【手続補正書】
【提出日】平成16年7月23日(2004.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
静磁場を発生する手段と，第１のコイルと該第１のコイルを取り囲む第２のコイルとが平面上又は曲面上に配置され，鉛直方向の傾斜磁場を発生する傾斜磁場コイルとを具備し，ＭＲＩ装置に於いて検査対象が搭載されるベットの下方に，前記静磁場を発生する手段と前記傾斜磁場コイルとが配置され，前記第１のコイルが発生する磁場の方向が前記第２のコイルが発生する磁場の方向と逆方向であることを特徴とする磁場発生装置。
【請求項２】
請求項１に記載の磁場発生装置に於いて，前記第１及び第２のコイルが同一の平面上又は同一の曲面上に配置されることを特徴とする磁場発生装置。
【請求項３】
請求項２に記載の磁場発生装置に於いて，前記曲面が凹状の曲面又は凸状の曲面であることを特徴とする磁場発生装置。
【請求項４】
請求項１に記載の磁場発生装置に於いて，前記第１及び第２のコイルの各コイルがそれぞれ異なる平面上又は異なる曲面上に配置されることを特徴とする磁場発生装置。
【請求項５】
請求項４に記載の磁場発生装置に於いて，前記曲面が凹状の曲面又は凸状の曲面であることを特徴とする磁場発生装置。
【請求項６】
請求項１に記載の磁場発生装置に於いて，前記第１及び第２のコイルの各コイルは円の形状を有することを特徴とする磁場発生装置。
【請求項７】
請求項６に記載の磁場発生装置に於いて，前記第１及び第２のコイルは同心に配置されることを特徴とする磁場発生装置。
【請求項８】
請求項６に記載の磁場発生装置に於いて，前記第１及び第２のコイルの半径が１５ｃｍ以上，３５ｃｍ以下であること特徴とする磁場発生装置。
【請求項９】
請求項１に記載の磁場発生装置に於いて，前記第１及び第２のコイルの各コイルは変形した８の字の形状を有し一方向に不連続部をもつ円の形状をもつことを特徴とする磁場発生装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の磁場発生装置に於いて，前記第１及び第２のコイルは同心に配置されることを特徴とする磁場発生装置。
【請求項１１】
請求項９に記載の磁場発生装置に於いて，前記第１及び第２のコイルの半径が１５ｃｍ以上，３５ｃｍ以下であること特徴とする磁場発生装置。
【請求項１２】
請求項１に記載の磁場発生装置に於いて，前記静磁場を発生する手段は，水平方向の前記静磁場を発生し，水平方向で対向するマグネット，又は，コイルのなす面が水平方向で対向するコイルを有すること特徴とする磁場発生装置。
【請求項１３】
請求項１に記載の磁場発生装置に於いて，前記静磁場を発生する手段は，鉛直方向の前記静磁場を発生するマグネット，又は，静磁場発生コイルを有すること特徴とする磁場発生装置。
【請求項１４】
水平方向又は鉛直方向の静磁場を発生する手段と，半径の異なる２つの円形コイルを有し鉛直方向の傾斜磁場を発生する傾斜磁場コイルとを具備し，ＭＲＩ装置に於いて検査対象が搭載されるベットの下方に，前記静磁場を発生する手段と前記傾斜磁場コイルとが配置され，前記２つのコイルが発生する磁場の方向が逆方向であることを特徴とする磁場発生装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の磁場発生装置に於いて，前記２つのコイルの半径が１５ｃｍ以上，３５ｃｍ以下であること特徴とする磁場発生装置。
【請求項１６】
請求項１に記載の磁場発生装置を使用することを特徴とするＭＲＩ装置。
【請求項１７】
鉛直方向に静磁場を発生する手段と，前記静磁場が発生された空間で検査対象が搭載されるベットと，第１のコイルと該第１のコイルを取り囲む第２のコイルとが平面上又は曲面上に配置され，鉛直方向の傾斜磁場を発生する第１の傾斜磁場コイルと，前記静磁場の不均一よりも大きい強度をもつスライス方向の傾斜磁場を発生する第２の傾斜磁場コイルと，前記静磁場の不均一よりも大きい強度をもつ位相エンコード方向の傾斜磁場を発生する第３の傾斜磁場コイルと，感度分布を時間軸に沿って複数回変化させてリードアウト方向に関する位置情報を付与する受信ＲＦコイルとを具備し，第１の傾斜磁場コイル及び静磁場を発生する手段が前記ベットの下方に配置され，前記第１のコイルが発生する磁場の方向は，前記第２のコイルが発生する磁場の方向と逆方向であることを特徴とするＭＲＩ装置。
【請求項１８】
請求項１７に記載のＭＲＩ装置に於いて，前記第１及び第２のコイルの半径が１５ｃｍ以上，３５ｃｍ以下であること特徴とするＭＲＩ装置。
【請求項１９】
鉛直方向の静磁場を発生する静磁場発生手段と，第１のコイルと該第１のコイルを取り囲む第２のコイルとから構成され鉛直方向の傾斜磁場を発生する傾斜磁場コイルとを有し，前記第１のコイルに流す電流の方向と前記第２のコイルに流す電流の方向とが逆方向であることを特徴とする磁場発生装置。
【請求項２０】
請求項１９に記載の磁場発生装置に於いて，前記第１及び第２のコイルが平面上に配置されることを特徴とする磁場発生装置。
【請求項２１】
請求項１９に記載の磁場発生装置に於いて，前記第１及び第２のコイルは円の形状を有することを特徴とする磁場発生装置。
【請求項２２】
請求項１９に記載の磁場発生装置に於いて，前記第１及び第２のコイルは円の形状を有し，前記第１及び第２のコイルは同心に配置されることを特徴とする磁場発生装置。
【請求項２３】
鉛直方向の静磁場を発生する静磁場発生手段と，第１のコイルと該第１のコイルを取り囲む第２のコイルとから構成され鉛直方向の傾斜磁場を発生する第１の傾斜磁場コイルと，検査対象が搭載されるベットと，スライス方向の傾斜磁場を発生する第２の傾斜磁場コイルと，位相エンコード方向の傾斜磁場を発生する第３の傾斜磁場コイルと，時間軸に沿って感度分布を変化させ，前記検査対象から発生する各磁気共鳴信号を計測する受信ＲＦコイルとを有し，前記ベットの下方に，前記静磁場発生手段と前記第１の傾斜磁場コイルとが配置され，前記第１のコイルに流す電流の方向と前記第２のコイルに流す電流の方向とが逆方向であることを特徴とするＭＲＩ装置。
【請求項２４】
鉛直方向の静磁場を発生する静磁場発生手段と，第１のコイルと該第１のコイルを取り囲む第２のコイルとから構成され鉛直方向の傾斜磁場を発生する傾斜磁場コイルと，検査対象が搭載されるベットとを有し，前記ベットの下方に，前記静磁場発生手段と前記傾斜磁場コイルとが配置され，前記第１のコイルに流す電流の方向と前記第２のコイルに流す電流の方向とが逆方向であることを特徴とするＭＲＩ装置。
【請求項２５】
鉛直方向の静磁場を発生する静磁場発生手段と，鉛直方向の傾斜磁場を発生する傾斜磁場コイルと，検査対象が搭載されるベットと，前記検査対象の上方に配置される治療のための装置とを有し，前記ベットの下方に，前記静磁場発生手段と前記傾斜磁場コイルとが配置されることを特徴とするＭＲＩ装置。
【請求項２６】
鉛直方向の静磁場を発生する静磁場発生手段と，鉛直方向の傾斜磁場を発生する傾斜磁場コイルと，検査対象が搭載されるベットとを有し，該ベットの下方に，前記静磁場発生手段と前記傾斜磁場コイルとが配置されることを特徴とするＭＲＩ装置。
【請求項２７】
請求項２６に記載の磁場発生装置に於いて，前記ベットの下方のみに，前記静磁場発生手段と前記傾斜磁場コイルとが配置されることを特徴とするＭＲＩ装置。
【請求項２８】
鉛直方向の静磁場を発生する静磁場発生手段と，鉛直方向の傾斜磁場を発生する傾斜磁場コイルと，検査対象が搭載されるベットとを有することを特徴とするＭＲＩ装置。