【手続補正書】
【提出日】平成16年7月8日(2004.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マトリックス状に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された第１の垂直配向膜とを有する第１の基板と、対向電極と、前記対向電極上に形成された第２の垂直配向膜とを有する第２の基板と、前記第１の垂直配向膜と前記第２の垂直配向膜とが対向するように配置された前記第１の基板と前記第２の基板との間に封入された液晶とを有する液晶表示パネルであって、
前記画素電極と前記第１の垂直配向膜との間、及び／又は前記対向電極と前記第２の垂直配向膜との間に、各前記画素電極面に沿って膜厚が徐々に変化するように形成された誘電体層を有することを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
請求項１記載の液晶表示パネルにおいて、
前記誘電体層は、前記各画素電極のほぼ中心線に対して膜厚がほぼ対称に変化するように形成されていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項３】
マトリックス状に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された第１の垂直配向膜とを有する第１の基板と、対向電極と、前記対向電極上に形成された第２の垂直配向膜とを有する第２の基板と、前記第１の垂直配向膜と前記第２の垂直配向膜とが対向するように配置された前記第１の基板と前記第２の基板との間に封入された液晶とを有する液晶表示パネルであって、
前記画素電極と前記第１の垂直配向膜との間、及び／又は前記対向電極と前記第２の垂直配向膜との間に、各前記画素電極面に沿って誘電率が徐々に変化するように形成された誘電体層を有することを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項４】
請求項３記載の液晶表示パネルにおいて、
前記誘電体層は、前記各画素電極のほぼ中心線に対して誘電率がほぼ対称に変化するように形成されていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項５】
マトリックス状に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された第１の垂直配向膜とを有する第１の基板と、対向電極と、前記対向電極上に形成された第２の垂直配向膜とを有する第２の基板と、前記第１の垂直配向膜と前記第２の垂直配向膜とが対向するように配置された前記第１の基板と前記第２の基板との間に封入された液晶とを有する液晶表示パネルであって、
前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜は、各前記画素電極面に沿って膜厚が徐々に変化するように形成されていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項６】
請求項５記載の液晶表示パネルにおいて、
前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜は、前記各画素電極のほぼ中心線に対して膜厚がほぼ対称に変化するように形成されていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項７】
マトリックス状に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された第１の垂直配向膜とを有する第１の基板と、対向電極と、前記対向電極上に形成された第２の垂直配向膜とを有する第２の基板と、前記第１の垂直配向膜と前記第２の垂直配向膜とが対向するように配置された前記第１の基板と前記第２の基板との間に封入された液晶とを有する液晶表示パネルであって、
前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜は、各前記画素電極面に沿って誘電率が徐々に変化するように形成されていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項８】
請求項７記載の液晶表示パネルにおいて、
前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜は、前記各画素電極のほぼ中心線に対して誘電率がほぼ対称に変化するように形成されていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の液晶表示パネルにおいて、
前記液晶は、負の誘電率異方性を有する液晶であることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の液晶表示パネルにおいて、
前記第１の垂直配向膜及び前記第２の垂直配向膜には、ラビング処理が行われていないことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項１１】
マトリックス状に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された第１の垂直配向膜とを有する第１の基板と、対向電極と、前記対向電極上に形成された第２の垂直配向膜とを有する第２の基板と、前記第１の垂直配向膜と前記第２の垂直配向膜とが対向するように配置された前記第１の基板と前記第２の基板との間に封入された液晶と、前記画素電極と前記第１の垂直配向膜との間、及び／又は前記対向電極と前記第２の垂直配向膜との間に、各前記画素電極面に沿って膜厚が徐々に変化するように形成された誘電体層とを有する液晶表示パネルの製造方法であって、
前記画素電極上及び／又は前記対向電極上に感光性材料より成る誘電体層を成膜し、前記各画素電極に対応するように光の透過率がマスク面に沿って徐々に変化するマスクを用いて前記誘電体層を露光し、この後前記誘電体層を現像することにより、前記各画素電極に沿って膜厚が徐々に変化する前記誘電体層を形成することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１２】
マトリックス状に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された第１の垂直配向膜とを有する第１の基板と、対向電極と、前記対向電極上に形成された第２の垂直配向膜とを有する第２の基板と、前記第１の垂直配向膜と前記第２の垂直配向膜とが対向するように配置された前記第１の基板と前記第２の基板との間に封入された液晶と、前記画素電極と前記第１の垂直配向膜との間、及び／又は前記対向電極と前記第２の垂直配向膜との間に、各前記画素電極面に沿って誘電率が徐々に変化するように形成された誘電体層とを有する液晶表示パネルの製造方法であって、
前記画素電極上及び／又は前記対向電極上に感光性材料より成る誘電体層を成膜し、前記各画素電極に対応するように光の透過率がマスク面に沿って徐々に変化するマスクを用いて前記誘電体層を露光して前記誘電体層の膜質を変化することにより、前記各画素電極に沿って誘電率が徐々に変化する前記誘電体層を形成することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１３】
マトリックス状に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された第１の垂直配向膜とを有する第１の基板と、対向電極と、前記対向電極上に形成された第２の垂直配向膜とを有する第２の基板と、前記第１の垂直配向膜と前記第２の垂直配向膜とが対向するように配置された前記第１の基板と前記第２の基板との間に封入された液晶とを有し、前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜は、各前記画素電極面に沿って膜厚が徐々に変化するように形成されていることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法であって、
前記画素電極上及び／又は前記対向電極上に感光性の誘電体である前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜を成膜し、前記各画素電極に対応するように光の透過率がマスク面に沿って徐々に変化するマスクを用いて前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜を露光し、この後前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜を現像することにより、前記各画素電極に沿って膜厚が徐々に変化する前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜を形成することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１４】
マトリックス状に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された第１の垂直配向膜とを有する第１の基板と、対向電極と、前記対向電極上に形成された第２の垂直配向膜とを有する第２の基板と、前記第１の垂直配向膜と前記第２の垂直配向膜とが対向するように配置された前記第１の基板と前記第２の基板との間に封入された液晶とを有し、前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜は、各前記画素電極面に沿って誘電率が徐々に変化するように形成されていることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法であって、
前記画素電極上及び／又は前記対向電極上に感光性の誘電体である前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜を成膜し、前記各画素電極に対応するように光の透過率がマスク面に沿って徐々に変化するマスクを用いて前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜を露光して前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜の膜質を変化することにより、前記各画素電極に沿って誘電率が徐々に変化する前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜を形成することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１５】
請求項１１乃至１４記載の液晶表示パネルの製造方法において、
前記マスクは、対応する前記各画素電極のほぼ中心線に対して光の透過率がそれぞれほぼ対称になるように形成されていることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、マトリックス状に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された第１の垂直配向膜とを有する第１の基板と、対向電極と、前記対向電極上に形成された第２の垂直配向膜とを有する第２の基板と、前記第１の垂直配向膜と前記第２の垂直配向膜とが対向するように配置された前記第１の基板と前記第２の基板との間に封入された液晶とを有する液晶表示パネルであって、前記画素電極と前記第１の垂直配向膜との間、及び／又は前記対向電極と前記第２の垂直配向膜との間に、各前記画素電極面に沿って膜厚が徐々に変化するように形成された誘電体層を有することを特徴とする液晶表示パネルにより達成される。これにより、各画素において電界強度が強い領域から順に液晶分子の配列方向が変化していくので、階調反転が発生しにくい、優れた液晶表示パネルを提供することができる。また、各画素電極面に沿って膜厚が徐々に変化するように誘電体層を形成したので、電界の方向が基板に対して一定角度傾いた方向となるため、ラビング処理を行うことなく、ネマティック液晶の液晶分子を一定方向に揃うように配列することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、上記の液晶表示パネルにおいて、前記誘電体層は、前記各画素電極のほぼ中心線に対して膜厚がほぼ対称に変化するように形成されていることが望ましい。
また、上記目的は、マトリックス状に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された第１の垂直配向膜とを有する第１の基板と、対向電極と、前記対向電極上に形成された第２の垂直配向膜とを有する第２の基板と、前記第１の垂直配向膜と前記第２の垂直配向膜とが対向するように配置された前記第１の基板と前記第２の基板との間に封入された液晶とを有する液晶表示パネルであって、前記画素電極と前記第１の垂直配向膜との間、及び／又は前記対向電極と前記第２の垂直配向膜との間に、各前記画素電極面に沿って誘電率が徐々に変化するように形成された誘電体層を有することを特徴とする液晶表示パネルにより達成される。これにより、各画素において電界強度が強い領域から順に液晶分子の配列方向が変化していくので、階調反転が発生しにくい、優れた液晶表示パネルを提供することができる。また、各画素電極に沿って誘電率が徐々に変化するように誘電体層を形成したので、電界の方向が基板に対して一定角度傾いた方向となるため、ラビング処理を行うことなく、ネマティック液晶の液晶分子を一定方向に揃うように配列することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、上記の液晶表示パネルにおいて、前記誘電体層は、前記各画素電極のほぼ中心線に対して誘電率がほぼ対称に変化するように形成されていることが望ましい。
また、上記目的は、マトリックス状に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された第１の垂直配向膜とを有する第１の基板と、対向電極と、前記対向電極上に形成された第２の垂直配向膜とを有する第２の基板と、前記第１の垂直配向膜と前記第２の垂直配向膜とが対向するように配置された前記第１の基板と前記第２の基板との間に封入された液晶とを有する液晶表示パネルであって、前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜は、各前記画素電極面に沿って膜厚が徐々に変化するように形成されていることを特徴とする液晶表示パネルにより達成される。これにより、各画素において電界強度が強い領域から順に液晶分子の配列方向が変化していくので、階調反転が発生しにくい、優れた液晶表示パネルを提供することができる。また、各画素電極に沿って膜厚が徐々に変化するように配向膜を形成したので、電界の方向が基板に対して一定角度傾いた方向となるため、ラビング処理を行うことなく、ネマティック液晶の液晶分子を一定方向に揃うように配列することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、上記の液晶表示パネルにおいて、前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜は、前記各画素電極のほぼ中心線に対して膜厚がほぼ対称に変化するように形成されていることが望ましい。
また、上記目的は、マトリックス状に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された第１の垂直配向膜とを有する第１の基板と、対向電極と、前記対向電極上に形成された第２の垂直配向膜とを有する第２の基板と、前記第１の垂直配向膜と前記第２の垂直配向膜とが対向するように配置された前記第１の基板と前記第２の基板との間に封入された液晶とを有する液晶表示パネルであって、前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜は、各前記画素電極面に沿って誘電率が徐々に変化するように形成されていることを特徴とする液晶表示パネルにより達成される。これにより、各画素において電界強度が強い領域から順に液晶分子の配列方向が変化していくので、階調反転が発生しにくい、優れた液晶表示パネルを提供することができる。また、各画素電極に沿って誘電率が徐々に変化するように配向膜を形成したので、電界の方向が基板に対して一定角度傾いた方向となるため、ラビング処理を行うことなく、ネマティック液晶の液晶分子を一定方向に揃うように配列することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、上記の液晶表示パネルにおいて、前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜は、前記各画素電極のほぼ中心線に対して誘電率がほぼ対称に変化するように形成されていることが望ましい。
また、上記の液晶表示パネルにおいて、前記液晶は、負の誘電率異方性を有する液晶であることを特徴とする液晶表示パネルが望ましい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、上記の液晶表示パネルにおいて、前記第１の垂直配向膜及び前記第２の垂直配向膜には、ラビング処理が行われていないことが望ましい。
また、上記目的は、マトリックス状に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された第１の垂直配向膜とを有する第１の基板と、対向電極と、前記対向電極上に形成された第２の垂直配向膜とを有する第２の基板と、前記第１の垂直配向膜と前記第２の垂直配向膜とが対向するように配置された前記第１の基板と前記第２の基板との間に封入された液晶と、前記画素電極と前記第１の垂直配向膜との間、及び／又は前記対向電極と前記第２の垂直配向膜との間に、各前記画素電極面に沿って膜厚が徐々に変化するように形成された誘電体層とを有する液晶表示パネルの製造方法であって、前記画素電極上及び／又は前記対向電極上に感光性材料より成る誘電体層を成膜し、前記各画素電極に対応するように光の透過率がマスク面に沿って徐々に変化するマスクを用いて前記誘電体層を露光し、この後前記誘電体層を現像することにより、前記各画素電極に沿って膜厚が徐々に変化する前記誘電体層を形成することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法により達成される。これにより、各画素において電界強度が強い領域から順に液晶分子の配列方向が変化していくようにすることができるので、階調反転が発生しにくい、優れた液晶表示パネルを製造することができる。また、各画素電極面に沿って膜厚が徐々に変化するように誘電体層を形成したので、電界の方向が基板に対して一定角度傾いた方向となるため、ラビング処理を行うことなく、ネマティック液晶の液晶分子を一定方向に揃うように配列することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、上記目的は、マトリックス状に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された第１の垂直配向膜とを有する第１の基板と、対向電極と、前記対向電極上に形成された第２の垂直配向膜とを有する第２の基板と、前記第１の垂直配向膜と前記第２の垂直配向膜とが対向するように配置された前記第１の基板と前記第２の基板との間に封入された液晶と、前記画素電極と前記第１の垂直配向膜との間、及び／又は前記対向電極と前記第２の垂直配向膜との間に、各前記画素電極面に沿って誘電率が徐々に変化するように形成された誘電体層とを有する液晶表示パネルの製造方法であって、前記画素電極上及び／又は前記対向電極上に感光性材料より成る誘電体層を成膜し、前記各画素電極に対応するように光の透過率がマスク面に沿って徐々に変化するマスクを用いて前記誘電体層を露光して前記誘電体層の膜質を変化することにより、前記各画素電極に沿って誘電率が徐々に変化する前記誘電体層を形成することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法により達成される。これにより、各画素において電界強度が強い領域から順に液晶分子の配列方向が変化していくようにすることができるので、階調反転が発生しにくい、優れた液晶表示パネルを製造することができる。また、各画素電極に沿って誘電率が徐々に変化するように誘電体層を形成したので、電界の方向が基板に対して一定角度傾いた方向となるため、ラビング処理を行うことなく、ネマティック液晶の液晶分子を一定方向に揃うように配列することができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、上記目的は、マトリックス状に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された第１の垂直配向膜とを有する第１の基板と、対向電極と、前記対向電極上に形成された第２の垂直配向膜とを有する第２の基板と、前記第１の垂直配向膜と前記第２の垂直配向膜とが対向するように配置された前記第１の基板と前記第２の基板との間に封入された液晶とを有し、前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜は、各前記画素電極面に沿って膜厚が徐々に変化するように形成されていることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法であって、前記画素電極上及び／又は前記対向電極上に感光性の誘電体である前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜を成膜し、前記各画素電極に対応するように光の透過率がマスク面に沿って徐々に変化するマスクを用いて前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜を露光し、この後前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜を現像することにより、前記各画素電極に沿って膜厚が徐々に変化する前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜を形成することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法により達成される。これにより、各画素において電界強度が強い領域から順に液晶分子の配列方向が変化していくようにすることができるので、階調反転が発生しにくい、優れた液晶表示パネルを製造することができる。また、各画素電極に沿って膜厚が徐々に変化するように配向膜を形成したので、電界の方向が基板に対して一定角度傾いた方向となるため、ラビング処理を行うことなく、ネマティック液晶の液晶分子を一定方向に揃うように配列することができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、上記目的は、マトリックス状に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された第１の垂直配向膜とを有する第１の基板と、対向電極と、前記対向電極上に形成された第２の垂直配向膜とを有する第２の基板と、前記第１の垂直配向膜と前記第２の垂直配向膜とが対向するように配置された前記第１の基板と前記第２の基板との間に封入された液晶とを有し、前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜は、各前記画素電極面に沿って誘電率が徐々に変化するように形成されていることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法であって、前記画素電極上及び／又は前記対向電極上に感光性の誘電体である前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜を成膜し、前記各画素電極に対応するように光の透過率がマスク面に沿って徐々に変化するマスクを用いて前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜を露光して前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜の膜質を変化することにより、前記各画素電極に沿って誘電率が徐々に変化する前記第１の垂直配向膜及び／又は前記第２の垂直配向膜を形成することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法により達成される。これにより、各画素において電界強度が強い領域から順に液晶分子の配列方向が変化していくようにすることができるので、階調反転が発生しにくい、優れた液晶表示パネルを製造することができる。また、各画素電極に沿って誘電率が徐々に変化するように配向膜を形成したので、電界の方向が基板に対して一定角度傾いた方向となるため、ラビング処理を行うことなく、ネマティック液晶の液晶分子を一定方向に揃うように配列することができる。