【手続補正書】
【提出日】平成16年3月11日(2004.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上に精密な量の流体材料を堆積させるマイクロデポジションシステムにおいて、
間隔を置いて配置された複数のノズルを含むマイクロデポジションヘッド、
基板に対するマイクロデポジションヘッドの位置を制御する位置決め装置、及び、
位置決め装置と連絡しまた位置決め装置のための位置制御信号を発生する位置決めモジュール及びマイクロデポジションヘッドと連絡しまた電気装置の機能を画定する小液滴を形成するためにノズルを発射させるノズル発射コマンドを選択的に発生するノズル発射モジュールを含む制御装置、
を有することを特徴とするマイクロデポジションシステム。
【請求項２】
電気装置が、ポリマー発光ダイオード、光パネル、及び印刷回路基板の一つである請求項１に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項３】
流体材料は基板の上で乾燥し、乾燥した流体が、発光素子、電気導体、電気的図形、絶縁体、コンデンサ、及び抵抗の少なくとも一つを形成する請求項１に記載マイクロデポジションシステム。
【請求項４】
さらに、ヘッドに接続されたヘッドアセンブリーを有し、ヘッド位置決めモジュールが、ヘッドアセンブリーを回転させることによってヘッドのピッチを調整し、ノズル発射モジュールが、ピッチの変化を補償するためにオーバークロッキング信号を使用してノズル発射コマンドのタイミングを調整する請求項１に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項５】
制御装置が、機能の解像度を高めるオーバークロッキング信号を発生する請求項４に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項６】
さらに、
小液滴のデジタル画像を発生する第一のカメラ、及び、
小液滴の形状、大きさ、位置、及び速度の少なくとも一つを分析するために光学的文字認識機能を使用しまた少なくとも一つのノズル発射パラメーターを調整し、ノズル発射パラメーターが、タイミング、振幅、持続時間、立上りこう配、及び立下りこう配の少なくとも一つを含む小液滴分析モジュール、
を有する請求項１に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項７】
位置決め装置が、
ヘッドアセンブリーのピッチを調整する回転モーター、
制御装置と連絡しまたマイクロデポジションヘッドのピッチに基いて回転位置信号を発生する回転センサー、
マイクロデポジションヘッドアセンブリーを第一の軸に沿って移動させる第一の側方向モーター、
制御装置と連絡しまた第一の軸上のマイクロデポジションヘッドの位置に基いて第一の位置信号を発生する第一の位置センサー、
基板を第一の軸に対してほぼ垂直な第二の軸に沿って移動させる第二の側方向モーター、及び、
制御装置と連絡しまた第二の軸上の基板の位置に基いて第二の位置信号を発生する第二の位置センサー、
を含む請求項４に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項８】
さらに、
マイクロデポジションの間に基板と選択的に係合する基板位置決め装置であって、真空を使用して基板と係合する基板位置決め装置、及び
基板の温度を制御自在に調整する温度制御装置、
を有する請求項１に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項９】
さらに、堆積した流体材料を硬化させるために基板の上に紫外光を照射する紫外線源を有する請求項１に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項１０】
ヘッドアセンブリーが、第二の複数のノズルを有する第二のマイクロデポジションヘッドを含む請求項４に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項１１】
マイクロデポジションヘッドのノズルが行を形成し、均等に間隔を置いて配置される請求項１に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項１２】
さらに、
ヘッドアセンブリーの上に配置された第二のマイクロデポジションヘッド、
マイクロデポジションヘッドの位置を調整する第一のアクチュエータ、及び、
第二のマイクロデポジションヘッドの位置を調整する第二のアクチュエータ、
を有する請求項４に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項１３】
さらに、ノズルの各々のために少なくとも一つのノズル発射波形の調整が可能な波形発生装置を有する請求項１に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項１４】
波形発生装置が、ノズルの作動条件に基いて、ノズルの各々のために複数のノズル発射波形の一つを選択するセレクタを含む請求項１３に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項１５】
さらに、ヘッドアセンブリー及びレーザーヘッドアセンブリーの一つの上に据え付けられまた機能的解像度を高めるために使用されるレーザーを有する請求項４に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項１６】
基板の上に精密な量の流体材料をマイクロデポジションさせる方法において、
間隔を置いて配置された複数のノズルを含むマイクロデポジションヘッドを設けること、
基板に対するマイクロデポジションヘッドの位置を制御すること、及び、
ノズルの発射を行なって電気装置の機能を定義する小液滴を形成するためにノズル発射コマンドを発生すること、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１７】
電気装置が、ポリマー発光ダイオード、光パネル、及び印刷回路基板の一つである請求項１６に記載の方法
【請求項１８】
流体材料が基板の上で乾燥し、乾燥した流体が、発光素子、電気導体、電気的図形、絶縁体、コンデンサ、及び抵抗の少なくとも一つを形成する請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
さらに、
ヘッドをヘッドアセンブリーの上に据え付けること、
ヘッドアセンブリーを回転させることによってヘッドのピッチを調整すること、
機能の解像度を高めるためにオーバークロッキング信号を発生すること、及び、
ピッチの変化を補償するためにオーバークロッキング信号を用いてノズル発射コマンドのタイミングを調整すること、
を含む請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
さらに、
小液滴のデジタル画像を発生すること、
小液滴の形状、大きさ、位置の少なくとも一つを分析するために光学的文字認識機能を使用すること、及び、
小液滴分析に基いて少なくとも一つのノズル発射パラメーターを調整すること
を含み、
ノズル発射パラメーターが、タイミング、振幅、持続時間、立上りこう配、及び立下りこう配の少なくとも一つを含む請求項１６に記載の方法。
【請求項２１】
さらに、
ヘッドアセンブリーを回転させること、
マイクロデポジションヘッドの回転位置に基いて回転位置信号を発生すること、
マイクロデポジションヘッドアセンブリーを第一の軸に沿って移動させること、
第一の軸上のマイクロデポジションヘッドの位置に基いて第一の位置信号を発生すること、
基板を第一の軸に対してほぼ垂直な第二の軸に沿って移動させること、及び、
第二の軸上の基板の位置に基いて第二の位置信号を発生すること、
を含む請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
さらに、
真空圧を使用してマイクロデポジションの間に基板と係合すること、及び、
基板の温度を調整すること、
を含む請求項１６に記載の方法。
【請求項２３】
さらに、堆積した流体材料を硬化させるために基板の上に紫外光を照射することを含む請求項１６に記載の方法。
【請求項２４】
さらに、
ヘッドアセンブリーの上に第二のマイクロデポジションヘッドを設けること、
マイクロデポジションヘッドの位置を調整すること、及び、
第二のマイクロデポジションヘッドの位置を調整すること、
を含む請求項１９に記載の方法。
【請求項２５】
さらに、ノズルの各々のために少なくとも一つのノズル発射波形の調整を可能にすることを含む請求項１６に記載の方法。
【請求項２６】
さらに、ノズルの作動条件に基いて、ノズルの各々のために複数のノズル発射波形の一つを選択することを含む請求項１６に記載の方法。
【請求項２７】
さらに、機能的解像度を高めるためにレーザーを使用することを含む請求項１９に記載の方法。
【請求項２８】
基板の上に精密な量の流体材料を堆積させるためのマイクロデポジションシステムにおいて、
間隔を置いて配置された複数のノズルを含むマイクロデポジションヘッド、
基板に対するマイクロデポジションヘッドの位置を制御する位置決め装置、
位置決め装置と連絡しまた位置決め装置のための位置制御信号を発生する位置決めモジュール及びマイクロデポジションヘッドと連絡しまた電気装置の機能を画定する小液滴を形成するためにノズルを発射させるノズル発射コマンドを選択的に発生するノズル発射モジュールを含む制御装置、
小液滴のデジタル画像を発生する第一のカメラ、及び、
小液滴の形状、大きさ、位置、及び速度の少なくとも一つを分析するために光学的文字認識機能を使用しまた少なくとも一つのノズル発射パラメーターを調整する小液滴分析モジュール、
を有することを特徴とするマイクロデポジションシステム。
【請求項２９】
ノズル発射パラメーターが、タイミング、振幅、持続時間、立上りこう配、及び立下りこう配の少なくとも一つを含む請求項２８に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項３０】
マイクロデポジションシステムのよって製作される装置が、ポリマー発光ダイオード、光パネル、及び印刷回路基板の一つである請求項２８に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項３１】
小液滴は、発光素子、電気導体、電気的図形、絶縁体、コンデンサ、及び抵抗の少なくとも一つを形成する請求項２８に記載マイクロデポジションシステム。