【手続補正書】
【提出日】平成16年8月24日(2004.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  二つの基板（１、２）とそれらの間に置かれる活性システム（３）を含む積層グレージングであって、該グレージングが、エチレン酢酸ビニル、ポリイソブチレンおよびポリアミドのポリマー系の少なくとも一つから選択される１以上のホットメルト・ポリマーに基づくか、またはマスチック樹脂系、特にポリウレタン、ポリサルファイドまたはシリコーン系に基づく少なくとも一つのシール材を含む第一周辺密閉手段（５）、特に蒸気形態をとる水に対してシールするものを提供することを特徴とする積層グレージング。
【請求項２】  １以上のポリマーに基づく少なくとも一つのシール材を含むと共に、機械的に強化しおよび／または二つの基板の間の間隙を調整するための手段と組合せた、特に蒸気形態をとる水に対してシールする第一周辺密閉手段（５）を有することを特徴とする、二つの基板（１、２）とそれらの間に置かれる活性システム（３）を含む積層グレージング。
【請求項３】  シール材（５）が、エチレン酢酸ビニル、ポリイソブチレン、ポリアミドのポリマー系の少なくとも一つから選択される１以上のホットメルト・ポリマーに基づくかまたはマスチック樹脂系のもの、特にポリウレタン、ポリサルファイドまたはシリコーン系に基づくことを特徴とする、請求項２に記載のグレージング。
【請求項４】  活性システム（３）が電気化学システム、特に、エネルギー／光学特性可変性を有する電気制御可能システム、例えば、全固体エレクトロクロミック・システム、光バルブ・システム、液晶システム、ビオロゲン系システム、光電池システムまたは電子発光システムなどであることを特徴とする、請求項１〜３の一つに記載のグレージング。
【請求項５】  活性システム（３）がサーモクロミック、サーモトロピック、フォトクロミック、太陽光制御または低放射率の層または多層であることを特徴とする、請求項１〜４の一つに記載のグレージング。
【請求項６】  活性システム（３）が加熱用ワイヤーのグリッド、または加熱層であることを特徴とする、請求項１〜５の一つに記載のグレージング。
【請求項７】  それが、二つの剛性または半剛性基板（１、２）とそれらの間に熱可塑性ポリマーに基づく少なくとも一つの中間層（４）を上に置く電気活性システム（３）が存在する積層グレージングの形態をとることを特徴とする、請求項１〜６の一つに記載のグレージング。
【請求項８】  中間層または複数の中間層（４）が、該基板の間に周辺溝を造り上げるために、二つの基板（１、２）のそれらよりも小さい寸法を有し、第一周辺密閉手段（５）のシール材または複数のシール材が、少なくとも部分的に、好ましくは完全に前記溝の中に収容されることを特徴とする、請求項７に記載のグレージング。
【請求項９】  少なくとも一つの基板、特に両方の基板の内側縁がより広い周辺溝を画定するために面取りされることを特徴とする、請求項８に記載のグレージング。
【請求項１０】  第一周辺密閉手段のポリマー系シール材または複数のシール材（５）が、また、少なくとも一つの架橋剤、特にイソシアネートおよび／またはエポキシドの架橋剤を含むことを特徴とする、請求項１〜９の一つに記載のグレージング。
【請求項１１】  第一周辺密閉手段のポリマー系シール材または複数のシール材が、また、粘着性付与樹脂、特に炭化水素脂肪族樹脂タイプの分子質量１０，０００または５，０００未満を有する樹脂から選択されるものを含むことを特徴とする、請求項１〜１０の一つに記載のグレージング。
【請求項１２】  第一周辺密閉手段のポリマー系シール材または複数のシール材が、また、少なくとも一つの無機充填剤、特に酸化アルミニウムまたは酸化マグネシウム、珪砂、水晶、発熱性または非発熱性シリカ、タルク、マイカ、カオリン、ガラス・ミクロスフェアおよび炭酸カルシウムから選択されるものを含むことを特徴とする、請求項１〜１１の一つに記載のグレージング。
【請求項１３】  第一周辺密閉手段のシール材または複数のシール材が、７０〜１８０℃間、特に９０〜１００℃間または１４５〜１７０℃間の軟化点を有することを特徴とする、請求項１〜１２の一つに記載のグレージング。
【請求項１４】  第一周辺密閉手段のシール材または複数のシール材が、１９０℃で、０．１〜２０Ｐａ．ｓ間、特に０．８〜８Ｐａ．ｓ間の粘度を有することを特徴とする、請求項１〜１３の一つに記載のグレージング。
【請求項１５】  第一周辺密閉手段のシール材または複数のシール材が、ＡＳＴＭ・Ｅ９６６３Ｔにより、５または４または３ｇ／ｍ2／２４ｈ以下の水蒸気透過性を有することを特徴とする、請求項１〜１４の一つに記載のグレージング。
【請求項１６】  第一周辺密閉手段のシール材または複数のシール材が、液相で押出されるか、射出されて設けられることを特徴とする、請求項１〜１５の一つに記載のグレージング。
【請求項１７】  第一周辺密閉手段が、機械的に強化しおよび／または二つの基板の間の間隙を調整するための手段と組合せた少なくとも一つのポリマー系シール材を含み、前記の強化および／間隙調整の手段が、特にアルミニウムまたは鋼タイプの金属製、またはガラス製、またはセラミック製またはゼオライト、好ましくは親水性ゼオライト製の剛性または半剛性ボールを含むことを特徴とする、請求項１〜１６の一つに記載のグレージング。
【請求項１８】  第一周辺密閉手段が、機械的に強化しおよび／または二つの基板の間の間隙を調整するための手段と組合せた少なくとも一つのポリマー系シール材を含み、前記の強化および／または間隙調整の手段が、例えば、金属、ガラス、セラミックまたは低融点ガラス・フリットから作製されるスタッド、特に四角、三角または台形の断面を有する多角体を含むことを特徴とする、請求項１〜１７の一つに記載のグレージング。
【請求項１９】  第一周辺密閉手段が、機械的に強化しおよび／または二つのガラス板間の間隙を調整するための手段と組合せた少なくとも一つのポリマー系シール材を含み、前記の強化および／または間隙調整の手段が１以上の金属ワイヤーを含むことを特徴とする、請求項１〜１８の一つに記載のグレージング。
【請求項２０】  ボールおよび／またはスタッドおよび／または金属ワイヤーがポリマー系シール材中に埋め込まれるか、または少なくとも部分的に前記シール材中に覆われることを特徴とする、請求項１７〜１９の一つに記載のグレージング。
【請求項２１】  第一周辺密閉手段が、機械的に強化しおよび／または二つの基板間の間隙を調整するための手段と組合せた少なくとも一つのポリマー系シール材を含み、前記の強化および／または間隙調整の手段が、特に、金属、ガラス、セラミックまたは低融点ガラス・フリットから作製される枠を含むことを特徴とする、請求項１〜２０の一つに記載のグレージング。
【請求項２２】  それらを介して枠が基板上に位置する座面の少なくとも一部が1以上のポリマー系シール材により被覆されることを特徴とする、請求項２１に記載のグレージング。
【請求項２３】  二つの剛性または半剛性基板（１、２）と共に、それらの間に活性システム（３）および任意に熱可塑性ポリマーに基づく１以上の中間層（４）が置かれた積層グレージングの形態であり、かつ、ボールの直径（ｄ1）および／またはスタッドの高さ（ｈ1）および／またはワイヤーまたは複数ワイヤーの直径（ｄ2）および／または枠の高さ（ｈ2）が、（１／２ｅ）ｍｍと（ｅ−０．１）ｍｍの間〔式中、ｅは中間層または複数の中間層（４）の全体厚さ、または二つの基板（１，２）間の所期の間隙である〕であることを特徴とする、請求項１７〜２２の一つに記載のグレージング。
【請求項２４】  ｅ値が０．３５ｍｍ〜１．２５ｍｍ間にあることを特徴とする、請求項２３に記載のグレージング。
【請求項２５】  それが、液体水をシールする少なくとも一つのシール材、特にポリウレタン、シリコーンまたはポリサルファイドに基づき選択されるものの形態をとる第二周辺密閉手段を含むことを特徴とする、請求項１〜２４の一つに記載のグレージング。
【請求項２６】  それが、ＰＶＢまたはＥＶＡのタイプの熱可塑性ポリマーから作製されるシール材、特に、前記グレージングを積層するために用いられるポリマー中間層または複数の中間層（４）と同じ性質を有するものの形態をとる第二周辺密閉手段を含むことを特徴とする、請求項１〜２５の一つに記載のグレージング。
【請求項２７】  第一および第二周辺密閉手段が隣接するシール材を含むことを特徴とする、請求項２５または請求項２６に記載のグレージング。
【請求項２８】  周辺密閉手段のすべてのシール材が、特に同一平面上にあるシール材を得るために、熱可塑性ポリマー系中間層または複数の中間層（４）のセットバックのゆえに、二つの基板（１、２）の間に存在する周辺溝中に収容されることを特徴とする、請求項１〜２７の一つに記載のグレージング。
【請求項２９】  周辺密閉手段のシール材または複数のシール材が、すでに組立てられたグレージング上または組立ての前にグレージングの基板の一つの上に、それらを液体形態において射出することにより、押出しにより、またはプレ押出しまたはプレキャスト・ビーズの形態において挿入されることを特徴とする、請求項１〜２８の一つに記載のグレージングを製造するための方法。