【手続補正書】
【提出日】平成16年4月1日(2004.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （i）ダイヤモンド、ＣＢＮ、アルミナおよび炭化ケイ素からなる群のうち少なくとも１種の微粒子または粉末と、
（ii）一般式  Ｒ1Ｏ(ＣnＨ2nＯ)mＨ（式中、Ｒ1は炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖のアルキル基を示し、ｍは１〜３の整数、ｎは２または３を示す。）で表されるアルキレングリコールモノアルキルエーテル、炭素数２〜５の多価アルコールおよび該多価アルコールの重合物からなる群のうち少なくとも１種と、
（iii）炭素数１０〜２２の脂肪酸と、
（iv）有機アミン化合物
とを含有するテクスチャリング加工用組成物。
【請求項２】  上記微粒子または粉末の平均粒径が、０．０１〜１μｍの範囲内である請求項１に記載のテクスチャリング加工用組成物。
【請求項３】  上記微粒子または粉末の含有量が、テスクチャリング加工用組成物中、０．００１〜５質量％である請求項１または２に記載のテスクチャリング加工用組成物。
【請求項４】  上記アルキレングリコールモノアルキルエーテル、上記多価アルコールおよび上記多価アルコールの重合物からなる群のうち少なくとも１種の含有量が、テスクチャリング加工用組成物中、総量で１〜５０質量％である請求項１に記載のテスクチャリング加工用組成物。
【請求項５】  上記脂肪酸は、ラウリン酸又はオレイン酸である請求項１に記載のテクスチャリング加工用組成物。
【請求項６】  上記脂肪酸の含有量が、テスクチャリング加工用組成物中、０．０１〜５質量％である請求項１または５に記載のテスクチャリング加工用組成物。
【請求項７】  上記有機アミンの含有量が、テスクチャリング加工用組成物中、０．０１〜２０質量％である請求項１に記載のテスクチャリング加工用組成物。
【請求項８】  さらに、界面活性剤を含有する請求項１に記載のテクスチャリング加工用組成物。
【請求項９】  上記界面活性剤は、アニオン系界面活性剤およびノニオン系界面活性剤からなる群より選ばれる少なくとも１つである請求項８に記載のテクスチャリング加工用組成物。
【請求項１０】  上記界面活性剤の含有量が、テスクチャリング加工用組成物中、総量で０．０１〜１０質量％である請求項８または９に記載のテスクチャリング加工用組成物。
【請求項１１】  請求項１乃至第１０のいずれか一項記載のテスクチャリング加工用組成物を用いて形成されたスラリー。
【請求項１２】  スラリーの溶媒が、水、炭素数が１〜１０の１価アルコール類、グリコール類、炭素数が３〜１０の多価アルコール、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフランおよびジオキサンからなる群より選ばれる少なくとも１つである請求項１１に記載のスラリー。
【請求項１３】  請求項１乃至１０のいずれか一項記載のテスクチャリング加工用組成物を用いてテスクチャリング加工を施す磁気ディスクの製造方法。
【請求項１４】  請求項１１または１２に記載のテスクチャリング加工用組成物を用いて形成されたスラリーを用いてテスクチャリング加工を施すことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【請求項１５】  請求項１３または１４の磁気ディスクの製造方法で製造される磁気ディスク。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
（発明の開示）
本発明のテクスチャリング加工用組成物は、
（i）ダイヤモンド、ＣＢＮ、アルミナおよび炭化ケイ素からなる群のうち少なくとも１種の微粒子または粉末と、
（ii）一般式  Ｒ1Ｏ(ＣnＨ2nＯ)mＨ（式中、Ｒ1は炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖のアルキル基を示し、ｍは１〜３の整数、ｎは２または３を示す。）で表されるアルキレングリコールモノアルキルエーテル、炭素数２〜５の多価アルコールおよび該多価アルコールの重合物からなる群のうち少なくとも１種と、
（iii）炭素数１０〜２２の脂肪酸と、
（iv）有機アミン化合物
とを含有することから成る。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、上記有機アミン化合物の含有量は、テクスチャリング加工用組成物中、０．０１〜２０質量％であることを含む。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明は、上記テクスチャリング加工用組成物を用いてテクスチャリング加工を施す磁気ディスクの製造方法を含む。
また、上記テクスチャリング加工用組成物を用いて形成されたスラリーを用いてテクスチャリング加工を施す磁気ディスクの製造方法を含む。
さらには、それらの製造方法で製造される磁気ディスクを含む。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
（発明を実施するための最良形態）
本発明のテクスチャリング加工組成物は、（i）ダイヤモンド、ＣＢＮ、アルミナおよび炭化ケイ素からなる群のうち少なくとも１種の微粒子または粉末と、（ii）一般式Ｒ1Ｏ(ＣnＨ2nＯ)mＨ（式中、Ｒ1は炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖のアルキル基を示し、ｍは１〜３の整数、ｎは２または３を示す。）で表されるアルキレングリコールモノアルキルエーテル、炭素数２〜５の多価アルコールおよび該多価アルコールの重合物からなる群のうち少なくとも１種と、（iii）炭素数１０〜２２の脂肪酸と、（iv）有機アミン化合物とを含有することを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
また、本発明に使用される有機アミン化合物としては、具体的には、
メチルアミン(ＣＨ3ＮＨ2)、
エチルアミン(ＣＨ3ＣＨ2ＮＨ2)、
プロピルアミン(ＣＨ3(ＣＨ2)2ＮＨ2)、
イソプロピルアミン((ＣＨ3)2ＣＨＮＨ2)、
ブチルアミン(ＣＨ3(ＣＨ2)3ＮＨ2)、
アミルアミン(ＣＨ3(ＣＨ2)4ＮＨ2)、
ヘキシルアミン(ＣＨ3(ＣＨ2)5ＮＨ2)、
ヘプチルアミン(ＣＨ3(ＣＨ2)6ＮＨ2)、
オクチルアミン(ＣＨ3(ＣＨ2)7ＮＨ2)、
ノニルアミン(ＣＨ3(ＣＨ2)8ＮＨ2)、
デシルアミン(ＣＨ3(ＣＨ2)9ＮＨ2)、
ウンデシルアミン(ＣＨ3(ＣＨ2)10ＮＨ2)、
ドデシルアミン(ＣＨ3(ＣＨ2)11ＮＨ2)、
トリデシルアミン(ＣＨ3(ＣＨ2)12ＮＨ2)、
テトラデシルアミン(ＣＨ3(ＣＨ2)13ＮＨ2)、
ペンタデシルアミン(ＣＨ3(ＣＨ2)14ＮＨ2)、
セチルアミン(ＣＨ3(ＣＨ2)15ＮＨ2)、
ジメチルアミン((ＣＨ3)2ＮＨ)、
ジエチルアミン((Ｃ2Ｈ5)2ＮＨ)、
ジプロピルアミン((ｎ−Ｃ3Ｈ7)2ＮＨ)、
ジイソプロピルアミン((ｉ−Ｃ3Ｈ7)2ＮＨ)、
ジブチルアミン((ｎ−Ｃ4Ｈ9)2ＮＨ)、
ジアミルアミン((ｎ−Ｃ5Ｈ11)2ＮＨ)、
トリメチルアミン((ＣＨ3)3Ｎ)、
トリエチルアミン((Ｃ2Ｈ5)3Ｎ)、
トリプロピルアミン((ｎ−Ｃ3Ｈ7)3Ｎ)、
トリブチルアミン((ｎ−Ｃ4Ｈ9)3Ｎ)、
トリアミルアミン((ｎ−Ｃ5Ｈ11)3Ｎ)、
アリルアミン(ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2ＮＨ2)、
ジアリルアミン((ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2)2ＮＨ)、
トリアリルアミン((ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2)3Ｎ)、
アニリン(Ｃ6Ｈ5ＮＨ2)、
メチルアニリン(Ｃ6Ｈ5ＮＨＣＨ3)、
ジメチルアニリン(Ｃ6Ｈ5Ｎ(ＣＨ3)2)、
エチルアニリン(Ｃ6Ｈ5ＮＨＣ2Ｈ5)、
ジエチルアニリン(Ｃ6Ｈ5Ｎ(Ｃ2Ｈ5)2)、
トルイジン(Ｃ6Ｈ4(ＣＨ3)(ＮＨ2))、
ベンジルアミン(Ｃ6Ｈ5ＣＨ2ＮＨ2)、
ジベンジルアミン((Ｃ6Ｈ5ＣＨ2)2ＮＨ)、
トリベンジルアミン((Ｃ6Ｈ5ＣＨ2)3Ｎ)、
ジフェニルアミン((Ｃ6Ｈ5)2ＮＨ)、
トリフェニルアミン((Ｃ6Ｈ5)3Ｎ)、
ナフチルアミン(Ｃ10Ｈ7ＮＨ2)、
エタノールアミン(ＨＯＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2)、
プロパノールアミン(ＨＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2)、
ブタノールアミン(ＨＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2)、
ジエタノールアミン((ＨＯＣＨ2ＣＨ2)2ＮＨ)、
ジプロパノールアミン((ＨＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2)2ＮＨ)、
ジブタノールアミン((ＨＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2)2ＮＨ)、
トリエタノールアミン((ＨＯＣＨ2ＣＨ2)3Ｎ)、
トリプロパノールアミン((ＨＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2)3Ｎ)、
トリブタノールアミン((ＨＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2)3Ｎ)
等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。なお、これらは単独で、または２種類以上を混合して用いることができる。