【手続補正書】
【提出日】平成17年3月4日(2005.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素含有ガス流の製造方法において、
（ａ）蒸気を発生させる工程と、
（ｂ）第１の希釈用金属に溶解した第１の反応性金属からなる溶融金属混合物に反応器中で前記蒸気を接触させる工程であって、前記溶融金属混合物が少なくとも約１１００℃の温度にあり、前記第１の反応性金属の少なくとも一部が第１の酸化金属へ酸化され、前記蒸気の少なくとも一部が還元されて水素を生成する、前記蒸気を接触させる工程と、
（ｃ）前記水素含有ガス流を前記反応器から抜き取る工程とからなることを特徴とする水素含有ガス流の製造方法。
【請求項２】
前記蒸気接触工程の間、前記溶融金属混合物が前記第１の反応性金属の純融点よりも低い温度にある請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記溶融金属混合物が少なくとも約１１３４℃の温度にある請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記蒸気接触工程の間、前記溶融金属混合物が約１５３８℃よりも高くない温度にある請求項１乃至３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記蒸気接触工程の間、前記溶融金属混合物が約１４００℃よりも高くない温度にある請求項１乃至４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記蒸気接触工程の間、前記溶融金属混合物が約１１３４℃〜約１３００℃の温度にある請求項１乃至５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記蒸気接触工程の間、前記溶融金属混合物が約１２００℃〜約１３００℃の温度にある請求項１乃至６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記溶融金属混合物が少なくとも約３重量％の前記第１の反応性金属を含む請求項１乃至７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記溶融金属混合物が少なくとも約１０重量％の前記第１の反応性金属を含む請求項１乃至８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記溶融金属混合物が少なくとも約２０重量％の前記第１の反応性金属を含む請求項１乃至９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記第１の反応性金属は鉄、タングステン、モリブデンおよびコバルトからなる群から選択される請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記第１の反応性金属はゲルマニウム、インジウム、亜鉛およびアンチモンからなる群から選択される請求項１、３乃至１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記第１の反応性金属が鉄である請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記第１の希釈用金属はスズ、銅およびニッケルからなる群から選択される請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記第１の希釈用金属がスズである請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記溶融金属混合物がさらに第２の反応性金属を含む請求項１乃至１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
前記溶融金属混合物がさらに第２の希釈用金属を含む請求項１乃至１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記水素含有ガス流が少なくとも約３０容量％の水素ガスを含む請求項１乃至１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
前記第１の酸化金属は、前記溶融金属混合物より少なくとも約１０％低い密度を有する請求項１乃至１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
前記水素含有ガス流から水を抜き取る工程をさらに含む請求項１乃至１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
前記蒸気接触工程が先端部浸漬ランスを使用して蒸気を前記溶融金属混合物中に注入することからなる請求項１乃至２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】
フラックスを前記溶融金属混合物に加えて、スラグ層の生成を促進する工程をさらに含む請求項１乃至２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３】
前記フラックスは、ＳｉＯ２、ＦｅＯ、ＣａＯ、ＭｇＯ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏおよびその混合物からなる群から選択される請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記第１の酸化金属は、前記溶融金属混合物より少なくとも約１０％低い密度を有し、それによって前記第１の酸化金属が前記溶融金属混合物中を前記スラグ層へと上昇する請求項２２または２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記スラグ層中の前記第１の酸化金属を前記第１の溶融金属に還元し、前記第１の溶融金属が前記溶融金属混合物中に再び溶解する工程とをさらに含む請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
前記第１の酸化金属を前記第１の反応性金属に還元する工程をさらに含む請求項１乃至２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２７】
前記還元する工程は前記第１の酸化金属を還元剤と接触させることを含む請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記還元する工程は前記還元剤と酸素含有ガスとを前記反応器中に注入することを含む請求項２６または２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記還元剤は粒子化炭素源と石炭材料のうちの一つである請求項２７または２８に記載の方法。
【請求項３０】
前記注入工程が前記還元剤および前記酸素含有ガスを浸漬ランスを通して前記反応器中に注入することを含む請求項２８または２９に記載の方法。
【請求項３１】
前記蒸気接触工程を停止する工程をさらに含む請求項１乃至３０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３２】
前記水素含有ガス流を第２の反応器中で粒子状石炭に少なくとも約７００℃の温度で接触させる工程と、
メタン含有ガス流を前記第２の反応器から抜き取る工程とを更に含む請求項１乃至３１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３３】
コークス生成物を前記第２の反応器から抜き取る工程をさらに含む請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
コークス生成物を前記第２の反応器から抜き取り、前記コークス生成物を前記第１の反応器に注入して前記酸化鉄を鉄に還元する工程をさらに含む請求項３２に記載の方法。
【請求項３５】
前記水素含有ガス流を窒素含有ガス流と接触させてアンモニアを生成する工程を更に含む請求項１乃至３４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３６】
水素含有ガス流の製造方法において、
（ａ）蒸気を発生させる工程と、
（ｂ）反応器中で溶融金属混合物に前記蒸気を接触させる工程であって、前記溶融金属混合物は第１の希釈用金属に溶解した少なくとも２０重量％の鉄を含み、前記第１の希釈用金属はスズであり、前記鉄の少なくとも一部は酸化鉄に酸化され、前記蒸気の少なくとも一部は還元されて水素を生成する、前記蒸気を接触させる工程と、
（ｃ）水素含有ガス流を前記反応器から抜き取る工程とを含む水素含有ガス流の製造方法。
【請求項３７】
前記溶融金属混合物はさらに第２の反応性金属を含む請求項３６に記載の方法。
【請求項３８】
前記溶融金属混合物はさらに第２の希釈用金属を含む請求項３６または３７に記載の方法。
【請求項３９】
前記蒸気接触工程の間、前記溶融金属混合物が約１５３８℃よりも低い温度にある請求項３６乃至３８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４０】
前記蒸気接触工程の間、前記溶融金属混合物が約１４００℃よりも高くない温度にある請求項３６乃至３９のいずれか一項に記載の方法。
前記
【請求項４１】
前記蒸気接触工程の間、前記溶融金属混合物が約１１３４℃〜約１３００℃の温度にある請求項３６乃至４０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４２】
前記蒸気接触工程の間、前記溶融金属混合物が約１２００℃〜約１３００℃の温度にある請求項３６乃至４１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４３】
前記水素含有ガス流が少なくとも約３０容量％の水素ガスを含む請求項３６乃至４２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４４】
前記水素含有ガス流から水を抜き取る工程をさらに含む請求項３６乃至４３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４５】
前記蒸気接触工程が先端部浸漬ランスを使用して蒸気を前記溶融金属混合物中に注入することからなる請求項３６乃至４４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４６】
前記酸化鉄を鉄に還元するように前記酸化鉄を還元剤と接触させる工程を含む請求項３６乃至４５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４７】
フラックスを前記溶融金属混合物に加えて、前記溶融金属混合物の上におけるスラグ層の生成を促進する工程をさらに含む請求項３６乃至４５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４８】
前記フラックスは、ＳｉＯ２、ＦｅＯ、ＣａＯ、ＭｇＯ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏおよびその混合物からなる群から選択される請求項４７に記載の方法。
【請求項４９】
鉄からなる固体金属粒子が前記溶融金属混合物中に分散されている請求項３６乃至４０及び４３乃至４８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５０】
前記蒸気接触工程の間、前記溶融金属混合物が約８９５℃〜約１１３４℃の温度にある請求項４９に記載の方法。