【手続補正書】
【提出日】平成16年9月2日(2004.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源（１）と、
物面（１４）と、
射出瞳（２４）と、
前記光源（１）により照明され、前記光源（１）から入射する光束を複数の光の伝播経路に分ける、複数のグリッド素子（５）を有する第１の光学素子と、
複数のグリッド素子（９）を有していて、前記第１の光学素子の前記グリッド素子（５）によって作られる前記光の伝播経路毎に、一つの前記グリッド素子（９）が割り当てられてなる第２の光学素子とを備え、
前記グリッド素子（５，９）は、光の伝播経路のそれぞれに対して前記光源（１）から前記物面（１４）に至る一つの光路が生じるように形成されるか、または配置されてなる、１９３ｎｍ以下の波長、とりわけ、ＥＵＶリソグラフィーに用いられる照明系において、
前記第１及び第２の光学素子の前記グリッド素子（５，９）の割り当てによって、該照明系の前記射出瞳（２４）における予め定められた所定の照明が設定されるように、この割り当てが操作可能に設けられ、
前記第２の光学素子は、前記第２の光学素子の前記グリッド素子に対する前記第１の光学素子の前記グリッド素子の対応関係を変えることによって、前記第２の光学素子の交換の必要無しに、少なくとも二つの予め定められた所定の照明の設定が可能とされるような所定の数の前記グリッド素子を備え、
前記第２の光学素子の前記グリッド素子（９）の数Ｍは、前記第１の光学素子の前記グリッド素子（５）の数Ｎより大きいことを特徴とする照明系。
【請求項２】
請求項１に記載の照明系において、
前記グリッド素子を有する第１の光学素子が交換可能に設けられ、前記第１の光学素子の交換によって、前記第２の光学素子の前記グリッド素子に対する前記第１の光学素子の前記グリッド素子の他の対応関係、ならびに、これに伴って、前記射出瞳における他の照明が実現可能とされていることを特徴とする照明系。
【請求項３】
請求項２に記載の照明系において、
移動台を有した移動装置を備え、前記移動台上には、複数の前記第１の光学素子が配置され、前記移動台の移動によって、前記第１の光学素子が交換可能とされていることを特徴とする照明系。
【請求項４】
請求項１に記載の照明系において、
前記第１の光学素子の前記グリッド素子(５，９）は、反射鏡の切り子面とされ、
該切り子面は、プレート（７）上に配置されるとともに、前記プレート面に対する前記第１の光学素子の反射鏡の切り子面の傾きによって、前記第１及び第２の光学素子の前記グリッド素子の間の前記光の伝播経路が調整可能とされ、これにより、前記第２の光学素子の前記グリッド素子に対して前記第１の光学素子の前記グリッド素子が異なる対応関係で割り当てられ、かつ、これに伴って、前記射出瞳の異なる照明が行われるように設けられていることを特徴とする照明系。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の照明系において、
前記第１の光学素子の前記グリッド素子が前記物面に結像され、この物面（１４）において、前記光の伝播経路が重なり合うように設けられていることを特徴とする照明系。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載の照明系において、
前記第１の光学素子の前記グリッド素子（５）は、前記第２の光学素子の前記グリッド素子内、もしくはその近くに、二次光源を形成するように設けられていることを特徴とする照明系。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載の照明系において、
前記グリッド素子を有する第１の反射鏡の上流側に、集光器ユニットを備えていることを特徴とする照明系。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載の照明系において、
前記グリッド素子を有する第２の光学素子の下流側に配置された、少なくとも一つの反射鏡ないしはレンズ（１２）を備え、この少なくとも一つの反射鏡またはレンズが、前記第２の光学素子内、もしくはその近くに配置された面を前記射出瞳に結像するよう設けられていることを特徴とする照明系。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか１項に記載の照明系において、
前記第２の光学素子の前記グリッド素子、及び、前記グリッド素子を有する第２の光学素子の下流側に配置された前記反射鏡またはレンズは、前記第１の光学素子を前記物面に結像するよう設けられていることを特徴とする照明系。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか１項に記載の照明系において、
前記グリッド素子を有する第１の光学素子、及び前記グリッド素子を有する第２の光学素子の間の前記光の伝播経路は、前記射出瞳における照明が円形状となるように形成されていることを特徴とする照明系。
【請求項１１】
請求項１から９のいずれか１項に記載の照明系において、
前記グリッド素子を有する第１の光学素子、及び前記グリッド素子を有する第２の光学素子の間の前記光の伝播経路は、前記射出瞳における照明がリング状となるように形成されていることを特徴とする照明系。
【請求項１２】
請求項１から９のいずれか１項に記載の照明系において、
前記グリッド素子を有する第１の光学素子、及び前記グリッド素子を有する第２の光学素子の間の前記光の伝播経路は、前記射出瞳において、明らかに互いに分離された複数のセグメントが照明されるように形成されていることを特徴とする照明系。
【請求項１３】
請求項１２に記載の照明系において、
前記セグメントの数は偶数とされ、とりわけ、２ないし４とされていることを特徴とする照明系。
【請求項１４】
１９３ｎｍ以下の波長、とりわけ、ＥＵＶリソグラフィーに用いられる照明系の射出瞳における照明の分布を、請求項１から１３のいずれか１項に記載の照明系を用いて設定する方法において、
前記グリッド素子を有する第１及び／又は第２の光学素子を交換することにより、そして／あるいは、前記第１及び／又は第２の光学素子の前記グリッド素子の配置、及びそのプリズムの作用を変更し、とりわけ、前記第１及び／又は第２の光学素子の前記グリッド素子を傾斜させ、そして／あるいは移動させることにより、射出瞳における所定の光の分布を設定し、このとき、射出瞳における所定の光の分布毎に、前記第１及び第２の光学素子の前記グリッド素子の間の光の伝播経路を設定することを特徴とする照明系。
【請求項１５】
マイクロリソグラフィーのためのＥＵＶ投影露光装置において、
極短紫外光線を発生する光源と、
射出瞳を有して、前記光源から発せられた光線の一部を集めてリングフィールドを照明するよう導く請求項１から１３のいずれか１項に記載の照明系と、
支持装置上に載置され、リングフィールドの面内に置かれた構造を有するマスクと、
前記構造を有するマスクの照明された部分をイメージフィールドに結像するよう設けられた投影装置、とりわけ、前記照明系の射出瞳と一致する入射瞳を備える投影光学系と、
前記投影装置のイメージフィールドの面内に載置された支持装置上の感光性基板とを備えてなるマイクロリソグラフィー用のＥＵＶ投影露光装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載のＥＵＶ投影露光装置において、
前記リングフィールド面内における構造を有するマスクに用いられる前記支持装置が、第１の方向に移動可能とされた走査型の装置とされていることを特徴とするＥＵＶ露光装置。
【請求項１７】
請求項１６に記載のＥＵＶ投影露光装置において、
第２の方向に移動可能とされ、前記第１及び／又は第２の光学素子を複数支持する一つ、もしくは複数のさらに他の支持装置を備え、前記第１の方向が前記第２の方向に対して垂直に設けられていることを特徴とするＥＵＶ露光装置。
【請求項１８】
請求項１５から１７のいずれか１項に記載のＥＵＶ投影露光装置を用いてマイクロエレクトロニクス部品、とりわけ半導体チップを製造する方法。