【手続補正書】
【提出日】平成17年11月9日(2005.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】薄膜の作成方法と作成装置、およびこの作成方法で作成された有機エレクトロルミネッセンス素子、光電変換素子
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  原料液をエアロゾル化し、前記エアロゾルを加熱して、基板上に堆積させて薄膜を形成する薄膜の作成方法であって、
前記基板方向にキャリアガスを流し、前記エアロゾルを搬送することを特徴とする薄膜の作成方法。
【請求項２】  原料液をエアロゾル化し、前記エアロゾルを加熱して、基板上に堆積させて薄膜を形成する薄膜の作成方法であって、
前記エアロゾルの粒子を分級することを特徴とする薄膜の作成方法。
【請求項３】  前記エアロゾルに静電気力を作用させて分級することを特徴とする請求項２に記載の薄膜の作成方法。
【請求項４】  原料液をエアロゾル化し、前記エアロゾルを加熱して、基板上に堆積させて薄膜を形成する薄膜の作成方法であって、
前記エアロゾルと前記基板との間に電位差を生じさせることを特徴とする薄膜の作成方法。
【請求項５】  前記基板に電位を与えることを特徴とする請求項４に記載の薄膜の作成方法。
【請求項６】  前記エアロゾルを帯電させることを特徴とする請求項１〜５いずれか１項に記載の薄膜の作成方法。
【請求項７】  原料液をエアロゾル化し、前記エアロゾルを加熱して、基板上に堆積させて薄膜を形成する薄膜の作成方法であって、
前記原料液を静電噴霧してエアロゾル化することを特徴とする薄膜の作成方法。
【請求項８】  前記エアロゾルに含まれる溶媒を完全に気化させて、基板上に堆積させることを特徴とする請求項１〜７いずれか１項に記載の薄膜の作成方法。
【請求項９】  前記エアロゾルに含まれる溶媒を微量残留させて、基板上に堆積させることを特徴とする請求項１〜７いずれか１項に記載の薄膜の作成方法。
【請求項１０】  前記原料液の濃度が１重量％未満であることを特徴とする請求項１〜９いずれか１項に記載の薄膜の作成方法。
【請求項１１】  前記原料液は、粒子径が０．１μｍ以下の無機の超微粒子材料を含むことを特徴とする請求項１〜９いずれか１項に記載の薄膜の作成方法。
【請求項１２】  前記無機の超微粒子材料が、蛍光材料であることを特徴とする請求項１１に記載の薄膜の作成方法。
【請求項１３】  前記原料液が炭素材料を含むことを特徴とする請求項１〜１０に記載の薄膜の作成方法。
【請求項１４】  複数回の薄膜作成を行うことにより、前記基板上に複数種の薄膜を作成することを特徴とする請求項１〜１３いずれか１項に記載の薄膜の作成方法。
【請求項１５】  前記原料液に有機材料を混合または分散または溶解させて、有機エレクトロルミネッセンス素子の有機薄膜を作成することを特徴とする請求項１〜１４いずれか１項に記載の薄膜の作成方法。
【請求項１６】  前記原料液に有機材料を混合または分散または溶解させて、光電変換素子の有機薄膜を作成することを特徴とする請求項１〜１４いずれか１項に記載の薄膜の作成方法。
【請求項１７】  原料液を供給する原料液供給手段と、キャリアガスを供給するキャリアガス供給手段と、前記原料液供給手段とキャリアガス供給手段から供給された原料液とキャリアガスからエアロゾルを形成噴霧するエアロゾル形成手段と、前記エアロゾル形成手段から噴霧されたエアロゾルに搬送力を付加するキャリアガスを噴出する付加キャリアガス供給手段と、前記エアロゾル形成手段から噴霧されたエアロゾルを加熱する加熱手段と、前記エアロゾル内に含まれる材料が堆積する基板を保持する基板保持手段とを備えたことを特徴とする薄膜の作成装置。
【請求項１８】  原料液を供給する原料液供給手段と、キャリアガスを供給するキャリアガス供給手段と、前記原料液供給手段とキャリアガス供給手段から供給された原料液とキャリアガスからエアロゾルを形成噴霧するエアロゾル形成手段と、前記エアロゾル形成手段から噴霧されたエアロゾルを加熱する加熱手段と、前記エアロゾル形成手段から噴霧されたエアロゾルの粒子に静電気力を作用させて分級する電界発生手段と、前記エアロゾル内に含まれる材料が堆積する基板を保持する基板保持手段とを備えたことを特徴とする薄膜の作成装置。
【請求項１９】  原料液を供給する原料液供給手段と、キャリアガスを供給するキャリアガス供給手段と、前記原料液供給手段とキャリアガス供給手段から供給された原料液とキャリアガスからエアロゾルを形成噴霧するエアロゾル形成手段と、前記エアロゾル形成手段から噴霧されたエアロゾルを加熱する加熱手段と、前記エアロゾル内に含まれる材料が堆積する基板を保持する基板保持手段と、前記基板に電位を付与し、前記エアロゾルと前記基板との間に電位差を生じさせる電位付与手段とを備えたことを特徴とする薄膜の作成装置。
【請求項２０】  前記エアロゾルを帯電させる帯電手段を備えたことを特徴とする請求項１７〜１９いずれか１項に記載の薄膜の作成装置。
【請求項２１】  前記基板を加熱する基板加熱手段を備えたことを特徴とする請求項１７〜２０いずれか１項に記載の薄膜の作成装置。
【請求項２２】  原料液を供給する原料液供給手段と、キャリアガスを供給するキャリアガス供給手段と、前記原料液供給手段とキャリアガス供給手段から供給された原料液とキャリアガスからエアロゾルを形成し静電噴霧する静電噴霧手段と、前記エアロゾル形成手段から噴霧されたエアロゾルを加熱する加熱手段と、前記エアロゾル内に含まれる材料が堆積する基板を保持する基板保持手段とを備えたことを特徴とする薄膜の作成装置。
【請求項２３】  前記エアロゾル形成から前記基板への堆積に至るエアロゾルの流路を外界と隔離するチャンバーを備えたことを特徴とする請求項１７〜２２いずれか１項に記載の薄膜の作成装置。
【請求項２４】  前記加熱手段は、前記チャンバーの外壁に備えられたことを特徴とする請求項２３に記載の薄膜の作成装置。
【請求項２５】  前記エアロゾルの流路は、エアロゾルが形成される位置から前記基板との間で狭くなることを特徴とする請求項２３，２４いずれか１項に記載の薄膜の作成装置。
【請求項２６】  前記チャンバーの内壁にエアロゾルの付着を防止する付着防止膜を設けたことを特徴とする請求項２３〜２５いずれか１項に記載の薄膜の作成装置。
【請求項２７】  前記基板保持手段が３次元的に移動可能または回転可能であることを特徴とする請求項１７〜２６いずれか１項に記載の薄膜の作成装置。
【請求項２８】  原料液を供給する原料液供給手段と、キャリアガスを供給するキャリアガス供給手段と、前記原料液供給手段とキャリアガス供給手段から供給された原料液とキャリアガスからエアロゾルを形成噴霧するエアロゾル形成手段と、前記エアロゾル形成手段から噴霧されたエアロゾルを加熱する加熱手段と、少なくとも前記エアロゾル形成手段を内部に配置し、その端部に開口部を備えた第１のチャンバーと、
前記エアロゾル内に含まれる材料が堆積する基板を保持する基板保持手段と、前記基板保持手段を内部に配置し、前記開口部を介して前記第１のチャンバーと接続された第２のチャンバーとを備え、
前記第１のチャンバーの内部に、前記エアロゾル形成手段から噴霧されたエアロゾルに搬送力を付加するキャリアガスを噴出する付加キャリアガス供給手段、前記エアロゾル形成手段から噴霧されたエアロゾルの粒子に静電気力を作用させて分級する電界発生手段、前記エアロゾル形成手段にエアロゾルを帯電させる帯電手段を具備した静電噴霧手段、の内少なくとも１つの手段を備えたことを特徴とする薄膜の作成装置。
【請求項２９】  前記第２のチャンバーの内部に、前記基板に電位を付与し、前記エアロゾルと前記基板との間に電位差を生じさせる電位付与手段、前記基板を加熱する基板加熱手段、前記基板を移動可能、或いは、傾斜可能、或いは、回転可能とする基板移動手段、の内少なくとも１つの手段を備えたことを特徴とする請求項２８に記載の薄膜の作成装置。
【請求項３０】  前記第１のチャンバーの内壁で構成される前記エアロゾルの流路は、前記開口部で狭くなることを特徴とする請求項２８，２９いずれか１項に記載の薄膜の作成装置。
【請求項３１】  前記加熱手段は、前記第１のチャンバーの外壁を覆うように配置され、少なくとも、前記エアロゾルが形成される位置から前記開口部間を加熱することを特徴とする請求項２８〜３０いずれか１項に記載の薄膜の作成装置。
【請求項３２】  前記第１のチャンバーの内壁に前記エアロゾルの付着を防止する付着防止膜を設けたことを特徴とする請求項２８〜３１いずれか１項に記載の薄膜の作成装置。
【請求項３３】  請求項１〜１６いずれか１項に記載の薄膜の作成方法によって作成された薄膜を設けたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項３４】  請求項１〜１６いずれか１項に記載の薄膜の作成方法によって作成された薄膜を設けたことを特徴とする光電変換素子。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、薄膜の製造技術分野に属し、特に有機または無機の、発光デバイス、光電変換デバイス等を作成するための機能性薄膜の作成方法と作成装置、および機能性薄膜の作成方法によって作成された有機エレクトロルミネッセンス素子および光電変換素子に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
請求項３２に記載の発明は、請求項２８〜３１において、第１のチャンバーの内壁にエアロゾルの付着を防止する付着防止膜を設けたことを特徴とし、エアロゾルのチャンバーへの付着を防止すると共に、基板に供給されるエアロゾルの量的損失を抑制し、成膜レートが向上する。
請求項３３に記載の発明は、請求項１〜１６いずれか１項に記載の薄膜の作成方法によって作成された薄膜を設けた有機エレクトロルミネッセンス素子である。有機エレクトロルミネッセンス素子においては、従来、真空蒸着法やスピンコート法で成膜できなかった発光材料があったが、これによって種々の発光材料を成膜することができ、機能性薄膜材料の選択性を広げることができる。更に、成膜レートの向上を図ることができる。
請求項３４に記載の発明は、請求項１〜１６いずれか１項に記載の薄膜の作成方法によって作成された薄膜を設けた光電変換素子である。光電変換素子においては、従来、真空蒸着法やスピンコート法で成膜できなかった光電変換材料があったが、これによって種々の光電変換材料を成膜することができ、機能性薄膜材料の選択性を広げることができる。更に、成膜レートの向上を図ることができる。