【手続補正書】
【提出日】平成17年9月20日(2005.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板を保持して２次元平面内を移動する第１可動体と；
前記第１可動体に設けられ、前記２次元平面内で所定の第１軸及びこれに直交する第２軸と交差する方向に沿って延びる第１反射面と；
前記第１反射面に垂直に測長ビームを照射してその反射光を受光することにより前記第１可動体の第３軸方向の位置を計測する第１の干渉計と；
前記第１の干渉計の計測値に基づいて前記第１可動体の前記第１軸及び第２軸で規定される直交座標系上の位置座標を演算する演算装置とを備えるステージ装置。
【請求項２】  定盤と；
前記定盤に対して相対移動が可能であるとともに基板を保持する第１可動体と；
前記第１可動体がその上部に配置されるとともに、前記定盤上に配置され、かつ前記定盤と前記第１可動体との夫々に対して相対移動する第２可動体と；
前記第２可動体に設けられ、前記第１可動体を２次元平面内で移動する駆動装置とを備え、
前記第１可動体の移動によって生じる反力に応じて前記第２移動体が移動するように構成されていることを特徴とするステージ装置。
【請求項３】  前記駆動装置は、前記第２可動体上で前記第１可動体を駆動するリニアアクチュエータを有し、
前記第１可動体及び前記第２可動体はそれぞれ前記第２可動体及び前記定盤上で非接触支持されていることを特徴とする請求項２に記載のステージ装置。
【請求項４】  前記第１可動体は、前記２次元平面上で直交する第１及び第２軸の各々と交差する方向に延びる第１反射面と、前記第２軸方向に延びる第２反射面と、前記第１軸に沿った方向に関して前記第１反射面とほぼ対称に配置された第３反射面とを有し、
前記第１、第２及び第３反射面にそれぞれ測長ビームを照射する３つの干渉計を更に備えることを特徴とする請求項２又は３に記載のステージ装置。
【請求項５】  前記第１可動体は、
前記基板が載置される第１プレートと；
前記第１プレートを前記２次元平面と垂直な方向に移動し、かつ前記２次元平面に対して相対的に傾ける駆動機構と；
前記駆動機構が載置される第２プレートとを有することを特徴とする請求項２〜４のいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項６】  前記第１可動体の質量は前記第２可動体の質量のほぼ１／９以下であり、
前記定盤上で前記第２可動体を低応答周波数で駆動する第２駆動装置を更に備えることを特徴とする請求項２〜５のいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項７】  前記請求項２に記載のステージ装置を備える走査型露光装置であって、
マスクを保持するマスクステージと；
前記マスク及び前記基板の夫々と直交する光軸を有する投影光学系と；
前記投影光学系を支持するとともに、前記定盤が懸架される第１架台と；
前記第１架台を支持する防振装置とを備え、
前記マスクステージと前記ステージ装置とによって前記マスクと前記基板とを同期移動して、前記マスクのパターンを前記投影光学系を介して前記基板上に転写することを特徴とする走査型露光装置。
【請求項８】  前記マスクステージが載置される第２架台と；
前記防振装置が配置される床上に設けられるとともに、前記マスクステージの移動によって生じる反力に応じた力を前記マスクステージ又は前記第２架台に与えるアクチュエータを有するフレームとを更に備えたことを特徴とする請求項７に記載の走査型露光装置。
【請求項９】  前記防振装置が載置されるベースプレートと；
前記ベースプレートと前記フレームとを接続する弾性体とを更に備えたことを特徴とする請求項８に記載の走査型露光装置。
【請求項１０】  前記第１可動体は、前記２次元平面上で前記基板の走査方向、及びこれと直交する非走査方向の夫々と交差する方向に沿って延びる第１反射面と前記非走査方向に沿って延びる第２反射面と、前記走査方向に関して前記第１反射面とほぼ対称に配置される第３反射面とを有し、
前記第１、第２及び第３反射面にそれぞれ測長ビームを照射する３組みの干渉計を備えることを特徴とする請求項７〜９のいずれか一項に記載の走査型露光装置。
【請求項１１】  前記定盤に対する前記第２可動体の相対位置を検出する位置計測装置と；
前記基板の露光動作、及びアライメント動作以外では、前記位置計測装置の出力に基づいて、前記第２可動体を前記定盤上の所定点に位置決めする第２駆動装置とを更に備えたことを特徴とする請求項７〜１０のいずれか一項に記載の走査型露光装置。
【請求項１２】  マスクと基板とを同期移動して、前記マスクのパターンを前記基板上に転写する走査型露光装置であって、
前記基板が同期移動される第１方向、及びこれに直交する第２方向とそれぞれ交差する方向に沿って延びる第１反射面と、前記第２方向に沿って延びる第２反射面とを有し、前記基板を載置する基板ステージと；
前記第１及び第２反射面にそれぞれ測長ビームを照射する第１、第２の干渉計とを備えたことを特徴とする走査型露光装置。
【請求項１３】  マスクと感応基板とを同期移動させることにより、前記マスクのパターンを前記感応基板上に転写する露光方法であって、
前記感応基板の前記同期移動方向及びこれに直交する非走査方向の内、少なくとも非走査方向については、該非走査方向と異なる方向の第１測長ビームを用いて位置制御しつつ露光動作を行うことを特徴とする露光方法。
【請求項１４】  マスクと感応基板とを同期移動させて、前記マスクのパターンを前記感応基板上に転写する走査型露光装置であって、
前記感応基板を保持するとともに、前記感応基板が同期移動される第１方向、及び前記第１方向と直交する第２方向の両方と交差する方向に沿って延びる第１反射面を有する基板ステージと；
前記第１反射面とほぼ直交する測長軸を有する第１の干渉計とを備える走査型露光装置。
【請求項１５】  マスクと感応基板とを同期移動させて、前記マスクのパターンを前記感応基板上に転写する走査型露光装置であって、
前記感応基板を保持するとともに、前記感応基板が同期移動される第１方向と鋭角に交差する方向に沿って延びる第１反射面を有する基板ステージと；
前記第１反射面とほぼ直交する測長軸を有する第１の干渉計とを備える走査型露光装置。
【請求項１６】  マスクと感応基板とを同期移動させて、前記マスクのパターンを前記感応基板上に転写する走査型露光装置であって、
前記感応基板を保持し、互いに延設方向が鋭角に交差するように配置される第１及び第２の測長用基準面を少なくとも有する基板ステージと；
前記同期移動時に第１方向に沿って前記基板ステージを駆動する駆動装置とを備える走査型露光装置。
【請求項１７】  マスクと感応基板とを同期移動させて、前記マスクのパターンを前記感応基板上に転写する走査型露光装置であって、
前記感応基板を保持し、三角形状に配置される第１、第２及び第３の測長用基準面を有する基板ステージと；
前記同期移動時に前記３つの基準面と交差する第１方向に沿って前記基板ステージを駆動する駆動装置とを備える走査型露光装置。
【請求項１８】  マスクのパターンを感応基板上に転写する露光装置であって、
前記感応基板を保持し、互いに延設方向が鋭角に交差するように配置される第１及び第２反射面を少なくとも有する基板ステージと；
前記第１反射面と直交する測長軸を有する第１の干渉計と；
前記第２反射面と直交する測長軸を有する第２の干渉計とを備える露光装置。
【請求項１９】  物体を保持する第１可動体と；
前記第１可動体の移動によって生じる反力に応じて移動する第２可動体とを備え、
前記第１可動体の質量は、前記第２可動体の質量のほぼ１／９以下であることを特徴とするステージ装置。
【請求項２０】  前記第１可動体と前記第２可動体は、それぞれ非接触で支持されていることを特徴とする請求項１９に記載のステージ装置。
【請求項２１】  前記第１可動体は、前記第２可動体に対して２次元平面内で移動可能であることを特徴とする請求項１９又は２０に記載のステージ装置。
【請求項２２】  基板上にパターンを形成するための露光装置であって、
請求項１９〜２１のいずれか一項に記載のステージ装置を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２３】  請求項２２に記載の露光装置であって、
パターンが形成されたマスクを保持するマスクステージと；
前記パターンを投影する投影光学系とを備え、
前記基板を保持した前記ステージ装置と前記マスクステージとによって前記マスクと基板とを同期移動させて前記パターンを前記基板上に転写することを特徴とする露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、第１の観点からすると、基板（Ｗ）を保持して２次元平面内を移動する第１可動体（ＷＳＴ）と；前記第１可動体（ＷＳＴ）に設けられ、前記２次元平面内で所定の第１軸（Ｙ軸）及びこれに直交する第２軸（Ｘ軸）と交差する方向に沿って延びる第１反射面（６０ａ）と；前記第１反射面に垂直に測長ビームを照射してその反射光を受光することにより前記第１可動体の第３軸方向の位置を計測する第１の干渉計（７６Ｘ１）と；前記第１の干渉計の計測値に基づいて前記第１可動体の前記第１軸及び第２軸で規定される直交座標系上の位置座標を演算する演算装置（７８）とを備える第１のステージ装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
本発明は、第２の観点からすると、定盤（２２）と；前記定盤（２２）に対して相対移動が可能であるとともに基板を保持する第１可動体（ＷＳＴ）と；前記第１可動体がその上部に配置されるとともに、前記定盤上に配置され、かつ前記定盤と前記第１可動体との夫々に対して相対移動する第２可動体（３８）と；前記第２可動体に設けられ、前記第１可動体を２次元平面内で移動する駆動装置（４２）とを備え、前記第１可動体の移動によって生じる反力に応じて前記第２移動体が移動するように構成されていることを特徴とする第２のステージ装置である。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
この場合において、前記駆動装置（４２）は、前記第２可動体上で前記第１可動体を駆動するリニアアクチュエータを有し、前記第１可動体（ＷＳＴ）及び前記第２可動体（３８）はそれぞれ前記第２可動体及び前記定盤上で非接触支持されていても良い。
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
また、本発明の第２のステージ装置では、前記第１可動体（ＷＳＴ）は、前記２次元平面上で直交する第１及び第２軸の各々と交差する方向に延びる第１反射面（６０ａ）と、前記第２軸方向に延びる第２反射面（６０ｂ）と、前記第１軸に沿った方向に関して前記第１反射面とほぼ対称に配置された第３反射面（６０ｃ）とを有し、前記第１、第２及び第３反射面にそれぞれ測長ビームを照射する３つの干渉計（７６Ｘ１、７６Ｘ２、７６Ｙ）を更に備えていても良い。かかる場合には、２等辺三角形状の第１可動体を採用することができるので、従来の基板ステージに比較してその小型化が可能である。
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
また、本発明の第２のステージ装置では、前記第１可動体（ＷＳＴ）は、前記基板（Ｗ）が載置される第１プレート（ＴＢ）と、前記第１プレートを前記２次元平面と垂直な方向に移動し、かつ前記２次元平面に対して相対的に傾ける駆動機構（５８）と；前記駆動機構が載置される第２プレートとを有していても良い。
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
また、本発明の第２のステージ装置では、前記第１可動体（ＷＳＴ）の質量は前記第２可動体（３８）の質量のほぼ１／９以下であり、前記定盤（２２）上で前記第２可動体を低応答周波数で駆動する第２駆動装置（４４、７８）を更に備えていることが望ましい。かかる場合には、第１可動体の重心移動による偏荷重は第２可動体の重心移動によりキャンセルすることができ、しかもそのときその第２可動体が逆方向に移動する距離を１／１０以下にすることができ、また、第２可動体は第１可動体の加減速時の反力に対しては応答できない程度の低い応答周波数で第２駆動装置により定盤上で駆動されるので、第１可動体の動きに影響を与えることなく第２可動体を駆動することが可能になる。
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
本発明は、第３の観点からすると、本発明の第２のステージ装置を備える走査型露光装置であって、マスク（Ｒ）を保持するマスクステージ（ＲＳＴ）と；前記マスク（Ｒ）及び前記基板（Ｗ）の夫々と直交する光軸を有する投影光学系（ＰＬ）と；前記投影光学系を支持するとともに、前記定盤（２２）が懸架される第１架台（１６）と；前記第１架台を支持する防振装置（２０）とを備え、前記マスクステージと前記ステージ装置とによって前記マスクと前記基板とを同期移動して、前記マスクのパターンを前記投影光学系を介して前記基板上に転写することを特徴とする第１の走査型露光装置である。これによれば、上記のマスクパターンの転写時等の基板の第１可動体の重心移動による偏荷重は第２可動体の重心移動によりキャンセルすることができ、これにより防振装置の負荷を軽減するとともに、偏荷重による第１架台部の歪を最小限に抑えることが可能となり、結果的にマスクと基板の位置決め精度を向上させることができる。
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
この場合において、前記マスクステージが載置される第２架台（２６、２８）と；前記防振装置（２０）が配置される床上に設けられるとともに、前記マスクステージの移動によって生じる反力に応じた力を前記マスクステージ又は前記第２架台に与えるアクチュエータを有するフレーム（７２）とを更に備えていてもよい。かかる場合には、マスクステージの移動によって生じる反力に応じた力がアクチュエータによりマスクステージ又は第２架台に与えられるので、マスクステージの加減速時の振動が第２架台を介して第１架台に伝わるのを防止することができる。また、ここではマスクステージを移動するアクチュエータと前記第２架台に与えるアクチュエータを兼用してもよい。
【手続補正３１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
この場合において、前記防振装置（２０）が載置されるベースプレート（ＢＳ）と；前記ベースプレートと前記フレーム（７２）とを接続する弾性体（７０）とを更に備えていることが望ましい。かかる場合には、弾性体により第１架台とフレームとの相互間で振動が伝達されるのを防止することができるからである。
【手続補正３２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
本発明の第１の走査型露光装置では、前記第１可動体（ＷＳＴ）は、前記２次元平面上で前記基板（Ｗ）の走査方向、及びこれと直交する非走査方向の夫々と交差する方向に沿って延びる第１反射面（７０ａ）と前記非走査方向に沿って延びる第２反射面（７０ｂ）と、前記走査方向に関して前記第１反射面とほぼ対称に配置される第３反射面（７０ｃ）とを有し、前記第１、第２及び第３反射面にそれぞれ測長ビームを照射する３組みの干渉計（７６Ｘ１、７６Ｙ、７６Ｘ２）とを備えていても良い。かかる場合には、２等辺三角形状の第１可動体を採用することができるので、従来の基板ステージに比較してその小型化が可能であることから、フットプリントをより一層の小さくすることができ、第１可動体の位置制御応答性の向上によりマスクと基板の同期整定時間の短縮化およびこれによるスループットの向上が可能である。この場合、位置決め精度の向上により重ね合わせ精度の向上する。
【手続補正３３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
また、本発明の第１の走査型露光装置では、前記定盤（２２）に対する前記第２可動体（３８）の相対位置を計測する位置計測装置（４５）と；前記基板（Ｗ）の露光動作、及びアライメント動作以外では、前記位置計測装置の出力に基づいて、前記第２可動体を前記定盤上の所定点に位置決めする第２駆動装置（４４、７８）とを更に備えていることが望ましい。かかる場合には、第２駆動装置が基板の露光動作、及びアライメント動作以外では、位置計測装置の出力に基づいて、第２可動体を定盤上の所定点に位置決めするので、結果的にフットプリントをより小さくすることが可能になる。
【手続補正３４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
本発明は、第４の観点からすると、マスク（Ｒ）と基板（Ｗ）とを同期移動して、前記マスクＲのパターンを前記基板上に転写する走査型露光装置であって、前記基板が同期移動される第１方向、及びこれに直交する第２方向とそれぞれ交差する方向に沿って延びる第１反射面（６０ａ）と、前記第２方向に沿って延びる第２反射面（６０ｂ）とを有し、前記基板を載置する基板ステージ（ＷＳＴ）と；前記第１及び第２反射面にそれぞれ測長ビームを照射する第１、第２の干渉計（７６Ｘ１、７６Ｙ）とを備えたことを特徴とする第２の走査型露光装置である。
【手続補正３５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
本発明は、第５の観点からすると、マスク（Ｒ）と感応基板（Ｗ）とを同期移動させることにより、前記マスクのパターンを前記感応基板上に転写する露光方法であって、前記感応基板（Ｗ）の前記同期移動方向及びこれに直交する非走査方向の内、少なくとも非走査方向については、該非走査方向と異なる方向の第１測長ビーム（ＲＩＸ１（又はＲＩＸ２））を用いて位置制御しつつ露光動作を行うことを特徴とする露光方法である。
【手続補正４１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
本発明は、第６の観点からすると、マスク（Ｒ）と、感応基板（Ｗ）とを同期移動させて、前記マスクのパターンを前記感応基板上に転写する走査型露光装置であって、前記感応基板を保持するとともに、前記感応基板が同期移動される第１方向、及び前記第１方向と直交する第２方向の両方と交差する方向に沿って延びる第１反射面（６０ａ）を有する基板ステージ（ＷＳＴ）と；前記第１反射面とほぼ直交する測長軸を有する第１の干渉計（７６Ｘ１）とを備える第３の走査型露光装置である。
【手続補正５７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
本発明は、第７の観点からすると、マスク（Ｒ）と感応基板（Ｗ）とを同期移動させて、前記マスクのパターンを前記感応基板上に転写する走査型露光装置であって、前記感応基板を保持するとともに、前記感応基板が同期移動される第１方向と鋭角に交差する方向に沿って延びる第１反射面（６０ａ）を有する基板ステージ（ＷＳＴ）と；前記第１反射面とほぼ直交する測長軸を有する第１の干渉計（７６Ｘ１）とを備える第４の走査型露光装置である。
【手続補正５８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
これによれば、上記第３の走査型露光装置と同様に、第１の干渉計を用いて少なくとも基板ステージ（感応基板）の非走査方向の位置を制御するものとすると、第１方向の反射面に干渉計ビームを照射して感応基板の非走査方向の位置を制御する場合ほど、感応基板周辺の領域の露光の際のいわゆるプリスキャン又はオーバースキャン距離を見込んで第１反射面を余計に延ばさなくても、走査方向の移動ストローク全域に渡り非走査方向の位置制御が可能となる。従って、基板ステージの小型化が可能である。
【手続補正５９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
本発明は、第８の観点からすると、マスク（Ｒ）と感応基板（Ｗ）とを同期移動させて、前記マスクのパターンを前記感応基板上に転写する走査型露光装置であって、前記感応基板を保持し、互いに延設方向が鋭角に交差するように配置される第１及び第２の測長用基準面を少なくとも有する基板ステージ（ＷＳＴ）と；前記同期移動時に前記第１及び第２の測長用基準面と交差する第１方向に沿って前記基板ステージを駆動する駆動装置（４８、７８、）とを備える第５の走査型露光装置である。
【手続補正８０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０２】
本発明は、第９の観点からすると、マスク（Ｒ）と感応基板（Ｗ）とを同期移動させて、前記マスクのパターンを前記感応基板上に転写する走査型露光装置であって、前記感応基板を保持し、三角形状に配置される第１、第２及び第３の測長用基準面（６０ａ、６０ｂ、６０ｃ）を有する基板ステージ（ＷＳＴ）と；前記同期移動時に前記３つの基準面と交差する第１方向に沿って前記基板ステージを駆動する駆動装置（４８、７８、）とを備える第６の走査型露光装置である。
【手続補正８３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
これによれば、上記第５の走査型露光装置と同様に、第１方向に延びる反射面を用いて感応基板の非走査方向の位置を制御する場合ほど、感応基板周辺の領域の露光の際のいわゆるプリスキャン又はオーバースキャン距離を見込んで測長用基準面を余計に延ばさなくても、走査方向の移動ストローク全域に渡り非走査方向の位置制御が可能となる。従って、基板ステージの小型化が可能である。この場合、３つの測長用基準面が三角形状に配置されるので、この三角形を感応基板に外接するような形状にし、該三角形と同一形状に基板ステージを設定することにより、基板ステージを最大限小型化することができる。
【手続補正８４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１４】
本発明は、第１０の観点からすると、マスク（Ｒ）のパターンを感応基板（Ｗ）上に転写する露光装置であって、前記感応基板を保持し、互いに延設方向が鋭角に交差するように配置される第１及び第２反射面（例えば６０ａ及び６０ｂ（又は６０ｃ））を少なくとも有する基板ステージ（ＷＳＴ）と；前記第１反射面と直交する測長軸を有する第１の干渉計（７６Ｘ１）と；前記第２反射面と直交する測長軸を有する第２の干渉計（７６Ｙ）とを備える露光装置である。
【手続補正９５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
本発明は、第１１の観点からすると、物体を保持する第１可動体と；前記第１可動体の移動によって生じる反力に応じて移動する第２可動体とを備え、前記第１可動体の質量は、前記第２可動体の質量のほぼ１／９以下であることを特徴とする第３のステージ装置である。
【手続補正９６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２０
【補正方法】削除
【補正の内容】