(57)【要約】  描画の実行時において、基板への非照射時における電子ビームのビーム電流を検出するビーム電流検出器と、上記ビーム電流に基づいて電子ビームの変動値を算出する変動値算出器と、上記変動値に基づいて描画時の電子ビーム変動を補正する補正器と、を有している。
2008117358.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
描画信号に応じた電子ビームの偏向により、レジスト層が形成された基板への電子ビームの照射及び非照射を切り替えて前記レジスト層に潜像を形成して描画を行う描画装置であって、
前記描画の実行時において、前記基板への非照射時における前記電子ビームのビーム電流を検出するビーム電流検出器と、
前記ビーム電流に基づいて前記電子ビームの変動値を算出する変動値算出器と、
前記変動値に基づいて前記描画時の電子ビーム変動を補正する補正器と、を有することを特徴とする描画装置。
【請求項２】
前記変動値は前記基板へのビーム照射位置の変動値であり、前記補正器は前記描画時における前記基板への前記電子ビームの照射位置変動を補正することを特徴とする請求項１記載の描画装置。
【請求項３】
前記変動値は前記基板へのビーム照射位置及びビーム径の変動値であり、前記補正器は前記描画時における前記基板への前記照射位置変動及び前記ビーム径を補正することを特徴とする請求項１記載の描画装置。
【請求項４】
前記描画の実行時における前記基板への電子ビームの非照射時において、前記電子ビームを微小偏向する微小偏向部を有し、前記変動値算出器は当該微小偏向された電子ビームに基づいて前記電子ビームの変動値を算出することを特徴とする請求項１記載の描画装置。
【請求項５】
前記電子ビームを前記基板に照射すべき期間内に前記電子ビームを非照射に切り替える変動測定用ビーム切替部を有し、前記ビーム電流検出器は前記電子ビームの当該切替期間において前記電子ビームのビーム電流を検出することを特徴とする請求項１記載の描画装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子ビーム装置、特に、電子ビーム露光により記録媒体の原盤等を製造するための電子ビーム描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子ビームを露光ビームとして用いてリソグラフィを行う電子ビーム描画装置は、デジタル多用途ディスク（ＤＶＤ：Digital Versatile Disc）、Blu-rayディスク等の光ディスク、磁気記録用のハードディスクなどの大容量ディスクの原盤製造装置に広く適用されている。さらに、ディスクリートトラックメディアやパターンドメディアと称される記録媒体の製造にも用いられる。【０００３】
電子ビーム描画装置において、例えば、上記したディスク等の原盤を製造する際には、原盤となる基板の記録面にレジスト層を形成し、基板を回転させるとともに、並進移動させて基板描画面に対してビームスポットを相対的に半径方向及び接線方向に適宜送ることにより、螺旋状又は同心円状のトラック軌跡を基板描画面上に描いてレジストに潜像を形成するように制御する。【０００４】
このような電子ビーム描画装置では、基板の並進移動のためのステージや回転駆動系の振動、あるいは他の外乱等による振動によって、電子ビームの電子光学系や当該電子光学系を収容している電子カラムが振動する。そして、かかる振動により、基板描画面上における電子ビームの照射位置も変動するため、電子ビームの位置変動補正が必要になる。【０００５】
かかる補正のためのビーム位置変動測定法として、例えば、特許文献１に記載の技術がある。当該特許文献においては、測定時においてイオンビーム光学系の光軸上のアパチャ直下に移動させたビーム電流検出器（ファラディカップ）を用いて、その電流量の変化からビーム位置変動を測定している（固定法）。しかしながら、描画前にビーム位置変動データを収集するため、実際に描画している状態におけるビーム位置変動が当該測定時のビーム位置変動とは異なる場合がある。また、メモリに補正信号を記憶するために、特定の周波数成分に補正信号が限定される。【０００６】
さらに、基板（原盤）の描画（記録）時には、メモリに記憶された波形を当該特定の周波数に同期させながら出力してビームを変動とは逆方向に偏向させて補正を行う。従って、補正がフィードフォワード制御によるものであるため、補正効果が小さい。このように、従来技術においては、十分に精度良くビーム位置変動補正を行うことができないという問題があった。
【特許文献１】特開平０８−２１２９５０号公報（第３頁，図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は上記した点に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、ビーム変動補正を高精度に行いつつ描画を行うことが可能なビーム描画装置を提供することが一例として挙げられる。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明による描画装置は、描画信号に応じた電子ビームの偏向により、レジスト層が形成された基板への電子ビームの照射及び非照射を切り替えてレジスト層に潜像を形成して描画を行う描画装置であって、描画の実行時において、基板への非照射時における電子ビームのビーム電流を検出するビーム電流検出器と、上記ビーム電流に基づいて電子ビームの変動値を算出する変動値算出器と、上記変動値に基づいて描画時の電子ビーム変動を補正する補正器と、を有することを特徴としている。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、本発明の実施例１である電子ビーム描画装置の構成を模式的に示すブロック図である。
【図２】図２は、ビーム位置変動補正部の詳細な構成を模式的に示すブロック図である。
【図３】図３は、ビーム変動補正の制御についてフィードバック制御がなされていることを模式的に示す図である。
【図４】図４は、本発明の実施例２である電子ビーム描画装置のビーム変動補正に係る構成部を模式的に示すブロック図である。
【図５】図５は、ビームオフ（非照射）時にビーム位置変動値のサンプリング、ホールドをなす動作を模式的に示す図である。
【図６】図６は、ビームオン期間内にビーム変調信号にビーム変動測定用パルス（ＭＰ）を重畳し、サンプリング、ホールドをなす動作を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【００１０】
１０  電子ビーム描画装置
１５  基板
２３  ビーム調整電極
２４  ビーム変調電極
２６  アパーチャ
２７  ビーム電流検出器
３０  コントローラ
３１  ビーム調整回路
３２  ビーム変調回路
３３  ビーム変動測定回路
４１  サンプル・ホールド回路
４２  補正信号生成器
４３  ビーム補正回路
４５  電子ビーム制御部
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施例について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、以下に示す実施例において、等価な構成要素には同一の参照符を付している。
【実施例１】
【００１２】
図１は、本発明の実施例１である電子ビーム描画装置１０の構成を模式的に示すブロック図である。電子ビーム描画装置１０は、電子ビームを用い、光ディスクやハードディスク製造用の原盤を作成するディスクマスタリング装置である。
［電子ビーム描画装置の構成及び動作］
電子ビーム描画装置１０は、真空チャンバ１１、及び真空チャンバ１１内に配された基板１５を載置及び回転、並進駆動する駆動装置、及び真空チャンバ１１に取り付けられた電子ビームカラム２０、及び基板の駆動制御及び電子ビーム制御等をなす種々の回路、制御系が設けられている。【００１３】
より詳細には、ディスク原盤用の基板１５は、その表面にレジストが塗布され、ターンテーブル１６上に載置されている。ターンテーブル１６は、基板１５を回転駆動する回転駆動装置であるスピンドルモータ１７によってディスク基板主面の垂直軸に関して回転駆動される。また、スピンドルモータ１７は送りステージ（以下、Ｘステージともいう。）１８上に設けられている。Ｘステージ１８は、移送（並進駆動）装置である送りモータ１９に結合され、スピンドルモータ１７及びターンテーブル１６を基板１５の主面と平行な面内の所定方向（ｘ方向）に移動することができるようになっている。従って、Ｘステージ１８、スピンドルモータ１７及びターンテーブル１６によってＸθステージが構成されている。なお、Ｘステージ１８は、基板１５の主面と平行な面内であって、ｘ方向と垂直な方向（ｙ方向）にも移動することができるようになっていてもよい。【００１４】
スピンドルモータ１７及びＸステージ１８は、ステージ駆動部３７によって駆動され、その駆動量であるＸステージ１８の送り量、及びターンテーブル１６の回転角（すなわち、基板１５の回転角）などのステージ駆動量はコントローラ３０によって制御される。【００１５】
ターンテーブル１６は誘電体、例えば、セラミックからなり、基板１５を保持する静電チャッキング機構（図示しない）などのチャッキング機構を有している。かかるチャッキング機構によって、ターンテーブル１６上に載置された基板１５はターンテーブル１６に確実に固定される。【００１６】
Ｘステージ１８上には、レーザ干渉計３５の一部である反射鏡３５Ａが配されている。【００１７】
真空チャンバ１１は、エアーダンパなどの防振台（図示しない）を介して設置され、外部からの振動の伝達が抑制されている。また、真空チャンバ１１は、真空ポンプ（図示しない）が接続されており、これによってチャンバ内を排気することによって真空チャンバ１１の内部が所定圧力の真空雰囲気となるように設定されている。【００１８】
電子ビームカラム２０内には、電子ビームを射出する電子銃（エミッタ）２１、収束レンズ２２、ビーム調整電極２３、ビーム変調電極２４、アパーチャ２６、対物レンズ２８がこの順で配置されている。【００１９】
電子銃２１は、加速高圧電源（図示しない）から供給される高電圧が印加される陰極（図示しない）により、例えば、数１０ＫｅＶに加速された電子ビーム（ＥＢ）を射出する。収束レンズ２２は、射出された電子ビームを収束する。【００２０】
ビーム調整電極２３は、ビーム調整回路３１からの調整信号に基づいて電子ビームを高速で調整制御することができる。後述するように、かかる制御により、基板１５に対する電子ビームの照射位置調整、ビーム径調整を含むビーム変動に対する種々の調整が行われる。【００２１】
ビーム変調電極２４及びアパーチャ２６から電子ビーム変調器が構成されている。ビーム変調電極２４は、ビーム変調回路３２からの変調信号に基づいて、電子ビームのブランキング制御によって、基板１５に対する電子ビーム照射のオン／オフ（ＯＮ／ＯＦＦ）変調を行う。【００２２】
すなわち、ビーム変調電極２４に電圧を印加して通過する電子ビームを、例えば静電偏向によって大きく偏向させることにより、電子ビームがアパーチャ２６を通過するのを阻止する。つまり、アパーチャ２６は、電子ビームが基板１５に照射されるのを防ぐ（ビームオフ時）。また、ビーム変調電極２４に電圧を印加しないときには基板１５に電子ビームが照射される（ビームオン時）。【００２３】
アパーチャ２６上には、ビームオフ時のビーム電流を検出するためのビーム電流検出器２７が設けられている。より具体的には、ビームオフ時に電子ビームが照射される位置にビーム電流検出器２７が設けられている。ビーム電流検出器２７によって検出された電子ビーム電流は、ビーム変動測定回路３３に供給される。ビーム変動測定回路３３は、当該検出電流値に基づいて電子ビームの位置変動値を算出する。【００２４】
フォーカスレンズ２８は、フォーカス制御回路３４からの駆動信号に基づいて駆動され、電子ビームのフォーカス制御が行われる。【００２５】
レーザ干渉計３５は、レーザ干渉計３５内の光源から照射されるレーザ光を用いてＸステージ１８の変位を測長する。すなわち、Ｘステージ１８上に設けられた反射鏡３５Ａから反射されたレーザ光に基づいてＸステージ１８の変位を測定し、その測定データ、すなわちＸステージ１８の送り（Ｘ方向）位置データをステージ駆動部３７に送る。【００２６】
さらに、スピンドルモータ１７の回転信号も、ステージ駆動部３７に供給される。より詳細には、当該回転信号は、基板１５の基準回転位置を表す原点信号、及び基準回転位置からの所定回転角ごとのパルス信号（ロータリエンコーダ信号）を含んでいる。ステージ駆動部３７は、当該回転信号によりターンテーブル１６（すなわち、基板１５）の回転角、回転速度等を得る。【００２７】
ステージ駆動部３７は、Ｘステージ１８からの送り位置データ及びスピンドルモータ１７からの回転信号に基づいて、電子ビームスポットの基板上の位置を表す位置データを生成し、コントローラ３０に供給する。また、ステージ駆動部３７は、コントローラ３０からの制御信号に基づいて、スピンドルモータ１７及び送りモータ１９を駆動し、回転及び送り駆動がなされる。【００２８】
コントローラ３０には、光ディスク、磁気ディスク、あるいはディスクリートトラックメディアやパターンドメディア等に用いられるトラックパターン・データや描画（露光）すべきデータ（描画データ）ＲＤが供給される。【００２９】
そして、上記したように、ビーム変調回路３２は当該描画データＲＤに基づいてビーム変調電極２４を制御し、描画データＲＤに応じて電子ビームのオン／オフ変調（基板１５への照射／非照射の切り替え）を行う。【００３０】
コントローラ３０は、ビーム調整回路３１、ビーム変調回路３２、ビーム変動測定回路３３及びフォーカス制御回路３４にそれぞれビーム調整信号ＣＡ、ビーム変調信号ＣＭ及びフォーカス制御信号ＣＦを送出し、当該記録データＲＤに基づいてデータ描画（露光又は記録）制御を行う。すなわち、記録データＲＤに基づいて基板１５上のレジストに電子ビーム（ＥＢ）が照射され、電子ビームの照射によって露光された箇所にのみ潜像が形成されて描画がなされる。
［ビーム位置変動補正部の構成及び動作］
図２は、ビーム位置変動補正部の詳細な構成を模式的に示すブロック図である。電子ビーム描画を行う際の電子ビーム電流が検出され、当該検出電流に基づいてビーム変動補正がなされる。【００３１】
より具体的には、描画データＲＤに基づいて電子ビーム描画を行う際、つまり電子ビームの変調時において、基板１５への非照射時の電子ビーム（ＥＢ）が検出される。すなわち、描画データＲＤのバイナリ値“１”に対応して基板１５に電子ビームＥＢが照射され（ビームオン）、バイナリ値“０”に対応して電子ビームＥＢが偏向（ブランキング）され非照射となる（ビームオフ）とすると、ビームオフ（非照射）時の電子ビームＥＢがアパーチャ２６上に設けられたビーム電流検出器２７に入射される。なお、描画データＲＤの“０”に対応して基板１５に電子ビームＥＢが照射され（ビームオン）、“１”に対応して電子ビームＥＢのブランキングにより非照射とされ（ビームオフ）、ビームオフ（非照射）時の電子ビームＥＢがアパーチャ２６上に設けられたビーム電流検出器２７に入射されるようにしてもよい。【００３２】
換言すれば、電子ビーム描画の実行の際に、ビーム変調によってビームオフしたときの電子ビームＥＢをサンプリングし、ビーム電流を検出している。従って、ビーム描画（録画又は記録）中における実時間（リアルタイム）でのビーム変動を検出し、測定することが可能である。【００３３】
ビーム電流検出器２７は、例えばファラディカップ（ＦＣ）を有しており、ファラディカップＦＣによってビーム電流の変化量が検出される。例えば、ビームオフ（非照射）時の電子ビームＥＢの一部（例えば、５０％）が入射される位置にファラディカップＦＣが配されている。又は、ビームオフ（非照射）時の電子ビームＥＢの一部が遮蔽されてファラディカップＦＣに入射され、検出されるようにファラディカップＦＣが構成されている。【００３４】
電子ビームＥＢのビーム出射方向の変動等によってビームオン時のビーム照射位置（つまり、基板１５への照射位置）等のビーム変動が生じるような場合には、ビームオフ（非照射）時のビーム電流も変化する。従って、当該ビーム電流の変化量はビーム電流検出器２７（ファラディカップＦＣ）によって検出されることになる。【００３５】
なお、ビーム電流検出器２７は、ビームオフ（非照射）時の電子ビームＥＢを受ける複数の電流検出部を有する分割電流検出器として構成されていてもよい。例えば、ビーム電流検出器２７は４つの電流検出部を有する４分割電流検出器として構成され、当該４つの電流検出部の各々の検出電流値の変化に基づいて、電子ビームＥＢの変動、すなわち、ビーム位置（ビーム方向）、ビーム量、ビーム径等の変動を検出することができる。【００３６】
ビーム電流検出器２７によって検出されたビーム電流は、ビーム変動測定回路３３に供給される。ビーム変動測定回路３３は、当該検出電流値に基づいて電子ビームの変動値を算出する。以下においては、ビーム変動測定回路３３がビーム位置変動値を算出し、ビームオン時における基板１５への電子ビームＥＢの照射位置を補正する場合を例に説明する。【００３７】
ビーム変動測定回路３３により算出されたビーム位置変動値は、サンプル・ホールド回路４１に供給され、当該サンプリング位置変動値がホールドされる。より具体的には、図５に示すように、ビームオフ（非照射）時、例えば、ピットを形成しない期間であるビームオフ（非照射）時にサンプリング信号（サンプリングパルス：ＳＰ）に従ってビーム位置変動値のサンプリングが実行され、当該位置変動値はホールドされる。【００３８】
そして、当該位置変動値は補正信号生成器４２に供給され、位置変動値（当該ホールド値）に基づいて、当該位置変動を補正するための制御信号（補正信号）が生成される。当該補正信号はビーム調整回路３１に供給され、ビーム調整回路３１は当該補正信号に基づいて、ビーム調整電極２３を制御する。すなわち、電子銃２１から射出された電子ビームＥＢの偏向制御によってビーム位置調整を行う。つまり、補正信号生成器４２及びビーム調整回路３１は電子ビームＥＢの基板１５への照射時における位置変動を補正する補正器として機能する。これにより、電子ビームＥＢの基板１５への照射位置の補正を行うことができる。【００３９】
なお、図２に示すように、サンプル・ホールド回路４１及び補正信号生成器４２は、例えばコントローラ３０内に設けられ、コントローラ３０によってその動作の制御がなされている。【００４０】
また、上記においては、ピットを形成しない期間であるビームオフ（非照射）時にサンプリングを実行する場合について示したが、ビームオン（照射）期間内にサンプリングを実行するようにしてもよい。すなわち、ビーム変調信号にビーム変動測定用信号（パルス）を重畳して、ビームオン（照射）の期間内にサンプリングを実行するように構成することができる。【００４１】
より具体的には、図６に示すように、ピット長が長い場合や、ビームオフ（非照射）期間が無い場合（例えば、グルーブを形成する場合）などにおいて、ビームを基板に照射すべき期間であるビームオンの期間内にビーム変調信号にビーム変動測定用パルス（ＭＰ）を重畳（又は印加）する。当該ビーム変動測定用パルス（ＭＰ）が重畳されている期間は、ビームはオフ（非照射）となり、当該測定用パルス（ＭＰ）の重畳期間においてサンプリングを実行するように構成することができる。【００４２】
例えば、コントローラ３０がビーム変調回路３２のビーム変調信号ＣＭに当該ビーム変動測定用信号を重畳するように構成することができる。この場合、コントローラ３０はビーム変調回路３２を制御してビームを非照射に切り替える変動測定用ビーム切替部として機能する。また、ビーム電流検出器２７は当該切替期間（測定用パルス重畳期間）においてビーム電流を検出する。そして、当該検出電流値に基づいてビームの変動値が算出され、照射位置の補正がなされる。【００４３】
なお、当該測定用パルス重畳期間は、レジストの連続的な露光（描画）に影響の無い短期間とすることができる。すなわち、長いピット又はグルーブを形成する場合であっても、描画速度（線速度）やレジスト特性（感度）等に応じて、当該ピットやグルーブに不連続が生じないような測定用パルス重畳期間を選択することが可能である。【００４４】
かかる構成によって、ピット長が長い場合や、ビームオフ（非照射）期間が無い場合であっても、サンプリング間隔を短くしてビーム変動測定を行うことができるため、ビーム変動の補正を高い頻度で行うことができる。すなわち、高精度なビーム変動補正が可能となる。【００４５】
図３は、上記したビーム変動補正の制御について模式的に示している。つまり、本実施例によれば、ビーム変動測定回路３３からの電子ビーム変動値（例えば、ビーム位置変動値）に基づいてビーム変動補正がなされ、当該補正結果がフィードバックされるフィードバック制御が実現されている。従って、従来のフィードフォワード制御に比べ格段に補正の効果が向上されている。【００４６】
以上説明したように、描画データＲＤに基づく電子ビーム描画の実行時において、ビーム変調によって偏向された非照射電子ビームＥＢをサンプリングし、ビーム電流を検出している。そして、検出されたビーム電流から算出された位置変動値に基づいて電子ビームＥＢの補正を行っている。従って、ビーム描画中におけるビーム変動が実時間（リアルタイム）で検出されてビーム調整がなされるのであり、フィードバック制御による補正が実現されている。【００４７】
上記においては、ビーム位置の変動を補正する場合を例に説明したが、ビーム電流検出器２７について説明したように、ビーム電流検出器２７の検出電流に基づいて算出されたビーム量、ビーム径等のビーム変動についても同様にフィードバック制御による補正を行うことが可能である。
【実施例２】
【００４８】
図４は、本発明の実施例２である電子ビーム描画装置１０のビーム変動補正に係る構成部を模式的に示すブロック図である。電子ビーム描画を行う際の電子ビーム電流が検出され、当該検出電流に基づいてビーム変動補正がなされる点は上記実施例と同様である。【００４９】
ビーム電流検出器２７によって検出されたビーム電流は、ビーム変動測定回路３３に供給される。ビーム変動測定回路３３は、当該検出電流値に基づいて電子ビームの変動値としてビーム位置変動値及びビーム径変動値を算出する。【００５０】
例えば、ビームオフ時においてビーム調整電極２３に微小偏向電圧（ＦＬ）を重畳し、電子ビームＥＢのビーム径変動及び／又はビーム位置変動を検出することができる。例えば、ビームオフ（非照射）時に電子ビームＥＢの一部が入射されるように視野（ビーム入射領域）を制限したファラディカップＦＣを設ける。そして、ビームオフ（非照射）時にビーム調整電極２３に微小偏向電圧を印加する、そのときのビーム電流の変化、過渡特性を検出することによって、通常のビーム偏向法と同様にビーム径の測定が可能である。あるいは、前述のように、４分割電流検出器等を用いてビーム径、ビームスポットの真円からのずれ（楕円率）等を測定することが可能である。【００５１】
ビーム変動測定回路３３により算出されたビーム位置変動値及びビーム径変動値は、ビーム補正回路４３に供給される。ビーム補正回路４３はビーム位置変動及びビーム径変動を補正するための制御信号（ビーム補正信号）を生成し、電子ビーム制御部（ＥＢコントローラ）４５に供給する。ＥＢコントローラ４５は、電子ビームＥＢの生成、及び、電子ビーム光軸、ビーム形状、偏向、フォーカス等を含む電子ビーム光学系制御を行う。尚、上記した微小偏向電圧ＦＬは、ＥＢコントローラ４５によって印加されるように構成してもよい。【００５２】
ＥＢコントローラ４５は、ビーム補正回路４３からのビーム補正信号に基づいて、電子銃２１から射出される電子ビームＥＢの調整を行う。これにより、電子ビームＥＢの基板１５への照射位置の補正及びビーム径の補正を行うことができる。【００５３】
また、上記した実施例と同様に、フィードバック制御による電子ビーム変動補正が実現されている。従って、従来のフィードフォワード制御に比べ格段に補正の効果が向上されている。【００５４】
以上説明したように、また上記した実施例と同様に、電子ビーム描画を実行しつつ、ビームオフ時において偏向された非照射電子ビームＥＢをサンプリングし、ビーム電流を検出している。そして、検出されたビーム変動値に基づいて電子ビームＥＢの補正を行っている。従って、ビーム描画中におけるビーム変動が実時間（リアルタイム）で検出されてビーム調整がなされるのであり、フィードバック制御による補正が実現されている。【００５５】
なお、上記した実施例においては、電子ビーム描画装置を例に説明したが、一般に、荷電ビームを基板や試料等の対象物に照射させる荷電ビームであって、当該荷電ビームの照射位置等の変動量を制御する場合にも適用することができる。
【図１】
2008117358.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【手続補正書】
【提出日】平成20年5月30日(2008.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
描画信号に応じた電子ビームの偏向により、レジスト層が形成された基板への電子ビームの照射及び非照射を切り替えてバイナリ描画データに対応する潜像を前記レジスト層に形成して描画を行う描画装置であって、
前記描画の実行時において、前記描画データのバイナリ値“０”及び“１”のいずれか１に対応する前記基板への非照射時における前記電子ビームのビーム電流を検出するビーム電流検出器と、
前記ビーム電流に基づいて前記電子ビームの変動値を算出する変動値算出器と、
前記変動値に基づいて前記描画時の電子ビーム変動を補正する補正器と、を有することを特徴とする描画装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月17日(2009.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
描画信号に応じた電子ビームの偏向により、レジスト層が形成された基板への電子ビームの照射及び非照射を切り替えて描画データに対応する潜像パターンを前記レジスト層に形成して描画を行う描画装置であって、
前記描画の実行時における前記非照射時の前記電子ビームのビーム電流を検出するビーム電流検出器と、
前記非照射時に、前記電子ビームを前記ビーム電流検出器に照射させるビーム変調手段と、
前記ビーム電流に基づいて、前記ビーム電流検出器における前記電子ビームの照射位置の変動値を算出する変動値算出器と、
前記変動に基づいて前記基板への前記電子ビーム照射時の電子ビームの位置の変動を補正する補正器と、を有することを特徴とする描画装置。
【請求項２】
前記変動は前記基板へのビーム照射位置の変動であり、前記補正器は前記描画時における前記基板への前記電子ビームの照射位置変動を補正することを特徴とする請求項１記載の描画装置。
【請求項３】
前記変動は前記基板へのビーム照射位置及びビーム径の変動であり、前記補正器は前記描画時における前記基板への前記照射位置変動及び前記ビーム径を補正することを特徴とする請求項１記載の描画装置。
【請求項４】
前記描画の実行時における前記基板への電子ビームの非照射時において、前記電子ビームを微小偏向する微小偏向部を有し、前記変動値算出器は当該微小偏向された電子ビームに基づいて前記電子ビームの変動を算出することを特徴とする請求項１記載の描画装置。
【請求項５】
前記電子ビームを前記基板に照射すべき期間内に前記電子ビームを非照射に切り替える変動測定用ビーム切替部を有し、前記ビーム電流検出器は前記電子ビームの当該切替期間において前記電子ビームのビーム電流を検出することを特徴とする請求項１記載の描画装置。
【請求項６】
描画データに応じて、前記電子ビームの照射及び非照射を切り替えるコントローラと、
前記電子ビームの非照射時に、前記電子ビームを前記ビーム電流検出器に照射させるサンプリング信号を生成する信号発生器と、を有することを特徴とする請求項１に記載の描画装置。
【請求項７】
描画信号に応じた電子ビームの偏向により、レジスト層が形成された基板への電子ビームの照射及び非照射を切り替えて描画データに対応する潜像パターンを前記レジスト層に形成して描画を行う描画装置であって、
前記描画の実行時における前記非照射時の前記電子ビームのビーム電流を検出するビーム電流検出器と、
前記電子ビームを前記基板に照射して前記潜像パターンを描画すべき期間の任意のタイミングで、前記電子ビームを前記ビーム電流検出器に照射させるサンプリング信号を生成する信号発生器と、
前記サンプリング信号に応じて、前記電子ビームを前記ビーム電流検出器に照射させるビーム変調手段と、
前記ビーム電流に基づいて、前記ビーム電流検出器における前記電子ビームの照射位置の変動を算出する変動値算出器と、
前記変動に基づいて前記基板への前記電子ビーム照射時の電子ビームの位置の変動を補正する補正器と、を有することを特徴とする描画装置。
【国際調査報告】
2008117358.tif 000009
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