Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月5日(2004.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被動歯車と噛み合い係合している駆動歯車を有し、前記駆動歯車が第１の方向に回転すると、前記被動歯車が前記駆動歯車により前記第１の方向とは反対の第２の方向に回転させられる形式の駆動歯車列の速度動揺を減らす制御機構であり、
ａ．前記駆動歯車と噛み合い係合して前記第２の方向に回転する第１の歯車と、
ｂ．前記第１の歯車と噛み合い係合して前記第１の方向に回転する第２の歯車と、
ｃ．前記駆動歯車列内の前記被動歯車と前記制御機構内の前記第２の歯車との間で前記第２の歯車の回転力の少なくとも一部を前記被動歯車に伝えるよう動作するカップリング機構と、を備えていることを特徴とする制御機構。
【請求項２】
前記カップリング機構は前記第２の歯車の回転力の少なくとも一部を前記被動歯車に選択的に伝えることを特徴とする請求項１に記載の制御機構。
【請求項３】
前記カップリング機構は滑りクラッチを備えていることを特徴とする請求項１に記載の制御機構。
【請求項４】
前記駆動歯車列内の前記被動歯車および前記制御機構内の前記第２の歯車は共通の軸の周りを回転することを特徴とする請求項１に記載の制御機構。
【請求項５】
前記駆動歯車列内の前記被動歯車および前記制御機構内の前記第２の歯車は同じ速さで回転することを特徴とする請求項１に記載の制御機構。
【請求項６】
前記駆動歯車と前記駆動歯車列内の前記被動歯車との間の歯車比は前記駆動歯車と前記制御機構内の前記第２の歯車との間の歯車比と同じであることを特徴とする請求項１に記載の制御機構。
【請求項７】
駆動歯車列が、
ａ．駆動歯車と、
ｂ．前記駆動歯車と結合して前記駆動歯車を第１の方向に回転させるよう動作する駆動機構と、
ｃ．前記駆動歯車と噛み合い係合して第１の方向とは反対の第２の方向に回転する被動歯車と、
ｄ．制御機構であって、前記駆動歯車と噛み合い係合して第２の方向に回転する第１の歯車と、前記第１の歯車と噛み合い係合して第１の方向に回転する第２の歯車と、前記駆動歯車列内の前記被動歯車と前記制御機構内の前記第２の歯車との間で前記第２の歯車の回転力の少なくとも一部を前記被動歯車に伝えるよう動作するカップリング機構とを備えた制御機構と、
を有することを特徴とする駆動歯車列。
【請求項８】
前記駆動機構は電気モータを備えていることを特徴とする請求項７に記載の駆動歯車列。
【請求項９】
ａ．駆動歯車と、
ｂ．前記駆動歯車と結合して前記駆動歯車を第１の方向に回転させるよう動作する電気モータと、
ｃ．前記駆動歯車と噛み合い係合して第１の方向とは反対の第２の方向に回転する被動歯車と、
ｄ．制御機構であって、前記駆動歯車と噛み合い係合して第２の方向に回転する第１の歯車と、前記第１の歯車と噛み合い係合して第１の方向に回転する第２の歯車と、前記駆動歯車列内の前記被動歯車と前記制御機構内の前記第２の歯車との間で前記第２の歯車の角運動量の少なくとも一部を前記被動歯車に選択的に伝えるカップリング機構とを備えている制御機構と、
ｅ．画像を印刷媒体のページに投射する印刷エンジンであって、前記被動歯車に結合して回転するように動作する、潜像を保持するための、回転可能部材を有する印刷エンジンと、を備えていることを特徴とする速度誘導画像欠陥を減らす画像形成装置。
【請求項１０】
a．前記印刷媒体のページを前記印刷エンジンに供給するよう動作する印刷媒体供給機構と、
ｂ．所要の印刷画像を表すデータを前記印刷エンジンに供給するよう動作するフォーマッタと、
ｃ．前記印刷エンジンから印刷済みページを出力するよう動作する印刷済みページ出力機構と、を更に備えていることを特徴とする請求項９に記載の画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月13日(2005.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部磁性膜を形成し、
前記下部磁性膜上にレジストフレームを形成し、
前記レジストフレームを用いて、前記下部磁性膜上に下端部磁性膜、ギャップ膜及び上端部磁性をめっき形成し、
前記レジストフレームを除去し、
浮上面側で前記上端部磁性膜と接するように上部磁性膜を形成することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項２】
下部磁性膜を形成し、
下部磁性膜上にレジストフレームを形成し、
前記レジストフレームを用いて、前記下部磁性膜上に下端部磁性膜、ギャップ膜及び上端部磁性をめっき形成し、
前記レジストフレームを除去し、
前記下部磁性膜上に下部絶縁膜を形成し、
前記下部絶縁膜の上にコイル及び絶縁膜を形成し、
前記コイル及び絶縁膜の上に、浮上面側で前記上端部磁性膜と接するように上部磁性膜を形成することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記上部磁性膜の浮上面側端部を、浮上面から離れた位置に形成することを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記上部磁性膜の浮上面側端部を、浮上面から１０ｎｍ以上離れた位置に形成することを特徴とする請求項３記載の磁気ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記上端部磁性膜及び下端部磁性膜は、飽和磁束密度１．５テスラ以上のめっき磁性膜であることを特徴とする請求項１から４の何れかに記載の磁気ヘッドの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月3日(2005.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記憶媒体のそれぞれのトラック上でのデータの読み出しあるいは書き込みを行う複数の読み出し／書き込み要素と、前記媒体の前記トラックとは異なるそれぞれのサーボバンドからサーボコードを読み出す複数のサーボ要素とを有するヘッドであって、前記読み出し／書き込み要素によって機能する複数の前記トラックが２つの前記サーボ要素によって機能する２つの前記サーボバンドの間に配置されるように、前記読み出し／書き込み要素および前記サーボ要素が配設される、ヘッドを備えることを特徴とする磁気記憶媒体のデータ読み出し書き込み装置。
【請求項２】
前記サーボ要素は前記読み出し／書き込み要素のうちの１つと同じ物理的構造のものであることを特徴とする請求項１に記載の磁気記憶媒体のデータ読み出し書き込み装置。
【請求項３】
前記読み出し／書き込み要素および前記サーボ要素は第１のコラムに配置され、前記読み出し／書き込み要素および前記サーボ要素は前記読み出し／書き込み要素の全てが２つの前記サーボ要素間に配置されるように配設されることを特徴とする請求項１に記載の磁気記憶媒体のデータ読み出し書き込み装置。
【請求項４】
前記ヘッドは前記第１のコラムの前記読み出し／書き込み要素と同じ前記トラック上で機能する読み出し／書き込み要素の第２のコラムをさらに含み、前記第１のコラムの前記読み出し／書き込み要素が前記トラックに書き込みを行うとき、前記第２のコラムの前記読み出し／書き込み要素は前記書き込みを行うトラックから読み出しを行ってデータが適正に書き込まれていることを確認することを特徴とする請求項３に記載の磁気記憶媒体のデータ読み出し書き込み装置。
【請求項５】
前記第２のコラムは前記第１のコラムの前記サーボ要素と同じ前記バンドで機能する複数のサーボ要素をさらに含み、前記第１のコラムの前記読み出し／書き込み要素が前記トラックへの書き込みを行うとき、前記第２のコラムの前記サーボ要素が前記サーボバンドからの読み出しを行うことを特徴とする請求項４に記載の磁気記憶媒体のデータ読み出し書き込み装置。
【請求項６】
前記コラムはいずれもちょうど４つの前記読み出し／書き込み要素およびちょうど２つの前記サーボ要素を含むことを特徴とする請求項３から５までのいずれか１項に記載の磁気記憶媒体のデータ読み出し書き込み装置。
【請求項７】
前記磁気記憶媒体のデータ読み出し書き込み装置はテープ駆動装置であり、前記装置がテープの読み出しあるいは書き込みを行う間、前記テープを前記ヘッドに対して第１および第２の方向のうちの少なくとも一方に駆動するように構成されたモータをさらに備えることを特徴とする請求項１から５までのいずれか１項に記載の磁気記憶媒体のデータ読み出し書き込み装置。
【請求項８】
前記磁気記憶媒体のデータ読み出し書き込み装置は線状記録テープ駆動装置であり、前記ヘッドに機械的に連結され、前記装置がテープの読み出しあるいは書き込みを行う間前記ヘッドを前記テープの進行方向に対して直角方向に位置決めするように構成されたヘッド位置決め装置をさらに備えることを特徴とする請求項１から５までのいずれか１項に記載の磁気記憶媒体のデータ読み出し書き込み装置。
【請求項９】
前記サーボ要素に結合されたサーボプロセッサをさらに備え、２つの前記サーボ要素がそれぞれの前記サーボバンドを読み出してそれぞれの第１および第２のサーボ信号を生成するとき、前記サーボプロセッサは前記第１のサーボ信号が破損しているか存在するかおよび前記第２のサーボ信号が破損しているか存在するかを判定し、前記サーボプロセッサは前記第１および第２のサーボ信号が存在するときサーボ信号を読み出している２つの前記サーボ要素からのサーボ信号を用いて、また一方のサーボ信号が破損している場合他方のサーボ信号を用いて、前記ヘッド位置決め装置を制御して選択された前記トラックに対して前記ヘッドを位置決めするように構成されることを特徴とする請求項１から３または５のいずれか１項に記載の磁気記憶媒体のデータ読み出し書き込み装置。
【請求項１０】
テープヘッドをテープの所望のトラックに対して位置決めするヘッド位置決め方法であって、
前記テープ上に複数のサーボバンドを書き込み、前記サーボバンドの間の複数の前記トラックにデータを書き込むことと、
前記ヘッド上に複数の読み出し／書き込み要素を設け、前記読み出し／書き込み要素が前記テープの読み出しあるいは書き込みを行う間、両方の前記サーボバンドを読み出すことのできるサーボ要素を前記ヘッドに設けることと、
を含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月6日(2005.5.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
譲受人が同一であるＭｃＰｈｅｒｓｏｎ氏らの１９９８年４月２４日付け米国特許出願第０９／０６６，０４２号（米国特許６，２９８，０２５号）およびＭｃＰｈｅｒｓｏｎ氏らの１９９８年４月２４日付け米国特許出願第０９／０６６，０４１号（米国特許６，１７３，０２２号）を本願に参考として援用する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
1999007723.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月23日(2004.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部にランプソケットを有し、外側表面に放熱体を備え、内側表面に熱伝導度の良い材料からなる吸熱伝導体を前記ランプソケットに近接するように突出して設けたランプハウスを具備することを特徴とする投光照明器具。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月9日(2004.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
耐熱性基材の片面に、ヒ−トシ−ル性難燃剤層を設けてなるフラットケ−ブル用被覆材において、前記耐熱性基材と前記ヒ−トシ−ル性難燃剤層との間に硬化型接着促進剤層を有し、かつ、前記ヒ−トシ−ル性難燃剤層は、柔軟性に富み、かつ、ヒ−トシ−ル性を有する樹脂と難燃剤とを含む樹脂組成物から成ると共に、該樹脂分に対し硬化剤を０．１〜５重量％の配合割合で含有していることを特徴とするフラットケ−ブル用被覆材。
【請求項２】
ヒ−トシ−ル性難燃剤層を構成する樹脂組成物が、樹脂分２０〜６０重量部に対し硬化剤を０．０２〜３重量部の配合割合で含有していることを特徴とする上記の請求項１に記載するフラットケ−ブル用被覆材。
【請求項３】
硬化剤が、イソシアネ−ト系化合物であることを特徴とする上記の請求項１または２に記載するフラットケ−ブル用被覆材。
【請求項４】
耐熱性基材の片面に、ヒ−トシ−ル性難燃剤層を設けてなるフラットケ−ブル用被覆材を、そのヒ−トシ−ル性難燃剤層を対向させて重ね合わせ、更に、その層間に、導体を密接着させてなるフラットケ−ブルであって、前記耐熱性基材と前記ヒ−トシ−ル性難燃剤層との間に硬化型接着促進剤層を有し、かつ、前記ヒ−トシ−ル性難燃剤層は、柔軟性に富み、かつ、ヒ−トシ−ル性を有する樹脂と難燃剤とを含む樹脂組成物から成ると共に、該樹脂分に対し硬化剤を０．１〜５重量％の配合割合で含有していることを特徴とするフラットケ−ブル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記のような問題点を解決すべく種々研究の結果、接着性樹脂層を構成する樹脂分に対し、硬化剤を使用することに着目し、耐熱性基材の片面に、ヒ−トシ−ル性難燃剤層を設けてなるフラットケ−ブル用被覆材において、前記耐熱性基材と前記ヒ−トシ−ル性難燃剤層との間に硬化型接着促進剤層を有し、かつ、前記ヒ−トシ−ル性難燃剤層は、柔軟性に富み、かつ、ヒ−トシ−ル性を有する樹脂と難燃剤とを含む樹脂組成物から成ると共に、該樹脂分に対し硬化剤を０．１〜５重量％の配合割合で含有しているフラットケ−ブル用被覆材を製造し、而して、該フラットケ−ブル用被覆材を使用してフラットケ−ブルを製造したところ、導体への加熱接着性を損なうことなく、しかも、難燃性にも優れ、更に、耐熱性、耐ブロッキング性等をも有し、かつ、低コストにてフラットケ−ブル用被覆材およびそれを使用したフラットケ−ブルを製造し得ることができることを見出して本発明を完成したものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
すなわち、本発明は、耐熱性基材の片面に、ヒ−トシ−ル性難燃剤層を設けてなるフラットケ−ブル用被覆材において、前記耐熱性基材と前記ヒ−トシ−ル性難燃剤層との間に硬化型接着促進剤層を有し、かつ、前記ヒ−トシ−ル性難燃剤層は、柔軟性に富み、かつ、ヒ−トシ−ル性を有する樹脂と難燃剤とを含む樹脂組成物から成ると共に、該樹脂分に対し硬化剤を０．１〜５重量％の配合割合で含有していることを特徴とするフラットケ−ブル用被覆材およびそれを使用したフラットケ−ブルに関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、本発明は、接着性樹脂層を構成する樹脂分に対し、硬化剤を使用することに着目し、耐熱性基材の片面に、ヒ−トシ−ル性難燃剤層を設けてなるフラットケ−ブル用被覆材において、前記耐熱性基材と前記ヒ−トシ−ル性難燃剤層との間に硬化型接着促進剤層を有し、かつ、前記ヒ−トシ−ル性難燃剤層は、柔軟性に富み、かつ、ヒ−トシ−ル性を有する樹脂と難燃剤とを含む樹脂組成物から成ると共に、該樹脂分に対し硬化剤を０．１〜５重量％の配合割合で含有しているフラットケ−ブル用被覆材を製造し、而して、該フラットケ−ブル用被覆材を使用してフラットケ−ブルを製造して、導体への加熱接着性を損なうことなく、しかも、難燃性にも優れ、更に、耐熱性、耐ブロッキング性等をも有し、かつ、低コストにてフラットケ−ブル用被覆材およびそれを使用したフラットケ−ブルを製造し得ることができるというものである。特に、本発明にかかるフラットケ−ブル被覆材においては、耐熱性基材、硬化型接着促進剤層及びヒ−トシ−ル性難燃剤層を有し、かつ、前記ヒ−トシ−ル性難燃剤層は、硬化剤を添加することにより、ヒ−トシ−ル性難燃剤層の塗膜硬度が向上し、該ヒ−トシ−ル性難燃剤層の塗膜厚さを厚くしても、十分に高い耐ブロッキング性能を有するものである。更にまた、本発明にかかるフラットケ−ブル被覆材においては、硬化剤を添加することにより、高温環境下における導体との接着強度に極めて優れているものである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月15日(2004.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プログラムを実行する制御手段の制御に基づき複数のポリゴンで形成される画像をディスプレー装置に表示する画像処理装置における飛沫表示方法であって、
前記制御手段による前記プログラムの実行により、
2軸を含む平面をポリゴン面として備えた基準ポリゴンに対し、拡大率がそれぞれ異なる複数のポリゴンを生成し、
前記生成された複数のポリゴンのそれぞれに飛沫を表現するテクスチャを貼り、
前記テクスチャが貼られた複数のポリゴンが、前記基準ポリゴンの前記２軸を含む平面と、それぞれ異なる角度をなして表示される画像を生成し、
前記生成された画像を前記ディスプレー装置に表示する
ことを特徴とする飛沫表示方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記複数のポリゴンのそれぞれがなす角度が、時間の経過とともに小さくなるようにして表示される画像を生成し、該画像を前記ディスプレー装置に表示することを特徴とする飛沫表示方法。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記角度を持って表示されるポリゴンの大きさを、前記表示される角度に対応して異なるものとしたことを特徴とする飛沫表示方法。
【請求項４】
請求項１において、
前記それぞれ飛沫を表現するテクスチャを貼った複数のポリゴンは、前記基準ポリゴンの一つの頂点座標を基準に、２軸方向にその大きさの拡大率を順次変化して表示されるものであることを特徴とする画像処理装置における飛沫表示方法。
【請求項５】
請求項１において、
前記それぞれ飛沫を表現するテクスチャを貼った複数のポリゴンは、前記基準ポリゴンの一つの辺の両端座標を基準に、対称となるように２軸方向にその大きさの拡大率を順次変化して表示されるものであることを特徴とする画像処理装置における飛沫表示方法。
【請求項６】
請求項１において、
前記それぞれ飛沫を表現するテクスチャを貼った複数のポリゴンは、前記基準ポリゴンの一の辺の中心座標を基準に、対称となるように前記一の辺に沿う軸方向にその大きさの拡大率を順次変化して表示されるものであることを特徴とする画像処理装置における飛沫表示方法。
【請求項７】
請求項４乃至６のいずれかにおいて、
更に前記順次変化する拡大率に同期して、前記ポリゴンの角度を変えて表示することにより、前記角度を異ならして表示することを特徴とする画像処理装置における飛沫表示方法。
【請求項８】
請求項７において、
前記飛沫を表現するテクスチャは、前記ポリゴンの順次の拡大率の変化に対応して、飛沫のアニメーション画像を構成する複数の駒のそれぞれが割り当てられることを特徴とする飛沫表示方法。
【請求項９】
請求項７において、
前記飛沫を表現するテクスチャは、前記ポリゴンの順次の拡大率の変化に対応して、異なる模様が割り当てられることを特徴とする飛沫表示方法。
【請求項１０】
プログラムを実行する制御手段の制御に基づき複数のポリゴンで形成される画像をディスプレー装置に表示する画像処理装置における飛沫表示方法であって、
前記制御手段による前記プログラムの実行により、
2軸を含む平面をポリゴン面として備えた基準ポリゴンの一の辺の中心座標を基準に、対称となるように前記一の辺に沿う軸方向に拡大率がそれぞれ異なる複数のポリゴンを生成し、
前記生成された複数のポリゴンのそれぞれに飛沫を表現するテクスチャを貼り、
前記テクスチャが貼られた複数のポリゴンが、前記拡大率に対応して表示座標位置がずれて表示される画像を生成し、
前記生成された画像を前記ディスプレー装置に表示する
ことを特徴とする飛沫表示方法。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれかに記載の飛沫表示方法により、ディスプレー装置に飛沫状態を表示させる制御を制御手段が実行するプログラムを格納した記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月2日(2005.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板を処理液で処理する処理装置であって、
該処理液を収容する処理槽と、
前記処理槽内で該基板を保持する保持機構と、
前記保持機構によって保持される該基板の面に直交する方向の所定位置に配置され、該基板に振動を供給する振動源と、
前記保持機構によって保持される該基板を回転させるように構成された構造と、
を備えることを特徴とする処理装置。
【請求項２】  前記構造は、固体部材により該基板に回転力を伝達するように構成されることを特徴とする請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】  前記構造は、前記保持機構を回転させることにより該基板を回転させるように構成されることを特徴とする請求項２に記載の処理装置。
【請求項４】  前記構造は、該処理液の流れを形成することにより該基板を回転させるように構成されることを特徴とする請求項１に記載の処理装置。
【請求項５】  前記構造は、前記処理槽内に該処理液の回転流或いは渦流を形成することにより該基板を回転させるように構成されることを特徴とする請求項４に記載の処理装置。
【請求項６】  前記構造は、前記処理槽内に該処理液の流れを形成するように前記処理槽内に該処理液を供給する供給部を有し、該処理液の流れにより該基板を回転させるように構成されることを特徴とする請求項１に記載の処理装置。
【請求項７】  基板を処理液で処理する処理方法であって、
該処理液を収容した処理槽内において該基板を配置する配置工程と、
該基板を回転させながら該基板を該処理液で処理する処理工程とを含み、
前記配置工程では、該基板に振動を供給する振動源に該基板の面が向くように該基板を配置し、前記処理工程では、前記振動源を動作させて該基板に振動を供給することを特徴とする処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月31日(2005.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
時刻ｔn-1,2から時刻ｔn,1までの期間内に、各ユニットＵmにおいて、Ｎ個のスイッチＳＷ２m,1〜ＳＷ２m,Nのうちの第ｎ番目のスイッチＳＷ２m,nのみが閉じて、第ｎ番目の電荷量レベル判定回路１０m,nの制御部１４より出力されたレベル信号Levelが積分回路２０mに入力して、このレベル信号に基づいて積分回路２０mの積分容量部２１の容量値が設定される。このときのレベル信号は、時刻ｔn-1,2において電荷量レベル判定回路１０m,nの３つの比較器１１〜１３により判定されて制御部１４により保持されたフォトダイオードＰＤm,nのカソード端子の電位ＶPDのレベルを示すものである。また、積分回路２０mのスイッチＳＷ0が時刻ｔn-1,2に閉じて、積分回路２０mから出力される電圧値Ｖ20が初期化される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
また、第１基板１００の第１面の側には、シンチレータ５１０および遮蔽材５２０が配置されている。シンチレータ５１０は、第１基板１００のｐ+領域１１１の上方に設けられ、Ｘ線等のエネルギ線が入射することによりシンチレーション光を発生するものである。遮蔽材５２０は、第１基板１００のｎ+領域１１２の上方に設けられ、Ｘ線等のエネルギ線の透過を阻止するとともに、シンチレータ５１０を固定するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
また、第１基板１００の第１面の側には、シンチレータ５１０および遮蔽材５２０が配置されている。シンチレータ５１０は、第１基板１００のｐ+領域１６１の上方に設けられ、Ｘ線等のエネルギ線が入射することによりシンチレーション光を発生するものである。遮蔽材５２０は、第１基板１００のｎ+領域１６２の上方に設けられ、Ｘ線等のエネルギ線の透過を阻止するとともに、シンチレータ５１０を固定するものである。また、第１基板１００は、ｐ+領域１６１が形成された部分において、第１面側が研削されて、厚みが薄くされている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
図１０（ａ）に断面構成が示された埋込型フォトダイオードは、ｐ領域１４１と、このｐ領域１４１の上のｎ-領域１４２と、このｎ-領域１４２の上のｐ+領域１４３とを有している。ｐ領域１４１とｎ-領域１４２とはｐｎ接合を形成しており、ｎ-領域１４２はｐ+領域１４３ともｐｎ接合を形成している。ｎ-領域１４２は金属配線１１３と電気的に接続されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
図１０（ｂ）に断面構成が示された埋込型フォトダイオードは、ｐ領域１４１と、このｐ領域１４１の上のｎ-領域１４２と、このｎ-領域１４２の上のｐ+領域１４３と、ｎ-領域１４２と接するｎ+領域１４４とを有している。ｐ領域１４１とｎ-領域１４２とはｐｎ接合を形成しており、ｎ-領域１４２はｐ+領域１４３ともｐｎ接合を形成している。ｎ+領域１４４は金属配線１１３と電気的に接続されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2004207505.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月16日(2004.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
ウエハＷに形成されたレジスト膜の膜厚測定は、ウエハＷの外周端面から３ｍｍ内側の円周上の点を最外周測定点とし、この円周内の直径上の複数箇所で行った。表１はその測定結果のレンジおよび３σの値を示している。ここで、「レンジ」は、測定した膜厚値の最大値と最小値の差を示しており、また、膜厚の最大値は最外周（つまり、ウエハＷの外周端面から３ｍｍ内側の円周上）の膜厚の値であることから、このレンジの値が小さいということは、レジスト膜の外周部の跳ね上がりが小さいということを示している。また、「３σ」は膜厚分布の標準偏差であり、この値が小さいことはレジスト膜の厚さ均一性に優れていることを示している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
図９は、スピンチャック４１の回転数を一定として、排気口７２における排気圧を変化させた場合の膜厚を、ウエハＷの外周端面から３ｍｍ内側の円周上の点を最外周測定点としてこの円周内の直径上の複数箇所で測定した結果（レンジおよび３σ）を示している。排気口７２における排気圧を変化させると、排気流路５５と排液流路５６における排気圧も変化するが、図９に示されるように、レジスト膜の厚さには、このような排気圧の影響は殆ど現れないことが確認された。このことは、レジスト膜の厚さを一定に維持しながら、確実にウエハＷの周囲の雰囲気の排気を行うことができることを示している。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月26日(2004.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体レーザーを含む所定の各光学素子が搭載された半導体基板が配置されると共に金属材料又はセラミック材料によって形成されたベース体と、
該ベース体に配置された上記半導体基板を覆うと共に樹脂材料又はガラス材料によって形成されたハウジングと、
該ハウジングに取り付けられ上記所定の各光学素子とは異なる光学素子を有する素子配置ブロックとを備えた
ことを特徴とする半導体集積装置。
【請求項２】
少なくとも半導体レーザーと受光素子とプリズムの各光学素子が搭載された半導体基板が配置されると共に金属材料又はセラミック材料によって形成されたベース体と、
該ベース体に配置された上記半導体基板を覆うと共に樹脂材料又はガラス材料によって形成されたハウジングと、
該ハウジングに取り付けられ、少なくとも１／４波長板、ホログラム、グレーティングの各光学素子を有する素子配置ブロックとを備えた
ことを特徴とする半導体集積装置。
【請求項３】
上記ベース体の金属材料が、銅、鉄、アルミニウムである
ことを特徴とする請求項１に記載の半導体集積装置。
【請求項４】
上記ベース体のセラミック材料が、アルミナ、アルミニウムナイトライドである
ことを特徴とする請求項１に記載の半導体集積装置。
【請求項５】
上記ハウジングの樹脂材料が、熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂である
ことを特徴とする請求項１に記載の半導体集積装置。
【請求項６】
上記熱硬化性樹脂が、フェノリック硬化ノボラックエポキシ系樹脂である
ことを特徴とする請求項５に記載の半導体集積装置。
【請求項７】
上記熱可塑性樹脂が、液晶ポリマー、ポリフェニレンサルファイド、エコノール、ポリエチルエーテルケトンである
ことを特徴とする請求項５に記載の半導体集積装置。
【請求項８】
上記ハウジングのガラス材料が、低融点ガラスである
ことを特徴とする請求項１に記載の半導体集積装置。
【請求項９】
上記半導体基板に搭載される光学素子が、少なくとも半導体レーザー、プリズム、受光素子、フロントフォトダイオードを含む
ことを特徴とする請求項１に記載の半導体集積装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明半導体集積装置は、上記した課題を解決するために、半導体レーザーを含む所定の各光学素子が搭載された半導体基板が配置されると共に金属材料又はセラミック材料によって形成されたベース体と、該ベース体に配置された上記半導体基板を覆うと共に樹脂材料又はガラス材料によって形成されたハウジングと、該ハウジングに取り付けられ上記所定の各光学素子とは異なる光学素子を有する素子配置ブロックとを設けたものである。そして、さらに、少なくとも半導体レーザーと受光素子とプリズムの各光学素子が搭載された半導体基板が配置されると共に金属材料又はセラミック材料によって形成されたベース体と、該ベース体に配置された上記半導体基板を覆うと共に樹脂材料又はガラス材料によって形成されたハウジングと、該ハウジングに取り付けられ、少なくとも１／４波長板、ホログラム、グレーティングの各光学素子を有する素子配置ブロックとを設けたものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
【発明の効果】
以上に記載したところから明らかなように、本発明半導体集積装置は、半導体レーザーを含む所定の各光学素子が搭載された半導体基板が配置されると共に金属材料又はセラミック材料によって形成されたベース体と、該ベース体に配置された上記半導体基板を覆うと共に樹脂材料又はガラス材料によって形成されたハウジングと、該ハウジングに取り付けられ上記所定の各光学素子とは異なる光学素子を有する素子配置ブロックとを設けたことを特徴とする。そして、さらに、少なくとも半導体レーザーと受光素子とプリズムの各光学素子が搭載された半導体基板が配置されると共に金属材料又はセラミック材料によって形成されたベース体と、該ベース体に配置された上記半導体基板を覆うと共に樹脂材料又はガラス材料によって形成されたハウジングと、該ハウジングに取り付けられ、少なくとも１／４波長板、ホログラム、グレーティングの各光学素子を有する素子配置ブロックとを設けたことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１…半導体集積装置、３…ベース体、４…ハウジング、５…半導体基板、７…半導体レーザー、８…フロントフォトダイオード、９…プリズム、１０…受光素子、１１…素子配置ブロック、１２…グレーティング、１３…１／４波長板、１４…ホログラム
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月30日(2004.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体素子をリードフレームのダイパッドに搭載する工程と、
前記半導体素子と前記リードフレームのインナーリードとを金属細線により接続する工程と、
封止金型の下型の位置規制が無い状態で、前記ダイパッドが前記封止金型の下型の底部の深さよりも低い位置にダウンセットされた前記リードフレームを固定する工程と、
前記ダイパッド、前記半導体素子および前記金属細線を封止樹脂で封止するとともに、前記リードフレームを前記封止金型により型締めする工程と
を含んでいる半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月24日(2004.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
動画像を撮影する動画撮影モードと静止画像を撮影する静止画撮影モードとを有し、撮影レンズを介して撮影する撮像装置であって、
前記撮像装置の電源をオン／オフする電源ボタンと、
前記動画撮影モード及び前記静止画撮影モードのいずれかを選択する撮影モード選択手段と、
前記撮影レンズのズーム倍率を変更するために前記撮影レンズを移動させるズーム駆動手段とを備え、
前記ズーム駆動手段は、電源がオンされた時に、前記撮影モード選択手段により選択された前記動画撮影モード又は前記静止画撮影モードに基づいて、前記撮影レンズを移動させることを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記ズーム駆動手段は、電源がオンされた時に、前記動画撮影モードが選択されている場合には、前記撮影レンズを広角端まで移動させることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記動画撮影モードと前記静止画撮影モードにおける電源オン時のそれぞれの初期ズーム倍率を選択するズーム倍率選択手段と、
選択された初期ズーム倍率を記憶する記憶手段と
を更に備え、
前記ズーム駆動手段は、電源がオンされた時に、前記記憶手段に記憶された初期ズーム倍率に基づいたズーム倍率位置まで前記撮影レンズを移動させることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月25日(2005.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】立体画像表示装置および立体画像記録装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画像から構成される立体画像を表示するための立体画像表示装置であって、前記立体画像の表示に必要な制御情報を入力する入力部を備え、前記制御情報は立体画像の立体強度を示す情報を含むことを特徴とする立体画像表示装置。
【請求項２】
算出部と表示制御部をさらに備え、前記算出部は、前記立体強度に基づいて時間と共に増加する累積強度を算出し、前記表示制御部は、前記累積強度が第１のしきい値より大きい場合に、予め定められた表示動作を行うことを特徴とする請求項１に記載の立体画像表示装置。
【請求項３】
前記表示動作は、警告メッセージの表示を含むことを特徴とする請求項２に記載の立体画像表示装置。
【請求項４】
前記表示動作は、前記立体画像の視差を少なくするよう調整する動作を含むことを特徴とする請求項２に記載の立体画像表示装置。
【請求項５】
前記表示動作は、前記立体画像から平面画像を作成し、前記立体画像に代えて前記平面画像を表示する動作を含むことを特徴とする請求項２に記載の立体画像表示装置。
【請求項６】
前記表示動作は、所定の時間の経過後に前記平面画像に代えて前記立体画像を表示する復帰動作を含むことを特徴とする請求項５に記載の立体画像表示装置。
【請求項７】
前記算出部は、平面画像を表示中に時間と共に減少する累積強度を算出し、前記表示動作は、前記累積強度が第２のしきい値より小さい場合に、前記平面画像に代えて前記立体画像を表示する復帰動作を含むことを特徴とする請求項５に記載の立体画像表示装置。
【請求項８】
外部信号を入力する入力部をさらに備え、前記外部信号は、立体画像の表示と平面画像の表示を切り替える要求信号を含み、前記要求信号は、前記表示動作によって前記平面画像が表示されてから前記復帰動作が行われるまでの間は無効とすることを特徴とする請求項６又は７に記載の立体画像表示装置。
【請求項９】
複数の画像から構成される立体画像を表示するための立体画像表示装置であって、前記立体画像の表示に必要な制御情報を入力する入力部と、立体画像の表示を制御する表示制御部を備え、前記表示制御部は、予め定められた第１の条件に従って前記立体画像から平面画像を作成し、前記立体画像に代えて平面画像を表示すると共に、予め定められた第２の条件に従って、前記平面画像に代えて前記立体画像を表示することを特徴とする立体画像表示装置。
【請求項１０】
複数の画像から構成される立体画像を所定の記録領域に記録するための立体画像記録装置において、前記記録領域は前記立体画像を記録するための画像記録領域と、音声を記録するための音声記録領域と、付随情報を記録するためのサブコード領域のうち少なくとも一つを有することを特徴とする立体画像記録装置。
【請求項１１】
複数の画像から成る立体画像を記録する立体画像記録装置において、立体画像の表示を制御するための制御情報を所定の記録領域に記録する記録部を備え、前記制御情報は、立体画像の立体強度を示す情報を含み、前記記録領域は前記立体画像を記録するための画像記録領域と、音声を記録するための音声記録領域と、付随情報を記録するためのサブコード領域のうち少なくとも一つを有することを特徴とする立体画像記録装置。
【請求項１２】
複数の画像から成る立体画像を所定の記録領域に記録する立体画像記録装置において、立体画像の表示を制御するための制御情報を記録する記録部を備え、前記制御情報は、立体表示時間と共に増加する累積値に関するしきい値を含み、前記記録領域は前記立体画像を記録するための画像記録領域と、音声を記録するための音声記録領域と、付随情報を記録するためのサブコード領域のうち少なくとも一つを有することを特徴とする立体画像記録装置。
【請求項１３】
複数の画像から成る立体画像を所定の記録領域に記録する立体画像記録装置において、立体画像の表示を制御するための制御情報を記録する記録部を備え、前記制御情報は、立体画像の表示を制限するための制限時間を示す情報を含み、前記記録領域は前記立体画像を記録するための画像記録領域と、音声を記録するための音声記録領域と、付随情報を記録するためのサブコード領域のうち少なくとも一つを有することを特徴とする立体画像記録装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月14日(2005.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面に発光素子の搭載部を有する基体と、該基体上に形成され、前記発光素子が収容される貫通孔を有する枠体とを備えた発光素子収納用パッケージにおいて、前記枠体の貫通孔の内面に金属層が被着され、該金属層上にニッケルめっき層および銀めっき層が順次被着されていることを特徴とする発光素子収納用パッケージ。
【請求項２】
前記基体および前記枠体がセラミックスから成ることを特徴とする請求項１記載の発光素子収納用パッケージ。
【請求項３】
前記枠体が白色の酸化アルミニウム質焼結体から成ることを特徴とする請求項２記載の発光素子収納用パッケージ。
【請求項４】
前記金属層がタングステンおよびモリブデンを含むことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の発光素子収納用パッケージ。
【請求項５】
前記貫通孔は、横断面形状が略楕円形であるとともに内面が前記枠体の下面から上面に向けて広がるように傾斜していることを特徴とする請求項１記載の発光素子収納用パッケージ。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の発光素子収納用パッケージと、前記搭載部に搭載された発光素子と、該発光素子を覆う透明樹脂とを具備したことを特徴とする発光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月13日(2005.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の基板の表面に、板状スペーサを該板状スペーサの長手方向が該第一の基板の該表面と平行になるように配置し、該板状スペーサの長手方向の端部を該第一の基板に固定する工程と、
板状スペーサの長手方向の端部が固定された第一の基板に第二の基板を対向配置し、該第一の基板と該第二の基板とを該板状スペーサを介して封着する工程と、を有する画像表示装置の製造方法であって、
板状スペーサの長手方向の端部を第一の基板に固定する前記工程と、第一の基板と第二の基板を封着する前記工程との間に、板状スペーサと第一の基板の表面との間に空隙を形成する工程を更に有することを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記空隙を形成する工程は、前記第一の基板の変形によって行われることを特徴とする請求項１に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記空隙を形成する工程は、前記板状スペーサの端部に設けられた弾性部材によって行われることを特徴とする請求項１に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記弾性部材は、形状記憶合金で構成されることを特徴とする請求項３に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項５】
板状スペーサの長手方向の端部を第一の基板に固定する前記工程は、該板状スペーサの長手方向に張力を付加した状態で行われることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項６】
第一の基板の表面に、板状スペーサを該板状スペーサの長手方向が該第一の基板の該表面と平行になるように配置し、該板状スペーサの中央部と該第一の基板との間に空隙を形成した状態で、該板状スペーサの長手方向の端部を該第一の基板に固定する工程と、
板状スペーサの長手方向の端部が固定された第一の基板に第二の基板を対向配置し、該第一の基板と該第二の基板とを該板状スペーサを介して封着する工程と、を有する画像表示装置の製造方法であって、
板状スペーサの長手方向の端部を第一の基板に固定する前記工程と、第一の基板と第二の基板を封着する前記工程との間に、板状スペーサの固定された第一の基板を搬送する工程を更に有することを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項７】
板状スペーサの長手方向の端部を第一の基板に固定する前記工程は、スペーサ端部に設けられた支持部材を前記第一の基板に接着することで行われることを特徴とする請求項６に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記支持部材は、弾性部材であることを特徴とする請求項７に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項９】
板状スペーサの長手方向の端部を第一の基板に固定する前記工程は、該板状スペーサの長手方向に張力を付加した状態で行われることを特徴とする請求項６乃至８のいずれか一項に記載の画像表示装置の製造方法。 
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
すなわち第１の本発明は、
第一の基板の表面に、板状スペーサを該板状スペーサの長手方向が該第一の基板の該表面と平行になるように配置し、該板状スペーサの長手方向の端部を該第一の基板に固定する工程と、
板状スペーサの長手方向の端部が固定された第一の基板に第二の基板を対向配置し、該第一の基板と該第二の基板とを該板状スペーサを介して封着する工程と、を有する画像表示装置の製造方法であって、
板状スペーサの長手方向の端部を第一の基板に固定する前記工程と、第一の基板と第二の基板を封着する前記工程との間に、板状スペーサと第一の基板の表面との間に空隙を形成する工程を更に有することを特徴とする画像表示装置の製造方法である。
また、前記空隙を形成する工程は、前記第一の基板の変形によって行われることを特徴とする。
また、前記空隙を形成する工程は、前記板状スペーサの端部に設けられた弾性部材によって行われることを特徴とする。さらに、前記弾性部材は、形状記憶合金で構成されることを特徴とする。
そしてまた、板状スペーサの長手方向の端部を第一の基板に固定する前記工程は、該板状スペーサの長手方向に張力を付加した状態で行われることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、第２の本発明は、
第一の基板の表面に、板状スペーサを該板状スペーサの長手方向が該第一の基板の該表面と平行になるように配置し、該板状スペーサの中央部と該第一の基板との間に空隙を形成した状態で、該板状スペーサの長手方向の端部を該第一の基板に固定する工程と、
板状スペーサの長手方向の端部が固定された第一の基板に第二の基板を対向配置し、該第一の基板と該第二の基板とを該板状スペーサを介して封着する工程と、を有する画像表示装置の製造方法であって、
板状スペーサの長手方向の端部を第一の基板に固定する前記工程と、第一の基板と第二の基板を封着する前記工程との間に、板状スペーサの固定された第一の基板を搬送する工程を更に有することを特徴とする画像表示装置の製造方法である。
また、板状スペーサの長手方向の端部を第一の基板に固定する前記工程は、スペーサ端部に設けられた支持部材を前記第一の基板に接着することで行われることを特徴とする。さらに、前記支持部材は、弾性部材であることを特徴とする。
そしてまた、板状スペーサの長手方向の端部を第一の基板に固定する前記工程は、該板状スペーサの長手方向に張力を付加した状態で行われることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月6日(2005.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電子放出素子及び画像表示装置の製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板上に、間隙を有する導電性部材を配置する工程と、炭素化合物の雰囲気中にて、前記導電性部材へ所定の電圧パルスを印加する活性化工程を有する電子放出素子の製造方法であって、
前記活性化工程において、パルス間隔時間Ｔ（秒）が前記炭素化合物の分圧Ｐ（Ｐａ）に対し、Ｔ＜１０-5／Ｐの関係を満たす電圧パルスを印加することを特徴とする電子放出素子の製造方法。
【請求項２】  複数の電子放出素子を有する電子源と、画像形成部材とを有する画像形成装置の製造方法であって、前記電子放出素子が請求項１に記載の電子放出素子の製造方法により製造されることを特徴とする画像形成装置の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
図２に、活性化処理に際し、上記パルス間隔時間Ｔ２を種々変化させた場合の電子放出効率およびリーク電流の実験結果を示す。尚、この際の印加電圧パルスは、波高値１８Ｖの矩形波（ＯＮ電圧が１８Ｖ、ＯＦＦ電圧が０Ｖ）を用い、そのパルス幅Ｔ１は１ｍ秒である。また、炭素化合物はｐ−トルニトリルを用い、該炭素化合物の分圧は、１×１０-4Ｐａを維持した。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月16日(2004.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体複合装置及びＬＥＤヘッド
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路を有する半導体基板と、
前記半導体基板の表面に形成された平坦化領域と、
半導体素子を有し、前記平坦化領域上に貼り付けられた半導体薄膜と
を備えたことを特徴とする半導体複合装置。
【請求項２】
前記平坦化領域が、前記半導体基板の表面に平坦化処理を施した領域であることを特徴とする請求項１に記載の半導体複合装置。
【請求項３】
前記平坦化領域が、前記半導体基板の前記集積回路上に形成されたことを特徴とする請求項１又は２のいずれかに記載の半導体複合装置。
【請求項４】
前記平坦化領域が、前記半導体基板の前記集積回路に隣接する領域に形成されたことを特徴とする請求項１又は２のいずれかに記載の半導体複合装置。
【請求項５】
前記平坦化領域と前記半導体薄膜との間に、平坦化膜を介在させ、
前記平坦化膜の前記半導体薄膜側の面に平坦化処理が施されている
ことを特徴とする請求項１から４までのいずれかに記載の半導体複合装置。
【請求項６】
前記平坦化膜が、導通層と、前記導通層が形成された領域の周辺領域に形成された層間絶縁膜とを有することを特徴とする請求項５に記載の半導体複合装置。
【請求項７】
前記半導体薄膜が、前記半導体素子が形成された側の第１の面を前記平坦化領域側にしたことを特徴とする請求項１から６までのいずれかに記載の半導体複合装置。
【請求項８】
前記半導体薄膜が、前記第１の面の反対側の第２の面に共通電極層を有し、
前記集積回路が、共通電極端子を有し、
前記半導体薄膜の前記共通電極層上から前記集積回路の前記共通電極端子上に至る領域に形成された薄膜の共通配線層を備えた
ことを特徴とする請求項７に記載の半導体複合装置。
【請求項９】
前記半導体薄膜が、前記半導体素子が形成された側の第１の面の反対側の第２の面に共通電極層を有し、前記第２の面を前記平坦化領域側にしたことを特徴とする請求項１から６までのいずれかに記載の半導体複合装置。
【請求項１０】
前記集積回路が、個別電極端子を有し、
前記半導体薄膜の前記半導体素子上から前記個別電極端子上に至る領域に形成された薄膜の個別配線層を備えた
ことを特徴とする請求項９に記載の半導体複合装置。
【請求項１１】
集積回路を有する半導体基板と、
前記半導体基板の前記集積回路が形成された領域に隣接する領域上に形成され、前記集積回路が形成された領域よりも高い位置に表面を持つかさあげ層と、
前記かさあげ層の表面上に貼り付けられた半導体薄膜と
を備えたことを特徴とする半導体複合装置。
【請求項１２】
集積回路を有する半導体基板と、
前記半導体基板上に貼り付けられた半導体薄膜とを有し、
前記半導体薄膜が、前記半導体素子が形成された側の第１の面を前記半導体基板側にしたことを特徴とする半導体複合装置。
【請求項１３】
前記半導体基板と前記半導体薄膜との間に、導通層を介在させたことを特徴とする請求項１２に記載の半導体複合装置。
【請求項１４】
前記半導体基板と前記半導体薄膜との間であって前記導通層が形成された領域の周辺領域に、層間絶縁膜を備えたことを特徴とする請求項１３に記載の半導体複合装置。
【請求項１５】
前記半導体薄膜が、前記第１の面の反対側の第２の面に共通電極層を有し、
前記集積回路が、共通電極端子を有し、
前記半導体薄膜の前記共通電極層上から前記集積回路の前記共通電極端子上に至る領域に形成された薄膜の共通配線層を備えた
ことを特徴とする請求項１２から１４までのいずれかに記載の半導体複合装置。
【請求項１６】
前記半導体薄膜が、化合物半導体を主材料とすることを特徴とする請求項１から１５までのいずれかに記載の半導体複合装置。
【請求項１７】
前記半導体素子が、発光素子、受光素子、ホール素子、及びピエゾ素子の内のいずれかの素子であり、
前記集積回路が、前記半導体素子を駆動させる駆動ＩＣを含む
ことを特徴とする請求項１から１６までのいずれかに記載の半導体複合装置。
【請求項１８】
前記半導体薄膜に、前記半導体素子が複数個配列されていることを特徴とする請求項１から１７までのいずれかに記載の半導体複合装置。
【請求項１９】
前記半導体薄膜に、前記半導体素子が１個備えられていることを特徴とする請求項１から１７までのいずれかに記載の半導体複合装置。
【請求項２０】
前記半導体素子は、ＬＥＤ素子であることを特徴とする請求項１から１６までのいずれかに記載の半導体複合装置。
【請求項２１】
請求項２０の半導体複合装置を搭載したＬＥＤユニットと、
該ＬＥＤユニットに対向する様配置され、前記ＬＥＤ素子から放出される光を集束させる光学素子と、
該ＬＥＤユニット及び該光学素子を保持するホルダと
を有することを特徴とすることを特徴とするＬＥＤヘッド。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
そこで、本発明は上記したような従来技術の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、小型化及び材料コストの低減を図ることができる半導体複合装置、及びこれを搭載したＬＥＤヘッドを提供することにある。