【手続補正書】
【提出日】平成16年7月5日(2004.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の受光画素を備え、光電変換層を有する受光部と、
前記受光部に接続され、前記受光部で発生した電荷を転送するための前記受光画素ごとに設けられた複数の電荷転送素子と、が設けられた受光領域を有する電子機器であって、
前記受光部は、
前記受光画素ごとに電気的に分離され、かつ前記電荷転送素子に接続された複数の下部電極と、
前記複数の下部電極上に形成された前記光電変換層と、
前記光電変換層上に形成され、前記複数の受光画素に共通な上部電極と、を有し、
前記光電変換層の光の入射側には溝部が設けられ、
前記溝部は絶縁物が埋め込まれていることを特徴とする電子機器。
【請求項２】
複数の受光画素を備え、光電変換層を有する受光部と、
前記受光部に接続され、前記受光部で発生した電荷を転送するための前記受光画素ごとに設けられた複数の電荷転送素子と、が設けられた受光領域を有する電子機器であって、
前記受光部は、
前記受光画素ごとに電気的に分離され、かつ前記電荷転送素子に接続された複数の下部電極と、
前記複数の下部電極上に形成された前記光電変換層と、
前記光電変換層上に形成され、前記複数の受光画素に共通な上部電極と、を有し、
前記上部電極は、前記下部電極と対向しない領域に選択的に開口部が設けられ、
前記光電変換層の光の入射側には溝部が設けられ、
前記溝部は、前記上部電極の開口部と重なり、絶縁物が埋め込まれていることを特徴とする電子機器。
【請求項３】
複数の受光画素を備え、光電変換層を有する受光部と、
前記受光部に接続され、前記受光部で発生した電荷を転送するための前記受光画素ごとに設けられた複数の電荷転送素子と、が設けられた受光領域と、
複数の表示画素を備え、前記表示画素ごとに配置された複数の能動素子と、前記表示画素ごとに電気的に分離され、前記能動素子に接続された複数の画素電極が設けられた表示領域と、を同一基板上に有する電子機器であって、
前記受光部は、
前記受光画素ごとに電気的に分離され、かつ前記電荷転送素子に接続された複数の下部電極と、
前記複数の下部電極上に形成された前記光電変換層と、
前記光電変換層上に形成され、前記複数の受光画素に共通な上部電極と、を有し、
前記光電変換層の光の入射側には溝部が設けられ、
前記溝部は絶縁物が埋め込まれていることを特徴とする電子機器。
【請求項４】
複数の受光画素を備え、光電変換層を有する受光部と、
前記受光部に接続され、前記受光部で発生した電荷を転送するための前記受光画素ごとに設けられた複数の電荷転送素子と、が設けられた受光領域と、
複数の表示画素を備え、前記表示画素ごとに配置された複数の能動素子と、
前記表示画素ごとに電気的に分離され、前記能動素子に接続された複数の画素電極と、が設けられた表示領域と、を同一基板上に有する電子機器であって、
前記受光部は、
前記受光画素ごとに電気的に分離され、かつ前記電荷転送素子に接続された複数の下部電極と、
前記複数の下部電極上に形成された前記光電変換層と、
前記光電変換層上に形成され、前記複数の受光画素に共通な上部電極と、を有し、
前記光電変換層の光の入射側には溝部が設けられ、
前記溝部は絶縁物が埋め込まれ、
前記表示領域には、前記画素電極よりも下層であって、前記下部電極と同一膜からなる遮光膜が設けられていることを特徴とする電子機器。
【請求項５】
複数の受光画素を備え、光電変換層を有する受光部と、
前記受光部に接続され、前記受光部で発生した電荷を転送するための前記受光画素ごとに設けられた複数の電荷転送素子と、が設けられた受光領域と、
複数の表示画素を備え、前記表示画素ごとに配置された複数の能動素子と、前記表示画素ごとに電気的に分離され、前記能動素子に接続された複数の画素電極が設けられた表示領域と、を同一基板上に有する電子機器であって、
前記受光部は、
前記受光画素ごとに電気的に分離され、かつ前記電荷転送素子に接続された複数の下部電極と、
前記複数の下部電極上に形成された前記光電変換層と、
前記光電変換層上に形成され、前記複数の受光画素に共通な上部電極と、を有し、
前記上部電極は、前記下部電極と対向しない領域に選択的に開口部が設けられ、
前記光電変換層の光の入射側には溝部が設けられ、
前記溝部は、前記上部電極の開口部と重なり、絶縁物が埋め込まれていることを特徴とする電子機器。
【請求項６】
複数の受光画素を備え、光電変換層を有する受光部と、
前記受光部に接続され、前記受光部で発生した電荷を転送するための前記受光画素ごとに設けられた複数の電荷転送素子と、が設けられた受光領域と、
複数の表示画素を備え、前記表示画素ごとに配置された複数の能動素子と、
前記表示画素ごとに電気的に分離され、前記能動素子に接続された複数の画素電極が設けられた表示領域と、を同一基板上に有する電子機器であって、
前記受光部は、
前記受光画素ごとに電気的に分離され、かつ前記電荷転送素子に接続された複数の下部電極と、
前記複数の下部電極上に形成された前記光電変換層と、
前記光電変換層上に形成され、前記複数の受光画素に共通な上部電極と、を有し、
前記上部電極は、少なくとも前記下部電極と対向しない領域に選択的に開口部が設けられ、
前記光電変換層の光の入射側には溝部が設けられ、
前記溝部は、前記上部電極の開口部と重なり、絶縁物が埋め込まれ、
前記表示領域には、前記画素電極よりも下層であって、前記下部電極と同一膜からなる遮光膜が設けられていることを特徴とする電子機器。
【請求項７】
請求項２、５、６のいずれか一項において、前記光電変換層の溝部の側面は、前記上部電極の開口部の端面と概略同一平面をなすことを特徴とする電子機器。
【請求項８】
請求項３乃至７のいずれか一項において、前記基板上には、前記表示領域の能動素子を駆動する駆動回路が設けられていることを特徴とする電子機器。
【請求項９】
請求項３乃至８のいずれか一項において、前記電荷転送素子および前記能動素子は薄膜トランジスタであることを特徴とする電子機器。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項において、前記光電変換層に設けられた溝部は、隣接する前記下部電極の隙間と重なることを特徴とする電子機器。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一項において、前記絶縁物は顔料または炭素系材料が分散された有機樹脂材料からなることを特徴とする電子機器。
【請求項１２】
請求項１１において、前記有機樹脂材料は、アクリル、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド、エポキシから選ばれた材料であることを特徴とする電子機器。
【請求項１３】
請求項１乃至１０のいずれか一項において、前記絶縁物は顔料または炭素系材料が分散された酸化珪素系塗布膜からなることを特徴とする電子機器。
【請求項１４】
複数の受光画素を備え、上部電極、下部電極および光電変換層を有する受光部と、前記受光部で発生した電荷を転送するための前記受光画素ごとに設けられた複数の電荷転送素子と、が設けられた受光領域を有する電子機器の作製方法であって、
前記電荷転送素子を形成し、
前記受光画素ごとに電気的に分離され、かつ前記電荷転送素子に接続された複数の前記下部電極を形成し、
前記複数の下部電極上に前記光電変換層を形成し、
前記光電変換層の光の入射側に溝部を形成し、
前記溝部に絶縁物を形成し、
前記光電変換層上に、前記複数の受光画素に共通な上部電極を形成することを特徴とする電子機器の作製方法。
【請求項１５】
複数の受光画素を備え、上部電極、下部電極および光電変換層を有する受光部と、前記受光画素ごとに設けられた前記受光部で発生した電荷を転送するための複数の電荷転送素子と、が設けられた受光領域を有する電子機器の作製方法であって、
前記電荷転送素子を形成し、
前記受光画素ごとに電気的に分離され、かつ前記電荷転送素子に接続された複数の前記下部電極を形成し、
前記複数の下部電極上に前記光電変換層を形成し、
前記光電変換層上に、前記下部電極と対向しない領域に開口部を有する前記上部電極を形成し、
前記上部電極をマスクにして、前記光電変換層の光の入射側に自己整合的に溝部を形成し、
前記溝部に絶縁物を形成することを特徴とする電子機器の作製方法。
【請求項１６】
複数の受光画素を備え、上部電極、下部電極および光電変換層を有する受光部と、
前記受光部で発生した電荷を転送するための前記受光画素ごとに設けられた複数の電荷転送素子と、が設けられた受光領域と、
複数の表示画素を備え、前記表示画素ごとに配置された複数の能動素子と、
前記表示画素ごとに電気的に分離され、前記能動素子に接続された複数の画素電極と、が設けられた表示領域と、を同一基板上に有する電子機器の作製方法であって、
前記基板上に、前記電荷転送素子と、前記能動素子と、を形成し、
前記受光画素ごとに電気的に分離され、かつ前記電荷転送素子に接続された複数の前記下部電極を形成し、
前記複数の下部電極上に前記光電変換層を形成し、
前記光電変換層の光の入射側に溝部を形成し、
前記溝部に絶縁物を形成し、
前記光電変換層上に、前記複数の受光画素に共通な上部電極を形成することを特徴とする電子機器の作製方法。
【請求項１７】
請求項１６において、前記上部電極を形成後、
前記基板全面に平坦化膜を形成し、
前記能動素子に接続された前記画素電極を形成することを特徴とする電子機器の作製方法。
【請求項１８】
複数の受光画素を備え、上部電極、下部電極および光電変換層を有する受光部と、前記受光部で発生した電荷を転送するための前記受光画素ごとに設けられた複数の電荷転送素子と、が設けられた受光領域と、
複数の表示画素を備え、前記表示画素ごとに配置された複数の能動素子と、前記表示画素ごとに電気的に分離され、前記能動素子に接続された複数の画素電極と、が設けられた表示領域と、を同一基板上に有する電子機器の作製方法であって、
前記基板上に、前記電荷転送素子と、前記能動素子と、を形成し、
前記受光画素ごとに電気的に分離され、かつ前記電荷転送素子に接続された複数の前記下部電極を形成し、
前記複数の下部電極上に前記光電変換層を形成し、
前記光電変換層上に、前記下部電極と対向しない領域に開口部を有する上部電極を形成し、
前記上部電極をマスクにして、前記光電変換層の光の入射側に自己整合的に溝部を形成し、
前記溝部に絶縁物を形成することを特徴とする電子機器の作製方法。
【請求項１９】
請求項１８において、前記絶縁物を形成後、前記基板全面に平坦化膜を形成し、
前記能動素子に接続される画素電極を形成することを特徴とする電子機器の作製方法。
【請求項２０】
請求項１４乃至１９のいずれか一項において、前記絶縁物は顔料または炭素系材料が分散された有機樹脂材料からなることを特徴とする電子機器の作製方法。
【請求項２１】
請求項２０において、前記有機樹脂材料は、アクリル、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド、エポキシから選ばれた材料であることを特徴とする電子機器の作製方法。
【請求項２２】
請求項１４乃至１９のいずれか一項において、前記絶縁物は顔料または炭素系材料が分散された酸化珪素系塗布膜からなることを特徴とする電子機器の作製方法。