【手続補正書】
【提出日】平成16年10月26日(2004.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
像平面上のオブジェクト平面に位置したパターンを投影するためのカタディオプトリック投影レンズであって、オブジェクト平面と像平面との間で、次に述べるものが、所定の順に配列されているカタディオプトリック投影レンズ：
光線を作成するための第１オブジェクト部；
第１オブジェクト部で作成された光線が物理的なビームスプリッタに向けられている、ビームスプリッタ表面を備えた物理的なビームスプリッタ；
屈折力と凹面鏡を有し、ビームスプリッタから直接光を受光してビームスプリッタに直接光を戻す鏡群；
像平面上のパターンの像を作成するための正の屈折力を備えた第２オブジェクト部、ここで鏡群の屈折力は、鏡群に入射する分岐する光束が、集中する光束に変形されるように計算され、かつ、システム開口は凹面鏡の後ろの像様に位置し、ビームスプリッタ表面と像平面との間に位置しており、
ビームスプリッタ表面と凹面鏡の間に置かれている独立のレンズがない。
【請求項２】
システム開口が、ビームスプリッタの後部出口表面に近接しているか、あるいはその表面上にあることを特徴とする、請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項３】
鏡群の屈折力が、鏡群に入射する光束の周辺光線角度の絶対値と、鏡群から出射する周辺光線角度との絶対値との和が、０よりはるかに大きくなるように計算されることを特徴とする、請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項４】
第１オブジェクト部は、ビームスプリッタに向けられた分岐光束の作成のために設計さていることを特徴とする、請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項５】
第１オブジェクト部は、出射する分岐光束が、投影レンズの像側開口数の２０％以上の最小の周辺光線角度を持つように設計されることを特徴とする、請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項６】
ビームスプリッタの前の第１オブジェクト部が、光線軌道にウエストセクションを作成するために適合された負の屈折力を持つことを特徴とする、請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項７】
鏡群の像側で出射する光束が、像側開口数の１０％以上の周辺光線角度を持つことを特徴とする、請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項８】
鏡群に到達する光線の周辺光線角度の絶対値は、鏡群から放射された光線の周辺光線角度の絶対値より大きいことを特徴とする、請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項９】
凹面鏡は正の倍率を持っていることを特徴とする、請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項１０】
第１オブジェクト部は、偏差鏡、オブジェクト平面と偏差鏡の間の第１レンズ群、偏差鏡とビームスプリッタとの間の第２レンズ群を含んでいることを特徴とする、請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項１１】
第２オブジェクト部は逆焦点対物の方法で組み立てられ、ビームスプリッタと全体として正の屈折力を持つ後部レンズとの間に、負の屈折力を持つ、少なくとも１つのレンズを持つことを特徴とする、請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項１２】
ビームスプリッタ表面は、支持体として役立つビームスプリッタの中に配列され、およびシステム開口はビームスプリッタの外側に位置することを特徴とする請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項１３】
ビームスプリッタ表面は、立方体以外の光学的最小の形を有するビームスプリッタブロックの中に位置し、最大の放射した材料容積が、ビームスプリッタブロックの外側の容積の７０％以上であることを特徴とする、請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項１４】
ビームスプリッタ表面は偏光ビームスプリッタ表面であり、かつ４分の１波長板はビームスプリッタ表面と凹面鏡との間に位置することを特徴とする、請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項１５】
すべての透明な光学的構成要素は、同じ材料により作られていることを特徴とする、請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項１６】
第２オブジェクト部は、色収差を補正するための異なる分散性の第１レンズ材料と第２レンズ材料を備えた補正手段を含まないことを特徴とする、請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項１７】
像側開口数はおよそ０．７以上であることを特徴とする、請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項１８】
投影レンズは、パターンが中間の像の作成なしで像平面に投影されるように構成されることを特徴とする、請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項１９】
全表面のための屈折または反射する表面の最大の光線角度の正弦は、最大３つの最も像様の表面を除いて、像側開口数の８０％または７０％未満であることを特徴とする、請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項２０】
少なくとも１つのアスフェリカル表面を持つ少なくとも１つの光学的構成要素を含む、請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項２１】
少なくとも１つのアスフェリカル表面がシステム開口の領域内に位置し、かつ少なくとも１つのアスフェリカル表面がオブジェクト平面および像平面の少なくとも１つの領域内に位置することを特徴とする、請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項２２】
次のステップを有する、半導体デバイスおよび他のマイクロデバイスを製造する方法：
所定のパターンを備えたマスクを準備するステップ；
所定の波長の紫外線を備えたマスクの照明をするステップ；
カタディオプトリック投影レンズの補助を受けて、投影レンズの像平面の領域に位置する感光性の基板上でパターンの像を投影するステップ；
ここでカタディオプトリック投影レンズが、オブジェクト平面と像平面との間で、次のものを所定の順に含み、半導体デバイスおよび他のマイクロデバイスを製造する方法。
光線を作成する、第１オブジェクト部；
光線が向けられている、ビームスプリッタ表面を備えた物理的なビームスプリッタ；
屈折力と凹面鏡を有し、ビームスプリッタから直接光を受光してビームスプリッタに直接光を戻す鏡群；
像平面上のパターンの像を作成し、正の屈折力を備えた第２オブジェクト部、ここで鏡群の屈折力は、鏡群に入射する分岐する光束が、集中する光束に変形されるように計算され、かつ、システム開口は凹面鏡の後ろの像様に位置し、ビームスプリッタ表面と像平面との間で位置しており；
ビームスプリッタ表面と凹面鏡の間に置かれている独立のレンズがない。
【請求項２３】
像平面上のオブジェクト平面に位置したパターンを投影するためのカタディオプトリック投影レンズであって、オブジェクト平面と像平面との間で、次のものが所定の順に配列されているカタディオプトリック投影レンズ：
光線を作成するための第１オブジェクト部；
第１オブジェクト部で作成された光線が物理的なビームスプリッタに向けられている、ビームスプリッタ表面を備えた物理的なビームスプリッタ；
鏡群の屈折力と凹面鏡を有する鏡群；
像平面上のパターンの像を作成し、正の屈折力を備えた第２オブジェクト部、
ここで鏡群の屈折力は、鏡群に入射する分岐する光束が、集中する光束に変形されるように計算され、
システム開口は凹面鏡の後ろの像様に位置し、
ビームスプリッタ表面は、立方体以外の光学的最小の形を有するビームスプリッタブロックの中に位置し、
最大の放射した材料容積が、ビームスプリッタブロックの外側の容積の７０％以上である。
【請求項２４】
ビームスプリッタ表面は、支持体として役立つビームスプリッタの中に配列され、およびシステム開口はビームスプリッタの外側に位置することを特徴とする、請求項２３に記載の投影レンズ。
【請求項２５】
ビームスプリッタ表面は偏光ビームスプリッタ表面であり、かつ４分の１波長板はビームスプリッタ表面と凹面鏡との間に位置することを特徴とする、請求項２３に記載の投影レンズ。
【請求項２６】
像平面上のオブジェクト平面に位置したパターンを投影するためのカタディオプトリック投影レンズであって、オブジェクト平面と像平面との間で、次に述べるものが所定の順に配列されているカタディオプトリック投影レンズ。：
光線を作成する、第１オブジェクト部；
第１オブジェクト部で作成された光線が物理的なビームスプリッタに向けられている、ビームスプリッタ表面を備えた物理的なビームスプリッタ；
鏡群の屈折力と凹面鏡を有する鏡群；
像平面上のパターンの像を作成し、正の屈折力を備えた第２オブジェクト部、
ここで鏡群の屈折力は、鏡群に入射する分岐する光束が、集中する光束に変形されるように計算され、
システム開口は凹面鏡の後ろの像様に位置し、ビームスプリッタ表面と像平面との間で位置しており；
投影レンズの像側開口数はおよそ０．７以上である。
【請求項２７】
ビームスプリッタ表面は偏光ビームスプリッタ表面であり、かつ４分の１波長板はビームスプリッタ表面と凹面鏡との間に位置することを特徴とする、請求項２６に記載の投影レンズ。
【請求項２８】
投影レンズは、パターンが中間の像の作成なしで像平面に投影されるように構成されることを特徴とする、請求項２６に記載の投影レンズ。