【手続補正書】
【提出日】平成16年12月20日(2004.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の化学式の化合物であって：
【化１】
2004521105.tif 000001
ここで、RはR1-O-(CH2)m-であり、mは1-10の整数であり；R1は：
ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシ、ホルミル、C1-6アルキルカルボニル、ヒドロキシカルボニル、低級アルキルカルボニルオキシ、ベンジルオキシ、任意に置換されたピペリジノ、低級アルコキシカルボニル、及び低級アルキルカルボニルアミノから成る群から独立に選択された１乃至５つの置換基で任意に置換されたフェニル；
ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシ、ヒドロキシカルボニル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルカルボニルオキシ、及び低級アルキルカルボニルアミノから成る群から独立に選択された１乃至５つの置換基で任意に置換された縮合2-,3-又は4-環複素環式システム；
ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシ、ヒドロキシカルボニル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルカルボニルオキシ、及び低級アルキルカルボニルアミノから成る群から独立に選択された１乃至４つの置換基で任意に置換された1-又は2-ナフチル；
ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシ、ヒドロキシカルボニル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルカルボニルオキシ、及び低級アルキルカルボニルアミノから成る群から選択された１つ又は２つの置換基で環が任意に置換された１つ又は２つの窒素原子を含む５又は６員複素環式環；であり；
R2は、水素、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、RC(O)O （Rは前に定義された）、シアノ、ニトロ、アミノ、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシ、ヒドロキシカルボニル、ホルミル、低級アルコキシカルボニル、トリ低級アルキルシリル、低級アルキルカルボニルオキシ、低級アルキルカルボニルアミノ、低級アルキルカルボニルオキシメチル、置換されたビニル、1-ヒドロキシ-2-ニトロエチル、アルコキシカルボニルエチル、アミノカルボニル、モノ−又はジ−アルキルカルボニル、アルキルカルボニルオキシメチル、ベンゾイルメチル、ベンジルカルボニルオキシメチル、又はモノ−又はジ−低級アルコキシメチル；であり；
R3は、水素、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、RC(O)O （Rは前に規定されたもの）、シアノ、ニトロ、アミノ、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシ、ヒドロキシカルボニル、ホルミル、低級アルコキシカルボニル、CH2NR7R8 （ここでR7とR8は各々独立に、H-、1-6炭素原子のアルキル、任意に置換されたフェニル、ヒドロキシ低級アルキル、アミノ低級アルキル、又はモノ−又はジ−アルキルアミノ低級アルキルであるか、又はR7とR8は-N-と一緒にして環式アミノを表す）、CH2R9 （ここでR9は低級アルコキシ、CN、アミノ低級アルコキシ、モノ−又はジ−低級アルキルアミノ低級アルコキシ、低級アルキルチオ、アミノ低級アルキルチオ、又はモノ−又はジ−低級アルキルアミノ低級アルキルチオ、である）、又はNR10R11 （ここでR10とR11は各々独立に、水素、低級アルキル、フェニル、ヒドロキシ低級アルキル、アミノ低級アルキル、又はモノ−又はジ−低級アルキルであるか、又はR10とR11は-N-と一緒にして環式アミノを表す）、ジアルキルアミノアルキル、低級アルキルカルボニルオキシ、又は低級アルキルカルボニルアミノ；であり；
R4は、水素、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、RC(O)O （Rは前に規定されたもの）、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノ低級アルキル、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシ、ヒドロキシカルボニル、ホルミル、低級アルコキシカルボニル、カルバモイルオキシ、低級アルキルカルボニルオキシ、又は低級アルキルカルボニルアミノ、であるか、又はR4はR5と一緒になってメチレンジオキシ；であり；
R5は、水素、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、RC(O)O （Rは前に規定されたもの）、シアノ、ニトロ、アミノ、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシ、ヒドロキシカルボニル、ホルミル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルカルボニルオキシ、又は低級アルキルカルボニルアミノ、であり；かつ
R6は、水素、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、RC(O)O （Rは前に規定されたもの）、シアノ、ニトロ、アミノ、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシ、ヒドロキシカルボニル、ホルミル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルカルボニルオキシ、又は低級アルキルカルボニルアミノ、である化合物。
【請求項２】
m が1であり、R2からR6までの各々がHであり、R1が、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシ、ヒドロキシカルボニル、低級アルコキシカルボニル、及びベンゾイルオキシ、から成る群から独立に選択された１乃至３つの置換基で任意に置換されたフェニルであることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
R1が、低級アルキル、ハロ、ハロゲン化低級アルコキシ、及び低級アルコキシから独立に選択された１乃至３つの置換基で任意に置換されたフェニルであることを特徴とする請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
R1が、１乃至３つのハロ置換基で任意に置換されたフェニルであることを特徴とする請求項３に記載の化合物。
【請求項５】
R1が4-ハロフェニル、3-クロロフェニル、2-クロロフェニル、2,4-ジクロロフェニル、4-フルオロフェニル、4-ブロモフェニル、4-イオドフェニル、2,3-ジクロロフェニル、2,6-ジクロロ-4-フルオロフェニル、2-ブロモ-4-クロロフェニル、3-クロロ-4-フルオロフェニル、2,3-ジフルオロ-5-ブロモフェニル又は2-ブロモ-4-フルオロフェニルであることを特徴とする請求項４に記載の化合物。
【請求項６】
R1が3-ブロモメチルフェニルであることを特徴とする請求項３に記載の化合物。
【請求項７】
R1が3,5-ジメチル-4-クロロフェニル；2,5-ジブロモ-4-シアノフェニル；4-ベンジルオキシフェニル；4-トリフルオロメトキシフェニル；又は4-ヒドロキシカルボニルであることを特徴とする請求項２に記載の化合物。
【請求項８】
R1が１つ又は２つの低級アルキル置換基で置換されたフェニルであることを特徴とする請求項３に記載の化合物。
【請求項９】
R1が3,4-メチレンジオキシフェニルであることを特徴とする請求項２に記載の化合物。
【請求項１０】
m が1であり、R2からR6までの各々がHであり、次の化学式のR1が縮合された2-環の複素環式システムであることを特徴とする請求項１に記載の化合物：
【化２】
2004521105.tif 000002
【請求項１１】
m が1であり、R2からR6までの各々がHであり、R1がハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシ、ヒドロキシカルボニル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルカルボニルオキシ及び低級アルキルカルボニルアミノから成る群から独立に選択される１乃至４つの置換基で任意に置換された1-又は2-ナフチルであることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【請求項１２】
m が1であり、R2からR6までの各々がHであり、R1が
【化３】
2004521105.tif 000003
であることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【請求項１３】
m が1であり、R2からR6までの各々がHであり、R1が4-ホルミルであることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【請求項１４】
m が1であり、R2からR6までの各々がHであり、R1が4-ニトロフェニル、2-ニトロフェニル、又は3-トリフルオロメチル-4-ニトロフェニルであることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【請求項１５】
R4とR5が一緒になってメチレンジオキシであり；R2及びR6が水素であり；R3が、ニトロ、アミノ、メチル、クロロ、シアノ、アセトキシ、又はアセチルアミノであることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【請求項１６】
R5が水素であり；R3が水素であり；R2が(3-クロロ-n-プロピル)ジメチルシリル、tert-ブチルジメチルシリル、アセトキシメチル、シアノ、ホルミルエテニル、エトキシカルボニル-エテニル、シアノエテニル、2,2-ジシアノエテニル(2-シアノ-2-エトキシカルボニル)エテニル、エトイカーボン・エチル、メチル、エチル、又はn-プロピルであり；R4がヒドロキシ、アセトキシ、アミノ、ニトロ、シアノ、クロロ、ブロモ、フルオロ、低級アルキル、高級アルキル、低級アルコキシ、カルバモイルオキシ、又はホルミルであることを特徴とする請求項１５に記載の化合物。
【請求項１７】
R2がエチルであり、R4がカルバモイルオキシであることを特徴とする請求項１６に記載の化合物。
【請求項１８】
カルバモイルオキシが1-ピラジニルカルボニルオキシ、4-(-i-プロピルアミノカルボニルメチル)-1-ピラジニル-カルボニルオキシ、又は[4-(1-ピペリジノ)-1-ピペリジノ] カルボニルオキシであることを特徴とする請求項１７に記載の化合物。
【請求項１９】
R2、R5及びR6が水素であり、mが1であることを特徴とする請求項１記載の化合物。
【請求項２０】
R4がOH、低級アルコキシ又は低級アルキルカルボニルオキシであり、R3がジ-低級アルキルアミノメチルであることを特徴とする請求項１９記載の化合物。
【請求項２１】
R3がジメチルアミノメチル、R4がOH、R1がハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシ、ヒドロキシカルボニル、低級アルコキシカルボニル及びベンジルオキシから成る群から独立に選択された1乃至3つの置換基で任意に置換されたフェニルであることを特徴とする請求項２０記載の化合物。
【請求項２２】
R1が4-ハロフェニルであることを特徴とする請求項２１記載の化合物。
【請求項２３】
R1が4-フルオロフェニルであることを特徴とする請求項２２記載の化合物。
【請求項２４】
R3、R5及びR6が水素であり、R2が低級アルキルであり、R4がヒドロキシ、低級アルコキシ、ハロゲン化低級アルコキシ、ヒドロキシカルボニル、ホルミル、低級アルコキシカルボニル、カルバモイルオキシ又は低級アルキルカルボニルオキシであることを特徴とする請求項１記載の化合物。
【請求項２５】
R2がエチル；R4が4-(ピペリジノ)-1-ピペリジノカルボニルオキシ、R1がハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシ、ヒドロキシカルボニル、低級アルコキシカルボニル及びベンジルオキシから成る群から独立に選択された1乃至3つの置換基で任意に置換されたフェニルであることを特徴とする請求項２４記載の化合物。
【請求項２６】
R1が4-ハロフェニルであることを特徴とする請求項２５記載の化合物。
【請求項２７】
R1が4-フルオロフェニルであることを特徴とする請求項２６記載の化合物。
【請求項２８】
R2、R3、R5及びR6の各々が水素であり、mが1であり、R4が-OC(O)アルキル1-20であることを特徴とする請求項１記載の化合物。
【請求項２９】
mが1であることを特徴とする請求項１記載の化合物。
【請求項３０】
mが1であり、R2、R3、R5及びR6の各々が水素であり、R4がR1-OCH2C(O)-であることを特徴とする請求項７記載の化合物。
【請求項３１】
R2、R4、R5及びR6の各々が水素であり、R3がアミノ又はニトロであることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項３２】
R3、R5及びR6の各々が水素であり、R2がトリ低級アルキルシリルであり、R4がヒドロキシ、低級アルコキシ、ハロゲン化低級アルコキシ、ヒドロキシカルボニル、ホルミル、低級アルコキシカルボニル、カルバモイルオキシ又は低級アルキルカルボニルオキシであることを特徴とする請求項１記載の化合物。
【請求項３３】
温血動物におけるがんを治療するのに有用な製薬組成物であって、請求項１に規定されるような化合物を製薬的に受容される賦形剤と組み合わせて含む製薬組成物。
【請求項３４】
経口投与、IV投与、又はIM投与に適した請求項３３に記載の製薬組成物。
【請求項３５】
温血動物におけるがんを治療するのに有用な製薬組成物を調製する方法であって、請求項１に規定されるような化合物を製薬的に受容される賦形剤と組み合わせて治療的に効果的な量の該化合物を有する組成物を形成するステップを含む方法。
【請求項３６】
該組成物が経口投与、IV投与され、又は非経口投与されるものであることを特徴とする請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】
請求項１の化合物を調製するプロセスであって：
（a）化学式R-C(O)Xの化合物、ここでRはR1-O-(CH2)mであり、R1とmは請求項１で規定されたものであり、Xはヒドロキシ、塩素、又はR-C(O)-O（ここでRは前に規定されたものである）である、を；
（b）次の化学式の化合物、
【化４】
2004521105.tif 000004
ここでR3、R4、R5、及びR6は請求項１に規定されたものである；と反応させるステップを含むプロセス。
【請求項３８】
該反応が結合剤1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド塩酸塩と触媒剤4-(ジメチルアミノ)ピリジンの存在下で行われることを特徴とする請求項３７に記載のプロセス。