Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月7日(2005.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】動き推定方法において複数の動きベクトル候補からの動きベクトルの選択を容易にする方法であって、
画像データの連続する第１、第２及び第３グループからのビデオ画像データを受け取るステップと、
画像データの前記第１グループの第１画像部、画像データの前記第２グループの第２画像部及び画像データの前記第３グループの第３画像部を識別するステップであって、これら３つの画像部の位置が、動きベクトル候補により示される動きの軌道に対応するステップと、
前記第１画像部及び前記第３画像部の間の差に対するテストをし、該差を第１エラー量として定量化することにより該第１エラー量を算出するステップと、
前記第１画像部及び前記第２画像部又は前記第２画像部及び前記第３画像部のいずれかの間の差に対するテストをし、該差を第２エラー量として定量化することにより該第２エラー量を算出するステップと、
出力エラー量を出力するステップであって、前記出力エラー量が、前記動きベクトル候補のベクトル長に依存して前記第１エラー量及び／又は前記第２エラー量から導き出されるステップとを有する方法。
【請求項２】動きベクトル候補の長さが最大長Vmaxを上回る場合には、前記第２エラー量が前記出力エラー量として選択されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】前記動きベクトル候補のベクトル長が零及びVmaxの間である場合には、前記出力エラー量が前記第１エラー量及び前記第２エラー量の組み合わせに基づく値であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】前記出力エラー量が等式Errorout=f(L)*Errorpc+(1-f(L))*Errorpnにより与えられ、ここで、Erroroutは前記出力エラー量であり、Errorpcは前記第２エラー量であり、Errorpnは前記第１エラー量であり、f(L)は、前記ベクトル長がVmax以上である場合に１であり、前記ベクトル長が零である場合に零である
前記動きベクトル候補のベクトル長の関数であることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】Vmaxより長いベクトル長を持つ動きベクトル候補に対しては、前記第３画像部が用いられず、この場合には、前記出力エラー量は前記第２エラー量のみを有し、対応する前記第１エラー量は算出される必要がないことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項６】前記出力エラー量が、前記第１エラー量及び前記第２エラー量の重み付き合計をとることにより算出されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】動き推定装置において複数の動きベクトル候補からの動きベクトルの選択を容易にする装置であって、
画像データの連続する第１、第２及び第３グループからのビデオ画像データを受け取り、記憶する記憶手段と、
画像データの前記第１グループの第１画像部、画像データの前記第２グループの第２画像部及び画像データの前記第３グループの第３画像部を識別し、ここで、これら３つの画像部の位置は動きベクトル候補により示される動きの軌道に対応し、前記第１画像部及び前記第３画像部の間の差に対するテストをし、該差を第１エラー量として定量化することにより該第１エラー量を算出し、前記第１画像部及び前記第２画像部又は前記第２画像部及び前記第３画像部のいずれかの間の差に対するテストをし、該差を第２エラー量として定量化することにより該第２エラー量を算出し、出力エラー量を出力し、ここで、前記出力エラー量は、前記動きベクトル候補のベクトル長に依存して前記第１エラー量及び／又は前記第２エラー量から導き出される処理手段とを有する装置。
【請求項８】動きベクトル候補の選択が請求項１の方法により容易にされる動き推定方法を利用するビデオ動き推定を組み込むビデオ処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月4日(2005.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ディジタル送信中の非線形動作モードにより非線形ひずみが起き、その結果、帯域内干渉と帯域外およびスプリアス発射とが生じる、ＡＭ送信機を使用するディジタル送信のための方法であって、
前記ＡＭ送信機の出力段が、線形モードで動作し、
前記線形モードが、効率を向上するために、瞬時駆動に応じて、前記送信機の出力段の供給電圧の修正とともに動作し、
前記ＡＭ送信機の変調装置が、スイッチング電源ユニットとして動作し、前記送信機の出力段のための修正した供給電圧を送り出し、
複雑な被変調データ信号のエンベロープが走査され、この信号が、前記送信機の出力段のための供給電圧の修正を制御し、
前記エンベロープの走査中の時定数が、前記エンベロープの立ち上がりに直ちに従うことができるものであり、
前記エンベロープの走査中の時定数が、前記エンベロープの立ち上がりおよび立ち下がりに対して等しいものであり得、
前記複雑な被変調データ信号が、そのエンベロープの走査に引き続き、供給電圧の修正がその間に有効であるような方式で遅延され、したがって、前記送信機の出力段の、短時間のオーバードライブでさえも防止する方法。
【請求項２】  スイッチング電源ユニットとして動作する前記変調装置が、パルス幅変調装置またはパルス・ステップ変調装置でもあり得、
Ｂ級プッシュプル変調装置を備えるＡＭ送信機の場合は、これらの変調装置のうちの１つとの交換を行う必要がある、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  送信機の出力段が、非線形ひずみを回避するために線形モードで動作し、前記送信機の出力段の供給電圧が、効率を向上するために、駆動に応じて、複雑な被変調データ信号によって修正される、ＡＭ送信機を使用するディジタル送信のための構成であって、
前記複雑な被変調データ信号のエンベロープを走査する振幅検出器（１）が、スイッチング電源ユニットとして動作する変調装置（５および６）の上流に接続され、
前記複雑な被変調データ信号のための遅延段（２）が、前記送信機の出力段（４）への信号経路内の高周波前置増幅器段（３）の上流に配置される構成。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
エンベロープ検出器の時定数は、エンベロープの上昇（立ち上がり）に直ちに従うことが可能であり、そのため、その結果生じるゆがみやスプリアス発射を有するオーバードライブが起きることのないようなものでなければならない。しかし、通常でない場合は、たとえば、「ダイナミック振幅変調」で、減衰（立ち下がり）のための時定数が、上昇のための時定数と全く同じ大きさで選択できる。なぜなら、ここでは、「聴覚的な印象」を考慮する必要がないからである。減衰時定数が小さくなるにつれて、さらに送信機の効率が増す。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成16年10月29日(2004.10.29)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オーディオエンコーダ又はビデオエンコーダによってアセンブルされた、符号化されたビットストリームを暗号化する方法であって、該アセンブルされた符号化されたビットストリームはシンタックスを有し、
該アセンブルされたビットストリームの如何なる部分も復号することなく該アセンブルされた符号化されたビットストリーム内のデータを選択するステップであって、該データは、該ビットストリーム内の全データより少なく、また、該データを暗号化したとすると、該データは、該アセンブルされた符号化されたビットストリームのシンタックスを犯すことのない部分的に暗号化されたビットストリームとなり、かつ、該部分的に暗号化されたビットストリームを解読せずに復号してしまう結果、再生されたオーディオ又はビデオの品質を劣化させる、データを選択するステップと、
前記部分的に暗号化されたビットストリームを与えるために、該アセンブルされた符号化されたビットストリーム内から選択した前記データを暗号化するステップと、
から成るビットストリーム暗号化方法。
【請求項２】
前記シンタックスは、前記アセンブルされた符号化されたビットストリームに対するエンコーダの正規のシンタックスである、請求項１の方法。
【請求項３】
オーディオエンコーダ又はビデオエンコーダによってアセンブルされた、符号化されたビットストリームを部分的に暗号化する方法において、該アセンブルされたビットストリームはシンタックスを有し、部分的に暗号化されたビットストリームが該アセンブルされた符号化されたビットストリームの正規のシンタックスを犯すとき、前記シンタックスは、前記アセンブルされた符号化されたビットストリームに対する該エンコーダの該正規のシンタックスの変更されたものになるようにさせる方法であって、
該アセンブルされたビットストリームの如何なる部分も復号することなく該アセンブルされた符号化されたビットストリーム内のデータを選択するステップであって、該データは、該ビットストリーム内の全データより少なく、また、該データを暗号化したとすると、該アセンブルされた符号化されたビットストリームの前記変更されたシンタックスを犯すことのない部分的に暗号化されたビットストリームとなり、かつ、該部分的に暗号化されたビットストリームを解読せずに復号してしまう結果、再生されたオーディオ又はビデオの品質を劣化させる、データを選択するステップと、
前記部分的に暗号化されたビットストリームを与えるために、該アセンブルされた符号化されたビットストリーム内から選択した前記データを暗号化するステップと、
から成るビットストリーム暗号化方法。
【請求項４】
該オーディオ又はビデオエンコーダはハフマン符号化アルゴリズムを用い、前記シンタックスが該ビットストリームにパディングビットを加えることによって変更される、請求項３の方法。
【請求項５】
該オーディオ又はビデオエンコーダは、利得適応化量子化符号化アルゴリズムを用い、該ビットストリーム内のビットを再順序付けすることによって前記シンタックスが変更される、請求項３の方法。
【請求項６】
前記アセンブルされた符号化されたビットストリーム内の該データが連続的なフレーム内に配置され、該アセンブルされた符号化されたビットストリーム内のデータを選択することで、１つ又はそれ以上のフレーム内のデータの幾つかが選択される、請求項１乃至３のいずれか１つの方法。
【請求項７】
該選択されたデータは、最高エントロピーを有する該アセンブルされた符号化されたビットストリームの該データの少なくとも１部分を含む、請求項１乃至３のいずれか１つの方法。
【請求項８】
該オーディオ又はビデオエンコーダは知覚エンコーダであり、該アセンブルされた符号化されたビットストリームデータは該符号化されたオーディオ又はビデオの周波数領域表示の量子化された周波数係数を含むようにされ、該選択されたデータは、前記量子化された周波数係数を構成する該データの少なくとも一部分を含む、請求項１乃至３のいずれか１つの方法。
【請求項９】
該オーディオ又はビデオエンコーダはエントロピー型エンコーダであり、該アセンブルされた符号化されたビットストリームデータは可変長コードワードからなるエントロピー符号化されたデータを含むようにされ、該選択されたデータは前記エントロピー符号化されたデータを構成する該データの少なくとも１部分を含む、請求項１乃至３のいずれか１つの方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月7日(2005.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  接地導体とアンテナ給電線に結合したトランシーバとを有し、前記アンテナ給電線が導体板及び前記接地導体の一部により形成されるキャパシタを経て前記接地導体と直接結合され、部分的に前記導体板の下に位置する溝が前記接地導体において設けられる、無線端末。
【請求項２】  前記溝が前記端末の長軸に平行であることを特徴とする請求項１に記載の端末。
【請求項３】  前記溝が折り曲げられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の端末。
【請求項４】  また部分的に前記導体板の下に位置する他の溝が前記接地導体において設けられることを特徴とする請求項１ないし３の何れか一項に記載の端末。
【請求項５】  前記導体板が前記接地導体の長軸について非対称であることを特徴とする請求項１ないし４の何れか一項に記載の端末。
【請求項６】  前記接地導体がハンドセットケースであることを特徴とする請求項１ないし５の何れか一項に記載の端末。
【請求項７】  前記接地導体がプリント回路基板グランドプレーンであることを特徴とする請求項１ないし５の何れか一項に記載の端末。
【請求項８】  マッチングネットワークが前記トランシーバと前記アンテナ給電線との間に設けられることを特徴とする請求項１ないし７の何れか一項に記載の端末。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月28日(2005.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
質問システムに使用されるトランスポンダであって、当該トランスポンダの動作を制御するためのコントローラと、スイッチング手段により前記コントローラに結合される無線トランシーバと、前記コントローラに結合される電源と、前記コントローラに結合され、前記スイッチング手段をアクティブにして前記無線トランシーバの動作を阻止する又は可能にするような信号を供給する無線信号受信手段とを含むトランスポンダ。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月28日(2005.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
少なくとも２つのスリットは、前記ディスクが少なくとも２つの別個の部分に分離されるように前記ディスクの中心まで放射状に延在することを特徴とする請求項１、２又は３に記載の超音波変換器を製造する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月17日(2005.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デジタル伝送用ＡＭ送信器における帯域外放射を低減させる方法であって、ＡＭ送信器をコントロールする振幅信号および位相変調ＲＦ信号がデジタル変調信号から生成されており、
デジタル変調のために、ＩＴＵスペクトル・マスクが越えられない（３）ようなレートでＡＭ送信器が達成できるショルダー・ディスタンス（２）に応じて帯域外放射（１）が減少するような範囲に、振幅信号および位相変調ＲＦ信号のための帯域幅を制限する方法が選択され、
デジタル変調方法は、ベクトル図表現においてゼロ交差に接触しないが幅広いマージンによって回避され、０／０点の周囲に「穴」が形成するという特徴を有し、そして、
デジタル変調について、オフセット変調または符号化変調方式を使用することが可能であることを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
ベクトル図における１６個の設定点による振幅位相シフト・キーイングの変形が特にオフセット変調として適切であり、これは相対的に少数の設定点が結果として高い正味のデータ・スループットとなるからであり、低レベルの変調であるので、相対的に粗く、必要な誤り保護符号化がより少なくなるからであることを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法において、
提案された変調の原理をＯＦＤＭ信号の伝送について使用することができ、
ベクトル図表現における「穴」が、ゼロ交差でのＯＦＤＭベースバンド信号のＩ（ｔ）およびＱ（ｔ）成分をシフトすることによって達成され、
ゼロ交差のシフトが、Ｉ（ｔ）およびＱ（ｔ）成分が所定のしきい値より下に減少することに応じて行われ、
しきい値より下に最初に低下する成分は不変のままで残るが、次いで他方の成分が追加のパルスによって修正され、
追加のパルスが、最初の成分がより低いしきい値（ｑ）より下に低下しており、かつ後続の成分がより高いしきい値（ｉ）より下に低下する場合にのみ追加され、
「穴」のサイズが追加のパルスの振幅によって決定され、そして、
「穴」のサイズと追加のパルスによって引き起こされたビット誤り率との間で正当と認められる妥協点を選択しなければならないことを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法において、
無線チャネルを測定するために、２相位相シフト・キーイングの修正済テスト・シーケンスを使用することが可能であり、
クロック速度（Ｂ）を２倍にし、そしてパルス（Ｃ）を未修正テスト・シーケンスにおける符号の変化を有する２つのパルスの間に挿入することによって、修正により、ベクトル図表現における０／０点の周囲の「穴」を特徴とする変調信号が生じる結果となり、
「穴」のサイズを、挿入されたパルスの振幅によって調節することができ、そして、
修正済テスト・シーケンスを評価するため、未修正テスト・シーケンスについて使用される既知のアルゴリズムを使用することも可能であることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月11日(2004.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
【表１】
2004519174.tif 000001
表１において、
（ａ）ｃｏｕｎｔ＿ｂは、カウンタのカウント値を表し、
（ｂ）ｂａｎｋは、ＲＡＭ内のバンクアドレスｂｋを表し、
（ｃ）ｓｙｍ  ａｄｄは、バンク内のシンボルアドレスを表す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
図９には、従来の二重パスＣＩＲＣ復号器と本発明の二重パスＣＩＲＣ復号器におけるフラグ付きバイト率ＦＬＧＢＲ対入力誤り率ＩＰＥＲＲの結果を表すグラフが示されている。従来のＣＩＲＣ復号器の訂正結果ＣＣＩＲＣＤＥＣは、点線で示され、本発明のＣＩＲＣ復号器の訂正結果ＮＣＩＲＣＤＥＣは、実線で示されている。各曲線は、４種類の入力誤り率測定から構築される。以下の誤り組合せが訂正用に入力された。
（ａ）各々が３個のエラーを含む２０個のＣ１符号語ｃｄｗのバーストエラーｂｒｓｔ。このエラーパターン及び以下のエラーパターンにおいて、Ｃ１符号語のエラーはランダムエラーである。
（ｂ）各々が４個のエラーを含む２０個のＣ１符号語のバーストエラー
（ｃ）各々が５個のエラーを含む２０個のＣ１符号語のバーストエラー
（ｄ）各々が６個のエラーを含む２０個のＣ１符号語のバーストエラー
（ｅ）各々が３個のエラーを含む３０個のＣ１符号語のバーストエラー
（ｆ）各々が４個のエラーを含む３０個のＣ１符号語のバーストエラー
（ｇ）各々が５個のエラーを含む３０個のＣ１符号語のバーストエラー
（ｈ）各々が６個のエラーを含む３０個のＣ１符号語のバーストエラー
（ｉ）各々が３個のエラーを含む４０個のＣ１符号語のバーストエラー
（ｊ）各々が４個のエラーを含む４０個のＣ１符号語のバーストエラー
（ｋ）各々が５個のエラーを含む４０個のＣ１符号語のバーストエラー
（ｌ）各々が６個のエラーを含む４０個のＣ１符号語のバーストエラー
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月10日(2004.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  互いに間隔を隔てて垂直方向に延びる複数の試料収容ウェルを備え、該ウェルがこの回りに所定の空間パターンをもつ配列をなしている形式のウェルプレートの熱伝達装置において、
ベースパネルと、該ベースパネルに対して熱伝達関係をなして取り付けられた垂直方向に延びる複数のピンとを備えた熱伝達櫛状体を有し、
前記ピンは、ウェルプレートのウェルの回りの前記所定の空間パターンに一致して配置され、
熱を供給または吸収する源を更に有し、該源は熱伝達櫛状体と熱伝達できるように近接して配置されていることを特徴とする熱伝達装置。
【請求項２】  前記ウェルプレートは、各Ｘ行にｎ個のウェルがありかつ各Ｙ列にｍ個のウェルがある線型行列Ｘ−Ｙウェル配列を有し、前記ピンは、各Ｘ行に少なくとも（ｎ＋１）個のピンがありかつ各Ｙ列に少なくとも（ｍ＋１）個のピンがある線型行列配列をなしていることを特徴とする請求項１に記載の熱伝達装置。
【請求項３】  前記源は、ベースパネルの下面と熱伝達できるように接触するペルチェ効果モジュールを有していることを特徴とする請求項１または２に記載の熱伝達装置。
【請求項４】  前記ペルチェ効果モジュールの下面と熱伝達できるように接触するヒートシンクを更に有することを特徴とする請求項３に記載の熱伝達装置。
【請求項５】  前記熱を供給または吸収する源は、
１以上のモジュールソケットを収容する断熱ジャケットと、
前記モジュールソケット内に座合され、前記断熱ジャケットの頂部および底部に露出された上面および下面を有するペルチェ効果モジュールと、
前記断熱ジャケットの上方または下方に設けられ、前記ペルチェ効果モジュールの下面または上面と熱伝達できるように近接しているヒートシンクと、を含み、
さらに、前記熱伝達櫛状体のベースパネルは、前記ペルチェ効果モジュールの前記上面と熱伝達関係をなして前記断熱ジャケットの頂部で支持されていることを特徴とする請求項１に記載の熱伝達装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月8日(2005.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  内燃機関の燃料フィルタであって、
−燃料供給システムの導管に交換可能に接続可能なフィルタケーシング内にあって、半径方向で流過される、取付け位置において車両高軸に整向されているリングフィルタ挿入体を備えており、
−水排出装置を備えた、燃料からフィルタケーシング内へ出る水のための水集合室を備えており、
−燃料フィルタの、車両高軸内で上方に位置している、同じ、軸方向で第１の端面範囲内に原側及び純粋側の燃料供給短管若しくは燃料排出短管を備えており、これらの短管がこの端面範囲の取外し不能な構成部分として、該端面範囲から軸方向外方へ突出しており、
−水排出装置に包含された、水集合室から燃料フィルタの第１の端面範囲に設けられた閉鎖弁に通じる接続導管を備えており、
−リングフィルタ挿入体が上方の、円形のリング端ディスク（１１）を備えており、このリング端ディスク（１１）が燃料フィルタの第１の端面側に間隔をおいて対応配置されている形式のものにおいて、
−原側及び純粋側の燃料供給短管及び燃料排出短管（５、６）がリングフィルタ挿入体（３）の軸線の外側に位置していること、
−接続導管（１０）がリングフィルタ挿入体（３）の中央の内室を貫いて配置されており、接続導管が燃料フィルタの第１の端面側を貫通してこれに対してシールされて案内されていること、
−上方のリング端ディスク（１１）と燃料フィルタの第１の端面側との間に、間隔によって形成された室内に、結合壁（１９）が一面では上方の端ディスク（１１）とかつ他面では燃料フィルタの端面側とにシール作用をもって接続されて設けられていること、
−結合壁（１９）と上方のリング端ディスク（１１）との間に位置する室がもっぱらそれぞれ直接的にリングフィルタ挿入体（３）の中央の内室と該内室に対応配置された供給若しくは排出通路（５、６）とに接続されていること
を特徴とする、内燃機関の燃料フィルタ。
【請求項２】  接続導管（１０）がリングフィルタ挿入体（３）の中央の内室の内部に偏心的に配置されている、請求項１記載の燃料フィルタ。
【請求項３】
−結合壁（１９）がそれぞれ接続範囲にて、
−上方の端ディスク（１１）に対しては燃料フィルタ軸線を中心として円形に
かつ
−燃料フィルタの端面に対してはその外周に亙って燃料フィルタ軸線に対し半径方向外方へ変化する間隔をおいて
構成されている、請求項２記載の燃料フィルタ。
【請求項４】
−リングフィルタ挿入体（３）がその下方の端ディスク（１２）をもって半径方向外方へケーシングコップ（２）にシールされていてかつ半径方向で外方から内方に向かって流過されること、
−水集合室（４）が下方の端ディスク（１２）の下方に位置していること、
−リングフィルタ挿入体（３）の半径方向で中心に位置している純粋室（１５）が水集合室（４）に水を導くように接続されていること、
−接続導管（１０）が下方の端ディスク（１２）を貫通しており、接続導管（１０）が下方の端ディスクに対してシールされている、請求項１から３までのいずれか１項記載の燃料フィルタ。
【請求項５】  結合壁（１９）が上方の端ディスク（１１）のためのその接続範囲において円形のカラーとして構成され、このカラー内に上方の端ディスク（１１）が半径方向で内方から係合し、その際、結合壁（１９）が半径方向シール（２６）によって半径方向で上方の端ディスクに対してシールされている、請求項１から４までのいずれか１項記載の燃料フィルタ。
【請求項６】  上方の端ディスク（１１）がプラスチックから構成されかつ結合壁（１９）が金属から構成されている、請求項１から５までのいずれか１項記載の燃料フィルタ。
【請求項７】  リングフィルタ挿入体（３）の中央の内室の内部に、液体透過性の外壁を備えた円筒形の水分離装置（１６）が設けられており、燃料排出短管（６）がシールされて水分離装置（１６）内へ導入されておりかつそこから浄化された燃料を燃料フィルタの外へ導出する、請求項２記載の燃料フィルタ。
【請求項８】  リング形のフィルタ材料の下流側で、純粋室（１５）の内部に、管状のシーブが水分離装置（１６）として接続されている、請求項３記載の燃料フィルタ。
【請求項９】  水センサ装置（９）が接続導管（１０）に統合されている、請求項１から８までのいずれか１項記載の燃料フィルタ。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月27日(2003.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁化状態の磁化可能粒子と対象分子との複合物を含んでいる磁性粒子の凝集物の定量的測定を行うための装置（１０）であって、
定義されたパターンでの未知量の前記磁性粒子を含んだ凝集物のサンプル（２１）を受領するように形状化された基板（２２）であって、該サンプル内の磁性粒子は前記対象分子に結合された既知サイズと既知磁性特性とを有していることを特徴とする基板と、
ＤＣ磁場を提供する磁石（１１）であって、該磁場はその磁場内に存在する前記磁性粒子を磁化させることを特徴とする磁石と、
該磁場内の少なくとも１つの磁場検出要素（１１Ａまたは１１Ｂ）であって、出力信号導線を有し、前記サンプルが該磁場検出要素と作用関係にあるときに出力信号を発生させる磁場検出要素と、
サンプルパターンでの前記対象分子の量を示す信号を提供するように、前記少なくとも１つの検出要素からの前記出力信号を変換する手段と、
を含むことを特徴とする装置。
【請求項２】
ＤＣ磁場は５００から１０００エルステッドであることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項３】
少なくとも１つの検出要素はホールセンサー（１５）を含んでおり、バイアス励起電流が該ホールセンサーに流れていることを特徴とする請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
少なくとも１つの検出要素は磁気抵抗センサーを含んでいることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項５】
少なくとも１つの検出要素は２つのホールセンサー（１５、１６）を含んでおり、バイアス励起電流が該ホールセンサーに流れていることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項６】
基板上に搭載されるコード要素（１９）と、
サンプルが検出要素と作用関係となるとき該コード要素を読み取るように搭載されるコードリーダー（２８）と、
をさらに含んでいることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項７】
少なくとも１つの検出要素はサンプルの存在がもたらすＤＣ磁場の変化を検出することを特徴とする請求項１または５に記載の装置。
【請求項８】
信号を変換する手段はシグナルプロセッサを含んでおり、該シグナルプロセッサは、
検出要素の出力部と接続した増幅器（２５）と、
該増幅器と接続した平衡ステージ（２７）と、
ロックインステージ（３１）と、
を含んでおり、該ロックインステージの出力はサンプルパターンでの対象分子の量を示す信号であることを特徴とする請求項１または５に記載の装置。
【請求項９】
シグナルプロセッサは励起電流をロックインステージに同期的にカップリングさせる手段をさらに含んでいることを特徴とする請求項８記載の装置。
【請求項１０】
サンプルパターン内の対象分子を量的に確定する方法であって、
基板（２２）上の所定の形状にて未知量の対象分子を有した少なくとも１つのサンプルパターンを適用するステップであって、該サンプルパターンは、磁性結合複合物サンプルを形成させるように前記対象分子にカップリングされた既知サイズと既知磁性特性の非磁化状態の磁化可能な粒子を含んでいることを特徴とするステップと、
ＤＣ磁場を提供するステップと、
前記サンプルパターンを該磁場内に配置するために前記基板と該磁場との間で相対動作を引き起こすステップと、
前記ＤＣ磁場により前記サンプルパターンにて前記磁化可能な粒子を励起させ、該粒子を磁化させ、前記磁場を撹乱するステップと、
該磁場内の前記磁化された粒子の存在によって引き起こされる磁場変化を検出するステップと、
該磁場での対象分子の量を示す信号を発生させるステップと、
を含んでいることを特徴とする方法。
【請求項１１】
検出は少なくとも１つのホールセンサー（１５）の手段で達成されることを特徴とする請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
サンプルパターンを磁場内に移動する際に基板の位置を検出するステップをさらに含んでいることを特徴とする請求項１０記載の方法。
【請求項１３】
磁場内の磁性粒子の量を示す信号をシグナルプロセッサで発生させ、ホールセンサーおよびシグナルプロセッサにＡＣバイアス励起電流を適用するステップをさらに含んでいることを特徴とする請求項１０記載の方法。
【請求項１４】
基板上のコード要素（１９）およびホールセンサーと固定位置関係に搭載されたコードリーダー（２８）とでホールセンサーに対する前記基板の位置を確定するステップをさらに含んでいることを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１５】
磁場変化を検出するステップは少なくとも１つの磁気抵抗センサーで達成され、基板上のコード要素（１９）およびホールセンサーと固定位置関係に搭載されたコードリーダー（２８）とで前記磁気抵抗センサーに対する前記基板の位置を確定するステップをさらに含んでいることを特徴とする請求項１０記載の方法。
【請求項１６】
ＤＣ磁場は５００から１０００エルステッドであることを特徴とする請求項１０記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月25日(2005.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１ターゲット容器内に入った第１ターゲット容器液体とソース液を入れたサンプリング・ピペットのキャリオーバを減らす方法であって、第１ターゲット容器を回転させて、その中にある第１ターゲット容器液体をターゲット容器の中央部から離れるように変位させる段階と、サンプリング・ピペットのノズルのところにソース液の第１液滴を形成する段階と、サンプリング・ピペットあるいは液滴を第１ターゲット容器内の第１ターゲット容器液体と接触させることなく、ソース液の第１液滴を第１ターゲット容器の底に接触させるに充分な距離、ターゲット容器の中央部へサンプリング・ピペットを下降させ、ソース液の第１液滴をサンプリング・ピペットからターゲット容器内へ振り落とす段階とを包含することを特徴とする方法。
【請求項２】  請求項１の方法において、さらに、第２ターゲット容器を回転させて、その中に入っている第２ターゲット容器液体を第２ターゲット容器の中央部から離れるように変位させる段階と、サンプリング・ピペットのノズルのところにソース液の第２液滴を形成する段階と、サンプリング・ピペットまたは液滴を第２ターゲット容器内にある第２ターゲット容器液体と接触させることなく、ソース液の第２液滴を第２ターゲット容器の底と接触させるに充分な距離、サンプリング・ピペットを第２ターゲット容器の中央部へ下降させ、ソース液の第２液滴をサンプリング・ピペットから第２ターゲット容器内へ振り落とす段階とを包含することを特徴とする方法。
【請求項３】  ターゲット容器が、軸線方向に対称形である請求項１の方法。
【請求項４】  サンプリング・ピペットが、常設式あるいは使い捨て式いずれかのサンプリング・ピペットである請求項１の方法。
【請求項５】  第１ターゲット容器内に入れた第１ターゲット容器液体とソース液を入れたサンプリング・ピペットのキャリオーバを減らす方法であって、第１ターゲット容器を傾けて、そこに入っている第１ターゲット容器液体をターゲット容器の中央部から離れるように変位させる段階と、サンプリング・ピペットのノズルのところにソース液の第１液滴を形成する段階と、サンプリング・ピペットまたは液滴を第１ターゲット容器内にある第１ターゲット容器液体と接触させることなく、ソース液の第１液滴を第１ターゲット容器の底と接触させるに充分な距離、サンプリング・ピペットをターゲット容器の中央部へ下降させ、ソース液の第１液滴をサンプリング・ピペットからターゲット容器内へ振り落とす段階とを包含することを特徴とする方法。
【請求項６】  請求項５の方法において、さらに、第２ターゲット容器を傾けて、そ
の中に入っている第２ターゲット容器液体を第２ターゲット容器の中央部から離れるように変位させる段階と、サンプリング・ピペットのノズルのところにソース液の第２液滴を形成する段階と、サンプリング・ピペットまたは液滴を第２ターゲット容器内にある第２ターゲット容器液体と接触させることなく、ソース液の第２液滴を第２ターゲット容器の底と接触させるに充分な距離、サンプリング・ピペットを第２ターゲット容器の中央部へ下降させ、ソース液の第２液滴をサンプリング・ピペットからターゲット容器内へ振り落とす段階とを包含することを特徴とする方法。
【請求項７】  ターゲット容器が、軸線方向に対称形である請求項５の方法。
【請求項８】  サンプリング・ピペットが、常設式あるいは使い捨て式のいずれかのサンプリング・ピペットである請求項５の方法。
【請求項９】  ターゲット容器内へソース容器から或る量の液体を給送する方法であって、既知体積の液体をソース容器から吸引プローブ内へ吸引する段階と、ターゲット容器が静止している間にターゲット容器内へ液体の主要体積部分を計量分配すると同時に、吸引プローブ内に液体の小体積部分を残す段階と、ターゲット容器を回転させて、その中に入っている液体の主要体積部分をターゲット容器の中央部から離れるように変位させる段階と、サンプリング・ピペットのノズルのところにソース液の小体積部分の液滴を形成する段階と、ソース液の液滴をターゲット容器内の液体と接触させることなく、ソース液の液滴をターゲット容器の底に接触させるに充分な距離、サンプリング・ピペットをターゲット容器の中央部へ下降させ、ソース液の液滴をサンプリング・ピペットからターゲット容器内へ振り落とす段階とを包含することを特徴とする方法。
【請求項１０】  ターゲット容器が、軸線方向に対称形である請求項９の方法。
【請求項１１】  サンプリング・ピペットが、常設式あるいは使い捨て式いずれかのサンプリング・ピペットである請求項９の方法。
【請求項１２】  ターゲット液を入れたターゲット容器に或る量のソース液をソース容器から給送する方法であって、ソース容器から吸引プローブに既知体積のソース液を吸引する段階と、ターゲット容器を回転させて、その中にあるターゲット液をターゲット容器の中央部から離れるように変位させる段階と、ソース液の主要体積部分がターゲット容器内にあるターゲット液と接触させることなく、ソース液の主要体積部分をターゲット容器の底に接触させるに充分な距離、サンプリング・ピペットをターゲット容器の中央部に下降させ、ソース液の主要体積部分をサンプリング・ピペットからターゲット容器内へ振り落とす段階と、ターゲット容器を回転させ続け、ターゲット容器内に入っている液体全部をターゲット容器の中央部から離れるように変位させる段階と、サンプリング・ピペットのノズルのところにソース液の残っている液滴部分の液滴を形成する段階と、ソース液の残っている液滴部分をターゲット容器内にある液体と接触させることなく、ソース液の残っている液滴部分をターゲット容器の底に接触させるに充分な距離、サンプリング・ピペットをターゲット容器の中央部に下降させ、ソース液の残っている液滴部分をサンプリング・ピペットからターゲット容器内へ振り落とす段階とを包含することを特徴とする方法。
【請求項１３】  ターゲット容器が、軸線方向に対称形である請求項１２の方法。
【請求項１４】  サンプリング・ピペットが、常設式あるいは使い捨て式いずれかのサンプリング・ピペットである請求項１２の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月19日(2005.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  プリナムすべてに流入する空気の並流のための固定された吸気開口をもつ少なくとも２つのプリナムを備え、前記プリナムの各々が、多孔性ファイバ・バーナ面と、前記固定された開口の各々の中に燃料ガスを独立に噴射するための個別のバルブ付き手段とを有し、前記プリナムすべての多孔性ファイバ・バーナ面が、ほぼ連続したバーナ面を形成している放射ガス・バーナ。
【請求項２】  固定された吸気開口を備える少なくとも２つのプリナムを有するセグメント化されたバーナを通ってかつその周囲に圧縮空気を送るステップであって、前記プリナムが多孔性ファイバ・バーナ面を備えるステップと、前記固定された開口の各々の中への燃料ガスの噴射を独立に制御するステップであって、前記燃料ガスの噴射が、いかなるバーナ面の燃焼中も、約２６００°Ｆから３３００°Ｆの範囲のそのバーナ面の断熱火炎温度を維持するために高い過剰空気を提供するように制御されるステップと、金属ライナを有する前記バーナ面に隣接したコンパクトな燃焼領域内に燃焼を制限するステップとを含む、燃焼空気汚染物質の形成を抑制するためのガス・タービン用の燃焼方法。
【請求項３】  多孔性ファイバ・バーナ面が、金属ファイバで形成され、大気圧で燃焼されたとき、青炎燃焼を点在された放射表面燃焼をもたらすことができる二様間隙率を有する、請求項２に記載の燃焼方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月12日(2005.1.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
このようなスパイダ組立体（spider assembly）は、出願人の会社名義のフランス国特許第ＦＲ−Ａ−２  ７９５  ４６７号（特許文献１）により周知である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
上記文献に記載された組立体は各ローラをそのアームで保持することになっており、一方で、ローラ並びにニードルを具備したスパイダを、他方で、雌要素を別個に配送して、これら２つの部品を車両組立ラインで組み立てる必要がある。この組立体はローラとニードルとの双方の確実な保持を可能にするが、この組立体の止め輪は、横断面が複雑な輪郭をなし、これの製造業者とって経済的な障害となり、さらに公差幅に関して技術的障害ともなる。
他に、従来技術として、特許文献２、特許文献３、特許文献４、特許文献５がある。
【特許文献１】ＦＲ−Ａ−２  ７９５  ４６７号
【特許文献２】ＵＳ  ３  ８８１  ７９２  Ａ
【特許文献３】特開昭６２−１７１５２５号
【特許文献４】ＵＳ  ４  ８１０  ２３２  Ａ
【特許文献５】ＵＳ  ５  ６５８  １９９  Ａ
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月8日(2003.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
車体と着脱可能な車両シートとの間でエネルギおよび／または情報を伝送するために誘導による伝送を用いることはすでに知られている。着脱可能な車両シートにはたとえば乗員拘束手段やセンサ機構が配置されている可能性があり、それらに電気エネルギーとデータを供給しなければならない。さらにこれらの電気的な装置は車体にデータを送り戻すことにもなる。乗員拘束手段であればこれはたとえば診断データである。このような誘導式の伝達装置ないしは変成器は車体に１次側を有しており、着脱可能なシートに２次側を有している。そしてこのような誘導式伝達装置は、強磁性のハーフシェルおよびその上に巻回されたコイルとともに有利には回転対称に構成されている。
DE 198 15 843 A1 には、車両における複数の部分の間の電気的な接続を意図した装置が記載されている。これによれば車両に取り付けるためのロック機構が車両に設けられている。たとえばコイルペアなどのようなアンテナ手段によって、車両の電力源から車両シートに装備された少なくとも１つの電装品へ電力信号が伝送される。さらにたとえばアンテナペアなどのような第２のアンテナ手段によって、車両シートに装備された電装品と車両側に装備された電気的な制御装置との間で通信信号が伝送される。DE 197 43 313 C1 によれば搬送手段用のシートモジュールが知られている。このシートモジュールはシートおよびシートガイドと、シートに装着された少なくとも１つの電気負荷と、この電気負荷とシート以外のところにある外部制御装置との間の電気的な接続手段を有しており、この接続手段によってエネルギーと情報の伝達が行われる。この電気的な接続手段は２つの巻線を備えたトランスを有している。トランスの１次側はシートガイドのところに取り付けられており、トランスの２次側はシートと接続されている。


【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2004519698.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月9日(2003.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
制御装置は、衝突時にアップフロントセンサ（１）が機能不全になっても、前もって検出されて記憶されたアップフロントセンサ（１）による妥当性検査と、所定の閾値を上回ったときの制御装置（４）内の前記少なくとも１つの衝突センサ（２）の信号とによって、該制御装置（４）内のトリガアルゴリズムを開始し、
トリガアルゴリズムによって下されたトリガ決定によって乗員拘束手段（５）のトリガが実行される、請求項１または２記載の回路装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
すでに、公報ＧＢ２２９３６８１Ａからは、乗員拘束システムのための中央制御装置のトリガ決定の妥当性を検査するためにアップフロントセンサを使用することが公知である。
さらに先行技術文献として、ＷＯ９７/４８５８２Ａ１、ＤＥ４２０２４６０Ａ１およびＤＥ１９７４００１９Ａ１を挙げておく。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月27日(2004.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】  前記反射構造物は、前記光透過性材料で形成されており、前記材料を前記光透過性材料とは異なる屈折率を生み出すに十分なやり方で行われていることを特徴とする、請求項１２に記載の光透過性材料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】  前記太陽熱集積器はさらに放射を生成し、前記追加生成された放射線は前記反対方向から前記第一表面にぶつかり、前記追加生成された放射線の一部は反射されて前記太陽熱集積器に戻ることを特徴とする、請求項１５に記載の太陽熱集積装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月3日(2004.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
図９は、ボックス５０１，５０３，５０５，及び５０７がステップを示す実施例を示し、そこでは、整合フィルタが、多数のドップラー周波数にわたり共有されている。その実施例は、ＧＰＳ信号が、第１の時間ウィンドウの間に、周波数係数の第１の組を使用して整合フィルタで処理され、(典型的にはその後の時間に)その信号が、第２の時間ウィンドウの間に、周波数係数の第２の組を使用して処理される。第１の時間ウィンドウ及び第２の時間ウィンドウは、１ＳＰＳフレーム期間より大きくない時間の期間内で生ずる。
図１０は、整合フィルタが多数のＧＰＳ信号にわたり共有されている一実施例を示す。ここで、この共有は、１ＳＰＳフレーム期間より大きくない時間内で生ずる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
図１０は、ボックス５５１，５５３，５５５，及び５５７がステップを示す実施例を示し、そこでは、整合フィルタが多数のＧＰＳ信号にわたり共有されている。ここで、この共有は、１ＳＰＳフレーム期間より大きくない時間内で生ずる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月17日(2004.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  リソグラフィの間においてレチクルをインサイチュクリーニングする方法であって、
（ａ）該リソグラフィの間において、該レチクルを平行移動させる工程と、
（ｂ）該移動されたレチクルのマスク表面の第１の部分を露光する工程と、
（ｃ）該移動されたレチクルの該マスク表面の第２の部分を洗浄する工程と、
を含み、
ここで、該レチクルの該マスク表面の該第１の部分と該第２の部分とは異なる、方法。
【請求項２】  前記洗浄工程は、
前記レチクルの前記マスク表面の前記第２の部分上にイオン化されたガスを方向付ける工程と、
前記レチクルの前記マスク表面の前記第２の部分から該イオン化されたガスを吸引する工程と、を含み、
それによって、前記レチクルの前記マスク表面の前記第２の部分から汚染物質が取り除かれる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記方向付ける工程および吸引する工程は、前記レチクルの前記マスク表面に近接して実行される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】  前記方向付ける工程は、イオン化された窒素ガスを方向付ける工程を含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】  前記イオン化されたガスは、ガスにアルファ粒子を露出することにより生成される、請求項２に記載の方法。
【請求項６】  前記ガスは、窒素である、請求項５に記載の方法。
【請求項７】  前記アルファ粒子を生成するために、放射性同位体を用いる工程をさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項８】  前記アルファ粒子を生成するために、ポロニウム源を用いる工程をさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項９】  前記アルファ粒子を生成するために、アメリシウム源を用いる工程をさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項１０】  前記イオン化されたガスは、ガスを静電気的に荷電することにより生成される、請求項２に記載の方法。
【請求項１１】  前記ガスは、窒素である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】  リソグラフィの間においてレチクルをインサイチュクリーニングする方法であって、
（ａ）送達デバイス内にアルファ粒子の源を配置する工程と、
（ｂ）該送達デバイスを通って、かつ、該レチクルのマスク表面の露光されていない部分に向かって、リソグラフィの間に窒素ガスを方向付ける工程であって、該窒素ガスは、該レチクルの該マスク表面の該露光されていない部分から汚染物質を取り除くために、該アルファ粒子と相互作用することによりイオン化される工程と、
（ｃ）該レチクルの該マスク表面の該露光されていない部分から該汚染物質を吸引する工程と、
を含む、方法。
【請求項１３】  リソグラフィシステムのレチクルをインサイチュクリーニングする装置であって、
リソグラフィの間において、該レチクルを平行移動させるレチクル移動システムと、
該移動されたレチクルのマスク表面の第１の部分を露光する露光システムと、
該移動されたレチクルの該マスク表面の第２の部分を洗浄する洗浄システムと、
を含み、
ここで、該レチクル移動システム、該露光システム、および洗浄システムは、該レチクル上において同時に動作するように配置され、
ここで、該レチクルの該マスク表面の該第１の部分と該第２の部分とは異なる、装置。
【請求項１４】  前記洗浄システムは、前記レチクルの前記マスク表面に近接する、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】前記洗浄システムは、
（ａ）ガスを出力するためのガス源と、
（ｂ）該ガスをイオン化するために該ガス源に接続されるイオン化源と、
（ｃ）リソグラフィの間に、該レチクルの該マスク表面から汚染物質を取り除くために該イオン化されたガスを該レチクルの該マスク表面上に方向付けるための、該ガス源および該イオン化源のうちの少なくとも１つに接続される送達デバイスと、
（ｄ）該汚染物質を取り除くための汚染物質コレクタと、
を含む、請求項１３に記載の装置。
【請求項１６】  前記ガスは、窒素である、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】  前記ガスは、静電荷を用いてイオン化される、請求項１５に記載の装置。
【請求項１８】  前記汚染物質コレクタは、前記レチクルの前記マスク表面から取り除かれる汚染物質の静電的引力を誘発するために、正または負に電気的にバイアスをかけられる、請求項１５に記載の装置。
【請求項１９】  前記イオン化源は、アルファ粒子を生成する、請求項１５に記載の装置。
【請求項２０】  前記アルファ粒子は、放射性同位体によって生成される、請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】  前記アルファ粒子は、ポロニウムによって生成される、請求項１９に記載の装置。
【請求項２２】  前記アルファ粒子は、アメリシウムによって生成される、請求項１９に記載の装置。
【請求項２３】  前記イオン化源は、前記送達デバイス内にある、請求項１９に記載の装置。
【請求項２４】  前記送達デバイスおよび前記汚染物質コレクタは、前記レチクルの前記マスク表面に隣接する側に開口部を有するチューブを含む、請求項１５に記載の装置。
【請求項２５】  前記送達デバイスおよび前記汚染物質コレクタは、２つのチャンバを有するデバイスによって実施され、該２つのチャンバを有するデバイスの第１のチャンバは、該送達デバイスとして用いられ、該２つのチャンバを有するデバイスの第２のチャンバは、該汚染物質コレクタとして用いられる、請求項１５に記載の装置。
【請求項２６】  リソグラフィシステムのレチクルをインサイチュクリーニングする装置であって、
リソグラフィの間において、該レチクルを平行移動させる手段と、
リソグラフィの間において、該レチクルのマスク表面の第１の部分を露光する手段と、
リソグラフィの間において、該レチクルの該マスク表面の第２の部分を洗浄する手段と、を含み、
ここで、該移動手段、該露光手段、および該洗浄手段は、該レチクル上において同時に動作し、
ここで、該レチクルの該マスク表面の該第１の部分と該第２の部分とは異なる、装置。
【請求項２７】  前記レチクルの前記マスク表面の前記第２の部分を洗浄する手段は、
ガスをイオン化する手段と、
該イオン化されたガスを前記レチクルの前記マスク表面の前記第２の部分上に方向付ける手段と、
該イオン化されたガスおよび取り除かれた汚染物質を前記レチクルの前記マスク表面の前記第２の部分から収集する手段と、
をさらに含む、請求項２６に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
図３は、本発明によるアルファ粒子のイオン化源２２０の説明図である。イオン化されていないガス３０５は、アルファ粒子３１５を生成する放射源３１０を 有するチャンバに入る。アルファ粒子３１５は、ガス（概して、フロー３２０に図示する）に衝撃を与えて、イオン化されたガス１４０を生成する。その後、イオン化されたガス１４０は、外に出て、レチクル１１０上に方向付けられる。上記のように、一実施形態において、放射源３１０は、ポロニウムまたはアメ リシウムなどの放射性同位体である。別の実施形態において、放射源３１０は、ガスをイオン化するために用いられる静電気デバイスに代えられ得る。