(57)【要約】  樹脂及びこれを溶解する溶剤を含有し固形粒子を実質的に含有しないインクからなる液滴をインクジェット法により基板２３上に印刷し、基板２３上の液滴から溶剤を除去して、基板２３上の所定の位置に配されたスペーサ１１を形成させる液晶表示装置用スペーサの製造方法であって、インクの２５℃における表面張力をＸｍＮ／Ｎ、基板２３の２５℃における表面自由エネルギーをＹｍＪ／ｍ２としたときに、下記式（１）におけるＡが−１０〜１５ｍＪ／ｍ２である製造方法である。      Ａ＝Ｘ−Ｙ        （１）
2009031250.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂及びこれを溶解する溶剤を含有し固形粒子を実質的に含有しないインクからなる液滴をインクジェット法により基板上に印刷し、前記基板上の前記液滴から前記溶剤を除去して、前記基板上の所定の位置に配されたスペーサを形成させる液晶表示装置用スペーサの製造方法であって、
前記インクの２５℃における表面張力をＸｍＮ／Ｎ、前記基板の２５℃における表面自由エネルギーをＹｍＪ／ｍ２としたときに、下記式（１）におけるＡが−１０〜１５ｍＪ／ｍ２である液晶表示装置用スペーサの製造方法。
Ａ＝Ｘ−Ｙ        （１）
【請求項２】
上記式（１）におけるＡを−１０〜１５ｍＪ／ｍ２の範囲内で変えることにより、前記スペーサの高さＨを調整する請求項１記載の液晶表示装置用スペーサの製造方法。
【請求項３】
前記インクの２５℃における表面張力が２０ｍＮ／ｍ以上であり、前記インクの２５℃における粘度が５０ｍＰａ・ｓ以下である、請求項１記載の液晶表示装置用スペーサの製造方法。
【請求項４】
前記溶剤の２５℃における蒸気圧が１．３４×１０３Ｐａ未満である、請求項１記載の液晶表示装置用スペーサの製造方法。
【請求項５】
前記樹脂が熱硬化性樹脂であり、前記基板上の前記液滴を加熱することにより前記液滴から前記溶剤を除去するとともに前記熱硬化性樹脂を硬化させて前記液晶表示装置用スペーサを形成させる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶表示装置用スペーサの製造方法。
【請求項６】
前記熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂及びその硬化剤を含む、請求項５記載の液晶表示装置用スペーサの製造方法。
【請求項７】
前記エポキシ樹脂がフェノール化合物とアルデヒド化合物の縮合物のグリシジルエーテル化物である、請求項６記載の液晶表示装置用スペーサの製造方法。
【請求項８】
前記インクを目開き１μｍのフィルタでろ過したときに、ろ別される固形分の量が前記インク質量に対して０．３質量％未満である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶表示装置用スペーサの製造方法。
【請求項９】
前記インクの乾燥後の固形分比率を変えることにより前記スペーサの高さＨを調整する請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶表示装置用スペーサの製造方法。
【請求項１０】
前記基板上に印刷される前記液滴の量を変えることにより前記スペーサの高さＨを調整する請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶表示装置用スペーサの製造方法。
【請求項１１】
インクジェット法により基板上に印刷される、樹脂及びこれを溶解する溶剤を含有し且つ固形粒子を実質的に含有していない液晶表示装置のスペーサ形成用インクであって、
前記インクの２５℃における表面張力をＸｍＮ／ｍ、前記基板の２５℃における表面自由エネルギーをＹｍＪ／ｍ２としたとき、下記一般式（１）におけるＡが−１０〜１５ｍＪ／ｍ２であるスペーサ形成用インク。
Ａ＝Ｘ−Ｙ        （１）
【請求項１２】
対向配置された１対の基板と、該１対の基板間に配された液晶層及び液晶表示装置用スペーサとを備える液晶表示装置の製造方法において、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の製造方法により少なくとも一方の前記基板上に前記液晶表示装置用スペーサを形成させる工程を備える、製造方法。
【請求項１３】
対向配置された１対の基板と、該１対の基板間に配された液晶層及び液晶表示装置用スペーサと、を備え、前記液晶表示装置用スペーサが、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の製造方法により形成されたものである、液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置用スペーサの製造方法、スペーサ形成用インク、並びに液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、カラーテレビやパーソナルコンピュータのモニターなどの表示装置として、液晶表示装置が用いられている。液晶表示装置は、一般に、透明電極などを有する透明な１対の基板が１〜１０μｍのギャップを開けて対向配置され、該１対の基板間に液晶物質を封入して液晶層が形成された構成を有する。液晶層に対して電極を通じて電界を印加することにより液晶物質を配向させ、液晶物質の配向によりバックライトの光の透過・不透過をコントロールして画像を表示させる。【０００３】
液晶表示装置の液晶層の厚さが不均一であると表示ムラやコントラスト異常が発生するため、基板間のギャップを一定に保って液晶層の厚さを均一にすることが必要とされる。そのため、従来、均一な粒度分布を有するシリカ粒子、金属酸化物粒子、及び熱可塑性樹脂粒子などのビーズを基板上に散布し、それらをスペーサとして基板間に配置する方法により、基板間のギャップを一定に保つ方法が用いられてきた。【０００４】
しかし、散布されたビーズをスペーサ（粒子状スペーサ）として用いる上記従来の方法の場合、ビーズが固定されていないため、液晶表示装置の振動によりビーズが移動して表示バラツキを生じる問題があった。また、散布の際にビーズを所望の位置に精度よく配置することが困難であるため、その分布にバラツキが生じやすく、場合によっては液晶表示装置の表示領域にビーズが配置されて、ビーズが表示バラツキや光抜けなどの表示不良の要因となることもあった。【０００５】
そこで、感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法によって一方の基板上にスペーサを形成する方法が検討されている。この方法によれば、所望の位置にスペーサとしてのレジストパターンを高い位置精度で形成することが可能である。また、一般にレジストパターンの基板への付着力は比較的高いため、粒子状スペーサを用いる場合と比べて、配向異常やコントラスト低下などを改善できると考えられる。【０００６】
ただし、フォトリソグラフィー法は、一旦、基板の全面にスペーサ材料として感光性樹脂を塗布した後に不要部分を取り除くために材料のロスが多く、また、現像、剥離などの複数の工程が必要であり、製造工程が複雑化してしまうといった問題を有している。また、各製品に対応するフォトリソグラフィー法用の版を準備する必要があり、この点でも工程が複雑化するという問題があった。更には、近年の液晶表示装置の大型化にともなって、スペーサ材料の均一な塗布や、対応する版の準備が困難になる傾向があった。【０００７】
一方、粒子状スペーサを含むインクをインクジェット法によって基板上に印刷する方法により、基板上に粒子状スペーサ（ビーズ）を配する方法が検討されている（特許文献１〜４）。インクジェット法によれば、フォトリソグラフィー法と比較して簡易な工程でスペーサを形成することが可能になる。また、粒子状スペーサを散布する方法に比べて位置精度が格段に向上することが可能であると考えられる。例えば、粒子状スペーサを溶剤に分散させたインクを、非表示領域であるカラーフィルタのブラックマトリックス部分に対してインクジェット法により局所的に印刷し、印刷されたインクから溶剤を蒸発させることにより、ブラックマトリックス上に粒子状スペーサを選択的に形成させることが可能になると期待される。
【特許文献１】特開平１１−３１６３８０号公報
【特許文献２】特開２００２−３３３６３１号公報
【特許文献３】特開２００４−１３１１６号公報
【特許文献４】特開２００３−２９５１９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明者らの検討によれば、固形粒子を含有するインクに代えて、固形粒子を実質的に含有せず、樹脂及びこれが溶解している溶剤を含有するインクを用いることにより、十分に高い位置精度で液晶表示装置用スペーサを形成できることが分かった。【０００９】
しかしながら、上記のような固形粒子を実質的に含有しないインクを用いて液晶表示装置用スペーサを形成する場合、十分な高さ精度を有するスペーサを形成することが困難であった。すなわち、インクが固形粒子を含有していないため、スペーサの高さのバラつきを十分に抑制することが困難であった。【００１０】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、十分な高さを有するとともに、十分優れた位置精度と高さ精度とを有する液晶表示用スペーサを形成することが可能な液晶表示用スペーサの製造方法を提供することを目的とする。また、本発明はかかる製造方法に好適に用いられるスペーサ形成用インク、及びかかる製造方法によって形成される液晶表示装置用スペーサを備える液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するため、本発明では、樹脂及びこれを溶解する溶剤を含有し固形粒子を実質的に含有しないインクからなる液滴をインクジェット法により基板上に印刷し、上記基板上の液滴から溶剤を除去して、上記基板上の所定の位置に配されたスペーサを形成させる液晶表示装置用スペーサの製造方法であって、上記インクの２５℃における表面張力をＸｍＮ／Ｎ、上記基板の２５℃における表面自由エネルギーをＹｍＪ／ｍ２としたときに、下記式（１）におけるＡが−１０〜１５ｍＪ／ｍ２である液晶表示装置用スペーサの製造方法を提供する。
Ａ＝Ｘ−Ｙ        （１）【００１２】
上記本発明の製造方法では、インクジェット法を採用しているため、容易に液晶表示装置用スペーサを形成することができる。また、固形粒子を実質的に含有しないインクを用いているため、十分に優れた位置精度で液晶表示装置用スペーサを形成することができる。さらに、十分な高さＨを有しつつ、高さＨのバラつきを抑制することができる。【００１３】
十分な高さを有しつつ、十分優れた位置精度で高さＨのバラつきが抑制されたスペーサを形成できるようになった理由は以下の通りである。すなわち、インクの基板に対する濡れ性が高すぎると、液晶表示装置用スペーサとして好適な１μｍ以上の高さＨを有するスペーサを形成することが困難となる。また、スペーサ径が大きくなり所望の印刷領域内にスペーサを形成することが困難となる。一方、インクの基板に対する濡れ性が低すぎると、インクジェット法により液滴を配置した後、液滴がはじかれて、所望の位置にスペーサを形成できない傾向がある。また、同一インクであっても基板の表面自由エネルギーが異なると、インクの濡れ性が異なりスペーサ高さＨが変動する。そこで、インクの表面張力と基板の表面自由エネルギーの差（Ａ）を−１０〜１５ｍＪ／ｍ２の範囲とすることにより、十分な高さを有しつつ、十分優れた位置精度で高さＨのバラつきが抑制されたスペーサを形成できるようになった。【００１４】
なお、粒子状スペーサを含有するインクをインクジェット法により印刷する従来の製造方法の場合、インクジェットノズル先端においてインクの界面（メニスカス）形状の均一性が粒子状スペーサのような固形粒子の存在に起因して乱され、その結果、吐出された液滴の飛行曲がり及び吐出速度の不均一が生じてしまう。液滴の飛行曲がりや吐出速度の不均一があると、着弾位置精度が低下したり、サテライトが発生したりする。これに対して、本発明では、固形粒子を実質的に含有しないインクを用いるとともに、基板の表面自由エネルギーとインクの表面張力との差（Ａ）を調整することにより、優れたスペーサの位置精度を有しつつ、スペーサの高さＨを高い精度で形成することが可能になった。【００１５】
本発明では、上記式（１）におけるＡを−１０〜１５ｍＪ／ｍ２の範囲内で変えることにより、液晶表示装置用スペーサの高さＨを調整することが好ましい。このように、Ａを上記範囲内で調整する事により、十分な高さＨを維持しつつ、スペーサの高さＨを十分に優れた精度で調整することができる。【００１６】
本発明では、上記インクの２５℃における表面張力は２０ｍＮ／ｍ以上であることが好ましい。また、上記インクの２５℃における粘度は５０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。このような性状を有するインクを用いることにより、基板上に配された液滴の直径、ひいては形成されるスペーサのサイズを小さくすることが容易になる。スペーサを小さくすることは、特に高精細な液晶表示装置において重要である。更には、上記インクによれば、インクジェットの目詰まりの発生が抑制され、より良好な印字性を得ることができる。このようなインクは、インクを同じ位置に２回以上重ねて印刷する方法を採用する場合に特に有用である。【００１７】
本発明では、インク中の溶剤の２５℃における蒸気圧は、１．３４×１０３Ｐａ未満であることが好ましい。これにより、溶剤の揮発によるインク粘度の上昇が十分に抑制され、インクジェットの目詰まりの発生をより一層抑制することができる。【００１８】
本発明では、インク中の樹脂は熱硬化性樹脂であることが好ましい。硬化前の熱硬化性樹脂の粘度は比較的低いため、熱硬化性樹脂を用いることによりインクが低粘度化されて、より安定した吐出性を得ることが可能になる。この場合、液晶表示装置用スペーサは、基板上の液滴を加熱することにより液滴から溶剤を除去するとともに熱硬化性樹脂を硬化させて形成することができる。【００１９】
本発明では、上記熱硬化性樹脂はエポキシ樹脂及びその硬化剤を含むことが好ましい。エポキシ樹脂や硬化剤の種類を適宜選択することにより、スペーサを構成する硬化物を、比較的容易に所望の物性を有するものとすることができる。エポキシ樹脂は、耐熱性や接着性の観点から、フェノール化合物とアルデヒド化合物との縮合物のグリシジルエーテル化物であることが好ましい。【００２０】
本発明では、インクを目開き１μｍのフィルタでろ過したときに、ろ別される固形分の量が上記インク質量に対して０．３質量％未満であることが好ましい。これにより、形成される液晶表示装置用スペーサの位置精度を一層向上することができる。【００２１】
また、本発明では、液晶表示装置用スペーサの高さＨを、インクの乾燥後の固形分比率を変えることにより所望の高さ（１〜１０μｍ程度）に調整することが好ましい。インクの乾燥後の固形分比率（％）は、２５℃における粘度が５０ｍＰａ・ｓ以下となる範囲で、任意の値に調整することができる。ここで、インクの固形分比率とは、下記式（２）式により導出することができる。なお、下記式（２）における乾燥後の質量は、インクを２００℃、３０分間の条件で乾燥した後の質量である。
固形分比率（％）＝（乾燥後の質量／乾燥前のインク質量）×１００    （２）【００２２】
また、本発明では、液晶表示装置用スペーサの高さＨを、インクの液滴量を変えることによりを調整することが好ましい。インクの液適量は、０．００１〜１００ｐＬであることが好ましく、１〜８０ｐＬであることがより好ましく、１〜３０ｐＬであることがさらに好ましい。液滴容量が多いほど、形成されるスペーサの直径が大きくなり印刷位置の制約が大きくなる傾向がある。【００２３】
別の側面において、本発明は液晶表示装置のスペーサ用インクに関する。本発明では、インクジェット法により基板上に印刷される、樹脂及びこれを溶解する溶剤を含有し且つ固形粒子を実質的に含有していない液晶表示装置のスペーサ形成用インクであって、上記インクの２５℃における表面張力をＸｍＮ／ｍ、上記基板の２５℃における表面自由エネルギーをＹｍＪ／ｍ２としたとき、上記一般式（１）におけるＡが−１０〜１５ｍＪ／ｍ２であるスペーサ形成用インクを提供する。【００２４】
このようなスペーサ形成用インクを用いることにより、液晶表示装置用に十分な高さＨを有するスペーサを形成することができる。このスペーサ形成用インクにより形成されたスペーサは、位置精度及び高さ精度に十分に優れている。【００２５】
また、本発明のスペーサ形成用インクを用いれば、十分に優れた精度でスペーサの高さＨを制御することができる。本発明に係るスペーサ形成用インクは、当該インクからなる液滴をインクジェット法により基板上に印刷して、液晶表示装置用スペーサを形成するために用いられる。言い換えると、本発明に係るスペーサ形成用インクは、上記本発明に係る液晶表示装置用スペーサの製造方法に好適に用いられる。本発明に係るスペーサ形成用インクによれば、液晶表示装置用スペーサを十分に高い位置精度及び優れた高さ精度で簡易な工程により形成することができる。【００２６】
更に別の側面において、本発明は、対向配置された１対の基板と、該１対の基板間に配された液晶層及び液晶表示装置用スペーサとを備える液晶表示装置の製造方法に関する。本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、上記本発明に係る製造方法により少なくとも一方の基板上に液晶表示装置用スペーサを形成させる工程を備える。【００２７】
上記本発明に係る製造方法によれば、十分な高さＨを有する液晶表示装置用スペーサを十分優れた位置精度及び高さ精度で形成することができる。また、このような液晶表示装置用スペーサを簡易な工程により形成することが可能である。【００２８】
更に別の側面において、本発明は液晶表示装置に関する。本発明に係る液晶表示装置は、対向配置された１対の基板と、該１対の基板間に配された液晶層及び液晶表示装置用スペーサと、を備える。当該液晶表示装置用スペーサは、上記本発明に係る製造方法により形成されたものである。【００２９】
上記本発明に係る液晶表示装置は、十分な高さＨを有するスペーサが十分に優れた位置精度と高さ精度で配されている。このため、表示バラツキや光抜けなどの表示不良を十分に抑制することができる。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、十分な高さを有するとともに、十分優れた位置精度と高さ精度とを有する液晶表示用スペーサを形成することが可能な液晶表示用スペーサの製造方法を提供することができる。また、本発明はかかる製造方法に好適に用いられるスペーサ形成用インク、及びかかる製造方法によって形成される液晶表示装置用スペーサを備える液晶表示装置及びその製造方法を提供することができる。【００３１】
また、任意の高さにスペーサ高さを制御可能であり、液晶表示装置用スペーサを十分に高い位置精度で簡易な工程により形成することができる。すなわち、精度良く液晶表示装置の非表示領域に選択的に所望の高さを有するスペーサを形成することが可能となるため、液晶表示装置の表示バラツキや光抜けなどの表示不良を十分に抑制することができる。【００３２】
また、従来の粒子状スペーサは基板と点接触するためその接触面積が小さかったのに対して、本発明の製造方法により形成されるスペーサは基板との接触面積を多くすることができる。スペーサを構成する樹脂と基板との密着性は一般に良好であることから、スペーサと基板の間の良好な密着性をも得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明の液晶表示装置用スペーサの製造方法により基板上に形成された液晶表示装置用スペーサの一実施形態を示す模式断面図である。
【図２】本発明の液晶表示装置用スペーサの製造方法により基板上に形成された液晶表示装置用スペーサの別の実施形態を示す模式断面図である。
【図３】図２のスペーサ１２の上面図である。
【図４】本発明の液晶表示装置の一実施形態を示す模式断面図である。
【符号の説明】
【００３４】
１…液晶表示装置、２ａ，２ｂ…電極、３ａ，３ｂ，２３…基板、２３ａ…主面、５ａ，５ｂ…偏光板、６ａ，６ｂ…基板部材、７…カラーフィルタ、８…位相差板、９…バックライト、１０，１１，１２…スペーサ、１３…シール材、１７ａ，１７ｂ…配向層、１８…液晶層、２０，２２…樹脂層。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。【００３６】
図１は、本発明の液晶表示装置用スペーサの製造方法により基板上に形成された液晶表示装置用スペーサの一実施形態を示す模式断面図である。樹脂層２０からなる液晶表示装置用スペーサ１１は、基板２３の主面２３ａ上に設けられる。以下、液晶表示装置用スペーサ１１の製造方法について説明する。【００３７】
本実施形態の液晶表示装置用スペーサの製造方法では、樹脂及びこれを溶解する溶剤を含有し固形粒子を実質的に含有しないインクからなる液滴をインクジェット法により基板２３の主面２３ａ上に印刷し、基板２３の主面２３ａ上の液滴から溶剤を除去して、主面２３ａ上の所定の位置に配された液晶表示装置用スペーサを形成させる。そして、上記インクの２５℃における表面張力をＸｍＮ／Ｎ、上記基板の２５℃における表面自由エネルギーをＹｍＪ／ｍ２としたときに、上記式（１）におけるＡが−１０〜１５ｍＪ／ｍ２である。【００３８】
本実施形態の液晶表示装置用スペーサの製造方法では、まず、液晶表示装置に用いられる基板２３の主面２３ａ上に、樹脂及びこの樹脂を溶解する溶剤を含有し、固形粒子を実質的に含有しないインクをインクジェット法で印刷する。そして、例えば、加熱処理等により溶媒を除去して、樹脂層２０を形成することができる。これによって、基板２３上に樹脂層２０からなる液晶表示装置用スペーサ１１を形成することができる。スペーサ１１の高さＨは、１〜１０μｍであることが好ましい。【００３９】
インクジェット法としては、例えば、ピエゾ素子の振動によって液体を吐出するピエゾ方式や、急激な加熱による液体の膨張を利用して液体を吐出させるサーマル方式等、一般的な吐出方法を使用できる。このようなインクジェット法を実施するためには、例えば、通常のインクジェット装置を用いることができる。【００４０】
インクが基板２３上に着弾した後に溶媒を除去する方法としては、例えば、基板を加熱したり、熱風を吹き付けたりする加熱処理方法を採用することができる。このような加熱処理は、例えば、加熱温度１５０〜２５０℃、加熱時間０．２〜１．０時間で行うことができる。なお、樹脂として熱硬化性樹脂を用いる場合、溶媒の除去後、または溶媒除去と同時に樹脂を硬化させることができる。【００４１】
インクの表面張力ＸｍＮ／Ｎと基板２３の表面自由エネルギーＹｍＪ／ｍ２との差（Ａ）は、−１０〜１５ｍＪ／ｍ２であり、−１０〜０ｍＪ／ｍ２であることが好ましい。Ａが−１０〜０ｍＪ／ｍ２の範囲内であれば、スペーサ１１が適度に扁平化し（スペーサ１１の直径／高さＨ＝１０〜３０）、スペーサ１１の高さＨの標準偏差を０．０５μｍ以内に低減することができる。Ａが−１０ｍＪ／ｍ２未満の場合、十分な高さを有するスペーサが形成できない。一方、Ａが１５ｍＪ／ｍ２を超える場合、所望の位置にスペーサ１１を形成することができない。なお、上記のスペーサ１１の直径とは、基板２３の主面２３ａとの接触する面における直径である。【００４２】
基板２３の表面自由エネルギーは６０ｍＪ／ｍ２以下であることが好ましく、３５ｍＪ／ｍ２以下であることがより好ましく、３０ｍＪ／ｍ２以下であることが更に好ましい。基板の表面自由エネルギーは、基板表面の材質を変更することによって調整することができる。このように、基板表面の材質を選択することによって、樹脂層２０の高さ、すなわちスペーサ１１の高さＨを調整することができる。【００４３】
本実施形態のスペーサ形成用インクは、表面張力が２０ｍＮ／ｍ以上であることが好ましい。スペーサ形成用インクの表面張力が２０ｍＮ／ｍ未満の場合、インク液滴が基板２３に着弾後に濡れ広がり、液晶表示装置の狭い幅の非表示領域内へのスペーサの形成が困難になる傾向がある。スペーサ形成用インクの表面張力は、２０〜８０ｍＮ／ｍの範囲であることがより好ましい。これは、インクの表面張力が８０ｍＮ／ｍを越える場合、インクジェットノズル詰まりが発生し易くなる傾向があるためである。【００４４】
なお、インクの表面張力は、配合する樹脂成分及び溶剤の種類を変更すること、及び配合比を変更することにより調整することができる。このように、インクの配合を変更することによって、基板２３の主面２３ａ上に印刷された液滴の高さを調整することができる。【００４５】
一般に、インクの表面張力は上昇させるよりも低下させる方が容易である。したがって、基板２３の表面自由エネルギーが低いほど、インクの表面張力と基板２３の表面自由エネルギーの差の変化幅を広くでき、形成されるスペーサ１１の高さＨを幅広く制御することができる。インクの表面張力Ｘと基板１１の表面自由エネルギーＹの差（Ａ）が正に大きいほど、スペーサ１１の高さＨを高くすることができる。【００４６】
液晶表示装置用スペーサ１１の高さＨは、インクジェット法によって基板２３の主面２３ａ上に印刷される液滴の高さを制御することにより調整することができる。液滴の高さは、インクの表面張力、基板２３の表面自由エネルギー、液滴の量、上記式（２）で導出される乾燥後の固形分比率を変えることによって調整することができる。なお、本実施形態のスペーサ及び液滴の「高さ」とは、基板２３の主面２３ａに垂直な方向におけるスペーサ及び液滴の厚みをいう。【００４７】
本実施形態では、インクの表面張力ＸｍＮ／Ｎと、基板２３の表面自由エネルギーＹｍＪ／ｍ２との差、すなわち、上記式（１）によって導出されるＡの値を−１０〜１５ｍＪ／ｍ２の範囲で変えることによって、基板２３の主面２３ａ上の液滴の高さを調整することができる。このような液滴から溶媒を除去し硬化させることによって、十分な精度で所望の高さＨを有する液晶表示装置用スペーサ１１を形成することができる。【００４８】
なお、本実施形態の液晶表示装置用スペーサの製造方法において、スペーサ１１の高さＨは、インクの液滴量やインクの乾燥後の固形分比率（上記式（２）によって導出される値）を変えることによっても調整することができる。インクの液滴量が多く、インクの乾燥後の固形分比率が高いほど、スペーサ１１の高さＨを高くすることができる。【００４９】
図２は、本発明の液晶表示装置用スペーサの製造方法により基板上に形成された液晶表示装置用スペーサの別の実施形態を示す模式断面図である。樹脂層２０及び樹脂層２２がこの順で積層されてなる液晶表示装置用スペーサ１２は、基板２３上に設けられる。以下、液晶表示装置用スペーサ１２の製造方法について説明する。【００５０】
まず、基板２３の主面２３ａ上に、インクジェット法により樹脂及び溶剤を含有し、固形粒子を実質的に含有しないインクからなる液滴を吐出して印刷する。なお、用いるインクの表面張力と基板２３の表面自由エネルギーとの差異（Ａ）は−１０〜１５ｍＪ／ｍ２の範囲である。このようにして形成された液滴から、溶媒を除去し硬化させて樹脂層２０を形成する。この樹脂層２０の上に、インクジェット法により樹脂及び溶剤を含有し、固形粒子を実質的に含有しないインクを印刷する。すなわち、基板２３上の樹脂層２０の形成位置と同じ位置に、スペーサ形成用インクを印刷する。該インクは、樹脂層２０形成用に用いたインクと同一組成でも、異なる組成でもどちらでもよい。このように、樹脂層２０上にインクを印刷した後、樹脂層２０形成時と同様にして溶媒を除去することによって、樹脂層２０の上に樹脂層２３を形成することができる。これによって、図２に示すような、基板２３上に、樹脂層２０及び樹脂層２２がこの順で積層された液晶表示装置用スペーサ１２を形成することができる。本実施形態の製造方法によるスペーサ１２の高さＨ１は、液晶表示装置用スペーサとして十分な高さである。【００５１】
図３は、図２のスペーサ１２の上面図である。樹脂層２２は、樹脂層２０を覆うように設けられる（図２）。このように、本発明のスペーサ形成用インクは、一つの形成領域に一回以上吐出することができる。これにより、広い範囲の液晶層のギャップ高さに容易に対応可能な液晶表示装置用スペーサを形成することができる。【００５２】
ここで、基板２３は、液晶表示装置に用いられる基板であり、液晶表示装置用スペーサ１１（１２）が形成される面側に、例えば、電極や配向層を有するものを用いることができる。なお、スペーサ形成用インクは、液晶表示装置において対向配置される２枚の基板のうち、一方の基板表面に吐出することが好ましく、スペーサを配置する領域としては、カラーフィルタのブラックマトリックス等の非表示領域上であることが好ましい。【００５３】
なお、本実施形態では、基板２３上にスペーサ形成用インクを印刷した後、加熱処理を行って樹脂層２０を一旦形成したが、基板２３上にスペーサ形成用インクを印刷した後に加熱処理を行わずに、同じ位置にスペーサ形成用インクを重ねて印刷し、その後、加熱処理等により溶媒を除去して、樹脂層２０と樹脂層２２とを同時に形成してもよい。また、樹脂層２２上に、さらにインクジェット法により樹脂及び溶剤を含有し固形粒子を実質的に含有しないインクを印刷して溶媒を除去することにより、樹脂層２２上にさらに樹脂層を形成してもよい。このように、樹脂層２２上にインクを重ねて印刷し、溶媒を除去することによって、基板２３上に３層以上の樹脂層からなる液晶表示装置用スペーサを形成することができる。【００５４】
次に、液晶表示装置用スペーサの製造方法に用いられるスペーサ形成用インクについて、詳細に説明する。本発明の液晶表示装置用スペーサの製造方法では、樹脂及びこれが溶解している溶剤を含有し、固形粒子を実質的に含有しないインクを用いる。ここで、「実質的に含有しない」とは、常温下において、粒径１．０μｍ以上の固形状粒子の含有量が、インク質量に対して、０．５質量％未満であることを意味する。なお、固形状粒子の含有量は、インク質量に対して、０．３質量％未満であることが好ましく、０．０５質量％未満であることがより好ましく、０．０１質量％未満であることが特に好ましい。固形状粒子の含有量を低減することによって、着弾位置精度を一層向上させることができる。【００５５】
本実施形態のスペーサ形成用インク、すなわちインクは、溶剤中に樹脂が均一に溶解されていることが好ましい。ここで、「樹脂が均一に溶解している」とは、インクを常温下で目開き１μｍのフィルタでろ過した場合に、ろ別されるスペーサの固形分の量が、インク質量に対して０．３質量％未満であることをいう。【００５６】
本実施形態のスペーサ形成用インクの粘度は、２５℃で５０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。スペーサ形成用インクの粘度が５０ｍＰａ・ｓ以下であれば、インクジェット印刷時の不吐出ノズルの発生や、ノズルの目詰まりの発生を一層確実に防止することができる。また、スペーサ形成用インクの粘度は、２５℃で１．０〜３０ｍＰａ・ｓであることがより好ましい。インク粘度を当該範囲とすることによって、液滴を小径化でき、インクの着弾径を一層小さくすることができる傾向がある。【００５７】
スペーサ形成用インクに含まれる溶剤の２５℃での蒸気圧は、１．３４×１０３Ｐａ未満であることが好ましい。このような溶剤であれば、溶剤の揮発によるインク粘度の上昇を抑えることができる。例えば、蒸気圧が１．３４×１０３Ｐａ以上のインクを使用すると、インク液滴が乾燥しやすく、インクジェットヘッドのノズルから液滴を吐出することが困難になり、インクジェットヘッドの目詰まりが生じやすくなる傾向がある。スペーサ形成用インクに含まれる溶剤の蒸気圧を１．３４×１０３Ｐａ未満にすることによって、上述の不具合を回避することができる。なお、蒸気圧が１．３４×１０３Ｐａ未満の溶剤と、蒸気圧が１．３４×１０３Ｐａ以上の溶剤とを併せて用いてもよいが、その場合、蒸気圧が１．３４×１０３Ｐａ以上の溶剤の配合割合を、溶剤全量の質量基準で、６０質量％以下とすることが好ましく、５０質量％以下とすることがより好ましく、４０質量％以下とすることがさらに好ましい。なお、溶剤としては、蒸気圧が所望の範囲で、かつ絶縁性の樹脂を分散又は溶解するものであれば種々のものを用いることができる。【００５８】
２５℃における蒸気圧が１．３４×１０３Ｐａ未満の溶剤としては、具体的には、γ−ブチロラクトン、シクロヘキサノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、アニソール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル等が挙げられる。また、２５℃における蒸気圧が１．３４×１０３Ｐａ以上の溶剤として具体的には、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、イソプロピルアルコール等が挙げられる。これらの溶剤は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる【００５９】
インク中における溶媒の含有割合については、特に限定されず、インクの２５℃における粘度及び表面張力が上記範囲内となるように適宜調整することが好ましいが、通常、インク質量に対して、５０〜９９質量％とすることが好ましい。【００６０】
インクに含まれる樹脂は、一般に電気絶縁性を示し、基材への付着性を付与できる材料であればどのようなものでも良く、例えばエポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、シリコーン変性ポリアミドイミド樹脂、ポリエステル樹脂、シアネートエステル樹脂、ＢＴレジン、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂などが挙げられるが、特に制限するものではない。これらは一種を単独で、又は二種類以上を組み合わせて用いても良い。【００６１】
樹脂として、熱硬化性樹脂を用いる場合には、モノマー、オリゴマー等を必要に応じて溶剤に溶解し、基板に印刷後、加熱処理することにより溶剤除去及び／又は樹脂硬化を行うことができる。なお、スペーサ形成用インクには、必要に応じて硬化促進剤、カップリング剤、酸化防止剤、充填剤などを配合しても良い。【００６２】
熱硬化性樹脂は、耐熱性の観点から、エポキシ樹脂及びその硬化剤を含むことが好ましい。エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、またはフェノール、クレゾール、アルキルフェノール、カテコール、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳなどのフェノール類とホルムアルデヒドやサリチルアルデヒドなどのアルデヒド類との縮合物のグリシジルエーテル化物、ポリフェノール類のグリシジルエーテル化物、及びそれらの水素添加物、ハロゲン化物などがあるが、耐熱性及び接着性の観点からフェノール類とアルデヒド類との縮合物のグリシジルエーテル化物が好ましい。これらのエポキシ樹脂の分子量はどのようなものでもよく、また何種類かを併用することができる。【００６３】
エポキシ樹脂とともに用いられる硬化剤としては、例えば、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、メタキシレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、ｍ−フェニレンジアミン、ジシアンジアミドなどのアミン類；無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸などの酸無水物；イミダゾール、２−エチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、２−ヘプタデシルイミダゾール、４，５−ジフェニルイミダゾール、２−メチルイミダゾリン、２−フェニルイミダゾリン、２−ウンデシルイミダゾリン、２−ヘプタデシルイミダゾリン、２−イソプロピルイミダゾール、２，４−ジメチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、２−エチルイミダゾリン、２−イソプロピルイミダゾリン、２，４−ジメチルイミダゾリン、２−フェニル−４−メチルイミダゾリンなどのイミダゾール類；イミノ基がアクリロニトリル、フェニレンジイソシアネート、トルイジンイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、メチレンビスフェニルイソシアネート、メラミンアクリレートなどでマスクされたイミダゾール類；ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ、ポリビニルフェノールなどのフェノール類；フェノール、クレゾール、アルキルフェノール、カテコール、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳなどのフェノール類とホルムアルデヒドやサリチルアルデヒドなどのアルデヒド類との縮合物及びこれらのハロゲン化物などが挙げられる。これらのうち、耐熱性及び接着性の観点から、フェノール類とアルデヒド類との縮合物が好ましい。これらの化合物の分子量はどのようなものでも良く、また、一種と単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。【００６４】
インク中における絶縁性の樹脂の含有割合については、インクの２５℃における粘度及び表面張力が上記範囲内となるように適宜調整することが好ましいが、通常、インク質量に対して１〜５０質量％とすることが好ましい。【００６５】
次に、本発明の液晶表示装置について説明する。本発明の液晶表示装置は、対向配置された一対の基板と、上記一対の基板間に封入された液晶物質からなる液晶層と、上記液晶層の厚さを一定に保つために上記基板間に配置された液晶表示装置用スペーサと、を備える液晶表示装置である。そして、上記液晶表示装置用スペーサは、上記本発明のスペーサ形成用インクを用いてインクジェット法により上記基板上の所望の位置に形成されたものである。すなわち、液晶表示装置用スペーサは、スペーサ形成用インクをインクジェット印刷装置により基板上の所望の位置に塗布し、加熱処理により樹脂の硬化及び／又は溶剤除去を行うことで形成することができる。【００６６】
図４は、本発明の液晶表示装置の一実施形態を示す模式断面図である。図４に示すように、液晶表示装置１は、対向させて配設された一対の基板部材６ａ、６ｂを有している。基板部材６ａは、電極２ａ、カラーフィルタ７、基板３ａ、位相差板８及び偏光板５ａからなり、これらがこの順序で積層されている。また、基板部材６ｂは、電極２ｂ、基板３ｂ及び偏光板５ｂからなり、これらがこの順序で積層されている。また、基板部材６ｂにおける偏光板５ｂの外側には、バックライト９が配置されている。さらに、基板部材６ａ、６ｂの電極２ａ、２ｂが形成されている側には、それぞれ配向層１７ａ、１７ｂが積層されている。そして、液晶層１８は、配向層１７ａ，１７ｂを介して、基板部材６ａ、６ｂによって挟持されている。そして、液晶層１８の周縁部であって基板部材６ａ、６ｂの間にはシール材１３が設けられており、これにより基板部材６ａ、６ｂが結合されている。【００６７】
このような液晶表示装置において、図４に示すように、液晶表示装置用スペーサ１０は液晶層１８の厚さを一定に保つために、液晶表示装置１の所定の位置に配設される。液晶表示装置用スペーサ１０は、高品位な画像を表示する観点から、透光部である表示ドット部以外の位置に配設されることが好ましい。【００６８】
また、液晶表示装置用スペーサ１０は、画面表示全領域にわたって均等な間隔で配設されることが好ましい。この液晶表示装置用スペーサ１０は、本発明のスペーサ形成用インクを用いてインクジェット印刷法により形成されているため、画面表示全領域にわたって十分に高い位置精度で配設されており、表示バラツキや光抜けなどの表示不良を十分に抑制することができる。【００６９】
このような液晶表示装置は、基板３ｂ上に設けられた配向層１７ｂ上に、液晶表示装置用スペーサ１０を上述の製造方法によって製造することができる。液晶表示装置用スペーサ１０は、上述のインクをインクジェット法により２回以上重ねて印刷して形成することによって、所望の高さに調整することができる。【００７０】
なお、図４に示す基板部材６ａ、ｂはそれぞれ、上述した各層が積層された構造を有しているが、必ずしもこれら全てが積層されている必要はない。また、基板部材６ａ、ｂには、必要に応じて、さらに絶縁層、ブラックマトリックスの層、緩衝材層、ＴＦＴ等が設けられていてもよい。【００７１】
電極２ａ、２ｂとしては、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）等の透明電極を用いることができる。また、基板３ａ、３ｂとしては、プラスチック板、ガラス板等を例示できる。また、カラーフィルタ７、位相差板８、偏光板５ａ、５ｂ及びバックライト９としては、それぞれ公知のものを用いることができる。また、配向層１７ａ、１７ｂについても、公知の液晶配向剤を用いて形成することができる。
【実施例】
【００７２】
以下、本発明を実施例及び比較例によって、より具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、各実施例及び各比較例で用いたインクの粘度は、株式会社エー・アンド・ディー社製の小型振動式粘度計（商品名：ＣＪＶ５０００）を用いて２５℃で測定した。また、インクの表面張力は、Ｗｉｌｈｅｌｍｙ法（白金プレート法）による表面張力測定装置である、協和界面化学社製の全自動表面張力計（商品名：ＣＢＶＰ−Ｚ）を用いて２５℃で測定した。また、基板の表面自由エネルギーは、協和界面化学社製の自動接触角計（商品名：ＤＭ５００）を用いて、水、ホルムアミド、グリセリンの基板に対する接触角を２５℃で測定した後、酸塩基法により算出した。また、インクをろ別したときにろ別される固形分の量は、常温下で、目開き１μｍのフィルタを用いてインクをろ過し、ろ別された固形分を温度２００℃で１時間乾燥した後の質量を計測して求めた。【００７３】
（インク１の調製）
ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂（大日本インキ化学工業株式会社製、商品名：Ｎ−８６５）、ビスフェノールＡノボラック樹脂（大日本インキ化学工業株式会社製、商品名：ＶＨ４１７０）、２−エチル−４−メチルイミダゾール（東京化成工業株式会社製）を、溶剤であるγ−ブチロラクトン（２５℃における蒸気圧：２．３×１０２Ｐａ）に溶解し、インク１を調製した。なお、インク１に含まれる各原料及び溶剤の使用比率は、表１に示す通りである。【００７４】
調製したインク１の粘度は８．４ｍＰａ・ｓ、表面張力は４４ｍＮ／ｍ、ろ別される固形分の量は０．００１質量％であった。【００７５】
（インク２の調製）
インクの各原料及び溶剤の使用比率を表１のように変更したこと以外は、インク１と同様にしてインク２を調製した。【００７６】
調製したインク２の粘度は、１１．５ｍＰａ・ｓ、表面張力は４４．１ｍＮ／ｍ、ろ別される固形分の量は０．００１質量％であった。【００７７】
（インク３の調製）
シリコーン系レベリング剤（楠本化成株式会社製、商品名：ディスパロン１７１１）を添加し、且つ各原料及び溶剤の使用比率を表１に示す通りに変更したこと以外は、インク１と同様にして、インク３を調製した。【００７８】
調製したインク３の粘度は、７．６ｍＰａ・ｓ、表面張力は２６ｍＮ／ｍ、ろ別される固形分の量は０．００２質量％であった。【００７９】
（インク４の調製）
各原料及び溶剤の使用比率を表１に示す通りに変更し、且つ粒子状スペーサ（ナトコ株式会社製、商品名：ＢＤ−３８０）を添加したこと以外は、インク１と同様にして、インク４を調製した。【００８０】
調製したインク４の粘度は、１２．２ｍＰ・ｓ、表面張力は４４ｍＮ／ｍ、ろ別される固形分の量は０．５１質量％であった。【００８１】
【表１】
2009031250.tif 000003
【００８２】
（実施例１）
インク１から、２０μｍの目開きのメンブレンフィルタでろ過することにより異物を除去した。異物を除去したインク１を口径５０μｍのヘッドを搭載したピエゾ方式のインクジェット装置（株式会社マイクロジェット製、商品名：ナノプリンター１０００）に供給した。【００８３】
［スペーサ形成用インクの印刷、スペーサの形成］
当該インクジェット装置を用いて、ガラス板上にＶＡ液晶用配向膜が形成された基板の表面（表面自由エネルギー：２９ｍＪ／ｍ２）上に、１５０μｍ間隔で、液滴容量を１５ｐＬとして、吐出位置座標（目標）に基づいてインク１を印刷した。インク１を１回印刷した後、当該基板を１８０℃に加熱したホットプレート上に速やかに移し、３０分間乾燥・硬化させて、スペーサを形成した。用いたインク及び基板の性状を表２に示す。【００８４】
［着弾位置精度の評価］
基板上に印刷されたインクドットの印刷状態（乾燥前）の画像から着弾位置の座標を特定した。この座標と、当初の吐出位置座標（目標）とのずれ（Ｗ）を算出し、以下の評価基準で着弾位置精度を評価した（ｎ＝８０）。評価結果は表３に示す通りであった。【００８５】
＜着弾位置精度の評価基準＞
Ａ：印刷された全てのインクドットに対して、着弾位置のずれ（Ｗ）が２５μｍ以内であるインクドットの割合が９０％以上である。
Ｂ：印刷された全てのインクドットに対して、着弾位置のずれ（Ｗ）が２５μｍ以内であるインクドットの割合が９０％未満である。【００８６】
［密着性の評価］
形成したスペーサに市販のセロハンテープを強く圧着させた後、当該セロハンテープを一気に引き剥がして、スペーサの剥がれの有無を確認することにより、密着性の評価を行った。密着性の評価基準は以下の通りである。密着性の評価結果は表３に示す通りであった。【００８７】
＜密着性の評価基準＞
Ａ：テープ試験によりスペーサが全く剥がれない。
Ｂ：テープ試験によりスペーサの少なくとも一部が剥がれる。【００８８】
［スペーサの平均高さ及び標準偏差の評価］
形成したスペーサの高さを、菱化システム社製三次元非接触表面形状計測システム（商品名：ＭＭ−３５００）により測定し（ｎ＝９６）、測定値の平均値及び標準偏差を求めた。【００８９】
［スペーサの直径の評価］
形成したスペーサの直径を、顕微鏡で観察して測定した。【００９０】
（実施例２）
インク１に代えて、インク２を用いたこと以外は、実施例１と同様にして基板表面上にスペーサを形成し、各評価を行った。用いたインク及び基板の性状を表２に示す。評価結果は表３に示す通りであった。【００９１】
（実施例３）
ガラス板上に、表面自由エネルギーが２９ｍＪ／ｍ２であるＶＡ液晶用配向膜に代えて、表面自由エネルギーが３５ｍＪ／ｍ２であるＶＡ液晶用配向膜が形成された基板を用いたこと以外は、実施例１と同様にして基板上にスペーサを形成し、各評価を行った。用いたインク及び基板の性状を表２に示す。評価結果は表３に示す通りであった。【００９２】
（実施例４）
インクジェット法に吐出するインクの液滴容量を３５ｐＬとした以外は、実施例３と同様にして基板上にスペーサを形成し、各評価を行った。用いたインク及び基板の性状を表２に示す。評価結果は表３に示す通りであった。【００９３】
（実施例５）
インク１に代えて、インク３を用いたこと以外は、実施例１と同様にして基板上にスペーサを形成し、各評価を行った。用いたインク及び基板の性状を表２に示す。評価結果は表３に示す通りであった。【００９４】
（実施例６）
ガラス板上に、表面自由エネルギーが２９ｍＪ／ｍ２であるＶＡ液晶用配向膜に代えて、表面自由エネルギーが３５ｍＪ／ｍ２であるＶＡ液晶用配向膜が形成された基板を用いたこと以外は、実施例５と同様にして基板上にスペーサを形成し、各評価を行った。用いたインク及び基板の性状を表２に示す。評価結果は表３に示す通りであった。【００９５】
（比較例１）
ガラス板上に、表面自由エネルギーが２９ｍＪ／ｍ２であるＶＡ液晶用配向膜に代えて、表面自由エネルギーが４３ｍＪ／ｍ２であるＴＮ液晶用配向膜が形成された基板を用いたこと以外は、実施例５と同様にして基板上にスペーサを形成し、各評価を行った。用いたインク及び基板の性状を表２に示す。評価結果は表３に示す通りであった。【００９６】
（比較例２）
ガラス板上に、表面自由エネルギーが２９ｍＪ／ｍ２であるＶＡ液晶用配向膜に代えて、表面自由エネルギーが５３ｍＪ／ｍ２であるＩＰＳ液晶用配向膜が形成された基板を用いたこと以外は、実施例５と同様にして基板上にスペーサを形成し、各評価を行った。用いたインク及び基板の性状を表２に示す。評価結果は表３に示す通りであった。【００９７】
（比較例３）
インク１に代えて、インク４を用い且つ当該インク４をメンブレンフィルタでろ過をしなかったこと以外は、比較例１と同様にして基板上にスペーサを形成し、各評価を行った。用いたインク及び基板の性状を表２に示す。評価結果は表３に示す通りであった。【００９８】
【表２】
2009031250.tif 000004
【００９９】
【表３】
2009031250.tif 000005
【０１００】
実施例１〜６で作製したスペーサの平均高さは１〜１０μｍの範囲内であり、着弾位置精度も良好であった。実施例１〜６の結果より、インクの表面張力と基板の表面エネルギーとの差（表２におけるＡの値）を−１０〜１５の範囲とすることにより、スペーサの高さを液晶表示装置用スペーサとして好適な範囲にすることができた。また、各実施例で形成したスペーサと基板との密着性も良好であった。【０１０１】
一方、比較例１及び２で形成したスペーサの平均高さは、いずれも１μｍ未満と低かった。また、比較例３は着弾位置精度が不良であった。
【産業上の利用可能性】
【０１０２】
本発明によれば、十分な高さを有するとともに、十分優れた位置精度と高さ精度とを有する液晶表示用スペーサを形成することが可能な液晶表示用スペーサの製造方法を提供することができる。また、本発明はかかる製造方法に好適に用いられるスペーサ形成用インク、及びかかる製造方法によって形成される液晶表示装置用スペーサを備える液晶表示装置及びその製造方法を提供することができる。
【図１】
2009031250.tif 000006
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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2009031250.tif 000011
2009031250.tif 000012
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