【手続補正書】
【提出日】平成15年2月10日(2003.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学式１で表示されるキラルサレン触媒であって、
【化１】
2004521740.tif 000001
上記の式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ’１、Ｒ’２、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８、Ｙ１及びＹ２は互いに独立して水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケン基、Ｃ２〜Ｃ６アルキン基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、チオール基、ニトロ基、アミン基、イミン基、アミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シリル基、エーテル基、チオエーテル基、セレノエーテル基、ケトン基、アルデヒド基、エステル基、ホスホリル基、ホスホネート基、ホスフィン基、スルホニル基、または（ＣＨ２）ｋ−Ｒ４であり、Ｒ４はフェニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、複素環または多環を示し、ｋは０から８までの整数である）か、またはいずれか二個以上の近接した Ｒ１、Ｒ２、Ｒ’１、Ｒ’２、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８、Ｙ１及びＹ２が環をなし、４個ないし１０個の原子で構成された炭素環、または複素環を形成でき、Ｒ３は直接結合、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＮＨ−、−Ｏ−、または−Ｓ−を示し、ＭはＣｏ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｍｏ及びＮｉからなる群から選択された金属原子を示し、ＬはＢまたはＡｌを示し、ＱはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群から選択されたハロゲン原子であり、ｎは０から４までの整数である触媒。
【請求項２】
上記のＸ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８、Ｙ１及びＹ２は、互いに独立して水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基及びＣ１〜Ｃ６アルコキシ基からなる群から選択されることを特徴とする請求項１に記載のキラルサレン触媒。
【請求項３】
上記のＸ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、Ｘ７及びＸ８は、互いに独立して水素原子またはｔ−ブチル基であり、上記のＹ１及びＹ２はすべて水素原子である請求項２に記載のキラルサレン触媒。
【請求項４】
Ｒ１及びＲ’１が、互いに組合わさってＣ４〜Ｃ６の炭素環を形成して、Ｒ’２及びＲ２が水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、またはＣ１〜Ｃ６アルコキシ基であるか、またはＲ’１及びＲ１が素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、及びＣ１〜Ｃ６アルコキシ基であり、Ｒ２及びＲ’２が互いに組合わさってＣ４〜Ｃ６の炭素環を形成することを特徴とする請求項１に記載のキラルサレン触媒。
【請求項５】
ＬＱ３が、ＢＦ３、ＢＣｌ３、ＢＢｒ３またはＡｌＣｌ３であることを特徴とする請求項１に記載のキラルサレン触媒。
【請求項６】
ＬＱ３が、ＢＦ３であることを特徴とする請求項１に記載のキラルサレン触媒。
【請求項７】
上記のＭは、Ｃｏであることを特徴とする請求項１に記載のキラルサレン触媒。
【請求項８】
上記の触媒が、次の化学式１ａまたは化学式１ｂで表示され、
【化２】
2004521740.tif 000002
【化３】
2004521740.tif 000003
上記の化学式１ａまたは１ｂで、ｎは０から４までの整数である請求項１に記載のキラルサレン触媒。
【請求項９】
請求項１に記載の化学式１で表示されるキラルサレン触媒の製造方法であって、次の化学式３で表示される化合物を０．５当量のＬＱ３と反応させることを含み、
【化４】
2004521740.tif 000004
上記式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ’１、Ｒ’２、Ｒ３、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８、Ｙ１、Ｙ２、Ｍ、Ｌ及びＱは、上記の請求項１で定義したものと同様であるキラルサレン触媒の製造方法。
【請求項１０】
上記の Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８、Ｙ１及びＹ２は、互いに独立して水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、及びＣ１〜Ｃ６アルコキシ基からなる群から選択されることを特徴とする請求項９に記載のキラルサレン触媒の製造方法。
【請求項１１】
上記のＸ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、Ｘ７及びＸ８は、互いに独立して水素原子またはｔ−ブチル基であり、上記のＹ１及びＹ２はすべて水素原子である請求項１０に記載のキラルサレン触媒の製造方法。
【請求項１２】
Ｒ１及びＲ’１が互いに組合わさってＣ４〜Ｃ６の炭素環を形成し、Ｒ’２及びＲ２が水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、またはＣ１〜Ｃ６アルコキシ基であるか、またはＲ’１及びＲ１が水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、及びＣ１〜Ｃ６アルコキシ基であり、Ｒ２及びＲ’２が互いに組合わさってＣ４〜Ｃ６の炭素環を形成することを特徴とする請求項９に記載のキラルサレン触媒の製造方法。
【請求項１３】
ＬＱ３が、ＢＦ３、ＢＣｌ３、ＢＢｒ３またはＡｌＣｌ３であることを特徴とする請求項９に記載のキラルサレン触媒の製造方法。
【請求項１４】
ＬＱ３が、ＢＦ３であることを特徴とする請求項９に記載のキラルサレン触媒の製造方法。
【請求項１５】
上記のＢＦ３が、ホウ素トリフルオライド−ジハイドレート、ホウ素トリフルオライド−酢酸、ホウ素トリフルオライド−ｔ−ブチルメチルエーテレート、ホウ素トリフルオライド−ジブチルエーテレート、ホウ素トリフルオライド−ジエチルエーテレート、ホウ素トリフルオライド−ジメチルエーテレート、ホウ素トリフルオライド−エチルアミン、ホウ素トリフルオライド−メタノール、ホウ素トリフルオライド−メチルスルファイド、ホウ素トリフルオライド−フェノール、ホウ素トリフルオライド−リン酸、ホウ素トリフルオライド−プロパノール、及びホウ素トリフルオライド−テトラヒドロフランで構成された群から選択されるホウ素トリフルオライド誘導体の形態で添加されることを特徴とする請求項１４に記載のキラルサレン触媒の製造方法。
【請求項１６】
上記のＭは、Ｃｏであることを特徴とする請求項９に記載のキラルサレン触媒の製造方法。
【請求項１７】
上記の触媒が次の化学式１ａまたは化学式１ｂで表示され、
【化５】
2004521740.tif 000005
【化６】
2004521740.tif 000006
上記の化学式１ａまたは１ｂにおいて、ｎは０から４までの整数である請求項９に記載のキラルサレン触媒の製造方法。
【請求項１８】
ラセミックエポキシドを立体選択的に加水分解反応させてキラルエポキシド、またはキラル１，２−ジオールのキラル化合物を製造する方法において、上記の反応に、請求項１に記載された化学式１のキラルサレン触媒を使用することを特徴とするキラル化合物の製造方法。
【請求項１９】
上記の Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８、Ｙ１及びＹ２は、互いに独立して水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、及びＣ１〜Ｃ６アルコキシ基で構成された群から選択されることを特徴とする請求項１８に記載のキラル化合物の製造方法。
【請求項２０】
上記のＸ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、Ｘ７及びＸ８は、互いに独立して水素原子またはｔ−ブチル基であり、上記のＹ１及びＹ２はすべて水素原子である請求項１８に記載のキラル化合物の製造方法。
【請求項２１】
Ｒ１及びＲ’１が互いに組合わさってＣ４〜Ｃ６の炭素環を形成して、Ｒ’２及びＲ２が水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、またはＣ１〜Ｃ６アルコキシ基であるか、またはＲ’１及びＲ１が水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基及びＣ１〜Ｃ６アルコキシ基であり、Ｒ２及びＲ’２が互いに組合わさってＣ４〜Ｃ６の炭素環を形成することを特徴とする請求項１８に記載のキラル化合物の製造方法。
【請求項２２】
ＬＱ３が、ＢＦ３、ＢＣｌ３、ＢＢｒ３またはＡｌＣｌ３であることを特徴とする請求項１８に記載のキラル化合物の製造方法。
【請求項２３】
ＬＱ３が、ＢＦ３であることを特徴とする請求項１８に記載のキラル化合物の製造方法。
【請求項２４】
上記のＭは、Ｃｏであることを特徴とする請求項１８に記載のキラル化合物の製造方法。
【請求項２５】
上記の触媒が、次の化学式１ａまたは化学式１ｂで表示され、
【化７】
2004521740.tif 000007
【化８】
2004521740.tif 000008
上記の化学式１ａまたは１ｂにおいて、ｎは０から４までの整数である請求項１８に記載のキラル化合物の製造方法。
【請求項２６】
上記のラセミックエポキシドが次の化学式４で表示され、
【化９】
2004521740.tif 000009
上記の化学式４において、ＲはＣ１〜Ｃ１０のアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケン基、Ｃ２〜Ｃ６アルキン基、Ｃ３〜Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０のアルコキシ基、フェニル基、カルボニル基、カルボキシル基、ケトン基、アルデヒド基、エステル基、ホスホリル基、ホスホネート基、ホスフィン基、スルホニル基、または（ＣＨ２）ｌ−Ｒ５であり、Ｒ５はＣ２〜Ｃ６アルケン基、Ｃ２〜Ｃ６アルキン基、Ｃ２〜Ｃ６アルコキシ基、フェニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、複素環、または多環、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、チオール基、ニトロ基、アミン基、イミン基、アミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シリル基、エーテル基、チオエーテル基、セレノエーテル基、ケトン基、アルデヒド基、エステル基、ホスホリル基、ホスホネート基、ホスフィン基またはスルホニル基を示し、ｌは０から８までの整数である請求項１８に記載のキラル化合物の製造方法。
【請求項２７】
上記の方法が、
ａ） ラセミックエポキシドを請求項１に記載された化学式１のキラルサレン触媒の存在下で水と反応させて加水分解させる工程と、
ｂ） 未反応のキラルエポキシドまたは加水分解され生成されたキラル１，２−ジオールを精製する工程とを含むことを特徴とする請求項１８に記載のキラル化合物の製造方法。
【請求項２８】
上記の精製されたキラル化合物が、未反応のキラルエポキシドであることを特徴とする請求項１８に記載のキラル化合物の製造方法。
【請求項２９】
ＱはＦまたはＣｌである請求項１に記載のキラルサレン触媒。
【請求項３０】
ＱはＦである請求項１に記載のキラルサレン触媒。