【手続補正書】
【提出日】平成17年2月23日(2005.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、ポリオルガノシロキサン、ポリサルフォン、ポリテトラフルオロエチレン、及びポリシロキサンからなる群から選択された高分子材料で作られた高分子体を含む、高分子合成物であって、前記高分子体は、安定したポリアクリレート改質表面を有し、前記表面は親水性であり、潤滑性があり、かつ抗菌性であって、かつ前記抗菌性を生じさせる銀剤を有する、前記高分子合成物。
【請求項２】
前記高分子材料がシリコーンである、請求項１記載の高分子合成物。
【請求項３】
前記高分子材料は、インプラント、カテーテル、ステント、創傷被覆材、心臓弁、チュービング、ピン、及び、鉗子からなる群から選択されたデバイスとして提供される、請求項２記載の高分子合成物。
【請求項４】
前記銀剤が、乳酸銀、リン酸銀、クエン酸銀、酢酸銀、安息香酸銀、塩化銀、炭酸銀、ヨウ化銀、ヨウ素酸銀、硝酸銀、ラウリン酸銀、スルファジアジン銀、パルミチン酸銀、及びこれらの混合物からなる群から選択された銀塩を含む、請求項３記載の高分子合成物。
【請求項５】
前記安定したポリアクリレート改良表面が、アクリル酸、メタクリル酸、２−カルボキシルエチル・アクリレート、４−ビニル安息香酸、イタコン酸、及び、これらの混合物からなる群から選択されたモノマーのフリーラジカル重合により形成されたものである、請求項４記載の高分子合成物。
【請求項６】
高分子材料上に潤滑性のある抗菌性改質表面を形成する方法であって：
光重合開始剤で被覆された高分子材料をフリーラジカル重合可能な水溶性モノマーと共に定温放置し；
定温放置している高分子材料にＵＶ光を当てて、前記高分子材料上に改質表面を生成し；
前記改質された高分子表面をイオン化し；かつ
前記イオン化改質高分子表面に銀剤を付与することを含む、前記方法。
【請求項７】
前記高分子材料が、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、ポリオルガノシロキサン、ポリサルフォン、ポリテトラフルオロエチレン、及びポリシロキサンからなる群から選択される、請求項６記載の方法。
【請求項８】
前記高分子材料が、シリコーンである、請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記高分子材料が、インプラント、カテーテル、ステント、創傷被覆材、心臓弁、チュービング、ピン、及び、鉗子からなる群より選択されたデバイスとして提供される、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記モノマーが、アクリル酸、メタクリル酸、２−カルボキシルエチル・アクリレート、４−ビニール安息香酸、イタコン酸、及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
前記光重合開始剤が、過酸エステル、α−ヒドロキシケトン、ベンジル・ケタール、ベンゾインとその誘導体、及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記光重合開始剤が、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−アセトフェノン、ｐ−ベンゾイル・タートブチル過安息香酸塩、及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
前記水溶性モノマーが、さらに光重合開始剤を含む、請求項６記載の方法。
【請求項１４】
前記光重合開始剤が、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−アセトフェノン、ｐ−ベンゾイル・タートブチル過安息香酸塩、及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
前記銀剤を、イオン化改良表面を有する前記イオン化改質高分子材料を、銀塩溶液に浸漬することで付加する、請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
前記改質高分子表面に、ヒドロゲルを共有結合する、請求項１４記載の方法。
【請求項１７】
前記ヒドロゲルが、ゼラチンとポリ（エチレン酸化物）の架橋マトリックスを含み、銀剤の金属イオン封鎖を行う、請求項１６記載の方法。
【請求項１８】
前記銀剤が、乳酸銀、リン酸銀、クエン酸銀、酢酸銀、安息香酸銀、塩化銀、炭酸銀、ヨウ化銀、ヨウ素酸銀、硝酸銀、ラウリン酸銀、スルファジアジン銀、パルミチン酸銀、及びこれらの混合物からなる群から選択された銀塩を含む、請求項１５、又は１７のいずれか１項記載の高分子合成物。
【請求項１９】
高分子材料上に潤滑性のある抗菌性改質表面を形成する方法であって：
高分子材料を光重合開始剤で予備被覆し；
前記予備被覆された高分子材料をビニール・カルボン酸モノマーの水性溶液中に浸漬し、該定温放置している高分子材料にＵＶ光を当てて、前記高分子材料上に改質非潤滑性ポリアクリレート表面を生成し；
前記高分子材料の前記ポリアクリレート表面を塩基水溶液に浸漬することでイオン化し；
ポリアクリレート表面を電解質溶液に浸漬して陽イオンで飽和し；
前記陽イオン飽和ポリアクリレート表面に銀を付加する、前記方法。
【請求項２０】
前記予備被覆された高分子材料を、モノマーに浸漬する前にさらに洗浄し、乾燥させる、請求項１９記載の方法。
【請求項２１】
前記高分子材料が、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、ポリオルガノシロキサン、ポリサルフォン、ポリテトラフルオロエチレン、及び、ポリシロキサンからなる群から選択される、請求項１９記載の方法。
【請求項２２】
前記高分子材料が、シリコーンである、請求項２１記載の方法。
【請求項２３】
前記高分子材料が、インプラント、カテーテル、ステント、創傷被覆材、心臓弁、チュービング、ピン、及び、鉗子からなる群より選択されたデバイスとして提供される、請求項２２記載の方法。
【請求項２４】
前記モノマーが、アクリル酸、メタクリル酸、２−カルボキシルエチル・アクリレート、４−ビニール安息香酸、イタコン酸、及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項２３記載の方法。
【請求項２５】
前記光重合開始剤が、過酸エステル、α−ヒドロキシケトン、ベンジル・ケタール、ベンゾインとその誘導体、及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項２４記載の方法。
【請求項２６】
前記光重合開始剤が、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−アセトフェノン、ｐ−ベンゾイル・タートブチル過安息香酸塩、及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項２５記載の方法。
【請求項２７】
前記水溶性モノマーの溶液が、さらに光重合開始剤を含む、請求項２６記載の方法。
【請求項２８】
前記光重合開始剤が、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−アセトフェノン、ｐ−ベンゾイル・タートブチル過安息香酸塩、及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項２７記載の方法。
【請求項２９】
前記イオン化高分子材料を銀塩溶液に浸漬して銀を付加する、請求項２８記載の方法。
【請求項３０】
前記イオン化ポリアクリレート表面にヒドロゲルを共有結合させて銀を付加し、前記ヒドロゲルが銀塩の金属イオン封鎖をする、請求項２８記載の方法。
【請求項３１】
前記銀塩が、乳酸銀、リン酸銀、クエン酸銀、酢酸銀、安息香酸銀、塩化銀、炭酸銀、ヨウ化銀、ヨウ素酸銀、硝酸銀、ラウリン酸銀、スルファジアジン銀、パルミチン酸銀、及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項２９、又は３０のいずれか１項記載の方法。
【請求項３２】
前記中和性電解質溶液のｐＨが少なくとも約８．０である、請求項１９記載の方法。
【請求項３３】
前記陽イオン飽和電解質溶液が、乳酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、クエン酸ナトリウム、リン酸二ナトリウム、酢酸カリウム、クエン酸カリウム、リン酸二カリウム、及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項３２記載の方法。
【請求項３４】
前記電解質溶液が乳酸ナトリウムである、請求項３３記載の方法。