【手続補正書】
【提出日】平成16年12月17日(2004.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  金属酸化物に直接分解することが可能な材料の粒子を基板の表面に熱的に噴霧することを含み構成される、基板の表面の表面積と多孔度の特性を強化する方法。
【請求項２】  金属酸化物に直接分解することが可能な材料の粒子を基板の表面にプラズマ噴霧することを含み構成される、基板の表面の表面積と多孔度の特性を強化する方法。
【請求項３】  金属酸化物に直接分解することが可能な材料の粒子を基板の表面に火炎噴霧することを含み構成される、基板の表面の表面積と多孔度の特性を強化する方法。
【請求項４】  前記基板は金属基板である、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の強化する方法。
【請求項５】  基板の表面にコーティングが形成される、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の強化する方法。
【請求項６】  コーティングが、金属酸化物粒子の機械的に結合された層からなる、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の強化する方法。
【請求項７】  前記金属酸化物に直接分解することが可能である材料は熱分解により可能である、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の強化する方法。
【請求項８】  基板が噴霧の後、貴金属触媒でコートされる、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の強化する方法。
【請求項９】  金属酸化物に分解可能な材料が金属水酸化物、金属炭化物及び金属窒化物からなる群から選択される、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の強化する方法。
【請求項１０】  金属酸化物、金属炭化物及び金属窒化物がそれぞれ遷移金属水酸化物、遷移金属炭化物及び遷移金属窒化物である、請求項９に記載の強化する方法。
【請求項１１】  遷移金属水酸化物、遷移金属炭化物及び遷移金属窒化物がそれぞれ希土類金属水酸化物、希土類金属炭化物及び希土類金属窒化物である、請求項１０に記載の強化する方法。
【請求項１２】  金属酸化物に分解可能な材料がＡｌ（ＯＨ）３粉末である、請求項９に記載の強化する方法。
【請求項１３】  噴霧の前に表面に噴霧された材料の付着を改良するために基板表面を処理することをさらに含み構成される、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】  処理が表面をグリットブラスティングすることを含み構成される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  水酸化アルミニウムが次式
２Ａｌ（ＯＨ）３  →  Ａｌ２Ｏ３  ＋  ２Ｈ２Ｏ
にしたがって酸化アルミニウムと水に分解する、請求項１２に記載の強化する方法。
【請求項１６】  金属水酸化物、金属酸化物、金属窒化物、遷移金属水酸化物、遷移金属炭化物、遷移金属窒化物、希土類金属水酸化物、希土類金属炭化物及び希土類金属窒化物から成る群から選択された均質または同種の粒子組成物を金属基板の表面に直接熱噴霧することからなる、約５μm未満の公称分布範囲の粒子サイズ分布を有する金属酸化物粒子の機械的に結合された層を金属基板の表面に供給する方法。
【請求項１７】  金属水酸化物、金属酸化物、金属窒化物、遷移金属水酸化物、遷移金属炭化物、遷移金属窒化物、希土類金属水酸化物、希土類金属炭化物及び希土類金属窒化物から成る群から選択された均質または同種の粒子組成物を金属基板の表面に直接プラズマ噴霧することからなる、約５μm未満の公称分布範囲の粒子サイズ分布を有する金属酸化物粒子の機械的に結合された層を金属基板の表面に供給する方法。
【請求項１８】  金属水酸化物、金属酸化物、金属窒化物、遷移金属水酸化物、遷移金属炭化物、遷移金属窒化物、希土類金属水酸化物、希土類金属炭化物及び希土類金属窒化物から成る群から選択された均質または同種の粒子組成物を金属基板の表面に直接火炎噴霧することからなる、約５μm未満の公称分布範囲の粒子サイズ分布を有する金属酸化物粒子の機械的に結合された層を金属基板の表面に供給する方法。
【請求項１９】  噴霧後、基板の表面の金属酸化物粒子の層の上に貴金属触媒が堆積される、請求項１６乃至１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】  噴霧される材料がＡｌ２Ｏ３粒子の表面層へと分解するＡｌ（ＯＨ）３粉末である、請求項１６乃至１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】  さらに、噴霧工程の前に、表面に噴霧された材料の付着を改良するために基板表面を処理することを含み構成される、請求項１６乃至１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】  該処理が表面をグリットブラスティングすることを含み構成される、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】  表面上の金属酸化物粒子が約３μm未満から約１μm未満の公称分布範囲の粒子サイズ分布を有する、請求項１６乃至１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４】  噴霧される材料が基板に対して途中で熱分解によって金属酸化物へ分解する触媒前駆体を含み構成する粉末である、請求項１６乃至１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５】  噴霧された材料が、約１０μm乃至約２００μmの公称分布範囲の粒子サイズ分布を有する粒子である、請求項１６乃至１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６】  金属酸化物に直接分解することが可能な材料が触媒の前駆体である、請求項１６乃至２５のいずれか一項に記載の強化する方法。
【請求項２７】  コーティングが触媒前駆体からなる、請求項１６乃至２６のいずれか一項に記載の強化する方法。
【請求項２８】  約５μｍ未満の公称分布範囲における粒子サイズを有する金属酸化物粒子でコートされた基板。
【請求項２９】  公称分布範囲が１μｍ乃至約３μｍ未満である、請求項２８に記載の基板。
【請求項３０】  金属酸化物粒子がＡｌ２Ｏ３粒子である、請求項２８または２９に記載の基板。
【請求項３１】  基板が、粉末を基板の表面に熱分解しながら噴霧することによって形成される、互いに機械的に結合された粒子から成る層をその少なくとも一つの表面上に含む、該基板を構成要素とする組み立て品を通過する流体流れを分離するために露出されることをそれぞれ意図された対向する側部表面を有する金属基板。
【請求項３２】  粉末の材料が金属水酸化物、金属炭化物、金属窒化物、遷移金属水酸化物、遷移金属炭化物、遷移金属窒化物、希土類金属水酸化物、希土類金属炭化物そして希土類金属窒化物からなる群から選択される、請求項３１に記載の金属基板。
【請求項３３】  粒子が、約５μｍ未満の公称範囲のサイズ分布を有する、請求項３１または３２に記載の金属基板。
【請求項３４】  噴霧が、熱的噴霧、プラズマ噴霧及び火炎噴霧から成る群から選択される，請求項３１乃至３３のいずれか一項に記載の金属基板。
【請求項３５】  該表面に結合された粒子が貴金属触媒を含み構成される、請求項３４に記載の基板。
【請求項３６】  反応チャンバの構成要素を構成する、請求項３４に記載の基板。
【請求項３７】  蒸気リフォーマの構成要素を含み構成される、請求項３４に記載の基板。
【請求項３８】  粉末が触媒の前駆体である、請求項３１乃至３７のいずれか一項に記載の基板。
【請求項３９】  互いに機械的に結合された粒子から成る層が触媒前駆体からなる、請求項３１乃至３８のいずれか一項に記載の基板。
【請求項４０】  セパレータの少なくとも一つの表面が請求項１乃至７のいずれか一項に記載の方法にしたがって処理される、組み立て品を通過する流体流れを分離するために露出されることを意図された対向する表面を有するセパレータを含む、微成分反応チャンバ組み立て品。
【請求項４１】  セパレータの一つの側部が流体の流れに対して露出された一つの表面上の触媒コーティングを有する、分離された流体流れのための熱交換器を含み構成される請求項４０に記載の組み立て品。
【請求項４２】  該一つの側部の表面がＡｌ２Ｏ３のコートを含んでいる、請求項４１に記載の組み立て品。
【請求項４３】  Ａｌ２Ｏ３の表面コートが約１μｍ未満乃至約３μｍの公称分布範囲内の粒子サイズを含む、請求項４２に記載の組み立て品。
【請求項４４】  少なくとも一つの表面が約５μｍ未満公称分布範囲の金属酸化物粒子でコートされた、組み立て品を通過する流体流れを分離するために露出することを意図された対向する表面を有するセパレータを含む請求項４０に記載の微成分反応チャンバ組み立て品。
【請求項４５】  基板は熱交換機の構成要素である、請求項３１、３４及び３５のいずれか一項に記載の組み立て品。
【請求項４６】  小さいサイズの粒子がＡｌ２Ｏ３のコーティングを含み構成される、請求項４５に記載の組み立て品。
【請求項４７】  Ａｌ２Ｏ３のコーティングが約１μm未満乃至約３μmの公称分布範囲のＡｌ２Ｏ３の粒子サイズを含む、請求項４６に記載の組み立て品。
【請求項４８】  基板が成形された金属シートの表面を構成する、請求項３１または３４に記載の組み立て品。
【請求項４９】  金属酸化物に直接分解することが可能な材料が触媒の前駆体である、請求項４０乃至４８のいずれか一項に記載の組み立て品。
【請求項５０】  コーティングが触媒前駆体からなる、請求項４０乃至４９のいずれか一項に記載の組み立て品。