Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月20日(2005.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体に予め設定されたビュー角でＸ線を照射するＸ線源と、前記被検体を挾んで前記Ｘ線源と対向配置され前記被検体の透過Ｘ線を検出する多チャンネルＸ線検出器と、前記Ｘ線源と前記多チャンネルＸ線検出器を前記被検体の周囲に回転させ、その回転により多方向の透過Ｘ線を計測データとして前記多チャンネルＸ線検出器によって検出させるスキャナと、前記検出された多方向の計測データから前記被検体の断層像を再構成する画像再構成手段と、を備えたＸ線ＣＴ装置において、前記Ｘ線源のビュー角と前記多チャンネルＸ線検出器のチャンネルとで規定された個々の計測データについてそのレペルを算出する手段と、この算出されたレベルの大きさに応じて前記計測データの補正の度合いを変更する手段と、前記変更された補正の度合いに応じて前記計測データを補正する手段とを備え、前記補正手投によって補正された計測データを前記画像再構成手段に再構成させることを特徴とするＸ線ＣＴ装置。
【請求項２】
前記計測データに隣接するデータを利用しその計測位置でのスムージングデータを算出する手段と、前記レベル算出手段によって算出された計測データのレベルの大きさに応じて補正用重み係数を算出する手段とを更に備え、前記補正手段は前記スムージングデータと前記重み係数とを利用して前記計測データを補正することを特徴とする請求項１に記載のＸ線ＣＴ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月19日(2005.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数種の内視鏡を接続し、被写体の画像をモニタで観察するための内視鏡システムであって、前記複数種の内視鏡の中、少なくとも１つの内視鏡は、光学系の中に空間周波数特性変換手段を有し、
接続された内視鏡の空間周波数特性に対応した空間周波数特性復元手段を備えていることを特徴とする内視鏡システム。
【請求項２】
空間周波数特性変換手段の有無により空間周波数特性復元手段が異なることを特徴とする請求項１記載の内視鏡システム。
【請求項３】
内視鏡光学系の空間周波数特性の実測値から、前記空間周波数特性復元手段を決定することを特徴とする請求項１記載の内視鏡システム。
【請求項４】
画像処理装置に前記空間周波数特性復元手段が設けられていることを特徴とする請求項１記載の内視鏡システム。
【請求項５】
内視鏡内部に前記空間周波数特性復元手段が設けられていることを特徴とする請求項１記載の内視鏡システム。
【請求項６】
前記内視鏡は、被写体像を結像する対物光学系と、前記対物光学系による像を撮像する固体撮像素子とを有することを特徴とする請求項１記載の内視鏡システム。
【請求項７】
前記内視鏡は、被写体像を結像する対物光学系と、像伝送光学系と、接眼光学系とからなる硬性鏡であって、前記硬性鏡からの被写体像を固体撮像素子に結像するアダプターを有することを特徴とする請求項１記載の内視鏡システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、空間周波数特性復元手段は、カメラコントローラ（画像処理装置）あるいは内視鏡内部に設けられていてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
〔９〕  前記アダプターの光学系の中に前記空間周波数特性変換手段を有することを特徴とする上記８記載の内視鏡システム。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明の内視鏡システムの第１の実施例の概略構成図である。
【図２】
本発明のカメラコントローラの第１実施例の構成を示す構成図である。
【図３】
本発明のカメラコントローラの第２実施例の構成を示す構成図である。
【図４】
内視鏡に固有の判別信号を生成する電気回路を設けた本発明の内視鏡の第１の実施例の概略構成図である。
【図５】
内視鏡に固有の判別信号を生成する電気回路を設けた本発明の内視鏡の第２の実施例の概略構成図である。
【図６】
本発明の内視鏡システムの第２の実施例の概略構成図である。
【図７】
空間周波数復元回路の実施例の構成を示す構成図である。
【図８】
撮像光学系の１例の断面図である。
【図９】
被写体までの距離が１００ｍｍの場合の図８の撮像光学系の空間周波数のレスポンスを示す図である。
【図１０】
被写体までの距離が１３．５ｍｍの場合の図８の撮像光学系の空間周波数のレスポンスを示す図である。
【図１１】
被写体までの距離が５ｍｍの場合の図８の撮像光学系の空間周波数のレスポンスを示す図である。
【図１２】
図８の実施例の比較例の撮像光学系の図９に対応する空間周波数のレスポンスを示す図である。
【図１３】
図８の実施例の比較例の撮像光学系の図１０に対応する空間周波数のレスポンスを示す図である。
【図１４】
図８の実施例の比較例の撮像光学系の図１１に対応する空間周波数のレスポンスを示す図である。
【図１５】
撮像光学系の他の例の断面図である。
【図１６】
被写体までの距離が１５０ｍｍの場合の図１５の撮像光学系の空間周波数のレスポンスを示す図である。
【図１７】
被写体までの距離が６５ｍｍの場合の図１５の撮像光学系の空間周波数のレスポンスを示す図である。
【図１８】
被写体までの距離が３０ｍｍの場合の図１５の撮像光学系の空間周波数のレスポンスを示す図である。
【図１９】
図１５の実施例の比較例の撮像光学系の図１６に対応する空間周波数のレスポンスを示す図である。
【図２０】
図１５の実施例の比較例の撮像光学系の図１７に対応する空間周波数のレスポンスを示す図である。
【図２１】
図１５の実施例の比較例の撮像光学系の図１８に対応する空間周波数のレスポンスを示す図である。
【図２２】
従来のカメラコントローラ（画像処理装置）の概略図である。
【図２３】
従来の被写界深度を拡大する撮像システムの構成を示す概略構成図である。
【符号の説明】
１…内視鏡
２…カメラコントローラ（画像処理装置）
３…光源装置
４…モニタ
５…固体撮像素子
６…撮像光学系
７…空間周波数特性変換手段（瞳変調素子）
８…Ａ／Ｄ変換器
９…信号変換部
１０…Ｄ／Ａ変換器
１１…空間周波数復元部
１２…制御回路
１３…信号処理回路
１４…選択回路
１５…空間周波数復元部
１６…信号処理回路
１７…メモリ
１８…制御回路
２０…硬性鏡
２１…対物光学系
２２…像伝送光学系
２３…接眼光学系
２４…アダプター
２５…判別回路
２６…可動レンズ
２７…レンズ駆動手段
２８…計算回路
２９…内視鏡
３０…カメラコントローラ
３１…空間周波数復元回路
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月8日(2005.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、利用者の測定部位を装着する測定部位装着部と、
上記測定部位を介した上記光源からの光を検出する光検出部と、
上記光検出部から体表面下にある血管パターンを画像化して個人識別を行う識別部とを有し、
上記測定部位装着部は該測定部位と上記利用者の心臓との距離を一定以内に設定することを特徴とする個人特徴パターン検出装置。
【請求項２】
上記測定部位は上記心臓より下方に設定されることを特徴とする請求項１記載の個人特徴パターン検出装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月6日(2005.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）式で表される分岐アルキルスルフィド型エピスルフィド化合物。
【化１】
1997071580.tif 000001
【請求項２】
請求項１記載の分岐アルキルスルフィド型エピスルフィド化合物を重合硬化してなる光学材料。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月23日(2005.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
他の成分としては、例えばフタル酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ベンゾフェノンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸、5-スルホキシイソフタル酸金属塩、5-スルホキシイソフタル酸ホスホニウム塩等の芳香族ジカルボン酸、シュウ酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、デカリンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、オクタメチレングリコール、デカメチレングリコール、ネオペンチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール等の脂肪族グリコール、o,m,p-キシリレングリコール、1,4-ビス(2-ヒドロキシエトキシエトキシ)ベンゼン、4,4'-ビス(2-ヒドロキシエトキシ)ビフェニル、4,4-ビス(2-ヒドロキシエトキシエトキシ)ビフェニル、1,2-ビス(2-ヒドロキシエトキシ)ベンゼン、1,2-ビス(2-ヒドロキシエトキシエトキシ)ベンゼン等の芳香族グリコール、ヒドロキノン、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン、レゾルシン、カテコール、ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシビフェニル、ジヒドロキシジフェニルスルホン等のジフェノール類等が挙げられる。これらは１種または２種以上を用いても良い。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
（２）耐光試験後伸度保持率
延伸フィルムを２００×１５ｍｍの短冊にカットし、サンシャインウェザーメーター（スガ試験機社製）にて６０℃、１５０ｈｒ、湿度５０％、雨無しの条件で照射を行なった。照射前後のフィルムについて、オートグラフ引張試験機を用いて破断伸度を測定し、伸度保持率を計算した。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月13日(2005.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明において無機粒子のポリエステル樹脂に対する添加量は特に限定されず、成型品の使用用途により適宣調整すれば良いが、0．01〜10重量％が好ましく、特に好ましくは0．01〜5重量％である。添加量が10重量％を超えると十分な分散性が得られない。逆に0．01重量％未満であると、粒子添加の効果が十分に発現しない。
本発明に使用する分散液の媒体としては、例えば水および／又は沸点が該熱可塑性樹脂の融点未満の有機物化合物を使用する必要がある。中でも、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール等が経済面、取り扱い性の上から好ましい。特に、水は安全性の面から最も好ましい媒体である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
また本発明により得られる熱可塑性組成物により製造されるフィルムは静摩擦係数が１．０以下である必要がある。静摩擦係数が１．０を超えるとフィルムを製造しロール状に巻き取りを行う際、滑り性不足のためにロールにしわが入り巻き取り困難となり、生産性が著しく低下するばかりか極端な場合にはその商品価値を失ってしまう。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月14日(2005.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機ゴム（Ａ）と、
下記条件を満たすカーボンブラック（Ｂ）と、
過塩素酸第四級アンモニウム塩（Ｃ１）およびポリアルキレングリコール脂肪族カルボン酸ジエステル（Ｃ２）から選ばれる少なくとも１種の化合物からなる導電付与剤（Ｃ）と、
を含有することを特徴とする導電性ゴム組成物。
［カーボンブラック（Ｂ）条件］
上記有機ゴム（Ａ）１００重量部に対する上記カーボンブラック（Ｂ）の添加量Ｗ（重量部）と、各添加量Ｗにおける体積固有抵抗値（ｌｏｇρＶ）と、から得られるｌｏｇρＶ対Ｗ曲線において、ｌｏｇρＶが３〜１０でありかつＷが１〜５０重量部である範囲で上記ｌｏｇρＶ対Ｗ曲線上の各点における接線を引き、これらの接線の傾きの絶対値のうちの最大値をθｍａｘと定義するとき、θｍａｘが０．３以下である。
【請求項２】
上記有機ゴム（Ａ）が、エチレン・プロピレンゴム、エチレン・プロピレン・ジエンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、水素化アクリロニトリルブタジエンゴム、アクリルゴム、エチレンアクリルゴム、クロロプレンゴム、クロロスルホン化ポリエチレン、ウレタンゴム、多硫化ゴム、エピクロルヒドリンゴム、エピクロルヒドリン−エチレンオキシドゴムから選ばれる少なくとも１種である請求項１記載の導電性ゴム組成物。
【請求項３】
上記過塩素酸第四級アンモニウム塩（Ｃ１）が下記一般式（１）で示される化合物である請求項１又は請求項２に記載の導電性ゴム組成物。
【化１】
2000017118.tif 000001
〔式中、Ｒ１は炭素数２〜２０の脂肪族または芳香族カルボン酸から全てのカルボキシル基を除いた基を示し、Ｒ２およびＲ３は各々独立に炭素数１〜２０のアルキル基または炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基を示し、Ａ１およびＡ２は各々独立に炭素数２〜４のアルキレン基を示し、ｍは０〜２０の整数であり、ｎは１〜２０の整数であり、Ｒ４は炭素数４〜２２のアルキル基、７〜２０のアラルキル基またはＲ′-ＣＯＮＨＲ″−基（ただし、Ｒ´は炭素数１〜２０のアルキル基または炭素数１〜２０のアルケニル基、Ｒ″は炭素数１〜１０のアルキレン基である。）を示し、Ｒ５は炭素数１〜２０のアルキル基を示し、ｘは０〜３の整数、ｙは１〜４の整数であり、（ｘ＋ｙ）はＲ１の価数に等しい。〕
【請求項４】
上記ポリアルキレングリコール脂肪族カルボン酸ジエステル（Ｃ２）が下記一般式（２）で示される化合物である請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の導電性ゴム組成物。
【化２】
2000017118.tif 000002
〔式中、Ｒ６およびＲ８は各々独立に炭素数４〜１８の脂肪族モノカルボン酸からカルボキシル基を除いた基を示し、Ｒ７は炭素数２〜４のアルキレン基を示しｋは２〜３０、好ましくは３〜１５の整数である。〕
【請求項５】
上記過塩素酸第四級アンモニウム塩（Ｃ１）が下記式（７）及び式（９）で示される化合物から選ばれる少なくとも１種である請求項１又は請求項２に記載の導電性ゴム組成物。
【化３】
2000017118.tif 000003
【化４】
2000017118.tif 000004
【請求項６】
上記ポリアルキレングリコール脂肪族カルボン酸ジエステル（Ｃ２）がポリエチレングリコールのジデカン酸エステルである請求項１又は請求項２に記載の導電性ゴム組成物。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載の導電性ゴム組成物から形成された導電ゴムをゴム素材として用いたことを特徴とする導電ロール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項２の導電性ゴム組成物は、請求項１記載のものにおいて、上記有機ゴム（Ａ）が、エチレン・プロピレンゴム、エチレン・プロピレン・ジエンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、水素化アクリロニトリルブタジエンゴム、アクリルゴム、エチレンアクリルゴム、クロロプレンゴム、クロロスルホン化ポリエチレン、ウレタンゴム、多硫化ゴム、エピクロルヒドリンゴム、エピクロルヒドリン−エチレンオキシドゴムから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする。
請求項３の導電性ゴム組成物は、請求項１又は請求項２に記載のものにおいて、上記過塩素酸第四級アンモニウム塩（Ｃ１）が下記一般式（１）で示される化合物であることを特徴とする。
【化１】
2000017118.tif 000005
〔式中、Ｒ１は炭素数２〜２０の脂肪族または芳香族カルボン酸から全てのカルボキシル基を除いた基を示し、Ｒ２およびＲ３は各々独立に炭素数１〜２０のアルキル基または炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基を示し、Ａ１およびＡ２は各々独立に炭素数２〜４のアルキレン基を示し、ｍは０〜２０の整数であり、ｎは１〜２０の整数であり、Ｒ４は炭素数４〜２２のアルキル基、７〜２０のアラルキル基またはＲ′-ＣＯＮＨＲ″−基（ただし、Ｒ´は炭素数１〜２０のアルキル基または炭素数１〜２０のアルケニル基、Ｒ″は炭素数１〜１０のアルキレン基である。）を示し、Ｒ５は炭素数１〜２０のアルキル基を示し、ｘは０〜３の整数、ｙは１〜４の整数であり、（ｘ＋ｙ）はＲ１の価数に等しい。〕
請求項４の導電性ゴム組成物は、請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のものにおいて、上記ポリアルキレングリコール脂肪族カルボン酸ジエステル（Ｃ２）が下記一般式（２）で示される化合物であることを特徴とする。
【化２】
2000017118.tif 000006
〔式中、Ｒ６およびＲ８は各々独立に炭素数４〜１８の脂肪族モノカルボン酸からカルボキシル基を除いた基を示し、Ｒ７は炭素数２〜４のアルキレン基を示しｋは２〜３０、好ましくは３〜１５の整数である。〕
請求項５の導電性ゴム組成物は、請求項１又は請求項２に記載のものにおいて、上記過塩素酸第四級アンモニウム塩（Ｃ１）が下記式（７）及び式（９）で示される化合物から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする。
【化３】
2000017118.tif 000007
【化４】
2000017118.tif 000008
請求項６の導電性ゴム組成物は、請求項１又は請求項２に記載のものにおいて、上記ポリアルキレングリコール脂肪族カルボン酸ジエステル（Ｃ２）がポリエチレングリコールのジデカン酸エステルであることを特徴とする。
請求項７記載の導電ロールは、請求項１ないし６のいずれかに記載の導電性ゴム組成物から形成された導電ゴムをゴム素材として用いたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
Ａ１またはＡ２で示される炭素原子数２〜４のアルキレン基としては、エチレン基、１，２−プロピレン基、１，３−プロピレン基、１，３−ブチレン基、１，４−ブチレン基等が挙げられる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月8日(2005.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷延鋼板の連続焼鈍工程を構成する冷却帯以降の領域で、圧下率０．２％以上２．０％以下で圧延をし、次いで外径５０ｍｍ以上５００ｍｍ以下の２本以上の曲げ加工用ロールに接触角がそれぞれ３０°以上で接しながら通板をすることを特徴とする冷延鋼板の製造方法。
【請求項２】
請求項１で得られた冷延鋼板に溶融亜鉛めっきを施し、次いで合金化処理を施すことを特徴とする合金化溶融亜鉛めっき鋼板の製造方法。
【請求項３】
請求項１で得られた冷延鋼板に電気亜鉛めっきを施すことを特徴とする合金化電気亜鉛めっき鋼板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の要旨は、以下の（１）〜（３）のとおりである。
（１）冷延鋼板の連続焼鈍工程を構成する冷却帯以降の領域で、圧下率０．２％以上２．０％以下で圧延をし、次いで外径５０ｍｍ以上５００ｍｍ以下の２本以上の曲げ加工用ロールに接触角がそれぞれ３０°以上で接しながら通板をすることを特徴とする冷延鋼板の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
【実施例】
（実施例１）
図１に示す構造の溶融亜鉛めっき製造設備を使用し、厚０．８ｍｍ、幅１２００ｍｍの極低炭素鋼板を用い、連続焼鈍工程では、８７０℃で３０秒間の加熱後５０〜５００℃まで冷却し、次いで外径４５０ｍｍの圧延用ロールを用いて圧下率０．０（圧下無し）〜３．４％で圧延し、引き続き外径３０ｍｍまたは６００ｍｍの一対のロールを用いて接触角６０°で曲げ加工を実施し、次いで、４６０℃の溶融亜鉛めっき浴に送り、めっき終了後５００℃で合金化処理を行った。
得られた合金化溶融亜鉛めっき鋼板について、走査型電子顕微鏡を用いて表面観察を行いめっき厚の均一性を調査した。めっき厚の均一性は、めっき厚の変動率（めっき厚変動量／平均めっき厚）が１０％未満を合格とし、以下のように区分し評価した。表１にその結果を示す。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
【表１】
2000017416.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
表１の比較例に示すように、圧延の圧下率が０．２％未満や曲げ加工用ロールの直径が５００ｍｍ超では、めっき厚の不均一性が大きく表面外観品質が不良であった。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
一方、本発明例では、めっき厚が均一で表面外観が良好であった。なお、本発明例１および２の鋼板を用いたプレス成形の試験においても、表面肌荒れなどの表面欠陥は発生せず良好であった。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
得られた電気亜鉛めっき鋼板について、めっき付着むらを調査した。めっき付着むらは、鋼板表面を目視で観察し、○：付着むら無し；△：付着むら小；×：付着むら大、の３段階で評価し、○を合格判定とした。表２にその結果を示す。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
【表２】
2000017416.tif 000002
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
表２の比較例に示すように、圧延の圧下率が０．２％未満や曲げ加工用ロールの直径が５００ｍｍ超では、めっきの付着むらが生じ、鋼板外観品質が不良であった。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月6日(2005.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクの基板と接触する側とは反対の面の表層に凹凸を設けたことを特徴とする導電膜パターン化用マスク。
【請求項２】
上記凹凸を形成した面の中心線平均粗さＲａが０．１から５μｍの範囲内であることを特徴とする請求項１記載の導電膜のパターン化用マスク。
【請求項３】
上記凹凸をサンドブラスト処理により表層を粗らすことで形成することを特徴とする請求項１または２に記載の導電膜パターン化用マスク。
【請求項４】
上記凹凸をエッチングにより形成することを特徴とする請求項１または２に記載の導電膜パターン化用マスク。
【請求項５】
上記凹凸をハーフエッチングにより、マスクの厚み方向に部分的に窪みを付けることで形成することを特徴とする請求項１、２または４のいずれかに記載の導電膜パターン化用マスク。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載のパターン化用マスクを用いることを特徴とする透明導電膜の製膜方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月29日(2005.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ターゲット裏面側にマグネトロン磁石を配置してターゲット上に磁場を発生させ、ターゲットからスパッタさせた原子をターゲットと対向する基板上に付着させ、基板上に薄膜を形成するマグネトロンスパッタ方法において、基板の内周と外周に異なる磁極を有する基板側磁石を配置し、前記基板側磁石の内周磁石と外周磁石を、内周磁石の磁極とマグネトロン磁石のターゲット内側に配置された磁石の磁極とが同極でターゲットを挟んで向かい合う関係となり、外周磁石の磁極とマグネトロン磁石のターゲット外側に配置された磁石の磁極とが同極でターゲットを挟んで向かい合う関係となるように配置することを特徴とするマグネトロンスパッタ方法。
【請求項２】
ターゲット裏面側にマグネトロン磁石を配置してターゲット上に磁場を発生させ、ターゲットからスパッタさせた原子をターゲットと対向する基板上に付着させ、基板上に薄膜を形成するマグネトロンスパッタ方法において、基板の内周と外周に異なる磁極を有する基板側磁石を配置し、前記基板側磁石の内周磁石と外周磁石を、内周磁石の磁極とマグネトロン磁石のターゲット内側に配置された磁石の磁極とが同極でターゲットを挟んで向かい合う関係となり、外周磁石の磁極とマグネトロン磁石のターゲット外側に配置された磁石の磁極とが同極でその同極の磁極が基板外側を向くように配置することを特徴とするマグネトロンスパッタ方法。
【請求項３】
基板裏面にヨークを配置し、基板側磁石の内周磁石と外周磁石とヨークで磁気回路を形成することを特徴とする請求項１又は２記載のマグネトロンスパッタ方法。
【請求項４】
基板の内周マスクの裏面に基板側磁石の内周磁石を配置し、基板の外周マスクの裏面又は外側に外周磁石を配置することを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載のマグネトロンスパッタ方法。
【請求項５】
ターゲット裏面側にマグネトロン磁石を配置してターゲット上に磁場を発生させ、ターゲットからスパッタさせた原子をターゲットと対向する基板上に付着させ、基板上に薄膜を形成するマグネトロンスパッタ装置において、基板の内周と外周に異なる磁極を有する基板側磁石を設け、かつこれら基板側磁石の内周磁石と外周磁石は、内周磁石の磁極とマグネトロン磁石のターゲット内側に配置された磁石の磁極とが同極でターゲットを挟んで向かい合う関係となり、外周磁石の磁極とマグネトロン磁石のターゲット外側に配置された磁石の磁極とが同極でターゲットを挟んで向かい合う関係となるように配設したことを特徴とするマグネトロンスパッタ装置。
【請求項６】
ターゲット裏面側にマグネトロン磁石を配置してターゲット上に磁場を発生させ、ターゲットからスパッタさせた原子をターゲットと対向する基板上に付着させ、基板上に薄膜を形成するマグネトロンスパッタ装置において、基板の内周と外周に異なる磁極を有する基板側磁石を設け、かつこれら基板側磁石の内周磁石と外周磁石は、内周磁石の磁極とマグネトロン磁石のターゲット内側に配置された磁石の磁極とが同極でターゲットを挟んで向かい合う関係となり、外周磁石の磁極とマグネトロン磁石のターゲット外側に配置された磁石の磁極とが同極でその同極の磁極が基板外側を向くように配設したことを特徴とするマグネトロンスパッタ装置。
【請求項７】
基板裏面にヨークを配置し、基板側磁石の内周磁石と外周磁石とヨークで磁気回路を形成したことを特徴とする請求項５又は６記載のマグネトロンスパッタ装置。
【請求項８】
基板の内周マスクの裏面に基板側磁石の内周磁石を配置し、基板の外周マスクの裏面又は外側に外周磁石を配置したことを特徴とする請求項５〜７の何れかに記載のマグネトロンスパッタ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明のマグネトロンスパッタ方法は、ターゲット裏面側にマグネトロン磁石を配置してターゲット上に磁場を発生させ、ターゲットからスパッタさせた原子をターゲットと対向する基板上に付着させ、基板上に薄膜を形成するマグネトロンスパッタ方法において、基板の内周と外周に異なる磁極を有する基板側磁石を配置し、前記基板側磁石の内周磁石と外周磁石を、内周磁石の磁極とマグネトロン磁石のターゲット内側に配置された磁石の磁極とが同極でターゲットを挟んで向かい合う関係となり、外周磁石の磁極とマグネトロン磁石のターゲット外側に配置された磁石の磁極とが同極でターゲットを挟んで向かい合う関係となるように配置するものであり、それによって簡単かつ確実にターゲットを横切った磁力線が基板に達しないようにでき、ターゲットから飛び出して加速された電子や、プラズマ中の電子やイオンが基板表面に衝突するのを防止することができ、成膜中の基板の温度上昇を抑制することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、前記基板側磁石の内周磁石と外周磁石を、内周磁石の磁極とマグネトロン磁石のターゲット内側に配置された磁石の磁極とが同極でターゲットを挟んで向かい合う関係となり、外周磁石の磁極とマグネトロン磁石のターゲット外側に配置された磁石の磁極とが同極でその同極の磁極が基板外側を向くように配置することによっても、同様に上記作用効果を確実に奏することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
【発明の効果】
本発明のマグネトロンスパッタ方法及び装置によれば、以上のように基板の内周と外周に異なる磁極を有する基板側磁石を配置し、前記基板側磁石の内周磁石と外周磁石を、内周磁石の磁極とマグネトロン磁石のターゲット内側に配置された磁石の磁極とが同極でターゲットを挟んで向かい合う関係となり、外周磁石の磁極とマグネトロン磁石のターゲット外側に配置された磁石の磁極とが同極でターゲットを挟んで向かい合う関係となるように、若しくはその同極の磁極が基板外側を向くように配置したので、それによって簡単かつ確実にターゲットを横切った磁力線が基板に達しないようにでき、ターゲットから飛び出して加速された電子や、プラズマ中の電子やイオンが基板表面に衝突するのを防止することができ、成膜中の基板の温度上昇を抑制することができ、膜質に対するダメージを軽減することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月10日(2005.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）光触媒作用を有する物質、（Ｂ）重合性シリコーン系被膜形成組成物、（Ｃ）有機溶媒及び水を必須成分とする光触媒含有コーティング組成物。
【請求項２】

（Ｂ）重合性シリコーン系被膜形成組成物が、シロキサン結合を主骨格としカチオン重合性部位を有するシリコーン化合物と、カチオン重合開始剤を必須成分とする組成物である請求項１に記載の光触媒含有コーティング組成物。
【請求項３】

（Ｂ）重合性シリコーン系被膜形成組成物が、下記一般式（１）で示されるポリオルガノシロキサンプレポリマー（Ｂ−１）と、下記一般式（２）で示されるシラン化合物の１種又は２種以上を含むシランモノマー（Ｂ−２）とをブレンドしたシリコーン系被膜形成組成物、
［Ｒ4-nＳｉＯn/2 ］m（１）
Ｒ’ｘＳｉ（ＯＲ”）ｙ （２）
（式中、Ｒ及びＲ’は炭素数１〜１０の置換または非置換の炭化水素基、Ｒ”は炭素数１〜４の炭化水素基または水素原子を示す。また、ｎは０〜３のいずれかの整数、ｍは正の整数であり、ｘは０〜３のいずれかの整数、ｙは１〜４のいずれかの整数であり、ｘ＋ｙ＝４である。）及び光酸発生剤（Ｂ−３）とを必須成分とする組成物である請求項１に記載の光触媒含有コーティング組成物。
【請求項４】
重合性シリコーン系被膜形成組成物（Ｂ）の、光触媒作用を有する物質（Ａ）に対する割合が１０〜１００重量％であり、水及び溶剤を除いた固形分濃度が１〜４０重量％であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光触媒含有コーティング組成物。
【請求項５】
光触媒作用を有する物質（Ａ）が、二酸化チタンであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光触媒含有コーティング組成物。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光触媒含有コーティング組成物を、紫外線、紫外線を含む屋外光、室内照明、または電子線、Ｘ線等の放射線により硬化することを特徴とする塗膜の形成方法。
【請求項７】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光触媒含有コーティング組成物を塗布した基材。
【請求項８】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光触媒含有コーティング組成物を基材に塗布して形成した塗布膜。
【請求項９】
基材が、プラスチック、ガラス、金属、紙、木材、セラミックス、陶磁器、塗装面である請求項７に記載の基材。
【請求項１０】
基材が、プラスチック、ガラス、金属、紙、木材、セラミックス、陶磁器、塗装面である請求項８に記載の塗布膜。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月19日(2005.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも次の構成要素［Ａ］、［Ｂ］、［Ｃ］ならびにジアミノジフェニルスルホンおよび熱可塑性樹脂を含むエポキシ樹脂組成物が、単繊維の断面形状が実質的に真円状である補強繊維に含浸されてなることを特徴とするプリプレグ。
［Ａ］：エポキシ樹脂配合物１００重量部に対して、テトラグリシジルアミン型エポキシ樹脂が６０重量部以上配合されるエポキシ樹脂配合物
［Ｂ］：粒子状ジシアンジアミド
［Ｃ］：ウレア化合物
【請求項２】
前記構成要素［Ａ］において、テトラグリシジルアミン型エポキシ樹脂の配合量がエポキシ樹脂配合物１００重量部に対して６０〜９７重量部であり、さらに構成要素［Ａ］には、テトラグリシジルアミン型エポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂が３〜４０重量部配合されていることを特徴とする請求項１に記載のプリプレグ。
【請求項３】
前記テトラグリシジルアミン型エポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂が、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、オキサゾリドン環を有するエポキシ樹脂から選ばれる少なくとも一種のエポキシ樹脂であることを特徴とする請求項２に記載のプリプレグ。
【請求項４】
前記エポキシ樹脂組成物には、無機粒子が含まれることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のプリプレグ。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のプリプレグを積層し、１００〜１４０℃で加熱することにより硬化して成形されてなる繊維強化複合材料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するため、本発明のプリプレグは次の構成を有する。すなわち、少なくとも次の構成要素［Ａ］、［Ｂ］、［Ｃ］ならびにジアミノジフェニルスルホンおよび熱可塑性樹脂を含むエポキシ樹脂組成物が、単繊維の断面形状が実質的に真円状である補強繊維に含浸されてなることを特徴とするプリプレグである。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月24日(2005.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンジニアリング熱可塑性樹脂（「プラスチック」）及び、第一及び第二の、少なくとも二つの硬化可能なアクリルゴムの加硫されたブレンドであって、
（１） 第一の縮合反応において、第一の硬化剤と反応しない第二の硬化可能なアクリルゴムの存在の下、第一の硬化可能なアクリルゴムを第一の硬化剤で硬化し、同時に放出されるガスを除去しながら、第一の加硫ゴムを産生し、
（２） 第二の縮合反応において、前記プラスチック及び前記第一の加硫ゴムの存在の下、放出されるガスを同時に除去しながら、前記第二のゴムを第二の硬化剤で硬化させ、少なくとも４０のショアＤの硬度を有する十分に緻密な中間体ハードブレンドを産生し、及び
（３） 連続する縮合反応において、前記十分に緻密な中間体ハードブレンドの存在の下、放出されるガスを同時に除去しながら、追加の硬化剤で追加の硬化可能なゴムを硬化し、３０未満のショアＤの硬度を有し、実質的に可塑剤を含まない、最終的な「軟らかい」ブレンドを産生する、ことによって形成される、加硫されたブレンド。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月5日(2005.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は熱可塑性樹脂組成物およびこれを用いたフィルムに関し、さらに詳しくは、ナフタレンジカルボン酸を主たる酸成分とし、１，３−プロパンジオールを主たるグリコール成分として構成され、固有粘度が０．４〜０．８であり、該ポリエステル樹脂組成物をイオン交換水で１２５℃×１時間抽出処理した際の抽出量が０．１５ｍｇ／ｉｎｃｈ２以下である事を特徴とするポリエステル樹脂組成物に関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
【表１】
2000017061.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月25日(2004.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
前記積層フィルムを形成する超高分子量ポリエチレンからなる層の厚さは、25〜150μmであることが好ましい。前記厚さが25μmよりも薄いと、前記積層フィルムから形成された容器は、極低温下での強度が不十分であるおそれがある。また前記厚さが150μmよりも厚いと、前記積層フィルムから形成された容器は、急速凍結および急速溶解が困難になる。前記超高分子量ポリエチレンは溶融粘度が非常に高いため、通常、原料粉末を円筒状に圧縮成形し、鋭利な刃で切削してフィルムに加工する切削加工によりフィルムに成形される。
また、前記積層フィルムを形成する熱可塑性樹脂からなる層の厚さは、12〜200μmであることが好ましい。前記厚さが12μmよりも薄いと、前記積層フィルムの熱溶着が困難になり、また200μmよりも厚いと、前記積層フィルムから形成された容器は、急速凍結および急速溶解が困難になる。
前記超高分子量ポリエチレンからなる層および熱可塑性樹脂からなる層は、その性質を損なわない範囲で、パラフィン系油やナフテン系油などの石油系軟化剤、フェノール系、リン系またはイオウ系の酸化防止剤や、高級脂肪酸金属塩などの熱安定剤等、種々の安定剤を含むものであってもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月18日(2004.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
感熱記録層用塗液は、オフセットグラビア方式、エアナイフ方式、メイヤーバー方式、ブレード方式、リバースロール方式、スリットダイ方式などの従来から当業者で使用されている方式で支持体上に塗布後、乾燥される。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月28日(2005.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送される印刷用紙の紙経路の少なくとも一部を形成するガイド部材と、
前記ガイド部材が、前記紙経路を形成する位置と前記紙経路を開放する位置との間で変位するように、前記ガイド部材を変位自在に支持する支持機構と、
前記ガイド部材を前記紙経路を形成する位置にロックするロック機構と、を備えていることを特徴とするプリンタユニット。
【請求項２】
前記ガイド部材はガイド部材側の係合部を有し、
前記ロック機構は、
前記ガイド部材側係合部と係合するロック機構側の係合部を有するロック部材と、
前記ガイド部材側係合部と前記ロック部材側係合部とが係合する位置と係合しない位置との間で、前記ガイド部材又は前記ロック部材の少なくとも一方を移動させる移動機構と、を備えていることを特徴とする請求項１に記載のプリンタユニット。
【請求項３】
前記ガイド部材及び前記ロック部材は、それぞれ、前記ガイド部材側係合部と前記ロック部材側係合部を、前記用紙の幅方向両側に備えることを特徴とする請求項２に記載のプリンタユニット。
【請求項４】
前記ロック部材は、前記ガイド部材に対向して配置され、前記ガイド部材とともに前記紙経路を形成し、
前記ガイド部材は、前記紙経路に対して略垂直方向に延びる細長状の係合穴を備え、
前記支持機構は、前記ガイド部材の前記係合穴に係合し、前記ガイド部材を回動可能に支持する支持軸を備え、
前記移動機構は、前記係合穴と前記支持軸とを含むことを特徴とする請求項２又は３に記載のプリンタユニット。
【請求項５】
前記ガイド部材側係合部と前記ロック部材側係合部とが係合した状態において、前記ガイド部材と前記ロック部材とで構成される間隙のうちの最狭部は、前記用紙の厚さより狭く形成され、前記係合状態における各係合部の係合代は、前記用紙の厚さより小さいことを特徴とする請求項４に記載のプリンタユニット。
【請求項６】
前記支持機構は、前記ガイド部材を、その上流側が前記紙経路を開くように回動自在に支承する機構を含むことを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載のプリンタユニット。
【請求項７】
前記用紙が連続紙であることを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載のプリンタユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記問題を解決するため、本発明のプリンタユニットは、搬送される印刷用紙の紙経路
の少なくとも一部を形成するガイド部材と、前記ガイド部材が、前記紙経路を形成する位
置と前記紙経路を開放する位置との間で変位するように、前記ガイド部材を変位自在に支
持する支持機構と、前記ガイド部材を前記紙経路を形成する位置にロックするロック機構
と、を備えていることを特徴とする。
ここで、前記ガイド部材はガイド部材側の係合部を有し、前記ロック機構は、前記ガイ
ド部材側係合部と係合するロック機構側の係合部を有するロック部材と、前記ガイド部材
側係合部と前記ロック部材側係合部とが係合する位置と係合しない位置との間で、前記ガ
イド部材又は前記ロック部材の少なくとも一方を移動させる移動機構と、を備えているこ
とを特徴とする。
また、前記ガイド部材及び前記ロック部材は、それぞれ、前記ガイド部材側係合部と前
記ロック部材側係合部を、前記用紙の幅方向両側に備えることを特徴とする。
また、前記ロック部材は、前記ガイド部材に対向して配置され、前記ガイド部材ととも
に前記紙経路を形成し、前記ガイド部材は、前記紙経路に対して略垂直方向に延びる細長
状の係合穴を備え、前記支持機構は、前記ガイド部材の前記係合穴に係合し、前記ガイド
部材を回動可能に支持する支持軸を備え、前記移動機構は、前記係合穴と前記支持軸とを
含むことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、前記ガイド部材側係合部と前記ロック部材側係合部とが係合した状態において、
前記ガイド部材と前記ロック部材とで構成される間隙のうちの最狭部は、前記用紙の厚さ
より狭く形成され、前記係合状態における各係合部の係合代は、前記用紙の厚さより小さ
いことを特徴とする。
また、前記支持機構は、前記ガイド部材を、その上流側が前記紙経路を開くように回動
自在に支承する機構を含むことを特徴とする。
また、前記用紙が連続紙であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月11日(2004.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本件出願人は先に特公昭６１−４３７８号公報において、エステル化反応により生成したメタクリル酸エステルを含む反応液を抽出塔に送液し未反応の低級アルコールを除去した後、蒸留により低沸除去を行い、その後メタクリル酸エステルを精製する方法を開示した。この方法によればエステル化反応液から未反応の低級アルコールや副生した水を蒸発させるためのフラッシュ塔や蒸留塔を用いずに、経済的にメタクリル酸エステルを製造することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月13日(2004.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キササゲ、ケイガイ、モッコウ、ケンゴシ、シャクヤク、チャ、ログウッド、ジオウ、タイム、モモ、ボタン、ショウキョウ、オンジ、オオバコ、チクセツニンジン、ニガキ、ゴバイシ、シラカバ、センキュウ、ヨクイニン、アマチャ、アルニカ、ゴボウ、レイシ及びユリから選ばれる植物の抽出物並びにラクトフェリンより選ばれた１種以上からなる表皮細胞のカテプシンＤ産生促進剤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
即ち本発明は、キササゲ、ケイガイ、モッコウ、ケンゴシ、シャクヤク、チャ、ログウッド、ジオウ、タイム、モモ、ボタン、ショウキョウ、オンジ、オオバコ、チクセツニンジン、ニガキ、ゴバイシ、シラカバ、センキュウ、ヨクイニン、アマチャ、アルニカ、ゴボウ、レイシ及びユリから選ばれる植物の抽出物並びにラクトフェリンより選ばれた１種以上からなる表皮細胞のカテプシンＤ産生促進剤を提供するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月16日(2004.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ピペットと、ピペットを介して吸引された試料を分析する試料分析部と、入口から出口へピペットを貫通させるピペット貫通孔を設けたスピッツ本体と、ピペットおよびスピッツ本体のうち少なくとも一方を移動させる駆動装置からなり、スピッツ本体に設けられたピペット貫通孔は入口側のピペット案内孔と出口側のピペット洗浄孔からなり、ピペット洗浄孔は内壁に入口から出口へ向かって順に配列された第１、第２および第３開口を有し、スピッツ本体は第１開口を大気に開放する通気路と、第３開口に連通する洗浄液供給路と、第２開口に連通する洗浄液排出路を備えることを特徴とする試料分析装置。
【請求項２】
洗浄液供給路に洗浄液を供給する供給部と、洗浄液排出路から洗浄液を吸引する吸引部とをさらに備え、駆動装置がピペットおよびスピッツ本体のうち少なくとも一方を垂直方向に移動させる垂直駆動部を有し、ピペットの上昇時またはスピッツ本体の下降時に、供給部が洗浄液供給路に洗浄液を供給するとともに、吸引部が洗浄液排出路から洗浄液を吸引することにより、ピペットの外側を洗浄する請求項１記載の試料分析装置。
【請求項３】
ピペットに洗浄液を供給する供給部と、洗浄液排出路から洗浄液を吸引する吸引部とをさらに備え、駆動装置がピペットおよびスピッツ本体のうち少なくとも一方を垂直方向に移動させる垂直駆動部を有し、ピペット先端がピペット貫通孔内に存在するときに、供給部がピペット内部に洗浄液を供給するとともに、吸引部が洗浄液排出路から洗浄液を吸引することにより、ピペットの内側を洗浄する請求項１記載の試料分析装置。
【請求項４】
入口から出口へピペットを貫通させるピペット貫通孔を設けたスピッツ本体を備え、ピペット貫通孔は入口側のピペット案内孔と出口側のピペット洗浄孔からなり、ピペット洗浄孔は内壁に入口から出口へ向かって順に配列された第１、第２および第３開口を有し、スピッツ本体は第１開口を大気に開放する通気路と、第３開口に連通する洗浄液供給路と、第２開口に連通する洗浄液排出路を備えるピペット洗浄装置。
【請求項５】
ピペット貫通孔は円形断面を有し、ピペット洗浄孔は入口から出口へ向かって順に直列接続された第１および第２貫通孔からなり、第１および第２開口が第１貫通孔の内壁に、第３開口が第２貫通孔の内壁にそれぞれ設けられ、第１貫通孔の内径はピペット案内孔の内径より大きく、第２貫通孔の内径は第１貫通孔の内径より大きい請求項４記載のピペット洗浄装置。
【請求項６】
ピペット貫通孔は円形断面を有し、ピペット洗浄孔は入口から出口に向かって順に直列接続された第１、第２、第３貫通孔からなり、第１および第２開口が第１貫通孔の内壁に、第３開口が第３貫通孔の内壁にそれぞれ設けられ、ピペット案内孔および第２貫通孔は、第１および第３貫通孔よりも小さい内径を有する請求項４記載のピペット洗浄装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
この発明は、上記課題の少なくとも１つを解決するために、ピペットと、ピペットを介して吸引された試料を分析する試料分析部と、入口から出口へピペットを貫通させるピペット貫通孔を設けたスピッツ本体と、ピペットおよびスピッツ本体のうち少なくとも一方を移動させる駆動装置からなり、スピッツ本体に設けられたピペット貫通孔は入口側のピペット案内孔と出口側のピペット洗浄孔からなり、ピペット洗浄孔は内壁に入口から出口へ向かって順に配列された第１、第２および第３開口を有し、スピッツ本体は第１開口を大気に開放する通気路と、第３開口に連通する洗浄液供給路と、第２開口に連通する洗浄液排出路を備えることを特徴とする試料分析装置を提供するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この発明は、洗浄液供給路に洗浄液を供給する供給部と、洗浄液排出路から洗浄液を吸引する吸引部とをさらに備え、駆動装置がピペットおよびスピッツ本体のうち少なくとも一方を垂直方向に移動させる垂直駆動部を有し、ピペットの上昇時またはスピッツ本体の下降時に、供給部が洗浄液供給路に洗浄液を供給するとともに、吸引部が洗浄液排出路から洗浄液を吸引することにより、ピペットの外側を洗浄するようにしてもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この発明は、ピペットに洗浄液を供給する供給部と、洗浄液排出路から洗浄液を吸引する吸引部とをさらに備え、駆動装置がピペットおよびスピッツ本体のうち少なくとも一方を垂直方向に移動させる垂直駆動部を有し、ピペット先端がピペット貫通孔内に存在するときに、供給部がピペット内部に洗浄液を供給するとともに、吸引部が洗浄液排出路から洗浄液を吸引することにより、ピペットの内側を洗浄するようにしてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、この発明は、入口から出口へピペットを貫通させるピペット貫通孔を設けたスピッツ本体を備え、ピペット貫通孔は入口側のピペット案内孔と出口側のピペット洗浄孔からなり、ピペット洗浄孔は内壁に入口から出口へ向かって順に配列された第１、第２および第３開口を有し、スピッツ本体は第１開口を大気に開放する通気路と、第３開口に連通する洗浄液供給路と、第２開口に連通する洗浄液排出路を備えるピペット洗浄装置を提供するものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
ピペット貫通孔は円形断面を有し、ピペット洗浄孔は入口から出口へ向かって順に直列接続された第１および第２貫通孔からなり、第１および第２開口が第１貫通孔の内壁に、第３開口が第２貫通孔の内壁にそれぞれ設けられ、第１貫通孔の内径はピペット案内孔の内径より大きく、第２貫通孔の内径は第１貫通孔の内径より大きくてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月19日(2004.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体レーザより出射された基本波レーザ光を波長変換した紫外線レーザ光をレンズに照射して前記レンズ表面にマークを形成することを特徴とするレーザマーキング方法。
【請求項２】
請求項１記載のレーザマーキング方法において、
前記レンズが、レンズ基材表面に反射防止膜及び／又はハードコート膜を有し、
前記マークを、前記反射防止膜及び／又はハードコート膜に形成することを特徴とするレーザマーキング方法。
【請求項３】
請求項２記載のレーザマーキング方法において、
前記反射防止膜が、多層膜で構成され、
前記マークを、前記多層膜反射防止膜の１層又は複数層を除去して形成することを特徴とするレーザマーキング方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載のレーザマーキング方法において、
前記レンズが、紫外線吸収剤を含有することを特徴とするレーザマーキング方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載のレーザマーキング方法において、
前記マークが、前記レンズの一枚毎に又は複数枚毎に異なる文字、図形又は記号を含むことを特徴とするレーザマーキング方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
請求項４記載の発明は、請求項１乃至３のいずれかに記載のレーザマーキング方法において、前記レンズが、紫外線吸収剤を含有することを特徴とするレーザマーキング方法を提供する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
請求項５記載の発明は、請求項１乃至４のいずれかに記載のレーザマーキング方法において、前記マークが、前記レンズ一枚毎に又は複数枚毎に異なる文字、図形又は記号を含むことを特徴とするレーザマーキング方法を提供する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】