【手続補正書】
【提出日】平成16年4月7日(2004.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板の第１の表面上に設けられているポリマ材料にオリフィスを形成する方法であって、
前記半導体基板の第１の表面に、第１の厚さまで材料の第１の層を施すステップと、
次に、前記施された材料の第１の層の上に、第２の厚さまで材料の第２の層を施すステップと、
続いて、前記施された材料の第２の層にオリフィスの像を移し、前記施された材料の第１の層に流体井戸の像を移すステップと
からなる方法。
【請求項２】
請求項１の方法に従って製作された一組の穴を有する半導体基板。
【請求項３】
前記移されたオリフィスの像が存在する前記施された材料の第２の層の部分を現像し、オリフィス開口を設置するステップと、
前記移された流体井戸の像が存在する前記施された材料の第１の層の部分を現像し、流体井戸開口を設置するステップとをさらに含む請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記材料の第１の層を施す前記ステップが、光学染料を含む写真作像可能ポリイミド材料からなる遅い架橋結合ポリマを施すステップをさらに含み、
前記材料の第２の層を施す前記ステップが、光学染料を含まない写真作像可能ポリイミド材料からなる速い架橋結合ポリマを施すステップをさらに含む請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記材料の第１の層を施す前記ステップが、光学染料を含む写真作像可能エポキシ材料からなる遅い架橋結合ポリマを施すステップをさらに含み、
前記材料の第２の層を施す前記ステップが、光学染料を含まない写真作像可能エポキシ材料からなる速い架橋結合ポリマを施すステップをさらに含む請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記材料の第１の層を前記第１の厚さまで施すステップが、遅い架橋結合ポリマの層を厚さ４〜30μm施すステップをさらに含み、
前記材料の第２の層を前記第２の厚さまで施すステップが、速い架橋結合ポリマの層を厚さ４〜30μm施すステップをさらに含む請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記オリフィスの像を移し、前記流体井戸の像を移す前記ステップが、多重濃度レベルのマスクを通過する電磁エネルギにより、前記材料の第２の層及び前記材料の第１の層を露出し、それによって前記流体井戸の像及び前記オリフィスの像を形成するステップをさらに含む請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記オリフィスの像を移し、前記流体井戸の像を移す前記ステップが、さらに
前記材料の第２の層及び前記材料の第１の層を、高適用量のパターン化された電磁エネルギに露出し、それによって前記流体井戸の像を形成するステップ、
前記材料の第２の層及び前記材料の第１の層を、低適用量のパターン化された電磁エネルギに露出し、それによって前記オリフィスの像を形成するステップとを含む請求項１記載の方法。
【請求項９】
第１の表面及び第２の表面を備える半導体基板を有する流体ジェットプリントヘッドを形成する方法であって、当該半導体基板を介して延伸するとともに前記第２の表面上の流体送り溝と結合する流体送りスロットを有するものにおいて、
前記半導体基板の前記第１の表面に遅い架橋結合ポリマの層を施すステップと、
前記施された遅い架橋結合ポリマの層に速い架橋結合ポリマの層を施すステップと、
前記速い架橋結合ポリマ及び前記遅い架橋結合ポリマを、高適用量のパターン化された電磁エネルギに露出し、それによってパターン化されているが架橋結合していない流体井戸の材料を生成するステップと、
前記速い架橋結合ポリマ及び前記遅い架橋結合ポリマを、低適用量のパターン化された電磁エネルギに露出し、それによってパターン化されているが架橋結合していないオリフィスの材料を生成するステップと
からなる方法。
【請求項１０】
請求項９の方法に従って製作された流体ジェットプリントヘッド。
【請求項１１】
第１の表面及び第２の表面を備える半導体基板を有する流体ジェットプリントヘッドを形成する方法であって、当該半導体基板を介して延伸するとともに前記第２の表面上の複数の流体送り溝と結合する複数の流体送りスロットを有するものにおいて、
前記半導体基板の前記第１の表面に遅い架橋結合材料の単独層を施すステップと、
前記施された遅い架橋結合材料の層に、オリフィスの像及び流体井戸の像を移すステップと、
それぞれオリフィス開口を設置するために前記移されたオリフィスの像が存在し、及びそれぞれ流体井戸開口を設置するために前記移された流体井戸の像が存在する前記遅い架橋結合材料の層の部分を現像するステップとからなり、
前記移されたオリフィスの像が、前記移された流体井戸の像と整列され、流体を放出するためのシルクハット形内曲構造が形成される方法。
【請求項１２】
請求項１１の方法に従って製作された流体ジェットプリントヘッド。
【請求項１３】
前記遅い架橋結合材料を施すステップが、写真作像可能ポリマ及び光学染料の別個の層、写真作像可能ポリマ及び光学染料の混合物、写真作像可能ポリマからなる群より、前記遅い架橋結合材料を選択するステップをさらに含む請求項１１記載の方法。
【請求項１４】
前記遅い架橋結合材料を施すステップが、写真作像可能エポキシ及び光学染料の別個の層、写真作像可能エポキシ及び光学染料の混合物、写真作像可能エポキシからなる群より、前記遅い架橋結合材料を選択するステップをさらに含む請求項１１記載の方法。
【請求項１５】
前記遅い架橋結合材料を施すステップが、前記遅い架橋結合材料の層を厚さ８〜34μm施すステップをさらに含む請求項１１記載の方法。
【請求項１６】
前記オリフィスの像及び前記流体井戸の像を移す前記ステップが、多重濃度レベルのマスクを通過する電磁エネルギにより前記遅い架橋結合材料を露出するステップをさらに含む請求項１１記載の方法。
【請求項１７】
前記オリフィスの像及び前記流体井戸の像を移す前記ステップが、
パターン化された高適用量のパターン化された電磁エネルギに前記遅い架橋結合材料を露出するステップと、
パターン化された低適用量のパターン化された電磁エネルギに前記遅い架橋結合材料を露出するステップとをさらに含む請求項１１記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
感熱式インクジェット・プリンタは通常、プリンタを通じて送られる紙または他の媒体の幅を横断して前後に移動する往復台に取付けられた印字ヘッドを備えている。印字ヘッドは、紙に向き合うオリフィス（ノズルともいう）の配列を備えている。インク（または他の流体）の詰まった溝がオリフィスに貯蔵器インク源からインクを供給する。扱い得るエネルギ消費要素（抵抗器のような）に個別に供給されるエネルギは、オリフィス内部のインクを加熱してインクを泡立たせ、インクをオリフィスから紙に向けて放出する。当業者は、エネルギをインクまたは流体に移す他の方法が存在し、やはり本発明の精神、範囲、および原理の範囲内に入ることを認識するであろう。インクが放出されるにつれて、泡は崩壊し、更に多量のインクが貯蔵容器から溝を満たし、インクの排出が繰り返される。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
インクジェット印字ヘッドの現在の構成には、その製造、動作寿命、およびインクを紙に導く精度に関して問題がある。現在製作されている印字ヘッドは、基板を貫くインク送りスロット、障壁インターフェース（障壁インターフェースは、インクを抵抗器に伝え、発射室の容積を規定する。障壁インターフェースの材料は、基板上に積層され、露出され、現像され、養生される厚いフォトレジスト性材料である）、およびオリフィス板（オリフィス板は、障壁インターフェースにより形成された発射室の出口経路である。オリフィス板は通常、ニッケル（Ｎi）で電鋳されてから金（Ａu）、パラジウム（Ｐd）、または他の、耐蝕用貴金属で被覆される。オリフィス板の厚さおよびオリフィス開口の直径は、発射するとき反復可能なインク滴放出が可能なように調節されている。）を備えている。製造中、オリフィス板を障壁インターフェース材の付いた基板と整列させるには、特別な精度とそれに取付ける特別な接着剤が必要である。オリフィス板が反れば、または接着剤が正しくオリフィス板を障壁インターフェースに結合しなければ、インク滴の軌道の制御が不十分になり、印字ヘッドの歩留まりまたは寿命が減じられる。印字ヘッドの整列が不正であるかまたはオリフィス板に小さい窪みがあれば（その平面度が一様でない）、インクはその正しい軌道から離れて放出され、印刷される画像品質が下がる。オリフィス板は、通常構成されている印字ヘッドでは別々の個片であるから、製造中反りまたは歪みを防止するのに必要な厚さのため、オリフィス穴の深さ（オリフィス板の厚さに関係する）を熱効率に必要とされるより大きくすることが必要になる。普通、単独オリフィス板は、多数の印字ヘッドを備えた半導体ウェーハ上の単独印字ヘッド・ダイに取付けられる。オリフィス板を半導体ウェーハ全体を横断してすべて一度に取付けて生産性を増大する他にオリフィス設置の精度を確保することができるようにする方法を得ることが望まれる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
発射室内部のインクは、オリフィス板の外縁までオリフィス穴に満たされている。したがって、オリフィス穴の中のインクの高さのこの増大に伴う他の問題は、インクを放出するのに必要なエネルギが増大するということである。他に、高品質写真印刷には、より高い解像度が、したがってより小さいインク滴が必要である。したがって、製造可能な、より薄いオリフィス板の必要性が存在する。更に、各滴で放出されるインクの量が小さくなるにつれて、一定の印刷速度で印刷媒体上を印字ヘッドを一度だけ通過させて所定パターンを作り出すには、印字ヘッド内に更に多数のオリフィスが必要である。印字ヘッドがオリフィス数の増大のため過熱することがないようにするには、オリフイスあたり使用するエネルギの量を減らさなければならない。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
加えて、これまでは、印字ヘッドの寿命は相応であった。印字ヘッドは、インク供給品が使い尽くされてから取換えられる使い捨てペンの一部であった。しかし、品質に対するユーザの期待は、多年の耐久性ある低価格、長寿命の印字ヘッドを得る必要性に駆られており、本発明はこの期待を満たすのに役立つ。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【発明の概要】
半導体基板に整形オリフィスを、作る方法および利用する装置を説明する。材料の第１の層が半導体基板に施され、次に材料の第２の層が材料の第１の層の上に施される。次にオリフィスの像が材料の第１の層に移され、流体井戸の像が材料の第２の層に移される。材料の第２の層の、オリフィスの像が設置される部分を次に材料の第１の層の、流体井戸が設置されている部分と共に現像されて基板にオリフィスが形成される。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
オリフィス室の容積をオリフィス像の形状および材料の第２の層の厚さにより規定する。流体井戸室の容積を流体井戸像の形状および材料の第１の層の厚さにより規定する。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【好適な実施例と他の選択枝の詳細な説明】
本発明は、基板上に写真作像可能な層の多数材料のサンドイッチを作る、Ｎiオリフィス板または障壁インターフェース材料を必要としない新奇なポリマ・オリフィス製作方法に関する。各写真作像可能な層は、所定エネルギ強度に対する色々な割合の架橋結合を備えている。他に、本発明は、シルクハット形内曲（内向き）輪郭オリフィスを作る写真作像可能な層を使用する設計トポロジを包含している。シルクハット形オリフィスを、プロセス・パラメータを変えて滴放出特性を最適化することにより特別製作することができる。このシルクハット設計トポロジは、直壁または線形テーパ構造に比較して幾つかの長所を与える。シルクハット形内曲オリフィス室は、流体滴を放出するが、流体井戸室およびオリフィス室により容易に形成される。オリフィス内を検討すると、各室の面積および形状は、パターン化マスクまたはマスクの組を使用して形成される。マスクは、入口直径、出口直径、および発射室容積をオリフィス層の厚さまたは高さに基づいて制御することができる。オリフィス室の高さおよび流体井戸室の高さは、無関係に制御されて最適なプロセス安定性および設計寛容度をもたらす。オリフィスおよび流体井戸室の形状、面積、および高さを制御することにより、設計者は滴サイズ、滴形状を制御し、ブローバック（滴放出方向とは反対に膨張するインクを放出する泡の部分）の効果および或る程度再充填速度（インクをシルクハット形オリフィス構造全体に満たすのに必要な時間）を低下させることができる。他に、このシルクハット・トポロジは、流体をオリフィスに分配する流体送りスロットを流体を放出するのに使用されるエネルギ消費要素から更に離して設置し、泡が流体供給経路に入って閉塞を生ずる可能性を減らすことを可能とする。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
直接作像ポリマ・オリフィスは通常、溶解速度のわずかに異なる負動作フォトレジスト材料の二つ以上の層を備えている。溶解速度は、異なる分子量、物理的組成、または光学濃度を有する各層の色々な材料に基づいている。２層を使用する例示方法では、架橋結合に500ミリジュール/cm2の強度の電磁エネルギを必要とする「遅い」フォトレジストが基板に施される。流体ジェット印字ヘッドでは、この基板は、その表面に適用された薄膜層の積み重ねを有していた半導体材料から構成されている。架橋結合に丁度100ミリジュール/cm2の強度の電磁エネルギを必要とする「速い」フォトレジストが遅いフォトレジストの層の上に適用される。硬化後、基板のフォトレジスト層をマスクを通して少なくとも500ミリジュール/cm2の非常な高強度に露出して流体井戸室を形成する。強度は上層および下層の双方を架橋結合するのに十分な強さである。基板のフォトレジスト層を次に他のマスクを通して100ミリジュール/cm2の低強度の電磁エネルギに露出し、オリフィス室を形成する。第２の露出強度が十分低いことは重要であり、したがってオリフィス開口の下にある遅いフォトレジストの下方オリフィス層は架橋結合しない。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
ポリマ材料は、薄膜表面の全部を平面化し得ることがＩＣ業界では周知である。経験的データは、オリフィス板表面の変動を十分１ミクロン以内に維持できることを示している。この特徴は、一貫した滴軌道を与える上で重要である。


【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
加えて、負動作フォトレジスト性を備えた多数の異なる材料が存在している。例示ポリマ材料には、ポリイミド、エポキシ、ポリベンゾオキサゾール、ベンゾシクロブテン、およびゾルゲルがある。当業者は、他の負動作フォトレジスト・ポリマ材料が存在し、やはり本発明の精神および範囲に入ることを認識するであろう。光学染料（オレンジ＃３、〜２％重量のような）を透明ポリマ材料に加えることにより、遅いフォトレジストを染料の無いまたは少量の染料を有する速いフォトレジストから作ることができる。他の実施形態では、ポリマ材料の層に染料の薄い層を被覆することができる。遅いフォトレジストを作る代わりの方法は、異なる分子量の、異なる波長吸収特性の、異なる現像速度の、ポリマを顔料を使用して混合することから成る。当業者は、ポリマの感光性を遅くする他の方法が存在し、やはり本発明の精神および範囲に入ることを認識するであろう。


【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
図２Ｂは、遅い架橋結合ポリマから成る下部オリフィス層35を薄膜層50の積み重ねの上に加えてから後の半導体基板20を示す。遅い架橋結合ポリマは、ＫarlＳuss ＫＧにより製造されているもののような通常のスピンコーティング工具を使用して施される。スピンコーティング工具に関連するスピンコーティング法は、遅い架橋結合ポリマが流体送りスロット30および薄膜層50の積み重ねの表面を満たすにつれて平面状表面を形成することを考慮している。スピンコーティングの例示プロセスは、レジストの層を半導体ウェーハ上に加速度100rpm/sで70rpmに設定されたスピンコーティング工具を用いて広がり時間20秒で広げることである。次にウェーハを減速度100rpm/sで回転から停止させ、10秒間静止させる。次にウェーハを300rpm/sの加速度で1060rpmで30秒間回転させ、レジストをウェーハ全体に広げる。代わりのポリマ施工プロセスには、ロールコーティング、カーテンコーティング、押し出しコーティング、スプレイコーティング、および浸漬コーティングがある。当業者は、ポリマ層を基板に施す他の方法が存在し、やはり本発明の精神および範囲の中に入ることを認識するであろう。遅い架橋結合ポリマは、光学染料（オレンジ＃３、２重量％またはそれ以下のような）を写真作像可能ポリイミドまたは写真作像可能エポキシ透明ポリマ材料内に混合することにより作られる。染料を加えることにより、材料を架橋結合するのに必要とされる電磁エネルギの量が、染料を混合しない材料より大きくなる。


【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
図２Ｄは、強い強度の電磁放射11が上オリフィス層34および下部オリフィス層35に加えられていることを示す。電磁放射により供給されるエネルギは、露出している（図２Ｄ、図２Ｅ、および図２ＦにＸで消した区域として示してある）上オリフィス層34および下部オリフィス層35を共に架橋結合するのに十分でなければならない。例示実施形態では、このステップは、+９μmの焦点偏りで300ミリジュールに設定されたＳＶＧ Ｍicralign工具を使用して行なわれている。このステップは、オリフィス内に流体井戸43の形状および面積を規定する。


【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
図２Ｅは、低い強度の電磁エネルギ12が上オリフィス層34および下部オリフィス層35に加えられる、プロセスの次のステップを示している。このステップ中に（強さまたは露出の時間を制限するかまたは両者の組合せにより）消費される全エネルギは、上オリフィス層34の速い架橋結合ポリマを架橋結合するのに十分なだけである。例示実施形態では、このステップは、+３mmの焦点偏りで60.3ミリジュールに設定されたＳＶＧ Ｍicralign工具を使用して行なわれている。このステップは、オリフィス開口42の形状および面積を規定する。


【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
第１の領域は、強い強度の電磁エネルギ11を与え、マスクを通過して写真作像不能材料を完全に架橋結合し、除去すべきオリフィス層を規定する。上オリフィス層34および下部オリフィス層35は共に、架橋結合され、現像中除去されることが防止される。第２の領域は、更に低い強度の電磁エネルギ12だけを通過させて上オリフィス層34を架橋結合するが、下部オリフィス層35の第２の領域の下にある材料を架橋結合しないでおく。第３の領域（完全に不透明）は、オリフィス開口42の形状および面積を規定するのに使用される。電磁エネルギがこの第３の領域を通過できないので、マスクの不透明な第３の領域の下にある架橋結合ポリマは、露出されず、したがって後に現像されるとき除去されることになる。


【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図２Ｇは、流体送りスロット30の材料を含み、上オリフィス層34および下部オリフィス層35の材料が除去される現像の方法のステップを示す。例示プロセスは、7110ソリテック現像用具を使用し、１krpmでＮＭＰにより70秒現像し、１krpmでＩＰＡ及びＮＭＰとを８秒混合し、１krpmでＩＰＡにより10秒濯ぎ、２krpmで60秒回転させることである。


【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
図２Ｈは、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）裏面エッチ・プロセスを行なって流体送りスロット30の中に開く流体送り溝40を作って流体を流体井戸室に入れ、究極的にオリフィス開口42から放出させてからの結果を示す（Ｕ.Ｓchnakenburg、Ｗ.Ｂenecke、およびＰ.Ｌangeのシリコン微細加工用ＴＭＡＨＷ腐食液、1991年６月24-28日、ＵＳＡ、カリフォルニア州サンフランシスコにおける固体センサおよびアクチュエータに関する第６回国際会議（トランジューサーズ '91）のＴech.Ｄig.のpp.815-818を参照）。


【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
図６Ｂは、不透明区域152の幾何学的形状が部分的に不透明な区域154の幾何学的形状とは異なる単独多重濃度レベル・マスク150を示す。この技法は、流体井戸形状およびオリフィス開口形状を別々に形成することを考える直接作像方法のため許容される。この技法は、流体井戸の最適設計を考慮し高速再充填速度、泡ブローバック割合、および印字ヘッドの多重オリフィスの最大密度を与える。流体の滴がオリフィスから放出されると、滴は主本体形状および引きずる尾を有し、これらは組み合わさって滴の塊を形成する。直接作像方法は、オリフィス開口42の最適設計を与え、流体がオリフィスを出るとき放出される流体の正しい体積、放出流体の尾の構成、および流体の形状を与え、これにより媒体までのその飛行経路での流体の破壊が最小になる。非不透明区域156は、電磁エネルギに対して本質的に透明であり、マスクのこの区域は、上オリフィス層34および下部オリフィス層35の、架橋結合し、現像時に除去されない区域を形成する。この実施形態では、例示マスクは、非不透明区域156について本質的に100％の透過度、部分的に不透明の区域154について本質的に20％の透過度、および不透明区域152について本質的に０％の透過度を有している。


【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
更に、流体井戸およびオリフイス開口の個別形状の制御とともに下部オリフィス層35および上オリフィス層34双方の厚さを制御するため、オリフィス構造の一般的設計を行なうことができる。


【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
図９Ｂは、薄膜層50の積み重ねへの遅い架橋結合材料34の施工および流体送りスロット30への充填を示す。


【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
図９Ｃは、遅い架橋結合ポリマ34の層を低い適用量の電磁エネルギ12に露出してオリフィス開口を形成することを示している。露出適用量は、露出不足にして遅い架橋結合ポリマを所要深さまで架橋結合するに丁度十分な量とする。例示露出は、60.3ミリジュールである。


【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
図９Ｆは、架橋結合されていない材料が流体井戸室およびオリフィス室から除去される現像プロセスを示す。オリフィス室は、染料またはその内部で混合する他の材料が、浸透するにつれて電磁エネルギを減衰させることにより、遅い架橋結合ポリマ34の層の深さでは材料の架橋結合が少ないためわずかな内曲テーパしか備えていない。


【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
図１０Ａから図１０Ｅは、オリフィス層に穴を作る単独マスク製作プロセスに使用する多重濃度レベル・マスクを製作するのに使用される方法ステップの結果を示す。


【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
本発明は、生き生きした明瞭な写真印刷に必要な細かい解像度のための、より厳密な流体ジェット方向制御およびより小さい滴体積の必要性に取り組んでいる。加えて、本発明は、印字ヘッドの製造を簡単にしているが、これにより生産の費用が下がり、高効率の生産が可能となり、印字ヘッドの品質、信頼性、および整合性が増大する。本発明の好適実施形態、およびその代わりの実施形態は、独特のオリフィス形状を作り出すことができ、別の関心事に取り組みまたは印字ヘッドから放出される流体の色々な長所を活用できることを実証している。