【手続補正書】
【提出日】平成16年12月15日(2004.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
反射膜が施された樹脂部品の製造方法において、
樹脂基材の表面にアクリル系やウレタン系等の紫外線硬化型塗料を塗布して紫外線により硬化させ、又はアクリル系やウレタン系等の熱硬化型塗料を塗布して熱により硬化させて、樹脂基材の表面にアンダーコートを設ける工程と、
前記樹脂基材及び前記アンダーコートを第１真空槽中にセットし、前記第１真空槽中においてプラズマが発生し易い圧力環境下で大気又は酸素を導入してプラズマを発生させ、前記アンダーコートの表面をプラズマ処理して前記アンダーコートの表面の未硬化部をエッチングで取り除き、前記アンダーコートの表面に前記未硬化部を取り除いたプラズマ処理層を設ける工程と、
前記樹脂基材及び前記アンダーコート及び前記プラズマ処理層を第２真空槽中にセットし、前記第２真空槽中においてアルミや銀等の反射膜材をスパッタリングや蒸着して、前記プラズマ処理層の表面に反射膜を設ける工程と、
前記樹脂基材及び前記アンダーコート及び前記プラズマ処理層及び前記反射膜を第３真空槽中にセットし、前記第３真空槽中においてプラズマが発生し易い圧力環境下でＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシロキサン）やＴＥＯＳ等のトップコート材のモノマーを導入し、前記モノマーをプラズマ中にて重合し前記反射膜の表面に析出させて、前記反射膜の表面にトップコートを設ける工程と、
を備えたことを特徴とする反射膜付き樹脂部品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
反射膜が施された樹脂部品の製造方法において、
樹脂基材の表面にアクリル系やウレタン系等の紫外線硬化型塗料を塗布して紫外線により硬化させ、又はアクリル系やウレタン系等の熱硬化型塗料を塗布して熱により硬化させて、樹脂基材の表面にアンダーコートを設ける工程と、
前記樹脂基材及び前記アンダーコートを第１真空槽中にセットし、前記第１真空槽中においてプラズマが発生し易い圧力環境下でＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシロキサン）やＴＥＯＳ等のガスシール材のモノマーを導入し、前記モノマーをプラズマ中にて重合し前記アンダーコートの表面に析出させて、前記アンダーコートの表面の未硬化部において発生するガスをシールするガスシール膜を前記アンダーコートの表面に設ける工程と、
前記樹脂基材及び前記アンダーコート及び前記プラズマ処理層を第２真空槽中にセットし、前記第２真空槽中においてアルミや銀等の反射膜材をスパッタリングや蒸着して、前記プラズマ処理層の表面に反射膜を設ける工程と、
前記樹脂基材及び前記アンダーコート及び前記プラズマ処理層及び前記反射膜を第３真空槽中にセットし、前記第３真空槽中においてプラズマが発生し易い圧力環境下でＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシロキサン）やＴＥＯＳ等のトップコート材のモノマーを導入し、前記モノマーをプラズマ中にて重合し前記反射膜の表面に析出させて、前記反射膜の表面にトップコートを設ける工程と、
を備えたことを特徴とする反射膜付き樹脂部品の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
図において、１は樹脂基材である。この樹脂基材１の表面にはアンダーコート２が設けられている。このアンダーコート２は、樹脂基材１の表面にアクリル系やウレタン系等の紫外線硬化型塗料を塗布して紫外線により硬化させることにより形成されているものである。
このアンダーコート２の表面にはプラズマ処理層３が設けられている。このプラズマ処理層３は、アンダーコート２の表面をプラズマ処理してそのアンダーコート２の表面の未硬化部２０をエッチングで取り除くことにより形成されているものである。
このプラズマ処理層３の表面には反射膜４が設けられている。この反射膜４は、プラズマ処理層３の表面にアルミや銀等の反射膜材をスパッタリングや蒸着することにより形成されているものである。
この反射膜４の表面にはトップコート５が設けられている。このトップコート５は、反射膜４の表面にＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシロキサン）やＴＥＯＳ等のトップコート材のモノマーをプラズマで重合して析出させることにより形成されているものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
そして、上述の樹脂基材１及びアンダーコート２及びプラズマ処理層３及び反射膜４を第３真空槽１１中にセットし、その第３真空槽１１中にＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシロキサン）やＴＥＯＳ等のトップコート材のモノマー（モノマーガス）を開閉弁１３を介して導入する。その第３真空槽１１中においてプラズマが発生し易い圧力環境下でＤＣ電源やＲＦ電源１２によりプラズマを発生させ、上述のモノマーをプラズマ中にて重合し上述の反射膜４の表面に析出させて、反射膜４の表面にトップコート５を設ける（図６を参照）。
なお、上述のトップコート５のプラズマ重合膜形成工程における第３真空槽１１中の圧力は、図７に示すように、約１×１０-1〜約８×１０-2Ｔｏｒｒのプラズマが発生し易い圧力とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
図において、３０はアンダーコート２の表面に設けられたガスシール膜である。このガスシール膜３０は、アンダーコート２の表面にＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシロキサン）やＴＥＯＳ等のガスシール材のモノマーをプラズマで重合して析出させることにより形成されているものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
次に、上述の樹脂基材１及びアンダーコート２を第１真空槽１１中にセットし、図１２に示すように、粗引き排気により第１真空槽１１中の圧力を大気（約７６０Ｔｏｒｒ）から約２×１０-2Ｔｏｒｒ、すなわちプラズマが発生し易い圧力まで下げる。それから、その第１真空槽１１中においてプラズマが発生し易い圧力環境下でＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシロキサン）やＴＥＯＳ等のガスシール材のモノマー（モノマーガス）を開閉弁１３を介して導入し、かつＤＣ電源やＲＦ電源１２によりプラズマを発生させ、上述のモノマーをプラズマ中にて重合し上述のアンダーコート２の表面に析出させて、アンダーコート２の表面にガスシール膜３０を設ける（図９を参照）。
なお、上述のガスシール膜３０のプラズマ重合膜形成工程における第１真空槽１１中の圧力は、図１２に示すように、約１×１０-1〜約８×１０-2Ｔｏｒｒのプラズマが発生し易い圧力とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
そして、上述の樹脂基材１及びアンダーコート２及びガスシール膜３０及び反射膜４を第３真空槽１１中にセットし、その第３真空槽１１中にＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシロキサン）やＴＥＯＳ等のトップコート材のモノマー（モノマーガス）を開閉弁１３を介して導入する。その第３真空槽１１中においてプラズマが発生し易い圧力環境下でＤＣ電源やＲＦ電源１２によりプラズマを発生させ、上述のモノマーをプラズマ中にて重合し上述の反射膜４の表面に析出させて、反射膜４の表面にトップコート５を設ける（図１１を参照）。
なお、上述のトップコート５のプラズマ重合膜形成工程における第３真空槽１１中の圧力は、図１２に示すように、約１×１０-1〜約８×１０-2Ｔｏｒｒのプラズマが発生し易い圧力とする。