【手続補正書】
【提出日】平成17年1月28日(2005.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面を処理し、あるいは表面上で粉体を形成する方法であって、安定化されたプラズマの電気アークを開始する工程；該電気アークからのカーテンの形で、該電気アークの軸Ａに対して実質的に直角に活性ガスのジェットを生じさせる工程；および該活性ガスのカーテンを処理すべき表面上に放射する工程を含んでおり、該電気アークの軸Ａの該処理すべき表面からの距離Ｌおよび該活性ガスの流れの速度ｖが、該活性ガスのカーテンの粒子が、該処理すべき表面と接触する瞬間に電気的に中性であり、かつ準安定状態にあるように調節されることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記電気的軸の前記処理すべき表面からの距離Ｌと前記活性ガスの流れの速度ｖとが、Ｌ／ｖ＜τ（τは前記カーテンの粒子の活性化された準安定状態の緩和時間である）の関係を満たすように調節されることを特徴とする請求項１に記載の処理方法。
【請求項３】
前記活性ガスの流れのパラメータおよび前記処理すべき表面の走査速度のパラメータが、前記安定化電気アークに関して、前記活性ガスのカーテンに含まれる活性分子、ラジカルおよび原子の拡散長Ｄが、衝突する前記活性ガスを前記処理すべき表面から隔てている境界層の厚さδよりも大きくなるように調節されることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記活性ガスのカーテンが大気圧で発生させられることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記活性ガスのカーテンと前記処理すべき表面との間に、前記プラズマの電気アークの中心軸Ａに対して実質的に直角の方向に相対的走査運動が作り出されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
処理ガスＱ１の流れが前記プラズマの電気アークの上流に導入されることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
相補処理ガスＱ２の流れが前記プラズマの電気アークの下流で前記活性ガスのカーテンに注入されることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記相補処理ガスＱ２の流れが、前記活性ガスのカーテンが前記処理すべき表面と接触する領域において、それらの境界層が前記相補処理ガスによって供給されるように前記処理すべき表面上に吹きつけられることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記処理すべき表面が、処理を促進する目的および／または異方性特性を与える目的で、特に音響振動もしくは超音波振動の印加を介して波動運動に晒されることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
反応性ガスの流れが前記活性ガスのカーテン内の処理領域に注入され、それにより、前記活性ガスのカーテンと接触することで前記活性ガスのカーテンと相補処理ガスＱ２に供給される両方のガス流のパラメータを介して制御される組成、粒度分布および寸法を有する紛体を形成することを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法を実施するための装置であって、プラズマの安定化電気アーク（１４）を開始するための電極（２４ａ、２４ｂ）；本体（１０）内の、該安定化プラズマの電気アークを閉じ込めるための安定化流路（１２）；該本体内の経路（３８、３９）であって、該アークの上流に該アークの軸Ａに対して実質的に直角の方向に、処理ガスＱ１を活性ガスのカーテン（８）を形成するように導入するために前記アークに沿って均一に分布された本体内の経路；前記電気アークの下流に相補処理ガスＱ２を導入するための手段；および処理すべき対象物または材料を保持し、かつ該本体（１０）との関係において該対象物または材料の処理すべき表面の位置決めをするための支持体（２８）を含む装置。
【請求項１２】
前記処理ガスＱ１を導入するための経路が、前記活性ガスのカーテンのガスの流れの方向に対してゼロよりも大きな角度で前記処理ガスＱ１を安定化流路（１２）内に導入するための横方向スロット（３８）を有することを特徴とする請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記本体からの前記支持体の距離が調節可能であり、それにより前記処理すべき表面上の境界層のパラメータを規定し、制御することが可能であることを特徴とする請求項１１に記載の装置。
【請求項１４】
前記相補処理ガスＱ２を導入するための手段が、前記安定化流路の下流に配置された前記本体（１０）内のスロットを有していることを特徴とする請求項１１または１２に記載の装置。
【請求項１５】
前記安定化流路が、実質的に円筒形の断面形状を有していることを特徴とする請求項１１または１２に記載の装置。
【請求項１６】
前記安定化流路が、実質的に正方形または長方形の断面形状を有していることを特徴とする請求項１１または１２に記載の装置。
【請求項１７】
前記安定化流路が、実質的に三角形の断面形状を有していることを特徴とする請求項１１または１２に記載の装置。
【請求項１８】
前記活性ガスのカーテンを生じさせるための装置の本体が、前記プラズマの電気アーク（１４）の直径よりも小さい幅のスロットの形状を有する活性ガスのカーテン用の出口通路（２０）を含んでいることを特徴とする請求項１１〜１７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１９】
前記活性ガスのカーテン用の出口通路が、前記アークから生じる紫外線が前記処理すべき表面に到達することができないように配置されたラビリンス部分を含んでいることを特徴とする請求項１１または１２に記載の装置。
【請求項２０】
前記処理すべき対象物の支持体が、前記処理すべき表面を前記活性ガスのカーテンで走査するために、前記処理すべき表面が、前記活性ガスのカーテンに対して直角の方向に、前記活性ガスのカーテンに対して相対的な運動を行うことを可能にする機構に固定されていることを特徴とする請求項１１〜１９のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２１】
前記処理すべき表面と活性ガスのカーテンとの間の相対的運動の方向に応じて、相補処理ガスの流れ用および残渣ガスの流れ用に各経路の動作を逆転させるための手段を含んでいること特徴とする請求項１１〜２０のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２２】
音響振動源または超音波振動源を含んでいることを特徴とする請求項１１〜２１のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２３】
前記プラズマの電気アークを閉じ込める安定化流路１２が多孔質で耐熱性の誘電性材料で作られていることを特徴とする請求項１１に記載の装置。
【請求項２４】
前記安定化流路が、前記プラズマの電気アークの軸に沿って、互いに電気絶縁された複数のダイヤフラムに区分された金属で形成されていることを特徴とする請求項１１に記載の装置。
【請求項２５】
前記処理すべき表面の支持体がコンベヤの形で設けられており、前記活性ガスのカーテンと前記処理すべき表面として機能する前記コンベヤの表面との接触により生ずる紛体を運び出すことを特徴とする紛体形成のための請求項１１〜２４のいずれか一項に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
特に、処理すべき表面からの電気アークの軸の距離Ｌおよび活性ガスの流れる速度ｖは、関係式Ｌ／ｖ＜τ（ここでτは粒子の準安定状態の緩和時間である）を満たすように調節される。