【手続補正書】
【提出日】平成16年12月9日(2004.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも第１構成成分および第２構成成分を含有する供給流体から吸着プロセスによって第２構成成分よりも第１構成成分がより濃縮された少なくとも１個の生成物流体を生産するのに吸着剤材料を使用する際に、少なくとも１個の汚染物を吸着することに基因する汚染物感応吸着剤材料の劣化を減少する方法において、
供給端および生成物端を有し、また少なくとも１個の生成物流体を生産するのに使用する少なくとも１個の汚染物感応吸着剤材料を有する少なくとも１個の吸着体を具えた吸着装置を設け、
前記少なくとも１個の吸着体に供給流体の流れを供給し、この供給流体を前記少なくとも１個の汚染物感応吸着剤材料に接触させ、
前記少なくとも１個の汚染物の前記少なくとも１個の吸着剤材料への流入を制御し、
前記第１構成成分を前記第２構成成分よりも濃縮して少なくとも１個の生成物流体を生産する
ことよりなることを特徴とする吸着剤の劣化を減少させる方法。
【請求項２】  前記吸着プロセスを圧力スイング吸着プロセスとし、前記吸着装置を圧力スイング吸着装置とした請求項１記載の方法。
【請求項３】  前記吸着プロセスを従来とは異なる圧力スイング吸着プロセスとし、前記吸着装置を従来とは異なる圧力スイング吸着装置とした請求項１記載の方法。
【請求項４】  前記吸着装置は、固定子と、この固定子に対して相対回転する回転子を有し、前記固定子および回転子が互いに回転弁表面を画成しするものとして構成し、前記吸着プロセスは、１分あたり少なくとも１０サイクルのプロセスサイクル周波数とした請求項３記載の方法。
【請求項５】  少なくとも１個の汚染物が水である請求項１乃至４のうちのいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】  供給流体は汚染物を有し、また少なくとも１個の吸着体は、少なくとも１個の汚染物の少なくとも一部が少なくとも１個の汚染物感応吸着剤材料に流れるのを制御するガード材料の層を有するものとして構成した請求項１乃至５のうちのいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】  前記ガード材料における少なくとも１個の汚染物の濃度を正常作動条件における濃度から休止条件における濃度に減少する請求項６記載の方法。
【請求項８】  前記汚染物が水である請求項７記載の方法。
【請求項９】  休止条件中には、前記ガード材料が少なくとも１個の汚染物感応吸着剤材料に流体流通しないようにこの少なくとも１個の汚染物吸着材料から分離する請求項６または７記載の方法。
【請求項１０】  少なくとも１個の汚染物がガード材料から少なくとも１個の汚染物感応吸着剤材料に拡散するのを減少する請求項６乃至９のうちのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】  前記吸着装置は、固定子と、この固定子に対して相対回転する回転子を有し、前記固定子および回転子が互いに回転弁表面を画成しするものとして構成し、前記吸着プロセスは、１分あたり少なくとも１０サイクルのプロセスサイクル周波数とした請求項１０記載の方法。
【請求項１２】  開始時に前記ガード材料が少なくとも１個の汚染物成分で過充填されないように汚染物成分を減少する請求項６乃至１１のうちのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】  前記吸着装置は、固定子と、この固定子に対して相対回転する回転子を有し、前記固定子および回転子が互いに回転弁表面を画成しするものとして構成し、前記吸着プロセスは、１分あたり少なくとも１０サイクルのプロセスサイクル周波数とした請求項１２記載の方法。
【請求項１４】  前記吸着装置は、さらに、少なくとも１個の吸着体の生成物端の近傍に配置した少なくとも１個のプロセス収容シールを有するものとした請求項１乃至１４のうちのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】  前記吸着装置は、固定子と、この固定子に対して相対回転する回転子を有し、前記固定子および回転子が互いに回転弁表面を画成しするものとして構成し、前記吸着プロセスは、１分あたり少なくとも１０サイクルのプロセスサイクル周波数とした請求項１４記載の方法。
【請求項１６】  少なくとも１個のプロセス収容シールは、収容されるプロセス流体のうちの少なくとも一部を、このプロセス収容シールを経て流動させることを許容するものとした請求項１４記載の方法。
【請求項１７】  プロセス収容シールを経て流動するプロセス流体の部分は、さらに、プロセス収容シールの下流域に配置した汚染物ガードトラップを経て流動するものとした請求項１６記載の方法。
【請求項１８】  前記吸着装置は、さらに、緩衝空間を画成する少なくとも１個の第１シールまたは静的シールを有するものとして構成した請求項１７記載の方法。
【請求項１９】  前記吸着装置は、さらに、前記緩衝空間内に位置する少なくとも１個の緩衝シールを有するものとして構成した請求項１８記載の方法。
【請求項２０】  前記緩衝空間内の全流体圧力を、少なくとも吸着プロセスの最低圧力まで減少する請求項１８または１９記載の方法。
【請求項２１】  前記緩衝空間内の全流体圧力を大気圧以下に減少する請求項２０記載の方法。
【請求項２２】  前記プロセス収容シールは第１側部および第２側部を有するものとし、ブランケット流体を前記緩衝空間に導入し、このブランケット流体は、前記プロセス収容シールの前記第１側部では前記第２側部におけるよりも少なくとも１個の汚染物の濃度が減少しているものとした請求項２０または２１記載の方法。
【請求項２３】  前記ブランケット流体の少なくとも一部は、少なくとも１個の吸着体の生成物端から発生したものとした請求項２２記載の方法。
【請求項２４】  前記ブランケット流体を生成物流体とした請求項２２記載の方法。
【請求項２５】  前記ブランケット流体の少なくとも一部は、吸着装置の外部の供給源から発生したものとした請求項２２記載の方法。
【請求項２６】  前記緩衝空間に導入されるブランケットを、前記緩衝空間に導入する前にガードトラップ内のガード材料に接触させる請求項２２記載の方法。
【請求項２７】  前記緩衝空間内に導入されるブランケット流体の流量を制御する請求項２２乃至２６のうちのいずれか一項に記載の方法。
【請求項２８】  前記緩衝空間に導入されるブランケット流体を、前記緩衝空間から流出させた後、ガードトラップ内のガード材料に接触させる請求項２７記載の方法。
【請求項２９】  前記ブランケット流体の流体路を制御する請求項２２乃至２８のうちのいずれか一項に記載の方法。
【請求項３０】  前記緩衝空間内に導入されるブランケット流体の全流体圧力を、供給流体または生成物流体の最小全圧よりも大きいものとした請求項２２記載の方法。
【請求項３１】  少なくとも１個の汚染物の吸着装置内への進入を、正常動作条件中よりも休止条件中の方が少なくなるよう減少させる請求項１，１４または３０のうちのいずれか一項に記載の方法。
【請求項３２】  前記吸着装置は少なくとも２個の吸着体を有するものとし、休止条件中に少なくとも２個の吸着体間でガス成分を正常化する請求項１，１４または３１のうちのいずれか一項に記載の方法。
【請求項３３】  少なくとも１個の汚染物が開始時に、少なくとも１個の汚染物感応吸着剤材料を有する少なくとも１個の吸着体の一部に進入するのを減少する請求項１，１４、３１または３２のうちのいずれか一項に記載の方法。
【請求項３４】  開始時に、ガード材料の汚染物充填を減少する請求項１，１４または３１〜３３のうちのいずれか一項に記載の方法。
【請求項３５】  少なくとも１個の吸着体における少なくとも１個の汚染物感応吸着剤を再生する請求項１記載の方法。
【請求項３６】  少なくとも１個の吸着体における少なくとも１個の汚染物感応吸着剤を置換する請求項１記載の方法。