【手続補正書】
【提出日】平成16年2月20日(2004.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体集積回路を露光媒体上に露光するために用いられる露光データを作成する露光データ作成方法であって、
前記半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを露光パターンデータ群として抽出するステップと、
前記露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルであって、該繰り返し露光パターンデータのアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含むまとめテーブルと該まとめ領域のアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含む配置テーブルとを含むまとめ情報テーブルを作成するステップと、
前記まとめ情報テーブルに基づいて前記設計データをまとめ直した露光データを作成するステップと
から構成される露光データ作成方法。
【請求項２】
半導体集積回路を露光媒体上に露光するために用いられる露光データを作成する露光データ作成方法であって、
前記半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを露光パターンデータ群として抽出するステップと、
前記設計データを変換した仮露光データを作成するステップと、
前記露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルであって、該繰り返し露光パターンデータのアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含むまとめテーブルと該まとめ領域のアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含む配置テーブルとを含むまとめ情報テーブルを作成するステップと、
前記まとめ情報テーブルに基づいて前記仮露光データをまとめ直した露光データを再作成するステップと
から構成される露光データ作成方法。
【請求項３】
半導体集積回路を露光媒体上に露光するために用いられる露光データを作成する露光データ作成方法であって、
前記半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを露光パターンデータ群として抽出するステップと、
前記露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルを作成するステップと、
前記まとめ情報テーブルに基づいて前記設計データをまとめ直した露光データを作成するステップと
を備え、
前記まとめ情報を作成するステップは、
前記露光パターンデータ群を認識し、前記露光パターンデータ群を構成する露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとを求める第１のステップと、
前記露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとに基づいて、前記まとめ領域に格納する基の露光パターンデータのまとめ情報テーブルを求める第２のステップと、
前記まとめ情報テーブルに基づいて、前記露光パターンデータ群の配置データを再作成する第３のステップと、
前記まとめ情報テーブルに基づいて、前記露光パターデータのパターンデータを再作成する第４のステップと
から構成された露光データ作成方法。
【請求項４】
半導体集積回路を露光媒体上に露光するために用いられる露光データを作成する露光データ作成方法であって、
前記半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを露光パターンデータ群として抽出するステップと、
前記設計データを変換した仮露光データを作成するステップと、
前記露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルを作成するステップと、
前記まとめ情報テーブルに基づいて前記仮露光データをまとめ直した露光データを再作成するステップと
を備え、
前記まとめ情報テーブルを作成するステップは、
前記露光パターンデータ群を認識し、前記露光パターンデータ群を構成する露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとを求める第１のステップと、
前記露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとに基づいて、前記まとめ領域に格納する基の露光パターンデータのまとめ情報テーブルを求める第２のステップと、
前記まとめ情報テーブルに基づいて、前記露光パターンデータ群の配置データを再作成する第３のステップと、
前記まとめ情報テーブルに基づいて、前記露光パターデータのパターンデータを再作成する第４のステップと
から構成された露光データ作成方法。
【請求項５】
請求項３又は請求項４に記載の露光データ作成方法において、
前記第２のステップは、
前記まとめ領域に対して前記繰り返し露光パターンデータを格納する最大個数を求めるステップと、
前記露光パターンデータ群の全ての繰り返し露光パターンデータを格納するのに必要なまとめ領域の個数を求めるステップと、
前記まとめ領域に対して繰り返し露光パターンデータを均等配置できるか否かを判断し、その判断結果に基づいて均等配置できる場合に前記まとめ領域に繰り返しパターンデータを均等に配置する個数を候補値に設定するステップと、
前記候補値に基づいて、該候補値が設定されていない場合には前記最大個数をまとめ領域に対する前記繰り返しパターンデータの併合値に設定し、前記候補値が設定されている場合には該候補値を併合値に設定するステップと、
前記候補値と併合値とに基づいて前記まとめ情報テーブルを作成するステップと
から構成された露光データ作成方法。
【請求項６】
請求項３、請求項４又は５に記載の露光データ作成方法において、
前記まとめ情報を作成するステップは、
前記まとめ領域に対するｘ方向とｙ方向の候補値及び併合値に基づいて前記まとめテーブル及び配置テーブルを作成するものであり、
前記全てのまとめ領域に対して均等配置できる場合には１種類の前記まとめテーブルと配置テーブルとを作成するステップと、
前記ｘ方向またはｙ方向に対して均等配置できる場合にはそれぞれ２種類のまとめテーブルと配置テーブルとを作成するステップと、
前記ｘ方向及びｙ方向に対して均等配置できない場合には４種類のまとめテーブルと配置テーブルとを作成するステップと
から構成された露光データ作成方法。
【請求項７】
請求項３乃至６のいずれか１項に記載の露光データ作成方法において、
前記第４のステップは、
基の露光パターンデータが単独表現か、複数の基本パターンデータを繰り返すマトリックス表現かを判断するステップと、
前記判断結果に基づいて、露光パターンデータが単独表現の場合に露光データの再作成を行うステップと、
前記判断結果に基づいて、基の露光パターンデータがマトリックス表現の場合に、該基の露光パターンデータを展開して露光データの再作成を行うステップとから構成された露光データ作成方法。
【請求項８】
請求項７に記載の露光データ作成方法において、
前記露光パターンデータを展開するときに、前記基の露光パターンデータの繰り返し個数と、該露光パターンデータを構成する基本パターンデータのマトリックス個数とを比較し、少ない方を展開して新たな繰り返し露光パターンデータを作成するようにした露光データ作成方法。
【請求項９】
請求項１及至８のうちのいずれか１項に記載の露光データ作成方法において、
前記露光データは、露光装置に備えられ露光媒体を移動させるステージと、前記露光媒体を露光するビームを該露光媒体の所望位置に移動させる偏向器とを制御するために利用されるものであり、
前記まとめ領域は、前記露光装置のビーム移動させる偏向器に対応した領域に設定された露光データ作成方法。
【請求項１０】
半導体集積回路を露光媒体上に露光するために用いられる露光データを作成する露光データ作成装置であって、
前記半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを露光パターンデータ群として抽出する繰り返しデータ抽出手段と、
前記露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルであって、該繰り返し露光パターンデータのアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含むまとめテーブルと該まとめ領域のアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含む配置テーブルとを含むまとめ情報テーブルを作成するまとめ手段と、
前記まとめ情報テーブルに基づいて前記設計データをまとめ直した露光データを作成する露光データ構築手段と
を備えた露光データ作成装置。
【請求項１１】
半導体集積回路を露光媒体上に露光するために用いられる露光データを作成する露光データ作成装置であって、
前記半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを繰り返し露光パターンデータとし、該パターンデータにより構成される露光パターンデータ群を抽出する繰り返しデータ抽出手段と、
前記設計データを変換した仮露光データを作成する仮露光データ作成手段と、
前記露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルであって、該繰り返し露光パターンデータのアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含むまとめテーブルと該まとめ領域のアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含む配置テーブルとを含むまとめ情報テーブルを作成するまとめ手段と、
前記まとめ情報テーブルに基づいて前記仮露光データをまとめ直した露光データを再作成する露光データ構築手段と
を備えた露光データ作成装置。
【請求項１２】
半導体集積回路を露光媒体上に露光するために用いられる露光データを作成する露光データ作成装置であって、
前記半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを露光パターンデータ群として抽出する繰り返しデータ抽出手段と、
前記露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルを作成するまとめ手段と、
前記まとめ情報テーブルに基づいて前記設計データをまとめ直した露光データを作成する露光データ構築手段と
を備え、
前記まとめ手段は、
前記露光パターンデータ群を認識し、前記露光パターンデータ群を構成する露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとを求める第１手段と、
前記露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとに基づいて、前記まとめ領域に格納する基の露光パターンデータのまとめ情報テーブルを求める第２手段と、
前記まとめ情報テーブルに基づいて、前記露光パターンデータ群の配置データを再作成する第３手段と、
前記まとめ情報テーブルに基づいて、前記露光パターデータのパターンデータを再作成する第４手段と
を備えた露光データ作成装置。
【請求項１３】
半導体集積回路を露光媒体上に露光するために用いられる露光データを作成する露光データ作成装置であって、
前記半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを繰り返し露光パターンデータとし、該パターンデータにより構成される露光パターンデータ群を抽出する繰り返しデータ抽出手段と、
前記設計データを変換した仮露光データを作成する仮露光データ作成手段と、
前記露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルを作成するまとめ手段と、
前記まとめ情報テーブルに基づいて前記仮露光データをまとめ直した露光データを再作成する露光データ構築手段と
を備え、
前記まとめ手段は、
前記露光パターンデータ群を認識し、前記露光パターンデータ群を構成する露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとを求める第１手段と、
前記露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとに基づいて、前記まとめ領域に格納する基の露光パターンデータのまとめ情報テーブルを求める第２手段と、
前記まとめ情報テーブルに基づいて、前記露光パターンデータ群の配置データを再作成する第３手段と、
前記まとめ情報テーブルに基づいて、前記露光パターデータのパターンデータを再作成する第４手段と
を備えた露光データ作成装置。
【請求項１４】
請求項１乃至９のうちのいずれか１項に記載のステップよりなるプログラムを格納した記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１に記載の発明は、半導体集積回路を露光媒体上に露光するために用いられる露光データを作成する露光データ作成方法であって、前記半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを露光パターンデータ群として抽出するステップと、前記露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルであって、該繰り返し露光パターンデータのアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含むまとめテーブルと該まとめ領域のアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含む配置テーブルとを含むまとめ情報テーブルを作成するステップと、前記まとめ情報テーブルに基づいて前記設計データをまとめ直した露光データを作成するステップとから構成される。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項２に記載の発明は、半導体集積回路を露光媒体上に露光するために用いられる露光データを作成する露光データ作成方法であって、前記半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを露光パターンデータ群として抽出するステップと、前記設計データを変換した仮露光データを作成するステップと、前記露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルであって、該繰り返し露光パターンデータのアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含むまとめテーブルと該まとめ領域のアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含む配置テーブルとを含むまとめ情報テーブルを作成するステップと、前記まとめ情報テーブルに基づいて前記仮露光データをまとめ直した露光データを再作成するステップとから構成される。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項３に記載の発明は、半導体集積回路を露光媒体上に露光するために用いられる露光データを作成する露光データ作成方法であって、前記半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを露光パターンデータ群として抽出するステップと、前記露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルを作成するステップと、前記まとめ情報テーブルに基づいて前記設計データをまとめ直した露光データを作成するステップとを備え、前記まとめ情報を作成するステップは、前記露光パターンデータ群を認識し、前記露光パターンデータ群を構成する露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとを求める第１のステップと、前記露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとに基づいて、前記まとめ領域に格納する基の露光パターンデータのまとめ情報テーブルを求める第２のステップと、前記まとめ情報テーブルに基づいて、前記露光パターンデータ群の配置データを再作成する第３のステップと、前記まとめ情報テーブルに基づいて、前記露光パターデータのパターンデータを再作成する第４のステップとから構成される。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
請求項４に記載の発明は、半導体集積回路を露光媒体上に露光するために用いられる露光データを作成する露光データ作成方法であって、前記半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを露光パターンデータ群として抽出するステップと、前記設計データを変換した仮露光データを作成するステップと、前記露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルを作成するステップと、前記まとめ情報テーブルに基づいて前記仮露光データをまとめ直した露光データを再作成するステップとを備え、前記まとめ情報テーブルを作成するステップは、前記露光パターンデータ群を認識し、前記露光パターンデータ群を構成する露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとを求める第１のステップと、前記露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとに基づいて、前記まとめ領域に格納する基の露光パターンデータのまとめ情報テーブルを求める第２のステップと、前記まとめ情報テーブルに基づいて、前記露光パターンデータ群の配置データを再作成する第３のステップと、前記まとめ情報テーブルに基づいて、前記露光パターデータのパターンデータを再作成する第４のステップとから構成される。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
請求項５に記載の発明は、請求項３又は請求項４に記載の露光データ作成方法において、前記第２のステップは、前記まとめ領域に対して前記繰り返し露光パターンデータを格納する最大個数を求めるステップと、前記露光パターンデータ群の全ての繰り返し露光パターンデータを格納するのに必要なまとめ領域の個数を求めるステップと、前記まとめ領域に対して繰り返し露光パターンデータを均等配置できるか否かを判断し、その判断結果に基づいて均等配置できる場合に前記まとめ領域に繰り返しパターンデータを均等に配置する個数を候補値に設定するステップと、前記候補値に基づいて、該候補値が設定されていない場合には前記最大個数をまとめ領域に対する前記繰り返しパターンデータの併合値に設定し、前記候補値が設定されている場合には該候補値を併合値に設定するステップと、前記候補値と併合値とに基づいて前記まとめ情報テーブルを作成するステップとから構成される。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項６に記載の発明は、請求項３、請求項４又は５に記載の露光データ作成方法において、前記まとめ情報を作成するステップは、前記まとめ領域に対するｘ方向とｙ方向の候補値及び併合値に基づいて前記まとめテーブル及び配置テーブルを作成するものであり、前記全てのまとめ領域に対して均等配置できる場合には１種類の前記まとめテーブルと配置テーブルとを作成するステップと、前記ｘ方向またはｙ方向に対して均等配置できる場合にはそれぞれ２種類のまとめテーブルと配置テーブルとを作成するステップと、前記ｘ方向及びｙ方向に対して均等配置できない場合には４種類のまとめテーブルと配置テーブルとを作成するステップとから構成される。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
請求項７に記載の発明は、請求項３乃至６のいずれか１項に記載の露光データ作成方法において、前記第４のステップは、基の露光パターンデータが単独表現か、複数の基本パターンデータを繰り返すマトリックス表現かを判断するステップと、前記判断結果に基づいて、露光パターンデータが単独表現の場合に露光データの再作成を行うステップと、前記判断結果に基づいて、基の露光パターンデータがマトリックス表現の場合に、該基の露光パターンデータを展開して露光データの再作成を行うステップとから構成される。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
請求項１０に記載の発明は、半導体集積回路を露光媒体上に露光するために用いられる露光データを作成する露光データ作成装置であって、前記半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを露光パターンデータ群として抽出する繰り返しデータ抽出手段と、前記露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルであって、該繰り返し露光パターンデータのアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含むまとめテーブルと該まとめ領域のアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含む配置テーブルとを含むまとめ情報テーブルを作成するまとめ手段と、前記まとめ情報テーブルに基づいて前記設計データをまとめ直した露光データを作成する露光データ構築手段とを備えたことを要旨とする。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
請求項１１に記載の発明は、半導体集積回路を露光媒体上に露光するために用いられる露光データを作成する露光データ作成装置であって、前記半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを繰り返し露光パターンデータとし、該パターンデータにより構成される露光パターンデータ群を抽出する繰り返しデータ抽出手段と、前記設計データを変換した仮露光データを作成する仮露光データ作成手段と、前記露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルであって、該繰り返し露光パターンデータのアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含むまとめテーブルと該まとめ領域のアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含む配置テーブルとを含むまとめ情報テーブルを作成するまとめ手段と、前記まとめ情報テーブルに基づいて前記仮露光データをまとめ直した露光データを再作成する露光データ構築手段とを備えたことを要旨とする。


【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
請求項１２に記載の発明は、半導体集積回路を露光媒体上に露光するために用いられる露光データを作成する露光データ作成装置であって、前記半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを露光パターンデータ群として抽出する繰り返しデータ抽出手段と、前記露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルを作成するまとめ手段と、前記まとめ情報テーブルに基づいて前記設計データをまとめ直した露光データを作成する露光データ構築手段とを備え、前記まとめ手段は、前記露光パターンデータ群を認識し、前記露光パターンデータ群を構成する露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとを求める第１手段と、前記露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとに基づいて、前記まとめ領域に格納する基の露光パターンデータのまとめ情報テーブルを求める第２手段と、前記まとめ情報テーブルに基づいて、前記露光パターンデータ群の配置データを再作成する第３手段と、前記まとめ情報テーブルに基づいて、前記露光パターデータのパターンデータを再作成する第４手段とを備えたことを要旨とする。
請求項１３に記載の発明は、半導体集積回路を露光媒体上に露光するために用いられる露光データを作成する露光データ作成装置であって、前記半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを繰り返し露光パターンデータとし、該パターンデータにより構成される露光パターンデータ群を抽出する繰り返しデータ抽出手段と、前記設計データを変換した仮露光データを作成する仮露光データ作成手段と、前記露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルを作成するまとめ手段と、前記まとめ情報テーブルに基づいて前記仮露光データをまとめ直した露光データを再作成する露光データ構築手段とを備え、前記まとめ手段は、前記露光パターンデータ群を認識し、前記露光パターンデータ群を構成する露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとを求める第１手段と、前記露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとに基づいて、前記まとめ領域に格納する基の露光パターンデータのまとめ情報テーブルを求める第２手段と、前記まとめ情報テーブルに基づいて、前記露光パターンデータ群の配置データを再作成する第３手段と、前記まとめ情報テーブルに基づいて、前記露光パターデータのパターンデータを再作成する第４手段とを備えたことを要旨とする。
請求項１４に記載の発明は、請求項１乃至９のうちのいずれか１項に記載のステップよりなるプログラムを格納した記憶媒体をその要旨とする。
（作用）
従って、請求項１に記載の発明によれば、半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータが露光パターンデータ群として抽出され、露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルであって、該繰り返し露光パターンデータのアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含むまとめテーブルと該まとめ領域のアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含む配置テーブルとを含むまとめ情報テーブルが作成される。そのまとめ情報テーブルに基づいて設計データがまとめ直された露光データが作成される。


【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
請求項２に記載の発明によれば、半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを繰り返し露光パターンデータが露光パターンデータ群として抽出される。また、設計データを変換した仮露光データが作成される。そして、露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルであって、該繰り返し露光パターンデータのアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含むまとめテーブルと該まとめ領域のアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含む配置テーブルとを含むまとめ情報テーブルが作成され、そのまとめ情報テーブルに基づいて仮露光データがまとめ直された露光データが再作成される。


【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
請求項３に記載の発明によれば、半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータが露光パターンデータ群として抽出され、露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルが作成される。そのまとめ情報テーブルに基づいて設計データがまとめ直された露光データが作成される。そのまとめ情報テーブルを作成するステップは、第１〜第４のステップにより構成される。第１のステップでは、露光パターンデータ群が認識され、露光パターンデータ群を構成する露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとが求められる。第２のステップでは、露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとに基づいて、まとめ領域に格納する基の露光パターンデータのまとめ情報テーブルが求められる。第３のステップでは、まとめ情報テーブルに基づいて、露光パターンデータ群の配置データが再作成される。第４のステップでは、まとめ情報テーブルに基づいて、露光パターデータのパターンデータが再作成される。


【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
請求項４に記載の発明によれば、半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを繰り返し露光パターンデータが露光パターンデータ群として抽出される。また、設計データを変換した仮露光データが作成される。そして、露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルが作成され、そのまとめ情報テーブルに基づいて仮露光データがまとめ直された露光データが再作成される。そのまとめ情報テーブルを作成するステップは、第１〜第４のステップにより構成される。第１のステップでは、露光パターンデータ群が認識され、露光パターンデータ群を構成する露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとが求められる。第２のステップでは、露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとに基づいて、まとめ領域に格納する基の露光パターンデータのまとめ情報テーブルが求められる。第３のステップでは、まとめ情報テーブルに基づいて、露光パターンデータ群の配置データが再作成される。第４のステップでは、まとめ情報テーブルに基づいて、露光パターデータのパターンデータが再作成される。


【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
請求項１０に記載の発明によれば、繰り返しデータ抽出手段は、半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを露光パターンデータ群として抽出する。まとめ手段は、露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルであって、該繰り返し露光パターンデータのアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含むまとめテーブルと該まとめ領域のアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含む配置テーブルとを含むまとめ情報テーブルを作成する。露光データ構築手段は、まとめ情報テーブルに基づいて設計データをまとめ直した露光データを作成する。


【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
請求項１１に記載の発明によれば、繰り返しデータ抽出手段は、半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを繰り返し露光パターンデータとし、パターンデータにより構成される露光パターンデータ群を抽出する。仮露光データ作成手段は、設計データを変換した仮露光データを作成する。まとめ手段は、露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルであって、該繰り返し露光パターンデータのアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含むまとめテーブルと該まとめ領域のアドレスと、繰り返し個数及び繰り返しピッチを含む配置テーブルとを含むまとめ情報テーブルを作成する。露光データ構築手段は、まとめ情報テーブルに基づいて仮露光データをまとめ直した露光データを再作成する。


【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
請求項１２に記載の発明によれば、繰り返しデータ抽出手段は、半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを露光パターンデータ群として抽出する。まとめ手段は、露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルを作成する。露光データ構築手段は、まとめ情報テーブルに基づいて設計データをまとめ直した露光データを作成する。そのまとめ手段は、第１〜第４手段により構成される。第１手段では、露光パターンデータ群が認識され、露光パターンデータ群を構成する露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとが求められる。第２手段では、露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとに基づいて、まとめ領域に格納する基の露光パターンデータのまとめ情報テーブルが求められる。第３手段では、まとめ情報テーブルに基づいて、露光パターンデータ群の配置データが再作成される。第４手段では、まとめ情報テーブルに基づいて、露光パターデータのパターンデータが再作成される。
請求項１３に記載の発明によれば、繰り返しデータ抽出手段は、半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを繰り返し露光パターンデータとし、パターンデータにより構成される露光パターンデータ群を抽出する。仮露光データ作成手段は、設計データを変換した仮露光データを作成する。まとめ手段は、露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域に複数まとめ直すまとめ情報テーブルを作成する。露光データ構築手段は、まとめ情報テーブルに基づいて仮露光データをまとめ直した露光データを再作成する。そのまとめ手段は、第１〜第４手段により構成される。第１手段では、露光パターンデータ群が認識され、露光パターンデータ群を構成する露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとが求められる。第２手段では、露光パターンデータの繰り返し個数と繰り返しピッチとに基づいて、まとめ領域に格納する基の露光パターンデータのまとめ情報テーブルが求められる。第３手段では、まとめ情報テーブルに基づいて、露光パターンデータ群の配置データが再作成される。第４手段では、まとめ情報テーブルに基づいて、露光パターデータのパターンデータが再作成される。
請求項１４に記載の発明によれば、記憶媒体には、請求項１乃至９のうちのいずれか１項に記載のステップよりなるプログラムが格納される。


【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
また、磁気ディスク３４には、図２に示されるデータファイル４１が記憶されている。データファイル４１には、例えば図示しないＣＡＤ装置により回路設計及びレイアウト設計されたメモリ等の繰り返しの多いパターンを含む半導体装置（ＬＳＩ）チップの設計データが予め格納されている。図１に示されるＣＰＵ３２は、データフィル４１から設計データを入力し、その設計データに基づいて図２に示される露光データ作成処理を実行する。


【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
即ち、図２に示されるステップ５１は処理データ入力処理（処理データ入力手段）であって、図１中のＣＰＵ３２は、データフィル４１から設計データを入力する。


【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
次に、図２に示されるステップ５２は繰り返しデータ抽出処理（繰り返しデータ抽出手段）であって、図１中のＣＰＵ３２は、入力した設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを露光パターンデータ群として認識抽出する。そして、ＣＰＵ３２は、抽出した露光パターンデータ群を配置データとして図２中のデータファイル４２に格納する。配置データの格納を終了すると、図１中のＣＰＵ３２は、図２に示されるステップ５３からステップ５３に移る。


【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
次に、図２に示されるステップ５３において、図１中のＣＰＵ３２は、全ての設計データ、即ち、図２中のステップ５２において抽出したパターンデータ群と、抽出した後のパターンデータに対して、所定の図形処理、例えば、ＯＲ処理、サイジング処理、シュリンク処理等のように、ＬＳＩの露光データを作成する上で必要となる図形処理を施す。そして、図１に示されるＣＰＵ３２は、図形処理後のレイアウトデータを中間データとして磁気ディスク３４上のデータファイル４３に格納する。中間データの格納を終了すると、図１中のＣＰＵ３２は、図２に示されるステップ５３からステップ５４に移る。


【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８１】
以上記述したように、本実施の形態によれば、以下の効果を奏する。
○半導体集積回路の設計データから繰り返し性のある露光パターンデータを露光パターンデータ群として抽出するとともに、設計データを変換した仮露光データを作成する。露光パターンデータ群を構成する繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域にまとめ直すまとめ情報テーブルを作成する。そして、作成したまとめ情報テーブルに基づいて、仮露光パターンデータをまとめなおした正式な露光データを作成するようにした。その結果、繰り返し露光パターンデータを所定のまとめ領域にまとめ直した分、露光データのデータ量を少なくすることができる。


【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８９】
また、請求項１０乃至１３に記載の発明によれば、繰り返しの多い露光パターンデータのデータ量を少なくすることが可能な露光データ生成装置を提供することができる。


【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１９０】
更に、請求項１４に記載の発明によれば、繰り返しの多い露光パターンデータのデータ量を少なくすることが可能なプログラムを記憶した記憶媒体を提供することができる。