【手続補正書】
【提出日】平成16年10月8日(2004.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  シリカ沈澱物を形成するのに充分な量で珪酸を珪酸塩溶液へ添加する工程を行う、シリカ沈澱物合成法。
【請求項２】  珪酸塩溶液へ表面変性剤を添加する工程を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  珪酸塩溶液が珪酸ナトリウム溶液である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  複数の添加工程で珪酸ナトリウム溶液へ中和剤を添加する工程を更に含み、然も、前記複数の添加工程の少なくとも一つでの前記中和剤が珪酸である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】  珪酸及び珪酸ナトリウムを、同時に珪酸ナトリウム溶液へ添加する、請求項４に記載の方法。
【請求項６】  次の順序で工程を行うシリカ沈澱物合成法：
（ａ）  珪酸ナトリウム溶液を第一添加工程として第一酸で部分的に中和し、
（ｂ）  前記珪酸ナトリウム溶液を加熱し、
（ｃ）  前記珪酸ナトリウム溶液に第二添加工程として珪酸を添加し、
（ｄ）  前記珪酸ナトリウム溶液を酸性化してスラリーを形成し、そして
（ｅ）  前記スラリーからシリカ沈澱物を形成する。
【請求項７】  第二添加工程中、珪酸ナトリウム溶液へ表面変性剤を添加することを更に含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】  表面変性剤が、メルカプト−プロピルトリエトキシシラン、ジメチル−ジクロロシラン、及びビス（３−トリエトキシシリルプロピル）テトラスルファノールからなる群から選択されたシランである、請求項７に記載の方法。
【請求項９】  工程（ｃ）の後で、中和剤を珪酸ナトリウム溶液へ添加する工程を更に含む、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】  表面変性剤に中和剤を添加する工程を更に含み、然も、前記表面変性剤が、メルカプト−プロピルトリエトキシシラン、ジメチル−ジクロロシラン、及びビス（３−トリエトキシシリルプロピル）テトラスルファノールからなる群から選択されたシランである、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】  工程（ｅ）の形成が、次の順序で、
スラリーを濾過し、
前記スラリーを水で洗浄し、そして
前記スラリーを乾燥する、
工程を有する、請求項６に記載の方法。
【請求項１２】  次の順序で工程を行うシリカ沈澱物合成法：
（ａ）  珪酸ナトリウム溶液を第一添加工程として第一酸で部分的に中和し、
（ｂ）  前記珪酸ナトリウム溶液を加熱し、
（ｃ）  前記珪酸ナトリウム溶液に第二添加工程として第二酸及び表面変性剤を添加し、然も、前記表面変性剤が、メルカプト−プロピルトリエトキシシラン、ジメチル−ジクロロシラン、及びビス（３−トリエトキシシリルプロピル）テトラスルファノールからなる群から選択されたシランであり、
（ｄ）  前記珪酸ナトリウム溶液を４．０〜６．０の範囲のｐＨまで酸性化してスラリーを形成し、そして
（ｅ）  前記スラリーからシリカ沈澱物を形成する。
【請求項１３】  第三添加工程として第三酸及び第二表面変性剤を添加する工程を更に含み、然も、前記第二表面変性剤が、第二添加工程で添加されたものと同じ表面変性剤である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  第二酸が珪酸である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】  形成工程が、
（ａ）  スラリーを濾過し、
（ｂ）  前記スラリーを水で洗浄し、そして
（ｃ）  前記スラリーを乾燥する、
を有する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】  次の順序で工程を行う、シリカ沈澱物合成方法：
（ａ）  珪酸ナトリウム溶液を第一添加工程として硫酸で部分的に中和し、
（ｂ）  前記珪酸ナトリウム溶液を撹拌しながら６０〜９５℃の範囲の温度へ加熱し、
（ｃ）  前記珪酸ナトリウム溶液へ第二添加工程として珪酸を添加し、
（ｄ）  前記珪酸ナトリウム溶液を６０〜９５℃の範囲の温度で撹拌し、
（ｅ）  前記珪酸ナトリウム溶液へ第三添加工程として中和剤を添加し、７．５〜８．５の範囲内へｐＨを低下し、
（ｆ）  前記珪酸ナトリウム溶液を４．５〜６．５の範囲のｐＨまで酸性化し、スラリーを形成し、そして
（ｇ）  次の順序で工程を行い、前記スラリーからシリカ沈澱物を形成する：
（ａ）  前記スラリーを濾過し、
（ｂ）  前記スラリーを水で洗浄し、そして
（ｃ）  前記スラリーを乾燥する。
【請求項１７】  次の順序で工程を行う、シリカ沈澱物合成方法：
（ａ）  珪酸ナトリウム溶液を第一添加工程として硫酸で部分的に中和し、
（ｂ）  前記珪酸ナトリウム溶液を撹拌しながら６０〜９５℃の範囲の温度へ加熱し、
（ｃ）  前記珪酸ナトリウム溶液へ第二添加工程として珪酸及び表面変性剤を添加し、然も、前記表面変性剤が、メルカプト−プロピルトリエトキシシラン、化学的に変性したシリカゲル、ジメチル−ジクロロシラン、及びビス（３−トリエトキシシリルプロピル）テトラスルファノールからなる群から選択されたシランであり、
（ｄ）  前記珪酸ナトリウム溶液を６０〜９５℃の範囲の温度で撹拌し、
（ｅ）  前記珪酸ナトリウム溶液へ第三添加工程として中和剤を添加し、７．５〜８．５の範囲内へｐＨを低下し、
（ｆ）  前記珪酸ナトリウム溶液を４．５〜６．５の範囲のｐＨまで酸性化し、スラリーを形成し、そして
（ｇ）  次の順序で工程を行い、前記スラリーからシラン沈澱物を形成する：
（ａ）  前記スラリーを濾過し、
（ｂ）  前記スラリーを水で洗浄し、そして
（ｃ）  前記スラリーを乾燥する。
【請求項１８】  次の順序で工程を行う、シリカ沈澱物形成方法：
（ａ）  第一添加工程として４．０〜５．０の範囲のｐＨの硫酸溶液へ珪酸を添加し、
（ｂ）  前記硫酸溶液を撹拌しながら加熱し、
（ｃ）  前記硫酸溶液へ第二添加工程として中和剤を添加し、
（ｄ）  前記硫酸溶液を撹拌してスラリーを形成し、そして
（ｅ）  次の順序で工程を行い、前記スラリーからシリカ沈澱物を形成する：
（ａ）  前記スラリーを濾過し、
（ｂ）  前記スラリーを水で洗浄し、そして
（ｃ）  前記スラリーを乾燥する。
【請求項１９】  次の順序で工程を行う、シリカ沈澱物合成方法：
（ａ）  第一添加工程として４．０〜５．０の範囲のｐＨの硫酸溶液へ珪酸及び表面変性剤を添加し、然も、前記表面変性剤が、メルカプト−プロピルトリエトキシシラン、化学的に変性したシリカゲル、ジメチル−ジクロロシラン、及びビス（３−トリエトキシシリルプロピル）テトラスルファノールからなる群から選択されたシランであり、
（ｂ）  前記硫酸溶液を撹拌しながら加熱し、
（ｃ）  前記硫酸溶液へ第二添加工程として中和剤を添加し、
（ｄ）  前記硫酸溶液を撹拌してスラリーを形成し、そして
（ｅ）  次の順序で工程を行い、前記スラリーからシリカ沈澱物を形成する：
（ａ）  前記スラリーを濾過し、
（ｂ）  前記スラリーを水で洗浄し、そして
（ｃ）  前記スラリーを乾燥する。
【請求項２０】  次の順序で工程を行う、シリカ沈澱物合成方法：
（ａ）  第一工程として４．０〜５．０の範囲のｐＨの硫酸溶液へ表面変性剤を添加し、然も、前記表面変性剤が、メルカプト−プロピルトリエトキシシラン、化学的に変性したシリカゲル、ジメチル−ジクロロシラン、及びビス（３−トリエトキシシリルプロピル）テトラスルファノールからなる群から選択されたシランであり、
（ｂ）  前記硫酸溶液を撹拌しながら加熱し、
（ｃ）  前記硫酸溶液へ第二添加工程として中和剤を添加し、
（ｄ）  前記硫酸溶液を撹拌してスラリーを形成し、そして
（ｅ）  次の順序で工程を行い、前記スラリーからシリカ沈澱物を形成する：
（ａ）  前記スラリーを濾過し、
（ｂ）  前記スラリーを水で洗浄し、そして
（ｃ）  前記スラリーを乾燥する。
【請求項２１】  ５．４〜４．０ｎｍの半径及び２８０〜３５０ｍ2／ｇの質量に対する比表面積（ＢＥＴ）を有する粒子からなる、請求項１、６、１４、１７、１８及び１９のいずれかに記載の方法により合成されたシリカ沈澱物。
【請求項２２】  ５〜１００％の水浮遊性を有する、請求項１３、１４、１７、１９及び２０のいずれかに記載の方法により合成されたシリカ沈澱物。
【請求項２３】  請求項１、２、６、１３、１４、１７、１８、１９及び２０のいずれかに記載の方法により合成されたシリカ沈澱物と組合せて硬化性重合体化合物を含有する重合体組成物。
【請求項２４】  重合体化合物がゴムである、請求項２３に記載の重合体組成物。
【請求項２５】  １．６〜５．０ＭＰａの破断時抗張力及び９．０〜１８．０ＭＰａの破断時伸びを有する、請求項２３に記載の重合体組成物。
【請求項２６】  １．６〜５．０ＭＰａの破断時抗張力及び９．０〜１８．０ＭＰａの破断時伸びを有する、請求項２４に記載の重合体組成物。