(57)【要約】  マグネシウムを含むアルミニウム合金もしくはマグネシウム合金の表面に、腐食性ガスに対する十分な耐食性を付与するとともに、マグネシウムを含むアルミニウム合金もしくはマグネシウム合金を真空中、３００℃以上の雰囲気中にて用いても、その表面からマグネシウムが飛散することを防止することができるアルミニウム合金の表面処理法およびマグネシウム合金の表面処理法を提供する。  この方法は、マグネシウムを含むアルミニウム合金もしくはマグネシウム合金の表面に、フッ化炭素系化合物を塗布し、酸素雰囲気中にて加熱してフッ化物不動態膜を形成することである。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
マグネシウムを含むアルミニウム合金の表面に、酸素雰囲気中にてフッ化物不動態膜を形成するアルミニウム合金の表面処理法。
【請求項２】
前記マグネシウムを含むアルミニウム合金の表面に、フッ化炭素系化合物が分散された溶液を塗布した後、酸素雰囲気中にて加熱することにより、前記フッ化物不動態膜を形成する請求項１に記載のアルミニウム合金の表面処理法。
【請求項３】
前記フッ化物不動態膜は、マグネシウムおよびフッ素を含む金属化合物からなる請求項１記載のアルミニウム合金の表面処理法。
【請求項４】
マグネシウム合金の表面に、酸素雰囲気中にてフッ化物不動態膜を形成するマグネシウム合金の表面処理法。
【請求項５】
前記マグネシウム合金の表面に、フッ化炭素系化合物が分散された溶液を塗布した後、酸素雰囲気中にて加熱することにより、前記フッ化物不動態膜を形成する請求項３に記載のマグネシウム合金の表面処理法。
【請求項６】
前記フッ化物不動態膜は、マグネシウムおよびフッ素を含む金属化合物からなる請求項４に記載のマグネシウム合金の表面処理法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マグネシウムを含むアルミニウム合金またはマグネシウム合金の表面に、マグネシウムのフッ化物からなるフッ化物不動態膜を形成することにより、このアルミニウム合金またはマグネシウム合金を腐食性の雰囲気中にて用いても、耐食性を示し、３００℃以上の雰囲気中にて用いても、その表面からマグネシウムの飛散がないアルミニウム合金またはマグネシウム合金を得ることが可能なアルミニウム合金の表面処理法およびマグネシウム合金の表面処理法に関する。
本願は、２００６年１０月２日に、日本に出願された特願２００６−２７１１１５号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶ディスプレイの製造過程や半導体製造プロセスに用いられる各種の装置において、マグネシウムを含むアルミニウム合金が非常に多く用いられてきた。
このような各種の装置は、その表面が強力な腐食性の塩素ガス、フッ化水素ガス、あるいは、フッ素ラジカルなどに晒される。そこで、このような装置に用いられるアルミニウム合金は、耐食性を向上し、長寿命化を図るために、その表面にアルマイト処理により、アルマイト被膜が形成されていた。
しかしながら、このアルマイト被膜は、長期間の使用により、フッ素ラジカルによってエッチングされ、消失するという問題があった。【０００３】
マグネシウム合金は、そのままでは大気中において酸化し、表面が変色しやすい上に、塩害の影響も受けやすい。
また、マグネシウムを含むアルミニウム合金の表面処理法については、対象物を容器内で加熱した後、容器内に危険性のあるフッ素ガスもしくはフッ素系化合物ガスを導入して加熱することにより、マグネシウムを含むアルミニウム合金の表面にフッ化物からなる被膜を形成する方法が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平９−１７６７７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述した従来の方法を用いて、アルミニウム合金もしくはマグネシウム合金の表面に形成された被膜は、腐食性ガスに対する耐食性が十分でない上に、真空中にて５５０℃程度まで加熱すると、合金に含まれるマグネシウムが飛散するため、液晶ディスプレイの製造過程や半導体製造プロセスには適用できないという問題があった。【０００５】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、マグネシウムを含むアルミニウム合金もしくはマグネシウム合金の表面に、腐食性ガスに対する十分な耐食性を付与するとともに、マグネシウムを含むアルミニウム合金もしくはマグネシウム合金を真空中、３００℃以上の雰囲気中にて用いても、その表面からマグネシウムが飛散することを防止することができるアルミニウム合金の表面処理法およびマグネシウム合金の表面処理法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者等は、マグネシウムを含むアルミニウム合金もしくはマグネシウム合金の表面に、フッ化物不動態膜を形成することにより、マグネシウムを含むアルミニウム合金もしくはマグネシウム合金を腐食性の雰囲気中にて用いても、腐食しないこと、並びに、マグネシウムを含むアルミニウム合金もしくはマグネシウム合金を真空中、３００℃以上の雰囲気中にて用いても、マグネシウムが飛散することを防止できることを見出し、本発明を完成するに至った。【０００７】
すなわち、本発明のアルミニウム合金の表面処理法は、マグネシウムを含むアルミニウム合金の表面に、酸素雰囲気中にてフッ化物不動態膜を形成することを含む。【０００８】
前記マグネシウムを含むアルミニウム合金の表面に、フッ化炭素系化合物が分散された溶液を塗布した後、酸素雰囲気中にて加熱することにより、前記フッ化物不動態膜を形成することが好ましい。
前記フッ化物不動態膜は、マグネシウムおよびフッ素を含む金属化合物からなることが好ましい。【０００９】
また、本発明のマグネシウム合金の表面処理法は、マグネシウム合金の表面に、酸素雰囲気中にてフッ化物不動態膜を形成することである。【００１０】
前記マグネシウム合金の表面に、フッ化炭素系化合物が分散された溶液を塗布した後、酸素雰囲気中にて加熱することにより、前記フッ化物不動態膜を形成することが好ましい。
前記フッ化物不動態膜は、マグネシウムおよびフッ素を含む金属化合物からなることが好ましい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のアルミニウム合金の表面処理法は、マグネシウムを含むアルミニウム合金の表面に、酸素雰囲気中にてフッ化物不動態膜を形成するので、一般的なフッ化物膜の形成法に用いられるフッ素系のガスを用いることなく、マグネシウムを含むアルミニウム合金の表面にフッ化物不働態膜を形成することができる。
また、本発明のアルミニウム合金の表面処理法では、マグネシウムを含むアルミニウム合金の表面に、フッ化炭素系化合物が分散された溶液を塗布した後、酸素雰囲気中にて加熱するので、合金中のマグネシウムがフッ素と選択的に反応するとともに、酸素雰囲気中にて反応が行われ、フッ化炭素系化合物中の炭素は酸化した後、離脱して、フッ化物不働態膜中には残留しない。従って、得られたフッ化物不動態膜は、マグネシウムおよびフッ素を含む金属化合物となり、耐食性およびマグネシウムの飛散防止に有効な膜となる。【００１２】
本発明のマグネシウム合金の表面処理法は、マグネシウム合金の表面に、酸素雰囲気中にてフッ化物不動態膜を形成するので、一般的なフッ化物膜の形成法に用いられるフッ素系のガスを用いることなく、マグネシウム合金の表面にフッ化物不働態膜を形成することができる。
また、本発明のマグネシウム合金の表面処理法では、マグネシウム合金の表面に、フッ化炭素系化合物が分散された溶液を塗布した後、酸素雰囲気中にて加熱するので、合金中のマグネシウムがフッ素と選択的に反応するとともに、酸素雰囲気中にて反応が行われ、フッ化炭素系化合物中の炭素は酸化した後、離脱して、フッ化物不働態膜中には残留しない。従って、得られたフッ化物不動態膜は、マグネシウムおよびフッ素を含む金属化合物となり、耐食性およびマグネシウムの飛散防止に有効な膜となる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】実験例１で作製したフッ化物不働態膜付きのマグネシウムを含む合金の表面近傍の断面を、走査型電子顕微鏡によって撮影した走査型電子顕微鏡像である。
【図２】実験例２で作製したフッ化物不働態膜付きのマグネシウムを含む合金の表面近傍の断面の元素分析を、電子線プローブマイクロアナライザーにより行った結果を示すグラフである。
【図３】実験例４において、昇温離脱放出ガススペクトル測定法により、フッ化物不働態膜付きのマグネシウムを含む合金を加熱することにより放出されたガスの成分の分析を行った結果を示すグラフである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明のアルミニウム合金の表面処理法およびマグネシウム合金の表面処理法の最良の形態について説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨がより良く理解されるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。【００１５】
プラズマＣＶＤ法によるａ−Ｓｉ膜成膜プロセスにおいては、一定のプロセスを重ねる毎に、プラズマＣＶＤ装置のヒーターの周辺に析出したケイ素（Ｓｉ）を取り除く必要がある。そこで、三フッ化窒素（ＮＦ３）ガスを用いて、高周波（ＲＦ）またはマイクロ波によって励起されたフッ素ラジカルにより、ヒーターの周辺に析出したケイ素の膜をエッチングして取り除いていた。【００１６】
プラズマＣＶＤ装置では、ヒーターなどの周辺機器はアルミニウム合金からなる材料などで構成されている。このアルミニウム合金からなる材料は、フッ素ラジカルに対する耐食性を向上するとともに、３００℃以上の雰囲気中にて用いた場合に、アルミニウム合金に含まれるマグネシウムが飛散することを防止するために、その表面にアルマイト処理を施し、アルマイト被膜で覆うのが一般的である。しかしながら、このアルマイト被膜は、プラズマＣＶＤ装置の長期使用により、上述のケイ素の膜を取り除く処理を繰り返すことに伴って、ヒーター部分では消失してしまっていた。ところが、アルマイト被膜が取り除かれたアルミニウム合金の表面では、合金中に含まれていたマグネシウムが表面に拡散してきて、エッチングに用いられたフッ素ラジカルと結合して、マグネシウムのフッ化物を形成し、腐食性ガスに対して安定な表面層（被膜）を形成していることが確認された。【００１７】
プラズマＣＶＤ法によるａ−Ｓｉ膜成膜プロセスでは、処理温度が３５０℃から４５０℃の範囲が一般的であるが、処理温度が高いほど、上記のアルミニウム合金からなる材料の表面の耐食性が求められる。
また、マグネシウムを含むアルミニウム合金やマグネシウム合金は、その表面にアルマイト被膜などが形成されていないと、真空中、３００℃以上の雰囲気中ではマグネシウムが飛散し、比較的低い温度でも、その表面にマグネシウムが析出する。
上述のように、合金中に含まれていたマグネシウムとフッ素ラジカルとが結合してなるマグネシウムのフッ化物は、腐食性ガスに対する耐食性に優れるとともに、マグネシウムの飛散を防止するバリアー膜として有効である可能性がある。【００１８】
マグネシウムを含むアルミニウム合金にあっては、その表面に、あらかじめマグネシウムのフッ化膜を形成し、このフッ化膜を不動態膜として用いれば、アルマイト被膜よりも安定な膜となる。
このようなマグネシウムのフッ化膜を形成する方法としては、上記の特許文献１にも示されているように、フッ素系のガスを用いる方法が挙げられる。しかしながら、この方法で用いられるフッ素系のガスは極めて危険性が高い上に、フッ素系のガスによる処理には、耐食性の専用の加熱可能な容器が必要となる。
本発明のアルミニウム合金の表面処理法およびマグネシウム合金の表面処理方法は、上記の課題を解決するために、以下に示すような方法を用いる。【００１９】
「アルミニウム合金の表面処理法」
本発明のアルミニウム合金の表面処理法は、マグネシウムを含むアルミニウム合金の表面に、酸素雰囲気中にてフッ化物不動態膜を形成する方法である。【００２０】
本発明のアルミニウム合金の表面処理法は、フッ化炭素系化合物が分散された溶液を調製し（溶液を調製する工程）、次いで、マグネシウムを含むアルミニウム合金の表面に、フッ化炭素系化合物が分散された溶液を塗布した（溶液を塗布する工程）後、マグネシウムを含むアルミニウム合金を酸素雰囲気中にて加熱する（合金を加熱する工程）ことにより、マグネシウムを含むアルミニウム合金の表面にフッ化物不動態膜を形成することを含む。【００２１】
本発明のアルミニウム合金の表面処理法では、表面の処理の対象となるマグネシウムを含むアルミニウム合金としては、例えば、Ａ５０５２合金、Ａ６０６１合金などが挙げられる。【００２２】
フッ化炭素系化合物が分散された溶液を調製する工程では、各種溶媒に、フッ化炭素系化合物を添加して、攪拌するなどすることにより、フッ化炭素系化合物が均一に分散された溶液を調製する。【００２３】
フッ化炭素系化合物としては、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルコキシ−エチレン共重合体（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体（ＥＣＴＦＥ）、ポリビニリデンフルオライド（ＰＶＤＦ）、ポリビニルフルオライド（ＰＶＦ）などが用いられる。【００２４】
上記のフッ化炭素系化合物を分散させる溶媒としては、アルキルエーテル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどが用いられる。【００２５】
このフッ化炭素系化合物が分散された溶液における、フッ化炭素系化合物の含有率は３０重量％以上かつ５０重量％以下であることが好ましく、３０重量％以上かつ４０重量％以下であることがより好ましい。
フッ化炭素系化合物の含有率を３０重量％以上かつ５０重量％以下とした理由は、フッ化炭素系化合物の含有率が３０重量％未満では、十分に均一な塗布量が得られないからであり、一方、フッ化炭素系化合物の含有率が５０重量％を超えると、液留まりを起こしやすいからである。
なお、本発明では、このフッ化炭素系化合物が分散された溶液を、水により希釈して用いてもよい。【００２６】
フッ化炭素系化合物が分散された溶液を塗布する工程において、マグネシウムを含むアルミニウム合金の表面に、フッ化炭素系化合物が分散された溶液を塗布する方法としては、マグネシウムを含むアルミニウム合金の表面にこの溶液を噴霧する方法、マグネシウムを含むアルミニウム合金をこの溶液に浸漬する方法などが用いられる。【００２７】
上記の溶液を塗布したマグネシウムを含むアルミニウム合金を、酸素雰囲気中にて加熱する工程では、まず、上記の溶液を塗布したマグネシウムを含むアルミニウム合金を、室温以上かつ１００℃以下にて、０．５時間以上かつ２時間以下乾燥する。
その後、このマグネシウムを含むアルミニウム合金を、酸素雰囲気中（例えば、大気中）にて、３５０℃以上かつ５００℃以下にて、８時間以上かつ２４時間以下加熱する。この加熱により、合金中に含まれるマグネシウムが、合金の表面に拡散してくるとともに、このマグネシウムが、合金の表面に塗布されたフッ化炭素系化合物に含まれるフッ素と選択的に反応して、マグネシウムを含むアルミニウム合金の表面にフッ化物不動態膜が形成される。
上記の溶液を塗布したマグネシウムを含むアルミニウム合金を、酸素雰囲気中にて加熱する温度を３５０℃以上かつ５００℃以下とした理由は、加熱する温度が３５０℃未満では、未反応溶液成分の残存や反応後のカーボンが酸化離脱せず、残留するからであり、一方、加熱する温度が５００℃を超えると、合金材料の軟化温度を超えてしまうからである。
なお、本発明のアルミニウム合金の表面処理法では、酸素雰囲気中における処理を行うため、マグネシウムを含むアルミニウム合金の種類によって異なる発火点に配慮し、フッ化物不働態膜の形成温度を設定する必要がある。【００２８】
このようにして、本発明のアルミニウム合金の表面処理法によってマグネシウムを含むアルミニウム合金の表面に形成されたフッ化物不動態膜は、マグネシウムおよびフッ素を含む金属化合物からなる膜となる。【００２９】
本発明のアルミニウム合金の表面処理法は、マグネシウムを含むアルミニウム合金の表面に、酸素雰囲気中にてフッ化物不動態膜を形成するので、一般的なフッ化物膜の形成法に用いられるフッ素系のガスを用いることなく、マグネシウムを含むアルミニウム合金の表面にフッ化物不働態膜を形成することができる。
また、本発明のアルミニウム合金の表面処理法では、マグネシウムを含むアルミニウム合金の表面に、フッ化炭素系化合物が分散された溶液を塗布した後、酸素雰囲気中にて加熱するので、合金中のマグネシウムは表面側へ集中的に拡散してくることが分かっているが、このマグネシウムがフッ素と選択的に反応するとともに、酸素雰囲気中にて反応が行われているので、フッ化炭素系化合物中の炭素は酸化した後、離脱して、フッ化物不働態膜中には残留しない。従って、得られたフッ化物不動態膜は、マグネシウムおよびフッ素を含む金属化合物となり、耐食性およびマグネシウムの飛散防止に有効な膜となる。【００３０】
「マグネシウム合金の表面処理法」
本発明のマグネシウム合金の表面処理法は、マグネシウム合金の表面に、酸素雰囲気中にてフッ化物不動態膜を形成する方法である。【００３１】
本発明のマグネシウムを含むアルミニウム合金の表面処理法は、フッ化炭素系化合物が分散された溶液を調製し（溶液を調製する工程）、次いで、マグネシウム合金の表面に、フッ化炭素系化合物が分散された溶液を塗布した（溶液を塗布する工程）後、マグネシウム合金を酸素雰囲気中にて加熱する（合金を加熱する工程）ことにより、マグネシウム合金の表面にフッ化物不動態膜を形成することを含む。【００３２】
本発明のマグネシウム合金の表面処理法では、表面の処理の対象となるマグネシウム合金としては、例えば、ＡＺ−３１合金などが挙げられる。【００３３】
フッ化炭素系化合物が分散された溶液を調製する工程は、上記のアルミニウム合金の表面処理法で用いられる方法と同様の工程が適用される。【００３４】
フッ化炭素系化合物としては、上記のアルミニウム合金の表面処理法で用いられるものと同様のものが用いられる。
フッ化炭素系化合物を分散させる溶媒としては、上記のアルミニウム合金の表面処理法で用いられるものと同様のものが用いられる。【００３５】
フッ化炭素系化合物が分散された溶液を塗布する工程は、上記のアルミニウム合金の表面処理法で用いられる方法と同様の工程が適用される。【００３６】
上記の溶液を塗布したマグネシウム合金を、酸素雰囲気中にて加熱する工程は、上記のアルミニウム合金の表面処理法で用いられる方法と同様の工程が適用される。
マグネシウム合金の加熱により、合金中に含まれるマグネシウムが、合金の表面に塗布されたフッ化炭素系化合物に含まれるフッ素と選択的に反応して、マグネシウム合金の表面にフッ化物不動態膜が形成される。
なお、本発明のマグネシウム合金の表面処理法では、酸素雰囲気中における処理を行うため、マグネシウム合金の種類によって異なる発火点に配慮し、フッ化物不働態膜の形成温度を設定する必要がある。【００３７】
このようにして、本発明のマグネシウム合金の表面処理法によってマグネシウム合金の表面に形成されたフッ化物不動態膜は、マグネシウムおよびフッ素を含む金属化合物からなる膜となる。【００３８】
本発明のマグネシウム合金の表面処理法は、マグネシウム合金の表面に、酸素雰囲気中にてフッ化物不動態膜を形成するので、一般的なフッ化物膜の形成法に用いられるフッ素系のガスを用いることなく、マグネシウム合金の表面にフッ化物不働態膜を形成することができる。
また、本発明のマグネシウム合金の表面処理法では、マグネシウム合金の表面に、フッ化炭素系化合物が分散された溶液を塗布した後、酸素雰囲気中にて加熱するので、合金中のマグネシウムは表面側へ集中的に拡散してくることが分かっているが、このマグネシウムがフッ素と選択的に反応するとともに、酸素雰囲気中にて反応が行われているので、フッ化炭素系化合物中の炭素は酸化した後、離脱して、フッ化物不働態膜中には残留しない。
従って、得られたフッ化物不動態膜は、マグネシウムおよびフッ素を含む金属化合物となり、耐食性およびマグネシウムの飛散防止に有効な膜となる。
(実施例)【００３９】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【実施例１】
【００４０】
マグネシウムを含む合金（Ａ５０５２合金）の表面に、ポリテトラフルオロエチレン（三井・デュポンフロロケミカル社製）を分散してなる溶液を噴霧することにより塗布した後、この合金を大気中にて、４５０℃にて２４時間加熱し、表面処理を行った。
また、市販のポリテトラフルオロエチレンスプレイ（商品名；テフシリーズ、オーテック社製）で塗布後、大気中、加熱処理してもよい。
表面処理後のマグネシウムを含む合金の表面近傍の断面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、合金の表面には、厚み０．２μｍ程度の緻密な層が形成されていることが確認された。
この走査型電子顕微鏡像を図１に示す。
図１の表面層は、厚み０．２μｍ程度の緻密な層であった。
【実施例２】
【００４１】
実施例１と同様に表面処理を施したマグネシウムを含む合金の表面近傍に、ダイヤモンド刃を用いた超精密ミクロトームにより、鏡面断面を形成した。
その後、この断面の元素分析を、電子線プローブマイクロアナライザー（ＥＰＭＡ）により行った。このＥＰＭＡによる元素分析の条件を、マグネシウム（Ｍｇ）、フッ素（Ｆ）、アルミニウム（Ａｌ）、酸素（Ｏ）を中心に、ライン分析幅１５μｍとした。
結果を図２に示す。
図２によれば、表面処理を施したマグネシウムを含む合金の表面層には、マグネシウムおよびフッ素の急峻なピークが検出されることから、マグネシウムおよびフッ素が多く存在することが確認された。また、表面層の母材側、すなわち、マグネシウムを含む合金側には、酸素のピークも検出されることから、酸素も含まれることが確認された。そして、母材、すなわち、マグネシウムを含む合金の層には、アルミニウムの急峻なピークが検出され、マグネシウムおよびフッ素のピークは急激に小さくなり、これらは微量にしか検出されなくなることから、マグネシウムを含む合金の層は大部分がアルミニウムで構成されていることが確認された。以上の結果から、マグネシウムを含む合金の表面層は、フッ化物不働態膜であることが確認された。
なお、マグネシウムを含む合金の層におけるマグネシウムのピーク強度は、この合金中のマグネシウムの添加量である５重量％未満であった。
【実施例３】
【００４２】
Ａ５０５２合金の代わりに、マグネシウム合金のＡ６０６１合金を用い、このＡ６０６１の表面に、ポリテトラフルオロエチレン以外のフッ化炭素系化合物を用いて表面処理を施した以外は、実施例１および実施例２と同様にして、マグネシウム合金の表面に形成された表面層の観察および元素分析を行った。
その結果、マグネシウム合金の表面にも、フッ化物不働態膜が形成されていることが確認された。
【実施例４】
【００４３】
実施例１で作製したフッ化物不働態膜付きのマグネシウムを含む合金を、石英製の真空容器中にて集中的に、５５０℃までの加熱を繰り返し行った。
しかしながら、真空容器の内壁には、マグネシウムの飛散による濁りが観察されなかった。
さらに、昇温離脱放出ガススペクトル測定法により、このフッ化物不働態膜付きのマグネシウムを含む合金を加熱することにより放出されるガスの成分の分析を行った。
結果を図３に示す。
図３の結果から、放出物は主に水であり、テトラフルオロエチレンの未反応成分やフッ素系ガスの放出成分は検出されなかった。以上の結果から、マグネシウムを含む合金を加熱しても、フッ化物不動態膜の存在により、マグネシウムを含む合金に含まれるマグネシウムの飛散が抑えられていると考えられる。従って、このフッ化物不動態膜は、真空用途の表面層としても有効であると考えられる。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
本発明のマグネシウムを含むアルミニウム合金の表面処理法およびマグネシウム合金の表面処理法は、プラズマＣＶＤ以外の真空装置を構成する真空容器内の部材となるアルミニウム合金やマグネシウム合金の表面処理にも適用できる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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