【手続補正書】
【提出日】平成16年7月15日(2004.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  処理するべき導電材料製対象物を空中プラズマによって処理するための方法であって、プラズマ発生器によるプラズマ噴射の発生、処理するべき対象物の処理するべき表面へのプラズマ噴射の適用及びプラズマ発生器に対する処理するべき対象物の相対変位を含み、前記プラズマ噴射の少なくとも１つが陰極噴射、少なくとも１つが陽極噴射であり、該陽極噴射は処理するべき前記表面の陰極噴射近くの処理ゾーンに適用されることを特徴とする方法。
【請求項２】  陰極プラズマ噴射および陽極プラズマ噴射を発生させるための電流が、１つは、処理するべき対象物を流れるＩ３、他の２つが陽極プラズマ噴射および陰極プラズマ噴射に供給されるＩ１、Ｉ２の３つの部分に分割されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  陰極噴射が、処理するべき表面と鋭角角度αを形成することを特徴とする請求項１または２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項４】  陽極噴射が、処理するべき表面と、陰極噴射と処理するべき表面の間に形成される角度αより大きい角度βを形成することを特徴とする請求項１、２または３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】  陽極噴射と処理するべき表面の間の角度βが９０°に近いか、あるいは実質的に９０°であることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】  陰極噴射と処理するべき表面の間の角度αが、２５°と６０°の間であることを特徴とする請求項３、４または５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】  処理するべき対象物のプラズマ発生器に対する移動方向に対して横方向に交互に配列された陽極噴射シリーズおよび陰極噴射シリーズの発生を含むことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】  陰極噴射が受け取るインパルスの電力が、陽極噴射が受け取るインパルスの電力より大きいことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】  処理するべき対象物によって引きずられる空気またはガスの流れが、処理ゾーンの上流側の処理するべき表面から分離されることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】  処理するべき対象物によって引きずられるガスの流れが、処理ゾーンの上流側で層流化されることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】  プラズマ噴射が、プラズマ発生器に対する処理するべき対象物の移動方向ｖに対して、鋭角角度γで向けられることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】  処理するべき対象物の形態が箔であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】  プラズマ噴射が箔の両側に配置されることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】  箔の一方の側のプラズマ噴射が、箔のもう一方の側のプラズマ噴射に対してオフセットされるように配列されることを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】  処理するべき対象物の形態がワイヤであることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】  追加ガスＱの１つまたは複数の噴射がプラズマ噴射に向けられ、処理するべき対象物に向けられるプラズマ噴射の幅を広げ、あるいはプラズマ噴射を圧縮することを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】  プラズマが作用している間、処理するべき対象物上に音響振動または超音波振動が生成されることを特徴とする請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】  音響振動または超音波振動が、電気パルスを供給することによってプラズマを発生させるプロセスを通して生成され、電流の大きさを大きくするプロセスが等積になるよう、供給される電流パルスの振幅の前縁継続時間が十分に短いことを特徴とする請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１９】  電流パルスの周波数が音響振動の周波数に近いか、あるいは等しいことを特徴とする請求項１乃至１８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２０】  交番磁界が、磁界が交番することによって生じるアンペア力によってプラズマ噴射の掃引発振が生じるように生成されることを特徴とする請求項１乃至１９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２１】  磁界の発振周波数νが、プラズマ噴射の直径に対する処理するべき対象物の相対移動速度の比率以上であることを特徴とする請求項１乃至２０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２２】  請求項１乃至２１のいずれか１項に記載の方法を実施するための装置であって、少なくとも１つの陰極プラズマ噴射発生器及び少なくとも１つの陽極プラズマ噴射発生器を備え、前記陽極噴射が、処理するべき表面の前記陰極噴射近くの処理ゾーンに適用されることを特徴とする装置。
【請求項２３】  プラズマ噴射を供給するための電気回路、処理するべき対象物の一部によってクローズするループ、処理するべき対象物を流れる電流Ｉ３を変化させるための手段を備えることを特徴とする請求項２２に記載の装置。
【請求項２４】  プラズマ噴射発生器が、電極、安定化チャネル、プラズマ噴射を形成するためのノズル、および供給システムであって、該供給システムは、および電極を保護するガスの流れ、およびプラズマ噴射にもたらされる追加ガスの流れを導入し、かつ、制御することができる供給システムを備えることを特徴とする請求項２２または２３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２５】  陰極噴射発生器が、処理するべき表面に鋭角角度αで向けられることを特徴とする請求項２２、２３または２４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２６】  陽極噴射発生器が、陰極噴射発生器と処理するべき表面の間の角度αより大きい角度βで、処理するべき表面に向けられることを特徴とする請求項２２、２３、２４または２５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２７】  陽極噴射発生器と処理するべき表面の間の角度βが９０°に近いか、あるいは実質的に９０°であることを特徴とする請求項２６に記載の装置。
【請求項２８】  陰極噴射発生器と処理するべき表面の間の角度αが、２５°と６０°の間であることを特徴とする請求項２６または２５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２９】  プラズマ発生器に対する処理するべき対象物の移動方向に対して横方向に交互に配置された陽極噴射発生器シリーズおよび陰極噴射発生器シリーズを備えることを特徴とする請求項２２乃至２８のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３０】  陰極噴射発生器および陽極噴射発生器が、処理するべき対象物の移動方向ｖに対して横方向に交番し、所与の極性の発生器の各々の軸が、２つの隣接し、相対する極性を有する発生器の軸から等距離になることを特徴とする請求項２２乃至２９のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３１】  箔の形態状の処理されるべき対象物の両側に配列された少なくとも２つのシリーズのプラズマ噴射発生器を備え、上記処理するべき箔の両面が同時、あるいは連続に処理されることを特徴とする請求項２９または３０のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３２】  プラズマ処理ゾーンの上流側に、空気流を安定化させるための装置を備えることを特徴とする請求項２２乃至３１のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３３】  処理するべき箔の両側に配置された箔を通過させるための狭い間隙を形成するし、安定化装置がプラズマ処理ゾーンの混合ガスを制御、かつ、調整するためのボディ、および該間隙に追加ガスＱを導入するための手段を備えることを特徴とする請求項３２に記載の装置。
【請求項３４】  箔を処理するための請求項２２乃至３３のいずれか１項に記載の装置であって、プラズマ処理ゾーンの下流側に、空気流を安定化させるための、冷却装置を備えた装置を備えることを特徴とする装置。
【請求項３５】  プラズマ発生器のそれぞれ上流側および下流側に配列された空力ベアリングを備えることを特徴とする請求項２２乃至３４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３６】  空力ベアリングが、マニホールド（３９）を介して、箔の移動ｖに対して逆流方向に導かれた流出オリフィス（４０）に接続された加圧空気インレット（３８）を備えたボディを備え、それにより箔とベアリングのボディとの間に空気クッションが形成されることを特徴とする請求項２２乃至３５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３７】  下流側のベアリングが水冷式であることを特徴とする請求項２２乃至３６のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３８】  流出オリフィスの形状が縦形であり、かつ、箔の幅に沿って流出オリフィスが分布され、箔の移動方向に対するオリフィスの縦方向の角度δが、箔の中央部では０°に近く、箔の側縁に向かって大きくなることを特徴とする請求項３６または３７のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３９】  ワイヤを処理するために設計された請求項２２に記載の装置であって、処理するべきワイヤに沿って配列された、複数シリーズの陽極プラズマ噴射発生器および陰極プラズマ噴射発生器を備えることを特徴とする装置。
【請求項４０】  シリーズの各々が、処理するべきワイヤの周りに実質的に対称に配列された、複数対の陽極噴射発生器および陰極噴射発生器を備えることを特徴とする請求項２２乃至３９のいずれか１項に記載の装置。
【請求項４１】  シリーズの各々が、管状リアクタによって隣接するシリーズから分離されることを特徴とする請求項３９または４０のいずれか１項に記載の装置。
【請求項４２】  前記管状リアクタが、供給のためのマニホールド、追加反応ガスを放出するためのマニホールド、およびワイヤが装置を通過している間ワイヤをガイドするためのインレット・ガイドおよびアウトレット・ガイドを備えることを特徴とする請求項２２乃至４１のいずれか１項に記載の装置。
【請求項４３】  箔またはプロファイルド・シートを処理するための請求項２２に記載の装置であって、複雑な表面にブロックを適合させるために、互いに移動することができる一連のプラズマ発生器（１１ａ、１１ｂ）のブロック（４８）を備えることを特徴とする装置。
【請求項４４】  ブロックが、ブロックと処理するべき表面の間の距離およびブロックを移動させるモータを制御するためのセンサを備えることを特徴とする請求項２２乃至４３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項４５】  ブロックが、プラズマ噴射を安定化させるための冷却回路（５１）を備えた開口（５０）を有するハウジングを備え、該ハウジングにより、プラズマ噴射を安定化ガス流で囲み、処理するべき表面に向けて導かれるプラズマ（１５）を圧縮することができることを特徴とする請求項４３または４４のいずれか１項に記載の装置。