Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月10日(2004.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
給紙ローラが給紙動作を開始してから、紙送りローラ及びその従動ローラへの印刷紙上端の突き当たりを経た後に印刷紙上端部を紙送りローラ及びその従動ローラに挟持させた状態で停止するまでの給紙モータの速度制御において、減速開始以後に前記給紙モータの目標速度を不連続に変化させることを特徴とするプリンタ制御方法。
【請求項２】
前記減速は、フィードバック制御によって行われることを特徴とする請求項１に記載のプリンタ制御方法。
【請求項３】
給紙ローラが給紙動作を開始してから、紙送りローラ及びその従動ローラへの印刷紙上端の突き当たりを経た後に印刷紙上端部を紙送りローラ及びその従動ローラに挟持させた状態で停止するまでの給紙モータの速度制御において、紙送りローラ及びその従動ローラへの印刷紙上端の突き当たりに起因する前記給紙モータの現在速度の急速な低下の際に、前記給紙モータの目標速度に対する前記現在速度のアンダーシュートの発生が回避される程度に、前記目標速度を不連続に変化させることを特徴とするプリンタ制御方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載のプリンタ制御方法をコンピュータシステムにおいて実行するコンピュータプログラムが記録されたことを特徴とするコンピュータプログラムの記録媒体。
【請求項５】
給紙ローラが給紙動作を開始してから、紙送りローラ及びその従動ローラへの印刷紙上端の突き当たりを経た後に印刷紙上端部を紙送りローラ及びその従動ローラに挟持させた状態で停止するまでの給紙モータの速度制御において、減速開始以後に前記給紙モータの目標速度を不連続に変化させる目標速度演算部を備えていることを特徴とするプリンタ制御装置。
【請求項６】
前記減速は、フィードバック制御によって行われることを特徴とする請求項５に記載のプリンタ制御装置。
【請求項７】
給紙ローラが給紙動作を開始してから、紙送りローラ及びその従動ローラへの印刷紙上端の突き当たりを経た後に印刷紙上端部を紙送りローラ及びその従動ローラに挟持させた状態で停止するまでの給紙モータの速度制御において、紙送りローラ及びその従動ローラへの印刷紙上端の突き当たりに起因する前記給紙モータの現在速度の急速な低下の際に、前記給紙モータの目標速度に対する前記現在速度のアンダーシュートの発生が回避される程度に、前記目標速度を不連続に変化させる目標速度演算部を備えていることを特徴とするプリンタ制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るプリンタ制御方法によれば、給紙ローラが給紙動作を開始してから、紙送りローラ及びその従動ローラへの印刷紙上端の突き当たりを経た後に印刷紙上端部を紙送りローラ及びその従動ローラに挟持させた状態で停止するまでの給紙モータの速度制御において、減速開始以後に上記給紙モータの目標速度を不連続に変化させることを特徴とする。尚、上記減速は、フィードバック制御によって行われるものとするとよい。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
本発明に係るプリンタ制御装置によれば、給紙ローラが給紙動作を開始してから、紙送りローラ及びその従動ローラへの印刷紙上端の突き当たりを経た後に印刷紙上端部を紙送りローラ及びその従動ローラに挟持させた状態で停止するまでの給紙モータの速度制御において、減速開始以後に上記給紙モータの目標速度を不連続に変化させる目標速度演算部を備えていることを特徴とする。尚、上記減速は、フィードバック制御によって行われるものとするとよい。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
本発明に係るプリンタ制御方法及びプリンタ制御装置は、上記構成により、給紙モータの目標速度を急激に低下させることが可能となり、印刷紙上端が紙送りローラ及び従動ローラに突き当たることによる現在速度の目標速度に対するアンダーシュートの発生を回避することができ、減速過程において加速を指令する指令値が出力されることを防止することができる。その結果、その後にオーバーシュートやアンダーシュートが連鎖的に発生することも回避されるので、現在速度及び制御信号の波形に大きな乱れが発生することもなく、印刷紙が目標停止位置に到達する前に途中停止するという事態も完全に回避することができる。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
【発明の効果】
本発明に係るプリンタ制御方法及びプリンタ制御装置によれば、給紙ローラが給紙動作を開始してから、紙送りローラ及びその従動ローラへの印刷紙上端の突き当たりを経た後に印刷紙上端部を紙送りローラ及びその従動ローラに挟持させた状態で停止するまでの給紙モータの速度制御において、減速開始以後に上記給紙モータの目標速度を不連続に変化させることとしたので、給紙モータの目標速度を急激に低下させて、印刷紙上端が紙送りローラ及び従動ローラに突き当たることによる現在速度の目標速度に対するアンダーシュートの発生を回避することができ、減速過程において加速を指令する指令値が出力されることを防止することができる。その結果、その後にオーバーシュートやアンダーシュートが連鎖的に発生することも回避されるので、現在速度及び制御信号の波形に大きな乱れが発生することもなく、印刷紙が目標停止位置に到達する前に途中停止するという事態も完全に回避することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月27日(2005.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ワイヤを腐食防止剤でコーティングする方法であって、
少なくとも１つのプーリにワイヤを通す工程と、
前記ワイヤに、腐食防止剤を含む油混合物のスプレーを、６．８９ｋＰａ未満から１０３ｋＰａの範囲の空気圧で吹き付ける工程と
を有する、ワイヤのコーティング方法。
【請求項２】  前記スプレーは、最大直径が１０-5から１０-4ｍの油混合物の小滴を含んでいる、請求項１に記載のワイヤのコーティング方法。
【請求項３】  前記油混合物は、３４５ｋＰａから６８９ｋＰａの圧力で供給され、６．８９ｋＰａ未満から１０３ｋＰａの範囲の圧力で供給される空気と混合される、請求項１に記載のワイヤのコーティング方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月7日(2004.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（メタ）アクリロイルオキシ基を１分子内に少なくとも３個有する多官能（メタ）アクリレートおよびシリカを含有する塗料で、基板を塗装してなることを特徴とする屋外用塗装板。
【請求項２】
シリカの含有量が、前記多官能（メタ）アクリレート１００重量部に対して１重量部以上１００重量部以下である請求項１に記載の屋外用塗装板。
【請求項３】
（メタ）アクリロイルオキシ基を１分子内に少なくとも３個有する多官能（メタ）アクリレートおよびシリカを含有する防汚塗料。
【請求項４】
シリカの含有量が、前記多官能（メタ）アクリレート１００重量部に対して１重量部以上である請求項３に記載の防汚塗料。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月28日(2004.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
膜分離槽の内部に膜分離装置が配設され、該膜分離装置の下方に散気装置が配設され、該膜分離槽の内側壁と該膜分離装置の間に繊維状夾雑物捕捉手段が配設されてなる排水処理装置。
【請求項２】
前記繊維状夾雑物捕捉手段が、網目状構造体からなる請求項１記載の排水処理装置。
【請求項３】
前記繊維状夾雑物捕捉手段を上方から見た際の投影面積が、前記膜分離槽の水平方向の断面積に占める割合が、１０〜７０％である請求項１又は２記載の排水処理装置。
【請求項４】
前記繊維状夾雑物捕捉手段が、液面から水深１ｍ以内の位置に設けられている請求項１〜３のいずれかに記載の排水処理装置。
【請求項５】
前記繊維状夾雑物捕捉手段が、前記膜分離装置上端の位置と同じ高さに設けられている請求項１〜４のいずれかに記載の排水処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月3日(2005.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
貯水タンク内に収容した洗浄水を循環使用し、対象物に対し塗布剤を塗布処理するに際し該対象物に付着しなかった余剰の塗布剤を該洗浄水で洗浄して該貯水タンク内に回収するようになした洗浄装置の該洗浄水を浄化する装置であって、前記洗浄水の循環用の管路上に遠心分離機を設けて該洗浄水に含まれる塗布剤を該遠心分離機により遠心分離し、浄化後の洗浄水を該管路を通じて送り出すようになすとともに、該塗布剤を多く含んだ汚水を分離槽に流入させて分離し、該塗布剤の含有量の少ない清浄な水を前記洗浄水の循環経路上に戻すようになしたことを特徴とする洗浄装置における循環洗浄水の浄化装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
請求項１において、前記遠心分離機がサイクロン式分離機であって、前記貯水タンクから前記管路を圧送された洗浄水を口径の小さな絞り部で絞って容器の略接線方向に勢い良く流入させ、該流入の勢いで該容器内で旋回流を起させて中心部の浄化後の洗浄水を前記管路内に、前記塗布剤を多く含んだ前記汚水を前記分離槽に流出するようになしてあり、且つ該遠心分離機には前記絞り部内面への該塗布剤の付着堆積を防止する付着物除去装置が設けてあることを特徴とする洗浄装置における循環洗浄水の浄化装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
請求項１〜３の何れかにおいて、前記分離層が沈殿分離槽であり、該沈殿分離槽には、前記汚水の流入時に内部の水が撹拌されるのを防止する撹拌防止手段が設けてあることを特徴とする洗浄装置における循環洗浄水の浄化装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
請求項４〜７の何れかにおいて、前記沈殿分離槽は下部が先細り形状となしてあって、該先細り形状の部分に前記塗布剤のスラッジを集め濃縮沈殿させるようになしてあり、且つ該濃縮沈殿させたスラッジを外部に排出する排出装置が設けてあることを特徴とする洗浄装置における循環洗浄水の浄化装置。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の洗浄装置における循環洗浄水の浄化装置はこのような課題を解決するために案出されたものである。而して請求項１のものは、貯水タンク内に収容した洗浄水を循環使用し、対象物に対し塗布剤を塗布処理するに際し該対象物に付着しなかった余剰の塗布剤を該洗浄水で洗浄して該貯水タンク内に回収するようになした洗浄装置の該洗浄水を浄化する装置であって、前記洗浄水の循環用の管路上に遠心分離機を設けて該洗浄水に含まれる塗布剤を該遠心分離機により遠心分離し、浄化後の洗浄水を該管路を通じて送り出すようになすとともに、該塗布剤を多く含んだ汚水を分離槽に流入させて分離し、該塗布剤の含有量の少ない清浄な水を前記洗浄水の循環経路上に戻すようになしたことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項２のものは、請求項１において、前記遠心分離機がサイクロン式分離機であって、前記貯水タンクから前記管路を圧送された洗浄水を口径の小さな絞り部で絞って容器の略接線方向に勢い良く流入させ、該流入の勢いで該容器内で旋回流を起させて中心部の浄化後の洗浄水を前記管路内に、前記塗布剤を多く含んだ前記汚水を前記分離槽に流出するようになしてあり、且つ該遠心分離機には前記絞り部内面への該塗布剤の付着堆積を防止する付着物除去装置が設けてあることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項４のものは、請求項１〜３の何れかにおいて、前記分離層が沈殿分離槽であり、該沈殿分離槽には、前記汚水の流入時に内部の水が撹拌されるのを防止する撹拌防止手段が設けてあることを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
請求項８のものは、請求項４〜７の何れかにおいて、前記沈殿分離槽は下部が先細り形状となしてあって、該先細り形状の部分に前記塗布剤のスラッジを集め濃縮沈殿させるようになしてあり、且つ該濃縮沈殿させたスラッジを外部に排出する排出装置が設けてある
ことを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
【作用及び発明の効果】
上記のように本発明は、洗浄水の循環用の管路上に遠心分離機を設けて、そこで洗浄水に含まれる塗布剤を遠心分離により除去し、浄化後の洗浄水を管路を通じて送り出すとともに、塗布剤を多く含んだ汚水を分離槽に流入させてそこで分離し、該塗布剤の含有量の少ない清浄な水を洗浄水の循環経路上に戻すようになしたもので、本発明によれば、洗浄水を循環使用しながらそれら遠心分離機及び沈殿分離槽の作用によって、洗浄水に含有されて来る塗布剤を除去し、循環使用される洗浄水を常に清浄に保つことができる。ここで上記分離槽により分離された清浄な水は、貯水タンクへと返送するようになしておくことができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
請求項２のものは、遠心分離機をサイクロン式分離機となし、貯水タンクから圧送された洗浄水を口径の小さな絞り部で絞って容器の略接線方向に勢い良く流入させ、これによって容器内で旋回流を起させて遠心分離を行い、そして中心部のきれいな水を洗浄水として管路内に、また塗布剤を多く含んだ汚水を分離槽に流出するようになしたものである。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
【作用及び発明の効果】
請求項４のものは上記分離層が沈殿分離槽であり、そこに流入する汚水の流れによって内部が撹拌されるのを防止する撹拌防止手段を設けたもので、これにより沈殿分離槽内でせっかく分離した洗浄水と塗布剤とを撹拌により再び混合状態としてしまうのを防止することができる。ここで撹拌防止手段は流速を落とすために受皿を設置したり、内壁面に吐出口を向けるなど様々な形態で構成することが可能であるが、最も簡単なのは次の手段によるものである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月5日(2004.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
かかる（Ａ）特定のアセト酢酸エステル基含有ポリビニルアルコール系樹脂〔（以下、（Ａ）ＡＡ化ＰＶＡと略記することがある）は、周波数１．６Ｈｚ、湿度４０％ＲＨ、温度３０〜９０℃で粘弾性を測定した時の損失正接ｔａｎδ（以下単にｔａｎδと称することがある）のチャート曲線におけるピーク最大値が０．５以下であることが必要で、好ましくは０．３５〜０．４５である。かかるｔａｎδのピーク最大値が０．５を越えると熱によるべたつきが生じるので不適当である。
かかるｔａｎδの測定は、アセト酢酸エステル基含有ポリビニルアルコール樹脂を製膜して、その製膜されたフィルムの粘弾性を測定するもので、例えば、アイティー計測制御株式会社製「ＤＶＡ−２２５Ｒｈｅｏｍｅｔｅｒ」を用いて、周波数１．６Ｈｚ、湿度４０％ＲＨ、温度３０〜９０℃の条件下で測定する。測定に当っては、ＡＡ化ＰＶＡ水溶液をキャストして、乾燥した厚み５〜２０μｍのフィルムを、２０℃、６０％ＲＨの条件下１０日間放置して平衡状態に達したサンプルを用いる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
実施例１
（インクジェット用記録媒体１の作製）
ＰＶＡ（日本合成化学工業社製「ゴーセノールＧＭ−１４」、ケン化度８８モル％、重合度１７００）１５部を水１５５部に加え、９０℃に加温して溶解した。この溶解液にコロイダルシリカ水分散液（旭電化社製「アデライトＡＴ−５０」、平均粒子径２５ｎｍ、固形分５０％）を３０部加えて撹拌し得られた組成物を２００μｍのアプリケータで上質紙（厚み１００μｍ）上に塗工し、１１０℃で乾燥して３０μｍのインク受理層を設けた。
次に上記（Ａ−１）１００部を水３０００部に溶解させ、それに上記コロイダルシリカ水分散液２００部を添加して撹拌し、更にグリオキザール２．６部を添加して分散液を作製した。上記のインク受理層の上にかかる分散液を１５０μｍのアプリケーターにより塗工して、１０５℃で５分乾燥して９μｍのオーバーコート層を形成して、インクジェット用記録媒体１を作製した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
実施例２〜６、比較例１
（インクジェット用記録媒体１及び２の作製）
実施例１において、（Ａ−１）１００部のかわりに表１に示す（Ａ）成分、（Ｂ）成分を用いて実施例１と同様にインクジェット用記録媒体１及び２を作製して同様に評価した。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月27日(2004.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体が非磁性材料で構成され、上下両面が互いに９０度交差した凸の曲面で構成され、かつ希土類磁石が本体の中央部に、その磁極面が直接あるいは軟質磁性材製のヨークを介し本体の両表面とほぼ同一かわずかに凹んだ位置となるように、埋め込まれてなることを特徴とするマグネットホルダー。
【請求項２】
本体が非磁性材料で構成され、磁気吸着面が下になるように水平面上に置いた状態で第三角法にて描いた図面における本体の形状が、正面図では、（イ）下側が下に凸の曲線を形成し、上面の輪郭線は平らな直線であり、あるいは（イ’）下側の中央部が水平線に接する直線でその左右両側が下に凸の曲線で形成され、上面の輪郭線は平らな直線であり、あるいは（イ”）下側の中央部が水平線に接する直線でその左右両側がその直線と１０〜４０度を成す直線で形成され、上面の輪郭線は平らな直線であり、側面図では、（ロ）上側が上に凸の曲線を形成し、下側の輪郭線は水平線に接する直線であり、あるいは（ロ’）上側の中央部の一部が水平線に平行な直線でその左右両側が上に凸の曲線で形成され、下側の輪郭線は水平線に接する直線であり、あるいは（ロ”）上側の中央部が水平線に平行な直線で、その左右両側が中央部の直線に１０〜４０度を成す直線で形成され、下側の輪郭線は水平線に接する直線であり、かつ（ハ）希土類磁石が本体の中央部に、その磁極面が直接あるいは軟質磁性材製のヨークを介し本体の両表面と同一かわずかに凹んだ位置となるように、埋め込まれてなることを特徴とするマグネットホルダー。
【請求項３】
平面図では円形あるいは上下方向の中心線に鏡面対称であると同時にそれに直交する中心線にも鏡面対称の８角形であることを特徴とする請求項１あるいは請求項２に記載のマグネットホルダー。
【請求項４】
前記希土類磁石が厚さ方向に磁場配向するように製作され着磁した１個の希土類磁石あるいは２個以上の厚さ方向に重ねた希土類磁石で構成されていることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のマグネットホルダー。
【請求項５】
厚さ方向に着磁した直方体形状の希土類磁石を２個、互いにＳＮ磁極が密着しあるいは近接しかつ直交するように組み合わせ、密着面あるいは近接面と反対側の磁極面がマグネットホルダー本体の両表面と同一かわずかに凹んだ位置となるように埋め込まれていることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のマグネットホルダー。
【請求項６】
希土類磁石がＮｄ系焼結磁石であることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のマグネットホルダー。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月21日(2004.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
耐水性支持体上に少なくとも１層のインク受容層を有するシート状インクジェット記録材料において、インク受容層が平均一次粒径が３０ｎｍ以下の無機微粒子及び親水性バインダーを含有し、且つ前記シート状インクジェット記録材料の長辺方向がインク受容層塗設時の流れ方向と直角になるように断裁されてなることを特徴とするシート状インクジェット記録材料。
【請求項２】
インク受容層を塗布する面が外側になるように長尺ロール状に巻き取られた耐水性支持体に、平均一次粒径が３０ｎｍ以下の無機微粒子及び親水性バインダーを含有するインク受容層を塗布し乾燥した後、前記インク受容層が塗布された面が外側になるように巻き取って長尺ロール状のインクジェット記録材料を製造し、次に前記長尺ロール状のインクジェット記録材料をシート状に断裁する際に、シートの長辺方向がインク受容層塗設時の流れ方向と直角になるように断裁することを特徴とするシート状インクジェット記録材料の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月27日(2004.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
情報記憶部が、磁気記録層及び／又はＩＣであることを特徴とする請求項５に記載の可逆性感熱記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
接着剤層または粘着剤層を有することを特徴とする請求項３乃至６の何れか１項に記載の可逆性感熱記録媒体。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、上記課題は、本発明の（３）「前記第（１）項または第（２）項に記載の可逆性感熱発色組成物を主成分として含有する記録層を支持体上に設けることを特徴とする可逆性感熱記録媒体」、（４）「可逆性感熱記録媒体がシート状またはカード状に加工されていることを特徴とする前記第（３）項に記載の可逆性感熱記録媒体」、（５）「可逆性感熱記録媒体が情報記憶部を有していることを特徴とする前記第（４）項に記載の可逆性感熱記録媒体」、（６）「情報記憶部が、磁気記録層及び／又はＩＣであることを特徴とする前記第（５）項に記載の可逆性感熱記録媒体」、（７）「接着剤層または粘着剤層を有することを特徴とする前記第（３）項乃至第（６）項の何れか１項に記載の可逆性感熱記録媒体」により達成される。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月16日(2004.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基板表面に少なくとも光透過性金属薄膜と低融点薄膜を有し、該光透過性金属薄膜が、元素周期表ＩＢ族から選択される少なくとも１種の元素を主成分とし、該低融点薄膜が、IIIＢ、IVＢ、ＶＢ、VIＢ族から選択される少なくとも１種の元素を主成分とすることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
光透過性金属薄膜の透過率が該薄膜単独で２０％以上となるような膜厚に設定することを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項３】
光透過性金属薄膜の融点を低融点薄膜の融点よりも高くしたことを特徴とする請求項１又は２記載の光記録媒体。
【請求項４】
低融点薄膜上に有機保護膜を有することを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の光記録媒体。
【請求項５】
（光透過性金属薄膜の膜厚）／（低融点薄膜の膜厚）が０．０６〜１．０の範囲にあることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の光記録媒体。
【請求項６】
光透過性金属薄膜の膜厚が３０〜２００Åであることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の光記録媒体。
【請求項７】
低融点薄膜の膜厚が２００〜５００Åであることを特徴とする請求項１乃至６の何れか1項に記載の光記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題は、次の１）〜７）の発明（以下、本発明１〜７という。）によって解決される。
１）  透光性基板表面に少なくとも光透過性金属薄膜と低融点薄膜を有し、該光透過性金属薄膜が、元素周期表ＩＢ族から選択される少なくとも１種の元素を主成分とし、該低融点薄膜が、IIIＢ、IVＢ、ＶＢ、VIＢ族から選択される少なくとも１種の元素を主成分とすることを特徴とする光記録媒体。
２）  光透過性金属薄膜の透過率が該薄膜単独で２０％以上となるような膜厚に設定することを特徴とする１）記載の光記録媒体。
３）  光透過性金属薄膜の融点を低融点薄膜の融点よりも高くしたことを特徴とする１）又は２）記載の光記録媒体。
４）  低融点薄膜上に有機保護膜を有することを特徴とする１）乃至３）の何れか１項に記載の光記録媒体。
５）  （光透過性金属薄膜の膜厚）／（低融点薄膜の膜厚）が０．０６〜１．０の範囲にあることを特徴とする１）乃至４）の何れか１項に記載の光記録媒体。
６）  光透過性金属薄膜の膜厚が３０〜２００Åであることを特徴とする１）乃至５）の何れか１項に記載の光記録媒体。
７）  低融点薄膜の膜厚が２００〜５００Åであることを特徴とする１）乃至６）の何れか１項に記載の光記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月6日(2004.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
テンター乾燥部１４では、フィルム２６の両面側から１１０℃の乾燥エアを給気し、フィルム２６に吹きつける乾燥エアの最大風速が１０．０ｍ／ｓとなるようにした。また、ロール乾燥部１６では、エア面２６Ｂ側から１２０℃の乾燥エアを給気して支持体面２６Ａ側から排気し、ロール乾燥部１８では、フィルム２６のエア面２６Ｂ側から１３０℃の乾燥エアを給気して支持体面２６Ａ側から排気した。このとき、各ロール乾燥部１６、１８で、フィルム２６に吹きつける乾燥エアの最大速度は、１．５ｍ／ｓであった。次に、ロール乾燥部１６、１８で乾燥したフィルム２６のエア面２６Ｂにカール補正装置２８で１４５℃の水蒸気を８ｇ／ｍ2 の量で吹きつけた後、フィルム２６を巻き取った。このようにして製造したフィルム２６の膜厚みは７９μｍであり、２５℃水中におけるカール曲率半径は３５ｍｍであった。また、フィルム２６を厚み方向に２分割した際の可塑剤含有率比（支持体面２６Ａ側／エア面２６Ｂ側）は、１．６１であった。
（比較例１のフィルム製造条件）
図２の製造装置３４を用い、ドープＡを流延してフィルム２６を製造した。すなわち、ダイ２４からドープＡを押し出してバンド２２上に流延し、自己支持性を持つまで乾燥した後、フィルム２６として剥ぎ取ってテンター乾燥部１４に導入した。このとき、剥離時の揮発分は７０％であった。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月22日(2004.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明で用いる定量供給装置の概略断面説明図である。
【図２】
本発明で用いる連続引抜成形装置の全体像を示す概略説明図である。図中の１０は拡大正面図である。
【図３】
本発明で用いる金型の概略図とその中の温度分布を示す図である。
【図４】
金型内の温度と時間との関係、及び温度制御による効果を示す図である。
【図５】
本発明方法で得られた成形体における繊維の体積含有率（Ｖf）６％時の樹脂の体積比と成形体の密度との関係を示す図である。
【図６】
本発明方法により得られた成形体の繊維方向の密度分布を示す図である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月27日(2004.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
よって、丸鋸刃１８から近い順に、鋸軸１１３上には鋸軸第１軸受１１４、フランジ部１１３Ａ、ギヤ１１６、鋸軸第２軸受１１５が並び、中間軸１２０上では、突当て部１１３Ａに整合する中間軸第２軸受１２１、ギヤ１１６に整合するピニオン１２０ａ、鋸軸第２軸受１１５に略整合する中間軸第１軸受１２２が並んでいる。そして、丸鋸刃支持体１１１の下壁部１１１Ａと斜壁部１１１Ｂがこれら機構を覆うように設けられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2003145501.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月5日(2004.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】インクカートリッジ
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録ヘッドと、前記記録ヘッドと連通するインク供給針とが搭載されると共に、インクカートリッジに形成された電極と接続する電極及びインクカートリッジに形成された係止部材と係合する係合部とを備えたインクカートリッジ収容領域を有するキャリッジを備えた記録装置の前記収容領域に着脱可能に構成されたインクカートリッジであって、
挿入方向の先端側に前記インク供給針と係合する前記インク供給口が設けられたインクを収容する容器と、
前記容器の前記挿入方向に平行な第一の壁に、前記キャリッジの収容領域に形成された前記電極に接続可能な記憶手段の電極と、前記記憶手段の前記電極よりも前記挿入方向の後端側に、前記キャリッジの収容領域の前記係合部に係合する突起を有する係止部材と、を備えたインクカートリッジ。
【請求項２】
前記記憶手段を構成する電極が、前記容器を構成する壁に形成された突部に設けられている請求項１に記載のインクカートリッジ。
【請求項３】
前記電極の前記挿入方向側の長さが、挿入方向に垂直な方向の長さよりも長く構成されている請求項１に記載のインクカートリッジ。
【請求項４】
前記容器の前記第一の壁と対向する第二の壁に、前記キャリッジにガイドされるガイド部材を備えた請求項１に記載のインクカートリッジ。
【請求項５】
前記容器が、インク供給口が形成された有底箱型の容器本体と、前記容器本体の開口面を封止する蓋体とから構成され、前記容器本体の深さ方向に偏して前記インク供給口が形成されている請求項１に記載のインクカートリッジ。
【請求項６】
前記容器の前記第一の壁と対向する第二の壁に、それぞれの幅が相違する係止部材が形成されている請求項１に記載のインクカートリッジ。ている請求項１に記載のインクカートリッジ。
【請求項７】
前記記憶手段を構成する電極が形成されている側から見たとき、前記記憶手段を構成する電極、及び前記係止部材の係合部が前記インク供給口の中心軸に重なるように配置されている請求項１に記載のインクカートリッジ。
【請求項８】
前記記憶手段を構成する電極が、前記インク供給口の中心軸に平行な線を対称線とするように前記容器の幅方向に複数列状に設けられている請求項１に記載のインクカートリッジ。
【請求項９】
前記記憶手段を構成する列状に配置された複数の電極の幅方向の中心と、前記係止部材の係合部の幅方向の中心とが、前記インク供給口の中心軸に平行な同一の線上に略一致するように位置している請求項１に記載のインクカートリッジ。
【請求項１０】
前記記憶手段は、基板と、該基板上に形成された複数の電極からなる電極列と、前記基板に実装された半導体記憶素子とから構成されている請求項１に記載のインクカートリッジ。
【請求項１１】
前記係止部材は、一端が前記第１の壁に固定されている請求項１に記載のインクカートリッジ。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、印刷信号に対応してインク滴を吐出する記録ヘッドにインクを適正な負圧状態で供給するインクカートリッジに関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、インクカートリッジの回動により装着するものにあっては、記録ヘッドに連通するインク供給針を介してインク流路を形成するインク容器には適用が困難である。
すなわち、インク供給針は、インク容器との確実な連通を確保するため、所定の長さを有するから、軸方向以外の外力を受けると折損する虞があり、このため、インク容器をインク供給針の長さ方向に平行に移動させる必要がある。
また、特開平9-11500号公報に見られるようにインクを収容する容器の対向する２つの面に、インクカートリッジホルダと係合する爪部を備えた弾性変形可能なレバーを形成してインク供給針に挿通可能としたインクカートリッジも提案されている。
さらには、特開平2001-105587号公報に見られるように、インクを収容する容器を扁平な直方体状の構成し、長手方向の前面側の壁にラッチ部材を設けるとともに、この近傍の両側壁に挿入ガイド用の凸状部を形成したインクカートリッジが提案されている。
しかしながら、インクカートリッジに関する情報等を格納した記憶手段が付帯されたインクカートリッジにあっては、微細な電極との確実な接続を必要とするため、確実な位置決めが必要となる。
本発明はこのような問題に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、インク供給針に挿抜可能で、かつインクカートリッジを、これに付帯されている記憶手段との通信を確保できる正確な位置に装着することができるインクカートリッジを提供することである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
このような第１の課題を達成するため、記録ヘッドと、前記記録ヘッドと連通するインク供給針とが搭載されると共に、インクカートリッジに形成された電極と接続する電極及びインクカートリッジに形成された係止部材と係合する係合部とを備えたインクカートリッジ収容領域を有するキャリッジを備えた記録装置の前記収容領域に着脱可能に構成されたインクカートリッジであって、挿入方向の先端側に前記インク供給針と係合する前記インク供給口が設けられたインクを収容する容器と、前記容器の前記挿入方向に平行な第一の壁に、前記キャリッジの収容領域に形成された前記電極に接続可能な記憶手段の電極と、前記記憶手段の前記電極よりも前記挿入方向の後端側に、前記キャリッジの収容領域の前記係合部に係合する突起を有する係止部材と、を備える。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、インク供給針に挿抜可能で、かつインクカートリッジを、これに付帯されている記憶手段との通信を確保できる正確な位置に装着することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月19日(2004.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
支柱(3)の端部に伸縮支柱(4)を進退自在に連設し、同伸縮支柱(4)の側面にラック(8)を形成するとともに、同ラック(8)に係合する係合ラック(15)を形成したラックシュー(12)を支柱(3)に枢着し、同ラックシュー(12)をラック(8)に近接・離反する方向に揺動させることにより、ラック(8)にラックシュー(12)を係脱可能に構成してなる伸縮支柱の固定部構造において、前記ラックシュー(12)にストッパー(18)を係脱自在に設け、同ストッパー(18)は、ラックシュー(12)に係合してラックシュー(12)がラック(8)から離反する方向に回動するのを阻止すべく構成したことを特徴とする伸縮支柱の固定部構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
そこで、本発明は、支柱の端部に伸縮支柱を進退自在に連設し、同伸縮支柱の側面にラックを形成するとともに、同ラックに係合する係合ラックを形成したラックシューを支柱に枢着し、同ラックシューをラックに近接・離反する方向に揺動させることにより、ラックにラックシューを係脱可能に構成してなる伸縮支柱の固定部構造において、前記ラックシューにストッパーを係脱自在に設け、同ストッパーは、ラックシューに係合してラックシューがラックから離反する方向に回動するのを阻止すべく構成することとした。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月25日(2005.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１６ビットのデータを１７ビットの符号語に符号化する方法であって、上記１６ビットのデータを受け取り、上記符号語ビット列における１の連続数が３以下であり、かつ上記符号語ビット列における０の連続数１０以下である上記１７ビットの符号語を発生すること、を特徴とする符号化方法。
【請求項２】
前記請求項１に記載の符号化方法において、符号化された符号語の最上位および最下位のビット列における１の連続数が２以下であること、を特徴とする符号化方法。
【請求項３】
前記請求項１に記載の符号化方法において、一連の上記符号語の連続する部分において、第１の符号語の下位ビットにおける１の連続数が２であり、かつ第２の符号語上位ビットにおける１の連続数が２である場合、第１の符号語の下位３ビットないしは第２の符号語の上位３ビットがすべて１である符号語の組み合わせに変換し、第１と第２の符号語の連続する部分において１の連続数が３以下とすること、を特徴とする符号化方法。
【請求項４】
ホスト装置と、
データを記録する記録媒体と、
前記ホスト装置と前記記録媒体に接続される信号処理回路を有する情報処理装置において、
前記信号処理回路は、１６ビットのデータを受け取り、１７ビットの符号語を生成し、
上記符号語ビット列における１の連続数が３以下であり、かつ上記符号語ビット列における０の連続数１０以下であることを特徴とする情報処理装置。
【請求項５】
ホスト装置に接続されるインターフェース回路と、
前記インターフェース回路から１６ビットのデータを受け取り、１７ビットの符号語を生成する信号処理回路と、
前記１７ビットの符号語を記録する記録媒体を備えるデータ記録装置において、
上記符号語ビット列における１の連続数が３以下であり、かつ上記符号語ビット列における０の連続数１０以下であることを特徴とするデータ記録装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月17日(2005.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
外部から入力された同期信号、例えば、クロック信号に同期して動作する集積回路において、その外部クロック信号に同期して、内部で一定の幅を持つパルスを生成することがある。一般的に、このような機能は単安定マルチバイブレータにより実現できる。単安定マルチバイブレータは、外部クロック信号の波形に依存せず、外部クロック信号のレベル変化のエッジ、例えば、立ち上がりエッジまたは立ち下がりエッジに同期して所望の幅を持つパルスを生成する。このように外部クロック信号に同期して、ＬＳＩ（集積回路）内部でパルスを生成し、それに応じてＬＳＩの内部動作を制御することによって、内部回路の動作の安定性が図れる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
外部クロック信号波形が変動する要因は、使用条件、装置の特性、ノイズなどによるものがある。例えば、ＬＳＩの使用条件に応じて、外部クロック信号の周波数、デューティ比、ロジックの高（ハイ）レベルの電圧および低（ロー）レベルの電圧が変化する。または、装置の特性により、外部クロック信号の立ち上がり時間および立ち下がり時間が影響される。さらに、リンギング、オーバーシュートおよびアンダシュートなどの波形ひずみにより、外部クロック信号の波形が崩れることがある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
パルス幅が伸長されたパルスＣに対して、インバータＩＮＶ２、遅延回路ＤＬＹ３およびＡＮＤゲートＡＮＤ２からなる信号変化検出回路により、一定の幅を有するパルスＥが生成される。ここで、例えば遅延回路ＤＬＹ３の遅延時間をｔｄ２とすると、図１７に示すように、幅ｔｄ２のパルスＥが生成される。且つ、入力信号Ａの幅が狭い場合でも、遅延回路ＤＬＹ２の遅延時間ｔｄ１を十分長く設定することにより、正常な幅のパルスＥを生成可能である。即ち、図１４に示す信号変化検出回路が持つ課題をある程度は回避可能である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
【発明の実施の形態】
第１実施形態
図１は本発明に係る信号変化検出回路の第１の実施形態を示す回路図である。
図示のように、本例の信号変化検出回路は、セット優先セットリセットフリップフロップ（以下、単にフリップフロップという）ＲＳＦＦ１と、遅延回路ＤＬＹ１と、高（ハイ）レベルの信号をクロック制御し、低（ロー）レベルの信号を通過させる信号伝達制御回路ＤＣＮＴＬ１と、信号変化検出回路の内部ノードＮＤ01の信号レベルを保持するラッチ回路ＬＡＴ１とにより構成されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
次いで、入力信号ＳINが"１"から"０"に、即ち、ハイレベルからローレベルに変化すると、伝達制御回路ＤＣＮＴＬ１において、ｐＭＯＳトランジスタＭＰ１が導通し、出力が"１"に反転する。また、出力信号ＳOUT 、即ちフリップフロップＲＳＦＦ１のセット入力Ｓが"１"に変化することにより、フリップフロップＲＳＦＦ１がセットされ、反転出力信号Ｂは"０"に変化する。反転出力信号Ｂを遅延させた信号Ｂｄは、遅延回路ＤＬＹ１の遅延時間τだけ遅れて"０"に反転する。遅延回路ＤＬＹ１の出力信号Ｂｄが"０"に反転すると、伝達制御回路ＤＣＮＴＬ１は入力信号ＳINの信号レベルにかかわらず信号"０"を通過させるため、信号変化検出回路の出力信号ＳOUT は"０"に反転し、ほぼ遅延回路ＤＬＹ１の遅延時間τに相当する幅のパルスを出力する。即ち、図１に示す回路は、入力信号ＳINの"１"から"０"への信号変化（立ち下がりエッジ）を検出する信号変化検出回路として動作する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
第２実施形態
図３は本発明の第２の実施形態を示す回路図である。本実施形態において、第１の実施形態と異なるのは、フリップフロップＲＳＦＦ２の入力および出力の極性が第１実施形態と逆になることと、伝達制御回路ＤＣＮＴＬ２は入力信号ＳINが"１"（ハイ）レベルのときデータ信号を通過させ、データ信号の"１"レベルを無条件に通過させることと、ラッチ回路ＬＡＴ２はノードＮＤ02の"１"レベル、即ち、ハイレベルを保持することである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
第５実施形態
優先入力つきセットリセットフリップフロップの例を、図７に示す。
図７（ａ）は優先入力側のトランジスタの駆動能力を他方に対して大きく設定することにより、セット優先にもリセット優先にもなる例である。
同図（ｂ）及び同図（ｃ）はソースフォロア側の入力に対し、他方の入力が優先入力となる例である。通常同一サイズのトランジスタを用いても、十分駆動能力の比はとれる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
さらに、入力したクロック信号／ＣＫの波形が、例えば、装置の特性により歪み、立ち上がり時間および立ち下がり時間が延びた場合でも、インバータＩＮＶ１５の働きにより、ノードＮＤ１の信号の波形の特性がある程度改善され、立ち上がりエッジおよび立ち下がりエッジがともに急峻に整形される。これによって、本実施形態においては、信号変化検出回路の動作安定性がさらに向上する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
第９実施形態
図１２は本発明に係る信号変化検出回路の第９の実施形態を示す回路図である。
図示のように、本実施形態の信号変化検出回路は、図１１に示す第８の実施形態の信号変化検出回路に較べて異なる点は、クロック信号／ＣＫと電源投入検出信号／ＰＯＮを論理合成手段としてＮＡＮＤ１がＩＮＶ１５にかわって設けられている点である。さらに、ノードＮＤ２とパルスの出力端子との間に、インバータＩＮＶ１６が接続されている。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
このため、フューズＦ１が接続した状態では、ノードＮＤ６がローレベルに保持され、インバータＩＮＶ１８の出力端子がハイレベルに保持される。このため、トランスファゲートＴＧ１がオン状態、トランスファゲートＴＧ２がオフ状態にそれぞれ設定される。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月22日(2005.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状の試料を分離する分離装置であって、
試料を分離するための流体を該試料に向けて噴射する噴射部と、
試料を両側から挟むようにして保持する第１及び第２の保持部と、
を備え、前記第１及び第２の保持部は、互いに異なる形状の保持面を有することを特徴とする分離装置。
【請求項２】
前記第１の保持部は、試料の内部に注入される流体の圧力による該試料の一方の面の撓み量が相対的に小さくなるように該一方の面を保持し、前記第２の保持部は、該流体の圧力による該試料の他方の面の撓み量が相対的に大きくなるように該他方の面を保持することを特徴とする請求項１に記載の分離装置。
【請求項３】
前記第１の保持部は、試料の内部に注入される流体の圧力によって該試料の一方の面が撓むことがないように該一方の面を保持し、前記第２の保持部は、該流体の圧力によって該試料の他方の面が撓むようにして該他方の面を保持することを特徴とする請求項１に記載の分離装置。
【請求項４】
前記第１の保持部の保持面と前記第２の保持部の保持面は、互いに異なる面積を有することを特徴とする請求項１に記載の分離装置。
【請求項５】
前記第１の保持部は、試料の一方の面の全面を保持する保持面を有し、前記第２の保持部は、該試料の他方の面の一部を保持する保持面を有することを特徴とする請求項１に記載の分離装置。
【請求項６】
前記第１及び第２の保持部の少なくとも一方を保持面に垂直な軸を中心として回転させることにより試料を回転させる回転機構を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の分離装置。
【請求項７】
板状の試料を分離する分離方法であって、
保持面の形状が互いに異なる一対の保持部により両側を挟むようにして試料を保持して、該試料の厚さ方向の所定位置に向けて流体を噴射することにより該試料を分離することを特徴とする分離方法。
【請求項８】
内部に脆弱な層を有する板状の試料を該脆弱な層で分離する分離方法であって、
試料の脆弱な層に向けて流体を噴射することにより該試料を分離する分離工程を有し、該分離工程において、該試料の一方の面に関しては、該試料の内部に注入される流体の圧力による撓み量が相対的に小さくなるように、該試料の他方の面に関しては、該試料の内部に注入される流体の圧力による撓み量が相対的に大きくなるように、該試料を保持することを特徴とする分離方法。
【請求項９】
内部に脆弱な層を有する板状の試料を該脆弱な層で分離する分離方法であって、
試料の脆弱な層に向けて流体を噴射することにより該試料を分離する分離工程を有し、該分離工程において、該試料の一方の面に関しては、該試料の内部に注入される流体の圧力による撓みを制限するように、該試料の他方の面に関しては、該試料の内部に注入される流体の圧力による撓みを許容するように、該試料を保持することを特徴とする分離方法。
【請求項１０】
撓みに対する強度が相対的に小さい第１の基板と強度が相対的に大きい第２の基板との間に脆弱な層を有する複合基板を該脆弱な層で分離する分離方法であって、
前記脆弱な層に向けて流体を噴射することにより前記複合基板を分離する分離工程を有し、該分離工程において、前記第１の基板に関しては、前記複合基板の内部に注入される流体の圧力による撓み量が相対的に小さくなるように、前記第２の基板に関しては、前記複合基板の内部に注入される流体の圧力による撓み量が相対的に大きくなるように、前記複合基板を保持することを特徴とする分離方法。
【請求項１１】
強度が相対的に小さい第１の基板と強度が相対的に大きい第２の基板との間に脆弱な層を有する複合基板を該脆弱な層で分離する分離方法であって、
前記脆弱な層に向けて流体を噴射することにより前記複合基板を分離する分離工程を有し、該分離工程において、前記第１の基板に関しては、前記複合基板の内部に注入される流体の圧力による撓みを制限し、前記第２の基板に関しては、前記複合基板の内部に注入される流体の圧力による撓みを許容するように、前記複合基板を保持することを特徴とする分離方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月28日(2004.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板と、
この半導体基板に形成された溝の底面および側面に形成されたゲート絶縁膜と、
前記底面および側面にゲート絶縁膜が形成された溝内に下部が埋め込まれ、上部が前記半導体基板の表面から突出するゲート電極と、
前記ゲート電極を挟むように、前記半導体基板の表面領域に形成されたソース領域およびドレイン領域と
を具備し、前記半導体基板の表面から突出するゲート電極の上部の厚さは、前記溝に埋め込まれた前記ゲート電極の下部の厚さの２倍以上であることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
半導体基板と、
この半導体基板に形成された溝の底面および側面に形成されたゲート絶縁膜と、
前記底面および側面にゲート絶縁膜が形成された溝内に下部が埋め込まれ、上部が前記半導体基板の表面から突出するゲート電極と、
前記ゲート電極を挟むように、前記半導体基板の表面領域に形成されたソース領域およびドレイン領域と
を具備し、前記溝に沿って形成されたチャネル領域のチャネル長をＬ、前記ゲート絶縁膜の厚さをｔOX、前記ゲート電極の厚さをＨ、ゲート電極の長さをＬgate、ソース・ドレイン拡散層の接合深さをＸｊとすると、下記式を満たすことを特徴とする半導体装置。
Ｌ＋Ｘｊ−ｔOX＜Ｈ＜３．１２５×Ｌgate＋Ｘｊ−ｔOX
【請求項３】
前記ゲート絶縁膜は、堆積絶縁膜であることを特徴とする請求項１または２に記載の半導体装置。
【請求項４】
前記ゲート電極は、素子分離絶縁膜よりも深く前記半導体基板内に形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の半導体装置。
【請求項５】
前記半導体基板内の前記溝の底部は、丸みを持って形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の半導体装置。
【請求項６】
半導体基板の表面に１対のソース・ドレイン拡散層となる拡散層を形成する工程と、前記半導体基板上に層間絶縁膜を形成する工程と、前記層間絶縁膜および前記半導体基板を選択的に除去して溝を形成するとともに、この溝によって前記拡散層を２つに分離することによりソース・ドレイン拡散層を形成する工程と、前記溝の底面および側面にゲート絶縁膜を形成する工程と、前記底面および側面にゲート絶縁膜が形成された溝内に、下部が埋め込まれ、上部が前記半導体基板の表面から突出するように、かつ、突出するゲート電極の上部の厚さが前記溝に埋め込まれた前記ゲート電極の下部の厚さの２倍以上となるようにゲート電極を形成する工程とを具備することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項７】
半導体基板の表面に１対のソース・ドレイン拡散層となる拡散層を形成する工程と、前記半導体基板上に層間絶縁膜を形成する工程と、前記層間絶縁膜および前記半導体基板を選択的に除去して溝を形成するとともに、この溝によって前記拡散層を２つに分離することによりソース・ドレイン拡散層を形成する工程と、前記溝の底面および側面にゲート絶縁膜を形成する工程と、前記底面および側面にゲート絶縁膜が形成された溝内に、下部が埋め込まれ、上部が前記半導体基板の表面から突出するように、ゲート電極を形成する工程とを具備し、前記溝に沿って形成されたチャネル領域のチャネル長をＬ、前記ゲート絶縁膜の厚さをｔOX、前記ゲート電極の厚さをＨ、ゲート電極の長さをＬgate、ソース・ドレイン拡散層の接合深さをＸｊとすると、下記式を満たすことを特徴とする半導体装置装置の製造方法。
Ｌ＋Ｘｊ−ｔOX＜Ｈ＜３．１２５×Ｌgate＋Ｘｊ−ｔOX
【請求項８】
前記ソース・ドレイン拡散層の形成後に、前記溝を充填するように全面に導電膜を形成し、次に前記溝の外部の前記導電膜をＣＭＰ法を用いて研磨除去することにより、前記導電膜からなるゲート電極を埋込み形成することを特徴する請求項６または７に記載の半導体装置の製造方法。