(57)【要約】本発明は、不良を発生することなく額縁領域近傍における表示品位の向上が可能である液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置を提供する。本発明は、一対の対向する基板と、基板間に設けられた液晶層と、基板の少なくとも一方の液晶層側の表面に設けられた配向膜とを備え、かつ画素内にドメインを２以上有する液晶表示装置の製造方法であって、上記製造方法は、複数の透光部が遮光領域内に形成された第一マスク部と、第一マスク部における透光部の形態とは異なる形態で複数の透光部が遮光領域内に形成された第二マスク部とが設けられたフォトマスクを用い、第二マスク部を介して額縁領域の配向膜を露光するとともに、第一マスク部を介して表示領域の配向膜を露光する露光工程を含む液晶表示装置の製造方法である。
2008136155.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の対向する基板と、基板間に設けられた液晶層と、基板の少なくとも一方の液晶層側の表面に設けられた配向膜とを備え、かつ画素内にドメインを２以上有する液晶表示装置の製造方法であって、
該製造方法は、複数の透光部が遮光領域内に形成された第一マスク部と、第一マスク部における透光部の形態とは異なる形態で複数の透光部が遮光領域内に形成された第二マスク部とが設けられたフォトマスクを用い、第二マスク部を介して額縁領域の配向膜を露光するとともに、第一マスク部を介して表示領域の配向膜を露光する露光工程を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記露光工程は、複数の透光部が遮光領域内に形成されたマスク部と、マスク部における透光部よりも細かい複数の透光部が遮光領域内に形成されたマスク微細部とが設けられたフォトマスクを用い、マスク微細部を介して額縁領域の配向膜を露光するとともに、マスク部を介して表示領域の配向膜を露光することを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記フォトマスクは、互いに平行である複数のスリットが遮光領域内に一定のピッチで繰り返し形成されたストライプパターンを有するマスク部と、マスク部におけるスリットと平行であり、かつマスク部におけるスリットの幅及びピッチよりも小さい幅及びピッチで複数のスリットが遮光領域内に繰り返し形成されたストライプパターンを有するマスク微細部とが設けられることを特徴とする請求項２記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記露光工程は、互いに平行である複数のスリットが遮光領域内に一定のピッチで繰り返し形成されたストライプパターンを有するマスク部と、マスク部におけるスリットの配列方向と異なる配列方向に複数のスリットが遮光領域内に一定のピッチで繰り返し形成されたストライプパターンを有するマスク額縁部とが設けられたフォトマスクを用い、マスク額縁部を介して額縁領域の配向膜を露光するとともに、マスク部を介して表示領域の配向膜を露光することを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記マスク額縁部は、マスク部におけるスリットに対して直交する方向に複数のスリットが遮光領域内に繰り返し形成されたストライプパターンを有することを特徴とする請求項４記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記マスク額縁部は、マスク部におけるスリットに対して斜め方向に複数のスリットが遮光領域内に繰り返し形成されたストライプパターンを有し、
前記マスク額縁部におけるスリットは、マスク部におけるスリットのピッチと同じ方向において同じ大きさのピッチを有することを特徴とする請求項４記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記露光工程は、複数の透光部が遮光領域内に形成されたマスク部と、マスク部における透光部のパターンとは異なるパターンで複数の透光部が遮光領域内に形成されたマスク額縁部とが設けられたフォトマスクを用い、マスク額縁部を介して額縁領域の配向膜を露光するとともに、マスク部を介して表示領域の配向膜を露光することを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記マスク部は、互いに平行である複数のスリットが遮光領域内に一定のピッチで繰り返し形成されたストライプパターンを有し、
前記マスク額縁部は、複数のドットが遮光領域内に一定のピッチで繰り返し形成された格子状パターンを有することを特徴とする請求項７記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記露光工程は、紫外線を基板面の法線に対して斜め方向から入射させることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記紫外線は、偏光紫外線であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記露光工程は、配向膜表面近傍における液晶分子が基板を平面視したときに互いに反平行方向に配向される２つの領域を各画素内に形成するように配向膜を露光することを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記配向膜は、両基板に設けられ、
前記液晶表示装置の製造方法は、各基板の配向膜表面近傍における液晶分子が基板を平面視したときに各画素内で互いに反平行方向に配向され、かつ一方の基板の配向膜表面近傍における液晶分子と他方の基板の配向膜表面近傍における液晶分子とが基板を平面視したときに互いに直交する方向に配向されるように、両基板の配向膜の露光と両基板の貼り合わせとを行うことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記液晶層は、負の誘電率異方性を有する液晶分子を含み、
前記配向膜は、液晶層に電圧が印加されないときに液晶分子を配向膜表面に対して垂直近くに配向させるものであることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記液晶層は、正の誘電率異方性を有する液晶分子を含み、
前記配向膜は、液晶層に電圧が印加されないときに液晶分子を配向膜表面に対して水平近くに配向させるものであることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１５】
一対の対向する基板と、基板間に設けられた液晶層と、基板の少なくとも一方の液晶層側の表面に設けられた配向膜とを備え、かつ画素内にドメインを２以上有する液晶表示装置であって、
該液晶表示装置は、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視したときに、隣接するドメイン間の第一方向に複数の第一暗線が一定のピッチで発生する表示領域と、第一暗線のピッチと異なるピッチで複数の第二暗線が第一方向に対して平行に発生する領域を含む額縁領域とを有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１６】
前記第二暗線は、第一暗線のピッチよりも小さいピッチで第一方向に対して平行に発生することを特徴とする請求項１５記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記液晶表示装置は、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視したときに、隣接するドメイン間の第一方向に複数の第一暗線が一定のピッチで発生するとともに、隣接するドメイン間の第一方向と直交する第二方向に複数の第三暗線が一定のピッチで発生する表示領域と、第一暗線のピッチよりも小さいピッチで複数の第二暗線が第一方向に対して平行に発生するとともに、第三暗線のピッチよりも小さいピッチで複数の第四暗線が第二方向に対して平行に発生する領域を含む額縁領域とを有することを特徴とする請求項１６記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
一対の対向する基板と、基板間に設けられた液晶層と、基板の少なくとも一方の液晶層側の表面に設けられた配向膜とを備え、かつ画素内にドメインを２以上有する液晶表示装置であって、
該液晶表示装置は、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視したときに、隣接するドメイン間に暗線が発生する表示領域及び額縁領域を有し、
該額縁領域は、表示領域におけるドメインの配置と異なって配置されたドメインを有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１９】
一対の対向する基板と、基板間に設けられた液晶層と、基板の少なくとも一方の液晶層側の表面に設けられた配向膜とを備え、かつ画素内にドメインを２以上有する液晶表示装置であって、
該液晶表示装置は、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視したときに、隣接するドメイン間に暗線が発生する表示領域及び額縁領域を有し、
該額縁領域は、表示領域におけるドメインの組み合わせと異なる組み合わせのドメインを有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２０】
一対の対向する基板と、基板間に設けられた液晶層と、基板の少なくとも一方の液晶層側の表面に設けられた配向膜とを備え、かつ画素内にドメインを２以上有する液晶表示装置であって、
該液晶表示装置は、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視したときに、隣接するドメイン間に暗線が発生する表示領域及び額縁領域を有し、
該額縁領域は、表示領域におけるドメインの形状と異なる形状のドメインを有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２１】
前記ドメインは、１画素あたり２以上、４以下設けられることを特徴とする請求項１５、１８、１９又は２０記載の液晶表示装置。
【請求項２２】
前記液晶層は、負の誘電率異方性を有する液晶分子を含み、
前記配向膜は、両基板に設けられ、かつ液晶層に電圧が印加されないときに液晶分子を配向膜表面に対して垂直近くに配向させるものであることを特徴とする請求項１５、１８、１９又は２０記載の液晶表示装置。
【請求項２３】
前記液晶表示装置は、基板を平面視したときに、一方の基板に設けられた配向膜表面近傍における液晶分子の配向方向と他方の基板に設けられた配向膜表面近傍における液晶分子の配向方向とが直交することを特徴とする請求項２２記載の液晶表示装置。
【請求項２４】
前記液晶層は、正の誘電率異方性を有する液晶分子を含み、
前記配向膜は、両基板に設けられ、かつ液晶層に電圧が印加されないときに液晶分子を配向膜表面に対して水平近くに配向させるものであることを特徴とする請求項１５、１８、１９又は２０記載の液晶表示装置。
【請求項２５】
前記液晶表示装置は、基板を平面視したときに、一方の基板に設けられた配向膜表面近傍における液晶分子の配向方向と他方の基板に設けられた配向膜表面近傍における液晶分子の配向方向とが直交することを特徴とする請求項２４記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置に関する。より詳しくは、優れた表示品位を実現することができるアクティブマトリクス型液晶表示装置及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、低消費電力の表示装置であり軽量化及び薄型化が可能なことから、テレビ、パーソナルコンピュータ用モニタ等に広く利用されている。液晶表示装置は、非自発光型の表示装置であり、通常、一対の基板（アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板）の間に狭持された液晶分子の配向を電気的に制御し、バックライトから供給される光量を調光することによって表示が可能となる。しかしながら、液晶表示装置は、一般的に、視野角特性に劣るといったデメリットがあり、視野角特性を向上するといった点で改善の余地があった。【０００３】
それに対して、液晶分子の傾斜方向を画素内で２以上の領域に分割する配向分割の技術が開発されている。この技術によれば、液晶層に電圧が印加された場合、液晶分子は、画素内で異なる方向に傾斜することから、視野角特性を改善することができる。なお、液晶分子の配向（傾斜）方向が異なる各領域は、ドメインとも呼ばれ、配向分割は、マルチドメインとも呼ばれる。【０００４】
配向分割が行われる液晶モードとしては、水平配向モードでは、マルチドメイン捩れネマチック（ＴＮ；Ｔｗｉｓｔ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、マルチドメイン複屈折制御（ＥＣＢ；Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モード、マルチドメイン光学補償複屈折（ＯＣＢ；Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モード等が挙げられる。一方、垂直配向モードでは、マルチドメイン垂直配向（ＭＶＡ；Ｍｕｌｔｉ−Ｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、マルチドメインＶＡＥＣＢ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  ＥＣＢ）モード、マルチドメインＶＡＨＡＮ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  Ｈｙｂｒｉｄ−ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、マルチドメインＶＡＴＮ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード等が挙げられ、各モードの液晶表示装置において、更なる広視野角化を実現するための様々な改良がなされている。【０００５】
配向分割を行う方法としては、ラビング法、光配向法等が挙げられる。ラビング法としては、ラビング領域と非ラビング領域とをパターン形成されたレジストにより分離した状態で配向膜のラビング処理を行う方法が提案されている。しかしながら、ラビング法は、ローラに巻き付けられた布で配向膜表面を擦ることによって配向処理を行う。したがって、ラビング法においては、布の毛、削れ片等のごみが発生したり、静電気によるスイッチング素子の破壊、特性シフト、劣化等の不良が発生したりすることがあった。【０００６】
一方、光配向法は、配向膜材料に光配向膜を用い、光配向膜に紫外線等の光を照射（露光）することによって、配向膜に配向規制力を生じさせる、及び／又は、配向膜の配向規制方向を変化させる配向方法である。したがって、光配向法は、配向膜の配向処理を非接触で行うことができるので、配向処理中における汚れ、ごみ等の発生を抑制することができる。また、所望のパターンを有する透光部が形成されたパターンフォトマスクを用いて配向膜の露光を行うことによって、配向膜面内の所望の領域に異なった条件で光照射を行うことができるので、所望のデザインを有するドメインを容易に形成することができる。【０００７】
光配向法に関する技術として、例えば、配向分割により形成される分割領域どうしの境界に沿って開口部を形成する技術（例えば、特許文献１参照。）、分割配向領域の境界部に、この分割配向領域とは液晶分子の配向状態が異なる領域を設ける技術（例えば、特許文献２参照。）が開示されている。【０００８】
また、液晶表示装置は、一般的に、画像（映像）表示を行う表示領域の周囲に位置する額縁領域（表示外領域）にバックライトの光を遮光するための遮光層が配置される。遮光層としては、通常、カラーフィルタ基板に形成された樹脂製のブラックマトリクス（ＢＭ）が用いられる。【０００９】
しかしながら近年、基板間の間隔（セル厚）を薄くし、液晶表示装置の応答速度を向上する観点から、ＢＭは、非常に薄く形成されることが求められる。その結果、ＢＭにおける光透過率が増加し、額縁領域において光漏れが発生し、表示領域で表示される画像に悪影響を及ぼすことがあった。したがって、従来の液晶表示装置において、額縁領域近傍における表示品位を向上するといった点で更に改善の余地があった。【００１０】
それに対して、額縁領域に形成された引き出し配線間に光シールド（Ｌｉｇｈｔ  ｓｈｉｅｌｄ  ｄｅｖｉｃｅ）を設けることによって、表示領域のエッジにおいて光漏れが発生するのを抑制する技術が開示されている（例えば、特許文献３参照。）。しかしながら、隣接する引き出し配線を被覆するように光シールドを配置した場合、一方の引き出し配線と光シールドとの層間に設けられた絶縁膜に成膜不良があり、これらの間でリークが発生してしまった際に、光シールドは、異なる信号が流れている他方の引き出し配線を被覆する構造となり、隣接する引き出し配線は、お互いの信号の影響を受けてしまう。また、隣接する２本の引き出し配線と光シールドとの間の２ヶ所で絶縁膜の成膜不良が発生した際は、隣接する引き出し配線間で光シールドを介して配線リークが発生してしまう。そのため、引き出し配線と光シールドとは、離して配置される必要がある。しかしながら、引き出し配線と光シールドとの間隔を離しすぎると、光シールドによりバックライトからの光を充分に遮光できないため、光漏れが生じ、表示品位が低下する。一方、引き出し配線と光シールドとの間隔を小さくすると、製造工程において引き出し配線の金属膜に膜残りが発生し、この膜残りが隣接する引き出し配線とリークしてしまった場合に、このリークの修正ができないことがある。すなわち、レーザにより該当部（膜残り）を切り離すことによってリークを修正しようとしても、光シールドも溶接してしまう可能性があり、この場合、修正不良となってしまう。
【特許文献１】特開２０００−２５７６４６号公報
【特許文献２】特開２００２−３１８０４号公報
【特許文献３】米国特許第６９７５３７７号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、不良を発生することなく額縁領域近傍における表示品位の向上が可能である液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、不良を発生することなく額縁領域近傍における表示品位の向上が可能である液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置について種々検討したところ、光配向法による配向分割を行った場合に、各ドメイン間に発生する暗線、すなわち暗い線に着目した。そして、従来においては、面内で一様な透光部のパターンを有するフォトマスクにより表示領域及び額縁領域に対応する配向膜を露光することから、表示領域において各ドメイン間に発生する暗線と、額縁領域において各ドメイン間に発生する暗線との形態（平面形状、ピッチ等）は、同様であることを見いだすとともに、表示領域のドメインを形成するのに適した透光部のパターンが形成された第一マスク部と、マスク部における透光部のパターンと異なる透光部のパターンが形成された第二マスク部とが設けられたフォトマスクを用い、第二マスク部を介して額縁領域の配向膜を露光するとともに、第一マスク部を介して表示領域の配向膜を露光することにより、表示領域における所望のドメイン形態（ドメインとドメイン間に発生する暗線との配置形態）を設定しつつ、額縁領域においてはドメイン間に発生する暗線の数及び／又は暗線の面積を従来に比べて異ならせる、より好適には大きくすることができ、その結果、額縁領域近傍における光漏れの発生を抑制できることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。【００１３】
すなわち、本発明は、一対の対向する基板と、基板間に設けられた液晶層と、基板の少なくとも一方の液晶層側の表面に設けられた配向膜とを備え、かつ画素内にドメインを２以上有する液晶表示装置の製造方法であって、上記製造方法は、複数の透光部が遮光領域内に形成された第一マスク部と、第一マスク部における透光部の形態とは異なる形態で複数の透光部が遮光領域内に形成された第二マスク部とが設けられたフォトマスクを用い、第二マスク部を介して額縁領域の配向膜を露光するとともに、第一マスク部を介して表示領域の配向膜を露光する露光工程を含む液晶表示装置の製造方法である。これにより、表示領域においては所望の表示特性を実現するようにドメインと、ドメイン間に発生する暗線との配置形態を適宜規定しつつ、一方、額縁領域においてはドメイン間に発生する暗線の数及び／又は暗線の面積を従来に比べて異ならせることができる。すなわち、額縁領域における光漏れの発生を抑制することができるような暗線を額縁領域に発生させることができる。また、額縁領域において所望の形態の暗線が発生するように第二マスク部の透光部のパターンを変更し、額縁領域の配向膜を露光するだけなので、本発明の液晶表示装置の製造方法において特に不良が発生することもない。したがって、不良を発生することなく額縁領域近傍における表示品位の向上が可能である液晶表示装置を製造することができる。
以下に本発明の液晶表示装置の製造方法を詳述する。【００１４】
上記配向膜は、露光により配向処理が行われる光配向膜であり、通常、光線の照射方向又は光線の照射領域の移動方向に応じて液晶の配向方向が変化する材料（光配向材料）により形成される。【００１５】
上記ドメインは、液晶層に印加される電圧変化にともなって変化する液晶層に含まれる液晶分子の傾斜方向が互いに異なる複数の領域である。【００１６】
上記第一マスク部は、通常、少なくとも表示領域に対応して設けられる。すなわち、上記第一マスク部は、表示領域と、額縁領域の一部とに対応して設けられてもよく、第一マスク部を介して表示領域と額縁領域の一部との配向膜を露光してもよい。一方、上記第二マスク部は、通常、額縁領域に対応して設けられる。【００１７】
本発明の液晶表示装置の製造方法において、透光部の形態が異なるとは、通常、透光部の大きさ、平面形状、配列方向及び配置（分布）の少なくとも１つが異なることである。なお、配置とは、ピッチ及び周期も含む。また、本明細書において、ピッチとは、通常、隣り合うある２つの物体（部材）の相対応する２点間の距離であり、透光部のピッチとは、通常、隣り合うある２つの透光部の相対応する２点間の距離である。【００１８】
また、第一マスク部の透光部のピッチと、第二マスク部の透光部のピッチとが異なる場合、上記製造方法は、複数の透光部が遮光領域内に一定のピッチで繰り返し形成された第一マスク部と、第一マスク部における透光部のピッチとは異なるピッチで複数の透光部が遮光領域内に繰り返し形成された第二マスク部とが設けられたフォトマスクを用い、第二マスク部を介して額縁領域の配向膜を露光するとともに、第一マスク部を介して表示領域の配向膜を露光する露光工程を含むことが好ましい。【００１９】
本発明の液晶表示装置の製造方法は、上記露光工程を有するものである限り、その他の工程により特に限定されるものではない。【００２０】
なお、本発明により製造される液晶表示装置は、一対の対向する基板と、基板間に設けられた液晶層と、基板の少なくとも一方の液晶層側の表面に設けられた配向膜とを備え、かつ画素内にドメインを２以上有する。本発明により製造される液晶表示装置の構成としては、このような配向分割されたマトリクス型液晶表示装置の標準的な構成要素を必須とするものである限り、その他の構成要素については特に限定されるものではない。【００２１】
また、本発明により製造される液晶表示装置は、アクティブマトリクス型液晶表示装置であることが好ましいが、単純マトリクス型液晶表示装置であってもよい。
本発明の液晶表示装置の製造方法における好ましい態様について以下に詳しく説明する。なお、以下に示す各種の態様は、適宜組み合わして用いられてもよい。【００２２】
液晶表示装置の表示品位及び応答性を向上する観点からは、上記配向膜は、両方の基板の液晶層側の表面に設けられることが好ましい。【００２３】
本発明の効果をより奏する観点からは、上記露光工程は、液晶層側の表面にそれぞれ配向膜が設けられた両方の基板に対して行うことが好ましい。【００２４】
上記露光工程は、複数の透光部が遮光領域内に形成されたマスク部と、マスク部における透光部よりも細かい複数の透光部が遮光領域内に形成されたマスク微細部とが設けられたフォトマスクを用い、マスク微細部を介して額縁領域の配向膜を露光するとともに、マスク部を介して表示領域の配向膜を露光する態様（以下、「第一態様」ともいう。）が好ましい。これにより、表示領域においては所望の表示特性を実現するようにドメインと、ドメイン間に発生する暗線との配置形態を適宜規定しつつ、一方、額縁領域においてはドメイン間に発生する暗線の数及び／又は暗線の面積を従来に比べて大きくすることができる。そのため、額縁領域における光漏れの発生をより容易かつ効果的に抑制することができる。また、額縁領域に暗線が多く発生するようにマスク微細部の透光部のパターンを変更し、額縁領域の配向膜を露光するだけなので、この形態によっても特に不良が発生することもない。【００２５】
なお、マスク微細部における透光部がマスク部における透光部よりも細かいとは、より具体的には、マスク微細部における透光部の大きさ及びピッチの少なくとも１つがマスク部における透光部の大きさ及び／又はピッチよりも小さいことが好ましく、マスク微細部における透光部の大きさ及びピッチがマスク部における透光部の大きさ及びピッチよりも小さいことがより好ましい。【００２６】
上記第一態様において、上記マスク部（第一マスク部）における複数の透光部の平面形状は特に限定されないが、各画素内を効率的に配向分割し、かつマスク部における透光部を精度よく形成する観点からは、複数の透光部は、略同一の平面形状であることが好ましく、平面形状が略矩形状であることがより好ましい。【００２７】
なお、本明細書において、「略同一」とは、本発明の各効果を奏する程度に同一であればよく、完全に同一であってもよいし、実質的に同一であってもよい。【００２８】
一方、上記第一態様において、上記マスク微細部（第二マスク部）における複数の透光部の平面形状は特に限定されず、所望の暗線形状に合わせて適宜設定することができる。【００２９】
上記第一態様において、上記マスク部における複数の透光部の配置形態は特に限定されないが、マトリクス状に配列された各画素内を効率的に配向分割し、かつフォトマスクの製造コストを抑制する観点からは、上記マスク部は、複数の透光部が遮光領域内に繰り返し形成された繰り返しパターンを有することが好ましく、略同一の平面形状を有する複数の透光部が遮光領域内に略一定のピッチで繰り返し形成された繰り返しパターンを有することがより好ましく、平面視略矩形状の複数の透光部が遮光領域内に略一定のピッチで繰り返し形成された繰り返しパターンを有することが更に好ましい。また、同様の観点からは、上記繰り返しパターンは、少なくとも表示領域に対応する領域の端から端まで形成されることが好ましい。このように、上記マスク部は、いわゆるストライプパターンを有することが好ましく、上記マスク部における透光部は、いわゆるスリットであることが好ましい。すなわち、上記マスク部は、複数のスリットが遮光領域内に繰り返し形成されたストライプパターンを有することが好ましく、略同一の平面形状を有する複数のスリットが遮光領域内に略一定のピッチで繰り返し形成されたストライプパターンを有することがより好ましく、平面視略矩形状の複数のスリットが遮光領域内に略一定のピッチで繰り返し形成されたストライプパターンを有することが更に好ましい。また、上記ストライプパターンは、少なくとも表示領域に対応する領域の端から端まで形成されることが好ましい。なお、マスク部における繰り返しパターンとしてはストライプパターンに特に限定されず、例えば、ドットパターン等であってもよい。【００３０】
なお、本明細書において、「略一定」とは、本発明の各効果を奏する程度に一定であればよく、完全に一定であってもよいし、実質的に一定であってもよい。【００３１】
また、上記第一態様において、マスク微細部における複数の透光部の配置形態は特に限定されないが、マスク微細部における透光部を精度よく形成するとともに、マスク部及びマスク微細部における透光部の設計をより容易にし、本発明の液晶表示装置の製造方法をより簡便に実施する観点からは、上記マスク微細部は、複数の遮光部が遮光領域内に繰り返し形成された繰り返しパターンを有することが好ましく、略同一の平面形状を有する複数の遮光部が遮光領域内に略一定のピッチで繰り返し形成された繰り返しパターンを有することがより好ましい。なお、マスク微細部における繰り返しパターンとしては特に限定されないが、ストライプパターン及びドットパターンが好適である。このように、上記マスク微細部は、いわゆるストライプパターンを有することが好ましく、上記マスク微細部における透光部は、いわゆるスリットであることが好ましい。また、上記マスク微細部は、いわゆる格子状パターンを有してもよく、上記マスク微細部における透光部は、いわゆるドットであってもよい。すなわち、上記マスク微細部は、複数のスリットが遮光領域内に繰り返し形成されたストライプパターンを有することが好ましく、略同一の平面形状を有する複数のスリットが遮光領域内に略一定のピッチで繰り返し形成されたストライプパターンを有することがより好ましい。また、上記マスク微細部は、複数のドットが遮光領域内に繰り返し形成された格子状パターンを有することが好ましく、略同一の平面形状を有する複数のドットが遮光領域内に略一定のピッチで繰り返し形成された格子状パターンを有することがより好ましい。【００３２】
また、このような観点からは、上記第一態様において、上記製造方法は、複数の遮光部が遮光領域内に略一定のピッチで繰り返し形成された繰り返しパターンを有するマスク部と、マスク部における透光部のピッチよりも小さいピッチ（より好適には、小さいピッチ及び大きさ）で複数の透光部が遮光領域内に略一定のピッチで繰り返し形成された繰り返しパターンを有するマスク微細部とが設けられたフォトマスクを用い、マスク微細部を介して額縁領域の配向膜を露光するとともに、マスク部を介して表示領域の配向膜を露光する露光工程を含むことが好ましく、また、上記フォトマスクは、互いに平行である複数のスリットが遮光領域内に一定（略一定）のピッチで繰り返し形成されたストライプパターンを有するマスク部と、マスク部におけるスリットと平行であり、かつマスク部におけるスリットの幅及びピッチよりも小さい幅及びピッチで複数のスリットが遮光領域内に繰り返し形成されたストライプパターンを有するマスク微細部とが設けられることが好ましいとも言える。【００３３】
なお、上記「一定（略一定）」とは、上記効果を奏する程度に一定であればよく、完全に一定であってもよいし、実質的に一定であってもよいし、略一定であってもよい。【００３４】
また、本明細書において、「平行」とは、本発明の各効果を奏する程度に一定であればよく、完全に平行であってもよいし、実質的に平行であってもよいし、略平行であってもよい。【００３５】
上記露光工程は、互いに平行である複数のスリットが遮光領域内に一定のピッチで繰り返し形成されたストライプパターンを有するマスク部と、マスク部におけるスリットの配列方向と異なる配列方向に複数のスリットが遮光領域内に一定のピッチで繰り返し形成されたストライプパターンを有するマスク額縁部とが設けられたフォトマスクを用い、マスク額縁部を介して額縁領域の配向膜を露光するとともに、マスク部を介して表示領域の配向膜を露光する態様（以下、「第二態様」ともいう。）が好ましい。これにより、マトリクス状に配列された各画素内を効率的に配向分割し、かつフォトマスクの製造コストを抑制しつつ、額縁領域においてドメイン間に発生する暗線の数及び／又は暗線の面積を従来に比べて大きくすることができる。そのため、額縁領域における光漏れの発生をより容易かつ効果的に抑制することができる。また、額縁領域に暗線が多く発生するようにマスク額縁部の透光部のパターンを変更し、額縁領域の配向膜を露光するだけなので、この形態によっても特に不良が発生することもない。【００３６】
なお、本明細書において、「一定」とは、本発明の各効果を奏する程度に一定であればよく、完全に一定であってもよいし、実質的に一定であってもよいし、略一定であってもよい。【００３７】
上記第二態様において、上記マスク部における複数のスリットの平面形状は特に限定されないが、各画素内を効率的に配向分割し、かつマスク部におけるスリットを精度よく形成する観点からは、マスク部における複数のスリットは、略同一の平面形状であることが好ましく、平面形状が略矩形状であることがより好ましい。また、同様の観点からは、上記マスク部におけるストライプパターンは、少なくとも表示領域に対応する領域の端から端まで形成されることが好ましい。【００３８】
上記第二態様において、上記マスク額縁部における複数のスリットの平面形状は特に限定されず、所望の暗線形状に合わせて適宜設定することができる。一方マスク額縁部におけるスリットを精度よく形成するとともに、マスク部及びマスク額縁部におけるスリットの設計をより容易にし、本発明の液晶表示装置の製造方法をより簡便に実施する観点からは、上記マスク額縁部における複数のスリットは、略同一の平面形状であることが好ましく、平面形状が略矩形状であることがより好ましい。また、同様の観点からは、上記マスク額縁部におけるストライプパターンは、少なくとも表示領域に対応する領域の端から端まで形成されることが好ましい。【００３９】
上記第二態様において、マスク額縁部の形態としては以下の形態が好適である。すなわち、上記第二態様において、上記マスク額縁部は、マスク部におけるスリットに対して直交する方向に複数のスリットが遮光領域内に繰り返し形成されたストライプパターンを有する形態が好ましく、また、マスク部におけるスリットに対して斜め方向に複数のスリットが遮光領域内に繰り返し形成されたストライプパターンを有し、上記マスク額縁部におけるスリットは、マスク部におけるスリットのピッチと同じ方向において同じ大きさのピッチを有する形態が好ましい。【００４０】
上記露光工程は、複数の透光部が遮光領域内に形成されたマスク部と、マスク部における透光部のパターンとは異なるパターンで複数の透光部が遮光領域内に形成されたマスク額縁部とが設けられたフォトマスクを用い、マスク額縁部を介して額縁領域の配向膜を露光するとともに、マスク部を介して表示領域の配向膜を露光する態様（以下、「第三態様」ともいう。）が好ましい。これにより、額縁領域においてドメイン間に発生する暗線の数及び／又は暗線の面積を従来に比べて大きくすることができる。そのため、額縁領域における光漏れの発生をより容易かつ効果的に抑制することができる。また、額縁領域に暗線が多く発生するようにマスク額縁部の透光部のパターンを変更し、額縁領域の配向膜を露光するだけなので、この形態によっても特に不良が発生することもない。【００４１】
上記第三態様において、上記マスク部における複数の透光部の平面形状は特に限定されないが、各画素内を効率的に配向分割し、かつマスク部におけるスリットを精度よく形成する観点からは、マスク部における複数の透光部は、略同一の平面形状であることが好ましく、平面形状が略矩形状であることがより好ましい。【００４２】
一方、上記第三態様において、上記マスク微細部における複数の透光部の平面形状は特に限定されず、所望の暗線形状に合わせて適宜設定することができる。【００４３】
上記第三態様において、上記マスク部における複数の透光部の配置形態は特に限定されないが、マトリクス状に配列された各画素内を効率的に配向分割し、かつフォトマスクの製造コストを抑制する観点からは、上記マスク部は、複数の遮光部が遮光領域内に繰り返し形成された繰り返しパターンを有することが好ましく、略同一の平面形状を有する複数の遮光部が遮光領域内に略一定のピッチで繰り返し形成された繰り返しパターンを有することがより好ましく、平面視略矩形状の複数の遮光部が遮光領域内に略一定のピッチで繰り返し形成された繰り返しパターンを有することが更に好ましい。また、同様の観点からは、上記繰り返しパターンは、少なくとも表示領域に対応する領域の端から端まで形成されることが好ましい。このように、上記マスク部は、いわゆるストライプパターンを有することが好ましく、上記マスク部における透光部は、いわゆるスリットであることが好ましい。すなわち、上記マスク部は、複数のスリットが遮光領域内に繰り返し形成されたストライプパターンを有することが好ましく、略同一の平面形状を有する複数のスリットが遮光領域内に略一定のピッチで繰り返し形成されたストライプパターンを有することがより好ましく、平面視略矩形状の複数のスリットが遮光領域内に略一定のピッチで繰り返し形成されたストライプパターンを有することが更に好ましい。また、上記ストライプパターンは、少なくとも表示領域に対応する領域の端から端まで形成されることが好ましい。なお、マスク部における繰り返しパターンとしてはストライプパターンに特に限定されず、例えば、ドットパターン等であってもよい。【００４４】
また、上記第三態様において、マスク額縁部における複数の透光部の配置形態は特に限定されないが、マスク額縁部における透光部を精度よく形成するとともに、マスク部及びマスク額縁部における透光部の設計をより容易にし、本発明の液晶表示装置の製造方法をより簡便に実施する観点からは、上記マスク額縁部は、複数の遮光部が遮光領域内に繰り返し形成された繰り返しパターンを有することが好ましく、略同一の平面形状を有する複数の遮光部が遮光領域内に略一定のピッチで繰り返し形成された繰り返しパターンを有することがより好ましい。なお、マスク額縁部における繰り返しパターンとしては、マスク部におけるパターンと異なれば特に限定されないが、ドットパターンが好適である。このように、上記マスク額縁部は、いわゆる格子状パターンを有することが好ましく、上記マスク額縁部における透光部は、いわゆるドットであることが好ましい。すなわち、上記マスク額縁部は、複数のドットが遮光領域内に繰り返し形成された格子状パターンを有することが好ましく、略同一の平面形状を有する複数のドットが遮光領域内に略一定のピッチで繰り返し形成された格子状パターンを有することがより好ましい。【００４５】
上記第三態様において、上記マスク部は、互いに平行である複数のスリットが遮光領域内に一定のピッチで繰り返し形成されたストライプパターンを有し、上記マスク額縁部は、複数のドットが遮光領域内に一定のピッチで繰り返し形成された格子状パターンを有することが好ましい。これにより、マトリクス状に配列された各画素内を効率的に配向分割し、かつフォトマスクの製造コストを抑制しつつ、額縁領域においてドメイン間に発生する暗線の数及び／又は暗線の面積を従来に比べて大きくすることができる。【００４６】
上記露光工程における露光方式としては、スキャン方式及びショット方式が好適である。すなわち、上記露光工程は、基板及び光源の少なくとも一方を走査しながら配向膜を露光する態様（スキャン方式）、又は、基板及び光源を固定した状態で配向膜を露光する態様（ショット方式）が好ましい。スキャン方式によれば、基板面内における照射光量の安定性に優れているため、配向方向、プレチルト角等の特性のばらつきが発生することを抑制することができる。また、露光装置が小型で済むため装置コストを下げることができる。更に、フォトマスクに不具合や破損が発生した場合におけるフォトマスクの交換のコストを安く抑えることができる。なお、スキャン方式においては、走査方向に透光部のピッチが異なる別のパネルが配置されている場合、そのパネルに合わせてマスクを交換しなければならないが、一方、ショット方式では、予めマスク内に複数のパネル用のパターンを形成しておくことにより、異なる種類のパネルを一度に露光することができる。なお、スキャン方式において光源を走査する場合には、光源とフォトマスクとは、通常、一体的に移動される。【００４７】
上記露光工程は、露光される配向膜の材料にもよるが、紫外線を基板面の法線に対して斜め方向から入射させることが好ましい。これにより、特別ではない配向膜を用いて、各液晶モードにおいて好適なプレチルト角を液晶層に容易に付与することができ、その結果、液晶分子の応答速度を向上させることができる。【００４８】
上記紫外線は、偏光紫外線であることが好ましい。このように、異方性の紫外線を配向膜に照射することによって、配向膜内の分子、すなわち配向膜を構成する分子の異方的な再配列又は化学反応を容易に誘起することができる。したがって、配向膜近傍の液晶分子の配向方向をより均一に制御することができる。なお、紫外線の波長範囲は、露光する配向膜の材料により適宜設定すればよい。【００４９】
上記露光工程は、配向膜表面近傍における液晶分子が基板を平面視したときに互いに反平行方向に配向される２つの領域を各画素内に形成するように配向膜を露光することが好ましい。これにより、マルチドメインＴＮモード、マルチドメインＥＣＢモード、マルチドメインＶＡＥＣＢ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モード、マルチドメインＶＡＨＡＮ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  Ｈｙｂｒｉｄ−ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、マルチドメインＶＡＴＮ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード等の広視野角の液晶表示装置を容易に実現することができる。なお、本明細書において、配向膜表面近傍は、配向膜表面であることが好ましい。【００５０】
また、上記配向膜は、両基板に設けられ、上記液晶表示装置の製造方法は、各基板の配向膜表面近傍における液晶分子が基板を平面視したときに各画素内で互いに反平行方向に配向され、かつ一方の基板の配向膜表面近傍における液晶分子と他方の基板の配向膜表面近傍における液晶分子とが基板を平面視したときに互いに直交する方向に配向されるように、両基板の配向膜の露光と両基板の貼り合わせとを行うことが好ましい。これにより、容易に１画素当たり４つのドメインを形成することができる。したがって、例えば上下左右の４つの方向といったように、互いに直交する４つの方向のいずれにおいても広視野角化できる。また、４つのドメインは、対称性に優れることから、互いに直交する４つの方向のいずれの視野角特性も同一にすることが可能となる。その結果、視野角依存性のない液晶表示装置を実現することができる。【００５１】
なお、本明細書において、「直交」とは、本発明の各効果を奏する程度の直交であればよく、完全な又は実質的に直交であってもよいし、略直交であってもよいが、上記形態においては、より具体的には、ＶＡＴＮモードの表示を実現できる程度に直交することが好ましい。【００５２】
更に、上記液晶層は、負の誘電率異方性を有する液晶分子を含み、上記配向膜は、液晶層に電圧が印加されないときに液晶分子を配向膜表面に対して垂直近くに配向させるもの（垂直配向膜）であることが好ましい。これにより、垂直配向モードの液晶表示装置を実現することが可能となる。【００５３】
なお、本明細書において、「垂直近く」とは、本発明の各効果を奏する程度に垂直であればよいが、具体的には、ＶＡＴＮモードの表示を実現できる程度の垂直であることが好ましく、より具体的には、液晶分子の長軸方向を配向膜表面の法線方向に対して０．１〜５°（より好適には、１〜２°）程度の角を有するように配向させることが好ましい。【００５４】
他方、上記液晶層は、正の誘電率異方性を有する液晶分子を含み、上記配向膜は、液晶層に電圧が印加されないときに液晶分子を配向膜表面に対して水平近くに配向させるもの（水平配向膜）であってもよい。これにより、水平配向モードの液晶表示装置を実現することが可能となる。【００５５】
なお、本明細書において、「水平近く」とは、本発明の各効果を奏する程度に水平であればよいが、具体的には、ＴＮモードの表示を実現できる程度の水平であることが好ましく、より具体的には、液晶分子の長軸方向を配向膜表面に対して０．１〜５°（より好適には、１〜２°）程度の角を有するように配向させることが好ましい。【００５６】
本発明はまた、本発明の液晶表示装置の製造方法により製造された液晶表示装置でもある。本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、額縁領域におけるドメイン間に発生する暗線の数及び／又は暗線の面積が従来に比べて異ならせる、より好適には大きくすることができる。その結果、額縁領域における光漏れの発生が抑制された液晶表示装置を製造することができる。【００５７】
本発明はまた、一対の対向する基板と、基板間に設けられた液晶層と、基板の少なくとも一方の液晶層側の表面に設けられた配向膜とを備え、かつ画素内にドメインを２以上有する液晶表示装置であって、上記液晶表示装置は、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視したときに、隣接するドメイン間の第一方向に複数の第一暗線が一定のピッチで発生する表示領域と、第一暗線のピッチと異なるピッチで複数の第二暗線が第一方向に対して平行に発生する領域を含む額縁領域とを有する液晶表示装置（以下、「本発明の第一の液晶表示装置」ともいう。）である。
以下に本発明の第一の液晶表示装置を詳述する。【００５８】
本発明の第一の液晶表示装置は、一対の対向する基板と、基板間に設けられた液晶層と、基板の少なくとも一方の液晶層側の表面に設けられた配向膜とを備え、かつ画素内にドメインを２以上有する。したがって、本発明の第一の液晶表示装置は、配向分割されたマトリクス型液晶表示装置に好適であり、優れた視野角特性を有する。【００５９】
なお、本発明の第一の液晶表示装置は、アクティブマトリクス型液晶表示装置であることが好ましいが、単純マトリクス型液晶表示装置であってもよい。【００６０】
上記液晶表示装置は、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視したときに、隣接するドメイン間の第一方向に複数の第一暗線が一定のピッチで発生する表示領域と、第一暗線のピッチと異なるピッチで複数の第二暗線が第一方向に対して平行に発生する領域を含む額縁領域とを有する。これにより、表示領域におけるドメイン間に発生する暗線よりも額縁領域におけるドメイン間に発生する暗線の数、すなわち暗い領域の面積を異ならせ（より好適には大きくし）、額縁領域における光漏れの発生を抑制することができる。また、額縁領域におけるドメイン間に発生する暗線の形態が変更されることによって、特に不良が発生することもない。したがって、不良を発生することなく額縁領域近傍における表示品位の向上が可能となる。【００６１】
なお、本明細書において、暗線とは、表示された階調に関わらず、液晶分子の配向状態に起因して発生する暗い線、いわゆるディスクリネーションラインであり、また、中間調以上の階調を表示し、かつ正面視（表示面法線方向から観察）したときに、遮光部材で遮光されなくとも当該中間調が表示された領域よりも暗い（輝度が小さい）線である。【００６２】
また、中間調とは、最低階調（黒）及び最高階調（白）を除く任意の階調を意味する。【００６３】
更に、中間調以上の階調とは、黒以外の階調（中間調及び最高階調）を意味し、好ましくは全階調を高低で二等分した場合の高い方の階調であり、より好ましくは最高階調（白）である。【００６４】
本発明の第一の液晶表示装置の構成としては、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素を含んでいても含んでいなくてもよく、特に限定されるものではないが、本発明の第一の液晶表示装置は、表示領域において、隣接するドメイン間に発生する暗線（以下、「ドメイン境界暗線」ともいう。）が、ＢＭ、金属配線等の遮光部材により遮光されていてもよい。この場合、上記液晶表示装置は、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視したときに、隣接するドメイン間の第一方向に一定のピッチで配置された複数の第一遮光部材を有する表示領域と、第一遮光部材のピッチと異なるピッチで複数の暗線が第一方向に対して平行に発生する領域を含む額縁領域とを有してもよく、また、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視したときに、隣接するドメイン間の第一方向に一定のピッチで発生する複数の第一暗線を遮光する複数の第一遮光部材を有する表示領域と、第一遮光部材のピッチと異なるピッチで複数の第二暗線が第一方向に対して平行に発生する領域を含む額縁領域とを有してもよい。【００６５】
本発明の第一の液晶表示装置を製造する方法としては特に限定されてないが、上述した本発明の液晶表示装置の製造方法が好適である。これにより、本発明の第一の液晶表示装置をより容易に実現することができる。また、この場合、本発明の第一の液晶表示装置における配向膜は、露光により配向処理が行われる光配向膜であり、光線の照射方向又は光線の照射領域の移動方向に応じて液晶の配向方向が変化する材料（光配向材料）により形成されることが好ましい。
本発明の第一の液晶表示装置における好ましい形態について以下に詳しく説明する。【００６６】
上記第二暗線は、第一暗線のピッチよりも小さいピッチで第一方向に対して平行に発生することが好ましい。これにより、表示領域におけるドメイン間に発生する暗線よりも額縁領域におけるドメイン間に発生する暗線の数、すなわち暗い領域の面積を大きくし、額縁領域における光漏れの発生を効果的に抑制することができる。【００６７】
上記液晶表示装置は、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視したときに、隣接するドメイン間の第一方向に複数の第一暗線が一定のピッチで発生するとともに、隣接するドメイン間の第一方向と直交する第二方向に複数の第三暗線が一定のピッチで発生する表示領域と、第一暗線のピッチよりも小さいピッチで複数の第二暗線が第一方向に対して平行に発生するとともに、第三暗線のピッチよりも小さいピッチで複数の第四暗線が第二方向に対して平行に発生する領域を含む額縁領域とを有することが好ましい。このように、直交する２方向に暗線が密に発生する領域を額縁領域が有することによって、額縁領域におけるドメイン間に発生する暗線の数、すなわち暗い領域の面積をより大きくし、額縁領域における光漏れの発生をより抑制することができる。【００６８】
なお、直交する２方向に暗線が密に発生する領域は、額縁領域のコーナー部に配置されることが好ましい。これにより、この形態をより容易に実現することができる。すなわち、上記液晶表示装置は、平面視方形状の表示領域と、表示領域の周囲に設けられた平面視帯状の額縁領域とを有し、上記表示領域は、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視したときに、隣接するドメイン間の第一方向に複数の第一暗線が一定のピッチで発生するとともに、隣接するドメイン間の第一方向と直交する第二方向に複数の第三暗線が一定のピッチで発生し、上記額縁領域は、第一暗線のピッチよりも小さいピッチで複数の第二暗線が第一方向に対して平行に発生するとともに、第三暗線のピッチよりも小さいピッチで複数の第四暗線が第二方向に対して平行に発生する領域をコーナー部に有することが好ましい。【００６９】
本発明はまた、一対の対向する基板と、基板間に設けられた液晶層と、基板の少なくとも一方の液晶層側の表面に設けられた配向膜とを備え、かつ画素内にドメインを２以上有する液晶表示装置であって、上記液晶表示装置は、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視したときに、隣接するドメイン間に暗線が発生する表示領域及び額縁領域を有し、上記額縁領域は、表示領域におけるドメインの配置と異なって配置されたドメインを有する液晶表示装置（以下、「本発明の第二の液晶表示装置」ともいう。）である。
以下に本発明の第二の液晶表示装置を詳述する。【００７０】
本発明の第二の液晶表示装置は、一対の対向する基板と、基板間に設けられた液晶層と、基板の少なくとも一方の液晶層側の表面に設けられた配向膜とを備え、かつ画素内にドメインを２以上有する。したがって、本発明の第二の液晶表示装置は、配向分割されたマトリクス型液晶表示装置に好適であり、優れた視野角特性を有する。【００７１】
なお、本発明の第二の液晶表示装置は、アクティブマトリクス型液晶表示装置であることが好ましいが、単純マトリクス型液晶表示装置であってもよい。【００７２】
上記液晶表示装置は、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視したときに、隣接するドメイン間に暗線が発生する表示領域及び額縁領域を有し、上記額縁領域は、表示領域におけるドメインの配置と異なって配置されたドメインを有する。これにより、表示領域におけるドメイン間に発生する暗線よりも額縁領域におけるドメイン間に発生する暗線の数及び／又は暗線の面積を異ならせ（より好適には大きくし）、額縁領域における光漏れの発生を抑制することができる。また、額縁領域におけるドメインの配置形態が変更されることによって、特に不良が発生することもない。したがって、不良を発生することなく額縁領域近傍における表示品位の向上が可能となる。【００７３】
本発明の第二の液晶表示装置の構成としては、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素を含んでいても含んでいなくてもよく、特に限定されるものではないが、本発明の第二の液晶表示装置は、本発明の第一の液晶表示装置の場合と同様に、表示領域において、隣接するドメイン間に発生する暗線（ドメイン境界暗線）が、ＢＭ、金属配線等の遮光部材により遮光されていてもよい。【００７４】
本発明の第二の液晶表示装置を製造する方法としては特に限定されてないが、上述した本発明の液晶表示装置の製造方法が好適である。これにより、本発明の第二の液晶表示装置をより容易に実現することができる。また、この場合、本発明の第二の液晶表示装置における配向膜は、露光により配向処理が行われる光配向膜であり、光線の照射方向又は光線の照射領域の移動方向に応じて液晶の配向方向が変化する材料（光配向材料）により形成されることが好ましい。【００７５】
本発明は更に、一対の対向する基板と、基板間に設けられた液晶層と、基板の少なくとも一方の液晶層側の表面に設けられた配向膜とを備え、かつ画素内にドメインを２以上有する液晶表示装置であって、上記液晶表示装置は、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視したときに、隣接するドメイン間に暗線が発生する表示領域及び額縁領域を有し、上記額縁領域は、表示領域におけるドメインの組み合わせと異なる組み合わせのドメインを有する液晶表示装置（以下、「本発明の第三の液晶表示装置」ともいう。）である。
以下に本発明の第三の液晶表示装置を詳述する。【００７６】
本発明の第三の液晶表示装置は、一対の対向する基板と、基板間に設けられた液晶層と、基板の少なくとも一方の液晶層側の表面に設けられた配向膜とを備え、かつ画素内にドメインを２以上有する。したがって、本発明の第三の液晶表示装置は、配向分割されたマトリクス型液晶表示装置に好適であり、優れた視野角特性を有する。【００７７】
なお、本発明の第三の液晶表示装置は、アクティブマトリクス型液晶表示装置であることが好ましいが、単純マトリクス型液晶表示装置であってもよい。【００７８】
上記液晶表示装置は、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視したときに、隣接するドメイン間に暗線が発生する表示領域及び額縁領域を有し、上記額縁領域は、表示領域におけるドメインの組み合わせと異なる組み合わせのドメインを有する。これにより、表示領域におけるドメイン間に発生する暗線よりも額縁領域におけるドメイン間に発生する暗線の数及び／又は暗線の面積を異ならせ（より好適には大きくし）、額縁領域における光漏れの発生を抑制することができる。また、額縁領域におけるドメインの配置形態が変更されることによって、特に不良が発生することもない。したがって、不良を発生することなく額縁領域近傍における表示品位の向上が可能となる。【００７９】
本発明の第三の液晶表示装置の構成としては、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素を含んでいても含んでいなくてもよく、特に限定されるものではないが、本発明の第三の液晶表示装置は、本発明の第一の液晶表示装置の場合と同様に、表示領域において、隣接するドメイン間に発生する暗線（ドメイン境界暗線）が、ＢＭ、金属配線等の遮光部材により遮光されていてもよい。【００８０】
本発明の第三の液晶表示装置を製造する方法としては特に限定されてないが、上述した本発明の液晶表示装置の製造方法が好適である。これにより、本発明の第三の液晶表示装置をより容易に実現することができる。また、この場合、本発明の第三の液晶表示装置における配向膜は、露光により配向処理が行われる光配向膜であり、光線の照射方向又は光線の照射領域の移動方向に応じて液晶の配向方向が変化する材料（光配向材料）により形成されることが好ましい。【００８１】
本発明はそして、一対の対向する基板と、基板間に設けられた液晶層と、基板の少なくとも一方の液晶層側の表面に設けられた配向膜とを備え、かつ画素内にドメインを２以上有する液晶表示装置であって、上記液晶表示装置は、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視したときに、隣接するドメイン間に暗線が発生する表示領域及び額縁領域を有し、上記額縁領域は、表示領域におけるドメインの形状と異なる形状のドメインを有する液晶表示装置（以下、「本発明の第四の液晶表示装置」ともいう。）である。
以下に本発明の第四の液晶表示装置を詳述する。【００８２】
本発明の第四の液晶表示装置は、一対の対向する基板と、基板間に設けられた液晶層と、基板の少なくとも一方の液晶層側の表面に設けられた配向膜とを備え、かつ画素内にドメインを２以上有する。したがって、本発明の第四の液晶表示装置は、配向分割されたマトリクス型液晶表示装置に好適であり、優れた視野角特性を有する。【００８３】
なお、本発明の第四の液晶表示装置は、アクティブマトリクス型液晶表示装置であることが好ましいが、単純マトリクス型液晶表示装置であってもよい。【００８４】
上記液晶表示装置は、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視したときに、隣接するドメイン間に暗線が発生する表示領域及び額縁領域を有し、上記額縁領域は、表示領域におけるドメインの形状と異なる形状のドメインを有する。これにより、額縁領域において光漏れの発生を抑制できるように、額縁領域におけるドメイン間に発生する暗線の形状を適宜設定することができる。したがって、額縁領域における光漏れの発生を抑制することができる。また、額縁領域におけるドメイン間に発生する暗線の形態が変更されることによって、特に不良が発生することもない。したがって、不良を発生することなく額縁領域近傍における表示品位の向上が可能となる。【００８５】
本発明の第四の液晶表示装置の構成としては、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素を含んでいても含んでいなくてもよく、特に限定されるものではないが、本発明の第四の液晶表示装置は、本発明の第一の液晶表示装置の場合と同様に、表示領域において、隣接するドメイン間に発生する暗線（ドメイン境界暗線）が、ＢＭ、金属配線等の遮光部材により遮光されていてもよい。【００８６】
本発明の第四の液晶表示装置を製造する方法としては特に限定されてないが、上述した本発明の液晶表示装置の製造方法が好適である。これにより、本発明の第四の液晶表示装置をより容易に実現することができる。また、この場合、本発明の第四の液晶表示装置における配向膜は、露光により配向処理が行われる光配向膜であり、光線の照射方向又は光線の照射領域の移動方向に応じて液晶の配向方向が変化する材料（光配向材料）により形成されることが好ましい。【００８７】
本発明の第一〜第四の液晶表示装置において、上記ドメインは、１画素あたり２以上、４以下設けられることが好ましく、１画素あたり４設けられることが更に好ましい。これにより、製造工程の複雑化を抑制しつつ、視野角特性に優れた液晶表示装置を実現できる。なお、ドメインが２つであると、表示画面において、例えば上下、左右のどちらかの方向は広視野角化することができるが、他方の方向の視野角特性を向上させることが困難である。一方、ドメインを４つにすることによって、例えば上下左右の４つの方向といったように、互いに直交する４つの方向のいずれにおいても広視野角化することができる。また、互いに直交する４つの方向のいずれの視野角特性もほぼ同一にすることが可能となる、すなわち、対称性に優れた視野角特性を実現することが可能となる。そのため、視野角依存性のない液晶表示装置を実現できる。なお、４つのドメインに配向分割した場合のドメインの配置形態としては特に限定されず、マトリクス状、目の字のようなストライプ状等が挙げられる。なお、ドメインを４つ以上にしても構わないが、製造プロセスが煩雑となる上、配向処理時間も長くなってしまう。また、４ドメインの配向分割とそれ以上の配向分割との間で視野角特性には実用上、それ程違いがないことが分かっている。【００８８】
本発明の第一〜第四の液晶表示装置において、上記液晶層は、負の誘電率異方性を有する液晶分子を含み、上記配向膜は、両基板に設けられ、かつ液晶層に電圧が印加されないときに液晶分子を配向膜表面に対して垂直近くに配向させるもの（垂直配向膜）であってもよい。これにより、垂直配向モードの液晶表示装置を実現することができる。【００８９】
本発明の第一〜第四の液晶表示装置において、上記液晶層は、正の誘電率異方性を有する液晶分子を含み、上記配向膜は、両基板に設けられ、かつ液晶層に電圧が印加されないときに液晶分子を配向膜表面に対して水平近くに配向させるもの（水平配向膜）であってもよい。これにより、水平配向モードの液晶表示装置を実現することができる。【００９０】
本発明の第一〜第四の液晶表示装置において、上記液晶表示装置は、基板を平面視したときに、一方の基板に設けられた配向膜表面近傍における液晶分子の配向方向と他方の基板に設けられた配向膜表面近傍における液晶分子の配向方向とが直交することが好ましい。これにより、マルチドメインＴＮモード又はマルチドメインＶＡＴＮモードの液晶表示装置を実現することができる。なお、ＶＡＴＮ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードとは、基板を平面視したときの互いの基板の配向処理方向が略直交する垂直配向膜を用いることにより、液晶層に電圧が印加されないときに、液晶分子が垂直配向され、かつツイスト配向された構造を有するモードである。【００９１】
なお、上記形態において、「直交」とは、より具体的には、ＶＡＴＮモードの表示を実現できる程度に直交することが好ましい。【００９２】
また、本発明の第一〜第四の液晶表示装置は、適宜組み合わされてもよく、更に、本発明の第一〜第四の液晶表示装置において説明した各種の形態は、適宜組み合わして用いられてもよい。
【発明の効果】
【００９３】
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、表示領域においては所望の表示特性を実現するようにドメインと、ドメイン間に発生する暗線との配置形態を適宜規定しつつ、一方、額縁領域においてはドメイン間に発生する暗線の数及び／又は暗線の面積を従来に比べて異ならせることができる。すなわち、額縁領域における光漏れの発生を抑制することができるような暗線を額縁領域に発生させることができる。また、額縁領域において所望の形態の暗線が発生するように第二マスク部の透光部のパターンを変更し額縁領域の配向膜を露光するだけなので、本発明の液晶表示装置の製造方法において特に不良が発生することもない。したがって、不良を発生することなく額縁領域近傍における表示品位の向上が可能である液晶表示装置を製造することができる。また、本発明の液晶表示装置によれば、特に不良を発生されることなく、額縁領域における光漏れの発生を抑制することができる。したがって、不良を発生することなく額縁領域近傍における表示品位の向上が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００９４】
以下に実施形態を掲げ、本発明を図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。【００９５】
（実施形態１）
図１は、実施形態１に係る液晶表示パネルを示す平面模式図である。
本実施形態の液晶表示パネル１００は、図１に示すように、基板面内において、平面視方形状の表示領域（有効表示エリア）３１と、表示領域３１の周囲に配置された平面視帯状の額縁領域（非表示領域、非有効表示エリア）３２とを有する。表示領域３１は、画像を表示する領域であり、マトリクス状に配列された複数の画素により構成される。一方、額縁領域３２は、画像を表示しない領域であり、表示領域３１の周辺領域に配置される。なお、表示領域３１は、各画素の周囲及び／又は内部に設けられる遮光領域を含むものである。また、液晶表示パネル１００は、額縁領域３２の周囲に、駆動ＩＣを接続するための複数の端子が設けられた端子領域（基板張出部）３３を有する。【００９６】
図２は、実施形態１に係る液晶表示パネルの表示領域における構成を示す断面模式図である。
本実施形態の液晶表示パネル１００は、図２に示すように、対向する一対の基板である第１基板１（例えばＴＦＴアレイ基板）及び第２基板２（例えばＣＦ基板）と、第１基板１及び第２基板２の間に設けられた液晶層３とを有する。また、第１基板１は、絶縁基板２６ａの液晶層３側に、絶縁基板２６ａ側から順に、液晶層３に駆動電圧を印加するための透明電極４ａ（画素電極）と、垂直配向膜５ａとを有する。また同様に、第２基板２は、絶縁基板２６ｂの液晶層３側に、絶縁基板２６ｂ側から順に、液晶層３に駆動電圧を印加するための透明電極４ｂ（共通電極）と、垂直配向膜５ｂとを有する。更に、第１基板１及び第２基板２の液晶層３とは反対側には、位相差板７ａ、７ｂ及び偏光板６ａ、６ｂが基板側からこの順に配置されている。なお、位相差板７ａ、７ｂは、設置しなくともよいが、広視野角を実現する観点からは、設置することが好ましい。また、位相差板７ａ、７ｂは、どちらか一方のみが配置されてもよい。【００９７】
液晶層３は、例えば誘電率異方性が負のネマチック液晶材料（ネガ型ネマチック液晶材料）を含有する。液晶層３内の液晶分子は、駆動電圧が液晶層３に印加されていないとき（電圧無印加時）には、垂直配向膜５ａ、５ｂの表面に対して略垂直方向に配向される。実際には、液晶分子は、このとき、垂直配向膜５ａ、５ｂの表面の法線方向に対して０．１°程度から数度程度、若干傾いて配向される。すなわち、液晶分子は、若干のプレチルト角（好ましくは、８５°以上、９０°未満）を有するように、垂直配向膜５ａ、５ｂにより配向されている。なお、本明細書において、プレチルト角とは、電圧無印加時において、基板面と、配向膜表面近傍の液晶分子３ｂの長軸方向とがなす角度を意味する。また、電圧無印加時において、基板を平面視したときの配向膜表面近傍の液晶分子３ｂが傾斜している方向をプレチルト方向とする。一方、液晶層３にある閾値以上の充分な駆動電圧が印加されたとき（電圧印加時）は、液晶分子は、予め設定されていたプレチルト角によって、一定の方向に更に傾斜する。より具体的には、液晶層３の厚み方向における略中央に位置する液晶分子３ａは、第１基板１及び第２基板２面に対して略平行な方向にまで傾斜する。なお、垂直配向膜５ａ、５ｂは、光配向膜材料から形成されており、垂直配向膜５ａ、５ｂが規定するプレチルト方向は、フォトマスクを介して垂直配向膜５ａ、５ｂ表面が、例えば基板面に対して斜め方向から露光されることによって決定される。【００９８】
図３は、実施形態１に係る液晶表示パネルの１サブ画素における垂直配向膜に対する光照射方向を示す平面模式図であり、（ａ）第１基板を示し、（ｂ）は、第２基板を示す。なお、図３において、点線矢印は、第１基板に対する光照射方向を、実線矢印は、第２基板に対する光線照射方向を示す。図４は、実施形態１に係る液晶表示パネルの１サブ画素における垂直配向膜に対する光照射方向と、電圧印加時の液晶分子の配向方向と、偏光板の偏光軸方向とを示す平面模式図である。なお、図４において、点線矢印は、第１基板に対する光照射方向を、実線矢印は、第２基板に対する光線照射方向を示す。また、図４において、液晶分子は、基板を平面視したときの各ドメインの略中央であり、かつ液晶層の厚み方向における略中央に位置する液晶分子を示している。【００９９】
垂直配向膜５ａ、５ｂはそれぞれ、図３に示すように、基板を平面視したときに、サブ画素８内において、反平行方向（平行かつ逆向きである方向Ａ及び方向Ｂ）から光が照射されている。また、垂直配向膜５ａ、５ｂに対する光の照射方向は、図３及び４に示すように、第１基板１及び第２基板２を貼り合わせたときに、互いに略９０°異なるように設定されている。これにより、各ドメインにおいて、垂直配向膜５ａが規定するプレチルト方向（配向処理方向）と、垂直配向膜５ｂが規定するプレチルト方向（配向処理方向）とは、互いに略９０°異なることとなる。したがって、液晶層３に含まれる液晶分子は、基板を平面視したとき、各ドメインにおいて、配向膜近傍においては垂直配向膜５ａ、５ｂが規定するプレチルト方向に配向され、液晶層の厚さ方向においてはこれらの略直交するプレチルト方向を滑らかに繋ぐように略９０°捩れて配向される。また、液晶分子３ａは、図４に示すように、基板を平面視したとき、光の照射方向に対して略４５°ずれた方向に配向される。更に、各ドメインにおける液晶分子３ａは、それぞれ異なる４つの方向に傾斜する。このように、液晶表示パネル１００は、プレチルト方向（配向処理方向）が互いに直交する垂直配向膜を用いることにより、液晶分子を略９０°ツイスト配向させている。したがって、液晶表示パネル１００は、４ドメインのＶＡＴＮモードを有する。なお、各サブ画素８は、８つの領域に分割されているが、液晶分子３ａの傾斜方向は４つであることから、液晶表示パネル１００は、４ドメインということになる。【０１００】
そして、このように配向分割された液晶表示パネル１００の隣接する各ドメイン間（ドメイン境界）には、暗線が発生する。隣接するドメイン間に暗線が発生する原因については、以下のように説明することができる。すなわち、配向分割された画素（サブ画素）の各ドメイン内において電圧印加時に液晶分子の倒れる方向は同じであっても、異なるドメイン間においては液晶分子の倒れる方向は互いに異なっている。また、液晶分子は連続弾性体であるため、異なるドメイン間においては、異なる方向に倒れた液晶分子同士を連続的に繋ぐように液晶分子が配向する。したがって、図４で示したように、例えば４ドメイン配向における異なるドメイン間（ドメイン境界）において、液晶分子の配向方向は、液晶表示パネルを正面視したときに、偏光板の偏光軸方向と略同一になる又は略直交する。この偏光板の偏光軸方向と略同一の又は略直交する方向に液晶分子が配向した領域を透過する偏光については、液晶分子によるリターデーション（位相差）が発生しない。したがって、この領域において、バックライト側に設置された偏光板を透過してきた偏光は、液晶層で何ら影響を受けずに表示画面側に設置された偏光板でカットされる。その結果、偏光板の偏光軸方向と略同一の又は略直交する方向に液晶分子が配向した領域、すなわち、隣接する各ドメイン間（ドメイン境界）は、輝度の低い、暗い線（本明細書において暗線）となる。なお、各サブ画素８は、サブ画素領域に対応して形成された画素電極を有する。その結果、表示領域３１においては、サブ画素電極のエッジ部における斜め電界に起因する暗線（エッジ部暗線）が発生してもよい。【０１０１】
４ドメインのＶＡＴＮモードのメリットは、図３に示すように、第１基板１及び第２基板２をそれぞれ２回照射し、合計４回の照射で液晶分子３ａの配向方向が互いに異なる４つのドメインを形成することができるため、装置台数の削減と配向処理時間の短縮（タクトタイムの短縮）とが実現できる点である。また、１画素（１サブ画素）を４ドメインに分割させることは液晶表示パネルの広視野角化を実現する観点から好ましい形態である。更に、従来のＭＶＡモード等のように配向制御構造物を有する液晶モードにおいて必要であったリブ（突起）等の配向制御構造物を形成するためのフォトマスク、すなわちフォトリソ工程を削減することができ、その結果、製造プロセスの簡略化が可能となる。なお、１画素（１サブ画素）を２ドメインに分割させた場合には、例えば上下、左右のどちらかの方向については広視野角化できるが、他方の方向の視野角特性を向上することはできない。また、５つ以上にドメインを増やしても構わないが、プロセスが煩雑となる上、処理時間も長くなるためあまり好ましくない。更に、４ドメインとそれ以上のドメインとでは、視野角特性には実用上それ程違いがないことも分かっている。【０１０２】
本実施形態において、偏光板６ａ、６ｂは、パネル（基板）を平面視したときに、偏光板６ａの偏光軸方向Ｐと偏光板６ｂの偏光軸方向Ｑとが互いに略直交するように配置されている。また、偏光板６ａの偏光軸方向Ｐと偏光板６ｂの偏光軸方向Ｑとのうちの一方は、垂直配向膜５ａに対する光の照射方向に沿うように配置され、偏光板６ａの偏光軸方向Ｐと偏光板６ｂの偏光軸方向Ｑとのうちの他方は、垂直配向膜５ｂに対する光の照射方向に沿うように配置されている。したがって、電圧印加時においては、偏光板６ａ側から入射した光は、偏光軸方向Ｐの偏光となり、液晶層３において液晶分子のねじれに沿って９０°旋光し、偏光軸方向Ｑの偏光となって偏光板６ｂから射出されることとなる。一方、電圧無印加時においては、液晶層３において液晶分子は垂直配向のままであり、偏光軸方向Ｐの偏光は、旋光せずそのまま液晶層３を透過し、偏光板６ｂにより遮断されることとなる。このように、液晶表示パネル１００は、ノーマリーブラックモードである。なお、本明細書において、偏光軸とは、吸収軸を意味する。また、偏光板６ａの偏光軸方向Ｐと偏光板６ｂの偏光軸方向Ｑとは、図４に示した方向に特に限定されず、適宜設定すればよいが、一対の偏光板６ａ、６ｂの偏光軸方向は、パネル（基板）を平面視したときに、略９０°異なることが好ましい。すなわち、偏光板６ａ、６ｂは、クロスニコル配置されることが好ましい。【０１０３】
なお、本実施形態では、垂直配向型の液晶表示パネルについて説明しているが、本実施形態の液晶表示パネルは、水平配向型の液晶表示パネルであってよい。この場合は、液晶層３は、誘電率異方性が正のネマチック液晶材料（ポジ型ネマチック液晶材料）を含有し、また、第１基板１及び第２基板２の液晶層３側に、垂直配向膜５ａ、５ｂの代わりに水平配向膜を設ければよい。【０１０４】
以下に、実施形態１の液晶表示パネルの製造方法について説明する。図５（ａ）は、実施形態１に係る第１基板（ＴＦＴアレイ基板）の平面模式図であり、（ｂ）は、実施形態１に係る第２基板（ＣＦ基板）の平面模式図である。【０１０５】
まず、一般的な方法により、配向膜形成前の一対の第１基板１及び第２基板２を準備する。第１基板１としては、例えば、図５（ａ）に示すように、ガラス等からなる絶縁基板（図示せず）上に、走査信号線９、引き出し配線１９、ＴＦＴ１１、データ信号線１０及び画素電極１２を順次形成することによって、走査信号線９及びデータ信号線１０が絶縁膜（図示せず）を介して格子状に交差するように配置され、更にその交点毎にＴＦＴ１１及び画素電極１２が配置されるとともに、走査信号線９及びデータ信号線１０に接続された引き出し配線１９が配置されたＴＦＴアレイ基板を用いる。このように、画素電極１２が配置された領域が画像表示を行う表示領域３１となり、画素電極１２がマトリクス状に配置された領域の周囲の領域が額縁領域３２となる。したがって、引き出し配線１９は、額縁領域３２に形成される。なお、走査信号線９に接続された引き出し配線１９は、走査信号線９と同一の層から形成されてもよく、また、データ信号線１０に接続された引き出し配線１９は、データ信号線１０と同一の層から形成されてもよい。【０１０６】
一方、第２基板２としては、例えば、図５（ｂ）に示すように、ガラス等からなる絶縁基板（図示せず）上に、ブラックマトリクス（ＢＭ）１３、赤（Ｒ）、青（Ｇ）及び緑（Ｂ）の３色の着色層からなるカラーフィルタ１４、保護膜（図示せず）及び透明電極膜（図示せず）を順次形成することによって、各サブ画素（画素電極１２）の境界に対応して格子状に形成されるとともに、各サブ画素が配置された領域の周囲を覆うように帯状に形成されたＢＭ１３と、格子状のＢＭ１３で区切られた領域に形成されたカラーフィルタ１４とが配置されたＣＦ基板を用いる。このように、本実施形態において、１画素は、ｘ軸方向（表示面を正面視したときの横方向）に並んだＲＧＢの３サブ画素から構成される。また、ＢＭ１３が格子状に形成された領域が表示領域３１となり、ＢＭ１３が帯状に形成された領域が額縁領域３２となる。したがって、額縁領域３２は、ＢＭ１３によって遮光されるが、上述のように、通常、黒色樹脂から形成されるＢＭ１３の膜厚は、近年、薄くなっている。そのため、額縁領域３２に遮光部材としてＢＭ１３を配置しただけでは、額縁領域３２の引き出し配線１９がない領域から光漏れが発生する。なお、第１基板１及び第２基板２に用いられる絶縁基板は、絶縁性の表面を有するものであればよく、ガラスに特に限定されない。また、これら第１基板１及び第２基板２の各構成部材の材質は、通常用いられる材料を用いればよい。【０１０７】
次に、第１基板１及び第２基板２に対して、光配向膜材料を含む溶液をスピンキャスト法等により塗布した後、例えば１８０℃で６０分間光配向膜材料の焼成を行うことによって、垂直配向膜５ａ、５ｂを形成する。光配向膜材料としては特に限定されず、感光性基を含む樹脂等が挙げられる。より具体的には、４−カルコン基（下記化学式（１））、４’−カルコン基（下記化学式（２））、クマリン基（下記化学式（３））、及び、シンナモイル基（下記化学式（４））等の感光性基を含むポリイミド等が好適である。下記化学式（１）〜（４）の感光性基は、光（好適には紫外線）の照射により架橋反応（二量化反応を含む）、異性化反応、光再配向等を生じるものであり、これらによれば、光分解型の光配向膜材料に比べて配向膜面内におけるプレチルト角のばらつきを効果的に小さくすることができる。なお、下記化学式（１）〜（４）の感光性基は、ベンゼン環に置換基が結合した構造も含まれる。また、下記化学式（４）のシンナモイル基におけるカルボニル基に更に酸素原子が結合したシンナメート基（Ｃ６Ｈ５−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−）は、合成しやすいという利点を有している。したがって、光配向膜材料としては、シンナメート基を含むポリイミドがより好ましい。なお、焼成温度、焼成時間及び光配向膜の膜厚は特に限定されず、適宜設定すればよい。【０１０８】
【化１】
2008136155.tif 000003
【０１０９】
【化２】
2008136155.tif 000004
【０１１０】
【化３】
2008136155.tif 000005
【０１１１】
【化４】
2008136155.tif 000006
【０１１２】
なお、本実施形態においては、配向膜材料として、光に反応し、光線の照射方向に液晶分子のプレチルト角を生じる光配向膜材料を使用したが、「M. Kimura、他３名、「Photo-Rubbing Method: A Single-Exposure Method to Stable Liquid-Crystal Pretilt Angle on Photo-Alignment Film」、IDW’04: proceedings of the 11th International Display Workshops、IDW’04 Publication committee、2004年、LCT2-1、p. 35-38」に開示の光配向法のように、光の照射領域の移動方向によってプレチルト方向の規定が可能である光配向膜材料を用いてもよい。この場合は、光を基板に対して斜めから入射させる必要はなく、基板に対して略垂直に入射させることができる。【０１１３】
次に、配向膜の露光方法について説明する。図６は、実施形態１に係る露光工程（１ｓｔスキャン時）におけるスキャン方式による配向膜（基板）の露光態様を示す模式図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、側面図である。なお、図６（ｂ）中、黒線矢印は、偏光紫外線の照射方向（光照射方向）を示し、白抜き矢印は、第１基板の移動方向を示す。図７は、実施形態１に係る露光工程における配向膜（基板）に対する光の照射態様を示す断面模式図である。図８は、実施形態１に係る露光工程（２ｎｄスキャン時）におけるスキャン方式による配向膜（基板）の露光態様を示す模式図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、側面図である。なお、図８（ｂ）中、黒線矢印は、偏光紫外線の照射方向（光照射方向）を示し、白抜き矢印は、第１基板の移動方向を示す。図９は、実施形態１に係る第１基板に対する露光工程（１ｓｔスキャン及び２ｎｄスキャン時）におけるフォトマスクの表示領域に対応する部分の形態（上段）と、上段で示したフォトマスクを介して配向膜が露光された第１基板のサブ画素（下段）とを示す正面模式図であり、図中、黒線矢印は、光照射方向を示す。図１０は、実施形態１に係る第１基板に対する露光工程（１ｓｔスキャン及び２ｎｄスキャン時）におけるフォトマスクの表示領域及び額縁領域に対応する部分の形態（上段）と、上段で示したフォトマスクを介して配向膜が露光された第１基板の表示領域の隅部近傍（下段）とを示す正面模式図であり、下段の図には、この露光により発生する暗線（灰色線）がイメージとして図示されている。図１１は、実施形態１に係る第２基板に対する露光工程（１ｓｔスキャン及び２ｎｄスキャン時）におけるフォトマスクの表示領域及び額縁領域に対応する部分の形態（左側）と、上段で示したフォトマスクを介して配向膜が露光された第２基板の表示領域の隅部近傍（右側）とを示す正面模式図であり、右側の図には、この露光により発生する暗線（灰色線）がイメージとして図示されている。【０１１４】
本実施形態において、配向膜は、スキャン方式又はショット方式により露光される。ここでは、スキャン方式による配向膜の露光方法について説明する。【０１１５】
第１基板に対する露光工程について説明する。まず、図６（ａ）に示すように、マスク部２１ａ（第一マスク部）と、マスク部２１ａの両端側に配置された２つのマスク微細部２２ａ（第二マスク部）とを有するフォトマスク２０ａを準備する。フォトマスク２０ａは、後述する第１基板１の移動方向（図６におけるｘ軸方向、表示面を正面視したときの縦方向）に形成されたスリットが第１基板１の移動方向と直交する方向（図６におけるｙ軸方向、表示面を正面視したときの横方向）に複数本設けられている。すなわち、フォトマスク２０ａは、スリットパターンを有する。より具体的には、マスク部２１ａにおいては、遮光領域内にｙ軸方向のサブ画素ピッチの略半分の幅を有する複数の平面視矩形状のスリット２５ａが、ｙ軸方向のサブ画素ピッチと略同一のピッチとなるように設けられている。一方、マスク微細部２２ａにおいても、スリット２５ａと略平行となるように複数の平面視矩形状のスリット２５ｂが設けられているが、スリット２５ｂは、表示領域３１に対応するスリット２５ａよりも細かく形成されている。より具体的には、スリット２５ｂは、ｙ軸方向において、スリット２５ａよりも小さい幅及びピッチを有する。なお、スリット２５ｂの幅及びピッチは、適宜設定すればよいが、露光装置のアライメント誤差を考慮すると、幅は、１２〜２０μｍ程度、ピッチは、２４〜４０μｍ程度であることが好ましい。なお、額縁領域における暗線の本数（面積）を増やして、光漏れの発生をより抑制する観点からは、マスク微細部２２ａにおけるスリット２５ｂの幅及びピッチは、上述の範囲よりも更に小さくともよい。しかしながら、露光装置にアライメント誤差が発生することや暗線にボケ領域が発生することを考慮すると、これ以上スリットを微細化しても、本発明の効果（光漏れ発生の抑制効果）を向上することが期待できないため、スリット２５ｂの幅及びピッチは、やはり上記範囲程度であることが好ましい。【０１１６】
次に、図６（ａ）に示すように、マスク部２１ａが表示領域３１に対応し、かつマスク微細部２２ａが額縁領域３２のみに対応するように、上述の方法により形成された第１基板１とフォトマスク２０ａとを配置する。このように、フォトマスク２０ａは、額縁領域３２のみに対応する２つのマスク微細部２２ａを有するとともに、表示領域３１と、スリット２５ａの長手方向において表示領域３１に隣接する領域の額縁領域３２とに対応するマスク部２１ａとを有する。また、マスク微細部２２ａは、マスク部２１ａのスリット２５ａの短手方向（第１基板１の移動方向と直交する方向）に隣接して配置されている。これにより、フォトマスク２０ａを用いて表示領域３１及び額縁領域３２の配向膜を効率的に露光することができる。なお、フォトマスク２０ａの上方には光源（図示せず）が配置されている。【０１１７】
次に、フォトマスク２０ａのスリット２５ａと、第１基板１のサブ画素とを位置合わせした後、図６（ｂ）に示すように、第１基板１を−ｘ方向（図６（ｂ）中の白抜き矢印の方向）に移動させながら、フォトマスク２０ａを介して、第１基板１表面に設けられた垂直配向膜５ａを基板１の端から端まで偏光紫外線（図６（ｂ）中、黒線矢印）により露光する（１ｓｔスキャン）。このとき、第１基板１は、第１基板１に設けられたデータ信号線１０、走査信号線９等のバス配線にスリット２５ａが沿うように移動させられる。また、図６（ｂ）及び図７に示すように、偏光紫外線１５は、第１基板１に対して斜め方向から照射される。更に、偏光紫外線１５は、第１基板１を平面視したときに、スリット２５ａ及びスリット２５ｂの長手方向に沿って照射される。そして、フォトマスク２０ａと第１基板１との間には、ある間隔（プロキシミティギャップ１６）が設けられている。これにより、第１基板１の移動がスムーズに行えるとともに、フォトマスク２０ａが自重により撓んだとしても、第１基板１に接触することを抑制することができる。この１ｓｔスキャンにより、表示領域３１に位置する各画素（各サブ画素）と額縁領域３２との略半分の領域が配向処理されることとなる。また、垂直配向膜５ａ表面近傍の液晶分子３ｂは、図７に示すように、露光された各領域内において略一定のプレチルト角１７を発現することになる。なお、本発明におけるスキャン方式による露光態様としては、基板が固定され、フォトマスク及び光源が移動する態様であってもよい。【０１１８】
次に、第１基板１を面内で１８０°回転した後、図８（ａ）に示すように、マスク部２１ａに設けられた各スリット２５ａが各サブ画素の未露光領域に対応するように、マスク部２１ａのスリット２５ａと、第１基板１のサブ画素との位置合わせを行う。このとき、マスク微細部２２ａのスリット２５ｂは、額縁領域３２の未露光領域に対応するように配置される。その後、図８（ｂ）に示すように、図６（ｂ）と同様に、第１基板１を＋ｘ方向（図８（ｂ）中の白抜き矢印の方向、図６（ｂ）とは反対の方向）に移動させながら、フォトマスク２０ａを介して、第１基板１表面に設けられた垂直配向膜５ａを基板１の端から端まで偏光紫外線（図８（ｂ）中、黒線矢印）により露光する（２ｎｄスキャン）。これにより、各画素（各サブ画素）の残りの略半分の領域と、額縁領域３２の残りの略半分の領域とが配向処理され、第１基板１上の垂直配向膜５ａは、全面にわたって露光されることとなる。なお、１ｓｔスキャン及び２ｎｄスキャンの間、光源及びフォトマスク２０ａは、固定されているため、２ｎｄスキャン時の光線（図８（ｂ）中、黒線矢印）の第１基板１に対する入射角と、１ｓｔスキャン時の光線（図６（ｂ）中、黒線矢印）の第１基板１に対する入射角とは、略同一となる。他方、１ｓｔスキャン及び２ｎｄスキャンの間、第１基板１は面内で１８０°回転していることから、１ｓｔスキャン時の第１基板１に対する光線の向き（光照射方向）と、２ｎｄスキャン時の第１基板１に対する光線の向き（光照射方向）とは、図９の上段に示すように、第１基板１を平面視したときに、ちょうど逆向きになる。すなわち、表示領域３１において、第１基板１の各サブ画素８（Ｒのサブ画素８Ｒ、Ｇのサブ画素８Ｇ及びＢのサブ画素８Ｂ）は、図３（ａ）及び図９の下段に示すように、配向方向が互いに反平行方向である２つの領域に配向分割されることとなる。また、このように露光された第１基板１を用いて液晶表示パネルを組み立てた後、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視すると、図１０に示すように、フォトマスク２０ａのスリット２５ａ、２５ｂの境界線に対応して、表示領域３１の隣接する各露光領域間、すなわちドメイン間（ドメイン境界）には、複数の暗線２７ａ（第一暗線）が一定のピッチで発生するとともに、額縁領域３２の隣接する各露光領域間、すなわちドメイン間（ドメイン境界）には複数の暗線２７ｂ（第二暗線）が一定のピッチで発生することとなる。なお、暗線２７ａ及び暗線２７ｂは、互いに平行な方向に発生するが、暗線２７ａ及び暗線２７ｂのピッチは、互いに異なり、暗線２７ｂのピッチＷｂは、暗線２７ａのピッチＷａよりも小さくなる。【０１１９】
次に、第２基板２の垂直配向膜５ｂに対しても、第１基板と同様に、スリットパターンを有するフォトマスク２０ｂを用いて露光を行う。すなわち、図１１に示すように、スリット２５ｃが形成されたマスク部２１ｂと、スリット２５ｃよりも細かいスリット２５ｄが形成されたマスク微細部２２ｂとが設けられたフォトマスク２０ｂを用いて露光（１ｓｔスキャン及び２ｎｄスキャン）を行う。このとき、スリット２５ｃは、第２基板２の移動方向と直交する方向（図１１におけるｙ軸方向、表示面を正面視したときの縦方向）のサブ画素ピッチの略１／４の幅を有するとともに、ｙ軸方向のサブ画素ピッチの半分と略同一のピッチとなるように設けられている。一方、スリット２５ｄは、スリット２５ｃと略平行となるように複数設けられているが、スリット２５ｄは、スリット２５ｃのｙ軸方向の幅及びピッチよりも小さい幅及びピッチを有する。なお、このとき、マスク微細部２２ｂのスリット２５ｄの幅及びピッチは、適宜設定すればよいが、露光装置のアライメント誤差を考慮すると、幅は、１２〜２０μｍ程度、ピッチは、２４〜４０μｍ程度であることが好ましい。【０１２０】
これにより、表示領域３１において、第２基板２の各サブ画素は、図３（ｂ）に示すように、配向方向が互いに反平行方向である２つの領域に配向分割されることとなる。また、第２基板２に設けられた垂直配向膜５ｂ表面近傍の液晶分子は、図７で示したように、第１基板１の場合と同様に、配向分割された各領域内において略一定のプレチルト角を発現することになる。更に、このように露光された第２基板２を用いて液晶表示パネルを組み立てた後、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視すると、図１１に示すように、フォトマスク２０ｂのスリット２５ｃ、２５ｄの境界線に対応して、表示領域３１の隣接する各露光領域間、すなわちドメイン間（ドメイン境界）には、複数の暗線２７ｃ（第三暗線）が一定のピッチで発生するとともに、額縁領域３２の隣接する各露光領域間、すなわちドメイン間（ドメイン境界）には複数の暗線２７ｄ（第四暗線）が一定のピッチで発生することとなる。なお、暗線２７ｃ及び暗線２７ｄは、互いに平行な方向に発生するが、暗線２７ｃ及び暗線２７ｄのピッチは、互いに異なり、暗線２７ｄのピッチＷｄは、暗線２７ｃのピッチＷｃよりも小さくなる。【０１２１】
本実施形態では１サブ画素を４ドメインに配向分割するために、液晶表示パネルの表示面を正面視したときの横方向のサブ画素ピッチ（図５中、ｘ軸方向）の略１／２の幅でストライプパターンが形成されたフォトマスクを用いてＴＦＴアレイ基板を露光し、一方、液晶表示パネルの表示面を正面視したときの縦方向のサブ画素ピッチ（図５中、ｙ軸方向、なお、本実施形態において縦方向のサブ画素ピッチと画素ピッチとは同一）の略１／４の幅でストライプパターンが形成されたフォトマスクを用いてＣＦ基板を露光した。しかしながら、透光部のパターンは特に限定されず、画素（サブ画素）のレイアウト、画素（サブ画素）サイズ、パネルの解像度等に応じて適宜設定すればよい。また、本実施形態では４つのドメインをマトリクス状に形成したが、ドメインの配置形態はマトリクス状に特に限定されず、目の字のようなストライプ状であってもよい。更に、各サブ画素が副画素を有する場合には、各副画素を配向分割するために、各副画素に応じてスリットパターンが形成されてもよい。【０１２２】
本実施形態で使用可能な材料及び適応可能な製造プロセスにおける条件としては下記が挙げられる。ただし、本実施形態で使用可能な材料及び条件は、下記に限定されるものではない。また、露光に用いる光線の種類は偏光紫外線に特に限定されず、配向膜材料、製造プロセス等によって適宜設定することができ、無偏光（消光比＝１：１）であってもよい。
・液晶材料：Δｎ（複屈折）＝０．０６〜０．１４、Δε（誘電率異方性）＝−２．０〜−８．０、Ｔｎｉ（ネマチック−アイソトロピック相転移温度）＝６０〜１１０℃を有するネマチック液晶。
・プレチルト角：８５〜８９．９°
・セル厚：２〜５μｍ
・照射エネルギー密度：０．０１〜５Ｊ／ｃｍ２
・プロキシミティギャップ：１０〜２５０μｍ
・光源：低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマーレーザ。
・紫外線の消光比（偏光度）：１：１〜６０：１
・紫外線の照射方向：基板面法線方向から０〜６０°方向【０１２３】
次に、第１基板１及び第２基板２の貼り合わせ工程について説明する。貼り合わせ工程では、まず、上述の通り作製した第１基板１又は第２基板２の周囲にシール材を塗布する。次に、例えば４μｍのプラスチックビーズをシール材が塗布された基板１又は２上に散布した後、第１基板１及び第２基板２を貼り合わせる。このとき、１サブ画素における両基板の光線照射方向の関係は、図４のようになり、各ドメイン内では、スキャン方向は対向する基板同士で略直交する。【０１２４】
次に、第１基板１及び第２基板２間に、例えば上記液晶材料を封入すると、各ドメインで液晶分子はそれぞれの異なった方向にプレチルト角を発現する。これにより、各ドメインの液晶層３の層面内方向及び厚さ方向における中央付近の液晶分子３ａの配向方位は、図４に示すように、基板を平面視したときに、光線照射された方向から４５度傾いた方向となる。【０１２５】
次に、第１基板１及び第２基板２の外側に、位相差板７ａ、７ｂを貼り付けた後、図３で示した向きに偏光軸が向くように２枚の偏光板６ａ、６ｂを貼り付ける。これにより、電圧無印加時に、液晶分子はほぼ垂直配向するため、本実施形態の液晶表示パネル１００は、良好な黒表示（ノーマリーブラックモード）を実現することができる。また、本実施形態の液晶表示パネル１００は、それぞれ異なる４方向に液晶分子が応答するドメインを４つ有するため、視角方向にほとんど依存しない表示特性を示すことができる。【０１２６】
その後、一般的なモジュール製造工程を経て、本実施形態の液晶表示装置を完成することができる。【０１２７】
次に、本実施形態の液晶表示装置の表示画面について説明する。図１２は、中間調以上の階調を表示したときの実施形態１に係る液晶表示装置の表示領域の隅部近傍を示す正面模式図である。
本実施形態の液晶表示装置２００は、中間調以上の階調（例えば白）を表示して表示画面を正面視すると、図１２中、ｘ軸方向（表示面を正面視したときの横方向）に、表示領域３１の隣接する各ドメイン間（ドメイン境界）には複数の暗線２７ａが一定のピッチで発生するとともに、額縁領域３２の隣接する各ドメイン間（ドメイン境界）には複数の暗線２７ｂが一定のピッチで発生する。一方、液晶表示装置２００は、中間調以上の階調（例えば白）を表示して表示画面を正面視すると、図１２中、ｙ軸方向（表示面を正面視したときの縦方向）に、表示領域３１の隣接する各ドメイン間（ドメイン境界）には複数の暗線２７ｃが一定のピッチで発生するとともに、額縁領域３２の隣接する各ドメイン間（ドメイン境界）には複数の暗線２７ｄが一定のピッチで発生する。暗線２７ａ及び暗線２７ｂと、暗線２７ｃ及び暗線２７ｄとはそれぞれ、互いに平行な方向に発生している（暗線２７ａ//暗線２７ｂ、暗線２７ｃ//暗線２７ｄ）。一方、暗線２７ｂのピッチＷｂは、暗線２７ａのピッチＷａよりも小さく、暗線２７ｄのピッチＷｄは、暗線２７ｃのピッチＷｃよりも小さい。なお、表示領域３１においては、暗線２７ａの他にエッジ部暗線（図示せず）が発生しており、暗線２７ａ及びエッジ部暗線を合わせると、表示領域３１においては卍形状を含む暗線が発生することとなる。【０１２８】
このように、液晶表示装置２００は、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視したときに、暗線２７ａ及び暗線２７ｃが発生する表示領域３１と、暗線２７ａ及び暗線２７ｃのピッチよりも小さいピッチで暗線２７ｂ及び暗線２７ｄが発生する領域を含む額縁領域３２とを有する。すなわち、液晶表示装置２００は、額縁領域３２において、意図的にその数及び面積が増やされた暗線２７ｂ及び暗線２７ｄを有するため、表示領域における暗線と同様のピッチで暗線が額縁領域に発生する従来の液晶表示装置に比べて、額縁領域３２の引き出し配線１９がない領域からの光漏れの発生を抑制することができる。なお、この暗線２７ｂ及び暗線２７ｄは、白表示時においても維持される暗い領域であるため、引き出し配線１９等による電界の影響を受けたとしても額縁領域３２は、暗線２７ｂ及び暗線２７ｄにより遮光される。【０１２９】
また、本実施形態によれば、対向する第１基板１及び第２基板２に対して額縁領域３２に対応するスリットが狭いピッチであるフォトマスクを用いて露光を行った。したがって、液晶表示装置２００は、額縁領域のコーナー部において、狭いピッチの暗線２７ｂ及び暗線２７ｄが互いに略直交して格子状に発生する。これにより、額縁領域３２における暗線による遮光率をより向上することができる。【０１３０】
以上、スキャン方式により配向膜の露光を行う態様について説明したが、本実施形態の液晶表示装置の製造方法においては、配向膜は、ショット方式により露光されてもよい。図１３は、実施形態１に係る露光工程におけるショット方式による配向膜（基板）の露光態様を示す模式図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、側面図である。なお、図１３（ｂ）中、黒線矢印は、偏光紫外線の照射方向（光照射方向）を示す。【０１３１】
基板（第１基板１及び／又は第２基板２）１８は、図１３に示すように、マスク部２１ｃ及びマスク微細部２２ｃを有するフォトマスク２０ｃを用い、基板１８及び光源（フォトマスク２０ｃの上方に配置、図示せず）を固定した状態で配向膜（表示領域３１及び額縁領域３２）が一括して露光されてもよい。なお、スキャン方式の場合と同様に、マスク微細部２２ｃには、マスク部２１ｃのスリット２５ｅの幅及びピッチよりも小さい幅及びピッチを有するスリット２５ｆが形成されている。また、ショット方式の場合には、一回目の露光（１ｓｔショット）と二回目の露光（２ｎｄショット）との間に、基板１８又はフォトマスク２０ｃは、スリット２５ｅ及びスリット２５ｆの長手方向と直交する方向にサブ画素ピッチの略半分又は略１／４ずらされ、２ｎｄショット時にスリット２５ｅが各サブ画素の未露光領域に対応するように、マスク部２１ｃのスリット２５ｅと基板１８のサブ画素との位置合わせが行われる。このように、ショット方式の場合は、上述のように基板１８を面内で１８０°回転する必要はない。ただし、ショット方式の場合、１ｓｔショットと２ｎｄショットとの間で、光源の位置を変える等して、基板面に対する光の照射方向を変更する必要がある。【０１３２】
また、本実施形態の液晶表示装置の製造方法においては、フォトマスクをずらして配置した後に２ｎｄスキャンを行ってもよい。図１４は、実施形態１に係る基板に対する露光工程におけるフォトマスクの表示領域及び額縁領域に対応する部分の別の形態（上段）と、上段で示したフォトマスクを介して配向膜が露光された基板の表示領域の端部近傍（下段）とを示す正面模式図であり、下段の図には、この露光により発生する暗線（灰色線）がイメージとして図示されている。【０１３３】
この場合、フォトマスク２０ｄは、フォトマスク２０ａ等と同様に、表示領域３１に対応するスリット２５ｇと、額縁領域３２に対応するスリット２５ｈとが形成されており、スリット２５ｈの幅及びピッチは、スリット２５ｇの幅及びピッチよりも小さく設定されている。他方、額縁領域３２に対応するスリット２５ｈは、１ｓｔスキャン及び２ｎｄスキャンの間でフォトマスク２０ｄがずらされる距離毎（ずらしピッチ単位毎）に、スリット２５ｈ及び遮光領域のセット（白黒のセット）が反転されている。そして、このフォトマスク２０ｄを用いて１ｓｔスキャンを行うとともに、フォトマスク２０ｄをサブ画素の半分のピッチ程ずらした後、２ｎｄスキャンを行う。これにより、狭いピッチのスリット２５ｈにより露光される領域の配向膜（垂直配向膜５ａ及び／又は垂直配向膜５ｂ）に未露光領域を発生させることなく、表示領域３１に発生する複数の暗線２７ｅのピッチよりも小さいピッチを有する複数の暗線２７ｆが発生する領域を額縁領域３２に形成することができる。このように、フォトマスクをずらして配向膜の露光を行う場合は、上述のように基板を面内で１８０°回転する必要はない。ただし、この場合、ショット方式の場合と同様に、１ｓｔスキャンと２ｎｄスキャンとの間で、光源の位置を変える等して、基板面に対する光の照射方向を変更する必要がある。なお、この露光態様は、もちろんショット方式に適用してもよい。【０１３４】
更に、本実施形態では、マスク微細部に一定のピッチでスリットを形成したが、マスク微細部のスリットは、一定でないピッチで、すなわちランダムに配置されてもよい。【０１３５】
（実施形態２）
以下に、実施形態２について説明する。なお、本実施形態と実施形態１とでは、露光工程において、フォトマスクの額縁領域に対応する部分に形成されたスリットの形態が異なるだけなので、本実施形態と実施形態１とで重複する内容についての説明と図示とは省略する。図１５は、実施形態２に係る露光工程（１ｓｔショット時）における配向膜（第２基板）の露光態様を示す模式図であり、（ａ）は、フォトマスクの平面図であり、（ｂ）は、第２基板の平面図である。図１６は、実施形態２に係る露光工程（２ｎｄショット時）における配向膜（第２基板）の露光態様を示す模式図であり、（ａ）は、フォトマスクの平面図であり、（ｂ）は、第２基板の平面図である。図１７は、実施形態２に係る液晶表示パネルの表示領域に位置する１サブ画素を示す平面模式図であり、（ａ）は、垂直配向膜に対する光照射方向を示し、（ｂ）電圧印加時の液晶分子の配向方向を示し、（ｃ）は、中間調以上の階調を表示したときに発生する暗線を示す。なお、図１７（ａ）において、実線矢印は、第１基板に対する光照射方向を、点線矢印は、第２基板に対する光線照射方向を示す。また、図１７（ｂ）において、液晶分子は、基板を平面視したときの各ドメインの略中央であり、かつ液晶層の厚み方向における略中央に位置する液晶分子を示している。図１８は、実施形態２に係る液晶表示パネルの額縁領域に位置する１サブ画素を示す平面模式図であり、（ａ）は、垂直配向膜に対する光照射方向を示し、（ｂ）電圧印加時の液晶分子の配向方向を示し、（ｃ）は、中間調以上の階調を表示したときに発生する暗線を示す。なお、図１８（ａ）において、実線矢印は、第１基板に対する光照射方向を、点線矢印は、第２基板に対する光線照射方向を示す。また、図１８（ｂ）において、液晶分子は、基板を平面視したときの各ドメインの略中央であり、かつ液晶層の厚み方向における略中央に位置する液晶分子を示している。【０１３６】
まず、第２基板２に対する露光について説明する。本実施形態のフォトマスク２０ｅは、図１５（ａ）に示すように、表示領域３１に対応して設けられたマスク部２１ｄ（第一マスク部）と、額縁領域３２に対応して設けられたマスク額縁部２３ａ（第二マスク部）とを有する。マスク部２１ｄは、遮光領域内に設けられた複数の平面視矩形状のスリット２５ｉを有する。スリット２５ｉは、その長手方向が基板を正面視したときの横方向に向くように配置されている。スリット２５ｉの幅は、第２基板２を正面視したときの縦方向のサブ画素ピッチの略１／４に設定されており、スリット２５ｉのピッチは、第２基板２を正面視したときの縦方向のサブ画素ピッチの半分と略同一に設定されている。一方、マスク額縁部２３ａは、遮光領域内に設けられた複数の平面視矩形状のスリット２５ｊを有する。スリット２５ｊは、その長手方向が基板を正面視したときの縦方向に向くように配置されている。このように、スリット２５ｉの配列方向とスリット２５ｊの配列方向とは、直交している。すなわち、スリット２５ｉの長手方向と、スリット２５ｊの長手方向とは、直交している。なお、スリット２５ｊの幅及びピッチは、適宜設定すればよいが、ここではスリット２５ｉと同じ幅及びピッチとした。【０１３７】
次に、フォトマスク２０ｅを用いた露光方法について説明する。本実施形態において、配向膜はショット方式により露光される。より具体的には、まず、マスク部２１ｄが表示領域３１に対応し、かつマスク額縁部２３ａが額縁領域３２に対応するように、第２基板２とフォトマスク２０ｅとを配置する。次に、スリット２５ｉと、第２基板２の各サブ画素とを位置合わせした後、実施形態１と同様に、偏光紫外線により第２基板２の面に対して斜め方向から垂直配向膜５ｂの露光（１ｓｔショット）を行う。より具体的には、垂直配向膜５ｂは、スリット２５ｉの長手方向に沿う向きに傾斜された方向から露光される。これにより、図１５（ｂ）に示すように、１ｓｔショット時にスリット２５ｉを介して露光された露光領域３４ａが表示領域３１にストライプ状に形成されるとともに、１ｓｔショット時にスリット２５ｊを介して露光された露光領域３４ｂが額縁領域３２にストライプ状に形成される。ただし、ストライプ状の露光領域３４ａの長手方向と、ストライプ状の露光領域３４ｂの長手方向とは、直交することとなる。【０１３８】
次に、図１６（ａ）に示すように、フォトマスク２０ｅを第２基板２に対して斜め方向にずらす。より詳細には、フォトマスク２０ｅを、第２基板２を正面視したときの縦方向にスリット２５ｉのピッチ分だけ移動させるとともに、第２基板２を正面視したときの横方向にスリット２５ｊのピッチ分だけ移動させる。そして、スリット２５ｉが各サブ画素の未露光領域に対応するように、フォトマスク２０ｅと第２基板２との位置合わせを行う。その後、光源の位置を変える等して、１ｓｔショット時の紫外線の照射方向と反対の方向から垂直配向膜５ｂの露光（２ｎｄショット）を行う。これにより、１ｓｔショット時と同様に、図１６（ｂ）に示すように、２ｎｄショット時にスリット２５ｉを介して露光された露光領域３４ｃが表示領域３１にストライプ状に形成されるとともに、２ｎｄショット時にスリット２５ｊを介して露光された露光領域３４ｄが額縁領域３２にストライプ状に形成される。【０１３９】
次に、第１基板１に対しても、第２基板２と同様に、垂直配向膜５ａに対して２度の露光（１ｓｔショット及び２ｎｄショット）を行う。このとき、第１基板１に対する紫外線の照射処理方向と、第２基板２に対する紫外線の照射処理方向とは、第１基板１及び第２基板２を貼り合わせた時に、図１７（ａ）及び図１８（ａ）に示すように、表示領域３１及び額縁領域３２の両領域において直交するように設定されている。【０１４０】
これにより、図１７（ａ）に示すように、表示領域３１においては、各サブ画素内に４つのドメイン２８ａ、２８ｂ、２８ｃ、２８ｄが形成される。また、図１８（ａ）に示すように、額縁領域３２においても４つのドメイン２８ｅ、２８ｆ、２８ｇ、２８ｈが形成される。より具体的には、図１７（ｂ）に示すように、表示面を正面視したときの水平右方向を０°と規定すると、ドメイン２８ａにおいて、基板を平面視したときの略中央であり、かつ液晶層の厚み方向における略中央に位置する液晶分子３０ａ（以下、「中央液晶分子」ともいう。）は２２５°方向に傾斜しており、ドメイン２８ｂにおいて中央液晶分子３０ｂは３１５°方向に傾斜しており、ドメイン２８ｃにおいて中央液晶分子３０ｃは４５°方向に傾斜しており、ドメイン２８ｄにおいて中央液晶分子３０ｄは１３５°方向に傾斜している。このように、中央液晶分子３０ａ、中央液晶分子３０ｂ、中央液晶分子３０ｃ及び中央液晶分子３０ｄは、同心円状に傾斜している。一方、図１８（ｂ）に示すように、表示面を正面視したときの水平右方向を０°と規定すると、ドメイン２８ｅにおいて中央液晶分子３０ｅは１３５°方向に傾斜しており、ドメイン２８ｆにおいて中央液晶分子３０ｆは２２５°方向に傾斜しており、ドメイン２８ｇにおいて中央液晶分子３０ｇは３１５°方向に傾斜しており、ドメイン２８ｈにおいて中央液晶分子３０ｈは４５°方向に傾斜している。このように、中央液晶分子３０ｅ、中央液晶分子３０ｆ、中央液晶分子３０ｇ及び中央液晶分子３０ｈは、放射線状に傾斜している。【０１４１】
また、ドメイン２８ａにおける中央液晶分子３０ａの傾斜方向と、ドメイン２８ｆにおける中央液晶分子３０ｆの傾斜方向とは一致し、ドメイン２８ｂにおける中央液晶分子３０ｂの傾斜方向と、ドメイン２８ｇにおける中央液晶分子３０ｇの傾斜方向とは一致し、ドメイン２８ｃにおける中央液晶分子３０ｃの傾斜方向と、ドメイン２８ｈにおける中央液晶分子３０ｈの傾斜方向とは一致し、ドメイン２８ｄにおける中央液晶分子３０ｄの傾斜方向と、ドメイン２８ｅにおける中央液晶分子３０ｅの傾斜方向とは一致する。このように、表示領域３１におけるドメイン２８ａ、２８ｂ、２８ｃ、２８ｄの配置形態と、額縁領域３２におけるドメイン２８ｅ、２８ｆ、２８ｇ、２８ｈの配置形態とは異なっている。【０１４２】
そして、図１７（ｃ）に示すように、表示領域３１の各ドメイン２８ａ、２８ｂ、２８ｃ、２８ｄの境界には、卍形状を含む暗線２７ｇが発生し、一方、図１８（ｃ）に示すように、額縁領域３２の各ドメイン２８ｅ、２８ｆ、２８ｇ、２８ｈの境界には、格子状に暗線２７ｈが発生する。更に、額縁領域３２に発生する暗線２７ｈの幅は、表示領域３１に発生する暗線２７ｇの幅よりも太い。すなわち、額縁領域３２の方が表示領域３１よりも暗線による遮光領域が大きくなる。【０１４３】
このように、本実施形態によれば、配列方向が９０°異なる２種のスリット２５ｉ及びスリット２５ｊにより表示領域３１と額縁領域３２とをそれぞれ露光することによって、表示領域３１においては開口に有利なドメインの組み合わせを実現しつつ、一方、額縁領域３２においては開口に不利なドメインの組み合わせを実現することができる。それに対して、従来の液晶表示装置においては、表示領域に形成されるドメインの組み合わせと、額縁領域に形成されるドメインの組み合わせとは同じであるため、額縁領域においても開口に有利となるようドメインが形成されていた。したがって、本実施形態によれば、従来に比べて額縁領域３２における暗線による遮光面積を大きくすることができるので、光漏れの発生を抑制することができる。【０１４４】
なお、本実施形態において、スリット２５ｉとスリット２５ｊとの幅及びピッチは、適宜設定することができ、好適には、スリット２５ｊの幅及びピッチが、スリット２５ｉの幅及びピッチよりも小さい形態であってもよい。これにより、額縁領域３２における光漏れの発生をより抑制することができる。【０１４５】
（実施形態３）
以下に、実施形態３について説明する。なお、本実施形態と実施形態１及び実施形態２とでは、露光工程において、フォトマスクの額縁領域に対応する部分に形成された透光部の形態が異なるだけなので、本実施形態と実施形態１及び実施形態２とで重複する内容についての説明と図示とは省略する。図１９は、実施形態３に係る露光工程（１ｓｔショット時）における配向膜（第２基板）の露光態様を示す模式図であり、（ａ）は、フォトマスクの平面図であり、（ｂ）は、第２基板の平面図である。図２０は、実施形態３に係る露光工程（２ｎｄショット時）における配向膜（第２基板）の露光態様を示す模式図であり、（ａ）は、フォトマスクの平面図であり、（ｂ）は、第２基板の平面図である。図２１は、実施形態３に係る液晶表示パネルの表示領域に位置する１サブ画素を示す平面模式図であり、（ａ）は、垂直配向膜に対する光照射方向を示し、（ｂ）電圧印加時の液晶分子の配向方向を示し、（ｃ）は、中間調以上の階調を表示したときに発生する暗線を示す。なお、図２１（ａ）において、実線矢印は、第１基板に対する光照射方向を、点線矢印は、第２基板に対する光線照射方向を示す。また、図２１（ｂ）において、液晶分子は、基板を平面視したときの各ドメインの略中央であり、かつ液晶層の厚み方向における略中央に位置する液晶分子を示している。図２２は、実施形態３に係る液晶表示パネルの額縁領域に位置する１サブ画素を示す平面模式図であり、（ａ）は、垂直配向膜に対する光照射方向を示し、（ｂ）電圧印加時の液晶分子の配向方向を示し、（ｃ）は、中間調以上の階調を表示したときに発生する暗線を示す。なお、図２２（ａ）において、実線矢印は、第１基板に対する光照射方向を、点線矢印は、第２基板に対する光線照射方向を示す。また、図２２（ｂ）において、液晶分子は、基板を平面視したときの各ドメインの略中央であり、かつ液晶層の厚み方向における略中央に位置する液晶分子を示している。【０１４６】
まず、第２基板２に対する露光について説明する。本実施形態のフォトマスク２０ｆは、図１９（ａ）に示すように、表示領域３１に対応して設けられたマスク部２１ｅ（第一マスク部）と、額縁領域３２に対応して設けられたマスク額縁部２３ｂ（第二マスク部）とを有する。マスク部２１ｅは、実施形態２のフォトマスク２０ｅと同様に、遮光領域内に設けられた複数の平面視矩形状のスリット２５ｋを有する。スリット２５ｋは、その長手方向が基板を正面視したときの横方向に向くように配置されている。スリット２５ｋの幅は、第２基板２を正面視したときの縦方向のサブ画素ピッチの略１／４に設定されており、スリット２５ｋのピッチは、第２基板２を正面視したときの縦方向のサブ画素ピッチの半分と略同一に設定されている。一方、マスク額縁部２３には、遮光領域内に複数の平面視方形状のドット２９が格子状（チェック状）に設けられている。なお、ドット２９の幅（一辺の長さ）及びピッチは、適宜設定すればよいが、ここではスリット２５ｋと同じ幅及びピッチとした。このようにフォトマスク２０ｆのマスク部２１ｅとマスク額縁部２３ｂとには、異なるパターンを有する透光部が形成されている。【０１４７】
次に、フォトマスク２０ｆを用いた露光方法について説明する。本実施形態において、配向膜はショット方式により露光される。より具体的には、まず、マスク部２１ｅが表示領域３１に対応し、かつマスク額縁部２３ｂが額縁領域３２に対応するように、第２基板２とフォトマスク２０ｆとを配置する。次に、スリット２５ｋと、第２基板２の各サブ画素とを位置合わせした後、実施形態２と同様に、偏光紫外線により第２基板２の面に対して斜め方向から垂直配向膜５ｂの露光（１ｓｔショット）を行う。より具体的には、垂直配向膜５ｂは、スリット２５ｋの長手方向に沿う向きに傾斜された方向から露光される。これにより、図１９（ｂ）に示すように、１ｓｔショット時にスリット２５ｋを介して露光された露光領域３４ｅが表示領域３１にストライプ状に形成されるとともに、１ｓｔショット時にドット２９を介して露光された露光領域３４ｆが額縁領域３２に格子状に形成される。【０１４８】
次に、図２０（ａ）に示すように、フォトマスク２０ｆを、第２基板２を正面視したときの縦方向にスリット２５ｋのピッチ分だけ移動させる。そして、スリット２５ｋが各サブ画素の未露光領域に対応するように、フォトマスク２０ｆと第２基板２との位置合わせを行う。その後、光源の位置を変える等して、１ｓｔショット時の紫外線の照射方向と反対の方向から配向膜の露光（２ｎｄショット）を行う。これにより、１ｓｔショット時と同様に、図２０（ｂ）に示すように、２ｎｄショット時にスリット２５ｋを介して露光された露光領域３４ｇが表示領域３１にストライプ状に形成されるとともに、２ｎｄショット時にドット２９を介して露光された露光領域３４ｈが額縁領域３２に格子状に形成される。【０１４９】
次に、第１基板１に対しても、第２基板２と同様に、垂直配向膜５ａに対して２度の露光（１ｓｔショット及び２ｎｄショット）を行う。このとき、第１基板１に対する紫外線の照射処理方向と、第２基板２に対する紫外線の照射処理方向とは、第１基板１及び第２基板２を貼り合わせた時に、図２１（ａ）及び図２２（ａ）に示すように、表示領域３１及び額縁領域３２の両領域において直交するように設定されている。【０１５０】
これにより、図２１（ａ）に示すように、表示領域３１においては、実施形態２と同様に、各サブ画素内に４つのドメイン２８ｉ、２８ｊ、２８ｋ、２８ｌが形成される。また、図２２（ａ）に示すように、額縁領域３２においても４つのドメイン２８ｍ、２８ｎ、２８ｏ、２８ｐが形成される。より具体的には、図２１（ｂ）に示すように、表示面を正面視したときの水平右方向を０°と規定すると、ドメイン２８ｉにおいて中央液晶分子３０ｉは２２５°方向に傾斜しており、ドメイン２８ｊにおいて中央液晶分子３０ｊは３１５°方向に傾斜しており、ドメイン２８ｋにおいて中央液晶分子３０ｋは４５°方向に傾斜しており、ドメイン２８ｌにおいて中央液晶分子３０ｌは１３５°方向に傾斜している。このように、中央液晶分子３０ｉ、中央液晶分子３０ｊ、中央液晶分子３０ｋ及び中央液晶分子３０ｌは、同心円状に傾斜している。一方、図２２（ｂ）に示すように、表示面を正面視したときの水平右方向を０°と規定すると、ドメイン２８ｍにおいて中央液晶分子３０ｍは１３５°方向に傾斜しており、ドメイン２８ｎにおいて中央液晶分子３０ｎは３１５°方向に傾斜しており、ドメイン２８ｏにおいて中央液晶分子３０ｏは１３５°方向に傾斜しており、ドメイン２８ｐにおいて中央液晶分子３０ｐは３１５°方向に傾斜している。このように、中央液晶分子３０ｍ、中央液晶分子３０ｎ、中央液晶分子３０ｏ及び中央液晶分子３０ｐは、それぞれ平行な方向に傾斜している。【０１５１】
また、ドメイン２８ｊにおける中央液晶分子３０ｊの傾斜方向と、ドメイン２８ｎ及びドメイン２８ｐにおける中央液晶分子３０ｎ及び中央液晶分子３０ｐの傾斜方向とは一致し、ドメイン２８ｌにおける中央液晶分子３０ｌの傾斜方向と、ドメイン２８ｍ及びドメイン２８ｏにおける中央液晶分子３０ｍ及び中央液晶分子３０ｏの傾斜方向とは一致している。しかしながら、表示領域３１のドメイン２８ｉ及びドメイン２８ｋにおける中央液晶分子３０ｉ及び中央液晶分子３０ｋの傾斜方向と一致するドメインは、額縁領域３２には形成されていない。このように、表示領域３１におけるドメイン２８ａ、２８ｂ、２８ｃ、２８ｄの組み合わせと、額縁領域３２におけるドメイン２８ｅ、２８ｆ、２８ｇ、２８ｈの組み合わせとは異なっている。【０１５２】
そして、図２１（ｃ）に示すように、表示領域３１の各ドメイン２８ｉ、２８ｊ、２８ｋ、２８ｌの境界には、実施形態２と同様に、卍形状を含む暗線２７ｉが発生し、一方、図２２（ｃ）に示すように、額縁領域３２の各ドメイン２８ｍ、２８ｎ、２８ｏ、２８ｐの境界には、格子状に暗線２７ｊが発生する。更に、額縁領域３２に発生する暗線２７ｊの幅は、表示領域３１に発生する暗線２７ｉの幅よりも太い。すなわち、額縁領域３２の方が表示領域３１よりも暗線による遮光領域が大きくなる。【０１５３】
このように、本実施形態によれば、パターンが異なる２種の透光部（スリット２５ｋ及びドット２９）により表示領域３１と額縁領域３２とをそれぞれ露光することによって、表示領域３１においては開口に有利なドメインの組み合わせを実現しつつ、一方、額縁領域３２においては開口に不利なドメインの組み合わせを実現することができる。それに対して、従来の液晶表示装置においては、表示領域に形成されるドメインの組み合わせと、額縁領域に形成されるドメインの組み合わせとは同じであるため、額縁領域においても開口に有利となるようドメインが形成されていた。したがって、本実施形態によれば、従来に比べて額縁領域３２における暗線による遮光面積を大きくすることができるので、光漏れの発生を抑制することができる。【０１５４】
なお、本実施形態において、スリット２５ｋとドット２９との幅及びピッチは、適宜設定することができ、好適には、ドット２９の幅及びピッチが、スリット２５ｋの幅及びピッチよりも小さい形態であってもよい。これにより、額縁領域３２における光漏れの発生をより抑制することができる。【０１５５】
（実施形態４）
実施形態４について説明する。なお、本実施形態と実施形態１〜３とでは、露光工程において、フォトマスクの額縁領域に対応する部分に形成された透光部の形態が異なるだけなので、本実施形態と実施形態１〜３とで重複する内容についての説明と図示とは省略する。
図２３は、実施形態４に係る露光工程（１ｓｔショット時）における配向膜（第２基板）の露光態様を示す模式図であり、（ａ）は、フォトマスクの平面図であり、（ｂ）は、第２基板の平面図である。図２４は、実施形態４に係る露光工程（２ｎｄショット時）における配向膜（第２基板）の露光態様を示す模式図であり、（ａ）は、フォトマスクの平面図であり、（ｂ）は、第２基板の平面図である。図２５は、実施形態４に係る液晶表示パネルの１ｓｔショット及び２ｎｄショットにより露光された領域を示す拡大平面模式図であり、（ａ）は、表示領域を示し、（ｂ）額縁領域を示す。【０１５６】
ここでは、第２基板２に対する露光について説明する。本実施形態のフォトマスク２０ｇは、図２３（ａ）に示すように、表示領域３１に対応して設けられたマスク部２１ｆ（第一マスク部）と、額縁領域３２に対応して設けられたマスク額縁部２３ｃ（第二マスク部）とを有する。マスク部２１ｆは、遮光領域内に設けられた複数の平面視矩形状のスリット２５ｌを有する。スリット２５ｌは、その長手方向が基板を正面視したときの横方向に向くように配置されている。スリット２５ｌの幅は、第２基板２を正面視したときの縦方向のサブ画素ピッチの略１／４に設定されており、スリット２５ｌのピッチは、第２基板２を正面視したときの縦方向のサブ画素ピッチの半分と略同一に設定されている。一方、マスク額縁部２３ｃにおいては、遮光領域内に複数の平面視平行四辺形状のスリット２５ｍが斜め方向に設けられている。より具体的には、表示面を正面視したときの水平右方向を０°と規定すると、スリット２５ｍは、その長手方向が１３５°方向に向くように配置されている。また、スリット２５ｍのピッチＰ２は、同一方向において、スリット２５ｌのピッチＰ１と同じ大きさになるように設定されている。そのため、スリット２５ｍの幅（スリットの短手方向における長さ）は、スリット２５ｌの幅よりも小さくなっている。このようにフォトマスク２０ｇのマスク部２１ｆとマスク額縁部２３ｃとには、配列方向が異なるスリットが形成されている。すなわち、スリット２５ｍの長手方向と、スリット２５ｌの長手方向とは、異なっている。【０１５７】
次に、フォトマスク２０ｇを用いた露光方法について説明する。本実施形態において、配向膜はショット方式により露光される。より具体的には、まず、マスク部２１ｆが表示領域３１に対応し、かつマスク額縁部２３ｃが額縁領域３２に対応するように、第２基板２とフォトマスク２０ｆとを配置する。次に、スリット２５ｌと、第２基板２の各サブ画素とを位置合わせした後、実施形態２と同様に、偏光紫外線により第２基板２の面に対して斜め方向から垂直配向膜５ｂの露光（１ｓｔショット）を行う。より具体的には、スリット２５ｌの長手方向に沿う向きに傾斜された方向から垂直配向膜５ｂは露光される。これにより、図２３（ｂ）に示すように、１ｓｔショット時にスリット２５ｌを介して露光された露光領域３４ｉが表示領域３１にストライプ状に形成されるとともに、１ｓｔショット時にスリット２５ｍを介して露光された露光領域３４ｊが額縁領域３２にストライプ状に形成される。ただし、ストライプ状の露光領域３４ｉの長手方向と、ストライプ状の露光領域３４ｊの長手方向とは、４５°ずれている。【０１５８】
次に、図２４（ａ）に示すように、フォトマスク２０ｇを、第２基板２を正面視したときの縦方向にスリット２５ｌのピッチ分だけ移動させる。そして、スリット２５ｌが各サブ画素の未露光領域に対応するように、フォトマスク２０ｇと第２基板２との位置合わせを行う。その後、光源の位置を変える等して、１ｓｔショット時の紫外線の照射方向と反対の方向から配向膜の露光（２ｎｄショット）を行う。これにより、１ｓｔショット時と同様に、図２４（ｂ）に示すように、２ｎｄショット時にスリット２５ｌを介して露光された露光領域３４ｋが表示領域３１にストライプ状に形成されるとともに、２ｎｄショット時にスリット２５ｍを介して露光された露光領域３４ｌが額縁領域３２にストライプ状に形成される。そして、図２５（ａ）に示すように、表示領域３１においては、ストライプ状の露光領域３４ｉ及び露光領域３４ｋが第２基板２を正面視したときの横方向に伸びるように形成される。一方、図２５（ｂ）に示すように、額縁領域３２においては、ストライプ状の露光領域３４ｊ及び露光領域３４ｌが第２基板２を正面視したときの斜め方向に伸びるように形成される。すなわち、このように露光された第２基板２を用いて液晶表示パネルを組み立てた後、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視すると、フォトマスク２０ｇのスリット２５ｌ、２５ｍの境界線に対応して、表示領域３１の露光領域３４ｉ及び露光領域３４ｋの間には暗線が左右方向に発生するとともに、額縁領域３２の露光領域３４ｊ及び露光領域３４ｌの間には暗線が斜め方向に発生することとなる。また、露光領域３４ｊ及び露光領域３４ｌの間に発生する暗線の間隔は、露光領域３４ｉ及び露光領域３４ｋの間に発生する暗線の間隔よりも小さくなる。なお、図２５（ａ）及び（ｂ）において、ｈ１及びｈ２は、１ｓｔショット及び２ｎｄショットの間でのフォトマスク２０ｇのずらし量（移動距離）であり、ｈ１＝ｈ２の関係を有する。【０１５９】
したがって、配列方向が４５°異なる２種のスリット２５ｌ及びスリット２５ｍにより表示領域３１と額縁領域３２とをそれぞれ露光することによって、額縁領域３２の露光領域３４ｊ及び露光領域３４ｌの間に発生する暗線の間隔を、表示領域３１の露光領域３４ｉ及び露光領域３４ｋの間に発生する暗線の間隔よりも小さくすることができる。このように、本実施形態によれば、表示領域３１におけるドメインの形状と、額縁領域３２のドメインの形状とを異ならせ、額縁領域３２においては光漏れの抑制に有利となるようにドメインの形状を設定することができる。それに対して、従来の液晶表示装置においては、表示領域及び額縁領域におけるドメインの形状は同じであり、もちろん表示領域の各露光領域間に発生する暗線の間隔と、額縁領域の各露光領域間に発生する暗線の間隔とは同じであった。したがって、本実施形態によれば、従来に比べて額縁領域３２における暗線による遮光面積を大きくすることができるので、光漏れの発生を抑制することができる。【０１６０】
なお、本実施形態において、スリット２５ｌ及びスリット２５ｍの長手方向がなす角の大きさは、４５°以外に適宜設定することができる。【０１６１】
また、本実施形態において、スリット２５ｌとスリット２５ｍとのピッチは、適宜設定することができ、好適には、スリット２５ｍのピッチが、スリット２５ｌのピッチよりも小さい形態であってもよい。これにより、額縁領域３２における光漏れの発生をより抑制することができる。【０１６２】
以上、実施形態により本発明を詳細に説明したが、本発明の液晶表示装置は、中間調以上の階調を表示して表示画面を正面視したときに、額縁領域の引き出し配線が配置されない領域に対応して暗線が発生してもよい。これにより、額縁領域の引き出し配線がない領域からの光漏れの発生をより効果的に抑制することができる。【０１６３】
また、各実施形態は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよい。【０１６４】
本願は、２００７年４月２０日に出願された日本国特許出願２００７−１１１８２３号を基礎として、パリ条約ないし移行する国における法規に基づく優先権を主張するものである。該出願の内容は、その全体が本願中に参照として組み込まれている。
【図面の簡単な説明】
【０１６５】
【図１】実施形態１に係る液晶表示パネルを示す平面模式図である。
【図２】実施形態１に係る液晶表示パネルの表示領域における構成を示す断面模式図である。
【図３】実施形態１に係る液晶表示パネルの１サブ画素における垂直配向膜に対する光照射方向を示す平面模式図であり、（ａ）第１基板を示し、（ｂ）は、第２基板を示す。なお、図３において、点線矢印は、第１基板に対する光照射方向を、実線矢印は、第２基板に対する光線照射方向を示す。
【図４】実施形態１に係る液晶表示パネルの１サブ画素における垂直配向膜に対する光照射方向と、電圧印加時の液晶分子の配向方向と、偏光板の偏光軸方向とを示す平面模式図である。なお、図４において、点線矢印は、第１基板に対する光照射方向を、実線矢印は、第２基板に対する光線照射方向を示す。また、図４において、液晶分子は、基板を平面視したときの各ドメインの略中央であり、かつ液晶層の厚み方向における略中央に位置する液晶分子を示している。
【図５】（ａ）は、実施形態１に係る第１基板（ＴＦＴアレイ基板）の平面模式図であり、（ｂ）は、実施形態１に係る第２基板（ＣＦ基板）の平面模式図である。
【図６】実施形態１に係る露光工程（１ｓｔスキャン時）におけるスキャン方式による配向膜（基板）の露光態様を示す模式図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、側面図である。なお、図６（ｂ）中、黒線矢印は、偏光紫外線の照射方向（光照射方向）を示し、白抜き矢印は、第１基板の移動方向を示す。
【図７】実施形態１に係る露光工程における配向膜（基板）に対する光の照射態様を示す断面模式図である。
【図８】実施形態１に係る露光工程（２ｎｄスキャン時）におけるスキャン方式による配向膜（基板）の露光態様を示す模式図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、側面図である。なお、図８（ｂ）中、黒線矢印は、偏光紫外線の照射方向（光照射方向）を示し、白抜き矢印は、第１基板の移動方向を示す。
【図９】実施形態１に係る第１基板に対する露光工程（１ｓｔスキャン及び２ｎｄスキャン時）におけるフォトマスクの表示領域に対応する部分の形態（上段）と、上段で示したフォトマスクを介して配向膜が露光された第１基板のサブ画素（下段）とを示す正面模式図であり、図中、黒線矢印は、光照射方向を示す。
【図１０】実施形態１に係る第１基板に対する露光工程（１ｓｔスキャン及び２ｎｄスキャン時）におけるフォトマスクの表示領域及び額縁領域に対応する部分の形態（上段）と、上段で示したフォトマスクを介して配向膜が露光された第１基板の表示領域の隅部近傍（下段）とを示す正面模式図であり、下段の図には、この露光により発生する暗線（灰色線）がイメージとして図示されている。
【図１１】実施形態１に係る第２基板に対する露光工程（１ｓｔスキャン及び２ｎｄスキャン時）におけるフォトマスクの表示領域及び額縁領域に対応する部分の形態（左側）と、上段で示したフォトマスクを介して配向膜が露光された第２基板の表示領域の隅部近傍（右側）とを示す正面模式図であり、右側の図には、この露光により発生する暗線（灰色線）がイメージとして図示されている。
【図１２】中間調以上の階調を表示したときの実施形態１に係る液晶表示装置の表示領域の隅部近傍を示す正面模式図である。
【図１３】実施形態１に係る露光工程におけるショット方式による配向膜（基板）の露光態様を示す模式図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、側面図である。なお、図１３（ｂ）中、黒線矢印は、偏光紫外線の照射方向（光照射方向）を示す。
【図１４】実施形態１に係る基板に対する露光工程におけるフォトマスクの表示領域及び額縁領域に対応する部分の別の形態（上段）と、上段で示したフォトマスクを介して配向膜が露光された基板の表示領域の端部近傍（下段）とを示す正面模式図であり、下段の図には、この露光により発生する暗線（灰色線）がイメージとして図示されている。
【図１５】実施形態２に係る露光工程（１ｓｔショット時）における配向膜（第２基板）の露光態様を示す模式図であり、（ａ）は、フォトマスクの平面図であり、（ｂ）は、第２基板の平面図である。
【図１６】実施形態２に係る露光工程（２ｎｄショット時）における配向膜（第２基板）の露光態様を示す模式図であり、（ａ）は、フォトマスクの平面図であり、（ｂ）は、第２基板の平面図である。
【図１７】実施形態２に係る液晶表示パネルの表示領域に位置する１サブ画素を示す平面模式図であり、（ａ）は、垂直配向膜に対する光照射方向を示し、（ｂ）電圧印加時の液晶分子の配向方向を示し、（ｃ）は、中間調以上の階調を表示したときに発生する暗線を示す。なお、図１７（ａ）において、実線矢印は、第１基板に対する光照射方向を、点線矢印は、第２基板に対する光線照射方向を示す。また、図１７（ｂ）において、液晶分子は、基板を平面視したときの各ドメインの略中央であり、かつ液晶層の厚み方向における略中央に位置する液晶分子を示している。
【図１８】実施形態２に係る液晶表示パネルの額縁領域に位置する１サブ画素を示す平面模式図であり、（ａ）は、垂直配向膜に対する光照射方向を示し、（ｂ）電圧印加時の液晶分子の配向方向を示し、（ｃ）は、中間調以上の階調を表示したときに発生する暗線を示す。なお、図１８（ａ）において、実線矢印は、第１基板に対する光照射方向を、点線矢印は、第２基板に対する光線照射方向を示す。また、図１８（ｂ）において、液晶分子は、基板を平面視したときの各ドメインの略中央であり、かつ液晶層の厚み方向における略中央に位置する液晶分子を示している。
【図１９】実施形態３に係る露光工程（１ｓｔショット時）における配向膜（第２基板）の露光態様を示す模式図であり、（ａ）は、フォトマスクの平面図であり、（ｂ）は、第２基板の平面図である。
【図２０】実施形態３に係る露光工程（２ｎｄショット時）における配向膜（第２基板）の露光態様を示す模式図であり、（ａ）は、フォトマスクの平面図であり、（ｂ）は、第２基板の平面図である。
【図２１】実施形態３に係る液晶表示パネルの表示領域に位置する１サブ画素を示す平面模式図であり、（ａ）は、垂直配向膜に対する光照射方向を示し、（ｂ）電圧印加時の液晶分子の配向方向を示し、（ｃ）は、中間調以上の階調を表示したときに発生する暗線を示す。なお、図２１（ａ）において、実線矢印は、第１基板に対する光照射方向を、点線矢印は、第２基板に対する光線照射方向を示す。また、図２１（ｂ）において、液晶分子は、基板を平面視したときの各ドメインの略中央であり、かつ液晶層の厚み方向における略中央に位置する液晶分子を示している。
【図２２】実施形態３に係る液晶表示パネルの額縁領域に位置する１サブ画素を示す平面模式図であり、（ａ）は、垂直配向膜に対する光照射方向を示し、（ｂ）電圧印加時の液晶分子の配向方向を示し、（ｃ）は、中間調以上の階調を表示したときに発生する暗線を示す。なお、図２２（ａ）において、実線矢印は、第１基板に対する光照射方向を、点線矢印は、第２基板に対する光線照射方向を示す。また、図２２（ｂ）において、液晶分子は、基板を平面視したときの各ドメインの略中央であり、かつ液晶層の厚み方向における略中央に位置する液晶分子を示している。
【図２３】実施形態４に係る露光工程（１ｓｔショット時）における配向膜（第２基板）の露光態様を示す模式図であり、（ａ）は、フォトマスクの平面図であり、（ｂ）は、第２基板の平面図である。
【図２４】実施形態４に係る露光工程（２ｎｄショット時）における配向膜（第２基板）の露光態様を示す模式図であり、（ａ）は、フォトマスクの平面図であり、（ｂ）は、第２基板の平面図である。
【図２５】実施形態４に係る液晶表示パネルの１ｓｔショット及び２ｎｄショットにより露光された領域を示す拡大平面模式図であり、（ａ）は、表示領域を示し、（ｂ）額縁領域を示す。
【符号の説明】
【０１６６】
１：第１基板
２：第２基板
３：液晶層
３ａ、３ｂ：液晶分子
４ａ、４ｂ：透明電極
５ａ、５ｂ：垂直配向膜
６ａ、６ｂ：偏光板
７ａ、７ｂ：位相差板
８：サブ画素
９：走査信号線
１０：データ信号線
１１：ＴＦＴ
１２：画素電極
１３：ブラックマトリクス（ＢＭ）
１４：カラーフィルタ
１５：光線（偏光紫外線）
１６：プロキシミティギャップ
１７：プレチルト角
１８：基板
１９：引き出し配線
２０ａ、２０ｂ、２０ｃ、２０ｄ、２０ｅ、２０ｆ、２０ｇ：フォトマスク
２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、２１ｄ、２１ｅ、２１ｆ：マスク部
２２ａ、２２ｂ、２２ｃ：マスク微細部
２３ａ、２３ｂ、２３ｃ：マスク額縁部
２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄ、２５ｅ、２５ｆ、２５ｇ、２５ｈ、２５ｉ、２５ｊ、２５ｋ、２５ｌ、２５ｍ：スリット
２６ａ、２６ｂ：絶縁基板
２７ａ、２７ｂ、２７ｃ、２７ｄ、２７ｅ、２７ｆ、２７ｇ、２７ｈ、２７ｉ、２７ｊ：暗線
２８ａ、２８ｂ、２８ｃ、２８ｄ、２８ｅ、２８ｆ、２８ｇ、２８ｈ、２８ｉ、２８ｊ、２８ｋ、２８ｌ、２８ｍ、２８ｎ、２８ｏ、２８ｐ：ドメイン
２９：ドット
３０ａ、３０ｂ、３０ｃ、３０ｄ、３０ｅ、３０ｆ、３０ｇ、３０ｈ、３０ｉ、３０ｊ、３０ｋ、３０ｌ、３０ｍ、３０ｎ、３０ｏ、３０ｐ：中央液晶分子
３１：表示領域
３２：額縁領域
３３：端子領域
３４ａ、３４ｂ、３４ｃ、３４ｄ、３４ｅ、３４ｆ、３４ｇ、３４ｈ、３４ｉ、３４ｊ、３４ｋ、３４ｌ：露光領域
１００：液晶表示パネル
２００：液晶表示装置
Ｐ：偏光板６ａの偏光軸方向
Ｑ：偏光板６ｂの偏光軸方向
Ａ、Ｂ：方向
Ｒ：赤の着色層
Ｇ：青の着色層
Ｂ：緑の着色層
Ｗａ、Ｗｂ、Ｗｃ、Ｗｄ：暗線のピッチ（間隔）
Ｐ１、Ｐ２：スリットのピッチ（間隔）
ｈ１、ｈ２：フォトマスクのずらし量（移動距離）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【国際調査報告】
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