【手続補正書】
【提出日】平成16年7月14日(2004.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定の移動距離を有したウェーハステージと、
前記ウェーハステージ上に配設された少なくとも３個の干渉計と、
前記ウェーハステージに隣接して配設された第１静止ミラーと、
光学系とを具備したポジショニング及びアライメント装置において、
前記少なくとも３個の干渉計のうちの２個は平行な出力ビームを有しており、前記少なくとも３個の干渉計のうちの他の１個は、前記少なくとも３個の干渉計のうちの前記２個の干渉計の出力ビームに対して直交する出力ビームを有しており、
前記第１静止ミラーは前記ウェーハステージの移動距離をカバーできる長さを有し、前記光学系により光ビームが前記ウェハーステージ上の少なくとも３つの干渉計に向けられることにより、前記ウェーハステージの正確なポジショニング及びアライメントが行われるよう構成された、ポジショニング及びアライメント装置。
【請求項２】
一定の移動距離を有したウェーハステージと、
前記ウェーハステージ上に配設された干渉計と、
前記ウェーハステージに隣接して配設された第１静止ミラーと、
フォールドミラーと、
ウェーハステージに隣接しかつ前記第１静止ミラーに直交して配設された第２静止ミラーと、
前記ウェーハステージ上に配設された一対の干渉計と、
複数のビームスプリッタとを具備したポジショニング及びアライメント装置において、
前記第１静止ミラーは前記ウェーハステージの移動距離をカバーできる長さを有し、前記フォールドミラーにより光ビームが前記ウェーハステージ上の干渉計に向けられ、前記第２静止ミラーはウェーハステージの移動距離をカバーする長さを有し、前記複数のビームスプリッタにより光ビームが前記一対の干渉計へ向けられ、干渉計と一対の干渉計がウェーハステージ上で直角三角形を形成するよう配置され、前記ウェーハステージの正確なポジショニング及びアライメントが行われるよう構成された、ポジショニング及びアライメント装置。
【請求項３】
前記一対の干渉計が少なくとも２０センチの距離で互いに分離されている、請求項２記載のポジショニング及びアライメント装置。
【請求項４】
レーザ光源と、
ペンタプリズムとをさらに具備し、
前記レーザ光源により光ビームが前記第１静止ミラー又は第２静止ミラーに実質的に平行に向けられ、前記ペンタプリズムが光ビームを受光するよう配置された、請求項２記載のポジショニング及びアライメント装置。
【請求項５】
レーザ光源と、
ペンタプリズムと、
単一軸ウェーハステージと、
フォールドミラーとビームスプリッタの一組を更に具備し、
前記レーザ光源によりレーザ光ビームが、実質的に安定でかつ前記第１又は第２静止ミラーに対して直交方向に方向付けられ、
前記ペンタプリズムによりレーザ光ビームが受光され、
前記単一軸ウェーハステージはペンタプリズムを載置し、レーザ光ビームの伝播方向に平行に移動可能であり、該単一軸ウェーハステージを該軸方向に移動することによりレーザ光ビームを前記干渉計と一対の干渉計に方向付けることができ、
前記フォールドミラーとビームスプリッタの一組によりレーザ光ビームが前記干渉計と一対の干渉計に分配され、同時にレーザ光ビームがそれぞれの干渉計に関連付けられた第１又は第２静止ミラーに実質上直交方向にレーザ光が維持される、請求項２記載のポジショニング及びアライメント装置。
【請求項６】
レーザ光源と、
レーザ光を個々の干渉計に方向付ける手段とをさらに具備し、
前記レーザ光源によりレーザ光ビームが、前記第１と第２静止ミラーに対して実質的に安定な方向へ向けられ、
前記手段によりレーザ光が個々の干渉計に方向付けられる際、個々の干渉計に関連付けられた前記第１又は第２静止ミラーに対して名目上直交方向に維持される、請求項２記載の位置合わせ及びアライメント装置。
【請求項７】
ウェーハステージと、
前記ウェーハステージ上に配設された第１、第２及び第３干渉計と、
第１及び第２静止反射ミラーと、
複数のビームスプリッタとを具備した、フォトリソグラフィー用ポジショニング及びアライメント装置において、
前記第１静止反射ミラーは、前記第１と第２干渉計間に形成される線に実質上平行な面を有し、前記第１と第２干渉計からの光ビームを受光するよう配置され、
前記第２静止反射ミラーは、前記第１静止反射ミラーの表面に実質上直交する面を有し、前記第３干渉計からの光ビームを受光するよう配置され、
前記複数のビームスプリッタが、光ビームを、前記第１、第２、及び第３干渉計に方向付けるよう配置された、ポジショニング及びアライメント装置。
【請求項８】
前記複数のビームスプリッタが少なくとも１つのペンタプリズムを含む、請求項７記載のポジショニング及びアライメント装置。
【請求項９】
前記ウェーハステージから分離されかつ、光ビームを前記複数のビームスプリッタのうちの１つに向けるよう配置されたペンタプリズムをさらに具備した、請求項７記載のポジショニング及びアライメント装置。
【請求項１０】
前記ペンタプリズムが前記ウェーハステージと共に１軸方向においてのみ移動する、請求項９記載のポジショニング及びアライメント装置。
【請求項１１】
レーザ光源をさらに具備し、該レーザ光源から光ビームが前記軸に実質上平行に前記ペンタプリズムに向けられる、請求項１０記載の装置。
【請求項１２】
前記ウェーハステージに接続された支持体と、モータを更に具備し、
前記支持体は、前記ウェーハステージと共に前記軸に沿って移動し、上部には前記ペンタプリズムが載置され、
前記モータにより前記支持体が前記軸に沿って駆動される、請求項１１記載のポジショニング及びアライメント装置。
【請求項１３】
可動ウェーハステージと、
前記ウェーハステージ上に載置され、共に移動する少なくとも３個の干渉計と、
それぞれ長手方向軸を有した第１と第２静止反射ミラーと、
前記ウェーハステージを支持する反力手段と、
前記反力手段に取り付けられた支持体と、
前記支持体上に載置されたペンタプリズムと、
前記支持体を単一の軸に沿って駆動するモータと、
光ビームを前記ペンタプリズムに向けるレーザ光源とを具備した、フォトリソグラフィーにおけるウェーハのアライメントとポジショニングを行うためのポジショニング及びアライメント装置において、
前記可動ウェーハステージは３自由度を有し、
前記第１静止反射ミラーは前記少なくとも３個の干渉計のうちの２個から光ビームを受光するよう配置され、
前記第２静止反射ミラーは前記少なくとも３個の干渉計のうちの１個から光ビームを受光するよう配置され、
第１静止反射ミラーと第２静止反射ミラーそれぞれの長手方向軸は互いに直交しており、
前記レーザ光源からの光ビームが前記ペンタプリズムにより折り曲げられ、前記少なくとも３個の干渉計に方向付けられることにより、比較的軽量で、特定のねじれ又は回転の影響を受けない、改善された移動範囲を有したウェーハステージが得られるよう構成された、ポジショニング及びアライメント装置。
【請求項１４】
一定の移動距離を有したステージと、
それぞれ出力ビームを有する、前記ステージ上に配設された少なくとも３個の干渉計と、
前記ステージに隣接して配設された第１静止ミラーと、
前記ステージに隣接しかつ前記第１静止ミラーに直交して配設された第２静止ミラーと、
前記ステージ上に配設された少なくとも３個の干渉計にレーザビームを供給する手段とを具備したポジショニング及びアライメント装置において、
前記少なくとも３個の干渉計は、少なくとも２つの出力ビームが平行であり、他の１つの出力ビームが当該少なくとも２つの出力ビームに直交するようにポジショニングされており、
前記第１静止ミラーは、前記第１静止ミラーに対して平行な第１の軸に沿って、前記ステージの移動距離をカバーできる長さを有し、
前記第２静止ミラーは、前記第２静止ミラーに対して平行な第２の軸に沿って、前記ステージの移動距離をカバーできる長さを有しており、前記ステージの正確なポジショニング及びアライメントが行われるよう構成された、ポジショニング及びアライメント装置。
【請求項１５】
前記レーザビームを供給する手段はフォールドミラーを含む、請求項１４記載のポジショニング及びアライメント装置。
【請求項１６】
前記レーザビームを供給する手段はプリズムを含む、請求項１４記載のポジショニング及びアライメント装置。
【請求項１７】
前記レーザビームを供給する手段は、２ミリラジアンより少ないステージの回転の間にアライメントを維持する手段を含む、請求項１４記載のポジショニング及びアライメント装置。
【請求項１８】
前記少なくとも２つの出力ビームおよび他の１つの出力ビームは第１の平面内にある、請求項１４記載のポジショニング及びアライメント装置。
【請求項１９】
付加的な干渉計は付加的な出力ビームを有し、当該付加的な出力ビームは前記第１の平面からオフセットされた平面内にある、請求項１８記載のポジショニング及びアライメント装置。