Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月22日(2004.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面および裏面に回路パターンおよび裏面パターンを有し、半田を介してヒートシンクに半田付けされる絶縁基板、および回路パターン上に実装される半導体チップを備えた電力半導体装置において、
前記絶縁基板を０．２５ｍｍないし０．３５ｍｍの窒化珪素で、前記回路パターンおよび前記裏面パターンを厚み０．３ｍｍないし０．５ｍｍの銅板にて構成したことを特徴とする電力用半導体装置。
【請求項２】
前記回路パターンの厚みが前記裏面パターンの厚みと等しいか、より薄いことを特徴とする請求項１に記載の電力用半導体装置。
【請求項３】
前記半田内に、所定の大きさを有するバンプが含まれることを特徴とする請求項１に記載の電力用半導体装置。
【請求項４】
前記半田が０．２５ｍｍないし０．４０ｍｍの厚みを有することを特徴とする請求項１に記載の電力用半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の本発明によれば、表面および裏面に回路パターンおよび裏面パターンを有し、半田を介してヒートシンクに半田付けされる絶縁基板、および回路パターン上に実装される半導体チップを備えた電力半導体装置において、前記絶縁基板を０．２５ｍｍないし０．３５ｍｍの窒化珪素で、前記回路パターンおよび前記裏面パターンを厚み０．３ｍｍないし０．５ｍｍの銅板にて構成した半導体装置を提供することができる。こうして、靭性の高いセラミック材料を用いることで、絶縁材料をより薄肉化して、熱抵抗を抑制しながら、良好な耐熱サイクル性を有する半導体装置を実現することができる。また、この半導体装置において、その熱抵抗が小さいので、ヒートシンク上に接合する半田に負荷される半田歪を低減することができる。したがって、鉛含有半田のみならず、鉛フリー半田を用いて、この半導体装置をヒートシンク上に接合しても、半導体装置としての良好な信頼性（耐熱サイクル性）を維持することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
請求項３に記載の本発明によれば、前記半田内に、所定の大きさを有するバンプが含まれる半導体装置を提供することができる。これにより、裏面パターンとヒートシンク間の半田の厚みを一定にすることができる。したがって、半田の不均一な厚みに起因して、半田の薄い周縁部において半田クラックが発生することを防止することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項４に記載の本発明によれば、前記半田が０．２５ｍｍないし０．４０ｍｍの厚みを有する半導体装置を提供することができる。これにより、半田の熱抵抗が許容される範囲において、半田歪を低減するように、できるだけ半田の厚みを厚くすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月11日(2005.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板上に素子分離絶縁膜を形成することにより記憶回路領域及び容量領域を区画する第１の工程と、
前記容量領域に含まれる前記半導体基板に凹部を形成した後、形成した凹部に不純物を注入することにより下部電極を形成する第２の工程と、
前記下部電極の上を含む前記半導体基板の上に絶縁膜及び導電膜を順次形成する第３の工程と、
前記記憶回路領域において、前記絶縁膜から電荷蓄積膜を形成すると共に前記導電膜から第１のゲート電極を形成する第４の工程と、
前記容量領域において、前記絶縁膜から容量素子容量絶縁膜を形成すると共に前記導電膜から上部電極を形成する第５の工程とを備えていることを特徴とする不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
【請求項２】
前記第３の工程は、前記半導体基板上にシリコン酸化膜を堆積した後、堆積したシリコン酸化膜の上部を窒化することにより前記絶縁膜を形成することを特徴とする請求項１に記載の不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
【請求項３】
前記第３の工程は、前記半導体基板上にシリコン酸化膜及びシリコン窒化膜を順次堆積することにより前記絶縁膜を形成することを特徴とする請求項１に記載の不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
【請求項４】
前記第３の工程は、前記半導体基板上に第１のシリコン酸化膜、第２のシリコン酸化膜及びシリコン窒化膜を順次形成することにより前記絶縁膜を形成することを特徴とする請求項１に記載の不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
【請求項５】
前記第３の工程は、前記半導体基板上に第１のシリコン酸化膜、シリコン窒化膜及び第２のシリコン酸化膜を順次形成することにより前記絶縁膜を形成することを特徴とする請求項１に記載の不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
【請求項６】
半導体基板上に素子分離絶縁膜を形成することにより記憶回路領域、論理回路領域及び容量領域を区画する第１の工程と、
前記容量領域に含まれる前記半導体基板に凹部を形成した後、形成した凹部の壁面及び底面から前記半導体基板に不純物を注入することにより下部電極を形成する第２の工程と、
前記下部電極の上を含む前記半導体基板上に第１の絶縁膜、第２の絶縁膜及び第１の導電膜を順次形成する第３の工程と、
前記記憶回路領域において、前記第１の絶縁膜及び第２の絶縁膜から電荷蓄積膜を形成すると共に、前記第１の導電膜から第１のゲート電極を形成する第４の工程と、
前記論理回路領域において、前記第１の絶縁膜及び第２の絶縁膜からゲート絶縁膜を形成すると共に前記第１の導電膜から第２のゲート電極を形成する第５の工程と、
前記容量領域において、前記第１の絶縁膜及び第２の絶縁膜から容量素子容量絶縁膜を形成すると共に前記第１の導電膜から上部電極を形成する第６の工程とを備えていることを特徴とする不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
【請求項７】
前記第３の工程は、前記第１の絶縁膜の上部を窒化することにより前記第２の絶縁膜を形成することを特徴とする請求項６に記載の不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
【請求項８】
前記第３の工程は、前記第１の絶縁膜の上にシリコン窒化膜を堆積することにより前記第２の絶縁膜を形成することを特徴とする請求項６に記載の不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
【請求項９】
前記第１の絶縁膜はシリコン酸化膜であることを特徴とする請求項６〜８のうちのいずれか１項に記載の不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
【請求項１０】
半導体基板上に素子分離絶縁膜を形成することにより記憶回路領域、論理回路領域及び容量領域を区画する第１の工程と、
前記容量領域に含まれる前記半導体基板に凹部を形成した後、形成した凹部の壁面及び底面から前記半導体基板に不純物を注入することにより下部電極を形成する第２の工程と、
前記下部電極の上を含む前記半導体基板上に第１の絶縁膜を形成する第３の工程と、
前記論理回路領域に含まれる前記第１の絶縁膜を除去する第４の工程と、
前記論理回路領域に露出した前記半導体基板の上並びに前記記憶回路領域及び容量領域の前記第１の絶縁膜の上に、第２の絶縁膜及び第３の絶縁膜及び第１の導電膜を順次堆積する第５の工程と、
前記記憶回路領域において、前記第１の絶縁膜、第２の絶縁膜及び第３の絶縁膜から電荷蓄積膜を形成すると共に、前記第１の導電膜から第１のゲート電極を形成する第６の工程と、
前記論理回路領域において、前記第２の絶縁膜及び第３の絶縁膜からゲート絶縁膜を形成すると共に、前記第１の導電膜から第２のゲート電極を形成する第７の工程と、
前記容量領域において、前記第１の絶縁膜、第２の絶縁膜及び第３の絶縁膜から容量素子容量絶縁膜を形成すると共に、前記第１の導電膜から上部電極を形成する第８の工程とを備えていることを特徴とする不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
【請求項１１】
前記第１の絶縁膜及び第２の絶縁膜はシリコン酸化膜であることを特徴とする請求項１０に記載の不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第３の絶縁膜はシリコン窒化膜であることを特徴とする請求項１０又は１１に記載の不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
【請求項１３】
半導体基板上に素子分離絶縁膜を形成することにより記憶回路領域、論理回路領域及び容量領域を区画する第１の工程と、
前記容量領域に含まれる前記半導体基板に凹部を形成した後、形成した凹部の壁面及び底面から前記半導体基板に不純物を注入することにより下部電極を形成する第２の工程と、
前記下部電極の上を含む前記半導体基板上に第１の絶縁膜及び第２の絶縁膜を順次形成する第３の工程と、
前記論理回路領域に含まれる前記第２の絶縁膜及び第１の絶縁膜を順次除去する第４の工程と、
前記論理回路領域に露出した前記半導体基板の上並びに前記記憶回路領域及び容量領域の前記第２の絶縁膜の上に第３の絶縁膜及び第１の導電膜を順次堆積する第５の工程と、
前記記憶回路領域において、前記第１の絶縁膜、第２の絶縁膜及び第３の絶縁膜から電荷蓄積膜を形成すると共に、前記第１の導電膜から第１のゲート電極を形成する第６の工程と、
前記論理回路領域において、前記第３の絶縁膜からゲート絶縁膜を形成すると共に、前記第１の導電膜から第２のゲート電極を形成する第７の工程と、
前記容量領域において、前記第１の絶縁膜、第２の絶縁膜及び第３の絶縁膜から容量素子容量絶縁膜を形成すると共に、前記第１の導電膜から上部電極を形成する第８の工程とを備えていることを特徴とする不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
【請求項１４】
前記第１の絶縁膜及び第３の絶縁膜はシリコン酸化膜であることを特徴とする請求項１３に記載の不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
【請求項１５】
前記第２の絶縁膜はシリコン窒化膜であることを特徴とする請求項１３又は１４に記載の不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
【請求項１６】
前記第２の工程において、前記下部電極を、複数の凹部、複数の凸部又はストライプ状の複数の凸部のうちのいずれか１つの形状に形成することを特徴とする請求項１〜１５のうちのいずれか１項に記載の不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月14日(2005.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
第14の発明によれば、凸部に不純物が注入されることがないようにして、凸部をマスクとして用いたセルフアライメントプロセスにより、溝の底部に反対導電型の不純物を注入し、底部にソース・ドレイン領域を形成する工程を有するため、トランジスタを容易に製造できる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
従って、キャリア（本実施例では電子）は、同図の矢印50, 52の経路を流れることになる。特に、頂面13cを流れる電子に注目されたい。この電子から見れば、その運動方向に右側のフローティングゲートFG2が位置する。よって、電子がこのフローティングゲートFG2に注入されるためには、従来のように電子の運動方向を変える必要が無いから、電子をフローティングゲートFG2に引き付けるためのゲート電圧（書込電圧）VGを従来よりも下げることができる。さらにフローティングゲートFG2は、静電容量の大きなトンネル絶縁膜15aを介してドレイン電圧によって電位が引き上げられているから、電子をフローティングゲートFG2に引き付けるためのゲート電圧（書込電圧）VGをさらに下げることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
iv) 非選択時
上記i)〜iii)は、いずれもセルトランジスタTCが選択されている場合であった。実際の動作では、セルトランジスタTCが常に選択されているということはなく、非選択状態の場合もある。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月10日(2005.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
現像した後水を使用したリンスを行うことを特徴とする請求項１記載の感光性ポリイミド前駆体組成物の現像方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
金属箔上にパターン状にポリイミドを形成し、その上に薄膜導体回路とポリイミドからなる層を少なくとも１層形成してなることを特徴とする請求項６記載のポリイミド−金属箔複合体。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、これらの公知のポリイミド膜と金属材料とからなるポリイミド複合材料は、芳香族ポリイミド膜を形成している芳香族ポリイミドが金属材料に対してかなり大きな線膨張係数を有するために、ポリアミド酸を熱処理してポリイミド化する際にカールが生じてしまうという欠点があった。また、半導体の分野においてもポリイミド膜の膜厚を厚くすると基板であるシリコーンウエハーがそってくるという欠点があった。あるいは、芳香族ポリイミドが機械的強度、耐熱性、柔軟性などにおいて充分な物性を有していないために、得られた製品が電気・電子材料として使用できないという欠点などがあった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明における感光性ポリイミド前駆体組成物は、キュア後のフィルムの３０℃〜１００℃の平均線膨張係数が１０×１０−６／℃〜３０×１０−６／℃であることが重要である。本発明において平均線膨張係数の測定には、感光性ポリイミド前駆体組成物を３５０℃、１時間キュア後に膜厚１０μｍ、幅１．５ｍｍ、長さ１５ｍｍとしたフィルムを用いる。本発明では、キュア後のフィルムが３０℃〜１００℃の全範囲にわたって平均した線膨張係数が１０×１０−６／℃〜３０×１０−６／℃であるものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、芳香族ジアミン成分においては、フェニレンジアミン類の使用割合が少なくなり、分子内にエーテル結合を含む芳香族ジアミン成分が増大すると得られる感光性ポリイミド前駆体組成物を金属箔に塗布し得られた複合材料のそりが大きくなる。また、フェニレンジアミン類の使用割合が１００モル％に近くなると得られる感光性ポリイミド前駆体組成物から形成されるポリイミド膜の引っ張り試験での伸度が低下し、柔軟性が失われたりする。さらに、フェニレンジアミン類の使用割合が多くなり分子内にエーテル結合を含む芳香族ジアミン成分の使用割合が減少すると、得られる感光性ポリイミド前駆体組成物から形成されるポリイミド膜とたとえばシリコーンウエハーや金属箔などの基板との密着性が低下し、電気、電子材料として使用できなくなる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月26日(2004.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ギヤ装置及び該ギヤ装置を備えた記録及び／又は再生装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モータと、
該モータの回転軸に固定された第１のギヤと、
複数の中間ギヤを有し該第１のギヤと噛合するギヤ群と、
軸部材の一端部側に固定されギヤ群と噛合する第２のギヤとを備え、
上記各ギヤが配置空間に配置されており、
ギヤ群のうちの一のギヤのギヤ軸の一端面を軸部材の第２のギヤが固定された側の端面を受けるスラスト受部として形成した
ことを特徴とするギヤ装置。
【請求項２】
モータと、
該モータの回転軸に固定された第１のギヤと、
複数の中間ギヤを有し該第１のギヤと噛合するギヤ群と、
軸部材の一端部側に固定されギヤ群と噛合する第２のギヤとを備え、
上記各ギヤが配置空間に配置されており、
ギヤ群のうちの一のギヤのギヤ軸の一端面を軸部材の第２のギヤが固定された側の端面を受けるスラスト受部として形成したギヤ装置を備えた記録及び／又は再生装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
そこで、本発明ギヤ装置及び該ギヤ装置を備えた記録及び／又は再生装置は、上記した問題点を克服し、ギヤが配置される配置空間の有効利用を図りギヤ装置、延いてはギヤ装置を備える装置、例えば、記録再生装置の小型化を図ることを課題とする。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明ギヤ装置は、上記した課題を解決するために、モータと、該モータの回転軸に固定された第１のギヤと、該第１のギヤと噛合するギヤ群と、軸部材の一端部側に固定されギヤ群と噛合する第２のギヤとを備え、上記各ギヤが配置空間に配置されており、ギヤ群のうちの一のギヤのギヤ軸の一端面を軸部材の第２のギヤが固定された側の端面を受けるスラスト受部として形成したものである。そして、本発明記録及び／又は再生装置は、このようなギヤ装置を備えたものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
従って、本発明ギヤ装置及び該ギヤ装置を備えた記録及び／又は再生装置は、ギヤが配置される配置空間の有効利用を図ることができる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明ギヤ装置及び該ギヤ装置を備えた記録及び／又は再生装置の実施の形態を添付図面を参照して説明する。尚、以下に示した実施の形態は、本発明を携帯型のＭＤ（ミニディスク）再生装置に適用したものである。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
【発明の効果】
以上に記載したところから明らかなように、本発明ギヤ装置及び該ギヤ装置を備えた記録及び／又は再生装置は、モータと、該モータの回転軸に固定された第１のギヤと、該第１のギヤと噛合するギヤ群と、軸部材の一端部側に固定されギヤ群と噛合する第２のギヤとを備え、上記各ギヤが配置空間に配置されており、ギヤ群のうちの一のギヤのギヤ軸の一端面を軸部材の第２のギヤが固定された側の端面を受けるスラスト受部として形成したので、各ギヤが配置される配置空間を有効に利用することができ、ギヤの大きさが制約されにくいため高い減速比を得ることが可能であり、これによりモータを薄型にしてギヤ装置、延いてはギヤ装置を備える装置、例えば、記録再生装置の薄型化を図ることができる。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】図２乃至図４と共に本発明ギヤ装置及び該ギヤ装置を備えた記録及び／又は再生装置の実施の形態を示すものであり、本図はメカシャーシとこれに設けられた送り機構とを示す底面図である。
【図２】送り機構の要部を一部を断面にして示す拡大底面図である。
【図３】ギヤ装置を一部を断面にして示す拡大底面図である。
【図４】ギヤ、予圧バネ及びモータ取付板を省略した図２のＩＶ−ＩＶ線に沿う断面図である。
【図５】予圧バネが配置空間に配置されたギヤ装置を示す拡大断面図である。
【符号の説明】
６…送りねじ（軸部材）、８…ギヤ装置、１８…配置空間、１９…モータ、１９ａ…回転軸、２０…第１のギヤ、２１…ギヤ軸、２１ａ…軸頭（スラスト受部）、２２…中間ギヤ、２３…中間ギヤ、２４…第２のギヤ、２５…ギヤ群
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月5日(2004.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タンク内が、多数の通気孔を分散状態に有する気液分離用のセパレーター壁にて冷媒入口側の室と冷媒出口側の室との左右の室に区画され、タンク部の上端部に設けられたヘッダーに、冷媒入口側の室と連通する冷媒入口用の第１ポートと、冷媒出口側の室と連通する冷媒出口用の第２ポートとが設けられたアキュームレータであって、
前記ヘッダーの下面に、更に熱交換媒体入口用の第３ポートと同出口用の第４ポートとが開口されると共に、前記タンク内に、中間部に曲り部を有する熱交換管が配置され、該熱交換管の一端が前記第３ポートと連通状態に接続されると共に、他端が前記第４ポートと連通状態に接続されてなることを特徴とするアキュームレータ。
【請求項２】
前記第３及び第４ポートのうち、一方が冷媒入口側の室に対応して設けられると共に、他方が冷媒出口側の室に対応して設けられ、熱交換管がセパレーター壁に設けられた切欠き部を通じて両室にわたってタンク内に配置されている請求項１に記載のアキュームレータ。
【請求項３】
タンク内の高さ方向下寄りの位置に乾燥剤ユニットが配設され、乾燥剤ユニットの上面に多数の孔が分散状態に設けられ、該孔を通じて、冷媒が内部の乾燥剤と接触されるようになされている請求項１または２に記載のアキュームレータ。
【請求項４】
乾燥剤ユニットの上面にこれを横断するようにセパレーター壁が立設され、セパレーター壁によって、タンク内が、低温冷媒入口側の室と冷温冷媒出口側の室とに区画されている請求項１ないし３のいずれか１に記載のアキュームレータ。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１に記載のアキュームレータを用いたカーエアコン。
【請求項６】
請求項１ないし４のいずれか１に記載のアキュームレータを用いた冷媒サイクル装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月1日(2004.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
又、このアジャストナット１２及び上記円孔１１内にグリースを充填した上で、上記アジャストナット１２にアジャストボルト１５を螺合させている。このアジャストボルト１５の外端面（図１、４の左端面）には凹溝１６を、この外端面の直径方向に亙って形成している。ドラムブレーキの組立時にはこの凹溝１６に、前記ウェブ５（図７参照）の端部が係合する。従って上記アジャストボルト１５は、上記アジャストナット１２の回転に拘らず回転せず、このアジャストナット１２の回転時には軸方向に変位する。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
更に、前記ピストン３ａの外端部（図１、４の左端部）で上記ホイルシリンダ２ａから突出した部分の周囲には、ブラケット２４を固定している。そして、このブラケット２４の外周縁から突出した腕部２５の先端部（図１、２、４の上端部）と、上記アジャストレバー２０の中間部基端寄り部分との間に、連結部材２６を設けている。これらブラケット２４と連結部材２６との存在により、上記ホイルシリンダ２ａから上記ピストン３ａが突出する量が増大するのに伴って、上記アジャストレバー２０は、上記引っ張りばね２３の弾力に抗し、上記枢軸１９を中心として図３で反時計方向に揺動する。そして、この様にアジャストレバー２０が揺動し、上記爪部２１と何れかの係合歯１８とが係合する結果、前記アジャストリング１７を介して前記アジャストナット１２が回転する。前記アジャストボルト１５及びアジャストナット１２に形成するねじの方向は、上述の様にして上記アジャストナット１２が回転した場合に、上記アジャストボルト１５が上記アジャストナット１２から外方に押し出される様に規制している。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月26日(2005.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体の実際の形状を予定の形状と比較する方法において、
計算機式断層写真法（ＣＴ）を使って物体を３次元走査して物体の実際の形状のデータの多重スライスを作り、実際の形状の前記多重スライスを処理する工程と、
物体の内部及び外部の実際の境界並びに物体の特徴を限定する実際の境界のデータにする工程と、
前記実際の境界のデータからポイント・クラウド・データを発生する工程とを含む方法。
【請求項２】
更に、前記ポイント・クラウド・データを物体の形状の予定のデータと比較する工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記ポイント・クラウド・データを予定のデータと比較する工程が、ポイント・クラウド・データを前記予定のデータの座標に対して位置合せする事を含む請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記予定のデータが計算機支援設計（ＣＡＤ）データであり、前記予定のデータのＣＡＤ座標に対する位置合せが行われる請求項３記載の方法。
【請求項５】
前記比較する工程が、前記ポイント・クラウド・データを予定のデータと比較する画像を出力する事を含む請求項３記載の方法。
【請求項６】
前記画像が物体の内部の特徴の画像である請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記出力する事が、前記ポイント・クラウド・データと前記予定のデータの間の不一致の形状を表す画像を発生する事を含む請求項５又は請求項６記載の方法。
【請求項８】
前記画像を表示する事が、前記ポイント・クラウド・データと、前記物体の内部の特徴の予定のデータの間の不一致の形状を表す複数個の画素を表示する事を含む請求項７記載の方法。
【請求項９】
物体の実際の形状を予定の形状と比較する方法において、
計算機式断層写真法（ＣＴ）を使って物体を３次元走査して物体の実際の形状のデータの多重スライスを作り、実際の形状の前記多重スライスを処理する工程と、
物体の内部及び外部の実際の境界並びに物体の特徴を限定する実際の境界のデータにする工程と、
前記実際の境界のデータからポイント・クラウド・データを発生する工程と、
前記ポイント・クラウド・データを前記予定のデータの座標に対して位置合せする事、前記ポイント・クラウド・データを予定のデータと比較する前記物体の内部の特徴の画像を出力する事する事を含む、前記ポイント・クラウド・データと物体の形状の予定のデータとを比較する工程と、
前記ポイント・クラウド・データと前記予定のデータの間の不一致の形状を表す画像を発生し、前記ポイント・クラウド・データと前記物体の内部の特徴の予定のデータの間の不一致の形状を表す複数個の画素を表示することで、前記画像を計算機のカラー・モニタに表示する工程と
を含む方法。
【請求項１０】
物体の実際の形状を予定の形状と比較する方法において、
計算機式断層写真法（ＣＴ）を使って物体を３次元走査して物体の実際の形状のデータの多重スライスを作り、実際の形状の前記多重スライスを処理する工程と、
物体の内部及び外部の実際の境界並びに物体の特徴を限定する実際の境界のデータにする工程と、
前記実際の境界のデータからポイント・クラウド・データを発生する工程と、
前記ポイント・クラウド・データを前記予定のデータの座標に対して位置合せする事を含む、前記ポイント・クラウド・データと物体の形状の予定のデータとを比較する工程と、
前記特徴を表す前記ポイント・クラウド・データの曲線を当てはめた形状を作成し、前記曲線を当てはめた形状から実際の形状の定義を計算し、実際の形状の定義を予定の形状の定義と比較することで、実際の形状の定義を物体の特徴の予定の形状の定義と比較する工程と
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月18日(2005.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料中の各粒子から複数の特徴パラメータを抽出する特徴パラメータ抽出手段と、抽出された特徴パラメータに基づいて第１の分布図を作成する分布図作成手段と、作成された第１の分布図上において、着目粒子を含む分布集団を分画する第１の分画手段と、分画された着目粒子を含む分布集団に対して所定の判別基準を設定し、その判別基準に基づいて前記分布集団の中の粒子を着目粒子か非着目粒子かに判別する判別手段と、その判別手段の判別結果に基づいて着目粒子の数を計数する計数手段とからなることを特徴とする粒子測定装置。
【請求項２】
前記着目粒子を含む分布集団を第１の分布図においてさらに複数の分布集団に細分画する第２分画手段を備え、
前記判別手段は前記複数の分布集団のうちの少なくとも１つについて粒子の種類を判別することを特徴とする請求項１記載の粒子測定装置。
【請求項３】
前記分布集団の粒子について、前記特徴パラメータ抽出手段によって抽出された特徴パラメータに基づいて第２の分布図を作成する第２分布図作成手段を更に備え、
前記判別手段は、前記第２の分布図上に前記判別基準を設定し、当該判別基準に基づいて前記分布集団の中の粒子を着目粒子か非着目粒子かに判別するように構成されている請求項１記載の粒子測定装置。
【請求項４】
前記判別基準が、第２の分布図上の関数として与えられ、判別手段はその関数からのへだたり具合いによって粒子の種類を判別することを特徴とする請求項３記載の粒子測定装置。
【請求項５】
前記判別手段は前記関数から所定距離以上離れた領域に存在する粒子を着目粒子と判別することを特徴とする請求項４記載の粒子測定装置。
【請求項６】
前記判別手段は前記関数から所定距離以上離れた領域に存在する粒子を非着目粒子と判別することを特徴とする請求項４記載の粒子測定装置。
【請求項７】
撮像部、撮像制御部および画像処理部をさらに備えてなり、撮像制御部は前記抽出された粒子の特徴パラメータの値に基づき着目粒子を含む分布集団の粒子に対し撮像部を動作させ、画像処理部は撮像部で得られた画像を処理し画像中の粒子の有無を検出し、判別手段は画像処理部において検出された粒子の有無によって着目粒子か非着目粒子かを判別することを特徴とする請求項１乃至６の何れかに記載の粒子測定装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月10日(2004.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
駆動輪（ＷR ）を回転駆動すべく人力により操作される入力操作部材（３７L ，３７R ）と、該入力操作部材（３７L ，３７R ）に加えられる入力トルクに応じた補助動力を駆動輪（ＷR ）に付与し得る電動モータ（３４）とを備える電動補助車両において、入力操作部材（３７L ，３７R ）の回転に同期して回転する第１回転体（４０）と、第１回転体（４０）との間で回転方向の位相差を生じることを可能として前記駆動輪（ＷR ）の回転に同期して回転する第２回転体（４８）と、リング状に配置されるとともに周方向に隣接して極性を異ならせる複数のＮ極およびＳ極（１４３N ，１４３S ）を有して第１回転体（４０）とともに回転する第１磁性リング（１４１）と、第１磁性リング（１４１）のＮ極およびＳ極（１４３N ，１４３S ）と同一角度でリング状に配置される複数のＮ極およびＳ極（１４７N ，１４７S ）を有して第２回転体（４８）とともに回転する第２磁性リング（１４２）と、第１磁性リング（１４１）に対向した固定位置に複数配置されて第１磁性リング（１４１）のＮ極およびＳ極（１４３N ，１４３S ）を検出する第１センサ（１５１）と、第２磁性リング（１４２）に対向した固定位置に複数配置されて第２磁性リング（１４２）のＮ極およびＳ極（１４７N ，１４７S ）を検出する第２センサ（１５２）と、第１および第２センサ（１５１，１５２）の検出信号の組み合わせパターンにより第１および第２回転体（４０，４８）の回転位相差を判断するとともに該回転位相差を前記入力操作部材（３７L ，３７R ）に加えられる入力トルクと認識して電動モータ（３４）の作動を制御する制御ユニット（１４０）とを備えることを特徴とする電動補助車両における入力トルク検出装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
先ず図１ないし図３において、この電動補助自転車は側面視で上方に開いた略Ｕ字状である車体フレーム２１を備え、該車体フレーム２１は、その前端のヘッドパイプ２２と、ヘッドパイプ２２から後下りに延びるメインフレーム２３と、メインフレーム２３の後端に固着されて左右に延びる支持パイプ２４と、支持パイプ２４から上方に立上がるシートポスト２５とを備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
第１回転円板４０および挟持板４９は、第１回転円板４０の外周に装着されるカバー５８で覆われており、このカバー５８の内周部内面には、第１ワンウエイクラッチ４１のクラッチ外輪４３に装着された環状の弾性シール部材５９が外周側に備えるリップ部５９ａが前記カバー５８の内周部内面に弾発的に接触せしめられ、また前記弾性シール部５９がその内周側に備えるリップ部５９ｂがクラッチ内輪４２に弾発的に接触せしめられる。而して第１ワンウエイクラッチ４１のクラッチ内輪４２およびクラッチ外輪４３間には、前記リップ部５９ｂで封入されるようにしてグリス６０が充填される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
図８を併せて参照して、第１磁性リング１４１は、周方向に隣接して相互に極性を異ならせるようにしてリング状に配置される複数のＮ極１４３N …および複数のＳ極１４３S …が、合成樹脂等の非磁性材料から成る円筒状の第１ハウジング１４４の内周に設けられて成るものであり、Ｎ極１４３N …およびＳ極１４３S …は、たとえば３度の中心角を有して６０極ずつ第１ハウジング１４４の内周に設けられる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
このようなステップＳ１〜Ｓ１０の手順は、クランクペダル３７L ，３７R の踏み込み開始時における入力トルクの検出、ならびに検出した入力トルクに基づく電動モータ３４の作動制御を行なうためのものであり、電動補助自転車が通常の走行状態となったときには、ステップＳ１１〜Ｓ１７の手順に続いてステップＳ８〜Ｓ１０の手順を実行することになる。すなわち、ステップＳ２において車速が設定車速ＶＳ以上となった判定したときには、ステップＳ２からステップＳ１１に進み、このステップＳ１１で、４つの第１センサ１５１…においてＮＯ．１の第１センサ１５１の出力がハイレベルとなったかどうかを判定し、ハイレベルとなったときにステップＳ１２でタイマによる計時を開始する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
ステップＳ１３では、４つの第２センサ１５２…においてＮＯ．１の第２センサ１５２の出力がハイレベルとなったかどうかを判定し、ハイレベルとなったときにステップＳ１４でタイマの計値時ｔを記憶する。さらにステップＳ１５で、４つの第１センサ１５１…においてＮＯ．１の第１センサ１５１の出力が再びハイレベルとなったかどうかを判定し、再びハイレベルとなったときにステップＳ１６でタイマによる計時値Ｔを記憶するとともに、タイマをリセットする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
このようなステップＳ１１〜Ｓ１６の手順によると、ＮＯ．１の第１センサ１５１の出力が図１４（ａ）で示すようなものであり、ＮＯ．１の第２センサ１５２の出力が図１４（ｂ）で示すようなものであるときに、計時値ｔは、第１および第２センサ１５１，１５２の出力のずれ時間を表すものであり、計時値Ｔは、ＮＯ．１の第１センサ１５１の検出周期を表すものである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
また右側のクランクペダル３７R に第１ワンウエイクラッチ４１を介して第１回転円板４０が連結され、第１回転円板４０との間にコイルばね５７…が設けられる第２回転円板４８が、第１回転円板４０に隣接した位置で同一軸線まわりに回転することを可能として配置され、第１および第２磁性リング１４１，１４２が第１および第２回転円板４０，４８の軸方向一側に配置されているので、第１および第２回転円板４０，４８の一側に第１および第２センサ１５１…，１５２…を配置するスペースを確保するようにし、両センサ１５１…，１５２…を配置するために余分なスペースを確保することが不要となるだけでなく、第１および第２磁性リング１４１，１４２ならびに第１および第２センサ１５１…，１５２…の取付けを両回転円板４０，４８の一側に纏めるようにして取付け作業を容易とすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月10日(2005.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
変倍レンズ１４の変倍作動を可能とするカム筒２２の初期位置検出は、カム筒に設けた凸部２２ｅがフォトインターラプター２４を通過する事により検出される。即ち、フォトインターラプター２４と凸部２２ｅとで対物レンズ１３及び変倍レンズ１４の初期位置を検出する初期位置検出機構を構成している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
1999030739.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月20日(2005.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラバスタチンナトリウム、マンニトールおよび滑沢剤を含む混合物をプラバスタチンナトリウム錠の水性分散液に９以上のｐＨを付与する塩基性化剤の不存在下において、乾式法によって打錠することによって得たことを特徴とする、貯蔵安定性にすぐれ、崩壊時間および溶出率にもすぐれたプラバスタチンナトリウム錠剤。
【請求項２】
プラバスタチンナトリウム、マンニトールおよび滑沢剤を含む混合物をプラバスタチンナトリウム錠の水性分散液に９以上のｐＨを付与する塩基性化剤の不存在下において、直接法により打錠することによって得たことを特徴とする、貯蔵安定性にすぐれ、崩壊時間および溶出率にもすぐれたプラバスタチンナトリウム錠剤。
【請求項３】
さらに崩壊剤を含む混合物を打錠することによって得たことを特徴とする請求項１又は２に記載のプラバスタチンナトリウム錠剤。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月11日(2004.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
抗体および多数エピトープ生体内腫瘍関連性抗原の複合体を含む治療用組成物であって、該抗体は抗原上の第1のエピトープに特異的で、該抗原は有効なホストの免疫応答を惹起せず、該抗体は抗原上の第1のエピトープに特異的に結合して抗体／抗原ペアを形成し、それによって有効なホストの免疫応答を抗原上の第2のエピトープに対して惹起する治療用組成物。
【請求項２】
ホスト血清中に存在する多数エピトープ生体内腫瘍関連性抗原上の第1のエピトープに特異的な抗体を含む治療組成物であって、該抗原は有効なホストの免疫応答を惹起せず、該抗体は抗原上の第1のエピトープに特異的に結合して抗体／抗原ペアを形成し、それによって有効なホストの免疫応答を抗原上の第2のエピトープに対して惹起する治療用組成物。
【請求項３】
ホスト血清中に存在する多数エピトープ生体内腫瘍関連性抗原に特異的な抗体を含む治療組成物であって、該抗体はホストの体重1kg当たり0.1μg〜200μgの量で該組成物中に存在し、それによって有効なホストの免疫応答を抗原に対して惹起する治療用組成物。
【請求項４】
ホスト免疫応答が細胞性免疫応答および体液性免疫応答から成ることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれかに記載の治療用組成物。
【請求項５】
ホスト免疫応答が細胞性免疫応答から成ることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれかに記載の治療用組成物。
【請求項６】
ホスト免疫応答が体液性免疫応答から成ることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれかに記載の治療用組成物。
【請求項７】
多数エピトープ抗原が可溶性抗原であることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれかに記載の治療用組成物。
【請求項８】
可溶性抗原がヒトの癌と関連していることを特徴とする、請求項7に記載の治療用組成物。
【請求項９】
抗体が異種抗体であることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれかに記載の治療用組成物。
【請求項１０】
抗体がマウスのモノクローナル抗体であることを特徴とする、請求項9に記載の治療用組成物。
【請求項１１】
抗体がホスト中にイソタイプHAMA誘発性細胞毒性を誘起しないことを特徴とする、請求項10に記載の治療用組成物。
【請求項１２】
抗体がB43.13であることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれかに記載の治療用組成物。
【請求項１３】
抗体が予め放射線に曝されていることを特徴とする、請求項1乃至12のいずれかに記載の治療用組成物。
【請求項１４】
抗体が予め紫外放射線に曝されていることを特徴とする、請求項13に記載の治療用組成物。
【請求項１５】
抗原がCA125であることを特徴とする、請求項1乃至14のいずれかに記載の治療用組成物。
【請求項１６】
ホスト血清中のCA125のレベルが100U/mlより高いことを特徴とする、請求項15に記載の治療用組成物。
【請求項１７】
抗体がホストの体重1kg当たり0.1μg〜2mgの量で組成物中に存在することを特徴とする、請求項1もしくは2のいずれかに記載の治療用組成物。
【請求項１８】
抗体がホストの体重1kg当たり1μg〜200μgの量で組成物中に存在することを特徴とする、請求項1もしくは2のいずれかに記載の治療用組成物。
【請求項１９】
さらに１種類以上のアジュバント、１種類以上の搬送剤、１種類以上の賦形剤、１種類以上の安定化剤、１種類以上の撮影試薬、１種類以上の医薬的に許容される搬送剤および／もしくは生理学的に受容される食塩水を含むことを特徴とする、請求項1乃至18のいずれかに記載の治療用組成物。
【請求項２０】
抗体が還元されていないことを特徴とする、請求項1乃至19のいずれかに記載の治療用組成物。
【請求項２１】
抗体が放射線標識されていないことを特徴とする、請求項2もしくは3のいずれかに記載の治療用組成物。
【請求項２２】
さらに化学療法剤を含むことを特徴とする、請求項1乃至21のいずれかに記載の治療用組成物。
【請求項２３】
有効なホストの免疫応答を多数エピトープ生体内腫瘍関連性抗原上の第2のエピトープに対して惹起する方法であって、請求項1、2、4乃至22のいずれかに記載の治療用組成物を投与することを含み、該治療用組成物は該多数エピトープ生体内腫瘍関連性抗原上の第1のエピトープに特異的に結合する抗体を含む、免疫応答の惹起方法。
【請求項２４】
有効なホストの免疫応答を多数エピトープ生体内腫瘍関連性抗原に対して惹起する方法であって、請求項3に記載の治療用組成物を投与する方法。
【請求項２５】
癌の治療のための薬物の製造における、請求項1乃至22のいずれかに記載の治療用組成物の使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2004002481.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月12日(2004.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
舌下吸収又は直腸投与することを特徴とする、NADH、NADPH及び／又はその生理学的に許容される塩、並びにNADH及びNADPHの酸化を阻害するのに有効な安定剤を含んで成る治療製剤。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月8日(2005.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項1】
一般式（1）
2004002307.tif 000001
（式中、Ａｒは置換基を有していてもよいアリール基を示す。）
で示されるアリールスルホン誘導体と一般式（2）
2004002307.tif 000002
（式中、Ｘはハロゲン原子、Ｒは水酸基の保護基を示し、波線はＥ／Ｚ幾何異性体のいずれか一方もしくはそれらの混合物であることを示す。）
で示されるアリルハライド誘導体とをアルカリ金属水酸化物の存在下に反応させることを特徴とする一般式（３）
2004002307.tif 000003
（式中、Ｒ1は水素原子または水酸基の保護基を示し、Ａｒおよび波線は前記と同じ意味を表す。）
で示されるスルホン化合物および／または、一般式（４）
2004002307.tif 000004
（式中、Ｒ1および波線は前記と同じ意味を表す。）
で示されるトリエン化合物の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月12日(2005.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
（１）窒化アルミニウム焼結体の粒界相を連続化させ、この粒界相を導電性とすることによって、体積抵抗率を低減する。例えば、窒化アルミニウム原料粉末に多量の窒化チタンを添加することによって、主として窒化チタンからなる粒界相を生成させ、かつ粒界相を連続化させる。この連続化した粒界相が導電経路として機能する。この文献としては、例えば特開平１０−１５４７４６号公報がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
（１）のように、窒化アルミニウム材料の粒界相を導電性とし、この導電相を連続化させることによって体積抵抗率を低減する場合には、導電性物質の体積比率が２０容積％程度は必要である。導電相の体積比率が低いと、導電相が連続化せず、体積抵抗率の低減への寄与はほとんどない。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月17日(2004.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
実質的に横型の円筒状容器本体長手方向の一端下部及び他端下部にそれぞれ被処理液の入口ノズル及び出口ノズルを有し、本体の上部に揮発物の出口ノズルを持ち、本体内部の長手方向に本体の内側に近接して回転する撹拌ロータを設けた連続重縮合装置において、
前記撹拌ロータは該撹拌ロータの中心部に回転シャフトを持たず複数本の強度部材と連結されるロータ支持部材を両端に持ち、該支持部材間に形成された処理液の粘度に応じた低粘度域，中粘度域，高粘度域の撹拌翼ブロックで構成され、該各々の攪拌翼ブロックが
前記被処理液の入口ノズル側の低粘度域に設けられ、複数のカキトリ板により構成されるバケット部と該バケット部から処理液が注ぎかけられる薄板円板および中空円板とから成る低粘度撹拌ブロックと、
中粘度域に設けられ、両側に中空円板を配置し、その中に同一外径の中空薄板を複数枚設置し、さらに外周部にこれらの部材を貫通したカキトリ板を放射状に複数個設置して構成した中粘度撹拌ブロックと、
前記被処理液の出口ノズル側の高粘度域に設けられ、車輪型に中空部を有する円板を複数個適当な間隔で設置し該円板の外周部に前後互い違いにカキトリ板を設置した高粘度撹拌ブロックでなり、
前記揮発物の出口ノズル側のロータ支持部材の本体側面側に前記攪拌ロータの回転によって本体側壁面の処理液を外周部へ押し出すカキトリ部材を有した
ことを特徴とする連続重縮合装置。
【請求項２】
実質的に横型の円筒状容器本体長手方向の一端下部及び他端下部にそれぞれ被処理液の入口ノズル及び出口ノズルを有し、本体の上部に揮発物の出口ノズルを持ち、本体内部の長手方向に本体の内側に近接して回転する撹拌ロータを設け、
前記撹拌ロータは該撹拌ロータの中心部に回転シャフトを持たず複数本の強度部材と連結されるロータ支持部材を両端に持ち、該支持部材間に形成された処理液の粘度に応じた低粘度域，中粘度域，高粘度域の撹拌翼ブロックで構成され、該各々の攪拌翼ブロックが
前記被処理液の入口ノズル側の低粘度域に設けられ、複数のカキトリ板により構成されるバケット部と該バケット部から処理液が注ぎかけられる薄板円板および中空円板とから成る低粘度撹拌ブロックと、
中粘度域に設けられ、両側に中空円板を配置し、その中に同一外径の中空薄板を複数枚設置し、さらに外周部にこれらの部材を貫通したカキトリ板を放射状に複数個設置して構成した中粘度撹拌ブロックと、
前記被処理液の出口ノズル側の高粘度域に設けられ、車輪型に中空部を有する円板を複数個適当な間隔で設置し該円板の外周部に前後互い違いにカキトリ板を設置した高粘度撹拌ブロックでなり、
前記揮発物の出口ノズル側のロータ支持部材の本体側面側に前記攪拌ロータの回転によって本体側壁面の処理液を外周部へ押し出すカキトリ部材を有した連続重縮合装置とし、
該連続重縮合装置を用い、重合度の低いプレポリマーを前記被処理液の入口ノズルより連続供給し、それぞれの撹拌ブロックによって液膜を形成しながら攪拌ロータを回転させて処理液を撹拌することにより、処理液の表面更新を行って揮発物を蒸発させ、前記被処理液の出口ノズル方向へ移動させて重合度を高めてポリエステル系高分子を重縮合させることを特徴とする連続重縮合方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】連続重縮合装置及び連続重縮合方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ポリエチレンテレフタレート，ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系高分子の連続製造に好適な連続重縮合装置及び連続重縮合方法に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的は、実質的に横型の円筒状容器本体長手方向の一端下部及び他端下部にそれぞれ被処理液の入口ノズル及び出口ノズルを有し、本体の上部に揮発物の出口ノズルを持ち、本体内部の長手方向に本体の内側に近接して回転する撹拌ロータを設けた連続重縮合装置において、撹拌ロータは該撹拌ロータの中心部に回転シャフトを持たず複数本の強度部材と連結されるロータ支持部材を両端に持ち、該支持部材間に形成された処理液の粘度に応じた低粘度域，中粘度域，高粘度域の撹拌翼ブロックで構成され、該各々の攪拌翼ブロックが、被処理液の入口ノズル側の低粘度域に設けられ複数のカキトリ板により構成されるバケット部と該バケット部から処理液が注ぎかけられる薄板円板および中空円板とから成る低粘度撹拌ブロックと、中粘度域に設けられ両側に中空円板を配置しその中に同一外径の中空薄板を複数枚設置しさらに外周部にこれらの部材を貫通したカキトリ板を放射状に複数個設置して構成した中粘度撹拌ブロックと、被処理液の出口ノズル側の高粘度域に設けられ車輪型に中空部を有する円板を複数個適当な間隔で設置し該円板の外周部に前後互い違いにカキトリ板を設置した高粘度撹拌ブロックでなり、揮発物の出口ノズル側のロータ支持部材の本体側面側に攪拌ロータの回転によって本体側壁面の処理液を外周部へ押し出すカキトリ部材を有した連続重縮合装置とし、該連続重縮合装置を用い、重合度の低いプレポリマーを被処理液の入口ノズルより連続供給し、それぞれの撹拌ブロックによって液膜を形成しながら攪拌ロータを回転させて処理液を撹拌することにより、処理液の表面更新を行って揮発物を蒸発させ、前記被処理液の出口ノズル方向へ移動させて重合度を高めてポリエステル系高分子を重縮合させる連続重縮合方法とすることにより、達成される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明によれば、ポリエステル系高分子の連続製造におけるエステル化工程，前重合工程，最終重合工程の内の最終重合工程で、処理液が数百Ｐａｓの処理液粘度から取扱うことができ数千Ｐａｓの処理液粘度まで上昇させることができるので、装置全体の効率が向上し、工場設備のエネルギー節約により経済的に操作することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月28日(2005.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
〔使用材料〕
セメント：普通ポルトランドセメント
山砂    ：新潟産の山砂（表乾比重：２.６３）
水      ：水道水
〔アンモニア分解剤または吸着剤〕
注（１）の活性炭：化学薬品としてリン酸系化合物を担持した破砕状活性炭を，セメント重量の１０％程度の量で，細骨材と置換し，配合。
注（２）の次亜塩素酸ナトリウム：濃度６％の次亜塩素酸ナトリウム水溶液をセメント重量の５％程度の量で配合水と置換し，配合。
注（３）のオゾン水：濃度０.５ｍｇ／Ｌ相当のオゾン水を，セメント重量の５％程度の量で配合水と置換し，配合。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月10日(2004.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
昇降路の底部に設置されている巻上機支持台、
この巻上機支持台上に設置され、回転可能な綱車を有する巻上機、
上記昇降路内に設置され、上記巻上機から上記巻上機支持台に作用する上向きの力を受けるレール支持梁、
このレール支持梁上に支持されている一対のガイドレール、
上記巻上機の駆動により、上記ガイドレールに案内されて上記昇降路内を昇降する昇降体、
上記ガイドレールにより支持されている回転自在の返し車、及び
上記巻上機の綱車及び上記返し車に巻き掛けられ、上記ガイドレールに対して上記昇降体を吊り下げる主ロープ
を備え、上記レール支持梁に作用する上向きの力は、上記返し車から上記ガイドレールに作用する下向きの力により相殺されることを特徴とするエレベータ装置。
【請求項２】
上記巻上機支持台は、互いに対向して上記昇降路の底部に設置され、それぞれ開口部を有する一対の支持板と、両端部が上記開口部に挿入されている支持梁とを有していることを特徴とする請求項１記載のエレベータ装置。
【請求項３】
上記巻上機支持台は、上記支持梁の上下面に対向し上記巻上機が固定されている固定梁と、上記支持梁と上記固定梁との間に介在されている弾性体とを有していることを特徴とする請求項２記載のエレベータ装置。