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【手続補正書】
【提出日】平成16年11月11日(2004.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】回復可能な結晶化度を有する溶融加工可能な熱可塑性ランダムコポリイミド
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶融加工可能な熱可塑性コポリイミドであって、該コポリイミドは、以下の成分：
（Ｉ）芳香族二無水物成分であって、
（Ａ）３，３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）および３，３′，４，４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物（ＢＴＤＡ）からなる群から選択される芳香族二無水物と、
（Ｂ）４，４′−オキシ二フタル酸無水物（ＯＤＰＡ）
とから本質的になる芳香族二無水物成分；
（ＩＩ）芳香族ジアミン成分であって、
１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン（ＡＰＢ−１３４）；３，４′−オキシジアニリン（３，４′−ＯＤＡ）；３，４′−オキシジアニリン（３，４′−ＯＤＡ）と４，４′−オキシジアニリン（４，４′−ＯＤＡ）との組合せ；３，４′−オキシジアニリン（３，４′−ＯＤＡ）と１，４−ジアミノベンゼン（ＰＰＤ）との組合せ；１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン（ＡＰＢ−１３４）と４，４′−オキシジアニリン（４，４′−ＯＤＡ）との組合せ；および１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン（ＡＰＢ−１３４）と１，４−ジアミノベンゼン（ＰＰＤ）との組合せからなる群から選択される芳香族ジアミン成分；および
（ＩＩＩ）エンドキャッピング成分
を含む成分の反応生成物を含み、
前記コポリイミドは、９３％から９８％までの範囲の化学量論量を有し、３，３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物／４，４′−オキシ二フタル酸無水物（ＢＰＤＡ／ＯＤＰＡ）のモル比が６０／４０以上であるが、９５／５以下であるか、あるいは３，３′，４，４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物／４，４′−オキシ二フタル酸無水物（ＢＴＤＡ／ＯＤＰＡ）のモル比が６０／４０以下であるが、２０／８０以上であり、３３０℃から３８５℃までの範囲に融点を示し、かつ示差走査熱測定法分析によって決定されるような回復可能な結晶化度を示すことを特徴とするコポリイミド。
【請求項２】
前記芳香族二無水物は３，３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）であり、前記芳香族ジアミン成分は１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン（ＡＰＢ−１３４）であり、３，３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物／４，４′−オキシ二フタル酸無水物（ＢＰＤＡ／ＯＤＰＡ）のモル比が９５／５から６０／４０までの範囲にあることを特徴とする請求項１に記載のコポリイミド。
【請求項３】
３，３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物／４，４′−オキシ二フタル酸無水物（ＢＰＤＡ／ＯＤＰＡ）の前記モル比が９０／１０から６５／３５までの範囲にあることを特徴とする請求項２に記載のコポリイミド。
【請求項４】
３，３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物／４，４′−オキシ二フタル酸無水物（ＢＰＤＡ／ＯＤＰＡ）の前記モル比が７５／２５から９５／５までの範囲にあり、化学量論量が約９３％から約９８％まで変化し、そして示差走査熱測定法分析時の１０℃／分で冷却されている冷却走査において、コポリイミドの溶融物から冷却しているときに結晶化ピークを示し、示差走査熱測定法分析時の再加熱走査において１８０℃より高い温度から溶融物までのその後の再加熱のときに観測可能な結晶化ピークを示さず、それによってコポリイミドの溶融物からの速い結晶化速度を示すことを特徴とする請求項２に記載のコポリイミド。
【請求項５】
３，３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物／４，４′−オキシ二フタル酸無水物（ＢＰＤＡ／ＯＤＰＡ）の前記モル比が７０／３０から６０／４０までの範囲にあり、化学量論量が約９３％から約９８％まで変化し、そして示差走査熱測定法分析時の再加熱走査において１８０℃より高い温度から溶融物までのその後の再加熱のときに結晶化ピークを示し、それによってコポリイミドの溶融物からの遅い結晶化速度を示すことを特徴とする請求項２に記載のコポリイミド。
【請求項６】
前記芳香族二無水物は３，３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）であり、前記芳香族ジアミン成分は３，４′−オキシジアニリン（３，４′−ＯＤＡ）であり、３，３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物／４，４′−オキシ二フタル酸無水物（ＢＰＤＡ／ＯＤＰＡ）のモル比が８５／１５から９５／５までの範囲にあることを特徴とする請求項１に記載のコポリイミド。
【請求項７】
前記芳香族二無水物は３，３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）であり、前記芳香族ジアミン成分は３，４′−オキシジアニリン（３，４′−ＯＤＡ）と４，４′−オキシジアニリン（４，４′−ＯＤＡ）との組合せであり、３，３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物／４，４′−オキシ二フタル酸無水物（ＢＰＤＡ／ＯＤＰＡ）のモル比が８０／２０から９５／５までの範囲にあり、３，４′−オキシジアニリン／４，４′−オキシジアニリン（３，４′−ＯＤＡ／４，４′−ＯＤＡ）のモル比が９５／５から７５／２５までの範囲にあることを特徴とする請求項１に記載のコポリイミド。
【請求項８】
前記芳香族二無水物は３，３′，４，４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物（ＢＴＤＡ）であり、前記芳香族ジアミン成分は１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン（ＡＰＢ−１３４）であり、３，３′，４，４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物／４，４′−オキシ二フタル酸無水物（ＢＴＤＡ／ＯＤＰＡ）のモル比が６０／４０から２０／８０までの範囲にあることを特徴とする請求項１に記載のコポリイミド。
【請求項９】
３，３′，４，４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物／４，４′−オキシ二フタル酸無水物（ＢＴＤＡ／ＯＤＰＡ）の前記モル比が５０／５０から２５／７５までの範囲にあることを特徴とする請求項８に記載のコポリイミド。
【請求項１０】
３，３′，４，４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物／４，４′−オキシ二フタル酸無水物（ＢＴＤＡ／ＯＤＰＡ）の前記モル比が４０／６０から３０／７０までの範囲にあることを特徴とする請求項９に記載のコポリイミド。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月8日(2004.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
EP-A1-818 476の開示によれば、イソプレンを、先行技術よりもわずかに高い濃度で存在させ（供給原料中約2モル％）、比較的低い温度でバナジウム開始剤系を採用しているが、この方法は、AlCl3触媒共重合法（反応温度−120℃、イソプレン濃度＞2.5モル％）の場合と同様に、−70℃の温度でもゲル化が生じてしまう。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
好適なハロゲン化ジルコニウムおよびハロゲン化ハフニウムは、参照により本明細書に組み込まれるDE 100 42 118.0に開示されている。好適には、二塩化ジルコニウム、三塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウム、オキシ二塩化ジルコニウム、四フッ化ジルコニウム、四臭化ジルコニウムおよび四ヨウ化ジルコニウム、二塩化ハフニウム、三塩化ハフニウム、オキシ二塩化ハフニウム、四フッ化ハフニウム、四臭化ハフニウム、四ヨウ化ハフニウムおよび四塩化ハフニウムである。やや好適ではないが、一般に、立体障害（sterically demanding）置換基を有するハロゲン化ジルコニウムおよび／またはハロゲン化ハフニウム、例えば二塩化ジルコノセンまたは二塩化ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムなどである。好適には、四塩化ジルコニウムである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
別の連続法は以下のとおりである。クロロアルカン（好適には塩化メチル）中の冷ブチルゴムスラリーを、重合反応器から、液体ヘキサンを含有するドラム中の撹拌溶液に送る。熱ヘキサン蒸気を導入して、オーバーヘッド塩化アルキル希釈剤および未反応モノマーを、フラッシュする。スラリー微粒子の溶解が迅速に起こる。得られた溶液をストリッピングして、痕跡量の塩化アルキルおよびモノマーを除去し、フラッシュ濃縮によってハロゲン化に望ましい濃度にする。フラッシュ濃縮工程から回収したヘキサンを、凝縮し、溶液ドラムに戻す。ハロゲン化法に従い、溶液中のブチルゴムを、一連の強力混合段階において、塩素または臭素と接触させる。ハロゲン化工程の間に、生成した塩化水素酸または臭化水素酸は中和しなければならない。ハロゲン化法の詳細な説明については、米国特許第3,029,191号および第2,940,960号、および連続塩素化法を記載している米国特許第3,099,644号、EP-A1-0 803 518またはEP-A1-0 709 401を参照されたい。これらの特許は、すべて参照により本明細書に組み込まれる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
これら脂肪酸は、好適には8〜22、より好適には12〜18の範囲の炭素原子を有する。例には、ステアリン酸、パルミチン酸およびオレイン酸、および上記脂肪酸のカルシウム塩、マグネシウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩が包含される。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月22日(2005.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
ここで「めっき層の表面光沢劣化」とは，製造直後のめっき表面は美麗な金属光沢を有していても，時間を経るにつれて（最も早い場合は２〜３日後，場合によっては４〜７日後に）やや黒っぽい干渉色に似た色に変色することを指し，この極表層の変色の程度（一種の黒化現象）は「明度」を測定することによって定量化できる。例えば，製造直後のめっき表面の明度（Ｌ値）がＬ＝８２付近であったものが，７日後にはＬ＝７２付近にまで低下するといった具合である。このＬ値が低下したとしても，製品の耐食性は特に劣化するものではなく，当該めっき鋼板の物理的および化学的価値は何ら損なわれないが，表面外観の点から好ましいことではない。とくに，めっき表面一様に表面光沢が劣化するのではなく，ところどころが変色するのは美観を損なうことになる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
前記の課題を解決すべく，本発明者らは種々の試験研究を重ねた結果，この溶融めっき鋼板の表面光沢劣化は，めっき後の冷却過程で水冷するときのめっき層表面と水との反応挙動にその原因があることを突き止めることができ，表面光沢劣化を防止するには，ひとつには，めっき層凝固後の水冷過程における「めっき層と水流との接触温度」の制御，ひいては「水流と接触するときの材料温度」の制御を適切にすること，さらには，適切な「易酸化性の元素」をめっき浴に微量配合しておくことによってめっき表層のＡｌとＭｇの酸化状態を安定化させることが，有効に機能することを見い出した。ここで，水流と接触するときの材料温度とは，めっき層凝固完了後の冷却過程でめっき層表面に水膜を形成しながら冷却される場合の材料温度を意味し，より具体的には，凝固完了しためっき層に水流を当てて，めっき層の表面に水膜が形成されるような状態でめっき層が冷却されるときのめっき層温度を意味する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
ところが，このウォータクエンチ帯域への入側材料温度の如何によってめっき表面の光沢維持性能が異なることがわかった。該温度が１０５℃以上の場合に，前述の表面光沢が劣化する現象が起きやすいのである。その原因については必ずしも明らかではないが，ウォータクエンチ帯域に入るときの材料温度が１００℃以上であるとめっき層表面に水膜が形成している間はある種の沸騰現象が起きてめっき層表面が反応性に富むようになること，大気圧下での水の存在下でのＡｌの挙動は，約１１０℃を境として，それ以上では Al2O3・H2O ( または AlOOH) 化合物が安定であるが，それ以下では Al2O3・3H2O (または Al(OH)3) 化合物が安定であることから，該入側材料温度によってウォータクエンチ帯域のめっき層表面で生成するＡｌ化合物が異なること，などが関与しているのではないかと推察される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
表２の結果から，本例においても実施例２と同様に，ウォータクエンチへの入側材料温度が１０５℃以上の時には，その温度が高くなるに従って，めっき後の明度Ｌ値の低下傾向が大きくなるが，該温度が１０５℃未満の時には，めっき直後の明度が恒温恒湿試験２０時間後もそのまま維持されていることがわかる。また，各めっき鋼板のめっき層断面の顕微鏡観察からめっき層の金属組織を調べたが，いずれの鋼板も安定して「Ｚｎ2Ｍｇ系」の金属組織が得られた。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月25日(2005.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軟化状態のガラスを、上型および下型を備えた成形型によりプレス成形して、基板用中間体である薄板状の基板ブランクを製造する方法において、上記軟化状態のガラスを、形成される基板ブランクの周縁部が成形型に接触しないようにプレス成形し、少なくともノッチ部を有しない基板ブランクを作製することを特徴とする基板ブランクの製造方法。
【請求項２】
軟化状態のガラスを、上型および下型を備えた成形型によりプレス成形して、基板用中間体である薄板状の基板ブランクを製造する方法において、上記軟化状態のガラスを、形成される基板ブランクの周縁部が成形型に接触しないようにプレス成形し、平坦な表裏面と周縁部からなる表面を有する基板ブランクを作製することを特徴する基板ブランクの製造方法。
【請求項３】
軟化状態のガラスを、上型および下型を備えた成形型によりプレス成形して、基板用中間体である薄板状の基板ブランクを製造する方法において、上記軟化状態のガラスを、形成される基板ブランクの周縁部が成形型に接触しないようにプレス成形し、その厚みの最小値が該基板ブランクから得られるガラス基板の厚みの最大値よりも大きい基板ブランクを作製することを特徴する基板ブランクの製造方法。
【請求項４】
軟化状態のガラスを、上型および下型を備えた成形型によりプレス成形して、基板用中間体である薄板状の基板ブランクを製造する方法において、上記軟化状態のガラスを、形成される基板ブランクの周縁部が成形型に接触しないようにプレス成形し、厚肉部と厚みの最も薄い薄肉部を有し、かつ上記薄肉部の面積が厚肉部の面積より大きな基板ブランクを作製することを特徴する基板ブランクの製造方法。
【請求項５】
基板ブランクが、中心部に薄肉部を、外周部に厚肉部を有する形状、中心部に厚肉部を、外周部に薄肉部を有する形状または中心部および外周部に厚肉部を、外周部と中心部の間に薄肉部を有する形状のいずれかの形状のものである請求項３または４に記載の方法。
【請求項６】
軟化状態のガラスとして溶融ガラスを下型の上に供給し、プレス成形する請求項１ないし５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
上型および下型を備えた成形型の温度を、軟化状態のガラス温度よりも低くしてプレス成形する請求項１ないし６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
基板ブランクが円板状のものである請求項１ないし７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
基板ブランクが、厚みの最小値および最大値が共に０．８〜２．２ｍｍの範囲のものである請求項１ないし８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
基板ブランクが、情報記録媒体用基板の中間体として用いられる請求項１ないし９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記基板ブランクの周縁部が自由表面である請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の方法により作製された基板ブランクを研削、研磨することを特徴とする基板の製造方法。
【請求項１３】
ガラスを結晶化させるための熱処理工程を含む請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
請求項１０に記載の方法により情報記録媒体用基板ブランクを作製し、該基板ブランクに少なくとも研削、研磨加工を施して情報記録媒体用基板を作製したのち、この基板に情報記録層を形成することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月24日(2004.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ニトロベンゼンをｐ−アミノフェノールに一段階で水素化する方法であって、（ａ）ニトロベンゼンと水性酸の混合物を７００ｐｓｉ（４８２７ｋＰａ）までの圧力下、８０〜１２０℃の温度で１〜４時間の間、１種又は２種金属触媒上で水素と接触させること、（ｂ）この反応を停止して製品混合物を得ること、（ｃ）オートクレーブから反応混合物を取出すこと、（ｄ）ろ過により、反応混合物から触媒と樹脂を分離すること、（ｅ）ろ過物をトルエンにより抽出すること、（ｆ）ＧＣ及びＰＬＣを用いて反応物及び生成物に対する有機層及び水性層を分析すること、（ｇ）水性層をアンモニア溶液で処理して、溶液のｐＨを３〜４に調整してｐ−アミノフェノール（ＰＡＰ）を一部沈殿させること、（ｈ）このようにして得た固形分をろ過により分離すること、（ｉ）ろ過物をトルエンにより抽出すること、（ｊ）水性層をアンモニア溶液でｐＨ７〜８になるように処理してｐ−アミノフェノールを沈殿させること、（ｋ）第１及び第２の抽出後に前記のようにして得た全固形分を蒸留水により洗浄し、乾燥し、又秤量することを含む、方法。
【請求項２】
反応温度が８０〜１２０℃の範囲にある、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
使用される２種金属がＮi−Ｐt及びＮi−Ｐdからなる群から選ばれる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
１種金属触媒中のＮi含有分は５〜２０％ｗ／ｗの間にある、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
触媒のPt含有分は０．０５〜３％ｗ／ｗの間にある、請求項１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明の他の実施形態において、触媒のＮi含有量は、５〜２０％ｗ／ｗの範囲にある。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月13日(2004.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
各トロリ（ｔｒｏｌｌｅｙ）は、該トロリの搬送ベルトを起動する電気モータを制御し得る機上電子ユニットを備えている。
本発明に依れば上記電子ユニットは、上記トロリのピッチに略々整合する長さの少数巻回ループ（ｆｅｗ  ｌｏｏｐｓ）であって、各吐出口（ｏｕｔｌｅｔ）に対向して設定された地表レベル・インダクタ（ｇｒｏｕｎｄ−ｌｅｖｅｌ  ｉｎｄｕｃｔｏｒ）が励起される毎に降荷モータを起動する制御信号を生成する少数巻回ループを備えたプリント回路から成る。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
この周期的信号は、トロリ１の機上の電子ユニット１１のアンテナ１８のループに依存する可変磁界を生成すべく、インダクタ１５にて適切に増幅される。
図３は、上記電子ユニット１１を詳細に示すとともに、同一のプリント回路から導出された所定巻回数のループであってトロリの前方移動の方向においてトロリのサイズより僅かに短い長さのループから成るアンテナ１８を明示している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
更に概略的には、トロリのサイズと同様のサイズのアンテナ１８を配備するという事実により、制御システム１６が発振器１７に対して信号を送信する時点を操作するだけで、各対象物に対する種々の降荷経路を決定し得る。
図５は、吐出口に設定されたインダクタ１５と該インダクタ１５の制御デバイスのブロック図を示しており、これは図３の下段部分に対応する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
図６は各トロリの機上の上記電子ユニットのブロック図であり、上記図面の上段部分に対応する。図６に関し、Ｌは、地表レベル・インダクタ（ｇｒｏｕｎｄ−ｌｅｖｅｌ  ｉｎｄｕｃｔｏｒ）１５と結合すべく設計されたアンテナ１８のループであり、ＢＰＦ  Ｆ１（Ｆ２）は、周波数Ｆ１に一致する帯域範囲選択ユニットであり、ＴＲ，ＤＴは、上記信号を生成すると共に該信号を所定時間間隔だけ延長するスレッショルド回路であり、Ｒは、所定値（たとえば４ｍ／秒２）の加速および減速勾配と、上記所定値で安定化された速度とを生成する勾配発生器であり、Ｈは、反作用デバイス（ｒｅｔｒｏａｃｔｉｎｇ  ｄｅｖｉｃｅ）を備えると共に、特性曲線における制限が課せられたサーボ増幅器であり、Ｍは、トロリ１上の搬送ベルト６を起動するモータ９である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月13日(2004.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外輪の内周に外輪軸方向に形成された３本のトラック溝に、トリポード部材の３本の脚軸に複数の円柱状転動体を介して回転可能に支持されたローラを収容させ、ローラがトラック溝のローラ案内面上を転動しながら外輪軸方向に移動可能であるトリポード型等速自在継手において、上記ローラの円筒内周面の軸方向両端部に、上記転動体の軸方向の抜けを防止する鍔部を形成し、この内周面の前記鍔部間に、全数より１個少ない複数の転動体を一連に並べ、この一連の転動体の両端の２個の間にできた隙間の最小間隔ｄ２と転動体の直径ｄ１との関係をｄ２＜ｄ１となるように設定するとともにその差（ｄ１−ｄ２）を数μｍ〜数１０μｍの締め代とし、転動体をローラにキーストン法により組み付け、ローラと転動体からなる、脚軸の球状外周面に対して回転・摺動可能なユニットとし、このユニットによってトリポード部材と外輪の相互間の回転力伝達を行なうことを特徴とするトリポード型等速自在継手。
【請求項２】
前記ローラの軸方向両端部の鍔部のうち少なくとも一方が前記ローラとは別体のワッシャで形成されていることを特徴とする請求項１記載のトリポード型等速自在継手。
【請求項３】
外輪の内周に外輪軸方向に形成された３本のトラック溝に、トリポード部材の３本の脚軸に複数の円柱状転動体を介して回転可能に支持されたローラを収容させ、ローラがトラック溝のローラ案内面上を転動しながら外輪軸方向に移動可能であるトリポード型等速自在継手において、上記ローラは、その円筒内周面の少なくとも軸方向一端部に別体のワッシャからなる鍔部を構成することによって、上記転動体の軸方向の抜けを防止する鍔部を軸方向両端部に形成しており、この内周面の前記鍔部間に、全数より１個少ない複数の転動体を一連に並べ、この一連の転動体の両端の２個の間にできた隙間の最小間隔ｄ２と転動体の直径ｄ１との関係をｄ２＜ｄ１となるように設定するとともにその差（ｄ１−ｄ２）を数μｍ〜数１０μｍの締め代として、転動体をローラにキーストン法により組み付け、ローラと転動体からなる、脚軸の外周面に対して回転・摺動可能なユニットとし、このユニットによってトリポード部材と外輪の相互間の回転力伝達を行なうことを特徴とするトリポード型等速自在継手。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
この発明は、請求項１に記載のとおり、外輪の内周に外輪軸方向に形成された３本のトラック溝に、トリポード部材の３本の脚軸に複数の円柱状転動体を介して回転可能に支持されたローラを収容させ、ローラがトラック溝のローラ案内面上を転動しながら外輪軸方向に移動可能であるトリポード型等速自在継手において、上記ローラの円筒内周面の軸方向両端部に、上記転動体の軸方向の抜けを防止する鍔部を形成し、この内周面の前記鍔部間に、全数より１個少ない複数の転動体を一連に並べ、この一連の転動体の両端の２個の間にできた隙間の最小間隔ｄ２と転動体の直径ｄ１との関係をｄ２＜ｄ１となるように設定するとともにその差（ｄ１−ｄ２）を数μｍ〜数１０μｍの締め代とし、転動体をローラにキーストン法により組み付け、ローラと転動体からなる、脚軸の球状外周面に対して回転・摺動可能なユニットとし、このユニットによってトリポード部材と外輪の相互間の回転力伝達を行なうことを特徴とするものである。
請求項２の発明は、前記ローラの軸方向両端部の鍔部のうち少なくとも一方が前記ローラとは別体のワッシャで形成されていることを特徴とするものである。
請求項３の発明は、外輪の内周に外輪軸方向に形成された３本のトラック溝に、トリポード部材の３本の脚軸に複数の円柱状転動体を介して回転可能に支持されたローラを収容させ、ローラがトラック溝のローラ案内面上を転動しながら外輪軸方向に移動可能であるトリポード型等速自在継手において、上記ローラは、その円筒内周面の少なくとも軸方向一端部に別体のワッシャからなる鍔部を構成することによって、上記転動体の軸方向の抜けを防止する鍔部を軸方向両端部に形成しており、この内周面の前記鍔部間に、全数より１個少ない複数の転動体を一連に並べ、この一連の転動体の両端の２個の間にできた隙間の最小間隔ｄ２と転動体の直径ｄ１との関係をｄ２＜ｄ１となるように設定するとともにその差（ｄ１−ｄ２）を数μｍ〜数１０μｍの締め代として、転動体をローラにキーストン法により組み付け、ローラと転動体からなる、脚軸の外周面に対して回転・摺動可能なユニットとし、このユニットによってトリポード部材と外輪の相互間の回転力伝達を行なうことを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
即ち、トリポード部材のローラの内周面に複数の連続した円柱状転動体の軸方向の抜けを防止する鍔部を形成し、この鍔部に沿ってローラ内周面に複数の転動体１個を残して一連に並べ、この一連の転動体の両端の２個の間の隙間に残り１個の転動体を数μｍ〜数１０μｍの締め代で圧入して所定数の転動体をローラ内周面に組み込んでばらけない組立体とし、この組立体の状態でローラを転動体と共に脚軸に組み付ける製造方法が可能である。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
図４も図２（Ａ）のローラ７を脚軸５に取り付ける要領を図示したもので、この場合はローラ７の円筒内周面に複数の転動体６をキーストン方式で一連に仮止めした状態で、ローラ７を転動体６と共に脚軸５に組付ける。たとえば、図５（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、ローラ７の円筒内周面に全数より１個少ない複数の転動体６を一連に並べ、この一連の転動体６の両端の２個の間にできた隙間ｇに最後の１個の転動体６を圧入する。この場合、転動体６の直径ｄ１と隙間ｇの最小間隔ｄ２の関係をｄ１＞ｄ２に設定し、その差［ｄ１−ｄ２］が数μｍ〜数１０μｍの締め代となるようにする。このようにすると隙間ｇに最後の１個の転動体６を圧入すると、ローラ７の円筒内周面に全数の転動体６が一連に仮保持される。


【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】補正内容のとおり
【補正方法】変更
【補正の内容】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】2003028186.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】補正内容のとおり
【補正方法】変更
【補正の内容】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】2003028186.tif 000002
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】補正内容のとおり
【補正方法】変更
【補正の内容】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】2003028186.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月7日(2005.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者試料を得るための皮膚突刺し部材を含む試料採取手段と、
（ａ）少なくとも１つの作用電極、（ｂ）少なくとも１つの対電極、および（ｃ）少なくとも１つの試料室を備える電気化学センサーとの組合せを、１つのデバイスとして含み、
前記少なくとも１つの試料室が、（i）試料を前記作用電極に電気的に接触させて保持し、１μＬ以下の試料を含む大きさの試料室、または、（ii）少なくとも２方を前記作用電極および前記対電極によって境界づけられた測定領域であって、１μＬ以下の試料を含む大きさの測定領域を含む試料室であり、
前記センサーは、前記作用電極上に酸化還元媒介剤を含み、且つ、前記作用電極上に酵素を含む電子伝達剤を含み、
前記センサーは、前記試料室または前記測定領域に到達するために、前記試料採取手段により試料を得るための開口部を含む、被検体測定装置。
【請求項２】
試料採取手段と電気化学センサーとを含む、試料採取と被検体測定とが一体化された被検体測定装置であって、
（ａ）スペーサー層、
（ｂ）その上に第１電極を有する第１不活性基体であって、前記スペーサー層に隣接する前記第１電極と共に、前記スペーサー層に対して（against）配置されている第１不活性基体、
（ｃ）その上に第２電極を有する第２不活性基体であって、前記第１電極と第２曲とが対向電極対であり、前記スペーサー層に隣接する第２電極と共に、前記スペーサー層に対して配置された第２不活性基体、
（ｄ）互いに１μＬ以下の測定領域を境界付けている、前記スペーサー層、第１不活性基体および第２不活性基体、
（ｅ）酸化還元媒介剤および酵素を有する前記測定領域、および
（ｆ）皮膚突刺し部材
を含む、被検体測定装置。
【請求項３】
試料採取手段と分析センサーとを含む、一体化された被検体測定装置であって、
前記分析センサーが、
（ａ）第１不活性基体と第２不活性基体、
（ｂ）第１電極および第２電極
（ｃ）試料を受け、前記第１電極および第２電極に電気的に接触させて保持するための試料室であって、前記センサーの端まで伸びており、前記両不活性基対の間に開口部が形成されている試料室、および、
（ｄ）１μＬ以下の容量である前記試料室内の測定領域、
（ｅ）前記測定領域内に配置された酸化還元媒介剤および酵素
を含む、被検体測定装置。
【請求項４】
前記酸化還元媒介剤が、オスミウム錯体、ルテニウム錯体、鉄錯体およびコバルト錯体またはコバルト錯体からなる群から選択された少なくとも一つの錯体である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の被検体測定装置。
【請求項５】
前記酸化還元媒介剤が、ヘキサシアノ鉄（III）酸塩およびヘキサシアノ鉄（II）酸塩の少なくとも一方である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の被検体測定装置。
【請求項６】
前記酸化還元媒介剤が、不溶脱性の酸化還元媒介剤である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の被検体測定装置。
【請求項７】
前記試料採取手段が、ランセットである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の被検体測定装置。
【請求項８】
酵素が、グルコースオキシダーゼである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の被検体測定装置。
【請求項９】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のセンサーと、
前記センサーに効果的に接合され、前記センサーを通じて流れる蓄積電荷を測定するために配置されたクーロメーターとを含む、被検体測定装置。
【請求項１０】
前記測定領域が、試料０．５μＬ以下の大きさである、請求項１〜３および９のいずれか一項に記載のセンサー。
【請求項１１】
前記測定領域が、試料０．２μＬ以下の大きさである、請求項１〜３および９のいずれか一項に記載のセンサー。
【請求項１２】
前記測定領域が、試料０．１μＬ以下の大きさである、請求項１〜３および９のいずれか一項に記載のセンサー。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月22日(2005.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
送信源によって送信された無線周波数信号のための受信機、特にＧＰＳタイプの受信機において、
中間信号（ＩＦ）を生成するための前記無線周波数信号（３）の周波数変換を伴う受信および整形手段と、
前記中間信号を受信し、動作チャネル制御ループ内で、探索および追跡すべき可視送信源の搬送波周波数および特定符号の複製と中間信号とを相関させるためのいくつかの相関チャネル（７’）で構成された相関段（７）であって、各チャネルが相関器（８）を備え、少なくとも１つの積分器カウンタ（２８、２９、３０、３１）が相関済み信号の決められた各積分周期（ＴＤ）の終了時に２進出力ワード（ＩＥＳ、ＩＬＳ、ＱＥＳ、ＱＬＳ）を提供することができ、その値が決められた検出閾値レベルと比較され、探索および追跡すべき送信源の有無を検出することを可能にする相関段と、
相関後に前記無線周波数信号から抽出されたデータを処理するために前記相関段に接続されたマイクロプロセッサ手段（１２）とを含む受信機であって、前記マイクロプロセッサ手段が、同じ可視送信源を探索および／または追跡するために前記動作チャネルの１つと並列に配置された少なくとも１つの未使用チャネルを構成するように構成され、前記未使用チャネルが、その積分器カウンタの積分周期が前記動作チャネルの前記積分器カウンタの積分周期と異なるように構成されることを特徴とする受信機。
【請求項２】
衛星によって送信される無線周波数信号を受信するための受信機であって、前記相関段（７）が、可視衛星の数より大きい数の相関チャネルを含み、それによって、同じ特定の可視衛星を探索および／または追跡するために少なくとも１つの未使用チャネルを動作チャネルに並列で接続することができることを特徴とし、チャネル数が１２に等しい、またはそれより大きいことを特徴とする請求項１に記載の受信機。
【請求項３】
それぞれが前記動作チャネルの１つと並列に接続するようにいくつかの未使用チャネルが構成され、各未使用チャネルの前記積分器カウンタの積分周期が、それぞれの動作チャネルの前記積分器カウンタの積分周期より大きいことを特徴とする請求項１から３の一項に記載の受信機。
【請求項４】
衛星によって送信される無線周波数信号を受信するための受信機であって、可視衛星探索および／または追跡段階で動作するチャネルの前記積分器カウンタの積分周期が送信衛星の特定符号の繰り返し周期と同値であり、かつ、前記動作チャネルと並列で接続するように構成された未使用チャネルの前記積分器カウンタの積分周期が特定符号の繰り返し周期より大きく、好ましくは前記繰り返し周期の２倍に等しいことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の受信機。
【請求項５】
衛星によって送信される無線周波数信号を受信するための受信機であって、各チャネル内で、デジタル信号処理アルゴリズムを含むコントローラ（９）が前記相関器（８）と関連付けられ、前記チャネル（７’）が動作に入るような場合に、前記マイクロプロセッサ手段（１２）から独立して、衛星を探索および追跡するための同期タスクすべてを自律的に行うことを可能にすることを特徴とする請求項１に記載の受信機。
【請求項６】
衛星によって送信される無線周波数信号を受信する受信機であって、各チャネルが、同相信号成分（Ｉ）および４分の１位相信号成分（Ｑ）で構成される複合中間信号を受け取り、前記チャネルの各相関器が、
前記同相信号成分を第１搬送波周波数複製と相関させるための、および、前記４分の１位相信号成分を、前記第１搬送波周波数複製に対して９０°だけオフセットした第２搬送波周波数複製と相関させるための第１ミキサ（２０）と、
前記第１ミキサの出力同相信号を第１の進む特定符号複製および第２の遅れた特定符号複製と相関させるための、および、前記第１ミキサの４分の１位相出力信号を前記第１の進む複製および前記第２の遅れた複製と相関させるための第２ミキサ（２３）とを含み、
１チャネル当たり４つの積分器カウンタ（２８、２９、３０、３１）が前記第２ミキサから相関済み出力信号を受け取り、それぞれが２進出力ワードを提供し、その値が、決められた検出閾値レベルと比較され、探索および追跡すべき衛星の有無を検出することを可能にすることを特徴とする前記請求項のいずれかに記載の受信機。
【請求項７】
前記積分器カウンタの後で、各チャネル相関器が、搬送波相関制御ループ内に搬送波弁別器（４２）を、かつ符号相関制御ループ内に符号弁別器（３２）を含み、各弁別器が、積分周期よりＮ倍大きい弁別器周期にわたって前記積分器カウンタの出力値を考慮するように前記マイクロプロセッサ手段（１２）によって構成され、Ｎは整数であり、動作チャネルに並列で接続される未使用チャネルの前記弁別器周期が、前記動作チャネルの前記弁別器周期より大きい、好ましくは前記弁別器周期の２倍に等しいことを特徴とする請求項１に記載の受信機。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月10日(2005.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気入口と、高電圧源と、該高電圧源に電気的に連結されイオンを発生する電極と、空気出口と、空気駆動装置とを具備する空気イオン化装置であって、前記空気駆動装置は、空気を前記電極の周りで前記空気入口を通して前記空気イオン化装置に流入させ、かつ前記空気出口を通して前記空気イオン化装置から流出させる、空気イオン化装置において、
電気伝導性材料からなる多孔性のフィルターを具備し、該フィルターが電圧源とアースの少なくとも一方に電気的に連結され、該フィルターが前記空気入口、前記空気出口及び前記電極のうちの少なくとも１つを覆って位置し、それにより前記空気入口に流入する空気、前記空気出口から流出する空気、又は前記電極を通過して流れる空気が前記フィルターを通って流れる、空気イオン化装置。
【請求項２】
前記フィルターが前記空気入口を覆って位置しアースに電気的に連結され、それにより正及び負のイオンが前記空気イオン化装置に流入する空気から除去される、請求項１に記載の空気イオン化装置。
【請求項３】
前記フィルターが前記空気入口を覆って位置し電圧源に電気的に連結され、それにより周囲の環境の空気の中に存在する電圧オフセットが前記空気イオン化装置に流入することが防止される、請求項１に記載の空気イオン化装置。
【請求項４】
前記フィルターが前記空気出口を覆って位置しアースに電気的に連結され、それにより不必要な正及び負のイオンとイオン化ノイズとが、前記空気出口を通って前記空気イオン化装置から流出するイオン化された空気から除去される、請求項１に記載の空気イオン化装置。
【請求項５】
前記高電圧源が高電圧直流電源からなり、前記フィルターが前記空気出口を覆って位置し直流電圧源に連結され、それにより、前記空気出口を通って前記空気イオン化装置から流出するイオン化された空気からノイズイオンが減少するとともに前記空気イオン化装置から流出するイオン化された空気の直流平衡が制御可能になる、請求項１に記載の空気イオン化装置。
【請求項６】
前記空気出口の空気のイオン含有量を検知するためのセンサーを前記空気出口にさらに具備し、該センサーは前記高電圧直流電源の出力を制御するためのフィードバック電圧を提供する、請求項５に記載の空気イオン化装置。
【請求項７】
前記空気出口の空気のイオン含有量を検知するためのセンサーを前記空気出口にさらに具備し、該センサーは前記フィルターに連結された前記直流電圧源を制御するためのフィードバック電圧を提供する、請求項５に記載の空気イオン化装置。
【請求項８】
前記高電圧源が高電圧交流電源からなり、前記フィルターが前記空気出口を覆って位置し直流電源に連結され、それにより、前記空気イオン化装置から流出するイオン化された空気からノイズイオンが減少するとともに前記空気イオン化装置から流出するイオン化された空気の直流平衡が制御可能になる、請求項１に記載の空気イオン化装置。
【請求項９】
前記フィルターが金属のスクリーンからなる請求項１に記載の空気イオン化装置。
【請求項１０】
空気イオン化装置に流入する空気からイオンを除去する方法であって、前記空気イオン化装置は、空気入口と、高電圧源と、該高電圧源に電気的に連結されイオンを発生する電極と、空気出口と、空気を前記電極の周りで前記空気入口を通して前記空気イオン化装置に流入させかつ前記空気出口を通して前記空気イオン化装置から流出させる空気駆動装置とを有する、方法において、
電気伝導性材料からなる多孔性のフィルターを前記空気入口、前記空気出口及び前記電極のうちの少なくとも１つを覆って配置するステップであって、それにより前記空気入口に流入する空気、前記空気出口から流出する空気又は前記電極を通過して流れる空気が前記フィルターを通って流れる、ステップと、
前記フィルターを電圧源とアースの一方に連結するステップと、
を有する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月20日(2005.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
衝突バッフル（１４８）を含むドーム板（１４２）と、該ドーム板に結合された熱シールド（１７０）とを含むドームアセンブリを通して、ガスタービンエンジン燃焼器（１６）に空気流を供給する方法であって、
加圧空気流を前記衝突バッフルに向ける段階と、
前記熱シールドを衝突冷却及びフィルム冷却するために、前記衝突バッフルにより空気流を前記熱シールドへ向け直す段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記衝突バッフル（１４８）が、それを貫通する複数の孔（１６４）を含んでおり、空気流の一部を向け直す前記段階が、前記衝突バッフルの孔を介して空気流を前記熱シールド（１７０）へ向けて流す段階を更に含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記熱シールド（１７０）をフィルム冷却するために、該熱シールドにより空気流を向け直す段階を更に含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記熱シールド（１７０）が、それを貫通する複数の孔（１８４）を含んでおり、該熱シールドにより空気流を向け直す前記段階が、
該熱シールドをフィルム冷却するために、前記熱シールドの孔を介して空気流を向け直す段階と、
燃焼室（１１６）内における旋回空気流を強化するために、前記熱シールドの孔を介して空気流を向け直す段階と、
を更に含むことを特徴とする、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
ガスタービンエンジン燃焼器（１６）のためのドームアセンブリであって、
衝突バッフル（１４８）と、それを貫通し、燃料噴射器を受ける寸法にされた開口（１５０）とを含むドーム板（１４２）と、
前記ドーム板の開口を貫通して延び、該ドーム板に結合された熱シールド（１７０）と、を含み、
前記衝突バッフルが、前記熱シールドを衝突冷却及びフィルム冷却するように空気を向けるように構成されている、
ことを特徴とするドームアセンブリ。
【請求項６】
前記熱シールド（１７０）と前記ドーム板（１４２）との間で円周方向に延びるシール（２２０）を更に含み、該シールは、空気が前記熱シールドと前記ドーム板との間から流出するのを防止するように構成されていることを特徴とする、請求項５に記載のドームアセンブリ。
【請求項７】
前記熱シールド（１７０）が、それを貫通する複数の孔（１８４）を含むことを特徴とする、請求項５又は請求項６に記載のドームアセンブリ。
【請求項８】
ガスタービンエンジン（１０）のための燃焼器（１６）であって、ドーム板（１４２）と、該ドーム板に結合された熱シールド（１７０）とを含むドームアセンブリを含み、前記ドーム板が、衝突バッフル（１４８）と、該ドーム板を貫通する燃料噴射器用の開口（１５０）とを含み、前記衝突バッフルが、前記熱シールドを衝突冷却及びフィルム冷却するように空気を向けるように構成されていることを特徴とする燃焼器。
【請求項９】
前記ドームアセンブリの熱シールド（１７０）が、前記ドーム板の開口（１５０）を貫通して延び、前記ドーム板の衝突バッフルが、前記熱シールドをフィルム冷却するように空気を向けるように更に構成されていることを特徴とする、請求項８に記載の燃焼器（１６）。
【請求項１０】
前記ドームアセンブリの熱シールド（１７０）が、それを貫通する複数の孔（１８４）を含むことを特徴とする、請求項８又は請求項９に記載の燃焼器（１６）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
冷却空気は、より高温の燃焼ガスに曝される構造部材の表面に供給される。より具体的に言えば、少なくとも幾つかの公知の燃焼器ドームアセンブリにおいては、ドームは、衝突冷却される熱シールドを含み、該熱シールドは、冷却空気がドーム内の小さな孔を通って加速され、熱シールドの前表面に衝突する時、冷却される。熱シールドの前表面に衝突した後、冷却空気は、熱シールドの縁部の周りを通って燃焼器に流入する。しかしながら、冷却空気はエンジンの多くの部品で必要とされ、少なくとも幾つかの公知の最新式高圧力比エンジンにおいては、冷却空気に対する必要性は、その供給量を上回り始めている。その結果、熱シールドの後表面が高温に連続的に曝され、ドームを含む燃焼器アセンブリの有効寿命を短くする可能性がある。
【特許文献１】特開平１０−０６８５２４号公報
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月18日(2004.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円盤上に放射方向かつ等間隔に複数のフィンを配設してなるスターリング機関用内部熱交換器。
【請求項２】
円盤上の半径の異なる複数の仮想同心円上からそれぞれ放射方向に等間隔に配設される複数のフィンを備えるとともに、半径の大きな仮想同心円上のフィンのピッチ角が半径の小さな仮想同心円上のフィンのピッチ角より小さいことを特徴とするスターリング機関用内部熱交換器。
【請求項３】
前記フィンがコルゲートフィンであることを特徴とする請求項１または２に記載のスターリング機関用内部熱交換器。
【請求項４】
前記フィンが前記円盤上に植立されたピン状フィンであることを特徴とする請求項２に記載のスターリング機関用内部熱交換器。
【請求項５】
シリンダの端部にコールドヘッドを装着してなるケーシングと、該ケーシング内に同軸に配され所定の位相差をもって往復運動するピストン及びディスプレーサとを有し、前記コールドヘッドと前記ディスプレーサとの間に膨張空間を形成するスターリング冷凍機において、
請求項１〜４のいずれかに記載のスターリング機関用内部熱交換器を前記円盤を介して前記コールドヘッドの内面に装着したことを特徴とするスターリング冷凍機。
【請求項６】
更に、前記スターリング機関用内部熱交換器を前記コールドヘッドの内面方向へ圧着する圧着手段を設けたことを特徴とする請求項５に記載のスターリング冷凍機。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月1日(2004.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を集光光学系により被検体に集光照射し、被検体からの戻り光の情報から前記被検体の断層画像を構築する光イメージング装置であって、
前記光源からの光を被検体に伝達すると共に、前記被検体からの戻り光を受光する交換可能な光プローブと、
前記光源からの光を被検体に対して走査させるスキャンニング駆動手段と、
前記戻り光を検出する光検出手段を有すると共に、前記光プローブを着脱自在に装着可能な装置本体と、
前記光プローブに設けられた該光プローブの特徴情報を保持する情報保持手段と、
前記光プローブの特徴情報を検知する情報検知手段と、
前記光検出手段が検出した信号を処理し、前記被検体の断層画像を生成する画像生成手段と、
前記被検体の断層画像の表示パラメータを調整する画像表示調整手段と、
前記情報検知手段からの検知情報により、前記スキャニング駆動手段、及び前記画像表示調整手段の少なくとも何れか一つを制御する制御手段とを備えることを特徴とする光イメージング装置。
【請求項２】
前記計測光を被検体に対して走査させる前記スキャニング駆動手段が前記光プローブの出光部を走査させるプローブスキャニング駆動手段であることを特徴とする請求項１記載の光イメージング装置。
【請求項３】
前記プローブスキャニング駆動手段が、前記光プローブを光プローブの軸方向に対して進退走査させる駆動手段であることを特徴とする請求項２記載の光イメージング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明は、光源からの光を集光光学系により被検体に集光照射し、被検体からの戻り光の情報から前記被検体の断層画像を構築する光イメージング装置であって、
前記光源からの光を被検体に伝達すると共に、前記被検体からの戻り光を受光する交換可能な光プローブと、
前記光源からの光を被検体に対して走査させるスキャンニング駆動手段と、
前記戻り光を検出する光検出手段を有すると共に、前記光プローブを着脱自在に装着可能な装置本体と、
前記光プローブに設けられた該光プローブの特徴情報を保持する情報保持手段と、
前記光プローブの特徴情報を検知する情報検知手段と、
前記光検出手段が検出した信号を処理し、前記被検体の断層画像を生成する画像生成手段と、
前記被検体の断層画像の表示パラメータを調整する画像表示調整手段と、
前記情報検知手段からの検知情報により、前記スキャニング駆動手段、及び前記画像表示調整手段の少なくとも何れか一つを制御する制御手段とを備えることを特徴とする光イメージング装置を提供する。
上記の構成によれば、接続された光プローブに適したスキャンニング駆動制御や、表示画像の調整等が可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月9日(2004.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明の目的は、上記の課題を解決するもので、小型・安価で、耐久性に富むバイオチップ読取装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、背景光となる反射励起光を十分に減衰することのできるバイオチップ読取装置を提供することにある。
本発明の更に他の目的は、安価で低精度のアナログ・デジタル変換機や増幅器の使用によっても高精度に試料を測定できるバイオチップ読取装置を提供することにある。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
また、従来例の図２０で指摘した問題に対する解決策としては、次のような構成とするのが望ましい。光源から光強度の強い部位と光強度の弱い部位から成る励起光を発生させると共に、その励起光のシェーディングを故意に大きくする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２】
2003028799.tif 000001
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１３】
2003028799.tif 000002
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月19日(2005.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学ＤＵＴの群遅延を測定する方法であって、
前記光学ＤＵＴを含むテスト干渉計に対して、周波数が時間の経過につれて変動する入力光信号を発生するステップと、
前記テスト干渉計からのＤＵＴヘテロダイン・ビート信号のＤＵＴゼロ交差を検出するステップと、
前記ＤＵＴゼロ交差によって定義されるＤＵＴゼロ交差関数の、時間または光周波数に関する導関数を用いて、前記光学ＤＵＴの群遅延を計算するステップ、
が含まれている方法。
【請求項２】
基準干渉計からの基準ヘテロダイン・ビート信号の基準ゼロ交差を検出するステップと、
前記基準ゼロ交差によって定義される基準ゼロ交差関数の時間に関する導関数を計算し、前記基準ゼロ交差関数の時間に関する導関数が前記入力光信号の光周波数の変化に関する情報を提供するステップ、
をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
光学ＤＵＴの群遅延を測定するためのシステムであって、
周波数が時間経過につれて変動する入力光信号を発生する光源と、
前記光学ＤＵＴを含んでおり、前記光源に光学的に結合されて、前記入力光信号を受信するテスト干渉計と、
前記テスト干渉計に結合されて、前記テスト干渉計からのＤＵＴヘテロダイン・ビート信号のＤＵＴゼロ交差を検出するＤＵＴゼロ交差検出器と、
前記ＤＵＴゼロ交差によって定義される前記ＤＵＴ交差関数の、時間または光周波数に関する導関数を計算するように構成されており、さらに、前記ＤＵＴゼロ交差関数の前記導関数を用いて、前記光学ＤＵＴの群遅延を計算するように構成されているプロセッサ、
が含まれているシステム。