【手続補正書】
【提出日】平成16年7月15日(2004.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
品目（４８）を隔離および処理する方法であって、該方法は、以下：
密閉体センブリ（１０、１０’、１０’’）に該品目を密閉する工程であって、該密閉する工程は：
枠組み（１２、１２’）を組み立てる工程であって、該枠組みは、該品目を取り囲むようにサイズ決めされている、工程；
該枠組み上の可撓性密閉体（１４、１４’、１４’’）を操作する工程であって、該可撓性密閉体は、密閉空間（３６、３６’、３６’’）を少なくとも部分的に規定しており、少なくとも１つの流体供給通路（７４）が、該密閉体に処理流体を供給するために、該密閉体と接続されている、工程；
該密閉空間内に該品目を隔離する工程、
を包含する、密閉する工程；
該流体供給通路を、該処理流体の供給源（１１０）と接続する工程であって、該処理流体が、過酸化水素蒸気を含む、工程；および、
該処理流体を該密閉空間に供給して、該品目を処理する工程、
によって特徴付けられる、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、該方法は、前記処理流体を前記密閉体に供給する前記工程の後の、前記枠組みから該密閉体を取り出して、該枠組みを分解する工程によってさらに特徴付けられる、方法。
【請求項３】
請求項１および２のいずれか１項に記載の方法であって、該方法は、以下：
前記枠組みを組み立てる工程であって、複数の細長部材（１６）を一緒に接続する工程を包含する、工程、によってさらに特徴付けられる、方法。
【請求項４】
請求項３に記載の方法であって、該方法は、以下：
前記枠組み上の前記可撓性密閉体を操作する工程であって、該操作する工程は以下：
複数のタブ（４０、４０’、４０’’）によって、上部細長部材から該可撓性密閉体を吊り下げる工程、
を包含する工程、
によってさらに特徴付けられる、方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法であって、該方法は、以下：
前記密閉空間内に前記品目を密閉する工程であって、該密閉する工程は、以下：
前記可撓性密閉体（１４’、１４’’）の低部端を付随の床表面（５２）にシールして、該品目の周囲で、実質的に気密な密閉空間を提供する工程、
を包含する工程、
によってさらに特徴付けられる、方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法であって、該方法は、以下：
前記密閉体に前記処理流体を供給する前記工程の前に、該密閉体を試験して、該密閉体が少なくとも実質的に気密であることを保証する、工程、
によってさらに特徴付けられる、方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法であって、該方法は、以下：
前記密閉体が、複数の可撓性パネル（３０、３０’、３２、３２’、３４、３４’、３０Ａ、３０Ｂ）を備え、該複数の可撓性パネルが、該可撓性パネルの継目（５６）にて一緒に接合されていること、
によってさらに特徴付けられる、方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法であって、該方法は、以下：
前記可撓性パネルが、上位パネル（３２）、少なくとも１つの側面パネル(３０)、および床パネル（３４）を備え、これらが、前記密閉空間を一緒に規定していること、
によってさらに特徴付けられる、方法。
【請求項９】
請求項７および８のいずれか１項に記載の方法であって、該方法は、以下：
前記可撓性パネル（３０、３０’）のうちの少なくとも１つが、レール型ジッパー（１２０、１２０’、１２４）によって少なくとも部分的に形成されたドア（１２２、１２２’）を備えることによってさらに特徴付けられ、該方法が、該ドアを選択的に開放して、前記密閉空間へのアクセスを提供する工程を包含する、方法。
【請求項１０】
請求項７〜９のいずれか１項に記載の方法であって、該方法は、以下：
前記可撓性パネルのうちの少なくとも１つ（３０’’）が、内層（１３０）および外層（１３２）を備え、該内層および該外層が、該内層と該外層との間の内壁空間（１３４）を一緒に規定することによってさらに特徴付けられ、該方法が、以下：
陽圧にて、該内壁空間に流体を供給する工程、
をさらに包含する、方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の方法であって、該方法は、以下：
前記流体が前記内壁空間に入る前に、該流体を加熱および冷却する工程のうちの１つによってさらに特徴付けられる、方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法であって、該方法は、以下：
少なくとも１つの流体出口通路（７６）が、前記可撓性密閉体から処理流体を通過させるために、該可撓性密閉体と接続されることによってさらに特徴付けられ、該方法が、該流体出口通路を介して、該密閉体から処理流体を取り出す工程をさらに包含する、方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の方法であって、該方法は、以下：
前記密閉体全体を通して、前記品目の一部にアクセスするのが困難なところに前記処理流体を推進する工程によってさらに特徴付けられる、方法。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法であって、該方法は、以下：
支持パネル（６０、６０’）が、前記枠組みに取り付けられており、該支持パネルは、コネクタ（６４）を支持しており、該コネクタは、流体供給通路と流体供給導管（６８）とを選択的に接続するために、該流体供給通路と接続されており、該流体供給導管は、前記処理流体の供給源と接続しており、該流体供給通路を該処理流体の供給源と接続する工程が、該コネクタを該流体供給導管と選択的に接続する工程を包含することによってさらに特徴付けられる、方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の方法であって、該方法は、以下：
前記支持パネルが、前記密閉体内部のセンサ（９２）をモニタリング装置（１１８）と接続するための第二のコネクタ（９０）をさらに備えることによってさらに特徴付けられ、該方法が、以下：
該第二のコネクタを介して、該センサを該モニタリング装置と選択的に接続する工程；および、
該密閉体内の環境状態を該センサでモニタリングする工程、
をさらに包含する、方法。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載の方法であって、該方法は、以下：
前記可撓性密閉体が、気密材料から形成されていること、
によってさらに特徴付けられる、方法。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか１項に記載の方法であって、該方法は、以下：
前記処理流体の供給源が、液体を該処理流体に変換するための気化器（１１２）を備えることによってさらに特徴付けられ、該方法が、以下：
該液体を気化して該処理流体を形成する工程；および、
キャリアガスの流れで、該処理流体を前記密閉体に輸送する工程、
をさらに包含する、方法。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれか１項に記載の方法であって、該方法は、以下：
前記処理流体の供給源が、移動可能なカート（１０４）によって支持されることによってさらに特徴付けられ、該方法が、以下：
該カートを前記密閉体に隣接して配置する工程、
をさらに包含する、方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載の方法であって、該方法は、以下：
前記カートがまた、以下：
キャリアガスの供給源（１３８）；
液体のレザバ（１１０）；
該液体を前記処理流体に変換するための気化器（１１２）；
該液体を該気化器にポンピングするためのポンプ（１１１）；
前記密閉器を通過する消費した流体を分解するための触媒変換器（１１６）；および、
該密閉体内部の環境状態をモニタリングするためのモニタリング装置（１１８）であって、該環境状態は、該処理流体の少なくとも１つの成分である、温度、圧力、および濃度のうちの少なくとも１つを含む、モニタリング装置（１１８）、
のうちの少なくとも１つを支持することによってさらに特徴付けられる、方法。
【請求項２０】
ウォークイン式密閉体（１０、１０’、１０’’）アセンブリであって、以下：
枠組み（１２、１２’、１２’’）；
実質的に気密な密閉空間（３６）を少なくとも部分的に規定する、該枠組み上に掛けられた可撓性密閉体（１４、１４’、１４’’）；および、
該密閉空間に微生物除染物質を供給するための、該密閉空間と流体接続された流体供給通路（７４）、
によって特徴付けられ
該密閉体は、陽圧を維持するように構成され、それにより、約３．８１ｃｍの水に等しい圧力にて、空気が該密閉体に供給される場合、該密閉体は、該空気供給が断たれてから少なくとも５分間、少なくとも２ｃｍの水に等しい圧力を維持する、アセンブリ。
【請求項２１】
請求項２０に記載の密閉アセンブリであって、該アセンブリは、以下：
該枠組みが、複数のポール（１６）を備え、該ポールが、選択的に、相互接続部品（１８）によって一緒に保持されていることによってさらに特徴付けられる、アセンブリ。
【請求項２２】
請求項２０および２１のいずれか１項に記載の密閉アセンブリであって、該アセンブリは、以下：
前記可撓性密閉体が透明であることによってさらに特徴付けられる、アセンブリ。
【請求項２３】
請求項２０〜２２のいずれか１項に記載の密閉アセンブリであって、該アセンブリは、以下：
前記可撓性密閉体が、強力な酸化剤に対して不透過性である気密材料から形成されていることによってさらに特徴付けられる、アセンブリ。
【請求項２４】
請求項２０〜２３のいずれか１項に記載の密閉アセンブリであって、該アセンブリは、以下：
前記可撓性密閉体が、継目（５６）によって一緒に接合された複数の可撓性パネル（３０、３０’、３２、３２’、３４、３４’、３０Ａ，３０Ｂ）から形成されていることによってさらに特徴付けられる、アセンブリ。
【請求項２５】
請求項２４に記載の密閉アセンブリであって、該アセンブリは、以下：
前記可撓性パネルのうちの少なくとも１つが、ジッパー（１２０、１２０’、１２４）によって規定されるドア（１２２、１２２’）を備え、該ドアが、前記密閉空間へのアクセスを提供するように選択的に解放可能であることによってさらに特徴付けられる、アセンブリ。
【請求項２６】
請求項２４および２５のいずれか１項に記載の密閉アセンブリであって、該アセンブリは、以下：
前記密閉空間が、付随の床表面（５２）によって少なくとも部分的に規定され、少なくとも１つのフラップ（５０、５０’、１２３）が、該可撓性パネルから延び、該フラップが、該床表面にシールされるように構成されていることによって特徴付けられる、アセンブリ。
【請求項２７】
請求項２４〜２６のいずれか１項に記載の密閉アセンブリであって、該アセンブリは、以下：
前記可撓性パネルのうちの少なくとも１つ（３０、３０’、３０’’）が、内層（１３０）および外層（１３２）を備え、該内層および該外層が、該内層と該外層との間の内壁空間（１３４）を一緒に規定していることによってさらに特徴付けられる、アセンブリ。
【請求項２８】
請求項２７に記載の密閉アセンブリであって、該アセンブリは、以下：
ガスの供給源（１３８）が、前内壁空間と流体接続しており、該ガスの供給源が、陽圧下で、該内壁空間にガスを供給することによってさらに特徴付けられる、アセンブリ。
【請求項２９】
請求項２７および２８のいずれか１項に記載の密閉アセンブリであって、該アセンブリは、以下：
温度要素（１４４）であって、該温度要素が、前記内壁空間に入る前に、前記ガスを選択的に加熱および冷却することによってさらに特徴付けられる、アセンブリ。
【請求項３０】
請求項２０〜２９のいずれか１項に記載の密閉アセンブリであって、該アセンブリは、支持パネル（６０、６０’）をさらに備え、該支持パネルは、前記枠組みに取り付けられており、該支持パネルは、接続部を有し、該接続部は、前記密閉体の外側にある流体供給導管（６８）を、前記除染流体を前記密閉空間に供給するための前記流体供給通路と選択的に接続している、アセンブリ。
【請求項３１】
除染システムであって、該システムは、以下：
携帯用枠組み（１２、１２’、１２’’）；
密閉空間（３６）を少なくとも部分的に規定する、該枠組み上に掛けられた可撓性密閉体（１４、１４’、１４’’）；
微生物除染物質の供給源（１１０）であって、該微生物除染物質の供給源が、以下：
液体を含むレザバ（１１０）；および、
該液体を気化して該微生物除染物質を形成するための気化器（１１２）、
を備える、微生物除染物質の供給源；
該気化された微生物除染物質と混合して、該気化された微生物除染物質を該密閉体に輸送するためのキャリアガスの供給源（１３８）；ならびに、
流体流路（６８、７４）であって、該密閉空間に微生物除染物質を供給するために、該微生物除染物質の供給源を該密閉空間と流体接続する、流体流路、
によって特徴付けられる、システム。
【請求項３２】
請求３１に記載の除染システムであって、該システムは、以下：
前記流体流路が、流体導管（６８）および流体供給通路（７４）を備え、該流体導管は、前記密閉体の外側にあり、除染物質の前記供給源と流体連絡しており、該流体供給通路は、該密閉体に入り、該システムは、該流体導管と該流体供給通路とを選択的に流体接続するために、前記枠組みに取り付けられたコネクタ（６４）をさらに備えることによってさらに特徴付けられる、システム。
【請求項３３】
請求項３１および３２に記載の除染システムであって、該システムは、以下：
カート（１０４）であって、前記レザバ、気化器、およびキャリアガスの供給源のうちの少なくとも１つが、該カート上に取り付けられていることによってさらに特徴付けられる、システム。
【請求項３４】
請求項３１〜３３のいずれか１項に記載の除染システムであって、該システムは、以下：
前記密閉体が、陽圧を維持するように構成され、それにより、約３．８１ｃｍの水に等しい圧力にて、空気が該密閉体に供給され、該密閉体は、該空気供給が断たれてから少なくとも５分間、少なくとも２ｃｍの水に等しい圧力を維持することによってさらに特徴付けられる、システム。
【請求項３５】
請求項３１〜３４のいずれか１項に記載の除染システムであって、該システムは、以下：
前記密閉体と接続された、流体排出流路（７０、７６）であって、該流体排出流路を通して、消費した微生物除染物質が該前記密閉体から出ることによってさらに特徴付けられる、システム。
【請求項３６】
請求項３１〜３５のいずれか１項に記載の除染システムであって、該システムは、以下：
前記枠組みに取り付けられた支持パネル（６０、６０’）であって、該支持パネルは、以下；
第一の接続部（６４）であって、該第一の接続部は、前記密閉体の外側の流体供給導管（６８）を流体供給通路（７４）と選択的に接続して、流体供給流路を形成する、第一の接続部；および、
第二の接続部（６６）であって、該第二の接続部は、該密閉体と接続された流体経路（７６）を出口導管（７０）と選択的に接続して、前記流体排出流路を形成する、第二の接続部、
によってさらに特徴付けされる、システム。
【請求項３７】
請求項３６に記載の除染システムであって、該システムは、以下：
前記支持パネルが、前記密閉体内部のセンサ（９２）を、該密閉体の外側のモニタリング手段（１１８）と選択的に接続するように、接続部（９０）を支持することによって特徴付けられる、システム。
【請求項３８】
請求項３１〜３７のいずれか１項に記載の除染システムであって、該システムは、以下：
循環手段（８８）であって、該循環手段が、前記密閉空間全体を通して前記生物除染物質を循環させるために、前記密閉体内に配置されることによってさらに特徴付けられる、システム。
【請求項３９】
請求項３８に記載の除染システムであって、前記循環手段がファンを備えることによって特徴付けられる、システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
（発明の要旨）
本発明の１つの局面に従って、品目を隔離し、処理する方法が、提供される。本方法は、密閉体アセンブリ中に品目を密閉する工程であって、この工程が、枠組みを組み立てる工程を包含する、工程、および枠組みにおいて可撓性密閉体を操作する工程、を包含する。可撓性密閉体は、少なくとも部分的に、密閉空間を規定する。少なくとも１つの流体供給通路は、処理流体を密閉体中に提供するように密閉体に接続される。品目は、密閉空間内に隔離される。流体供給通路は、処理流体の供給源に接続される。処理流体は、過酸化水素蒸気を含む。処理流体は、密閉空間に供給され、品目を処理する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の別の局面に従って、ウォークイン式（ｗａｌｋ−ｉｎ）密閉体アセンブリが、提供される。アセンブリは、枠組みを備える。可撓性密閉体は、枠組みに取り付けられ、この枠組みは、少なくとも部分的に、実質的に気密の密閉空間を規定する。流体供給通路は、密閉空間と流体接続され、密閉空間に微生物除染物質を供給する。この密閉体は、陽圧を維持するように構成され、それにより、約３．８１ｃｍの水に等しい圧力にて、空気がこの密閉体に供給される場合、この密閉体は、空気供給が断たれてから少なくとも５分間、少なくとも２ｃｍの水に等しい圧力を維持する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の別の局面に従って、除染システムが提供される。このシステムは、携帯用枠組みおよびこの枠組みに取り付けられる可撓性密閉体を備え、この可撓性密閉体は、少なくとも部分的に、密閉空間を規定する。流体流路は、微生物除染物質の供給源を、密閉空間と流体接続し、密閉空間に除染流体を供給する。微生物除染物質の供給源は、液体、およびこの液体を気化して微生物除染物質を形成するための気化器を含むレザバを備える。キャリアガスの供給源は、この気化された微生物除染物質と混合して、この気化された微生物除染物質を密閉体に輸送することによって提供される。