Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月16日(2004.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  データ構造を使用して、コード化しようとするシンボルのためのコード長を生成する方法であって、
コード化されているシンボルの頻度に少なくとも部分的に基づいて、データ構造をソートすること、データ構造内のシンボルを組み合わせること、およびシンボル長を更新することを含む方法。
【請求項２】  ハフマン木を生成せずに、ハフマン・コードに従ってコード化しようとする１グループのシンボルのためのコード長を生成する方法であって、
（ａ）頻度によってシンボルをソートし、異なるフラグおよび同じ初期長をそれぞれのシンボルに割り当てること、
（ｂ）最小頻度シンボルで開始して、シンボル・フラグを組み合わせること、
（ｃ）シンボルを再ソートし、長さ情報を更新して、組合せを反映すること、
もはや組み合わせるべきシンボルがなくなるまで、（ｂ）および（ｃ）を繰り返すことを含む方法。
【請求項３】  頻度によってソートされるシンボル・インデックスおよび最初に割り当てられた長さとを有する第１の部分と、
グループ頻度情報およびそれぞれの各シンボルに対応する割り当てられたビット・フラグを有する第２の部分との少なくとも２つの部分を有するデータ構造。
【請求項４】  命令が実行されたとき、データ構造を使用して実行される、コード化しようとするシンボルに対してコード長を生成する方法、すなわち  コード化されているシンボルの頻度に、少なくとも部分的に基づいて、データ構造をソートし、データ構造内のシンボルを組み合わせ、およびシンボル長を更新する方法を実施することになる命令を格納した記憶媒体を備える製品。
【請求項５】  命令が実行されたとき、コード化しようとするシンボルに対するコード長を生成するためにデータ構造を初期化する方法、すなわち  頻度によってシンボルをソートし、異なるフラグおよび同じ初期長をそれぞれのシンボルに割り当てる方法が実行される命令を格納した記憶媒体を備える製品。
【請求項６】  シンボルをエンコードする方法であって、
コード長情報を使用してシンボルをエンコードすること、
ハフマン木を使用せずにコード長情報を生成することを含む方法。
【請求項７】  シンボルをデコードする方法であって、
ハフマン木を使用せずに生成されたコード長情報を使用してエンコードされているシンボルをデコードすることを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月30日(2005.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロリソグラフィーの投射露光装置であって、
ａ）光源（１）、特に２５０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲の波長を持った光源（１）と、
ｂ）照射システム（２）と、
ｃ）マスク位置決めシステム（３１）と、
ｄ）有利には０．７〜０．９５の範囲の像側の開口数（ＮＡ）と、システムアパーチャー面（Ｐ）と、像面（５）とを備えた投射レンズ（４）にして、透過角（α）に依存した複屈折を有する材料から成り特に像面（５）付近に配置される少なくとも１つのレンズ（４２，４３）を含んでいる前記投射レンズ（４）と、
ｅ）対象物位置決めシステム（５１）と
を備えた前記投射露光装置において、
照射システム（２）内または投射レンズ（４）内に、位置依存性偏光回転作用または種々の位置依存性複屈折作用を有し、且つ少なくとも１つのレンズ（４２，４３）によって像面（５）内に生じた複屈折効果を少なくとも部分的に補正する光学要素（４４；１４４；２４４；３４４；４４４；５４４；６４４；７４４；８４４；９４４）が瞳面（Ｐ）付近に設けられていることを特徴とする投射露光装置。
【請求項２】
光学システム、特にマイクロリソグラフィーの投射レンズであって、
透過する光束の光線の角度に関して偏光依存性の伝播障害を生じさせる少なくとも１つの第１および第２の光学要素を備えている前記光学システムにおいて、
第１および第２の光学要素の最大複屈折の回転角度範囲が互いにずれるように該第１および第２の光学要素が共通の対称軸線のまわりに互いに回転していることを特徴とする光学システム。
【請求項３】
投射レンズ（４）一式を取り付け、像面内の波面を測定するようにした、マイクロリソグラフィー投射レンズの製造方法において、複数回の回転対称性の、特に３回または４回の回転対称性の障害を評価し、これに依存して、特に瞳付近に配置されている光学要素（４４）の厚さプロフィールを同じ複数回の回転対称性で変化させることにより、像面（５）内の波面の複数回の回転対称性の障害を少なくとも部分的に補正することを特徴とする製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月14日(2003.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理ツール（１）において基板上の欠陥を検出するための構成であって、
該少なくとも１つの基板（２）を該処理ツール（１）に載せるか、または降ろすためのロードポート（５）と、
該処理ツール内のデバイス移送エリア（８）と、
該ロードポート（５）に接続され、入力スロット（７ａ）を用いて該デバイス移送エリア（８）に接続されるロボット操作エリア（９）と、
該処理ツール（１）の少なくとも１つの処理チャンバ（１ａ、１ｂ、１ｃ）と、
該ロードポート（５）、該ロボット操作エリア（９）と該少なくとも1つの処理チャンバ（１ａ、１ｂ、１ｃ）との間において基板（２）の移送を維持するためのロボットアーム（４）と、
照射システム（１１）を有する光センサー（１０）であって、該デバイス移送エリア（８）内で該ロボットアーム（４）に保持される該少なくとも１つの該基板（２）の画像が該光センサー（１０）によって記録され得るように該入力スロット（７ａ）の上の該デバイス移送エリア（８）内に取り付けられた、光センサー（１０）と、
該光センサを用いて撮られる画像を記録し、該画像の比較を実行するために該光センサ（１０）に接続された制御ユニットと
を含む、構成。
【請求項２】
前記光センサ（１０）はマクロ欠陥点検を実行するためのセンサであることを特徴とする、請求項１に記載の構成。
【請求項３】
前記光センサ（１０）は１０μｍより大きくかつ１００μｍより小さい最小解像可能構造の幅を有することを特徴とする、請求項２に記載の構成。
【請求項４】
前記光センサ（１０）は、前記ロボットアーム（４）による前記基板（２）の移動中に該基板（２）から列で画像を記録するスキャナーであることと、
前記制御ユニットは、移動中に該基板（２）位置を得るために該ロボットアーム（４）を移動させるモーターに接続されていることと、
該制御ユニットは、該画像列および該基板（２）位置から画像を形成するための処理ユニットを含むことと
を特徴とする、請求項１〜３のいずれか１つに記載の構成。
【請求項５】
前記光センサ（１０）は前記基板（２）の移送経路の高さに基づいた距離に対して該光センサ（１０）に焦点を当てさせるために、前記制御ユニットに接続された焦点を合わせる手段を含むことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１つに記載の構成。
【請求項６】
前記基板（２）はレチクルまたはマスクであることと、
前記ロードポート（５）がレチクルライブラリに接続されていることと、
前記処理ツール（１）が露光ツールであることと、
前記光センサ（１０）がＣＣＤカメラであることと
を特徴とする、請求項１〜５のいずれか１つに記載の構成。
【請求項７】
前記基板（２）が半導体ウエハであることと、
前記ロードポートがウエハキャリヤーを受け取るように設計されていることと
を特徴とする、請求項１〜５のいずれか１つに記載の構成。
【請求項８】
レチクルライブラリ、デバイス移送エリア（８）、光センサ（１０）および該光センサ（１０）によって監視されているエリアを照射するための照射システム（１１）を含む、露光ツール（１）内のマスクまたはレチクル（２）上の欠陥を検出する方法であって、
該レチクルライブラリから該デバイス移送エリア（８）へ該レチクル（２）を移送する工程と、
該光センサ（１０）を用いて該マスクまたはレチクル（２）の画像を記録する工程と、
記録された画像を参照画像と比較する工程と、
該比較に応答して信号を発する工程と、
該露光ツール（１）へ該マスクまたはレチクル（２）を移送し、発せられた該信号に応答して該マスクまたはレチクルを用いて半導体ウエハを露光する工程と
を含む、方法。
【請求項９】
デバイス移送エリア（８）、光センサ（１０）および光センサ（１０）および該光センサ（１０）によって監視されているエリアを照射するための照射システム（１１）を含む、処理ツール（１）内の半導体デバイス（２）上の欠陥を検出するための方法であって、
該デバイス移送エリア（８）に該半導体デバイス（２）を提供する工程と、
該光センサ（１０）を用いて該半導体デバイス（２）の第１の画像を記録する工程と、
該半導体デバイス（２）を該処理ツール（１）に移送する工程と、
該半導体デバイス（２）上で処理工程を実行する工程と、
該半導体デバイス（２）を該デバイス移送エリア（８）に移送し戻す工程と、
該光センサ（１０）を用いて該半導体デバイス（２）の第２の画像を記録する工程と、
該第１および第２の画像を比較する工程と、
該比較に応答して信号を発する工程と
を含む、方法。
【請求項１０】
前記比較は、
画像の１つを他方から減法することと、
減法された画像においてパターンを識別することと、
識別されたパターンを少なくとも１つの参照パターンと比較することと
によって実行されることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの参照パターンは、半導体デバイス（２）上の欠陥を表して提供されること、
を特徴とする、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記欠陥は、
焦点スポットを引き起こすデバイス裏面上の粒子と、
レジストスピンオン（ｓｐｉｎ  ｏｎ）中に、歪みを引き起こすデバイス表面上の粒子と、
レジスト剥離を引き起こすデバイス表面上の粒子と
のうち少なくとも１つであることを特徴とする、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記第１および第２の画像は、前記半導体デバイス（２）の前記デバイス移送エリア（８）上を移動中に該半導体デバイス（２）をスキャンすることによって記録されることを特徴とする、請求項９〜１２のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１４】
前記点検された半導体デバイス（２）の処理は、前記信号に応答して停止されることを特徴とする、請求項９〜１３のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１５】
デバイス移送エリア（８）、光センサ（１０）および照射システム（１１）を含み、該ロボットアーム（４）が基板（２）を該デバイス移送エリア（８）に移送するために提供されている処理ツール（１）内のロボットアーム（４）上の欠陥を検出する方法であって、
基板（２）が載せられるれることなく、該ロボットアーム（４）を該デバイス移送エリア（８）に移動させる工程と、
該デバイス移送エリア（８）内の該ロボットアーム（２）の第１の画像を記録する工程と、
該ロボットアーム（４）を用いて、該デバイス移送エリア（８）へ、そして該デバイス移送エリア（８）から多数の基板（２）を移送する工程と、
基板（２）を載せられることなしで、該ロボットアーム（４）を該デバイス移送エリア（８）に移動させる工程と、
該デバイス移送エリア（８）内の該ロボットアーム（４）の第２の画像を記録する工程と、
該第１および第２の画像を比較する工程と、
該比較に応答して信号を発する工程と
を含む、方法。
【請求項１６】
デバイス移送エリア（８）、光センサ（１０）および照射システム（１１）を含む、処理ツール（１）内の基板（２）の表面上に構成された基板識別番号を検出する方法であって、
該デバイス移送エリア（８）に該基板（２）を提供する工程と、
該基板（２）の画像を記録する工程と、
パターン認識アルゴリズムを用いて該識別番号を識別する工程と、
該識別に応答して信号を発する工程と
を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月14日(2005.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３次元立体投影システムであって、
デジタルマイクロミラー表示器と、
フリッカーがないように左眼の視野画像と右眼の視野画像とを光学的に切り替えるための切替手段であって、前記デジタルマイクロミラー表示器と一体になった切替手段と、を有し、
前記切替手段は、前記３次元立体投影システムが受け取る画像データの速度から独立しているものである。
【請求項２】
請求項１のシステムにおいて、前記切替手段は前記３次元立体投影システム内のあらゆるクロック信号から独立しているものである。
【請求項３】
請求項１のシステムにおいて、前記切替手段は前記３次元立体投影システム内のあらゆるインデックス（指標）信号から独立しているものである。
【請求項４】
請求項１のシステムにおいて、前記切替手段はカラーホイール（色彩輪）インデックス信号と同期するものである。
【請求項５】
請求項１のシステムであって、さらに、
入力画像データ速度から前記左眼の視野画像と前記右眼の視野画像との前記光学的切替えをデカップリング（ｄｅｃｏｕｐｌｉｎｇ）するためのデカップラーを有するものである。
【請求項６】
請求項１のシステムであって、さらに、
入力（受信）立体画像データフォーマットをコラム多重化フォーマット（ｃｏｌｕｍｎ  ｍｕｌｔｉｐｌｅｘｅｄ  ｆｏｒｍａｔ）に変換する手段を有するものである。
【請求項７】
請求項６のシステムにおいて、前記デカップラーは時空間立体画像多重化法を使用するものである。
【請求項８】
請求項６のシステムであって、さらに、
観察者へ送信するために一連の左右画像を光学的にエンコードするための手段を有するものである。
【請求項９】
請求項７のシステムにおいて、前記時空間立体画像多重化法は、コラム交互（Ｃｏｌｕｍｎ  ａｌｔｅｒｎａｔｅ）フォーマットの空間的多重化立体画像データをＤＭＤ表示用に観察者に送信するために時間シーケンシャル・フォーマットに変換する３次元表示フォーマッタを有するものである。
【請求項１０】
請求項１のシステムであって、さらに、
前記コラム交互フォーマットの前記空間的多重化立体画像データを前記ＤＭＤ表示用に観察者に送信するために時間シーケンシャル・フォーマットに変換するためのコラム・ブランカー（ｃｏｌｕｍｎ  ｂｌａｎｋｅｒ）を有するものである。
【請求項１１】
請求項１のシステムであって、さらに、
前記コラム交互フォーマットの前記空間的多重化立体画像データを前記ＤＭＤ表示用に観察者に送信するために時間シーケンシャル・フォーマットに変換するためのコラム・ダブラー（ｃｏｌｕｍｎ  ｄｏｕｂｌｅｒ）を有するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月10日(2005.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
視聴する番組の選択を行う際に、ユーザを補助する方法であって、
これから放送される番組についての記録を含む電子番組ガイド情報を定期的に受信して記憶するステップであって、前記記録が、複数のフィールドを有する、前記受信して記憶するステップと、
ユーザがテキスト列を入力し、２つ以上のユーザ選択フィールドを選択するための単一のユーザ・メニューを与えるステップと、
前記電子番組ガイド情報の各記録において選択された前記ユーザ選択フィールドで、前記ユーザが入力したテキスト列を検索するステップと、
１つまたは複数の前記ユーザ選択フィールドにおいて、前記ユーザが入力したテキスト列を含む記録に対応する、これから放送される番組のリストを表示するステップと、を含んでいる方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】視聴する番組の選択を行う際に、ユーザを補助する方法
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月14日(2003.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ローカル広帯域ネットワーク又はディジタル広帯域ホームネットワークといった分散した局のネットワーク上の通信装置中の少なくとも一つの未使用伝送路を探す受信ユニットであって、
切換信号（８）によって監視モードと通常モードの間で切り換えられえ、多数の伝送路からの信号が並列に受信されるよう監視モードでは広帯域受信特性を有し、前記多数の伝送路のうちの少なくとも１つの選択された伝送路の信号が選択的にフィルタ除去されるよう通常モードでは監視モードのときよりも狭い帯域幅の伝送特性を有する、切換可能なフィルタユニット（５）と、
監視モードにある前記フィルタユニット（５）を通過した広帯域信号を、夫々が前記広帯域信号よりも狭い帯域幅を有し夫々が多数の伝送路のうちの一つに関連付けられる多数の並列の成分信号へ分割するディジタルフィルタ装置（７）と、
前記多数の伝送路のうちのどれが使用されているか及び／又は前記多数の伝送路のうちのどれが使用されていないかを決定することが可能であるよう前記多数の成分信号の夫々の少なくとも一の信号強度を決定する評価装置（９）とを含むことを特徴とする受信ユニット。
【請求項２】
信号伝送のために一つの未使用伝送路又は全ての未使用伝送路を選択し、及び／又は、使用要求が検出されたときに分散された局のネットワークの中のネットワーク要素を形成する選択手段を有することを特徴とする、請求項１記載の受信ユニット。
【請求項３】
前記多数の成分信号が前記通信装置によって処理されうる情報を含むか否か、及び前記通信装置によって処理されうる情報が当該通信装置を対象としたものであるか否かを決定するために、前記多数の成分信号を解析する解析装置を含むことを特徴とする、請求項１又は２のうちいずれか一項記載の受信ユニット。
【請求項４】
前記切換可能なフィルタユニット（５）は多数のフィルタ構成要素（１５−２０）を含み、一つのフィルタ構成要素（１８）は多数の伝送路に亘る広帯域伝送特性を有し、他のフィルタ構成要素（１７）は１つの伝送路のみに亘るより狭い伝送特性を有することを特徴とする、請求項１乃至３のうちいずれか一項記載の受信ユニット。
【請求項５】
ローカル広帯域ネットワーク又はディジタル広帯域ホームネットワークといった分散した局のネットワーク上の請求項１乃至４のうちいずれか一項記載の受信ユニットを含む通信装置中の少なくとも一つの未使用伝送路を探す方法であって、
監視モードでは広帯域受信特性を有し通常動作モードではより狭い伝送特性を有する切換可能なフィルタユニット（５）によって広い周波数帯域中で多数の伝送路からの信号を受信する段階と、
監視モードに切り換えられた前記フィルタユニット（５）を通過した広いフィルタ帯域を、前記ディジタルフィルタ装置（７）によって夫々が前記広い周波数帯域よりも狭い帯域幅を有する多数の並列の成分信号へ分割する段階と、
前記多数の成分信号を前記多数の伝送路のうちの一つに夫々関連付ける段階と、
前記多数の伝送路のうちのどれが使用されているか及び／又は前記多数の伝送路のうちのどれが使用されていないかを区別する評価装置（９）によって少なくとも信号強度に関して前記多数の成分信号のうちの少なくとも一つを解析する段階とを含む方法。
【請求項６】
前記受信ユニットが使用要求を受け取ると、前記一つの未使用伝送路又は前記多数の未使用伝送路は、信号伝送及び／又はネットワーク要素の形成のための選択手段によって選択されることを特徴とする請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記フィルタユニット（５）は切換信号（８）によって通常モードに切り換えられ、通常モードでは前記フィルタユニット（５）は前記監視モードのときよりも狭い帯域幅の伝送特性を有し、前記多数の伝送路の少なくとも１つの選択された伝送路の信号は選択的に受信されることを特徴とする、請求項５又は６記載の方法。
【請求項８】
前記少なくとも一つの未使用伝送路を探す動作は所定の時間間隔で繰り返されることを特徴とする、請求項５乃至７のうちいずれか一項記載の方法。
【請求項９】
使用中である一つの伝送路又は使用中である全ての伝送路中の前記成分信号の夫々は、当該の通信装置を対象とする情報を決定するために解析装置によって解析されることを特徴とする、請求項５乃至８のうちいずれか一項記載の方法。
【請求項１０】
使用中である一つの伝送路又は使用中である全ての伝送路の当該通信装置に関連付けられるネットワーク領域の範囲に含まれる夫々の成分信号のみが解析されることを特徴とする、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
当該の通信装置に関連付けられる前記ネットワーク領域の範囲に含まれる前記一つの伝送路又は前記多数の伝送路は当該通信装置に知られた識別子によって決定されることを特徴とする、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
当該の通信装置に関連付けられるネットワーク領域の範囲に含まれる一つの伝送路又は多数の伝送路が利用可能な伝送容量を有するか否か、並びに、十分な利用可能な伝送容量が決定されており使用要求があるときは、使用のために選択されるか否かを決定するために検査が行われることを特徴とする、請求項１０又は１１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月4日(2005.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機エレクトロルミネッセンスデバイスを製造するための方法であって、
配向した有機発光材料を含む転写層をドナーシートから第１の電極を含む受像基材に選択的に熱転写し、
前記配向した有機発光材料が前記第１の電極と第２の電極との間に配置されるように第２の電極を形成することを含み、
前記デバイスが、起動されると偏光を発光できるものである、方法。
【請求項２】
有機エレクトロルミネッセンスデバイス内に適宜配置されると偏光を発光できる配向した有機発光材料を含む選択的に熱転写可能な転写層と、ドナー基材と、前記基材と前記転写層との間に配置された光熱交換層とを備えたドナーシート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】有機エレクトロルミネッセンスデバイスの製造方法及びドナーシート
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月1日(2003.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
このような低圧水銀蒸気放電ランプは、国際特許出願PCT/EP00/11119（国際公開パンフレット WO01/39244）に開示されている。このランプの場合、電極遮蔽体は、ステンレス鋼のシート材料を管状に形成することにより製造されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
図１の実施例では、電極２０ａ及び２０ｂが二重壁の電極遮蔽体２２ａ及び２２ｂにより囲まれており、これらの電極遮蔽体は、公称点灯時には、４５０℃よりも高い温度になる。この温度では、これら電極遮蔽体２２ａ及び２２ｂ上のBaＯ又はSrＯに付着された水銀が解離作用により解放され、放電領域中での放電のために再び得られるようになる。電極遮蔽体の特に適した温度は、少なくとも、５５０℃である。図１の例では、電極遮蔽体２２ａをステンレス鋼から形成してある。このような電極遮蔽体は、上述した高温度で、寸法的に安定で、耐食性に優れ、しかも、その熱放射率は比較的低い。電極遮蔽体を製造する上で適した材料は、重量％で最大で０．０８％のＣと、最大で２％のMnと、最大で２〜３％のMoと、残りとしてのFeとの組成を有する。電極遮蔽体を製造する上で特に適した他の材料は、Duratherm 600 （商品名）、すなわち、４１．５％のCoと、１２％のCrと、４％のMoと、８．７％のFeと、３．９％のＷと、２％のTiと、０．７％のAlと、残りの％のNiとの組成を有し、耐食性を高めたCoNiCrMo合金である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月8日(2004.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2004525480.tif 000001
【図２】
2004525480.tif 000002
【図３】
2004525480.tif 000003
【図４Ａ】
2004525480.tif 000004
【図４Ｂ】
2004525480.tif 000005
【図４Ｃ】
2004525480.tif 000006
【図４Ｄ】
2004525480.tif 000007
【図５Ａ】
2004525480.tif 000008
【図５Ｂ】
2004525480.tif 000009
【図６Ａ】
2004525480.tif 000010
【図６Ｂ】
2004525480.tif 000011
【図７】
2004525480.tif 000012
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
最終イオンビームエネルギーをもつビームプラズマを有し，ビーム軸線を有する低エネルギーイオンビームを生成するためのイオン光学装置であって，
イオンビームを加速する加速電極と，
イオンビームを減速するための，前記加速電極の下流にある減速電極であって，ビームプラズマ中の熱イオンに電位バリアーを与え，熱イオンが加速電極に到達することを防止するべく選択された電圧をもつ，ところの減速電源と，
ビームプラズマ中の電子が前記減速電極に到達することを防止ための，前記減速電極の下流にあるイオン光学要素と，
を含み，
前記イオン光学要素は，前記減速電極の近傍におけるビーム軸線上の電位が，ビームプラズマの電位に関して，少なくとも僅かに正となるように選択される電圧を有する電子はねのけ電極を含む，ところのイオン光学装置。
【請求項２】
イオンビームがビーム軸線を有し，前記減速電極の近傍におけるビーム軸線上の電位が，ビームプラズマの電位に関して，少なくとも僅かに正となるように，減速電極の電圧が選択される，請求項１に記載のイオン光学装置。
【請求項３】
前記減速電極は，軸線上に電場を限定する形状をもつ，請求項１に記載のイオン光学装置。
【請求項４】
前記減速電極の開口が，前記加速電極の開口よりも大きい，請求項１に記載のイオン光学装置。
【請求項５】
前記加速電極および前記減速電極の少なくとも一つがイオンビームに対して横方向に分離され，分離された電極部を個々に制御可能にする，請求項１に記載のイオン光学装置。
【請求項６】
イオン源抽出システムとして機能する，請求項１に記載のイオン光学装置。
【請求項７】
減速レンズシステムとして機能する，請求項１に記載のイオン光学装置。
【請求項８】
最終イオンビームエネルギーをもつビームプラズマを有し，ビーム軸線を有する低エネルギーイオンビームを生成する方法であって，
加速電極でイオンビームを加速する工程と，
加速電極の下流にある減速電極で，イオンビームを減速する工程と，
ビームプラズマ中の熱イオンに電位バリアーを与え，熱イオンが加速電極に到達することを防止すべく選択される電位で，減速電極をバイアスする工程と，
減速電極の下流にある電子はねのけ電極を含むイオン光学要素で，ビームプラズマ中の電子が減速電極に到達することを防止する工程と，
を含み，
前記防止する工程は，電子はねのけ電極の近傍におけるビーム軸線上の電位が，ビームプラズマの電位に関して，少なくとも僅かに負となるように電子はねのけ電極の電圧を選択することを含む，ところの方法。
【請求項９】
イオンビームがビーム軸線を有し，前記減速電極をバイアスする工程は，前記減速電極の近傍におけるビーム軸線上の電位が，ビームプラズマの電位に関して，少なくとも僅かに正となるように，減速電極の電圧を選択することを含む，請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
軸線上に電場を制限するために，減速電極を形状づける工程をさらに含む，請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
加速電極および減速電極の少なくとも一つをイオンビームに対して横方向に分離する工程をさらに含む，請求項８に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成16年10月27日(2004.10.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
差動接続された対をなす磁気トンネル接合と、
その差動接続された対に接続され、かつ差動ビットライン、差動プログラムビットライン、イネーブルライン、ワードライン、及びデジットラインを含む書き込み及び検出回路とを有する、磁気ランダムアクセスメモリセル。
【請求項２】
差動接続された対をなす磁気トンネル接合と、
その差動接続の対に接続され、かつ差動タグビットライン、差動タグプログラムビットライン、イネーブルライン、ワードライン、デジットライン、及びマッチラインを含む比較及び一致検出回路とを有し、前記マッチラインは前記差動タグビットラインに入力された入力データと、セルに保存されたデータとの間の一致の表示を提供する、コンテント・アドレッサブル・磁気ランダムアクセスメモリセル。
【請求項３】
第１の側が第１の直列接続された対をなすトランジスタを通して第１接点に接続される第１磁気トンネル接合と、第１の側が第２の直列接続された対をなすトランジスタを通して第２接点に接続される第２磁気トンネル接合と、前記第１磁気トンネル接合の第２の側がプログラミングビットラインに接続され、前記第２磁気トンネル接合の第２の側が反転プログラミングビットラインに接続され、前記第１の直列接続された対をなすトランジスタの内の第１のトランジスタの制御端子がイネーブルラインに接続され、前記第２の直列接続された対をなすトランジスタの内の第１のトランジスタの制御端子が前記イネーブルラインに接続されることと、
前記第１接点は第１トランジスタを通してビットラインに接続され、第１トランジスタの制御端子はワードラインに接続され、前記第２接点は第２トランジスタを通して反転ビットラインに接続され、第２トランジスタの制御端子は前記ワードラインに接続されることと、
前記第１接点は第１イネーブルトランジスタを通して電源入力端子に接続され、第１イネーブルトランジスタの制御端子は前記イネーブルラインに接続され、前記第２接点は第２イネーブルトランジスタを通して前記電源入力端子に接続され、第２イネーブルトランジスタの制御端子が前記イネーブルラインに接続されることと、
前記第１接点は第１差動トランジスタを通して前記電源入力端子に接続され、第１差動トランジスタの制御端子は前記第１の直列接続された対をなすトランジスタの内の第２の
トランジスタの制御端子と前記第２接点とに接続され、前記第２接点は第２差動トランジスタを通して前記電源入力端子に接続され、第２差動トランジスタの制御端子は前記第２の直列接続された対をなすトランジスタの内の第２のトランジスタの制御端子と前記第１接点に接続されることと、
前記電源入力端子とマッチラインとの間に接続される第１の直列接続された対をなすマッチトランジスタと、その第１の直列接続された対をなすマッチトランジスタのうちの第１のマッチトランジスタの制御端子が前記ビットラインに接続され、前記第１の直列接続された対をなすマッチトランジスタのうちの第２のマッチトランジスタの制御端子が前記第２接点に接続されることと、前記電源入力端子と前記マッチラインとの間に接続される第２の直列接続された対をなすマッチトランジスタと、その第２の直列接続された対をなすマッチトランジスタうちの第１のマッチトランジスタの制御端子が前記反転ビットラインに接続され、前記第２の直列接続された対をなすマッチトランジスタうちの第２のマッチトランジスタの制御端子が前記第１接点に接続されることとを含む、コンテント・アドレッサブル・磁気ランダムアクセスメモリセル。
【請求項４】
コンテント・アドレッサブル不揮発性メモリを形成するために接続されるメモリセルアレイであって、
行および列に配置される複数のメモリセルと、
各メモリセルは差動接続された対をなす磁気トンネル接合、タグビットライン、反転タグビットライン、タグプログラムビットライン、反転タグプログラムビットライン、イネーブルライン、ワードライン、デジットライン、及びマッチラインを含み、前記マッチラインは前記差動タグビットラインに入力される入力データと前記セルに保存されたデータとの間の一致の表示を提供することと、
ある列の各メモリセル用の前記タグビットライン、反転タグビットライン、タグプログラムビットライン、反転タグプログラムビットライン、及びイネーブルラインは、その列の他のそれぞれのメモリセル用の前記タグビットライン、反転タグビットライン、タグプログラムビットライン、反転タグプログラムビットライン、及びイネーブルラインにそれぞれ接続されることと、
ある行の各メモリセル用の前記ワードライン、デジットライン、及びマッチラインは、その行の他のそれぞれのメモリセル用の前記ワードライン、デジットライン、及びマッチラインにそれぞれ接続されることと、
各行のマッチラインに接続される一致検出回路とを含む、メモリセルアレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月29日(2005.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つのコラボレータと、１つ又は複数の他のコラボレータ及び取引パートナーとの間の共同製作のための計画立案を促進する装置であって、
上記他のコラボレータ及び取引パートナーのすべてに利用可能とされるべき情報として上記コラボレータが指定した情報である公開情報を有するグローバルデータベースと、
機密情報として保護されるべき情報として、又は上記他のコラボレータ及び取引パートナーのサブセットのみによって共用されるべき情報として上記コラボレータが指定した情報であるプライベート情報を有する専用データベースと、
上記コラボレータと上記他のコラボレータ及び取引パートナーとの間で情報を交換するように配置され、上記２種類の指定に従って上記グローバルデータベース及び上記専用データベースへのアクセスを許可するハブとを備え、
上記公開情報は製品の全体的概要を生成し、上記プライベート情報は上記製品固有の概要を生成することを特徴とする装置。
【請求項２】
上記専用データベースは、上記コラボレータに固有のサプライチェーンオートマトンに含まれることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項３】
上記コラボレータは、上記他のコラボレータ及び取引パートナーのサブセットによる上記サプライチェーンオートマトンへのアクセスを許可する能力を有することを特徴とする請求項２記載の装置。
【請求項４】
上記グローバルデータベースはさらに、上記他のコラボレータ及び取引パートナーのすべてに利用可能とされるべき情報として上記他のコラボレータ及び取引パートナーのうちの１つ又は複数が指定した情報である追加の公開情報を有することを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項５】
機密情報として保護されるべき情報として、又は上記他のコラボレータ及び取引パートナーのサブセットのみによって共用されるべき情報として上記他のコラボレータ及び取引パートナーのうちの１つ又は複数が指定した情報である追加のプライベート情報をそれぞれ有する、１つ又は複数の追加の専用データベースをさらに備えたことを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項６】
上記追加の専用データベースのそれぞれは、上記他のコラボレータ及び取引パートナーのうちの１つに固有の追加のサプライチェーンオートマトンに含まれることを特徴とする請求項５記載の装置。
【請求項７】
１つのコラボレータと、１つ又は複数の他のコラボレータ及び取引パートナーとの間の共同製作のための計画立案を促進する方法であって、
上記他のコラボレータ及び取引パートナーのすべてに利用可能とされるべき公開情報を上記コラボレータによって指定することを受諾することと、
上記公開情報をグローバルデータベースに保持することと、
機密情報として保護されるべき、又は上記他のコラボレータ及び取引パートナーのサブセットのみによって共用されるべきプライベート情報を上記コラボレータによって指定することを受諾することと、
上記プライベート情報を専用データベースに保持することと、
上記コラボレータと上記他のコラボレータ及び取引パートナーとの間での情報の交換を促進することとを含み、上記グローバルデータベース及び上記専用データベースへのアクセスは上記２種類の指定に従って許可され、
上記公開情報は製品の全体的概要を生成し、上記プライベート情報は上記製品固有の概要を生成することを特徴とする方法。
【請求項８】
上記専用データベースは、上記コラボレータに固有のサプライチェーンオートマトンに含まれることを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項９】
上記コラボレータは、上記他のコラボレータ及び取引パートナーのサブセットによる上記サプライチェーンオートマトンへのアクセスを許可する能力を有することを特徴とする請求項８記載の方法。
【請求項１０】
上記他のコラボレータ及び取引パートナーのすべてに利用可能とされるべき追加の公開情報を上記他のコラボレータ及び取引パートナーのうちの１つ又は複数によって指定することを受諾することと、
上記追加の公開情報を上記グローバルデータベースに保持することとをさらに含むことを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項１１】
機密情報として保護されるべき、又は上記他のコラボレータ及び取引パートナーのサブセットのみによって共用されるべき追加のプライベート情報を上記他のコラボレータ及び取引パートナーのうちの１つ又は複数によって指定することを受諾することと、
上記追加のプライベート情報を１つ又は複数の追加の専用データベースに保持することとをさらに含むことを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項１２】
上記追加の専用データベースのそれぞれは、上記他のコラボレータ及び取引パートナーのうちの１つに固有の追加のサプライチェーンオートマトンに含まれることを特徴とする請求項１１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月21日(2005.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ピラミッド・フィルタを含み、
前記ピラミッド・フィルタはローリング合計フィルタを含む
集積回路。
【請求項２】
フィルタ・コンポーネントであって、
３つの遅延ユニットおよび１つの加算器を含み、前記遅延ユニットおよび加算器が結合されて、より高い次数の状態変数信号サンプル・ストリームが、入力信号サンプル・ストリームおよびより低い次数の状態変数信号サンプル・ストリームから生成される、フィルタ・コンポーネント。
【請求項３】
第１の次数のフィルタリングされた状態変数信号サンプル・ストリームを生成する方法であって、
第２の次数のフィルタリングされた状態変数信号サンプル・ストリームを遅延させるステップであって、前記第２の次数は前記第１の次数より小さいステップと、
遅延された状態変数信号サンプル・ストリームを、入力信号サンプル・ストリームおよび遅延されたバージョンの入力信号サンプル・ストリームと合計するステップとを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月18日(2004.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
端子端を有する光ファイバ伝導体を支持し、前記端子端と共に前記伝導体を横方向に移動可能に保持するハウジングと；
前記ハウジングに固定され、前記端子端から発された光線を受光及び反射するように配置された第１の反射体と；
前記ハウジングに固定され、前記第１の反射体で反射した光線を受光し、これを前記端子端から発された光線のビームよりも実質的に大きな径を有する平行ビームとして放射するように配置された第２の反射体と；
外部磁界に応じて前記端子端を引きつけるように前記ハウジング内に配置された磁気透過性部材とを備えた光ファイバケーブル用の終端。
【請求項２】
２本の光ファイバケーブルがハウジングの両端に延び、これらの端部が互いに隣接する細長い管状ハウジングと、前記端部のうち少なくとも１つに連結される前記ハウジング内の磁気透過性材料とを備え、前記ハウジングは硬化放射を許容可能であり、前記ケーブル端は放射硬化したエポキシ樹脂に埋め込まれている光ファイバケーブルコネクタ。
【請求項３】
端子端を有する光ファイバ伝導体を支持し、前記伝導体を保持するハウジングと；
前記ハウジングに固定され、前記端子端から発された光線を受光及び反射するように配置された第１の反射体と；
前記ハウジングに固定され、前記第１の反射体で反射した光線を受光し、これを前記端子端から発された光線のビームよりも実質的に大きな径を有する平行ビームとして放射するように配置された第２の反射体とを備え；
前記第１の反射体と前記伝導体の端子端を前記第２の反射体から反射した光線の経路外に配置した光ファイバケーブル用の終端。
【請求項４】
２本の光ファイバケーブルを接続し、前記ケーブル中の２つの光ファイバ伝導体の端部を互いに位置合わせする方法であって、
（ａ）前記端部の少なくとも１つを引きつける磁気透過性材料からなるボディを有するハウジングに前記端部を挿入し；
（ｂ）前記端部が位置合わせされるまで前記ボディを横方向に磁気的に移動させ、
（ｃ）互いに位置合わせがなされた前記伝導体端部と共に前記端部を固定する方法。
【請求項５】
光ファイバケーブル終端の製造方法であって、
（ａ）フェルールに、一端に隣接する光学系用の第１のチャンバと、第２のチャンバを介して前記第１のチャンバに続くケーブル収容導管とを設け；
（ｂ）前記ケーブルの一端を収容するための中央孔を有する磁気透過性部材を前記第２のチャンバ内に置き；
（ｃ）前記光学系を前記第１のチャンバに取付け；
（ｄ）硬化可能な液体を前記第２のチャンバに導入し；
（ｅ）前記磁気透過性部材の前記中央孔にケーブル端を挿入し；
（ｆ）磁力を前記磁気透過性部材にかけ、磁気透過性部材を前記光学系に対して位置合わせし；
（ｇ）前記液体を硬化させ、前記ケーブル端を適切な位置に固定するステップを有する方法。
【請求項６】
電磁気放射エネルギ及び電気信号エネルギの一方を他方のエネルギーの種類に変換する変換器と；
比較的小さな第１の反射体を備えた二重反射体装置と；
前記第１の反射体に対応して配置され、前記第１の反射体から受けたビームを拡大し、拡大したビームを第１の方向に放射し、前記第１の方向と反対の方向から受けたビームを集光し、これらを前記第１の鏡に反射するように形作られた比較的大きな第２の反射体とを備え；
前記第１の鏡は前記変換器及び前記第２の鏡に対応して配置され、前記変換器から受けたビームを前記第２の鏡に向かって反射し、前記第２の鏡から受けた前記ビームを前記変換器で集光するように形作られた変換器装置。
【請求項７】
光透過性材料からなるボディと；
前記ボディの第１の面に隣接した光ポートと；
前記第１の面に対向する前記ボディの第２の面上の第１の反射体と；
前記ポートに隣接した前記ボディの前記第１の面上の第２の反射体とを備え；
前記第１の反射体は、実質的に前記第２の反射体よりも小さく、前記第２の面の全面よりも実質的に小さな領域を占め；
前記第２の面は、そこからの前記ポートへの反射の伝達を阻止するように湾曲し、
前記第１及び第２の反射体及び前記第２の面は、前記ポートを介して受け、前記第２の面から出る光ビームを拡大し平行にするように寸法が決められ、形作られている平行光学装置。
【請求項８】
多重反射体平行システムをソース点に対して位置合わせする位置合わせ装置であって、前記多重反射体平行システムは、
前記ソースからの光を受け、前記光を第２の反射体に向かって反射するように配置された第１の反射体と；
実質的に前記第１の反射体よりも大きい第２の反射体とを備え、前記第２の反射体は、前記第１の反射体からの光を受け、前記光を出口に反射するように配置され；
前記反射体は、前記出口から発された光を拡大し平行にするように寸法が決められ、配置され、前記位置合わせ装置は、
前記出口を介して前記ソース点を観察する光学観察装置と；
前記ソース点と前記平行システムとを互いに移動させる調整装置とを含んだ位置合わせ装置。
【請求項９】
前記調整装置は、前記平行システム及び前記ソース点が配置された構造の一方に結合される磁気部材を備え、磁気的に前記磁気部材を移動させる可変磁界生成手段と、前記磁界生成手段を制御する制御手段とを含む請求の範囲８に記載の装置。
【請求項１０】
多重反射体コリメータをソース点に対して位置合わせする方法であって、前記コリメータは、
前記ソースからの光を受け、前記光を第２の反射体に向かって反射するように配置された第１の反射体と；
実質的に前記第１の反射体よりも大きい第２の反射体とを備え、前記第２の反射体は、前記第１の反射体からの光を受け、前記光を出口に反射するように配置され；
前記反射体は、前記出口から発された光を拡大し平行にするように寸法が決められ、配置され；
前記出口を介して前記ソース点を観察する光学観察装置と；
前記ソース点と前記平行システムとを互いに移動させる調整装置とを備え；
前記ソース点を観察し、前記平行システム及び前記ソース点が互いに位置合わせされるまで前記調整装置を作動するステップと；
前記コリメータに対して前記ソース点を位置合わせするための目標を形成し、前記目標に対して前記ソース点が位置合わせされるまで前記調整装置を作動するステップとを有する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月18日(2004.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＯＨ含量が５０重量ｐｐｍ未満であり、水素含量が１×１０１７分子／ｃｍ３未満であり、フッ素含量が０．１〜０．４重量パーセントの範囲にある高純度シリコンオキシフルオライドガラスを有してなることを特徴とする約１５７ｎｍの波長でのフォトリソグラフィ用の１９３ｎｍ未満のＶＵＶ透過性ガラスフォトマスク基板。
【請求項２】
１５７ｎｍ波長領域で少なくとも８９％／ｃｍの内部透過率を有することを更に特徴とする請求項１記載のＶＵＶフォトマスク基板。
【請求項３】
測定した透過率が前記フォトマスク基板の厚さで少なくとも７９％であることを特徴とする請求項２記載のＶＵＶフォトマスク基板。
【請求項４】
５重量ｐｐｍ未満のＯＨ含量、５重量ｐｐｍ未満のＣｌ含量、１×１０１７分子／ｃｍ３未満のＨ２含量、および０．１〜０．４重量％のフッ素含量を有し、少なくとも８５％／ｃｍの１５７ｎｍ内部透過率を有するシリコンオキシフルオライドガラスを有してなることを特徴とするリソグラフィガラス。
【請求項５】
０．１ｍＪ／ｃｍ２パルスで６０００万パルスの１５７ｎｍレーザに暴露後に、前記ガラスが＜１％の１５７ｎｍ透過損失を有することを特徴とする請求項４記載のリソグラフィガラス。
【請求項６】
２ｍＪ／ｃｍ２パルスで４１５０万パルスの１５７ｎｍレーザに暴露後に、前記ガラスが０．４（吸収単位／５ｍｍ）未満の１６５ｎｍ吸収を有することを特徴とする請求項４記載のリソグラフィガラス。
【請求項７】
前記Ｃｌ含量が１ｐｐｍ未満であり、前記ＯＨ含量が１ｐｐｍ未満であることを特徴とする請求項４から６いずれか１項記載のガラス。
【請求項８】
前記ガラスがＳｉ−Ｓｉ結合を実質的に含まず、１６５ｎｍ吸収中心を含まず、少なくとも８５％／ｃｍの１６５ｎｍでの内部透過率を有することを特徴とする請求項４記載のガラス。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月13日(2005.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学的に厚い層によって結合された連続光学層、交互の多種多様な材料Ａ、Ｂから構成される光学層の少なくとも第１の有効な光学パケットを含む光学体であって、
上記光学層が、上記第１の有効な光学パケットの１端から計算すると、それぞれが７Ａ１Ｂ１Ａ７Ｂ１Ａ１Ｂの第１の環状順列の相対的な光学厚さで配置された６つの光学層を有する複数の単位セルを形成し、
垂直入射時に上記第１の有効な光学パケットが、赤外波長における反射帯を提供し、実質的に可視波長での光を透過し、
上記材料Ａ、Ｂが少なくとも１つの面内軸に沿ってｎＡ＞ｎＢの関係を満たす屈折率を有し、また、上記第１の有効な光学パケットを結合する上記光学的に厚い層が少なくとも１つの面内軸に沿って屈折率ｎＣを有し、
上記光学体が、可視波長領域における透過率変動性をあらわし、
上記第１の有効な光学パケットの一端に配置された第１の光学層と、上記第１の有効な光学パケットの他端に配置された第２の光学層とが、上記透過率変動性を最小に抑制するために、６つの光学層７Ａ１Ｂ１Ａ７Ｂ１Ａ１Ｂの列から選択される、ことを特徴とする光学体。
【請求項２】
光学スタックを含むフィルムであって、光学スタックが同様の設計の単位セルの連続配置を有する少なくとも１つの有効な光学パケットを含み、少なくとも１つの有効な光学パケットが各単位セルが少なくとも第１および第２の多種多様な材料の２つを超える光学層を有する第１の有効な光学パケットを含み、かかる光学層がパケット内でパケットの平面に対して、偽対称、逆対称、および逆偽対称からなる群から選択される特性を示すように配置される、ことを特徴とするフィルム。
【請求項３】
上記第１の有効な光学パケット内のそれぞれの単位セルが約７Ａ１Ｂ１Ａ７Ｂ１Ａ１Ｂ又はその環状順列の相対的な光学厚さの６つの光学層を有する、ことを特徴とする請求項２記載のフィルム。
【請求項４】
赤外領域内で反射する多層フィルム内のスペクトルの可視領域における透過率変動性を制御する方法であって、多層フィルムが単位セル内に配置された光学層の少なくとも第１の有効な光学パケットを有し、かかる単位セルが２つを超えるかかる層から構成され、可視波長領域における透過率変動性を制御するために、単位セル内の２つを超える光学層の中から第１の有効な光学パケットの第１の端に配置された第１の光学層を選択するステップを有する、ことを特徴とする方法。
【請求項５】
上記単位セルが、交互の材料Ａ，Ｂの６つの光学層から構成されるとともに、該６つの光学層が、７Ａ１Ｂ１Ａ７Ｂ１Ａ１Ｂ又はその環状順列の相対的な光学厚さを有する、ことを特徴とする請求項４記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月17日(2004.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
現像液でコーティングされた写真フィルムを収容するように動作可能な現像トンネルであって、
前記コーティングされたフィルムが搬送される現像チャンバを形成するハウジングを含み、前記現像チャンバは、フィルム現像時に前記コーティングされたフィルムの温度および湿度を比較的一定に維持するように動作可能な現像トンネル。
【請求項２】
請求項１に記載の現像トンネルにおいて、前記ハウジングは断熱され、現像工程時に前記コーティングされたフィルムを実質的に取囲む現像トンネル。
【請求項３】
請求項１に記載の現像トンネルであって、前記コーティングされたフィルムを加熱するように動作可能な加熱システムをさらに含み、前記加熱システムは前記コーティングされたフィルムに接触する現像トンネル。
【請求項４】
請求項１に記載の現像トンネルにおいて、
前記現像チャンバの断面は、体積を最小限にするように最適化され、
前記現像チャンバは、前記現像チャンバ中の空気流の循環を減じるように動作可能な入口と出口とを含み、
前記現像チャンバは、前記現像チャンバ中の対流する空気流を減じるように水平に配向される現像トンネル。
【請求項５】
写真フィルム処理システムであって、
現像液を写真フィルム上にコーティングするように動作可能なアプリケータステーションと、
前記コーティングされた写真フィルムを収容するように動作可能で、かつ前記コーティングされた写真フィルムを空気環境中で加熱するように動作可能な現像ステーションと、
前記フィルムを搬送するように動作可能な搬送システムと、
を含む処理システム。
【請求項６】
写真フィルムの処理方法であって、
前記写真フィルム上に現像液をコーティングするステップと、
前記コーティングされた写真フィルムを空気環境の現像ステーションを通って搬送するステップと、
を含み、前記現像ステーションは、前記コーティングされた写真フィルムの現像時に前記コーティングされた写真フィルムを加熱するように動作する処理方法。