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【手続補正書】
【提出日】平成16年10月8日(2004.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  製品を持ち運ぶためのラップアラウンド式製品キャリアであって、
（ａ）  上部板、対向する側部板、および底部板を備え、
（ｂ）  前記底部板は、内部板フラップおよび外部板フラップを有し、該外部板フラップの一部分は、該内部板フラップの一部分と重なり合い、
（ｃ）  前記内部板フラップは、該内部板フラップ内に切り抜かれた開口によって形成された少なくとも１つのロックレッジを有し、
（ｄ）  前記外部板フラップは、該外部板フラップ内に切り抜かれたスリットによって形成された、各ロックレッジに対する少なくとも１つの一次的なロック部を有し、
（ｅ）  前記外部板フラップは、該フラップの延長部として形成される少なくとも１つの二次的な雄型ロック部を有し、
（ｆ）  前記内部板は、前記各二次的な雄型ロック部について少なくとも１つの二次的な雌型開口を有し、該開口は、該雌型開口にフラップを形成するスリットおよび折れ目線によって形成され、該フラップは、前記外側フラップに対して前記二次的な雄型ロック部を垂直位置に保持するのに役立つように前記雌型開口を通って延出した際に、前記二次的な雄型ロック部に傾いて、前記ロックが不慮に外れないようにする、
製品キャリア。
【請求項２】  前記二次的な雌型開口より形成される各フラップは、該雌型開口を形成する前記スリットによって形成される弓状タブを有する、請求項１に記載のキャリア。
【請求項３】  前記二次的な雌型開口にフラップを形成する前記スリットは、前記内側フラップの端と略平行、かつ前記雌型開口のフラップを前記底部板フラップに連結させる折れ目線よりも前記内側フラップの端に近い、請求項１に記載のキャリア。
【請求項４】  各製品はヒールを有し、前記キャリアは、製品ヒールを保持するためにヒール保持アセンブリをさらに備える、請求項１に記載のキャリア。
【請求項５】  前記各ヒール保持アセンブリは、折れ目線によって前記キャリアの側部板に取り付けられた一組のヒールの扉を備える、請求項４に記載のキャリア。
【請求項６】  間隔を置いて配置された２つの一次的な雄型ロック部、間隔を置いて配置された２つのロックレッジ、間隔を置いて配置された３つの二次的な雄型ロック部、および間隔を置いて配置された３つの二次的な雌型開口がある、請求項１に記載のキャリア。
【請求項７】  間隔を置いて配置された２つの一次的な雄型ロック部、間隔を置いて配置された２つのロックレッジ、間隔を置いて配置された３つの二次的な雄型ロック部、および間隔を置いて配置された３つの二次的な雌型開口がある、請求項５に記載のキャリア。
【請求項８】  製品キャリアにおける底部板であって、
（ａ）  内部板フラップおよび外部板フラップを備え、該外部板フラップの一部分は、該内部板フラップの一部分と重なり合い、
（ｂ）  前記内部板フラップは、該内部板フラップ内に切り抜かれた開口により形成される少なくとも１つのロックレッジを有し、
（ｃ）  前記外部板フラップは、該外部板フラップ内に切り抜かれたスリットにより形成された各ロックレッジについて少なくとも１つの一次的なロック部を有し、
（ｄ）  前記外部板フラップは、該フラップの延長部として形成される少なくとも１つの二次的な雄型ロック部を有し、
（ｅ）  前記内部板は、前記各二次的な雄型ロック部について少なくとも１つの二次的な雌型開口を有し、前記開口は、該雌型開口にフラップを形成するスリットおよび折れ目線によって形成され、該フラップは、前記外部フラップに対して前記二次的な雄型ロック部を垂直位置に保持するのに役立つように前記雌型開口を通って延出した際に、前記二次的な雄型ロック部に傾いて、前記ロックが不慮に外れないようにする、
底部板。
【請求項９】  前記二次的な雌型開口から形成される各フラップは、該雌型開口を形成する前記スリットによって形成される弓状タブを有する、請求項８に記載の底部板。
【請求項１０】  前記二次的な雌型開口にフラップを形成する前記スリットは、前記内部フラップの端と略平行、かつ前記雌型開口のフラップを前記底部板フラップに連接させる折れ目線よりも前記内側フラップの端に近い、請求項８に記載の底部板。
【請求項１１】  間隔を置いて配置された２つの一次的な雄型ロック部、間隔を置いて配置された２つのロックレッジ、間隔を置いて配置された３つの二次的な雄型ロック部、および間隔を置いて配置された３つの二次的な雄型開口がある、請求項８に記載の底部板。
【請求項１２】  略矩形のシートを備えたラップアラウンド式キャリアを形成するブランクであって、該シートは、
（ａ）  前記シートの一方の端に、内部板フラップの開口した切れ目部によって形成される少なくとも１つのロックレッジを有し、かつ各二次的な雄型ロック部について少なくとも１つの二次的な雌型開口を有する内部板フラップであって、該開口は、前記雌型開口のフラップを形成するスリットおよび折れ目線によって形成される、内部板フラップと、
（ｂ）  この順序で前記内部板に折り畳み可能に連結された側部板、上部板、および対向する側部と、
（ｃ）  前記対向する側部板に折り畳み可能に連結し、前記内部板フラップの各ロックレッジについて少なくとも１つの一次的なロック部を有する外部板フラップであって、該一次的なロック部は、前記外部板フラップのスリット切れ目部によって形成され、前記外部板フラップは、フラップの延長部として形成された少なくとも１つの二次的な雄型ロック部を有する、外部板フラップと、
を備えるブランク。
【請求項１３】  間隔を置いて配置された２つの一次的な雄型ロック部、間隔を置いて配置された２つのロックレッジ、間隔を置いて配置された３つの二次的な雄型ロック部、および間隔を置いて配置された３つの二次的な雌型開口を有する、請求項１２に記載のキャリア。
【請求項１４】  前記二次的な雌型開口より形成される各フラップは、該雌型開口を形成するスリットによって形成される弓状タブを有する、請求項１２に記載のブランク。
【請求項１５】  前記二次的な雌型開口にフラップを形成する前記スリットは、前記内部フラップの端と略平行、かつ前記雌型開口のフラップを前記底部板フラップに連接させる折れ目線よりも前記内側フラップの端に近い、請求項１２に記載のブランク。
【請求項１６】  ヒール保持アセンブリをさらに備えて、ラップアラウンド式製品キャリア内に該ヒール保持アセンブリが形成された際に該ブランクに収容される製品のヒールを保持する、請求項１２に記載のブランク。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月4日(2003.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
食品生ごみを受け入れる入口と、
前記食品生ごみを粉砕するために回転可能なシャフトに連結された粉砕板と、
前記シャフトを駆動操作可能なスイッチトリラクタンスモータと
を具備する、食品生ごみ処理機。
【請求項２】
前記スイッチトリラクタンスモータは、その中に配置された複数の固定子磁極を有する固定子を含み、前記固定子磁極は各々第１の金属箔層からなる巻線を備えている、請求項１に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項３】
前記スイッチトリラクタンスモータは、中心軸を有する固定子を含み、且つ前記中心軸に沿うコアを定義する巻線をさらに含む、請求項１に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項４】
前記コア内に、シャフトが配置された、請求項３に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項５】
前記スイッチトリラクタンスモータは、前記シャフトに連結された回転子をさらに具備し、且つ前記回転子は、複数の回転子磁極を備える、請求項４に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項６】
前記回転子磁極は、前記中心軸から放射状に且つ前記巻線上に延び、そして前記回転子磁極は、前記巻線からエアギャップにより間隔が空けられている、請求項５に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項７】
前記巻線は、前記中心軸に平行な軸の周りに巻装されている、請求項６に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項８】
前記粉砕板は、前記回転子に機械的に結合されている、請求項５に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項９】
食品生ごみを受け入れる入口と、
モータであって、
中心軸を有し且つ巻線を含む回転子、および
前記中心軸から放射状に且つ前記巻線上に延びる回転子磁極であり、該回転子磁極は、前記巻線からエアギャップにより間隔が空けられている回転子磁極を有する固定子、を備えるモータと、
前記食品生ごみを粉砕するために前記回転子に連結された粉砕板と、を具備する食品生ごみ処理機。
【請求項１０】
前記巻線は、前記中心軸に沿うコアを定義する、請求項９に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項１１】
前記回転子は、前記コア内に配置されたシャフトに連結された、請求項１０に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項１２】
前記巻線は、第１の金属箔層からなる、請求項７または９に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項１３】
食品生ごみを受け入れる入口と、
前記食品生ごみを粉砕するために回転可能なシャフトに連結された粉砕板と、
前記シャフトを駆動操作可能なモータであって、該モータは、複数の固定子磁極を有する固定子を有し、且つ前記固定子磁極は、各々、第１の金属箔層からなる巻線を備える、モータと
を具備する食品生ごみ処理機。
【請求項１４】
固定子は中心軸を有し、且つ前記巻線は、前記中心軸に沿うコアを定義する、請求項１３に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項１５】
前記シャフトは、前記コア内に配置された、請求項１４に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項１６】
前記巻線は、前記中心軸に平行な軸の周りに巻装されている、請求項９または１４に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項１７】
前記モータは、前記シャフトに連結された回転子をさらに具備し、且つ前記回転子は、複数の回転子磁極を具備する、請求項１３に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項１８】
前記固定子は、中心軸を有し、且つ前記巻線は、前記中心軸に沿うコアを定義する、請求項１７に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項１９】
前記回転子磁極は、前記中心軸から放射状に且つ前記巻線上に延び、そして前記回転子磁極は、前記巻線からエアギャップにより間隔が空けられている、請求項１７に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項２０】
前記粉砕板は、前記回転子に結合されている、請求項１９に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項２１】
前記第１の金属箔層は、両側において絶縁されている、請求項２、請求項１２および、請求項１３のいずれか一項に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項２２】
前記第１の金属箔層に連結されているが、該第１の金属箔層から絶縁されている第２の金属箔層をさらに含む、請求項２、請求項１２および、請求項１３のいずれか一項に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項２３】
前記固定子は、前記巻線を支持する形状を有する基板をさらに具備する、請求項２、請求項１２および、請求項１３のいずれか一項に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項２４】
前記回転子は、前記コア内に包含されていない、請求項５または１７に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項２５】
前記固定子は、シールにより保護されている、請求項８、請求項９および、請求項１３のいずれか一項に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項２６】
前記シールは、前記巻線を被覆するプラスティックを備える、請求項２５に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項２７】
前記巻線を選択的に付勢するための制御回路をさらに具備する、請求項２、請求項９および、請求項１３のいずれか一項に記載の食品生ごみ処理機。
【請求項２８】
前記モータは、スイッチトリラクタンスモータである、請求項９または１３に記載の食品生ごみ処理機。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月4日(2003.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁ゲートバイポーラスイッチであって、
Ｐ層（１０２）と、
前記Ｐ層と接し、コレクタ接続をこのスイッチに提供する第１電極（１０４）と、
前記コレクタと対向する、前記Ｐ層の上のＮ−ドリフト層（１００）と、
前記Ｎ−ドリフト層内に凹んだ複数のゲート（１１６）であって、それぞれがトレンチ構成に配置されており、
前記トレンチの側壁及び底部を形成する酸化物層（１２０、１２２）と、
前記トレンチの中にあり、前記トレンチの上部に印加された電圧を前記酸化物層に伝える導電材料（１２４）と、
を備えている複数のゲート（１１６）と、
前記トレンチそれぞれの中の前記導電材料と接し、ゲート接続をこのスイッチに提供する第２電極（１２６）と、
それぞれが上面にわたる酸化物層を有しており、前記トレンチゲートのそれぞれの対の間に挟まれた複数のフローティングメサ（１１８）と、
少なくとも１つのＩＧＢＴ構造（１０５）であって、それぞれが、
前記Ｎ−ドリフト層上のＰベース領域（１０６）と、
オーミックコンタクトを前記Ｐベース領域に提供する、前記Ｐベース領域上のＰ＋領域（１１０）と、
前記Ｐベース領域の一部と接するＮ＋領域（１０８）であって、前記Ｐベース領域と前記Ｐ＋領域とこのＮ＋領域とは、１対の前記トレンチゲートの間に挟まれて導電メサを形成しており、前記Ｐベース領域及びこのＮ＋領域は、前記導電メサに隣接する前記トレンチゲートの少なくとも１つと接するように構成されている、Ｎ＋領域（１０８）と、
を備えている少なくとも１つのＩＧＢＴ構造（１０５）と、
前記少なくとも１つのＩＧＢＴ構造のそれぞれのＰ＋オーミックコンタクトとＮ＋領域とに接し、エミッタ接続をこのスイッチに提供する第３電極（１１２）と、
を備えており、前記導電メサはそれぞれが、前記導電メサに隣接するトレンチゲートの間の距離によって画定された幅を有し、前記フローティングメサのそれぞれの幅は前記導電メサの幅とは異なり、
前記エミッタ接続に関して正である電圧を前記ゲート接続に印加すると、前記Ｐベース領域にわたる反転チャネル（１５０）と前記Ｎ−ドリフト層にあり前記トレンチゲート底部に隣接する蓄積チャネル（１５２）とが形成され、前記コレクタと前記エミッタとの間の電圧が十分に高いときには、前記反転チャネルは、前記Ｎ＋領域から前記Ｎ−ドリフト層内に電子を注入してこのスイッチをオンにすることを可能にする導電性経路を、前記Ｎ＋領域と前記Ｎ−ドリフト層との間に提供し、よって電流が前記ＩＧＢＴ構造を介して前記コレクタ接続と前記エミッタ接続との間に流れることが可能になり、ゼロ又は負のゲート電圧が前記反転チャネルを排除し、このスイッチを介する導通を終了させるように構成されていることを特徴とする絶縁ゲートバイポーラスイッチ。
【請求項２】
請求項１記載の絶縁ゲートバイポーラスイッチにおいて、前記フローティングメサのそれぞれの幅は約１〜２μｍであることを特徴とする絶縁ゲートバイポーラスイッチ。
【請求項３】
請求項１記載の絶縁ゲートバイポーラスイッチにおいて、前記ＩＧＢＴ構造を複数備えており、前記ＩＧＢＴ構造のそれぞれの対は、前記フローティングメサと交互になっている前記トレンチゲートを備えている構造のパターンによって分離されていることを特徴とする絶縁ゲートバイポーラスイッチ。
【請求項４】
請求項３記載の絶縁ゲートバイポーラスイッチにおいて、前記パターンは８ないし１０の前記フローティングメサを備えていることを特徴とする絶縁ゲートバイポーラスイッチ。
【請求項５】
請求項３記載の絶縁ゲートバイポーラスイッチにおいて、前記導電メサのそれぞれの幅は前記構造のパターンの幅よりも狭いことを特徴とする絶縁ゲートバイポーラスイッチ。
【請求項６】
請求項３記載の絶縁ゲートバイポーラスイッチにおいて、前記導電メサのそれぞれは約２４μｍであり、前記トレンチゲートのそれぞれは約１〜３μｍの幅であり、前記フローティングメサのそれぞれは約１〜２μｍの幅であることを特徴とする絶縁ゲートバイポーラスイッチ。
【請求項７】
請求項１記載の絶縁ゲートバイポーラスイッチにおいて、前記Ｐベース領域のそれぞれは一様な深度を有し、前記トレンチゲートのそれぞれの深度は前記Ｐベース領域の一様な深度にほぼ等しいことを特徴とする絶縁ゲートバイポーラスイッチ。
【請求項８】
請求項７記載の絶縁ゲートバイポーラスイッチにおいて、前記トレンチゲートの底部は前記Ｐベース領域の一様な深度の０．２μｍ以内にあり、前記Ｐベース領域はそれぞれの導電メサに制限されることを特徴とする絶縁ゲートバイポーラスイッチ。
【請求項９】
請求項１記載の絶縁ゲートバイポーラスイッチにおいて、前記フローティングメサはそれぞれの一様な幅を有し、前記導電メサはそれぞれの一様な幅を有し、前記導電メサの一様な幅が前記フローティングメサの一様な幅より大きいことを特徴とする絶縁ゲートバイポーラスイッチ。
【請求項１０】
請求項１記載の絶縁ゲートバイポーラスイッチにおいて、前記フローティングメサは、最も近いＩＧＢＴ構造からの距離が増大するにつれて次第に狭くなる変動幅を有することを特徴とする絶縁ゲートバイポーラスイッチ。
【請求項１１】
請求項１記載の絶縁ゲートバイポーラスイッチにおいて、前記導電材料は、ドナーが大量にドープされたポリシリコンであることを特徴とする絶縁ゲートバイポーラスイッチ。
【請求項１２】
請求項１記載の絶縁ゲートバイポーラスイッチにおいて、前記Ｎ−ドリフト層はバルク基板材料であり、前記Ｐ層は前記Ｎ−ドリフト層の背面内に埋め込まれている又は拡散されていることを特徴とする絶縁ゲートバイポーラスイッチ。
【請求項１３】
請求項１記載の絶縁ゲートバイポーラスイッチにおいて、前記Ｐ層はバルク基板材料であり、前記Ｎ−ドリフト層は前記Ｐ層の上に成長したエピタキシャル層であることを特徴とする絶縁ゲートバイポーラスイッチ。
【請求項１４】
請求項１記載の絶縁ゲートバイポーラスイッチにおいて、前記トレンチゲートの底部のコーナは、逆バイアス誘導電場の影響を受けるときに、破壊の受けやすさを低減するように丸められていることを特徴とする絶縁ゲートバイポーラスイッチ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月1日(2004.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４９】  前記所定の流量プロファイルは、約０．５ｃｍ／ｓから約１ｃｍ／ｓの前記Ｎ2Ｏの流速をもたらすこと、を特徴とする請求項３７に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
図２Ｂにさらに示したように、Ｎ2Ｏ酸化の後に、不活性ガスたとえばアルゴンまたはＮ2の中で随意アニールを行ってもよい（ブロック６４’）。随意的に、アニールを水素含有環境、たとえばＨ2、またはＨ2に１種または複数種の不活性ガス（アルゴンおよび／またはＮ2またはこれらの組合せなど）を組み合わせたものの中で行ってもよい。このようなアニールはおよそ１時間まで行ってもよいが、約３時間までまたはそれ以上のアニールを行ってもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
図１２に示すように、Ｎ2Ｏプロセシングの温度は重要であり得る。熱酸化物を示す太い実線を、同じ酸化物を１１００℃のＮ2Ｏアニールにさらしたデータと比較することで分かるように、温度が低いところでは（１１００℃）、既存の酸化物をＮ2Ｏにさらすことによって界面準位密度が増加する。１２００℃では、熱酸化物はＮ2Ｏアニールによって著しく改善される。黒丸を白丸データと比較することで分かるように、ウエットな雰囲気の中で処理された熱酸化物であれば、１２００℃のＮ2Ｏアニールによってさらに改善することができる。１３００℃のＮ2Ｏプロセスを用いることで、さらに改善された結果が得られた。この温度ではＳｉＣの酸化が著しい。そのため、Ｎ2Ｏ中での既存の酸化物のアニーリングに加えて、ある程度の酸化物がＮ2Ｏ雰囲気の中で成長した（３時間で５００Åが成長した）。酸化物をＮ2Ｏ中で成長させることによって酸化物ステップが省かれることにより、Ｎ2Ｏ中での既存の酸化物のアニーリングと比べて約９時間のプロセシング時間を節約できる。酸化物をＮ2Ｏプロセシングの前に成長させたかＮ2Ｏ中で成長させたかに関係なく、実質的に同じ結果が得られた。
【手続補正書】
【提出日】平成15年4月8日(2003.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
干渉放射線に対して遮蔽物で遮蔽された印刷回路を備え、少なくとも１つの電子的構成要素を有する基板の製造方法であって、
ｅ）前記印刷回路（１２）を備えた前記基板（１１）上の前記少なくとも１つの電子的構成要素（１４）用の接触点（１５）に、および、遮蔽物（２０）用のアース（１３）に流動性導電性固着剤（１６）を塗布するステップと、
ｆ）前記印刷回路（１２）を備えた前記基板（１１）に関して前記接触点（１５）上に前記少なくとも１つの電子的構成要素（１４）を位置決めするステップと、
ｇ）前記印刷回路（１２）を備えた前記基板（１１）の前記アース上で前記少なくとも１つの電子的構成要素（１４）の頂部を覆う、事前形成された金属化プラスチックフィルム（３０）を含む遮蔽物（２０）を位置決めするステップと、
ｈ）前記流動性導電性固着剤（１６）の流動点を越えて温度を上昇させることにより、前記接触点（１５）上に前記少なくとも１つの電子的構成要素（１４）を、かつ前記アース上に前記遮蔽物（２０）を同時に固着するステップとを含む方法。
【請求項２】
前記遮蔽物（２０）が、実質的に箱型の要素（２２）を含み、その側壁（２６）には前記基板（１１）の主表面に平行に延在する固着用縁部（２８）が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ステップｂ）およびｃ）が、いわゆるピックアンドプレースデバイスを使用して行われることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記ステップｂ）およびｃ）が、同じピックアンドプレースデバイスを使用して行われることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記金属化プラスチックフィルム（３０）のプラスチック（３４）が、ポリイミド、ＰＣ、ＰＥＥＫ、ＰＥＳ、ポリアミドなど、または、これらの混合物などの耐温度性材料から選択され、好ましくはポリイミドであることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記金属化プラスチックフィルム（３０）の金属（３２）が、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｐｂ、これらの合金、および、混合物から選択されることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記金属（３２）が、スズ、鉛、または、これらの合金を含むことを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
干渉放射線に対して遮蔽された印刷回路を備え、少なくとも１つの電子的構成要素を有する基板の製造方法であって、
ｄ）前記印刷回路（１２）を備えた前記基板（１１）に関して接触点（１５）上に前記少なくとも１つの電子的構成要素（１４）を位置決めし、かつ固着するステップと、
ｅ）前記印刷回路（１２）を備えた前記基板（１１）の前記アース（１３）上に、前記電子的構成要素（１４）の頂部を覆う、事前形成された金属化プラスチックフィルム（３０）を含む遮蔽物（２０）を位置決めするステップであって、前記遮蔽物（２０）が実質的に箱型の要素（２２）であり、その側壁（２６）には前記基板（１１）の主表面と平行に延在する固着用縁部（２８）が設けられ、前記固着用縁部（２８）には貫通孔（２９）が設けられるステップと、
ｆ）固着剤を使用して、前記印刷回路を備えた前記基板（１１）のアース上に遮蔽物（２０）を固着するステップとを含む方法。
【請求項９】
前記固着剤が片面接着テープ（３１）であることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記ステップａ）およびｂ）が、いわゆるピックアンドプレースデバイスを使用して行われることを特徴とする請求項８または９に記載の方法。
【請求項１１】
前記金属化プラスチックフィルム（３０）のプラスチック（３４）が、ポリイミド、ＰＣ、ＰＥＥＫ、ＰＥＳ、ポリアミドなど、または、これらの混合物などの耐温度性材料から選択され、好ましくはポリイミドであることを特徴とする請求項８から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記金属化プラスチックフィルム（３０）の金属（３２）が、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｐｂ、これらの合金、および、混合物から選択されることを特徴とする請求項８から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記金属（３２）が、スズ、鉛、または、これらの合金を含むことを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月1日(2003.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を透す領域を含む研磨パッドであって、該光を透す領域がマトリックスポリマーと充填材を含んでおり、該マトリックスポリマーは該充填材がなければ実質的に不透明であり、該充填材と組み合わせられると光を透す、光を透す領域を含む研磨パッド。
【請求項２】
該マトリックスポリマーが孔を含む請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項３】
該マトリックスポリマーがポリウレタンである請求項２に記載の研磨パッド。
【請求項４】
該充填材が該マトリックスポリマーとほぼ同じ屈折率を有する請求項３に記載の研磨パッド。
【請求項５】
該充填材が有機化合物を含む請求項３に記載の研磨パッド。
【請求項６】
該充填材が、エポキシ樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、光硬化性樹脂、及びそれらの混合物からなる群から選択される請求項３に記載の研磨パッド。
【請求項７】
該充填材が、ポリエステル、スチレン、アクリル樹脂、アクリレート、メタクリレート、ポリカーボネート、エチルシアノアクリレート、及びそれらの混合物からなる群から選択される請求項３に記載の研磨パッド。
【請求項８】
該充填材がポリエステルである請求項７に記載の研磨パッド。
【請求項９】
該充填材が該光を透す領域の一部の孔だけを占有する請求項２に記載の研磨パッド。
【請求項１０】
該光を透す領域が固有の表面組織を有する請求項９に記載の研磨パッド。
【請求項１１】
該充填材が該光を透す領域の実質的に全部の孔を占有する請求項２に記載の研磨パッド。
【請求項１２】
実質的に不透明な領域をさらに含む請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項１３】
該実質的に不透明な領域が多孔質である請求項１２に記載の研磨パッド。
【請求項１４】
該実質的に不透明な領域が固有の表面組織を有する請求項１３に記載の研磨パッド。
【請求項１５】
該実質的に不透明な領域及び該光を透す領域が連続のマトリックスポリマーを含む請求項１２に記載の研磨パッド。
【請求項１６】
該パッドが表面を含み、該パッドの該表面の少なくとも一部が外因的に作られた表面組織を含む請求項１５に記載の研磨パッド。
【請求項１７】
該光を透す領域が１９０〜３５００ｎｍの波長を有する光に対して透光性である請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項１８】
光を透す領域を含む研磨パッドを製造する方法であって、
（ａ）多孔質のマトリックスポリマーを用意すること、
（ｂ）該マトリックスポリマーの領域の少なくとも一部の孔に充填材を充填して光を透す領域を設けること、及び
（ｃ）該光を透す領域を含む研磨パッドを形成すること、
を含み、該マトリックスポリマーは該充填材がなければ実質的に不透明であり、該充填材と一緒にされると透光性になる、研磨パッド製造方法。
【請求項１９】
該マトリックスポリマーがポリウレタンである請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
該充填材が該マトリックスポリマーとほぼ同じ屈折率を有する請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
該充填材が有機化合物を含む請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
該充填材が、エポキシ樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、光硬化性樹脂、及びそれらの混合物からなる群から選択される請求項１９に記載の方法。
【請求項２３】
該充填材が、ポリエステル、スチレン、アクリル樹脂、アクリレート、メタクリレート、ポリカーボネート、エチルシアノアクリレート、ウレタン、及びそれらの混合物からなる群から選択される請求項１９に記載の方法。
【請求項２４】
該充填材がポリエステルである請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
該マトリックスポリマーの領域の一部の孔だけを充填して該光を透す領域とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２６】
該光を透す領域が固有の表面組織を含む請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
該マトリックスポリマーの領域の実質的に全部の孔を充填して該光を透す領域とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２８】
該研磨パッドが実質的に不透明な領域を含む請求項１８に記載の方法。
【請求項２９】
該実質的に不透明な領域が多孔質である請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
該実質的に不透明な領域が固有の表面組織を含む請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
該研磨パッドの少なくとも一部に外因的に作られた表面組織を設けることをさらに含む請求項１８に記載の方法。
【請求項３２】
該光を透す領域が１９０〜３５００ｎｍの波長を有する光に対して透光性である請求項１８に記載の方法。
【請求項３３】
請求項１に記載の研磨パッドの使用を含む基材の研磨方法。
【請求項３４】
該基材が半導体デバイスである請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】
該研磨パッドの該光を透す領域を通して光を通過させることをさらに含む請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】
該光がレーザー光である請求項３５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月4日(2003.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のアドレシング可能なピクセルを備えている光検出器アレイであって、それぞれのピクセルは、
少なくとも２つのフォトダイオード（ＰＤ１、ＰＤ２）と、
能動半導体スイッチング・デバイス（Ｑ１、Ｑ２）を含んでおり第１の回路と第２の回路との間で前記フォトダイオードの少なくとも１つの切り換えを可能にするスイッチング回路（Ｓ１、Ｓ２）と、
を備えており、前記第１の回路は前記少なくとも２つのフォトダイオードを並列に接続し、前記第２の回路は前記フォトダイオードの少なくとも一方をこのアレイにおける隣接ピクセルのフォトダイオードと並列に接続し、よって、このアレイが、高解像度ピクセル構成と低解像度ピクセル構成との間で切り換え可能となることを特徴とする光検出器アレイ。
【請求項２】
請求項１記載の光検出器アレイにおいて、前記第１の回路は前記少なくとも２つのフォトダイオードの出力を並列に直接的に組み合わせ、前記第２の回路は前記フォトダイオードの少なくとも一方の出力をこのアレイの隣接ピクセルのフォトダイオードの出力と直接に組み合わせ、この光検出器アレイは、更に、
前記ピクセルの固有のキャパシタンスに蓄積された前記組み合わされたフォトダイオードの出力がアドレス入力に応答して読み出されることを可能にするアドレシング回路を備えていることを特徴とする光検出器アレイ。
【請求項３】
請求項１記載の光検出器アレイにおいて、前記スイッチング・デバイスは電界効果トランジスタであることを特徴とする光検出器アレイ。
【請求項４】
請求項１記載の光検出器アレイにおいて、前記少なくとも２つのフォトダイオードは２つのフォトダイオードから成ることを特徴とする光検出器アレイ。
【請求項５】
請求項１記載の光検出器アレイにおいて、前記スイッチング回路を制御するため前記スイッチング回路に結合された制御線を更に備え、
前記制御線はポリシリコン層（６２）において製造されていることを特徴とする光検出器アレイ。
【請求項６】
請求項５記載の光検出器アレイにおいて、前記制御線は、当該制御線から電気的に絶縁されている金属化層（６０）の下に配設されていることを特徴とする光検出器アレイ。
【請求項７】
選択可能な解像度を有する光検出器アレイであって、
複数の光検出器（ＰＤ１、ＰＤ２）と、
複数の光検出器の出力をそれぞれのピクセルにおいて直接に加算して合計ピクセル出力を生じさせることにより前記光検出器の中の隣接するものを能動ピクセル（３０、３２）に構成するスイッチング回路であって、それぞれのピクセルにおいて加算された前記光検出器出力は共通のピクセル・ノードに切り換え可能な態様で接続されるように構成され、前記合計ピクセル出力は読み出される前に前記ピクセルの固有のキャパシタンスに蓄積される、スイッチング回路（Ｓ１、Ｓ２）と、
を備えており、前記スイッチング回路は、異なる解像度を有する少なくとも２つの異なる選択可能なピクセル化方式に従って前記光検出器信号を合計するように電子的に切り換え可能であり、前記スイッチング回路は、少なくとも２つの異なる電子的に選択可能な構成である各ピクセル出力が２つの隣接フォトダイオードの和である第１の構成と各ピクセル出力が少なくとも３つのフォトダイオードの和である第２の構成とに従って光検出器信号を組み合わせ、この光検出器アレイは、更に、
それぞれが、前記ピクセルの中の対応する１つに蓄積されている合計ピクセル出力がアドレス入力に応答して読み出されることを可能にする複数のアドレシング可能なインターフェース回路を備えていることを特徴とする光検出器アレイ。
【請求項８】
請求項７記載の光検出器アレイにおいて、前記スイッチング回路に結合されており前記スイッチング回路を制御する制御入力（ＶＳ１、ＶＳ２）を更に備えており、
前記制御入力はポリシリコン分岐を含むことを特徴とする光検出器アレイ。
【請求項９】
請求項８記載の光検出器アレイにおいて、前記ポリシリコン分岐は、前記制御入力から電気的に絶縁されている金属化層（６０）の下に配設されていることを特徴とする光検出器アレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月4日(2004.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  基準入力端子と、スキュー入力端子と、出力端子と、周波数調節出力端子とを有するデジタルクロックマネージャであって、
前記基準入力端子と、前記スキュー入力端子と、前記出力端子とに結合される遅延ロックループ（ＤＬＬ）と、
可変発振器を有し、かつ前記遅延ロックループと前記周波数調節出力端子とに結合される、デジタル周波数合成器とを含む、デジタルクロックマネージャ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月30日(2004.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  代謝生成物を蓄積又は分解する細胞の能力をモジュレートする試薬についてスクリーニングする方法であって：
ｉ）  ペプチド結合サイト及びエフェクター遺伝子を符号化する核酸；
前記代謝生成物又は前記代謝生成物に結合するリガンドに結合する前記ペプチド結合サイトを結合させる核酸結合ドメインを含む第一キメラタンパク質；
第一キメラタンパク質が代謝生成物を含む場合に第二キメラタンパク質がリガンドを含みかつ第一キメラタンパク質がリガンドを含む場合に第二キメラタンパク質が代謝生成物を含むように、代謝生成物に若しくは代謝生成物に結合するリガンドに対して結合する発現コントロールタンパク質を含む第二キメラタンパク質；
を含む哺乳動物細胞を提供し、
ｉｉ）  試験試薬と前記細胞を接触させ；そして
ｉｉｉ）  前記エフェクター遺伝子の発現の変化を検出する、ここで前記試験細胞中の前記エフェクターの発現における差異は、低濃度の試験試薬と接触し若しくは試験試薬と接触しないコントロール細胞との比較で、前記試験試薬が前記代謝生成物を蓄積又は分解する細胞の能力をモジュレートすることを示す、
ことを含む該方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月28日(2004.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）第１端、第２端、および該第１端と第２端の間に伸びる側壁をもつ筐体、ここで、該第１端、第２端および側壁は実質的に筐体の内側部を形成し、第１端、第２端および側壁の少なくとも１つが筐体の内側部に対して節足動物が出入りするのに適当な少なくとも１つの開口部を有する、および、（ｂ）筐体内に配置された少なくとも２つの部材からなり、ここで、
該部材の各々が第１端、第２端、および該第１端と第２端の間に伸びる側壁をもち、
該部材の各々が、その側壁が実質的に互いに平行でかつ筐体の側壁にも平行であるように筐体内に配置されており、そして
該部材の少なくとも１つが節足動物によって消費されうる物質、節足動物によって通り抜けられうる物質、節足動物によって運ばれうる物質あるいは節足動物を殺すことのできる物質からなることを特徴とする節足動物監視基地。
【請求項２】  該筐体の内側部が、節足動物によって消費されうる物質、節足動物が通り抜けうる物質、節足動物によって運ばれうる物質、あるいは節足動物を殺すことのできる物質を含む請求項１の基地。
【請求項３】  該筐体の内側部が節足動物によって消費され、通り抜けられ、あるいは運ばれることのできる物質の一体物を含み、
該物質が該部材の少なくとも１つを支えるため、該部材間および該筐体を該部材の少なくとも１つの間に置かれる請求項１の基地。
【請求項４】  さらに、該筐体内に置かれる少なくとも１つの追加部材を有する請求項１の基地。
【請求項５】  さらに、該筐体の端の１つ近くに該筐体を囲むカラー部材を有し、該カラー部材が、第１面、該第１面と対向する第２面、および第１面と第２面の間の外端、および第１面近くで押え込み域を区画する、外端の少なくとも一部に沿って第１面から突き出す押え込みリッジをもつ請求項１の基地。
【請求項６】  請求項１の少なくとも１つの基地を地中に埋め込むことからなる方法。
【請求項７】  （ａ）第１端、第２端、および該第１端と第２端の間に伸びる側壁をもつ筐体、ここで、該第１端と第２端および該側壁は実質的に該筐体の内側部を形成し、第１端と第２端および側壁の少なくとも１つが該筐体の内側部に対して節足動物が出入りするのに適当な少なくとも１つの開口部を有する、および、（ｂ）節足動物によって消費され得る、３０ｇよりも多く筐体内に配置される物質からなることを特徴とする節足動物監視基地。
【請求項８】  （ａ）第１端、第２端、および該第１端と第２端の間に伸びる側壁をもつ筐体、ここで、該第１端と第２端および該側壁は実質的に該筐体の内側部を形成し、第１・第２端および側壁の少なくとも１つが筐体の内側部に対して節足動物が出入りするのに適当な少なくとも１つの開口部を有する、および、（ｂ）筐体内に配置された少なくとも２つの部材からなり、ここで
該部材の各々が第１端、第２端、および該第１端と第２端の間に伸びる側壁をもち、
該部材の各々が、その側壁が実質的に互いに平行でかつ該筐体の側壁にも平行であるように筐体内に配置されており、
該部材の少なくとも１つが節足好物によって消費されうる物質、節足動物によって通り抜けられうる物質、節足動物によって運ばれることのできる物質、あるいは節足動物を殺すことのできる物質からなり、ここで、
該筐体の第１端部材の少なくとも一部が該筐体の側壁に着脱可能に取り付けられていることを特徴とする節足動物監視装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月8日(2004.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  可変速度の農薬適用のためのシステムであって、以下の：
ａ）農業生産エリアを通ることのできる装置；
ｂ）植物及び／又は前記農業生産エリアの状態データを直接的に感知するための、前記装置に取り付ける少なくとも１のセンサー、ここで、前記センサーは、前記の直接的に感知したデータを計算手段に伝送可能であり；
ｃ）前記センサーからの出力データを処理するための計算手段；
ｄ）少なくとも１のタンクであって、農薬製剤を運ぶための前記装置に載せられ又は取り付けられるもの；
ｅ）前記装置に載せられ又は取り付けられるものであり、前記計算手段からデリバリー指示を受けることができ、そして前記指示に従って前記タンクから農薬をデリバリーすることができる、農薬デリバリー手段；
を含み、ここで、
ｆ）前記計算手段は、複数のデータをそこに保存したコンピュータ読み取り可能な媒体からのデータを読み取り及び処理することが可能であり、ここで前記の複数のデータは、個々の農薬の量と、前記量により前記植物又はそれらの環境に対して達成可能な生物学的効果との間の標準化された機能的関係に関するデータを含む、
を特徴とする、前記システム。
【請求項２】  前記の機能的関係が土壌の状態及び／又は気候条件を考慮することを特徴とする、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】  土壌の状態及び気候条件から選択された少なくとも１のパラメータが直接的に感知されることを特徴とする、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】  前記の機能的関係が用量応答性の曲線を含むことを特徴とする、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】  前記の機能的関係が用量応答性の曲線を含み、ここで当該曲線は処置された植物又はそれらの環境に関係した最小及び最大の農薬有効用量を定めるデータを含むことを特徴とする、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】  少なくとも１の前記センサーが植物のクロロフィル含量を測定する光反射率センサーであることを特徴とする、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】  可変速度の農薬適用のための方法であって以下のステップ：
ａ）農業生産エリアを通ることのできる装置にとり付けられた少なくとも１のセンサーによって、前記農業生産エリアの植物及び／又は状態データを直接的に感知すること；
ｂ）直接的に感知された上記データを前記センサーから計算手段へ伝送すること；
ｃ）コンピュータ読み取り可能な媒体であってそこに複数のデータを保存しているものを供給すること、ここで前記複数のデータは、個々の農薬の量と前記量により植物又はそれらの環境に対して達成可能な効果との間の機能的な関係に関するデータを含み；
ｄ）前記直接的に感知されたデータと前記コンピュータ読み取り可能な媒体上に保存された前記機能的関係に関する複数のデータとを関連づけることにより、前記装置が前記農業生産エリア上又は上空を移動中にオンラインで農薬適用の速度を、前記計算手段により計算すること；
ｅ）計算された農薬適用速度をデリバリー指示として前記計算手段から、前記装置に載せられ又は取り付けられた農薬適用手段へ送ること、ここで当該手段は前記装置に載せられ又は取り付けられた少なくとも１のタンクから農薬をデリバリーすることができる；
そして
ｆ）そのようにデリバリーされた計算された量の農薬によって前記農業生産エリアを処理すること、
を含む、前記方法。
【請求項８】  コンピュータ読み取り可能な媒体であって、そこに複数のデータを保存しているものであり、ここで前記複数のデータは、個々の農薬の量と、前記量により植物又はそれらの環境に対して達成可能な生物学的効果との間の機能的関係を含んでおり、計算手段により処理されるとき、前記計算手段に、前記データと請求項１に記載の上記システムの少なくとも１のセンサーから得られたデータとを関連づけさせる、前記コンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項９】  少なくとも１の特異的な農薬成分を有する農薬個装システムであって、少なくとも１のコンピュータ読み取り可能な媒体であって、そこに複数のデータを保存しており、ここで前記複数のデータが特異的な前記農薬成分の量と、前記量により植物又はそれらの環境に対して達成可能な生物学的効果との間の機能的関係に関するデータを含む、上記コンピュータ読み取り可能な媒体を含んでいることを特徴とする、前記農薬個装システム。
【請求項１０】  農薬を注文する方法であって、以下のステップ：
ａ）少なくとも１の農薬をデリバリーするよう、消費者から指示を受けること；
ｂ）前記農薬を消費者にデリバリーすること；そして
ｃ）インターネットを介した電子的送信により又はコンピュータ読み取り可能な媒体上で、前記農薬の量と、前記量により植物又はそれらの環境に対して達成可能な生物学的効果との間の機能的関係に関するデータをデリバリーすること、ここで前記データは前記計算手段により処理可能な形式である、
を特徴とする、前記方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月7日(2003.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブタβ−１鎖のｃＤＮＡ分子サブユニットおよびブタβ−２鎖のｃＤＮＡ分子サブユニットによりコードされる、ブタＩＬ−１２レセプター。
【請求項２】
ブタインターロイキン−１２レセプターのブタβ−１鎖をコードするｃＤＮＡ分子であって、該ｃＤＮＡ分子は、配列番号７に示されるヌクレオチド配列を有する、ｃＤＮＡ分子。
【請求項３】
ブタインターロイキン−１２レセプターのブタβ−２鎖をコードするｃＤＮＡ分子であって、該ｃＤＮＡ配列は、配列番号１１に示されるヌクレオチド配列を有する、ｃＤＮＡ分子。
【請求項４】
所定の病原体に対して強力な細胞性免疫応答を発生することができるブタを同定する方法であって、該方法は、
（ａ）所定の病原体を特定する工程；および
（ｂ）ＩＬ−１２レセプターの対立遺伝子改変体を有するブタを選択する工程であって、該対立遺伝子改変体は、該ブタに、該改変体を有さないブタと比較して優れた能力を付与し、該能力は、該病原体に対して感染またはワクチン接種の際に強力な細胞性応答を発生させる、工程、
を包含する、方法。
【請求項５】
請求項１に記載のｃＤＮＡ配列から推定されるアミノ酸配列を有する分子であって、該アミノ酸配列は配列番号８に示される、分子。
【請求項６】
請求項２に記載のｃＤＮＡ配列から推定されるアミノ酸配列を有する分子であって、該アミノ酸配列は配列番号１２に示される、分子。
【請求項７】
ブタ集団の細胞性免疫応答を改善するための方法であって、該方法は、
（ａ）ＩＬ−１２レセプターの対立遺伝子改変体を有するブタを選択する工程であって、該対立遺伝子改変体は、該ブタに、該改変体を有さないブタと比較して優れた能力を付与し、該能力は、該病原体に対して感染またはワクチン接種の際に強力な細胞性応答を発生させる、工程；および
（ｂ）該選択したブタを、ブタ育種に関する当業者に公知の方法に従って育種する工程、
を包含する、方法。
【請求項８】
請求項３のｃＤＮＡ配列から推定されるアミノ酸配列を有する分子であって、該アミノ酸配列は、配列番号１２に示されるアミノ酸位置番号３４２でセリンを生じる、１２５４位の対立遺伝子改変体を有する、分子。
【請求項９】
請求項８に記載の分子であって、前記改変体が、１２５４位において、ＡからＣへのヌクレオチド変化から生じる、分子。
【請求項１０】
請求項８に記載の分子であって、ブタにおける感染性因子に対する高いＩＦＮ−γ応答または高い細胞媒介性免疫に関連することがさらに特徴付けられている、分子。
【請求項１１】
請求項８に記載の分子であって、ブタにおける感染性因子ＰＲＲＳＶに対する高いＩＦＮ−γ応答または高い細胞媒介性免疫に関連することがさらに特徴付けられている、分子。
【請求項１２】
請求項８に記載の分子であって、微生物に対する高い免疫応答に関連することがさらに特徴付けられている、分子。
【請求項１３】
請求項８に記載の分子であって、ウイルスに対する高い免疫応答に関連することがさらに特徴付けられている、分子。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月20日(2004.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
手術位置（１）に関する一意のデータ（１０）の支援を受けて、特にレーザーシステム（２０）を用いて、手術中に前記手術位置（１）を識別する方法であって、
前記一意のデータ（１０）のファーストコピーが、前記レーザーシステム（２０）に記憶され、
前記一意のデータ（１０）は、前記手術位置（１）の極近傍において及び／又は前記手術位置（１）で位置づけられ、
前記ファーストコピー及び前記一意のデータ（１０）は、前記手術の開始に先立って、それらの同一性があるかがチェックされ、
前記識別チェックの結果は、前記レーザーシステム（２０）に渡される手術位置識別方法。
【請求項２】
前記手術位置（１）は、眼（５）である請求項１記載の手術位置識別方法。
【請求項３】
前記一意のデータ（１０）は、患者の名前、患者のファーストネーム、患者の誕生日、患者ＩＤ、医師ＩＤ、手術位置（１）に関する情報、又は個々のデータの組み合わせ若しくはこのデータの全てを含む請求項１又は２記載の手術位置識別方法。
【請求項４】
前記手術位置（１）に関する情報は、血管パターン及び／又は虹彩のパターンを含む請求項３記載の手術位置識別方法。
【請求項５】
前記一意のデータ（１０）は、バーコード、マイクロチップ、文字列、又はこれら代表例の組み合わせとして具体化される請求項１から４のいずれかに記載の手術位置識別方法。
【請求項６】
手術中に手術位置（１）を識別するための装置であって、前記手術位置（１）に関する一意のデータ（１０）を記憶するための記憶装置（４５）を有するレーザーシステム（２０）及び読取装置（４０）を具備し、
前記一意のデータ（１０）は、前記読取装置（４０）を用いて決定でき、
前記一意のデータ（１０）のファーストコピーが、前記記憶装置（４５）において記憶でき、
前記ファーストコピー及び前記一意のデータ（１０）の同一性がチェックされることを許可するコンパレーター装置（４９）を備える手術位置識別装置。
【請求項７】
請求項１から５のいずれかに記載の手術位置識別方法を実施するためのレーザーシステム（２０）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
その後、第２ステップＩＩでは、手術のために存在し、虹彩パターンの一意の特徴１０'を有する特定の眼５'が走査され、そして一意の特徴１０'が識別装置４０'にて決定される。記憶装置４５では、特徴に関する適切な発射データは、そのとき、以前に記憶された発射データに基づいてデータ記憶装置４５へロードされ、及び／又は、医師による球面レンズの度数、収差などのようなデータの直接のエントリーを通じて記憶装置４５に転送される。その後、レーザーと特徴１０の前に位置づけられた特定の眼５'から決定された特徴１０'であって記憶装置４５にて利用可能であり、以前にステップＩで現在の発射データのために決定された特徴１０'がコンパレーター装置４９にて比較される。二つの特徴１０及び１０'が一致する場合、コンパレーター装置４９は手術ＯＰを可能にする信号を出力する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
図１は本発明による方法の実施形態の概略図である。
【図２】
図２は眼の近くの一意のデータの付属物の実施形態を示す。
【図３】
図３はデータ収集又は治療装置としての本発明の実施形態の概略図である。
【符号の説明】
１  手術位置
５  眼
１０  一意のデータ
２０  レーザーシステム
４０  読取装置
４５  記憶装置
４９  コンパレーター装置