Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月15日(2004.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配列番号：３、配列番号：４、および配列番号：５からなる群より選択されるオリゴヌクレオチド。
【請求項２】
配列番号：２および配列番号：３のオリゴヌクレオチドからなるプライマーセット。
【請求項３】
更に標識を含む、請求項１記載のオリゴヌクレオチド。
【請求項４】
標識が、蛍光基、ジゴキシゲニンおよびビオチンからなる群より選択される、請求項３記載のオリゴヌクレオチド。
【請求項５】
配列が配列番号：４からなる、請求項４記載のオリゴヌクレオチド。
【請求項６】
ａ）生物学的試料と請求項２のプライマーセットとを、ＨＩＶ−１核酸が該プライマーとハイブリダイズし得る条件下で接触させる工程；
ｂ）該核酸を逆転写および増幅し、増幅したＨＩＶ−１核酸を得る工程；ならびに
ｃ）増幅したＨＩＶ−１核酸の存在を検出する工程
を含む、生物学的試料中のＨＩＶ−１核酸を特異的に検出する方法。
【請求項７】
増幅したＨＩＶ−１核酸の存在を検出する工程が、増幅したＨＩＶ−１核酸と標識オリゴヌクレオチドとを接触させ、標識ＨＩＶ−１核酸を得る工程、および該標識核酸を同定する工程を含む、請求項６記載の方法。
【請求項８】
標識オリゴヌクレオチドが配列番号：４の配列を含む、請求項７記載の方法。
【請求項９】
核酸の増幅が核酸配列ベースの増幅（ＮＡＳＢＡ）により達成される、請求項６記載の方法。
【請求項１０】
核酸の増幅がポリメラーゼ連鎖反応（ＰＣＲ）により達成される、請求項６記載の方法。
【請求項１１】
請求項２のプライマーセットおよびポリメラーゼ連鎖反応（ＰＣＲ）を行うための個別包装された試薬を含有してなる、ＨＩＶ−１の検出用キット。
【請求項１２】
更に、増幅したＨＩＶ−１核酸の検出のための少なくとも１つの標識オリゴヌクレオチドを含有してなる、請求項１１記載のキット。
【請求項１３】
標識オリゴヌクレオチドが、配列番号：４または配列番号：５の配列を含有してなる、請求項１２記載のキット。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月25日(2005.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
得られたＤＯＰは、各種の用途に応じて適宜に一般式（４）：
【化１７】
2001172290.tif 000001
（式中、Ｒ1 及びＲ2 は有機基又はハロゲン原子を示し、ｍ及びｎは０〜４の整数を示し、ｍまたはｎが２〜４の整数の場合にＲ1 及びＲ2 はそれぞれ同一又は異なっていてもよい。また、ＡはＲ1 及びＲ2 と同一又は異なる有機基を示す。）で表される有機リン系化合物に誘導できる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
【表１】
2001172290.tif 000002
表１の結果から、本発明によりＤＯＰ中の亜鉛金属含有量を低減でき、コンプレックスがなく、しかも塩素（ハロゲン）原子含有量を低減することでによるジエチレングリコールの形成による不溶物を抑えることができることが認められる。また亜鉛含有量を所定範囲とすることにより、アンチモン系触媒を用いた場合にもポリエステルの色調を白色に維持できることが認められる。また、精製工程を選択することにより、有機不純物を低減させることができ、ＤＯＰの形状を粉末状で収得しうることが認められる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月29日(2005.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記プライマー組成物が、さらにシラノール縮合触媒を含有する請求項１〜４のいずれかに記載のプライマー組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月1日(2004.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
質量％で、Ｃ：０．０１〜０．１０％、Ｓｉ：３．０％以下、Ｍｎ：５．０％を越え１０．０％以下、Ｎｉ：１．０〜１２．０％、Ｃｒ：４〜１８％、ＭｏまたはＷの１種または２種が、Ｍｏ＋１／２Ｗで０．１〜４．０％、Ｃｕ：５．０％以下（０％を含む）、Ｎ：０．１５％以下（０％を含む）、Ａｌ：０．１０％以下、Ｏ：０．００５％以下、残部が実質的にＦｅからなり、かつ（１）式で示されるＡ値が１３〜２７％であって、冷間加工後にオーステナイト中にマルテンサイト相を体積％で３０％以上を含むことを特徴とする高硬度高疲労強度を有する加工誘起型マルテンサイト系鋼。
Ａ＝Ｎｉ＋０．６５Ｃｒ＋０．９８Ｍｏ＋０．４９Ｗ＋１．０５Ｍｎ＋０．３５Ｓｉ＋Ｃｕ＋１２．６（Ｃ＋Ｎ）・・・（１）
（ただし、選択元素のうち無添加の元素はゼロとして計算）
【請求項２】
質量％で、Ｍｎ：５．０％を越え７．０％以下、Ｎｉ：３．０〜１１．０％、Ｃｒ：４〜１６％、ＭｏまたはＷの１種または２種が、Ｍｏ＋１／２Ｗで０．５〜３．０％、Ｃｕ：４．０％以下（０％を含む）、Ａｌ：０．０５％以下を含み、かつ（１）式で示されるＡ値が１９〜２５％であることを特徴とする請求項１に記載の高硬度高疲労強度を有する加工誘起型マルテンサイト系鋼。
【請求項３】
質量％で、Ｓｉ：１．０未満、Ｍｎ：５．０％を越え７．０％以下、Ｎｉ：３．０〜１１．０％、Ｃｒ：４〜１６％、ＭｏまたはＷの１種または２種が、Ｍｏ＋１／２Ｗで０．５〜３．０％、Ｃｕ：４．０％以下（０％を含む）、Ａｌ：０．０５％以下を含み、かつ（１）式で示されるＡ値が１９〜２４％であることを特徴とする請求項１に記載の高硬度高疲労強度を有する加工誘起型マルテンサイト系鋼。
【請求項４】
質量％で、Ｖ、Ｔｉ、Ｎｂのうち１種または２種以上を合計で０．２％以下を含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の高硬度高疲労強度を有する加工誘起型マルテンサイト系鋼。
【請求項５】
質量％で、Ｂ、Ｍｇ、Ｃａ、のうち１種または２種以上を合計で０．１０％以下含むことを特徴とする請求項１乃至４の何れかに記載の高硬度高疲労強度を有する加工誘起型マルテンサイト系鋼。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れかに記載の高硬度高疲労強度を有する加工誘起型マルテンサイト系鋼からなる鋼帯であって、該鋼帯の時効処理後のビッカース硬さが４５５以上であることを特徴とする高硬度高疲労強度を有する加工誘起型マルテンサイト系鋼帯。
【請求項７】
請求項６に記載の高硬度高疲労強度を有する加工誘起型マルテンサイト系鋼帯であって、該鋼帯の表面に窒化層が形成され、該鋼帯表面に圧縮残留応力を付与したことを特徴とする加工誘起型鋼帯。
【請求項８】
請求項１乃至５の何れかに記載の高硬度高疲労強度を有する加工誘起型マルテンサイト系鋼からなる鋼帯であって、該鋼帯の表面に窒化層が形成され、該鋼帯表面に圧縮残留応力を付与したことを特徴とする加工誘起型マルテンサイト系鋼帯。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の第６発明は、第１発明乃至第５発明の何れかに記載の高硬度高疲労強度を有する加工誘起型マルテンサイト系鋼からなる鋼帯であって、該鋼帯の時効処理後のビッカース硬さが４５５以上である高硬度高疲労強度を有する加工誘起型マルテンサイト系鋼帯である。
本発明の第７発明は、上記第６発明に記載の高硬度高疲労強度を有する加工誘起型マルテンサイト系鋼帯の表面に窒化層が形成され、表面に圧縮残留応力を付与した加工誘起型マルテンサイト系鋼帯である。
本発明の第８発明は、第１発明乃至第５発明の何れかに記載の高硬度高疲労強度を有する加工誘起型マルテンサイト系鋼からなる鋼帯であって、該鋼帯の表面に窒化層が形成され、該鋼帯表面に圧縮残留応力を付与した加工誘起型マルテンサイト系鋼帯である。
また、上述した加工誘起型マルテンサイト系鋼を用いてなる本発明の加工誘起型マルテンサイト系鋼帯は、適正な窒化処理によって表面に窒化層を形成させ、表面に圧縮残留応力を付与させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月22日(2004.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
直流電源と；
直流電源間に直列的に接続されるとともにそれぞれのゲートおよびソースが共通に接続されたＮチャンネル形ＦＥＴおよびＰチャンネル形ＦＥＴと；
Ｎチャンネル形ＦＥＴおよびＰチャンネル形ＦＥＴの交互スイッチングによって発生する高周波で作動する負荷回路と；
負荷回路の負荷電流を帰還する帰還手段、帰還電圧に共振する直列共振回路およびこの直列共振回路の共振電圧に基づいて正負のゲート電圧を出力するコンデンサを有し、このコンデンサが出力するゲート電圧によりＮチャンネル形ＦＥＴおよびＰチャンネル形ＦＥＴに対して共通的に作用してＮチャンネル形ＦＥＴおよびＰチャンネル形ＦＥＴを交互にスイッチングさせるゲート回路と；
一端が直流電源の正極に他端がゲート回路にそれぞれ接続された正側の抵抗および一端がゲート回路に他端が直流電源の負極にそれぞれ接続された負側の抵抗を有し、この正側および負側の抵抗がゲート回路を介する直列体を形成し、直流電源から直流電圧が印加されるとこの正側および負側の抵抗を介してゲート回路のコンデンサにゲート電圧を発生させる始動回路と；
を具備していることを特徴とする高周波インバータ。
【請求項２】
始動回路は、ゲート回路のゲートおよびソース共通接点間に電圧を発生してＮチャンネル形ＦＥＴ最初にオンさせる抵抗または抵抗およびコンデンサで構成されていることを特徴とする請求項１記載の高周波インバータ。
【請求項３】
放電ランプと；
放電ランプを負荷とする請求項１または２記載の高周波インバータと；
を具備していることを特徴とする放電ランプ点灯装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従来の高周波インバータでは、始動回路の簡素化が容易に行えず、コストダウンが困難であった。また、何らかの不具合、例えば回路内のトラッキングにより不所望な電流または電圧が発生することによって高電位側のスイッチング素子Ｑ1が劣化して発振しなくなり、ランプが不点灯となった場合、基準電位側のスイッチング素子Ｑ2が正常のままであれば始動回路がスイッチング素子Ｑ2をオンさせるため間欠的に制御極に電圧を供給し、インバータが異常発振の動作を継続する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、始動回路の簡素化によってコストダウンを行うことのできる高周波インバータおよび放電ランプ点灯装置を提供することを目的とする。また、ＦＥＴの劣化などが生じた場合であっても異常発振することなく発振を停止し、トラッキングなどに至ることのない高周波インバータおよび放電ランプ点灯装置を提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を達成するための手段】
請求項１の高周波インバータは、直流電源と；直流電源間に直列的に接続されるとともにそれぞれのゲートおよびソースが共通に接続されたＮチャンネル形ＦＥＴおよびＰチャンネル形ＦＥＴと；Ｎチャンネル形ＦＥＴおよびＰチャンネル形ＦＥＴの交互スイッチングによって発生する高周波で作動する負荷回路と；負荷回路の負荷電流を帰還する帰還手段、帰還電圧に共振する直列共振回路およびこの直列共振回路の共振電圧に基づいて正負のゲート電圧を出力するコンデンサを有し、このコンデンサが出力するゲート電圧によりＮチャンネル形ＦＥＴおよびＰチャンネル形ＦＥＴに対して共通的に作用してＮチャンネル形ＦＥＴおよびＰチャンネル形ＦＥＴを交互にスイッチングさせるゲート回路と；一端が直流電源の正極に他端がゲート回路にそれぞれ接続された正側の抵抗および一端がゲート回路に他端が直流電源の負極にそれぞれ接続された負側の抵抗を有し、この正側および負側の抵抗がゲート回路を介する直列体を形成し、直流電源から直流電圧が印加されるとこの正側および負側の抵抗を介してゲート回路のコンデンサにゲート電圧を発生させる始動回路と；を具備していることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
始動回路は、始動時に直流電源から直流電圧が印加されて正側および負側の抵抗を介してゲート回路にゲート電圧を発生させ、ＦＥＴをオンさせるように構成されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
請求項１の高周波インバータによれば、相補形ＦＥＴを使用するとともに、ゲート回路のコンデンサにゲート電圧を発生させる始動回路を備えたので、安価で簡単な始動回路により回路構成の簡素化とコストダウンとを図ることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
請求項２は、請求項１記載の高周波インバータにおいて、始動回路は、ゲート回路のゲートおよびソース共通接点間に電圧を発生してＮチャンネル形ＦＥＴ最初にオンさせる抵抗または抵抗およびコンデンサで構成されていることを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
請求項２の高周波インバータによれば、ＦＥＴが劣化しても異常発振前に発振停止するため、たとえ塵埃により絶縁性能が下がったとしても、共振動作による高圧が発生せず、通常電流ループ以外の場所で電流が流れることが抑制されるとともに、始動回路が抵抗または抵抗およびコンデンサで構成されているので、安価で簡単な構成の始動回路とすることができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
【発明の効果】
請求項１の高周波インバータによれば、相補形ＦＥＴを使用するとともに、ゲート回路のコンデンサにゲート電圧を発生させる始動回路を備えたので、回路構成の簡素化とコストダウンとを図ることができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
請求項２の高周波インバータによれば、始動時にＮチャンネル形ＦＥＴを最初にオンするように動作する始動回路を備えたので、ＦＥＴが劣化しても異常発振前に発振停止するため、たとえ塵埃により絶縁性能が下がったとしても、共振動作による高圧が発生せず、通常電流ループ以外の場所で電流が流れることが抑制される。また、始動回路が抵抗または抵抗およびコンデンサで構成されているので、安価で簡単な構成の始動回路とすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月15日(2004.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
図１に示すキャビネット１では、その背面下部に配管スペースが不要な場合で、まず、背板３及び底板２を延長するようなＬ形をなす受け部材２０を側板４、４にビス８にて止め付けるようにする。次いで、繋ぎ部材１０の垂直辺１２と水平辺１３の間の折曲帯１４を、突条１５がキャビネット１の外側になるように直角に曲げ、全体として側面Ｌ状となるようにし、取付辺１１の抜き穴１１ａよりビス９をキャビネット１の底板２及び背板３にねじ込んで、繋ぎ部材１０の両側端部が受け部材２０に載せ架けるようにして取り付けキャビネット１の開口を出隅とするものである。
受け部材２０は５ｍｍ程度の厚みを持つもので、主として繋ぎ部材１０とキャビネット１の側板４、４との隙間を塞ぐ役割を果たし、補助的に取付辺１１と垂直辺１２及び水平辺１３の間の折曲帯１４による繋ぎ部材１０の屈曲変形を防ぐことになる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【発明の効果】
請求項１記載の発明では、キャビネットの背面側に開口を形成し、硬質材と軟質材を一体に構成したものを繋ぎ部材として塞ぐようにしてあるので、一の繋ぎ部材で上下反転させ、軟質材よりなる折曲帯で曲げ開口を出隅、入隅のいずれでも塞ぐことができるので、キャビネットの背面に配管スペースを備えるものと、備えないものを一種類のキャビネットとして製造することができ製品の点数を増やすことがないので、生産効率がアップし、施工現場で即応することもできることになる。
請求項２記載の発明では、請求項１記載の厨房家具のキャビネット構造において、キャビネットの両側板の内側にＬ形の受け部材を取り付け、繋ぎ部材の両側端部を載せ架けるようにしたので、繋ぎ部材の取り回しのためのクリアランスを確保しながら、キャビネットの側板との間を受け部材で塞ぐことができることになる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月21日(2005.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】プラズマディスプレイパネル
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面パネルと背面パネル間に、両パネルを接合するために用いている接合材料の軟化温度で熱収縮しない保持部品を設けたプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記保持部品は、室温下で前面あるいは背面のいずれか一方のパネルに対して空隙を有し、かつ加熱により両パネルと接する請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記保持部品は、金属である請求項１又は２記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記保持部品は、セラミックスである請求項１又は２記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前記前面パネルと前記背面パネルの向かい合う面の少なくとも一方に、前記接合材料から外部方向に溝を設けた請求項１ないし４のいずれか記載のプラズマディスプレイパネル。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
プラズマディスプレイパネルにおいて、環境破壊に対する対策としてリサイクルの観点からなにも考慮されていなかった。すなわち、製造工程で不良が発見された場合及び製品寿命がつきた場合それを効果的に再利用する方法は現在までなく、またプラズマディスプレイパネル中に多量の鉛化合物が含有しているため、産業廃棄物として処理せざるを得なかった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項１に記載の発明は、
前面基板と背面基板間に、両基板を接合するために用いている接合材料の軟化温度下で熱収縮しない保持部品を設け、同材料の軟化温度以上で加熱することにより基板間距離を一定あるいは増加させ、両パネルを分離することができるプラズマディスプレイパネルである。この材料は熱収縮しないため、加熱されることにより形状を一定に保つかあるいは熱膨張する。その結果、両基板間距離は一定に保たれるか、基板間距離を増加させようとする力が発生する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の請求項２に記載の発明は、保持部品は、室温下で前面あるいは背面のいずれか一方の基板に対して空隙を有し、かつ加熱により両基板と接するプラズマディスプレイパネルである。これにより、室温下での両パネル相互の位置合わせが容易かつ加熱時に熱膨張により、その結果パネル間距離を広げようとする力が発生し、両基板を分離することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の請求項５に記載の発明は、前記前面パネルと前記背面パネルの向かい合う面の少なくとも一方に、前記接合材料から外部方向に溝を設けたプラズマディスプレイパネルである。これにより、軟化した接合材料を除去することができるためプラズマディスプレイパネルを前面パネルと背面パネルに分離することとができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月9日(2005.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
航空機ガスタービンエンジン（７）の軸対称ベクタリングノズル（１４）装置において、
ノズル中心線（８）を中心として配置されたインタフェースリング（２０）と、
前記インタフェースリング（２０）の半径方向内側に、前記インタフェースリング（２０）から離間して配置されたベクタリング（８６）と、
前  記ベクタリング（８６）と前記インタフェースリング（２０）との間に半径方向に配置された軸受（２２）とを具備する装置。
【請求項２】
前記軸受（２２）は、前記ベクタリング（８６）と前記インタフェースリング（２０）との間にすべり接触面（２４）を含むすべり軸受である請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記すべり接触面（２４）は球形の形状である請求項２記載の装置。
【請求項４】
前記軸受（２２）は複数の軸受セグメント（２６）を含む請求項１記載の装置。
【請求項５】
前記軸受セグメント（２６）は、前記ベクタリング（８６）と前記インタフェースリング（２０）との間にすべり接触面（２４）を有するすべり軸受セグメントである請求項３又は請求項４記載の装置。
【請求項６】
前記インタフェースリング（２０）の半径方向内側に、前記インタフェースリング（２０）とすべり支持関係で配置され且つ前記ベクタリング（８６）の軸方向前方に位置する複数のインタフェースリング支持ガイド（４２）を更に具備する請求項１記載の装置。
【請求項７】
前記軸受（２２）は、前記ベクタリング（８６）と前記インタフェースリング（２０）との間にすべり接触面（２４）を含むすべり軸受であり且つ前記すべり接触面（２４）は球形の形状である請求項６記載の装置。
【請求項８】
前記軸受（２２）は複数の軸受セグメント（２６）を具備し、前記軸受セグメントは、前記ベクタリング（８６）と前記インタフェースリング（２０）との間にすべり接触面（２４）を含むすべり軸受セグメントであり、且つ前記すべり接触面（２４）は球形の形状である請求項６記載の装置。
【請求項９】
前記軸受セグメント（２６）の各々は、
前記インタフェースリング（２０）に装着された外側すべり要素（２８）と、
前記ベクタリング（８６）に装着された内側すべり要素（３０）と、
前記外側すべり要素（２８）と、前記内側すべり要素（３０）とにそれぞれ設けられた球形に湾曲した外側すべり面及び内側すべり面（３２、３６）とを具備し、前記球形に湾曲した外側すべり面及び内側すべり面は前記ベクタリング（８６）と前記インタフェースリング（２０）との間に前記すべり接触面を規定する請求項８記載の装置。
【請求項１０】
前記外側すべり要素（２８）のうち少なくとも１つは、前記内側すべり要素（３０）のうち対応する１つのすべり要素に配置された、周囲方向に相互に離間して配列されている複数のレール（３８）の間に周囲方向に配置され且つその間に捕捉されている請求項９記載の装置。
【請求項１１】
少なくとも２つの回転自由度を有する自在継手（９４）により複数の回動フラップに動作連結され且つノズル中心線（８）に関して周囲方向に配置され、ノズル（１４）内に排気ガス流路を規定するベクタリング（８６）と、
前記ベクタリング（８６）に動作結合され、前記ベクタリングを作動し且つ支持する直線作動／ベクタリング支持装置（９８）とを具備する航空機ガスタービンエンジンの軸対称ベクタリング排気ノズル装置において、
スライダバーにより前記ベクタリング（８６）に結合されたリニアアクチュエータと、
前記リニアアクチュエータを前記スライダバーの前端部（５３）に結合する第１のアクチュエータ継手及び前記スライダバーの後端部を前記ベクタリング（８６）に結合する後方アクチュエータ継手と、
前記スライダバー（１０２）を摺動自在に支持し、前記ベクタリング（８６）の周囲方向運動を抑止し、且つ前記ベクタリング（８６）に作用する側方荷重をエンジンの相対的に静止している部分に伝達するベクタリング支持部（１００）と、
前記ノズル中心線（８）を中心とし且つ前記ベクタリング（８６）から半径方向外側に、前記ベクタリングから離間して配置されたインタフェースリング（２０）と、
前記ベクタリング（８６）と前記インタフェースリング（２０）との間に半径方向に配置された軸受（２２）とを具備する排気ノズル装置。
【請求項１２】
前記インタフェースリング（２０）の半径方向内側に、前記インタフェースリング（２０）とすべり支持関係で配置され且つ前記ベクタリング（８６）の軸方向前方に位置する複数のインタフェースリング支持ガイド（４２）を更に具備し、前記インタフェースリング支持ガイド（４２）は、エンジンのケーシング（１１）に装着された支持構造（１０６）により前記ケーシング（１１）に装着されている請求項１１記載の装置。
【請求項１３】
前記軸受（２２）は複数の軸受セグメント（２６）を具備し、前記軸受セグメントは、前記ベクタリング（８６）と前記インタフェースリング（２０）との間にすべり接触面を含むすべり軸受セグメントであり、且つ前記すべり接触面は球形の形状である請求項１１記載の装置。
【請求項１４】
前記軸受セグメント（２６）の各々は、
前記インタフェースリング（２０）に装着された外側すべり要素（２８）と、
前記ベクタリング（８６）に装着された内側すべり要素（３０）と、
前記外側すべり要素（２８）と、前記内側すべり要素（３０）とにそれぞれ設けられた球形に湾曲した外側すべり面及び内側すべり面（３２、３６）とを具備し、前記球形に湾曲した外側すべり面及び内側すべり面は前記ベクタリング（８６）と前記インタフェースリング（２０）との間に前記すべり接触面を規定する請求項５又は請求項１３記載の装置。
【請求項１５】
前記外側すべり要素（２８）のうち少なくとも１つは、前記内側すべり要素（３０）のうち対応するすべり要素に配置された複数の、周囲方向に相互に離間して配列されたレール（３８）の間に周囲方向に配置され且つ捕捉されている請求項１４記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月27日(2004.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸入口、吐出口およびこれら両口をつなぐ円弧状のポンプ流路が形成されたケーシングと、
前記ケーシング内に回転自在に収容されると共に、外周部に、多数の羽根片、各羽根片間の羽根溝を表裏側に二分割する羽根隔壁、および前記多数の羽根片の各径方向先端部間を同一円周上に連結するリングが形成されており、このリングが前記羽根溝の軸方向最内部よりも外径側に位置するように配置されたインペラとを備え、
前記インペラの回転に応じて、前記羽根溝と前記ポンプ流路とで形成される空間内で流体を循環させつつ、前記吸入口より前記ポンプ流路内に吸入した前記流体を前記吐出口から圧送する構成とし、且つ、
前記インペラの直径を、前記ケーシングの前記ポンプ流路の外径よりも短く設定し、
前記羽根溝に対応した前記リング部分の軸方向端面は、内径側から外径側に向かってテーパ状に形成されていることを特徴とするタービンポンプ。
【請求項２】
前記羽根溝に対応した前記リング部分の軸方向端面は、前記羽根片の軸方向端面よりも軸方向内側に配置されていることを特徴とする請求項１に記載のタービンポンプ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
更に、本発明の請求項１に記載のタービンポンプは、羽根溝に対応したリング部分の軸方向端面は、内径側から外径側に向かってテーパ状に形成されている構成とした。これにより、インペラの羽根溝内からケーシングのポンプ流路への流体の流れに対する抵抗をより小さくして、吐出性能を向上することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の請求項２に記載のタービンポンプは、羽根溝に対応したリング部分の軸方向端面は、羽根片の軸方向端面よりも軸方向内側に配置されている構成とした。これにより、羽根片の軸方向端面によって吐出口と吸入口間のシール性能を必要充分に維持しつつ、インペラの羽根溝内からケーシングのポンプ流路への流体の流れに対する抵抗を小さくすると共に羽根溝に対応したリング部分の軸方向端面の摩耗を防止して吐出性能を維持することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月3日(2004.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内燃機関の各気筒に燃料を分配する複数の分配口を有する燃料分配管と、
前記分配口に燃料流入口を挿入して組み付けられ、前記燃料分配管内の燃料を各気筒に噴射する電気駆動式の燃料噴射装置と、
前記燃料分配管と前記燃料噴射装置とを結合する結合部材とを備え、
前記結合部材は、前記分配口の外周面における前記燃料噴射装置側端部に設けられた組付部と嵌合する第１嵌合部と、前記燃料噴射装置と嵌合する第２嵌合部とを有し、
前記分配口から前記燃料流入口が脱落する方向に前記結合部材が力を受けると前記第１嵌合部は前記組付部に係止され、前記燃料噴射装置は前記第２嵌合部に嵌合した状態で脱落方向および挿入方向に移動可能であり、前記燃料流入口が前記分配口から脱落する方向に前記燃料噴射装置が移動すると前記分配口から前記燃料流入口が脱落しない範囲内で前記第２嵌合部に反分配口側から係止される係止部を前記燃料噴射装置は有していることを特徴とする燃料供給装置。
【請求項２】
前記燃料噴射装置の電気駆動部に電力を供給するコネクタが前記係止部を兼ねていることを特徴とする請求項１記載の燃料供給装置。
【請求項３】
前記第２嵌合部は閉じた環状に形成されていることを特徴とする請求項１または２記載の燃料供給装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１記載の燃料供給装置によると、燃料分配管の分配口からインジェクタの燃料流入口が脱落する方向に結合部材が力を受けると結合部材の第１嵌合部は分配口の外周面におけるインジェクタ側端部に設けられた組付部に係止され、分配口から脱落する方向にインジェクタが移動すると分配口から燃料流入口が脱落しない範囲内でインジェクタの係止部が反分配口側から第２嵌合部に係止される。したがって、インジェクタの燃料流入口を分配口に挿入し、結合部材で燃料分配管とインジェクタとを結合した状態で、インジェクタが燃料分配管から脱落することを防止できる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月18日(2004.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部管と前記内部管に同軸に配設された外部管とを含むヒートパイプとして構成され、前記内部管と前記外部管との間には、液体を収容すると共に、空気を吸引することにより負圧状態に維持されるようにポートを有する内部スペースを備える定着ローラと、
前記定着ローラと接触する加圧ローラと
を有することを特徴とするトナーを記録媒体に定着させる定着システム。
【請求項２】
前記定着ローラは、前記内部スペース内に配置したウィッキング材料を備えることを特徴とする、請求項１に記載の定着システム。
【請求項３】
前記定着ローラの前記外部管は、前記内部スペース内で液体の輸送を行うように形成された複数の溝を備えることを特徴とする、請求項１に記載の定着システム。
【請求項４】
定着ローラと、
前記定着ローラと接触する加圧ローラと、
前記定着ローラの外側から前記定着ローラに接触し、内部管および前記内部管に同軸に配設された外部管を含むヒートパイプとして構成され、前記内部管と前記外部管との間には、液体を収容すると共に、空気を吸引することにより負圧状態に維持されるようにポートを備えた内部スペースが形成された加熱ローラと
を有することを特徴とするトナーを記録媒体に定着させる定着システム。
【請求項５】
低温の領域が加熱され、高温の領域が冷却されるように、長さに沿って熱を再分配する手段を備えた定着ローラであって、前記熱を再分配する手段が、液体を収容すると共に負圧状態に維持される内部スペースを備えている定着ローラと、
前記定着ローラと接触する加圧ローラと
を有することを特徴とする、トナーを記録媒体に定着させる定着システム。
【請求項６】
内部管と、
前記内部管を取り囲み、かつ前記内部管と同軸にある外部管と、
前記内部管および前記外部管により形成され、液体を収容すると共に、空気が吸引されることにより負圧状態に維持されるようになっている内部スペースと
を有することを特徴とする、定着システムにおいて用いられる定着ローラ。
【請求項７】
前記記録媒体の表面にトナーを引き寄せる手段と、
内部管および前記内部管に同軸に配設された外部管を含むヒートパイプとして構成され、前記内部管と前記外部管との間には、液体を収容すると共に、空気を抜くことにより負圧状態に維持されるようになっている内部スペースが形成された定着ローラと、前記定着ローラと接触する加圧ローラとを含む定着システムと
を備えることを特徴とする、トナーを記録媒体に定着させる装置。
【請求項８】
前記定着ローラの前記外部管は、前記内部スペース内で液体の輸送を行うように形成された複数の溝を備えることを特徴とする、請求項７に記載のトナーを記録媒体に定着させる装置。
【請求項９】
液体を収容し負圧状態に維持された内部スペースを備えた定着ローラを設けるステップと、
前記内部スペース内の前記液体が気化するまで、前記定着ローラを加熱するステップと、
前記内部スペース内の前記液体の連続的な液化および再気化により前記定着ローラ内の熱を分配するステップと
を含むことを特徴とする、定着システムにおいて熱を分配する方法。
【請求項１０】
液体を収容し負圧状態に維持された内部スペースを備えた加熱ローラを設けるステップと、
前記定着システムの定着ローラと回転接触するように前記加熱ローラを配置するステップと、
前記内部スペース内の前記液体が気化するまで、前記加熱ローラを加熱するステップと、
前記内部スペース内の前記気化した液体の連続的な液化および再気化により前記加熱ローラ内の熱を分配するステップと
を含むことを特徴とする、定着システムにおいて熱を分配する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月12日(2004.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】定着システム及び定着ローラ及びトナー定着装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トナーを記録媒体に定着させる定着システムにおいて、
内部管と、該内部管の周りに配置されたエラストマー層及び該エラストマー層上に形成された熱輸送層を含む定着ローラと、
該定着ローラに接触する加圧ローラと、
を備え、
前記熱輸送層は高熱容量の金属のみから成ることを特徴とする定着システム。
【請求項２】
前記熱輸送層は厚さが約０．１ｍｍから０．２ｍｍである請求項１に記載の定着システム。
【請求項３】
前記熱輸送層は前記エラストマー層の周りに配置された箔を含む請求項１に記載の定着システム。
【請求項４】
前記定着ローラ内に配置された内部加熱要素をさらに含む請求項１に記載の定着システム。
【請求項５】
前記定着ローラの外面に接触する加熱ローラをさらに含む請求項１に記載の定着システム。
【請求項６】
定着システムで用いる定着ローラにおいて、
金属製の内部管と、
該内部管の周りに配置されたエラストマー層と、
該エラストマー層の周りに形成された熱輸送層と、
を備え、
前記熱輸送層は高熱容量の金属のみから成ることを特徴とする定着ローラ。
【請求項７】
内部でトナーが記録媒体に定着される装置において、
記録媒体の表面上にトナーを引き寄せる手段と、
エラストマー層及び該エラストマー層上に形成された熱輸送層を有する定着ローラを含む定着システムと、
該定着ローラに接触する加圧ローラと、
を備え、
前記熱輸送層は高熱容量の金属のみから成ることを特徴とするトナー定着装置。
【請求項８】
トナーを記録媒体に定着するための定着システムにおいて、
エラストマー層及び該エラストマー層上に形成された熱輸送層を有する定着ローラと、
該定着ローラに接触する加圧ローラと、
を備え、
前記熱輸送層は高熱容量の金属箔を有することを特徴とする定着システム。
【請求項９】
トナーを記録媒体に定着するための定着システムにおいて、
エラストマー層及び該エラストマー層上に形成された熱輸送層を有する定着ローラと、
該定着ローラに接触する加圧ローラと、
を備え、
前記熱輸送層は無電解メッキされた高熱容量の金属層を有することを特徴とする定着システム。
【請求項１０】
トナーを記録媒体に定着するための定着システムにおいて、
エラストマー層及び該エラストマー層上に形成された熱輸送層を有する定着ローラと、
該定着ローラに接触する加圧ローラと、
を備え、
前記熱輸送層は粉体コーティングされた高熱容量の金属層を有することを特徴とする定着システム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【発明の技術的背景】
電子写真方式の印字および複写装置には、紙のシート等の記録媒体にトナー画像を加熱定着させるのに役立つ、定着システムが設けられている。このような定着システムは、通常、加熱した定着ローラと加熱した加圧ローラとを含む。加熱した加圧ローラは、定着ローラを押さえてニップを形成し、このニップにおいて定着が起こる。図１は典型的な従来技術の定着システム１００の簡略的な端面図である。 図１に示すように、定着システム１００は一般的に、定着ローラ１０２、加圧ローラ１０４、内部加熱要素１０６、および温度センサ１０８を含み、定着ローラ１０２および加圧ローラ１０４は、エラストマー材料でできた外層１１４、１１６でコーティングされた中空の管１１０、１１２を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月3日(2005.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水に接触すると第１表面電位を生じる透明粒子を水に分散させ第１懸濁液を作成する工程と、水に接触すると第１表面電位と極性の異なる第２表面電位を生じる不透明微粒子を水に分散させ第２懸濁液を作成する工程と、不透明微粒子が透明粒子に静電的に付着して透明粒子を不透明化するように第１および第２懸濁液を混合する工程と、不透明化粒子に光を照射して撮像する工程と、撮像された画像を解析する工程を含む粒子測定方法。
【請求項２】
透明粒子および不透明微粒子の表面電位が３０ｍＶ以上である請求項１記載の粒子測定方法。
【請求項３】
透明粒子は１〜１００μｍの中位径を有し、不透明微粒子５０〜２００ｎｍの中位径を有する請求項１または２記載の粒子測定方法。
【請求項４】
不透明化粒子に光を照射して撮像する工程が、不透明化粒子をフローセルに流す工程と、フローセル中を流れる不透明化粒子に光を照射して撮像する工程からなる請求項１〜３の何れか１項に記載の粒子測定方法。
【請求項５】
画像を解析する工程が、画像を２値化して画像データとし、画像データに基づいて粒子の円形度を算出する工程を含む請求項１〜４の何れか１項に記載の粒子測定方法。
【請求項６】
第１および第２懸濁液の少なくとも一方のｐＨを制御して、第１および第２表面電位の少なくとも一方を調整する工程をさらに備える請求項１〜５の何れか１項に記載の粒子測定方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月18日(2004.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１４〜５０重量％のポルフィリン類乃至アザポルフィリン類またはその金属錯体が担持されたシリカ化合物を含んでなる、ジフェニルアントラセン測定用の試料処理剤。
【請求項２】
シリカ化合物がシリカゲルである請求項１記載の処理剤。
【請求項３】
シリカ化合物がシリカゲルであり、その水酸基又はケイ素原子にアミノアルキル基が導入され、当該アミノ基に、ポルフィリン類乃至アザポルフィリン類またはその金属錯体が導入された請求項１記載の処理剤。
【請求項４】
アミノアルキル基のアルキル基が炭素数１〜１０のアルキル基である請求項３に記載の処理剤。
【請求項５】
ポルフィリン類乃至アザポルフィリン類がポルフィリン、フタロシアニン又はナフタロシアニンである請求項１〜４の何れかに記載の処理剤。
【請求項６】
金属錯体を構成する金属が銅、コバルト、鉄、ニッケル又はマンガンである請求項１〜５の何れかに記載の処理剤。
【請求項７】
金属錯体を構成する金属が銅、ニッケル又はコバルトである請求項１〜６の何れかに記載の処理剤。
【請求項８】
更に、無機吸着剤、粘土鉱物又は／及び活性炭を含んでなる請求項１〜７の何れかに記載の処理剤。
【請求項９】
無機吸着剤が、酸性物質又は塩基性物質を担持してなるシリカゲルである請求項８に記載の処理剤。
【請求項１０】
粘土鉱物が、活性白土、酸性白土、モンモリロナイト、ベントナイト又はハイドロタルサイトである請求項８又は９に記載の処理剤。
【請求項１１】
無機吸着剤が硫酸シリカゲル、粘土鉱物が活性白土である、請求項８記載の処理剤。
【請求項１２】
請求項１〜７の何れかに記載の処理剤と接触させたジフェニルアントラセン含有試料を試料として用いることを特徴とするジフェニルアントラセンの測定方法。
【請求項１３】
ジフェニルアントラセン含有試料を請求項１〜７の何れかに記載の処理剤で処理し、処理後の試料中のジフェニルアントラセンを測定することを特徴とするジフェニルアントラセンの測定方法。
【請求項１４】
ジフェニルアントラセンの測定が、その蛍光強度を利用して行うものである請求項１３に記載の測定方法。
【請求項１５】
ジフェニルアントラセン含有試料を、請求項１〜７の何れかに記載の処理剤による処理の前又は／及び処理の後に、当該試料中に含まれるジフェニルアントラセン以外の夾雑物を除去する処理に付すことを特徴とする請求項１２〜１４の何れかに記載の測定方法。
【請求項１６】
夾雑物を除去する処理が、酸若しくは塩基による処理、無機吸着剤による処理、活性炭による処理又は／及び粘土鉱物による処理である請求項１５に記載の測定方法。
【請求項１７】
請求項１〜７の何れかに記載の処理剤による処理の前に夾雑物を除去する処理が、酸若しくは塩基による処理、又は／及び無機吸着剤による処理である請求項１５又は１６に記載の測定方法。
【請求項１８】
酸若しくは塩基による処理、又は／及び無機吸着剤による処理が、無機吸着剤による処理である請求項１５〜１７の何れかに記載の測定方法。
【請求項１９】
請求項１〜７の何れかに記載の処理剤による処理の後に夾雑物を除去する処理が、活性炭による処理又は／及び粘土鉱物による処理である請求項１５〜１８の何れかに記載の測定方法。
【請求項２０】
請求項１〜７の何れかに記載の処理剤による処理の後に夾雑物を除去する処理が、活性炭による処理及び粘土鉱物による処理であり、該順序で処理がなされるものである、請求項１５〜１９の何れかに記載の測定方法。
【請求項２１】
無機吸着剤による処理が、硫酸、硝酸、トリフルオロ酢酸、水酸化ナトリウム、或いはこれらを担持してなるシリカゲルによる処理である請求項１６〜２０の何れかに記載の測定方法。
【請求項２２】
粘土鉱物が活性白土、酸性白土、モンモリロナイト、ベントナイト又はハイドロタルサイトである、請求項１６〜２１の何れかに記載の測定方法。
【請求項２３】
無機吸着剤による処理が硫酸シリカゲルによるものであり、粘土鉱物が活性白土である、請求項１６〜２２の何れかに記載の測定方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、「１４〜５０重量％のポルフィリン類乃至アザポルフィリン類またはその金属錯体が担持されたシリカゲルを含んでなるDPA測定用の試料処理剤」、就中「その水酸基又はケイ素原子にアミノアルキル基が導入され、当該アミノ基に、ポルフィリン類乃至アザポルフィリン類またはその金属錯体が導入された１４〜５０重量％のポルフィリン類乃至アザポルフィリン類またはその金属錯体が担持されたシリカゲルを含んでなるDPA測定用処理剤」、「上記処理剤に更に、無機吸着剤、粘土鉱物又は／及び活性炭を含んでなるDPA測定用処理剤」及び「DPA含有試料を上記処理剤と接触させることを特徴とするDPAの測定方法」に関するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月2日(2004.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物へ冷却用ガスを供給する第１ガス供給手段と、
前記冷却用ガスの周りに第２ガスを供給する第２ガス供給手段とを有し、
前記冷却用ガスはヘリウムガスであり、前記第２ガスは該ヘリウムガスよりも重いガスであることを特徴とする冷却装置。
【請求項２】
請求項１において、前記第２ガスは前記冷却用ガスよりも高温のガスであることを特徴とする冷却装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、前記第２ガスは室温であることを特徴とする冷却装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１つにおいて、前記第２ガスは窒素ガスであることを特徴とする冷却装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか１つにおいて、前記対象物は大気中に配置され、前記第２ガス供給手段は該大気と前記冷却用ガスとの間に前記第２ガスを供給することを特徴とする冷却装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか１つにおいて、前記冷却用ガスを−２００℃以下に冷却するガス冷却手段を有することを特徴とする冷却装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか１つにおいて、
前記第１ガス供給手段は前記対象物に向けて開口する内管を有し、
前記第２ガス供給手段は前記内管の開口を中心とするリング状の開口が前記対象物に向けて形成されるように前記内管を包囲する外管を有する
ことを特徴とする冷却装置。
【請求項８】
Ｘ線を発生するＸ線源と、試料から発生する回折Ｘ線を検出するＸ線検出手段と、前記試料に冷却用ガスを供給して該試料を冷却する冷却手段とを有するＸ線装置において、
前記冷却手段は、
前記試料へ冷却用ガスを供給する第１ガス供給手段と、
前記冷却用ガスの周りに第２ガスを供給する第２ガス供給手段とを有し、
前記冷却用ガスはヘリウムガスであり、前記第２ガスは該ヘリウムガスよりも重いガスである
ことを特徴とするＸ線装置。
【請求項９】
請求項８において、前記第２ガスは前記冷却用ガスよりも高温のガスであることを特徴とするＸ線装置。
【請求項１０】
請求項８又は請求項９において、前記第２ガスは室温であることを特徴とするＸ線装置。
【請求項１１】
請求項８から請求項１０のいずれか１つにおいて、前記第２ガスは窒素ガスであることを特徴とするＸ線装置。
【請求項１２】
請求項８から請求項１１のいずれか１つにおいて、前記試料は大気中に配置され、前記第２ガス供給手段は該大気と前記冷却用ガスとの間に前記第２ガスを供給することを特徴とするＸ線装置。
【請求項１３】
請求項８から請求項１２のいずれか１つにおいて、前記冷却用ガスを−２００℃以下に冷却するガス冷却手段を有することを特徴とするＸ線装置。
【請求項１４】
請求項８から請求項１３のいずれか１つにおいて、
前記第１ガス供給手段は前記試料に向けて開口する内管を有し、
前記第２ガス供給手段は前記内管の開口を中心とするリング状の開口が前記試料に向けて形成されるように前記内管を包囲する外管を有する
ことを特徴とするＸ線装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月21日(2004.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学システムにおいて：
光ビームを受け取り、前記光ビームの横方向広がりを調節し、前記光ビームを出力するスポット寸法制御光学系であって、前記光ビームは第１の横方向における第１の広がり及び前記第１の方向に垂直な第２の横方向における第２の広がりを有し、前記スポット寸法制御光学系はアクチュエータに結合され、かつ前記ビームの楕円率を調節するための電気信号に応答し、前記アクチュエータの動きが前記光ビームの前記第１の横方向広がりを前記第２の横方向広がりより大きく変えるものであるスポット寸法制御光学系、及び
前記光ビームを受け取り、前記光ビームの焦点位置を変え、前記光ビームを出力する焦点制御光学系；
を備えることを特徴とする光学システム。
【請求項２】
前記スポット寸法制御光学系及び前記焦点制御光学系を囲む筐体をさらに備え、前記筐体は前記光ビームに対して不透明な壁体を有し、前記光ビームを出力するための出力ポートを少なくとも１つ有することを特徴とする請求項１記載の光学システム。
【請求項３】
前記スポット寸法制御光学系が、前記光ビームの前記第１及び第２の横方向広がりを実質的に等しく調節するための電気信号に応答する第２のアクチュエータに結合されていることを特徴とする請求項２記載の光学システム。
【請求項４】
前記スポット寸法制御光学系が、前記ビームのスポット全体の寸法を調節するための電気信号に応答する第２のアクチュエータを備えることを特徴とする請求項２記載の光学システム。
【請求項５】
前記第２のアクチュエータが前記楕円率に実質的に無関係に前記スポット寸法全体を調節することを特徴とする請求項４記載の光学システム。
【請求項６】
前記焦点制御光学系が前記光ビームの全体の焦点位置を調節するための電気信号に応答するアクチュエータを備えることを特徴とする請求項１記載の光学システム。
【請求項７】
前記スポット寸法制御光学系が前記電気信号に応答する第２のアクチュエータに結合され、前記第２のアクチュエータが前記光ビームの前記第１の横方向広がり及び前記第２の横方向広がりの両者を調節することを特徴とする請求項６記載の光学システム。
【請求項８】
前記スポット寸法制御光学系が、ピボット上に取り付けられたレンズ及び直進並進ステージ、前記レンズを前記ピボット上で回転させるために結合された第１のアクチュエータ、並びに前記レンズを前記直進並進ステージに沿って平行移動させるために結合された第２のアクチュエータを備え、前記第１及び第２のアクチュエータが電気信号に応答することを特徴とする請求項１記載の光学システム。
【請求項９】
前記電気信号が、前記光ビームが第１のビーム位置において第１の選択可能な横方向広がりをもつ第１の状態、及び前記光ビームが前記第１のビーム位置において前記第１の選択可能な横方向広がりとは異なる第２の選択可能な横方向広がりをもつ第２の状態を選択的に定め、前記電気信号が制御信号に応答して前記第１の状態または前記第２の状態のいずれかを自動的に確立することを特徴とする請求項５から８いずれか１項記載の光学システム。
【請求項１０】
前記スポット寸法制御光学系、前記第１及び第２のアクチュエータ、並びに前記焦点制御光学系を囲む筐体をさらに備え、前記制御信号は前記筐体の外部で発生され、
前記筐体内に前記光ビームを出力する固体レーザをさらに備えることを特徴とする請求項９記載の光学システム。
【請求項１１】
前記アクチュエータ内のレンズが、前記第１の焦点位置と前記第２の焦点位置との間隔を縮小するための電気信号に応答して前記光ビームの非点収差を調節することを特徴とする請求項２記載の光学システム。
【請求項１２】
前記光ビームは前記光ビームの第１の横方向成分に対する第１の焦点位置及び前記光ビームの第２の横方向成分に対する第２の焦点位置を有し、前記第１の横方向成分は前記第２の横方向成分に垂直であり、前記焦点制御光学系は前記焦点アクチュエータに与えられる前記電気信号に応答して、前記第１の焦点位置を前記第２の焦点位置より大きな範囲で調節することを特徴とする請求項１記載の光学システム。
【請求項１３】
前記スポット寸法制御光学系が前記光ビームの前記第２の横方向広がりを調節することなく前記光ビームの前記第１の横方向広がりを調節するための電気信号に応答する第１のアクチュエータに結合され、前記焦点制御光学系が前記光ビームの前記第２の焦点位置を調節することなく前記光ビームの前記第１の焦点距離を調節するための電気信号に応答する第２のアクチュエータに結合されていることを特徴とする請求項１２記載の光学システム。
【請求項１４】
前記焦点制御光学系が、ピボット上に取り付けられた第２のレンズ及び直進並進ステージ、前記第２のレンズを前記ピボット上で回転させるために結合された第３のアクチュエータ、並びに前記第２のレンズを前記直進並進ステージに沿って平行移動させるために結合された第４のアクチュエータを備え、前記第３及び第４のアクチュエータが電気信号に応答することを特徴とする請求項１１記載の光学システム。
【請求項１５】
前記第１のレンズが正レンズであり、前記第２のレンズが負レンズであることを特徴とする請求項１４記載の光学システム。
【請求項１６】
固体レーザを備えるレーザシステムであって、光ビームを出力するレーザシステムを有することを特徴とする請求項１記載の光学システム。
【請求項１７】
前記焦点制御光学系で焦点位置が変えられた前記光ビームを受け取るビーム位置決め光学系であって、前記光ビームを横方向に位置決めするビーム位置決め光学系；
を備えることを特徴とする請求項１６記載の光学システム。
【請求項１８】
前記ビーム位置決め光学系が前記光ビームを受光面上でｘ方向及びｙ方向に走査することを特徴とする請求項１７記載の光学システム。
【請求項１９】
前記第１のレンズが正レンズであることを特徴とする請求項１８記載の光学システム。