Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月4日(2005.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ポリエチレンを含まない安定性の顔料の水性分散液およびウレタンポリマーの粒子を有するインク組成物において、該ウレタンポリマーの粒子寸法が０．０１μｍ〜０．２５μｍであるインク組成物。
【請求項２】  前記ウレタンポリマーを架橋できる架橋剤を含む、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項３】  前記顔料が白色顔料を含む、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項４】  前記インク組成物の全重量の１重量％〜６０重量％の顔料粒子と、
前記インク組成物の全重量の５重量％〜９９重量％のウレタンポリマーの粒子と、
を含む、液状インク組成物において、ウレタンポリマーの粒子寸法が０．０１μｍ〜０．２５μｍであるインク組成物。
【請求項５】  ポリエチレンを含まない安定性の顔料の水性分散液およびウレタンポリマーの粒子を有するインク組成物から形成された印刷イメージを含む、弾性包帯。
【請求項６】  請求項１または５に記載のインク組成物を使用して弾性支持体にイメージを印刷する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月21日(2004.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】異方性弾性ウェブ
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ブロックコポリマーエラストマー成分及びポリオレフィンポリマー成分がそれぞれ、１０：１〜０．４：１の比でブレンドされた押出ブレンドから形成された、厚さが２０〜３００ミクロンの、縦方向及び横方向を有する異方性弾性フィルム層を含む異方性弾性ウェブであって、該エラストマー成分がＡブロック及びＢブロックから形成されたブロックコポリマーエラストマーからなり、該Ａブロックが主としてモノアルケニルアレーンから形成され、該Ｂブロックが主としてイソプレンから形成され、該ポリオレフィン成分が主として、非弾性繊維形成ポリオレフィンポリマー、コポリマーまたはブレンドからなり、該異方性フィルム層のＦ１０比（ＭＤ対ＣＤ）が少なくとも１．５である異方性弾性ウェブ。
【請求項２】  巻出力が３００ｇ／２．５４ｃｍより小さい単層フィルムのロールを含み、前記縦方向のＦ１０力が該巻出力より大きい請求項１に記載の異方性弾性ウェブ。
【請求項３】  前記ウェブが前記異方性弾性フィルム層及び少なくとも１つの他のポリマーフィルム層の多層フィルムを含み、該少なくとも１つの他のポリマーフィルム層が該弾性フィルム層と比較して相対的に非弾性のフィルム層である、請求項１に記載の異方性弾性ウェブ。
【請求項４】  前記少なくとも１つの他のポリマーフィルム層がポリオレフィンフィルム層である請求項３に記載の異方性弾性ウェブ。
【請求項５】  前記少なくとも１つの他のポリマーフィルム層が、前記異方性弾性フィルム層の各面に２つのこのようなフィルム層を含むと共に、該フィルム層が同時押出しされる請求項３に記載の異方性弾性ウェブ。
【請求項６】  前記モノアルケニルアレーンがスチレンモノマーであり、前記ポリオレフィン成分がポリプロピレンポリマーであり、前記エラストマー成分のポリオレフィン成分に対する比が５：１〜０．６：１である、請求項１に記載の異方性弾性ウェブ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月14日(2004.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  電子部品を試験液に暴露するステップを包含する電子部品を試験する方法において、
該試験液が本質的に不燃性であるヒドロフルオロエーテルを含むことを特徴とする方法。
【請求項２】  前記方法が、
（ａ）電子部品パッケージ内の密封されたキャビティの気密性を試験するための気密シール試験方法、
（ｂ）熱衝撃試験方法、
（ｃ）環境応力スクリーニング試験方法、および
（ｄ）液体バーンイン試験方法、
からなる群より選択される請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記ヒドロフルオロエーテルが、式
Ｒｆ(ＯＲｈ)ｎ
［式中、Ｒｆは過フッ素化されたアルキル基であり、Ｒｈはアルキル基であり、ｎは１〜３の数であり、Ｒｆに含有される炭素原子数は全てのＲｈ基に含有される炭素原子の総数を超える。］
で表される請求項１又は２記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月19日(2004.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも１つの物質を金属製品へ添加することにより、金属製品を複合的硬化する方法であって、
減圧チャンバー（２）を通して移動する連続的なストリップ（１）の形態にある該金属製品を使用し、
該物質を該ストリップに適用し、
該減圧チャンバーを通過させる間に、該物質の融点未満であるが該物質の該ストリップへの拡散を許容するのに十分に高い温度に維持することにより、該物質を少なくとも部分的に該ストリップへ拡散させる
工程を含み、
該減圧チャンバー（２）において起こるプラズマアニール工程の前又はその後に、該物質を該金属ストリップ（１）へ組み込む、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】  該ストリップ（１）を、該物質を組み込む前に予熱する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  該物質の該ストリップへの少なくとも部分的な拡散を許容するのに十分に高い温度を維持しながら、該物質とストリップとを接触させる、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】  該物質の該ストリップ（１）への添加を、スパッタリング技術、真空蒸着技術、アーク蒸着、より一般的には、該物質を含むキャリヤーガスの分解技術又はこれらの技術の２以上の組合せにより行う、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】  軟鋼、ステンレス鋼又はアルミニウム製のストリップ（１）を使用する、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月27日(2005.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  繊維製造に適したＣＲ−ポリプロピレンとそのＣＲ−ポリプロピレンと反応しうる反応相手とを混合し、得られた混合物を押出紡糸機の中で糸に加工することを特徴とする、水性染浴から染色可能な改質ポリプロピレン糸の製造方法。
【請求項２】  反応相手として、二官能性のカルボン酸または対応するカルボン酸誘導体を投入することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  カルボン酸誘導体として、カルボン酸エステル、カルボン酸無水物、カルボン酸アミド、カルボン酸イミド、カルボン酸ハライドまたはカルボン酸ニトリルを投入することを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】  カルボン酸無水物として、ピロメリット酸二無水物またはマレイン酸無水物を投入することを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】  カルボン酸アミドとして、ポリアミドまたはカプロラクタムを投入することを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項６】  反応相手として、ポリプロピレンと二官能性のカルボン酸または対応するカルボン酸誘導体とからのマスターバッチを投入することを特徴とする請求項１−５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】  反応相手を約12重量％まで、好ましくは約3重量％、特に約1重量％までの量投入することを特徴とする請求項１−６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】  ポリプロピレンと反応相手に加えて、更に過酸化物の添加物を投入することを特徴とする請求項１−７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】  過酸化物の添加物を約1重量％まで、好ましくは約0.5重量％、特に約0.1重量％までの量投入することを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  使用する押出紡糸機が、動的および／または静的な混合部材を有する押出成型機であることを特徴とする請求項１−９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】  押出紡糸機の中のバルク温度が約230から300℃までであることを特徴とする請求項１−１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】  混合が機械的な方法で行われることを特徴とする請求項１−１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】  請求項１−１１のいずれか１項に記載の方法に従って得られるポリプロピレン糸。
【請求項１４】  布地、好ましくは編物の製造のための請求項１３によるポリプロピレン糸の使用。
【請求項１５】  染色は通常の染料で水系染浴から標準的な押出方法に従って行うことを特徴とする請求項１３のポリプロピレン糸または請求項１４の布地の染色方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月9日(2004.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートを折るステップと、
前記折られたそれぞれのシートの折り縁の検出位置に対する穴開けの位置において、前記折られたシートに穴を開けるステップであって、前記穴開け位置はシート情報に基づき決定される、ステップと、
前記穴を開けられたシートをスタックするステップと、
前記スタックされたシートを小冊子に製本するステップとを含み、
前記シート情報がそれぞれのシートの順序番号を含み、
前記折られたそれぞれのシートの穴開け位置は、前記小冊子における前記折られたシートの順序番号に基づいて変えられることを特徴とする小冊子を作成する方法。
【請求項２】
前記穴を開けるステップは、前記シート情報に基づき穴開け装置内での前記折られたそれぞれのシートの折り縁の位置を決定するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記位置を決定するステップは、折られたシートのそれぞれについて前記折られたシートの先行側を静止状態に保持しつつ、穴開け装置内に前記折られたシートの折り縁が移動するように前記折られたシートの後続側を押し進めるステップを含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
クランプ装置と、
推進システムであって、折られたシートが、第一の側では前記クランプ装置により静止状態を保たれ、また第二の側では前記推進システムにより押し進められる、推進システムと、
ホール・パンチを持つパンチ工具であって、前記折られたシートの折り縁が、前記折られたシートの前記第２の側の推進によって、前記ホール・パンチに対して位置決めされる、パンチ工具と、
前記ホール・パンチに対する前記折り縁の位置を決定し、前記決定された位置に基づいて位置情報を提供するためのセンサとを備え、
前記折られたシートに開けられる穴の位置が、小冊子における前記折られたシートの順序番号に基づいて変えられることを特徴とする穴開け装置。
【請求項５】
前記折られたシートの第２の側が、前記位置情報とシート情報に基づいて押し進められることを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記シート情報が、前記小冊子における前記折られたシートの順序番号を含むことを特徴とする請求項５に記載の装置。
【請求項７】
折られたシートの先行側を静止状態に保持するステップと、
前記折られたシートの折り縁を穴開け装置内に移動するように、位置情報とシート情報に基づいて、前記折られたシートの後続側を押し進めるステップと、
前記穴開け装置を用いて、前記折られたシートに少なくとも一つの穴をあけるステップとを含み、
前記折られたシートの少なくとも一つの穴の位置が、小冊子における前記折られたシートの順序番号に基づいて変えられることを特徴とする小冊子シートに穴を開ける方法。
【請求項８】
前記穴開け装置のホール・パンチに対する前記折り縁の位置は、前記後続側を押し進めるステップに基づくことを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記位置情報は、前記穴開け装置のホール・パンチに対する前記折り縁の位置に関する情報を含むことを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
折られたシートに穴を開ける手段と、
前記折られたシートの先行側を静止状態に保持する手段と、
前記折られたシートの折り縁を穴開け装置内に移動するように前記折られたシートの後続側を押し進める手段とを備え、
前記後続側は位置情報とシート情報に基づいて推し進められ、
前記シート情報は各シートの順序番号を含んでおり、
それぞれの前記折られたシートのホール・パンチの位置が、小冊子における前記折られたシートの順序番号に基づいて変えられることを特徴とする小冊子に穴を開ける装置。
【請求項１１】
前記位置情報は、前記穴開け装置のホール・パンチに対する折り縁の位置に関する情報を含むことを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記センサが、前記折られたシートの上側端部と下側端部の少なくとも１つを検出することを特徴とする請求項４に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月20日(2003.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  電力生成のシステムであって、前記システムは、
（ａ）酸化剤吸気口と燃料吸気口を有し、前記酸化剤吸気口と前記燃料吸気口のそれぞれからの酸化剤と燃料から電力を発生させるように構成される燃料電池の組立体と、
（ｂ）前記燃料電池の上流側の汚い酸化剤の流れの中に配設されるフィルタ組立体であって、前記フィルタ組立体は、
（ｉ）入り口と出口を有したハウジングであって、前記入り口は前記汚い酸化剤を前記フィルタ組立体の中に受け入れるように構成され、前記出口は前記フィルタ組立体から浄化された酸化剤を供給するように構成され、
（Ａ）  前記汚い酸化剤から、微粒子汚染物質を除去するように構成及び配置される微粒子フィルタ部分と、
（Ｂ）  前記汚い酸化剤から、化学汚染物質を除去するように構成及び配置される化学フィルタ部分と、
（Ｃ）  前記ハウジングを通り抜ける広帯域の音を、１メータで少なくとも６デシベル音響的に減衰させるように構成および配置される音抑制要素の内で、
すくなくとも二つを、前記ハウジングの内部に配設したことを特徴とするシステム。
【請求項２】  前記フィルタ組立体は、前記微粒子フィルタ部分と前記化学フィルタ部分と前記音抑制要素のそれぞれを具備することを特徴とする請求項１に記載のシステム。  【請求項３】  前記化学フィルタ部分は、活性炭、飽和炭素、活性炭素繊維、イオン交換樹脂、イオン交換繊維、アルミナ、活性アルミナ、モレキュラーシーブ、珪石の群から選択される吸着材料を具備することを特徴とする請求項１または２に記載のシステム。
【請求項４】  前記吸着材料は、酸性汚染物質を取り除くために酸性の表面を有するように構成および配置され、前記酸性汚染物質は、少なくとも硫化酸素、窒化酸素、硫化水素、塩化水素、揮発性の有機酸および不揮発性の有機酸の少なくとも一つであることを特徴とする請求項３に記載のシステム。
【請求項５】  前記吸着材料は、基本的汚染物質を取り除くために酸性の表面を有するように構成および配置され、前記基本的汚染物質は、少なくともアンモニア、アミン、アミド、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、揮発性の有機塩基および不揮発性の有機塩基の少なくとも一つであることを特徴とする請求項３に記載のシステム。  【請求項６】  前記微粒子フィルタ部分は、前記音抑圧要素に隣接して放射状に配設されることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項７】  前記微粒子フィルタ部分は、直線的に突き抜ける流れを提供するように構成されることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項８】  前記音抑圧要素は、共振器を具備することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項９】  前記音抑圧要素は、少なくともその一部が前記ハウジングにより定義されることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１０】  前記音抑圧要素は、前記フィルタ組立体を通り抜ける音を少なくとも１０デシベル音響的に減衰するように構成および配置されることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１１】  前記音抑圧要素は、およそ１３５０ヘルツまでの周波数範囲の音を少なくとも６デシベル減衰することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１２】  空気コンプレッサーをさらに具備することを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項１３】  前記空気コンプレッサーは、ツインネジ式コンプレッサーであることを特徴とする請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】  コンプレッサー放出フィルタ組立体であって、
（ａ）入り口と出口を有したハウジングであって、前記入り口は、前記コンプレサーからの空気を受け入れるように構成され、
（ｂ）前記ハウジングの中において前記入り口と流体的に連通されるフィルタ部分であって、前記フィルタ部分は前記コンプレッサーからの空気から汚染物質を取り除くように構成および配置される前記コンプレッサー放出フィルタ組立体を、さらに具備することを特徴とする請求項１２または１３に記載のシステム。
【請求項１５】  前記コンプレッサー放出フィルタ組立体は、前記ハウジングの中の音抑制要素をさらに具備し、前記音抑制要素は１メータで少なくとも６デジベルの広帯域の音響的な減衰をするように構成および配置されることを特徴とする請求項１４に記載のシステム。
【請求項１６】  前記コンプレッサー放出フィルタ組立体の前記フィルタ部分がポリテトラフルオロエチレンを具備することを特徴とする請求項１４または１５に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月17日(2005.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水を水域から供給管にポンプで送り込むステップ； 
供給管に沿った複数の注入場所にて、その中の望ましくない微生物の濃度を小さくするのに十分な量のオゾンを注入するステップ； 
前記水を付着藻類のコロニーの入口端部に送るステップ；および 
前記藻類のコロニー上に前記水を流して望ましくない物質をそこから除去するステップ
を含む水処理方法。 
【請求項２】
処理すべき水を、その中の望ましくない微生物の濃度を小さくし且つ利用可能な栄養素をそこから開放するのに十分な量のオゾンにさらすための手段； 
オゾンにさらされた水から望ましくない物質を除去するための付着藻類のコロニー；及び 
オゾンにさらされた水を、水をオゾンにさらす前記手段から前記藻類のコロニーに送るための手段、 
を備えた水処理システム。
【請求項３】
藻類コロニーの下流にて水をオゾンにより処理するための手段をさらに備える、請求項２に記載のシステム。 
【請求項４】
水をオゾンにさらす前記手段が、 
入口端部と出口端部を有する供給管； 
水を水域から抽出して供給管の入口端部に入れ、抽出した水を藻類コロニーの入口端部にポンプで送るように配置されたポンプ；及び 
オゾンを供給管に注入するための手段 
を含む請求項２に記載のシステム。 
【請求項５】
処理すべき水を、その中の栄養素を酸化して付着藻類のコロニーによる生物同化作用の影響を受けうる形態にするのに十分な量のオゾンにさらすステップ、及び
付着した藻類を含むフローウェイ(floway)上に前記水を流して酸化された栄養素をそこから除去するステップであって、該藻類は、酸化された栄養素の生物同化作用の際に強い光合成作用を経験する前記ステップ、
を含む水処理方法。
【請求項６】
前記栄養素がタンニン及びフミン化合物を含む請求項５に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成16年11月26日(2004.11.26)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９７】
温度37℃でのインキュベーションの10分以内で明らかに最大加水分解に到達したので、次の実験では、インキュベーションの温度を30℃〜25℃に漸進的に下げた。事実上、30℃でインキュベートした新鮮組織薄片について、Met−エンケファリンの加水分解レベルが時間(0〜30分)と共に高まった。同様の方法において、30℃でインキュベートした膜調製物について、酵素濃度(0〜2mg／ml)に関連して加水分解のレベルが高まる事にも気付きうる。しかし、明らかな関係を確認できなかった。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１２１】
ペプチドFG−005(SMR1−QHNPR)を500μg／0.01Nの酢酸5mlの割合で懸濁し、そして50及び100μg／kgの用量で静脈経路を介して、ラットの背面仙骨静脈(dorsal caudal vein)へとテスト直後及び翌日の再テストの300分及び5分前に投与をする為に、PBSで希釈した。
【表２】
2004532181.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月28日(2004.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】アポリポタンパク質Ｅ４の遺伝子の遺伝子型決定により大うつ病の治療を改善するための方法
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月15日(2005.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
一般構造式Ｉ
【化１】
2004532192.tif 000001
［式中、以下が適用される：
Ｒ１およびＲ２は互いに無関係に同じかまたは異なっていてよく、水素、ハロゲン、擬ハロゲン、ニトリル基および／またはニトロ基、非置換かまたはアルキル、アリールおよびヘタリールにより置換された−ＮＲ３Ｒ４、−ＯＲ５、−ＰＲ３Ｒ４および−ＳＲ６および／または縮合環状炭素または縮合複素環を表し、その際、Ｒ３〜Ｒ６がアルキルの場合、上記基は分枝鎖であっても非分枝鎖であってもよく、１〜２０個のＣ原子を含有してよく、Ｎ、Ｏ、Ｓおよび／またはＰ−原子を有する種々の官能基を有してよく；
Ｘ１およびＸ２は互いに無関係に同じかまたは異なっていてよく、ハロゲン、この場合有利にフッ素、アルキルオキシまたはアリールオキシを表し、その際、アルキル基は分枝鎖または非分枝鎖の１〜２０個のＣ原子、およびＮ、Ｏ、Ｓおよび／またはＰ−原子を有する種々の官能基を有してよいか、または
双方は一緒に、少なくとも二座の配位子によりホウ素原子と共に環を形成し、その際、少なくとも二座の配位子はヒドロキシ基および／またはカルボン酸基を有してよく、有利にジオール、ヒドロキシカルボン酸またはジカルボン酸、例えば−ＯＣ２Ｈ４Ｏ−、−ＯＣ３Ｈ６Ｏ−、グリコレート、ラクテート、タルトレート、シリシレート、マンデレート、ベンジレート、１，２−または２，３−ヒドロキシナフトエート、オキサレート、マロネート、アルキルマロネートまたはジアルキルマロネートである］の高縮合ホウ素錯化合物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【化１】
2004532192.tif 000002
［式中、以下が適用される：
Ｒ１およびＲ２は互いに無関係に同じかまたは異なっていてよく、水素、ハロゲン、擬ハロゲン、ニトリル基および／またはニトロ基、非置換かまたはアルキル、アリールおよびヘタリールにより置換された−ＮＲ３Ｒ４、−ＯＲ５、−ＰＲ３Ｒ４および−ＳＲ６および／または縮合環状炭素または縮合複素環を表し、その際、Ｒ３〜Ｒ６がアルキルの場合、上記基は分枝鎖であっても非分枝鎖であってもよく、１〜２０個のＣ原子を含有してよく、Ｎ、Ｏ、Ｓおよび／またはＰ−原子を有する種々の官能基を有してよく；
Ｘ１およびＸ２は互いに無関係に同じかまたは異なっていてよく、ハロゲン、この場合有利にフッ素、アルキルオキシまたはアリールオキシを表し、その際、アルキル基は分枝鎖または非分枝鎖の１〜２０個のＣ原子、およびＮ、Ｏ、Ｓおよび／またはＰ−原子を有する種々の官能基を有してよいか、または
双方は一緒に、少なくとも二座の配位子によりホウ素原子と共に環を形成し、その際、少なくとも二座の配位子はヒドロキシ基および／またはカルボン酸基を有してよく、有利にジオール、ヒドロキシカルボン酸またはジカルボン酸、例えば−ＯＣ２Ｈ４Ｏ−、−ＯＣ３Ｈ６Ｏ−、グリコレート、ラクテート、タルトレート、シリシレート、マンデレート、ベンジレート、１，２−または２，３−ヒドロキシナフトエート、オキサレート、マロネート、アルキルマロネートまたはジアルキルマロネートである］の高縮合ホウ素錯化合物である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月9日(2005.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩまたはＩＶ
【化１】
2004532196.tif 000001
［式中、
Ａ1は、ポリオール、ソルビトール、ソルビタン、グリセロール、ジグリセロール、ポリ
グリセロール、エトキシ化および／またはプロポキシ化グリセロール、エトキシ化および／またはプロポキシ化ソルビタン、炭素原子数１ないし４のヒドロキシアルキルアミン、次式−Ｏ−［−ＣＨＲ1−（ＣＨ2）rＯ］q−ＣＨＲ1−（ＣＨ2）r−ＯＲ2で表されるポリオキシアルキレンエーテル残基または次式−Ｏ−［−ＣＨＲ1−（ＣＨ2）r］g−（ＣＦ2
）j−ＣＦ3で表される残基からなる群より選択される残基を表し、ここで、
Ｒ1は、水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ｒ2は、炭素原子数１ないし２０のアルキル基を表し、
ｇは、０ないし５を表し、
ｊは、１ないし２０を表し、
ｒは、１、２、３または４を表し、
ｑは、１ないし１００を表し、
Ｘは、水素原子、ＣＮ、−Ｃ（Ｏ）Ｒ3、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ4、−Ｃ（Ｏ）Ａ1を表し、ここ
で、
Ｒ3およびＲ4は、各々独立して、水素原子、炭素原子数１ないし２０のアルキル基、炭素原子数１ないし２０のヒドロキシアルキル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、炭素原子数２ないし２０のアルケニル基、炭素原子数２ないし２０のアルキニル基または炭素原子数６ないし２０のアリール基を表し、
Ｒは、水素原子、炭素原子数１ないし２０のアルキル基、炭素原子数１ないし２０のヒドロキシアルキル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、炭素原子数２ないし２０のアルケニル基、炭素原子数２ないし２０のアルキニル基または炭素原子数６ないし２０のアリール基を表し、
Ｚは、Ｏ、ＳまたはＮＲ5を表し、ここで、
Ｒ5は、水素原子、炭素原子数１ないし２０のアルキル基または炭素原子数１ないし２
０のヒドロキシアルキル基を表し、
Ｗは、ｎに等しい価数の有機基を表し、
ｎは、１、２、３または４を表し、
Ａ2は、水素原子、ＯＲ6、−ＮＲ7Ｒ8、−ＳＲ9、−ＯＣＨ2Ｃ（Ｏ）−Ａ1または−Ｃ（
Ｏ）−Ａ1を表し、ここで、
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9は、各々独立して、水素原子、炭素原子数１ないし２０のアルキル基、炭素原子数１ないし２０のヒドロキシアルキル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、炭素原子数２ないし２０のアルケニル基、炭素原子数２ないし２０のアルキニル基または炭素原子数６ないし２０のアリール基を表し、
Ａ3は、炭素原子数１ないし６のアルコキシ基を表し、
Ａ4は、Ｈ、炭素原子数１ないし６のアルキル基を表し、
Ｑは、−ＣＨ2−ＣＨ2−（ＮＲ10）−ＣＨ2−ＣＨ2−、−（ＣＨＲ11−ＣＨ2）p−、−ＣＲ11Ｈ−ＣＨ2−Ｏ−（ＣＨＲ11−ＣＨ2−Ｏ−）p−ＣＨＲ11−ＣＨ2−を表し、ここで、
Ｒ10は、水素原子、炭素原子数１ないし２０のアルキル基、炭素原子数１ないし２０のヒドロキシアルキル基を表し、
Ｒ11は、水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
ｐは、１ないし１００を表し、
Ｚ1およびＺ2は、各々独立して、Ｏ、ＳまたはＮＲ12を表し、ここで、
Ｒ12は、水素原子、炭素原子数１ないし２０のアルキル基、炭素原子数１ないし２０のヒドロキシアルキル基を表し、そして
ｓは、２ないし５０を表す。］で表される化合物。
【請求項２】
式中、
ｎが１を表すとき、Ｗは、請求項１で定義されたＡ2を表し、
ｎが２を表すとき、Ｗは、−Ｏ−（Ｑ）−Ｏ−、−（Ｒ13）Ｎ−（Ｑ）−Ｎ（Ｒ14）−、−Ｓ−（Ｑ）−Ｓ−、−ＯＣ（Ｏ）−（Ｑ）−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｓ）−（Ｑ）−Ｃ（Ｓ）Ｏ−、−ＮＣ（Ｏ）−（Ｑ）−Ｃ（Ｏ）Ｎ−を表し、ここで
Ｑは、請求項１において定義されたものを表し、
Ｒ13およびＲ14は、各々独立して、水素原子、炭素原子数１ないし２０のアルキル基または炭素原子数１ないし２０のヒドロキシアルキル基を表し、
ｎが３を表すとき、Ｗは、次式
【化２】
2004532196.tif 000002
で表される三価残基を表し、ここで
ＲおよびＺは、請求項１で定義されたものを表し、そして
ｍは、１ないし６を表し、
ｎが４を表すとき、Ｗは、次式
【化３】
2004532196.tif 000003
で表される四価残基を表し、ここで
Ｚは、請求項１で定義されたものを表し、そして
ｍは、１ないし６を表す、請求項１記載の式Ｉ、ＩＩまたはＩＩＩで表される化合物。
【請求項３】
ｂ）ポリマー、またはポリマーの混合物と、
ｃ）表面改質のための添加剤としての、請求項１記載の式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩまたはＩＶで表される少なくとも一種の化合物、またはそれらの混合物
とを含む組成物。
【請求項４】
曇形成に対する耐性または撥水性および撥油性を改良するためにポリマーの表面を改質する方法であって、請求項１記載の式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩまたはＩＶで表される少なくとも一種の化合物を混和または塗布することからなる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月4日(2005.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
約２．０〜２９重量％のマグネシウムを含み、かつマグネシウム量の少なくとも７５重量％はハイドロキシアパタイト格子構造内のカルシウムイオンと置換されている、安定で、かつ純粋な相を備えたマグネシウム置換結晶ハイドロキシアパタイト。
【請求項２】
約５ｎｍ〜１００ミクロン（μｍ）の粒径を有する結晶凝集体を含む、請求項１に記載の純粋な相を備えたマグネシウム置換結晶ハイドロキシアパタイト。
【請求項３】
カルシウムイオン源、マグネシウムイオン源、リン酸イオン源、および水酸イオン源のうち、水溶性を有する少なくとも一つのイオン源を、前記マグネシウム置換ハイドロキシアパタイトが形成されるまで、水性の反応媒体中で機械化学的に反応させることを含む、純粋な相を備えたマグネシウム置換結晶ハイドロキシアパタイトの製造方法。
【請求項４】
前記水性の反応媒体から、前記マグネシウム置換ハイドロキシアパタイトを分離する工程をさらに含む請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記マグネシウム置換ハイドロキシアパタイトを水で洗浄する工程をさらに含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記マグネシウム置換ハイドロキシアパタイトを乾燥させる工程をさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記マグネシウム置換ハイドロキシアパタイトを水で洗浄する前に、前記マグネシウム置換ハイドロキシアパタイトをクエン酸アンモニウム水溶液で洗浄する工程をさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記リン酸イオン源は水溶性である、請求項３に記載の方法。
【請求項９】
請求項１に記載のマグネシウム置換ハイドロキシアパタイトを含む、クロマトグラフィーカラムまたはガスセンサの内部に使用される充填剤、または触媒保持体。
【請求項１０】
請求項１に記載のマグネシウム置換ハイドロキシアパタイトを含む、生体適合性を有する硬組織インプラント。
【請求項１１】
前記マグネシウム置換ハイドロキシアパタイトによって被覆された金属インプラントまたはポリマーインプラントを含む、請求項１０に記載の生体適合性を有する硬組織インプラント。
【請求項１２】
ポリマー複合材料を含む、請求項１０に記載の生体適合性を有する硬組織インプラント。
【請求項１３】
請求項１に記載のマグネシウム置換ハイドロキシアパタイトを含む、ヒトまたは獣類の組織内に直接埋入される顆粒状充填剤。
【請求項１４】
歯のう蝕部に充填される金属複合材料またはポリマー複合材料を含む、請求項１３に記載の顆粒状充填剤。
【請求項１５】
請求項１に記載のマグネシウム置換ハイドロキシアパタイトを含む、植物成長基材。
【請求項１６】
請求項１に記載のマグネシウム置換ハイドロキシアパタイトを含む、歯磨き剤組成物。
【請求項１７】
マグネシウム置換結晶ハイドロキシアパタイト格子構造内のマグネシウム量を、同格子構造のカルシウム量および格子構造内に含まれないマグネシウム量に対して増加させる方法であって、該方法は、前記マグネシウム置換ハイドロキシアパタイトをクエン酸アンモニウム水溶液で洗浄する工程を含む方法。
【請求項１８】
請求項１に記載のマグネシウム置換ハイドロキシアパタイトを含む、蛍光体用途のための母体材料。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月8日(2005.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＥＵＶリソグラフィー用ガラス基板を製造する方法であって、
シリカ前駆体をバーナに供給し、該シリカ前駆体を該バーナの火炎に通過させてシリカ粒子を形成し、
前記シリカ粒子をプレーナ面上に堆積させて平坦な多孔質ＥＵＶリソグラフィー用ガラス基板プリフォームを形成し、
前記多孔質プリフォームを脱水し、
前記多孔質プリフォームを平坦で緻密な均質ＥＵＶリソグラフィー用ガラス基板に固結させる、
各工程を有してなることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記プレーナ面の温度を約６００から９００℃の範囲に維持することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記緻密な均質ＥＵＶリソグラフィー用ガラス基板のＯＨ含有量が１ｐｐｍ未満であることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記多孔質プリフォームを脱水する工程が、該多孔質プリフォームを加熱されたハロゲン化物含有雰囲気に露出し、その後、該多孔質プリフォームを冷却する各工程を含み、前記加熱されたハロゲン化物含有雰囲気の温度が、前記多孔質プリフォームを緻密なガラスに完全に固結するのに必要な温度より低いことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記ハロゲン化物含有雰囲気が、不活性ガス、塩素、フッ素およびそれらの混合物からなる群より選択されることを特徴とする請求項４記載の方法。
【請求項６】
ＥＵＶリソグラフィー用ガラス基板を製造する方法であって、
シリカ前駆体とチタニア前駆体との混合物をバーナに供給し、該混合物を該バーナの火炎に通過させて、ＳｉＯ2−ＴｉＯ2粒子を形成し、
プレーナ面の温度を約５００から９００℃の範囲に維持しながら、前記ＳｉＯ2−ＴｉＯ2粒子を該プレーナ面に堆積させて、平坦な多孔質プリフォームを形成し、
前記多孔質プリフォームを平坦で緻密な均質ＥＵＶリソグラフィー用ガラス基板に固結する、
各工程を有してなることを特徴とする方法。
【請求項７】
前記プレーナ面の温度を約６００から９００℃の範囲の範囲に維持することを特徴とする請求項６記載の方法。
【請求項８】
大寸法の均質な溶融シリカガラス製平板ガラス体の製造方法であって、
シリカ前駆体をバーナに供給し、該シリカ前駆体を該バーナの火炎に通過させて、シリカ粒子を形成し、
前記シリカ粒子をプレーナ面上に堆積させて平坦な多孔質プリフォームを形成し、
前記多孔質プリフォームを脱水し、
前記多孔質プリフォームを、大寸法を持つ平坦で緻密な均質溶融シリカガラス製平板ガラス体に固結させる、
各工程を有してなることを特徴とする方法。
【請求項９】
前記プレーナ面の温度を約６００から９００℃の範囲の範囲に維持することを特徴とする請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記ガラスのＯＨ含有量が１ｐｐｍ未満であることを特徴とする請求項８記載の方法。
【請求項１１】
前記多孔質プリフォームを脱水する工程が、該多孔質プリフォームを加熱されたハロゲン化物含有雰囲気に露出し、その後、該多孔質プリフォームを冷却する各工程を含み、前記加熱されたハロゲン化物含有雰囲気の温度が、前記多孔質プリフォームを緻密なガラスに完全に固結するのに必要な温度より低いことを特徴とする請求項８記載の方法。
【請求項１２】
前記ハロゲン化物含有雰囲気が、塩素、フッ素およびそれらの混合物からなる群より選択されることを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
前記プレーナ面の温度を約７００から８００℃の範囲の範囲に維持することを特徴とする請求項２、７または９記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月14日(2005.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
歯状環−分散装置が、ホルダ上に設置された互いに包囲している相対的に交互に同軸上で回転可能な少なくとも２つの分散機構環（ステータ及びロータ）の少なくとも１つの円筒状の装置を有し、その際、ステータ及びロータの間の相対運動によってもたらされる作業スリットが互いに非平行に延びる壁を有する、請求項１０記載の粉末塗料懸濁液（粉末スラリー）及び粉末塗料。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月1日(2005.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式、Ｒ４Ｂ−１Ｍ＋で示される有機ホウ素化合物を含有する水性廃棄物流を処理する方法であって、
前記水性廃棄物流のｐＨを５〜１１の値に調整する工程と、
少なくとも１５０℃の温度で前記水性廃棄物流を少なくとも２００ｐｐｍの濃度の過酸化水素に接触させる工程と
を含み、
式中、Ｒは、フェニル、オルト−トリル、パラ−トリル、ナフチル、パラ−メトキシフェニル、パラ−アミノフェニル、およびビフェニルからなる群より選択され、かつＲは、ＢｒまたはＣｌで任意に置換されており、
Ｍ＋は、Ｎａ＋、Ｋ＋、ＮＨ４＋、Ｌｉ＋、Ｈ＋、およびＣｓ＋からなる群より選択されることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記温度が２００〜２５０℃であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
Ｒ４Ｂ−１Ｍ＋がテトラフェニルホウ酸ナトリウムであることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記過酸化水素の濃度が少なくとも２０００ｐｐｍであることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
（実施例３）
約９０％のベンゼン＋シクロヘキサンと、約６〜１２％のイソプロパノールと、フェニルイソプロパノール、フェノール、およびビフェニルのような約１％の他の有機物とを含有する１ｍｌの第２の相の有機物を有するｐＨ９．３の緩衝溶液中に２０００ｐｐｍの４ＰＢＳを含有する溶液は、１４０分後、４ＰＢＳが約１３００ｐｐｍまで減少した。比較のために、２００ｐｐｍのＨ２Ｏ２を存在させて、この実験を繰返した。この後者の場合、最終４ＰＢＳ濃度は、約１０ｐｐｍであった。
本発明は以下の実施の態様を含むものである。
１．式、Ｒ４Ｂ−１Ｍ＋で示される有機ホウ素化合物を含有する水性廃棄物流を処理する方法であって、
前記水性廃棄物流のｐＨを５〜１１の値に調整する工程と、
少なくとも１５０℃の温度で前記水性廃棄物流を過酸化水素に接触させる工程と
を含み、
式中、Ｒは、フェニル、オルト−トリル、パラ−トリル、ナフチル、パラ−メトキシフェニル、パラ−アミノフェニル、およびビフェニルからなる群より選択され、かつＲは、ＢｒまたはＣｌで任意に置換されており、
Ｍ＋は、Ｎａ＋、Ｋ＋、ＮＨ４＋、Ｌｉ＋、Ｈ＋、およびＣｓ＋からなる群より選択される方法。
２．前記過酸化水素の濃度が少なくとも２００ｐｐｍである前記１記載の方法。
３．前記温度が２００〜２５０℃である前記２記載の方法。
４．Ｒ４Ｂ−１Ｍ＋がテトラフェニルホウ酸ナトリウムである前記３記載の方法。
５．前記過酸化水素の濃度が少なくとも２０００ｐｐｍである前記４記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月17日(2005.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
JPEGファイル内にJPEGでないデータを保存する方法であって、
（Ａ）JPEGでないデータにおいて、あらかじめ定められた数のシーケンシャルバイトを読み込むステップと、
（Ｂ）当該シーケンシャルバイトにおいて、JPEGマーカーを含む各バイトの位置を決定するステップと、
（Ｃ）JPEGマーカーを含むシーケンシャルバイトの各バイトの位置を表示することができるローケーターバイトを決定するステップと、
（Ｄ）エンコードされたバイトを決定するステップと、
を含み、
エンコードされたバイトには、
（ａ）ローケーターバイトと、
（ｂ）JPEGマーカーを含まないシーケンシャルバイトの各バイトと、
（ｃ）JPEGマーカーを含むシーケンシャルバイトの各バイトに対するプレースホールダーバイトと、
を具備する方法。
【請求項２】
請求項１において、さらに、
（Ａ）JPEGファイル中にアプリケーションデータマーカーを置くステップと、
（Ｂ）JPEGファイル中の当該アプリケーションデータマーカーの後にエンコードされたバイトを書きこむステップと、
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
画像データ及び他のデータと交信を行うシステムであって、
（Ａ）JPEGデータを含有するJPEGファイルと、
（Ｂ）JPEGでないデータと、
（Ｃ）コンピュータと、
を備え、
当該コンピュータは、
（ａ）JPEGでないデータにおいて、あらかじめ定められた数のシーケンシャルバイトを読み込むステップと、
（ｂ）当該シーケンシャルバイトにおいて、JPEGマーカーを含む各バイトの位置を決定するステップと、
（ｃ）JPEGマーカーを含むシーケンシャルバイトの各バイトの位置を表示することができるローケーターバイトを決定するステップと、
（ｄ）エンコードされたバイトを決定するステップと、
ここで、エンコードされたバイトには、
（i）ローケーターバイトと、
（ii）JPEGマーカーを含まないシーケンシャルバイトの各バイトと、
（iii）JPEGマーカーを含むシーケンシャルバイトの各バイトに対するプレースホールダーバイトと、
を備え、
（ｅ）JPEGファイル中にエンコードされたバイトを書きこみ、エンコードされたバイトはあらかじめ定められた順番に書きこむステップと、
を含むコンピュータである、
画像データ及び他のデータと交信を行うシステム。
【請求項４】
JPEGファイル中にJPEGでないデータを保存する方法であって、
（Ａ）JPEGでないデータを読み込むステップと、
（Ｂ）JPEGでないデータのどのバイトがあらかじめ定められたJPEGマーカーを包含するかを決定するステップと、
（Ｃ）エンコードされたバイトを決定するステップと、
を含み、
エンコードされたバイトは、
（ａ）JPEGマーカーを具備しないJPEGでないデータの各バイトと、
（ｂ）あらかじめ定められたJPEGマーカーを具備するJPEGでないデータの各バイトのプレースホールダーバイトと、
（ｃ）少なくとも１つのローケーターバイトであって、どのエンコードされたバイトがプレースホールダーバイトであるかを表示することができるローケーターバイトと、
を具備する、JPEGファイル中にJPEGでないデータを保存する方法。
【請求項５】
あらかじめ定められた順序で、エンコードされたバイトを書きこむステップを含み、エンコードされたバイトはJPEGファイル中に書きこまれる、請求項４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月11日(2003.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
ある特定の通信リンクのマスタとスレーブが、その通信リンクについて次の交信スロットとして同じものを決定する確率は高い。そのため、双方の装置が互いに通信したい場合、マスタとスレーブとが交信イベントを開始することが保証される。提案されたバックオフ機構を使用する場合、特に注意を払わなければならない。この機構は、２つの装置がある制限された時間の後で接触できるよう適切に選択されなければならない。交信スロットを決定する簡単な方法は、それらの所定のスロット設定において等距離に配置することである。この場合、２つのパラメータＮinter_contact及び０＜Ｎcontact_offset＜Ｎinter_contactが規定される。第１のパラメータは２つの交信スロット間の距離を規定し、第２のパラメータはスロット設定における相対的配置を規定する。Ｎslotｍｏｄ  Ｎinter_contact  ＝  Ｎcontact_offsetの場合、スロット番号Ｎslotを有するスロットが交信スロットである。Ｎnext_contactを見出さなければならない場合、この数式を満たす現在のスロット番号以後の最小スロット番号を選択する。通常の配置での最も簡単な事例はＮinter_contactを１に設定し、Ｎcontact_offsetを０に設定することによって得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月1日(2005.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
［１０４５］図２は多数のユーザをサポートし、この発明の少なくともいくつかの観点および実施の形態を実施することができる通信システム１００の一例である。システム１００において、送信をスケジュールするためにいろいろなアルゴリズムおよび方法のいずれかを使用することができる。システム１００は多数のセル１０２Ａ乃至１０２Ｇに対して通信を供給する。それらのセルの各々は、それぞれ対応する基地局１０４Ａ乃至１０４Ｇによりサービスされる。明細書全体を通して使用される「基地局１０４」という用語は、「基地局１０４Ａ、１０４Ｂ、１０４Ｃ、１０４Ｄ、１０４Ｅ、１０４Ｆおよび１０４Ｇ」を指すことが理解される。「基地局１０４」という用語は簡潔さのためだけに使用される。例示実施の形態において、基地局１０４のいくつかは、複数の受信アンテナを有し、他は単一の受信アンテナを有する。同様に、基地局１０４のいくつかは複数の送信アンテナを有し、他は、単一の送信アンテナを有する。送信アンテナと受信アンテナの組合せに制限は無い。それゆえ、基地局が複数の送信アンテナと単一の受信アンテナを有することも可能であるし、または複数の受信アンテナと単一の送信アンテナを有することも可能であるし、または、単一のまたは複数の送信アンテナおよび受信アンテナを有することも可能である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
［１０４６］カバー領域内の端末１０６は固定（すなわち、静止している）していてもよいし、または移動していてもよい。図２に示すように、種々の端末１０６がシステム全体に分散している。明細書全体を通して使用される「端末１０６」という用語は、「端末１０６Ａ、１０６Ｂ、１０６Ｃ、１０６Ｄ、１０６Ｅ、１０６Ｆ、および１０６Ｇ」を指すことが理解される。端末「１０６」は簡潔さのためだけに使用される。各端末１０６は、ソフトハンドオフが採用されるかどうか、または端末が複数の基地局から複数の送信を（同時にまたは順次に）受信するように設計され動作するかどうかに応じて、いつなんどきでも、ダウンリンクおよびアップリンクを介して一つおよび恐らくそれ以上の基地局１０４と通信する。ＣＤＭＡ通信システムのソフトハンドオフは、技術的によく知られており、この発明の譲受人に譲渡された米国特許第５，１０１，５０１（発明の名称：「ＣＤＭＡセルラ電話システムにソフトハンドオフを供給するための方法およびシステム」(METHOD AND SYSTEM FOR PROVIDING A SOFT HANDOFF IN A CDMA CELLULAR TELEPHONE SYSTEM)に詳細に記載されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
［１０４７］ダウンリンク、すなわちＦＬは基地局から端末への送信を呼び、アップリンク、すなわちＲＬは端末から基地局への送信を呼ぶ。例示実施の形態において、端末１０６のいくつかは、複数の受信アンテナを有し、他は唯ひとつの受信アンテナを有する。図２において、基地局１０４Ａはダウンリンクを介してデータを端末１０６Ａおよび１０６Ｊに送信し、基地局１０４Ｂは端末１０６Ｂおよび１０６Ｊにデータを送信し、基地局１０４Ｃは端末１０６Ｃにデータを送信する、等である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月6日(2005.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨パッド基材と、少なくとも１つの非金属不均一固体触媒とを含む研磨パッドであって、その使用前に当該非金属不均一固体触媒が当該研磨パッド基材に取り込まれる、研磨パッド。
【請求項２】
前記非金属不均一固体触媒が一体化、カプセル封入及び含浸から選ばれる方法により前記研磨パッド基材に取り込まれる、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項３】
前記非金属固体触媒が光活性化される触媒である、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項４】
前記非金属固体触媒が式ＭxＯyを有し、式中Ｍは、Ｔｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｖ、Ｎｂ及びそれらの混合物であり、ｘ及びｙは各々個別に０より大きい数である、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項５】
前記非金属固体触媒がＴｉxＯyである、請求項４に記載の研磨パッド。
【請求項６】
前記非金属固体触媒が、ＴｉＯ2、Ｔｉ2Ｏ3及びそれらの混合物からなる群から選択されている、請求項４に記載の研磨パッド。
【請求項７】
前記非金属固体触媒が０．００５〜２０．０ｗｔ％の範囲内の量で当該研磨パッド中に存在する、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項８】
前記非金属固体触媒がＴｉＯ2及びＴｉ2Ｏ3の混合物であり、１．０〜１０．０ｗｔ％の範囲内の量で当該研磨パッド中に存在する、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項９】
前記非金属固体触媒が１ミクロン未満の平均粒子直径を有する、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項１０】
ＴｉＯ2、Ｔｉ2Ｏ3及びその混合物からなる群から選択された、０．００５〜２０．０ｗｔ％の光活性化非金属固体触媒を含む、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項１１】
少なくとも１つの研磨剤を更に含む、請求項１０に記載の研磨パッド。
【請求項１２】
前記光活性化非金属固体触媒が前記研磨剤上に支持されている、請求項１１に記載の研磨パッド。
【請求項１３】
前記研磨剤が、アルミナ、セリア、ゲルマニア、シリカ、チタニア、ジルコニア及びその混合物を含む群から選択された少なくとも１つの金属酸化物研磨剤であり、当該研磨剤が前記光活性化固体触媒と同じ化合物でない、請求項１１に記載の研磨パッド。
【請求項１４】
前記金属酸化物研磨剤がシリカ、アルミナ及びそれらの混合物からなる群から選択され、且つ当該金属酸化物研磨剤が０．１〜２０．０ｗｔ％の範囲内の量で当該研磨パッド中に存在する、請求項１３に記載の研磨パッド。
【請求項１５】
少なくとも１つの金属部分を含む基材表面を研磨するための方法であって、
（ａ）少なくとも１つの非金属固体触媒を研磨パッド基材に取り込むことにより研磨パッドを作製する工程、
（ｂ）酸化剤を含む溶液を上記研磨パッド、上記基材表面、又はその両方に適用する工程、
（ｃ）上記研磨パッドを上記基材表面と接触させる工程、及び
（ｄ）当該基材との関係において上記研磨パッドを移動させることにより上記基材表面から上記金属部分の少なくとも一部分を除去する工程、
を含み、工程（ｂ）を適用する前に当該非金属固体触媒を当該研磨パッドに取り込む、少なくとも１つの金属部分を含む基材表面の研磨方法。