【手続補正書】
【提出日】平成17年1月24日(2005.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【書類名】      明細書
【発明の名称】  基板洗浄装置及び基板洗浄方法
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板を保持する基板保持機構と該基板保持機構を駆動する駆動機構を具備する洗浄ユニットを上下２段に配置したことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】  請求項１に記載の基板洗浄装置において、
前記上段洗浄ユニットと下段洗浄ユニットが互いに異なった洗浄方法を実施する洗浄ユニットであることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項３】  請求項１に記載の基板洗浄装置において、
前記上段洗浄ユニットは前記駆動機構を前記基板保持機構より上方に配置し、前記下段洗浄ユニットは前記駆動機構を前記基板保持機構より下方に配置したことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項４】  請求項１に記載の基板洗浄装置において、
搬送ロボットを具備し、該搬送ロボットで基板を前記上下段洗浄ユニットのいずれか一方の洗浄ユニットに搬入し、洗浄終了したら前記搬送ロボットで他方の洗浄ユニットに搬入することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項５】  請求項２に記載の基板洗浄装置において、
前記上下段洗浄ユニットのいずれか一方が、基板の両面をそれぞれ洗浄する２個のロール型洗浄具を具備するロール／ロールスクラバ洗浄ユニットであり、他方がペンシル型洗浄具を具備し、洗浄した基板を前記駆動機構でスピン乾燥させるペンシルスクラブ洗浄・スピンドライユニットであることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項６】  基板を保持する基板保持機構と該基板保持機構を駆動する駆動機構を具備する上下２段に配置した洗浄ユニットのいずれか一方の洗浄ユニットに、基板を搬送ロボットで基板を搬入して洗浄し、洗浄の終了した該基板を前記搬送ロボットで他方の洗浄ユニットに搬入し洗浄することを特徴とする基板洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体ウエハ等の基板を複数の異なる洗浄工程を経て洗浄する基板洗浄装置及び基板洗浄方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
半導体デバイスの集積度の向上に伴い、基板の洗浄にも高いクリーン度が要求され、複数の異なる洗浄工程を経て洗浄されるようになっている。従来の基板洗浄装置は、異なる洗浄工程を実施する洗浄ユニットを水平面に個々に配置し、搬送ロボットを用いて基板を洗浄ユニット間で搬送し、該複数の洗浄ユニットによる洗浄を経て洗浄し、洗浄終了後の基板を乾燥させている。
【０００３】
上記のように従来の洗浄装置は、複数の洗浄ユニットを水平面に配置しているため装置が大型化すると共に、大きい設置スペースを必要とするという問題がある。また、基板を搬送する搬送ロボットの移動距離が大きくなり搬送ロボットの所用面積が大きくなるという問題もあった。また、複数の洗浄ユニットが水平に配置されているため奥行きが大きくなり、部品等の交換・洗浄等のメンテナンスを行う場合、一方の側面からアクセスすることができず複数の側面からアクセスしなければならないという問題がある。
【０００４】
上記のように、大きい設置スペースを必要としたり、部品等の交換・洗浄等のメンテナンスに複数の側面からアクセスしなければならないという問題は、洗浄装置を例えば床面コストが高価なクリーンルームに設置する場合に、大きなスペースを必要とするため不都合である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上述の点に鑑みてなされたもので、上記問題を除去し、小型化が可能で設置面積が小さくてすみ、且つ部品等の交換・洗浄等のメンテナンスが容易な基板洗浄装置及び基板洗浄方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため請求項１に記載の発明は、基板を保持する基板保持機構と該基板保持機構を駆動する駆動機構を具備する洗浄ユニットを上下２段に配置したことを特徴とする基板洗浄装置にある。
【０００７】
上記のように洗浄ユニットを上下２段に配置したので、装置全体を小型化することができるとともに、装置の設置面積を小さくすることができる。また、各洗浄ユニットに基板を搬送するための搬送ロボットの移送距離も少なくて済む。
【０００８】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板洗浄装置において、上段洗浄ユニットと下段洗浄ユニットが互いに異なった洗浄方法を実施する洗浄ユニットであることを特徴とする。
【０００９】
上記のように上段洗浄ユニットと下段洗浄ユニットが互いに異なった洗浄方法を実施する洗浄ユニットであるから、小型に構成された基板洗浄装置で、異なった洗浄工程を経て基板を洗浄できる。
【００１０】
また、請求項２に記載の基板洗浄装置において、上下段洗浄ユニットのいずれか一方が、基板の両面をそれぞれ洗浄する２個のロール型洗浄具を具備するロール／ロールスクラバ洗浄ユニットであり、他方がペンシル型洗浄具を具備し、洗浄した基板を前記駆動機構でスピン乾燥させるペンシルスクラブ洗浄・スピンドライユニットであることを特徴とする。
【００１１】
また、上記基板洗浄装置において、上段洗浄ユニットがロール／ロールスクラバ洗浄ユニットであり、下段洗浄ユニットがペンシルスクラブ洗浄・スピンドライユニットであることを特徴とする。
【００１２】
上記のように一方をロール／ロールスクラバ洗浄ユニットとし、他方をペンシルスクラブ洗浄・スピンドライユニットとすることにより、小型に構成された基板洗浄装置で、ロール／ロールスクラバ洗浄した後、ペンシルスクラブ洗浄し、該ペンシルスクラブ洗浄が終了した後、スピン乾燥させることができる。
【００１３】
また、請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の基板洗浄装置において、上段洗浄ユニットは駆動機構を基板保持機構より上方に配置し、下段洗浄ユニットは駆動機構を基板保持機構より下方に配置したことを特徴とする。
【００１４】
上記のように上段洗浄ユニットは駆動機構を基板保持機構より上方に配置し、下段洗浄ユニットは駆動機構を基板保持機構より下方に配置したことにより、上下両洗浄ユニットの基板保持機構が互いに接近して配置されることになり、基板の移動距離が少なくて済み、ハンドのストロークが小さい小型の搬送ロボットで基板の両洗浄ユニット間の移送が可能となる。
【００１５】
請求項４に記載の発明は、請求項１に記載の基板洗浄装置において、搬送ロボットを具備し、該搬送ロボットで基板を上下段洗浄ユニットのいずれか一方の洗浄ユニットに搬入し、洗浄終了したら搬送ロボットで他方の洗浄ユニットに搬入することを特徴とする。
【００１６】
上記のように搬送ロボットで基板を上下段洗浄ユニットのいずれか一方の洗浄ユニットに搬入し、洗浄終了したら搬送ロボットで他方の洗浄ユニットに搬入するので、小型の基板洗浄装置で上下２段の洗浄ユニットを経た洗浄を自動的に行うことができる。
【００１７】
また、請求項１に記載の基板洗浄装置において、上段洗浄ユニットを上方に跳ね上げる跳上げ機構を具備することを特徴とする。
【００１８】
上記のように跳上げ機構を具備することにより、上段洗浄ユニットを上方に跳ね上げた状態で、上下段の洗浄ユニットの部品交換や洗浄等のメンテナンスが容易となる。
【００１９】
また、請求項５に記載の発明は、請求項２に記載の基板洗浄装置において、上下段洗浄ユニットのいずれか一方が、基板の両面をそれぞれ洗浄する２個のロール型洗浄具を具備するロール／ロールスクラバ洗浄ユニットであり、他方がペンシル型洗浄具を具備し、洗浄した基板を駆動機構でスピン乾燥させるペンシルスクラブ洗浄・スピンドライユニットであることを特徴とする。
【００２０】
また、上記基板洗浄装置において、上段洗浄ユニットがロール／ロールスクラバ洗浄ユニットであり、下段洗浄ユニットがペンシルスクラブ洗浄・スピンドライユニットであることを特徴とする。
【００２１】
上記のように一方をロール／ロールスクラバ洗浄ユニットとし、他方をペンシルスクラブ洗浄・スピンドライユニットとすることにより、小型に構成された基板洗浄装置で、ロール／ロールスクラバ洗浄した後、ペンシルスクラブ洗浄し、洗浄終了後、スピン乾燥させることができる。
【００２２】
また、請求項６に記載の発明は、基板を保持する基板保持機構と該基板保持機構を駆動する駆動機構を具備する上下２段に配置した洗浄ユニットのいずれか一方の洗浄ユニットに、基板を搬送ロボットで基板を搬入して洗浄し、洗浄の終了した該基板を前記搬送ロボットで他方の洗浄ユニットに搬入し洗浄することを特徴とする基板洗浄方法にある。
【００２３】
上記のように搬送ロボットで基板を上下段洗浄ユニットのいずれか一方の洗浄ユニットに搬入し、洗浄終了したら他方の洗浄ユニットに搬入して洗浄するので、洗浄ユニットの設置面積を小さくでき、且つ搬送ロボットの移動距離を少なくでき、効率良い基板洗浄ができる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態例を図面に基いて説明する。図１乃至図４は本発明に係る基板洗浄装置の構成を示す図で、図１は基板洗浄装置の全体構成、図２は基板洗浄装置の上段洗浄ユニット構成、図３は基板洗浄装置の下段洗浄ユニット構成、図４は搬送ロボットの構成をそれぞれ示す図である。図示するように、本基板洗浄装置は上下に上段洗浄ユニット１０と下段洗浄ユニット５０を配置し、中間に洗浄液ドレンパン４１を配置して上段洗浄ユニット１０と下段洗浄ユニット５０を仕切って分離している。また、上段洗浄ユニット１０はヒンジ５１を介して図５に示すように、上方に跳ね上げ、回転移動することができるようになっている。上段洗浄ユニット１０はヒンジ５１を介して下げ降ろした時、下段洗浄ユニット５０のケーシング５４に取付けられた位置決めストッパー８３で位置決めされるようになっている。
【００２５】
上段洗浄ユニット１０は基板Ｗを保持する基板保持機構１１と該基板保持機構１１を駆動する駆動機構１２を具備する。上段洗浄ユニット１０の駆動機構１２を除く部分はケーシング１３で覆われ、該ケーシング１３には吸気口１４、排気ダクト１５が設けられ、更に基板Ｗの搬出入を行う搬出入口１６が設けられている。また、搬出入口１６にはシリンダ１７ａで開閉するゲート１７が設けられている。また、駆動機構１２はケーシング１３の上に搭載され、ケーシング４０で覆われている。
【００２６】
基板保持機構１１は図６に示すように、基板Ｗの外周部に等間隔で配置された複数個（図では４個）のチャック・ローラ１８を具備し、該チャック・ローラ１８はそれぞれスピンドル１９の下端に固着され、各スピンドル１９は駆動機構１２のモータ２０で回転されるようになっている。また、各スピンドル１９はシリンダ２１で基板Ｗの径方向に移動できるようになっており、該シリンダ２１の動作により複数個のチャック・ローラ１８で基板Ｗを挟持し、モータ２０の回転により、基板Ｗは矢印Ａに示すように回転するようになっている。なお、図６は図２のＢ−Ｂ断面図である。
【００２７】
２２、２３はそれぞれ基板Ｗの上下の両面を洗浄するロール型洗浄治具にてなる上ロールスポンジ、下ロールスポンジである。上ロールスポンジ２２の端部にはスピンドル２４の下端に固着された傘歯車２５に噛み合う傘歯車２６が固着され、モータ２７の回転により、矢印Ｄに示すように回転するようになっている。また、下ロールスポンジ２３の端部にもスピンドル２８の下端に固着された傘歯車２９に噛み合う傘歯車３０が固着され、モータ３１の回転により、矢印Ｅに示すように回転するようになっている。
【００２８】
また、スピンドル２４はシリンダ３２により基板Ｗの径方向に、シリンダ３３で上下方向に移動できるようになっており、これにより上ロールスポンジ２２は基板Ｗの径方向及び上下方向に移動できる。同様にスピンドル２８はシリンダ（図示せず）により基板Ｗの径方向に、シリンダ３４で上下方向に移動できるようになっており、これにより下ロールスポンジ２３は基板Ｗの径方向及び上下方向に移動できる。３５は上ロールスポンジ２２をセルフクリーニングするためのクリーニング槽である。また、図示は省略するが下ロールスポンジ２３をセルフクリーニングするためのクリーニング槽も設けられている。
【００２９】
３６は基板Ｗの上面に洗浄液を噴射するための上洗浄液ノズルであり、３７は基板Ｗの下面に洗浄液を噴射するための下洗浄液ノズルである。基板保持機構１１の外周は上段洗浄カップ３８で囲まれ、該上段洗浄カップ３８はシリンダ３９により上下動できるようになっている。
【００３０】
下段洗浄ユニット５０は基板Ｗを保持する基板保持機構５２と該基板保持機構５２を駆動する駆動機構５３を具備する。下段洗浄ユニット５０は全体がケーシング５４で覆われている。該ケーシング５４には吸気口５５、排気口５６が設けられている。ケーシング５４の上部で洗浄液ドレンパン４１の下面に配置されたダウンフローエアーノズルダクト５７は該吸気口５５に連通し、排気ダクト５８は排気口５６に連通している。また、ケーシング５４には基板Ｗの搬出入を行う搬出入口６０が設けられ、該搬出入口６０にはシリンダ６１ａで開閉するゲート６１が設けられている。
【００３１】
基板保持機構５２は図７に示すように、外周部に複数個（図では４個）の爪６３を有するウエハーチャックホイール６２を具備する。爪６３は固定爪６３ｂと可動爪６３ａとからなり、固定爪６３ｂはウエハーチャックホイール６２の外周部上面に固定され、可動爪６３ａは該固定爪６３ｂに軸６３ｃで回転自在に支持されている。該可動爪６３ａはロッド６３ｅの一端が支枢され、常時はスプリング６３ｄの弾発力で軸６３ｃを中心に一方向（爪６３を閉じる方向）に付勢され、爪駆動シリンダ６４を作動することにより、逆方向（爪６３を開く方向）に回転するようになっている。即ち、爪駆動シリンダ６４を作動し、爪６３を開いた状態（可動爪６３ａを軸６３ｃを中心に回動させた状態）で基板Ｗを固定爪６３ｂ上に載置し、爪駆動シリンダ６４を不作動とすることにより、固定爪６３ｂと可動爪６３ａで基板Ｗの外周部を挟持するようになっている。なお、図７は図３のＦ−Ｆ矢視図である。
【００３２】
ウエハーチャックホイール６２はモータ６５で回転するようになっている。該モータ６５と爪駆動シリンダ６４は基板保持機構５２を駆動する駆動機構５３を構成する。また、ウエハーチャックホイール６２はその外周に配置された下段洗浄カップ６６で囲まれ、該下段洗浄カップ６６はシリンダ７８で上下動できるようになっている。ウエハーチャックホイール６２の下方には洗浄ドレンパン６７が配置されている。
【００３３】
６８は基板Ｗの上両面を洗浄するペンシル型洗浄治具となるペンシルスポンジであり、該ペンシルスポンジ６８はスピンドル６９、プリー７０、ベルト７１、プリー７２及びスピンドル７３を介してモータ８６に連結され、該モータ８６の回転により矢印Ｇに示すように回転するようになっている。プリー７０、ベルト７１、プリー７２及びスピンドル７３は洗浄アーム７４内に収容されている。該洗浄アーム７４はベルト７７、プリー７６を介してモータ７５に連結され、図７の矢印Ｈに示すように旋回できるようになっている。また、洗浄アーム７４はシリンダ７９で上下動できるようになっている。
【００３４】
８０はペンシルスポンジ６８をセルフクリーニングするためのクリーニング槽である。８１は基板保持機構５２に保持された基板Ｗの上面に洗浄液を噴射する上洗浄液ノズルであり、８２は該基板Ｗの下面に洗浄液を噴射する下洗浄液ノズルである。９０は基板洗浄装置に隣接して配置した搬送ロボットであり、該搬送ロボット９０は、図４に示すように、上ハンド９１と下ハンド９２の２本のハンドを有し、両ハンド９１、９２を上下方向に移動、旋回させ、それぞれのハンド９１、９２を水平放射状に伸縮させ位置決めできるようになっている。
【００３５】
上記構成の基板洗浄装置において、上段洗浄ユニット１０の吸気口１４から吸込まれた空気１０１は排気ダクト１５を経て排気される。また、下段洗浄ユニット５０の吸気口５５から吸込まれた空気１０２は、ダウンフローエアーノズルダクト５７のノズル口５７ａからダウンフローとなって流出し排気ダクト５８から排出される。また、上段洗浄ユニット１０において、基板洗浄に用いられた洗浄液１０３は洗浄液ドレンパン４１に流下し、排液ダクト８４を通って排出される。また、下段洗浄ユニット５０において、基板洗浄に用いられた洗浄液１０４は洗浄液ドレンパン６７に流下し、排液ダクト８５を通って排出される。
【００３６】
基板Ｗの洗浄に際しては、先ず搬送ロボット９０の下ハンド９２で洗浄の前工程から基板Ｗを受取る。次にシリンダ１７ａの動作により上段洗浄ユニット１０のゲート１７を上昇させ（開く）と共に、シリンダ３９の動作により洗浄カップ３８を上昇させる。次に搬送ロボット９０は下ハンド９２を搬出入口１６から挿入し、保持する基板Ｗを基板保持機構１１のチャック・ローラ１８に渡し、該上ハンド９２を後退させる。この状態で、シリンダ１７ａの動作によりゲート１７を下降させる（閉じる）と共に、シリンダ３９の動作により洗浄カップを下降させる。これにより基板Ｗを保持した基板保持機構１１は周囲を上段洗浄カップ３８で囲まれた状態となり、洗浄液が飛散しないようになる。上記のようにシリンダ２１の動作により複数のチャック・ローラ１８で基板Ｗを挟持し、モータ２０の回転により基板Ｗは回転する。
【００３７】
上洗浄液ノズル３６及び下洗浄液ノズル３７から洗浄液を基板Ｗの上下面に噴射しながら、上ロールスポンジ２２を基板Ｗの上面に下ロールスポンジ２３を基板Ｗの下面にそれぞれ当接し、回転させて基板Ｗの上下面を洗浄する。洗浄終了後は、ゲート１７を上昇させると共に、上段洗浄カップ３８を上昇させる。搬送ロボット９０はその下ハンド９２を搬出入口１６から内部に挿入し、洗浄終了後の基板Ｗを受け取り後退し、下段洗浄ユニット５０の搬出入口６０の位置まで下降する。次にシリンダ６１ａの動作によりゲート６１を下降させる（開く）と共に、シリンダ７８の動作により下段洗浄カップ６６を下降させ、搬出入口６０から下ハンド９２を挿入し、その保持する基板Ｗを下段洗浄ユニット５０の基板保持機構５２に渡す。その後、上ハンド９１は後退し、上昇して洗浄の前工程から基板Ｗを受取り、上記と同様の動作により、上段洗浄ユニット１０の基板保持機構１１のチャック・ローラ１８に基板Ｗを渡し、洗浄を行う。
【００３８】
下段洗浄ユニット５０の基板保持機構５２は、上段洗浄ユニット１０で洗浄終了後の基板Ｗを受取った後は、爪６３の固定爪６３ｂと可動爪６３ａで基板Ｗの外周部を挟持して、基板Ｗを保持する。その後、下段洗浄カップ６６を上昇させると共に、ゲート６１を上昇させる（閉じる）。これにより基板Ｗを保持した基板保持機構５２は下段洗浄カップ６６等により囲まれた状態となり、洗浄液が飛散しないようになる。この状態でモータ６５を起動し基板Ｗを低速領域で回転（例えば、２００ｒｐｍ程度以下）させる。上洗浄液ノズル８１及び下洗浄液ノズル８２より基板保持機構５２で保持する基板Ｗの上下面に洗浄液を噴射すると共に、ペンシルスポンジ６８を回転させながら基板Ｗの上面に当接し、基板Ｗを洗浄する。
【００３９】
ペンシルスポンジ６８の回転はモータ８６により行い、基板Ｗ上面への当接はシリンダ７９により洗浄アーム７４を下降させることにより行う。また、モータ７５で洗浄アーム７４を旋回させることにより、ペンシルスポンジ６８は基板Ｗの上面を回転しながら旋回することになる。ペンシルスポンジ６８は基板Ｗの回転中心を通過し、基板Ｗの外端まで揺動し、基板Ｗを洗浄する。このときペンシルスポンジ６８自体、若しくは洗浄液に図示しない超音波エネルギー付与手段により超音波振動が与えられ、洗浄効果を向上させたり、洗浄液にキャビテーションを起こさせる手段によって、キャビテーション破壊作用による洗浄効果を向上させる場合もある。そして洗浄終了後は、洗浄アーム７４を基板Ｗの外側へ旋回させ、ペンシルスポンジ６８をクリーニング槽８０内に挿入しセルフクリーニングする。また、基板Ｗの洗浄終了後は、モータ６５により基板Ｗを高速回転（例えば、１，０００ｒｐｍ〜４，０００ｒｐｍ）させ、表面に付着する洗浄液を遠心力で飛散させて乾燥、所謂スピン乾燥させる。
【００４０】
スピン乾燥終了後は、ゲート６１を下降させる共に、下段洗浄カップ６６を下降させる。この状態で、搬送ロボット９０の上ハンド９１を搬出入口６０から下段洗浄ユニット５０内に挿入し、その保持する基板Ｗを基板保持機構５２から受取り、後退させ、該基板Ｗを図示しないカセットに収納する。上ハンド９１の後退後は、ゲート６１を上昇させると共に、下段洗浄カップ６６を上昇させる。勿論、続いて上段洗浄ユニット１０で洗浄の終了した基板Ｗを搬入する場合は、上記と同様、下ハンド９２で基板Ｗを搬入した後、ゲート６１を上昇させると共に、下段洗浄カップ６６を上昇させ、洗浄・スピン乾燥を行う。
【００４１】
なお、上記例では上段洗浄ユニット１０を２個のロール型洗浄具を具備するロール／ロールスクラバ洗浄ユニットとし、下段洗浄ユニット５０をペンシル型洗浄具を具備するペンシルスクラブ洗浄・スピンドライユニットとして基板洗浄装置としたが、本発明に係る基板洗浄装置は、図８に示すように、上段洗浄ユニット１０と下段洗浄ユニット５０を共にロール／ロールスクラバ洗浄ユニットで構成することもある。
【００４２】
【発明の効果】
以上、説明したように各請求項に記載の発明によれば、下記のように優れた効果が得られる。
【００４３】
請求項１に記載の発明によれば、洗浄ユニットを上下２段に配置したので、装置全体を小型化することができるとともに、装置の設置面積を小さくすることができる。また、各洗浄ユニットに基板を搬送するための搬送ロボットの移送距離も少なくて済む。
【００４４】
請求項２に記載の発明によれば、上段洗浄ユニットと下段洗浄ユニットが互いに異なった洗浄方法を実施する洗浄ユニットであるから、小型に構成された基板洗浄装置で、異なった洗浄工程を経て基板を洗浄できる。
【００４５】
請求項３に記載の発明によれば、上段洗浄ユニットは駆動機構を基板保持機構より上方に配置し、下段洗浄ユニットは駆動機構を基板保持機構より下方に配置したことにより、上下両洗浄ユニットの基板保持機構が互いに接近して配置されることになり、基板の移動距離が少なくて済み、ハンドのストロークが小さい小型の搬送ロボットで基板の両洗浄ユニット間の移送が可能となる。
【００４６】
請求項４に記載の発明によれば、搬送ロボットで基板を上下段洗浄ユニットのいずれか一方の洗浄ユニットに搬入し、洗浄終了したら搬送ロボットで他方の洗浄ユニットに搬入するので、小型の基板洗浄装置で上下２段の洗浄ユニットを経た洗浄を自動的に行うことができる。
【００４７】
請求項５に記載の発明によれば、上下段洗浄ユニットの一方をロール／ロールスクラバ洗浄ユニットとし、他方をペンシルスクラブ洗浄・スピンドライユニットとすることにより、小型に構成された基板洗浄装置で、ロール／ロールスクラバ洗浄した後、ペンシルスクラブ洗浄し、洗浄終了後、スピン乾燥させることができる。
【００４８】
請求項６に記載の発明によれば、搬送ロボットで基板を上下段洗浄ユニットのいずれか一方の洗浄ユニットに搬入し、洗浄終了したら他方の洗浄ユニットに搬入して洗浄するので、洗浄ユニットの設置面積を小さくでき、且つ搬送ロボットの移動距離を少なくでき、効率良い基板洗浄ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明に係る基板洗浄装置の全体構成を示す図である。
【図２】
本発明に係る基板洗浄装置の上段洗浄ユニット構成を示す図である。
【図３】
本発明に係る基板洗浄装置の下段洗浄ユニット構成を示す図である。
【図４】
本発明に係る基板洗浄装置の搬送ロボットの構成を示す図である。
【図５】
本発明に係る基板洗浄装置の上段洗浄ユニットを跳ね上げた状態を示す図である。
【図６】
図２のＢ−Ｂ断面図である。
【図７】
図３のＦ−Ｆ断面図である。
【図８】
本発明に係る基板洗浄装置の全体構成を示す図である。
【符号の説明】
１０            上段洗浄ユニット
１１            基板保持機構
１２            駆動機構
１６            搬出入口
１７            開閉ゲート
１８            チャック・ロ―ラ
２２            上ロールスポンジ
２３            下ロールスポンジ
３６            上洗浄液ノズル
３７            下洗浄液ノズル
３８            上段洗浄カップ
４１            洗浄液ドレンパン
５０            下段洗浄ユニット
５１            ヒンジ
５２            基板保持機構
５３            駆動機構
６０            搬出入口
６１            開閉ゲート
６２            ウエハーチャックホイール
６３            爪
６４            爪駆動シリンダ
６６            下段洗浄カップ
６７            洗浄液ドレンパン
６８            ペンシルスポンジ
７４            洗浄アーム
８１            上洗浄液ノズル
８２            下洗浄液ノズル
８３            位置決めストッパー
８４            排液ダクト
９０            搬送ロボット