Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月5日(2004.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
担体上の金属塩の混合物を含む、エチレンのオキシ塩素化反応の触媒組成物であって、
上記金属塩は、触媒組成物が、
ａ）  銅塩として、３〜１２質量％の銅、
ｂ）  アルカリ土類金属塩として、０〜３質量％のアルカリ土類金属塩、
ｃ）  アルカリ金属塩として、０〜３質量％のアルカリ金属塩、
ｄ）  対応する金属塩又はテトラクロロ金酸として、０．００１〜０．１質量％の、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、及び白金からなる群より選択された１種以上の金属、及び／又は０．０００１〜０．１質量％の金、
（但し、全ての質量％は担体物質を含む触媒の全質量に対してのものである）
を含むような割合で、担体に施されることを特徴とする触媒組成物。
【請求項２】
金属塩が各金属の金属ハロゲン化物、金属オキシハロゲン化物、及び金属酸化物、及びテトラクロロ金酸から選択される請求項１に記載の触媒組成物。
【請求項３】
各金属の金属ハロゲン化物、好ましくは金属塩化物が使用される請求項２に記載の触媒組成物。
【請求項４】
使用される成分ｄ）がルテニウム塩又は金塩である請求項１〜３のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項５】
使用される成分ｂ）がマグネシウム塩である請求項１〜４のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項６】
使用される成分ｃ）がカリウム塩である請求項１〜５のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項７】
使用される担体が酸化アルミニウムである請求項１〜６のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項８】
担体が、０．１５〜０．７５ｃｍ３／ｇの範囲の孔隙容積を有している請求項１〜７のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項９】
使用される担体の比表面積が２０〜４００ｍ２／ｇの範囲にある請求項１〜８のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項１０】
固定床触媒として使用され、端面が外側縁部と中心孔の縁部の両方に湾曲している環状ペレット又は中空シリンダの形状を有している請求項１〜７のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載の触媒組成物を触媒として存在させ、エチレンのオキシ塩素化反応によって１，２−ジクロロエタンを製造する方法。
【請求項１２】
循環式反応器法である請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
触媒が移動床として使用される請求項１１又は請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
触媒が固定床として使用される請求項１１又は請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
触媒が、端面が外側縁部と中心孔の縁部の両方に湾曲している環状ペレット又は中空シリンダの形状で、固定床として使用される請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月8日(2004.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
(a) 冷菓；(b) 該冷菓の少なくとも１表面を被覆する防湿層；および(c) 該防湿層上に配置した甘味なガラス状マトリックストッピングを含み、該ガラス状マトリックストッピングがガラス状マトリックスを含むことを特徴とする組成物。
【請求項２】
該冷菓が、フローズンカスタード、アイスクリーム、アイスミルク、ジェラート、ミルクセーキ、フローズンヨーグルト、プディング、シャーベットまたはソルベを含む、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
該防湿層が該防湿層の質量基準で少なくとも70質量％の量の油脂を含み、該油脂の少なくとも60質量％が40°F(4℃)で保存したとき液体である、請求項１記載の組成物。
【請求項４】
40°F(4℃)で保存したとき液体である該油脂が、食用油、中鎖長トリグリセリドまたはこれらの混合物である、請求項３記載の組成物。
【請求項５】
該油脂が、(a) 該油脂の質量基準で約82〜約86質量％の量の40°F(4℃)で保存したとき液体である食用油、中鎖長トリグリセリドまたはこれらの混合物と(b) 該油脂の質量基準で約14〜約18質量％の量のココナツ油、ココアバター、バター、パーム油、パーム核油、水素化油またはこれらの混合物とを含む、請求項３記載の組成物。
【請求項６】
該防湿層が、(a) 該防湿層の質量基準で約20〜約60質量％の量の製菓用コーティーングと(b) 該防湿層の質量基準で約40〜約80質量％の量の油脂とを含み、該油脂が40°F(4℃)で液体であり、該油脂が上記製菓用コーティーング以外の源に由来する、請求項１記載の組成物。
【請求項７】
該製菓用コーティーングが、該製菓用コーティーングの質量基準で、約45〜約55質量％の量の油脂、約3〜約7質量％の量のたんぱく質、約5〜約10質量％の量のラクトースおよび約30〜35質量％の量のスクロースを含む、請求項６記載の組成物。
【請求項８】
該製菓用コーティーングが、ホワイトチョコレートコーティーング、ダークチョコレートコーティーング、ミルクチョコレートコーティーング、バターミルクチョコレートコーティーング、スキムミルクチョコレートコーティーングまたはこれらの混合物である、請求項６記載の組成物。
【請求項９】
該ガラス状マトリックスが、スクロース、約2〜約4の平均重合度を有する多糖類またはこれらの混合物である、請求項１記載の組成物。
【請求項１０】
該多糖類が、ポリデキストロース、部分加水分解イヌリン、部分加水分解グアールガム、約30〜約50のデキストロース当量値を有するコーンシロップまたはこれらの混合物である、請求項９記載の組成物。
【請求項１１】
該ガラス状マトリックスが、(a) 該ガラス状マトリックスの質量基準で約20〜約60質量％の量の埋め込み結晶性スクロースと(b) 該ガラス状マトリックスの質量基準で約40〜約80質量％の量のガラス状相とを含み、該ガラス状相がスクロース、約2〜約4の平均DPを有する多糖類またはこれらの混合物を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項１２】
該ガラス状マトリックストッピングが、該ガラス状マトリックスの少なくとも１表面を被覆するガラス状マトリックスコーティーングをさらに含む、請求項１記載の組成物。
【請求項１３】
該ガラス状マトリックスコーティーングが、食用油、食用シェラック、蜜蝋、アセチル化モノグリセリド、Salatrim変性油脂またはこれらの混合物を含む、請求項１２記載の組成物。
【請求項１４】
ガラス状マトリックスを含むガラス状マトリックストッピングであって、該ガラス状マトリックスが
a) ガラス状マトリックスの質量基準で約20〜約60質量％の量の埋め込み結晶性スクロース、及び
b) ガラス状マトリックスの質量基準で約40〜約80質量％の量のガラス状相であって、該ガラス状相がスクロース、約2〜約4の平均重合度を有する多糖類またはこれらの混合物を含むガラス状相
を含み、該ガラス状マトリックストッピングが約1〜約3mmの厚さを有することを特徴とするガラス状マトリックストッピング。
【請求項１５】
該ガラス状マトリックストッピングがさらに該ガラス状マトリックスの少なくとも１表面を覆うガラス状マトリックスコーティングを含み、該コーティングが約0.05〜約0.5mmの厚さである、請求項１４記載のガラス状マトリックストッピング。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月2日(2004.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオンビームスポットのサイズを適合させる装置であって、以下の特徴、すなわち、
該イオンビーム（１９）をラスタ走査するラスタ走査電磁石（２０）からなるラスタ走査デバイスと、
前記イオンビームスポットのサイズを決定する、前記ラスタ走査電磁石（２０）の直前に配置されている４極子電磁石（１０）と、
前記イオンビームスポットのサイズを決定する前記４極子電磁石（１０）の４極子対用の２つの電磁石電源ユニット（１８）と、
制御ループ（２１）であって、行き渡るビーム寸法の所望値と実際値を比較することによって、前記イオンビームスポットのサイズを決定する前記４極子電磁石（１０）の４極子対の２つの電磁石電源ユニット（１８）に対する電流補正値を供給し、ビーム抽出中に、かつ／または、測定サイクルから測定サイクルまでの間に、かつ／または、ビーム位置からビーム位置までの間に、前記イオンビームスポットサイズの限定された均質化および／または限定された変動を得るようにする、制御ループとを有しており、腫瘍の体積部位（４）におけるよりも縁部部位（３）において、同時に、より小さなイオンビームスポットサイズとともに、より高密度のイオンビーム位置ラスタを制御しかつ読み出す制御および読み出しモジュール（ＳＡＭＤ）を有する装置。
【請求項２】
前記イオンビーム幅を検出し、生検出器データを生成する位置敏感型検出器（ＷＭＰＣ１）を有することを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
複数の制御および読み出しモジュール（ＳＡＭ０１およびＳＡＭＤ）、および関連するデータ接続部を有して、格納、制御および読み出しモジュール（ＳＡＭＤ）にイオンビーム幅の実際値に関する情報を送出して、前記測定データを格納するようにすることを特徴とする請求項１または２のいずれか一項に記載の装置。
【請求項４】
１つの読み出しモジュール（ＳＡＭＤ）は、いくつかの自由(free、固定していない)インタフェース、およびそれによって前記イオンビーム幅の追跡を行うことができる計算能力を有することを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項５】
１つの制御および読み出しモジュールによって拡張される制御システムを有しており、該付加的な制御および読み出しモジュールによって、イオンビーム幅調整機能を専用に果たすことができることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
取り付けられた制御および読み出しモジュール（ＳＡＭ０１）を有するマルチワイヤイオン化室（ＭＷＰＣ１）から始まって、グラフィカル表示用の測定データを供給し、かつ、前記ラスタ走査電磁石（２０）の直前の４極子対の水平合焦および垂直合焦用の２つの電磁石電源ユニット（１８）を作動させる制御および読み出しモジュール（ＳＡＭＤ）に導く、制御ループを有することを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項７】
腫瘍治療(treatment)において、イオンビームスポットのサイズを適合させる方法であって、方法ステップ、すなわち、
ビームスポットのサイズを、リアルタイムで、動的に適合させるステップであって、
調整可能周波数による２つの連続する加速器サイクルの間で、または加速器サイクル内で、種々のイオンビームサイズに対する所望値を、ビームサイズを決定する前記４極子電磁石（１０）に与えるステップと、
前記ビームの行き渡っている寸法(dimension)の所望値と実際値を比較することによって、前記イオンビームスポットのサイズを決定する前記４極子電磁石（１０）の４極子対の２つの電磁石電源ユニット（１８）に対する電流補正値を得るステップであって、それによって、ビーム抽出中、かつ／または、測定サイクルから測定サイクルまでの間に、かつ／または、ビーム位置からビーム位置までの間に、前記イオンビームスポットサイズの限定された均質化を得るようにする、かつ／または限定された変動を得るようにする、電流補正値を得るステップと、
腫瘍の体積(volume)部位（４）におけるよりも、縁部部位（３）において、より高密度のイオンビーム位置ラスタで、と同時に、より小さなイオンビームスポットサイズで、腫瘍組織（１）を放射線照射(irradiating)するステップとによる、動的に適合させるステップを特徴とする方法。
【請求項８】
縁部部位（３）における微細イオンビーム位置ラスタの場合、腫瘍の体積部位（４）において粗いイオンビーム位置パターンを用いるのに比べて、より小さなビーム半値幅が設定されるように、ビーム半値幅は前記イオンビーム位置ラスタに適合することを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
全ての測定サイクルについて、マルチワイヤイオン化室（ＭＷＰＣ１）の制御および読み出しモジュール（ＳＡＭ０１）内のリアルタイムソフトウェアは、前記マルチワイヤイオン化室（ＭＷＰＣ１）の生検出器データから前記イオンビーム幅の実際値を計算することを特徴とする請求項７または８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記ビーム幅に関する情報は、前記測定データを格納し、制御し、読み出す前記モジュール（ＳＡＭＤ）に供給されることを特徴とする請求項７から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
格納し、制御し、読み出す前記モジュール（ＳＡＭＤ）において、前記イオンビームスポットサイズの実際値は、放射線照射計画からの前記イオンビームスポットサイズの所望値に関する情報とリアルタイムで比較されることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
ラスタスキャナの直前にある高エネルギービームガイド用の、前記イオンビームスポットのサイズを決定する前記４極子電磁石（１０）の４極子対の電磁石電源ユニット（１８）に対する補正値が決定され、設定されることを特徴とする請求項７から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
位置測定システムの測定サイクルから測定サイクルまでの間、または放射線照射計画の１つのイオンビーム位置から次のイオンビーム位置までの間に補正または再設定が行なわれることを特徴とする請求項７から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記４極子対に対する前記補正値を決定するリアルタイムソフトウェアのパラメータの形態で、前記イオンビーム幅を追跡する周波数の設定が実行されることを特徴とする請求項７から１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記イオンビーム幅の追跡は調整可能に弱められることを特徴とする請求項７から１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記イオンビーム幅に対するしきい値が設けられることを特徴とする請求項７から１５のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月26日(2004.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
歯または智歯の歯嚢から単離された非胚性組織から得ることができる、ｉｎ ｖｉｔｒｏで自己再生でき、かつ分化することができる幹細胞。
【請求項２】
内胚葉性、外胚葉性、および中胚葉性系譜の細胞に分化することができる請求項１の幹細胞。
【請求項３】
歯周靱帯様膜構造に分化することができる請求項１及び２のいずれかの幹細胞。
【請求項４】
石灰化組織様構造に分化することができる請求項１〜３のいずれかの幹細胞。
【請求項５】
ヒト細胞である請求項１〜４のいずれかの幹細胞。
【請求項６】
請求項１〜５いずれかの幹細胞から得ることができる間葉系幹細胞。
【請求項７】
ａ）請求項１〜６のいずれかの幹細胞、
ｂ）前記幹細胞の増殖を支持することができる培地、
ｃ）前記幹細胞の、血管または他の脈管を有する生体膜を構築する細胞への増殖を支持することができる培地。
：を含む培養物。
【請求項８】
さらに増殖因子または系譜決定因子を含む、請求項７の培養物。
【請求項９】
・細胞を歯嚢から得る
・細胞を培養する
段階を含む、請求項１〜６のいずれかの幹細胞を単離する方法。
【請求項１０】
・歯嚢からクローン原性細胞を得る
・当該細胞を異なる培地中で培養する
・前記培養細胞をクローン密度に希釈する；
・前記希釈細胞を培養する；
・単一の細胞を有するこれらの培養物を増殖させる
段階を含む、クローン性幹細胞を単離する請求項９の方法。
【請求項１１】
請求項１０の方法によって得ることができるクローン性幹細胞株。
【請求項１２】
目的の遺伝子またはタンパク質を発現するよう遺伝子組み換えされた請求項１の幹細胞。
【請求項１３】
（ａ）請求項１〜５のいずれかの幹細胞に少なくとも一つのマーカー遺伝子または目的遺伝子を含むＤＮＡ構築物を遺伝子導入する；
（ｂ）この幹細胞におけるマーカー遺伝子または目的遺伝子の発現について選択する；
（ｃ）（ｂ）で選択された幹細胞を培養する
段階を含む遺伝子組み換えされた請求項１２の幹細胞を作製する方法。
【請求項１４】
請求項１３の方法によって得ることができる遺伝子組み換えされた幹細胞。
【請求項１５】
・請求項１の幹細胞を、系譜決定因子である物質を含むと思われる試料と接触させる；および
・そのように接触させた細胞の系譜を、ｍＲＮＡ発現、抗原発現、または他の方法によって判定する；ここでその接触させた細胞の系譜は、前記試料中の系譜決定因子の存在または活性を示す
段階を含む、系譜決定因子である物質の存在または活性を検出するための方法。
【請求項１６】
・系譜決定されていない細胞として幹細胞を維持する培地中で、請求項１の幹細胞を培養すること；
・供試する物質、化合物、または因子を加えること；および
・ｍＲＮＡ発現、抗原発現、または他の方法によって、そのように接触させた細胞の系譜を判定すること
を含む、系譜決定されていない細胞の系譜決定を調節する、物質、化合物、または因子の能力を試験する方法。
【請求項１７】
・系譜決定されていない細胞として幹細胞を維持する培地中で、請求項１の幹細胞を培養すること、
・供試する物質、化合物、または因子を加えること；および
・ｍＲＮＡ発現、抗原発現、または他の方法によって、そのように接触させた細胞の系譜を判定すること
：を含む、系譜決定されていない細胞の系譜決定を調節する能力について、物質、化合物、または因子をスクリーニングするための分析システム。
【請求項１８】
・請求項１の幹細胞を、増殖因子である物質を含むと思われる試料と接触させる；および
・そのように接触させた細胞の増殖および系譜を、ｍＲＮＡ発現、抗原発現、または他の方法によって判定する；ここでその接触させた細胞の系譜決定なしの増殖は、前記試料中の増殖因子の存在または活性を示す
段階を含む、増殖因子である物質の存在または活性を検出するための方法。
【請求項１９】
・系譜決定されていない細胞として幹細胞を維持する培地中で、請求項１の幹細胞を培養すること；
・供試する物質、化合物、または因子を加えること；および
・ｍＲＮＡ発現、抗原発現、または他の方法によって、そのように接触させた細胞の増殖および系譜を判定すること
を含む、系譜決定されていない細胞の増殖を調節する、物質、化合物、または因子の能力を試験する方法。
【請求項２０】
歯周炎、腱、靱帯、筋膜、および、中皮性／内皮性細胞の血管へのまたは外胚葉性または神経組織への分化を支援するその他の種類の結合組織を再生するのに用いられる膜に、請求項１の幹細胞を培養するための方法。
【請求項２１】
インシュリン、レチノイン酸、インドメタシン、１−メチル−３−イソブチルキサンチン、テオフィリン、形質転換成長因子−β（任意の）、骨形成タンパク質（任意の）、繊維芽細胞成長因子（任意の）、上皮成長因子（任意の）、血小板由来成長因子（任意の）、血管内皮成長因子（任意の）、肝細胞成長因子、インターフェロン（任意の）、インシュリン様成長因子（任意の）、インターロイキン（任意の）、神経成長因子の群から選ばれる分化のための物質またはその組み合わせを含む任意の培地で請求項１の幹細胞を培養するための方法。
【請求項２２】
請求項１の幹細胞に目的のタンパク質または遺伝子を発現するＤＮＡまたはＲＮＡを含むベクターを遺伝子導入する段階を含む、目的のタンパク質または遺伝子のｅｘ ｖｉｖｏ投与の方法。
【請求項２３】
哺乳類における細胞の衰弱、異常および／または機能障害および／または他の疾患状態を予防するおよび／または治療するために使用される、請求項１の幹細胞、またはそれに由来する細胞または組織。
【請求項２４】
哺乳類における組織修復または移植のために使用される、請求項１の幹細胞、またはそれに由来する細胞または組織。
【請求項２５】
哺乳類における細胞の衰弱、異常および／または機能障害および／または移植および／または他の疾患状態を予防するおよび／または治療するために使用される、請求項１の幹細胞に由来する中胚葉性系譜決定された細胞。
【請求項２６】
哺乳類における組織修復または移植のために使用される、請求項１の幹細胞に由来する中胚葉性系譜決定された細胞。
【請求項２７】
・治療的に有効な量の請求項１の幹細胞、またはそれに由来する細胞または組織；および
・薬学的に受容可能な培地または担体
：を含む、哺乳類における細胞の衰弱，異常および／または機能障害の治療のための医薬組成物。
【請求項２８】
増殖因子または系譜決定因子をさらに含む、請求項２７の医薬組成物。
【請求項２９】
請求項１の幹細胞をマトリクス上で培養することによって、歯を作製するための、歯の周囲の骨／骨マトリクス歯槽骨または顎骨の形成のための、または、口内の動脈および静脈の形成のための、生分解性ポリマー、非生分解性ポリマーおよび合成ポリマーの群から選ばれるポリマーからなる、細胞外マトリクスとして用いられる足場。
【請求項３０】
足場マトリクスが、カドヘリン、ＣＡＭまたはインテグリンのような細胞結合領域配列を有する請求項２９の足場。
【請求項３１】
細胞がバイオリアクター内のマトリクスに播種される、請求項１〜６のいずれかの細胞の培養方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月15日(2004.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報のパケットを通信するために、ラベルスイッチング・プロトコルを利用したリング
・ネットワーク内における２個のラベルスイッチルータ（ＬＳＲ）の間でラベルスイッチ
ングされたパス（ＬＳＰ）を保護する方法であって、前記リング・ネットワーク内の各Ｌ
ＳＲが、それぞれのリンクによって、右側ネイバーＬＳＲおよび左側ネイバーＬＳＲと接
続しており、前記方法が、
前記リング・ネットワーク内の第１ネイバーＬＳＲと第２ネイバーＬＳＲの間でワーキ
ングＬＳＰを識別し、前記ワーキングＬＳＰが、前記リング・ネットワーク周囲の第１方
向を有し；
前記ワーキングＬＳＰが利用している前記リンクに故障が生じた場合に、前記第１ネイ
バーＬＳＲと第２ネイバーＬＳＲ間でパケットを通信するために、前記第１ネイバーＬＳ
Ｒと第２ネイバーＬＳＲの間に保護ＬＳＰを確立し、前記保護ＬＳＰが前記リング・ネッ
トワークを使用し、前記第１方向と反対の方向を有し；
前記ワーキングＬＳＰが利用している前記リンクの故障に応じて、前記ワーキングＬＳ
Ｐから前記保護ＬＳＰへパケットをスイッチングする方法。
【請求項２】
さらに、前記パケットが前記保護ＬＳＰをトラバースした後に、前記保護ＬＳＰから再
び前記ワーキングＬＳＰへパケットをスイッチングする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
さらに、前記パケットが前記保護ＬＳＰをトラバースした後に、前記保護ＬＳＰからネ
クストホップ・ワーキングＬＳＰへパケットをスイッチングする、請求項１に記載の方法
。
【請求項４】
前記ワーキングＬＳＰから前記保護ＬＳＰへのパケットのスイッチングに、前記パケッ
トの存続時間（ＴＴＬ）値を調整して、前記保護ＬＳＰに沿ったＬＳＲの数と合わせるこ
とが含まれる、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ＴＴＬ値の調整に、前記ＴＴＬ値へのＮの追加が含まれ、この場合、Ｎは、前記保
護ＬＳＰに沿ったＬＳＲの数の関数である、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
ラベルスイッチング・プロトコルを利用したリング・ネットワーク内における２個のラ
ベルスイッチ・ルータ（ＬＳＲ）間でラベルスイッチングされたパス（ＬＳＰ）を保護し
、前記リング・ネットワーク内のＬＳＲ間で情報のパケットを通信するシステムであって
、前記リング・ネットワーク内の各ＬＳＲが、それぞれのリンクによって、右側ネイバー
ＬＳＲと左側ネイバーＬＳＲと接続しており、前記リング・ネットワーク内の各ＬＳＲが
、
ラベルスイッチング・モジュールを備え、該ラベルスイッチング・モジュールが、ＬＳ
Ｒに関連しており、前記ＬＳＲとネイバーＬＳＲの間のワーキングＬＳＰを識別するもの
であり、また、前記ワーキングＬＳＰが、前記リング・ネットワーク周囲の第１方向を有
し；
さらに、故障保護モジュールを備え、前記故障保護モジュールが；
前記ＬＳＲと前記ネイバーＬＳＲの間に保護ＬＳＰを確立し、前記ワーキングＬＳＰが
利用している前記リンクに故障が生じた場合に、前記保護ＬＳＰにより、前記ＬＳＲと前
記ネイバーＬＳＲの間でパケットの通信が可能になり、前記保護ＬＳＰが前記リング・ネ
ットワークを使用し、前記第１方向とは反対の方向を有し；
前記ワーキングＬＳＰが利用している前記リンクの故障に応じて、前記ワーキングＬＳ
Ｐから前記保護ＬＳＰへパケットをスイッチングするシステム。
【請求項７】
前記パケットが前記保護ＬＳＰをトラバースした後に、前記故障保護モジュールが、前
記保護ＬＳＰから再び前記ワーキングＬＳＰへパケットをスイッチングするための論理を
含む、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記故障保護モジュールが、前記保護ＬＳＰからネクストホップ・ワーキングＬＳＰへ
パケットをスイッチングするための論理を含む、請求項６に記載のシステム。
【請求項９】
前記ワーキングＬＳＰから前記保護ＬＳＰへのパケットのスイッチングに、前記保護Ｌ
ＳＰに沿ったＬＳＲの数と合わせるように、前記パケットのＴＴＬ値を調整することが含
まれる、請求項６に記載のシステム。
【請求項１０】
前記ＴＴＬ値の調整に、前記ＴＴＬ値へのＮの追加が含まれ、この場合、Ｎは、前記保
護ＬＳＰに沿ったＬＳＲの数の関数である、請求項９に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月7日(2005.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
・誘導器コイル（１７）を装着した全般的にＵ形状の磁気回路（１６）を備えた、少なくとも一つの誘導器部品（１５）を有する構造であって、この磁気回路の各アームの外側の個所の各々が、それ自身の誘導電極（１８，１９）を持ち、これらの誘導電極（１８，１９）の両方が、互いに同軸に構成されるとともに、両方向に移動できる能力を有する構造と、
・回路基板保持器と、
・多層プリント回路（１）の層群（２，３，４，５，６，７，８）を回路基板保持器に固定するための機器と、
・誘導器部品（１５）の誘導電極対（１８，１９）の間に、かつこれらの誘導電極に対して垂直に、この多層プリント基板の予備領域（１１）のグループ（１２）を配置するために構成された、回路基板保持器用の移動制御器と、
・誘導電極が予備領域に圧力を加える形で、誘導電極を予備領域（１１）のグループ（１２）と接触する位置に配置するために構成された、各誘導電極対（１８，１９）用の制御器と、
を有する請求項１に記載の方法のための装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この発明の対象である方法を実行するための装置は、以下に挙げた要素から構成される。
・誘導器コイルを有する全般的にＵ形状の磁気回路を持つ、少なくとも一つの誘導器部品を有する構造であって、この磁気回路の各アームの外側の個所の各々が、それ自身の誘導電極を持ち、これらの誘導電極の両方が、互いに同軸に配置されるとともに、両方向に移動できる能力を有する構造、
・回路基板保持器、
・多層プリント回路の層群を回路基板保持器に装着するための機器、
・誘導器部品の誘導電極対の間に、かつ誘導電極対に対して垂直に、予備領域のグループを配置するために構成された、回路基板保持器用の移動制御器、
・誘導電極が予備領域のグループに圧力を加える形で、誘導電極を予備領域のグループと接触する位置に配置するために構成された、各誘導電極対用の制御器。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月27日(2004.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
本発明の更なる利点は、ランプをスイッチオフさせた後、例えば約１０〜３０秒冷却を継続した場合に、ガス（水銀）が比較的迅速に凝縮し、従って、内部ガス圧力が減少するということである。この場合、凝縮は電極上ではなくランプエンベロープ４３の内壁上に行われる。このことは、ランプがスイッチオフされてからほんの数秒後に比較的低い点弧電圧でランプを再点弧しうるようにする。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月17日(2004.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のパターンに配列された上の導体パッドと下の導体パッドの対を電気的に接続するインタポーザ組立体において、該インタポーザ組立体が、絶縁材料で形成された板と、複数の単一導体用通路と、溝穴と、各通路の上窪みおよび下窪みと、金属導体とを含み、
絶縁材料で形成された前記板が、平らな上面、該上面に平行に延びる平らな底面、及び前記上面と前記底面との間の均一な厚さを有し、
複数の前記単一導体用通路が、互いに間隔を空けて前記板に配列され、各導体用通路が、前記通路中に導体を支えるために前記板の厚さを通して延びる溝穴と、前記溝穴から延びかつ前記板の上面に開いている上窪みと、及び前記溝穴から延びかつ前記板の底面に開いている下窪みとを含み、
前記溝穴の各々が、前記溝穴の相対する端を規定する向かい合った端壁と、前記溝穴の端壁を連結する向かい合った上部側壁の対及び下部側壁の対と、前記上部側壁の対及び前記下部側壁の対の間にあり前記板の上面の方を向いている横壁とを含み、前記上部側壁の対が前記板の上面から延びかつ前記溝穴の上部分を規定し、前記下部側壁の対が前記板の底面から延びかつ前記溝穴の下部分を規定し、前記溝穴の前記上部分が前記溝穴の公称幅を規定し、さらに前記溝穴下部分が前記溝穴の減少した幅部分を規定し、
各通路の前記上窪みが、前記板の上面の方を向いた上床及び１対の向かい合った側壁を含み、前記上床が前記板の上面から内部方向に間隔を空けて配置されかつ前記通路溝穴から延び、前記側壁が前記板の上面から前記上床まで延在し、
各通路の前記下窪みが、前記板の底面の方を向いた下床及び１対の向かい合った側壁を含み、前記床が前記板の底面から内部方向に間隔を空けて配置されかつ前記通路溝穴から延び、前記側壁が前記板の底面から前記下床まで延在し、
前記導体用通路は、前記上窪みのパターンが前記上の導体パッドのパターンに対応し、かつ前記下窪みのパターンが前記下の導体パッドのパターンに対応するパターンで配列され、
前記金属導体が各通路に存在し、各導体が、前記溝穴に本体部分を、前記上窪みに上導体腕部を、前記下窪みに下半田接続導体腕部を含むインタポーザ組立体。
【請求項２】
前記溝穴の下端が前記板の底面に隣接し、各導体通路の前記下窪みの下床が、前記通路溝穴の下端から前記板の上面の方に向かって上向きに傾斜し、それにより、各通路の前記下端において、下導体腕部が前記板の底面に隣接して、その下に位置する導体パッドと半田接続を形成し、各半田接続部が前記下窪み中に位置するようになっている請求項１に記載されたインタポーザ組立体。
【請求項３】
各導体通路の前記上窪みの床が、前記通路溝穴から前記板の上面の方に向かって上向きに傾斜している請求項１または請求項２に記載されたインタポーザ組立体。
【請求項４】
各導体通路の前記横壁が、前記板の上面と平行であり、かつ前記通路の上窪みの上床に隣接している請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載されたインタポーザ組立体。
【請求項５】
各導体の前記上導体腕部が、前記導体本体と導体鼻部との間に延在する直線部分を含み、前記インタポーザ組立体が前記上の導体パッドに押し付けられると、前記直線部分が前記上の導体パッドに係合し、半田接続によりその直線部分と前記上の導体パッドとが接続され、その接続部が前記上窪み中に位置するようになっている請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載されたインタポーザ組立体。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月17日(2004.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発散レーザビームを発生するように構成された少なくとも一つのレーザ源と、
前記発散レーザビームを受光しウェハの縁の近くに集束させるように配置された集束レンズと、
前記ビームを受光し、かつ該ビームを第１の方向に発散するように配置されると共に、縞を発生するシリンドリカルレンズと、
前記ウェハの縁で反射したレーザ光を受光しセンサ出力信号を生成するように構成された検出器とからなり、
焦点位置が前記ウェハの縁から離れているウェハキャリア用マッピングセンサ。
【請求項２】
少なくとも一つのレーザ源の前に配置された少なくとも一つの光学的絞りからなる請求項１のセンサ。
【請求項３】
前記少なくとも一つのレーザ源がレーザダイオードチップを含み、前記少なくとも一つの光学的絞りが該チップから約３００ミクロン以内に配置されている請求項２のセンサ。
【請求項４】
前記少なくとも一つの光学的絞りが約２００ミクロン以下の直径の開口を含んでいる請求項２のセンサ。
【請求項５】
前記少なくとも一つのレーザ源が、少なくともＣＤＲＨ第１級およびＩＥＣ−８０６２５−１第１級の一つにおける最大許容パワーで動作するように構成された請求項１のセンサ。
【請求項６】
前記検出器の前に配置されて、該検出器の光収集量を増やすレンズをさらに備えた請求項１のセンサ。
【請求項７】
前記検出器の視野が、予期されるウェハのノッチのサイズより大きい請求項６のセンサ。
【請求項８】
レーザダイオードと、
前記レーザ源から約３００ミクロン以内に配置されており、その中に開口を有する光学的絞りとからなる、ウェハの縁に関するレーザ射影を提供するレーザ源アセンブリであって、
当該アセンブリから射出するほぼ全ての照明光が、前記開口を通過するアセンブリ。
【請求項９】
前記開口の直径が約２００ミクロンより小さい請求項８のアセンブリ。
【請求項１０】
ウェハの縁でレーザ縞を感知しそれを示す信号を提供するように構成された検出器と、
第２方向の高さより大きい第１方向の幅、中央部、および該中央部でピーク強度を有するレーザ縞を発生させるためのレーザ縞発生器とからなり、
前記縞が前記中央部から前記第２方向へ１ｍｍの間隔をおいた領域を含み、該領域の強度が前記ピーク強度の約１００００分の１以下であるウェハキャリア用マッピングセンサ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月25日(2004.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高い熱伝導性を有する絶縁セラミックのブロックでできた電極であって、該ブロックの少なくとも表面の一部は導電性である少なくとも一つの電極（３０，４０，５０，６０）を含むことを特徴とする真空管。
【請求項２】
セラミックのブロックが、２０℃で少なくとも１００ワット／ｍ・Ｋの熱伝導性を有することを特徴とする請求項１に記載の管。
【請求項３】
絶縁セラミックが、窒化アルミニウムを主にベースとすることを特徴とする請求項２に記載の管。
【請求項４】
電極が、高い熱伝導性を有する電気的絶縁セラミックのブロックからなり、該ブロックは導電セラミックの薄い表面層と共焼結されていることを特徴とする請求項２又は３に記載の管。
【請求項５】
表面が導電性であるセラミックが、窒化チタンか、炭化チタンか、炭化ケイ素か、又は炭化タングステン、或いは複数のこれらの物質の混合をベースとすることを特徴とする請求項４に記載の管。
【請求項６】
電極の、表面が導電性である部分が、タングステン又はモリブデンでできていることを特徴とする請求項２又は３に記載の管。
【請求項７】
電極を管の外部と接続するために、管の内部で電極の導電部分と片側が接触する導電セラミックでできた、電極及び／又は管の絶縁エンベロープの一部を形成する絶縁セラミックを貫通し、該絶縁セラミックと共焼結されている、ロッド（３２）を備えていることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一項に記載の管。
【請求項８】
電気的絶縁セラミックでできた外部エンベロープと、該エンベロープの全長にわたって該エンベロープと直接接触する液体を循環させる冷却手段とを有することを特徴とする請求項１ないし７のいずれか一項に記載の管。
【請求項９】
高い熱伝導性を有する電気的絶縁セラミックに導電セラミックを共焼結することによって、管のための、複合セラミックでできた少なくとも一つの電極を製造することを含むことを特徴する真空管製造方法。
【請求項１０】
導電セラミックが、絶縁セラミックの表面部分に、薄層として堆積されることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月27日(2004.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶ディスプレイ用のバックライト装置であって、このバックライト装置が、
赤、緑及び青の光を混合して白色光を生じる色混合用の光ファイバであって、赤、緑及び青の光を受けるようにした第１端部と白色光を生じるようにした第２端部とを有する当該色混合用の光ファイバと、
赤、緑及び青の光を前記色混合用の光ファイバの第１端部に指向させる手段と、
前記色混合用の光ファイバの第２端部から液晶ディスプレイに白色光を伝達する手段と
を具えるバックライト装置。
【請求項２】
請求項１に記載のバックライト装置において、赤、緑及び青の光を前記色混合用の光ファイバの第１端部に指向させる前記手段が、赤、緑及び青の光を個々の光源で発生させる手段を有しているバックライト装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のバックライト装置において、赤、緑及び青の光を前記色混合用の光ファイバの第１端部に指向させる前記手段が、更に、赤、緑及び青の光の個々の光源の各々により発生される赤、緑及び青の光を、混合されていない赤、緑及び青の光として色混合用の光ファイバの第１端部に集合させて結合する手段を有しているバックライト装置。
【請求項４】
請求項３に記載のバックライト装置において、赤、緑及び青の光源からの赤、緑及び青の光を色混合用の光ファイバの第１端部に集合させて結合する前記手段が入射結合光学系を有しているバックライト装置。
【請求項５】
請求項３に記載のバックライト装置において、赤、緑及び青の光源からの赤、緑及び青の光を色混合用の光ファイバの第１端部に集合させて結合する前記手段が、赤、緑及び青の光源からの赤、緑及び青の光を、混合されていない赤、緑及び青の光として色混合用の光ファイバの第１端部に結合させる単色光結合用の光ファイバを有しているバックライト装置。
【請求項６】
請求項５に記載のバックライト装置において、前記単色光結合用の光ファイバの各々が色混合用の光ファイバの第１端部に接合された出力端を有し、これら単色光結合用の光ファイバの出力端の合成領域が前記色混合用の光ファイバの第１端部の領域よりも小さく、これら単色光結合用の光ファイバの出力端の合成領域を越えて延在する色混合用の光ファイバの第１端部の領域が、色混合用の光ファイバ内に戻すように光を反射させる鏡面を有しているバックライト装置。
【請求項７】
請求項１に記載のバックライト装置において、このバックライト装置が更に、白色光を液晶ディスプレイ中に案内する光ガイドを有しているバックライト装置。
【請求項８】
請求項１に記載のバックライト装置において、このバックライト装置が更に、液晶ディスプレイからの白色光を反射させるリフレクタを有しているバックライト装置。
【請求項９】
請求項１に記載のバックライト装置において、このバックライト装置が更に、白色光を液晶ディスプレイ中に分布させる第１の光分布ロッドを有しているバックライト装置。
【請求項１０】
請求項９に記載のバックライト装置において、前記第１の光分布ロッドには色混合用の光ファイバの第２端部が直接取付けられているバックライト装置。
【請求項１１】
請求項９に記載のバックライト装置において、このバックライト装置が更に、色混合用の光ファイバの第２端部と第１の光分布ロッドとの間に動作的に取付けられて、白色光を色混合用の光ファイバから第１の光分布ロッドへ結合させる光結合用の第１の光ファイバを有しているバックライト装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載のバックライト装置において、前記第１の光ファイバが、色混合用の光ファイバの第２端部に接合された入力端を有し、この入力端の領域は色混合用の光ファイバの第２端部の領域よりも大きく、色混合用の光ファイバの第２端部の領域を越えて延在する第１の光ファイバの入力端の領域は、この第１の光ファイバ内に戻すように光を反射させる鏡面を有しているバックライト装置。
【請求項１３】
請求項１１に記載のバックライト装置において、このバックライト装置が第２の光分布ロッドと、光結合用の第２の光ファイバとを有し、この第２の光ファイバは、色混合用の光ファイバの第２端部と前記第２の光分布ロッドとの間に動作的に取付けられて白色光を色混合用の光ファイバからこの第２の光分布ロッドに結合するようになっているバックライト装置。
【請求項１４】
請求項１０に記載のバックライト装置において、このバックライト装置が第２の光分布ロッドと、光結合用の第２の光ファイバとを有し、この第２の光ファイバは、第１及び第２の光分布ロッド間に動作的に取付けられて白色光を第１の光分布ロッドから第２の光分布ロッドに結合するようになっているバックライト装置。
【請求項１５】
請求項１２に記載のバックライト装置において、光結合用の第１及び第２の光ファイバの各々が色混合用の光ファイバの第２端部に接合された入力端を有し、光結合用のこれら第１及び第２の光ファイバの入力端の合成領域を色混合用の光ファイバの第２端部の領域よりも大きくし、色混合用の光ファイバの第２端部の領域を越えて延在する光結合用のこれら第１及び第２の光ファイバの入力端の領域が、光結合用のこれら第１及び第２の光ファイバ内に戻すように光を反射させる鏡面を有するようにしたバックライト装置。
【請求項１６】
液晶ディスプレイ用のバックライト装置において、このバックライト装置が、
液晶ディスプレイのバックライト用の光ガイドと、
この光ガイドに取付けられて光をこの光ガイド内に分布させる光分布ロッドと、
赤、緑及び青の光を混合して白色光を生じる色混合用の光ファイバであって、赤、緑及び青の光を受けるようにした第１端部と白色光を生じるようにした第２端部とを有する当該色混合用の光ファイバと、
赤、緑及び青の光を前記色混合用の光ファイバの第１端部に指向させる手段と、
前記色混合用の光ファイバの第２端部から前記光分布ロッドに白色光を伝達する手段と
を具えるバックライト装置。
【請求項１７】
請求項１６に記載のバックライト装置において、前記色混合用の光ファイバの第２端部から前記光分布ロッドに白色光を伝達する前記手段が、色混合用の光ファイバの第２端部を前記光分布ロッドに結合する手段を有しているバックライト装置。
【請求項１８】
請求項１６に記載のバックライト装置において、このバックライト装置が更に、色混合用の光ファイバの第２端部と光分布ロッドとの間に動作的に取付けられて、白色光を色混合用の光ファイバから光分布ロッドへ結合させる光結合用の光ファイバを有しているバックライト装置。
【請求項１９】
請求項１６に記載のバックライト装置において、赤、緑及び青の光を前記色混合用の光ファイバの第１端部に指向させる前記手段が更に、個々の光源で赤、緑及び青の光を発生させる手段と、赤、緑及び青の光を赤、緑及び青の個々の光源から混合されていない赤、緑及び青の光として色混合用の光ファイバの第１端部に結合させる単色光結合用の光ファイバとを有しているバックライト装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月29日(2004.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
図７Ａ−７Ｅは、図３Ａの光源を用いた更に別の例示的な走査シーケンスを示す。この例示的な例では、１つの横列における各三組みにおいて違うＬＥＤが点灯される。この場合、点灯ＬＥＤの移動は、光源３００の縦列内で起きる。より具体的には、ＬＥＤ５１０ａは、光源３００の第１の横列及び第１の縦列で点灯され、ＬＥＤ５１０ｃは、光源３００の第３の横列と第３の（最後の）縦列で点灯されると示される。図７Ｂは、点灯ＬＥＤ構成における次の段階を示す。この例では、ＬＥＤ５１０ａは、光源３００の第１の横列と第３の（最後の）縦列で点灯されると示される。図７Ｃは、点灯ＬＥＤ構成の更に次の段階を示す。この例では、点灯５１０ａは、光源３００の第１の横列と第２の縦列に位置付けられ、ＬＥＤ５１０ｃは、光源３００の第３の横列と第１の横列に位置付けられる。図７Ｅ及び図７Ｅは、点灯ＬＥＤの移動パターンを更に示す。これらの例では、ＬＥＤ５１０ａは、それぞれ、第１の縦列と、次に、最後の縦列に示される。従って、斜めの着色光のバー又はストライプが、図３Ｃ及び３Ｄに示す光弁３５０上に投影される。当然ながら、着色光の垂直のストライプは、光源３００の縦列内の同様の色のＬＥＤを選択且つ移動させることによって出力することができる。複数のＬＥＤを選択して、様々な光弁又は光学的要件に応じて、幅広の又は細い着色光のバーを有し得る。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３Ａ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３Ａ】
2005513582.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５Ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５Ｂ】
2005513582.tif 000002
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５Ｄ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５Ｄ】
2005513582.tif 000003
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５Ｅ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５Ｅ】
2005513582.tif 000004
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６Ａ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６Ａ】
2005513582.tif 000005
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６Ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６Ｂ】
2005513582.tif 000006
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６Ｃ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６Ｃ】
2005513582.tif 000007
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７Ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７Ｂ】
2005513582.tif 000008
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７Ｃ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７Ｃ】
2005513582.tif 000009
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月30日(2005.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
イベント処理サーバ１００は、この実施形態において、図１に示したように相関エンジン１４５構成要素を含み、電子ファイル記憶装置１５５のデータを処理して、モニタされたアクティビティを予めプログラムされた組み合わせ及び時間フレームと比較することによって、ノードＡ及びＢ上のアクションが、有害な可能性のあるアクティビティを表すことを判断する。ノードＤ及びＥ上で走るイベント・エージェント４５Ｄ及び４５Ｅは、これらの通知を受信し、それぞれの参照モニタ２５Ｄ及び２５Ｅに命令を送信して、それぞれ４１Ｄ及び４１Ｅで管理ポリシを更新する。幾つかの実施形態において、イベント・エージェント４５Ａ及び４５Ｂは、これらの通知も受信し、参照モニタ２５Ａ及び２５Ｂに命令を送信して、それぞれ４０Ａ及び４０Ｂで管理ポリシを更新する。他の選択可能な実施形態において、命令は、あるノードに特有の管理ポリシ変更、特定のノードの隔離、ネットワーク若しくはファイアウォールパラメータの調整、又は、他の命令を含み得る。例示した実施形態において、参照モニタ２５Ｄ及び２５Ｅは、更新された管理ポリシを組み込むことで、後続のネットワーク要求が、それぞれ１０Ｄ及び１０Ｅでアプリケーション１７Ｄ及び１８Ｅに到着する時、システム資源３５Ｄ及び３５Ｅに対する要求が、拒否される（図３において‘Ｘ’で示す）。
このように、イベント処理サーバ１００は、組み合わせて考慮した場合、複数のワークステーションに生じるアクティビティが、悪質な又は有害な可能性のあるイベントを表すことを見分け、また、命令を送信して、リアルタイムに、そのアクティビティがネットワーク上の１つ又は複数の他のノードに影響を及ぼさないようにする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明の少なくとも１つの実施形態の側面を示すシステム構成要素の相互関係を表す機能ブロック図。
【図２】本発明の少なくとも１つの他の実施形態における側面を示すシステム構成要素の相互関係を表す機能ブロック図。
【図３Ａ】本発明の少なくとも第３の実施形態の側面を示すシステム構成要素の相互
関係を表す機能ブロック図。
【図３Ｂ】本発明の少なくとも第３の実施形態の側面を示すシステム構成要素の相互関係を表す機能ブロック図。
【図４】本発明の実施形態の側面を実現し得る例示のコンピュータシステムのブロック図。
【図５】本発明の実施形態の側面を実現し得る例示のコンピュータシステム構成要素を表すブロック図。
【図６】本発明の少なくとも第４の実施携帯の側面を示すシステム構成要素の相互関係を表すブロック図。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2005513591.tif 000001
【図２】
2005513591.tif 000002
【図３Ａ】
2005513591.tif 000003
【図３Ｂ】
2005513591.tif 000004
【図４】
2005513591.tif 000005
【図５】
2005513591.tif 000006
【図６】
2005513591.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月12日(2004.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
前記製品は、携帯通信端末であることを特徴とする請求項１１または１２に記載の製品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
第２のパーツ３０は、底板３２に作られた穴を通じて突き出るような形状のフック３３を備える。底板が図６ａおよび６ｂに示される位置に保持される限りは、フック３３は、パーツ３０に連結された底板３２と、それと同時にパーツ３０に連結されたフック３１とを保持する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月13日(2004.8.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一つの設定された高温ガスフロー方向を持つ、タービンエンジン、特にガスタービンに対する高温ガス流路構造体であって、この高温ガス流路構造体は、基本的に円周方向に延びるリング形状またはリングセグメント形状の横断面を有し、この構造体は、冷却側と、動作時に高温ガス（１２）が溢れる高温ガス側とを有し、この高温ガス流路構造体は、更に浸出冷却のために実現された少なくとも一つのガスを通す部材（２）と、少なくとも一つのガスを通さない部材（８）とを有し、その際このガスを通す部材とこのガスを通さない部材は、高温ガスが流れる方向に対して相異なる位置に配置されており、その際このガスを通さない部材は、このガスを通さない部材から、この冷却側に間隔を空けて配置された衝突冷却部材（１７）で衝突冷却される形で実現されており、その際この構造体の冷却側には、衝突冷却投入部（１７）からガスを通す部材（２）の冷却側まで通じる冷却剤流路（９，５）が構成されている構造体において、
この構造体は、少なくとも一つの区分壁（２４）を有し、これらの区分壁は、この冷却剤流路を、円周方向に対して、流体を分離された形のセグメント（２６）に区分するものであることを特徴とする構造体。
【請求項２】
特に円周方向に対して、複数の個別のガスを通す部材が、並んで配置されていることを特徴とする請求項１に記載の構造体。
【請求項３】
各セグメント（２６）には、少なくとも一つの個別のガスを通す部材が、配置されていることを特徴とする請求項２に記載の構造体。
【請求項４】
当該のガスを通す部材が、近接して密閉するための構造の密閉部材であることを特徴とする請求項１から３までのいずれか一つに記載の構造体。
【請求項５】
ガスを通さない部材（８）には、羽根の平坦部（１０）が配置されていることを特徴とする請求項１から４までのいずれか一つに記載の構造体。
【請求項６】
ガスを通さない部材（８）が、高温ガスの流れる方向（１２）に対して、ガスを通す部材（２）の上流に配置されていることを特徴とする請求項１から５までのいずれか一つに記載の構造体。
【請求項７】
区分壁（２４）が、この構造体上に配置された羽根の平坦部（１０）の翼弦に対して、ほぼ並行に延びることを特徴とする請求項５に記載の構造体。
【請求項８】
当該のガスを通さない部材には、冷却剤開口部が配置されており、その開口部は、ガスを通す部材の上流で、高温ガス側と合流することを特徴とする請求項１から７までのいずれか一つに記載の構造体。
【請求項９】
当該の構造体が、円周方向に対して並んで配置された若干数の基礎構造体から構成されることを特徴とする請求項１から８までのいずれか一つに記載の構造体。
【請求項１０】
請求項１から９までのいずれか一つに記載の少なくとも一つの構造体を有するタービンエンジン、特にガスタービンにおいて、ガスを通す部材（２）が、対向して存在する形で配置された羽根のリム部（１１，７，７ａ）を近接して密閉するための、周りを取り囲む形のリングを形成することを特徴とするタービンエンジン。
【請求項１１】
ガスを通さない部材（８）が、高温ガスフロー（１２）の流れる方向に対して、ガスを通す部材（２）の上流に配置された、周りを取り囲む形のリングを形成することを特徴とする請求項１０に記載のタービンエンジン。
【請求項１２】
ガスを通さない部材（８）が、衝突冷却される蓄熱セグメントであることを特徴とする請求項１０または１１に記載のタービンエンジン。
【請求項１３】
ガスを通さない部材（８）が、羽根の平坦部（１０）を支持することを特徴とする請求項１０から１２までのいずれか一つに記載のタービンエンジン。
【請求項１４】
当該の構造体が、タービンエンジンのステーター（１３）に配置されることを特徴とする請求項１０から１３までのいずれか一つに記載のタービンエンジン。