【手続補正書】
【提出日】平成17年3月22日(2005.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチクルパターンをウエハに転写する露光装置用のミラー装置で、入射光の入射条件に基づいて反射面形状を制御する機能を有するミラー装置。
【請求項２】
前記入射条件は入射光の入射強度と入射時間の少なくとも１つを含む請求項１に記載のミラー装置。
【請求項３】
前記反射面形状の制御は事前に取られたデータベースに基づいて実行される請求項１に記載のミラ−装置。
【請求項４】
前記反射面形状の制御は形状変更の開始時間の制御である請求項１に記載のミラー装置。
【請求項５】
前記反射面形状の制御は温度調整により実行される請求項１に記載のミラー装置。
【請求項６】
レチクルパターンをウエハに転写する露光装置において、
照射エネルギが制御された露光光を照射する光源と、
前記光源より照射された露光光を受光し、該露光光を反射して、レチクルに導光する照明用のミラーと、
前記照明用のミラーにより、前記レチクルに導光された露光光を受光し、該露光光を反射して、ウエハに導光する投影用のミラーと、
前記露光光の照射エネルギの条件に応じて前記ミラーのうちの少なくともひとつの形状を制御する制御部と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項７】
さらに前記露光光の受光により、加熱された前記照明用及び／若しくは投影用のミラーに生じる形状変化を計測するセンサーを有し、
前記制御部は、前記センサーにより計測されたミラーの形状変化に基づき、該形状を一定に制御することを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記露光光の受光により、加熱された前記照明用及び／若しくは投影用のミラーに生じる形状変化を、該ミラーを冷却することにより相殺して、該形状変化を抑制するための制御パラメータを決定することを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項９】
前記制御部は、露光光の照射エネルギと照射タイミングに対応した制御データを格納管理し、
該格納管理している制御データから、前記露光光の照射条件に適合する制御パラメータを決定することを特徴とする請求項６乃至８のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記制御部は、前記照明用及び／若しくは投影用のミラーを冷却するための温度制御部を備え、該温度制御部は、前記制御パラメータに基づき、前記露光光の受光により、加熱された前記照明用及び／若しくは投影用のミラーに生じる形状変化を、該照明用及び／若しくは投影用のミラーを冷却することにより相殺して、該ミラー形状を一定に制御することを特徴とする請求項６または８に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記温度制御部は、
前記照明用及び／若しくは投影用のミラーを冷却するための冷却水を循環させる冷却手段と、
前記冷却手段により循環させられる冷却水を加熱して、所定の水温に制御するヒーターと、を有し、
前記温度制御部は、前記照明用及び／若しくは投影用のミラーが前記露光光の受光により、加熱された熱量を相殺するように、該ヒーターを駆動制御して、制御された水温の冷却水を循環させて温度制御をすることを特徴とする請求項６または１０に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記冷却手段は、
前記照明用及び／若しくは投影用のミラーを冷却するための第1の温度の冷却水を循環させる第1循環手段と、
前記照明用及び／若しくは投影用のミラーを冷却するための第2の温度の冷却水を循環させる第2循環手段と、を有し、
前記温度制御部は、
前記第1及び第2の循環手段により循環する冷却水の流量を制御するための制御バルブを、有し、
該制御バルブの開閉により、前記第1及び第2循環手段により循環する流量の混合を制御して、混合冷却水の温度を制御することを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記制御部は、前記照明用及び／若しくは投影用のミラーを冷却するためのぺルチエ素子を有し、該素子は、前記照明用及び／若しくは投影用のミラーに生じる形状変化を、該ミラーを冷却することにより抑制して、該ミラー形状を一定に制御することを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記制御部は、前記冷却手段と、前記照明用及び／若しくは投影用のミラーと、の間にヒートパイプを備え、
該ヒートパイプは、前記冷却手段における冷却水の循環による振動を緩衝し、更に、前記照明用及び／若しくは投影用のミラーから、加熱された熱量を該冷却手段に放熱して、該ミラーを冷却することを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記光源は、極端紫外光を光源とし、該極端紫外光を導光する前記照明用及び投影用のミラーには、光学定数の異なる２種類の物質を交互に積層した多層膜ミラーが用いられることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項１６】
レチクルパターンをウエハに転写する露光装置用のミラーの調整方法で、入射光の入射条件に基づいて反射面形状を制御するミラーの調整方法。
【請求項１７】
前記入射条件は入射光の入射強度と入射時間の少なくとも１つを含む請求項１６に記載のミラーの調整方法。
【請求項１８】
前記反射面形状の制御は温度調整により実行される請求項１６に記載のミラーの調整方法。
【請求項１９】
前記反射面形状の制御は形状変更の開始時間の制御である請求項１６に記載のミラーの調整方法。
【請求項２０】
前記反射面形状の制御は事前に取られたデータベースに基づいて実行される請求項１６に記載のミラ−の調整方法。
【請求項２１】
レチクルパターンをウエハに転写する露光方法において、
光源から照射する露光光の照射エネルギと照射タイミングを制御する照射制御工程と、
前記光源より照射制御された露光光を受光し、該露光光を反射して、レチクルに導光する照明用のミラーと、該照明用のミラーにより、前記レチクルに導光された露光光を受光し、該露光光を反射して、ウエハに導光する投影用のミラーと、のうちの少なくともひとつに生じる形状変化をセンサーにより計測処理する計測工程と、
前記センサーにより計測されたそれぞれのミラーの形状変化に基づき、前記露光光の照射エネルギに応じて該ミラー形状を制御する温度制御工程と、
を備えることを特徴とする露光方法。
【請求項２２】
前記温度制御工程は、前記露光光の受光により、加熱された前記照明用及び／若しくは投影用のミラーに生じる形状変化を、該ミラーを冷却することにより相殺して、該形状変化を抑制するための温度制御パラメータを決定することを特徴とする請求項２１に記載の露光方法。
【請求項２３】
前記温度制御工程は、前記温度制御パラメータに基づき、冷却手段を駆動させ、前記加熱された前記照明用及び／若しくは投影用のミラーを冷却することを特徴とする請求項２１または２２に記載の露光方法。
【請求項２４】
前記温度制御工程は、露光光の照射エネルギと照射タイミングに対応した温度制御データを格納管理し、該格納管理している温度制御データから、前記露光光の照射条件に適合する温度制御パラメータを決定することを特徴とする請求項２１または２２に記載の露光方法。
【請求項２５】
請求項６に記載の露光装置を用いて、レチクルパターンをウエハに転写する工程を有することを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】削除
【補正の内容】