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【手続補正書】
【提出日】平成16年10月1日(2004.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  出発材料に架橋性のレーザ彫刻可能なフレキソ印刷素子を用いる、レーザ彫刻によるフレキソ印刷版の製造方法であって、
該架橋性のレーザ彫刻可能なフレキソ印刷素子が、
寸法安定性が良好な支持体、
少なくとも１種のバインダを含む少なくとも１層の架橋性のレーザ彫刻可能な記録層を、少なくとも一方を他方の表面に配置された状態で含み、そして
該方法が、下記工程：
（ａ）記録層全域を架橋する工程、
（ｃ）該架橋記録層にレーザにより印刷レリーフを彫刻する工程
を少なくとも含み、且つ
別の架橋工程（ｂ）として、表面でのみ作用し、且つこれにより記録層の表面を、工程（ａ）でなされた架橋密度の程度を超えて特定の侵入度まで架橋する工程を含む方法。
【請求項２】  工程（ａ）を、光化学的に又は熱的に行う請求項１に記載の方法。
【請求項３】  工程（ａ）を先ず行い、次いで工程（ｂ）を行う請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】  工程（ａ）及び工程（ｂ）を同時に行う請求項１又は２に記載の方法。
【請求項５】  工程（ｂ）でさらに行われる架橋による侵入度が、５〜２００μｍである請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】  表面架橋工程（ｂ）を、２００〜３００ｎｍの波長のＵＶ光を用いて行う請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】  表面架橋工程（ｂ）を、レーザ彫刻可能記録層の表面を温めることにより行う請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項８】  表面架橋工程（ｂ）を、レーザ彫刻可能記録層の表面を重合開始剤又は架橋剤で処理することにより行う請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項９】  処理表面を、別の工程で照射するか又は温める請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  工程（ｃ）を行わない請求項１〜９のいずれかに記載の方法により得られるフレキソ印刷版製造用レーザ彫刻可能記録素子。
【請求項１１】  請求項１〜１０のいずれかに記載の方法により得られるフレキソ印刷版。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
表面でのみ作用する架橋工程（ｂ）は、レーザ彫刻可能層に部分的に影響を与えるのみである。さらなる架橋は、レーザ彫刻可能層全域に亘っては行われず、層の１部の体積部分において行われる。架橋工程（ｂ）の有効性は、レーザ彫刻可能層の最上領域が、工程（ａ）のみ使用する場合に起こるであろうより大きな程度に架橋するように、レーザ彫刻可能層の表面から見て限定された侵入度しか持っていない。工程（ａ）で反応していない架橋性基の全て又は一部は、個々で反応する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
工程（ｂ）により架橋密度が上昇する領域の幅、又は測定により架橋とみなされた有効浸入度が、記録層の表面から見て、一般に５μｍ以上、２００μｍ以下である。その際領域の幅はこれに明確に限定されることはない。侵入度は好ましくは５〜１５０μｍ、特に５〜１００μｍである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
本発明の方法に使用される出発材料が多層レーザ彫刻可能記録素子である場合、複数の層は、各層の厚さにもよるが、工程（ｂ）により影響を受け得る。異なる組成の記録層の架橋密度は異なっていることは明白である。本発明の方法は、これらの層のそれぞれの架橋密度を、工程（ａ）で達成される程度を超え−最大の侵入度まで−増加させる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
工程（ｂ）中に、工程（ａ）の範囲を超えて架橋密度が増加した領域から工程（ｂ）による影響を受けなくなる領域までの遷移は、突然であるか、比較的急峻であるか或いは漸進的であり得る。侵入度は、侵入度の関数としての架橋密度の変曲点を用いて規定される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
光化学架橋性基をも有するレーザ彫刻可能フレキソ印刷素子の場合、特に良好であると分かっている態様は、架橋されたレーザ彫刻可能フレキソ印刷素子に２００ｎｍ〜３００ｎｍの波長のＵＶ光（即ち、ＵＶ−Ｃ光）を照射する態様である。この方法は、この層が架橋性基としてオレフィン性２重結合を有する場合に特に好適である。この層における短波長光の比較的強い散乱のために、ＵＶ−Ｃ放射線の強度は侵入度を増加しながらかなり低下し、これによりフレキソ印刷素子の最上領域のみが有効に架橋される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
変形法Ｃ：過酸化物溶液による架橋
問題のＵＶ／Ａ露光版片を上から２０分間ＵＶ／Ｃに暴露した。強度を、版へのＵＶ／Ｃ照射の侵入度が２００μｍを超えないように選択した。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月30日(2004.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  処理すべき液体のための供給装置（４）、揮発性成分の出口（７）、処理された液体の出口（６）を有する少なくとも１つの直立した容器（１）からなり、前記供給装置（４）が処理すべき高粘度の液体を多数の個別流に分割するための多数の開口（８，１０）を有するディストリビュータ機構（３）を備えている形式の、特にポリマー溶融物の蒸発濃縮及び／又はガス抜きのための、高粘度の液体における物質交換プロセスを実施する装置において、開口（８，１０）の領域に実質的に垂直に配置されたワイヤループ（２）が設置されており、該ワイヤループに沿って高粘度の液体が重力の作用を受けて流出することを特徴とする、物質交換プロセスを実施する装置。
【請求項２】  ディストリビュータ機構が多孔板である、請求項１記載の装置。
【請求項３】  ディストリビュータ機構（３）が少なくとも１つの水平に配置された管（３）を有し、該管が下向き及び／又は上向きの開口（８）を有する、請求項１又は２記載の装置。
【請求項４】  ワイヤループ（２）がディストリビュータ機構（３，９）内の開口（８，９）の周辺部に係脱自在に設置されている、請求項１から３までのいずれか１項記載の装置。
【請求項５】  ディストリビュータ機構が、スロット状の上向きの開口（８）を有する少なくとも１つの水平に配置された管（３）からなる、請求項３又は４記載の装置。
【請求項６】  ワイヤループ（２）のそれぞれ２、３又はそれ以上が１つのバスケット状の格子（１４）又はワイヤメッシュにまとめ合わされている、請求項１から５までのいずれか１項記載の装置。
【請求項７】  ワイヤループ（２）が付加的に容器底部に固定されている、請求項１から６までのいずれか１項記載の装置。
【請求項８】  ディストリビュータ機構（３，９）が、容器（１）内に垂直に配置され、容器（１）内に開口する、開口（８）を有する熱交換器管（１２）から形成され、該管の下端部にワイヤループ（２）が固定されている、請求項１から７までのいずれか１項記載の装置。
【請求項９】  ワイヤループにより包括される面積が０．５ｃｍ２〜２５００ｃｍ２である、請求項１から８までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１０】  ワイヤループ（２）が異なる開口、特に離れた、直接隣接して配置されていない開口（８，１０）に設置されている、請求項１から９までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１１】  開口（８，１０）の下に付加的に単数又は複数の互いに実質的に水平に配置されたワイヤ格子（１５）が設けられている、請求項１から１０までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１２】  請求項１から１１までのいずれか１項記載の装置の、高粘度液体の蒸発濃縮及びガス抜き、特にポリマー溶液又は溶融物、特に有利にはポリカルボネート溶液又は溶融物の蒸発濃縮及び／又はガス抜きのための使用、及びワイヤループ内の液体と、反応性ガス成分を含有する周囲のガススペースとの間の化学反応を実施するため、並びに縮合反応のための使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2004516172.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月1日(2004.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  セルロース系支持体上に、カルボキシメチルセルロースアセテートブチレート、水及び有機溶剤を含んでなる水性カルボキシメチルセルロースアセテートブチレートサイズ剤組成物を被覆して、サイズ処理セルロース系支持体を形成し；
前記サイズ処理セルロース系支持体を乾燥させ；
前記サイズ処理セルロース系支持体に水性被覆組成物を適用して、被覆されたサイズ処理セルロース系支持体を形成し；そして
被覆されたサイズ処理セルロース系支持体を乾燥させる
工程を含んでなる被覆セルロース系支持体上のホールドアウトを改良する方法。
【請求項２】  前記セルロース系支持体が人造繊維ボード、高密度繊維ボード、中密度繊維ボード、低密度繊維ボード、厚紙、チップボード、パーティクルボード、メーソナイト、セメント繊維ボード及びミンディーボードからなる群から選ばれる請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記カルボキシメチルセルロースアセテートブチレートのアンヒドログルコース単位当りの置換度がカルボキシメチル０．２０〜０．７５、ヒドロキシル０．１０〜０．７０、ブチリルが０．１０〜２．６０及びアセチルが０．１０〜１．６５である請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記水性組成物が着色剤を更に含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】  前記有機溶剤がアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、メチルイソアミルケトン、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、エチル３−エトキシプロピオネート、２−ブタノン、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、２−エチル−ヘキサノール、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、エチルエーテル、プロピルエーテル、プロピルグリコールブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、ジプロピレングリコールエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、エチレングリコール、エチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコール２−エチルヘキシルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールフェニルエーテル、１−メチル−２−ピロリジノン、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコール、トリプロピレンエチルエーテル、トリエチレングリコール、トリ（エチレングリコール）ジメチルエーテル及びこれらの混合物からなる群から選ばれる請求項１に記載の方法。
【請求項６】  前記サイズ剤組成物がワックス、可塑剤、有機もしくは無機塩基、レベリング剤、流量調整剤及びレオロジー改質剤；艶消し剤；顔料湿潤及び分散剤；界面活性剤；紫外線（ＵＶ）吸収剤；紫外線安定剤；色付け顔料；脱泡剤及び消泡剤；沈降防止、垂れ防止及び増ちょう剤；皮張り防止剤；色別れ防止剤；抗真菌剤及び殺カビ剤；腐蝕防止剤；増粘剤；融合助剤；並びにこれらの混合物からなる群から選ばれる１種又はそれ以上の被覆添加剤を含んでなる請求項１に記載の方法。
【請求項７】  前記サイズ組成物が可塑剤を添加剤として更に含む請求項１に記載の方法。
【請求項８】  前記可塑剤がテキサノールイソブチレート、ジイソノニルフタレート、ジオクチルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジブチルフタレート、ジエチレングリコール、ジオクチルテレフタレート及びこれらの混合物からなる群から選ばれる請求項７に記載の方法。
【請求項９】  人造繊維支持体、カルボキシメチルセルロースアセテートブチレートサイズ剤被覆及びオーバーコートを含んでなる被覆人造繊維支持体。
【請求項１０】  人造繊維支持体及び前記人造繊維支持体上のカルボキシメチルセルロースアセテートブチレートサイズ被覆を含んでなるサイズ処理人造繊維支持体。
【請求項１１】  カルボキシメチルセルロースアセテートブチレートが内部サイズ剤である請求項９に記載のサイズ処理ボード組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月10日(2004.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  継手（１４）の端部遊びを防止するために履帯型機械用の無端履帯チェーン（１０）の継手を組み立てる方法であって、継手（１４）が１対のリンク（１２）と、円筒状ピン（５２）とを含み、それぞれのリンク（１６）が、リンクから外側方向に延在するボス（５０）と、リンクを貫通する孔（４０）とを有する横方向外側にオフセットされた外側エンドカラー（２０）を含み、それぞれのボス（５０）が外側表面（４４）を有し、前記ピン（５０）が反対側端部（５８）を含み、それぞれの端部（５８）が前記外側エンドカラー（２０）の前記孔（４０）の個々の１つに圧入かつ回転不能に装着され、前記方法が、
ピン（５２）の端部（５８）のそれぞれの周りに環状切頭体円錐溝（６２）を形成する工程と、
ピン（５２）と軸方向に位置合わせしてボス（５０）の外側表面（４４）に対しスエージ工具（６７）を配置する工程と、
スエージ工具（６７）に十分な力を加えて、ボス（５０）の側面（４４）から切頭体円錐溝（６２）の個々の１つの中に押し出された機械的に形成された少なくとも１つの小節（６４）を形成する工程であって、小節（６４）が、切頭体円錐溝（６２）に実質的に一致する断面形状を有する工程とを含む方法。
【請求項２】  履帯型機械用の無端履帯チェーン（１０）の履帯継手（１４）を保持して、このような継手（１４）の端部遊びを防止するための装置であって、それぞれの継手（１４）が第１および第２の対のリンク（１２）と、円筒状ピン（５２）とを含み、第１の対のリンク（１２）のそれぞれのリンク（１６）が、リンクを貫通する第１の孔（３４）を有する内側エンドカラー（１８）を有し、第２の対のリンク（１２）のそれぞれのリンク（１６）が、リンクから外側方向に延在するピンボス（５０）と、リンクを貫通する第２の孔（４０）とを有する外側エンドカラー（２０）を有し、ボス（５０）が外側表面（１８）を有し、ピン（５２）が反対側端部（５８）を有し、それぞれの端部（５８）が外側エンドカラー（２０）の第２の孔（４０）の個々の１つに圧入かつ回転不能に装着され、前記装置が、
ピン（５２）の反対側端部（５８）のそれぞれに形成された環状切頭体円錐溝（６２）であって、ピンボス（５０）に沿った位置で孔（４０）内にそれぞれが配置される環状切頭体円錐溝（６２）と、
ボス（５０）の外側表面（１８）からピン（５２）の切頭体円錐溝（６２）の個々の１つに突出する機械的に形成された少なくとも１つの小節（６４）であって、それぞれの小節（６４）が、ピンの切頭体円錐溝（６２）に実質的に一致する断面形状を有し、かつピンボス（５０）の側面（４４）から切頭体円錐溝（６２）の中に恒久的に押し出された材料から形成される小節（６４）とを備える装置。
【請求項３】  溝（６２）が、ピン端部に向かって１５°先細りする切頭体円錐面（６５）と、切頭体円錐面（６５）に連結された曲面（６６）とから形成される、請求項２に記載の装置。
【請求項４】  曲面（６６）が切頭体円錐面（６５）の外側方向に位置決めされる、請求項３に記載の装置。
【請求項５】  履帯型機械用の無端履帯チェーン（１０）の継手（１４）を機械的に連結して、このような継手（１４）の端部遊びを防止するための装置であって、それぞれの継手（１４）が履帯リンク（１６）と、円筒状ピン（５２）とを含み、それぞれのリンク（１６）が、リンクを貫通する第１の孔（３４）を有する内側エンドカラー（１８）と、リンクから外側方向に延在するピンボス（５０）とリンクを貫通する第２の孔（４０）とを有する外側エンドカラー（２０）とを有し、ボス（５０）が外側表面（４４）を有し、ピン（５２）が、外側エンドカラー（２０）の個々の第２の孔（４０）内に圧入かつ回転不能に装着される端部（５８）を有し、前記装置が、
ピン（５２）の端部（５８）に形成された環状切頭体円錐溝（６２）であって、ピンボス（５０）に沿った位置で基部（６８）内にそれぞれが配置される環状切頭体円錐溝（６２）と、
ピンボス（５０）の外側表面（４４）と接触する複数の間隔を置いて配置されたスエージセグメント（７４）を有し、かつピンボス（５０）の側面（２０）から切頭体円錐溝（６２）内に小節（６４）を押し出すために軸方向に可動であるスエージ工具（６７）であって、小節（６４）が、切頭体円錐溝（６２）の形状および断面に一致する断面形状を有するスエージ工具（６７）とを備える装置。
【請求項６】  ピン（５２）の周囲のピンボス（５０）の孔（４０）によって位置付けられる環状スラストリング（８８）を含み、スラストリング（８８）が、所定の表面積を有する側面（９０）を有する、請求項５に記載の装置。
【請求項７】  それぞれのスエージセグメント（７４）が、軸方向に対し垂直でありかつ全表面積を有するために表面積が加算される平坦な側面（９２）を有し、スラストリング（８８）の表面積に対するスエージセグメント（７４）の全表面積の比率が１．０未満である、請求項６に記載の装置。
【請求項８】  ピンボス（５０）の側面（４４）が所定の高さを有し、かつスエージセグメント（７４）が所定の高さの下方半部と接触して、材料を切頭体円錐溝（６２）に押し出す、請求項７に記載の装置。
【請求項９】  ピンボス（５０）の側面（４４）のスエージ加工領域がピン（５２）の円周の６０％未満である、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】  切頭体円錐溝（６２）が１５°未満の先細り部を有する、請求項５に記載の装置。
【請求項１１】  ピンボス（５０）が、最小０．０５ｍｍおよび最大３ｍｍ、切頭体円錐溝（６２）に重なる、請求項９に記載の装置。
【請求項１２】  スエージセグメント（７４）が、所定の直径を有する内側表面（９２）を有する、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】  溝（６２）の外側方向のピン直径が、溝（６２）の内側方向の直径に対しサイズが低減されるピンランドを画成し、スエージセグメント（７４）の内側表面直径とピンランドの外径とが０ｍｍ〜３ｍｍの範囲の直径方向のクリアランスを有する、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】  スエージ工具（６７）が、間隔を置いて配置されたセグメント（７４）の間に表面（９４）を含み、表面がピンボス（５２）と接触して軸方向移動を制限して、ピンボス（５０）の過度のスエージングを防止する、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】  ピン（５２）のランドの直径サイズがピンボス（５０）の孔（４０）の内径サイズよりも小さく、分解中のピンボス（５０）のスコアリングを防止する、請求項１４に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月16日(2004.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  出力軸（３１）を有する変速装置（２９）を介してパワーユニット（２８）によって駆動される一対の横方向に間隔を空けて配置された車輪（２２，２３）を有する車軸（２１）で部分的に支持されたシャーシ（１２）上に搭載された運転室（２７）を有する建設機械（１１）のブレーキシステムであって、
前記車輪（２２，２３）のそれぞれと動作可能に関連付けられた流体圧力作動／バネ解除式サービスブレーキ（３８，３９）と、
前記サービスブレーキ（３８，３９）のそれぞれに圧力流体を送るように連結された電気制御されるサービス弁（４６，４７）と、
前記サービス弁（４６，４７）に圧力流体を送るように連結された電気制御される安全弁（５８）と、
それぞれが、流体導通位置と閉位置との間で調整可能な流れ制御要素（５３，５４，６１）を有する前記サービスおよび安全弁（４６，４７，５８）と、
前記安全弁（５８）に連結された圧力流体源（６２，６３，６５，６６）と、
前記運転室（２７）内に手動で移動可能なサービスブレーキ制御装置（１３７）を含む、前記サービスおよび安全弁に制御するように連結された電気制御装置とを備え、
前記弁（４６，４７，５８）のすべてが前記サービスブレーキ制御装置（１３７）の所定の動きに応じて流体導通位置に調整されるブレーキシステム。
【請求項２】  前記電気制御装置は、
前記手動で移動可能なサービスブレーキ制御装置（１３７）に制御されるように連結され、前記サービスおよび安全弁（４６，４７，５８）に制御するように連結された出力を有する、一次電子制御モジュール（９０）と、
前記サービスブレーキ制御装置（１３７）に制御されるように連結され、前記サービスおよび安全弁（４６，４７，５８）に制御するように連結された出力を有するバックアップ電子制御モジュール（１００）であって、前記サービスおよび安全弁（４６，４７，４８）に連結された前記バックアップ電子制御モジュール（１００）の前記出力は、前記一次電子制御モジュール（９０）が動作中であるとき非動作状態にある、バックアップ電子制御モジュール（１００）と、
前記サービスおよび安全弁（４６，４７，５８）の前記バックアップ電子制御モジュール（１００）の前記出力が前記一次電子制御モジュール（９０）の故障時に動作状態にされる前記電子制御モジュール（９０，１００）間の通信リンク（１４１，１４２）とを含む請求項１に記載のブレーキシステム。
【請求項３】  運転室（２７）を支持するシャーシ（１２）、前記シャーシ（１２）を支持する一対の車軸（１７，２１）、および駆動されるようにパワーユニット（２８）に連結された変速装置（２９）の出力軸（３１）を介して各車軸（１７，２１）の一対の車輪（１８，１９，２２，２３）を駆動する前記パワーユニット（２８）を有する建設機械（１１）の信頼性のあるブレーキシステムを提供する方法であって、
各車輪（１８，１９，２２，２３）に流体圧力作動／バネ解除式サービスブレーキ（３６，３７，３８，３９）を提供するステップと、
調整の流体導通および閉位置を有する電気操作されるサービス弁（４１，４２，４６，４７）を各サービスブレーキ（３６，３７，３８，３９）に提供するステップと、
前記車軸（２１）の一方の前記ブレーキ（３８，３９）と関連付けられた前記サービス弁（４６，４７）に流体を送るように連結された第１の電気制御される安全弁（５８）を提供するステップと、
前記車軸（１７）の他方の前記ブレーキ（３６，３７）と関連付けられた前記サービス弁（４１，４２）に流体を送るように連結された第２の電気制御される安全弁（５７）を提供するステップと、
１つまたはそれ以上のその入力側において所定の制御信号を受けたときにその出力側から電気を送ることができる一次電子制御モジュール（９０）を提供するステップと、
前記弁（４１，４２，４６，４７，５７，５８）のそれぞれと前記一次電子制御モジュール（９０）との間に電線を連結するステップと、
前記運転室（２７）内に手動で操作可能なサービスブレーキ制御装置（１３７）を提供するステップと、
前記サービスブレーキ制御装置（１３７）を前記一次電子制御モジュール（９０）の前記入力側の１つに連結するステップと、
入力側と出力側、および１つまたはそれ以上の前記入力側を介して所定信号を受けると１つまたはそれ以上の前記出力側を介して電気を送る能力を有するバックアップ電子制御モジュール（１００）を提供するステップと、
前記バックアップ電子制御モジュール（１００）の前記出力側からの個々の電線（１０３，１０１，１０２）を前記安全弁（５８）、および前記車軸（２１）の一方の前記車輪（２２，２３）の前記ブレーキ（３８，３９）と関連付けられた前記サービス弁（４６，４７）のそれぞれに連結するステップと、
前記サービスブレーキ制御装置（１３７）を前記バックアップ電子制御モジュール（１００）の前記入力側の一方に連結するステップと、
前記バックアップ制御モジュール（１００）から前記一方の車軸（２１）と関連付けられた前記サービスおよび安全弁（４６，４７，５８）への前記電線（１０１，１０２，１０３）が前記一次電子制御モジュール（９０）の故障時に動作状態にされる通信リンク（１４１，１４２）によって前記制御モジュールを互いに連結するステップと、
前記安全弁（５７，５８）に連結された圧力流体源（６２，６３，６４，６５，６６）を提供するステップとを備える方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月6日(2004.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式(I)：
【化１】
2004516278.tif 000001
の化合物またはその溶媒和物もしくは生理学的に機能性の誘導体。
【請求項２】
(2S)-2-アミノ-4-[2-(エタンイミドイルアミノ)エチル]チオブタン酸、リン酸との（1：1）化合物、またはその溶媒和物もしくは生理学的に機能性の誘導体。
【請求項３】
リン酸がオルトリン酸である、請求項1または2に記載の化合物。
【請求項４】
溶媒和物が水和物である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５】
水和物が一水和物である、請求項4に記載の化合物。
【請求項６】
水和物が三水和物である、請求項4に記載の化合物。
【請求項７】
医療的処置において使用するための、請求項1〜6のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項８】
請求項1〜6のいずれか一項に記載の化合物、薬学的に許容される担体もしくは添加剤、および場合により1種以上の他の治療成分を含む医薬製剤。
【請求項９】
一酸化窒素合成酵素の阻害物質を必要とする臨床的症状の予防または治療のための医薬品の製造における、請求項1〜6のいずれか一項に記載の化合物の使用。
【請求項１０】
臨床的症状が関節炎、喘息、鼻炎、腸閉塞、偏頭痛、疼痛および過敏性腸症候群から選択される、請求項9に記載の使用。
【請求項１１】
請求項1もしくは2で定義される化合物、またはその溶媒和物もしくは生理学的に機能性の誘導体の製造方法であって、
(i) 式(II)：
【化２】
2004516278.tif 000002
の化合物またはそのエナンチオマー、塩もしくは保護された誘導体を、式(III)：
【化３】
2004516278.tif 000003
［式中、Lは脱離基である］
の化合物またはその塩と反応させ；
続いて以下のステップ：
(ii) 得られた化合物を一リン酸塩へと変換する；
(iii) 場合により保護基を取り除く；
(iv) 場合により、エナンチオマーの混合物から一方のエナンチオマーを分離させる；
(v) 場合により、生成物を、その対応する溶媒和物または生理学的に機能性の誘導体へと変換する
を任意の順番で行うことを含む上記方法。
【請求項１２】
得られた化合物を一リン酸塩へと変換するステップが、トルエンおよびリン酸水溶液を用いる二相系反応を含む、請求項11に記載の方法。
【請求項１３】
(i)のステップに続いて、式(II)の化合物またはそのエナンチオマー、塩もしくは保護された誘導体と式(III)の化合物またはその塩との反応から得られる水層に、トルエンを添加して二相系の混合物を形成し；この混合物からトルエン層を分離し；そのトルエン層にリン酸水溶液を添加して、別の二相系混合物を形成し；そしてこの別の混合物から水層を分離させる、請求項11または12に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月20日(2004.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  哺乳類の組織中の遺伝子操作細胞に作用可能に（operably）結合する電気パルス発生器を備える治療用送出システムであって、前記遺伝子操作細胞は、電気的反応性プロモーターに作用可能に結合される標的遺伝子をさらに備える治療用送出システム。
【請求項２】  前記電気パルス発生器は閾下刺激を供給する、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項３】  前記電気パルス発生器は閾刺激を供給する、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項４】  前記電気パルス発生器は、取り付けられた電極から前記組織に刺激を供給する、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項５】  前記電気パルス発生器は、電極を取り付けることなく、時間変化する磁界により誘導される渦電流を用いて前記組織に刺激を供給する、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項６】  前記電気パルス発生器は、電極を取り付けることなく、体外から印加される時間変化する電界により誘導される変位電流を用いて前記組織に刺激を供給する、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項７】  前記電気パルス発生器はペースメーカーである、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項８】  前記電気パルス発生器は埋め込まれる、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項９】  前記電気パルス発生器は体外にある、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項１０】  前記電気パルス発生器は体外から制御される、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項１１】  前記電気的反応性プロモーターは、コード配列（coding sequence）とは異種の電気的反応性エンハンサー要素を含む、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項１２】  前記電気的反応性プロモーターは、プロモーター配列とは異種の電気的反応性エンハンサー要素を含む、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項１３】  前記電気的反応性プロモーターは閾下刺激に対して反応する、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項１４】  前記電気的反応性プロモーターは閾刺激に対して反応する、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項１５】  前記電気的反応性プロモーターは、ＡＮＦ ５’非コード領域から選択される電気的反応性エンハンサー要素を含む、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項１６】  前記電気的反応性プロモーターは、組織特異的プロモーターに作用可能にリンクされるＥＲＥを備える、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項１７】  前記プロモーターは心特異的プロモーターである、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項１８】  前記プロモーターは、ＡＮＦプロモーター、α−ＭＨＣ５．５プロモーター、α−ＭＨＣ８７プロモーター、およびヒト心臓アクチンプロモーターからなる群から選択される、請求項１７に記載の治療用送出システム。
【請求項１９】  前記プロモーターは腎特異的プロモーターである、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項２０】  前記プロモーターは脳特異的プロモーターである、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項２１】  前記プロモーターは、アルドラーゼＣプロモーター、およびチロシンヒドロキシラーゼプロモーターからなる群から選択される、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項２２】  前記プロモーターは血管内皮特異的プロモーターである、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項２３】  前記電気的反応性プロモーター、またはそのフラグメントは、ＡＮＦ、ＶＥＧＦ、アセチルコリン受容体、トロポニン、ＮＯＳ３、シトクロムｃ、ＣＯＸ、ＣＰＴ−１、ｈｓｐ７０、およびｓｋｍ２からなる群から選択される、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項２４】  前記遺伝子操作細胞は哺乳類細胞である、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項２５】  前記遺伝子操作細胞はＣ２Ｃ１２の群から選択される、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項２６】  前記コード配列は、組織プラスミノゲンアクチベーター（ｔＰＡ）、酸化窒素合成酵素（ＮＯＳ）、Ｂｃｌ−２、スーパーオキシドジスムターゼ（ＳＯＤ）、およびカタラーゼからなる群から選択される、請求項１に記載の治療用送出システム。
【請求項２７】  電気的反応性エンハンサー要素、該要素とは異種の組織特異的プロモーター、およびコード配列を備える発現ベクターであって、前記プロモーターは前記コード配列に作用可能にリンクされ、前記要素は前記コード配列の発現を引き起こすのに有効である発現ベクター。
【請求項２８】  前記発現ベクターはプラスミドである、請求項２７に記載の発現ベクター。
【請求項２９】  前記発現ベクターはアデノウィルスベクターである、請求項２７に記載の発現ベクター。
【請求項３０】  前記発現ベクターはレトロウィルスベクターである、請求項２７に記載の発現ベクター。
【請求項３１】  前記コード配列はウィルス性チミジンキナーゼコード配列である、請求項２７に記載の発現ベクター。
【請求項３２】  前記ウィルス性チミジンキナーゼコード配列は単純ヘルペスウィルス性チミジンキナーゼをコードする、請求項３１に記載の発現ベクター。
【請求項３３】  前記コード配列はルシフェラーゼをコードする、請求項２７に記載の発現ベクター。
【請求項３４】  上側プレート電極、下側プレート電極、および動作中に前記上側プレート電極と前記下側プレート電極の間に配置される多孔質膜を備える、細胞を試験する装置。
【請求項３５】  前記上側プレート電極は前記下側プレート電極と同じサイズである、請求項３４に記載の装置。
【請求項３６】  前記下側プレート電極は前記多孔質膜のための収容手段を形成する、請求項３４に記載の装置。
【請求項３７】  前記多孔質膜は前記上側プレート電極と下側プレート電極の間に細胞を支持する、請求項３４に記載の装置。
【請求項３８】  パルス発生器に作用可能に結合される、請求項３４に記載の装置。
【請求項３９】  遺伝子操作細胞は前記患者組織に移植される、請求項１に記載の遺伝子操作細胞。
【請求項４０】  遺伝子操作細胞は前記患者組織の細胞をトランスフェクトすることにより得られる、請求項１に記載の方法。
【請求項４１】  トランスフェクトされる組織は独立に、上皮組織、内皮組織、または中胚葉組織から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項４２】  骨格筋細胞、心筋細胞、平滑筋細胞、多能性幹細胞、中胚葉性幹細胞、筋芽細胞、繊維芽細胞、心筋細胞、コリン作動性ニューロン、アドレナリン作動性ニューロン、およびペプチド作動性ニューロン、グリア細胞、アストロサイト、オリゴデンドロサイト、シュワン細胞、血管内皮細胞、滑膜細胞、腺房細胞、肝細胞、軟骨細胞、骨芽細胞、骨原芽細胞（osteoprogenitor cells）、髄核細胞、ならびに椎間板の細胞からなる群から独立に選択される、請求項１に記載の遺伝子操作細胞。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月20日(2004.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  血栓溶解性／線維素溶解性治療誘導性の主要出血の治療用薬物の製造における、活性化凝固因子ＶＩＩ（ＶＩＩａ）又はその機能的誘導体の使用。
【請求項２】  出血が、天然又は組換え型のいずれかの形態の組織プラスミノーゲンアクチベータ、例えばアルテプラーゼ又はレテプラーゼ、デュテプラーゼ、サルプラーゼ、組換え型ＤＳＰＡα１（ＢＡＴ  ＰＡ）、ストレプトキナーゼ、ペジレート化スタフィロキナーゼ及び免疫原性が全くないか又は低減されたスタフィロキナーゼの変異体を含むスタフィロキナーゼ、ウロキナーゼ、単鎖ウロキナーゼ、第３世代血栓溶解剤、又はそれらの治療的に許容可能な誘導体を用いる血栓溶解性／線維素溶解性治療により誘導される請求項１に記載の使用。
【請求項３】  出血が頭蓋内出血である請求項１又は２に記載の使用。
【請求項４】  薬剤が、静脈内ボーラス注射又は静脈内注入により有効量の因子ＶＩＩａ又はその機能的誘導体を投与するのに適するものである請求項１〜３のいずれか１項に記載の使用。
【請求項５】  因子ＶＩＩａ又はその機能的誘導体の有効量が、体重１ｋｇあたり約６０〜１２０μｇの組換え型因子ＶＩＩａに相当する、１又は２以上の、単回静脈内ボーラス注射投与量約３０００〜６０００ＩＵ、及び／又は、毎時、体重１ｋｇあたり約１０〜３０μｇの組換え型因子ＶＩＩａに相当する静脈内注入投与量約５００〜１５００ＩＵを含む請求項４に記載の使用。
【請求項６】  有効量の因子ＶＩＩａ又はその機能的誘導体を、約２時間のインターバルで反復静脈内ボーラス注射の形態で投与する請求項４又は５に記載の使用。
【請求項７】  頭蓋内出血を含む、血栓溶解性／線維素溶解性治療誘導性の主要出血を治療するための医薬組成物であって、有効量の活性化凝固因子ＶＩＩ（ＶＩＩａ）又はその機能的誘導体を含む前記医薬組成物。
【請求項８】  出血が、天然又は組換え型のいずれかの形態の組織プラスミノーゲンアクチベータ、例えばアルテプラーゼ又はレテプラーゼ、デュテプラーゼ、サルプラーゼ、組換え型ＤＳＰＡα１（ＢＡＴ  ＰＡ）、ストレプトキナーゼ、ペジレート化スタフィロキナーゼ及び免疫原性が全くないか又は低減されたスタフィロキナーゼの変異体を含むスタフィロキナーゼ、ウロキナーゼ、単鎖ウロキナーゼ、第３世代血栓溶解剤、又はそれらの治療的に許容可能な誘導体を用いる血栓溶解性／線維素溶解性治療により誘導される請求項７に記載の医薬組成物。
【請求項９】  無菌注射又は注入溶液を即席調製するための無菌水溶液又は無菌パウダーの形態である、請求項７又は８に記載の医薬組成物。
【請求項１０】  因子ＶＩＩａ又はその機能的誘導体の有効量が、体重１ｋｇあたり約６０〜１２０μｇの組換え型因子ＶＩＩａに相当する、１又は２以上の、単回静脈内ボーラス注射投与量約３０００〜６０００ＩＵ、及び／又は、毎時、体重１ｋｇあたり約１０〜３０μｇの組換え型因子ＶＩＩａに相当する静脈内注入投与量約５００〜１５００ＩＵを含む、請求項９に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月10日(2004.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】パーキンソン病またはその合併症の治療剤
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  クエチアピンまたはその薬学的に受容できる塩を含む、ドーパミン作動性療法に関連するジスキネジーを治療するための薬剤。
【請求項２】  クエチアピンまたはその薬学的に受容できる塩を含む、レボドーパ療法に関連するジスキネジーを治療するための薬剤。
【請求項３】  クエチアピンまたはその薬学的に受容できる塩を含む、パーキンソン病の症状を緩和するために提供されるドーパミン作動性療法に関連するジスキネジーを治療するための薬剤。
【請求項４】  クエチアピンまたはその薬学的に受容できる塩を含む、パーキンソン病の症状を緩和するために提供されるレボドーパ療法に関連するジスキネジーを治療するための薬剤。
【請求項５】  有効量のクエチアピンまたはその薬学的に受容できる塩を含む、ドーパミン作動性療法に関連する非精神病のジスキネジーを治療するための薬剤。
【請求項６】  ドーパミン作動性療法に関連するジスキネジーを治療するための薬剤の製造におけるクエチアピンまたはその薬学的に受容できる塩の使用。
【請求項７】  ドーパミン作動剤並びにクエチアピンまたはその薬学的に受容できる塩を含む医薬組成物。
【請求項８】  クエチアピンまたはその薬学的に受容できる塩並びにドーパミン作動剤を含む、パーキンソン病を治療するための薬剤。
【請求項９】  パーキンソン病を治療するための薬剤の製造におけるクエチアピンまたはその薬学的に受容できる塩並びにドーパミン作動剤の使用。
【請求項１０】  ドーパミン作動剤の用量がクエチアピンまたはその薬学的に受容できる塩の不在において使用されるドーパミン作動剤の用量よりも多い、請求項８に記載の薬剤。
【請求項１１】  ドーパミン作動剤がレボドーパである、請求項８に記載の薬剤。
【請求項１２】  ドーパミン作動剤がレボドーパおよびカルビドーパである、請求項８に記載の薬剤。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月19日(2004.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ヒドロキシ芳香族化合物とケトン又はアルデヒドを含む混合物を、チオール促進剤の存在下約２５〜約９５℃の範囲の温度で、アミン修飾酸性樹脂触媒と接触させることを含んでなる、ビスフェノールの製造方法。
【請求項２】  前記アミン修飾酸性樹脂触媒が次式の繰返し単位Ｉを有するスルホン化ポリスチレンから製造される、請求項１記載の方法。
【化１】
2004516275.tif 000001
【請求項３】  前記アミン修飾酸性樹脂触媒が樹脂１グラム当たり約０．１〜約６ミリ当量のスルホン酸基を含む、請求項２記載の方法。
【請求項４】  前記アミン修飾酸性樹脂の製造に用いられるアミンが脂肪族アミン、芳香族アミン又は環式脂肪族アミンである、請求項１記載の方法。
【請求項５】  前記チオール促進剤が、脂肪族チオール、環式脂肪族チオール及び芳香族チオールからなる群から選択される、請求項１記載の方法。
【請求項６】  前記ビスフェノールが、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン及び９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンからなる群から選択される、請求項１記載の方法。
【請求項７】  前記ヒドロキシ芳香族化合物とケトン又はアルデヒドを含む混合物が、約０．１〜約１０重量％のアセトン及び約７０〜約９９重量％のフェノールを含有する、請求項１記載の方法。
【請求項８】  ビスフェノールＡの製造方法であって、アミン修飾酸性樹脂触媒の存在下約５０〜約８０℃の範囲の温度でフェノールとアセトンの混合物及びチオール促進剤を接触させることを含んでなり、フェノールが約９０〜約９５重量％の範囲の量で存在し、アセトンが約４〜約６重量％の範囲の量で存在し、チオール促進剤が反応体の約１０〜約１００ｍｍｏｌ／Ｌの量で存在する、方法。
【請求項９】  ビスフェノールＡの製造方法であって、アミン修飾酸性樹脂触媒の存在下約５０〜約８０℃の範囲の温度でフェノールとアセトンの混合物を接触させることを含んでなり、フェノールが混合物の約９０〜約９５重量％の範囲の量で存在し、アセトンが混合物の約４〜約６重量％の範囲の量で存在し、触媒が結合型チオール促進剤からなり、結合型チオール促進剤が樹脂１グラム当たり約０．５〜約２ｍｍｏｌの量で存在する、方法。
【請求項１０】  下記式のスルホン化ポリスチレン単位Ｉと、芳香族アミン、脂肪族アミン及び環式脂肪族アミンからなる群から誘導される残基と、アミノ、アミド、イミド又はカルバミル基を含むチオール促進剤とを含んでなるアミン修飾酸性樹脂触媒。
【化２】
2004516275.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成14年10月25日(2002.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
天然に生じるホスファチドが卵レシチンからなる、請求項７記載の滅菌薬学的調合物。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月18日(2004.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ヒドロフルオロアルカン噴射剤、吸入用医薬、および界面活性剤を含む医薬エアゾール製剤であって、該界面活性剤が、式Ｉ：
【化１】
2004516261.tif 000001
[式中、ＤＰは、重合度の平均値であり、１から４の値を有し；そして
Ｒは、６から２２個の炭素原子の鎖の長さを有するアルキル鎖またはアルキル鎖の混合物である]のアルキルポリグリコシド；またはその誘導体であり、さらに、式中、
Ｒが、２−エチル−１−ヘキシルグリコシドであり、かつＤＰが１.６である；
ＲがＣ８アルキル鎖とＣ１０アルキル鎖の混合物であって、その比が６０ Ｃ８：４０ Ｃ１０であり、かつＤＰが１.５である；
ＲがＣ１６アルキル鎖とＣ８アルキル鎖の混合物であり、かつＤＰが１.２−１.３である；または
ＲがＣ２０アルキル鎖とＣ２２アルキル鎖の混合物であり、かつＤＰが１.２−１.３であるアルキルポリグリコシドか、
またはアルキルポリグリコシドが、ｎ−ドデシル β−Ｄ−マルトシド(Ｃｌ２Ｇ２)、Ｃ１０ ｄ.ｐ. ２.７、またはＣ１０−１２ ｄ.ｐ. １.４とＣ１２−１４ ｄ.ｐ.であることを特徴とする医薬エアゾール製剤。
【請求項２】  噴射剤が、HFA-134a または HFA-227ea またはそれらの混合物である、請求項１に記載の製剤。
【請求項３】  該医薬が、β２−アドレナリン受容体アゴニスト、抗コリン作動性気管支拡張剤、またはプレグナンの１６,１７−アセタール誘導体である、請求項１または２の何れか１つに記載の製剤。
【請求項４】  該医薬が、フォルモテロール、テルブタリン、ブデソニド、またはフォルモテロール／ブデソニドの組み合わせである、請求項１から３の何れか１つに記載の製剤。
【請求項５】  該医薬が、式(I)：
【化２】
2004516261.tif 000002
[式中、Ａｒは、式：
【化３】
2004516261.tif 000003
の基を表し；
Ａは、直鎖もしくは分枝であって、かつ−Ｓ−、−ＳＯ−、ＳＯ２−、−Ｏ−、ＳＯ２ＮＨ、ＮＨＳＯ２、ＣＲ６Ｒ７、フェニルメチン、−ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、および−ＮＨＣＯＮＨ−から選択される１個もしくはそれ以上の基が、間にある または末端にあるＣ１−１２アルキレン鎖を表し；
Ｚは、単環系において５個もしくは６個の原子のアリール基であって、該アリール基は、Ｎ、Ｏ、およびＳから選択される１から３個の複素原子を含み得、該単環系は、任意に置換され １０個以下の原子の多環式縮合環系を形成し得、また該アリール基は、−ＯＨ、ハロゲン、Ｃ１−６アルキル、Ｃ１−６アルコキシ、＝Ｏ、−ＮＲ８Ｒ９、またはＮＯ２から選択される、１個もしくはそれ以上の基によって、任意に置換されているアリール基；またはＮ、Ｏ、およびＳから選択される１から３個の複素原子を含み得、かつ −ＯＨ、ハロゲン、Ｃ１−６アルキル、Ｃ１−６アルコキシ、＝Ｏ、−ＮＨ２、またはＮＯ２から選択される、１もしくはそれ以上の基によって、任意に置換されているＣ３−１２シクロアルキル基を表し；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、およびＲ９は、それぞれ独立に、水素、またはＣ１−６アルキルを表し；そして
Ｒ３とＲ４は水素を表すか、またはＲ３とＲ４は、一緒になって−Ｓ−、−ＮＲ８−、または−ＣＨ２−を形成する]の化合物、およびその薬学的に許容される誘導体である、請求項１から３の何れか１つに記載の製剤。
【請求項６】  該医薬が、
４−ヒドロキシ−７−[２−[２−[３−(２−フェニルエトキシ)プロピルスルホニル]エチルアミノ]エチル]−１,３−ベンゾチアゾール−２(３Ｈ)−オン；
４−ヒドロキシ−７−[２−[２−[３−(２−フェニルエトキシ)プロポキシ]エチルアミノ]エチル]−１,３−ベンゾチアゾール−２(３Ｈ)−オン；
Ｎ−[２−[２−(４−ヒドロキシ−２−オキソ−３Ｈ−１,３−ベンゾチアゾール−７−イル)エチルアミノ]エチル]−２−(フェニルエトキシ)エタンスルホンアミド；
４−ヒドロキシ−７−[２−[３−[２−[２−(１−ナフタレニル)エトキシ]エチルスルホニル]プロピルアミノ]エチル]−１,３−ベンゾチアゾール−２(３Ｈ)−オン；および
３−[２−(４−ヒドロキシ−２−オキソ−３Ｈ−１,３−ベンゾチアゾール−７−イル)エチルアミノ]−Ｎ−[２−[２−(４−メチルフェニル)エトキシ]エチル]プロパンスルホンアミド；
およびその薬学的に許容される塩である、請求項１から３の何れか１つに記載の製剤。
【請求項７】  該医薬が、
フォルモテロール／ブデソニド；
フォルモテロール／フルチカゾン；
フォルモテロール／モメタゾン；
サルメテロール／フルチカゾン；
フォルモテロール／チオトロピウム(tiotropium)塩；
ザフィルルカスト／フォルモテロール；
ザフィルルカスト／ブデソニド；
モンテルカスト(montelukast)／フォルモテロール；
モンテルカスト／ブデソニド；
ロラタジン／モンテルカスト；
ロラタジン／ザフィルルカスト；
チオトロピウムとフルチカゾン；
チオトロピウムとブデソニド；
チオトロピウムとモメタゾン；
モメタゾンとサルメテロール；
フォルモテロールとロフレポニド(rofleponide)；
サルメテロールとブデソニド；
サルメテロールとロフレポニド；または
チオトロピウムとロフレポニド；
の組み合わせである、請求項１から３の何れか１つに記載の製剤。
【請求項８】  界面活性剤の量が、少なくとも０.００１重量％である、請求項１から７の何れか１つに記載の製剤。
【請求項９】  医薬の量が、０.０１から１.０重量％である、請求項１から８の何れか１つに記載の製剤。
【請求項１０】  請求項１から９の何れか１つに記載の製剤を含む、医薬エアゾール。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月13日(2004.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  １つ以上のドーパミンアゴニスト（２）と共に１つ以上の抗コリン作用薬（１）を含むことを特徴とする医薬組成物（必要に応じてその鏡像異性体、鏡像異性体の混合物又はラセミ体の形態であってもよく、必要に応じて溶媒和物又は水和物の形態であってもよく、及び必要に応じて医薬的に許容される賦形剤を一緒に含んでいてもよい）。
【請求項２】  作用物質１及び２が１つの製剤に一緒に、又は２つの別個の製剤に存在する請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】  １がチオトロピウム塩、オキシトロピウム塩又はイプラトロピウム塩からなる群から選択される請求項１又は２に記載の医薬組成物。
【請求項４】  １が塩化物、臭化物、ヨウ化物、メタンスルホネート又はパラトルエンスルホネートの形態で、好ましくは臭化物の形態で存在する請求項１〜３のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項５】  ２がブロモクリプチン、カベルゴリン、α−ジヒドロエルゴクリプチン、リスリド、ペルゴリド、プラミペキソール、ロキシインドール、ロピニロール、テルグリド及びタリペキソールの中から選択される請求項１〜４のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項６】  ２がドーパミン、フェノールドパム、ドペキサミン、ＣＨＦ１０３５、トルナペルシン及びＲＵ−４００２１の中から選択される請求項１〜４のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項７】  吸入に適した製剤の形態である請求項１〜６のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項８】  吸入可能粉体、噴霧剤含有計量エアロゾル及び噴霧剤非含有吸入可能液又は懸濁液の中から選択される製剤である請求項７に記載の医薬組成物。
【請求項９】  単糖類、二糖類、オリゴ及び多糖類、多価アルコール類、塩類、又はこれらの賦形剤の混合物の中から選択される好適な生理学的に許容される賦形剤と混合して１及び２を含む吸入可能粉体である請求項８に記載の医薬組成物。
【請求項１０】  請求項９に記載の吸入可能粉体を含むことを特徴とするカプセル。
【請求項１１】  溶解した形態又は分散した形態で１及び２を含む噴霧剤含有吸入可能エアロゾルである請求項８に記載の医薬組成物。
【請求項１２】  噴霧ガスとして、ｎ−プロパン、ｎ−ブタン又はイソブタンのような炭化水素又は、好ましくはメタン、エタン、プロパン、ブタン、シクロプロパン又はシクロブタンのフッ化誘導体のようはハロ炭化水素を含む請求項１１に記載の噴霧剤含有吸入可能エアロゾル。
【請求項１３】  噴霧ガスがＴＧ１３４ａ、ＴＧ２２７又はその混合物である請求項１２に記載の噴霧剤含有吸入可能エアロゾル。
【請求項１４】  溶媒として水、エタノール又は水とエタノールの混合物を含む噴霧剤非含有吸入可能液又は懸濁液である請求項８に記載の医薬組成物。
【請求項１５】  ｐＨが２〜７、好ましくは２〜５である請求項１４に記載の吸入可能液又は懸濁液。
【請求項１６】  気道の炎症性又は閉塞性疾患の治療用薬剤を調製するための請求項１〜１５のいずれか１項に記載の組成物の使用。