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【手続補正書】
【提出日】平成16年10月29日(2004.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
通水管路内のケースに、水流ガイドの案内羽根の外面を案内するガイド突起を有する固定ガイドを設けると共に、水流ガイドの案内羽根に、前記ガイド突起と当接して水流ガイドの所定量以上の上昇変位を規制するストッパ爪を設けたことを特徴とする請求項２に記載の薬剤供給装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
水流ガイドの案内羽根の外面に、固定ガイドのガイド突起に摺接する軸方向に沿うビードを形成したことを特徴とする請求項３に記載の薬剤供給装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項３の発明は、請求項２の発明において、さらに通水管路内のケースに、水流ガイドの案内羽根の外面を案内するガイド突起を有する固定ガイドを設けると共に、水流ガイドの案内羽根に、前記ガイド突起と当接して水流ガイドの所定量以上の上昇変位を規制するストッパ爪を設けるようにした。この発明の場合、水流ガイドはストッパ爪とガイド突起の当接によってケースから抜け止めされる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
請求項４の発明は、請求項３の発明において、水流ガイドの案内羽根の外面に、固定ガイドのガイド突起に摺接する軸方向に沿うビードを形成するようにした。この発明の場合、水流ガイドの昇降動作時には案内羽根がビード部分でガイド突起と摺動する。ビードは水流ガイドの昇降動作方向に沿っているため、ガイド突起とのクリアランスを狭めても摺動抵抗が大きく増大することがない。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
各案内羽根２６は、その外側面が円弧面状に形成される一方で、内側面が吐出孔２５に向かって収束するように緩やかにすぼまって形成されており、給水口１１から流入した供給水がこの案内羽根２６の内側面に沿って吐出孔２５内に集められるようになっている。また、案内羽根２６は、半円孔３５ａ，３５ｂに遊挿して固定ガイド３６のガイド壁２１内に挿入され、この各半円孔３５ａ，３５ｂの孔縁のガイド突起２２及びガイドレール２２ａによって摺動自在に昇降ガイドされるようになっている。そして、各案内羽根２６の外側面には軸方向に沿う複数（この例の場合二つ）のビード３７が一体に形成されており、ガイド突起２２の円弧面に対してこのビード３７部分で摺接するようになっている。したがって、水流ガイド２３の昇降時には、ビード３７によって各案内羽根２６とガイド突起２２の摺接面積、延いては摺動抵抗を常時小さく維持することができ、このことから各案内羽根２６とガイド突起２２のクリアランスを小さくすることが可能となっている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
この薬剤充填カートリッジ４４について簡単に説明すると、同カートリッジ４４は、カートリッジケース４５の下端に薬剤導出口１６、上端にエア排出口５０が夫々設けられ、薬剤導出口１６には上述の実施例と同様に滲出膜１７が付設されている。そして、エア排出口５０には四フッ化エチレン樹脂等の疎水性通気膜４６が所定間隔離間して一対配置され、両通気膜４６，４６間が空気室４７とされている。また、下端の通気膜４６と滲出膜１７の間が薬剤充填室４８とされ、その内部に粉末若しくは固形の薬剤Ｐが充填されている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
請求項３の発明は、請求項２の発明において、通水管路内のケースに、水流ガイドの案内羽根の外面を案内するガイド突起を有する固定ガイドを設けると共に、水流ガイドの案内羽根に、前記ガイド突起と当接して水流ガイドの所定量以上の上昇変位を規制するストッパ爪を設けるようにしたため、ケースからの水流ガイドの抜けが確実に防止され、薬剤充填カートリッジの交換時等に水流ガイドが紛失する不具合を無くすことができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
請求項４の発明は、請求項３の発明において、水流ガイドの案内羽根の外面に、固定ガイドのガイド突起に摺接する軸方向に沿うビードを形成するようにしたため、案内羽根とガイド突起のクリアランスを狭めても摺動抵抗が大きく増大することがなく、したがって、案内羽根の作動不良を招くことなく給水口から流入した供給水をロス無く確実に滲出膜に誘導することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月19日(2005.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数種類の石油製品を各種別毎に収納する複数のハッチ部と、各ハッチ部からの石油製品を案内する共通配管と、前記各ハッチ部毎に設けられ前記各ハッチ部内と前記共通配管とを連通させる流路を開閉する底弁と、前記共通配管の先端に設けられこの共通配管内の流路を開閉する吐出弁とを有し、前記各ハッチ部内の石油製品を給油所の油種毎に貯蔵する地下タンクに、前記共通配管に接続されるホースを介して注入するタンクローリ車の荷降ろし制御装置であって、
前記底弁内に組み込まれた弁体に連結されて前記弁体を開閉し、作業者により手動操作される底弁ハンドルが取り付けられた弁作動軸と、
ラチェット歯が設けられて前記弁作動軸に取り付けられた回転体と、
前記ラチェット歯と噛み合う係止爪を有し、前記ラチェット歯と噛み合った状態では前記弁作動軸が前記弁体を開く方向に回転するのを阻止し、閉じる方向に回転するのを許容する噛み合いブロックと、
前記噛み合いブロックを前記回転体に接近させて前記係止爪を前記ラチェット歯に噛み合わせる方向のばね力を付勢するばね部材と、
前記噛み合いブロックを前記ばね力に抗して前記回転体から離反させる位置と、前記噛み合いブロックから退避して前記ラチェット歯と前記係止爪とを係合させる位置とに作動させる流体圧シリンダとを有し、
前記ラチェット歯と前記係止爪とが係合した状態でも、前記弁体を閉じる方向には前記底弁ハンドルを操作し得るようにしたことを特徴とするタンクローリ車の荷降ろし制御装置。
【請求項２】
複数種類の石油製品を各種別毎に収納する複数のハッチ部と、各ハッチ部からの石油製品を案内する共通配管と、前記各ハッチ部毎に設けられ前記各ハッチ部内と前記共通配管とを連通させる流路を開閉する底弁と、前記共通配管の先端に設けられこの共通配管内の流路を開閉する吐出弁とを有し、前記各ハッチ部内の石油製品を給油所の油種毎に貯蔵する地下タンクに、前記共通配管に接続されるホースを介して注入するタンクローリ車の荷降ろし制御装置であって、
前記底弁内に組み込まれた弁体に連結されて前記弁体を開閉し、作業者により手動操作される底弁ハンドルが取り付けられた弁作動軸と、
係合凹部が設けられて前記弁作動軸に取り付けられた回転体と、
前記係合凹部に係合する係止爪を有し、前記係止爪が前記係合凹部に係合する位置と前記係合凹部から離反する位置とに前記係止爪を作動する流体圧シリンダとを有し、前記流体圧シリンダによって前記弁作動軸をロックし得るようにしたことを特徴とするタンクローリ車の荷降ろし制御装置。
【請求項３】
複数種類の石油製品を各種別毎に収納する複数のハッチ部と、各ハッチ部からの石油製品を案内する共通配管と、前記各ハッチ部毎に設けられ前記各ハッチ部内と前記共通配管とを連通させる流路を開閉する底弁と、前記共通配管の先端に設けられこの共通配管内の流路を開閉する吐出弁とを有し、前記各ハッチ部内の石油製品を給油所の油種毎に貯蔵する地下タンクに、前記共通配管に接続されるホースを介して注入するタンクローリ車の荷降ろし制御装置であって、
前記共通配管に取り付けられ、弁体を全閉位置と全開位置とに回転する吐出弁レバーと、
前記共通配管に固定されるホルダーに取り付けられる流体圧シリンダと、
前記流体圧シリンダに取り付けられ、前記吐出弁レバーが全閉位置となったときに全開位置への作動を阻止するロック状態と、前記吐出弁レバーを全閉位置から全開位置に回転させるロック解除状態との間に往復動する往復動部材とを有することを特徴とするタンクローリ車の荷降ろし制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明にあっては、弁作動軸に隣接して流体圧シリンダを取り付けて、その流体圧シリンダによって弁作動軸をロックすることができるので、簡単な構造で確実に底弁ハンドルを固定することができる。
さらに、本発明のタンクローリ車の荷降ろし制御装置は、複数種類の石油製品を各種別毎に収納する複数のハッチ部と、各ハッチ部からの石油製品を案内する共通配管と、前記各ハッチ部毎に設けられ前記各ハッチ部内と前記共通配管とを連通させる流路を開閉する底弁と、前記共通配管の先端に設けられこの共通配管内の流路を開閉する吐出弁とを有し、前記各ハッチ部内の石油製品を給油所の油種毎に貯蔵する地下タンクに、前記共通配管に接続されるホースを介して注入するタンクローリ車の荷降ろし制御装置であって、前記共通配管に取り付けられ、弁体を全閉位置と全開位置とに回転する吐出弁レバーと、前記共通配管に固定されるホルダーに取り付けられる流体圧シリンダと、前記流体圧シリンダに取り付けられ、前記吐出弁レバーが全閉位置となったときに全開位置への作動を阻止するロック状態と、前記吐出弁レバーを全閉位置から全開位置に回転させるロック解除状態との間に往復動する往復動部材とを有することを特徴とする。
本発明にあっては、吐出弁レバーが全閉位置となったときに流体圧シリンダによって吐出弁レバーの作動を阻止することができるので、不用意に吐出弁レバーを開放操作することが防止される。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月24日(2005.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の図柄を変動表示可能な図柄表示器と、この図柄表示器を制御する表示制御装置と、遊技球が特定領域を通過したことを検出する遊技球検出器と、電源投入時から所定時間毎に加算する判定カウンタを有する遊技制御装置を配置し、
この遊技制御装置は、パルス信号を前記表示制御装置に出力し、
前記遊技球検出器が遊技球を検出したときの前記判定カウンタの値が特定値であると、前記図柄表示器には特別図柄を確定表示すると共に特別遊技状態を生起する遊技機であって、
電源投入時において、初期値設定手段によって前記判定カウンタを「０」以外の値に設定することを特徴とする遊技機。
【請求項２】
電源投入時に初期化しないメモリを設け、前記初期値設定手段は前記メモリの値を利用することを特徴とする請求項１の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
請求項１の遊技機は、複数の図柄を変動表示可能な図柄表示器と、その図柄表示器を制御する表示制御装置と、遊技球が特定領域を通過したことを検出する遊技球検出器と、電源投入時から所定時間毎に加算する判定カウンタを有する遊技制御装置を配置し、この遊技制御装置はパルス信号を図柄表示器を制御する表示制御装置に出力する。
そして、遊技球検出器が遊技球を検出したときの前記判定カウンタの値が特定値であると、前記図柄表示器には特別図柄を確定表示すると共に特別遊技状態を生起する遊技機であり、電源投入時において、初期値設定手段によって判定カウンタを「０」以外の値にするものである。
判定カウンタは、電源投入時から「０」以外の設定値からカウントするが、不正基板におけるｃｐｕは、一般に、前記電源投入時には「０」にセットされたものとして、疑似カウンタＧｃをカウントする。
その結果、疑似カウンタＧｃの値は判定カウンタＨｃの値と相違するので、特別遊技状態を生起する判定カウンタの値Ｈｃ（特定値）を特定できない。即ち、判定カウンタＨｃの値が特定値のときに、遊技制御装置に対して遊技球検出信号を出力することができず、不正な特別遊技状態の発生を防止できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項２の遊技機は、電源投入時に初期化しないメモリを設け、初期値設定手段は前記メモリの値を利用するものであり、容易に、疑似カウンタＧｃの値と判定カウンタＨｃの値を相違させることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
【発明の効果】
本発明の請求項１の遊技機は、判定カウンタの値を電源投入時から「０」以外の設定値からカウントするので、疑似カウンタＧｃの値は判定カウンタＨｃの値と相違するので、判定カウンタＨｃの値が特定値のときに、遊技制御装置に対して遊技球検出信号を出力することができず、不正な特別遊技状態の発生を防止できる。
又、請求項２の遊技機は、電源投入時に初期化しないメモリを設け、初期値設定手段は前記メモリの値を利用するものであり、容易に、疑似カウンタＧｃの値と判定カウンタＨｃの値を相違させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月29日(2004.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の薬剤充填方法にあっては、カートリッジケース３への溶液の注入からゴム栓１０の被着までをすべて大気圧下で行うようにしているため、製造されたカートリッジ２の内部に空気の気泡ａが残留する可能性がある。即ち、上記の方法においては、薬剤粉末９間に入り込んでいる空気や溶液中の溶存空気を完全に除去することができないうえ、注入口８にゴム栓１０を被着する際にも空気が入り込み易く、これらの要因が相俟って気泡ａの残留を生じるものと考えられる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月5日(2004.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３次元走査超音波プローブの挿入軸後端部に設けた接続部を着脱自在に接続して、この３次元走査超音波プローブを挿入軸方向に進退するリニア駆動部と、前記３次元走査超音波プローブを挿入軸周りで回転駆動するラジアル駆動部とを備えた３次元走査超音波プローブ用駆動装置において、
前記リニア駆動部に前記３次元走査超音波プローブの挿入軸方向への進退を規制するロック機構を設け、このロック機構は前記３次元走査超音波プローブの前記リニア駆動部への接続に連動して、前記３次元走査超音波プローブの挿入軸方向への進退の規制を解除することを特徴とする３次元走査超音波プローブ用駆動装置。
【請求項２】
前記ロック機構に連動するロック解除検知手段を有し、このロック解除検知手段がロック解除を検知することにより、前記３次元走査超音波プローブが挿入軸方向に進退駆動可能となることを特徴とする請求項１に記載の３次元走査超音波プローブ用駆動装置。
【請求項３】
前記３次元走査超音波プローブは、前記ラジアル駆動部に接続される超音波プローブ本体と、この超音波プローブ本体を覆い、前記リニア駆動部に接続されるアウタシースとを備え、前記ロック機構は前記アウタシースとの接続部に設けたレバー手段と、ロックアーム手段と、前記リニア駆動部に設けた爪部とを有することを特徴とする請求項１又は２に記載の３次元走査超音波プローブ用駆動装置。
【請求項４】
前記３次元走査超音波プローブは、ラジアル駆動部に接続される超音波プローブ本体と、この超音波プローブ本体を覆い、前記リニア駆動部に接続されるアウタシースとを備え、前記ロック機構が前記アウタシースとの接続部に設けた爪部と、前記リニア駆動部に設けたロックアーム手段とを有することを特徴とする請求項１又は２に記載の３次元走査超音波プローブ用駆動装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため本発明による３次元超音波プローブ用駆動装置は、３次元走査超音波プローブの挿入軸後端部に設けた接続部を着脱自在に接続して、この３次元走査超音波プローブを挿入軸方向に進退するリニア駆動部と、前記３次元走査超音波プローブを挿入軸周りで回転駆動するラジアル駆動部とを備えた３次元走査超音波プローブ用駆動装置において、
前記リニア駆動部に前記３次元走査超音波プローブの挿入軸方向への進退を規制するロック機構を設け、このロック機構は前記３次元走査超音波プローブの前記リニア駆動部への接続に連動して、前記３次元走査超音波プローブの挿入軸方向への進退の規制を解除することを特徴とする。
この構成で、３次元走査超音波プローブを前記リニア駆動部に接続しない状態ではリニア駆動部はロックされているので、前記３次元走査超音波プローブが不用意に移動することを防止でき、プローブの破損の防止、患者の苦痛の低減及び３次元走査超音波プローブの接続を確実にできるものである。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、３次元走査超音波プローブが不用意に移動することを防止でき、プローブの破損の防止、患者の苦痛の低減及び３次元走査超音波プローブの接続を確実にできる効果を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月29日(2004.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
静磁場及び傾斜磁場の各磁場発生手段を備え、前面に開口部が開かれた架台と，被検体に電磁波を照射しあるいは被検体からの磁気共鳴信号を検出する高周波コイルと，この高周波コイルで検出された信号に基づき前記被検体の画像を得る画像再構成手段と，前記被検体を横たえた天板を前記開口部内に送り込みあるいはその送り込み位置から前記開口部外に後退させる被検体体軸方向の縦移動，及びこの縦移動方向と直交する水平方向の横移動，前記開口部外における前記天板の上下動を各々させる天板移動手段を持つ寝台と，前記天板移動手段の駆動制御を行う寝台制御部と，前記天板の移動に関わる情報入出力を行うための操作盤とを備えてなる磁気共鳴イメージング装置において、
前記寝台制御部は、前記天板の所定方向の実際の移動可能距離と仕様値との差分を設定するための入力手段と、前記天板の位置を検出する位置検出手段と、該位置検出手段の位置検出誤差を前記差分を用いて補正して実際の天板の移動距離を求める補正手段とを備えて前記天板の移動を制御し、
前記実際の天板の移動距離に基づいて求めた天板の位置を表示する表示器とを備えたことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項２】
被検体を所定位置に配置して該被検体から画像情報を取得するための架台部と、前記被検体を載置する天板を備えて該天板を前記所定位置に搬入・搬出する寝台部と、前記天板の移動を制御する制御部を備えた画像診断装置において、
前記制御部は、前記天板の所定方向の実際の移動可能距離とその仕様値との差に基づいて、前記天板の移動を制御することを特徴とする画像診断装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、静磁場及び傾斜磁場の各磁場発生手段を備え、前面に開口部が開かれた架台と、被検体に電磁波を照射しあるいは被検体からの磁気共鳴信号を検出する高周波コイルと、この高周波コイルで検出された信号に基づき前記被検体の画像を得る画像再構成手段と、前記被検体を横たえた天板を前記開口部内に送り込みあるいはその送り込み位置から前記開口部外に後退させる被検体体軸方向の縦移動、及びこの縦移動方向と直交する水平方向の横移動、前記開口部外における前記天板の上下動を各々させる天板移動手段を持つ寝台と、前記天板移動手段の駆動制御を行う寝台制御部と、前記天板の移動に関わる情報入出力を行うための操作盤とを備えてなる磁気共鳴イメージング装置において、前記寝台制御部は、前記天板の所定方向の実際の移動可能距離と仕様値との差分を設定するための入力手段と、前記天板の位置を検出する位置検出手段と、該位置検出手段の位置検出誤差を前記差分を用いて補正して実際の天板の移動距離を求める補正手段とを備えて前記天板の移動を制御し、前記実際の天板の移動距離に基づいて求めた天板の位置を表示する表示器とを備えたものである。
また、被検体を所定位置に配置して該被検体から画像情報を取得するための架台部と、前記被検体を載置する天板を備えて該天板を前記所定位置に搬入・搬出する寝台部と、前記天板の移動を制御する制御部を備えた画像診断装置において、前記制御部は、前記天板の所定方向の実際の移動可能距離とその仕様値との差に基づいて、前記天板の移動を制御するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月23日(2004.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
超音波を送受する複数個の超音波振動子からなる超音波送受手段と、受波信号の遅延処理を行う受波整相手段と、前記遅延処理後の受波信号を加算する加算手段と、前記受波整相手段および加算手段により形成された受波ビームを超音波像として順次表示する表示手段とを有する超音波装置において、
前記受波整相手段は、送波信号の周波数の８倍の周波数で前記受波信号をサンプリングするサンプリング手段と、該サンプリング手段がサンプリングした受波信号を前記送波信号の８倍の周波数間隔で遅延処理する８倍遅延処理手段と、前記サンプリング手段がサンプリングした受波信号を前記送波信号の周波数の４倍の周波数間隔で遅延処理する４倍遅延処理手段とを具備し、１回の超音波の送受波によって、前記受波整相手段および加算手段は、４倍遅延処理後の受波信号から前記送波信号の周波数の受信ビームを形成し、８倍遅延処理後の受波信号から倍周波数の受信ビームを形成することを特徴とする超音波装置。
【請求項２】
超音波を送受する複数個の超音波振動子からなる超音波送受手段と、受波信号の遅延処理を行う受波整相手段と、前記遅延処理後の受波信号を加算する加算手段と、前記受波整相手段および加算手段により形成された受波ビームを超音波像として順次表示する表示手段とを有する超音波装置において、
前記受波整相手段は、１度の送波で得られた受波信号から送波信号の周波数から形成した超音波ビームと２倍の周波数から形成した超音波ビームとを形成するビーム形成手段を具備することを特徴とする超音波装置。
【請求項３】
超音波を送受する複数個の超音波振動子からなる超音波送受手段と、受波信号の遅延処理を行う受波整相手段と、前記遅延処理後の受波信号を加算する加算手段と、前記受波整相手段および加算手段により形成された受波ビームを超音波像として順次表示する表示手段とを有する超音波装置において、
前記超音波送受手段は、前記超音波振動子の中心周波数の第１の送波信号と、該第１の送波信号と異なる周波数の第２の送波信号とを１度の送波で同一方向に送波させる送波手段を具備することを特徴とする超音波装置。
【請求項４】
超音波を送受する複数個の超音波振動子からなる超音波送受手段と、受波信号の遅延処理を行う受波整相手段と、前記遅延処理後の受波信号を加算する加算手段と、前記受波整相手段および加算手段により形成された受波ビームを超音波像として順次表示する表示手段とを有する超音波装置において、
前記超音波送受手段は前記超音波振動子の中心周波数の第１の送波信号と、該第１の送波信号と異なる周波数の第２の送波信号とを１度の送波で同一方向に送波させる手段を具備し、前記受波整相手段は１度の送波で得られた受波信号から前記第１の送波信号の周波数から形成した超音波ビームと前記第２の送波信号の周波数から形成した超音波ビームとを形成するビーム形成手段を具備することを特徴とする超音波装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月1日(2005.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検者に対しＸ線を照射するＸ線照射手段と，被検者を寝載する天板を挟み該Ｘ線照射手段と対向配置されるＸ線検出器と，前記Ｘ線照射手段とＸ線検出器を一体に保持しこれらを回転させる回転リングと，前記天板を移動させる天板移動手段とを具備し、前記被検者を透過したＸ線を検出し、これを電気信号に変換し画像処理して所望の断層像を得るＸ線ＣＴ装置において、前記回転リングの回転に伴う回転中心の位置ずれを、該回転リングの回転に対応して補正する補正手段を備えることを特徴とするＸ線ＣＴ装置。
【請求項２】
前記補正手段は、前記回転リングを上下方向に移動させる上下方向移動手段と，左右方向に移動させる左右方向移動手段と，左右軸周りに傾倒させる左右軸周り傾倒手段の内の少なくとも一つを備えることを特徴とする請求項１に記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項３】
前記補正手段は、前記回転リングの回転中心の位置ずれによる該回転リングの上下方向の変位量と，左右方向の変位量と，奥行き方向の変位量と、前記回転リングの傾き量の内の少なくとも一つを前記回転リングの回転中心がずれない時の値に制御するための目標値を記憶する記憶手段と，前記各変位量及び傾き量の内の少なくとも一つが前記目標値になるように前記移動手段及び傾倒手段の少なくとも一つを制御する制御手段とを具備することを特徴とする請求項２に記載のＸ線ＣＴ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、被検者に対しＸ線を照射するＸ線照射手段と，被検者を寝載する天板を挟み該Ｘ線照射手段と対向配置されるＸ線検出器と，前記Ｘ線照射手段とＸ線検出器を一体に保持しこれらを回転させる回転リングと，前記天板を移動させる天板移動手段とを具備し、前記被検者を透過したＸ線を検出し、これを電気信号に変換し画像処理して所望の断層像を得るＸ線ＣＴ装置において、
前記回転リングの回転に伴う回転中心の位置ずれを、該回転リングの回転に対応して補正する補正手段を備えることによって達成される。特に、前記補正手段は、前記回転リングを上下方向に移動させる上下方向移動手段と，左右方向に移動させる左右方向移動手段と，左右軸周りに傾倒させる左右軸周り傾倒手段の内の少なくとも一つを備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
前記補正手段は、前記回転リングの回転中心の位置ずれによる該回転リングの上下方向の変位量と，左右方向の変位量と，奥行き方向の変位量と、前記回転リングの傾き量の内の少なくとも一つを前記回転リングの回転中心がずれない時の値に制御するための目標値を記憶する記憶手段と，前記各変位量及び傾き量の内の少なくとも一つが前記目標値になるように前記移動手段及び傾倒手段の少なくとも一つを制御する制御手段とを具備し、上記回転リングの回転中心ずれによる上下，左右，奥行きの変位量及び傾き量を前記目標値と一致するように制御する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月16日(2004.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
床面に立設されるベース部と、
鉛直面内で傾斜動し床面に対する角度を変更自在に前記ベース部に支持された支持フレームと、
Ｘ線管装置とＸ線受像装置を対向支持し前記支持フレームに沿って移動自在に支持された支持装置と、
被検体を載置する天板を被検体の体軸方向に移動自在に支持する天板支持枠と、
前記支持フレームに支持されると共に前記天板支持枠を被検体の体幅方向に移動自在に支持する架台と、
前記天板近傍に設けられ前記天板支持枠と前記架台を移動して前記天板を被検体の体軸方向及び体幅方向に移動操作するための操作器と、
この操作器からの出力信号により前記天板支持枠と前記架台を移動制御する駆動制御手段と、
を備えたことを特徴とするＸ線透視撮影装置。
【請求項２】
上記操作器は、術者が入力した操作力の大きさとこの操作力の方向を検出する操作力検出器を備え、この操作力検出器の出力信号を上記駆動制御手段に入力して上記天板支持枠と前記架台を移動制御することを特徴とする請求項１に記載のＸ線透視撮影装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月7日(2005.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記技術的手段が講じられた本願発明により提供される傘袋スタンドでは、傘袋の利用状況如何にかかわらず、常時、開口部の奥方内部の収容空間において傘袋がフックを介して吊り下げ状に掛け止められた状態とされる。そして、傘袋が利用される雨などの状況の場合、開口部を遮蔽する開閉カバーを単に開けるだけで、その収容空間内の傘袋をフックから取り外して開口部から取り出すことができる。このような傘袋の利用状況の際、スタンド容器の内部には、使用後の傘袋が不要物として投入されることとなり、スタンド容器は、不要になった傘袋を溜め込むためのものとして利用されることとなる。一方、傘袋が利用されない状況の場合、開口部を開閉カバーによって遮蔽した状態とすれば、収容空間内の傘袋がアウターサイドパネルおよび開閉カバーによってスタンド容器の外部から露見されない状態となり、スタンド容器は、ゴミなどの不要物を捨てるための単なるゴミ箱として利用することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
このような構成が適用された実施形態によれば、フックが補助部材に対して複数横並びに整列した状態で固定されているので、複数のフックそれぞれに対して傘袋を束ねた状態で掛け止めておくことができ、多数枚にわたる傘袋を吊り下げた状態で準備万全として常備しておくことができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
つまり、傘袋Ｃが利用される雨などの状況の場合、開口部Ｃ２を遮蔽するスライドカバー４を単に引き下げるだけで、その開口部Ｃ２から収容空間Ｃ１に吊り下げられた状態の傘袋Ｃを取り出すことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月24日(2004.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
図４は特願平９−８１３０５号公報に記載された流水検知装置付きスプリンクラ設備を模式的に示す系統図である。
図４において、流水検知弁１の一次側配管２０には、メンテナンス用等の停止弁２が設けられ、二次側配管２１には、住宅用スプリンクラヘッド３および定流量弁４が設けられている。そして、一次側配管２０は給水管２２に接続され、二次側配管２１の末端にはトイレ、散水栓等の生活用末端給水栓５が設けられている。
なお、図４中、６は排水弁、７は圧力計遮断弁、８は圧力計、９はトイレのタンクや散水栓、１０はコントロールボックスである。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
実施の形態２．
図３はこの発明の実施の形態２に係る流水検知装置付きスプリンクラ設備に用いられる流水検知弁を示す断面図である。
図３において、流水検知弁３０Ａは、気密室４６が第２ハウジング３２に設けられ、ガイド穴３２ａ内に挿入された弁体３５の軸部３５ａの先端側が気密室４６内に延出され、ピストン４８が該軸部３５ａの先端に設けられ、オリフィス４９がピストン４８に設けられ、さらにオイル５０が気密室４６内に充填されて構成された制動手段としての油圧ダンパを有している。また、シール部材４７により水が気密室４６に侵入しないようになっており、マグネット３７がピストン４８に配設されている。
なお、この実施の形態２は、ガバナ機構３８に代えて油圧ダンパを用いた点を除いて上記実施の形態１と同様に構成されている。
また、流水検知弁３０Ａの作動流量は２０Ｌ／ｍｉｎ、スプリンクラヘッド３の流量は３０Ｌ／ｍｉｎ、定流量弁４の流量は１０Ｌ／ｍｉｎである。即ち、流水検知弁３０Ａの作動流量は、スプリンクラヘッド３の流量より小さく、定流量弁４の流量より大きく設定されている。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
従って、この実施の形態２においても、上記実施の形態１と同様の効果が得られる。
また、この実施の形態２では、制動手段として油圧ダンパを用いて水撃の二次側配管２１への侵入を抑えるようにしているので、上記ガバナ機構３８に比べて摩耗部分がなく、優れた耐久性が得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月15日(2004.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の製造方法およびモールド装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄膜配線基板を用いて組み立てられる樹脂封止形の半導体装置の製造方法であって、
前記半導体装置の封止部に対応したキャビティを形成する薄膜配線基板支持面に同心円状に開口した吸引孔が設けられたモールド金型を備えるモールド装置を準備する工程と、
半導体チップが搭載された前記薄膜配線基板を前記モールド金型の前記キャビティに配置する工程と、
前記半導体チップが搭載された前記薄膜配線基板を前記吸引孔を介して吸引して、前記モールド金型の前記薄膜配線基板支持面に前記薄膜配線基板を密着させる工程と、
前記薄膜配線基板を前記薄膜配線基板支持面に密着させた後、前記モールド金型を構成する第１金型と第２金型の型締めを行う工程と、
型締め後、前記薄膜配線基板を前記薄膜配線基板支持面に密着させた状態で前記キャビティに封止用樹脂を供給して前記半導体チップをモールドする工程と、
前記封止用樹脂の硬化後、前記薄膜配線基板の吸引を解放して前記モールド金型から前記封止部が形成された前記薄膜配線基板を取り出す工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の半導体装置の製造方法であって、前記薄膜配線基板を前記モールド金型の前記薄膜配線基板支持面に密着させる際に、前記薄膜配線基板の外部端子取り付け面の前記半導体チップに対応したチップ領域を前記薄膜配線基板支持面に密着させることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２記載の半導体装置の製造方法であって、前記薄膜配線基板のチップ支持面側において樹脂封止を行って前記チップ支持面側にのみ前記封止部を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項４】
薄膜配線基板を用いて組み立てられる半導体装置の樹脂封止を行うモールド装置であって、
前記半導体装置の封止部に対応したキャビティが形成され、前記キャビティを形成する薄膜配線基板支持面に開口した吸引孔が設けられたモールド金型と、
半導体チップが搭載された前記薄膜配線基板を前記モールド金型の前記薄膜配線基板支持面に支持した際に、前記吸引孔を介して前記薄膜配線基板を吸引する基板吸引部とを有し、
前記半導体チップの樹脂封止を行う際に、前記半導体チップが搭載された前記薄膜配線基板を前記基板吸引部によって前記吸引孔を介して吸引して、前記モールド金型の前記薄膜配線基板支持面に前記薄膜配線基板を密着させて樹脂封止を行うことを特徴とするモールド装置。
【請求項５】
請求項４記載のモールド装置であって、前記モールド金型に、前記吸引孔と繋がる複数の排気通路が前記薄膜配線基板支持面に開口して形成されていることを特徴とするモールド装置。
【請求項６】
請求項４または５記載のモールド装置であって、前記基板吸引部に、前記吸引孔を介して前記薄膜配線基板を吸引する真空排気手段と、前記真空排気手段と前記吸引孔との接続通路の開閉を行う弁部材と、前記弁部材の開閉動作を行う制御部とが設けられていることを特徴とするモールド装置。
【請求項７】
主面に半導体集積回路が形成された半導体チップを準備する工程と、
前記半導体チップを搭載可能な薄膜配線基板を準備する工程と、
前記半導体チップと前記薄膜配線基板とを接合する工程と、
前記半導体チップの表面電極と前記薄膜配線基板の基板電極とを電気的に接続する工程と、
キャビティを形成する薄膜配線基板支持面に格子状に開口した吸引孔が設けられたモールド金型の前記キャビティに前記半導体チップが搭載された前記薄膜配線基板を配置した後、前記吸引孔を介して前記薄膜配線基板を吸引して前記モールド金型の薄膜配線基板支持面に前記薄膜配線基板を密着させ、その後、前記モールド金型の型締めを行って前記薄膜配線基板支持面に前記薄膜配線基板を密着させた状態で前記キャビティに封止用樹脂を供給して前記半導体チップを樹脂封止する工程と、
前記薄膜配線基板の外部端子取り付け面に前記半導体チップの表面電極と電気的に接続させて外部端子を取り付ける工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項８】
請求項７記載の半導体装置の製造方法であって、前記薄膜配線基板のチップ支持面側において樹脂封止を行って前記チップ支持面側にのみ封止部を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の目的は、薄膜配線基板を用いた半導体装置のモールド時のチップクラックの発生を防止してモールドの安定化とモールド品質の向上とを図る半導体装置の製造方法およびモールド装置を提供することにある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
すなわち、本発明の半導体装置の製造方法は、半導体装置の封止部に対応したキャビティを形成する薄膜配線基板支持面に同心円状に開口した吸引孔が設けられたモールド金型を備えるモールド装置を準備する工程と、半導体チップが搭載された前記薄膜配線基板を前記モールド金型の前記キャビティに配置する工程と、前記半導体チップが搭載された前記薄膜配線基板を前記吸引孔を介して吸引して、前記モールド金型の前記薄膜配線基板支持面に前記薄膜配線基板を密着させる工程と、前記薄膜配線基板を前記薄膜配線基板支持面に密着させた後、前記モールド金型を構成する第１金型と第２金型の型締めを行う工程と、型締め後、前記薄膜配線基板を前記薄膜配線基板支持面に密着させた状態で前記キャビティに封止用樹脂を供給して前記半導体チップをモールドする工程と、前記封止用樹脂の硬化後、前記薄膜配線基板の吸引を解放して前記モールド金型から前記封止部が形成された前記薄膜配線基板を取り出す工程とを有するものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、本発明の半導体装置の製造方法は、主面に半導体集積回路が形成された半導体チップを準備する工程と、前記半導体チップを搭載可能な薄膜配線基板を準備する工程と、前記半導体チップと前記薄膜配線基板とを接合する工程と、前記半導体チップの表面電極と前記薄膜配線基板の基板電極とを電気的に接続する工程と、キャビティを形成する薄膜配線基板支持面に格子状に開口した吸引孔が設けられたモールド金型の前記キャビティに前記半導体チップが搭載された前記薄膜配線基板を配置した後、前記吸引孔を介して前記薄膜配線基板を吸引して前記モールド金型の薄膜配線基板支持面に前記薄膜配線基板を密着させ、その後、前記モールド金型の型締めを行って前記薄膜配線基板支持面に前記薄膜配線基板を密着させた状態で前記キャビティに封止用樹脂を供給して前記半導体チップを樹脂封止する工程と、前記薄膜配線基板の外部端子取り付け面に前記半導体チップの表面電極と電気的に接続させて外部端子を取り付ける工程とを有するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月6日(2005.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１導電型半導体領域の第１の面側に格子状に配置された第２導電型不純物領域と、
前記第１導電型半導体領域の第２の面に接続する前記第１導電型半導体領域より高濃度の第１の第１導電型不純物領域と、
前記第２導電型不純物領域を囲む、前記第１導電型半導体領域より高濃度の第２の第１導電型不純物領域と、
前記第２導電型不純物領域に接続したアノード電極と、
前記第１および第２の第１導電型不純物領域の少なくともひとつに接続したカソード電極よりなるＰＩＮフォトダイオードであり、
前記第１導電型半導体領域と前記第１導電型不純物領域が低不純物濃度の第１導電型半導体基板と高不純物濃度の第１導電型半導体基板の貼り合わせ半導体基板であることを特傲とするＰＩＮフォトダイオード。
【請求項２】
前記低不純物濃度の第１導電型半導体基板がＦＺ（フローティングゾーン）法によって合成されたシリコン単結晶であることを特徴とする請求項１記載のＰＩＮフォトダイオード。
【請求項３】
前記第２の第１導電型不純物領域が前記第１の第１導電型不純物領域まで貫通していることを特徴とする請求項１記載のＰＩＮフォトダイオード。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
従来、このような分野の半導体装置としては、図７に断面図として図示するごとく、第１導電型半導体基板たるＮ−型半導体基板１に第２導電型半導体不純物領域たるＰ＋型不純物領域２を持つものが知られている。
今、図示するごとくＰ＋型不純物領域２の存在する側（面）を表面と称するなら裏面には基板より高い濃度のＮ型である裏面のＮ＋型不純物領域３がありＰ＋Ｎ−Ｎ＋よりなるＰＮ接合を形成しＰＩＮダイオードと称される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
図１は本発明のＰＩＮフォトダイオードの実施例を示す断面図である。
厚い低抵抗のＮ＋型不純物領域３の上に薄い高抵抗のＮ−型半導体基板１があり、Ｎ−型半導体基板１のＮ＋型不純物領域２のある面と反対側の面にはＰ＋型不純物領域３が形成され周辺にはＮ＋型不純物領域４が形成されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
Ｎ＋型不純物領域３にはカソード電極６が形成され、Ｎ＋型不純物領域４にもカソード電極７が形成されている。
カソード電極はＮ＋型不純物領域３とＮ＋型不純物領域４の両方に形成される必要性はなく、少なくとも１方にあればよい。
図２と図３は本発明のＰＩＮフォトダイオードの実施例の平面図である。
Ｐ＋型不純物領域２は格子状に形成されその一部分にアノード電極５が形成されている。
アノード電極５が形成されているＰ＋型不純物領域部分はあまり浅くはできないが、アノード電極５のないＰ＋型不純物領域は浅いにこしたことはない。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
なおＰ＋型不純物領域の構造は以上の例以外にも種々考えられる。
図６は本発明のＰＩＮフォトダイオードの断面図で空乏層の状態を示すものである。
空乏層８は厚み方向ではＰ＋型不純物領域２から延びてＮ＋型不純物領域２に達すると飽和し、面方向では隣のからのびてきた空乏層とつながり、従って受光面には原理的に全く不惑層がない空乏層が形成され、つまりＰ＋型不純物領域が表面に形成されていない空乏層が光の検出に寄与することになり短波長の感度が飛躍的に向上する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
このような厚い低抵抗のＮ＋型不純物領域３の上に薄い高抵抗のＮ−型半導体基板１を形成するには低抵抗のＮ＋型半導体基板と高抵抗のＮ−型半導体基板を表面を研磨し貼り合わせ加熱して接合し、高抵抗のＮ一型半導体基板側を研磨して所定の厚みにした貼り合わせ半導体基板を使用する。
このような貼り合わせ半導体基板でも界面の影響はほとんど無視できる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
図５はＰＩＮフォトダイオードの短波長領域の分光特性図であり、曲線９は図１に示す本発明のＰＩＮフォトダイオードの分光特性曲線であり、曲線１０は受光面が同面積の図７に示す構造の従来の短波長用ＰＩＮフォトダイオードの分光特性曲線である。
本発明のＰＩＮフォトダイオードの短波長感度がすぐれていることがわかる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明のＰＩＮフォトダイオードの断面図である。
【図２】 本発明のＰＩＮフォトダイオードの平面図である。
【図３】 本発明のＰＩＮフォトダイオードの平面図である。
【図４】 本発明のＰＩＮフォトダイオードの断面図である。
【図５】ＰＩＮフォトダイオードの分光特性図である。
【図６】本発明のＰＩＮフォトダイオードの空乏層の伸びかたを示す断面図であ
る。
【図７】 従来の短波長用ＰＩＮフォトダイオードの断面図である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月15日(2005.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電振動子と発振用トランジスタとを含むコルピッツ型発振器と、その出力を増幅する増幅手段と、該増幅手段の出力を整流する整流手段とを備え、該整流手段の出力を前記発振用トランジスタのベースに帰還することによって発振出力レベルを一定に保つ圧電発振器であって、前記発振用トランジスタの動作点が飽和領域近傍となるようベースバイアスを設定し、発振出力レベルが大きくなったときは動作点が飽和領域に近づくよう、発振出力レベルが小さくなったときは動作点が飽和領域から遠ざかるように前記整流手段からの帰還電流が発振用トランジスタのベースに供給されることを特徴とする圧電発振器。
【請求項２】
圧電振動子と発振用トランジスタ増幅器とを含むコルピッツ型発振器と、その出力を増幅する増幅手段と、該増幅手段の出力を整流する整流手段とを備え、該整流手段の出力を前記発振用トランジスタのベースに帰還することによって発振出力レベルを一定に保つ圧電発振器であって、前記増幅手段を構成する第二のトランジスタのベースを交流的に接地し、前記発振用トランジスタのコレクタと第二のトランジスタのエミッタとを接続すると共に、第二のトランジスタのコレクタを電源に接続したことを特徴とする請求項１記載の前記圧電発振器。
【請求項３】
圧電振動子と発振用トランジスタとを含むコルピッツ型発振器と、その出力を増幅する第二のトランジスタと、該第二のトランジスタの出力を整流する整流手段とを備え、該整流手段の出力を前記第二のトランジスタのベースに帰還することによって発振出力レベルを一定に保つ圧電発振器であって、前記発振用トランジスタの動作点が飽和領域近傍となるようコレクタ電圧を設定し、発振出力レベルが大きくなったときは前記第二のトランジスタのベースバイアス電圧が降下して前記発振用トランジスタの動作点が飽和領域に近づくよう、発振出力レベルが小さくなったときは前記第二のトランジスタのベースバイアス電圧が上昇して前記発振用トランジスタの動作点が飽和領域から遠ざかるように前記整流手段からの帰還電流が前記第二のトランジスタのベースに供給されることを特徴とする圧電発振器。
【請求項４】
圧電振動子と発振用トランジスタ増幅器とを含むコルピッツ型発振器と、その出力を増幅する第二のトランジスタと、該第二のトランジスタの出力を整流する整流手段とを備え、該整流手段の出力を前記第二のトランジスタのベースに帰還することによって発振出力レベルを一定に保つ圧電発振器であって、前記第二のトランジスタのベースを交流的に接地し、前記発振用トランジスタのコレクタと第二のトランジスタのエミッタとを接続すると共に、第二のトランジスタのコレクタを電源に接続したことを特徴とする請求項３記載の前記圧電発振器。
【請求項５】
前記発振用トランジスタの雑音指数が最小値近傍の値となるよう前記第二のトランジスタのコレクタ電流を設定したことを特徴とする請求項２乃至請求項４記載の圧電発振器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項５記載の発明は請求項２乃至請求項４記載の発明に加え、前記発振用トランジスタの雑音指数が最小値近傍の値となるよう前記第二のトランジスタのコレクタ電流を設定したことを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
そして、このような構成の前記発振回路１は出力信号が増幅回路９を介して整流回路１５に供給された後、該出力信号のプラス半サイクルの信号成分のみが前記整流回路１５より直流信号化され前記トランジスタ１０のベースに帰還供給されるよう動作する。その為、該出力信号のレベルが上昇した場合、前記トランジスタ２９の出力が入力に対して位相が逆転することより、前記出力信号のレベルの上昇と共に前記整流回路１５より前記トランジスタ１０のベースに供給される直流電圧が降下し、更に、該ベース電位の降下と共に前記トランジスタ３のコレクタ電圧が降下する。予め、前記トランジスタ３の動作点を飽和領域近傍であって、信号の一部が飽和領域に達するよう設定しておくことで、前記トランジスタ１０のコレクタ電圧の降下に伴い前記トランジスタ３の動作点が飽和領域に近づく為、励振レベルが低下する。一方、前記出力レベルが低下した場合は上記で説明した動作と逆の動作である為、説明を省略する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月1日(2004.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来方式の鱗片顔料層の使用の仕方やホログラム画像では、独特の色の指向性があるものの、その色の定義や真偽判定があいまいで、結局、判定基準が比較的あいまいであった。そのため、厳密には色がかなり違っていても、似たような変化を呈していれば、本物として判定されるケースがないわけではなかった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３３】
酸化防止剤としては、特開昭５９−１８２７８５号、同６０−１３０７３５号、特開平１−１２７３８７号公報等に記載の酸化防止剤、及び写真その他の面像記録材料における画像耐久性を改善するものとして公知の化合物を挙げることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４６】
次に、この発明の転写箔について説明する。
＜転写箔の支持体＞
耐熱性を有するポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ＡＢＳ樹脂などのプラスチックフィルム支持体の片面上に最下層として離型層を設け最上層として接着層が設けられており必要に応じ離型層と接着層の間には絵柄層、中間層などが設けられている。プラスチックフィルム支持体の厚みは通常３〜５０μｍで好ましくは１０〜３０μｍである。
＜転写箔の離型層＞
離型層としては高ガラス転移温度を有するアクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ボリビニルブチラール樹脂などの樹脂、ワックス類、シリコンオイル類、フッ素化合物、水溶性を有するポリビニルピロリドン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、Ｓｉ変性ポリビニルアルコール、メチルセルロース樹脂、ヒドロキシセルロース樹脂、シリコン樹脂、パラフィンワックス、アクリル変性シリコーン、ポリエチレンワックス、エチレン酢酸ビニルなどの樹脂が挙げられ、他にポリジメチルシロキサンやその変性物、例えばポリエステル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、ウレタン変性シリコーン、アルキッド変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等のオイルや樹脂、またはこの硬化物、等が挙げられる。他のフッ素系化合物としては、フッ素化オレフィン、パーフルオロ燐酸エステル系化合物が挙げられる。好ましいオレフィン系化合物としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等の分散物、ポリエチレンイミンオクタデシル等の長鎖アルキル系化合物等が挙げられる。これらの離型剤で溶解性の乏しいものは分散するなどして用いることが出きる。また、シリコーン化合物と同様に他のポリマーに付加させることも可能である。この他シリカ粒子や窒化ホウ素等の微細（ミクロンまたはサブミクロンオーダー）な粒子なども有効である。厚みは０．１〜２μｍが好ましい。
＜転写箔の接着層＞
接着層としては熱貼着性樹脂としてエチレン酢酸ビニル樹脂、エチンエチルアクリレート樹脂、エチレンアクリル酸樹脂、アイオノマー樹脂、ポリブタジエン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、オレフィン樹脂、ウレタン樹脂、スチレン無水マレイン酸共重合体樹脂、粘着付与剤（例えばフェノール樹脂、ロジン樹脂、テルペン樹脂、石油樹脂など）などが挙げられそれらの共重合体や混合物でもよく、厚みは０．１〜１０μｍが好ましい。具体的には、ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体としては東邦化学工業（株）製のハイテックＳ−６２５４、Ｓ−６２５４Ｂ、Ｓ−３１２９等が市販され、ポリアクリル酸エステル共重合体としては日本純薬（株）製のジュリマーＡＴ−２１０、ＡＴ−５１０、ＡＴ−６１３、互応化学工業（株）製のプラスサイズＬ−２０１、ＳＲ−１０２、ＳＲ−１０３、Ｊ−４等が市販されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５６】
この時、雲母を被覆する金属酸化膜の膜厚を制御することで任意の色調の高虹彩反射性を持った鱗片顔料とすることができる膜厚は１０〜１００００オングストローム、望ましくは２００〜２０００オングストロームの範囲の膜厚が可視域に対して高虹彩反射性となるので望ましい。このような鱗片顔料の市販のものとしては「Ｉｒｉｏｄｉｎ」（商品名、ＭＥＲＣＫ社製）がある。