【手続補正書】
【提出日】平成15年9月3日(2003.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工物の表面処理にガスクラスターイオンビームを使用する装置であって、
真空容器と、
前記真空容器内に提供され、ビーム電流を有するガスクラスターイオンビームを形成するガスクラスターイオンビーム源と、
前記ガスクラスターイオンビームを軌道に沿って加速させる加速器と、
ガスクラスターイオンビーム処理のために前記被加工物を保持する被加工物保持手段と、
前記加速器と電流測定手段との間の前記軌道沿いの位置で前記被加工物保持手段および前記被加工物を前記ガスクラスターイオンビームに通して選択的スキャンし、また前記ガスクラスターイオンビーム軌道から前記被加工物保持手段および前記被加工物を選択的に取り除くための制御可能な移動手段と、
前記被加工物をスキャンさせ、また前記ガスクラスターイオンビーム軌道から前記被加工物および前記被加工物保持手段を前記ビーム電流の測定のために取り除かせる信号を前記制御可能な移動手段に提供するための制御手段と、
測定電流の前記軌道に沿って配置され、前記制御手段が提供する制御信号によって選択される前記ガスクラスターイオンビーム電流サンプルの選択的測定モードおよび前記被加工物の充電に利用可能な合計電流の選択的測定モードの少なくとも２モードを有する電流測定手段と、
を有することを特徴とする装置。
【請求項２】
電流測定手段は、被加工物および被加工物保持手段がガスクラスターイオンビーム軌道から取り除かれる時に測定されるガスクラスターイオンビームのサンプルを表す少なくとも一つのビーム電流測定信号を制御手段に提供することを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項３】
制御手段は被加工物のスキャンを制御するためにガスクラスターイオンビーム電流のサンプルを表す少なくとも一つのビーム電流測定信号を使用することを特徴とする請求項２記載の装置。
【請求項４】
制御手段は処理中に被加工物に適用されるガスクラスターイオンビームの照射量を制御するためにガスクラスターイオンビーム電流のサンプルを表す少なくとも一つのビーム電流測定信号を使用することを特徴とする請求項２記載の装置。
【請求項５】
ガスクラスターイオンビーム中の空間電荷を減少させるために電子を提供する制御可能な中性化装置をさらに含むことを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項６】
制御手段は利用可能な合計電流の少なくとも一つのサンプルを測定し、処理中に被加工物充電に利用可能な合計電流を所定の安定レベルまで減少させる制御可能な中性化装置を制御するために前記利用可能な合計電流の少なくとも一つの測定サンプルを使用することを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項７】
制御手段は利用可能な合計電流の少なくとも一つのサンプルを測定し、前記合計電流が処理の所定安全レベルを超過した場合には被加工物の処理を防止するために前記利用可能な合計電流の少なくとも一つの測定サンプルを使用することを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項８】
制御手段はガスクラスターイオンビームの少なくとも一つのサンプルを測定し、被加工物のスキャンを制御するために前記ガスクラスターイオンビームの少なくとも一つのサンプル測定値を使用することを特徴とする請求項７記載の装置。
【請求項９】
ガスクラスターイオンビームを使用した被加工物表面処理方法であって、
真空容器内でガスクラスターイオンビーム電流を有するガスクラスターイオンビームを形成するステップと、
前記ガスクラスターイオンビームを軌道沿いに加速させるステップと、
ガスクラスターイオンビーム処理のために前記ガスクラスターイオンビームの前記軌道外で制御式に前記被加工物を保持するステップと、
前記ガスクラスターイオンビーム電流のサンプルを選択的測定するモードおよび前記被加工物の充電に利用可能な合計電流のサンプルを選択的測定するモードの少なくとも２モードを有する電流測定手段を提供するステップと、
前記ガスクラスターイオンビーム電流のサンプルを測定する前記モードを選択するステップと、
前記ガスクラスターイオンビーム電流のサンプルを少なくとも一度は測定するステップと、
前記被加工物を前記ガスクラスターイオンビーム軌道内に少なくとも一度は移動させて処理させるステップと、
前記処理中に前記被加工物に適用される前記ガスクラスターイオンビームの照射量を制御するために前記ガスクラスターイオンビーム電流のサンプル測定値を少なくとも一度は使用するステップと、
を含んでいることを特徴とする方法。
【請求項１０】
ガスクラスターイオンビームを使用した被加工物表面処理方法であって、
真空容器内でガスクラスターイオンビーム電流を有するガスクラスターイオンビームを形成するステップと、
前記ガスクラスターイオンビームを軌道沿いに加速させるステップと、
ガスクラスターイオンビーム処理のために前記ガスクラスターイオンビームの前記軌道外に前記被加工物を制御式に保持するステップと、
ガスクラスターイオンビーム電流のサンプルを選択的に測定するモードおよび前記被加工物の充電に利用可能な合計電流のサンプルを選択的に測定するモードの少なくとも２つの制御可能なモードを有する電流測定手段を提供するステップと、
前記被加工物の充電に利用可能な合計電流のサンプルを測定する前記モードを洗濯するステップと、
前記被加工物充電に利用可能な合計電流のサンプルを測定するステップと、
前記利用可能な合計電流の前記サンプルを前記被加工物充電に利用可能な前記合計電流を所定の安全レベルまで減少させるための基準として使用するステップと、
前記被加工物を前記ガスクラスターイオンビーム軌道内に移動させて処理させるステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１１】
ガスクラスターイオンビームを使用した被加工物表面処理方法であって、
真空容器内でガスクラスターイオンビーム電流を有するガスクラスターイオンビームを形成するステップと、
前記ガスクラスターイオンビームを軌道沿いに加速させるステップと、
ガスクラスターイオンビーム処理のために前記ガスクラスターイオンビームの前記軌道外に前記被加工物を制御式に保持するステップと、
前記ガスクラスターイオンビーム電流のサンプルを選択的に測定するモードおよび前記被加工物の充電に利用可能な合計電流のサンプルを選択的に測定するモードの少なくとも２つの制御可能なモードを有する電流測定手段を提供するステップと、
前記合計電流のサンプルを測定する前記モードを選択するステップと、
前記被加工物充電に利用可能な合計電流のサンプルを測定するステップと、
前記利用可能な合計電流の前記サンプルを基準として使用して、前記被加工物充電に利用可能な前記合計電流を所定の安全レベルまで減少させるステップと、
前記ガスクラスターイオンビーム電流のサンプルを測定する前記モードを選択するステップと、
前記ガスクラスターイオンビーム電流のサンプルを少なくとも一度は測定するステップと、
前記被加工物を前記ガスクラスターイオンビームの前記軌道内に少なくとも一度は移動させて処理させるステップと、
処理中に前記被加工物に適用される前記ガスクラスターイオンビームの照射量を制御するために前記ガスクラスターイオンビーム電流のサンプルの前記少なくとも一つの測定値を使用するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１２】
被加工物の充電を減少させるために電子を提供する制御可能な中性化装置をさらに含むことを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項１３】
制御手段はガスクラスターイオンビーム電流の少なくとも一つのサンプルをさらに測定し、被加工物に適用されるガスクラスターイオンビームの照射量を制御するために前記ガスクラスターイオンビーム電流の前記少なくとも一つのサンプルの測定値を使用することを特徴とする請求項６記載の装置。