成する工程を具備する金属薄膜パターンの製造方法。
【請求項８】
基板にフルオロ基を有する有機分子膜パターンを形成する工程と、前記フルオロ基を有する有機分子膜パターン上に、有機金属錯体及びチオール系カップリング剤を含む溶液を供給し、前記フルオロ基を有する有機分子膜パターンのフルオロ基を有する膜が無い部分に金属薄膜を選択的に形成する工程を具備する金属薄膜パターンの製造方法。
【請求項９】
基板と、該基板上に形成された有機分子膜パターンと、該有機分離膜パターンに基づいたパターンを有する薄膜パターンを具備した微細構造体。
【請求項１０】
前記薄膜が金属薄膜からなる請求項９記載の構造体。
【請求項１１】
前記有機分子膜パターンがチオール系カップリング剤の膜部分を有し、該チオール系カップリング剤の膜部分上に前記薄膜パターンの薄膜部分を有する請求項９又は１０記載の構造体。
【請求項１２】
前記有機分子膜パターンがチオール系カップリング剤の膜部分と、フルオロ基を有する膜部分からなり、該チオール系カップリング剤の膜部分上に前記薄膜パターンの薄膜部分を有する請求項９又は１０記載の構造体。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月31日(2005.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
トレンチ部に充填形成された半導体層の表面部に該半導体層と同導電型の高不純物濃度層を設け、該高不純物濃度層がショットキー金属電極とオーミック接続されたことを特徴とする請求項１又は請求項２の半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
又、上記課題を解決するための請求項３の発明は、トレンチ部に充填形成された半導体層の表面部に該半導体層と同導電型の高不純物濃度層を設け、該高不純物濃度層がショットキー金属電極とオーミック接続されたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月22日(2004.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ生成部に電界を発生するアンテナと、該アンテナに高周波電力を供給する高周波電源と、真空雰囲気を形成するためにプラズマ生成部を取り囲む真空容器と、該真空容器の周りに設けられ電位可変なファラデーシールドと、該真空容器内にガスを供給するガス供給装置と、被処理物を置くための試料台と、該試料台に高周波電界を印加するための高周波電源を備え、該アンテナが発生する電界により電子を加速して該ガスを衝突電離することによりプラズマを発生させ該被処理物を処理するプラズマ処理装置において、上記真空容器の上面の面積が下面の面積より小さくまた上面が平面であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
請求項１記載のプラズマ処理装置において、前記真空容器上面が円形断面であり、下面と上面を結ぶ稜線と上面の法線のなす角度が５度以上であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項１記載のプラズマ処理装置において、前記被処理物から前記真空容器の上面までの距離と前記真空容器の下面の半径の比が１以下であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項４】
請求項１記載のプラズマ処理装置において、前記真空容器の外側に磁場発生手段を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項５】
請求項１記載のプラズマ処理装置において、前記真空容器の上面の内側に導体、もしくは半導体で構成される板を置くことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項６】
請求項５記載のプラズマ処理装置において、前記板に高周波電圧印加手段を接続し、高周波を印加することを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項７】
請求項５記載のプラズマ処理装置において、前記板を接地することを特徴とするプラズマ処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月22日(2005.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  各１枚の吊元扉、手先扉、案内扉を順に屈曲自在に連結してなり、前記案内扉は、ガイドローラを介して前後に直線運動し、前記吊元扉、手先扉は、前記案内扉を吊元側に後退させることにより、開口部の片側にのみ突出しながら折り畳まれて開口部を開き、前記案内扉を手先側に前進させることにより、前記案内扉とともに一直線状に配列されて開口部を閉じることを特徴とする折畳み扉。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
かかる目的を達成するためのこの発明の構成は、各１枚の吊元扉、手先扉、案内扉を順に屈曲自在に連結してなり、案内扉は、ガイドローラを介して前後に直線運動し、吊元扉、手先扉は、案内扉を吊元側に後退させることにより、開口部の片側にのみ突出しながら折り畳まれて開口部を開き、案内扉を手先側に前進させることにより、案内扉とともに一直線状に配列されて開口部を閉じることをその要旨とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月2日(2005.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ドアの施錠、開錠を行なうためのドアロック機構と、
前記ドアに設けられ、個人識別情報が記憶されている電子鍵と通信を行なうための通信手段と、
少なくとも１つの個人識別情報を記憶する記憶手段と、
前記通信部を通じて電子鍵から受信する前記個人識別情報と、前記記憶手段に記憶されている前記個人識別情報とを比較し、その比較結果に基づいてドアの施錠または開錠を制御するドアロック制御手段と、
前記ドアロック制御手段での前記個人識別情報の比較結果に基づいたドアの施錠または開錠制御に基づいて、前記記憶手段に記憶する前記個人識別情報に対応する個人の前記ドアからの入退出を管理する管理制御手段と、
を備えることを特徴とするドアロックシステム。
【請求項２】
請求項１に記載のドアロックシステムにおいて、
前記ドアの室内の戸締りを監視する戸締り監視手段と、
前記戸締り監視手段により室内の戸締りが完全でないときには、前記ドアロック制御手段による前記ドアの施錠の前に、戸締りが不完全であることを告知する告知手段と
を備えることを特徴とするドアロックシステム。
【請求項３】
請求項１に記載のドアロックシステムにおいて、
前記ドアの室内を監視する監視手段を備え、
前記管理制御手段は、前記個人の入退出に基づく在宅状況に応じて前記監視手段を制御する
ことを特徴とするドアロックシステム。
【請求項４】
請求項１に記載のドアロックシステムにおいて、
予め用意された複数通りのセキュリティレベルの中から選択された一つのセキュリティレベルで前記ドアの室内を監視する監視手段を備え、
前記管理制御手段は、前記在宅状況に応じて前記監視手段におけるセキュリティレベルを選択設定する
ことを特徴とするドアロックシステム。
【請求項５】
請求項１に記載のドアロックシステムにおいて、
予め用意された複数通りのセキュリティレベルの中から選択された一つのセキュリティレベルで前記ドアの室内を監視する監視手段を備え、
前記管理制御手段は、前記個人の入退出に基づく前記在宅状況の変化により、前記監視手段におけるセキュリティレベルの変更制御をする
ことを特徴とするドアロックシステム。
【請求項６】
請求項５に記載のドアロックシステムにおいて、
前記監視手段におけるセキュリティレベルが変更されたときに、当該変更を告知する手段を設けた
ことを特徴とするドアロックシステム。
【請求項７】
請求項１〜請求項６に記載のドアロックシステムにおいて、
前記電子鍵と前記通信手段との通信は、非接触である
ことを特徴とするドアロックシステム。
【請求項８】
ドアに設けられた通信手段により、個人識別情報が記憶されている電子鍵と通信が行なわれたことを検知する通信検知工程と、
前記通信検知工程で検知された通信に基づいて、前記電子鍵から前記個人識別情報を受信する個人識別情報受信工程と、
前記個人識別情報受信工程で受信した前記個人識別情報と、予め記憶部に記憶されている個人識別情報とを比較して、その比較結果に基づいてドアの施錠または開錠を制御するドアロック制御工程と、
前記ドアロック制御工程での前記個人識別情報の比較結果に基づいたドアの施錠または開錠制御に基づいて、前記記憶部に記憶されている前記個人識別情報に対応する個人の前記ドアからの入退出を管理する管理工程と、
を備えることを特徴とするドアロック管理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月27日(2005.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】強化繊維織物の製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
経糸および緯糸が強化繊維糸条からなる強化繊維織物の製造方法において、
強化繊維織物に付着しているサイジング剤の粘度が０．１Ｐａ・ｓ以下となる温度で強化繊維織物を加熱しながら、あるいは加熱した後、強化繊維織物を少なくとも一方の面側から間欠的に叩打して開繊する工程を有することを特徴とする強化繊維織物の製造方法。
【請求項２】
開繊された強化繊維織物を０．０４ｃＮ／ｄＴｅｘ以下の張力で引取る工程をさらに有することを特徴とする請求項１に記載の強化繊維織物の製造方法。
。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者は上記課題を解決するべく検討を行った結果、以下の強化繊維織物の製造方法を発明するに到った。
すなわち、本願発明は、経糸および緯糸が強化繊維糸条からなる強化繊維織物の製造方法において、強化繊維織物に付着しているサイジング剤の粘度が０．１Ｐａ・ｓ以下となる温度で強化繊維織物を加熱しながら、あるいは加熱した後、強化繊維織物を少なくとも一方の面側から間欠的に叩打して開繊する工程を有することを特徴とする。
以下は、本願発明に好ましく用いられる装置等である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
以上の強化繊維織物の製造方法によれば、経糸および緯糸が強化繊維糸条からなり、布厚みが０．０７〜０．３６ｍｍ、布目曲がりが３％以下、表面粗さが０．１ｍｍ以下である強化繊維織物を提供することができる。
なお、本明細書における「布厚み」、「布目曲がり」、「表面粗さ」の評価方
法については、「実施例」の項において後述する。