(57)【要約】  ヘリウムガスの準安定状態の原子を励起させる波長のレーザ光を、生成したプラズマに照射して、準安定状態の原子を励起させ、レーザ光の吸収量を表す吸収量情報を取得し、吸収量情報に基いて、プラズマ中におけるヘリウムガスの準安定状態の原子の密度を算出する。加えて、プラズマ中における、ヘリウムガスの異なる２つの励起状態からの下位準位遷移過程それぞれによる各発光を計測し、各発光の発光強度比を求める。その後、算出したヘリウムガスの準安定状態の原子の密度と、発光強度比とに基いて、生成したプラズマの電子温度を算出する。これにより、プラズマ雰囲気の条件によらず比較的高い精度で、プラズマの電子温度を算出することができる。
2008123186.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生成したプラズマの電子温度を測定する方法であって、
所定の容器内に少なくともヘリウムガスを供給し、前記容器内にプラズマを生成するステップと、
ヘリウムガスの準安定状態の原子を励起させる波長のレーザ光を、生成した前記プラズマに照射して、前記準安定状態の原子を励起させるステップと、
前記準安定状態の原子による前記レーザ光の吸収量を表す吸収量情報を取得するステップと、
前記吸収量情報に基いて、前記プラズマ中の前記レーザ光の照射領域における前記ヘリウムガスの前記準安定状態の原子の密度を算出するステップと、
前記プラズマ中における、前記ヘリウムガスの異なる２つの励起状態からの下位準位遷移過程それぞれによる各発光を計測し、前記各発光の発光強度比を求めるステップと、
算出した前記ヘリウムガスの前記準安定状態の原子の密度と、前記発光強度比とに基いて、生成した前記プラズマの電子温度を算出するステップと、を有することを特徴とするプラズマ電子温度の測定方法。
【請求項２】
さらに、ヘリウムガスの準安定状態の原子を励起させる波長のレーザ光を、生成した前記プラズマに照射して、前記準安定状態の原子を励起させ、
前記レーザ光の照射にともなう前記準安定状態の原子からの誘起蛍光の強度を表す誘起蛍光強度の、前記レーザ光の照射領域における分布情報を取得し、
前記準安定状態の原子の密度を算出するステップでは、前記吸収量情報と、前記誘起蛍光強度の前記分布情報とに基き、前記準安定状態の原子の密度の、前記レーザ光の照射領域における分布を、少なくとも求めることを特徴とする請求項１記載のプラズマ電子温度の測定方法。
【請求項３】
前記準安定状態の原子の密度を算出するステップでは、前記準安定状態の密度として、２１Ｓ０状態および２３Ｓ１状態の密度をそれぞれ算出し、
前記発光強度比を求めるステップでは、第１の励起状態である４３Ｄ状態から２３Ｐｏ状態への下位準位遷移過程による発光と、第２の励起状態である３３Ｄ状態から２３Ｐｏ状態への下位準位遷移過程による発光とを計測して、前記発光強度比を求めることを特徴とする請求項１または２記載のプラズマ電子温度の測定方法。
【請求項４】
前記準安定状態の原子の密度を算出するステップでは、前記準安定状態の密度として、２１Ｓ０状態および２３Ｓ１状態の密度をそれぞれ算出し、
前記発光強度比を求めるステップでは、第１の励起状態である４３Ｓ状態から２３Ｐｏ状態への下位準位遷移過程による発光と、第２の励起状態である３３Ｓ状態から２３Ｐｏ状態への下位準位遷移過程による発光とを計測して、前記発光強度比を求めることを特徴とする請求項１または２記載のプラズマ電子温度の測定方法。
【請求項５】
前記電子温度を算出するステップでは、下記式（１）に示す式を用いて、前記プラズマの電子温度を算出することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のプラズマ電子温度の測定方法。
【数１】
2008123186.tif 000014
ここで、式（１）における各数は、いずれも前記プラズマ中のヘリウムガスの原子に係り、
ＩＡは第１の励起状態Ａからの下位準位遷移過程による発光の強度の計測値、ＩＢは第２の励起状態Ｂからの下位準位遷移過程による発光の強度の計測値を示し、
ＡｉＡは第１の励起状態Ａからの前記下位準位遷移過程による発光に係るアインシュタインＡ係数を示し、ＡｉＢは第２の励起状態Ｂからの前記下位準位遷移過程による発光に係るアインシュタインＡ係数を示し、
ＡＡは、第１の励起状態Ａからの複数の自然遷移過程それぞれのアインシュタインＡ係数の総和で表される、第１の励起状態Ａからの放射寿命の逆数を示し、ＡＢは、第２の励起状態Ｂからの複数の自然遷移過程それぞれのアインシュタインＡ係数の総和で表される、第２の励起状態Ｂからの放射寿命の逆数を示し、
ｎｍは算出した第ｍの準安定状態の密度、ｎ０は基底状態の密度、ｎＡ＊は第１の励起状態Ａの密度、ｎＢ＊は第２の励起状態Ｂの密度を示し、
ｋＡｅＸ０は基底状態から第１の励起状態Ａへの電子衝突励起レート定数、ｋＡｅＸｍは第ｍの準安定状態から励起状態Ａへの電子衝突励起レート定数、
ｋＢｅＸ０は基底状態から第２の励起状態Ｂへの電子衝突励起レート定数、ｋＢｅＸｍは第ｍの準安定状態から励起状態Ｂへの電子衝突励起レート定数を示し、ｋＡｅＸ０、ｋＡｅＸｍ、ｋＢｅＸ０、ｋＢｅＸｍは、前記プラズマ電子温度の関数である。ｇＡ,ｇＢは、波長λＡ,λＢの関数で、励起状態Ａ，Ｂにおける観測系の立体角及び量子効率を表し、λＡ,λＢは、励起状態Ａ，Ｂにおける測定する光の波長である。
【請求項６】
前記電子温度を算出するステップで用いる前記レート定数ｋａｅｘｂは、下記式（２）によって表され、前記式（１）に示す式を用いて前記プラズマの電子温度を算出することを特徴とする請求項５記載のプラズマ電子温度の測定方法。
【数２】
2008123186.tif 000015
ここで、ａは前記Ａまたは前記Ｂ、ｂは０または前記ｍを表し、
σａｅｘｂは各励起過程の断面積、ｖは電子速度、ｆ（ｖ）は電子速度分布関数を表す。
【請求項７】
前記吸収量情報を取得するステップでは、前記レーザ光の吸収量を表す吸収量情報として、前記プラズマに照射した前記レーザ光の透過率を取得することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマ電子温度の測定方法。
【請求項８】
前記吸収量情報を取得するステップでは、第ｍの準安定状態の原子を励起させるために前記プラズマに照射するレーザ光の強度Ｉ０と、前記プラズマを透過した前記レーザ光の強度Ｉｔと、をそれぞれ計測し、前記レーザ光の透過率Ｉｔ／Ｉ０（ｍ）を求め、
前記ヘリウムガスの前記準安定状態の原子の密度を算出するステップでは、前記レーザ光の透過率Ｉｔ／Ｉ０（ｍ）と下記式（３）に示す式とに基いて、前記プラズマ中における前記ヘリウムガスの前記準安定状態の原子の密度ｎmを算出することを特徴とする請求項７記載のプラズマ電子温度の測定方法。
【数３】
2008123186.tif 000016
ここで、σｅｘｍは第ｍの準安定状態からの吸収断面積、ｌはプラズマ中をレーザが透過する部分の長さ、ｎmは第ｍの準安定状態の原子の密度。
【請求項９】
所定の容器内に生成したプラズマの電子温度を測定する装置であって、
前記容器内にヘリウムガスが供給された状態で前記プラズマが生成されるよう、前記所定の容器内に少なくともヘリウムガスを供給する手段と、
ヘリウムガスの準安定状態の原子を励起させる波長のレーザ光を、前記容器内の生成した前記プラズマに照射し、前記準安定状態の原子を励起させるレーザ光照射手段と、
前記準安定状態の原子による前記レーザ光の吸収量を表す吸収量情報を取得する手段と、
前記吸収量情報に基いて、前記プラズマ中の前記レーザ光の照射領域における前記ヘリウムガスの前記準安定状態の原子の密度を算出する手段と、
前記プラズマ中における、前記ヘリウムガスの異なる２つの励起状態からの下位準位遷移過程それぞれによる発光の強度をそれぞれ計測する手段と、
前記算出する手段で算出した前記ヘリウムガスの前記準安定状態の原子の密度と、前記発光の強度の比とに基いて、生成した前記プラズマの電子温度を算出する手段と、
を有することを特徴とするプラズマ電子温度の測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマ計測技術、詳しくは、プラズマの電子温度を測定する方法および装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、例えば半導体やガラス基板に対するエッチングや成膜などにおいて、いわゆるプラズマ処理が積極的に用いられている。このようなプラズマ処理において所望の処理状態を得るには、プラズマ自体の基礎量（物理量）を制御することが重要である。例えば、エッチングや成膜などのプラズマ処理を実施するために生成したプラズマについて、プラズマ電子温度の空間分布や時間的変化を測定し、測定結果に基いてプラズマ電子温度を制御することができれば、エッチングや成膜などの目的に応じた効率のよいプラズマ処理を実現することができる。プラズマ処理を実施するにあたり、プラズマ電子温度などのプラズマ自体の基礎量（物理量）を把握すること、すなわちプラズマ計測（プラズマ診断）は重要である。【０００３】
このため、従来から、ラングミュア・プローブ法、トムソン散乱法など、種々のプラズマ電子温度測定方法が利用されている。しかし、例えば、ラングミュア・プローブ法では、プラズマ中に金属探針（プローブ）を挿入する必要があり、プラズマが金属汚染する問題が生じるので、エッチングや成膜などの実際のプラズマ処理におけるプラズマ計測には不向きであった。また、トムソン散乱法は、複雑な構成の計測機器を必要とし、技術的にも難易度が高く、プラズマ処理において、簡易な装置構成で比較的低コストにプラズマ計測を行なうことはできなかった。【０００４】
下記特許文献１および下記特許文献２には、その他のプラズマ電子温度の測定方法が記載されている。特許文献１には、いわゆる発光分光法を用いたプラズマ電子温度の測定方法の例が記載されている。特許文献１記載のプラズマ電子温度の測定方法では、プラズマ中の原子の、例えば第１の励起状態からの下位準位遷移過程による発光と、第２の励起状態からの下位準位遷移過程による発光とを計測して、この２つの発光の発光強度比に基いて、プラズマ電子温度を求めている。特許文献１記載の方法では、プラズマが熱平衡状態にあれば、プラズマ中における、あるエネルギー準位に励起されている原子の数が、統計力学の法則に従う（すなわちボルツマン分布となる）との仮定に基いて、プラズマの電子温度を算出している。一方、特許文献２記載の方法では、チャンバに生成したアルゴンガスのプラズマに、アルゴンガスの準安定状態の原子を励起状態とする波長のレーザ光を照射してレーザ光の透過率を測定して、測定したレーザ光の透過率の情報に基づいて準安定状態の原子密度を求めている。そしてさらに、求めた準安定状態の原子密度と、準安定状態を決定するレート方程式とを用い、限定された条件でのプラズマ電子温度を求めている。
【特許文献１】特開平１０−８３８９３号公報
【特許文献２】特開２００６−３１８８００号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１記載の方法のように、プラズマ中における、あるエネルギーレベルに励起されている原子の数が、ボルツマン分布であると仮定して求めた電子温度は、実際のプラズマの電子温度との誤差が大きい。一般的に、発光分光法に基づく方法では、算出されるプラズマ電子温度の信頼性に欠け、正しい電子温度が得られることのほうが稀であることが知られている。一方、準安定状態を決定するレート方程式を用いる特許文献２記載の方法では、例えば、チャンバ内（プラズマ発生空間）における電子密度が１０１０／ｃｍ３以上であるか、或いはチャンバ内のプラズマ発生空間のガス圧が１０Ｐａ以上（例えば１００ｍＴｏｒｒ（約１３Ｐａ）以上）であるか、或いは拡散長（プラズマ中における準安定状態アルゴン原子の平均自由行程）が１ｃｍ以上であるか、或いはそれら条件の二以上又は全部を具備するプラズマ雰囲気中であるとの仮定の下でしか、プラズマ電子温度を算出することしかできない。また、特許文献２記載の方法では、準安定状態Ａｒ（アルゴン）原子と雰囲気ガスとの衝突クエンチング係数を、予め高精度に知っておく必要がある。このような特許文献２記載の方法では、プラズマ雰囲気の条件によっては、また、クエンチング係数の確かな情報を有していない場合は、算出したプラズマ電子温度の誤差が比較的大きくなってしまっていた。【０００６】
そこで、本発明は、プラズマの電子温度を測定する方法であって、プラズマ雰囲気の条件によらず比較的高い精度で、プラズマの電子温度を算出することができるプラズマ電子温度の測定方法を提供することを目的とする。本発明は、また、プラズマ雰囲気の条件によらず、また、クエンチング係数の確かな情報を有していなくとも、プラズマの電子温度を比較的高い精度で算出することができる、比較的単純な構成の、比較的低コストなプラズマ電子温度の測定装置を提供することも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明は、生成したプラズマの電子温度を測定する方法であって、所定の容器内に少なくともヘリウムガスを供給し、前記容器内にプラズマを生成するステップと、ヘリウムガスの準安定状態の原子を励起させる波長のレーザ光を、生成した前記プラズマに照射して、前記準安定状態の原子を励起させるステップと、前記準安定状態の原子による前記レーザ光の吸収量を表す吸収量情報を取得するステップと、前記吸収量情報に基いて、前記プラズマ中の前記レーザ光の照射領域における前記ヘリウムガスの前記準安定状態の原子の密度を算出するステップと、前記プラズマ中における、前記ヘリウムガスの異なる２つの励起状態からの下位準位遷移過程それぞれによる各発光を計測し、前記各発光の発光強度比を求めるステップと、算出した前記ヘリウムガスの前記準安定状態の原子の密度と、前記発光強度比とに基いて、生成した前記プラズマの電子温度を算出するステップと、を有することを特徴とするプラズマ電子温度の測定方法を提供する。【０００８】
さらに、ヘリウムガスの準安定状態の原子を励起させる波長のレーザ光を、生成した前記プラズマに照射して、前記準安定状態の原子を励起させ、前記レーザ光の照射にともなう前記準安定状態の原子からの誘起蛍光の強度を表す誘起蛍光強度の、前記レーザ光の照射領域における分布情報を取得し、前記準安定状態の原子の密度を算出するステップでは、前記吸収量情報と、前記誘起蛍光強度の前記分布情報とに基き、前記準安定状態の原子の密度の、前記レーザ光の照射領域における分布を、少なくとも求めることが好ましい。【０００９】
また、前記準安定状態の原子の密度を算出するステップでは、前記準安定状態の密度として、２１Ｓ０状態および２３Ｓ１状態の密度をそれぞれ算出し、前記発光強度比を求めるステップでは、第１の励起状態である４３Ｄ状態から２３Ｐｏ状態への下位準位遷移過程による発光と、第２の励起状態である３３Ｄ状態から２３Ｐｏ状態への下位準位遷移過程による発光とを計測して、前記発光強度比を求めることが好ましい。【００１０】
また、前記準安定状態の原子の密度を算出するステップでは、前記準安定状態の密度として、２１Ｓ０状態および２３Ｓ１状態の密度をそれぞれ算出し、前記発光強度比を求めるステップでは、第１の励起状態である４３Ｓ状態から２３Ｐｏ状態への下位準位遷移過程による発光と、第２の励起状態である３３Ｓ状態から２３Ｐｏ状態への下位準位遷移過程による発光とを計測して、前記発光強度比を求めることが好ましい。【００１１】
なお、前記電子温度を算出するステップでは、下記式（１）に示す式を用いて、前記プラズマの電子温度を算出することが好ましい。
【数１】
2008123186.tif 000003
ここで、式（１）における各数は、いずれも前記プラズマ中のヘリウムガスの原子に係り、
ＩＡは第１の励起状態Ａからの下位準位遷移過程による発光の強度の計測値、ＩＢは第２の励起状態Ｂからの下位準位遷移過程による発光の強度の計測値を示し、
ＡｉＡは第１の励起状態Ａからの前記下位準位遷移過程による発光に係るアインシュタインＡ係数を示し、ＡｉＢは第２の励起状態Ｂからの前記下位準位遷移過程による発光に係るアインシュタインＡ係数を示し、
ＡＡは、第１の励起状態Ａからの複数の自然遷移過程それぞれのアインシュタインＡ係数の総和で表される、第１の励起状態Ａからの放射寿命の逆数を示し、ＡＢは、第２の励起状態Ｂからの複数の自然遷移過程それぞれのアインシュタインＡ係数の総和で表される、第２の励起状態Ｂからの放射寿命の逆数を示し、
ｎｍは算出した第ｍの準安定状態の密度、ｎ０は基底状態の密度、ｎＡ＊は第１の励起状態Ａの密度、ｎＢ＊は第２の励起状態Ｂの密度を示し、
ｋＡｅＸ０は基底状態から第１の励起状態Ａへの電子衝突励起レート定数、ｋＡｅＸｍは第ｍの準安定状態から励起状態Ａへの電子衝突励起レート定数、
ｋＢｅＸ０は基底状態から第２の励起状態Ｂへの電子衝突励起レート定数、ｋＢｅＸｍは第ｍの準安定状態から励起状態Ｂへの電子衝突励起レート定数を示し、ｋＡｅＸ０、ｋＡｅＸｍ、ｋＢｅＸ０、ｋＢｅＸｍは、前記プラズマ電子温度の関数。
ｇＡ,ｇＢは、波長λＡ,λＢの関数で、励起状態Ａ，Ｂにおける観測系の立体角及び量子効率を表し、λＡ,λＢは、励起状態Ａ，Ｂにおける測定する光の波長である。【００１２】
また、前記電子温度を算出するステップで用いる前記レート定数ｋａｅｘｂは、下記式（２）によって表され、前記式（１）に示す式を用いて前記プラズマの電子温度を算出することが好ましい。
【数２】
2008123186.tif 000004
ここで、ａは前記Ａまたは前記Ｂ、ｂは０または前記ｍを表し、
σａｅｘｂは各励起過程の断面積、ｖは電子速度、ｆ（ｖ）は電子速度分布関数を表す。【００１３】
また、前記吸収量情報を取得するステップでは、前記レーザ光の吸収量を表す吸収量情報として、前記プラズマに照射した前記レーザ光の透過率を取得することが好ましい。【００１４】
また、前記吸収量情報を取得するステップでは、第ｍの準安定状態の原子を励起させるために前記プラズマに照射するレーザ光の強度Ｉ０と、前記プラズマを透過した前記レーザ光の強度Ｉｔと、をそれぞれ計測し、前記レーザ光の透過率Ｉｔ／Ｉ０（ｍ）を求め、前記ヘリウムガスの前記準安定状態の原子の密度を算出するステップでは、前記レーザ光の透過率Ｉｔ／Ｉ０（ｍ）と下記式（３）に示す式とに基いて、前記プラズマ中における前記ヘリウムガスの前記準安定状態の原子の密度ｎmを算出することが好ましい。
【数３】
2008123186.tif 000005
ここで、σｅｘｍは第ｍの準安定状態からの吸収断面積、ｌはプラズマ中をレーザが透過する部分の長さ、ｎmは第ｍの準安定状態の原子の密度。【００１５】
本発明は、また、所定の容器内に生成したプラズマの電子温度を測定する装置であって、前記容器内にヘリウムガスが供給された状態で前記プラズマが生成されるよう、前記所定の容器内に少なくともヘリウムガスを供給する手段と、ヘリウムガスの準安定状態の原子を励起させる波長のレーザ光を、前記容器内の生成した前記プラズマに照射し、前記準安定状態の原子を励起させるレーザ光照射手段と、前記準安定状態の原子による前記レーザ光の吸収量を表す吸収量情報を取得する手段と、前記吸収量情報に基いて、前記プラズマ中の前記レーザ光の照射領域における前記ヘリウムガスの前記準安定状態の原子の密度を算出する手段と、前記プラズマ中における、前記ヘリウムガスの異なる２つの励起状態からの下位準位遷移過程それぞれによる発光の強度をそれぞれ計測する手段と、前記算出する手段で算出した前記ヘリウムガスの前記準安定状態の原子の密度と、前記発光の強度の比とに基いて、生成した前記プラズマの電子温度を算出する手段と、を有することを特徴とするプラズマ電子温度の測定装置を、併せて提供する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、比較的単純な構成の、比較的低コストな測定装置をもって、プラズマ中の準安定状態の密度、および励起状態の密度双方の状態に基いてプラズマの電子温度を算出することができる。本発明によれば、準安定状態の密度のみに基いて電子温度を算出する従来の方法、および励起状態の密度のみに基づいて電子温度を算出する従来の方法の双方と比べて、比較的高い精度でプラズマの電子温度を算出することができる。また、生成したプラズマの電子温度の空間分布を、比較的高い精度で知ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明のプラズマ電子温度の測定装置を備えて構成される、プラズマ処理装置の一例の構成を説明する概略図であり、（ａ）は概略斜視図、（ｂ）は概略上断面図である。
【図２】プラズマにおけるヘリウムガス原子の各種状態を示す図の一例である。
【図３】図１に示すプラズマ処理装置の測定・制御ユニットの概略構成図である。
【図４】本発明のプラズマ電子温度の測定の一例も併せて実施される、図１に示すプラズマ処理装置において行なうプラズマ処理の一例のフローチャートである。
【図５】図１に示すプラズマ処理装置の測定・制御ユニットが取得する、レーザ光Ｌｍで励起されて生じる誘起蛍光の、レーザ光照射領域における光強度分布データの一例である。
【符号の説明】
【００１８】
１０  プラズマ処理装置
１１  ガス供給部
１２  反応容器
１４  プラズマ生成部
１６ａ  レーザ入射窓
１６ｂ  レーザ出射窓
１８  発光観測窓
２０  測定・制御ユニット
２１  メモリ
２３  ＣＰＵ
２２  電子温度測定部
２６  プラズマ制御部
３０  計測ユニット
３２  レーザ照射部
３４  光検出部
３６  発光計測部
３８  レーザ光源
４２  出射光調整部
４４  光電変換部
４６  受光調整部
４８  ＣＣＤカメラ
４９  観測光調整部
５２  レーザ制御部
５４  透過光強度取得部
５６  透過率導出部
５８  準安定状態密度算出部
６０  発光強度取得部
６２  電子温度算出部
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明のプラズマ電子温度の測定方法および装置について詳細に説明する。図１は、本発明のプラズマ電子温度の測定装置を備えて構成される、プラズマ処理装置の一例の構成を説明する概略図である。図１（ａ）はプラズマ処理装置１０の概略斜視図であり、図１（ｂ）はプラズマ処理装置１０の概略上断面図である。【００２０】
図１に示すプラズマ処理装置１０は、反応容器１２内に、プラズマ生成部１４によってプラズマＰを生成し、例えば反応容器１２内に配置した半導体基板やガラス基板などの処理対象基板にプラズマ処理を行う装置である。プラズマ処理装置１０は、また、反応容器１２内に生成したプラズマＰについての各種情報を計測する計測ユニット３０と、計測した各種情報を取得し、プラズマ生成部１４によって生成するプラズマＰを制御するための測定・制御ユニット２０と、図示しないガスボンベやガス流量調整手段を備えるガス供給部１１とを備えている。【００２１】
反応容器１２は、例えば、図示しないロータリーポンプやターボ分子ポンプなどからなる図示しない排気手段によって、内部を高真空に排気することが可能な高真空チャンバである。なお、プラズマ生成部１４を、大気圧下でプラズマを生成することができる構成とした場合など、反応容器１２は真空チャンバであることに限定されない。反応容器１２内部には、ガス供給部１１から配管を通して、ガスが供給される。本発明では、反応容器１２内部に供給するガスとして、成膜やエッチングに必要なプロセスガス、すなわちＴＥＯＳガスや酸素ガス、シランガスなどのプロセスガスのほかに、少なくともヘリウム（Ｈｅ）ガスも併せて供給することを特徴の１つとする。このヘリウムガスは、プラズマ電子温度の測定のために必要な情報を計測する対象ガス（測定子）として機能する。反応容器１２の壁面には、石英やガラスなどが配置された、後述する各種レーザ光Ｌｍや透明なレーザ入射窓１６ａ、透明なレーザ出射窓１６ｂ、および透明な発光観測窓１８が設けられている。また、反応容器１２には、反応容器１２内の圧力を計測するための図示しない圧力センサも備えられている。【００２２】
プラズマ生成部１４は、例えば２枚の平行平板電極が対向した構成となっており、測定・制御ユニット２０の後述するプラズマ制御部２６から高周波電圧が印加されることで、２枚の平行平板電極の間隙にプラズマＰを生成する。プラズマ処理装置１０では、例えば、この２枚の平行平板電極の間隙に配置した半導体基板やガラス基板に対して、プラズマ成膜処理やプラズマエッチング処理を施す。なお、本発明において、プラズマ生成部１４の構成は特に限定されず、いわゆる平行平板型の他に、電子サイクロトロン共鳴型（ＥＣＲ型）やヘリコン波励起型（ＨＷＰ型）、および誘導結合型（ＩＣＰ型）、また本願出願人による出願の公開公報である例えば特開２００３−８６５８１号公報などに記載の、モノポールアンテナ型のプラズマ生成手段など、各種の手段いずれを用いてもよい。【００２３】
図２は、プラズマ生成部１４によって反応容器１２内に生成されるプラズマＰにおける、ヘリウムガス原子の各種状態を示す図の一例である。プラズマ内では、ヘリウムガス原子は、例えば基底状態１１Ｓ０、（図中Ｓ０と記されている）、第１の準安定状態２１Ｓ０、第２の準安定状態２３Ｓ１、第１の励起状態４３Ｄ、第２の励起状態３３Ｄ、発光後安定状態２３Ｐｏの各種状態で存在している。かつ、プラズマ内では、基底状態１１Ｓ０から第１の励起状態４３Ｄへの遷移ｔ１、基底状態１１Ｓ０から第２の励起状態３３Ｄへの遷移ｔ２、第１の準安定状態２１Ｓ０から第１の励起状態４３Ｄへの遷移ｔ３、第１の準安定状態２１Ｓ０から第２の励起状態３３Ｄへの遷移ｔ４、第２の準安定状態２３Ｓ１から第１の励起状態４３Ｄへの遷移ｔ５、第２の準安定状態２３Ｓ１から第２の励起状態３３Ｄへの遷移ｔ６、第１の励起状態４３Ｄから発光後安定状態２３Ｐｏへの遷移ｓ１、第２の励起状態３３Ｄから発光後安定状態２３Ｐｏへの遷移ｓ２が、生じている。以降、遷移ｔ１〜遷移ｔ６における過程を励起過程ｔ１〜ｔ６と称し、遷移ｓ１およびｓ２における過程を下位準位遷移過程ｓ１およびｓ２と称する。実際のプラズマ中では、図２に示す以外の状態でプラズマ原子が存在し、上記以外の遷移過程も考えられる。例えば、励起状態として、４３Ｓ状態や２３Ｐｏ状態などがある。以後の説明では、説明の簡略化のため、図２に示す各種状態および各種遷移過程のみを考えるものとする。ヘリウムガスのその他の励起状態や準安定状態、その他の遷移を考慮した場合も、以降説明する手段および方法を用いて、プラズマ電子温度を算出することができる。【００２４】
本発明のプラズマ処理装置の一例である、プラズマ処理装置１０が備えるプラズマ電子温度の測定装置は、ヘリウムガスを供給するガス供給部１１の他、計測ユニット３０と、測定・制御ユニット２０の電子温度測定部２２とを備えて構成されている。【００２５】
計測ユニット３０は、チャンバ１２内に所定波長のレーザ光Ｌｍを照射するレーザ照射部３２と、チャンバ１２内を透過したレーザ光Ｌｍを受光し、その光強度に応じた電気的信号に変換する光検出部３４と、レーザ光Ｌｍの照射にともなうプラズマＰ中の準安定状態の原子からの誘起蛍光、およびプラズマＰにおける発光の強度を観測する、蛍光・発光計測部３６とを備える。レーザ照射部３２は、例えば波長可変レーザからなるレーザ光源３８と、レーザ光源３４から出射したレーザ光Ｌｍを適性なものとする、図示しないフィルタやレンズで構成された出射光調整部４２と、レーザ光源３８および出射光調整部４２の位置を図中ＸＺ平面に沿った方向に移動させて、プラズマＰにおけるレーザ光Ｌｍの照射領域を変更可能な照射領域調整部４３とを有して構成されている。本実施形態において、プラズマＰにおけるレーザ光Ｌｍの照射領域とは、図１中に一点鎖線Ｌで示す一次元的な領域である（実際には、レーザ光の光径方向の次元も有する）。【００２６】
レーザ照射部３２からは、生成したプラズマＰにおけるヘリウムガスの準安定状態の原子を励起させる波長のレーザ光Ｌｍを、生成したプラズマＰに照射する。例えば第１の準安定状態２１Ｓ０を励起させるレーザ光Ｌ１として、波長５０１．６ｎｍのレーザ光を照射する。また、例えば第２の準安定状態２３Ｓ１を励起させるレーザ光Ｌ２として、波長１０８３ｎｍのレーザ光を照射する。本実施形態では、レーザ照射部３２は、ヘリウム原子の２つの準安定状態を励起させる、２つの波長のレーザ光をそれぞれ照射することができる。レーザ照射部３２は、異なる波長のレーザ光を出射する波長可変色素レーザ等に限らず、それぞれ異なる波長のレーザ光を出射する２つの波長可変レーザ光源（例えば半導体レーザなど）を備えて構成されていてもよい。【００２７】
出射光調整部４２は、フィルタやレンズなどによって、レーザ入射窓１６ａを通過してプラズマＰに照射される際のレーザ光Ｌｍの波長や強度を所望の状態とする。照射領域調整部４３は、レーザ光源３８および出射光調整部４２の位置を図中ＸＺ平面に沿った方向に移動させて、プラズマＰにおけるレーザ光Ｌｍの照射領域を調整する。レーザ光源部３８からのレーザ光の出射タイミングや、プラズマＰに照射される際のレーザ光Ｌｍの波長や強度、レーザ光源３８および出射光調整部４２の位置すなわちプラズマＰにおけるレーザ光Ｌｍの照射領域などは、測定・制御ユニット２０の電子温度測定部２２によって制御される。すなわち、制御ユニット２０において、プラズマＰにおけるレーザ光Ｌｍの照射領域や、レーザ光出射部３４から出射されてプラズマＰに照射される際の、第ｍの準安定状態を励起させるための各波長のレーザ光Ｌｍの強度Ｉ０（ｍ）は、予め既知となっている。なお、レーザ光出射部３４は、適当なレーザ出射部（例えば波長可変型半導体レーザ）の他、出射するレーザ波長の測定、出射するレーザ発振状態、波長掃引幅把握、等の目的のために、図示しない波長計や、スペクトルアナライザ等を備えていることが好ましい。【００２８】
光検出部３４は、例えばＰＩＮフォトダイオードやフォトトランジスタなどからなる光電変換部４４と、この光電変換部４４への受光の適正化を図るためのフィルタやレンズからなる受光調整部４６と、受光調整部４６および光電変換部４４がレーザ光Ｌｍを正しく受光できるよう、受光調整部４６および光電変換部４４の位置を図中ＸＺ平面に沿った方向に移動させる受光位置調整部４７とを備える。プラズマＰに照射されるレーザ光Ｌｍによって準安定状態ｍのヘリウム原子が励起される際、レーザ光Ｌｍのエネルギーは、準安定状態のヘリウム原子に吸収される。本実施形態では、光検出部３４は、光電変換部４４によって、プラズマＰを透過した各波長のレーザ光Ｌｍの強度Ｉｔに応じた電気信号を出力する。出力した電気信号は、測定・制御ユニット２０の電子温度測定部２２に送られる。【００２９】
蛍光・発光計測部３６は、ＣＣＤカメラ４８と、レンズやフィルタからなる観測光調整部４９とを備える。観測光調整部４９は、例えば、反応容器内１２内に生成したプラズマＰ全体からの発光をＣＣＤカメラ４８の受光部に導くための図示しないレンズユニットと、所定位置に配置されることでＣＣＤカメラ４８の受光面（画素が配列された面）に入射する光の波長を選択するための図示しない複数のフィルタと、複数のフィルタのうち１つのフィルタを選択して、選択したフィルタを所定位置に配置する図示しないフィルタ選択部とを有して構成されている。この所定位置は、ＣＣＤカメラ４８の受光面を覆う位置であり、選択されたフィルタがこの所定位置に配置されることで、ＣＣＤカメラ４８の受光面には、選択されたフィルタを透過した特定波長の光のみが入射する。本実施形態においては、フィルタは４種類用意されており、それぞれのフィルタが透過する光の波長は、それぞれ異なっている。例えば、第１のフィルタは、第１の準安定状態２１Ｓ０が上記レーザ光Ｌ１（波長５０１．６ｎｍ）で励起されて生じる第１の誘起蛍光に対応する波長５０１．６ｎｍの蛍光を透過し、第２のフィルタは、第２の準安定状態２３Ｓ１が上記レーザ光Ｌ２（波長１０８３ｎｍ）で励起されて生じる第２の誘起蛍光に対応する波長１０８３ｎｍの蛍光を透過する。また、第３のフィルタは、下位準位遷移過程ｓ１による発光に対応する４４７ｎｍの発光を透過する。また、第４のフィルタは、下位準位遷移過程ｓ２による発光に対応する５８８ｎｍの発光を透過する。なお、観測光調整部４９は、上記各蛍光および各発光が、各フィルタによって確実に選択されて透過されるよう、レーザ光自身の迷光やプラズマの発光による各種ノイズ光を遮断する、その他のフィルタ類なども備えている。【００３０】
観測光調整部４９の図示しないレンズユニットは、プラズマＰの、図中のＹＺ平面に平行な所定の観測平面上に対応する領域からの蛍光や発光を、ＣＣＤカメラ４８の受光部に導く。図示しないレンズユニットは、その焦点距離が可変であって、焦点距離を変更することで、図中のＹＺ平面に平行な所定の観測平面の、図中Ｘ軸に沿った位置を移動させることができる。すなわち、ＣＣＤカメラ４８の受光面（画素が配列された面）は、観測光調整部４９の図示しないレンズユニットの焦点距離に応じて定まる、プラズマＰ中の上記観測平面（図中のＹＺ平面に平行な所定の観測平面）から到来する光を受光する。上述のように、この観測平面から到来する光は、選択された１つのフィルタによって波長が選択されて、選択されたフィルタに対応する波長の蛍光または発光のみが、ＣＣＤカメラ４８の受光面に入射する。【００３１】
ＣＣＤカメラ４８では、各画素毎に受光した光の強度に対応した電気信号を各画素の位置に対応づけて、２次元光強度分布データ（光強度分布の画像データ）として出力する。すなわち、ＣＣＤカメラ４８では、レンズユニットの焦点距離で定まる、観測平面における観測点（ＣＣＤカメラ４８の各画素に対応する位置に対応する点）毎に、上記選択されたフィルタに対応する波長の蛍光または発光についての光強度データが計測されて、選択されたフィルタに対応する波長の蛍光または発光の、２次元の光強度分布データが出力される。【００３２】
上記下位準位遷移過程ｓ１による発光（４４７ｎｍの発光）、および下位準位遷移過程ｓ２による発光（５８８ｎｍの発光）は、プラズマＰ中のいたる場所で発生している。ＣＣＤカメラ４８では、レンズユニットによる焦点距離が種々変更されることで、図中Ｘ軸方向に沿って並んだ複数の観測平面それぞれについて、各下位準位遷移過程ｓ１およびｓ２それぞれによる発光の２次元の光強度分布データを出力することができる。すなわち、蛍光・発光計測部３６では、レンズユニットの焦点位置を種々変更することで、各下位準位遷移過程ｓ１およびｓ２それぞれによる発光の強度の、図中ＸＹＺ空間における空間分布のデータを取得することができる。【００３３】
また、本実施形態では、第１の準安定状態を励起するためのレーザ光Ｌ１、および第２の準安定状態を励起するためのレーザ光Ｌ２それぞれのレーザ光照射領域は、一次元的な領域となっている。後述するように、ＣＣＤカメラ４８では、上記観測平面の位置を、複数のレーザ光照射領域に対応する位置にそれぞれ設定され、レーザ光Ｌｍで励起されて生じる各誘起蛍光の、各レーザ光照射領域における光強度分布データ（すなわち１次元的な光強度分布データ）をそれぞれ計測する。レーザ光照射領域は、図中のＺＸ平面に沿って任意に設定することができ、レーザ光照射領域における各誘起蛍光強度分布を計測する際、観測平面の位置（すなわちレンズユニットの焦点距離）がレーザ光照射領域に対応する位置に設定される。このように、蛍光・発光計測部３６では、ＺＸ平面に沿って設定（変更）される複数のレーザ照射領域それぞれについて、各レーザ光照射領域における各誘起蛍光強度の分布を計測することで、各誘起蛍光の強度の、図中ＸＹＺ空間における空間分布のデータを取得することができる。なお、上記下位準位遷移過程ｓ１による発光（４４７ｎｍの発光）、および下位準位遷移過程ｓ２による発光（５８８ｎｍの発光）を計測する際も、上記観測平面の位置は、各レーザ光照射領域に対応する位置に設定されることで、蛍光・発光計測部３６では、各観測平面の各観測点（ＣＣＤカメラ４８の各画素に対応する位置に対応する点）それぞれにおいて、第１の誘起蛍光、第２の誘起蛍光、下位準位遷移過程ｓ１による発光（４４７ｎｍの発光）、および下位準位遷移過程ｓ２による発光（５８８ｎｍの発光）の情報が取得される。このように、蛍光・発光計測部３６では、上記所定位置に配置したフィルタの透過波長に対応する光の、プラズマＰにおける空間分布情報を出力することができる。なお、このようなプラズマＰからの発光の光強度分布データを取得するためのＣＣＤカメラの他の例が、例えば上述の特許文献１に記載されている。出力した光強度分布データは、測定・制御ユニット２０の電子温度測定部２２に送られる。【００３４】
図３は、測定・制御ユニット２０の概略構成図である。測定・制御ユニット２０は、電子温度測定部２２、処理制御部２４、およびプラズマ制御部２６を備えて構成されている。測定・制御ユニット２０は、図示しない入出力ポートやデータバス、メモリ２１やＣＰＵ２３などを備える公知のコンピュータによって構成されている。測定・制御ユニット２０は、図示しないデータバスや入出力ポートを介して外部とデータのやり取りを行うとともに、メモリ２１に記憶されたプログラムをＣＰＵ２３が実行することで、図３に示す各部が機能する。なお、測定・制御ユニット２０は、図３に示す各部が、それぞれ専用回路で構成されていても構わない。なお、測定・制御ユニット２０のメモリ２１には、電子温度の算出において用いる、後述する各種の情報（例えば、後述するｌ、ｎ０、ＡＡおよびＡＢ、ＡｉＡおよびＡｉＢ、σａｅｘｂなど）がデータベースとして記憶されている。また、測定制御ユニット２０は、キーボードやマウスなどかならなる図示しない入力手段と接続されており、この入力手段を介して外部からオペレータが入力する条件や実行指示に応じて、プラズマ処理および電子温度の測定動作を制御してもよい。【００３５】
処理制御部２４は、プラズマ処理装置１０におけるプラズマ処理全体の動作を制御する部位である。プラズマ制御部２６は、ガス供給部１１や図示しない真空ポンプ、図示しない圧力センサなどとも接続されており、例えば圧力センサによる反応容器内圧力の計測値に基いて、ガス供給部１１や図示しない真空ポンプの動作を制御して、反応容器１２内を所定条件の雰囲気に制御する。また、処理制御部２４は、プラズマ制御部２６とも接続されて、プラズマ制御部２６から出力する高周波電圧を調整するとともに、電子温度測定部２２におけるプラズマ電子温度の測定動作についても制御する。【００３６】
測定・制御ユニット２０の電子温度測定部２２は、上述したレーザ光源部３８からのレーザ光の出射や、出射するレーザ光の波長や強度、およびレーザ光照射領域を制御するレーザ制御部５２と、光検出部３４から出力された、プラズマＰを透過したレーザ光Ｌｍの強度Ｉｔに応じた電気信号を受け取る透過光強度取得部５４と、ＣＣＤカメラ４８から出力された、各種フィルタに対応する各波長の光（第１の誘起蛍光に対応する波長５０１．６ｎｍの光、第２の誘起蛍光に対応する波長１０８３ｎｍの光、下位準位遷移過程ｓ１による発光に対応する波長４４７ｎｍの光、および下位準位遷移過程ｓ２による発光に対応する波長５８８ｎｍの光）それぞれについての２次元光強度分布データを取得する蛍光強度・発光強度取得部６０（光強度取得部６０とする）と、を有している。【００３７】
レーザ制御部５２は、処理制御部２４と接続されている。処理制御部２４は、反応容器１２内にプラズマＰを生成した状態で、レーザ制御部５２にレーザ光出射の指示を送る。レーザ制御部５２は、処理制御部２４からの指示に応じて照射領域調整部４３やレーザ光源３８や出射光調整部４２の動作を制御し、指示に応じたレーザ光照射領域に、指示に応じた波長および強度のレーザ光を出射する。本実施形態では、レーザ制御部５２は、例えばオペレータによって外部から入力指示されて、メモリ２１に記憶されている、予め設定された複数のレーザ光照射領域それぞれにレーザ光を照射させる。レーザ制御部５２は、レーザ光照射領域それぞれにおいて、レーザ光源部３８に、例えば第１の準安定状態２１Ｓ０を励起させるレーザ光Ｌ１として、波長５０１．６ｎｍのレーザ光を出射させる。その後、レーザ制御部５２はレーザ光源部３８に、例えば第２の準安定状態２３Ｓ１を励起させるレーザ光Ｌ２として、波長１０８３ｎｍのレーザ光を出射させる。【００３８】
電子温度測定部２２は、さらに、透過率導出部５６、準安定状態密度分布算出部５８、および電子温度算出部６２を有して構成されている。透過率導出部５６は、透過光強度取得部５４が取得した、プラズマＰを透過したレーザ光Ｌｍの強度Ｉｔと、プラズマＰに照射される際のレーザ光Ｌｍの強度Ｉ０とを取得し、プラズマＰのレーザ光照射領域におけるレーザ光Ｌｍの透過率Ｉｔ／Ｉ０（ｍ）を求める。上述のように、レーザ照射部３２は、第ｍの準安定状態を励起するためのレーザ光Ｌｍを、複数のレーザ光照射領域に順次照射する。透過率導出部５６は、各レーザ光Ｌｍ毎に、複数のレーザ光照射領域それぞれについて、透過率の情報Ｉｔ／Ｉ０（ｍ）を求める。なお、上述のように、レーザ照射部３２は、レーザ制御部５２からの指示に応じた波長および強度のレーザ光Ｌｍを出射する。透過率導出部５６では、透過率を求める際、プラズマＰに照射される際のレーザ光Ｌｍの強度Ｉ０の情報を、処理制御部２４から受け取る。透過率導出部５６が求めた透過率の情報Ｉｔ／Ｉ０（ｍ）は、準安定状態密度分布算出部５８に送られる。【００３９】
光強度取得部６０は、上述の蛍光・発光計測部３６が取得して出力した、プラズマＰの各レーザ光照射領域それぞれにおける、第ｍの準安定状態が上記レーザ光Ｌｍで励起されて生じる各誘起蛍光それぞれの分布を表す情報を取得する。光強度取得部６０は、取得した各レーザ光照射領域それぞれにおける、各誘起蛍光の分布を表す情報それぞれを、準安定状態密度分布算出部５８に送る。【００４０】
準安定状態密度分布算出部５８では、透過率導出部５６から送られた、各波長のレーザ光Ｌｍの透過率の情報Ｉｔ／Ｉ０（ｍ）を用い、プラズマＰの各レーザ光照射領域におけるヘリウムガスの原子のうち、第１の準安定状態２１Ｓ０の密度ｎ１、および第２の準安定状態２３Ｓ１の密度ｎ２を、それぞれ算出する。準安定状態密度算出部５８における算出処理の詳細については、後述する。また、準安定状態密度分布算出部５８では、算出した各レーザ光照射領域における第１の準安定状態の密度ｎ１と、各レーザ光照射領域における第１の誘起蛍光の分布を表す情報とに基いて、各レーザ光照射領域における第１の準安定状態の密度の空間分布を求める。同様に、準安定状態密度分布算出部５８では、算出した第２の準安定状態の密度ｎ２と第２誘起蛍光の分布を表す情報とに基いて、各レーザ光照射領域における第２の準安定状態の密度の空間分布を求める。すなわち、ＺＸ平面に沿って設定（変更）される複数のレーザ照射領域それぞれについて、各レーザ光照射領域における各準安定状の密度の絶対値を、プラズマＰ中の上記各観測点それぞれについても求め、各準安定状の密度の絶対値の空間分布を導出する。準安定状態密度分布算出部５８での処理の詳細については、後に詳述する。上述のように、プラズマＰ中の各観測点は、レーザ光の照射領域に対応して設定される上記観測平面における、ＣＣＤカメラ４８の各画素に対応する位置に対応する点である。【００４１】
電子温度算出部６２は、発光強度取得部６０から送られた、各波長の光（下位準位遷移過程ｓ１による発光に対応する波長４４７ｎｍの光、および下位準位遷移過程ｓ２による発光に対応する波長５８８ｎｍの光）それぞれについての発光強度と、準安定状態密度算出部５８から送られた、各準安定状態の密度の絶対値の空間分布とを用いて、プラズマＰにおける電子温度の空間分布の情報を求める。上述のように、発光強度取得部６０は、上記複数の観測平面それぞれについて計測された、下位準位遷移過程ｓ１による発光に対応する波長４４７ｎｍの光、および下位準位遷移過程ｓ２による発光に対応する波長５８８ｎｍの光それぞれについての２次元の光強度分布データを、ＣＣＤカメラ４８から受け取る。電子温度算出部６２では、プラズマＰ中の各観測点それぞれについて、下位準位遷移過程ｓ１による発光に対応する波長４４７ｎｍの光の強度（発光強度）ＩＡと、下位準位遷移過程ｓ２による発光に対応する波長５８８ｎｍの光の強度（発光強度）ＩＢの比である、発光強度比ＩＡ／ＩＢを求める。このように、第１の準安定状態の密度の絶対値、第２の準安定状態の密度の絶対値、および発光強度比ＩＡ／ＩＢは、プラズマＰ中の各観測点それぞれについて求められる。【００４２】
電子温度算出部６２では、このようにして算出したプラズマＰ中の各観測点それぞれの、発光強度比ＩＡ／ＩＢと、準安定状態密度算出部５８によって求められた、第１の準安定状態２１Ｓ０の密度ｎ１、および第２の準安定状態２３Ｓ１の密度ｎ２とを用いて、プラズマＰにおける各観測点毎の電子温度のデータを算出する。以上のように、電子温度算出部６２では、プラズマＰにおける各観測点毎の電子温度を表すデータ、すなわちプラズマＰにおける電子温度の空間分布を表すデータを取得する。電子温度取得部６２における算出処理の詳細については、後述する。【００４３】
電子温度算出部６２によって取得された、プラズマＰにおける電子温度の空間分布を表すデータは、処理制御部２４に送られる。処理制御部２４は、例えは予め設定されている、所望のプラズマ処理を実施可能とする、電子温度の空間分布条件（基準電子温度条件）と、電子温度算出部６２から送られた、プラズマＰにおける電子温度の空間分布のデータとを比較する。処理制御部２４では、比較結果に応じて、基準電子温度分布条件どおりのプラズマＰが生成されるよう、プラズマ制御部２６やガス供給部１１、図示しない真空ポンプなどの動作を制御する。例えば、プラズマ制御部２６では、処理制御部２４から送られたプラズマ調整の指示に応じて、例えばプラズマ生成部１４に供給する高周波電圧を調整したり、反応容器１２内のガス圧を調整する。プラズマ処理装置１０は、以上のように構成されている。【００４４】
以下、プラズマ処理装置１０において行なう、本発明のプラズマ電子温度の測定方法の一例について説明する。図４は、プラズマ処理装置１０において行なうプラズマ処理の一例のフローチャートである。図４に示すフローチャートでは、本願発明のプラズマ電子温度の測定の一例も、併せて実施されている。【００４５】
まず、測定・制御ユニット２０の処理制御部２４の制御の下、反応容器１２内にプロセスガスおよびヘリウムガスが供給されて、反応容器１２内にプラズマＰが生成される（ステップＳ１０２）。具体的には、処理制御部２４が、図示しない真空ポンプなどによって反応容器１２内の圧力を所定の真空度に制御しつつ、ガス供給部１１を制御して反応容器１２内に所定のプロセスガスおよびヘリウムガスを供給し、反応容器１２内を所定条件の雰囲気に制御する。処理制御部２４は、反応容器１２内を所定条件の雰囲気に制御した状態で、プラズマ制御部２６から高周波電圧を出力させて、プラズマ生成部１４によって反応容器１２内にプラズマＰを生成する。プラズマ処理装置１０では、処理対象基板に成膜やエッチング等を施すために、比較的安定なプラズマＰを生成する。【００４６】
次に、処理制御部２４が、レーザ制御部５２にレーザ光照射領域を設定する指示を送り、レーザ制御部５２は照射領域調整部４３の動作を制御して、レーザ光源部３８および出射光調整部４２、さらに光電変換部４４および受光調整部４６の位置を調整する（ステップＳ１０４）。この調整状態で、処理制御部２４がレーザ制御部５２にレーザ光出射の指示を送り、レーザ制御部５２は処理制御部２４からの指示に応じた波長および強度のレーザ光を出射させて、生成したプラズマＰにレーザ光Ｌｍを照射する（ステップＳ１０６）。本実施形態では、１つのレーザ光照射領域において、レーザ制御部５２はレーザ光源部３８に、例えば第１の準安定状態２１Ｓ０を励起させるレーザ光として、波長５０１．６ｎｍのレーザ光Ｌ１を出射させてプラズマＰに照射する。その後、レーザ制御部５２はレーザ光源部３８に、例えば第２の準安定状態２３Ｓ１を励起させるレーザ光として、波長１０８３ｎｍのレーザ光Ｌ２を出射させてプラズマＰに照射する（ステップＳ１０４）。【００４７】
各波長のレーザ光Ｌｍが照射された際、透過率導出部５６は、第ｍの準安定状態を励起するための各波長のレーザ光Ｌｍそれぞれについて、透過光強度取得部５４が取得したプラズマＰを透過したレーザ光Ｌｍの強度Ｉｔと、プラズマＰに照射される際のレーザ光Ｌｍの強度Ｉ０とを取得し、プラズＰの現在のレーザ光照射領域におけるレーザ光Ｌｍの透過率Ｉｔ／Ｉ０（ｍ）を、各波長のレーザ光毎に導出する（ステップＳ１０６）。透過率導出部５６は、すなわち、第１の準安定状態２１Ｓ０を励起させるレーザ光Ｌ１が照射された際の、現在のレーザ光照射領域における透過率Ｉｔ／Ｉ０（１）、および、第２の準安定状態２３Ｓ１を励起させるレーザ光Ｌ２が照射された際の、現在のレーザ光照射領域における透過率Ｉｔ／Ｉ０（２）を、それぞれ求める。現在のレーザ光照射領域における、各レーザ光Ｌｍそれぞれについての透過率は、準安定状態密度分布算出部５８に送られる。【００４８】
準安定状態密度算出部５８では、透過率導出部５６から送られた、現在のレーザ光照射領域における、各波長のレーザ光Ｌｍの透過率の情報Ｉｔ／Ｉ０（ｍ）を用い、現在のレーザ光照射領域における、第１の準安定状態２１Ｓ０の密度の絶対値ｎ１、および第２の準安定状態２３Ｓ１の密度の絶対値ｎ２を、それぞれ算出する（ステップＳ１１０）。準安定状態密度算出部５８では、第１の準安定状態２１Ｓ０を励起させるレーザ光Ｌ１が照射された際の透過率Ｉｔ／Ｉ０（１）に基いて、第１の準安定状態２１Ｓ０の密度の絶対値ｎ１を求める。また、第２の準安定状態２３Ｓ１を励起させるレーザ光Ｌ２が照射された際の透過率Ｉｔ／Ｉ０（２）に基いて、第２の準安定状態２３Ｓ１の密度の絶対値ｎ２を求める。【００４９】
より具体的には、下記式（３）に一般化して表される方程式を用いて、プラズマＰにおける、ヘリウムガスの第１の準安定状態および第２の準安定状態それぞれの密度を求める。
【数４】
2008123186.tif 000006
【００５０】
なお、上記式（３）において、ｎm（ｍ＝１，２）は、求めようとする密度の絶対値であり、σｅｘｍ（ν）は、波長νの光を吸収した際の第ｍの準安定状態からの吸収断面積、ｌはプラズマＰ中をレーザが透過する部分の長さ（吸収長）である。ここで、ｌの値は、測定・制御ユニット２０の図示しないメモリに予め記憶されており、準安定状態密度算出部５８は、このメモリに記憶されているｌの値を読み出して用いる。また、第ｍの準安定状態からの吸収断面積σｅｘｍ（ν）は、照射したレーザ光の中心波長（より明確には、第ｍの準安定状態のヘリウム原子が吸収する光の中心波長）ν＝ν０において、以下の式（４）にように求まる。
【数５】
2008123186.tif 000007
【００５１】
式（４）中のｈはプランク定数、Ｂ１２はアインシュタインのＢ係数、ｃは光速、Δνｄはドップラー幅である。この式（４）においてΔνｄに着目すると、準安定状態ヘリウム原子の温度Ｔとの関係において、以下の関係式（５）が成立する。式中のＭはヘリウム原子の質量、ｋはボルツマン定数である。
【数６】
2008123186.tif 000008
【００５２】
なお、準安定状態でのヘリウム原子温度Ｔは、当該分野で公知の諸方法、例えば吸収スペクトルの幅から容易に求めることができる。例えば、図１に示すプラズマ処理装置１０において、反応容器１２内に投射するレーザ光Ｌｍの波長を掃引し、例えば図示しないスペクトルアナライザによってヘリウム原子の熱運動に起因したドップラー効果による吸収スペクトルの広がり形状を測定し、ヘリウム原子温度Ｔを求めることができる。また、ヘリウム原子温度Ｔの値として、測定・制御ユニット２０の図示しないメモリに予め記憶された値を用いてもよい。【００５３】
式（３）〜（５）を整理すると、波長ν０のレーザ光（レーザ光の波長の幅は無視できるとする）を照射した際の、第ｍの準安定状態のヘリウム原子の密度ｎｍは、下記式（６）によって表すことができる。準安定状態密度算出部５８では、例えば、この下記式（６）を用いて、第ｍの準安定状態の密度ｎｍを算出する。本実施形態では、例えば、第１の準安定状態２１Ｓ０の密度ｎ１、および第２の準安定状態２３Ｓ１の密度ｎ２を、それぞれ算出する。算出した各準安定状態の密度ｎ１およびｎ２は、電子温度算出部６２に送られる。
【数７】
2008123186.tif 000009
【００５４】
現在のレーザ光照射領域における準安定状態の密度を求めるとともに、さらに、光強度取得部６０は、上記レーザ光Ｌｍで励起されて生じる各誘起蛍光それぞれの空間分布を表す情報を取得する（ステップＳ１１２）。上述のように、１つのレーザ光照射位置において、第１の準安定状態を励起するためのレーザ光Ｌ１、および第２の準安定状態を励起するためのレーザ光Ｌ２それぞれのレーザ光照射領域は、一次元的な領域となっている。ステップＳ１１２では、上記観測平面の位置を、一次元的な１つのレーザ光照射領域に対応する位置に設定し、例えば図５に示すような、レーザ光Ｌｍで励起されて生じる各誘起蛍光（第１の誘起蛍光、および第２の誘起蛍光）の、レーザ光照射領域における光強度分布データ（すなわち１次元的な光強度分布データ）を出力する。図５中、横軸Ｙは、図１（ｂ）に示すＹ方向の位置を表す。現在のレーザ光照射領域における、レーザ光Ｌｍで励起されて生じる各誘起蛍光それぞれの空間分布を表す情報（図５に示すような情報）は、準安定状態密度分布算出部５８に送られる。【００５５】
準安定状態密度分布算出部５８では、ステップＳ１１２で取得した、現在のレーザ光照射領域における第１の誘起蛍光の空間分布を表す情報（図５に示すような情報）と、ステップＳ１１０で取得した、現在のレーザ光照射領域における、第１の準安定状態２１Ｓ０の密度ｎ１とを用いて、現在のレーザ光照射領域における、第１の準安定状態２１Ｓ０の密度の絶対値の空間分布を導出する（ステップＳ１１４）。同様に、現在のレーザ光照射領域における第２の誘起蛍光の空間分布を表す情報（図５に示すような情報）と、ステップＳ１１０で取得した、現在のレーザ光照射領域における、第２の準安定状態の密度ｎ２とを用いて、現在のレーザ光照射領域における、第２の準安定状態の密度の絶対値の空間分布を導出する。ステップＳ１１０で求めた、各準安定状態の密度の絶対値ｎ１およびｎ２は、それぞれ、現在のレーザ光照射領域における各密度の平均値を表しているといえる。一方、ステップＳ１１２で取得した、第１の誘起蛍光の空間分布を表す情報は、密度の絶対値は示していないが、第１の準安定状態の密度の相対的な空間分布を表している。同様に、第２の誘起蛍光の空間分布を表す情報は、密度の絶対値は示していないが、第２の準安定状態の密度の相対的な空間分布を表している。例えば、ステップＳ１１２で取得した、各誘起蛍光それぞれの空間分布を表す情報から求められる、現在のレーザ光照射領域における誘起蛍光の平均強度を、レーザ光照射領域における準安定状態の平均密度における蛍光強度に対応するとみなし、現在のレーザ光照射領域における、各準安定状態の密度の絶対値ｎ１およびｎ２の空間分布を求めることができる（図５を参照）。求めた１つのレーザ光照射領域における、各準安定状態の密度ｎ１およびｎ２の空間分布それぞれは、例えば図示しないメモリに記憶しておく。【００５６】
これらステップＳ１０４〜ステップＳ１１２の各処理は、予め設定された全てのレーザ光照射領域において、各準安定状態の密度の絶対値ｎ１およびｎ２の空間分布それぞれが導出されるまで、すなわちステップＳ１１６の判定がＹｅｓとなるまで、繰り返される。複数のレーザ光照射領域において、各準安定状態の密度の絶対値ｎ１およびｎ２の空間分布それぞれが導出されることで、プラズマＰ全体における、各準安定状態の密度の絶対値ｎ１およびｎ２の空間分布それぞれが導出される。【００５７】
次に、蛍光・発光計測部３６は、上記各レーザ光照射領域に対応する複数の観測平面それぞれについて、下位準位遷移過程ｓ１による発光および下位準位遷移過程ｓ２による発光をそれぞれ計測する（ステップＳ１１８）。発光強度取得部６０は、上記複数の観測平面それぞれについて計測された、下位準位遷移過程ｓ１による発光に対応する波長４４７ｎｍの光、および下位準位遷移過程ｓ２による発光に対応する波長５８８ｎｍの光それぞれについての２次元の光強度分布データを、ＣＣＤカメラ４８から受け取る。電子温度算出部６２では、プラズマＰ中の各観測点それぞれについて、下位準位遷移過程ｓ１による発光に対応する波長４４７ｎｍの光の強度（発光強度）ＩＡと、下位準位遷移過程ｓ２による発光に対応する波長５８８ｎｍの光の強度（発光強度）ＩＢの比である、発光強度比ＩＡ／ＩＢを求める。発光強度比ＩＡ／ＩＢは、プラズマＰ中の各観測点それぞれについて求められ、発光強度比ＩＡ／ＩＢの空間分布を表すデータを得る（ステップＳ１２０）。【００５８】
次に、電子温度算出部６２は、発光強度取得部６０から送られた、発光強度比ＩＡ／ＩＢの空間分布を表すデータと、準安定状態密度算出部５８から送られた、第１の準安定状態２１Ｓ０の密度の絶対値ｎ１の空間分布、および第２の準安定状態２３Ｓ１の密度の絶対値ｎ２の空間分布とを用いて、プラズマＰにおける電子温度の空間分布を求める（ステップＳ１２２）。以下、説明の簡略化のため、各観測点のうちの１つの観測点における発光強度比ＩＡ／ＩＢと、この観測点に対応する各準安定状態密度の絶対値ｎ１およびｎ２とに基いて、この観測点の発光強度比に対応する（すなわち、プラズマＰにおける１つの地点における）電子温度を算出する場合について説明する。上述のように、各観測点それぞれについて、発光強度比ＩＡ／ＩＢと各準安定状態の密度の絶対値ｎ１およびｎ２は既知であり、以下の手法で各観測点それぞれにおける電子温度を算出することができる。【００５９】
プラズマＰ中における、第１の励起状態４３Ｄ（第１の励起状態Ａとする）のヘリウム原子を決定するレート方程式は、下記式（７）のように表される。
【数８】
2008123186.tif 000010
【００６０】
ここで、ｎＡ＊は第１の励起状態Ａの密度、ｋＡｅＸ０は励起過程ｔ１の電子衝突励起レート定数、ｎ０は基底状態の密度、ｎｅは電子の密度、ｋＡｅＸ１は励起過程ｔ３の電子衝突励起レート定数、ｎ１は算出した第１の準安定状態の密度、ｋＡｅＸ２は励起過程ｔ５の電子衝突励起レート定数、ｎ２は算出した第２の準安定状態の密度、ＡＡは第１の励起状態Ａにおける放射寿命の逆数、をそれぞれ表す。【００６１】
同様に、プラズマＰ中における、第２の励起状態３３Ｄ（第２の励起状態Ｂとする）のヘリウム原子を決定するレート方程式は、下記式（８）のように表される。
【数９】
2008123186.tif 000011
【００６２】
ここで、ｎＢ＊は第２の励起状態Ｂの密度、ｋＢｅＸ０は励起過程ｔ２の電子衝突励起レート定数、ｋＢｅＸ１は励起過程ｔ４の電子衝突励起レート定数、ｋＢｅＸ２は励起過程ｔ６の電子衝突励起レート定数、ＡＢは第１の励起状態Ｂにおける放射寿命の逆数を表す。なお、いうまでもなく、基底状態の密度ｎ０、電子の密度ｎｅ、算出した第１の準安定状態の密度ｎ１、算出した第２の準安定状態の密度ｎ２は、式（７）および式（８）において共通である。また、式（７）におけるｎＡ＊は、下位準位遷移過程ｓ１による発光の強度に対応しており、式（８）におけるｎＢ＊は、下位準位遷移過程ｓ２による発光の強度に対応している。【００６３】
プラズマＰが定常状態にあるとき、式（７）および式（８）に示す各レート方程式の各辺はゼロとなる。式（７）および式（８）の比をとり、発光強度比ＩＡ／ＩＢの関係についてまとめると、下記式（１）に示す関係式が得られる。
【数１０】
2008123186.tif 000012
【００６４】
ここで、式（１）中、ＡｉＡは第１の励起状態Ａからの下位準位遷移過程ｓ１による発光に係るアインシュタインＡ係数を示し、ＡｉＢは第２の励起状態Ｂからの下位準位遷移過程ｓ２によるアインシュタインＡ係数を示す。公知のように、第１の励起状態Ａからの放射寿命の逆数ＡＡは、第１の励起状態Ａからの複数の自然遷移過程（すなわち遷移過程ｓ１など）それぞれのアインシュタインＡ係数の総和で表される値である。また、第２の励起状態Ｂからの放射寿命の逆数ＡＢは、第２の励起状態Ｂからの複数の自然遷移過程（すなわち遷移過程ｓ２）などそれぞれのアインシュタインＡ係数の総和で表される値である。また、ｎｍは算出した第ｍの準安定状態の密度、ｋＡｅＸｍは第ｍの準安定状態から励起安定状態Ａへの電子衝突励起レート定数、ｋＢｅＸｍは第ｍの準安定状態から励起安定状態Ｂへの電子衝突励起レート定数を表す。ｋＡｅＸ０、ｋＡｅＸｍ、ｋＢｅＸ０、ｋＢｅＸｍは、電子温度の関数である。また、ｇＡ,ｇＢは、波長λＡ,λＢの関数で、励起状態Ａ，Ｂにおける観測系の立体角及び量子効率を表し、λＡ,λＢは、励起状態Ａ，Ｂにおける測定する光の波長である。
なお、基底状態の密度ｎ０は、ガス圧によって決まる値であり、制御ユニット２０の図示しないメモリに、ガス圧毎の密度ｎ０がデータベースとして予め記憶されている。また、第１の励起状態Ａからの放射寿命の逆数ＡＡ、第１の励起状態Ａから下位準位への遷移過程ｓ１のアインシュタインＡ係数ＡｉＡ、第２の励起状態Ｂからの放射寿命の逆数ＡＢ、第２の励起状態Ｂからの放射寿命の逆数ＡＢ、第２の励起状態Ｂから下位準位への遷移過程ｓ２のアインシュタインＡ係数ＡｉＢ、係数ｇＡ,ｇＢ、波長λＡ,λＢは、特にその他のパラメータの影響を受けず、制御ユニット２０の図示しないメモリにデータベースとして予め記憶されている。【００６５】
また、上記レート定数ｋａｅｘｂ（励起状態を表す文字ＡまたはＢをａ、原子の状態を表す文字０またはｍをｂとして一般化して表す）は、下記式（２）によって表される。
【数１１】
2008123186.tif 000013
ここで、上記式（２）中のσｅｘｂは、各励起過程における断面積であるので、σａｅｘｂ（ａは、励起状態を表す文字ＡまたはＢを表す）として以下記す。σａｅｘｂは各励起過程の断面積、ｖは電子速度、ｆ（ｖ）は電子速度分布関数を表す。ここで、σａｅｘｂ、ｖ、ｆ（ｖ）は、いずれもプラズマＰの電子温度Ｔｅの関数であり公知のものである。σａｅｘｂは、従来公知の文献（例えば、Yu. V. Ralchenko, R. K. Janev, T. Kato, D.V. Fursa, I. Bray and F.J. de Heer、「Cross Section Database for Collision Processes of Helium Atom with Charged Particles」核融合研究所"NIFS-DATA-59".Oct.2000）に記載されるように既知であり、制御ユニット２０の図示しないメモリに、例えばデータベースとして記憶されている。本発明で用いるヘリウムガスは、原子構造が比較的単純であり、励起過程の断面積などの情報が豊富かつ正確に既知となっている。本発明では、プロセスガスに少なくともヘリウムガスを混入して、このヘリウムガスのプラズマを用いて電子温度を算出するので、比較的単純な装置構成で、比較的高精度にプラズマ電子温度を求めることができる。【００６６】
プラズマ電子温度算出部６２では、上記式（１）および（２）に、発光強度比ＩＡ／ＩＢ、および算出した第ｍの準安定状態の密度ｎｍ、図示しないメモリに予め記憶されているガス圧に応じて定まるｎ０、励起準位によって定まるＡＡおよびＡＢ、各遷移過程に応じたアインシュタインＡ係数ＡｉＡおよびＡｉＢ、図示しないメモリに予め記憶されているσａｅｘｂ、ｖ、ｆ（ｖ）を代入して得られる、プラズマの電子温度Ｔｅの関数のみで表された方程式を解くことで、プラズマの電子温度Ｔｅの値を算出する。本発明は、プラズマ中の励起状態と準安定状態との双方を考慮したレート方程式に基いて、プラズマ電子温度を算出することを特徴の１つとする。【００６７】
電子温度取得部６２では、プラズマＰ中の各地点それぞれ毎に、プラズマＰの電子温度のデータを算出し、プラズマＰにおける電子温度の空間分布を表すデータを取得する。電子温度算出部６２は、プラズマＰにおける電子温度の空間分布を表すデータを、処理制御部２４に送る。【００６８】
処理制御部２４は、プラズマＰにおける電子温度の空間分布を表すデータに応じて、基準電子温度分布条件どおりのプラズマＰが生成されるよう、例えばプラズマ生成部１４に供給する高周波電圧を調整することで、プラズマＰを調整する（ステップＳ１２４）。プラズマ処理装置１０は、以上のように構成されている。【００６９】
なお、以上説明した実施形態では、プラズマに照射するレーザ光はビーム状のレーザ光とした。本願発明では、例えば、誘起蛍光強度を計測するためにプラズマに照射するレーザ光を、図中ＺＹ平面に平行な平面に沿って拡がりながら進行する、スリット状のレーザ光としてもよい。すなわち、上記観測平面内を進行して上記観測平面全体を一度に照射するようにレーザ光を照射し、観測平面全体で同時に誘起蛍光を生じさせてもよい。この場合、１つの観測平面について一度レーザ光を照射すれば、ＣＣＤカメラによって誘起蛍光の２次元分布情報を取得することができる。また、誘起蛍光を生じさせるレーザ光の波長と、透過率を測定するためのレーザ光の波長とは、同一であることに限定されず、別々の波長としてもよい。例えば、ＣＣＤカメラの受光面に配置するフィルタに応じた誘起蛍光が生じるよう、レーザ光の波長を設定することで、受光面に配置するためのフィルタの数を少なくすることもできる。【００７０】
また、上記実施形態では、第１の励起状態である４３Ｄ状態から２３Ｐｏ状態への下位準位遷移過程による発光と、第２の励起状態である３３Ｄ状態から２３Ｐｏ状態への下位準位遷移過程による発光とを計測して発光強度比を求めている。本発明では、例えば、４３Ｓ状態から２３Ｐｏ状態への下位準位遷移過程による発光と、３３Ｓ状態から２３Ｐｏ状態への下位準位遷移過程による発光との比を、発光強度比として用いてもよい。例えば、４３Ｓ状態から２３Ｐｏ状態への下位準位遷移過程による発光として、４７１．６ｎｍの波長の光を計測すればよい。また、３３Ｓ状態から２３Ｐｏ状態への下位準位遷移過程による発光として、７０６．５ｎｍの波長の光を計測すればよい。【００７１】
本発明によれば、比較的単純な構成の、比較的低コストな測定装置をもって、プラズマ中の準安定状態の密度、および励起状態の密度双方の状態に基いてプラズマの電子温度を算出することができる。本発明によれば、準安定状態の密度のみに基いて電子温度を算出する従来の方法、および励起状態の密度のみに基づいて電子温度を算出する従来の方法の双方と比べて、比較的高い精度でプラズマの電子温度を算出することができる。また、生成したプラズマの電子温度の空間分布を、比較的高い精度で知ることができる。【００７２】
以上、本発明のプラズマ電子温度の測定方法および装置について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2008123186.tif 000021
【国際調査報告】
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2008123186.tif 000023
2008123186.tif 000024
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