【手続補正書】
【提出日】平成16年8月11日(2004.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
請求項３記載の被膜形成用治具を用いてガイドブッシュの内周面に硬質カーボン膜を形成する方法であって、
前記ガイドブッシュの中心開口内の段差部に前記挿入部材を前記内周面に隣接させるように挿入し、
前記補助電極を支持する補助電極支持部材を前記補助電極絶縁部材によってガイドブッシュの中心開口内に固定して、前記補助電極を前記中心開口の軸線に沿って前記内周面と対向するように配設すると共に、該補助電極絶縁部材を前記挿入部材に当接させ、
ガス導入孔と排気孔を備えた真空槽内の底面上に、前記脚部および該脚部に固定された前記第１の電極板と前記第２の電極板と前記絶縁部材とを載置し、
前記ガイドブッシュを前記中心開口の軸線を垂直方向にして前記段差部側の端部を前記第１の電極板上に載置して該第１の電極板と電気的に導通させ、該第１の電極板を電源に接続すると共に、前記補助電極支持部材の前記補助電極絶縁部材から突出する部分を前記第２の電極板と接続して、前記補助電極を該補助電極支持部材，前記第２の電極板，前記脚部，および前記真空槽を介して接地し、
前記真空槽内を排気した後、前記ガス導入口から炭素を含むガスを該真空槽内に導入し、
前記ガイドブッシュおよび前記挿入部材に前記電源から前記第１の電極板を介して給電して、前記真空槽内にプラズマを発生させ、該ガイドブッシュの前記内周面に水素化アモルファス・カーボンによる硬質カーボン膜を形成することを特徴とするガイドブッシュの内周面に硬質カーボン膜を形成する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
請求項６記載の被膜形成用治具を用いてガイドブッシュの内周面に硬質カーボン膜を形成する方法であって、
前記ダミー部材を前記ガイドブッシュの前記内周面が開口する端面上に前記中心開口と中心を一致させて配置し、
前記補助電極を支持する補助電極支持部材を前記補助電極絶縁部材によってガイドブッシュの中心開口内に固定して、前記補助電極を前記中心開口の軸線に沿って前記内周面および前記ダミー部材の内周面と対向するように配設し、
ガス導入孔と排気孔を備えた真空槽内の底面上に、前記脚部および該脚部に固定された前記第１の電極板と前記第２の電極板と前記絶縁部材とを載置し、
前記ガイドブッシュを前記中心開口の軸線を垂直方向にして前記段差部側の端部を前記第１の電極板上に載置して該第１の電極板と電気的に導通させ、該第１の電極板を電源に接続すると共に、前記補助電極支持部材の前記補助電極絶縁部材から突出する部分を前記第２の電極板と接続して、前記補助電極を該補助電極支持部材，前記第２の電極板，前記脚部，および前記真空槽を介して接地し、
前記真空槽内を排気した後、前記ガス導入口から炭素を含むガスを該真空槽内に導入し、
前記ガイドブッシュおよび前記ダミー部材に前記電源から前記第１の電極板を介して給電して、前記真空槽内にプラズマを発生させ、該ガイドブッシュの前記内周面に水素化アモルファス・カーボンによる硬質カーボン膜を形成することを特徴とするガイドブッシュの内周面に硬質カーボン膜を形成する方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
請求項１又は２記載の被膜形成用治具を複数組用いて複数のガイドブッシュの内周面にそれぞれ硬質カーボン膜を形成する方法であって、
前記補助電極を支持する補助電極支持部材を前記補助電極絶縁部材によって複数のガイドブッシュの中心開口内にそれぞれ固定して、前記補助電極を該ガイドブッシュの中心開口の軸線に沿って前記内周面と対向するように配設し、
ガス導入孔と排気孔を備えた一つの真空槽内の底面上に、複数の前記被膜形成用治具の前記脚部および該脚部に固定された前記第１の電極板と前記第２の電極板と前記絶縁部材とをそれぞれ載置し、
前記複数の各ガイドブッシュをそれぞれ前記中心開口の軸線を垂直方向にして前記段差部側の端部を前記第１の電極板上に載置して該第１の電極板と電気的に導通させ、該第１の電極板をそれぞれ電源に接続すると共に、前記補助電極支持部材の前記補助電極絶縁部材から突出する部分を前記第２の電極板と接続して、前記各補助電極を該補助電極支持部材，前記第２の電極板，前記脚部，および前記真空槽を介して接地し、
前記真空槽内を排気した後、前記ガス導入口から炭素を含むガスを該真空槽内に導入し、
前記複数のガイドブッシュに前記電源からそれぞれ前記第１の電極板を介して給電して、前記真空槽内にプラズマを発生させ、該各ガイドブッシュの前記内周面にそれぞれ水素化アモルファス・カーボンによる硬質カーボン膜を形成することを特徴とするガイドブッシュの内周面に硬質カーボン膜を形成する方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
なお、上記補助電極と補助電極支持部材と補助電極絶縁部材とを、複数のガイドブッシュにそれぞれ装着するために複数個ずつ設け、上記第１の電極板と第２の電極板と脚部と絶縁部材とは、複数のガイドブッシュに対して共通に設けて、複数のガイドブッシュ用の被膜形成用治具を構成することもできる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
ブッシュスリーブ２３とガイドブッシュ１１とは、図１４によって説明したものと同様な構成である。そして、このガイドブッシュ装置３７の後端部に、ガイドブッシュ１１のネジ部に螺着して設けた調整ナット４３を回転することによって、ガイドブッシュ１１の内径を小さくして、ガイドブッシュ１１の内径と被加工物５１の外形との隙間寸法を調整することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
この図１５に示す自動旋盤において、ガイドブッシュ装置３７が回転型である以外の構成は、図１４によって説明した自動旋盤の構成と同じであるのでそれらの説明は省略する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
図１２はそのガイドブッシュの縦断面図、図１３は外観を示す斜視図である。  これらの図に示すガイドブッシュ１１は、先端部が開いた自由な状態を示している。このガイドブッシュ１１は、軸方向に中心開口１１ｊを有する略円筒状に形成され、長手方向の一端部に外周テーパ面１１ａを形成し、他端部にネジ部１１ｆを有する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
このガイドブッシュ１１の材料としては、合金工具鋼（ＳＫＳ）を用い、外形形状と内形形状とを形成した後、焼き入れ処理と焼き戻し処理とを行なう。
さらに、好ましくはこのガイドブッシュ１１の内周面１１ｂに、図１２に示すように肉厚が２ｍｍから５ｍｍの寸法を有する超硬部材１２をロウ付け手段により固定する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
この超硬部材としては、例えばタングステン（Ｗ）が８５％〜９０％と、炭素（Ｃ）が５％〜７％と、バインダーとしてコバルト（Ｃｏ）が３％〜１０％の組成のものを用いる。
しかし、このガイドブッシュ１１は、外周テーパ面１１ａが閉じた状態で、内周面１１ｂと被加工物５１との間に半径方向で５μｍ〜１０μｍの隙間を設けている。それにより、被加工物５１が出入りして内周面１１ｂと摺接するため、その摩耗が問題となる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
この中間層としては、周期律表の第ＩＶｂ族のシリコン（Ｓｉ）やゲルマニウム（Ｇｅ）、あるいはシリコンやゲルマニウムの化合物、またはシリコンカーバイト（ＳｉＣ）やチタンカーバイト（ＴｉＣ）のような炭素を含む化合物を用いるとよい。また、この中間層１６として、チタン（Ｔｉ），タングステン（Ｗ），モリブデン（Ｍｏ），あるいはタンタル（Ｔａ）とシリコン（Ｓｉ）との化合物も適用できる。
さらに、この中間層１６を、チタン（Ｔｉ）又はクロム（Ｃｒ）による下層と、シリコン（Ｓｉ）又はゲルマニウム（Ｇｅ）による上層との２層膜に形成してもよい。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
真空槽６１は接地されており、第１の電極板８５は直流電源７３の負極に接続される。この真空槽６１は内部の上方にアノード７９とフィラメント９０を備えており、アノード７９はアノード電源７５に、フィラメント９０はフィラメント電源７７にそれぞれ接続されている。
そして、この真空槽６１内を真空度が３×１０−５torr以下になるように、図示しない排気手段によって排気口６５から真空排気する。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
図６に示す第４実施例は、図３によって説明した第１実施例と同じプラズマ発生方法によるものである。そして、一つの真空槽６１内に複数（図では２組）の被膜形成治具８０，８０を用いて複数のガイドブッシュ１１，１１を設置し、その各被膜形成用治具８０，８０の第１の電極板８５，８５に、それぞれ独立した直流電源７３，７３から、マイナス３ｋＶの直流電圧を印加するようにしたこと以外は、図３の第１実施例の場合と同じである。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０５】
このように、それぞれに独立した直流電源７３，７３から、各ガイドブッシュ１１，１１に直流負電圧を印加することにより、プラズマ放電の独立性を高めることができ、プラズマ放電間の干渉がなく、各ガイドブッシュ１１の中心開口内におけるプラズマ放電が安定する。したがって、各ガイドブッシュ１１の内周面１１ｂに形成される硬質カーボン膜の膜厚のばらつきが少なく、膜質や密着性を向上させることができる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０７】
〔方法の第５実施例：図７〕
図７に示す第５実施例は、図４によって説明した第２実施例と同じプラズマ発生方法によるものである。そして、一つの真空槽６１内に複数（図では２組）の被膜形成治具８０，８０を用いて複数のガイドブッシュ１１，１１を設置し、その各被膜形成用治具８０，８０の第１の電極板８５，８５に、それぞれ独立した高周波電源６９，６９から、それぞれマッチング回路６７，６７を介して周波数が１３．５６ＭＨｚの高周波電力を印加するようにしたこと以外は、図４の第２実施例の場合と同じである。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１０】
〔方法の第６実施例：図８〕
図８に示す第６実施例は、図５によって説明した第３実施例と同じプラズマ発生方法によるものである。そして、一つの真空槽６１内に複数（図では２組）の被膜形成治具８０，８０を用いて複数のガイドブッシュ１１，１１を設置し、その各被膜形成用治具８０，８０の第１の電極板８５，８５に、それぞれ独立した直流電源７４，７４からマイナス６００Ｖの直流電圧を印加するようにしたこと以外は、図５の第３実施例の場合と同じである。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
〔複数のガイドブッシュ用の被膜形成用治具：図９，図１０，図１１）
図９乃至図１１に示す複数のガイドブッシュの内周面に同時に硬質カーボン膜を形成する方法に使用する被膜形成用治具８０′は、複数のガイドブッシュ１１，１１の内周面１１ｂを形成する中心開口内にそれぞれ挿入されるロッド状の複数の補助電極７１，７１と、その各補助電極７１，７１をそれぞれ支持する複数の補助電極支持部材７２，７２と、各ガイドブッシュ７１，７１の中心開口内の段差部に嵌入され、各補助電極支持部材７２，７２を各ガイドブッシュ１１，１１に固定する複数組の碍子（補助電極絶縁部材）８１，８１，８２，８２とを備えている。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２１】
したがって、その作用・効果も第５実施例とほとんど同じであるが、被膜形成用治具の真空槽内６１に固設する部材を複数のガイドブッシュ１１に対して共通にし、各ガイドブッシュ１１に高周波電力を印加する高周波電源６９およびマッチング回路６７も共通にしたので、より安価に効率よく、多数のガイドブッシュの内周面に同時に硬質カーボン膜を形成することができる。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１１：ガイドブッシュ    １１ａ：外周テーパ面
１１ｂ：内周面    １１ｃ：摺り割り    １１ｄ：バネ部
１１ｅ：嵌合部    １１ｆ：ネジ部    １１ｇ：段差部
１１ｈ：端面      １１ｊ：中心開口  
５３：ダミー部材    ６１：真空槽    
６３：ガス導入口    ６５：排気口
６７：マッチング回路    ６９：高周波電源
７１：補助電極    ７２：補助電極支持部材
７３，７４：直流電源    ７５：アノード電源
７７：フィラメント電源    ７９：アノード
８０，８０′：被膜形成用治具
８１：第１の碍子    ８２：第２の碍子
８３：挿入部材    ８４：ガイドブッシュ受け
８５，８５′：第１の電極板    ８６，８６′：第２の電極板
８７，８７′：第１の絶縁部材
８８，８８′：第３の絶縁部材
８９，８９′：第２の絶縁部材
９０：フィラメント    １００，１００′：脚部