【手続補正書】
【提出日】平成17年3月7日(2005.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の脳の領域に電気刺激を加えるための装置であって、
少なくとも部分的に患者の頭蓋内で患者の中に埋め込まれるように構成された埋込み可能な支持部材と、
該支持部材に支持されたパルスシステムと、
該パルスシステムに結合され、該支持部材により支持された第１の電極と、
該第１の電極から間隔を置いて配置され、該パルスシステムに結合されて、該支持部材により支持された第２の電極と、
を含むことを特徴とする装置。
【請求項２】
前記支持部材は、頭蓋に取付け可能な取付け要素と、該取付け要素に支持され、前記第１及び第２の電極を支持するハウジングとを含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記取付け要素は、メッシュを含むことを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記取付け要素は、プレートを含むことを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項５】
前記支持部材は、メッシュである取付け要素と、該取付け要素に取り付けられた近位側、前記第１及び第２の電極が取り付けられた遠位側、及び前記パルスシステムが収容された空洞を有するハウジングとを含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記支持部材は、頭蓋に取り付けるための取付け要素と、該取付け要素に取り付けられた近位側、前記第１及び第２の電極が取り付けられた遠位側、及び前記パルスシステムが収容された空洞を有し、頭蓋の穴に埋め込まれるように構成されたハウジングとを含み、
該ハウジングの深さは、約１〜２ｃｍである、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記支持部材は、頭蓋と脳の硬膜又は軟膜表面との間に位置決めされるように構成された圧縮性部材を含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記支持部材は、頭蓋内に少なくとも部分的に埋め込まれるように構成された、空洞を有するハウジングを含み、
前記パルスシステムは、該ハウジングの該空洞内に電源及びパルス発生装置を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記支持部材は、頭蓋内に少なくとも部分的に埋め込まれるように構成された、空洞を有するハウジングを含み、
前記パルスシステムは、該ハウジングの該空洞内にパルス発生装置を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記支持部材は、頭蓋内に少なくとも部分的に埋め込まれるように構成された、空洞を有するハウジングを含み、
前記パルスシステムは、該ハウジングの該空洞内に、外部パルス発生装置が発生した放送エネルギのパルスを受信するための受信装置と、該放送エネルギを前記支持部材内で電気パルスに変換するためのパルス形成装置とを有するパルス供給システムを含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記支持部材は、頭蓋内に少なくとも部分的に埋め込まれるように構成された、空洞を有するハウジングを含み、
前記パルスシステムは、該ハウジングの該空洞内に、外部パルス発生装置が発生した磁気エネルギのパルスを受信するための磁気ピックアップコイルを有するパルス供給システムを含み、
前記第１及び第２の電極は、前記ハウジング内で前記パルスシステムと電気的に結合される、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
前記支持部材は、頭蓋内に少なくとも部分的に埋め込まれるように構成された、空洞を有するハウジングを含み、
前記パルスシステムは、該ハウジングの該空洞内に、ＲＦエネルギを受信することができるアンテナと該アンテナに結合されたパルス形成装置とを有するパルス供給システムを含み、
前記第１及び第２の電極は、前記ハウジング内で前記パルスシステムと電気的に結合される、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
前記第１及び第２の電極は、脳の軟膜表面に接して又は少なくとも軟膜表面に近接して位置決めされるための、前記支持部材の遠位表面における導電要素であり、
該第１の電極は、ほぼ円形の形状を有し、該第２の電極は、該第１の電極を取り囲むほぼ円形の形状を有する、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
前記第１及び第２の電極は、脳の軟膜表面に接して又は少なくとも軟膜表面に近接して位置決めされるための、前記支持部材の遠位表面における導電要素であり、
該第１の電極は、該遠位表面の第１の区域の第１の導電パッドにより形成され、該第２の電極は、該遠位表面の第２の区域の第２の導電パッドにより形成される、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１５】
前記パルスシステムに結合された第３の電極と第４の電極とを更に含み、
前記第１、第２、第３、及び第４の電極は、脳の軟膜表面に接して又は少なくとも軟膜表面に近接して位置決めされるための、前記支持部材の遠位表面における導電要素である、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１６】
前記第１、第２、第３、及び第４の電極間に選択的に電場を発生させるために、該電極と前記パルスシステムとの間に結合された複数のスイッチを有するスイッチ回路を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１７】
前記第１及び第２の電極は、脳の皮質領域又は脳深部領域内に貫入するための、前記支持部材の遠位表面から突出した埋込み可能ピンを含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１８】
前記支持部材に支持され、前記第１及び第２電極に結合された機械的バイアス要素を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１９】
前記バイアス要素は、圧縮性発泡体を含むことを特徴とする請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記バイアス要素は、バネを含むことを特徴とする請求項１８に記載の装置。
【請求項２１】
前記バイアス要素は、膨張可能な袋を含むことを特徴とする請求項１８に記載の装置。
【請求項２２】
前記ハウジングは、内部表面を有し、前記第１及び第２の電極は、該内部表面で露出するように該ハウジングにより支持され、
該内部表面の最大寸法は、４ｃｍを超えない、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項２３】
前記ハウジングは、内部表面を有し、前記第１及び第２の電極は、該内部表面で露出するように該ハウジングにより支持され、
該内部表面の最大寸法は、約１〜２ｃｍを超えない、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項２４】
前記ハウジングは、頭蓋から離れる方向に向くように構成された外側表面と、脳の方向に向くように構成された内部表面とを有し、
該内部表面の最大寸法は、約１〜２ｃｍを超えず、該外側表面と該内部表面との間の前記ハウジングの深さは、約１〜２ｃｍである、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項２５】
患者の脳の領域に電気刺激を加えるための装置であって、
患者の頭蓋に近接して患者の中に埋め込まれるように構成され、頭蓋に固定するための取付け要素を含む埋込み可能支持部材と、
該支持部材に支持されたパルスシステムと、
該パルスシステムに結合された、該支持部材の第１の領域の第１の電極と、
該パルスシステムに結合され、該第１の電極から間隔を置いて配置された、該支持部材の第２の領域の第２の電極と、
を含むことを特徴とする装置。
【請求項２６】
前記支持部材は、頭蓋内に少なくとも部分的に埋め込まれるように構成された、空洞を有するハウジングを含み、
前記パルスシステムは、該ハウジングの該空洞内に電源及びパルス発生装置を含む、
ことを特徴とする請求項２５に記載の装置。
【請求項２７】
前記支持部材は、頭蓋内に少なくとも部分的に埋め込まれるように構成された、空洞を有するハウジングを含み、
前記パルスシステムは、該ハウジングの該空洞内にパルス発生装置を含む、
ことを特徴とする請求項２５に記載の装置。
【請求項２８】
前記支持部材は、頭蓋内に少なくとも部分的に埋め込まれるように構成された、空洞を有するハウジングを含み、
前記パルスシステムは、該ハウジングの該空洞内に、外部パルス発生装置が発生した放送エネルギのパルスを受信するための受信装置と、該放送エネルギを前記支持部材内で電気パルスに変換するためのパルス形成装置とを有するパルス供給システムを含む、
ことを特徴とする請求項２５に記載の装置。
【請求項２９】
前記支持部材は、頭蓋内に少なくとも部分的に埋め込まれるように構成された、空洞を有するハウジングを含み、
前記パルスシステムは、該ハウジングの該空洞内に、外部パルス発生装置が発生した磁気エネルギのパルスを受信するための磁気ピックアップコイルを有するパルス供給システムを含み、
前記第１及び第２の電極は、前記ハウジング内で前記パルスシステムと電気的に結合される、
ことを特徴とする請求項２５に記載の装置。
【請求項３０】
前記支持部材は、頭蓋内に少なくとも部分的に埋め込まれるように構成された、空洞を有するハウジングを含み、
前記パルスシステムは、該ハウジングの該空洞内に、ＲＦエネルギを受信することができるアンテナと該アンテナに結合されたパルス形成装置とを有するパルス供給システムを含み、
前記第１及び第２の電極は、前記ハウジング内で前記パルスシステムと電気的に結合される、
ことを特徴とする請求項２５に記載の装置。
【請求項３１】
前記支持部材に支持され、前記第１及び第２電極に結合された機械的バイアス要素を更に含むことを特徴とする請求項２５に記載の装置。
【請求項３２】
患者の脳の領域に電気刺激を加えるための装置であって、
患者の頭蓋に近接して患者の中に埋め込まれるように構成された埋込み可能支持部材と、
前記支持部材に支持されたパルスシステムと、
該支持部材内で該パルスシステムと直接に結合された、該支持部材の第１の領域の第１の電極と、
該支持部材内で該パルスシステムと直接に結合され、該第１の電極から間隔を置いて配置された、該支持部材の第２の領域の第２の電極と、
を含むことを特徴とする装置。
【請求項３３】
前記支持部材は、頭蓋内に少なくとも部分的に埋め込まれるように構成された、空洞を有するハウジングを含み、
前記パルスシステムは、該ハウジングの該空洞内に電源及びパルス発生装置を含む、
ことを特徴とする請求項３２に記載の装置。
【請求項３４】
前記支持部材は、頭蓋内に少なくとも部分的に埋め込まれるように構成された、空洞を有するハウジングを含み、
前記パルスシステムは、該ハウジングの該空洞内にパルス発生装置を含む、
ことを特徴とする請求項３２に記載の装置。
【請求項３５】
前記支持部材は、頭蓋内に少なくとも部分的に埋め込まれるように構成された、空洞を有するハウジングを含み、
前記パルスシステムは、該ハウジングの該空洞内に、外部パルス発生装置が発生した放送エネルギのパルスを受信するための受信装置と、該放送エネルギを前記支持部材内で電気パルスに変換するためのパルス形成装置とを有するパルス供給システムを含む、
ことを特徴とする請求項３２に記載の装置。
【請求項３６】
前記支持部材は、頭蓋内に少なくとも部分的に埋め込まれるように構成された、空洞を有するハウジングを含み、
前記パルスシステムは、該ハウジングの該空洞内に、外部パルス発生装置が発生した磁気エネルギのパルスを受信するための磁気ピックアップコイルを有するパルス供給システムを含み、
前記第１及び第２の電極は、前記ハウジング内で前記パルスシステムと電気的に結合される、
ことを特徴とする請求項３２に記載の装置。
【請求項３７】
前記支持部材は、頭蓋内に少なくとも部分的に埋め込まれるように構成された、空洞を有するハウジングを含み、
前記パルスシステムは、該ハウジングの該空洞内に、ＲＦエネルギを受信することができるアンテナと該アンテナに結合されたパルス形成装置とを有するパルス供給システムを含み、
前記第１及び第２の電極は、前記ハウジング内で前記パルスシステムと電気的に結合される、
ことを特徴とする請求項３２に記載の装置。
【請求項３８】
前記支持部材に支持され、前記第１及び第２電極に結合された機械的バイアス要素を更に含むことを特徴とする請求項３２に記載の装置。
【請求項３９】
患者の脳の皮質領域に電気刺激を加えるための装置であって、
患者の頭蓋に近接して患者の中に埋め込まれるように構成された埋込み可能支持部材と、
該支持部材に支持された、弾性的に変形可能な機械的バイアス要素と、
第１の電極及び第２の電極と、
を含み、
該バイアス要素が、該第１及び第２の電極を患者の脳に押し付けるように構成された、
ことを特徴とする装置。
【請求項４０】
前記バイアス要素は、圧縮性発泡体を含むことを特徴とする請求項３９に記載の装置。
【請求項４１】
前記バイアス要素は、バネを含むことを特徴とする請求項３９に記載の装置。
【請求項４２】
前記バイアス要素は、膨張可能な袋を含むことを特徴とする請求項３９に記載の装置。
【請求項４３】
前記支持部材により支持されたパルスシステムを更に含むことを特徴とする請求項３９に記載の装置。
【請求項４４】
前記支持部材は、頭蓋内に少なくとも部分的に埋め込まれるように構成された、空洞を有するハウジングを含み、
前記パルスシステムは、該ハウジングの該空洞内に電源及びパルス発生装置を含む、
ことを特徴とする請求項４３に記載の装置。
【請求項４５】
前記支持部材は、頭蓋内に少なくとも部分的に埋め込まれるように構成された、空洞を有するハウジングを含み、
前記パルスシステムは、該ハウジングの該空洞内にパルス発生装置を含む、
ことを特徴とする請求項４３に記載の装置。
【請求項４６】
前記支持部材は、頭蓋内に少なくとも部分的に埋め込まれるように構成された、空洞を有するハウジングを含み、
前記パルスシステムは、該ハウジングの該空洞内に、外部パルス発生装置が発生した放送エネルギのパルスを受信するための受信装置と、該放送エネルギを前記支持部材内で電気パルスに変換するためのパルス形成装置とを有するパルス供給システムを含む、
ことを特徴とする請求項４３に記載の装置。
【請求項４７】
前記支持部材は、頭蓋内に少なくとも部分的に埋め込まれるように構成された、空洞を有するハウジングを含み、
前記パルスシステムは、該ハウジングの該空洞内に、外部パルス発生装置が発生した磁気エネルギのパルスを受信するための磁心の周りに巻きつけた磁気ピックアップコイルを有するパルス供給システムを含み、
前記第１及び第２の電極は、前記ハウジング内で前記パルスシステムと電気的に結合される、
ことを特徴とする請求項４３に記載の装置。
【請求項４８】
前記支持部材は、頭蓋内に少なくとも部分的に埋め込まれるように構成された、空洞を有するハウジングを含み、
前記パルスシステムは、該ハウジングの該空洞内に、ＲＦエネルギを受信することができるアンテナと該アンテナに結合されたパルス形成装置とを有するパルス供給システムを含み、
前記第１及び第２の電極は、前記ハウジング内で前記パルスシステムと電気的に結合される、
ことを特徴とする請求項４３に記載の装置。
【請求項４９】
電源と、パルス発生装置と、パルス送信器とを有する外部コントローラを更に含み、
該外部コントローラは、ケーブルにより前記電極と電気的に結合された、
ことを特徴とする請求項３９に記載の装置。
【請求項５０】
電源と、パルス発生装置と、パルス送信器とを有し、放送エネルギのパルスを発生する外部コントローラと、
該外部コントローラとは別に前記支持部材により支持され、該外部コントローラからの該放送エネルギを対応する電気パルスに変換することができるパルスシステムと、
を更に含み、
前記電極が、該パルスシステムに結合された、
ことを特徴とする請求項３９に記載の装置。
【請求項５１】
患者の脳の皮質領域に電気刺激を加えるための装置であって、
患者の頭蓋に近接して患者の中に埋め込まれるように構成された埋込み可能支持部材と、
該支持部材内のパルスシステムと、
該支持部材に支持されたバイアス要素と、
該バイアス要素に取り付けられ、該パルスシステムと電気的に結合された電極と、
を含むことを特徴とする装置。
【請求項５２】
前記支持部材、前記パルスシステム、前記バイアス要素、及び前記電極の合計重量は、３５ｇを超えないことを特徴とする請求項５１に記載の装置。
【請求項５３】
前記支持部材及び前記パルスシステムが占める容積は、２０立方センチメートルを超えないことを特徴とする請求項５１に記載の装置。
【請求項５４】
患者の脳の第１の位置に関連する患者の神経機能をもたらすための装置であって、
脳の第１の位置から離れて意図した神経活動を発生させることに応答して意図した神経活動が存在する脳の領域を判断することにより、刺激部位を識別することができる診断システムと、
該刺激部位に埋め込まれるように構成された電極と、該電極に電位をもたらすパルス発生装置とを含む刺激システムと、
を含むことを特徴とする装置。
【請求項５５】
前記診断システムは、神経活動を判断することができる画像化装置を含むことを特徴とする請求項５４に記載の装置。
【請求項５６】
前記診断システムは、機能「ＭＲＩ」装置を含むことを特徴とする請求項５４に記載の装置。
【請求項５７】
前記刺激システムは、前記パルス発生装置が前記電極と直接に結合された一体化ユニットを含み、
該一体化ユニットは、患者の頭蓋に隣接して、及び／又は、患者の頭蓋内に埋め込まれるように構成される、
ことを特徴とする請求項５４に記載の装置。
【請求項５８】
前記刺激システムは、可撓性の基板、該基板の一区域上の第１の電極、及び該基板の別の区域上の第２の電極を有し、
該可撓性の基板は、頭蓋の小さな穴を通して該電極を挿入するための挿入構成と、該第１及び第２の電極を少なくとも患者の皮質に近接して位置決めするための、該挿入構成よりも大きい配置構成との間を移動する、
ことを特徴とする請求項５４に記載の装置。
【請求項５９】
前記診断システムは、神経機能に関連する電気生理学的信号を発生させるための閾値を感知することができるセンサを含み、
前記パルス発生装置は、該センサにより判断された閾値よりも低い電位を前記電極に印加するように構成される、
ことを特徴とする請求項５４に記載の装置。
【請求項６０】
患者の脳の第１の皮質位置での神経機能の喪失を治療するための装置であって、
脳の第１の皮質位置での神経機能の喪失を補償するために神経活動が起こると予想される脳の皮質領域で刺激部位を選択することができる診断システムと、
第１の電極及び第２の電極を有し、該第１の電極が該刺激部位の第１の区域にあり、該第２の電極が該刺激部位の第２の区域にあるように、皮質領域の軟膜に近接して患者に埋め込まれるように構成された刺激システムと、
を含むことを特徴とする装置。
【請求項６１】
前記診断システムは、神経活動を判断することができる画像化装置を含むことを特徴とする請求項６０に記載の装置。
【請求項６２】
前記診断システムは、機能「ＭＲＩ」装置を含むことを特徴とする請求項６０に記載の装置。
【請求項６３】
前記刺激システムは、前記パルス発生装置が前記第１及び第２の電極と直接に結合された一体化ユニットを含み、
該一体化ユニットは、患者の頭蓋に隣接して、及び／又は、患者の頭蓋内に埋め込まれるように構成される、
ことを特徴とする請求項６０に記載の装置。
【請求項６４】
前記刺激システムは、可撓性の基板を有し、前記第１及び第２の電極は、該基板により支持され、
該可撓性の基板は、頭蓋の小さな穴を通して該電極を挿入するための挿入構成と、該第１及び第２の電極を患者の皮質に近接して位置決めするための、該挿入構成よりも大きい配置構成との間を移動する、
ことを特徴とする請求項６０に記載の装置。
【請求項６５】
前記診断システムは、神経機能に関連する電気生理学的信号を発生させるための閾値を感知することができるセンサを含み、
前記パルス発生装置は、該センサにより判断された閾値よりも低い電位を前記第１及び第２の電極に印加するように構成される、
ことを特徴とする請求項６０に記載の装置。
【請求項６６】
患者の脳の神経機能を治療するための装置であって、
患者の脳の皮質領域における刺激部位の細胞に反応を引き起こすための電気刺激閾値を判断する診断システムと、
第１の電極と、第２の電極と、該第１及び第２の電極に結合されたコントローラとを有し、該第１及び第２の電極が、患者の脳の軟膜に近接して埋め込まれるように構成され、該コントローラが、該第１及び第２の電極の間に前記刺激閾値よりも低い強度で電気刺激を印加するように構成された刺激システムと、
を含むことを特徴とする装置。
【請求項６７】
前記刺激システムは、前記パルス発生装置が前記第１及び第２の電極と直接に結合された一体化ユニットを含み、
該一体化ユニットは、患者の頭蓋に隣接して、及び／又は、患者の頭蓋内に埋め込まれるように構成される、
ことを特徴とする請求項６６に記載の装置。
【請求項６８】
前記刺激システムは、可撓性の基板を有し、前記第１及び第２の電極は、該基板により支持され、
該可撓性の基板は、頭蓋の小さな穴を通して該第１及び第２の電極を挿入するための挿入構成と、該第１及び第２の電極を患者の皮質と係合させるための、該挿入構成よりも大きい配置構成との間を移動する、
ことを特徴とする請求項６６に記載の装置。