【手続補正書】
【提出日】平成16年10月7日(2004.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光学的な記録装置及び方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を、振幅変調された光と位相変調された光とを含む変調光に変換する光変換手段と、前記変調光を被露光物面に結像させる結像手段とを含み、
前記光変換手段は、前記光源から導かれた光の少なくとも１部を振幅変調する第１の空間光変調器と、前記第１の空間光変調器で変調された光を結像させる第１の結像光学系と、前記第１の結像光学系により結像された光の少なくとも１部を位相変調する第２の空間光変調器とを含み、前記結像手段は、前記第２の空間光変調器で変調された光を前記被露光物面に結像させる第２の結像光学系を含む、光学的な記録装置。
【請求項２】
光源からの光を、振幅変調された光と位相変調された光とを含む変調光に変換する光変換手段と、前記変調光を被露光物面に結像させる結像手段とを含み、
前記光変換手段は、前記光源から導かれた光を第１の光と第２の光とに分離する光分離手段と、前記第１の光の少なくとも１部を振幅変調する第１の空間光変調器と、前記第２の光の少なくとも１部を位相変調する第２の空間光変調器と、前記第１の空間光変調器で変調された光と前記第２の空間光変調器で変調された光とを合成する光合成手段とを含み、
前記結像手段は、前記合成された光を前記被露光物面に結像させる結像光学系を含む、光学的な記録装置。
【請求項３】
前記振幅変調する空間光変調器は、偏光板と液晶空間光変調素子とを含む、請求項１又は２に記載の光学的な記録装置。
【請求項４】
前記位相変調する空間光変調器は、液晶空間光変調素子を含む、請求項１又は２に記載の光学的な記録装置。
【請求項５】
前記被露光物面に結像させる結像光学系は、縮小光学系である、請求項１又は２に記載に光学的な記録装置。
【請求項６】
光源からの光を、振幅変調された光と位相変調された光とを含む変調光に光変換するステップと、前記変調光を被露光物面に結像させるステップとを含み、
前記変換するステップは、前記光源からの光を該光の少なくとも１部を振幅変調する第１の空間光変調器に入射させるステップと、前記第１の空間光変調器で変調された光を第１の結像光学系により結像させるステップと、前記第１の結像光学系により結像された光を該光の少なくとも１部を位相変調する第２の空間光変調器に入射させるステップとを含み、
前記結像させるステップは、前記第２の空間光変調器で変調された光を前記被露光物面に結像させるステップを含む、光学的な記録方法。
【請求項７】
光源からの光を、振幅変調された光と位相変調された光とを含む変調光に光変換するステップと、前記変調光を被露光物面に結像させるステップとを含み、
前記変換するステップは、前記光源からの光を光分離手段により第１の光と第２の光とに分離するステップと、前記第１の光を該光の少なくとも１部を振幅変調する第１の空間光変調器に入射させるステップと、前記第２の光を該光の少なくとも１部を位相変調する第２の空間光変調器に入射させるステップと、前記第１の空間光変調器で変調された光と前記第２の空間光変調器で変調された光とを光合成手段により合成するステップとを含み、
前記結像させるステップは、前記合成された光を前記被露光物面に結像させるステップを含む、光学的な記録方法。
【請求項８】
前記光変換により形成される露光パターンと前記被露光物面が露光される箇所とを変えながら連続的又は間欠的に走査しながら前記被露光物面に前記変調光を結像させることにより最終の露光パターンを形成する、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
光源からの光を、振幅変調された光と位相変調された光とを含む変調光に光変換するステップと、前記変調光を被露光物面に結像させるステップとを含み、
前記光変換により形成される露光パターンと前記被露光物面が露光される箇所とを変えながら連続的又は間欠的に走査しながら前記被露光物面に前記変調光を結像させることにより最終の露光パターンを形成する、光学的な記録方法。
【請求項１０】
光源からの光を、振幅変調された光と位相変調された光とを含む変調光に変換する光変換手段と、前記変調光を被露光物面に結像させる結像手段とを含み、
前記光変換手段は、前記光源から導かれた光の少なくとも１部を振幅変調する第１の空間光変調器と、前記第１の空間光変調器で変調された光を結像させる第１の結像光学系と、前記第１の結像光学系により結像された光の少なくとも１部を位相変調する第２の空間光変調器とを含み、前記結像手段は、前記第２の空間光変調器で変調された光を前記被露光物面に結像させる第２の結像光学系を含む、露光装置。
【請求項１１】
光源からの光を、振幅変調された光と位相変調された光とを含む変調光に変換する光変換手段と、前記変調光を被露光物面に結像させる結像手段とを含み、
前記光変換手段は、前記光源から導かれた光を第１の光と第２の光とに分離する光分離手段と、前記第１の光の少なくとも１部を振幅変調する第１の空間光変調器と、前記第２の光の少なくとも１部を位相変調する第２の空間光変調器と、前記第１の空間光変調器で変調された光と前記第２の空間光変調器で変調された光とを合成する光合成手段とを含み、
前記結像手段は、前記合成された光を前記被露光物面に結像させる結像光学系を含む、露光装置。
【請求項１２】
光源からの光を、振幅変調された光と位相変調された光とを含む変調光に変換するステップと、前記変調光を被露光物面に結像させるステップとを含み、
前記変換するステップは、前記光源からの光を該光の少なくとも１部を振幅変調する第１の空間光変調器に入射させるステップと、前記第１の空間光変調器で変調された光を第１の結像光学系により結像させるステップと、前記第１の結像光学系により結像された光を該光の少なくとも１部を位相変調する第２の空間光変調器に入射させるステップとを含み、
前記結像させるステップは、前記第２の空間光変調器で変調された光を前記被露光物面に結像させるステップを含む、露光方法。
【請求項１３】
光源からの光を、振幅変調された光と位相変調された光とを含む変調光に変換するステップと、前記変調光を被露光物面に結像させるステップとを含み、
前記変換するステップは、前記光源からの光を光分離手段により第１の光と第２の光とに分離するステップと、前記第１の光を該光の少なくとも１部を振幅変調する第１の空間光変調器に入射させるステップと、前記第２の光を該光の少なくとも１部を位相変調する第２の空間光変調器に入射させるステップと、前記第１の空間光変調器で変調された光と前記第２の空間光変調器で変調された光とを光合成手段により合成するステップとを含み、
前記結像させるステップは、前記合成された光を前記被露光物面に結像させるステップを含む、露光方法。
【請求項１４】
光源からの光を、振幅変調された光と位相変調された光とを含む変調光に変換するステップと、前記変調光を被露光物面に結像させるステップとを含み、
前記光変換により形成される露光パターンと前記被露光物面が露光される箇所とを変えながら連続的又は間欠的に走査しながら前記被露光物面に前記変調光を結像させることにより最終の露光パターンを形成する、光学的な記録方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体集積回路や液晶表示装置等の製造において、フォトリソグラフィ工程で用いる光学的な記録装置及び記録方法並びに露光装置及び露光方法に関し、特に、露光光の波長と同程度の線幅を有する露光パターン等を形成するために好適な光学的な記録装置及び記録方法並びに露光装置及び露光方法に関する。