Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月16日(2003.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基地局（１；３８，３９）を有する通信システムのための受動通信装置であって、
前記受動通信装置が、内部電源（７）と、前記基地局から送信された信号（２１）を受信する受信機手段（１４，１６）と、前記受信機手段（１４，１６）により受信された前記基地局からの問い合わせ信号に選択的に応答して、前記基地局への送信のためのデータ信号（３０，３２）を発生する処理手段（９，１０，１１，１５）とを備え、
前記受動通信装置が、前記受信機手段（１４，１６）による信号の検出に選択的に応答して、前記内部電源（７）が前記処理手段（９，１０，１１，１５）に給電するのを可能にする、前記受動通信装置において、
前記受信機手段（１４，１６）が、第１の受信機構成要素（１７）及び第２の受信機構成要素（１８）を備え、
前記第１の受信機構成要素（１７）が、給電されるとき前記第２の受信機構成要素（１８）より低い電力消費を有し、
前記受動通信装置は、少なくとも当該受動通信装置のスタンバイ状態中に、前記内部電源（７）が前記第１の受信機構成要素（１７）に給電することにより、受信された信号（２１）の存在を検出し、且つ前記第２の受信機構成要素（１８）及び前記処理手段（９，１０，１１，１５）が前記内部電源（７）から給電されないように構成されており、
前記第１の受信機構成要素（１７）が、受信された信号（２１）の検出に応答して、前記受動通信装置のアクティブな動作状態を引き起こし、
当該アクティブな動作状態において、前記内部電源（７）が前記第２の受信機構成要素（１８）に給電することにより、前記第２の受信機構成要素が、受信された信号の特性に選択的に応答して、前記処理手段（９，１０，１１，１５）を動作させる
ことを特徴とする受動通信装置。
【請求項２】
前記第２の受信機構成要素（１８）が前記特性に選択的に応答するその特性が、受信された信号（２１）の搬送波周波数であり、
前記第２の受信機構成要素が、前記搬送波周波数が上限と下限との間にある場合前記処理手段（９，１０，１１，１５）を動作させるよう構成されている
ことを特徴とする請求項１記載の受動通信装置。
【請求項３】
前記第２の受信機構成要素（１８）が、入力受信機構成要素、受信された信号（２１）のサイクルを計数するカウンタ手段、及び前記の計数されたサイクル数に対応する期間を定義するタイミング手段を備えることを特徴とする請求項２記載の受動通信装置。
【請求項４】
前記処理手段が、受信された信号（２１）の変調に応答する復調器手段（１５）を備え、
前記内部電源（７）が、前記第２の受信機構成要素（１８）による作動に応答して前記復調器手段（１５）に前記アクティブな動作状態で給電するよう構成されている
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の受動通信装置。
【請求項５】
前記受信機手段が、前記第１の受信機構成要素（１７）により受信された信号（２１）の不在及び前記受動通信装置による信号（３２）の送信の不在の状態で前記スタンバイ状態を引き起こすためのリセット手段（２２，２３）を備えることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の受動通信装置。
【請求項６】
前記リセット手段が、前記第１の受信機構成要素（１７）により受信された信号（２１）の前記特性が前記スタンバイ状態を引き起こすための上限及び下限の外側にあることに応答することを特徴とする請求項５記載の受動通信装置。
【請求項７】
前記受信機手段が、送信された信号（２１）を受信するためのアンテナ手段（１２，１３）、及び前記アンテナ手段を前記第１の受信機構成要素（１７）と接続するためのスイッチ手段（２０）を備え、
前記スイッチ手段が、前記アンテナ手段により受信された信号（２１）を前記第１の受信機構成要素（１７）により検出することに応答して、前記アンテナ手段を前記第２の受信機構成要素（１８）と接続することを引き起こす
ことを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の受動通信装置。
【請求項８】
前記第１及び第２の受信機構成要素（１７，１８）は、上限を有する周波数通過帯域を提示し、
前記第１の受信機構成要素（１７）の周波数通過帯域の上限が、前記第２の受信機構成要素（１８）の周波数通過帯域の上限より低い
ことを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の受動通信装置。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか一項に記載の受動通信装置を備え、且つ前記基地局（１；３８，３９）を含む受動アクセス制御システムであって、
前記受動通信装置及び前記基地局が電磁信号（２１，３２）により通信し、
前記受動通信装置が携帯型装置に含められ、
前記基地局が、前記データ信号（３２）に応答して、前記携帯型装置のユーザのためアクセスを選択的に可能にする、前記受動アクセス制御システムにおいて、
前記基地局（１；３８，３９）により送信される前記問い合わせ信号（２１）の搬送波周波数が、低周波数範囲（３０から３００ｋＨｚ）にあり、
前記携帯型装置により送信される前記データ信号（３２）の搬送波周波数が、極超短波周波数範囲（３００から３０００ＭＨｚ）にある
ことを特徴とする受動アクセス制御システム。
【請求項１０】
請求項１から８のいずれか一項に記載の受動通信装置を備え、且つ前記基地局（１）を含む受動アクセス制御システムであって、
前記受動通信装置が携帯型装置（３）に含められ、
前記基地局が、前記システムのユーザの動作に応答して、前記問い合わせ信号（２１）を送信し、且つ前記受動通信装置からの対応するデータ信号（３２）の受信に選択的に応答して、前記ユーザのためアクセスを選択的に可能にする
ことを特徴とする受動アクセス制御システム。
【請求項１１】
請求項１から８のいずれか一項に記載の受動通信装置を備え、且つ前記基地局（３８，３９）のうちの少なくとも１つを含むタイヤ圧力モニタリング・システムであって、
前記基地局（１）が、前記車両（２）の非回転部分に取り付けられ、
前記受動通信装置が、データを前記処理手段（９，１０，１１）に与える圧力検知手段と関連して前記車両の車輪に取り付けられ、
前記基地局が、前記問い合わせ信号を或る時間間隔で送信し、且つ前記受動通信装置からの対応するデータ信号（３２）の受信に応答して、前記データを記録する
ことを特徴とするタイヤ圧力モニタリング・システム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月27日(2005.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水性の酸性リン酸塩処理液で金属表面を濡らすことによってリン酸塩被覆を金属表面上に施与する方法において、第一のリン酸塩処理液が
−  亜鉛イオン  ０．２〜１０ｇ／Ｌ未満、
−  マンガンイオン０．５〜２５ｇ／Ｌ、および
−  Ｐ２Ｏ５として計算してホスフェートイオン  ２〜３００ｇ／Ｌを含有し、
−  この際、リン酸塩処理液にマグネシウムイオンは１〜４ｇ／Ｌの含量で添加されておらず、銅およびニッケルも添加されておらず、かつ
−  この際、リン酸塩処理液は水洗法においては亜鉛対マンガンの比を０．１：１〜０．７：１の範囲に有し、乾式法においては０．０８：１〜０．７：１の範囲に有し、
この方法で前リン酸塩処理した金属部材を、場合により引き続き変形、その他の金属部材と接着および／またはその他の金属部材と溶接し、かつ
その後、この金属部材を第二のリン酸塩処理液で後リン酸塩処理し、かつ場合により後からさらに少なくとも１種のポリマー、コポリマー、クロスポリマー、オリゴマー、ホスホネート、シランおよび／またはシロキサンを含有する被覆により、もしくは場合により少なくとも１種の塗膜で被覆することを特徴とする、金属表面上にリン酸塩被覆を施与する方法。
【請求項２】
第一または場合により第二のリン酸塩処理液を用いてベルト装置中のストリップを被覆し、その際、リン酸塩被覆はストリップを濡らすときに形成され、かつ引き続き前リン酸塩処理または後リン酸塩処理も行ったストリップを水洗するか、あるいは第一または第二のリン酸塩処理液をストリップ上で乾燥させる、請求項１記載の方法。
【請求項３】
第一または場合により第二のリン酸塩溶液を用いて金属部材を、たとえばナイフ塗布、噴霧、散布および／または浸漬により第一または第二のリン酸塩処理液で濡らし、このことによってリン酸塩被覆を形成し、かつ場合により引き続き水洗する、請求項１記載の方法。
【請求項４】
第一または場合により第二のリン酸塩処理液が、特に鉄表面の場合に、５ｇ／Ｌまでの範囲でＦｅ２＋イオンを含有する、請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
第一または場合により第二のリン酸塩処理液が、それぞれ０．０１〜２０ｇ／Ｌの範囲のナトリウム、カリウム、カルシウムおよび／またはアンモニウムを含有する、請求項１から４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
第一または場合により第二のリン酸塩処理液が、０．０１〜１０ｇ／Ｌの範囲の塩化物を含有し、かつ／または０．０１〜５ｇ／Ｌの範囲の塩素酸塩を含有する、請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
第一または場合により第二のリン酸塩処理液が、アルミニウム、ホウ素、鉄、ハフニウム、モリブデン、ケイ素、チタン、ジルコニウム、フッ化物および／または錯体のフッ化物、特に遊離および／または結合した形のフッ化物０．０１〜５ｇ／Ｌを含有する、請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
第一または場合により第二のリン酸塩処理溶液が、少なくとも１種の促進剤、たとえば過酸化物、ニトログアニジンをベースにする物質、ニトロベンゼンスルホン酸をベースにする物質またはヒドロキシルアミンをベースにする物質、塩素酸塩、硝酸塩、過ホウ酸塩または有機ニトロ化合物、たとえばパラニトロトルエンスルホン酸を含有する、請求項１から７までのいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
第一または場合により第二のリン酸塩処理液が、Ｈ２Ｏ２として計算して０．００１〜１２０ｇ／Ｌの範囲の濃度の過酸化物添加剤、有利にはＨ２Ｏ２を含有する、請求項１から８までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
第一または場合により第二のリン酸塩処理液が、少なくとも１種のギ酸、コハク酸、マレイン酸、マロン酸、乳酸、過ホウ酸、酒石酸、クエン酸および／または化学的に使用されるヒドロキシカルボン酸をベースとする化合物を含有する、請求項１から９までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
１〜１２ｍｌ／ｍ２の範囲の第一または場合により第二のリン酸塩処理液の量を、乾燥のために金属部材上に施与する、請求項１から１０までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】
第一または場合により第二のリン酸塩処理液を、金属部材の表面上の金属部材上で形成された液膜の上で、ＰＭＴ温度に対して２０〜１２０℃の範囲の温度で乾燥させる、請求項１から１１までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１３】
第一または場合により第二のリン酸塩処理液を用いて、堆積させ、かつ乾燥させたリン酸塩層が０．２〜５ｇ／ｍ２の範囲の皮膜量を有するリン酸塩被覆を形成する、請求項１から１２までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１４】
金属部材を第一または場合により第二のリン酸塩処理液で濡らす前に活性化溶液または活性化懸濁液で濡らす、請求項１から１３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１５】
第一または場合により第二のリン酸塩層上に直接、特に噴霧、浸漬またはロール塗布により不動態化溶液を施与する、請求項１から１４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１６】
金属部材を、第一のリン酸塩処理液の乾燥後に、第二の、水性の酸性リン酸塩処理液で濡らし、その際、第二の溶液は
−  リン酸塩処理液中でニッケル不含であるか、またはニッケルをほぼ含有していないか、または８ｇ／Ｌまでのニッケルイオンを含有し、かつ
−  亜鉛イオン  ０〜２０ｇ／Ｌ、
−  マンガンイオン  ０〜１２ｇ／Ｌおよび
−  Ｐ２Ｏ５として計算してホスフェートイオン  ５〜５０ｇ／Ｌ
を含有する、請求項１から１５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１７】
請求項１から１６までのいずれか１項記載の方法により被覆した金属部材の、特に塗装の前の新たな化成処理のため、または新たな化成前処理のための前リン酸塩処理した金属部材として、あるいは特の塗装の前の、特に自動車産業のための前処理した金属部材として、あるいは場合によりさらに後から塗装、その他の有機被覆で被覆、接着剤層で被覆、変形、取り付けおよび／または溶接を行う、最終的なリン酸塩処理した金属部材としての使用。
【請求項１８】
請求項１から１６までのいずれか１項記載の方法により被覆した金属部材の、自動車産業または航空機産業における、建築産業における、家具産業における部材または車体部材または予め取り付けた部材を製造するため、機器および装置、特に家庭用機器、測定装置、制御装置、試験装置、建築部材、被服ならびに小部品を製造するための使用。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成16年11月26日(2004.11.26)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
本発明はＡ−位置およびＢ−位置での置換だけでなく両方の組合せも包含する。この組合せには例えば化合物ＬａＥｕＺｒＨｆＯ7 、ＬａN ｄＺｒＨｆＯ7 、ＬａＧｄＺｒＣｅＯ7 、ＬａＧｄＺｒ1.4 Ｃｅ0.6 Ｏ7 およびＬａ1.8 Ｄｙ0.2 Ｚｒ1.4 Ｃｅ0.6 Ｏ7 がある。一般的考察から、個々の位置を占める際に大きな質量差が一般に熱伝導率の低下をもたらすはずである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月11日(2004.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原子層成膜法により形成された無機薄膜を表面に有し、該無機薄膜の厚さが100nm以下であり、平均粒径が500μｍ以下である基質粒子から成る非凝集粒子形状材料。
【請求項２】
前記基質粒子の平均粒径が0.001〜100μｍであり、前記無機薄膜の厚さが0.1〜50nmである請求項１に記載の材料。
【請求項３】
前記基質粒子の平均粒径が0.005〜50μｍである請求項１に記載の材料。
【請求項４】
前記無機薄膜の厚さが0.5〜35nmである請求項１に記載の材料。
【請求項５】
前記基質粒子の平均粒径が0.1〜10μｍである請求項１に記載の材料。
【請求項６】
前記無機薄膜の厚さが1〜20nmである請求項１に記載の材料。
【請求項７】
前記基質粒子が金属、無機酸化物、窒化物、硫化物又はリン化物から成る請求項１〜６のいずれか一項に記載の材料。
【請求項８】
前記基質粒子が3族、13族若しくは14族の窒化物、又は4族、6族、13族若しくは14族の炭化物であり、前記無機薄膜が無機酸化物又は金属である請求項１〜６のいずれか一項に記載の材料。
【請求項９】
前記基質粒子が焼結可能な材料であり、前記無機薄膜が金属である請求項１〜６のいずれか一項に記載の材料。
【請求項１０】
前記基質粒子が焼結可能な材料であり、前記無機薄膜が焼結助剤である請求項１〜６のいずれか一項に記載の材料。
【請求項１１】
前記基質粒子が金属粒子であり、前記無機薄膜が無機酸化物、窒化物、硫化物又はリン化物である請求項１〜６のいずれか一項に記載の材料。
【請求項１２】
前記基質粒子が金属燃料であり、前記無機薄膜が酸化剤である請求項７に記載の材料。
【請求項１３】
前記金属燃料がアルミニウムであり、前記酸化剤がNiO、WO3、Co3O4、MnO又はSnOである請求項１２に記載の材料。
【請求項１４】
前記無機薄膜がアルミナであり、前記基質粒子がFe、Co、Ni、Zn、Mn、Mg、Ca、Ba、Sr、Cd、Hg、Al、B、Sc、Ga、V、Ti、In、Nd-Fe-B、Fe3O4、Fe2O3、TiO2、ZnO、FeO又はこれら混合物である請求項１〜６のいずれか一項に記載の材料。
【請求項１５】
請求項１２に記載の材料を成分とする爆発装置又はサーメットロッド。
【請求項１６】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の材料及び磁気反応性組成物から成り、該磁気反応性組成物が粒径1〜1000nｍの活性炭粒子である、治療又は診断薬。
【請求項１７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の材料から成る化学反応用触媒。
【請求項１８】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の材料から成る樹脂用フィラー。
【請求項１９】
基質粒子の表面で２回以上の自己停止反応工程を連続して行い、前記基質粒子の表面に結合する厚さが100nm以下の無機薄膜を有する被膜粒子を形成することから成り、該反応が該基質粒子を含んだ容器を回転させることを特徴とする、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の材料を形成する方法。
【請求項２０】
前記反応工程が、前記基質粒子に第一の反応物と第二の反応物を交互に接触させることから成り、該第一の反応物と第二の反応物は、これらが反応して無機薄膜を形成するものである、請求項１９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月11日(2004.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上に流体製造材料を堆積させる装置において、
ノズルアセンブリーを含みまたノズルアセンブリーから流体製造材料の小液滴を放出するように作動可能な回転自在のマイクロデポジションヘッド、
基板を受けて固定させまた基板を前記マイクロデポジションヘッドに対して移動させるように構成されたステージ、
マイクロデポジションヘッドをステージの上方に取り外し自在に据え付けるヘッド支持体、及び、
マイクロデポジションヘッド及びステージと連絡してステージに対するノズルアセンブリーのピッチ及びノズルアセンブリーから基板上に放出される流体製造材料の小液滴の堆積を制御する制御システム、
を有することを特徴とする装置。
【請求項２】
制御システムが、回転自在なマイクロデポジションヘッドに対する基板の位置合わせを識別するように作動可能な位置合わせセンサーを含む請求項１に記載の装置。
【請求項３】
制御システムが、ノズルアセンブリーから放出される小液滴の特性を測定するように作動可能な小液滴診断センサーを含む請求項１に記載の装置。
【請求項４】
制御システムが、ノズルアセンブリーから放出される小液滴の特性を制御するように構成されたノズル制御コンポーネントを含む請求項１に記載の装置。
【請求項５】
ステージは、マイクロデポジションヘッドが基板上に流体製造材料を堆積させている間に回転自在なマイクロデポジションヘッドに対して基板を移動させるように作動可能である請求項１に記載の装置。
【請求項６】
ステージが、基板を回転自在なマイクロデポジションヘッドに対して少なくとも一つに水平方向及び少なくとも一つの垂直方向に移動させるように作動可能な請求項１に記載の装置。
【請求項７】
ヘッド支持体が、回転自在なマイクロデポジションヘッドをステージに対して回転させるように作動可能なターレットを含む請求項１に記載の装置。
【請求項８】
さらに、回転自在なマイクロデポジションヘッドと流体連通しておりまた流体製造材料を回転自在なマイクロデポジションヘッドへ供給するように作動可能なし流体製造材料供給システムを有する請求項１に記載の装置。
【請求項９】
ヘッド支持体が静止ガントリーに据え付けられている請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
ヘッド支持体が、支持梁に接続されたリニアベアリングアセンブリーに据え付けられている請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
回転自在なマイクロデポジションヘッドが、発光ポリマー、プラスチック、導電体、結晶、金属、ワックス、ハンダ、ハンダペースト、酸、フォトレジスト、溶剤、接着剤、エポキシ、及び生物医学コンポーネントからなるグループから選ばれた流体材料の小液滴を放出する請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
回転自在なマイクロデポジションヘッドが、複数の回転自在なマイクロデポジションヘッドであり、ヘッド支持体が、前記複数の回転自在なマイクロデポジションヘッドを取り外し自在に固定するように作動可能な複数の対応するヘッド支持体である請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
回転自在なマイクロデポジションヘッドが、約１０ピコリットルの量に近似する小液滴を放出する請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
基板上に流体材料を堆積させるマイクロデポジション機械において、
基板を固定するように構成されたステージ、
ステージの上方に配置されたガントリー、
少なくとも一つのノズルを含みまた少なくとも一つのノズルから流体材料の小液滴を堆積させるように作動可能であり、ステージに関係する位置でガントリーによって支持され、またステージに対してノズルアセンブリーのピッチを調整するように作動可能であるマイクロデポジションヘッド、及び、
ステージ及びマイクロデポジションヘッドと連絡して少なくとも一つのノズルから基板上に放出される流体材料の堆積を制御する制御システム、
を有することを特徴とするマイクロデポジション機械。
【請求項１５】
ステージ及びマイクロデポジションヘッドが相互に動かされ、制御システムが、それらの動きを調整して基板上の予め定められた場所に液滴を堆積させることによって基板上に構造を形成する請求項１４に記載の機械。
【請求項１６】
さらに、独立して作動可能でかつ独立して制御可能な多数のマイクロデポジションヘッドを有し、制御システムが、多数のマイクロデポジションヘッドの作動を調整する請求項１４に記載の機械。
【請求項１７】
ガントリーが、マイクロデポジションヘッドを取り外し自在に固定するための据え付けブラケットを含み、据え付けブラケットが、ガントリーに回転自在に接続されている請求項１４に記載の機械。
【請求項１８】
制御システムと連通し、少なくとも一つのノズルから小液滴が放出された後少なくとも一つの小液滴の特性を測定するように構成された小液滴診断システムを有する請求項１４に記載の機械。
【請求項１９】
基板上に流体製造材料を堆積させる方法において、
基板を流体製造材料の小液滴をノズルアセンブリーを含む回転自在なマイクロデポジションヘッドから基板の上へ放出するためのステージの上に固定させること、
基板とマイクロデポジションヘッドを相対的に移動させること、及び、
マイクロデポジションヘッドのピッチ及びノズルアセンブリーから前記基板の上に放出される流体製造材料の小液滴の前記堆積を制御すること、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２０】
さらに、回転自在なマイクロデポジションヘッドに対して基板を位置合わせすることを含む請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
さらに、ノズルアセンブリーから放出された小液滴の特性を測定し制御するもとを含む請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
制御される放出された小液滴の特性が、少なくとも量、速度、滴下角度、及びティリングの少なくとも一つを含む請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
さらに、ノズルアセンブリーを清浄することを含む請求項１９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月27日(2004.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも第１の治療薬を標的組織の送達するための移植型薬剤送達装置において、
ハウジングと、同ハウジングは少なくとも第１の薬剤を標的組織に放出するための薬剤送出口を有するリザーバを備えることと、前記リザーバはその内部に収容されるべき第１の薬剤を実質的に浸透させ得る少なくとも第１の壁を有することと、
組織表面に対して前記送出口を封鎖するための封鎖基部と、前記送出口は標的組織に対して封鎖されていることと、前記リザーバ内の第１の治療薬は前記装置によって前記送出口以外を通じて前記標的組織内へと放出されることが概ね防止されていることと、
前記送出口の標的組織への密着を促進するための結合機構と、該結合機構は、前記封鎖基部の標的組織への接着のために十分な量の接着剤、周囲の組織に動作可能に取り付けられた少なくとも１つの縫合糸を係合するための縫合糸ホルダ、及び前記装置を標的組織に係合させるためのバンドからなる群のうちの少なくとも１つの部材からなることとからなる、移植型薬剤送達装置。
【請求項２】
前記結合機構は前記縫合糸ホルダを備え、前記送出口は一定の周囲を有し、前記縫合糸ホルダは前記周囲の少なくとも一部から突出する少なくとも１つのフランジ又は前記第１の壁内の少なくとも１つの溝を備え、前記少なくとも１つのフランジ又は隆起部は前記装置を標的組織に固定することによって前記送出口が前記組織に封鎖されるべく少なくとも１つの縫合糸によって係合可能である、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記結合機構は前記縫合糸ホルダを備え、前記送出口は一定の周囲を有し、前記縫合糸ホルダは前記第１の壁から突出する少なくとも１つの隆起部を備え、前記少なくとも１つの隆起部は前記装置を標的組織に固定することによって前記送出口が前記組織に封鎖されるべく少なくとも１つの縫合糸によって係合可能である、請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
前記リザーバを形成する前記少なくとも１つの壁は可撓性材料及び柔軟な材料からなる群から選択される少なくとも１つの材料からなる、請求項１〜３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項５】
前記少なくとも１つの壁は、ポリエチレン、シリコーン、ヒドロゲル、ポリグリコール酸、ポリ乳酸、ポリカプロラクトン、ポリビニルアルコール、ポリオルトエステル、及びポリビニルピロリドンからなる群から選択される少なくとも１つの材料からなる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
前記少なくとも第１の壁はポリエチレン及びシリコーンからなる群から選択される少なくとも１つの材料からなる請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記装置は補充口をさらに備える請求項１〜６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項８】
前記補充口はアクセスを容易にするために前記装置から外側に突出している請求項７に記載の装置。
【請求項９】
治療又は予防の第１の薬剤をさらに備え、該第１の薬剤は、抗ガン薬、ペプチド、抗体、遺伝子ベクター、ホルモン、タンパク質、放射線増感剤、光増感剤、化学増感剤、哺乳類細胞、ウイルス、細菌、又はヌクレオチドである請求項１〜８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１０】
細胞毒薬剤をさらに備える、請求項１〜９のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１１】
前記薬剤のための賦形剤をさらに備え、該賦形剤が、ポリオルトエステル、ポリグリコール酸、ポリ乳酸、ポリカプロラクトン、アクリレート、セルロース、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、デキストラン、ヒアルロン酸、フィブリン、コラーゲン、ゼラチンからなる群から選択される少なくとも１つの材料からなる請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
酵素、補助薬剤、及び前記薬剤、タンパク質、又はアルブミンのサブストラクトからなる群から選択された少なくとも１つの治療促進物質をさらに備える請求項９又は１０に記載の装置。
【請求項１３】
潅流装置をさらに備え、該潅流装置は前記治療薬剤又は予防薬剤の標的組織への浸透を促進することが可能であり、前記潅流装置は酵素、前酵素、及びプロスタグランジンからなる群から選択された少なくとも１つの化合物からなる請求項９〜１２のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１４】
前記酵素はコラゲナーゼ、及びマトリックスメタロプロテイナーゼからなる群から選択された少なくとも１つの酵素からなる、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記薬剤送出口を覆うバリア層をさらに備える請求項１〜１４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１６】
前記バリア層はコラゲナーゼ、及びマトリックスメタロプロテイナーゼからなる群から選択された少なくとも１つの材料からなる請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記薬剤はカプセル封入形態である請求項９〜１６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１８】
前記薬剤は不活性の形態である請求項９〜１７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１９】
前記賦形剤はその放出を制御するために前記薬剤と相互作用する請求項１１〜１８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２０】
前記リザーバは少なくとも２つの区画を有する請求項１〜１９のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２１】
前記接着剤はフィブリン、ヒドロゲル、ヒアルロン酸塩及びアクリレートからなる群のうちの少なくとも１つからなる請求項１〜２０のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２２】
治療又は予防のための第２の薬剤をさらに備え、該第２の薬剤は前記第１の治療又は予防のための薬剤の一部を標的組織に送達した後に標的組織に送達することが可能な請求項９〜２１のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２３】
浸透圧物質をさらに備える請求項９〜２２のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２４】
前記バリア層は生態分解性である請求項１５〜２３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２５】
前記接着剤に並べられている剥離可能な層をさらに有する請求項１〜２４のいずれか一項に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月2日(2004.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２本のアーム（１１、１３）と１箇所の湾曲部（１５）とを有した基本的にＵ字形に湾曲された中空繊維膜（１０）からなるカテーテルにおいて、中空繊維膜の管腔の流通性を保持しつつカテーテルの総直径をできるだけ小さくするために中空繊維膜（１０）は少なくとも前記湾曲部（１５）が熱処理および／または少なくとも１種類の溶剤で処理されていることを特徴とするカテーテル。
【請求項２】
２本のアーム（１１、１３）のあいだの間隔（ａ）は中空繊維膜（１０）の直径（ｄ）の５０％以下および／またはカテーテルの総直径は前記中空繊維膜の直径の２．５倍以下であることを特徴とする請求項１記載のカテーテル。
【請求項３】
中空繊維膜（１０）はＵ字形湾曲部において１８０°＋／−５°湾曲されていることを特徴とする請求項１または２記載のカテーテル。
【請求項４】
中空繊維膜（１０）は１本の補強材（２０）を有することを特徴とする請求項１、２または３記載のカテーテル。 
【請求項５】
前記中空繊維膜は不斉構造を有し、管腔は微孔質分離層によって包囲され、壁面は外側に向かって徐々に粗大化する多孔を有していることを特徴とする請求項１、２、３または４記載のカテーテル。 
【請求項６】
２本のアーム（１１、１３）と１箇所の湾曲部（１５）とを有した基本的にＵ字形に湾曲された請求項１、２、３、４または５記載のカテーテル用の中空繊維膜において、中空繊維膜の管腔の流通性を保持しつつカテーテルの総直径をできるだけ小さくするために中空繊維膜（１０）は少なくとも前記湾曲部（１５）が熱処理および／または少なくとも１種類の溶剤で処理されていることを特徴とする中空繊維膜。 
【請求項７】
基本的にＵ字形に湾曲された中空繊維膜（１０）からなるカテーテルまたは基本的にＵ字形に湾曲された中空繊維膜を製造するための方法において、中空繊維膜（１０）は少なくとも湾曲さるべき部分が熱処理および／または少なくとも１種類の溶剤で処理されることを特徴とする方法。
【請求項８】
前記中空繊維膜は電気加熱される線材との直接の接触および／または電磁線の作用によって熱処理されることを特徴とする請求項７記載の方法。 
【請求項９】
補強材（２０）は中空繊維膜（１０）と直接に結合されることを特徴とする請求項７または８記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月1日(2004.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）ペレットを皮下注射針の内腔を通過させて動物に埋め込むためのインプランター器具；および、
（ｂ）少なくとも１つの医薬ペレットおよび少なくとも１つの非医薬装置ペレット、
を含み、上記ペレットは全て、動物に１回の注入で同時に送達するための上記インプランター器具に装填される、
少なくとも１つの医薬ペレットおよび少なくとも１つの非医薬装置ペレットを動物の皮下に１回の複合処置で埋め込むためのペレットインプラントシステム。
【請求項２】
インプランター器具は、医薬ペレットおよび非医薬ペレットを装填したペレット格納庫を備える、請求項１に記載のペレットインプラントシステム。
【請求項３】
非医薬装置ペレットは、同定装置である、請求項１に記載のペレットインプラントシステム。
【請求項４】
同定装置は、マイクロチップである、請求項３に記載のペレットインプラントシステム。
【請求項５】
同定装置は、トランスポンダーまたはトランスミッターである、請求項３に記載のペレットインプラントシステム。
【請求項６】
医薬ペレットは、抗生物質、ワクチン、成長促進物質、成長刺激剤、駆虫剤およびそれらの混合物からなる１またはそれ以上の薬剤を含む、請求項１に記載のペレットインプラントシステム。
【請求項７】
薬剤は、ＭＧＡ、ＭＧＡおよびＴＢＡの組み合わせ、または、ＭＧＡ、ＴＢＡおよびエストラジオールの組み合わせを含む、請求項６に記載のペレットインプラントシステム。
【請求項８】
（ａ）少なくとも１つの非医薬装置ペレット；および、
（ｂ）少なくとも１つの医薬ペレット、
を含む、動物またはヒトでの皮下埋め込みのためのインプラント。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月8日(2004.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
呼吸ガスを新生児に投与する経鼻カニューレであって、チャンバ、吸気導管に係合するように形成されたガス入口、呼気導管に係合するように形成されたガス出口及び前記チャンバを通る前記入口から前記出口への前記ガスの小抵抗経路を含むマニホルドと、前記入口から実質的に等間隔のところで前記チャンバと流体連通状態にある１対の鼻枝管とを有し、前記枝管は、前記経路内に直接並置されていることを特徴とする経鼻用カニューレ。
【請求項２】
前記カニューレは、前記枝管を前記新生児の外鼻孔内の定位置に保持する固定手段を有していることを特徴とする請求項１記載の呼吸ガスを新生児に投与する経鼻用カニューレ。
【請求項３】
前記固定手段は、前記新生児の首の後ろの周りに延びて前記カニューレと係合し、それにより前記枝管を前記新生児の外鼻孔内の定位置に保持するようになったストラップを含むことを特徴とする請求項２記載の呼吸ガスを新生児に投与する経鼻用カニューレ。
【請求項４】
前記ストラップは、小抵抗部分を有し、前記小抵抗部分は、前記カニューレと摺動自在な仕方で係合して前記カニューレに対する前記ストラップの実質的に側方（エゴノン（egonon）軸方向）運動を可能にするようになっていることを特徴とする請求項３記載の呼吸ガスを新生児に投与する経鼻用カニューレ。
【請求項５】
前記小抵抗部分は、薄いプラスチックストランド又はストリップから成ることを特徴とする請求項４記載の呼吸ガスを新生児に投与する経鼻用カニューレ。
【請求項６】
前記ストラップの残部は、使用中前記ストラップの張力を調節するための前記小抵抗部分への調節可能な取付け部を有していることを特徴とする請求項５記載の呼吸ガスを新生児に投与する経鼻用カニューレ。
【請求項７】
前記固定手段は、乳幼児の頭を少なくとも部分的に被覆するようになったヘッドカバー手段及び前記ヘッドカバー手段を前記乳児の頭の上にしっかりと配置するための弾性を備えた少なくともカフを含む乳児ボンネットと、前記ヘッドカバー手段の外面に連結された医療用チューブ固定手段から成り、前記医療用管は、使用中、前記カニューレに連結されるようになっており、前記固定手段は、前記ヘッドカバー手段上を通る医療用管を少なくとも側方（エゴノン（egonon）軸方向）運動が生じないよう保持することができることを特徴とする請求項２〜６のうちいずれか一に記載の呼吸ガスを新生児に投与する経鼻用カニューレ。
【請求項８】
前記ヘッドカバー手段は、管状の形態をしていて、両端が開口した編物で作られ、前記固定手段は、一方の前記開口端部に隣接して前記外面に連結されており、端閉鎖手段が、他方の前記開口端部に隣接して前記外面に連結されており、前記端閉鎖手段は、前記編物のそれぞれの前記端部を互いに束ねた閉鎖状態に保持できることを特徴とする請求項７記載の呼吸ガスを新生児に投与する経鼻用カニューレ。
【請求項９】
前記医療用管固定手段及び前記端閉鎖手段のうちいずれか一方又は両方は、前記ヘッドカバー手段に縫い付けられたレース又はひも類であり、又はこれを含むことを特徴とする請求項８記載の呼吸ガスを新生児に投与する経鼻用カニューレ。
【請求項１０】
前記レース又はひも類は、２つのアームをもたらすようその中央が前記ヘッドカバー手段に固定されており、前記アームは、前記アーム上で摺動可能な締付けトグルを通って延びていることを特徴とする請求項９記載の呼吸ガスを新生児に投与する経鼻用カニューレ。
【請求項１１】
前記締付けトグルは、少なくとも２つの状態相互間で動くことができ、前記締付けトグルは、前記レース又はひも類の前記アームが前記トグルを通るこれらの通路内でクランプされるピンチオフ状態に付勢されたり、前記トグルが前記レース又はひも類の前記アームに沿って摺動できる自由形態に操作可能であることを特徴とする請求項１０記載の呼吸ガスを新生児に投与する経鼻用カニューレ。
【請求項１２】
呼吸ガスを新生児に投与するシステムであって、加圧ガス源と、前記加圧ガス源と流体連通していて、ガスを運ぶようになった吸気導管と、前記吸気導管と流体連通状態にあり、ガスを前記新生児の鼻通路に投与するようになった手段としての経鼻用カニューレと、前記投与手段と流体連通状態にあり、ガスを前記投与手段から運ぶようになった呼気導管と、前記呼気運搬手段内に設けられ又はこれと流体連通状態にある圧力調整装置とを有し、前記圧力調整装置は、前記圧力調整装置を通るガスの流れを調節することにより前記新生児の鼻通路に送られるガスの所定の平均圧力を達成するようになっていることを特徴とするシステム。
【請求項１３】
圧力調整装置は、液体を収容するようになった容器と、近位端部及び遠位端部を備えたターミナル導管手段とを有し、前記近位端部は、前記呼気導管に連結され、前記遠位端部は、前記液体中に浸漬されるようになっており、使用中、前記新生児の鼻通路に投与されたガスの平均圧力が前記液体中への前記遠位端部の浸漬レベルによって決定されるようになっていることを特徴とする請求項１２記載のシステム。
【請求項１４】
前記経鼻用カニューレは、請求項１〜１１のうちいずれか一に記載の経鼻用カニューレであることを特徴とする請求項１３記載のシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の目的は、上述の欠点を解決し、又は少なくとも一般大衆に有用な選択肢を与える経鼻用カニューレを提供することにある。
したがって、本発明は、第１の特徴として、呼吸ガスを新生児に投与する経鼻カニューレであって、チャンバ、吸気導管に係合するように形成されたガス入口、呼気導管に係合するように形成されたガス出口及び上記チャンバを通る上記入口から上記出口への上記ガスの小抵抗経路を含むマニホルドと、上記入口から実質的に等間隔のところで上記チャンバと流体連通状態にある１対の鼻枝管とを有し、上記枝管は、上記経路内に直接並置されていることを特徴とする経鼻用カニューレを提供する。
好ましくは、上記カニューレは、上記枝管を上記新生児の外鼻孔内の定位置に保持する固定手段を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月15日(2004.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定の目により導入される収差に関連する情報を発生することのできる一定の眼用波面測定装置と共に使用するための矯正処方確認装置において、
一定の画像を発生することのできる一定のプロジェクタを備えており、この場合に、前記画像が一定の場面から当該画像を捕捉することのできる一定のカメラにより形成されており、さらに
前記プロジェクタから発生される画像を変更することのできる一定の適応性のある光学装置、および
前記一定の目により導入される収差に関連する情報を受け取り、前記適応性のある光学装置を調節して一定の矯正された画像を形成することのできる一定のプロセッサを備えている装置。
【請求項２】
さらに、
第１の位置および第２の位置を有する一定の可動ミラーを備えており、当該可動ミラーがその第１の位置にある時に一定の目に対して前記画像を方向付けて、その第２の位置にある時にその目が前記場面を直接的に見ることを可能にする請求項１に記載の矯正処方確認装置。
【請求項３】
一定の患者の一定の目により導入される収差に関連する情報を発生することのできる一定の眼用波面測定装置と共に使用するための一定の患者に一定の場面を表示するための矯正処方確認方法において、
前記場面における一定の画像を捕捉する工程、
前記場面の画像を発生する工程、および
前記一定の目により導入される収差に関連する情報に基いて前記発生される画像を変更することによりその目において一定の矯正された画像を形成する工程を含む方法。
【請求項４】
さらに、
一定の可動ミラーが第１の位置にある時に前記画像を前記目に対して方向付ける工程、および
前記可動ミラーが第２の位置にある時に前記目が前記場面を直接的に見ることを可能にする工程を含む請求項３に記載の矯正処方確認の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月10日(2004.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生体内撮像システムであって、
少なくとも１つの撮像装置と、
前記少なくとも１つの撮像装置内に配置された少なくとも１つの位置モニタとを含む、生体内撮像システム。
【請求項２】
位置モニタから位置情報を受信するために構成された受信ユニットと、
撮像装置の位置および配向をコンピュータ計算するための処理ユニットとを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
システムは複数の生体内画像を得る、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
装置によって得られた複数の生体内画像に対応する位置情報を受信可能な受信ユニットと、
複数の生体内画像を単一の画像に組合せることができ、複数の画像の各々に対応する撮像装置の位置および配向に従って複数の生体内画像を組合せることができる処理ユニットとを含む、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
送信機を含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
自律型生体内感知システムであって、
感知装置と、
前記感知装置内に配置された位置モニタと、
受信ユニットと、
感知装置の位置および配向をコンピュータ計算するための処理ユニットとを含む、自律型生体内感知システム。
【請求項７】
外部基準フレームをさらに含み、前記基準フレームは、信号を位置モニタへ送信するために構成された、既知の位置にある送信機を含む、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
感知装置は、ｐＨメータ、温度感知装置、および圧力感知装置からなる群から選択され
る、請求項６に記載のシステム。
【請求項９】
感知装置は画像センサである、請求項６に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月8日(2004.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
ワークピースを処理する熱処理装置であって、
加熱チャンバと、
前記ワークピースが配置される容積の小さいワークピースエンクロージャと、
前記容積の小さいワークピースエンクロージャを支持して、前記加熱チャンバ内で前記容積の小さいワークピースエンクロージャと前記ワークピースを移動させるための位置調整アセンブリと、を有しており、前記加熱チャンバの前記ワークピースエンクロージャに対する容積比が２倍以上である熱処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４０】
ワークピースを熱処理する方法であって、
前記ワークピースを熱処理する加熱チャンバを用意し、
該加熱チャンバ内の容積の小さいワークピースエンクロージャの中に前記ワークピースを位置させ、
前記加熱チャンバと前記ワークピースエンクロージャとを加熱し、
前記加熱チャンバ内で前記ワークピースエンクロージャの位置を調整して、
前記ワークピースを熱処理する、
各ステップにより構成されており、前記加熱チャンバの前記ワークピースエンクロージャに対する容積比を２倍以上にした、ワークピースの熱処理方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
ガスデフューザ２８は、調整仕上げされた石英(quartz with controlled finish)、クオーツファイバ、セラミック、炭化珪素、サファイアなど、高温素材の単一またはそれ以上のタイプにより構成することができる。容積の小さなワークピースのエンクロージャ３２に流すガスのパターンをより調節するために、ガスデフューザ２８は、その大きさ、形状、ワークピース３０からの所定の距離を置く配置を様々に変更することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
温度センサ４４はまた、（例えば、サーモカップルの電圧を計測する）リモートセンサを備えた温度読取り装置など、接触タイプのものとすることもできる。リモートセンサは、ワークピースエンクロージャ３２からエンクロージャ位置調整アセンブリ２２を通って、温度読取り装置に至るように伸びる電線（図示していない）を通すための物理的な経路を必要とする。サーモカップルは、ワークピース３０に接触させるか、またはワークピース３０から所定距離離して、ワークピース３０の温度を測定することができる。サーモカップルの構造および作用の詳細は、当業者に公知であるため、ここではこれ以上詳細に説明しないこととする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
エンクロージャ位置調整アセンブリ１２２は、加熱チャンバ１１１の底を通して取付けられており、加熱チャンバ１１１内で上方に伸長すると共に下方に退縮することができる。エンクロージャ位置調整アセンブリ１３３は、エラスチックシール、ベローズ、など、ガスベアリング１２５や他の公知の技術によって加熱チャンバ１１１に接続することにより、加熱チャンバ１１１の気密性を確保することができる。エンクロージャの位置調整アセンブリ１２２は、図４に示すように縦型熱処理装置の場合には、エレベータ形式とすることができる。位置調整アセンブリ１２２はまた、横型や他の形式の熱処理装置にも使用することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
蓋１３３とベース１３４との間のシール構造は、気密にすることができる。実際には、ガスが充分に流れるのに抗して蓋１３３とベース１３４との接触表面の間のギャップを通って逃げたり交換されるガスの割合を制限するに足りる気密性となっている。ベース１３３に自己調整機構１３７、または同様の機能を採用することにより、ベース１３４に対して蓋１３３が確実に整合される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2005501407.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月13日(2004.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加入者ユニットにおいてデータ変調を調節するための方法であって、
送信のために送信機においてデータを受信することと、
受信したデータを、送信のために、各パケットが特定のタイプの符号化／データ変調を有するパケットにフォーマットすることと、
前記パケットを送信することと、
各パケットについて、該パケットが受信されたことの確認応答の受信のために戻りチャネルをモニタすることと、
パケットに対する確認応答が受信されない場合、送信機において該パケットを再送することと、
再送統計を収集することと、
収集した再送統計を用いてそれぞれの特定の符号化／データ変調を調節することであって、前記収集した再送統計が少ない再送数を示す場合、前記特定の符号化／データ変調として高容量の符号化／データ変調方式を選択し、前記収集した再送統計が多い再送数を示す場合、前記特定の符号化／データ変調として低容量の符号化／データ変調方式を選択すること
を備えることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記特定のタイプの符号化／データ変調は、前方誤り訂正（ＦＥＣ）であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記パケットは、直交周波数分割多元接続（ＯＦＤＭＡ）エアインタフェースを用いて送信され、前記ＦＥＣ符号化／データ変調の調節は、ＯＦＤＭＡセット内のサブチャネルを選択的に無効化することに加えて実行されることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記パケットは、シングルキャリア周波数領域等化（ＳＣ−ＦＤＥ）エアインタフェースを用いて送信されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記パケットは、符号分割多元接続（ＣＤＭＡ）エアインタフェースを用いて送信されるとき、前記戻りチャネルは、高速フィードバックチャネルであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
否定応答の受信に応答して、パケットを、許容不能な誤り率を有すると識別すること
をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
加入者側においてデータ変調を調節するための方法であって、
無線エアインタフェースを介しての送信のためにデータをパケットにフォーマットすることと、
前記エアインタフェースを介して、各パケットが特定の符号化／データ変調を有するデータのパケットを受信することと、
各受信パケットについて、受信パケットが許容可能な誤り率を有するとき、前記エアインタフェースの物理層において肯定応答を生成および送信することとを備え、前記パケットの再送統計を収集し、各パケットの前記特定の符号化／データ変調を前記収集した再送統計を使用して調節し、前記収集した再送統計が少ない再送数を示す場合、前記特定の符号化／データ変調として高容量の符号化／データ変調方式を選択し、前記収集した再送統計が多い再送数を示す場合、前記特定の符号化／データ変調として低容量の符号化／データ変調方式を選択することを特徴とする方法。
【請求項８】
前記エアインタフェースが符号分割多元接続（ＣＤＭＡ）を使用している場合、前記肯定応答は、高速フィードバックチャネルで送信されることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記パケットが許容不能な誤り率を有する場合、否定応答を送信することをさらに備えることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月13日(2004.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
詳細な説明
図１で示されたブロック図は、増幅器帯域幅が表示される信号のスペクトル内容に従って適応的に制御される、種々の発明の配置を含む陰極線管（ブラウン管）駆動増幅器を示す。カラー陰極線管ディスプレイでは、ブロック１００、２００、３００、４００及びＱ５００は、それぞれのディスプレイカラーについて存在するが、しかしながら、マイクロプロセッサコントローラ４００がそれぞれのカラーチャネルに色に特定された制御信号を提供することができる。例示のカラー復調器又は外部のベースバンドソースからの、例えば赤、緑又は青の、カラーディスプレイ信号は、増幅と例えばＤＣバイアス制御のために、ビデオ処理ブロック１００に入力される。自動的な受像管バイアスあるいは（ＡＫＢ）フィードバック制御ループによるディスプレイ信号のＤＣ内容又は成分の制御は、よく知られており、そして陰極線管ディスプレイの各陰極において予め定められた電流を維持するのに役立つ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
図３の回路図で示されたスルーレート検出器３００は、スルーレート及び周波数検出器と考えられる。スルーレートは、信号の１次微分に比例しているので、検出器は高域通過フィルタとして動作しなくてはならない。個々のカラー信号を表しているビデオ信号は、ＡＣ結合され、コンデンサーＣ１７，Ｃ１８，Ｃ１９により微分され、そして、そしてベースがグランドされたＮＰＮ形トランジスタ増幅器Ｑ２１のエミッタにおいて、低いインピーダンスで合計される。トランジスタＱ２１のベースは、コンデンサＣ２３によってグランドに減結合され、そして抵抗Ｒ２２を介して＋１２ボルト電源から電源を供給されるタイオードＤ２１によりバイアスされる。トランジスタＱ２１のエミッタでの十分な振幅の負の信号成分が、トランジスタを、導通し、そして、そして増幅器Ｑ２１のコレクタで、負の又は整流されたパルス、合計されそして増幅された信号を形成する。この出力信号は、およそ６．５ＭＨｚに共振する、インダクタＬ２１とコンデンサＣ２４の直列の接続されたネットワークによって構成されてノッチフィルターと並列に接続された負荷抵抗Ｒ２３をわたって発生する。このように整流されとフィルターされた信号はＰＮＰ形トランジスタ増幅器Ｑ２２のベースに供給される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2005501486.tif 000001