(57)【要約】  予め定めた軌道（Ｒ）上を往復移動する移動ユニット（１０）を備え、軌道（Ｒ）に沿って配置された複数の装置のうち、基板の搬出元となる装置（２１０）から搬出先となる装置（２２０）へ基板を搬送する基板搬送システム（１００）において、基板の搬出元となる各々の装置（２１１、２１２、２１３）毎に配置され、基板の搬出元となる装置（２１０）から搬出される基板が載置される載置台２０と、移動ユニット（１０）に設けられ、載置台（２０）に載置された基板を昇降する昇降ユニット（３０）と、を備え、載置台（２０）は、基板の搬出元となる装置（２１０）から搬出される基板が載置される載置ユニット２１と、載置ユニット（２１）を、軌道（Ｒ）上であって移動ユニット（１０）よりも上方において支持する支持部材（２２）と、を備え、載置ユニット（２１）は、移動ユニット１０の移動及び昇降ユニット（３０）の昇降の際、昇降ユニット（３０）が通過する通過スペース（Ｓ）を有することを特徴とする。
2008129603.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
予め定めた軌道上を往復移動する移動ユニットを備え、前記軌道に沿って配置された複数の装置のうち、基板の搬出元となる装置から搬出先となる装置へ基板を搬送する基板搬送システムにおいて、
基板の搬出元となる各々の前記装置毎に配置され、基板の搬出元となる前記装置から搬出される基板が載置される載置台と、
前記移動ユニットに設けられ、前記載置台に載置された基板を昇降する昇降ユニットと、を備え、
前記載置台は、
基板の搬出元となる前記装置から搬出される基板が載置される載置ユニットと、
前記載置ユニットを、前記軌道上であって前記移動ユニットよりも上方において支持する支持部材と、を備え、
前記載置ユニットは、
前記移動ユニットの移動及び前記昇降ユニットの昇降の際、前記昇降ユニットが通過する通過スペースを有することを特徴とする基板搬送システム。
【請求項２】
前記昇降ユニットは、
前記軌道と直交する方向に延び、基板が載置される載置部と、
前記移動ユニットに立設され、前記載置部を支持する支柱部と、を備え、
前記通過スペースは、
前記載置部が通過する第１の通過スペースと、
前記支柱部が通過する第２の通過スペースと、
を有することを特徴とする請求項１に記載の基板搬送システム。
【請求項３】
前記載置ユニットは、前記基板が載置される複数のローラを備えた複数のローラユニットから構成され、
前記通過スペースは、前記ローラユニット間に形成されたことを特徴とする請求項１に記載の基板搬送システム。
【請求項４】
前記載置ユニットは、エアの噴出口が複数形成された上面を有し、基板を浮遊させる複数のエア噴出ユニットから構成され、
前記通過スペースは、前記エア噴出ユニット間に形成されたことを特徴とする請求項１に記載の基板搬送システム。
【請求項５】
前記ローラユニットは、少なくとも何れかの前記ローラを回転させる駆動手段を備えたことを特徴とする請求項３に記載の基板搬送システム。
【請求項６】
前記ローラが従動ローラであり、
前記載置ユニットは、
基板を保持して前記載置ユニット上の予め定めた位置に移動させる移動手段を備えたことを特徴とする請求項３に記載の基板搬送システム。
【請求項７】
前記載置ユニットは、
基板を保持して前記載置ユニット上の予め定めた位置に移動させる移動手段を備えたことを特徴とする請求項４に記載の基板搬送システム。
【請求項８】
予め定めた軌道上を往復移動する移動ユニットを備え、前記軌道に沿って配置され、基板を水平姿勢で支持する基板支持部を上下方向に複数備えた複数の基板収容装置から、前記軌道に沿って配置された基板処理装置へ基板を搬送する基板搬送システムにおいて、
各々の前記基板収容装置毎に配置され、前記基板収容装置から搬出される基板が水平姿勢で載置される載置台と、
前記移動ユニットに設けられ、前記載置台に載置された基板を昇降する昇降ユニットと、を備え、
前記載置台は、
前記基板収容装置から搬出される基板が載置される載置ユニットと、
前記載置ユニットを、前記軌道上であって前記移動ユニットよりも上方において支持する支持部材と、を備え、
前記載置ユニットは、
前記移動ユニットの移動及び前記昇降ユニットの昇降の際、前記昇降ユニットが通過する通過スペースを有することを特徴とする基板搬送システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を搬送する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）製造ラインでは、基板を多段に収容するカセットや種々の処理を行う処理装置の間で基板を搬送する必要がある。【０００３】
特許文献１では、カセットから搬出した基板を載置する載置台と、載置台に載置された基板を処理装置へ投入するアームと、が一体化しており、複数のカセットや処理装置に対して基板を搬送できるように、載置台が走行レール上を移動する技術が開示されている。【０００４】
また、特許文献２では、カセットから搬出された基板を載置するコンベアが、走行レールに沿って、複数のカセットや処理装置の間を移動する技術が開示されている。
【特許文献１】特開２００５−６４４３２号公報
【特許文献２】特開２００４−２８４７７２号公報
【特許文献３】特開２００４−２９２０９４号公報
【発明の開示】
【０００５】
しかしながら、特許文献１及び２に開示されている技術では、カセットから搬出された基板を載置する載置台（例えば、コンベア）自体が、次工程となる処理装置等の面前まで移動して基板を受け渡すため、載置台がカセットの面前に戻るまでに時間を要する。すなわち、その間は基板を処理装置等から載置台に搬出することができないため、サイクルタイムの向上を阻害する要因となり得る。
【０００６】
そこで、本発明は、基板の搬出元となる装置から基板の搬出先となる装置までの間の基板の搬送効率を向上することを目的とする。
【０００７】
上記課題を解決するため、本発明においては、予め定めた軌道上を往復移動する移動ユニットを備え、前記軌道に沿って配置された複数の装置のうち、基板の搬出元となる装置から搬出先となる装置へ基板を搬送する基板搬送システムにおいて、基板の搬出元となる各々の前記装置毎に配置され、基板の搬出元となる前記装置から搬出される基板が載置される載置台と、前記移動ユニットに設けられ、前記載置台に載置された基板を昇降する昇降ユニットと、を備え、前記載置台は、基板の搬出元となる前記装置から搬出される基板が載置される載置ユニットと、前記載置ユニットを、前記軌道上であって前記移動ユニットよりも上方において支持する支持部材と、を備え、前記載置ユニットは、前記移動ユニットの移動及び前記昇降ユニットの昇降の際、前記昇降ユニットが通過する通過スペースを有することを特徴とする基板搬送システムが提供される。
【０００８】
この構成によれば、前記載置ユニットは、前記移動ユニットの移動及び前記昇降ユニットの昇降の際、前記昇降ユニットが通過する通過スペースを有するため、前記載置台を通過して移動及び昇降することができる。すなわち、前記移動ユニットが基板の搬出元となる前記装置から基板の搬出先となる前記装置までの間を移動している間でも、基板を前記載置ユニット上に搬出することができる。これにより、基板の搬出元となる前記装置から搬出される基板が基板の搬出先となる前記装置までの間の基板の搬送効率を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の第１実施形態に係る基板搬送システム１００の全体斜視図である。
【図２Ａ】第１実施形態に係る載置台２０の上面図である。
【図２Ｂ】第１実施形態に係る昇降ユニット３０の上面図である。
【図２Ｃ】図２Ａ及び図２Ｂを重ね合わせた図である。
【図３】図２Ｂに示す方向ａからの移載装置５０の側面図である。
【図４Ａ】基板搬送システム１００の動作手順を示す図である。
【図４Ｂ】基板搬送システム１００の動作手順を示す図である。
【図４Ｃ】基板搬送システム１００の動作手順を示す図である。
【図４Ｄ】基板搬送システム１００の動作手順を示す図である。
【図４Ｅ】基板搬送システム１００の動作手順を示す図である。
【図５Ａ】吸着ユニット２１ｂの動作手順を示す図である。
【図５Ｂ】吸着ユニット２１ｂの動作手順を示す図である。
【図５Ｃ】吸着ユニット２１ｂの動作手順を示す図である。
【図５Ｄ】吸着ユニット２１ｂの動作手順を示す図である。
【図５Ｅ】吸着ユニット２１ｂの動作手順を示す図である。
【図５Ｆ】吸着ユニット２１ｂの動作手順を示す図である。
【図６】第１実施形態の変形例１に係る載置ユニット２１の上面図である。
【図７】第２実施形態に係る基板搬送システム３００の全体斜視図である。
【図８】基板収容装置４１０の分解斜視図である。
【図９Ａ】基板収容装置４１０の基板搬出処理の動作手順を示す図である。
【図９Ｂ】基板収容装置４１０の基板搬出処理の動作手順を示す図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の第１実施形態に係る基板搬送システム１００の全体斜視図である。基板搬送システム１００は、予め定めた軌道Ｒ上を往復移動する移動ユニット１０を備え、軌道Ｒに沿って配置された複数の基板処理装置２００のうち、基板の搬出元となる基板処理装置２１０から搬出先となる基板処理装置２２０へ基板を搬送するシステムである。【００１１】
基板処理装置２１０は、軌道Ｒに沿って、基板処理装置２１１、２１２、２１３の３台が隣接して設けられる。また、基板処理装置２２０は、軌道Ｒに沿って、基板処理装置２１１、２１２、２１３とそれぞれ対面する位置に、基板処理装置２２１、２２２、２２３の３台が隣接して設けられる。【００１２】
また、基板搬送システム１００は、移動ユニット１０及び昇降ユニット３０を有する移載装置５０と、基板処理装置２１１、２１２、２１３の面前に配置される載置台２０と、を備える。移動ユニット１０は、モータ等の駆動源１１を有し、軌道Ｒ上を走行する。載置台２０は、基板処理装置２１０から搬出される基板が載置される載置ユニット２１と、載置ユニット２１を、軌道Ｒ上であって、移動ユニット１０よりも上方において支持する支持部材２２と、を備える。【００１３】
昇降ユニット３０は、移動ユニット１０に固定され、載置台２０に載置された基板を昇降するものであり、例えばエア式やガス式のシリンダで構成される。また、昇降ユニット３０は、軌道Ｒと直交する方向に延び、基板が載置される載置部３１と、移動ユニット１０に立設され、載置部３１を支持する支柱部３２と、を備える。【００１４】
図２Ａは第１実施形態に係る載置台２０の上面図、図２Ｂは第１実施形態に係る昇降ユニット３０の上面図、図２Ｃは図２Ａ及び図２Ｂを重ね合わせた図である。また、図３は、図２Ｂに示す方向ａからの移載装置５０の側面図である。【００１５】
図２Ａで示すように、載置台２０の載置ユニット２１は、基板Ｗが載置される複数のローラ２１ａ’を備えた複数のローラユニット２１ａと、基板Ｗを吸着保持して、載置ユニット２１上の予め定めた位置に移動させる吸着ユニット２１ｂと、から構成される。ローラ２１ａ’は、基板Ｗが軌道Ｒに直交する方向に搬送される際に、その動きに従って回転する従動ローラである。【００１６】
吸着ユニット２１ｂは、基板Ｗを真空状態で吸着する吸着部２１ｃと、吸着部２１ｃをエア式やガス式のシリンダ等により、上下方向に昇降させる昇降機構（不図示）と、吸着部２１ｃをレールに沿って、水平方向に移動させる移動機構（不図示）と、を有する。この構成によれば、吸着ユニット２１ｂは、吸着部２１ｃを上下方向及び水平方向に移動させることができる。【００１７】
また、載置ユニット２１は、ローラユニット２１ａ間に形成される通過スペースＳを有する。通過スペースＳは、軌道Ｒの方向と直交する方向に延伸する通過スペースＳ’と、軌道Ｒと同一の方向に延伸する通過スペースＳ”と、から構成される。【００１８】
昇降ユニット３０の載置部３１は、図２Ｂ及び図３で示すように、軌道Ｒと同一の方向に延伸する部材３１ａと、部材３１ａに固定され、軌道Ｒに直交する方向に延伸する部材３１ｂと、部材３１ｂの上部に固定され、基板Ｗを直接支持する複数の支持ピン３１ｃと、部材３１ｂに固定され、基板Ｗが支持ピン３１ｃ上でずれることを防止するズレ防止ピン３１ｄと、を有する。【００１９】
ズレ防止ピン３１ｄは、軌道Ｒと直交する方向のズレを防止するズレ防止ピン３１ｄ’と、軌道Ｒと同一の方向のズレを防止するズレ防止ピン３１ｄ”と、から構成される。本実施形態の場合、ズレ防止ピン３１ｄ’は、基板Ｗの正規の載置位置において、部材３１ｂを基板Ｗの端部を越える位置まで延長して、部材３１ｂの上面に立設する。また、ズレ防止ピン３１ｄ”は、部材３１ｅを部材３１ａに固定し、部材３１ｅを基板Ｗの端部を越える位置まで延長して、部材３１ｅの上面に立設する。【００２０】
図２Ｃで示すように、軌道Ｒの方向と直交する方向に形成される通過スペースＳ’には、昇降ユニット３０の載置部３１が通過し、軌道Ｒの方向と同一の方向に形成される通過スペースＳ”には、昇降ユニット３０の支柱部３２が通過する。これにより、移動ユニット１０が移動する際にも、昇降ユニット３０が昇降する際にも、載置ユニット２１と干渉することなく動作することができる。【００２１】
図４Ａ乃至図４Ｅは、基板搬送システム１００の動作手順を示す図である。昇降ユニット３０は、図４Ａで示すように、載置台２０の載置ユニット２１の所定位置に基板Ｗが搬出されるまでの間、少なくとも支持ピン３１ｃ及びズレ防止ピン３１ｄ’が載置ユニット２１の載置面から突出しない位置で待機している。なお、本実施形態の場合、載置ユニット２１の載置面とは、ローラユニット２１ａの複数のローラ２１ａ’における最も高い位置をつなぎ合わせて形成される平面である。【００２２】
基板Ｗが載置ユニット２１の所定位置に搬出されると、昇降ユニット３０は、図４Ｂで示すように、載置ユニット２１の載置面よりも高い位置に載置部３１を上昇させ、基板Ｗの荷重を支持するようになる。なお、この際、前述の通り、載置部３１は、通過スペースＳ’を通過することで、載置台２０を通過することができる。【００２３】
その後、昇降ユニット３０の上昇が完了すると、移動ユニット１０は、図４Ｃで示すように、軌道Ｒに沿って移動し、図４Ｄで示すように、所望の載置台２０まで移動を完了する。なお、この際、前述の通り、支柱部３２は、通過スペースＳ”を通過することで、載置台２０を通過することができる。【００２４】
移動ユニット１０が所望の載置台２０まで移動を完了すると、昇降ユニット１０は、図４Ｅで示すように、載置部３１が基板Ｗの載置面よりも低い位置になるまで下降する。これにより、載置ユニット２１上に基板Ｗを受け渡すことができる。【００２５】
図５Ａ乃至図５Ｆは、吸着ユニット２１ｂの動作手順を示す図である。ここで、基板処理装置２１０に近接する吸着ユニットを２１ｂとし、基板処理装置２２０に近接する吸着ユニットを２１ｂ’とする。また、移動機構が移動するレールは、吸着ユニット２１ｂに設けられるレールをレール２、吸着ユニット２１ｂ’に設けられるレールをレール２’とし、その端部をそれぞれ、基板処理装置２１０に近接する側から、２ａ、２ｂ、２ａ’、及び２ｂ’とする。【００２６】
まず、吸着ユニット２１ｂは、図５Ａで示すように、レール２の端部２ａで待機していた吸着部２１ｂを上昇させ、基板Ｗの載置台２０に近接する端部近傍を吸着保持する。次に、吸着ユニット２１ｂは、図５Ｂで示すように、レール２の端部２ｂまで、基板Ｗを吸着保持した吸着部２１ｃを水平移動させる。その後、吸着ユニット２１ｂは、基板Ｗの吸着保持を一時的に解除して、吸着部２１ｃを下方に降下させ、端部２１ａの方向に予め定めた距離（例えば、２００ｍｍ）だけ後退する。その後、図５Ｃで示すように、再び吸着部２１ｃを上昇させ、基板Ｗを吸着保持する。【００２７】
吸着ユニット２１ｂは、基板Ｗの保持位置を移動した後、さらに、基板Ｗの前端部分が、レール２’の端部２ａ’で待機している吸着部２１ｃ’の上方まで進む。そこで、図５Ｄで示すように、再び基板Ｗの搬出処理を停止して、吸着ユニット２１ｂの吸着保持を解除する。吸着ユニット２１ｂ’は、吸着部２１ｃの吸着解除までに、吸着部２１ｃを上昇させておき、吸着部２１ｃの吸着解除と同時に吸着部２１ｃ’を吸着保持させる。これにより、吸着ユニット２１ｂから吸着ユニット２１ｂ’へ基板Ｗを受け渡す。【００２８】
吸着ユニット２１ｂは、基板Ｗの保持を解除すると、再びレール２の端部２ａまで吸着部２１ｃを移動させる。吸着ユニット２１ｂ’は、図５Ｅで示すように、レール２’の端部まで、基板Ｗを載置した吸着部２１ｃ’を移動させると、吸着部２１ｃ’の吸着保持を解除し、吸着部２１ｃを下降させる。これにより、基板Ｗは、ローラ２１ａ’上に載置された状態となる。最後に、吸着ユニット２１ｂは、次の基板Ｗを吸着ユニット２１ｂから受け取るために、再びレール２’の端部２ａ’に移動する。【００２９】
その後、図５Ｆで示すように、載置台２０の下方から昇降ユニット３０が上昇して、支持ピン３１ｃがローラ２１ａ’の載置面よりも突出すると、基板Ｗは支持ピン３１ｃに支持されるようになる。昇降ユニット３０が、移動ユニット１０により、軌道Ｒに沿って、所望の載置台２０まで基板を搬送し、再び元の位置に戻ってきた場合には、前述と同様に、一連の基板Ｗの搬出処理が繰り返される。【００３０】
なお、吸着ユニット２１ｂは、基板処理装置２１０内に既に処理済みの基板Ｗが待機している場合には、載置台２０自体は移動せずに固定されているため、移動ユニット１０が軌道Ｒ上を移動している際でも、新たな基板Ｗを載置台２０上に搬出する設定とすることも可能である。【００３１】
本実施形態に係る構成によれば、昇降ユニット３０は、移動ユニット１０が軌道Ｒ上を移動する際、及び昇降ユニット３０の載置部３１が昇降する際に、載置台２０の載置ユニット２１と干渉することなく通過することができる。すなわち、移動ユニット１０が基板処理装置２１０から基板処理装置２２０までの間を移動している間でも、基板Ｗを載置ユニット２１上に搬出することができる。これにより、基板Ｗの搬出元となる基板処理装置２１０から搬出される基板Ｗが、基板Ｗの搬出先となる基板処理装置２２０までの間の基板Ｗの搬送効率を向上することができる。【００３２】
なお、ローラユニット２１ａは、本実施形態では、ローラ２１ａ’を回転させるための駆動源を有さず、基板Ｗの動きに従って動く従動ローラのみを備えるものであったため、基板Ｗを吸着して載置台３０の予め定めた位置に搬送する吸着ユニット２１ｂをローラユニット２１ａとは別に設けたが、ローラユニット２１ａが駆動源を有し、駆動源により、ローラを回転させて、基板Ｗを載置台２０の予め定めた位置に搬送する構成としてもよい。【００３３】
この構成によれば、吸着ユニット２１ｂの代わりに駆動源を設けたため、載置ユニット２１の構成を簡素化することができる。これにより、コストを低減できると共に、故障の低減によって設備稼働率を向上することも可能となる。【００３４】
なお、吸着ユニット２１ｂは、本実施形態では、基板Ｗを吸着保持した状態で搬出したが、吸着ユニット２１ｂは、基板Ｗを吸着保持せずに、基板Ｗの荷重を支持した状態で搬出する構成としても構わない。【００３５】
なお、本実施形態では、軌道Ｒの一方の片脇に基板の搬出元となる基板処理装置２１０が配され、軌道Ｒの他方の片脇に基板の搬出先となる基板処理装置２２０が配されたシステムを想定したが、本発明は、基板の搬出元及び搬出先となる基板処理装置が軌道Ｒの一方の片脇のみに配置されたシステムにも適用することができる。この場合には、例えば、基板の搬出元となる基板処理装置と基板の搬出先となる基板処理装置とが、軌道Ｒに沿って片脇のみに隣接して配置され、基板処理装置での処理後に、順次隣接する基板処理装置に基板を搬送するシステムとすることができる。【００３６】
また、本実施形態では、基板処理装置２１０及び２２０が複数配置されたシステムを想定したが、基板収容装置及び基板処理装置が少なくとも１つずつ配置されたシステムであれば、本発明を適用することができる。さらに、本実施形態では、基板処理装置２１０と基板処理装置２２０との間で載置台２０を介して、基板Ｗを搬送する場合を想定したが、基板処理装置２１０と載置台２０との間、又は基板処理装置２２０と載置台２０との間にコンベア等の搬送装置を備えていても構わない。【００３７】
［変形例１］
第１実施形態では、ローラ２１ａ’上に基板Ｗを載置することで、基板Ｗを搬送する際に載置台２０との間で生じる摩擦を緩和したが、本変形例では、載置ユニット２１はローラユニット２１ａを備えておらず、他の手段によりこの摩擦を緩和する点で異なる。なお、本変形例では、第１実施形態と同一の構成には、同一の符号を付し、説明を省略する。【００３８】
図６は、第１実施形態の変形例１に係る載置台２０の上面図である。載置台２０の載置ユニット２１は、エアを噴き出す噴出口２１ｄ’が複数形成された上面２１ｄ”を有し、基板Ｗを浮遊させる複数のエア噴出ユニット２１ｄから構成される。また、各エア噴出ユニット２１ｄの間には、通過スペースＳ’が形成される。【００３９】
基板Ｗを載置台２０上に搬出する際には、噴出口２１ｄ’から高圧のエアを噴き出して、基板Ｗを浮遊させ、吸着ユニット２１ｂにより、上述の第１実施形態と同様に、載置台２０上に基板Ｗを搬出する。【００４０】
本変形例に係る構成によれば、エア噴出ユニット２１ｄで基板Ｗを浮遊させて搬送することにより、基板Ｗと上面２１ｄ”との間の摩擦を軽減し、基板Ｗに傷が付くことを低減することができる。【００４１】
＜第２実施形態＞
第１実施形態の基板搬送システム１００は、軌道Ｒに沿って配置された複数の基板処理装置２００間で基板を搬送するシステムであったが、本実施形態の基板搬送システム３００は、軌道Ｒに沿って配置された、基板収容装置４１０と基板処理装置４２０との間で基板を搬送するシステムである点で異なる。なお、基板搬送システム３００自体は、第１実施形態の基板搬送システム１００と同様の構成であるため、同一の符号を付し、説明を省略する。【００４２】
図７は、第２実施形態に係る基板搬送システム３００の全体斜視図であり、図８は、基板収容装置４１０の分解斜視図である。基板搬送システム３００は、基板Ｗの搬出元となる基板収容装置４１０から基板Ｗの搬出先となる基板処理装置４２０へ基板Ｗを搬送するシステムである。【００４３】
基板収容装置４１０は、軌道Ｒに沿って、３台の基板収容装置４１１、４１２、４１３が隣接して設けられる。また、基板処理装置４２０は、軌道Ｒに沿って、基板収容装置４１１、４１２、４１３とそれぞれ対面する位置に、３台の基板処理装置４２１、４２２、４２３が隣接して設けられる。【００４４】
基板収容装置４１０は、図８で示すように、基板Ｗを収容するカセット４１０’と、カセット４１０’の両側に設けられた昇降機構４１４と、カセット４１０’の下方に設けられた載置台４１５と、を備える。カセット４１０’は、基板Ｗを水平姿勢で支持する基板支持部４１６を有する。基板支持部４１６は、上下方向に延びる部材１ａ、１ｂ間に複数配設される棒状体であり、例えば、ゴムで被覆された金属やウレタン等で構成される。【００４５】
昇降機構４１４は、カセット４１０’の荷重を支持するカセット支持部４１４ａと、カセット支持部４１４ａを上下方向に移動させる駆動部４１４ｂと、上下方向に移動するカセット支持部４１４ａの水平状態をガイドするガイド部４１４ｃと、を有する。【００４６】
駆動部４１４ｂは、モータ等の駆動源（不図示）を有し、駆動源からの回転運動をラックピニオン等の方式により上下方向の運動に変換する。カセット４１０’をカセット支持部４１４ａに載置することにより、カセット支持部４１４ａの上下方向の移動に伴って、カセット４１０’を昇降させることができる。【００４７】
また、載置台４１５は、カセット４１０’内に収容された基板Ｗを一時的に載置する台であり、複数のローラ４１５”と、ローラ４１５”を駆動するモータ等の駆動源（不図示）と、を有するローラユニット４１５’を備える。【００４８】
なお、載置台４１５は、カセット４１５が下降した状態で、内部に収まる寸法で構成されるため、最上段の基板支持部４１６に収容された基板Ｗを搬出する際であっても、カセット４１０’と干渉することなく、基板Ｗを搬出することができる。【００４９】
図９Ａ及び図９Ｂは、基板収容装置４１０の基板搬出処理の動作手順を示す図である。まず、カセット４１０’に収容された基板Ｗを載置台２０上に搬出する際には、図９Ａで示すように、基板Ｗの荷重が基板支持部４１６に支持された状態から、載置台４１５のローラ４１５”に支持される状態になるまで、昇降機構４１４を降下させる。その後、図９Ｂで示すように、駆動源によりローラ４１５”を駆動させることで、載置台４１５から載置台２０に基板Ｗを搬出する。【００５０】
本実施形態に係る構成によれば、基板Ｗの搬出元となる装置が、基板収容装置４１０であっても、基板Ｗを効率的に搬送することができる。【００５１】
なお、本実施形態では、ローラユニット４１５’が駆動源を有する場合を想定したが、ローラユニット４１５’が駆動源を有しない場合には、第１実施形態と同様に、載置ユニット２１に設けられた吸着ユニット２１ｂにより、載置台４１５から載置台２０に基板Ｗを搬出してもよい。【００５２】
なお、本実施形態では、軌道Ｒの一方の片脇に基板の搬出元となる基板収容装置４１０が配され、軌道Ｒの他方の片脇に基板の搬出先となる基板処理装置４２０が配されたシステムを想定したが、本発明は、基板収容装置と基板処理装置とが共に軌道Ｒの一方の片脇に隣接して配置されたシステムにも適用することができる。【００５３】
また、本実施形態では、基板収容装置４１０が基板の搬出元となり、基板処理装置４２０が基板の搬出先となるシステムを想定したが、基板処理装置４２０が基板の搬出元となり、基板収容装置４１０が基板の搬出先となるシステムであっても構わない。【００５４】
また、本実施形態では、基板収容装置４１０及び基板処理装置４２０が複数配置されたシステムを想定したが、基板収容装置及び基板処理装置が少なくとも１つずつ配置されたシステムであれば、本発明を適用することができる。さらに、本実施形態では、基板収容装置４１０と基板処理装置４２０との間で載置台４１５を介して、基板Ｗを搬送する場合を想定したが、基板収容装置４１０と載置台４１５との間、又は基板処理装置４１０と載置台４１５との間にコンベア等の搬送装置を備えていても構わない。【００５５】
さらに、基板収容装置のみが、軌道Ｒに沿って複数配置されている場合においても、本発明を適用することにより、基板収容装置間で基板を移し替える処理を実行することができる。
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図４Ｄ】
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【図４Ｅ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図５Ｄ】
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【図５Ｅ】
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【図５Ｆ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【国際調査報告】
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