【手続補正書】
【提出日】平成15年2月6日(2003.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のノズル構造体を用意するステップであって、ノズル構造体の各々は、該ノズル構造体の中心軸に沿って画定されるとともに前記ノズル構造体の分配端部まで延びる少なくとも１つの開口部を有し、前記分配端部から荷電粒子がスプレー状に分配され、ノズル構造体の各々は、隣接するノズル構造体から、互いに隣接する前記ノズル構造体の中心軸間の距離により定められるノズル間距離（Ｌ）だけ少なくとも離れて配置され、前記分配端部における前記開口部の直径（Ｄ）に対する前記ノズル間距離（Ｌ）の比は２以上である、複数のノズル構造体を用意するステップと、
スプレーが行われる複数の前記分配端部とそれら分配端部から電気的に絶縁された電極との間に不均一な電界を生成することにより、ノズル構造体の各々からスプレー状の粒子を分配するステップと、
を有するエレクトロスプレー方法。
【請求項２】
複数のノズル構造体を用意するステップであって、ノズル構造体の各々は、該ノズル構造体の中心軸に沿って画定されるとともに前記ノズル構造体の分配端部まで延びる少なくとも１つの開口部を有し、前記分配端部から荷電粒子がスプレー状に分配され、前記粒子は、公称直径が約１〜約２０００ナノメーターであって、平均粒子径に対する標準偏差が２０％より小さい直径を有する、複数のノズル構造体を用意するステップと、
スプレーが行われる複数の前記分配端部と該分配端部から電気的に絶縁された電極との間に不均一な電界を生成することにより、ノズル構造体の各々からスプレー状の粒子を分配するステップと、
前記粒子を表面に沈澱させて該表面上にてコーティングを形成するステップと、を有するエレクトロスプレー方法。
【請求項３】
前記ノズル構造体の各々は毛細管を有し、該毛細管は本体部と前記毛細管の分配端部のテーパー付き毛細管先端部とを有する請求項１又は２に記載のエレクトロスプレー方法。
【請求項４】
前記ノズル構造体の各々は、前記開口部を画定するために使用されるテーパー部を有し、さらに前記ノズル構造体の各々の少なくとも一部は、一体的な複数のノズル構造体の導電性部分から延びる請求項１又は２に記載のエレクトロスプレー方法。
【請求項５】
前記スプレー状の粒子を分配するステップは活性成分を有する微小滴をスプレー状に分配するステップを有し、さらに前記微小滴が蒸発するにつれて前記活性成分に電荷が集中する請求項１〜４のいずれか１項に記載のエレクトロスプレー方法。
【請求項６】
前記スプレー状の粒子を分配するステップは粒子を有する微小滴をスプレー状に分配するステップを有し、さらに前記微小滴が蒸発するにつれて前記粒子に電荷が集中し、前記粒子に集中した前記微小滴の前記電荷は、前記微小滴のレイリー電荷リミットの約８０％〜９５％の範囲である請求項１〜４のいずれか１項に記載のエレクトロスプレー方法。
【請求項７】
複数のノズル構造体を用意するステップは、複数のノズル構造体の外側リング、及び複数のノズル構造体の１つ又は複数の内側リングを有する円形配置のノズル構造体を用意するステップを有し、前記複数のノズル構造体の外側リング及び前記複数のノズル構造体の内側リングの各々は、中央ノズル構造体に関して同心であり、さらに前記複数のノズル構造体の１つ又は複数の内側リングが有する前記ノズル構造体の各々が、隣接するノズル構造体から、ノズル間距離（Ｌ）と実質的に等しい距離だけ離れて配置される、請求項１〜６のいずれか１項に記載のエレクトロスプレー方法。
【請求項８】
前記複数のノズル構造体の前記分配端部が、平面に含まれるか又は円錐形状を形成する請求項１〜７のいずれか１項に記載のエレクトロスプレー方法。
【請求項９】
前記ノズル構造体の各々の分配端部において円錐状の噴出が可能となるように、前記ノズル構造体の前記分配端部を互いに絶縁するステップをさらに有する請求項１〜８のいずれか１項に記載のエレクトロスプレー方法。
【請求項１０】
前記ノズル構造体の前記分配端部を互いに絶縁するステップが、複数のノズル構造体の間に１つ又は複数の分離構造体を配置するステップを有する請求項９に記載のエレクトロスプレー方法。
【請求項１１】
前記粒子の公称直径が約１〜約２０００ナノメーターである請求項１〜１０のいずれか１項に記載のエレクトロスプレー方法。
【請求項１２】
前記ノズル構造体の各々が、前記ノズル構造体の各々の分配端部まで延びる第１開口部及び第２開口部を少なくとも有する請求項１〜１１のいずれか１項に記載のエレクトロスプレー方法。
【請求項１３】
前記第１開口部において第１組成液の第１流れを提供するステップと、
前記第２開口部において第２組成液の第２流れを提供するステップと、
前記第１組成液及び前記第２組成液からスプレー状の粒子を生じさせるステップと、
をさらに有する請求項１２に記載のエレクトロスプレー方法。
【請求項１４】
賦形剤を用意するステップと、
前記スプレー状の粒子と前記賦形剤とを結合させるステップと、
をさらに有する請求項１〜１３のいずれか１項に記載のエレクトロスプレー方法。
【請求項１５】
電荷パターンを用意するステップと、
前記スプレー状の粒子を前記電荷パターン上に集めるステップと、
をさらに有する請求項１〜１３のいずれか１項に記載のエレクトロスプレー方法。
【請求項１６】
前記スプレー状の粒子を分配するステップが、前記スプレー状の粒子を２ｇ／分〜５０ｇ／分の範囲の流量にて分配するステップを有する請求項１〜１５のいずれか１項に記載のエレクトロスプレー方法。
【請求項１７】
粒子のエレクトロスプレー装置であって、
粒子供給源と、
前記粒子供給源から原料物質を受容するように構成されているとともに、複数のノズル構造体を有する分配装置であって、ノズル構造体の各々は、該ノズル構造体の中心軸に沿って画定されるとともに前記ノズル構造体の分配端部まで延びる少なくとも１つの開口部を有し、ノズル構造体の各々は、隣接するノズル構造体から、互いに隣接する前記ノズル構造体の中心軸間の距離により定められるノズル間距離（Ｌ）だけ少なくとも離れて配置され、前記分配端部における前記開口部の直径（Ｄ）に対する前記ノズル間距離（Ｌ）の比は２以上である、分配装置と、
前記分配端部から絶縁された電極であって、複数の前記分配端部と前記電極との間に不均一な電界が生じることにより、前記複数のノズル構造体の各々の分配端部から荷電粒子がスプレー状に分配される、電極と、
を有するエレクトロスプレー装置。
【請求項１８】
前記電極が接地された目標物である請求項１７に記載のエレクトロスプレー装置。
【請求項１９】
前記ノズル構造体の各々は毛細管を有し、該毛細管は、本体部と該毛細管の分配端部のテーパー付き毛細管先端部とを有する請求項１７又は１８に記載のエレクトロスプレー装置。
【請求項２０】
前記ノズル構造体の各々は、前記開口部を前記分配端部に形成するために使用されるテーパー部を有し、さらに前記ノズル構造体の各々の少なくとも一部は、一体的な複数のノズル構造体の導電性部分から延びる請求項１７又は１８に記載のエレクトロスプレー装置。
【請求項２１】
前記複数のノズル構造体の各々は、複数のノズル構造体の外側リング、及び複数のノズル構造体の１つ又は複数の内側リングを有する円形配置のノズル構造体を有し、前記複数のノズル構造体の外側リング及び前記複数のノズル構造体の内側リングの各々は、中央ノズル構造体に関して同心であり、さらに前記複数のノズル構造体の１つ又は複数の内側リングが有する前記ノズル構造体の各々は、隣接するノズル構造体から、ノズル間距離（Ｌ）と実質的に等しい距離だけ離れて配置される請求項１７〜２０のいずれか１項に記載のエレクトロスプレー装置。
【請求項２２】
前記複数のノズル構造体の前記分配端部が、平面に含まれるか又は円錐状に配置される請求項１７〜２１のいずれか１項に記載のエレクトロスプレー装置。
【請求項２３】
複数のノズル構造体の間に配置されるとともに、前記ノズル構造体の各々の分配端部において円錐状の噴出が可能となるように配置される１つ又は複数の分離構造体を、前記分配装置がさらに有する請求項１７〜２２のいずれか１項に記載のエレクトロスプレー装置。
【請求項２４】
前記ノズル構造体の各々が、前記ノズル構造体の各々の分配端部まで延びる第１開口部及び第２開口部を少なくとも有する請求項１７〜２３のいずれか１項に記載のエレクトロスプレー装置。
【請求項２５】
前記粒子供給源は、前記第１開口部を通して分配される活性成分を含む第１組成液を少なくとも有する第１の粒子供給源と、前記第２開口部を通して分配されるコーティング成分を含む第２組成液を少なくとも有する第２の粒子供給源とを具備し、さらにスプレー状の粒子は、スプレー状のコーティングされた活性成分を有する請求項２４に記載のエレクトロスプレー装置。
【請求項２６】
請求項１〜２５のいずれか１項に記載のエレクトロスプレー方法及びエレクトロスプレー装置の少なくとも一方を用いてコーティングされた表面を有するか、又は該エレクトロスプレー方法及び該エレクトロスプレー装置の少なくとも一方を用いて形成される物体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
一般に、導電性材料５６（例えば導電板）は、ノズル構造体５４の各々を特別な位置に配置する。導電性材料５６は、高圧電源７３への接続に適合している。ノズル構造体５４の各々は、導電性構造体（例えば図２に例示されるような毛細管５９）を有する。導電性構造体は、組成液７７の流れを内部に受容するためのオリフィス、例えば開口部５３（例えば溢流式チャンバー等において画定された毛細管の開口部またはオリフィス）を画定する。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２０】
粒子生成システム７５０は、軸線７５２に沿って配置される分配装置７６０を有する。分配装置７６０は円筒状の組成液保持装置７５４であり、複数のノズル構造体７５６が保持装置７５４の回りに延びる。ノズル構造体７５６の各々は、軸線７５２に対して直交する軸線７５７に沿って延びる。図１５Ｂに示すように、複数のノズル構造体７５６の軸線７５７は、軸線７５２に対して直交する実質的同一平面内に含まれるが、互いに平行ではない。このことは、先に述べた実施形態、すなわち、複数のノズル構造体のノズル軸が互いに平行である（例えばノズル軸がＺ軸に沿って整合配置されている）実施形態とは異なる。この非平行の配置により、ノズル構造体７５６の分配端部７６１にて追加的な分離が行われる。先に述べたいかなるノズル構造体も、図１５の実施形態に従って使用可能であることが理解されるであろう。