【手続補正書】
【提出日】平成15年7月23日(2003.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）約１０またはそれ以上の組成物のｐＨをもたらすのに十分な量の１種またはそれ以上の金属イオンフリー塩基；
（ｂ）１０ないし１３の範囲に少なくとも１つのｐＫａを有する少なくとも１種の化合物を含む、液浴安定化に有効な量の少なくとも１種の液浴安定化剤；
（ｃ）水；および
（ｄ）組成物の重量で約０.０１％ないし約５％の水溶性金属イオンフリー珪酸塩、
を含む、集積回路基板ストリッピングまたは洗浄用の水性アルカリ性組成物。
【請求項２】
金属イオンフリー塩基が、約１０ないし約１３のｐＨをもたらすのに十分な量で存在する、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
少なくとも１種の液浴安定化剤が、１１ないし１２.５の範囲に少なくとも１つのｐＫａを有する少なくとも１種の化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
少なくとも１種の液浴安定化剤が、アセトン・オキシム、過酸化水素、サリチル酸、５−スルホサリチル酸、リン酸、２−ヒドロキシピリジン、４−ヒドロキシピリジン、レゾルシノール、２−メチルレゾルシノール、サリチルアルドキシム、２−メチル−１,５−ペンタンジアミン、１,２−エタンジアミン、１,３−プロパンジアミン、１,４−ブタンジアミン、１,６−ヘキサンジアミン、１,８−オクタンジアミン、１,１２−ドデカンジアミン、１,３−ジアミノペンタンおよびオルシノールからなる群から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
少なくとも１種の液浴安定化剤が、重量で０.１％ないし５０％の濃度で添加される、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
少なくとも１種の液浴安定化剤が、２−ヒドロキシピリジン、４−ヒドロキシピリジン、レゾルシノールおよび２−メチルレゾルシノールからなる群から選択される少なくとも１種の化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
組成物が、１種またはそれ以上のキレート剤または錯形成剤をさらに含有し、キレート剤または錯形成剤の濃度が重量で約０.０１％ないし約１０％である、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
液浴安定化剤が過酸化水素であり、キレート剤または錯形成剤が（１,２−シクロヘキシレンジニトリロ）テトラ酢酸（ＣｙＤＴＡ）およびホスホン酸からなる群から選択される、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
キレート剤または錯形成剤がアミノカルボン酸およびホスホン酸からなる群から選択される、請求項７に記載の組成物。
【請求項１０】
キレート剤または錯形成剤が、（エチレンジニトリロ）テトラ酢酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、１,３−ジアミノ−２−ヒドロキシプロパン−Ｎ,Ｎ,Ｎ',Ｎ'−テトラ酢酸、Ｎ,Ｎ,Ｎ',Ｎ'−エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、シス−（１,２−シクロヘキシレンジニトリロ）テトラ酢酸、１,５,９−トリアザシクロドデカン−Ｎ,Ｎ',Ｎ''−トリス（メチレンホスホン酸）（ＤＯＴＲＰ）、１,４,７,１０−テトラアザシクロドデカン−Ｎ,Ｎ',Ｎ'',Ｎ'''−テトラキス（メチレンホスホン酸）（ＤＯＴＰ）、ニトリロトリス（メチレン）トリホスホン酸、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、１−ヒドロキシエチレン−１,１−ジホスホン酸、ビス（ヘキサメチレン）トリアミンホスホン酸、１,４,７−トリアザシクロノナン−Ｎ,Ｎ',Ｎ''−トリス（メチレンホスホン酸）（ＮＯＴＰ）、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、２−ホスホノブタン−１,２,４−トリカルボン酸およびトランス−（１,２−シクロヘキシレンジニトリロ）テトラ酢酸からなる群から選択される、請求項７に記載の組成物。
【請求項１１】
１種またはそれ以上の水溶性有機共溶媒をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１２】
水溶性有機共溶媒の濃度が重量で約０.１％ないし約３０％である、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
該水溶性有機共溶媒が１−ヒドロキシアルキル−２−ピロリジノン、アルコールおよびポリヒドロキシ化合物からなる群から選択される、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１４】
該水溶性有機共溶媒がグリセロールである、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１５】
１種またはそれ以上の水溶性界面活性剤をさらに含有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項１６】
水溶性界面活性剤の濃度が重量で約０.０１％ないし約１％である、請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
塩基が水酸化物および有機アミンからなる群から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項１８】
塩基が水酸化第４級アンモニウム、水酸化アンモニウムおよび有機アミンからなる群から選択される、請求項１７に記載の組成物。
【請求項１９】
塩基が、コリン、水酸化テトラブチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化モノメチルトリエタノールアンモニウム、水酸化モノメチルトリエチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム、水酸化テトラエタノールアンモニウム、２−メチル−１,５−ペンタンジアミン、１,２−エタンジアミン、１,３−プロパンジアミン、１,４−ブタンジアミン、１,５−ペンタンジアミン、１,６−ヘキサンジアミン、１,７−ヘプタンジアミン、１,８−オクタンジアミン、１,９−ノナンジアミン、１,１０−デカンジアミン、１,１１−ウンデカンジアミン、１,１２−ドデカンジアミンおよび１,３−ジアミノペンタンからなる群から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項２０】
水溶性金属イオンフリー珪酸塩が、珪酸アンモニウムおよび珪酸第４級アンモニウムからなる群から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項２１】
水溶性金属イオンフリー珪酸塩が、珪酸テトラメチルアンモニウムである、請求項１に記載の組成物。
【請求項２２】
重量で約０.１％−２５％の水酸化テトラメチルアンモニウム、および重量で約０.０１％−１％の珪酸テトラメチルアンモニウムを含有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項２３】
重量で約０.０１％−１％のトランス−（１,２−シクロヘキシレンジニトリロ)テトラ酢酸をさらに含有する、請求項２２に記載の組成物。
【請求項２４】
液浴安定化剤が組成物の重量で約０.１％ないし約５０％の量で組成物中に存在する、請求項１に記載の組成物。
【請求項２５】
基板表面を有する半導体ウェーハー基板を、
（ａ）１０またはそれ以上の組成物のｐＨをもたらすのに十分な量の１種またはそれ以上の金属イオンフリー塩基；
（ｂ）１０ないし１３の範囲に少なくとも１つのｐＫａを有する少なくとも１種の化合物を含む、液浴安定化に有効な量の少なくとも１種の液浴安定化剤；および
（ｃ）水；
を含む水性アルカリ性組成物と、該基板表面から不必要な汚染物および残渣を洗浄するのに十分な時間および温度で接触させることを含む、アルミニウム、銅またはそれらの合金の存在を有する半導体ウェーハー基板の洗浄方法であって、但し、半導体ウェーハー基板がアルミニウムまたはアルミニウム合金の存在を有するときは、組成物は組成物の重量で約０．０１％ないし約５％の水溶性金属イオンフリー珪酸塩も含有する、洗浄方法。
【請求項２６】
半導体ウェーハー基板を組成物と約１分間ないし約３０分間接触させる、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
半導体ウェーハー基板を組成物と約１０℃ないし約８５℃の温度で接触させる、請求項２５に記載の方法。
【請求項２８】
すすぎおよび乾燥の工程をさらに含む、請求項２５に記載の方法。
【請求項２９】
組成物が約１０ないし約１３のｐＨをもたらすのに十分な量の金属イオンフリー塩基を含有する、請求項２５に記載の方法。
【請求項３０】
少なくとも１種の液浴安定化剤が、１１ないし１２.５の範囲に少なくとも１つのｐＫａを有する少なくとも１種の化合物を含む、請求項２５に記載の方法。
【請求項３１】
少なくとも１種の液浴安定化剤が、アセトン・オキシム、過酸化水素、サリチル酸、５−スルホサリチル酸、リン酸、２−ヒドロキシピリジン、４−ヒドロキシピリジン、レゾルシノール、２−メチルレゾルシノール、サリチルアルドキシム、２−メチル−１,５−ペンタンジアミン、１,２−エタンジアミン、１,３−プロパンジアミン、１,４−ブタンジアミン、１,６−ヘキサンジアミン、１,８−オクタンジアミン、１,１２−ドデカンジアミン、１,３−ジアミノペンタンおよびオルシノールからなる群から選択される、請求項２５に記載の方法。
【請求項３２】
少なくとも１種の液浴安定化剤が、重量で０.１％ないし５０％の濃度で添加される、請求項２５に記載の方法。
【請求項３３】
少なくとも１種の液浴安定化剤が、２−ヒドロキシピリジン、４−ヒドロキシピリジン、レゾルシノールおよび２−メチルレゾルシノールからなる群から選択される、請求項２５に記載の方法。
【請求項３４】
組成物が、１種またはそれ以上のキレート剤または錯形成剤をさらに含有し、キレート剤または錯形成剤の濃度が重量で約０.０１％ないし約１０％である、請求項２５に記載の方法。
【請求項３５】
液浴安定化剤が過酸化水素であり、キレート剤または錯形成剤が（１,２−シクロヘキシレンジニトリロ）テトラ酢酸（ＣｙＤＴＡ）およびホスホン酸からなる群から選択される、請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】
キレート剤または錯形成剤がアミノカルボン酸およびホスホン酸からなる群から選択される、請求項３４に記載の方法。
【請求項３７】
キレート剤が、（エチレンジニトリロ）テトラ酢酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、１,３−ジアミノ−２−ヒドロキシプロパン−Ｎ,Ｎ,Ｎ',Ｎ'−テトラ酢酸、Ｎ,Ｎ,Ｎ',Ｎ'−エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、シス−（１,２−シクロヘキシレンジニトリロ）テトラ酢酸、１,５,９−トリアザシクロドデカン−Ｎ,Ｎ',Ｎ''−トリス（メチレンホスホン酸）（ＤＯＴＲＰ）、１,４,７,１０−テトラアザシクロドデカン−Ｎ,Ｎ',Ｎ'',Ｎ'''−テトラキス（メチレンホスホン酸）（ＤＯＴＰ）、ニトリロトリス（メチレン）トリホスホン酸、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、１−ヒドロキシエチレン−１,１−ジホスホン酸、ビス（ヘキサメチレン）トリアミンホスホン酸、１,４,７−トリアザシクロノナン−Ｎ,Ｎ',Ｎ''−トリス（メチレンホスホン酸）（ＮＯＴＰ）、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、２−ホスホノブタン−１,２,４−トリカルボン酸およびトランス−（１,２−シクロヘキシレンジニトリロ）テトラ酢酸からなる群から選択される、請求項３４に記載の方法。
【請求項３８】
組成物が、組成物中に１種またはそれ以上の水溶性有機共溶媒をさらに含有する、請求項２５に記載の方法。
【請求項３９】
水溶性有機共溶媒の濃度が重量で約０.１％ないし約３０％である、請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
該水溶性有機共溶媒が１−ヒドロキシアルキル−２−ピロリジノン、アルコールおよびポリヒドロキシ化合物からなる群から選択される、請求項３８に記載の方法。
【請求項４１】
該水溶性有機共溶媒がグリセロールである、請求項３８に記載の方法。
【請求項４２】
組成物が１種またはそれ以上の水溶性界面活性剤を組成物中にさらに含有する、請求項２５に記載の方法。
【請求項４３】
さらに水溶性界面活性剤の濃度が重量で約０.０１％ないし約１％である、請求項４２に記載の組成物。
【請求項４４】
組成物中の塩基が水酸化物および有機アミンからなる群から選択される、請求項２５に記載の方法。
【請求項４５】
組成物中の塩基が、水酸化第４級アンモニウム、水酸化アンモニウムおよび有機アミンからなる群から選択される、請求項４４に記載の方法。
【請求項４６】
組成物中の塩基が、コリン、水酸化テトラブチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化モノメチルトリエタノールアンモニウム、水酸化モノメチルトリエチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム、水酸化テトラエタノールアンモニウム、２−メチル−１,５−ペンタンジアミン、１,２−エタンジアミン、１,３−プロパンジアミン、１,４−ブタンジアミン、１,５−ペンタンジアミン、１,６−ヘキサンジアミン、１,７−ヘプタンジアミン、１,８−オクタンジアミン、１,９−ノナンジアミン、１,１０−デカンジアミン、１,１１−ウンデカンジアミン、１,１２−ドデカンジアミンおよび１,３−ジアミノペンタンからなる群から選択される、請求項２５に記載の方法。
【請求項４７】
組成物中の水溶性金属イオンフリー珪酸塩が、珪酸アンモニウムおよび珪酸第４級アンモニウムからなる群から選択される、請求項２５に記載の方法。
【請求項４８】
組成物中の水溶性金属イオンフリー珪酸塩が、珪酸テトラメチルアンモニウムである、請求項２５に記載の方法。
【請求項４９】
組成物が、重量で約０.１％−２５％の水酸化テトラメチルアンモニウム、および重量で約０.０１％−１％の珪酸テトラメチルアンモニウムを含有する、請求項２５に記載の方法。
【請求項５０】
組成物が、（１,２−シクロヘキシレンジニトリロ）テトラ酢酸またはホスホン酸からなる群から選択される、重量で０.０１％−１％のキレート剤または錯形成剤をさらに含有する、請求項４９に記載の方法。
【請求項５１】
組成物中に存在する１種またはそれ以上の液浴安定化剤が組成物の重量で約０.１％ないし約５０％の量で存在する、請求項２５に記載の方法。
【請求項５２】
集積回路基板ストリッピングまたは洗浄用の水性アルカリ性組成物の液浴寿命を延長する方法であって、該組成物が、
（ａ）約１０またはそれ以上の組成物のｐＨをもたらすのに十分な量の、１種またはそれ以上の金属イオンフリー塩基
（ｂ）１０ないし１３の範囲に少なくとも１つのｐＫａを有する少なくとも１種の化合物を含む、液浴安定化に有効な量の少なくとも１種の液浴安定化剤；
（ｃ）水；および
（ｄ）組成物の重量で約０.０１％ないし約５％の水溶性金属イオンフリー珪酸塩、
を含み、該方法が、１０ないし１３の範囲に少なくとも１つのｐＫａを有する少なくとも１種の化合物を含む、液浴安定化に有効な量の少なくとも１種の液浴安定化剤を該組成物に添加することを含むものである、方法。
【請求項５３】
該少なくとも１種の液浴安定化剤が、１１ないし１２.５の範囲に少なくとも１つのｐＫａを有する化合物を含む、請求項５２に記載の方法。
【請求項５４】
該少なくとも１種の液浴安定化剤が、アセトン・オキシム、過酸化水素、サリチル酸、５−スルホサリチル酸、リン酸、２−ヒドロキシピリジン、４−ヒドロキシピリジン、レゾルシノール、２−メチルレゾルシノール、サリチルアルドキシム、２−メチル−１,５−ペンタンジアミン、１,２−エタンジアミン、１,３−プロパンジアミン、１,４−ブタンジアミン、１,６−ヘキサンジアミン、１,８−オクタンジアミン、１,１２−ドデカンジアミン、１,３−ジアミノペンタンおよびオルシノールからなる群から選択される、請求項５２に記載の方法。
【請求項５５】
該少なくとも１種の液浴安定化剤が、組成物の重量で０.１％ないし５０％の濃度で添加される、請求項５１に記載の方法。
【請求項５６】
該少なくとも１種の液浴安定化剤が、２−ヒドロキシピリジン、４−ヒドロキシピリジン、レゾルシノールおよび２−メチルレゾルシノールからなる群から選択される、請求項５１に記載の方法。
【請求項５７】
該少なくとも１種の液浴安定化剤が、組成物の重量で０.１％ないし３５％の濃度で添加される、請求項５５に記載の方法。