(57)【要約】【課題】有機ＥＬデバイス等の表示装置において、鮮明な画像を表示可能にする表示素子用材料となり、且つ低公害系有機溶剤に可溶なポジ型感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】（Ａ）成分として、下記式（１）で表される構造単位を持つポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミドと、（Ｂ）成分として、光により酸を発生する化合物とを含有し、それらが（Ｃ）溶剤に溶解したポジ型感光性樹脂組成物。2008123507.tif 000031（式（１）中、Ｒ1は式（２）2008123507.tif 000032（式（２）中、Ｒ3は硫黄原子を有する有機基を表し、Ｒ4及びＲ5はそれぞれ独立して水素原子又は炭素原子数１乃至２０の有機基を表す。）で表される芳香族基を表し、Ｒ2はフッ素原子を有する芳香族基を表し、ｎは自然数を表す。）【選択図】  なし
2008123507.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）成分として、下記式（１）で表される構造単位を持つポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミドと、（Ｂ）成分として、光により酸を発生する化合物とを含有し、それらが（Ｃ）溶剤に溶解したポジ型感光性樹脂組成物。
【化１】
2008123507.tif 000023
（式（１）中、Ｒ1は式（２）
【化２】
2008123507.tif 000024
（式（２）中、Ｒ3は硫黄原子を有する有機基を表し、Ｒ4及びＲ5はそれぞれ独立して水素原子又は炭素原子数１乃至２０の有機基を表す。）で表される芳香族基を表し、Ｒ2はフッ素原子を有する芳香族基を表し、ｎは自然数を表す。）
【請求項２】
前記式（２）中、Ｒ3がスルホニル基を有する有機基である、請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記式（２）中、Ｒ4及びＲ5のうち少なくとも一方が水素原子である、請求項１又は請求項２に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項４】
前記式（１）中、Ｒ2が下記式（３）で表される構造を有する、請求項１乃至請求項３のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化３】
2008123507.tif 000025
（式中、Ｒ6はフッ素原子で置換された炭素原子数１乃至８の有機基を表し、Ｘ1及びＸ2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１乃至１０の有機基、又はヒドロキシ基を表す。）
【請求項５】
前記（Ａ）成分が、下記式（４）で表される化合物を含むテトラカルボン酸成分と、ジアミン成分とを重合して得られるポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミドである、請求項１乃至請求項４のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化４】
2008123507.tif 000026
（式中、Ｒ7は硫黄原子を有する有機基を表す。）
【請求項６】
前記テトラカルボン酸成分が、前記式（４）で表される化合物に加え、下記式（５）乃至式（８）で表される化合物のうち少なくとも１種を含むテトラカルボン酸成分である、請求項５に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化５】
2008123507.tif 000027
（式中、ｍは０又は１を表し、Ｒ8は炭素原子数１乃至１２の２価の有機基又は芳香環に直結する、酸素原子を有する２価の有機基を表し、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は、それぞれ炭素原子数１乃至１２の有機基を表す。）
【請求項７】
前記式（４）で表される化合物が、前記テトラカルボン酸成分中、４０乃至９９モル％を占める、請求項５又は請求項６に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項８】
前記ジアミン成分が、下記式（９）で表されるジアミン化合物を含むジアミン成分である、請求項５乃至請求項７のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化６】
2008123507.tif 000028
（式中、Ｒ6はフッ素原子で置換された炭素原子数１乃至８の有機基を表し、Ｘ3及びＸ4は、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数１乃至１０の有機基、又はヒドロキシ基を表す。）
【請求項９】
前記ジアミン成分がジアミノシロキサン化合物を含むジアミン成分である、請求項５乃至請求項８のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項１０】
前記（Ｂ）成分がナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物である、請求項１乃至請求項９のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項１１】
前記（Ｃ）溶剤が、炭素原子を４個以上有するアルコール又はアルキルエステルからなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１乃至請求項１０のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項１２】
（Ａ）成分の１００質量部に基づいて、０．０１乃至１００質量部の（Ｂ）成分を含有する、請求項１乃至請求項１１のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項１３】
（Ｄ）成分として下記（１０）で表されるマレイミド化合物を更に（Ａ）成分の１００質量部に基づいて５乃至１００質量部を含有する、請求項１２に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化７】
2008123507.tif 000029
（式中、Ｒ14は２価の有機基を表し、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、及びＲ24は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１乃至１２の有機基を表す。）
【請求項１４】
前記式（１０）中、Ｒ14が下記式（１１）で表される構造を有する、請求項１３に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化８】
2008123507.tif 000030
（式中、ｌとｋは、それぞれ独立して、０又は１を表し、Ｘ5、Ｘ6及びＸ7は、それぞれ独立して、炭素１乃至１２の有機基、酸素原子、硫黄原子、窒素原子を有する２価の有機基を表す。）
【請求項１５】
前記式（１１）中、ｌとｋが１であり、Ｘ5とＸ7が酸素原子であり、Ｘ6がジメチルメチル基である、請求項１４に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項１６】
（Ｅ）成分として架橋性化合物を更に（Ａ）成分の１００質量部に基づいて５乃至１００質量部を含有する、請求項１５に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項１７】
請求項１乃至請求項１６のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を用いて得られる硬化膜。
【請求項１８】
請求項１７に記載の硬化膜を有する電子部品。
【請求項１９】
請求項１８に記載の硬化膜を有する有機ＥＬ素子。
【請求項２０】
請求項１乃至請求項１６のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、加熱乾燥した後に、紫外線を照射して現像する、レリーフパターンの形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気・電子デバイス、特に半導体装置やディスプレイ装置などの表面保護膜、層間絶縁膜、パッシベーション膜、電極保護層などに好適な感光性材料に関する。より詳細には、低公害系有機溶媒に可溶であり、得られた硬化膜を有機ＥＬ素子デバイスの絶縁膜として用いた際、発光面における発光不良を起こさない優れたポジ型感光性樹脂組成物及びその硬化膜、並びに該硬化膜を用いた各種材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
卓越した機械特性、高い耐熱性を有する感光性ポリイミド樹脂に代表される感光性樹脂から作製された感光性絶縁膜は、その用途が拡大し、半導体分野のみならずディスプレイ分野にまで普及し始めている。特に感光性絶縁膜を液晶表示素子の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）の保護膜、あるいは有機ＥＬ素子の電極保護膜などの保護膜としてディスプレイ装置等に用いる場合には、上述の性能は勿論のこと、これまで以上に絶縁膜に対する信頼性向上が要求されるようになり、また素子工程の簡略化、保護膜の良好な形状、さらには、生産性の観点から低公害系であり且つ生分解性溶媒に可溶であるといった諸特性も要求されるようになった。特に、上述の装置においては、表示不良を起こさないことが重要な条件であるため、最終製品に組み込まれる硬化膜からの水分や感光剤の染み出しによる素子不良を起こさないことが要求されている。【０００３】
これまで提案されてきたポジ型感光性樹脂組成物としては、トリエチルアミン等の塩基性有機化合物を用いて、ポリアミド酸の酸性度を減少させ、アルカリ現像液への溶解速度を抑制したポリイミド系ポジ型感光性樹脂組成物がある（特許文献１）。また、熱硬化後の残膜保持率や力学的強度の向上を目的として、フェノール性ヒドロキシ基と非フェノール性ヒドロキシ基とを含有するポリイミド樹脂とキノンジアジド化合物からなるポジ型感光性樹脂組成物（特許文献２）や、感度向上と高残膜率、そして封止樹脂との密着性向上を目的として、ポリイミドの前駆体であるポリアミドとジアゾキノン化合物の他に、フェノール性化合物を含有する樹脂組成物が提案されている（特許文献３）。これらの文献において提案された材料は、高感度かつ優れた機械特性を有すると記されているものの、最終硬化膜から添加物（トリエチルアミンやフェノール性化合物など）等の染み出しによる素子発光面へのダメージが懸念される。以上のように、従来のポジ型感光性ポリイミド樹脂組成物では、発光素子の隔壁として、発光特性を満足する材料を提供することは困難であった。
【特許文献１】米国特許第４８８０７２２号明細書
【特許文献２】特開２００４−９４１１８号公報
【特許文献３】特開平９−３０２２２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上記の事情に鑑みなされたものであって、有機ＥＬデバイス等の表示装置において、鮮明な画像を表示可能にする表示素子用材料となるポジ型感光性樹脂組成物を提供するものである。更に、低公害系有機溶剤に溶解するポジ型感光性樹脂組成物を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は、上記の課題を解決するべく鋭意研究を行った結果、本発明を見出すに至った。
すなわち、第１観点として、（Ａ）成分として、下記式（１）で表される構造単位を持つポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミドと、（Ｂ）成分として、光により酸を発生する化合物とを含有し、それらが（Ｃ）溶剤に溶解したポジ型感光性樹脂組成物。【０００６】
【化１】
2008123507.tif 000003
【０００７】
（式（１）中、Ｒ1は式（２）【０００８】
【化２】
2008123507.tif 000004
【０００９】
（式（２）中、Ｒ3は硫黄原子を有する有機基を表し、Ｒ4及びＲ5はそれぞれ独立して水素原子又は炭素原子数１乃至２０の有機基を表す。）で表される芳香族基を表し、Ｒ2はフッ素原子を有する芳香族基を表し、ｎは自然数を表す。）
第２観点として、前記式（２）中、Ｒ3がスルホニル基を有する有機基である、第１観点に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第３観点として、前記式（２）中、Ｒ4及びＲ5のうち少なくとも一方が水素原子である、第１観点又は第２観点に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第４観点として、前記式（１）中、Ｒ2が下記式（３）で表される構造を有する、第１観点乃至第３観点のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。【００１０】
【化３】
2008123507.tif 000005
【００１１】
（式中、Ｒ6はフッ素原子で置換された炭素原子数１乃至８の有機基を表し、Ｘ1及びＸ2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１乃至１０の有機基、又はヒドロキシ基を表す。）
第５観点として、前記（Ａ）成分が、下記式（４）で表される化合物を含むテトラカルボン酸成分と、ジアミン成分とを重合して得られるポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミドである、第１観点乃至第４観点のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。【００１２】
【化４】
2008123507.tif 000006
【００１３】
（式中、Ｒ7は硫黄原子を有する有機基を表す。）
第６観点として、前記テトラカルボン酸成分が、前記式（４）で表される化合物に加え、下記式（５）乃至式（８）で表される化合物のうち少なくとも１種を含むテトラカルボン酸成分である、第５観点に記載のポジ型感光性樹脂組成物。【００１４】
【化５】
2008123507.tif 000007
【００１５】
（式中、ｍは０又は１を表し、Ｒ8は炭素原子数１乃至１２の２価の有機基又は芳香環に直結する、酸素原子を有する２価の有機基を表し、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は、それぞれ炭素原子数１乃至１２の有機基を表す。）
第７観点として、前記式（４）で表される化合物が、前記テトラカルボン酸成分中、４０乃至９９モル％を占める、第５観点又は第６観点に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第８観点として、前記ジアミン成分が、下記式（９）で表されるジアミン化合物を含むジアミン成分である、第５観点乃至第７観点のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。【００１６】
【化６】
2008123507.tif 000008
【００１７】
（式中、Ｒ6はフッ素原子で置換された炭素原子数１乃至８の有機基を表し、Ｘ3及びＸ4は、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数１乃至１０の有機基、又はヒドロキシ基を表す。）
第９観点として、前記ジアミン成分がジアミノシロキサン化合物を含むジアミン成分である、第５観点乃至第８観点のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第１０観点として、前記（Ｂ）成分がナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物である、第１観点乃至第１０観点のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第１１観点として、前記（Ｃ）溶剤が、炭素原子を４個以上有するアルコール又はアルキルエステルからなる群から選択される少なくとも１種である、第１観点乃至第１０観点のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第１２観点として、（Ａ）成分の１００質量部に基づいて、０．０１乃至１００質量部の（Ｂ）成分を含有する、第１観点乃至第１１観点のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第１３観点として、（Ｄ）成分として下記（１０）で表されるマレイミド化合物を更に（Ａ）成分の１００質量部に基づいて５乃至１００質量部を含有する、第１２観点に記載のポジ型感光性樹脂組成物。【００１８】
【化７】
2008123507.tif 000009
【００１９】
（式中、Ｒ14は２価の有機基を表し、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、及びＲ24は、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数１乃至１２の有機基を表す。）
第１４観点として、前記式（１０）中、Ｒ14が下記式（１１）で表される構造を有する、第１３観点に記載のポジ型感光性樹脂組成物。【００２０】
【化８】
2008123507.tif 000010
【００２１】
（式中、ｌとｋは、それぞれ独立して、０又は１を表し、Ｘ5、Ｘ6及びＸ7は、それぞれ独立して、炭素１乃至１２の有機基、酸素原子、硫黄原子、窒素原子を有する２価の有機基を表す。）
第１５観点として、前記式（１１）中、ｌとｋが１であり、Ｘ5とＸ7が酸素原子であり、Ｘ6がジメチルメチル基である、第１４観点に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第１６観点として、（Ｅ）成分として架橋性化合物を更に（Ａ）成分の１００質量部に基づいて５乃至１００質量部を含有する、第１５観点に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第１７観点として、第１観点乃至第１６観点のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を用いて得られる硬化膜。
第１８観点として、第１７観点に記載の硬化膜を有する電子部品。
第１９観点として、第１８観点に記載の硬化膜を有する有機ＥＬ素子。
第２０観点として、第１観点乃至第１６観点のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、加熱乾燥した後に、紫外線を照射して現像する、レリーフパターンの形成方法。
【発明の効果】
【００２２】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、低公害系有機溶媒、例えばフォトレジスト材料に用いられているプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）等の溶媒に均一に溶解し、現像時に問題となるほどの未露光部の膜減りが生じることがなく、微細なパターンを形成できる。その上、パターン形成後に硬化した膜を用いた有機ＥＬ素子が、影のない、鮮明な発光面を表示するという効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
［ポジ型感光性樹脂組成物］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、（Ａ）成分のポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミド、（Ｂ）成分の光酸発生剤を含有し、それらが（Ｃ）溶剤に溶解したものであり、且つ、それぞれ所望により、（Ｄ）成分のマレイミド化合物、（Ｅ）成分の架橋性化合物、また界面活性剤等その他添加剤を含有する組成物である。
以下、各成分の詳細を説明する。【００２４】
＜（Ａ）成分＞
（Ａ）成分は、下記式（１）で表される構造単位を有するポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミドである。【００２５】
【化９】
2008123507.tif 000011
【００２６】
式（１）中、ｎは、上記式（１）で表される構造単位を有するポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミドの重合度を表す。ｎは正の整数であるが、ｎが１０００より大きいと一般的な有機溶媒への溶解性が極端に低下し、樹脂組成物溶液の粘度が著しく上昇してハンドリング性が悪化する場合がある。このため、溶解性を考慮するとｎは１０００以下の正の整数が望ましく、特に１００未満の正の整数が望ましい。
また、（Ａ）成分の化合物は、水分の吸着によって素子の信頼性が低下する虞があることから、現像液に可溶である範囲においてイミド化されていることが望ましい。イミド化の割合は５０乃至９９．９％が望ましく、素子信頼性と現像性の観点から、６０乃至９０％がより望ましい。【００２７】
上記式（１）のＲ1は、下記式（２）で表される芳香族基を表し、式（２）中、Ｒ3は硫黄原子を有する有機基を表す。【００２８】
【化１０】
2008123507.tif 000012
【００２９】
式（２）中、Ｒ3の硫黄原子を有する有機基は特に限定されないが、得られるポリマーの溶解性及び素子の信頼性の観点から、スルホニル基、スルフィド基、又はスルホ基であることが望ましい。【００３０】
式（２）中、Ｒ4及びＲ5はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１乃至２０の有機基を表す。炭素原子数１乃至２０の有機基の導入方法として、（Ａ）成分のポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミドを合成する際にあらかじめモノマーに導入する方法、ポリマー形成後にポリマーとグリシジル基化合物又はアクリレート化合物を反応させる方法、又は反応溶液に一級アミン類を加えて塩を形成させる方法の何れの方法もとり得る。【００３１】
炭素原子数１乃至２０の有機基としては、例えばアルキル基、シクロアルキル基、芳香族基、又はアリル基などがあり、これらの有機基はその一部がハロゲン基で置換されていても良い。これらの有機基は低公害系有機溶媒に溶解すればどのような有機基でも良いが、得られるポリマーの溶解性の観点からその一部がフッ素で置換されていることが望ましい。【００３２】
上記式（１）のＲ2は下記式（３）で表される芳香族基を表す。【００３３】
【化１１】
2008123507.tif 000013
【００３４】
式中、Ｒ6はフッ素原子で置換された炭素原子数１乃至８の有機基を表しこの条件を満たす有機基であれば特に限定されないが、ジフッ化メチレン、トリフルオロメチル等のフルオロアルキル基であることが望ましく、得られるポリマーの溶解性及び素子の信頼性の観点から、特にトリフルオロメチル基であることが好ましい。【００３５】
式（３）中、のＸ1とＸ2はそれぞれ独立して水素原子、炭素原子数１乃至１０の有機基、又はヒドロキシ基を表す。炭素原子数１乃至１０の有機基として、アルキル基、シクロアルキル基、芳香族基、アリル基、ベンジル基、ベンゾイル基、フェニルアミド基又はフェニルエステル基などが挙げられるが、得られるポリマーの溶解性と感光特性の観点からメチル基又はヒドロキシ基であることが好ましく、特に感光特性の観点からヒドロキシ基であることが好ましい。【００３６】
また（Ａ）成分（式（１）で表される構造単位を有するポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミド）は、テトラカルボン酸及びその誘導体から選ばれる成分（以下、酸成分と称する）と、ジアミン成分とを反応させ、更にこれを加熱脱水し、又は化学的に脱水してイミド化させることによって得られる化合物である。【００３７】
＜テトラカルボン酸成分＞
上記式（１）で表される構造単位を有するポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミドで用いられる酸成分は、下記式（４）の構造で表される。なお、後述するジアミン成分との反応によって、大部分が前記式（２）で表される骨格に転換する。【００３８】
【化１２】
2008123507.tif 000014
【００３９】
式（４）中、Ｒ7は硫黄原子を有する有機基を表す。硫黄原子を有する基であれば特にどのような有機基でもかまわないが、得られるポリマーの溶解性と素子の信頼性の観点から、スルホニル基、スルフィド基、又はスルホ基であることが望ましい。【００４０】
硫黄原子を有する酸成分の具体例として３，３'，４，４'−ジフェニルスルフィドテトラカルボン酸成分化合物、３，３'，４，４'−ジフェニルスルホテトラカルボン酸成分化合物、３，３'，４，４'−ジフェニルスルホニルテトラカルボン酸成分化合物等が挙げられるが、これら化合物に限定されない。【００４１】
また、上記硫黄原子を有する酸成分と、硫黄原子を含まない酸成分とのモル比が４０／６０乃至９９／１の範囲内であれば、上記二つの酸成分の化合物を一緒にジアミン成分との共重合に用いることができる。【００４２】
硫黄原子を含まない酸成分としては、下記式（５）乃至（８）の構造で表される化合物が挙げられる。これらの酸成分は、共重合の際に二種類以上を使用しても良い。特に素子の信頼性の観点から、硫黄原子を有する酸成分と、硫黄原子を含まない酸成分とのモル比は５０／５０乃至８０／２０であることが望ましい。【００４３】
【化１３】
2008123507.tif 000015
【００４４】
式（５）中、Ｒ8は炭素原子数１乃至１２の有機基、又は芳香環に直結する、酸素原子を有する２価の有機基を表す。Ｒ8は上記条件を満たす有機基であれば特に限定されないが、炭素原子数１乃至１２の有機基としては、アルキル基、フルオロアルキル基、シクロアルキル基又は芳香族基等が挙げられ、酸素原子を有する２価の有機基としては、エーテル基又はシロキシ基などが挙げられる。中でも、溶解性と感光特性の観点からフルオロアルキル基、又はエーテル基であることが好ましく、特に溶解性の観点からフルオロメチル基であることが望ましい。【００４５】
式（６）中、ｍは０又は１の整数を表す。これらを満たすテトラカルボン酸成分としてピロメリット酸、及び１，２，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。【００４６】
式（７）中、Ｒ9及びＲ10は炭素原子数１乃至１２の有機基を表す。Ｒ9及びＲ10は炭素原子数１乃至１２の有機基であれば特にどのような有機基でもかまわない。例として、アルキル基、フルオロアルキル基、シクロアルキル基又は芳香族基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。【００４７】
式（８）中、Ｒ11は炭素原子数１乃至１２の２価の有機基、Ｒ12及びＲ13は炭素原子数１乃至１２の有機基を表す。Ｒ11の炭素原子数１乃至１２の２価の有機基として、メチレン基、エーテル基、トリアルキルシリル基又はジアルキルジシロキシ基等が挙げられるが、これらの有機基に特に限定されるものではない。また、Ｒ12及びＲ13は炭素原子数１乃至１２の有機基であれば特に限定されないが、例えばアルキル基、フルオロアルキル基、シクロアルキル基又は芳香族基等をその一例として挙げることができる。【００４８】
上記式（５）乃至（８）の構造で表される硫黄原子を含まない酸成分の具体例として、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロイソプロピリデン、４，４’−ヘキサフルオロイソプロピリデンジフタル酸、ピロメリット酸、１，２，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸、３，３'，４，４'−ビフェニルテトラカルボン酸、３，３'，４，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、３，３'，４，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸、３，４−ジカルボキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフタレンコハク酸成分に代表される芳香族テトラカルボン酸成分、又は、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸、１，２−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸、１，２，３，４−テトラメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフリル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸、２，３，５−トリカルボキシ−２−シクロペンタン酢酸、ビシクロ［２．２．２］オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸、２，３，４，５−テトラヒドロフランテトラカルボン酸、３，５，６−トリカルボキシ−２−ノルボルナン酢酸等の脂環式テトラカルボン酸成分を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。【００４９】
上記硫黄原子を含まない酸成分の中でも、得られるポリマーの溶解性と感光特性の観点から、特に２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロイソプロピリデン、４，４’−ヘキサフルオロイソプロピリデンジフタル酸、ピロメリット酸、３，３'，４，４'−ビフェニルテトラカルボン酸及びその誘導体を用いることが望ましく、特に得られるポリマーの溶解性の観点から４，４’−ヘキサフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物及びそのジハライド等の化合物を用いることが望ましい。【００５０】
＜ジアミン成分＞
上記式（１）で表される構造単位を有するポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミドで用いられるジアミン成分は、下記式（９）の構造で表される。【００５１】
【化１４】
2008123507.tif 000016
【００５２】
式（９）中、のＲ6はフッ素原子で置換された炭素原子数１乃至８の有機基を表し、例えばジフッ化メチレン、トリフルオロメチル基又はフルオロフェニル基等が挙げられるが、上記条件を満たす有機基であれば特に限定されない。中でも、得られるポリマーの溶解性と感光特性の観点からトリフルオロメチル基であることが望ましい。【００５３】
式（９）中のＸ3及びＸ4はそれぞれ独立して水素原子、炭素原子数１乃至１０の有機基、又はヒドロキシ基を表す。炭素原子数１乃至１０の有機基としては、アルキル基、シクロアルキル基、芳香族基、アリル基、ベンジル基、ベンゾイル基、フェニルアミド基又はフェニルエステル基等が挙げられるが、得られるポリマーの溶解性と感光特性の観点からメチル基又はヒドロキシ基であることが好ましく、特に感光特性の観点からヒドロキシ基であることが望ましい。【００５４】
上記式（９）でフッ素原子で置換された有機基を有するジアミン成分の具体例として、２，２−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−アニリノ）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−アニリノ）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−アミノ−４−トルイル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−アミノ−３，５−ジヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス［４−（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノ−３−カルボキシフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパンなどの化合物が挙げられるが、これらに限定されることは無い。また、得られるポリマーの溶解性と感光特性の観点から、好適な化合物として２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン及び２，２−ビス（３−アミノ−４−トルイル）ヘキサフルオロプロパンが挙げられ、特に感光特性から２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンが望ましい。【００５５】
また、後述する低公害系有機溶媒（（Ｃ）成分）に可溶であれば、フッ素原子を含まないジアミン成分を組み合わせて共重合に用いることもできる。フッ素原子を含まない他のジアミン成分は、フッ素原子で置換された有機基を有するジアミン成分が少なくとも１種類以上使用されていれば、２種類以上用いてもかまわない。【００５６】
フッ素原子を含まないジアミン成分の具体例として、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、２，４，６−トリメチル−１，３−フェニレンジアミン、２，３，５，６−テトラメチル−１，４−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、４，４−メチレン−ビス（２−メチルアニリン）、４，４'−メチレン−ビス（２，６−ジメチルアニリン）、４，４−メチレン−ビス（２，６−ジエチルアニリン）、４，４'−メチレン−ビス（２−イソプロピル−６−メチルアニリン）、４，４'−メチレン−ビス（２，６−ジイソプロピルアニリン）、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン、ベンジジン、ｏ−トリジン、ｍ−トリジン、３，３’，５，５’−テトラメチルベンジジン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，４−ジアミノフェノール、３，５−ジアミノフェノール、２，５−ジアミノフェノール、４，６−ジアミノレゾルシノール、２，５−ジアミノヒドロキノン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−アミノ−３，５−ジヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−アミノ−３，５−ジヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−アミノ−３，５−ジヒドロキシフェニル）スルホン、４，４'−ジアミノ−３，３'−ジヒドロキシビフェニル、４，４'−ジアミノ−３，３'−ジヒドロキシ−５，５'−ジメチルビフェニル、４，４'−ジアミノ−３，３'−ジヒドロキシ−５，５'−ジメトキシビフェニル、１，４−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、ビス［４−（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］プロパン、２，４−ジアミノ安息香酸、２，５−ジアミノ安息香酸、３，５−ジアミノ安息香酸、４，６−ジアミノ−１，３−ベンゼンジカルボン酸、２，５−ジアミノ−１，４−ベンゼンジカルボン酸、ビス（４−アミノ−３−カルボキシフェニル）エーテル、ビス（４−アミノ−３，５���ジカルボキシフェニル）エーテル、ビス（４−アミノ−３−カルボキシフェニル）スルホン、ビス（４−アミノ−３，５−ジカルボキシフェニル）スルホン、４，４'−ジアミノ−３，３'−ジカルボキシビフェニル、４，４'−ジアミノ−３，３'−ジカルボキシ−５，５'−ジメチルビフェニル、４，４'−ジアミノ−３，３'−ジカルボキシ−５，５'−ジメトキシビフェニル、１，４−ビス（４−アミノ−３−カルボキシフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノ−３−カルボキシフェノキシ）ベンゼン、ビス［４−（４−アミノ−３−カルボキシフェノキシ）フェニル］スルホン、又はビス［４−（４−アミノ−３−カルボキシフェノキシ）フェニル］プロパンなどが挙げられる。【００５７】
更に、上記式（１）で表される構造単位を有するポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミドを含有するポジ型感光性樹脂組成物を用いて作製した塗膜の基板への密着性を向上させるために、ジアミン成分の一部としてジアミノシロキサン化合物を組み合わせて用いることができる。このようなシロキサン含有ジアミンとして、ビス（３−アミノアルキル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンが望ましく、基板との密着性と溶解性の観点から、ビス（３−アミノプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンがより望ましい。【００５８】
前記シロキサン含有ジアミンは、基板との密着性及び現像性の観点から、ジアミン成分の全モル量のうち１乃至３０％のモル比で使用されることが望ましい。３０モル％を超えると現像性が低下し、基板に残渣が残りやすい。より望ましいくは１乃至２０モル％であり、１乃至１０モル％で使用されることが更に望ましい。【００５９】
＜（Ｂ）成分＞
（Ｂ）成分の光酸発生剤は、露光等に使用される光の照射によって直接又は関節的に酸を発生し、光照射部分のアルカリ現像液への溶解性を高める機能を有するものであれば特にその種類及び構造などは限定されない。また光酸発生剤は１種又は２種以上を組み合わせて使うこともできる。【００６０】
上記（Ｂ）成分の光酸発生剤としては、従来公知の光酸発生剤のいずれも適用することができ、その具体例としてはｏ−キノンジアジド化合物、アリルジアゾニウム塩、ジアリルヨードニウム塩、トリアリルスルホニウム塩、ｏ−ニトロベンジルエステル、ｐ−ニトロベンジルエステル、トリハロメチル基置換ｓ−トリアジン誘導体、又はイミドスルホネート誘導体等を挙げることができる。【００６１】
また必要に応じて、（Ｂ）成分の光酸発生剤と共に増感剤を併用することができる。そのような増感剤として、例えばペリレン、アントラセン、チオキサントン、ミヒラーケトン、ベンゾフェノン又はフルオレンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。【００６２】
（Ｂ）成分の光酸発生剤の中でも、ポジ型感光性樹脂組成物を用いて得られる塗膜において高感度と高い解像度が得られる点から、ｏ−キノンジアジド化合物が望ましい。
ｏ−キノンジアジド化合物は、通常、ｏ−キノンジアジドスルホニルクロリドと、ヒドロキシ基及びアミノ基から選ばれる少なくとも一方の基を有する化合物とを、塩基性触媒の存在下で縮合反応させることにより、ｏ−キノンジアジドスルホン酸エステルもしくはｏ−キノンジアジドスルホンアミドとして得られる。【００６３】
上記のｏ−キノンジアジドスルホニルクロリドを構成するｏ−キノンジアジドスルホン酸成分としては、例えば、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−６−スルホン酸などを挙げることができる。【００６４】
上記ヒドロキシ基を有する化合物の具体例としては、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ヒドロキノン、レゾルシノール、カテコール、ｏ−メトキシフェノール、４，４−イソプロピリデンジフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４’−ジヒドロキシフェニルスルホン、４，４−ヘキサフルオロイソプロピリデンジフェノール、４，４’，４’’−トリヒドロキシトリフェニルメタン、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、４，４’− ［１−［４−［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール、３，４，５−トリヒドロキシ安息香酸メチル、３，４，５−トリヒドロキシ安息香酸プロピル、３，４，５−トリヒドロキシ安息香酸イソアミルエステル、３，４，５−トリヒドロキシ安息香酸−２−エチルブチルエステル、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’，４’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン等のフェノール化合物、エタノール、２−プロパノール、４−ブタノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メトキシエタノール、２−ブトキシエタノール、２−メトキシプロパノール、２−ブトキシプロパノール、乳酸エチル、乳酸ブチルなどの脂肪族アルコール類が挙げられる。【００６５】
また、上記アミノ基を有する化合物としては、アニリン、ｏ−トルイジン、ｍ−トルイジン、ｐ−トルイジン、４−アミノジフェニルメタン、４−アミノジフェニル、ｏ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテルなどのアニリン類、アミノシクロヘキサン等を挙げることができる。【００６６】
更に、ヒドロキシ基とアミノ基の両方を有する化合物の具体例としては、ｏ−アミノフェノール、ｍ−アミノフェノール、ｐ−アミノフェノール、４−アミノレゾルシノール、２，３−ジアミノフェノール、２，４−ジアミノフェノール、４，４’−ジアミノ−４’’−ヒドロキシトリフェニルメタン、４−アミノ−４’，４’’−ジヒドロキシトリフェニルメタン、ビス（４−アミノ−３−カルボキシ−５−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−アミノ−３−カルボキシ−５−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−アミノ−３−カルボキシ−５−ヒドロキシフェニル）スルホン、２，２−ビス（４−アミノ−３−カルボキシ−５−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノ−３−カルボキシ−５−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンなどのアミノフェノール類、２−アミノエタノール、３−アミノプロパノール、４−アミノシクロヘキサノールなどのアルカノールアミン類を挙げることができる。【００６７】
ｏ−キノンジアジドスルホニルクロリドと、ヒドロキシ基及びアミノ基から選ばれる少なくとも一方を有する化合物とを縮合反応させると、その化合物のヒドロキシ基又はアミノ基の一部又は全部がｏ−キノンジアジドスルホニルクロリドのｏ−キノンジアジドスルホニル基で置換された２置換体、３置換体、４置換体又は５置換体のｏ−キノンジアジド化合物が得られる。斯かるｏ−キノンジアジド化合物をポジ型感光性樹脂組成物の一成分として用いる場合、上記の多置換体のｏ−キノンジアジド化合物を単独で、又は上記の多置換体から選ばれる２種以上の多置換体の混合物として用いるのが一般的である。【００６８】
上述のｏ−キノンジアジド化合物の中でも、ポジ型感光性樹脂組成物を用いて得られる塗膜において露光部と未露光部の現像溶解度差のバランスが良好であり、且つ現像時におけるパターン底部の現像残渣（パターンエッジ部の残渣）が無いという観点から、ｐ−クレゾールのｏ−キノンジアジドスルホン酸エステル、４，４’−［１−［４−［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノールのｏ−キノンジアジドスルホン酸エステル、３，４，５−トリヒドロキシ安息香酸メチルのｏ−キノンジアジドスルホン酸エステル、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンのｏ−キノンジアジドスルホン酸エステル、又は２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのｏ−キノンジアジドスルホン酸エステルなどが望ましく、これら化合物をそれぞれ単独で用いても、又、これら化合物から任意に選ばれる二種以上のものを混合して用いてもよい。【００６９】
本発明に用いる（Ｂ）成分の光酸発生剤の含有量は、（Ａ）成分の１００質量部に基づいて０．０１乃至１００質量部である。本発明のポジ型感光性樹脂組成物から得られる塗膜において、露光部と未露光部の現像液溶解度差のバランスが良好となる点、さらには、該塗膜の感度並びに該塗膜から得られる硬化膜の機械特性の観点から、（Ｂ）成分の光酸発生剤の含有量は特に５０質量部以下が望ましく、３０質量部以下であることがより望ましい。【００７０】
＜（Ｃ）成分＞
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に用いる（Ｃ）溶剤としては、（Ａ）成分（式（１）で表される構造単位を有するポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミド）の溶解性が高い点、（Ｂ）成分（光酸発生剤）並びに後述する他の成分との相溶性が良好である点、及びポジ型感光性樹脂組成物において取扱いが容易となる点、さらには低公害系有機溶媒である点から、炭素原子を４個以上有するアルコール又はアルキルエステルが望ましい。このうち代表的な溶媒としてブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル及び乳酸ブチル、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、メトキシメチルペンタノール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテート、エチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸メチルエチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル又はブチルブチレートが挙げられる。これらの溶剤は２種類以上の混合溶剤であってもかまわない。【００７１】
特にポジ型感光性樹脂組成物において最も取り扱いが容易である観点から、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、γ―ブチロラクトン、乳酸エチル及び乳酸ブチルからなる群から選択される一種又は二種以上の混合物を用いるが望ましい。【００７２】
また、上記の溶剤の他に、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ジペンテン、エチルアミルケトン、メチルノニルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブタノール、ジイソプロピルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジイソブチレン、アミルアセテート、ブチルエーテル、ジイソブチルケトン、メチルシクロへキセン、プロピルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニルピロリドン、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、ｎ−へキサン、ｎ−ペンタン、ｎ−オクタン、２−メトキシエタノール、ジエチルエーテル、シクロヘキサノン、３−エトキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸又はジグライム等の溶剤を混合して用いても良い。但し、これらその他の溶剤は従来のポジ型感光性樹脂組成物に使用される（低公害系有機溶剤ではない）観点から、これらの使用量は少ないほどよい。【００７３】
＜（Ｄ）成分＞
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、（Ｄ）成分としてマレイミド化合物を含有することができる。（Ｄ）成分のマレイミド化合物は、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いて得られる塗膜の現像工程において、アルカリ現像液に可溶な化合物であれば、特に限定されない。（Ｄ）成分のマレイミド化合物としては、マレイミド部位が芳香環に直結し、隣接する芳香族炭素に水素原子が直結していれば、構造は特に限定されない。【００７４】
上述の、マレイミド部位が芳香環に直結し、隣接する芳香族炭素に水素原子が直結している構造を有するマレイミド化合物としては、下記式（１０）で表される化合物を挙げることができる。【００７５】
【化１５】
2008123507.tif 000017
【００７６】
上記式（１０）中、Ｒ14は２価の有機基を表し、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、及びＲ24は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１乃至１２の有機基を表す。【００７７】
中でも、前記式（１０）中、Ｒ14が下記式（１１）で表される構造を有するマレイミド化合物を（Ｄ）成分として用いることが望ましい。【００７８】
【化１６】
2008123507.tif 000018
【００７９】
上記式（１１）中、ｌとｋは、それぞれ独立して、０又は１を表し、Ｘ5、Ｘ6及びＸ7は、それぞれ独立して、炭素１乃至１２の有機基、酸素原子、硫黄原子、窒素原子を有する２価の有機基を表す。
特に、前記式（１１）中、ｌとｋが１であり、Ｘ5とＸ7が酸素原子であり、Ｘ6がジメ【００８０】
上記式（１０）で表される（Ｄ）成分のマレイミド化合物の具体例として、２，２−ビス（３−アミノ−４−マレイミド）ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジマレイミドジフェニルエーテル、３，４’−ジマレイミドジフェニルエーテル、３，３’−ジマレイミドジフェニルエーテル、４，４’−ジマレイミドジフェニルスルフィド、４，４’−ジマレイミドジフェニルメタン、３，４’−ジマレイミドジフェニルメタン、３，３’−ジマレイミドジフェニルメタン、４，４−メチレン−ビス（２−メチルマレイミド）、４，４’−ジマレイミドジフェニルスルホン、３，３’−ジマレイミドジフェニルスルホン、１，４’−ビス（４−マレイミドフェノキシ）ベンゼン、１，３’−ビス（４−マレイミドフェノキシ）ベンゼン、１，３’−ビス（４−マレイミドフェノキシ）ベンゼン、ビス［４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（３−マレイミドフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［３−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［３−（３−マレイミドフェノキシ）フェニル］スルホン、２，２’−ビス［４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］プロパンなどの化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
なお、上記化合物の中でも、入手が容易である点から４，４’−ジマレイミドジフェニルメタン及び２，２’−ビス［４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル］プロパンが望ましく、さらに感光特性の観点から、２，２’−ビス［４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル］プロパンであることがより好ましい。
本発明における（Ｄ）成分のマレイミド化合物は、２種類以上組み合わせて使用することができる。【００８１】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物における（Ｄ）成分のマレイミド化合物の含有量は、特に限定されないが、（Ａ）成分のポリイミド前駆体１００質量部に基づいて５乃至１００質量部が望ましく、５乃至２０質量部であることがより望ましい。【００８２】
＜（Ｅ）成分＞
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、（Ｅ）成分として架橋性化合物を含有することができる。（Ｅ）成分の架橋性化合物は、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いて得られる塗膜を硬化膜に転換する工程（以下、最終硬化時という。）において、（Ａ）成分のポリイミド前駆体、又は（Ｂ）成分の光酸発生剤のうち少なくとも一方に含有される有機基と反応し得る基を有する化合物であれば、特に限定されない。【００８３】
（Ｅ）成分の架橋性化合物としては、例えば、エポキシ基を２個以上含有する化合物、或いは、アミノ基の水素原子がメチロール基、アルコキシメチル基又はその両方で置換された基を有するメラミン誘導体、ベンゾグアナミン誘導体又はグリコールウリル等が挙げられる。このメラミン誘導体及びベンゾグアナミン誘導体は、二量体又は三量体であっても良く、又、単量体、二量体及び三量体から任意に選ばれた混合物であっても良い。これらのメラミン誘導体及びベンゾグアナミン誘導体としては、トリアジン環１個当たり、メチロール基又はアルコキシメチル基を平均３個以上６個未満有するものが望ましい。
また、本発明における（Ｅ）成分の架橋性化合物は、２種類以上組み合わせて使用することができる。【００８４】
（Ｅ）成分の架橋性化合物としては、入手が容易である点から市販品の化合物を用いることが望ましい。以下にその具体例（商品名）を挙げるが、これらに限定されない。
エポキシ基を２個以上含有する化合物としては、エポリードＧＴ−４０１、エポリードＧＴ−４０３，エポリードＧＴ−３０１、エポリードＧＴ−３０２、セロキサイド２０２１、セロキサイド３０００（以上、ダイセル化学工業（株）製）などのシクロヘキセン構造を有するエポキシ化合物、エピコート１００１、エピコート１００２、エピコート１００３、エピコート１００４、エピコート１００７、エピコート１００９、エピコート１０１０、エピコート８２８（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）などのビスフェノールＡ型エポキシ化合物、エピコート８０７（ジャパンエポキシレジン（株）製）などのビスフェノールＦ型エポキシ化合物、エピコート１５２、エピコート１５４（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、ＥＰＰＮ２０２（以上、日本化薬（株）製）などのフェノールノボラック型エポキシ化合物、ＥＣＯＮ−１０２、ＥＣＯＮ−１０３Ｓ、ＥＣＯＮ−１０４Ｓ、ＥＣＯＮ−１０２０、ＥＣＯＮ−１０２５、ＥＣＯＮ−１０２７（以上、日本化薬（株）製）、エピコート１８０Ｓ７５（ジャパンエポキシレジン（株）製）などのクレゾールノボラック型エポキシ化合物、デナコールＥＸ−２５２（ナガセケムテックス（株）製）、ＣＹ１７５、ＣＹ１７７、ＣＹ１７９、アラルダイトＣＹ−１８２、アラルダイトＣＹ−１９２、アラルダイトＣＹ−１８４（以上、ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ  Ａ．Ｇ製）、エピクロン２００、エピクロン４００（以上、大日本インキ化学工業（株）製）エピコート８７１、エピコート８７２（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）ＥＤ−５６６１、ＥＤ−５６６２（以上、セラニーズコーティング（株）製）などの脂環式エポキシ化合物、デナコールＥＸ−６１１、デナコールＥＸ−６１２、デナコールＥＸ−６１４、デナコールＥＸ−６２２、デナコールＥＸ−４１１、デナコールＥＸ−５１２、デナコールＥＸ−５２２、デナコールＥＸ−４２１、デナコールＥＸ−３１３、デナコールＥＸ−３１４、デナコールＥＸ−３１２（以上、ナガセケムテックス（株）製）などの脂肪族ポリグリシジルエーテル化合物が挙げられる。【００８５】
アミノ基の水素原子がメチロール基、アルコキシメチル基又はその両方で置換された基を有するところのメラミン誘導体、ベンゾグアナミン誘導体又はグリコールウリルとしては、トリアジン環１個当たりメトキシメチル基が平均３．７個置換されているＭＸ−７５０、トリアジン環１個当たりメトキシメチル基が平均５．８個置換されているＭＷ−３０（以上、三和ケミカル製）、或いはサイメル３００、サイメル３０１、サイメル３０３、サイメル３５０、サイメル３７０、サイメル７７１、サイメル３２５、サイメル３２７、サイメル７０３、サイメル７１２などのメトキシメチル化メラミン、サイメル２３５、サイメル２３６、サイメル２３８、サイメル２１２、サイメル２５３、サイメル２５４などのメトキシメチル化ブトキシメチル化メラミン、サイメル５０６、サイメル５０８などのブトキシメチル化メラミン、サイメル１１４１のようなカルボキシル基含有メトキシメチル化イソブトキシメチル化メラミン、サイメル１１２３のようなメトキシメチル化エトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２３−１０のようなメトキシメチル化ブトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２８のようなブトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２５−８０のようなカルボキシル基含有メトキシメチル化エトキシメチル化ベンゾグアナミン（以上、日本サイテックインダストリーズ（株）（旧：三井サイアナミド）製）、サイメル１１７０のようなブトキシメチル化グリコールウリル、サイメル１１７２のようなメチロール化グリコールウリル等が挙げられる。【００８６】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物における（Ｅ）成分の架橋性化合物の含有量は、特に限定されないが、ポジ型感光性樹脂組成物の保存安定性、得られる硬化膜の吸水性の低さ並びに耐熱性及び耐薬品性の観点から（Ａ）成分のポリイミド前駆体１００質量部に基づいて５乃至１００質量部が望ましく、保存安定性の観点から５乃至２０質量部であることがより望ましい。【００８７】
＜その他添加剤＞
更に、本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、界面活性剤、レオロジー調整剤、シランカップリング剤等の接着補助剤、顔料、染料、保存安定剤、消泡剤、又は多価フェノール、多価カルボン酸等の溶解促進剤等を含有することができる。【００８８】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物その塗布性を向上させるという目的で使用され得る界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤などが挙げられる。この種の界面活性剤としては、例えば、住友スリーエム（株）製、大日本インキ化学工業（株）製或いは旭硝子（株）製等の市販品を用いることができる。これら市販品は、容易に入手することができるので、好都合である。その具体的な例としては、エフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（（株）ジェムコ製）、メガファックＦ１７１、Ｆ１７３（大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、アサヒガードＡＧ７１０、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ１０５、ＳＣ１０６（旭硝子（株）製）等のフッ素系界面活性剤が挙げられる。
上記界面活性剤は、一種単独で、又は二種以上の組合せで使用することができる。
また界面活性剤が使用される場合、その含有量は、ポジ型感光性樹脂組成物１００質量％中に通常０．２質量％以下であり、好ましくは０．１質量％以下である。界面活性剤の使用量が０．２質量％を超える量に設定されても、上記塗布性の改良効果は鈍くなり、経済的でなくなる。【００８９】
＜ポジ型感光性樹脂組成物＞
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、（Ａ）成分のポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミド、（Ｂ）成分の光酸発生剤及び（Ｃ）溶剤を含有し、それぞれ所望により、（Ｄ）成分のマレイミド化合物、（Ｅ）成分の架橋性化合物及び界面活性剤などのその他添加剤のうち一種以上を更に含有することができる組成物である。【００９０】
中でも、本発明のポジ型感光性樹脂組成物の好ましい例は、以下のとおりである。
［１］：（Ａ）成分１００質量部に基づいて、０．０１乃至１００質量部の（Ｂ）成分を含有し、これら成分が（Ｃ）溶剤に溶解したポジ型感光性樹脂組成物。
［２］：上記［１］の組成物に、更に（Ｄ）成分を（Ａ）成分１００質量部に基づいて５乃至１００質量部含有するポジ型感光性樹脂組成物。
［３］：上記［２］の組成物に、更に（Ｅ）成分を（Ａ）成分１００質量部に基づいて５乃至１００質量部含有するポジ型感光性樹脂組成物。【００９１】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物における固形分の割合は、各成分が均一に溶剤に溶解している限り、特に限定されるものではないが、一般には固形分濃度１乃至５０質量％の範囲から任意に選択した濃度のポジ型感光性樹脂組成物の溶液を為すことにより、容易に塗膜を形成することができる。ここで、固形分とは、ポジ型感光性樹脂組成物の全成分から（Ｃ）溶剤を除いたものをいう。【００９２】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物の調製方法は特に限定されない。この種の組成物は、通常、溶液の形態にて使用されるので、本発明のポジ型感光性樹脂組成物は一般に（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び、所望により（Ｄ）成分及び（Ｅ）成分を（Ｃ）溶剤に溶解し、均一な溶液とする方法、あるいはこの調製法の適当な段階においてその他添加剤をさらに添加して混合する方法が挙げられる。【００９３】
また本発明のポジ型感光性樹脂組成物の調製にあたっては、（Ａ）成分の製造時、すなわち、テトラカルボン酸及びその誘導体から選ばれる成分とジアミン成分とを有機溶媒中で重合反応させ、得られた反応溶液をそのまま用いることもできる。なおこのとき使用する有機溶媒としては前述の（Ｃ）溶剤に記載する溶剤が挙げられる。そしてこの場合、この（Ａ）成分の反応溶液に前記と同様に（Ｂ）成分などを入れて均一な溶液とする際、濃度調製を目的としてさらに（Ｃ）溶剤を追加投入してもよく、このとき、（Ａ）成分の製造時に用いた有機溶媒と、濃度調整のために用いられる（Ｃ）溶剤とは同一であってもよいし、異なっていても良い。【００９４】
また、複数種の有機溶媒を用いる場合は、初めに複数種の有機溶媒を混合して用いるだけではなく、複数種の有機溶媒を任意に分けて添加することもできる。
而して、調製されたポジ型感光性樹脂組成物の溶液は、孔径が０.２μｍ程度のフィルタなどを用いて濾過した後、使用することが好ましい。【００９５】
＜塗膜及び硬化膜＞
一般に、スピンコート、浸漬、印刷等の公知の方法により、例えば、本発明のポジ型感光性樹脂組成物をＩＴＯ基板、シリコンウェハー、ガラス板、セラミックス基板、或いは酸化膜又は窒化膜などを有する基材上に塗布し、その後、温度６０℃乃至１６０℃、望ましくは７０℃乃至１３０℃で予備乾燥することにより、本発明のポジ型感光性樹脂組成物からなる塗膜を形成することができる。【００９６】
塗膜の形成後、例えば紫外線等により、所定のパターンを有するマスクを用いて塗膜を露光し、アルカリ現像液で現像することにより、露光部が洗浄除去され、これにより端面がシャープ（鮮明）なレリーフパターンが基板上に形成される。【００９７】
ここで用いられるアルカリ現像液としては、アルカリ性水溶液であれば特に限定されず、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、コリンなどの水酸化四級アンモニウムの水溶液、エタノールアミン、プロピルアミン、エチレンジアミンなどのアミン水溶液などが挙げられる。
上記のアルカリ現像液の濃度は一般に１０質量％以下であり、工業的には０．１乃至３．０質量％のアルカリ性水溶液が使用される。また、アルカリ現像液は、アルコール類又は界面活性剤などを含有することもでき、これらはそれぞれ、０．０５乃至１０質量％程度含有することが望ましい。【００９８】
現像工程においては、アルカリ現像液の温度を任意に選択することができるが、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いる場合は、露光部の溶解性が高いため、室温で容易にアルカリ現像液による現像を行うことができる。【００９９】
かくして得られたレリーフパターンを有する基板を温度１８０℃乃至４００℃で熱処理（焼成）することにより、吸水性が低く、故に電気特性に優れ、且つ耐熱性及び耐薬品性も良好である、レリーフパターンを有する硬化膜を得ることができる。【０１００】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物から得られる硬化膜は、斯かる優れた効果を有しているため、電気・電子デバイス、半導体装置及びディスプレイ装置等に用いることができる。特に、本発明のポジ型感光性樹脂組成物から得られる硬化膜は、有機ＥＬ素子（ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ−Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）素子の一種）の信頼性が高いという特徴的な効果を有するので、発光素子の損傷が大きな問題となっている有機ＥＬ素子の絶縁膜及び隔壁材として、或いは、半導体パッケージにおいて銅配線のイオンマイグレーションが絶縁膜の吸水性により大きく影響されるところのバッファーコートにおいて、大変有用である。【０１０１】
以下に実施例を挙げ、本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【実施例】
【０１０２】
［実施例で用いる略記号］
以下の実施例で用いる略記号の意味は、次のとおりである。
＜ジアミン成分＞
ＢＡＨＦ：２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン
ＢＡＴＦ：２，２’−ビス（３−アミノ−４−トレイル）ヘキサフルオロプロパン
ＤＤＭ：４，４'−ジアミノジフェニルメタン
ＡＰＤＳ:ビス（３−アミノプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン
ＤＢＡ：１，３−ジアミノ−５−カルボキシベンゼン
ＴＦＭＢ：２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン
＜テトラカルボン酸成分＞
６ＦＤＡ：４，４’−ヘキサフルオロイソプロピリデンジフタル酸無水物
ＤＳＤＡ：３，３'−４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸無水物
ＰＭＤＡ：ピロメリット酸無水物
ＯＤＰＡ：３，３'，４，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸無水物
＜溶剤＞
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
ＮＭＰ：Ｎ−メチルピロリドン
γ−ＢＬ:γ−ブチロラクトン
＜光酸発生剤＞
Ｐ２００：東洋合成工業（株）製  Ｐ−２００（商品名）４，４’−［１−［４−［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール１モルと１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロリド２モルとの縮合反応によって合成される感光剤
＜マレイミド成分＞
ＢＭＩ−８０：２，２’−ビス［４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル］プロパン【０１０３】
［数平均分子量及び重量平均分子量の測定］
以下の合成例に従い、ポリマーの重量平均分子量（以下Ｍｗと略す）と分子量分布は、日本分光（株）製ＧＰＣ装置（Ｓｈｏｄｅｘ（登録商標）カラムＫＦ８０３Ｌ及びＫＦ８０５Ｌ）を用い、溶出溶媒としてジメチルホルムアミドを流量１ｍｌ／分でカラム中に（カラム温度：５０℃）流して溶離させるという条件で測定した。なお、Ｍｗはポリスチレン換算値にて表される。【０１０４】
［イミド化率の測定］
イミド化率は、ＮＭＲ装置（ＪＮＭ−ＬＡシリーズ、日本電子（株）製）を用いてＨ−ＮＭＲを測定し、ポリマー骨格の芳香族のプロトン比とポリアミック酸のＮＨ部位のプロトン比から算出した。【０１０５】
［合成例］
＜ポリアミド酸溶液の製造（合成例１）＞
ＢＡＨＦ  ２６．６ｇ（０.１９９モル）、ＡＰＤＳ  ５．５１ｇ（０．００２２モル）ＤＳＤＡ  ７１．５ｇ（０．１９９モル）をＰＧＭＥ  ８５０ｇに溶解させ濃度１５ｗｔ％とした後、６０℃で２４時間反応させた。得られたポリマーのＭｗは８６００、分子量分布１．５５であった。この、得られたポリマー溶液の１．００gをアルミカップに移し、ホットプレートで２時間加熱することで、固形分を算出した。得られた固形分の固形分濃度は、１６．３９ｗｔ％であった。また、このポリマーをポリマー溶液８倍量（４０００ｇ）の５０ｗｔ％メタノール水溶液に沈殿させ、減圧乾燥しポリアミド酸粉末を得た。得られたポリマーの収率は９１％、またイミド化率は６２％であった。なお、得られたポリマーはＰＧＭＥとＰＧＭＥＡに可溶であった。【０１０６】
＜各種ポリアミド酸溶液の製造（合成例２乃至５）＞
各種ジアミンと酸二無水物をＰＧＭＥ中に濃度１５ｗｔ％になるように溶解させ、合成例１と同様な方法を用いてポリマーを合成した。このとき用いたジアミン、酸二無水物、溶媒の使用量、得られたポリマーのＭｗと分子量分布、得られたポリマー溶液の固形分濃度、並びにイミド化率を表１に示した。なお、これらのポリマーはＰＧＭＥＡに可溶であった。【０１０７】
＜ポリアミド酸溶液の製造（合成例６）＞
各種ジアミンを溶解させたＮＭＰ無水物を添加し、４時間反応させ、ポリマーを合成した。その後、反応溶液５０ｇを純水１０００ｍｌに投入し、沈殿物をろ過後、減圧乾燥しポリアミド酸を得た。このとき用いたジアミン、酸二無水物、溶媒の使用量、得られたポリマーのＭｗと分子量分布、固形分濃度、並びにイミド化率を表１に示した。得られたポリマーはＰＧＭＥ又はＰＧＭＥＡのいずれにも不溶であったため、反応溶液をそのまま後出のポジ型感光性樹脂組成物の調製に用いた。
なお、合成例１と同様に、各種ジアミンを溶解させたＰＧＭＥ中でポリマーを合成した結果、反応後１時間でポリマーは析出した。【０１０８】
【表１】
2008123507.tif 000019
【０１０９】
［ポジ型感光性樹脂組成物の製造：実施例１乃至３、比較例１乃至４］
次の表２に示す組成に従い、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）溶剤、（Ｄ）成分、並びにフッ素系界面活性剤（大日本インキ化学工業（株）製、メガファックＲ−３０）０．０００２ｇを所定の割合で混合し、室温で３時間以上攪拌して均一な溶液とすることにより、各実施例及び各比較例のポジ型感光性樹脂組成物を調製した。【０１１０】
【表２】
2008123507.tif 000020
【０１１１】
［感光性特性評価：実施例１乃至３、比較例１乃至４］
得られた実施例１乃至３並びに比較例１乃至４の各ポジ型感光性樹脂組成物について、感光性特性を次の手法で評価した。得られた結果を表３に示す。【０１１２】
＜１．熱処理（焼成）前膜厚＞
ポジ型感光性樹脂組成物を段差２５ｍｍ×２５ｍｍのＩＴＯ基板（山容真空工業（株）製）上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度１００℃で１２０秒間ホットプレート上においてプリベークを行い、塗膜を形成した。なお膜厚は接触式膜厚測定器（（株）ＵＬＶＡＣ製Ｄｅｋｔａｋ  ３ＳＴ）を用いて測定した。【０１１３】
＜２．現像後膜厚、解像度（線幅）＞
得られた塗膜に１００μｍ／２００μｍのライン／スペースのマスクを通してキヤノン（株）製紫外線照射装置ＰＬＡ−５０１により、紫外光を１１秒間（７０ｍＪ／ｃｍ2）照射した。露光後、２３℃の水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液（各実施例で使用した水溶液濃度は表３に記載）に３０秒間浸漬して現像を行い、現像後の膜厚を測定した。
また、現像後の塗膜を光学顕微鏡で観察し、パターン剥離なくライン／スペースが形成された最小の線幅を解像度とした。【０１１４】
＜３．熱処理（焼成）後膜厚＞
＜１．＞の手順同様、段差ＩＴＯ基板に形成した感光性樹脂塗膜をホットプレート上１００℃で１２０秒間加熱した。次に、露光をせずに２３０℃３０分加熱した後、膜厚を測定した。【０１１５】
【表３】
2008123507.tif 000021
【０１１６】
＜４．素子特性評価：実施例１乃至３、比較例１乃至４＞
＜２．＞で得られたポリイミドパターン（なお、比較例４は現像後にパターンが全て溶解したため、段差ＩＴＯ基板上に塗布後、現像せずポリイミドフィルムを得た。）をＵＶオゾン洗浄装置（（株）テクノビジョン製）で４０分間洗浄し、その後、ＮＤ−１０３２（日産化学工業（株）製）をスピンコートで塗布し、ホットプレート上で２００℃にて１時間熱処理（焼成）し、厚さ３０ｎｍのフィルムを得た。その後、中央から１５ｍｍ2四方を残して削り取り、真空条件下、素子成分としてα−ＮＰＤ、Ａｌｑ３、ＦＬi、Ａｌの順に蒸着し、素子を作製した。蒸着成分は晶振動式成膜コントローラ  ＣＲＴＭ−６０００（日本真空技術（株）製）で測定した。その後、素子に９Ｖの電流を通電し発光面を光学顕微鏡で観察した。素子成分、蒸着量、及び発光面の観察評価結果を表４に示した。【０１１７】
【表４】
2008123507.tif 000022
【０１１８】
［素子評価結果］
Ｐ１又はＰ２を用いた素子では、ポリイミドパターンエッジ部も鮮明な発光が見られた。このことは、実施例１乃至３のポリイミドを使用した隔壁素子は、発光面へ悪影響を与えずに画素を作製することが可能であることを示している。
一方、ＨＰ１乃至ＨＰ４を用いた素子では、ポリイミドパターンエッジ部と発光面の界面に影が存在し、発光不良がみられたことから、比較例１乃至４のポリイミドを素子に用いた場合、発光面不良を引き起こすことが懸念される結果となった。
【国際調査報告】
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