【手続補正書】
【提出日】平成17年7月6日(2005.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００重量部、主鎖が分岐構造でかつ含有する有機官能基が芳香族基からなるか、または芳香族基と炭化水素基（芳香族基を除く）とからなるシリコーン化合物（Ｂ）０．０１〜３重量部、ホスファゼン化合物（Ｃ）０．５〜２０重量部、有機金属塩（Ｄ）０．０１〜２重量部および繊維形成型の含フッ素ポリマー（Ｅ）０．０１〜２重量部からなることを特徴とする難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項２】
主鎖が分岐構造でかつ含有する有機官能基が芳香族基からなるか、または芳香族基と炭化水素基（芳香族基を除く）とからなるシリコーン化合物（Ｂ）が、式ＲＳｉＯ１．５の単位（Ｔ単位）および／または式ＳｉＯ２．０の単位（Ｑ単位）を全体のシロキサン単位（Ｒ３〜０ＳｉＯ２〜０．５）に対して２０モル％以上含有することを特徴とする請求項１に記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。（Ｒは有機官能基を表わす。）
【請求項３】
主鎖が分岐構造でかつ含有する有機官能基が芳香族基からなるか、または芳香族基と炭化水素基（芳香族基を除く）とからなるシリコーン化合物（Ｂ）が、含有される有機官能基のうち芳香族基が２０モル％以上であることを特徴とする請求項１に記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項４】
主鎖が分岐構造でかつ含有する有機官能基が芳香族基からなるか、または芳香族基と炭化水素基（芳香族基を除く）とからなるシリコーン化合物（Ｂ）が、含有される有機官能基のうち芳香族基がフェニル基であり、残りがメチル基であり、また末端基がメチル基、フェニル基、水酸基の内から選ばれた１種またはそれ以上の混合物であることを特徴とする請求項１に記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項５】
（Ｃ）成分のホスファゼン化合物が
一般式（１）
【化１】
2004067881.tif 000001
〔式中ｍは３〜２５の整数を示す。Ｐｈはフェニル基を示す。〕で表される環状フェノキシホスファゼン、
一般式（２）
【化２】
2004067881.tif 000002
〔式中Ｘ１は基−Ｎ＝Ｐ（ＯＰｈ）３又は基−Ｎ＝Ｐ（Ｏ）ＯＰｈを示し、Ｙ１は基−Ｐ（ＯＰｈ）４又は基−Ｐ（Ｏ）（ＯＰｈ）２を示す。ｎは３〜１００００の整数を示す。Ｐｈはフェニル基を示す。〕で表される鎖状フェノキシホスファゼン、
並びに前記環状フェノキシホスファゼン及び前記鎖状フェノキシホスファゼンからなる群より選ばれる少なくとも１種のホスファゼン化合物が、ｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基及び
一般式（３）
【化３】
2004067881.tif 000003
〔式中Ｚは−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＳＯ２−、−Ｓ−又は−Ｏ−を示す。ａは０又は１を示す。〕で表されるビスフェニレン基からなる群より選ばれる少なくとも１種の架橋基により架橋されてなる化合物であって、（ａ）該架橋基はホスファゼン化合物のフェニル基が脱離した２個の酸素原子間に介在し、（ｂ）フェニル基の含有割合が上記ホスファゼン化合物（１）及び／又は（２）中の全フェニル基の総数を基準に５０〜９９．９％であり、且つ（ｃ）分子内にフリーの水酸基を有していない架橋フェノキシホスファゼン化合物の群から選ばれた少なくとも１種であることを特徴とする請求項１に記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項６】
有機金属塩（Ｄ）が、芳香族スルホン酸の金属塩またはパーフルオロアルカンスルホン酸の金属塩であることを特徴とする請求項１に記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項７】
繊維形成型の含フッ素ポリマー（Ｅ）が、ポリテトラフルオロエチレンである請求項１に記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項８】
請求項１に記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物に、酸化チタン（Ｆ）５〜２５重量部およびポリオルガノ水素シロキサン（Ｇ）０．０５〜２重量部（（Ｆ）、（Ｇ）ともにそれぞれポリカーボネート樹脂（Ａ）１００重量部あたり）をさらに配合してなることを特徴とする難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項９】
酸化チタン（Ｆ）が、ポリエンのリン酸化物で表面処理された酸化チタンであることを特徴とする請求項８記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項１０】
酸化チタン（Ｆ）の表面処理される度合が、酸化チタンに対し少なくとも０．０４〜０．１重量％のリンを含むことを特徴とする請求項９に記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明にて使用されるシリコーン化合物（Ｂ）としては、下記一般式（４）に示されるような、主鎖が分岐構造でかつ有機官能基が芳香族基からなるか、または芳香族基と炭化水素基（芳香族基を除く）とからなるものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【化４】
一般式（４）
2004067881.tif 000004
〔式中Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、主鎖の有機官能基を表す。Ｘは、末端の官能基を表す。ｎ、ｍおよびｌはそれぞれユニットのモル数を表す。〕
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
一般式（１）
【化５】
2004067881.tif 000005
〔式中ｍは３〜２５の整数を示す。Ｐｈはフェニル基を示す。〕で表される環状フェノキシホスファゼン、
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
一般式（２）
【化６】
2004067881.tif 000006
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
一般式（３）
【化７】
2004067881.tif 000007
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
〔式中Ｚは−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＳＯ２−、−Ｓ−又は−Ｏ−を示す。ａは０又は１を示す。〕で表されるビスフェニレン基からなる群より選ばれる少なくとも１種の架橋基により架橋されてなる化合物であって、（ａ）該架橋基はホスファゼン化合物のフェニル基が脱離した２個の酸素原子間に介在し、（ｂ）フェニル基の含有割合が上記ホスファゼン化合物（１）及び／又は（２）中の全フェニル基の総数を基準に５０〜９９．９％であり、且つ（ｃ）分子内にフリーの水酸基を有していない架橋フェノキシホスファゼン化合物等を挙げることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
上記一般式（１）で表される環状フェノキシホスファゼン化合物及び一般式（２）で表される鎖状フェノキシホスファゼン化合物は、例えば、Ｈ．Ｒ．Ａｌｌｃｏｃｋ著、”Ｐｈｏｓｐｈｏｒｕｓ−Ｎｉｔｒｏｇｅｎ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ”，Ａｃａｄｅｍｉｃ  Ｐｒｅｓｓ，（１９７２）、Ｊ．Ｅ．Ｍａｒｋ、Ｈ．Ｒ．Ａｌｌｃｏｃｋ、Ｒ．Ｗｅｓｔ著、”Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ”，Ｐｒｅｎｔｉｃｅ−Ｈａｌｌ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ，Ｉｎｃ．（１９９２）等に記載されている方法で合成することができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
その合成例として、例えばクロルベンゼン又はテトラクロルエタン等を溶媒とし、塩化アンモニウムと五塩化リン、又は塩化アンモニウムと三塩化リンと塩素とを、１２０〜１３０℃程度で反応して得た一般式（１）及び（２）のＯＰｈが塩素原子（Ｃｌ）で表され、且つ、ｍ及びｎが３から２５の整数で表される環状及び鎖状のジクロルホスファゼンオリゴマー混合物にフェノールを置換し、製造することができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
また、ヘキサクロルシクロトリホスファゼンを２２０〜２５０℃に加熱し、開環重合して得られる一般式（２）のｎが３から１０，０００の整数で表される鎖状のジクロルホスファゼンにフェノールを置換した鎖状フェノキシホスファゼン化合物を挙げることができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
架橋フェノキシホスファゼン化合物は、前記一般式（１）及び／又は（２）で表される環状及び／又は鎖状ホスファゼン化合物中のフェニル基の一部が、分子内に１又は２個以上のベンゼン環を有し且つ２個のヒドロキシ基を有する芳香族ジヒドロキシ化合物で置き換え、すなわち、ｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基及び前記一般式（３）で表される（架橋）基で、架橋することで製造することができる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
架橋フェノキシホスファゼン化合物中のフェニル基の含有量は、上記ホスファゼン化合物（１）及び又は（２）中の全フェニル基の総数を基準に５０〜９９．９％であり、好ましくは７０〜９０％である。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
斯くして本発明の（Ｃ）成分として使用されるホスファゼン化合物が、すなわち、一般式（１）で表される環状ホスファゼン化合物、一般式（２）で表される鎖状ホスファゼン化合物、並びに、前記一般式（１）及び／又は一般式（２）で表される環状及び鎖状ホスファゼン化合物中のフェニル基の一部がｏ−フェニル基、ｍ−フェニル基、ｐ−フェニル基及び前記一般式（３）で表される架橋基で置き換えられた架橋フェノキシホスファゼン化合物が製造される。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
その他の有効なポリエンとしては、パラメンタンのジホスホン酸もしくはジホスホン酸エステル類が挙げられる。その構造としては、
一般式（５）
【化８】
2004067881.tif 000008
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
一般式（６）
【化９】
2004067881.tif 000009
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
一般式（５）および（６）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ水素原子またはＣ１〜Ｃ１０のアルキル基をあらわす。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
本発明にて使用されるポリオルガノ水素シロキサン（Ｇ）としては、メチルハイドロジェンポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシクロシロキサン等が挙げられ、とりわけ下記一般式（７）〜（９）の構成単位から選択された化合物が好ましい。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
一般式（７）
【化１０】
2004067881.tif 000010
（式中、Ｒは脂肪族不飽和を含まない一価の炭化水素基、
ａは１．００〜２．１０、
ｂは０．１〜１．０、
（ａ＋ｂ）は２．００〜２．６７である。）
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
一般式（８）
【化１１】
2004067881.tif 000011
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
一般式（９）
【化１２】
2004067881.tif 000012
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
実験に用いた材料はそれぞれ以下のとおりである。
１．ポリカーボネート樹脂（以下ＰＣと略記する）：
住友ダウ社製・カリバー２００−２０
分子量：１８，６００
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
４．リン酸エステル（１）：旭電化工業製・アデカスタブＦＰ５００（レゾルシノールダイキシレニルホスフェート：以下Ｐ１と略記する）
リン酸エステル（２）：旭電化工業製・アデカスタブＦＰ７００（ビスフェノールＡダイフェニルホスフェート：以下Ｐ２と略記する）
リン酸エステル（３）：旭電化工業製・アデカスタブＰＦＲ（レゾルシノールダイフェニルホスフェート：以下Ｐ３と略記する）
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
８．ポリオルガノ水素シロキサン：
信越化学工業社製ＫＦ９９（粘度：２０ｃＳｔ、２５℃）
（以下ＰＯＨＳと略記する）
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
配合方法としては、前述の各種原料を表１〜３に示す配合比率にて一括してタンブラーに投入し、１０分間乾式混合した後、二軸押出機（神戸製鋼製ＫＴＸ３７）を用いて、溶融温度２８０℃にて溶融混練し、難燃性ポリカーボネート樹脂組成物のペレットを得た。