【手続補正書】
【提出日】平成17年10月7日(2005.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光活性成分、並びに
ｉ）フォト酸レイビルアセタール単位、およびｉｉ）単位ｉ）とは異なるフォト酸レイビル単位を含むポリマー、
を含むフォトレジスト組成物。
【請求項２】
単位ｉｉ）がアセタール基以外である、請求項１記載のフォトレジスト。
【請求項３】
単位ｉｉ）がエステル基である、請求項１記載のフォトレジスト。
【請求項４】
単位ｉｉ）がアルキルアクリレート基により提供される、請求項１から３のいずれか１項記載のフォトレジスト。
【請求項５】
単位ｉｉ）がメタアクリレート単位である、請求項１から４のいずれか１項記載のフォトレジスト。
【請求項６】
ポリマーが以下の式Ｉに対応する、請求項１から５のいずれか１項記載のフォトレジスト；
【化１】
2003233190.tif 000001
［式中、Ａｃｅｔａｌはアセタール基であり、ＤＢＧはアセタール基以外のフォト酸レイビルデブロッキング基であり、ＳはＡｃｅｔａｌおよびＤＢＧとは異なる他のポリマー単位であり、ｘ、ｙおよびｚはポリマーの合計単位に基づくそれぞれのポリマー単位のモル％であり、ｘおよびｙはそれぞれ０よりも大きく、ｚは０以上である。］
【請求項７】
ポリマーが以下の式ＩＩに対応する、請求項１から６のいずれか１項記載のフォトレジスト；
【化２】
2003233190.tif 000002
［式中、それぞれのＡｃｅｔａｌは同じかまたは異なるアセタール基であり、ｎは１から５の整数であり、ＲはＣ４−２０アルキル基であり、Ｒ２は水素またはＣ１−８アルキル基であり、ｘ、ｙおよびｚはポリマーの合計単位に基づくそれぞれのポリマー単位のモル％であり、ｘおよびｙはそれぞれ０よりも大きく、ｚは０以上である。］
【請求項８】
アセタール基が、
−Ｏ−（ＣＸＹ）−Ｏ−（ＣＸ’Ｙ’）ｎ−Ｒ
［式中、Ｘ、Ｙ、Ｘ’およびＹ’はそれぞれ独立に水素または非水素の置換基であるかまたは、１以上の（ＣＸ’Ｙ’）は芳香族基であり、ｎは１以上の整数であり、Ｒはアルキルである。］
である、請求項６または７記載のフォトレジスト。
【請求項９】
ポリマーがｉ）フェニル環置換基としてのアセタール基、ｉｉ）アルキルアクリレートフォト酸レイビル基、およびｉｉｉ）フェノール性基を含む、請求項１から８のいずれか１項記載のフォトレジスト。
【請求項１０】
ポリマーが芳香族単位を含む、請求項１から８のいずれか１項記載のフォトレジスト。
【請求項１１】
ポリマーがフェニル単位を含む、請求項１から８のいずれか１項記載のフォトレジスト。
【請求項１２】
ポリマーが実質的に芳香族単位を含まない、請求項１から８のいずれか１項記載のフォトレジスト。
【請求項１３】
ポリマーがさらにラクトン、酸無水物、またはニトリル単位を含む、請求項１から１２のいずれか１項記載のフォトレジスト。
【請求項１４】
ポリマーがターポリマー、テトラポリマー、またはペンタポリマーである、請求項１から１３のいずれか１項記載のフォトレジスト。
【請求項１５】
少なくとも２つの異なるフォト酸レイビル基を含むポリマー成分、および光活性成分を含むフォトレジスト組成物。
【請求項１６】
ポリマー成分が、異なるフォト酸レイビル基を有する複数の繰り返し単位を含む樹脂を含む、請求項１５記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１７】
ポリマー成分がフォト酸レイビルエステル基とアセタール基を含む、請求項１５または１６記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１８】
ポリマー成分がフェノール性単位を有する樹脂を含む、請求項１５から１７のいずれか１項記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１９】
ポジ型フォトレジストレリーフイメージの形成方法であって、
（ａ）請求項１から１８のいずれか１項記載のフォトレジストのコーティング層を基体上に適用し、
（ｂ）フォトレジスト層を露光し、現像し、レリーフイメージを得ることを含む、方法。
【請求項２０】
フォトレジスト層が約３００ｎｍ未満の波長の放射線で露光される、請求項１９記載の方法。
【請求項２１】
フォトレジスト層が約２００ｎｍ未満の波長の放射線で露光される、請求項１９記載の方法。
【請求項２２】
フォトレジスト層が約２４８ｎｍ、１９３ｎｍまたは１５７ｎｍの波長の放射線で露光される、請求項１９記載の方法。
【請求項２３】
請求項１から１８のいずれか１項記載のフォトレジスト組成物のコーティング層をその上に有するマイクロエレクトロニックウエハー基体を含む、製品。
【請求項２４】
ｉ）フォト酸レイビルアセタール単位、および、ｉｉ）単位ｉ）とは異なるフォト酸レイビル単位を含む、ポリマー。
【請求項２５】
単位ｉｉ）がアセタール基とは異なる、請求項２４記載のポリマー。
【請求項２６】
単位ｉｉ）がエステル基である、請求項２４記載のポリマー。
【請求項２７】
単位ｉｉ）がアルキルアクリレート基により提供される、請求項２４から２６のいずれか１項記載のポリマー。
【請求項２８】
単位ｉｉ）がメタアクリレート単位である、請求項２４から２７のいずれか１項記載のポリマー。
【請求項２９】
ポリマーが以下の式Ｉに対応する、請求項２４から２８のいずれか１項記載のポリマー；
【化３】
2003233190.tif 000003
［式中、Ａｃｅｔａｌはアセタール基であり、ＤＢＧはアセタール基以外のフォト酸レイビルデブロッキング基であり、ＳはＡｃｅｔａｌおよびＤＢＧとは異なる他のポリマー単位であり、ｘ、ｙおよびｚはポリマーの合計単位に基づくそれぞれのポリマー単位のモル％であり、ｘおよびｙはそれぞれ０よりも大きく、ｚは０以上である。］
【請求項３０】
ポリマーが以下の式ＩＩに対応する、請求項２４から２９のいずれか１項記載のポリマー；
【化４】
2003233190.tif 000004
［式中、各Ａｃｅｔａｌは同じかまたは異なるアセタール基であり、ｎは１から５の整数であり、ＲはＣ４−２０アルキル基であり、Ｒ２は水素またはＣ１−８アルキル基であり、ｘ、ｙおよびｚはポリマーの合計単位に基づくそれぞれのポリマー単位のモル％であり、ｘおよびｙはそれぞれ０よりも大きく、ｚは０以上である。］
【請求項３１】
アセタール基が、
−Ｏ−（ＣＸＹ）−Ｏ−（ＣＸ’Ｙ’）ｎ−Ｒ
［式中、Ｘ、Ｙ、Ｘ’およびＹ’はそれぞれ独立に水素または非水素の置換基であるかまたは、１以上の（ＣＸ’Ｙ’）は芳香族基であり、ｎは１以上の整数であり、Ｒはアルキルである。］
である、請求項２９または３０記載のポリマー。
【請求項３２】
ポリマーがｉ）フェニル環置換基としてのアセタール基、ｉｉ）アルキルアクリレートフォト酸レイビル基、およびｉｉｉ）フェノール性基を含む、請求項２４から３１のいずれか１項記載のポリマー。
【請求項３３】
ポリマーが芳香族単位を含む、請求項２４から３２のいずれか１項記載のポリマー。
【請求項３４】
ポリマーがフェニル単位を含む、請求項２４から３３のいずれか１項記載のポリマー。
【請求項３５】
ポリマーが実質的に芳香族単位を含まない、請求項２４から３２のいずれか１項記載のポリマー。
【請求項３６】
ポリマーがさらにラクトン、酸無水物、またはニトリル単位を含む、請求項２４から３５のいずれか１項記載のポリマー。
【請求項３７】
ポリマーがターポリマー、テトラポリマー、またはペンタポリマーである、請求項２４から３６のいずれか１項記載のポリマー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
ｘ、ｙおよびｚはポリマーの合計単位に基づくそれぞれのポリマー単位のモル％であり、ｘおよびｙはそれぞれ０よりも大きく、ｚは０以上である。好適なｘ、ｙおよびｚは、ポリマー単位の合計に基づいて、それぞれ独立に約１から５，１０，１５，２０，２５，３０，３５，４０，４５，５０，５５，６０または７０モル％である。
２００ｎｍよりも大きな波長でイメージされるフォトレジストにおいて使用される本発明の好適なポリマーは、以下の式ＩＩのものである。