【手続補正書】
【提出日】平成16年12月9日(2004.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【書類名】      明細書
【発明の名称】  基板洗浄装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】  支持アームと、該支持アームに回転自在に支持された回転ロール洗浄部材を備えた基板洗浄装置において、
前記回転ロール洗浄部材の前記被洗浄基板への当接圧力を検出する当接圧力センサ、前記回転ロール洗浄部材の前記被洗浄基板への当接圧力を調整する当接圧力調整機構、前記回転ロール洗浄部材の前記被洗浄基板への当接圧力を設定する制御盤、前記当接圧力センサの出力と前記制御盤で設定した当接圧力を受け前記当接圧力調整機構を制御する制御部を備え、
前記支持アームは前記回転ロール洗浄部材を保持する前部材と、該前部材を前記被洗浄基板の面に対して垂直方向に揺動自在に支持する後部材とからなり、
前記当接圧力センサは前記前部材と前記後部材の間に位置し、該前部材の揺動により加わる圧力を検出し、前記当接圧力を検出するように構成されていることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板洗浄装置において、
前記前部材はバッファダンパーを介して前記後部材に支持されていることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項３】  支持アームと、該支持アームに回転自在に支持されたペンシル型洗浄部材を備えた基板洗浄装置において、
前記ペンシル型洗浄部材の前記被洗浄基板への当接圧力を検出する当接圧力センサ、前記ペンシル型洗浄部材の前記被洗浄基板への当接圧力を調整する当接圧力調整機構、前記ペンシル型洗浄部材の被洗浄基板への当接圧力を設定する制御盤、前記当接圧力センサの出力と前記制御盤で設定した当接圧力を受け前記当接圧力調整機構を制御する制御部を備え、
前記支持アームはそれぞれ前記ペンシル型洗浄部材を保持する前部材と、該前部材を前記被洗浄基板の洗浄面に対して垂直方向に揺動自在に支持する後部材とを具備し、
前記当接圧力センサは前記前部材と前記後部材の間に位置し、該前部材の揺動により加わる圧力を検出して、前記当接圧力を検出するように構成されていることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項４】  請求項３に記載の基板洗浄装置において、
前記前部材はピポットを介して前記後部材に支持されていることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項５】  請求項１乃至４のいずれか１項に記載の基板洗浄装置において、
前記制御部は、前記制御盤で設定した当接圧力値と前記当接圧力センサの検知した当接圧力値を比較し、その差がゼロになるように制御することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項６】  請求項１乃至４のいずれか１項に記載の基板洗浄装置において、
前記制御盤は前記被洗浄基板の洗浄の進行状態に応じて前記当接圧力を変更して洗浄できるようになっていることを特徴とする基板洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体デバイスの製造工程等で使用される半導体基板等の基板洗浄装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
半導体デバイスの高集積化が進むにつれて回路配線が微細化し、半導体ウエハ上に残留するダスト数も極力少なくすることが要求され、所謂超清浄化が要求されている。従来、この種の基板洗浄装置として、ロール型ブラシ洗浄装置やペンシル型ブラシ洗浄装置等がある。
【０００３】
ロール型ブラシ洗浄装置は図１に示すように、被洗浄基板Ｗｆの外周部を挟持して回転する複数本（図では６本）のスピンドル１１を有する基板回転機構を具備し、該基板回転機構で略水平面上を回転する被洗浄基板Ｗｆの両面に駆動機構１５、１６により回転する回転ロール型洗浄部材１２、１３を押し当て、洗浄液ノズル１４から被洗浄基板Ｗｆの面上に洗浄液を供給しながら被洗浄基板Ｗｆを洗浄する基板洗浄装置１０である。なお、図示は省略するが洗浄液ノズル１４は被洗浄基板Ｗｆの上面だけでなく下面にも洗浄液を供給できるように、被洗浄基板Ｗｆの上下方向に設けられている。また、回転ロール型洗浄部材１２、１３の被洗浄基板Ｗｆに当接する外周部は多孔質のＰＶＡ製スポンジで構成されている。
【０００４】
また、ペンシル型ブラシ洗浄装置は図２に示すように、回転チャック機構３１、ペンシル型ブラシ洗浄機構３２を備える構成である。回転チャック機構３１は、その上部に円板状の被洗浄基板Ｗｆの外周を挟持するチャック爪３３を有し、回転駆動軸３４によって回転駆動される。回転チャック機構３１のチャック爪３３は、被洗浄基板Ｗｆをロボットのハンドにより搬入搬出できるように、図２では省略されているが、開閉機構が設けられている。
【０００５】
ペンシル型ブラシ洗浄機構３２は、シャフト３５に一端が支持された揺動アーム３６を具備し、該揺動アーム３６の他端に被洗浄基板Ｗｆの洗浄面に向かって鉛直下方に突出する回転駆動軸３７を設け、該回転駆動軸３７の下端に多孔質のＰＶＡ製スポンジで構成されたペンシル型洗浄部材３８を取付けて構成される。回転する被洗浄基板Ｗｆの上面に洗浄液ノズル３９から洗浄液を供給すると共に、回転するペンシル型洗浄部材３８を当接させて洗浄するようになっている。
【０００６】
上記構成のロール型ブラシ洗浄装置及びペンシル型ブラシ洗浄装置において、被洗浄基板Ｗｆの面上に付着しているパーティクルの除去能力は、回転ロール型洗浄部材１２、１３やペンシル型洗浄部材３８の被洗浄基板Ｗｆへの押圧力により変わるばかりではなく、過度の押圧力は被洗浄基板Ｗｆ上のパターンの損傷の原因となり、洗浄中常に回転ロール型洗浄部材１２、１３やペンシル型洗浄部材３８の被洗浄基板Ｗｆへの当接圧力を管理・調整することが重要である。従来の基板洗浄装置１０では、この当接圧力を設定範囲に維持するように制御するように構成したものはあるが、該当接圧力を制御盤から任意に調整したり、洗浄中に洗浄の進行状態に応じて当接圧力を変更したりすることは行っていなかった。そのため、上記超清浄化を達成するのに満足できるものではなかった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上述の点に鑑みてなされたもので、簡単な構成で洗浄中に当接圧力を制御盤から簡単な操作で任意設定及び調整でき、この設定及び調整した当接圧力を維持しながら基板を洗浄でき、更に洗浄の進行状態に応じて当接圧力を変化させて洗浄することができ超清浄化が可能な基板洗浄装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため請求項１に記載の発明は、支持アームと、該支持アームに回転自在に支持された回転ロール洗浄部材を備えた基板洗浄装置において、回転ロール洗浄部材の前記被洗浄基板への当接圧力を検出する当接圧力センサ、回転ロール洗浄部材の被洗浄基板への当接圧力を調整する当接圧力調整機構、前記回転ロール洗浄部材の前記被洗浄基板への当接圧力を設定する制御盤、前記当接圧力センサの出力と前記制御盤で設定した当接圧力を受け前記当接圧力調整機構を制御する制御部を備え、支持アームは回転ロール洗浄部材を保持する前部材と、該前部材を被洗浄基板の面に対して垂直方向に揺動自在に支持する後部材とからなり、当接圧力センサは前部材と前記後部材の間に位置し、該前部材の揺動により加わる圧力を検出し、当接圧力を検出するように構成されていることを特徴とする。
【０００９】
上記のように、制御盤より当接圧力調整機構を制御して当接圧力を任意に設定及び調整できるようにしたので、当接圧力を被洗浄基板の超清浄化に適した圧力に容易に設定及び調整することができ、被洗浄基板の超清浄化が可能となる。また、当接圧力センサは前部材と後部材の間に位置し、該前部材の揺動により加わる圧力を検出して当接圧力を検出するように構成されているので、比較的簡単な構成で、被洗浄基板表面に当接する洗浄部材の当接圧力を精度良く検出できるから、精度のよい当接圧力制御が可能となる。また、当接圧力センサで実際の当接圧力を監視しながら、制御盤から当接圧力の設定及び調整が可能となる。また、当接圧力センサは前部材と後部材の間に位置し、該前部材の揺動により加わる圧力を検出し、当接圧力を検出するように構成されているので、洗浄液等で汚染されない所定部分に取り付けることができ、且つ取り付けも容易となる。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板洗浄装置において、前部材はバッファダンパーを介して後部材に支持されていることを特徴とする。
【００１１】
上記のように前部材はバッファダンパーを介して後部材に支持されているから、該前部材の揺動が当接圧力センサにスムーズに伝達され、該当接圧力センサで被洗浄基板表面に当接する洗浄部材の当接圧力を精度よく検出できる。
【００１２】
請求項３に記載の発明は、支持アームと、該支持アームに回転自在に支持されたペンシル型洗浄部材を備えた基板洗浄装置において、ペンシル型洗浄部材の被洗浄基板への当接圧力を検出する当接圧力センサ、ペンシル型洗浄部材の被洗浄基板への当接圧力を調整する当接圧力調整機構、ペンシル型洗浄部材の被洗浄基板への当接圧力を設定する制御盤、当接圧力センサの出力と制御盤で設定した当接圧力を受け当接圧力調整機構を制御する制御部を備え、支持アームはそれぞれペンシル型洗浄部材を保持する前部材と、該前部材を被洗浄基板の洗浄面に対して垂直方向に揺動自在に支持する後部材とを具備し、当接圧力センサは前部材と後部材の間に位置し、該前部材の揺動により加わる圧力を検出して、当接圧力を検出するように構成されていることを特徴とする。
【００１３】
上記のように、制御盤より当接圧力調整機構を制御して当接圧力を任意に設定及び調整できるようにしたので、当接圧力を被洗浄基板の超清浄化に適した圧力に容易に設定及び調整することができ、被洗浄基板の超清浄化が可能となる。また、当接圧力センサは前部材と後部材の間に位置し、該前部材の揺動により加わる圧力を検出して当接圧力を検出するように構成されているので、比較的簡単な構成で、被洗浄基板表面に当接する洗浄部材の当接圧力を精度良く検出できるから、精度のよい当接圧力制御が可能となる。また、当接圧力センサで実際の当接圧力を監視しながら、制御盤から当接圧力の設定及び調整が可能となる。また、当接圧力センサは前部材と後部材の間に位置し、該前部材の揺動により加わる圧力を検出し、当接圧力を検出するように構成されているので、洗浄液等で汚染されない所定部分に取り付けることができ、且つ取り付けも容易となる。
【００１４】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の基板洗浄装置において、前部材はピポットを介して前記後部材に支持されていることを特徴とする。
【００１５】
上記のように前部材はピポットを介して後部材に支持されているから、該前部材の揺動が当接圧力センサにスムーズに伝達され、該当接圧力センサで被洗浄基板表面に当接する洗浄部材の当接圧力を精度よく検出できる。
【００１６】
請求項５に記載の発明は、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の基板洗浄装置において、制御部は、制御盤で設定した当接圧力値と前記当接圧力センサの検知した当接圧力値を比較し、その差がゼロになるように制御することを特徴とする
【００１７】
上記のように制御盤で設定した当接圧力値と当接圧力センサの検知した当接圧力値を比較し、その差がゼロになるように制御する制御部を設けたので、当接圧力を制御盤で設定及び調整した当接圧力に正確に追従させることができ、被洗浄基板の超清浄化が可能となる。
【００１８】
請求項６に記載の発明は、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の基板洗浄装置において、制御盤は被洗浄基板の洗浄の進行状態に応じて当接圧力を変更して洗浄できるようになっていることを特徴とする。
【００１９】
洗浄基板の超清浄化を達成するには洗浄部材の被洗浄基板表面への当接圧力が洗浄の始めから終りまで一定するのではなく、洗浄の進行状態に応じて変化させることが速やかに超清浄化を達成するために必要となる（例えば、洗浄始めは当接圧力を小さく、洗浄が進むに連れて大きく、洗浄の終了近くなったら小さくするというように）。ここでは制御盤で被洗浄基板の洗浄の進行状態で当接圧力を変更できるので、このような要望に対応できる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態例を図面に基いて説明する。図３は本発明に係る基板洗浄装置の当接圧力調整機構及びその制御系の構成を示す図である。本当接圧力調整機構及び制御系を用いる基板洗浄装置の構成は図１に示す構成と略同一であるので、その説明は省略する。図３において、１７は図１の回転ロール型洗浄部材１２を回転自在に支持する洗浄部材支持アームであり、１８は回転ロール型洗浄部材１３を回転自在に支持する洗浄部材支持アームである。
【００２１】
上記洗浄部材支持アーム１７はボールネジ２５に螺合し、該ボールネジ２５の回転により上下動するようになっている。また、洗浄部材支持アーム１８はボールネジ２６に螺合し、該ボールネジ２６の回転により上下動するようになっている。ボールネジ２５はモータ２３で回転駆動されるようになっており、ボールネジ２６はモータ２４で回転駆動されるようになっている。２７は洗浄部材支持アーム１７の後端に設けられ、該洗浄部材支持アーム１７をガイドする線形ガイドであり、２８は洗浄部材支持アーム１８の後端に設けられ、該洗浄部材支持アーム１８をガイドする線形ガイドである。
【００２２】
線形ガイド２７、２８はそれぞれブラケット２９に沿って上下動し、ボールネジ２５、２６はそれぞれブラケット２９に回転自在に支持されている。洗浄部材支持アーム１７は前部材１７ａと後部材１７ｂとからなり、該前部材１７ａと後部材１７ｂの間にバッファーダンパー２１が介在している。回転ロール型洗浄部材１２は前部材１７ａに回転自在に支持されている。また、洗浄部材支持アーム１８は前部材１８ａと後部材１８ｂとからなり、該前部材１８ａと後部材１８ｂの間にバッファーダンパー２２が介在している。回転ロール型洗浄部材１３は前部材１８ａに回転自在に支持されている。
【００２３】
洗浄部材支持アーム１７の前部材１７ａと後部材１７ｂの間にはロードセル１９が設けられ、該ロードセル１９で該洗浄部材支持アーム１７に掛かる応力を検出できるようになっている。即ち回転ロール型洗浄部材１２が被洗浄基板Ｗｆを押圧すると、洗浄部材支持アーム１７の前部材１７ａはバッファーダンパー２１を介して上方に回動するような反力を受け、ロードセル１９は前部材１７ａと後部材１７ｂから該反力に応じた圧縮力を受ける。これによりロードセル１９は回転ロール型洗浄部材１２が被洗浄基板Ｗｆに当接する当接圧力を精度良く検出できる。
【００２４】
また、洗浄部材支持アーム１８の前部材１８ａと後部材１８ｂの間にはロードセル２０が設けられ、該ロードセル２０で該洗浄部材支持アーム１８に掛かる応力を検出できるようになっている。即ち回転ロール型洗浄部材１３が被洗浄基板Ｗｆを押圧すると、洗浄部材支持アーム１８の前部材１８ａはバッファーダンパー２２を介して下方に回動するような反力を受け、ロードセル２０は前部材１８ａと後部材１８ｂから該反力に応じた圧縮力を受ける。これによりロードセル２０は回転ロール型洗浄部材１３が被洗浄基板Ｗｆに当接する当接圧力を精度良く検出できる。
【００２５】
上記ロードセル１９、２０の出力信号はそれぞれ増幅器５１、５２で増幅され制御部５５に伝送される。制御部５５には制御盤５６が接続されている。制御盤５６はタッチパネル等で構成され、回転ロール型洗浄部材１２及び１３の被洗浄基板Ｗｆに当接する時の当接圧力の設定や調整ができるようになっている。該制御盤５６で回転ロール型洗浄部材１２及び１３の当接圧力が設定されると、制御部５５はその設定値に基いてモータ駆動部５３及び５４を介してモータ２３及び２４を駆動する。これによりボールネジ２５及び２６が回転し、洗浄部材支持アーム１７は下降し、洗浄部材支持アーム１８は上昇し、回転ロール型洗浄部材１２及び１３を上記設定された当接圧力で被洗浄基板Ｗｆに当接させる。
【００２６】
上記回転ロール型洗浄部材１２及び１３の当接圧力はロードセル１９及び２０で検出され、その検出信号は増幅器５１及び５２で増幅され制御部５５に伝送されると、制御部５５は検出された検出当接圧力値と制御盤５６で設定された設定当接圧力値とを比較し、その差がゼロになるようにモータ駆動部５３及び５４を介してモータ２３及び２４を駆動する。これにより、回転ロール型洗浄部材１２及び１３は制御盤５６で設定された当接圧力で被洗浄基板Ｗｆに当接する。従って、例えば被洗浄基板Ｗｆの洗浄中に当接圧力を変更しようとする場合は、制御盤５６で設定値を変えることにより、容易に回転ロール型洗浄部材１２及び１３の当接圧力を変更できる。
【００２７】
また、１枚の被洗浄基板Ｗｆを洗浄するのに、洗浄始めから洗浄終わりまでの間に、回転ロール型洗浄部材１２及び１３の当接圧力を変えて洗浄を行うようにする場合は、洗浄の進行状態（時間の経過）により当接圧力が変化するパターンのプログラムを複数作成し、該プログラムを制御部５５又は制御盤５６のメモリに格納しておき、制御盤５６のタッチパネル等の操作で複数のプログラムの内いずれかを選択し、制御部５５で実行させることにより、被洗浄基板Ｗｆの汚染状態、洗浄液の種類や温度状態等に適した当接圧力変化パターンで洗浄することが容易となる。
【００２８】
図４は本発明に係る基板洗浄装置の当接圧力調整機構及びその制御系の他の構成を示す図である。本当接圧力調整機構及び制御系を用いる基板洗浄装置の構成は図２に示す構成と略同一であるのでその説明は省略する。図４において、３６は図２の揺動アーム３６で、該揺動アーム３６は前部材３６ａと後部材３６ｂとからなり、両者は一端がピボット４１で連結され、該連結部の前部材３６ａと後部材３６ｂの間にロードセル４０が設けられている。該揺動アーム３６の前部材３６ａの先端部には鉛直下方に突出する回転駆動軸３７が設けられ、該回転駆動軸３７の下端にペンシル型洗浄部材３８が取付けられている。即ち、揺動アーム３６はペンシル型洗浄部材３８を支持する洗浄部材支持アームを構成する。揺動アーム３６の後部材３６ｂの後端はシャフト３５に支持されている。
【００２９】
上記シャフト３５の下端は揺動用のモータ４２の回転軸に連結され、該モータ４２により揺動されるようになっている。また、シャフト３５はブラケット４６に回動自在に支持され、該ブラケット４６はボールネジ４４に螺合し、該ボールネジ４４の回転により上下動するようになっている。また、ボールネジ４４は揺動アーム３６を上下動させる上下動用のモータ４３の回転軸に連結されている。また、４５は線形ガイドであり、シャフト３５は線形ガイド４５に沿って上下動するようになっている。
【００３０】
ロードセル４０で該揺動アーム３６に掛かる応力を検出できるようになっている。即ちペンシル型洗浄部材３８が被洗浄基板Ｗｆを押圧すると、揺動アーム３６の前部材３６ａはピボット４１を介して上方に回動するような反力を受け、ロードセル４０は前部材３６ａと後部材３６ｂから該反力に応じた圧縮力を受ける。これによりロードセル４０はペンシル型洗浄部材３８が被洗浄基板Ｗｆに当接する当接圧力を精度良く検出できる。
【００３１】
上記ロードセル４０の出力信号はそれぞれ増幅器６１で増幅され制御部６４に伝送される。制御部６４は制御盤６５が接続されている。制御盤６５はタッチパネル等で構成され、ペンシル型洗浄部材３８の被洗浄基板Ｗｆに当接する当接圧力の設定や調整ができるようになっている。該制御盤６５でペンシル型洗浄部材３８の当接圧力が設定されると、制御部６４はその設定値に基づいてモータ駆動部６３を介してモータ４３を駆動する。これによりボールネジ４４が回転し、揺動アーム３６はブラケット４６及びシャフト３５を介して下降し、ペンシル型洗浄部材３８を上記設定された当接圧力で被洗浄基板Ｗｆに当接させる。
【００３２】
上記ペンシル型洗浄部材３８の当接圧力はロードセル４０で検出され、その検出信号は増幅器６１で増幅され制御部６４に伝送される。制御部６４は検出された検出当接圧力値と制御盤６５で設定された設定当接圧力値とを比較し、その差がゼロになるようにモータ駆動部６３を介してモータ４３を駆動する。これにより、ペンシル型洗浄部材３８は制御盤６５で設定された当接圧力で被洗浄基板Ｗｆに当接する。従って、例えば被洗浄基板Ｗｆの洗浄中に当接圧力を変更しようとする場合は、制御盤６５で設定値を変えることにより、容易にペンシル型洗浄部材３８の当接圧力を変更できる。
【００３３】
また、１枚の被洗浄基板Ｗｆを洗浄するのに、洗浄始めから洗浄終わりまでの間に、ペンシル型洗浄部材３８の当接圧力を変えて洗浄を行うようにする場合は、洗浄の進行状態（時間の経過）により当接圧力が変化するパターンのプログラムを複数作成し、該プログラムを制御部６４又は制御盤６５のメモリに格納しておき、制御盤６５のタッチパネル等の操作で複数のプログラムの内いずれかを選択し、制御部６４で実行させることにより、被洗浄基板Ｗｆの汚染状態、洗浄液の種類や温度状態等に適した当接圧力変化パターンで洗浄することが容易となる。
【００３４】
なお、上記実施形態例では図１及び図２に示すような構成の基板洗浄装置を対象としたが、基板洗浄装置はこれに限定されるものではなく、被洗浄基板表面に回転支持された洗浄部材を当接すると共に、表面に洗浄液を供給しながら洗浄する基板洗浄装置であれば、本発明の対象とすることができる。
【００３５】
上記例では洗浄部材の当接圧力を検出する手段として、洗浄部材支持アーム、即ち洗浄部材支持アーム１７、１８又は揺動アーム３６に掛かる応力を検出するようにしたが、これに限定されるものではなく、洗浄部材の当接圧力を直接又は間接的に検出できるものであればよい。洗浄部材支持アームに掛かる応力を検出する構成も上記構成に限定されるものではない。
【００３６】
【発明の効果】
以上、説明したように各請求項に記載の発明によれば下記のような優れた効果が得られる。
【００３７】
請求項１に記載の発明によれば、制御盤より当接圧力調整機構を制御して当接圧力を任意に設定及び調整できるようにしたので、当接圧力を被洗浄基板の超清浄化に適した圧力に容易に設定及び調整することができ、被洗浄基板の超清浄化が可能となる。また、当接圧力センサは前部材と後部材の間に位置し、該前部材の揺動により加わる圧力を検出して当接圧力を検出するように構成されているので、比較的簡単な構成で、被洗浄基板表面に当接する洗浄部材の当接圧力を精度良く検出できるから、精度のよい当接圧力制御が可能となる。また、当接圧力センサで実際の当接圧力を監視しながら、制御盤から当接圧力の設定及び調整が可能となる。また、当接圧力センサは前部材と後部材の間に位置し、該前部材の揺動により加わる圧力を検出し、当接圧力を検出するように構成されているので、洗浄液等で汚染されない所定部分に取り付けることができ、且つ取り付けも容易となる。
【００３８】
請求項２に記載の発明によれば、前部材はバッファダンパーを介して後部材に支持されているから、該前部材の揺動が当接圧力センサにスムーズに伝達され、該当接圧力センサで被洗浄基板表面に当接する洗浄部材の当接圧力を精度よく検出できる。
【００３９】
請求項３に記載の発明によれば、制御盤より当接圧力調整機構を制御して当接圧力を任意に設定及び調整できるようにしたので、当接圧力を被洗浄基板の超清浄化に適した圧力に容易に設定及び調整することができ、被洗浄基板の超清浄化が可能となる。また、当接圧力センサは前部材と後部材の間に位置し、該前部材の揺動により加わる圧力を検出して当接圧力を検出するように構成されているので、比較的簡単な構成で、被洗浄基板表面に当接する洗浄部材の当接圧力を精度良く検出できるから、精度のよい当接圧力制御が可能となる。また、当接圧力センサで実際の当接圧力を監視しながら、制御盤から当接圧力の設定及び調整が可能となる。また、当接圧力センサは前部材と後部材の間に位置し、該前部材の揺動により加わる圧力を検出し、当接圧力を検出するように構成されているので、洗浄液等で汚染されない所定部分に取り付けることができ、且つ取り付けも容易となる。
【００４０】
請求項４に記載の発明によれば、前部材はピポットを介して後部材に支持されているから、該前部材の揺動が当接圧力センサにスムーズに伝達され、該当接圧力センサで被洗浄基板表面に当接する洗浄部材の当接圧力を精度よく検出できる。
【００４１】
請求項５に記載の発明によれば、制御盤で設定した当接圧力値と当接圧力センサの検知した当接圧力値を比較し、その差がゼロになるように制御する制御部を設けたので、洗浄部材の当接圧力を制御盤で設定及び調整した当接圧力に正確に追従させることができ、被洗浄基板の超清浄化が可能となる。
【００４２】
請求項６に記載の発明によれば、制御盤で被洗浄基板の洗浄の進行状態に応じて当接圧力を変更して洗浄、超清浄化を速やかに達成するという要望に容易に、且つ的確に対応できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】
ロール型ブラシ洗浄装置の構成例を示す図である。
【図２】
ペンシル型ブラシ洗浄装置の構成例を示す図である。
【図３】
本発明に係る基板洗浄装置の当接圧力調整機構及びその制御系の構成例を示す図である。
【図４】
本発明に係る基板洗浄装置の当接圧力調整機構及びその制御系の構成例を示す図である。
【符号の説明】
１０          基板洗浄装置
１１          スピンドル
１２          回転ロール型洗浄部材
１３          回転ロール型洗浄部材
１７          洗浄部材支持アーム
１８          洗浄部材支持アーム
１９          ロードセル
２０          ロードセル
２１          バッファーダンパー
２２          バッファーダンパー
２３          モータ
２４          モータ
２５          ボールネジ
２６          ボールネジ
２７          線形ガイド
２８          線形ガイド
２９          ブラケット
３５          シャフト
３６          揺動アーム
３７          回転駆動軸
３８          ペンシル型洗浄部材
４０          ロードセル
４１          ピボット
４２          モータ
４３          モータ
４４          ボールネジ
４５          線形ガイド
５１          増幅器
５２          増幅器
５３          モータ駆動部
５４          モータ駆動部
５５          制御部
５６          制御盤
６１          増幅器
６２          モータ駆動部
６３          モータ駆動部
６４          制御部
６５          制御盤