Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月13日(2004.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
請求項２記載の画像歪補正回路であって、
前記第１及び第２のダイオードは、ショットキーバリアダイオードを含む、
画像歪補正回路。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
中間端子Ｐ１１にダイオードＤ３のアノード及び抵抗Ｒ４の一端が接続され、ダイオードＤ３のカソードに垂直補正コイルＬ１５の一端及びダイオードＤ４のカソードが接続され、垂直補正コイルＬ１５の他端に抵抗Ｒ４の他端及び抵抗Ｒ５の一端が接続され、端子Ｐ４にダイオードＤ４のアノード及び抵抗Ｒ５の他端が接続される。垂直補正コイルＬ１５はコア１３に巻かれている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
すなわち、この水平補正コイルＬ１３、Ｌ１４を水平偏向コイル２１の一端に接続し、垂直走査の周期（垂直周期）で変化する垂直偏向電流ＩＶが流れる垂直補正コイルＬ１５によって、マグネット１１，１２によるバイアス磁界を打ち消す方向の磁界を発生させることにより、水平補正コイルＬ１３、Ｌ１４のインダクタンスを変化させて画面の左右の中間ピン補正を行う。このとき、２つの水平補正コイルＬ１３、Ｌ１４に印加される水平偏向電流ＩＨは１水平走査周期毎に与えられるＳ字補正された鋸歯状波電流であり、垂直補正コイルＬ１５に印加される垂直偏向電流ＩＶは垂直走査周期毎に与えられる鋸歯状波電流を、２つのダイオードＤ３、Ｄ４と２つの抵抗Ｒ４，Ｒ５により同極性に整流した電流である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
このように、テレビジョン受信機やディスプレイモニターのＣＲＴにおいては、画面の左右に生じる中間ピン歪による画質劣化を防止する必要があり、各種の提案がなされている。しかし、図５で示した従来の中間ピン歪補正装置では、中間ピン歪補正可飽和リアクタユニット１０の垂直補正コイルＬ１５を流れる垂直偏向電流ＩＶの整流のために、垂直偏向コイル２２に対し、２つのダイオードＤ３，Ｄ４と２つの抵抗Ｒ４，Ｒ５からなる整流回路と垂直補正コイルＬ１５とからなる垂直補正部３２が直列に接続される回路構成となっている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、請求項３の発明は、請求項２記載の画像歪補正回路であって、前記第１及び第２のダイオードは、ショットキーバリアダイオードを含む。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
すなわち、中間端子Ｐ１１，端子Ｐ４間に設けられる第１の電流経路（ダイオードＤ１及び垂直補正コイルＬ３が直列に接続される経路）及び第２の電流経路（ダイオードＤ２及び垂直補正コイルＬ４が直列に接続される経路）がそれぞれに対し共有抵抗である抵抗Ｒ１に並列に共通接続される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
垂直補正コイルＬ３、Ｌ４とダイオードＤ１、Ｄ２に並列に共通接続された抵抗Ｒ１は、ダイオードＤ１，Ｄ２をＯＮさせる電圧を作り出している。抵抗Ｒ１の抵抗値を変えることにより、垂直補正コイルＬ３，Ｌ４に流れ始める電流の開始点の制御が行える。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
図５に示した従来の中間ピン歪補正装置（画像歪補正回路）では、ダイオードＤ３、Ｄ４がＯＦＦ状態のとき、垂直補正部３２のインピーダンス（の抵抗値）は抵抗Ｒ４の抵抗値と抵抗Ｒ５の抵抗値との和となる。また、ダイオードＤ３がＯＮ状態の時の垂直補正部３２のインピーダンスは、第１の合成抵抗の抵抗値と抵抗Ｒ５の抵抗値との和となる。なお、第１の合成抵抗はダイオードＤ３のオン抵抗と垂直補正コイルＬ１５とからなる直列接続抵抗と抵抗Ｒ４との並列抵抗を意味する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
図１で示した実施の形態１の画像歪補正回路において、垂直補正コイルＬ３，Ｌ４に伴う整流回路（ダイオードＤ１，Ｄ２及び抵抗Ｒ１で構成）は、垂直補正コイル２２に直列に繋がるため、垂直補正部３１のインピーダンスは垂直偏向感度に直接影響する。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
その対策として、実施の形態３の画像歪補正回路は、抵抗Ｒ８とコンデンサーＣ１との直列接続からなる第１のダンピング部を垂直補正コイルＬ３に並列に接続するとともに、抵抗Ｒ９とコンデンサーＣ２との直列接続からなる第２のダンピング部を垂直補正コイルＬ４に並列に接続している。この第１及び第２のダンピング部（抵抗Ｒ８、Ｒ９、コンデンサーＣ１、Ｃ２）によるダンピング効果（垂直偏向電流ＩＶよりも高周波な水平成分の除去効果）によって性能劣化を抑制することができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
加えて、第１及び第２の端子間に垂直偏向電流が流れる際の垂直補正部の抵抗成分は、第１及び第２の電流経路共に垂直偏向電流が流れない場合は共有抵抗のみを含む共有抵抗部が電流経路となるため当該電流経路上における共有抵抗の抵抗値となり、第１の電流経路に垂直偏向電流が流れる場合は共有抵抗と第１の電流経路上の抵抗との並列合成抵抗の抵抗値となり、第２の電流経路に垂直偏向電流が流れる場合は共有抵抗と第２の電流経路上の抵抗との並列合成抵抗の抵抗値となる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月10日(2005.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の加入者装置からの回線を交換局の入力側で分岐点を介してグローバル通信ネットワーク側に接続する通信システムにおいて、上記所定の加入者装置と通信するための通信方法であって、
一群の加入者装置を代表するグローバルＩＰアドレスおよび個々の加入者装置に固有なアドレスを用いて所定の加入者装置への情報データパケットを送信するステップと、
上記所定の加入者装置への情報データパケットの送信に関連して、上記情報データの送り先の上記所定の加入者装置を発呼するステップとを有することを特徴とする通信方法。
【請求項２】
上記発呼するステップは、共通信号線を用いて行う請求項１記載の通信方法。
【請求項３】
上記発呼するステップは、発呼情報を含むパケットを用いて行う請求項１記載の通信方法。
【請求項４】
上記交換局は、移動体通信の移動交換局である請求項１、２または３記載の通信方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月13日(2005.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前記移動端末は、前記移動端末についての前記位置データの所望の精度の限度を指示しかつ前記移動端末によって送出されるときに認証可能な、サービス品質データ、すなわちＱｏＳデータを提供するステップと、
前記ＱｏＳデータが、前記移動端末から直接的に、あるいは間接的に位置処理システムに渡されるステップと、
前記位置処理システムは前記ＱｏＳデータを認証し、前記ＱｏＳデータによって決定される精度に制限される、対応する前記移動端末についての前記位置データを提供するステップ
とを含む移動端末についての位置データを提供する方法。
【請求項２】
前記移動端末は、前記ＱｏＳデータにデジタル署名を行い、前記位置処理システムは、前記移動端末の前記デジタル署名に基づいて、前記ＱｏＳデータの信憑性を検査することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記位置処理システムは位置サーバであり、前記ＱｏＳデータは前記移動端末から直接に、あるいは前記移動端末によってアクセスされるサービスシステムを介して前記位置サーバに渡されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記位置処理システムは位置サーバであり、前記ＱｏＳデータは前記移動端末によってアクセスされるサービスシステムによって前記位置サーバに渡され、前記位置サーバは前記サービスシステムに前記位置データを返送し、前記サービスシステムは、前記位置データを用いて、前記移動端末にサービスを提供することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記位置処理システムは、前記移動端末あるいはサービスシステムによって前記位置処理システムに提供される暗号化された位置データを暗号解読するための暗号解読手段であり、前記ＱｏＳデータは前記移動端末から直接に、あるいは前記移動端末によってアクセスされる前記サービスシステムを介して、前記位置サーバに渡されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記位置処理システムは暗号化された位置データを暗号解読するための暗号解読手段であり、前記ＱｏＳと前記暗号化された位置データとは、前記移動端末によってサービスシステムに提供され、前記サービスシステムは前記位置データを前記暗号解読手段に渡し、前記暗号解読手段は前記位置データを解読し、かつ、前記ＱｏＳデータによって決定される精度で、解読した前記位置データを前記サービスシステムに返送し、前記サービスシステムは前記位置データを用いて前記移動端末にサービスを提供することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記位置処理システムは暗号化された位置データを暗号解読するための暗号解読手段であって、前記ＱｏＳデータは前記移動端末によってサービスシステムに提供され、前記サービスシステムは、位置サーバから前記移動端末に関する暗号化された位置データを取得し、その後前記ＱｏＳデータおよび前記暗号化された位置データを前記暗号解読手段に渡し、前記暗号解読手段は、前記位置データを解読し、かつ前記ＱｏＳによって決定される精度で、解読した前記位置データを前記サービスシステムに返送し、前記サービスシステムは前記位置データを用いて前記移動端末にサービスを提供することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記暗号化された位置データには、前記位置データの精度の指示が伴い、前記暗号解読手段は、前記ＱｏＳデータによって決定される前記精度のレベルを提供するために前記位置データを処理するときに、前記精度を考慮することを特徴とする、請求項５〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
前記位置処理システムは、利用できる位置データの精度と前記ＱｏＳデータにおいて指定される精度との間の差によって設定される、ある範囲にわたってランダム化された付加的な成分を、前記利用できる位置データの成分と結合することにより、前記位置処理システムが提供する前記位置データの前記精度を、前記位置処理システムが利用できる前記位置データの前記精度に対して制限することを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月9日(2005.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体部材の製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  分離層と、該分離層の上に複数の絶縁領域と該複数の絶縁領域間に設けられた複数の半導体領域とを有する第１の部材を用意する工程と、
前記第１の部材と半導体基体である第２の部材とを、前記複数の絶縁領域と前記複数の半導体領域とが内側に位置する多層構造体が得られるように貼り合わせる工程と、
前記多層構造体を前記分離層で分離することで、前記第２の部材側に前記複数の絶縁領域と前記複数の半導体領域とを移設する工程と、を有する半導体部材の製造方法。
【請求項２】  前記複数の絶縁領域と前記複数の半導体領域は、半導体面上に絶縁層を形成し、該絶縁層を開口した後に、開口部に前記半導体領域を堆積することで形成されることを特徴とする請求項１に記載の半導体部材の製造方法。
【請求項３】  前記複数の絶縁領域と前記複数の半導体領域は、半導体基体又は半導体層に選択的に絶縁領域を設けることで形成されることを特徴とする請求項１に記載の半導体部材の製造方法。
【請求項４】  前記分離層は、陽極化成法により形成された多孔質層であることを特徴とする請求項１に記載の半導体部材の製造方法。
【請求項５】  前記分離層は、イオン注入により形成されたイオン注入層であることを特徴とする請求項１に記載の半導体部材の製造方法。
【請求項６】  前記第１の部材を用意する工程は、前記分離層の上に半導体層を形成し、該半導体層の上に前記複数の絶縁領域と前記複数の半導体領域とを形成する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の半導体部材の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体部材の製造方法に係わり、特に半導体面上に絶縁層を介して半導体層を有するＳＯＩ基板の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の半導体部材の製造方法は、分離層と、該分離層の上に複数の絶縁領域と該複数の絶縁領域間に設けられた複数の半導体領域とを有する第１の部材を用意する工程と、
前記第１の部材と半導体基体である第２の部材とを、前記複数の絶縁領域と前記複数の半導体領域とが内側に位置する多層構造体が得られるように貼り合わせる工程と、
前記多層構造体を前記分離層で分離することで、前記第２の部材側に前記複数の絶縁領域と前記複数の半導体領域とを移設する工程と、を有するものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月14日(2005.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ライニングと該ライニングを保持する裏金とを有するとともにライニング同士を対向させるようにディスクに対し両側に配置される一対のパッドと、これらパッドをディスク軸線方向に摺動可能となるよう支持するキャリアと、該キャリアに支持されるとともに該キャリアと前記パッドとの間に介在して該パッドのディスク軸線方向の摺動を案内するパッドガイドと、両パッドを両外側からディスク方向に押圧するキャリパと、を有するディスクブレーキにおいて、
前記パッドガイドは、前記パッドのディスク軸線方向の摺動を案内するパッドガイド本体部と、前記パッドの裏金のライニング側の面に対向して当接する当接部と、これらパッドガイド本体部と当接部との間に設けられるとともに前記当接部に当接するパッドにディスクから離間する方向の付勢力を付与するリターンスプリング部とが一体成形されてなることを特徴とするディスクブレーキ。
【請求項２】  前記パッドガイド本体部は、両パッドの間位置においてディスク周方向に沿ってパッド方向に延出するとともに、ディスク軸線方向におけるパッド側に前記リターンスプリング部が設けられるベース板部を有することを特徴とする請求項１記載のディスクブレーキ。
【請求項３】  前記リターンスプリング部は、前記当接部との間に、ディスク軸線方向において前記ディスク側に延出する中間板部を有していることを特徴とする請求項１または２記載のディスクブレーキ。
【請求項４】  前記パッドガイド本体部は、パッドの端面部に当接可能な案内板部と、該案内板部のディスク半径方向外側からパッド側に延出する上板部と、前記案内板部のディスク半径方向内側からパッド側に延出する下板部とを有しており、前記当接部は、該パッドガイド本体部の内側に配置される入込板部を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項記載のディスクブレーキ。
【請求項５】  前記パッドガイド本体部は、パッドの端面部に当接可能な案内板部と、該案内板部のディスク半径方向外側からパッド側に延出する上板部と、前記案内板部のディスク半径方向内側からパッド側に延出する下板部と、前記案内板部の下板部側のディスク軸線方向における端部または該端部より外側からパッド側に延在する延在板部とを有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項記載のディスクブレーキ。
【請求項６】  前記パッドの裏金には、前記パッドガイドの当接部が入り込み可能な切欠部が形成されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項記載のディスクブレーキ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の請求項１記載のディスクブレーキは、ライニングと該ライニングを保持する裏金とを有するとともにライニング同士を対向させるようにディスクに対し両側に配置される一対のパッドと、これらパッドをディスク軸線方向に摺動可能となるよう支持するキャリアと、該キャリアに支持されるとともに該キャリアと前記パッドとの間に介在して該パッドのディスク軸線方向の摺動を案内するパッドガイドと、両パッドを両外側からディスク方向に押圧するキャリパと、を有するものであって、前記パッドガイドは、前記パッドのディスク軸線方向の摺動を案内するパッドガイド本体部と、前記パッドの裏金のライニング側の面に対向して当接する当接部と、これらパッドガイド本体部と当接部との間に設けられるとともに前記当接部に当接するパッドにディスクから離間する方向の付勢力を付与するリターンスプリング部とが一体成形されてなることを特徴としている。
このように、パッドガイドは、パッドのディスク軸線方向の摺動を案内するパッドガイド本体部と、パッドの裏金のライニング側の面に当接可能な当接部と、これらパッドガイド本体部と当接部との間に設けられるとともに当接部に当接するパッドにディスクから離間する方向の付勢力を付与するリターンスプリング部とが一体成形されてなるため、パッドガイドとリターンスプリングとが別体のものに対し、部品点数が少なくなり、かつ、パッドガイドとリターンスプリングとを組み立てる必要がなくなる。加えて、裏金に形成された穴に挿入されるのではなく、当接部においてパッドの裏金のライニング側の面に当接する構造であるため、当然穴への挿入の必要がなくなる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明の請求項１記載のディスクブレーキによれば、パッドガイドは、パッドのディスク軸線方向の摺動を案内するパッドガイド本体部と、パッドの裏金のライニング側の面に対向して当接する当接部と、これらパッドガイド本体部と当接部との間に設けられるとともに当接部に当接するパッドにディスクから離間する方向の付勢力を付与するリターンスプリング部とが一体成形されてなるため、パッドガイドとリターンスプリングとが別体のものに対し、部品点数が少なくなり、かつ、パッドガイドとリターンスプリングとを組み立てる必要がなくなる。加えて、裏金に形成された穴に挿入されるのではなく、当接部においてパッドの裏金のライニング側の面に当接する構造であるため、当然穴への挿入の必要がなくなる。
したがって、部品点数を低減できる上、組み立てが容易となる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月8日(2004.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
薄膜磁気ヘッドは、更に、上部シールド層６の上に形成された非磁性材料よりなる非磁性層７と、この非磁性層７の上に形成された磁性材料よりなる下部磁極層８と、この下部磁極層８の上に形成された非磁性材料よりなる記録ギャップ層９と、この記録ギャップ層９の上に形成された薄膜コイルの第１層部分１０と、この第１層部分１０を覆う絶縁層１１とを備えている。記録ギャップ層９には、第１層部分１０の中心部分において、コンタクトホール９ａが形成されている。第１層部分１０は、銅等の導電性材料によって形成される。なお、図１において、符号１０ａは、第１層部分１０のうち、後述する薄膜コイルの第２層部分１５に接続される接続部を表している。第１層部分１０は、コンタクトホール９ａの周囲に巻回される。絶縁層１１の媒体対向面ＡＢＳ側の端部は、媒体対向面ＡＢＳから離れた位置に配置され、この端部がスロートハイトを規定する。絶縁層１１は、本発明におけるスロートハイト規定層に対応する。また、絶縁層１１の上面のうち、絶縁層１１の媒体対向面ＡＢＳ側の端部から第１層部分１０の外周端近傍までの部分は、媒体対向面ＡＢＳに近づくほど下部磁極層８に近づくような斜面になっている。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月2日(2004.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハーフメタルを含有する固定層と、前記固定層の一主面側に形成された自由層と、前記固定層と前記自由層との間に形成された中間層と、前記固定層の他主面側に形成された反強磁性層と、前記固定層と前記反強磁性層との間に形成された軟磁性層と、前記固定層と前記軟磁性層との間に形成された貴金属層とを含む磁気抵抗効果素子を備え、
前記ハーフメタルが、Ｆｅ３Ｏ４、ＣｒＯ２若しくはＺｎＯに遷移金属を添加した材料、ＧａＮにＭｎを添加した材料のうち少なくとも１種である磁気ヘッド。
【請求項２】
第１の磁性層と、積層フェリ構造を有する多層磁性膜と、前記第１の磁性層と前記多層磁性膜との間に形成された中間層とを含み、
前記多層磁性膜は、ハーフメタルを含有し、前記中間層に接するように形成された第２の磁性層と、軟磁性材料を含有する第３の磁性層と、前記第２の磁性層と第３の磁性層との間に形成された貴金属層とを有し、
前記第３の磁性層の貴金属層が形成されている側とは反対側に反強磁性層が形成された磁気抵抗効果素子を備え、
前記ハーフメタルは、Ｆｅ３Ｏ４、ＣｒＯ２若しくはＺｎＯに遷移金属を添加した材料、ＧａＮにＭｎを添加した材料のうち少なくとも１種である磁気ヘッド。
【請求項３】
反強磁性層と、該反強磁性層上に形成された第１の軟磁性層と、該第１の軟磁性層上に形成された貴金属層と、該貴金属層上に形成されたハーフメタル層と、該ハーフメタル層上に形成された中間層と、該中間層上に形成された第２の軟磁性層とを含む磁気抵抗効果素子を備え、
前記ハーフメタルは、Ｆｅ３Ｏ４、ＣｒＯ２若しくはＺｎＯに遷移金属を添加した材料、ＧａＮにＭｎを添加した材料のうち少なくとも１種である磁気ヘッド。
【請求項４】
前記磁気抵抗効果素子の膜厚方向に電流を流すための電極を備えることを特徴とする請求項１〜３に記載の磁気ヘッド。
【請求項５】
前記固定層の膜厚は、0.8nm以上であることを特徴とする請求項１〜３に記載の磁気ヘッド。
【請求項６】
前記中間層は、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ａｕ、Ａｇ又はＣｕのうち少なくとも１種以上を含有することを特徴とする請求項１〜３に記載の磁気ヘッド。
【請求項７】
前記中間層は、非磁性かつ導電性の材料により形成されていることを特徴とする請求項１〜３に記載の磁気ヘッド。
【請求項８】
前記自由層は、ＣｏＦｅ又はＮｉＦｅを含有する請求項１〜３に記載の磁気ヘッド。
【請求項９】
前記貴金属層は、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ａｕ又はＡｇのうち少なくとも１種以上を含む請求項１〜３に記載の磁気ヘッド。
【請求項１０】
前記軟磁性層は、ＮｉＦｅを含有することを特徴とする請求項１〜３に記載の磁気ヘッド。
【請求項１１】
前記反強磁性層は、MnIr、MnPt、CrMnPt、NiOのいずれかの材料を含有する請求項１〜３に記載の磁気ヘッド。
【請求項１２】
磁気記録媒体と、前記磁気記録媒体を駆動する駆動部と、磁気抵抗効果素子を有する磁気ヘッドと、前記磁気ヘッドを前記磁気記録媒体上の所定の位置に移動させるアクチュエーターと、前記磁気ヘッドからの出力信号再生を行う信号処理手段とを備える磁気記録再生装置において、
前記磁気抵抗効果素子が、ハーフメタルを含有する固定層と、前記固定層の一主面側に形成された自由層と、前記固定層と前記自由層との間に形成された中間層と、前記固定層の他主面側に形成された反強磁性層と、前記固定層と前記反強磁性層との間に形成された軟磁性層と、前記固定層と前記軟磁性層との間に形成された貴金属層とを備え、
前記ハーフメタルが、Ｆｅ３Ｏ４、ＣｒＯ２若しくはＺｎＯに遷移金属を添加した材料、ＧａＮにＭｎを添加した材料のうち少なくとも１種である磁気記録再生装置。
【請求項１３】
前記磁気ヘッドは、記録部と再生部とを備えることを特徴とする請求項１２記載の磁気記録再生装置。
【請求項１４】
ビット線と、該ビット線に直交するワード線と、前記ビット線とワード線との交点に設けられたメモリセルとを有し、
前記メモリセルは、ハーフメタルを含有する固定層と、前記固定層の一主面側に形成された自由層と、前記固定層と前記自由層との間に形成された中間層と、前記固定層の他主面側に形成された反強磁性層と、前記固定層と前記反強磁性層との間に形成された軟磁性層と、前記固定層と前記軟磁性層との間に形成された貴金属層とを含む積層膜を備え、
前記ハーフメタルが、Ｆｅ３Ｏ４、ＣｒＯ２若しくはＺｎＯに遷移金属を添加した材料、ＧａＮにＭｎを添加した材料のうち少なくとも１種である磁性メモリ。
【請求項１５】
ビット線と、該ビット線に直交するワード線と、前記ビット線とワード線との交点に設けられたメモリセルとを有し、
前記メモリセルは、第１の磁性層と、積層フェリ構造を有する多層磁性膜と、前記第１の磁性層と前記多層磁性膜との間に形成された中間層とを含み、前記多層磁性膜は、ハーフメタルを含有し、前記中間層に接するように形成された第２の磁性層と軟磁性材料を含有する第３の磁性層と前記第２の磁性層と第３の磁性層との間に形成された貴金属層とを有し、前記第３の磁性層の貴金属層が形成されている側とは反対側に反強磁性層が形成された積層膜を備え、
前記ハーフメタルが、Ｆｅ３Ｏ４、ＣｒＯ２若しくはＺｎＯに遷移金属を添加した材料、ＧａＮにＭｎを添加した材料のうち少なくとも１種である磁性メモリ。
【請求項１６】
ビット線と、該ビット線に直交するワード線と、前記ビット線とワード線との交点に設けられたメモリセルとを有し、
前記メモリセルは、反強磁性層と、該反強磁性層上に形成された第１の軟磁性層と、該第１の軟磁性層上に形成された貴金属層と、該貴金属層上に形成されたハーフメタル層と、該ハーフメタル層上に形成された中間層と、該中間層上に形成された第２の軟磁性層とを含む磁気抵抗効果素子を備え、
前記ハーフメタルが、Ｆｅ３Ｏ４、ＣｒＯ２若しくはＺｎＯに遷移金属を添加した材料、ＧａＮにＭｎを添加した材料のうち少なくとも１種である磁性メモリ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月15日(2004.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
案内溝を有する基板上に有機色素を主成分とする記録層を設けた光記録媒体にマルチパルス記録光を照射することにより、前記記録層に記録マークを形成する光記録方法において、以下の式を満たすマルチパルス記録光で前記記録層に記録マークを形成することを特徴とする光記録方法。
１．０Ｔ≦Ｔtop−[０．１３×（Ｖｘ／Ｖｒ）]Ｔ≦１．６Ｔ
０．５Ｔ≦Ｔmp≦０．７５Ｔ
０．５Ｔ≦Ｔlp≦０．７５Ｔ
ただし、Ｖｘは記録線速度、Ｖｒは前記光記録媒体の標準再生速度、Ｔは記録クロック周期、Ｔtopは前記マルチパルス記録光の先頭パルス長、Ｔmpは１つの記録マーク当りの前記マルチパルス記録光のパルス数が３以上の場合の前記マルチパルス記録光の中間パルス長、Ｔlpは前記マルチパルス記録光の後端パルス長である。
【請求項２】
請求項１記載の光記録方法において、前記マルチパルス記録光のパルス数をマークデータ長ｎに対して（ｎ−２）として前記記録層に記録マークを形成することを特徴とする光記録方法。
【請求項３】
請求項１または２記載の光記録方法において、形成すべきマークの直前のスペースの長さが最短長であるとき、該マークを形成するための前記マルチパルス記録光の先頭加熱パルス長を該マークを形成するための前記マルチパルス記録光以外のマルチパルス記録光の先頭加熱パルス幅より短く設定し、かつ、最短長のマークを形成するための前記マルチパルス記録光の先頭加熱パルスを他のマーク長のマークを形成するための前記マルチパルス記録光の先頭加熱パルスよりも長く設定して記録マークを形成することを特徴とする光記録方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１つに記載の光記録方法に用いられる光記録媒体において、前記記録層単層は、記録再生波長±５ｎｍの波長域の光に対する記録層単層の屈折率ｐが１．５≦ｐ≦３．０であり、消衰係数ｋが０．０２≦ｋ≦０．２である有機色素膜を有することを特徴とする光記録媒体。
【請求項５】
請求項１乃至３のいずれか１つに記載の光記録方法に用いられる光記録媒体または請求項４記載の光記録媒体において、前記記録層の分解開始温度が３６０℃以下であることを特徴とする光記録媒体。
【請求項６】
請求項１乃至３のいずれか１つに記載の光記録方法に用いられる光記録媒体、または、請求項４または５記載の光記録媒体において、基板の溝に４Ｔ〜９６Ｔの周期に相当する周波数のウォブルを有することを特徴とする光記録媒体。
【請求項７】
請求項１乃至３のいずれか１つに記載の光記録方法に用いられる光記録媒体、または、請求項４乃至６のいずれか１つに記載の光記録媒体において、ウォブル信号の振幅Ｗｏとプッシュプル信号の振幅ＰＰとの割合(Ｗo／ＰＰ)が０．１≦Ｗo／ＰＰ≦０．４の範囲になることを特徴とする光記録媒体。
【請求項８】
請求項１乃至３のいずれか１つに記載の光記録方法に用いられる光記録媒体、または、請求項４乃至９のいずれか１つに記載の光記録媒体において、前記基板とは異なるもう１枚の基板を貼り合わせる構造であり、該基板を貼り合わせた接着剤が紫外線硬化樹脂であることを特徴とする光記録媒体。
【請求項９】
請求項１乃至３のいずれか１つに記載の光記録再法において、記録波長が６００〜７２０ｎｍであることを特徴とする光記録方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
請求項４に係る発明は、請求項１乃至３のいずれか１つに記載の光記録方法に用いられる光記録媒体において、記録層単層は、記録再生波長±５ｎｍの波長域の光に対する記録層単層の屈折率ｐが１．５≦ｐ≦３．０であり、消衰係数ｋが０．０２≦ｋ≦０．２である有機色素膜を有するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
請求項５に係る発明は、請求項１乃至３のいずれか１つに記載の光記録方法に用いられる光記録媒体または請求項４記載の光記録媒体において、前記記録層の分解開始温度が３６０℃以下であるものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
請求項６に係る発明は、請求項１乃至３のいずれか１つに記載の光記録方法に用いられる光記録媒体、または、請求項４または５記載の光記録媒体において、基板の溝に４Ｔ〜９６Ｔの周期に相当する周波数のウォブルを有するものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
請求項７に係る発明は、請求項１乃至３のいずれか１つに記載の光記録方法に用いられる光記録媒体、または、請求項４乃至６のいずれか１つに記載の光記録媒体において、ウォブル信号の振幅Ｗｏとプッシュプル信号の振幅ＰＰとの割合(Ｗo／ＰＰ)が０．１≦Ｗo／ＰＰ≦０．４の範囲になるものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
請求項８に係る発明は、請求項１乃至３のいずれか１つに記載の光記録方法に用いられる光記録媒体、または、請求項４乃至９のいずれか１つに記載の光記録媒体において、前記基板とは異なるもう１枚の基板を貼り合わせる構造であり、該基板を貼り合わせた接着剤が紫外線硬化樹脂であるものである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
請求項９に係る発明は、請求項１乃至３のいずれか１つに記載の光記録再法において、記録波長が６００〜７２０ｎｍであることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月7日(2004.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
（第３の実施形態）
図５、図６は本発明の第３の実施形態を示す図である。図５は磁気ヘッドロード状態を示す断面図、図６は磁気ヘッドアンロード状態を示す断面図である。本実施形態の基本的な構造は第２の実施形態と同様であるが、本実施形態では規制部材９ｃの一端が連結部材１３に固定され、規制部材９ｃの他端側が磁気ヘッドロード状態においてロードビーム３の矢印ｅ方向の変位を規制している。また、昇降レバー１０が矢印ｆ方向にスライドすることにより、ロードビーム３を押動し、磁気ヘッドアンロード状態へと移行する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月8日(2004.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の記録層の上に保護コート層を有する光ディスクにおいて、
前記記録層のない側である前記基板の光学面側に、反りを抑制するための複層からなるトップコート層を設けることを特徴とする光ディスク。
【請求項２】
請求項１に記載の光ディスクにおいて、
前記トップコート層が、透明な無機誘電体膜と透明な紫外線硬化樹脂膜の複層よりなることを特徴とする光ディスク。
【請求項３】
請求項２に記載の光ディスクにおいて、
前記無機誘電体膜の厚みは5−100nmであり、前記紫外線硬化樹脂膜は前記保護コート層の厚みの1/4−4倍であることを特徴とする光ディスク。
【請求項４】
請求項２または請求項３に記載の光ディスクにおいて、
前記無機誘電体膜および前記紫外線硬化樹脂膜の屈折率が互いに±10%以内の差にあり、なおかつ、前記無機誘電体膜および前記紫外線硬化樹脂膜の屈折率が前記基板の屈折率に対しても±10%以内の差にあることを特徴とする光ディスク。
【請求項５】
基板上の記録層の上に保護コート層を有する光磁気ディスクにおいて、
前記記録層のない側である前記基板の光学面側に、反りを抑制するための複層からなるトップコート層を設けることを特徴とする光磁気ディスク。
【請求項６】
請求項５に記載の光磁気ディスクにおいて、
前記トップコート層が、透明な無機誘電体膜と透明な紫外線硬化樹脂膜の複層よりなることを特徴とする光磁気ディスク。
【請求項７】
請求項６に記載の光磁気ディスクにおいて、
前記無機誘電体膜の厚みは5−100nmであり、前記紫外線硬化樹脂膜は前記保護コート層の厚みの1/4−4倍であることを特徴とする光磁気ディスク。
【請求項８】
請求項６または請求項７に記載の光磁気ディスクにおいて、
前記無機誘電体膜および前記紫外線硬化樹脂膜の屈折率が互いに±10%以内の差にあり、なおかつ、前記無機誘電体膜および前記紫外線硬化樹脂膜の屈折率が前記基板の屈折率に対しても±10%以内の差にあることを特徴とする光磁気ディスク。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
（作用）
光ディスクや光磁気ディスクに反りが発生する要因としては、製造工程においては、第一番目として、樹脂基板上に記録層を真空成膜する際に、一般的にはかなり大きな圧縮応力が発生することが挙げられる。このため、膜面側が凸になろうとする。製造工程における第二番目としては、記録層上に保護コートした紫外線硬化樹脂を硬化させる際に、硬化収縮現象で中程度の引っ張り応力が発生することが挙げられる。このため、膜面側が凹になろうとする。結果的には、上記の応力の大小により凸または凹となる。ただ、これらの応力の総量を予測して、あらかじめ樹脂基板の成型時に逆方向の反りを入れることにより、製造後のディスク反りを０にすることは比較的簡単にできるため、すでに実用化されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
【発明の実施の形態】
（実施例１）
図１に示す構成の記録膜付きの基板（直径86ｍｍ、厚み1.2ｍｍ）を準備した。基板そのものはポリカーボネート（ＰＣ）から成り、この上にスパッタ法により誘電体層202、磁性層203、誘電体層204、反射層205が積層され、記録層106を形成している。ポリカーボネート製基板（ＰＣ基板）201は出光石油化学製のタフロンMD1500であり、屈折率は1.59、吸水率は0.2％（ASTM D570）である。また、誘電体層202、204は窒化珪素（屈折率：2.10）で厚みは両方で80nm、磁性層203はTeFeCoで120nmである。この上に、図２に示すように以下に述べる手順で保護コート層107を形成した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
まず、保護コート用の樹脂材料として、ラジカル反応型紫外線硬化樹脂として主成分にトリメチロールプロパントリアクリレートを20重量部以上含み、ラジカル光開始剤として1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン2重量部を含むアクリル酸エステル組成物（粘度約150ｍPa・s）を用意し、スピナーのスピンドル上に上記の記録膜付きの基板を記録膜が上面になるようにセットし、内周部に上記コーティング液1mlをドーナツ状にフィードした後、回転数5000rpmで振り切りスピンコートした。この後、基板を直ぐにスピンドルより外し、コンベア式紫外線硬化装置に投入し、500mj／cm2の紫外線を与え、コーティング液を硬化させた。以上により、平均膜厚が約5μmの保護コート層107付きの光磁気ディスクが作成された。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
上記の保護コート層付きの光磁気ディスクを酸化珪素のターゲットを有する真空成膜装置内に入れ、ポリカーボネート製基板101の光学面側（記録層106の無い面）にスパッタ法により40nmの酸化珪素（屈折率：1.48）を付け、透明無機誘電体膜108を形成した。次に、真空成膜装置から取り出し、透明無機誘電体膜108の上に、このディスクを保護コートのとき使用したアクリル酸エステル組成物を用いて、回転数4000rpmで振り切りスピンコートし、紫外線で硬化させ、平均膜厚約7μmの透明紫外線硬化樹脂膜（屈折率：1.52）109を形成した。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
次にこのディスクの反りを見るために、チルト測定器により室温（約25℃／60％RT）でラジアルチルト角を測定したところ、+0.5ｍRadであり、規格値の±6ｍRadに比べて十分に小さい値であった。更に、表1に示す種々の環境下に放置し、ラジアルチルト角を測定したが、何れの場合も、±2.0ｍRad以内であり優秀であった。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月14日(2004.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記一般式（Ｙ）で表される繰り返し単位を有する、酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び
（Ｃ）溶剤
を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【化１】
2003248316.tif 000001
一般式（Ｙ）中、
Ｒ1〜Ｒ6は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、アルキル基又は少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。
但し、Ｒ1〜Ｒ6の内少なくとも１つはフッ素原子である。
Ｌは、水素原子又は酸の作用により分解する基を表す。
ｎは、１又は２を示す。ｎが２の場合、２つあるＲ1〜Ｒ6及びＬは、同じでも異なっていてもよい。
Ａは、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基又はトリフルオロメチル基を表す。
下記構造式（ＹＡ）は、少なくとも一部が水素添加されたベンゼン環構造を表す。
【化２】
2003248316.tif 000002
【請求項２】
請求項１に記載のポジ型レジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月25日(2005.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
｜Ｖｓｌ（０．２）｜が２０（Ｖ）以上６０（Ｖ）以下である請求項２に記載の電子写真感光体。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月25日(2005.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記ａ０、ａ、ｂ０及びｂが、０．５（μｍ）≦（ａ０−ａ）＜０．８（μｍ）を満足する領域においても、前記式（１）を満足する請求項１または２に記載の電子写真感光体。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月28日(2005.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  スライドガラス上の標本を拡大した標本顕微鏡画像を撮影する顕微鏡画像撮影手段を備えた顕微鏡画像撮影装置であって、
前記スライドガラスを第１のスライドガラストレイ部から顕微鏡対物レンズ下に搬送するスライドガラス搬送手段と、
該スライドガラス搬送手段による前記スライドガラスの搬送に連動して前記スライドガラスの全体広視野画像を撮影する広視野画像撮影手段と、
前記顕微鏡画像撮影手段による標本顕微鏡画像の撮影を終了した前記スライドガラスを前記顕微鏡対物レンズ下から第２のスライドガラストレイ部に収納するスライドガラス収納手段と、
を有することを特徴とする顕微鏡画像撮影装置。
【請求項２】  前記第１のスライドガラストレイ部と前記第２のスライドガラストレイ部が一つの構成であると共に前記スライドガラス搬送手段と前記スライドガラス収納手段が一つの構成であることを特徴とする請求項1記載の顕微鏡画像撮影装置。
【請求項３】  前記スライドガラス搬送手段と連動して前記スライドガラスに記録されている標本情報を読み取る標本情報読取手段と、
前記顕微鏡画像撮影手段により前記スライドガラス毎に撮影された標本顕微鏡画像と前記標本情報とを前記スライドガラスに対応付けて分類し保存する画像・標本情報保存手段と、
を更に有することを特徴とする請求項１又は２記載の顕微鏡画像撮影装置。
【請求項４】  前記スライドガラス収納手段と連動して該スライドガラス収納手段により収納される前記スライドガラスが顕微鏡画像撮影済みであることを識別するための情報を記録する画像撮影情報記録手段を更に有することを特徴とする請求項１、２又は３記載の顕微鏡画像撮影装置。
【請求項５】  スライドガラス収納ユニットから顕微鏡ステージにスライドガラスを搬送して該スライドガラス上の標本を拡大撮影する顕微鏡画像撮影装置であって、
前記スライドガラス収納ユニット内に設けられ前記スライドガラス全体の広視野画像を撮影する広視野画像撮影手段と、
該広視野画像撮影手段により撮影された前記広視野画像を用いて前記標本に関する情報を取得する標本情報取得手段と、
を有することを特徴とする顕微鏡画像撮影装置。
【請求項６】  前記標本情報取得手段は、前記スライドガラス上の標本位置を取得することを特徴とする請求項５記載の顕微鏡画像撮影装置。
【請求項７】  前記標本情報取得手段は、前記スライドガラス上に記録されているデータを読み取ることを特徴とする請求項５記載の顕微鏡画像撮影装置。
【請求項８】  複数枚のスライドガラスを収容可能な収納ユニットと、
上記スライドガラスのそれぞれに付されたコード情報を読み取る情報読取り手段と、
上記収納ユニットから１枚のスライドガラスを取り出して顕微鏡観察ステージに搬送すると共に、顕微鏡観察を終了したスライドガラスを上記収納ユニットに格納するスライドガラス搬送手段と、
上記搬送手段が上記スライドガラスを搬送する途中に、被搬送スライドガラスの全体像を取り込む広視野画像撮影手段と、
上記顕微鏡観察ステージに搬送されたスライドガラス上の標本部の顕微鏡画像を順次取り込む顕微鏡画像撮影手段と、
上記スライドガラス搬送手段を制御すると共に、上記スライドガラスの全体像と顕微鏡撮影画像と別途入力されるスライド情報とを関連付けて記録媒体に記録させる制御手段と、
上記スライドガラスの全体像と顕微鏡撮影画像と当該スライド情報とを表示可能な表示手段と、
上記記録媒体に記録済みであることを含む情報を所定コード様式にて被搬送スライドガラスに記録する情報記録手段と
を具備したことを特徴とする顕微鏡画像撮影装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２７】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明によれば、スライドガラスをトレイから顕微鏡観察位置に搬送する間にスライドガラス全体の広視野像を取り込み、この広視野像に基づきスライドガラス上の標本位置を確認できるから、顕微鏡画像撮影を連続して迅速に行うことができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２８】
また、撮影済みスライドガラスの広視野像と、標本の顕微鏡画像と、標本情報とが関連付けられて管理されているから、記録済み標本に対しては記録媒体から所望のデータを読み出すことにより、顕微鏡による再度の標本観察を行うことなく詳細な観察、評価や診断を迅速に行うことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月25日(2005.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射方向から順に水平方向分離複屈折板と、第１の１／４波長板と、垂直方向分離複屈折板とを貼り合せ、
入射方向から見て前記水平方向分離複屈折板の光学軸と前記垂直方向分離複屈折板の光学軸とを直交関係とし、
前記水平方向分離複屈折板の入射面側に第２の１／４波長板を貼り合わせることによって該水平方向分離複屈折板に入射する光線を円偏光としたことを特徴とする光学ロ−パスフィルタ。
【請求項２】
前記光学ローパスフィルタの入射面側の最外側に赤外線吸収ガラスを貼り合わせたことを特徴とする請求項１に記載の光学ロ−パスフィルタ。
【請求項３】
前記第１及び第２の１／４波長板が、ノルボルネン系樹脂であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学ロ−パスフィルタ。
【請求項４】
前記第１及び第２の１／４波長板が、ポリカーボネート系高分子、ポリエステル系高分子、ポリスルホン系高分子、ポリエーテルスルホン系高分子、ポリスチレン系高分子、ポリオレフィン系高分子、ポリビニルアルコール系高分子、酢酸セルロース系高分子、ポリ塩化ビニル系高分子、又はポリメチルメタクリレート系高分子からなる樹脂であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学ロ−パスフィルタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明に係る光学ロ−パスフィルタの請求項１記載の発明は、入射方向から順に水平方向分離複屈折板と、第１の１／４波長板と、垂直方向分離複屈折板とを貼り合せ、入射方向から見て前記水平方向分離複屈折板の光学軸と前記垂直方向分離複屈折板の光学軸とを直交関係とし、前記水平方向分離複屈折板の入射面側に第２の１／４波長板を貼り合わせることによって該水平方向分離複屈折板に入射する光線を円偏光としたことを特徴とする光学ロ−パスフィルタである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項２記載の発明は、前記光学ローパスフィルタの入射面側の最外側に赤外線吸収ガラスを貼り合わせたことを特徴とする光学ロ−パスフィルタである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項３記載の発明は、前記第１及び第２の１／４波長板が、ノルボルネン系樹脂であることを特徴とする光学ロ−パスフィルタである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
請求項４記載の発明は、前記第１及び第２の１／４波長板が、ポリカーボネート系高分子、ポリエステル系高分子、ポリスルホン系高分子、ポリエーテルスルホン系高分子、ポリスチレン系高分子、ポリオレフィン系高分子、ポリビニルアルコール系高分子、酢酸セルロース系高分子、ポリ塩化ビニル系高分子、又はポリメチルメタクリレート系高分子からなる樹脂であることを特徴とする光学ロ−パスフィルタである。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月28日(2005.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
投影光のある偏光部分と、当該成分に直交する偏光成分の強度比を変調し、元の画像に対し、ある偏光方向の光を透過する偏光板を通すことにより可視像として視認される変調画像を、重ねて投影することを特徴とする画像投影方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
ある偏光方向の光を透過する偏光眼鏡と、
元画像の投影処理および偏光変調画像の生成に必要な信号処理を行なう信号処理手段と、
前記偏光眼鏡を通すことにより可視像として視認される前記偏光変調画像を、前記信号処理手段の出力信号にしたがって元画像に重ねて投影する画像投影手段と、
を備えたことを特徴とする画像投影システム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記偏光眼鏡は、時分割多重された変調画像に同期して偏光方向を時間的に変化させ、前記時分割多重された変調画像のうち、任意の画像を元画像に付加した画像が可視化されることを特徴とする請求項４に記載の画像投影システム。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
多色の光源によってカラー画像が投影され、投影光のある偏光部分と、当該成分に直交する偏光成分の強度比を変調し、元の画像に対し、ある偏光方向の光を透過する偏光板を通すことにより可視像として視認される変調画像を、重ねて投影する画像投影システムであって、
各色の光源から出射される光を直線偏光する偏光変換手段と、
前記直線偏光された各色に対して特定の波長成分の光を透過する波長フィルタと、
前記波長フィルタを通過した光の偏光方向を回転させて偏光変調を行なう偏光変調手段と、
前記偏光変調手段を経た各色を合成する合成手段と、
を備えたことを特徴とする画像投影システム。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、請求項１にかかる画像投影方法にあっては、投影光のある偏光部分と、当該成分に直交する偏光成分の強度比を変調し、元の画像に対し、ある偏光方向の光を透過する偏光板を通すことにより可視像として視認される変調画像を、重ねて投影するものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、請求項２にかかる画像投影システムにあっては、ある偏光方向の光を透過する偏光眼鏡と、元画像の投影処理および偏光変調画像の生成に必要な信号処理を行なう信号処理手段と、前記偏光眼鏡を通すことにより可視像として視認される前記偏光変調画像を、前記信号処理手段の出力信号にしたがって元画像に重ねて投影する画像投影手段と、を備えたものである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、請求項５にかかる画像投影システムにあっては、前記偏光眼鏡は、時分割多重された変調画像に同期して偏光方向を時間的に変化させ、前記時分割多重された変調画像のうち、任意の画像を元画像に付加した画像が可視されるものである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、請求項８にかかる画像投影システムにあっては、多色の光源によってカラー画像が投影され、投影光のある偏光部分と、当該成分に直交する偏光成分の強度比を変調し、元の画像に対し、ある偏光方向の光を透過する偏光板を通すことにより可視像として視認される変調画像を、重ねて投影する画像投影システムであって、各色の光源から出射される光を直線偏光する偏光変換手段と、前記直線偏光された各色に対して特定の波長成分の光を透過する波長フィルタと、前記波長フィルタを通過した光の偏光方向を回転させて偏光変調を行なう偏光変調手段と、前記偏光変調手段を経た各色を合成する合成手段と、を備えたものである。