【手続補正書】
【提出日】平成17年1月4日(2005.1.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持部材と、前記支持部材上に形成されたＸ線吸収体とを備えるＸ線マスクの製造方法であって、
前記Ｘ線吸収体上にマスク層を形成する工程と、
前記支持部材に、位置基準マークを含む位置検出部材を固定する工程と、
前記位置基準マークを前記マスク層の位置検出に用いながら、前記マスク層にマスクパターンを描画する工程とを備える、Ｘ線マスクの製造方法。
【請求項２】
前記位置基準マークの前記支持部材に対する位置を調節する工程をさらに備える、請求項１に記載のＸ線マスクの製造方法。
【請求項３】
前記位置検出部材を固定する工程は、複数の位置検出部材を前記支持部材に固定する工程を含む、請求項１または２に記載のＸ線マスクの製造方法。
【請求項４】
前記複数の位置検出部材を前記支持部材に固定する工程は、
第１の位置検出部材を前記支持部材に固定する工程と、
前記マスク層の中心に関して、前記第１の位置検出部材が固定された位置と点対称となる位置に第２の位置検出部材を固定する工程とを含む、請求項３に記載のＸ線マスクの製造方法。
【請求項５】
支持部材と、
前記支持部材上に形成されたＸ線吸収体と、
前記支持部材に固定され、位置基準マークを含む位置検出部材とを備える、Ｘ線マスク。
【請求項６】
前記支持部材は、前記Ｘ線吸収体を支持する基板を含み、
前記位置検出部材は、前記基板に固定されている、請求項５に記載のＸ線マスク。
【請求項７】
前記位置検出部材は、前記位置基準マークの前記支持部材に対する位置を調節する位置調節部材をさらに含む、請求項５または６に記載のＸ線マスク。
【請求項８】
前記位置検出部材は、第１および第２の位置検出部材を含む、請求項５〜７のいずれか１項に記載のＸ線マスク。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
【課題を解決するための手段】
この発明に従ったＸ線マスクの製造方法は、支持部材と、支持部材上に形成されたＸ線吸収体とを備えるＸ線マスクの製造方法であって、Ｘ線吸収体上にマスク層を形成する。支持部材に、位置基準マークを含む位置検出部材を固定する。位置基準マークをマスク層の位置検出に用いながら、マスク層にマスクパターンを描画する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
このため、上記Ｘ線マスクの製造方法では、Ｘ線マスクのＸ線吸収体に位置基準マークを形成する場合に比べて、この位置基準マークを形成するためのレジストパターンの形成工程、エッチング工程、レジストパターンの除去工程、その後のＸ線吸収体表面の洗浄工程を行なう必要はない。このため、Ｘ線マスクの製造工程を簡略化することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
上記Ｘ線マスクの製造方法は、位置基準マークの支持部材に対する位置を調節する工程をさらに備える。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
このため、上記Ｘ線マスクの製造方法では、マスクパターンを描画する部分の高さに適合するように、位置基準マークの高さを調節することができる。これにより、マスクパターンの描画の際に、位置基準マークの高さがこのマスクパターンが描画される領域の高さと異なることにより、位置基準マークの検出精度が劣化することを防止できる。この結果、マスクパターンの位置精度の劣化を防止し、高い位置制御を有する転写用回路パターンを備えるＸ線マスクを得ることができる。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
上記Ｘ線マスクの製造方法では、位置検出部材を固定する工程が、複数の位置検出部材を支持部材に固定する工程を含む。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
このため、上記Ｘ線マスクの製造方法では、複数の位置基準マークをマスク層の位置検出に用いることができる。これにより、マスクパターンの描画工程において、Ｘ線マスクが回転する、あるいは熱膨張するというようなことに起因するマスク層の変位が発生した場合にも、マスク層の位置を精度よく検出することができる。この結果、高い位置精度を有するマスクパターンを描画することができ、これにより、高い位置精度を有する転写用回路パターンを備えるＸ線マスクを得ることができる。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
上記Ｘ線マスクの製造方法では、複数の位置検出部材を支持部材に固定する工程が、第１の位置検出部材を支持部材に固定する工程と、マスク層の中心に関して、第１の位置検出部材が固定された位置と点対称となる位置に第２の位置検出部材を固定する工程とを含む。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
この発明に従ったＸ線マスクは、支持部材と、Ｘ線吸収体と、位置検出部材とを備える。Ｘ線吸収体は支持部材上に形成されている。位置検出部材は、支持部材に固定され、位置基準マークを含む。
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
このため、上記Ｘ線マスクでは、Ｘ線マスクのＸ線吸収体に位置基準マークが形成されるような場合と比較して、この位置基準マークを形成するためのレジストパターンの形成工程、エッチング工程、このレジストパターンの除去工程、その後のＸ線吸収体表面の洗浄工程などを行なう必要がなく、Ｘ線マスクの製造工程を簡略化することができる。
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
上記Ｘ線マスクでは、支持部材がＸ線吸収体を支持する基板を含む。位置検出部材は、基板に固定されている。
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
上記Ｘ線マスクでは、位置検出部材が位置基準マークの支持部材に対する位置を調節する位置調節部材を含む。
【手続補正３３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
このため、上記Ｘ線マスクでは、Ｘ線マスクの転写用回路パターンを形成するためのマスクパターンを描画する部分の高さに適合するように、位置基準マークの高さを調節することができる。これにより、マスクパターンの描画の際に、位置基準マークの高さがこのマスクパターンが描画される領域の高さと異なることにより、位置基準マークの検出精度が劣化することを防止できる。この結果、マスクパターンの位置精度の劣化を防止し、高い精度を有する転写用回路パターンを得ることができる。
【手続補正３４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
上記Ｘ線マスクでは、位置検出部材が第１および第２の位置検出部材を含む。
【手続補正３５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
このため、上記Ｘ線マスクでは、複数の位置基準マークをＸ線マスクの転写用回路パターンを形成するためのマスクパターンの描画時に、マスクパターン描画領域の位置検出に用いることができる。これにより、このマスクパターンの描画の際にＸ線マスクが回転する、あるいは熱膨張するといったことに起因してマスクパターンの描画領域の変位が起きた場合にも、マスクパターンの描画領域の位置を精度よく検出することができる。この結果、高い位置精度を有する転写用回路パターンを得ることができる。