【手続補正書】
【提出日】平成17年1月28日(2005.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１物体のパターンの像を第２物体上に形成する屈折型の投影光学系において、
開口数を決定するための開口絞りと、
複数のレンズ素子からなり、前記第１物体と前記開口絞りとの間に位置する前レンズ群と、
複数のレンズ素子からなり、前記開口絞りと前記第２物体との間に位置する後レンズ群と、
を備え、
前記第１物体から前記第２物体までの距離をＬ、近軸上において、前記第２物体側から光軸に平行に前記投影光学系へ入射する光線が前記光軸と交わる位置から前記開口絞りまでの光軸上の距離をｄ、前記投影光学系の前記第２物体側の開口数をN.A.としたとき、以下の条件を満足することを特徴とする投影光学系。
０．００５＜ｄ／｛Ｌ×（１−N.A.）｝＜０．２      （Ａ）
【請求項２】
請求項１記載の投影光学系であって、
前記開口絞りは可変開口絞りであり、前記開口絞りによって前記第２物体側の開口数N.A.を変えたときに、前記第２物体上の投影領域において口径食の差が最小になるように、前記開口絞りの位置を、近軸上において前記第２物体側からの光軸と平行な光線が前記光軸と交わる位置より前記第２物体側に配置したことを特徴とする投影光学系。
【請求項３】
請求項１又は２記載の投影光学系であって、
前記前レンズ群と前記後レンズ群とは、全体として前記第１物体側から順に、
正の屈折力を有する第１レンズ群と、
負の屈折力を有する第２レンズ群と、
正の屈折力を有する第３レンズ群と、
負の屈折力を有する第４レンズ群と、
正の屈折力を有する第５レンズ群と、
を配置して構成されることを特徴とする投影光学系。
【請求項４】
請求項３記載の投影光学系であって、
前記第１レンズ群は両側を負レンズに挟まれた部分群Ｇ１ｐを含み、前記第２レンズ群は両側を正レンズに挟まれた部分群Ｇ２ｎを含み、前記第４レンズ群は少なくとも３枚の負レンズを含む部分群Ｇ４ｎを有し、前記第５レンズ群は少なくとも４枚の正レンズを含む部分群Ｇ５ｐを有し、
前記第１物体から前記第２物体までの距離をＬ、前記第１レンズ群中の部分群Ｇ１ｐの焦点距離をｆ１、前記第２レンズ群中の部分群Ｇ２ｎの焦点距離をｆ２、前記第３レンズ群の焦点距離をｆ３、前記第４レンズ群中の部分群Ｇ４ｎの焦点距離をｆ４、前記第５レンズ群中の部分群Ｇ５ｐの焦点距離をｆ５としたとき、以下の条件を満足することを特徴とする投影光学系。
０．０５＜ｆ１／Ｌ＜０．４                    （Ｂ）
０．０２５＜−ｆ２／Ｌ＜０．１５              （Ｃ）
０．０８＜ｆ３／Ｌ＜０．３５                  （Ｄ）
０．０４＜−ｆ４／Ｌ＜０．１６                （Ｅ）
０．０６＜ｆ５／Ｌ＜０．３５                  （Ｆ）
【請求項５】
第１物体のパターンの像を第２物体上に形成する投影光学系において、
前記第１物体側から順に、
両側を負レンズに挟まれた部分群Ｇ１ｐを含む、正の屈折力を有する第１レンズ群と、
両側を正レンズに挟まれた部分群Ｇ２ｎを含む、負の屈折力を有する第２レンズ群と、
少なくとも１枚の負レンズを含む、正の屈折力を有する第３レンズ群と、
少なくとも３枚の負レンズを含む部分群Ｇ４ｎを有し、負の屈折力を有する第４レンズ群と、
少なくとも４枚の正レンズを含む部分群Ｇ５ｐを有し、全体として少なくとも２枚の負レンズを含み、開口数を決定する開口絞りを内部のレンズ間に有すると共に、正の屈折力を有する第５レンズ群と、を備え、
近軸上において、前記第２物体側からの光軸と平行な光線が光軸と交わる位置を、前記第４レンズ群と前記第５レンズ群との間に有し、
前記第１物体から前記第２物体までの距離をＬ、前記第１レンズ群中の部分群Ｇ１ｐの焦点距離をｆ１、前記第２レンズ群中の部分群Ｇ２ｎの焦点距離をｆ２、前記第３レンズ群の焦点距離をｆ３、前記第４レンズ群中の部分群Ｇ４ｎの焦点距離をｆ４、前記第５レンズ群中の部分群Ｇ５ｐの焦点距離をｆ５、近軸上において前記第２物体側からの光軸と平行な光線が光軸と交わる位置から前記第５レンズ群中の前記開口絞りまでの光軸上の距離をｄ、前記投影光学系の前記第２物体側の開口数をN.A.としたとき、以下の条件を満足することを特徴とする投影光学系。
０．０５＜ｆ１／Ｌ＜０．４                    （１）
０．０２５＜−ｆ２／Ｌ＜０．１５              （２）
０．０８＜ｆ３／Ｌ＜０．３５                  （３）
０．０４＜−ｆ４／Ｌ＜０．１６                （４）
０．０６＜ｆ５／Ｌ＜０．３５                  （５）
０．００５＜ｄ／｛Ｌ×（１−N.A.）｝＜０．２  （６）
【請求項６】
請求項５記載の投影光学系であって、
前記第２物体上の投影領域の最周辺から光軸と平行に前記第２物体側から入射する光線と、前記第１レンズ群中の部分群Ｇ１ｐを挟む２枚の前記負レンズの各々の面とが交わる点と光軸との距離の最大値をＨ１max 、最小値をＨ１min とするとき、以下の条件を満足することを特徴とする投影光学系。
１．２＜Ｈ１max ／Ｈ１min ＜１．８        （７）
【請求項７】
請求項５又は６記載の投影光学系であって、
前記第２物体上の投影領域の最周辺から光軸と平行に前記第２物体側から入射する光線と、前記第２レンズ群中の部分群Ｇ２ｎを挟む２枚の前記正レンズの各々の面とが交わる点と光軸との距離の最大値をＨ２max 、最小値をＨ２min とするとき、以下の条件を満足することを特徴とする投影光学系。
１．１５＜Ｈ２max ／Ｈ２min ＜１．７５    （８）
【請求項８】
請求項５、６、又は７記載の投影光学系であって、
前記第５レンズ群中の少なくとも２枚の前記負レンズは、前記第１物体側に向けられた凹面を有し、該凹面の曲率半径をＲｎ１とするとき、以下の条件を満たすことを特徴とする投影光学系。
０．１５＜−Ｒｎ１／Ｌ＜０．３            （９）
【請求項９】
請求項８記載の投影光学系であって、
前記第５レンズ群中の少なくとも２枚の前記負レンズは、前記第１物体側に向けられた凹面よりも前記第２物体側に、前記第２物体側に向けられた第２の凹面を有し、該第２の凹面の曲率半径をＲｎ２とするとき、以下の条件を満たすことを特徴とする投影光学系。
０．０６＜Ｒｎ２／Ｌ＜０．１              （１０）
【請求項１０】
請求項５〜９の何れか一項記載の投影光学系であって、
前記第３レンズ群は、１枚の負レンズと、複数枚の正レンズとを含み、
前記第３レンズ群中の前記負レンズは、前記複数枚の正レンズよりも前記第１物体側に配置されることを特徴とする投影光学系。
【請求項１１】
請求項５〜１０の何れか一項記載の投影光学系であって、
前記第４レンズ群中の最も前記第１物体側には、前記第１物体側に凸面を向けたレンズが配置され、前記第４レンズ群中の最も前記第２物体側には、前記第２物体側に凸面を向けたレンズが配置されることを特徴とする投影光学系。
【請求項１２】
請求項５〜１１の何れか一項記載の投影光学系であって、
前記開口絞りは可変開口絞りであり、前記開口絞りによって前記第２物体側の開口数N.A.を変えたときに、前記第２物体上の投影領域において口径食の差が最小になるように、前記開口絞りの位置を、近軸上において前記第２物体側からの光軸と平行な光線が光軸と交わる位置より前記第２物体側に配置したことを特徴とする投影光学系。
【請求項１３】
請求項１〜１２の何れか一項記載の投影光学系と、
前記第１物体としてのマスク及び前記第２物体としての基板を位置決めするステージ系と、
前記マスクを照明する照明光学系と、を備え、
前記照明光学系からの露光エネルギービームのもとで、前記マスクのパターンの像を前記投影光学系を介して前記基板上に投影することを特徴とする露光装置。
【請求項１４】
回路パターンの像を形成するための請求項１〜１２の何れか一項記載の投影光学系を備え、
露光エネルギービームのもとで、前記回路パターンの像を前記投影光学系を介して基板上に投影することを特徴とする露光装置。
【請求項１５】
請求項１３又は１４記載の露光装置を用いたデバイスの製造方法であって、
前記基板上に感光材料を塗布する第１工程と、
前記基板上に前記投影光学系を介して前記マスクのパターンの像を投影する第２工程と、
前記基板上の前記感光材料を現像する第３工程と、
該現像後の感光材料をマスクとして前記基板上に所定の回路パターンを形成する第４工程と、を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
これによって、その可変開口絞りを用いて開口数N.A.を変化させた場合でも、第２物体側の露光領域内での口径食の差を最小にできるため、この露光領域内での結像性能の差（例えば線幅差）や照明むらを抑えることができる。
更に、本発明による第１の露光装置は、本発明による投影光学系（ＰＬ）と、その第１物体としてのマスク（Ｒ）、及びその第２物体としての基板（Ｗ）を位置決めするステージ系（ＲＳ，ＷＳ）と、そのマスクを照明する照明光学系（ＩＳ）とを備え、その照明光学系からの露光エネルギービームのもとで、そのマスクのパターンの像をその投影光学系を介してその基板上に投影するものである。
また、本発明による第２の露光装置は、回路パターンの像を形成するための本発明の投影光学系（ＰＬ）を備え、露光エネルギービームのもとで、その回路パターンの像をその投影光学系を介して基板（Ｗ）上に投影するものである。