【手続補正書】
【提出日】平成16年8月6日(2004.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学的機械研磨表面へ研磨用流体を給付するためのシステムであって：
基板を上部で研磨する為に上方で面する研磨表面を有する回転研磨材と；
少なくとも部分的に前記研磨表面の上方に配置された給付部を有するアームと；
前記給付部に配置され、前記研磨用流体を第１の速度で流すように適合した第１ノズルと；
前記給付部に配置され、前記研磨用流体を前記第１の速度とは異なる第２の速度で流すように適合した少なくとも第２ノズルと；
を備え、
前記第１ノズルは、前記研磨表面の第１部分上に、それが基板と接するときに前記第２ノズルにより前記研磨表面の第２部分上に投与される同一濃度の研磨流体より多量の研磨流体を投与する、前記システム。
【請求項２】
前記第１ノズル又は前記第２ノズルの少なくとも１つは、そこに結合された流量制御装置を更に備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記流量制御装置は、オリフィス、ニードル弁、比例弁、ピンチ弁、絞り、質量流量コントローラ及び定量ポンプからなるグループから選択された流量制御装置である、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記アームは、前記第１ノズル及び第２ノズルの双方に結合された研磨用流体給付ラインを更に備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記第１ノズルに結合される第１流体源と、前記第２ノズルに結合される第２流体源とを更に備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
研磨用流体を制御された速度で流すように適合した複数のノズルを更に備え、各ノズルは個々に制御可能である、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
研磨材を支持するように適合した回転プラテンを更に備え、該研磨材は研磨表面を備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記第１ノズルは、研磨パッドの回転の中心に関して前記第２ノズルの半径方向内側に配置されており、第１の流れは第２の流れの少なくとも１.１５倍多い、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
第１の流れは、第２の流れの速度の約１.２〜約２０倍である、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記ノズルを通る流れの少なくとも１つを制御するのに利用される情報を供給するように適合した計測学装置を更に備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
化学的機械研磨表面へ研磨用流体を給付するためのシステムであって、
前記研磨表面を支持するプラテンと、
該プラテンの上方に配置され、前記研磨表面に対して基板を保持するのに適合した研磨ヘッドと、
少なくとも部分的に前記研磨表面の上方に配置された給付部を有するアームと、
前記給付部に配置され、前記研磨用流体を前記研磨表面の第１部分に第１の制御可能な速度で流すように適合した第１ノズルと、
前記給付部に配置され、前記研磨用流体を前記研磨表面の第２部分に前記第１の制御可能な速度とは異なる第２の制御可能な速度で流すように適合した少なくとも第２ノズルであって、前記第１部分に流された前記研磨流体は、それが基板と接するときに前記第２ノズルにより前記第２部分上に流された同一濃度の研磨流体より多量である、前記第２ノズルと、
前記ノズルを通る流れの少なくとも１つを制御するのに利用される情報を供給するように適合した計測学装置と、
を備える、前記システム。
【請求項１２】
化学的機械研磨表面へ研磨用流体を給付するためのシステムであって、
前記研磨表面に面するように適合した裏側と複数の管受け部とを有するアームと、
前記アームに結合され研磨用流体を流すように適合すると共に、前記管受け部の少なくとも２つの間に位置決め可能な少なくとも１つの管と、
を備える、前記システム。
【請求項１３】
前記管受け部のうちの少なくとも２つは、
前記アームの第１の側部に沿って間隔をあけた第１組の管受け孔を画成しており、
少なくとも２つの他の管受け部は、
前記第１の側部の反対側に配置された前記アームの第２の側部に等距離で間隔をあけて前記アーム内に形成された第２組の管受け孔を画成している、
請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
各管受け部中に配置されるコレットを更に備え、該コレットは、それに管を貫通せしめると共に、該管を前記アームに結合させている、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１５】
前記管により占められていない孔に配置された少なくとも１つのプラグを更に備える、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１６】
前記プラグは、
中央本体部と、
該中央本体部から延びる支柱とを更に備え、該支柱が前記アームと少なくとも同一平面に配置されるか、或いは前記アームを越えて突き出ており、
各孔は、
ねじ部を有する第１の部分と、
該第１の部分に対して同心状に配置されており、該第１の部分の直径よりも小さな直径を有すると共に、前記プラグの前記支柱が前記第２部分に詰まっている第２の部分と、
前記第１の部分及び前記第２の部分の境界面のところに画成された段部と、
前記ねじ部に係合すると共に、前記プラグの前記中央本体部を付勢して前記段部に当てる止めねじと、
を更に備える、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
研磨用流体が通って流れる管の組合せを選択的に変更するための手段を更に備える、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１８】
化学的機械研磨表面へ研磨用流体を給付するためのシステムであって、
アームと、
複数の研磨用流体給付管と、
該研磨用流体給付管を受けるため前記アームに形成された複数の孔とを備え、前記管の各々は、前記孔の１つに通し配置されると共に、前記アームに結合されており、
前記研磨用流体給付管と孔の関係は、
Ａ/Ｂ＞１
で示され、ここで、
Ａは、孔の数
Ｂは、研磨用流体給付管の数
である、前記システム。
【請求項１９】
研磨用流体を化学的機械研磨表面に供給する方法であって、
研磨用流体を回転研磨パッドの第１部分上に第１の速度で流すステップと、
研磨用流体を前記パッドの第２部分上に前記第１の速度とは異なる第２の速度で流すステップであって、前記第１部分に配置された前記研磨流体は、研磨される基板とそれが接するとき、前記第２部分上に配置された研磨流体より多量である、前記第２ノズルと、
を備える、前記方法。
【請求項２０】
前記第１の速度は、前記第２の速度に対して別個に制御可能である、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記研磨用流体を第１の速度で流すステップは、
研磨基準値に応じて研磨中に前記第１の速度を調整することを含む、
請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
研磨用流体を化学的機械研磨装置の研磨表面に給付するための方法であって、
研磨用流体給付管に結合されると共に、該研磨用流体給付管の数を超える複数の管保持位置を有する研磨用流体給付アームを提供するステップと、
所望の研磨結果を生み出すため、前記複数の管保持位置から、前記アームに沿った少なくとも第１及び第２研磨用流体給付管間の相対的間隔を選択するステップと、
を備える、前記方法。
【請求項２３】
前記研磨用流体給付管の少なくとも１つは、研磨されている基板の表面特性の変化に応じて、前記アームに沿った、異なる位置へ移動される、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記研磨用流体給付管の少なくとも１つは、基板の直径の端から端まで局所研磨速度を変えるため、前記アームに沿った、異なる位置へ移動される、請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】
研磨用流体を化学的機械研磨装置の研磨表面に給付するための方法であって、
前記研磨表面の上方に間隔をあけて離れた関係で配置された複数の出口に連絡するマニホルドに研磨用流体を流入させるステップと、
前記出口のうちの少なくとも１つを通る研磨用流体の流れを可能とするステップと、
前記出口のうちの少なくとも１つを通る研磨用流体の流れを防止し、そこを通る研磨用流体の流れにより又は流れのないことにより特徴付けられる状態を有する前記出口の少なくとも１つがその位置で反対の状態に変えられるステップと、
を備える、前記方法。