【手続補正書】
【提出日】平成16年11月12日(2004.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  反応チャンバでの処理に関するデータを得る方法であって、
処理中に前記反応チャンバを通過した反応チャンバの外部のガスをサンプリングするステップであり、前記ガスを励起チャンバに拡散する該ステップと、
放射線を放射するために少なくとも一つの外部電極を用いて前記サンプリングされたガスを励起するステップと、及び
放射スペクトルの複数の波帯を前記放射された放射線からリアル・タイムで検出するステップとを具備する方法。
【請求項２】  前記サンプリングされたガスは、少なくとも一つの排出ガス流からのものであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記外部電極は、誘導的に前記サンプリングされたガスに結合することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記外部電極は、静電的に前記サンプリングされたガスに結合することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】  前記励起するステップは、前記サンプリングされたガスを内部点火装置にさらすことを必要としないことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】  前記励起するステップは、前記サンプリングされたガスを内部点火装置にさらすことを必要としないことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項７】  前記検出するステップは、複数の検出装置が前記放射スペクトルにおける単一のピークに反応するのに十分狭い帯域幅に反応する検出装置を利用することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】  前記検出するステップは、複数の検出装置が前記放出スペクトルにおける単一のピークに反応するのに十分狭い帯域幅に反応する検出装置を利用することを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項９】  リアル・タイムでの前記検出するステップは、２０ｍｓ．以下の放射された放射線に反応する検出装置を利用することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  前記検出するステップは、５１２以上の検出装置のアレイを利用することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】  反応チャンバでの処理に関するデータを得る方法であって、
処理中に、前記反応チャンバを通過した反応チャンバの外部のガスをサンプリングするステップと、
放射線を放射するために誘導的または静電的結合によって前記サンプリングされたガスを励起するステップと、および
放射スペクトルの複数の波帯を前記放射された放射線からリアル・タイムで検出するステップとを具備することを特徴とする方法。
【請求項１２】  前記サンプリングするステップは、少なくとも一つの排出ガス流をサンプリングすることを含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  前記排出ガス流の少なくとも一部は、前記排出ガス流の流れからずれている前記励起チャンバに拡散することを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  前記検出するステップは、複数の検出装置が前記放射スペクトルにおける単一のピークに反応するのに十分狭い帯域幅に反応する検出装置を利用することを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】  反応チャンバでの処理に関するデータを得る方法であって、
処理中に前記反応チャンバを通過した反応チャンバの外部のガスをサンプリングするステップと、
放射線を放射するために前記サンプリングされたガスを励起するステップと、および
複数の検出装置が前記放出スペクトルにおける単一のピークに反応するのに十分狭い帯域幅に反応する検出装置を利用して、放射スペクトルの複数の波帯を前記放射された放射線からリアル・タイムで検出するステップとを具備することを特徴とする方法。
【請求項１６】  前記サンプリングするステップは、前記反応チャンバからの少なくとも一つの排出ガス流をサンプリングすることを含むことを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】  前記排出ガス流は、前記励起チャンバを通過することを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】  前記励起するステップは、前記サンプリングされたガスを内部点火装置にさらすことを必要としないことを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１９】  前記検出するステップは、５１２以上の検出装置のアレイを利用することを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項２０】  反応チャンバでの処理に関するデータを得る方法であって、
処理中に前記反応チャンバを通過した反応チャンバの外部のガスをサンプリングするステップと、
放射線を放射するためにエネルギーで前記サンプリングされたガスを励起するステップと、
放射スペクトルの複数の波帯を前記放射された放射線からリアル・タイムで検出するステップと、及び
前記放射された放射線を増加または減少するためにリアル・タイムで前記エネルギーを調整するステップとを具備することを特徴とする方法。
【請求項２１】  反応チャンバでの処理のリアル・タイム制御の方法であって、
処理中に前記反応チャンバを通過した反応チャンバの外部のガスをサンプリングするステップと、
放射線を放射するために前記サンプリングされたガスを励起するステップと、  放射スペクトルの複数の波帯を前記放射された放射線からリアル・タイムで検出するステップと、及び
前記検出された波帯に基づいてリアル・タイムで前記処理を制御するステップとを具備することを特徴とする方法。
【請求項２２】  前記処理は、フッ素を含むプラズマで前記反応チャンバを清掃することを含むことを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】  前記処理は、所定の壁状態に前記反応チャンバを調整することを含むことを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】  前記処理は、前記反応チャンバを通してガス流を較正することを含むことを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２５】  前記処理は、クロロフルオロカーボンを生成することを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２６】  前記処理を制御するステップは、前記反応チャンバへの周囲ガスの漏洩に反応することを含むことを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２７】  反応チャンバでの処理を監視する方法であって、
処理中に前記反応チャンバを通過した反応チャンバの外部のガスをサンプリングするステップと、
放射線を放射するために前記サンプリングされたガスを励起するステップと、
放射スペクトルの複数の波帯を前記放射された放射線からリアル・タイムで検出するステップと、及び
前記検出された波帯の少なくとも一部分の一つ以上の特性に対する複数の読み出しをリアル・タイムでユーザに表示するステップとを具備することを特徴とする方法。
【請求項２８】  前記表示するステップは、前記検出された波帯の少なくとも一部分の強度の測度をグラフに表すこと、及び前記強度の測度と前記グラフ上でユーザが選択した点の波長に対する数値を報告することを含むことを特徴とする請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】  前記表示するステップは、複数の波長の代数的組み合わせのユーザ選択と、及び前記代数的組み合わせのストリップ・チャート表示とを含むことを特徴とする請求項２７に記載の方法。
【請求項３０】  前記表示するステップは、前記波帯の検出に対する積分時間に対するパラメータのユーザ選択と、平均化された前記積分された検出の数と、及び前記平均化され積分された検出の平滑化とを含むことを特徴とする請求項２７に記載の方法。
【請求項３１】  既知のスペクトル・ピークを有する未知のフロー・ガスの定量的測度を得る方法であって：
反応チャンバに既知のスペクトル・ピークを有する公知の基準ガスのフローを導入するステップと、
前記反応チャンバを通過した反応チャンバの外部のガスをサンプリングするステップと、
放射線を放射するために前記サンプリングされたガスを励起するステップと、
前記放射された放射線から前記既知のフロー基準ガス並びに前記未知のフロー・ガスの前記公知のスペクトル・ピークに対応して波帯をリアル・タイムで検出するステップと、及び
前記検出された波帯から前記未知のフロー・ガスの定量的測度を決定するステップとを具備することを特徴とする方法。
【請求項３２】  前記基準ガスは、アルゴンであることを特徴とする請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】  前記基準ガスの既知のスペクトル・ピークは、およそ７５０ｎｍに中心を有することを特徴とする請求項３１に記載の方法。
【請求項３４】  前記未知のフロー・ガスの前記決定されたフローに基づいて、前記反応チャンバにおける処理を制御することを更に含むことを特徴とする請求項３１に記載の方法。
【請求項３５】  プラズマ・ソースを有する改良された分光システムであって、
前記プラズマ・ソースによって生成されたプラズマから放射された放射線の収集に対するウィンドを含む、プラズマ・ソースを有する分光システムと、
前記分光システムによって分析されたガスに係わりなく、前記プラズマ・ソースにイオン化ガスを供給する補足的ガス・ソースと、及び
前記分光システムが停止している間に、前記ガス・ソースを起動しかつ前記ウィンドを清掃するのに十分な時間に対して前記ガス・ソースを通電するための制御ロジックとを備えていることを特徴とする分光システム。
【請求項３６】  前記イオン化ガスは、窒素を含むことを特徴とする請求項３５に記載の分光システム。
【請求項３７】  前記イオン化ガスは、酸素を含むことを特徴とする請求項３５に記載の分光システム。
【請求項３８】  前記ガス・ソースは、前記ウィンドに近い前記プラズマ・ソースへの追加的流入部へ前記イオン化ガスを供給することを特徴とする請求項３５に記載の分光システム。
【請求項３９】  前記制御ロジックは、分光分析に使用されるよりも多いエネルギーで前記プラズマ・ソースを通電することを特徴とする請求項３５に記載の分光システム。
【請求項４０】  プラズマ・ソースを有する分光システムであって、
前記プラズマ・ソースによって生成されたプラズマから放射された放射線の収集に対するウィンドを含む、プラズマ・ソースを有する分光システムであり、処理ステップおよび洗浄ステップを含む処理を監視するために使用される該分光システムと、及び
前記処理ステップからの物質のウィンドを清掃するために十分な時間に対して前記洗浄ステップの間に前記プラズマ・ソースを通電するための制御ロジックと
を含んでいることを特徴とする改善されたシステム。
【請求項４１】  プラズマ・ソースを有する分光システムであって、
前記プラズマ・ソースによって生成されたプラズマから放射された放射線の収集に対するウィンドを含む、プラズマ・ソースを有する分光システムと、及び
実質的に堆積した物質がクリアされたことを維持するために前記ウィンドに十分な熱を供給する一つ以上の加熱素子とを含んでいることを特徴とする改良されたシステム。
【請求項４２】  前記加熱素子は、前記ウィンドに隣接し、かつ前記ウィンドの近傍に熱を供給することを特徴とする請求項４１に記載の分光システム。
【請求項４３】  前記プラズマ・ソースは、励起チャンバを含み、かつ前記加熱素子は、前記励起チャンバ及び前記ウィンドに隣接し、かつ該励起チャンバ及び該ウィンドに熱を供給することを特徴とする請求項４１に記載の分光システム。
【請求項４４】  前記プラズマ・ソースとガス伝達する排出サンプル・ラインを更に含み、前記加熱素子は、前記排出サンプル・ラインに熱を供給することを特徴とする請求項４１に記載の分光システム。
【請求項４５】  処理の動作中に反応チャンバ内の状態を分析する方法であって、
プラズマ・ソース及び分光検出装置アレイを利用して前記処理の動作中に前記反応チャンバからの排出ガスを特徴付けることを含む方法。
【請求項４６】  プラズマ・ソース及び分光検出装置アレイを利用して処理の動作中に追加反応チャンバからの排出ガスを特徴付けるステップと、及び前記反応チャンバ及び前記追加反応チャンバの特徴付けの間の差に反応する該追加反応チャンバの状態を調整するステップとを更に含むことを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項４７】  非反応ガスのフローの間に反応装置チャンバ内の状態を分析する方法であって、
プラズマ・ソース及び分光検出装置アレイを利用して前記非反応ガス・フローの間に前記反応チャンバからの排出ガスを特徴付けるステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項４８】  前記反応チャンバの壁からの物質の脱着を監視することをさらに含むことを特徴とする請求項４７に記載の方法。
【請求項４９】  前記反応チャンバの壁からの物質の拡散を監視することをさらに含むことを特徴とする請求項４７に記載の方法。
【請求項５０】  処理の動作中に反応チャンバの動作を制御する方法であって、
前記処理の動作中に前記反応チャンバからの排出ガスのマルチバンド分光分析に反応して前記処理のパラメータの動作を改めることを含むことを特徴とする方法。
【請求項５１】  前記マルチバンド分光分析は、前記反応チャンバの外部にプラズマを生成し、かつ分光検出装置アレイを利用して前記プラズマからの放射物を分析することを含むことを特徴とする請求項５０に記載の方法。
【請求項５２】  前記反応チャンバは、反応プラズマを通電するために回転磁場を利用し、かつ前記反応チャンバの外部でプラズマを生成するステップは、前記回転磁場から隔離されることを特徴とする請求項５０記載の方法。
【請求項５３】  前記マルチバンド分光分析は、分光ピークに対応する複数のマルチ帯域の測定値を結合させることを含むことを特徴とする請求項５０に記載の方法。
【請求項５４】  前記処理は、前記反応チャンバの壁を清掃することを含み、前記マルチバンド分光分析は、一つが記壁から消耗され、別の一つが処理中に前記反応チャンバに供給される、少なくとも二つの反応物を表す波帯を含むことを特徴とする請求項５０に記載の方法。
【請求項５５】  反応チャンバの内部における状態を監視する方法であって、
処理の動作中に前記反応チャンバからの排出ガスのマルチバンド・スペクトログラフを捕獲するステップと、
前記マルチバンド・スペクトログラフに存在する複数のピークを決定するステップと、
一組の基準ピークと前記存在するピークとを比較するステップと
を含むことを特徴とする方法。
【請求項５６】  前記一組の基準ピークは、前記処理の通常動作を表すピークを含み、さらに、前記基準ピークから前記マルチバンド・スペクトログラフにおける有効偏差を報告することを含むことを特徴とする請求項５５に記載の方法。
【請求項５７】  前記一組の基準ピークは、前記処理の異常な動作を表すピークを含み、さらに前記マルチバンド・スペクトログラフと前記基準ピークとの間の適合を報告することを含むことを特徴とする請求項５５に記載の方法。
【請求項５８】  存在する前記複数のピークを決定する前に、基準スペクトログラフをマルチバンド・スペクトログラフから減じることをさらに含むことを特徴とする請求項５５に記載の方法。
【請求項５９】  環境放電を監視する方法であって、
処理の動作中に反応チャンバからの排出ガスのマルチバンド・スペクトログラフを捕獲するステップと、および
前記マルチバンド・スペクトログラフから前記排出ガスにおける環境に敏感な物質の濃度を決定するステップとを含むことを特徴とする方法。
【請求項６０】  前記反応チャンバは、ウェハを取り扱うことを特徴とする請求項５９に記載の方法。
【請求項６１】  前記反応チャンバは、スクラバーであることを特徴とする請求項５９に記載の方法。
【請求項６２】  前記反応チャンバは、除去ツールであることを特徴とする請求項５９に記載の方法。
【請求項６３】  排出ガス・フロー・データを捕獲すること、および前記排出ガスにおける環境的に敏感な物質の質量を決定することをさらに含むことを特徴とする請求項５９に記載の方法。
【請求項６４】  複数のウェハ処理反応チャンバとのガス伝達において複数の除去反応チャンバからの排出の流れにおける少なくとも一つの環境的に敏感な物質を監視するシステムであって、
前記除去反応チャンバとガス伝達で結合された、プラズマ・ソースを有する複数の分光システムと、及び
前記分光システムとデータ通信で結合された一つ以上のデータ収集及び記録装置とを含むことを特徴とするシステム。
【請求項６５】  再生するために一つ以上の選択された除去反応チャンバから前記記録されたデータの少なくとも一部分を選択するためのユーザ・インタフェースをさらに含むことを特徴とする請求項６４に記載のシステム。
【請求項６６】  前記ウェハ取扱い反応チャンバとのガス伝達において、複数のウェハ処理反応チャンバ並びに複数の除去反応チャンバからの排出の流れにおける、少なくとも一つの環境的に敏感な物質を監視するシステムであって、
前記ウェハ処理反応チャンバ並びに前記除去反応チャンバの排出ガス流とのガス伝達において結合された、プラズマ・ソースを有する複数の分光システムと、及び
前記分光システムとデータ通信で結合された一つ以上のデータ収集及び記録装置とを含むことを特徴とするシステム。
【請求項６７】  再生のために一つ以上の選択されたウェハ処理反応チャンバおよび／または除去反応チャンバから記録されたデータの少なくとも一部分を選択するためのユーザ・インタフェースを更に含むことを特徴とする請求項６６に記載のシステム。