【手続補正書】
【提出日】平成15年8月29日(2003.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁式反射体において、該電磁式反射体が、
ｄ間隔と、第一電磁周波数を反射する第一曲率とを有する多層構造部(18)を含み、更に、多層構造部が第二電磁周波数を反射するように多層構造部の第一曲率を第二曲率に変化させる移動装置(42)を含む、電磁式反射体。
【請求項２】
前記多層構造部(18)が基板(12)上に被着される、請求項１に記載された電磁式反射体。
【請求項３】
前記ｄ間隔が横方向に段階付けされている、請求項１に記載された電磁式反射体。
【請求項４】
前記第一電磁周波数と前記第二電磁周波数がそれぞれｘ線周波数である、請求項１に記載された電磁式反射体。
【請求項５】
前記運動装置(42)がベンダーであり、多層構造部が第二曲率を有するように該ベンダーが多層構造部の第一曲率を変化させる、請求項１に記載された電磁式反射体。
【請求項６】
前記ベンダーが４点ベンダー(42)である、請求項５に記載された電磁式反射体。
【請求項７】
ｘ線反射体において、該ｘ線反射体が、
基板(12)と、該基板(12)に結合された多層構造部(18)とを含み、しかも該多層構造部が固定曲率を有しており、
かつまた前記多層構造部が、少なくとも２つの異なるｄ間隔群を有し、しかも前記多層構造部が複数のｘ線周波数を反射することができる、ｘ線反射体。
【請求項８】
前記少なくとも２つの異なるｄ間隔群の、より大きい間隔のものが、前記多層構造部(18)の頂部に配置させられている、請求項７に記載されたｘ線反射体。
【請求項９】
前記多層構造部(18)が横方向に段階付けられている、請求項７に記載されたｘ線反射体。
【請求項１０】
前記多層構造部(18)が前記基板(12)上に被着されている、請求項７に記載されたｘ線反射体。
【請求項１１】
電磁式光学素子において、該電磁式光学素子が、
第一電磁エネルギー波長を反射する第一曲率から第二波長を反射する第二曲率に変化する曲率を有する多層面(18)を含む、電磁式光学素子。
【請求項１２】
前記多層構造部が横方向に段階付けられている、請求項１１に記載された電磁式光学素子。
【請求項１３】
前記第一電磁周波数と前記第二電磁周波数がそれぞれｘ線周波数である、請求項１１に記載された電磁式光学素子。
【請求項１４】
更に、前記多層面(18)の曲率を変化させるためのベンダー(42)を含んでいる、請求項１１に記載された電磁式光学素子。
【請求項１５】
可変曲率のｘ線反射体において、該ｘ線反射体が、
基板(12)と、該基板(12)に結合された多層面(18)とを含み、しかも該多層面が横方向に段階付けされており、かつまた
多層面の曲率が変更されると、反射される電磁放射の周波数が変化する、可変曲率のｘ線反射体。
【請求項１６】
放物線形状を有し、放物線形状のｐ係数が電磁反射体の曲率を変更するために変化せしめられる、請求項１に記載された電磁反射体。
【請求項１７】
長円形状を有し、長円形状の短半径が、電磁反射体の曲率を変更するために、変化せしめられる、請求項１に記載された電磁反射体。
【請求項１８】
多層反射体に多くの電磁周波数を反射させる方法において、該方法が、
電磁エネルギーを発生させる段階と、
前記電磁エネルギーを多層反射体(10, 26, 28)に向ける段階と、
前記向ける段階中に、ブラッグの法則にしたがって前記電磁エネルギーを反射させるために、多層反射体(10)の曲率を調節する段階とを含む、多層反射体に多くの電磁周波数を反射させる方法。
【請求項１９】
ｘ線反射体において、該ｘ線反射体が、
第一ｘ線周波数を反射するように構成され第一方向に沿って計測されるｄ間隔を有する第一多層区画と、
第二方向に沿って第一多層区画に並置される第二多層区画であり、第二ｘ線周波数を反射するように構成され前記第一方向に沿って計測されるｄ間隔を有している第二多層区画と、を有するｘ線反射体。
【請求項２０】
前記第一多層区画と第二多層区画とがそれぞれ長円形状の表面を有するように構成されている、請求項１９に記載されたｘ線反射体。
【請求項２１】
前記第一多層区画と第二多層区画とがそれぞれ放物線形状の表面を有するように構成されている、請求項１９に記載されたｘ線反射体。
【請求項２２】
電磁エネルギーシステムであり、
電磁反射体(10,26,28)に電磁エネルギーを向ける電磁エネルギー源(13,30,32)を備え、
電磁反射体は、
ｄ間隔と、第一電磁周波数を反射する第一曲率とを有する多層構造部(18)と、
前記多層構造部が第二電磁周波数を反射するように多層構造部の第一曲率を第二曲率に変化させる移動装置(42)とを含む、電磁エネルギーシステム。
【請求項２３】
電磁エネルギー源(13,30,32)がｘ線を電磁反射体(10,26,28)に向ける、請求項２２に記載された電磁エネルギーシステム。
【請求項２４】
電磁エネルギーシステムであり、
電磁式光学素子(10,26,28)に電磁エネルギーを向ける電磁エネルギー源(13,30,32)を備え、
電磁式光学素子は、
第一電磁エネルギー波長を反射する第一曲率から第二波長を反射する第二曲率に変化する曲率を有する多層面(18)を含む、電磁エネルギーシステム。
【請求項２５】
電磁エネルギー源(13,30,32)がｘ線を電磁式光学素子(10,26,28)に向ける、請求項２４に記載された電磁エネルギーシステム。
【請求項２６】
前記電磁エネルギーは、ｘ線を含む、請求項１８に記載された方法。
【請求項２７】
ｘ線システムであり、
ｘ線反射体(10,26,28)に電磁エネルギーを向けるｘ線源(13,30,32)を備え、
ｘ線反射体は、
第一ｘ線周波数を反射するように構成され第一方向に沿って計測されるｄ間隔を有する第一多層区画(18)と、
第二方向に沿って第一多層区画に並置される第二多層区画(18)であり、第二ｘ線周波数を反射するように構成され前記第一方向に沿って計測されるｄ間隔を有している第二多層区画(18)と、を有する、ｘ線システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
放物線状反射鏡の場合、反射面の曲率は次式で表される：
2003506732.tif 000001
この式においてｐは放物線パラメータである。正確な入射角は次式によって与えられる：
2003506732.tif 000002
この式において、ｐは概して約．１の数であり、ｘは概して数１０ミリメートルから１００ミリメートル余の範囲にある。θは
2003506732.tif 000003
の場合には、小さい値であるため、入射角は次式で表すことができる：
2003506732.tif 000004
小さい入射角近似値を使用することにより、ｄ間隔は次式で決定される：
2003506732.tif 000005
以上に挙げた方程式によって、放物線形状の多層反射器の曲率または放物線パラメータ（ρ）を変更することで、異なる反射波長に対し、同じｄ間隔を維持できることが示されている。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
「実ｄ間隔」ｄrは次の方程式で与えられる：
2003506732.tif 000006
この式において、δは光学係数の減分（ｏｐｔｉｃａｌ  ｉｎｄｅｘ  ｄｅｃｒｅｍｅｎｔ）である。したがって、より高い次数の計測によって、より「実ｄ間隔」に近いｄ間隔が与えられる。しかし、光学係数は、波長の２乗に比例するので、ｓｉｎ2θとなる。したがって、前記方程式は下記のようになる：
2003506732.tif 000007
この式において、Ａはエネルギーに依存しない定数である。このことが意味するのは、「１次ｄ間隔」が、異なる波長に対し不変であり、異なる波長で計測されたｄ間隔は不変のままであるということである。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図１０に示した４点ベンダー４２は、反射器３６の曲率を変更する精密アクチュエータ４４ａ，４４ｂを有している。支柱４３ａ−ｂは固定されているが、部材４５ａ−ｂは、反射器３６の曲率を変更するために動作する。ベンダー４２は、放物線状多層反射器の放物線パラメータｐと、長円形多層反射器の短半径ｂとを、既に詳述したように、変化させる。