【手続補正書】
【提出日】平成17年4月18日(2005.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ニオブ：酸素の原子比が１：２．５未満である酸化ニオブを含み、６ボルト以上の形成電圧で形成され、且つＤＣ漏れが１５ｎＡ／ＣＶ未満である、キャパシターアノードであり、ここで該ＤＣ漏れは、１５００℃で１０分間にわたって焼結され且つ６０℃の形成温度で形成されたアノードについて測定される、キャパシターアノード。
【請求項２】
ニオブ：酸素の原子比が１：２．５未満である酸化ニオブを含み、６ボルト以上の形成電圧で形成され、且つ１２００℃〜１６００℃で１０分間にわたる焼結温度および８５℃の形成温度でのキャパシタンスが、４０，０００ＣＶ／ｇ以上である、キャパシターアノード。
【請求項３】
ニオブ：酸素の原子比が１：２．５未満である酸化ニオブを含み、６ボルト以上の形成電圧で形成され、且つ２０，０００ＣＶ／ｇ以上のキャパシタンスを有するキャパシターアノードであり、ここで該キャパシタンスは、１３００℃で１０分間にわたる焼結温度および８５℃の形成温度で測定される、キャパシターアノード。
【請求項４】
ニオブ：酸素の原子比が１：２．５未満である酸化ニオブを含み、且つキャパシターアノードを形成する粉末が５mm／ｓ未満の燃焼速度を有する、キャパシターアノード。
【請求項５】
ニオブ：酸素の原子比が１：２．５未満である酸化ニオブを含み、且つ１００ｍＪ以上の最小点火エネルギーを有する、キャパシターアノード。
【請求項６】
該酸化ニオブが、ＮｂＯ、酸素が減少したＮｂＯ、ＮｂＯを伴う金属ニオブ、もしくはその組合わせである、請求項１〜５のいずれか記載のキャパシターアノード。
【請求項７】
ニオブ：酸素の原子比が１：２．５未満である酸化ニオブを含むキャパシターアノードの形成方法であって、
該酸化ニオブをアノードの形状に形成し、１２００℃〜１６００℃の温度で１分〜３０分の時間にわたって焼結すること；
８５℃の形成温度で１６〜７５ボルトで陽極酸化すること；
該アノードを３００〜３５０℃の温度で１０分〜６０分の時間にわたってアニールすること；ならびに
該アノードを２２０〜２８０℃の温度でマンガン処理すること、
を含む、キャパシターアノードの形成方法。
【請求項８】
出発酸化ニオブおよびゲッター材料から酸素が減少した酸化ニオブを形成するのに十分な時間および十分な温度で、出発酸化ニオブからゲッター材料に酸素原子を移動させるのを可能にする雰囲気下において、ゲッター材料の存在下に出発酸化ニオブを熱処理することを含む、酸化ニオブを少なくとも部分的に還元する方法。
【請求項９】
該ゲッター材料がニオブ粉末である、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
該酸素が減少した酸素ニオブが、ＮｂＯである、請求項８記載の方法。
【請求項１１】
該酸素が減少した酸化ニオブが、ＮｂＯ、酸素が減少したＮｂＯ、ＮｂＯを伴う金属ニオブ、もしくはその組合わせである、請求項８記載の方法。
【請求項１２】
該雰囲気が水素含有雰囲気である、請求項８記載の方法。
【請求項１３】
該雰囲気が水素である、請求項８記載の方法。
【請求項１４】
該熱処理が、８００℃〜１９００℃の温度で５分〜１００分の時間である、請求項８記載の方法。
【請求項１５】
請求項８〜１４のいずれか記載の方法を含む、酸素が減少した酸化ニオブの製造方法。
【請求項１６】
ニオブ：酸素の原子比が１：２．５未満である酸化ニオブを含むキャパシターアノードの形成方法であって、
該酸化ニオブをアノードの形状に形成し、８００℃〜１２００℃の温度で１時間〜１０時間にわたって焼結すること；
約８５℃の形成温度及び１６〜７５ボルトで陽極酸化すること；
該アノードを、３００〜３５０℃の温度で１０分〜６０分の時間にわたってアニールすること；ならびに
該アノードを、２２０℃〜２８０℃の温度でマンガン処理すること、
を含む、キャパシターアノードの形成方法。
【請求項１７】
ニオブ：酸素の原子比が１：２．５未満である酸化ニオブをアノードの形状に形成し、８００℃〜１２００℃の温度でキャパシターアノードを形成するのに十分な時間にわたって焼結することを含む、ニオブ：酸素の原子比が１：２．５未満である酸化ニオブを含むキャパシターアノードの形成方法。
【請求項１８】
該時間が１時間以上〜１０時間以下である、請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
酸化ニオブをアノードの形状に形成するし、８００℃〜１２００℃の温度で、キャパシタンスを有するキャパシターアノードを形成するのに十分な時間にわたって焼結することを含む、ニオブ：酸素の原子比が１：２．５未満である酸化ニオブを含むキャパシターアノードを形成することを含むキャパシターアノードの低収縮を達成する方法。
【請求項２０】
該時間が１日以上である、請求項１７記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
本発明の他の態様は本明細書およびここに記載された本発明の実施を考慮して当業者に明確である。本明細書の説明および例は例示にすぎず、本発明の範囲および本質は特許請求の範囲に記載される。本発明の実施形態としては、下記の実施形態を挙げることができる：
（実施形態１）
ニオブ：酸素の原子比が１：２．５未満である酸化ニオブを含み、約６ボルト以上の形成電圧で形成され、且つＤＣ漏れが１５ｎＡ／ＣＶ未満である、キャパシターアノードであり、ここで該ＤＣ漏れは、１５００℃で１０分間にわたって焼結され、且つ６０℃の形成温度で形成されたアノードについて測定される、キャパシターアノード。
（実施形態２）
該ＤＣ漏れが約１２ｎＡ／ＣＶ未満である、実施形態１記載のキャパシターアノード。
（実施形態３）
該ＤＣ漏れが６ｎＡ／ＣＶ未満である、実施形態１記載のキャパシターアノード。
（実施形態４）
該ＤＣ漏れが２ｎＡ／ＣＶ未満である、実施形態１記載のキャパシターアノード。
（実施形態５）
該酸化ニオブがＮｂＯである、実施形態１記載のキャパシターアノード。
（実施形態６）
該酸化ニオブが、ＮｂＯ、酸素が減少したＮｂＯ、ＮｂＯを有する金属ニオブ、もしくはそれらの組合わせである、実施形態１記載のキャパシターアノード。
（実施形態７）
ニオブ：酸素の原子比が１：２．５未満である酸化ニオブを含み、約６ボルト以上の形成電圧で形成され、且つ約１２００℃〜約１６００℃で１０分間の焼結温度及び８５℃の形成温度でのキャパシタンスが、４０，０００ＣＶ／ｇ以上である、キャパシターアノード。
（実施形態８）
該キャパシタンスが、約４０，０００〜約６０，０００ＣＶ／ｇである、実施形態７記載のキャパシターアノード。
（実施形態９）
該酸化ニオブがＮｂＯである、実施形態７記載のキャパシターアノード。
（実施形態１０）
該酸化ニオブが、ＮｂＯ、酸素が減少したＮｂＯ、ＮｂＯを有する金属ニオブ、もしくはそれらの組合わせである、実施形態７記載のキャパシターアノード。
（実施形態１１）
ニオブ：酸素の原子比が１：２．５未満である酸化ニオブを含み、約６ボルト以上の形成電圧で形成され、且つ２０，０００ＣＶ／ｇ以上のキャパシタンスを有し、該キャパシタンスは、１３００℃で１０分間の焼結温度および８５℃の形成温度で測定される、キャパシターアノード。
（実施形態１２）
該キャパシタンスが約２０，０００〜約６０，０００ＣＶ／ｇである、実施形態１１記載のキャパシターアノード。
（実施形態１３）
該形成電圧が約２０ボルト〜約８０ボルトである、実施形態１１記載のキャパシターアノード。
（実施形態１４）
該酸化ニオブがＮｂＯである、実施形態１１記載のキャパシターアノード。
（実施形態１５）
該酸化ニオブが、ＮｂＯ、酸素が減少したＮｂＯ、ＮｂＯを有する金属ニオブ、もしくはそれらの組合わせである、実施形態１１記載のキャパシターアノード。
（実施形態１６）
ニオブ：酸素の原子比が１：２．５未満である酸化ニオブを含み、且つキャパシターアノードを形成する粉末が５mm／ｓ未満の燃焼速度を有する、キャパシターアノード。
（実施形態１７）
該燃焼速度が２mm／ｓ以下である、実施形態１６記載のキャパシターアノード。
（実施形態１８）
該燃焼速度が約１mm／ｓ〜約５mm／ｓである、実施形態１６記載のキャパシターアノード。
（実施形態１９）
ニオブ：酸素の原子比が１：２．５未満である酸化ニオブを含み、且つ１００ｍＪ以上の最小点火エネルギーを有する、キャパシターアノード。
（実施形態２０）
該最小点火エネルギーが５００ｍＪ以上である、実施形態１９記載のキャパシターアノード。
（実施形態２１）
該最小点火エネルギーが１０Ｊ未満である、実施形態１９記載のキャパシターアノード。
（実施形態２２）
該酸化ニオブがＮｂＯである、実施形態１９記載のキャパシターアノード。
（実施形態２３）
該酸化ニオブが、ＮｂＯ、酸素が減少したＮｂＯ、ＮｂＯを有する金属ニオブ、もしくはその組合わせである、実施形態１９記載のキャパシターアノード。
（実施形態２４）
ニオブ：酸素の原子比が１：２．５未満である酸化ニオブを含むキャパシターアノードの形成方法であって、
該酸化ニオブをアノードの形状に形成し、約１２００℃〜約１６００℃の温度で約１分〜約３０分の時間にわたって焼結すること；
約８５℃の形成温度及び約１６〜約７５ボルトで陽極酸化すること；
該アノードを、約３００〜約３５０℃の温度で約１０分〜約６０分の時間にわたってアニールすること；ならびに
該アノードを、約２２０〜約２８０℃の温度でマンガン処理すること、
を含む、方法。
（実施形態２５）
出発酸化ニオブおよびゲッター材料から酸素が減少した酸化ニオブを形成するのに十分な時間および十分な温度で、出発酸化ニオブからゲッター材料に酸素原子を移動させるのを可能にする雰囲気下において、ゲッター材料の存在下に出発酸化ニオブを熱処理することを含む、酸化ニオブを少なくとも部分的に還元する方法。
（実施形態２６）
該ゲッター材料がニオブ粉末である、実施形態２５記載の方法。
（実施形態２７）
該酸素が減少した酸素ニオブが、ＮｂＯである、実施形態２５記載の方法。
（実施形態２８）
該酸素が減少した酸化ニオブが、ＮｂＯ、酸素が減少したＮｂＯ、ＮｂＯを伴う金属ニオブ、もしくはその組合わせである、実施形態２５記載の方法。
（実施形態２９）
該雰囲気が水素含有雰囲気である、実施形態２５記載の方法。
（実施形態３０）
該雰囲気が水素である、実施形態２５記載の方法。
（実施形態３１）
該熱処理を約８００℃〜約１９００℃の温度で約５分〜１００分の時間にわたって行う、実施形態２５記載の方法。
（実施形態３２）
実施形態２５〜３１のいずれか記載の方法を含む、酸素が減少した酸化ニオブの製造方法。
（実施形態３３）
ニオブ：酸素の原子比が１：２．５未満である酸化ニオブを含むキャパシターアノードの形成方法であって、
該酸化ニオブをアノードの形状に形成し、約８００℃〜約１２００℃の温度で約１時間〜約１０時間にわたって焼結すること；
約８５℃の形成温度及び約１６〜７５ボルトで陽極酸化すること；
該アノードを、約３００〜約３５０℃の温度で約１０分〜約６０分の時間にわたってアニールすること；ならびに
該アノードを、約２２０℃〜約２８０℃の温度でマンガン処理すること、
を含む、方法。
（実施形態３４）
酸化ニオブをアノードの形状に形成し、約８００℃〜約１２００℃の温度でキャパシターアノードを形成するのに十分な時間にわたって焼結することを含む、ニオブ：酸素の原子比が１：２．５未満である酸化ニオブを含むキャパシターアノードの形成方法。
（実施形態３５）
該時間が約１時間以上約１０時間以下である、実施形態３４記載の方法。
（実施形態３６）
該時間が約１時間〜約４時間である、実施形態３４記載の方法。
（実施形態３７）
該焼結温度が約９００℃〜約１２００℃である、実施形態３４記載の方法。
（実施形態３８）
該焼結温度が約１０００℃〜約１１００℃である、実施形態３４記載の方法。
（実施形態３９）
酸化ニオブをアノードの形状に形成し、約８００℃〜約１２００℃の温度でキャパシタンスを有するキャパシターアノードを形成するのに十分な時間にわたって焼結することを含む、ニオブ：酸素の原子比が１：２．５未満である酸化ニオブを含むキャパシターアノードを形成することを含むキャパシターアノードの低収縮を達成する方法。
（実施形態４０）
該時間が１日以上である、実施形態３４記載の方法。