【手続補正書】
【提出日】平成16年4月23日(2004.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）基板を準備し、この基板上に、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する層であり、かつ少なくとも光触媒およびバインダを含有する光触媒含有層を形成する光触媒含有層形成工程と、
（２）前記光触媒含有層に感度向上処理を施して、前記光触媒の触媒活性を向上させて前記光触媒含有層の感度を向上させる感度向上処理工程と、
（３）前記光触媒含有層表面に対して、エネルギーをパターン照射して濡れ性の異なる部位からなるパターンを形成するパターン形成工程と
を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。
【請求項２】
前記光触媒含有層が、エネルギー照射による光触媒の作用により分解され、これにより光触媒含有層上の濡れ性を変化させることができる分解物質を含むことを特徴とする請求項１記載のパターン形成体の製造方法。
【請求項３】
前記バインダが、ＹnＳｉＸ(4-n)（ここで、Ｙはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、Ｘはアルコキシル基またはハロゲンを示す。ｎは０〜３までの整数である。）で示される珪素化合物の１種または２種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるポリシロキサンであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のパターン形成体の製造方法。
【請求項４】
前記光触媒含有層は、エネルギーが照射されていない部分における表面張力４０ｍＮ／ｍの液体との接触角を、エネルギーが照射された部分における表面張力４０ｍＮ／ｍの液体との接触角より１度以上大きい接触角とする光触媒含有層であることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載のパターン形成体の製造方法。
【請求項５】
（１）基板を準備し、この基板上に、少なくとも光触媒が含有された光触媒含有層を形成する光触媒含有層形成工程と、
（２）前記光触媒含有層上に、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する層である濡れ性変化層を形成する濡れ性可変層形成工程と、
（３）前記光触媒含有層に対して感度向上処理を施して、前記光触媒の触媒活性を向上させて前記光触媒含有層の感度を向上させる感度向上処理工程と、
（４）前記濡れ性可変層表面に対して、エネルギーをパターン照射して濡れ性の異なる部位からなるパターンを形成するパターン形成工程と
を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。
【請求項６】
前記濡れ性可変層が、ＹnＳｉＸ(4-n)（ここで、Ｙはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、Ｘはアルコキシル基またはハロゲンを示す。ｎは０〜３までの整数である。）で示される珪素化合物の１種または２種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンを含む層であることを特徴とする請求項５記載のパターン形成体の製造方法。
【請求項７】
前記濡れ性可変層は、エネルギーが照射されていない部分における表面張力４０ｍＮ／ｍの液体との接触角を、エネルギーが照射された部分における表面張力４０ｍＮ／ｍの液体との接触角より１度以上大きい接触角とする濡れ性可変層であることを特徴とする請求項５または請求項６に記載のパターン形成体の製造方法。
【請求項８】
（１）基板を準備し、この基板上に、少なくとも光触媒が含有された光触媒含有層を形成する光触媒含有層工程と、
（２）前記光触媒含有層上に、エネルギーが照射された際に光触媒含有層の作用により分解除去される分解除去層を形成する分解除去層形成工程と、
（３）前記光触媒含有層に対して感度向上処理を施して、前記光触媒の触媒活性を向上させて前記光触媒含有層の感度を向上させる感度向上処理工程と、
（４）前記分解除去層表面に対して、エネルギーをパターン照射して照射された部分の分解除去層を除去することにより、分解除去層の有無によるパターンを形成するパターン形成工程と
を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。
【請求項９】
前記分解除去層が、炭化水素系、フッ素系またはシリコーン系の非イオン界面活性剤であることを特徴とする請求項８記載のパターン形成体の製造方法。
【請求項１０】
前記光触媒含有層が、さらにバインダを含有し、このバインダが、ＹnＳｉＸ(4-n)（ここで、Ｙはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、Ｘはアルコキシル基またはハロゲンを示す。ｎは０〜３までの整数である。）で示される珪素化合物の１種または２種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるポリシロキサンを含むことを特徴とする請求項８または請求項９記載のパターン形成体の製造方法。
【請求項１１】
前記感度向上処理工程が、光触媒含有層と水とを接触させる水処理工程であることを特徴とする請求項１から請求項１０までのいずれかの請求項に記載のパターン形成体の製造方法。
【請求項１２】
前記水が、酸性の水であることを特徴とする請求項１０記載のパターン形成体の製造方法。
【請求項１３】
前記水が、水溶性の金属化合物が溶解された水であることを特徴とする請求項１０記載のパターン形成体の製造方法。
【請求項１４】
前記感度向上処理工程が、光触媒含有層に熱を加える熱処理工程であることを特徴とする請求項１から請求項１０までのいずれかの請求項に記載のパターン形成体の製造方法。
【請求項１５】
前記水処理または熱処理工程が、光触媒含有層と温水とを接触させる工程である請求項１１から請求項１４までのいずれかの請求項に記載のパターン形成体の製造方法。
【請求項１６】
前記光触媒含有層に第２の成分としての金属元素が含有されており、この金属元素がバナジウム（Ｖ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｂ）、銀（Ａｇ）、オスミウム（Ｏｓ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）、および金（Ａｕ）からなる群から選択される少なくとも一種の金属元素であることを特徴とする請求項１から請求項１５までのいずれかの請求項に記載のパターン形成体の製造方法。
【請求項１７】
前記第２の成分としての金属元素が、Ｆｅ（鉄）であることを特徴とする請求項１６に記載のパターン形成体の製造方法。
【請求項１８】
前記光触媒が、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ3）、酸化タングステン（ＷＯ3）、酸化ビスマス（Ｂｉ2Ｏ3）、および酸化鉄（Ｆｅ2Ｏ3）から選択される１種または２種以上の物質であることを特徴とする請求項１から請求項１７までのいずれかの請求項に記載のパターン形成体の製造方法。
【請求項１９】
前記光触媒が酸化チタン（ＴｉＯ2）であることを特徴とする請求項１８記載のパターン形成体の製造方法。
【請求項２０】
請求項１から請求項１９までのいずれかの請求項に記載されたパターン形成体の製造方法により得られたパターン形成体上の濡れ性の異なるパターンに対応した部位上に機能性部が配置されたことを特徴とする機能性素子。
【請求項２１】
請求項２０記載の機能性素子の機能性部が、画素部であることを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項２２】
請求項２１記載の機能性素子の機能性部が、レンズであることを特徴とするマイクロレンズ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記請求項１または請求項２に記載の発明においては、請求項３に記載するように、上記バインダが、ＹnＳｉＸ(4-n)（ここで、Ｙはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、Ｘはアルコキシル基またはハロゲンを示す。ｎは０〜３までの整数である。）で示される珪素化合物の１種または２種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるポリシロキサンであることが好ましい。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
さらに、上記請求項８または請求項９記載のパターン形成体の製造方法においては、請求項１０に記載するように、上記光触媒含有層が、さらにバインダを含有し、このバインダが、ＹnＳｉＸ(4-n)（ここで、Ｙはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、Ｘはアルコキシル基またはハロゲンを示す。ｎは０〜３までの整数である。）で示される珪素化合物の１種または２種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるポリシロキサンを含むものであることが好ましい。