【手続補正書】
【提出日】平成17年6月1日(2005.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
基板素材上に、配向方向がそれぞれ異なる第１配向領域および第２配向領域が形成された配向膜と、該配向膜上に形成される液晶層とを有すると共に、他の部材との貼り合わせ用のアライメントマークを有するパターン化位相差板において、
上記第１配向領域もしくは上記第２配向領域のいずれか一方の配向方向を有する配向膜がアライメントマークの形成領域に備えれており、かつ、他方の配向方向を有する配向膜がアライメントマークの周囲領域に備えられていることを特徴とするパターン化位相差板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【発明の名称】パターン化位相差板、液晶表示パネル、およびパターン化位相差板の製造方法
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の視点に対して異なる画像を表示する表示状態と全画面領域で一つの画像を表示する表示状態とを切替可能な液晶表示パネル、例えば２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネル等に用いられるアライメントマークを備えたパターン化位相差板およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルの製造工程等においては、液晶層を挟持するための２枚の基板をそれぞれ別々に作成した後、これらの基板を貼り合わせるといった工程がとられる。これらの基板を貼り合わせる工程においては、通常、両方の基板のそれぞれにアライメントマークを形成しておき、これらのアライメントマークを用いた位置合わせが行われる。
【０００３】
従来、上記アライメントマークは、配向膜の下層においてアライメントマーク形成用の専用膜によって設けられており、該専用膜を基板全面に成膜後、成膜された専用膜をパターニングするといった工程によって形成されている。このため、上記アライメントマークの形成に係る工程数の増加を招いていた。
【０００４】
このようなアライメントマークの形成に係る工程の増加を回避する技術として、特許文献１には、配線パターンを形成する際に用いられるレジストをアライメントマークとして利用することが開示されている。
【０００５】
すなわち、上記特許文献１に係る液晶表示装置では、配線となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜を現像によってパターニングする際のマスクとなるレジスト層において、上記マスク箇所以外にアライメントマークとなる箇所を同時に形成する。そして現像による配線パターン形成後、上記レジスト層のマスク箇所のみを除去し、アライメントマークはそのまま残して、以後の工程での位置合わせに用いる。
【０００６】
一方、近年では、基板上に配向膜および液晶層を形成した位相差板において、その異なる領域に異なる光学特性を持たせたパターン化位相差板を視差バリアとして用いた２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルが提案されている（例えば、特許文献２）。
【０００７】
このような２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルにおいては、表示画像を生成する液晶パネルに対して上記パターン化位相差板を位置合わせして貼り合わせる必要があり、該パターン化位相差板のアライメントマーク形成においても工程の増加を招かない方法が要求される。
【特許文献１】特開平１−９２７２１号公報（公開日平成１年４月１２日）
【特許文献２】特開平１０−１２３４６１号公報（公開日平成１０年５月１５日）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところが、上記特許文献１の構成では、上記アライメントマークは配線パターン形成に使用されるレジスト層にて形成されているため、該アライメントマークが液晶層の形成領域に配置される場合には、基板の貼り合わせ後においても液晶が注入されるセル内面に残る。このため、上記アライメントマークは、セル内に注入された液晶とじかに接する。
【０００９】
上記アライメントマークに利用されるレジストは、本来、耐溶剤性が低く、該アライメントマークを液晶とじかに接する箇所に形成すると、レジストが液晶溶液に溶解することで変形し、高精度な位置合わせが行えないといった問題が生じる。
【００１０】
上記特許文献１のアライメントマーク形成方法を液晶パネル用の基板に適用する場合は、該アライメントマークを液晶層以外の領域に形成することで上記問題は解消できる。しかしながら、特許文献２に示されるようなパターン化位相差板では、液晶層が基板全面に形成されるため、上記特許文献１のアライメントマーク形成方法は適用できない。
【００１１】
本発明は、上記の問題点を解決するためになされたもので、その目的は、液晶層と接する箇所においても、工程の増加を招来することなくアライメントマークを形成することができるパターン化位相差板の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明のパターン化位相差板は、上記の課題を解決するために、基板素材上に、配向方向がそれぞれ異なる第１配向領域および第２配向領域が形成された配向膜と、該配向膜上に形成される液晶層とを有すると共に、他の部材との貼り合わせ用のアライメントマークを有するパターン化位相差板において、上記第１配向領域もしくは上記第２配向領域のいずれか一方の配向方向を有する配向膜がアライメントマークの形成領域に備えれており、かつ、他方の配向方向を有する配向膜がアライメントマークの周囲領域に備えられていることを特徴としている。
【００１３】
本発明のパターン化位相差板の製造方法は、上記の課題を解決するために、基板素材上に、配向方向がそれぞれ異なる第１配向領域および第２配向領域が形成された配向膜と、該配向膜上に形成される液晶層とを有すると共に、他の部材との貼り合わせ用のアライメントマークを有するパターン化位相差板の製造方法において、基板素材上に形成された配向膜の全面に対して第１配向領域の配向方向を与えるラビングを行う第１ラビング工程と、配向膜上に上記第１配向領域と、アライメントマークの形成領域もしくはアライメントマークの周囲領域とをマスクするレジスト層を形成するマスク形成工程と、上記マスクの上から配向膜に対して第２配向領域の配向方向を与えるラビングを行う第２ラビング工程と、マスクとして形成されたレジスト層を除去するマスク除去工程と、配向膜上に液晶層を形成する液晶層形成工程とを含むことを特徴としている。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のパターン化位相差板は、以上のように、上記アライメントマークが、その形成領域と周囲領域とで異なる光学作用を有する領域として形成されている構成である。
【００１５】
上記の構成によれば、上記アライメントマークがその形成領域と周囲領域とで異なる光学作用を有する。具体的には、アライメントマークの形成領域と周囲領域とで配向膜の配向方向が異なっており、該アライメントマーク付近に偏光を照射するとその偏光がパターン化位相差板の液晶層を透過後、形成領域と周囲領域とで異なる偏光状態を有する（偏光軸が９０°異なる）。そして、パターン化位相差板のアライメントマーク付近を透過した光を、その透過軸の向きがアライメントマークの周囲領域を透過する光の偏光軸と平行となるように設定された偏光板を介して検出する。この時、アライメントマークの形成領域に照射された光のみが偏光板によって遮断されるため、該アライメントマークの検出が可能となる。
【００１６】
このため、上記パターン化位相差板におけるアライメントマークは、配向膜と液晶層との光学的性質を利用して検出されるものであるため、アライメントマークを形成するための層自体が存在しない。したがって、アライメントマークをレジストにて形成する場合のように、アライメントマークが液晶溶液に溶解するといった不具合は発生せず、パターン化位相差板において、工程の増加を招くことなくアライメントマークを形成することができるといった効果を奏する。
【００１７】
本発明のパターン化位相差板の製造方法は、以上のように、基板素材上に形成された配向膜の全面に対して第１配向領域の配向方向を与えるラビングを行う第１ラビング工程と、配向膜上に上記第１配向領域と、アライメントマークの形成領域もしくはアライメントマークの周囲領域とをマスクするレジスト層を形成するマスク形成工程と、上記マスクの上から配向膜に対して第２配向領域の配向方向を与えるラビングを行う第２ラビング工程と、マスクとして形成されたレジスト層を除去するマスク除去工程と、配向膜上に液晶層を形成する液晶層形成工程とを含む構成である。
【００１８】
上記の構成によれば、第１ラビング工程、マスク形成工程、第２ラビング工程、およびマスク除去工程によって、配向膜に配向方向がそれぞれ異なる複数の領域が形成される。すなわち、第１ラビング工程（第１配向領域の配向方向を与える）後、マスク形成工程によって所定領域をマスクし、該マスクの上から第２ラビング工程（第２配向領域の配向方向を与える）を行うことによって、マスクの形成されていない領域では第２配向領域の配向方向となり、マスクの形成されている領域では第１配向領域の配向方向が維持される。
【００１９】
そして、マスク形成工程では、第１配向領域以外に、アライメントマークの形成領域もしくはアライメントマークの周囲領域がマスクされる。このため、アライメントマークの形成領域と周囲領域とでは、配向膜における配向方向を異なるものとすることができ、さらにその上に液晶層形成工程によって液晶層を形成することにより、アライメントマークの形成に係る工程数の増加を招来することなく、上述のパターン化位相差板における光学特性を得ることができるといった効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明の実施の一形態について図１ないし図８に基づいて説明すれば、以下の通りである。尚、本実施の形態においては、２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルにおいて使用されるパターン化位相差板の製造方法として本発明を例示する。
【００２１】
先ず、本実施の形態に係るパターン化位相差板が適用される２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルの概略構成を図２を参照して説明する。
【００２２】
上記２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルは、図２に示すように、表示用液晶パネル１０、パターン化位相差板２０、スイッチング液晶パネル３０を貼り合わせた構成となっている。
【００２３】
表示用液晶パネル１０は、ＴＦＴ液晶表示パネルとして具備されており、第１の偏光板１１、対向基板１２、液晶層１３、アクティブマトリクス基板１４、および第２の偏光板１５が積層されてなり、アクティブマトリクス基板１４には、表示を行うべき画像に対応した画像データがＦＰＣ（Flexible Printed Circuits）等の配線５１を介して入力される。
【００２４】
すなわち、上記表示用液晶パネル１０は、上記２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルに対し、画像データに応じた表示画面を生成する機能を与えるために備えられている。尚、表示画面を生成する機能を有するものであれば、表示用液晶パネル１０における表示方式（ＴＮ方式やＳＴＮ方式）や駆動方式（アクティブマトリクス駆動やパッシブマトリクス駆動）は特に限定されるものではない。
【００２５】
パターン化位相差板２０は、視差バリアの一部として機能するものであり、図３（ａ）に示すように、透明基板２１上に配向膜２２を形成し、さらにその上に液晶層２３を積層してなる構成である。また、パターン化位相差板２０のアクティブエリアにおいては、図３（ｂ）に示すように、それぞれ、偏光状態の異なる第１の領域２０Ａ（図中、斜線部にて示す）と第２の領域２０Ｂ（図中、射影部にて示す）とが交互にストライプ状に形成されている。さらに、パターン化位相差板２０においては、後述する製造工程にて形成されるアライメントマーク２０Ｃが設けられている。
【００２６】
スイッチング液晶パネル３０は、駆動側基板３１、液晶層３２、対向基板３３、および第３の偏光板３４が積層されてなり、駆動側基板３１には液晶層３２のＯＮ時に駆動電圧を印加するための配線５２が接続されている。
【００２７】
スイッチング液晶パネル３０は、液晶層３２のＯＮ／ＯＦＦに応じて該スイッチング液晶パネル３０を透過する光の偏光状態を切り替えるために配置されている。尚、スイッチング液晶パネル３０は表示用液晶パネル１０のようにマトリクス駆動される必要は無く、駆動側基板３１および対向基板３３に備えられる駆動電極は該スイッチング液晶パネル３０のアクティブエリア全面に形成されればよい。
【００２８】
次に、上記構成の２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルの表示動作について説明する。
【００２９】
先ず、図２に示す２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルにおいて、各構成部材の光学軸の方向を図４にて例示する。尚、図４において示される光学軸は、液晶パネルおよび位相差板では配向膜における遅相軸の方向（すなわち、配向膜に対するラビング方向）、偏光板では透過軸の方向である。
【００３０】
図４の構成では、光源から出射された入射光は、最初に、スイッチング液晶パネル３０の第３の偏光板３４によって偏光される。また、スイッチング液晶パネル３０は、３Ｄ表示時はＯＦＦの状態で１／２波長板として作用する。
【００３１】
また、スイッチング液晶パネル３０を通過した光は、次にパターン化位相差板２０に入射される。パターン化位相差板２０の第１の領域２０Ａと第２の領域２０Ｂとでは、そのラビング方向、すなわち遅相軸の方向が異なるため、第１の領域２０Ａを通過した光と第２の領域２０Ｂを通過した光とでは、その偏光状態が異なる。図４の例では、第１の領域２０Ａを通過した光と第２の領域２０Ｂを通過した光との偏光軸が９０°異なっている。また、パターン化位相差板２０は液晶層２３の複屈折率異方性と膜厚とにより１／２波長板として作用するよう設定されている。
【００３２】
パターン化位相差板２０を通過した光は、表示用液晶パネル１０の第２の偏光板１５に入射される。３Ｄ表示時には、パターン化位相差板２０の第１の領域２０Ａを通過した光の偏光軸は第２の偏光板１５の透過軸と平行であり、第１の領域２０Ａを通過した光は偏光板１５を透過する。一方で、第２の領域２０Ｂを通過した光の偏光軸は第２の偏光板１５の透過軸と９０°の角度をなし、第２の領域２０Ｂを通過した光は偏光板１５を透過しない。
【００３３】
すなわち、図４の構成では、パターン化位相差板２０と第２の偏光板１５との関連した光学作用によって視差バリアの機能が達成され、パターン化位相差板２０における第１の領域２０Ａが透過領域、第２の領域２０Ｂが遮断領域となる。
【００３４】
第２の偏光板１５を通過した光は、表示用液晶パネル１０の液晶層１３において黒表示を行う画素と白表示を行う画素とで異なる光学変調を受け、白表示を行う画素によって光学変調を受けた光のみが第１の偏光板１１を透過することで画像表示が行われる。
【００３５】
この時、上記視差バリアの透過領域を通過することや特定の視野角が与えられた光が、表示用液晶パネル１０において右目用画像および左目用画像のそれぞれに対応する画素を通過することで右目用画像と左目用画像とが異なる視野角に分離され、３Ｄ表示が行われる。
【００３６】
また、２Ｄ表示が行われる場合には、スイッチング液晶パネル３０がＯＮされ、該スイッチング液晶パネル３０を通過する光に対して光学変調が与えられない。スイッチング液晶パネル３０を通過した光は、次にパターン化位相差板２０を通過することで、第１の領域２０Ａを通過した光と第２の領域２０Ｂを通過した光とで異なる偏光状態が与えられる。
【００３７】
しかしながら、２Ｄ表示の場合では、３Ｄ表示の場合とは異なり、スイッチング液晶パネル３０での光学変調作用が無いため、パターン化位相差板２０を通過した光の偏光軸は、第２の偏光板１５の透過軸に対して、左右対称の角度のずれが生じることとなる。このため、パターン化位相差板２０の第１の領域２０Ａを通過した光、第２の領域２０Ｂを通過した光ともに、第２の偏光板１５を同じ透過率で透過し、パターン化位相差板２０と第２の偏光板１５との関連した光学作用による視差バリアの機能が達成されず（特定の視野角が与えられない）、２Ｄ表示となる。
【００３８】
続いて、上記２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルの組立工程を、図５を参照して説明する。
【００３９】
本実施の形態に係る２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルは、それぞれ別々に製造された表示用液晶パネル１０、パターン化位相差板２０、およびスイッチング液晶パネル３０を貼り合わせることによって完成する。
【００４０】
上記２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルの組立工程では、図５に示すように、表示用液晶パネル１０にパターン化位相差板２０が接着剤にて貼り合わされる（Ｓ１）。
【００４１】
さらに、パターン化位相差板２０付の表示用液晶パネル１０に、接着剤によってスイッチング液晶パネル３０を貼り合わせることにより、２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルが完成する（Ｓ２〜Ｓ３）。
【００４２】
これらの貼り合わせ工程における位置合わせには、表示用液晶パネル１０、パターン化位相差板２０、およびスイッチング液晶パネル３０のそれぞれにおいて形成されているアライメントマークが使用される。このため、表示用液晶パネル１０、パターン化位相差板２０、およびスイッチング液晶パネル３０のそれぞれの製造工程においては、アライメントマーク形成のための工程を含む。
【００４３】
本発明は、特にパターン化位相差板２０の製造工程においてのアライメントマーク形成方法に特徴がある。ここで、パターン化位相差板２０の製造工程を、図６および図１を参照して説明する。
【００４４】
パターン化位相差板２０の製造工程においては、図６に示すように、先ず、基板（基板素材）２１となる素ガラスに対して洗浄を行い、洗浄された基板の片面にポリイミドを塗布し焼成することで配向膜２２を形成する（Ｓ１１〜Ｓ１３）。次に、配向膜２２に対して１回目のラビング処理（第１ラビング）を行う（Ｓ１４）。第１ラビングにおけるラビング方向は、第２の領域２０Ｂのラビング方向とする。上記Ｓ１１〜Ｓ１４の処理が終了した状態を図１（ａ）に示す。
【００４５】
第１ラビング後、洗浄された基板の配向膜２２上にレジストを塗布して仮焼きすることで、レジスト層５１が形成される（Ｓ１５〜Ｓ１６）。上記Ｓ１５〜Ｓ１６の処理が終了した状態を図１（ｂ）に示す。
【００４６】
レジスト層５１の形成後、露光、現像、乾燥の工程によって該レジスト層５１がパターニングされる（Ｓ１７〜Ｓ１８）。パターニングされたレジスト層５１は、パターン化位相差板２０の第２の領域２０Ｂとなる箇所をマスクするマスク部５１ａを形成する。また、パターン化位相差板２０の第１の領域２０Ａとアライメントマーク２０Ｃとなる箇所は、マスクで覆われないため、配向膜２２が露出する。上記Ｓ１７〜Ｓ１８の処理が終了した状態を図１（ｃ）に示す。
【００４７】
こうしてレジスト層５１がパターニングされた後の基板に対し、該レジスト層５１側から２回目のラビング処理（第２ラビング）が行われる（Ｓ１９）。この第２ラビングにおけるラビング方向は、第１の領域２０Ａのラビング方向とする。この時、配向膜２２がマスク部５１ａで覆われた第２の領域２０Ｂの領域では、第１ラビングによって形成された遅相軸の向きが維持されるが、マスク部５１ａで覆われずに露出した第１の領域２０Ａおよびアライメントマーク２０Ｃの領域では、第２ラビングのラビング方向に沿った遅相軸の向きとなる。上記Ｓ１９の処理が終了した状態を図１（ｄ）に示す。
【００４８】
第２ラビング後、洗浄された基板の配向膜２２上に残っているレジストに対して再度、露光、現像により、マスク部５１ａが除去され、その後、乾燥される（Ｓ２０〜Ｓ２２）。上記Ｓ２０〜Ｓ２２の処理が終了した状態を図１（ｅ）に示す。
【００４９】
マスク部５１ａが除去された後の基板に対しては、配向膜２２上にＵＶ硬化型液晶溶液がスピンコート法等によって塗布され、さらに該ＵＶ硬化型液晶溶液にＵＶ照射を行うことによって液晶分子が架橋され高分子化される（Ｓ２３〜Ｓ２４）。こうして、液晶層２３が形成される。上記Ｓ２４の処理が終了した状態を図１（ｆ）に示す。
【００５０】
上記Ｓ１１〜Ｓ２４の処理は、複数のパターン化位相差板２０を１枚の大型基板上に一括して形成するように実施される。このため、複数のパターン化位相差板２０が形成された基板を個々のパターン化位相差板２０に分断し、検査することで、パターン化位相差板２０が完成する（Ｓ２５〜Ｓ２７）。
【００５１】
以上のように、本実施の形態に係るパターン化位相差板２０の製造方法では、配向膜２２において配向方向が異なる２つの領域を形成するために、第１ラビング処理後にレジストにてマスクを形成し、該マスク上から第２ラビングを施している。また、アライメントマーク２０Ｃの形成領域はマスクされない。このため、上記パターン化位相差板２０では、アライメントマーク２０Ｃの領域では第１の領域２０Ａと同じ配向方向となり、アライメントマーク２０Ｃの周囲の領域では第２の領域２０Ｂと同じ配向方向となる。
【００５２】
そして、上記パターン化位相差板２０の配向膜２２上に液晶層２３が形成されることにより、アライメントマーク２０Ｃの領域を透過する光とアライメントマーク２０Ｃの周囲領域を透過する光とでは、その偏光状態が異なる。これらの光はその偏光状態は異なっても光量自体は同じであるため、通常の方法では上記アライメントマーク２０Ｃを検出することはできない。しかしながら、アライメントマーク検出装置において偏光板と組み合わせることによって検出可能となる。
【００５３】
ここで、アライメントマーク検出装置における上記アライメントマーク２０Ｃを検出方法について図７および図８を参照して説明する。尚、上記アライメントマーク検出装置は、パターン化位相差板２０と他の部材（例えば、表示用液晶パネル１０）との貼り合わせ装置における位置合わせ機構として使用される。
【００５４】
アライメントマーク検出装置においては、図７に示すように、光源からの出射光は光源側偏光板６１を介してパターン化位相差板２０のアライメントマーク２０Ｃに照射され、パターン化位相差板２０を透過した光は受光部側偏光板６２を介してから受光部にて検出される。図７では図示を省略されているが、パターン化位相差板２０と位置合わせされる他の部材のアライメントマークも光源と受光部との間に配置され、これらのアライメントマークが重なった状態が検出されることでパターン化位相差板２０と他の部材とが位置合わせされる。
【００５５】
ここで、図８に示すように、光源側偏光板６１を通過した光はその透過軸方向に平行な偏光としてパターン化位相差板２０に入射される。アライメントマーク２０Ｃの領域とアライメントマーク２０Ｃの周囲領域とでは、その遅相軸の方向が４５°ずれている。このため、アライメントマーク２０Ｃの領域を透過する光とアライメントマーク２０Ｃの周囲領域を透過する光とでは、その偏光軸が９０°ずれる。
【００５６】
そして、受光部側偏光板６２では、その透過軸の向きが、アライメントマーク２０Ｃの周囲領域を透過する光の偏光軸と平行となるように設定される。これにより、受光部によって受光される光では、アライメントマーク２０Ｃの領域に照射された光のみが遮断され、アライメントマーク２０Ｃの検出が可能となる。
【００５７】
以上のように、本実施の形態に係るパターン化位相差板２０では、アライメントマーク２０Ｃは、配向膜２２と液晶層２３との光学的性質を利用して検出されるものであるため、アライメントマークを形成するための層自体が存在しない。したがって、アライメントマークをレジストにて形成する場合のように、アライメントマークが液晶溶液に溶解するといった不具合は発生せず、パターン化位相差板において、工程の増加を招くことなくアライメントマークを形成することができる。
【００５８】
尚、アライメントマーク検出装置においては、パターン化位相差板２０のアライメントマーク２０Ｃを検出するために２枚の偏光板を用いる必要があるが、これらの偏光板を備えることによるアライメントマーク検出装置のコストアップはほとんど生じない。
【００５９】
上記説明では、上記アライメントマークの配向方向は第２ラビングによって形成される第２配向領域（図３の例では第１の領域２０Ａ）と同じとしたが、第１ラビングによって形成される第１配向領域（図３の例では第２の領域２０Ｂ）と同じ方向の配向としてもよい。この場合は、第１ラビング時においてアライメントマークをマスクし、アライメントマーク周辺を露出した状態でラビングを行えばよい。
【００６０】
また、上記説明では、パターン化位相差板におけるアライメントマークの形成方法として本発明を説明したが、本発明はこれ以外の適用も考えられる。上記パターン化位相差板は、大型基板に複数のパターン化位相差板を一括して形成し、この大型基板より各パターン化位相差板を分断して切り出すことにより得られる。この分断には、マーカー（分断の為の印）が必要であり、該マーカーの形成において本発明を適用することが可能である。
【００６１】
また、上述の説明では、本発明を２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルに使用されるパターン化位相差板の製造方法として例示したが、このようなパターン化位相差板が使用可能な液晶表示パネルは、２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルに限定されるものではない。
【００６２】
例えば、本発明に係る液晶表示パネルは、３Ｄ表示の代わりに視差バリア手段によって分離される２つの画像のそれぞれに異なる映像ソースを表示する画面表示を行うような液晶表示パネルに適用することも可能である。
【００６３】
このような液晶表示パネルの使用法の一例として、自動車の運転席のドライバーにカーナビゲーションシステムの映像を表示し、かつ助手席の同乗者にテレビ放送の映像を表示するような表示装置への利用が考えられる。複数の観察者に異なる映像を表示する場合には、それぞれの画素を透過した光が、所定の距離をおいた複数の観察者のそれぞれが観察すべき映像として分離できるように、視差バリアの遮光部と透過部の配置パターンを適宜設定すればよい。
【００６４】
また、以上のように、本発明のパターン化位相差板は、基板素材上に、配向方向がそれぞれ異なる第１配向領域および第２配向領域が形成された配向膜と、該配向膜上に形成される液晶層とを有すると共に、他の部材との貼り合わせ用のアライメントマークを有するパターン化位相差板において、上記アライメントマークが、その形成領域と周囲領域とで異なる光学作用を有する領域として形成されている。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明の一実施形態を示すものであり、図１（ａ）〜図１（ｆ）は、パターン化位相差板の製造工程を示す断面図である。
【図２】上記パターン化位相差板が用いられる２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルの概略構成を示す断面図である。
【図３】上記パターン化位相差板の構成を示すものであり、図３（ａ）は断面図、図３（ｂ）は平面図である。
【図４】上記２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルにおける各構成部材の光学軸の方向を示す図である。
【図５】上記２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルの組立工程を示すフローチャートである。
【図６】上記パターン化位相差板の製造工程を示すフローチャートである。
【図７】上記パターン化位相差板におけるアライメントマーク検出装置の概略を示す斜視図である。
【図８】上記パターン化位相差板におけるアライメントマーク検出方法を示す図である。
【符号の説明】
【００６６】
１０    表示用液晶パネル
２０    パターン化位相差板
２０Ａ  第１の領域
２０Ｂ  第２の領域
２０Ｃ  アライメントマーク
２１    透明基板（基板素材）
２２    配向膜
２３    液晶層
３０    スイッチング液晶パネル
５１    レジスト層