【手続補正書】
【提出日】平成17年1月18日(2005.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つのカチオン性金属対錯体を含む触媒組成物であって：
前記カチオン性金属対錯体は少なくとも１つの金属原子対を含み、前記対は第一金属原子Ｍ１、および第二金属原子Ｍ２を含み；
前記対の前記第一金属原子および前記第二金属原子は、少なくとも１．５オングストロームかつ２０オングストローム以下であるスルースペース核間距離を有し；
前記カチオン性金属対錯体は式Ｉの錯体である触媒組成物：
【化１】
2005068424.tif 000001
式中：
Ｍ１は、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、鉄、コバルト、ロジウム、クロム、およびマンガンからなる群から選択される第一金属原子を表す；
Ｍ２は、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、鉄、コバルト、ロジウム、クロム、およびマンガンからなる群から選択される第二金属原子を表す；
Ｌ１は一組の第一リガンドを表す；
Ｌ２は一組の第二リガンドを表す；
Ｌ３は一組の第三リガンドを表す；
Ｒ１は一組の第一のアニオン性ヒドロカルビル含有基を表す；
Ｒ２は一組の第二のアニオン性ヒドロカルビル含有基を表す；
Ｓ１は一組の第一反応性リガンドを表す；
Ｓ２は一組の第二反応性リガンドを表す；
Ａ１−Ａ８はそれぞれ一組の配位結合を表す；
ＷＣＡは弱配位アニオンを表す；
ａ、ｂ、ｈ、ｋ、ｍ、およびｐは０または１から選択される；
α、β、およびｃはそれぞれ１に等しい；
ｄ、ｅ、ｒ、ｓ、ｔ、およびｕは０、１、２、または３から選択される；
ｆおよびｇは１、２、３、または４から選択される；さらに
ここにおいて、０≦ｄ＋ｅ≦５；１≦ｍ＋ｐ≦２；１≦ｒ＋ｓ≦５；０≦ｔ＋ｕ≦５；２≦ｆ＋ｇ≦７；ｄ＋ｆ＋ｒ＋ｔ＝４；およびｅ＋ｇ＋ｓ＋ｕ＝４である。
【請求項２】
前記対の前記第一金属原子および前記第二金属原子が少なくとも２オングストロームかつ１０オングストローム以下のスルースペース核間距離を有する請求項１記載の触媒組成物。
【請求項３】
請求項１記載の触媒組成物および少なくとも一つのエチレン性不飽和モノマーを含む重合系であって、前記第一金属原子および前記第二金属原子がエチレン性不飽和モノマーの重合の触媒作用中協同作用を示す重合系。
【請求項４】
請求項１記載の前記触媒組成物の調製法であって：
（ｉ）式ＩＩの少なくとも一つの前駆錯体を提供する工程
【化２】
2005068424.tif 000002
（式中：
Ｍ１は、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、鉄、コバルト、ロジウム、クロム、およびマンガンからなる群から選択される第一金属原子を表す；
Ｍ２は、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、鉄、コバルト、ロジウム、クロム、およびマンガンからなる群から選択される第二金属原子を表す；
Ｌ１は一組の第一リガンドを表す；
Ｌ２は一組の第二リガンドを表す；
Ｌ３は一組の第三リガンドを表す；
Ｒ１は一組の第一のアニオン性ヒドロカルビル含有基を表す；
Ｒ２は一組の第二のアニオン性ヒドロカルビル含有基を表す；
Ｓ１は一組の第一反応性リガンドを表す；
Ｓ２は一組の第二反応性リガンドを表す；
Ａ１−Ａ１０はそれぞれ一組の配位結合を表す；
ＷＣＡは弱配位アニオンを表す；
Ｙは脱離基を表す）；
（ｉｉ）前記前駆錯体を少なくとも一つのアクチベータ成分と組み合わせる工程；
（ｉｉｉ）前記脱離基Ｙを前記前駆錯体から除去する工程；および
（ｉｖ）前記脱離基Ｙを少なくとも一つの置換部分と置換する工程を含む方法。
【請求項５】
前記前駆錯体が、式ＩＩの完全（金属対）前駆錯体である請求項４記載の方法であって、
式中
ａ、ｂ、ｈ、ｋ、ｘ、およびｙは０または１から選択される；
α、β、およびｃはそれぞれ１に等しい；
ｄ、ｅ、ｒ、ｓ、ｔ、およびｕは０、１、２、または３から選択される；
ｆおよびｇは１、２、３、または４から選択される；さらに
ここにおいて、１≦ｍ＋ｐ≦２；０≦ｄ＋ｅ≦４；１≦ｒ＋ｓ≦５；０≦ｔ＋ｕ≦４；１≦ｘ＋ｙ≦２；２≦ｆ＋ｇ≦６；ｄ＋ｆ＋ｒ＋ｔ＋ｘ＝４；およびｅ＋ｇ＋ｓ＋ｕ＋ｙ＝４である方法。
【請求項６】
前記前駆錯体が式ＩＩの第一半（金属対）前駆錯体であって：
式中
α、およびｘはそれぞれ１に等しい；β、ｂ、ｃ、ｋ、ｐ、ｅ、ｆ、ｇ、ｓ、ｕ、およびｙはそれぞれ０に等しい；ａ、ｈ、およびｍは０または１から選択される；ｄ、ｒ、およびｔは０、１、２、または３から選択される；ｄ＋ｆ＋ｒ＋ｔ＋ｘ＝４であり；さらに
前記置換部分が式ＩＩの第二半（金属対）前駆錯体であって：
式中、
βは１に等しい；α、ａ、ｃ、ｈ、ｍ、ｄ、ｆ、ｇ、ｒ、ｔ、ｘ、およびｙはそれぞれ０に等しい；ｂ、ｋ、およびｐは０または１から選択される；ｅは０、１、２、３、または４から選択される；ｓおよびｕは０、１、２、または３から選択される；ｅ＋ｇ＋ｓ＋ｕ＋ｙ＝４であり；さらに
前記第一半（金属対）錯体のｍ＋前記第二半（金属対）錯体のｐの和は１または２から選択される請求項４記載の方法。
【請求項７】
少なくとも１つの付加ポリマーを調製する方法であって：
（ａ）（ｉ）少なくとも１つの請求項１記載の触媒組成物；および
（ｉｉ）少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマー
を組み合わせ；さらに
（ｂ）前記の少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマーを前記の少なくとも１つの触媒組成物の存在下で重合させ前記付加ポリマーを形成する
ことを含む方法。
【請求項８】
前記付加ポリマーが：ポリ［（極性オレフィン）−（非極性オレフィン）］、ポリ（極性オレフィン）、ポリ（非極性オレフィン）、およびそれらの組み合わせから選択されるポリマーであり、前記エチレン性不飽和モノマーが少なくとも一つの極性オレフィンモノマー、少なくとも一つの非極性オレフィンモノマー、またはそれらの組み合わせから選択される請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記ポリ［（極性オレフィン）−（非極性オレフィン）］における重合単位として存在する前記の少なくとも一つの極性オレフィンモノマーと少なくとも一つの非極性オレフィンモノマーを合わせたモル百分率が、前記の少なくとも一つの付加ポリマーにおいて重合単位として存在するすべての前記極性オレフィンモノマーと前記非極性オレフィンモノマーの合計モルに基づいて、少なくとも７０モル％ないし１００モル％である請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記付加ポリマーが、重合単位として、少なくとも一つの（メタ）アクリレートモノマーを含み、重合単位として存在する前記の全ての（メタ）アクリレートモノマーと前記の全てのエチレン性不飽和モノマーのモル比が、少なくとも０．０５：９９．９５ないし１００：０である請求項７記載の方法。
【請求項１１】
前記付加ポリマーが、重合単位として、少なくとも一つの環状オレフィンモノマーを含み、重合単位として存在する前記の全ての環状オレフィンモノマーと前記の全てのエチレン性不飽和モノマーのモル比が少なくとも０．０５：９９．９５ないし１００：０である請求項７記載の方法。
【請求項１２】
請求項７記載の方法により調製されるポリマー組成物。
【請求項１３】
前記第一のアニオン性ヒドロカルビル基および前記第二のアニオン性ヒドロカルビル基の少なくとも１つが付加ポリマーである請求項１記載の触媒組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
「極性オレフィンモノマー」（あるいは「極性オレフィン」）なる用語は、炭素または水素以外の少なくとも一つの原子を含むエチレン性不飽和モノマーである。本発明の極性オレフィンモノマーは、本発明のカチオン性金属対錯体を用いて重合することができ、「ポリ（極性オレフィン）」または「ポリ［（極性オレフィン）−コ−（非極性オレフィン）］」を形成する任意の極性オレフィンモノマーである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３４】
架橋部分のさらなる例は、「ＮＯＮ」：
【化１０】
2005068424.tif 000003
であり、ここではＭ１とＭ２がどちらもパラジウムであるカチオン性金属対錯体で図示する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３５】
任意の所定のカチオン性金属対錯体、または前駆錯体における該反応性リガンドについて存在する制約（例えば、電子的、立体的および他の空間的制約）によって、一座配位または多座配位リガンドが対応する金属原子対の金属原子（反応性リガンド組Ｓ１についてはＭ１；反応性リガンド組Ｓ２についてはＭ２）との少なくとも一つの配位結合に関与することが可能な限り、任意の一座配位または多座配位反応性リガンドが、本発明のＳ１組の第一反応性リガンドまたはＳ２組の第二リガンドとなることができる。さらに、任意の多座配位反応性リガンドは、金属原子対における各金属原子の少なくとも一つの配位結合に同時に関与することができる。このような場合、反応性リガンドは、架橋部分として作用し、したがって任意のカチオン性金属対錯体式または前駆錯体式の下付き文字を指定する形式は次の通りである：反応性リガンドが金属原子対の両金属原子と結合する場合、該反応性リガンドの反応性ドナー部位により形成される任意の配位結合は架橋部分（すなわち、Ｌ３組）の配位結合として処理される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３７】
Ｒ１は、本発明の前駆錯体、第一半（金属対）、およびカチオン性金属対錯体の式においてみられるアニオン性ヒドロカルビル含有基である。Ｒ２は、本発明の第二の半（金属対）、カチオン性金属対錯体、および任意に前駆錯体の式において見られるアニオン性ヒドロカルビル含有基である。Ｒ１およびＲ２の両方が同じ前駆錯体または同じカチオン性金属対錯体において存在する場合、これらは実体的に同一であってもよいし、実体的に異なっていてもよい。Ｒ１およびＲ２は独立して、アニオン性ヒドロカルビル含有基のタイプおよびアニオン性ヒドロカルビル含有基の特定例についての以下の非網羅的リストおよびから選択することができる。