【手続補正書】
【提出日】平成17年1月14日(2005.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式
【化１】
2004528291.tif 000001
式中、
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は水素、アルキル、アリール又はシリルから選ばれ、
Ｒ1は水素、アルキル、アリール又はハロゲンから選ばれ、その際Ｒ1は場合により２つのリン原子間の直接結合により置き換えられていてもよく、そして
Ｔは二価の基である、
に従う橋かけされたビホスホール。
【請求項２】
下記式
【化３】
2004528291.tif 000002
式中、
Ｒ2〜Ｒ4は水素、アルキル、アリール又はシリルから選ばれ、
Ｒ1は水素、アルキル、アリール又はハロゲンから選ばれる基であり、
Ｒ7はカップリング後Ｔを形成するように選ばれる、
に従う２つのホスホールスルフィドをマグネシウム金属の存在下にカップリングさせ、
そして、
得られた橋かけされたジスルフィドを還元して橋かけされたビホスホールとする、
段階を含んでなる請求項１に記載の橋かけされたビホスホールを製造する方法。
【請求項３】
ジインをクロロヒドルロジルコノセンによるヒドロジルコニウム化により橋かけされたビス（アルケニル−クロロジルコノセン）を得、
橋かけされたビス（アルケニル−クロロジルコノセン）を橋かけされたビス（アルケニル−メチルジルコノセン）に転化させ、
橋かけされたビス（アルケニル−メチルジルコノセン）をアルキンの存在下に分解し、そして
溶液中の橋かけされたビス（ジルコナシクロペンタジエン）に有機ジハロゲノホスフィンを加えて橋かけされた１，１′−ビホスホリルを得る、
段階を含んでなる請求項１に記載の橋かけされたビホスホールを製造する方法。
【請求項４】
錯化したホスホールをリチウムアルキルアミド又はシリルアミドで金属化して錯化されたリチオメチルホスホールとし、
塩化銅（ＩＩ）を使用して錯化され橋かけされたビホスホールを銅媒介酸化カップリングさせ、
硫黄の作用により部分脱錯化して橋かけされたビホスホールジスルフィドとし、
硝酸セリウムアンモニウム（ＣＡＮ）の作用により完全脱錯化させて橋かけされたジスルフィドとし、そして
ビホスホールに還元する、
段階を含んでなる請求項１に記載の橋かけされたビホスホールを製造する方法。
【請求項５】
一般式
【化４】
2004528291.tif 000003
式中、
Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は水素、アルキル、アリール又はシリルから選ばれ、
Ｔは二価の基であり、
ＭはＩＩＩ、ＩＶ、Ｖ、ＶＩ、ＶＩＩＩ族又はランタニドの系列もしくはアクチニドの系列の金属であり、
Ｌはハロゲン、水素、アルキル、アリール又はアルコキシであり、そして
ｘは１〜３の範囲の整数である、
に従うメタロセン。
【請求項６】
請求項１に記載のビホスホールを、Ｐ−Ｒ1又はＰ−Ｐ結合を切断することによりジアニオンに転化し、そして
ビホスホリルジアニオンをＩＩＩ、ＩＶ、Ｖ、ＶＩ、ＶＩＩＩ族の金属又は場合によりランタニドの系列もしくはアクチニドの系列の金属のハロゲン化物と反応させる、
段階を含んでなる請求項５に記載のメタロセンを製造する方法。
【請求項７】
請求項５に記載のメタロセンを含んでなる触媒組成物。
【請求項８】
触媒支持体に共触媒を含浸させ、そしてその前、後又は同時に、
この触媒支持体に請求項５に記載のメタロセンを含浸させる、
段階を含んでなる請求項７に記載の触媒組成物を製造する方法。
【請求項９】
少なくとも１種のオレフィンモノマーを重合条件下に請求項７に記載の
触媒組成物と接触させる段階を含んでなる、オレフィンを重合する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２３】
エチレン／ブテン共重合について、得られた活性は橋かけされたビホスホールＣ１の場合に橋かけされていないビホスホール（Ｃ２）と比較してより良好であることが分かりうる。
本発明の好ましい実施の態様は次のとおりである。
１）  一般式
【化１】
2004528291.tif 000004
式中、
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は水素、アルキル、アリール又はシリルから選ばれ、
Ｒ1は水素、アルキル、アリール又はハロゲンから選ばれ、その際Ｒ1は場合により２つのリン原子間の直接結合により置き換えられていてもよく、そして
Ｔは二価の基である、
に従う橋かけされたビホスホール。
２）  二価の基Ｔは、式
【化２】
2004528291.tif 000005
式中、
ＡはＣ、Ｓｉ、Ｇｅ又はＳｎであり、
Ｒ5及びＲ6は、互いに独立に、Ｈ、アルキル又はアリールでありそしてｎは１〜１０の整数である、
に従う基である、上記１に記載の橋かけされたビホスホール。
３）  Ａが炭素原子でありそしてＲ5及びＲ6が水素原子でありそしてｎが２に等しい上記２に記載の橋かけされたビホスホール。
４）  ＡがＳｉ、Ｇｅ又はＳｎ原子であり、そしてＲ5及びＲ6はアルキル又はアリール基である上記２に記載の橋かけされたビホスホール。
５）  ＡがＳｉ、Ｇｅ又はＳｎであり、そしてｎが１に等しい上記２及び４のいずれかに記載の橋かけされたビホスホール。
６）  二価の基Ｔが環、好ましくは芳香族環、特にベンゼン基、を包含する上記１に記載の橋かけされたビホスホール。
７）  基Ｔはリンに対してα位置にある上記１〜６の１つに記載の橋かけされたビホスホール。
８）  リン原子が直接結合を形成する上記７に記載の橋かけされたビホスホール。
９）  基Ｔがリンに対してβ位置にある上記１〜６の１つに記載の橋かけされたビホスホール。
１０）  Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4が水素、メチル又はフェニルから選ばれる上記１〜９の１つに記載の橋かけされたビホスホール。
１１）  Ｒ1がフェニルであるか又はリン原子間の直接結合により置き換えられている上記１〜１０の１つに記載の橋かけされたビホスホール。
１２）  １，１′−ジフェニル−２，２′−エチレン−４，５，４′，５′−テトラメチル−ビホスホール及び２，２′−エチレン−４，５，４′，５′−テトラフェニル−１，１′−ビホスホリルから選ばれた上記１〜１１の１つに記載の橋かけされたビホスホール。
１３）  下記式
【化３】
2004528291.tif 000006
式中、
Ｒ2〜Ｒ4は水素、アルキル、アリール又はシリルから選ばれ、
Ｒ1は水素、アルキル、アリール又はハロゲンから選ばれる基であり、
Ｒ7はカップリング後Ｔを形成するように選ばれる、
に従う２つのホスホールスルフィドをマグネシウム金属の存在下にカップリングさせ、そして、
得られた橋かけされたジスルフィドを還元して橋かけされたビホスホールとする、
段階を含んでなる上記１、８及び１０〜１２の１つに記載の橋かけされたビホスホールを製造する方法。
１４）  ジインをクロロヒドルロジルコノセンによるヒドロジルコニウム化により橋かけされたビス（アルケニル−クロロジルコノセン）を得、
橋かけされたビス（アルケニル−クロロジルコノセン）を橋かけされたビス（アルケニル−メチルジルコノセン）に転化させ、
橋かけされたビス（アルケニル−メチルジルコノセン）をアルキンの存在下に分解し、そして
溶液中の橋かけされたビス（ジルコナシクロペンタジエン）に有機ジハロゲノホスフィンを加えて橋かけされた１，１′−ビホスホリルを得る、
段階を含んでなる上記１〜１２の１つに記載の橋かけされたビホスホールを製造する方法。
１５）  錯化したホスホールをリチウムアルキルアミド又はシリルアミドで金属化して錯化されたリチオメチルホスホールとし、
塩化銅（ＩＩ）を使用して錯化され橋かけされたビホスホールを銅媒介酸化カップリングさせ、
硫黄の作用により部分脱錯化して橋かけされたビホスホールジスルフィドとし、
硝酸セリウムアンモニウム（ＣＡＮ）の作用により完全脱錯化させて橋かけされたジスルフィドとし、そして
ビホスホールに還元する、
段階を含んでなる上記９〜１２の１つに記載の橋かけされたビホスホールを製造する方法。
１６）  一般式
【化４】
2004528291.tif 000007
式中、
Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は水素、アルキル、アリール又はシリルから選ばれ、
Ｔは二価の基であり、
ＭはＩＩＩ、ＩＶ、Ｖ、ＶＩ、ＶＩＩＩ族又はランタニドの系列もしくはアクチニドの系列の金属であり、
Ｌはハロゲン、水素、アルキル、アリール又はアルコキシであり、そして
ｘは１〜３の範囲の整数である、
に従うメタロセン。
１７）  二価の基Ｔが上記２〜９に定義されたとおりである上記１６に記載のメタロセン。
１８）  Ｍがジルコニウム又はチタンであり、そしてｘが２に等しい上記１６又は１７に記載のメタロセン。
１９）  １，１′−ジホスファ−２，２′−エチレン−４，５，４′，５′−テトラメチル−ジクロロジルコノセンであることを特徴とする上記１８に記載のメタロセン。
２０）  １，１′−ジホスファ−２，２′−エチレン−４，５，４′，５′−テトラフェニル−ジクロロジルコノセンであることを特徴とする上記１８に記載のメタロセン。
２１）  上記１〜１２の１つに記載のビホスホールを、Ｐ−Ｒ1又はＰ−Ｐ結合を切断することによりジアニオンに転化し、そして
ビホスホリルジアニオンをＩＩＩ、ＩＶ、Ｖ、ＶＩ、ＶＩＩＩ族の金属又は場合によりランタニドの系列もしくはアクチニドの系列の金属のハロゲン化物と反応させる、
段階を含んでなる上記１６〜２０の１つに記載のメタロセンを製造する方法。
２２）  上記１６〜２０の１つに記載のメタロセンを含んでなる触媒組成物。
２３）  更に共触媒としてアルミノキサン及び／又は実質的に非配位性アニオンを含む上記２２に記載の触媒組成物。
２４）  不活性触媒支持体上に支持された上記２２又は２３に記載の触媒組成物。
２５）  触媒支持体に共触媒を含浸させ、そしてその前、後又は同時に、
この触媒支持体に上記１６〜２２の１つに記載のメタロセンを含浸させる、
段階を含んでなる上記２２〜２４に記載の触媒組成物を製造する方法。
２６）  少なくとも１種のオレフィンモノマーを重合条件下に上記２２〜２４の１つに記載の触媒組成物と接触させる段階を含んでなる、オレフィンを重合する方法。
２７）  オレフィンモノマーがエチレン及びブテンである上記２６に記載の方法。