(57)【要約】  化学強化処理等の付加処理を行わなくとも耐候性に優れ、白ヤケ現象が起りにくく、ガラス転移点が６８０℃以上であり、かつ耐酸性に優れたデータ記憶媒体用基板用ガラスの提供を目的とする。  質量％表示で、ＳｉＯ２を４７〜６０％、Ａｌ２Ｏ３を８〜２０％、ＭｇＯを０〜８％、ＣａＯを０〜６％、ＳｒＯを１〜１８％、ＢａＯを０〜１３％、ＴｉＯ２を１〜６％、ＺｒＯ２を１〜５％、Ｎａ２Ｏを２〜８％、Ｋ２Ｏを１〜１５％含有し、ガラス転移点が６８０℃以上であることを特徴とするデータ記憶媒体用基板ガラス。【特許請求の範囲】
【請求項１】
質量％表示で、ＳｉＯ２を４７〜６０％、Ａｌ２Ｏ３を８〜２０％、ＭｇＯを０〜８％、ＣａＯを０〜６％、ＳｒＯを１〜１８％、ＢａＯを０〜１３％、ＴｉＯ２を１〜６％、ＺｒＯ２を１〜５％、Ｎａ２Ｏを２〜８％、Ｋ２Ｏを１〜１５％含有し、ガラス転移点が６８０℃以上であることを特徴とするデータ記憶媒体用基板ガラス。
【請求項２】
Ｎａ２Ｏの質量％表示含有量に対するＫ２Ｏの質量％表示含有量の比（Ｋ２Ｏ／Ｎａ２Ｏ）が１．５以上である請求項１に記載のデータ記憶媒体用基板ガラス。
【請求項３】
前記Ｋ２Ｏ／Ｎａ２Ｏが１０以下である請求項２に記載のデータ記憶媒体用基板ガラス。
【請求項４】
Ｎａ２Ｏの含有量およびＫ２Ｏの含有量の和（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）が１６質量％以下である請求項１、２または３に記載のデータ記憶媒体用基板ガラス。
【請求項５】
（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）が１３質量％以下である請求項１、２または３に記載のデータ記憶媒体用基板ガラス。
【請求項６】
ＴｉＯ２およびＺｒＯ２の質量％表示含有量の和に対するＳｉＯ２の質量％表示含有量の比ＳｉＯ２／（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）が５．０〜１０．０である請求項１〜５のいずれかに記載のデータ記憶媒体用基板ガラス。
【請求項７】
Ａｌ２Ｏ３を１１質量％以上含有する請求項１〜６のいずれかに記載のデータ記憶媒体用基板ガラス。
【請求項８】
ＴｉＯ２およびＺｒＯ２の含有量の和が１１質量％以下である請求項１〜７のいずれかに記載のデータ記憶媒体用基板ガラス。
【請求項９】
ＳｉＯ２含有量が５９モル％以上である請求項１〜８のいずれかに記載のデータ記憶媒体用基板ガラス。
【請求項１０】
ＢａＯおよびＺｒＯ２の含有量の和が６．５モル％以下である請求項１〜９のいずれかに記載のデータ記憶媒体用基板ガラス。
【請求項１１】
密度が２．８ｇ／ｃｍ３以下である請求項１〜１０のいずれかに記載のデータ記憶媒体用基板ガラス。
【請求項１２】
液相温度をＴＬ（単位：℃）、粘度が１０４ｄＰａ・ｓとなる温度をＴ４（単位：℃）として、ＴＬ−Ｔ４≦５０℃である請求項１〜１１のいずれかに記載のデータ記憶媒体用基板ガラス。
【請求項１３】
９０℃の０．１ｍｏｌ／ｌのＨＣｌ水溶液に２０時間ガラスを浸漬したときの重量減少量が５ｍｇ／ｃｍ２以下である請求項１〜１２のいずれかに記載のデータ記憶媒体用基板ガラス。
【請求項１４】
５０〜３５０℃における平均線膨張係数が７５×１０−７／℃以上である請求項１〜１３のいずれかに記載のデータ記憶媒体用基板ガラス。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれかに記載のデータ記憶媒体用基板ガラスからなるガラス基板。
【請求項１６】
請求項１〜１４のいずれかに記載のデータ記憶媒体用基板ガラスからなるガラス基板であって、１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時間保持した該ガラス基板表面に存在する大きさが１０μｍ以上の付着物の数が１個／ｃｍ２以下であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の数が１０７個／ｃｍ２以下であるガラス基板。
【請求項１７】
請求項１〜１４のいずれかに記載のデータ記憶媒体用基板ガラスからなるガラス基板であって、ヤング率が７５ＧＰａ以上であるガラス基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク、光ディスク等のデータ記憶媒体の基板に用いられる基板用ガラスおよびガラス基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク、光ディスク等のデータ記憶媒体基板用ガラスとして、ソーダライムシリカガラスが広く用いられている。しかし、ソーダライムシリカガラスからなる基板は、いわゆる白ヤケ現象により、その在庫中に表面性状が著しく変化するおそれがあった。そのため、ソーダライムシリカガラスを磁気ディスク基板として用いる場合には、基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜がはがれやすくなるという問題点があった。また、白ヤケ現象を起りにくくするために、ソーダライムシリカガラスを化学強化処理するという手段がある。しかし、化学強化処理は、工程が増加し、化学強化処理後の基板表面によごれが付着しやすい、等の問題がある。そこで、これまでも、化学強化処理等の付加処理を行わなくとも耐候性に優れ、白ヤケ現象が起りにくいデータ記憶媒体用基板ガラスが提案されている（特許文献１、特許文献２）。【０００３】
【特許文献１】米国特許第６，９４９，４８５号公報
【特許文献２】米国特許第５，５９９，７５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献２に記載の基板用ガラスのガラス転移点（Ｔｇ）は６８０℃未満であり、ガラス転移点が６８０℃を超えるものはなかった。なお、特許文献１の例８には、ガラス転移点が７１０℃であるデータ記憶媒体用基板ガラスが開示されているが、このガラスの耐酸性は極めて悪く（９０℃の０．１ｍｏｌ／ｌのＨＣｌ水溶液に２０時間ガラスを浸漬したときの重量減少量が１１．３ｍｇ／ｃｍ２である）、ガラスの研磨工程や洗浄工程においてｐＨの低い薬液に晒されたときに面荒れを起こしやすいという問題点がある。【０００５】
そこで、本発明は、化学強化処理等の付加処理を行わなくとも耐候性に優れ、白ヤケ現象が起りにくく、ガラス転移点が６８０℃以上であり、かつ耐酸性に優れたデータ記憶媒体用基板用ガラスの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、質量％表示で、ＳｉＯ２を４７〜６０％、Ａｌ２Ｏ３を８〜２０％、ＭｇＯを０〜８％、ＣａＯを０〜６％、ＳｒＯを１〜１８％、ＢａＯを０〜１３％、ＴｉＯ２を１〜６％、ＺｒＯ２を１〜５％、Ｎａ２Ｏを２〜８％、Ｋ２Ｏを１〜１５％含有し、ガラス転移点が６８０℃以上であることを特徴とするデータ記憶媒体用基板ガラスを提供する。
また、前記データ記憶媒体用基板ガラスからなるガラス基板を提供する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、以下のような特長を有するデータ記憶媒体用ガラス基板を提供できる。
（１）化学強化処理がなくとも耐候性に優れ、在庫中に付着物（白ヤケ）が発生しにくい。
（２）熱膨張係数が従来使用されているソーダライムシリカガラスと同程度またはそれ以上にできる。
（３）ガラス転移点を、より高い６８０℃以上にできるので、データ記憶媒体の記録密度をより増加させることができる。
（４）耐酸性に優れ、ガラスの研磨工程や洗浄工程においてｐＨの低い薬液に晒されたときに面荒れが起こりにくい。
（５）密度が２．８ｇ／ｃｍ３以下と小さく、データ記録媒体として採用された際、軽量化が可能である。また、基板がたわみにくいため、記録容量を増大させることが可能である。また、記録媒体が衝撃を受けた際、割れにくい。
（６）ヤング率が７５ＧＰａ以上と高く、基板がたわみにくいため、記録容量を増大させることが可能である。また、記録媒体が衝撃を受けた際、割れにくい。
（７）ガラス基板製造時における失透による歩留まりの低下を抑制できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明の基板用ガラス（以下、単に本発明のガラスということがある。）は、磁気ディスク、光ディスク等のデータ記憶媒体用の基板に用いられる。なお、特に言及しない限り、組成は質量百分率で表記する。【０００９】
本発明のガラスの耐酸性（９０℃の０．１ｍｏｌ／ｌのＨＣｌ水溶液に２０時間ガラスを浸漬したときの重量減少量）は５ｍｇ／ｃｍ２以下であることが好ましい。より好ましくは１ｍｇ／ｃｍ２以下、特に好ましくは０．５ｍｇ／ｃｍ２以下、最も好ましくは０．１ｍｇ／ｃｍ２以下である。上記の耐酸性が好ましい理由は、ガラスの研磨工程や洗浄工程においてｐＨの低い薬液に晒されたときに面荒れを起こしにくいためである。【００１０】
本発明のガラスの５０〜３５０℃における平均線膨張係数（以下、熱膨張係数ということがある。）は、ソーダライムシリカガラスと同程度またはそれ以上、すなわち７５×１０-7／℃以上であることが好ましい。より好ましくは７６×１０-7／℃以上、特に好ましくは７７×１０-7／℃以上、最も好ましくは７８×１０-7／℃以上である。上記の熱膨張係数が好ましい理由は、データ記憶媒体用基板に取り付けるハブの金属の熱膨張係数（典型的には１００×１０-7／℃以上）により近い熱膨張係数、少なくとも従来使用されているソーダライムシリカガラスの熱膨張係数以上であることが求められているからである。【００１１】
本発明のガラスのガラス転移点は６８０℃以上である。より好ましくは６８５℃以上、最も好ましくは６９０℃以上である。ガラス転移点が６８０℃以上とされる理由は、データ記憶媒体の記憶密度の増大が容易になるからである。すなわち、記憶密度増大のためには、磁気記録層である磁性層の保磁力を増加させることが有効であり、そのためには磁性層形成に際して行われる熱処理をより高い温度で行う必要がある。データ記憶媒体用基板に用いられるガラスのガラス転移点が６８０℃未満では所望の温度で前記熱処理を行えないおそれがある。【００１２】
本発明のガラスは、その粘度が１０4ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ4と液相温度ＴLとの差ΔＴ（＝ＴL−Ｔ4）が５０℃以下、すなわちΔＴ≦５０℃であることが好ましい。ΔＴが５０℃超では成形が困難になるおそれがある。より好ましくは３０℃以下、特に好ましくは０℃以下である。上記のΔＴが好ましい理由は、フロート法、フュージョン法、ダウンドロー法、プレス法などで大量生産を行う際、失透による歩留低下を抑制するためである。中でも、本発明のガラスはフロート法で成形できることが好ましい。【００１３】
本発明のガラスはその密度が２．８ｇ／ｃｍ３以下であることが好ましい。より好ましくは２．７７ｇ／ｃｍ３以下、最も好ましくは２.７５ｇ／ｃｍ３以下である。上記の密度が好ましい理由はデータ記録媒体の軽量化を行うためである。また、記録媒体の記録容量を増すために基板の薄板化を行い、記録媒体と読み取りヘッドの間隔を小さくする際、前記基板の薄板化に伴う基板のたわみやそりの増大を抑えるためである。また記録媒体が衝撃を受けた際、基板をたわみにくくし、応力の発生を抑え、割れにくくするためである。【００１４】
本発明のガラスのヤング率すなわち本発明のガラス基板のヤング率は７５ＧＰａ以上であることが好ましい。より好ましくは７６ＧＰａ以上、特に好ましくは７８ＧＰａ以上、最も好ましくは８０ＧＰａ以上である。上記のヤング率が好ましい理由は記録媒体の記録容量を増すために基板の薄板化を行い、記録媒体と読み取りヘッドの間隔を小さくする際、前記基板の薄板化に伴う基板のたわみやそりの増大を抑えるためである。また記録媒体が衝撃を受けた際、基板をたわみにくくし、応力の発生を抑え、割れにくくするためである。【００１５】
次に、本発明の基板用ガラスの組成（各成分の含有量）について、酸化物基準により、特に断らない限り質量百分率表示で説明する。
ＳｉＯ2はガラスの骨格を形成する必須成分である。４７％未満では、ガラスが不安定になる。また、耐候性や耐酸性、ヤング率が低下するおそれがある。好ましくは４８％以上、特に好ましくは４９％以上、最も好ましくは５０％以上である。６０％超では、熱膨張係数が小さくなりすぎ、ガラスを作製するための溶解温度が高くなりすぎる。好ましくは５７％以下である。
また、ＳｉＯ2のモル百分率表示含有量は５９％以上であることが好ましい。ＳｉＯ2が５９モル％未満では耐酸性が低下するおそれがある。【００１６】
Ａｌ2Ｏ3はガラスの耐候性、ヤング率を高くする効果を有し、必須成分である。また、ガラス転移点を高くする効果も有する。８％未満では前記効果が小さい。好ましくは１０％以上、より好ましくは１１％以上である。２０％超では溶融ガラスの粘度が高くなりすぎ成形、特にフロート成形が困難になる。また、液相温度も高くなりすぎる。好ましくは１８％以下、より好ましくは１７％以下、特に好ましくは１６％以下である。【００１７】
ＭｇＯは必須成分ではないが、溶融ガラスの粘度を低下させガラスを溶融しやすくし、ヤング率を高くする効果を有し、８％まで含有してもよい。８％超では化学耐久性が悪化し、ガラスが不安定になり、液相温度も高くなりすぎるおそれがある。前記ΔＴをより小さくしたい場合などには７％以下とすることが好ましい。ＭｇＯを含有する場合、１％以上含有することが好ましい。【００１８】
ＣａＯは必須成分ではないが、溶融ガラスの粘度を低下させ、ヤング率を高くし、またはガラスを溶融しやすくする効果を有し、６％まで含有してもよい。ＣａＯが６％超ではガラスの化学耐久性が悪化し、ガラスが不安定になり、または液相温度が高くなりすぎるおそれがある。好ましくは５．５％以下である。なお、液相温度を低下させたい場合またはΔＴをより小さくしたい場合であってもＣａＯは１．５％以上含有することが好ましい。仮にＣａＯを１．５％未満にしようとすると熱膨張係数が低下傾向となる。これを回避するためにたとえば、アルカリ金属酸化物を増加させるとガラス転移点が低下し、ＳｒＯ、ＢａＯを増加させると密度が大きくなり、ＭｇＯを増加させると液相温度が高くなる、などの問題が起こる。好ましくは２％以上である。【００１９】
ＳｒＯは熱膨張係数を大きくし、また溶融ガラスの粘度を低下させガラスを溶融しやすくする効果を有し、必須である。１％未満では前記効果が小さい。好ましくは２％以上、より好ましくは３％以上、特に好ましくは４％以上、最も好ましくは５％以上である。１８％超では化学耐久性が悪化し、ガラスが不安定になり、液相温度も高くなりすぎ、ガラスの密度が高くなりすぎるおそれがある。好ましくは１７％以下、より好ましくは１６％以下、特に好ましくは１５％以下、最も好ましくは１４％以下である。【００２０】
ＢａＯは必須成分ではないが、ガラス転移点を高くし、熱膨張係数を大きくし、また溶融ガラスの粘度を低下させガラスを溶融しやすくする効果を有し、１３％まで含有してもよい。１３％超ではガラスの耐候性を低下させ、液相温度が高くなりすぎ、ガラスの密度が高くなりすぎるおそれがある。好ましくは１０％以下である。密度を小さくしたい場合などには８％以下とすることが好ましい。ＢａＯを含有する場合、０．５％以上含有することが好ましい。なお、耐候性をより向上させたい場合にはＢａＯを実質的に含有しないことが好ましい。【００２１】
ＴｉＯ2は、熱膨張係数を大きくし、ガラスの耐候性を高くし、ガラス転移点を高くし、またはヤング率を高くする効果を有し、必須である。６％超ではガラスが不安定になるおそれがある。好ましくは５％以下である。１％未満ではガラスの耐熱性またはガラス転移点が低下する。２％以上含有することが好ましく、３％以上含有することがより好ましい。【００２２】
ＺｒＯ2は、ガラスの耐候性を高くし、またガラス転移点を高くする効果を有し、必須である。５％超ではガラスが不安定になり、液相温度が高くなりすぎ、密度が高くなりすぎるおそれがある。【００２３】
ＴｉＯ２およびＺｒＯ２の含有量の和（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）は１１％以下であることが好ましい。（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）が１１％未満では耐熱性もしくはガラス転移点が低下する、または高温粘性が高くなるおそれがある。
ＢａＯおよびＺｒＯ２の含有量の和は６．５モル％以下であることが好ましい。この和が６．５モル％超では密度または液相温度が高くなりすぎるおそれがある。【００２４】
Ｎａ2Ｏは、熱膨張係数を大きくし、また溶融ガラスの粘度を低下させガラスを溶融しやすくする効果を有し、必須である。
Ｎａ2Ｏが８％超ではガラスの耐候性を低下させるおそれがある。好ましくは５％以下である。２％未満では熱膨張係数が小さくなる。【００２５】
Ｋ2Ｏは、熱膨張係数を大きくし、また溶融ガラスの粘度を低下させガラスを溶融しやすくする効果を有し、必須である。
Ｋ2Ｏが１５％超ではガラスの耐候性を低下させ、液相温度が高くなりすぎるおそれがある。好ましくは１４．５％以下、より好ましくは１３％以下、特に好ましくは１２％以下、最も好ましくは１１％未満である。１％未満では熱膨張係数が小さくなる。好ましくは３％以上、より好ましくは５％以上である。【００２６】
（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）は１６％以下であることが好ましい。１６％超では、耐候性が低下する、またガラス転移点が低くなるおそれがある。好ましくは１５％以下、より好ましくは１４％以下、特に好ましくは１３％以下である。（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）は５％以上であることが好ましい。５％未満では溶融ガラスの粘度が高くなりすぎるおそれがある。より好ましくは８％以上である。【００２７】
Ｋ２Ｏ／Ｎａ２Ｏは１．５以上４０以下であることが好ましい。１．５未満では、ガラス転移点が低くなる、または熱膨張係数が小さくなりすぎるおそれがある。あるいは、ガラス転移点の低下を抑制するためにＡｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＳｉＯ２等をより多く含有しなければならなくなるなどにより高温粘性が高くなるおそれがある。４０超では溶融ガラスの粘度が高くなりすぎるおそれがある。好ましくは３０以下、より好ましくは１０以下、特に好ましくは５以下である。【００２８】
ＳｉＯ２／（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）は５．０〜１０．０であることが好ましい。５.０未満では、ガラス転移点が低くなるおそれがある。１０超では液相温度が高くなるおそれがある。好ましくは９．８以下、より好ましくは９．５以下である。【００２９】
本発明のガラスは実質的に、または本質的に上記成分からなるが、この他に以下に例示する成分などを、本発明の目的を損なわない範囲で含有してもよい。上記成分以外の成分の含有量の合計は２０％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましい。
ＳＯ3、Ｃｌ、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3等の清澄剤、Ｆｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、ＣｏＯ等の着色剤、を合量で５％まで含有してもよい。【００３０】
熱膨張係数を大きくし、また溶融ガラスの粘度を低下させガラスを溶融しやすくするためにＺｎＯ、Ｌｉ2Ｏを合計で１０％まで含有してもよい。Ｌｉ2Ｏを含有する場合、その含有量は０．１〜５％であることがより好ましい。Ｌｉ2Ｏの含有量が５％超では耐候性が低下する、またガラス転移点が低くなるおそれがある。合計はより好ましくは５％以下、特に好ましくは３％以下である。【００３１】
ガラスの溶解性や安定性を向上させるために、Ｂ2Ｏ３、Ｐ2Ｏ5、Ｖ2Ｏ5等を、ヤング率を大きくするためにＬａ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3等の希土類金属酸化物を、それらの合量で１５％まで含有してもよい。好ましくは５％以下である。【００３２】
ＲＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯのモル％表示の含有量の合計）に対するＳｒＯとＢａＯのモル％表示の含有量の合計の比は、０．０１以上３以下であることが好ましい。０．０１未満では、ガラスの液相温度が高くなりすぎ、ガラス転移点が低くなるおそれがある。３超ではガラスの耐候性を低下させ、ガラスの密度が高くなりすぎ、ガラスの強度を低下させるおそれがある。好ましくは２以下、より好ましくは１以下である。【００３３】
本発明のガラス基板は、磁気ディスク、光ディスク等のデータ記憶媒体用の基板として用いられる。
本発明のガラス基板は本発明のガラスからなり、表面を充分洗浄して付着物が認められない状態にした後、１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時間保持したとき、該ガラス基板表面に存在する大きさが１０μｍ以上の付着物の数ＮLは１個／ｃｍ2以下であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の数ＮSは１０７個／ｃｍ2以下であることが好ましい。【００３４】
ＮLが１個／ｃｍ2超またはＮSが１０７個／ｃｍ2超では、ガラス基板在庫中にガラス基板表面に付着物（白ヤケ）が発生し、磁気ディスクにおいてはガラス基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜がはがれやすくなる。この付着物は、空気中の水分や炭酸ガスの影響によりガラス基板に生成付着した反応生成物であると考えられ、拭いても除去できないものである。ＮLは好ましくは０．５個／ｃｍ2以下、より好ましくは０．２個／ｃｍ2以下である。ＮSは好ましくは１０５個／ｃｍ2以下、より好ましくは０．８×１０5個／ｃｍ2以下、特に好ましくは０．６×１０5個／ｃｍ2以下である。【００３５】
本発明のガラスおよびガラス基板の製造方法は特に限定されず、各種方法を適用できる。たとえば、通常使用される各成分の原料を目標組成となるように調合し、これをガラス溶融窯で加熱溶融する。バブリング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化し、周知のフロート法、プレス法、またダウンドロー法などの方法により所定の厚さの板ガラスに成形し、徐冷後必要に応じて研削、研磨などの加工を行った後、所定の寸法・形状のガラス基板とされる。成形法としては、特に、大量生産に適したフロート法が好適である。
【実施例】
【００３６】
各成分の原料を表１、２のＳｉＯ2からＫ2Ｏまでの欄に質量百分率表示で示した組成となるように調合し、白金るつぼを用いて１５５０〜１６５０℃の温度で３〜５時間溶解した。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形し、徐冷した。【００３７】
こうして得られたガラス板について、ガラス転移点Ｔg（単位：℃）、熱膨張係数α（単位：×１０-7／℃）、密度ρ（単位：ｇ／ｃｍ3）、ヤング率Ｅ（単位：ＧＰａ）、粘度が１０4Ｐとなる温度Ｔ4（単位：℃）、液相温度ＴL（単位：℃）、耐酸性Ａ（単位：ｍｇ／ｃｍ２）、前記ＮL（単位：個／ｃｍ2）、前記ＮS（単位：１０4個／ｃｍ2）を、以下に示す方法により測定した。結果を表に示す。なお、表中の＊を付したものは組成から推定した値であり、「−」は測定しなかったことを示す。【００３８】
Ｔg：示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを参照試料として室温から５℃／分の割合で昇温した際のガラスの伸び率を、ガラスが軟化してもはや伸びが観測されなくなる温度、すなわち屈伏点まで測定し、熱膨張曲線における屈曲点に相当する温度をガラス転移点とした。【００３９】
α：前記Ｔgの測定と同様にして得られた熱膨張曲線から５０〜３５０℃における平均線膨張係数を算出した。
ρ：アルキメデス法により測定した。
Ｅ：厚さが８〜２０ｍｍ、大きさが４ｃｍ×４ｃｍのガラス板について、超音波パルス法により測定した。
Ｔ4：回転粘度計により測定した。
ＴL：ガラスを乳鉢で２ｍｍ程度のガラス粒に粉砕し、このガラス粒を白金ボートに並べて置き、温度傾斜炉中で２４時間熱処理した。結晶が析出しているガラス粒の温度の最高値を液相温度とした。ＴLは１２００℃以下であることが好ましい。【００４０】
Ａ：厚さが２ｍｍ、大きさが４ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面を鏡面研磨し、炭酸カルシウムおよび中性洗剤を用いて洗浄した後、９０℃に加熱した０．１ｍｏｌ／ｌのＨＣｌ水溶液に２０時間浸漬した。浸漬前後におけるガラスの重量減少量、およびガラスの表面積を測定し、その比を取ることで耐酸性とした。【００４１】
ＮL、ＮS：厚さが１〜２ｍｍ、大きさが４ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面を鏡面研磨し、炭酸カルシウムおよび中性洗剤を用いて洗浄した後、超加速寿命試験器（不飽和型プレッシャークッカーＴＰＣ−４１０、タバイエスペック（株））に入れて１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時間静置した。取り出したガラス板の表面２００μｍ角の範囲を微分干渉顕微鏡で観察し、大きさが１０μｍ以上の付着物の個数と大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の個数をカウントし、これら個数と前記観察面積２００μｍ×２００μｍから算出した。【００４２】
例１〜８のガラスは実施例であり、例９〜１３のガラスは比較例である。例１０のガラスは米国特許第６，９４９，４８５号明細書（例８）に記載されているガラスである。【００４３】
【表１】
2008117758.tif 000002
【００４４】
【表２】
2008117758.tif 000003
【００４５】
【表３】
2008117758.tif 000004
【００４６】
【表４】
2008117758.tif 000005
表５、６に質量％表示のガラス組成とその組成から推定したＴg、α、ρ、Ｅ、Ｔ4、ＴL、Ａ、ＮL、ＮSを示す。例１４〜２２は実施例、例２３は比較例である。
また、表７、８に例１４〜２３のガラスのモル％表示組成を示す。【００４７】
【表５】
2008117758.tif 000006
【００４８】
【表６】
2008117758.tif 000007
【００４９】
【表７】
2008117758.tif 000008
【００５０】
【表８】
2008117758.tif 000009
【産業上の利用可能性】
【００５１】
本発明によるガラス基板は、磁気ディスク、光ディスク等のデータ記憶媒体の基板として極めて広範な分野に利用される。
なお、２００７年３月２３日に出願された日本特許出願２００７−０７７０２０号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【国際調査報告】
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