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【手続補正書】
【提出日】平成17年10月28日(2005.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  重ね合わせ検査装置を用いて、被重ね合わせ層の上に形成される重ね合わせ層としてのレジスト膜の重ね合わせ位置の適否を判別するための、重ね合わせ検査工程を備えた半導体装置の製造方法であって、
前記被重ね合わせ層に設けられた被重ね合わせ層側重ね合わせマークの情報を読取る工程と、
前記レジスト膜に設けられたレジスト膜側重ね合わせマークの情報を読取る工程と、
前記被重ね合わせ層側重ね合わせマークの情報と前記レジスト膜側重ね合わせマークとの情報とから、前記被重ね合わせ層側重ね合わせマークと前記レジスト膜側重ね合わせマークとの位置関係を読取り、前記被重ね合わせ層に対する前記レジスト膜の形成位置の適否を判断するマーク位置判断工程と、
前記レジスト膜側重ね合わせマークの情報と、前記重ね合わせ検査装置に予め登録された登録レジスト膜側重ね合わせマークの情報とを比較することにより、前記レジスト膜側重ね合わせマークが前記登録レジスト膜側重ね合わせマークに一致するか否かを判別するマーク判別工程と、
を備える、重ね合わせ検査工程を備えた半導体装置の製造方法。
【請求項２】  前記被重ね合わせ層側重ね合わせマークの情報を読取る工程は、前記被重ね合わせ層側重ね合わせマークの形状を反映するようにして前記被重ね合わせ層上に形成された被エッチング層に形成されたマークの情報を読取ることを特徴とする、請求項１に記載の重ね合わせ検査工程を備えた半導体装置の製造方法。
【請求項３】  前記レジスト膜側重ね合わせマークの情報は、前記レジスト膜側重ね合わせマークの位置に基づく情報である、請求項１または２に記載の重ね合わせ検査工程を備えた半導体装置の製造方法。
【請求項４】  前記レジスト膜側重ね合わせマークの情報は、前記レジスト膜側重ね合わせマークの外形寸法に基づく情報である、請求項１または２に記載の重ね合わせ検査工程を備えた半導体装置の製造方法。
【請求項５】  前記レジスト膜側重ね合わせマークの情報は、前記レジスト膜側重ね合わせマークのパターン形状に基づく情報である、請求項１または２に記載の重ね合わせ検査工程を備えた半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
まず、上記被重ね合わせ層に設けられた被重ね合わせ層側重ね合わせマークの情報を読取る。上記レジスト膜に設けられたレジスト膜側重ね合わせマークの情報を読取る。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
なお、上記各実施の形態における被重ね合わせ層側重ね合わせマークは、被重ね合わせ層に形成された被重ね合わせ層側重ね合わせマークの形状を反映するようにして、被重ね合わせ層上に形成された被エッチング層に形成されたマークの情報を読取る場合について説明しているが、これに限られず、たとえば、図１１に示すような半導体装置の製造工程に適用することも可能である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
この半導体装置の構造においては、基板８０１上に被重ね合わせ層としてのビットラインに対応して設けられた被重ね合わせ層側重ね合わせマーク８０２と、この被重ね合わせ層側重ね合わせマーク８０２の上に被エッチング層としての層間絶縁膜８０３と、この層間絶縁膜８０３の上に、レジスト膜側重ね合わせマーク８０４を有するレジスト膜８０５とを備えており、上記各実施の形態に示す構造とは異なり、エッチングされる層に被重ね合わせ層側重ね合わせマークが設けられていない。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月17日(2004.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子カメラであって、
光電変換により被写体像を画像信号に変換する撮像素子と、
前記画像信号に基づく画像を表示する表示手段と、
前記表示手段における表示動作を制御する表示制御手段と、
前記画像信号に基づいてオートフォーカス制御を行う合焦制御手段と、
前記撮像素子からの前記画像信号の読出動作を制御する読出制御手段と、を備え、
前記読出制御手段は、前記合焦制御手段によるオートフォーカス制御時よりも前の時点では、前記撮像素子内の全画素のうちの所定数の画素に対応する画像信号を読み出す第１モードで前記撮像素子から画像信号を読み出し、前記オートフォーカス制御時には、前記全画素のうち前記所定数の画素よりも少ない数の画素に対応する画像信号を読み出すことによって複数の画像を高速に読み出す第２モードで前記撮像素子から画像信号を読み出し、
前記合焦制御手段は、前記第２モードで読み出した画像信号に基づいて前記オートフォーカス制御を行い、
前記表示制御手段は、前記オートフォーカス制御時において、前記第２モードで読み出される画像信号を利用して被写体の移動量を検出し、前記移動量と前記第２モードに移行する前に前記第１モードで読み出されていた画像信号に基づく第１画像とに基づいて表示用画像を生成し、当該表示用画像を前記表示手段に表示させることを特徴とする電子カメラ。
【請求項２】
請求項１に記載の電子カメラにおいて、
前記表示制御手段は、その中心位置が前記第１画像の中心位置から前記移動量ずれた画像を前記表示用画像として生成することを特徴とする電子カメラ。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の電子カメラにおいて、
前記表示用画像は、前記第１画像の一部領域を抽出した画像として取得されることを特徴とする電子カメラ。
【請求項４】
請求項１または請求項２に記載の電子カメラにおいて、
前記表示用画像は、前記第１画像の一部領域を抽出した画像として取得される画像であり、
前記表示制御手段は、前記オートフォーカス制御時よりも前の時点において前記第１画像の部分領域を拡大表示させる拡大表示モードが操作者により選択されていることを条件として、前記表示制御を行うことを特徴とする電子カメラ。
【請求項５】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の電子カメラにおいて、
前記表示制御手段は、操作者によるシャッタボタンの押下操作に応じて、前記表示手段におけるプレビュー表示を、前記表示制御によるプレビュー表示に変更することを特徴とする電子カメラ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
請求項５の発明は、請求項１ないし請求項３のいずれかの発明に係る電子カメラにおいて、前記表示制御手段は、操作者によるシャッタボタンの押下操作に応じて、前記表示手段におけるプレビュー表示を、前記表示制御によるプレビュー表示に変更することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月6日(2005.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記トランジスタと前記ショットキーダイオードを複数有する請求項１記載の半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の発明は、第１導電型の単結晶層を有する半導体装置であって、前記単結晶層の内部の表面側に形成された第２導電型のベース拡散領域と、前記単結晶層のベース拡散領域の底面よりも深い部分であるドレイン領域と、前記ベース拡散領域の内部の表面側に形成され、前記ベース拡散領域によって前記ドレイン領域とは絶縁された第１導電型のソース拡散領域と、前記単結晶層に、前記ベース拡散領域の深さよりも深く形成された溝であって、前記ソース拡散領域と、前記ソース拡散領域と前記ドレイン領域との間に位置するベース領域と、前記ドレイン領域に接触する位置に配置されたゲート溝と、前記ゲート溝内部の側面に位置し、上部が前記ソース拡散領域と接触し、下部が前記ドレイン領域と接触し、中間部が前記ベース領域と接触して配置されたゲート絶縁膜と、前記ゲート溝の内部に位置し、前記ソース領域から前記ドレイン領域の範囲に亘って、前記ゲート絶縁膜と接触して配置されたゲート電極プラグとを有し、前記ゲート電極プラグに電圧を印加し、前記ベース拡散領域の前記ゲート絶縁膜と接触する部分に反転層を形成すると、前記ソース拡散領域と前記ドレイン領域とが前記反転層で接続されるように構成されたトランジスタと、前記単結晶層の表面を含む第１導電型の領域の一部を整流領域としたときに、前記整流領域の表面には前記整流領域とショットキー接合を形成するショットキー電極膜が配置され、前記単結晶層には逆阻止溝が形成され、前記整流領域は、逆阻止溝と逆阻止溝とで挟まれ、前記各逆阻止溝の内部には、第２導電型の半導体材料から成り、前記整流領域とｐｎ接合を形成する逆阻止領域が配置され、前記逆阻止領域は前記ショットキー電極膜に接続されたショットキーダイオードとを有する半導体装置である。
請求項２記載の発明は、前記トランジスタと前記ショットキーダイオードを複数有する請求項１記載の半導体装置である。
請求項３記載の発明は、前記逆阻止溝のうちのいずれか一方又は両方の溝内の前記逆阻止用領域は、前記ベース拡散領域に接続された請求項１又は２のいずれか１項記載の半導体装置である。
請求項４記載の発明は、前記ソース拡散領域と前記ベース領域に接続されたソース電極と、前記ソース電極に接続されたソース電極膜とを有し、前記ソース電極膜と前記ショットキー電極膜とは互いに接続された請求項１又は請求項３のいずれか１項記載の半導体装置である。
請求項５記載の発明は、前記ゲート溝内部の底面と前記ゲート電極プラグとの間の位置には、第２導電型の半導体材料から成る埋込領域が前記ゲート電極プラグとは絶縁された状態で配置された請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の半導体装置である。
請求項６記載の発明は、前記ゲート溝と前記逆阻止溝の深さは同一にされ、前記埋込領域と前記逆阻止領域の底部は前記ゲート溝と前記逆阻止溝の底面にそれぞれ接触した請求項５記載の半導体装置である。
請求項７記載の発明は、前記ゲート溝に接触されたベース拡散領域に接触した逆阻止用領域が内部に配置された前記逆阻止溝を有する請求項１乃至請求項６のいずれか１項記載の半導体装置である。
請求項８記載の発明は、前記単結晶層には、同心状に配置されたリング状のガード溝が複数本形成され、前記各ガード溝内部には、第２導電型の前記半導体材料から成り、前記単結晶層とｐｎ接合を形成するガード領域が配置され、前記ゲート溝と前記逆阻止溝とは、最内周の前記ガード溝によって取り囲まれた請求項１乃至請求項７のいずれか１項記載の半導体装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
半導体基板１１上には、半導体基板１１と同じか、又は異なる半導体材料がエピタキシャル成長法によって成長され、第１導電型の単結晶層１２が形成されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
単結晶層１２内部の表面近傍位置には、複数個のベース拡散領域１５ａが配置されている。各ベース拡散領域１５ａは、第２導電型であり、単結晶層１２とｐｎ接合を形成している。符号１４は、ベース領域１５ａの下方に位置する単結晶層１２から成るドレイン領域である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
それらの溝のうち、ゲート溝１６ａはベース拡散領域１５ａの中央に１本又は二本以上配置されている。ここでは１本であるが、二本以上配置される場合は、互いに平行に配置される。逆阻止溝１６ｂは、ゲート溝１６ａの両側に、ゲート溝１６ａに対して平行に配置されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
一般に、ショットキー接合の逆方向の耐電圧は、ｐｎ接合の逆方向耐電圧に比べて小さいが、単結晶層１２とショットキー電極膜４５の間の逆方向耐電圧は、ｐｎ接合の耐電圧の大きさ以上になる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
その状態からソース電極膜４４とドレイン電極膜４３の電圧の極性が反転し、ショットキー接合が順バイアス状態から逆バイアス状態になると、ショットキー接合の逆方向回復時間の経過後、電流は停止する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
次に、単結晶層１２上に位置し、露出されているゲート絶縁膜３６をエッチングし、単結晶層１２上のゲート絶縁膜３６を除去すると、図１５に示すように、ベース拡散領域１５ａや整流領域１３の表面と、逆阻止領域３３ｂが露出する。この状態では、ゲート溝１６ａの底面には、埋込領域３３ａが配置され、ゲート溝１６ａの埋込領域３３ａよりも上の位置には、ゲート絶縁膜３６を介してゲート電極プラグ３８が配置されている。ゲート電極プラグ３８は、ゲート絶縁膜３６とベース領域１５ａとドレイン領域１４に接している。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月15日(2004.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表面に薬液を供給して処理を行い、次いで当該表面に洗浄液を供給して洗浄する液処理装置において、
基板を水平に保持する基板保持部と、
この基板表面に保持された基板の表面に薬液を供給する薬液供給ノズルと、
前記基板の有効領域の幅に対応する長さに亘って洗浄液吐出口が形成され、薬液が塗布された基板の表面に対して洗浄液を供給するための洗浄液ノズルと、
この洗浄液ノズルを、基板の一端側から他端側に亘って相対的に移動させる移動機構と、を備え、
前記洗浄液ノズルは、前記洗浄液吐出口の前方側に基板の有効領域の幅に対応する長さに亘って形成され、基板の表面にガスを吹き付けるガス吐出口と、このガス吐出口の前方側に基板の有効領域の幅に対応する長さに亘って形成され、基板上の薬液を吸引する薬液吸引口と、を備えたことを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
基板は、洗浄液ノズルの進行方向において幅が変化する形状であることを特徴とする請求項１記載の液処理装置。
【請求項３】
基板は半導体ウエハであることを特徴とする請求項１記載の液処理装置。
【請求項４】
ガス吐出口と薬液吸引口との離間距離は、１０ｍｍを越えない大きさであることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の液処理装置。
【請求項５】
ガス吐出口と洗浄液吐出口との間に、吸引口を備えたことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の液処理装置。
【請求項６】
洗浄液吐出口の後方側に更にガス吐出口を備えたことを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の液処理装置。
【請求項７】
薬液吸引口及びガス吐出口は、平面で見たときに中央部から両端側に向かうに従って連続的にあるいは段階的に後方側に変位するように形成されていることを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載の液処理装置。
【請求項８】
基板はレジスト膜が形成されその後露光されたものであり、薬液は現像液であることを特徴とする請求項１ないし７のいずれかに記載の液処理装置。
【請求項９】
基板の表面に薬液を供給して処理を行い、次いで当該表面に洗浄液を供給して洗浄する液処理方法において、
基板を水平に保持し基板表面に薬液供給ノズルから薬液を供給する工程と、
前記基板の有効領域の幅に対応する長さに亘って洗浄液ノズルに形成された洗浄液吐出口から薬液が塗布された前記基板表面に対して洗浄液の供給を行い、前記洗浄液吐出口の前方側に並行して洗浄液ノズルに形成されたガス吐出口から前記基板表面に対してガスの吹き付けを行い、さらに前記ガス吐出口の前方側に並行して洗浄液ノズルに形成された薬液吸引口から薬液の吸引を行いながら、当該洗浄液ノズルを基板の一端側から他端側に亘って相対的に移動させる工程と、を含むことを特徴とする液処理方法。
【請求項１０】
前記薬液は、レジスト膜が塗布された後に露光処理がなされた基板に対して供給する現像液であることを特徴とする請求項９に記載の液処理方法。
【請求項１１】
前記洗浄液ノズルを基板の一端側から他端側に亘って相対的に移動させ、前記ガス吐出口からガスを吐出することによって巻き上がった現像液の溶解生成物を前記薬液吸引口により吸引することを特徴とする請求項１０記載の液処理方法。
【請求項１２】
前記基板表面から前記洗浄液吐出口までの高さが０．１〜２ｍｍであり、前記ガス吐出口及び薬液吸引口の高さは２〜５ｍｍであることを特徴とする請求項９ないし１１のいずれかに記載の液処理方法。
【請求項１３】
前記洗浄液吐出口が進行方向に沿って洗浄液ノズルに複数形成され、各洗浄液吐出口から吐出させる洗浄液の流量を調整することを特徴とする請求項９ないし１２のいずれかに記載の液処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、基板の表面に薬液を供給して処理を行い、次いで当該表面に洗浄液を供給して洗浄する液処理装置において、
基板を水平に保持する基板保持部と、
この基板表面に保持された基板の表面に薬液を供給する薬液供給ノズルと、
前記基板の有効領域の幅に対応する長さに亘って洗浄液吐出口が形成され、薬液が塗布された基板の表面に対して洗浄液を供給するための洗浄液ノズルと、
この洗浄液ノズルを、基板の一端側から他端側に亘って相対的に移動させる移動機構と、を備え、
前記洗浄液ノズルは、前記洗浄液吐出口の前方側に基板の有効領域の幅に対応する長さに亘って形成され、基板の表面にガスを吹き付けるガス吐出口と、このガス吐出口の前方側に基板の有効領域の幅に対応する長さに亘って形成され、基板上の薬液を吸引する薬液吸引口と、を備えたことを特徴とする。
また本発明は、基板の表面に薬液を供給して処理を行い、次いで当該表面に洗浄液を供給して洗浄する液処理方法において、
基板を水平に保持し基板表面に薬液供給ノズルから薬液を供給する工程と、
前記基板の有効領域の幅に対応する長さに亘って洗浄液ノズルに形成された洗浄液吐出口から薬液が塗布された前記基板表面に対して洗浄液の供給を行い、前記洗浄液吐出口の前方側に並行して洗浄液ノズルに形成されたガス吐出口から前記基板表面に対してガスの吹き付けを行い、さらに前記ガス吐出口の前方側に並行して洗浄液ノズルに形成された薬液吸引口から薬液の吸引を行いながら、当該洗浄液ノズルを基板の一端側から他端側に亘って相対的に移動させる工程と、を備えたことを特徴とする。
上述した液処理方法において、前記薬液は、例えばレジスト膜が塗布された後に露光処理がなされた基板に対して供給する現像液である。また前記洗浄液ノズルを基板の一端側から他端側に亘って相対的に移動させ、前記ガス吐出口からガスを吐出することによって現像液の溶解生成物を巻き上げ、巻き上がった溶解生成物を前記薬液吸引口により吸引することができる。具体的に前記基板表面から前記洗浄液吐出口までの高さが０．１〜２ｍｍであり、前記ガス吐出口及び薬液吸引口の高さは２〜５ｍｍに設定してあることが好ましい。さらに前記洗浄液吐出口が進行方向に沿って洗浄液ノズルに複数形成し、各洗浄液吐出口から吐出させる洗浄液の流量を調整するようにしてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月20日(2005.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ターボマシンの可変ピッチベーンを回転的に案内するための装置であり、各ベーンが、該ターボマシンのケーシングの円筒形状のラジアルダクト内で回転的に案内されリンクによって該ケーシングを包囲する制御リングに接続されるピボットを有し、各ベーンのピボットがダクトを越えてケーシングの外側まで延在し、ケーシングの外側の静止エレメントによって回転的に案内される半径方向における外端部を含み、リンクが前記ピボットの端部の間でベーンのピボットに取り付けられ、これらはケーシングから離れた位置で制御リングを支持し中心に置く、ターボマシンの可変ピッチベーンを回転的に案内するための装置。
【請求項２】
前記静止エレメントが、ターボマシンの回転軸に対して上記のダクトの該当する寸法よりも大きい距離だけケーシングから半径方向に離れて設けられる、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
静止エレメントが、可変ピッチベーンの単一列の一部を構成する複数のベーンのピボットの回転を案内する手段を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
静止エレメントが、可変ピッチベーンの同一列内の全てのベーンのピボットの回転を案内する手段を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
静止エレメントが、可変ピッチベーンの連続する２つの列内の全てのベーンのピボットの回転を案内する手段を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
静止エレメントが環状でありケーシングの周囲約３６０°に渡り延在する、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
静止エレメントが単一のエレメントである、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
静止エレメントがケーシングに取り付けられる複数の環状のセグメントから成る、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
各ピボットの半径方向における外端部が、静止エレメントの円筒状のオリフィス内に設けられる軸受けによって回転的に案内される、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
軸受けが平滑軸受けである、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記静止エレメントが、ケーシングの縦軸の周りに一定に分散される固定タブによってケーシング上に支持されその中心に置かれる、請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
一列のベーンの半径方向における内端部は、半径方向における内側の環状セクターによって案内され相互接続されるピボットを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
半径方向における内部リングセクターは各々、上記のベーンのグループの半径方向における内側のピボットを保持し、各グループの端ベーンの半径方向における外側のピボットはケーシングの外側の上記の静止エレメントによって案内され、各グループの端ベーンの間に位置するベーンの半径方向における外側のピボットは、ケーシングのラジアルダクト内でのみ案内される、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
各グループにおいて、端ベーンは、前記端ベーン間に位置するベーンの材料よりも強度の高い材料から成る、請求項１３に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月28日(2005.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セットポイント値を有する所定のセットポイントを備えるとともに、セットポイントを
フィルタリングしてフィルタ・セットポイント値を抽出するセットポイントフィルタを備
えたＶＣＴ制御システムにおいて、
前記制御システムが、フィルタ・セットポイント値から測定位相値を減じることによっ
てエラー信号を生成するとともに、エラー信号を処理するための制御法則を有しており、
前記制御システムはさらに、ＶＣＴがフィルタ・セットポイントをアンダーシュートする
ことにより生じる過度のＶＣＴ応答時間を短縮させるようにエラー信号を調整するための
方法を有しており、
当該方法が、
初期エラーを提供する工程と、
初期エラーをエラーとして設定する工程と、
第１の条件の組を満足する場合に、セットポイント値から位相値を減じる工程と、
前記工程の差をエラーとして設定する工程と、
を備えた方法。
【請求項２】
請求項１において、
第２の条件の組を満足する場合に、セットポイント値から位相値を減じる工程と、
前記工程の差をエラーとして設定する工程と、
をさらに備えた方法。
【請求項３】
請求項２において、
前記第２の条件の組は、
セットポイント値がフィルタ・セットポイント値より小さく、位相値が同様にフィルタ
・セットポイント値より小さくなっており、
位相値がセットポイント値より小さくなっている、
ことを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１において、
第３の条件の組を満足している場合に、エラーを０に設定する工程をさらに備えた方法
。
【請求項５】
請求項１において、
第４の条件の組を満足している場合に、初期エラーをエラーとして維持する工程をさら
に備えた方法。
【請求項６】
ＶＣＴ制御システムが、
セットポイント値を有する所定のセットポイントと、
セットポイントをフィルタリングしてフィルタ・セットポイント値を抽出するセットポ
イントフィルタと、
フィルタ・セットポイント値から測定位相値を減じることによって制御システムにより
生成されたエラー信号と、
セットポイント値およびフィルタ・セットポイント値を有するエラー０処理ブロックと
を備え、
前記エラー０処理ブロックは、ＶＣＴがそのフィルタ・セットポイントをアンダーシュ
ートすることにより生じた過度のＶＣＴ応答時間を短縮するためのエラー信号を生成する
方法を有しており、
前記方法が、
初期エラーを提供する工程と、
初期エラーをエラーとして設定する工程と、
第１の条件の組を満足する場合に、セットポイント値から位相値を減じる工程と、
前記工程の差をエラーとして設定する工程と、
を備えている、
ことを特徴とするＶＣＴ制御システム。
【請求項７】
請求項６において、
前記方法が、
第２の条件の組を満足する場合に、セットポイント値から位相値を減じる工程と、
前記工程の差をエラーとして設定する工程と、
をさらに備えている、
ことを特徴とするシステム。
【請求項８】
請求項７において、
前記第２の条件の組は、
セットポイント値がフィルタ・セットポイント値より小さく、位相値が同様にフィルタ
・セットポイント値より小さくなっており、
位相値がセットポイント値より小さくなっている、
ことを特徴とするシステム。
【請求項９】
請求項６において、
前記方法は、第３の条件の組を満足している場合に、エラーを０に設定する工程をさら
に備えている、
ことを特徴とするシステム。
【請求項１０】
請求項６において、
前記方法は、第４の条件の組を満足している場合に、初期エラーをエラーとして維持す
る工程をさらに備えている、
ことを特徴とするシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月28日(2005.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンプレッサロータの第１のピースを形成するのに適した、コンプレッサロータの吸気口への取付用ピース（Ｄ１）であって、ピース（Ｄ１）は連続するホール（１４）およびノッチ（１６）を具備した第１のリング（１２）で終わり、第１のリングの軸は、コンプレッサロータの吸気口に取付けられるようにコンプレッサロータの回転軸（Ｂ）を中心とするのに適しており、第１のリング（１２）は、固定手段によってロータの軸対称の第３のピース（Ｄ２）に固定され、かつロータの第２のピース／第３のピースアセンブリを形成するロータの軸対称の第２のピース（３０）に対して配置されるのに適しており、ノッチ（１６）はロータの第２のピース／第３のピースアセンブリを固定する手段の周りに嵌合するのに適しており、第１のリング（１２）のホール（１４）は、第１のリング（１２）を第２のピース／第３のピースアセンブリに固定するために、第２のピース／第３のピースアセンブリのホールと整列して配置されるのに適している、コンプレッサロータの吸気口への取付用ピース（Ｄ１）。
【請求項２】
第１のリング（１２）はロータの回転軸（Ｂ）に垂直な平面にある、請求項１に記載のピース。
【請求項３】
ディスク（Ｄ１）と、その周辺に取付けられている複数のブレードとを備えている、請求項１または２に記載のピース。
【請求項４】
第１のリング（１２）に接続されているフランジ（１０）を具備したディスク（Ｄ１）を備えており、フランジ（１０）と第１のリング（１２）はディスク（Ｄ１）の下流に配置されて、第２のピース／第３のピースアセンブリへのディスク（Ｄ１）の固定は、流れがコンプレッサを通る方向に対してディスク（Ｄ１）の下流で実行可能である、請求項１から３のいずれか一項に記載のピース。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一項に記載の第１のピース（Ｄ１）とアセンブリ間の接続であって、第１のピースは連続するホール（１４）およびノッチ（１６）を具備した第１のリング（１２）で終わり、第１のリング（１２）の軸は、コンプレッサロータの吸気口に取付けられるためにコンプレッサロータの回転軸（Ｂ）を中心としており、アセンブリは第３のロータピース（Ｄ２）に固定されている第２のロータピース（３０）によって形成されており、第２のピース（３０）はコンプレッサロータの吸気口を形成し、下流でホールを備える第２のリング（３２）で終わり、第３のピース（Ｄ２）は上流でホールを備える第３のリング（２２）で終わり、第２および第３のリングは、そのホールを整列して配置するように互いに向かい合って配置されており、また第１の固定手段によって共に固定されており、第１の円形リング（１２）は第２のピース／第３のピースアセンブリの上流に、かつこれに対して配置されて、ノッチはロータの第２のピース／第３のピースアセンブリを固定する第１の手段の周りに嵌合し、第１のリング（１２）のホール（１４）の少なくとも一部は第２のピース／第３のピースアセンブリのホールと整列され、第２の固定手段は、第２のピース／第３のピースアセンブリに第１の円形リングを固定する、第１のピースとアセンブリ間の接続。
【請求項６】
第２のリング（３２）と第３のリング（Ｄ２）はロータの回転軸（Ｂ）に垂直な平面にある、請求項５に記載の接続。
【請求項７】
ロータの第２のピース／第３のピースアセンブリを固定する手段は、第２のピース／第３のピースアセンブリを固定する手段に第１のリングを固定するための固定手段よりも短い、請求項５または６に記載の接続。
【請求項８】
固定手段はスクリューナットシステムを備えている、請求項５から７のいずれか一項に記載の接続。
【請求項９】
スクリューナットシステムのスクリューは、ナットがない場合にスクリューが持ちこたえることを可能にするワッシャによって保持されている、請求項８に記載の接続。
【請求項１０】
請求項５から９のいずれか一項に記載の接続を具備した高圧コンプレッサを備えるタービンエンジン。
【請求項１１】
請求項５から９のいずれか一項に記載の接続に嵌合するための方法であって、第２（３２）および第３（２２）の円形リングを、そのホールを整列して配置するように互いに向かい合って配置することと、これらの第２（３２）および第３（２２）のリングを、ホールの一部を通過する第１の固定手段と共に固定することと、第２のピース／第３のピースアセンブリを第１のピースに固定するのに適した第２の固定手段を残りのホールに配置することと、ノッチがロータの第２のピース／第３のピースアセンブリを固定する手段の周りに嵌合し、また第２の固定手段が、第１の円形リングを第２のピース／第３のピースアセンブリに固定するために、第１のリング（１２）のホールの一部を通過するように、第１の円形リング（１２）を第２のピース／第３のピースアセンブリの上流に、かつこれに対して配置すること、からなる方法。
【請求項１２】
コンプレッサロータの第１のピースを除去し、ロータの第２のピース／第３のピースアセンブリを保持するために、第２の固定手段を除去することからなる、請求項５から９のいずれか一項に記載の接続を解除するための方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月7日(2005.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記画像に基づいて初期的な蛍光強度を測定した後に、前記蛍光物質による蛍光の減少を促進させ、その蛍光減少の後に蛍光スポット数と蛍光強度とを測定し、該蛍光減少後における蛍光スポット数と蛍光強度との関係を参照して、前記初期的な蛍光強度から被測定物質の分子数又は分子密度を推算するようにしたことを特徴とする請求項１に記載の固定化された物質の定量方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
固定化された被測定物質に対してレーザ光を照射することで蛍光の褪色を促進させることにより、又は化学的なクエンチング手法によって蛍光の消失を促進させることにより、前記蛍光物質による蛍光を減少させることを特徴とする請求項２又は３に記載の固定化された物質の定量方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月6日(2005.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
ところで、フレーム式原子吸光分光光度計において、目的元素の検出感度を向上させるには、燃料ガス流量をできるだけ小さく抑えるほうが有利であることが知られている。しかしながら、燃料ガス流量を小さくすると、燃焼自体は不安定になる傾向がある。そのため、例えば助燃ガス種類の切換えによって燃焼状態の安定性が更に低下したときに、炎が吹き消えてしまったり発火点がバーナの内部側へ移動する逆火が発生したりするといった不具合を引き起こす可能性が高まる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上記特許文献１に記載のフレーム原子吸光分光光度計では助燃ガスの流量は一定である（厳密には流量はガスの粘性に依存するため入口圧、出口圧が同一であってもガスの種類が相違すると流量は相違する）ことを想定しているが、燃料ガス、助燃ガスともにそのガス流路に設けたバルブの開度を調整することで自動的に流量を制御可能な構成もある。そうした構成では、通常、燃料ガス及び助燃ガスは分析に最適であるような条件となるようにそれぞれの流量が設定されるため、助燃ガスの種類の切換え時に上記のように燃料ガスの流量を制御しただけでは、そのときの助燃ガスの設定流量によっては助燃ガスを切り換えた直後に燃焼が不安定になり、炎の吹き消えや逆火が発生するおそれがある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
このようにして本発明に係るフレーム式原子吸光分光光度計によれば、助燃ガス又は燃料ガスの切換え前後でバーナでの燃焼は安定して行われ、その切換えに伴う炎の吹き消えや逆火などは発生しない。したがって、燃料ガス及び助燃ガスの種類に拘わらず、それらガスの切換え時のフレームを安定させることができ、高い安全性を確保することができる。また、安定燃焼状態でガスの切換えが行われた後に燃料ガス及び助燃ガスの流量はそれぞれ分析に適切な値に変更されるので、ガス切換え時の燃焼状態に影響を与えることなくガス流量を絞って高い検出感度を確保することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2005030908.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月1日(2005.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
観察光学系が配置された先端部を有する内視鏡の挿入部に装着される装着部を備え、バルーン状に形成される膨張部材と、
前記膨張部材に接続され、前記膨張部材内に連通するとともに注入手段によって注入された流体を前記膨張部材内に導く注入チューブと、
前記膨張部材に形成され、注入された流体によって、前記装着部に対して前記挿入部の径方向に膨張する第１の膨張部と、
前記膨張部材に形成され、注入された流体によって、前記先端部に対して前記先端部の径方向に膨張する第２の膨張部と、
を具備することを特徴とする内視鏡先端保持具。
【請求項２】
前記先端部の所定の範囲において径方向に膨張する前記第２の膨張部である請求項１に記載の内視鏡先端保持具。
【請求項３】
前記観察光学系は、円柱状に形成された前記先端部の外周面に形成されるとともに、
前記第２の膨張部は、前記先端部の外周面に対して前記観察光学系とは反対側に膨張することを特徴とする請求項２に記載の内視鏡先端保持具。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る発明は、観察光学系が配置された先端部を有する内視鏡の挿入部に装着される装着部を備え、バルーン状に形成される膨張部材と、前記膨張部材に接続され、前記膨張部材内に連通するとともに注入手段によって注入された流体を前記膨張部材内に導く注入チューブと、前記膨張部材に形成され、注入された流体によって、前記装着部に対して前記挿入部の径方向に膨張する第１の膨張部と、前記膨張部材に形成され、注入された流体によって、前記先端部に対して前記先端部の径方向に膨張する第２の膨張部とを具備することを特徴とする内視鏡先端保持具である。
請求項２に係る発明は、前記先端部の所定の範囲において径方向に膨張する前記第２の膨張部である請求項１に記載の内視鏡先端保持具である。
請求項３に係る発明は、前記観察光学系は、円柱状に形成された前記先端部の外周面に形成されるとともに、前記第２の膨張部は、前記先端部の外周面に対して前記観察光学系とは反対側に膨張することを特徴とする請求項２に記載の内視鏡先端保持具である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月29日(2004.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
握り柄の一端又は両端に球形のゲージ球を固設すると共に、前記ゲージ球の先端に該ゲージ球を遊技盤面から離隔させる突起部を設けたことを特徴とするパチンコ機等の釘調整用ゲージ。
【請求項２】
前記突起部の先端面をゲージ球の中心と中心を同じくする球面で形成したことを特徴とする請求項１記載のパチンコ機等の釘調整用ゲージ。
【請求項３】
前記突起部が横断面十字状に形成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２記載のパチンコ機等の釘調整用ゲージ。
【請求項４】
握り柄の一端又は両端に球形のゲージ球を固設し、前記握り柄及びゲージ球の中心に軸体を可動自在に貫通すると共に、前記軸体の先端部に前記ゲージ球を遊技盤面から離隔させる弧状部を設け、他方、前記ゲージ球の先端部には前記弧状部を収納可能な切溝を形成したことを特徴とするパチンコ機等の釘調整用ゲージ。
【請求項５】
前記弧状部の先端面をゲージ球の中心と中心を同じくする球面で形成したことを特徴とする請求項４記載のパチンコ機等の釘調整用ゲージ。
【請求項６】
前記弧状部が前記軸体の両先端部に設けられていることを特徴とする請求項４又は請求項５記載のパチンコ機等の釘調整用ゲージ。
【請求項７】
前記切溝が前記ゲージ球の両先端部に設けられていることを特徴とする請求項４乃至請求項６のいずれかに記載のパチンコ機等の釘調整用ゲージ。
【請求項８】
前記握り柄には、前記軸体に設けられたメモリを表示する表示窓が設けられていることを特徴とする請求項４乃至請求項７のいずれかに記載のパチンコ機等の釘調整用ゲージ。
【請求項９】
前記軸体は、一方のゲージ球から他方のゲージ球までの軸方向長さよりも長く形成されていることを特徴とする請求項４乃至請求項８のいずれかに記載のパチンコ機等の釘調整用ゲージ。
【請求項１０】
前記軸体の一端側に設けられた弧状部を押し込むと該軸体の他端側に設けられた弧状部が前記ゲージ球から突出するようにしたことを特徴とする請求項４乃至請求項９のいずれかに記載のパチンコ機等の釘調整用ゲージ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月1日(2004.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の多孔質中空繊維が配列された薄片であって、それら多孔質中空繊維の中空部には核酸が固定されているゲルが保持されている薄片。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月5日(2005.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
第１の電極としてのカソード電極８はＡｌ又はＮｉ等の金属層から成り、半導体領域２の一方の主面１１即ち第１の補助層１３の中央一部にオーミック接触している。カソード電極８は図示されていないワイヤ等から成る金属接続部材を結合するためのボンディングパッドとしての機能を有するものであって光非透過に形成されている。従って、半導体領域２の一方の主面１１のカソード電極８が形成されていない部分が光取り出し面となる。第１の電極をボンディングパッド機能を有するカソード電極８のみで形成せずに、図４で鎖線で示すように光透過性電極２３を半導体領域２の一方の主面１１上に形成し、ここにカソード電極８を接続することもできる。光透過性電極２３は、例えば酸化インジウム（Ｉｎ2 Ｏ3 ）と酸化錫（ＳｎＯ2 ）との合金（ＩＴＯ膜）、又は５〜２０ｎｍ程度のＡｇ又はＡｇ合金等で形成される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
図４の実施例３は実施例１と同一の効果を有する他に、発光効率を高める効果を有する。即ち、図４ではオーミックコンタクト層１９が半導体領域２の他方の主面１２の電極対向部分１２bに形成されていないので、活性層１６の中央部分の電流制限を達成でき、電流を他方の主面１２の外周部分１２aに流すことができ、周知の電流ブロック層と同様に発光効率を高めることができる。また、オーミックコンタクト層１９に開口２を設けるという簡単な工程で電極対向部分１２bの電流ブロックの機能を得ることができ、コストの上昇を抑えることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月29日(2005.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転状態の回転軸を非接触状態で支承する非接触型軸受に併設され、回転軸が回転を停止する際にこの回転軸を受ける保護用転がり軸受において、
軌道部材はマルテンサイト系ステンレス鋼製であり、且つ４５０℃〜５００℃の温度範囲内で焼戻し処理が施されていることを特徴とする非接触型軸受の保護用転がり軸受。
【請求項２】
請求項１に記載の保護用転がり軸受であって、前記軌道部材の間に介挿される転動体はセラミックス製であることを特徴とする非接触型軸受の保護用転がり軸受。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の保護用転がり軸受であって、軌道部材の４００℃近傍の温度条件下での硬度をロックウェルＣスケール硬さ（ＨＲＣ）で５６〜６０にしたことを特徴とする非接触型軸受の保護用転がり軸受。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
なお、保護用転がり軸受の軌道部材を４５０℃〜５００℃の温度範囲内で焼戻し処理すると、４００℃近傍の温度環境下での硬度をロックウェルＣスケール硬さ（ＨＲＣ）で５６〜６０に保つことができる。この硬さの限定をしたのが請求項３の発明である。
請求項２の発明は、請求項１に記載の保護用転がり軸受であって、前記軌道部材の間に介挿される転動体はセラミックス製である非接触型軸受の保護用転がり軸受である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月24日(2005.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
又、図４に示した無段変速装置は、モード切換手段を構成するクラッチ機構を備える。このクラッチ機構は、上記高速用クラッチ１６と、上記キャリア２４の外周縁部と上記リング歯車１３の軸方向一端部（図４の右端部）との間に設けた低速用クラッチ３１と、このリング歯車１３と無段変速装置のハウジング（図示省略）等、固定の部分との間に設けた後退用クラッチ３２とから成る。各クラッチ１６、３１、３２は、何れか１個のクラッチが接続された場合には、残り２個のクラッチの接続が断たれる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月24日(2005.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
駆動源に繋がってこの駆動源により回転駆動される入力軸と、この入力軸の回転に基づく動力を取り出す為の出力軸と、無段変速ユニットと、第一の遊星歯車式変速ユニットと、第一、第二の動力伝達機構と、第一のモード切換手段とを備え、
このうちの無段変速ユニットは、トロイダル型無段変速機と第二の遊星歯車式変速ユニットと第三、第四の動力伝達機構と第二のモード切換手段とを組み合わせて成るものであり、
上記第一の動力伝達機構は、上記入力軸に入力された動力を上記無段変速ユニットを介して上記出力軸に伝達するものであり、
上記第二の動力伝達機構は、上記入力軸に入力された動力を上記無段変速ユニットを介する事なく上記出力軸に伝達するものであり、
上記無段変速ユニットを構成する上記第三の動力伝達機構は、上記入力軸に入力された動力を上記トロイダル型無段変速機を介して上記第一の動力伝達機構に伝達するものであり、
同じく上記第四の動力伝達機構は、上記入力軸に入力された動力を上記トロイダル型無段変速機を介する事なく上記第一の動力伝達機構に伝達するものであり、
上記第一の遊星歯車式変速ユニットは、第一の太陽歯車とこの第一の太陽歯車の周囲に配置した第一のリング歯車との間に設けられ、この第一の太陽歯車と同心に且つ回転自在に支持した第一のキャリアに回転自在に支持された第一の遊星歯車を、上記第一の太陽歯車と第一のリング歯車とにそれぞれ噛合させて成るものであり、上記第一の動力伝達機構を通じて送られる動力と上記第二の動力伝達機構を通じて送られる動力とを、上記第一の太陽歯車と上記第一のリング歯車と上記第一のキャリアとのうちの２個の部材に伝達自在とすると共に、これら第一の太陽歯車と第一のリング歯車と第一のキャリアとのうちの残りの１個の部材に上記出力軸を結合しており、
上記無段変速ユニットを構成する上記第二の遊星歯車式変速ユニットは、第二の太陽歯車とこの第二の太陽歯車の周囲に配置した第二のリング歯車との間に設けられ、この第二の太陽歯車と同心に且つ回転自在に支持した第二のキャリアに回転自在に支持された第二の遊星歯車を、上記第二の太陽歯車と第二のリング歯車とにそれぞれ噛合させて成るものであり、上記第三の動力伝達機構を通じて送られる動力と上記第四の動力伝達機構を通じて送られる動力とを、上記第二の太陽歯車と上記第二のリング歯車と上記第二のキャリアとのうちの２個の部材に伝達自在とすると共に、これら第二の太陽歯車と第二のリング歯車と第二のキャリアとのうちの残りの１個の部材に上記第一の動力伝達機構を結合しており、
上記第一のモード切換手段は、上記入力軸に入力された動力が、上記第一の動力伝達機構と上記第二の動力伝達機構とを通じて上記第一の遊星歯車式変速ユニットに送られる状態を切り換えるものであり、
上記無段変速ユニットを構成する上記第二のモード切換手段は、上記第三の動力伝達機構と上記第四の動力伝達機構とを通じて上記第二の遊星歯車式変速ユニットに送られる状態を切り換えるものであり、
これら第一、第二のモード切換手段は、上記第一の動力伝達機構及び上記第三の動力伝達機構で動力の伝達を行なう第一のモードと、上記第一の動力伝達機構及び上記第三の動力伝達機構と第四の動力伝達機構との双方で動力の伝達を行なう第二のモードと、上記第一の動力伝達機構と上記第二の動力伝達機構との双方及び上記第三の動力伝達機構と第四の動力伝達機構との双方で動力の伝達を行なう第三のモードと、上記第一の動力伝達機構と上記第二の動力伝達機構との双方及び上記第三の動力伝達機構とで動力の伝達を行なう第四のモードとの切換を行なうものである
無段変速装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
又、上記第一の遊星歯車式変速ユニットは、第一の太陽歯車とこの第一の太陽歯車の周囲に配置した第一のリング歯車との間に設けられ、この第一の太陽歯車と同心に且つ回転自在に支持した第一のキャリアに回転自在に支持された第一の遊星歯車を、上記第一の太陽歯車と第一のリング歯車とにそれぞれ噛合させて成るものである。そして、上記第一の動力伝達機構を通じて送られる動力と上記第二の動力伝達機構を通じて送られる動力とを、上記第一の太陽歯車と上記第一のリング歯車と上記第一のキャリアとのうちの２個の部材に伝達自在とすると共に、これら第一の太陽歯車と第一のリング歯車と第一のキャリアとのうちの残りの１個の部材に上記出力軸を結合している。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月15日(2005.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
商用電源で駆動されるヒータと、前記ヒータの通電を制御するトライアックのスイッチング手段と、前記商用電源のゼロクロス点を検出するゼロクロス検出手段と、前記ヒータの近傍に設けられた給水温度を検出する温度検知部と、使用者が設定した吐水温度に設定する温度設定部と、吐水流量を検知する流量検知部と、前記温度検知部及び前記温度設定部及び前記流量検知部より前記ヒータの加熱量を算出し温水温度制御を行なう衛生洗浄装置において、ノイズやフリッカを防止する最適な前記ヒータの位相パターンを有するとともに、前記加熱量と前記ヒータのヒータ容量の割合に応じた前記位相パターンを選択し且つ前記加熱量に応じて前記ゼロクロス点からの前記スイッチング手段のＯＮディレイ時間を算出して前記ヒータを位相制御することを特徴とする衛生洗浄装置。
【請求項２】
商用電源周波数を検出する周波数検出部を有し、前記位相パターンは前記加熱量と前記ヒータのヒータ容量の割合に応じヒータ通電の連続オン時間と連続オフ時間がそれぞれ前記周波数検出部より検出された商用周波数の３半波未満であることを特徴とする請求項１記載の衛生洗浄装置。
【請求項３】
前記加熱量と前記ヒータのヒータ容量の割合が０［％］から１００［％］までの割合に応じ１８分割された前記位相パターンからなることを特徴とする請求項２記載の衛生洗浄装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月1日(2005.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】  また，上記発明において，設置用車輪３を，そり状体１１に差し換えることを可能としたブレード簡易駆動装置である。  この場合，そり状体１１とは所謂スキーのように長い橇でなくともよく，装置全体の重量さえ考慮すれば形状にこだわらず，や丶極端に言えば楕円の皿状であっても，円形の皿状であっても構わない。図６には代表的なそり状体１１を，大まかな形状として示した。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図６
【補正方法】追加
【補正の内容】
【図６】  この発明に用いる接地用車輪に差し換えるそり状体を示す側面図である。【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】追加
【補正の内容】
【図６】
2004116269.tif 000001