【手続補正書】
【提出日】平成16年10月4日(2004.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【書類名】          明細書
【発明の名称】      液処理装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】  被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理装置であって、
被処理体を収納可能な処理チャンバと、
前記処理チャンバに収納された被処理体に所定の処理液を供給する処理液供給手段と、
前記処理チャンバを処理位置と退避位置との間で移動させるチャンバ移動機構と、
前記処理チャンバの退避位置側下端部に設けられた処理液排出口と、
前記処理液排出口から排出される処理液をドレインに誘導するための排液誘導部材を有する処理液排出機構と、
を具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項２】  被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理装置であって、
被処理体を収納可能な筒状に形成された処理チャンバと、
前記処理チャンバを略水平方向に位置する処理位置と退避位置との間でスライドさせるチャンバ移動機構と、
前記処理チャンバ内の被処理体に所定の処理液を供給する処理液供給手段と、
前記処理チャンバの退避位置側下端部に設けられた処理液排出口と、
前記処理液排出口と連通し、前記処理液排出口から排出される処理液を所定の方向に誘導する排液誘導部材と、
前記処理チャンバの処理位置側において前記処理チャンバとは別体で設けられたドレイン管と、
を具備し、
前記排液誘導部材と前記ドレイン管とは、前記処理チャンバが処理位置にあるときには嵌合されて排液流路が形成され、前記処理チャンバが待避位置にあるときには離隔して前記排液流路が断絶された状態となることを特徴とする液処理装置。
【請求項３】  被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理装置であって、
被処理体を収納可能な筒状の内側チャンバ、および、被処理体と前記内側チャンバを収納可能な筒状の外側チャンバとからなる二重構造を有する処理チャンバと、
前記内側チャンバまたは前記外側チャンバに収納された被処理体に所定の処理液を供給する処理液供給手段と、
略水平方向に位置する被処理体の液処理を行う処理位置と前記処理位置から離隔した退避位置との間で前記内側チャンバまたは前記外側チャンバをスライド移動させるチャンバ移動機構と、
前記内側チャンバの退避位置側下端部に設けられた処理液排出口と、
前記処理液排出口と連通し、前記処理液排出口から排出される処理液を所定の方向に誘導する排液誘導部材と、
前記処理位置側に前記処理チャンバとは別体で設けられたドレイン管と、
を具備し、
前記排液誘導部材と前記ドレイン管とは、前記内側チャンバが処理位置にあるときには嵌合されて排液流路が形成され、前記内側チャンバが待避位置にあるときには離隔して前記排液流路が断絶された状態となることを特徴とする液処理装置。
【請求項４】  前記排液誘導部材の先端に開閉弁が配設され、前記処理液排出口から排出される処理液の流出が制御されることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項５】  前記排液誘導部材の先端の下方に前記排液誘導部材から液垂れした処理液を受ける樋が設けられていることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項６】  前記ドレイン管の先端に排気口が設けられ、排気経路と排液経路が分離されることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項７】  被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理装置であって、
被処理体を収納可能な筒状に形成された処理チャンバと、
前記処理チャンバを略水平方向に位置する処理位置と退避位置との間でスライドさせるチャンバ移動機構と、
前記処理チャンバ内の被処理体に所定の処理液を供給する処理液供給手段と、
前記処理チャンバの下端部に設けられた処理液排出口と、
前記処理液排出口と連通し、前記処理液排出口から排出される処理液を所定の方向に誘導する排液誘導部材と、
前記処理チャンバの処理位置側において前記処理チャンバとは別体で設けられたドレイン管と、
を具備し、
前記排液誘導部材と前記ドレイン管とは前記処理チャンバのスライドに合わせて伸縮する伸縮自在な蛇腹管により連通していることを特徴とする液処理装置。
【請求項８】  被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理装置であって、
被処理体を収納可能な筒状に形成された処理チャンバと、
前記処理チャンバを略水平方向に位置する処理位置と退避位置との間でスライドさせるチャンバ移動機構と、
前記処理チャンバ内の被処理体に所定の処理液を供給する処理液供給手段と、
前記処理チャンバの下端部に設けられた処理液排出口と、
前記処理液排出口と連通し、前記処理液排出口から排出される処理液を所定の方向に誘導する排液誘導部材と、
前記処理チャンバの処理位置側において前記処理チャンバとは別体で設けられたドレイン管と、
を具備し、
前記排液誘導部材と前記ドレイン管は、一方が他方の内部をスライドする互いにパイプで構成された嵌合部を有し、
前記嵌合部は前記処理チャンバのスライドに合わせて長さが変化しつつ、常に連通した状態にあることを特徴とする液処理装置。
【請求項９】  前記嵌合部の下方に前記嵌合部から液垂れする処理液を受ける液受けが配設されていることを特徴とする請求項８に記載の液処理装置。
【請求項１０】  前記嵌合部から離れた位置において前記ドレイン管の上部に排気口が設けられていることを特徴とする請求項８または請求項９に記載の液処理装置。
【請求項１１】  前記嵌合部を囲繞するように前記排液誘導部材にカバーが配設され、
前記カバーは上部に形成された排気口と下部に形成された排液口とを有することを特徴とする請求項８から請求項１０のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項１２】  前記処理チャンバの底部に処理液が前記処理液排出口へ流れ込むように３°以上の勾配が設けられていることを特徴とする請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項１３】  前記勾配が５°以上であることを特徴とする請求項１２に記載の液処理装置。
【請求項１４】  前記処理液供給手段が被処理体の上方外延範囲外かつ水平位置より上方の範囲において、前記処理チャンバ内に配設されていることを特徴とする請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項１５】  被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理装置であって、
前記被処理体を保持する保持部材と、
前記保持部材に保持された被処理体を収容し、液処理する処理チャンバと、
を具備し、
前記処理チャンバは、
水平方向に延在する中心軸を有する略筒状の胴体部と、
処理液を集めるために前記筒状体の水平方向の一端から他端に向けて下向きに傾斜するように前記胴体部の底部に設けられた案内溝部と、
処理液を排出するために前記案内溝部の下端に近接して設けられた排出ポートと、
を具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項１６】  前記案内溝部の底の傾斜角が３°以上１０°以下であることを特徴とする請求項１５に記載の液処理装置。
【請求項１７】  被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理装置であって、
前記被処理体を保持する保持部材と、
短径な第１の円形端部および前記第１の円形端部よりも相対的に長径な第２の円形端部を有する切頭円錐形状の胴体部を具備し、前記保持部材に保持された被処理体を収容して液処理する処理チャンバと、
を具備し、
前記処理チャンバは、前記胴体部の第１の母線が前記胴体部の最上部において水平方向に延在し、かつ、前記胴体部の第２の母線が前記胴体部の最下部において第１の円形端部から第２の円形端部に向けて下向きに傾斜するように、配置され、
前記処理チャンバから処理液を排出するための排出ポートは、前記第２の円形端部の最下部に近接して設けられていることを特徴とする液処理装置。
【請求項１８】  前記第２の母線の傾斜角が３°以上１０°以下であることを特徴とする請求項１７に記載の液処理装置。
【請求項１９】  前記被処理体は円板であり、
前記処理チャンバの内部に処理液を供給するノズルをさらに具備し、
前記ノズルは、前記円板が前記保持部材に保持された状態で前記円板の中心軸方向から見たときに、前記処理チャンバ内の、前記円板の中心を通る水平直径線よりも上側であって、この水平直径線と前記円板の外周との交点を通る鉛直線の外側の領域に配設されていることを特徴とすることを特徴とする請求項１５から請求項１８のいずれか１項に記載の液処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハやＬＣＤ基板等の各種基板に対して所定の液処理や乾燥処理を施すために用いられる液処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、半導体デバイスの製造工程においては、基板としての半導体ウエハ（以下「ウエハ」という）を所定の薬液や純水等の洗浄液によって洗浄し、ウエハからパーティクル、有機汚染物、金属不純物等のコンタミネーションを除去するウエハ洗浄装置や、窒素（Ｎ２）ガス等の不活性ガスや揮発性および親水性の高いＩＰＡ蒸気等によってウエハから液滴を取り除いてウエハを乾燥させるウエハ乾燥装置が使用されている。これらの洗浄装置および乾燥装置としては、複数枚のウエハをウエハ洗浄室やウエハ乾燥室内に収納してバッチ式に処理するものが知られている。
【０００３】
例えば、米国特許５７８４７９７号、同第５６７８３２０号に記載されているウエハ洗浄装置では、ウエハ洗浄室の前面側（ウエハ搬送アームが移動してきた際にウエハ搬送アームと対向する面）に設けられた搬入出口を介して、ウエハ搬送アームのウエハチャックをウエハ洗浄槽の前方側（ロータの前方側）からウエハ洗浄室内に進入させ、このウエハチャックに把持されたウエハをロータに渡したり、ロータに保持されたウエハをウエハチャックにより受け取るようになっている。
【０００４】
また、図１９に示すウエハ洗浄装置２００も知られており、ウエハ洗浄装置２００は、ウエハ洗浄室２０１を形成する処理チャンバ２０２を有し、ウエハＷを保持可能かつ回転可能に設けられたロータ２０５を処理チャンバ２０２の前方側に形成されたウエハ搬入出口２０３から進出退入可能とし、ロータ２０５を処理チャンバ２０２から進出させた状態で、ロータ２０５と搬送アームのウエハチャック２０９ａ・２０９ｂとの間でウエハＷの受け渡しが可能となっている。なお、参照符号２０７はロータ２０５を進出退避させ回転させる駆動機構、２０８は回転軸、２０４は処理チャンバ２０２の蓋、２０６はロータ２０５の保持部材である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記米国特許第５７８４７９７号、同第５６７８３２０号に開示されたウエハ洗浄装置では、ウエハ洗浄室内に進入してきたウエハチャックを開閉させるだけの十分なスペースを設ける必要があり、その分、ウエハ洗浄室が大型化してしまう問題を内在する。また、ウエハ洗浄室の限られたスペース内でウエハチャックを開閉させるため、ウエハ洗浄槽の内壁等に衝突しないようにウエハチャックの動作を注意深く制御する必要があり、そのため、ウエハ搬送アームの動作が複雑化し、動作制御プログラムも複雑なものとならざるを得ない。
【０００６】
また、図１９に示したウエハ洗浄装置２００では、限られたスペースの中でウエハチャックを開閉させる必要はないが、ウエハチャック２０９ａ・２０９ｂとロータ２０５の保持部材２０６とが互いに衝突しないように制御しなければならず、やはり動作プログラム等が複雑なものとなってしまう問題がある。
【０００７】
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであって、装置を大型化させることなく、制御が容易で、被処理体に対する洗浄等の液処理を効率的に行うことを可能ならしめる液処理装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決することができる技術として、本出願人は、先に特願平１１−３２６０８４号において、処理チャンバ（処理室）を移動する機構を備えた基板処理装置（液処理装置）を提案している。しかしながら、図１８を参照して後述説明するように、特願平１１−３２６０８４号に開示の基板処理装置では、処理液の排出を処理チャンバの前面の垂直壁２６ｂから行うようになっており、それに伴って処理チャンバ内の雰囲気の分離や入れ替えに時間を要する等の新たな問題が生じる。
【０００９】
本発明は上記課題の他にこのような新たな問題をも解決するものであり、第１発明として、被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理装置であって、
被処理体を収納可能な処理チャンバと、前記処理チャンバに収納された被処理体に所定の処理液を供給する処理液供給手段と、前記処理チャンバを処理位置と退避位置との間で移動させるチャンバ移動機構と、前記処理チャンバの退避位置側下端部に設けられた処理液排出口と、前記処理液排出口から排出される処理液をドレインに誘導するための排液誘導部材を有する処理液排出機構と、を具備することを特徴とする液処理装置、を提供する。
【００１０】
本発明は第２発明として、被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理装置であって、
被処理体を収納可能な筒状に形成された処理チャンバと、前記処理チャンバを略水平方向に位置する処理位置と退避位置との間でスライドさせるチャンバ移動機構と、前記処理チャンバ内の被処理体に所定の処理液を供給する処理液供給手段と、前記処理チャンバの退避位置側下端部に設けられた処理液排出口と、前記処理液排出口と連通し、前記処理液排出口から排出される処理液を所定の方向に誘導する排液誘導部材と、前記処理チャンバの処理位置側において前記処理チャンバとは別体で設けられたドレイン管と、を具備し、
前記排液誘導部材と前記ドレイン管とは、前記処理チャンバが処理位置にあるときには嵌合されて排液流路が形成され、前記処理チャンバが待避位置にあるときには離隔して前記排液流路が断絶された状態となることを特徴とする液処理装置、を提供する。
【００１１】
本発明は第３発明として、被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理装置であって、
被処理体を収納可能な筒状の内側チャンバ、および、被処理体と前記内側チャンバを収納可能な筒状の外側チャンバとからなる二重構造を有する処理チャンバと、前記内側チャンバまたは前記外側チャンバに収納された被処理体に所定の処理液を供給する処理液供給手段と、略水平方向に位置する被処理体の液処理を行う処理位置と前記処理位置から離隔した退避位置との間で前記内側チャンバまたは前記外側チャンバをスライド移動させるチャンバ移動機構と、前記内側チャンバの退避位置側下端部に設けられた処理液排出口と、前記処理液排出口と連通し、前記処理液排出口から排出される処理液を所定の方向に誘導する排液誘導部材と、前記処理位置側に前記処理チャンバとは別体で設けられたドレイン管と、を具備し、
前記排液誘導部材と前記ドレイン管とは、前記内側チャンバが処理位置にあるときには嵌合されて排液流路が形成され、前記内側チャンバが待避位置にあるときには離隔して前記排液流路が断絶された状態となることを特徴とする液処理装置、を提供する。
【００１２】
これら第１発明から第３発明においては、排液経路（ドレイン）の構造が簡単であり、接離も可能であることから、ドレインの配設スペースが削減されて装置構成の設計自由度が増し、装置の小型化も可能となる。また、内側チャンバと外側チャンバからなる処理チャンバでは、両チャンバの処理雰囲気の分離も容易であり、液処理を効率的に進めることが可能となる。さらに、処理チャンバを移動させることから被処理体の搬送制御が複雑とならず、こうして被処理体の破損が回避される。
【００１３】
また、本発明は第４発明として、被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理装置であって、
被処理体を収納可能な筒状に形成された処理チャンバと、前記処理チャンバを略水平方向に位置する処理位置と退避位置との間でスライドさせるチャンバ移動機構と、前記処理チャンバ内の被処理体に所定の処理液を供給する処理液供給手段と、前記処理チャンバの下端部に設けられた処理液排出口と、前記処理液排出口と連通し、前記処理液排出口から排出される処理液を所定の方向に誘導する排液誘導部材と、前記処理チャンバの処理位置側において前記処理チャンバとは別体で設けられたドレイン管と、を具備し、
前記排液誘導部材と前記ドレイン管とは前記処理チャンバのスライドに合わせて伸縮する伸縮自在な蛇腹管により連通していることを特徴とする液処理装置、を提供する。
【００１４】
本発明は第５発明として、被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理装置であって、
被処理体を収納可能な筒状に形成された処理チャンバと、前記処理チャンバを略水平方向に位置する処理位置と退避位置との間でスライドさせるチャンバ移動機構と、前記処理チャンバ内の被処理体に所定の処理液を供給する処理液供給手段と、前記処理チャンバの下端部に設けられた処理液排出口と、前記処理液排出口と連通し、前記処理液排出口から排出される処理液を所定の方向に誘導する排液誘導部材と、前記処理チャンバの処理位置側において前記処理チャンバとは別体で設けられたドレイン管と、を具備し、
前記排液誘導部材と前記ドレイン管は一方が他方の内部をスライドする互いにパイプで構成された嵌合部を有し、前記嵌合部は前記処理チャンバのスライドに合わせて長さが変化しつつ、常に連通した状態にあることを特徴とする液処理装置、を提供する。
【００１５】
これら第４発明および第５発明では、ドレインが連通していることから処理液の液垂れが防止され、また、処理チャンバが内側チャンバと外側チャンバからなる二重構造チャンバの内側チャンバである場合には、各チャンバの雰囲気分離と制御が容易である利点がある。
【００１６】
さらに、本発明は第６発明として、被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理装置であって、
前記被処理体を保持する保持部材と、前記保持部材に保持された被処理体を収容し、液処理する処理チャンバと、を具備し、
前記処理チャンバは、水平方向に延在する中心軸を有する略筒状の胴体部と、処理液を集めるために前記筒状体の水平方向の一端から他端に向けて下向きに傾斜するように前記胴体部の底部に設けられた案内溝部と、処理液を排出するために前記案内溝部の下端に近接して設けられた排出ポートと、を具備することを特徴とする液処理装置、を提供する。
【００１７】
さらにまた、本発明は第７発明として、被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理装置であって、
前記被処理体を保持する保持部材と、短径な第１の円形端部および前記第１の円形端部よりも相対的に長径な第２の円形端部を有する切頭円錐形状の胴体部を具備し、前記保持部材に保持された被処理体を収容して液処理する処理チャンバと、を具備し、
前記処理チャンバは、前記胴体部の第１の母線が前記胴体部の最上部において水平方向に延在し、かつ、前記胴体部の第２の母線が前記胴体部の最下部において第１の円形端部から第２の円形端部に向けて下向きに傾斜するように、配置され、
前記処理チャンバから処理液を排出するための排出ポートは、前記第２の円形端部の最下部に近接して設けられていることを特徴とする液処理装置、を提供する。
【００１８】
これら第６発明および第７発明において用いられる処理チャンバは、前述した第１から第５の液処理装置が具備する処理チャンバとして用いることができ、処理液排出口からの排液を容易とする。また、処理チャンバの内側下部に処理液排出口への案内溝等を形成する必要がなく、処理チャンバの製造コスト低減にも寄与する。また、第７発明に用いられている処理チャンバは、処理チャンバ内部に案内溝等の凹凸が形成されていないので、被処理体を回転等させて処理チャンバ内に気流が発生しても、気流によって処理液が凹凸部分に衝突して飛散し、被処理体に再付着して液跡を生ずることも回避される。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について具体的に説明する。本発明の液処理装置は、各種基板を被処理体とする洗浄処理装置、乾燥処理装置等に適用できるが、本実施形態では、半導体ウエハ（以下「ウエハ」という）の搬入、洗浄、乾燥、搬出をバッチ式に一貫して行うように構成された洗浄処理装置として用いた場合について説明する。
【００２０】
図１は本実施形態に係る洗浄処理装置の斜視図であり、図２はその平面図である。これら図１および図２に示されるように、洗浄処理装置１は、ウエハＷを収納可能なキャリア（基板収納容器）Ｃの搬入出が行われるイン・アウトポート（容器搬入出部）２と、ウエハＷに対して洗浄処理を実施する洗浄処理ユニット３と、イン・アウトポート２と洗浄処理ユニット３との間に設けられ、洗浄処理ユニット３に対してキャリアＣの搬入出を行うためのステージ部４と、キャリアＣを洗浄するキャリア洗浄ユニット５と、複数のキャリアＣをストックするキャリアストックユニット６とを備えている。なお、参照符号７は電源ユニットであり、８はケミカルタンクボックスである。
【００２１】
イン・アウトポート２は、４個のキャリアＣを載置可能な載置台１０と、キャリアＣの配列方向に沿って形成された搬送路１１を移動可能に設けられ、載置台１０のキャリアＣをステージ部４に搬送し、かつステージ部４のキャリアＣを載置台１０に搬送するためのキャリア搬送機構１２とを有している。キャリアＣ内には、例えば、２５枚または２６枚のウエハＷが収納可能となっており、キャリアＣはウエハＷの主面が略鉛直に配列されるように配置されている。
【００２２】
ステージ部４は、キャリアＣを載置するステージ１３を有しており、また、後に図３に示すようにこのステージ１３にはスライドステージ３２が配設されている。イン・アウトポート２からこのスライドステージ３２に搬送され、載置されたキャリアＣは、スライドステージ３２を駆動することによって洗浄処理ユニット３内に搬入され、洗浄処理ユニット３内のキャリアＣはこのスライドステージ３２によりステージ１３に搬出される。
【００２３】
なお、ステージ１３には、載置台１０からキャリア搬送機構１２のアームを回転させてキャリアＣが載置されるため、載置台１０とは逆向きにキャリアＣが載置される。このため、ステージ１３にはキャリアＣの向きを戻すための図示しない反転機構が設けられている。
【００２４】
ステージ部４と洗浄処理ユニット３との間には仕切壁１４が設けられており、仕切壁１４には搬入出用の開口部１４ａが形成されている。この開口部１４ａはシャッター１５により開閉可能となっており、処理中にはシャッター１５が閉じられ、キャリアＣの搬入出時にはシャッター１５が開けられる。
【００２５】
キャリア洗浄ユニット５は、キャリア洗浄槽１６を有しており、後述するように洗浄処理ユニット３においてウエハＷが取り出されて空になったキャリアＣが洗浄されるようになっている。
【００２６】
キャリアストックユニット６は、洗浄前のウエハＷが入ったキャリアＣや洗浄前のウエハＷが取り出されて空になったキャリアＣを一時的に待機させるためや、洗浄後のウエハＷを収納するための空のキャリアＣを予め待機させるためのものであり、上下方向に複数のキャリアＣがストック可能となっており、その中の所定のキャリアＣを載置台１０に載置したり、その中の所定の位置にキャリアＣをストックしたりするためのキャリア移動機構を内蔵している。
【００２７】
次に、洗浄処理ユニット３の構成ついて説明する。ここで、洗浄処理ユニット３に配設される処理チャンバとしては、外側チャンバ２６と外側チャンバ２６内に収納可能な内側チャンバ２７とからなる二重構造チャンバを例示するものとする。
【００２８】
図３は洗浄処理ユニット３の内部を示す断面図、図４および図５は洗浄処理ユニットの洗浄処理部２０を示す断面図であり、図４は内側チャンバ２７を外側チャンバ２６の外部に出した状態（以下、このような状態における内側チャンバ２７の位置を「退避位置」ということとする）、図５は外側チャンバ２６の内部に内側チャンバ２７を配置した状態（以下、このような状態における内側チャンバ２７の位置を「処理位置」ということとする）を示している。なお、図３は外側チャンバ２６と内側チャンバ２７の両方を退避位置にスライドさせた状態を示している。
【００２９】
洗浄処理ユニット３の内部には、図３に示すように、洗浄処理部２０と、洗浄処理部２０の直下にキャリアＣを待機させるキャリア待機部３０と、キャリア待機部３０に待機されたキャリアＣ内の複数のウエハＷを押し上げて洗浄処理部２０に移動させ、かつ洗浄処理部２０の複数のウエハＷを保持してキャリア待機部３０のキャリアＣに収納させるためのウエハ移動機構４０とが設けられている。
【００３０】
なお、洗浄処理ユニット３では、ウエハＷは、洗浄処理部２０の下側を出入り口として、洗浄処理部２０とキャリア待機部３０との間を上下方向に移動する構造となっているが、ウエハＷの移動の機構に制限はなく、ウエハＷは、洗浄処理部２０の上側から、あるいは横方向等から、洗浄処理部２０に収容されるように構成してもよい。
【００３１】
ステージ１３上にはキャリアＣを載置するスライドステージ３２が配設されている。スライドステージ３２は、例えば、３段に構成されており、上方の２段をそれぞれキャリア待機部３０側にスライドさせることで、上段に載置されたキャリアＣをキャリア待機部３０におけるロータ２４の直下に搬入して待機させることが可能となっている。
【００３２】
ウエハ移動機構４０は、ウエハＷを保持するウエハ保持部材４１と、鉛直に配置されウエハ保持部材４１を支持する支持棒４２と、支持棒４２を介してウエハ保持部材４１を昇降する昇降駆動部４３とを有している。昇降駆動部４３によりウエハ保持部材４１を昇降させることにより、キャリア待機部３０にあるキャリアＣに収納された洗浄処理前のウエハＷを上方の洗浄処理部２０のロータ２４内に移動させ、またはロータ２４内の洗浄処理後のウエハＷをキャリア待機部３０にあるキャリアＣに移動させるようになっている。
【００３３】
洗浄処理部２０は、ウエハＷのエッチング処理後にレジストマスク、エッチング残渣であるポリマー層等を除去するものであり、鉛直に設けられた支持壁１８と、回転軸２３ａを水平にして支持壁１８に取り付け治具１８ａを用いて固定されたモータ２３と、モータ２３の回転軸２３ａに取り付けられたロータ２４と、モータ２３の回転軸２３ａを囲繞する円筒状の支持筒２５と、支持筒２５に支持され、ロータ２４を囲繞するように構成される外側チャンバ２６と、外側チャンバ２６の内側に配置された状態で薬液処理を行う内側チャンバ２７とを有している。
【００３４】
ロータ２４は、鉛直にされた複数（例えば２６枚）のウエハＷを水平方向に配列した状態で保持可能となっており、このロータ２４は、モータ２３によって回転軸２３ａを介して、係止部材７１ａ・７１ｂ・７２ａ・７２ｂによって係止され、ウエハ保持部材８３ａ・８３ｂにより保持された複数のウエハＷとともに回転されるようになっている。なお、図４および図５において、係止部材７１ｂ・７２ｂはそれぞれ係止部材７１ａ・７２ａの背面に位置し、また、ウエハ保持部材８３ｂはウエハ保持部材８３ａの背面に位置している。
【００３５】
外側チャンバ２６は略円錐台形状（略円錐形の頂点側を底面に平行な面で切り落とした土台部分の形状をいう）をなし、処理位置（図３の二点鎖線）と支持筒２５の外側の退避位置（図３の実線）との間で移動可能に構成されており、ウエハＷの搬入出時には図３に示すように退避位置に位置される。
【００３６】
また、図４に示すように、外側チャンバ２６が処理位置にあり、内側チャンバ２７が退避位置にある際には、外側チャンバ２６と、モータ２３側の垂直壁２６ａと、先端側の垂直壁２６ｂとで処理空間５１が形成される。処理空間５１の下部には、ドレイン管６３とドレインバルブ６１からなるドレイン（排液経路）が垂直壁２６ｂに形成された排液口６１ａに連通して形成されており、処理空間５１の上部には、排気バルブ６５と排気管６７からなる排気経路が垂直壁２６ｂに形成された排気口６５ａに連通して設けられている。
【００３７】
なお、外側チャンバ２６はその端面の外径が異なることから、長径側を垂直壁２６ｂ側として、外側チャンバ２６の胴部の底部に垂直壁２６ｂ側が下方となるような勾配を設けることにより、処理空間５１で用いられた処理液を、容易にドレイン管６３を通して排出することができる。
【００３８】
垂直壁２６ａは支持筒２５に取り付けられており、支持筒２５と回転軸２３ａとの間にはベアリング２８が設けられている。また、垂直壁２６ａと支持筒２５の先端部はラビリンスシール２９によりシールされており、モータ２３で発生するパーティクル等が処理空間５１に侵入することが防止されている。なお、支持筒２５のモータ２３側の端部には外側チャンバ２６と内側チャンバ２７を係止する係止部材２５ａが設けられており、係止部材２５ａは支持壁１８に取り付けられている。
【００３９】
内側チャンバ２７は外側チャンバ２６よりも径が小さい略円錐台形状をなし、図５に示す処理位置と、図３、図４に示す退避位置との間でスライド移動可能に構成されており、ウエハＷの搬入出時には外側チャンバ２６とともに退避位置に位置される。また、図５に示すように内側チャンバ２７が処理位置にある際には、内側チャンバ２７と垂直壁２６ａ・２６ｂとで処理空間５２が形成される。
【００４０】
次に、内側チャンバ２７の構成について詳細に説明する。図６は内側チャンバ２７の斜視図であり、図７は内側チャンバ２７の正面図および断面図である。図６および図７において、図４等に示されている処理液供給手段としての吐出ノズル５６は省略されている。
【００４１】
内側チャンバ２７の胴部２７ａは略円錐台形状であり、短径側が先端側（垂直壁２６ｂ側（処理位置側））、長径側がモータ２３側（退避位置側）となるように、また、上側が略水平で底部に所定の勾配が形成されるようにして、さらに長さ方向（図６中の線ＡＡ方向）がスライド方向に一致するように配置されている。内側チャンバ２７の両端面には、その短径側にリング部材２７ｂが、長径側にリング部材２７ｃが、それぞれ胴部２７ａに接合されており、内側チャンバ２７が処理位置に配置されたときには、リング部材２７ｂの内周面と垂直壁２６ｂとがシールされ、リング部材２７ｃと垂直壁２６ａとがシールされる構造となっている。
【００４２】
なお、内側チャンバ２７のスライド方向は、図６において水平方向とされている。また、先に示した図５に示されるように、内側チャンバ２７は、胴部２７ａの底部に所定の勾配が形成される限り、胴部２７ａの上側にも勾配が形成されるように配置してもよい。さらに、胴部２７ａに代えて、図８の断面図に示すように円筒型に形成された胴部８７ａを用い、胴部８７ａの底部にチャンネルすなわち案内溝８１を形成するようにしてもよい。この場合、案内溝８１の底部にリング部材２７ｂ側からリング部材２７ｃ側に向かって低くなるような勾配を設けるとよい。
【００４３】
処理空間５２内の雰囲気を調整するために、また、退避位置での内側チャンバ２７内の雰囲気を調整するために、リング部材２７ｃの上端部には排気口４５ａが形成されており、排気口４５ａには排気管４４が取り付けられ、排気管４４の途中に排気バルブ４５が設けられている。また、リング部材２７ｃの下端部には処理液排出口４６が形成されており、この処理液排出口４６と連通するように排液誘導部材４７が配設されている。
【００４４】
前述したように、リング部材２７ｃは胴部２７ａの長径側に取り付けられており、また、胴部２７ａは上側が略水平で底部に勾配が形成されるように配置されていることから、内側チャンバ２７で使用された処理液は、容易に処理液排出口４６から排液誘導部材４７へ流れ込む構造となっている。
【００４５】
排液誘導部材４７は下方に伸び、その先端部４８は水平方向に長軸方向が一致するように、直管状のパイプ４８ａで構成されている。一方、垂直壁２６ａの近傍下部には、別体として、ドレイン管４９が配置されており、ドレイン管４９の先端には係合部５０が形成されている。なお、ドレイン管４９は、外側チャンバ２６を退避位置に移動させる際に外側チャンバ２６の移動を妨害しない位置に配設されている。
【００４６】
内側チャンバ２７が退避位置にあるときは、パイプ４８ａと係合部５０とは隔離された状態にあるが、内側チャンバ２７をウエハＷの洗浄処理等のために処理位置へスライドさせると、パイプ４８ａは係合部５０に嵌合されてシールされる。これにより排液誘導部材４７とドレイン管４９とが連通し、処理液の排液が可能となる。一方、ウエハＷの液処理が終了して内側チャンバ２７を退避位置へ戻す際には、パイプ４８ａと係合部５０とは離隔される。
【００４７】
図９は、パイプ４８ａと係合部５０との嵌合の一形態を示す断面図であり、パイプ４８ａと係合部５０のシールは、例えば、中空シール部材８４を用いて、中空シール部材８４の中空部に流体を供給して中空部を膨張させることで行うことができる。一方、中空シール部材８４の中空部から流体を排出させて中空部を収縮させるとシール状態が解除され、この状態においてパイプ４８ａの挿入と退出を行うことができる。なお、図９に示した係合部５０には、排気口８５が形成されており、排液と同時に排気も行うことができる構造となっている。この排気口８５からの排気の際には、邪魔板８６により排液（液体）の排気口８５内への混入が防止されている。
【００４８】
上述のように、接離可能な排液誘導部材４７およびドレイン管４９からなるドレインを形成すると、排液性能を損なうことなく装置の省スペース化が可能となる。つまり、例えば、内側チャンバ２７にホース状等の連続的なドレイン管を設けた場合には、内側チャンバ２７のスライドに伴ってドレイン管もまた移動することから、機械的な耐久性に問題が生ずるのみならず、ドレイン管が占有するスペースも広くなり、装置の大型化を招く等の問題を生ずるが、本発明においては、このような問題が生じないという特徴がある。
【００４９】
また、内側チャンバ２７が退避位置にある場合には、ロータ２４の下方にドレインが形成されていない状態となるので、ロータ２４とキャリア待機部３０の間のウエハＷの交換・移動を、容易に行うことが可能となる利点もある。
【００５０】
なお、図１８に示すように、長径側を垂直壁２６ｂ側として、胴部の底部の勾配が図４または図５の場合と逆に垂直壁２６ｂ側が下方となるように構成された内側チャンバ１７を用い、内側チャンバ１７が処理位置にあるときに形成される処理空間８７の下部にあたる垂直壁２６ｂの所定位置に排液口を設け、この排液口に連通するドレイン管６４およびドレインバルブ６２を配設した構造とすると、ドレインバルブ６２を閉じて内側チャンバ１７を退避位置に移動させても、ドレインバルブ６２が外側チャンバ２６によって形成される処理空間５１内に存在することとなる。
【００５１】
つまり、図１８に示した構造の場合、ドレインバルブ６２に残る内側チャンバ１７の基板処理に係る処理液の雰囲気が、処理空間５１の雰囲気に拡散することとなり、処理空間８７から処理空間５１へ移行する際の雰囲気制御に時間がかかるという問題を生ずるが、上述した図４〜図９に示したドレインの構造を採用することにより、このような問題をも回避することが可能となる。
【００５２】
上述した内側チャンバ２７に配設されたドレイン構造においては、排液誘導部材４７の先端部４８にあるパイプ４８ａに開閉弁を配設して、パイプ４８ａがドレイン管４９の係合部５０に嵌合される際には開放弁が開き、離隔した場合にはパイプ４８ａの端面を閉塞するように構成すると、パイプ４８ａからの処理液の液垂れが防止され、好ましい。
【００５３】
一方、このような開閉弁を設ける代わりに、図１０の断面図に示すように、排液誘導部材４７のパイプ４８ａの下方に、パイプ４８ａから液垂れした処理液を受ける樋５７を設けると、パイプ４８ａから処理液の液垂れが生じても、他の装置部材に付着することがなく、好ましいものとなる。このような樋５７は、排液誘導部材４７と共に移動することから、ウエハＷの移送にも支障をきたすことがない。なお、ドレイン管４９の係合部５０の下方にも、液垂れした処理液を受ける樋を設けることもできる。
【００５４】
次に、上述した内側チャンバ２７に用いられるドレイン構造の他の形態について説明する。図１１は、内側チャンバ２７に取り付けられた排液誘導部材４７の先端とドレイン管４９の先端との間を、伸縮自在な蛇腹管５８により常に連通させた構造を示している。蛇腹管５８は、内側チャンバ２７が処理位置にあるときには収縮しており、待避位置に移動する際に伸長した状態となる。
【００５５】
ドレイン構造を図１１に示した構造とする場合には、先に図１８を用いて説明したように、外側チャンバ２６と内側チャンバ２７によってそれぞれ形成される処理空間５１・５２の雰囲気の分離が容易となる利点がある。また、処理液の液垂れが起こらないことから、開閉弁や樋を設ける必要もない。
【００５６】
次に、図１２〜図１４を参照して、ドレイン構造のさらに別の実施形態について説明する。内側チャンバ２７に取り付けられた排液誘導部材４７ａは複数回屈曲し、図１３の平面図に示されるように上方から見た場合に内側チャンバ２７および外側チャンバ２６と重ならないように取り回しされている。この排液誘導部材４７ａは、その先端側に内側チャンバ２７の斜め下方に位置するとともに内側チャンバ２７のスライド方向に平行に延びるパイプ部７５を有しており、このパイプ部７５はドレイン管４９の先端側に形成されたパイプ部７５と平行に延びるパイプ部７６に嵌合されている。
【００５７】
パイプ部７６の先端部には先に図９を参照して説明したものと同様の係合部５０が形成されており、パイプ部７５・７６の重なり量は内側チャンバ２７のスライドに伴って変化するが、パイプ部７５は常時ドレイン管４９のパイプ部７６に設けられた係合部５０のシール部材８４との係合を維持する。なお、パイプ部７５が内側チャンバ２７のスライドに合わせて動いている間は、中空シール部材８４はシール解除の状態にあり、パイプ部７５は中空シール部材８４とは接触していない。
【００５８】
パイプ部７６の頂部には排気弁９０が設けられており、排気弁９０には排気管９１が接続されている。パイプ部７５とパイプ部７６の先端の下方には液受け９２が設けられており、液受け９２は、万一、係合部５０の中空シール部材８４を通り越して処理液が外側に漏洩した場合でも、この処理液を受け止めて、装置の周辺構成部品への付着を防止する。
【００５９】
これら図１２〜図１４に示した実施形態によれば、パイプ部７５・７６が常時嵌合しているために、基本的には液漏れの問題は生じない。また、フレキシブルチューブを用いていないために、耐久性にも優れている。また、排液誘導部材４７ａとそのパイプ部７５およびドレイン管４９とそのパイプ部７６が、ロータ２４の直下部と外側チャンバ２６および内側チャンバ２７の可動範囲から完全に外れた位置に配置されているため、図３に示すキャリア待機部３０におけるキャリアＣの待機位置からロータ２４へのウエハＷの搬入、ロータ２４からキャリアＣへの搬出を妨害することがない。
【００６０】
なお、図１２〜図１４に示した形態は、パイプ部７５を処理位置側に向けて設けた場合を示しているが、図１５に示すように、パイプ部７５とドレイン管４９およびそのパイプ部７６を退避位置側に向けて設けることも可能である。また、図１６に示すように、頂部に排気口が形成されて排気を行うことが可能であり、底部に排液口が形成されて排液を行うことができるカバー９３をパイプ部７５に取り付けた形態とすることもできる。なお、カバー９３はドレイン管４９とパイプ部７６の先端部をも囲繞しており、パイプ部７６の先端部から液漏れが生じた場合にも、液漏れした処理液を回収することができるようになっている。
【００６１】
次に、上述した種々の形態のドレインへの処理液の流入を容易とする処理チャンバの形態について、内側チャンバ２７を例に説明する。前述したように、内側チャンバ２７は略円錐台形の形状を有し、リング部材２７ｃは胴部２７ａの長径側に取り付けられており、また、胴部２７ａは底部に勾配が形成されるように配置されていることから、内側チャンバ２７で使用された処理液は、容易に処理液排出口４６から排液誘導部材４７へ流れ込む構造となっている。
【００６２】
先に図８に示したように内側チャンバ２７に円筒状の胴部８７ａを用い、胴部８７ａの底部に案内溝８１を設けた場合には、案内溝８１の形成加工等に費用を要する問題があり、また、ロータ２４を回転させたときに処理液が案内溝８１のエッジ部分に衝突して飛散し、ウエハＷに再付着する等の問題があった。しかし、略円錐台形の胴部２７ａを用いた内側チャンバ２７のように内部に凹凸がない構造とすることにより、このような問題を回避することができる。
【００６３】
なお、二重構造チャンバにおいて、下部に勾配が形成されていない円筒型チャンバを内側チャンバとして用いる場合には、胴部の底部が所定の勾配を有するようにその長軸方向（長さ方向）を水平方向と一定の角度をなすように傾ける必要がある。この場合において、チャンバのスライド方向を斜めとした場合には外側チャンバの形状が不要に大きくならざるをえず、好ましい形態とは言い難い。しかし、上述した内側チャンバ２７ではスライド方向は水平方向であり、また、下部の勾配は十分な排液能力を確保しつつも、大きくは傾斜していないことから、外側チャンバ２６を極端に大きくする必要もないという利点もある。
【００６４】
内側チャンバ２７の胴部２７ａの底部に設けられる勾配は、使用する処理液の粘度を考慮して適切な値に定めることができるが、純水等の種々の液体に用いることができるように、好適には３°以上とされ、５°以上とすることがより好ましい。但し、この勾配を大きくしすぎるとチャンバ内での洗浄雰囲気や乾燥雰囲気に不均一が生じ、また、装置が大型する等の問題を生ずることを考慮すると、胴部２７ａに設ける勾配は１０°以下とすることが好ましい。
【００６５】
なお、上述のように、チャンバの胴部の底部に勾配を設けることは、外側チャンバ２６についても同様に用いることができる。図３〜図５に示すように、外側チャンバ２６の垂直壁２６ｂ側を長径側とし、モータ２３側を短径側とすると、処理空間５１からの排液を行う排液口６１ａは垂直壁２６ｂの下方であって処理空間５２に含まれない位置に設けることができる。なお、処理空間５１についての排気口６５ａは、同様に垂直壁２６ｂの上方であって処理空間５２に含まれない位置に設けることができる。
【００６６】
続いて、上述した種々の形態のチャンバを用いて液処理や乾燥処理を行うにあたり、処理空間に配設される処理液供給手段として本発明において好適に用いられる吐出ノズルの好適な配設位置について、前掲した図３〜図５に示した処理空間５１・５２を例に説明する。
【００６７】
図４・図５に示されるように、処理空間５１の上端近傍部分には、多数の吐出口５３を有する吐出ノズル５４が垂直壁２６ｂに取り付けられた状態で水平方向に配置されている。一方、処理空間５２の上端近傍には多数の吐出口５５を有する吐出ノズル５６が内側チャンバ２７に取り付けられた状態で水平方向に沿って配置されている。
【００６８】
吐出ノズル５４からは図示しない供給源から供給された純水、ＩＰＡ、Ｎ２ガス、各種薬液が、吐出ノズル５６からは図示しない供給源から供給された各種薬液、純水、ＩＰＡが、それぞれ吐出可能となっている。
【００６９】
図１７は、内側チャンバ２７を例に、前掲した図７の正面図について、リング部材２７ｂ・２７ｃを省略し、胴部２７ａに吐出ノズル５６（５６ａ〜５６ｃ）を配置した状態を示す正面図である。ウエハＷに処理液を供給するこれらの吐出ノズル５６は、ウエハＷの上方外延範囲外、かつ、水平位置より上方の範囲において、処理空間５２内に配設することが好ましい。このような配置は、処理空間５１おける吐出ノズル５４についても同様である。
【００７０】
ここで、処理空間５２における吐出ノズル５６の配設位置についてさらに詳細に説明すると、「ウエハＷの上方外延範囲外に吐出ノズル５６が配置されている」とは、ウエハＷを処理空間５２を超えて上昇させた場合でも、ウエハＷと吐出ノズル５６ａ〜５６ｃとが接触することがないことを意味している。また、「水平位置より上方にある」とは、処理空間５２内の所定位置に保持されたウエハＷの中心を通る水平面（図１７中の点線ＳＳ）より上方にあるということを意味する。処理空間５１における吐出ノズル５４の配設位置についても同様である。
【００７１】
上記範囲は、図１７においては、胴部２７ａ内の範囲Ａ１とＢ１の重なり部分および範囲Ａ２とＢ２の重なり部分となるが、吐出口５５からの処理液の吐出が均一に行えるように、吐出ノズル５６はウエハＷからは若干の距離を設けることが好ましい。そこで、吐出ノズル５６の実際の配設位置は、おおよそ、図１７中に示される領域Ｃ１・Ｃ２の部分に相当する範囲となる。
【００７２】
各処理空間５１・５２において、このような位置に吐出ノズル５４・５６を配置することにより、各吐出口５３・５５から液漏れや液垂れがあっても、ウエハＷに付着することがない。つまり、各種の処理液の吐出後に、ウエハＷに液滴が付着して部分的な液跡が発生することが回避される。
【００７３】
なお、ウエハＷは、処理空間５１・５２内でモータ２３により回転処理されることから、処理空間５１・５２内では、ウエハＷの回転方向に気流が生ずることとなる。特に、吐出ノズル５４・５６から処理液を吐出しない状態で、乾燥を行う場合には、吐出ノズル５４・５６や吐出口５３・５５に処理液が付着していた場合には、生じた気流によって付着液が飛散し、ウエハＷに液跡が生ずることとなり、不良の発生を引き起こしかねない。
【００７４】
このような問題を解決するため、例えば、図１７に示すように矢印Ｒで示される反時計回りにウエハＷが回転する場合には生ずる気流も反時計回りとなることから、領域Ｃ１に配設されている吐出ノズル５６ａ・５６ｂを、前述の通り、ウエハＷの上方外延範囲外かつ水平位置より上方の範囲に配設すると、ウエハＷが回転しているときには吐出ノズル５６ａ・５６ｂからの液垂れした処理液は気流に乗って胴部２７ａに接近するためにウエハＷには付着し難く、こうしてウエハＷに液跡が生ずることが回避される。なお、一例として図１７では、吐出ノズル５６ａは点線ＳＳとのなす角が約６０°の位置に、吐出ノズル５６ｂは点線ＳＳとのなす角が約３０°の位置に配置されている。このような角度は胴部２７ａの内径と処理するウエハＷの外径、および吐出ノズル５６ａ・５６ｂの形状によって変化する。
【００７５】
一方、例えば、図１７において領域Ｃ２に配設されることとなる吐出ノズル５６ｃについては、領域Ｃ２の下半分程度の低い位置、例えば図１７に示されるような点線ＳＳとのなす角が約３０°の位置に配設し、たとえ吐出ノズル５６ｃに付着していた処理液が気流に乗ってウエハＷに近づくように飛ばされても、ウエハＷに付着することなく下方へ落ちるように設定することが好ましい。
【００７６】
吐出ノズル５６は、上述したように領域Ｃ１・Ｃ２内に好適に設けられるが、上方より流れてくる、或いは降ってくる処理液を再度噴き上げない程度の位置なら、図１７に示される範囲Ｄ１・Ｄ２のような水平位置よりも若干下方の領域、例えば、点線ＳＳとのなす角が１０°程度以内の範囲、に配設することもできる。このような場合にも、ウエハＷの回転による気流の発生等を考慮して、範囲Ｄ２は範囲Ｄ１よりも狭く取ることが好ましい。
【００７７】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明が上記実施の形態に限定されるものでないことはいうまでもなく、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、外側チャンバ２６および内側チャンバ２７の２つの処理チャンバによって処理を行う場合について説明したが、チャンバは３つ以上であってもよいし、１つであってもよい。また、外側チャンバ２６および内側チャンバ２７は、いずれを洗浄に、いずれを乾燥に用いても構わず、洗浄と乾燥の両方を連続して行う用途にも用いることができる。さらに、上記実施の形態では本発明を洗浄処理に適用した場合について示したが、これに限らず、所定の塗布液を塗布する塗布処理等の他の液処理、または液処理以外の処理、例えばＣＶＤ処理やエッチング処理等に適用することも可能である。さらにまた、半導体ウエハに適用した場合について示したが、これに限らず、液晶表示装置（ＬＣＤ）用基板等、他の基板の処理にも適用することができる。
【００７８】
【発明の効果】
上述の通り、本発明の液処理装置においては、用いられる処理チャンバにおいてドレインが接離可能に構成されていることから、洗浄処理ユニットにおける省スペース化が図られ、また、被処理体の移動経路の設計の自由度が大きくなるという顕著な効果を奏する。また、このような処理チャンバを、二重構造チャンバにおける内側チャンバとして用いた場合には、外側チャンバと内側チャンバの雰囲気の分離が容易であり、従って、使用中の雰囲気調整に要する時間が短縮されることからランニングコストの低減にも寄与する。さらに、連続したドレイン構造を用いる場合と比較して耐久性に優れる利点もある。
【００７９】
また、蛇腹管やパイプの嵌合とスライドを利用したドレイン構造を有する処理チャンバは、二重構造チャンバにおける内側チャンバとして用いた場合に、外側チャンバと内側チャンバの雰囲気の分離が容易となる利点がある。従って雰囲気調整に要する時間の短縮によってランニングコストの低減が図られると共に、ドレインからの液漏れ、液垂れの問題も回避される利点がある。
【００８０】
さらに、処理チャンバを略円錐台形状として、底部に勾配を設けて配設することにより、処理液の案内溝の加工形成を不要なものとして装置の製造コストの低減が図られる他、処理液を確実にドレインに流し込むことが可能となる。また、処理チャンバ内壁に凹凸がないため、被処理体を処理チャンバ内で回転させた場合に生ずる気流によっても、処理液が凹凸に衝突して飛散し、被処理体に再付着することが防止されることから、被処理体へのパーティクル等の付着もまた防止される。加えて、処理液供給手段たる吐出ノズルの配設位置が、吐出ノズルに付着した液滴等が飛散しても基板に再付着することのない適切な位置とされていることからも、被処理体に液跡等の不均一が生ずることが防止され、不良品の発生が回避されるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明の一実施形態に係る洗浄処理装置を示す斜視図。
【図２】
本発明の一実施形態に係る洗浄処理装置を示す平面図。
【図３】
本発明の一実施形態に係る洗浄処理ユニットを示す断面図。
【図４】
図３に示した洗浄処理ユニットにおいて、接離可能なドレイン構造を有する内側チャンバを外側チャンバの外部に出した状態を示す断面図。
【図５】
図３に示した洗浄処理ユニットにおいて接離可能なドレイン構造を有する内側チャンバを外側チャンバの内部に配置した状態を示す断面図。
【図６】
接離可能なドレイン構造を有する内側チャンバの一実施形態を示す斜視図。
【図７】
図６に示した内側チャンバの正面図および断面図。
【図８】
筒形チャンバの胴部に排液用の案内溝を設けた形態を示す断面図。
【図９】
接離可能なドレインを形成するパイプ部とキャップ部との嵌合の一形態を示す断面図。
【図１０】
排液誘導部材の下方に樋を設けた形態を示す断面図。
【図１１】
排液誘導部材とドレイン管との間を蛇腹管により連通させたドレイン構造を有する洗浄処理ユニットの断面図。
【図１２】
パイプ部材を嵌合させたドレイン構造を有する洗浄処理ユニットの断面図。
【図１３】
図１２に記載の洗浄処理ユニットを上方からみた平面図。
【図１４】
図１２に記載の洗浄処理ユニットにおけるパイプ部の嵌合形態を示す断面図。
【図１５】
パイプ部材を嵌合させたドレイン構造を有する別の洗浄処理ユニットの断面図。
【図１６】
パイプ部材を嵌合させたドレイン構造を有するさらに別の洗浄処理ユニットの断面図。
【図１７】
図７に示した内側チャンバの胴部への吐出ノズルの配設位置を示した説明図。
【図１８】
図５に示した洗浄処理ユニットにおいて内側チャンバの底部の傾斜方向を逆とした形態の断面図。
【図１９】
従来の洗浄処理ユニットを示す説明図。
【符号の説明】
１；洗浄処理装置
２；イン・アウトポート
３；洗浄処理ユニット
２０；洗浄処理部
２６；外側チャンバ
２７；内側チャンバ
４６；処理液排出口
４７；排液誘導部材
４８；先端部
４９；ドレイン管
５０；係合部
５１・５２；処理空間
５４・５６；吐出ノズル
７５・７６；パイプ部材
８４；シール部材
Ｗ……半導体ウエハ（基板）