【手続補正書】
【提出日】平成16年4月16日(2004.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  表面パターンを含む回折面上の欠陥を検出する光学検査システムであって、
該回折面の第１の領域を照射し、第１の散乱強度分布を生成する第１のビームと、該回折面の第２の領域を照射し、第２の散乱強度分布を生成する第２のビームとを設けた少なくとも１つの光源と、
該第１および該第２の拡散強度分布を検出するための複数の検出器であって、該回折面のまわりに設けられた複数の検出器と、
該検出器に接続された検出回路であって、欠陥が該回折面に存在するか否かを判定する検出回路と、
該回折面を安全に維持する移動実装テーブルであって、該回折面を該第１および該第２のビームに対して該回折面上に走査パターンを生成するように移動する移動実装テーブルと
を備えた光学検査システム。
【請求項２】  前記光源は光放射体と第１のミラーとを有し、該第１のミラーは前記第１のビームを供給するように該光放射体によって供給された光ビームを受光し、向きを変える、請求項１に記載の光学検査システム。
【請求項３】  前記光源は、前記第２のビームを供給するように前記光放射体によって供給された前記光ビームを受光し、向きを変える第２のミラーをさらに備えた、請求項２に記載の光学検査システム。
【請求項４】  前記第１および前記第２のミラーの各々は、軸外の放物面ミラーを有する、請求項３に記載の光学検査システム。
【請求項５】  前記光源は、前記光ビームを受光する回動可能ミラーであって、前記第１のミラーに該光ビームを向けるために第１の位置に回動され、前記第２のミラーに該光ビームを向けるために第２の位置に回動される回動可能ミラーをさらに有する、請求項３に記載の光学検査システム。
【請求項６】  前記検出回路は、最小検出強度レベルを判定する回路を有する、請求項１に記載の光学検査システム。
【請求項７】  前記検出回路は、前記最小検出強度レベルを処理し、欠陥が前記回折面に存在するか否かを判定する回路をさらに有する、請求項６に記載の光学検査システム。
【請求項８】  前記検出回路は、欠陥のサイズを判定する回路をさらに有する、請求項７に記載の光学検査システム。
【請求項９】  前記移動実装テーブルは、前記回折面上の照射された領域の位置を判定するデコーダを有する、請求項８に記載の光学検査システム。
【請求項１０】  前記回折面上の照射された領域の位置に基づいて該回折面上の前記欠陥の前記位置を判定する回路と、該欠陥の該位置を格納する回路とを有する、請求項９に記載の光学検査システム。
【請求項１１】  前記システムは、前記欠陥とそれらの位置とを表示するディスプレイをさらに有する、請求項１０に記載の光学検査システム。
【請求項１２】  前記検査回路は、
前記検査器に接続されたアナログ信号処理回路と、
該アナログ信号処理回路に接続されたデジタル信号処理回路と、
該デジタル信号処理回路に接続されたコンピュータ制御およびデータ格納ユニットと
を有する、請求項１に記載の光学検査システム。
【請求項１３】  前記アナログ信号処理装置は、複数の増幅器を有し、各増幅器は少なくとも１つの検査器に接続される、請求項１２に記載の光学検査システム。
【請求項１４】  前記各増幅器の感度を調整可能な感度回路に接続される、請求項１３に記載の光学検査システム。
【請求項１５】  前記デジタル信号処理回路は、複数の信号比較器を有し、各信号比較器は少なくとも１つの増幅器に接続されている、請求項１３に記載の光学検査システム。
【請求項１６】  前記デジタル信号処理回路は、前記信号比較器に接続された最小化器回路を有し、該最小化器回路は、極座標粒子検出器にさらに接続される、請求項１５に記載の光学検査システム。
【請求項１７】  前記コンピュータ制御およびデータ格納ユニットは、前記極座標粒子検出器と交信する直交変換プログラムを有し、該直交変換プログラムは欠陥マッピングプログラムと交信し、該欠陥マッピングプログラムは合格／不合格プログラムと交信する、請求項１６に記載の光学検査システム。
【請求項１８】  前記実装テーブルは回転可能に実装されたプレートホルダとスライド可能な移動ステージとを有し、該実装テーブルは、走査パターンを固定するために前記回折面を回転し、移動し、該走査パターンは該回折面上に前記第１のビームおよび前記第２のビームの複数の回転を有する螺旋状トレースを有する、請求項１に記載の光学検査システム。
【請求項１９】  前記第１のビームは、前記回折面上で規定された角セクタの第１群として３４２．５°〜２２．５°、６７．５°〜１１２．５°、１５７．５°〜２０２．５°および２４７．５°〜２９２．５°を有する前記第１の領域を照射するように制御される、請求項１に記載の光学検査システム。
【請求項２０】  前記第２のビームは、前記回折面上に規定された角セクタの第２群として２２．５°〜６７．５°、１１２．５°〜１５７．５°、２０２．５°〜２４７．５°および２９２．５°〜３４２．５°を有する前記第２の領域を照射するように制御される、請求項１に記載の光学検査システム。
【請求項２１】  前記光照射体は紫外線レーザを有する、請求項１に記載の光学検査システム。
【請求項２２】  前記紫外線レーザは、前記回折面上の楕円形のビームスポットを投射する、請求項２１に記載の光学検査システム。
【請求項２３】  前記紫外線レーザは、前記回折面から約６０°の角度で該面上に照射する、請求項２２に記載の光学検査システム。
【請求項２４】  前記ビームの幅は少なくとも該ビームのトレース間隔と同様であり、該トレースの回転間の領域の検査を保証する、請求項２３に記載の光学検査システム。
【請求項２５】  前記ビームのトレース間隔は、約３マイクロメータよりも小さい、請求項２４に記載の光学検査システム。
【請求項２６】  前記複数の検出器は、
前記回折面の第１の近位に位置し、該第１の近位である位置において散乱強度分布の強度レベルを検出する第１の検出器と、
該回折面の第２の近位に位置し、該第２の近位である位置において散乱強度分布の強度レベルを検出する第２の検出器と、
前記回折面の第３の近位に位置し、該第３の近位である位置において散乱強度分布の強度レベルを検出する第３の検出器と
を有する、請求項１に記載の光学検査システム。
【請求項２７】  光学検査システムを用いて、表面パターンを含む回折面を検査して、該回折面上の欠陥を検出する方法であって、
（ｉ）該回折面の第１の領域を第１のビームで照射して、第１の散乱強度分布を生成するステップと、
（ｉｉ）該回折面の第２の領域を第２のビームで照射して、第２の散乱強度分布を生成するステップと、
（ｉｉｉ）該第１のビームによって生成された該第１の散乱強度分布、および、該第２のビームによって生成された該第２の散乱強度分布の強度レベルを検出するステップであって、該強度レベルは、該回折面のまわりの複数の位置で検出される、ステップと、
（ｉｖ）該第１および第２の散乱強度分布の該検出された強度レベルを処理して、欠陥が存在するか否かを判定するステップと、
（ｖ）該回折面を移動させて、該回折面上に走査パターンを生成するステップであって、該走査パターンは該回折面全体を覆う、ステップと
を包含する、方法。
【請求項２８】  前記検出された強度レベルを処理するステップは、該検出された強度レベルが所定の閾値強度レベル未満である場合には、前記回折面の前記照射された領域に欠陥が存在しないことを示し、該検出された強度レベルが該所定の閾値強度レベルを越える場合には、該回折面の該照射された領域に欠陥が存在することを示すステップをさらに包含する、請求項２７に記載の光学検査システムを用いる方法。
【請求項２９】  前記回折面の第１の領域を第１のビームで照射するステップは、該回折面上に規定された所定の角のセクタからなる第１の群を照射するステップを包含する、請求項２７に記載の光学検査システムを用いる方法。
【請求項３０】  前記回折面の第２の領域を第２のビームで照射するステップは、該回折面上に規定された所定の角のセクタからなる第２の群を照射するステップを包含する、請求項２７に記載の光学検査システムを用いる方法。
【請求項３１】  前記回折面上に規定された所定の角のセクタからなる第１の群を第１のビームで照射するステップは、該回折面上に楕円形ビームスポットを投影するステップを包含する、請求項２９に記載の光学検査システムを用いる方法。
【請求項３２】  前記回折面上に規定された所定の角のセクタからなる第１の群を第１のビームで照射するステップは、該回折面に垂直な方向から約６０°の角度で、紫外光レーザビームを該回折面に向けるステップをさらに包含する、請求項３１に記載の光学検査システムを用いる方法。
【請求項３３】  前記回折面上に規定された所定の角のセクタからなる第２の群を第２のビームで照射するステップは、該回折面上に楕円形ビームスポットを投影するステップを包含する、請求項３０に記載の光学検査システムを用いる方法。
【請求項３４】  前記回折面上に規定された所定の角のセクタからなる第２の群を第２のビームで照射するステップは、該回折面に垂直な方向から約６０°の角度で、紫外光レーザビームを該回折面に向けるステップをさらに包含する、請求項３３に記載の光学検査システムを用いる方法。
【請求項３５】  前記回折面を移動させて、回折面上に走査パターンを生成するステップは、該回折面を回転および平行移動させて、該第１のビームおよび第２のビームの複数の回転を有する螺旋状トレースを該回折面上に確定するステップを包含する、請求項２７に記載の光学検査システムを用いる方法。
【請求項３６】  前記回転および平行移動させるステップは、前記螺旋状トレースの前記回転の各々を隣接する回転と重ね合わせて、各回転間に存在する領域の検査を確実に行うステップを包含する、請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】  前記回転および平行移動させるステップは、前記回転間に約３マイクロメートル以下の間隔を開けるステップを包含する、請求項３６に記載の光学検査システムを用いる方法。
【請求項３８】  前記検出するステップは、
前記第１および第２の散乱強度分布の前記強度レベルを前記回折面に近位である第１の位置において検出するステップと、
該第１および第２の散乱強度分布の該強度レベルを該回折面に近位である第２の位置において検出するステップと、
該第１および第２の散乱強度分布の該強度レベルを該回折面に近位である第３の位置において検出するステップと
を包含する、請求項２７に記載の光学検査システムを用いる方法。
【請求項３９】  前記検出するステップは、前記第１および第２の散乱強度分布の前記強度レベルを前記回折面のまわりの位置において検出するステップをさらに包含し、前記表面パターンから得られる該第１および第２の散乱強度分布の前記強度レベルは、前記閾値強度レベル未満と予想される、請求項３８に記載の光学検査システムを用いる方法。
【請求項４０】  欠陥サイズを決定するステップをさらに包含する、請求項２７に記載の光学検査システムを用いる方法。
【請求項４１】  前記回折面を移動させて、走査パターンを生成するステップは、前記照射された領域の該回折面上の位置を決定するステップを包含する、請求項２７に記載の光学検査システムを用いる方法。
【請求項４２】  前記照射された領域の前記回折面上の位置に基づいて、前記欠陥の該回折面上の位置を決定するステップをさらに包含する、請求項４１に記載の光学検査システムを用いる方法。
【請求項４３】  前記欠陥の位置およびサイズを格納するステップをさらに包含する、請求項４２に記載の光学検査システムを用いる方法。
【請求項４４】  前記欠陥および位置をディスプレイに表示するステップをさらに包含する、請求項４３に記載の光学検査システムを用いる方法。
【請求項４５】  表面パターンを含む回折面上の欠陥を検出する光学検査システムであって、
該回折面の第１の領域を照射して、第１の散乱強度分布を生成する手段と、
該回折面の第２の領域を照射して、第２の散乱強度分布を生成する手段と、
該第１の散乱強度分布および該第２の散乱強度分布を検出して、該回折面上に欠陥が存在する否かを判定する手段と
を備える、光学検査システム。
【請求項４６】  前記回折面の第１の領域を照射する手段は、第１の光学ビームを生成する手段を含む、請求項４５に記載の光学検査システム。
【請求項４７】  前記回折面の第１の領域を照射する手段は、前記第１の光学ビームを該回折面の該第１の領域に向ける手段をさらに含む、請求項４６に記載の光学検査システム。
【請求項４８】  前記回折面の第２の領域を照射する手段は、第２の光学ビームを生成する手段を含む、請求項４５に記載の光学検査システム。
【請求項４９】  前記回折面の第２の領域を照射する手段は、前記第２の光学ビームを該回折面の該第２の領域に向ける手段をさらに含む、請求項４８に記載の光学検査システム。
【請求項５０】  前記検出する手段は、検出された最小強度レベルを決定する手段を含む、請求項４５に記載の光学検査システム。
【請求項５１】  前記検出する手段は、前記検出された最小強度レベルを処理して、前記回折面上に欠陥が存在するか否かを判定する手段をさらに含む、請求項５０に記載の光学検査システム。
【請求項５２】  前記検出する手段は、欠陥のサイズを決定する手段をさらに含む、請求項５１に記載の光学検査システム。
【請求項５３】  前記検出する手段は、前記欠陥の回折面上の位置を決定する手段と、前記欠陥の位置を格納する手段とをさらに含む、請求項５２に記載の光学検査システム。
【請求項５４】  前記システムは、前記回折面を回転および平行移動させて、該回折面上に走査パターンを生成する手段をさらに備える、請求項４５に記載の光学検査システム。