【手続補正書】
【提出日】平成16年6月16日(2004.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原子層堆積装置（２）において、
第一の前駆体入口（１４）と、第二の前駆体入口（１６）と、第一のチャンバ出口（１７）とを有するプロセス反応器チャンバ（１０）と、
該プロセス反応器チャンバ（１０）の前記第一の前駆体入口（１４）に結合された第一の分配弁（４）と、
前記プロセス反応器チャンバ（１０）の前記第二の前駆体入口（１６）に結合された第二の分配弁（８）と、
前記チャンバ出口（１７）に直結された第一の隔離弁（２４）により前記プロセス反応器チャンバ（１０）から選択的に隔離し得るような形態とされ、前記隔離弁（２４）と前記チャンバ出口（１７）との間に実質的に排出前方ラインが何も存在しないような形態とされた前記プロセス反応器チャンバ（１０）に結合された第一の排出路と、
第一及び第二の端部（２５、２７）を有する第一の分配前方ライン（２６）とを備え、
前記第一の端部（２５）が、前記第一の分配弁（４）に結合され、前記第一の分配前方ライン（２６）の前記第二の端部（２７）が、前記第一の排出路又は第一の分配ポンプ（２８）に結合される、原子層堆積装置。
【請求項２】
前記第一の分配前方ライン（２６）の前記第二の端部（２７）が前記第一の排出路に結合される、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第一の排出路が、第一の排出ポンプ（２０）と、第一の隔離弁（２４）と、第一の排出前方ライン（２２）とを更に備え、
前記第一の排出ポンプ（２０）が、前記第一の排出前方ライン（２２）により前記第一の隔離弁（２４）に結合される、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記第一の排出路が、前記第一の隔離弁（２４）が閉じた状態にあるとき、前記プロセス反応器チャンバ（１０）から隔離されるようにした、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記第一の分配前方ライン（２６）の前記第二の端部（２７）が、前記第一の排出路の前記第一の隔離弁（２４）に結合される、請求項３に記載の装置。
【請求項６】
前記第一の分配前方ライン（２６）の前記第二の端部（２７）が、前記第一の排出路の前記第一の排出ポンプ（２０）に結合される、請求項３に記載の装置。
【請求項７】
前記第一の分配前方ライン（２６）の前記第二の端部（２７）が、前記第一の排出路の前記第一の排出前方ライン（２２）に結合される、請求項３に記載の装置。
【請求項８】
第二のチャンバ出口（２９）に結合された第二の排出路を更に備える、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記第一の排出路が、第一の排出ポンプ（２０）と、前記第一の隔離弁（２４）と、第一の排出前方ライン（２２）とを備え、
前記第一の排出ポンプ（２０）が、前記第一の排出前方ライン（２２）により前記第一の隔離弁（２４）に結合され、
前記第二の排出路が、第二の排出ポンプ（３０）と、第二の隔離弁（３４）と、第二の排出前方ライン（３２）とを更に備え、
前記第二の排出ポンプ（３０）が、前記第二の排出前方ライン（３２）により前記第二の隔離弁（３４）に結合される、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記第二の排出路が、前記隔離弁（３４）が閉じた状態にあるとき、前記プロセス反応器チャンバ（１０）から隔離されるようにした、請求項８に記載の装置。
【請求項１１】
前記第二の隔離弁（３４）が、前記プロセス反応器チャンバ（１０）の第二のチャンバ出口（２９）に直結され、前記第二の隔離弁（３４）と前記第二のチャンバ出口（２９）との間に実質的に排出前方チャンバが何も存在しないようにした、請求項８に記載の装置。
【請求項１２】
前記第一の分配前方ライン（２６）の前記第二の端部（２７）が、前記第一の分配ポンプ（２８）に結合される、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
第一及び第二の端部（３１、３３）を備える、第二の分配前方ライン（３６）を更に備え、
前記第一の端部（３１）が、前記第二の分配弁（８）に結合され、
前記第二の分配前方ライン（３６）の第二の端部（３３）が、第二の排出路に結合される、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
前記第一の排出路が、第一の排出ポンプ（２０）と、前記第一の隔離弁（２４）と、第一の排出前方ライン（２２）とを備え、
前記第一の排出ポンプ（２０）が、前記第一の排出前方ライン（２２）により前記第一の隔離弁（２４）に結合され、
前記第二の排出路が、第二の排出ポンプ（３０）と、第二の隔離弁（３４）と、第二の排出前方ライン（３２）とを更に備え、
前記第二の排出ポンプ（３０）が、前記第二の排出前方ライン（３２）により前記第二の隔離弁（３４）に結合される、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記第二の分配前方ライン（３６）の前記第二の端部（３３）が、前記第二の排出路の前記第二の隔離弁（３４）に結合される、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記第二の分配前方ライン（３６）の前記第二の端部（３３）が、前記第二の排出路の前記第二の排出ポンプ（３０）に結合される、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記第二の分配前方ライン（３６）の前記第二の端部（３３）が、前記第二の排出路の前記第二の排出前方ライン（３２）に結合される、請求項１４に記載の装置。
【請求項１８】
第一及び第二の端部（３１、３３）を備える、第二の分配前方ライン（３６）を更に備え、
前記第一の端部（３１）が、前記第二の分配弁（８）に結合され、
前記第二の分配前方ライン（３６）の第二の端部（３３）が、前記第二の分配ポンプに結合される、請求項１２に記載の装置。
【請求項１９】
前記第一の前駆体入口（１４）に結合された第一の蒸気供給部を更に備える、請求項１に記載の装置。
【請求項２０】
前記第二の前駆体入口（１６）に結合された第二の蒸気供給部を更に備える、請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
前記第一の前駆体入口（１４）及び前記第二の前駆体入口（１６）が共通の開口部を共用する、請求項１に記載の装置。
【請求項２２】
前記第一の前駆体入口（１４）及び前記第二の前駆体入口（１６）が別個の開口部を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項２３】
パージ弁（７）を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項２４】
前記プロセス反応器チャンバ（１０）が、シャワーヘッド装置（１８）を更に有する、請求項１に記載の装置。
【請求項２５】
原子層堆積装置（２）において、
プロセス反応器チャンバ（１０）と、
前記第一の隔離弁（２４）と前記第一のチャンバ出口（１７）との間に実質的に排出前方ラインが何も存在しないように、該プロセス反応器（１０）の第一のチャンバ出口（１７）に直結された、第一の隔離弁（２４）と、
第一の排出前方ライン（２２）により前記第一の隔離弁（２４）に結合された第一の排出ポンプ（２０）と、
前記第二の隔離弁（３４）と前記第二のチャンバ出口（２９）との間に実質的に排出前方ラインが何も存在しないように該プロセス反応器（１０）の第二のチャンバ出口（２９）に直結された、前記第二の隔離弁（３４）と、
第二の排出前方ライン（３２）により前記第二の隔離弁（３４）に結合された第二の排出ポンプ（３０）とを備える、原子層堆積装置。
【請求項２６】
原子層堆積方法において、
第一の前駆体をプロセス反応器チャンバ（１０）の第一の前駆体入口（１４）内に導入するステップと、
前記第一の前駆体を基板に吸着させ得るように前記プロセス反応器チャンバ（１０）を制御するステップと、
チャンバ出口に直結された隔離弁を開くことにより、吸収されない第一の前駆体を前記チャンバ（１０）からパージして、前記隔離弁と前記のチャンバ出口との間に実質的に排出前方ラインが何も存在しないようにする前記パージステップと、
第二の前駆体を前記プロセス反応器チャンバ（１０）の第二の前駆体入口（１６）内に導入するステップと、
前記第二の前駆体が前記第一の前駆体と反応するように前記プロセス反応器チャンバ（１０）を制御するステップと、
チャンバ出口に直結された隔離弁を開くことにより、反応しない第二の前駆体を前記プロセス反応器チャンバ（１０）からパージして、前記隔離弁と前記のチャンバ出口との間に実質的に排出前方ラインが何も存在しないようにする前記パージステップとを備える、原子層堆積方法。
【請求項２７】
前記反応器チャンバ（１０）の第一の排出出口に直結された第一の隔離弁（２４）を開放することにより、前記プロセス反応器チャンバ（１０）から前記吸収されない第一の前駆体をパージするステップと、
前記反応器チャンバ（１０）の第二の排出出口に直結された第二の隔離弁（３４）を開放することにより、前記プロセス反応器チャンバ（１０）から反応しない第二の前駆体をパージするステップとを備える、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
原子層堆積装置（２）において、
第一の前駆体入口（１４）と、第二の前駆体入口（１６）と、第一のチャンバ出口（１７）とを有するプロセス反応器チャンバ（１０）と、
該プロセス反応器チャンバ（１０）の前記第一の前駆体入口（１４）に結合された第一の分配弁（４）と、
前記プロセス反応器チャンバ（１０）の前記第二の前駆体入口（１６）に結合された第二の分配弁（８）と、
前記プロセス反応器チャンバ（１０）の前記第一のチャンバ出口（１７）に結合され且つ、前記プロセス反応器チャンバ（１０）から選択的に隔離し得る形態とされた第一の排出路であって、第一の隔離弁（２４）と、第一の排出前方ライン（２２）と、前記第一の排出前方ライン（２２）により前記第一の隔離弁（２４）に結合された第一の排出ポンプ（２０）とを備える前記第一の排出路と、
前記プロセス反応器チャンバ（１０）の前記第二のチャンバ出口（２９）に結合され且つ、前記プロセス反応器チャンバ（１０）から選択的に隔離し得る形態とされた第二の排出路であって、第二の隔離弁（３４）と、第二の排出前方ライン（３２）と、前記第二の排出前方ライン（３２）により前記第二の隔離弁（３４）に結合された第二の排出ポンプ（３０）とを備える前記第二の排出路と、
第一及び第二の端部（２５、２７）を有する第一の分配前方ライン（２６）であって、前記第一の端部（２５）が、前記第一の分配弁（４）に結合され、前記第一の分配前方ライン（２６）の前記第二の端部（２７）が、前記第一の排出路（２２）又は第一の分配ポンプ（２０）に結合された、前記第一の分配前方ライン（２６）と、
第一及び第二の端部（３１、３３）を有する第二の分配前方ライン（３６）であって、前記第一の端部（３１）が、前記第二の分配弁（８）に結合され、前記第二の分配前方ライン（３６）の前記第二の端部（３３）が、前記第二の排出路又は第二の分配ポンプに結合された、前記第二の分配前方ライン（３６）とを備える、原子層堆積装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の好ましい実施の形態の以下の詳細な説明は、同様の構造体を同様の参照番号で表示する以下の図面と共に読むとき、最もよく理解できる。
最初に、図１を参照すると、本発明の１つの実施の形態によるＡＬＤ装置２が示されている。図１には、プロセス反応器チャンバ１０と、第一の分配弁４と、第二の分配弁８と、隔離弁２４と、排出前方ライン２２と、排出ポンプ２０と、分配前方ライン２６とを備えるＡＤＬ装置２が示されている。プロセス反応器チャンバ１０は、第一の前駆体１４と、第二の前駆体入口１６と、第一のチャンバ出口１７とを有している。第一の分配弁４は、プロセス反応器チャンバ１０の第一の前駆体入口１４に結合されている。第二分配弁８は、上記プロセス反応器チャンバ１０の第二の前駆体入口１６に結合されている。隔離弁２４は、プロセス反応器チャンバ１０の第一のチャンバ出口１７に直結されている。排出ポンプ２０は、排出経路を画成する排出前方ライン２２により隔離弁２４に結合されている。分配前方ライン２６は、第一の端部２５及び第二の端部２７を備えている。第一の端部２５は、第一の分配弁４に結合され、また、第二の端部２７は、排出ポンプ２０に結合されている。図１に示すように、上述した如く、隔離弁２４は、出口１７に直結されているため、隔離弁２４と第一のチャンバ出口１７との間に実質的に排出前方ラインは何も存在しない。