【手続補正書】
【提出日】平成16年12月13日(2004.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  下記式(I)で表される化合物又はそのエナンチオマー又はジアステレオマー。
【化１】
2004515555.tif 000001
（式中、Aは5又は6員同素環、又はN、O及びSより選ばれたヘテロ原子を1つ以上含む5又は6員複素環であり;
XはHであり、WはOHであり；又はXとWは一緒になってカルボニル基又はエポキシドを形成し;
R1はH; 又はヒドロキシ; ハロ; 低級アルキル; 低級アルコキシ; 低級チオアルキル; ハロアルキル(例えば、トリフルオロメチル); 又は-C(O)R2からなる群より独立して選ばれた1つ又は2つの置換基であり、ここで、R2は低級アルキル、アリールオキシ又はベンジルオキシであり;
YはR5又はC(O)R6でモノ又はジ置換されていてもよいフェニルであり、ここで、R5は低級アルキル、低級シクロアルキル、低級アルコキシ、ハロ、ヒドロキシ、ニトリル又はトリフルオロメチルであり、R6は低級アルキル、低級シクロアルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ又はトリフルオロメチルであり; 前記フェニル環はN、O及びSより選ばれたヘテロ原子を含んでいてもよい飽和又は不飽和4〜6員環と縮合していてもよく;又は
YはN、O及びSより選ばれたヘテロ原子を1つ以上含む複素環(Het)であり、前記HetはR5又はC(O)R6でモノ又はジ置換されていてもよく、ここで、R5とR6は上で定義した通りであり; 前記HetはN、O及びSより選ばれたヘテロ原子を含んでいてもよい飽和又は不飽和4〜6員環と縮合していてもよく;又は
Yはエチレンフェニルであり、前記エチレン部分は低級アルキルでモノ置換されていてもよく、ここで、前記フェニル環はR5又はC(O)R6でモノ又はジ置換されていてもよく、ここで、R5とR6は上で定義した通りであり; 前記フェニル環はN、O及びSより選ばれたヘテロ原子を含んでいてもよい飽和又は不飽和4〜6員環と縮合していてもよく;又は
Yはエチレン-Hetであり、前記エチレン部分は低級アルキルでモノ置換されていてもよく、ここで、HetはR5又はC(O)R6でモノ又はジ置換されていてもよく、ここで、R5とR6は上で定義した通りであり; 前記HetはN、O及びSより選ばれたヘテロ原子を含んでいてもよい飽和又は不飽和4〜6員環と縮合していてもよく;
R3は低級アルキル、低級シクロアルキル、低級アルキレン、アリール又は低級アラルキルからなる群より選ばれ、低級アルキル、低級シクロアルキル、ハロアルキル、ハロ、CN、アジド、低級アルコキシ、(低級アルキル)アシル、C1-6チオアルキル、C1-6アルキルスルホニル、NHC(O)-低級アルキル、NHC(O)-アリール、NHC(O)-O-低級アルキル、NHC(O)O-アリール、アリール、アリールオキシ、ヒドロキシ、ニトロ、アミノ、又はHetでモノ又はジ置換されていてもよく、前記Hetは低級アルキル、低級シクロアルキル、低級アルコキシ、ハロ、ヒドロキシ、ニトリル、トリフルオロメチル、C(O)R6でモノ又はジ置換されていてもよく、ここで、R6は上で定義した通りであり;
前記低級シクロアルキル、アリール、低級アラルキル又はHetはN、O及びSより選ばれたヘテロ原子を含んでいてもよい飽和又は不飽和4〜6員環と縮合していてもよく;
R4はカルボン酸、その塩又はエステルである。
但し、XとWが一緒になってカルボニルを形成し、Yがフェニルである場合、R3はフェニルではない。）
【請求項２】  下記化合物
【化２】
2004515555.tif 000002
（式中、A、X、R1、Y、R3、及びR4は請求項1で定義した通りである。）
からなる群より選ばれた化合物。
【請求項３】  請求項2記載の化合物I(a)と化合物I(b)の混合物。
【請求項４】  請求項2記載の化合物I(c)と化合物I(d)の混合物。
【請求項５】  前記混合物がラセミ体である、請求項3記載の化合物の混合物。
【請求項６】  前記混合物がラセミ体である、請求項4記載の化合物の混合物。
【請求項７】  それぞれ純粋なエナンチオマーである、請求項3記載の化合物I(a)又は化合物I(b)。
【請求項８】  それぞれ純粋なエナンチオマーである、請求項4記載の化合物I(c)又は化合物I(d)。
【請求項９】  XがHであり、WがOHであり;又はXとWがカルボニル基を形成もする、請求項1記載の化合物。
【請求項１０】  XとWがカルボニル基を形成する、請求項9記載の化合物。
【請求項１１】  環Aが下記式I' で表されるベンゼン環である、請求項1記載の化合物。
【化３】
2004515555.tif 000003
（式中、X、R1、W、Y、R3、及びR4は請求項1で定義した通りである。）
【請求項１２】  環Aが下記式I''とI'''で表されるイオウ原子を含む5員環である、請求項1記載の化合物。
【化４】
2004515555.tif 000004
（式中、R1、X、W、Y、R3、及びR4は請求項1で定義した通りである。）
【請求項１３】  R1がHであるか、又はヒドロキシ; ハロ; 低級アルキル; 低級アルコキシ; 低級チオアルキル; ハロアルキル; 又は-C(O)R2からなる群より独立して選ばれる1つ又は2つの置換基であり、ここで、R2は低級アルキル、アリールオキシ又はベンジルオキシである、請求項1記載の化合物。
【請求項１４】  R1がH、ハロ又はC1-4アルキルである、請求項13記載の化合物。
【請求項１５】  R1がH、フルオロ又はメチルである、請求項14記載の化合物。
【請求項１６】  R1がH又はメチルである、請求項15記載の化合物。
【請求項１７】  YがR5又はC(O)R6でモノ又はジ置換されていてもよいフェニルであり、ここで、R5は低級アルキル、低級シクロアルキル、低級アルコキシ、ハロ、ヒドロキシ、ニトリル又はトリフルオロメチルであり、R6は低級アルキル、低級シクロアルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ又はトリフルオロメチルであり; 前記フェニル環はN、O及びSより選ばれたヘテロ原子を含んでいてもよい飽和又は不飽和4〜6員環と縮合していてもよく; Yがエチレン-フェニルでもあり、前記エチレン部分は低級アルキルでモノ置換されていてもよく、ここで、前記フェニル環はR5又はC(O)R6でモノ又はジ置換されていてもよく、ここで、R5とR6は上で定義した通りであり; 前記フェニル環はN、O及びSより選ばれたヘテロ原子を含んでいてもよい飽和又は不飽和4〜6員環と縮合していてもよい、請求項1記載の化合物。
【請求項１８】  Yがナフチル、CH=CH-フェニル、C(CH3)=CH-フェニル又はフェニルであり、ここで、フェニル環は３、４、又は５位でR5によりモノ又はジ置換されていてもよく、ここで、R5はハロ、C1-4アルキル、ヒドロキシ、CF3又はNHC(O)-(低級アルキル)である、請求項17記載の化合物。
【請求項１９】  Yが3,4-Cl; 3-F,4-Cl; 3-Cl,4-F; 3,4-Br; 3-F,4-CH3; 3,4-CH3; 3-CF3; NHC(O)-; (CH2)3CH3又は
【化５】
2004515555.tif 000005
で置換されていてもよいフェニルである、請求項18記載の化合物。
【請求項２０】  Yが3,4-Cl又は3,4-Brで置換されていてもよいフェニルである、請求項19記載の化合物。
【請求項２１】  R3がシクロヘキシル; C1-6アルキル; C1-6チオアルキル; (C1-6アルキル)フェニルからなる群より選ばれ、ここでフェニル環は低級アルキル、CF3、ハロ、CN、アジド、低級アルコキシ、(低級アルキル)アシル、C1-6チオアルキル、C1-6アルキルスルホニル、NHC(O)-低級アルキル、アリール、アリールオキシ、ヒドロキシ、ニトロ、アミノ、又はHetで置換されていてもよく、前記Hetは低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ、ヒドロキシ、ニトリル、トリフルオロメチル、
【化６】
2004515555.tif 000006
でモノ又はジ置換されていてもよい、請求項1記載の化合物。
【請求項２２】  R3がC1-6アルキル; C1-6チオアルキル; 
【化７】
2004515555.tif 000007
からなる群より選ばれる、請求項21記載の化合物。
【請求項２３】  R3が
【化８】
2004515555.tif 000008
からなる群より選ばれる、請求項22記載の化合物。
【請求項２４】  下記式を有する請求項1記載の化合物。
【化９】
2004515555.tif 000009
（式中、R3は低級アルキル、低級シクロアルキル、低級アルキレン、アリール又は低級アラルキルからなる群より選ばれ、低級アルキル、低級シクロアルキル、ハロアルキル(例えば、CF3)、ハロ、CN、アジド、低級アルコキシ、(低級アルキル)アシル、C1-6チオアルキル、C1-6アルキルスルホニル、NHC(O)-低級アルキル、NHC(O)-アリール、NHC(O)-O-低級アルキル、NHC(O)O-アリール、アリール、アリールオキシ、ヒドロキシ、ニトロ、アミノ、又はHetでモノ又はジ置換されていてもよく、前記Hetは低級アルキル、低級シクロアルキル、低級アルコキシ、ハロ、ヒドロキシ、ニトリル、トリフルオロメチル、C(O)R6でモノ又はジ置換されていてもよく、ここで、R6は上で定義した通りであり;
前記低級シクロアルキル、アリール、低級アラルキル又はHetは、N、O及びSより選ばれたヘテロ原子を含んでいてもよい飽和又は不飽和4〜6員環と縮合していてもよく;
R5は低級アルキル、低級シクロアルキル、低級アルコキシ、ハロ、ヒドロキシ、ニトリル又はトリフルオロメチルである。）
【請求項２５】  抗パピローマウイルス的に有効な量の下記式(I)で表される化合物、又はその治療的に許容しうる塩又はエステルを薬学的に許容しうる担体又は補助剤と混合して含む医薬組成物。
【化１０】
2004515555.tif 000010
（式中、Aは5又は6員同素環、又はN、O及びSより選ばれたヘテロ原子を1つ以上含む5又は6員複素環であり;
XはHであり、WはOHであり；又はXとWは一緒になってカルボニル基又はエポキシドを形成し;
R1はH; 又はヒドロキシ; ハロ; 低級アルキル; 低級アルコキシ; 低級チオアルキル; ハロアルキル(例えば、トリフルオロメチル); 又は-C(O)R2からなる群より独立して選ばれた1つ又は2つの置換基であり、ここで、R2は低級アルキル、アリールオキシ又はベンジルオキシであり;
YはR5又はC(O)R6でモノ又はジ置換されていてもよいフェニルであり、ここで、R5は低級アルキル、低級シクロアルキル、低級アルコキシ、ハロ、ヒドロキシ、ニトリル又はトリフルオロメチルであり、R6は低級アルキル、低級シクロアルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ又はトリフルオロメチルであり; 前記フェニル環はN、O及びSより選ばれたヘテロ原子を含んでいてもよい飽和又は不飽和4〜6員環と縮合していてもよく;又は
YはN、O及びSより選ばれたヘテロ原子を1つ以上含む複素環(Het)であり、前記HetはR5又はC(O)R6でモノ又はジ置換されていてもよく、ここで、R5とR6は上で定義した通りであり; 前記HetはN、O及びSより選ばれたヘテロ原子を含んでいてもよい飽和又は不飽和4〜6員環と縮合していてもよく;又は
Yはエチレンフェニルであり、前記エチレン部分は低級アルキルでモノ置換されていてもよく、ここで、前記フェニル環はR5又はC(O)R6でモノ又はジ置換されていてもよく、ここで、R5とR6は上で定義した通りであり; 前記フェニル環はN、O及びSより選ばれたヘテロ原子を含んでいてもよい飽和又は不飽和4〜6員環と縮合していてもよく;又は
Yはエチレン-Hetであり、前記エチレン部分は低級アルキルでモノ置換されていてもよく、ここで、HetはR5又はC(O)R6でモノ又はジ置換されていてもよく、ここで、R5とR6は上で定義した通りであり; 前記HetはN、O及びSより選ばれたヘテロ原子を含んでいてもよい飽和又は不飽和4〜6員環と縮合していてもよく;
R3は低級アルキル、低級シクロアルキル、低級アルキレン、アリール又は低級アラルキルからなる群より選ばれ、低級アルキル、低級シクロアルキル、ハロアルキル、ハロ、CN、アジド、低級アルコキシ、(低級アルキル)アシル、C1-6チオアルキル、C1-6アルキルスルホニル、NHC(O)-低級アルキル、NHC(O)-アリール、NHC(O)-O-低級アルキル、NHC(O)O-アリール、アリール、アリールオキシ、ヒドロキシ、ニトロ、アミノ、又はHetでモノ又はジ置換されていてもよく、前記Hetは低級アルキル、低級シクロアルキル、低級アルコキシ、ハロ、ヒドロキシ、ニトリル、トリフルオロメチル、C(O)R6でモノ又はジ置換されていてもよく、ここで、R6は上で定義した通りであり;
前記低級シクロアルキル、アリール、低級アラルキル又はHetはN、O及びSより選ばれたヘテロ原子を含んでいてもよい飽和又は不飽和4〜6員環と縮合していてもよく;
R4はカルボン酸、その塩又はエステルである。）
【請求項２６】  請求項２５記載の式(I)の化合物の、パピローマウイルス感染症を治療する薬剤を製造するための使用。
【請求項２７】  請求項２５記載の式(I)の化合物の、出産前にHPVの母子感染を予防する薬剤を製造するための使用。
【請求項２８】  下記式viを有する中間体化合物。
【化１１】
2004515555.tif 000011
（式中、R3とYは請求項1で定義した通りである。）
【請求項２９】  下記式xxを有する中間体化合物。
【化１２】
2004515555.tif 000012
（式中、R3、R4、及びYは請求項1で定義した通りである。）
【請求項３０】  下記式xxviを有する中間体化合物。
【化１３】
2004515555.tif 000013
（式中、R1、Y、及びR3は請求項1で定義した通りである。）
【請求項３１】
下記式xxxiiを有する中間体化合物。
【化１４】
2004515555.tif 000014
（式中、R1、R3及びYは請求項1で定義した通りである。）
【請求項３２】  下記式I' 
【化１５】
2004515555.tif 000015
（式中、X、R1、W、Y、R3、及びR4は請求項1で定義した通りである。）
を有する化合物の製造方法であって、
a）塩基水溶液と共溶媒の混合物中で下記中間体化合物vi又は中間体化合物xx
【化１６】
2004515555.tif 000016
を加水分解してR3、R4、及びYが請求項1で定義した通りである式I' の化合物を得る工程を含む、前記方法。
【請求項３３】  b）前記混合物を酸水溶液で酸性にして式I' の化合物を得る工程を含む、請求項３２記載の方法。
【請求項３４】  c）ジアゾメタンでb)からの生成物を処理する工程
を含む、請求項３３記載の方法。
【請求項３５】  a）水素化物原料と非プロトン性溶媒の混合物中で中間体vi:
【化１７】
2004515555.tif 000017
を還元して下記モノヒドロキシ中間体xivとxv
【化１８】
2004515555.tif 000018
（式中、YとR3は請求項1で定義した通りである。）
の混合物を得る工程を含む、請求項３２記載の方法。
【請求項３６】  a）塩基水溶液と共溶媒の混合物中で中間体xivとxvを加水分解して式I' の化合物を得る工程を含む、請求項３５記載の式I' の製造方法。
【請求項３７】  下記式''
【化１９】
2004515555.tif 000019
（式中、XとWは一緒になってカルボニル基を形成し、R4はカルボン酸又はエステルであり、R1、Y、及びR3は請求項1で定義した通りである。）
を有する化合物の製造方法であって、
a）塩基水溶液と共溶媒の混合物中で下記中間体化合物xxvi
【化２０】
2004515555.tif 000020
を加水分解してR1、Y、及びR3が請求項1で定義した通りである化合物I''を得る工程を含む、前記方法。
【請求項３８】  下記式I'''
【化２１】
2004515555.tif 000021
（式中、XとWは一緒になってカルボニル基を形成し、R4はカルボン酸又はエステルであり、R1、Y、及びR3は請求項1で定義した通りである。）
を有する化合物の製造方法であって、
a）塩基水溶液と共溶媒の混合物中で中間体化合物xxxii
【化２２】
2004515555.tif 000022
を加水分解してR1、Y、及びR3が請求項1で定義した通りである式I'''の化合物を得る工程を含む前記方法。