【手続補正書】
【提出日】平成17年8月23日(2005.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の表面の少なくとも一部に、乾式メッキ法により、０．１〜１０ｗｔ％のＰｄと、０．１〜８ｗｔ％のＦｅと、０．１〜１０．０ｗｔ％のＩｎとを含むＡｕ−Ｐｄ−Ｆｅ−Ｉｎ系合金で構成され、かつ、平均厚さが０．０１〜１０μｍの被膜を形成する工程を有し、
前記基材が、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｍｇまたはこれらのうち少なくとも１種を含む合金で構成されるものであることを特徴とする装飾品の表面処理方法。
【請求項２】
基材の表面の少なくとも一部に、乾式メッキ法により、０．１〜１０ｗｔ％のＰｄと、０．１〜８ｗｔ％のＦｅと、０．１〜１０．０ｗｔ％のＩｎとを含むＡｕ−Ｐｄ−Ｆｅ−Ｉｎ系合金で構成され、かつ、平均厚さが０．０１〜１０μｍの被膜を形成する工程を有し、
前記基材が、主として、ステンレス鋼で構成されるものであることを特徴とする装飾品の表面処理方法。
【請求項３】
前記被膜を形成する工程の前に、前記基材の表面の少なくとも一部に、清浄化処理を施す工程を有する請求項１または２に記載の装飾品の表面処理方法。
【請求項４】
基材の表面の少なくとも一部に、少なくとも１層の下地層を形成する工程と、
前記下地層上に、乾式メッキ法により、０．１〜１０ｗｔ％のＰｄと、０．１〜８ｗｔ％のＦｅと、０．１〜１０．０ｗｔ％のＩｎとを含むＡｕ−Ｐｄ−Ｆｅ−Ｉｎ系合金で構成され、かつ、平均厚さが０．０１〜１０μｍの被膜を形成する工程を有し、
前記基材が、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｍｇまたはこれらのうち少なくとも１種を含む合金で構成されるものであることを特徴とする装飾品の表面処理方法。
【請求項５】
基材の表面の少なくとも一部に、少なくとも１層の下地層を形成する工程と、
前記下地層上に、乾式メッキ法により、０．１〜１０ｗｔ％のＰｄと、０．１〜８ｗｔ％のＦｅと、０．１〜１０．０ｗｔ％のＩｎとを含むＡｕ−Ｐｄ−Ｆｅ−Ｉｎ系合金で構成され、かつ、平均厚さが０．０１〜１０μｍの被膜を形成する工程を有し、
前記基材が、主として、ステンレス鋼で構成されるものであることを特徴とする装飾品の表面処理方法。
【請求項６】
前記被膜を形成する工程の前に、前記下地層の表面の少なくとも一部に、清浄化処理を施す工程を有する請求項４または５に記載の装飾品の表面処理方法。
【請求項７】
前記下地層のうち少なくとも１層は、その一方の面側と他方の面側との電位差を緩和する緩衝層である請求項４ないし６のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。
【請求項８】
前記下地層のうち少なくとも１層は、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｉｒまたはこれらのうち少なくとも１種を含む合金で構成される金属層である請求項４ないし７のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。
【請求項９】
前記装飾品は、前記下地層を２層以上有するものである請求項４ないし８のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。
【請求項１０】
隣接する前記下地層は、互いに共通の元素を含む材料で構成されたものである請求項９に記載の装飾品の表面処理方法。
【請求項１１】
真空蒸着法により前記被膜を形成する請求項１ないし１０のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。
【請求項１２】
前記被膜は、ＣＥＮ規格のＥＮ２８６５４で規定される１Ｎ−１４色の近似色を有するものである請求項１ないし１１のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。
【請求項１３】
前記被膜を形成する工程の後、さらに、前記被膜の表面の一部に、マスキングを形成する工程と、
剥離剤を用いて、前記マスキングが被覆されていない部位の前記被膜を除去する工程と、
前記マスキングを除去する工程とを有する請求項１ないし１２のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。
【請求項１４】
請求項１ないし１３のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法を用いて製造されたことを特徴とする装飾品。
【請求項１５】
基材と、該基材の少なくとも一部を覆う被膜とを有する装飾品であって、
前記基材は、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｍｇまたはこれらのうち少なくとも１種を含む合金で構成されるものであり、
前記被膜は、０．１〜１０ｗｔ％のＰｄと、０．１〜８ｗｔ％のＦｅと、０．１〜１０．０ｗｔ％のＩｎとを含むＡｕ−Ｐｄ−Ｆｅ−Ｉｎ系合金で構成され、かつ、平均厚さが０．０１〜１０μｍであることを特徴とする装飾品。
【請求項１６】
基材と、該基材の少なくとも一部を覆う被膜とを有する装飾品であって、
前記基材は、主として、ステンレス鋼で構成されるものであり、
前記被膜は、０．１〜１０ｗｔ％のＰｄと、０．１〜８ｗｔ％のＦｅと、０．１〜１０．０ｗｔ％のＩｎとを含むＡｕ−Ｐｄ−Ｆｅ−Ｉｎ系合金で構成され、かつ、平均厚さが０．０１〜１０μｍであることを特徴とする装飾品。
【請求項１７】
前記基材と前記被膜との間に、少なくとも１層の下地層を有する請求項１５または１６に記載の装飾品。
【請求項１８】
前記下地層のうち少なくとも１層は、その一方の面側と他方の面側との電位差を緩和する緩衝層である請求項１７に記載の装飾品。
【請求項１９】
前記下地層のうち少なくとも１層は、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｉｒまたはこれらのうち少なくとも１種を含む合金で構成される金属層である請求項１７または１８に記載の装飾品。
【請求項２０】
前記被膜は、ＣＥＮ規格のＥＮ２８６５４で規定される１Ｎ−１４色の近似色を有するものである請求項１５ないし１９のいずれかに記載の装飾品。
【請求項２１】
装飾品は、時計用外装部品である請求項１４ないし２０のいずれかに記載の装飾品。
【請求項２２】
請求項１４ないし２１のいずれかに記載の装飾品を備えたことを特徴とする時計。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
このような目的は、下記（１）〜（２２）の本発明により達成される。また、（２３）〜（３０）であるのが好ましい。
（１）  基材の表面の少なくとも一部に、乾式メッキ法により、０．１〜１０ｗｔ％のＰｄと、０．１〜８ｗｔ％のＦｅと、０．１〜１０．０ｗｔ％のＩｎとを含むＡｕ−Ｐｄ−Ｆｅ−Ｉｎ系合金で構成され、かつ、平均厚さが０．０１〜１０μｍの被膜を形成する工程を有し、
前記基材が、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｍｇまたはこれらのうち少なくとも１種を含む合金で構成されるものであることを特徴とする装飾品の表面処理方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
（２）  基材の表面の少なくとも一部に、乾式メッキ法により、０．１〜１０ｗｔ％のＰｄと、０．１〜８ｗｔ％のＦｅと、０．１〜１０．０ｗｔ％のＩｎとを含むＡｕ−Ｐｄ−Ｆｅ−Ｉｎ系合金で構成され、かつ、平均厚さが０．０１〜１０μｍの被膜を形成する工程を有し、
前記基材が、主として、ステンレス鋼で構成されるものであることを特徴とする装飾品の表面処理方法。
（３）  前記被膜を形成する工程の前に、前記基材の表面の少なくとも一部に、清浄化処理を施す工程を有する上記（１）または（２）に記載の装飾品の表面処理方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
（４）  基材の表面の少なくとも一部に、少なくとも１層の下地層を形成する工程と、
前記下地層上に、乾式メッキ法により、０．１〜１０ｗｔ％のＰｄと、０．１〜８ｗｔ％のＦｅと、０．１〜１０．０ｗｔ％のＩｎとを含むＡｕ−Ｐｄ−Ｆｅ−Ｉｎ系合金で構成され、かつ、平均厚さが０．０１〜１０μｍの被膜を形成する工程を有し、
前記基材が、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｍｇまたはこれらのうち少なくとも１種を含む合金で構成されるものであることを特徴とする装飾品の表面処理方法。
（５）  基材の表面の少なくとも一部に、少なくとも１層の下地層を形成する工程と、
前記下地層上に、乾式メッキ法により、０．１〜１０ｗｔ％のＰｄと、０．１〜８ｗｔ％のＦｅと、０．１〜１０．０ｗｔ％のＩｎとを含むＡｕ−Ｐｄ−Ｆｅ−Ｉｎ系合金で構成され、かつ、平均厚さが０．０１〜１０μｍの被膜を形成する工程を有し、
前記基材が、主として、ステンレス鋼で構成されるものであることを特徴とする装飾品の表面処理方法。
（６）  前記被膜を形成する工程の前に、前記下地層の表面の少なくとも一部に、清浄化処理を施す工程を有する上記（４）または（５）に記載の装飾品の表面処理方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
（７）  前記下地層のうち少なくとも１層は、その一方の面側と他方の面側との電位差を緩和する緩衝層である上記（４）ないし（６）のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。
（８）  前記下地層のうち少なくとも１層は、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｉｒまたはこれらのうち少なくとも１種を含む合金で構成される金属層である上記（４）ないし（７）のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（９）  前記装飾品は、前記下地層を２層以上有するものである上記（４）ないし（８）のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。
（１０）  隣接する前記下地層は、互いに共通の元素を含む材料で構成されたものである上記（９）に記載の装飾品の表面処理方法。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（１１）  真空蒸着法により前記被膜を形成する上記（１）ないし（１０）のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。
（１２）  前記被膜は、ＣＥＮ規格のＥＮ２８６５４で規定される１Ｎ−１４色の近似色を有するものである上記（１）ないし（１１）のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。
（１３）  前記被膜を形成する工程の後、さらに、前記被膜の表面の一部に、マスキングを形成する工程と、
剥離剤を用いて、前記マスキングが被覆されていない部位の前記被膜を除去する工程と、
前記マスキングを除去する工程とを有する上記（１）ないし（１２）のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（１４）  上記（１）ないし（１３）のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法を用いて製造されたことを特徴とする装飾品。
（１５）  基材と、該基材の少なくとも一部を覆う被膜とを有する装飾品であって、
前記基材は、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｍｇまたはこれらのうち少なくとも１種を含む合金で構成されるものであり、
前記被膜は、０．１〜１０ｗｔ％のＰｄと、０．１〜８ｗｔ％のＦｅと、０．１〜１０．０ｗｔ％のＩｎとを含むＡｕ−Ｐｄ−Ｆｅ−Ｉｎ系合金で構成され、かつ、平均厚さが０．０１〜１０μｍであることを特徴とする装飾品。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（１６）  基材と、該基材の少なくとも一部を覆う被膜とを有する装飾品であって、
前記基材は、主として、ステンレス鋼で構成されるものであり、
前記被膜は、０．１〜１０ｗｔ％のＰｄと、０．１〜８ｗｔ％のＦｅと、０．１〜１０．０ｗｔ％のＩｎとを含むＡｕ−Ｐｄ−Ｆｅ−Ｉｎ系合金で構成され、かつ、平均厚さが０．０１〜１０μｍであることを特徴とする装飾品。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
（１７）  前記基材と前記被膜との間に、少なくとも１層の下地層を有する上記（１５）または（１６）に記載の装飾品。
（１８）  前記下地層のうち少なくとも１層は、その一方の面側と他方の面側との電位差を緩和する緩衝層である上記（１７）に記載の装飾品。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（１９）  前記下地層のうち少なくとも１層は、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｉｒまたはこれらのうち少なくとも１種を含む合金で構成される金属層である上記（１７）または（１８）に記載の装飾品。
（２０）  前記被膜は、ＣＥＮ規格のＥＮ２８６５４で規定される１Ｎ−１４色の近似色を有するものである上記（１５）ないし（１９）のいずれかに記載の装飾品。
（２１）  装飾品は、時計用外装部品である上記（１４）ないし（２０）のいずれかに記載の装飾品。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
（２２）  上記（１４）ないし（２１）のいずれかに記載の装飾品を備えたことを特徴とする時計。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
（２３）  前記金属層の平均厚さは、０．０５〜５０μｍである上記（８）に記載の装飾品の表面処理方法。
（２４）  前記共通の元素は、Ｃｕである上記（１０）に記載の装飾品の表面処理方法。
（２５）  前記マスキングの平均厚さは、１００〜２０００μｍである上記（１３）に記載の装飾品の表面処理方法。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
（２６）  前記被膜は、金属組成の異なる複数個のターゲットを用いる乾式メッキ法により形成されるものである上記（１）ないし（１３）のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。
（２７）  前記ターゲットとして、Ａｕ−Ｐｄ−Ｆｅ合金ターゲットと、Ｉｎターゲットとを用いる上記（２６）に記載の装飾品の表面処理方法。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
（２８）  前記基材は、鋳造または金属粉末射出成形により作製されたものである上記（１）ないし（１３）のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。
（２９）  前記基材は、その表面の少なくとも一部に、鏡面加工、スジ目加工、梨地加工から選択される表面加工が施されたものである上記（１）ないし（１３）のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。
（３０）  少なくともその一部が皮膚に接触して用いられる上記（１４）ないし（２１）のいずれかに記載の装飾品。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
［基材２］
基材２は、金属材料で構成されるものである。
基材２が金属材料で構成されることにより、特に優れた強度特性を有する装飾品１Ａを提供することができる。
また、基材２が金属材料で構成されることにより、基材２の表面粗さが比較的大きい場合であっても、後述する被膜３を形成する際のレベリング効果により、得られる装飾品１Ａの表面粗さを小さくすることができる。例えば、基材２の表面に対する切削加工、研磨加工などによる機械加工を省略しても、鏡面仕上げを行うことが可能となったり、基材２がＭＩＭ法により成形されたもので、その表面が梨地面である場合でも、容易に鏡面にすることができる。これにより、光沢に優れた装飾品を得ることができる。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
基材２の製造方法は、特に限定されない。
基材２の製造方法としては、例えば、プレス加工、切削加工、鍛造加工、鋳造加工、粉末冶金焼結、金属粉末射出成形（ＭＩＭ）、ロストワックス法等が挙げられるが、この中でも特に、鋳造加工または金属粉末射出成形（ＭＩＭ）が好ましい。鋳造加工、金属粉末射出成形（ＭＩＭ）は、特に、加工性に優れている。このため、これらの方法を用いた場合、複雑な形状の基材２を比較的容易に得ることができる。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４３】
このようにして洗浄を行った基材の表面（鏡面加工を施した側の面）に、Ａｕ−Ｐｄ−Ｆｅ−Ｉｎ系合金（Ａｕ：９２．１ｗｔ％、Ｐｄ：１．８７ｗｔ％、Ｆｅ：１．６８ｗｔ％、Ｉｎ：４．３５ｗｔ％）で構成される被膜を形成した。
被膜の形成は、以下に説明するような真空蒸着により行った。
まず、基材をチャンバー内に取付け、その後、装置内を予熱しながら、チャンバー内を２×１０−５Ｔｏｒｒまで排気（減圧）した。さらに、チャンバー内を２×１０−６Ｔｏｒｒまで排気（減圧）し、アルゴンガス流量４７０ｍｌ／分で、ボンバード処理を５分間行った。次に、チャンバー内を２×１０−６Ｔｏｒｒまで排気（減圧）し、このような状態で、タングステンボードを用いた抵抗加熱により、ターゲット（蒸発源）を溶解、蒸着させ、Ａｕ−Ｐｄ−Ｆｅ−Ｉｎ系合金で構成される被膜を形成し、装飾品を得た。ターゲットとしては、Ａｕ−Ｐｄ−Ｆｅ合金ターゲットと、Ｉｎターゲットとを用いた。なお、形成された被膜の平均厚さは、０．５μｍであった。被膜の厚さは、ＪＩＳ  Ｈ  ５８２１の顕微鏡断面試験方法により測定した。