【手続補正書】
【提出日】平成17年10月17日(2005.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  リソグラフィシステムであって、
リソグラフィのパターニングチャンバと、
該リソグラフィのパターニングチャンバに結合されたウェハ交換チャンバと、
第１のゲートバルブによって該ウェハ交換チャンバから分離された少なくとも１つのアライメントロードロックであって、ウェハの位置を合わせるアライメントステージを含む少なくとも１つのアライメントロードロックと
を含むリソグラフィシステム。
【請求項２】  前記ウェハ交換チャンバは、第２のゲートバルブによって前記リソグラフィのパターニングチャンバから分離されている、請求項１に記載のリソグラフィシステム。
【請求項３】  前記アライメントステージは、ポンプダウンステージの間に前記ウェハの位置を合わせる、請求項１に記載のリソグラフィシステム。
【請求項４】  前記少なくとも１つのアライメントロードロックは、第３のゲートバルブによってトラックから分離された双方向アライメントロードロックである、請求項１に記載のリソグラフィシステム。
【請求項５】  前記少なくとも１つのアライメントロードロックは、第３のゲートバルブによってトラックから分離された単方向アライメントロードロックである、請求項１に記載のリソグラフィシステム。
【請求項６】  前記少なくとも１つのアライメントロードロックは、複数のアライメントロードロックを含む、請求項３に記載のリソグラフィシステム。
【請求項７】  前記少なくとも１つのアライメントロードロックは、第１の壁と、該第１の壁から直径方向の反対側にある第２の壁とを含み、該第１の壁は、柱が移動することを可能にし、かつ、回転シールの必要性をなくすモーションフィードスルーシールを含む開口部を有する、請求項１に記載のリソグラフィシステム。
【請求項８】  前記第２の壁は、柱が移動することを可能にし、かつ、前記リソグラフィシステムの安定度を高めることを可能にする、モーションフィードスルーシールを含む開口部を有する、請求項７に記載のリソグラフィシステム。
【請求項９】  前記複数のアライメントロードロックは、単方向アライメントロードロックを含む、請求項６に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１０】  第３のゲートバルブによって前記ウェハ交換チャンバから分離されたロードロックを保持する予備チャックをさらに含む、請求項１に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１１】  検査波長を有する光を発する照射源、および該検査波長に反応するカメラをさらに含む、請求項１に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１２】  前記少なくとも１つのアライメントロードロックは、前記検査波長を透過するロードロックのルーフをさらに含む、請求項９に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１３】  前記少なくとも１つのアライメントロードロックは、該少なくとも１つのアライメントロードロック内にウェハを保持するためのウェハ支持体をさらに含む、請求項１に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１４】  前記少なくとも１つのアライメントロードロックは、該少なくとも１つのアライメントロードロックのフロアを通って延びた柱によって、該少なくとも１つのアライメントロードロック外に設けられたアライメントサブステージから分離されたアライメントステージをさらに含む、請求項１に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１５】  前記アライメントステージは、チャックをキネマティックにマウントする複数のステージ係合機構を含む、請求項１４に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１６】  前記ステージ係合機構はＶ型ブロックを含む、請求項１５に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１７】  前記少なくとも１つのアライメントロードロックの前記フロアは、該少なくとも１つのアライメントロードロック内への気体の流入を防止しつつ、前記柱が該フロアに対して相対的に移動することを可能にするモーションフィードスルーシールを含む、請求項１４に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１８】  前記モーションフィードスルーシールは、ベローズ、エラストマーシール、テフロン（Ｒ）シール、強磁性流体シールおよび磁気結合を含む群から選択されたエレメントを含む、請求項１７に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１９】  少なくとも１つのチャックをさらに含む、請求項１に記載のリソグラフィシステム。
【請求項２０】  前記少なくとも１つのチャックは静電チャックである、請求項１９に記載のリソグラフィシステム。
【請求項２１】  前記少なくとも１つのチャックは真空チャックである、請求項１９に記載のリソグラフィシステム。
【請求項２２】  前記少なくとも１つのチャックは複数のチャックを含む、請求項１９に記載のリソグラフィシステム。
【請求項２３】  前記少なくとも１つのチャックは、複数のウェハ支持体に接触することなく、該複数のウェハ支持体によって保持されたウェハと接触可能なように複数の切り取り部を含む、請求項１９に記載のリソグラフィシステム。
【請求項２４】  前記少なくとも１つのチャックは、下面上に該少なくとも１つのチャックをキネマティックにマウントするための複数のチャック係合機構を含む、請求項１９に記載のリソグラフィシステム。
【請求項２５】  前記チャック係合機構は半球である、請求項２４に記載のリソグラフィシステム。
【請求項２６】  前記リソグラフィのパターニングチャンバは、リソグラフィのパターニングの間、ウェハを有するチャックを保持する少なくとも１つの露光ステージを含む、請求項１に記載のリソグラフィシステム。
【請求項２７】  前記少なくとも１つの露光ステージは複数の露光ステージを含む、請求項２６に記載のリソグラフィシステム。
【請求項２８】  リソグラフィシステム内でウェハを処理する方法であって、
（ａ）アライメントロードロック内の支持体上に該ウェハを配置する工程と、
（ｂ）該アライメントロードロック内で、該支持体上に該ウェハを支持した状態で、チャックに対して該ウェハの位置を合わせる工程と、
（ｃ）該ウェハを該チャックに固定する工程と、
（ｄ）ポンプダウンを実行して、該アライメントロードロック内に真空を生成する工程と
を包含する、方法。
【請求項２９】  前記工程（ｄ）は、前記工程（ｂ）および（ｃ）のうちの少なくとも一方の工程と同時に実行される、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】  前記工程（ｄ）は、前記工程（ｂ）および（ｃ）と同時に実行される、請求項２８に記載の方法。
【請求項３１】  （ｅ）リソグラフィのパターニングチャンバに前記チャックおよびウェハを搬送する工程と、
（ｆ）該ウェハ上にリソグラフィのパターニングを実行する工程と、
（ｇ）該ウェハおよびチャックを前記アライメントロードロックに戻す工程と、
（ｈ）該ウェハから該チャックを取り外す工程と、
（ｉ）該アライメントロードロックを換気する工程と
をさらに包含する、請求項２９に記載の方法。
【請求項３２】  前記工程（ｈ）および（ｉ）は同時に実行される、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】  アライメントロードロック内でウェハの位置を合わせる方法であって、
（ａ）該アライメントロードロック内の支持体上に該ウェハを配置する工程と、
（ｂ）該アライメントロードロック内の該支持体上の該ウェハの位置および方向を監視する工程と、
（ｃ）チャックを移動して、該チャックに対して該ウェハの位置を合わせる工程と、
（ｄ）該チャックを該ウェハと接触するように配置する工程と、
（ｅ）該ウェハを該チャックに固定する工程と
を包含する、方法。
【請求項３４】  前記工程（ｂ）は、前記アライメントロードロック内の前記支持体上の前記ウェハの位置および方向を該アライメントロードロック外に設けられたカメラによって監視する工程をさらに包含する、請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】  前記工程（ｄ）は、前記チャックが前記ウェハを押し上げて該ウェハが前記支持体から離れるまで、該チャックを上方に移動する工程をさらに包含する、請求項３３に記載の方法。
【請求項３６】  前記チャックは静電チャックであり、前記工程（ｅ）は、該静電チャックを充電する工程をさらに包含する、請求項３３に記載の方法。
【請求項３７】  リソグラフィシステムであって、
リソグラフィのパターニングチャンバと、
該リソグラフィのパターニングチャンバに隣接したウェハ交換チャンバと、
該ウェハ交換チャンバに隣接した少なくとも１つのアライメントチャッキングステーションと、
複数のチャックと
を含み、
ウェハは、該複数のチャックのそれぞれに固定された状態で、該リソグラフィのパターニングチャンバに向かって移動され、かつ、該リソグラフィのパターニングチャンバから移動される、リソグラフィシステム。