Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月2日(2004.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
容器本体の一面に基板搬出入用のドアを備え、基板を前記容器本体内に一定間隔で保持するようにした基板搬送容器において、
前記容器本体の両側面に外部環境と隔離するカバーを取付け、
該カバー内に前記容器本体内部に連通する開口を設け、
前記容器内の微粒子濃度とガス状不純物濃度を低減するための空気調整装置を、前記容器本体の側面の前記カバー内に配置し、
前記空気調整装置で調整した空気を前記容器本体内部に循環させるようにしたことを特徴とする基板搬送容器。
【請求項２】
前記容器内の湿度を低減及び／又は調整する手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載の基板搬送容器。
【請求項３】
前記基板を保持する保持部材と容器本体が一体成形されたことを特徴とする請求項１に記載の基板搬送容器。
【請求項４】
前記基板を保持する保持部材と容器本体が静電気導電性材料又は静電気拡散性材料で形成されたことを特徴とする請求項３に記載の基板搬送容器。
【請求項５】
前記基板を保持する保持部材と容器本体が別部材として構成されたことを特徴とする請求項１に記載の基板搬送容器。
【請求項６】
前記容器本体が吸水率０．１％以下の材料で形成されたことを特徴とする請求項１に記載の基板搬送容器。
【請求項７】
湿度調整手段として固体高分子電解質膜を用いたことを特徴とする請求項２に記載の基板搬送容器。
【請求項８】
前記空気調整装置は、送風装置と、粒子除去フィルタと、ガス状汚染物質除去フィルタとからなることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送容器。
【請求項９】
前記容器本体の前面にドアを備え、後面に電源ユニットを備え、両側面に前記空気調整装置を備えたことを特徴とする請求項１に記載の基板搬送容器。
【請求項１０】
前記開口は、前記容器本体の前面側と後面側に配置したことを特徴とする請求項１に記載の基板搬送容器。
【請求項１１】
前記空気の循環は、前記容器本体後面側の開口から、前記容器内部を前面側の開口に向かうようにしたものであることを特徴とする請求項９に記載の基板搬送容器。
【請求項１２】
前記容器本体に逆止弁を有する給気ポートと排気ポートとを備えたことを特徴とする請求項１に記載の基板搬送容器。
【請求項１３】
第２の把持手段が、人手による取扱いのために、カバーに設けられていることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送容器。
【請求項１４】
前記電源への給電が非接触の電磁誘導により行われることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送容器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、上記問題を解決するために、ＳＥＭＩ（Semiconductor Equipment and Materials International）規格で規定した寸法を満足した構造を有し、容器内の気体を換気するための送気手段と、各種不純物を捕捉／吸着する手段と、除湿手段等を備え、容器内の環境を任意に制御可能な基板搬送容器を提供する。特に、本発明の基板搬送容器は、容器本体の一面に基板搬出入用のドアを備え、基板を前記容器本体内に一定間隔で保持するようにした基板搬送容器において、前記容器本体の両側面に外部環境と隔離するカバーを取付け、該カバー内に前記容器本体内部に連通する開口を設け、前記容器内の微粒子濃度とガス状不純物濃度を低減するための空気調整装置を、前記容器本体の側面の前記カバー内に配置し、前記空気調整装置で調整した空気を前記容器本体内部に循環させるようにしたことを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月22日(2005.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）第１導電型の半導体ボディを準備する工程であって、前記半導体ボディが第１表面上に第２導電型の層を有する工程と、
ｂ）前記第２導電型層上に複数のシリンドリカル酸化物台を形成する工程と、
ｃ）方向性エッチングを行って、各台間の前記第２導電型層中にトレンチを形成する工程と、
ｄ）各台間の前記第２導電型層中に第１導電型の領域を形成する工程であって、前記領域が前記台の下方にいくらか延びている、工程と、
ｅ）方向性エッチングを行って、各台間の前記第２導電型層を通して延びるより深いトレンチを形成し、各台間の前記第２導電型層中の前記第１導電型領域を除去し、前記第２導電型層のうち前記台の下方にいくらか延びた部分は除去しない、工程と、
ｆ）ゲート酸化物を堆積する工程と、
ｇ）高ドープのポリ半導体層を堆積する工程と、
ｈ）前記ポリ半導体層に対して方向性エッチングを行って、各台間の前記ゲート酸化物から前記ポリ半導体層を除去する工程と、
ｉ）注入を行って、各台間の領域を第１導電型から第２導電型へ変換する工程と、
ｊ）方向性エッチングを行って、前記台の側壁上の前記酸化物上にあるポリ半導体層の高さをさらに減じて、前記ｄ）の層の残留部の高さにする工程と、
ｋ）露出した前記ゲート酸化物を除去する工程と、
ｌ）ダイオードに対する第１電気コンタクトとして導電層を堆積する工程と、
ｍ）ダイオードに対する第２電気コンタクトとして、前記半導体ボディに対する電気的コンタクトを形成する工程と
を含むダイオード形成方法。
【請求項２】
ａ）第１導電型の半導体ボディの第１表面上に複数のシリンドリカル半導体台を形成する工程であって、前記台は、前記半導体ボディから延びる第１導電型の下部領域と、第２導電型の上部領域とを有しており、前記台の前記上部領域と前記下部領域の間でｐｎ接合が形成され、さらに、前記台は、前記ｐｎ接合に隣接する前記上部領域内にあり、その周辺に延びる第１導電型の領域を有する、工程と、
ｂ）前記下部領域から延び、かつ前記上部領域の周辺に延びるゲート酸化物および導電性ゲートを形成する工程と、
ｃ）前記導電性ゲートに接触する導電層を形成する工程と、
ｄ）前記半導体ボディに対して導電性コンタクトを形成する工程と
を含むダイオード形成方法。
【請求項３】
第１導電型の半導体ボディと、
前記半導体ボディ上の第１表面上の複数のシリンドリカル台であって、各台は第１導電型の下部領域および第２導電型の上部領域を有し、前記下部領域と前記上部領域の間にｐｎ接合が形成され、前記下部領域および前記上部領域は各台の側壁を決めているシリンドリカル台と、
前記ｐｎ接合に隣接する各台の上部領域の周辺にある第１導電型の領域と、
前記下部領域から各台の前記上部領域の周辺にある前記第１導電型領域に延びる、各台の前記側壁上のゲート酸化物であって、各台の前記上部領域の周辺にある前記第１導電型領域の部分が前記ゲート酸化物によって覆われてはいないゲート酸化物と、
前記ゲート酸化物を覆う導電性ゲートと、
各台間の第２導電型層と、
前記複数のシリンドリカル台を覆い、各台の前記上部領域の周辺にある前記導電性ゲートおよび前記第１導電型領域に対して電気コンタクトをなす導電層と、
前記半導体ボディに対して電気コンタクトをなす導電層と
を備えたダイオード。
【請求項４】
第１導電型の半導体ボディ上の第１表面上の複数のシリンドリカル半導体台であって、前記台は、前記半導体ボディから延びる第１導電型の下部領域、および第２導電型の上部領域を有し、前記下部領域と前記上部領域の間にｐｎ接合が形成され、さらに前記台は、前記ｐｎ接合に隣接する前記上部領域内にあり、その周辺に延びる第１導電型の領域を有する、シリンドリカル半導体台と、
前記下部領域から各台の前記上部領域内の前記第１導電型領域に延び、かつ各台の前記上部領域の周辺に延びる、ゲート酸化物および導電性ゲートと、
前記導電性ゲート、および前記上部領域内にありその周辺に延びる前記第１導電型領域と接触する導電層と、
前記半導体ボディに対する導電コンタクトと
を備えたダイオード。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月8日(2003.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱溶融性接着剤により複合構造体をキャリヤ、好ましくはガラス基板、ガラスセラミックス又はプラスチック材料で出来たキャリヤに接着し、電子部品を互いに分割し、前記接着剤の接着力を加熱により除去し、前記電子部品を専ら真空ピペットを用いることにより一つずつ前記キャリヤから取り外す、複合構造体から電子部品を分離する方法、特にウェーハからチップを分離する方法であって、前記真空ピペットにより前記複合構造体から前記電子部品を取り外す前に、前記接着剤の接着力を前記電子部品の個々の領域で部分的に除去することを特徴とする複合構造体から電子部品を分離する方法。
【請求項２】
前記接着剤を前記電子部品の個々の領域で非活性化することを特徴とする請求の範囲第１項記載の複合構造体から電子部品を分離する方法。
【請求項３】
前記電子部品の性質がフィルムの性質に類似することを特徴とする請求の範囲第１又は２項に記載の複合構造体から電子部品を分離する方法。
【請求項４】
前記接着剤を非活性化するのに使用する熱を前記電子部品を介して供給することを特徴とする請求の範囲第２又は３項に記載の複合構造体から電子部品を分離する方法。
【請求項５】
前記接着剤を非活性化するのに使用する熱を前記キャリアを介して供給することを特徴とする請求の範囲第２乃至４項のいずれか一つに記載の複合構造体から電子部品を分離する方法。
【請求項６】
熱を熱風により供給することを特徴とする請求の範囲第１乃至５項のいずれか一つに記載の複合構造体から電子部品を分離する方法。
【請求項７】
熱を熱放射により供給することを特徴とする請求の範囲第１乃至６項のいずれか一つに記載の複合構造体から電子部品を分離する方法。
【請求項８】
前記キャリヤの熱伝導性が、前記キャリヤ平面の方向よりも前記キャリヤ平面に垂直な方向でより良好であることを特徴とする請求の範囲第１乃至７項のいずれか一つに記載の複合構造体から電子部品を分離する方法。
【請求項９】
前記電子部品が１０μｍ乃至６０μｍの厚さを有するシリコンチップであることを特徴とする請求の範囲第１乃至８項のいずれか一つに記載の複合構造体から電子部品を分離する方法。
【請求項１０】
ダイ・イジェクタを使用しないことを特徴とする請求の範囲第１乃至９項のいずれか一つに記載の複合構造体から電子部品を分離する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月28日(2005.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スイッチアレイにて使用されるドームバネ要素の配列であって、前記ドームバネ要素の各々がチャンバを規定する、ドームバネ要素の配列と、
前記ドームバネ要素の前記チャンバを相互連結して、それにより前記ドームバネ要素の各々の各チャンバを他の少なくとも１個のドームバネ要素のチャンバと流体連通させる、複数のチャネルと、を含む装置であって、
前記ドームバネ要素の配列がシート状部材として形成され、前記チャネルが前記シート状部材の底部主表面内及び前記シート状部材の最上部主表面内に含まれる、装置。
【請求項２】
前記スイッチアレイがキーボードである、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記ドームバネ要素間の領域は実質的に穴を有さない、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記ドームバネ要素の１個が始動されたときに、空気が前記チャネルの少なくとも１個を通って押し出されて、相異なる複数のドームバネ要素のチャンバ間に空気が再分配される、請求項１に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月7日(2004.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）導電性材料、（ｂ）１種または複数種の無機バインダー、および（ｃ）亜鉛の細かく割られた粒子を含む組成物の使用であって、構成成分（ａ）、（ｂ）および（ｃ）が、導電性パターンのはんだ接着性を維持しつつ、固有抵抗を増加させる目的で、基材上へ導電性パターンを製造するに際し、液体ビヒクル中に分散されていることを特徴とする組成物の使用。
【請求項２】
導電性パターンのはんだ接着性を維持しつつ、固有抵抗を増加させる方法であって、前記導電性パターンの製造において（ａ）導電性材料、（ｂ）１種または複数種の無機バインダー、および（ｃ）亜鉛の細かく割られた粒子を含む組成物を利用することを含み、構成成分（ａ）、（ｂ）および（ｃ）が液体ビヒクル中に分散されていることを特徴とする方法。
【請求項３】
亜鉛の細かく割られた粒子の組成物中での使用であって、該組成物から製造された導電性パターンの固有抵抗を増加させる目的のために、液体ビヒクル中に分散された（ａ）導電性材料および（ｂ）１種または複数種の無機バインダーの細かく割られた粒子をさらに含むことを特徴とする組成物の使用。
【請求項４】
液体ビヒクル中に分散された（ａ）導電性材料および（ｂ）１種または複数種の無機バインダーの細かく割られた粒子を含む組成物から製造された導電性パターンの固有抵抗を増加させる方法であって、前記方法が（ｃ）前記組成物中へ亜鉛の細かく割られた粒子の組み入れを含むことを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
データは、亜鉛含有組成物が、増加した固有抵抗を示すがハンダ接着性を維持する導電性パターンの調製を可能にすることを実証している。
本発明は、以下の（１）〜（２６）に記載の発明を包含する。
（１）  （ａ）導電性材料、（ｂ）１種または複数種の無機バインダー、および（ｃ）亜鉛の細かく割られた粒子を含む組成物の使用であって、構成成分（ａ）、（ｂ）および（ｃ）が、導電性パターンのはんだ接着性を維持しつつ、固有抵抗を増加させる目的で、基材上へ導電性パターンを製造するに際し、液体ビヒクル中に分散されていることを特徴とする組成物の使用。
（２）  導電性パターンのはんだ接着性を維持しつつ、固有抵抗を増加させる方法であって、前記導電性パターンの製造において（ａ）導電性材料、（ｂ）１種または複数種の無機バインダー、および（ｃ）亜鉛の細かく割られた粒子を含む組成物を利用することを含み、構成成分（ａ）、（ｂ）および（ｃ）が液体ビヒクル中に分散されていることを特徴とする方法。
（３）  前記液体ビヒクルが有機媒体であることを特徴とする上記（１）に記載の使用。
（４）  構成成分（ｃ）が金属亜鉛粒子を含むことを特徴とする上記（１）に記載の使用。
（５）  構成成分（ｃ）が亜鉛を含有する合金の粒子を含むことを特徴とする上記（１）に記載の使用。
（６）  前記導電性粒子が銀粒子であることを特徴とする上記（１）に記載の使用。
（７）  実質的にすべての粒子が０．０１〜２０μｍの範囲にあることを特徴とする上記（１）に記載の使用。
（８）  構成成分（ａ）、（ｂ）および（ｃ）の総量が組成物の約５０〜約９５重量％であることを特徴とする上記（１）に記載の使用。
（９）  構成成分（ａ）が組成物中に存在する全固形分の約５０〜約９８重量％の量で存在することを特徴とする上記（１）に記載の使用。
（１０）  構成成分（ｂ）が組成物中に存在する全固形分の約２〜１５重量％の量で存在することを特徴とする上記（１）に記載の使用。
（１１）  構成成分（ｃ）が組成物中に存在する全固形分の約２〜１５重量％の量で存在することを特徴とする上記（１）に記載の使用。
（１２）  導電性パターンの前記製造が（ａ）導電性材料、（ｂ）１種または複数種の無機バインダー、および（ｃ）亜鉛の細かく割られた粒子を含む組成物であって、前記構成成分（ａ）、（ｂ）および（ｃ）が液体ビヒクル中に分散されている組成物を基材に塗布する工程と、被覆された基材を焼成して基材への細かく割られた粒子の焼結を達成する工程とを含むことを特徴とする上記（１）、または上記（３）〜（１１）のいずれか１つに記載の使用。
（１３）  前記製造がスクリーン印刷法を含むことを特徴とする上記（１２）に記載の使用。
（１４）  亜鉛の細かく割られた粒子の組成物中での使用であって、該組成物から製造された導電性パターンの固有抵抗を増加させる目的のために、液体ビヒクル中に分散された（ａ）導電性材料および（ｂ）１種または複数種の無機バインダーの細かく割られた粒子をさらに含むことを特徴とする組成物の使用。
（１５）  液体ビヒクル中に分散された（ａ）導電性材料および（ｂ）１種または複数種の無機バインダーの細かく割られた粒子を含む組成物から製造された導電性パターンの固有抵抗を増加させる方法であって、前記方法が（ｃ）前記組成物中へ亜鉛の細かく割られた粒子の組み入れを含むことを特徴とする方法。
（１６）  前記液体ビヒクルが有機媒体であることを特徴とする上記（２）に記載の方法。
（１７）  構成成分（ｃ）が金属亜鉛粒子を含むことを特徴とする上記（２）に記載の方法。
（１８）  構成成分（ｃ）が亜鉛含有合金の粒子を含むことを特徴とする上記（２）に記載の方法。
（１９）  前記導電性粒子が銀粒子であることを特徴とする上記（２）に記載の方法。
（２０）  実質的にすべての粒子が０．０１〜２０μｍの範囲にあることを特徴とする上記（２）に記載の方法。
（２１）  構成成分（ａ）、（ｂ）および（ｃ）の全量が組成物の約５０〜約９５重量％であることを特徴とする上記（２）に記載の方法。
（２２）  構成成分（ａ）が組成物中に存在する全固形分の約５０〜約９８重量％の量で存在することを特徴とする上記（２）に記載の方法。
（２３）  構成成分（ｂ）が組成物中に存在する全固形分の約２〜１５重量％の量で存在することを特徴とする上記（２）に記載の方法。
（２４）  構成成分（ｃ）が組成物中に存在する全固形分の約２〜１５重量％の量で存在することを特徴とする上記（２）に記載の方法。
（２５）  導電性パターンの前記製造が、（ａ）導電性材料、（ｂ）１種または複数種の無機バインダー、および（ｃ）亜鉛の細かく割られた粒子を含む組成物であって、前記構成成分（ａ）、（ｂ）および（ｃ）が液体ビヒクル中に分散されている組成物を基材に塗布する工程と、被覆された基材を焼成して、細かく割られた粒子の基材への焼結を達成する工程とを含むことを特徴とする上記（２）または上記（１６）〜（２４）のいずれか１項に記載の方法。
（２６）  前記製造がスクリーン印刷法を含むことを特徴とする上記（２５）に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月13日(2005.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エチレン性不飽和結合を含有する重合性物質を６０℃以下の温度で硬化させる方法であって：
ａ）有効量の２，４，５−トリアリールイミダゾリル二量体の耐光性異性体を含む硬化剤を提供する工程と；
ｂ）溶媒および摩擦からなる群より選択される活性化手段の適用により前記硬化剤を活性化する工程と；
ｃ）活性化された硬化剤を重合性物質と組合わせる工程と、
を含む方法。
【請求項２】
非粘着化された表面を有する接着剤を含む物品であって、前記表面が、２，４，５−トリアリールイミダゾリルラジカルの反応生成物を含有する物品。
【請求項３】
耐光性ビロフィン；二級または三級アミン；および好適な溶媒を含む、非粘着化溶液であって、
前記溶媒が、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、ステアリルアクリレート、アリルアクリレート、グリセロールジアクリレート、グリセロールトリアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、１，３−プロパンジオールジアクリレート、１，３−プロパンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリメタクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ペンタエリトリトールテトラメタクリレート、ビニル化合物、およびこれらの混合物からなる群より選択される反応性希釈剤を任意に含む、非粘着化溶液。
【請求項４】
２，４，５−トリアリールイミダゾリル二量体の耐光性異性体を含む第１部分と、二級または三級アミン、およびエチレン性不飽和結合を含有する重合性物質を含む第２部分とを含む、２部式の接着剤。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月15日(2004.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感圧性粘着テープのロールの端面を非粘着化する方法であって、
ａ）前記テープのロールの端面を、
ｉ）アクリレートオリゴマーと、
ｉｉ）ポリエーテルアクリレートオリゴマーと、
を含む組成物と接触させる工程と、
ｂ）前記組成物を硬化させる工程と、
を含む方法。
【請求項２】
前記組成物が、
ａ）アクリレートオリゴマーを約１０％〜約４０％と、
ｂ）ポリエーテルアクリレートオリゴマーを約５０％〜約９０％と、
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
感圧性粘着テープのロールであって、
非粘着性の第１端面と、
第２端面と、
前記第１端面上に施された被覆と、
を含み、前記被覆が、
ａ）アクリレートオリゴマーと、
ｂ）ポリエーテルアクリレートオリゴマーと、
ｃ）任意に、モノマー、光開始剤、またはこれらの組合わせと、
の反応生成物を含む、感圧性粘着テープのロール。
【請求項４】
前記組成物が、
ａ）アクリレートオリゴマーを約１０％〜約４０％と、
ｂ）ポリエーテルアクリレートオリゴマーを約５０％〜約９０％と、
の反応生成物を含む、請求項３に記載の感圧性粘着テープのロール。
【請求項５】
感圧性粘着テープのロールであって、
非粘着性の第１端面と、
第２端面と、
前記第１端面上に施された不連続な被覆と、
を含み、前記被覆が、
ａ）アクリレートオリゴマーと、
ｂ）ポリエーテルアクリレートオリゴマーと、
ｃ）任意に、モノマー、光開始剤、またはこれらの組合わせと、
の反応生成物を含む感圧性粘着テープのロール。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月8日(2005.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマーマトリックス及びマトリックスの全体にわたって分配されている着色剤を含むポリマー粒子であって、
ここでポリマーマトリックスは、エチレン性不飽和イオンモノマーである第１モノマーと５０℃超のガラス転移温度のホモポリマーを形成することができるエチレン性不飽和疎水性モノマーである第２モノマーとを含むモノマーのブレンドから形成されており、
そして、第１モノマーは揮発性対イオン成分の塩であり、ポリマーマトリックスは着色剤に対して不浸透性であることを特徴とするポリマー粒子。
【請求項２】
ポリマーマトリックスが、遊離酸の形態又は遊離塩基の形態であるポリマーを含む、請求項１記載のポリマー粒子。
【請求項３】
ポリマーマトリックスが架橋されている、請求項１又は２記載のポリマー粒子。
【請求項４】
ポリマー粒子が、１００ミクロン未満、好ましくは５０ミクロン未満の平均粒度を有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載のポリマー粒子。
【請求項５】
第２モノマーが、スチレン、メチルメタクリレート、アクリロニトリル、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート及びイソボルニルメタクリレートからなる群より選択される、請求項１〜４のいずれか１項に記載のポリマー粒子。
【請求項６】
第１モノマーが、エチレン性不飽和カルボン酸であり、揮発性対イオン成分がアンモニア又は揮発性アミンである、請求項１〜５のいずれか１項に記載のポリマー粒子。
【請求項７】
マトリックスポリマーが、スチレンとアクリル酸アンモニウムとのコポリマーであり、炭酸ジルコニウムアンモニウムが、架橋剤として用いられる、請求項１〜６のいずれか１項に記載のポリマー粒子。
【請求項８】
着色剤が、染料、顔料又はレーキである、請求項１〜７のいずれか１項に記載のポリマー粒子。
【請求項９】
ポリマーマトリックス及びマトリックスの全体にわたって分配されている着色剤を含むポリマー粒子の製造方法であって、
ここで、ポリマーマトリックスは、エチレン性不飽和イオンモノマーである第１モノマーと５０℃超のガラス転移温度のホモポリマーを形成することができるエチレン性不飽和疎水性モノマーである第２モノマーとを含むモノマーのブレンドから形成されており、
そして、第１モノマーは揮発性対イオン成分の塩であるポリマー粒子であって、ポリマーマトリックスは着色剤に対して不浸透性であり、以下の工程、
（Ａ）第１モノマーと第２モノマーとを含むモノマーのブレンドから形成されるポリマー塩の水相を用意する工程；
（Ｂ）着色剤を水相で溶解するか又は分散させる工程；
（Ｃ）好ましくはエマルジョンを形成するために両親媒性ポリマー安定剤を含む水不混和性液相中の水相から本質的になる分散系を形成する工程；及び
（Ｄ）分散系を脱水に付して、含水粒子から水を蒸発させ、それによってマトリックスポリマーの全体にわたって分配されている着色剤を含む固体粒子を形成する工程
を含み、
ここで、蒸留中に塩の揮発性対イオン成分が蒸発し、マトリックスポリマーがその遊離酸の形態又は遊離塩基の形態に変換する
方法。
【請求項１０】
架橋剤が、水相中に含まれ、マトリックスポリマーが、脱水工程中に架橋される、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
ポリマー粒子が、１００ミクロン未満、好ましくは５０ミクロン未満の平均粒度を有する、請求項９又は１０に記載の方法。
【請求項１２】
第２モノマーが、スチレン、メチルメタクリレート、アクリロニトリル、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート及びイソボルニルメタクリレートからなる群より選択される、請求項９〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
第１モノマーが、エチレン性不飽和カルボン酸であり、揮発性対イオン成分がアンモニア又は揮発性アミンである、請求項９〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
ポリマーマトリックスが、スチレンとアクリル酸アンモニウムとのコポリマーであり、炭酸ジルコニウムアンモニウムが、架橋剤として用いられる、請求項９〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
第１モノマーが、エチレン性不飽和アミンであり、揮発性対イオン成分が揮発性カルボン酸である、請求項９〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
着色剤が、染料、顔料又はレーキ、好ましくは水溶性染料の水溶液である、請求項９〜１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
脱水工程が、真空蒸留を含む、請求項９〜１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
脱水工程が、噴霧乾燥を含む、請求項９〜１７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１９】
化粧用に許容される基材と、請求項１〜８のいずれか１項記載のポリマー粒子、又は請求項９〜１８のいずれか１項記載の方法によって製造したポリマー粒子を含む化粧用組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月20日(2005.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）下記の式：
【化１】
2004531612.tif 000001
〔式中、
各Ｒfは、独立して、環式であっても非環式であってもよく飽和であっても不飽和であってもよくかつＮ、Ｏ、およびＳからなる群より選択されるカテネート化（ｃａｔｅｎａｔｅｄ）ヘテロ原子または末端ヘテロ原子を任意に含有していてもよいフッ素化されたアルキル基またはアリール基であり、
Ｑは、独立して、ＳＯ2連結基またはＣＯ連結基であり、そして
Ｘは、ＱＲf、ＣＮ、ハロゲン、Ｈ、アルキル、アリール、Ｑ−アルキル、およびＱ−アリールからなる群より選択され、
任意の２つの相接するＲf基は、連結して環を形成してもよい。〕
のうちの１つにより表される少なくとも１つのアニオンと、
（ｂ）少なくとも１つのカチオン性窒素中心に結合した少なくとも１つのポリオキシアルキレン部分を有する少なくとも１つのカチオンと、
からなる帯電防止剤。
【請求項２】
Ｒf基がペルフルオロアルキル基である、請求項１に記載の帯電防止剤。
【請求項３】
前記カチオンが、モノ−アンモニウム化合物、ジ−アンモニウム化合物、またはトリ−アンモニウム化合物である、請求項１に記載の帯電防止剤。
【請求項４】
絶縁材料と請求項１に記載の帯電防止剤とを含む物品。
【請求項５】
（ａ）請求項１に記載の帯電防止剤と、
（ｂ）絶縁材料と、
（ｃ）親水性コロイドバインダー中に分散されたハロゲン化銀エマルジョンと、
（ｄ）任意に、前記エマルジョン用の少なくとも１層の保護層と、
を含む感光性写真材料。
【請求項６】
（ａ）（ｉ）請求項１に記載の少なくとも１種の帯電防止剤と、
（ｉｉ）少なくとも１種の絶縁材料と、
を組合せるステップと、
（ｂ）得られた組合せ物を溶融加工するステップと、
を含む、帯電防止性組成物の作製方法。
【請求項７】
（ａ）（ｉ）請求項１に記載の少なくとも１種の帯電防止剤と、
（ｉｉ）少なくとも１種の絶縁材料と、
（ｉｉｉ）少なくとも１種の熱硬化性ポリマー、セラマー、または前記ポリマーもしくはセラマーの反応性前駆体と、
を組合せるステップと、
（ｂ）得られた組合せ物を硬化させるステップと、
を含む、帯電防止性組成物の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月12日(2003.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記添加剤部分が、抗酸化剤、紫外線吸収剤、立体障害性アミン光安定剤、ヒドロキシルアミン安定剤、ニトロン安定剤、酸化アミン安定剤、ベンゾフラノン安定剤及び有機燐安定剤部分からなる群から選択される請求項２記載の安定剤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記２つの異なる添加剤部分が、紫外線吸収剤及び立体障害性アミン光安定剤部分である請求項４記載の安定剤。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月30日(2004.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
核剤を含んで成る被験ホモポリマーポリプロピレン配合物に少なくとも125℃のピーク結晶化温度を生じる核剤を含んで成る熱可塑性樹脂物品であって；非核形成被験ホモポリマープロピレンが、密度約0.9g／cc、メルトフロー約12g／10分、ロックウェル硬度（Rスケール）約90、引張強度約4,931psi、降伏点伸び約10％、曲げ弾性率約203ksi、アイゾッド衝撃強度約0.67ft−lb／in、および0.46mPaにおける撓み温度約93℃を示し；該核剤を含んで成る該配合物が、押出され、次に、寸法約51mm x 76mm x 1.27mmのプラックに成形され；該ピーク結晶化温度が、20℃／分の加熱および冷却速度において改変ASTM試験法D3417−99に従って示差走査熱量測定法によって測定され；該核剤が、該核剤を含んで成る該被験ホモポリマーポリプロピレン配合物の配合の間に該被験ホモポリマーポリプロピレン配合物からの認識しうる逸散性を示さない核剤を含んで成る熱可塑性樹脂物品。
【請求項２】
該核剤が二環式化合物である請求項1に記載の熱可塑性樹脂物品。
【請求項３】
該二環式化合物が式（I）：
【化１】
2004531613.tif 000001
［式中、
M1およびM2は、同じかまたは異なり、またはM1およびM2は、一緒になって1つの部分を形成し、独立に、金属または有機カチオンから成る群から選択され；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10は、それぞれ、水素、C1〜C9アルキル、ヒドロキシル、C1〜C9アルコキシ、C1〜C9アルキレンオキシ、アミン、C1〜C9−アルキルアミン、ハロゲン、フェニル、アルキルフェニルおよびジェミナルまたはビシナルな炭素数９以下の炭素環から成る群から選択される］の構造を有する請求項2に記載の熱可塑性樹脂物品。
【請求項４】
該熱可塑性樹脂がポリオレフィンである請求項1に記載の熱可塑性樹脂物品。
【請求項５】
該熱可塑性樹脂がポリオレフィンである請求項2に記載の熱可塑性樹脂物品。
【請求項６】
該熱可塑性樹脂がポリオレフィンである請求項3に記載の熱可塑性樹脂物品。
【請求項７】
該熱可塑性樹脂がポリエステルである請求項1に記載の熱可塑性樹脂物品。
【請求項８】
該物品中の該核剤が、抽出配合物によって示されるピーク紫外線吸光度による抽出水準が波長220〜240nmにおいて最大で0.1、および波長241〜350nmにおいて最大で0.08を示す請求項1に記載の熱可塑性樹脂物品。
【請求項９】
核剤を含んで成る被験ホモポリマーポリプロピレン配合物において、最大で2.0分の結晶化サイクル時間（t1／2）を生じる核剤を含んで成る熱可塑性樹脂物品であって；非核形成被験ホモポリマープロピレンが、密度約0.9g／cc、メルトフロー約12g／10分、ロックウェル硬度（Rスケール）約90、引張強度約4,931psi、降伏点伸び約10％、曲げ弾性率約203ksi、アイゾッド衝撃強度約0.67ft−lb／in、および0.46mPaにおける撓み温度約93℃を示し；該核剤を含んで成る該配合物が、押出され、次に、寸法約51mm x 76mm x 1.27mmのプラックに成形され；該t1／2サイクル時間が、約140℃の一定結晶化温度において示差走査熱量測定法によって測定され；該核剤が、該核剤を含んで成る該被験ホモポリマーポリプロピレン配合物の配合の間に、該ポリプロピレン配合物からの認識しうる逸散性を示さない核剤を含んで成る熱可塑性樹脂物品。
【請求項１０】
該核剤が二環式化合物である請求項9に記載の熱可塑性樹脂物品。
【請求項１１】
該二環式化合物が式（I）：
【化２】
2004531613.tif 000002
［式中、
M1およびM2は、同じかまたは異なり、またはM1およびM2は、一緒になって1つの部分を形成し、独立に、金属または有機カチオンから成る群から選択され；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10は、それぞれ、水素、C1〜C9アルキル、ヒドロキシル、C1〜C9アルコキシ、C1〜C9アルキレンオキシ、アミン、C1〜C9−アルキルアミン、ハロゲン、フェニル、アルキルフェニルおよびジェミナルまたはビシナルな炭素数９以下の炭素環から成る群から選択される］の構造を有する請求項10に記載の熱可塑性樹脂物品。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月1日(2005.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
特にブラインドリベット結合のための締結要素（１）であって、自由端に取付け頭部（４）を含む中空のシャンク（２７）と、閉鎖頭部を形成する変形セグメント（２）と、前記シャンク（２７）の内部に構成され、マンドレル（７）、特にマンドレル（７）の足部（２４）と耐引張り結合を形成するのを助ける結合セグメント（２８）とを有し、前記取付け頭部（４）に対向するシャンク端部（３）に、該シャンク（２７）の最外周に沿って実質的に延びる打ち抜き縁部（６）が設けられたことを特徴とする締結要素（１）。
【請求項２】
自由端に取付け頭部（４）を含む中空のシャンク（２７）と、閉鎖頭部を形成する変形セグメント（２）と、頭部（２３）及び足部（２４）を含む前記シャンク（２７）内部のマンドレル（７）とを有し、前記マンドレルの前記足部（２４）が、前記取付け頭部（４）に対向するシャンク端部（３）に少なくとも引張りに耐えるように接続された、特にブラインドリベット結合のための締結要素（１）であって、該マンドレルの前記シャンク端部（３）又は該足部（２４）が、該シャンク（２７）の最外周に沿って、場合によっては該マンドレルの該足部（２４）の最外周に沿って実質的に延びる打ち抜き縁部（６）を備えることを特徴とする締結要素（１）。
【請求項３】
自由端に取付け頭部（４）を有する中空のシャンク（２７）と、閉鎖頭部を形成する変形セグメント（２）と、前記シャンク（２７）の内部に構成され、マンドレル（７）、特に前記マンドレル（７）の足部（２４）と耐引張り結合を形成するのを助ける結合セグメント（２８）とを含み、前記取付け頭部（４）に対向するシャンク端部（３）に、該シャンク（２７）の最外周に沿って実質的に延びる打ち抜き縁部（６）が設けられた締結要素（１）を取り付ける方法であって、
前記マンドレル（７）を前記締結要素（１）内に導入し、該マンドレル（７）と前記シャンクとの間に耐引張り結合を形成し、
前記締結要素（１）及び前記マンドレル（７）を用いて打ち抜き作業を実行し、部品（８、９）の少なくとも１つに打ち抜き穴（１１）を形成し、
前記シャンク（２７）が前記打ち抜き穴（１１）の中に少なくとも部分的に延びるように、該シャンク（２７）を該打ち抜き穴（１１）の中に導入し、
前記マンドレル（７）に引張りを加え、前記取付け頭部（４）を支持して、前記閉鎖頭部（３０）を形成する、
段階を含むことを特徴とする方法。
【請求項４】
自由端に取付け頭部（４）を有する中空のシャンク（２７）と、閉鎖頭部を形成する変形セグメント（２）と、頭部（２３）と足部（２４）とを含む前記シャンク（２７）内部のマンドレル（７）とを備え、前記マンドレルの前記足部（２４）が、前記取付け頭部（４）に対向する端部（３）に少なくとも引張りに耐えるように接続され、該シャンクの前記端部（３）又は該マンドレルの該足部（２４）が、該シャンク（２７）の最外周に沿って、場合によっては該マンドレルの該足部（２４）の最外周に沿って実質的に延びる打ち抜き縁部（６）を備える、締結要素（１）を取り付ける方法であって、
前記締結要素（１）及び前記マンドレル（７）を用いて打ち抜き作業を実行し、前記部品（８、９）の少なくとも１つに打ち抜き穴（１１）を形成し、
前記シャンク（２７）が前記打ち抜き穴（１１）の中に少なくとも部分的に延びるように、該シャンク（２７）を該打ち抜き穴（１１）の中に導入し、
前記マンドレル（７）に引張りを加え、前記取付け頭部（４）を支持して、前記閉鎖頭部（３０）を形成する、
段階を含むことを特徴とする方法。
【請求項５】
少なくとも１つの部品（８、９）に対するリベット結合であって、請求項３または請求項４のいずれかの特徴を有する方法により形成されたことを特徴とするリベット結合。
【請求項６】
締結要素（１）を前記部品（８、９）の少なくとも１つに取り付け、特に請求項３または請求項４のいずれかによる特徴を有する方法を実行し、好ましくは請求項１または請求項２のいずれかによる特徴を有する締結要素（１）を取り付けるための装置であって、ダイ（１４）と、前記締結要素（１）に切り離し可能に接続できるマンドレル（７）を備えるラム（１２）と、前記加工物（８、９）に前記取付け頭部（４）を保持する保持工具（１３）とを備え、前記ラム（１２）及び前記保持工具（１３）が、所定の方法で互いから独立して前記ダイとの間を移動可能であることを特徴とする装置。
【請求項７】
前記部品（８、９）の少なくとも１つの中に導入されたマンドレル（７）を有する締結要素（１）を取り付け、特に請求項３又は請求項４のいずれかによる特徴を有する方法を実行し、好ましくは請求項１又は請求項２のいずれかによる特徴を有する締結要素（１）を取り付けるための装置であって、ダイ（１４）と、少なくとも１つの部品（８、９）を貫通して前記締結要素（１）を打ち抜くラム（１２）と、前記取付け頭部（４）を前記加工物（８、９）に保持するための保持工具（１３）と、前記マンドレル（７）を引き込むための引張工具（１５）とを有し、前記ラム（１２）及び前記保持工具（１３）が、所定の方法で互いから独立して前記ダイとの間を移動可能であることを特徴とする装置。
【請求項８】
リベット結合の使用であって、付属部品（２２）、特にライン、ホルダ、フェアリング、又はハウジング部品を部品（８、９）に取り付ける、特に解放可能に取り付けるための請求項５又は請求項６の特徴を有することを特徴とするリベット結合。
【請求項９】
締結要素（１）を少なくとも１つの部品（８、９）内に取り付け、特に請求項３または請求項４のいずれかに記載の特徴を有する方法を実行し、好ましくは、特に請求項６又は請求項７のいずれかに記載の特徴を有する装置を用いて、請求項１又は請求項２のいずれかによる特徴を有する締結要素（１）を取り付けるための、様々な直径（Ｄ）を有する打ち抜き開口部（４０）と、
打ち抜き力を吸収する少なくとも２つのセグメント（３４）と、
を有し、
前記セグメント（３４）が、前記締結要素（１）の閉鎖頭部（３０）を収容するように、直径（Ｄ）を広げることができる打ち抜き開口部（４０）を形成し、ダイ受け部（４１）内に移動可能に収容され、少なくとも１つのばね要素（３３）によって互いに保持されることを特徴とするダイ（１４）。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成17年5月2日(2005.5.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１１】
各カム（５、６）に対してそれぞれカムシャフト（３７、３８）を具備する請求項１から１０のいずれかに記載の装置であって、角度オフセット装置を備え、この角度オフセット装置は各カムシャフト（３７、３８）に対する制御ピース（５０、５１）を具備し、前記制御ピースは前記カムシャフト上を摺動し、直線スプライン継手（５２、５３）とネジつき溝（４３、４４）による結合がなされていることを特徴とする前記装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
同様に、閉鎖カム６は、第１の同芯部位Ｋ−Ｂ’（バルブ８が開放状態（カムの小半径Ｒ３）にある間のロッカアーム１のテークオーバゾーン）、第２の偏芯部位Ｂ’−Ｃ（バルブを閉じる動きの因となる）、および、バルブ８をバルブシート１０に保持する（カムの大半径Ｒ４）ことに対応している第３の同芯部位Ｃ−Ｘを具備する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３３】
【図１】本発明の装置の第１実施例を、バルブが閉じた位置で模式的に示しており、
【図２】図１の本装置を、バルブが開いた位置で示しており、
【図３】本発明の装置の第２実施例を、バルブが閉じた位置で示しており、
【図４】図３の本装置を、バルブが開いた位置で示しており、
【図５】図１から図４のカムに対する角度オフセット制御を示しており、
【図６】本発明の装置の第３実施例を、バルブが閉じた位置で示しており、
【図７】図６にある本装置を、バルブが開いた位置で示しており、
【図８】本装置の作動とカムの重なり調整を短時間開放用に模式的に示しており、
【図９】図８のカムの重なり調整を長時間開放用に模式的に示している。
【符号の説明】
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月27日(2003.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
雄形ロータ（９）及び雌形ロータ（１０）が内部に搭載されている圧縮室（８）を境界しているハウジング（７）を備えた圧縮機エレメント（２）であって、該雄形ロータ（９）及び雌形ロータ（１０）は水で潤滑される滑り軸受（１７）によって軸端（１３、１４；１５、１６）においてハウジング（７）内に支承されているものである圧縮機エレメントと、ロータ軸（２２）を備えたロータ（２１）を取り囲んでいるステーター（１９）を内側に担持したハウジング（１８）を有していて、上記圧縮機エレメント（２）を駆動する電気モータ（３）と、圧縮室（８）に接続した圧力導管（４）と、圧力導管（４）において水分離器にもなっている容器（５）と、容器（５）と圧縮室（８）との間の水戻し管（６）とを有した水噴射式スクリュー圧縮機であって、一方のロータ（９）の軸端（１３）が、モータ（３）のロータ軸（２２）に直接結合されるか、又はロータ軸（２２）と一体品を成していて、上記ロータ軸が上記軸端の延長線に配置されていて、また更にモータ（３）のロータ軸（２２）が、少なくとも一つの水潤滑の滑り軸受（２３）によって支承されていることを特徴とする水噴射式スクリュー圧縮機。
【請求項２】
モータ（３）のロータ軸（２２）は、圧縮機エレメント（２）に対して遠い方のその端部において一つの滑り軸受（２３）で支承されていることを特徴とする請求項１に記載の水噴射式スクリュー圧縮機。
【請求項３】
モータ（３）のハウジング（１８）と圧縮機エレメント（２）のハウジング（７）は、統一体を形成するように統合されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の水噴射式スクリュー圧縮機。
【請求項４】
モータ（３）のロータ軸（２２）とそれに接続されている軸端（１３）とによって形成された統一体の周りのハウジング（１８）の内部空間（２０）は、自由端を滑り軸受（１７、２３）に向けているリップシール（３２）によって、ロータ（２１）の両側に配置された滑り軸受（１７、２３）の各々の内側でシールされており、モータ（３）のハウジング（１８）の内部空間（２０）は、少なくとも一本の導管（３４、３５）によって圧力ブロックガス源（４、５）に接続していることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一つに記載の水噴射式スクリュー圧縮機。
【請求項５】
前記圧力ブロックガス源（４、５）は、圧力導管（４）又は容器（５）であり、該圧力導管（４）又は容器（５）とモータ（３）のハウジング（１８）の内部空間（２０）との間に、水分離器（３６）と、好ましくは更に制限器（３７）とが搭載されていることを特徴とする請求項４に記載の水噴射式スクリュー圧縮機。
【請求項６】
モータ（３）のステーター（１９）及びロータ（２１）の巻き線は、例えばシリコン等の電気絶縁材で処理されていることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一つに記載の水噴射式スクリュー圧縮機。
【請求項７】
モータ（３）のハウジング（１８）には、水用の少なくとも一つのドレイン開口（４２）が設けられていることを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれか一つに記載の水噴射式スクリュー圧縮機。
【請求項８】
モータ（３）のロータ軸（２２）の水潤滑の滑り軸受（２３）は、導管（２５）によって水源に接続されていることを特徴とする請求項１から請求項７までのいずれか一つに記載の水噴射式スクリュー圧縮機。
【請求項９】
モータ（３）のロータ軸（２２）の水潤滑の滑り軸受（２３）は、導管（２５）によって水戻し管（６）に、特に水戻し管に在る容器（５）に接続していることを特徴とする請求項８に記載の水噴射式スクリュー圧縮機。
【請求項１０】
ステーター（１９）を冷却するための付加的な冷却手段（６、２７；４０、２７）が設けられていることを特徴とする請求項１から請求項９までのいずれか一つに記載の水噴射式スクリュー圧縮機。
【請求項１１】
ステーター（１９）を冷却するための冷却手段（６、２７；４０、２７）は、モータ（３）のハウジング（１８）を貫通して設けられ且つ水源（４、５；４１）に接続されている少なくとも一つ通路（２７）を有していることを特徴とする請求項１０に記載の水噴射式スクリュー圧縮機。
【請求項１２】
通路（２７）は、水戻し管（６）又は容器（５）に接続されていることを特徴とする請求項１１に記載の水噴射式スクリュー圧縮機。
【請求項１３】
通路（２７）は、外部の冷却水源（４１）に接続されていることを特徴とする請求項１１に記載の水噴射式スクリュー圧縮機。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月28日(2004.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ピストンリング基材を含むピストンリングであって、該ピストンリング基材が耐磨耗性組成物の総容積に基づいて少なくとも50容積％の金属間化合物合金を含み、該金属間化合物合金がNiAlおよびNi3Alのうちの少なくとも1種であることを特徴とする、上記ピストンリング。
【請求項２】
ピストンリング基材が、該ピストンリング基材の総容積に基づいて少なくとも70容積％、より好ましくは90〜100容積％の金属間化合物合金を含む、請求項１に記載のピストンリング。
【請求項３】
ピストンリング基材が、少なくとも1種の金属間化合物合金により形成されている、請求項１または２に記載のピストンリング。
【請求項４】
ピストンリング基材が被膜を備えている、請求項１〜３のいずれか１項に記載のピストンリング。
【請求項５】
ピストンリング基材の被膜が少なくとも1種の金属間化合物合金を含む、請求項４に記載のピストンリング。
【請求項６】
金属間化合物合金がNiAlとNi3Alとの混合物である、請求項１〜５のいずれか１項に記載のピストンリング。
【請求項７】
耐磨耗性複合組成物からなる被膜を備えたピストンリングであって、該耐磨耗性複合組成物が、セラミック化合物と、該耐磨耗性複合組成物の総容積に基づいて少なくとも50容積％の金属間化合物合金とを含み、該金属間化合物合金がNiAlおよびNi3Alのうちの少なくとも1種であることを特徴とする、上記ピストンリング。
【請求項８】
上記組成物が少なくとも1種の金属間化合物合金により形成されたマトリックスを含む、請求項７に記載のピストンリング。
【請求項９】
セラミック化合物がCr3C2である、請求項７または８に記載のピストンリング。
【請求項１０】
セラミック化合物が酸化クロムである、請求項７または８に記載のピストンリング。
【請求項１１】
セラミック化合物がSiCである、請求項７または８に記載のピストンリング。
【請求項１２】
セラミック化合物が酸化アルミニウムである、請求項７または８に記載のピストンリング。
【請求項１３】
耐磨耗性複合組成物が、該耐磨耗性複合組成物の総容積に基づいて好ましくは70〜99容積％の金属間化合物合金を含む、請求項７〜１２のいずれか１項に記載のピストンリング。
【請求項１４】
耐磨耗性複合組成物を含むピストンリングであって、該耐磨耗性複合組成物が、セラミック化合物と、該耐磨耗性複合組成物の総容積に基づいて少なくとも50容積％の金属間化合物合金とを含み、該金属間化合物合金がNiAlおよびNi3Alのうちの少なくとも1種であることを特徴とする、上記ピストンリング。
【請求項１５】
上記組成物が少なくとも1種の金属間化合物合金により形成されたマトリックスを含む、請求項１４に記載のピストンリング。
【請求項１６】
セラミック化合物がCr3C2である、請求項１４または１５に記載のピストンリング。
【請求項１７】
セラミック化合物が酸化クロムである、請求項１４または１５に記載のピストンリング。
【請求項１８】
セラミック化合物がSiCである、請求項１４または１５に記載のピストンリング。
【請求項１９】
セラミック化合物が酸化アルミニウムである、請求項１４または１５に記載のピストンリング。
【請求項２０】
耐磨耗性複合組成物が、該耐磨耗性複合組成物の総容積に基づいて好ましくは70〜99容積％の金属間化合物合金を含む、請求項１４〜１９のいずれか１項に記載のピストンリング。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の好ましい形態によれば、ピストンリング基材は金属間化合物合金であるNiAlおよびNi3Alのうちの少なくとも1種を含む。前記金属間化合物合金の混合物もまた可能である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月5日(2004.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
前記電気回路（２３）が、直列に接続された数個の接点（２４）を含むことを特徴とする請求項１３に記載のシャッター装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月20日(2005.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
米国ノースカロライナ州シャーロットのセルガード（Ｃｅｌｇａｒｄ，Ｉｎｃ．，Ｃｈａｒｌｏｔｔｅ，Ｎ．Ｃ．，Ｕ．Ｓ．Ａ．）より入手可能なリキセル（Ｌｉｑｕｉ−ｃｅｌｌ）脱気装置（中空繊維の外側で液体が流れ、内腔側で減圧される）を取り付けて、約１０日間稼働させた。脱気装置の完全性は非常に良好であった。液のもれ又は流出の兆候は見られなかった。ワンパス効率は、流速４．５ＧＰＭで３７±８％であった。浴中の飽和Ｏ２量に基づいて計算した全システム効率は約７３±５％であった。添加剤の分析から、脱気装置によって添加剤Ｘの消費速度が低下したことが分かった。（Ａ）完全性は２種類の方法で測定される。［１］取り付け前に、脱気装置のシェル側に６０ｐｓｉの水圧をかける。ポッティングされた端部でもれが生じると構造の欠陥があることが分かる。このようなもれが存在しなければ、脱気装置に欠陥がないことが分かる。［２］取り付け後に、気体側のめっき液の存在を目視観察する試験を行う。（Ｂ）全システム効率。酸素除去のシステム効率は、任意の時間における溶存酸素濃度と、試験開始時の初期酸素濃度との比である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月4日(2005.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水性相中でフリーラジカル条件下、少なくとも１種の乳化剤および少なくとも１種の開始剤の存在下で少なくとも１種のフルオロモノマーを乳化重合することを含む、フルオロポリマーの調製方法であって、前記乳化剤が、
（ａ）以下の式：
【化１】
2004531632.tif 000001
［式中、各Ｑが独立してＣＯまたはＳＯ2であり、各Ｒfが独立して過フッ素化アルキル基である］の少なくとも１種のアニオン、および
（ｂ）非妨害性カチオン、を含む方法。
【請求項２】
前記アニオンがビス（ペルフルオロブタンスルホニル）イミドである、請求項１に記載のフルオロポリマーの調製方法。
【請求項３】
前記アニオンが、
【化２】
2004531632.tif 000002
並びにそれらの混合物、からなる群から選択される、請求項１に記載のフルオロポリマーの調製方法。
【請求項４】
前記カチオンが、Ｈ+、ＮＨ4+、Ｈ3Ｏ+、Ｌｉ+、Ｋ+、Ｎａ+、Ｃａ2+、またはＭｇ2+である、請求項１に記載のフルオロポリマーの調製方法。
【請求項５】
前記乳化剤が、ＮＨ4+-Ｎ（ＳＯ2Ｃ4Ｆ9）2、ＮＨ4+-Ｎ（ＳＯ2Ｃ4Ｆ9）（ＣＯＣ4Ｆ9）、ＮＨ4+-Ｎ（ＣＯＣ4Ｆ9）2、ＮＨ4+-Ｎ（ＳＯ2Ｃ2Ｆ5）2、ＮＨ4+-Ｎ（ＳＯ2Ｃ4Ｆ9）（ＣＯＣ3Ｆ7）、ＮＨ4+-Ｎ（ＣＯＣ3Ｆ7）2、ＮＨ4+ -Ｎ（ＳＯ2ＣＦ3）（ＳＯ2Ｃ4Ｆ9）、ＮＨ4+-Ｎ（ＣＯＣ5Ｈ11）（ＳＯ2Ｃ4Ｆ9）、Ｌｉ+-Ｎ（ＳＯ2Ｃ4Ｆ9）2、Ｃａ2+［-Ｎ（ＳＯ2Ｃ4Ｆ9）（ＣＯＣ4Ｆ9）］2、Ｃａ2+［-Ｎ（ＣＯＣ4Ｆ9）2］2、Ｈ3Ｏ+-Ｎ（ＳＯ2Ｃ4Ｆ9）2、またはそれらの混合物である、請求項１に記載のフルオロポリマーの調製方法。