【手続補正書】
【提出日】平成17年2月24日(2005.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光学系の製造方法，投影光学装置，露光装置，表示デバイス製造用の投影露光装置，露光方法および表示デバイスの製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光学部材を有する光学系の製造方法であって，
前記光学系を構成すべき複数の光学部材を用いて前記光学系を組み立てる第１工程と；
前記第１工程後に前記光学系に残存する像面湾曲を含む収差を計測する第２工程と；
前記光学系内部の少なくとも１つの光学部材をパワーの異なる光学部材と交換することにより，前記光学系の像面湾曲を補正する第３工程と；
を含むことを特徴とする光学系の製造方法。
【請求項２】
前記第２工程で計測された前記収差を補正するために，前記第３工程で交換する光学部材のパワーを求める第４工程をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の光学系の製造方法。
【請求項３】
前記第２工程および前記第３工程を複数回行うことを特徴とする請求項１または２に記載の光学系の製造方法。
【請求項４】
前記第３工程では，前記光学系内部の少なくとも１つのレンズをレンズ面の曲率が異なるレンズと交換することを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の光学系の製造方法。
【請求項５】
前記第３工程では，前記光学系内部の少なくとも１つのレンズを該レンズと同一硝材であるレンズと交換することを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の光学系の製造方法。
【請求項６】
複数の光学部材を有する光学系の製造方法であって，
前記光学系を構成すべき複数の光学部材を用いて前記光学系を組み立てる第１工程と；
前記第１工程後に前記光学系に残存する像面湾曲を含む収差を計測する第２工程と；
前記光学系内部の少なくとも１つの光学部材を非球面化することにより，前記光学系の像面湾曲を補正する第３工程と；
を含むことを特徴とする光学系の製造方法。
【請求項７】
前記第３工程は，
前記非球面化する前記光学部材の面の形状を計測する第４工程と；
前記第２工程による計測結果に基づいて前記光学部材に形成すべき面の形状を決定する第５工程と；
前記第５工程により決定された形状を有する面を前記光学部材に形成する第６工程と；
を含むことを特徴とする請求項６に記載の光学系の製造方法。
【請求項８】
複数の光学部材を有する光学系の製造方法であって，
前記光学系を構成すべき複数の光学部材を用いて前記光学系を組み立てる第１工程と；
前記第１工程後に前記光学系に残存する収差を計測する第２工程と；
前記光学系の倍率色収差を補正する第３工程と；
を含むことを特徴とする光学系の製造方法。
【請求項９】
前記第３工程では，前記光学系を構成する光学部材間の間隔を変更することを特徴とする請求項８に記載の光学系の製造方法。
【請求項１０】
前記第２工程で計測された前記収差を補正するために，前記第３工程で変更する前記間隔を求める第４工程をさらに含むことを特徴とする請求項９に記載の光学系の製造方法。
【請求項１１】
前記第２工程および前記第３工程を複数回行うことを特徴とする請求項８乃至１０の何れか一項に記載の光学系の製造方法。
【請求項１２】
第１物体の像を第２物体上に投影する投影光学装置であって，
請求項１乃至１１の何れか一項に記載の光学系の製造方法によって製造された光学系を含むことを特徴とする投影光学装置。
【請求項１３】
第１物体の像を第２物体上に投影する投影光学装置であって，
回転非対称なパワーを有し，かつ互いに近接して配置された少なくとも２つの非対称レンズと；
前記投影光学装置中のレンズ間隔を変更可能な第１調整手段と；
前記投影光学装置中の複数のレンズのうちの少なくとも１つのレンズを光軸に対して傾斜可能とする第２調整手段と；
前記投影光学装置中の複数のレンズのうちの少なくとも１つのレンズを光軸を横切る方向に沿って移動可能とする第３調整手段と；
前記少なくとも２つの非対称レンズの間の相対的な回転角を変更可能とする第４調整手段と；
を備え，
前記投影光学装置中の複数のレンズのうちの少なくとも１つのレンズは，該レンズと異なるレンズと交換可能に構成され，
前記第１手段乃至第４調整手段および前記交換により前記投影光学装置に残存する収差を調整可能であることを特徴とする投影光学装置。
【請求項１４】
前記非対称レンズのうち少なくとも２つは前記第１物体または前記第２物体近傍に配置されていることを特徴とする請求項１３に記載の投影光学装置。
【請求項１５】
前記非対称レンズのうち少なくとも２つは前記投影光学系の開口絞り近傍に配置されていることを特徴とする請求項１３または１４に記載の投影光学装置。
【請求項１６】
請求項１２乃至１５の何れか一項に記載の投影光学装置を具備し，
前記第１物体のパターンの像を前記投影光学装置を介して基板上に投影することを特徴とする露光装置。
【請求項１７】
前記第１物体としてのマスクを照明する照明光学系をさらに備えていることを特徴とする請求項１６に記載の露光装置。
【請求項１８】
表示デバイス製造用の投影露光装置であって，
請求項１２乃至１５の何れか一項に記載の投影光学装置を具備し，前記第１物体のパターンの像を前記投影光学装置を介して基板上に投影することを特徴とする表示デバイス製造用の投影露光装置。
【請求項１９】
前記第１物体としてのマスクを照明する照明光学系をさらに備えていることを特徴とする請求項１８に記載の表示デバイス製造用の投影露光装置。
【請求項２０】
所定のパターンを基板上に露光する露光方法において，
請求項１２乃至１５に何れか一項に記載の投影光学装置を用いて，前記第１物体としての前記パターンの像を前記第２物体としての前記基板上に形成することを特徴とする露光方法。
【請求項２１】
表示デバイスの製造方法であって，
請求項１２乃至１５の何れか一項に記載の投影光学装置を用いて，前記第１物体としての前記パターンの像を前記第２物体としての前記基板上に投影する工程を備えていることを特徴とする表示デバイスの製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
第１発明の好ましい態様によれば，第３工程で行うパワー変更は，前記光学系内部の少なくとも１つのレンズをレンズ面の曲率が異なるレンズと交換する。また，前記第３工程で，前記光学系内部の少なくとも１つのレンズを該レンズと同一硝材であるレンズと交換することが好ましく，かかる構成によれば，レンズ交換によって色収差特性が大きく変動することはなく，パワーのみ効率的に変更できる。
本発明の第２の発明は，複数の光学部材を有する光学系の製造方法であって，前記光学系を構成すべき複数の光学部材を用いて前記光学系を組み立てる第１工程と，前記第１工程後に前記光学系に残存する像面湾曲を含む収差を計測する第２工程と，前記光学系内部の少なくとも１つの光学部材を非球面化することにより，前記光学系の像面湾曲を補正する第３工程と，を含むことを特徴とする光学系の製造方法を提供する。
第２発明の好ましい態様によれば，前記第３工程は，前記非球面化する前記光学部材の面の形状を計測する第４工程と，前記第２工程による計測結果に基づいて前記光学部材に形成すべき面の形状を決定する第５工程と，前記第５工程により決定された形状を有する面を前記光学部材に形成する第６工程と，を含む。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の第３の発明は，複数の光学部材を有する光学系の製造方法であって，前記光学系を構成すべき複数の光学部材を用いて前記光学系を組み立てる第1工程と，前記第1工程後に前記光学系に残存する収差を計測する第２工程と，前記光学系の倍率色収差を補正する第３工程と，を含むことを特徴とする光学系の製造方法を提供する。かかる構成によれば，光学系を組み立て後に残存する倍率色収差を補正することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
第３発明の好ましい態様によれば，前記第３工程では，前記光学系を構成する光学部材間の間隔を変更して，倍率色収差を補正する。間隔の変更は，例えばマイクロメータ，コマワッシャ，リングワッシャ等を用いて行うことができる。その際に，前記第２工程で計測された前記収差を補正するために，前記第３工程で変更する前記間隔を求める第４工程をさらに含むことが好ましい。変更すべき間隔は，例えば設計データに基づいてコンピュータによる光線追跡シミュレーション等を行うことにより求めることができる。また，前記第２工程および前記第３工程を複数回行うことが好ましく，これにより，倍率色収差の補正を最適に近づけることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また，本発明の第４の発明は，第１物体の像を第２物体上に投影する投影光学装置であって，上記に記載の光学系の製造方法によって製造された光学系を含むことを特徴とする投影光学装置を提供する。前述のように収差が補正された高性能の光学系を用いることにより，高精度に像を投影可能な投影光学装置を提供できる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
さらに，本発明の第５の発明は，第１物体の像を第２物体上に投影する投影光学装置であって，回転非対称なパワーを有し，かつ互いに近接して配置された少なくとも2つの非対称レンズと；前記投影光学装置中のレンズ間隔を変更可能な第１調整手段と；前記投影光学装置中の複数のレンズのうちの少なくとも１つのレンズを光軸に対して傾斜可能とする第２調整手段と；前記投影光学装置中の複数のレンズのうちの少なくとも１つのレンズを光軸を横切る方向に沿って移動可能とする第３調整手段と；前記少なくとも２つの非対称レンズの間の相対的な回転角を変更可能とする第４調整手段と；を備え，前記投影光学装置中の複数のレンズのうちの少なくとも１つのレンズは，該レンズと異なるレンズと交換可能に構成され，前記第１手段乃至第４調整手段および前記交換により前記投影光学装置に残存する収差を調整可能であることを特徴とする投影光学装置を提供する。ここで，回転非対称なパワーを有するレンズとしては，例えば，直交した方向でのパワーが異なるトーリックレンズ，あるいはアナモルフィックレンズを用いてもよい。前記第１調整手段としては，例えば，マイクロメータ，あるいはコマワッシャ等が考えられる。また，前記第２調整手段としてマイクロメータを用いてもよい。かかる構成によれば，また，残存する収差の調整が容易に可能であり，高い光学性能を達成可能な投影光学装置を提供できる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
第５発明の好ましい態様によれば，前記非対称レンズのうち少なくとも２つは前記第１物体または前記第２物体近傍に配置される。かかる構成によれば，第１物体，第２物体近傍では軸上光線と軸外光線とでレンズの異なる部分を透過する割合が多いため，軸上収差への影響を小さく抑えつつ，容易に軸外収差，例えば歪曲収差等を補正することができる。また，前記非対称レンズのうち少なくとも２つは前記投影光学系の開口絞り近傍に配置されているよう構成することが好ましい。かかる構成によれば，開口絞り近傍では，レンズを透過する光束が大きいため，軸上非点収差を容易に補正することができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
さらにまた，本発明の第６の発明は，上記に記載の投影光学装置を具備し，前記第１物体のパターンの像を前記投影光学装置を介して基板上に投影することを特徴とする露光装置を提供する。かかる構成によれば，パターンの像を基板上に高精度に投影することが可能な露光装置を提供することができる。
第６発明の好ましい態様によれば，前記第１物体としてのマスクを照明する照明光学系をさらに備えている。
また，本発明の第７の発明は，表示デバイス製造用の投影露光装置であって，上記に記載の投影光学装置を具備し，前記第１物体のパターンの像を前記投影光学装置を介して基板上の投影することを特徴とする表示デバイス製造用の投影露光装置を提供する。
第７発明の好ましい態様によれば，前記第１物体としてのマスクを照明する照明光学系をさらに備えている。
また，本発明の第８の発明は，所定のパターンを基板上に露光する露光方法において，上記に記載の投影光学装置を用いて，前記第１物体としての前記パターンの像を前記第２物体としての前記基板上に形成することを特徴とする露光方法を提供する。
また，本発明の第９の発明は，表示デバイスの製造方法であって，上記に記載の投影光学装置を用いて，前記第１物体としての前記パターンの像を前記第２物体としての前記基板上に投影する工程を備えていることを特徴とする表示デバイスの製造方法を提供する。