【手続補正書】
【提出日】平成17年2月2日(2005.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コータデベロッパーと投影露光装置とをインライン接続してウエハの受け渡しを行うようにしたリソグラフィー装置において、
前記コータデベロッパーと前記投影露光装置とを連通遮断する開閉装置と、
ウエハの受渡時に前記開閉装置を開く制御装置とを具備することを特徴とするリソグラフィー装置。
【請求項２】
請求項１のリソグラフィー装置において、
前記開閉装置は前記投影露光装置のウエハの受け渡し窓に設けられていることを特徴とするリソグラフィー装置。
【請求項３】
請求項１または２のリソグラフィー装置において、
前記開閉装置は前記コータデベロッパーのウエハの受け渡し窓に設けられていることを特徴とするリソグラフィー装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかのリソグラフィー装置において、
前記制御装置は前記コータデベロッパーに設けられていることを特徴とするリソグラフィー装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のリソグラフィー装置において、
前記コータデベロッパーと前記投影露光装置との間に、前記コータデベロッパーと前記投影露光装置との間で前記ウエハの受け渡しを行う受け渡し装置を有することを特徴とするリソグラフィー装置。
【請求項６】
請求項５に記載のリソグラフィー装置において、
前記受け渡し装置内の汚染物質を排出する排気装置を有することを特徴とするリソグラフィー装置。
【請求項７】
請求項６に記載のリソグラフィー装置において、
当該リソグラフィー装置はクリーンルーム内に配置され、
前記排気装置は、前記受け渡し装置内の気圧を前記コータデベロッパーおよび前記投影露光装置よりも低く、かつ前記クリーンルームよりも高く保つことを特徴とするリソグラフィー装置。
【請求項８】
コータデベロッパーと投影露光装置とをインライン接続してウエハの受け渡しを行うようにしたリソグラフィー装置において、
前記コータデベロッパーのウエハの受け渡し窓に設けられた第１の開閉装置と、
前記投影露光装置のウエハの受け渡し窓に設けられた第２の開閉装置と、
ウエハの受け渡し動作時に前記窓を開くように前記第１および第２の開閉装置を制御する制御装置とを具備することを特徴とするリソグラフィー装置。
【請求項９】
コータデベロッパーとインライン接続されて受け渡し窓を介してウエハの受け渡しが行われる投影露光装置において、
前記受け渡し窓に設けられ、前記コータデベロッパーと連通遮断する開閉装置と、
ウエハの受け渡し動作時に前記窓を開くように前記開閉装置を制御する制御装置とを具備することを特徴とする投影露光装置。
【請求項１０】
投影露光装置とインライン接続されて受け渡し窓を介してウエハの受け渡しが行われるコータデベロッパーにおいて、
ウエハの受け渡し窓に設けられ、前記投影露光装置と連通遮断する開閉装置と、
ウエハの受け渡し動作時に前記窓を開くように前記開閉装置を制御する制御装置とを具備することを特徴とするコータデベロッパー。
【請求項１１】
コータデベロッパーと投影露光装置とをインライン接続してウエハの受け渡しを行うようにしたリソグラフィー装置において、
前記コータデベロッパーの圧力を前記投影露光装置の圧力より低く設定することを特徴とするリソグラフィー装置。
【請求項１２】
クリーンルーム内に配置され、コータデベロッパーと投影露光装置とをインライン接続してウエハの受け渡しを行うようにしたリソグラフィー装置において、
前記コータデベロッパーと前記投影露光装置との間に設けられ、前記コータデベロッパーと前記投影露光装置との間でウエハの受け渡しを行う受け渡し装置と、
前記受け渡し装置内の汚染物質を排出する排気装置とを有し、
前記排気装置は、前記受け渡し装置内の気圧を前記コータデベロッパーおよび前記投影露光装置よりも低く、かつ前記クリーンルームよりも高く保つことを特徴とするリソグラフィー装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載のリソグラフィー装置において、
前記コータデベロッパーと前記投影露光装置とを連通遮断する開閉装置を有することを特徴とするリソグラフィー装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載のリソグラフィー装置において、
前記開閉装置は、前記投影露光装置のウエハの受け渡し窓または前記コータデベロッパーのウエハの受け渡し窓の少なくとも一方に設けられることを特徴とするリソグラフィー装置。
【請求項１５】
レチクルに形成されたパターンを照明する照明光学系と、
照明光で形成される前記パターンの像をウエハに結像する投影光学系とを備える投影露光装置において、
ウエハを加熱する加熱装置と、
ウエハを冷却する冷却装置とを具備することを特徴とする投影露光装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載の投影露光装置において、
前記加熱装置と冷却装置が露光空間とは別の空間に設置されるように覆う筐体と、
その空間で発生する汚染物質を回収する回収装置とを具備することを特徴とする投影露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
そこで、本発明では次のようにして上記問題を解決する。実施の形態の図に対応づけて本発明を説明する。
（１）図１において、請求項１の発明は、コータデベロッパー１００と投影露光装置２００とをインライン接続してウエハＷの受け渡しを行うようにしたリソグラフィー装置に適用される。そして上述した目的は、コータデベロッパー１００と投影露光装置２００とを連通遮断する開閉装置２３０と、ウエハＷの受渡時に開閉装置２３０を開く制御装置１０２とを具備することにより達成される。
（２）請求項２の発明は、請求項１のリソグラフィー装置において、開閉装置２３０を投影露光装置２００のウエハＷの受け渡し窓２２１に設けたものである。
（３）請求項３の発明は、請求項１または２のリソグラフィー装置において、開閉装置１３０をコータデベロッパー１００のウエハＷの受け渡し窓１５１に設けたものである。
（４）請求項４の発明は、請求項１〜３のいずれかのリソグラフィー装置において、制御装置１０２をコータデベロッパー１００に設けたものである。
（５）図４において、請求項５の発明は、請求項１〜４のいずれかに記載のリソグラフィー装置において、コータデベロッパー１００と投影露光装置２００との間に、コータデベロッパー１００と投影露光装置２００との間でウエハＷの受け渡しを行う受け渡し装置３００を設けたものである。
（６）図１において、請求項６の発明は、請求項５に記載のリソグラフィー装置において、受け渡し装置３００内の汚染物質を排出する排気装置を備えるものである。
（７）図５において、請求項７の発明は、請求項６に記載のリソグラフィー装置において、リソグラフィー装置はクリーンルームＣＲ内に配置され、排気装置は、受け渡し装置３００内の気圧をコータデベロッパー１００および投影露光装置２００よりも低く、かつクリーンルームＣＲよりも高く保つようにしたものである。
（８）図４において、請求項８の発明は、コータデベロッパー１００と投影露光装置２００とをインライン接続してウエハＷの受け渡しを行うようにしたリソグラフィー装置に適用される。そして上述した目的は、コータデベロッパー１００のウエハＷの受け渡し窓１５１に設けられた第１の開閉装置１３０と、投影露光装置２００のウエハＷの受け渡し窓２２１に設けられた第２の開閉装置２３０と、ウエハＷの受け渡し動作時に窓１５１あるいは２２１を開くように第１および第２の開閉装置１３０，２３０を制御する制御装置１０２，２０５とを具備することにより達成される。
（９）図１において、請求項９の発明は、コータデベロッパー１００とインライン接続されて受け渡し窓２２１を介してウエハＷの受け渡しが行われる投影露光装置２００に適用される。そして上述した目的は、受け渡し窓２２１に設けられ、コータデベロッパー１００と連通遮断する開閉装置２３０と、ウエハＷの受け渡し動作時に窓２２１を開くように開閉装置２３０を制御する制御装置２０５とを具備することにより達成される。
（１０）図５において、請求項１０の発明は、投影露光装置２００とインライン接続されて受け渡し窓１５１を介してウエハＷの受け渡しが行われるコータデベロッパー１００に適用される。そして上述した目的は、ウエハＷの受け渡し窓１５１に設けられ、投影露光装置２００と連通遮断する開閉装置１３０と、ウエハＷの受け渡し動作時に窓１５１を開くように開閉装置１３０を制御する制御装置１０２とを具備することにより達成される。
（１１）図１において、請求項１１の発明は、コータデベロッパー１００と投影露光装置２００とをインライン接続してウエハＷの受け渡しを行うようにしたリソグラフィー装置に適用される。そして上述した目的は、コータデベロッパー１００の圧力を投影露光装置２００の圧力より低く設定することにより達成される。
（１２）請求項１２の発明は、クリーンルームＣＲ内に配置され、コータデベロッパー１００と投影露光装置２００とをインライン接続してウエハＷの受け渡しを行うようにしたリソグラフィー装置に適用される。コータデベロッパー１００と投影露光装置２００との間に設けられ、コータデベロッパー１００と投影露光装置２００との間でウエハＷの受け渡しを行う受け渡し装置３００と、受け渡し装置３００内の汚染物質を排出する排気装置とを有し、排気装置は、受け渡し装置３００内の気圧をコータデベロッパー１００および投影露光装置２００よりも低く、かつクリーンルームＣＲよりも高く保つことを特徴とする。
（１３）請求項１３の発明は、請求項１２に記載のリソグラフィー装置において、コータデベロッパー１００と投影露光装置２００とを連通遮断する開閉装置２３０を具備する。
（１４）請求項１４の発明は、請求項１３に記載のリソグラフィー装置において、開閉装置２３０は、投影露光装置２００のウエハＷの受け渡し窓２２１またはコータデベロッパー１００のウエハＷの受け渡し窓１５１の少なくとも一方に設けられるものである。
（１５）図６において、請求項１５の発明は、レチクルＲに形成されたパターンを照明する照明光学系２１０と、照明光で形成されるパターンの像をウエハＷに結像する投影光学系２０４とを備える投影露光装置に適用される。そして上述した目的は、ウエハＷを加熱する加熱装置２０６と、ウエハＷを冷却する冷却装置２０７とを具備することにより達成される。
（１６）請求項１６の発明は、請求項１５の投影露光装置において、加熱装置２０６と冷却装置２０７が露光空間とは別の空間に設置されるようにそれぞれを覆う筐体２５０と、その空間で発生する汚染物質を回収する回収装置４００とを設けたものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
コンピュータ２０５は、コータデベロッパー１００のコンピュータ１０２からウエハの搬出が報知されと（ステップＳ２０１）、ロボットアーム２０１ヘウエハ受け取り用の所定の位置へ移動するように命令し、ロボットアーム２０１は所定の受取り位置へ移動する（ステップＳ２０２）。ロボットアーム２０１から移動完了の信号を受けると（ステップＳ２０３）、コンピュータ２０５はウエハ受け渡し窓２２１に設けられたシャッタ２３０に開くよう命令を送る（ステップＳ２０４）。シャッタ２３０の開動作完了の信号を受けると（ステップＳ２０５）、投影露光装置２００のコンピュータ２０５は、コータデベロッパー１００のコンピュータ１０２と通信を行い、ウエハ受け入れ準備が完了したことを伝える（ステップＳ２０６）。この通信を待って（ステップＳ１０４）、コータデベロッパー１００のコンピュータ１０２は受け渡し装置３００に対して、ウエハＷを窓２２１を通して投影露光装置２００のロボットアーム２０１へ渡すよう命令する（ステップＳ１０５）。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
−第３の実施の形態−
あるいは、図５に示すように、コータデベロッパー１００の受け渡し窓１５１にだけシャッタ１３０を設置してもよい。この場合にも、第１の実施例と同等の投影露光装置２００内部の汚染防止の効果が得られる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように本発明によれば次のような効果を奏する。
（１）請求項１〜３の発明によれば、コータデベロッパーと投影露光装置とをインライン接続してウエハの受け渡しを行うようにしたリソグラフィー装置において、コータデベロッパーと投影露光装置とを連通遮断する開閉装置を設け、ウエハの受け渡し時にその開閉装置を開くようにしたので、コータデベロッパーで発生する汚染物質が投影露光装置に侵入するのを効果的に防止でき、光学系の曇りを防止できる。
（２）請求項４の発明は、請求項１〜３のいずれかのリソグラフィー装置において、コータデベロッパー側に設けた制御装置で開閉装置を制御するようにしたので、コータデベロッパーと投影露光装置間の通信が不要となり、信頼性が向上する。
（３）請求項８の発明によれば、コータデベロッパーと投影露光装置とをインライン接続してウエハの受け渡しを行うようにしたリソグラフィー装置において、コータデベロッパーと投影露光装置のウエハ受け渡し窓にそれぞれ開閉装置を設けるようにしたので、コータデベロッパーで発生する汚染物質が投影露光装置に侵入するのを効果的に防止でき、光学系の曇りを防止できるとともに、いずれか一方に開閉装置を設ける場合に比べて、処理工程の自由度が増加する。
（４）請求項９の発明は、コータデベロッパーとインライン接続されて受け渡し窓を介してウエハの受け渡しが行われる投影露光装置において、受け渡し窓に開閉装置を設け、コータデベロッパー側からウエハを受け取るときに窓を開くようにしたので、コータデベロッパーで発生する汚染物質が投影露光装置に侵入するのを効果的に防止でき、光学系の曇りを防止できる。
（５）請求項１０の発明は、投影露光装置とインライン接続されて受け渡し窓を介してウエハの受け渡しが行われるコータデベロッパーにおいて、受け渡し窓に開閉装置を設け、コータデベロッパー側からウエハを受け渡すときに窓を開くようにしたので、コータデベロッパーで発生する汚染物質が投影露光装置に侵入するのを効果的に防止でき、光学系の曇りを防止できる。
（６）請求項１１の発明は、コータデベロッパーと投影露光装置とをインライン接続してウエハの受け渡しを行うようにしたリソグラフィー装置において、コータデベロッパーの圧力を投影露光装置の圧力より低く設定するようにしたので、開閉装置を設けることなく、コータデベロッパーで発生する汚染物質が投影露光装置に侵入するのを効果的に防止でき、光学系の曇りを防止できる。
（７）請求項１５の発明は、投影露光装置側で露光後のウエハを加熱し、冷却（ＰＥＢ）するようにしたので、露光後にレジスト表面の酸を増大させる加熱処理までの時間を短縮し、化学型増幅型レジストの安定性を高めることができ、線幅を均一化できる。
（８）請求項１６の発明は、請求項１５の投影露光装置において、加熱装置と冷却装置を露光空間とは別の空間に設置し、加熱により発生する汚染物質を回収するようにしたので、投影露光装置側に露光後の加熱装置を設けても光学系の曇りを防止できる。また、コータデベロッパーから搬送される露光前のウエハに汚染物質が悪影響を与えるおそれもない。