【手続補正書】
【提出日】平成16年5月12日(2004.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】永久マスクレジスト積層基板の製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線が形成された基板上の感光性樹脂組成物の層に、活性光線を照射し、ついで現像し、水洗液で水洗する永久マスクレジスト積層基板の製造方法であって、
前記永久マスクレジスト積層基板の永久マスクレジストは保護膜として使用されるものであり、前記水洗液には重量基準で５０ppm〜５００ppmの量のカルシウム又はマグネシウムのイオンが混合又は溶解されていることを特徴とする永久マスクレジスト積層基板の製造方法。
【請求項２】
配線が形成された基板上の感光性樹脂組成物の層に、活性光線を照射し、ついで現像し、水洗液で水洗する永久マスクレジスト積層基板の製造方法であって、
前記永久マスクレジスト積層基板の永久マスクレジストは絶縁層として使用されるものであり、前記水洗液には重量基準で５０ppm〜５００ppmの量のカルシウム又はマグネシウムのイオンが混合又は溶解されていることを特徴とする永久マスクレジスト積層基板の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、永久マスクレジスト積層基板の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
そこで本発明者は、感光性樹脂組成物の層に活性光線をパターン状に照射し、永久マスクレジストパターンを形成する方法において、可とう性、はんだ耐熱性、耐薬品性等を低下させずに、現像工程で一価金属の陽イオンの残存による影響で、耐湿絶縁性が低下する現象を防止するために研究を行った結果、水洗水に特定のアルカリ土金属の金属塩を混合することによって上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するまでに至った。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
請求項１、２記載の発明は、永久マスクレジストとしての可とう性、はんだ耐熱性及び耐薬品性を低下させずに、高い耐湿絶縁性を示す永久マスクレジスト積層基板の製造方法を提供するものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、配線が形成された基板上の感光性樹脂組成物の層に、活性光線を照射し、ついで現像し、水洗液で水洗する永久マスクレジスト積層基板の製造方法であって、前記永久マスクレジスト積層基板の永久マスクレジストは保護膜として使用されるものであり、前記水洗液には重量基準で５０ppm〜５００ppmの量のカルシウム又はマグネシウムのイオンが混合又は溶解されていることを特徴とする永久マスクレジスト積層基板の製造方法に関する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、本発明は、配線が形成された基板上の感光性樹脂組成物の層に、活性光線を照射し、ついで現像し、水洗液で水洗する永久マスクレジスト積層基板の製造方法であって、前記永久マスクレジスト積層基板の永久マスクレジストは絶縁層として使用されるものであり、前記水洗液には重量基準で５０ppm〜５００ppmの量のカルシウム又はマグネシウムのイオンが混合又は溶解されていることを特徴とする永久マスクレジスト積層基板の製造方法に関する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。本発明の配線が形成された永久マスクレジスト積層基板の製造方法としては、下記（１）及び（２）の方法が挙げられる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（１）配線が形成された基板上の感光性樹脂組成物の層に、活性光線を照射し、ついで現像し、水洗液で水洗する永久マスクレジスト積層基板の製造方法であって、前記永久マスクレジスト積層基板の永久マスクレジストは保護膜として使用されるものであり、前記水洗液には重量基準で５０ppm〜５００ppmの量のカルシウム又はマグネシウムのイオンが混合又は溶解されていることを特徴とする永久マスクレジスト積層基板の製造方法。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
（２）配線が形成された基板上の感光性樹脂組成物の層に、活性光線を照射し、ついで現像し、水洗液で水洗する永久マスクレジスト積層基板の製造方法であって、前記永久マスクレジスト積層基板の永久マスクレジストは絶縁層として使用されるものであり、前記水洗液には重量基準で５０ppm〜５００ppmの量のカルシウム又はマグネシウムのイオンが混合又は溶解されていることを特徴とする永久マスクレジスト積層基板の製造方法。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
前記感光性樹脂組成物は、例えば、液状、感光性フィルム（支持体上に感光性樹脂組成物の層を積層した積層フィルム）等の形態で使用することができる。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
前記基板としては、例えば、単層プリント配線板、多層プリント配線板、ＣＳＰ、ＢＧＡ等の半導体パッケージ用基板、フレキシブル配線板等が挙げられ、配線が形成された基板であることが好ましい。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明における永久マスクレジストは、前記基板の絶縁層又は保護膜として使用する。前記基板上に液状の感光性樹脂組成物を積層する方法としては、例えば、スプレー塗装、静電塗装、ロール塗装、カーテンフロー塗装、スピンコート法、シルクスクリーン印刷、ディッピング塗装、電着塗装等の方法が挙げられる。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
前記現像としては、特に制限はなく、例えば、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤等の現像液によるウエット現像等で現像し、レジストパターンを製造することができる。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
また、本発明における水洗液には、金属イオンを混合又は溶解させる。上記金属イオンとしては、カルシウム（Ｃａ）又はマグネシウム（Ｍｇ）である。水洗液に金属イオンを混合又は溶解させる方法としては、例えば、硫酸マグネシウム、塩化マグネシウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、水酸化マグネシウム、塩化カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸鉄、炭酸銅を水洗液に混合又は溶解させることによりできる。
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
水洗液に混合又は溶解させる金属イオンの量は、重量基準で５０ppm〜５００ppmである。水洗条件としては、特に制限はなく、１５〜４０℃、１５秒間〜５分間程度で行うことが作業性、生産性等の見地から好ましい。また、現像、水洗後に、はんだ耐熱性、耐薬品性を向上させる目的で、高圧水銀灯による紫外線照射や加熱を行うことが好ましい。紫外線の照射量は０．２〜１０J/cm2程度が一般的に用いられ、この照射の際６０〜１６０℃の熱を伴うことが好ましい。加熱は１００〜１７０℃程度の範囲で１５〜９０分程行われる。これら紫外線の照射と加熱の順はどちらが先でもよい。
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
＜実施例１＞
露光後から室温で１０分間放置した後、ポリエチレンテレフタレートを除去し、３０℃の1重量％炭酸ソーダ水溶液を現像液として用いて、未露光部の感光性樹脂組成物の層を４５秒間スプレー現像した。スプレー現像後、塩化カルシウムをＣａイオンとして１００ppmとなる量を純水に混合、溶解してなる３０℃の水洗水を用いて、露光部のレジスト部を１５０秒間スプレー水洗して永久マスクレジストパターンを得た。次いで(株)オーク製作所製紫外線照射装置を使用して１J/cm2の紫外線照射を行い、さらに１６０℃／６０分間加熱処理を行い、永久マスクレジストパターンを形成したＦＰＣ試料を得た。
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
＜実施例２〜３＞
実施例１において水洗水として、後記表２に示した水洗水を使用する以外は、実施例１と同様にして、永久マスクレジストパターンを形成したＦＰＣ試料を得た。
【手続補正３１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
＜比較例１＞
実施例１において水洗水として３０℃の純水を使用する以外は実施例１と同様にして、永久マスクレジストパターンを形成したＦＰＣ試料を得た。
【手続補正３２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
＜比較例２＞
実施例１において、３０℃の純水に塩化ナトリウムをＮａイオンとして１００ppmとなる量を混合、溶解してなるものを水洗水として使用する以外は実施例１と同様にして、永久マスクレジストパターンを形成したＦＰＣ試料を得た。実施例１〜３、比較例１〜２の現像工程の詳細は表２に示す。
【手続補正３３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
【表２】
2002162739.tif 000001
【手続補正３４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
前記実施例１〜３及び比較例１〜２で得られたＦＰＣ試料の（１）耐湿絶縁性、（２）はんだ耐熱性、（３）耐折性、（４）耐薬品性、（５）耐溶剤性について、下記の方法で測定し結果を表３及び表４に示す。
【手続補正３５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
（１）耐湿絶縁性
ＦＰＣ試料の電極端子部にロジン系フラックスＭＨ−８２０Ｖ（タムラ化研（株）製）を塗布した後、はんだゴテを用いてテフロンシールド線を陽極、陰極ともに糸巻きはんだにて接続する。その後６０℃、９０％ＲＨの恒湿恒温槽中にＦＰＣ試料を放置し、接続したテフロンシールド線を電圧発生装置に接続し、６Ｖ印可を１０００時間行った。このような操作の後、ＦＰＣ上の永久マスクレジストパターンの浮き及び剥がれの発生状況を目視で次の基準で評価した。
良好：浮き及び剥がれが発生しないもの
不良：浮き及び剥がれが発生したもの
【手続補正３６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
（２）はんだ耐熱性
ＦＰＣ上の永久マスクレジスト層に、ロジン系フラックスＭＨ−８２０Ｖ（タムラ化研(株)製）を塗布した後、２６０℃のはんだ浴中に３０秒間浸漬してはんだ処理を行った。このような操作の後、永久マスクレジスト層のクラック発生状況、ＦＰＣからの永久マスクレジストの浮きや剥がれの状況を目視で次の基準で評価した。
良好：クラック、浮き及び剥がれが発生しないもの
不良：クラック、浮き及び剥がれが発生したもの
【手続補正３７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
（３）耐折性
２６０℃／１０秒間はんだ処理を行ったＦＰＣ試料を、ハゼ折りで１８０°折り曲げ、折り曲げた際の永久マスクレジスト層のクラックの発生状況を目視で下記の基準で評価した。
良好：クラックが発生しないもの
不良：クラックが発生したもの
【手続補正３８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
（４）耐薬品性
ＦＰＣ試料を常温の２Ｎ−塩酸水溶液に１５分間浸漬後、ＦＰＣからの永久マスクレジストパターン開口部の染込み、浮きの発生状況を目視で次の基準で評価した。
良好：染込み、浮きが発生しないもの
不良：染込み、浮きが発生したもの
【手続補正３９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
（５）耐溶剤性
ＦＰＣ試料を常温のイソプロピルアルコールに５分間浸漬後、ＦＰＣからの永久マスクレジスト層の膨潤、浮きの発生状況を目視で次の基準で評価した。
良好：膨潤、浮きが発生しないもの
不良：膨潤、浮きが発生したもの
【手続補正４０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
【表３】
2002162739.tif 000002
【手続補正４１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
【表４】
2002162739.tif 000003
【手続補正４２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
本発明の永久マスクレジスト積層基板の製造方法は、永久マスクレジストとしての可とう性、はんだ耐熱性及び耐薬品性を低下させずに、高い耐湿絶縁性を示す。