【手続補正書】
【提出日】平成16年7月26日(2004.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【書類名】      明細書
【発明の名称】  液処理装置及び液処理方法
【特許請求の範囲】
【請求項１】  板状の被処理基板と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な液処理面を有するノズルヘッドと、
上記液処理面に一定の間隔を空けて平行に設けられ、上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する２個の処理液供給手段と、
上記２個の処理液供給手段を挟む両側に処理液供給手段と平行に設けられ、上記処理液供給手段から供給された処理液を吸引すると共に、上記被処理基板の表面に処理液の流れを形成する処理液吸引手段と、
を具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項２】  板状の被処理基板と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な液処理面を有するノズルヘッドと、
上記液処理面に設けられ、上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する処理液供給手段と、
上記処理液供給手段を挟む両側にそれぞれ処理液供給手段と平行に複数設けられ、上記処理液供給手段から供給された処理液を吸引すると共に、上記被処理基板の表面に処理液の流れを形成する処理液吸引手段と、
を具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項３】  請求項１又は２記載の液処理装置において、
上記処理液供給手段に複数の処理液供給口を設けると共に、処理液吸引手段に上記処理液供給口に対して千鳥状に配列される複数の処理液吸引口を設け、
ノズルヘッドの液処理面を、被処理基板と相対的に平行移動する方向に対し直交する方向に、隣接する上記処理液供給口の間隔以上に揺動可能な揺動手段を更に具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項４】  請求項１ないし３のいずれかに記載の液処理装置において、
上記ノズルヘッドの液処理面に、処理液吸引手段を挟んで処理液供給手段と対峙する位置に設けられ、被処理基板の表面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段を更に具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項５】  板状の被処理基板と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な液処理面を有するノズルヘッドと、
上記液処理面に設けられ、上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する処理液供給手段と、
上記処理液供給手段を挟む両側に、処理液供給手段と平行に設けられ、上記処理液供給手段から供給された処理液の吸引及び被処理基板表面への洗浄液の供給を選択的に切り換え可能な切換手段を有する複数の吸引兼洗浄手段と、
を具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項６】  請求項５記載の液処理装置において、
上記処理液供給手段と吸引兼洗浄手段との間に平行に設けられ、上記処理液供給手段から供給された処理液を吸引可能な処理液吸引手段と、
上記吸引兼洗浄手段を挟んで上記処理液吸引手段と対峙する位置に平行に設けられ、被処理基板の表面に洗浄液を供給可能な洗浄液供給手段と、
を具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項７】  請求項５記載の液処理装置において、
上記複数の吸引兼洗浄手段は、被処理基板の大きさやレジスト膜の種類に応じて予め記憶された情報に応じて選択的に切り換え可能に形成されていることを特徴とする液処理装置。
【請求項８】  板状の被処理基板と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な第１の液処理面を有する第１のノズルヘッドと、
上記第１の液処理面に設けられ、上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する第１の処理液供給手段と、
上記第１の処理液供給手段を挟む両側に第１の処理液供給手段と平行に設けられ、上記第１の処理液供給手段から供給された処理液を吸引すると共に、上記被処理基板の表面に処理液の流れを形成する第１の処理液吸引手段と、
上記被処理基板と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な第２の液処理面を有する第２のノズルヘッドと、
上記第２の液処理面に設けられ、上記第２の被処理基板表面に帯状に処理液を供給する第２の処理液供給手段と、
上記第２の処理液供給手段を挟む両側に第２の処理液供給手段と平行に設けられ、上記第１及び第２の処理液供給手段から供給された処理液を吸引すると共に、上記被処理基板の表面に処理液の流れを形成する第２の処理液吸引手段と、
上記第１のノズルヘッドと第２のノズルヘッドの動作を制御可能な制御手段と、
を具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項９】  請求項８記載の液処理装置において、
上記制御手段は、第１のノズルヘッドと第２のノズルヘッドの移動速度を同一に制御可能であると共に、上記第１のノズルヘッドの移動開始時間から、被処理基板の液処理に必要な時間経過後に上記第２のノズルヘッドの移動を開始するように制御可能に形成されることを特徴とする液処理装置。
【請求項１０】  請求項８又は９記載の液処理装置において、
上記第１のノズルヘッドは、被処理基板と相対的に平行移動する後方側に液処理の状態を検出する処理状態検出手段を具備し、
上記制御手段は、上記処理状態検出手段の検出情報に基づいて、第２のノズルヘッドの移動開始時期と、第２の処理液供給手段が供給する処理液の供給量と、第２の処理液吸引手段が吸引する処理液の吸引量と、を制御可能に形成されていることを特徴とする液処理装置。
【請求項１１】  請求項８ないし１０のいずれかに記載の液処理装置において、
上記被処理基板と相対的に平行移動可能であると共に、上記被処理基板の表面に洗浄液を供給可能な洗浄液供給手段を具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項１２】  請求項１１記載の液処理装置において、
上記洗浄液供給手段は、第２のノズルヘッドの移動方向後方側に一体に設けられることを特徴とする液処理装置。
【請求項１３】  板状の被処理基板と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な液処理面を有するノズルヘッドを用いて現像処理を行う液処理方法であって、
上記液処理面に設けられる処理液供給手段から上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する工程と、
上記処理液供給手段を挟む両側に、処理液供給手段と平行に設けられる複数の吸引兼洗浄手段により、上記処理液供給手段から供給された処理液を吸引する工程及び上記被処理基板へ洗浄液を供給する工程と、を有し、
上記吸引兼洗浄手段による上記処理液の吸引及び洗浄液の供給は、上記被処理基板の大きさやレジスト膜の種類に応じて選択的に切り換えられることによって行われることを特徴とする液処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、例えばレチクル等のフォトマスク用ガラス基板に処理液を供給して処理する液処理装置及び液処理方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、半導体デバイスの製造工程においては、半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス基板等（以下にウエハ等という）の表面に例えばレジスト液を塗布し、ステッパー等の露光装置を用いて回路パターンを縮小してレジスト膜を露光し、露光後のウエハ表面に現像液を塗布して現像処理を行うフォトリソグラフィー技術が用いられている。
【０００３】
上記露光処理工程においては、例えばステッパー（縮小投影露光装置）等の露光装置が用いられており、レチクル等のフォトマスクに光を照射し、フォトマスクに描画されている回路パターンの原図を縮小してウエハ上に転写している。
【０００４】
ところで、このフォトマスクの製造工程においても、上記ウエハ等と同様にフォトリソグラフィ技術が用いられており、レジスト塗布工程、露光処理工程、現像処理工程という一連のプロセス工程を経ているが、フォトマスクはウエハ等に回路パターンを投影するための原図であるため、線幅等のパターン寸法は更に高精度が要求される。
【０００５】
ここで、フォトマスクの現像方法には、フォトマスク用のガラス基板をスピンチャック上に吸着保持して低速で回転し、スプレーノズルを用いて現像液をガラス基板上に噴霧状に吐出しながら現像処理を行うスプレー現像という方法がある。
【０００６】
また、ガラス基板とスキャンノズルを相対移動させながら、スキャンノズルから供給される現像液をガラス基板上に液盛りし、静止状態で現像処理を行うパドル現像という方法もある。
【０００７】
しかしながら、スプレー現像では、現像液と反応して生成された溶解生成物が、回転による遠心力によってガラス基板の辺部や角部に流れるため、この部分で現像液との反応が抑制され、線幅等のパターン寸法が不均一になるという問題があった。
【０００８】
また、パドル現像では、溶解生成物が特定の場所に流れるということはなく、スプレー現像のような問題は生じないが、パターンの幾何学的構造やパターン密度の差異により、溶解生成物の生成量や現像液の濃度が局所的に異なり、エッチング速度等が変化するローディング効果と呼ばれる現象が生じ、回路パターンが不均一になるという問題があった。
【０００９】
そこで、フォトマスクの現像処理においては、図１７に示すように、板状のガラス基盤Ｇと一定の隙間を空けて相対的に平行移動可能な液処理面２１を有するノズルヘッド２０と、液処理面２１に設けられ、ガラス基板Ｇ表面に帯状に現像液を供給する現像液供給ノズル２２と、液処理面２１に現像液供給ノズル２２を挟んで平行に設けられ、現像液供給ノズル２２から供給された現像液を吸引すると共に、ガラス基板Ｇの表面に現像液の流れを形成する吸引ノズル２３と、ノズルヘッド２０の液処理面２１に、吸引ノズル２３を挟んで現像液供給ノズル２２と対向する位置に設けられ、ガラス基板Ｇの表面にリンス液（洗浄液）を供給するサイドリンスノズル２４を具備する現像処理装置９１を用いて、溶解生成物を除去しつつ現像処理を行う供給・吸引式方法が知られている。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
この現像処理装置９１による現像処理の時間ｔは、現像液の薄膜が形成される現像領域の幅（２個の吸引ノズル２３間の幅）をＷ、スキャンスピードをＳとすると、
ｔ＝Ｗ／Ｓ
で決まる。したがって、十分に現像処理の時間ｔを確保するには、２個の吸引ノズル２３同士の幅を大きくするか、スキャンスピードＳを小さくする必要がある。
【００１１】
しかしながら、２個の吸引ノズル２３同士の幅を大きくすると現像液の流れを均一にするのが難しく、均一な現像処理ができないという問題があった。また、スキャンスピードＳを小さくすると、現像液の消費量が増大し、コストが掛かるという問題があった。
【００１２】
この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、現像液の消費量を抑制すると共に、現像液の流れを乱すことなく十分に現像処理の時間を確保して、均一な現像処理が可能な液処理装置及び液処理方法を提供することを目的とするものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、この発明の第１の液処理装置は、板状の被処理基板と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な液処理面を有するノズルヘッドと、上記液処理面に一定の間隔を空けて平行に設けられ、上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する２個の処理液供給手段と、上記２個の処理液供給手段を挟む両側に処理液供給手段と平行に設けられ、上記処理液供給手段から供給された処理液を吸引すると共に、上記被処理基板の表面に処理液の流れを形成する処理液吸引手段と、を具備することを特徴とする（請求項１）。
【００１４】
この発明の第２の液処理装置は、板状の被処理基板と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な液処理面を有するノズルヘッドと、上記液処理面に設けられ、上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する処理液供給手段と、上記処理液供給手段を挟む両側にそれぞれ処理液供給手段と平行に複数設けられ、上記処理液供給手段から供給された処理液を吸引すると共に、上記被処理基板の表面に処理液の流れを形成する処理液吸引手段と、を具備することを特徴とする（請求項２）。
【００１５】
この発明において、上記処理液供給手段に複数の処理液供給口を設けると共に、処理液吸引手段に上記処理液供給口に対して千鳥状に配列される複数の処理液吸引口を設け、ノズルヘッドの液処理面を、被処理基板と相対的に平行移動する方向に対し直交する方向に、隣接する上記処理液供給口の間隔以上に揺動可能な揺動手段を更に具備する方が好ましい（請求項３）。また、上記ノズルヘッドの液処理面に、処理液吸引手段を挟んで処理液供給手段と対峙する位置に設けられ、被処理基板の表面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段を更に具備する方が好ましい（請求項４）。
【００１６】
この発明の第３の液処理装置は、板状の被処理基板と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な液処理面を有するノズルヘッドと、上記液処理面に設けられ、上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する処理液供給手段と、上記処理液供給手段を挟む両側に、処理液供給手段と平行に設けられ、上記処理液供給手段から供給された処理液の吸引及び被処理基板表面への洗浄液の供給を選択的に切り換え可能な切換手段を有する複数の吸引兼洗浄手段と、を具備することを特徴とする（請求項５）。この場合、上記処理液供給手段と吸引兼洗浄手段との間に平行に設けられ、上記処理液供給手段から供給された処理液を吸引可能な処理液吸引手段と、上記吸引兼洗浄手段を挟んで上記処理液吸引手段と対峙する位置に平行に設けられ、被処理基板の表面に洗浄液を供給可能な洗浄液供給手段と、を具備する方が好ましい（請求項６）。また、上記複数の吸引兼洗浄手段を、被処理基板の大きさやレジスト膜の種類に応じて予め記憶された情報に応じて選択的に切り換え可能に形成する方が好ましい（請求項７）。
【００１７】
この発明の第４の液処理装置は、板状の被処理基板と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な第１の液処理面を有する第１のノズルヘッドと、上記第１の液処理面に設けられ、上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する第１の処理液供給手段と、上記第１の処理液供給手段を挟む両側に第１の処理液供給手段と平行に設けられ、上記第１の処理液供給手段から供給された処理液を吸引すると共に、上記被処理基板の表面に処理液の流れを形成する第１の処理液吸引手段と、上記被処理基板と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な第２の液処理面を有する第２のノズルヘッドと、上記第２の液処理面に設けられ、上記第２の被処理基板表面に帯状に処理液を供給する第２の処理液供給手段と、上記第２の処理液供給手段を挟む両側に第２の処理液供給手段と平行に設けられ、上記第１及び第２の処理液供給手段から供給された処理液を吸引すると共に、上記被処理基板の表面に処理液の流れを形成する第２の処理液吸引手段と、上記第１のノズルヘッドと第２のノズルヘッドの動作を制御可能な制御手段と、を具備することを特徴とする（請求項８）。
【００１８】
この発明において、上記制御手段は、第１のノズルヘッドと第２のノズルヘッドの移動速度を同一に制御すると共に、上記第１のノズルヘッドの移動開始時間から、被処理基板の液処理に必要な時間経過後に上記第２のノズルヘッドの移動を開始するように制御する方が好ましい（請求項９）。また、上記第１のノズルヘッドは、被処理基板と相対的に平行移動する後方側に液処理の状態を検出する処理状態検出手段を具備し、上記制御手段は、上記処理状態検出手段の検出情報に基づいて、第２のノズルヘッドの移動開始時期と、第２の処理液供給手段が供給する処理液の供給量と、第２の処理液吸引手段が吸引する処理液の吸引量と、を制御する方が好ましい（請求項１０）。また、上記被処理基板と相対的に平行移動可能であると共に、上記被処理基板の表面に洗浄液を供給可能な洗浄液供給手段を具備する方が好ましい（請求項１１）。この場合、上記洗浄液供給手段は、単独で設けてもよいが、第２のノズルヘッドの移動方向後方側に一体に設けてもよい（請求項１２）。
【００１９】
また、この発明の液処理方法は、板状の被処理基板と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な液処理面を有するノズルヘッドを用いて現像処理を行う液処理方法であって、上記液処理面に設けられる処理液供給手段から上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する工程と、上記処理液供給手段を挟む両側に、処理液供給手段と平行に設けられる複数の吸引兼洗浄手段により、上記処理液供給手段から供給された処理液を吸引する工程及び上記被処理基板へ洗浄液を供給する工程と、を有し、上記吸引兼洗浄手段による上記処理液の吸引及び洗浄液の供給は、上記被処理基板の大きさやレジスト膜の種類に応じて選択的に切り換えられることによって行われることを特徴とする（請求項１３）。
【００２０】
請求項１記載の液処理装置によれば、被処理基板表面に帯状に処理液を供給する処理液供給手段を、液処理面に一定の間隔を空けて２個平行に設けることにより、２個の処理液供給手段の間に一定の液処理領域を確保することができ、処理液の流れを乱すことなく十分に液処理時間を確保することができる。
【００２１】
請求項２記載の液処理装置によれば、処理液供給手段を挟む両側にそれぞれ処理液供給手段と平行に複数設けられ、処理液供給手段から供給された処理液を吸引すると共に、被処理基板の表面に処理液の流れを形成する処理液吸引手段を設けることにより、液処理領域の幅を大きくしても処理液の流れを均一にすることができる。
【００２２】
請求項３記載の液処理装置によれば、処理液供給手段に複数の処理液供給口を設けると共に、処理液吸引手段に処理液供給口に対して千鳥状に配列される複数の処理液吸引口を設け、ノズルヘッドの液処理面を、被処理基板と相対的に平行移動する方向に対し直交する方向に、隣接する処理液供給口の間隔以上に揺動可能な揺動手段を具備することにより、大型の被処理基板を液処理する場合であっても、処理液の供給（吐出・塗布）むらや吸引むらを防止することができる。
【００２３】
請求項４記載の液処理装置によれば、被処理基板の表面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段を具備することにより、洗浄液供給手段と処理液吸引手段との間に洗浄液の流れを形成して、処理液が処理液吸引手段より洗浄液供給手段側に漏れるのを防止することができる。したがって、被処理基板上の処理液の幅を一定にすることができ、処理時間を一定にして均一な液処理をすることができる。また、被処理基板上のパーティクル等を除去することもできる。
【００２４】
請求項５，６，７，１３記載の液処理装置又は液処理方法によれば、処理液供給手段を挟む両側に、処理液供給手段と平行に設けられ、処理液供給手段から供給された処理液の吸引及び被処理基板表面への洗浄液の供給を選択的に切り換え可能な切換手段を有する複数の吸引兼洗浄手段を具備することにより、被処理基板の大きさやレジスト膜の種類に合わせて液処理領域の幅を調節することができると共に、十分に液処理の時間を確保して、液処理をすることができる。
【００２５】
請求項８記載の液処理装置によれば、処理液供給手段と処理液吸引手段を有する第１及び第２のノズルヘッドを２個並列に具備することにより、それぞれのノズルヘッドによって、溶解生成物を除去しつつ均一な液処理を行うと共に、第１のノズルヘッドと第２のノズルヘッドとの間に一定の液処理領域を確保して、十分に液処理の時間を確保することができる。この場合、制御手段は、第１のノズルヘッドと第２のノズルヘッドの移動速度を同一に制御すると共に、第１のノズルヘッドの移動開始時間から、被処理基板の液処理に必要な時間経過後に第２のノズルヘッドの移動を開始するように制御することにより、液処理領域、液処理時間等を制御することができる（請求項９）。
【００２６】
請求項１０記載の液処理装置によれば、第１のノズルヘッドの移動方向後方側に設けられた処理状態検出手段の検出情報に基づいて、第２のノズルヘッドの移動開始時期と、第２の処理液供給手段が供給する処理液の供給量と、第２の処理液吸引手段が吸引する処理液の吸引量とを制御することにより、更に均一な液処理をすることができる。
【００２７】
請求項１１，１２記載の液処理装置によれば、被処理基板と相対的に平行移動可能であると共に、被処理基板の表面に洗浄液を供給可能な洗浄液供給手段を具備することにより、液処理が終了した後、速やかに洗浄液を供給して処理液を取り除き、液処理を確実に停止することができる。したがって、更に均一な液処理をすることができる。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下に、この発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では、この発明の液処理装置を、フォトマスク用の被処理基板、例えばレチクル用のガラス基板Ｇに現像処理を行う現像処理装置に適用した場合について説明する。
【００２９】
◎第一実施形態
図１はレジスト液塗布・現像処理システムの一実施形態の概略平面図である。
【００３０】
上記処理システムには、中心部に配設されたガラス基板Ｇの搬送手段例えば搬送アーム２を挟んで複数のガラス基板Ｇを収容するカセットＣの搬入・搬出ユニット３と、その対向する位置に設置される現像処理ユニット４とが配設されている。また、搬送アーム２の左右の対向位置には、ガラス基板Ｇを加熱又は冷却する熱処理ユニット５と、レジスト塗布処理ユニット６が設置されている。このように構成される塗布・現像処理システムにおいて、搬送アーム２は、水平の３６０度に回転可能に形成されると共に、水平のＸ，Ｙ方向に伸縮可能に形成され、かつ、垂直のＺ方向に移動可能に形成されている。したがって、搬送アーム２により、カセットＣ、現像処理ユニット４，熱処理ユニット５及びレジスト塗布処理ユニット６に対してそれぞれガラス基板Ｇの搬入・搬出を行うことができる。
【００３１】
現像処理ユニット４は、図２ないし図５に示すように、搬送アーム２によって搬入されるレジスト液の塗布及び回路パターンの露光が終了したガラス基板Ｇを、水平状態に吸着保持すると共に水平方向に回転可能な保持手段例えばスピンチャック１０と、このスピンチャック１０を回転する駆動モータ１１と、ガラス基板Ｇに現像処理を行うこの発明の現像処理装置１と、スピンチャック１０に設けられ、現像処理開始前の現像処理装置１が位置する助走ステージ４０及びスピンチャック１０の側方を包囲する昇降可能なカップ５０とで主に構成されている。
【００３２】
スピンチャック１０は、図４及び図６に示すように、中空回転軸１２に連結されており、この中空回転軸１２に装着された従動プーリ１３と、駆動モータ１１の駆動軸１１ａに装着された駆動プーリ１４とに掛け渡されるタイミングベルト１５を介して駆動モータ１１からの動力が伝達されるようになっている。また、スピンチャック１０の載置面の４角領域の４箇所の角部には、ガラス基板Ｇを僅かな隙間をおいて支持するプロキシミティーピン１６が凸接されると共に、ガラス基板Ｇの角部の隣接する辺を保持する回転規制ピン１７が突設されている。また、スピンチャック１０の載置面には、ガラス基板Ｇの下面縁部（パターン形成領域外）を吸着保持する３個の吸着パット１８が取り付けられている。これら吸着パット１８は、図５に示すように、スピンチャック１０の回転中心を挟んで対向する一方の位置に１個と、他方の位置に２個配設されている。なお、吸着パット１８は真空ポンプ等の真空装置（図示せず）に接続されている。
【００３３】
上記説明では、タイミングベルト１５を介して駆動モータ１１からの動力を中空回転軸１２に伝達する場合について説明したが、中空回転軸１２に中空モータを装着して中空回転軸１２及びスピンチャック１０を回動するようにしてもよい。
【００３４】
なお、スピンチャック１０の中心部には、裏面洗浄用ノズル１９が設けられている。この裏面洗浄用ノズル１９は、中空回転軸１２との間にベアリング１９ａを介して取り付けられて回転しないようになっており、中空部１２ａ内に配設された洗浄液供給チューブ１９ｂを介して図示しない洗浄液供給源に接続されている。
【００３５】
助走ステージ４０は、中心部にガラス基板Ｇの外形より若干大きな方形孔４１を有するドーナツ状の円板部材４２と、この円板部材４２の上面をスピンチャック１０にて保持されたガラス基板Ｇの表面と同一平面上に位置するようにスピンチャック１０の上面の同心円上に適宜間隔をおいて立設される複数の固定ピン４３とで構成されている。このように、助走ステージ４０を円板部材４２にて形成することにより、ガラス基板Ｇの洗浄及び乾燥時にスピンチャック１０を回転しても、乱気流が生じるのを防止することができる。
【００３６】
また、図４及び図６に示すように、スピンチャック１０の載置部の下方には、スピンチャック１０に設けられた貫通孔１０ａを貫通してガラス基板Ｇの下面縁部（パターン形成領域外）を支持する昇降可能な３本の支持ピン６０が設けられている。これら３本の支持ピン６０は、連結板６１上に立設されており、連結板６１と連結する昇降手段例えばエアシリンダ６２の伸縮動作によってスピンチャック１０の載置部の上方に出没可能に形成されている。なお、この場合、３本の支持ピン６０は、上記吸着パット１８と点対称となる位置に設けられている。このように構成される支持ピン６０によって上記搬送アーム２との間でガラス基板Ｇの受け渡しが行われる。すなわち、搬送アーム２がガラス基板Ｇをスピンチャック１０の上方に搬送した状態で、上昇してガラス基板Ｇの下面縁部を支持してガラス基板Ｇを受け取り、その後、支持ピン６０は下降してガラス基板Ｇをスピンチャック１０の上面に載置した後、スピンチャック１０と干渉しない下方位置に待機する。また、処理が済んだ後には、上昇してガラス基板Ｇをスピンチャック１０の上方に突き上げ、搬送アーム２にガラス基板Ｇを受け渡した後、下降する。
【００３７】
カップ５０は、図４に示すように、スピンチャック１０の外方を包囲する筒状のカップ本体５１と、このカップ本体５１の上端縁から上方に向かって縮径テーパ状に延在し、上記助走ステージ４０の円板部材４２の外周縁部に干渉しない範囲で近接する開口５２を有する縮径テーパ部５３とで構成されており、カップ本体５１に取り付けられたブラケット５４に連結する移動手段例えばカップ移動用エアシリンダ５５の伸縮動作によって図４に示す通常位置と、上方に移動する洗浄・乾燥位置とに切り換わるように構成されている。なお、カップ本体５１はカップ移動用エアシリンダ５５のロッド５５ａと平行に配設されるガイドバー５６を有しており、このガイドバー５６が現像処理装置１の固定部に装着された軸受け部５７に摺動自在に嵌挿されている。
【００３８】
また、カップ５０の下端部には、カップ本体５１の外方を包囲する外壁５８ａを有する有底ドーナツ円筒状の固定カップ５８が配設されている。この固定カップ５８の底部には廃液管路５８ｂが接続されている。また、スピンチャック１０の載置部の下部と固定カップ５８の上部との間には、スピンチャック１０側から排出される排液すなわち処理液や洗浄液を固定カップ５８内に流す内カップ５９が配設されている。
【００３９】
液処理装置１は、ガラス基板Ｇと一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な後述する液処理面２１を有するノズルヘッド２０と、液処理面２１に一定の間隔を空けて２個平行（並列）に設けられ、ガラス基板Ｇに帯状に処理液である現像液を供給（吐出、塗布）する現像液供給ノズル２２（処理液供給手段）と、２個の現像液供給ノズル２２を挟む両側に現像液供給ノズル２２と平行に設けられ、現像液供給ノズル２２から供給された現像液を吸引すると共に、ガラス基板Ｇの表面に現像液の流れを形成する現像液吸引ノズル２３（以下に吸引ノズル２３という）｛処理液吸引手段｝とが設けられている。
【００４０】
また、ノズルヘッド２０には、現像液供給ノズル２２及び吸引ノズル２３を挟んで吸引ノズル２３と平行に設けられ、ガラス基板Ｇの表面に例えば純水等のリンス液（洗浄液）を供給（吐出、塗布）可能なサイドリンスノズル２４（洗浄液供給手段）が更に設けられている。
【００４１】
ノズルヘッド２０は、ガラス基板Ｇのパターン形成領域の幅と同じかそれ以上の長さに形成されると共に、ガラス基板と一定の隙間例えば５０μｍ〜３ｍｍ、より好ましくは５０μｍ〜５００μｍを空けて相対的に平行移動可能な液処理面２１を有する略直方体状に形成されている。
【００４２】
２個の現像液供給ノズル２２は、図７に示すように、泡抜き等を行うため一旦現像液を収容する共通の収容部２５をノズルヘッド２０内に有しており、現像液が貯留される現像液タンク７０（現像液供給源）から現像液を供給する現像液供給管路７１と、収容部２５の現像液の泡抜きを行う泡抜き管路（図示せず）とに接続されている。
【００４３】
また、現像液供給管路７１には、現像液の温度を調節する温度調節機構７２（処理液温度調節手段）と、現像液を圧送する図示しない圧送手段例えばポンプと、現像液供給管路内の現像液の流量を検出する現像液流量計１３０（処理液流量検出手段）とが設けられており、例えば圧縮空気によって開閉を制御されるエアオペレーションバルブ等の開閉弁Ｖ１(処理液流量調節手段)によって現像液の流量調節が可能に形成されている。
【００４４】
温度調節機構７２は、図７に示すように、現像液供給管路７１とノズルヘッド２０との接続部に設けられ、現像液供給管路７１が温度調節管路７３内を通るように形成される二重管構造となっている。また、温度調節管路７３は、現像液供給管路７１内を上方から下方へ流れる現像液に対し、ヒータ１７等で温調された液体例えば純水を循環手段例えば循環ポンプ７５により温度調節管路７３内を下方から上方へ循環するように構成されている。このように構成することにより、現像液の温度を調節することができるので、現像液の粘度及びエッチング速度（処理速度、反応速度）等を一定にすることができ、更に均一な現像処理を行うことができる。
【００４５】
また、現像液供給ノズル２２は、図８に示すように、現像液供給ノズル２２の長手方向に例えば１mmピッチで等間隔に設けられる複数の供給孔２６（処理液供給孔）と、これら供給孔２６の下部に連通され現像液供給ノズル２２の長手方向に設けられる例えば１mm幅のスリット２７と、スリット２７の下部に連通され現像液をガラス基板Ｇに供給（吐出、塗布）する拡開テーパ状の現像液供給口２８（処理液供給口）と、この現像液供給口２８内の長手方向に設けられ、現像液の吐出時のインパクトを低減し、均一に現像液を吐出する整流緩衝棒、例えば円柱状の石英棒２９とで構成されている。ここでは、整流緩衝棒を石英棒２９にて形成する場合について説明したが、整流緩衝棒は、親水性部材であれば石英以外の例えばセラミックス等で形成することも可能である。
【００４６】
現像液供給ノズル２２を、このように構成することにより、供給孔２６から流出する現像液は、スリット２７で合流した後、現像液供給口２８の壁面を伝って流れる一方、石英棒２９の表面で拡散させることができる。したがって、スリット２７で供給孔による現像液の吐出むらを防止し、石英棒２９でガラス基板Ｇに均一に現像液を供給（吐出、塗布）することができ、現像液供給ノズル２２と後述する吸引ノズル２３との間に、新しい現像液を常時供給しつつ均一な現像液の流れを形成して、溶解生成物を除去しながら均一な現像処理をすることができる。
【００４７】
吸引ノズル２３は、現像液やリンス液等の現像処理に用いられた処理液（廃液）を吸引するスリット状の吸引口２３ａが、現像液供給ノズル２２の液処理面２１の移動方向両側に平行に設けられている。ここで、吸引口２３ａの長手方向の長さは、現像液供給ノズル２２両端からの現像液の染み出しを防ぐため、現像液供給口２８の長手方向の長さより長く形成される方が好ましい。また、吸引口２３ａのスリットは、幅が広過ぎると吸引口２３ａ付近で現像状態が悪くなるため、供給された現像液をサイドリンスノズル２４側に漏らさないように吸引できる範囲で可及的に狭く形成される方が好ましい。更に、吸引ノズル２３は、現像液供給ノズル２２から供給され、現像処理に供された現像液を円滑に吸引し、均一な現像液の流れを形成するため、図７に示すように、吸引口２３ａを現像液供給口２８側に向くように形成する方が好ましい。
【００４８】
また、吸引ノズル２３は、図７に示すように、吸引管路７６を介して、吸引口２３ａが吸引する現像液やリンス液等の廃液の吸引量を調節可能な減圧機構例えばエジェクタ７７と、現像処理装置１の移動方向前方側及び後方側の各吸引口２３ａそれぞれの吸引量を検出可能な吸引流量計１５０ (吸引量検出手段）と、吸引管路７６の開閉を行い吸引量を調節する、例えば圧縮空気によって開閉を制御されるエアオペレーションバルブ等の開閉弁Ｖ２，Ｖ３（吸引量調節手段）と、吸引した廃液を気体と液体に分離して回収するトラップタンク７８と、このトラップタンク７８の圧力を検出可能な圧力センサ７９と、トラップタンク７８内に回収された廃液を回収する廃液タンク８０とで構成される吸引部８１に接続されている。この場合、吸引管路７６を吸引ノズル２３の上端から吸引すると、その部分の直下の吸引口２３ａ付近で現像液の流れが特異になり、現像処理が不均一になる虞があるため、吸引管路７６は、ガラス基板Ｇのパターン形成領域から外れる位置の上端に設けるか、又は、吸引ノズル２３の両側端に設ける方が好ましい。
【００４９】
なお、上記吸引部８１は、エジェクタ７７、トラップタンク７８及び圧力センサ７９を用いる代わりに、吸引口が吸引する廃液の吸引量を調節可能な吸引手段例えば吸引ポンプを用いることも可能である。
【００５０】
サイドリンスノズル２４は、図７に示すように、吸引ノズル２３を挟んで現像液供給ノズル２２と対向する位置に平行に設けられており、スリット状のリンス液供給口２４ａから液処理面２１とガラス基板Ｇとの間に例えば純水等のリンス液を供給可能に形成されている。
【００５１】
また、サイドリンスノズル２４は、図７に示すように、リンス液供給管路８２を介してリンス液供給源例えばリンス液供給タンク８３に接続されており、リンス液供給管路８２には、現像液供給管路７１と同様に、リンス液の温度を調節する温度調節機構８４（洗浄液温度調節手段）と、リンス液を圧送する図示しないポンプ等の圧送手段と、リンス液供給管路８２内のリンス液の流量を検出するリンス液流量計１４０（洗浄液流量検出手段）と、圧縮空気等によって開閉制御されるエアオペレーションバルブ等の開閉弁Ｖ４（洗浄液流量調節手段）とが設けられている。
【００５２】
このように構成することにより、サイドリンスノズル２４が供給したリンス液の一部を吸引ノズル２３が吸引し、現像液が吸引ノズル２３からサイドリンスノズル２４側へ広がるのを防止することができるので、ガラス基板Ｇ上の現像液の幅を一定にすることができ、現像時間を一定にして均一な現像処理を行うことができる。勿論、ガラス基板Ｇ上のパーティクル等を除去することもできる。
【００５３】
なお、サイドリンスノズル２４は、ノズルヘッド２０のスキャン方向の前方側のサイドリンスノズル２４から供給されるリンス液は、処理前のガラス基板Ｇのプリウエットに供され、現像液の塗れ性の向上に寄与する。又、後方のサイドリンスノズル２４から供給されるリンス液によって現像の停止が行われるようになっている。なお、サイドリンスノズル２４は、ノズルヘッド２０と分離して設けることも可能である。
【００５４】
上記のように構成されるノズルヘッド２０を水平方向（Ｘ方向）に移動（スキャン）及び垂直方向（Ｚ方向）に移動するノズル移動手段３０は、図３に示すように、スピンチャック１０の一側方に配設されるガイドプレート３１に設けられる一対の互いに平行な水平ガイドレール３２に摺動可能に装着される水平移動台３３と、この水平移動台３３を水平方向に移動する例えばボールねじ機構にて形成される水平移動機構３４と、水平移動台３３に対して垂直方向に移動可能に装着される垂直移動基部３５の上端からスピンチャック１０側に延在し、先端部がノズルヘッド２０を保持するアーム３６と、アーム３６を垂直方向に移動する例えばボールねじ機構にて形成される垂直移動機構３７とで構成されている。
【００５５】
また、ノズルヘッド２０における移動方向（Ｘ方向）の一方の端部には、ノズルヘッド２０の液処理面２１とガラス基板Ｇとの間隔を検出可能な間隔検出手段例えばレーザ変位計９０（図２参照）が取り付けられている。このレーザ変位計９０の検出信号が制御手段例えば中央演算処理装置１００（以下にＣＰＵ１００という）に伝達され、ＣＰＵ１００からの制御信号によって垂直移動機構３７のモータが駆動して、ノズルヘッド２０の液処理面２１とガラス基板Ｇとの間に一定の隙間例えば１ｍｍ〜５０μｍの隙間を精度良く形成することができる。
【００５６】
また、現像処理装置１は、垂直移動機構３７以外にも、ＣＰＵ１００（制御手段）に電気的に接続されており、現像液流量計１３０、リンス液流量計１４０、吸引流量計１５０、圧力センサ７９、レーザ変位計９０（間隔検出手段）等の検出信号と、予め記憶された情報とに基づいて、バルブＶ１，Ｖ２，Ｖ３，Ｖ４、現像処理装置１のスキャンスピード等を制御可能に構成されている。
【００５７】
また、ノズル待機位置の外方には、リンスノズル８が配設されている。このリンスノズル８は、図２に示すように、水平方向に正逆回転するモータ８ａの駆動軸８ｂに一端が連結されるアーム８ｃの先端部に装着されており、モータ８ａの駆動によってガラス基板Ｇの中心部を通る円弧状の軌跡を描いて移動し得るように構成されている。また、リンスノズル８は、図示しない、垂直移動機構によって更に垂直方向にも移動可能に形成されている。なお、リンスノズル８は、図示しないリンス液供給管路を介してリンス液供給源例えばリンス液供給タンク８３に接続されている。
【００５８】
なお、上記説明では、現像液供給口２８及び吸引口２３ａを帯状に形成する場合について説明したが、必ずしもこのように構成する必要はなく、例えば図９に示すように、現像液供給口１４１（処理液供給口）及び吸引口１４２（処理液吸引口）を複数のスリット状に形成し、現像液供給口１４１と吸引口１４２とを千鳥状に設けることも可能である。この場合、アーム３６にノズルヘッド２０をＹ方向に移動可能な揺動手段、例えばボールねじ機構（図示せず）を設け、ノズルヘッド２０を、現像液供給口１４１の隣り合うスリット間の幅以上の大きさに揺動する方が好ましい。なお、現像液供給口１４１には、上記と同様に石英棒２９（整流緩衝棒）が設けられている（図９参照）。
【００５９】
このように構成すれば、大型のＬＣＤ基板を現像処理する場合であっても、液処理装置のＹ方向の現像液の供給（吐出・塗布）むらや吸引むらを防止して、均一な現像処理をすることができる。
【００６０】
以下に、上記のように構成される現像処理装置１を用いた現像処理方法について説明する。
【００６１】
まず、搬送アーム２により搬入されるガラス基板Ｇは、現像処理ユニット４の搬入出口部に配設された厚さ検出手段例えばレーザ光の反射を利用して距離を測定するレーザ変位計１０１によって厚さが検出される。この場合、レーザ変位計１０１は、図１０（ａ）に示すように、ガラス基板Ｇの上方から塗布されているＣｒ層１０２までの距離と、ガラス基板Ｇの下方からガラス基板Ｇの裏面までの距離とを測定して比較演算するか、図１０（ｂ）に示すように、ガラス基板Ｇの下方からガラス基板Ｇの裏面までの距離と、Ｃｒ層１０２までの距離を測定して比較演算することによりガラス基板Ｇの厚さを検出し、ＣＰＵ１００に記憶させることができる。これにより、１００μｍ程度の誤差があるガラス基板Ｇの厚さを正確に検出して、後述する現像処理装置１の液処理面２１とガラス基板Ｇ表面との間の変位情報を更に正確に検出することができる。
【００６２】
なお、レーザ変位計１０１（厚さ検出手段）は、必ずしも現像処理ユニット４の搬入出口に設ける必要はなく、現像処理前の処理ユニット例えば熱処理ユニット５の搬入出口部に配設して、同様にガラス基板Ｇの厚さを検出して、その検出信号をＣＰＵ１００に伝達するようにしてもよい。
【００６３】
次に、搬送アーム２によってガラス基板Ｇがスピンチャック１０の上方位置に搬送されると、エアシリンダ６２（昇降手段）が駆動され、支持ピン６０がスピンチャック１０に設けられた貫通孔１０ａを貫通して上方に突出して、ガラス基板Ｇの下面縁部を支持する。この状態で、搬送アーム２は現像処理ユニット４内から退避してガラス基板Ｇは支持ピン６０に受け渡される。次に、支持ピン６０が下降してガラス基板Ｇをスピンチャック１０の載置部上に載置する。この状態で、ガラス基板Ｇの角部は回転規制ピン１７によって保持され、吸着パット１８による吸着作用によって吸着保持される。
【００６４】
スピンチャック１０にガラス基板Ｇが吸着保持されると、ＣＰＵ１００の制御信号によりノズル移動手段３０の水平移動機構３４が作動して、ノズルヘッド２０をノズル待機位置から助走ステージ４０まで移動する。ノズルヘッド２０が助走ステージ４０に達すると、助走ステージ４０に向かって予め所定温度に温調されたリンス液を供給（吐出）しつつノズルヘッド２０をガラス基板Ｇの上方をスキャン（水平移動）させて、ガラス基板Ｇの表面全体にリンス液を塗布する（プリウェット工程）。これにより、現像液を供給（吐出、塗布）する前に、ガラス基板Ｇを処理温度に調節することができると共に、現像液のぬれ性を良好にすることができる。
【００６５】
プリウエット工程が終了すると、現像処理装置１は、レーザ変位計１０１により検出されたガラス基板Ｇの厚さデータに基づいてスキャンし、ガラス基板Ｇと液処理面２１との間隔をレーザ変位計９０により検出しながらスキャン開始位置まで戻る。検出された変位情報はＣＰＵ１００に記憶される。
【００６６】
なお、上記説明では、プリウエット工程終了後に変位情報を検出しているが、変位情報の検出方法はこれに限らず、レーザ変位計７８を、液処理装置６の進行方向後方側に設けて、プリウエット工程と同時に行うことも可能である。
【００６７】
ノズルヘッド２０がスキャン開始位置すなわち助走ステージ４０と対向する位置に戻った状態において、助走ステージ４０に向かって２個の現像液供給ノズル２２から現像液が供給（吐出）され、ノズルヘッド２０の液処理面２１と助走ステージ４０との間に液膜が形成、すなわち液処理面２１と助走ステージ４０との間に現像液が満たされた状態で現像処理に備える。
【００６８】
一方、ＣＰＵ１００は、ノズルヘッド２０のスキャンスピードを現像時間が確保できる速度に制御すると共に、開閉弁Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３，Ｖ４の開口度を制御して、液処理面６２とガラス基板Ｇとの間に、一定幅の現像液の薄膜（現像領域）を形成し得るように、現像液及びリンス液（純水）の供給（吐出、塗布）及び吸引を開始する。
【００６９】
このように構成することにより、現像液供給ノズル２２と吸引ノズル２３との間においては、均一な現像液の流れを形成して溶解生成物を除去することができると共に、２個の現像液供給ノズル２２の間においては、一定幅の現像液の滞留部を形成して現像領域を大きくすることができるので、十分に現像処理の時間を確保することができる。
【００７０】
なお、吸引流量が多すぎると、空気が液処理面に吸引される泡かみが起こり、現像液の流れが妨げられて現像処理を行うことができなくなる。逆に吸引流量が少なすぎると、現像液が液処理面２１の外へ流出し（染み出し、溢れ）無駄を生じる。したがって、ＣＰＵ１００は、液処理面２１から現像液を流出せず、かつ、吸引ノズル２３に空気を吸引（泡噛み）しない所定の値になるように、開閉弁Ｖ２，Ｖ３を調節して、吸引ノズル２３の吸引量を制御する。
【００７１】
また、現像液が所定幅以上に広がるのを防止するため、ＣＰＵ１００によって、リンス液の供給（吐出、塗布）及び吸引が、現像液の供給（吐出、塗布）よりも若干早く開始するように制御してもよい。
【００７２】
現像処理装置１による現像液及びリンス液の供給（吐出、塗布）及び吸引は、助走ステージ４０上のスキャン開始位置から終了まで断続的に実行される。この際、ガラス基板Ｇと液処理面２１との隙間を図示しないレーザ変位計等の間隔検出手段により検出し、その検出信号をＣＰＵ１００に送り、ＣＰＵ１００において、検出信号と予め記憶された情報とに基づいて、現像液が吸引ノズル２３の位置からサイドリンスノズル２４側に染み出さず、かつ現像液の流速を高速に保つことができる幅になるように現像処理装置１を垂直移動機構３７によって上下させて調整する。なお、現像処理の際、裏面洗浄ノズル１９からガラス基板Ｇの裏面に向かってリンス液を供給（吐出）することにより、ガラス基板Ｇの裏面に現像液が回り込むのを阻止することができる。
【００７３】
現像処理が終了して、ノズルヘッド２０がカップ５０の外側に退避すると、カップ移動用エアシリンダ５５が駆動して、カップ５０が上方へ移動する。また、リンスノズル８がガラス基板Ｇの上方のリンス液供給時にガラス基板Ｇに衝撃を与えない位置まで移動し、例えば純水等のリンス液をガラス基板Ｇ上に供給（吐出）することによりリンス処理を行う。
【００７４】
リンス処理が終了すると、モータ１１が駆動してスピンチャック１０が高速回転例えば２０００ｒｐｍで回転してガラス基板に付着するリンス液を振り切り乾燥する。ガラス基板Ｇ及びスピンチャック１０から飛散されるリンス液はカップ５０内に受け止められ、固定カップ５８の底部に接続する廃液管路５８ｂを介して外部に排出される。
【００７５】
乾燥処理が終了して、カップ５０が下降した後、エアシリンダ６２が作動して支持ピン６０を上昇し、スピンチャック１０に載置されたガラス基板Ｇをスピンチャック１０の上方へ押し上げる。すると、装置外から現像処理ユニット４内に挿入される搬送アーム２がガラス基板Ｇの下方に進入し、この状態で、支持ピン６０が下降すると、ガラス基板Ｇは搬送アーム２に受け渡され、搬送アーム２によりガラス基板Ｇは現像処理ユニット４から外部に搬出されて処理が終了する。
【００７６】
◎第二実施形態
この発明の第二実施形態の現像処理装置１２１は、図１１に示すように、現像液供給ノズル１２２を挟む両側にそれぞれ現像液供給ノズル１２２と平行に複数の吸引ノズル、例えば内側の吸引ノズル１２３と外側の吸引ノズル１２４を現像液供給ノズル１２２の両側に２個ずつ設けたものである。
【００７７】
この場合、吸引ノズル１２３，１２４の吸引量は、エアオペレーションバルブ等の開閉弁Ｖ５，Ｖ６，Ｖ７，Ｖ８（吸引量調節手段）をＣＰＵ１００によって制御することにより調節すればよい。
【００７８】
なお、内側の吸引ノズル１２３の吸引流量は、外側の吸引ノズル１２４の吸引流量より小さくする方が好ましい。
【００７９】
このように構成することにより、現像領域の幅Ｗを大きくしても、現像液供給ノズル１２２と内側の吸引ノズル１２３との間の距離や吸引ノズル１２３と吸引ノズル１２４との間の距離を狭く形成して、現像液の流れを均一にすることができ、均一な現像処理を行うことができる。
【００８０】
また、第一実施形態の現像処理装置１のように、２個の現像液供給ノズル２２を設けると共に、２個の現像液供給ノズル２２を挟む両側にそれぞれ現像液供給ノズル２２と平行に複数の吸引ノズル、例えば、第二実施形態の液処理装置１２１のように、内側の吸引ノズル１２３と外側の吸引ノズル１２４の２個設けることも勿論可能である。
【００８１】
なお、第二実施形態において、その他の部分は、第一実施形態と同じであるので、同一部分には、同一符号を付して説明は省略する。
【００８２】
◎第三実施形態
この発明の第三実施形態の現像処理装置１３１は、図１２に示すように、現像液供給ノズル１２２を挟む両側に、現像液供給ノズル１２２と平行に設けられ、現像液供給ノズル１２２から供給された現像液を吸引可能な吸引ノズル１６１，１６５と、吸引ノズル１６１，１６５を挟んで現像液供給ノズル１２２と対峙する位置に平行に設けられ、現像液供給ノズル１２２から供給された現像液の吸引及びガラス基板Ｇ表面へのリンス液（洗浄液）の供給を、レシピに基づいて選択的に切り換え可能な切換手段、例えば三方弁１９２，１９３，１９６，１９７を有する吸引兼リンスノズル１６２，１６３，１６６，１６７と、吸引兼リンスノズル１６２，１６３，１６６，１６７を挟んで吸引ノズル１６１，１６５と対峙する位置に平行に設けられ、ガラス基板Ｇ表面にリンス液を供給可能なサイドリンスノズル１６４，１６８とを具備するものである。
【００８３】
この場合、吸引ノズル１６１，１６５は、それぞれ吸引管路１７２に接続されており、吸引する現像液やリンス液等の廃液の吸引量を調節可能な減圧機構、例えばエジェクタ７７と、吸引した廃液を気体と液体に分離して回収するトラップタンク７８と、このトラップタンク７８の圧力を検出可能な圧力センサ７９と、トラップタンク７８内に回収された廃液を回収する廃液タンク８０とで構成される吸引部に接続されている。また、吸引管路１７２には、エジェクタ７７側から順に開閉弁Ｖ１１，Ｖ１５と、吸引する現像液やリンス液等の廃液の吸引量を検出可能な吸引流量計１５０とがそれぞれ接続されている。
【００８４】
サイドリンスノズル１６４，１６８は、開閉弁Ｖ１４，Ｖ１８を有するリンス液供給分岐管路１７４を介して、後述するリンス液供給管路１７５に接続されている。
【００８５】
吸引兼リンスノズル１６２，１６３，１６６，１６７は、吸引兼供給管路１７１を介して三方弁１９２，１９３，１９６，１９７に接続されている。また、吸引兼供給管路１７１には、吸引兼リンスノズル１６２，１６３，１６６，１６７側から順に、吸引する現像液やリンス液等の廃液の吸引量を検出可能な吸引流量計１５０と、開閉弁Ｖ１２，Ｖ１３，Ｖ１６，Ｖ１７とが接続されている。
【００８６】
三方弁１９２，１９３，１９６，１９７は、吸引兼供給管路１７１と、吸引部のエジェクタ７７に接続されている吸引管路１７３と、リンス液供給管路１７５とに接続されており、吸引管路１７３とリンス液供給管路１７５とを選択的に切り換え可能に形成されている。
【００８７】
また、リンス液供給管路１７５は、リンス液の流量を検出するリンス液流量計１４０(洗浄液流量検出手段)を介して、リンス液供給源例えばリンス液供給タンク８３に接続されており、図示しない圧送手段、例えばポンプ等によりリンス液供給タンク８３内のリンス液を吸引兼リンスノズル１６２，１６３，１６６，１６７及びサイドリンスノズル１６４，１６８に圧送するように構成されている。
【００８８】
また、圧力センサ７９、三方弁１９２，１９３，１９６，１９７、リンス液流量計１４０、吸引流量計１５０及び開閉弁Ｖ１１ないしＶ１８は、それぞれＣＰＵ１００に電気的に接続されており、予め記憶された情報に基づいて、選択的に吸引ノズル１６１，１６５、吸引兼リンスノズル１６２，１６３，１６６，１６７及びサイドリンスノズル１６４，１６８から、所定量の現像液の吸引及びリンス液の供給を行うことができるように制御されている。
【００８９】
例えば、図１３に示すパターンＡのように、吸引ノズル１６１，１６５から現像液を吸引し、吸引兼リンスノズル１６２，１６６からリンス液を供給する場合には、ＣＰＵ１００は、開閉弁Ｖ１３，１４，Ｖ１７，Ｖ１８を閉鎖し、開閉弁Ｖ１１，Ｖ１５によって吸引量を調節すると共に、三方弁１９２，１９６をリンス液供給管路１７５側に切り換えて、開閉弁Ｖ１２，Ｖ１６によってリンス液の供給量を調節するように制御すればよい。
【００９０】
また、ＣＰＵ１００は、ガラス基板Ｇの大きさに応じて、吸引兼リンスノズル１６２，１６６から現像液を吸引し、吸引兼リンスノズル１６３，１６７からリンス液を供給するか（パターンＢ）｛図１２参照｝、吸引兼リンスノズル１６３，１６７から現像液を吸引し、サイドリンスノズル１６４，１６８からリンス液を供給する（パターンＣ）ように制御することも可能である。
【００９１】
このように構成することにより、１台の現像処理装置１３１によって、ガラス基板Ｇの大きさやレジスト膜の種類に合わせて現像領域の幅を最小幅Ｗ１を基にして調整幅Ｗ２の範囲内で調節することができるので、十分に現像処理の時間を確保して、現像処理をすることができる。
【００９２】
なお、現像液の吸引は、ノズルヘッド２０のスキャンスピード等によって、図１３のパターンＤ，Ｅ，Ｆのように、４個の吸引ノズル及び吸引兼リンスノズルの組み合わせで行うか、または、パターンＧのように吸引ノズル及び吸引兼リンスノズルの全てを用いて行ってもよい。また、使用する吸引兼リンスノズルは、ノズルヘッド２０のスキャン方向前方側と後方側で対称である必要はなく、ノズルヘッド２０のスキャンスピード等によって、パターンＧないしパターンＭのように前後で異なっていてもよい。
【００９３】
また、リンス液の供給を行う吸引兼リンスノズルを、現像液の吸引を行う吸引兼リンスノズルより、外側に選択する組み合わせであれば、パターンＡないしパターンＭ以外の組み合わせも勿論可能である。
【００９４】
また、上記説明では、吸引兼リンスノズルを、現像液供給ノズル１２２と平行にそれぞれ２個ずつ設けた場合について説明したが、吸引兼リンスノズルは、任意の数を設けることができる。
【００９５】
また、第一実施形態の現像処理装置１のように、２個の現像液供給ノズル２２を設けると共に、２個の現像液供給ノズル２２を挟む両側に現像液供給ノズル２２と平行にそれぞれ３以上の複数個の吸引兼リンスノズルを設けることも勿論可能である。
【００９６】
なお、第三実施形態において、その他の部分は、第一実施形態と同じであるので、同一部分には、同一符号を付して説明は省略する。
【００９７】
◎第四実施形態
この発明の第四実施形態の現像処理装置２００は、図１４に示すように、現像液供給ノズルと吸引ノズルを有する第１及び第２のノズルヘッド２０Ａ，２０Ｂを２個並列に設けたものである。
【００９８】
第１のノズルヘッド２０Ａは、ガラス基板Ｇと一定の隙間を空けて相対的に平行移動可能な第１の液処理面２１Ａを有しており、この第１の液処理面２１Ａには、ガラス基板Ｇ表面に帯状に現像液を供給する第１の現像液供給ノズル２２Ａと、第１の現像液供給ノズル２２Ａを挟む両側に第１の現像液供給ノズル２２Ａと平行に設けられ、第１の現像液供給ノズル２２Ａから供給された現像液を吸引すると共に、ガラス基板Ｇの表面に現像液の流れを形成する第１の吸引ノズル２３Ａとが設けられている。
【００９９】
また、第２のノズルヘッド２０Ｂは、第１のノズルヘッド２０Ａと同様に、ガラス基板Ｇと一定の隙間を空けて相対的に平行移動可能な第２の液処理面２１Ｂを有しており、この第２の液処理面２１Ｂには、ガラス基板Ｇ表面に帯状に現像液を供給する第２の現像液供給ノズル２２Ｂと、第２の現像液供給ノズル２２Ｂを挟む両側に第２の現像液供給ノズル２２Ｂと平行に設けられ、第１及び第２の現像液供給ノズル２２Ａ，２２Ｂから供給された現像液を吸引すると共に、ガラス基板Ｇの表面に現像液の流れを形成する第２の吸引ノズル２３Ｂとが設けられている。
【０１００】
第１及び第２の現像液供給ノズル２２Ａ，２２Ｂは、第１実施形態の現像処理装置１と同様に、それぞれ現像液供給管路７１Ａ，７１Ｂを介して現像液タンク７０（現像液供給源）に接続されている。また、現像液供給管路７１Ａ，７１Ｂには、現像液供給タンク７０側から順に、現像液流量計１３０Ａ，１３０Ｂと、開閉弁Ｖ２１，Ｖ２４と温度調節機構７２Ａ，７２Ｂとが設けられている。
【０１０１】
第１及び第２の吸引ノズル２３Ａ，２３Ｂは、それぞれ吸引管路７６Ａ，７６Ｂを介してエジェクタ７７に接続されている。また、吸引管路７６Ａ，７６Ｂには、エジェクタ７７側から順に開閉弁Ｖ２２，Ｖ２３，Ｖ２５，Ｖ２６と、吸引流量計１５０Ａ，１５０Ｂが設けられている。
【０１０２】
また、現像液流量計１３０Ａ，１３０Ｂ、吸引流量計１５０Ａ，１５０Ｂ、開閉弁Ｖ２１，Ｖ２２，Ｖ２３，Ｖ２４，Ｖ２５，Ｖ２６は、それぞれＣＰＵ１００と電気的に接続されており、予め記憶された情報と現像液流量計１３０Ａ，１３０Ｂ、吸引流量計１５０Ａ，１５０Ｂの検出情報に基づいて、開閉弁Ｖ２１，Ｖ２２，Ｖ２３，Ｖ２４，Ｖ２５，Ｖ２６を調節し、第１及び第２の現像液供給ノズル２２Ａ，２２Ｂの現像液の供給タイミング及び供給量、第１及び第２の現像液供給ノズル２２Ａ，２２Ｂが吸引する現像液の吸引タイミング及び吸引量を制御可能に形成されている。この場合、ＣＰＵ１００は、少なくとも第１のノズルヘッド２０Ａと第２のノズルヘッド２０Ｂとの間のガラス基板Ｇ表面に、現像液の薄膜が形成されるように第１の吸引ノズル２３Ａを制御する。
【０１０３】
また、第１及び第２のノズルヘッド２０Ａ，２０Ｂは、図１５に示すように、アーム３６Ａ，３６Ｂを介して、水平のＸ方向に移動すると共に、垂直のＺ方向に移動可能なノズル移動手段３０Ａ，３０Ｂにそれぞれ接続されている。
【０１０４】
ノズル移動手段３０Ａ，３０Ｂは、第１実施形態のノズル移動手段３０と同様に、アーム３６Ａ，３６Ｂを水平方向（Ｘ方向）に移動する例えばボールねじ機構にて形成される水平移動機構３４Ａ，３４Ｂと、アーム３６Ａ，３６Ｂを垂直方向（Ｚ方向）に移動する例えばボールねじ機構にて形成される垂直移動機構３７Ａ，３７Ｂとで構成されており、ＣＰＵ１００と電気的に接続されている。
【０１０５】
ＣＰＵ１００は、第１のノズルヘッド２０Ａと第２のノズルヘッド２０Ｂのスキャンスピードが同一になるように、ノズル移動手段３０Ａ，３０Ｂを制御すると共に、第１のノズルヘッド２０Ａがスキャン移動を開始した後、ガラス基板Ｇの現像処理に必要な時間経過後に第２のノズルヘッド２０Ｂのスキャン移動を開始するように制御すればよい。
【０１０６】
このように構成すれば、第１のノズルヘッド２０Ａと第２のノズルヘッド２０Ｂとの間の距離によって現像領域の幅Ｗ３を調節することができるので、現像時間を可変にすることができ、現像液の消費量を抑制すると共に、ガラス基板Ｇの大きさや被処理膜の種類等に応じて、十分な現像処理時間を確保することができる。
【０１０７】
また、図１４に示すように、第１のノズルヘッド２０Ａのスキャン方向後方側に、現像処理の状態を検出する処理状態検出手段、例えば照射した光の反射強度によりガラス基板Ｇ表面の溶解状態を検出可能なＣＣＤカメラ２０１を設けてもよい。
【０１０８】
この場合、ＣＰＵ１００は、ＣＣＤカメラ２０１の検出情報に基づいて、ノズル移動手段３０Ａ、開閉弁Ｖ２４，Ｖ２５，Ｖ２６を調節し、第２のノズルヘッド２０Ｂの移動開始時期と、第２の現像液供給ノズル２２Ｂが供給する現像液の供給量と、第２の吸引ノズル２３Ｂが吸引する現像液の吸引量とを制御する。
【０１０９】
このように構成すれば、第１のノズルヘッド２０Ａによる現像処理の状態に応じて、第２のノズルヘッド２０Ｂによる現像処理を調節することができるので、更に均一な現像処理をすることができる。因みに、第１のノズルヘッド２０Ａによる第１の現像処理により、例えば８０％処理し、第２のノズルヘッド２０Ｂの現像処理により、例えば２０％処理する。
【０１１０】
また、図１４に示すように、第２のノズルヘッド２０Ｂのスキャン方向後方側に、ガラス基板Ｇと相対的に平行移動可能であると共に、ガラス基板Ｇの表面にリンス液（洗浄液）を供給可能な洗浄液供給手段例えばリンスノズル２０８と、リンスノズル２０８が供給するリンス液を吸引可能なリンス液吸引手段例えば吸引ノズル２３Ｃとを有する第３のノズルヘッド２０Ｃを設けてもよい。
【０１１１】
この場合、第３のノズルヘッド２０Ｃは、図１５に示すように、アーム２３６を介して、水平のＸ方向に移動すると共に、垂直のＺ方向に移動可能なノズル移動手段２３０に接続されている。
【０１１２】
ノズル移動手段２３０は、第１実施形態のノズル移動手段３０と同様に、アーム２３６を水平方向（Ｘ方向）に移動する例えばボールねじ機構にて形成される水平移動機構２３４と、アーム２３６を垂直方向（Ｚ方向）に移動する例えばボールねじ機構にて形成される垂直移動機構２３７とで構成されており、ＣＰＵ１００と電気的に接続されている。
【０１１３】
リンスノズル２０８は、図１４に示すように、リンス液供給管路２８２を介してリンス液供給源例えばリンス液供給タンク２８３に接続されている。また、リンス液供給管路２８２には、リンス液を圧送する図示しないポンプ等の圧送手段と、リンス液供給管路２８２内のリンス液の流量を検出するリンス液流量計２４０(洗浄液流量検出手段)と、圧縮空気等によって開閉制御されるエアオペレーションバルブ等の開閉弁Ｖ２７(洗浄液流量調節手段)とが設けられている。
【０１１４】
吸引ノズル２３Ｃは、例えばリンスノズル２０８を挟む両側に平行に設けられ、それぞれ開閉弁Ｖ２８，Ｖ２９を有する吸引管路７６Ｃを介してエジェクタ７７に接続されている。
【０１１５】
また、リンス液流量計２４０と、開閉弁Ｖ２７，Ｖ２８，Ｖ２９とは、ＣＰＵ１００に電気的に接続されている。
【０１１６】
このように構成することにより、第２のノズルヘッド２０Ｂが処理を終了した後、速やかにリンス液供給ノズル２０８からリンス液を供給して現像液を取り除き、現像処理を停止することができるので、更に均一な現像処理をすることができる。
【０１１７】
なお、上記説明では、リンスノズルを単独で設ける場合について説明したが、図１６に示すように、リンスノズル２０９を、第２のノズルヘッド２０Ｂのスキャン方向後方側に一体に設けることも可能である。
【０１１８】
また、上記説明では、第１及び第２のノズルヘッド２０Ａ，２０Ｂのそれぞれにノズル移動手段３０Ａ，３０Ｂを設ける場合について説明したが、同一のノズル移動手段３０に、現像処理に必要な時間を確保できる距離、換言すれば、現像処理に必要な時間とスキャンスピードの積に相当する距離だけ離して配設することも可能である。
【０１１９】
このように構成すれば、ノズル移動手段を複数設ける必要がなく、装置を小型化することができる。
【０１２０】
なお、第四実施形態において、その他の部分は、第一実施形態と同じであるので、同一部分には、同一符号を付して説明は省略する。
【０１２１】
なお、上記実施形態では、被処理基板がフォトマスク用のガラス基板の場合について説明したが、ガラス基板以外に例えばＬＣＤ基板や半導体ウエハ等においてもこの発明が適用できることは勿論である。
【０１２２】
【発明の効果】
以上に説明したように、この発明によれば、上記のように構成されているので、以下のような効果が得られる。
【０１２３】
１）請求項１記載の液処理装置によれば、被処理基板表面に帯状に処理液を供給する処理液供給手段を、液処理面に一定の間隔を空けて２個平行に設けることにより、２個の処理液供給手段の間に一定の液処理領域を確保することができ、処理液の流れを乱すことなく十分に液処理時間を確保することができるので、均一な液処理をすることができる。
【０１２４】
２）請求項２記載の液処理装置によれば、処理液供給手段を挟む両側にそれぞれ処理液供給手段と平行に複数設けられ、処理液供給手段から供給された処理液を吸引すると共に、被処理基板の表面に処理液の流れを形成する処理液吸引手段を設けることにより、液処理領域の幅を大きくしても処理液の流れを均一にすることができるので、均一な液処理をすることができる。
【０１２５】
３）請求項３記載の液処理装置によれば、処理液供給手段に複数の処理液供給口を設けると共に、処理液吸引手段に処理液供給口に対して千鳥状に配列される複数の処理液吸引口を設け、ノズルヘッドの液処理面を、被処理基板と相対的に平行移動する方向に対し直交する方向に、隣接する処理液供給口の間隔以上に揺動可能な揺動手段を具備することにより、大型の被処理基板を液処理する場合であっても、処理液の供給（吐出・塗布）むらや吸引むらを防止することができるので、均一な液処理をすることができる。
【０１２６】
４）請求項４記載の液処理装置によれば、被処理基板の表面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段を具備することにより、洗浄液供給手段と処理液吸引手段との間に洗浄液の流れを形成して、処理液が処理液吸引手段より洗浄液供給手段側に漏れるのを防止することができるので、上記１）〜３）に加えて更に、被処理基板上の処理液の幅を一定にすることができ、処理時間を一定にして均一な液処理をすることができる。また、被処理基板上のパーティクル等を除去することもできる。
【０１２７】
５）請求項５，６，７，１３記載の液処理装置又は液処理方法によれば、処理液供給手段を挟む両側に、処理液供給手段と平行に設けられ、処理液供給手段から供給された処理液の吸引及び被処理基板表面への洗浄液の供給を選択的に切り換え可能な切換手段を有する複数の吸引兼洗浄手段を具備することにより、被処理基板の大きさや被処理膜の種類等に合わせて液処理領域の幅を調節することができると共に、十分に液処理の時間を確保して、液処理をすることができる。したがって、一台の液処理装置によって目的に応じた複数のバリエーションの液処理を行うことができる。
【０１２８】
６）請求項８記載の液処理装置によれば、処理液供給手段と処理液吸引手段を有する第１及び第２のノズルヘッドを２個並列に具備することにより、それぞれのノズルヘッドによって、溶解生成物を除去しつつ均一な液処理を行うと共に、第１のノズルヘッドと第２のノズルヘッドとの間に一定の液処理領域を確保して、十分に液処理の時間を確保することができる。この場合、第１のノズルヘッドと第２のノズルヘッドの移動速度を同一に制御すると共に、第１のノズルヘッドの移動開始時間から、被処理基板の液処理に必要な時間経過後に第２のノズルヘッドの移動を開始するように制御することにより、液処理領域、液処理時間等を制御することができるので、更に均一な液処理をすることができる（請求項９）。
【０１２９】
７）請求項１０記載の液処理装置によれば、第１のノズルヘッドの移動方向後方側に設けられた処理状態検出手段の検出情報に基づいて、第２のノズルヘッドの移動開始時期と、第２の処理液供給手段が供給する処理液の供給量と、第２の処理液吸引手段が吸引する処理液の吸引量とを制御することにより、更に均一な液処理をすることができる。
【０１３０】
８）請求項１１，１２記載の液処理装置によれば、被処理基板と相対的に平行移動可能であると共に、被処理基板の表面に洗浄液を供給可能な洗浄液供給手段を具備することにより、液処理が終了した後、速やかに洗浄液を供給して処理液を取り除き、液処理を確実に停止することができる。したがって、更に均一な液処理をすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】
この発明の液処理装置を適用した液処理システムの一例を示す概略構成図である。
【図２】
この発明の液処理装置を示す概略平面図である。
【図３】
この発明におけるノズルヘッドの移動手段を示す斜視図（ａ）及び移動手段の垂直移動機構を示す断面図（ｂ）である。
【図４】
現像処理ユニットの概略断面図である。
【図５】
現像処理ユニットの要部を示す平面図である。
【図６】
図５のＩ−Ｉ線に沿う断面図である。
【図７】
この発明の第一実施形態の液処理装置を示す概略断面図である。
【図８】
この発明の液処理装置の要部を示す断面図（ａ）及び（ａ）のＩＩ−ＩＩ線に沿う断面図である。
【図９】
この発明における液処理面を示す概略平面図である。
【図１０】
厚さ検出手段を示す概略断面図である。
【図１１】
この発明の第二実施形態の液処理装置を示す概略断面図である。
【図１２】
この発明の第三実施形態の液処理装置を示す概略断面図である。
【図１３】
この発明の第三実施形態の液処理装置を用いた液処理パターンを示す説明図である。
【図１４】
この発明の第四実施形態の液処理装置を示す概略断面図である。
【図１５】
この発明の第四実施形態の液処理装置を示す概略平面図である。
【図１６】
この発明の別の第四実施形態の液処理装置を示す概略断面図である。
【図１７】
従来の液処理装置を示す概略断面図である。
【符号の説明】
Ｇ  ガラス基板（被処理基板）
１  現像処理装置（液処理装置）
２０  ノズルヘッド
２０Ａ  第１のノズルヘッド
２０Ｂ  第２のノズルヘッド
２１  液処理面
２１Ａ  第１の液処理面
２１Ｂ  第２の液処理面
２２  現像液供給ノズル（処理液供給手段）
２２Ａ  第１の現像液供給ノズル（第１の処理液供給手段）
２２Ｂ  第２の現像液供給ノズル（第２の処理液供給手段）
２３  吸引ノズル（処理液吸引手段）
２３Ａ  第１の吸引ノズル（第１の処理液吸引手段）
２３Ｂ  第２の吸引ノズル（第２の処理液吸引手段）
２４  サイドリンスノズル（洗浄手段）
１００  ＣＰＵ（制御手段）
１２１  現像処理装置（液処理装置）
１２２  現像液供給ノズル（処理液供給手段）
１２３，１２４  吸引ノズル（処理液吸引手段）
１３１  現像処理装置（液処理装置）
１４１  現像液供給口（処理液供給口）
１４２  吸引口（処理液吸引口）
１６１，１６２，１６３，１６４，１６５，１６６，１６７，１６８  吸引兼リンスノズル
１９１，１９２，１９３，１９４，１９５，１９６，１９７，１９８  三方弁（切換手段）
２００  現像処理装置（液処理装置）
２０１  ＣＣＤカメラ（処理状態検出手段）
２０８，２０９  リンスノズル（洗浄液供給手段）
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2004095707.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2004095707.tif 000002