Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月10日(2004.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画像データから所望の画像データを検索する画像処理装置であって、
前記複数の画像データそれぞれと、それぞれの画像データの画像特徴量を対応付けて記憶する記憶手段と、
入力画像を所定分割パターンで分割した各領域の所定色空間における各色成分値に基づいて、該入力画像の画像特徴量を計算する画像特徴量計算手段と、
前記画像特徴量計算手段で計算された画像特徴量と、前記記憶手段に記憶された画像データの画像特徴量に基づいて、前記入力画像に類似する画像データを検索する類似画像検索手段と、
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
元画像を模したモザイク画像を生成する画像処理装置であって、
複数種類の素材画像を記憶する記憶手段と、
前記元画像の分割画像を所定分割パターンで分割した各領域の所定色空間における各色成分値に基づいて、該分割画像の画像特徴量を計算する画像特徴量計算手段と、
前記画像特徴量計算手段で計算された画像特徴量と、前記記憶手段に記憶された素材画像の画像特徴量に基づいて、前記分割画像に類似する素材画像を検索する類似画像検索手段と、
前記類似画像検索手段で検索された素材画像に基づいて、前記モザイク画像を生成する生成手段と
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項３】
複数の画像データから所望の画像データを検索する画像処理方法であって、
入力画像を所定分割パターンで分割した各領域の所定色空間における各色成分値に基づいて、該入力画像の画像特徴量を計算する画像特徴量計算工程と、
前記画像特徴量計算工程で計算された画像特徴量と、記憶媒体に記憶された画像データの画像特徴量に基づいて、前記入力画像に類似する画像データを検索する類似画像検索工程と、
を備えることを特徴とする画像処理方法。
【請求項４】
前記所定分割パターンは、前記入力画像の周囲を含まないａ個の分割領域と、該入力画像の周囲を含むｂ個の分割領域を構成するパターンであり、かつａ＋ｂ＝８の関係を有する
ことを特徴とする請求項３に記載の画像処理方法。
【請求項５】
前記画像特徴量計算工程は、前記入力画像を所定分割パターンで分割した各領域の所定色空間における各色成分値の平均値を算出する算出工程とを備え、
前記各色成分値の平均値に基づいて、前記入力画像の画像特徴量を計算する
ことを特徴とする請求項３に記載の画像処理方法。
【請求項６】
前記所定分割パターンは、複数種類の分割パターンからなり、
前記算出工程は、前記複数種類の分割パターンから選択された１つの分割パターンで前記入力画像を分割した各領域の所定色空間における各色成分値の平均値を算出する
ことを特徴とする請求項５に記載の画像処理方法。
【請求項７】
前記所定色空間は、ＲＧＢ色空間、ＹＵＶ色空間、ＨＳＶ空間、Ｌ*ａ*ｂ*色空間のいずれかである
ことを特徴とする請求項３に記載の画像処理方法。
【請求項８】
元画像を模したモザイク画像を生成する画像処理方法であって、
前記元画像の分割画像を所定分割パターンで分割した各領域の所定色空間における各色成分値に基づいて、該分割画像の画像特徴量を計算する画像特徴量計算工程と、
前記画像特徴量計算工程で計算された画像特徴量と、前記記憶媒体に記憶された複数種類の素材画像の画像特徴量に基づいて、前記分割画像に類似する素材画像を検索する類似画像検索工程と、
前記類似画像検索工程で検索された素材画像に基づいて、前記モザイク画像を生成する生成工程と
を備えることを特徴とする画像処理方法。
【請求項９】
前記所定分割パターンは、前記分割画像の周囲を含まないａ個の分割領域と、該分割画像の周囲を含むｂ個の分割領域を構成するパターンであり、かつａ＋ｂ＝８の関係を有する
ことを特徴とする請求項８に記載の画像処理方法。
【請求項１０】
前記画像特徴量計算工程は、前記分割画像を所定分割パターンで分割した各領域の所定色空間における各色成分値の平均値を算出する算出工程とを備え、
前記各色成分値の平均値に基づいて、前記分割画像の画像特徴量を計算する
ことを特徴とする請求項８に記載の画像処理方法。
【請求項１１】
前記所定分割パターンは、複数種類の分割パターンからなり、
前記算出工程は、前記複数種類の分割パターンから選択された１つの分割パターンで前記分割画像を分割した各領域の所定色空間における各色成分値の平均値を算出する
ことを特徴とする請求項１０に記載の画像処理方法。
【請求項１２】
前記所定色空間は、ＲＧＢ色空間、ＹＵＶ色空間、ＨＳＶ空間、Ｌ*ａ*ｂ*色空間のいずれかである
ことを特徴とする請求項８に記載の画像処理方法。
【請求項１３】
複数の画像データから所望の画像データを検索する画像処理をコンピュータに機能させるためのプログラムであって、
入力画像を所定分割パターンで分割した各領域の所定色空間における各色成分値に基づいて、該入力画像の画像特徴量を計算する画像特徴量計算工程のプログラムコードと、
前記画像特徴量計算工程で計算された画像特徴量と、記憶媒体に記憶された画像データの画像特徴量に基づいて、前記入力画像に類似する画像データを検索する類似画像検索工程のプログラムコードと、
を備えることを特徴とするプログラム。
【請求項１４】
元画像を模したモザイク画像を生成する画像処理をコンピュータに機能させるためのプログラムであって、
前記元画像の分割画像を所定分割パターンで分割した各領域の所定色空間における各色成分値に基づいて、該分割画像の画像特徴量を計算する画像特徴量計算工程のプログラムコードと、
前記画像特徴量計算工程で計算された画像特徴量と、前記記憶媒体に記憶された複数種類の素材画像の画像特徴量に基づいて、前記分割画像に類似する素材画像を検索する類似画像検索工程のプログラムコードと、
前記類似画像検索工程で検索された素材画像に基づいて、前記モザイク画像を生成する生成工程のプログラムコードと
を備えることを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月7日(2004.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光の照射により原子配列が変化することによって記録が行われる記録膜を有する多数回書換え可能な情報記録媒体であって、
光照射側から、厚さが０．７ｍｍ以下の基板と、２０ｎｍ以上の膜厚の下部保護層と、記録膜と、上部保護層と、反射層とを含む積層膜と、接着層を備え、
前記基板表面から前記接着層までの距離が１５０ｎｍ以下、かつ前記積層膜のそれぞれの膜厚がそれぞれ４０ｎｍ以下、かつトラックの間隔が０．５４μｍ以上0.６２μｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月4日(2005.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータネットワークにおいてサービスに対するビッド情報を格納する装置であり、該コンピュータネットワークがプロセッサとクライアントとを連結し、該クライアントが、該プロセッサの１つまたは複数による実行に対するジョブ要求を提出する装置であって、前記コンピュータネットワークに連結され、前記クライアントと前記プロセッサとに連結されるサービスバスと、該サービスバスに連結され、前記ジョブ要求に関連するジョブチケットを格納することができるジョブチケットサービスと、前記サービスバスに連結され、前記ジョブ要求の通知を登録することができるビディングサービスと、を具備し、前記プロセッサのうちの１つまたは複数は、前記ジョブ要求を完了するビッドを提出し、該ビッドはビッド情報を含み、前記ジョブチケットサービスは、前記ジョブチケットとともに落札ビッド情報を格納する装置。
【請求項２】
前記ビディングサービスは、前記提出されたビットを評価する評価モジュールと、該評価に基づいて該提出されたビッドをランク付けするランキングアルゴリズムとを備える請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記評価モジュールは、クライアントが提供する評価基準を含む請求項２記載の装置。
【請求項４】
前記評価モジュールは、業界標準評価基準を含む請求項２記載の装置。
【請求項５】
前記ランキングアルゴリズムは、重み係数を含む請求項２記載の装置。
【請求項６】
前記ビッド情報は、前記クライアントに提供され、該クライアントは、前記落札ビッドを選択する請求項１記載の装置。
【請求項７】
コンピュータネットワークにおいて、ジョブチケットサービスを使用して、電子サービスに対するビッド情報を格納する方法であり、該コンピュータネットワークがプロセッサとクライアントとを連結し、該クライアントが、該プロセッサのうちの１つまたは複数による実行に対するジョブ要求を提出する方法であって、前記クライアントからジョブ要求を受取ることと、該ジョブ要求に対応するジョブチケットを生成するジョブチケットサービスセンタにおいて該ジョブ要求の通知を登録することと、前記プロセッサのうちの１つまたは複数からビッドを受取ることと、該ビッドを評価することと、ビッド情報を含む落札ビッドを選択することと、前記ジョブチケットとともに該ビッド情報を格納することとを含む方法。
【請求項８】
前記評価するステップは、クライアントが提供する評価基準に対して前記提出されたビッドを評価することを含む請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記評価するステップは、業界標準評価基準に対して前記提出されたビッドを評価することを含む請求項７記載の方法。
【請求項１０】
前記評価されたビッドに対しランキングアルゴリズムを適用することと、ランキングアルゴリズムに従って該評価されたビッドをランク付けすることと、ランク付けされたビッドを前記クライアントに提供することと、クライアントから前記落札ビッドの選択を受取ることとをさらに含む請求項７記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月23日(2004.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一つのマイクロプロセッサが接続される第１のバスと、複数の入出力ポートが接続される第２のバスと、前記第１のバスと前記第２のバスとの間に介在するバス・ブリッジとを含む情報処理装置の制御方法であって、
前記バス・ブリッジにおいて、前記第１のバス上で前記マイクロプロセッサから指定される第１のアドレスを、前記第２のバス上における第２のアドレスに変換することで、前記マイクロプロセッサによる複数の前記入出力ポートを介した入出力の制御を行うことを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【請求項２】
請求項１記載の情報処理装置の制御方法において、
前記バス・ブリッジには、前記第１のバス上における複数の前記入出力ポートの各々の前記第１のアドレスの先頭値が設定される第１のレジスタと、
前記第２のバス上における複数の前記入出力ポートの各々の前記第２のアドレスの先頭値が設定される第２のレジスタと、
複数の前記入出力ポートの各々について、アドレス判定条件およびアドレス変換条件を指定する第３のレジスタと、を備え、
前記マイクロプロセッサの前記第１のアドレスと前記第１のレジスタの設定値とを照合して、前記第１のアドレスが前記入出力ポートへのアクセスか否かを判別する第１の工程と、
前記第１のアドレスが前記入出力ポートへのアクセスである場合に、当該第１のアドレスの、前記第３のレジスタに設定された変換範囲を、前記第２のレジスタに設定された前記第２のアドレスに変換する第２の工程と、
変換後の前記第２のアドレスを用いた複数の前記入出力ポートの一つへの入出力を実行する第３の工程と、
を実行することを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【請求項３】
請求項１または２記載の情報処理装置の制御方法において、前記情報処理装置は、ディスクアレイシステムにおけるホストインタフェース制御部およびディスクインタフェース制御部の少なくとも一方を構成することを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【請求項４】
一つのマイクロプロセッサが接続される第１のバスと、複数の入出力ポートが接続される第２のバスと、前記第１のバスと前記第２のバスとの間に介在するバス・ブリッジとを含む情報処理装置の制御方法であって、
前記バス・ブリッジにおいて、前記第１のバス上で前記マイクロプロセッサから指定される第１のアドレスを、前記第２のバス上における第２のアドレスに変換することで、単一の前記マイクロプロセッサによる複数の前記入出力ポートを介した入出力の制御を行い、
前記バス・ブリッジには、
前記第１のバス上における複数の前記入出力ポートの各々の前記第１のアドレスの先頭値が設定される第１のレジスタと、
前記第２のバス上における複数の前記入出力ポートの各々の前記第２のアドレスの先頭値が設定される第２のレジスタと、
複数の前記入出力ポートの各々について、アドレス判定条件およびアドレス変換条件を指定する第３のレジスタと、
からなるレジスタ群を、前記入出力ポートの数だけ備え、
前記マイクロプロセッサの前記第１のアドレスと前記第１のレジスタの設定値とを照合して、前記第１のアドレスが前記入出力ポートへのアクセスか否かを判別する第１の工程と、
前記第１のアドレスが前記入出力ポートへのアクセスである場合に、当該第１のアドレスの、前記第３のレジスタに設定された変換範囲を、前記第２のレジスタに設定された前記第２のアドレスに変換する第２の工程と、
変換後の前記第２のアドレスを用いた複数の前記入出力ポートの一つへの入出力を実行する第３の工程と、
を実行することを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月26日(2004.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素と、前記各画素に階調電圧を印加する複数の信号線と、前記各信号線に前記階調電圧を出力する駆動手段とを有する液晶表示装置の駆動方法であって、
垂直帰線期間内を正規の水平走査時間で除算して小数点以下を切り上げた値をＭ、Ｎを１以上の整数とするとき、前記垂直帰線期間内に、前記駆動手段から前記各信号線に対して、２回以上、（Ｍ−Ｎ）回以下の回数で、階調電圧を出力することを特徴とする液晶表示装置の駆動方法。
【請求項２】
複数の画素と、前記各画素に階調電圧を印加する複数の信号線と、前記各信号線に前記階調電圧を出力する駆動手段とを有する液晶表示装置の駆動方法であって、
垂直帰線期間内に正規の水平走査時間で走査する際に、全ての期間が走査されるライン数と、少なくとも一部の期間が走査されるライン数とを加算した値をＭ、Ｎを１以上の整数とするとき、前記垂直帰線期間内に、前記駆動手段から前記各信号線に対して、２回以上、（Ｍ−Ｎ）回以下の回数で、階調電圧を出力することを特徴とする液晶表示装置の駆動方法。
【請求項３】
前記垂直帰線期間内に、前記駆動手段から前記各信号線に対して、Ｍ／２回以上、（Ｍ−Ｎ）回以下の回数で、階調電圧を出力することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の液晶表示装置の駆動方法。
【請求項４】
前記垂直帰線期間内に、正規の水平同期信号に同期して、前記駆動手段から前記各信号線に対して階調電圧を出力することを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の液晶表示装置の駆動方法。
【請求項５】
前記垂直帰線期間内に、内部で生成された水平基準信号に同期して、前記駆動手段から前記各信号線に対して階調電圧を出力することを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の液晶表示装置の駆動方法。
【請求項６】
前記垂直帰線期間内に前記駆動手段から前記各信号線に対して階調電圧を出力するときに、出力する階調電圧の極性を少なくとも１回反転させることを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の液晶表示装置の駆動方法。
【請求項７】
前記垂直帰線期間内に前記駆動手段から前記各信号線に対して出力する階調電圧は、白あるいは黒を表示する階調電圧であることを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の液晶表示装置の駆動方法。
【請求項８】
複数の画素と、前記各画素に階調電圧を印加する複数の信号線と、前記複数の画素に階調電圧を出力する駆動手段とを有する液晶表示装置であって、
前記駆動手段は、垂直帰線期間内を正規の水平走査時間で除算して小数点以下を切り上げた値をＭ、Ｎを１以上の整数とするとき、前記垂直帰線期間内に前記各信号線に対して、２回以上、（Ｍ−Ｎ）回以下の回数で、階調電圧を出力することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項９】
複数の画素と、前記各画素に階調電圧を印加する複数の信号線と、前記各信号線に前記階調電圧を出力する駆動手段とを有する液晶表示装置であって、
前記駆動手段は、垂直帰線期間内に正規の水平走査時間で走査する際に、全ての期間が走査されるライン数と、少なくとも一部の期間が走査されるライン数とを加算した値をＭ、Ｎを１以上の整数とするとき、前記垂直帰線期間内に前記各信号線に対して、２回以上、（Ｍ−Ｎ）回以下の回数で、階調電圧を出力することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１０】
前記駆動手段は、前記垂直帰線期間内に前記各信号線に対して、Ｍ／２回以上、（Ｍ−Ｎ）回以下の回数で、階調電圧を出力することを特徴とする請求項８または請求項９に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記駆動手段は、前記垂直帰線期間内に前記駆動手段から前記各信号線に対して階調電圧を出力するときに、出力する階調電圧の極性を少なくとも１回反転させることを特徴とする請求項８ないし請求項１０のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記駆動手段は、前記垂直帰線期間内に前記各信号線に対して、白あるいは黒を表示する階調電圧を出力することを特徴とする請求項８ないし請求項１１のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
複数の画素と、前記各画素に階調電圧を印加する複数の信号線と、前記複数の画素に階調電圧を出力する駆動手段と、前記駆動手段を制御する表示制御手段とを備える液晶表示装置であって、
前記表示制御手段は、外部から入力される水平同期信号に基づき、垂直帰線期間を検出し、前記垂直帰線期間中に、１番目からＭ番目までの帰線期間中水平基準信号を生成する第１の手段と、
Ｎを１以上の整数で、（Ｍ−Ｎ）が２以上となる整数とするとき、前記第１の手段で生成される帰線期間中水平基準信号の中で、（Ｍ−Ｎ）番目以降の帰線期間中水平基準信号をマスクして水平基準信号を生成する第２の手段と、
前記第２の手段から出力される水平基準信号に基づき、前記垂直帰線期間内に、前記駆動手段を駆動する駆動信号を生成する第３の手段とを有し、
前記駆動手段は、前記駆動信号に基づき、前記垂直帰線期間内に前記各信号線に対して、２回以上、（Ｍ−Ｎ）回以下の回数で、階調電圧を出力することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１４】
複数の画素と、前記各画素に階調電圧を印加する複数の信号線と、前記複数の画素に階調電圧を出力する駆動手段と、前記駆動手段を制御する表示制御手段とを備える液晶表示装置であって、
前記表示制御手段は、外部から入力されるディスプレイタイミング信号に基づき、垂直帰線期間を検出し、前記垂直帰線期間中に、１番目からＭ番目までの帰線期間中水平基準信号を生成する第１の手段と、
Ｎを１以上の整数で、（Ｍ−Ｎ）が２以上となる整数とするとき、前記第１の手段で生成される帰線期間中水平基準信号の中で、（Ｍ−Ｎ）番目以降の帰線期間中水平基準信号をマスクして水平基準信号を生成する第２の手段と、
前記第２の手段から出力される水平基準信号に基づき、前記垂直帰線期間内に、前記駆動手段を駆動する駆動信号を生成する第３の手段とを有し、
前記駆動手段は、前記駆動信号に基づき、前記垂直帰線期間内に前記各信号線に対して、２回以上、（Ｍ−Ｎ）回以下の回数で、階調電圧を出力することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１５】
前記垂直帰線期間内に前記第２の手段から出力される水平基準信号数が、Ｍ／２以上であることを特徴とする請求項１３または請求項１４に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記表示制御手段は、外部から入力されるディスプレイタイミング信号に基づき、表示期間中の水平基準信号を生成する第４の手段を有することを特徴とする請求項１３ないし請求項１５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月28日(2005.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶表示パネルと、前記液晶表示パネルに設置されて当該液晶表示パネルに形成された電子潜像を可視化する照明光源を備えた液晶表示装置であって、
前記照明光源は、少なくとも外面の各端部電極領域のそれぞれに外部電極を備えて前記端部電極領域の間に出光領域を有する筒状細管の前記出光領域の内壁にのみ形成された蛍光体膜を有すると共に、前記筒状細管の内部に水銀を封入した外部電極蛍光ランプを備えたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記筒状細管の前記端部電極領域の内壁に二次電子放出係数が高い耐スパッタ性膜を有することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記耐スパッタ性膜が酸化マグネシウムであることを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記筒状細管に不活性ガスを封入したことを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記液晶表示パネルに設置する照明光源が、前記液晶表示パネルの直下に前記外部電極蛍光ランプを複数配列した直下型光源であることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記液晶表示パネルに設置する照明光源が、導光板の側縁に沿って前記外部電極蛍光ランプを設置したサイドエッジ型光源であることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の液晶表示装置。
【請求項７】
液晶表示パネルと、照明光源を備えた液晶表示装置であって、
前記照明光源は、筒状細管の外面の各端部に外部電極を有した外部電極蛍光ランプを備えて構成されており、
該外部電極蛍光ランプは、前記筒状細管の内面の各外部電極間に、外部電極と重畳しないように蛍光体膜が配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
前記外部電極蛍光ランプの筒状細管の内部に、水銀が封入されていることを特徴とする請求項7に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記外部電極蛍光ランプの筒状細管の内面に、前記外部電極と重畳する位置に耐スパッタ性膜を有することを特徴とする請求項8に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記耐スパッタ性膜は、酸化マグネシウムであることを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記外部電極蛍光ランプの筒状細管に、不活性ガスが封入されていることを特徴とする請求項7〜10の何れかに記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記照明光源は、前記液晶表示パネルの直下に前記外部電極蛍光ランプを複数配列した直下型光源であることを特徴とする請求項7〜11の何れかに記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記液晶表示パネルに設置する照明光源が、導光板の側縁に沿って前記外部電極蛍光ランプを設置したサイドエッジ型光源であることを特徴とする請求項7〜11の何れかに記載の液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月9日(2005.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の章からなる階層構造を有する文書データを編集処理する文書処理装置であって、
前記文書を複数の区分に分けるべく、各区分の先頭章と末尾章を指定する区分指定手段と、
前記区分指定手段により指定された区分ごとに、ひとつの区分の書式が他の区分の書式とは独立したページ番号の書式を指定する書式指定手段と、
前記区分指定手段により指定された各区分の文書データに対して、前記書式指定手段により指定された書式の通し番号を付与した出力データを生成するデータ生成手段とを備え、
前記データ生成手段は、前記区分毎に、異なる一連の通し番号が付与された出力データを生成可能であることを特徴とする文書処理装置。
【請求項２】
前記区分指定手段は、区分として最大３区分を指定でき、前記書式指定手段は、各区分ごとにページ番号の書体をさらに指定できることを特徴とする請求項１に記載の文書処理装置。
【請求項３】
前記書式指定手段は、さらに、原稿ページ及び印刷ページのそれぞれに対するページ番号の付加の指定を、前記階層構造の最上位階層の属性において設定でき、さらに、該最上位階層より下の下位階層の属性において、ページ番号の付加の指定について直上の階層における設定に従うか否かを設定できることを特徴とする請求項１に記載の文書処理装置。
【請求項４】
前記書式指定手段は、前記下位階層の属性において、ページ番号の付加の指定について直上の階層における設定に従わない旨の設定がされた場合には、さらに、その階層におけるまとまりを単位として、各ページに対してページ番号の付加を指定できることを特徴とする請求項３に記載の文書処理装置。
【請求項５】
前記階層は、原稿ページと、原稿ページをまとめてなる章と、章をまとめてなる文書データ全体とを順に上位階層とする構造であり、前記文書を区分する単位は章であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の文書処理装置。
【請求項６】
アプリケーションで作成されたデータを、前記文書データの形式に変換する変換手段をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の文書処理装置。
【請求項７】
前記画像形成手段により形成された各印刷ページを出力する出力手段をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の文書処理装置。
【請求項８】
複数の章からなる階層構造を有する文書データを編集処理する文書処理方法であって、
前記文書を複数の区分に分けるべく、各区分の先頭章と末尾章を指定する区分指定工程と、
前記区分指定工程により指定された区分ごとに、ひとつの区分の書式が他の区分の書式とは独立したページ番号の書式を指定する書式指定工程と、
前記区分指定工程により指定された各区分の文書データに対して、前記書式指定工程により指定された書式の通し番号を付与した出力データを生成するデータ生成工程とを備え、
前記データ生成工程は、前記区分毎に、異なる一連の通し番号が付与された出力データを生成可能であることを特徴とする文書処理方法。
【請求項９】
前記書式指定工程は、区分として最大３区分を指定でき、前記書式指定工程は、各区分ごとにページ番号の書体をさらに指定できることを特徴とする請求項８に記載の文書処理方法。
【請求項１０】
前記書式指定工程は、さらに、原稿ページ及び印刷ページのそれぞれに対するページ番号の付加の指定を、前記階層構造の最上位階層の属性において設定でき、さらに、該最上位階層より下の下位階層の属性において、ページ番号の付加の指定について直上の階層における設定に従うか否かを設定できることを特徴とする請求項８に記載の文書処理方法。
【請求項１１】
前記書式指定工程は、前記下位階層の属性において、ページ番号の付加の指定について直上の階層における設定に従わない旨の設定がされた場合には、さらに、その階層におけるまとまりを単位として、各ページに対してページ番号の付加を指定できることを特徴とする請求項１０に記載の文書処理方法。
【請求項１２】
前記階層は、原稿ページと、原稿ページをまとめてなる章と、章をまとめてなる文書データ全体とを順に上位階層とする構造であり、前記文書を区分する単位は章であることを特徴とする請求項８乃至１１のいずれか１項に記載の文書処理方法。
【請求項１３】
アプリケーションで作成されたデータを、前記文書データの形式に変換する変換工程をさらに備えることを特徴とする請求項８に記載の文書処理方法。
【請求項１４】
前記画像形成工程により形成された各印刷ページを出力する出力工程をさらに備えることを特徴とする請求項８に記載の文書処理方法。
【請求項１５】
複数の章からなる階層構造を有する文書データを編集処理するためのコンピュータプログラムであって、
前記文書を複数の区分に分けるべく、各区分の先頭章と末尾章を指定する区分指定工程と、
前記区分指定工程により指定された区分ごとに、ひとつの区分の書式が他の区分の書式とは独立したページ番号の書式を指定する書式指定工程と、
前記区分指定工程により指定された各区分の文書データに対して、前記書式指定工程により指定された書式の通し番号を付与した出力データを生成するデータ生成工程とをコンピュータにより実行させ、
前記データ生成工程は、前記区分毎に、異なる一連の通し番号が付与された出力データを生成可能であることを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項１６】
請求項１５に記載のコンピュータプログラムを記録したことを特徴とするコンピュータ可読記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
複数の章からなる階層構造を有する文書データを編集処理する文書処理装置であって、前記文書を複数の区分に分けるべく、各区分の先頭章と末尾章を指定する区分指定手段と、前記区分指定手段により指定された区分ごとに、ひとつの区分の書式が他の区分の書式とは独立したページ番号の書式を指定する書式指定手段と、前記区分指定手段により指定された各区分の文書データに対して、前記書式指定手段により指定された書式の通し番号を付与した出力データを生成するデータ生成手段とを備え、前記データ生成手段は、前記区分毎に、異なる一連の通し番号が付与された出力データを生成可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月12日(2004.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ネットワーク装置をそれ以外のネットワーク装置に結合するための１組のポートと、
前記ネットワークの性能に関連する個々のイベントの種類のインスタンスを検出して数えるカウンタであって、該カウンタの少なくともいくつかが、該カウンタで受信されたデータを検査するために前記ポートのそれぞれに結合されることからなる、カウンタと、
前記カウンタに結合された、プログラムを実行するための実行手段と、
前記実行手段に結合されたコンピュータ読み取り可能媒体と、
前記コンピュータ読み取り可能媒体内に具現化された監視プログラムであって、該監視プログラムが実行されると、
前記カウンタからカウント値を検索し、
前記カウント値の関数として、ネットワークの性能に関連するパラメータの値を計算し、
前記値を閾値と比較して、通知を生成すべきか否かを決定し、
比較の結果、通知を生成すべきと決定した場合は、前記ネットワーク監視プログラムに関連するネットワークロケーションを指定する通知を生成して、前記ネットワーク上に送信する
ことからなる、監視プログラムと、
前記ネットワークロケーションがアドレス指定された場合に、前記通知に関連する問題を緩和するためにとるべきアクションを指定するためのサーバアプリケーション
を含むネットワーク装置。
【請求項２】
前記ネットワークのアドレスが、ユニフォーム・リソース・ロケータの形式である、請求項１のネットワーク装置。
【請求項３】
前記ネットワークのアドレスが、ワールド・ワイド・ウェブアドレスの形式である、請求項２のネットワーク装置。
【請求項４】
前記サーバアプリケーションがホームページを有しており、前記ネットワークのアドレスが該ホームページのサブページを指示する、請求項１乃至３のいずれかのネットワーク装置。
【請求項５】
前記サーバアプリケーションが、他のネットワーク装置から前記ネットワークのアドレスを受信すると前記サブページを生成することからなる、請求項４のネットワーク装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月14日(2005.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】フーリエ変換方法およびプログラム記録媒体
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のプロセッサを有する計算機で実行するためのフーリエ変換方法であって、
各プロセッサにより、３次元空間の第１、第２、第３の座標軸の座標にそれぞれ関する第１、第２、第３の変換処理を順次かつ他のプロセッサと並行して実行し、
各プロセッサが上記第１、第２の変換処理のいずれか一方を実行した後に、その一方の変換処理の結果それぞれのプロセッサで得られた複数の結果データを上記複数のプロセッサの間で交換するステップを有し、
ここで、一群の順序づけられた変換対象データが上記３次元空間に直方体の形に並べられ、
上記第１から第３の変換処理は、上記一群の変換対象データに対する一群の順序づけられた３次元空間の座標を有する複数のフーリエ変換係数データを生成するように定められ、
上記複数の変換対象データが構成する上記直方体を分割する上記３次元空間の上記第１の座標軸に垂直な複数の面の各々に含まれる複数の変換対象データが同一のプロセッサに割り当てられ、
上記交換ステップは、上記一方の変換処理の結果得られた上記複数の結果データが構成する３次元空間の直方体を、その３次元空間の第１の座標軸に垂直な複数の面で分割し直して、各面に属する複数の結果データを同一のプロセッサに割り当てるように、上記一方の変換処理の結果得られた上記複数の結果データを上記複数のプロセッサ間で交換するステップを有することを特徴とするフーリエ変換方法。
【請求項２】
上記一群の順序づけられた変換対象データを上記３次元空間に直方体の形に並べられる順序は、第３の座標軸、第２の座標軸、第１の座標軸の順であり、
上記第１から第３の変換処理は、上記複数のフーリエ変換係数データが３次元空間に第１、第２、第３の座標軸の順序で並べられるように定められている請求項１記載のフーリエ変換方法。
【請求項３】
各プロセッサがパイプライン演算器を含み、その演算器での演算の対象とするループ長がＬのときのその各プロセッサの演算性能を求めるための性能データを上記複数のプロセッサに共通に記憶し、
その性能データを用いて、上記直方体の上記第１、第２、第３の座標軸方向の長さを決定し、
その決定された上記第１、第２、第３の座標軸方向の長さを有する直方体に、上記順序づけられた複数の変換対象データを並べるステップをさらに有する請求項１記載のフーリエ変換方法。
【請求項４】
計算機により読みとり可能なプログラム記録媒体であって、複数のプロセッサを有する計算機でフーリエ変換を実行するためのプログラムを記憶し、
そのプログラムは、
各プロセッサにより、３次元空間の第１、第２、第３の座標軸の座標にそれぞれ関する第１、第２、第３の変換処理を順次かつ他のプロセッサと並行して実行し、
各プロセッサが上記第１、第２の変換処理のいずれか一方を実行した後に、その一方の変換処理の結果それぞれのプロセッサで得られた複数の結果データを上記複数のプロセッサの間で交換するステップを実行するようにプログラムされ、
ここで、一群の順序づけられた変換対象データが上記３次元空間に直方体の形に並べられ、
上記第１から第３の変換処理は、上記一群の変換対象データに対する一群の順序づけられた３次元空間の座標を有する複数のフーリエ変換係数データを生成するように定められ、
上記複数の変換対象データが構成する上記直方体を分割する上記３次元空間の上記第１の座標軸に垂直な複数の面の各々に含まれる複数の変換対象データが同一のプロセッサに割り当てられ、
上記交換ステップは、上記一方の変換処理の結果得られた上記複数の結果データが構成する３次元空間の直方体を、その３次元空間の第１の座標軸に垂直な複数の面で分割し直して、各面に属する複数の結果データを同一のプロセッサに割り当てるように、上記一方の変換処理の結果得られた上記複数の結果データを上記複数のプロセッサ間で交換するステップを有することを特徴とするプログラム記録媒体。
【請求項５】
上記一群の順序づけられた変換対象データが上記３次元空間に直方体の形に並べられる順序は、第３の座標軸、第２の座標軸、第１の座標軸の順であり、
上記第１から第３の変換処理は、上記複数のフーリエ変換係数データが、３次元空間に、第１、第２、第３の座標軸の順序で並べられるように定められ請求項４記載のプログラム記録媒体。
【請求項６】
各プロセッサがパイプライン演算器を含み、その演算器での演算の対象とするループ長がＬのときのその各プロセッサの演算性能を求めるための性能データを上記複数のプロセッサに共通に記憶し、
その性能データを用いて、上記直方体の上記第１、第２、第３の座標軸方向の長さを決定し、
その決定された上記第１、第２、第３の座標軸方向の長さを有する直方体に、上記順序づけられた複数の変換対象データを並べるステップをさらに有する請求項４記載のプログラム記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月10日(2005.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の自治体情報システム間をネットワークで接続した情報システムに用いる個人情報更新装置であって、
カードから個人の業務に関する管理元自治体の情報を入力する手段と、業務に関する申請種類と申請に関する自治体の情報を入力する手段と、業務に関する管理元自治体の情報と申請に関する自治体の情報とを比較して該カードに記憶してある管理元自治体の情報を更新するか否かを判断する手段とを備えたことを特徴とする個人情報更新装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月12日(2004.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子源と、該荷電粒子源から発生する荷電粒子線を収束するための対物レンズを内在する荷電粒子線鏡体を備えた荷電粒子線装置において、
前記荷電粒子線鏡体の側部から挿入され、前記荷電粒子線に照射される試料を支持する試料ホールダと、
該挿入される試料ホールダの挿入開口を有すると共に、前記試料ホールダを前記荷電粒子線に対して傾斜する傾斜機構を有する試料ホールダ支持筒を備え、
前記試料ホールダの挿入開口は前記試料ホールダ支持筒の傾斜中心に対し、前記荷電粒子線の照射方向に偏心して設けられることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項２】
荷電粒子源と、該荷電粒子源から発生する荷電粒子線を収束するための対物レンズを内在する荷電粒子線鏡体を備えた荷電粒子線装置において、
前記荷電粒子線鏡体の側部から挿入され、前記荷電粒子線が照射される試料を支持する試料ホールダと、前記試料ホールダを前記荷電粒子線に対して傾斜する手段を備え、
前記試料ホールダ傾斜手段は、前記試料ホールダに支持される試料の上端を傾斜中心とするように構成されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項３】
請求項１または２において、前記試料ホールダは前記対物レンズの上磁極と下磁極の間に配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項４】
請求項１または２において、
前記試料ホールダは前記試料を保持するための凹部を備えてなることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記凹部は半導体ウェハと同じ厚さの試料を挿入可能に形成されていることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項６】
請求項１乃至４において、
前記荷電粒子線鏡体或いは試料ホールダ支持筒は、前記試料ホールダを前記荷電粒子線鏡体に対し、前記荷電粒子線の光軸方向，前記荷電粒子線の垂直方向の何れか、または両方に移動するための移動機構を備えてなることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項７】
請求項６において、
前記傾斜機構の傾斜角度を設定する手段と、当該設定手段で設定された傾斜角度に基づいて前記移動機構の移動範囲を決定する手段を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項８】
請求項６または７において、
前記試料ホールダに搭載する試料の高さ、或いは前記試料ホールダの凹部から突出する試料の高さを設定する手段と、当該設定手段で設定された前記高さに基づいて前記移動機構の移動範囲を決定する手段を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月8日(2005.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
《第６実施例》
図８は、本発明の第６実施例の電圧駆動型サイリスタのセグメントの側断面図である。本実施例のサイリスタは、第１実施例において用いたｎ型ＳｉＣ基板の代わりにｐ型ＳｉＣ基板を用いて構成する。サイリスタのアノード領域１３として機能する、高不純物濃度ｐ型ＳｉＣ基板を用意し、その一方の表面に１０１４から１０１６ａｔｍ／ｃｍ３の低不純物濃度のｎ型ドリフト層２を気相成長法等により形成する。アノード領域１３にはアノード電極２４が設けられている。ｐ型ゲート領域１５及び埋め込みゲート領域９をアルミニウム等のイオン打ち込みなどによって形成している。ｐ型ゲート領域１５の一部分に高不純物濃度のｎ型カソード領域１４を形成し、その上にカソード電極２５を設けている。その他の構成は第１実施例の電圧駆動型バイポーラトランジスタと同じである。ゲートＧ及びカソードＫを０Ｖとし、アノードＡに正の電圧を印加すると、ｐ型埋め込みゲート領域９とそれに接するｎ型チャネル領域５との接合部からビルトイン電圧による空乏層が広がり、チャネル領域５をピンチオフにする。また、ｐ型埋め込みゲート領域９及びｐ型ゲート領域１５とｎ型ドリフト層２とのそれぞれ接合部からアノードＡ側に空乏層が広がりこれらの接合部が電圧を分担するため、順方向電圧に対する耐電圧が高くなる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
【発明の効果】
以上各実施例の説明から明らかなように、本発明の電圧駆動型バイポーラ半導体装置は、バイポーラ半導体装置のベースの駆動を蓄積型の電界効果半導体装置で行う。すなわち、電流を制御する半導体素子をバイポーラトランジスタなどのバイポーラ半導体装置で構成し、これを駆動する半導体素子をＦＥＴで構成する。これにより、小さいゲート駆動電力で、大電流を制御できる低いオン抵抗を有する電圧駆動型バイポーラトランジスタが実現できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
前記電界効果半導体装置に埋め込みゲート領域を設けることにより、バイポーラ半導体装置のベース電流を増加させることができ、低いオン電圧で、大電流を通電できる。電圧遮断時に、ベース領域の電位が上昇しないため、高耐圧を実現できる。
エミッタ領域を複数の領域に分割し、ベース領域をエミッタ電極に接触させることにより、ゲート電圧がビルトイン電圧以下のときでも半導体装置をオンさせることができ、更に低いオン抵抗の電圧駆動型バイポーラ半導体装置を実現できる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月16日(2005.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空室内に基板を載置する電極と、前記電極に対向し真空室の一面に配置されたハニカム状の誘電体と、前記誘電体上に配置された高周波誘導結合用コイルと、前記コイルに高周波電力を印加する高周波電源とを備えたプラズマ処理装置であって、前記誘電体は板状部と１以上の梁部で一体的に構成され、前記板状部の外周が梁部で囲まれた構成であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
真空室内にガスを導入しながら排気することで、真空室内を所定の圧力に保ちながら、基板を載置する電極に対向して配置されたハニカム状の誘電体上の高周波誘導結合用コイルに高周波電力を印加することでプラズマを発生させるプラズマ処理方法であって、前記誘電体は板状部と１以上の梁部で一体的に構成されるものであり、かつ、前記板状部の外周は梁部で囲まれる構成であることを特徴とするプラズマ処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明のプラズマ処理装置は、真空室内に基板を載置する電極と、前記電極に対向し真空室の一面に配置されたハニカム状の誘電体と、前記誘電体上に配置された高周波誘導結合用コイルと、前記コイルに高周波電力を印加する高周波電源とを備えたプラズマ処理装置であって、前記誘電体は板状部と１以上の梁部で一体的に構成され、前記板状部の外周が梁部で囲まれた構成であるものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本発明のプラズマ処理方法は、真空室内にガスを導入しながら排気することで、真空室内を所定の圧力に保ちながら、基板を載置する電極に対向して配置されたハニカム状の誘電体上の高周波誘導結合用コイルに高周波電力を印加することでプラズマを発生させるプラズマ処理方法であって、前記誘電体は板状部と１以上の梁部で一体的に構成されるものであり、かつ、前記板状部の外周は梁部で囲まれる構成であるものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、上記ハニカム状の誘電体は、板状部と１以上の梁部で一体的に構成され、前記板状部の外周が梁部で囲まれた構成であるので、板状部と真空室が接するようにして真空室を封止し、若しくは板状部の外周の梁部と真空室が接するようにして真空室を封止するのに好適である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月30日(2004.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、一般式Ｐｂ１−ｘ−ｙＭｇｘＹｙＸ（但し、モル比で、０＜ｘ＋ｙ＜１．０，０＜ｘ＜１．０，０≦ｙ≦０．１，Ｘ：Ｓ，ＳｅおよびＴｅの少なくとも一種又は二種以上の元素、Ｙ：Ｉａ族元素、Ｉｂ族元素、ＩＩＩａ族元素、ＩＩＩｂ族元素、Ｖａ族元素、Ｖｂ族元素、ＶＩＩａ族元素およびＶＩＩｂ族元素の少なくとも一種又は二種以上の元素）で、およびＰｂ１−ｘ−ｙ（Ｍｇ１−ａＺａ）ｘＹｙＸ（但し、０＜ｘ＋ｙ＜１．０，０＜ｘ＜１．０，０≦ｙ≦０．１，０＜ａ＜１．０，Ｘ：Ｓ，ＳｅおよびＴｅの少なくとも一種又は二種以上の元素，Ｚ：ＳｒおよびＢａの少なくとも一種又は二種の元素、Ｙ：Ｉａ族元素、Ｉｂ族元素、ＩＩＩａ族元素、ＩＩＩｂ族元素、Ｖａ族元素、Ｖｂ族元素、ＶＩＩａ族元素およびＶＩＩｂ族元素の少なくとも一種又は二種以上の元素）で表される固溶半導体からなり、波長０．４〜８μｍの光広領域で発振し、室温付近において動作可能な固溶半導体レーザ素子用材料およびこの材料を用いたレーザ素子に関するものである。その目的は、波長０．４〜８μｍの光広領域で発振し、しかも波長可変であって、室温付近において動作可能であるレーザ素子、特に格子整合型ダブルヘテロ接合構造あるいは格子整合型量子井戸構造のレーザ素子を作ることができる固溶半導体レーザ素子を提供することにある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
従来、波長０．４〜８μｍの光広領域で、しかも波長可変でレーザ光を発光する半導体レーザ素子の活性層および閉じ込め層としての材料は、ＩＩ−ＶＩ族化合物半導体であるＨｇ１−ａＣｄａＴｅ（ただし、０＜ａ≦１）、ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体であるＩｎＡｓあるいはＩｎＳｂおよび各種のＩＶ−ＶＩ族化合物半導体が知られている。
この中でも、動作温度の高温化および波長可変性の大きさなどの点からＩＶ−ＶＩ族化合物半導体が最も実用性の高い材料として注目されており、従来４元の鉛塩固溶半導体であるＰｂ１−ａＣｄａＳ１−ｂＳｅｂあるいはＰｂ１−ａＥｕａＴｅ１−ｂＳｅｂ等が知られている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
【発明の効果】
本発明材料は、波長０．４〜０．８μｍの光広領域で発振し、波長可変で、室温付近において動作可能であるレーザ素子、特に格子整合型ダブルヘテロ接合構造あるいは格子整合型量子井戸構造レーザ素子を容易に作ることができるので、高発光効率および高性能レーザ素子の材料として好適であり、さらにこのレーザ素子は光通信システム、超高分解能分光器ならびにその他一般の計測機器の光源等としても好適であり応用範囲が広い。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月8日(2005.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板上に圧電体層が設けられた圧電体装置において、前記基板と前記圧電体層の間に超微粒子層が形成されるとともに、前記超微粒子層が前記圧電体層の主成分と同一の主成分からなることを特徴とする圧電体装置。
【請求項２】  基板上に圧電体層が設けられた圧電体装置において、前記基板と前記圧電体層との間に超微粒子層が形成されるとともに、前記超微粒子層が前記圧電体層の結晶構造と同一の結晶構造を有することを特徴とする圧電体装置。
【請求項３】  前記超微粒子層と前記圧電体層の結晶構造が同一であることを特徴とする請求項１に記載の圧電体装置。
【請求項４】  前記超微粒子層と前記圧電体層がチタンとジルコニウムと鉛を有することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の圧電体装置。
【請求項５】  前記超微粒子層を形成する超微粒子の粒径が１μｍ以下であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の圧電体装置。
【請求項６】  基板上に超微粒子層を形成する第1の工程と、
前記超微粒子層上に圧電体層を形成する第２の工程と、
を備えることを特徴とする圧電体装置の製造方法。
【請求項７】  前記第１の工程において、超微粒子を含んだペースト状の溶液を前記基板上に塗布することによって前記超微粒子層を形成することを特徴とする請求項６記載の圧電体装置の製造方法。
【請求項８】  前記第1の工程において、超微粒子を前記基板上に噴射堆積することによって前記超微粒子層を形成することを特徴とする請求項６記載の圧電体装置の製造方法。
【請求項９】  前記第１の工程が、前記基板上に超微粒子を噴射堆積して第１の超微粒子層を形成する工程と、前記第１の超微粒子層に超微粒子を含んだペースト状の溶液を塗布する工程と、を有することを特徴とする請求項６に記載の圧電体装置の製造方法。
【請求項１０】  圧電体を形成する工程と、
基板上に超微粒子層を形成する工程と、
前記超微粒子層と前記圧電体を接合する工程と、を備えることを特徴とする圧電装置の製造方法。
【請求項１１】  前記超微粒子層と前記圧電体層を形成する工程において、
前記超微粒子層と前記圧電体層が水素結合を用いて接合されることを特徴とする請求項１０に記載の圧電体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月16日(2004.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、弗酸、硝酸およびヘキサフルオロ珪酸を含み、ヘキサフルオロ珪酸の濃度が１０重量％以上であることを特徴とするエッチング液。
【請求項２】
ヘキサフルオロ珪酸の濃度が１５〜４０重量％である請求項１に記載のエッチング液。
【請求項３】
弗酸の濃度が１〜２０重量％である請求項１又は２に記載のエッチング液。
【請求項４】
硝酸の濃度が２０〜６０重量％である請求項１〜３の何れかに記載のエッチング液。
【請求項５】
更に酢酸を含有する請求項１〜４の何れかに記載のエッチング液。
【請求項６】
酢酸の濃度が０．０１〜５重量％である請求項５に記載のエッチング液。
【請求項７】
シリコン基板のエッチング用である請求項１〜６の何れかに記載のエッチング液。
【請求項８】
弗酸、硝酸および珪素化合物を反応させてなる、弗酸、硝酸およびヘキサフルオロ珪酸を含むエッチング液の製造方法であって、弗酸として弗化水素ガスを用使用するか、または、硝酸として発煙硝酸を使用し、珪素化合物との反応を行なうを特徴とするエッチング液の製造方法。
【請求項９】
弗酸として弗化水素ガス使用し、硝酸として濃度７０重量％以上の硝酸水溶液を使用する請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
少なくとも、弗酸、硝酸およびヘキサフルオロ珪酸を含むエッチング液を使用してシリコン基板のエッチングを行い、次いで、エッチング後のエッチング液の組成を定量分析し、その結果に基づき、弗酸濃度が１〜２０重量％、硝酸濃度が２０〜６０重量％及びヘキサフルオロ珪酸濃度が１０重量％以上となる様に、エッチング後のエッチング液の濃度調節を行い、次いで、得られたエッチング液でシリコン基板のエッチングを行なうことを特徴とするエッチング方法。
【請求項１１】
エッチング後のエッチング液に、所定濃度より濃度が低い成分を添加することにより、濃度調節を行う請求項１０に記載のエッチング方法。
【請求項１２】
エッチング後のエッチング液に、弗化水素ガス及び／又は発煙硝酸を混合することにより、濃度調節を行う請求項１０に記載のエッチング方法。
【請求項１３】
エッチング後のエッチング液の一部を抜き取り、抜き取ったエッチング液からヘキサフルオロ珪酸を除去し、得られた液をエッチング後のエッチング液に添加することにより、濃度調節を行う請求項１０〜１２の何れかに記載のエッチング方法。
【請求項１４】
シリコン基板および／またはシリコン薄膜を構成要素とする半導体装置のシリコン基板および／またはシリコン薄膜を弗酸、硝酸およびヘキサフルオロ珪酸を含むエッチング液でエッチングする工程を含む半導体装置の製造方法において、ヘキサフルオロ珪酸の濃度が１０重量％以上であるエッチング液を使用することを特徴とする半導体装置の製造方法。