(57)【要約】  所定形状鉄−ホウ素−希土類系の焼結磁石の表面にＤｙ、Ｔｂを成膜し、結晶粒界相に拡散させてなる永久磁石であって、一層高い保磁力を有するものを提供する。  鉄−ホウ素−希土類系の焼結磁石の表面に、Ｄｙ及びＴｂの少なくとも一方を含む金属蒸発材料を蒸発させ、この蒸発した金属原子を付着させる成膜工程と、熱処理を施して表面に付着した前記金属原子を焼結磁石の結晶粒界相に拡散させる拡散工程とを含む永久磁石の製造方法であって、前記金属蒸発材料は、Ｎｄ及びＰｒの少なくとも一方を含む。
2008032667.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鉄−ホウ素−希土類系の焼結磁石の表面に、Ｄｙ及びＴｂの少なくとも一方を含む金属蒸発材料を蒸発させ、この蒸発した金属原子を付着させる成膜工程と、熱処理を施して表面に付着した前記金属原子を焼結磁石の結晶粒界相に拡散させる拡散工程とを含む永久磁石の製造方法であって、前記金属蒸発材料は、Ｎｄ及びＰｒの少なくとも一方を含むことを特徴とする永久磁石の製造方法。
【請求項２】
前記金属蒸発材料は、Ａｌ、Ｃｕ及びＧａの中から選択された少なくとも１種をさらに含むことを特徴とする請求項１記載の永久磁石の製造方法。
【請求項３】
前記金属蒸発材料は、Ａｇ、Ｂ、Ｂａ、Ｂｅ、Ｃ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｓ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｆｅ、Ｇｄ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｈｏ、Ｉｎ、Ｋ、Ｌａ、Ｌｉ、Ｌｕ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎａ，Ｎｂ、Ｎｉ、Ｐ、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｓ、Ｓｂ、Ｓｉ、Ｓｍ、Ｓｎ、Ｓｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｔｍ、Ｖ、Ｗ、Ｙ、Ｙｂ、Ｚｎ及びＺｒの中から選択された少なくとも１種をさらに含むことを特徴とする請求項１または請求項２記載の永久磁石の製造方法。
【請求項４】
前記成膜工程は、処理室を加熱し、この処理室内に配置した金属蒸発材料を蒸発させて金属蒸気雰囲気を処理室内に形成する第一工程と、処理室内の温度より低く保持した前記焼結磁石をこの処理室に搬入し、処理室内と焼結磁石との間の温度差により、焼結磁石表面に金属蒸気雰囲気中の金属原子を選択的に付着堆積させる第二工程とを含むことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
【請求項５】
前記金属蒸気雰囲気が、前記処理室内で飽和状態であることを特徴とする請求項４記載の永久磁石の製造方法。
【請求項６】
前記金属蒸発材料と焼結磁石とを同一の処理室に配置して加熱し、この金属蒸発材料を蒸発させると共に、この蒸発した金属原子を、略同温に加熱された焼結磁石表面への供給量を調節して付着させ、この付着した金属原子を、焼結磁石表面に金属蒸発材料からなる薄膜が形成される前に焼結磁石の結晶粒界相に拡散させ、前記成膜工程と拡散工程とを行うことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
【請求項７】
前記焼結磁石と金属蒸発材料とを離間して配置したことを特徴とする請求項６記載の永久磁石の製造方法。
【請求項８】
前記処理室内に配置される前記金属蒸発材料の比表面積を変化させて一定温度下における蒸発量を増減し、前記供給量を調節することを特徴とする請求項６または請求項７記載の永久磁石の製造方法。
【請求項９】
前記成膜工程に先立って、処理室内に焼結磁石を配置した後、この処理室内を所定圧力に減圧して保持することを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
【請求項１０】
前記処理室を所定圧力に減圧した後、処理室内を所定温度に加熱して保持することを特徴とする請求項９記載の永久磁石の製造方法。
【請求項１１】
前記成膜工程に先立って、プラズマによる前記焼結磁石表面のクリーニングを行うことを特徴とする請求項１乃至請求項１０のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
【請求項１２】
前記焼結磁石の結晶粒界相に前記金属原子を拡散させた後、前記温度より低い所定温度で永久磁石の歪を除去する熱処理を施すことを特徴とする請求項１乃至請求項１１のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
【請求項１３】
鉄−ホウ素−希土類系の焼結磁石を有し、この焼結磁石表面に、Ｄｙ及びＴｂの少なくとも一方とＮｄ及びＰｒの少なくとも一方とを含む金属蒸発材料を蒸発させ、この蒸発した金属原子を付着させた後、熱処理を施して表面に付着した前記金属蒸発材料を結晶粒界相に拡散させるてなることを特徴とする永久磁石。
【請求項１４】
前記金属蒸発材料は、Ｃｕ、Ａｌ及びＧａの中から選択された少なくとも１種をさらに含むことを特徴とする請求項１３記載の永久磁石。
【請求項１５】
前記金属蒸発材料は、Ａｇ、Ｂ、Ｂａ、Ｂｅ、Ｃ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｓ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｆｅ、Ｇｄ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｈｏ、Ｉｎ、Ｋ、Ｌａ、Ｌｉ、Ｌｕ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎａ，Ｎｂ、Ｎｉ、Ｐ、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｓ、Ｓｂ、Ｓｉ、Ｓｍ、Ｓｎ、Ｓｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｔｍ、Ｖ、Ｗ、Ｙ、Ｙｂ、Ｚｎ及びＺｒの中から選択された少なくとも１種をさらに含むことを特徴とする請求項１３または請求項１４記載の永久磁石。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、永久磁石及び永久磁石の製造方法に関し、特に、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系の焼結磁石の結晶粒界相にＤｙやＴｂを拡散させてなる高磁気特性の永久磁石及びこの永久磁石の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系の焼結磁石（所謂、ネオジム磁石）は、鉄と、安価であって資源的に豊富で安定供給が可能なＮｄ、Ｂの元素の組み合わせからなることで安価に製造できると共に、高磁気特性（最大エネルギー積はフェライト系磁石の１０倍程度）を有することから、電子機器など種々の製品に利用され、近年では、ハイブリッドカー用のモーターや発電機への採用も進んでいる。  【０００３】
他方、上記焼結磁石のキュリー温度は、約３００℃と低いことから、採用する製品の使用状況によっては所定温度を超えて昇温する場合があり、所定温度を超えると、熱により減磁するという問題がある。また、上記焼結磁石を所望の製品に利用するに際しては、焼結磁石を所定形状に加工する場合があり、この加工によって焼結磁石の結晶粒に欠陥（クラック等）や歪などが生じて磁気特性が著しく劣化するという問題がある。【０００４】
このため、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系の焼結磁石を得る際に、Ｎｄより大きい４ｆ電子の磁気異方性を有し、Ｎｄと同じく負のスティーブンス因子を持つことで、主相の結晶磁気異方性を大きく向上させるＤｙやＴｂを添加することが考えられるものの、Ｄｙ、Ｔｂは主相結晶格子中でＮｄと逆向きのスピン配列をするフェリ磁性構造を取ることから磁界強度、ひいては、磁気特性を示す最大エネルギー積が大きく低下するという問題がある。【０００５】
このような問題を解決するため、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系の焼結磁石の表面全体に亘って、ＤｙやＴｂを所定膜厚（磁石の体積に依存して３μｍ以上の膜厚で形成される）で成膜し、次いで、所定温度下で熱処理を施して、表面に成膜されたＤｙやＴｂを磁石の結晶粒界相に拡散させて均一に行き渡らせることが提案されている（非特許文献１参照）。
【非特許文献１】Improvement of coercivity on thin Nd2Fe14B sintered permanent magnets（薄型Nd2Fe14B系焼結磁石における保磁力の向上）／ 朴起兌、東北大学  博士論文  平成１２年３月２３日）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記方法で製作した永久磁石は、結晶粒界相に拡散したＤｙやＴｂが、各結晶粒表面の結晶磁気異方性を高めることで、ニュークリエーション型の保磁力発生機構を強化し、その結果、保磁力を飛躍的に向上させると共に、最大エネルギー積がほとんど損なわれないという利点がある（例えば残留磁束密度：１４．５ｋＧ（１．４５Ｔ）、最大エネルギー積：５０ＭＧ０ｅ（４００Ｋｊ／ｍ３）で、保磁力：２３Ｋ０ｅ（３ＭＡ／ｍ）の性能の磁石ができることが非特許文献１に報告されている）。【０００７】
ところで、例えば保磁力をさらに高めれば、永久磁石の厚みの薄くしても強い磁力を持ったものが得られる。従って、この種の永久磁石利用製品自体の小型、軽量化や小電力化を図るためには、上記従来技術と比較して一層高い保磁力を有し、高磁気特性の永久磁石の開発が望まれる。また、資源的に乏しく、安定供給が望めないＤｙやＴｂを用いるため、焼結磁石の表面へのＤｙやＴｂの成膜や結晶粒界相への拡散を効率よく行って生産性を向上させ、低コスト化を図る必要がある。【０００８】
そこで、上記点に鑑み、本発明の第一の目的は、極めて高い保磁力を有し、高磁気特性の永久磁石を提供することにある。また、本発明の第二の目的は、極めて高い保磁力を有し、高磁気特性の永久磁石を、高い生産性でかつ低いコストで作製できる永久磁石の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、請求項１記載の永久磁石の製造方法は、鉄−ホウ素−希土類系の焼結磁石の表面に、Ｄｙ及びＴｂの少なくとも一方を含む金属蒸発材料を蒸発させ、この蒸発した金属原子を付着させる成膜工程と、熱処理を施して表面に付着した前記金属原子を焼結磁石の結晶粒界相に拡散させる拡散工程とを含む永久磁石の製造方法であって、前記金属蒸発材料は、Ｎｄ及びＰｒの少なくとも一方を含むことを特徴とする。【００１０】
本発明によれば、Ｄｙ及びＴｂの少なくとも一方に加えてＮｄ及びＰｒの少なくとも一方を含むことで、ＤｙやＴｂが結晶粒のＮｄと置換されて結晶磁気異方性を向上させることに加えて、結晶粒界の歪や欠陥が修復され、一層高い保磁力を有し、その上、Ｎｄ等がＤｙやＴｂと異なり、Ｆｅと同じ向きに磁化するスピン配列を取ることから、残留磁束密度及び最大エネルギー積が高くなり、その結果、従来のものと比較して一層高い磁気特性を有する永久磁石が得られる。他方、Ｎｄ−Ｆｅの共晶点は、Ｄｙ−ＦｅやＴｂ−Ｆｅの共晶点よりも低い（約２００℃低い）ことから、結晶粒界でのＤｙ、Ｔｂの拡散速度が速くなり、その結果、拡散工程を短時間で行うことができて高い生産性を達成できる。【００１１】
前記金属蒸発材料は、Ａｌ、Ｃｕ及びＧａの中から選択された少なくとも１種をさらに含むことが好ましい。これにより、多元共晶効果によってＮｄリッチ相の融点が下がることで、Ｄｙ、Ｔｂの金属原子の拡散速度がさらに速くなる。つまり、拡散工程の際、Ａｌ、ＣｕやＧａの元素がＮｄリッチ相に入り込み、Ｄｙ（Ｔｂ）−Ｎｄ（Ｐｒ）−Ｆｅ−Ａｌ（Ｃｕ、Ｇａ）などの複雑な共晶を作る。この場合、結晶粒界近傍にあるＮｄリッチ相の共晶点は、Ｄｙ−Ｆｅ（Ｔｂ−Ｆｅ）の２元系の共晶点と比較して多元系のものの方が低いため、Ｄｙ、Ｔｂの金属原子の拡散速度がさらに速くなる。また、拡散工程の際、上記元素が結晶粒界に作用することによるクリーニング効果と、上記元素が優先的に酸化することで希土類酸化物が還元されることによる有効な希土類量の増加とが相俟って、さらに一層高い保磁力を有する永久磁石が得られる。この場合、保磁力の低下の原因であるＣ等の有害元素と積極的に反応することで有害効果を低下させることができる。【００１２】
また、前記金属蒸発材料は、Ａｇ、Ｂ、Ｂａ、Ｂｅ、Ｃ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｓ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｆｅ、Ｇｄ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｈｏ、Ｉｎ、Ｋ、Ｌａ、Ｌｉ、Ｌｕ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎａ，Ｎｂ、Ｎｉ、Ｐ、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｓ、Ｓｂ、Ｓｉ、Ｓｍ、Ｓｎ、Ｓｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｔｍ、Ｖ、Ｗ、Ｙ、Ｙｂ、Ｚｎ及びＺｒの中から選択された少なくとも１種をさらに含むものであっても、上記と同様の効果が得られる。【００１３】
前記成膜工程は、処理室を加熱し、この処理室内に配置した金属蒸発材料を蒸発させて金属蒸気雰囲気を処理室内に形成する第一工程と、処理室内の温度より低く保持した前記焼結磁石をこの処理室に搬入し、処理室内と焼結磁石との間の温度差により、焼結磁石表面に金属蒸気雰囲気中の金属原子を選択的に付着堆積させる第二工程とを含むものであれば、焼結磁石の表面に金属蒸発材料を所定膜厚で高速に成膜できることで生産性がさらに向上し、また、資源的に乏しく、安定供給が望めないＤｙやＴｂの収率を高くできることから、低コスト化が図れる【００１４】
この場合、前記金属蒸気雰囲気が、前記処理室内で飽和状態であれば、Ｄｙ、Ｔｂの少なくとも一方を含有する金属蒸発材料を焼結磁石表面により高速で成膜できてよい。【００１５】
他方で、前記金属蒸発材料と焼結磁石とを同一の処理室に配置して加熱し、この金属蒸発材料を蒸発させると共に、この蒸発した金属原子を、略同温に加熱された焼結磁石表面への供給量を調節して付着させ、この付着した金属原子を、焼結磁石表面に金属蒸発材料からなる薄膜が形成される前に焼結磁石の結晶粒界相に拡散させ、前記成膜工程と拡散工程とを行うようにしてもよい。【００１６】
これによれば、蒸発した金属原子が、所定温度まで加熱された焼結磁石表面に供給されて付着する。その際、焼結磁石を最適な拡散速度が得られる温度に加熱すると共に、焼結磁石表面への金属原子の供給量を調節したため、表面に付着した金属原子は、薄膜を形成する前に焼結磁石の結晶粒界相に順次拡散されて行く（即ち、焼結磁石表面へのＤｙやＴｂ等の金属原子の供給と焼結磁石の結晶粒界相への拡散とが一度の処理で行われる）。このため、永久磁石の表面状態は、上記処理を実施する前の状態と略同一であり、作製した永久磁石表面が劣化する（表面粗さが悪くなる）ことが防止され、また、特に焼結磁石表面に近い粒界内にＤｙやＴｂが過剰に拡散することが抑制され、別段の後工程が不要となって高い生産性を達成できる。【００１７】
この場合、前記焼結磁石と金属蒸発材料とを離間して配置しておけば、金属蒸発材料を蒸発させたとき、溶けた金属蒸発材料が直接焼結磁石に付着することが防止できてよい。【００１８】
また、前記処理室内に配置される前記金属蒸発材料の比表面積を変化させて一定温度下における蒸発量を増減すれば、例えば金属原子の焼結磁石表面への供給量を増減する別個の部品を処理室内に設ける等、装置の構成を変えることなく、簡単に焼結磁石表面への供給量の調節ができてよい。【００１９】
ＤｙやＴｂ等の金属原子を結晶粒界相に拡散させる前に焼結磁石表面に吸着した汚れ、ガスや水分を除去するために、前記焼結磁石を収納した処理室の加熱に先立って、処理室内を所定圧力に減圧して保持することが好ましい。【００２０】
この場合、表面に吸着した汚れ、ガスや水分の除去を促進するために、前記処理室を所定圧力に減圧した後、処理室内を所定温度に加熱して保持することが好ましい。【００２１】
他方、  ＤｙやＴｂ等の金属原子を結晶粒界相に拡散させる前に焼結磁石表面の酸化膜を除去すべく、前記焼結磁石を収納した処理室の加熱に先立って、プラズマによる前記焼結磁石表面のクリーニングを行うことが好ましい。【００２２】
また、前記焼結磁石の結晶粒界相にＤｙやＴｂ等の金属原子を拡散させた後、上記温度より低い所定温度下で永久磁石の歪を除去する熱処理を施すようにすれば、磁化および保磁力がさらに向上または回復した高磁気特性の永久磁石が得られる。【００２３】
また、上記課題を解決するために、請求項１４記載の永久磁石は、鉄−ホウ素−希土類系の焼結磁石を有し、この焼結磁石表面に、Ｄｙ及びＴｂの少なくとも一方とＮｄ及びＰｒの少なくとも一方とを含む金属蒸発材料を蒸発させ、この蒸発した金属原子を付着させた後、熱処理を施して表面に付着した前記金属蒸発材料を結晶粒界相に拡散させるてなることを特徴とする。【００２４】
この場合、前記金属蒸発材料は、Ｃｕ、Ａｌ及びＧａの中から選択された少なくとも１種をさらに含むことが好ましい。【００２５】
また、前記金属蒸発材料は、Ａｇ、Ｂ、Ｂａ、Ｂｅ、Ｃ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｓ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｆｅ、Ｇｄ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｈｏ、Ｉｎ、Ｋ、Ｌａ、Ｌｉ、Ｌｕ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎａ，Ｎｂ、Ｎｉ、Ｐ、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｓ、Ｓｂ、Ｓｉ、Ｓｍ、Ｓｎ、Ｓｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｔｍ、Ｖ、Ｗ、Ｙ、Ｙｂ、Ｚｎ及びＺｒの中から選択された少なくとも１種をさらに含むようにしてもよい。
【発明の効果】
【００２６】
以上説明したように、本発明の永久磁石は、従来技術のものと比較して一層高い保磁力を有する高磁気特性のものであり、また、本発明の永久磁石の製造方法では、一層高い保磁力を有する高磁気特性の永久磁石を、高い生産性でかつ低いコストで作製できるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
図１及び図２を参照して説明すれば、本発明の永久磁石Ｍは、所定形状に加工されたＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系の焼結磁石Ｓの表面に、後述する金属蒸発材料Ｖを蒸発させ、この蒸発した金属原子を付着させる成膜工程と、焼結磁石Ｓ表面に付着した金属原子を結晶粒界相に拡散させて均一に行き渡らせる拡散工程との一連の処理を同時に行って作製される（真空蒸気処理）。【００２８】
出発材料であるＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系の焼結磁石Ｓは、公知の方法で次のように作製されている。即ち、Ｆｅ、Ｂ、Ｎｄを所定の組成比で配合して、公知のストリップキャスト法により０．０５ｍｍ〜０．５ｍｍの合金を先ず作製する。他方で、公知の遠心鋳造法で５ｍｍ程度の厚さの合金を作製するようにしてもよい。また、配合の際、Ｃｕ、Ｚｒ、Ｄｙ、Ｔｂ、ＡｌやＧａを少量添加してもよい。次いで、作製した合金を、公知の水素粉砕工程により一旦粉砕し、引き続き、ジェットミル微粉砕工程により微粉砕する。【００２９】
次いで、磁界配向して金型で直方体や円柱など所定形状に成形した後、所定の条件下で焼結させて上記焼結磁石が作製される。焼結磁石Ｓの作製の各工程において条件をそれぞれ最適化し、焼結磁石Ｓの平均結晶粒径が１μｍ〜５μｍの範囲、または７μｍ〜２０μｍの範囲となるようにするとよい。【００３０】
平均結晶粒径を７μｍ以上とすると、磁界成形時の回転力が大きくなると共に配向度が良く、その上、結晶粒界の表面積が小さくなり、短時間で焼結磁石表面に付着したＤｙ、Ｔｂ等の金属原子を効率よく拡散でき、一層高い保磁力を有する永久磁石Ｍが得られる。尚、平均結晶粒径が２５μｍを超えると、一つの結晶粒子の中に異なる結晶方位を含んだ粒子の割合が極端に多くなって配向度が悪くなり、その結果、永久磁石の最大エネルギー積、残留磁束密度、保磁力がそれぞれ低下する。【００３１】
他方、平均結晶粒径を５μｍ未満とすると、単磁区結晶粒の割合が多くなり、その結果、非常に高い保磁力を有する永久磁石が得られる。平均結晶粒径が１μｍより小さくなると、結晶粒界が細かく複雑になることから拡散工程を実施するのに必要な時間が極端に長くなり、生産性が悪い。【００３２】
図２に示すように、上記処理を実施する真空蒸気処理装置１は、ターボ分子ポンプ、クライオポンプ、拡散ポンプなどの真空排気手段１１を介して所定圧力（例えば１×１０−５Ｐａ）まで減圧して保持できる真空チャンバ１２を有する。真空チャンバ内１２には、上面を開口した直方体形状の箱部１３ａと、開口した箱部１３ａの上面に着脱自在に装着される蓋部１３ｂとからなる箱体１３が設置される。【００３３】
蓋部１３ｂの外周縁部には下方に屈曲させたフランジ１３１がその全周に亘って形成され、箱部１３ａの上面に蓋部１３ｂを装着すると、フランジ１３１が箱部１３ａの外壁に嵌合して（この場合、メタルシールなどの真空シールは設けていない）、真空チャンバ１２と隔絶された処理室１３０が画成される。そして、真空排気手段１１を介して真空チャンバ１２を所定圧力（例えば、１×１０−５Ｐａ）まで減圧すると、処理室１３０が真空チャンバ１２より略半桁高い圧力（例えば、５×１０−４Ｐａ）まで減圧されるようになっている。【００３４】
処理室１３０の容積は、金属蒸発材料Ｖの平均自由行程を考慮して蒸気雰囲気中の金属原子が直接または衝突を繰返して複数の方向から焼結磁石Ｓに供給されるように設定されている。また、箱部１３ａ及び蓋部１３ｂの壁面の肉厚は、後述する加熱手段によって加熱されたとき、熱変形しないように設定され、金属蒸発材料Ｖと反応しない材料から構成されている。【００３５】
即ち、金属蒸発材料Ｖが例えばＤｙとＮｄとからなる合金であるとき、一般の真空装置でよく用いられるＡｌ２Ｏ３を用いると、蒸気雰囲気中のＤｙやＮｄとＡｌ２Ｏ３が反応してその表面に反応生成物を形成するために、箱体１３が壊れやすくなる。このため、箱体２を、例えば、Ｍｏ、Ｗ、Ｖ、Ｔａまたはこれらの合金（希土類添加型Ｍｏ合金、Ｔｉ添加型Ｍｏ合金などを含む）やＣａＯ、Ｙ２Ｏ３、或いは希土類酸化物から製作するか、またはこれらの材料を他の断熱材の表面に内張膜として成膜したものから構成している。また、処理室２０内で底面から所定の高さ位置には、例えばＭｏ製の複数本の線材（例えばφ０．１〜１０ｍｍ）を格子状に配置することで載置部１３２が形成され、この載置部１３２に複数個の焼結磁石Ｓを並べて載置できるようになっている。他方、金属蒸発材料Ｖは、処理室２０の底面、側面または上面等に適宜配置される。【００３６】
金属蒸発材料としては、主相の結晶磁気異方性を大きく向上させるＤｙ及びＴｂの少なくとも一方と、Ｎｄ及びＰｒの少なくとも一方（この場合、ＮｄとＰｒとの合金であるジジムを用いてもよい）とを含むものが用いられ、金属蒸発材料Ｖは、所定の混合割合で配合し、例えばアーク溶解炉を用いてバルク状の合金を得て、処理室１３２内の所定位置に配置される。尚、バルク状または顆粒状のＤｙ、Ｔｂまたはこれらの合金と、Ｎｄ、Ｐｒまたはこれらの合金とを所定の重量比で処理室１３０内にそれぞれ別個に配置するようにしてもよい。【００３７】
これにより、結晶粒界相への拡散の際に、Ｄｙ（Ｔｂ）が結晶粒のＮｄ（Ｐｒ）と置換されて結晶磁気異方性を向上させることに加えて、結晶粒界の歪や欠陥が修復され、一層高い保磁力を有し、その上、Ｎｄ等はＤｙやＴｂと異なり、Ｆｅと同じ向きに磁化するスピン配列を取ることから、残留磁束密度及び最大エネルギー積が高くなり、その結果、従来のものと比較して一層高い磁気特性の永久磁石が得られる。他方、Ｎｄ−Ｆｅの共晶点が、Ｄｙ−ＦｅやＴｂ−Ｆｅの共晶点よりも低い（約２００℃低い）ことから、結晶粒界でのＤｙ、Ｔｂの拡散速度が速くなり、その結果、拡散工程を短時間で行うことができて高い生産性を達成できる。この場合、金属蒸発材料ＶがＮｄ及びＰｒの少なくとも一方を含めれば、その混合割合（重量％）に関係なく、Ｄｙ及びＴｂの少なくとも一方を金属蒸発材料Ｖとする場合と比較して永久磁石Ｍの保磁力を高めることができる。【００３８】
金属蒸発材料Ｖは、Ａｌ、Ｃｕ及びＧａの中から選択された少なくとも１種をさらに含むことが好ましい。これにより、拡散工程の際に、多元共晶効果により、Ｎｄリッチ相の融点が下がり、Ｄｙ、Ｔｂの金属原子の拡散速度がさらに速くなる。つまり、拡散工程の際、Ａｌ、ＣｕやＧａの元素がＮｄリッチ相に入り込み、Ｄｙ（Ｔｂ）−Ｎｄ（Ｐｒ）−Ｆｅ−Ａｌ（Ｃｕ、Ｇａ）などの複雑な共晶を作る。この場合、結晶粒界近傍にあるＮｄリッチ相の共晶点は、Ｄｙ−Ｆｅ（Ｔｂ−Ｆｅ）の２元系の共晶点と比較して多元系のものの方が低いため、Ｄｙ、Ｔｂの金属原子の拡散速度がさらに速くなる。また、拡散工程の際、上記元素が結晶粒界に作用することによるクリーニング効果と、上記元素が優先的に酸化することで希土類酸化物が還元されることによる有効な希土類量の増加とが相俟って、さらに一層高い保磁力を有する永久磁石が得られる。この場合、保磁力の低下の原因であるＣ等の有害元素と積極的に反応することで、有害効果を低下させることができる。【００３９】
また、上記同様の効果を得るために、金属蒸発材料Ｖは、Ａｌ、Ｃｕ及びＧａの各元素に加えてまたは各元素に代えて、Ａｇ、Ｂ、Ｂａ、Ｂｅ、Ｃ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｓ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｆｅ、Ｇｄ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｈｏ、Ｉｎ、Ｋ、Ｌａ、Ｌｉ、Ｌｕ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎａ，Ｎｂ、Ｎｉ、Ｐ、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｓ、Ｓｂ、Ｓｉ、Ｓｍ、Ｓｎ、Ｓｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｔｍ、Ｖ、Ｗ、Ｙ、Ｙｂ、Ｚｎ及びＺｒ（以下、「Ａ元素」という）の中から選択された少なくとも１種を含むものであってもよい。【００４０】
真空チャンバ１２にはまた、加熱手段１４が設けられている。加熱手段１４は、箱体１３と同様に金属蒸発材料Ｖと反応しない材料製であり、例えば、箱体１３の周囲を囲うように設けられ、内側に反射面を備えたＭｏ製の断熱材と、その内側に配置され、Ｍｏ製のフィラメントを有する電気加熱ヒータとから構成される。そして、減圧下で箱体１３を加熱手段１４で加熱し、箱体１３を介して間接的に処理室１３０内を加熱することで、処理室１３０内を略均等に加熱できる。【００４１】
次に、上記真空蒸気処理装置１を用い、本発明の方法を実施した永久磁石Ｍの製造について説明する。先ず、箱部１３ａの載置部１３２に上記方法で作製した焼結磁石Ｓを載置すると共に、箱部１３ａの底面に、例えば金属蒸発材料ＶであるＤｙとＮｄの合金を設置する（これにより、処理室１３０内で焼結磁石Ｓと金属蒸発材料Ｖが離間して配置される）。そして、箱部１３ａの開口した上面に蓋部１３ｂを装着した後、真空チャンバ１２内で加熱手段１４によって周囲を囲まれる所定位置に箱体１３を設置する（図２参照）。そして、真空排気手段１１を介して真空チャンバ１２を所定圧力（例えば、１×１０−４Ｐａ）に達するまで真空排気して減圧し、（処理室１３０は略半桁高い圧力まで真空排気される）、真空チャンバ１２が所定圧力に達すると、加熱手段１４を作動させて処理室１３０を加熱する。【００４２】
減圧下で処理室１３０内の温度が所定温度に達すると、処理室１３０の底面に設置した金属蒸発材料Ｖが、処理室１３０と略同温まで加熱されて蒸発を開始し、処理室１３０内に金属蒸気雰囲気が形成される。蒸発を開始した場合、焼結磁石Ｓと金属蒸発材料Ｖとを離間して配置したため、金属蒸発材料Ｖが、表面Ｎｄリッチ相が溶けた焼結磁石Ｓに直接付着することはない。そして、金属蒸気雰囲気中のＤｙ（Ｔｂ）やＮｄ（Ｐｒ）の金属原子が、直接または衝突を繰返して複数の方向から、金属蒸発材料Ｖと略同温まで加熱された焼結磁石Ｓ表面に向かって供給されて付着し、この付着した金属原子が焼結磁石Ｓの結晶粒界相に拡散されて永久磁石Ｍが得られる。【００４３】
ところで、図３に示すように、成膜工程と拡散工程とを同時実施する場合、Ｄｙ及びＮｄを含む層（薄膜）Ｌ１が形成されるように、金属蒸気雰囲気中のＤｙ及びＮｄの金属原子が焼結磁石Ｓの表面に供給されると、焼結磁石Ｓ表面で付着して堆積したＤｙ、Ｎｄが再結晶したとき、永久磁石Ｍ表面を著しく劣化させ（表面粗さが悪くなる）、また、処理中に略同温まで加熱されている焼結磁石Ｓ表面に付着して堆積したＤｙが溶解して焼結磁石Ｓ表面に近い領域Ｒ１における粒界内に過剰に拡散し、磁気特性を効果的に向上または回復させることができない。【００４４】
つまり、焼結磁石Ｓ表面にＤｙ及びＮｄを含む薄膜が一度形成されると、薄膜に隣接した焼結磁石表面Ｓの平均組成はＤｙリッチ組成となり、Ｄｙリッチ組成になると、液相温度が下がり、焼結磁石Ｓ表面が溶けるようになる（即ち、主相が溶けて液相の量が増加する）。その結果、焼結磁石Ｓ表面付近が溶けて崩れ、凹凸が増加することとなる。その上、Ｄｙが多量の液相と共に結晶粒内に過剰に侵入し、磁気特性を示す最大エネルギー積及び残留磁束密度がさらに低下する。【００４５】
本実施の形態では、焼結磁石の１〜１０重量％の割合で、単位体積当たりの表面積（比表面積）が小さいバルク状（略球状）の金属蒸発材料Ｖを処理室１３０の底面に配置し、一定温度下における蒸発量を減少させるようにした。それに加えて、金属蒸発材料ＶがＤｙとＮｄの合金であるとき、加熱手段１４を制御して処理室１３０内の温度を８００℃〜１０５０℃、好ましくは９００℃〜１０００℃の範囲に設定することとした（例えば、処理室内温度が９００℃〜１０００℃のとき、Ｄｙの飽和蒸気圧は約１×１０−２〜１×１０−１Ｐａとなる）。【００４６】
処理室１３０内の温度（ひいては、焼結磁石Ｓの加熱温度）が８００℃より低いと、焼結磁石Ｓ表面に付着したＤｙ原子の結晶粒界層への拡散速度が遅くなり、焼結磁石Ｓ表面に薄膜が形成される前に焼結磁石の結晶粒界相に拡散させて均一に行き渡らせることができない。他方、１０５０℃を超えた温度では、蒸気圧が高くなって蒸気雰囲気中の金属原子が焼結磁石Ｓ表面に過剰に供給される。また、Ｄｙが結晶粒内に拡散する虞があり、Ｄｙが結晶粒内に拡散すると、結晶粒内の磁化を大きく下げるため、最大エネルギー積及び残留磁束密度がさらに低下することになる。【００４７】
焼結磁石Ｓ表面にＤｙやＮｄを含む薄膜が形成される前にその結晶粒界相に拡散させるために、処理室１３０の載置部１３２に設置した焼結磁石Ｓの表面積の総和に対する処理室１３０の底面に設置した金属蒸発材料Ｖの表面積の総和の比率が、１×１０−４〜２×１０３の範囲になるように設定する。１×１０−４〜２×１０３の範囲以外の比率では、焼結磁石Ｓ表面に所定の薄膜が形成される場合があり、また、高い磁気特性の永久磁石が得られない。この場合、上記比率が１×１０−３から１×１０３の範囲が好ましく、また、上記比率が１×１０−２から１×１０２の範囲がより好ましい。【００４８】
これにより、蒸気圧を低くすると共に金属蒸発材料Ｖの蒸発量を減少させることで、焼結磁石Ｓへの金属原子の供給量が抑制されることと、焼結磁石Ｓの平均結晶粒径を所定範囲に揃えつつ焼結磁石Ｓを所定温度範囲で加熱すると共に、金属蒸発材料Ｖとして、Ｄｙ（Ｔｂ）にＮｄ及びＰｒの少なくとも一方を加えることで拡散速度が早くなることとが相俟って、焼結磁石Ｓ表面に付着したＤｙ原子を、焼結磁石Ｓ表面で薄膜が形成される前に焼結磁石Ｓの結晶粒界相に効率よく拡散させて均一に行き渡らせることができる（図１参照）。その結果、永久磁石Ｍ表面が劣化することが防止され、また、焼結磁石表面に近い領域の粒界内にＤｙが過剰に拡散することが抑制され、結晶粒界相にＤｙリッチ相（Ｄｙを５〜８０％の範囲で含む相）を有し、さらには結晶粒の表面付近にのみＤｙが拡散することで、磁化および保磁力が効果的に向上または回復し、その上、仕上げ加工が不要な生産性に優れた永久磁石Ｍが得られる。また、成膜工程と拡散工程とを同時に行うことと、拡散時間を短くできることとが相俟って高い生産性を達成できる。【００４９】
ところで、図４に示すように、上記焼結磁石Ｓを作製した後、ワイヤーカット等により所望形状に加工すると、焼結磁石表面の主相である結晶粒にクラックが生じて磁気特性が著しく劣化する場合があるが（図４（ａ）参照）、上記真空蒸気処理を施すと、表面付近の結晶粒のクラックの内側にＤｙリッチ相が形成されて（図４（ｂ）参照）、磁化および保磁力が回復する。【００５０】
また、従来のネオジム磁石では防錆対策が必要になることからＣｏを添加していたが、Ｎｄと比較して極めて高い耐食性、耐候性を有するＤｙ（Ｔｂ）のリッチ相が表面付近の結晶粒のクラックの内側や結晶粒界相に存することで、Ｃｏを用いることなく、極めて強い耐食性、耐候性を有する永久磁石となる。尚、焼結磁石の表面に付着したＤｙ（Ｔｂ）を拡散させる場合、焼結磁石Ｓの結晶粒界にＣｏを含む金属間化合物がないため、焼結磁石Ｓ表面に付着したＤｙ、Ｔｂの金属原子はさらに効率よく拡散される。【００５１】
最後に、上記処理を所定時間（例えば、４〜４８時間）だけ実施した後、加熱手段１４の作動を停止させると共に、図示しないガス導入手段を介して処理室１３０内に１０ＫＰａのＡｒガスを導入し、金属蒸発材料Ｖの蒸発を停止させ、処理室１３０内の温度を例えば５００℃まで一旦下げる。引き続き、加熱手段１４を再度作動させ、処理室１３０内の温度を４５０℃〜６５０℃の範囲に設定し、一層保磁力を向上または回復させるために、永久磁石の歪を除去する熱処理を施す。最後に、略室温まで急冷し、真空チャンバ１２から箱体１３を取り出す。【００５２】
尚、本実施の形態では、金属蒸発材料ＶとしてＤｙとＮｄの合金を用いるものを例として説明したが、最適な拡散速度を早くできる焼結磁石Ｓの加熱温度範囲（９００℃〜１０００℃の範囲）で、蒸気圧が低いＴｂと、Ｎｄ及びＰｒの少なくとも一方とを含む合金を用いることができ、またはＤｙ、Ｔｂの双方と、Ｎｄ及びＰｒの少なくとも一方とを含む合金を用いてもよい。また、一定温度下における蒸発量を減少させるために比表面積が小さいバルク状の金属蒸発材料Ｖを用いることとしたが、これに限定されるものではなく、例えば、箱部１３ａ内に断面凹状の受皿を設置し、受皿内に顆粒状またはバルク状の金属蒸発材料Ｖを収納することで比表面積を減少させるようにしてもよく、さらに、受皿に金属蒸発材料Ｖを収納した後、複数の開口を設けた蓋（図示せず）を装着するようにしてもよい。【００５３】
また、本実施の形態では、処理室１３０内に焼結磁石Ｓと金属蒸発材料Ｖとを配置したものについて説明したが、焼結磁石Ｓと金属蒸発材料Ｖとを異なる温度で加熱できるように、例えば、真空チャンバ１２内に、処理室１３０とは別個に蒸発室（他の処理室：図示せず）を設けると共に蒸発室を加熱する他の加熱手段を設け、蒸発室で金属蒸発材料を蒸発させた後、処理室１３０と蒸発室とを連通する連通路を介して、処理室１３０内の焼結磁石に、蒸気雰囲気中の金属原子が供給されるようにしてもよい。【００５４】
この場合、金属蒸発材料ＶがＤｙを含むものである場合、蒸発室を７００℃〜１０５０℃（７００℃〜１０５０℃のとき、飽和蒸気圧は約１×１０−４〜１×１０−１Ｐａになる）の範囲で加熱すればよい。７００℃より低い温度では、結晶粒界相にＤｙが拡散されて均一に行き渡るように、焼結磁石Ｓ表面にＤｙを供給できる蒸気圧に達しない。他方、金属蒸発材料ＶがＴｂを含むものである場合、蒸発室を９００℃〜１１５０℃の範囲で加熱すればよい。９００℃より低い温度では、焼結磁石Ｓ表面にＴｂ原子を供給できる蒸気圧に達しない。他方、１１５０℃を超えた温度では、Ｔｂが結晶粒内に拡散してしまい、最大エネルギー積及び残留磁束密度を低下させる。【００５５】
また、ＤｙやＴｂを結晶粒界相に拡散させる前に焼結磁石Ｓ表面に吸着した汚れ、ガスや水分を除去するために、真空排気手段１１を介して真空チャンバ１２を所定圧力（例えば、１×１０−５Ｐａ）まで減圧し、処理室１３０が真空チャンバ１２より略半桁高い圧力（例えば、５×１０−４Ｐａ）まで減圧した後、所定時間保持するようにしてもよい。その際、加熱手段１４を作動させて処理室１３０内を例えば１００℃に加熱し、所定時間保持するようにしてもよい。【００５６】
他方、真空チャンバ１２内で、ＡｒまたはＨｅプラズマを発生させる公知構造のプラズマ発生装置（図示せず）を設け、真空チャンバ１２内での処理に先だってプラズマによる焼結磁石Ｓ表面のクリーニングの前処理が行われるようにしてもよい。同一の処理室１３０内に焼結磁石Ｓと金属蒸発材料Ｖとを配置する場合、公知の搬送ロボットを真空チャンバ１２内に設置し、真空チャンバ１２内で蓋部１３ｂをクリーニング終了後に装着するようにすればよい。【００５７】
また、本実施の形態では、箱部１３ａの上面に蓋部１３ｂを装着して箱体１３を構成するものについて説明したが、真空チャンバ１２と隔絶されかつ真空チャンバ１２を減圧するのに伴って処理室１３０が減圧されるものであれば、これに限定されるものではなく、例えば、箱部１３ａに焼結磁石Ｓを収納した後、その上面開口を例えばＭｏ製の薄で覆うようにしてもよい。他方、例えば、真空チャンバ１２内で処理室１３０を密閉できるようにし、真空チャンバ１２とは独立して所定圧力に保持できるように構成してもよい。【００５８】
さらに、上記実施の形態では、成膜工程と拡散工程とを同時実施する処理によって永久磁石Ｍを作製するものについて説明したが、これに限定されるものではなく、先ず、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系の焼結磁石Ｓの表面に、金属蒸発材料Ｖを付着、堆積させて所定の薄膜を形成し（成膜工程）、次いで、熱処理を施して表面に付着したこの金属蒸発材料を焼結磁石の結晶粒界相に拡散させ（拡散工程）、永久磁石を作製することができる。【００５９】
この場合、成膜工程を実施する成膜装置としては、抵抗加熱式や電子銃を設けた公知の構造の蒸着装置を用いることができるが、資源的に乏しく、安定供給が望めないＤｙやＴｂの収率を高めると共に、成膜時間を短縮して生産性を向上させるように、成膜工程として、次の成膜装置１０を利用することが好ましい。【００６０】
図５及び図６を参照して説明すれば、成膜装置１０は、処理室２と準備室３とを上下方向で連結して構成される。上側に位置する処理室２は、ターボ分子ポンプ、クライオポンプ、拡散ポンプなどの真空排気手段１０ａを介して所定の真空度（例えば、１０×１０−６Ｐａ）に保持できる円筒形状の真空チャンバ１０ｂ内に配置されている。【００６１】
処理室２は、下面を開口した円筒形状の均熱板２１で画成され、下面の開口を介して準備室３に連通している。真空チャンバ１０ｂには、均熱板２１の開口した下面を除くその周囲を囲うように、カーボンから構成される断熱材２２が設けられている。均熱板２１と断熱材２２との間の空間には、例えばＷを用いた複数本の電気加熱ヒータ２３が設けられ、加熱手段を構成する。これにより、真空中で断熱材２２によって囲われた均熱板２１を加熱手段２３で加熱し、この均熱板２１を介して間接的に処理室２内を加熱することで、処理室２内を略均等に加熱できる。【００６２】
処理室２内には、金属蒸発材料Ｖが配置される断面凹状の受け皿２４が設けられている。受け皿２４は、後述する搬送手段によって処理室２内に移動されてくる焼結磁石Ｓの周囲を囲って顆粒状やバルク状の金属蒸発材料が配置できるように環状に形成され、均熱板２１の内側の壁面に取付けられている。尚、受け皿２４は、環状に形成される必要はなく、周方向に等間隔で配置されていればよい。この場合、Ｄｙ、Ｔｂはそれぞれ融点が高いが、金属蒸発材料Ｖとして、Ｎｄ、Ｐｒ、Ａｌ、ＣｕまたはＧａ等との合金を用いることで、処理室内に金属蒸発雰囲気を形成する時間を短くできる。【００６３】
処理室２の下側には、第１空間４が形成され、この第１空間４には、遮蔽手段５が設けられる。遮蔽手段５は、弁本体５１とこの弁本体５１を駆動させるエアーシリンダなどの駆動手段５２とから構成され、駆動手段５２によって、弁本体５１が処理室２と準備室３とを連通した開位置と（図１に示す状態）、弁本体５１が第１空間４を画成する天板４１に形成した開口の周縁部に当接して処理室２を密閉する閉位置との間で移動自在となる。弁本体５１には、図示していない第２の加熱手段が設けられている。【００６４】
第１空間４の下側には第２空間３ａが設けられ、この第２空間３ａを画成する側壁３０にはゲートバルブ（図示せず）が設けられ、このゲートバルブを開閉して焼結磁石Ｓの搬入、搬出が行われる。焼結磁石Ｓは保持手段６で保持される。保持手段６は、同一円周上に所定の間隔を置いて垂直方向に設けた三本の支柱６１と、この支柱６１の下端から上方にそれぞれ所定の間隔を置いてかつ各支柱６１で支持させて水平に設けた２個の載置台６２とから構成される。各支柱６１は、熱伝導が小さくなるように支柱６１の径を小さく構成している。これは後述する押圧部材７４からの熱が支柱６１を通って焼結磁石Ｓに伝達し難くするためである。【００６５】
尚、載置台６２上に載置される焼結磁石Ｓの載置台６２側の面にも成膜できるように、載置台６２は、φ０．１〜１０ｍｍの線材を格子状に配置して形成するのがよい。また、載置台６２相互間の間隔は、焼結磁石Ｓの高さなどを考慮して設定される。保持手段６は、第２空間３ａに設けられ、中央に後述する支持台の挿通が可能な開口６３ａを形成した円板６３上に設置され、この円板６３は、処理室２内に設けたリング状の支持部材６４上に載置されている。【００６６】
また、処理室２を画成する均熱板２１の材料は、上記同様、成膜すべき金属蒸発材料と反応しない材料、例えば、Ｍｏ、Ｗ、Ｖ、Ｔａまたはこれらの合金（希土類添加型Ｍｏ合金、Ｔｉ添加型Ｍｏ合金などを含む）やＣａＯ、Ｙ２Ｏ３、或いは希土類酸化物から製作するか、またはこれらの材料を他の断熱材の表面に内張膜として成膜したものから構成している。【００６７】
第２空間３ａの下側には、第３空間３ｂが形成され、第２空間３ａ及び３ｂが準備室３
を構成する。準備室３には、ターボ分子ポンプ、クライオポンプ、拡散ポンプなどの真空排気手段３１が接続され、この真空排気手段３１によって、準備室３と、第１空間４を介して連通した処理室２内を所定の真空度に保持できる。準備室３の底部には、エアーシリンダなどの駆動手段７１が設けられ、準備室３内に突出させた軸部７２の先端には円形の支持台７３が取付けられ、駆動手段７１と支持台７３とが搬送手段７を構成し、支持台７３が、準備室３内の所定位置（下降位置）と処理室２内の所定位置（上昇位置）と間で昇降自在となる。【００６８】
軸部７２には、支持台７３の下側に位置して断面逆Ｔ字形状の押圧部材７４が取付けられ、押圧部材７４は、搬送手段７を上昇位置に移動させたときに、円板６３を上方に向かって持ち上げ、円板６３の外周縁部に設けたメタルシールなどのシール材（図示せず）を天板４１に形成した開口の周縁部に押圧して処理室２を密閉する役割を果たす。押圧部材７４には、図示しない第３の加熱手段が設けられている。【００６９】
準備室３を構成する第２空間３ａには、高周波電源に接続されたコイル（図示せず）と、不活性ガスを導入するガス導入手段３２とを有するプラズマ発生手段が設けられている。不活性ガスとしては、Ｈｅ、Ａｒなどの希ガスである。そして、準備室３内でプラズマを発生させて、処理室２内での成膜に先だってプラズマによる焼結磁石Ｓ表面のクリーニングの前処理が行われる。この場合、準備室３に、例えばＷを用いた電気加熱ヒータ（図示せず）を設け、熱処理による焼結磁石Ｓ表面のクリーニングの前処理と共に、成膜が終了した焼結磁石Ｓに対し、真空雰囲気中で熱処理を施することができるように構成してもよい。【００７０】
次に、上記成膜装置１を用いた金属蒸発材料Ｖの成膜について説明する。先ず、上記のように作製したＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系の焼結磁石Ｓを保持手段６の載置台６１上に設置する。この場合、その磁化容易方向が、載置台７３に平行となるように載置するとよい。次いで、処理室３内の受け皿２４に、例えばＤｙとＮｄの合金からなる金属蒸発材料Ｖを設置する。Ｄｙの収率を高めるべく、受け皿２４に設置する金属蒸発材料Ｖの総量は、焼結磁石Ｓが所定温度（焼結磁石の結晶粒のみならず結晶粒界相にもＤｙ（Ｔｂ）が拡散する温度）に達するまで処理室２内でＤｙ蒸気雰囲気を継続させるのに必要なものとする。【００７１】
次いで、側壁３０に設けたゲートバルブを開けて、焼結磁石が設置された保持手段６を第２空間３ａに搬入して円板６３ａ上に設置した後、ゲートバルブを閉めて各真空排気手段１１、３１をそれぞれ作動させ、真空チャンバ１２内を真空排気すると共に、準備室３及び第１空間４を介して処理室２とが所定圧力（例えば、１０×１０−６Ｐａ）に到達するまで真空排気する。この場合、遮蔽手段５は開位置にある。【００７２】
次いで、処理室２及び準備室３の圧力が所定値に達すると、駆動手段５２によって遮蔽手段５を閉位置に移動して、弁本体５１によって処理室２を密閉し、加熱手段２３及び遮蔽手段５における弁本体５１の第２の加熱手段を作動させて処理室２内の温度が所定温度に達するまで加熱する。この場合、処理室２内の温度を１０００℃〜１７００℃の範囲に設定するのがよい。１０００℃より低い温度では、焼結磁石Ｓ表面に高速で金属蒸発材料Ｖを成膜できる蒸気圧まで達しない。他方、１７００℃を超えた温度では、焼結磁石Ｓの成膜時間が短くなりすぎ均一に成膜できない虞がある。処理室２の温度は、１２００℃〜１５００℃の範囲であることが好ましく、より好ましくは、１２００℃〜１４００℃の範囲である。これらの温度範囲では所望の膜厚を高速で形成することができる。そして、例えば１３００℃で１０Ｐａの蒸気圧を持つ金属蒸気雰囲気を処理室２内に形成する。尚、１０Ｐａでは、処理室２内に対流が生じることから、後述するように、常温の焼結磁石Ｓを処理室内に搬入したときその全表面に亘って成膜される。【００７３】
他方で、金属蒸気雰囲気を処理室２内に形成する間、準備室３では、焼結磁石Ｓ表面をクリーニングする前処理が行われる。即ち、準備室２（この場合、前処理用の処理室を構成する）が所定圧力（１０×１０−６Ｐａ）に達して後、所定時間保持する。これにより、焼結磁石表面に吸着した汚れ、ガスや水分を除去できる。この場合、表面に吸着した汚れ、ガスや水分の除去を促進するために、準備室を所定温度（１００℃）に加熱して保持するようにしてもよい。また、焼結磁石Ｓ表面の酸化膜を除去すべく、前記焼結磁石を収納した処理室の加熱に先立って、プラズマによる前記焼結磁石表面のクリーニングを行うようにしてもよい。この場合、準備室３の圧力が所定値（例えば、１０×１０−１Ｐａ）に達するまでガス導入手段３２を介して、不活性ガス、例えばＡｒを準備室３に導入し、高周波電源を作動させて準備室３内でプラズマを発生させてプラズマによる焼結磁石表面のクリーニングを行えばよい。クリーニングの前処理が終了したとき、焼結磁石は、室温〜２００℃の温度となる。【００７４】
次いで、処理室２内での金属蒸気雰囲気の形成及び準備室３内での焼結磁石Ｓ表面のクリーニングが終了すると、一旦、処理室２との間で２桁以上の圧力差が生じるように、準備室３の圧力が所定値（例えば、１０００Ｐａ）に達するまでガス導入手段３２を介して不活性ガス、例えばＡｒを準備室３に導入する。準備室３の圧力が所定値に達すると、遮蔽手段５を開位置に移動させて処理室２及び準備室３を連通させる。この場合、処理室２と準備室３とに圧力差をつけているので、準備室３から処理室２にＡｒが入り込んで処理室２の圧力が高くなることで、一旦蒸発が停止するが（加熱手段２３の作動は停止しない）、処理室２内で蒸発させたＤｙやＮｄの金属原子が準備室３側に入り込むことが防止される。【００７５】
次いで、真空排気手段３１を介して処理室２及び準備室３の圧力が再度所定値（例えば、１０×１０ー２Ｐａ）に達するまで真空排気すると、再蒸発する。そして、搬送手段７の駆動手段７１を作動させて焼結磁石Ｓを保持した保持手段６を処理室２内に搬送する。この場合、処理室２は、円板６３の外周縁部に設けたメタルシールなどのシール材が天板４１に形成した開口の周縁部に当接することで密閉される。【００７６】
次いで、加熱されている処理室２が再度密閉されると、例えば１３００℃で１０Ｐａの飽和蒸気雰囲気が処理室２内に形成され、この状態で所定時間保持する。この場合、処理室３内の温度より低い焼結磁石Ｓを高温の処理室２内に搬入しているため、処理室２内と焼結磁石Ｓとの間の温度差によって焼結磁石Ｓ表面に蒸気雰囲気中のＤｙやＮｄの金属原子が選択的に付着して堆積する（成膜工程）。これにより、焼結磁石Ｓ表面にのみ金属原子が高速で成膜される。この際、支持台７３の押圧部材７４は、図示していない第３の加熱手段によって均熱板２１と略同温に加熱されているので、押圧部材７４に蒸気雰囲気中の金属原子が付着することはない。【００７７】
常温の焼結磁石Ｓを高温に加熱された処理室２内に搬入したとき、焼結磁石Ｓ自体も輻射熱により加熱されることから、飽和蒸気雰囲気が形成された処理室２内での保持時間は、焼結磁石Ｓが約１０００℃になるまでの時間であって、焼結磁石Ｓの表面に必要量（「必要量」とは、結晶粒界相のみにＤｙが拡散して焼結磁石の磁気特性が向上する量である。）の金属原子が付着、堆積するまでの時間とする。焼結磁石Ｓが１０００℃を超える温度に達すると、Ｄｙが焼結磁石Ｓのグレイン（主相である結晶粒）内に進入し、結局、永久磁石を得る際にＤｙを添加したものと同じなり、磁界強度、ひいては、磁気特性を示す最大エネルギー積:が大きく低下する虞がある。【００７８】
ところで、焼結磁石Ｓが加熱されて熱膨張した場合、焼結磁石Ｓの熱膨張がキュリー温度（約３００℃）以下でインバー合金的な異常を示し、焼結磁石Ｓの表面に付着堆積した膜の剥離が起こり易くなる。このため、保持時間は、焼結磁石Ｓの最高温度が２５０℃以下、または４５０℃以上になるまでの時間とすることが好ましい。２５０℃以下の温度では、熱膨張異常による歪が少なくなることで、焼結磁石Ｓの表面に成膜したＤｙやＮｄの剥離が起こり難くなる。他方、４５０℃以上の温度では、焼結磁石Ｓの一部が溶けることで、焼結磁石Ｓと焼結磁石Ｓの表面に付着堆積したＤｙやＮｄとの間の密着性が向上し、磁焼結石Ｓの表面に成膜したしたＤｙやＮｄの剥離が起こり難くなる。【００７９】
他方で、準備室３には、この準備室３の圧力が所定値（例えば、１０００Ｐａ）に達するまでガス導入手段３２を介してＡｒなどの不活性ガスが導入される。焼結磁石Ｓが処理室２内に搬送されてから所定時間が経過すると、駆動手段７１によって、支持台７３を処理室２内の上昇位置から準備室３内の下降位置に移動させ、遮蔽手段５を開位置から閉位置に移動させる。この際、遮蔽手段５の弁本体５１は図示していない第２の加熱手段によって均熱板２１と略同温に加熱されているので、弁本体５１に蒸気雰囲気中の金属原子が付着することはない。また、準備室３から処理室２にＡｒが入り込むことで蒸発が停止する。そして、このＡｒ雰囲気中で所定の金属が成膜された焼結磁石を冷却する。【００８０】
次いで、準備室３において拡散工程が実施される。即ち、真空排気手段３１を介して処理室２と隔絶された準備室３の圧力が所定値（１０×１０−３Ｐａ）に到達するまで真空排気し、準備室３に設けた加熱手段を作動して、所定温度（例えば、７００℃〜９５０℃）下で所定時間だけＤｙやＮｄが成膜された焼結磁石Ｓに対し熱処理を施す（拡散工程）。この場合、準備室３内での熱処理に引き続き、その熱処理より低い所定温度（例えば、５００℃〜６００℃）下で所定時間（例えば、３０分）だけ永久磁石の歪を除去する熱処理を施すことが好ましい（アニール工程）。【００８１】
尚、成膜工程における金属蒸発材料の膜厚は、拡散工程における熱処理時間や焼結磁石Ｓの体積などを考慮して膜厚が決定される（例えば、２〜２０μｍ）。この場合、焼結磁石Ｓの全面に亘って金属原子を付着、堆積する必要はなく、表面の少なくとも一部に金属原子が存在すれば、拡散工程において結晶粒界相にＤｙ（Ｔｂ）を拡散させると、高性能な永久磁石Ｍが得られる。但し、焼結磁石の体積に対し、Ｄｙ（Ｔｂ）を成膜した表面積が少ない場合、拡散工程での熱処理時間が長くなるため、生産性を考慮すると、焼結磁石Ｓの全表面積の少なくとも８０％に金属原子が付着、堆積していることが好ましい。最後に、所定時間冷却した後、側壁３０のゲートバルブを開けて保持手段６を取り出す。【００８２】
これにより、焼結磁石Ｓの表面全体に亘って金属蒸発材料Ｖを成膜し、熱処理を施して、焼結磁石Ｓの表面の少なくとも一部にＤｙ（Ｔｂ）の拡散層が形成され、結晶粒界相にＤｙ（Ｔｂ）が拡散された永久磁石が得られる。この場合、付加的な表面処理工程を省けることと、焼結磁石Ｓの表面にＤｙとＮｄを含む薄膜を所定膜厚で高速に成膜できることと相俟って生産性がさらに向上し、ＤｙやＴｂの収率が高くできることからさらなる低コスト化が可能になる。
【実施例１】
【００８３】
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系の焼結磁石として、組成が２８Ｎｄ−１Ｂ−０．１Ｃｕ−１Ｃｏ−ｂａｌ．Ｆｅ、焼結磁石Ｓ自体の酸素含有量が５００ｐｐｍ及び平均結晶粒径が３μｍで、４０×１０×５（厚さ）ｍｍの形状に加工したものを用いた。この場合、焼成磁石Ｓの表面を１０μｍ以下の表面荒さを有するように仕上加工した後、アセトンを用いて洗浄した。【００８４】
次に、上記真空蒸気処理装置１を用い、上記真空蒸気処理によって永久磁石Ｍを得た。この場合、箱体１３として、２００×１７０×６０ｍｍの寸法を有するＭｏ製のものを用い、載置部１３２上に１２０個の焼結磁石Ｓを等間隔で配置することとした。また、金属蒸発材料Ｖとして、純度９９．９％のＤｙとＮｄとを所定の混合割合で配合し、アーク溶解炉によってバルク状の合金を得て、５０ｇの総量で処理室１３０の底面に配置した。併せて、５０Ｄｙ及び５０ジジムと、５０Ｄｙ、２５Ｎｄ及び２５Ｐｒと、５０Ｄｙ及び５０Ｐｒとなるように秤量し、アーク溶解炉によってバルク状の合金をそれぞれ得て、５０ｇの総量で処理室１３０の底面に配置できるようにした。【００８５】
次いで、真空排気手段を作動させて真空チャンバを１×１０−４Ｐａまで一旦減圧する（処理室内の圧力は略５×１０−３Ｐａ）と共に、加熱手段１４による処理室１３０の加熱温度を９００℃に設定した。そして、処理室１３０の温度が９００℃に達した後、この状態で６時間、上記処理を行った。次いで、永久磁石の歪を除去する熱処理を行った。この場合、処理温度を５３０℃、処理時間を９０分に設定した。その後、ワイヤーカッタを用いてφ１０×５ｍｍの寸法に加工した。【００８６】
図７は、上記により永久磁石を得たときの磁気特性の平均値を、金属蒸発材料として純度９９．９％のバルク状のＤｙを用い真空蒸気処理時間を１２時間（比較例１ａ）、６時間（比較例１ｂ）にそれぞれ設定して永久磁石を得たときの磁気特性の平均値を併せて示す表である。これによれば、比較例では、真空蒸気処理時間を長くなるのに従い、保磁力が高くなり、比較例１ａでは、保磁力が約２０ｋ０ｅであった。それに対し、実施例１では、金属蒸発材料ＶがＤｙ及びＮｄの合金の場合、９９重量％の割合でＮｄを配合しても、保磁力が約２４．５ｋ０ｅであり、比較例１ａ、１ｂのものより高い保磁力を有し、高磁気特性の永久磁石が得られることが判る。また、金属蒸発材料Ｖとして、Ｄｙに、ＮｄとＰｒとを配合した合金を用いると、保磁力が約２７ｋ０ｅ以上であり、比較例１ａ、１ｂのものより高い保磁力を有し、高磁気特性の永久磁石が得られ、また、Ｎｄに、Ｐｒのみを配合した合金を用いても、保磁力が２８．５ｋ０ｅである高磁気特性の永久磁石が得られることが判る。
【実施例２】
【００８７】
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系の焼結磁石として、組成が２８Ｎｄ−１Ｂ−０．１Ｃｕ−１Ｃｏ−ｂａｌ．Ｆｅ、焼結磁石Ｓ自体の酸素含有量が５００ｐｐｍ及び平均結晶粒径が３μｍで、４０×１０×５（厚さ）ｍｍの形状に加工したものを用いた。この場合、焼成磁石Ｓの表面を１０μｍ以下の表面荒さを有するように仕上加工した後、アセトンを用いて洗浄した。【００８８】
次に、上記真空蒸気処理装置１を用い、上記真空蒸気処理によって永久磁石Ｍを得た。この場合、箱体１３として、２００×１７０×６０ｍｍの寸法を有するＭｏ製のものを用い、載置部１３２上に１２０個の焼結磁石Ｓを等間隔で配置することとした。また、金属蒸発材料Ｖとして、純度９９．９％のＴｂとＮｄとを所定の混合割合で配合し、アーク溶解炉によってバルク状の合金を得て、１０００ｇの総量で処理室１３０の底面に配置した。併せて、５０Ｔｂ及び５０ジジムと、５０Ｔｂ、２５Ｎｄ及び２５Ｐｒと、５０Ｔｂ及び５０Ｐｒとなるように秤量し、アーク溶解炉によってバルク状の合金をそれぞれ得て、１０００ｇの総量で処理室１３０の底面に配置できるようにした。【００８９】
次いで、真空排気手段を作動させて真空チャンバを１×１０−４Ｐａまで一旦減圧する（処理室内の圧力は５×１０−３Ｐａ）と共に、加熱手段１４による処理室１３０の加熱温度を１０２５℃に設定した。そして、処理室１３０の温度が１０２５℃に達した後、この状態で４時間、上記処理を行った。次いで、永久磁石の歪を除去する熱処理を行った。この場合、処理温度を５３０℃、処理時間を９０分に設定した。その後、ワイヤーカッタを用いてφ１０×５ｍｍの寸法に加工した。【００９０】
図８は、上記により永久磁石を得たときの磁気特性の平均値を、金属蒸発材料として純度９９．９％のバルク状のＴｂを用い真空蒸気処理時間を１２時間（比較例２ａ）、４時間（比較例２ｂ）にそれぞれ設定して永久磁石を得たときの磁気特性の平均値を併せて示す表である。これによれば、比較例では、真空蒸気処理時間を長くなるのに従い、保磁力が高くなり、比較例２ａでは、保磁力が約２１ｋ０ｅであった。それに対し、実施例２では、金属蒸発材料ＶがＴｂ及びＮｄの合金の場合、９０重量％の割合でＮｄを配合しても、保磁力が約２８．５ｋ０ｅであり、比較例２ａ、２ｂのものより高い保磁力を有し、高磁気特性の永久磁石が得られることが判る。また、金属蒸発材料Ｖとして、Ｔｂに、ＮｄとＰｒとを配合した合金を用いると、保磁力が約３１ｋ０ｅ以上であり、比較例２ａ、２ｂのものより高い保磁力を有し、高磁気特性の永久磁石が得られ、また、Ｔｂに、Ｐｒのみを配合した合金を用いても、保磁力が３３ｋ０ｅである高磁気特性の永久磁石が得られることが判る。
【実施例３】
【００９１】
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系の焼結磁石として、組成が２０Ｎｄ−１Ｂ−５Ｐｒ−３Ｄｙ−ｂａｌ．Ｆｅ、焼結磁石Ｓ自体の酸素含有量が５００ｐｐｍ及び平均結晶粒径が３μｍで、４０×１０×８（厚さ）ｍｍの形状に加工したものを用いた。この場合、焼成磁石Ｓの表面を５０μｍ以下の表面荒さを有するように加工した後、硝酸を用いて洗浄した。【００９２】
次に、上記真空蒸気処理装置１を用い、上記真空蒸気処理によって永久磁石Ｍを得た。この場合、箱体１３として、２００×１７０×６０ｍｍの寸法を有するＭｏ−Ｙ製のものを用い、載置部１３２上に６０個の焼結磁石Ｓを等間隔で配置することとした。また、金属蒸発材料として、９０Ｄｙと１０Ｎｄになるように秤量した後、所定の混合割合でＡ元素を配合し、アーク溶解炉によってバルク状の合金を得て、３０ｇの総量で処理室１３０の底面に配置した。【００９３】
次いで、真空排気手段を作動させて真空チャンバを１×１０−４Ｐａまで一旦減圧する（処理室内の圧力は５×１０−３Ｐａ）と共に、加熱手段１４による処理室１３０の加熱温度を８５０℃に設定した。そして、処理室１３０の温度が８５０℃に達した後、この状態で１６時間、上記処理を行った。次いで、永久磁石の歪を除去する熱処理を行った。この場合、処理温度を５３０℃、処理時間を９０分に設定した。その後、ワイヤーカッタを用いてφ１０×５ｍｍの寸法に加工した。【００９４】
図９は、上記実施例３で得た永久磁石の磁気特性の平均値を、Ａ元素を配合せずに実施例３と同様に永久磁石を得たときの磁気特性の平均値（比較例３）と共に示す表である。これによれば、比較例３では、保磁力が約３０ｋ０ｅであったのに対し、実施例３では、金属蒸発材料としてＡ元素を配合したことで、保磁力が３３．５〜３８．３ｋ０ｅであり、保磁力が一層向上していることが判る。この場合、Ａｌ、Ｃｕ及びＧａの少なくとも１種を配合すると、より一層保磁力が向上していることが判る。
【実施例４】
【００９５】
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系の焼結磁石として、組成が２０Ｎｄ−１Ｂ−５Ｐｒ−３Ｄｙ−ｂａｌ．Ｆｅ、焼結磁石Ｓ自体の酸素含有量が５００ｐｐｍ及び平均結晶粒径が３μｍで、４０×１０×８（厚さ）ｍｍの形状に加工したものを用いた。この場合、焼成磁石Ｓの表面を５０μｍ以下の表面荒さを有するように加工した後、硝酸を用いて洗浄した。【００９６】
次に、上記真空蒸気処理装置１を用い、上記真空蒸気処理によって永久磁石Ｍを得た。この場合、箱体１３として、２００×１７０×６０ｍｍの寸法を有するＭｏ−Ｙ製のものを用い、載置部１３２上に６０個の焼結磁石Ｓを等間隔で配置することとした。また、金属蒸発材料として、９０Ｔｂと１０Ｎｄになるように秤量した後、所定の混合割合でＡ元素を配合し、アーク溶解炉によってバルク状の合金を得て、５００ｇの総量で処理室１３０の底面に配置した。【００９７】
次いで、真空排気手段を作動させて真空チャンバを１×１０−４Ｐａまで一旦減圧する（処理室内の圧力は５×１０−３Ｐａ）と共に、加熱手段１４による処理室１３０の加熱温度を９５０℃に設定した。そして、処理室１３０の温度が９５０℃に達した後、この状態で１２時間、上記処理を行った。次いで、永久磁石の歪を除去する熱処理を行った。この場合、処理温度を５３０℃、処理時間を９０分に設定した。その後、ワイヤーカッタを用いてφ１０×５ｍｍの寸法に加工した。【００９８】
図１０は、上記実施例４で得た永久磁石の磁気特性の平均値を、Ａ元素を配合せずに実施例３と同様に永久磁石を得たときの磁気特性の平均値（比較例４）と共に示す表である。これによれば、比較例４では、保磁力が約３５ｋ０ｅであったのに対し、実施例３では、金属蒸発材料としてＡ元素を配合したことで、保磁力が３７．２〜４２．４ｋ０ｅであり、保磁力が一層向上していることが判る。この場合もまた、Ａｌ、Ｃｕ及びＧａの少なくとも１種を配合すると、より一層保磁力が向上していることが判る。
【実施例５】
【００９９】
実施例５では、実施例３と同条件でＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系の焼結磁石を作製すると共に、上記真空蒸気処理装置１を用い、実施例３と同条件で上記真空蒸気処理によって永久磁石Ｍを得た。但し、金属蒸発材料として、純度９９．９％のＤｙに、所定の混合割合でＡ元素を配合し、アーク溶解炉によってバルク状の合金を得て、５００ｇの総量で処理室１３０の底面に配置した。【０１００】
図１１は、上記実施例５で得た永久磁石の磁気特性の平均値を、Ａ元素を配合せずに実施例５と同様に永久磁石を得たときの磁気特性の平均値（比較例５）と共に示す表である。これによれば、比較例５では、保磁力が約２２ｋ０ｅであったのに対し、実施例５では、金属蒸発材料としてＡ元素を配合したことで、保磁力が２４．９〜２９．５ｋ０ｅであり、保磁力が一層向上していることが判る。この場合、Ａｌ、Ｃｕ及びＧａの少なくとも１種を配合すると、より一層保磁力が向上していることが判る。
【実施例６】
【０１０１】
実施例６では、実施例４と同条件でＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系の焼結磁石を作製すると共に、上記真空蒸気処理装置１を用い、実施例４と同条件で上記真空蒸気処理によって永久磁石Ｍを得た。但し、金属蒸発材料として、純度９９．９％のＴｂに、所定の混合割合でＡ元素を配合し、アーク溶解炉によってバルク状の合金を得て、１０００ｇの総量で処理室１３０の底面に配置した。【０１０２】
図１２は、上記実施例６で得た永久磁石の磁気特性の平均値を、Ａ元素を配合せずに実施例６と同様に永久磁石を得たときの磁気特性の平均値（比較例６）と共に示す表である。これによれば、比較例６では、保磁力が約２４．２ｋ０ｅであったのに対し、実施例６では、金属蒸発材料としてＡ元素を配合したことで、保磁力が２４．９〜３２．５ｋ０ｅであり、保磁力が一層向上していることが判る。この場合、Ａｌ、Ｃｕ及びＧａの少なくとも１種を配合すると、より一層保磁力が向上していることが判る。
【図面の簡単な説明】
【０１０３】
【図１】本発明で作製した永久磁石の断面を模式的に説明する図。
【図２】本発明の処理を実施する真空処理装置を概略的に示す図。
【図３】従来技術により作製した永久磁石の断面を模式的に説明する図。
【図４】（ａ）は、焼結磁石表面の加工劣化を説明する図。（ｂ）は、本発明の実施により作製した永久磁石の表面状態を説明する図。
【図５】成膜工程を実施する成膜装置の構成を概略的に説明する図。
【図６】図３に示す成膜装置の処理室内での焼結磁石の保持を説明する図。
【図７】実施例１で作製した永久磁石の磁気特性の平均値を示す表。
【図８】実施例２で作製した永久磁石の磁気特性の平均値を示す表。
【図９】実施例３で作製した永久磁石の磁気特性の平均値を示す表。
【図１０】実施例４で作製した永久磁石の磁気特性の平均値を示す表。
【図１１】実施例５で作製した永久磁石の磁気特性の平均値を示す表。
【図１２】実施例６で作製した永久磁石の磁気特性の平均値を示す表。
【符号の説明】
【０１０４】
１  真空蒸気処理装置
１２  真空チャンバ
２  処理室
３  加熱手段
Ｓ  焼結磁石
Ｍ  永久磁石
Ｖ  金属蒸発材料
【図１】
2008032667.tif 000003
【図２】
2008032667.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2008032667.tif 000008
【図７】
2008032667.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【国際調査報告】
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