【手続補正書】
【提出日】平成17年10月11日(2005.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  マスクを保持するマスクステージと基板を保持する基板ステージとを同期して所定の第１方向に相対移動させつつ、前記マスクに形成されたパターンを前記基板に転写する走査露光方法であって、
前記マスクステージに前記第１方向に沿って延設された第１反射面に測長ビームを照射しその反射光を受光して前記マスクステージの第２方向の位置を管理するとともに、前記マスクステージに設けられた第１のコーナーキューブに測長ビームを照射しその反射光を受光して前記マスクステージの第１方向の位置を管理しつつ、前記マスク上の第１領域のパターンを前記基板上の所定領域に転写する第１走査露光工程と；
前記第１反射面に測長ビームを照射しその反射光を受光して前記マスクステージの第２方向の位置を管理するとともに、前記マスクステージに設けられた前記第１のコーナーキューブとは異なる第２のコーナーキューブに測長ビームを照射しその反射光を受光して前記マスクステージの第１方向の位置を管理しつつ、前記マスク上の前記第１領域の第２方向に隣接された第２領域のパターンを前記基板上の前記所定領域に転写する第２の走査露光工程とを含む走査露光方法。
【請求項２】  マスクを第１方向に往復移動して、前記マスク上の前記第１方向と直交する第２方向に沿って並ぶ第１及び第２領域をそれぞれ照明光で照射するとともに、前記マスクの移動に同期して基板を移動することにより、前記マスクのパターンを前記基板上に転写する走査露光方法において、
前記マスク上の第１領域を前記照明光で照射するために、前記マスクを保持するマスクステージに設けられる第１ミラーに測長ビームを照射する干渉計の出力に基づいて前記マスクステージを前記第１方向に駆動し、
前記マスク上の第２領域を前記照明光で照射するために、前記マスクステージに設けられる第１ミラーと異なる第２ミラーに前記干渉計の測長ビームを照射しながら前記マスクステージを前記第１方向に駆動することを特徴とする走査露光方法。
【請求項３】  前記マスク上の第１領域が転写される前記基板上の区画領域に、前記マスク上の第２領域を重ね合わせて転写して、前記第１領域内の第１パターンと前記第２領域内の第２パターンとの合成パターンを前記区画領域に形成することを特徴とする請求項２に記載の走査露光方法。
【請求項４】  前記基板上の複数の区画領域に前記マスクのパターンを順次転写するために、前記マスク上の第１領域を前記複数の区画領域に順次転写し、かつ前記マスクを前記第２方向に移動した後で、前記マスク上の第２領域を前記複数の区画領域に順次転写することを特徴とする請求項２又は３に記載の走査露光方法。
【請求項５】  前記マスク上の第２領域を前記複数の区画領域に転写する前に、前記照明光の強度分布を変更することを特徴とする請求項４に記載の走査露光方法。
【請求項６】  前記マスク上の第１領域を前記照明光で照射した後の前記マスクステージの減速中に、前記マスクステージを前記第１方向に対して斜めに移動することを特徴とする請求項２に記載の走査露光方法。
【請求項７】  前記マスク上の第２領域を前記照明光で照射する前に、前記マスク上の第２領域が前記照明光に近づくように、前記マスクステージを前記第１及び第２方向と交差する方向に加速させることを特徴とする請求項２又は６に記載の走査露光方法。
【請求項８】  前記マスク上の第１領域への前記照明光の照射と、前記マスク上の第２領域への前記照明光の照射との間で、前記マスクステージを停止させることなく駆動することを特徴とする請求項２、６、７のいずれか一項に記載の走査露光方法。
【請求項９】  前記マスク上の第１領域を前記基板上の第１区画領域に転写する第１走査露光と、前記マスク上の第２領域を前記基板上の前記第１区画領域と隣接する第２区画領域に転写する第２走査露光との間で、前記基板を保持する基板ステージを停止させることなく駆動することを特徴とする請求項２、６、７のいずれか一項に記載の走査露光方法。
【請求項１０】  前記第２走査露光前に、前記基板ステージを前記第１及び第２方向と交差する方向に加速させることを特徴とする請求項９に記載の走査露光方法。
【請求項１１】  前記マスクは、前記第２方向に沿って配列される第１及び第２マスクを含み、前記第１マスクは前記第１領域内の第１パターンが形成され、前記第２マスクは前記第２領域内の第２パターンが形成されることを特徴とする請求項２、６、９、１０のいずれか一項に記載の走査露光方法。
【請求項１２】  マスクを第１方向に往復移動して、前記マスク上の前記第１方向と直交する第２方向に沿って並ぶ第１及び第２領域をそれぞれ照明光で照射するとともに、前記マスクの移動に同期して基板を移動することにより、前記マスクのパターンを前記基板上に転写する走査露光方法において、
前記マスク上の第１領域への前記照明光の照射と、前記マスク上の第２領域への前記照明光の照射との間で、前記マスクを停止させることなく移動することを特徴とする走査露光方法。
【請求項１３】  基板上に回路パターンを転写する走査露光方法であって、  前記回路パターンの第１及び第２分解パターンを有するマスクを第１方向に移動して、前記第１分解パターンを照明光で照射するとともに、前記マスクの移動に同期して前記基板を移動し、前記基板上の区画領域に前記第１分解パターンを転写する第１工程と；
前記第１方向に沿って前記マスクを前記第１工程とは逆向きに移動して、前記第２分解パターンを前記照明光で照射するとともに、前記マスクの移動に同期して前記基板を移動し、前記区画領域に前記第２分解パターンを転写する第２工程とを含む走査露光方法。
【請求項１４】  前記第１工程と前記第２工程の間で、前記マスクは、前記第１方向、及びそれと直交する第２方向の速度成分の少なくとも一方が零とならないように移動されることを特徴とする請求項１３に記載の走査露光方法。
【請求項１５】  少なくとも第１及び第２パターンが形成されたマスクと基板とを同期移動して、前記基板上の複数の区画領域のそれぞれに、前記各区画領域内での転写位置の異なる前記少なくとも第１及び第２パターンを合成したパターンを形成する走査露光方法において、
前記複数の区画領域の一部に前記第１パターンをステップ・アンド・スキャン方式でそれぞれ転写し、前記第１パターンの転写後に前記マスクを同期移動方向である第１方向と直交する第２方向に移動し、前記複数の区画領域の残りの一部に前記第２パターンをステップ・アンド・スキャン方式で転写することを特徴とする走査露光方法。
【請求項１６】  基板上の複数の区画領域に少なくとも第１及び第２パターンをそれぞれステップ・アンド・スキャン方式で転写する走査露光方法において、
前記第１パターンの転写時と前記第２パターンの転写時とで、前記複数の区画領域の走査露光順序を異ならせることを特徴とする走査露光方法。
【請求項１７】  前記第１パターンの転写時と前記第２パターンの転写時とで前記基板の移動経路を逆にすることを特徴とする請求項１６に記載の走査露光方法。
【請求項１８】  前記基板上の区画領域に前記少なくとも第１及び第２パターンを重ね合わせて転写することを特徴とする請求項１６又は１７に記載の走査露光方法。
【請求項１９】  前記基板上の区画領域内で前記少なくとも第１及び第２パターンの転写位置を異ならせることを特徴とする請求項１６又は１７に記載の走査露光方法。
【請求項２０】  前記基板は、前記第１パターン、又は前記第２パターンが前記複数の区画領域の全てに転写されるまで、前記区画領域の走査露光時に前記基板が移動される第１方向、及びこれと直交する第２方向の両方でその速度成分が零とならないように移動されることを特徴とする請求項１６〜１９のいずれか一項に記載の走査露光方法。
【請求項２１】  前記第１及び第２方向のうち、少なくとも第２方向については、前記第２方向と異なる方向の第１測長ビ一ムを用いて前記基板の位置制御を行うことを特徴とする請求項２０に記載の走査露光方法。
【請求項２２】  前記第１方向とほぼ平行な第２測長ビームを用いて、前記第１方向における前記基板の位置制御を行うことを特徴とする請求項２１に記載の走査露光方法。
【請求項２３】  前記第１及び第２方向と交差し、かつ前記第１測長ビームと異なる方向の第３測長ビームを用いて、前記基板の位置制御を行うことを特徴とする請求項２１又は２２に記載の走査露光方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、第１の観点からすると、マスク（Ｒ）を保持するマスクステージ（ＲＳＴ）と基板（Ｗ）を保持する基板ステージ（ＷＳＴ）とを同期して所定の第１方向に相対移動させつつ、前記マスクに形成されたパターンを前記基板に転写する走査露光方法であって、前記マスクステージに前記第１方向に沿って延設された第１反射面（８４ａ）に測長ビーム（ＩＸ１）を照射しその反射光を受光して前記マスクステージの第２方向の位置を管理するとともに、前記マスクステージに設けられた第１のコーナーキューブ（３１Ｙ１）に測長ビーム（ＩＹ）を照射しその反射光を受光して前記マスクステージの第１方向の位置を管理しつつ、前記マスク上の第１領域（Ｐ１）のパターンを前記基板上の所定領域に転写する第１走査露光工程と；前記第１反射面に測長ビームを照射しその反射光を受光して前記マスクステージの第２方向の位置を管理するとともに、前記マスクステージに設けられた前記第１のコーナーキューブとは異なる第２のコーナーキューブ（３１Ｙ２）に測長ビーム（ＩＹ）を照射しその反射光を受光して前記マスクステージの第１方向の位置を管理しつつ、前記マスク上の前記第１領域の第２方向に隣接された第２領域（Ｐ２）のパターンを前記基板上の前記所定領域に転写する第２走査露光工程とを含む第１の走査露光方法である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
本発明は、第２の観点からすると、マスク（Ｒ）を第１方向に往復移動して、前記マスク上の前記第１方向と直交する第２方向に沿って並ぶ第１及び第２領域（Ｐ１及びＰ２）をそれぞれ照明光で照射するとともに、前記マスクの移動に同期して基板（Ｗ）を移動することにより、前記マスクのパターンを前記基板上に転写する走査露光方法において、前記マスク上の第１領域（Ｐ１）を前記照明光で照射するために、前記マスクを保持するマスクステージ（ＲＳＴ）に設けられる第１ミラー（３１Ｙ１）に測長ビームを照射する干渉計（３０Ｙ）の出力に基づいて前記マスクステージを前記第１方向に駆動し、前記マスク上の第２領域（Ｐ２）を前記照明光で照射するために、前記マスクステージに設けられる第１ミラーと異なる第２ミラー（３１Ｙ２）に前記干渉計の測長ビームを照射しながら前記マスクステージを前記第１方向に駆動することを特徴とする第２の走査露光方法である。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
この場合において、前記マスク（Ｒ）上の第１領域（Ｐ１）が転写される前記基板（Ｗ）上の区画領域（例えばＳ１）に、前記マスク上の第２領域（Ｐ２）を重ね合わせて転写して、前記第１領域内の第１パターンと前記第２領域内の第２パターンとの合成パターンを前記区画領域に形成するようにしても良い。かかる場合には、マスク交換をすることなく、二重露光を実現することができ、スループットの向上、焦点深度の向上による露光精度の向上が可能になる。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
また、本発明の第２の走査露光方法において、前記基板（Ｗ）上の複数の区画領域（Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、…）に前記マスク（Ｒ）のパターンを順次転写するために、前記マスク上の第１領域（Ｐ１）を前記複数の区画領域に順次転写し、かつ前記マスクを前記第２方向に移動した後で、前記マスク上の第２領域（Ｐ２）を前記複数の区画領域に順次転写するようにしても良い。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
この場合において、前記マスク（Ｒ）上の第２領域（Ｐ２）を前記複数の区画領域（Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、…）に転写する前に、前記照明光の強度分布、即ち照明光を射出する照明源（例えば２次光源）の形状と大きさの少なくとも一方を変更しても良い。かかる場合には、マスク上の第１領域のパターンと第２領域のパターンの露光に適した照明条件が異なる場合にも、それぞれのパターンに合わせて適切な照明条件を設定することができるので、一層露光精度が向上する。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
本発明の第２の走査露光方法では、前記マスク（Ｒ）上の第１領域（Ｐ１）を前記照明光で照射した後の前記マスクステージ（ＲＳＴ）の減速中（又はマスクステージの第１方向の速度成分が零となる前）に、前記マスクステージを前記第１方向に対して斜めに移動しても良い。このようにすると、第１領域内のパターンの転写に続いて第２領域内のパターンを基板上に転写するに際して、マスクステージがコの字状の経路でなく、これより短い経路に沿って移動されるので、移動時間の短縮によりスループットの向上が可能となる。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
本発明の第２の走査露光方法では、前記マスク（Ｒ）上の第２領域（Ｐ２）を前記照明光で照射する前に、前記マスク上の第２領域が前記照明光に近づくように、前記マスクステージ（ＲＳＴ）を前記第１及び第２方向と交差する方向に加速させても良い。又は、マスクステージの第２方向へのステッピング動作が終了する前、あるいはマスク上の第１領域（Ｐ１）を照明光で照射した後のマスクステージの第２方向の速度成分が零となる前に、マスクステージの第１方向への加速を開始するようにしても良い。なお、スループットの点からマスクステージの移動軌跡が放物線状（又はＵ字状）となるようにその移動を制御することが好ましい。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
本発明の第２の走査露光方法では、前記マスク（Ｒ）上の第１領域（Ｐ１）への前記照明光の照射と、前記マスク上の第２領域（Ｐ２）への前記照明光の照射との間で、前記マスクステージ（ＲＳＴ）を停止させることなく駆動することが望ましい。かかる場合には、マスクステージが停止することがないので、マスクステージの移動に要する時間はほぼ最短になる。
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
本発明の第２の走査露光方法では、前記マスク（Ｒ）上の第１領域（Ｐ１）を前記基板（Ｗ）上の第１区画領域に転写する第１走査露光と、前記マスク上の第２領域（Ｐ２）を前記基板上の前記第１区画領域と隣接する第２区画領域に転写する第２走査露光との間で、前記基板を保持する基板ステージ（ＷＳＴ）を停止させることなく駆動することが望ましい。かかる場合には、基板ステージの移動軌跡は必ずしも最短（例えばＶ字状）とはならないが、基板ステージが停止することがないので、基板ステージの隣接領域間の移動（ステッピング）に要する時間がほぼ最短になるからである。特に、スティッチングにおいて、マスクステージが停止することなく、かつ基板ステージが停止することなく駆動される場合には、第１走査露光の終了から第２走査露光の開始までの間の時間が最短となる。
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
この場合において、前記第２走査露光前に、前記基板ステージ（ＷＳＴ）を前記第１及び第２方向と交差する方向に加速させることが望ましい。かかる場合には、第１及び第２方向に対し斜めに進みながら基板ステージが加速される。
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
本発明の第２の走査露光方法では、前記マスクは、前記第２方向に沿って配列される第１及び第２マスクを含み、前記第１マスクは前記第１領域内の第１パターンが形成され、前記第２マスクは前記第２領域内の第２パターンが形成されていても良い。すなわち、マスクステージ上には、複数のマスクが載置されていても良い。複数のマスクであってもそれぞれのマスクのパターンを順次基板上に転写する場合には、前述した各発明の作用をそのまま奏するからである。
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
本発明は、第３の観点からすると、マスク（Ｒ）を第１方向に往復移動して、前記マスク上の前記第１方向と直交する第２方向に沿って並ぶ第１及び第２領域（Ｐ１及びＰ２）をそれぞれ照明光で照射するとともに、前記マスクの移動に同期して基板（Ｗ）を移動することにより、前記マスクのパターンを前記基板上に転写する走査露光方法において、前記マスク上の第１領域への前記照明光の照射と、前記マスク上の第２領域への前記照明光の照射との間で、前記マスクを停止させることなく移動することを特徴とする第３の走査露光方法である。これによれば、マスクの移動軌跡は、必ずしも最短にはならないが、マスクが停止することがないので、マスク上の第１領域のパターンの転写終了から第２領域のパターンの転写開始までのマスクの移動時間がほぼ最短になる。
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
本発明は、第４の観点からすると、基板（Ｗ）上に回路パターンを転写する走査露光方法であって、前記回路パターンの第１及び第２分解パターンを有するマスクを第１方向に移動して、前記第１分解パターンを照明光で照射するとともに、前記マスクの移動に同期して前記基板を移動し、前記基板上の区画領域（例えばＳ１）に前記第１分解パターンを転写する第１工程と；前記第１方向に沿って前記マスクを前記第１工程とは逆向きに移動して、前記第２分解パターンを前記照明光で照射するとともに、前記マスクの移動に同期して前記基板を移動し、前記区画領域に前記第２分解パターンを転写する第２工程とを含む第４の走査露光方法である。これによれば、マスクの１往復の間に、基板を１往復させるだけで、マスク上の第１分解パターンと第２分解パターンが基板上の同一の区画領域に重ね合わせて転写される二重露光を実現することができ、結果的に第１分解パターンと第２分解パターンとから成る回路パターンが精度良く転写されることになる。
【手続補正３１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
この場合において、前記第１工程と前記第２工程の間で、前記マスクは、前記第１方向、及びそれと直交する第２方向の速度成分の少なくとも一方が零とならないように移動されることが望ましい。
【手続補正３２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
本発明は、第５の観点からすると、少なくとも第１及び第２パターン（Ｐ１及びＰ２）が形成されたマスク（Ｒ）と基板（Ｗ）とを同期移動して、前記基板上の複数の区画領域のそれぞれに、前記各区画領域内での転写位置の異なる前記少なくとも第１及び第２パターンを合成したパターンを形成する走査露光方法であって、前記複数の区画領域の一部に前記第１パターンをステップ・アンド・スキャン方式でそれぞれ転写し、前記第１パターンの転写後に前記マスクを同期移動方向である第１方向と直交する第２方向に移動し、前記複数の区画領域の残りの一部に前記第２パターンをステップ・アンド・スキャン方式で転写することを特徴とする第５の走査露光方法である。
【手続補正３３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
本発明は、第６の観点からすると、基板（Ｗ）上の複数の区画領域に少なくとも第１及び第２パターン（Ｐ１及びＰ２）をそれぞれステップ・アンド・スキャン方式で転写する走査露光方法であって、前記第１パターンの転写時と前記第２パターンの転写時とで、前記複数の区画領域の走査露光順序を異ならせることを特徴とする第６の走査露光方法である。
【手続補正３４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
例えば、前記第１パターン（Ｐ１）の転写時と前記第２パターン（Ｐ２）の転写時とで前記基板（Ｗ）の移動経路を逆にしても良い。かかる場合には、最後の区画領域に対する第１パターンの転写が終了した時点から、最初の区画領域に対する第２パターンの転写開始までの基板の移動距離が非常に短くなり、それに応じて第２パターンの転写をより早く開始することができるので、その分スループットの向上が可能になる。
【手続補正３５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
本発明の第６の走査露光方法では、前記基板（Ｗ）上の区画領域に前記少なくとも第１及び第２パターン（Ｐ１及びＰ２）を重ね合わせて転写しても良く、あるいは前記基板上の区画領域内で前記少なくとも第１及び第２パターンの転写位置を異ならせても良い。前者の場合には、マスクを交換することなく、高スループットで二重露光を実現することができ、後者の場合には、マスクを交換することなく、高スループットでいわゆるスティッチング露光を実現することができる。
【手続補正３６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
また、本発明の第６の走査露光方法では、前記基板（Ｗ）は、前記第１パターン（Ｐ１）、又は前記第２パターン（Ｐ２）が前記複数の区画領域の全てに転写されるまで、前記区画領域の走査露光時に前記基板が移動される第１方向、及びこれと直交する第２方向の両方でその速度成分が零とならないように移動されることが望ましい。かかる場合には、基板上の複数の区画領域の全てに第１パターン及び第２パターンの転写が終了するまで、基板が停止することなく移動されるので、スループットを最も向上させることが可能になる。
【手続補正３７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
この場合において、前記第１及び第２方向のうち、少なくとも第２方向については、前記第２方向と異なる方向の第１測長ビ一ム（ＲＩＸ１）を用いて前記基板の位置制御を行うことが望ましい。かかる場合には、少なくとも第２方向（非走査方向）については、これと異なる方向の第１測長ビームを用いて位置制御が行われる。すなわち、同期移動方向に対して斜めに交差する方向の第１測長ビームを用いて第２方向の位置制御が行われるので、前記第１測長ビームに直交する方向の反射面を備えたステージであれば如何なる形状のステージでも基板のステージとして採用することが可能であり、正方形又は長方形状等の矩形のステージを用いる必要がなく、ステージの形状の設計の自由度が向上し、結果的に基板のステージを小型化することが可能になる。
【手続補正３８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
本発明の第６の走査露光方法では、前記第１及び第２方向と交差し、かつ前記第１測長ビーム（ＲＩＸ１）と異なる方向の第３測長ビーム（ＲＩＸ２）を用いて、前記基板（Ｗ）の位置制御を行っても良い。この場合において、第３測長ビームは基板の第１方向の位置制御に用いても良いが、第１測長ビームとともに第３測長ビームを基板の第２方向の位置制御に用いても良い。かかる場合には、基板の走査方向の位置計測と独立して非走査方向の位置計測を行うことができるとともに、平均化効果により高精度な計測が可能となるので、位置制御のための演算が簡易化されるとともにより正確な基板の位置制御が可能となる。
【手続補正３９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２９９】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る走査露光方法によれば、微細パターンを用いた高精度な露光を高スループットで実現することができるという従来にない優れた効果がある。