【手続補正書】
【提出日】平成16年6月17日(2004.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】プラズマ処理装置及びプロセス処理システム
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部を減圧可能に構成された処理室と、
前記処理室の天井部に設けられ、前記処理室にエッチングガスを導入する細孔を有し前記導入されたエッチングガスに比較的高周波の電圧を印加可能な上部電極と、
前記上部電極に対向して前記処理室の内部に設けられ、被処理基板を載置・保持可能でかつ前記導入されたエッチングガスに比較的低周波の電圧を印加可能な下部電極と、
前記下部電極に対向する下面を有し前記下面が前記上部電極の下面より低い位置になるように前記上部電極に接して配設された環状の電界補正リングと、
前記処理室に接続して設けられ、前記上部電極と前記下部電極との間隔を変動させる電極間隔変動機構と、
前記電極間隔変動機構に接続して設けられ、累積供用時間に応じて前記上部電極と前記下部電極との間隔を設定すべく前記電極間隔変動機構を制御する制御手段と
を具備することを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
前記制御手段は、
前記累積供用時間に対して設定されるべき前記上部電極と前記下部電極との間隔を記憶する累積供用時間対応位置メモリと、
供用時間を累算する計測器とを備え、
前記累算された供用時間を前記累積供用時間対応位置メモリに参照して得られた上部電極と下部電極との間隔に前記上部電極と前記下部電極との間隔を設定すべく前記電極間隔変動機構を制御することを特徴とする請求項１記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記制御手段は、
特定のプロセス条件時の単位供用時間が相当する標準プロセス条件時の供用時間を記憶する時間換算用メモリと、
前記特定のプロセス条件を入力する入力部と、
前記累積供用時間であって前記標準プロセス条件の時に対して設定されるべき前記上部電極と前記下部電極との間隔を記憶する累積供用時間対応位置メモリと、
前記入力された特定のプロセス条件から前記時間換算用メモリにより標準プロセス条件時に換算された供用時間を累算する計測器とを備え、
前記累算された供用時間を前記累積供用時間対応位置メモリに参照して得られた上部電極と下部電極との間隔に前記上部電極と前記下部電極との間隔を設定すべく前記電極間隔変動機構を制御することを特徴とする請求項１記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記制御手段は、
プロセス条件とその供用時間を送信する送信部と、
前記送信されたデータを累積的に考慮して返信される前記上部電極と前記下部電極との指定間隔を受信する受信部とを備え、
前記受信された指定間隔に前記上部電極と前記下部電極との間隔を設定すべく前記電極間隔変動機構を制御することを特徴とする請求項１記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
内部を減圧可能に構成された処理室と、
前記処理室の天井部に設けられ、前記処理室にエッチングガスを導入する細孔を有し前記導入されたエッチングガスに比較的高周波の電圧を印加可能な上部電極と、
前記上部電極に対向して前記処理室の内部に設けられ、被処理基板を載置・保持可能でかつ前記導入されたエッチングガスに比較的低周波の電圧を印加可能な下部電極と、
前記下部電極に対向する下面を有し前記下面が前記上部電極の下面より低い位置になるように前記上部電極に接して配設された環状の電界補正リングと、
前記処理室に接続して設けられ、前記上部電極と前記下部電極との間隔を変動させる電極間隔変動機構と、
前記電界補正リングの上下方向厚さを測定する厚さ測定機構と、
前記電極間隔変動機構と前記厚さ測定機構とに接続して設けられ、前記測定された上下方向厚さに応じて前記上部電極と前記下部電極との間隔を設定すべく前記電極間隔変動機構を制御する制御手段と
を具備することを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記厚さ測定機構は、前記電界補正リングを上下方向に伝搬する超音波を用いて前記電界補正リングの上下方向厚さを測定することを特徴とする請求項５記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
前記上部電極に前記比較的高周波の電圧を供給する電源をさらに具備し、前記電圧は、周波数が６０ＭＨｚ以上であることを特徴とする請求項１または５記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
前記下部電極に前記比較的低周波の電圧を供給する電源をさらに具備し、前記電圧は、周波数が２ＭＨｚ以上であることを特徴とする請求項１または５記載のプラズマ処理装置。
【請求項９】
前記電界補正リングは、前記上部電極と水平方向に接する面を有することを特徴とする請求項１または５記載のプラズマ処理装置。
【請求項１０】
前記下部電極に接して配設され、前記下部電極に載置・保持された被処理基板の回りに位置する環状の導電性リングと、前記導電性リングの回りに配設された環状の絶縁性リングとをさらに具備することを特徴とする請求項１または５記載のプラズマ処理装置。
【請求項１１】
前記電極間隔変動機構は、専ら前記下部電極を上下動させることにより前記上部電極と前記下部電極との間隔を変動させることを特徴とする請求項１または５記載のプラズマ処理装置。
【請求項１２】
内部を減圧可能に構成された処理室と、前記処理室の天井部に設けられ、前記処理室にエッチングガスを導入する細孔を有し前記導入されたエッチングガスに比較的高周波の電圧を印加可能な上部電極と、前記上部電極に対向して前記処理室の内部に設けられ、被処理基板を載置・保持可能でかつ前記導入されたエッチングガスに比較的低周波の電圧を印加可能な下部電極と、前記下部電極に対向する下面を有し前記下面が前記上部電極の下面より低い位置になるように前記上部電極に接して配設された環状の電界補正リングと、前記処理室に接続して設けられ、前記上部電極と前記下部電極との間隔を変動させる電極間隔変動機構と、前記電極間隔変動機構に接続して設けられ、前記上部電極と前記下部電極との間隔を設定すべく前記電極間隔変動機構を制御する制御手段と、送信部及び受信部からなる通信手段と、を具備したプロセス処理装置と、
前記通信手段とネットワークを介して通信し、前記送信部から受信したプロセス条件と供用時間とから、前記プロセス処理装置の動作履歴を記録・管理し、当該動作履歴から得た前記上部電極と前記下部電極との指定間隔を、前記受信部に送信するサーバーと、
を備え、前記プロセス処理装置の前記制御手段は、前記サーバーから受信した前記指定間隔に基づいて、前記上部電極と前記下部電極との間隔を設定することを特徴とするプロセス処理システム。
【請求項１３】
前記サーバーは、多数のプロセス処理装置の共用実績に基づいてデータの更新を行うことを特徴とする請求項１２記載のプロセス処理システム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、エッチングガスをプラズマ化しエッチャントイオンにより被処理基板にエッチング処理を行なうプラズマ処理装置及びプロセス処理システムに係り、特に、処理均一性の劣化を抑制するのに適するプラズマ処理装置及びプロセス処理システムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、上記した事情を考慮してなされたもので、エッチングガスをプラズマ化しエッチャントイオンにより被処理基板にエッチング処理を行なうプラズマ処理装置及びプロセス処理システムにおいて、供用時間の経過とともに発生する、被処理基板面上での処理均一性の劣化を抑制することが可能なプラズマ処理装置及びプロセス処理システムを提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
このプラズマ処理装置では、電界補正リングの削り取られ方を、その上下方向厚さを測定する厚さ測定機構で実際に測定する。そして、測定された結果に応じて上部電極と下部電極との間隔が変えられる。これにより、電界補正リングと下部電極との間隔を、累積供用時間によらず一定に保つことが可能になり、被処理基板面上での処理均一性の劣化を抑制することができる。
また、本発明のプロセス処理システムは、内部を減圧可能に構成された処理室と、前記処理室の天井部に設けられ、前記処理室にエッチングガスを導入する細孔を有し前記導入されたエッチングガスに比較的高周波の電圧を印加可能な上部電極と、前記上部電極に対向して前記処理室の内部に設けられ、被処理基板を載置・保持可能でかつ前記導入されたエッチングガスに比較的低周波の電圧を印加可能な下部電極と、前記下部電極に対向する下面を有し前記下面が前記上部電極の下面より低い位置になるように前記上部電極に接して配設された環状の電界補正リングと、前記処理室に接続して設けられ、前記上部電極と前記下部電極との間隔を変動させる電極間隔変動機構と、前記電極間隔変動機構に接続して設けられ、前記上部電極と前記下部電極との間隔を設定すべく前記電極間隔変動機構を制御する制御手段と、送信部及び受信部からなる通信手段と、を具備したプロセス処理装置と、前記通信手段とネットワークを介して通信し、前記送信部から受信したプロセス条件と供用時間とから、前記プロセス処理装置の動作履歴を記録・管理し、当該動作履歴から得た前記上部電極と前記下部電極との指定間隔を、前記受信部に送信するサーバーと、を備え、前記プロセス処理装置の前記制御手段は、前記サーバーから受信した前記指定間隔に基づいて、前記上部電極と前記下部電極との間隔を設定することを特徴とする。