【手続補正書】
【提出日】平成16年12月9日(2004.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  全沸点範囲の炭化水素フィードの改質方法であって、
ａ）前記炭化水素をＣ5−カット、Ｃ6−Ｃ7カット及びＣ8＋カットに分離する工程と；
ｂ）前記Ｃ6−Ｃ7カットを、第１リホーマーにおいて水素の存在下、少なくとも１種類のＶＩＩＩ族金属と非酸性ゼオライトとを含む非酸性触媒を用いて、高温における接触芳香族化にさらして、ベンゼンを含む第１リホーメート流と水素を含む第１ガス流とを生成する工程と、
ｃ）前記Ｃ8＋カットを、第２リホーマーにおいて水素フィードの存在下、少なくとも１種類のＶＩＩＩ族金属と担体とを含む酸性触媒を用いて、高温における接触芳香族化にさらして、キシレンを含めたＣ8芳香族化合物を含む第２リホーメート流と水素を含む第２ガス流とを生成する工程と
を含む前記工程であって、しかも、前記第１ガス流の少なくとも一部を第２リホーマーに供給して、前記水素フィードの少なくとも一部を形成する、前記方法。
【請求項２】  並列に操作される２つの改質帯において炭化水素を改質する方法であって、
（ａ）Ｃ6−Ｃ7カットを含む炭化水素を単機能非酸性芳香族化触媒上で改質条件において改質して、ベンゼンを含むリホーメートと、少なくとも８８モル％の水素純度を有する水素を含むガスとを形成する工程と、
（ｂ）水素を含むガスの少なくとも一部と、Ｃ8＋カットを含む炭化水素フィードとを改質条件下で二機能リホーマーに供給して、キシレンを含むＣ8芳香族生成物を形成する工程と
を含む前記方法。
【請求項３】  前記第１ガス流が少なくとも９０モル％水素を含む、請求項１記載の方法。
【請求項４】  Ｃ8＋カットの接触芳香族化への前記水素フィードの本質的に総てが前記第１ガス流を含む、請求項１記載の方法。
【請求項５】  非酸性ゼオライトが一次元チャンネル構造を有する大孔質ゼオライトである、請求項１記載の方法。
【請求項６】  非酸性ゼオライトがゼオライトＬ、ＺＳＭ−１０及びモルデナイトから成る群から選択される、請求項１記載の方法。
【請求項７】  非酸性触媒が白金であるＶＩＩＩ族金属を含む、請求項１記載の方法。
【請求項８】  酸性触媒がアルミナ付き白金−スズ、アルミナ付き白金−レニウム、アルミナ付き白金、及びアルミナ付き白金−イリジウム、並びにβゼオライト付きＰｔＣｓから成る群から選択される、請求項１記載の方法。
【請求項９】  ２つの改質帯において炭化水素を改質する方法であって、
（ａ）Ｃ6＋カットを含む炭化水素を単機能非酸性芳香族化触媒上で改質条件において改質して、ベンゼンを含むリホーメートと、少なくとも８８モル％の水素純度を有する水素を含むガスとを形成する工程と、
（ｂ）水素を含むガスの少なくとも一部と、ナフサを含む炭化水素フィードとを改質条件下で二機能改質触媒を含む二機能リホーマーに供給して、第２リホーメートを形成する工程と
を含む前記方法。
【請求項１０】  単機能非酸性芳香族化触媒が白金Ｌゼオライトである、請求項９記載の方法。
【請求項１１】  二機能改質触媒がアルミナ付き白金−スズ、アルミナ付き白金−レニウム、アルミナ付き白金、アルミナ付き白金−イリジウム、並びにβゼオライト付きＰｔＣｓから成る群から選択される、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】  水素を含む前記ガスが少なくとも９０モル％水素を含有する、請求項２記載の方法。
【請求項１３】  第１リホーマーと第２リホーマーとが共通再循環コンプレッサーを共用する、請求項１記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
2002522626.tif 000001
式中、
Ｗ＝ガス重量（ｌｂ／秒）
ｋ＝Ｃp／Ｃv，一定圧力と体積における比熱の比率
Ｒ＝気体定数−Ｆｔ−ＬＢ／Ｍｏｌｅ−0Ｒ
Ｔ1＝吸引温度−0Ｒ
Ｐ1＝吸引圧力−ｐｓｉａ
Ｐ2＝放出圧力−ｐｓｉａ
本発明に関して、更に以下の内容を開示する。
（１）  全沸点範囲の炭化水素フィードの改質方法であって、
ａ）前記炭化水素をＣ5−カット、Ｃ6−Ｃ7カット及びＣ8＋カットに分離する工程と；
ｂ）前記Ｃ6−Ｃ7カットを、第１リホーマーにおいて水素の存在下、少なくとも１種類のＶＩＩＩ族金属と非酸性ゼオライトとを含む非酸性触媒を用いて、高温における接触芳香族化にさらして、ベンゼンを含む第１リホーメート流と水素を含む第１ガス流とを生成する工程と、
ｃ）前記Ｃ8＋カットを、第２リホーマーにおいて水素フィードの存在下、少なくとも１種類のＶＩＩＩ族金属と担体とを含む酸性触媒を用いて、高温における接触芳香族化にさらして、キシレンを含めたＣ8芳香族化合物を含む第２リホーメート流と水素を含む第２ガス流とを生成する工程と
を含む前記工程であって、しかも、前記第１ガス流の少なくとも一部を第２リホーマーに供給して、前記水素フィードの少なくとも一部を形成する、前記方法。
（２）  並列に操作される２つの改質帯において炭化水素を改質する方法であって、
（ａ）Ｃ6−Ｃ7カットを含む炭化水素を単機能非酸性芳香族化触媒上で改質条件において改質して、ベンゼンを含むリホーメートと、少なくとも８８モル％の水素純度を有する水素を含むガスとを形成する工程と、
（ｂ）水素を含むガスの少なくとも一部と、Ｃ8＋カットを含む炭化水素フィードとを改質条件下で二機能リホーマーに供給して、キシレンを含むＣ8芳香族生成物を形成する工程と
を含む前記方法。
（３）  前記第１ガス流が少なくとも９０モル％水素を含む、（１）記載の方法。
（４）  Ｃ8＋カットの接触芳香族化への前記水素フィードの本質的に総てが前記第１ガス流を含む、（１）記載の方法。
（５）  前記第１ガス流が少なくとも９２モル％水素を含む、（１）記載の方法。
（６）  非酸性ゼオライトが一次元チャンネル構造を有する大孔質ゼオライトである、（１）記載の方法。
（７）  非酸性ゼオライトがゼオライトＬ、ＺＳＭ−１０及びモルデナイトから成る群から選択される、（１）記載の方法。
（８）  非酸性触媒が白金であるＶＩＩＩ族金属を含む、（１）記載の方法。
（９）  非酸性ゼオライトがゼオライトＬである、（１）記載の方法。
（１０）  酸性触媒がアルミナ付き白金−スズ、アルミナ付き白金−レニウム、アルミナ付き白金、及びアルミナ付き白金−イリジウム、並びにβゼオライト付きＰｔＣｓから成る群から選択される、（１）記載の方法。
（１１）  非酸性触媒が白金ゼオライトＬを含む、（１）記載の方法。
（１２）  ２つの改質帯において炭化水素を改質する方法であって、
（ａ）Ｃ6＋カットを含む炭化水素を単機能非酸性芳香族化触媒上で改質条件において改質して、ベンゼンを含むリホーメートと、少なくとも８８モル％の水素純度を有する水素を含むガスとを形成する工程と、
（ｂ）水素を含むガスの少なくとも一部と、ナフサを含む炭化水素フィードとを改質条件下で二機能改質触媒を含む二機能リホーマーに供給して、第２リホーメートを形成する工程と
を含む前記方法。
（１３）  単機能非酸性芳香族化触媒が白金Ｌゼオライトである、（１２）記載の方法。
（１４）  二機能改質触媒がアルミナ付き白金−スズ、アルミナ付き白金−レニウム、アルミナ付き白金、アルミナ付き白金−イリジウム、並びにβゼオライト付きＰｔＣｓから成る群から選択される、（１３）記載の方法。
（１５）  水素を含む前記ガスが少なくとも９０モル％水素を含有する、（２）記載の方法。
（１６）  水素を含む前記ガスが少なくとも９２モル％水素を含有する、（２）記載の方法。
（１７）  第１リホーマーと第２リホーマーとが共通再循環コンプレッサーを共用する、（１）記載の方法。