【手続補正書】
【提出日】平成16年9月30日(2004.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｋｒ、ＡｒおよびＮｅのうち少なくとも１つの不活性ガスとＦ2ガスを混合したレーザガスを収容するレーザ管を有するレーザチャンバと、該レーザチャンバを挟んで設けられた一対の反射鏡を有する光共振器と、を備えるエキシマレーザ発振装置において、
該レーザチャンバの内面を、２４８ｎｍ、１９３ｎｍおよび１５７ｎｍのうち少なくとも１つの波長の光に対する無反射面とするとともに、該レーザチャンバの内面をフッ化物で構成し、
該レーザチャンバ内の該レーザガスを励起するためのマイクロ波導入手段を設けたことを特徴とするエキシマレーザ発振装置。
【請求項２】
該レーザチャンバの内面は、ステンレスの表面にＦｅＦ2の層が形成されたもの、または金属上にニッケルが鍍金されさらにその表面にＮｉＦ2の層が形成されたもの、またはアルミニウム合金上にＡｌＦ3とＭｇＦ2の層が形成されたものであることを特徴とする請求項１記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項３】
該レーザチャンバ内に該レーザガスを連続的に供給する手段を設けたことを特徴とする請求項１又は２記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項４】
前記レーザガスがＫｒ、ＮｅおよびＦ2を含み、Ｋｒが１〜６原子％であり、Ｆ2が１〜６原子％であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項５】
前記レーザガスがＡｒ、ＮｅおよびＦ2を含み、Ａｒが１〜６原子％、Ｆ2が１〜６原子％であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項６】
前記レーザガスがＮｅおよびＦ2を含み、Ｆ2が１〜６原子％であることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項７】
前記レーザガスを前記レーザチャンバの両端側から導入し、レーザチャンバの中央部から排出することを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項８】
前記マイクロ波導入手段により導入されるマイクロ波は、１ＧＨｚ〜５０ＧＨｚであることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項９】
前記マイクロ波導入手段は、内部が真空となっている導波管を有することを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項１０】
前記レーザ管の光路垂直断面が楕円形であることを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項１１】
前記レーザ管の光路垂直断面は、その短径方向がマイクロ波導入方向であることを特徴とする請求項１０記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項１２】
磁場を印加する磁場印加手段を備えることを特徴とする請求項１ないし１１のいずれか１項記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項１３】
前記磁場印加手段が、鉄バナジューム系磁石又はＮｂ・Ｆｅ・Ｂ磁石であることを特徴とする請求項１２記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項１４】
前記レーザガスのガス圧を数１０Ｔｏｒｒ〜３ａｔｍとしたことを特徴とする請求項１ないし１３のいずれか１項記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項１５】
前記レーザチャンバの外周を囲むように設けられた冷却手段を備え、前記冷却手段は、断熱材で覆われており、流入冷却水の温度を雰囲気温度より低くかつ流出冷却水の温度を雰囲気温度に略一致させるように制御することを特徴とする請求項１ないし１４のいずれか１項記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項１６】
前記マイクロ波導入手段の内部と前記レーザチャンバの内部は絶縁板により隔離され、該絶縁板のレーザチャンバ側表面にはフッ化物の薄膜が形成されていることを特徴とする請求項１ないし１５のいずれか１項記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項１７】
前記マイクロ波導入手段は複数のスロットを有し、前記複数のスロットを介してマイクロ波が前記レーザチャンバに導入されることを特徴とする請求項１ないし１６のいずれか１項記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項１８】
前記スロット同士の間隔は、前記レーザチャンバの軸方向において中央部から両端部に向かうに従い広がっていることを特徴とする請求項１７記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項１９】
前記マイクロ波導入手段は、前記レーザチャンバの側に向かい広がっているマイクロ波放出部を有することを特徴とする請求項１ないし１６のいずれか１項記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項２０】
前記マイクロ波導入手段のマイクロ波放出部は、マイクロ波の周波数に応じた幅のギャップを有することを特徴とする請求項１ないし１９のいずれか１項記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項２１】
前記マイクロ波導入手段は、前記光共振器の光軸に沿って設けられ、ビーム半径の該光軸方向における変化に応じて、該マイクロ波導入手段と該共振器の光軸との距離を変化させていることを特徴とする請求項１ないし２０のいずれか１項記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項２２】
前記マイクロ波導入手段は、前記光共振器の光軸をはさむようにして一対設けられていることを特徴とする請求項１ないし２１のいずれか１項記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項２３】
前記レーザガスを供給する手段の上流側に、レーザガスを層流にする手段を設けたことを特徴とする請求項２１または２２記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項２４】
前記マイクロ波導入手段は、スロットを有するスロット導波管と、前記レーザチャンバとの間に介在せしめた誘電板と、を有することを特徴とする請求項１ないし２３のいずれか１項記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項２５】
前記マイクロ波導入手段は、スロットを有するスロット導波管と、該スロットに埋め込まれた誘電材と、を有することを特徴とする請求項１ないし２３のいずれか１項記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項２６】
前記スロットは、長辺が光軸方向に延びる連続的あるいは間欠的な長方形状のスロットであることを特徴とする請求項２４または２５記載のエキシマレーザ発振装置。
【請求項２７】
エキシマレーザ発振装置において、エキシマレーザガスを収容するレーザチャンバと、該レーザチャンバを挟むように配置された一対の反射鏡を有する光共振器と、該光共振器の光路内に配置され、発振する光を選択する光選択手段と、該エキシマレーザガスを励起するためにマイクロ波を導入するマイクロ波導入手段と、エキシマレーザの発振を停止した際、該光選択手段によって選択される光を変更する制御手段と、を備えることを特徴とするエキシマレーザ発振装置。
【請求項２８】
レーザガスを収容するレーザ管を有するレーザチャンバと、該レーザチャンバを挟んで設けられた一対の反射鏡を有する光共振器とを備えるレーザ発振器において、
該レーザガスを励起するためのマイクロ波導入手段を設けるとともに、該マイクロ波導入手段は、該光共振器の光軸に沿って設けられ、ビーム半径の該光軸方向における変化に応じて、該マイクロ波導入手段と該共振器の光軸との距離を変化させたことを特徴とするレーザ発振装置。
【請求項２９】
Ｋｒ、ＡｒおよびＮｅのうち少なくとも１つの不活性ガスとＦ2ガスを混合したレーザガスを収容するレーザ管を有するレーザチャンバと、該レーザチャンバを挟んで設けられた一対の反射鏡を有する光共振器とを備えるエキシマレーザ発振装置において、
該レーザチャンバの内面を、２４８ｎｍ、１９３ｎｍおよび１５７ｎｍのうち少なくとも１つの波長の光に対する無反射面とするとともに、該レーザチャンバの内面をフッ化物で構成し、
該レーザチャンバ内の該レーザガスを励起するためのマイクロ波導入手段を設け、
出力側の反射鏡の反射率を９０％以上としたことを特徴とするエキシマレーザ発振装置。
【請求項３０】
請求項１ないし２９のいずれか１項記載のエキシマレーザ発振装置と、照明光学系、結像光学系、ウエハを保持するためのステージとを有することを特徴とするエキシマレーザ露光装置。
【請求項３１】
レーザチャンバを構成するレーザ管において、該レーザ管の内面を、２４８ｎｍ、１９３ｎｍおよび１５７ｎｍのうち少なくとも１つの波長の光に対する無反射面とするとともに、該内面をフッ化物で構成し、マイクロ波を導入するための窓を設けるとともに、該窓に絶縁板が設けられていることを特徴とするレーザ管。
【請求項３２】
内面を、２４８ｎｍ、１９３ｎｍおよび１５７ｎｍのうち少なくとも１つの波長の光に対する無反射面とするとともに、該内面をフッ化物で構成したレーザ管を有するレーザチャンバ内に、Ｋｒ、ＡｒおよびＮｅのうち少なくとも１つの不活性ガスとＦ2ガスを混合したレーザガスを供給し、
該レーザチャンバ内にマイクロ波を導入することにより該レーザガスを励起したことを特徴とするエキシマレーザ発振方法。
【請求項３３】
内面を、２４８ｎｍ、１９３ｎｍおよび１５７ｎｍのうち少なくとも１つの波長の光に対する無反射面とするとともに、該内面をフッ化物で構成したレーザ管を有するレーザチャンバ内に、Ｋｒ、ＡｒおよびＮｅのうち少なくとも１つの不活性ガスとＦ2ガスを混合したレーザガスを供給し、
該レーザチャンバ内にマイクロ波を導入することにより該レーザガスを励起し、
出力側の反射鏡の反射率が９０％以上である一対の反射鏡により共振させることにより発光させることを特徴とするエキシマレーザ発振方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
【課題を解決するための手段】
本発明のエキシマレーザ発振装置は、Ｋｒ、ＡｒおよびＮｅのうち少なくとも１つの不活性ガスとＦ2ガスを混合したレーザガスを収容するレーザ管を有するレーザチャンバと、該レーザチャンバを挟んで設けられた一対の反射鏡を有する光共振器と、を備えるエキシマレーザ発振装置において、
該レーザチャンバの内面を、２４８ｎｍ、１９３ｎｍおよび１５７ｎｍのうち少なくとも１つの波長の光に対する無反射面とするとともに、該レーザチャンバの内面をフッ化物で構成し、
該レーザチャンバ内の該レーザガスを励起するためのマイクロ波導入手段を設けたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明のエキシマレーザ発振方法は、内面を、２４８ｎｍ、１９３ｎｍおよび１５７ｎｍのうち少なくとも１つの光に対する無反射面とするとともに、該内面をフッ化物で構成したレーザ管を有するレーザチャンバ内に、Ｋｒ、ＡｒおよびＮｅのうち少なくとも１つの不活性ガスとＦ2ガスを混合したレーザガスを供給し、
該レーザチャンバ内にマイクロ波を導入することにより該レーザガスを励起したことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明のエキシマレーザ発振装置は、エキシマレーザ発振装置において、エキシマレーザガスを収容するレーザチャンバと、該レーザチャンバを挟むように配置された一対の反射鏡を有する光共振器と、該光共振器の光路内に配置され、発振する光を選択する光選択手段と、該エキシマレーザガスを励起するためにマイクロ波を導入するマイクロ波導入手段と、エキシマレーザの発振を停止した際、該光選択手段によって選択される光を変更する制御手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本発明のレーザ発振装置は、レーザガスを収容するレーザ管を有するレーザチャンバと、該レーザチャンバを挟んで設けられた一対の反射鏡を有する光共振器とを備えるレーザ発振器において、該レーザガスを励起するためのマイクロ波導入手段を設けるとともに、該マイクロ波導入手段は、該光共振器の光軸に沿って設けられ、ビーム半径の該光軸方向における変化に応じて、該マイクロ波導入手段と該共振器の光軸との距離を変化させたことを特徴とする。本発明のエキシマレーザ発振装置は、Ｋｒ、ＡｒおよびＮｅのうち少なくとも１つの不活性ガスとＦ2ガスを混合したレーザガスを収容するレーザ管を有するレーザチャンバと、該レーザチャンバを挟んで設けられた一対の反射鏡を有する光共振器とを備えるエキシマレーザ発振装置において、該レーザチャンバの内面を、２４８ｎｍ、１９３ｎｍおよび１５７ｎｍのうち少なくとも１つの波長の光に対する無反射面とするとともに、該レーザチャンバの内面をフッ化物で構成し、該レーザチャンバ内の該レーザガスを励起するためのマイクロ波導入手段を設け、出力側の反射鏡の反射率を９０％以上としたことを特徴とする。エキシマレーザ発振方法は、内面を、２４８ｎｍ、１９３ｎｍおよび１５７ｎｍのうち少なくとも１つの波長の光に対する無反射面とするとともに、該内面をフッ化物で構成したレーザ管を有するレーザチャンバ内に、Ｋｒ、ＡｒおよびＮｅのうち少なくとも１つの不活性ガスとＦ2ガスを混合したレーザガスを供給し、
該レーザチャンバ内にマイクロ波を導入することにより該レーザガスを励起し、
出力側の反射鏡の反射率が９０％以上である一対の反射鏡により共振させることにより発光させることを特徴とする。
本発明のエキシマレーザ発振方法は、内面を、２４８ｎｍ、１９３ｎｍおよび１５７ｎｍのうち少なくとも１つを含む所望の波長の光に対する無反射面とするとともに、該内面をフッ化物で構成したレーザ管を有するレーザチャンバ内に、Ｋｒ、ＡｒおよびＮｅのうち少なくとも１つの不活性ガスとＦ2ガスを混合したレーザガスを供給し、
該レーザチャンバ内にマイクロ波を導入することにより該レーザガスを励起したことを特徴とする。