【手続補正書】
【提出日】平成16年12月10日(2004.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  １以上のレチクルを制御し、該１以上のレチクル上に形成される少なくとも２つのパターンを同時にスキャンすることを可能にする動きの範囲を有するスキャニングステージと、
該１以上のレチクルに関連して位置付けられ、該少なくとも２つのパターンに対応するイメージを同時に投影する投影光学系と、
該投影光学系に関連して位置付けられ、該投影光学系から同時に投影される該少なくとも２つのパターンに対応する該イメージを受け取る基板ステージと
を備えたリソグラフィックシステムであって、
該スキャニングステージは、該少なくとも２つのパターンのそれぞれの少なくとも一部に対応する該イメージを位置付けることにより、該基板ステージの該イメージ領域での露光の前に該イメージの投影を組み合わせることが必要とされないように該基板ステージ上のイメージ領域に該イメージのそれぞれを同時に投影する、リソグラフィックシステム。
【請求項２】  前記少なくとも２つのパターンに対応する前記イメージは、前記１以上のレチクルのうちの１つの異なった位置からのイメージである、請求項１に記載のリソグラフィックシステム。
【請求項３】  前記基板ステージ上にあるキャリブレーション検出器であって、前記スキャニングステージから前記少なくとも２つのパターンに対応する前記イメージを受け取るキャリブレーション検出器をさらに備え、リアルタイムシステムキャリブレーションが得られる、請求項１に記載のリソグラフィックシステム。
【請求項４】  前記基板ステージは、少なくとも１つのレジスト被膜ウェハを含む、請求項１に記載のリソグラフィックシステム。
【請求項５】  前記１以上のレチクル上に形成される前記少なくとも２つのパターンに対応する前記イメージの少なくとも１つは、集積回路パターンのイメージを含む、請求項１に記載のリソグラフィックシステム。
【請求項６】  前記１以上のレチクル上に形成される前記少なくとも２つのパターンのうちの１つは、位相シフトパターンを含む、請求項１に記載のリソグラフィックシステム。
【請求項７】  前記スキャニングステージは、前記少なくとも２つのパターンに対応する前記イメージを独立に条件付けする１以上のピューピルフィルタを含む、請求項１に記載のリソグラフィックシステム。
【請求項８】  少なくとも１つのレチクル上に形成される少なくとも２つのパターンからのイメージを利用して、基板ステージ上の領域を露光する方法であって、
該方法は、
ａ）該少なくとも１つのレチクルを含むスキャニングステージを位置付けることと、
ｂ）基板ステージ上にイメージ領域を位置付けることであって、該イメージ領域は、該スキャニングステージと該基板ステージとに関連して位置付けられる投影光学系によって生じる、ことと、
ｃ）該スキャニングステージから同時に該少なくとも２つのパターンに対応するイメージをスキャンすることにより、該基板ステージの該イメージ領域での露光の前に該イメージの投影を組み合わせることが必要とされないように該基板ステージ上の該イメージ領域での該イメージのそれぞれを同時に投影することと
を包含する方法。
【請求項９】  ｄ）前記イメージ領域の前記１以上のイメージを前記基板ステージ上に重ね合わせることをさらに包含する、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  ｅ）前記基板ステージ上に位置付けられるレジスト被膜ウェハに露光することをさらに包含する、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】  スキャニングステップｃ）を提供することは、前記少なくとも２つのパターンに対応する前記イメージを独立に条件付けするステップをさらに包含する、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】  前記少なくとも２つのパターンのうちの少なくも２つを提供することは、同じパターンである、請求項８に記載の方法。
【請求項１３】  前記少なくとも２つのパターンのうちの少なくとも１つを提供することは、集積回路パターンを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１４】  前記少なくとも２つのパターンのうちの１つを提供することは、位相シフトパターンである、請求項８に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
ある実施形態によれば、図１Ａに示すように、リソグラフィックシステム１００は、スキャニングステージ１０３を含む。スキャニングステージ１０３は、レチクル１０４ａおよびレチクル１０４ｂを各々調整して、制御する。さらに、スキャニングステージ１０３は、動作範囲１１６で、一対のレチクルを同時にスキャニング可能である。システム１００は、レチクル１０４ａおよびレチクル１０４ｂの少なくとも部分的な一対のイメージ１３６ａおよびイメージ１３６ｂを同時に投影するように配置される投影光学系１１２をまた含む。システム１００は、射出ピューピル１３４で投影光学系１１２から投影された少なくとも２つのイメージ１３６ａとイメージ１３６ｂを受け取るように位置調整される基板ステージ１１４をまた含む。ある実施形態では、スキャニングステージは、基板ステージ上の領域に露光するためにその一対のレチクルの各々の少なくとも部分的な２つのイメージを位置付け可能である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
ある実施形態では、ビーム１２４ａおよびビーム１２４ｂのイメージの微細な位置調整および位置付けは、システムの端部の基板ステージ１１４上で、自動キャリブレーション領域検出器１４０を利用して達成される。そのような実施形態では、イメージの位置調整は、レチクル１０４ａおよびレチクル１０４ｂ上で、位置調整マークを利用してモニタされる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
図３で示すように、本発明のある実施形態における投影光学系の射出ピューピルのブロック図が示される。２つのレチクル間のパターンマッチングの目的上、一対のレチクル上の照射位置間のオフセットによって、射出ピューピルのイメージの位置変位が可能となる。レチクル１０４ａおよびレチクル１０４ｂは、図３の「ＡＢＣＤＥＦＧＨＩＪＫ」のようなパターンを有する。このパターンは、例示目的である。これらのパターンは、射出ピューピル１３４で目視可能となり、基板ステージ１１４にパターンの重ね合わせを指し示す。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
すでに述べたように、キャリブレーション検出器１４０は、基板ステージ１１４で利用され、スキャニングステージ１０３からイメージを受け取る。キャリブレーション検出器１４０によって、リアルタイムシステムは、スキャニングステージ１０３と基板ステージ１１４との間のキャリブレーションを可能とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
図４は、本発明のある実施形態における露光方法のフロー図である。一対のレチクル１０４ａおよび１０４ｂからのイメージを利用して基板ステージの領域に露光する手順は、ステップ４０２で始まり、すぐにステップ４０６に進む。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
任意のステップ４１２では、本発明のある実施形態において、システム１００は、領域のイメージを基板ステージ上に重ね合わせ得る。手順４００は、ステップ４１４に進み、終了する。または、手順４００は、点線の矢印４１６によって描かれているようにステップ４１４からステップ４０２までを繰り返し得る。
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１Ａ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１Ａ】
2004519850.tif 000001
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2004519850.tif 000002