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【手続補正書】
【提出日】平成15年8月18日(2003.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燐光材料をエネルギー源にさらして該燐光材料を燐光発光させるステップと、
燐光発光している前記燐光材料をエネルギー源にさらして該燐光材料が燐光発光するのを止めるステップと、
を含む、燐光材料の発光制御方法。
【請求項２】
燐光発光している前記燐光材料をエネルギー源にさらして該燐光材料が燐光発光するのを止めるステップは、該燐光材料をコヒーレント光源にさらすことを含む、請求項１に記載の燐光材料の発光制御方法。
【請求項３】
燐光発光している前記燐光材料をエネルギー源にさらして該燐光材料が燐光発光するのを止めるステップは、該燐光材料を燐光発光させるために使用されるエネルギー源のエネルギーよりも少ないエネルギーを生成するエネルギー源に該燐光材料をさらすことを含む、請求項１に記載の燐光材料の発光制御方法。
【請求項４】
透明層の一方の側で燐光発光している燐光材料をコヒーレント光源にさらして該燐光材料が燐光発光するのを止めさせ、見る人が該透明層を通して該燐光材料を見ることができるようにすることを含む、請求項１に記載の燐光材料の発光制御方法。
【請求項５】
燐光発光している面上にレーザ光線を走らせて該面が燐光発光するのを止めることを含む、請求項１に記載の燐光材料の発光制御方法。
【請求項６】
燐光発光している硫化亜鉛層を赤色レーザ光に当ててその燐光を消すことを含む、請求項１に記載の燐光材料の発光制御方法。
【請求項７】
燐光材料を含む表示体であって、その上に形成された燐光材料の層を含む透明シートであるプレートを含む表示体と、
前記表示体上の選ばれた場所で燐光を選択的に消すためのデバイスと、
を具備した、ディスプレイ。
【請求項８】
前記プレートを支持するのに適合した筐体を具備し、
前記被覆層は、前記筐体の内側に位置付けられかつ前記デバイスに対して露出するように配置されている、請求項７に記載のディスプレイ。
【請求項９】
前記デバイスはレーザを含む、ことを特徴とする請求項７に記載のディスプレイ。
【請求項１０】
前記デバイスは、前記燐光材料を燐光発光させるには不十分であるが該燐光材料の燐光を消すには十分なエネルギーを生成する、ことを特徴とする請求項７に記載のディスプレイ。
【請求項１１】
前記デバイスは、前記表示体上の選ばれた領域で燐光を選択的に消すコヒーレントなエネルギーを生成する、請求項１０に記載のディスプレイ。
【請求項１２】
前記デバイスは、レーザと、該レーザを駆動して前記燐光材料を含む前記表示体の領域を選択的に照射するためのデバイスとを含む、請求項１１に記載のディスプレイ。
【請求項１３】
前記燐光材料は硫化亜鉛である、請求項７に記載のディスプレイ。
【請求項１４】
前記デバイスは赤色光を生成するレーザを含む、請求項１３に記載のディスプレイ。
【請求項１５】
その中に形成された描画面を含む筐体と、
前記描画面上に形成された燐光材料と、
前記筐体内に取り付けられており、前記燐光材料に向けて選択的に照射するように配置されたレーザと、
を具備した玩具。
【請求項１６】
前記燐光材料上のパタンを前記レーザによって生成されたレーザ光線に当てるための駆動装置を具備した、請求項１５に記載の玩具。
【請求項１７】
前記描画面は、その上に層として形成された燐光材料を有する透明シートを含む、請求項１５に記載の玩具。
【請求項１８】
前記燐光材料は硫化亜鉛であり、かつ前記レーザは赤色レーザである、請求項１５に記載の玩具。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月9日(2005.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路製造のための光学リソグラフィプロセスの間のラインエンド収縮を低減する方法であって、該方法は、
該集積回路の仕様を受け取る工程であって、該仕様は、ゲートを含むトランジスタを定義する、工程と、
該仕様内のゲートを識別する工程であって、該ゲートは、該光学リソグラフィプロセスの間に、ラインエンド収縮を引き起こしがちなエンドキャップを含む、工程と、
関連するアクティブな領域を越えて該ゲートを形成するために利用される移相器を拡張し、その結果、該移相器は、該エンドキャップの少なくとも一部分を定義し、それによって、光学効果が原因となる該エンドキャップのラインエンド収縮を低減する、工程と
を含む方法。
【請求項２】
前記移相器の拡張が、前記エンドキャップを越える該移相器の拡張を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記移相器の拡張が、前記エンドキャップの少なくとも一部分をカバーするが、該エンドキャップを越えて拡張しないような該移相器の拡張を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記移相器と前記集積回路内の他の構造との間に、最小の距離を定める設計規則を、自動的にチェックする工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記エンドキャップの続いて起こる光学近似補正（ＯＰＣ）を妨げるために、該エンドキャップをマークする工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記集積回路の前記仕様に、光学近似補正（ＯＰＣ）を適用する工程であって、該ＯＰＣは、マークされたエンドキャップに適用されない、工程をさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記エンドキャップが、光学近似補正（ＯＰＣ）に対する改変を含む場合に、該改変を除去する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記エンドキャップが、真直ぐでない場合に、該エンドキャップを真直ぐなエンドキャップに置き換える工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
集積回路製造のための光学リソグラフィプロセスの間のラインエンド収縮を低減する方法であって、該方法は、
該集積回路の仕様を受け取る工程であって、該仕様は、ゲートを含むトランジスタを定義する、工程と、
該仕様内のゲートを識別する工程であって、該ゲートは、該光学リソグラフィプロセスの間に、ラインエンド収縮を引き起こしがちなエンドキャップを含む、工程と、
該ゲートを形成する拡張された移相器を利用する工程であって、該拡張された移相器は、該エンドキャップの少なくとも一部分を定義し、それによって、光学効果が原因となる該エンドキャップのラインエンド収縮を低減する工程と
を含む方法。
【請求項１０】
集積回路製造のための光学リソグラフィプロセスの間のラインエンド収縮を低減する方法であって、該方法は、
該集積回路の仕様を受け取る工程であって、該仕様はゲートを含むトランジスタを定義する、工程と、
該仕様内のゲートを識別する工程であって、該ゲートは、該光学リソグラフィプロセスの間に、ラインエンド収縮を引き起こしがちなエンドキャップを含む、工程と、
該エンドキャップが光学近似補正に対する改変を含む場合、該改変を除去する工程と、
関連するアクティブな領域を越えて該ゲートを形成するために利用される移相器を拡張し、その結果、該移相器は、該エンドキャップの少なくとも一部分を定義し、それによって、光学効果が原因となる該エンドキャップのラインエンド収縮を低減する工程と
を含む方法。
【請求項１１】
前記移相器と前記集積回路内の他の構造との間の、最小の距離を定める設計規則を、自動的にチェックする工程をさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記エンドキャップの続いておこる光学近似補正を妨げるために、該エンドキャップをマークする工程をさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記集積回路の前記仕様に、光学近似補正（ＯＰＣ）を適用する工程であって、該工程では、該ＯＰＣは、マークされたエンドキャップに適用されない、工程をさらに含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
光学近似補正を有するレイアウト内のトランジスタゲート上のラインエンド収縮を緩和する方法であって、該方法は、
該レイアウトにおける該トランジスタゲートを識別する工程であって、該トランジスタゲートは、アクティブな領域とエンドキャプとを含む、工程と、
該エンドキャプが光学近似補正を含むかどうかを判断する工程と、
該エンドキャップが該光学近似補正を含む場合、該光学近似補正を除去する工程と、
該アクティブな領域と該エンドキャップの少なくとも一部分とを定義するために、該レイアウトに、少なくとも１つの移相器を配置する工程であって、少なくとも１つの移相器の配置によって、光学リソグラフィプロセスの光学効果が原因となる該エンドキャップのラインエンド収縮が低減される、工程と
を含む、方法。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの移相器と前記レイアウト内の他の構造との間の、最小の距離を定める設計規則を、自動的にチェックする工程をさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記エンドキャップの続いておこる光学近似補正を妨げるために、該エンドキャップをマークする工程をさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
前記レイアウトの仕様に光学近似補正（ＯＰＣ）を適用する工程であって、該ＯＰＣは、マークされたエンドキャップに適用されない、工程をさらに含む、請求項１６に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月16日(2004.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
温度感応抵抗器と、温度感応抵抗器と接触し、少なくとも１つの支持アームによって基板の上に懸架されたプラットフォームボディとを有するマイクロボロメータピクセルであって、プラットフォームボディが約０．５ｕｍ以下の厚さを有し、吸収を向上させる金属層を含むマイクロボロメータピクセル。
【請求項２】
前記プラットフォームボディが二酸化ケイ素の層をさらに含む請求項１に記載のピクセル。
【請求項３】
前記プラットフォームボディが、約０．８ｕｍから２．５ｕｍの範囲の深さを有するギャップだけ基板から分離される請求項１に記載のピクセル。
【請求項４】
約６ｕｍから１８ｕｍの範囲の赤外放射に対する撮像検出器であって、共通基板上にピクセルのアレイを備え、各ピクセルが、
約０．５ｕｍ以下の厚さを有し、金属層を有し、約０．８から２．５ｕｍの範囲のギャップだけ基板から分離した、熱的に分離したアブソーバプラットフォームと、
プラットフォーム上に配設された温度依存抵抗器と、
基板上の反射層と、
抵抗器に電気的に結合された１組の導体とを備える撮像検出器。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月1日(2003.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
さまざまな分析プロセスを用いる分析用の試薬を受けるためのコンテナであって、
コンテナ（１）は、少なくとも２つのチャンバ（９ａ，９ｂ，９ｃ）に分割される領域を有し、チャンバは、液体または固体試薬を互いと別個に導入するための、コンテナ内側に向いた開口を有するように設計され、コンテナ（１）はベース（４）とベースから延在する壁（３）とを有し、
チャンバ（９ａ，９ｂ，９ｃ）はベース上を走る少なくとも１つのバー（８）によって形成されることを特徴とする、コンテナ。
【請求項２】
バー（８）の高さは、コンテナの壁（３）の高さと比較して低いことを特徴とする、請求項１に記載のコンテナ。
【請求項３】
コンテナは本質的に円筒形であるように設計され、バーまたは複数のバー（８）は、径方向に走り、かつ線形であるかまたはカーブしていることを特徴とする、請求項１または２に記載のコンテナ。
【請求項４】
コンテナに設けられる攪拌装置（７）を特徴とする、請求項１から３のいずれかに記載のコンテナ。
【請求項５】
攪拌装置は攪拌フィッシュ（７）として設計されることを特徴とする、請求項４に記載のコンテナ。
【請求項６】
攪拌フィッシュを支持するための支持体（６）がコンテナベース上に設けられ、支持体の高さはバーの高さよりもわずかに高いことを特徴とする、請求項５に記載のコンテナ。
【請求項７】
係合肩（１７）がコンテナ（１）の外壁（３）上に設けられることを特徴とする、請求項６に記載のコンテナ。
【請求項８】
カバー（１０）によってコンテナを閉止できることを特徴とする、請求項１から７のいずれかに記載のコンテナ。
【請求項９】
カバー（１００）は、閉止要素（１０２）で閉止できる開口（１０１）を有することを特徴とする、請求項８に記載のコンテナ。
【請求項１０】
閉止要素（１０２）は、攪拌装置（７）を保持するための装置（１０５，１０６）を有することを特徴とする、請求項９に記載のコンテナ。
【請求項１１】
閉止要素は、挿入された状態でコンテナ内側を向くスロット（１０５）をその端に有するストッパ（１０２）として設計され、攪拌ロッド（７）はスロット（１０５）の中に保持されることを特徴とする、請求項１０に記載のコンテナ。
【請求項１２】
攪拌ロッド（７）の長さはカバーの開口（１０１）の直径よりも長いことを特徴とする、請求項１１に記載のコンテナ。
【請求項１３】
測定容器としての、請求項１から１２のいずれかに記載のコンテナの使用。
【請求項１４】
さまざまな分析プロセスを用いる分析のための測定容器を作製するための方法であって、
請求項１から１２のいずれかに記載のコンテナ（１）を設けるステップと、
チャンバ（９ａ，９ｂ，９ｃ）を完全にまたは部分的に充填するように、チャンバの中に液体または固体試薬（１２，１３，１４）を導入するステップと、
導入された試薬を乾燥または凍結乾燥するステップとを含む、方法。
【請求項１５】
コンテナは、乾燥または凍結乾燥の後にカバー（１０）で閉止されることを特徴とする、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
測定容器は請求項１４または１５に記載のように作製されることを特徴とする、測定容器。
【請求項１７】
テスト液体、特に血液もしくは凝固阻止血液または血漿の分析のための、請求項１から１２のいずれかに記載のコンテナの使用。
【請求項１８】
テスト液体、特に血液もしくは凝固阻止血液または血漿の凝固特性を測定するためのプロセスにおける、請求項１４または１５に記載のように作製される測定容器の使用。
【請求項１９】
カバーは、請求項９から１２のいずれかに記載のように設計されることを特徴とする、請求項１から８のいずれかに記載のコンテナのためのカバー。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月15日(2005.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）上部と、底部と、複数の側面と、上部および底部を有する対角面とを有する少なくとも１つのプリズムであって、
（ｉ）各々が前記対角面に平行である面を有する第１および第２のサブプリズム、および
（ｉｉ）前記対角面の前記上部に対する第１の機械的基準面および前記対角面の前記底部に対する第２の機械的基準面を具備する少なくとも１つのプリズムと、
（Ｂ）
（ｉ）各々が前記第１の機械的基準面、前記第２の機械的基準面または前記プリズムの第１の側面のうちの１つと当接するようにされている複数の固定機械的基準および
（ｉｉ）前記プリズムの第２の側面と当接し、前記複数の固定機械的基準に対して前記第１の側面、および前記第１と第２の機械的基準面を押し付ける固締要素を具備するハウジングと、
を具備することを特徴とする光学アセンブリ。
【請求項２】
（ａ）前記第１の機械的基準面が、前記第２のサブプリズムの前記対角面に平行な前記面の上方に、前記第１のサブプリズムの前記対角面に平行な前記面の延長部を具備し、
（ｂ）前記第２の機械的基準面が、前記第２のサブプリズムの前記対角面に平行な前記面の下方に、前記第１のサブプリズムの前記対角面に平行な前記面の延長部を具備することを特徴とする請求項１記載の光学アセンブリ。
【請求項３】
上面と、底面と、複数の側面と、上部および底部を有する対角面と、を有するプリズムであって、
（Ａ）各々が前記対角面に平行な面を有する第１および第２のサブプリズムと、
（Ｂ）前記第２のサブプリズムの前記対角面に平行な前記面の上方の、前記第１のサブプリズムの前記対角面に平行な前記面の延長部を具備する、前記対角面の前記上部に対する第１の機械的基準面と、
（Ｃ）前記第２のサブプリズムの前記対角面に平行な前記面の下方の、前記第１のサブプリズムの前記対角面に平行な前記面の延長部を具備する、前記対角面の前記底部に対する第２の機械的基準面と、
を具備することを特徴とするプリズム。
【請求項４】
プリズムを位置決めするための方法であって、前記プリズムが上部および底部を有する対角面を有し、
（Ａ）前記対角面の前記上部に対して第１の機械的基準面を提供する工程と、
（Ｂ）前記対角面の前記底部に対して第２の機械的基準面を提供する工程と、
（Ｃ）各々が前記第１の機械的基準面または前記第２の機械的基準面のうちの１つに当接するようにされている複数の固定機械的基準を提供する工程と、
（Ｄ）前記複数の固定機械的基準に対して前記第１および第２の機械的基準面を押し付けるために、前記プリズムに対して力を印加する工程と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項５】
プリズムを位置決めするための方法であって、前記プリズムが（ｉ）上部および底部を有する対角面を有し、（ｉｉ）各々が前記対角面に平行な面を有する第１および第２のサブプリズムを具備し、
（Ａ）前記対角面の前記上部に対して、前記第２のサブプリズムの前記対角面に平行な前記面の上方に、前記第１のサブプリズムの前記対角面に平行な前記面の延長部を含む第１の機械的基準面を提供する工程と、
（Ｂ）前記対角面の前記底部に対して、前記第２のサブプリズムの前記対角面に平行な前記面の下方に、前記第１のサブプリズムの前記対角面に平行な前記面の延長部を具備する第２の機械的基準面を提供する工程と、
（Ｃ）各々が前記第１の機械的基準面または前記第２の機械的基準面のうちの１つに当接するようにされている複数の固定機械的基準を提供する工程と、
（Ｄ）前記複数の固定機械的基準に対して前記第１および第２の機械的基準面を押し付けるために、前記プリズムに対して力を印加する工程と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項６】
（ａ）前記プリズムが側面を有し、
（ｂ）前記工程（Ｃ）において、該側面に当接するようにされた固定機械的基準が提供され、
（ｃ）前記工程（Ｄ）において、前記力が前記側面を前記固定機械的基準に対して押し付けることを特徴とする請求項４または５記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月2日(2005.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）２つの主表面を有するバッキングと、
（ｂ）前記バッキングの少なくとも一方の主表面上に被覆された熱可塑性ブロックコポリマーエラストマーを含む再配置可能な非感圧接着剤の層と、を含み、前記接着剤の、室温での貯蔵弾性率が３×１０5パスカルより大きい、再配置可能なラベル。
【請求項２】
前記ブロックコポリマーが、１０％〜３０％のスチレンブロックを有する、請求項１に記載の再配置可能なラベル。
【請求項３】
前記再配置可能な非感圧接着剤の接着性が、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、およびガラスからなる群から選択された目標表面上で３オンス／インチ（８５グラム／２．５４ｃｍ）より大きく、紙および皮膚からなる群から選択された不要表面上で３オンス／インチ（８５グラム／２．５４ｃｍ）より小さい、請求項１に記載の再配置可能なラベル。
【請求項４】
前記バッキングが、ポリエステルフィルム、ポリオレフィンフィルム、紙、コーテッド紙、金属化フィルム、箔、不織布、およびカードストックである、請求項１に記載の再配置可能なラベル。
【請求項５】
前記接着剤が、光学記録媒体の非読み取り／書き込み面に付着される時に３〜４０オンス／インチ（８５〜１１３２グラム／２．５４ｃｍ）の接着性の範囲を有し、２０／５０ポンド（７５．２グラム／ｍ2）の標準重量を有する標準白紙に付着される時に８オンス／インチ（２２７グラム／２．５４ｃｍ）より小さい接着性を有する、請求項１に記載の再配置可能なラベル。
【請求項６】
（ａ）第１の主表面および前記第１の主表面の反対側の第２の主表面を有する光学記録媒体であって、前記第１の主表面が読み取り／書き込み面であり、前記第２の主表面が非読み取り／書き込み面である、光学記録媒体と、
（ｂ）第１の主表面および前記第１の主表面の反対側の第２の主表面を有する印刷ラベルであって、前記第１の主表面が、インキ受容層上に文字数字、グラフィックスまたはそれらの組合せを印刷されたインキ受容層を有し、前記第２の主表面が、再配置可能な非感圧接着剤の層を有する、印刷ラベルと、の組合せ。
【請求項７】
前記再配置可能な非感圧接着剤が、低粘着性接着剤であり、目標表面上で３〜４０オンス／インチ（８５〜１１３２グラム／２．５４ｃｍ）の接着性の範囲を有する、請求項６に記載の組合せ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
簡単には、本発明の一態様は、一方の主表面上のインク受容コーティングの被覆されたフィルムまたは紙層と、室温での貯蔵弾性率が３×１０5パスカルより大きい他方の主表面上に被覆された再配置可能な非感圧接着剤の層と、を含む、ポリカーボネート表面に適用するためのラベルを提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
添加される場合、目標表面への３から４０オンス／インチ（８５〜１１３２グラム／２．５４ｃｍ）の範囲の接着性および不要表面への８オンス／インチ（２２７グラム／２．５４ｃｍ）より小さい低接着性を示す再配置可能な非感圧接着剤を提供するために、これらの付加的な材料の有効量をいろいろ変化させてもよい。典型的には、目標表面は平滑な表面であり、ポリカーボネート、ポリエステル、ガラス、ポリ塩化ビニル、またはポリアクリレートなどの保護コーティング層、および反射コーティングなどがある。不要表面には典型的には、皮膚、衣類および従来の印刷用紙などがある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
接着剤被覆ラベルを、幅３／４インチ（１．９１ｃｍ）のストリップに更に切り分け、種々の基材に積層して剥離接着性を測定した。接着剤積層体を作製したすぐ後に剥離接着性を、９０ｉｐｍのストリッピング速度で１８０°の剥離角によってＩ−ＭＡＳＳ剥離試験機で測定し、その後に、ＡＳＴＭ方法（ＡＳＴＭ−Ｄ３３３０／３３３０Ｍ、試験方法Ａ、１５．０９巻、摘要１．１．１）によって測定した。対照試料、若干の市販のＣＤラベルもまた試験し、データを表１に記録する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
本発明で用いた全ての「クラトン」（Ｋｒａｔｏｎ）熱可塑性ブロックコポリマーエラストマーが、表２に示したように光ディスクへの相対的に高い接着性を有するが紙への相対的に低い接着性を有する非感圧接着剤の性質を示した。表２および後記表４において、１インチは２．５４ｃｍである。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月22日(2005.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の面と第２の面とを有する薄肉可撓性透明基板と、
前記第１の面上の抵抗材料からなる第１の層であって、薄肉、透明、連続的で可撓性であり、かつ該第１の面上でタッチセンサ用のアクティブタッチ領域に一致する表面を覆っている、該第１の層と、
前記第１の層と電気的に連通した状態にある複数の薄肉可撓性な電極であって、前記アクティブタッチ領域の周囲に沿って配置され、かつ該アクティブタッチ領域内で該第１の層にわたって電位を印加するように適合化されている電極と、
該電極に、および該電極から、電気信号を伝送するための、該電極に電気的に接触した状態にある複数の薄肉可撓性電気リード線と、
前記第１の層に電気的に連通した状態にある複数の薄肉可撓性な導電領域であって、前記アクティブタッチ領域の周囲に沿って配置され、かつ該第１の層全体にわたり該電位を該アクティブタッチ領域内で線形化するように適合化された構図を形成する導電領域と、
を含む、可撓性容量式タッチセンサ。
【請求項２】
前記第１の層上に保護材料からなる第２の層をさらに含み、該第２の層が、薄肉で可撓性で透明であり、かつ前記アクティブタッチ領域内で覆っている、請求項１に記載の容量式タッチセンサ。
【請求項３】
前記タッチセンサが、硬質基板に積層されるように適合化されている、請求項１または２に記載の容量式タッチセンサ。
【請求項４】
前記保護材料が、前記保護材料の摩擦係数を減少させる化合物を含む、請求項２に記載の容量式タッチセンサ。
【請求項５】
前記化合物が、オルガノシロキサンおよびフルオロカーボンの一方または両方を含む、請求項４に記載の容量式タッチセンサ。
【請求項６】
可撓性ディスプレイをさらに含み、その際前記可撓性容量式タッチセンサが可撓性ディスプレイに連結されている、請求項１〜５のいずれか１項に記載の容量式タッチセンサ。
【請求項７】
前記第２の層が、前記第２の層から反射された光を拡散する粗面を含む、請求項２に記載の容量式タッチセンサ。
【請求項８】
前記第２の層が、前記粗面を形成する透明粒子を含有する、請求項７に記載の容量式タッチセンサ。
【請求項９】
前記第１の層が、前記第２の層、前記第１の層、および前記基板の中立応力面に位置する、請求項２に記載の容量式タッチセンサ。
【請求項１０】
抵抗材料層に隣接する真性導電性ポリマー層をさらに含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の容量式タッチセンサ。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月2日(2003.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一連の太陽光線電気エネルギー変換組立体と、
太陽光線と前記組立体との間の基本的に垂直な関係を自動的に維持するための制御システム（４８、５０、５２）とを具え、
（ａ）フレネルレンズ（３６４）と、漂遊太陽光線を反射する集光器（３８０）と、太陽電池（１９０）と、（ｂ）太陽光線反射器（７６）とから成る群から選択したものによって、各前記エネルギー変換組立体を構成し、太陽光線を各前記フレネルレンズに衝突させて、このフレネルレンズを通過する太陽光線を、電気への変換のための点状の焦点を結ぶ一次太陽光線、及び二次太陽光線として、関連する前記太陽電池に送出し、前記太陽光線反射器（７６）は線状の焦点を結ぶ太陽光線を前記フレネルレンズ（３６４）に衝突させ、前記フレネルレンズ（３６４）は線状の焦点を結ぶ太陽光線を点状の焦点を結ぶ太陽光線に変換して、この点状の焦点を結ぶ太陽光線を前記太陽電池（１９０）に衝突させることを特徴とする太陽エネルギーを電気エネルギーに変換する装置。
【請求項２】
前記制御システム（４８、５０、５２）は前記一連のエネルギー変換組立体を支持する上部フレーム（４４）と、軌道上に前記上部フレームを回転可能に支持する下部フレーム（４２）とを具え、太陽光線と各前記エネルギー変換組立体との間の垂直性を確立し、この垂直性を基本的に維持するため、前記制御システムは各前記エネルギー組立体の角度を集合的に調整すると共に、前記上部フレームを前記軌道に沿い曲線状に移動させることを特徴とする請求項１による装置。
【請求項３】
前記エネルギー変換組立体の少なくとも若干は一連の前記エネルギー変換組立体で発生した熱を運び出すため、循環液体冷却剤を収容する管（１６０、１７６、１９０、３４０、３７４）を更に具えることを特徴とする請求項１による装置。
【請求項４】
太陽エネルギーを熱エネルギーに変換するため、線状の焦点を結ぶ太陽光線の少なくとも若干を前記管に衝突させる位置に、前記管（１７６、図７）を配置した請求項３による装置。
【請求項５】
前記管（３７４、図２６）は前記太陽電池の少なくとも若干と熱伝達関係にある請求項３による装置。
【請求項６】
前記管は外部熱絶縁体（３５０、３５０′）によって少なくとも一部包囲されている請求項３による装置。
【請求項７】
前記反射器の少なくとも若干はパラボラ反射器（７６、図４）から成る請求項１による装置。
【請求項８】
前記制御システムは前記垂直性を達成し、維持するのを助けるため、前記軌道上で前記下部フレームに対し前記上部フレームを回転させるモータ被動移動装置（５０、９０）を具える請求項１による装置。
【請求項９】
前記制御システムは前記垂直性を維持するのを助けるため、前記エネルギー変換組立体の傾きを調整する少なくとも１個の装置（５２）を具える請求項１による装置。
【請求項１０】
前記垂直性を達成し、維持するのを助けるため、前記エネルギー変換組立体に連結され、選択的にモータで回転する少なくとも１個の回転可能なトルク管（３３０、図２２）を前記制御システムが具える請求項１による装置。
【請求項１１】
一連の太陽光線電気変換器を自動的に徐々に、集合的に回転し、傾けて、太陽光線と、前記太陽光線電気変換器との間の基本的に垂直な関係を維持すると共に、焦点を結ぶ太陽光線を電気に変換するに当たり、（ａ）線状の焦点を結ぶ反射器（７６）、点状の焦点を結ぶフレネルレンズ（３６４）、及び太陽電池（１９０）か、又は（ｂ）フレネルレンズ（３６４）、点状の焦点を結ぶ一次素子（３７２、図２６）、又は点状の焦点を結ぶ二次素子（３８０、図２７、２８）、及び太陽電池（１９０）を使用して、前記変換を生ぜしめることを特徴とする太陽エネルギーを電気エネルギーに変換する方法。
【請求項１２】
下部フレーム（４２）上で、上部フレーム（４４）を選択的に回転させることを特徴とする請求項１１による方法。
【請求項１３】
更に、管（１６０、１７６、１９０、３４０、３７４）内で循環する液体冷却剤を使用して、発生した熱を除去することを特徴とする請求項１１による方法。
【請求項１４】
線状に焦点を結ぶ太陽光線を前記管（１７６、図７）に衝突させる請求項１３による方法。
【請求項１５】
前記太陽電池の少なくとも若干から前記管（３７４、図２６）、及びその中の前記冷却剤に熱を伝導する請求項１３による方法。
【請求項１６】
前記管を部分的に外部に対し、熱絶縁することを特徴とする請求項１３による方法。
【請求項１７】
線状に焦点を結ぶ前記反射器の少なくとも若干はパラボラの形態（７６、図４）を有している請求項１１による方法。
【請求項１８】
少なくとも１個の基本的に水平な水平軸線に関し、前記一連の太陽光線電気変換器を機械的に、集合的に傾け、基本的に垂直な垂直軸線に関し、前記一連の太陽光線電気変換器を湾曲軌道（５６）に沿って、機械的に、集合的に回転させることにより、前記垂直な関係を維持することを特徴とする請求項１１による方法。
【請求項１９】
前記回転し、傾ける工程において、前記太陽（４８）の位置を連続的に検知する工程と、前記基本的に垂直な関係を維持するため、太陽の相対位置が変化すると、前記一連の太陽光線電気変換器（５０、５２）の方位を双方向に、徐々に変化させる工程ととを行う請求項１１による方法。
【請求項２０】
前記検知する工程を光学的に行い、前記変化させる工程を電気機械的に行う請求項１９による方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月24日(2005.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
閉ループの超低温再循環ガス冷却装置を用いて、対象物の温度を約＋５０℃から約３５０℃の範囲の温度から約−３０℃から約−１５０℃の範囲の温度まで低下させる方法であって、
一次冷却装置と二次ガス冷却装置とを有し
ａ．前記一次冷却装置は、連続して流体結合された、圧縮機と、凝縮器と、少なくとも１つの熱交換器と、少なくとも１つの流量計測装置とを有しており、
ｂ．前記二次ガス冷却装置は、流体結合された、圧縮機と、後部冷却器と、前記圧縮機を過度の低温から保護する手段とを有しており、
ｃ．前記一次冷却装置と前記二次ガス冷却装置とは、前記二次ガス冷却装置から前記第１の冷却装置の前記熱交換器の二次入口までの出口管路によって間接的に結合されており、
ｄ．前記第１の冷却装置の前記熱交換器からの二次出口管路が、冷却すべき前記対象物を収容する密封された外部熱交換器と流体結合しており、
ｅ．前記密封された外部熱交換器は、前記二次ガス冷却装置内の前記圧縮機を過度の低温から保護する前記手段に流体結合している、
閉ループ冷却装置に流体結合している前記密封された外部熱交換器内に、約＋５０℃から約＋３５０℃の範囲の温度の前記対象物を備えることと、
冷却する前記対象物の温度を周囲温度から＋５０℃の範囲の温度に低下させるために前記二次ガス冷却装置を作動させることと、
冷却する前記対象物または流体の温度が＋５０℃よりも低い温度に達したときに、冷却する前記対象物の物体の温度を約−３０℃から約−１５０℃の範囲の温度に低下させるために、前記一次冷却装置を作動させることとを有する、
対象物の温度を約＋５０℃から約３５０℃の範囲の温度から約−３０℃から約−１５０℃の範囲の温度まで低下させる方法。
【請求項２】
対象物の温度を約＋５０℃から約３５０℃の範囲の温度から約−３０℃から約−１５０℃の範囲の温度まで低下させることが可能な閉ループの超低温再循環ガス冷却装置であって、
一次冷却装置と二次ガス冷却装置とを有し、
前記一次冷却装置は、連続して流体結合された、圧縮機と、凝縮器と、少なくとも１つの熱交換器と、少なくとも１つの流量計測装置とを有しており、
前記二次ガス冷却装置は、流体結合された、圧縮機と、後部冷却器と、前記圧縮機を過度の低温から保護する手段とを有しており、
前記一次冷却装置と前記二次ガス冷却装置とは、前記二次ガス冷却装置から前記第１の冷却装置の前記熱交換器の二次入口までの出口管路によって間接的に結合されており、
前記第１の冷却装置の前記熱交換器からの二次出口管路が、冷却すべき前記対象物を収容する密封された外部熱交換器と流体結合しており、
前記密封された外部熱交換器は、前記二次ガス冷却装置内の前記圧縮機を過度の低温から保護する前記手段に流体結合している、閉ループの超低温再循環ガス冷却装置。
【請求項３】
冷却すべき前記対象物は半導体チャックである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
ａ）前記後部冷却器の下流の高圧ガスが前記圧縮機に入る前の低圧ガスと熱を交換するガス−ガス伝熱式熱交換器、
ｂ）外部の液体が前記圧縮機に入る前の低圧ガスと熱を交換するガス−液体伝熱式熱交換器、および
ｃ）前記圧縮機に入る前の低圧ガスを加熱する熱交換器、
のうちの少なくとも１つからなる群から選択される、前記二次ガス冷却圧縮機を過度に高温または低温のガスから保護する手段をさらに有している、請求項１に記載の手段。
【請求項５】
前記後部冷却器から出てくるガス流れと前記外部熱交換器から戻ってくるガスとの間で熱を交換するガス−ガス熱交換器をさらに有している、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記外部熱交換器の戻りと前記二次ガス冷却圧縮機の入口の前との間に設置された液体冷却式の熱交換器をさらに有している、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記液体冷却式の熱交換器は水冷式の熱交換器である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
低温ガスを戻す戻り管路に設置された加熱器をさらに有している、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記圧縮機は、往復圧縮機、回転圧縮機、ねじ圧縮機、またはスクロール圧縮機から選択されている、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記圧縮機はスクロール圧縮機である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
失われた冷却ガスを、前記二次ガス冷却装置内が圧力不足であるときに補給する電磁弁をさらに有している、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記熱交換器の高圧出口に追加され、ガスが、冷却プロセスに直接供給されるか、あるいは冷却プロセスを迂回するかを選択する弁をさらに有している、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
冷媒は、不燃性で、塩素を含まず、毒性を有さない混合冷媒混合物から選ばれている、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月15日(2005.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空間にわたり配置され付けられたベンチマーク参照点の集合であって、該参照点のうち互いに所定近距離内に位置する３つからなる第１の組により規定される三角形が、該参照点のうち互いに前記所定近距離内に位置する３つからなるいずれの第２の組により規定されるもう１つの三角形とも対称でない、集合。
【請求項２】
空間内の所定場所から前記第１の点の組への距離及び方向が、前記場所から前記第２の点の組への距離及び方向と相違し；
それにより、前記場所の位置座標が、前記点のうち互いに前記所定近距離内に位置するいずれか３つとの関係におけるその距離及び方向から導かれうる請求項１の集合。
【請求項３】
行及び列の歪んだグリッドパターンに沿って配置された前記点のアレイを含み；
前記点が、線形且つ直交的なグリッド線に沿って正確に整列しておらず；
前記所定近距離が、２×２サブアレイを規定する参照点から構成される請求項１又は２の集合。
【請求項４】
行及び列の歪んだグリッドパターンの、直交的に配向した層に沿って配置された、前記点の立方体形のアレイをさらに含み；
前記所定近距離が、３×３サブアレイを規定する参照点から構成される請求項３の集合。
【請求項５】
前記参照点が、支持表面にわたって位置決めされるベンチマークを含む請求項３の集合。
【請求項６】
前記支持表面が床を含む請求項５の集合。
【請求項７】
請求項５に記載の集合と、
所定場所に位置決めされる旋回空間座標測定アームであって、所定のリーチを有し、且つプローブチップを含むアームとの組合わせを含む、空間測定システム。
【請求項８】
前記ベンチマークが、前記プローブチップを収めるよう形状及び寸法決めされ、前記参照点を規定する軸を有する凸円錐状のくぼみを含む請求項７のシステム。
【請求項９】
前記集合が、少なくとも１つの前記サブアレイを前記アームのリーチ内に含み、前記サブアレイ内の参照点のそれぞれが前記くぼみの一つにより規定される請求項８のシステム。
【請求項１０】
前記プローブチップを連続的に前記くぼみに挿入すると前記サブアレイ中の参照点座標を自動的に計算する手段をさらに含む、請求項９のシステム。
【請求項１１】
前記３つの参照点座標から、前記場所の座標を導く手段をさらに含む請求項１０のシステム。
【請求項１２】
固定されたベンチマーク参照点のグローバル座標パターンと関連して移動可能な測定機器を備え、該測定機器を移動する度ごとに、該機器の位置を関連するデータプロセッサに入力する必要があるコンピュータ化された空間測定システムによる空間測定方法であって、歪んだグリッド線に沿って前記参照点を配置し、前記点が、線形且つ直交的なグリッド線に沿って正確に整列しておらず、それにより前記位置が、合わせて三角形を形成しうる３つの前記参照点の位置を測定することにより、前記データプロセッサに自動的に入力される、空間測定方法。
【請求項１３】
前記配置する工程が、前記点のうち互いに所定近距離内に位置する３つからなる第１の組により規定される三角形が、該参照点のうち互いに前記所定近距離内に位置する３つからなる第２の組により規定されるいずれの他の三角形とも対称でありうる可能性を避けるのに十分な量、前記参照点を線形グリッドパターン位置から空間的にオフセットすることを含む請求項１２の方法。
【請求項１４】
前記所定近距離が、２×２サブアレイにより規定される参照点から構成される請求項１２記載の方法。
【請求項１５】
前記所定近距離が、３×３サブアレイにより規定される参照点から構成される請求項１２記載の方法。
【請求項１６】
前記空間的にオフセットする工程が、２次元の変動範囲内で、前記点の少なくとも一つを移動することを含む請求項１２記載の方法。
【請求項１７】
前記空間的にオフセットする工程が、３次元の変動範囲内で、前記点の少なくとも１つを移動することを含む請求項１２の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月26日(2003.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビームが収束されたレーザ光を用いて生体物質を操作する方法であって、
光トラップの状態を形成するために可視及び紫外の波長範囲から選択された波長を用いてビームが収束されたレーザ光を提供するステップであって、前記レーザ光は選択された物質が生体物質に対して相当な損傷を与えずに操作を可能にする前記レーザ光の前記可視及び紫外の波長範囲から選択された波長の中で選択された吸収係数を示すような前記可視及び紫外の波長範囲から選択された波長を有する、ビームが収束されたレーザ光を提供するステップと、
前記可視及び紫外の波長範囲の中の前記ビームが収束されたレーザ光を用いて、前記生体物質を操作する複数の光トラップを提供するステップと、
前記生体物質を操作している間に前記生体物質に相当な損傷を与えないようにするために、前記光トラップのそれぞれのパワーレベル、前記可視及び紫外の波長範囲の前記レーザ光及び前記選択された結果として生ずる吸収係数を制御するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、前記ビームが収束されたレーザ光が約４００ｎｍから約７００ｎｍまでの波長範囲の光を含むことを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法であって、前記光ビームが連続波のレーザビームを含むことを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法が、所定のトラッピング力を得るために必要なパワーが、成形されないビームが収束された光よりも軽減されるように、前記ビームが収束された光の波面を成形するステップをさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法であって、前記光ビームがドーナッツモードを含むことを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法であって、前記複数の光トラップが回折光学素子から発生することを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法であって、前記複数の光トラップのそれぞれのパワーレベルが、生物学的にかなりの量の生体物質の遺伝暗号が変わらないように制御されることを特徴とする方法。
【請求項８】
ビームが収束されたレーザ光を用いて生体物質を操作する方法であって、
前記物質の吸収係数が前記レーザ光の可視及び紫外範囲の波長の中で小さい前記可視及び紫外の波長範囲から選択された波長を有する、連続波でビームが収束されたレーザ光を提供するステップと、
前記生体物質の別個の部分を操作するための少なくとも１つの光トラップを提供するステップと、
前記生体物質を操作する間に前記生体物質の遺伝暗号のかなりの部分が変更されないようにするための、前記可視及び紫外の波長範囲の中の小さい吸収係数と併せて、少なくとも１つの光トラップのパワーレベルを制御するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項８に記載の方法であって、前記複数の光トラップが前記ビームが収束されたレーザ光を用いて形成され、前記これらのトラップのそれぞれが前記物質の別個の部分を操作することを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の方法が、少なくとも１つの光トラップのトラッピング効率が、形成されていないビームが収束された光よりも増加されるように、ビームが収束された光の波面を成形するステップをさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の方法であって、前記ビームが収束された光が前記物質による吸収を最小にするように計算された形状を備えることを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項９に記載の方法であって、各トラッピング位置が前記生体物質内の生物学的に敏感な位置ではないことを特徴とする方法。
【請求項１３】
ビームが収束されたレーザ光を用いて生体物質を操作するシステムであって、
最大波長が赤外光の最小波長よりも小さい可視及び紫外範囲から選択された波長を有し、光トラップを形成し、かつ前記生体物質の吸収係数が前記生体物質を操作するために使用されるレーザ光の前記可視及び紫外の波長範囲内では小さいような波長を有するビームが収束されたレーザ光と、
前記生体物質の別個の部分を操作するための複数の光トラップと、
を備え、
前記光トラップのそれぞれのパワーレベル及び前記生体物質の生物学的にかなりの量の遺伝暗号の少なくとも変更を避けることが可能にされる、前記可視及び紫外範囲から選択された範囲内の前記レーザ光に対する前記生体物質の小さい吸収係数が制御される、
ことを特徴とするシステム。
【請求項１４】
請求項１３に記載のシステムであって、前記ビームが収束されたレーザ光が可視及び紫外の波長範囲から選択されることを特徴とするシステム。
【請求項１５】
請求項１３に記載のシステムであって、前記ビームが収束されたレーザ光が連続波のレーザビームを備えることを特徴とするシステム。
【請求項１６】
請求項１５に記載のシステムであって、所定のトラッピング力を得るように成形された前記ビームが収束されたレーザ光の波面が成形されていないビームが収束された光よりも減少されることを特徴とするシステム。
【請求項１７】
請求項１３に記載のシステムであって、前記複数の光トラップがホログラフィック光トラップを含むことを特徴とするシステム。
【請求項１８】
ビームが収束されたレーザ光を用いて生体物質を操作する方法であって、
光トラップの状態を形成するためにビームが収束されたレーザ光を提供するステップであって、前記レーザ光は選択された物質が生体物質に対して相当な損傷を与えずに操作を可能にする前記レーザ光の可視及び紫外範囲から選択された波長に対して選択された吸収係数を示すような前記可視及び紫外範囲から選択された波長を有する、ビームが収束されたレーザ光を提供するステップと、
前記可視及び紫外範囲から選択された前記ビームが収束されたレーザ光を用いて、前記生体物質を操作する複数の光トラップを提供するステップと、
前記生体物質を操作している間に前記生体物質に相当な損傷を与えないようにするために、前記光トラップのそれぞれのパワーレベル、前記可視及び紫外範囲から選択された前記レーザ光の波長及び前記選択された結果として生ずる吸収係数を制御するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月2日(2003.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）人間が通行する領域に音声応答ディスプレイ装置を有するフロアマットを設け、
（ii）前記音声応答ディスプレイ装置で表示される発話のリクエストされた情報を受信し、
（iii ）前記リクエストされた情報を得るために前記発話を処理し、
（iv）前記音声応答ディスプレイ装置に前記リクエストされた情報を表示するステップを含んでいる方法。
【請求項２】
前記人間が通行する領域は小売店であり、前記リクエストされた情報は前記店内の品物の位置に関連している請求項１記載の方法。
【請求項３】
さらに、広告情報を前記音声応答ディスプレイ装置上に表示する請求項１記載の方法。
【請求項４】
ディスプレイ装置を含んでいるフロアマットと、
前記ディスプレイ装置上に表示される情報をリクエストする人の発話を検出するように構成される音声感知装置と、
前記ディスプレイ装置と前記音声感知装置とに結合され、前記発話に対応して前記音声感知装置から受信される信号を処理して、対応する表示を前記ディスプレイ装置に生成するように構成されているスピーチ認識装置とを具備しているシステム。
【請求項５】
前記音声感知装置は指向性マイクロホンである請求項４記載のシステム。
【請求項６】
前記指向性マイクロホンは前記フロアマット中に埋設されている請求項５記載のシステム。
【請求項７】
前記音声感知装置はマイクロホンのアレイを具備している請求項４記載のシステム。
【請求項８】
前記発話に対して可聴応答を発生するように前記スピーチ認識装置に結合されている音声発生装置をさらに具備している請求項４記載のシステム。
【請求項９】
前記音声発生装置は前記フロアマット中に設けられている請求項８記載のシステム。
【請求項１０】
前記音声発生装置はピエゾ電気平面パネルスピーカである請求項８記載のシステム。
【請求項１１】
前記ディスプレイは店内の１個または複数個の物品の位置に関係している請求項４記載のシステム。
【請求項１２】
前記スピーチ認識装置は前記音声感知装置に無線で結合されている請求項４記載のシステム。
【請求項１３】
前記スピーチ認識装置は光ファイバにより前記音声感知装置に結合されている請求項４記載のシステム。
【請求項１４】
前記ディスプレイ装置は液晶ディスプレイ、発光ダイオードディスプレイ、有機発光ダイオードディスプレイ、エレクトロルミネセンスディスプレイ、プラズマディスプレイの１つを含んでいる請求項４記載のシステム。
【請求項１５】
（ｉ）電子的に変更可能なディスプレイを含んでいるフロアマットを小売店に配置し、
（ii）前記フロアマット付近またはその上に立っている人の発話が前記マイクロホンにより検出可能であるようにマイクロホンを配置し、
（iii ）前記発話を電気信号に変換するために前記マイクロホンを使用し、
（iv）前記マイクロホンに結合されるスピーチ認識装置へ前記信号を伝送し、
（ｖ）前記発話の少なくとも１つの用語を識別するように前記信号を処理するために前記スピーチ認識装置を使用し、
（vi）前記スピーチ認識装置に結合される情報データベースから前記ワードに対応する物品の位置を検索し、
（vii ）前記位置を前記ディスプレイに表示するステップを含んでいる方法。
【請求項１６】
前記マイクロホンは指向性マイクロホンである請求項１５記載の方法。
【請求項１７】
さらに、前記発話に対して可聴応答を発生する請求項１５記載の方法。
【請求項１８】
人の靴底を清浄にする洗浄システムにおいて、
ディスプレイ装置と、
前記ディスプレイ装置上に表示される情報をリクエストする人の発話を検出するように構成されている音声感知装置と、
前記ディスプレイ装置および前記音声感知装置に結合され、前記ディスプレイ装置上に対応するディスプレイを生成するために前記発話に対応して前記音声感知装置から受信された信号を処理するように構成されているスピーチ認識装置とを含んでいる洗浄システム。
【請求項１９】
前記音声感知装置は指向性マイクロホンである請求項１８記載の洗浄システム。
【請求項２０】
前記音声感知装置はマイクロホンのアレイを具備している請求項１８記載の洗浄システム。
【請求項２１】
前記発話に対して可聴応答を発生するために前記スピーチ認識装置に結合されている音声発生装置をさらに具備する請求項１８記載の洗浄システム。
【請求項２２】
前記ディスプレイは店内の１個または複数個の物品の位置に関連している請求項１８記載の洗浄システム。
【請求項２３】
前記ディスプレイは広告情報に関係している請求項１８記載の洗浄システム。
【請求項２４】
前記ディスプレイ装置は液晶ディスプレイ、発光ダイオードディスプレイ、有機発光ダイオードディスプレイ、エレクトロルミネセンスディスプレイ、プラズマディスプレイの１つを含んでいる請求項１８記載の洗浄システム。
【請求項２５】
音声発生装置に関連されている変更可能な電子ディスプレイを具備しているフロアマット。
【請求項２６】
前記音声発生装置は前記フロアマット中に配置されているスピーカである請求項２５記載のフロアマット。
【請求項２７】
前記音声発生装置はピエゾ電気平面パネルスピーカである請求項２６記載のフロアマット。
【請求項２８】
前記音声発生装置はスピーチ認識装置に結合されている請求項２５記載のフロアマット。
【請求項２９】
前記スピーチ認識装置は前記音声発生装置に前記発話に対して可聴応答を発生させるように発話を処理するように構成されている請求項２８記載のフロアマット。
【請求項３０】
人の靴底を清浄にするための洗浄装置と、
前記洗浄装置に関連する変更可能な電子ディスプレイと、
前記電子ディスプレイに関連する音声発生装置とを具備しているシステム。
【請求項３１】
前記音声発生装置は前記ディスプレイに表示されるメッセージに対応する可聴メッセージを発生する請求項３０記載のシステム。
【請求項３２】
前記ディスプレイおよび前記音声発生装置に結合され、対応する可視メッセージを前記ディスプレイ装置に発生させ、音声発生装置に対応する可聴メッセージを発生させるように発話を処理するスピーチ認識装置をさらに具備している請求項３０記載のシステム。
【請求項３３】
前記スピーチ認識装置は前記ディスプレイおよび前記音声発生装置に無線で結合されている請求項３２記載のシステム。
【請求項３４】
前記発話を受信するための音声感知装置をさらに具備している請求項３２記載のシステム。
【請求項３５】
人の靴底を清浄にするための洗浄装置と、
前記洗浄装置に関連する変更可能な電子ディスプレイと、
前記電子ディスプレイに関連する音声感知装置とを具備しているシステム。