【手続補正書】
【提出日】平成17年1月11日(2005.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子が形成された基板と、前記発光素子が形成された基板を包む保護部とを有し、
前記保護部は、希ガス元素を含み、且つ、炭素を主成分とする薄膜が少なくとも表面の一部に設けられたフィルムを有することを特徴とする発光装置。
【請求項２】
請求項１において、前記フィルムは炭素を主成分とする薄膜で覆われていることを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項１において、前記保護部は前記フィルムの内側または外側に炭素を主成分とする薄膜が設けられていることを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、前記炭素を主成分とする薄膜はＤＬＣ膜であることを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、前記炭素を主成分とする薄膜中に含まれる前記希ガス元素は１〜３０原子％であることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
発光素子が形成された基板と、前記発光素子が形成された基板を包む保護部とを有し、
前記保護部は、酸化窒化珪素膜が少なくとも表面の一部に設けられたフィルムであることを特徴とする発光装置。
【請求項７】
請求項６において、前記フィルムは酸化窒化珪素膜で覆われていることを特徴とする発光装置。
【請求項８】
請求項６において、前記フィルムの内側または外側に酸化窒化珪素膜が設けられていることを特徴とする発光装置。
【請求項９】
発光素子が形成された基板と、前記発光素子が形成された基板を包む保護部とを有し、
前記保護部は、希ガス元素を含む窒化珪素膜が少なくとも表面の一部に設けられたフィルムを有することを特徴とする発光装置。
【請求項１０】
請求項９において、前記フィルムは窒化珪素膜で覆われていることを特徴とする発光装置。
【請求項１１】
請求項９において、前記フィルムの内側または外側に窒化珪素膜が設けられていることを特徴とする発光装置。
【請求項１２】
請求項９乃至請求項１１のいずれか一において、前記窒化珪素膜中に含まれる前記希ガス元素は１〜３０原子％であることを特徴とする発光装置。
【請求項１３】
発光素子が形成された基板と、前記発光素子が形成された基板を包む保護部とを有し、
前記保護部は、希ガス元素を含むＡｌＮXＯYで示される膜が少なくとも表面の一部に設けられたフィルムを有することを特徴とする発光装置。
【請求項１４】
請求項１３において、前記フィルムはＡｌＮXＯYで示される膜で覆われていることを特徴とする発光装置。
【請求項１５】
請求項１３において、前記フィルムの内側または外側にＡｌＮXＯYで示される膜が設けられていることを特徴とする発光装置。
【請求項１６】
請求項１３乃至請求項１５において、前記ＡｌＮXＯYで示される膜中に含まれる前記希ガス元素は１〜３０原子％であることを特徴とする発光装置。
【請求項１７】
発光素子が形成された基板と、前記発光素子が形成された基板を包む保護部とを有し、
前記保護部は、希ガス元素を含むＡｌＮ膜が少なくとも表面の一部に設けられたフィルムを有することを特徴とする発光装置。
【請求項１８】
請求項１７において、前記フィルムはＡｌＮ膜で覆われていることを特徴とする発光装置。
【請求項１９】
請求項１７において、前記前記フィルムの内側または外側にＡｌＮ膜が設けられていることを特徴とする発光装置。
【請求項２０】
請求項１７乃至請求項１９のいずれか一において、前記ＡｌＮ膜中に含まれる前記希ガス元素は１〜３０原子％であることを特徴とする発光装置。
【請求項２１】
請求項１乃至請求項２０のいずれか一において、前記発光素子は、陽極、陰極、並びに前記陽極と前記陰極との間に挟まれた発光材料とを備えたことを特徴とする発光装置。
【請求項２２】
請求項１乃至請求項２１のいずれか一において、前記フィルムは真空圧着により前記発光素子が形成された基板と密接して設けられていることを特徴とする発光装置。
【請求項２３】
請求項１乃至請求項２２のいずれか一において、前記希ガス元素はＨｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅから選ばれた一種または複数種であることを特徴とする発光装置。
【請求項２４】
請求項１乃至請求項２３のいずれか一において、前記保護部は、フレキシブルプリント基板の一部も包むことを特徴とする発光装置。
【請求項２５】
請求項１乃至請求項２４のいずれか一において、前記発光素子が形成された基板と、前記保護部との間に、乾燥剤が設けられていることを特徴とする発光装置。
【請求項２６】
請求項２５のいずれか一において、前記乾燥剤は、酸化バリウム、酸化カルシウム、シリカゲルのいずれかであることを特徴とする発光装置。
【請求項２７】
請求項１乃至請求項２６のいずれか一において、前記発光素子が形成された基板は、フレキシブルであることを特徴とする発光装置。
【請求項２８】
請求項１乃至請求項２７のいずれか一に記載の発光装置を有することを特徴とする電子機器。
【請求項２９】
絶縁表面を有する基板上に発光素子を形成する工程と、
前記基板の周縁部にフレキシブルプリント基板を貼り付ける工程と、
希ガス元素を含み、且つ、炭素を主成分とする薄膜で覆われたフィルムで、前記フレキシブルプリント基板の一部と、前記発光素子が形成された基板とを真空封止する工程と、を有することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項３０】
絶縁表面を有する基板上に発光素子を形成する工程と、
前記基板の厚さを薄くする工程と、
前記基板の周縁部にフレキシブルプリント基板を貼り付ける工程と、
希ガス元素を含み、且つ、炭素を主成分とする薄膜で覆われたフィルムで、前記フレキシブルプリント基板の一部と、前記発光素子が形成された基板とを真空封止する工程と、を有することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項３１】
請求項２９または請求項３０において、前記炭素を主成分とする薄膜は、ＤＬＣ膜であることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項３２】
請求項２９乃至請求項３１のいずれか一において、前記炭素を主成分とする薄膜中に含まれる前記希ガス元素は１〜３０原子％であることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項３３】
絶縁表面を有する基板上に発光素子を形成する工程と、
前記基板の周縁部にフレキシブルプリント基板を貼り付ける工程と、
希ガス元素を含む酸化窒化珪素膜で覆われたフィルムで、前記フレキシブルプリント基板の一部と、前記発光素子が形成された基板とを真空封止する工程と、
を有することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項３４】
絶縁表面を有する基板上に発光素子を形成する工程と、
前記基板の周縁部にフレキシブルプリント基板を貼り付ける工程と、
希ガス元素を含む窒化珪素膜で覆われたフィルムで、前記フレキシブルプリント基板の一部と、前記発光素子が形成された基板とを真空封止する工程と、
を有することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項３５】
請求項３４において、前記窒化珪素膜中に含まれる前記希ガス元素は１〜３０原子％であることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項３６】
絶縁表面を有する基板上に発光素子を形成する工程と、
前記基板の周縁部にフレキシブルプリント基板を貼り付ける工程と、
希ガス元素を含むＡｌＮXＯYで示される膜で覆われたフィルムで、前記フレキシブルプリント基板の一部と、前記発光素子が形成された基板とを真空封止する工程と、
を有することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項３７】
請求項３６において、前記ＡｌＮXＯYで示される膜中に含まれる前記希ガス元素は１〜３０原子％であることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項３８】
絶縁表面を有する基板上に発光素子を形成する工程と、
前記基板の周縁部にフレキシブルプリント基板を貼り付ける工程と、
希ガス元素を含むＡｌＮ膜で覆われたフィルムで、前記フレキシブルプリント基板の一部と、前記発光素子が形成された基板とを真空封止する工程と、
を有することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項３９】
請求項３８において、前記ＡｌＮ膜中に含まれる前記希ガス元素は１〜３０原子％であることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項４０】
請求項２９乃至請求項３９のいずれか一において、前記真空封止する工程の前に、前記フレキシブルプリント基板と接する乾燥剤を設ける工程を有することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項４１】
請求項２９乃至請求項４０のいずれか一において、前記真空封止する工程は熱圧着であることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項４２】
請求項２９乃至請求項４１のいずれか一において、前記希ガス元素はＨｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅから選ばれた一種または複数種であることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項４３】
請求項２９乃至請求項４２のいずれか一において、前記発光素子が形成された基板は、フレキシブルであることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項４４】
希ガス元素を含み、且つ、炭素を主成分とする薄膜が少なくとも表面の一部に設けられたフレキシブルな包装フィルム。
【請求項４５】
希ガス元素を含み、且つ、炭素を主成分とする薄膜で覆われたフレキシブルな包装フィルム。
【請求項４６】
請求項４４または請求項４５において、前記炭素を主成分とする薄膜はＤＬＣ膜であることを特徴とする包装フィルム。
【請求項４７】
希ガス元素を含む酸化窒化珪素膜が少なくとも表面の一部に設けられたフレキシブルな包装フィルム。
【請求項４８】
希ガス元素を含む酸化窒化珪素膜で覆われたフレキシブルな包装フィルム。
【請求項４９】
希ガス元素を含む窒化珪素膜が少なくとも表面の一部に設けられたフレキシブルな包装フィルム。
【請求項５０】
希ガス元素を含む窒化珪素膜で覆われたフレキシブルな包装フィルム。
【請求項５１】
希ガス元素を含むＡｌＮXＯYで示される膜が少なくとも表面の一部に設けられたフレキシブルな包装フィルム。
【請求項５２】
希ガス元素を含むＡｌＮXＯYで示される膜で覆われたフレキシブルな包装フィルム。
【請求項５３】
希ガス元素を含むＡｌＮ膜が少なくとも表面の一部に設けられたフレキシブルな包装フィルム。
【請求項５４】
希ガス元素を含むＡｌＮ膜で覆われたフレキシブルな包装フィルム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発光装置、電子機器および発光装置の作製方法、並びに包装フィルム