(57)【要約】  化学強化による高い強度と高い平滑性を兼ね備え、効率的に製造することができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、該製造方法により製造した情報記録媒体用ガラス基板及び該情報記録媒体用ガラス基板を用いた情報記録媒体を提供する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学強化処理液にガラス基板を浸漬し、前記ガラス基板に含まれるアルカリ金属イオンを前記化学強化処理液に含まれるアルカリ金属イオンで置換して前記ガラス基板を化学強化する化学強化工程を含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
前記化学強化工程と、
前記ガラス基板の表面の表面粗さＲａを増大させる均一化工程と、
前記表面を研磨する第２研磨工程と、
をこの順に行うことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記均一化工程は、化学強化された前記ガラス基板の前記表面を溶解液でエッチングする工程であることを特徴とする請求の範囲第１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記表面の表面粗さＲａが、
前記化学強化工程を行う前は０．３〜０．５ｎｍ、前記均一化工程後は０．６〜２ｎｍ、前記第２研磨工程後は０．３ｎｍ以下であることを特徴とする請求の範囲第１項又は第２項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
請求の範囲第１項乃至第３項の何れか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって製造されたことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項５】
請求の範囲第４項に記載された情報記録媒体用ガラス基板の上に、少なくとも情報を記録する記録層が形成されていることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項６】
前記記録層は、磁性材料から成る磁性層であることを特徴とする請求の範囲第５項に記載の情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気、光、光磁気等の性質を利用した記録層を有する情報記録媒体に用いる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、該製造方法により製造した情報記録媒体用ガラス基板、及び、該情報記録媒体用ガラス基板を用いた情報記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気、光、光磁気等の性質を利用した記録層を有する情報記録媒体のなかで、代表的なものとして磁気ディスクがある。磁気ディスク用基板として、従来アルミニウム基板が広く用いられていた。しかし、近年、記録密度向上のための磁気ヘッド浮上量の低減の要請に伴い、アルミニウム基板よりも表面の平滑性に優れ、しかも表面欠陥が少ないことから磁気ヘッド浮上量の低減を図ることができるガラス基板を磁気ディスク用基板として用いる割合が増えてきている。【０００３】
このような磁気ディスク等の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、ガラス基板の耐衝撃性や耐振動性を向上させ衝撃や振動によって基板が破損するのを防止する目的で、ガラス基板の表面に化学強化処理を施して基板を強化することが一般的に行われている。化学強化処理は、通常、化学強化処理液にガラス基板を浸漬し、ガラス基板に含まれるリチウムイオン、ナトリウムイオン等のアルカリ金属イオンをこれらのイオンよりイオン半径の大きなカリウムイオン等のアルカリ金属イオンでイオン交換することでガラス基板の表面に圧縮応力層を形成するイオン交換法によって行われる。【０００４】
しかし、このような化学強化処理を行うことで、ガラス基板の平滑性が悪化することが知られている。これを解決するための一つの方策として、ガラス基板の表面をイオン交換処理した後、研磨による厚さの減少が１つの面において０．７μｍよりも大きくなるように研磨処理を行う方法が提案されている（例えば、特許文献１を参照。）。
【特許文献１】特開平８−１２４１５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１で提案されているように、化学強化処理されたガラス基板の表面をそのまま再度研磨する方法では、要求されている平滑性を得ることができなかったり、平滑性が得られたとしてもそのために多大な時間と労力が必要になるという問題があった。【０００６】
特に、近年、記録密度向上のための磁気ヘッド浮上量の低減の要請に伴って、情報記録媒体用ガラス基板には、表面粗さＲａが０．３ｎｍ以下という非常に高いレベルの平滑性が要求されるようになってきたが、このような高い平滑性を有するガラス基板を効率的に製造することは非常に困難であった。【０００７】
本発明は上記のような技術的課題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、化学強化による高い強度と高い平滑性を兼ね備え、効率的に製造することができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、該製造方法により製造した情報記録媒体用ガラス基板及び該情報記録媒体用ガラス基板を用いた情報記録媒体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、本発明は以下の特徴を有するものである。
１．
化学強化処理液にガラス基板を浸漬し、前記ガラス基板に含まれるアルカリ金属イオンを前記化学強化処理液に含まれるアルカリ金属イオンで置換して前記ガラス基板を化学強化する化学強化工程を含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
前記化学強化工程と、
前記ガラス基板の表面の表面粗さＲａを増大させる均一化工程と、
前記表面を研磨する第２研磨工程と、
をこの順に行うことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
２．
前記均一化工程は、化学強化された前記ガラス基板の前記表面を溶解液でエッチングする工程であることを特徴とする１．に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
３．
前記表面の表面粗さＲａが、
前記化学強化工程を行う前は０．３〜０．５ｎｍ、前記均一化工程後は０．６〜２ｎｍ、前記第２研磨工程後は０．３ｎｍ以下であることを特徴とする１．又は２．に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
４．
１．乃至３．の何れか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって製造されたことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
５．
４．に記載された情報記録媒体用ガラス基板の上に、少なくとも情報を記録する記録層が形成されていることを特徴とする情報記録媒体。
６．
前記記録層は、磁性材料から成る磁性層であることを特徴とする５．に記載の情報記録媒体。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、ガラス基板の化学強化を行った後、化学強化されたガラス基板の表面を均一に荒らして、該表面の表面粗さＲａを増大させる工程を行うことで、ガラス基板の表面全体が均一化された状態となり、その後再び研磨することによって高い平滑性を有するガラス基板を効率的に得ることができる。従って、化学強化による高い強度と高い平滑性を兼ね備え、効率的に製造することができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、該製造方法により製造した情報記録媒体用ガラス基板及び該情報記録媒体用ガラス基板を用いた情報記録媒体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明における情報記録媒体用ガラス基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【図２】本発明の情報記録媒体用ガラス基板の一例を示す図である。
【図３】本発明の情報記録媒体用ガラス基板の別の例を示す図である。
【図４】化学強化工程の前後におけるガラス基板の表面の粗さ曲線のイメージ図である。
【図５】均一化工程後のガラス基板の表面の粗さ曲線のイメージ図である。
【図６】第２研磨工程後のガラス基板の表面の粗さ曲線のイメージ図である。
【符号の説明】
【００１１】
１０、１０ａ、１０ｂ  ガラス基板
１１、１１ａ、１１ｂ  表面
１３  中心孔
１４  外周端面
１５  内周端面
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。【００１３】
（情報記録媒体用ガラス基板）
図２は、本発明の情報記録媒体用ガラス基板の一例を示す図である。図２（ａ）は斜視図、図２（ｂ）は断面図である。ガラス基板１０は、中心孔１３を有する円板状ガラス基板であり、記録層が形成される表面１１を有する。外周端面１４及び内周端面１５には面取り部１６及び１７がそれぞれ設けられている。【００１４】
また、ガラス基板１０は、化学強化された領域１８と化学強化されていない領域１９とを有している。化学強化された領域１８とは、ガラス基板を加熱された化学強化処理液に浸漬することによって、ガラス基板に含まれるリチウムイオン、ナトリウムイオン等のアルカリ金属イオンがそれよりイオン半径の大きなカリウムイオン等のアルカリ金属イオンによって置換された領域であり、イオン半径の違いによって生じる歪みにより、化学強化された領域１８に圧縮応力が発生することでガラス基板が強化されている。【００１５】
図３は、本発明の情報記録媒体用ガラス基板の別の例を示す図である。図３（ａ）は、第２研磨工程（化学強化処理後の研磨工程）における研磨量を大きくした場合のガラス基板１０ａを示す断面図であり、図３（ｂ）は、第２研磨工程における研磨量を更に大きくした場合のガラス基板１０ｂを示す断面図である。図３（ａ）のガラス基板１０ａは、表面１１ａを研磨したことによって、表面１１ａに残る化学強化された領域の深さが、外周端面１４及び内周端面１５に残る化学強化された領域の深さよりも浅くなっている。更に、図３（ｂ）のガラス基板１０ｂでは、表面１１ｂの研磨量が更に大きいため、表面１１ｂには化学強化されていない領域１９が直接露出しており、化学強化された領域１８は外周端面１４及び内周端面１５のみに存在している。【００１６】
このように、本発明の情報記録媒体用ガラス基板においては、表面に強化された領域が残っているか否か、あるいは強化された領域の厚みなどについて特に限定はされず、少なくとも外周端面１４及び内周端面１５に強化された領域１８が存在していれば良い。【００１７】
ガラス基板１０の材料としては、イオン交換による化学強化が可能なガラスであれば特に制限はない。例えば、ＳｉＯ2、Ｎａ2Ｏ、ＣａＯを主成分としたソーダライムガラス；ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｒ2Ｏ（Ｒ＝Ｋ、Ｎａ、Ｌｉ）を主成分としたアルミノシリケートガラス；ボロシリケートガラス；Ｌｉ2Ｏ−ＳｉＯ2系ガラス；Ｌｉ2Ｏ−Ａｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラス；Ｒ’Ｏ−Ａｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラス（Ｒ’＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）などを使用することができる。中でも、アルミノシリケートガラスやボロシリケートガラスは、耐衝撃性や耐振動性に優れるため特に好ましい。【００１８】
特に、溶解特性と情報記録媒体用としての機械強度、各種物理特性、安定性のバランスを考慮すると、ＳｉＯ2を主成分とした材料がより好ましい。さらに、ＳｉＯ2の含有量は４５〜８５質量％の範囲であることがより好ましい。【００１９】
ガラス基板１０の大きさに限定はない。例えば、外径が２．５インチ、１．８インチ、１インチ、０．８インチなど種々の大きさのガラス基板を用いることができる。また、ガラス基板１０の厚みにも限定はない。例えば、２ｍｍ、１ｍｍ、０．６３ｍｍなど種々の厚みのガラス基板１０を用いることができる。【００２０】
（情報記録媒体用ガラス基板の製造工程）
図１は、本発明における情報記録媒体用ガラス基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。【００２１】
本発明の情報記録媒体用ガラス基板は、Ｓ１のブランク材作製工程、Ｓ２の内外周加工工程、Ｓ３のラッピング工程等の前工程を経た後、Ｓ４の第１研磨工程、Ｓ５の化学強化工程、Ｓ６の均一化工程及びＳ７の第２研磨工程を順に行うことで製造される。本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、これらの工程の内、主にＳ６の均一化工程及びＳ７の第２研磨工程に特徴を有するものである。【００２２】
ブランク材作製工程、内外周加工工程、ラッピング工程等の前工程は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法として通常用いられている方法により行うことができる。ブランク材作製工程は情報記録媒体用ガラス基板の基になるブランク材を作製する工程であり、溶融ガラスをプレス成形して作製する方法や、シート状のガラスを切断して作製する方法が知られている。内外周加工工程は、中心孔の穿孔加工、外周端面や内周端面の形状や寸法精度確保のための研削加工、内外周端面の研磨加工等を行う工程である。ラッピング工程は、記録層が形成される面の平坦度、厚み、平行度等を満足させるためのラッピング加工を行う工程である。【００２３】
これらの前工程の各工程の順序は、図１に示したものに限定されず、状況に応じて適宜変更して実施することができる。例えば、ブランク材作製工程及びラッピング工程を行った後に内外周加工工程を行っても良い。また、ラッピング工程を前半工程と後半工程の二つの工程に分け、ラッピング工程の前半工程の後に内外周加工工程を行い、その後にラッピング工程の後半工程を行っても良い。【００２４】
なお、本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、上記以外の種々の工程を有していても良い。例えば、ガラス基板１０の内部歪みを緩和するためのアニール工程、ガラス基板１０の強度の信頼性確認のためのヒートショック工程、ガラス基板１０の表面に残った研磨剤や化学強化処理液等の異物を除去する洗浄工程、種々の検査・評価工程等を有していても良い。【００２５】
（第１研磨工程）
第１研磨工程は、化学強化工程の前にガラス基板１０の表面を研磨する工程であり、ガラス基板１０の表面のキズや凹凸を除去し、平滑性を向上させる工程である。研磨の方法は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法として公知の方法をそのまま用いることができる。例えば、対向配置した２つの回転可能な定盤の対向する面にパッドを貼り付け、２つのパッド間にガラス基板１０を配置し、ガラス基板１０表面にパッドを接触させながら回転させると同時に、ガラス基板１０表面に研磨剤を供給する方法で行うことができる。【００２６】
研磨剤としては、例えば、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化マンガン、コロイダルシリカ、ダイヤモンドなどが挙げられる。この中でも、ガラスとの反応性が高く、短時間で平滑な研磨面が得られる酸化セリウムを用いることが好ましい。【００２７】
パッドは硬質パッドと軟質パッドとに分けられるが、必要に応じて適宜選択して用いることができる。硬質パッドとしては、硬質ベロア、ウレタン発泡、ピッチ含有スウェード等を素材とするパッドが挙げられ、軟質パッドとしては、スウェードやベロア等を素材とするパッドが挙げられる。【００２８】
また、研磨剤の粒度やパッドの種類を変えて、粗研磨工程、精密研磨工程といったように複数の工程に分けて研磨を行うことも好ましい。また、第１研磨工程の後、ガラス基板１０の表面に残った研磨剤を除去するための洗浄工程を行うことが好ましい。【００２９】
本発明において、第１研磨工程後のガラス基板１０の表面の表面粗さＲａについて特に制限はないが、最終的に高い平滑性を有するガラス基板１０を得るためには、第１研磨工程後のガラス基板１０の表面の表面粗さＲａを０．３〜０．５ｎｍの範囲とすることが好ましい。続く化学強化工程においてはガラス基板１０の表面の平滑性が不均一に悪化するという現象が起こるのであるが、第１研磨工程後のＲａが０．５ｎｍを超えると、その悪化の程度が顕著に大きくなってくる。そのため、最終的に高い平滑性を有するガラス基板１０を得るためには均一化工程におけるＲａの増加量を大きくしなければならず、第２研磨工程に必要以上の時間と労力が必要となってくる。また、Ｒａを０．３ｎｍ未満としても、最終的に高い平滑性を有するガラス基板１０を得るという本発明の効果に影響はないが、第１研磨工程に必要以上に時間と労力をかけることになってしまう。【００３０】
なお、表面粗さＲａとは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１で規定されている算術平均高さＲａのことをいう。表面粗さＲａは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）等により測定することができる。【００３１】
（化学強化工程）
化学強化工程は、加熱された化学強化処理液にガラス基板１０を浸漬することによってガラス基板１０に含まれるリチウムイオン、ナトリウムイオン等のアルカリ金属イオンをそれよりイオン半径の大きなカリウムイオン等のアルカリ金属イオンによって置換するイオン交換法によって行われる。イオン半径の違いによって生じる歪みより、イオン交換された領域に圧縮応力が発生し、ガラス基板１０の表面が強化される。【００３２】
化学強化処理液に特に制限はなく、公知の化学強化処理液を用いることができる。通常、カリウムイオンを含む溶融塩又はカリウムイオンとナトリウムイオンをふくむ溶融塩を用いることが一般的である。カリウムイオンやナトリウムイオンを含む溶融塩としては、カリウムやナトリウムの硝酸塩、炭酸塩、硫酸塩やこれらの混合溶融塩が挙げられる。中でも、融点が低く、ガラス基板１０の変形を防止できるという観点からは、硝酸塩を用いることが好ましい。【００３３】
化学強化処理液は、上記の成分が融解する温度よりも高温になるよう加熱される。一方、化学強化処理液の加熱温度が高すぎると、ガラス基板１０の温度が上がりすぎ、ガラス基板１０の変形を招く虞がある。このため、化学強化処理液の加熱温度はガラス基板１０のガラス転移点（Ｔｇ）よりも低い温度が好ましく、ガラス転移点−５０℃よりも低い温度とすることが更に好ましい。【００３４】
従来、化学強化処理を行うことで、ガラス基板１０の平滑性が悪化することが知られていた。本発明者は、化学強化処理による平滑性の悪化は、ガラス基板１０の表面が均一に荒らされて起こるものではなく、比較的大きな凹凸、特に凸部が不均一に発生することによって起こることを突き止めた。このような凹凸は、化学強化処理液である硝酸塩等の結晶が強固に付着したり、化学強化処理液による浸食等によって起こるものと考えられる。【００３５】
図４は、化学強化工程の前後におけるガラス基板１０の表面の粗さ曲線のイメージ図である。図４の横軸はガラス基板１０の表面１１の距離Ｌ（μｍ）、縦軸は表面１１の高さＨ（ｎｍ）である。図４（ａ）は化学強化工程の前、図４（ｂ）は化学強化工程の後の状態を示している。化学強化工程の前は、第１研磨工程によって均一に研磨された状態であり、粗さ曲線は均一で大きな異常は認められない。しかし、化学強化工程の後は、平均的な粗さに大きな変化は見られないが、比較的大きな凹凸が不均一に存在することが認められる。【００３６】
ガラス基板１０の表面がこのような状態のままで更に表面の研磨を行っても、不均一に存在する凹凸の影響を受けるため、表面全体を高い平滑性に仕上げることは困難である。本発明者は、化学強化工程の後そのまま研磨を行うのではなく、一旦ガラス基板１０の表面を均一に荒らして表面粗さＲａを増大させる均一化工程を行った後に研磨を行うことで、化学強化工程で発生した不均一な凹凸の影響を受けず、ガラス基板１０の表面全体を効率的に高い平滑性に仕上げることができることを見いだしたのである。【００３７】
なお、加熱された化学強化処理液に浸漬される際の熱衝撃によるガラス基板１０の割れや微細なクラックの発生を防止するため、化学強化処理液への浸漬に先立って、予熱槽でガラス基板１０を所定温度に加熱する予熱工程を有していても良い。【００３８】
（均一化工程）
均一化工程は、化学強化されたガラス基板１０の表面を荒らして、表面の表面粗さＲａを増大させる工程である。上述のように、化学強化工程の後、一旦ガラス基板１０の表面を均一に荒らして表面粗さＲａを増大させる均一化工程を行った後に研磨を行うことで、化学強化工程で発生した不均一な凹凸の影響を受けず、ガラス基板１０の表面全体を効率的に高い平滑性に仕上げることができる。すなわち、図４（ｂ）に示すようなガラス基板１０の表面の出っ張り部を除去した後、図５に示すような均一な凹凸をガラス基板１０の表面に形成する。【００３９】
均一化工程は、化学強化されたガラス基板１０の表面を荒らして、表面の表面粗さＲａを増大させることができれば、その方法に特に制限はない。例えば、第２研磨工程で用いる研磨剤よりも大きな粒径の研磨剤を用いて研磨する方法、溶解液によってエッチングする方法、サンドブラストを行う方法等が挙げられる。中でも、ガラス基板１０の表面全体を効率的に荒らすことができるという観点からは、溶解液によるエッチングを行う方法が好ましい。【００４０】
エッチングに用いる溶解液は、フッ化水素酸、ケイフッ酸、フッ化アンモニウム、およびそれらの少なくとも一つ以上を含む酸性水溶液、もしくはＮａＯＨ、ＫＯＨを主成分とする強アルカリ水溶液等を適宜選択して用いることができる。
酸性水溶液を用いる場合については、溶解速度、均質性、安定性などを加味して必要に応じて、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、シュウ酸、クエン酸などの酸薬品、界面活性剤などを添加し、溶解液の特性を調整することが好ましい。強アルカリ水溶液を用いる場合についても、界面活性剤などを添加し、溶解液の特性を調整して、溶解液の特性を調整することが好ましい。このようにして溶解液の特性を調整することによりＳｉＯ2を主成分とするガラスに対するエッチング反応性を高めることができる。
より好ましくは、ケイフッ酸、フッ化アンモニウム、およびそれらの少なくとも一つ以上を含む酸性水溶液を用いることにより、ＳｉＯ2を主成分とするガラスに対するエッチング反応性を非常に高めることができ、かつ表面粗さの制御を容易行うことができる。
また、効率的にエッチングを行うために溶解液を加熱して用いることも好ましい。【００４１】
図５は、均一化工程後のガラス基板１０の表面の粗さ曲線のイメージ図である。図５の横軸はガラス基板１０の表面１１の距離Ｌ（μｍ）、縦軸は表面１１の高さＨ（ｎｍ）である。
図５に示すように、化学強化工程で発生した凹凸が減少し、全体が均一に荒らされた状態となっている。均一化工程後のガラス基板１０の表面の表面粗さＲａについて特に制限はないが、最終的に高い平滑性を有するガラス基板１０を効率的に得るためには、均一化工程後のガラス基板１０の表面の表面粗さＲａを０．６〜２ｎｍの範囲とすることが好ましい。表面粗さＲａが０．６ｎｍ未満の場合は化学強化工程で発生した凹凸を十分除去できず、最終的に高い平滑性を有するガラス基板１０を得ることが困難となる虞がある。表面粗さＲａが２ｎｍを超える場合には、第２研磨工程に必要以上に時間と労力をかけることになってしまう。【００４２】
なお、均一化工程の前後に、化学強化処理液や溶解液等を十分に除去するための洗浄工程を設けることも好ましい。【００４３】
（第２研磨工程）
第２研磨工程は、均一化工程によって表面が均一に荒らされたガラス基板１０の表面を研磨する工程である。研磨の方法は、情報記録媒体用ガラス基板１０の製造方法として公知の方法をそのまま用いることができる。例えば、第１研磨工程と同様の研磨剤やパッドを用いて、第１研磨工程と同様の方法で研磨することができる。
あるいは、テクスチャー加工を用いて研磨してもよい。テクスチャー加工は、ダイヤモンド等の微細な研磨スラリーを用いたテープ研磨加工方法であり、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法として一般的な方法である。【００４４】
第２研磨工程によって、ガラス基板１０の表面の化学強化された領域が減少する。第２研磨工程の後のガラス基板１０の表面に強化された領域が残っているか否か、あるいは残っている強化された領域の厚み等についても制限はない。【００４５】
図６は、第２研磨工程後のガラス基板１０の表面の粗さ曲線のイメージ図である。図６の横軸はガラス基板１０の表面１１の距離Ｌ（μｍ）、縦軸は表面１１の高さＨ（ｎｍ）である。
このように、第２研磨工程後のガラス基板１０の表面１１は、均一で高い平滑性が得られている。第２研磨工程後のガラス基板１０の表面の表面粗さＲａについても特に制限はないが、記録密度向上のための磁気ヘッド浮上量の低減を図るという観点からは、第２研磨工程後のガラス基板１０の表面の表面粗さＲａを０．３ｎｍ以下とすることが好ましい。【００４６】
（情報記録媒体）
本発明の情報記録媒体用ガラス基板１０の上に、少なくとも記録層を形成することで情報記録媒体を得ることができる。記録層は特に限定されず、磁気、光、光磁気等の性質を利用した種々の記録層を用いることができるが、特に磁性層を記録層として用いた情報記録媒体（磁気ディスク）の製造に好適である。【００４７】
磁性層に用いる磁性材料としては、特に限定はなく公知の材料を適宜選択して用いることができる。例えば、Ｃｏを主成分とするＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔＴａ、ＣｏＣｒＰｔＳｉＯなどが挙げられる。また、磁性層を非磁性膜（例えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、ＣｒＶなど）で分割してノイズの低減を図った多層構成としてもよい。【００４８】
磁性層として、上記のＣｏ系材料の他、フェライト系や鉄−希土類系の材料や、ＳｉＯ2、ＢＮなどからなる非磁性膜中にＦｅ、Ｃｏ、ＣｏＦｅ、ＣｏＮｉＰｔ等の磁性粒子が分散された構造のグラニュラーなどを用いることもできる。磁性層は、面内型、垂直型の何れであっても良い。【００４９】
磁性膜の形成方法としては、公知の方法を用いることがでる。例えば、スパッタリング法、無電解メッキ法、スピンコート法などが挙げられる。【００５０】
磁気ディスクには、更に必要により下地層、保護層、潤滑層等を設けても良い。これらの層はいずれも公知の材料を適宜選択して用いることができる。下地層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、Ｎｉなどが挙げられる。保護層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ｃ、ＺｒＯ2、ＳｉＯ2などが挙げられる。また、潤滑層としては、例えば、パーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）等からなる液体潤滑剤を塗布し、必要に応じ加熱処理を行ったものなどが挙げられる。
【実施例】
【００５１】
（実施例１〜４）
ガラス材料としてアルミノシリケートガラスを用い、溶融ガラスをプレス成形してブランク材を作製した。内外周加工工程、ラッピング工程の後、第１研磨工程を行い外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、厚み０．６３５ｍｍのガラス基板１０とした。第１研磨工程では、研磨剤として酸化セリウムを用いた。第１研磨工程後のガラス基板１０の表面の表面粗さＲａは０．４ｎｍであった。表面粗さＲａの測定は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて行った。【００５２】
次に、ガラス基板１０を化学強化処理液に浸漬して化学強化工程を行った。化学強化処理液には、硝酸カリウム（ＫＮＯ3）と硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ3）の混合溶融塩を用いた。混合比は質量比で１：１とした。また、化学強化処理液の温度は４００℃、浸漬時間は４０分とした。【００５３】
化学強化処理工程の後、ガラス基板１０を溶解液に浸漬して均一化工程を行った。溶解液にはフッ化水素酸を用いた。溶解液の温度は２５℃とした。浸漬時間を種々変更して、表面粗さＲａが０．６ｎｍ（実施例１）、１ｎｍ（実施例２）、２ｎｍ（実施例３）、３ｎｍ（実施例４）となったガラス基板１０をそれぞれ１０枚ずつ作製した。【００５４】
その後、第２研磨工程を行い、表面粗さＲａの測定を行った。第１研磨工程と同様に研磨剤として酸化セリウムを用いた。各条件で１０枚ずつのガラス基板１０のうち、第２研磨工程における研磨時間が５分のものを５枚、研磨時間が１５分のものを５枚とした。評価は、研磨時間５分の条件で表面粗さＲａが０．３ｎｍ以下となった場合を最も良好（評価◎）、研磨時間１５分の条件で表面粗さＲａが０．３ｎｍ以下となった場合を良好（評価○）、研磨時間１５分の条件でも表面粗さＲａが０．３ｎｍ以下とならなかった場合を問題有り（評価×）とした。なお、表面粗さＲａは、ガラス基板１０５枚の測定値の平均値を用いた。【００５５】
結果を表１に示す。第２研磨工程後の表面粗さＲａが０．６〜２ｎｍの範囲にある実施例１、２、３は、いずれも研磨時間５分の条件で表面粗さＲａが０．３ｎｍ以下となっており、非常に良好であった。第２研磨工程後の表面粗さＲａが３ｎｍであった実施例４は、研磨時間１５分の条件で表面粗さＲａが０．３ｎｍ以下となり、良好な平滑性を有するガラス基板１０を得ることができた。【００５６】
【表１】
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【００５７】
（比較例１）
均一化工程を行わなかった以外は実施例１と同じ条件でガラス基板１０を作製し、第２研磨工程後の表面粗さＲａを測定した。結果を表１に併せて示す。均一化工程を行わなかったため、第２研磨工程における研磨時間が１５分の条件でも表面粗さＲａが０．３ｎｍ以下とならず、良好な平滑性を有するガラス基板１０を得ることはできなかった。
【図１】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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