【手続補正書】
【提出日】平成17年4月1日(2005.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水和性セメント組成物改質用混和剤系であって、
（Ａ）ポリカルボン酸またはその塩もしくは誘導体を含んで成る減水剤、および
（Ｂ）構造式Ｒ1ＮＲ2Ｒ3
［式中、
Ｒ1は、疎水性であり、線状もしくは分枝アルキル、アルケン、アルキン、アルコール、エステル、または化学構造Ｒ4−（ＡＯ）n−またはＲ4−（ＯＡ）n−（ここで、Ｒ4は水素またはＣ1からＣ25のアルキル基を表し、ＡはＣ1からＣ6のアルキル基を表し、そして「ｎ」は１から４の整数である）で表されるオキシアルキレン基を含んで成るＣ8−Ｃ25基を表し、そして
Ｒ2およびＲ3は、各々、線状もしくは分枝アルキル、アルケン、アルキン、アルコール、エステル、または化学構造Ｒ4−（ＡＯ）n−またはＲ4−（ＯＡ）n−（ここで、Ｒ4は水素またはＣ1からＣ25のアルキル基を表し、ＡはＣ1からＣ6のアルキル基を表し、そして「ｎ」は１から４の整数である）で表されるオキシアルキレン基を含んで成るＣ1−Ｃ6基を表す］
で表される平均分子量が１００以上から１５００以下の第三級アミン系消泡剤、
を含んで成る混和剤系。
【請求項２】
前記ポリカルボン酸またはその塩もしくは誘導体がアクリル系重合体とアンモニアもしくはアルコキシル化アミンの反応で生じさせたものである請求項１記載の混和剤系。
【請求項３】
更に式Ｘ2Ｎ（ＢＯ）zＲ［式中、Ｘは水素を表し、Ｒは水素、Ｃ1−Ｃ10アルキル基またはＢＮＨ2を表し、ＢはＣ2−Ｃ10アルキレン基を表し、そしてｚは５から２００の整数を表す］で表される２番目のアミン系消泡剤も含んで成る請求項１記載の混和剤系。
【請求項４】
前記減水剤がポリオキシアルキレン誘導体と無水マレイン酸の共重合体を含んで成る請求項１記載の混和剤系。
【請求項５】
水和性セメント組成物に改質を受けさせる方法であって、請求項１記載の混和剤系を水和性セメントである結合剤に導入することを含んで成る方法。
【請求項６】
前記第三級アミン系消泡剤が獣脂アルキルイミノビスプロパノール、ドデシルジメチルアミン、オクタデシルジメチルアミン、オレイルジメチルアミン、ココ椰子アルキルイミノビスプロパノール、オレイルイミノビスプロパノール、獣脂アルキルジメチルアミン、オレイルジメチルアミン、ココ椰子アルキルジメチルアミン、大豆アルキルジメチルアミン、ジココ椰子アルキルメチルアミン、トリドデシルアミンまたはこれらの混合物を含んで成る請求項１記載の混和剤系。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
この上に示した実施例は単に説明の目的で示すものであり、本発明の範囲の限定を意図するものでない。
本発明の好適な実施の態様は次のとおりである。
１．水和性セメント組成物改質用混和剤系であって、
（Ａ）ポリカルボン酸またはその塩もしくは誘導体を含んで成る減水剤、および
（Ｂ）構造式Ｒ1ＮＲ2Ｒ3
［式中、
Ｒ1は、疎水性であり、線状もしくは分枝アルキル、アルケン、アルキン、アルコール、エステル、または化学構造Ｒ4−（ＡＯ）n−またはＲ4−（ＯＡ）n−（ここで、Ｒ4は水素またはＣ1からＣ25のアルキル基を表し、ＡはＣ1からＣ6のアルキル基を表し、そして「ｎ」は１から４の整数である）で表されるオキシアルキレン基を含んで成るＣ8−Ｃ25基を表し、そして
Ｒ2およびＲ3は、各々、線状もしくは分枝アルキル、アルケン、アルキン、アルコール、エステル、または化学構造Ｒ4−（ＡＯ）n−またはＲ4−（ＯＡ）n−（ここで、Ｒ4は水素またはＣ1からＣ25のアルキル基を表し、ＡはＣ1からＣ6のアルキル基を表し、そして「ｎ」は１から４の整数である）で表されるオキシアルキレン基を含んで成るＣ1−Ｃ6基を表す］
で表される平均分子量が１００以上から１５００以下の第三級アミン系消泡剤、
を含んで成る混和剤系。
２．前記消泡剤の前記平均分子量が２００以上でありかつ前記消泡剤の平均分子量が７５０以下である上記１記載の混和剤系。
３．Ｒ1、Ｒ2およびＲ3で表される前記基の中の少なくとも２つが分枝構造を有する上記１記載の混和剤系。
４．Ｒ1が線状アルキルもしくはアルケン基を表しそしてＲ2およびＲ3が線状もしくは分枝アルキル基を表す上記１記載の混和剤系。
５．Ｒ1が線状アルキルもしくはアルケン基を表しそしてＲ2およびＲ3が線状もしくは分枝アルコール、エステルまたはポリオキシアルキレン基を表す上記１記載の混和剤系。
６．Ｒ1が分枝アルキルもしくはアルケン基を表しそしてＲ2およびＲ3が線状もしくは分枝アルキル基を表す上記１記載の混和剤系。
７．Ｒ1が分枝アルキルもしくはアルケン基を表しそしてＲ2およびＲ3が線状もしくは分枝アルコール、エステルまたはポリオキシアルキレン基を表す上記１記載の混和剤系。
８．成分（Ａ）の前記ポリカルボン酸またはその塩もしくは誘導体と成分（Ｂ）の前記第三級アミン系消泡剤が一緒に９：１以上の比率から２００：１以下の比率で存在する上記１記載の混和剤系。
９．成分（Ａ）の前記ポリカルボン酸またはその塩もしくは誘導体と成分（Ｂ）の前記第三級アミン系消泡剤が一緒に１１：１以上の比率から１００：１以下の比率で存在する上記１記載の混和剤系。
１０．成分（Ａ）の前記ポリカルボン酸またはその塩もしくは誘導体と成分（Ｂ）の前記第三級アミン系消泡剤が一緒に１５：１以上の比率から５０：１以下の比率で存在する上記１記載の混和剤系。
１１．前記ポリカルボン酸またはその塩もしくは誘導体がアクリル系重合体とアンモニアもしくはアルコキシル化アミンの反応で生じさせたものである上記１記載の混和剤系。
１２．前記アクリル系重合体と反応させる時に用いられた前記アミン反応体がアンモニアまたは式：
Ｈ2Ｎ−（ＡＯ）n−Ｒ"
［式中、ＡＯはＣ2−Ｃ10オキシアルキレン基を表し、ここで、Ｏは酸素原子を表し、そしてＡはＣ2−Ｃ10アルキレン基を表し、そしてＲ"はＣ1−Ｃ10アルキル基を表し、そして「ｎ」は１から２００から選択される整数である］
で表されるアルキル末端アルコキシアミンから選択される上記１１記載の混和剤系。
１３．前記アクリル系重合体が櫛形重合体であり、前記櫛形重合体が炭素含有バックボーンを含んで成っていて前記バックボーンに下記の構造（Ｉ）および（ＩＩ）および追加的に場合により構造（ＩＩＩ）または（ＩＶ）：
【化１】
2005500232.tif 000001
［ここで、各Ｒは、独立して、水素原子またはメチル基（−ＣＨ3）基を表し、Ｘは水素原子、Ｃ1−Ｃ10アルキル基、Ｒ'、アルカリもしくはアルカリ土類金属カチオン、アルカノールアミンまたはそれらの混合物を表し、Ｒ'は水素原子または（ＡＯ）nＲ"（ここで、Ｏは酸素原子を表し、ＡはＣ2−Ｃ10アルキレン基を表し、Ｒ"はＣ1−Ｃ10アルキルを表し、そしてｎは１−２００の整数を表す）で表されるＣ2−Ｃ10オキシアルキレン基またはこれらの混合物を表し、そしてａ、ｂ、ｃおよびｄは、ａが約５０−１００の値であり、ｃ＋ｄの合計が０から（１００−ａ）の値でありそしてｂが（１００−（ａ＋ｃ＋ｄ））以下であるように重合体の構成モルパーセントを表す数値である］
で表される基が結合している上記１２記載の混和剤系。
１４．前記櫛形重合体が構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）および（ＩＶ）で表される基を含んで成る上記１３記載の混和剤系。
１５．前記減水剤がエチレン系不飽和カルボン酸を重合させて櫛形重合体バックボーンを生じさせそして前記バックボーンにペンダント型非イオン性基を結合させることで生じさせたものである上記１３記載の混和剤系。
１６．前記減水剤が更にイオン結合している空気吐き出し官能性側鎖も含んで成る上記１記載の混和剤系。
１７．更に式Ｘ2Ｎ（ＢＯ）zＲ［式中、Ｘは水素を表し、Ｒは水素、Ｃ1−Ｃ10アルキル基またはＢＮＨ2を表し、ＢはＣ2−Ｃ10アルキレン基を表し、そしてｚは５から２００の整数を表す］で表される２番目のアミン系消泡剤も含んで成る上記１記載の混和剤系。
１８．前記第三級アミン系消泡剤と前記２番目のアミン系消泡剤が１０：１から１：１０の比率で存在している上記１７記載の混和剤系。
１９．前記櫛形重合体がポリオキシアルキレン誘導体と無水マレイン酸の共重合体を含んで成る上記１３記載の混和剤系。
２０．前記減水剤が無水マレイン酸の選択されたアミン、アミノ酸、アミノ基含有芳香族スルホン酸、アミノアルコールの付加生成物およびポリオキシアルキレングリコールもしくはそのモノエーテルのマレイン酸エステルまたはこれらの混合物とＮ−ビニルアミドの線状共重合体を含んで成る上記１３記載の混和剤系。
２１．水和性セメントである結合剤と上記１記載の混和剤系を含んで成る水和性セメント組成物。
２２．水和性セメント組成物に改質を受けさせる方法であって、上記１記載の混和剤系を水和性セメントである結合剤に導入することを含んで成る方法。
２３．前記第三級アミン系消泡剤が獣脂アルキルイミノビスプロパノール、ドデシルジメチルアミン、オクタデシルジメチルアミン、オレイルジメチルアミン、ココ椰子アルキルイミノビスプロパノール、オレイルイミノビスプロパノール、獣脂アルキルジメチルアミン、オレイルジメチルアミン、ココ椰子アルキルジメチルアミン、大豆アルキルジメチルアミン、ジココ椰子アルキルメチルアミン、トリドデシルアミンまたはこれらの混合物を含んで成る上記１記載の混和剤系。
２４．更に第一級アミンも含んで成る上記１記載の混和剤系。