【手続補正書】
【提出日】平成16年11月29日(2004.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
床面に対してパッドを介し、保持された除振台と、
前記除振台を駆動する除振台アクチュエータと、
前記除振台の変位を検出する除振台変位センサと、
少なくとも前記除振台変位センサからの出力に基づいて前記除振台の振動を抑制するように前記除振台アクチュエータを駆動制御する除振台振動制御系と、
前記除振台に設置された載置台と、
前記載置台を駆動する載置台アクチュエータと、
前記載置台の変位を検出する載置台変位センサと、
前記載置台変位センサの出力に基づいて前記載置台の位置を抑制するように前記載置台アクチュエータを駆動制御する載置台位置制御系と、
前記載置台との間で載置物を受け渡しするために前記床面に設置された載置物受け渡し手段により、前記載置物を少なくとも載置するときには、前記除振台変位センサにより検出された前記除振台の変位情報を前記載置台の変位情報に変換する変位情報変換手段を有し、
前記変位情報変換手段により求められた変位情報に基づいて、前記載置台の変位を前記載置台位置制御系により補正することを特徴とする除振装置。
【請求項２】
請求項１に記載の除振装置において、
前記除振台振動制御系は少なくとも前記除振台変位センサからの出力に基づいて前記除振台の振動を抑制する振動制御ループをさらに有し、
前記除振台変位センサの出力に対して有効あるいは無効に選択可能な所定幅の不感帯を前記振動制御ループに設けたことを特徴とする除振装置。
【請求項３】
マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して基板ステージ上の基板に転写する露光装置であって、
前記請求項１または２に記載の除振装置を露光本体部の除振装置として具備することを特徴とする露光装置。
【請求項４】
基板ステージに載置された基板にパターンを露光する露光装置において、
前記基板ステージとは独立して設けられ、前記基板ステージとの間で前記基板を受け渡す基板ローダと、
前記基板ステージを保持する露光本体部と、
前記露光本体部の変位に関する情報を検出する変位センサと、
前記基板ローダから前記基板を受け取る際に、前記変位センサの検出結果に基づいて前記基板ステージの位置を補正する制御装置とを備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項５】
請求項４記載の露光装置において、
前記パターンはレチクルステージに載置されたレチクルに形成されており、
前記レチクルステージと前記基板ステージとを走査して前記パターンを前記基板に露光することを特徴とする露光装置。
【請求項６】
レチクルステージに載置されたレチクルのパターンを投影光学系を介して基板ステージに載置された基板に露光する露光装置において、
前記レチクルステージと前記基板ステージとを走査する走査手段と、
前記投影光学系とは独立して設けられ、前記基板ステージとの間で前記基板を受け渡す基板ローダと、
前記投影光学系を保持する露光本体部と、
前記露光本体部の変位に関する情報を検出する変位センサと、
前記基板ローダから前記基板を受け取る際に、前記変位センサの検出結果に基づいて前記基板ステージの位置を補正する制御装置とを備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項７】
請求項６記載の露光装置において、
前記露光本体部は、前記レチクルステージを保持していることを特徴とする露光装置。
【請求項８】
請求項６または７記載の露光装置において、
前記露光本体部は前記基板ステージを保持していることを特徴とする露光装置。
【請求項９】
レチクルステージに載置されたレチクルに形成されたパターンを基板に露光する露光装置であって、
前記レチクルステージとは独立して設けられ、前記レチクルステージとの間で前記レチクルを受け渡すレチクル受け渡し手段と、
前記レチクルステージを保持する露光本体部と、
前記露光本体部の変位に関する情報を検出する変位センサと、
前記レチクル受け渡し手段から前記レチクルを受け取る際に、前記変位センサの検出結果に基づいて前記レチクルステージの位置を補正する制御装置とを備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
請求項９記載の露光装置において、
前記露光本体部は、前記パターンを前記基板に投影する投影光学系を保持していることを特徴とする露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
請求項４記載の発明は、基板ステージ（２０）に載置された基板（Ｗ）にパターンを露光する露光装置であって、基板ステージ（２０）とは独立して設けられ、基板ステージ（２０）との間で基板（Ｗ）を受け渡す基板ローダ（２００）と、基板ステージ（２０）を保持する露光本体部（４０）と、露光本体部（４０）の変位に関する情報を検出する変位センサ（１０）と、基板ローダ（２００）から基板（Ｗ）を受け取る際に、変位センサ（１０）の検出結果に基づいて基板ステージ（２０）の位置を補正する制御装置（１１）とを備えている。
請求項５記載の発明は、パターンがレチクルステージ（１０１）に載置されたレチクル（Ｒ）に形成されており、レチクルステージ（１０１）と基板ステージ（２０）とを走査してパターンを基板（Ｗ）に露光している。
請求項６記載の発明は、レチクルステージ（１０１）に載置されたレチクル（Ｒ）のパターンを投影光学系（ＰＬ）を介して基板ステージ（２０）に載置された基板（Ｗ）に露光する露光装置であって、レチクルステージ（１０１）と基板ステージ（２０）とを走査する走査手段と、投影光学系（ＰＬ）とは独立して設けられ、基板ステージ（２０）との間で基板（Ｗ）を受け渡す基板ローダ（２００）と、投影光学系（ＰＬ）を保持する露光本体部（４０）と、露光本体部（４０）の変位に関する情報を検出する変位センサ（１０）と、基板ローダ（２００）から基板（Ｗ）を受け取る際に、変位センサ（１０）の検出結果に基づいて基板ステージ（２０）の位置を補正する制御装置（１１）とを備えている。
請求項７記載の発明は、露光本体部（４０）がレチクルステージ（１０１）を保持している。
請求項８記載の発明は、露光本体部（４０）が基板ステージ（２０）を保持している。
請求項９記載の発明は、レチクルステージ（１０１）に載置されたレチクル（Ｒ）に形成されたパターンを基板（Ｗ）に露光する露光装置であって、レチクルステージ（１０１）とは独立して設けられ、レチクルステージ（１０１）との間でレチクル（Ｒ）を受け渡すレチクル受け渡し手段と、レチクルステージ（１０１）を保持する露光本体部（４０）と、露光本体部（４０）の変位に関する情報を検出する変位センサ（１０）と、レチクル受け渡し手段からレチクル（Ｒ）を受け取る際に、変位センサ（１０）の検出結果に基づいてレチクルステージ（１０１）の位置を補正する制御装置（１１）とを備えている。
請求項１０記載の発明は、露光本体部（４０）は、パターンを基板（Ｗ）に投影する投影光学系（ＰＬ）を保持している。
なお、本発明の構成を説明する上記課題を解決するための手段の項では、本発明を分かりやすくするために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより本発明が実施の形態に限定されるものではない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
【発明の効果】
（１）  請求項１または３に記載の発明によれば、除振台変位センサからの出力に基づいて載置台の変位量を求め、除振台の振動による載置台の変位を相殺するように載置台を駆動することにより、除振台の残留振動の整定を待つことなく、高い位置決め精度を有した状態でレチクルやウエハなどの載置物を載置台に載置することができる。これにより高スループット化が実現可能となる。
（２）  請求項２または３に記載の発明によれば、除振台振動制御系の振動制御ループに所定幅の不感帯を設けることにより、アクチュエータからの不必要な発熱を防止でき、この発熱に伴う精度の低下を防止することができる。このとき、除振台振動制御系に不感帯を設けることにより振動が発生するが、この振動で生ずる載置台の変位は、載置台を駆動することにより相殺して、高い位置決め精度を維持することができる。
（３）請求項４から請求項８に記載の発明によれば、変位センサの検出結果に基づいて基板ステージの位置を補正しているので、精度よく基板ステージに基板を受け取ることができる。
（４）請求項９及び請求項１０に記載の発明によれば、変位センサの検出結果に基づいてレチクルステージの位置を補正しているので、精度よくレチクルステージにレチクルを受け取ることができる。