【手続補正書】
【提出日】平成15年4月2日(2003.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外側表面（258）と内側表面（260）を有する外壁（256）を備え、内部キャビティ（262）、および前記外壁の前記外側表面（258）に設けた第１ガス入口開口（266）と前記内側表面（260）に設けた出口開口（268）との間で前記外壁（256）内を貫く第１のガス室（264）を有するハウジング（210）と、
１つの軸線（272）回りに回転するために前記ハウジング（210）の前記内部キャビティ（262）内で回転可能に取付けられて、第１端部（270a）と第２端部（270b）との間で軸方向に伸び、かつ第２ガス入口開口（278）と前記第２端部（270b）の間を通って伸びる第２のガス室（276）を有する軸（270）と、
前記軸線（272）回りに回転するために、前記軸（270）の第２端部（270b）に取付られてワークピースを支持し、かつガス供給ポート（290）、および前記軸（270）内の前記第２のガス室（276）と前記ガス供給ポート（290）との間の流体連通を与える第３のガス室（292）を有する処理用ディスク（282）と、
前記ハウジング（210）の前記出口開口（268）と前記軸（270）の前記第２ガス入口（278）との間の流体連通を与える回転フィードスルー（300）と、
前記ハウジング（210）に設けた第１ガス入口開口（266）に冷却ガス（302）を供給するための冷却ガス源（252）と、
前記処理用ディスク（282）に取り付けたワークピースにイオンを供給するためのイオン源（112）とを備え、
前記冷却ガス源（252）が前記第１、第２、第３のガス室（264,276,292）を介してワークピースに前記冷却ガス（302）を供給して、前記ワークピースから熱を取り除くことを特徴とするイオン注入システム。
【請求項２】
回転フィードスルー（300）は、磁気シールを構成することを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項３】
処理用ディスク（282,380）は、このディスクの中心部分（382）から横方向外側に伸びる複数のペデスタル（384）を含み、各ペデスタル（384）は、前記ディスクの軸線（368）から放射状に配置されたワークピース取付部（386）を含み、このワークピース取付部は、前記ワークピースを支持するとともにガス供給ポート（388）を有しており、
前記第３のガス室（292）は、前記ワークピース取付部（386）に設けたガス供給ポート（388）と前記軸（270）内の第２のガス室（276）との間の流体連通を与え、前記冷却ガス源（252）は、前記第１、第２、第３のガス室（264,276,292）を介して前記ワークピース取付部（386）の前記ガス供給ポート（388）の位置で、前記ワークピースに冷却ガス（302）を供給して、前記ワークピースから熱を取り除くことを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項４】
回転フィードスルー（300）は、前記ハウジング（210）の内部キャビティ（262）と第１、第２のガス室（264,276）の間でシール（306）を与えることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項５】
回転フィードスルー（300）は、磁気シールを構成することを特徴とする請求項４記載のシステム。
【請求項６】
磁気シールは、半径方向外側に配置されかつ軸（270,364）を取巻きその間にギャップを形成する内側表面（404）と、ハウジング（254,352）の内側表面（260,362）上に取付られた外側表面（406）と、前記軸と共に磁気回路を形成する磁石（408）と、前記円筒部材の内側表面（404）と前記軸（270,364）との間の前記ギャップを満たす磁気流体とを有している円筒部材（402）を含み、前記磁気流体が前記ハウジングの内部キャビティ（262）と第１、第２のガス室（264,276）との間にシールを与えることを特徴とする請求項５記載のシステム。
【請求項７】
ハウジングの前記内部キャビティ（262）は、前記軸の第１端部（270a）に近接する第１キャビティ端部（262a）と、前記軸の第１端部（270b）の近くに配置された第２キャビティ端部（262b）とを含み、前記円筒部材（402）は、前記軸の第１端部（270a）の方に配置された第１端部（400a）と、前記軸の第２端部（270b）の方に配置された第２端部（400b）との間で軸方向に伸び、さらに、前記円筒部材（402）の第１端部（400a）の近くにあって前記第１キャビティ端部（262a）と第１、第２のガス室（264,276）の間にシールを与える第１シール部分と、前記円筒部材（402）の第２端部（400a）の近くにあって前記第２キャビティ端部（262b）と第１、第２のガス室（264,276）の間にシールを与える第２シール部分とを含んでいることを特徴とする請求項６記載のシステム。
【請求項８】
円筒部材（402）の第１シール部分は、
半径方向外側に配置されかつ軸（270,364）を取巻きその間に第１ギャップを形成し、この第１ギャップが前記円筒部材の第１端部（400a）と第１、第２のガス室（264,276）の間で軸方向に配置されている、第１内側表面（404）と、
前記ハウジング（210）の内側表面（260）上に取付られる第１外側表面（406）と、
前記軸（270,364）と共に第１磁気回路を形成する第１磁石（408a）と、
前記円筒部材の内側表面（404）と前記軸（270,364）との間の前記第１ギャップの部分を満たし、かつ前記第１キャビティ端部（262a）と前記第１、第２のガス室（264,276）との間にシールを与える第１磁気流体とを含み、さらに、
前記円筒部材（402）の第２シール部分は、
半径方向外側に配置されかつ軸（270,364）を取巻きその間に第２ギャップを形成し、この第２ギャップが前記円筒部材の第２端部（400b）と第１、第２のガス室（264,276）の間で軸方向に配置されている、第２内側表面（404）と、
前記ハウジングの内側表面（260）上に取付られる第２外側表面（406）と、
前記軸（270,364）と共に第１磁気回路を形成する第２磁石（408b）と、
前記円筒部材の内側表面（404）と前記軸（270,364）との間の前記第２ギャップの部分を満たし、かつ前記第２キャビティ端部（262b）と前記第１、第２のガス室（264,276）との間にシールを与える第２磁気流体とを含んでいることを特徴とする請求項７記載のシステム。
【請求項９】
処理用ディスク（282,380）は、複数のペデスタル（384）を含み、このペデスタルは、前記処理用ディスクの中心部分（382）から横方向外側に伸び、各ペデスタルが、軸線（368）から放射状に配置されてワークピースを支持するとともに、ガス供給ポート（388）を有するワークピース取付部（386）を備え、かつ、軸（270）に設けた第２のガス室（276）とワークピース取付部（386）に設けたガス供給ポート（388）との間の流体連通を与える第３のガス室（292）を備えており、さらに、
冷却ガス源（252）が、前記ワークピースからの熱を取り除くために、前記ワークピース取付部（386）のガス供給ポート（388）で前記ワークピースに第１、第２、第３のガス室（264,276,292）を介して冷却ガス（302）を供給することを特徴とする請求項８記載のシステム。
【請求項１０】
ハウジング（210）の内部キャビティ（262）は、前記軸の第１端部（270a）に近接する第１キャビティ端部（262a）と、前記軸の第１端部（270b）の近くに配置された第２キャビティ端部（262b）とを含み、前記回転フィードスルー（300）は、前記軸の第１端部（270a）の方に配置された第１端部（400a）と、前記軸の第２端部（270b）の方に配置された第２端部（400b）との間で軸方向に伸び、さらに、前記回転フィードスルー（300）の第１端部（400a）の近くにあって前記第１キャビティ端部（262a）と第１、第２のガス室（264,276）の間にシールを与える第１シール部分と、前記回転フィードスルー（300）の第２端部（400a）の近くにあって前記第２キャビティ端部（262b）と第１、第２のガス室（264,276）の間にシールを与える第２シール部分とを含んでいることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項１１】
回転フィードスルー（300）は、磁気シールを構成することを特徴とする請求項１０記載のシステム。
【請求項１２】
処理用ディスク（282,380）は、複数のペデスタル（384）を含み、このペデスタルは、前記処理用ディスクの中心部分（382）から横方向外側に伸び、各ペデスタルが、軸線（368）から放射状に配置されてワークピースを支持するとともに、ガス供給ポート（388）を有するワークピース取付部（386）を備え、かつ、軸（270）に設けた第２のガス室（276）とワークピース取付部（386）に設けたガス供給ポート（388）との間の流体連通を与える第３のガス室（292）を備えており、さらに、
冷却ガス源（252）は、前記ワークピースからの熱を取り除くために、前記ワークピース取付部（386）のガス供給ポート（388）の位置で前記ワークピースに第１、第２、第３のガス室（264,276,292）を介して冷却ガス（302）を供給することを特徴とする請求項１０記載のシステム。
【請求項１３】
バッチ型イオン注入システム内に少なくとも１つのワークピースを支持するためのワークピース支持体であって、
外側表面（258）と内側表面（260）を有する外壁（256）を備え、内部キャビティ（262）、および前記外壁（256）の前記外側表面（258）に設けた第１ガス入口開口（266）と前記内側表面（260）に設けた出口開口（268）との間で前記外壁（256）内を貫く第１のガス室（264）を有するハウジング（210）と、
１つの軸線（272）回りに回転するために前記ハウジング（210）の前記内部キャビティ（262）内で回転可能に取付けられて、第１端部（270a）と第２端部（270b）との間で軸方向に伸び、かつ第２ガス入口開口（278）と前記第２端部（270b）の間を通って伸びる第２のガス室（276）を有する軸（270）と、
前記軸線（272）回りに回転するために前記軸（270）の第２端部（270b）に取付られてワークピースを支持し、かつガス供給ポート（290）を有するとともに前記軸（270）内の前記第２のガス室（276）と前記ガス供給ポート（290）との間の流体連通を与える第３のガス室（292）を有する処理用ディスク（282）と、
前記ハウジング（210）の前記出口開口（268）と前記軸（270）の前記第２ガス入口（278）との間の流体連通を与える回転フィードスルー（300）とを備えることを特徴とするワークピース支持体。
【請求項１４】
ハウジング（210）に設けた第１ガス入口開口（266）にガス（302）を供給するための冷却ガス源（252）を更に含み、
前記冷却ガス源（252）が前記第１、第２、第３のガス室（264,276,292）を介してワークピースに冷却ガス（302）を供給して、前記ワークピースから熱を取り除くことを特徴とする請求項１３記載の支持体。
【請求項１５】
回転フィードスルー（300）は、磁気シールを構成することを特徴とする請求項１３記載の支持体。
【請求項１６】
処理用ディスク（282,380）は、複数のペデスタル（384）を含み、このペデスタルは、前記処理用ディスクの中心部分（382）から横方向外側に伸び、各ペデスタルが、軸線（368）から放射状に配置されてワークピースを支持するとともに、ガス供給ポート（388）を有するワークピース取付部（386）を備え、かつ、軸（270）に設けた第２のガス室（276）とワークピース取付部（386）に設けたガス供給ポート（388）との間の流体連通を与える第３のガス室（292）を備えており、さらに、
冷却ガス源（252）が、前記ワークピースからの熱を取り除くために、前記ワークピース取付部（386）のガス供給ポート（388）で前記ワークピースに第１、第２、第３のガス室（264,276,292）を介して冷却ガス（302）を供給することを特徴とする請求項１３記載の支持体。
【請求項１７】
回転フィードスルー（300）は、前記ハウジング（210）の内部キャビティ（262）と第１、第２のガス室（264,276）の間でシール（306）を与えることを特徴とする請求項１３記載の支持体。
【請求項１８】
回転フィードスルー（300）は、磁気シールを構成することを特徴とする請求項１７記載の支持体。
【請求項１９】
磁気シールは、半径方向外側に配置されかつ軸（270,364）を取巻きその間にギャップを形成する内側表面（404）と、ハウジング（254,352）の内側表面（260,362）上に取付られた外側表面（406）と、前記軸と共に磁気回路を形成する磁石（408）と、前記円筒部材の内側表面（404）と前記軸（270,364）との間の前記ギャップを満たす磁気流体とを有している円筒部材（402）を含み、前記磁気流体が前記ハウジングの内部キャビティ（262）と第１、第２のガス室（264,276）との間にシールを与えることを特徴とする請求項１８記載の支持体。
【請求項２０】
ハウジングの前記内部キャビティ（262）は、前記軸の第１端部（270a）に近接する第１キャビティ端部（262a）と、前記軸の第１端部（270b）の近くに配置された第２キャビティ端部（262b）とを含み、前記円筒部材（402）は、前記軸の第１端部（270a）の方に配置された第１端部（400a）と、前記軸の第２端部（270b）の方に配置された第２端部（400b）との間で軸方向に伸び、さらに、前記円筒部材（402）の第１端部（400a）の近くにあって前記第１キャビティ端部（262a）と第１、第２のガス室（264,276）の間にシールを与える第１シール部分と、前記円筒部材（402）の第２端部（400a）の近くにあって前記第２キャビティ端部（262b）と第１、第２のガス室（264,276）の間にシールを与える第２シール部分とを含んでいることを特徴とする請求項１９記載の支持体。
【請求項２１】
円筒部材（402）の第１シール部分は、
半径方向外側に配置されかつ軸（270,364）を取巻きその間に第１ギャップを形成し、この第１ギャップが前記円筒部材の第１端部（400a）と第１、第２のガス室（264,276）の間で軸方向に配置されている、第１内側表面（404）と、
前記ハウジング（210）の内側表面（260）上に取付られる第１外側表面（406）と、
前記軸（270,364）と共に第１磁気回路を形成する第１磁石（408a）と、
前記円筒部材の内側表面（404）と前記軸（270,364）との間の前記第１ギャップの部分を満たし、かつ前記第１キャビティ端部（262a）と前記第１、第２のガス室（264,276）との間にシールを与える第１磁気流体とを含み、
さらに、前記円筒部材（402）の第２シール部分は、
半径方向外側に配置されかつ軸（270,364）を取巻きその間に第２ギャップを形成し、この第２ギャップが前記円筒部材の第２端部（400b）と第１、第２のガス室（264,276）の間で軸方向に配置されている、第２内側表面（404）と、
前記ハウジングの内側表面（260）上に取付られる第２外側表面（406）と、
前記軸（270,364）と共に第１磁気回路を形成する第２磁石（408b）と、
前記円筒部材の内側表面（404）と前記軸（270,364）との間の前記第２ギャップの部分を満たし、かつ前記第２キャビティ端部（262b）と前記第１、第２のガス室（264,276）との間にシールを与える第２磁気流体とを含んでいることを特徴とする請求項２０記載の支持体。
【請求項２２】
処理用ディスク（282,380）は、複数のペデスタル（384）を含み、このペデスタルは、前記処理用ディスクの中心部分（382）から横方向外側に伸び、各ペデスタルが、軸線（368）から放射状に配置されてワークピースを支持するとともに、ガス供給ポート（388）を有するワークピース取付部（386）を備え、かつ、軸（270）に設けた第２のガス室（276）とワークピース取付部（386）に設けたガス供給ポート（388）との間の流体連通を与える第３のガス室（292）を備えていることを特徴とする請求項２１記載の支持体。
【請求項２３】
ハウジングの前記内部キャビティ（262）は、前記軸の第１端部（270a）に近接する第１キャビティ端部（262a）と、前記軸の第１端部（270b）の近くに配置された第２キャビティ端部（262b）とを含み、前記回転フィードスルー（300）は、前記軸の第１端部（270a）の方に配置された第１端部（400a）と、前記軸の第２端部（270b）の方に配置された第２端部（400b）との間で軸方向に伸び、さらに、前記回転フィードスルー（300）の第１端部（400a）の近くにあって前記第１キャビティ端部（262a）と第１、第２のガス室（264,276）の間にシールを与える第１シール部分と、前記回転フィードスルー（300）の第２端部（400a）の近くにあって前記第２キャビティ端部（262b）と第１、第２のガス室（264,276）の間にシールを与える第２シール部分とを含んでいることを特徴とする請求項１４記載の支持体。
【請求項２４】
回転フィードスルー（300）は、磁気シールを構成することを特徴とする請求項２３記載の支持体。
【請求項２５】
処理用ディスク（282,380）は、複数のペデスタル（384）を含み、このペデスタルは、前記処理用ディスクの中心部分（382）から横方向外側に伸び、各ペデスタルが、軸線（368）から放射状に配置されてワークピースを支持するとともに、ガス供給ポート（388）を有するワークピース取付部（386）を備え、かつ、ワークピース取付部（386）に設けたガス供給ポート（388）と軸（270）に設けた第２のガス室（276）との間の流体連通を与える第３のガス室（292）を備えており、さらに、
冷却ガス源（252）が、前記ワークピースからの熱を取り除くために、前記ワークピース取付部（386）のガス供給ポート（388）の位置で前記ワークピースに第１、第２、第３のガス室（264,276,292）を介して冷却ガス（302）を供給することを特徴とする請求項２３記載の支持体。
【請求項２６】
内部キャビティ（262）、および第１ガス入口（266）と第１出口ガス開口（268）との間に流体連通を与える第１のガス室（264）を有するハウジング（210）と、
１つの軸線（272）回りに回転するために前記ハウジング（210）の前記内部キャビティ（262）内に取付けられ、第２ガス入口（278）と第２ガス出口（270b）との間に流体連通を与える第２のガス室（276）を有する軸（270）と、
前記軸（270）と前記ハウジング（210）に連動し、前記ハウジング（210）の第１ガス出口（268）と前記軸の前記第２ガス入口（278）との間の流体連通を与える回転フィードスルー（300）と、
前記軸（270）に取付られてワークピースを支持するとともにガス供給ポート（388）を有し、かつ前記第２ガス出口（270b）と前記ガス供給ポート（388）との間に流体連通を与える第３のガス室（292）を有する処理用ディスク（282,380）と、
前記第１ガス入口（266）を通って前記ワークピース取付部（386）に取り付けられた前記ワークピースに、第１、第２、第３のガス室（264,276,292）を介して冷却ガス（302）を供給するための冷却ガス源（252）と、
前記ワークピース取付部（386）に取り付けた前記ワークピースにイオンを供給するためのイオン源（112）とを備えることを特徴とするバッチ型イオン注入システム。
【請求項２７】
回転フィードスルー（300）は、前記ハウジング（210）の内部キャビティ（262）と第１、第２、第３のガス室（264,276,292）の間にシールを与えるための磁気シールを構成することを特徴とする請求項２６記載のシステム。
【請求項２８】
軸は、第１、第２の端部（270a,70b）を含み、処理用ディスク（282,380）は、前記軸の前記第２端部（270b）に取付られ、前記ハウジング（210）の内部キャビティ（262）は、前記軸の第１端部（270a）に近接する第１キャビティ端部（262a）と、前記軸の第１端部（270b）の近くに配置された第２キャビティ端部（262b）とを含み、前記回転フィードスルー（300）は、前記軸の第１端部（270a）の方に配置された第１端部と、前記軸の第２端部（270b）の方に配置された第２端部との間で軸方向に伸び、さらに、前記第１キャビティ端部（262a）と第１、第２のガス室（264,276）の間にシールを与える第１シール部分と、前記回転フィードスルー（300）の第２端部（400a）の近くにあって前記第２キャビティ端部（262b）と第１、第２のガス室（264,276）の間にシールを与える第２シール部分とを含んでいることを特徴とする請求項２６記載のシステム。
【請求項２９】
バッチ型イオン注入システム内に少なくとも１つのワークピースを支持するためのワークピース支持体であって、
内部キャビティ（262）、および第１ガス入口（266）と第１出口ガス開口（268）との間に流体連通を与える第１のガス室（264）を有するハウジング（210）と、
１つの軸線（272）回りに回転するために前記ハウジング（210）の前記内部キャビティ（262）内に取付けられ、第２ガス入口（278）と第２ガス出口（270b）との間に流体連通を与える第２のガス室（276）を有する軸（270）と、
前記軸（270）と前記ハウジング（210）に連動し、前記ハウジング（210）の第１ガス出口（268）と前記軸の前記第２ガス入口（278）との間の流体連通を与える回転フィードスルー（300）と、
内部にガス供給ポート（388）を有すると共に前記ワークピースを支持し、かつ前記第２ガス出口（270b）と前記ガス供給ポート（388）との間に流体連通を与える第３のガス室（292）を有する処理用ディスク（282,380）とを備えることを特徴とするワークピース支持体。
【請求項３０】
前記第１ガス入口（266）を通って前記ワークピースに、第１、第２、第３のガス室（264,276,292）を介して冷却ガス（302）を供給するための冷却ガス源（252）をさらに含むことを特徴とする請求項２９記載の支持体。
【請求項３１】
回転フィードスルー（300）は、前記ハウジング（210）の内部キャビティ（262）と第１、第２、第３のガス室（264,276,292）の間にシールを与えるための磁気シールを構成することことを特徴とする請求項２９記載の支持体。
【請求項３２】
軸（270）は、第１、第２の端部（270a,70b）を含み、処理用ディスク（282,380）は、前記軸の前記第２端部（270b）に取付られ、前記ハウジング（210）の内部キャビティ（262）は、前記軸の第１端部（270a）に近接する第１キャビティ端部（262a）と、前記軸の第１端部（270b）の近くに配置された第２キャビティ端部（262b）とを含み、前記回転フィードスルー（300）は、前記軸の第１端部（270a）の方に配置された第１端部と、前記軸の第２端部（270b）の方に配置された第２端部との間で軸方向に伸び、さらに、前記第１キャビティ端部（262a）と第１、第２のガス室（264,276）の間にシールを与える第１シール部分と、前記回転フィードスルー（300）の第２端部（400a）の近くにあって前記第２キャビティ端部（262b）と第１、第２のガス室（264,276）の間にシールを与える第２シール部分とを含んでいることを特徴とする請求項２９記載の支持体。
【請求項３３】
バッチ型イオン注入システム内のワークピースを冷却する方法であって、
前記ワークピースの少なくとも一部分に冷却ガス（302）を供給する工程と、
前記ワークピースからの熱を前記冷却ガス（302）を用いて取り除く工程とを有し、
前記ワークピースの少なくとも一部分に冷却ガス（302）を供給する工程は、ハウジング（210）に対して回転可能な軸（270）に取付けられた処理用ディスク（282,380）上にワークピースを支持し、
前記ハウジング（210）、回転する前記軸（270）、及び前記処理用ディスク（282,380）を通るガス通路（264,276,292）を設け、
前記ガス通路（264,276,292）を介して前記ワークピースに冷却ガス（302）を供給する、各ステップを有することを特徴とする方法。
【請求項３４】
前記ハウジング（210）、回転する前記軸（270）、及び前記処理用ディスク（282,380）を通るガス通路（264,276,292）を設けるステップは、
前記ハウジング（210）内に第１のガス室（264）を設け、
前記軸（270）に第２のガス室（276）を設け、
前記処理用ディスク（282,380）内に第３のガス室（292）を設け、
前記回転フィードスルー（300）を用いて前記第１、第２のガス室（264,276）の間に流体連通を与えることを特徴とする請求項３３記載の方法。
【請求項３５】
前記回転フィードスルー（300）を用いて前記第１、第２のガス室（264,276）の間に流体連通を与えるステップは、前記軸（270）と前記ハウジング（210）との間に磁気シールを与える事を含み、この磁気シールは、前記第１、第２のガス室（264,276）の間に流体連通を与えるように作動することを特徴とする請求項３４記載の方法。
【請求項３６】
バッチ型イオン注入システム内に少なくとも１つのワークピースを支持するためのワークピース支持体であって、
ワークピースをディスク上に載置して支持するための処理用ディスク（282,380）と、
１つの軸線（272）回りに回転するために前記ハウジング（210）に取付けられ、前記処理用ディスク（282,380）が取り付けられる軸（270）と、
前記ワークピースに冷却ガス（302）を供給するように作動する冷却ガス源（252）とを有し、
前記ハウジング（210）は、前記冷却ガス源（252）と出口との間に流体連通を与える第１ガスの室（264）を含み、前記軸（270）は、入口と前記処理用ディスク（282,380）との間に流体連通を与える第２のガス室（276）を含み、前記処理用ディスクは、前記第２のガス室（276）と前記ワークピースとの間に流体連通を与える第３のガス室（292）を含み、さらに、前記ハウジング（210）に取り付けられかつ前記ハウジング（210）の出口と前記軸（270）の入口との間に流体連通を与える回転フィードスルー（300）を備え、これにより、冷却ガス（302）が、第１、第２、第３のガス室（264,276,292）を介して、前記冷却ガス供給源（252）から前記ワークピースに供給されることを特徴とするワークピース支持体。
【請求項３７】
回転フィードスルー（300）は、磁気シールを構成することを特徴とする請求項３６記載のワークピース支持体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
シール装置５５０は、ワークピース取付部（例えば、取付部５０８）に取り付けることができるリング形状の支持部材５５２と、この支持部材５５２に取り付けられる第１シール部材５５４を含み、第１シール部材は、支持部材５５２に対して柔軟な第１部分５５６を有し、図８Ｄにおいて図示しかつ説明するように、ワークピースの裏面の一部分と係合するようになっている。シール装置５５０は、固定具（図示略）を用いる複数の取付タブ５６８に設けた穴５６６を介してワークピース取付部５０８上に取り付けることができる。これに関して、シール装置５５０は、ワークピース取付部５０８（例えば、取付固定具及び同等物を介して）から分離可能であり、その結果、取付部の修繕及び交換を容易にする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１Ａ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１Ａ】
2004510305.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１Ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１Ｂ】
2004510305.tif 000002
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2004510305.tif 000003