Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月16日(2004.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光および現像処理を用いたセラミックグリーンシートの製造方法であって、
前記露光処理に用いる光を透過可能な基台に対して、その表面上に、所定の電気特性を有する粉体を含み、且つ前記光により露光可能な感光性材料を付着させる工程と、
前記基台の裏面より、前記感光性材料に対して前記光を照射し、前記感光性材料が前記基台から所定厚さ露光される露光量にて前記露光処理を行う工程と、
前記露光処理後の前記感光性材料に対して前記現像処理を施す工程とを含むことを特徴とするセラミックグリーンシートの製造方法。
【請求項２】
露光および現像処理を用いたセラミックグリーンシートの製造方法であって、
前記露光処理に用いる光を透過可能な基台に対して、その表面上に、所定の電気特性を有する粉体を含み、且つ前記光により露光可能な第一の感光性材料を付着させ、
前記基台の裏面より、前記第一の感光性材料に対して前記光を照射し、前記第一の感光性材料が前記基台から第一の所定厚さ露光される露光量にて前記露光処理を行い、
前記露光処理後の前記第一の感光性材料に対して前記現像処理を施す工程と、
前記現像処理後の前記第一の感光性材料の表面に、前記露光処理に用いる光を透過しない部材からなる遮光部を形成する工程と、
前記現像処理後の前記第一の感光性材料および前記遮光部の表面上に、所定の電気特性を有する粉体を含み、且つ前記光により露光可能な第二の感光性材料を付着させ、
前記基台の裏面より前記第二の感光性材料に対して前記光を照射し、前記第二の感光性材料が前記第一の感光性材料の表面から第二の所定厚さ露光される露光量にて前記露光処理を行い、
前記露光処理後の前記第二の感光性材料に対して前記現像処理を施す工程とを含むことを特徴とするセラミックグリーンシートの製造方法。
【請求項３】
前記第一の感光性材料を前記基台に付着させ、これを露光し且つ現像する工程を行う前に、前記基台表面上に前記露光処理に用いる光を透過しない部材からなる前記遮光部とは異なる他の遮光部を形成する工程が為されることを特徴とする請求項２記載の製造方法。
【請求項４】
前記第一の感光性材料が露光される第一の所定厚さは、前記他の遮光部の厚さと略等しいことを特徴とする請求項３記載の製造方法。
【請求項５】
前記第二の感光性材料が露光される第二の所定厚さは、前記遮光部の厚さと略等しいことを特徴とする請求項２あるいは３記載の製造方法。
【請求項６】
露光および現像処理を用いたセラミックグリーンシートの製造方法であって、
前記露光処理に用いる光を透過可能な部分を有する、被シート形成面を表面とする、異なる材料からなる領域を有する部材の表面上の所定領域に対して、前記光を透過しない遮光部材を所定厚さ形成する工程と、
前記部材の表面および前記遮光部材の表面に対して、所定の電気特性を有する粉体を含み、且つ前記光により露光可能な感光性材料を付着させる工程と、
前記部材の裏面より、前記感光性材料に対して前記光を照射し、前記感光性材料が前記部材から所定厚さ露光される露光量にて前記露光処理を行う工程と、
前記露光処理後の前記感光性材料に対して前記現像処理を施す工程とを含むことを特徴とするセラミックグリーンシートの製造方法。
【請求項７】
露光および現像処理を用いたセラミックグリーンシートの製造方法であって、
前記露光処理に用いる光を透過しない材料にて、前記光を透過可能な基台の表面に所定のパターンを形成し、
前記基台および前記材料の上に所定の電気特性を有する粉体を含み、且つ前記光により露光可能な感光性材料を付着させ、
前記基台の裏面より、前記感光性材料に対して前記光を照射し、前記感光性材料が前記基台から所定厚さ露光される露光量にて前記露光処理を行い、
前記露光処理後の前記感光性材料に対して前記現像処理を施す工程を含み、
前記感光性材料の付着厚さは、前記パターンを形成する材料厚さと略等しく、且つ前記露光処理によって露光される前記感光性材料の所定厚さは前記パターンを形成する材料の厚さと略等しいことを特徴とするセラミックグリーンシートの製造方法。
【請求項８】
積層型セラミック電子部品の製造方法であって、
請求項１乃至７記載のセラミックグリーンシートの製造方法により形成されたセラミックグリーンシートを含む複数のセラミックグリーンシートを積層し、
積層された前記セラミックグリーンシートを、その厚さ方向に加圧して積層体を形成することを特徴とするセラミック型電子部品の製造方法。
【請求項９】
露光および現像処理を用いたセラミックグリーンシートの製造方法であって、
前記露光処理に用いる光を透過可能な部分を有する、被シート形成面を表面とする、異なる特性を有する複数の層からなる領域を有する部材の表面上に対して、所定の電気特性を有する粉体を含み、且つ前記光により露光可能な感光性材料を付着させる工程と、
前記部材の裏面より、前記感光性材料に対して前記光を照射し、前記感光性材料が前記部材の表面から所定厚さ露光される露光量にて前記露光処理を行う工程と、
前記露光処理後の前記感光性材料に対して前記現像処理を施す工程とを含むことを特徴とするセラミックグリーンシートの製造方法。
【請求項１０】
前記部材の表面に前記感光性材料を付着させる工程の前に、前記部材の表面の所定領域に対して前記光を透過不可能な材料からなる遮光部を形成する工程が行われることを特徴とする請求項９記載の製造方法。
【請求項１１】
前記所定厚さは、前記遮光部の厚さと略等しいことを特徴とする請求項１０記載の製造方法。
【請求項１２】
前記部材は、その表面からの前記セラミックグリーンシートの剥離を容易にするための離型処理が施されていることを特徴とする請求項９記載の製造方法。
【請求項１３】
前記部材は、前記セラミックグリーンシートから剥離除去される部分と前記セラミックグリーンシートの一部を形成する部分とを有することを特徴とする請求項９記載の製造方法。
【請求項１４】
前記セラミックグリーンシートの一部は、前記感光性材料とは異なる材料からなる層であることを特徴とする請求項１３記載の製造方法。
【請求項１５】
前記セラミックグリーンシートの一部は、前記感光性材料を露光して得られる材料と、前記光を透過不可能な材料とからなることを特徴とする請求項１３記載の製造方法。
【請求項１６】
前記部材表面に前記遮光部を形成する工程、前記感光性材料を付着させる工程、前記感光性材料を露光する工程、および前記感光性材料を現像する工程を行った後に、得られたシートの最表面に更なる遮光部を形成する工程、更なる感光性材料を付着させる工程、前記更なる感光性材料を前記部材の裏面より露光する工程、および前記更なる感光性材料を現像する工程が施されることを特徴とする請求項１０記載の製造方法。
【請求項１７】
積層型セラミック電子部品の製造方法であって、
請求項９乃至１６記載のセラミックグリーンシートの製造方法により形成されたセラミックグリーンシートを含む複数のセラミックグリーンシートを積層し、
積層された前記セラミックグリーンシートを、その厚さ方向に加圧して積層体を形成することを特徴とするセラミック型電子部品の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月26日(2004.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
内燃機関の点火装置に印加する高電圧を発生する内燃機関用点火コイルであって、
棒状のコア本体からなり、樹脂絶縁材にて充填された中心コア部と、
前記中心コア部の外周に配設された一次スプールおよび二次スプールと、
前記一次スプールに巻回された一次コイル、および前記二次スプールに巻回された二次コイルと、
前記中心コア部の軸方向の端部角部を覆う弾性材よりなる緩衝部材と、
を備えることを特徴とする内燃機関用点火コイル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の請求項１及び２記載の点火コイルによると、棒状のコア本体あるいは、棒状のコア本体およびコア本体の軸方向両端の少なくともいずれか一方に配設された永久磁石からなる中心コア部の軸方向の端部角部を弾性材よりなる緩衝部材で覆っている。したがって、中心コア部の外周を取り囲むスプール等のケース部材や樹脂絶縁材が中心コア部の軸方向の端部角部と直接接することを防止するとともに、中心コア部と樹脂絶縁材やケース部材との膨張率の差を緩衝部材が吸収するので、中心コア部とともに中心コア部と膨張率の異なる樹脂絶縁材やケース部材が温度変化に伴い膨張および収縮を繰り返しても、緩衝部材で覆われた中心コア部の軸方向の端部角部付近の樹脂絶縁材およびケース部材に絶縁欠損部としてのクラックが発生することを防止できる。これにより、高電圧部としての二次コイルや高圧ターミナル等と低電圧部としての中心コア部との間で放電することを防止し、高電圧部と中心コア部との間の絶縁破壊を防止できるので、二次コイルに発生する電圧が低下することを防止し所望の高電圧を点火プラグに印加できる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月3日(2005.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
窒化物半導体基板と、
前記窒化物半導体基板上に形成された、リッジストライプを有するレーザ素子構造と、
前記窒化物半導体基板の裏面に形成された電極と、
前記レーザ素子構造の共振面に形成された誘電体膜とを有する窒化物半導体レーザ素子であって、
前記窒化物半導体基板は、異種基板上を横方向に成長しながら形成された窒化物半導体層を有し、該窒化物半導体層の（１１−００）面が前記共振面とされたことを特徴とする窒化物半導体レーザ素子。
【請求項２】
前記窒化物半導体層にｎ型不純物がドープされたことを特徴とする請求項１に記載の窒化物半導体レーザ素子。
【請求項３】
前記ｎ型不純物がＳｉであることを特徴とする請求項２に記載の窒化物半導体レーザ素子。
【請求項４】
前記異種基板はオフアングルした主面を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の窒化物半導体レーザ素子。
【請求項５】
前記窒化物半導体層の結晶欠陥密度が１０６個／ｃｍ２以下であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の窒化物半導体レーザ素子。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月26日(2005.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体チップの外縁部に設けられ、チップ上アンテナ及び外部アンテナとの接続用の第１の電極と、
当該半導体チップの外縁部に設けられ、外部アンテナとの接続用の第２の電極と、
前記第１の電極及び前記第２の電極より内側に設けられたチップ上アンテナ接続用電極と、
当該半導体チップに形成された回路を備えた半導体装置であって、
前記第１の電極及び前記第２の電極は、内部配線により前記回路と接続され、
前記チップ上アンテナ接続用電極は、内部配線により前記回路及び前記第２の電極と接続されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記第１の電極及び前記第２の電極は、半導体チップの角部近傍であって、それぞれ別の角部近傍に配置されていることを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】
前記チップ上アンテナ接続用電極と前記第１の電極は、絶縁層を介して形成されるチップ上アンテナと接続されることを特徴とする請求項１又は２記載の半導体装置。
【請求項４】
前記第１の電極及び前記第２の電極が接続された外部アンテナを備えることを特徴とする請求項１乃至３いずれかに記載の半導体装置。
【請求項５】
前記チップ上アンテナ接続用電極は、半導体チップに形成された電極上に形成された絶縁層の開口部を設けることにより形成されていることを特徴とする請求項１乃至４いずれかに記載の半導体装置。
【請求項６】
前記内部配線は、半導体チップの内部に形成された配線であることを特徴とする請求項１乃至５いずれかに記載の半導体装置。
【請求項７】
前記チップ上アンテナ接続用電極は、前記半導体チップの中央領域に設けられていることを特徴とする請求項１乃至６いずれかに記載の半導体装置。
【請求項８】
前記チップ上アンテナ接続用電極は、前記第１の電極及び前記第２の電極よりも主面の面積において小さいことを特徴とする請求項１乃至７いずれかに記載の半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明にかかる半導体装置は、半導体チップの外縁部に設けられ、チップ上アンテナ及び外部アンテナとの接続用の第１の電極（例えば、本実施の形態におけるアンテナ接続用電極パッド１ａ）と、当該半導体チップの外縁部に設けられ、外部アンテナとの接続用の第２の電極（例えば、本実施の形態におけるアンテナ接続用電極パッド２）と、前記第１の電極及び前記第２の電極より内側に設けられたチップ上アンテナ接続用電極（例えば、本実施の形態におけるアンテナ接続用電極パッド１ｂ）と、当該半導体チップに形成された回路を備えた半導体装置であって、前記第１の電極及び前記第２の電極は、内部配線により前記回路と接続され、前記チップ上アンテナ接続用電極は、内部配線により前記回路及び前記第２の電極と接続されているものである。このような構成を有する半導体装置は、外部アンテナとの接続及びチップ上アンテナとの接続の両方に対応することができる。特に、チップ上アンテナ接続用電極は、内部配線により第２の電極と接続されているため、再配線により接続する場合に比べて、製造工程が少なく、製造コストを低減することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
さらに、前記チップ上アンテナ接続用電極と前記第１の電極は、絶縁層を介して形成されるチップ上アンテナと接続されることが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、前記第１の電極及び前記第２の電極が接続された外部アンテナを備えるようにしてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
好適な実施の形態におけるチップ上アンテナ接続用電極は、半導体チップに形成された電極上に形成された絶縁層に開口部を設けることにより形成されている。また、好適な実施の形態における内部配線は、半導体チップの内部に形成された配線である。さらに、好適な実施の形態におけるチップ上アンテナ接続用電極は、半導体チップの中央領域に設けられており、第１の電極及び第２の電極よりも主面の面積において小さい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月17日(2004.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
信号処理ＬＳＩが搭載され、実装ボード接続用電気端子を有するインターポーザと、高速信号を外部配線するための伝送線路を有したインターフェイスモジュールとを備えてなり、
前記インターポーザ及び前記インターフェイスモジュールが機械的接触により電気的に接続される電気接続端子を有することを特徴とするインターフェイスモジュール付ＬＳＩパッケージ。
【請求項２】
前記インターポーザは、前記信号処理ＬＳＩが表面側に搭載され、裏面側に実装ボード接続用電気端子を有してなり、
前記インターフェイスモジュールは、前記伝送線路に信号を送出又は該伝送線路から信号を受信する駆動素子を内蔵し、かつ前記駆動素子に電気的に接続された第１の電気接続端子を有し、
前記インターポーザが、表面側に前記第１の電気接続端子と対となる第２の電気接続端子を有し、
前記インターポーザと前記インターフェイスモジュールは、前記第１の電気接続端子と前記第２の電気接続端子の機械的接触により電気的に接続されることを特徴とする請求項１記載のインターフェイスモジュール付ＬＳＩパッケージ。
【請求項３】
信号処理ＬＳＩが搭載され、実装ボード接続用電気端子を有するインターポーザと、高速信号を外部配線するための伝送線路を有したインターフェイスモジュールとを備えてなり、
前記インターポーザ及び前記インターフェイスモジュールが電気接続端子を有し、前記インターポーザ又は前記インターフェイスモジュールの少なくとも一方の前記電気接続端子が、機械的押圧により高さ調節機構を有することを特徴とするインターフェイスモジュール付ＬＳＩパッケージ。
【請求項４】
前記インターポーザは、前記信号処理ＬＳＩが表面側に搭載され、裏面側に実装ボード接続用電気端子を有してなり、
前記インターフェイスモジュールは、放熱用ヒートシンクを有し、前記伝送線路に信号を送出又は該伝送線路から信号を受信する駆動素子を内蔵し、かつ前記駆動素子に電気的に接続された第１の電気接続端子を有し、
前記インターポーザが、表面側に前記第１の電気接続端子と対となる第２の電気接続端子を有し、
前記第１の電気接続端子と前記第２の電気接続端子は、機械的接触により電気的に接続され、前記信号処理ＬＳＩの厚さ方向に沿った相対距離の所定範囲で機械的接触が保持されるものであり、前記第１の電気接続端子と前記第２の電気接続端子が電気接続された状態で、前記信号処理ＬＳＩが前記放熱用ヒートシンクに熱的に接続されることを特徴とする請求項３記載のインターフェイスモジュール付ＬＳＩパッケージ。
【請求項５】
前記電気接続端子がピンと該ピンと挿脱されるジャックであることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載のインターフェイスモジュール付ＬＳＩパッケージ。
【請求項６】
前記電気接続端子は電極パッドを備え、各々の電極パッド間に異方性導電フィルムが設けられていることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載のインターフェイスモジュール付ＬＳＩパッケージ。
【請求項７】
前記インターフェイスモジュールの前記駆動素子と前記第１の電気接続端子とがフレキシブル電気配線フィルムによって接続され、かつ前記第１の電気接続端子と前記第２の接続端子との間に加圧に対する可塑性を有する異方性導電フィルムが設置されていることを特徴とする請求項２又は４記載のインターフェイスモジュール付ＬＳＩパッケージ。
【請求項８】
前記インターフェイスモジュール或いは前記インターポーザの何れか一方にガイドピンが設けられ、残りの一方に前記ガイドピンが挿入されるガイド穴が形成されていることを特徴とする請求項１〜７の何れかに記載のインターフェイスモジュール付ＬＳＩパッケージ。
【請求項９】
前記インターフェイスモジュールは、実装ボード接続用電気端子を更に有し、該実装ボード接続用電気端子を介して、前記インターポーザとは独立に電源が供給されることを特徴とする請求項１〜８の何れかに記載のインターフェイスモジュール付ＬＳＩパッケージ。
【請求項１０】
前記電気接続端子が、前記信号処理ＬＳＩが実装された前記インターポーザ上の面内で、前記信号処理ＬＳＩを挟んで対向する２辺又は４辺に配列されてなることを特徴とする請求項１〜９の何れかに記載のインターフェイスモジュール付ＬＳＩパッケージ。
【請求項１１】
前記伝送線路が光伝送路であり、発光素子又は受光素子の少なくとも何れか一方の光素子と該光素子を駆動するインターフェイスＩＣとからなる駆動素子を有することを特徴とする請求項１〜１０の何れかに記載のインターフェイスモジュール付ＬＳＩパッケージ。
【請求項１２】
請求項１記載のインターフェイスモジュール付ＬＳＩパッケージの実装方法において、
前記信号処理ＬＳＩが搭載された前記インターポーザを他の実装部品と共に実装ボード上に実装する工程と、次いで前記インターポーザの電気接続端子と前記インターフェイスモジュールの電気接続端子を位置合わせして前記インターフェイスモジュールを実装する工程とを含むことを特徴とするインターフェイスモジュール付ＬＳＩパッケージの実装方法。
【請求項１３】
請求項４記載のインターフェイスモジュール付ＬＳＩパッケージの実装方法において、
前記信号処理ＬＳＩが搭載された前記インターポーザを他の実装部品と共に実装ボード上に実装する工程と、次いで前記インターフェイスモジュールの前記放熱用ヒートシンクと前記信号処理ＬＳＩの放熱面との間に熱伝導材料を挿入する工程と、次いで前記第１の電気接続端子と前記第２の電気接続端子を位置合わせして前記熱伝導性材料が適正な厚みとなるように押圧して前記インターフェイスモジュールを実装する工程とを含むことを特徴とするインターフェイスモジュール付ＬＳＩパッケージの実装方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月8日(2004.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記低耐圧素子は、前記半導体層または前記第２のベース層と前記第２の電界緩和層とから成るダイオードであり、
前記第２のドレイン層の端から前記第２のゲート電極の端までの前記第２の電界緩和層の長さは、前記第１のドレイン層の端から前記第１のゲート電極の端までの前記第１の電界緩和層の長さよりも短いことを特徴とする請求項５に記載の半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明に係る実施の形態に従ったＬＤＭＯＳ領域の平面図。
【図２】
本発明に係る第１の実施の形態に従った半導体装置１００の断面図。
【図３】
本発明に係る第２の実施の形態に従った半導体装置２００の断面図。
【図４】
本発明に係る第３の実施の形態に従った半導体装置３００の断面図。
【図５】
本発明に係る第４の実施の形態に従った半導体装置４００の断面図。
【図６】
本発明に係る第５の実施の形態に従った半導体装置５００の断面図。
【図７】
図１とはことなる実施の形態に従ったＬＤＭＯＳ領域の平面図。
【図８】
ＬＤＭＯＳを用いた一般的な電源スイッチング回路の回路図。
【図９】
ＬＤＭＯＳ２の拡大断面図。
【符号の説明】
１００、２００、３００、４００、５００  半導体装置
１０、２０  ＬＤＭＯＳ
１１０  シリコン基板
１２０、１３０  半導体層
１４０、１５０  埋め込み層
１７０、１６０  接続領域
１８０  ベース層
１８２  ソース層
１８４  電界緩和層
１８６  ドレイン層
Ｌ１  ＬＤＭＯＳ１０におけるドレイン層の端からゲート電極の端までの電界緩和層の長さ
Ｌ２  ＬＤＭＯＳ１０におけるドレイン層の端からゲート電極の端までの電界緩和層の長さ
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2004253454.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月26日(2005.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体の一主面上に、少なくとも磁性粉末を含有する磁性塗料を塗布することによって形成された磁性層を有し、他の一主面上にバックコート層を有する磁気記録媒体であって、
上記バックコート層には、カーボン粒子と、少なくとも一の種類の顔料粒子の表面がカーボン被覆されてなるカーボン被覆粒子とが含有されてなり、
上記カーボン被覆粒子のカーボンの被覆量は、５〜２０ｗｔ％であり、
上記カーボン被覆粒子の添加量は、上記カーボン粒子１００重量部に対して、５重量部以上であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
上記非磁性支持体と上記磁性層との間に、下層非磁性層が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
上記磁性塗料に含有する磁性粉末の平均長軸長は、０．０２μｍ〜０．３μｍであることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
上記バックコート層に含有されているカーボン被覆粒子は、カーボン膜が顔料粒子にメカノケミカルに被覆されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月9日(2004.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この釣り糸案内機構では、たとえば糸絡みを起こす可能性のある任意の位置を所定の基準点として定め、この基準点から第１ベール支持部材の外周部までの間の最大距離を半径とする球体を定義し、この球体内に第１ベール支持部材の外周部が配置されている。そして、第１ベール支持部材の外周部は、釣り糸が案内可能な外方に向けて、基準点と外周部との間の距離が徐々に小さくなるような曲面形状に形成されている。ここでは、たとえば所定の基準点で糸絡みを起こし、第１ベール支持部材の外周部で釣り糸が引っ掛かった場合でも、巻き取り動作によって第１ベール支持部材の外周部の引っ掛かり位置が基準点を中心に外方に移動し、ついには抜けきり、それと同時に基準点での糸絡みも解消される。したがって、糸絡みの解消が容易になる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月27日(2004.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定の磁場強度を発生する静磁場発生手段と、磁場強度勾配を発生する傾斜磁場発生手段と、高周波磁場を発生する手段と、被検体から発生する核磁気共鳴信号を検出する手段と、前記核磁気共鳴信号を処理し、その結果を表示する手段と、
前記静磁場発生手段に取り付けられ、前記静磁場発生源に機械的振動を引き起こす振動発生源とを有する磁気共鳴イメージング装置において、
前記静磁場発生手段は、前記振動による磁場変動を補正する磁場補正手段を備え、前記磁場補正手段は前記振動の周波数に対応する周波数の補正磁場を発生することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項２】
前記磁場補正手段は、補正磁場を発生する磁場発生コイルと、前記磁場発生コイルに駆動する電源とを備え、前記電源は前記振動の発生源の動作信号を入力し、その信号に基づき前記磁場発生コイルを駆動することを特徴とする請求項１記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項３】
前記静磁場発生手段は、静磁場を発生する超電導コイルと、前記超電導コイルを組込む冷凍機付のクライオを有し、前記振動は、前記冷凍機の発生する振動であることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項４】
前記静磁場発生手段は被検者の配設空間を挟んで、少なくとも一対からなる超電導コイルを配する構造を備えたことを特徴とする請求項３記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項５】
被検体の配置される空間に、静磁場、傾斜磁場および補正磁場をそれぞれ発生する静磁場発生源、傾斜磁場発生源および補正磁場発生源と、
前記静磁場発生源に取り付けられ、前記静磁場発生源に機械的振動を引き起こす振動発生源と、
前記振動発生源に接続され、前記補正磁場源を駆動する補正回路とを有し、
前記補正回路は、前記補正磁場源に対して前記少なくとも前記静磁場の機械的振動による磁場変動を打ち消す補正磁場を発生させることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月18日(2004.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヨーク及びティースを有する固定子コアとコイルを備える電動機において、
前記固定子コアを組立てた状態で、前記固定子コアの外周部から内周方向にまたは内周部から外周方向に応力を加えて内径真円度または外径真円度を向上させた電動機。
【請求項２】
請求項１において、前記ヨークが円周方向に複数に分割された電動機。
【請求項３】
請求項１において、焼嵌めまたは冷やし嵌めにより前記固定子コアの外周部から内周方向にまたは内周部から外周方向に応力が加えられた電動機。
【請求項４】
請求項１において、前記固定子コアの外周部または内周部に樹脂を注入することにより前記固定子コアの外周部から内周方向にまたは内周部から外周方向に応力が加えられた電動機。
【請求項５】
請求項１において、機械的機構により前記固定子コアの外周部から内周方向にまたは内周部から外周方向に応力が加えられた電動機。
【請求項６】
請求項１において、前記固定子コアの外周部から内周方向にまたは内周部から外周方向に応力が加えられた状態で前記固定子コアの分割部を溶接により接合した電動機。
【請求項７】
ヨーク及びティースを有する固定子コアとコイルを有する電動機の製造方法において、前記固定子コアを組み立てる工程と、前記固定子コアを組み立てた状態で前記固定子コアの外周部から内周方向にまたは内周部から外周方向に応力を加えて内径真円度または外径真円度を向上させる工程を有する電動機の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月9日(2005.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルムの画像を光電的に読み取り、キズ消し処理を施す画像処理方法であって、
フィルム上の欠陥に関する情報として欠陥画像を読み取り、
前記欠陥画像に対してキズ消し処理のための前処理を施し、
一方、前記画像を光電的に読み取って実画像を取得し、
前記前処理の施された欠陥画像に基づいて、前記実画像のキズに対してキズ消し処理を行うことを特徴とする画像処理方法。
【請求項２】
前記前処理は、前記実画像の取得の完了までに終了する請求項１に記載の画像処理方法。
【請求項３】
フィルムの画像は、面順次で読み取られ、前記実画像の取得とともに前記前処理の施された前記欠陥画像を用いて実画像のキズ消し処理が行われる請求項２に記載の画像処理方法。
【請求項４】
前記欠陥画像を評価し、評価結果に応じて前記前処理および前記キズ消し処理を中止する請求項１〜３のいずれかに記載の画像処理方法。
【請求項５】
前記前処理は、欠陥画像のエッジ強調処理、あるいは欠陥画像から画素単位の欠陥の有無の情報を与えるフラグ情報の作成である請求項１〜４のいずれかに記載の画像処理方法。
【請求項６】
前記欠陥画像は、赤外線を用いて光電的に読み取られる請求項１〜５のいずれかに記載の画像処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
ここで、前記前処理は、前記実画像の取得の完了までに終了するのが好ましく、フィルムの実画像は、面順次で読み取られ、前記実画像の取得とともに前記前処理の施された前記欠陥画像を用いて実画像のキズ消し処理が行われるのが好ましい。
前記欠陥画像を評価し、評価結果に応じて前記前処理および前記キズ消し処理を中止するのが好ましい。また、前記前処理は、欠陥画像のエッジ強調処理、あるいは欠陥画像から画素単位の欠陥の有無の情報を与えるフラグ情報の作成であるのが望ましく、前記欠陥画像は、赤外線を用いて光電的に読み取られるのが望ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月8日(2004.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）少なくとも１種の親水性の、塩基で中和可能なモノマーおよび少なくとも１種の疎水性のエチレン性不飽和モノマーを有するコポリマー、
（２）水、及び
（３）揮発性塩基、
を含む水性ポリマー組成物において、該ポリマー組成物が透明であり、そして該ポリマー組成物から形成されたフィルムはいったん形成されると水に不溶であり、しかも該フィルムは架橋を本質的に含有しない、ことを特徴とする水性ポリマー組成物。
【請求項２】
前記塩基で中和可能なモノマーが、コポリマーの質量を基準として５〜20質量パーセントにてコポリマー中に存在する、請求項１のポリマー組成物。
【請求項３】
請求項１のポリマー組成物を製造する方法であって、
非水溶媒中で少なくとも１種の親水性の、塩基で中和可能なモノマーおよび少なくとも１種の疎水性のエチレン性不飽和モノマーを重合して非水ポリマー溶液を形成させ；
該非水ポリマー溶液からポリマー水性分散液を形成させ；そして
水性揮発性塩基を添加し；
これにより、透明な水性ポリマー組成物を形成させることを含み、しかも該ポリマー組成物から形成されたフィルムはいったん形成されると水に不溶であり、かつ該フィルムは架橋を本質的に含有しない、ことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月29日(2004.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
巻取紙輪転印刷機において、印刷機が停止している間又は印刷機がクリープ運転されている間に、新しい巻取紙の新しいウエブの始端を古い巻取紙の古いウエブに結合するためのフライング型巻取紙交換機において、該巻取紙交換機が古い巻取紙の古いウエブを案内するダンサロールを有していること、新しい巻取紙を最小のスプライシング速度で回転させるための第１の駆動手段を有していること、古い巻取紙を第１の状態から前記最小のスプライシング速度にほぼ相応する速度に加速する第２の駆動手段を有し、前記第１の状態が印刷機の停止と印刷機のクリープ速度に相応する速度とから成るグループから選択されていること、古い巻取紙を前記第１の状態から加速する間、古いウエブにほぼ変わらない張力が維持されるように前記ダンサロールを移動させる調節手段を有していること、古いウエブと新しいウエブとが最小のスプライシング速度で移動する間に、古いウエブと新しいウエブとを互いに結合する手段を有していることを特徴とする、巻取紙輪転印刷機におけるフライング型巻取紙交換機。
【請求項２】
第１の制動手段を有していること、前記第１の駆動手段が新しい巻取紙を最小の同期化速度に加速するように調整されること、次いで前記第１の制動手段が新しい巻取紙を最小の同期化速度から最小のスプライシング速度に減速することを特徴とする、請求項１記載のフライング型巻取紙交換機。
【請求項３】
新しい巻取紙が最小のスプライシング速度に達したあとで前記第２の駆動手段が古い巻取紙を加速することを特徴とする、請求項２記載のフライング型巻取紙交換機。
【請求項４】
前記結合手段が圧着ローラとブラシローラとブラシ条片とから成るグループから選択された圧着装置を有していること、前記圧着装置が古いウエブを新しい巻取紙に設けられた接着区分に圧着することを特徴とする、請求項１記載のフライング型巻取紙交換機。
【請求項５】
新しい巻取紙に設けられたマーキングを検出するセンサを有していること、該センサが新しい巻取紙の位置を決定する信号を発することを特徴とする、請求項１記載のフライング型巻取紙交換機。
【請求項６】
巻取紙輪転印刷機において、新しい巻取紙の新しいウエブ始端を古い巻取紙から送出される古いウエブに結合する方法において、
−古い巻取紙の古いウエブを巻取紙輪転印刷機のフライング型巻取紙交換機においてダンサロールを介して案内すること、
−新しい巻取紙を最小のスプライシング速度で回転させること、
−古い巻取紙を第１の状態から最小スプライシング速度にほぼ相当する速度に加速すること、
−前記第１の状態を印刷機の停止状態と印刷機のクリープ速度とから成るグループから選択すること、
−前記加速ステップを実行する間、古いウエブにほぼ変わらない張力が維持されるようにダンサロールを同時に動かすこと、
−古いウエブと新しいウエブとを、これらが最小のスプライシング速度で移動する間に互いに結合すること、
−前記結合ステップを停止状態とクリープ状態とから成るグループから選択された操作状態に印刷機がある間に実施すること、
を特徴とする、巻取紙輪転印刷機において新しい巻取紙を古い巻取紙に結合する方法。
【請求項７】
新しい巻取紙をまず最小の同期化速度に加速し、次いで新しい巻取紙を最小の同期化速度から最小のスプライシング速度に減速することを特徴とする、請求項６記載の方法。
【請求項８】
新しい巻取紙が最小のスプライシング速度に達してから古い巻取紙の加速を開始することを特徴とする、請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記同期化速度が０．５ｍ／ｓの領域にあることを特徴とする、請求項７記載の方法。
【請求項１０】
新しい巻取紙が最小のスプライシング速度に達してから古い巻取紙の加速を開始することを特徴とする、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
最小のスプライシング速度が０．１ｍ／ｓから０．４ｍ／ｓまでの間の領域にあることを特徴とする、請求項６から９までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】
新しいウエブに接着区分を設け、圧着ローラ及びブラシローラ及びブラシ条片から成るグループから選択された圧着装置を用いて古いウエブを新しいウエブの接着区分の上に圧着して、古いウエブと新しいウエブとを結合することを特徴とする、請求項６記載の方法。
【請求項１３】
新しい巻取紙にマーキングを設け、センサで前記マーキングを検出して新しい巻取紙の位置を決定しかつマーキング信号を発し、該マーキング信号を、前記結合過程を制御するために中央の制御装置に供給することを特徴とする、請求項６記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月30日(2004.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
金属錯体触媒系のニッケルと、ホスホン酸誘導体およびそれから形成される生成物のリンとのモル比が、０．０１〜１０％である、請求項１から６までのいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月8日(2004.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の命令を順次実行するデータ処理装置であって、
プログラムカウンタとスタックとレジスタ番号で指定できる複数のレジスタとを有し、
前記スタックは、データの書き込みと読み出しが可能であって、最後に格納された内容から順次読み出しを行うことができるデータ記憶手段であり、
前記データ処理装置は、前記プログラムカウンタで指定されるアドレスに格納された命令を実行し、前記プログラムカウンタの値を更新するものであり、
前記データ処理装置は、前記プログラムカウンタの内容を前記スタックに書き込む第１の命令と、前記複数のレジスタの中の指定されたレジスタの内容を前記スタックに書き込む第２の命令と、前記スタックから読み出した内容を前記プログラムカウンタに書き戻すことができるとともに前記複数のレジスタのうち前記スタックから内容を書き戻すべきレジスタの数とレジスタ番号を指定することができる第３の命令とを実行可能であることを特徴とするデータ処理装置。
【請求項２】
請求項１記載のデータ処理装置であって、
レジスタ指定手段と算術演算手段を含み、
前記第３の命令は、スタックから順次読み出した複数の内容を、前記レジスタの内、前記第３の命令の命令コード中に指定された情報と前記算術演算手段とによって指定される複数のレジスタに書込むことができることを特徴とするデータ処理装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載のデータ処理装置であって、
前記データ処理装置は、さらに第４の命令を実行可能であり、
前記第４の命令は、前記複数のレジスタのうち前記スタックから内容を書き戻すべきレジスタの数とレジスタ番号を指定することができ、
前記第３の命令と前記第４の命令は、指定できるレジスタの数の取りうる値が異なることを特徴とするデータ処理装置。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか１項に記載のデータ処理装置であって、
前記データ処理装置は、さらに第５の命令を実行可能であり、
前記第５の命令は、前記複数のレジスタのうち前記スタックへ内容を待避すべきレジスタ番号を指定することができることを特徴とするデータ処理装置。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れか１項に記載のデータ処理装置であって、
前記データ処理装置は、さらに復帰命令を実行可能であり、
前記復帰命令は、前記スタックから読み出した内容を前記プログラムカウンタに書き戻すことができることを特徴とするデータ処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月29日(2004.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体を収納しかつ該記録媒体の主面に対向するシャッタ部を有するカートリッジであって、クリーナ部材と、前記クリーナ部材を支持する支持体と、前記シャッタ部の開閉運動に連動して、前記支持体を記録媒体の主面に略平行に揺動させ前記クリーナ部材を記録媒体に接触させ掃引する掃引機構と、を有することを特徴とするカートリッジ。
【請求項２】
前記掃引機構は、前記シャッタ部内面に設けられた突起部の側面からなりかつ前記シャッタ部の運動方向に対し交差するカム面と、その一端が枢支された前記支持体に設けられかつ前記カム面に向け付勢されて前記カム面に接触する従動部と、からなる直動カム機構であることを特徴とする請求項１記載のカートリッジ。
【請求項３】
前記突起部のカム面は、その端部に前記従動部を外す非接触部を有することを特徴とする請求項２記載のカートリッジ。
【請求項４】
前記非接触部は前記突起部のテーパを含むことを特徴とする請求項３記載のカートリッジ。
【請求項５】
前記突起部は、前記支持体が摺動する記録媒体の主面に略平行な上面部を有することを特徴とする請求項４記載のカートリッジ。
【請求項６】
前記クリーナ部材及び前記従動部は、前記支持体の自由端部に配置されていることを特徴とする請求項２〜５のいずれか１記載のカートリッジ。
【請求項７】
前記クリーナ部材は前記支持体の自由端部に配置され、前記従動部は前記自由端部以外に配置されていることを特徴とする請求項２〜５のいずれか１記載のカートリッジ。
【請求項８】
前記従動部は前記支持体の自由端部に配置され、前記クリーナ部材は前記自由端部以外に配置されていることを特徴とする請求項２〜５のいずれか１記載のカートリッジ。
【請求項９】
前記支持体はバネにより付勢されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１記載のカートリッジ。
【請求項１０】
記録媒体を収納しかつ該記録媒体の主面に対向するシャッタ部を有するカートリッジにおける該記録媒体の主面の清掃方法であって、前記シャッタ部の開閉運動に連動して、クリーナ部材を支持する支持体を、記録媒体の主面に略平行に揺動させかつ往復運動せしめ、往路運動においては前記クリーナ部材が記録媒体の表面に非接触で移動し、復路運動においては前記クリーナ部材が記録媒体の表面に接触して移動することを特徴とする記録媒体表面清掃方法
。
【請求項１１】
前記往復運動中において、前記復路運動における前記クリーナ部材の移動速度が、前記往路運動における前記クリーナ部材の移動速度より大であることを特徴とする請求項１０記載の記録媒体表面清掃方法。
【請求項１２】
前記往復運動中において記録媒体を回転せしめることを特徴とする請求項１０〜１１のいずれか１記載の記録媒体表面清掃方法。
【請求項１３】
前記シャッタ部の開閉運動を記録媒体演奏装置内にて行うことを特徴とする請求項１０〜１２のいずれか１記載の記録媒体表面清掃方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月18日(2004.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マトリクス状に構成されたワードラインと、ビットラインと、前記ワードラインと前記ビットラインとに挟まれ、前記ワードラインと前記ビットラインとの間に印加された電圧の大きさと電圧の向きによる分極状態に応じて情報を記憶する強誘電体から構成されるメモリセルからなる半導体集積回路において、非選択の前記ワードラインと前記ビットラインには接地電位を印加保持し、選択の前記ワードラインと前記ビットラインには各々前記接地電位に対して、前記強誘電体の抗電位の半分の電位より大きく、抗電位より小さい電位分、高い電位、あるいは前記強誘電体の抗電位の半分の電位より大きく、抗電位より小さい電位分、低い電位を印加し駆動することを特徴とする半導体集積回路。
【請求項２】
マトリクス状に構成されたワードラインと、ビットラインと、前記ワードラインと前記ビットラインとに挟まれ、前記ワードラインと前記ビットラインとの間に印加された電圧の大きさと電圧の向きによる分極状態に応じて情報を記憶する強誘電体から構成されるメモリセルからなる半導体集積回路に
おいて、非選択の前記ワードラインと前記ビットラインには電源電位を印加保持し、選択の前記ワードラインと前記ビットラインには各々前記電源電位に対して、前記強誘電体の抗電位の半分の電位より大きく、抗電位より小さい電位分、高い電位、あるいは前記強誘電体の抗電位の半分の電位より大きく、抗電位より小さい電位分、低い電位を印加し駆動することを特徴とする半導体集積回路。
【請求項３】
請求項１及び２記載の半導体集積回路において、前記強誘電体が無機材料であることを特徴とする半導体集積回路。
【請求項４】
請求項１及び２記載の半導体集積回路において、前記強誘電体が有機材料であることを特徴とする半導体集積回路。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の半導体集積回路は、マトリクス状に構成されたワードラインと、ビットラインと、前記ワードラインと前記ビットラインとに挟まれ、前記ワードラインと前記ビットラインとの間に印加された電圧の大きさと電圧の向きによる分極状態に応じて情報を記憶する強誘電体から構成されるメモリセルからなる半導体集積回路において、非選択の前記ワードラインと前記ビットラインには接地電位を印加保持し、選択の前記ワードラインと前記ビットラインには各々前記接地電位に対して、前記強誘電体の抗電位の半分の電位より大きく、抗電位より小さい電位分、高い電位、あるいは前記強誘電体の抗電位の半分の電位より大きく、抗電位より小さい電位分、低い電位を印加し駆動することを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、本発明の半導体集積回路はマトリクス状に構成されたワードラインと、ビットラインと、前記ワードラインと前記ビットラインとに挟まれ、前記ワードラインと前記ビットラインとの間に印加された電圧の大きさと電圧の向きによる分極状態に応じて情報を記憶する強誘電体から構成されるメモリセルからなる半導体集積回路において、非選択の前記ワードラインと前記ビットラインには電源電位を印加保持し、選択の前記ワードラインと前記ビットラインには各々前記電源電位に対して、前記強誘電体の抗電位の半分の電位より大きく、抗電位より小さい電位分、高い電位、あるいは前記強誘電体の抗電位の半分の電位より大きく、抗電位より小さい電位分、低い電位を印加し駆動することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月12日(2004.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録可能な媒体と、前記記録可能な媒体内の、一定角速度ウォッブルを有するグルーブと、を含む光記憶メディア。
【請求項２】
前記グルーブの前記ウォッブルが、アドレス情報を提供するようにＢＰＳＫ変調された請求項１に記載のメディア。
【請求項３】
前記グルーブのウォッブル・サイクルが、複数の同心のゾーンを構成する請求項１に記載のメディア。
【請求項４】
同じゾーン内のウォッブル・サイクルが同じ角度を張り、ゾーン毎にウォッブル・サイクルは異なる角度を張る請求項３に記載のメディア。
【請求項５】
ゾーン内のウォッブル・サイクルの平均空間周期が、チャネル・ビット長の整数倍である請求項４に記載のメディア。
【請求項６】
各ゾーンのウォッブル空間周期の最大偏差が、同じ一定割合である請求項５に記載のメディア。
【請求項７】
ウォッブル繰り返し周期が、ゾーンごとに段階的に変化する請求項４に記載のメディア。
【請求項８】
前記グルーブが、ＣＬＶウォッブルを有するグルーブと同じ数のウォッブル・サイクルを有する請求項３に記載のメディア。
【請求項９】
同じゾーンのウォッブル・サイクルが空間的に位相が整合している請求項３に記載のメディア。
【請求項１０】
同じゾーンのウォッブル・サイクルの位相が完全にずれている請求項３に記載のメディア。
【請求項１１】
光記憶メディアにおいて、
記録可能な媒体と、
前記記録可能な媒体内の、複数の同心のゾーンに配置された複数のウォッブル・サイクルを有するグルーブと、を備え、
同じゾーン内のウォッブル・サイクルが同じ角度を張り、ゾーン毎にウォッブル・サイクルは異なる角度を張る光記憶メディア。
【請求項１２】
前記グルーブの前記ウォッブルが、アドレス情報を提供するようにＢＰＳＫ変調された請求項１１に記載のメディア。
【請求項１３】
ゾーン内のウォッブル・サイクルの平均空間周期が、チャネル・ビット長の整数倍である請求項１１に記載のメディア。
【請求項１４】
各ゾーンのウォッブル空間周期の最大偏差が、同じ一定割合である請求項１１に記載のメディア。
【請求項１５】
ウォッブル繰り返し周期が、ゾーンごとに段階的に変化する請求項１１に記載のメディア。
【請求項１６】
前記グルーブが、ＣＬＶウォッブルを有するグルーブと同じ数のウォッブル・サイクルを有する請求項１１に記載のメディア。
【請求項１７】
同じゾーンのウォッブル・サイクルが空間的に位相が整合している請求項１１に記載のメディア。
【請求項１８】
同じゾーンのウォッブル・サイクルの位相が完全にずれている請求項３に記載のメディア。
【請求項１９】
光記憶メディアにおいて、
記録可能な媒体と、
前記記録可能な媒体内の、複数の同心のゾーンに配置された複数のウォッブル・サイクルを有するグルーブと、を備え、
同じゾーン内のウォッブル・サイクルが同じ角度を張り、ゾーン毎にウォッブル・サイクルは異なる角度を張り、
前記ウォッブル・サイクルが、ＢＰＳＫ変調された光記憶メディア。
【請求項２０】
ＣＬＶウォッブルを有するグルーブと同じ数のウォッブル・サイクルを有する請求項１９に記載のメディア。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月15日(2005.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  非磁性支持体上に無機粉末と結合剤とを含む下層及び強磁性粉末と結合剤を含む上層磁性層をこの順に有し、かつ前記磁性層は少なくとも１種類の研磨剤をさらに含有する磁気記録媒体であって、前記磁性層表面に存在する研磨剤の個数Ｘは、０.２≦Ｘ≦１．２(個／μｍ2）を満たし、Ｌ≦２Ｋ（但し、Ｋは研磨剤の平均粒子径であり、Ｌは一つの研磨剤粒子の重心から別の研磨剤粒子の重心までの距離である）を満足する研磨剤対の個数をＹ(個／μｍ2）としたときに、Ｙ／Ｘが２以下であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】前記研磨剤の平均粒子径は０．１〜０．６μｍである請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】前記磁性層の厚みが０．０５〜０．６μｍである請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】前記研磨剤の平均粒子径は、磁性層の厚みの０．３〜２倍の範囲である請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】前記下層厚みは０．５〜２．０μｍである請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項６】前記磁性層の抗磁力は１５９〜２３９ＫＡ／ｍである請求項１〜５のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月26日(2004.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、回折格子１０１は、ガラス製のものであっても、その基板厚さの製造誤差が０．０５ｍｍ程度発生する。このため、回折格子ホルダ１０２における回折格子取付け面１２２の光軸方向の位置を正確に規定できたとしても、当該取付け面１２２と、回折格子１０１の格子面との間にある基板厚さの誤差分だけ、光源１０３の発光点位置と格子面との間隔に誤差が発生するおそれがある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
例えば、光源１０３と回折格子１０１の間隔が０．１ｍｍ広がると、受光素子上の±１次光は、それぞれ０次光に対して、例えば、５μｍ広がる。このことは、回折格子の基板板厚が０.０５ｍｍ変動がある場合でも、受光素子上の±１次光の受光位置がそれぞれ０次光の受光位置に対して約２．５μｍ変動することになり、かかる変動によるオフセット量は約１５％程度にもなってしまう。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月19日(2005.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
図６は、図５に示す車両速度監視装置で撮影された画像例を示す図である。図７は、パトロールカーに配備したデータ受信表示装置２３における撮影画像の表示のされ方を示す図である。図に於いて、１６は撮影画像、１７はスーパインポーズ、１８は走行車両、１９は運転者、２０はナンバプレートである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
実施の形態２．
図３はこの発明の実施の形態２を示す構成図であり、車両速度監視装置と車線の関係及び車線に設置された状況を示した全体図とパトロールカーに配備のデータ受信表示装置の構成を示すブロック図である。図に於いて速度計測装置１からは、車線を走行する車両に電磁波を発射し、車両で反射した電磁波は、走行速度に対応したドップラ周波数のシフトを受けて再び速度計測装置１に戻り、自らが持つローカル信号と混合させビデオ信号が検出される。