【手続補正書】
【提出日】平成17年2月8日(2005.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で示されるフォトレジスト重合体。
【化１】
1999349637.tif 000001
前記式で、
Ｒ1は側鎖又は主鎖に置換された炭素数１〜１０のアルキル、又はベンジル基を示し、
Ｒ2は炭素数１〜１０の１次、２次或いは３次アルコールを示し、
ｍ及びｎはそれぞれ１〜３の数を示し、
Ｘ、Ｙ及びＺは各共単量体の重合比を示す。
【請求項２】
Ｘ：Ｙ：Ｚの比は１０〜８０：１０〜８０：１０〜８０モル％であることを特徴とする請求項１記載のフォトレジスト重合体。
【請求項３】
前記フォトレジスト重合体は
ポリ（エチルマレイミド／ｔ−ブチル−５−ノルボルネン−２−カルボキシレート／２−ヒドロキシエチル−５−ノルボルネン−２−カルボキシレート）、
ポリ（プロピルマレイミド／ｔ−ブチル−５−ノルボルネン−２−カルボキシレート／３−ヒドロキシプロピル−５−ノルボルネン−２−カルボキシレート）、
ポリ（ｔ−ブチルマレイミド／ｔ−ブチル−ビシクロ［２、２、２］オクト−５−エン−２−カルボキシレート／２−ヒドロキシエチル−５−ノルボルネン−２−カルボキシレート）、
ポリ（エチルマレイミド／ｔ−ブチル−ビシクロ［２、２、２］オクト−５−エン−２−カルボキシレート／３−ヒドロキシプロピル−５−ノルボルネン−２−カルボキシレート）、
ポリ（プロピルマレイミド／ｔ−ブチル−５−ノルボルネン−２−カルボキシレート／２−ヒドロキシエチル−ビシクロ［２、２、２］オクト−５−エン−２−カルボキシレート）、
ポリ（エチルマレイミド／ｔ−ブチル−５−ノルボルネン−２−カルボキシレート／３−ヒドロキシプロピル−ビシクロ［２、２、２］オクト−５−エン−２−カルボキシレート）、
ポリ（プロピルマレイミド／ｔ−ブチル−ビシクロ［２、２、２］オクト−５−エン−２−カルボキシレート／２−ヒドロキシエチル−ビシクロ［２、２、２］オクト−５−エン−２−カルボキシレート）、及び
ポリ（エチルマレイミド／ｔ−ブチル−ビシクロ［２、２、２］オクト−５−エン−２−カルボキシレート／３−ヒドロキシプロピル−ビシクロ［２、２、２］オクト−５−エン−２−カルボキシレート）からなる群から選択されたことを特徴とする請求項１記載のフォトレジスト重合体。
【請求項４】
請求項１記載のフォトレジスト重合体の製造方法であって、
（ａ）（i）下記式（２）の化合物と、（ii）下記式（３）の化合物と、（iii）下記式（４）の化合物を重合有機溶媒に溶解する段階と、
（ｂ）前記結果物溶液に重合開始剤を添加して重合反応を誘導する段階と、
（ｃ）前記結果物溶液を沈澱させた後、前記沈澱物を乾燥する段階を含むことを特徴とするフォトレジスト重合体の製造方法。
【化２】
1999349637.tif 000002
前記式で、
Ｒ1は側鎖又は主鎖置換された炭素数１〜１０のアルキル、又はベンジル基を示し、
Ｒ2は炭素数１〜１０の１次、２次或いは３次アルコールを示し、ｍ及びｎはそれぞれ１〜３の数を示す。
【請求項５】
前記重合開始剤は、ベンゾイルパーオキサイド、２、２−アゾビスイソブチロニトリル（AIBN）、アセチルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、又はｔ−ブチルアセテートであることを特徴とする請求項４記載のフォトレジスト重合体の製造方法。
【請求項６】
前記重合有機溶媒がテトラヒドロフラン（THF）、シクロヘキサン、メチルエチルケトン、ベンゼン、トルエン、ジオキサン、又はジメチルホルムアミドであることを特徴とする請求項４記載のフォトレジスト重合体の製造方法。
【請求項７】
前記（ｂ）段階は、窒素又はアルゴン雰囲気下に６０〜７０℃の温度で４〜２４時間行われることを特徴とする請求項４記載のフォトレジスト重合体の製造方法。
【請求項８】
（i）請求項１記載のフォトレジスト重合体と、
（ii）光酸発生剤と、
（iii）有機溶媒とを含むことを特徴とするフォトレジスト組成物。
【請求項９】
前記光酸発生剤が硫化塩系又はオニウム塩系であることを特徴とする請求項８記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１０】
前記光酸発生剤は、ジフェニルヨード塩ヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨード塩ヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨード塩ヘキサフロオロアンチモネート、ジフェニル パラメトキシフェニルトリフレート、ジフェニル パラトルエニルトリフレート、ジフェニル パライソブチルフェニルトリフレート、ジフェニル パラ−ｔ−ブチルフェニルトリフレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジブチルナフチルスルホニウムトリフレート、及びトリフェニルスルホニウムトリフレートからなる群から選択されたことを特徴とする請求項８記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１１】
前記有機溶媒がエチル−３−エトキシプロピオネート、エチルラクテート、メチル−３−メトキシプロピオネート、又はプロピレングリコールメチルエーテルアセテートであることを特徴とする請求項８記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１２】
前記光酸発生剤は、用いられたフォトレジスト重合体の１〜２０重量％の量含まれることを特徴とする請求項８記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１３】
前記有機溶媒は、用いられたフォトレジスト重合体の１００〜７００重量％の量含まれることを特徴とする請求項８記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１４】
（ａ）請求項８記載のフォトレジスト組成物を被エッチング層の上部に塗布してフォトレジスト層を形成する段階と、
（ｂ）露光装備を利用して前記フォトレジスト層を露光する段階と、
（ｃ）前記結果物全面にシリル化剤を噴射する段階と、
（ｄ）前記結果物全面に対し、乾式エッチング工程を行う段階とを含むことを特徴とするフォトレジストパターンの形成方法。
【請求項１５】
前記（ｂ）段階の前及び／又は後に、前記フォトレジスト層を９０〜１８０℃の温度で３０〜３００秒の間ベイクする段階を含むことを特徴とする請求項１４記載のフォトレジストパターンの形成方法。
【請求項１６】
前記（ｂ）段階はArF、EUV、E−beam、Ion−beam又はＸ線を用いて行うことを特徴とする請求項１４記載のフォトレジストパターンの形成方法。
【請求項１７】
前記（ｂ）段階は１〜５０mJ/cm2の露光エネルギーを照射して行うことを特徴とする請求項１４記載のフォトレジストパターンの形成方法。
【請求項１８】
前記（ｃ）段階のシリル化剤は、シリル化剤がヘキサメチルジシラザン、テトラメチルジシラザン、ジメチルアミノジメチルシラン、ジメチルアミノエチルシラン、ジメチルシリルジメチルアミン、トリメチルシリルジメチルアミン、トリメチルシリルジエチルアミン、又はジメチルアミノペンタメチルシランのうちのいずれか一つであることを特徴とする請求項１４記載のフォトレジストパターンの形成方法。
【請求項１９】
前記（ｃ）段階は９０〜１８０℃の温度で３０〜３００秒間行われることを特徴とする請求項１４記載のフォトレジストパターンの形成方法。
【請求項２０】
請求項８記載のフォトレジスト組成物を用いて製造されることを特徴とする半導体素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
すなわち、本発明の請求項１に記載の発明は、
下記式（１）で示されるフォトレジスト重合体である。
【化３】
1999349637.tif 000003
前記式で、
Ｒ1は側鎖又は主鎖に置換された炭素数１〜１０のアルキル、又はベンジル基を示し、
Ｒ2は炭素数１〜１０の１次、２次或いは３次アルコールを示し、
ｍ及びｎはそれぞれ１〜３の数を示し、
Ｘ、Ｙ及びＺは各共単量体の重合比を示す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項４記載の発明は、請求項１記載のフォトレジスト重合体の製造方法であって、
（ａ）（i）下記式（２）の化合物と、（ii）下記式（３）の化合物と、（iii）下記式（４）の化合物を重合有機溶媒に溶解する段階と、
（ｂ）前記結果物溶液に重合開始剤を添加して重合反応を誘導する段階と、
（ｃ）前記結果物溶液を沈澱させた後、前記沈澱物を乾燥する段階を含むことを特徴とする。
【化４】
1999349637.tif 000004
前記式で、
Ｒ1は側鎖又は主鎖置換された炭素数１〜１０のアルキル、又はベンジル基を示し、
Ｒ2は炭素数１〜１０の１次、２次或いは３次アルコールを示し、ｍ及びｎはそれぞれ１〜３の数を示す。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本発明は下記式（１）で示される重合体に関するものであり、単一層工程は勿論、TSI用フォトレジストにも用いることができる。
【化５】
1999349637.tif 000005
前記式で、
Ｒ1は側鎖又は主鎖に置換された炭素数１〜１０のアルキル、又はベンジル基を示し、
Ｒ2は炭素数１〜１０の１次、２次或いは３次アルコールを示し、
ｍ及びｎはそれぞれ１〜３の数を示し、
Ｘ、Ｙ及びＺは各共単量体の重合比であり、Ｘ：Ｙ：Ｚの比は１０〜８０：１０〜８０：１０〜８０モル％であることが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
以下、本発明を具体的に説明すれば次の通りである。
本発明に係る式（１）の重合体は、下記式（２）で示されるアルキルマレイミド、下記式（３）で示される化合物、及び下記式（４）で示される化合物を重合開始剤の存在下で重合させ製造することができる。
【化６】
1999349637.tif 000006
前記式で、
Ｒ1は側鎖又は主鎖に置換された炭素数１〜１０のアルキル、又はベンジル基を示し、
Ｒ2は炭素数１〜１０の１次、２次或いは３次アルコールを示し、
ｍ及びｎはそれぞれ１〜３の数を示す。