【手続補正書】
【提出日】平成16年4月13日(2004.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ドープ物質を選択的にエッチングする組成物であって、前記組成物がアルコールと少なくとも２種の無機酸とから本質的になる、組成物。
【請求項２】
前記アルコールが多価アルコールである、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記多価アルコールが、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ジプロピレングリコール、ソルビトール、ヘキシレングリコール、１，３‐ジブチレングリコール、１，２，６‐ヘキサントリオールおよび１，５‐ペンタンジオールからなる群から選択される、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
前記多価アルコールが、エチレングリコール、プロピレングリコールからなる群から選択される、請求項２に記載の組成物。
【請求項５】
前記多価アルコールがプロピレングリコールである、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記アルコールがＣ２〜Ｃ６アルコールである、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記Ｃ２〜Ｃ６アルコールが、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、イソブタノールおよびｎ‐ブタノールからなる群から選択される、請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
前記アルコールがイソプロパノールである、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
前記無機酸が、フッ化水素酸、硝酸、リン酸、硫酸、ホウ酸、炭酸、過塩素酸および亜硫酸からなる群から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
前記第１無機酸が硝酸であり、且つ前記第２無機酸がフッ化水素酸である、請求項１に記載の組成物。
【請求項１１】
前記アルコールがプロピレングリコールである、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
前記組成物が非水組成物である、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
アルコール：第１酸：第２酸の比が約１０〜５０：５〜４０：１である、請求項１に記載の組成物。
【請求項１４】
アルコール：前記第１酸：前記第２酸の比が約２０〜４０：１０〜３０：１である、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１５】
アルコール：前記第１酸：前記第２酸の比が約３０：２０：１である、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１６】
プロピレングリコール：硝酸：フッ化水素酸の比が約１０〜５０：５〜４０：１である、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１７】
プロピレングリコール：硝酸：フッ化水素酸の比が約２０〜４０：１０〜３０：１である、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１８】
プロピレングリコール：硝酸：フッ化水素酸の比が約３０：２０：１である、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１９】
エッチングされた前記物質が、ドープアモルファス、ドープ擬結晶またはドープ多結晶シリコンである、請求項１に記載の組成物。
【請求項２０】
前記物質がドープゲルマニウムである、請求項１に記載の組成物。
【請求項２１】
前記物質がヒ化ガリウムである、請求項１に記載の組成物。
【請求項２２】
ドープシリコンを選択的にエッチングする組成物であって、前記組成物がアルコールと少なくとも２種の無機酸との非水組成物から本質的になる、組成物。
【請求項２３】
前記アルコールが多価アルコールである、請求項２２に記載の組成物。
【請求項２４】
前記多価アルコールが、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ジプロピレングリコール、ソルビトール、ヘキシレングリコール、１，３‐ジブチレングリコール、１，２，６‐ヘキサントリオールおよび１，５‐ペンタンジオールからなる群から選択される、請求項２３に記載の組成物。
【請求項２５】
前記多価アルコールが、エチレングリコール、プロピレングリコールからなる群から選択される、請求項２３に記載の組成物。
【請求項２６】
前記多価アルコールがプロピレングリコールである、請求項２２に記載の組成物。
【請求項２７】
前記アルコールがＣ２〜Ｃ６アルコールである、請求項２２に記載の組成物。
【請求項２８】
前記Ｃ２〜Ｃ６アルコールが、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、イソブタノールおよびｎ‐ブタノールからなる群から選択される、請求項２７に記載の組成物。
【請求項２９】
前記アルコールがイソプロパノールである、請求項２８に記載の組成物。
【請求項３０】
前記無機酸が、フッ化水素酸、硝酸、リン酸、硫酸、ホウ酸、炭酸、過塩素酸および亜硫酸からなる群から選択される、請求項２２に記載の組成物。
【請求項３１】
前記第１無機酸が硝酸であり、且つ前記第２無機酸がフッ化水素酸である、請求項２２に記載の組成物。
【請求項３２】
前記アルコールがプロピレングリコールである、請求項３１に記載の組成物。
【請求項３３】
アルコール：第１酸：第２酸の比が約１０〜５０：５〜４０：１である、請求項２２に記載の組成物。
【請求項３４】
アルコール：前記第１酸：前記第２酸の比が約２０〜４０：１０〜３０：１である、請求項３３に記載の組成物。
【請求項３５】
アルコール：前記第１酸：前記第２酸の比が約３０：２０：１である、請求項３４に記載の組成物。
【請求項３６】
プロピレングリコール：硝酸：フッ化水素酸の比が約１０〜５０：５〜４０：１である、請求項３２に記載の組成物。
【請求項３７】
プロピレングリコール：硝酸：フッ化水素酸の比が約２０〜４０：１０〜３０：１である、請求項３２に記載の組成物。
【請求項３８】
プロピレングリコール：硝酸：フッ化水素酸の比が約３０：２０：１である、請求項３２に記載の組成物。
【請求項３９】
アンドープポリシリコンに対して高選択性で、シリコン基板からドープポリシリコンをエッチングする組成物であって、プロピレングリコール、硝酸、フッ化水素酸の比が約１０〜５０：５〜４０：１のプロピレングリコール、硝酸、フッ化水素酸を含有する非水組成物から本質的になる組成物。
【請求項４０】
プロピレングリコール：硝酸：フッ化水素酸の比が約２０〜４０：１０〜３０：１である、請求項３９に記載の組成物。
【請求項４１】
プロピレングリコール：硝酸：フッ化水素酸の比が約３０：２０：１である、請求項３９に記載の組成物。
【請求項４２】
ドープ材料を選択的にエッチングする方法であって、アルコールおよび少なくとも２種の無機酸を含む非水組成物と前記ドープ材料を接触させることを含んでなる方法。
【請求項４３】
前記アルコールが多価アルコールである、請求項４２に記載の方法。
【請求項４４】
前記多価アルコールが、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ジプロピレングリコール、ソルビトール、ヘキシレングリコール、１，３‐ジブチレングリコール、１，２，６‐ヘキサントリオールおよび１，５‐ペンタンジオールからなる群から選択される、請求項４３に記載の方法。
【請求項４５】
前記多価アルコールが、エチレングリコール、プロピレングリコールからなる群から選択される、請求項４４に記載の方法。
【請求項４６】
前記アルコールがプロピレングリコールである、請求項４２に記載の方法。
【請求項４７】
前記アルコールがＣ２〜Ｃ６アルコールである、請求項４２に記載の方法。
【請求項４８】
前記Ｃ２〜Ｃ６アルコールが、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、イソブタノールおよびｎ‐ブタノールからなる群から選択される、請求項４７に記載の方法。
【請求項４９】
前記アルコールがイソプロパノールである、請求項４７に記載の方法。
【請求項５０】
前記無機酸が、フッ化水素酸、硝酸、リン酸、硫酸、ホウ酸、炭酸、過塩素酸および亜硫酸からなる群から選択される、請求項４２に記載の方法。
【請求項５１】
第１無機酸が硝酸であり、且つ第２無機酸がフッ化水素酸である、請求項４２に記載の方法。
【請求項５２】
前記アルコールがプロピレングリコールである、請求項５１に記載の方法。
【請求項５３】
前記組成物が非水組成物である、請求項５２に記載の方法。
【請求項５４】
プロピレングリコール：硝酸：フッ化水素酸の比が約１０〜５０：５〜４０：１である、請求項５２に記載の方法。
【請求項５５】
プロピレングリコール：硝酸：フッ化水素酸の比が約２０〜４０：１０〜３０：１である、請求項５２に記載の方法。
【請求項５６】
プロピレングリコール：硝酸：フッ化水素酸の比が約３０：２０：１である、請求項５２に記載の方法。
【請求項５７】
前記ドープ材料を前記組成物中に浸漬する、請求項５６に記載の方法。
【請求項５８】
前記ドープ材料を温度約−１０℃〜約７０℃の前記組成物中に浸漬する、請求項５７に記載の方法。
【請求項５９】
前記ドープ材料を温度約３５℃の前記組成物中に浸漬する、請求項５７に記載の方法。
【請求項６０】
アルコール：第１酸：第２酸の比が約１０〜５０：５〜４０：１である、請求項４２に記載の方法。
【請求項６１】
アルコール：前記第１酸：前記第２酸の比が約２０〜４０：１０〜３０：１である、請求項６０に記載の方法。
【請求項６２】
アルコール：前記第１酸：前記第２酸の比が約３０：２０：１である、請求項６１に記載の方法。
【請求項６３】
前記ドープ材料が単結晶材料である、請求項４２に記載の方法。
【請求項６４】
前記ドープ材料が多結晶材料である、請求項４２に記載の方法。
【請求項６５】
前記ドープ材料がアモルファスである、請求項４２に記載の方法。
【請求項６６】
前記ドープ材料がドープポリシリコンである、請求項４２に記載の方法。
【請求項６７】
前記ドープ材料がドープゲルマニウムである、請求項４２に記載の方法。
【請求項６８】
前記ドープ材料がヒ化ガリウムである、請求項４２に記載の方法。
【請求項６９】
前記ドープ材料がＢＰＳＧである、請求項４２に記載の方法。
【請求項７０】
前記ドープ材料を前記組成物中に浸漬する、請求項４２に記載の方法。
【請求項７１】
前記ドープ材料を温度約−１０℃〜約７０℃の前記組成物中に浸漬する、請求項７０に記載の方法。
【請求項７２】
前記ドープ材料を温度約３５℃の前記組成物中に浸漬する、請求項７０に記載の方法。
【請求項７３】
前記ドープ材料に前記組成物を吹付ける、請求項４２に記載の方法。
【請求項７４】
アンドープポリシリコンに対して高選択性で、シリコン基板からドープポリシリコンをエッチングする方法であって、プロピレングリコール、硝酸、およびフッ化水素酸を含有する非水組成物と前記基板とを接触させることを含んでなる方法。
【請求項７５】
プロピレングリコール：硝酸：フッ化水素酸の比が約１０〜５０：５〜４０：１である、請求項７４に記載の方法。
【請求項７６】
プロピレングリコール：硝酸：フッ化水素酸の比が約２０〜４０：１０〜３０：１である、請求項７４に記載の方法。
【請求項７７】
プロピレングリコール：硝酸：フッ化水素酸の比が約３０：２０：１である、請求項７４に記載の方法。
【請求項７８】
前記基板を前記組成物中に浸漬する、請求項７４に記載の方法。
【請求項７９】
前記基板を温度約−１０℃〜約７０℃の前記組成物中に浸漬する、請求項７８に記載の方法。
【請求項８０】
前記基板を温度約３５℃の前記組成物中に浸漬する、請求項７８に記載の方法。
【請求項８１】
前記基板に前記組成物を吹付ける、請求項７４に記載の方法。
【請求項８２】
ドープ材料を選択的にエッチングする方法であって、アルコールおよび少なくとも２種の無機酸を含む非水組成物と前記ドープ材料を接触させることを含んでなる方法。
【請求項８３】
ドープ材料を選択的にエッチングする方法であって、イソプロパノールおよび少なくとも２種の無機酸を含む非水組成物と前記ドープ材料を接触させることを含んでなる方法。
【請求項８４】
ドープアモルファス、ドープ擬結晶、またはドープ多結晶シリコンを選択的にエッチングする方法であって、プロピレングリコールおよび少なくとも２種の無機酸を含む非水組成物と前記ドープアモルファス、ドープ擬結晶、またはドープ多結晶シリコンを接触させることを含んでなる方法。
【請求項８５】
ドープゲルマニウムを選択的にエッチングする方法であって、アルコールおよび少なくとも２種の無機酸を含む非水組成物と前記ドープゲルマニウムを接触させることを含んでなる方法。
【請求項８６】
ヒ化ガリウムを選択的にエッチングする方法であって、アルコールおよび少なくとも２種の無機酸を含む非水組成物と前記ヒ化ガリウムを接触させることを含んでなる方法。