(57)【要約】【課題】トリアセテートセルロースフィルムのポリビニルアルコールフィルムへの接着性を、鹸化処理によらずに確保する。【解決手段】ポリビニルアルコール系樹脂からなる第１フィルム１１に、トリアセテートセルロースを主成分として含む第２フィルム１２を接着するのに先立ち、反応ガスをプラズマ化し、第２フィルム１２の第１フィルム１１との接着面に接触させる。前記反応ガスは、アクリル酸またはメタクリル酸を含む。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリビニルアルコール系樹脂からなる第１フィルムに、トリアセテートセルロースを主成分として含む第２フィルムを接着するのに先立ち、前記第２フィルムに施す表面処理方法であって、
反応ガスをプラズマ化して前記第２フィルムの前記第１フィルムと接着されるべき面に接触させ、
前記反応ガスが、アクリル酸又はメタクリル酸を含有することを特徴とするフィルム表面処理方法。
【請求項２】
前記第２フィルムの前記反応ガスと接触する部分の温度（以下「フィルム温度」と称す）が、前記反応ガスの前記第２フィルムへの噴出温度（以下「ガス噴出温度」と称す）より低く、かつ前記ガス噴出温度と前記フィルム温度との差が５℃以上であることを特徴とする請求項１に記載の表面処理方法。
【請求項３】
前記フィルム温度が、室温以上であり、
前記反応ガスをアクリル酸又はメタクリル酸の引火点未満かつ前記第２フィルムより５℃以上高温にすることを特徴とする請求項２に記載の表面処理方法。
【請求項４】
前記ガス噴出温度と前記フィルム温度との差が、１０℃以上であることを特徴とする請求項２又は３に記載の表面処理方法。
【請求項５】
前記反応ガスの酸素含有量が、０〜３０００ｐｐｍであることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の表面処理方法。
【請求項６】
アクリル酸またはメタクリル酸を不活性ガス中に気化させて前記反応ガスを得ることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の表面処理方法。
【請求項７】
前記反応ガスが、アクリル酸を含有することを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載の表面処理方法。
【請求項８】
ポリビニルアルコール系樹脂からなる第１フィルムに、トリアセテートセルロースを主成分として含む第２フィルムを積層してなり、前記第１フィルムが偏光膜となり、前記第２フィルムが保護膜となる偏光板の製造方法であって、
反応ガスをプラズマ化して前記第２フィルムの前記第１フィルムと接着されるべき面に接触させる表面処理工程と、
その後、前記第１フィルムと前記第２フィルムを接着剤にて接着する接着工程と、を含み、
前記反応ガスが、アクリル酸またはメタクリル酸を含有することを特徴とする偏光板の製造方法。
【請求項９】
前記表面処理工程において、前記第２フィルムの前記反応ガスと接触する部分の温度（以下「フィルム温度」と称す）が、前記反応ガスの前記第２フィルムへの噴出温度（以下「ガス噴出温度」と称す）より低く、かつ前記ガス噴出温度と前記フィルム温度との差が５℃以上であることを特徴とする請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記フィルム温度が、室温以上であり、
前記反応ガスを、アクリル酸又はメタクリル酸の引火点未満かつ前記フィルム温度より５℃以上高温にすることを特徴とする請求項９に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記ガス噴出温度と前記フィルム温度との差が、１０℃以上であることを特徴とする請求項９又は１０に記載の表面処理方法。
【請求項１２】
前記反応ガスの酸素含有量が、０〜３０００ｐｐｍであることを特徴とする請求項８〜１１の何れかに記載の製造方法。
【請求項１３】
前記表面処理工程において、アクリル酸またはメタクリル酸を不活性ガス中に気化させて前記反応ガスを得ることを特徴とする請求項８〜１２の何れかに記載の製造方法。
【請求項１４】
前記反応ガスが、アクリル酸を含有することを特徴とする請求項８〜１３の何れかに記載の製造方法。
【請求項１５】
前記第２フィルムの前記第１フィルムと接着される面とは反対側の面に機能層が被膜されており、前記プラズマ化に用いる一対の電極のうち一方の電極の放電面に前記機能層を向けて、前記放電面を前記第２フィルムで隙間無く覆った状態で、前記反応ガスを前記第２フィルムと他方の電極との間に導入することを特徴とする請求項８〜１４の何れかに記載の製造方法。
【請求項１６】
請求項１〜７に記載の表面処理方法に用いられる、又は請求項８〜１５の何れかに記載の製造方法における表面処理工程に用いられる表面処理装置であって、
前記第２フィルムが配置される処理空間を有し、前記処理空間内又はその近傍で前記プラズマ化を行なうプラズマ処理部と、
前記処理空間に反応ガスを供給する反応ガス供給系と、
前記第２フィルムの前記反応ガスと接触する部分の温度（以下「フィルム温度」と称す）を調節するフィルム温度調節手段と、
前記反応ガスの前記第２フィルムへの噴出温度（以下「ガス噴出温度」と称す）を調節するガス温度調節手段と、
を備え、前記フィルム温度調節手段と前記ガス温度調節手段とによって、前記フィルム温度が前記ガス噴出温度より低く、かつ前記ガス噴出温度と前記フィルム温度との差が５℃以上になるよう調節することを特徴とする表面処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリビニルアルコール（以下、必要に応じて「ＰＶＡ」と称す）系樹脂からなるＰＶＡフィルム（第１フィルム）に、トリアセテートセルロース（以下、必要に応じて「ＴＡＣ」と称す）を主成分として含むＴＡＣフィルム（第２フィルム）を接着するのに先立ち、接着性を高めるためにＴＡＣフィルムに施す表面処理方法、及びＰＶＡフィルムを偏光膜とし、この偏光膜に保護膜としてＴＡＣフィルムを積層した偏光板を製造する方法に関する。特に、ＴＡＣフィルムを、鹸化処理によらずに表面処理しＰＶＡフィルムと接着する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、液晶表示部には偏光板が組み込まれている。偏光板は、ＰＶＡ系樹脂からなる偏光膜にＴＡＣフィルムからなる保護膜を接着剤で接着したものである。ＴＡＣフィルムは、接着に先立って、水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどのアルカリ水溶液に漬けられ、鹸化処理される。鹸化処理するのは、ＴＡＣフィルムの親水性を高め、ＴＡＣフィルムの偏光膜への接着性を確保するためである。接着剤としては、一般にポリビニルアルコール系やポリエーテル系の接着剤が用いられている。
特許文献１では、ＴＡＣフィルムを鹸化処理した後、上記ＴＡＣフィルムにハードコート層を塗布により積層し、その後、一軸延伸されたＰＶＡからなる偏光膜の両面に上記ハードコート層付きＴＡＣフィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用いて積層している。
特許文献２では、反応ガスを大気圧近傍下でプラズマ化している。反応ガス成分としてアクリル酸、メタクリル酸を用いることで基材フィルムを疎水性化している。
特許文献３では、鹸化処理したＴＡＣフィルムの片面を低圧グロー放電等で表面処理し、このＴＡＣフィルムの表面処理された面にハードコート層を塗布にて積層している。表面処理によってハードコート層とＴＡＣフィルムの接着性を高めている。
特許文献４では、ＴＡＣフィルム等の基材を大気圧近傍プラズマで表面処理している。表面処理用のガスは、窒素、アルゴン等の放電ガスと、薄膜形成用ガスとの混合ガスを用いている。薄膜形成用ガスとしてアクリル酸、メタクリル酸等を用いることで、基材の親水性を高めている。これにより、基材上にプラズマ処理にて成膜される反射防止膜等の膜と該基材との密着性を向上させている。
【特許文献１】特開平０８−１７１０１６号公報
【特許文献２】特開２００３−２０１５６８号公報（段落０００１、００４７）
【特許文献３】特開２００３−２２７９３２号公報
【特許文献４】特開２００６−２９９０００号公報（段落０１１３〜０１１９、０１３０、０１４３）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
鹸化処理されたＴＡＣフィルムは、耐熱性が低下したり、ロール状態での保存時に部分的にブロッキングが生じたりしやすかった。また、ＴＡＣフィルムの接着面とは反対側の面にハードコートが施されていると、鹸化処理によってヘイズ値が上がり光学特性が変化するという不具合があった。鹸化処理に用いるアルカリ水溶液の廃液処理の問題もあった。
一方、未鹸化のＴＡＣフィルムの場合、ポリビニルアルコール系やポリエーテル系の従来の接着剤では偏光膜に接着することができなかった。ポリオレフィン系ポリオール（特開２００３−１５５３７９号）などのオレフィン系水性接着剤でも接着不能であった。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
発明者は、上記問題点を解決するために鋭意研究を行なった。その結果、ＴＡＣフィルムにある種の有機化合物のモノマーをプラズマ化して照射すると、鹸化処理したのと同様の接着性を得ることができることを見出した。
本発明は、上記の知見に基づいてなされたものであり、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂からなる第１フィルムに、トリアセテートセルロース（ＴＡＣ）を主成分として含む第２フィルムを接着するのに先立ち、前記第２フィルムに施す表面処理方法であって、反応ガスをプラズマ化（分解、励起、活性化、ラジカル化、イオン化を含む）して前記第２フィルムの前記第１フィルムと接着されるべき面に接触させるものである。
また、本発明は、ＰＶＡ系樹脂からなる第１フィルムに、ＴＡＣを主成分として含む第２フィルムを積層してなり、前記第１フィルムが偏光膜となり、前記第２フィルムが保護膜となる偏光板の製造方法であって、反応ガスをプラズマ化して前記第２フィルムの前記第１フィルムと接着されるべき面に接触させる表面処理工程と、その後、前記第１フィルムと前記第２フィルムを接着剤にて接着する接着工程と、を含むものである。
前記反応ガスは、反応成分として不飽和結合及び所定の官能基を有するモノマーを含む。前記所定の官能基は、水酸基、カルボキシル基、アセチル基、グリシジル基、エポキシ基、炭素数１〜１０のエステル基、スルホン基、アルデヒド基から選択され、特に、カルボキシル基が好ましい。【０００５】
不飽和結合及び水酸基を有するモノマーとしては、メタクリル酸エチレングリコール、アリルアルコール、メタクリル酸ヒドロキシエチル等が挙げられる。
不飽和結合及びカルボキシル基を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マイレン酸、２−メタクリロイルプロピオン酸等が挙げられる。
不飽和結合及びアセチル基を有するモノマーとしては、酢酸ビニル等が挙げられる。
不飽和結合及びグリシジル基を有するモノマーとしては、メタクリル酸グリシジル等が挙げられる。
不飽和結合及びエステル基を有するモノマーとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸２−エチル等が挙げられる。
不飽和結合及びアルデヒド基を有するモノマーとしては、アクリルアルデヒド、クロトンアルデヒド等が挙げられる。【０００６】
好ましくは、前記反応ガスは、エチレン性不飽和二重結合及びカルボキシル基を有するモノマーを含む。かかるモノマーとして、アクリル酸（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＨ）、メタクリル酸（ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＨ）が挙げられる。【０００７】
前記モノマーは、不活性ガスにキャリアされてプラズマ化されるようになっていてもよい。不活性ガスは、窒素、アルゴン、ヘリウム等から選択され、経済性の観点からは窒素を用いるのが好ましい。
アクリル酸やメタクリル酸をはじめとする上記列挙のモノマーの多くは、常温常圧で液相である。そのようなモノマーは、不活性ガス中に気化させて、気化したモノマーと不活性ガスとの混合ガスを得、この混合ガスを前記反応ガスとするのが好ましい。アクリル酸やメタクリル酸等のモノマーは、加熱やバブリングなどで気化させ、上記不活性ガスにキャリアさせるとよい。
加熱して気化させる場合の加熱器の負担を考慮し、モノマーは、沸点が３００℃以下のものを選択するのが好ましい。また、モノマーは、加熱により分解（化学変化）しないものを選択するのが好ましい。【０００８】
前記第２フィルムの前記第１フィルムと接着される面とは反対側の面にハードコート層やＡＲ（Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）層などの機能層が被膜されている場合、前記プラズマ化に用いる一対の電極のうち一方の電極の放電面に前記機能層を向けて、前記放電面を前記第２フィルムで隙間無く覆った状態で、前記反応ガスを前記第２フィルムと他方の電極との間に導入することが好ましい。これによって、プラズマ化された反応ガスを、第２フィルムの偏光膜との接着面に確実に接触させることができるだけでなく、機能層と前記一方の電極との間にプラズマが形成されたり、プラズマ化された反応ガスが入り込んできたりするのを防止でき、機能層がダメージを受けるのを防止することができる。【０００９】
本発明の表面処理を施した第２フィルムと第１フィルムとを接着する接着剤としては、特に限定はなく、ポリビニルアルコール水溶液、ポリビニルブチラール溶液等を主成分とするポリビニルアルコール系の接着剤液、ブチルアクリレートなどを主成分とするビニル系重合系ラテックス、ポリオレフィン系ポリオール等を主成分とするオレフィン水性接着剤、ポリエーテル系接着剤等が挙げられるが、ポリビニルアルコール水溶液を主成分とするポリビニルアルコール系接着剤を用いるのがより好ましい。【００１０】
反応ガスのプラズマ化は、大気圧近傍の圧力下で行なうのが好ましい。ここで、大気圧近傍とは、１．０１３×１０４〜５０．６６３×１０４Ｐａの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡便化を考慮すると、１．３３３×１０４〜１０．６６４×１０４Ｐａが好ましく、９．３３１×１０４〜１０．３９７×１０４Ｐａがより好ましい。【００１１】
前記反応ガスは、アクリル酸又はメタクリル酸を含有することが好ましく、特にアクリル酸を含有することが好ましい。【００１２】
前記表面処理方法において、又は前記偏光板製造方法の表面処理工程において、前記第２フィルムの前記反応ガスと接触する部分の温度（以下「フィルム温度」と称す）が、前記反応ガスの前記第２フィルムへの噴出温度（以下「ガス噴出温度」と称す）より低く、かつ前記ガス噴出温度と前記フィルム温度との差が５℃以上であることが好ましく、前記温度差が１０℃以上であることが一層好ましい。【００１３】
前記フィルム温度が、室温以上であることが好ましい。ここで、室温とは、一般に２０〜２５℃であり、より一般的には２５℃である。前記反応ガスを、アクリル酸又はメタクリル酸の引火点未満かつ前記第２フィルムより５℃以上高温にすることが好ましい。前記反応ガスをアクリル酸又はメタクリル酸の引火点未満かつ前記第２フィルムより１０℃以上高温にすることがより好ましい。アクリル酸の引火点は、５４℃である。メタクリル酸の引火点は、７７℃である。ちなみに、アクリル酸の発火点は、３６０℃である。メタクリル酸の発火点は、３６０℃である。【００１４】
前記反応ガスの酸素含有量が、０〜３０００ｐｐｍであることが好ましく、２０００ｐｐｍ以下であることがより好ましい。【００１５】
本発明に係る表面処理装置は、前記表面処理方法に用いられる、又は前記偏光板製造方法の表面処理工程に用いられるものであって、
前記第２フィルムが配置される処理空間を有し、前記処理空間内又はその近傍で前記プラズマ化を行なうプラズマ処理部と、
前記処理空間に反応ガスを供給する反応ガス供給系と、
前記第２フィルムの前記反応ガスと接触する部分の温度（以下「フィルム温度」と称す）を調節するフィルム温度調節手段と、
前記反応ガスの前記第２フィルムへの噴出温度（以下「ガス噴出温度」と称す）を調節するガス温度調節手段と、
を備えている。好ましくは、前記フィルム温度調節手段と前記ガス温度調節手段とによって、前記フィルム温度が前記ガス噴出温度より低くなるよう調節する。より好ましくは、前記フィルム温度調節手段と前記ガス温度調節手段とによって、前記ガス噴出温度と前記フィルム温度との差が５℃以上、一層好ましくは１０℃以上になるよう調節する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、ＴＡＣフィルムのＰＶＡフィルムへの接着性を、鹸化処理によらずに確保できる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】（ａ）は、偏光板の断面図を示し、（ｂ）は、ハードコード層付きの偏光板の断面図を示す。
【図２】ＴＡＣフィルムの表面処理に用いる大気圧プラズマ処理装置の一例を示す概略構成図である。
【図３】窒素キャリアに含有可能なアクリル酸の限界濃度と温度との関係（理論値）を示すグラフである。
【図４】本発明の第２実施形態を示し、大気圧プラズマ処理装置の変形例を示す概略構成図である。
【図５】本発明の第３実施形態に係る大気圧プラズマ処理装置の概略構成図である。
【図６】実施例４における接触角（親水性）の測定結果を示すグラフである。
【図７】実施例５に用いた大気圧プラズマ処理装置の概略構成図である。
【図８（ａ）】実施例５において、ガス噴出温度とフィルム温度の差がΔＴ＝＋１７℃のときの接着性を示すグラフである。
【図８（ｂ）】実施例５において、ガス噴出温度とフィルム温度の差がΔＴ＝＋１２℃のときの接着性を示すグラフである。
【図８（ｃ）】実施例５において、ガス噴出温度とフィルム温度の差がΔＴ＝＋１０℃のときの接着性を示すグラフである。
【図８（ｄ）】実施例５において、ガス噴出温度とフィルム温度の差がΔＴ＝＋７℃のときの接着性を示すグラフである。
【図８（ｅ）】実施例５において、ガス噴出温度とフィルム温度の差がΔＴ＝＋７℃のときの接着性を示すグラフである。
【図８（ｆ）】実施例５において、ガス噴出温度とフィルム温度の差がΔＴ＝＋５℃のときの接着性を示すグラフである。
【図８（ｇ）】実施例５において、ガス噴出温度とフィルム温度の差がΔＴ＝＋２℃のときの接着性を示すグラフである。
【図８（ｈ）】実施例５において、ガス噴出温度とフィルム温度の差がΔＴ＝＋２℃のときの接着性を示すグラフである。
【図８（ｉ）】実施例５において、ガス噴出温度とフィルム温度の差がΔＴ＝＋２℃のときの接着性を示すグラフである。
【図８（ｊ）】実施例５において、ガス噴出温度とフィルム温度の差がΔＴ＝−３℃のときの接着性を示すグラフである。
【図８（ｋ）】実施例５において、ガス噴出温度とフィルム温度の差がΔＴ＝−３℃のときの接着性を示すグラフである。
【図８（ｌ）】実施例５において、ガス噴出温度とフィルム温度の差がΔＴ＝−８℃のときの接着性を示すグラフである。
【図９】実施例６に用いた大気圧プラズマ処理装置の概略構成図である。
【図１０】実施例７に用いた大気圧プラズマ処理装置の概略構成図である。
【符号の説明】
【００１８】
１        表面処理装置
２        プラズマ処理部
３        反応ガス供給系
１０      偏光板
１１      偏光膜（ＰＶＡフィルム、第１フィルム）
１２      保護膜（ＴＡＣフィルム、第２フィルム）
１３      接着剤
１４      ハードコート層
２１，２１Ｒ  電源側電極
２２，２２Ｒ  接地側電極
２３      電源
２７      フィルム温度調節手段
２９      処理空間
３０      反応成分供給源（容器）
３３      加熱器（気化手段）
３４      キャリア供給源
３６      断熱材
３９      ガス温度調節手段
Ａｃ      アクリル酸（反応ガス成分）
ｐ        大気圧プラズマ空間
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。
図１（ａ）は、液晶ディスプレイ用の偏光板１０を示したものである。偏光板１０は、偏光膜１１と、この偏光膜１１の両面に積層された一対の保護膜１２とを有している。偏光膜１１は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂にて構成されている。以下、偏光膜１１を、必要に応じてＰＶＡフィルム１１又は第１フィルム１１とも称す。【００２０】
保護膜１２は、トリアセテートセルロース（ＴＡＣ）を主成分として含む。以下、保護膜１２を、必要に応じてＴＡＣフィルム１２又は第２フィルム１２とも称す。ＴＡＣフィルム１２は、トリアセテートセルロースを９０％以上含む。ＴＡＣフィルム１２は、トリアセテートセルロースの他、リン酸エステルなどの可塑剤を３〜１０重量％程度含有していてもよく、紫外線吸収剤が含有されていてもよい。ＴＡＣフィルムの厚さには、特に限定がなく、例えば数μｍ〜数百μｍである。ＴＡＣフィルム１２は、鹸化処理されていない未鹸化のものを用いる。ＴＡＣフィルム１２の製造方法は特に限定がなく、例えばキャスト法で製造される。【００２１】
ＰＶＡフィルム１１とＴＡＣフィルム１２は、接着剤１３で接着されている。接着剤１３は、ポリビニルアルコール水溶液を主成分とするポリビニルアルコール系接着剤が用いられているが、これに限定されるものではなく、ポリビニルブチラール水溶液等を主成分とするポリビニルアルコール系接着剤を用いてもよく、ブチルアクリレートなどを主成分とするビニル系重合系ラテックスを用いてもよく、ポリエーテル系接着剤を用いてもよく、ポリオレフィン系ポリオール等を主成分とするオレフィン水性接着剤を用いてもよい。【００２２】
図１（ｂ）に示すように、一方のＴＡＣフィルム１２の表側面（ＰＶＡフィルム１１との接着面とは反対側の面）に、機能層としてハードコート層１４が積層される場合もある。ハードコート層１４に代えて、ＡＲ層、その他の機能層が積層されていてもよい。【００２３】
ＴＡＣフィルム１２は、ＰＶＡフィルム１１との接着に先立ち、接着性確保のための表面処理工程に付される。
図２に示すように、表面処理工程には、表面処理装置１が用いられる。表面処理装置１は、大気圧プラズマ処理装置で構成されている。装置１は、プラズマ処理部２と、反応ガス供給系３とを備えている。プラズマ処理部２は、平板状の電極２１とロール状の電極２２Ｒを備えている。これら電極２１，２２Ｒどうしの間に処理空間２９が形成されている。【００２４】
平板電極２１に電源２３が接続され、ロール電極２２Ｒが電気的に接地されている。電源２３は、例えばパルス状の電圧を平板電極２１に印加する。これにより、平板電極２１とロール電極２２Ｒの間にパルス状の電界が形成され、処理空間２９内に大気圧プラズマｐが生成されるようになっている。パルスの立ち上がり及び／又は立ち下がり時間は、１０μｓ以下であるのが好ましく、電界強度は、１０〜１０００ｋＶ／ｃｍであるのが好ましく、周波数は、０．５〜１００ｋＨｚであるのが好ましい。供給電圧は、パルス状に限られず、正弦波等の連続波状であってもよい。【００２５】
ＴＡＣフィルム１２が、ロール電極２２Ｒの上側の周面（一方の電極の放電面）に部分的に巻き付けられ、ロール電極２２Ｒの上側の周面を覆っている。ＴＡＣフィルム１２の電極２２Ｒに被さる部分が、処理空間２９内に配置されている。ＴＡＣフィルム１２の片面（ＰＶＡフィルム１１と接着されるべき接着面）は、上側の平板電極２１を向き、その反対側の面は、ロール電極２２Ｒの上側周面に隙間無く接している。図１（ｂ）に示すハードコート層１４付きのＴＡＣフィルム１２の場合、ハードコート層１４がロール電極２２Ｒの上側周面に隙間無く接することになる。
ＴＡＣフィルム１２は、ロール電極２２Ｒ及び搬送ロール２４の回転により一方向に搬送されるようになっている。【００２６】
反応ガス供給系３は、反応成分供給源３０と、キャリア供給源３４を有している。反応成分供給源３０は、反応成分を蓄えた容器で構成されている。反応成分は、不飽和結合及び所定の官能基を有するモノマーであり、ここでは、反応成分として、アクリル酸（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＨ）が用いられている。アクリル酸は、エチレン性不飽和二重結合及びカルボキシル基を有するモノマーである。アクリル酸が液相で容器３０内に蓄えられている。図において、液体アクリル酸を符号「Ａｃ」で示す。容器３０には気化手段として加熱器３３が組み込まれている。容器３０は恒温槽を構成している。液体アクリル酸Ａｃが加熱器３３によって加熱されて気化される。アクリル酸Ａｃの加熱温度は、室温（２５℃）〜８０℃が好ましく、安全性の観点からは引火点が５４℃であることを考慮して５０℃以下にするのが好ましい。図３に示すように、液体アクリル酸Ａｃの加熱温度によってアクリル酸の気化量を調節できる。
室温近傍でもアクリル酸の気化量が必要量を満たす場合、加熱器３３を省略してもよい。【００２７】
キャリア供給源３４には、キャリアガスとして窒素が蓄えられている。キャリアガスとして窒素に代えて、アルゴン、ヘリウム等の他の不活性ガスを用いてもよい。キャリア供給源３４からキャリア路３５が延びている。キャリア路３５が、反応成分容器３０に接続している。【００２８】
キャリア供給源３４からの窒素がキャリア路３５から反応成分容器３０に導入される。この反応成分容器３０の内部で、窒素ガスと、気化したアクリル酸ガス（反応成分）とが混合される。これにより、アクリル酸と窒素の混合ガスからなる反応ガスが生成される。上述したように、反応ガス（アクリル酸＋窒素）中のアクリル酸の濃度は、加熱器３３による液体アクリル酸Ａｃの加熱温度によって調節できる。
キャリア路３５の終端は、アクリル酸Ａｃの液面より上に位置しているが、アクリル酸Ａｃの液の内部まで延ばし、バブリングさせてもよい。【００２９】
反応成分容器３０から供給路３１がプラズマ処理部２へ延びている。供給路３１の先端部に噴出ノズル３２が設けられている。噴出ノズル３２は、平板電極２１の一側部に設けられている。【００３０】
反応成分容器３０で生成された反応ガス（アクリル酸＋窒素）は、供給路３１を経て、噴出ノズル３２から処理空間２９に吹き出される。この処理空間２９内にプラズマｐが生成され、反応ガスがプラズマ化（分解、励起、活性化、イオン化を含む）される。このプラズマ化されたガスが、ＴＡＣフィルム１２の片面（ＰＶＡフィルム１１との接着面）に接触し、プラズマ表面処理がなされる。【００３１】
ＴＡＣフィルム１２は、ロール電極２２Ｒの上側周面に隙間無く被さっている。したがって、ロール電極２２ＲとＴＡＣフィルム１２の間にプラズマが形成されるのを防止できる。また、ＴＡＣフィルム１２と平板電極２１との間でプラズマ化された反応ガスが、ロール電極２２ＲとＴＡＣフィルム１２の間に入り込むのを防止することができる。したがって、図１（ｂ）に示すハードコート層１４付きのＴＡＣフィルム１２の場合、ハードコート層１４がプラズマに曝されて変質するのを回避でき、ヘイズ値等の光学特性が悪化するのを防止することができる。【００３２】
電極２１の噴出ノズル３２側とは反対側に吸引ノズル４２が設けられている。吸引ノズル４２は、吸引路４１を介して排気手段４０に連なっている。
処理空間２９で処理済みになったガスは、吸引ノズル４２から吸込まれ、吸引路４１を経て、排気手段４０にて排気処理される。【００３３】
［接着工程］
上記表面処理工程の後、ＴＡＣフィルム１２の接着面とＰＶＡフィルム１１とを接着剤１３で接着する。ＴＡＣフィルム１２の接着面は、上記のプラズマ表面処理を施されているため、良好な接着性を得ることができ、ＰＶＡフィルム１１と強固に接着させることができる。【００３４】
次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において既述の形態と重複する構成に関しては図面に同一符号を付して説明を省略する（後記実施例も同様）。
図４は第２実施形態を示したものである。第２実施形態では、大気圧プラズマ処理装置１の電極構造が、一対のロール電極２１Ｒ，２２Ｒで構成されている。一対のロール電極２１Ｒ，２２Ｒは、上下に対向している。上側のロール電極２１Ｒに電源２３が接続されている。下側のロール電極２２Ｒが電気的に接地されている。このような電極構造により、これらロール電極２１Ｒ，２２Ｒ間に大気圧プラズマ放電ｐが生成する。
ＴＡＣフィルム１２は、真っ直ぐ張られた状態でこれらロール電極２１Ｒ，２２Ｒ間に通されているが、図２の形態と同様に、一方のロール電極２２Ｒに巻きつけることにしてもよい。【００３５】
図５は第３実施形態を示したものである。第３実施形態では、一対のロール電極２１Ｒ，２２Ｒが左右に対向して配置されている。これらロール電極２１Ｒ，２２Ｒの間に形成された処理空間２９内に大気圧プラズマｐが生成される。処理空間２９の上方に、噴出ノズル３２が設けられている。ロール電極２１Ｒ，２２Ｒの下側には、左右一対の折り返しローラ２５，２６が設けられている。【００３６】
ＴＡＣフィルム１２は、ロール電極２１Ｒ、折り返しローラ２５、折り返しローラ２６、ロール電極２２Ｒの順に巻き付けられている。ＴＡＣフィルム１２は、ロール電極２１Ｒに巻かれた状態で処理空間２９を通過しつつ表面処理される。その後、ＴＡＣフィルム１２は、ロール電極２１Ｒから繰り出され、折り返しローラ２５，２６で折り返され、接地側のロール電極２２Ｒに巻き付けられる。このとき、ＴＡＣフィルム１２は、再び処理空間２９を通過し、表面処理される。したがって、１つの処理空間２９でＴＡＣフィルム１２が２回処理される。【００３７】
電源側ロール電極２１Ｒには、フィルム温度調節手段２７が組み込まれている。フィルム温度調節手段２７は、所定温度の温調媒体をロール電極２１Ｒの内部に流通させる温調路で構成されている。温調媒体として例えば水が用いられる。これによって、ロール電極２１Ｒの温度を調節できる。従って、ＴＡＣフィルム１２がロール電極２１Ｒと接している部分ひいては反応ガスが吹き付けられる部分のフィルム１２の温度（以下「フィルム温度Ｔｂ」と称す）を調節できる。フィルム温度Ｔｂは、露点〜８０℃程度が好ましい。フィルム温度Ｔｂを露点以上にすることで、ＴＡＣフィルム１２に結露が出来るのを防止できる。フィルム温度Ｔｂを８０℃以下にすることで、ＴＡＣフィルム１２が熱変形を来たすのを防止できる。【００３８】
同様に、接地側ロール電極２２Ｒにも温度調節手段２７が組み込まれている。これによって、ロール電極２２Ｒの温度を調節できる。ひいては、ＴＡＣフィルム１２の反応ガスと接触する部分の温度Ｔｂを調節できる。【００３９】
さらに、反応ガス供給路３１を構成する管の外周には断熱材３６が設けられている。反応ガス（アクリル酸＋窒素）は、供給路３１を通過するとき、断熱材３６によって保温され、反応成分容器３０内での温度をほぼ維持した状態で噴出ノズル３２から噴出される。加熱器３３を含む反応成分容器（恒温槽）３０及び断熱材３６は、ガス温度調節手段３９を構成している。ガス温度調節手段３９によって、反応ガスの温度、特に噴出ノズル３２から噴出される時の温度（以下「ガス噴出温度Ｔａ」と称す）が調節される。ガス噴出温度Ｔａは、３５℃〜８０℃程度であることが好ましい。ガス噴出温度Ｔａは、より好ましくは４０℃〜５０℃である。【００４０】
更に、２つの温度調節手段２７，３９によって、フィルム温度Ｔｂ（≧室温）がガス噴出温度Ｔａより低くなるよう調節される。好ましくは、温度差ΔＴ＝Ｔａ−Ｔｂが、ΔＴ≧＋５℃になるよう調節される。より好ましくは、ΔＴ≧＋１０℃になるよう調節される。【００４１】
ΔＴの上限は、ＴＡＣフィルム１２が膨潤等の熱変形を来たさない範囲で設定するのが好ましい。ＴＡＣフィルム１２が膨潤等の熱変形を来たさない限界温度は、処理条件等にも依るが、例えば８０℃前後である。湿度を低く保つようコントロールした場合、結露が生じない温度で、かつ現実的な下限室温は、例えば１０℃前後である。したがって、ＴＡＣフィルム１２の熱変形を防止し、かつ結露を防止する観点からは、ΔＴ≦＋７０℃程度が好ましい。また、アクリル酸の引火点（５４℃）を考慮した安全性の観点、及び結露をより確実に防止する観点からは、ΔＴ≦＋３０℃程度が好ましい。より一層好ましくは、ΔＴ≦＋２０℃である。【００４２】
上記の温度差ΔＴの条件下でＴＡＣフィルム１２の表面処理を行なうことにより、ＴＡＣフィルム１２とＰＶＡフィルム１１との接着性を十分に高めることができる。【００４３】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、種々の改変をなすことができる。
例えば、反応ガス中の反応成分として、アクリル酸に代えて、メタクリル酸を用いてもよい。
ＴＡＣフィルム１２の上記表面処理方法は、偏光板の製造以外の用途に適用してもよい。
キャリア路３５の終端は、アクリル酸Ａｃの液面より上に位置しているが、アクリル酸Ａｃの液の内部まで延ばし、バブリングさせることにしてもよい。【００４４】
プラズマ処理装置１の電極構造は、実施形態に示したものに限られず、平行平板電極であってもよい。平板電極２１の代わりに、放電面がロール電極２２Ｒの曲面に沿う凹面である電極を用いてもよいし、ロール電極２２Ｒより直径の小さいロール電極又は棒状電極を用いても良い。【００４５】
上記実施形態では、プラズマ処理部２の電極間の空間（ギャップ）内にＴＡＣフィルム１２が通され、電極間空間が、ＴＡＣフィルム１２が表面処理される処理空間２９となっていたが、処理空間が電極間空間とは別でもよく、例えば反応ガスが電極間空間でプラズマ化された後、処理空間内のＴＡＣフィルムへ向けて吹き出されるようになっていてもよい。この場合、プラズマ化後、電極間空間から処理空間に噴出される時点の反応ガスの温度が、フィルム温度Ｔｂより５℃以上高温であることが好ましく、１０℃以上高温であることがより好ましい。【００４６】
プラズマの生成は、大気圧近傍に限られず、真空下で行なってもよい。【００４７】
第１〜第３実施形態を互いに組み合わせてもよい。例えば、第１、第２実施形態（図２、図４）においても、第３実施形態と同様に、フィルム温度調節手段２７とガス温度調節手段３９を組み込み、ガス噴出温度Ｔａがフィルム温度Ｔｂより高温になるよう調節してもよく、好ましくは温度差ΔＴ＝Ｔａ−Ｔｂが、ΔＴ≧＋５℃、より好ましくはΔＴ≧＋１０℃になるよう調節してもよい。ΔＴの上限は、ＴＡＣフィルム１２が膨潤等の熱変形を来たさない範囲で設定するとよい。【００４８】
フィルム温度調節手段２７は、電熱ヒータや熱線ヒータや温風ヒータでもよい。ヒータは、電極に内蔵されていてもよく、電極の外部に配置されていてもよい。【００４９】
ガス温度調節手段３９として、反応ガス供給路３１を構成する管の外周にリボンヒータ等の電熱ヒータや、熱線ヒータを設けてもよい。ガス温度調節手段３９は、熱交換器でもよい。例えばガス温度調節手段３９として、水等の温調媒体を流通させる熱交換パイプを、反応ガス供給路３１を構成する管と熱交換可能に設けてもよい。ガス温度調節手段３９は、温風ヒータでもよい。
【実施例１】
【００５０】
実施例を説明するが、本発明がこの実施形態に限定されるものではない。
図２に示す大気圧プラズマ処理装置１を用いて、ＴＡＣフィルムのプラズマ表面処理を行なった。ＴＡＣフィルムは、株式会社フジ写真フィルム製のフジタック（登録商標）を用いた。その厚さは３０μｍであった。
処理条件は以下の通り。
電源２３からの出力パルスの周波数：    ５〜３０ｋＨｚ
電極２１，２３間のパルス電圧：  Ｖｐｐ＝１３〜１８ｋＶ
反応ガス（アクリル酸＋窒素）の流量：    １０Ｌ／ｍｉｎ
反応ガス中のアクリル酸濃度：  ０．１〜１０ｖｏｌ％
ＴＡＣフィルムの搬送速度：  ２ｍ／ｍｉｎ【００５１】
プラズマ表面処理後のＴＡＣフィルムの片面に接着剤を塗布した。接着剤として、以下の成分を混合した水性接着剤を用いた。以下の成分を混合して１００％としている。
株式会社クラレ製クラレポバールＰＶＡ２１７を水に溶解した２０％水溶液：  ９５．０ｗｔ％以上
メタノール：  ５．０ｗｔ％未満
酢酸メチル：  １．０ｗｔ％未満
接着剤を塗布したＴＡＣフィルムを偏光膜の両面にそれぞれ重ね、ニップロールを用い、加圧しながら張り合わせた。温度は常温から８０℃、圧力は１〜１０ｋｇ／ｃｍ２とした。偏光膜は、ＰＶＡ樹脂からなり、その厚さは、１２μｍであった。得られた偏光板を８０℃の反応成分容器で５分間加熱乾燥した後、室温で１２時間、静置した。【００５２】
この偏光板について下記の評価を行なった。
接着力評価
ＪＩＳ  Ｋ６８５４に準拠し、偏光板を幅２５ｍｍに切断して帯状にし、常温（２３℃）、引っ張り強度１００ｍｍ／ｍｉｎの条件でＴ型剥離試験を行なった。
その結果、偏光板が材破し、十分に大きな接着力を有していたことが確認された。
耐湿熱性評価
偏光板を５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切断し、７０℃の温水に浸漬した。
この浸漬状態で１２０分経過しても、ＴＡＣフィルムが偏光膜から剥がれることはなく、偏光膜が変色することはなかった。これにより、耐湿熱性も良好であることが確認された。【００５３】
〔比較例１〕
比較例として、鹸化処理した従来のＴＡＣフィルムで偏光板を作成した。鹸化用のアルカリ液として、４０〜６０℃に加熱した２Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を用い、これにＴＡＣフィルムを３０〜１５０秒浸漬した。その後、常温水で洗浄し、１〜５ｗｔ％ＨＣｌで中和した。さらに、水洗後、約８０℃で乾燥させた。こうして得られた鹸化ＴＡＣフィルムとＰＶＡ偏光膜とを、実施例１と同様の条件で貼り合わせ、偏光板を得た。この偏光板を７０℃の温水に浸漬した。そして、１２０分経過後の状態を観察したところ、偏光膜が変色していた。
これにより、本発明の処理による偏光板は、鹸化処理した従来の偏光板より防湿性が高いことが確認された。
【実施例２】
【００５４】
反応ガス成分として、アクリル酸に代えて、同じカルボキシル基であるメタクリル酸を用いた。それ以外の処理条件及び接着条件は実施例１と同様にして偏光板を作製し、実施例１と同様の接着力評価を行なった。その結果、偏光板が材破した。（実施例１と比較すると材破の程度は低かった。）これにより、メタクリル酸でも十分な接着力を得られることが確認された。【００５５】
〔参考例１〕
参考例として、窒素のみ（反応成分無し）でプラズマ表面処理し、それ以外の処理条件及び接着条件は実施例１と同様にして偏光板の作製を試みた。しかし、ＴＡＣフィルムと偏光膜とはほとんど接着されなかった。【００５６】
〔参考例２〕
不活性ガスのアルゴンのみ（反応ガス成分無し）でプラズマ表面処理し、それ以外の処理条件及び接着条件は実施例１と同様にして偏光板の作製を試みた。しかし、ＴＡＣフィルムと偏光膜とはほとんど接着されなかった。【００５７】
〔参考例３〕
窒素  ８０ｖｏｌ％、酸素  ２０ｖｏｌ％の混合ガスでプラズマ表面処理し、それ以外の処理条件及び接着条件は実施例１と同様にして偏光板の作製を試みた。しかし、ＴＡＣフィルムと偏光膜とはほとんど接着されなかった。【００５８】
〔参考例４〕
窒素  ９９ｖｏｌ％、アンモニア  １ｖｏｌ％の混合ガスでプラズマ表面処理し、それ以外の処理条件及び接着条件は実施例１と同様にして偏光板の作製を試みた。しかし、ＴＡＣフィルムと偏光膜とはほとんど接着されなかった。【００５９】
〔参考例５〕
窒素  ９９ｖｏｌ％、アセチレン  １ｖｏｌ％の混合ガスでプラズマ表面処理し、それ以外の処理条件及び接着条件は実施例１と同様にして偏光板の作製を試みた。しかし、ＴＡＣフィルムと偏光膜とはほとんど接着されなかった。【００６０】
〔参考例６〕
窒素に７０ＲＨ％のＨ２Ｏを添加した湿りガスでプラズマ表面処理し、それ以外の処理条件及び接着条件は実施例１と同様にして偏光板の作製を試みた。しかし、ＴＡＣフィルムと偏光膜とはほとんど接着されなかった。【００６１】
実施例１、２及び参考例１〜６の結果をまとめると、下記の表１の通りになる。接着性の欄の「◎」は、接着性が極めて良好であることを示す。「○」は、接着性が良好であることを示す。「△」は、接着性がやや良であることを示す。「×」は、接着性が悪いことを示す。
【表１】
2009008284.tif 000003
【実施例３】
【００６２】
ＴＡＣフィルムとして、表側面にハードコート層が積層されたものを用い、その裏側面を実施例１と同様の処理条件でプラズマ表面処理した。
表面処理前のＴＡＣフィルムの全光線透過率は、９２．９％であり、ヘイズは、０．３％であった。
表面処理後のＴＡＣフィルムの全光線透過率を測定したところ、９２．６〜９２．７％であった。また、ヘイズを測定したところ、０．２〜０．３％であり、ハードコート層がダメージを受けることがなく、良好な光学特性を維持できることが確認された。
【実施例４】
【００６３】
反応ガス中の反応成分の種類による親水性と接着性の相関関係を調べた。反応成分は、アクリル酸、メタクリル酸の他、参考例として、酢酸、蟻酸、酢酸ビニル、アクリル酸ブチル等を用いた。各反応成分を窒素（Ｎ２）で希釈して反応ガスを得た。この反応ガスを大気圧プラズマ空間に導入してプラズマ化し、ＴＡＣフィルムに接触させた。ＴＡＣフィルムのプラズマ表面処理前の対水接触角は、６０°であった。表面処理後のＴＡＣフィルムの対水接触角を測定した。【００６４】
図６は、表面処理後の接触角の測定結果を示したものである。同図の横軸は、処理度Ｑを示す。この処理度Ｑは、下式１で定義し、規格化してある。
Ｑ＝（１／ｖ）×ｎ×Ｐ      …（式１）
ここで、ｖは、プラズマ処理装置のプラズマ放電部に対するＴＡＣフィルムの相対移動速度であり、ｎは、スキャン回数（ＴＡＣフィルムをプラズマ放電部に通した回数）であり、Ｐは、プラズマ処理装置の電極への投入電力である。【００６５】
接触角が最も小さくなったのは酢酸であり、次に蟻酸であり、次にアクリル酸であった。接触角が小さくなるほど、親水性が高まったことを意味している。【００６６】
更に、上記の各反応ガスでプラズマ処理した後のＴＡＣフィルムとＰＶＡフィルムとを接着した。接着剤は、（Ａ）ポリビニルアルコール５ｗｔ％の水溶液と、（Ｂ）カルボキシメチルセルロースナトリウム２ｗｔ％の水溶液とを、（Ａ）：（Ｂ）＝２０：１の体積比で混合した液を用いた。（Ａ）のポリビニルアルコールの平均重合度は５００であった。【００６７】
そして、接着性を調べた。接着性評価は、試験者が手でＴＡＣフィルムとＰＶＡフィルムを剥がす手評価とした。接着性が最も良好であったのは、上記表面処理の反応成分としてアクリル酸を用いた場合であり、接着後のＴＡＣフィルムとＰＶＡフィルムをまったく分離できず、両フィルムがくっついたまま材破した。ＴＡＣフィルムとＰＶＡフィルムを最も容易に剥がすことができたのは、上記表面処理を酢酸で行なった場合と蟻酸で行なった場合であり、ポストイット（登録商標）程度の接着力しか感じなかった。【００６８】
以上の結果より、親水性が高くなっても必ずしも接着性が良くなるわけではないことが判明した。良好な接着性を得るとの観点からは、目下のところアクリル酸が最も好ましい反応成分であるといえる。
【実施例５】
【００６９】
実施例５では反応ガスの噴出温度ＴａとＴＡＣフィルムの温度Ｔｂとの差ΔＴと、接着性との関係を調べた。用いた表面処理装置の概略構成を図７に示す。【００７０】
反応成分としてアクリル酸を用いた。液体アクリル酸を反応成分容器３０に蓄え、反応成分容器３０を４０〜５０℃に調節した。窒素（Ｎ２）１００％のキャリアガスを流量１０Ｌ／ｍｉｎで反応成分容器３０に供給し、アクリル酸と窒素からなる反応ガスを生成した。この反応ガスを、反応ガス供給路３１に通し噴出ノズル３２から処理空間２９に噴出した。ガス温度調節手段３９にて、ガス噴出温度Ｔａを調節した。【００７１】
プラズマ生成部２の電極構造は、平行平板電極２１，２２とした。下側の接地電極２２は、ステージを兼ねる。この電極２２すなわちステージ２２上にサンプルのＴＡＣフィルム１２を置いた。温水パイプからなるフィルム温度調節手段２７によって、ステージ２２の温度を調節し、ひいてはフィルム温度Ｔｂを調節した。電極２１，２２の一方を他方に対し相対的に往復移動（スキャン）させながら、電極２１への電力供給によって処理空間２９内に大気圧プラズマｐを生成した。これにより、ノズル３２からの反応ガスをプラズマ化してＴＡＣフィルム１２に接触させた。ガス噴出温度Ｔａとフィルム温度Ｔｂとの組み合わせは、後掲の表２の通りである。【００７２】
上記プラズマ表面処理後のＴＡＣフィルムをＰＶＡフィルムと接着した。接着剤は、実施例４と同じものを用いた。【００７３】
そして、接着性を調べた。接着性評価は、試験者が手でＴＡＣフィルムとＰＶＡフィルムを剥がす手評価とし、５段階で評価した。
評価「１」は、接着面の全体がきれいに、かつ簡単に剥がれるレベルであり、１８０°ピール試験に換算すると、０．４Ｎ／ｉｎｃｈ以下である。
評価「２」は、接着面の全体ではないが大部分が剥がれるレベルであり、１８０°ピール試験に換算すると、１．０Ｎ／ｉｎｃｈ以下である。
評価「３」は、接着面が部分的に剥がれるレベルであり、１８０°ピール試験に換算すると、３Ｎ／ｉｎｃｈ以下であり、ピール試験中に材破する可能性が高い。
評価「４」は、接着面が一部剥がれるが剥がれない部分のほうが大きいレベルであり、１８０°ピール試験に換算すると、５Ｎ／ｉｎｃｈ以下であり、ピール試験中にほぼ材破する。
評価「５」は、ほとんど剥がれないレベルであり、ピール試験で測定不能である。【００７４】
結果を、表２及び図８に示す。表２の（ａ）〜（ｌ）の各欄が図８（ａ）〜（ｌ）にそれぞれ対応する。
【表２】
2009008284.tif 000004
【００７５】
図８（ａ）〜（ｌ）の各グラフの横軸は、下式２で定義した処理度Ｑである（実施例４とは定義が異なる）。
Ｑ＝（Ｐ／Ｓ）×ｔ    …（式２）
ここで、Ｐは、電源２３から電極２１への投入電力［Ｗ］であり、Ｓは、電極２１の放電面（図７において下面）の面積［ｃｍ２］である。したがって、（Ｐ／Ｓ）は、単位放電面積あたりの投入電力［Ｗ／ｃｍ２］である。ｔは、ＴＡＣフィルムへのプラズマ照射時間［ｓｅｃ］である。プラズマ照射時間ｔは、下式で定義される。
ｔ＝ｎ×Ｌ／ｖ    …（式３）
ここで、ｎはスキャン回数であり、Ｌは、電極２１のスキャン方向（図７において左右方向）の長さ［ｃｍ］であり、ｖは、スキャン速度[ｃｍ／ｓｅｃ]である。【００７６】
図８（ａ）及び表２（ａ）欄に示すように、ガス噴出温度Ｔａとフィルム温度Ｔｂとの差（ΔＴ＝Ｔａ−Ｔｂ）がΔＴ＝＋１７℃の場合、接着力は処理度Ｑに依らず評価「５」であった。【００７７】
図８（ｂ）及び表２（ｂ）欄に示すように、温度差がΔＴ＝＋１２℃の場合も、接着力は処理度Ｑに依らず評価「５」であった。【００７８】
図８（ｃ）及び表２（ｃ）欄に示すように、温度差がΔＴ＝＋１０℃の場合も、接着力は処理度Ｑに依らず評価「５」であった。【００７９】
図８（ｄ），（ｅ）並びに表２（ｄ），（ｅ）欄に示すように、温度差がΔＴ＝＋７℃の場合、接着力は評価「４」〜「５」であった。【００８０】
図８（ｆ）及び表２（ｆ）欄に示すように、温度差がΔＴ＝＋５℃の場合、接着力は評価「４」〜「５」であった。【００８１】
図８（ｇ）〜（ｉ）並びに表２（ｇ）〜（ｉ）欄に示すように、温度差がΔＴ＝＋２℃の場合、接着力がばらつき、評価「４」〜「５」になることもあったが、評価「１」〜「３」になることもあった。【００８２】
図８（ｊ）〜（ｌ）及び表２（ｊ）〜（ｌ）欄に示すように、温度差ΔＴがマイナスの場合、接着力の評価値は「１」〜「３」であった。【００８３】
以上の結果より、ＴＡＣフィルムとＰＶＡフィルムとの接着性を十分に確保するためには、ガス噴出温度Ｔａよりフィルム温度Ｔｂを低温にすることが必要であることが判明した。しかも、温度差ΔＴ＝Ｔａ−Ｔｂを、ΔＴ＝＋５℃以上とすることで良好な接着性を得ることができることが確認された。更に、ΔＴ＝＋１０℃以上にすることで、より良好な接着性を得ることができることが確認された。温度差ΔＴが大きいほど、接着性をより一層良好にできることが判明した。【００８４】
この結果は、基板温度を高くする一般的なＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）とは大きく異なる。本表面処理では、反応ガスのプラズマ化で生じた接着性向上基をＴＡＣフィルムの表面上で冷却ないしは凝縮させることが、接着性向上基（adhesion enhancing group）のＴＡＣフィルムへの結合ないしは付着を促すのに効果的であると推察される。
【実施例６】
【００８５】
実施例６では反応ガス中のアクリル酸濃度と接着性との関係を調べた。用いた表面処理装置の概略構成を図９に示す。【００８６】
窒素１００％のキャリアをキャリアガス源３４から１０Ｌ／ｍｉｎで送出した。この窒素ガスの一部を、キャリア導入路３５ａに通して反応成分容器３０に導入し、残部をバイパス路３５ｂに通して反応成分容器３０を迂回させた。窒素ガスの導入路３５ａへの分流量とバイパス路３５ｂへの分流量の比を調節することで、アクリル酸の希釈率を調節した。反応成分容器３０内の液体アクリル酸Ａｃの温度は４０℃に調節した。【００８７】
反応成分容器３０からの反応ガス供給路３１にバイパス路３５ｂを合流させた。合流後のガスを噴出ノズル３２から処理空間２９へ導入し、プラズマ化した。表３に示すように、ガス噴出温度Ｔａは、上記分流比に応じてＴａ＝３２．８〜３３．８℃の範囲で調節した。【００８８】
電極構造は、平行平板電極２１，２２とした。ステージを兼ねる下側電極２２上にＴＡＣフィルム１２を置いた。ステージ２２の温度ひいてはフィルム温度Ｔｂは、Ｔｂ＝２５℃に調節した。電極２１への投入電力は１１０Ｖとした。電極２１，２２の一方を他方に対し相対的に往復移動（スキャン）させた。移動速度は、１０ｍ／ｍｉｎとし、往復回数は、１回（２スキャン）とした。【００８９】
表面処理後のＴＡＣフィルム１２の表面上の２つのポイントで対水接触角を測定し、その平均をとった。
その後、ＴＡＣフィルム１２とＰＶＡフィルムを接着した。接着剤は、実施例４と同じものを用いた。そして、接着性の評価を行なった。評価方法は、実施例４と同様の手評価とした。
以上の操作を３回繰り返し、同一条件の測定データを３つずつ取得した。【００９０】
結果を表３に示す。
【表３】
2009008284.tif 000005
【００９１】
表３の「分流比」は、窒素ガス全体（１０Ｌ／ｍｉｎ）に対する導入路３５ａへの分流量である。「分流比」が大きいほど、合流後の反応ガス中のアクリル酸の濃度が高い。
表３の対水接触角は、３つの測定データを平均したものである。
接着性評価の「○」は、接着後のＴＡＣフィルムとＰＶＡフィルムをまったく分離できず、接着性が良好であることを示す。「△」は、両フィルムを部分的に剥がすことができ、接着性が不十分であることを示す。「×」は、両フィルムの全体を剥がすことができ、接着性が不良であることを示す。【００９２】
分流比が小さくても０％でない限り、対水接触角を十分に小さくできた。これにより、反応ガスにアクリル酸が少量でも含有されていれば、親水性が高まることが確認された。【００９３】
接着性に関しては、分流比５０％以下では接着不十分ないしは接着不良になった。分流比が８０％以上であると十分な接着力を得られた。したがって、アクリル酸の濃度が高いほど、接着性がより良好になることが確認された。【００９４】
なお、アクリル酸の濃度が高すぎると、ＴＡＣフィルムが曇り、偏光板等の光学フィルムには適用しにくくなる。また、爆発限界に達するおそれもある。したがって、アクリル酸濃度の上限は、ＴＡＣフィルムが曇ることなく、勿論、爆発限界に達しない範囲内で設定することが好ましい。
【実施例７】
【００９５】
実施例７では反応ガス中の酸素濃度と接着性との関係を調べた。用いた表面処理装置の概略構成を図１０に示す。【００９６】
キャリアガス源３４から窒素の純ガスを反応成分容器３０に導入し、窒素とアクリル酸の混合ガスからなる反応ガスを得た。窒素の流量ひいては反応ガスの流量は、１０Ｌ／ｍｉｎとした。反応成分容器３０内の液体アクリル酸Ａｃの温度は４０℃とした。【００９７】
反応ガス（アクリル酸＋窒素）を反応成分容器３０から反応ガス供給路３１に送出した。反応ガス供給路３１に酸素混入路３７を合流させ、混入路３７からの酸素を供給路３１の反応ガスに混入した。酸素の混入量は０〜２体積％の範囲で調節した。この反応ガスを噴出ノズル３２から処理空間２９へ導入し、プラズマ化した。ガス噴出温度Ｔａは、Ｔａ＝３２℃であった。電極２１への投入電力は１１０Ｖとした。【００９８】
ステージ２２上にＴＡＣフィルム１２を置いた。ステージ２２の温度ひいてはフィルム温度Ｔｂは、Ｔｂ＝２５℃に設定した。したがって、反応ガスとＴＡＣフィルムの温度差ΔＴは、ΔＴ＝＋７℃であった。【００９９】
電極２１，２２Ｒの一方を他方に対し相対的に往復移動（スキャン）させた。移動速度は、１０ｍ／ｍｉｎとし、往復回数は、１回（２スキャン）とした。【０１００】
表面処理後のＴＡＣフィルム１２をＰＶＡフィルムと接着した。接着剤は、実施例４と同じものを用いた。そして、接着性の評価を行なった。評価方法は、実施例４と同様の手評価とした。
以上の操作を３回繰り返し、同一条件（酸素混入量）の試行データを３つずつ取得した。【０１０１】
結果を表４に示す。同表４の「○」「△」「×」は、接着性の評価度を示し、その意味するところは表３と同じである。
【表４】
2009008284.tif 000006
【０１０２】
酸素混入量が０．５％以上のときはすべて接着不良になった。酸素混入量が０．３％のときは、過半数が接着良好になった。酸素混入量が０．２％以下のときはすべて接着良好になった。これにより、良好な接着性を得るための、反応ガス中の酸素濃度は、好ましくは３０００ｐｐｍ以下であり、より好ましくは２０００ｐｐｍ以下であることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０１０３】
本発明は、液晶ディスプレイの偏光板の製造に適用可能である。
【図１】
2009008284.tif 000007
【図２】
2009008284.tif 000008
【図３】
2009008284.tif 000009
【図４】
2009008284.tif 000010
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８（ａ）】
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【図８（ｂ）】
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【図８（ｃ）】
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【図８（ｄ）】
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【図８（ｅ）】
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【図８（ｆ）】
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【図８（ｇ）】
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【図８（ｈ）】
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【図８（ｉ）】
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【図８（ｊ）】
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【図８（ｋ）】
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【図８（ｌ）】
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【図９】
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【図１０】
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【国際調査報告】
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