(57)【要約】  層構成が単純であり、可視光透過率が高く、可視光反射率が低く、耐指紋付着性に優れた反射防止体および視認性のよいディスプレイ装置を提供する。  基体１０と反射防止膜２０とを有し、反射防止膜２０は、基体１０側から順に、スズ、ガリウムおよびセリウムからなる群から選ばれる１種以上と、インジウムとを酸化物として含む第１の高屈折率層２２と、銀およびパラジウムを含み、パラジウムの含有量が、金属層（１００質量％）中３〜２０質量％である金属層２４と、スズ、ガリウムおよびセリウムからなる群から選ばれる１種以上と、インジウムとを酸化物として含む第２の高屈折率層２６と、低屈折率層２８とを有する反射防止体１；および、反射防止体１がディスプレイ本体の視認側に設けられたディスプレイ装置。
2008081837.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体と反射防止膜とを有し、
該反射防止膜は、前記基体側から順に、
スズ、ガリウムおよびセリウムからなる群から選ばれる１種以上と、インジウムとを酸化物として含み、屈折率が１．８〜２．５である第１の高屈折率層と、
銀およびパラジウムを含み、銀の含有量が、金属層（１００質量％）中８０〜９７質量％であり、パラジウムの含有量が、金属層（１００質量％）中３〜２０質量％である金属層と、
スズ、ガリウムおよびセリウムからなる群から選ばれる１種以上と、インジウムとを酸化物として含み、屈折率が１．８〜２．５である第２の高屈折率層と、
屈折率が１．３〜１．６である低屈折率層と、
を有することを特徴とする反射防止体。
【請求項２】
金属層の厚さが、５〜１０ｎｍである、請求項１に記載の反射防止体。
【請求項３】
第１の高屈折率層が、スズとインジウムとを酸化物として含み、スズ原子の含有量が第１の高屈折率層中に７〜４８質量％である請求項１または２に記載の反射防止体。
【請求項４】
第１の高屈折率層の厚さが２０〜４０ｎｍである請求項３に記載の反射防止体。
【請求項５】
第１の高屈折率層が、セリウムとインジウムとを酸化物として含み、セリウム原子の含有量が第１の高屈折率層中に８〜５２．１質量％である請求項１または２に記載の反射防止体。
【請求項６】
第１の高屈折率層の厚さが１５〜３５ｎｍである請求項５に記載の反射防止体。
【請求項７】
第１の高屈折率層が、ガリウムとスズとインジウムとを酸化物として含み、スズ原子の含有量が第１の高屈折率層中に６３〜７７質量％であり、ガリウム原子の含有量が第１の高屈折率層中に１〜４質量％である請求項１または２に記載の反射防止体。
【請求項８】
第１の高屈折率層の厚さが２０〜４０ｎｍである請求項７に記載の反射防止体。
【請求項９】
第２の高屈折率層がスズとインジウムとを酸化物として含み、スズ原子の含有量が第２の高屈折率層中に７〜４８質量％である請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止体。
【請求項１０】
第２の高屈折率層の厚さが１２〜３０ｎｍである請求項９に記載の反射防止体。
【請求項１１】
第２の高屈折率層がセリウムとインジウムとを酸化物として含み、セリウム原子の含有量が第２の高屈折率層中に８〜５２．１質量％である請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止体。
【請求項１２】
第２の高屈折率層の厚さが８〜２５ｎｍである請求項１１に記載の反射防止体。
【請求項１３】
第２の高屈折率層が、ガリウムとスズとインジウムとを酸化物として含み、スズ原子の含有量が第２の高屈折率層中に６３〜７７質量％であり、ガリウム原子の含有量が第２の高屈折率層中に１〜４質量％である請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止体。
【請求項１４】
第２の高屈折率層の厚さが１２〜３０ｎｍである請求項１３に記載の反射防止体。
【請求項１５】
第１の高屈折率層と第２の高屈折率層とが、同じ材料組成の層である、請求項１〜１４のいずれかに記載の反射防止体。
【請求項１６】
低屈折率層がシリカを含む層であり、ケイ素原子の含有量が前記低屈折率層中に３０〜６０質量％である請求項１〜１５のいずれかに記載の反射防止体。
【請求項１７】
画像を表示するディスプレイ本体と、
該ディスプレイ本体の視認側に設けられた、請求項１〜１６のいずれかに記載の反射防止体と、
を具備することを特徴とするディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止体およびディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ディスプレイ装置の視認性を向上させるため、ディスプレイ本体の視認側に反射防止体を設けることが行われている。該反射防止体としては、基体と反射防止膜とを有し、該反射防止膜が、基体側から、透明な低屈折率誘電体層、透明な高屈折率誘電体層、および透明な低屈折率導電体層を有するものが知られている（特許文献１）。しかし、該反射防止体においては、低反射となる波長範囲を広くするために、反射防止膜を構成する層の数を増す必要があり、これに伴って製造コストが増える問題がある。【０００３】
層構成が単純な反射防止体としては、基体と反射防止膜とを有し、該反射防止膜が、基体側から、光吸収性層およびシリカ層を有するものが提案されている（特許文献２）。しかし、該反射防止体においては、光吸収性層を有するため、可視光透過率が低いという問題がある。【０００４】
層構成が単純で、かつ可視光透過率が高い反射防止体としては、基体と反射防止膜とを有し、該反射防止膜が、基体側から、高屈折率層、銀層、バリア層および低屈折率層を有するものが提案されている（特許文献３）。しかし、該反射防止体においては、反射防止膜に付着した指紋を長時間放置すると、反射防止膜に指紋跡が残りやすいという問題がある。
【特許文献１】特開昭６０−１６８１０２号公報
【特許文献２】特開平９−１５６９６４号公報
【特許文献３】特開２００１−３２４６０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、層構成が単純であり、可視光透過率が高く、可視光反射率が低く、耐指紋付着性に優れた反射防止体および視認性のよいディスプレイ装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の反射防止体は、基体と反射防止膜とを有し、該反射防止膜は、前記基体側から順に、スズ、ガリウムおよびセリウムからなる群から選ばれる１種以上と、インジウムとを酸化物として含み、屈折率が１．８〜２．５である第１の高屈折率層と、銀およびパラジウムを含み、銀の含有量が、金属層（１００質量％）中８０〜９７質量％であり、パラジウムの含有量が、金属層（１００質量％）中３〜２０質量％である金属層と、スズ、ガリウムおよびセリウムからなる群から選ばれる１種以上と、インジウムとを酸化物として含み、屈折率が１．８〜２．５である第２の高屈折率層と、屈折率が１．３〜１．６である低屈折率層とを有することを特徴とする。【０００７】
本発明のディスプレイ装置は、画像を表示するディスプレイ本体と、該ディスプレイ本体の視認側に設けられた本発明の反射防止体とを具備することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の反射防止体は、層構成が単純であり、可視光透過率が高く、可視光反射率が低く、耐指紋付着性に優れる。
本発明のディスプレイ装置は、視認性がよい。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の反射防止体の一例を示す断面図である。
【図２】例５の反射防止体の反射スペクトルである。
【図３】例５の反射防止体の透過スペクトルである。
【符号の説明】
【００１０】
１  反射防止体
１０  基体
２０  反射防止膜
２２  第１の高屈折率層
２４  金属層
２６  第２の高屈折率層
２８  低屈折率層
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
＜反射防止体＞
図１は、本発明の反射防止体の一例を示す断面図である。反射防止体１は、基体１０と、基体１０上に設けられた反射防止膜２０とを有する。【００１２】
（基体）
基体１０としては、ガラス板、プラスチック板、プラスチックフィルム等が挙げられる。プラスチックとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。【００１３】
（反射防止膜）
反射防止膜２０は、基体１０側から順に、第１の高屈折率層２２と、金属層２４と、第２の高屈折率層２６と、低屈折率層２８とを有する。【００１４】
（高屈折率層）
第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の屈折率は、１．８〜２．５であり、１．９〜２．３が好ましく、１．９〜２．２がより好ましい。第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の屈折率を該範囲とすることにより、４５０ｎｍ〜７００ｎｍの広い波長領域において低い反射率を得ることができる。
屈折率は、波長５５０ｎｍの光における屈折率である。【００１５】
第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６は、スズ、ガリウムおよびセリウムからなる群から選ばれる１種以上と、インジウムとを酸化物として含む層である。
以下、インジウムおよびスズを酸化物として含む高屈折率層をＩＴＯ層と記す。また、インジウム、スズおよびガリウムを酸化物として含む層をＧＩＴ層と記す。また、インジウムおよびセリウムを酸化物として含む高屈折率層をＩＣＯ層と記す。また、インジウムおよびガリウムを酸化物として含む高屈折率層をＧＩＯ層と記す。【００１６】
ＩＴＯ層：
ＩＴＯ層において、インジウムおよびスズは、酸化インジウム、酸化スズ、およびこれらの複合酸化物が混合した形で存在すると考えられる。ＩＴＯ層におけるインジウム原子およびスズ原子の含有量は、電子プローブマイクロアナライザー、ＥＳＣＡ（Ｘ線光電子分光法）またはラザフォード後方散乱法により測定して求められる。また、該層をスパッタリングによって形成した場合は、用いたターゲットとほぼ同じ組成の層が形成されるため、用いたターゲットの組成から算出してもよい。【００１７】
ＩＴＯ層におけるインジウム原子の含有量は、ＩＴＯ層（１００質量％）中、３３〜７５質量％が好ましく、３３〜６８質量％がより好ましく、４１〜５８質量％がさらに好ましい。該範囲とすることにより、優れた耐指紋付着性を得ることができる。【００１８】
ＩＴＯ層におけるスズ原子の含有量は、ＩＴＯ層（１００質量％）中、７〜４８質量％［３．２〜２１．１原子％］が好ましく、１４〜４８質量％［６．５〜２１．１原子％］がより好ましく、２３〜４０質量％［１０．４〜１７．８原子％］がさらに好ましい。なお、前記の［］内の値は、スズ原子の含有量を原子数基準の値に換算したものである。スズ原子の含有量を７質量％以上とすることにより、優れた耐指紋付着性を得ることができ、１４質量％以上、さらには２３質量％以上とすることにより、より優れた耐指紋付着性を得ることができる。また、スズ原子の含有量が４８質量％以下であることで、均質な膜質のＩＴＯ層を安定的に成膜できると考えられるため好ましい。ＩＴＯ層においては、層中のスズ原子の含有量が、耐指紋付着性の効果と関係していると考えられ、前記の範囲内であることで優れた耐指紋付着性を発揮することができる。【００１９】
ＩＴＯ層には、物性を損なわない範囲で、インジウムおよびスズを除く他の金属が酸化物として含まれていてもよい。他の金属としては、たとえば、ガリウム、チタン等が挙げられる。他の金属の原子の含有量は、ＩＴＯ層に含まれる全金属原子（１００質量％）中、１質量％以下が好ましい。【００２０】
ＧＩＴ層：
ＧＩＴ層において、インジウム、スズおよびガリウムは、酸化インジウム、酸化スズ、酸化ガリウムおよびこれらの複合酸化物が混合した形で存在すると考えられる。ＧＩＴ層におけるインジウム原子、スズ原子およびガリウム原子の含有量は、電子プローブマイクロアナライザー、ＥＳＣＡまたはラザフォード後方散乱法により測定して求められる。また、該層をスパッタリングによって形成した場合は、用いたターゲットとほぼ同じ組成の層が形成されるため、用いたターゲットの組成から算出してもよい。【００２１】
ＧＩＴ層におけるインジウム原子の含有量は、ＧＩＴ層（１００質量％）中、２〜１２質量％が好ましく、２〜９質量％がより好ましい。【００２２】
ＧＩＴ層におけるスズ原子の含有量は、ＧＩＴ層（１００質量％）中、６３〜７７質量％が好ましく、６７〜７６質量％がより好ましい。スズ原子の含有量が前記範囲内であることで、均質な膜質のＧＩＴ層を安定的に成膜できるため好ましい。【００２３】
ＧＩＴ層におけるガリウム原子の含有量は、ＧＩＴ層（１００質量％）中、１〜４質量％が好ましく、１〜３質量％がより好ましい。ガリウム原子の含有量が前記範囲内であることで、均質な膜質のＧＩＴ層を安定的に成膜できるため好ましい。【００２４】
ＧＩＴ層には、物性を損なわない範囲で、インジウム、スズおよびガリウムを除く他の金属が酸化物として含まれていてもよい。他の金属としては、たとえば、チタン、アルミニウム、マグネシウム、ケイ素等が挙げられる。他の金属の原子の含有量は、ＧＩＴ層に含まれる全金属原子（１００質量％）中、１質量％以下が好ましい。【００２５】
ＩＣＯ層：
ＩＣＯ層において、インジウムおよびセリウムは、酸化インジウム、酸化セリウム、およびこれらの複合酸化物が混合した形で存在すると考えられる。ＩＣＯ層におけるインジウム原子およびセリウム原子の含有量は、電子プローブマイクロアナライザー、ＥＳＣＡまたはラザフォード後方散乱法により測定して求められる。また、該層をスパッタリングによって形成した場合は、用いたターゲットとほぼ同じ組成の層が形成されるため、用いたターゲットの組成から算出してもよい。【００２６】
ＩＣＯ層におけるインジウム原子の含有量は、ＩＣＯ層（１００質量％）中、２９〜７５質量％が好ましく、２９〜６７質量％がより好ましく、３８〜５７質量％がさらに好ましい。【００２７】
ＩＣＯ層におけるセリウム原子の含有量は、ＩＣＯ層（１００質量％）中、８〜５２．１質量％［３．２〜２１．１原子％］が好ましく、１６〜５２．１質量％［６．５〜２１．１原子％］がより好ましく、２６〜４４質量％［１０．４〜１７．８原子％］がさらに好ましい。なお、前記の［］内の値は、セリウム原子の含有量を原子数基準の値に換算したものである。セリウム原子の含有量を８質量％以上とすることにより、優れた耐指紋付着性を得ることができ、１６質量％以上、さらには２６質量％以上とすることにより、より優れた耐指紋付着性を得ることができる。ＩＣＯ層においては、層中のセリウム原子の含有量が、耐指紋付着性の効果と関係していると考えられる。これは、ＩＴＯ層におけるスズ原子の作用と同じと考えられ、ＩＴＯ層におけるスズ原子の原子数基準での含有量と同じ量のセリウム原子がＩＣＯ層中に含まれることで、ＩＴＯ層の場合と同様の優れた耐指紋付着性を発揮することができる。また、セリウム原子の含有量を５２．１質量％以下とすることにより、スパッタレートが高くても基体の温度を低く抑えることができる。したがって、基体の材質がプラスチックである場合、スパッタリング時の基体の熱負けを抑えることができる。【００２８】
ＩＣＯ層には、物性を損なわない範囲で、インジウムおよびセリウムを除く他の金属が酸化物として含まれていてもよい。他の金属としては、たとえば、チタン、アルミニウム、マグネシウム、ケイ素等が挙げられる。他の金属の原子の含有量は、ＩＣＯ層に含まれる全金属原子（１００質量％）中、１質量％以下が好ましい。【００２９】
ＧＩＯ層：
ＧＩＯ層において、ガリウムおよびインジウムは、酸化ガリウム、酸化インジウム、およびこれらの複合酸化物が混合した形で存在すると考えられる。ＧＩＯ層におけるインジウム原子およびガリウム原子の含有量は、電子プローブマイクロアナライザー、ＥＳＣＡまたはラザフォード後方散乱法により測定して求められる。また、該層をスパッタリングによって形成した場合は、用いたターゲットとほぼ同じ組成の層が形成されるため、用いたターゲットの組成から算出してもよい。【００３０】
ＧＩＯ層におけるインジウム原子の含有量は、ＧＩＯ層（１００質量％）中、３３〜５０質量％が好ましく、３７〜４６質量％がより好ましい。【００３１】
ＧＩＯ層におけるガリウム原子の含有量は、ＧＩＯ層（１００質量％）中、３０〜４５質量％が好ましく、３４〜４１質量％がより好ましい。【００３２】
ＧＩＯ層には、物性を損なわない範囲で、インジウムおよびガリウムを除く他の金属が酸化物として含まれていてもよい。他の金属としては、たとえば、チタン、アルミニウム、マグネシウム、ケイ素等が挙げられる。他の金属の原子の含有量は、ＧＩＯ層に含まれる全金属原子（１００質量％）中、１質量％以下が好ましい。【００３３】
第１の高屈折率層と第２の高屈折率層とは、材料および組成がそれぞれ同じであってもよく、異なっていてもよい。第１の高屈折率層と第２の高屈折率層とは、同じ材料かつ同じ組成であることが好ましい。第１の高屈折率層と第２の高屈折率層とが同じ材料かつ同じ組成であれば、本発明の反射防止体の製造時に装置を簡略化できる、又は製造工程を簡便にできる、などの利点がある。【００３４】
第１の高屈折率層２２の膜厚は、第１の高屈折率層２２がＩＴＯ層の場合、２０〜４０ｎｍが好ましく、２５〜３５ｎｍがより好ましい。該範囲とすることにより、４５０ｎｍ〜７００ｎｍの広い波長領域について低い反射率を得ることができる。【００３５】
第１の高屈折率層２２の膜厚は、第１の高屈折率層２２がＧＩＴ層の場合、２０〜４０ｎｍが好ましく、２５〜３５ｎｍがより好ましい。該範囲とすることにより、４５０ｎｍ〜７００ｎｍの広い波長領域について低い反射率を得ることができる。【００３６】
第１の高屈折率層２２の膜厚は、第１の高屈折率層２２がＩＣＯ層の場合、１５〜３５ｎｍが好ましく、２０〜３０ｎｍがより好ましい。該範囲とすることにより、４５０ｎｍ〜７００ｎｍの広い波長領域について低い反射率を得ることができる。【００３７】
第１の屈折率層２２の膜厚は、第１の屈折率層２２がＧＩＯ層の場合、２０〜４０ｎｍが好ましく、２０〜３０ｎｍがより好ましい。該範囲とすることにより、４５０ｎｍ〜７００ｎｍの広い波長領域について低い反射率を得ることができる。【００３８】
第２の高屈折率層２６の膜厚は、第２の高屈折率層２６がＩＴＯ層の場合、１２〜３０ｎｍが好ましく、１５〜２５ｎｍがより好ましい。該範囲とすることにより、４５０ｎｍ〜７００ｎｍの広い波長領域について低い反射率を得ることができる。【００３９】
第２の高屈折率層２６の膜厚は、第２の高屈折率層２６がＧＩＴ層の場合、１２〜３０ｎｍが好ましく、１５〜２５ｎｍがより好ましい。該範囲とすることにより、４５０ｎｍ〜７００ｎｍの広い波長領域について低い反射率を得ることができる。【００４０】
第２の高屈折率層２６の膜厚は、第２の高屈折率層２６がＩＣＯ層の場合、８〜２５ｎｍが好ましく、１０〜２０ｎｍがより好ましい。該範囲とすることにより、４５０ｎｍ〜７００ｎｍの広い波長領域について低い反射率を得ることができる。【００４１】
第２の高屈折率層２６の膜厚は、第２の高屈折率層２６がＧＩＯ層の場合、１２〜３０ｎｍが好ましく、１５〜２５ｎｍがより好ましい。該範囲とすることにより、４５０ｎｍ〜７００ｎｍの広い波長領域について低い反射率を得ることができる。【００４２】
膜厚は、触針式表面粗さ測定機を用いて、成膜された部分と成膜されていない部分とを連続的に走査し、高さの差を測定することにより求められる。【００４３】
（金属層）
金属層２４は、銀およびパラジウムを含む層である。
銀の含有量は、金属層２４（１００質量％）中、８０〜９７質量％であり、９０〜９７質量％が好ましく、９０〜９５質量％がより好ましい。銀の含有量が上限以下であれば、優れた耐指紋付着性が得られ、下限以上であれば、高い可視光透過率が得ることができる。【００４４】
パラジウムの含有量は、金属層２４（１００質量％）中、３〜２０質量％であり、３〜１０質量％が好ましく、５〜１０質量％がより好ましい。パラジウムの含有量を３質量％以上とすることにより、得られる反射防止体が耐指紋付着性に優れる。パラジウムの含有量を２０質量％以下とすることにより、反射防止体の可視光透過率が高くなる。
金属層２４における銀およびパラジウムの含有量は、電子プローブマイクロアナライザー、ＥＳＣＡまたはラザフォード後方散乱法により測定される。【００４５】
金属層２４には、物性を損なわない範囲で、銀およびパラジウムを除く他の金属が含まれていてもよい。他の金属としては、たとえば、金、白金、スズ、ガリウム、アルミニウム、イリジウム、ロジウム、ニッケル、鉄等が挙げられる。【００４６】
金属層２４の膜厚は、５〜１０ｎｍが好ましく、６〜８ｎｍがより好ましい。金属層２４の膜厚を１０ｎｍ以下とすることにより、４５０ｎｍ〜７００ｎｍの広い波長領域において低い反射率を得ることができ、５ｎｍ以上とすることによりフラットな反射スペクトルを得ることができる。【００４７】
（低屈折率層）
低屈折率層２８は、屈折率が１．３〜１．６の層である。
低屈折率層２８の材料としては、シリカ（屈折率１．４６）、フッ化マグネシウム（屈折率１．３８）、フッ化カリウム（屈折率１．３〜１．４）等が挙げられる。【００４８】
低屈折率層２８としては、化学的安定性に優れる点、機械的強度が高い点から、シリカを含む層（以下、シリカ層と記す。）が好ましい。シリカ層におけるケイ素原子または酸素原子の含有量は、ＥＳＣＡまたはラザフォード後方散乱法により測定して求められたケイ素原子または酸素原子の含有量として表す。【００４９】
ケイ素原子の含有量は、シリカ層（１００質量％）中、３０〜６０質量％が好ましく、４０〜５０質量％がより好ましい。酸素原子の含有量は、シリカ層（１００質量％）中、４０〜７０質量％が好ましく、５０〜６０質量％がよりに好ましい。該範囲とすることにより、高い透過率を得ることができる。【００５０】
シリカ層には、物性を損なわない範囲で、他の金属が酸化物として含まれていてもよい。他の金属としては、たとえば、ガリウム、インジウム、アルミニウム、マグネシウム、スズ等が挙げられる。【００５１】
また、シリカ層を形成するときに用いたガスに由来する原子等がシリカ層中に含まれていてもよい。シリカ層を形成するときに用いるガスとしては、アルゴン、窒素、ヘリウム、ネオン等が挙げられる。該ガスに由来する原子の含有量は、シリカ層（１００質量％）中、２質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましい。【００５２】
低屈折率層２８の膜厚は、５０〜７０ｎｍが好ましく、５５〜６５ｎｍがより好ましい。低屈折率層２８の膜厚を５０ｎｍ以上とすることにより長波長領域（６００ｎｍ以上）において低い反射率を得ることができ、７０ｎｍ以下とすることにより短波長側（５００ｎｍ以下）において低い反射率を得ることができる。【００５３】
各層を、各々所定の光学的膜厚（屈折率×物理的膜厚）で構成することにより、目的の光学特性（透過率、反射率）を有する反射防止体１を得ることができる。
各層の形成方法としては、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、スパッタ法、イオンプレート法等の物理気相析出法；プラズマＣＶＤ法等の化学気相析出法等が挙げられる。大面積で均一膜厚が得られやすい理由からスパッタ法が特に好ましい。【００５４】
（他の層）
反射防止膜２０の表面には、反射防止膜２０を保護し、防汚染性能を高めるために、防汚層を設けてもよい。
防汚層としては、パーフルオロシラン、フルオロカーボン等を含む撥油性の膜が好ましい。防汚層の形成方法としては、蒸着法、塗布乾燥法等が挙げられる。
防汚層の膜厚は、４０ｎｍ以下が好ましく、５〜２０ｎｍがより好ましい。【００５５】
基体１０と反射防止膜２０との間には、反射防止体１に所望の硬さを付与するために、ハードコート層を設けてもよい。
ハードコート層としては、透明性があり、基体１０の屈折率と等しいか、または、基体１０の屈折率に対し±０．１以内の屈折率である層が好ましい。ハードコート層の材料としては、紫外線硬化型のアクリル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。ハードコート層の形成方法としては、バーコート法、ドクターブレード法、リバースロールコート法、グラビアロールコート法等の公知の塗布法が挙げられる。
ハードコート層の膜厚は、１０μｍ以下が好ましい。【００５６】
金属層２４と第２の高屈折率層２６との間には、金属層２４の酸化を防ぎ、金属層２４と第２の高屈折率層２６との密着性を向上させるため、バリア層を設けてもよい。
バリア層としては、各種の金属の窒化物、窒化シリコン等の金属窒化物、または金属酸化物が挙げられる。バリア層の形成方法としては、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等が挙げられる。
バリア層の膜厚は、５ｎｍ以下が好ましい。【００５７】
本発明の反射防止体の視感反射率は、好ましくは１．５以下、より好ましくは１．０以下、さらに好ましくは０．６以下である。１．５以下であることでディスプレイ等の用途において実用的な視感反射率とすることができる。視感反射率は低ければ低い程よいが、視感反射率を安定させて製造できる観点から通常下限は、０．２である。
本発明の反射防止体の視感透過率は、好ましくは７０％以上、より好ましくは７５％以上、さらに好ましくは８０％以上である。７０％以上とすることで、ディスプレイ等の用途において実用的な視感透過率とすることができる。視感透過率は高ければ高いほどよいが、耐指紋付着性とのバランスから、上限は、９０％が好ましい。
本発明の反射防止体は、ディスプレイ装置、光学素子、窓等における反射防止に好適である。具体的には、ディスプレイ本体の画面；建築物、自動車等の窓；展示用のショーケース等を構成するガラス、プラスチック等を基体として、該基体上に反射防止膜を形成して反射防止体としてもよい。また、ディスプレイ本体の画面；建築物、自動車等の窓；展示用のショーケース等を構成するガラス、プラスチック等の表面に反射防止体を貼着してもよい。【００５８】
＜ディスプレイ装置＞
本発明のディスプレイ装置は、画像を表示するディスプレイ本体と、該ディスプレイ本体の視認側に設けられた反射防止体とを具備するものである。
ディスプレイ装置としては、プラズマディスプレイ（ＰＤ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等が挙げられる。【００５９】
ディスプレイ本体の画面は、通常、ガラス、プラスチック等で構成されている。本発明のディスプレイ装置においては、ディスプレイ本体の画面に粘着剤等を用いて本発明の反射防止体を直接貼着してもよいし、ディスプレイ本体との間に隙間をおいて本発明の反射防止体を設置してもよい。【００６０】
また、ディスプレイ本体の視認側に、新たにガラス、プラスチック等からなる前面板を設置し、この前面板の視認側またはディスプレイ側に本発明の反射防止体を直接貼着してもよい。また、前面板の視認側またはディスプレイ側に、前面板との間に隙間をおいて本発明の反射防止体を設置してもよい。【００６１】
以上説明した本発明の反射防止体にあっては、基体上に形成された反射防止膜が、基体側から順に、第１の高屈折率層、金属層、第２の高屈折率層、低屈折率層を有するため、層構成が単純であり、可視光透過率が高く、可視光反射率が低い。また、第１の高屈折率層および第２の高屈折率層が、スズ、ガリウムおよびセリウムからなる群から選ばれる１種以上と、インジウムとを酸化物として含み、かつ金属層が、銀およびパラジウムを含み、銀の含有量が、金属層（１００質量％）中８０〜９７質量％であり、パラジウムの含有量が、金属層（１００質量％）中３〜２０質量％であるため、耐指紋付着性に優れる。【００６２】
また、以上説明した本発明のディスプレイ装置にあっては、ディスプレイ本体の視認側に、可視光透過率が高く、可視光反射率が低く、耐指紋付着性に優れた反射防止体が設けられているため、視認性がよい。
【実施例】
【００６３】
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定して解釈されるものではない。【００６４】
（高屈折率層における各金属原子の含有量）
高屈折率層における各金属原子の含有量は、電子プローブマイクロアナライザー、ＥＳＣＡまたはラザフォード後方散乱法により測定して求めた。
ＥＳＣＡによる測定は、アルバック・ファイ社製、装置名：ＥＳＣＡ５５００を用い、以下の条件で行った。
Ｘ線源：単色化Ａｌ、
Ｘ線：Ｋα線、
検出器の角度：試料面に対して４５°。【００６５】
ラザフォード後方散乱分光法による測定は、Ｎａｔｉｏｎａｌ  Ｅｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｃｓ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製、装置名：Ｐｅｌｌｅｔｒｏｎ  ａｃｃｅｌｅｒａｔｏｒ，３ＵＨを用い、以下の条件で行った。
ビームエネルギー：２３００ｋｅＶ、
イオン種：Ｈｅ+、
散乱角：１７０゜、１００゜、
ビーム入射角：試料面の法線に対して７゜、
試料電流：３０ｎＡ、
ビーム照射量：４０μＣ。【００６６】
電子プローブマイクロアナライザーによる測定は、日本電子社製、装置名：Ｘ線マイクロアナライザーＪＸＡ−８８００ＲＬを用い、以下の条件で行った。
加速電圧：７.０ｋＶ、
照射電流：０．０１μＡ、
分析方法：定量分析、
分析範囲：Φ１００μｍ。【００６７】
（低屈折率層におけるケイ素原子の含有量）
低屈折率層におけるケイ素原子の含有量は、上記電子プローブマイクロアナライザー、ＥＳＣＡまたはラザフォード後方散乱法により測定して求めた。【００６８】
（金属の含有量）
金属層における各金属原子の含有量は、上記電子プローブマイクロアナライザー、ＥＳＣＡまたはラザフォード後方散乱法により測定して求めた。【００６９】
（視感反射率）
反射防止体１の反射率を、反射防止膜２０側から分光光度計（島津製作所社製、ＵＶ−３１５０）により測定し、該反射率から視感反射率（ＪＩＳ  Ｚ  ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）を求めた。【００７０】
（視感透過率）
反射防止体１の透過率を、反射防止膜２０側から分光光度計（島津製作所社製、ＵＶ−３１５０）により測定し、該透過率から視感透過率（ＪＩＳ  Ｚ  ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）を求めた。【００７１】
（耐指紋付着性）
基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを用意した。
該サンプルの第２の高屈折率層２６表面に指紋付着させ、温度４０℃、湿度９０％の環境下において１２０時間放置した後、指紋を拭き取り、外観を観察した。
指紋を付着させた箇所に変化が見られないものを○、指紋を付着させた箇所に変化が見られるものを×、指紋を付着させた箇所に若干変化が見られるものの、実用上は問題ないものを△と評価した。【００７２】
〔例１（比較例）〕
アルゴンガス９５体積％および酸素ガス５体積％の混合ガスを導入しながら、酸化スズおよび酸化インジウムの混合ターゲット［酸化スズ：酸化インジウム＝４０：６０（質量比）］（住友金属鉱産社製、商品名：４０ｗｔ％  ＩＴＯターゲット）を用いて、圧力０．４３Ｐａ、周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒の条件でパルススパッタリングを行い、基体１０である厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム表面に、膜厚３２ｎｍ、屈折率２．１２の第１の高屈折率層２２を形成した。電子プローブマイクロアナライザー（ＥＰＭＡ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｐｒｏｂｅ  Ｍｉｃｒｏ  Ａｎａｌｙｓｉｓ）により測定したところ、第１の高屈折率層２２において、全原子合計（１００原子％）中、インジウムは２１．５原子％、スズは１２．８原子％、酸素は６５．７原子％であった。第１の高屈折率層２２の組成比を質量％に換算すると、インジウムは４９．０質量％、スズは３０．１質量％、酸素は２０．９質量％であった。【００７３】
アルゴンガスを導入しながら、純銀ターゲット（田中貴金属工業社製、商品名：Ａｇターゲット）を用いて、圧力０．４４Ｐａ、周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．５Ｗ／ｃｍ2、反転パルス幅１０μ秒の条件でパルススパッタリングを行い、第１の高屈折率層２２の表面に、膜厚７ｎｍの金属層２４を形成した。ラザフォード後方散乱法により測定すると、金属層２４（１００質量％）中、銀は９９．９質量％以上である。【００７４】
アルゴンガス９５体積％および酸素ガス５体積％の混合ガスを導入しながら、酸化インジウムおよび酸化スズの混合ターゲット［酸化インジウム：酸化スズ＝６０：４０（質量比）］（住友金属鉱産社製、商品名：４０ｗｔ％  ＩＴＯターゲット）を用いて、圧力０．４３Ｐａ、周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．５Ｗ／ｃｍ2、反転パルス幅２μ秒の条件でパルススパッタリングを行い、金属層２４の表面に、膜厚１６ｎｍ、屈折率２．１２の第２の高屈折率層２６を形成した。電子プローブマイクロアナライザー（ＥＰＭＡ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｐｒｏｂｅ  Ｍｉｃｒｏ  Ａｎａｌｙｓｉｓ）により測定すると、第２の高屈折率層２６の組成は、第１の高屈折率層２２と同じである。【００７５】
アルゴンガス６０体積％および酸素ガス４０体積％の混合ガスを導入しながら、ホウ素をドープしたシリコンターゲット（真空冶金社製、商品名：Ｂドープシリコンターゲット）を用いて、圧力０．２１Ｐａ、周波数５０ｋＨｚ、電力密度３．７Ｗ／ｃｍ2、反転パルス幅５μ秒の条件でパルススパッタリングを行い、第２の高屈折率層２６の表面に、膜厚６０ｎｍ、屈折率１．４６の低屈折率層２８を形成した。ラザフォード後方散乱法により測定したところ、低屈折率層２８において、全原子合計（１００原子％）中、ケイ素は３１．５原子％、酸素は６８．２原子％、アルゴンは０．３原子％であった。前記低屈折率層２８の組成比を質量％に換算すると、ケイ素は４４．４質量％、酸素は５５．０質量％、アルゴンは０．６質量％であった。【００７６】
以上のようにして作製した反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表１に示す。【００７７】
〔例２（比較例）〕
金属層２４の形成に用いるターゲットとして、パラジウムを１．０質量％ドープした銀合金ターゲット（田中貴金属工業社製、商品名：ＡｇＰｄ１ｗｔ％ターゲット）を用いた以外は、例１と同様にして反射防止体１を作製した。ラザフォード後方散乱法により測定すると、金属層２４（１００質量％）中、銀は９９質量％、パラジウムは１質量％である。【００７８】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表１に示す。【００７９】
〔例３（比較例）〕
金属層２４の形成に用いるターゲットとして、パラジウムを２．０質量％ドープした銀合金ターゲット（田中貴金属工業社製、商品名：ＡｇＰｄ２ｗｔ％ターゲット）を用いた以外は、例１と同様にして反射防止体１を作製した。ラザフォード後方散乱法により測定すると、金属層２４（１００質量％）中、銀は９８質量％、パラジウムは２質量％である。【００８０】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表１に示す。【００８１】
〔例４〕
金属層２４の形成に用いるターゲットとして、パラジウムを３．５質量％ドープした銀合金ターゲット（田中貴金属工業社製、商品名：ＡｇＰｄ３．５ｗｔ％ターゲット）を用い、第１の高屈折率層２２の膜厚を２８ｎｍ、金属層２４の膜厚を８．５ｎｍ、第２の高屈折率層２６の膜厚を１５ｎｍとした以外は、例１と同様にして反射防止体１を作製した。ラザフォード後方散乱法により測定すると、金属層２４（１００質量％）中、銀は９６．５質量％、パラジウムは３．５質量％である。【００８２】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表１に示す。【００８３】
〔例５〕
金属層２４の形成に用いるターゲットとして、パラジウムを５．０質量％ドープした銀合金ターゲット（田中貴金属工業社製、商品名：ＡｇＰｄ５ｗｔ％ターゲット）を用いた以外は、例４と同様にして反射防止体１を作製した。ラザフォード後方散乱法により測定すると、金属層２４（１００質量％）中、銀は９５質量％、パラジウムは５質量％である。【００８４】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表１に示す。【００８５】
〔例６〕
金属層２４の形成に用いるターゲットとして、パラジウムを１０．０質量％ドープした銀合金ターゲット（田中貴金属工業社製、商品名：ＡｇＰｄ１０ｗｔ％ターゲット）を用い、第１の高屈折率層２２の膜厚を２２ｎｍ、金属層２４の膜厚を７．５ｎｍ、第２の高屈折率層２６の膜厚を１７ｎｍとした以外は、例１と同様にして反射防止体１を作製した。ラザフォード後方散乱法により測定すると、金属層２４（１００質量％）中、銀は９０質量％、パラジウムは１０質量％である。【００８６】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表１に示す。【００８７】
〔例７〕
金属層２４の形成に用いるターゲットとして、パラジウムを５．０質量％および白金を５．０質量％ドープした銀合金ターゲット（田中貴金属工業社製、商品名：ＡｇＰｄ５ｗｔ％Ｐｔ５ｗｔ％）を用い、第１の高屈折率層２２の膜厚を２９ｎｍ、金属層２４の膜厚を８ｎｍ、第２の高屈折率層２６の膜厚を２２ｎｍとした以外は、例１と同様にして反射防止体１を作製した。ラザフォード後方散乱法により測定すると、金属層２４（１００質量％）中、銀は９０質量％、パラジウムは５質量％、白金は５質量％である。【００８８】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表１に示す。【００８９】
〔例８（比較例）〕
金属層２４の形成に用いるターゲットとして、スズを１０．０質量％ドープした銀合金ターゲット（田中貴金属工業社製、商品名：ＡｇＳｎ１０ｗｔ％ターゲット）を用い、第１の高屈折率層２２の膜厚を２９ｎｍ、金属層２４の膜厚を６．４ｎｍ、第２の高屈折率層２６の膜厚を１９ｎｍとした以外は、例１と同様にして反射防止体１を作製した。ラザフォード後方散乱法により測定すると、金属層２４（１００質量％）中、銀は９０質量％、スズは１０質量％である。【００９０】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表１に示す。【００９１】
〔例９〕
金属層２４の形成に用いるターゲットとして、パラジウムを３．０質量％および金を２．０質量％ドープした銀合金ターゲット（田中貴金属工業社製、商品名：ＡｇＡｕ２ｗｔ％Ｐｄ３ｗｔ％ターゲット）を用い、第１の高屈折率層２２の膜厚を３１ｎｍ、金属層２４の膜厚を９．５ｎｍ、第２の高屈折率層２６の膜厚を１９ｎｍとした以外は、例１と同様にして反射防止体１を作製した。ラザフォード後方散乱法により測定すると、金属層２４（１００質量％）中、銀は９５質量％、パラジウムは３質量％、金は２質量％である。【００９２】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表１に示す。【００９３】
〔例１０（比較例）〕
金属層２４の形成に用いるターゲットとして、パラジウムを２．０質量％および金を３．０質量％ドープした銀合金ターゲット（田中貴金属工業社製、商品名：ＡｇＡｕ３ｗｔ％Ｐｄ２ｗｔ％ターゲット）を用い、第１の高屈折率層２２の膜厚を２９ｎｍ、金属層２４の膜厚を９．５ｎｍ、第２の高屈折率層２６の膜厚を１９ｎｍとした以外は、例１と同様にして反射防止体１を作製した。ラザフォード後方散乱法により測定すると、金属層２４（１００質量％）中、銀は９５質量％、パラジウムは２質量％、金は３質量％である。【００９４】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表１に示す。【００９５】
〔例１１〕
金属層２４の形成に用いるターゲットとして、パラジウムを３．０質量％、金を２．０質量％および銅を１．０質量％ドープした銀合金ターゲット（田中貴金属工業社製、商品名：ＡｇＡｕ２ｗｔ％Ｐｄ３ｗｔ％Ｃｕ１ｗｔ％ターゲット）を用い、第１の高屈折率層２２の膜厚を２９ｎｍ、金属層２４の膜厚を８．５ｎｍ、第２の高屈折率層２６の膜厚を１９ｎｍとした以外は、例１と同様にして反射防止体１を作製した。ラザフォード後方散乱法により測定すると、金属層２４（１００質量％）中、銀は９４質量％、パラジウムは３質量％、金は２質量％、銅は１質量％である。【００９６】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表１に示す。【００９７】
〔例１２〕
第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の形成に用いるターゲットとして、酸化インジウムおよび酸化スズの混合ターゲット［酸化インジウム：酸化スズ＝９０：１０（質量比）］（住友金属鉱山社製、商品名：１０ＩＴＯターゲット）を用いた以外は、例５と同様にして反射防止体１を作製した。第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の屈折率は１．９６であった。用いたターゲットの組成から算出した第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の組成を表２に示す。【００９８】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表２に示す。【００９９】
〔例１３〕
第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の形成に用いるターゲットとして、酸化インジウムおよび酸化スズの混合ターゲット［酸化インジウム：酸化スズ＝８０：２０（質量比）］（住友金属鉱山社製、商品名：２０ＩＴＯターゲット）を用いた以外は、例５と同様にして反射防止体１を作製した。第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の屈折率は２．０１である。用いたターゲットの組成から算出した第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の組成を表２に示す。【０１００】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表２に示す。【０１０１】
〔例１４〕
第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の形成に用いるターゲットとして、酸化インジウムおよび酸化スズの混合ターゲット［酸化インジウム：酸化スズ＝７０：３０（質量比）］（住友金属鉱山社製、商品名：３０ＩＴＯターゲット）を用いた以外は、例５と同様にして反射防止体１を作製した。第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の屈折率は２．０７である。用いたターゲットの組成から算出した第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の組成を表２に示す。【０１０２】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表２に示す。【０１０３】
〔例１５〕
第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の形成に用いるターゲットとして、酸化インジウムおよび酸化スズの混合ターゲット［酸化インジウム：酸化スズ＝５０：５０（質量比）］（住友金属鉱山社製、商品名：５０ＩＴＯターゲット）を用い、第２の高屈折率層２６の膜厚を１６ｎｍとした以外は、例５と同様にして反射防止体１を作製した。第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の屈折率は２．１７である。用いたターゲットの組成から算出した第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の組成を表２に示す。【０１０４】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表２に示す。【０１０５】
〔例１６〕
第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の形成に用いるターゲットとして、酸化インジウム、酸化スズおよび酸化ガリウムの混合ターゲット［酸化インジウム：酸化スズ：酸化ガリウム＝５：９１：４（質量比）］（旭硝子セラミックス社製、商品名：ＧＩＴターゲット）を用い、金属層２４の膜厚を８ｎｍとした以外は、例５と同様にして反射防止体１を作製した。第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の屈折率は２．０７であった。用いたターゲットの組成から算出した第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の組成を表２に示す。【０１０６】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表２に示す。【０１０７】
〔例１７〕
第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の形成に用いるターゲットとして、酸化インジウム、酸化スズおよび酸化ガリウムの混合ターゲット［酸化インジウム：酸化スズ：酸化ガリウム＝１０：８７：３（質量比）］（旭硝子セラミックス社製、試作品）を用いた以外は、例１６と同様にして反射防止体１を作製した。第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の屈折率は２．０である。用いたターゲットの組成から算出した第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の組成を表２に示す。【０１０８】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表２に示す。【０１０９】
〔例１８〕
第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の形成に用いるターゲットとして、酸化インジウム、酸化スズおよび酸化ガリウムの混合ターゲット［酸化インジウム：酸化スズ：酸化ガリウム＝５：９３：２（質量比）］（旭硝子セラミックス社製、試作品）を用いた以外は、例１６と同様にして反射防止体１を作製した。第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の屈折率は２．０である。用いたターゲットの組成から算出した第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の組成を表２に示す。【０１１０】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表２に示す。【０１１１】
〔例１９〕
第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の形成に用いるターゲットとして、酸化インジウム、酸化スズ、酸化ガリウムおよび酸化チタンの混合ターゲット［酸化インジウム：酸化スズ：酸化ガリウム：酸化チタン＝５：９０：４：１（質量比）］（旭硝子セラミック社製、試作品）を用いた以外は、例１６と同様にして反射防止体１を作製した。第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の屈折率は２．０である。用いたターゲットの組成から算出した第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の組成を表２に示す。【０１１２】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表２に示す。【０１１３】
〔例２０〕
第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の形成に用いるターゲットとして、酸化インジウム、酸化スズおよび酸化ガリウムの混合ターゲット［酸化インジウム：酸化スズ：酸化ガリウム＝２．５：９６．５：２（質量比）］（旭硝子セラミックス社製、試作品）を用いた以外は、例１６と同様にして反射防止体１を作製した。第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の屈折率は２．０である。用いたターゲットの組成から算出した第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の組成を表２に示す。【０１１４】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表２に示す。【０１１５】
〔例２１〕
第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の形成に用いるターゲットとして、酸化インジウムおよび酸化セリウムの混合ターゲット［酸化インジウム：酸化セリウム＝８０：２０（質量比）］（住友金属鉱山社製、商品名：２０ＩＣＯ）を用い、第１の高屈折率層２２の膜厚を２５ｎｍ、金属層２４の膜厚を１０ｎｍ、第２の高屈折率層２６の膜厚を１６ｎｍとした以外は、例５と同様にして反射防止体１を作製した。第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の屈折率は２．２７であった。用いたターゲットの組成から算出した第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の組成を表２に示す。【０１１６】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表２に示す。【０１１７】
〔例２２〕
第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の形成に用いるターゲットとして、酸化インジウムおよび酸化ガリウムの混合ターゲット［酸化インジウム：酸化ガリウム＝５０：５０（質量比）］（住友金属鉱山社製、商品名：ＧＩＯ）を用い、第１の高屈折率層２２の膜厚を３２ｎｍ、金属層２４の膜厚を７ｎｍ、第２の高屈折率層２６の膜厚を１４ｎｍとした以外は、例５と同様にして反射防止体１を作製した。第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の屈折率は２．００であった。用いたターゲットの組成から算出した第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の組成を表２に示す。【０１１８】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表２に示す。【０１１９】
〔例２３（比較例）〕
第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の形成に用いるターゲットとして、酸化亜鉛および酸化アルミニウムの混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化アルミニウム＝９５：５（質量比）］（旭硝子セラミック社製、商品名：５ＡＺＯターゲット）を用い、第１の高屈折率層２２の膜厚を３５ｎｍ、金属層２４の膜厚を６ｎｍとした以外は、例５と同様にして反射防止体１を作製した。第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の屈折率は１．９７であった。用いたターゲットの組成から算出した第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の組成を表３に示す。【０１２０】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表３に示す。【０１２１】
〔例２４（比較例）〕
第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の形成に用いるターゲットとして、酸化亜鉛および酸化チタンの混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝９０：１０（質量比）］（旭硝子セラミック社製、商品名：１０ＳＺＯターゲット）を用いた以外は、例２３と同様にして反射防止体１を作製した。第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の屈折率は２．０２であった。用いたターゲットの組成から算出した第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の組成を表３に示す。【０１２２】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表３に示す。【０１２３】
〔例２５（比較例）〕
第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の形成に用いるターゲットとして、酸化亜鉛および酸化チタンの混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８５：１５（質量比）］（旭硝子セラミック社製、商品名：１５ＳＺＯターゲット）を用いた以外は、例２３と同様にして反射防止体１を作製した。第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の屈折率は２．０７であった。用いたターゲットの組成から算出した第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の組成を表３に示す。【０１２４】
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定した。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価した。結果を表３に示す。
〔例２６（比較例）〕
金属層２４の形成に用いるターゲットとして、銅を０．３質量％および金を２．７質量％ドープした銀合金ターゲット（田中貴金属社製、商品名：ＡｇＡｕ２.７ｗｔ％Ｃｕ０．３％ターゲット）を用い、第１の高屈折率層２２の膜厚を２７ｎｍ、金属層２４の膜厚を９ｎｍ、第２の高屈折率層２６の膜厚を２０ｎｍとする以外は、例１２と同様にして反射防止体１を作製する。第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の屈折率は１．９６である。用いたターゲットの組成から算出する第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の組成を表４に示す。
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定する。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価する。結果を表４に示す。
〔例２７（比較例）〕
金属層２４の形成に用いるターゲットとして、銅を０．３質量％および金を２．７質量％ドープした銀合金ターゲット（田中貴金属社製、商品名：ＡｇＡｕ２.７ｗｔ％Ｃｕ０．３％ターゲット）を用い、第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の形成に用いるターゲットとして、酸化インジウムおよび酸化セリウムの混合ターゲット［酸化インジウム：酸化セリウム＝９０：１０（質量比）］（住友金属鉱山社製、商品名：１０ＩＣＯ）を用い、第１の高屈折率層２２の膜厚を２７ｎｍ、金属層２４の膜厚を９ｎｍ、第２の高屈折率層２６の膜厚を２０ｎｍとする以外は、例２１と同様にして反射防止体１を作製する。第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の屈折率は１．９６である。用いたターゲットの組成から算出する第１の高屈折率層２２および第２の高屈折率層２６の組成を表４に示す。
該反射防止体１について、視感反射率および視感透過率を測定する。また、基体１０上に、第１の高屈折率層２２、金属層２４および第２の高屈折率層２６を形成し、低屈折率層を設けないサンプルを別途作製し、該サンプルについて耐指紋付着性を評価する。結果を表４に示す。【０１２５】
【表１】
2008081837.tif 000003
【０１２６】
【表２】
2008081837.tif 000004
【０１２７】
【表３】
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【０１２８】
【表４】
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【０１２９】
例５の反射防止体は、視感反射率が低く、視感透過率が高く、耐指紋付着性に優れていた。また、図２に示すように、４００〜７００ｎｍの波長範囲での反射率は１％以下であった。また、図３に示すように、４８０〜７８０ｎｍの波長範囲での透過率は８０％以上であった。
例６の反射防止体は、視感反射率が低く、耐指紋付着性に優れていた。若干、視感透過率が低かったものの、実用上問題なかった。
例４の反射防止体は、視感反射率が低く、視感透過率が高かった。若干、耐指紋付着性が劣ったものの、実用上は問題なかった。
例１〜３の反射防止体は、視感反射率が低く、視感透過率が高かったものの、耐指紋付着性に劣っていた。
例５、および例１２〜１５は、金属層の材質としてパラジウムを５質量％含む銀合金を用い、第１の高屈折率層および第２の高屈折率層としてスズ原子の含有量が７．９〜３９．４質量％の間の５種類のＩＴＯ層を適用した例である。これらのスズ原子の含有量において、光学特性および耐指紋付着性において優れる効果を有することが示された。
例２１は、パラジウムを５質量％含む銀合金を用い、かつ第１の高屈折率層および第２の高屈折率層としてセリウム原子の含有量が１６．３質量％［６．５原子％］であるＩＣＯ層を適用した例であり、優れた光学特性と、耐指紋付着性を有していた。
ＩＣＯ層におけるセリウム原子の作用と、ＩＴＯ層におけるスズ原子の作用は同じと考えられることから、前記の例５、および例１２〜１５におけるスズ原子の含有量（原子数基準）と同じだけセリウム原子が含有された例２１のＩＣＯ層においても同様に優れた光学特性と同時に優れた耐指紋付着性の効果を発揮すると考えられる。
例２３〜２７は、金属層の材質として、パラジウムを含まない銀合金を用いていることから、耐指紋付着性に劣っていた。
【産業上の利用可能性】
【０１３０】
本発明の反射防止体は、層構成が単純であり、可視光透過率が高く、可視光反射率が低く、耐指紋付着性に優れるため、ディスプレイ装置の視認性を向上させるための反射防止体として有用である。
なお、２００６年１２月２７日に出願された日本特許出願２００６−３５０７５２号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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