Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月3日(2005.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板から外方に延び、第１のコンタクト層と第２のコンタクト層とが絶縁層により垂直方向に分離されたピラーと、
ピラーの側部に沿って形成され、垂直ボデイ領域が第１の垂直ソース／ドレイン領域と、第２の垂直ソース／ドレイン領域とを分離する垂直トランジスタと、
垂直ボデイ領域上のゲート絶縁層と、
ゲート絶縁層上のゲートとより成るトランジスタ。
【請求項２】
垂直ボデイ領域は固相エピタキシャル成長により形成される請求項１のトランジスタ。
【請求項３】
メモリセルに含まれ、埋め込みビットラインが垂直ボデイ領域の下方に位置して、第１のコンタクト層に結合されている請求項１のトランジスタ。
【請求項４】
メモリセルはフラッシュメモリセルを有する請求項３のトランジスタ。
【請求項５】
垂直ボデイ領域はｐ型チャンネルを有する請求項１のトランジスタ。
【請求項６】
半導体基板はシリコン・オン・インシュレーター基板を含む請求項１のトランジスタ。
【請求項７】
ゲートはフローティングゲートを含み、フローティングゲートに隣接してさらに制御ゲートが設けられている請求項１のトランジスタ。
【請求項８】
制御ゲートはピラーの上面の下方のトレンチに形成されている請求項７のトランジスタ。
【請求項９】
ピラーの別の側に第２の垂直トランジスタが設けられている請求項１のトランジスタ。
【請求項１０】
第２の垂直トランジスタは前記垂直トランジスタとは反対のピラーの側に設けられている請求項９のトランジスタ。
【請求項１１】
フローティングゲートはピラーの上面の下方のトレンチに形成されている請求項７のトランジスタ。
【請求項１２】
埋め込みビットラインは第１のコンタクト層に一体的に形成され、酸化物層により半導体基板から分離されている請求項３のトランジスタ。
【請求項１３】
トランジスタはメモリセルのアレイの一部であり、多数のピラーが半導体基板から外方にトレンチの両側を延びている請求項７のトランジスタ。
【請求項１４】
フローティングゲートは水平に向いており、制御ゲートはフローティングゲートの垂直上方に位置する請求項１３のトランジスタ。
【請求項１５】
フローティングゲートは垂直に向いており、制御ゲートは１つのトレンチ内でフローティングゲートの側部に沿う位置にある請求項１３のトランジスタ。
【請求項１６】
各トレンチにつき２つのフローティングゲートがトレンチの各側のピラーの側部に連携して設けられている請求項１３のトランジスタ。
【請求項１７】
制御ゲートはフローティングゲート間に位置する制御ラインを含む請求項１６のトランジスタ。
【請求項１８】
制御ゲートはフローティングゲートの垂直上方に位置する制御ラインを含む請求項１６のトランジスタ。
【請求項１９】
プロセッサーがメモリセルのアレイに結合された電子システムに含まれている請求項１３のトランジスタ。
【請求項２０】
トランジスタの形成方法であって、
半導体基板から外方に延び、第１のコンタクト層と第２のコンタクト層とが絶縁層により分離されたピラーを形成し、
ピラーの側部に沿って垂直トランジスタを形成するステップより成り、
垂直トランジスタ形成ステップは、
ピラー上にポリシリコン層を堆積させ、ポリシリコン層に方向性エッチングを施してピラーの側壁上だけにポリシリコン層の一部が残るようにし、
ポリシリコン層にアニーリングを施して、ポリシリコン層をエピタキシャル再成長させ、
第１及び第２のコンタクト層からポリシリコン層内へドーパントを拡散させて、垂直ボデイ領域により分離された第１及び第２のソース／ドレイン領域を形成し、
垂直ボデイ領域上にゲート絶縁層を形成し、
ゲート絶縁層上にゲートを形成するステップより成るトランジスタの形成方法。
【請求項２１】
ゲート絶縁層上にゲートを形成するステップは、ゲート絶縁層上にフローテイングゲートを形成し、さらに、フローテイングゲートに隣接して制御ゲートを形成するステップを含む請求項２０の方法。
【請求項２２】
フローテイングゲートに隣接して制御ゲートを形成するステップは、フローテイングゲートの垂直上方に位置する制御ゲートを形成するステップを含む請求項２１の方法。
【請求項２３】
フローテイングゲートに隣接して制御ゲートを形成するステップは、フローテイングゲートに水平方向に隣接位置する制御ゲートを形成するステップを含む請求項２１の方法。
【請求項２４】
半導体基板から外方に延びるピラーを形成するステップは、シリコン・オン・インシュレーター基板から外方に延びるピラーを形成するステップを含む請求項２１の方法。
【請求項２５】
ピラーの別の側に沿って第２の垂直トランジスタを形成するステップをさらに含む請求項２１の方法。
【請求項２６】
トレンチの両側の隣接するピラー上に一対の垂直トランジスタが形成される請求項２１の方法。
【請求項２７】
トレンチに２つの別個のワードラインを形成するステップをさらに含む請求項２６の方法。
【請求項２８】
一対の垂直トランジスタに連携されてトレンチに２つの別個のフローテイングゲートを形成するステップをさらに含む請求項２６の方法。
【請求項２９】
２つのフローテイングゲートの上方に１つの制御ゲートを形成するステップをさらに含む請求項２８の方法。
【請求項３０】
２つのフローテイングゲートの間に１つの制御ゲートを形成するステップをさらに含む請求項２８の方法。
【請求項３１】
フローテイングゲートと制御ゲートとはピラーの上面の下方に形成される請求項２９の方法。
【請求項３２】
トランジスタはメモリアレイ内に形成される請求項２１の方法。
【請求項３３】
トランジスタはフラッシュメモリアレイ内に形成される請求項３２の方法。
【請求項３４】
プロセッサを有する電子システム内にフラッシュメモリアレイを形成するステップをさらに含む請求項３３の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月9日(2005.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
別の実施例では、コアセグメントはＵ形の形状である。このＵ形コアセグメントはボディ部と２つの脚を含み、このＵ形コアセグメントのボディ部はロータ軸に垂直に置かれ、巻線はロータ軸に平行な軸のまわりに巻かれたＵ形コアセグメントの脚の内部に置かれる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
上述のように、Ｅコア機は相と極の種々の組み合わせで作ることができるが、この機械はまた、図３に示すようなアウターロータ（outer rotor）設計においても付加的な利点を有する。ステータのＥコアを単に１８０度反転させて、追加のロータセグメント２２を使用する。付加的なロータ／ヨークセグメントがトータル重量をあまり増やすことはなくて、ステータとロータの極の間の各回転中の吸引力がより大きくなることになろう。これは、１６のロータセグメント２２を使用するとき機械の質量当りのトルクの密度を理想的には比率（factor）４だけ改善することになろうが、実際には２〜３の範囲の比率が達成されるはずである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
【図１】６つのステータ極と４つのロータ極を有する古典的な３相ＳＲＭを示す図である。
【図２】Ｅコアを使用する方式を上記の古典的なＳＲＭに適用したＥコア横磁束機の１実施例を示す図である。
【図３】アウターロータを有する電気機械で使用されたＥコア方式の例を示す図である。
【図４】空隙が修正あるいは最適化されたＥコアの例を示す図である。
【図５】ロータ上の永久磁石と共にＥコア方式の例を示す図、例えば永久磁石Ｅコア機を示す図である。
【図６】Ｅコア上の中央脚のまわりにバイアス巻線を有するＥコア方式の例を示す図である。
【図７】２つのドーナツ状のバイアス巻線とロータとステータ側の両方にＥコアを有するＥコア方式の例を示す図である。
【図８】分割された中央脚のまわりにフルピッチ巻線を有する分割されたＥコアを備えた２相機の１実施例を示す図である。
【図９】分割された中央脚のまわりにフルピッチ巻線を有する分割されたＥコアを備えた３相機の１実施例を示す図である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月20日(2005.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
直流電動機の運転時に発生するこの直流電動機の電流リプルの周波数は、この周波数の運転で引き起こされた変化を考慮して監視され、予め算出された１つ又は多数の電流リプル周波数に対する差を観察することによってさらに評価されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月4日(2005.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
負荷を運転に応じて開閉するための開閉ユニット（４）と、短絡保護機能および過負荷保護機能とを備え、短絡保護機能は遮断器（６）内に組込まれ、過負荷保護機能は独立の機能ユニットで遮断器（６）から分離して構成された電子過負荷リレー（１２，１６）内に組込まれ、開閉ユニット（４）および遮断器（６）はその下側にそれぞれ取付けレールへの取付けのために設けられた自由空間を備えた標準構成部品として構成され、電子過負荷リレー（１２，１６）の少なくとも１つの構成部品（１６）は自由空間内に延びていることを特徴とする負荷用の開閉機器ユニット。
【請求項２】
遮断器（６）および開閉ユニット（４）は並置されて遮断器（６）と開閉ユニット（４）との間に自由空間（２０）を形成し、この自由空間（２０）の中に電子過負荷リレー（１２，１６）の構成部品（１６）または他の構成部品が延びていることを特徴とする請求項１記載の開閉機器ユニット。
【請求項３】
電子過負荷リレー（１２，１６）は自由空間（１８，２０）内に延びる変流器（１６）を備えていることを特徴とする請求項１又は２記載の開閉機器ユニット。
【請求項４】
電子過負荷リレー（１２，１６）の構成部品（１６）は支持体（８）上に配置されていることを特徴とする請求項１乃至３の１つに記載の開閉機器ユニット。
【請求項５】
電子過負荷リレーの構成部品（１２，１６）は支持体（８）によって保持されたプリント配線板（１０）上に配置されていることを特徴とする請求項１乃至４の１つに記載の開閉機器ユニット。
【請求項６】
プリント配線板（１０）はバス電子部品（１２）を支持していることを特徴とする請求項５記載の開閉機器ユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】負荷用の開閉機器ユニット
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この課題は、本発明によれば、負荷を運転に応じて開閉するための開閉ユニットと、短絡保護機能および過負荷保護機能とを備え、短絡保護機能は遮断器内に組込まれ、過負荷保護機能は独立の機能ユニットで遮断器から分離して構成された電子過負荷リレー内に組込まれ、開閉ユニットおよび遮断器はその下側にそれぞれ取付けレールへの取付けのために設けられた自由空間を備えた標準構成部品として構成され、電子過負荷リレーの少なくとも１つの構成部品は自由空間内に延びていることによって解決される。
本発明の構成によれば、開閉機器ユニットに対して、特に電動機始動器に対して、運転に応じた開閉機能、短絡保護機能および過負荷保護機能が設けられ、これらの各機能が独立の機能ユニット内で実現される。その場合、運転に応じた開閉は開閉ユニット、特に電磁接触器によって実現され、短絡保護機能は遮断器によって実現され、また過負荷保護機能は遮断器から分離して構成された過負荷リレーによって実現される。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月23日(2004.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
インダクタンスＬ２の変化が、第１の共振構造９８／水晶１０２の同調をもたらし、インダクタンスＬ４の変化が、第２の共振構造１０４／水晶１０８の同調をもたらす。加えて、固定コンデンサの値および可変コンデンサの可同調性の変動が、電圧制御型水晶発振器（ＶＣＸＯ）の周波数可変範囲の変化をもたらす。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
より具体的には、共振下部構造１００と１０６は異なる周波数、例えば１０．６３ＭＨｚと１０．７６ＭＨｚで共振する。共振下部構造１０６に関するコンデンサＣ３（キャパシタンス）は、共振下部構造１００と１０６との間で９０°の位相シフトをもたらし、それにより、第１の共振下部構造１００がその最低インピーダンスにあるとき、第２の共振下部構造１０６はその最高インピーダンスにあり、またその逆になる。これにより、共振下部構造１００と１０６の両方が最低で対話することが保証される。インダクタＬ２は、コンデンサＣ２の効果を相殺し、Ｃ７、Ｃｖ、およびＬ３の変化による第１の共振下部構造１００の可同調性を向上させる。回路網Ｒ３、Ｃ６、およびＬ５（回路１１０）がない場合、共振下部構造１００および１０６は、同調線形性に影響を及ぼす場合のあるはっきりした同調特性を有する傾向がある。回路１１０は、水晶１０８の「Ｑ」を約４分の１〜５分の１に効果的に低減する。通常の水晶のＱは２０００である。回路１１０を適用すると、回路１０６のＱは４００〜５００の間に低減される。このＱの低減は、Ｃｖが変化したときに第１の共振下部構造１００から第２の共振下部構造１０６への移行が中断したり突然移行したりしないようにするのに役立つ。またこの構成では、複雑な補償回路の使用に頼らずに、図９に示すように２〜３％よりもよい同調線形性を実現することも可能である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
本発明の電圧制御型水晶発振器（ＶＣＸＯ）を適用して単側波帯（Ｓｉｎｇｌｅ  Ｓｉｄｅｂａｎｄ：ＳＳＢ）位相雑音特性を同調範囲の上端と下端で維持することに関しては、２つの別々の直列インダクタＬ２およびＬ４を共振下部構造１００と１０６の両方で（即ち、回路の両側で）使用して、コンデンサＣ２およびＣ５の効果をそれぞれ相殺する。電圧制御型水晶発振器（ＶＣＸＯ）９０について測定した単側波帯（ＳＳＢ）位相雑音は、下端では−１４５ｄｂｃ／ｈｚ、上端では−１３９ｄｂｃ／ｈｚであり、６ｄｂｃ／ｈｚの差が生じた。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
図７は、外部直列インダクタであるＬｘの値に対する周波数可変特性を示している。このインダクタの値を制御することにより、同調範囲を増大または低減することができることが分る。Ｌｘのインダクタンス値の特定の範囲は、水晶ケース・キャパシタンスＣ０１、Ｃ０２に依存する。共振下部構造１００または１０６の、一方の水晶について試作品で使用されたＨＣ４９水晶の場合、Ｃ０１は約７ピコファラド（ｐｆ）であり、他方の共振下部構造１００または１０６の、一方の水晶について試作品で使用されたＨＣ１８水晶の場合、Ｃ０２は約５ピコファラド（ｐｆ）であった。周波数同調範囲は、インダクタンスを１マイクロ・ヘンリー（μＨ）追加するごとに約２５ｋＨｚとして定量化することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
前述の二重またはツイン水晶の実施例の周波数可変範囲は、前述の直列インダクタンスを有する単一水晶の線と同様の線に沿って発展し、この範囲は以下の式で計算することができる。
【数１２】
2004527976.tif 000001
上式で、Ｃ０１は第１の水晶の並列キャパシタンス、Ｃ１１は第１の水晶の直列キャパシタンス、ＣＬは負荷キャパシタンス、Ｃ０２は第２の水晶の並列キャパシタンス、Ｃ１２は第２の水晶の直列キャパシタンス、ωはタンク回路の共振周波数、Ｌ２およびＬ４は各水晶の直列インダクタンスである。以下のキャパシタンス値およびインダクタンス値を水晶に対して使用してシミュレーションを行った。
Ｃ０１＝２．５ｐｆ
Ｃ０２＝２．５ｐｆ
Ｃ１１＝０．０３ｐｆ
Ｃ１２＝０．０３ｐｆ
Ｌ１＝０．０８Ｈ
Ｌ２＝０．０８Ｈ
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月9日(2005.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
変調信号の供給方法であって、
位相変調信号を供給するステップと、
前記位相変調信号に対して振幅変調を行って、前記変調信号を生成するステップであって、前記位相変調および振幅変調の同期を取る、ステップと、
を備えた方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、前記位相変調および振幅変調の同期を、較正方式に応じて取る、方法。
【請求項３】
請求項２記載の方法において、前記較正方式が、所望の特性を有する前記変調信号を供給することを含み、前記振幅変調が最小となったときに前記位相変調を逆転させる、方法。
【請求項４】
請求項３記載の方法において、前記較正方式が位相ジャンプ検出器、包絡線検出器、および最小値検出器を利用する、方法。
【請求項５】
請求項４記載の方法において、前記較正方式が、前記位相変調が逆転するときと前記振幅変調が最小になるときとの間の遅延を検出することを含む、方法。
【請求項６】
請求項５記載の方法において、前記位相変調信号に振幅変調を行って前記変調信号を供給する前記ステップが、前記遅延に従って前記位相変調を遅延させることを含む、方法。
【請求項７】
請求項１記載の方法において、前記位相変調信号に振幅変調を行って前記変調信号を供給する前記ステップが、利得制御増幅器を利用する、方法。
【請求項８】
請求項１記載の方法において、前記変調信号が無線周波数信号である、方法。
【請求項９】
請求項２記載の方法において、位相変調信号を供給する前記ステップが、位相ロック・ループを利用する、方法。
【請求項１０】
請求項９記載の方法において、位相変調信号を供給する前記ステップが、シグマ・デルタ制御位相ロック・ループを利用する、方法。
【請求項１１】
第１データおよび第２データを信号上に変調する方法であって、
前記第１データに従って前記信号を位相変調または周波数変調するステップと、
前記第２データに従って前記信号を振幅変調するステップと、
を備え、前記位相または周波数変調および振幅変調を行うステップを、時間に関して互いに調整して、前記第１データおよび前記第２データの完全性を確保する、方法。
【請求項１２】
請求項１１記載の方法において、前記位相または周波数変調ステップおよび振幅変調ステップを時間的に調整するために、遅延回路を利用する、方法。
【請求項１３】
請求項１２記載の方法において、前記遅延回路の較正は、所望の特性を有する前記変調信号を供給し、前記位相変調が逆転するときと前記振幅変調が最小となるときとの間の遅延を検出することによって行い、前記所望の特性が、前記位相変調が逆転し同時に前記振幅変調が最小となるときである、方法。
【請求項１４】
変調器であって、
第１データ入力と、
第２データ入力と、
前記第１データ入力に結合された周波数または位相変調回路であって、前記第１データ入力における第１データに応答して変調を行う、周波数または位相変調回路と、
前記第２データ入力に結合された振幅変調回路であって、前記第２データ入力における第２データに応答して変調を行う、振幅変調回路と、
を備えている変調器。
【請求項１５】
請求項１４記載の変調器であって、更に、遅延回路を備えており、該遅延回路が、前記周波数または位相変調回路および前記振幅変調回路の時間遅延を補償する、変調器。
【請求項１６】
請求項１４記載の変調器において、前記振幅変調器が増幅器である、変調器。
【請求項１７】
請求項１６記載の変調器において、前記第２データが、前記増幅器に供給する電力を制御する、変調器。
【請求項１８】
請求項１５記載の変調器において、前記周波数または位相変調回路が、入来する信号を受け取り、変調信号を前記振幅変調回路に供給する、変調器。
【請求項１９】
請求項１８記載の変調器において、前記遅延回路を、前記第２入力と前記振幅変調回路との間に結合した、変調器。
【請求項２０】
請求項１５記載の変調器であって、更に、前記振幅変調回路に結合された包絡線検出器と、前記包絡線検出器に結合された最小値検出器と、前記振幅変調回路に結合された位相ジャンプ検出器と、前記位相ジャンプ検出器および前記最小値検出器に結合された位相検出／チャージ・ポンプ回路とを備えており、前記位相検出／チャージ・ポンプ回路が、前記変調器の較正の間、遅延信号を供給する、変調器。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月11日(2003.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧縮されたＴＤＭデータパッケージの配信及び復調のための光データ受信機であって、データパッケージは光配信手段へ送られて複数の光デマルチプレクサ／検波器アレイに選択的に配信され、各デマルチプレクサ／検波器アレイは光配信手段から送られる各データパッケージに関して、ビットがパラレルに提示されるデータワードを与える光データ受信機。
【請求項２】
デマルチプレクサ検波器アレイはアレイ状導波路（ＡＷＧ）より成る請求項１の光データ受信機。
【請求項３】
ＡＷＧは検波器アレイと一体化されている請求項２の光データ受信機。
【請求項４】
光配信手段は各デマルチプレクサ／検波器アレイにつき１つ設けられた複数の光経路選択スイッチより成り、これらのスイッチは、ＴＤＭデータパッケージが適宜選択的にデマルチプレクサ／検波器アレイへ送られるように該デマルチプレクサ／検波器アレイに作動的に関連している請求項３の光データ受信機。
【請求項５】
経路選択スイッチは光変調器より成る請求項４の光データ受信機。
【請求項６】
光変調器はそれぞれ半導体光増幅器（ＳＯＡ）により形成される請求項４の光データ受信機。
【請求項７】
光増幅器はエルビウムをドープした光増幅器（ＥＤＯＡ）より成る請求項５の光データ受信機。
【請求項８】
光データ受信機は電気通信信号ルータの一部を形成し、光バックプレーンからＴＤＭ光データを供給される前記請求項のうち任意の請求項の光データ受信機。
【請求項９】
添付図面に関連して実質的に説明した光データ受信機。
【請求項１０】
前記請求項のうち任意の請求項のデータ受信機を備えた信号ルータ。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月4日(2005.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の面及び第２の面を有する流路微粒子濾過媒体と、
ガス吸収濾過媒体とを含む、流動方向に流れる流体の濾過用コンビネーションフィルターであって、
流路微粒子濾過媒体が、流動方向に向けられ、かつ内面によって画定された複数の流路を含み、前記流路が、前記流路微粒子濾過媒体の第１の面を貫通する入口開口及び第２の面を貫通する出口開口を有し、
前記流路の前記内面が、少なくとも一部で、
そこから突き出て前記流路を形成するかまたは前記流路中に延びている構造体、または
電荷、あるいは
両方の組合せを備え、
前記ガス吸収濾過媒体が、第１の面及び第２の面と、互いに直交すると共に各々がそれぞれ流動方向に直交した幅及び長さ寸法と、流動方向の厚さ寸法と、を有するパッドを含み、前記パッドが、前記パッドの幅及び長さ寸法にわたって流動方向に略垂直に延在する層を含む、コンビネーションフィルター。
【請求項２】
前記流路微粒子濾過媒体が、少なくとも１つの構造化フィルム層、及び第２の層によって形成され、前記構造化フィルム層が、第１の面及び第２の面を有し、前記構造化フィルム層の少なくとも１つの面が、少なくとも一部で、前記流路を形成し、かつ前記流路を形成する前記面の少なくとも一部分にわたって高アスペクト比の構造体を有し、
流路層、または付加的な層を含む第２のフィルム層が、少なくとも一部、前記流路微粒子濾過媒体を貫通する規則的流体経路を画定し、
前記フィルム層が、前記流路微粒子濾過媒体の前記第１の面を貫通して開いた複数の入口及び前記第２の面を貫通して開いた複数の出口を画定する、請求項１に記載のコンビネーションフィルター。
【請求項３】
前記フィルム層の少なくとも１つが輪郭付けされて前記流路を形成する、請求項２に記載のコンビネーションフィルター。
【請求項４】
前記ガス吸収濾過媒体の前記パッドの前記面の一方が前記流路微粒子濾過媒体の前記第２の面に隣接している、請求項１〜３のいずれか一項に記載のコンビネーションフィルター。
【請求項５】
前記ガス吸収濾過媒体の前記パッドが、互いに接続された吸収剤粒子の多孔構造体を備える、請求項１〜４のいずれか一項に記載のコンビネーションフィルター。
【請求項６】
前記ガス吸収濾過媒体または前記流路微粒子濾過媒体の前記パッドあるいは前記ガス吸収濾過媒体及び前記流路微粒子濾過媒体の両方のパッドの第１及び第２の面が互いに平行である、請求項１〜５のいずれか一項に記載のコンビネーションフィルター。
【請求項７】
前記ガス吸収濾過媒体の前記パッドが、ガス吸収材料を充填された交絡繊維の不織ウェブを備える、請求項１〜４のいずれか一項に記載のコンビネーションフィルター。
【請求項８】
前記繊維が、数十〜数百ミクロンの直径を有する、請求項７に記載のコンビネーションフィルター。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月17日(2004.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも一つの多軸型装置（３、４、５）を備え、各軸がモーター手段を設け、そのまたは各装置が、例えば対応する複数のセンサーと複数のアクチュエータと共にスプレー（８）のような機器を具備した、表面コーティングプラントを制御する方法において：
スプレーのような各機器タイプに関して、及び塗料のような各処理製品タイプに関して、塗料のような処理製品のジェットを特徴付けし、それらの要素をスプレーデータベースに収容すること、
塗料のような処理製品を塗布することに関して、一つの装置または複数の装置（３、４、５）と、また特に各装置の複数の運動軸を、それらの軸を互いに結び付けて、特徴付けすること、
車体のような処理される表面の一部分（２）の特徴を記録すること、そして、
全ての前記要素により、また処理される部分（２）の全てのポイントで、所望の処理製品の厚さにより、塗料のような処理製品を塗布する各装置（３、４、５）のコースを、自動的に作成すること、
を特徴とする方法。
【請求項２】  処理製品を塗布する複数の装置（３、４、５）を備えたプラントに関して、プラントの様々な装置（３、４、５）に役割を自動的に割り当て、車体（２）のような処理される表面を、それら様々な装置によって、個々に処理される領域（９〜１３）に分類するステップを、更に含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  スプレーのような機器のセッティングを、対応する装置（３、４、５）のコースの各ポイントで、特に噴霧される塗料のような処理製品の所望の厚さを関数として、自動的に行うステップを更に含むことを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】  得られた塗料のような処理製品の厚さを、模擬試験するステップも含むことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】  模擬試験の最後で得られた処理製品の厚さを、表示するステップによって、厚さを模擬試験する前記ステップが補足されることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】  処理製品の厚さを、特別なポイントで手動により修正するステップを、更に含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】  処理製品の厚さの読み取りにより、特に特定のポイントで、厚さを自動的に修正するステップを、更に含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項８】  自動車の車体（２）を塗装するプラントを制御するために利用され、そのタイプのプラントが、塗装される車体部材（２）を前進させるコンベアー（６）の各側部に配置された、複数の多軸型装置（３、４、５）を備え、必要であれば、装置はそのコンベアーの上に配置され、各装置（３、４、５）が少なくとも一つのスプレー（８）を設けており、それによりプラントに関して“アプリケーションファイル”を自動的に作成することを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2004527365.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月3日(2005.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体で濡らした導電性転写表面へ液滴を静電スプレーする工程と、このように施された液体の一部を前記転写表面から基材に転写して、湿潤コーティングを形成する工程と、を含む基材上に液体コーティングを形成する方法。
【請求項２】
コーティング組成物で濡らすと、コーティングの一部を基材へ転写することのできる導電性転写表面と、前記コーティング組成物を前記導電性転写表面に施すための静電スプレーヘッドと、を含む装置。
【請求項３】
前記基材上の異なる位置で前記湿潤コーティングを周期的に接触および再接触することのできる２台以上のピック・アンド・プレース装置をさらに含み、前記基材上の前記コーティングの均一性を改善するように前記装置の周期が選択される、請求項２に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月4日(2005.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
背板と、前記背板が倒立自在に固定された側面支持部、及び前記側面支持部の下端が固定された底部と、を含むフレームを有する逆立ち運動装置であって、
前記フレームの底部が、前記側面支持部の下端が固定される両側辺部材と前記両側辺部材間を連結する補強部材を含み、
腕力器具が、前記側面支持部又は前記補強部材に装着されていることを特徴とする全身運動用逆立ち運動装置。
【請求項２】
背板と、前記背板が倒立自在に固定された側面支持部、及び前記側面支持部の下端が固定された底部と、を含むフレームを有する逆立ち運動装置であって、
前記側面支持部が、下部に向かうにつれてその間隔が広がる‘Ｒ’字状であることを特徴とする全身運動用逆立ち運動装置。
【請求項３】
背板と、前記背板が倒立自在に固定された側面支持部、及び前記側面支持部の下端が固定された底部と、を含むフレームを有する逆立ち運動装置であって、
前記フレームに上体運動手段が更に設けられたことを特徴とする全身運動用逆立ち運動装置。
【請求項４】
前記上体運動手段が、前記フレームに一方が支持された弾性体と前記弾性体の他方に装着された把手部を含む腕力器具であることを特徴とする請求項３に記載の全身運動用逆立ち運動装置。
【請求項５】
前記背板の倒立時、前記フレームの底部が、ユーザーの目線が向く前方側が後方側よりその幅が広くなるように、前記両側辺部材と補強部材とが菱形状に組み立てられたことを特徴とする請求項１に記載の全身運動用逆立ち運動装置。
【請求項６】
前記腕力器具が、前記背板が倒立した状態でみて、前記背板の側方に設けられたことを特徴とする請求項４に記載の全身運動用逆立ち運動装置。
【請求項７】
前記背板が倒立した状態でみて、前記背板の前方に設けられたことを特徴とする請求項４に記載の全身運動用逆立ち運動装置。
【請求項８】
前記背板と前記フレームとの間に油圧または空圧シリンダー機具が更に設けられたことを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の全身運動用逆立ち運動装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月4日(2005.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１主面と前記第１主面と反対側の第２主面とを有し、通常円形であり、貫通して延在する中心開口部を備え、熱可塑性結合材料と繊維強化材料とを含む支持板と、
前記支持板の前記第１主面に固着されている研磨層と、
前記中心開口部と同心になるように前記支持板に圧入され、それぞれが研削面側から前記支持板を貫通する複数の貫通部材を備える締結具とを含んで成り、
フラップディスクを形成する研磨部材。
【請求項２】
第１主面と前記第１主面と反対側の第２主面とを有し、通常円形であり、貫通して延在する中心開口部を備え、熱可塑性結合材料と繊維強化材料とを含む支持板と、
前記支持板の前記第１主面に固着されている研磨層と、
前記中心開口部と同心になるように前記支持板に圧入され、それぞれが研削面側から前記支持板を貫通する複数の貫通部材を備え、ティナーマン・ナットを形成するように成形されている締結具とを含んで成る研磨部材。
【請求項３】
第１主面と前記第１主面と反対側の第２主面とを有し、通常円形であり、貫通して延在する中心開口部を備え、熱可塑性結合材料と繊維強化材料とを含む支持板と、
前記支持板の前記第１主面に固着されている研磨層と、
前記中心開口部と同心になるように前記支持板に圧入され、それぞれが研削面側から前記支持板を貫通する複数の貫通部材を備え、グリットロック・ナットを形成するように成形されている締結具とを含んで成る研磨部材。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月4日(2003.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
工作物から材料を除去するために自らの軸線の回りを回転操作される砥粒ホイールであって、
取付孔と、
砥粒を有する基体と、
前記回転操作中に見かけ上の円筒を画定する周縁と、
前記基体を通って軸方向に延びるとともに前記回転操作中に見かけ上の窓を画定する少なくとも１つのボイドであって、前記窓を通して前記工作物が目視可能である、ボイドとを有し、
実質的に一体物であり、
加えられた２０Ｎの軸方向荷重に対して約１〜５ｍｍの範囲の可撓性を有する、
砥粒ホイール。
【請求項２】
約２５％未満のボイド体積をさらに有する請求項１に記載の砥粒ホイール。
【請求項３】
前記ボイドが、前記見かけ上の円筒の周縁から径方向内側に延びる少なくとも１つの見通し可能なギャップを有する請求項１に記載の砥粒ホイール。
【請求項４】
前記砥粒を有する基体内に一体的に配置されたハブを有する請求項１に記載の砥粒ホイール。
【請求項５】
前記砥粒を有する基体が一体的強化材をさらに有する請求項１に記載の砥粒ホイール。
【請求項６】
前記見かけ上の円筒の半径が、該円筒の半径の約１８％以下の軸方向厚さを有する請求項１に記載の砥粒ホイール。
【請求項７】
前記ギャップは非対称であり、前記ギャップは後方エッジを有し、該後方エッジが前記見かけ上の円筒の最も近い接線に対して配置される角度は、前記ギャップの前方エッジが前記接線に対して配置される角度よりも小さい請求項３に記載の砥粒ホイール。
【請求項８】
工作物から材料を除去するために自らの軸線の周りを回転操作される砥粒ホイールの製造方法であって、
砥粒を有する基体を用意することと、
前記基体をホイールに成形することと、
前記基体を軸方向に貫通するとともに、前記回転操作中に、前記工作物を目視可能にする見かけ上の窓を画定する、少なくとも１つのボイドを形成することと、
前記ホイールを一体物として成形することと、
前記ホイールを、加えられた２０Ｎの軸方向荷重に対して約１〜５ｍｍの範囲の可撓性を有するような大きさ、外形及び形状に成形することと、
を有する製造方法。
【請求項９】
工作物から材料を除去するために回転操作される砥粒ホイールであって、
取付孔と、
砥粒を有する基体と、
前記回転操作中に見かけ上の円筒を画定する周縁と、
前記基体を通って軸方向に延びるとともに前記回転操作中に見かけ上の窓を画定する複数のボイドであって、前記窓を通して前記工作物が目視可能である、ボイドとを有し、
前記複数のボイドは少なくとも１つの覗き孔と、前記見かけ上の円筒の周縁から径方向内側に延びる少なくとも１つの見通し可能なギャップとを有し、
実質的に一体物である、
砥粒ホイール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
ギャップ及び／又は孔により、ホイールは自らの軸線１１６、３１６及び４１６の回りを回転中に、上述した「視覚の存続」効果によって半透明に見える。従って、ホイールが矢印で示される方向に自らの軸線の回りを回転しているときは、人又は機械（すなわち研削機の作業者又は機械視認装置）は、砥粒ホイールを工作物の表面から動かすことなく、研削中の工作物の表面状態を監視することができる。ギャップ及び／又は孔はまた、空気流れを改善して接触摩擦領域を低減させ、従来技術の外周が環状の砥粒ホイールが使用されるときに比べて工作物表面を有意に低温に保つことができると考えられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
上述の内容に加え、本発明の砥粒ホイールは種々の択一的実施形態にて使用可能である。例えば、簡潔に上述したように、上述した全てのホイールは、図３、図６及び図７等に破線で示された１つ以上の覗き孔３２２、６２２、７２２等を有することができ、それらに加えて又は組み合わせて、ギャップ又はスロット（１１２、３１２、４１２…）を有することができる。さらに、本発明はいかなる外周のギャップをも用いずに、覗き孔を有することができる。それらの覗き孔は、図２２〜図２４のホイール２２１０、２３１０及び２４１０が有するようなものであり、また上述した仮出願（‘４７８）及び日本特許出願Ｈ１１−２５９３７１「研削面観察用透視孔が開けられたオフセット型フレキシブル砥石」に開示されるようなものである。実質的にはこれらの覗き孔は、円形（すなわち図３、図９及び図２２に図示）又は非円形（すなわち図２３及び図２４の卵形孔２３２２及び２４２２）を含むどのような形状でもよい。図２３及び図２４をより詳細に参照すると、卵形又は楕円形の孔が使用される場合は、それらの孔は所望の全ての方向に向けることができる。例えば図２３に示されるように、孔２３２２は、横方向面におけるその長軸が径方向に延びるように配置される。択一的に、図２４に示されるように、長軸を径方向から角度γだけずらして配置することもできる。図示された実施例では、角度γは約４５°である。楕円形の孔を有して製造されたホイールは、その楕円形の孔の長軸寸法に等しい直径の円形孔を有して製造された類似のホイールに比べて、実質的に強度が上がるという試験結果がある。さらに、楕円形の孔を４５°の角度に向けることは、「実施例」にてより詳しく後述するように、ホイール強度をさらに高める。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月14日(2005.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多孔性ポリマー材料中に分散したフィラメント状研磨凝集体粒子から構成され、前記研磨凝集体粒子が、砥粒と、放射線硬化性重合可能バインダ前駆体から形成されたポリマーマトリックスとから構成される、研磨物品であって、前記研磨凝集体粒子が、実質的に一定の断面積と、４５４ｇ（１ｌｂ）より大きいクラッシュ強度とを有する、研磨物品。
【請求項２】
前記組成物が、駆動手段を除いて、０．２４ｇ／ｃｍ３〜１．３４ｇ／ｃｍ３（４ｇ／立方インチ〜２２ｇ／立方インチ）の範囲内の密度と、１０〜９５の範囲内のショアＡデュロメータ値とを有し、
前記研磨凝集体粒子が約１０〜約２０，０００マイクロメートルの長さを有し、
前記複数の砥粒が、前記研磨凝集体粒子の組成物の４０〜９５重量％を構成する、
請求項１に記載の研磨物品。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月14日(2005.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
堆積された材料層を含む剥離フィルムであって、該剥離フィルムは、少なくとも一方の表面を、剥離層で被覆した基板を含み、該剥離層は層状ケイ酸塩を含み、かつその上に堆積された該材料層を含み、該材料層が剥離して該材料を与えることを特徴とする、上記剥離フィルム。
【請求項２】
層状ケイ酸塩が、スメクタイトを含む請求項１記載の剥離フィルム。
【請求項３】
層状ケイ酸塩が、ヒル石、ヘクトライトまたはモンモリロナイトである請求項１または２記載の剥離フィルム。
【請求項４】
該堆積された材料が、金属、金属化合物、ガラス、誘電体または半導体である、請求項１〜３のいずれか１項記載の剥離フィルム。
【請求項５】
該堆積された材料が、アルミニウム、クロム、マグネシウム、銅、バナジウム、ニッケル、亜鉛、錫、銀、金、チタン、珪素、ビスマス、またはこれらの酸化物、窒化物、フッ素化物および炭化物から選択される金属または金属化合物である請求項４記載の剥離フィルム。
【請求項６】
該金属または金属化合物の層の厚みが、0.005〜50μmなる範囲内にある、請求項５記載の剥離フィルム。
【請求項７】
該金属化合物が、VO2である、請求項５または６記載の剥離フィルム。
【請求項８】
該堆積された材料層が一連の層を含む請求項１〜７のいずれか１項記載の剥離フィルム。
【請求項９】
該剥離層の厚みが、0.02〜２μmである、請求項１〜８のいずれか１項記載の剥離フィルム。
【請求項１０】
該剥離層が層状のケイ酸塩プラスバインダを含む請求項１〜９のいずれか１項記載の剥離フィルム。
【請求項１１】
該バインダがメラミンホルムアルデヒドおよび/またはその誘導体を含む、請求項１０記載の剥離フィルム。
【請求項１２】
該基板がポリイミド基板または金属基板である、請求項１〜１１のいずれか１項記載の剥離フィルム。
【請求項１３】
該堆積された材料層上に、接着剤層が堆積されており、かつ除去可能なライナーが、該接着剤層と接触している、請求項１〜１２のいずれか１項記載の剥離フィルム。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項記載の剥離フィルムの製法であって、
基板の少なくとも一方の表面を、層状ケイ酸塩の水性溶液で被覆する工程、
該層状ケイ酸塩を乾燥してフィルムとするのに十分な温度にて、該被覆した基板を加熱する工程、及び
該被覆フィルム上に、材料層を堆積する工程を含み、該材料層が剥離して該材料を与えるものである、上記方法。
【請求項１５】
該材料層を蒸気または真空蒸着法により堆積させる請求項１４記載の剥離フィルムの製造方法。
【請求項１６】
該材料層の堆積前および/またはその間および/またはその後、加熱を行う、請求項１４または１５記載の剥離フィルムの製造方法。
【請求項１７】
該加熱を、150℃またはそれ以上の温度で行う、請求項１６記載の剥離フィルムの製造方法。
【請求項１８】
該材料層を該被覆されたフィルムから剥離する追加の工程を含む、請求項１４〜１７のいずれか１項記載の剥離フィルムの製造方法。
【請求項１９】
該材料層を、水性条件下で剥離する、請求項１８記載の剥離フィルムの製造方法。
【請求項２０】
請求項１４〜１９のいずれか１項記載の方法によって得ることのできる材料。
【請求項２１】
該材料が自立型フィルムまたはフレークの形態にある、請求項２０記載の材料。
【請求項２２】
該堆積された材料層を該剥離層から剥離して該材料を得る、請求項１〜１３のいずれか１項記載の剥離フィルムの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月18日(2003.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被験者の行動を解析するための自動化された方法であって：
被験者について１つまたはそれ以上の測定または観察を行う工程；
その測定または観察結果を複数のチャネルにコード化する工程；および
自動分類技術を用いて前記チャネルを解析して、被験者の心理状態に関係する情報を出力する工程；
を含み、前記自動分類技術が、人工知能または統計学的手法から成ることを特徴とする方法。
【請求項２】
被験者の非言語的行動の測定または観察を行う、請求項２に従う方法。
【請求項３】
被験者の非言語的視覚的行動の測定または観察を行う、請求項２に従う方法。
【請求項４】
被験者の動きを観察する、請求項３に従う方法。
【請求項５】
被験者の動きの観察結果が被験者の複数のイメージから成り；さらに
前記観察結果を複数のチャネルにコード化することが前記イメージから特質を抽出することを含む、請求項４に従う方法。
【請求項６】
チャネルが目の動きを含む、請求項４または請求項５に従う方法。
【請求項７】
チャネルが顔の動きを含む、請求項４から６のいずれかに従う方法。
【請求項８】
チャネルが被験者の手、脚または胴の動きを含む、請求項４から７のいずれかに従う方法。
【請求項９】
被験者の非言語的非視覚的行動の測定または観察を行う、請求項２から８のいずれかに従う方法。
【請求項１０】
被験者の言語的行動の測定または観察を行う、前記請求項のいずれかに従う方法。
【請求項１１】
自動分類技術が人工ニューラルネットワークを含む、前記請求項のいずれかに従う方法。
【請求項１２】
人工知能を用い、該人工知能が、機械学習、遺伝子アルゴリズム、ディシジョンツリー、ファジー理論および／または記号ルール、またはそれらの組み合わせを含む、前記請求項のいずれかに従う方法。
【請求項１３】
チャネルを解析して被験者の精神的、行動上および／または身体上の状態を明らかにする、前記請求項のいずれかに従う方法。
【請求項１４】
チャネルを分析して被験者の行動が虚偽であるか否かを明らかにする、請求項１３に従う方法。
【請求項１５】
チャネルを解析して被験者がストレス、罪悪感、幸福、恐怖、自信もしくは痛みを感じているかまたは精神病であるか否かを明らかにする、請求項１３に従う方法。
【請求項１６】
チャネルを解析して被験者の性格上の特質を分析する、請求項１３に従う方法。
【請求項１７】
性格上の特質が、内向的、外向的、自信家、協調的、誠実性、何でも体験しようとする性格および／または感情に動かれやすい性格、威張る性格および／または迎合的である、請求項１６に従う方法。
【請求項１８】
被験者の行動を自動的に解析するための装置であって：
被験者について１つまたはそれ以上の測定または観察を行うための検出手段；
前記の測定または観察の結果を複数のチャネルにコード化するためのコード化手段；および
前記チャネルを解析し被験者の心理状態に関係する情報を出力できるようにした自動分類手段；
を含み、前記自動分類手段が、人工知能手段または統計学的分類手段から成ることを特徴とする装置。
【請求項１９】
検出手段が、被験者の非言語的行動の測定または観察を行う、請求項１８に従う装置。
【請求項２０】
検出手段が被験者の非言語的視覚的行動の測定または観察を行う、請求項１９に従う装置。
【請求項２１】
検出手段が被験者の動きの観察を行う請求項２０に従う装置。
【請求項２２】
検出手段が被験者の複数のイメージを提供し；さらにコード化手段が前記イメージから特質を抽出するための抽出手段を含む、請求項２１に従う装置。
【請求項２３】
コード化手段が目の動きに関係する１つまたはそれ以上のチャネルに観察結果をコード化する、請求項２１または請求項２２に従う装置。
【請求項２４】
コード化手段が顔の動きに関する１つまたはそれ以上のチャネルに観察結果をコード化する、請求項２１から２３のいずれかに従う装置。
【請求項２５】
コード化手段が被験者の手、脚または胴の動きに関係する１つまたはそれ以上のチャネルに観察結果をコード化する、請求項２１から２４のいずれかに従う装置。
【請求項２６】
コード化手段が被験者の非言語的非視覚的行動の測定結果または観察結果を１つまたはそれ以上のチャネルにコード化する、請求項１９に従う装置。
【請求項２７】
検出手段が被験者の言語的行動の測定または観察を行う、請求項１８から２６のいずれかに従う装置。
【請求項２８】
検出手段がカメラを含む、請求項１８から２７のいずれかに従う装置。
【請求項２９】
検出手段がマイクロホンを含む、請求項１８から２８のいずれかに従う装置。
【請求項３０】
人工知能手段を有し、該人工知能手段が人工ニューラルネットワークを含む、請求項１８から２９のいずれかに従う装置。
【請求項３１】
人工知能手段を有し、該人工知能手段が機械学習手段、遺伝子アルゴリズム、ディシジョンツリー、ファジー理論手段および／または信号ルール手段、またはこれらの組み合わせを含む、請求項１８から２９のいずれかに従う装置。
【請求項３２】
自動分類手段が被験者の精神的、行動上および／または身体上の状態を明らかにするように構成されている、請求項１８から３１のいずれかに従う装置。
【請求項３３】
被験者の行動が虚偽であるか否かを明らかにするように自動分類手段が構成されている、請求項３２に従う装置。
【請求項３４】
被験者がストレス、罪悪感、幸福感、恐怖、自信もしくは痛みを感じているか、または精神病であるか否かを明らかにするように自動分類手段が構成されている請求項３２に従う装置。
【請求項３５】
自動分類手段が被験者の性格上の特質に関する情報を出力するように構成されている、請求項３２に従う装置。
【請求項３６】
性格上の特質が、内向的、外向的、協調的、誠実性、何でも体験しようとする性格、感情に動かれやすい性格、威張る性格、および／または迎合的である、請求項３５に従う装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
この目的のために、各種の虚偽検出器（所謂「嘘発見器」）が用いられている。これらの装置は、虚偽を示唆する何らかの手がかりを検出するものではあるが、その他の精神的、行動的および／または身体上の状態を検出するには適していないのが一般的である。
米国特許第5,507,291号には、被験者の感情状態に関する情報を遠隔測定する方法であって、離れて位置している被験者に波形エネルギーを無線伝送する方法が開示されている。この方法では、被験者から発せられる波形エネルギーを検出し、その測定値を基準値と比較することにより自動分析して、被験者の感情状態に関する情報を取得している。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月2日(2005.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周期的なリッチ／リーン燃料供給行程にて燃料を供給して燃焼させ、生成する排ガスの流れを触媒システムに接触させて、その排ガス中の窒素酸化物を接触分解する方法において、上記リッチ行程の時間幅が約０．５秒から約１０秒であり、上記リーン行程の時間幅が約４．５秒から約９０秒であり、上記触媒システムが
ａ）セリウム酸化物、
プラセオジム酸化物及び
セリウム酸化物、ジルコニウム酸化物、プラセオジム酸化物、ネオジム酸化物、ガド    リニウム酸化物及びランタン酸化物から選ばれる酸化物の混合物
からなる第１の成分を有する表面触媒層と、
ｂ）ロジウム、白金、パラジウム、ロジウム酸化物、白金酸化物、パラジウム酸化物及び    これらの混合物から選ばれる１種と担体とからなる第２の成分を有する内部触媒層とを有する触媒構造体からなることを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、触媒システムが２層構造体からなり、表面触媒層が上記構造体の表面層を形成しており、内部触媒層が上記表面触媒層の直下にあることを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の方法において、表面触媒層の厚みが約２０μｍから約８０μｍの間にあることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の方法において、内部触媒層の厚みが約１０μｍから約８０μｍの間にあることを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１又は２に記載の方法において、生成する排ガスを２００℃から５００℃の温度で触媒に接触させることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月20日(2003.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊離の形態または薬学的に許容される塩の形態のリンパ球ホーミング促進剤を含む、器官または組織移植のレシピエントにおける移植片の機能発現遅延の低下に使用するための剤。
【請求項２】
遊離の形態または薬学的に許容される塩の形態のリンパ球ホーミング促進剤を含む、器官または組織移植のレシピエントにおける移植された器官または組織の機能的回復の促進に使用するための剤。
【請求項３】
遊離の形態または薬学的に許容される塩の形態のリンパ球ホーミング促進剤を含む、腎移植のレシピエントにおける移植された腎臓の糸球体濾過率の改善に使用するための剤。
【請求項４】
リンパ球ホーミング促進剤が、遊離の形態または薬学的に許容される塩の形態の、式Ｉ
【化１】
2004527490.tif 000001
〔式中、
Ｒ１は、所望により置換されていてもよいフェニレンにより所望により割り込まれていてもよい１２〜２２個の炭素原子を有する所望により置換されていてもよい直鎖−または分枝鎖の炭素鎖であり、そして
各Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、独立して、Ｈまたは低級アルキルである。〕
で示される化合物である、請求項１〜３のいずれかに記載の剤。
【請求項５】
式Ｉの化合物が、遊離の形態または薬学的に許容される塩の形態の２−アミノ−２−[２−(４−オクチルフェニル) エチル]プロパン−１,３−ジオールである、請求項４に記載の剤。
【請求項６】
器官または組織移植のレシピエントにおける移植片の機能発現遅延の低下または移植された器官もしくは組織の機能の回復に、あるいは腎移植のレシピエントにおける移植された腎臓の糸球体濾過率の改善に使用するための医薬組成物であって、１またはそれ以上の薬学的に許容される希釈剤または担体とともに、遊離の形態または薬学的に許容される塩の形態のリンパ球ホーミング促進剤を含む、医薬組成物。
【請求項７】
免疫抑制剤または免疫調節剤であるコエージェントと、同時的にまたは個別的に、組み合わせて使用するための、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項８】
器官もしくは組織移植のレシピエントにおける移植片の機能発現遅延の低下または移植された器官もしくは組織の機能の回復の改善、あるいは腎移植のレシピエントにおける移植された腎臓の糸球体濾過率の改善に使用するための医薬組成物であって、
a)  遊離の形態または薬学的に許容される塩の形態の、リンパ球ホーミング促進剤である第一の剤、および
b)  免疫抑制剤または免疫調節剤であるコエージェント
を含み、そしてこれら２つの剤が同時的または個別的に投与される、医薬組成物。
【請求項９】
コエージェントがカルシニューリンインヒビター以外である、請求項７または８に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
リンパ球ホーミング促進剤が式Ｉ
【化２】
2004527490.tif 000002
〔式中、
Ｒ１は、所望により置換されていてもよいフェニレンにより所望により割り込まれていてもよい１２〜２２個の炭素原子を有する所望により置換されていてもよい直鎖−または分枝鎖の炭素鎖であり、そして
各Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、独立して、Ｈまたは低級アルキルである。〕
の化合物である、請求項６〜９のいずれかに記載の医薬組成物。