【手続補正書】
【提出日】平成16年6月9日(2004.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】磁気ヘッド素子の製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部コアと、磁気ギャップと、上下に堆積した下層のコア層及び上層のコア層からなる上部コアとを有する磁気ヘッド素子の製造方法において、
前記下部コア上に前記磁気ギャップを形成する工程と、
前記磁気ギャップ上に下層のコア層を形成する工程と、
前記下層のコア層上に第１のレジスト膜をパターニングして所定の形状に形成する工程と、
前記パターニングされた第１のレジスト膜をマスクとして前記下層のコア層をミリングする工程と、
前記下層のコア層を含む前記磁気ギャップ上に上層のコア層を形成する工程と、
前記上層のコア層上に第２のレジスト膜をパターニングして所定の形状に形成する工程と、
前記パターニングされた第２のレジスト膜をマスクとして前記上層及び下層のコア層をミリング加工して前記上部コアを形成する工程とを有することを特徴とする磁気ヘッド素子の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の磁気ヘッド素子の製造方法において、
前記ミリング工程は、イオン粒子を前記第１のレジスト膜に対して斜め方向から照射し、前記第１のレジスト膜をマスクとして前記下層のコア層をミリング加工して実行されることを特徴とする磁気ヘッド素子の製造方法。
【請求項３】
請求項１記載の磁気ヘッド素子の製造方法において、
前記ミリング加工は、前記下層のコア層の膜厚を、上下に堆積した下層と上層のコア層の合計膜厚の１／４〜１／５の範囲に設定し、かつ前記マスク用第１のレジスト膜の膜厚を、前記マスク用第２のレジスト膜の膜厚の１／４〜１／５の範囲に設定してミリング加工することにより、前記下層のコア層のトラック幅方向の両側に、膜厚方向に立上がるエッチング面を形成して実行されることを特徴とする磁気ヘッド素子の製造方法。
【請求項４】
請求項１記載の磁気ヘッド素子の製造方法において、
前記ミリング加工は、イオン粒子の前記上層のコア層に対する照射角度を固定してイオン照射を行い、前記第２のレジスト膜をマスクとして前記上層及び下層のコア層を、膜厚方向の断面形状が前記磁気ギャップ側を底辺とする略台形形状をなす構造にミリング加工して実行されることを特徴とする磁気ヘッド素子の製造方法。
【請求項５】
請求項４記載の磁気ヘッド素子の製造方法において、
イオン粒子の前記上層のコア層に対する照射方向を膜厚方向に対して約５°傾斜させた角度に固定することを特徴とする磁気ヘッド素子の製造方法。
【請求項６】
請求項４又は５記載の磁気ヘッド素子の製造方法において、
前記下層のコア層の膜厚方向に立上がるエッチング面に対する前記下層のコア層のトラック幅方向へのエッチングレートが低いミリング角度で前記磁気ギャップのトラック幅を確保することを特徴とする磁気ヘッド素子の製造方法。
【請求項７】
請求項３ないし５のいずれか一項に記載の磁気ヘッド素子の製造方法において、
前記下層のコア層の膜厚方向に立上がるエッチング面に対する前記下層のコア層のトラック幅方向へのエッチングレートが低いミリング角度で前記磁気ギャップを膜厚方向の下向き方向にオーバーエッチングすることを特徴とする磁気ヘッド素子の製造方法。
【請求項８】
請求項３ないし５のいずれか一項に記載の磁気ヘッド素子の製造方法において、
前記下層のコア層の膜厚方向に立上がるエッチング面に対する前記下層のコア層のトラック幅方向へのエッチングレートが低いミリング角度で前記磁気ギャップを膜厚方向の下向き方向にオーバーエッチングし、
前記下層のコア層の底辺に接合する前記磁気ギャップのトラック幅を確保することを特徴とする磁気ヘッド素子の製造方法。
【請求項９】
請求項１記載の磁気ヘッド素子の製造方法において、
前記下層のコア層と前記上層のコア層とを同一材質で成膜することを特徴とする磁気ヘッド素子の製造方法。
【請求項１０】
下部コアと、磁気ギャップと、上部コアとを有する磁気ヘッド素子の製造方法において、
前記下部コア上に前記磁気ギャップを形成する工程と、
前記磁気ギャップ上に上部コアを形成する工程と、
前記上部コア上に第１のレジスト膜をパターニングして所定の形状に形成する工程と、
前記パターニングした第１のレジスト膜をマスクとして前記上部コアの表層をミリング加工して中高状の突部を形成する工程と、
前記中高状の突部上に第２のレジスト膜をパターニングして所定の形状に形成する工程と、
前記第２のレジスト膜をマスクとして前記上部コアをミリング加工する工程とを有することを特徴とする磁気ヘッド素子の製造方法。
【請求項１１】
請求項１０記載の磁気ヘッド素子の製造方法において、
前記第１のレジスト膜の膜厚を前記第２のレジスト膜の膜厚の１／４〜１／５の範囲に設定し、前記パターニングした第１のレジスト膜をマスクとして前記上部コアの表層をミリングして中高状の突部を形成することを特徴とする磁気ヘッド素子の製造方法。
【請求項１２】
請求項１０又は１１記載の磁気ヘッド素子の製造方法において、
前記中高状突部の側面を、ミリング加工によるエッチングレートが少ない膜厚方向に立上がる側面に形成することを特徴とする磁気ヘッド素子の製造方法。
【請求項１３】
請求項１０記載の磁気ヘッド素子の製造方法において、
前記第２のレジスト膜のトラック幅方向の寸法を、前記第２のレジスト膜のトラック幅方向の寸法の１．５倍〜２倍の範囲に設定することを特徴とする磁気ヘッド素子の製造方法。
【請求項１４】
請求項１０又は１１記載の磁気ヘッド素子の製造方法において、
イオン粒子の前記上部コアに対する照射方向を固定してイオン照射を行い、前記第２のレジスト膜をマスクとして前記上部コアを、膜厚方向の断面形状が前記磁気ギャップ側を底辺とする略矩形形状をなす構造にミリング加工することを特徴とする磁気ヘッド素子の製造方法。
【請求項１５】
請求項１４記載の磁気ヘッド素子の製造方法において、
イオン粒子の前記上部コアに対する照射方向を膜厚方向に対して約５°傾斜させた方向に固定することを特徴とする磁気ヘッド素子の製造方法。
【請求項１６】
請求項１４又は１５記載の磁気ヘッド素子の製造方法において、
前記上部コアの膜厚方向に立上がるエッチング面に対する前記上部コアのトラック幅方向へのエッチングレートが低いミリング角度で前記磁気ギャップのトラック幅を確保することを特徴とする磁気ヘッド素子の製造方法。
【請求項１７】
請求項１４ないし１６のいずれか一項に記載の磁気ヘッド素子の製造方法において、
前記上部コアの膜厚方向に立上がるエッチング面に対する前記上部コアのトラック幅方向へのエッチングレートが低いミリング角度で前記磁気ギャップを膜厚下向き方向にオーバーエッチングすることを特徴とする磁気ヘッド素子の製造方法。
【請求項１８】
請求項１４ないし１６のいずれか一項に記載の磁気ヘッド素子の製造方法において、
前記上部コアの膜厚方向に立上がるエッチング面に対する前記上部コアのトラック幅方向へのエッチングレートが低いミリング角度で前記磁気ギャップを膜厚下向き方向にオーバーエッチングし、
前記上部コアの底辺に接合する前記磁気ギャップのトラック幅を確保することを特徴とする磁気ヘッド素子の製造方法。
【請求項１９】
請求項１０ないし１２及び１４のいずれか一項に記載の磁気ヘッド素子の製造方法において、
前記第１のレジスト膜の膜厚を、前記第２のレジスト膜の膜厚の１／４〜１／５の範囲に設定することを特徴とする磁気ヘッド素子の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【技術分野】
本発明は、磁気ヘッド素子特に書込み用の磁気ヘッド素子の製造方法に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【発明の目的】
本発明の目的は、上部コアの書込み用磁気ギャップ側のトラック幅方向の寸法の精度を向上させた磁気ヘッド素子の製造方法を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明に係る磁気ヘッド素子の製造方法は、下部コアと、磁気ギャップと、上下に堆積した下層のコア層及び上層のコア層からなる上部コアとを有する磁気ヘッド素子の製造方法において、前記下部コア上に前記磁気ギャップを形成する工程と、前記磁気ギャップ上に下層のコア層を形成する工程と、前記下層のコア層上に第１のレジスト膜をパターニングして所定の形状に形成する工程と、前記パターニングされた第１のレジスト膜をマスクとして前記下層のコア層をミリングする工程と、前記下層のコア層を含む前記磁気ギャップ上に上層のコア層を形成する工程と、前記上層のコア層上に第２のレジスト膜をパターニングして所定の形状に形成する工程と、前記パターニングされた第２のレジスト膜をマスクとして前記上層及び下層のコア層をミリング加工して前記上部コアを形成する工程とを有することを特徴とする。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
また、下層のコア層３ｅの膜厚方向に立上がるエッチング面に対する下層のコア層３ｅのトラック幅方向へのエッチングレートが低いミリング角度に設定して磁気ギャップ２を膜厚下向き方向にオーバーエッチングすることにより、下層のコア層３ｅの底辺に接合する磁気ギャップ２のトラック幅を確保することができる。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、上部コアの書込み用磁気ギャップ側のトラック幅方向の寸法の精度を向上させる磁気ヘッドの製造方法を得ることができる。