【手続補正書】
【提出日】平成16年11月18日(2004.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクと感応基板とを同期移動しつつ、前記マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して前記感応基板上に転写する走査露光方法において、
前記マスク及び前記感応基板の少なくとも一方の同期移動の態様に応じ、前記投影光学系の光軸方向に関する前記感応基板の位置合わせ目標面の情報を調整し、前記感応基板の被露光面と前記目標面とを合わせながら走査露光を行うことを特徴とする走査露光方法。
【請求項２】
マスクと感応基板とを同期移動しつつ、前記マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して前記感応基板上に転写する走査露光方法において、
前記マスク及び前記感応基板の少なくとも一方の同期移動の態様に応じ、前記マスクのパターン像の結像面を調整し、前記マスクのパターン像の結像面と前記感応基板の被露光面を合わせながら走査露光を行うことを特徴とする走査露光方法。
【請求項３】
前記感応基板の前記投影光学系の光軸方向に対する傾きを調整しながら前記走査露光が行われることを特徴とする請求項１又は２に記載の走査露光方法。
【請求項４】
前記同期移動の態様には、前記マスクの同期移動方向及び同期移動速度の少なくとも一つが含まれることを特徴とする請求項１又は２に記載の走査露光方法。
【請求項５】
前記同期移動の態様には、前記感応基板の同期移動方向及び同期移動速度の少なくとも一方が含まれることを特徴とする請求項１又は２に記載の走査露光方法。
【請求項６】
前記目標面の情報は、前記同期移動中における前記マスクの位置に対応した情報であることを特徴とする請求項１に記載の走査露光方法。
【請求項７】
前記目標面の情報は、前記同期移動中における前記感応基板の位置に対応した情報であることを特徴とする請求項１に記載の走査露光方法。
【請求項８】
前記感応基板を露光するのに先立って、同期移動における前記マスク及び前記感応基板の少なくとも一方の同期移動の態様に応じて前記調整を行うための調整用情報を収集することを特徴とする請求項１又は２に記載の走査露光方法。
【請求項９】
前記調整用情報は、走査露光における前記マスクの同期移動方向ごとの前記感応基板の被露光面の前記投影光学系の光軸方向の位置合わせ目標面に関する基準情報であることを特徴とする請求項８に記載の走査露光方法。
【請求項１０】
前記同期移動方向ごとの前記基準情報は、前記同期移動方向に応じて所定マスクを移動させ、該所定マスクのパターンの投影像に関する情報を前記投影光学系の光軸方向の複数の位置で求め、該求められた投影像に関する情報に基づいて決定されることを特徴とする請求項９に記載の走査露光方法。
【請求項１１】
前記所定マスクには、前記マスクの同期移動方向に沿って複数の所定のパターンが形成されていることを特徴とする請求項１０に記載の走査露光方法。
【請求項１２】
前記所定マスクのパターンの投影像に関する情報は、前記所定マスクのパターンを所定の感応基板上に転写し、該所定の感応基板上に転写されたパターンを計測することによって求められることを特徴とする請求項１０に記載の走査露光方法。
【請求項１３】
前記所定マスクのパターンの前記所定の感応基板への転写は、前記投影光学系の光軸方向の複数の位置のそれぞれで、前記移動方向での走査露光を順次行うことによって行われることを特徴とする請求項１２に記載の走査露光方法。
【請求項１４】
前記移動方向は、第１の方向及び前記第１の方向と逆方向である第２の方向であることを特徴とする請求項９に記載の走査露光方法。
【請求項１５】
マスクと感応基板とを同期移動しつつ、前記マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して前記感応基板上に転写する走査型露光装置であって、
前記感応基板を保持し、第１方向及び前記第１方向とは異なる第２方向に移動可能な基板ステージと；
前記基板ステージを前記第１方向に沿って移動させながら前記感応基板を走査露光するときに、前記投影光学系の光軸方向について前記感応基板の被露光面の位置合わせをするための目標位置に関する第１基準情報と、前記基板ステージを前記第２方向に沿って移動させながら前記感応基板を走査露光するときに、前記投影光学系の光軸方向について前記感応基板の被露光面の位置合わせをするための目標位置に関する第２基準情報とを記憶する記憶装置と；
前記感応基板上の検出点における前記感応基板表面の前記光軸方向に関する位置情報を検出する検出系と；
同期移動中に、前記記憶装置に記憶された情報と前記検出系での検出結果とに基づいて、前記感応基板の被露光面を設定する基板駆動機とを備える走査型露光装置。
【請求項１６】
前記検出系により検出される位置情報は、前記光軸方向に関する前記感応基板表面の位置と目標位置との偏差であって、前記記憶装置に記憶された情報に基づいて、前記基板駆動機が前記検出系の目標位置を変更することを特徴とする請求項１５に記載の走査型露光装置。
【請求項１７】
前記基板駆動機は、前記記憶装置に記憶された情報に基づいて前記検出系によって検出された位置情報を補正し、該補正された位置情報に基づいて、前記感応基板の被露光面を設定することを特徴とする請求項１５に記載の走査型露光装置。
【請求項１８】
マスクと感応基板とを同期移動しつつ、前記マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して前記感応基板上に転写する走査露光方法において、
前記感応基板を第１方向に移動しながら走査露光するときに用いられる、前記投影光学系の光軸方向について前記感応基板の被露光面を位置合わせするための目標位置に関する第１調整情報を取得し；
前記感応基板を第２方向に移動しながら走査露光するときに用いられる、前記投影光学系の光軸方向について前記感応基板の被露光面を位置合わせするための目標位置に関する第２調整情報を取得し；
前記第１調整情報と前記第２調整情報とを用いて、前記感応基板上の複数の区画領域を順次走査露光する走査露光方法。
【請求項１９】
前記感応基板を前記第１方向と前記第２方向とに交互に移動しながら、前記基板上の複数の区画領域を順次走査露光するために、前記第１調整情報と前記第２調整情報が交互に参照される請求項１８に記載の走査露光方法。
【請求項２０】
前記第１調整情報は、前記第１方向に計測用基板を移動しながら走査露光した結果に基づいて取得され、
前記第２調整情報は、前記第２方向に計測用基板を移動しながら走査露光した結果に基づいて取得される請求項１８又は１９に記載の走査露光方法。
【請求項２１】
前記第１調整情報を取得するための計測用基板と前記第２調整情報を取得するための計測用基板は同一である請求項２０に記載の走査露光方法。
【請求項２２】
前記第１調整情報及び前記第２調整情報は、前記計測用基板に形成されたパターンの大きさに基づいて決定される請求項２０又は２１に記載の走査露光方法。
【請求項２３】
前記第１調整情報及び前記第２調整情報は、前記感応基板の走査速度にも依存する請求項１８〜２２のいずれか一項に記載の走査露光方法。
【請求項２４】
前記感応基板の被露光面の前記投影光学系の光軸方向に関する位置情報を検出し；
前記第１及び第２調整情報のいずれか一方と、前記検出された位置情報とに基づいて前記感応基板の被露光面と前記投影光学系の結像面との位置合わせを行ないながら、前記感応基板上の区画領域のそれぞれが順次走査露光される請求項１８〜２３のいずれか一項に記載の走査露光方法。