Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月19日(2004.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＩＣ試験装置のインターフェイス回路であって、
被試験ＩＣに接続するための出力ラインと、
並列切り替え可能電流経路を形成するように接続された複数のトランジスタを具備し、前記出力ラインに結合されており、前記トランジスタと電気的に通じている第１と第２の入力手段を備え、「オン」状態と「オフ」状態の間で前記トランジスタを選択的に切り替える電流モード・ドライバと、
前記第１の入力手段に接続されて、前記トランジスタを個々にアドレス指定する制御装置と、
前記第２の入力手段に接続されて、前記トランジスタを制御するための試験信号を発生する信号手段が含まれている、インターフェイス回路。
【請求項２】
さらに、前記出力ラインと所望の高電圧の電圧源との間のほぼ固定された抵抗接続が含まれることと、前記トランジスタが、前記出力ラインと固定低電圧ラインの間に接続されて、前記電圧源から前記固定低電圧ラインへの電気経路を選択的に形成することを特徴とする、請求項１に記載のインターフェイス回路。
【請求項３】
被試験ＩＣの入力／出力ラインのアレイに接続ためのインターフェイス回路アレイを備えた、ＩＣ試験装置であって、各インターフェイス回路が、
高電圧レベルの電圧源と、
前記電圧源に接続された第１の端部、及び、第２の端部を備える抵抗手段と、
前記入力／出力ラインのいずれか一方に接続するため、前記第２の端部に接続された出力ラインと、
前記抵抗手段の前記第２の端部から前記高電圧レベルより低い電圧レベルを備えたラインまで延びる、それぞれ、「オン」状態と「オフ」状態を有する複数の切り替え可能な並列電流経路と、
試験信号を受信する共通入力を備え、前記電流経路に１対１に対応する複数の電流制御入力を具備し、前記電流経路に結合されて、前記電流経路を前記「オン」状態と「オフ」状態の間で個別にかつ選択的に切り替え、前記抵抗手段の両端間における電圧降下が、前記「オン」状態の電流経路と「オフ」状態の電流経路との配分によって決まるようにする、論理回路とが含まれており、
前記各電流経路毎に、前記切り替えが、前記共通入力における信号レベルと前記各電流経路に対応する前記電流制御入力における信号レベルとの間の協働作用に応答して生じることを特徴とする試験装置。
【請求項４】
各電流経路には、前記抵抗手段の前記第２の端部を固定低電圧ラインに接続するＭＯＳトランジスタが含まれていることと、各ＭＯＳトランジスタが、前記論理回路に接続されるゲートを備えることを特徴とする、請求項３に記載の試験装置。
【請求項５】
前記論理回路によって、前記ＭＯＳトランジスタの各ゲートに対する各入力毎にＡＮＤ論理機能が決まることと、前記ＡＮＤ論理機能が、前記共通入力と前記対応する電流制御入力における前記信号レベルに応答することを特徴とする、請求項４に記載の試験装置。
【請求項６】
さらに、前記論理回路の前記共通入力に接続された試験信号発生器が含まれることと、前記インターフェイス回路が、ＲＡＭデバイスに接続されていることを特徴とする、請求項３から５のいずれかに記載の試験装置。
【請求項７】
被試験ＩＣの入力／出力ラインに試験信号を選択的に入力する方法であって、
試験出力ラインから固定低電圧に複数のトランジスタを接続するステップと、
受動抵抗経路と能動経路のいずれか一方である、ほぼ固定された電圧源に対する経路に、前記試験出力ラインを接続するステップと、
前記試験出力ラインを前記入力／出力ラインに接続するステップと、
前記トランジスタを制御する論理回路に対する入力の協働作用に応答して、前記トランジスタを「オフ」状態と「オン」状態の間で選択的に切り替えることによって、前記出力ラインと前記電圧源の間の前記経路の両端間における電圧降下を決定するステップと、
前記入力の１つとして、前記論理回路に前記試験信号を接続し、前記試験信号に前記トランジスタのそれぞれの切り替えに協働する関連づけが施されるようにするステップと、
前記論理回路に前記トランジスタと１対１で対応する複数の制御信号を接続し、各制御信号が、個々のトランジスタの切り替えに協働する関連づけが施される第２の入力になるようにするステップが含まれている、信号入力方法。
【請求項８】
前記トランジスタを選択的に切り替える前記ステップに、前記試験信号及び前記各トランジスタに対応する前記制御信号のＡＮＤゲート機能として、各トランジスタに対するゲート入力を制御するステップが含まれることを特徴とする、請求項７に記載の信号入力方法。
【請求項９】
さらに、前記試験出力ラインを被試験ランダム・アクセス・メモリ（ＲＡＭ）・デバイスの前記入力／出力ラインに接続することが含まれることを特徴とする、請求項７または８に記載の信号入力方法。
【請求項１０】
前記試験信号を接続するステップが、クロック信号とデータ信号のいずれか一方を発生するステップを含むことを特徴とする、請求項９に記載の信号入力方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月26日(2005.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ほとんど冗長性はないが、ある程度の冗長性のある情報も含んでいる情報として、冗長性のない情報を受信し、バッファするバッファ・メモリと、
ある量の冗長性を備える情報として冗長性情報を記憶する冗長性メモリと、
冗長性情報に関連する冗長性のない情報を処理することにより試験データを発生する処理装置と
を備えるＤＵＴを試験するためにＤＵＴに試験データを印加する回路。
【請求項２】
ＤＵＴを試験するためのＤＵＴ入力信号を発生するための信号発生装置と、
前記ＤＵＴ入力信号に反応してＤＵＴからＤＵＴ出力信号を受信するための信号受信装置と、
前記ＤＵＴ入力信号に関連する前記ＤＵＴ出力信号を解析するための信号解析装置と
を備え、前記信号発生装置が、
ほとんど冗長性がないが、ある程度の冗長性のある情報も含んでいる情報として、冗長性のない情報を受信し、バッファするバッファ・メモリと、
ある量の冗長性を含んでいる情報として冗長性情報を記憶する冗長性メモリと、
冗長性情報に関連する冗長性のない情報を処理することにより試験データを生成する処理装置と
を有することを特徴とするＤＵＴを試験するためのテスタ。
【請求項３】
ほとんど冗長性がないが、ある程度の冗長性のある情報も含んでいる情報として、冗長性のない情報を受信し、バッファするステップと、
受信された冗長性のない情報によって、ある量の冗長性を備える情報として、冗長性メモリ中に記憶された冗長性情報を取り出すステップと、
冗長性情報に関連する冗長性のない情報を処理することによって試験データを生成するステップと
を備えるＤＵＴを試験するためにＤＵＴに試験データを印加する方法。
【請求項４】
前記冗長性情報が、変更なしで何度か等しく発生する試験データの内容についての情報を含んでおり、前記冗長性のない情報が、何度か等しく発生する試験データの内容についての情報および冗長性情報の適用についての情報を含んでいる請求項１に記載の回路。
【請求項５】
前記冗長性情報が、大幅の変更なしで何度か発生する試験データの内容についての情報を含んでおり、前記冗長性のない情報が、何度か発生する試験データの内容についての情報および冗長性情報の適用についての情報を含んでいる請求項１に記載の回路。
【請求項６】
前記冗長性情報が、ＤＵＴにアクセスするために使用されるアクセス・プロトコルについての情報を含んでいる請求項１に記載の回路。
【請求項７】
前記冗長性のない情報が、被試験ＤＵＴに大幅に左右されない実行試験についての情報を含んでおり、前記冗長性情報がＤＵＴ固有データ、すなわち試験対象の固有ＤＵＴについての情報を含んでいる請求項１に記載の回路。
【請求項８】
前記冗長性情報が、変更なしで何度か等しく発生する試験データの内容についての情報を含んでおり、前記冗長性のない情報が、何度か等しく発生する試験データの内容についての情報および冗長性情報の適用についての情報を含んでいる請求項２に記載のテスタ。
【請求項９】
前記冗長性情報が、大幅の変更なしで何度か発生する試験データの内容についての情報を含んでおり、前記冗長性のない情報が、何度か発生する試験データの内容についての情報および冗長性情報の適用についての情報を含んでいる請求項２に記載のテスタ。
【請求項１０】
前記冗長性情報が、ＤＵＴにアクセスするために使用されるアクセス・プロトコルについての情報を含んでいる請求項２に記載のテスタ。
【請求項１１】
前記冗長性のない情報が、被試験ＤＵＴに大幅に左右されない実行試験についての情報を含んでおり、前記冗長性情報がＤＵＴ固有データ、すなわち試験対象の固有ＤＵＴについての情報を含んでいる請求項２に記載のテスタ。
【請求項１２】
前記冗長性情報が、変更なしで何度か等しく発生する試験データの内容についての情報を含んでおり、前記冗長性のない情報が、何度か等しく発生する試験データの内容についての情報および冗長性情報の適用についての情報を含んでいる請求項３に記載の方法。
【請求項１３】
前記冗長性情報が、大幅の変更なしで何度か発生する試験データの内容についての情報を含んでおり、前記冗長性のない情報が、何度か発生する試験データの内容についての情報および冗長性情報の適用についての情報を含んでいる請求項３に記載の方法。
【請求項１４】
前記冗長性情報が、ＤＵＴにアクセスするために使用されるアクセス・プロトコルについての情報を含んでいる請求項３に記載の方法。
【請求項１５】
前記冗長性のない情報が、被試験ＤＵＴに大幅に左右されない実行試験についての情報を含んでおり、前記冗長性情報がＤＵＴ固有データ、すなわち試験対象の固有ＤＵＴについての情報を含んでいる請求項３に記載の方法。
【請求項１６】
ほとんど冗長性はないが、ある程度の冗長性のある情報も含んでいる情報情報として、冗長性のない情報を受信し、バッファするバッファ・メモリと、
ある量の冗長性を備える情報として冗長性情報を記憶する冗長性メモリと、
冗長性情報に関連する冗長性のない情報を処理することにより試験データを発生する処理装置と
を備えるＤＵＴを試験するためにＤＵＴに試験データを印加する回路を有するＩＣテスタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】試験データ印加回路、テスタ、及びその方法
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月16日(2004.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を載置する基板ステージと；
前記基板ステージに戴置された被検査基板から射出される回折光による該被検査基板の像に基づいて該被検査基板の欠陥検査を行う検査部と；
前記検査部に対する前記被検査基板の位置を検出する測定部とを備え；
前記測定部は、前記披検査基板の、該被検査基板の表面に垂直な第１軸線に関する回転方向の位置を検出することを特徴とする；
基板欠陥検査装置。
【請求項２】
前記検査部は、前記被検査基板を照明する照明光学系と、該照明光学系からの照明光のうち、該被検査基板上に形成されたパターンからの回折光を受光する受光光学系とを備え；
前記測定部は、前記被検基板の法線方向から見た前記照明光学系から前記受光光学系に至る光軸の前記第１軸線に関する回転方向の位置と、前記被検査基板に形成された周期パターンの並び方向の前記第１軸線に関する回転方向の位置と、の相対位置を検出することを特徴とする；
請求項１に記載の基板欠陥検査装置。
【請求項３】
前記基板ステージは、前記第１軸線回りに回転可能であるように構成された；
請求項１又は請求項２に記載の、基板欠陥検査装置。
【請求項４】
前記基板ステージは、前記被検査基板の表面内で、かつ該被検査基板と交わる前記受光光学系の光軸に垂直である第２軸線回りに前記基板ステージを回転させる基板ステージ傾斜機構を備えたことを特徴とする；
請求項２又は請求項３に記載の、基板欠陥検査装置。
【請求項５】
前記検査部は、さらに前記受光光学系にて得られた該被検査基板の像を撮像する第一の撮像手段と、該第一の撮像手段にて得られた該被検査基板の画像に基づいて画像処理を行う第一の画像処理装置とを含んで構成され；
前記測定部は計測光学系と、該計測光学系にて得られた前記被検査基板の像を撮像する第二の撮像手段と、該第二の撮像手段にて得られた前記被検査基板の画像に基づいて画像処理を行う第二の画像処理装置とを含んで構成され；
前記第二の画像処理装置からの情報に基づいて前記基板ステージの前記第１軸線回りの回転角度を調整可能に構成されたことを特徴とする；
請求項２乃至請求項４のいずれか一項に記載の、基板欠陥検査装置。
【請求項６】
前記第二の画像処理装置は、前記第一の画像処理装置と共通部分を含むことを特徴とする、請求項５に記載の、基板欠陥検査装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１に係る発明による基板欠陥検査装置は、図１に示すように、基板を載置する基板ステージＳＴＧと；前記基板ステージＳＴＧに載置された被検査基板Ｗから射出される回折光Ｌ２による該被検査基板Ｗの像に基づいて該被検査基板Ｗの欠陥検査を行う検査部と；前記検査部に対する前記被検査基板Ｗの位置を検出する測定部とを備え；前記測定部は、前記披検査基板Ｗの、該被検査基板Ｗの表面に垂直な第１軸線に関する回転方向位置を検出する。
このように構成すると、測定部を備えるので基板の回転方向位置を計測でき、その位置を参照して、基板ステージに載置された被検査基板を検査部で検査することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
また、請求項２に記載のように、前記検査部は、前記被検査基板を照明する照明光学系と、該照明光学系からの照明光のうち、該被検査基板上に形成されたパターンからの回折光を受光する受光光学系とを備え；前記測定部は、前記被検査基板の法線方向から見た前記照明光学系から前記受光光学系に至る光軸の前記第１軸線に関する回転方向の位置と、前記被検査基板に形成された周期パターンの並び方向の前記第１軸線に関する回転方向の位置と、の相対位置を検出するように構成されるのが望ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
さらに、請求項３に記載のように、前記測定部は、前記被検査基板Ｗの表面に垂直な第１軸線ＡＸ１に関する回転方向位置を検出するように構成され、前記基板ステージＳＴＧは、前記第１軸線ＡＸ１回りに回転可能であるように構成されるのが望ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
このように構成すると、測定部により第１軸線に関する基板の回転方向位置が計測され、その回転位置ずれに基づいて基板ステージを、第１軸線回りに回転して調整することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
さらに以上の装置では、請求項４に記載のように、前記基板ステージＳＴＧは、前記被検査基板Ｗの表面内で、かつ該被検査基板Ｗと交わる前記受光光学系の光軸ＬＸ２に垂直である第２軸線ＡＸ２回りに前記基板ステージＳＴＧを回転させる基板ステージ傾斜機構５２を備えてもよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
この場合、請求項５に記載のように、前記検査部は、前記受光光学系２０にて得られた該被検査基板Ｗの像を撮像する第一の撮像手段３１と、該第一の撮像手段３１にて得られた該被検査基板Ｗの画像に基づいて画像処理を行う第一の画像処理装置３３とを含んで構成され；前記測定部は計測光学系４０と、該計測光学系４０にて得られた前記被検査基板Ｗの像を撮像する第二の撮像手段３２と、該第二の撮像手段にて得られた前記被検査基板の画像に基づいて画像処理を行う第二の画像処理装置３３とを含んで構成され；前記第二の画像処理装置３３からの情報に基づいて前記基板ステージＳＴＧの前記第１軸線ＡＸ１回りの回転角度を調整可能に構成されている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
このように構成すると、第一の撮像手段を備えるので、基板の像が撮像され、第一の画像処理装置を備えるので、撮像された像を例えば基準の像と比較したり、像の明暗の差から欠陥を検出したりする、像の処理が可能である。同様に、測定部は計測光学系を備えるので、基板Ｗの像を得ることができ、第二の撮像手段を備えるので、得られた像を撮像することができ、第二の画像処理装置を備えるので、第二の撮像手段にて得られた基板の画像に基づいて画像処理を行い、第二の画像処理装置からの情報に基づいて基板ステージＳＴＧの第１軸線ＡＸ１回りの回転角度が調整できる。画像処理装置は、共通の装置であってもよいし、別個に設けてもよい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
この装置では、請求項６に記載のように、第二の画像処理装置は、第一の画像処理装置と共通部分を含むようにしてもよい。共通部分を含む延長として、図１に示されるように、処理装置全体が共通の装置３３であってもよく、第一の撮像手段で得られた画像と第二の撮像手段で得られた画像とをその共通の画像処理装置で処理することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月26日(2004.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料表面の位置座標（ｘi，ｙi，ｚi）を複数点で測定し、それらの位置座標から試料表面が本来持つべき仮想平面を求め、この仮想平面と実際の試料表面との距離を求め、これに基づき反り値を求めることを特徴とする反り値の測定方法。
【請求項２】
最小二乗法により仮想平面の式を求めること特徴とする請求項１記載の反り値の測定方法。
【請求項３】
仮想平面と実際の試料表面との変位の最大値と最小値との差を反り値とすることを特徴とする請求項１又は２記載の反り値の測定方法。
【請求項４】
試料が、ガラス基板であることを特徴とする請求項１乃至３記載の反り値の測定方法。
【請求項５】
前記ガラス基板が、情報記録媒体用ガラス基板であることを特徴とする請求項４記載の反り値の測定方法。
【請求項６】
試料が、磁気抵抗型磁気ヘッドによって電磁変換される磁気ディスクに使用されるガラス基板であることを特徴とする請求項５記載の反り値の測定方法。
【請求項７】
前記ガラス基板が、ディスプレイ用ガラス基板又は電子光学素子用のガラス基板であることを特徴とする請求項４記載の反り値の測定方法。
【請求項８】
試料が、薄板状のガラスであることを特徴とする請求項１乃至７記載の反り値の測定方法。
【請求項９】
請求項５又は６に記載された反り値の測定方法によって測定された情報記録媒体用ガラス基板上に、少なくとも記録層を形成することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項１０】
試料表面の位置座標（ｘi，ｙi，ｚi）を複数点で測定する手段と、
それらの位置座標から試料表面が本来持つべき仮想平面を求める手段と、
この仮想平面に対する実際の試料表面の変位を求め、これに基づき反り値を求める手段とを具備することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板又は薄板の反り値の測定装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月25日(2004.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｚｎ：７．０〜９．０ｗｔ％、Ｍｇ：１．０〜１．５ｗｔ％、Ｃｕ：０．５〜１．５ｗｔ％、Ｍｎ：０．１〜０．５ｗｔ％、Ｃｒ：０．０５〜０．３ｗｔ％、Ｚｒ：０．１〜０．２ｗｔ％、Ｔｉ：０．０１〜０．０５ｗｔ％を有し、残部がＡｌおよび不可避的不純物からなり、不純物Ｆｅ：０．１５ｗｔ％以下、不純物Ｓｉ：０．１０ｗｔ％以下のアルミニウム合金を押出加工し、その後、４４０〜５００℃に加熱し、１０００℃／分以上の速度で５０℃以下に冷却し、その後、８０〜１６０℃にて２段人工時効処理することにより、繊維状組織率が９０％以上を有することを特徴とするアルミニウム合金。
【請求項２】
Ｚｎ：７．０〜９．０ｗｔ％、Ｍｇ：１．０〜１．５ｗｔ％、Ｃｕ：０．５〜１．５ｗｔ％、Ｍｎ：０．１〜０．５ｗｔ％、Ｃｒ：０．０５〜０．３ｗｔ％、Ｚｒ：０．１〜０．２ｗｔ％、Ｔｉ：０．０１〜０．０５ｗｔ％を有し、残部がＡｌおよび不可避的不純物からなることを特徴とするアルミニウム合金押出形材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ＪＩＳ６Ｎ０１、ＪＩＳ７００３、ＪＩＳ７Ｎ０１合金等は強度不充分であり、ＪＩＳ７０７５合金では強度は充分あるものの、靱性が極端に悪いだけでなく、耐応力腐食割れ性や押出加工性、押出生産性が悪く、薄肉で大型断面からなる構造部材が得られなかった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
そのように製造することにより、押出形材の断面にて繊維状組織部分の面積比率が９０％以上で、強度、靱性、耐応力腐食割れ性に優れた、押出加工性、押出生産性の良い、安価な押出形材を得ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月1日(2004.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体側より順に、負の屈折力を持つ第１レンズ群と、正の屈折力を持つ第２レンズ群とよりなり、両レンズ群の間隔を変化させることにより全系の焦点距離を変化させる変倍レンズ系で、前記第１レンズ群が均質レンズのみよりなり、前記第２レンズ群が媒質が正のパワーを持つラジアル型屈折率分布レンズ１枚にて構成されたことを特徴とするレンズ系。
【請求項２】
物体側より順に、正の屈折力を持つ第１レンズ群と、負の屈折力を持つ第２レンズ群と、正の屈折力を持つ第３レンズ群とよりなり、隣り合うレンズ群間の間隔を変化させて全系の焦点距離を変化させる変倍レンズ系で、前記第１レンズ群と前記第２レンズ群が均質レンズのみよりなり、前記第３レンズ群が媒質が正のパワーを持つラジアル型屈折率分布レンズ１枚にて構成されたことを特徴とするレンズ系。
【請求項３】
複数のレンズ群よりなり、隣り合うレンズ群間の間隔を変化させて全系の焦点距離を変化させる変倍レンズ系で、最も像側のレンズ群が媒質が正のパワーを持つ両面が平面のラジアル型屈折率分布レンズ１枚にて構成されたことを特徴とするレンズ系。
【請求項４】
少なくとも一つのレンズ群よりなり、撮像素子に最も近いレンズ群に下記条件を満足するラジアル型屈折率分布レンズを含む光学系を備えた撮像装置。
０．５mm＜ＤR ＜４mm
ただしＤR は前記ラジアル型屈折率分布レンズの有効径である。
【請求項５】
物体側より順に、正の屈折力を持ち変倍時に固定の第１レンズ群と、負の屈折力を持ち変倍時移動する第２レンズ群と、正の屈折力を持ち変倍時に固定の第３レンズ群とよりなり、前記第２レンズ群の移動により像位置を変化させることなしに二つの状態に焦点距離を切り替えることができる変倍レンズで、前記第３レンズ群が媒質が正のパワーを持つラジアル型屈折率分布レンズ１枚にて構成されることを特徴とするレンズ系。
【請求項６】
前記第１レンズ群が均質レンズ１枚にて構成されていることを特徴とする請求項１又は２のレンズ系。
【請求項７】
前記第２レンズ群が均質負レンズ１枚よりなることを特徴とする請求項２のレンズ系。
【請求項８】
前記ラジアル型屈折率分布レンズが下記条件（１）、（２）を満足することを特徴とする請求項１、２又は５のレンズ系。
（１）    −０．２＜Ｎ2×ＲE 2／Ｎ1＜０．２
（２）    Ｖ0＜Ｖ1
【請求項９】
明るさ絞りが前記ラジアル型屈折率分布レンズの近くに配置され、下記条件を満足することを特徴とする請求項１のレンズ系。
−０．５＜φ2・ＤS＜０．５
ただし、φ2は前記第２レンズ群の屈折力、ＤS は、前記明るさ絞りと前記ラジアル型屈折率分布レンズの物体側の面からの光軸上の間隔である。
【請求項１０】
明るさ絞りが前記ラジアル型屈折率分布レンズの近くに配置され、下記条件を満足することを特徴とする請求項２又は５のレンズ系。
−０．５＜φ3・ＤS＜０．５
ただし、φ3は前記第３レンズ群の屈折力、ＤS は、前記明るさ絞りと前記ラジアル型屈折率分布レンズの物体側の面からの光軸上の間隔である。
【請求項１１】
明るさ絞りが前記ラジアル型屈折率分布レンズの近くに配置され、変倍時に、前記明るさ絞りと前記ラジアル型屈折率分布レンズが一体に移動することを特徴とする請求項１又は２のレンズ系。
【請求項１２】
第１レンズ群が変倍時固定であることを特徴とする請求項２のレンズ系。
【請求項１３】
第３レンズ群が変倍時固定であることを特徴とする請求項２のレンズ系。
【請求項１４】
撮像素子を備え、前記第３レンズ群と前記撮像素子とが一体化されていることを特徴とする請求項１３のレンズ系。
【請求項１５】
請求項１、２、３又は５のレンズ系を用いた撮像装置。
【請求項１６】
レンズ系にて発生する歪曲収差を電気的に補正するようにしたことを特徴とする請求項１５の撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月20日(2004.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
【表１】
1998334822.tif 000001
この表１に示したように、従来のシャドウマスクは、ＬssとＬsfがほぼ同じとなっているが、この実施の形態でのシャドウマスクは、Ｌsfに対してＬssが大幅に大きくなっている。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
また図６（ａ）乃至（ｃ）に示すように、シャドウマスク２５組立て後のマスク本体３２の曲面の中心付近の曲率を、長軸に沿った方向よりも短軸に沿った方向の方が大きく設定することにより、ドーミング抑制効果を大きくすることができる。これは、図７に示すように、上記曲面の長軸方向寸法Ｗｌに対して短軸方向寸法Ｌsmが短いことや、シャドウマスク２５の異方性、すなわち短軸方向には線４４で示したように電子ビーム通過孔４３が形成されない連続的な直線部を有するが、長軸方向には線４５で示したように連続的な直線部がないため、同様の曲率ならば、短軸方向の曲率を大きくした方が良い。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
また、上記各実施の形態では、マスク本体の短軸付近のみを外側に切起すかまたは外側に押出したが、図９に示すように、マスク本体３２の短軸および長軸付近をともに外側に切起すかまたは外側に押出して、短軸付近の対向スカート部間の間隔が曲面の短軸方向径よりも大きいスカート部３６ａを形成するとともに、長軸付近の対向スカート部間の間隔が曲面の長軸方向径よりも大きいスカート部３６ｂを形成してもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月13日(2004.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陰極部材と、該陰極部材と対向して配置された陽極ターゲットと、該陽極ターゲットを回転させるためのロータ及び第１の軸受と、前記陰極部材と陽極ターゲットを内包し真空気密に封入する真空外囲器とから成る回転陽極Ｘ線管において、前記陽極ターゲットの前記陰極部材と対向する面側に、円筒状のラジエータを接合したことを特徴とする高冷却回転陽極Ｘ線管。
【請求項２】
請求項１記載の高冷却回転陽極Ｘ線管において、前記ラジエータが円筒状の高融点金属材料から成り、熱輻射を高めるために、前記ラジエータの外表面に耐熱性を有する金属酸化物を塗布焼付して前記外表面を黒化処理したことを特徴とする高冷却回転陽極Ｘ線管。
【請求項３】
請求項１及び２記載の高冷却回転陽極Ｘ線管において、前記陽極ターゲットのラジエータ接合側に前記第１の軸受と同軸に第２の軸受を配置し、前記１及び第第２の軸受にて前記陽極ターゲットを両持ち支持したことを特徴とする高冷却回転陽極Ｘ線管。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月13日(2004.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
器官の複数の断層像から中心投影法を用いて構成された器官内部三次元画像を生成する第１のステップと、
上記器官の内部に挿入された器具の位置座標を基に構成した器具三次元画像を生成する第２のステップと、
上記第１のステップによって生成された器官内部三次元画像と上記第２のステップによって生成された器具三次元画像の合成画像を得る第３のステップと、
この第３のステップによって得られた合成画像を表示する第４のステップと、
を含むことを特徴とする画像表示方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月9日(2005.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハーフトーン画像を形成するための連続階調画像のハーフトーン処理方法において、
前記連続階調画像の連続階調列を、各々が最端画素および最端画素以外の画素を有する複数の連続階調セグメントに分割するステップと、
前記複数の連続階調セグメントから複数のハーフトーンセグメントを並列的に形成するステップであって、前記連続階調セグメントの各々に対応するハーフトーンセグメントを、前記最端画素にカットフィルタを適用し、前記最端画素以外の画素にノーマルフィルタを適用することによって形成するステップと、
前記ハーフトーン画像のハーフトーン列を形成するために前記複数のハーフトーンセグメントを併合するステップと、
を含むことを特徴とするハーフトーン処理方法。
【請求項２】
前記複数のハーフトーンセグメントを並列的に形成するのを容易にするために誤差データをグループ化するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載のハーフトーン処理方法。
【請求項３】
前記複数のハーフトーンセグメントを並列的に形成するのを容易にするためにしきい値データをグループ化するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載のハーフトーン処理方法。
【請求項４】
前記連続階調画像はグレースケール画像であることを特徴とする請求項１に記載のハーフトーン処理方法。
【請求項５】
前記連続階調画像は複数のチャンネルを有するカラー画像であり、前記ハーフトーン画像は前記チャンネルの１つについて形成されることを特徴とする請求項１に記載のハーフトーン処理方法。
【請求項６】
前記連続階調セグメントは、前記連続階調画像の隣接する列について、前記連続階調セグメントの最端画素が互い違いに配列するよう異なる態様に形成されることを特徴とする請求項１に記載のハーフトーン処理方法。
【請求項７】
前記連続階調画像の隣接する列の前記連続階調セグメントの最端画素には異なるカットフィルタが適用されることを特徴とする請求項１に記載のハーフトーン処理方法。
【請求項８】
前記連続階調セグメントの形成時、前記最端画素近傍の画素にノイズ成分が加えられることを特徴とする請求項１に記載のハーフトーン処理方法。
【請求項９】
前記カットフィルタは、複数の候補カットフィルタを前記連続階調画像にそれぞれ適用し、所定の基準にしたがってバンディングアーティファクトを低減する候補カットフィルタを選択することによって、複数の候補カットフィルタの中から選択されることを特徴とする請求項１に記載のハーフトーン処理方法。
【請求項１０】
連続階調画像をハーフトーン処理してハーフトーン画像を形成する処理装置において、
前記連続階調画像の連続階調列を、各々が最端画素および最端画素以外の画素を有する複数の連続階調セグメントに分割する手段と、
前記複数の連続階調セグメントから複数のハーフトーンセグメントを並列的に形成する手段であって、前記連続階調セグメントの各々に対応するハーフトーンセグメントを、前記最端画素にカットフィルタを適用し、前記最端画素以外の画素にノーマルフィルタを適用することによって形成する手段と、
前記ハーフトーン画像のハーフトーン列を形成するために前記複数のハーフトーンセグメントを併合する手段と、
を備えたことを特徴とするハーフトーン画像形成処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月26日(2004.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素当たり多ビットのラスタ画像の解像度を向上する方法であって、
（ａ）前記画素当たり多ビットのラスタ画像の輝度データを画素当たり２値データに変換し（４６、１０６）、
（ｂ）前記２値データから動作画素を同定し（４８、１０８、１１０）、
（ｃ）前記動作画素の輝度データを前記ラスタ画像に対してアンチ・エイリアス効果が達成されるように修正する（５２、１１２）こと
を特徴とするラスタ画像の解像度向上方法。
【請求項２】
前記動作画素は、前記ラスタ画像中で前記動作画素の近傍にある複数の画素データの構成を認識することによって同定される（４８、１０８、１１０）ことを特徴とする請求項１に記載のラスタ画像の解像度向上方法。
【請求項３】
（ａ）前記ラスタ画像がカラー画像である場合、前記輝度データは前記動作画素に関係した色の明るさを示し、
（ｂ）前記ラスタ画像がグレースケール画像である場合、前記輝度データは前記動作画素に関係したグレースケール値を示す、
ことを特徴とする請求項１または２に記載のラスタ画像の解像度向上方法。
【請求項４】
前記動作画素の輝度データを修正することが、近傍画素の輝度データを用いて新たな輝度値を生成（１１２）し、次いで前記新たな輝度値を前記動作画素に割り当てることを含むことを特徴とする請求項１、２または３に記載のラスタ画像の解像度向上方法。
【請求項５】
前記ラスタ画像はその内部にアンチ・エイリアスの対象となる少なくとも１つのオブジェクトを画成し、
前記近傍画素の１つは前記オブジェクトのエッジを画成し、
前記近傍画素の他の１つは、前記オブジェクトの近傍に存する、前記ラスタ画像中の領域のエッジを画成することを特徴とする請求項４に記載のラスタ画像の解像度向上方法。
【請求項６】
前記ラスタ画像は、その内部にアンチ・エイリアスの対象となる少なくとも１つのオブジェクトを画成し、
さらに、前記オブジェクトがクロマデータを有する場合、前記クロマデータの一部を前記修正された輝度データと組み合わせ（１１４）、前記組み合わせられたデータを前記動作画素に割り当てることを特徴とする請求項１、２、３、４または５に記載のラスタ画像の解像度向上方法。
【請求項７】
（ａ）前記動作画素が、アンチ・エイリアス処理をされる前の段階で前記オブジェクトの一部を画成する場合、前記クロマデータの一部は、前記動作画素のクロマデータであり（１１４、１１６）、
（ｂ）前記動作画素が、アンチ・エイリアス処理をされる前の段階で前記オブジェクトの一部を画成しない場合、前記クロマデータの一部は、前記オブジェクトの一部を画成しかつ前記動作画素の近傍に存する画素のクロマデータである（１１４、１１８）、
ことを特徴とする請求項６に記載のラスタ画像の解像度向上方法。
【請求項８】
画素当たり多ビットのラスタ画像の解像度を高める解像度向上装置であって、
（ａ）前記画素当たり多ビットのラスタ画像の輝度データを画素当たり２値データに変換する変換装置（３４、４６）と、
（ｂ）前記２値データ中のアンチ・エイリアスの対象となる動作画素を同定する画素同定装置（３２、４８）と、
（ｃ）前記動作画素の輝度データを修正し、前記ラスタ画像に対する前記動作画素のアンチ・エイリアス効果を達成する輝度修正装置（３２、５２）と
を有することを特徴とするラスタ画像の解像度向上装置。
【請求項９】
前記輝度修正装置（３２、５２）は、前記動作画素の近傍画素の輝度データを用いて新たな輝度値を生成し、さらに前記新たな輝度値を前記動作画素に割り当てることを特徴とする請求項８に記載のラスタ画像の解像度向上装置。
【請求項１０】
前記近傍画素の１つは前記ラスタ画像中のオブジェクトのエッジを画成し、前記近傍画素の他の１つは、前記オブジェクトの近傍に存する、前記ラスタ画像中の領域のエッジを画成することを特徴とする請求項９に記載のラスタ画像の解像度向上装置。
【請求項１１】
前記ラスタ画像は、その内部にアンチ・エイリアスの対象となる少なくとも１つのオブジェクトを画成し、
さらに、前記オブジェクトにクロマデータがある場合、前記クロマデータの一部を前記修正された輝度データと組み合わせ、前記組み合わせられたデータを前記動作画素に割り当てるクロマ修正装置（５２）を含むことを特徴とする請求項８、９または１０に記載のラスタ画像の解像度向上装置。
【請求項１２】
（ａ）前記動作画素が、アンチ・エイリアス処理をされる前の段階で前記オブジェクトの一部を画成する場合、前記クロマデータの一部は、前記動作画素のクロマデータであり、
（ｂ）前記動作画素が、アンチ・エイリアス処理をされる前の段階で前記オブジェクトの一部を画成しない場合、前記クロマデータの一部は、前記オブジェクトの一部を画成しかつ前記動作画素の近傍に存する画素のクロマデータである、
ことを特徴とする請求項８、９、１０または１１に記載のラスタ画像の解像度向上装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
図３は、本発明のラスタ画像の解像度を向上する方法を示すフローチャートである。まず、処理される画像が輝度クロミナンス色空間にない場合（１０２）（たとえば、原画像がＲＧＢ色空間にある場合）、動作画素（すなわち現在処理中の画素）はＹＣＣ等の輝度クロミナンス色空間に変換される（１０４）。続いて、動作画素の輝度成分が、ＲＥＴテンプレート照合、あるいは他の同様なアンチ・エイリアス検出機構を用いてＲＥＴ処理（１０８）可能なように、しきい値に基づいて２値フォーマットに変換される（１０６）。ＲＥＴテンプレートと一致しない場合（１１０）、アンチ・エイリアスステップは迂回され、画素は単純に出力画素として出力される（１１６）。入力画素が始めに輝度クロミナンス色空間になかった場合、画素は出力される前に元の色空間に変換される（１１６）。


【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
1998334228.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月25日(2005.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸受スピンドルに回転自在に支持された屈曲マンドレルで構成したテープデッキを有する磁気テープカセット装置であって、屈曲マンドレルは、磁気テープカセットの屈曲マンドレル穴に係合するのに適し、該マンドレルは、その周囲に配した少なくとも１つの連結フィンで構成されるものである磁気テープカセット装置において、
屈曲マンドレルは、軸線方向移動の領域で軸線方向に移動することができるように軸受スピンドルに取り付けられ、少なくとも一つのばねによって好適な軸線方向位置に向かってそれぞれ予備的な負荷がかけられていることを特徴とする磁気テープカセット装置。
【請求項２】
前記ばねをそれぞれ軸受スピンドルおよび屈曲マンドレル間に配し、該ばねは、前記軸受スピンドルおよび／またはシャシプレートの軸受エレメントに作用する間、前記屈曲マンドレルを軸線方向に圧迫することを特徴とする請求項１に記載の磁気テープカセット装置。
【請求項３】
前記ばねは一体に構成されるものであることを特徴とする請求項１に記載の磁気テープカセット装置。
【請求項４】
前記一体ばねは、少なくとも３つのばねアームで構成されることを特徴とする請求項３に記載の磁気テープカセット装置。
【請求項５】
前記屈曲マンドレルは、一体に構成されるものであることを特徴とする請求項１に記載の磁気テープカセット装置。
【請求項６】
前記屈曲マンドレルは、軸線方向移動の全領域にわたって駆動歯車によって駆動させることができることを特徴とする請求項１に記載の磁気テープカセット装置。
【請求項７】
前記屈曲マンドレルはそれぞれ、駆動歯車の歯状突起に嵌合作用できる歯状突起を有し、歯状突起の軸線方向高さおよび軸線方向位置は、前記屈曲マンドレルそれぞれの歯状突起および前記駆動車輪の歯状突起を軸線方向移動の全領域で互いに嵌合させる手段で選択されることを特徴とする請求項１に記載の磁気テープカセット装置。
【請求項８】
請求項１に記載の磁気テープカセット装置を備える電子装置。
【請求項９】
請求項１に記載の磁気テープカセット装置を備える自動車。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月1日(2004.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
捲回された被含浸物に液体を含浸させ、容器に装填して電池を製造する電池製造装置において、
上記被含浸物を疎に捲回する第１の捲回手段と、
この第１の捲回手段により疎に捲回された被含浸物を上記液体中に浸漬させる浸漬手段と、
この浸漬手段により上記液体が含浸した上記被含浸物を密に捲回する第２の捲回手段と、
この第２の捲回手段により密に捲回された被含浸物を上記容器に装填する装填手段とを備えていることを特徴とする電池製造装置。
【請求項２】
捲回された被含浸物に液体を含浸させ、容器に装填して電池を製造する電池製造装置において、
上記容器及び上記液体を貯溜する貯溜容器を載置した載置部を搬送するための搬送部と、
この搬送部に疎に捲回された上記被含浸物を供給する被含浸物供給部と、
この被含浸物供給部により供給された上記被含浸物を支持する支持部と、
この支持部に支持された上記被含浸物を上記載置部に対して昇降させる昇降部と、
上記支持部に支持された上記被含浸物を密に捲回する捲回部と、
上記支持部下方に上記容器及び上記貯溜容器を選択的に位置決めする位置決め部とを備えていることを特徴とする電池製造装置。
【請求項３】
上記貯溜容器は、その内部を気密に閉塞する閉塞部と、
上記内部を減圧する減圧部とを備えていることを特徴とする請求項２に記載の電池製造装置。
【請求項４】
上記貯溜容器は、その内部を気密に閉塞する閉塞部と、
上記内部を加圧する加圧部とを備えていることを特徴とする請求項２に記載の電池製造装置。
【請求項５】
捲回された被含浸体に液体を含浸させ、容器に装填して電池を製造する電池製造方法において、
上記被含浸体を上記液体に浸漬させて上記液体を含浸させ、さらに上記被含浸体を密に捲回した後上記容器に装填することを特徴とする電池製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項５に記載された発明は、捲回された被含浸体に液体を含浸させ、容器に装填して電池を製造する電池製造方法において、上記被含浸体を上記液体に浸漬させて上記液体を含浸させ、さらに上記被含浸体を密に捲回した後上記容器に装填するようにした。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
請求項５に記載された発明では、被含浸物を液体中に浸漬させることにより、被含浸物間に残存する気泡を容易に除去し、かつ、液体への接触面積を増大させることができるので、容易に含浸が行われる。また、液体が含浸した被含浸物を密に捲回するようにしているので、所定の外径に仕上げることで被含浸物を容器に装填することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
請求項５に記載された発明では、被含浸物を液体中に浸漬させることにより、被含浸物間に残存する気泡を容易に除去し、かつ、液体への接触面積を増大させることができるので、容易に含浸が行われる。また、液体が含浸した被含浸物を密に捲回するようにしているので、所定の外径に仕上げることで被含浸物を容器に装填することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月31日(2004.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リチウム二次電池の非水電解質とともに使用されるリチウム二次電池用負極の製造方法であって、
負極の活物質は、グラファイトを非酸化雰囲気で加熱して表面の酸素を取り除く活性化処理を行い、その後、高温の不活性雰囲気下で有機物を導入して活性化グラファイトの表面に炭素又は炭素化合物からなる皮膜を形成することを特徴とするリチウム二次電池用負極の製造方法。
【請求項２】
前記活性化処理に先だってグラファイト表面を酸又はアルカリ液により洗浄する清浄化処理を行うことを特徴とする請求項１記載のリチウム二次電池用負極の製造方法。
【請求項３】
前記有機物は窒素を含有する有機物であることを特徴とする請求項１又は２に記載のリチウム二次電池用負極の製造方法。
【請求項４】
前記有機物はアセトニトリルであって、これを窒素ガスと共に導入することを特徴とする請求項３に記載のリチウム二次電池用負極の製造方法。
【請求項５】
リチウム二次電池の非水電解質とともに使用されるものであって、負極の活物質が、グラファイトの表面にＣxＮの被覆が形成されたものであることを特徴とするリチウム二次電池用負極。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段及びその作用・効果】
請求項１の発明は、負極の活物質の製造に際し、グラファイトを非酸化雰囲気で加熱して表面の酸素を取り除く活性化処理を行い、その後、高温不活性雰囲気下で有機物を導入して活性化グラファイトの表面に低結晶性炭素又は炭素化合物の皮膜を形成するところに特徴を有する。
上記発明において、グラファイトを非酸化雰囲気で高温度に加熱すると、表面に結合している酸素がＣＯ又はＣＯ2 の形で除去され、活性化された炭素原子が露出する。その加熱温度については、グラファイト表面の汚れ状態や生産性等を考慮して種々設定することができるが、８００℃〜１２００℃程度とすることが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
このようにして低結晶性炭素又は炭素化合物により被覆されたグラファイトを活物質とし、例えばこれにバインダを添加して集電体に塗布して乾燥させることによりリチウム二次電池の負極を構成することができる。この負極によれば、グラファイトの表面が低結晶性炭素又は炭素化合物の皮膜により覆われており、グラファイト部分にまでＰＣ電解液が侵入できないため、ＰＣの反応を抑えることができる。また、グラファイト表面の炭素をいったん活性化してから有機物の熱分解によって低結晶性炭素又は炭素化合物をグラファイト表面に結合させるから、化学結合が強固で均一な皮膜を形成することができ、さらにグラファイト表面の未結合の炭素原子（不対電子を有する炭素原子）の数を大幅に減らしてグラファイトと低結晶性炭素又は炭素化合物との間のＣ−Ｃ結合を増大させることができる。このことは、低結晶性炭素又は炭素化合物の被覆の膜厚を薄くしても電解液との反応性を十分に抑えることができることを意味し、充放電容量が少ない部分の膜厚が薄い分、活物質のエネルギー密度を高めて充放電容量を増大させることができる。
しかも、この方法で製造された低結晶性炭素又は炭素化合物の皮膜で覆ったグラファイトでは、上述のようにグラファイト層と低結晶性炭素層又は炭素化合物との間の結合度が高まるから、サイクル特性も大きく向上する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月28日(2004.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液晶駆動信号生成装置、ディスク再生装置及びディスク記録装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発振器と、前記発振器より出力される発振信号の帯域を制限し液晶駆動信号として出力する低域通過フィルタと、液晶に設定すべき屈折率に応じて前記低域通過フィルタのカットオフ周波数を制御する制御部と、を備えることを特徴とする液晶駆動信号生成装置。
【請求項２】
レーザビームの光軸上に配置された収差補正用の液晶パネルと、発振器と、
ディスクのチルト角を検出する手段と、前記発振器より出力される発振信号の帯域を制限し液晶駆動信号として出力する低域通過フィルタと、前期チルト角により生じる収差を補正するために前記液晶に設定すべき屈折率を決定し前記屈折率に応じて前記低域通過フィルタのカットオフ周波数を制御する制御部と、を備えたことを特徴とするディスク再生装置又はディスク記録装置。
【請求項３】
前記発振信号は、前記ディスク再生装置又はディスク記録装置の動作の基準となるクロックに基づき生成される信号であることを特徴とする請求項２に記載のディスク再生装置又はディスク記録装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶駆動信号生成装置、及び液晶駆動信号生成装置を備えたディスク再生装置又はディスク記録装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】
駆動信号の電圧振幅レベルを制御する液晶駆動信号生成装置では、液晶を駆動する駆動信号の電圧振幅レベルの制御をいかにして実現するかが問題となってくる。従って、本発明は新規な液晶駆動信号生成装置を提供することを課題とする。また、本発明では上記液晶駆動信号生成装置を備えたディスク再生装置又はディスク記録装置を提供することを課題とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、本発明では次のような手段を採用した。即ち、請求項１に記載の発明は、発振器と、発振器より出力される発振信号の帯域を制限し液晶駆動信号として出力する低域通過フィルタと、液晶に設定すべき屈折率に応じて低域通過フィルタのカットオフ周波数を制御する制御部と、を備えることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、請求項２に記載の発明は、レーザビームの光軸上に配置された収差補正用の液晶パネルと、発振器と、ディスクのチルト角を検出する手段と、発振器より出力される発振信号の帯域を制限し液晶駆動信号として出力する低域通過フィルタと、チルト角により生じる収差を補正するために液晶に設定すべき屈折率を決定し屈折率に応じて低域通過フィルタのカットオフ周波数を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、請求項３に記載の発明は、請求項２記載のディスク再生装置又はディスク記録装置であって、発振信号は、ディスク再生装置又はディスク記録装置の動作の基準となるクロックに基づき生成される信号であることを特徴とする。