(57)【要約】  原盤を線速度一定で回転駆動し、原盤の１回転当たり所定の移動量となる定速度で原盤を所定半径方向に平面移動させ、複数のトラック各々の１周目〜(ｎ−１)周目各々の同心円のデータパターンの露光において原盤の表面上で原盤の１回転当たり第１偏向量だけ電子ビームを原盤の平面移動方向に偏向させ、１回目〜(ｎ−１)周目各々の同心円のデータパターンの露光が終了すると、原盤の表面上で第２偏向量だけ電子ビームを原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させ、ｎ周目の同心円のデータパターンの露光が終了すると、電子ビームの照射位置が隣接トラックの１周目の同心円の露光開始位置に位置するように原盤の表面上で第３偏向量だけ電子ビームを原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させるディスク原盤製造方法。
2008056400.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面にレジスト層を有する原盤に電子ビームを照射して同心円のデータパターンを所定間隔で１トラック当たりｎ（ｎは２以上の整数）周回だけ露光することにより所定のトラックピッチを有する複数のトラックを形成するディスク原盤製造方法であって、
前記原盤を線速度一定で回転駆動する回転駆動ステップと、
前記原盤の１回転当たり所定の移動量となる定速度で前記原盤を所定半径方向に平面移動させる移動ステップと、
前記複数のトラック各々の１周目〜(ｎ−１)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光において前記原盤の表面上で前記原盤の１回転当たり前記所定の移動量に等しい第１偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向に偏向させる第１偏向ステップと、
１回目〜(ｎ−１)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第２偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第２偏向ステップと、
ｎ周目の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記電子ビームの照射位置が隣接トラックの１周目の前記同心円の露光開始位置に位置するように前記原盤の表面上で第３偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第３偏向ステップと、を備えたことを特徴とするディスク原盤製造方法。
【請求項２】
前記所定間隔をδx（δxは正数）とし、前記複数のトラックのトラック間のランド幅をｍδx（ｍは１以上の整数）とし、前記トラックピッチを(ｎ＋ｍ)δxとすると、前記所定の移動量及び第１偏向量は(ｎ＋ｍ)δx/ｎであり、前記第２偏向量はδxであり、前記第３偏向量は(ｍ＋１)δxであることを特徴とする請求項１記載のディスク原盤製造方法。
【請求項３】
前記複数のトラック各々の１周目の前記同心円の露光開始位置において前記電子ビームの偏向量は０であることを特徴とする請求項１記載のディスク原盤製造方法。
【請求項４】
前記第２偏向ステップでは１回目〜(ｎ−１)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光開始位置に戻ったときに高速偏向により前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第２偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させることを特徴とする請求項１記載のディスク原盤製造方法。
【請求項５】
前記第３偏向ステップではｎ周目各々の前記同心円のデータパターンの露光開始位置に戻ったときに高速偏向により前記原盤の表面上で第３偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させることを特徴とする請求項１記載のディスク原盤製造方法。
【請求項６】
前記１回目〜ｎ周目各々の前記同心円のデータパターンの露光開始位置は前記原盤の同一半径方向に位置することを特徴とする請求項４又は５記載のディスク原盤製造方法。
【請求項７】
表面にレジスト層を有する原盤に電子ビームを照射して同心円のデータパターンを所定間隔で１トラック当たりｎ（ｎは２以上の整数）周回だけ露光することにより所定のトラックピッチを有する複数のトラックを形成するディスク原盤製造方法を実行するコンピュータ読取可能なプログラムであって、
前記原盤を線速度一定で回転駆動する回転駆動ステップと、
前記原盤の１回転当たり所定の移動量となる定速度で前記原盤を所定半径方向に平面移動させる移動ステップと、
前記複数のトラック各々の１周目〜(ｎ−１)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光において前記原盤の表面上で前記原盤の１回転当たり前記所定の移動量に等しい第１偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向に偏向させる第１偏向ステップと、
１回目〜(ｎ−１)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第２偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第２偏向ステップと、
ｎ周目の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記電子ビームの照射位置が隣接トラックの１周目の前記同心円の露光開始位置に位置するように前記原盤の表面上で第３偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第３偏向ステップと、を備えたことを特徴とするプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面にレジスト層を有する原盤に電子ビームを照射して露光することにより複数のトラックを形成するディスク原盤製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ディスクの原盤にレーザビームを照射して露光することにより同心円のトラック上にピット列を描画する従来方法としては、原盤１回転中にその原盤を搭載したステージを原盤半径方向に移動させつつその移動方向と同一方向にトラックのピッチ分だけ等速度でビームを偏向させることが行われる（特許文献１参照）。例えば、複数のトラックにピット列を露光により描画する場合には、図１(a)に矢印によって示すように、第１トラックの開始点Ａからビームを照射して露光を開始すると、原盤が１回転してビーム照射位置がその開始点Ａに達するまでにビームは図１(b)に示すようにトラックピッチ分だけ定速度で偏向される。トラックピッチ分は１回転中のステージの移動距離に相当する。ビームの照射位置が開始点Ａに達すると、開始点Ａと同一半径方向上に位置する第２トラックの開始点Ｂにビームの照射位置は高速偏向により直ちに移動される。このようなビーム偏向動作をトラック毎に繰り返すことになる。【０００３】
ハードディスク等の磁気ディスクにおいては、位置情報を示すサーボパターンを記録するために電子ビームにより光ディスクの場合と同様に同心円のパターンの描画が行われている。
【特許文献１】特開昭６３−１１２８３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、磁気ディスクにおいては、高密度化に伴い高解像かつ高精度なパターンの露光が必須となっており、従来のディスク原盤製造方法では電子ビ−ムの安定性の影響を受け易く、ライン幅の変動、露光位置の変動等の劣化が問題となっていた。【０００５】
本発明が解決しようとする課題には、上記の欠点が一例として挙げられ、高解像かつ高精度なパターンの同心円のトラックを露光することができるディスク原盤製造方法及びその方法を実行するコンピュータ読取可能なプログラムを提供することが本発明の目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に係る発明のディスク原盤製造方法は、表面にレジスト層を有する原盤に電子ビームを照射して同心円のデータパターンを所定間隔で１トラック当たりｎ（ｎは２以上の整数）周回だけ露光することにより所定のトラックピッチを有する複数のトラックを形成するディスク原盤製造方法であって、前記原盤を線速度一定で回転駆動する回転駆動ステップと、前記原盤の１回転当たり所定の移動量となる定速度で前記原盤を所定半径方向に平面移動させる移動ステップと、前記複数のトラック各々の１周目〜(ｎ−１)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光において前記原盤の表面上で前記原盤の１回転当たり前記所定の移動量に等しい第１偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向に偏向させる第１偏向ステップと、１回目〜(ｎ−１)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第２偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第２偏向ステップと、ｎ周目の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記電子ビームの照射位置が隣接トラックの１周目の前記同心円の露光開始位置に位置するように前記原盤の表面上で第３偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第３偏向ステップと、を備えたことを特徴としている。【０００７】
請求項７に係る発明のプログラムは、表面にレジスト層を有する原盤に電子ビームを照射して同心円のデータパターンを所定間隔で１トラック当たりｎ（ｎは２以上の整数）周回だけ露光することにより所定のトラックピッチを有する複数のトラックを形成するディスク原盤製造方法を実行するコンピュータ読取可能なプログラムであって、前記原盤を線速度一定で回転駆動する回転駆動ステップと、前記原盤の１回転当たり所定の移動量となる定速度で前記原盤を所定半径方向に平面移動させる移動ステップと、前記複数のトラック各々の１周目〜(ｎ−１)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光において前記原盤の表面上で前記原盤の１回転当たり前記所定の移動量に等しい第１偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向に偏向させる第１偏向ステップと、１回目〜(ｎ−１)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第２偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第２偏向ステップと、ｎ周目の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記電子ビームの照射位置が隣接トラックの１周目の前記同心円の露光開始位置に位置するように前記原盤の表面上で第３偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第３偏向ステップと、を備えたことを特徴としている。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】従来のディスク原盤製造方法を示す図である。
【図２】本発明のディスク原盤製造方法が適用された電子ビーム描画装置の構成を示す図である。
【図３】図２の装置によって４つの同心円の描画によって１トラックを形成する場合の描画手順を示す図である。
【図４】図２の装置中のメインコントローラの動作を示すフローチャートである。
【図５】４つの同心円の描画によって１トラックを形成する場合の電子ビームのスポット位置及び偏向量を示す図である。
【図６】４つの同心円の描画によって１トラックを形成する場合の電子ビームの偏向状態を示す図である。
【図７】図２の装置によってｎ個の同心円の描画によって１トラックを形成する場合の描画手順を示す図である。
【図８】ｎ個の同心円の描画によって１トラックを形成する場合の電子ビームのスポット位置及び偏向量を示す図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
請求項１に係る発明のディスク原盤製造方法及び請求項７に係る発明のプログラムによれば、１トラックの形成のために複数の同心円のデータパターンを露光し、その各同心円のデータパターンを露光する際に電子ビームの偏向量を原盤の１回転中の所定半径方向への移動量より少ない量で済ますことができるので、短時間で描画することが可能となり、かつ複数回露光の平均化効果を利用して高解像かつ高精度なデータパターンのトラックの露光が可能となる。
【実施例】
【００１０】
以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ詳細に説明する。【００１１】
図２は、磁気ディスクの基板作製用の転写型又は露光マスクの原盤露光工程で使用される電子ビーム描画装置を示している。電子ビーム描画装置は、電子カラム１、真空チャンバ２及び記録制御系３０〜３８からなる。【００１２】
電子カラム１は、電子ビームを生成してそれを真空チャンバ２内の後述の原盤４に照射するための電子光学系を内部に備えた円柱状の部材である。電子カラム１内の光学系は、電子放出部１１、コンデンサレンズ１２、ブランキングプレート１３、アパーチャプレート１４、偏向コイル１５、アライメントコイル１６、高速デフレクタ１７、フォーカスレンズ１８及び対物レンズ１９を備えている。これらの部材１１〜１９は電子カラム１内に上部からその順に配置されている。【００１３】
電子放出部１１は後述の加速高圧電源３０によって高電圧が印加されると電子ビームを生成する。コンデンサレンズ１２は電子放出部１１によって生成された電子ビームを集束させてブランキングプレート１３の中央部にクロスオーバを形成させる。ブランキングプレート１３は後述のビーム変調器３１の出力信号に応じて電子ビームをオンオフさせるための例えば、静電偏向型の電極である。アパーチャプレート１４は電子ビームの電子束を制限する円形の開口を備えている。偏向コイル１５は図示しない偏向回路の出力信号に応じて電子ビームの進行方向を変化させる。アライメントコイル１６はビーム位置補正器３２の出力信号に応じて電子ビームを偏向させる。高速デフレクタ１７は偏向コントローラ３７の出力信号に応じて電子ビームを任意の方向に偏向させる。フォーカスレンズ１８はフォーカスコントローラ３３の出力信号に応じて電子ビームのフォーカス制御を行い、対物レンズ１９を介して原盤４上に合焦させる。【００１４】
真空チャンバ２内には、高さ検出器２１、スピンドルモータ２２、ミラー２３、ターンテーブル２４、ステージ２５及びステージ移動機構２６が備えられている。スピンドルモータ２２及びミラー２３はステージ２５上に配置されている。スピンドルモータ２２はターンテーブル２４を回転させる。ターンテーブル２４上にディスク原盤４がセットされる。原盤４は例えば、シリコン基板上に電子線レジスト層が形成されたものである。ステージ２５はステージ移動機構２６によってディスク原盤４のディスク半径方向（Ｘ方向）に移動可能とされている。ステージ移動機構２６は真空チャンバ２の外側に取り付けられたモータ２７を動力源としてステージ２５を移動させる。ミラー２３はステージ２５のディスク半径方向の移動距離を測定するために設けられている。高さ検出器２１は真空チャンバ２内の上部に設けられ、ディスク原盤４の記録位置の高さを光学的に検出する。【００１５】
記録制御系は、加速高圧電源３０、ビーム変調器３１、ビーム位置補正器３２、フォーカスコントローラ３３、位置コントローラ３４、レーザ測長器３５、回転コントローラ３６、偏向コントローラ３７及びメインコントローラ３８を備えている。【００１６】
加速高圧電源３０はメインコントローラ３８の指令に応じて電子放出部１１に対して高電圧を印加する。【００１７】
ビーム変調器３１はメインコントローラ３８から供給される記録データに応じてブランキングプレート１３に対してビーム変調信号を供給する。【００１８】
フォーカスコントローラ３３は高さ検出器２１によって検出された記録位置の高さ情報に応じてフォーカスレンズ１８の集束位置を移動させる。【００１９】
レーザ測長器３５はミラー２３に対してレーザビームを照射してその反射光を受光してミラー２３の位置、すなわちステージ２５の移動距離情報ｒを検出する。移動距離情報ｒはディスク原盤４の半径方向の記録位置を示すことになる。レーザ測長器３５によって測定された移動距離情報ｒは位置コントローラ３４に供給される。位置コントローラ３４は移動距離情報ｒと基準距離情報ＲＥＦとを比較してその比較結果の位置誤差信号に応じて図示しないモータ駆動手段を介してモータ２７を駆動する。また、その位置誤差信号はビーム位置補正器３２に供給される。ビーム位置補正器３２は位置コントローラ３４からの位置誤差信号に応じてアライメントコイル１６を励磁させ、それによって電子ビームを偏向させる。【００２０】
回転コントローラ３６はメインコントローラ３８の指令に応じてスピンドルモータ２２を回転駆動する。偏向コントローラ３７は、メインコントローラ３８から供給される指令に応じて高速デフレクタ１７による電子ビームの偏向を制御する。【００２１】
加速高圧電源３０、ビーム変調器３１、フォーカスコントローラ３３、位置コントローラ３４、回転コントローラ３６及び偏向コントローラ３７は、メインコントローラ３８の指令に応じて各々制御される。メインコントローラ３８は例えば、マイクロコンピュータからなり、プログラムに応じて指令動作を実行する。【００２２】
かかる構成の電子ビーム描画装置を用いてディスク原盤４への露光によるパターン描画について次に説明する。このパターン描画では、複数のトラックをトラックピッチ８δxで形成し、各トラックを４つの同心円描画によって形成することが行われる。４つの同心円のピッチはδxであり、トラックの幅は４δxである。【００２３】
メインコントローラ３８は、サーボゾーンデータとデータゾーンデータとを記録するに当たって、位置コントローラ３４に対してステージ移動を上記の基準距離情報ＲＥＦとして指令し、回転コントローラ３６に対してスピンドルモータ２２が回転線速度一定の回転数となるように指令する。【００２４】
位置コントローラ３４はレーザ測長器３５から出力されるステージ２５の移動距離情報ｒと基準距離情報ＲＥＦとを比較してその比較結果の位置誤差信号に応じて図示しないモータ駆動手段を介してモータ２７を駆動する。【００２５】
これらの指令及び動作によって原盤４はスピンドルモータ２２によってターンテーブル２４と共に１回転されつつ、原盤半径方向にステージ移動機構２６によってステージ２５と共に移動される。ステージ２５の移動距離はスピンドルモータ２２の１回転当たり２δxである。２δxはトラックピッチ８δxの１／４の距離である。【００２６】
ステージ２５の送り速度ｖは、記録線速度をＶ、記録位置の半径をＲとすると、
ｖ＝(Ｖ/２πＲ)×２δx＝Ｖδx/πＲ
となる。メインコントローラ３８は位置コントローラ３４に供給する基準距離情報ＲＥＦを送り速度ｖに応じて変化させる。位置コントローラ３４は移動距離情報ｒと基準距離情報ＲＥＦとが一致するように位置誤差信号を生成してモータ２７を駆動するので、結果としてステージ２５がスピンドルモータ２２の１回転当たり２δxという割合で等速移動する。【００２７】
また、メインコントローラ３８は、加速高圧電源３０に対して高電圧の電子放出部１１への印加を指令し、これによって電子ビームが電子放出部１１から発射される。更に、フォーカスコントローラ３３に対して電子ビームの原盤４上へのフォーカシングを指令する。【００２８】
ビーム位置補正器３２は位置コントローラ３４からの位置誤差信号に応じてアライメントコイル１６を励磁させ、それによって電子ビームを偏向させる。【００２９】
メインコントローラ３８からビーム変調器３１には記録データが一定のクロックタイミングで供給される。そのクロックタイミングは位置コントローラ３４及び回転コントローラ３６に対する指令に同期している。記録データは１ディスク分のサーボゾーンデータとデータゾーンデータとを記録順に示すデータである。記録データに応じてビーム変調器３１が変調信号を生成し、その変調信号に応じてブランキングプレート１３は電子放出部１１から発射された電子ビームを偏向させる。これにより電子ビームはアパーチャプレート１４のアパーチャを通過する場合と、アパーチャを通過しない場合とのいずれかとなる。アパーチャを通過する場合にはその通過した電子ビームは偏向コイル１５、アライメントコイル１６、高速デフレクタ１７、フォーカスレンズ１８及び対物レンズ１９を介して原盤４の記録面にスポットとして照射される。一方、アパーチャを通過しない場合には、電子ビームはアパーチャプレート１４以降に進まず、原盤４へ照射されることがない。【００３０】
電子ビームの原盤４への照射によって照射された部分には潜像としてパターンが形成され、潜像部分のレジスト層がその後の現像工程において除去される。レジスト層が除去された部分が凹部となり、実際にパターンを形成する。【００３１】
記録データについては１トラックを形成するためにディスク１周分のデータが４回繰り返される。【００３２】
１トラック分の描画をする場合に、図３に示すように、第１トラック上において基準となる同一のディスク半径方向に位置する点をＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄとし、その点Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄはδxの間隔で内周側から順に位置しているとする。点Ａがそのトラックの記録開始点であり、また、点Ｄがそのトラックの記録終了点である。回転コントローラ３６はスピンドルモータ２２を回転線速度一定の回転数となるように駆動しているとする。【００３３】
メインコントローラ３８は、１トラックの描画をするに当たり、図４に示すように、先ず、スポットによる記録位置（露光位置）が点Ａの位置であるか否かを判別する（ステップＳ１）。記録位置の点Ａへの移動はステージ２５の移動により行われる。点Ａの位置であるならば、ビーム変調器３１に記録データを供給してビーム変調を開始させ（ステップＳ２）、それと同時に偏向コントローラ３７に対して電子ビームの定速偏向を指令する（ステップＳ３）。偏向コントローラ３７は、定速偏向指令に応じて電子ビームを半径方向（内周方向）に偏向させる（第１偏向ステップ）。原盤４の記録面の高さ平面ではステージ２５の送り速度ｖに等しい速度でビームのスポットが移動されることになるが、原盤４が速度ｖで同一方向に移動しているので結果として原盤４上でスポットは半径方向には固定された状態となり、点Ａを通る同心円上に位置する。すなわち、点Ａを通る同心円上において記録データに対応したパターンが図３の矢印の方向に露光により順次描画される。【００３４】
メインコントローラ３８は、スポットによる記録位置が一周して点Ａに戻ったか否かを判別する（ステップＳ４）。記録位置が点Ａに戻ったならば、この時点では電子ビームの偏向量は２δxであり、第１偏向量に相当する。偏向コントローラ３７に対して記録位置が点Ｂとなるように電子ビームの高速偏向を指令する（ステップＳ５）。すなわち、これが第２偏向ステップであり、電子ビームの偏向量をδxに戻すことが行われる。この偏向量が第２偏向量に相当する。スポットによる記録位置が点Ｂの位置であるか否かを判別する（ステップＳ６）。点Ｂの位置であるならば、ビーム変調器３１に記録データを供給してビーム変調を開始させ（ステップＳ７）、それと同時に偏向コントローラ３７に対して電子ビームの定速偏向を指令する（ステップＳ８）。これにより、点Ｂを通る同心円上に点Ａを通る同心円上と同一の記録データに対応したパターンが露光により描画される。【００３５】
メインコントローラ３８は、スポットによる記録位置が一周して点Ｂに戻ったか否かを判別する（ステップＳ９）。記録位置が点Ｂに戻ったならば、この時点では電子ビームの偏向量は３δxである。偏向コントローラ３７に対して記録位置が点Ｃとなるように電子ビームの高速偏向を指令する（ステップＳ１０）。すなわち、電子ビームの偏向量を２δxとするのである。スポットによる記録位置が点Ｃの位置であるか否かを判別する（ステップＳ１１）。点Ｃの位置であるならば、ビーム変調器３１に記録データを供給してビーム変調を開始させ（ステップＳ１２）、それと同時に偏向コントローラ３７に対して電子ビームの定速偏向を指令する（ステップＳ１３）。これにより、点Ｃを通る同心円上に点Ａ，Ｂを通る同心円上と同一の記録データに対応したパターンが露光により描画される。【００３６】
メインコントローラ３８は、スポットによる記録位置が一周して点Ｃに戻ったか否かを判別する（ステップＳ１４）。記録位置が点Ｃに戻ったならば、この時点では電子ビームの偏向量は４δxである。偏向コントローラ３７に対して記録位置が点Ｄとなるように電子ビームの高速偏向を指令する（ステップＳ１５）。すなわち、電子ビームの偏向量を３δxとするのである。スポットによる記録位置が点Ｄの位置であるか否かを判別する（ステップＳ１６）。点Ｄの位置であるならば、ビーム変調器３１に記録データを供給してビーム変調を開始させ（ステップＳ１７）、それと同時に偏向コントローラ３７に対して電子ビームの定速偏向を指令する（ステップＳ１８）。これにより、点Ｄを通る同心円上に点Ａ，Ｂ，Ｃを通る同心円上と同一の記録データに対応したパターンが描画される。【００３７】
メインコントローラ３８は、スポットによる記録位置が一周して点Ｃに戻ったか否かを判別する（ステップＳ１９）。記録位置が点Ｄに戻ったならば、１トラックの記録データについてのパターン描画が終了したこととなる。この時点では電子ビームの偏向量は５δxである。偏向コントローラ３７に対して記録位置が次のトラックの点Ａとなるように電子ビームの高速偏向を指令する（ステップＳ２０）。これが第３偏向ステップに相当し、第３偏向量５δxに等しい電子ビームの偏向量を０に戻すことが行われる。次のトラックについても上記のステップＳ１〜Ｓ２０の動作が繰り返される。【００３８】
よって、半径方向のスポット位置は時間に対して図５(a)に示すように移動し、記録面での電子ビームの偏向量は時間に対して図５(b)に示すように変化する。また、図６には原盤４に対する電子ビームの偏向方向の変化と照射位置との関係を示している。図６においては実線で示した電子ビームは各同心円の記録開始時の偏向状態であり、破線で示した電子ビームは各同心円の記録終了時の偏向状態である。これらの図から分かるように、１トラックについての露光の描画を開始する時点の記録開始点Ａでは電子ビームの偏向量は０であるが、描画を終了した時点の記録終了点Ｄでは電子ビームの偏向量は５δxとなる。この偏向量５δxを高速偏向によりリセットすることにより偏向量は０となり、次の第２トラックについての記録開始点Ａにスポットが位置することになる。この動作をトラック毎に繰り返すことにより、各同心円間でステージの移動量に相当するブランキング動作を行うことなく複数のトラック各々にパターンを描画することができる。このように１トラックを描画する際の電子ビームの偏向量をステージの移動量（トラックピッチ）より少ない量で済ますことができるので、短時間で描画することが可能となり、かつ複数回露光の平均化効果を利用して高解像かつ高精度な同心円描画による露光が可能となる。【００３９】
上記した実施例においては、４回の同心円描画により１トラックを形成しているが、４回以外のｎ回の同心円描画により１トラックを形成しても良い。この場合には、図７に示すように、トラック幅をｎδx、トラック間のランドの幅をｍδxとすると、トラックピッチは(ｎ＋ｍ)δxとなる。ステージ２５の送り速度ｖは、記録線速度をＶ、記録位置の半径をＲとすると、
ｖ＝(Ｖ/２πＲ)×(ｎ＋ｍ)δx/ｎ＝Ｖδx(ｎ＋ｍ)/２ｎπＲ
となる。記録開始点Ａ１からその点Ａ１までのスピンドルモータ２２の１回転分の描画においては電子ビームの偏向量は(ｎ＋ｍ)δx/ｎである。記録位置を点Ａ１から次の点Ａ２となるように電子ビームの高速偏向により、電子ビームの偏向量はδxだけ減少されてｍδx/ｎとなる。その後の電子ビームの偏向量も同様であり、半径方向のスポット位置は時間に対して図８(a)に示すように移動し、記録面での電子ビームの偏向量は時間に対して図８(b)に示すように変化する。【００４０】
ステ−ジ移動速度は偏向量(ｎ＋ｍ)δx/ｎに比例するので、ｎに比べｍの値を大きく設定することにより、ステ−ジを速く送ることができるため描画時間短縮が可能となる。描画時間短縮により、電子ビ−ムの変動の影響を受けにくくなり、記録精度向上に寄与することになる。【００４１】
なお、上記した各実施例において各トラックの記録開始点Ａ又はＡ１にビームスポットが位置した時点において電子ビームの偏向量は０にされているが、その開始点で０以外の偏向量を有していても良い。【００４２】
以上のように、本発明によれば、１トラックの形成のために複数の同心円のデータパターンを露光し、その各同心円のデータパターンを露光する際に１周目〜(ｎ−１)周目各々の同心円のデータパターンの露光において原盤の表面上で原盤の１回転当たり第１偏向量だけ電子ビームを原盤の平面移動方向に偏向させ、１回目〜(ｎ−１)周目各々の同心円のデータパターンの露光が終了すると、原盤の表面上で第２偏向量だけ電子ビームを偏向させ、ｎ周目の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記電子ビームの照射位置が隣接トラックの１周目の前記同心円の露光開始位置に位置するように第３偏向量だけ原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させることにより、電子ビームの偏向量を原盤の１回転中の所定半径方向への移動量より少ない量で済ますことができるので、短時間での描画が可能となり、かつ複数回露光の平均化効果を利用して高解像かつ高精度なデータパターンのトラックの露光が可能となる。【００４３】
本発明のディスク原盤製造方法はハードディスク等の磁気ディスクの基板作製用原盤のデータパターン描画のために好適である。
【図１】
2008056400.tif 000003
【図２】
2008056400.tif 000004
【図３】
2008056400.tif 000005
【図４】
2008056400.tif 000006
【図５】
2008056400.tif 000007
【図６】
2008056400.tif 000008
【図７】
2008056400.tif 000009
【図８】
2008056400.tif 000010
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月10日(2009.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面にレジスト層を有する原盤に電子ビームを照射して同心円のデータパターンを所定間隔で１トラック当たりｎ（ｎは２以上の整数）周回だけ露光することにより所定のトラックピッチを有する複数のトラックを形成するディスク原盤製造方法であって、
前記原盤を線速度一定で回転駆動する回転駆動ステップと、
前記原盤の１回転当たり所定の移動量となる定速度で前記原盤を所定半径方向に平面移動させる移動ステップと、
前記複数のトラック各々の１周目〜(ｎ−１)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光において前記原盤の表面上で前記原盤の１回転当たり前記所定の移動量に等しい第１偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向に偏向させる第１偏向ステップと、
１回目〜(ｎ−１)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第２偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第２偏向ステップと、
ｎ周目の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記電子ビームの照射位置が隣接トラックの１周目の前記同心円の露光開始位置に位置するように前記原盤の表面上で第３偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第３偏向ステップと、を備えたことを特徴とするディスク原盤製造方法。
【請求項２】
前記所定間隔をδx（δxは正数）とし、前記複数のトラックのトラック間のランド幅をｍδx（ｍは１以上の整数）とし、前記トラックピッチを(ｎ＋ｍ)δxとすると、前記所定の移動量及び第１偏向量は(ｎ＋ｍ)δx/ｎであり、前記第２偏向量はδxであり、前記第３偏向量は(ｍ＋１)δxであることを特徴とする請求項１記載のディスク原盤製造方法。
【請求項３】
前記複数のトラック各々の１周目の前記同心円の露光開始位置において前記電子ビームの偏向量は０であることを特徴とする請求項１記載のディスク原盤製造方法。
【請求項４】
前記第２偏向ステップでは１回目〜(ｎ−１)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光開始位置に戻ったときに高速偏向により前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第２偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させることを特徴とする請求項１記載のディスク原盤製造方法。
【請求項５】
前記第３偏向ステップではｎ周目各々の前記同心円のデータパターンの露光開始位置に戻ったときに高速偏向により前記原盤の表面上で第３偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させることを特徴とする請求項１記載のディスク原盤製造方法。
【請求項６】
前記１回目〜ｎ周目各々の前記同心円のデータパターンの露光開始位置は前記原盤の同一半径方向に位置することを特徴とする請求項４又は５記載のディスク原盤製造方法。
【請求項７】
表面にレジスト層を有する原盤に電子ビームを照射して同心円のデータパターンを所定間隔で１トラック当たりｎ（ｎは２以上の整数）周回だけ露光することにより所定のトラックピッチを有する複数のトラックを形成するディスク原盤製造方法を実行するコンピュータ読取可能なプログラムであって、
前記原盤を線速度一定で回転駆動する回転駆動ステップと、
前記原盤の１回転当たり所定の移動量となる定速度で前記原盤を所定半径方向に平面移動させる移動ステップと、
前記複数のトラック各々の１周目〜(ｎ−１)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光において前記原盤の表面上で前記原盤の１回転当たり前記所定の移動量に等しい第１偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向に偏向させる第１偏向ステップと、
１回目〜(ｎ−１)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第２偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第２偏向ステップと、
ｎ周目の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記電子ビームの照射位置が隣接トラックの１周目の前記同心円の露光開始位置に位置するように前記原盤の表面上で第３偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第３偏向ステップと、を備えたことを特徴とするプログラム。
【請求項８】
表面にレジスト層を有する原盤に電子ビームを照射して同心円のデータパターンを所定間隔で１トラック当たりｎ（ｎは２以上の整数）周回だけ露光することにより所定のトラックピッチを有する複数のトラックを形成する電子ビーム描画装置であって、
前記原盤を線速度一定で回転駆動する回転駆動手段と、
前記原盤の１回転当たり所定の移動量となる定速度で前記原盤を所定半径方向に平面移動させる移動手段と、
前記複数のトラック各々の１周目〜(ｎ−１)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光において前記原盤の表面上で前記原盤の１回転当たり前記所定の移動量に等しい第１偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向に偏向させる第１偏向手段と、
１回目〜(ｎ−１)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第２偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第２偏向手段と、
ｎ周目の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記電子ビームの照射位置が隣接トラックの１周目の前記同心円の露光開始位置に位置するように前記原盤の表面上で第３偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第３偏向手段と、を備えたことを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項９】
前記第１ないし第３偏向手段は、同一の高速デフレクタによって前記電子ビームを偏向させることを特徴とする請求項８記載の電子ビーム描画装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明が解決しようとする課題には、上記の欠点が一例として挙げられ、高解像かつ高精度なパターンの同心円のトラックを露光することができるディスク原盤製造方法、その方法を実行するコンピュータ読取可能なプログラム及び電子ビーム描画装置を提供することが本発明の目的である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項７に係る発明のプログラムは、表面にレジスト層を有する原盤に電子ビームを照射して同心円のデータパターンを所定間隔で１トラック当たりｎ（ｎは２以上の整数）周回だけ露光することにより所定のトラックピッチを有する複数のトラックを形成するディスク原盤製造方法を実行するコンピュータ読取可能なプログラムであって、前記原盤を線速度一定で回転駆動する回転駆動ステップと、前記原盤の１回転当たり所定の移動量となる定速度で前記原盤を所定半径方向に平面移動させる移動ステップと、前記複数のトラック各々の１周目〜(ｎ−１)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光において前記原盤の表面上で前記原盤の１回転当たり前記所定の移動量に等しい第１偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向に偏向させる第１偏向ステップと、１回目〜(ｎ−１)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第２偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第２偏向ステップと、ｎ周目の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記電子ビームの照射位置が隣接トラックの１周目の前記同心円の露光開始位置に位置するように前記原盤の表面上で第３偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第３偏向ステップと、を備えたことを特徴としている。
請求項８に係る発明の電子ビーム描画装置は、表面にレジスト層を有する原盤に電子ビームを照射して同心円のデータパターンを所定間隔で１トラック当たりｎ（ｎは２以上の整数）周回だけ露光することにより所定のトラックピッチを有する複数のトラックを形成する電子ビーム描画装置であって、前記原盤を線速度一定で回転駆動する回転駆動手段と、前記原盤の１回転当たり所定の移動量となる定速度で前記原盤を所定半径方向に平面移動させる移動手段と、前記複数のトラック各々の１周目〜(ｎ−１)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光において前記原盤の表面上で前記原盤の１回転当たり前記所定の移動量に等しい第１偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向に偏向させる第１偏向手段と、１回目〜(ｎ−１)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第２偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第２偏向手段と、ｎ周目の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記電子ビームの照射位置が隣接トラックの１周目の前記同心円の露光開始位置に位置するように前記原盤の表面上で第３偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第３偏向手段と、を備えたことを特徴としている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【発明を実施するための最良の形態】
請求項１に係る発明のディスク原盤製造方法、請求項７に係る発明のプログラム及び請求項８に係る発明の電子ビーム描画装置によれば、１トラックの形成のために複数の同心円のデータパターンを露光し、その各同心円のデータパターンを露光する際に電子ビームの偏向量を原盤の１回転中の所定半径方向への移動量より少ない量で済ますことができるので、短時間で描画することが可能となり、かつ複数回露光の平均化効果を利用して高解像かつ高精度なデータパターンのトラックの露光が可能となる。
【国際調査報告】
2008056400.tif 000011
2008056400.tif 000012
2008056400.tif 000013
2008056400.tif 000014