【手続補正書】
【提出日】平成15年5月21日(2003.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高エネルギー電子が通過する真空チャンバ（３１）を閉鎖するためのＸ線ターゲット（３４）であって、以下：
高Ｚターゲット材料の複数の層（３４ａ、３４ｂ、３４ｃ）；および
該ターゲット層の間に交互配置される、熱伝導性低Ｚ物質の複数の層（４０ａ、４０ｂ）、
を備える、Ｘ線ターゲット。
【請求項２】
製品照射システムであって、以下：
走査ホーン（４６）を通過させて製品を運搬する、コンベヤ（１８）；
電子を加速する、電子加速器（１０）；
該加速器から該走査ホーンへ該加速された電子を運搬する、真空路；
該加速された電子を、該走査ホーンを横切って掃引する、電子掃引システム（４４）；
該走査ホーン上の、熱伝導性材料からなる熱伝導性フェイスプレート（４０）；
該加速された電子をＸ線に変換するための、該フェースプレートに取り付けられた、請求項１に記載されるアノードターゲット（３４）、
を備え、
該アノードターゲットは、該フェイスプレートに取り付けられており；そして
冷却液チャネル（４２）が該フェイスプレートにおいて規定されている、システム。
【請求項３】
前記層が、前記冷却液チャネル（４２）と、熱接触している、請求項２に記載の製品照射システム。
【請求項４】
前記ターゲット層（３４ａ、３４ｂ、３４ｃ）が、前記層（４０ａ、４０ｂ、４０ｃ）に取り付けられている、請求項２に記載の製品照射システム。
【請求項５】
前記ターゲットが、３つの層（３４ａ、３４ｂ、３４ｃ）を含む、請求項２〜４のいずれか１項に記載の製品照射システム。
【請求項６】
前記フェイスプレート（４０）が、３つの層（４０ａ、４０ｂ、４０ｃ）を含む、請求項２〜５のいずれか１項に記載の製品照射システム。
【請求項７】
前記電子掃引システムが、前記ターゲットを横方向および長手方向に横切って電子を掃引する、請求項２〜６のいずれか１項に記載の製品照射システム。
【請求項８】
周辺領域を漂遊放射線から保護する、放射線遮蔽（２６、３６）をさらに備える、請求項２〜７のいずれか１項に記載の製品照射システム。
【請求項９】
遠隔位置から前記チャネルへ冷却液をポンプにより送る冷却剤システムをさらに備える、請求項２〜８のいずれか１項に記載の製品照射システム。
【請求項１０】
請求項８に記載の製品照射システムであって、前記電子加速器、前記走査ホーン、前記製品コンベヤ、および前記冷却剤システムの操作を調整する、オペレータにアクセス可能な制御システム（１２）をさらに備える、システム。
【請求項１１】
請求項２〜１０のいずれか１項に記載の製品照射システムであって、前記ターゲット層（３４ａ、３４ｂ、３４ｃ）が、それぞれ、熱伝導性材料からなる隣接層（４０ａ、４０ｂ、４０ｃ）上にターゲット材料の被覆を備える、システム。
【請求項１２】
前記ターゲット層（３４ａ、３４ｂ、３４ｃ）が、タンタルホイルまたはタングステンホイルを含む、請求項２〜１１のいずれか１項に記載の製品照射システム。
【請求項１３】
水が、前記冷却液チャネル（４２）を通って流れ、前記ターゲットから熱を吸収する、請求項２〜１２のいずれか１項に記載の製品照射システム。
【請求項１４】
請求項２〜１３のいずれか１項に記載の製品照射システムであって、製品が滅菌領域にある場合に感知し、そして製品が該滅菌領域に存在する場合のみ、電子を放出するように前記電子加速器を制御する、光学感知デバイス（３２）をさらに備える、システム。
【請求項１５】
製品照射システムであって、以下：
走査ホーン（４６）を通過させて製品を運搬する、コンベヤ（１８）；
電子を加速する、電子加速器（１０）；
該加速器から該走査ホーンへ該加速された電子を運搬する、真空路；
該加速された電子を、該走査ホーンを横切って掃引する、電子掃引システム（４４）；
該走査ホーン上にある、熱伝導性材料のフェイスプレート（４０）；および
該加速された電子をＸ線に変換するための、請求項１に記載のアノードターゲット（３４）、
を備える、
システム。
【請求項１６】
請求項１５に記載の照射システムであって、前記ターゲット層から隔てられたチャネル（４２）をさらに備え、該チャネルを通って冷却液が流れ、該ターゲットと物理的に接触することなく、前記低Ｚ物質層から熱を吸収する、システム。
【請求項１７】
電子ビームを生成して加速し、そして該電子ビームにターゲット（３４）を衝突させてＸ線を生成する工程を包含する、Ｘ線の生成方法であって、該ターゲットを衝突させる工程が、以下：
該ターゲットの第１層（３４ａ）を該電子ビームと衝突させる工程；
該ビーム中の電子の第１の部分をＸ線に変換する工程であって、該電子の第２の部分が、該第１のターゲット層を通過する、工程；
該電子の第２の部分をターゲットの第２層（３４ｂ）に衝突させる工程であって、該ターゲットの第２の部分が、熱伝導性層（４０ａ）によって該ターゲットの第１の部分と間隔を空けられている、工程；および
該ターゲットの第２層に衝突する電子の一部をＸ線に変換する工程、
を包含する、方法。
【請求項１８】
前記第２のターゲット層を通過した電子を、少なくとも１つのさらなるターゲット層に衝突させて、Ｘ線を生成する工程をさらに包含する、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
請求項１７および１８のいずれか１項に記載の方法であって、冷却液と熱伝導性材料（４０）とを接触させることによって、前記ターゲットに生じた熱を散逸させる工程であって、該熱伝導性材料が、前記熱伝導性層（４０ａ）と熱接触している、工程をさらに包含する、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（発明の要旨）
本発明の１つの局面によれば、高エネルギー電子が通って移動する真空チャンバを閉鎖するためのＸ線ターゲットが提供される。このターゲットは、高Ｚターゲット材料の複数の層、およびこのターゲット層の間に交互配置された熱伝導性低Ｚ物質の複数の層を備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の別の局面によれば、製品照射デバイスが提供される。コンベヤは、走査ホーンを通過させて製品を運搬する。電子加速器は、電子を加速する。真空路は、加速された電子を、この加速器から走査ホーンへと運ぶ。電子掃引システムは、この加速された電子を走査ホーンを横切って掃引する。この走査ホーン上のフェイスプレートは、前の段落に記載されるように、熱伝導性材料から作製される。アノードターゲットは、加速された電子をＸ線に変換するために、このフェースプレートに取り付けられる。冷却液チャネルは、このフェースプレートにおいて規定される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の別の局面によれば、製品照射デバイスが提供される。コンベヤは、走査ホーンを通過させて製品を運搬する。電子加速器は、電子を加速する。真空路は、加速された電子を、この加速器から走査ホーンへと運ぶ。電子掃引システムは、この加速された電子を走査ホーンを横切って掃引する。この走査ホーン上のフェイスプレートは、熱伝導性材料から作製される。アノードターゲットは、２つ前の段落に記載されるように、加速された電子をＸ線に変換するために、このフェースプレートに取り付けられる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の別の局面によれば、Ｘ線の生成方法が提供される。この方法は、電子ビームを生成して加速し、そしてこの電子ビームをターゲットに衝突させてＸ線を生成することを包含する。このターゲットの第１層は、電子ビームと衝突されて、電子の第１の部分がＸ線に変換される。この電子の第２の部分は、第１のターゲット層を通過し、そしてターゲットの第２層に衝突する。ターゲットの第２の部分は、熱伝導性層によりターゲットの第１の部分と間隔を空けられている。ターゲットの第２層に衝突する電子の一部は、Ｘ線に変換される。