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【手続補正書】
【提出日】平成15年8月27日(2003.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
a）皮膜形成ポリマーを含む水性成分と、b）熱可塑性ポリマー、熱可塑性樹脂、ホットメルト接着剤組成物およびそれらの混合物からなる群から選ばれる熱可塑性成分とを含んでなる、接着剤組成物であって、
上記熱可塑性成分は、約10〜約1,500μmの平均粒子寸法を有する粒状形態である接着剤組成物。
【請求項２】
さらに、粘着付与樹脂、可塑剤、界面活性剤、レオロジー改良剤、殺生物剤、制泡剤またはそれらの混合物を含んでなる請求項1に記載の接着剤組成物。
【請求項３】
さらに、デンプンを含んでなる請求項1または2に記載の接着剤組成物。
【請求項４】
上記組成物は、25℃で、約50〜約50,000 cPのブルックフィールド粘度を有する請求項1〜3のいずれかに記載の接着剤組成物。
【請求項５】
上記組成物の固形分は、少なくとも約40〜約80質量％である請求項1〜4のいずれかに記載の接着剤組成物。
【請求項６】
上記組成物は、少なくとも20％増加した180度剥離強度を示す請求項1〜5のいずれかに記載の接着剤組成物。
【請求項７】
前記熱可塑性成分は、約1〜約70質量％の量で存在する請求項1〜6のいずれかに記載の接着剤組成物。
【請求項８】
前記熱可塑性ポリマーは、エチレンのコポリマーまたはターポリマー、無定形ポリ-α-オレフィン、均質的直鎖または実質的直鎖のエチレン／α-オレフィンインターポリマー、ゴム系ブロックコポリマー、ポリアミド、ポリエステルまたはそれらの混合物を含んでなる請求項1〜7のいずれかに記載の接着剤組成物。
【請求項９】
前記熱可塑性成分は、さらに、粘着付与剤、可塑剤、ワックス、顔料、酸化防止剤またはそれらの混合物を含んでなる請求項1〜8のいずれかに記載の接着剤組成物。
【請求項１０】
前記熱可塑性成分は、熱可塑性ポリマー、粘着付与剤、可塑剤および／またはワックスを含むホットメルト接着剤組成物である請求項1〜9のいずれかに記載の接着剤組成物。
【請求項１１】
前記皮膜形成ポリマーは、酢酸ビニル-エチレンコポリマー、酢酸ビニル-アクリル系コポリマー、アクリル系ポリマー、酢酸ビニルホモポリマー、ポリウレタンまたはそれらの混合物を含んでなる請求項1〜10のいずれかに記載の接着剤組成物。
【請求項１２】
請求項1〜11のいずれかに記載の接着剤組成物を製造する方法であって、
a）熱可塑性成分を、所望の粒径に粉砕し、次いで
b）粒状形態の粉砕熱可塑性成分と、水性成分とを混合する
ことを含んでなる方法。
【請求項１３】
前記粉砕は、極低温粉砕である請求項12に記載の方法。
【請求項１４】
背を有するブックブロックを結合して、製本する方法であって、
a）請求項1〜11のいずれかに記載の接着剤組成物を、ブックブロックの背に適用し、
b）接着剤組成物を乾燥し、次いで
c）乾燥した接着剤組成物の表面に、第２ショットの接着剤を適用する
ことを含んでなる方法。
【請求項１５】
背を有するブックブロックを結合させて、製本する方法であって、
a）請求項1〜11のいずれかに記載の接着剤組成物を、ブックブロックの背に適用し、
b）接着剤組成物を、水性成分が乾燥し、熱可塑性成分が溶融するように、加熱する
ことを含んでなる方法。
【請求項１６】
さらに、上記熱可塑性成分によりブックカバーまたはキャッピングペーパーを上記ブックブロックに接着することを含む請求項15に記載の方法。
【請求項１７】
背を有するブックブロックを結合させて、製本する方法であって、
a）ブックブロックの背を縫って、縫われたブックブロックの背を形成し、
b）請求項1〜11のいずれかに記載の接着剤組成物を、縫われたブックブロックの背に適用し、
c）接着剤組成物を、水性成分が乾燥し、熱可塑性成分が溶融するように、加熱する
ことを含んでなる方法。
【請求項１８】
背を有するブックブロックを結合させて、製本する方法であって、
a）請求項1〜11のいずれかに記載の接着剤組成物を、ブックブロックの背に適用し、
b）接着剤組成物を、水性成分が乾燥し、熱可塑性成分が溶融するように、加熱し、
c）ブックブロックの背を縫って、縫われたブックブロックの背を形成する
ことを含んでなる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月28日(2003.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
メモリ又は硬質ディスク表面の平坦化又は研磨方法であって、前記表面の少なくとも一部を、（ｉ）過硫酸塩と過酸化物からなる群より選択される酸化剤、アミノ酸及び水を含有する研磨組成物、並びに（ｉｉ）研磨材で、研磨することを含む、メモリ又は硬質ディスク表面の平坦化又は研磨方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記メモリ又は硬質ディスク表面がニッケル−リンを有する、請求項１に記載の方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
前記酸化剤が組成物の０．０１〜１０wt％の濃度で存在している、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月17日(2004.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２７】      撥水性または撥油性層を付与する前に、撥水性または撥油性層の接着性を改善するために担体物質の表面にプライマー層を付与する、請求項２３に記載の仕上げ処理法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３１】      担体物質が繊維、織物および布よりなるグループからの合成または再生物質でありそして該担体物質の表面に表面変性によってポリマー固定された水酸基またはカルボニル基を生じさせる、請求項２７に記載の仕上げ処理法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３３】      担体物質が繊維、織物および布よりなるグループからの合成または再生物質でありそしてプライマー層を作り出すために反応性基含有ポリマーを担体物質に適用し、次いで架橋し、その際に担体物質の表面に間接的ニポリマー固定された水酸基、カルボニル基、アミノ基および／またはチオール基を生じさせる、請求項２７に記載の仕上げ処理法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
水                                    ９１４．５  ｇ／Ｌ
クエン酸                                      ５  ｇ／Ｌ
硫酸アルミニウム                          ０．５  ｇ／Ｌ
Ｐｈｏｂｏｔｅｘ  ＥＴＣ                    ６０  ｇ／Ｌ
グリセリン                                    ３  ｇ／Ｌ
Ｌｙｏｆｉｘ  ＣＨＮ                        １０  ｇ／Ｌ
トリパルチミン                                ４  ｇ／Ｌ
Ｃｅｒｉｄｕｓｔ  ９６１５Ａ                  ３  ｇ／Ｌ
撥水性化浴液を泡立て装置に通してテンターの被覆装置中に配量供給しそして織物の一方の面に塗布する。乾燥を上記のテンター上で約５０℃の冷却制限温度で行い、テンター上で次いで縮合／固定を実施する。これを１６０℃で２分間行う。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
表５：仕上げ処理の試験データ
−−−−−−−−−−−＋−−−−−−−−−＋−−−−−−−−−−−−−−
｜    最初          ｜        ３回洗濯後          
−−−−−−−−−−−＋−−−−−−−−−＋−−−−−−−−−−−−−−
噴霧試験            ｜    100%          ｜         100% 
撥水性評点          ｜1'/5、5'/5、10'/5 ｜  1'/4、5'/4、10'/4         
水吸収性            ｜      7 %         ｜          13 %
−−−−−−−−−−−＋−−−−−−−−−＋−−−−−−−−−−−−−−
実施例６：
１５０ｇの１平方メートル重量を有するポリアミド織物を浴液で含浸処理する。この浴液の内容物は固定の際に生じる成分の自己組織化のために柱状構造を形成する。Wollpol A 702(酸性架橋性アクリルプレポリマー、Reichhold 社）およびアクリルステアレートが、浴液中に微細乳化しているPhobotex FECを更に良好に固定するためのバインダー系の一部である。撥水性化用浴液をパッドによって織物に適用し、これをテンター上で乾燥しそして凝縮する。疎水性化浴液は以下の成分よりなる：
水                                            ８２５．５ｍＬ／Ｌ
イソプロパノール                                ５０    ｍＬ／Ｌ
Ｍｅｙｐｒｏ−Ｇｕａｒ  Ｃａｓａａ  Ｍ−２００    ２      ｇ／Ｌ
塩化マグネシウム六水和物                          ４      ｇ／Ｌ
Ｗｏｌｌｐｏｌ  Ａ  ７０２（50％)               ３０      ｇ／Ｌ
アクリルステアレート                            １０      ｇ／Ｌ
Ｐｈｏｂｏｔｅｘ  ＦＥＣ                        ７５      ｇ／Ｌ
アゾイソブチロニトリル                            ０．５  ｇ／Ｌ
乾燥温度は６０℃であり、縮合条件は１５０℃で２．５分の処理時間である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
アクリレートベースで製造された撥水性化仕上げ処理液は撥水性規準に関してＰｈｏｂｏｔｅｘ−仕上げ処理液と直接的に比較できるが、本質的に高い浴液安定性および実質的にホルムアルデヒドのない仕上げ処理であるという長所を有する。
−−−−−−−−−−−＋−−−−−−−−−＋−−−−−−−−−−−−−−
｜    最初          ｜        ３回洗濯後          
−−−−−−−−−−−＋−−−−−−−−−＋−−−−−−−−−−−−−−
噴霧試験            ｜    100 %         ｜         100 %
水吸収性            ｜      6 %         ｜          8  %
撥水性評点          ｜1'/5、5'/5、10'/5 ｜  1'/5、5'/4、10'/4         
−−−−−−−−−−−＋−−−−−−−−−＋−−−−−−−−−−−−−−
実施例８：
用途分野がスポーツウエアー商品分野であるポリエステル織物を、既に何度も上述した”ゲスト−ホスト”−原理に相応する撥水性化仕上げ処理する。”ホスト”−系はメタクリル酸、メタクリル酸ドデシルエステルおよび第三ブチル−アミノエチルメタクリレート（ＳＥＲＰＯＬ  ＱＭＯ  ２０４）よりなるモノマー混合物から乳化重合法で製造されるアクリルプレポリマーで形成する。ステアリル変性された架橋性のアクリルプレポリマーよりなる。アクリレート母体エマルジョンを製造するためにモノマー混合物に、モノマー重量を規準として１０％のステアリルトリグリセリドを混入する。アクリル母体エマルジョンの固形分含有量は３５％である。トリグリセリドを含有するアクリルプレポリマーは、所望の造膜性および層表面のところでのトリグリセリドの特有の動的配向との関連で５０〜９０℃の優れた溶融挙動を示す。撥水性化処理浴液を製造するためにアクリレート母体エマルジョンを他の部分的に前分散された化学薬品（例えば Aerosil R 812 S) と一緒に、準備された水中に撹拌混入する。
【手続補正書】
【提出日】平成14年5月27日(2002.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
銅と、銀及び錫の少なくとも一つからなり、約３０μｍ以下の平均粒子サイズを有する物理蒸着ターゲット。
【請求項２】
請求項１に記載の物理蒸着ターゲットであって、銀を含む物理蒸着ターゲット。
【請求項３】
請求項１に記載の物理蒸着ターゲットであって、銅と銀の合金からなり、該合金内に銀が１．０原子パーセント以下から０．００１原子パーセントで存在し、前記合金はほぼ均一な微細構造及び微細な粒子サイズを有する物理蒸着ターゲット。
【請求項４】
請求項２又は請求項３に記載の物理蒸着ターゲットであって、銀は、合金の微細構造において均一に分布した微細析出物として存在する物理蒸着ターゲット。
【請求項５】
請求項１に記載の物理蒸着ターゲットであって、錫を含む物理蒸着ターゲット。
【請求項６】
請求項５に記載の物理蒸着ターゲットにおいて、錫が１．０原子パーセント以下から０．００１原子パーセントで合金内に存在する物理蒸着ターゲット。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６の何れかに記載の物理蒸着ターゲットにおいて、平均粒子サイズが約２０μｍ以下である物理蒸着ターゲット。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７の何れかに記載の物理蒸着ターゲットにおいて、合金が、約１．７μΩ．ｃｍから約１．８２μΩ．ｃｍの抵抗率を有する物理蒸着ターゲット。
【請求項９】
銀及び錫からなる群から選択される少なくとも一つの元素を有し、約１．７μΩ．ｃｍから約１．８２μΩ．ｃｍの電気抵抗率を有する銅材料からなる物理蒸着ターゲット。
【請求項１０】
銅と銀の合金からなり、該合金内に銀が５０原子パーセントから７０原子パーセントで存在し、前記合金はほぼ均一な微細構造及び微細な粒子サイズを有する物理蒸着ターゲット。
【請求項１１】
銅と一つ又はそれ以上の他の元素の合金からなり、該一つ又はそれ以上の他の元素は、１．０原子パーセント以下から０．００１原子パーセントの総濃度で合金内に存在し、Ｓｒ，Ｂａ，Ｓｃ，Ｓｅ，Ｍｏ，Ｔｃ，Ｒｅ，Ｔｌからなる群から選択される物理蒸着ターゲット。
【請求項１２】
請求項１１に記載の物理蒸着ターゲットにおいて、一つ又はそれ以上の他の元素は、０．００５原子パーセントから０．１原子パーセントの総濃度で合金内に存在する物理蒸着ターゲット。
【請求項１３】
銅と一つ又はそれ以上の他の元素の合金からなり、該一つ又はそれ以上の他の元素は、１．０原子パーセント以下から０．００１原子パーセントの総濃度で合金内に存在し、Ａｇ，Ｓｎ，Ｂｅ，Ｃａ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ｂ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｃ，Ｓｅ，Ｔｅ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｃｏ，Ｒｈ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ａｕ，Ｐｂからなる群から選択され、前記合金はほぼ均一な微細構造及び微細な粒子サイズを有する物理蒸着ターゲット。
【請求項１４】
請求項１乃至請求項１３の何れかに記載の物理蒸着ターゲットであって、ＲＦスパッタリングコイルを有する物理蒸着ターゲット。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月26日(2004.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
自己ドーピング・コンタクトを作り出す１つの方法は、広く使用されているアルミニウム自己ドーピング正極に機能的に類似したシリコン太陽電池の自己ドーピング負極を生み出す材料と処理条件の組合せを使用する。実験結果によれば、ｎ型ドーパントとしてのアンチモンと主コンタクト金属としての銀の組合せは自己ドーピング負極の基本的要件を満たす。あるいは、ガリウムと銀を使用した類似の自己ドーピング正極も提案されている。この方法ではコンタクト材料を、銀−アンチモン、銀−ガリウムなどの銀とドーパントの合金としてシリコンに適用することが必要である。スクリーン印刷ペーストに取り込むための小さな（３ミクロン）銀粒子を作り出す現行の技術は、硝酸銀溶液からの銀粒子の沈殿を利用するものであって、合金の形態の銀とドーパントとから成る粒子を生み出す目的には適していない。他の方法では、加熱プロセスの間にドーパント原子を、遠隔源、一般にガスからプロセスに別個に導入する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
さらに、１４６Ａ Ａｇペーストを使用してパターンを印刷し合金化することができることを証明した。公称幅１００μｍのＡｇ線を用いて太陽電池グリッド・パターンを、幅１ｍｍ、長さ２５ｍｍの一連のバーを含む電流ＴＬＭ（current transfer length method）を利用した接触抵抗テスト・パターンとともに印刷し、合金化した。接触抵抗テスト・パターンは、６．８Ω・ｃｍのｎ型ウェブ（非拡散層）に印刷し、９５０℃のＭＰＴ
ＲＴＰ中で焼成した。これは、Ａｇ−Ｓｉ合金化の証拠（ウェブ・シリコン表面、表面の明らかな二相領域を反映した三角形）を示す均一な付着性コンタクト、および１４６Ａペーストに対する２．８ｍΩ・ｃｍ２の測定接触抵抗を与えた。Ａｇ金属を除去し、広がり抵抗技法を使用してＳｉ表面を調べることによって、Ａｇからのリンが金属の下のＳｉをドープしていることも判明した。測定広がり抵抗は、プローブがＡｇバー（６．８Ω・ｃｍ）の脇の領域からＡｇバーの下の領域に移ったときに１／１０００に低下した。これは、１４６Ａペーストによって供給された８×１０１８Ｐ／ｃｍ３の表面濃度を暗示する。同時に実施した型試験によってさらに、基板および金属の下の領域がともにｎ型であることが確認された。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月8日(2003.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
図５に徴して述べるに、従来技術によれば、アップライトピアノのピアノ作用は、ダンパーアセンブリ２００を包含する。グランドピアノにおけるように、緩衝部材１０１は、ピアノ弦１３０の振動を減衰させる。図示のように、緩衝部材１０１は、弦１３０に近接して位置するダンパーヘッド１０２（一般には、木製である）上に搭載される。ダンパーヘッド１０２は、剛質なダンパーワイヤー１０３により支持されており、ダンパーワイヤー１０３の下端部１０５は下部レバー１３６内に圧入装着されている。下部レバー１３６は、ピン１０６を介して回動できるようにフランジ１３７に結合されている。フランジ１３７は、主作用軌条１３６に取り付けられている。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
図１０乃至図１２は、ブロック３４２により行う連続調整以外に、ダンパートレイ３１１ａの不連続調整を行う本発明の態様を示すものである。先ず、図１０Ａ及び図１０Ｂに徴して説明するに、マウンティングブロック３４５は、三つのノッチ３２３を有し、その中の一つはピアノケース４０上の対応する突起を受容する。これとは別で、ブロック３４５は、それらノッチに対応するケース４０上の突起を含むことができる。ブロック３４５はスロット３３３ｂを有し、ケース４０に螺子３１５ｂにより取り付けられている。ブロック３４５の垂直位置調整は、螺子３１５ｂを緩め、ブロック３４５を、その三つのノッチ３２３の一つに位置する突起３２２を備える所望の新しい場所に移動し、その後螺子３１５ｂを締めることにより行う。図１０Ａには、三つの三角形状のノッチが示されているが、これに限定されず、ノッチの形状及び数は任意に変更できる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
図１１Ａ及び図１１Ｂに徴して説明するに、マウンティングブロック３４６は、螺子３１５ｃを受容するための三つの垂直方向の螺子穴３４７を有する。ピアノケース４０は、螺子３１５ｃを受容する単一の螺子空孔３４８を有する。ブロック３４６の垂直位置調整は、螺子３１５ｃをブロック３４６から外し、ブロック３４６を移動させてその新たな螺子穴３４７を螺子空孔３４８の位置に配置し、次いで螺子３１５ｃを該新たな螺子穴３４７に挿入して螺子空孔３４８に通入することにより行われる。これとは別に、図１２Ａ及び図１２Ｂに示すように、ピアノケース４０は複数のピボットブロック螺子空孔３４８を有し、軌条ブロック３４６は単一の螺子穴３４７を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月13日(2003.8.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学データ媒体であって、該光学データ媒体は有利には透明な、場合により反射層で既に被覆された基板を有し、該基板表面上に光で書き込み可能な情報層、場合により反射層及び場合により保護層又は他の基板又はカバー層が施与されており、これは青色光、有利にはレーザ光で書き込みかつ読み取り可能であり、その際、該情報層は吸光性化合物及び場合によりバインダーを含有する光学データ媒体において、該吸光性化合物が３４０〜４１０ｎｍの吸収極大λｍａｘ１を有し、かつ波長λｍａｘ１の吸収極大の長波長端における吸光度がλｍａｘ１での吸光度値の半分である波長λ１／２並びに波長λｍａｘ１の吸収極大の長波長端における吸光度がλｍａｘ１での吸光度値の十分の一である波長λ１／１０を有し、これらの波長の両者は共通して３７０〜４６０ｎｍの範囲であることを特徴とする光学データ媒体。
【請求項２】
１回書き込み可能な光学データ媒体の情報層において吸光性化合物を使用するにあたり、該吸光性化合物が３４０〜４１０ｎｍの吸収極大λｍａｘ１を有し、かつ波長λｍａｘ１の吸収極大の長波長端における吸光度がλｍａｘ１での吸光度値の半分である波長λ１／２並びに波長λｍａｘ１の吸収極大の長波長端における吸光度がλｍａｘ１での吸光度値の十分の一である波長λ１／１０を有し、すなわちλ１／２及びλ１／１０の両者は共通して３７０〜４６０ｎｍの範囲である使用。
【請求項３】
請求項１記載の光学データ媒体の製造方法において、有利には透明な、場合により反射層で既に被覆された基板を吸光性化合物で、場合により適当なバインダー及び添加剤及び場合により適当な溶剤と組み合わせて被覆し、かつ場合により反射層、他の中間層及び場合により保護層又は他の基板又はカバー層を設けることを特徴とする製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月26日(2003.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ガスバリヤー性および耐紫外線性を有する二軸延伸透明フィルムおよびその使用ならびにその製造方法


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結晶性熱可塑性樹脂を主成分とし、厚さが１０〜５００μｍの耐紫外線性二軸延伸透明フィルムであって、当該フィルムは熱可塑性樹脂に可溶な少なくとも１種の紫外線吸収剤を含有し、少なくとも１層のガスバリヤー層を有し、長手方向および横方向に延伸されていることを特徴とするフィルム。
【請求項２】
結晶性熱可塑性樹脂がポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート又はそれらの混合物、好ましくはポリエチレンテレフタレートである請求項１に記載のフィルム。
【請求項３】
紫外線吸収剤の含有量が、結晶性熱可塑性樹脂の重量を基準として０．０１〜５．０重量％、好ましくは０．１〜３重量％である請求項１又は２に記載のフィルム。
【請求項４】
紫外線吸収剤が、２−ヒドロキシベンゾフェノン類、２−ヒドロキシベンゾトリアゾール類、有機ニッケル化合物、サリチル酸エステル類、シンナムエステル誘導体、レゾルシノールモノベンゾエート類、オキシアニリド類、ヒドロキシ安息香酸エステル類、ヒンダードアミン類、トリアジン類、好ましくは２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−ヘキシロキシフェノール、２，２’−メチレンビス（６−（２Ｈベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，２，２−テトラメチルプロピル）フェノール）である請求項１〜３の何れかに記載のフィルム。
【請求項５】
ガスバリヤー層がＳｉＯｘ、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール又はポリ塩化ビニリデン、好ましくはｘ＝１．２〜１．９のＳｉＯｘ、エチレン含有量が１５〜６０モル％で加水分解率が９０モル％以上、好ましくは９６モル％以上、より好ましくは９９モル％以上のエチレン−ビニルアルコール共重合体から成る請求項１〜４の何れかに記載のフィルム。
【請求項６】
再生品が使用されている請求項１〜５の何れかに記載のフィルム。
【請求項７】
結晶性熱可塑性樹脂を主成分とし、厚さが１０〜５００μｍのガスバリヤー性および耐紫外線性を有する二軸延伸透明フィルムの製造方法であって、熱可塑性樹脂に紫外線吸収剤を混合し、押出成型によって溶融フィルムを得、引取ロールによってフィルムを引取り、固化させて非晶性プレフィルムを得、長手方向および横方向に延伸し、熱固定を行い、ガスバリヤー層を付与する工程から成ることを特徴とする製造方法。
【請求項８】
紫外線吸収剤が、ポリマー製造工程によって添加されるか又はフィルム製造工程における押出機内に添加され、好ましくはマスターバッチ法によって添加される請求項７に記載のフィルムの製造方法。
【請求項９】
マスターバッチが熱可塑性樹脂と紫外線吸収剤から成り、紫外線吸収剤の含有量がマスターバッチの重量を１００重量％として、２．０〜５０．０重量％、好ましくは５．０〜３０．０重量％である請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜６に記載のフィルムの屋内および／または屋外用品への使用。
【請求項１１】
屋内用品が、内装装飾品、建築用表示板、表示用必需品、ディスプレイ、プラカード、機械や自動車保護部材、照明部材、店における建具類や備品、宣伝必需品、積層部材、熱成型品および劣化しやすい物品用または宣伝目的のための物品用包装フィルムであり、屋外用品が、温室、宣伝用セクター、屋根、屋外用衣服、保護カバー、建築用セクター、宣伝用発光体である請求項１０に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月6日(2004.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  組織を受け取る穴及び部材を含んで成る顕微手術器具の動作方法であって、
真空発生源を用いて前記穴への前記組織の流れを誘導し、
種々のサイクル速度に及んで開き、そして閉じるサイクル様式で前記部材を作動させ、そして
前記穴への前記組織の前記流れを変化させるための前記サイクル速度で、前記部材の負荷サイクルを変化させる、
段階を含んで成る方法。
【請求項２】  前記作動段階が、開いた穴の位置から閉じた穴の位置まで前記部材を動かすための圧縮空気発生源、及び前記の閉じた穴の位置から前記の開いた穴の位置まで前記部材を動かすためのスプリング、を用いて、前記器具の縦軸に沿って、前記部材を往復させることを含んで成る、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記作動段階が、開いた穴の位置から閉じた穴の位置まで前記部材を動かすための第一圧縮空気発生源、及び前記の閉じた穴の位置から前記の開いた穴の位置まで動かすための第二圧縮空気発生源を用いて、前記器具の縦軸の周囲に前記部材を往復させることを含んで成る、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記作動段階が、バルブ、前記バルブを開き、そして閉じる電気シグナル、及びパルス型圧縮空気波形を作り出すために前記バルブと接続された圧縮空気発生源、を用いることを含んで成り、そして
前記変化段階が、所定のサイクル速度のために、前記パルス型圧縮空気波形の最大圧力が、前記部材に前記穴を閉めさせる前記圧縮空気波形の圧力と実質的に等しくなる様に、前記電気シグナルのパルス幅を変化させることを含んで成る、請求項１に記載の方法。
【請求項５】  前記変化段階が、サイクル速度を増大させながら前記パルス幅を減少させることを含んで成る、請求項４に記載の方法。
【請求項６】  前記変化段階が、サイクル速度を減少させながら前記パルス幅を増大させることを含んで成る、請求項４に記載の方法。
【請求項７】  前記顕微器具が硝子体切除プローブであり、前記部材が内側の切除部材であり、そして前記サイクル速度が切除速度である、請求項１に記載の方法。
【請求項８】  前記顕微手術器具が吸引プローブであり、そして前記部材がシーリング（ｓｅａｌｉｎｇ）部材である、請求項１に記載の方法。
【請求項９】  前記作動段階が、リニア電気モーターを用いて、前記プローブの縦軸に沿って前記部材を往復させることを含んで成る、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  前記作動段階が、ソレノイドを用いて、前記プローブの縦軸に沿って前記部材を往復させることを含んで成る、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】  前記穴の開いたサイズが前記サイクル速度で変化する、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】  前記動作段階が、前記器具と動作可能に接続された可変コントローラーで前記部材を制御することを含んで成る、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】  前記可変コントローラーが、通常垂直の動きの範囲を有する足踏みペダルを含んで成る、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  下向き方向に前記足踏みペダルを動かすことが、前記サイクル速度を減少させる、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  下向き方向に前記足踏みペダルを動かすことが、前記穴の開いたサイズを増大させる、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】  上向き方向に前記足踏みペダルを動かすことが、前記サイクル速度を増大させる、請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】  上向き方向に前記足踏みペダルを動かすことが、前記穴の開いたサイズを縮小させる、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】  組織を受け取るための穴及び部材を含んで成る顕微手術器具の動作方法であって、真空発生源で前記穴に前記組織の流れを誘導し、そして種々のサイクル速度に及んで前記穴を開き、そして閉じるサイクル様式で前記部材を作動することを含んで成り、前記穴の開いたサイズが前記サイクル速度で変化する方法。
【請求項１９】  前記顕微手術器具が硝子体切除プローブであり、前記部材が内側の切除部材であり、そして前記サイクル速度が切除速度である、請求項１８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月2日(2004.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  燃料としてのシリコーン；
金属および非金属過塩素酸塩からなる群から選択された酸化剤；および
アルカリ、アルカリ土類および遷移金属炭酸塩、重炭酸塩、シュウ酸塩ならびに水酸化物からなる群から選択された冷却剤
を含む、ガス発生剤組成物。
【請求項２】  さらに：
金属および非金属硝酸塩からなる群から選択された二次的酸化剤
を含む、請求項１に記載のガス発生剤組成物。
【請求項３】  酸化剤が、過塩素酸カリウム、過塩素酸アンモニウムおよび過塩素酸リチウムからなる群から選択される、請求項１に記載のガス発生剤組成物。
【請求項４】  組成物が：
シリコーン；
過塩素酸カリウム；および
炭酸ストロンチウム
を含む、請求項１に記載のガス発生剤組成物。
【請求項５】  組成物が：
シリコーン；
過塩素酸カリウム；および
シュウ酸ストロンチウム
を含む、請求項１に記載のガス発生剤組成物。
【請求項６】  組成物が：
シリコーン；
過塩素酸カリウム；および
シュウ酸カルシウム
を含む、請求項１に記載のガス発生剤組成物。
【請求項７】  組成物が：
シリコーン；
過塩素酸カリウム；および
炭酸カルシウム
を含む、請求項１に記載のガス発生剤組成物。
【請求項８】  組成物が：
シリコーン；
過塩素酸カリウム；および
水酸化マグネシウム
を含む、請求項１に記載のガス発生剤組成物。
【請求項９】  組成物が：
シリコーン；
過塩素酸カリウム；および
炭酸マグネシウム
を含む、請求項１に記載のガス発生剤組成物。
【請求項１０】  組成物が：
シリコーン；
過塩素酸リチウム；および
炭酸ストロンチウム、炭酸カルシウム、シュウ酸ストロンチウム、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウムおよび炭酸カリウムからなる群から選択された冷却剤
を含む、請求項１に記載のガス発生剤組成物。
【請求項１１】  １０〜２５％のシリコーン；
３０〜８５％の金属および非金属過塩素酸塩からなる群から選択された一次的酸化剤；および
１〜３０％のアルカリ、アルカリ土類および遷移金属炭酸塩、シュウ酸塩、重炭酸塩ならびに水酸化物からなる群から選択された冷却剤
を含み、該百分率は、ガス発生剤組成物の重量に対して示される、ガス発生剤組成物。
【請求項１２】  さらに：
ガス発生剤組成物の３０〜５０重量％の非金属、アルカリ金属、アルカリ土類金属および遷移金属塩素酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩および酸化物からなる群から選択された少なくとも１種の二次的酸化剤
を含む、請求項１１に記載のガス発生剤組成物。
【請求項１３】  少なくとも１種の二次的酸化剤が、相安定硝酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、硝酸ストロンチウムおよび硝酸カリウムからなる群から選択される、請求項１２に記載のガス発生剤組成物。
【請求項１４】  エアバッグを膨張させる方法であって：
シリコーン、金属および非金属過塩素酸塩からなる群から選択された酸化剤、ならびに金属炭酸塩、金属シュウ酸塩、金属重炭酸塩および金属水酸化物からなる群から選択された冷却剤を含むガス発生剤組成物を燃焼させる
段階を含む、前記方法。
【請求項１５】  シリコーンを１０〜２５％で提供し、酸化剤を３０〜８５％で提供し、冷却剤を１〜３０％で提供し、該百分率は、ガス発生剤組成物の重量に対して示される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】  １０〜２５％のシリコーン；
３０〜８５％の過塩素酸カリウム；および
１〜３０％のアルカリ金属、アルカリ土類金属および遷移金属炭酸塩、シュウ酸塩および水酸化物からなる群から選択された冷却剤
を含み、該百分率は、ガス発生剤組成物の重量に対して示される、ガス発生剤組成物。
【請求項１７】  冷却剤が、炭酸ストロンチウムである、請求項１６に記載のガス発生剤組成物。
【請求項１８】  １０〜２５％のシリコーン；
３０〜８５％の過塩素酸カリウム；および
１〜３０％の炭酸ストロンチウム
を含み、該百分率は、ガス発生剤組成物の重量に対して示される、ガス発生剤組成物。
【請求項１９】  ２０％のシリコーン；
６０％の過塩素酸カリウム；および
２０％の炭酸ストロンチウム
を含み、該百分率は、ガス発生剤組成物の重量により示す、請求項１８に記載のガス発生剤組成物。
【請求項２０】  請求項１〜１３および１７〜１９のいずれかに記載のガス発生剤組成物を備えた乗員身体拘束システム。
【請求項２１】  請求項１〜１３および１７〜１９のいずれかに記載のガス発生剤組成物を備えたインフレーター。
【請求項２２】  請求項１〜１３および１７〜１９のいずれかに記載のガス発生剤組成物を備えたガス発生器。
【請求項２３】  エアバッグおよび請求項１〜１３および１７〜１９のいずれかに記載のガス発生剤組成物を備えたガス発生器アセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月10日(2004.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  式Ｉ：
【化１】
2002526499.tif 000001
［式中、Ｒ１は、メチル又はヒドロキシメチルであり、
置換基Ｒ２ａ及びＲ２ｂの一方は、水素であり、他方は、ヒドロキシ、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、メトキシエトキシ又はメトキシプロポキシであり、置換基Ｒ３ａ及びＲ３ｂの一方は、水素であり、他方は、ヒドロキシ、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、メトキシエトキシ又はメトキシプロポキシであり、
ここで、一方で、Ｒ２ａ又はＲ２ｂは、また他方で、Ｒ３ａ又はＲ３ｂは、同時にヒドロキシではない］の化合物及びその塩。
【請求項２】  式Ｉ＊：
【化２】
2002526499.tif 000002
［式中、Ｒ１は、メチル又はヒドロキシメチルであり、
置換基Ｒ２ａ及びＲ２ｂの一方は、水素であり、他方は、ヒドロキシ、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、メトキシエトキシ又はメトキシプロポキシであり、置換基Ｒ３ａ及びＲ３ｂの一方は、水素であり、他方は、ヒドロキシ、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、メトキシエトキシ又はメトキシプロポキシであり、
ここで、一方で、Ｒ２ａ又はＲ２ｂは、また他方で、Ｒ３ａ又はＲ３ｂは、同時にヒドロキシではない］を特徴とする、請求項１に記載の化合物及びその塩。
【請求項３】  式中、Ｒ１は、メチルであり、置換基Ｒ２ａ及びＲ２ｂの一方は、水素であり、他方は、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、メトキシエトキシ又はメトキシプロポキシであり、置換基Ｒ３ａ及びＲ３ｂの一方は、水素であり、他方は、ヒドロキシである、請求項２に記載の式Ｉ＊の化合物及びその塩。
【請求項４】  式中、Ｒ１は、メチルであり、置換基Ｒ２ａ及びＲ２ｂの一方は、水素であり、他方は、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、メトキシエトキシ又はメトキシプロポキシであり、置換基Ｒ３ａ及びＲ３ｂの一方は、水素であり、他方は、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、メトキシエトキシ又はメトキシプロポキシである、請求項２に記載の式Ｉ＊の化合物及びその塩。
【請求項５】  式中、Ｒ３ｂは、水素である、請求項２、３又は４のいずれか１項に記載の式Ｉ＊の化合物。
【請求項６】  式中、Ｒ２ａ及びＲ３ｂは、水素である、請求項２、３又は４のいずれか１項に記載の式Ｉ＊の化合物。
【請求項７】  式Ｉ＊＊：
【化３】
2002526499.tif 000003
［式中、置換基Ｒａ及びＲｂの一方は、水素であり、他方は、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、メトキシエトキシ又はメトキシプロポキシである］を特徴とする、請求項１に記載の化合物及びその塩。
【請求項８】  式中、Ｒａは水素であり、Ｒｂは、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、メトキシエトキシ又はメトキシプロポキシである、請求項７に記載の式Ｉ＊＊の化合物及びその塩。
【請求項９】  一般式Ｉ＊
【化４】
2002526499.tif 000004
［式中、置換基Ｒ１、Ｒ２ａ、Ｒ３ａ及びＲ３ｂは以下の表
【表１】
2002526499.tif 000005
【表２】
2002526499.tif 000006
に示される意味を有する］の化合物及び該化合物の塩。
【請求項１０】  （７Ｒ，８Ｒ，９Ｒ）−２，３−ジメチル−８−ヒドロキシ−７−メトキシ−９−フェニル−７，８，９，１０−テトラヒドロ−イミダゾ［１，２−ｈ］−［１，７］ナフチリジン、
（７Ｓ，８Ｓ，９Ｓ）−２，３−ジメチル−８−ヒドロキシ−７−メトキシ−９−フェニル−７，８，９，１０−テトラヒドロ−イミダゾ［１，２−ｈ］−［１，７］ナフチリジン、
（７Ｓ，８Ｒ，９Ｒ）−２，３−ジメチル−８−ヒドロキシ−７−メトキシ−９−フェニル−７，８，９，１０−テトラヒドロ−イミダゾ［１，２−ｈ］−［１，７］ナフチリジン、
（７Ｒ，８Ｓ，９Ｓ）−２，３−ジメチル−８−ヒドロキシ−７−メトキシ−９−フェニル−７，８，９，１０−テトラヒドロ−イミダゾ［１，２−ｈ］−［１，７］ナフチリジン、
（７Ｒ，８Ｒ，９Ｒ）−２，３−ジメチル−７−エトキシ−８−ヒドロキシ−９−フェニル−７，８，９，１０−テトラヒドロ−イミダゾ［１，２−ｈ］−［１，７］ナフチリジン、
（７Ｓ，８Ｒ，９Ｒ）−２，３−ジメチル−７−エトキシ−８−ヒドロキシ−９−フェニル−７，８，９，１０−テトラヒドロ−イミダゾ［１，２−ｈ］−［１，７］ナフチリジン、
（７Ｒ，８Ｒ，９Ｒ）−２，３−ジメチル−８−ヒドロキシ−７−（２−メトキシエトキシ）−９−フェニル−７，８，９，１０−テトラヒドロ−イミダゾ［１，２−ｈ］［１，７］ナフチリジン、
（７Ｓ，８Ｓ，９Ｓ）−２，３−ジメチル−８−ヒドロキシ−７−（２−メトキシエトキシ）−９−フェニル−７，８，９，１０−テトラヒドロ−イミダゾ［１，２−ｈ］［１，７］ナフチリジン、
（７Ｓ，８Ｒ，９Ｒ）−２，３−ジメチル−８−ヒドロキシ−７−（２−メトキシエトキシ）−９−フェニル−７，８，９，１０−テトラヒドロ−イミダゾ［１，２−ｈ］［１，７］ナフチリジン、
（７Ｒ，８Ｓ，９Ｓ）−２，３−ジメチル−８−ヒドロキシ−７−（２−メトキシエトキシ）−９−フェニル−７，８，９，１０−テトラヒドロ−イミダゾ［１，２−ｈ］［１，７］ナフチリジン、
（７Ｓ，８Ｒ，９Ｒ）−２，３−ジメチル−８−ヒドロキシ−９−フェニル−７−（２−プロポキシ）−７，８，９，１０−テトラヒドロ−イミダゾ［１，２−ｈ］［１，７］ナフチリジン、及び
（７Ｒ，８Ｒ，９Ｒ）−２，３−ジメチル−７，８−ジメトキシ−９−フェニル−７，８，９，１０−テトラヒドロ−イミダゾ［１，２−ｈ］［１，７］−ナフチリジン
から成る群から選択された請求項１に記載の化合物またはその塩。
【請求項１１】  請求項１に記載の化合物及び／又は薬物学的に認容性のその塩を、慣用の製薬学的助剤及び／又は賦形剤と共に含有する医薬剤。
【請求項１２】  胃腸病の予防及び治療のための医薬剤の製造のための、請求項１に記載の化合物及び薬物学的に認容性のその塩の使用。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成17年3月29日(2005.3.29)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
図面の詳細な説明
適用外。
発明の詳細な説明
定義
単独、あるいは他の置換基の一部としての用語「アルキル」は、特に言及しない限り、指定の数(例えばＣ１−Ｃ１０は１〜１０個の炭素原子を意味する)の炭素原子を持つ、直鎖または分岐鎖の、あるいは環状炭化水素基、あるいはそれらの組合されたもので、完全に飽和、モノ不飽和またはポリ不飽和された、二価および多価の基を意味する。飽和炭化水素基の例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、シクロヘキシル、(シクロヘキシル)メチル、シクロプロピルメチル、例えば、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル等の同族体および異性体などが挙げられる。不飽和アルキル基としては、１個あるいはそれ以上の二重結合または三重結合を持つものである。不飽和アルキル基の例としては、ビニル、２−プロペニル、クロチル、２−イソペンテニル、２−(ブタジエニル)、２,４−ペンタジエニル、３−(１,４−ペンタジエニル)、エチニル、１−および３−プロピニル、３−ブチニル、およびその高級同族体および異性体が挙げられる。特に言及しない限り、用語「アルキル」は、以下に「シクロアルキル」および「アルキレン」としてさらに詳細に定義するアルキルの誘導体もまた意味する。単独、あるいは他の置換基の一部としての用語「アルキレン」は、アルカンから誘導される二価の基、例えば−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−を意味する。一般的には、アルキル基は１〜２４個の炭素原子を持ち、１０個あるいはそれ以下の炭素原子のものが本発明では望ましい。「低級アルキル」あるいは「低級アルキレン」は比較的短い鎖のアルキルあるいはアルキレン基を意味し、一般的には８あるいはそれ以下の炭素原子のものを意味する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
単独、あるいは他の用語と組み合わされて用いられる用語「ヘテロアルキル」は、特に言及しない限り、規定の数の炭素原子およびＯ、Ｎ、Ｓｉ、Ｓから選ばれる１〜３個のヘテロ原子で構成される安定な直鎖または分岐鎖、あるいは環状の炭化水素基、またはその組合されたものを意味し、完全に飽和、モノ不飽和またはポリ不飽和されてもので、２個あるいは多数のラジカルを含んでいてもよく、その窒素原子およびイオウ原子は酸化されていてもよく、窒素へテロ原子は４級化されていてもよい。該へテロ原子Ｏ、Ｎ、Ｓは、ヘテロアルキル基のどの内部位置にあってもよい。ヘテロ原子Ｓｉは、ヘテロアルキル基のいずれの位置にあってもよく、分子の残りにアルキル基が結合する位置であってもよい。例として、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ３、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＨ−ＣＨ３、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｎ(ＣＨ３)−ＣＨ３、−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨ３、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓ(Ｏ)−ＣＨ３、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓ(Ｏ)２−ＣＨ３、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−ＣＨ３、−Ｓｉ(ＣＨ３)３、−ＣＨ２−ＣＨ＝Ｎ−ＯＣＨ３、および−ＣＨ＝ＣＨ−Ｎ(ＣＨ３)−ＣＨ３が挙げられる。２個までのヘテロ原子が、例えば、−ＣＨ２−ＮＨ−ＯＣＨ３や−ＣＨ２−Ｏ−Ｓｉ(ＣＨ３)３のように連続していてもよい。用語「ヘテロアルキル」には「ヘテロアルキレン」および「ヘテロシクロアルキル」として以下に詳細に述べる基も含まれる。単独、あるいは他の置換基の一部としての用語「ヘテロアルキレン」は、例えば−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＨ−ＣＨ２−のような、ヘテロアルキルから誘導される二価の基を意味する。ヘテロアルキレン基では、ヘテロ原子がその鎖の一端あるいは両端に位置することが出来る。さらには、アルキレンおよびヘテロアルキレン連結基としては、ここに述べる他のすべての連結基と同様に、特に限定するものではない。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月9日(2003.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処置実行器具を用いて、処置を受けている体内部に、物質を注入するための装置であって、
先端、基端、および前記物質を受け入れるための内管を有するアプリケーションチューブと、
前記アプリケーションチューブの基端に配置され、管を有しているハウジング組立体であって、前記管が前記ハウジング組立体の基端から先端に延出しており、さらに、前記ハウジング組立体の管が、流路を規定するように、前記アプリケーションチューブの前記内管と連通している、ハウジング組立体と、
前記流路に配置され、前記流路を開放する第１の位置と、前記流路を閉ざす第２の位置とを含む部分を有する流れ制御部材とを備え、
前記アプリケーションチューブの内管は、前記処置実行器具の少なくとも一部を受け入れるようになっており、前記処置実行器具は、前記ハウジング組立体上の接触面で係合可能であるとともに、そこから取り外し可能であり、前記内管は、前記アプリケーションチューブの先端に位置する一つの開口で先端が終端することを特徴とする装置。
【請求項２】
前記ハウジング組立体から延出する物質供給チューブをさらに含み、
前記物質供給チューブは、基端と、先端と、この基端および先端との間で延出する管とを有しており、
前記物質供給チューブの前記管は、前記流路と連通しているとともに、物質供給手段と連通できるようになっている請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記流れ制御部材は、通常は閉じており、前記処理実行器具が前記流れ制御部材を通過することによって開放できるようになっている請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
前記流れ制御部材は、ダックビル型の一方向バルブである請求項１ないし３のいずれかに記載の装置。
【請求項５】
前記処置実行器具と係合可能な前記ハウジング組立体に接触面をさらに備える請求項１ないし４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】
前記ハウジング組立体の前記接触面は、前記処置実行器具の連結面と係合するようになっている係合部を有している請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記処置実行器具は、
組織を切り取るための先端側切断縁および内管を有する生検カニューレと、
前記内管内に摺動可能に設けられ、前記組織のサンプルを収容するための凹部を有する針部材と、
前記生検カニューレおよび前記針部材と連動し、前記生検カニューレと前記針部材との間の相対的な移動を可能にし、前記組織を切り取るための駆動手段と、
を備える請求項１ないし６のいずれかに記載の装置。
【請求項８】
生体から組織サンプルを採取するとともに、前記生体に少なくとも１種の物質を注入するための装置であって、
組織を切り取るための先端側切断縁と、内管とを有する生検カニューレと、
前記内管内に摺動可能に設けられ、前記組織を収容するための凹部を有する針部材と、
前記生検カニューレおよび前記針部材と連動し、前記生検カニューレと前記針部材との間の相対的な移動を可能にし、前記組織を切り取るための駆動手段と、
先端、基端、および内管を有し、前記生検カニューレの外方に配置され、前記先端が前記生検カニューレの先端側切断縁に対して後方にずれた位置にあるアプリケーションチューブと、
前記アプリケーションチューブの基端とシールした状態で係合し、前記生検カニューレおよび前記針部材が摺動しながら移動できるようになっている内管を有するハウジング組立体であって、該ハウジング組立体の前記内管が、流路を規定するように、前記アプリケーションチューブの前記内管と連通している、ハウジング組立体と、
前記流路に配置され、前記流路を開放する第１の位置と、前記流路を閉ざす第２の位置とを含む部分を有する流れ制御部材と、
を備えることを特徴とする装置。
【請求項９】
前記ハウジング組立体から延出する物質供給チューブをさらに含み、
前記物質供給チューブは、基端と、先端と、この基端および先端との間で延出する管とを有しており、
前記物質供給チューブの前記管は、前記流路と連通しているとともに、物質供給手段と連通できるようになっている請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記流れ制御部材は、通常は閉じており、前記生検カニューレおよび前記針部材が前記流れ制御部材を通過することによって開放できるようになっている請求項８または９に記載の装置。
【請求項１１】
前記流れ制御部材は、ダックビル型の一方向バルブである請求項８ないし１０のいずれかに記載の装置。
【請求項１２】
前記ハウジング組立体は、前記ハウジング組立体の基端と係合するとともに、前記駆動手段と係合可能な後方ハウジングを有しており、該後方ハウジングは、前記生検カニューレおよび前記針部材が摺動しながら移動可能な孔を有している請求項８ないし１１のいずれかに記載の装置。
【請求項１３】
前記後方ハウジングは、前記駆動手段と係合するようになっている係合部を有している請求項１２に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月19日(2003.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
容器から液体を重力供給するための分配蓋であって、
空洞を構成し、蓋を容器に着脱自在に装着すべく結合させる手段を有する本体と、
前記本体から延在する注ぎ口であって、ピンが設けられた外面と、端末の開口部と、流量を変化させるために設けられた調整分配弁と、を有する注ぎ口と、を備え、
前記調整分配弁は、
第１及び第２の両端部を有する筒状本体、前記第２の端部に連続し前記第１の端部から離れるにしたがって径が減じるテーパ部、および前記テーパ部に連続して形成され一定の径の首部を有するスリーブを含み、筒状部分に前記ピンが入る傾斜した溝が形成され、前記溝は各筒状部分の第２の端部から軸方向に離間された上端部を有する、第１の部品と、
前記開口部に接続され、前記開口部の両端部に開口部、第１および第２のシールが設けられ、前記第１のシールは前記溝の上端部と前記筒状部分の第２の端部との間の、前記第１の部品の筒状部分の内面のシールを構成し、前記第２のシールは前記首部の内面のシールを構成する、第２の部品と、
を有する分配蓋。
【請求項２】
前記第２の部品は、前記開口部に接続された径が一定の下部と、前記下部から離間するとともに互いに傾斜して延びる一組のアームと、前記アームに支持され前記下部から離れたディスク状端部とを含み、前記ディスク状端部は前記下部の軸を横切るように平面的に延在し、前記第１のシールは前記下部の周囲に設けられ、前記第２のシールは前記ディスク上端部の周囲に設けられている請求項１記載の蓋。
【請求項３】
前記空洞および大気間の流体連通を可能にする空気抜き通路と、前記空気抜き通路を選択的に開閉する空気抜き弁とをさらに備えた請求項２記載の蓋。
【請求項４】
前記空気抜き通路は、蓋の下面に通じる第１の開口部を有する請求項３記載の蓋。
【請求項５】
前記空気抜き通路は、前記空洞および前記空気抜き弁に通じる第２の開口部を有し、前記空気抜き弁は、第２の開口部を封止するために常時偏向され、手動操作アクチュエータに接続されたシールを含む請求項４記載の蓋。
【請求項６】
前記シールは、細長いピンを介して前記アクチュエータに接続され、前記アクチュエータは、前記空気抜き通路を介して前記蓋が装着された容器内に空気を流入できる偏向に抗して前記シールを開くように押し下げ可能なボタン状に形成されている請求項５記載の蓋。
【請求項７】
前記蓋に、蓋が容器に装着されたときに容器を運ぶことができ、当該容器を操作できるハンドルが設けられた請求項１〜６の何れかに記載の蓋。
【請求項８】
前記アクチュエータは、前記空気抜き弁がハンドルを把持している手によって作動できるようにハンドル内に配置されている請求項７記載の蓋。