【手続補正書】
【提出日】平成17年3月8日(2005.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）樹脂系、および
（ｂ）疎水性金属酸化物を含有するつや消し剤、
を含み、前記金属酸化物は、トリメチルシリル、ビニルジメチルシリル、アクリルジメチルシリル、およびジメチルシリルからなる群より選ばれる表面部分を有し、かつ基体への塗布後に垂れ防止メータで測定したときに、７５μｍのノッチ高さで垂れない、つや消しチキソトロープペイント配合物。
【請求項２】
前記金属酸化物が、シリカエーロゲル、シリカキセロゲルもしくは沈降シリカである、請求項１記載の配合物。
【請求項３】
前記配合物が、４０光沢単位以下の６０°光沢レベルによりさらに特徴づけられる、請求項１もしくは２記載の配合物。
【請求項４】
前記配合物が、３０光沢単位以下の６０°光沢レベルにより特徴づけられる、請求項３記載の配合物。
【請求項５】
前記樹脂系が、アルキド、アクリル、エポキシ、ウレタン、ポリエステル、セルロース、およびそれらの混合物からなる群より選ばれる、請求項１〜４のいずれか記載の配合物。
【請求項６】
前記樹脂系が、少なくとも１つの１アルキドを含む、請求項５記載の配合物。
【請求項７】
前記樹脂系が、少なくとも１つのアクリルを含む、請求項５記載の配合物。
【請求項８】
前記配合物がさらにキャリアを含む、請求項１〜７のいずれか記載の配合物。
【請求項９】
前記キャリアが水である、請求項８記載の配合物。
【請求項１０】
前記キャリアが、炭化水素、アルコール、ケトン、エステル、エーテルおよびそれらの混合物から選ばれる有機溶媒である、請求項８記載の配合物。
【請求項１１】
前記金属酸化物が、少なくとも４０％の疎水性度により特徴づけられる、請求項１〜１０のいずれか記載の配合物。
【請求項１２】
前記金属酸化物が、１〜１５μｍのメジアン粒径を有する、請求項１〜１１のいずれか記載の配合物。
【請求項１３】
前記樹脂が１０〜９５wt％の量で存在し、そして前記金属酸化物が０．５〜１５wt％の量で存在する、請求項１〜１２のいずれか記載の配合物。
【請求項１４】
前記配合物がさらにチキソトロープ添加剤を含む、請求項１〜１３のいずれか記載の配合物。
【請求項１５】
前記チキソトロープ添加剤がアルキドにもとづく、請求項１４記載の配合物。
【請求項１６】
前記アルキドが、アミドもしくはウレタンで修飾されたアルキドである、請求項１５記載の配合物。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか記載の配合物で被覆された表面を有する基体。
【請求項１８】
基体の表面に、請求項１〜１６のいずれか記載の配合物を塗布することを含む、基体の処理方法。
【請求項１９】
つや消しチキソトロープペイント配合物の製造方法であって、
（ａ）疎水性金属酸化物を用意すること、ここで前記金属酸化物は、トリメチルシリル、ビニルジメチルシリル、アクリルジメチルシリル、およびジメチルシリルからなる群より選ばれる表面部分を有し、かつ基体への塗布後に垂れ防止メータで測定したときに、前記配合物が７５μｍのノッチ高さで垂れないこと、ならびに
（ｂ）前記金属酸化物を樹脂と混合して、ペイント配合物を生成させること、
を含む、つや消しチキソトロープペイント配合物の製造方法。
【請求項２０】
前記金属酸化物がシリカエーロゲル、シリカキセロゲル、もしくは沈降シリカである、請求項１９記載の方法。
【請求項２１】
前記配合物が、４０光沢単位以下の６０°光沢レベルによりさらに特徴づけられる、請求項１９もしくは２０記載の方法。
【請求項２２】
前記配合物が、３０光沢単位以下の６０°光沢レベルにより特徴づけられる、請求項２１記載の方法。
【請求項２３】
前記樹脂系が、アルキド、アクリル、エポキシ、ウレタン、ポリエステル、セルロース、およびそれらの混合物からなる群より選ばれる、請求項１９〜２２のいずれか記載の方法。
【請求項２４】
前記樹脂系が少なくとも１つの１アルキドを含む、請求項２３記載の方法。
【請求項２５】
前記樹脂系が少なくとも１つのアクリルを含む、請求項２３記載の方法。
【請求項２６】
前記配合物がさらにキャリアを含む、請求項１９〜２５のいずれか記載の方法。
【請求項２７】
前記キャリアが水である、請求項２６記載の方法。
【請求項２８】
前記キャリアが、炭化水素、アルコール、ケトン、エステル、エーテルおよびそれらの混合物から選ばれる有機溶媒である、請求項２６記載の方法。
【請求項２９】
前記金属酸化物が、少なくとも４０％の疎水性度により特徴づけられる、請求項１９〜２８のいずれか記載の方法。
【請求項３０】
前記金属酸化物が、０．２〜１５μｍのメジアン粒径を有する、請求項１９〜２９のいずれか記載の方法。
【請求項３１】
前記樹脂が、１０〜９５wt％の量で存在し、かつ金属酸化物が０．５〜１５wt％の量で存在する、請求項１９〜３０のいずれか記載の方法。
【請求項３２】
前記配合物がさらにチキソトロープ添加剤を含む、請求項１９〜３１のいずれか記載の方法。
【請求項３３】
前記チキソトロープ添加剤がアルキドにもとづく、請求項３２記載の方法。
【請求項３４】
前記アルキドが、アミドもしくはウレタンで修飾されたアルキドである、請求項３３記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】つや消しチキソトロープペイント配合物
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、つや消しチキソトロープペイント配合物およびそのようなペイント配合物の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は、シリカに基づくつや消し剤がペイント配合物にチキソトロピーを与え、ペイント配合物を最適化するために用いられる他の添加剤を害さないで用いられうることを驚くべきことに見出したことに少なくとも部分的にはもとづくものである。本発明は、樹脂系およびつや消し剤を含む、つや消しチキソトロープ配合物を提供する。つや消し剤は疎水性金属酸化物を含み、それはトリメチルシリル、ビニルジメチルシリル、アクリルジメチルシリル、およびジメチルシリルからなる群より選ばれる表面部分（すなわち、１つ以上の表面部分）を有する。しかも、ペイント配合物は基体への塗布後に、垂れ防止メータで測定されるときに約７５μｍのノッチ高さで垂れないようなチキソトロープ特性を有することにより特徴づけられる。さらに、本発明はこのようなペイント配合物を製造する方法を提供する。さらに本発明は、本発明のつや消し剤を含むつや消しチキソトロープペイント配合物で被覆された表面を有する基体を提供する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明は、（a）樹脂系および（ｂ）疎水性金属酸化物を含有するつや消し剤を含む配合物であり、疎水性金属酸化物はトリメチルシリル、ビニルジメチルシリル、アクリルジメチルシリル、およびジメチルシリルからなる群より選ばれる表面部分を含有し、かつ基体への塗布後に、垂れ防止メータで測定されるときに約７５μｍのノッチ高さで垂れない、つや消しチキソトロープペイント配合物を提供する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
さらに本発明は、（ａ）疎水性金属酸化物を用意すること、そしてその金属酸化物はトリメチルシリル、ビニルジメチルシリル、アクリルジメチルシリル、およびジメチルシリルからなる群より選ばれる表面部分（すなわち、１つ以上の表面部分）を含有し、かつ配合物は基体への塗布後に、垂れ防止メータで測定されるときに約７５μｍのノッチ高さで垂れないこと、ならびに（ｂ）金属酸化物を樹脂と混合してペイント配合物を生成させることを含む、つや消しチキソトロープペイント配合物を製造する方法、をさらに提供する。任意には、樹脂および金属酸化物は適切なキャリアとともに一緒に混合されうる。樹脂、疎水性金属酸化物、キャリア、およびペイント配合物の特性は本発明のペイント配合物に関して、上述したとおりである。ペイント配合物の他の可能な成分も同様に上述したとおりである。