【手続補正書】
【提出日】平成17年1月12日(2005.1.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オキシ水酸化鉄を主体とする針状微細粉末を、還元性雰囲気中で、加熱処理する第１の還元工程と、さらに、還元性雰囲気中で、第１の還元工程とは異なる温度で加熱処理する第２の還元工程と、徐酸化処理する工程とを有することを特徴とする金属磁性粉末の製造方法。
【請求項２】
オキシ水酸化鉄の粒子長は、０．３μｍより小さく、第１の還元工程の温度は、４００〜４５０℃の範囲にあり、第２の還元工程の温度は、４７０〜６２０℃の範囲にあることを特徴とする請求項１記載の金属磁性粉末の製造方法。
【請求項３】
オキシ水酸化鉄の粒子長は、０．３μｍより小さく、第１の還元工程の温度は、４００〜４５０℃の範囲にあり、第２の還元工程の温度は、４７０〜６２０℃の範囲にあり、第１の還元工程の処理時間は、第２の還元工程の処理時間よりも短いことを特徴とする請求項１記載の金属磁性粉末の製造方法。
【請求項４】
オキシ水酸化鉄を主体とする針状微細粉末を、還元性雰囲気中で、加熱処理する第１の還元工程と、さらに、還元性雰囲気中で、第１の還元工程とは異なる温度で加熱処理する第２の還元工程と、徐酸化処理した後、金属磁性粉末を得る工程と、上記金属磁性粉末と有機バインダーとを主体とする磁性層を非磁性支持体上に形成する工程とを有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
オキシ水酸化鉄の粒子長は、０．３μｍより小さく、第１の還元工程の温度は、４００〜４５０℃の範囲にあり、第２の還元工程の温度は、４７０〜６２０℃の範囲にあることを特徴とする請求項４記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
オキシ水酸化鉄の粒子長は、０．３μｍより小さく、第１の還元工程の温度は、４００〜４５０℃の範囲にあり、第２の還元工程の温度は、４７０〜６２０℃の範囲にあり、第１の還元工程の処理時間は、第２の還元工程の処理時間よりも短いことを特徴とする請求項４記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】
オキシ水酸化鉄を主体とする針状微細粉末を、還元性雰囲気中で、加熱処理する第１の還元工程と、さらに、還元性雰囲気中で、第１の還元工程の温度より高い温度で加熱処理する第２の還元工程と、非還元性雰囲気中または真空中で、第２の還元工程の温度よりも高い温度で焼き締め（高温保持）を行う工程と、徐酸化処理する工程とを有することを特徴とする金属磁性粉末の製造方法。
【請求項８】
オキシ水酸化鉄の粒子長は、０．３μｍより小さく、第１の還元工程の温度は、４００〜４５０℃の範囲にあり、第２の還元工程の温度は、４７０〜６２０℃の範囲にあることを特徴とする請求項７記載の金属磁性粉末の製造方法。
【請求項９】
オキシ水酸化鉄の粒子長は、０．３μｍより小さく、第１の還元工程の温度は、４００〜４５０℃の範囲にあり、第２の還元工程の温度は、４７０〜６２０℃の範囲にあり、焼き締めを行う工程の温度は、第２の還元工程の温度よりも１０℃以上高いことを特徴とする請求項７記載の金属磁性粉末の製造方法。
【請求項１０】
オキシ水酸化鉄を主体とする針状微細粉末を、還元性雰囲気中で、加熱処理する第１の還元工程と、さらに、還元性雰囲気中で、第１の還元工程の温度より高い温度で加熱処理する第２の還元工程と、非還元性雰囲気中または真空中で、第２の還元工程の温度よりも高い温度で焼き締めを行う工程と、徐酸化処理した後、金属磁性粉末を得る工程と、上記金属磁性粉末と有機バインダーとを主体とする磁性層を非磁性支持体上に形成する工程とを有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１１】
オキシ水酸化鉄の粒子長は、０．３μｍより小さく、第１の還元工程の温度は、４００〜４５０℃の範囲にあり、第２の還元工程の温度は、４７０〜６２０℃の範囲にあることを特徴とする請求項１０記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１２】
オキシ水酸化鉄の粒子長は、０．３μｍより小さく、第１の還元工程の温度は、４００〜４５０℃の範囲にあり、第２の還元工程の温度は、４７０〜６２０℃の範囲にあり、焼き締めを行う工程の温度は、第２の還元工程の温度よりも１０℃以上高いことを特徴とする請求項１０記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１３】
オキシ水酸化鉄を主体とする針状微細粉末を、還元性雰囲気中で、加熱処理する第１の還元工程と、非還元性雰囲気中または真空中で、第１の還元工程の温度よりも高い温度で焼き締めを行う工程と、還元性雰囲気中で、第１の還元工程の温度より高い温度で加熱処理する第２の還元工程と、徐酸化処理する工程とを有することを特徴とする金属磁性粉末の製造方法。
【請求項１４】
オキシ水酸化鉄の粒子長は、０．３μｍより小さく、第１の還元工程の温度は、４００〜４５０℃の範囲にあり、第２の還元工程の温度は、４７０〜６２０℃の範囲にあることを特徴とする請求項１３記載の金属磁性粉末の製造方法。
【請求項１５】
オキシ水酸化鉄の粒子長は、０．３μｍより小さく、第１の還元工程の温度は、４００〜４５０℃の範囲にあり、第２の還元工程の温度は、４７０〜６２０℃の範囲にあり、焼き締めを行う工程の温度は、第１の還元工程の温度よりも１０℃以上高いことを特徴とする請求項１３記載の金属磁性粉末の製造方法。
【請求項１６】
オキシ水酸化鉄を主体とする針状微細粉末を、還元性雰囲気中で、加熱処理する第１の還元工程と、非還元性雰囲気中または真空中で、第１の還元工程の温度よりも高い温度で焼き締めを行う工程と、還元性雰囲気中で、第１の還元工程の温度より高い温度で加熱処理する第２の還元工程と、徐酸化処理した後、金属磁性粉末を得る工程と、上記金属磁性粉末と有機バインダーとを主体とする磁性層を非磁性支持体上に形成する工程とを有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１７】
オキシ水酸化鉄の粒子長は、０．３μｍより小さく、第１の還元工程の温度は、４００〜４５０℃の範囲にあり、第２の還元工程の温度は、４７０〜６２０℃の範囲にあることを特徴とする請求項１６記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１８】
オキシ水酸化鉄の粒子長は、０．３μｍより小さく、第１の還元工程の温度は、４００〜４５０℃の範囲にあり、第２の還元工程の温度は、４７０〜６２０℃の範囲にあり、焼き締めを行う工程の温度は、第１の還元工程の温度よりも１０℃以上高いことを特徴とする請求項１６記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１９】
オキシ水酸化鉄を主体とする針状微細粉末を、還元性雰囲気中で、加熱処理する第１の還元工程と、さらに、還元性雰囲気中で、第１の還元工程とは異なる温度で加熱処理する第２の還元工程と、酸素濃度０．１％〜８％の範囲で徐酸化処理する工程とを有することを特徴とする金属磁性粉末の製造方法。
【請求項２０】
オキシ水酸化鉄の粒子長は、０．３μｍより小さく、第１の還元工程の温度は、４００〜４５０℃の範囲にあり、第２の還元工程の温度は、４７０〜６２０℃の範囲にあることを特徴とする請求項１９記載の金属磁性粉末の製造方法。
【請求項２１】
オキシ水酸化鉄の粒子長は、０．３μｍより小さく、第１の還元工程の温度は、４００〜４５０℃の範囲にあり、第２の還元工程の温度は、４７０〜６２０℃の範囲にあり、第１の還元工程の処理時間は、第２の還元工程の処理時間よりも短いことを特徴とする請求項１９記載の金属磁性粉末の製造方法。
【請求項２２】
オキシ水酸化鉄を主体とする針状微細粉末を、還元性雰囲気中で、加熱処理する第１の還元工程と、さらに、還元性雰囲気中で、第１の還元工程とは異なる温度で加熱処理する第２の還元工程と、酸素濃度０．１％〜８％の範囲で徐酸化処理した後、金属磁性粉末を得る工程と、上記金属磁性粉末と有機バインダーとを主体とする磁性層を非磁性支持体上に形成する工程とを有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２３】
オキシ水酸化鉄の粒子長は、０．３μｍより小さく、第１の還元工程の温度は、４００〜４５０℃の範囲にあり、第２の還元工程の温度は、４７０〜６２０℃の範囲にあることを特徴とする請求項２２記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２４】
オキシ水酸化鉄の粒子長は、０．３μｍより小さく、第１の還元工程の温度は、４００〜４５０℃の範囲にあり、第２の還元工程の温度は、４７０〜６２０℃の範囲にあり、第１の還元工程の処理時間は、第２の還元工程の処理時間よりも短いことを特徴とする請求項２２記載の磁気記録媒体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
上記塗布型の磁気記録媒体の高密度記録領域での特性を改善するには、まず磁性粉末の選択が重要である。すなわち、磁性粉末としては、保磁力が高く、飽和磁束密度が大きく、微細粒子である事が必要である。