【手続補正書】
【提出日】平成16年9月30日(2004.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空成膜装置の構成部品であって、
部品本体と、
前記部品本体の表面に設けられ、ビッカース硬さがHv30以下のＡｌ系溶射膜、ビッカース硬さがHv100以下のＣｕ系溶射膜、ビッカース硬さがHv200以下のＮｉ系溶射膜、ビッカース硬さがHv300以下のＴｉ系溶射膜、ビッカース硬さがHv300以下のＭｏ系溶射膜およびビッカース硬さがHv500以下のＷ系溶射膜から選ばれる少なくとも1つの低硬度被膜を有する溶射膜と
を具備することを特徴とする真空成膜装置用部品。
【請求項２】
請求項１記載の真空成膜装置用部品において、
前記溶射膜は、成膜材料との熱膨張率の差が15×10-6/K以下の金属材料からなる熱膨張緩和層を有し、前記熱膨張緩和層が前記低硬度被膜からなることを特徴とする真空成膜装置用部品。
【請求項３】
請求項２記載の真空成膜装置用部品において、
前記熱膨張緩和層は、前記部品本体との熱膨張率の差が20×10-6/K以下の前記金属材料からなることを特徴とする真空成膜装置用部品。
【請求項４】
請求項１記載の真空成膜装置用部品において、
前記溶射膜は、異なる材料からなる2層以上の被膜を有し、そのうちの少なくとも1層が前記低硬度被膜からなることを特徴とする真空成膜装置用部品。
【請求項５】
請求項１記載の真空成膜装置用部品において、
前記溶射膜は、前記部品本体上に形成され、軟金属材料からなる応力緩和層と、前記応力緩和層上に形成され、成膜材料との熱膨張率差が15×10-6/K以下の金属材料からなる熱膨張緩和層とを有し、前記応力緩和層および前記熱膨張緩和層の少なくとも一方が前記低硬度被膜からなることを特徴とする真空成膜装置用部品。
【請求項６】
請求項５記載の真空成膜装置用部品において、
前記応力緩和層および熱膨張緩和層はいずれも前記低硬度被膜からなることを特徴とする真空成膜装置用部品。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれか１項記載の真空成膜装置用部品において、
前記溶射膜は、最表面の表面粗さがJIS B 0601-1994で規定する算術平均粗さＲaで5〜15μmの範囲であることを特徴とする真空成膜装置用部品。
【請求項８】
請求項１ないし請求項７のいずれか１項記載の真空成膜装置用部品において、
前記低硬度被膜のビッカース硬さは、前記低硬度被膜の表面を研磨して平坦化し、この平坦化された面に荷重200gでダイヤモンド圧子を30秒間押し付けてビッカース硬さ値を測定し、この測定を5回行った平均値を示すことを特徴とする真空成膜装置用部品。
【請求項９】
請求項１ないし請求項８のいずれか１項記載の真空成膜装置用部品において、
前記溶射膜は50〜500μmの範囲の厚さを有することを特徴とする真空成膜装置用部品。
【請求項１０】
請求項５記載の真空成膜装置用部品において、
前記応力緩和層は100〜300μmの範囲の厚さを有し、かつ前記熱膨張緩和層は50〜150μmの範囲の厚さを有することを特徴とする真空成膜装置用部品。
【請求項１１】
真空容器と、
前記真空容器内に配置される被成膜試料保持部と、
前記真空容器内に前記被成膜試料保持部と対向して配置される成膜源と、
前記成膜源を保持する成膜源保持部と、
前記被成膜試料保持部または前記成膜源保持部の周囲に配置された防着部品とを具備し、
前記被成膜試料保持部、前記成膜源保持部および前記防着部品から選ばれる少なくとも1つが、請求項１ないし請求項１０のいずれか１項記載の真空成膜装置用部品からなることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項１２】
請求項１１記載の真空成膜装置において、
前記真空成膜装置用部品の表面に形成された前記溶射膜は、前記成膜源を構成する少なくとも1種の金属材料を含む被膜を有することを特徴とする真空成膜装置。
【請求項１３】
請求項１１または請求項１２記載の真空成膜装置において、
前記成膜装置はスパッタリング装置であることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項１４】
ターゲット本体と、
前記ターゲット本体の非エロージョン領域に形成され、ビッカース硬さがHv30以下のＡｌ系溶射膜、ビッカース硬さがHv100以下のＣｕ系溶射膜、ビッカース硬さがHv200以下のＮｉ系溶射膜、ビッカース硬さがHv300以下のＴｉ系溶射膜、ビッカース硬さがHv300以下のＭｏ系溶射膜およびビッカース硬さがHv500以下のＷ系溶射膜から選ばれる少なくとも1つの低硬度被膜を有する溶射膜と
を具備することを特徴とするターゲット装置。
【請求項１５】
ターゲットと、
前記ターゲットを保持するバッキングプレート本体と、前記バッキングプレート本体の表面に形成され、ビッカース硬さがHv30以下のＡｌ系溶射膜、ビッカース硬さがHv100以下のＣｕ系溶射膜、ビッカース硬さがHv200以下のＮｉ系溶射膜、ビッカース硬さがHv300以下のＴｉ系溶射膜、ビッカース硬さがHv300以下のＭｏ系溶射膜およびビッカース硬さがHv500以下のＷ系溶射膜から選ばれる少なくとも1つの低硬度被膜を有する溶射膜とを備えるパッキングプレートと
を具備することを特徴とするターゲット装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明の真空成膜装置用部品は、部品本体と、前記部品本体の表面に設けられ、ビッカース硬さがHv30以下のＡｌ系溶射膜、ビッカース硬さがHv100以下のＣｕ系溶射膜、ビッカース硬さがHv200以下のＮｉ系溶射膜、ビッカース硬さがHv300以下のＴｉ系溶射膜、ビッカース硬さがHv300以下のＭｏ系溶射膜およびビッカース硬さがHv500以下のＷ系溶射膜から選ばれる少なくとも1つの低硬度被膜を有する溶射膜とを具備することを特徴とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の真空成膜装置用部品において、溶射膜は成膜材料との熱膨張率の差が15×10-6/K以下の金属材料からなる被膜、また部品本体との熱膨張率の差が20×10-6/K以下の金属材料からなる被膜を有することが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
さらに、本発明による溶射膜は、異なる材料からなる2層以上の被膜を有していてもよい。このような溶射膜の具体的な構成としては、部品本体上に形成された軟金属材料からなる応力緩和層と、応力緩和層上に形成され、成膜材料との熱膨張率の差が15×10-6/K以下の金属材料からなる熱膨張緩和層とを有する構造が挙げられる。本発明においては、応力緩和層および熱膨張緩和層の少なくとも一方を上記した低硬度被膜で構成する。この際、応力緩和層と熱膨張緩和層を共に低硬度被膜で構成することがより好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の真空成膜装置は、真空容器と、前記真空容器内に配置される被成膜試料保持部と、前記真空容器内に前記被成膜試料保持部と対向して配置される成膜源と、前記成膜源を保持する成膜源保持部と、前記被成膜試料保持部または成膜源保持部の周囲に配置された防着部品とを具備する。このような真空成膜装置において、被成膜試料保持部、成膜源保持部および防着部品から選ばれる少なくとも1つは、上記した本発明の真空成膜装置用部品からなることを特徴としている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
これらのターゲット装置において、本発明はビッカース硬さがHv30以下のＡｌ系溶射膜、ビッカース硬さがHv100以下のＣｕ系溶射膜、ビッカース硬さがHv200以下のＮｉ系溶射膜、ビッカース硬さがHv300以下のＴｉ系溶射膜、ビッカース硬さがHv300以下のＭｏ系溶射膜およびビッカース硬さがHv500以下のＷ系溶射膜から選ばれる少なくとも1つの低硬度被膜を有する溶射膜を具備することを特徴としている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本発明においては、真空成膜装置用部品の部品本体の表面、もしくはターゲット装置のターゲットやバッキングプレート上に形成する溶射膜の少なくとも一部として、上述したようなビッカース硬さを有するＡｌ系溶射膜、Ｃｕ系溶射膜、Ｎｉ系溶射膜、Ｔｉ系溶射膜、Ｍｏ系溶射膜、およびＷ系溶射膜から選ばれる少なくとも1つの低硬度被膜を用いている。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
本発明においては、溶射膜の表面粗さに基づく粒子の脱落や付着膜自体の剥離を抑制するために、溶射膜３の表面粗さをJIS B 0601-1994で規定する局部山頂の平均間隔Ｓで50〜150μmの範囲、最大谷深さＲvおよび最大山高さＲpでそれぞれ20〜70μmの範囲とすることが好ましい。このような適度な表面粗さを有する溶射膜３によれば、その上に堆積した付着膜からの粒子の段落、さらには付着膜自体の剥離を安定的に抑制することが可能となる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
上述した溶射膜３は、その表面粗さを局部山頂の平均間隔Ｓで50〜150μmの範囲、最大谷深さＲvおよび最大山高さＲpでそれぞれ20〜70μmの範囲としているため、付着膜からの粒子の脱落、すなわちパーティクルの発生を有効に抑制することが可能となる。さらに、溶射膜３の表面粗さに基づいて、付着膜の剥離を防ぐことができる。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
本発明においては、溶射膜３の内部応力に基づく溶射膜自体の剥離を抑制するために、ビッカース硬さがHv30以下のＡｌ系溶射膜、ビッカース硬さがHv100以下のＣｕ系溶射膜、ビッカース硬さがHv200以下のＮｉ系溶射膜、ビッカース硬さがHv300以下のＴｉ系溶射膜、ビッカース硬さがHv300以下のＭｏ系溶射膜およびビッカース硬さがHv500以下のＷ系溶射膜から選ばれる少なくとも1つの低硬度被膜を溶射膜３に適用している。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
上述した溶射膜３は、内部応力を緩和した低硬度被膜（低硬度の金属溶射膜）を適用しているため、溶射膜３自体の剥離を有効に抑制することが可能となる。さらに、溶射膜３を低硬度化することによって、その上に付着した成膜材料（付着膜）の内部応力も緩和することができる。従って、溶射膜３上の付着膜自体の剥離も抑制することが可能となる。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
本発明の装置構成部品において、溶射膜３の具体的な構成としては、例えば図４や図５に示す構造が挙げられる。図４は成膜材料との熱膨張率の差が15×10-6/K以下の金属材料からなる熱膨張緩和層４のみで構成した溶射膜３を示している。図５は軟金属材料からなる応力緩和層５と、成膜材料との熱膨張率の差が15×10-6/K以下の金属材料からなる熱膨張緩和層４との積層膜で構成した溶射膜３を示している。図５に示す積層型の溶射膜３において、応力緩和層５は熱膨張緩和層４の下地層として設けられており、部品本体２と熱膨張緩和層４との間に介在されている。