【手続補正書】
【提出日】平成17年5月30日(2005.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
共通電極が形成されている第１基板と、
前記共通電極に対応する位置に形成されている画素電極及びこれと重なる維持電極を有する第2基板とを含み、
前記共通電極と前記画素電極のうちの１つに開口部が設けられており、前記維持電極は前記開口部に対応する位置に形成されている液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１基板と前記第２基板との間に注入されており、負の誘電率異方性を有する液晶物質をさらに含む請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記液晶物質はキラルネマチック液晶である請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記液晶物質はキラル添加剤が０．０１−３．０wt％含有されているネマチック液晶である請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第１基板及び第２基板は、前記液晶物質の分子軸を垂直に配向する配向膜をさらに含む請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記配向膜はラビングされていない請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記開口部は２つ以上であり、線形である請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記開口部の幅は３−１５μｍの範囲である請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記開口部間の距離は８−５０μｍの範囲である請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
多数のゲート線と多数のデータ線とが設けられており、前記ゲート線及びデータ線の交差で定義される各単位の画素領域に、画素電極、そして前記画素電極と重なって維持畜電器を形成する維持電極が形成されている第１基板と、
前記第１基板と向かい合って、前記維持電極に対応する位置に開口部を有する共通電極が形成されている第２基板とを含む液晶表示装置。
【請求項１１】
前記第１基板と前記第２基板との間に注入されており、負の誘電率異方性を有する液晶物質をさらに含む請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記液晶物質はキラルネマチック液晶である請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記液晶物質はキラル添加剤が０．０１−３．０wt％含有されているネマチック液晶である請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記第１基板及び第２基板は、前記液晶物質の分子軸を垂直に配向する配向膜をさらに含む請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記配向膜はラビングされていない請求項１４に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記開口部及び前記維持電極は、単位画素領域に２つ以上が形成されている請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記開口部は前記データ線と平行に線形に形成されている請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記開口部は前記ゲート線と平行に線形に形成されている請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項１９】
前記開口部は前記データ線及び前記ゲート線と０−９０度の角度をなし、線形に形成されている請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項２０】
前記開口部は互いに平行に形成されている請求項１９に記載の液晶表示装置。
【請求項２１】
前記第１基板及び第２基板は、前記液晶物質の分子軸を垂直に配向する配向膜をさらに含む請求項２０に記載の液晶表示装置。
【請求項２２】
前記配向膜はラビング処理されている請求項２１に記載の液晶表示装置。
【請求項２３】
前記配向膜のラビング方向は、前記開口部の方向と０−１３５度の角度をなす請求項２２に記載の液晶表示装置。
【請求項２４】
前記開口部の幅は３−１５μｍの範囲である請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項２５】
単位画素領域内における前記開口部間の距離は８−５０μｍの範囲である請求項２４に記載の液晶表示装置。
【請求項２６】
前記ゲート線と前記維持電極は互いに連結されている請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項２７】
金属または有機材料からなる基板間隔材をさらに含む請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項２８】
多数のゲート線と多数のデータ線が形成されており、前記ゲート線及び前記データ線の交差で定義される各単位の画素領域に、画素電極、そして前記画素電極と重なって維持畜電器を形成する維持電極が形成されており、前記画素電極は前記維持電極に対応する位置に設けられた開口部を有する第１基板と、
前記第１基板と向かい合って、共通電極が形成されている第２基板とを含む液晶表示装置。
【請求項２９】
前記第１基板と前記第２基板との間に注入されており、負の誘電率異方性を有する液晶物質をさらに含む請求項２８に記載の液晶表示装置。
【請求項３０】
前記液晶物質はキラルネマチック液晶である請求項２９に記載の液晶表示装置。
【請求項３１】
前記液晶物質はキラル添加剤が０．０１−３．０wt％含有されているネマチック液晶である請求項２９に記載の液晶表示装置。
【請求項３２】
前記第１基板及び第２基板は、前記液晶物質の分子軸を垂直に配向する配向膜をさらに含む請求項２８に記載の液晶表示装置。
【請求項３３】
前記配向膜はラビングされていない請求項３２に記載の液晶表示装置。
【請求項３４】
前記開口部及び前記維持電極は、単位画素領域に２つ以上が形成されている請求項２８に記載の液晶表示装置。
【請求項３５】
前記開口部は前記データ線と平行に線形に形成されている請求項３４に記載の液晶表示装置。
【請求項３６】
前記開口部は前記ゲート線と平行に線形に形成されている請求項３４に記載の液晶表示装置。
【請求項３７】
前記開口部は前記データ線及び前記ゲート線と０−９０度の角度をなし、線形に形成されている請求項３４に記載の液晶表示装置。
【請求項３８】
前記開口部は互いに平行に形成されている請求項３７に記載の液晶表示装置。
【請求項３９】
前記第１基板及び第２基板は、前記液晶物質の分子軸を垂直に配向する配向膜をさらに含む請求項３８に記載の液晶表示装置。
【請求項４０】
前記配向膜はラビング処理されている請求項３９に記載の液晶表示装置。
【請求項４１】
前記配向膜のラビング方向は、前記開口部の方向と０−１３５度の角度をなす請求項４０に記載の液晶表示装置。
【請求項４２】
前記開口部の幅は３−１５μｍの範囲である請求項３４に記載の液晶表示装置。
【請求項４３】
単位画素領域内における前記開口部間の距離は、８−５０μｍの範囲である請求項４２に記載の液晶表示装置。
【請求項４４】
前記ゲート線、データ線及び維持電極と前記画素電極との間に形成されている有機絶縁膜をさらに含む請求項２８に記載の液晶表示装置。
【請求項４５】
前記有機絶縁膜の厚さは３μｍ以上である請求項４４に記載の液晶表示装置。
【請求項４６】
金属または有機材料からなる基板間隔材をさらに含む請求項２８に記載の液晶表示装置。
【請求項４７】
多数のゲート線と多数のデータ線とが形成されており、前記ゲート線及び前記データ線の交差で定義される各単位の画素領域に画素電極が形成されている第１基板と、
前記第１基板と向かい合って共通電極が形成されている第２基板と、
を含み、前記共通電極と前記画素電極のうちの１つに線形の開口部が設けられ、隣り合う単位画素領域の前記開口部は互いに異なる方向に形成されている液晶表示装置。
【請求項４８】
前記第１基板に前記開口部に対応する位置に形成されており、前記画素電極と重なって維持畜電器を形成する維持電極をさらに含む請求項４７に記載の液晶表示装置。
【請求項４９】
隣り合う単位画素領域の前記線形開口部は、前記データ線及び前記ゲート線とそれぞれ平行に形成されている請求項４８に記載の液晶表示装置。
【請求項５０】
任意の単位画素領域の前記線形開口部は、前記データ線及び前記ゲート線と０−９０度の角度をなし、前記任意の単位画素領域に隣接した画素領域の前記線形開口部は、前記任意の単位画素領域の線形開口部を１８０度回転させた形状に形成されている請求項４８に記載の液晶表示装置。
【請求項５１】
前記開口部及び前記維持電極は、単位画素領域に２つ以上が形成されている請求項４７に記載の液晶表示装置。
【請求項５２】
前記開口部の幅は３−１５μｍの範囲である請求項５１に記載の液晶表示装置。
【請求項５３】
単位画素領域内における前記開口部間の距離は８−５０μｍの範囲である請求項５２に記載の液晶表示装置。
【請求項５４】
前記第１基板と前記第２基板との間に注入されており、負の誘電率異方性を有する液晶物質をさらに含む請求項４７に記載の液晶表示装置。
【請求項５５】
前記液晶物質はキラルネマチック液晶である請求項５４に記載の液晶表示装置。
【請求項５６】
前記液晶物質はキラル添加剤が０．０１−３．０wt％含有されているネマチック液晶である請求項５４に記載の液晶表示装置。
【請求項５７】
前記第１基板及び第２基板は、前記液晶物質の分子軸を垂直に配向する配向膜をさらに含む請求項５４に記載の液晶表示装置。
【請求項５８】
前記配向膜はラビングされていない請求項５７に記載の液晶表示装置。
【請求項５９】
金属または有機材料からなる基板間隔材をさらに含む請求項５４に記載の液晶表示装置。
【請求項６０】
第１基板と、
前記第１基板と離れて位置する第２基板と、
前記第１基板または前記第２基板に形成されている第１及び第２隣接画素領域と、
前記第１及び第２隣接画素領域にそれぞれ形成されている第１及び第２電界生成電極と、を含み、
前記第１電界生成電極は第１開口部と第２開口部を有し、前記第２電界生成電極は第３開口部と第４開口部を有し、
前記第１開口部と前記第２開口部のうちの少なくとも１つの方向は、前記第３開口部と前記第４開口部のうちの少なくとも１つの方向と異なる、液晶表示装置。
【請求項６１】
前記第１基板または前記第２基板のうちのいずれか１つに形成された前記第１及び第２隣接画素領域は、複数のゲート線及びデータ線で形成され、
前記第１及び第２開口部の方向は前記ゲート線と平行し、前記第３及び第４開口部の方向は前記ゲート線と垂直をなす、請求項６０に記載の液晶表示装置。
【請求項６２】
前記第１及び第２開口部は前記第１電界生成電極の左側面で下方向にのびており、前記第３及び第４開口部は前記第２電界生成電極の右側面で下方向にのびている、請求項６０に記載の液晶表示装置。
【請求項６３】
前記第１電界生成電極の左側面と前記第１及び第２開口部の下面とがなす角は、３０度以上５０度以下であり、
前記第２電界生成電極の右側面と前記第３及び前記第４開口部の下面とがなす角は、３０度以上５０度以下である、請求項６２に記載の液晶表示装置。
【請求項６４】
前記第１電界生成電極の左側面と前記第１及び第２開口部の下面とがなす角は、１２０度以上１５０度以下であり、
前記第２電界生成電極の右側面と前記第３及び前記第４開口部の下面とがなす角は、１２０度以上１５０度以下である、請求項６２に記載の液晶表示装置。
【請求項６５】
前記第１開口部と前記第２開口部とは８μm以上５０μm以下の距離で離間しており、
前記第３開口部と前記第４開口部とは８μm以上５０μm以下の距離で離間している、請求項６０に記載の液晶表示装置。
【請求項６６】
前記第１基板と、
前記第１基板と離れて位置する第２基板と、
前記第１基板または前記第２基板に形成されている画素領域と、
前記画素領域に形成されている電界生成電極と、
を含み、前記電界生成電極は、第１方向にのびている第１開口部と、前記第１方向と異なる第２方向にのびている第２開口部を有する、液晶表示装置。
【請求項６７】
前記第１開口部は前記電界生成電極の左側面で上方向にのびており、
前記第２開口部は前記電界生成電極の左側面で下方向にのびている、請求項６６に記載の液晶表示装置。
【請求項６８】
前記電界生成電極の左側面と前記第１開口部の上面とがなす角は、１２０度以上１５０度以下であり、前記電界生成電極の左側面と前記第２開口部の下面とがなす角は３０度以上５０度以下である、請求項６７に記載の液晶表示装置。
【請求項６９】
前記第１開口部と前記第２開口部とは８μm以上５０μm以下の距離で離間している、請求項６６に記載の液晶表示装置。