【手続補正書】
【提出日】平成16年3月8日(2004.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する一対の基板の間に液晶組成物を挟持してなる液晶表示素子を構成する少なくとも一方の基板上に設置された突起状物の有無を判定する基板の測定装置であって、サンプルを載置するステージと、高さ測定手段または撮像手段とデータ処理装置とを備え、高さ測定手段から得られた高さ情報または撮像手段から得られた輝度情報から突起状物の有無を判定することを特徴とする基板の測定装置。
【請求項２】
対向する一対の基板の間に液晶組成物を挟持してなる液晶表示素子を構成する少なくとも一方の基板上に設置された突起状物の有無を判定する基板の測定装置であって、前記突起状物を１つ以上含む測定領域内を画素分割し、分割された画素単位毎に高さを測定し、前記分割画素単位毎の高さにより、前記突起状物の有無を判定することを特徴とする基板の測定装置。
【請求項３】
対向する一対の基板の間に液晶組成物を挟持してなる液晶表示素子を構成する少なくとも一方の基板上に設置された突起状物の有無を判定する基板の測定装置であって、測定する部分を決定する手段と、ある直線上の高さを測定する手段と、得られた高さ情報より突起状物の有無を判定することを特徴とする基板の測定装置。
【請求項４】
対向する一対の基板の間に液晶組成物を挟持してなる液晶表示素子を構成する少なくとも一方の基板上に設置された突起状物の有無を判定する基板の測定装置であって、測定する部分を決定する手段と、１点以上の高さを測定する手段とを備え、得られた高さ測定値より突起の有無を判定することを特徴とする基板の測定装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の基板の測定装置において、前記高さを測定する手段が測定対象基板と接触することなく行うことができるものであることを特徴とする基板の測定装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の基板の測定装置において、前記突起状物が前記一対の基板間の間隙を一定に保つためのスペーサーであることを特徴とする基板の測定装置。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれかに記載の基板の測定装置において、予め基板上に設定した基準位置より測定する部分を決定する手段をさらに有してなることを特徴とする基板の測定装置。
【請求項８】
請求項１に記載の、対向する一対の基板の間に液晶組成物を挟持してなる液晶表示素子を構成する少なくとも一方の基板上に設置された突起状物の有無を判定する基板の測定装置において、前記突起状物は複数色の樹脂層の積層により成形されたスペーサーであり、撮像手段より得られた輝度情報から少なくとも１つ以上の層を認識してスペーサーの有無を判定することを特徴とする基板の測定装置。
【請求項９】
予め設計された凸部あるいは凹部を複数有する基板の凸部あるいは凹部の高さ、長さ、断面積、位置、数の少なくとも１つを測定する基板の測定装置であって、前記基板を載置するステージと、高さ測定装置と、データ処理装置からなり、高さ測定装置で得られた高さ情報から、前記凸部あるいは凹部の高さ、長さ、断面積、位置、数の少なくとも１項目を測定することを特徴とする基板の測定装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の基板の測定装置において、前記凸部と前記凹部の相対高さを、
（１）前記高さ測定装置で得られた高さ情報から高さのしきい値を設定し、
（２）前記しきい値を超える高さを持つ画素の塊の面積、長さ、幅、高さ、位置等の特徴量を測定し、
（３）前記特徴量が予め設定している範囲に入っている塊を凸部として認識し、
（４）前記凸部の位置を基準に、予め設定された相対位置にウインドウを設定しで凹部の高さを測定し、
（５）前記凸部の高さと前記凹部の高さとの差をとることにより算出する、
ことを特徴とする基板の測定装置。
【請求項１１】
請求項９または１０に記載の基板の測定装置において、前記基板が対向する一対の基板の間に液晶組成物を挟持してなる液晶表示素子を構成する少なくとも一方の基板であることを特徴とする基板の測定装置。
【請求項１２】
請求項９または１０に記載の基板の測定装置において、前記凸部がカラーフィルタ上に設置した突起状物、あるいは前記凹部がカラーフィルタの表示画素開口部であることを特徴とする基板の測定装置。
【請求項１３】
請求項９または１０に記載の基板の測定装置において、前記凸部がカラーフィルタのブラックマトリクス上に樹脂層により成形されたスペーサー、あるいは前記凹部がカラーフィルタの表示画素開口部であることを特徴とする基板の測定装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の基板の測定装置において、前記スペーサーの高さあるいは各層の厚さを前記高さ測定装置で得られた高さ情報の分布図から測定することを特徴とする基板の測定装置。
【請求項１５】
請求項１３に記載の基板の測定装置において、前記スペーサーの断面積を、（１）前記高さ測定装置で得られた高さ情報の分布図から高さのしきい値を設定し、（２）前記しきい値を超える高さを持つ画素から断面積あるいは長さを測定する、ことを特徴とする基板の測定装置。
【請求項１６】
請求項１３に記載の基板の測定装置において、前記スペーサーの位置を、（１）前記高さ測定装置で得られた高さ情報の分布図から高さのしきい値を設定し、（２）前記しきい値を越える高さを持つ画素から突起状物の位置を測定し、（３）窓部の位置を測定し、突起状物の窓部からの相対的な位置を測定する、ことを特徴とする基板の測定装置。
【請求項１７】
請求項９または１０に記載の基板の測定装置において、凸部がカラーフィルタの画素を形成する着色層、あるいは前記凹部が前記着色層の間隙であることを特徴とする基板の測定装置。
【請求項１８】
請求項９または１０に記載の基板の測定装置において、前記高さ測定装置が該凸部あるいは凹部を１つ以上含む測定領域内を均等に画素分割し、分割された画素単位毎に高さを測定する手段が、測定対象基板と接触することなく行うことができるものであることを特徴とする基板の測定装置。
【請求項１９】
請求項６に記載の基板の測定装置において、予め基板上に設定した基準位置より測定する部分を決定する手段をさらに有してなることを特徴とする基板の測定装置。
【請求項２０】
予め設計された凸部あるいは凹部を複数有する基板の凸部あるいは凹部の長さ、断面積、位置、数の少なくとも１つを測定する基板の測定装置であって、前記基板を載置するステージと、照明装置と、撮像装置と、データ処理装置からなり、撮像装置で得られた輝度情報から、前記凸部あるいは凹部の長さ、断面積、位置の少なくとも１項目を測定することを特徴とする基板の測定装置。
【請求項２１】
請求項２０に記載の基板の測定装置において、前記基板が対向する一対の基板の間に液晶組成物を挟持してなる液晶表示素子を構成する少なくとも一方の基板であることを特徴とする基板の測定装置。
【請求項２２】
請求項２０または２１に記載の基板の測定装置において、前記凸部がカラーフィルタ上に設置した突起状物、あるいは前記凹部がカラーフィルタの表示画素開口部であることを特徴とする基板の測定装置。
【請求項２３】
請求項２０〜２２のいずれかに記載の基板の測定装置において、反射照明によって前記凸部を測定し、透過照明によって表示画素開口部を測定することを特徴とする基板の測定装置。
【請求項２４】
請求項２０〜２３のいずれかに記載の基板の測定装置において、前記凸部がカラーフィルタのブラックマトリクス上に樹脂層により成形されたスペーサー、あるいは前記凹部がカラーフィルタの表示画素開口部であることを特徴とする基板の測定装置。
【請求項２５】
請求項２４に記載の基板の測定装置において、撮像装置で得られた輝度情報から、１つ以上の層についての長さ、断面積、位置、数の少なくとも１項目を測定することを特徴とする基板の測定装置。
【請求項２６】
請求項２０〜２３のいずれかに記載の基板の測定装置において、前記凸部がカラーフィルタの画素を形成する着色層、あるいは前記凹部が着色層の間隙であることを特徴とする基板の測定装置。
【請求項２７】
請求項２０〜２３のいずれかに記載の基板の測定装置において、予め基板上に設定した基準位置より測定する部分を決定する手段をさらに有してなることを特徴とする基板の測定装置。
【請求項２８】
カラーフィルタまたは透明電極基板の製造方法であって、前記カラーフィルタまたは透明電極基板上に設置された突起状物の有無を請求項１〜５のいずれかに記載の測定装置により１箇所以上判定し、カラーフィルタまたは透明電極基板の良否判定を行うことを特徴とするカラーフィルタまたは透明電極基板の製造方法。
【請求項２９】
カラーフィルタまたは透明電極基板の製造方法であって、前記カラーフィルタまたは透明電極基板上の凸部あるいは凹部を複数有する基板の１つ以上の凸部あるいは凹部の高さ、長さ、断面積、位置の少なくとも１つを測定し、製造条件の変更を行うことを特徴とするカラーフィルタまたは透明電極基板の製造方法。
【請求項３０】
カラーフィルタまたは透明電極基板の製造方法であって、前記カラーフィルタまたは透明電極基板上の凸部あるいは凹部を複数有する基板の１つ以上の凸部あるいは凹部の高さ、長さ、断面積、位置の少なくとも１つを測定し、前記カラーフィルタまたは透明電極基板の良否判定を行うことを特徴とするカラーフィルタまたは透明電極基板の製造方法。
【請求項３１】
各画素に複数色を形成するカラーフィルタまたは透明電極基板の製造方法であって、請求項６または７に記載の測定装置を使用して、３原色形成後のカラーフィルタまたは透明電極基板の測定により前記製造工程の条件を変更することを特徴とするカラーフィルタまたは透明電極基板の製造方法。