【手続補正書】
【提出日】平成17年2月24日(2005.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物を洗浄し、殺菌し又は滅菌するためのシステムであって、
対象物を収容するように適合および構成された第１ステーション；
第１ステーションで対象物に超音波エネルギーを当てるように適合および構成されたソニケータ；
第１ステーションで対象物の周囲に洗浄組成物、抗微生物組成物、リンス組成物を循環させるように又はこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成された液体トランスポータ；および
対象物を乾燥するように適合および構成された乾燥器
を備えたシステム。
【請求項２】
ソニケータが第１ステーションで点から超音波エネルギーを供給するように適合および構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
対象物を支持するように適合および構成されたホルダを第１ステーションに更に備えており、
前記ソニケータが、前記ホルダ内の対象物によって占められる位置に近接して第１ステーションに超音波プローブを備えている、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
第１ステーションおよび液体トランスポータが、対象物を抗微生物組成物、リンス組成物またはこれらの複数の組成物中に浸漬するように適合および構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
第２ステーションを更に備えており、ここで：
第１ステーションが、ソニケータを備えており、第１ステーションで対象物の周囲に洗浄組成物、抗微生物組成物、リンス組成物またはこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成されており；そして
第２ステーションが第２ステーションで対象物の周囲に抗微生物組成物、リンス組成物またはこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成されているか；第２ステーションが乾燥器を備えているか；またはこれらの組合せである、
請求項１に記載のシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７７】
本願明細書中の全ての公報および特許出願は、本発明が属する分野の通常の技術水準である。
以下に、本発明のいくつかの実施形態を示す。
〔形態１〕
対象物を洗浄し、殺菌し又は滅菌するためのシステムであって、
対象物を収容するように適合および構成された第１ステーション；
第１ステーションで対象物に超音波エネルギーを当てるように適合および構成されたソニケータ；
第１ステーションで対象物の周囲に洗浄組成物、抗微生物組成物、リンス組成物を循環させるように又はこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成された液体トランスポータ；および
対象物を乾燥するように適合および構成された乾燥器
を備えたシステム。
〔形態２〕
ソニケータが第１ステーションで点から超音波エネルギーを供給するように適合および構成されている、形態１に記載のシステム。
〔形態３〕
対象物を支持するように適合および構成されたホルダを第１ステーションに更に備えており、
前記ソニケータが、前記ホルダ内の対象物によって占められる位置に近接して第１ステーションに超音波プローブを備えている、形態２に記載のシステム。
〔形態４〕
ソニケータが潅注プローブを備えている、形態２に記載のシステム。
〔形態５〕
ソニケータが第１ステーションで流体の全体にわたり超音波エネルギーを供給するように適合および構成された、形態１に記載のシステム。
〔形態６〕
第１ステーションの外部のプローブから超音波エネルギーを供給するように適合および構成された第２ソニケータを更に備えている、形態５に記載のシステム。
〔形態７〕
第２ソニケータが潅注プローブを備えている、形態６に記載のシステム。
〔形態８〕
第２ソニケータプローブに近接して対象物を支持するように適合および構成されたホルダを更に備えている、形態６に記載のシステム。
〔形態９〕
ソニケータが対象物から汚れを遊離させるように適合および構成されており、前記液体トランスポータが当該汚れを除去するように適合および構成されている、形態１に記載のシステム。
〔形態１０〕
液体トランスポータが、第１ステーションで対象物の周囲に流体を循環させるように、第１ステーションに流体を加えるように、および第１ステーションから流体を除去するように適合および構成されたポンプおよび弁を備えている、形態１に記載のシステム。
〔形態１１〕
第１ステーション、ソニケータおよび液体トランスポータが、対象物を洗浄組成物中に浸漬し、該浸漬された対象物に超音波エネルギーを適用するように適合および構成されている、形態１に記載のシステム。
〔形態１２〕
ソニケータが第１ステーション内の点から超音波エネルギーを供給するように適合および構成されている、形態１１に記載のシステム。
〔形態１３〕
ソニケータが潅注プローブを備えている、形態１１に記載のシステム。
〔形態１４〕
ソニケータが洗浄組成物の全体にわたり超音波エネルギーを適用する、形態１１に記載のシステム。
〔形態１５〕
第１ステーションが槽、タンクまたはバスを備えている形態１１に記載のシステム。
〔形態１６〕
第１ステーションおよび液体トランスポータが、対象物を抗微生物組成物、リンス組成物またはこれらの複数の組成物中に浸漬するように適合および構成されている、形態１に記載のシステム。
〔形態１７〕
第１ステーションが槽、タンクまたはバスを備えている形態１６に記載のシステム。
〔形態１８〕
液体トランスポータが、対象物に抗微生物組成物、リンス組成物またはこれらの複数の組成物を適用するように適合および構成された噴霧器を備えている、形態１に記載のシステム。
〔形態１９〕
第１ステーションが噴霧室を備えている、形態１８に記載のシステム。
〔形態２０〕
液体トランスポータが洗浄組成物、抗微生物組成物およびリンス組成物を逐次的に循環させるように適合および構成されている、形態１に記載のシステム。
〔形態２１〕
液体トランスポータが洗浄組成物、抗微生物組成物、第１リンス組成物、第２リンス組成物を循環させるように又はこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成されている、形態１に記載のシステム。
〔形態２２〕
液体トランスポータが洗浄組成物、第１リンス組成物、抗微生物組成物および第２リンス組成物をこの順序で逐次的に循環させるように適合および構成されている、形態２１に記載のシステム。
〔形態２３〕
洗浄濃縮物、抗微生物濃縮物、リンス濃縮物を添加するように又はこれらの複数の濃縮物を添加するように適合および構成されたディスペンサーを備えている、形態１に記載のシステム。
〔形態２４〕
乾燥器が第１ステーションで対象物を乾燥するように適合および構成されている、形態１に記載のシステム。
〔形態２５〕
乾燥器が、第１ステーションで加熱ガスを循環させるように適合および構成されたブロワーを備えている、形態１に記載のシステム。
〔形態２６〕
第１ステーションで滅菌剤を加えるように適合および構成されたインジェクタを更に備えている、形態１に記載のシステム。
〔形態２７〕
インジェクタが、加圧容器からガス状滅菌剤を第１ステーションで放出するように適合および構成された圧力解放弁を備えている、形態２６に記載のシステム。
〔形態２８〕
ガス状滅菌剤を第１ステーションから排気するように適合および構成されたベントを更に備えている、形態２６に記載のシステム。
〔形態２９〕
該システムを通じて対象物を運搬するように適合および構成されたコンベヤを更に備えている、形態１に記載のシステム。
〔形態３０〕
対象物にマイクロ波または光エネルギーを当てるように適合および構成されたエミッタを更に備えている、形態１に記載のシステム。
〔形態３１〕
第２ステーションを更に備えており、ここで：
第１ステーションが、ソニケータを備えており、第１ステーションで対象物の周囲に洗浄組成物、抗微生物組成物、リンス組成物またはこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成されており；そして
第２ステーションが第２ステーションで対象物の周囲に抗微生物組成物、リンス組成物またはこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成されているか；第２ステーションが乾燥器を備えているか；またはこれらの組合せである、
形態１に記載のシステム。
〔形態３２〕
液体トランスポータ系が第２ステーションに噴霧器を備えており、対象物に抗微生物組成物、リンス組成物、またはこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成されている、形態３１に記載のシステム。
〔形態３３〕
第２ステーションが噴霧室を備えている、形態３２に記載のシステム。
〔形態３４〕
第２ステーションおよび液体トランスポータが、対象物を抗微生物組成物、リンス組成物またはこれらの複数の組成物中に浸漬するように適合および構成されている、形態３１に記載のシステム。
〔形態３５〕
第２ステーションが槽、タンクまたはバスを備えている形態３４に記載のシステム。
〔形態３６〕
第２ステーションが対象物の周囲にリンス組成物を循環させるように適合および構成されている、形態３１に記載のシステム。
〔形態３７〕
第１ステーションが対象物の周囲に洗浄組成物、抗微生物組成物および第１リンス組成物を循環させるように適合および構成されており；そして第２ステーションが対象物の周囲に第２リンス組成物を循環させるように適合および構成されている、形態３６に記載のシステム。
〔形態３８〕
第２ステーションが対象物の周囲に抗微生物組成物およびリンス組成物を循環するように適合および構成されている、形態３１に記載のシステム。
〔形態３９〕
第１ステーションが対象物の周囲に洗浄組成物および第１リンス組成物を循環させるように適合および構成されており；そして第２ステーションが対象物の周囲に抗微生物組成物および第２リンス組成物を循環させるように適合および構成されている、形態３８に記載のシステム。
〔形態４０〕
第２ステーションが乾燥器を備えている、形態３１に記載のシステム。
〔形態４１〕
第２ステーションで滅菌剤を加えるように適合および構成されたインジェクタを更に備えている、形態３１に記載のシステム。
〔形態４２〕
第３ステーションを更に備えており、ここで：
第１ステーションが、ソニケータを備えており、第１ステーションで対象物の周囲に洗浄組成物、抗微生物組成物またはこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成されており；
第２ステーションが第２ステーションで対象物の周囲に抗微生物組成物、リンス組成物またはこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成されており；そして
第３ステーションが第３ステーションで対象物の周囲に抗微生物組成物、リンス組成物またはこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成されているか；第３ステーションが乾燥器を備えているか；またはこれらの組合せである、
形態３１に記載のシステム。
〔形態４３〕
第３ステーションが乾燥器を備えている、形態４２に記載のシステム。
〔形態４４〕
第３ステーションで滅菌剤を加えるように適合および構成されたインジェクタを更に備えている、形態４３に記載のシステム。
〔形態４５〕
第３ステーションが対象物の周囲にリンス組成物を循環させるように適合および構成されている、形態４２に記載のシステム。
〔形態４６〕
液体トランスポータ系が第３ステーションに噴霧器を備えており、対象物にリンス組成物を適用するように適合および構成されている、形態４５に記載のシステム。
〔形態４７〕
第３ステーションが噴霧室を備えている、形態４６に記載のシステム。
〔形態４８〕
第３ステーションおよび液体トランスポータが、対象物をリンス組成物中に浸漬するように適合および構成されている、形態４５に記載のシステム。
〔形態４９〕
第３ステーションが槽、タンクまたはバスを備えている、形態４８に記載のシステム。
〔形態５０〕
第１ステーションが、ソニケータを備えており、対象物の周囲に洗浄組成物、第１リンス組成物および抗微生物組成物を循環させるように適合および構成されており；そして
第２ステーションが対象物の周囲に第２リンス組成物を循環させるように適合および構成されている、
形態４２に記載のシステム。
〔形態５１〕
第１ステーションが、ソニケータを備えており、対象物の周囲に洗浄組成物および第１リンス組成物を循環させるように適合および構成されており；そして
第２ステーションが対象物の周囲に抗微生物組成物および第２リンス組成物を循環させるように適合および構成されている、
形態４２に記載のシステム。
〔形態５２〕
第１ステーションが、ソニケータを備えており、対象物の周囲に洗浄組成物を循環させるように適合および構成されており；そして
第２ステーションが対象物の周囲に第１リンス組成物、抗微生物組成物および第２リンス組成物を循環させるように適合および構成されている、
形態４２に記載のシステム。
〔形態５３〕
第１ステーションが、ソニケータを備えており、対象物の周囲に洗浄組成物および第１リンス組成物を循環させるように適合および構成されており；
第２ステーションが対象物の周囲に抗微生物組成物を循環させるように適合および構成されており；そして
第３ステーションが対象物の周囲に第２リンス組成物を循環させるように適合および構成されている、
形態４２に記載のシステム。
〔形態５４〕
第１ステーションが、ソニケータを備えており、対象物の周囲に洗浄組成物を循環させるように適合および構成されており；
第２ステーションが対象物の周囲に第１リンス組成物および抗微生物組成物を循環させるように適合および構成されており；そして
第３ステーションが対象物の周囲に第２リンス組成物を循環させるように適合および構成されている、
形態４２に記載のシステム。
〔形態５５〕
第４ステーションを更に備えており、ここで：
第１ステーションが、ソニケータを備えており、第１ステーションで対象物の周囲に洗浄組成物、抗微生物組成物またはこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成されており；
第２ステーションが第２ステーションで対象物の周囲に抗微生物組成物、リンス組成物またはこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成されており；
第３ステーションが第３ステーションで対象物の周囲に抗微生物組成物、リンス組成物またはこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成されており；そして
第４ステーションが第４ステーションで対象物の周囲に抗微生物組成物、リンス組成物またはこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成されているか；第４ステーションが乾燥器を備えているか；またはこれらの組合せである、
形態４２に記載のシステム。
〔形態５６〕
第４ステーションが乾燥器を備えている、形態５５に記載のシステム。
〔形態５７〕
第４ステーションで滅菌剤を加えるように適合および構成されたインジェクタを更に備えている、形態５６に記載のシステム。
〔形態５８〕
第４ステーションが対象物の周囲にリンス組成物を循環させるように適合および構成されている、形態５５に記載のシステム。
〔形態５９〕
液体トランスポータ系が第４ステーションに噴霧器を備えており、対象物にリンス組成物を適用するように適合および構成されている、形態５８に記載のシステム。
〔形態６０〕
第４ステーションが噴霧室を備えている、形態５９に記載のシステム。
〔形態６１〕
第４ステーションおよび液体トランスポータが、対象物をリンス組成物中に浸漬するように適合および構成されている、形態５８に記載のシステム。
〔形態６２〕
第４ステーションが槽、タンクまたはバスを備えている形態６１に記載のシステム。
〔形態６３〕
第１ステーションが、ソニケータを備えており、対象物の周囲に洗浄組成物を循環させるように適合および構成されており；
第２ステーションが対象物の周囲に抗微生物組成物および第１リンス組成物を循環させるように適合および構成されており；そして
第３ステーションが対象物の周囲に第２リンス組成物を循環させるように適合および構成されている、
形態５５に記載のシステム。
〔形態６４〕
第１ステーションが、ソニケータを備えており、対象物の周囲に洗浄組成物および第１リンス組成物を循環させるように適合および構成されており；
第２ステーションが対象物の周囲に抗微生物組成物を循環させるように適合および構成されており；そして
第３ステーションが対象物の周囲に第２リンス組成物を循環させるように適合および構成されている、
形態５５に記載のシステム。
〔形態６５〕
第１ステーションが、ソニケータを備えており、対象物の周囲に洗浄組成物を循環させるように適合および構成されており；
第２ステーションが対象物の周囲に第１リンス組成物を循環させるように適合および構成されており；そして
第３ステーションが対象物の周囲に抗微生物組成物および第２リンス組成物を循環させるように適合および構成されている、
形態５５に記載のシステム。
〔形態６６〕
第１ステーションが、ソニケータを備えており、対象物の周囲に洗浄組成物を循環させるように適合および構成されており；
第２ステーションが対象物の周囲に第１リンス組成物を循環させるように適合および構成されており；
第３ステーションが対象物の周囲に抗微生物組成物を循環させるように適合および構成されており；そして
第４ステーションが対象物の周囲に第２リンス組成物を循環させるように適合および構成されており、第４ステーションが乾燥器を備えている、
形態５５に記載のシステム。
〔形態６７〕
第５ステーションを更に備えており、ここで：
第１ステーションが、ソニケータを備えており、第１ステーションで対象物の周囲に洗浄組成物、抗微生物組成物またはこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成されており；
第２ステーションが第２ステーションで対象物の周囲に抗微生物組成物、リンス組成物またはこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成されており；
第３ステーションが第３ステーションで対象物の周囲に抗微生物組成物、リンス組成物またはこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成されており；
第４ステーションが第４ステーションで対象物の周囲に抗微生物組成物、リンス組成物またはこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成されており；
第５ステーションが第５ステーションで対象物の周囲にリンス組成物を循環させるように適合および構成されているか、第５ステーションが乾燥器を備えているか、またはこれらの組合せである、
形態５５に記載のシステム。
〔形態６８〕
第５ステーションが乾燥器を備えている、形態６７に記載のシステム。
〔形態６９〕
第５ステーションで滅菌剤を加えるように適合および構成されたインジェクタを更に備えている、形態６８に記載のシステム。
〔形態７０〕
第５ステーションが対象物の周囲にリンス組成物を循環させるように適合および構成されている、形態６７に記載のシステム。
〔形態７１〕
液体トランスポータ系が第５ステーションに噴霧器を備えており、対象物にリンス組成物を適用するように適合および構成されている、形態７０に記載のシステム。
〔形態７２〕
第５ステーションが噴霧室を備えている、形態７１に記載のシステム。
〔形態７３〕
第５ステーションおよび液体トランスポータが、対象物をリンス組成物中に浸漬するように適合および構成されている、形態７０に記載のシステム。
〔形態７４〕
第５ステーションが槽、タンクまたはバスを備えている形態７３に記載のシステム。
〔形態７５〕
第１ステーションが、ソニケータを備えており、洗浄組成物を循環させるように適合および構成されており；
第２ステーションが第１リンス組成物を循環させるように適合および構成されており；
第３ステーションが抗微生物組成物を循環させるように適合および構成されており；そして
第４ステーションが第２リンス組成物を循環させるように適合および構成されている、
形態６７に記載のシステム。
〔形態７６〕
第６ステーションを更に備えており、ここで：
第１ステーションが、ソニケータを備えており、第１ステーションで対象物の周囲に洗浄組成物、抗微生物組成物またはこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成されており；
第２ステーションが第２ステーションで対象物の周囲に抗微生物組成物、リンス組成物またはこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成されており；
第３ステーションが第３ステーションで対象物の周囲に抗微生物組成物、リンス組成物またはこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成されており；
第４ステーションが第４ステーションで対象物の周囲に抗微生物組成物、リンス組成物またはこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成されており；
第５ステーションが第５ステーションで対象物の周囲にリンス組成物を循環させるように適合および構成されているか、第５ステーションが乾燥器を備えているか、第５ステーションがガス状滅菌剤を加えるための装置を備えているか、またはこれらの組合せであり；そして
第６ステーションが乾燥器を備えているか、第６ステーションがガス状滅菌剤を加えるための装置を備えているか、またはこれらの組合せである、
形態６７に記載のシステム。
〔形態７７〕
対象物を洗浄し、殺菌し又は滅菌するための方法であって、
対象物を洗浄組成物および超音波エネルギーと接触させること；
対象物を抗微生物組成物で処理すること；
対象物をリンス組成物で濯ぐこと；
対象物を乾燥すること；および
対象物をガス状滅菌剤に曝露すること
を含む方法。
〔形態７８〕
洗浄組成物が抗微生物剤を含む、形態７７に記載の方法。
〔形態７９〕
洗浄組成物が固形炭酸塩クリーニング組成物を含む、形態７７に記載の方法。
〔形態８０〕
対象物を超音波エネルギーと接触させることが、対象物に近接する点源から超音波エネルギーを供給することを含む、形態７７に記載の方法。
〔形態８１〕
対象物を超音波エネルギーと接触させることが、対象物に近接する潅注プローブから超音波エネルギーを供給することを含む、形態８０に記載の方法。
〔形態８２〕
対象物を超音波エネルギーと接触させることが、洗浄組成物の全体にわたり超音波エネルギーを適用することを含む、形態７７に記載の方法。
〔形態８３〕
対象物を超音波エネルギーと接触させることが、対象物を洗浄組成物と接触させる前に対象物に近接する点源から超音波エネルギーを供給すること、および洗浄組成物の全体にわたり超音波エネルギーを適用することを含む、形態７７に記載の方法。
〔形態８４〕
対象物に近接する点源から超音波エネルギーを供給することが、対象物に近接する潅注プローブから超音波エネルギーを供給することを含む、形態８３に記載の方法。
〔形態８５〕
前記処理が、ペルオキシカルボン酸を含む抗微生物組成物で処理することを含む、形態７７に記載の方法。
〔形態８６〕
前記ペルオキシカルボン酸が、ペルオキシ酢酸、ペルオキシオクタン酸、ペルオキシヘプタン酸、ペルオキシノナン酸またはこれらの組合せを含む、形態８５に記載の方法。
〔形態８７〕
前記処理が、高レベル殺菌を達成するために充分な時間、対象物を処理することを含む、形態８５に記載の方法。
〔形態８８〕
前記処理が、滅菌を達成するために充分な時間、対象物を処理することを含む、形態８５に記載の方法。
〔形態８９〕
前記処理が、対象物を抗微生物組成物中に浸漬すること、対象物に抗微生物組成物を噴霧すること、またはこれらの組合せを含む、形態７７に記載の方法。
〔形態９０〕
前記処理が、対象物にマイクロ波または光エネルギーを当てることを含む、形態７７に記載の方法。
〔形態９１〕
リンス組成物がアルコール乾燥剤、潤滑剤、リンス剤、またはこれらの組合せを含む、形態７７に記載の方法。
〔形態９２〕
前記濯ぎが、接触後であって処理前の第１濯ぎ、処理後であって乾燥前の第２濯ぎ、またはこれらの組合せを含む、形態７７に記載の方法。
〔形態９３〕
前記濯ぎが、対象物をリンス組成物中に浸漬すること、対象物にリンス組成物を噴霧すること、またはこれらの組合せを含む、形態７７に記載の方法。
〔形態９４〕
前記乾燥が、対象物の周囲に加熱ガスを循環させることを含む、形態７７に記載の方法。
〔形態９５〕
前記乾燥が、対象物をガス状滅菌剤に曝露することを含む、形態７７に記載の方法。
〔形態９６〕
ガス状滅菌剤が二酸化塩素、エチレンオキシド、またはこれらの組合せを含む、形態７７に記載の方法。
〔形態９７〕
前記乾燥が、加圧容器から圧力解放弁によりガス状滅菌剤を放出することを含む、形態９６に記載の方法。
〔形態９８〕
前記乾燥が、対象物の周囲からガス状滅菌剤を排気することを更に含む、形態９６に記載の方法。
〔形態９９〕
前記乾燥が、対象物にマイクロ波または光エネルギーを当てることを含む、形態７７に記載の方法。
〔形態１００〕
接触と処理の間、処理と濯ぎの間、濯ぎと乾燥の間またはこれらの組合せで、対象物を転位させることを含む、形態７７に記載の方法。
〔形態１０１〕
対象物を収容するように適合および構成された第１ステーション；
第１ステーションで対象物に超音波エネルギーを当てるように適合および構成されたソニケータ；
第１ステーションで対象物の周囲に洗浄組成物、抗微生物組成物、リンス組成物を循環させるように又はこれらの複数の組成物を循環させるように適合および構成された液体トランスポータ；および
対象物を滅菌剤の存在下で乾燥するように適合および構成された乾燥器
を備えたシステムで、接触、処理、濯ぎおよび乾燥を実行することを含む、形態７７に記載の方法。