【手続補正書】
【提出日】平成17年3月31日(2005.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上にポリマー導波管を製造する方法であって、
ａ）基材を提供する工程と、次に
ｂ）（ｉ）または（ｉｉ）または（ｉｉｉ）、すなわち
（ｉ）基材上へ液体の感光性バッファー組成物の層をコーティングし、次に真空、不活性ガスでのパージング、または真空と不活性ガスでのパージングとの組合せの条件下でバッファー層を脱酸素し、バッファー組成物の実質的に完全な硬化よりも下のレベルに、バッファー組成物を部分的にのみ重合させるのに十分な化学線に、脱酸素されたバッファー組成物を全体的に露光する工程、または、
（ｉｉ）基材上へ液体の感光性アンダークラッド組成物の層をコーティングし、次に真空、不活性ガスでのパージング、または真空と不活性ガスでのパージングとの組合せの条件下でアンダークラッド層を脱酸素し、アンダークラッド組成物の実質的に完全な硬化よりも下のレベルに、アンダークラッド組成物を部分的にのみ重合させるのに十分な化学線に、脱酸素されたアンダークラッド組成物を全体的に露光する工程、または、
（ｉｉｉ）基材上へ液体の感光性バッファー組成物の層をコーティングし、次に真空、不活性ガスでのパージング、または真空と不活性ガスでのパージングとの組合せの条件下でバッファー層を脱酸素し、バッファー組成物の実質的に完全な硬化よりも下のレベルに、バッファー組成物を部分的にのみ重合させるのに十分な化学線に、脱酸素されたバッファー組成物を全体的に露光し、引き続いてバッファー層上へ液体の感光性アンダークラッド組成物の層をコーティングし、次に真空、不活性ガスでのパージング、または真空と不活性ガスでのパージングとの組合せの条件下でアンダークラッド層を脱酸素し、クラッド組成物の実質的に完全な硬化よりも下のレベルに、アンダークラッド組成物を部分的にのみ重合させるのに十分な化学線に、脱酸素されたアンダークラッド組成物を全体的に露光する工程、
を実施する工程と、
ｃ）バッファー層またはクラッド層の表面上へ液体の感光性コア組成物の層をコーティングし、次に真空、不活性ガスでのパージング、または真空と不活性ガスでのパージングとの組合せの条件下でコア層を脱酸素し、次に不活性ガス雰囲気でコア層を覆う工程と、
ｄ）コア層よりも上のレベルで、コア層に実質的に平行に、およびコア層と接触するかまたはコア層と接触しないかのいずれかで、導波管パターンを有するフォトマスクを配置し、次に、コア被覆基材を不活性ガス雰囲気に維持する間、コア組成物の実質的に完全な硬化よりも下のレベルだがコア組成物のゲル化点を超えたレベルに、コア組成物を部分的にのみ重合させるのに十分な化学線に、前記フォトマスクを通して感光性コア組成物を像様露光する工程と、
ｅ）露光されたコア組成物層を現像して、非画像エリアを除去するが画像エリアを除去しない工程と、
ｆ）コア組成物の少なくとも画像エリアの一面に液体の感光性オーバークラッド組成物の層をコーティングし、次に真空、不活性ガスでのパージング、または真空と不活性ガスでのパージングとの組合せの条件下で、オーバークラッド層とすべての下にある層とを脱酸素し、不活性ガス雰囲気下で、存在するならばバッファー組成物層、存在するならばクラッド組成物層、コア組成物層およびオーバークラッド組成物層を実質的に完全に硬化させるのに十分な化学線に、オーバークラッド組成物を全体的に露光する工程と
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
基材と、
基材上のポリマーパターン化コアと、
基材とポリマーパターン化コアとの間の、ポリマーバッファー層またはポリマーアンダークラッド層、あるいは順次ポリマーバッファー層およびポリマーアンダークラッド層の両方とを含むポリマー導波管であって、ポリマーバッファー層またはポリマーアンダークラッド層、あるいはポリマーバッファー層およびポリマーアンダークラッド層の両方がコアに沿って、かつ、コアと対称的であるパターンを有することを特徴とする導波管。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
本発明は、幾らかの実施形態に関して詳細に示し、記載してきたが、本発明の精神および範囲から逸脱することなく様々な変更および修正が行われるかもしれないことは、普通の当業者によって容易に認められるであろう。特許請求の範囲は、開示された実施形態、上に説明したそれらの代案およびそれらに同等のすべてのものを包含すると解釈されることが意図される。
なおここで、本発明の好ましい実施態様を以下に記載する。
１．基材上にポリマー導波管を製造する方法であって、
ａ）基材を提供する工程と、次に
ｂ）（ｉ）または（ｉｉ）または（ｉｉｉ）、すなわち
（ｉ）基材上へ液体の感光性バッファー組成物の層をコーティングし、次に真空、不活性ガスでのパージング、または真空と不活性ガスでのパージングとの組合せの条件下でバッファー層を脱酸素し、バッファー組成物の実質的に完全な硬化よりも下のレベルに、バッファー組成物を部分的にのみ重合させるのに十分な化学線に、脱酸素されたバッファー組成物を全体的に露光する工程、または、
（ｉｉ）基材上へ液体の感光性アンダークラッド組成物の層をコーティングし、次に真空、不活性ガスでのパージング、または真空と不活性ガスでのパージングとの組合せの条件下でアンダークラッド層を脱酸素し、アンダークラッド組成物の実質的に完全な硬化よりも下のレベルに、アンダークラッド組成物を部分的にのみ重合させるのに十分な化学線に、脱酸素されたアンダークラッド組成物を全体的に露光する工程、または、
（ｉｉｉ）基材上へ液体の感光性バッファー組成物の層をコーティングし、次に真空、不活性ガスでのパージング、または真空と不活性ガスでのパージングとの組合せの条件下でバッファー層を脱酸素し、バッファー組成物の実質的に完全な硬化よりも下のレベルに、バッファー組成物を部分的にのみ重合させるのに十分な化学線に、脱酸素されたバッファー組成物を全体的に露光し、引き続いてバッファー層上へ液体の感光性アンダークラッド組成物の層をコーティングし、次に真空、不活性ガスでのパージング、または真空と不活性ガスでのパージングとの組合せの条件下でアンダークラッド層を脱酸素し、クラッド組成物の実質的に完全な硬化よりも下のレベルに、アンダークラッド組成物を部分的にのみ重合させるのに十分な化学線に、脱酸素されたアンダークラッド組成物を全体的に露光する工程、
を実施する工程と、
ｃ）バッファー層またはクラッド層の表面上へ液体の感光性コア組成物の層をコーティングし、次に真空、不活性ガスでのパージング、または真空と不活性ガスでのパージングとの組合せの条件下でコア層を脱酸素し、次に不活性ガス雰囲気でコア層を覆う工程と、
ｄ）コア層よりも上のレベルで、コア層に実質的に平行に、およびコア層と接触するかまたはコア層と接触しないかのいずれかで、導波管パターンを有するフォトマスクを配置し、次に、コア被覆基材を不活性ガス雰囲気に維持する間、コア組成物の実質的に完全な硬化よりも下のレベルだがコア組成物のゲル化点を超えたレベルに、コア組成物を部分的にのみ重合させるのに十分な化学線に、前記フォトマスクを通して感光性コア組成物を像様露光する工程と、
ｅ）露光されたコア組成物層を現像して、非画像エリアを除去するが画像エリアを除去しない工程と、
ｆ）コア組成物の少なくとも画像エリアの一面に液体の感光性オーバークラッド組成物の層をコーティングし、次に真空、不活性ガスでのパージング、または真空と不活性ガスでのパージングとの組合せの条件下で、オーバークラッド層とすべての下にある層とを脱酸素し、不活性ガス雰囲気下で、存在するならばバッファー組成物層、存在するならばクラッド組成物層、コア組成物層およびオーバークラッド組成物層を実質的に完全に硬化させるのに十分な化学線に、オーバークラッド組成物を全体的に露光する工程と
を含むことを特徴とする方法。
２．工程（ｉ）が実施されることを特徴とする前記１．に記載の方法。
３．工程（ｉｉ）が実施されることを特徴とする前記１．に記載の方法。
４．工程（ｉｉｉ）が実施されることを特徴とする前記１．に記載の方法。
５．工程（ｉ）がバッファー層の化学線露光に先立ってバッファー層のエッジ部分を除去する工程をさらに含み、工程（ｉｉ）がクラッド層の化学線露光に先立ってアンダークラッド層のエッジ部分を除去する工程をさらに含み、かつ、工程（ｉｉｉ）がバッファー層の化学線露光に先立ってバッファー層のエッジ部分を除去する工程と、アンダークラッド層の化学線露光に先立ってアンダークラッド層のエッジ部分を除去する工程とをさらに含むことを特徴とする前記１．に記載の方法。
６．工程（ｃ）が工程（ｄ）に先立ってコア層のエッジ部分を除去する工程をさらに含むことを特徴とする前記１．に記載の方法。
７．工程（ｂ）に先立って基材の表面上へ接着促進タイ組成物層を塗布する工程をさらに含むことを特徴とする前記１．に記載の方法。
８．工程（ｂ）に先立って基材の表面上へ感光性の接着促進タイ組成物層を塗布する工程をさらに含むことを特徴とする前記１．に記載の方法。
９．工程（ｂ）に先立って、基材の表面上へ接着促進タイ組成物層を塗布する工程と、タイ組成物層のエッジ部分を除去する工程と、タイ層の残った部分を部分的に硬化させる工程とをさらに含むことを特徴とする前記１．に記載の方法。
１０．工程（ｂ）に先立って、基材の表面上へ光重合性の接着促進タイ組成物層を塗布する工程と、タイ組成物層のエッジ部分を除去する工程と、タイ組成物の実質的に完全な硬化よりも下のレベルだがタイ組成物のゲル化点を超えたレベルに、タイ組成物を部分的にのみ重合させるのに十分な化学線への露光によって、タイ層の残った部分を部分的に硬化させる工程とをさらに含むことを特徴とする前記１．に記載の方法。
１１．フォトマスクがコア層の表面に接触することを特徴とする前記１．に記載の方法。
１２．フォトマスクがコア層の表面に接触しないことを特徴とする前記１．に記載の方法。
１３．被覆基材を熱的にアニールする次の工程をさらに含むことを特徴とする前記１．に記載の方法。
１４．実質的に完全に硬化された重合化バッファー組成物の屈折率が、実質的に完全に硬化された重合化コアの屈折率よりも約０．７５％〜約３％小さく、かつ、実質的に完全に硬化された重合化アンダークラッド組成物の屈折率が、実質的に完全に硬化された重合化コアの屈折率よりも約０．３％〜約１．５％小さいことを特徴とする前記１．に記載の方法。
１５．不活性ガスが窒素を含むことを特徴とする前記１．に記載の方法。
１６．化学線が紫外線を含むことを特徴とする前記１．に記載の方法。
１７．フォトマスクがコア組成物層の約５μｍ〜約２０μｍ上に配置されることを特徴とする前記１．に記載の方法。
１８．現像工程がフッ素化溶剤で実施されることを特徴とする前記１．に記載の方法。
１９．基材の表面が予備洗浄工程にさらされたことを特徴とする前記１．に記載の方法。
２０．基材の表面が予備洗浄工程にさらされ、次にアクリレート官能基化クロロ−またはアルコキシ−シラン化合物で下塗りされたことを特徴とする前記１．に記載の方法。
２１．周囲酸素のレベルが約２％以下であるように脱酸素が実施されることを特徴とする前記１．に記載の方法。
２２．周囲酸素のレベルが約０．１％以下であるように脱酸素が実施されることを特徴とする前記１．に記載の方法。
２３．バッファー組成物およびアンダークラッド組成物が、少なくともゲル化点に組成物を重合させるのに十分な化学線に露光されるが、それよりも上の追加の化学線露光が組成物の屈折率に何の有効な変化ももたらさないであろう量よりも少ない化学線に露光されるように、バッファー組成物およびアンダークラッド組成物を化学線に露光する工程が実施されることを特徴とする前記１．に記載の方法。
２４．バッファー組成物が２以上の官能価を有する１種または複数種のフッ素化（メト）アクリレートモノマーを含み、実質的に完全に硬化された重合化バッファー組成物の屈折率が、実質的に完全に硬化された重合化コアの屈折率よりも約０．７５％〜約３％小さいことを特徴とする前記１．に記載の方法。
２５．アンダークラッド組成物が２以上の官能価を有する１種または複数種のフッ素化（メト）アクリレートモノマーを含み、実質的に完全に硬化された重合化アンダークラッド組成物の屈折率が、実質的に完全に硬化された重合化コアの屈折率よりも約０．３％〜約１．５％小さいことを特徴とする前記１．に記載の方法。
２６．コア組成物が、２以上の官能価を有する１種または複数種のフッ素化（メト）アクリレートモノマーを含むことを特徴とする前記１．に記載の方法。
２７．オーバークラッド組成物が２以上の官能価を有する１種または複数種のフッ素化（メト）アクリレートモノマーを含み、実質的に完全に硬化された重合化アンダークラッド組成物の屈折率が、実質的に完全に硬化された重合化コアの屈折率よりも約０．３％〜約１．５％小さいことを特徴とする前記１．に記載の方法。
２８．コア組成物の少なくとも画像エリアの一面に液体の感光性オーバークラッド組成物の層をコーティングする工程に先立って、コアに隣接し、コアに沿って、かつ、コアと対称的なエリアからアンダークラッド層またはバッファー層の少なくとも一部を除去する工程をさらに含むことを特徴とする前記１．に記載の方法。
２９．基材と、
基材上のポリマーパターン化コアと、
基材とポリマーパターン化コアとの間の、ポリマーバッファー層またはポリマーアンダークラッド層、あるいは順次ポリマーバッファー層およびポリマーアンダークラッド層の両方とを含むポリマー導波管であって、ポリマーバッファー層またはポリマーアンダークラッド層、あるいはポリマーバッファー層およびポリマーアンダークラッド層の両方がコアに沿って、かつ、コアと対称的であるパターンを有することを特徴とする導波管。
３０．ポリマーバッファー層またはポリマーアンダークラッド層、あるいはポリマーバッファー層およびポリマーアンダークラッド層の両方が、コアの最低レベルよりも少なくとも約０．５μｍ低い、より低いレベルを有することを特徴とする前記２９．に記載のポリマー導波管。