【手続補正書】
【提出日】平成16年6月11日(2004.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  特徴部を画定するための位相シフト領域を有する位相シフトマスクを製造するために、位相シフト領域をレイアウトする段階を含み、前記位相シフト領域は、対応する特徴部の解像度のために他の位相シフト領域の相補側とともに位相遷移を画定する側を有し、
前記位相シフトマスク内の１つ又はそれ以上の前記位相シフト領域に修正を加える段階を含み、前記修正は、１つ又はそれ以上の前記位相シフト領域を２つ又はそれ以上の位相シフト領域に分割し、且つ、対応する特徴部の解像度のために位相遷移を画定する前記位相シフト領域の側に接触しない不透明特徴部を含む、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】  パターン内の、特定の特徴部サイズ未満の寸法を有する特徴部を特定する段階を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記パターンの特徴部を特定するレイアウト・ファイルを読み取る段階と、前記レイアウト・ファイルを処理する段階とを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記形状の修正は、対応する特徴部の解像度のために位相遷移を画定する前記位相シフト領域の側と実質的に平行な線に沿った第１の位相を有する特定の位相シフト領域を、前記第１の位相を有する第１の位相シフト領域と前記第１の位相を有する第２の位相シフト領域とに分割する段階と、前記第１の位相シフト領域と前記第２の位相シフト領域とを分離する前記位相シフトマスクに不透明特徴部を追加する段階とを含み、
前記位相シフトマスク内の前記特定の位相シフト領域を使用して、露光される前記特徴部が露光されることを防止する不透明特徴部を含む、相補マスクをレイアウトする段階を含み、前記不透明特徴部は、前記第１の位相シフト領域と前記第２の位相シフト領域とを分離する、前記不透明特徴部を覆う切抜き部を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】  前記パターンは、臨界寸法に等しい特徴部サイズを有する１つ又はそれ以上の特徴部を含み、前記臨界寸法は、前記特定の特徴部サイズよりも小さいことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項６】  前記位相シフトマスクは、不透明領域を含み、前記位相シフト領域は、前記不透明領域内に第１の位相を有する複数の透明領域と、前記不透明領域内に前記第１の位相に対して約１８０度位相がずれた第２の位相を有する複数の相補的透明領域とを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】  前記位相シフトマスク内の１つ又はそれ以上の位相シフト領域の内側に、サブ解像度特徴部を追加する段階を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】  前記位相シフトマスク内の特定の位相シフト領域の内側に、サブ解像度特徴部を追加する段階を含み、前記特定の位相シフト領域は境界線を有し、前記サブ解像度特徴部は、前記境界線の内側にあり、前記境界線に接触しないことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】  前記位相シフトマスクへサブ解像度特徴部を追加する段階を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  前記パターンは、露光領域及び未露光領域を含み、前記特定特徴部サイズ未満の寸法を有する前記特徴部は、露光領域の間に未露光領域を含み、露光領域の間に前記未露光領域のエッジ解像度の支援を行うために、前記位相シフトマスク内に位相シフト領域をレイアウトする段階を含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項１１】  不透明領域と、前記特定の特徴部サイズを超える寸法を有する特徴部を画定する透明領域とを含む相補マスクをレイアウトする段階を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１２】  前記相補マスクは、バイナリマスクを含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  前記位相シフトマスクのレイアウト及び前記相補マスクのレイアウトを特定する、機械で読み取り可能なレイアウト・ファイルを作成する段階を含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】  前記位相シフトマスク及び前記相補マスクを作成造する段階を含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】  前記位相シフトマスク及び前記相補マスクを使用して、集積回路を製造する段階を含むことを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】  レイヤを画定するフォトリソグラフィ・マスクのためのパターンを処理する段階であって、前記パターンは、前記レイヤ内に露光領域及び未露光領域を画定するようになっている段階と、
第１の特徴部サイズ未満の寸法を有する前記パターン内の露光領域を特定する段階と、
第２の特徴部サイズ未満の寸法を有する前記パターン内の未露光領域を特定する段階と、
それぞれの形状を有する位相シフト領域を有する位相シフトマスクを作成するために、前記特定された露光領域に対してレイアウト・ルールを使用して、不透明領域内に、前記レイアウト・ルールを使用して結果的に位相競合部をもたらす領域を含む位相シフト領域をレイアウトする段階と、
前記位相競合部を補正するために、前記位相シフトマスク内の１つ又はそれ以上の位相シフト領域の前記形状に対して修正を加える段階と、
露光領域の間の前記未露光領域のエッジ解像度を支援するために、前記特定された未露光領域に対する位相シフト領域を前記位相シフトマスク内にレイアウトする段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１７】  前記露光領域を特定する段階は、前記パターン内の前記露光領域の寸法を特定するレイアウト・ファイルを読み取る段階と、前記レイアウト・ファイルを処理する段階とを含むことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】  前記形状の修正は、第１の位相を有する位相シフト領域を、前記第１の位相を有する第１の位相シフト領域と第２の位相を有する第２の位相シフト領域とに分割する段階と、前記第１の位相シフト領域と前記第２の位相シフト領域とを分離する前記マスクに不透明特徴部を追加する段階とを含み、
前記位相シフトマスク内の前記第１の位相シフト領域及び前記第２の位相シフト領域を使用して露光される前記特徴部が露光されることを防止する不透明特徴部を含む、相補マスクをレイアウトする段階を含み、前記不透明特徴部は、前記第１の位相シフト領域と前記第２の位相シフト領域との間の１つの除外されたコーナ部における位相遷移から生じる任意の特徴部を露光するために、前記第１の位相シフト領域と前記第２の位相シフト領域とを分離する、前記不透明特徴部を覆う切抜き部を含むことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】  前記パターンは、臨界寸法に等しい特徴部サイズを有する１つ又はそれ以上の露光領域を含み、前記臨界寸法は、前記第１の特徴部サイズよりも小さいことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】  前記位相シフトマスクは、不透明領域と、前記不透明領域内に第１の位相を有する複数の透明領域と、前記不透明領域内に前記第１の位相に対して約１８０度位相がずれた第２の位相を有する複数の相補的透明領域とを含むことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項２１】  前記位相シフトマスク内の１つ又はそれ以上の位相シフト領域の内側に、サブ解像度特徴部を追加する段階を含むことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項２２】  第１の位相を有する位相シフト領域を、前記第１の位相を有する第１の位相シフト領域及び第２の位相シフト領域に分割する段階と、前記第１の位相シフト領域と前記第２の位相シフト領域との間にサブ解像度特徴部を追加する段階とを含むことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項２３】  前記位相シフトマスク内の特定の位相シフト領域の内側にサブ解像度特徴部を追加する段階を含み、前記特定の位相シフト領域は境界線を有し、前記サブ解像度特徴部は、前記境界線の内側にあり、前記境界線に接触しないことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項２４】  前記位相シフトマスクへサブ解像度特徴部を追加する段階を含むことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項２５】  不透明領域と、前記特定の特徴部サイズよりも大きい寸法を有する特徴部を画定する透明領域とを含む相補マスクをレイアウトする段階を含むことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項２６】  前記相補マスクは、バイナリマスクを含むことを特徴とする請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】  前記第１の特徴部サイズ及び前記第２の特徴部サイズは等しいことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項２８】  前記第１の特徴部サイズ及び前記第２の特徴部サイズは等しくないことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項２９】  前記位相シフトマスクのレイアウト及び前記相補マスクのレイアウトを特定する、機械で読み取り可能なレイアウト・ファイルを作成する段階を含むことを特徴とする請求項２５に記載の方法。
【請求項３０】  前記位相シフトマスク及び前記相補マスクを作成する段階を含むことを特徴とする請求項２５に記載の方法。
【請求項３１】  前記位相シフトマスク及び前記相補マスクを使用して、集積回路を製造する段階を含むことを特徴とする請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】  複数のコーナ部を画定する奇数のライン区分の交差部から構成される、フォトリソグラフィ・マスクを使用して形成されるレイヤのためのパターンを特定する段階と、
位相シフトマスクを生成するために前記特定された特徴部のための位相シフト領域をレイアウトする段階であって、前記位相シフトマスクは、前記ライン区分に隣接し、１つ以外の複数のコーナ部の全ての前記コーナ部の周りに延びる位相シフト領域を有し、前記１つのコーナ部において、前記１つのコーナ部の一方側の前記ライン区分に隣接して延びる第１の位相を有する第１の位相シフト領域と、前記１つのコーナ部の他方側の前記ライン区分に隣接して延びる第２の位相を有する第２の位相シフト領域とを含むようになっている段階と、
前記位相シフトマスクを使用して、露光される前記交差ライン区分の露光を防止する不透明特徴部を有する相補マスクをレイアウトする段階であって、前記不透明特徴部は、前記第１の位相シフト領域と前記第２の位相シフト領域との間で、前記１つのコーナ部において、前記位相差から生じる任意の特徴部を露光するために、前記１つのコーナ部内に切抜き部を含むようになっている段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項３３】  フォトリソグラフィ・マスクを使用して形成されるレイヤのためのパターン内に特定の特徴部サイズ未満の寸法を有する特徴部を特定する段階と、
前記特徴部を特定する段階で使用するための位相シフト領域を有する位相シフトマスクを作成するために、位相シフト領域をレイアウトする段階と、
前記位相シフト領域内の異常な露光特徴部の区域を特定するために、前記位相シフトマスクの露光特性のシミュレーションを行う段階と、
前記異常な露光特徴部の区域内の前記位相シフトマスク内の１つ又はそれ以上の前記位相シフト領域内に、サブ解像度特徴部を追加する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項３４】  特定の特徴部サイズ未満の寸法を有する、フォトリソグラフィ・マスクを使用して形成されるレイヤのためのパターン内の特徴部を特定する段階を含み、
位相シフト領域を有する位相シフトマスクを作成するために、位相シフト領域をレイアウトする段階を含み、前記位相シフト領域が、特定された特徴部の解像度のために位相遷移を画定する第１の位相シフト領域及び第２の相補位相シフト領域を有し、
設計規則によって決定された区域内の前記位相シフトマスク内の前記第１位相シフト領域及び前記第２相補位相シフト領域内にサブ解像度特徴部を追加する段階を含む、
ことを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
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【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１３】
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【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１６Ａ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１６Ａ】
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