【手続補正書】
【提出日】平成16年10月27日(2004.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
3-オキソ-4-アザステロイドを、対応するステロイドアルケンである4-アザ-アンドロステン-3-オンから調製する方法であって、酢酸アンモニウム、ギ酸アンモニウムもしくはプロピオン酸アンモニウムまたはこれらの混合物および適切な触媒の存在下で１個以上の二重結合を水素化する段階を含む、前記方法。
【請求項２】
3-オキソ-4-アザステロイドが式（Ｉ）の化合物である、請求項１に記載の方法。
【化１】
2004515505.tif 000001
［式中：
R1は水素、OH、C1-6アルキル、アリールもしくはヘテロ芳香族基であり；
R2は水素、C1-6アルキル、アリールもしくはヘテロ芳香族基であり；
R3は水素、OH、C1-6直鎖もしくは分枝鎖アルキル、C1-6直鎖もしくは分枝鎖アルコキシ、アリール、ヘテロ芳香族基またはNHQであり；
Qは水素、OH、C1-6直鎖もしくは分枝鎖アルキル、C1-6直鎖もしくは分枝鎖アルコキシ、式（Ａ）または式（Ｂ）である：
【化２】
2004515505.tif 000002
（式（Ａ）中：
R4およびR5は独立して水素、低級アルキル、低級アルコキシ、トリフルオロメチル、シアノ、ハロゲン、（場合によってハロゲン1個以上で置換された）フェニルであるか、またはR4およびR5が隣接する炭素上にある場合、協同して任意に酸素もしくは硫黄原子1個以上を含む縮合5、6もしくは7員環を形成し；
WおよびZは、これらが結合する炭素と協同して飽和の3〜12員環系を形成するメチレン基であり、該環系は場合によって、
1)独立して低級アルキル基1個以上で置換され、
2)酸素もしくは硫黄原子１個を含有し、
3)該3〜12員環のメチレン基2個が(C1-6)アルキレン基と連合して2環系を形成し；そして
Xは水素もしくはハロゲンである。）
【化３】
2004515505.tif 000003
（式（Ｂ）中：
R6はトリフルオロメチル、場合によってハロゲンもしくは分枝(C4-7)アルキル基１個以上で置換されたフェニル、または分枝(C4-7)アルキルであり；
R7もしくはR8のいずれかがトリフルオロメチル、ハロゲン、場合によってハロゲンもしくは分枝(C4-7)アルキル基１個以上で置換されたフェニル、または分枝(C4-7)アルキルであって、他方が水素もしくはハロゲンであり；そして
Xは水素もしくはハロゲンである。）]
【請求項３】
4-アザ-アンドロステン-3-オンが4-アザ-アンドロスタ-5-エン-3オンである、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
4-アザ-アンドロスタ-5-エン-3-オンが式（II）の化合物である、請求項３に記載の方法。
【化４】
2004515505.tif 000004
［式中：
R1は水素、OH、C1-6アルキル、アリールもしくはヘテロ芳香族基；
R2は水素、C1-6アルキル、アリールもしくはヘテロ芳香族基；
R3は水素、OH、C1-6直鎖もしくは分枝鎖アルキル、C1-6直鎖もしくは分枝鎖アルコキシ、アリール、ヘテロ芳香族基またはNHQであり；
Qは水素、OH、C1-6直鎖もしくは分枝鎖アルキル、C1-6直鎖もしくは分枝鎖アルコキシ、式（Ａ）または式（Ｂ）である：
【化５】
2004515505.tif 000005
（式（Ａ）中：
R4およびR5は独立して水素、低級アルキル、低級アルコキシ、トリフルオロメチル、シアノ、ハロゲン、（場合によってハロゲン1個以上で置換された）フェニルであるか、またはR4およびR5が隣接する炭素上にある場合、協同して任意に酸素もしくは硫黄原子1個以上を含む縮合5、6もしくは7員環を形成し；
WおよびZは、これらが結合する炭素と協同して飽和3〜12員環系を形成するメチレン基であり、該環系は場合によって、
1)独立して低級アルキル基1個以上で置換され、
2)酸素もしくは硫黄原子１個を含有し、
3)該3〜12員環のメチレン基2個が(C1-6)アルキレン基と連合して2環系を形成し；そして
Xは水素もしくはハロゲンである。）
【化６】
2004515505.tif 000006
（式（Ｂ）中：
R6はトリフルオロメチル、場合によってハロゲンもしくは分枝(C4-7)アルキル基１個以上で置換されたフェニル、または分枝(C4-7)アルキルであり；
R7もしくはR8のいずれかがトリフルオロメチル、ハロゲン、場合によってハロゲンもしくは分枝(C4-7)アルキル基１個以上で置換されたフェニル、または分枝(C4-7)アルキルであって、他方が水素もしくはハロゲンであり；そして
Xは水素もしくはハロゲンである。）］
【請求項５】
R1が水素；R2が水素；R3が水素、OH、C1-4アルキル、C1-4アルコキシもしくはNHQである、請求項２または４に記載の方法。
【請求項６】
Qが水素、OH、C1-6直鎖もしくは分枝アルキル、C1-6直鎖もしくは分枝アルコキシ、または式（Ｂ）である、請求項２、４または５のいずれか１項に記載の方法。
【化７】
2004515505.tif 000007
［式（Ｂ）中：
R6はトリフルオロメチルもしくは分枝(C4-7)アルキル基；R7もしくはR8のいずれかがトリフルオロメチル、他方が水素；Xは水素である。］
【請求項７】
Qが水素、C1-4直鎖もしくは分枝アルキル、または2,5-ビス(トリフルオロメチル)フェニルである、請求項２または４〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
酢酸アンモニウムの存在下で実施する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
酢酸アンモニウムを1〜25％w/wの範囲で存在させる、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
酢酸アンモニウムを2.0〜10％w/wの範囲で存在させる、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
触媒をPt2O、Pt/C、Pd/C、Pd(OH)2およびNi触媒から選択する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
触媒をPt2O、Pt/C、Pd/CまたはPd(OH)2から選択する、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
触媒がPt2Oである、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
103〜3447 kPaの圧力範囲内で実施する、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
圧力範囲が103〜414 kPaである、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
50〜70℃の温度範囲内で実施する、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
水素の存在下で実施する、請求項１〜１６のいずれか１項記載の方法。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれか１項に記載の方法を含む方法によって調製した5α-リダクターゼ阻害剤。
【請求項１９】
5α-リダクターゼ阻害剤が17β-(N-t-ブチルカルバモイル)-4-アザ-5α-アンドロスタ-1-エン-3-オンまたは17β-N-(2,5-ビス(トリフルオロメチル))フェニルカルバモイル-4-アザ-5α-アンドロスタ-1-エン-3-オンから選択される、請求項１８に記載の5α-リダクターゼ阻害剤。
【請求項２０】
5α-リダクターゼ阻害剤が17β-N-(2,5-ビス(トリフルオロメチル))フェニルカルバモイル-4-アザ-5α-アンドロスタ-1-エン-3-オンである、請求項１９に記載の5α-リダクターゼ阻害剤。
【請求項２１】
さらに以下の工程を含む方法によって調製される、請求項２０記載の5α-リダクターゼ阻害剤：
（ｉ）脱水素反応による炭素１および2間への二重結合の挿入；
（ii）式(III)の化合物との反応；
【化８】
2004515505.tif 000008
（iii）必要かつ／または所望ならば、こうして取得した化合物にさらに以下の１以上の反応の実施；
（a）保護基もしくは保護基群の除去；および／または
（b）該化合物もしくはその溶媒和物の製薬上許容されるその溶媒和物への変換。