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【手続補正書】
【提出日】平成17年5月2日(2005.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】容量式センサ並びに容量式センサの製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板（１０１）と、第１の電極（１０２）と、第２の電極（２０２）と、第１の層（２０１）を有する容量式センサであって、
前記第１の層（２０１）は、半導体構成素子に外部から作用する媒体に対して、進入可能であり、
前記第１の層（２０１）は、少なくとも部分的に前記第１の電極と第２の電極の間に配置されており、
前記第１の層（２０１）は孔（３０１）を有しており、当該孔に前記媒体が少なくとも部分的に達する形成の容量式センサにおいて、
少なくとも１つの電極（１０２，２０２）は適切にドーピングされた半導体層によって構成されており、
ドーピングされた半導体層（２０２，６０３）は、第２の多孔性の層（４０１）をあらわす、
ことを特徴とする容量式センサ。
【請求項２】
前記媒体は、殊に湿気を有している空気のような気体または液体である、請求項１記載の容量式センサ。
【請求項３】
前記半導体基板（１０１）はシリコンから成る、請求項１記載の容量式センサ。
【請求項４】
前記第２の層（４０１）の気孔率、すなわち材料に対する孔の体積の割合は、第１の多孔性層（３０１）の気孔率より低い、請求項１記載の容量式センサ。
【請求項５】
前記媒体は、第２の多孔性層（４０１）を介して完全にまたは部分的に前記第１の多孔性層（３０１）に達する、請求項１または４記載の容量式センサ。
【請求項６】
前記第１の電極および第２の電極（６０１, ６０２）は実質的に同じ高さに、相互に間隔を有して配置されている、請求項１から５までのいずれか１項記載の容量式センサ。
【請求項７】
前記第１の電極および第２の電極（１００１, １００２）はインターデジタル構造体（１０００）を構成している、請求項１から６までのいずれか１項記載の容量式センサ。
【請求項８】
前記第１および／または第２の電極（１０２, ２０２）および／または前記第１の多孔性の層（３０１）は、第３の多孔性の層（６０３）によって覆われている、ないし保護されている、請求項１から７までのいずれか１項記載の容量式センサ。
【請求項９】
前記容量式センサは湿度センサ（２００，３００，４００，５００，６００，７００，８００）をあらわす、請求項１から８までのいずれか１項記載の容量式センサ。
【請求項１０】
請求項１から９までのいずれか１項記載の容量式センサの製造方法であって、
第１の多孔性の層（３０１）を少なくとも１つのエッチング媒体によるエッチングによって作成し、
少なくとも１つの電極（１０２，２０２）を作成するために半導体層を適切にドーピングし、
当該半導体層をエッチングによって第２の多孔性の層（４０１）に作り変える、
ことを特徴とする、容量式センサの製造方法。
【請求項１１】
前記エッチング媒体は少なくとも部分的にフッ酸から成る、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記エッチング媒体は少なくとも添加物を有しており、
当該添加物は例えばブリスター形成を減少させるための添加物、湿れを改善するための添加物および／または乾燥を改善するための添加物である、請求項１０記載の方法。
【請求項１３】
添加物として、アルコール、例えばエタノールを使用し、当該添加物の体積濃度は約３０％〜約９０％である、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
前記第１および／または第２の多孔性の層（３０１, ４０１）を、半導体構成素子の上側と下側との間で電界をかけ、かつ前記エッチング媒体を流れる電流を調整して作成する、請求項１０から１３記載の方法。
【請求項１５】
前記第１および／または第２の多孔性の層（３０１, ４０１）の気孔率の程度および／または前記第１および／または第２の多孔性の層の孔の拡大を、プロセスパラメータ、すなわち前記エッチング媒体における電流密度、前記エッチング媒体におけるフッ酸濃度、前記エッチング媒体への添加物、温度、ドーピング、電流の持続時間のうちの１つまたは複数を変えることによって制御する、請求項１０から１４までのいずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月14日(2004.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配列された試験管の開口した口を密封する密封マットは、
可撓性キャリアシートであって、そこから突き出て、互いに間隔をあけて配された止め釘の配列を備える可撓性キャリアシートと、
前記試験管配列の開口した口に挿入され、該開口を密封する外形形状および寸法に設定された複数の栓であって、該各栓が、前記止め釘の１つを受け入れ、止め釘との摩擦力による噛み合いに協調的に働く内部形状および寸法に設定された上向きの穴を備えることによって、確実でありながらも着脱可能に、前記栓を前記キャリアシートに固定する複数の栓と、
を含み、
前記キャリアシートは、前記穴から前記止め釘を抜く撓曲によって、試験管に挿入された栓から分離できることを特徴とする密封マット。
【請求項２】
請求項１に記載の密封マットであって、
前記止め釘と前記穴が、空間によって分離され、間隔をあけて配される位置において、摩擦力による噛み合いに協調的に働くように構成されることを特徴とする密封マット。
【請求項３】
請求項１または２に記載の密封マットであって、
前記試験管の開口した口を円形の縁が取り囲むと共に、前記栓が、前記縁と接触するように配置された外周つばを備えることによって、前記栓が前記試験管内に挿入される程度が規定されることを特徴とする密封マット。
【請求項４】
請求項３に記載の密封マットであって、
前記穴が、前記つばに囲まれ、かつ、前記つばより内側に、間隔をあけて配されることを特徴とする密封マット。
【請求項５】
請求項１に記載の密封マットであって、
前記栓が、傾斜頭部の端面を持つ円筒形の側面壁を有することを特徴とする密封マット。
【請求項６】
請求項５に記載の密封マットであって、
前記栓が、前記円筒形の側面壁から外に向かって放射状に突き出た外周つばを備えることを特徴とする密封マット。
【請求項７】
請求項１に記載の密封マットであって、
前記栓に対して、前記試験管上部領域内の内部溝と協調的に働くように構成された円形ビードが設けられていることを特徴とする密封マット。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月10日(2005.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸着媒体を含む吸着メソチャンネルを含む吸着層；及び
該吸着層と熱接触している熱交換器
を含む吸着ポンプであって；
該熱交換器が少なくとも１本のマイクロチャンネルを含み；且つ
ガスが最初に接触器を通過せずに吸着媒体と直接接触するように、該吸着層がガス入口を有する
前記吸着ポンプ。
【請求項２】
少なくとも２本の吸着メソチャンネルを含む吸着ポンプであって、該吸着メソチャンネルそれぞれが吸着媒体を含み且つ少なくとも３つの熱交換器層と交互に配置されていて、該熱交換器層それぞれが少なくとも１本のマイクロチャンネルを含む前記吸着ポンプ。
【請求項３】
吸着層中にガスを通して該ガスの少なくとも一部を吸着媒体上へと吸着させて吸着されたガスを形成させる工程、及び該吸着層から、２ｍｍ以下の距離を介して熱交換器層中へと熱を選択的に除去する工程
を含むガス吸着脱着法であって；
該ガスが、最初に接触器材料中を通らずに、該吸着媒体と直接接触し；
該距離を、該吸着層の中心線から、該熱交換器層の中心線まで測定し；
次に、熱交換器から２ｍｍ以下の距離を介して該吸着媒体を加熱して、ガスを脱着させ；
該距離を、該吸着層の中心線から該熱交換器層の中心線まで測定する
前記ガス吸着脱着法。
【請求項４】
１立方センチメートルあたり０．５ワットの熱伝達出力密度で、吸着セル内において、熱が、吸着チャンネルと熱交換チャンネルとの間で交換される請求項３記載の方法。    
【請求項５】
該ガスの少なくとも一部が該吸着媒体上へと吸着される第一吸着媒体を含む第一吸着層中に該ガスを通す工程、及び１ｃｍ以下の距離を介して第一交換器中へと該吸着層と熱交換する第一工程
を含むガス吸着脱着法であって；
該距離を、該吸着層の中心線から該熱交換器の中心線まで測定し；
次に、第二工程において、該吸着媒体が、該第一熱交換器から、１ｃｍ以下の距離を介して熱交換して、ガスを脱着し；
該距離を、該吸着層の中心線から、該熱交換器の中心線まで測定し；
該第一工程と同時に、熱交換器流体は、該熱交換器中を流れ、該吸着層と熱交換し、次に、該熱交換流体は、第二吸着層と熱交換し且つ第二吸着媒体を含む第二吸着層を冷却する第二熱交換器中へと流れる
前記ガス吸着脱着法。
【請求項６】
ガスを吸着層中に通し、該ガスの少なくとも一部を吸着媒体上へと吸着させて、吸着されたガスを形成させ、且つ１ｃｍ以下の距離を介して、熱交換器へと、該吸着層からの熱を選択的に除去する工程；
次に、熱交換器から１ｃｍ以下の距離を介して、該吸着媒体を選択的に加熱して、ガスを脱着させる工程
を含むガス吸着脱着法。
【請求項７】
それぞれのセルが少なくとも１つの熱交換器と熱接触している少なくとも１本の吸着メソチャンネルを含む少なくとも４つの吸着／脱着セル
を含むガス吸着脱着装置であって、
該吸着チャンネルが吸着媒体を含み；
該装置が熱源及びヒートシンクに接続していて；且つ
各熱交換器と該熱源及び該ヒートシンクとの間に導管、また、各セル中にある少なくとも１つの熱交換器と別のセル中にある少なくとも１つの熱交換器との間にも導管を含む
前記ガス吸着脱着装置。
【請求項８】
少なくとも１本の吸着メソチャンネルと少なくとも１つの熱交換器とを含むガス吸着脱着装置において；
少なくとも１本の吸着メソチャンネル中にある吸着媒体中にガスを吸着させ、それと同時に、該吸着媒体から熱吸収熱交換器中へと熱を除去する工程；
次に、熱供給熱交換器から、少なくとも１本の吸着メソチャンネル中にある該吸着媒体へと熱を加えて、該吸着媒体からガスを脱着させる工程
を含むガス吸着脱着法であって；
ガス吸着とガス脱着とを組合せた工程が完全なサイクルを形成し；及び
完全なサイクリングにおいて、装置１リットルあたり１分間に少なくとも０．１モルのガスが吸着及び脱着される、
前記ガス吸着脱着法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月19日(2005.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）ＴＥＤＡを含む少なくとも一種の固体有機化合物を複数のフィルタ媒体粒子上に昇華させるステップと、
（ｂ）前記昇華の少なくとも一部の間、流体含浸剤を、フィルタ媒体粒子に非バルク接触によって接触させ、その中に組み込むステップと、
を包含する、フィルタ媒体を製造する方法。
【請求項２】
固体有機化合物とフィルタ媒体粒子との重量比が約０．１：１００〜約１０：１００の範囲内である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
更にピペラジンを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
ＴＥＤＡとピペラジンとの重量比が１：２０〜２０：１の範囲内である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記流体が水を含み、ステップ（ｂ）が、前記粒子を、粒子１００重量部に対して０．０５〜２重量部の水と非バルク接触させるステップを包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記水の少なくとも一部が、スチームまたは噴霧スプレーの形態である、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記水が粒子と１〜１２０分間にわたって非バルク接触させられる、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
ステップ（ａ）および（ｂ）の少なくとも一部が、減圧下で行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記フィルタ媒体粒子の少なくとも一部が、少なくとも一種の金属含浸剤を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記フィルタ媒体粒子の少なくとも一部が、Ｃｕ、Ｚｎ、又はＭｏ含浸剤を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
（ａ）複数のフィルタ媒体粒子と複数の固体ＴＥＤＡ粒子とを混合して、固体混合物を形成するステップと、
（ｂ）該ＴＥＤＡの少なくとも一部を前記フィルタ媒体粒子上に昇華させるのに有効な条件下で、該固体混合物を加熱するステップと、
（ｃ）該固体混合物を加熱しながら、該粒子を流体含浸剤と非バルク接触させるステップと、
を包含する、フィルタ媒体を製造する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2004535283.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月11日(2004.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に堆積した際の幅をもつ液滴を発射する多数の離間したノズルを備えたマイクロデポジションヘッドと；
上記基板に対して上記マイクロデポジションヘッドをヘッド速度で動かす位置決め装置と；
上記液滴の幅で割り算した上記ヘッド速度より実質的に高い速度でオーバークロッキング信号を発生し、上記位置決め装置用の位置制御信号を発生する位置決めモジュール及び上記基板上の特徴を画定する液滴を形成するように上記ノズルを作動するため上記オーバークロッキングの速度に基いてノズル作動コマンドを発生するノズル作動モジュールを備えた制御装置と；
を有することを特徴とする基板上に精確な量の流動材料を堆積するマイクロデポジションシステム。
【請求項２】
上記オーバークロッキング信号が上記液滴の幅で割り算した上記ヘッド速度の三倍以上であることを特徴とする請求項１に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項３】
上記マイクロデポジションシステムが電気装置の層の一部を形成し、上記液滴が光エミッタ−、導体、レジスト、電気トレース、絶縁体、コンデンサ及び抵抗の少なくとも一つを形成していることを特徴とする請求項１に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項４】
さらに、上記マイクロデポジションヘッドに接続されたヘッドアセンブリーを有し、上記位置決めモジュールが上記ヘッドアセンブリーを回転させることによって上記マイクロデポジションヘッドのピッチを調整し、上記ノズル作動モジュールが上記ピッチの変化を補償するため上記オーバークロッキング信号を用いて上記ノズル作動コマンドのタイミングを調整することを特徴とする請求項１に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項５】
上記オーバークロッキング信号が上記液滴の幅で割り算した上記ヘッド速度のほぼ十倍であることを特徴とする請求項４に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項６】
さらに、
上記液滴のデジタル画像を発生する第１のカメラと；
上記液滴の形状、大きさ、位置及び速度の少なくとも一つを分析するために光学認識を用いそして少なくとも一つのノズル作動パラメーターを調整する液滴分析モジュールと；
を有することを特徴とする請求項１に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項７】
ノズル作動パラメーターが、タイミング、振幅、持続時間、立上りこう配及び立下りこう配の少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項６に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項８】
上記マイクロデポジションヘッドが、熱マイクロデポジションヘッド、バブルマイクロデポジションヘッド、連続ドロップマイクロデポジションヘッド、圧電変換器バルブ及びマイクロ電機バルブから成る群から選択されることを特徴とする請求項６に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項９】
さらに、上記ノズルの各々について少なくとも一つのノズル作動波形を調整できる波形発生装置を有し、上記波形発生装置が、上記ノズルの各々について該ノズルの動作条件に基いて多数のノズル作動波形の一つを選択するセレクターを備えていることを特徴とする請求項６に記載のマイクロデポジションシステム。
【請求項１０】
ノズルを備えたマイクロデポジションヘッドを設けること；
基板に対して上記マイクロデポジションヘッドをあるヘッド速度で動かすこと；
堆積した液滴の幅で割り算した上記ヘッド速度より実質的に高い速度でオーバークロッキング信号を発生すること；
上記ノズルを作動するため上記オーバークロッキングの速度に基いてノズル作動コマンドを発生すること；及び
上記基板上に特徴を形成すること；
を含むことを特徴とする基板上に精確な量の流動材料を堆積する方法。
【請求項１１】
上記オーバークロッキング信号が上記液滴の幅で割り算した上記ヘッド速度の三倍以上であることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
上記マイクロデポジションシステムが電気装置の一部を形成し、上記液滴が光エミッタ−、導体、レジスト、電気トレース、絶縁体、コンデンサ及び抵抗の少なくとも一つを形成していることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
さらに、上記マイクロデポジションヘッドのピッチを調整することを含み、上記ノズル作動モジュールが上記オーバークロッキング信号を用いて上記ノズル作動コマンドのタイミングを調整して上記ピッチに対する変化を補償するもむことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
上記オーバークロッキング信号が特徴分解能を高めることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
さらに、
上記液滴のデジタル画像を発生すること；及び
上記液滴の形状、大きさ、位置及び速度の少なくとも一つを分析するために光学認識を用いること；及び
少なくとも一つのノズル作動パラメーターを調整すること
を含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】
上記ノズル作動パラメーターが、タイミング、振幅、持続時間、立上りこう配及び立下りこう配の少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
上記マイクロデポジションヘッドが、熱マイクロデポジションヘッド、バブルマイクロデポジションヘッド、連続ドロップマイクロデポジションヘッド、圧電変換器バルブ及びマイクロ電機バルブから成る群から選択されることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１８】
さらに、上記ノズルの少なくとも一つのノズル作動波形を調整することを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１９】
さらに、上記ノズルの各々について該ノズルの動作条件に基いて多数のノズル作動波形の一つを選択することを含むことを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
上記オーバークロッキング信号が上記液滴の幅で割り算した上記ヘッド速度のほぼ十倍であることを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月16日(2004.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス精製システムであって、
反応器容積部及び反応器壁を有する反応器を備え、前記反応器壁は、内方側部と外方側部を備え、これらの間に混合ガス流のための連通門部を構成しており、
反応器容積部内に設けられていて、導管壁を有する加熱導管を備え、前記導管壁は、内方側部及び外方側部を備え、これらを貫通していて、加熱された物質を反応器容積部中に通すチャネルを構成しており、
導管壁の外方側部に被着された反応触媒被膜と、
反応器壁と導管壁との間に位置した状態で反応器容積部内に設けられたガス選択性メンブレンとを備え、前記ガス選択性メンブレンは、混合ガス流と接触しており、混合ガス流の成分ガスを選択的に通過させて混合ガス流のラフィネートが前記メンブレンと接触状態に保持されるようになっており、
更に、前記ラフィネートを前記ガス選択性メンブレンとの接触状態から除去する出口チャネルと、
成分ガスを前記反応器の内部から除去する通路と、
備えることを特徴とするガス精製システム。
【請求項２】
反応器用加熱器を更に有していることを特徴とする請求項１記載のガス精製システム。
【請求項３】
前記導管壁の内方側部と接触状態にある燃焼触媒を更に有していることを特徴とする請求項１記載のガス精製システム。
【請求項４】
隙間空間が、前記反応触媒被膜と前記メンブレンとの間に存在していることを特徴とする請求項１記載のガス精製システム。
【請求項５】
隙間空間は、０．０５インチ〜１．０インチ（１．２７ｍｍ〜２５．４ｍｍ）であることを特徴とする請求項３記載のガス精製システム。
【請求項６】
隙間空間は、層流ディスラプタを有していることを特徴とする請求項３記載のガス精製システム。
【請求項７】
層流ディスラプタは、充填物、粒子、メッシュワイヤ、ウール、グラニュール、ペレット及び流動触媒から成る群から選択されることを特徴とする請求項６記載のガス精製システム。
【請求項８】
前記加熱導管及び前記メンブレンから成る群から選択された少なくとも１つの物体と熱的接触状態にある熱伝達要素を更に有していることを特徴とする請求項１記載のガス精製システム。
【請求項９】
熱伝達要素は、フィンであることを特徴とする請求項８記載のガス精製システム。
【請求項１０】
フィンは、反応触媒で被覆されていることを特徴とする請求項９記載のガス精製システム。
【請求項１１】
フィンを貫通してガス連通孔が設けられていることを特徴とする請求項１０記載のガス精製システム。
【請求項１２】
供給管の外壁に施された燃焼触媒を更に有していることを特徴とする請求項１記載のガス精製システム。
【請求項１３】
前記反応器に関して、ディンプル、突起、充填物、メッシュワイヤ、ウール、グラニュール、ペレット触媒、流動触媒、バッフル及び湾曲メンブレンから成る群から選択されたフローディスラプタを更に有していることを特徴とする請求項１記載のガス精製システム。
【請求項１４】
前記加熱導管内をスイープガスが流れていることを特徴とする請求項２０記載のガス精製システム。
【請求項１５】
門部を通して混合ガス流を前記反応器内へ運び込む供給液体圧縮手段を更に有していることを特徴とする請求項１記載のガス精製システム。
【請求項１６】
複数の前記メンブレンを更に有していることを特徴とする請求項１記載のガス精製システム。
【請求項１７】
前記メンブレンは、水素選択性があり、成分ガスは、水素であることを特徴とする請求項１記載のガス精製システム。
【請求項１８】
触媒被膜は、メタノール改質触媒から成ることを特徴とする請求項１記載のガス精製システム。
【請求項１９】
触媒被膜は、アンモニア分解触媒から成ることを特徴とする請求項１記載のガス精製システム。
【請求項２０】
ガス精製システムであって、
反応器容積部及び反応器壁を有していて、室温よりも高い温度で動作する反応器を備え、前記反応器壁は、内方側部と外方側部を有し、これらの間に混合ガス流のための連通門部を構成しており、
反応器容積部内に設けられたガス選択性メンブレンを備え、前記ガス選択性メンブレンは、混合ガス流と接触状態にあり、混合ガス流の成分ガスを選択的に通過させて、混合ガス流のラフィネートが前記メンブレンと接触状態に保持されるようになっており、
更に、前記ラフィネートを前記ガス選択性メンブレンとの接触状態から除去する出口チャネルと、
前記出口チャネルと流体連通状態にあるラフィネート圧縮機と、
成分ガスを前記反応器の内部から除去する通路と、
備えることを特徴とするガス精製システム。
【請求項２１】
ラフィネート圧縮機は、ベンチュリであることを特徴とする請求項２０記載のガス精製システム。
【請求項２２】
成分ガスによって動力供給される燃料電池を更に有していることを特徴とする請求項２０記載のガス精製システム。
【請求項２３】
通路は、供給導管にろう付けされていることを特徴とする請求項２０記載のガス精製システム。
【請求項２４】
ラフィネートバーナ、混合ガス流供給ポンプ、ラフィネート背圧制御装置及び酸素センサから成る群から選択された少なくとも１つの構成要素が、ガス精製システムに結合されていることを特徴とする請求項２０記載のガス精製システム。
【請求項２５】
ガス精製システムであって、
反応器容積部及び反応器壁を有し、室温よりも高い温度で動作する反応器を備え、前記反応器壁は、内方側部と外方側部を備え、これらの間に混合ガス流のための連通門部を構成しており、
前記反応器容積部内に設けられた第１の反応触媒及び第２の反応触媒と、
反応器容積部内に設けられたガス選択性メンブレンとを備え、前記ガス選択性メンブレンは、混合ガス流と接触しており、混合ガス流の成分ガスを選択的に通過させて混合ガス流のラフィネートが前記メンブレンと接触状態に保持されるようになっており、
更に、前記ラフィネートを前記ガス選択性メンブレンとの接触状態から除去する出口チャネルと、
成分ガスを前記反応器の内部から除去する通路と、
を備えることを特徴とするガス精製システム。
【請求項２６】
第１の触媒は、高温触媒であり、第２の触媒は、低温触媒であることを特徴とする請求項２５記載のガス精製システム。
【請求項２７】
第１の触媒と第２の触媒は、前記反応器内の温度勾配に沿って互いに差別的に分布して配置されていることを特徴とする請求項２５記載のガス精製システム。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月13日(2004.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定の半月板の少なくとも一部分を修復または再生するための一定の移植可能な装置において、一定の頂上部分および一定の基底部分を定めるために角度的に分離されている一定の上方パネルおよび一定の下方パネルを有する一定のくさび形の本体部分を備えており、当該装置の少なくとも一部分が天然に発生するＥＣＭを含む移植可能な装置。
【請求項２】
さらに、一定の生体活性物質、一定の生物学的に誘導されている物質、種々の細胞、一定の生物学的な潤滑剤、一定の生体相容性のポリマー、および一定の生体相容性の無機材料の内の少なくとも１種類を備えている請求項１に記載の移植可能な装置。
【請求項３】
前記くさび形の本体部分がＥＣＭおよび一定の生体相容性のポリマーの内の少なくとも１種類を含む請求項１に記載の移植可能な装置。
【請求項４】
さらに、前記上方パネルと下方パネルとの間に配置されている生物学的材料の一定の素材を備えている請求項１に記載の移植可能な装置。
【請求項５】
さらに、前記生物学的材料の素材に付随する少なくとも１種類の生物学的に相容性の材料を備えており、当該生物学的に相容性の材料が一定の生体活性物質、一定の生物学的に誘導されている物質、種々の細胞、一定の生物学的な潤滑剤、一定の生体相容性のポリマー、および一定の生体相容性の無機材料から成る群から選択される請求項４に記載の移植可能な装置。
【請求項６】
前記生物学的材料の素材が粉砕したＳＩＳ、ＳＩＳの部材片、ＳＩＳ発泡体、織り状のＳＩＳ、不織状のＳＩＳマット、編み組み状のＳＩＳ、ＳＩＳのロール体、ＳＩＳ溶液、ＳＩＳ分散液、ＳＩＳスラリー、ＳＩＳゲル、ＳＩＳペースト、および増強されていないＳＩＳから成る群から選択される少なくとも１種類の材料を含む請求項４に記載の移植可能な装置。
【請求項７】
前記くさび形の本体部分が複数のＥＣＭの層の一定の積層体を含み、当該ＥＣＭの積層体が
前記ＥＣＭの層を熱を伴って一体に圧縮することにより前記増強された積層体を形成する処理、
前記ＥＣＭの層を真空を伴って一体に圧縮することにより前記増強された積層体を形成する処理、
前記ＥＣＭの層を圧力を伴って一体に圧縮することにより前記増強された積層体を形成する処理、
前記ＥＣＭの層をこれらの層を加熱しながら一体に機械的にプレスすることにより前記増強された積層体を形成する処理、および
前記ＥＣＭの積層体を架橋する処理から成る群から選択される一定の方法により増強されている請求項１に記載の移植可能な装置。
【請求項８】
前記上方パネルが変性を生じることなく一定の膝関節における接合の種々の力に対して少なくとも一時的に耐えるために十分な一定の増強部分を有している請求項１に記載の移植可能な装置。
【請求項９】
さらに、前記上方パネルと下方パネルとの間に形成されている少なくとも１個の区画部分を備えている請求項１に記載の移植可能な装置。
【請求項１０】
さらに、前記区画部分の中に配置されている生物学的材料の一定の素材を備えている請求項９に記載の移植可能な装置。
【請求項１１】
前記パネルの内の少なくとも１個が少なくとも０．９ｇｍ／ｃｍ3 の一定の密度を有している請求項１に記載の移植可能な装置。
【請求項１２】
前記パネルの内の少なくとも１個がその密度を高めるために増強されている請求項１に記載の移植可能な装置。
【請求項１３】
前記上方パネルおよび下方パネルが前記頂上部分において連結している請求項１に記載の移植可能な装置。
【請求項１４】
前記上方パネルおよび下方パネルが前記天然に発生する細胞外基質の一定のシート材として一体に形成されていて前記頂上部分の周りにおいて前記くさび形の本体部分に形成されている請求項１３に記載の移植可能な装置。
【請求項１５】
前記シート材が複数のＳＩＳの層を含む請求項１４に記載の移植可能な装置。
【請求項１６】
前記ＳＩＳの各層が一定の増強されて積層化されている組織を製造するために乾燥処理されている請求項１５に記載の移植可能な装置。
【請求項１７】
前記上方パネルおよび下方パネルが天然に発生するＥＣＭの１個以上のシート材により形成されており、これらのシート材が前記頂上部分、上方パネル、および下方パネルを定めるために前記頂上部分において折り重ねられている請求項１３に記載の移植可能な装置。
【請求項１８】
一定の膝関節の半月板における一定の断裂部分を修復するための装置において、一体に貼り合わされて一定の本体部分を形成している天然に発生する細胞外基質の複数の部材片および前記本体部分から延出している少なくとも１個の延出部分を備えており、前記本体部分が前記延出部分により前記断裂部分の中に引き入れられて当該断裂部分を充填するように形付けられている装置。
【請求項１９】
前記本体部分が前記部材片の間に捕捉されている粉砕した天然に発生する細胞外基質の一定の素材を含む請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記本体部分が複数の離間している区画部分に分離されており、粉砕した天然に発生する細胞外基質の一定の素材が各区画部分の中に配置されており、前記装置が前記本体部分を分離するために各区画部分の間において前記本体部分の切断を容易にするための一定の空間部分を隣接している各空間部分の間に有している請求項１８に記載の装置。
【請求項２１】
一定の膝関節における半月板の少なくとも一部分を修復または再生するための一定の装置を作成する方法において、
天然に発生する細胞外基質材料の第１の複数の層を一定のキャビティを有する第１のプレート材の上に配置して当該各層の一部分が前記キャビティを被覆するようにする工程、
前記キャビティを被覆している前記第１の複数の層の部分の上に生物学的材料の一定の素材を配置する工程、
前記生物学的材料の素材の上方に天然に発生する細胞外基質の付加的な複数の層を配置する工程、
前記付加的な複数の層の上方に第２のプレート材を配置する工程、および
前記第１のプレート材を前記第２のプレート材に対してプレスすることにより前記装置を形成する工程を含む方法。
【請求項２２】
さらに、
前記第１のプラテンにおいて一定の真空で吸引することにより前記第１の複数の層の部分を前記キャビティの中に引き込む工程を含み、
前記吸引工程が前記生物学的材料の素材を前記第１の複数の層の部分の上に配置する前に行なわれる請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
さらに、前記第１のプレート材を前記第２のプレート材に対してプレスする時に前記装置において一定の真空で吸引する工程を含む請求項２１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月14日(2004.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定の患者の線維軟骨組織を再生するためにその患者に外科的に移植するための単体型外科装置において、
１本の縫合線、一定の生体吸収性の突起付きダーツ、一定の生体吸収性の鋲、一定の生体吸収性の支持部分、および一定の生体吸収性のオス形係止部材の内の少なくとも１個を含む第１の固定機構、
１本の縫合線、一定の生体吸収性の突起付きダーツ、一定の生体吸収性の鋲、一定の生体吸収性の支持部分、および一定の生体吸収性のメス形係止部材の内の少なくとも１個を含む第２の固定機構、および
手術前に前記第１の固定機構および前記第２の固定機構に接続している組織修復材料を備えており、この組織修復材料が前記第１の固定機構および前記第２の固定機構に接続しているＥＣＭ材料の一定のシート、前記第１の固定機構および前記第２の固定機構に接続している層状のＥＣＭ材料、ＥＣＭの発泡体、粉砕したＥＣＭ、ＥＣＭの線維、架橋したＥＣＭ材料、成形したＥＣＭ材料、および一定の生体吸収性の基部および当該基部における一定の異なる材料の内の少なくとも１種類を含み、前記基部および前記異なる材料の内の少なくとも一方がＥＣＭを含む単体型外科装置。
【請求項２】
前記基部が
ＥＣＭ材料の一定のシート、
層状のＥＣＭ材料、
成形したＥＣＭ材料、
架橋したＥＣＭ、
織り状のＥＣＭ、
不織状のＥＣＭ、
編み組み状のＥＣＭ、
ＥＣＭの発泡体、
生体相容性のポリマーの一定のシート、
層状の生体相容性のポリマー、
成形した生体相容性のポリマー、
架橋した生体相容性のポリマー、
織り状の生体相容性のポリマー、
不織状の生体相容性のポリマー、
編み状の生体相容性のポリマー、
たて編み状の生体相容性のポリマー、
編み組み状の生体相容性のポリマー、および
生体相容性の発泡体の内の少なくとも１種類を含む請求項１に記載の単体型外科装置。
【請求項３】
前記基部における異なる材料が
ＥＣＭの発泡体、
ＥＣＭの線維、
ＥＣＭの粉末、
粉砕したＥＣＭ、
ＥＣＭの糸、
ＥＣＭの織地、
ＥＣＭの不織地、
編み組み状のＥＣＭ、
ＥＣＭの溶液、
ＥＣＭのゲル、
ＥＣＭのペースト、および
架橋したＥＣＭの内の少なくとも１種類を含む請求項１に記載の単体型外科装置。
【請求項４】
前記組織修復材料が対向しているエッジ部分を有している一定の基部および当該基部のエッジ部分の内の１個に沿う複数の穴を有しており、前記単体外科装置がさらに前記基部の２個の対向しているエッジ部分の間に配置されているＥＣＭ材料を備えている請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の単体型外科装置。
【請求項５】
前記組織修復材料が一定の患者の半月板における一定の部分の上に延在し、さらに、当該患者の半月板における一定の部分が除去されている一定の領域の上に延在するように寸法付けおよび形付けられている請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の単体型外科装置。
【請求項６】
前記生体吸収性の基部が一定の頂上部分において連接している２個の面部を有しており、前記異なる材料がこれら２個の面部の間に配置されているＥＣＭ材料を含む請求項１乃至請求項３および請求項５のいずれかに記載の単体型外科装置。
【請求項７】
前記組織修復材料が断面において実質的にくさび形の形状である請求項１乃至請求項３および請求項５乃至請求項６のいずれかに記載の単体型外科装置。
【請求項８】
前記組織修復材料が哺乳類動物の粘膜下組織から誘導されている材料を含む請求項１乃至請求項７のいずれかに記載の単体型外科装置。
【請求項９】
さらに、前記単体型外科装置を保持する一定の包装を含む請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の単体型外科装置。
【請求項１０】
前記固定機構を前記組織修復材料に固定して前記単体型外科装置を形成する工程および当該単体型外科装置を滅菌処理する工程を含む請求項１乃至請求項９のいずれかに記載の装置を調製する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月14日(2004.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
天然に発生する細胞外基質および当該天然に発生する細胞外基質に供給されている一定の生物学的な潤滑剤を含む軟骨修復装置。
【請求項２】
前記生物学的な潤滑剤が一定の溶液を含む請求項１に記載の軟骨修復装置。
【請求項３】
前記生物学的な潤滑剤の溶液が一定のＧＡＧを含む請求項２に記載の軟骨修復装置。
【請求項４】
前記生物学的な潤滑剤の溶液がＨＡを含む請求項３に記載の軟骨修復装置。
【請求項５】
前記天然に発生する細胞外基質および生物学的な潤滑剤が同時凍結乾燥されている請求項１に記載の軟骨修復装置。
【請求項６】
前記生物学的な潤滑剤の部分が前記天然に発生する細胞外基質の部分に架橋されている請求項１に記載の軟骨修復装置。
【請求項７】
さらに、一定の生体活性物質、一定の生物学的に誘導されている物質、および種々の細胞から成る群から選択される一定の付加的な材料を含む請求項１に記載の軟骨修復装置。
【請求項８】
前記天然に発生する細胞外基質が脊椎動物の小腸粘膜下組織、脊椎動物の肝臓基底膜、脊椎動物の膀胱粘膜下組織、脊椎動物の胃粘膜下組織、脊椎動物の消化管組織、脊椎動物の呼吸器組織、および脊椎動物の生殖器組織から成る群から選択される一定の供給源から誘導されている組織を含む請求項１に記載の軟骨修復装置。
【請求項９】
前記天然に発生する細胞外基質がウシの組織、ヒツジの組織、およびブタの組織から成る群から選択される一定の供給源から誘導されている組織を含む請求項１に記載の軟骨修復装置。
【請求項１０】
前記細胞外基質が損傷した軟骨に形成した一定の開口部の中に位置決めするように構成されている一定のプラグ部分を含む請求項１に記載の軟骨修復装置。
【請求項１１】
一定の軟骨修復装置を作成する方法において、
一定の天然に発生する細胞外基質を供給する工程、
一定の生物学的な潤滑剤を液体の形態で供給する工程、および
前記天然に発生する細胞外基質を前記液体の生物学的な潤滑剤により湿らせて一定の湿潤状態の移植片を形成する工程を含む方法。
【請求項１２】
さらに、前記湿潤状態の移植片を包装する処理、および最終的に当該包装した湿潤状態の移植片を滅菌する処理を含む請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
さらに、前記湿潤状態の移植片を乾燥する処理、当該乾燥状態の移植片を包装する処理、および最終的に当該包装した乾燥状態の移植片を滅菌する処理を含む請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記天然に発生する細胞外基質を供給する工程が脊椎動物の小腸粘膜下組織、脊椎動物の肝臓基底膜、脊椎動物の膀胱粘膜下組織、脊椎動物の胃粘膜下組織、脊椎動物の消化管組織、脊椎動物の呼吸器組織、および脊椎動物の生殖器組織から成る群から選択される一定の供給源から誘導されている組織を供給する処理を含む請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記天然に発生する細胞外基質がウシの組織、ヒツジの組織、およびブタの組織から成る群から選択される一定の供給源から誘導されている組織を含む請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
さらに、一定の材料を前記装置の中に組み込む工程を含み、当該材料が一定の生体活性物質、一定の生物学的に誘導されている物質、および種々の細胞から成る群から選択される請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月13日(2004.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
身体組織を修復または再生するための一定の移植可能な支持骨格材料を作成するための方法において、
小腸粘膜下組織、胃粘膜下組織、膀胱粘膜下組織、呼吸器粘膜下組織、消化管粘膜下組織、生殖器粘膜下組織、および肝臓基底膜から成る群から選択される組織から誘導されている一定の細胞外基質材料を供給する工程、
前記細胞外基質を物理的に粉砕して細胞外基質の凝集性の部材片を形成する工程、および
前記細胞外基質の凝集性の部材片を凍結乾燥して細胞外基質の一定の連続気泡型の発泡体を形成する工程を含む方法。
【請求項２】
前記細胞外基質が天然に発生する細胞外基質を含み、前記細胞外基質を物理的に粉砕する工程が前記天然に発生する細胞外基質を物理的に粉砕する処理を含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
さらに、前記細胞外基質を物理的に粉砕する前に当該細胞外基質を精製する処理を含む請求項１に記載の方法。
【請求項４】
さらに、前記細胞外基質を処理して種々の糖タンパク質、グリコスアミノグリカン、プロテオグリカン、脂質、非膠原性タンパク質および核酸を実質的に除去する処理を含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
さらに、前記細胞外基質を物理的に粉砕する前に当該細胞外基質を処理してコラーゲン以外の実質的に全ての物質を除去する処理を含む請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記細胞外基質を物理的に粉砕する工程が当該細胞外基質を一定の液体の存在下に物理的に粉砕する処理を含む請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記細胞外基質を一定の液体の存在下に物理的に粉砕する処理が当該細胞外基質を前記液体の中に懸濁する処理を含む請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記凍結乾燥工程が前記細胞外基質の凝集性の部材片および前記液体を凍結乾燥して前記細胞外基質の連続気泡型の発泡体を形成する処理を含む請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記物理的に粉砕する工程が前記細胞外基質を物理的に粉砕して各部材片の幅および厚さのそれぞれよりも長い一定の長さを有する細胞外基質の細長い凝集性の部材片を形成する処理を含む請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
請求項１に記載の方法により作成されている製品。
【請求項１１】
さらに、以下の、すなわち、一定の生体活性物質、一定の生物学的に誘導されている物質、種々の細胞、一定の生物学的な潤滑剤、一定の生体相容性の無機材料、および一定の生体相容性のポリマーの内の少なくとも１種類を含む請求項１０に記載の製品。
【請求項１２】
前記細胞外基質の連続気泡型の発泡体が１００ミクロン乃至７００ミクロンの一定の公称の気孔寸法を有する気孔を定めている請求項１０に記載の製品。
【請求項１３】
前記細胞外基質の連続気泡型の発泡体が３００ミクロン乃至７００ミクロンの一定の公称の気孔寸法を有する気孔を定めている請求項１０に記載の製品。
【請求項１４】
前記細胞外基質の連続気泡型の発泡体が１００ミクロンよりも小さい一定の公称の気孔寸法を有する気孔を定めている請求項１０に記載の製品。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月13日(2004.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定の関節の骨における関節軟骨の病気のまたは損傷した部分を修復するための装置において、前記軟骨が前記病気のまたは損傷した部分を除去するためにその内部に一定の開口部を形成することにより調製されており、前記装置が
前記軟骨の中に形成されている開口部の中に位置決めするように構成されている一定のプラグ部材を備えており、当該プラグ部材が一定の造形されている天然に発生する細胞外基質を含み、さらに
前記開口部の中に前記プラグ部材を位置決めおよび保持するように構成されている一定の固定装置を備えている装置。
【請求項２】
前記天然に発生する細胞外基質が一定の造形および乾燥されている天然に発生する細胞外基質を含む請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記プラグ部材が前記固定装置に固定されている請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記天然に発生する細胞外基質が粉砕した天然に発生する細胞外基質を含む請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記粉砕した天然に発生する細胞外基質が凍結乾燥されている請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記天然に発生する細胞外基質が脊椎動物の小腸粘膜下組織、脊椎動物の肝臓基底膜、脊椎動物の膀胱粘膜下組織、脊椎動物の胃粘膜下組織、脊椎動物の消化管組織、脊椎動物の呼吸器組織、および脊椎動物の生殖器組織から成る群から選択される組織を含む請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記天然に発生する細胞外基質がウシの組織、ヒツジの組織、およびブタの組織から成る群から選択される組織を含む請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記プラグ部材が一定の外側の関節表面および当該関節表面から延出している１個以上の側方の表面部分を有しており、さらに、前記プラグ部材の関節表面の少なくとも一部分の上に配置されている一定のカバーを備えている請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記プラグ部材が種々の細胞を受容するために十分な一定の多孔度を有して形成されている請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
さらに、一定の活性物質、一定の生物学的に誘導されている物質、種々の細胞、一定の生物学的な潤滑剤、一定の生体相容性のポリマー、および一定の生体相容性の無機材料から成る群から選択される少なくとも１種類を含む請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記固定装置が一定の骨の肋軟骨下部分の中に固定するために硬化および造形されている天然に発生する細胞外基質により形成されている請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
前記プラグ部材が前記固定装置に結合している天然に発生する細胞外基質の複数の層を含む請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
前記固定装置が前記プラグ部材を前記開口部の中に位置決めおよび保持するための一定のステープルを含む請求項１に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月20日(2004.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
血流を導くための導通箇所を定める内面を有している血管を移植するための装置であって、
内面と外面を有する拡張性支持部材と、
前記支持部材の前記内面に付着する生物組織層と、
を含み、
前記外面は前記血管の前記内面に嵌合及び密着するためのものであり、
前記生物組織層は、血液が導通箇所を通過して流れる際に血栓形成及び血小板沈着に対する抵抗性を与えるため、前記血管の内面と一体化して連続的に延びる切れ目のない内向き面を有し、
前記生物組織層は、腹膜組織及び胸膜組織から成るグループから選択される、
ことを特徴とする装置。
【請求項２】
血管のための移植片であって、
前記血管は、血流を導くための導通箇所を定める内面を有し、
前記移植片は、切れ目のない内向き面を有する生物組織層を含み、
前記切れ目のない内向き面は、血液が導通箇所を通過して流れる際に血栓形成及び血小板沈着に対する抵抗性を与えるため、前記血管の内面と一体化して連続的に延びるためのものであり、
前記生物組織層は、腹膜及び胸膜から成るグループから選択される、
ことを特徴とする前記移植片。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月18日(2003.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
図６、図７は、液袋１２から離れた箇所にポンプ２０の設置位置を確保する別の実施形態を示す。この実施形態において、インペラハウジング８０は、インペラハウジング８０から横方向に伸び、スパイクコネクタ８５と接続するための、ほぼ上向きに曲がる終端８４を有するインレットコネクタ８２を備えるように改造されている。スパイク８５は好ましくは、図７に示されるように、経路８８の中で受けられるよう適合されたシール８６と、経路８８の上部と密閉して係合するシール８９を備える。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
図８は、ポンプ２０を液袋１２から離れた箇所に設置することのできる別の実施形態を示す。この実施形態において、ポンプ２０は、ポール１６の液袋１２とは反対側のアーム１４ａに支えられている。インペラハウジング９０は、アーム１４ａから吊り下げられるように適合された支持ループ９２を有する。インペラハウジング９０はさらに、チューブ３０と接続するようにインペラハウジング９０から横方向に伸びるインレットコネクタ９４も有する。この接続は、図のように押圧摩擦か、従来のスパイクコネクタによる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
図１３−１５は、液袋の交換中も外科的措置を中断せずに続けられるよう、２つの液袋１３０，１３２と接続することのできる支持された状態のポンプ２０を示す。この実施形態において、インペラハウジング１３４はこれに接続されたＹ字型継手１３６を備える。Ｙ字型継手１３６は、インペラハウジング１３４のインレットの中に挿入するよう適合されたベースコネクタ１３８を有する。２つの分岐したコネクタ１４０，１４２はそれぞれ、チューブ１４４，１４６を有する液袋１３０，１３２に接続するよう適合されている。図１４，図１５に見られるように、Ｙ字型継手１３６は中空で、液体の経路を形成し、経路１４８，１５０がベースコネクタ１３８の経路１５２の中に開いた状態でつながるようになっている。ベースコネクタ１３８は、インペラハウジング１３４のインレットコネクタにほぼ対応する形状で、それと密閉的に係合ようになっている。分岐コネクタ１４０，１４２は、押圧または摩擦によってそれぞれのチューブ１４４，１４６と接続し、各チューブの中端は環状リム１５４と接触する。インペラハウジング１３４は、Ｙ字型継手１３６と接続するためのブラント継手１５６を有する。上述のレセプタクル７０と同様のレセプタクル１５７は、ブラント継手１５６に超音波溶接または機械的に接合される。このジョイントには、溶接または接合の後に設置される、潤滑シール（ルーブリカスシール: lubricious seal）または図４に示し、説明したものと同様のＯリングを備える。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
図２０、図２１は、ポンプ２０が、ポンプハウジング２０４上に設置された重力スイッチ２０２を有するハンギングロッド２００によって支持される別の実施形態を示す。図２１において詳しく見られるように、ハンギングロッド２００は、終端２０６をスライド可能に受ける長いスロット２０５からポンプハウジング２０４の中に伸びる、内側に曲がる端部２０６を有する。スライド２０８は、ポンプハウジング２０４のすぐ内側で一方の終端２０６に固定され、電気コンタクトを有する。ポンプ２０は、ポンプ２０が液袋２１０に接続されると、ポンプ２０が自重によって下がり、ポンプハウジング２０４が内側の延長部２１２に接触してポンプモータにつながるワイヤ２１４と接触するまで、電気コンタクト２０８に関してスライドするよう、ハンギングロッド２００に取り付けられる。これにより、電気回路が完成し、ポンプ２０に電源供給される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
スライド弁２２０は、液袋に接続するためのステップ式管状部２３０を有する。スライド弁２２０を液袋に接続することにより、スライド弁２２０はリテーナハウジング２２２に関して下方に移動し、図２３に示す位置になる。ポンプが液袋の下に支持されているかぎり、スライド弁２２０は図２３のような開状態のままである。この位置において、液体は液袋から経路２３２およびポート２３４，２３６から液経路２２６，２２８に流れる。しかしながら、ポンプがブラケットから外れ、液袋から吊り下がると、ポンプはその自重によって落下し、リテーナハウジング２２２はスライド弁２２０に関してスライドし、スライド弁２２０の下端２４０がリテーナハウジング２２２の上壁と係合して、図２４の閉位置に見られるようにポート２３４，２３６を閉じる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2004535225.tif 000001
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2004535225.tif 000002