【手続補正書】
【提出日】平成15年3月18日(2003.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
代替的な被覆Ｃにおいて、スパッタされた最初の３つの層は被覆Ｂのそれと同一である（すなわち、１２５Åの酸化亜鉛、１０５Åの銀および２５Åのチタニアである）。該チタニア上には、第２酸化亜鉛層が約２００Åの厚みまでスパッタされる。この第２酸化亜鉛層上には、窒化ケイ素層が約８０Åの厚みまで適用される。次に上記窒化ケイ素層上には第３酸化亜鉛層が約１０５Åの厚みまで析出される。最後に上記第３酸化亜鉛層上には窒化ケイ素の第２層が約６０Åの厚みまでスパッタされる。本発明に係る水分薄寸化被覆と組合せて反射層３０としてこの被覆を用いると、消費者および当業者の要求を満足する特に魅力的で有用な製品が生成される。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
被覆Ｄと表現される第３の代替的膜積層体は、ガラスの内側面上に約１９０Åの厚みまで直接的にスパッタされる酸化亜鉛層を備える。この酸化亜鉛層上には銀が約７５Åの厚みまで適用される。次に、チタニアの比較的に薄寸層が約２５Åの厚みまで適用される。このチタニア層上には酸化亜鉛の第２層が約７３５Åの厚みまで適用される。酸化亜鉛の該第２層上には銀の第２層が約１３５Åの厚みまで析出される。次に銀の第２層上にはチタニアの第２薄寸層が約２５Åの厚みまで適用される。次にチタニアの第２層上には酸化亜鉛の第３被覆が約２００Åの厚みまで適用される。最後に、酸化亜鉛の第３被覆上には窒化ケイ素の外側被覆が約８５Åの厚みまで適用される。本発明に係る水分薄寸化被覆に関して反射層３０としてこの被覆を採用すると、多くの消費者に対して高度に有用な独特の品質を有する傑出した製品が与えられる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
第６の代替的膜積層体において、スパッタされた最初の３つの層は直上で論じた膜積層体と同一である（すなわち、１６５Åの酸化亜鉛、１１０Åの銀および２５Åのチタニアである）。次に該チタニア層上には、酸化亜鉛の第２層が約４４５Åの厚みまで析出される。次に第２酸化亜鉛層上には窒化ケイ素が約８０Åの厚みまで適用される。次にこの窒化ケイ素層上には酸化亜鉛の第３層が約２２０Åの厚みまで適用される。次に第３酸化亜鉛層上には、銀の第２層が１２５Åの厚みまで析出される。この銀の第２層上には、チタニアの第２層が約２５Åの厚みまで適用される。次にチタニアの第２層上には第４酸化亜鉛層が約２８０Åの厚みまで析出される。最後に第４酸化亜鉛層上には、窒化ケイ素の外側被覆が約７０Åの厚みまで適用される。本発明に係る水分薄寸化被覆に関して反射層３０としてこの被覆が用いられた場合の成果は、多くの消費者の用途において特に有用で格別に魅力的な製品である。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
本発明の水分薄寸化被覆２０は望ましくは、ガラス１０の外側表面１２上に直接的に析出されたシリカから成る。図８乃至図１０に関して以下で論じられる如く、この被覆２０の外側面２２は実質的に非孔性であるが、不規則表面を有する。（これは概略的には、被覆２０の外側面２２上で不規則に離間され且つ不規則なサイズとされた一連の先鋭突起部として示される。）故にこの被覆２０に対して何らの特定の厚みを帰属させることは、本来的に幾分か不正確である。但し被覆２０は望ましくは約１５Å乃至約３５０Åのメジアン厚みを有し、約１５Å乃至約１５０Åの範囲が好適である。最小の負担における該被覆の主たる利点は、約２０Å乃至約１２０Åの範囲にて立証されると確信される。ガラス１０の外側表面１２に対してこの被覆２０が適用され得るひとつの好適な様式は、以下において更に詳細に論じられる。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
図示実施例においてガラス板１０は、これらのローラを水平に横切り、たとえば左から右へと進行すべく配向される。上記ガラスの内側表面１４は上方に配向される一方、該ガラスの外側表面１２は各ローラ２１０上に着座すべく下方に配向される。（これはおそらく最も典型的な構成であるが、上側ターゲット２２０ａ、２２０ｂおよび下側ターゲット２６０の相対位置も反転される限りにおいてスパッタリング・チャンバ２００内におけるガラスの相対配向が入れ換えられ得ることを理解すべきである。結果として、これらのターゲットを”上側”および”下側”ターゲットと称することは単に便宜目的であり、上記スパッタリング・チャンバ内におけるこれらの要素の相対配向は所望されるならば容易に反転され得ることを銘記されたい。）


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
マグネトロン・スパッタリング・チャンバ内でガラス基材の上方に位置された複数のターゲットを用いることは、この分野では非常に一般的である。但し図４におけるスパッタリング・チャンバ２００の独特の見地は、”下側”ターゲット２６０の存在である。このターゲットは、ガラスの外側表面１２上に本発明の水分薄寸化被覆２０を直接的にスパッタすべく用いられるターゲットである。上側ターゲット２２０ａおよび２２０ｂに依るのと同様に下側ターゲット２６０は、安定なプラズマを確立すべく十分に接近された少なくとも一個、好適には二個の陽極２７０を備える。上側ターゲット２２０ａおよび２２０ｂの近傍に示された気体分配管２３５は下側ターゲット２６０から不都合に離間され、且つ、ガラス１０の間欠的な存在によりスパッタリング・チャンバ２００は実効的に別体の２個の機能領域に分割される。故に下側ターゲット２６０の近傍にてガラスの下方に別体の気体分配管２７５を配備することで、上記ターゲットの近傍のプラズマに対する一貫した気体の供給を確実にすれば好適である。また所望されるならば、下側管２７５および上側管２３５は同一の気体分配システムの一部とされ、すなわち、これら両方の管は単一の気体供給源に接続され得る。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
ガラス基材が上記チャンバを通り移動するとき、ガラスが下側ターゲット２６０から上側ターゲット２２０ａおよび２２０ｂを、または後者から前者を、実効的に遮断しない時間がある。結果として、上側ターゲットからの物質は下側ターゲット上に析出され且つ下側ターゲットからの物質は上側ターゲットの一方もしくは両方上に析出され得る。図４のスパッタリング・チャンバ２００は、上側ターゲット２２０ａ、２２０ｂおよび下側ターゲット２６０が実質的に同一の組成を有せば理想的である。しかし上側ターゲットが下側ターゲットとは異なる組成を有すると、異なる各ターゲットの相互汚染により、スパッタリングにおいて又は一貫した製品品質を維持する上で問題となり得る。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
図５の多重区域スパッタリング・チャンバ３００における各ターゲットの配置は単に例示的であり、ターゲット配置は種々の製品に対する効率を最大化すべく変更され得ることを理解すべきである。たとえば、同一のガラス速度にて更に厚寸の水分薄寸化被覆が所望されるなら、上側ターゲット取付部３２１乃至３２６のいずれもがターゲットを担持せずに、下側ターゲット取付部３６１乃至３６６の各々にケイ素含有ターゲットが取付けられ得る。また、更に薄寸の被覆で十分なら（或いは、被覆チャンバを通るガラス速度が適切に低下されるなら）、最後の２つの下側ターゲット取付部３６５および３６６のみはターゲットを備え得る一方、最初の４個の上側ターゲット取付部３２１乃至３２４の各々はスパッタリング・ターゲットを担持する。勿論、被覆区域３００ａ乃至３００ｃの任意のひとつ以上が、同一区域の上下のターゲット取付部にターゲットを取付けることで図４の二重方向スパッタリング・チャンバ２００と略々同様に作動され得る。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
図８乃至図１０は、スズ側に本発明の水分薄寸化被覆が適用されたフロートガラス板の同様の表示である。図８は非常に図６と似た顕微鏡写真であり、同様に１μｍ２の表面を表している。図１０は非常に図７と似たグラフであるが、縦座標軸は図７の小寸の５ｎｍ範囲ではなく２０ｎｍの範囲を表している。図９は、上記水分薄寸化被覆の表面特徴を強調する斜視図である。主たる画像の左における小寸の垂直棒は、基部表面からの種々の高さに関連するグレースケールを表す記号説明である。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
【表４】
2004501852.tif 000001