Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月21日(2005.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光装置を介して被露光基板上に所望のパターンを形成するために用いるマスクパターンの作製方法において、予め定められたサイズ以下の範囲のパターン配置に依存して補正量が決定される第１の成分に関する補正を設計データに対して加える工程と、この補正された設計データをマスク描画データに変換する工程と、このマスク描画データを描画装置に導入して描画を行う際に前記第１の成分以外の第２の成分に関する補正を行う工程とを含むことを特徴とするマスクパターンの作製方法。
【請求項２】
前記予め定められたサイズをＷとし、露光の際に光学的影響が反映されない最小距離をＬ１、設計データが有する階層構造の最上部のセル領域のサイズをＬ２としたときに、「Ｌ１≦Ｗ≦Ｌ２」であることを特徴とする請求項１に記載のマスクパターンの作製方法。
【請求項３】
前記描画装置として電子ビーム描画装置を用い、前記第２の成分に関する補正を電子ビーム描画における近接効果補正とともに行うことを特徴とする請求項１に記載のマスクパターンの作製方法。
【請求項４】
被露光基板上に所望のパターンを形成するために用いるマスクパターンの作製方法であって、
予め決められたサイズの第１のエリア内に含まれるパターンに依存して補正量が決定される第１の被補正要素に関する補正を設計データに対して行う工程と、前記補正された設計データをマスク描画データに変換する工程と、前記マスク描画データを導入した描画装置によって描画を行う際に、前記第１の被補正要素以外の第２の被補正要素に関する補正を前記マスク描画データに対して行う工程とを含み、
前記第２の被補正要素は、前記第１のエリアよりもサイズの大きい第２のエリア内に含まれるパターンに依存して補正量が決定されることを特徴とするマスクパターンの作製方法。
【請求項５】
前記予め決められたサイズは、露光の際に所定量以上の光学的影響が及ぶエリアのサイズよりも大きく、かつ設計データの階層構造における最上位階層セルのサイズよりも小さいことを特徴とする請求項４に記載のマスクパターンの作製方法。
【請求項６】
前記描画装置は電子ビーム描画装置であり、前記第２の被補正要素に関する補正は、電子ビーム描画における近接効果補正とともに行われることを特徴とする請求項４に記載のマスクパターンの作製方法。
【請求項７】
前記電子ビーム描画における近接効果補正は、照射量補正を含むことを特徴とする請求項３又は６に記載のマスクパターンの作製方法。
【請求項８】
被露光基板上に所望のパターンを形成するために用いるマスクパターンの作製方法であって、
設計データの階層構造における最上位階層セルと最下位階層セルとの間の所望の階層セルのサイズに対応したサイズの第１のエリア内に含まれるパターンに依存して補正量が決定される第１の被補正要素に関する補正を設計データに対して行う工程と、前記補正された設計データをマスク描画データに変換する工程と、前記マスク描画データを導入した描画装置によって描画を行う際に、前記第１の被補正要素以外の第２の被補正要素に関する補正を前記マスク描画データに対して行う工程とを含み、
前記第２の被補正要素は、前記第１のエリアよりもサイズの大きい第２のエリア内に含まれるパターンに依存して補正量が決定されることを特徴とするマスクパターンの作製方法。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかに記載のマスクパターンの作製方法によって作製されたマスクパターンを有することを特徴とするフォトマスク。
【請求項１０】
露光装置を介して被露光基板上に所望のパターンを形成するために用いるマスクパターンの作製に適用されるプログラムであって、
予め定められたサイズ以下の範囲のパターン配置に依存して補正量が決定される第１の成分に関する補正を設計データに対して加える手順と、この補正された設計データをマスク描画データに変換する手順と、このマスク描画データを描画装置に導入して描画を行う際に前記第１の成分以外の第２の成分に関する補正を行う手順とをコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項１１】
前記描画装置として電子ビーム描画装置を用い、前記第２の成分に関する補正を電子ビーム描画における近接効果補正とともに行うことを特徴とする請求項１０に記載のプログラム。
【請求項１２】
被露光基板上に所望のパターンを形成するために用いるマスクパターンの作製に適用されるプログラムであって、
予め決められたサイズの第１のエリア内に含まれるパターンに依存して補正量が決定される第１の被補正要素に関する補正を設計データに対して行う手順と、前記補正された設計データをマスク描画データに変換する手順と、前記マスク描画データを導入した描画装置によって描画を行う際に、前記第１の被補正要素以外の第２の被補正要素に関する補正を前記マスク描画データに対して行う手順とをコンピュータに実行させるためのプログラムであり、
前記第２の被補正要素は、前記第１のエリアよりもサイズの大きい第２のエリア内に含まれるパターンに依存して補正量が決定されるものであるプログラム。
【請求項１３】
前記描画装置は電子ビーム描画装置であり、前記第２の被補正要素に関する補正は、電子ビーム描画における近接効果補正とともに行われることを特徴とする請求項１２に記載のプログラム。
【請求項１４】
前記電子ビーム描画における近接効果補正は、照射量補正を含むことを特徴とする請求項１１又は１３に記載のプログラム。
【請求項１５】
被露光基板上に所望のパターンを形成するために用いるマスクパターンの作製に適用されるプログラムであって、
設計データの階層構造における最上位階層セルと最下位階層セルとの間の所望の階層セルのサイズに対応したサイズの第１のエリア内に含まれるパターンに依存して補正量が決定される第１の被補正要素に関する補正を設計データに対して行う手順と、前記補正された設計データをマスク描画データに変換する手順と、前記マスク描画データを導入した描画装置によって描画を行う際に、前記第１の被補正要素以外の第２の被補正要素に関する補正を前記マスク描画データに対して行う手順とをコンピュータに実行させるためのプログラムであり、
前記第２の被補正要素は、前記第１のエリアよりもサイズの大きい第２のエリア内に含まれるパターンに依存して補正量が決定されるものであるプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月23日(2005.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
距離の長い方の第1 共役点から順に負の屈折力の第１群、正の屈折力の第2 群、負の屈折力の第３群、正の屈折力の第４群、そして正の屈折力の第５群の５つのレンズ群を有し、広角端から望遠端への変倍を該第２群と第４群を第１共役点側へ移動させて行い、前記各レンズ群のうち少なくとも一方のレンズ群は光軸に対し、対称な回折型光学素子を少なくとも１つ有していることを特徴とするズームレンズ。
【請求項２】
広角端から望遠端への変倍において前記第２群と第３群の間隔は広角端に比べて望遠端で広く、前記第３群と第４群の間隔は広角端に比べて望遠端で狭くなっていることを特徴とする請求項１のズームレンズ。
【請求項３】
前記第３群は変倍に際して固定であることを特徴とする請求項２のズームレンズ。
【請求項４】
前記第１群と第５群は変倍に際して固定であることを特徴とする請求項１のズームレンズ。
【請求項５】
前記第１群を光軸上移動させてフォーカスを行っていることを特徴とする請求項１，２，３又は４のズームレンズ。
【請求項６】
前記第ｉ群の焦点距離をｆｉ、全系の広角端と望遠端の焦点距離を各々ｆＷ，ｆＴとしたとき
０．８＜｜ｆ１／ｆ２｜＜２．３
【数１】
2000019400.tif 000001
なる条件を満足することを特徴とする請求項１から５のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項７】
全系の射出瞳から距離の短い第２共役点までの距離をＴＫとしたとき
４＜｜ＴＫ｜／ｆＷ
なる条件を満足することを特徴とする請求項６のズームレンズ。
【請求項８】
前記ズームレンズはテレセントリック系より成っていることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項のズームレンズ。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月27日(2005.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
レンズ押え環３の外径（３ｒ1 ）と側壁面22b の内径とは互いにレンズ押え環３が側壁面22b 内にガタ無く組み込まれる径でそれぞれ形成されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
レンズ押え環３の孔部31は、レンズ部11の外径より大きく形成されるが、フランジ部12の外径より小さく形成されている。そのため、レンズ部11は孔部31に嵌合するが、フランジ部12の前方面12b はレンズ押え環３に当接するように構成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2000019371.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月19日(2005.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被写界内の複数の焦点検出領域のそれぞれに対応して設けられる複数の光電変換手段と、
前記複数の光電変換手段からそれぞれ出力される信号に基づいて前記複数の光電変換手段による光電変換の動作を制御する光電変換制御手段と、
前記複数の光電変換手段からそれぞれ出力される信号がそれぞれ所定の条件を満足しているか否かを判定する判定手段と、
前記複数の光電変換手段からそれぞれ出力される信号に基づいて前記複数の焦点検出領域における撮影レンズの焦点調節状態を演算する演算手段と、
前記演算手段により前記複数の焦点検出領域における撮影レンズの焦点調節状態が演算された結果に基づき、前記撮影レンズの焦点調節を行う焦点調節装置において、
前記複数の光電変換手段からそれぞれ出力される信号のすべてが所定の条件を満足していることが前記判定手段によって判定されるまで前記光電変換動作を繰り返し、すべての信号が前記所定の条件を満足した場合に、前記演算手段による前記撮影レンズの焦点調節状態の演算を行うことを特徴とする焦点調節装置。
【請求項２】
請求項１に記載の焦点調節装置において、
前記複数の光電変換手段の各々は、入射する光量に応じた信号が出力される複数の画素を有しており、
前記判定手段は、前記複数の画素のそれぞれに対応して出力される信号のうちの最大値が所定値近傍となった場合に前記所定の条件を満足したと判定することを特徴とする焦点調節装置。
【請求項３】
請求項１に記載の焦点調節装置において、
前記複数の光電変換手段の各々は、入射する光量に応じた信号が出力される複数の画素を有しており、
前記判定手段は、前記複数の画素のそれぞれに対応して出力される信号の平均値が所定値近傍となった場合に前記所定の条件を満足したと判定することを特徴とする焦点調節装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の焦点調節装置において、
前記判定手段により繰り返し行われる前記判定の回数を計数する計数手段をさらに有し、
前記計数手段の計数結果が所定値に達した場合、前記複数の光電変換手段からそれぞれ出力される信号のすべてが所定の条件を満足していない場合であっても、前記演算手段による前記焦点調節状態の演算を行うことを特徴とする焦点調節装置。
【請求項５】
請求項４に記載の焦点装置において、
被写体に向けて光を発する光源と、
前記複数の光電変換手段の出力に基づいて、前記光源を発光させるか否かを判定する発光判定手段とをさらに有し、
前記判定手段による前記判定が繰り返し行われている途中で前記発光判定手段が前記光源を発光させると判定した場合には、前記計数手段による計数結果を初期値にリセットし、かつ前記光源を発光させることを特徴とする焦点調節装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
以上に説明したのと同様の理由によりステップＳ６の判定が行われる。すなわち、ステップＳ６およびＳ８では全イメージセンサのＡＧＣがかかるか、ＡＧＣカウントが所定回数Ｓthlに達するか、いずれかの場合に全体ＡＧＣフラグを１にセットする。つまり、被写体が暗い場合のようにＡＧＣのかかりにくいイメージセンサに対していつまでもＡＧＣを繰り返すと、半押しＯｎからレンズ駆動完了までに要する時間が長くなるという不具合を生じる。図7に示す焦点検出演算プログラムでは、ＡＧＣカウントが所定回数Ｓthlに達すると、それ以上光電変換動作を繰り返すことは無いため、このような不具合を生じることがない。また、この場合、ＡＧＣのかかっているイメージセンサからの出力に基づいて焦点検出演算を行うようにしてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月7日(2004.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通過する光の波長（λT）が、７８０±１０ｎｍに最大強度を有する光に対して用いられる光学レンズにおいて、光入射面（Ｓ１）と光出射面（Ｓ２）の両方又は少なくとも一方に反射防止コーティングを設け、波長（λR）が５００〜７００ｎｍの領域の光の反射率を各々Ｒ1（λR），Ｒ2（λR）とした時、
Ｒ2（λR）＞Ｒ1（λR）
としたことを特徴とする光学部品。
【請求項２】
通過する光の波長（λT）が、７８０±１０ｎｍに最大強度を有する光に対して用いられる光学レンズにおいて、光入射面（Ｓ１）と光出射面（Ｓ２）の両方又は少なくとも一方に反射防止コーティングを設け、波長（λR）が６３３ｎｍの光の反射率を各々Ｒ1（λR），Ｒ2（λR）とした時、
Ｒ2（λR）＞Ｒ1（λR）
としたことを特徴とする光学部品。
【請求項３】
通過する光の波長（λT）が、６００〜７００ｎｍの領域に最大強度を有する光に対して用いられる光学レンズにおいて、光入射面（Ｓ１）と光出射面（Ｓ２）の両方又は少なくとも一方に反射防止コーティングを設け、波長（λR）が７５０〜８５０ｎｍの領域の光の反射率を各々Ｒ1（λR），Ｒ2（λR）とした時、
Ｒ2（λR）＞Ｒ1（λR）
としたことを特徴とする光学部品。
【請求項４】
通過する光の波長（λT）が、６００〜７００ｎｍの領域に最大強度を有する光に対して用いられる光学レンズにおいて、光入射面（Ｓ１）と光出射面（Ｓ２）の両方又は少なくとも一方に反射防止コーティングを設け、波長（λR）が７８０ｎｍの光の反射率を各々Ｒ1（λR），Ｒ2（λR）とした時、
Ｒ2（λR）＞Ｒ1（λR）    
としたことを特徴とする光学部品。
【請求項５】
通過する光の波長（λT）が、３５０〜５００ｎｍの領域に最大強度を有する光に対して用いられる光学レンズにおいて、光入射面（Ｓ１）と光出射面（Ｓ２）の両方又は少なくとも一方に反射防止コーティングを設け、波長（λR）が５００〜８００ｎｍの領域の光の反射率を各々Ｒ1（λR），Ｒ2（λR）とした時、
Ｒ2（λR）＞Ｒ1（λR）
としたことを特徴とする光学部品。
【請求項６】
通過する光の波長（λT）が、３５０〜５００ｎｍの領域に最大強度を有する光に対して用いられる光学レンズにおいて、光入射面（Ｓ１）と光出射面（Ｓ２）の両方又は少なくとも一方に反射防止コーティングを設け、波長（λR）が６３３ｎｍの光の反射率を各々Ｒ1（λR），Ｒ2（λR）とした時、
Ｒ2（λR）＞Ｒ1（λR）
としたことを特徴とする光学部品。
【請求項７】
光出射面（Ｓ２）の波長（λR）に対する反射率Ｒ2（λR）を５％以上としたことを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載の光学部品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
即ち、通過する光の波長（λT）が、７８０±１０ｎｍに最大強度を有する光に対して用いられる光学レンズにおいて、光入射面（Ｓ１）と光出射面（Ｓ２）の両方又は少なくとも一方に反射防止コーティングを設け、波長（λR）が５００〜７００ｎｍの領域の光の反射率を各々Ｒ1（λR），Ｒ2（λR）とした時、
Ｒ2（λR）＞Ｒ1（λR）
としたことを特徴とする光学部品。
又、通過する光の波長（λT）が、７８０±１０ｎｍに最大強度を有する光に対して用いられる光学レンズにおいて、光入射面（Ｓ１）と光出射面（Ｓ２）の両方又は少なくとも一方に反射防止コーティングを設け、波長（λR）が６３３ｎｍの光の反射率を各々Ｒ1（λR），Ｒ2（λR）とした時、
Ｒ2（λR）＞Ｒ1（λR）
としたことを特徴とする光学部品。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
又、通過する光の波長（λT）が、６００〜７００ｎｍの領域に最大強度を有する光に対して用いられる光学レンズにおいて、光入射面（Ｓ１）と光出射面（Ｓ２）の両方又は少なくとも一方に反射防止コーティングを設け、波長（λR）が７５０〜８５０ｎｍの領域の光の反射率を各々Ｒ1（λR），Ｒ2（λR）とした時、
Ｒ2（λR）＞Ｒ1（λR）
としたことを特徴とする光学部品。
又、通過する光の波長（λT）が、６００〜７００ｎｍの領域に最大強度を有する光に対して用いられる光学レンズにおいて、光入射面（Ｓ１）と光出射面（Ｓ２）の両方又は少なくとも一方に反射防止コーティングを設け、波長（λR）が７８０ｎｍの光の反射率を各々Ｒ1（λR），Ｒ2（λR）とした時、
Ｒ2（λR）＞Ｒ1（λR）
としたことを特徴とする光学部品。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
又、通過する光の波長（λT）が、３５０〜５００ｎｍの領域に最大強度を有する光に対して用いられる光学レンズにおいて、光入射面（Ｓ１）と光出射面（Ｓ２）の両方又は少なくとも一方に反射防止コーティングを設け、波長（λR）が５００〜８００ｎｍの領域の光の反射率を各々Ｒ1（λR），Ｒ2（λR）とした時、
Ｒ2（λR）＞Ｒ1（λR）
としたことを特徴とする光学部品。
又、通過する光の波長（λT）が、３５０〜５００ｎｍの領域に最大強度を有する光に対して用いられる光学レンズにおいて、光入射面（Ｓ１）と光出射面（Ｓ２）の両方又は少なくとも一方に反射防止コーティングを設け、波長（λR）が６３３ｎｍの光の反射率を各々Ｒ1（λR），Ｒ2（λR）とした時、
Ｒ2（λR）＞Ｒ1（λR）
としたことを特徴とする光学部品。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月2日(2005.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明においては、高分子分散型液晶層の観察側とは反対側に再帰反射層を設けたので、透明状態にある画素の照明光が正反射方向に反射して光が目に入り、黒く見えずむしろ白黒反転して著しく視認性を低下させてしまう問題が防止（緩和）できると共に、明るく、コントラストが高く、色度が高く、広視野で視認性の良い反射型高分子分散型液晶表示装置を可能にする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
図１に戻り、この反射型ＰＤ液晶表示装置は代表的に３つの画素Ｘ，Ｙ，Ｚからなるものとする。いま、画素Ｘ，Ｚは電圧が印加されておらず、画素Ｙには電圧が印加されているとすると、画素Ｘ，Ｚは散乱状態、画素Ｙは透明状態にあるので、適当な入射角で外光（周囲の環境光）１４がこの反射型ＰＤ液晶表示装置に入射すると、画素Ｘ，Ｚは散乱状態にあるので、後方散乱光はそのまま、前方散乱光は再帰反射層２０で一旦再帰反射されてこの反射型ＰＤ液晶表示装置の前方に位置する観察者の目に入り略白く見える。画素Ｙは透明状態であるので、外光１４は再帰反射層２０で外光１４の入射方向と反対方向にのみ再帰反射光１６として反射され、外光１４の入射方向以外の方向には反射されないので、略黒に見える（実際には、観察者が位置する前方はある程度の明るさがあるので、完全な黒にはならない。）。この場合、外光１４は正反射方向Ａへも反射されないので、従来のように透明状態にある画素Ｙからその正反射方向Ａに位置する観察者の目に反射光が入り、その画素Ｙが黒く見えず白黒反転してしまう現象は緩和される。したがって、どの方向から観察しても十分にコントラストが高く、明るく、白黒反転が緩和され、広視野で視認性の良いモノクロの反射型高分子分散型液晶表示装置が実現できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
図２は、本発明に基づくカラーの反射型ＰＤ液晶表示装置の概略の構成を示す図である。この場合も、画素電極、対向電極は図示を省く。この構成は、基本的に図１のＰＤ液晶１０の観察側の透明基板１１表面に、Ｒ（赤色）透過Ｒフィルター１５Ｒ、Ｇ（緑色）透過Ｇフィルター１５Ｇ、Ｂ（青色）透過Ｂフィルター１５Ｂのアレーからなるカラーフィルター１５を配置したもので、この場合も代表的に３つの画素Ｒ，Ｇ，Ｂからなるものとする。いま、画素Ｒ，Ｂは電圧が印加されておらず、画素Ｇには電圧が印加されているとすると、画素Ｒ，Ｂは散乱状態、画素Ｇは透明状態にあるので、適当な入射角で外光（周囲の環境光）１４がこのカラー反射型ＰＤ液晶表示装置に入射すると、画素Ｒ，Ｂは散乱状態にあるため、それぞれＲ透過Ｒフィルター１５Ｒ、Ｂ透過Ｂフィルター１５Ｂを透過したＲ光、Ｂ光の後方散乱光はそのまま、前方散乱光は再帰反射層２０で一旦再帰反射されてこの反射型ＰＤ液晶表示装置の前方に位置する観察者の目に入り、それぞれ赤色、青色に見える。画素Ｇは透明状態であるので、外光１４は再帰反射層２０で外光１４の入射方向と反対方向にのみ再帰反射光１６として反射され、外光１４の入射方向以外の方向には反射されないので、略黒に見える（実際には、観察者が位置する前方はある程度の明るさがあるので、完全な黒にはならない。）。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
このカラーの反射型ＰＤ液晶表示装置の場合も、外光１４は正反射方向Ａへも反射されないので、従来のように透明状態にある画素Ｇからその正反射方向Ａに位置する観察者の目に反射光が入り、その画素Ｇが黒く見えず白黒反転してしまう現象は緩和される。したがって、どの方向から観察しても十分にコントラストが高く、明るく、色度が高く、白黒反転が緩和され、広視野で視認性の良いカラーの反射型高分子分散型液晶表示装置が実現できる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】  
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明の反射型高分子分散型液晶表示装置によると、高分子分散型液晶層の観察側とは反対側に再帰反射層を設けたので、透明状態にある画素の照明光が正反射方向に反射して光が目に入り、黒く見えずむしろ白黒反転して著しく視認性を低下させてしまう問題が防止（緩和）できると共に、明るく、コントラストが高く、色度が高く、広視野で視認性の良い反射型高分子分散型液晶表示装置を可能にする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月27日(2005.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
スコープレンズ56による物体の虚像の大きさｙ′および撮像面66a の対角長ｙ″より、焦点距離f2を求めると、
ｙ′＝S1′ tanθ×（１＋DT）
＝（S1′＋L5−Ｍ−L1） tanδ
tanδ＝S1′・ tanθ・（１＋DT）／（S1′＋L5−Ｍ−L1）
ｙ″＝（f2＋ΔＸ′） tanδ
ｙ″＝（f2＋ΔＸ′）S1′・ tanθ・（１＋DT）／（S1′＋L5−Ｍ−L1）
f2＝ｙ″・（S1′＋L5−Ｍ−L1）／S1′・ tanθ・（１＋DT）−ΔＸ′
となる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
ただし、レンズ面０〜９までは既存のレンズスコープ53のスコープレンズ56を測定した測定データを示し、レンズ面10〜12または13がレンズスコープ53に対応して設計した結像レンズ74の設計データを示す。レンズ面０〜１、６〜７、１３〜１８は中間環を示している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
以上、実施例１または実施例２のように、結像レンズ74（レンズ面10〜12）の焦点距離f2を１７．９９８ｍｍ、または焦点距離f2を１７．２７３ｍｍに設定することで、結像レンズ74の焦点距離f2の範囲である
f2＞ｙ″・（S1′＋L5−Ｍ−L1）／S1′・ tanθｍｉｎ  ・（１＋DT）−ΔＸ′
f2＜ｙ″・（S1′＋L5−Ｍ−L1）／S1′・ tanθｍａｘ  ・（１＋DT）−ΔＸ′
に収めることができ、レンズスコープ53の枠が映り込んで、そのレンズスコープ53の枠にけられることなく、かつ、像の必要な部分を最小限画角に捕らえることができ、既存のレンズスコープ53を利用しながら像を適切に捕らえることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月15日(2005.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体の略中央部に合焦環が配置され、下部に三脚座を備えた望遠鏡において、
前記三脚座は、前記望遠鏡の重心位置より対物レンズ側の望遠鏡本体に配置されていることを特徴とする三脚座を備えた望遠鏡。
【請求項２】
前記合焦環は、前記三脚座の配置された位置より接眼側に配置されていることを特徴とする請求項１記載の三脚座を備えた望遠鏡。
【請求項３】
前記合焦環が設置された本体の位置に前記望遠鏡の重心があることを特徴とする請求項１または２に記載の望遠鏡。
【請求項４】
前記望遠鏡は単眼望遠鏡であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の望遠鏡。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の請求項１では、本体の略中央部に合焦環が配置され、下部に三脚座を備えた望遠鏡において、前記三脚座は、前記望遠鏡の重心位置より対物レンズ側の望遠鏡本体に配置されていることを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、請求項２では、前記合焦環は、前記三脚座の配置された位置より接眼側に配置されていることを特徴とするものである。
また、請求項３の望遠鏡は、前記合焦環が設置された本体の位置に前記望遠鏡の重心があることを特徴とする請求項１または２に記載の望遠鏡である。
また、請求項４の望遠鏡は、単眼望遠鏡であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の望遠鏡である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月24日(2005.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対物レンズの光軸近傍の観察光路とその周辺の落射暗視野用
照明光路とを隔てる筒状の光路隔壁を備えた落射暗視野観察が可能な顕微鏡であって、前記光路隔壁の少なくとも一部は、前記顕微鏡の光路中に配置される挿入位置と、前記顕微鏡光路から退避した退避位置との間で移動可能に前記光路内に保持されていることを特徴とする顕微鏡。
【請求項２】
対物レンズの光軸近傍の観察光路とその周辺の落射暗視野用照明光路とを隔てる筒状の光路隔壁を備えた落射暗視野観察が可能な顕微鏡であって、前記光路隔壁の少なくとも一部を支持するとともに、前記少なくとも一部の光路隔壁が前記顕微鏡の光路中に配置される挿入位置と、前記顕微鏡光路から退避した退避位置との間で移動可能にする支持部材と、前記少なくとも一部の光路隔壁が前記挿入位置に配置されるように前記支持部材を付勢する付勢部材とを有することを特徴とする顕微鏡。
【請求項３】
前記顕微鏡は、追加の光学素子が設けられたスライド部材を顕微鏡光路に配置可能であり、前記少なくとも一部の光路隔壁は、前記追加の光学素子が配置される光路部分の光路隔壁であることを特徴とする請求項１又は２記載の顕微鏡。
【請求項４】
前記少なくとも一部の光路隔壁は、前記スライド部材の前記光路への挿入に連動して前記挿入位置から前記退避位置へ移動することを特徴とする請求項３に記載の顕微鏡。
【請求項５】
前記光路隔壁は、前記スライド部材が前記光路へ挿入するのに伴い前記スライド部材が前記光路隔壁を押圧することで前記挿入位置から前記退避位置へ移動することを特徴とする請求項４に記載の顕微鏡。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2000019409.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月15日(2005.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
ここで、ｄ１は内歯歯車６３のピッチ円直径、ｄ３は第３の歯車６２のピッチ円直径、Ｎは対物レンズ９０を装着するための装着孔３２の個数、ｎは遮光板５０の開口部５１，５２の個数である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月7日(2005.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明光を出射する照明光源と、
該照明光源からの照明光の光量を光学系で調整する調光手段と、
該調光手段により調整した光量を検知する検知手段と、
任意に設定される前記調光手段の調整段階数に応じた前記照明光の光量の目標値を記憶する記憶手段と、
前記検知手段で検知した光量の出力信号値と前記調光手段の目標値とを比較し比較結果に基づいて照明光の光量を前記目標値に近づけるように前記調光手段を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする照明光調光装置。
【請求項２】
前記調光手段により調整した前記照明光を出力光と参照光とに分岐する分岐手段を前記照明光の光路上に設け、該分岐手段を光路上から挿脱自在に構成したことを特徴とする請求項１記載の照明光調光装置。
【請求項３】
前記調光手段を音響光学素子としたことを特徴とする請求項１記載の照明光調光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月29日(2005.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コントロール回路を搭載したプリント基板と、
分割された回路基板と、
複数のドレイン駆動回路と、
基板上の画素に映像信号を供給する複数の映像信号線を備え、
コントロール回路からの出力信号が、分割された回路基板に供給され、
各回路基板に入力された該コントロール回路からの出力信号が複数のドレイン駆動回路に供給され、
各ドレイン駆動回路からの出力信号が複数の映像信号線に供給されるように構成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
各画素に形成されたスイッチング素子と、
該スイッチング素子を介して各画素に映像信号を供給する複数の映像信号線と、
該映像信号線に映像信号を出力する複数のドレイン駆動回路と、
コントロール回路が搭載された１個のプリント基板と、
該プリント基板に接続された２個の回路基板と、を有し、
前記コントロール回路からの出力信号が２個の回路基板を介して前記複数のドレイン駆動回路の入力端子に供給されるように構成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
各画素のスイッチング素子に接続され、かつ一方向に並設された複数の映像信号線を備えたマトリクス基板と、
該映像信号線に映像信号を出力する複数のドレイン駆動回路と、
コントロール回路が搭載された１個のプリント基板と、
該プリント基板に接続された２個の回路基板と、を有し、
前記コントロール回路の出力が前記２個の回路基板に供給され、さらに、各回路基板から前記複数のドレイン駆動回路に供給されるように構成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
各画素のスイッチング素子に接続され、かつ一方向に並設された複数の映像信号線を備えたマトリクス基板と、
該映像信号線に映像信号を出力する複数のドレイン駆動回路と、
コントロール回路が搭載された１個のプリント基板と、
該プリント基板に接続された２個の回路基板と、を有し、
前記複数の映像信号線は隣接するもの同士でグループ化されており、
前記コントロール回路からの出力信号が前記２個の回路基板に供給され、さらに、各回路基板から前記複数のドレイン駆動回路の入力端子に供給され、
各グループ化された映像信号線に対して、近接する各ドレイン駆動回路から出力信号が供給されるように構成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至４において、
前記ドレイン駆動回路はＩＣで構成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至４において、
前記回路基板のプリント基板との接続部は、フレキシブル配線基板で構成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項６において、
前記回路基板は、フレキシブル配線基板であることを特徴とする表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は表示装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
【発明の効果】
以上説明したことから明らかとなるように、本発明による表示装置によれば、映像信号駆動回路が安定して動作できるようになる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月12日(2005.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
信号供給源から供給される信号をガンマ補正するための制御回路と、
前記供給される信号をガンマ補正するためのデータを記憶するメモリとを有し、
前記制御回路および前記メモリは活性層を有するＴＦＴによって構成され、かつ同一絶縁基板上に一体形成されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記メモリは、複数のＦＡＭＯＳ型ＴＦＴを有することを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】
前記メモリは不揮発性メモリであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の半導体装置。
【請求項４】
前記供給される信号はデジタル信号であることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一に記載の半導体装置。
【請求項５】
前記供給される信号はアナログ信号であり、前記アナログ信号をデジタル信号に変換する変換回路を有することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一に記載の半導体装置。
【請求項６】
活性層を有する複数のＴＦＴがマトリクス状に配置された画素領域と、
前記活性層を有する複数のＴＦＴをスイッチングするドライバと、
画像信号を供給する画像信号供給源と、
前記画像信号をガンマ補正する制御回路と、
前記画像信号をガンマ補正するためのデータを記憶するメモリと、
を備えた半導体表示装置であって、
前記活性層を有する複数のＴＦＴと、前記ドライバと、制御回路と、前記メモリとは、同一絶縁基板上に一体形成されることを特徴とする半導体表示装置。
【請求項７】
前記画像信号はデジタル信号であることを特徴とする請求項６に記載の半導体表示装置。
【請求項８】
前記画像信号はアナログ信号であり、前記アナログ信号をデジタル信号に変換する変換回路を有することを特徴とする請求項６に記載の半導体表示装置。
【請求項９】
活性層を有する複数のＴＦＴがマトリクス状に配置された画素領域と、
前記活性層を有する複数のＴＦＴをスイッチングするドライバと、
デジタル画像信号を供給するデジタル画像信号供給源と、
前記デジタル画像信号をアナログ信号に変換する変換回路と、
前記デジタル画像信号をガンマ補正する制御回路と、
前記デジタル画像信号をガンマ補正するためのデータを記憶するメモリと
を備えた半導体表示装置であって、
前記変換回路は前記活性層を有する複数のＴＦＴのソース線に異なる電圧を供給する複数の電圧線を有し、
前記活性層を有する複数のＴＦＴと、前記ドライバと、制御回路と、前記メモリとは同一絶縁基板上に一体形成されることを特徴とする半導体表示装置。
【請求項１０】
前記メモリは、複数のＦＡＭＯＳ型ＴＦＴを含むことを特徴とする請求項６乃至請求項９のいずれか一に記載の半導体表示装置。
【請求項１１】
前記メモリは、不揮発性メモリであることを特徴とする請求項６乃至請求項１０のいずれか一に記載の半導体装置。
【請求項１２】
前記活性層は結晶構造であり、前記活性層の厚さは、１０〜１００ｎｍであることを特徴とする請求項６乃至請求項１１のいずれか一に記載の半導体表示装置。
【請求項１３】
前記半導体表示装置は液晶表示装置であることを特徴とする請求項６乃至請求項１２のいずれか一に記載の半導体表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月30日(2005.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電池と、この第１の電池と電気的特性が異なる第２の電池とを選択的に使用可能なカメラにおいて、
上記第１の電池又は上記第２の電池のうち選択された電池を収納し得る共有空間を有する電池収納室と、
この電池収納室に装填された電池が上記第１の電池と上記第２の電池のいずれの電池であるかを判別する電池判別手段と、
この電池判別手段の出力に基づいて、上記電池収納室に装填された電池の装填状況を表示する表示手段と、
を具備することを特徴とするカメラ。
【請求項２】
第１の電池と、この第１の電池と電気的特性が異なる第２の電池との二種類の電池を選択的に使用し得るカメラにおいて、
上記第１の電池と上記第２の電池との少なくとも一方を二個収納可能な共有空間を有する電池収納室と、
この電池収納室に装填された電池の種類が、上記第１の電池又は上記第２の電池のうちの一方である単一装填状態であるか又は上記第１の電池と上記第２の電池とが混在している混在装填状態であるかを判定する判定手段と、
を具備することを特徴とするカメラ。
【請求項３】
上記判定手段の判定結果によって、上記電池収納室に装填された電池の装填状況が上記混在装填状態である場合には、警告を行なう警告手段を具備することを特徴とする請求項２に記載のカメラ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、上述した点に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、電気的特性の異なる二種類の電池を選択的に使用し得るようにしたカメラであって、電池収納室の内部に装填された電池の種類を判別し、異なる種類の電池が混在して装填された場合には、これを検出して、その旨の表示又は警告を行なうことにより、異なる種類の電池の混在使用を未然に防止することのできるカメラを提供することである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、第１の発明によるカメラは、第１の電池とこの第１の電池と電気的特性が異なる第２の電池とを選択的に使用可能なカメラにおいて、上記第１の電池又は上記第２の電池のうち選択された電池を収納し得る共有空間を有する電池収納室と、この電池収納室に装填された電池が上記第１の電池と上記第２の電池のいずれの電池であるかを判別する電池判別手段と、この電池判別手段の出力に基づいて上記電池収納室に装填された電池の装填状況を表示する表示手段とを具備することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、第２の発明によるカメラは、第１の電池とこの第１の電池と電気的特性が異なる第２の電池との二種類の電池を選択的に使用し得るカメラにおいて、上記第１の電池と上記第２の電池との少なくとも一方を二個収納可能な共有空間を有する電池収納室と、この電池収納室に装填された電池の種類が、上記第１の電池又は上記第２の電池のうちの一方である単一装填状態であるか又は上記第１の電池と上記第２の電池とが混在している混在装填状態であるかを判定する判定手段とを具備することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
【発明の効果】
以上述べたように本発明によれば、電気的特性の異なる二種類の電池を選択的に使用し得るようにしたカメラであって、電池収納室の内部に装填された電池の種類を判別し、異なる種類の電池が混在して装填された場合には、これを検出して、その旨の警告を行なうことにより、異なる種類の電池の混在使用を未然に防止し得るカメラを提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月11日(2005.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】静止画撮像装置及び静止画像撮像方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学系を介して入射した被写体像を撮像手段によつて撮像する静止画撮像装置において、
上記光学系の光軸方向を変化させる光軸可変手段と、
上記静止画撮像装置の手ぶれ量を検出する手ぶれ量検出手段と、
上記手ぶれ量検出手段の検出結果に基づいて上記光軸可変手段によつて上記光学系の光軸を変化させることにより、上記光学系を介して入射する上記被写体像を上記撮像手段に常に取り込む手ぶれ補正手段と、
撮像命令が入力された後、上記光学系の光軸方向が上記被写体方向と一致したとき上記光学系を透過した被写体像を上記撮像手段によつて撮像する撮像制御手段と
を具えることを特徴とする静止画撮像装置。
【請求項２】
上記撮像制御手段は、
上記撮像命令が入力された後、上記光学系の光軸方向が上記被写体方向と一致するまで待機して、上記光学系の光軸方向が上記被写体方向と一致したことを検出すると、このタイミングのときに上記光学系を透過した被写体像を撮像する
ことを特徴とする請求項１に記載の静止画撮像装置。
【請求項３】
上記手ぶれ補正手段は、
上記撮像命令が入力された後、上記光学系の光軸方向を強制的に上記被写体方向と一致させる
ことを特徴とする請求項１に記載の静止画撮像装置。
【請求項４】
上記撮像手段は、
上記光学系によつて結像された上記被写体像を撮像する撮像素子と、
上記撮像素子によつて撮像された画像信号を所定のデータフオーマツトに変換する信号処理手段と
を具えることを特徴とする請求項１、請求項２又は請求項３に記載の静止画撮像装置。
【請求項５】
光学系を介して入射した被写体像を撮像手段によつて撮像する静止画撮像装置の静止画撮像方法において、
上記光学系の光軸方向を変化させる光軸可変ステツプと、
上記静止画撮像装置の手ぶれ量を検出する手ぶれ量検出ステツプと、
上記手ぶれ量検出ステツプの検出結果に基づいて上記光軸可変ステツプによつて上記光学系の光軸を変化させることにより、上記光学系を介して入射する上記被写体像を上記撮像手段に常に取り込む手ぶれ補正ステツプと、
撮像命令が入力された後、上記光学系の光軸方向が上記被写体方向と一致したとき上記光学系を透過した被写体像を上記撮像手段によつて撮像する撮像制御ステツプと
を具えることを特徴とする静止画撮像方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月13日(2005.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電源電圧を昇圧し、発光用コンデンサに電荷を蓄えるための、同一あるいは異なる巻線の第１乃至第３の一次巻線と、二次巻線とを有し、一次巻線がプッシュプル駆動可能な発振トランスと、
上記第１乃至第３の一次巻線にそれぞれ接続され、一次巻線に流れる電流をスイッチングする複数のスイッチング素子と、
上記発振トランスの二次巻線に発生する昇圧電圧を整流するブリッジダイオードと、
上記ブリッジダイオードに接続された発光用コンデンサの充電電圧を検出する電圧検出手段と、
この電圧検出手段の出力に応答して、上記複数のスイッチング素子を制御する制御手段と、
を備えたストロボ充電回路において、
上記制御手段は、上記電圧検出手段の出力が第１の基準レベル未満の時は、第１の一次巻線に電流を流すスイッチング素子を駆動し、上記電圧検出手段の出力が第１の基準レベル以上で第２の基準レベル未満の時は、第１の一次巻線に電流を流すスイッチング素子と、第２の一次巻線に電流を流すスイッチング素子とを交互に作動させ、上記電圧検出手段の出力が第２の基準レベル以上の時は、第２の一次巻線に電流を流すスイッチング素子と、第３の一次巻線に電流を流すスイッチング素子とを交互に作動させることを特徴とするストロボ充電回路。
【請求項２】
上記第１の一次巻線の一部は上記第３の一次巻線を兼ねていることを特徴とする請求項１記載のストロボ充電回路。
【請求項３】
上記第１及び第３の一次巻線に電流を流すように接続されたスイッチング素子は、バイポーラトランジスタ素子であることを特徴とする請求項２記載のストロボ充電回路。
【請求項４】
プッシュプル駆動可能な第１乃至第３の一次巻線と二次巻線とを備えた発振トランスと、
上記第１乃至第３の一次巻線にそれぞれ接続された複数のスイッチング素子と、
上記二次巻線に発生する昇圧された電圧の整流出力により充電される主コンデンサと、
上記主コンデンサの充電電圧を検出する電圧検出手段と、
前記電圧検出手段の出力に応答して、上記複数のスイッチング素子の駆動順序を制御する制御手段と、
を具備することを特徴とするストロボ充電回路。
【請求項５】
上記複数のスイッチング素子は、少なくとも１つのバイポーラトランジスタ素子を含むことを特徴とする請求項４記載のストロボ充電回路。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明の第１の態様は、電源電圧を昇圧し、発光用コンデンサに電荷を蓄えるための、同一あるいは異なる巻線の第１乃至第３の一次巻線と、二次巻線とを有し、一次巻線がプッシュプル駆動可能な発振トランスと、上記第１乃至第３の一次巻線にそれぞれ接続され、一次巻線に流れる電流をスイッチングする複数のスイッチング素子と、上記発振トランスの二次巻線に発生する昇圧電圧を整流するブリッジダイオードと、上記ブリッジダイオードに接続された発光用コンデンサの充電電圧を検出する電圧検出手段と、この電圧検出手段の出力に応答して、上記複数のスイッチング素子を制御する制御手段と、を備えたストロボ充電回路において、上記制御手段は、上記電圧検出手段の出力が第１の基準レベル未満の時は、第１の一次巻線に電流を流すスイッチング素子を駆動し、上記電圧検出手段の出力が第１の基準レベル以上で第２の基準レベル未満の時は、第１の一次巻線に電流を流すスイッチング素子と、第２の一次巻線に電流を流すスイッチング素子とを交互に作動させ、上記電圧検出手段の出力が第２の基準レベル以上の時は、第２の一次巻線に電流を流すスイッチング素子と、第３の一次巻線に電流を流すスイッチング素子とを交互に作動させる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本発明の第２の態様は、第１の態様において、上記第１の一次巻線の一部は上記第３の一次巻線を兼ねている。
また、本発明の第３の態様は、第２の態様において、上記第１及び第３の一次巻線に電流を流すように接続されたスイッチング素子は、バイポーラトランジスタ素子である。
また、本発明の第４の態様は、プッシュプル駆動可能な第１乃至第３の一次巻線と二次巻線とを備えた発振トランスと、上記第１乃至第３の一次巻線にそれぞれ接続された複数のスイッチング素子と、上記二次巻線に発生する昇圧された電圧の整流出力により充電される主コンデンサと、上記主コンデンサの充電電圧を検出する電圧検出手段と、前記電圧検出手段の出力に応答して、上記複数のスイッチング素子の駆動順序を制御する制御手段と、を具備する。
また、本発明の第５の態様は、第４の態様において、上記複数のスイッチング素子は、少なくとも１つのバイポーラトランジスタ素子を含む。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施形態を詳細に説明する。図１は本発明の一実施形態に係るストロボ充電回路の構成を示す図であり、電源Ｅと、電源電圧を昇圧し、発光用コンデンサＣに電荷を貯えるための、同一あるいは異なる巻数の第１乃至第３の一次巻線Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３と二次巻線Ｓとを有し、一次巻線Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３がプッシュプル駆動可能な発振トランスＴと、第１乃至第３の一次巻線Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３にそれぞれ接続され、一次巻線Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３に流れる電流をスイッチングする複数のスイッチング素子（バイポーラトランジスタＴｒ１，電界効果型トランジスタＦＥＴ１，ＦＥＴ２）と、発振トランスＴの二次巻線Ｓに発生する昇圧電圧を整流するブリッジダイオードＤ１と、逆流防止用ダイオードＤ２を介してブリッジダイオードＤ１に接続された発光用のメインコンデンサＣの充電電圧を検出する電圧検出手段としての機能と、この検出された充電電圧に応答して、複数のスイッチング素子（バイポーラトランジスタＴｒ１、電界効果型トランジスタＦＥＴ１，ＦＥＴ２）を制御する制御手段としての機能を有するＣＰＵ１０とを備えている。さらに、発光用コンデンサＣにはストロボ発光用の発光回路１１が接続されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記した具体的実施形態には以下のような構成の発明が含まれている。
（１）
プッシュプル駆動可能な第１乃至第３の一次巻線と二次巻線とを備えた発振トランスと、
上記第１乃至第３の一次巻線にそれぞれ接続された複数のスイッチング素子と、
上記二次巻線に発生する昇圧された電圧の整流出力により充電される主コンデンサと、
上記主コンデンサの充電電圧を検出する電圧検出手段と、
上記電圧検出手段の出力に応答して、上記複数のスイッチング素子の駆動順序を制御する制御手段と、
を具備することを特徴とするストロボ充電回路。
（２）
上記複数のスイッチング素子は、少なくとも１つのバイポーラトランジスタ素子を含むことを特徴とする（１）記載のストロボ充電回路。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月28日(2005.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明光学系からの露光光でマスクを照明し、前記露光光のもとで前記マスクのパターンを基板上に転写する露光装置において、
前記照明光学系内で前記露光光の光路上の少なくとも１つの空間が前記照明光学系の周囲の気体と遮断された気密室とされ、
該気密室内の気体が交換自在であることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の露光装置であって、
前記気密室内の気体を排気する気体排気系と、
前記気密室に所定の気体を供給する気体供給系と、
前記気密室内に設けられた圧力センサと、
該圧力センサで検出される前記気密室内の圧力に応じて前記気体排気系及び前記気体供給系の動作を制御する制御系と、を有することを特徴とする露光装置。
【請求項３】
請求項２に記載の露光装置であって、
前記制御系は、前記気密室内の気体を交換する際に、前記圧力センサで検出される圧力の変動量が所定の許容範囲内にある状態で、前記気体排気系を介して前記気密室内の気体を排気すると共に、前記気体供給系を介して前記気密室内に所定の気体を供給することを特徴とする露光装置。
【請求項４】
請求項１、２、又は３に記載の露光装置であって、
前記照明光学系は、露光光を発生する光源と、該光源からの露光光を整形する整形光学系と、該整形光学系を通過した前記露光光の照度分布を均一化するオプティカル・インテグレータとを備え、
前記気密室は、前記整形光学系を構成する２つの光学部材に挟まれた空間であることを特徴とする露光装置。
【請求項５】
前記気密室への前記所定の気体の供給と、前記気密室内の前記気体の排気とを交互に行うことを特徴とする請求項２から４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記気密室内の不純物ガス濃度の目標値に応じて、前記気密室内の前記気体の排気と、前記気密室への前記所定の気体の供給との繰り返し回数を決定することを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記気密室内の気体の交換は、露光装置のアイドリング時に行われることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、その照明光学系が、露光光を発生する光源（１）と、この光源からの露光光を整形する整形光学系（ＩＬＳ）と、この整形光学系を通過した露光光の照度分布を均一化するオプティカル・インテグレータ（１０）とを備えている場合、その気密室の一例は、その整形光学系を構成する２つの光学部材（９Ａ，９Ｂ）に挟まれた空間（３３Ａ）である。オプティカル・インテグレータの入射面での露光光の照度はかなり大きいため、放置しておくと整形光学系（ＩＬＳ）内のレンズ等に曇り物質が析出し易い。そこで、そのレンズ等に接する空間を気密室（３３Ａ）として、不純物ガス等を交換できるようにすることで、曇り物質の析出が防止される。
また、本発明において、その気密室へのその所定の気体の供給と、その気密室内のその気体の排気とを交互に行ってもよい。
また、その気密室内の不純物ガス濃度の目標値に応じて、その気密室内のその気体の排気と、その気密室へのその所定の気体の供給との繰り返し回数を決定してもよい。
また、その気密室内の気体の交換は、一例として、露光装置のアイドリング時に行われる。