Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月13日(2004.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積リードオンリーメモリであって、
・  各々がドレイン接続を有している選択トランジスタを有しており、
・  電圧または電流を供給するための電極を有しており、
・  構成電圧または構成電流の効果によって電気抵抗を変更できる層をドレイン接続と電極との間に有しており、
・  選択トランジスタ１つあたり１つのソース接続を有しており、
・  少なくとも１つのソース接続に電気的に接続されている１つのビット線を有しており、
・  層は、ドレイン接続を電極に連結するための共通層として形成されており、
・  該層の電気抵抗は局所的に変更できるリードオンリーメモリ。
【請求項２】
前記層の抵抗は切り替えることができる請求項１に記載のリードオンリーメモリ。
【請求項３】
前記層の抵抗は、２つの抵抗特性曲線間で切り替えることができる請求項１または２に記載のリードオンリーメモリ。
【請求項４】
・  リードオンリーメモリの読み取り動作において定義された電圧または電流範囲内の層に印加される読み取り電圧または層に供給される読み取り電流を有し、
・  リードオンリーメモリの構成動作において読み取り動作について規定された電圧または電流範囲外の構成電圧または構成電流を有する先行請求項のいずれか１項に記載のリードオンリーメモリ。
【請求項５】
フラッシュメモリとして設計されている先行請求項のいずれか１項に記載のリードオンリーメモリ。
【請求項６】
前記選択トランジスタはアレイとして配置されている先行請求項のいずれか１項に記載のリードオンリーメモリ。
【請求項７】
前記ビット線はデコーダ回路に接続されている請求項１〜６のいずれか１項に記載のリードオンリーメモリ。
【請求項８】
前記ビット線は外部接続にとりアクセス可能である請求項１〜７のいずれか１項に記載のリードオンリーメモリ。
【請求項９】
・  選択トランジスタ１つあたり１つのゲート接続を有しており、
・  少なくとも１つのゲート接続に電気的に接続されている１つのワード線を有している先行請求項のいずれか１項に記載のリードオンリーメモリ。
【請求項１０】
前記ワード線はデコーダ回路に接続されている請求項９に記載のリードオンリーメモリ。
【請求項１１】
前記ワード線は外部接続にとりアクセス可能である請求項９または１０に記載のリードオンリーメモリ。
【請求項１２】
前記選択トランジスタは基板中で平面構造を有している先行請求項のいずれか１項に記載のリードオンリーメモリ。
【請求項１３】
前記選択トランジスタは基板中で垂直構造を有している請求項１〜１１のいずれか１項に記載のリードオンリーメモリ。
【請求項１４】
前記層は分子層として形成されている先行請求項のいずれか１項に記載のリードオンリーメモリ。
【請求項１５】
前記層はロタキサンを含んでいる請求項１４に記載のリードオンリーメモリ。
【請求項１６】
前記層はカテナンを含んでいる請求項１４に記載のリードオンリーメモリ。
【請求項１７】
前記層はビスピリジニウム化合物を含んでいる請求項１４に記載のリードオンリーメモリ。
【請求項１８】
前記層は誘電体として形成されている請求項１〜１３のいずれか１項に記載のリードオンリーメモリ。
【請求項１９】
前記層はＳｒＺｒＯ３を含んでいる請求項１８に記載のリードオンリーメモリ。
【請求項２０】
前記層は重合体として形成されている請求項１〜１３のいずれか１項に記載のリードオンリーメモリ。
【請求項２１】
前記層は３−ニトロベンザルマロニトリル、１，４−フェニルエンジアミン複合体を含んでいる請求項２０に記載のリードオンリーメモリ。
【請求項２２】
前記層はカルコゲニド化合物を含んでいる請求項２０に記載のリードオンリーメモリ。
【請求項２３】
先行請求項のいずれか１項に記載のリードオンリーメモリを動作させるための方法であって、
・  読み取り動作において、定義された電圧または電流範囲内の読み取り電圧または読み取り電流が層に印加され、
・  構成動作において、読み取り動作について規定された電圧または電流範囲外の構成電圧または構成電流が層に印加される方法。
【請求項２４】
集積リードオンリーメモリを製造するための方法であって、
・  選択トランジスタのアレイがＣＭＯＳ技術を用いて製造され、
・  選択トランジスタのドレイン接点が配置の表面へ導かれ、
・  構成電圧または構成電流の効果によって電気抵抗を変更できる層が堆積され、該層の電気抵抗を局所的に変更することが可能であり、
・  該層の上方に電極が配置され、
・  選択トランジスタ１つあたり１つのソース接続が形成され、
・  少なくとも１つのソース接続に電気的に接続されている１つのビット線が形成され。
・  層はドレイン接続を電極に連結するための共通層として形成される方法。
【請求項２５】
前記層はドレイン接続を選択トランジスタ上方の電極に連結するための共通層として堆積される請求項２４に記載のリードオンリーメモリを製造するための方法。
【請求項２６】
前記選択トランジスタはフロントエンドプロセスにおいて製造される請求項２４または２５に記載のリードオンリーメモリを製造するための方法。
【請求項２７】
前記層はバックエンドプロセスにおいて堆積される請求項２４〜２６のいずれか１項に記載のリードオンリーメモリを製造するための方法。
【請求項２８】
前記選択トランジスタは、基板中で平面に組み立てられる請求項２４〜２７のいずれか１項に記載のリードオンリーメモリを製造するための方法。
【請求項２９】
前記選択トランジスタは、基板中で垂直に組み立てられる請求項２４〜２７のいずれか１項に記載のリードオンリーメモリを製造するための方法。
【請求項３０】
前記層は分子層として形成されている請求項２４〜２９のいずれか１項に記載のリードオンリーメモリを製造するための方法。
【請求項３１】
前記層はロタキサンを含んでいる請求項３０に記載のリードオンリーメモリを製造するための方法。
【請求項３２】
前記層はカテナンを含んでいる請求項３０に記載のリードオンリーメモリを製造するための方法。
【請求項３３】
前記層はビスピリジニウム化合物を含んでいる請求項３０に記載のリードオンリーメモリを製造するための方法。
【請求項３４】
前記層は誘電体として形成されている請求項２４〜２９のいずれか１項に記載のリードオンリーメモリを製造するための方法。
【請求項３５】
前記層はＳｒＺｒＯ３を含んでいる請求項３４に記載のリードオンリーメモリを製造するための方法。
【請求項３６】
前記層は重合体として形成されている請求項２４〜２９のいずれか１項に記載のリードオンリーメモリを製造するための方法。
【請求項３７】
前記層は３−ニトロベンザルマロニトリル、１，４−フェニルエンジアミン複合体を含んでいる請求項３６に記載のリードオンリーメモリを製造するための方法。
【請求項３８】
前記層はカルコゲニド化合物を含んでいる請求項２４〜２９のいずれか１項に記載のリードオンリーメモリを製造するための方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月22日(2004.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｌ字形およびＵ字形から成る群から選択される形状をしたシールからなるクロマトグラフィカラム用の衛生シールであって、フリットの端部と、カラムシリンダのフランジと、カラムの底板との間に押し付けられた状態で置かれるシール。
【請求項２】
Ｕ字形をしており、Ｕ字の各腕部が前記フリットの周縁部の一部分を覆うように、前記フリットの周縁部にかぶせて置かれる、請求項１に記載のシール。
【請求項３】
天然ゴム、合成ゴム、架橋された合成ゴム、加硫処理された合成ゴム、熱可塑性エラストマー、ポリオレフィン、ＰＴＦＥ樹脂、熱可塑性パーフルオロポリマー樹脂、ウレタン、ＥＰＤＭゴム、ＰＶＤＦ樹脂、およびこれらの混合物から成る群から選択される圧縮材料で形成される、請求項１に記載のシール。
【請求項４】
前記フリットの所定の位置に形成される、請求項１に記載のシール。
【請求項５】
Ｕ字形をしており、前記フリットの所定の位置に形成される、請求項１に記載のシール。
【請求項６】
Ｌ字形をしており、前記フリットの所定の位置に形成される、請求項１に記載のシール。
【請求項７】
Ｌ字形をしており、Ｌ字の長い方の腕部が前記フリットの上側表面に形成され、短い方の腕部が前記フリットの垂直な外周縁部に形成されるように、前記フリットの所定の位置に形成される、請求項１に記載のシール。
【請求項８】
前記フリットが、多孔質の焼結金属、多孔質の焼結プラスチック、１層または複数の層の金属スクリーン、ならびに１層または複数の層のプラスチックスクリーンから成る群から選択される、請求項１に記載のシール。
【請求項９】
底板と、可動式の上板と、前記底板に取り付けられたカラムシリンダと、前記シリンダと前記底板との間に置かれたフリットと、前記シリンダと前記フリットとの間に置かれた１つまたは複数のシールとを有する、クロマトグラフィカラムであって、改良が、前記シールがＬ字形またはＵ字形で、前記フリットの外縁部に配置されることからなるクロマトグラフィカラム。
【請求項１０】
前記シールがＬ字形で、前記フリットの所定の位置に形成される、請求項９に記載のクロマトグラフィカラム。
【請求項１１】
前記シールがＬ字形で、Ｌ字の長い方の腕部が前記フリットの上側表面に形成され、短い方の腕部が前記フリットの垂直な外周縁部に形成されるように、前記フリットの所定の位置に形成される、請求項９に記載のクロマトグラフィカラム。
【請求項１２】
前記シールがＵ字形で、前記フリットの所定の位置に形成される、請求項９に記載のクロマトグラフィカラム。
【請求項１３】
前記シールがＵ字形で、Ｕ字の各腕部が前記フリットの周縁部の一部分を覆うように、前記フリットの周縁部にかぶせて置かれる、請求項９に記載のクロマトグラフィカラム。
【請求項１４】
前記フリットが無孔質化された外周部分を有する、請求項１に記載のシール。
【請求項１５】
前記フリットが無孔質化された外周部分を有しており、前記無孔質化が、前記外周部分の孔隙を無孔質材料で充填する方法、前記外周部分を圧縮する方法、または前記外周部分を無孔質材料で形成する方法から成る群から選択される方法によって実施される、請求項１に記載のシール。
【請求項１６】
Ｌ字形をしており、Ｌ字の長い方の腕部が前記フリットの下側表面に形成され、短い方の腕部が前記フリットの垂直な外周縁部に形成されるように、前記フリットの所定の位置に形成される、請求項１に記載のシール。
【請求項１７】
前記シールがＬ字形で、Ｌ字の長い方の腕部が前記フリットの下側表面に形成され、短い方の腕部が前記フリットの垂直な外周縁部に形成されるように、前記フリットの所定の位置に形成される、請求項９に記載のクロマトグラフィカラム。
【請求項１８】
前記フリットが無孔質化された外周部分を有する、請求項９に記載のクロマトグラフィカラム。
【請求項１９】
前記フリットが無孔質化された外周部分を有しており、前記無孔質化が、前記外周部分の孔隙を無孔質材料で充填する方法、前記外周部分を圧縮する方法、または前記外周部分を無孔質材料で形成する方法から成る群から選択される方法によって実施される、請求項９に記載のクロマトグラフィカラム。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月1日(2004.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザのショートレンジワイヤレスターミナルにおいてワイヤレスネットワーク内の問合せ側ワイヤレスターミナルとでユーザのパーソナルプロフィールを共有するための方法であって、
前記ユーザのショートレンジワイヤレスターミナルのデータベースにユーザのパーソナルプロフィールをインストールし、
前記パーソナルプロフィールを、それが前記ユーザのショートレンジワイヤレスターミナルにある間に、ユーザの入力に応答して編集し、そして
前記ユーザのパーソナルプロフィールを前記ユーザのショートレンジワイヤレスターミナルから問合せ側ワイヤレスターミナルへ送信する、
という段階を備えた方法。
【請求項２】
前記ユーザのショートレンジワイヤレスターミナル及び前記問合せ側ワイヤレスターミナルは、ブルーツース装置である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ユーザのショートレンジワイヤレスターミナルを、問合せ側ワイヤレスターミナルによりユーザのパーソナルプロフィールにアクセスするのを許す状態にセットする段階を更に備えた請求項２に記載の方法。
【請求項４】
ユーザのパーソナルプロフィールをインストールする前記段階は、更に、
ユーザのパーソナルプロフィールの標準化フォームをサービス発見プロトコル（ＳＤＰ）記録にインストールすることを含む請求項２に記載の方法。
【請求項５】
ユーザのパーソナルプロフィールをインストールする前記段階は、更に、
複数のフィールドにより定義されたＳＤＰ記録にユーザの関心のリストを含ませる段階を備え、各フィールドは、一連の属性を含み、そして各属性は、名前、形式及び値により定義される請求項４に記載の方法。
【請求項６】
ユーザのパーソナルプロフィールをインストールする前記段階は、更に、
各指定の関心を特徴付けるビットマスクを含ませる段階を備えた請求項５に記載の方法。
【請求項７】
ユーザのパーソナルプロフィールをインストールする前記段階は、更に、
個人化データの完全な補数を１つのＳＤＰ記録に記憶する段階を備えた請求項５に記載の方法。
【請求項８】
到来するメッセージをフィルタする段階を更に備えた請求項２に記載の方法。
【請求項９】
パーソナルプロフィールを編集する前記段階は、更に、
ユーザのターミナルにインデックススクリーンを表示して、ユーザがプロセスに関連したキーワードを編集及び除去するためのプロセススクリーンにアクセスできるようにし、そして
ユーザのターミナルのユーザインターフェイスを使用して前記パーソナルプロフィールを編集及び更新する、
という段階を備えた請求項２に記載の方法。
【請求項１０】
ネットワークを経て前記パーソナルプロフィールをアップロードし、それらを集中化データベースに記憶し、
前記集中化データベースに接続されたコンピュータで前記パーソナルプロフィールを編集できるようにし、そして
前記編集されたパーソナルプロフィールを前記ユーザターミナルへダウンロードする、
という段階を更に備えた請求項２に記載の方法。
【請求項１１】
ユーザのパーソナルプロフィールをインストールする前記段階は、更に、
ユーザのパーソナルプロフィールを含む電話帳セクションと、詳細なパーソナル情報のためのより詳細なデータセクションとに分割されたデータベースに、ユーザのパーソナルプロフィールをインストールする段階を備えた請求項２に記載の方法。
【請求項１２】
ユーザのパーソナルプロフィールをインストールする前記段階は、更に、
名前及びコンタクト情報のような一般的情報を前記電話帳セクションに書き込む段階を備えた請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
ユーザのパーソナルプロフィールをインストールする前記段階は、更に、
スポーツの関心及び趣味の関心のような詳細なパーソナル情報を前記より詳細なデータセクションに書き込む段階を備えた請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記応答段階は、更に、
ＳＤＰトランザクションにおいて前記要求された情報に対して標準化フォーマットを与えるように応答する段階を備えた請求項２に記載の方法。
【請求項１５】
前記応答段階は、更に、
オブジェクト交換（ＯＢＥＸ）トランザクションにおいてデータベースから付加的なユーザ定義情報へのリンクを設けることにより応答に付加的な規準を与える段階を備えた請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記応答段階は、更に、
前記ユーザの電話帳からのユーザ情報を、ｖＣａｒｄ電子ビジネスカードフォーマットでエンコードして送信する段階を備えた請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記応答段階は、更に、
前記パーソナルプロフィールを拡張マークアップ言語（ＸＭＬ）でエンコードして送信する段階を備えた請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
前記ユーザのショートレンジワイヤレスターミナルは、ユーザのパーソナルプロフィールからの情報をプルモデルにおいて問合せ側ワイヤレスターミナルへ転送する請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記ユーザのショートレンジワイヤレスターミナルは、ユーザのパーソナルプロフィールからの情報をプッシュモデルにおいて問合せ側ワイヤレスターミナルへ転送する請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
前記ユーザのショートレンジワイヤレスターミナルは、それらの各ユーザプロフィールが厳密なマッチングレベルを有する場合に、ユーザプロフィールにおけるより詳細なプライベート情報を前記問合せ側ワイヤレスターミナルとで共有する請求項１に記載の方法。
【請求項２１】
前記ユーザのショートレンジワイヤレスターミナルは、それらの各ユーザプロフィールが規定の裕度内でマッチする場合に、パーソナルプロフィールにおける情報を前記問合せ側ワイヤレスターミナルとで共有する請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
ショートレンジワイヤレス通信システムにおいて他のターミナルによりアクセスするためのパーソナルプロフィールを含むターミナルにおいて、
ａ）ユーザ定義プロフィールを含むデータベースと、
ｂ）前記ユーザ定義パーソナルプロフィールをユーザ入力に基づいて編集するためのデータベース管理装置と、
ｃ）ユーザアクセスのために前記パーソナルプロフィールを表示するスクリーンディスプレイ装置と、
ｄ）他のターミナルからの問合せに応答して前記ユーザ定義プロフィールへアクセスするための装置と、
を備えたターミナル。
【請求項２３】
ｅ）前記データベースに記憶される各プロフィールを定義する記録を更に備えた請求項２２に記載のターミナル。
【請求項２４】
ｆ）トランザクションにおいて他のターミナルによるアクセスを許すために個人化状態にターミナルをセットする個人化装置を更に備えた請求項２２に記載のターミナル。
【請求項２５】
ｇ）マッチするパーソナルプロフィールを有する他のターミナルに対してショートレンジ通信ネットワークをサーチするサーチ装置を更に備えた請求項２２に記載のターミナル。
【請求項２６】
ｈ）ユーザによりネットワークを経てアクセスするためにリモート集中化データベースにユーザ定義プロフィールを記憶するリモートプロフィール記憶装置を更に備えた請求項２２に記載のターミナル。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月15日(2003.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有効成分としてオメガ鎖末端に環構造を有する１５−ケト−プロスタグランジン化合物を含み、その浸透圧比が０．５以上である高眼圧症および緑内障の処置のための点眼剤。
【請求項２】
１５−ケト−プロスタグランジン化合物が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物である、請求項１記載の点眼剤：
【化１】
2005519978.tif 000001
［式中、Ｌ、ＭおよびＮは、水素、ヒドロキシ、ハロゲン、低級アルキル、ヒドロキシ（低級）アルキル、低級アルカノイルオキシまたはオキソ（ただし、ＬおよびＭの基のうちの少なくとも１つは、水素以外の基であり、５員環は少なくとも１つの二重結合を有していてもよい）；
Ａは、−ＣＨ３、−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＯＣＨ２ＯＨ、−ＣＯＯＨまたはそれらの官能性誘導体；
Ｂは、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−；
Ｒ１は、非置換またはハロゲン、アルキル、ヒドロキシ、オキソ、アリールまたは複素環で置換された、二価の飽和または不飽和の低〜中級の脂肪族炭化水素残基（脂肪族炭化水素中の少なくとも１つの炭素原子は酸素、窒素あるいは硫黄で置換されていてもよい）；そして、
Ｒａは、末端がシクロ（低級）アルキル基；シクロ（低級）アルキルオキシ基；アリール基；アリールオキシ基；複素環基；複素環オキシ基で置換された飽和または不飽和の低〜中級脂肪族炭化水素残基（脂肪族炭化水素はハロゲン、オキソ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシまたは低級アルカノイルオキシによって置換されていてもよい）］。
【請求項３】
１５−ケト−プロスタグランジン化合物が１３，１４−ジヒドロ−１５−ケト−プロスタグランジン化合物である、請求項１記載の点眼剤。
【請求項４】
１５−ケト−プロスタグランジン化合物が１３，１４−ジヒドロ−１５−ケト−１７−フェニル−１８，１９，２０−トリノール−プロスタグランジン化合物である、請求項１記載の点眼剤。
【請求項５】
１５−ケト−プロスタグランジン化合物が１３，１４−ジヒドロ−１５−ケト−１７−フェニル−１８，１９，２０−トリノール−ＰＧＦ２αイソプロピルエステルである、請求項１記載の点眼剤。
【請求項６】
点眼剤の浸透圧比が０．５−１．５である、請求項１記載の点眼剤。
【請求項７】
点眼剤の浸透圧比が０．７−１．３である、請求項１記載の点眼剤。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月19日(2004.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）：
【化１】
2005519989.tif 000001
（式中、Ｒ１は、水素、塩素又は臭素を表し；
Ｒ２は、−ＣＦ３、−ＣＮ、−Ｆ、−ＣＯＳＯ３Ｈ、−ＣＦ３ＳＯ３及び−ＮＯ２から選ばれた電子吸引基を表し；
Ｒ３は、直鎖状若しくは分岐状のＣ１−１０アルキル基、直鎖状若しくは分岐状のＣ２−１０アルコキシアルキル基、Ｃ１−１０脂肪族アルコール又はＣ３−６シクロアルキル基を表す。）
で表される化合物およびそれらの薬用塩。
【請求項２】
前記のＲ２が−ＣＦ３又は−ＣＮである請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
前記のＲ３が、直鎖状若しくは分岐状のＣ１−６アルキル基、直鎖状若しくは分岐状のＣ２−６アルコキシアルキル基、Ｃ１−６脂肪族アルコール又はＣ３−６シクロアルキル基である請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
前記の一般式（Ｉ）で表される化合物の薬用塩が塩酸塩又は臭化水素酸塩である請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
式（III）：
【化２】
2005519989.tif 000002
（式中、Ｒ１とＲ２は請求項１と同義である。）
の遊離型塩基又はその薬用塩と、
式（IV）：
Ｈ２ＮＲ３（IV）
（式中、Ｒ３は請求項１と同義である。）
の化合物とを反応させる工程を含む、請求項１に記載の化合物の製造方法。
【請求項６】
化合物（III）と化合物（IV）との反応が無水条件下で行なわれ、反応溶媒がアルコール類又は芳香族炭化水素であり、反応温度が溶媒の還流温度であり、反応時間が１０〜１５時間である、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物と薬用担体とを含む医薬組成物。
【請求項８】
β２−受容体興奮作用を有する医薬を製造するための請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物の使用。
【請求項９】
喘息及び気管支炎の治療用医薬を製造するための請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物の使用。
【請求項１０】
喘息及び気管支炎の治療に用いられる請求項７に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
喘息及び気管支炎の治療に用いられる請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月27日(2004.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）アンドロゲンと（Ｂ）シャ賦活剤と（Ｃ）増粘剤とを含有する医薬組成物。
【請求項２】
単位用量を患者に単回塗布してから２４時間の患者血清中テストステロン量（ＡＵＣ０−２４）が、同用量を投与しなかったと仮定した場合の２４時間の患者血清中テストステロン量（ＡＵＣ０−２４）と比べて約１００〜約３５，０００ｎｇ・ｈ／ｄＬ高くなるように、男性患者の血液にテストステロンを経皮的に送達するために有効な単位用量製剤であって、前記単位用量は、最大で約１重量％のテストステロン、約０．０１〜約２５重量％のシャ賦活剤、および約０．１〜約１０重量％の増粘剤を含有し、前記単位用量中にテストステロンが約１〜約３００ｍｇ含まれる単位用量製剤。
【請求項３】
単位用量を患者に単回塗布してから２４時間の患者血清中テストステロン量（ＡＵＣ０−２４）が、同用量を投与しなかったと仮定した場合の２４時間の患者血清中テストステロン量（ＡＵＣ０−２４）と比べて約０．１０〜約１１，７００ｎｇ・ｈ／ｄＬ高くなるように、女性患者の血液にテストステロンを経皮的に送達するために有効な単位用量製剤であって、前記単位用量は最大で約１重量％のテストステロン、約０．０１〜約２５重量％のシャ賦活剤、および約０．１〜約１０重量％の増粘剤を含有し、前記単位用量中にテストステロンが約０．１〜約１００ｍｇ含まれる単位用量製剤。
【請求項４】
単位用量を患者に単回塗布してから２４時間の患者血清中ジヒドロテストステロン量（ＡＵＣ０−２４）が、同用量を投与しなかったと仮定した場合の２４時間の患者血清中循環ジヒロドテストステロン量（ＡＵＣ０−２４）と比べて約１１，６２５〜約４６５，０００ｐｇ・ｈ／ｍＬ高くなるように、男性患者の血液にジヒドロテストステロンを経皮的に送達するために有効な単位用量製剤であって、前記単位用量は最大で約１重量％のジヒドロテストステロン、約０．０１〜約２５重量％のシャ賦活剤、および約０．１〜約１０重量％の増粘剤を含有し、前記単位用量中にジヒドロテストステロンが約５〜約２００ｍｇ含まれる単位用量製剤。
【請求項５】
単位用量を患者に単回塗布してから２４時間の患者血清中ジヒドロテストステロン量（ＡＵＣ０−２４）が、同用量を投与しなかったと仮定した場合の２４時間の患者血清中循環ジヒロドテストステロン量（ＡＵＣ０−２４）と比べて約１１．６〜約２３２，５００ｐ
ｇ・ｈ／ｍＬ高くなるように、女性患者の血液にジヒドロテストステロンを経皮的に送達するために有効な単位用量製剤であって、前記単位用量は最大で約１重量％のジヒドロテストステロン、約０．０１〜約２５重量％のシャ賦活剤、および約０．１〜約１０重量％の増粘剤を含有し、前記単位用量中にジヒドロテストステロンが約０．００５〜約１００ｍｇ含まれる単位用量製剤。
【請求項６】
前記アンドロゲンはテストステロンである、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記アンドロゲンはジヒドロテストステロンである、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
前記賦活剤は大環状賦活剤である、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
前記賦活剤は環状ケトンまたは環状エステルである、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
前記賦活剤はオキサシクロヘキサデカン−２−オンである、請求項１に記載の組成物。
【請求項１１】
前記増粘剤はカルボマーである、請求項１に記載の組成物。
【請求項１２】
前記増粘剤はカルボキシポリメチレンである、請求項１に記載の組成物。
【請求項１３】
局所ゲル形状を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項１４】
ｐＨが約３〜約９であり、粘度が約２，８００ｃｐｓ〜約４，６００ｃｐｓであって、（Ａ）テストステロン約０．０１〜約１５重量％、（Ｂ）オキサシクロヘキサデカン−２−オン約１〜約１５重量％、（Ｃ）カルボキシポリメチレンおよびアクリル酸／メタクリレートコポリマー増粘剤約１〜約６重量％、（Ｄ）エタノールおよび水を含むキャリア約４０〜約９８重量％、ならびに（Ｂ）結晶化阻害剤約０．００１〜約５重量％を含有する、均一な局所ゲルの形状を有する医薬組成物。
【請求項１５】
（Ａ）約０．０１〜約１５重量％のアンドロゲンと（Ｂ）約１〜約１５重量％のシャ賦活剤と（Ｃ）約１〜約６重量％の増粘剤とを含有する医薬組成物。
【請求項１６】
標的膜に惹起させる被刺激性が低いかまたは被刺激性を惹起しない、請求項１に記載の組成物。
【請求項１７】
アンドロゲンとシャ賦活剤と増粘剤とを混合させる工程を含む、患者の状態を治療するために有用な組成物を製造するための方法。
【請求項１８】
前記組成物の少なくとも約４０重量％の低級アルカノールをさらに含有する、請求項１に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月1日(2005.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結合生成物であって、親水性ポリマー−マルチカルボキシルオリゴペプチドと薬剤分子との結合生成物であり、下記式で表される結合生成物。
【化１】
2005519122.tif 000001
上記式中：
Ｐは、水溶性ポリマーであり、
ｍは、２〜１２の整数であり、
ｊは、１〜６の整数であり、
Ｒiは、Ｈ、Ｃ1-12のアルキル基、置換アリール基、アルアルキル基、ヘテロアルキル基および置換アルキル基からなる群から選択される基であり、
Ｘは、架橋基であり、
Ｚは、ＯおよびＮＨから選択される架橋基であり、
ＴＡは、薬剤分子である。
【請求項２】
請求項１に記載の結合生成物であって、前記水溶性ポリマーが、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリビニルアルコール、ポリアクリルモルホリンおよびこれらの共重合体からなる群から選択される水溶性ポリマーである結合生成物。
【請求項３】
請求項２に記載の結合生成物であって、前記水溶性ポリマーが、ポリエチレングリコールである結合生成物。
【請求項４】
請求項３に記載の結合生成物であって、前記ポリエチレングリコールの分子量が、３００〜６０，０００である結合生成物。
【請求項５】
請求項１に記載の結合生成物であって、前記架橋基Ｘが、(ＣＨ2)i、(ＣＨ2)iＯＣＯ、(ＣＨ2)iＮＨＣＯ又は(ＣＨ2)iＣＯであって、ｉが、０〜１０の整数である結合生成物。
【請求項６】
請求項１に記載の結合生成物であって、前記親水性ポリマーの遊離ヒドロキシル基が、Ｃ1-12のアルコキシル基、シクロアルコキシル基又はアロキシル基により置換されうる結合生成物。
【請求項７】
請求項１に記載の結合生成物であって、前記親水性ポリマーの遊離ヒドロキシル基が、下記式のものにより置換されうる結合生成物。
【化２】
2005519122.tif 000002
上記式中：
ｘ、ｍ、ｊ、Ｒi、ＺおよびＴＡは、請求項１における定義と同じである。
【請求項８】
請求項１に記載の結合生成物であって、前記親水性ポリマーが標的分子を保持し、前記結合生成物の標的を定めたデリバリーがなされ得る結合生成物。
【請求項９】
請求項８に記載の結合生成物であって、前記標的分子が、抗体である結合生成物。
【請求項１０】
請求項１に記載の結合生成物であって、前記薬剤部分ＴＡが、アミノ酸、タンパク質、酵素、ヌクレオシド、糖類、有機酸、グルコシド、フラボノイド、キノン、テルペノイド、フェニルプロパノイドフェノール、ステロイドおよびこれらのグルコシドならびにアルカロイドからなる群から選択されるいずれか１つである結合生成物。
【請求項１１】
請求項１０に記載の結合生成物であって、前記薬剤部分ＴＡが、天然医薬の有効成分である結合生成物。
【請求項１２】
請求項１１に記載の結合生成物であって、前記天然有効成分が、シノブファギン、グリシレチン酸又はスコポレチンである結合生成物。
【請求項１３】
請求項１０に記載の結合生成物であって、前記薬剤部分ＴＡが、抗腫瘍剤である結合生成物。
【請求項１４】
請求項１３に記載の結合生成物であって、前記抗腫瘍剤が、パクリタキセル、カンプトテシン、ヒドロキシルカンプトテシン、エトポシドおよびこれらの誘導体からなる群から選択される抗腫瘍剤である結合生成物。
【請求項１５】
結合生成物であって、メトキシポリエチレングリコール−グルタミン酸オリゴペプチドと薬剤分子との結合生成物であり、下記式で表される結合生成物。
【化３】
2005519122.tif 000003
上記式中：
ｎは、１０〜１２００の整数であり、
ｍは、２〜１２の整数であり、
Ｘは、(ＣＨ２)ｉ、(ＣＨ２)ｉＯＣＯ、(ＣＨ２)ｉＮＨＣＯおよび(ＣＨ２)ｉＣＯからなる群から選択され、ｉが、０〜１０の整数である架橋基であり、
Ｚは、ＯおよびＮＨから選択される架橋基であり、
ＰＴは、パクリタキセル、カンプトテシン、シノブファギン、グリシレチン酸、スコポレチンおよびこれらの誘導体からなる群から選択される薬剤である。
【請求項１６】
組成物であって、請求項１から１５のいずれかに記載の結合生成物、および、薬学的に許容されるキャリヤ又は賦形剤を含む組成物。
【請求項１７】
請求項１６に記載の組成物であって、さらに、他の治療上の有効成分を含む組成物。
【請求項１８】
請求項１６に記載の組成物であって、タブレット、坐剤、ピル、ソフトおよびハードゼラチンカプセル剤、粉剤、液剤、懸濁剤、又は、エーロゾル剤の形態に形成されうる組成物。
【請求項１９】
製薬における、請求項１から１５のいずれかに記載の結合生成物の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月26日(2004.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ピストンリング（1）の表面（22）に耐磨耗被覆材料を塗布する方法であって、以下の段階、すなわち、
溶射工程によって前記被覆材料を塗布する段階と、
前記被覆材料の融点よりも低い熱温度に前記被覆材料をさらすことにより、高温で、かつ、前記被覆材料を下方の表面に少なくとも部分的に拡散させるのに有効な時間にわたって、前記被覆材料を熱処理する段階と、
各被覆材料層を連続的に熱処理して該被覆材料の複数の層（24）を前記ピストンリング表面（22）上に重ねることにより、追加の被覆材料層（24）を塗布する段階と、を含み、
結果として得られる前記ピストンリング被覆は多孔度が１vol％から１５vol％の間である方法。
【請求項２】
前記ピストンリング（1）に前記被覆材料（4）を塗布し、前記ピストンリング（1）を熱処理する間、前記ピストンリング（1）が溶射装置（3）および熱処理装置（5）に対して移動させられる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記被覆材料（4）の塗布および熱処理を連続的に行う間、溶射装置（3）および熱処理装置（5）に対して、前記ピストンリング（1）がその軸の周りを回転させられる、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記ピストンリング（1）の前記熱処理は、誘導によって行われる、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
結果として得られる前記ピストンリング被覆は、均等に分散された孔を有する、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
結果として得られる前記ピストンリング被覆は開口気孔（23）を備える、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記各被覆材料層（24）は、通常厚さが0.005mmから0.4mmの間である、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記被覆材料は、前記溶射工程に供給されるときには粉末状である、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記被覆材料は、溶射工程に供給されるときにはワイヤ状である、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記熱処理によって、少なくとも前記被覆内の粒子（21）間の接触点にネック（23）が生じる、請求項１から９に記載の方法。
【請求項１１】
前記被覆材料は、Cr2O3およびAl2O3から成る群から選択される金属化合物を含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記被覆材料はサーメットである、請求項１から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
溶射工程によって耐磨耗被覆材料で被覆されたピストンリング（1）であって、
前記耐磨耗被覆は、前記被覆材料の融点よりは下の高い熱温度で、かつ、前記被覆材料を下方の表面に少なくとも部分的に拡散させるのに有効な時間にわたって、前記被覆材料の熱処理にさらされており、
前記ピストンリング（1）は、各被覆材料層を連続的に熱処理することによって該被覆材料の複数の層（24）を前記ピストンリング表面（22）上に設けることにより、追加の被覆材料層（24）で被覆されていて、
少なくとも前記耐磨耗被覆内の粒子（21）間の接触点にネック（23）を含み、前記ピストンリング被覆は多孔度が１vol％から１５vol％の間であるピストンリング（1）。
【請求項１４】
前記ピストンリング（1）に前記被覆材料（4）を塗布し、前記ピストンリング（1）を熱処理する間、前記ピストンリング（1）が溶射装置（3）および熱処理装置（5）に対して移動させられる、請求項１３に記載のピストンリング。
【請求項１５】
前記被覆材料（4）の塗布および熱処理を連続的に行う間、前記ピストンリング（1）がその軸の周りを回転させられる、請求項１３または1４のいずれか一項に記載のピストンリング。
【請求項１６】
前記ピストンリング（1）の前記熱処理は、誘導によって行われる、請求項１３から１５のいずれか一項に記載のピストンリング。
【請求項１７】
前記ピストンリング被覆は、均等に分散された孔を有する、請求項１３から１６のいずれか一項に記載のピストンリング。
【請求項１８】
前記ピストンリング被覆は開口気孔（23）を備える、請求項１３から１７のいずれか一項に記載のピストンリング。
【請求項１９】
前記各被覆材料層（24）は、通常厚さが0.005mmから0.4mmの間である、請求項１３から１８のいずれか一項に記載のピストンリング。
【請求項２０】
前記被覆材料は、前記溶射工程に供給されるときには粉末状である、請求項１３から１９のいずれか一項に記載のピストンリング。
【請求項２１】
前記被覆材料は、溶射工程に供給されるときにはワイヤ状である、請求項１３から１９のいずれか一項に記載のピストンリング。
【請求項２２】
前記被覆材料は、Cr2O3およびAl2O3から成る群から選択される金属化合物を含む、請求項１３から２１のいずれか一項に記載のピストンリング。
【請求項２３】
前記被覆材料はサーメットである、請求項１３から２２のいずれか一項に記載のピストンリング。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月5日(2003.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
履物とともに利用するための中敷であって、該中敷は、
（ａ）第一の層であって、該第一の層は、
第一の厚みを有するかかと部分と、
フォアフット部分と、
該フォアフット部分と該かかと部分とを一緒につなぐ中央部分であって、該中央部分は、該かかと部分の該第一の厚みをよりも小さい第二の厚みを有し、上向きの湾曲を有する、中央部分と、
該フォアフット部分と中央部分とかかと部分とに沿って広がる上部表面であって、該上部表面上に人間が立つ、上部表面と、
該フォアフット部分と中央部分とかかと部分とに沿って広がる下部表面であって、該下部表面は、該中央部分に浅い凹みを含む、下部表面と
を含み、
該第一の層は、第一の硬さを有する材料から作られる、第一の層と、
（ｂ）該凹みに固定され、かつ、該中央部分の該湾曲に従い、実質的に一定の厚みの、柔軟で弾力性のある薄いアーチばね挿入物であって、該アーチばね挿入物は、該第一の硬さよりも大きい第二の硬さを有する材料を含む、アーチばね挿入物と
を含む、中敷。
【請求項２】
前記アーチばね挿入物および前記凹みは、実質的に類似の形状および寸法を有する、請求項１に記載の中敷。
【請求項３】
前記アーチばね挿入物は、その後部位置にコーナーウィングセクションを含み、該ウィングセクションは前記かかと部分に僅かに広がる、請求項１に記載の中敷。
【請求項４】
前記かかと部分は、該かかと部分において利用者のかかとを維持するために、カップ状である、請求項１に記載の中敷。
【請求項５】
前記アーチばね挿入物は、その中央セクションに向かって幅が次第に細くなる、請求項１に記載の中敷。
【請求項６】
アーチ領域は、約５と６０ポンド／インチとの間の範囲の堅さを有する、請求項１に記載の中敷。
【請求項７】
アーチ領域は、約５と２０ポンド／インチとの間の範囲の堅さを有する、請求項１に記載の中敷。
【請求項８】
前記フォアフット部分は、利用時に、該フォアフット部分が利用者の中足骨の末端で直ちに終わるような長さを有する、請求項１に記載の中敷。
【請求項９】
前記第一の層は、約４０と約７０との間のＳｈｏｒｅ  Ｔｙｐｅ  ＯＯのジュロメーター硬さを有する柔軟性があり弾力性のある発泡材料を含む、請求項１に記載の中敷。
【請求項１０】
前記アーチばね挿入物は、約１００，０００と約５００，０００ｐ．ｓ．ｉ．との間の曲げ率を有する材料を含む、請求項１に記載の中敷。
【請求項１１】
前記アーチばね挿入物は、約１５０，０００と約４００，０００ｐ．ｓ．ｉ．との間の曲げ率を有する材料を含む、請求項１に記載の中敷。
【請求項１２】
前記アーチばね挿入物は、約１８０，０００と約２３０，０００ｐ．ｓ．ｉ．との間の曲げ率を有する材料を含む、請求項１に記載の中敷。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月6日(2005.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記配置手段は、前記生検器具の中を延びる第二の機能導管内に入れ子式に受け入れられる、請求項４記載の生検／アクセスツール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
生検器具１８の遠位先端３６が、カニューレ２１の遠位先端４８を越えて延びる程度を調節するために（すなわち、生検器具１８の、脊椎Ｖ内への侵入度を調節するために）、生検器具１８は、カニューレ２１の近位端５４に対する基準にするために、生検器具１８の外面に軸線方向に間隔を隔てた区分５１（図８Ｂ参照。）を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2005519659.tif 000001
【図２Ａ】
2005519659.tif 000002
【図２Ｂ】
2005519659.tif 000003
【図２Ｃ】
2005519659.tif 000004
【図２Ｄ】
2005519659.tif 000005
【図３Ａ】
2005519659.tif 000006
【図３Ｂ】
2005519659.tif 000007
【図３Ｃ】
2005519659.tif 000008
【図３Ｄ】
2005519659.tif 000009
【図４Ａ】
2005519659.tif 000010
【図４Ｂ】
2005519659.tif 000011
【図４Ｃ】
2005519659.tif 000012
【図５】
2005519659.tif 000013
【図６】
2005519659.tif 000014
【図７Ａ】
2005519659.tif 000015
【図７Ｂ】
2005519659.tif 000016
【図８Ａ】
2005519659.tif 000017
【図８Ｂ】
2005519659.tif 000018
【図９】
2005519659.tif 000019
【図１０】
2005519659.tif 000020
【図１１】
2005519659.tif 000021
【図１２】
2005519659.tif 000022
【図１３Ａ】
2005519659.tif 000023
【図１３Ｂ】
2005519659.tif 000024
【図１４】
2005519659.tif 000025
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月7日(2004.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）豚から採取して培養した細胞株を核供与細胞として準備する段階と、
（ｂ）ｐＥＧＦＰ−Ｎ１と脂質成分又は非脂質カチオンポリマー媒介体を混合して脂質（又はカチオンポリマー）−ＤＮＡ構造複合体を形成させた後、前記脂質（又はカチオンポリマー）−ＤＮＡ構造複合体を前記核供与細胞培養液に添加した後培養し、前記ＧＦＰ遺伝子を前記核供与細胞に導入して発現させる段階と、
（ｃ）前記ＧＦＰ遺伝子が導入された核供与細胞を脱核された豚受核卵に移植して、形質転換された核移植卵を生産し、活性化させる段階と、
（ｄ）前記核移植卵を代理母に移植して産子を生産する段階とを含む、ＧＦＰ遺伝子が導入された豚を生産する方法。
【請求項２】
（ｂ）段階の脂質成分がヒュジン６（ＦｕＧＥＮＥ６）又はリポフェクトアミンプラス（LipofectAmine Plus）であることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
（ｂ）段階の非脂質カチオンポリマー成分がエクスジェン５００（ＥｘＧｅｎ５００）であることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
請求項１の（ａ）〜（ｃ）段階の方法で製造された豚の核移植卵ＳＮＵ−Ｐ１（豚ＮＴ胚芽）(SNU-P1[Porcine NT embryo])、ＫＣＴＣ １０１４５ＢＰ。
【請求項５】
請求項１の（ｄ）段階の方法を行い、請求項４のＳＮＵ−Ｐ１（豚ＮＴ胚芽）(SNU-P1[Porcine NT embryo])から生産されたＧＦＰ遺伝子を発現する複製豚。
【請求項６】
（ａ）豚から採取して培養した細胞株を核供与細胞として準備する段階と、
（ｂ）豚ゲノムＢＡＣライブラリからＧＴ遺伝子クローンを分離した後、前記ＧＴ遺伝子クローンを用いて、ＧＴ遺伝子の蛋白質発現部位の一部分で相同組換えによってＧＴ蛋白質発現部位を標識遺伝子で代置して正常的なＧＴ蛋白質が発現されないようにする遺伝子ターゲティング用ベクターを作製する段階と、
（ｃ）前記の遺伝子ターゲティングベクターを脂質又は非脂質成分と混合して複合体を形成させた後、前記複合体を前記核供与細胞培養液に添加して前記組換えＧＴ遺伝子を核供与細胞内に導入してターゲティングさせる段階と、
（ｄ）前記組換えＧＴ遺伝子が導入された核供与細胞を脱核された豚受核卵に移植して、形質転換された核移植卵を生産し、活性化させる段階と、
（ｅ）前記核移植卵を代理母に移植して産子を生産する段階とを含むことを特徴とするＧＴ遺伝子が除去された豚を生産する方法。
【請求項７】
（ａ）段階の細胞が豚の胎児から分離した繊維牙細胞であることを特徴とする請求項6記載の方法。
【請求項８】
前記（ｂ）段階で遺伝子ターゲティングベクターは外因性プロモータを持たないようにプロモータトラップ方法で製造されることを特徴とする請求項6記載の方法。
【請求項９】
（ｂ）段階の前記遺伝子ターゲティング用ベクターが、
ＧＴ遺伝子のうちイントロン８の一部分、エクソン９（蛋白質発現部位）及びイントロン９の一部配列を含む相同切片を含み、前記ＧＴ遺伝子の蛋白質発現部位のうちＤｒａＩＩＩ制限酵素及びＡｖａＩ制限酵素で切断された断片のアミノ酸配列に該当する遺伝子の塩基配列がピューロマイシン抵抗遺伝子発現部位−ＳＶ４０ポリ（Ａ）配列で代置されることを特徴とする請求項6記載の方法。
【請求項１０】
（ｃ）段階の脂質媒介体がヒュジン６（ＦｕＧＥＮＥ６）であることを特徴とする請求項6記載の方法。
【請求項１１】
請求項6の（ａ）〜（ｄ）段階の方法で製造された豚の核移植卵ＳＮＵ−Ｐ２（豚ＮＴ胚芽）(SNU-P2[Porcine NT embryo])、ＫＣＴＣ １０１４６ＢＰ。
【請求項１２】
請求項6の（ｅ）段階の方法を行い、請求項１1のＳＮＵ−Ｐ２（豚ＮＴ胚芽）(SNU-P2[Porcine NT embryo])から生産されたＧＴ遺伝が除去された複製豚。
【請求項１３】
ＧＴ遺伝子のうちイントロン８の一部分、エクソン９（蛋白質発現部位）及びイントロン９の一部配列を含む相同切片を含み、前記ＧＴ遺伝子の蛋白質発現部位のうちＤｒａＩＩＩ制限酵素及びＡｖａＩ制限酵素で切断された断片のアミノ酸配列に該当する遺伝子の塩基配列がピューロマイシン抵抗遺伝子発現部位−ＳＶ４０ポリ（Ａ）配列で代置されたベクター。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
〔第３段階：ＧＴ遺伝子が除去されたベクター製作及び核供与細胞への導入〕
前記で分離されたＧＴ遺伝子クローンを用いて遺伝子ターゲティング用ベクターを作製する。すなわち、ＧＴ遺伝子の蛋白質発現部位の一部分を代置した標識遺伝子が相同組換え(homologous recombination)によってＧＴ蛋白質発現部位を代置して正常的なＧＴ蛋白質が発現されないようにターゲティングベクターを作製する。ターゲティングされた細胞の選別効率を高めるために、ターゲティングベクターは外因性プロモータ(exogenous promoter)を持たないように、すなわちプロモータトラップ(promoter trap)方法を用いる。ターゲティングベクターは、ＧＴ遺伝子のうちイントロン(intron)８の一部分、蛋白質発現部位（エクソン９[Ｅｘｏｎ９]）、及びイントロン９の一部配列を含む相同切片と、ＧＴ遺伝子の蛋白質発現のうちＡｖａＩとＤｒａＩＩＩ制限酵素で切断された断片のアミノ酸配列に該当する遺伝子の塩基配列を代置するピューロマイシン抵抗遺伝子発現部位−ＳＶ４０ポリ（Ａ）配列を含む。このようなターゲティングベクターは、相同切片では相同組換えが起こってピューロマイシン抵抗遺伝子発現部位−ＳＶ４０ポリ（Ａ）配列部位が正常的なエクソンに挿入されてＧＴ遺伝子を破壊する（図９）。前記ターゲティングベクターを核供与細胞としてＧＦＰ形質転換動物生産方法で言及されたヒュジン６を用いて導入する。ターゲティングベクターが導入された体細胞は、適切な抗生剤を含んだ培地で１〜２週日間培養して選別した後、ターゲティングしたか否かをサザンブロット又は重合酵素連鎖反応などの通常の方法で確認する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月12日(2005.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
レンズ３７および３４の各有効焦点距離の比率は、ビーム３２および１５の各直径間の比率に略々等しい。共通経路１６へと送出されたビーム２７は、ビーム１５と実質的に同一の直径を有する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
第１光路１１および第２光路１２の一方を選択する切換え手段は、経路切換え手段２４（図５）を備えるたとえば機械的もしくは電気光学的とされ得る跳ね上げ機構（ｔｉｐ−ｕｐ  ｍｅｃｈａｎｉｓｍ）を備える。本実施例の経路切換え手段２４は機械的システムから成り、該機械的システムは、形状測定器用の第２経路１２に関して前述された如く、平行化入射放射線ビーム１３を拡開する手段と、拡開ビーム３０を焦点合わせする手段と、角膜９０から反射されたビーム３２をシステム１０の共通経路１６へと導向する手段とを含む。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月24日(2004.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
改変されたトラゾドン化合物であって、次式：
【化１】
2005519073.tif 000001
を有し、ここで、ＭＲは１つ以上の代謝物減少置換基であって、該代謝物減少置換基は１つ以上のＣ１〜Ｃ５に結合し、そして該代謝物減少置換基は、該改変トラゾドン化合物からの目覚め促進代謝物の形成を阻害する効果を有し；ＡはＨまたは−（ＳＰ）ｑ−ＥＧを表し、ここで、ＳＰはスペーサ分子を表し、ｑは０または１であり、そしてＥＧは、該改変されたトラザドン化合物の半減期を改変する効果を有するエステル基を表し；そしてＸはＨまたはＣｌであり、ただし、ＡがＨである場合、ＸはＣｌである、
トラゾドン化合物。
【請求項２】
ＭＲが、１つ以上の以下の置換基：トリフルオロメチル；ｇｅｍ−ジメチル；置換型または非置換型プロピル、シクロプロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ｉ−ブチル、ペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、シクロヘプチル、オクチル、シクロオクチル、ノニル、デシル、もしくはベンジル；および／または１つ以上のエステルもしくはチオエステル基
を表す、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
前記１つ以上のエステル基が、−Ｒ１−ＣＯＯＲ２によって独立的に表され、ここで、Ｒ１は単結合またはスペーサ分子を表し、そしてＲ２は１と２０との間の炭素原子を有する炭化水素またはペルフルオロカーボン基を表し、該基は、必要に応じて、Ｏ、Ｎ、Ｓまたはハロゲンと置換され、そして不斉中心をさらに含み得る、請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
前記Ｒ２が、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、シクロプロピル、ｔ−ブチル、ｉ−ブチル、ペンチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、およびベンジルから選択され、ここで、Ｒ２は、必要に応じてＯ、Ｎ、Ｓまたはハロゲンと置換され、そして不斉中心をさらに含み得る、請求項３に記載の化合物。
【請求項５】
前記スペーサ分子が、メチルのようなＣ１〜５アルキル基である、請求項４に記載の化合物。
【請求項６】
ＭＲが、２つ以上のＣ１〜５に結合される単一の置換基を表す、請求項１〜５のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項７】
ＭＲが、１つ以上のＣ１〜５に結合される２つ以上の置換基を表す、請求項１〜６のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項８】
前記スペーサ分子が、（ＣＨ２）ｍであって、ここで、ｍは１〜２０から選択される整数である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の化合物であって、以下：
【化２】
2005519073.tif 000002
【化３】
2005519073.tif 000003
からなる群から選択される、化合物。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の化合物であって、次式：
【化４】
2005519073.tif 000004
を有し、ここで、Ｒ３およびＲ４の一方は、ＣＯＯ−イソプロピルまたはＣＯＯ−シクロペンチルであり、そしてＲ３およびＲ４の他方は、Ｈ、ＣＯＯ−イソプロピルまたはＣＯＯ−シクロペンチルである、化合物。
【請求項１１】
前記目覚め促進代謝物が、メタクロロフェニルピペラジンのような、フェニルピペラジン代謝物である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の化合物および薬学的に受容可能な賦形剤またはキャリアを含む、睡眠障害の処置に使用するための薬学的組成物。
【請求項１３】
前記睡眠障害が、不眠症、過眠症、睡眠発作、睡眠時無呼吸症候群、睡眠時異常行動、不穏下肢症候群、および概日周期異常からなる群から選択される、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
前記概日周期異常が、時差ボケ、交替勤務障害、および睡眠相後退または前進症候群からなる群から選択される、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１５】
前記組成物が、経口投与されるように適合された、請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１６】
請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の薬学的組成物の製造における、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の化合物の使用。