【手続補正書】
【提出日】平成16年10月13日(2004.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスプレイの前面に置いて用いられる、透明な基板の一面に金属薄膜からなるメッシュを積層した電磁波遮蔽性を有する電磁波遮蔽板であって、前記メッシュの形状は、所定のピッチＰｙ間隔で互いに平行にＸ方向に沿い設けられた複数のラインと、前記複数のラインの各隣接するラインを繋ぎ、ラインと所定の角θで交叉する複数の線分とからなり、各ライン間の線分は所定のＸ方向ピッチＰｘ間隔で設けられ、且つ、該各ライン間の複数の線分のＸ方向位置が、該各隣接するライン毎にランダムであるメッシュ形状の所定領域を用いたものであることを特徴とする電磁波遮蔽板。
【請求項２】
請求項１において、ディスプレイの前面に置いて用いられた際にディスプレイの画面領域を囲むように、メッシュ部の外周辺にメッシュと同じ金属薄膜からなる接地用枠部を設けたことを特徴とする電磁波遮蔽板。
【請求項３】
請求項１ないし２のいずれかにおいて、ディスプレイの前面に置いて用いられた際に、ディスプレイの水平走査線とメッシュのライン方向とのなす角度が１５度〜４５度の範囲であることを特徴とする電磁波遮蔽板。
【請求項４】
ディスプレイの前面に置いて用いられる、透明な基板の一面に金属薄膜からなるメッシュを積層した電磁波遮蔽性を有する電磁波遮蔽板における該メッシュを形成するためのパターン版であって、少なくとも１つのパターン版の中に作成するメッシュ領域の絵柄を全て備えているもので、パターン形状は、所定のピッチＰｙ間隔で互いに平行にＸ方向に沿い設けられた複数のラインと、前記複数のラインの各隣接するラインを繋ぎ、ラインと所定の角θで交叉する複数の線分とからなり、各ライン間の線分は所定のＸ方向ピッチＰｘ間隔で設けられ、且つ、該各ライン間の複数の線分のＸ方向位置が、該各隣接するライン毎にランダムであるメッシュ形状の所定領域を用いたものであることを特徴とするメッシュパターン版。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の電磁波遮蔽板は、ディスプレイの前面に置いて用いられる、透明な基板の一面に金属薄膜からなるメッシュを積層した電磁波遮蔽性を有する電磁波遮蔽板であって、前記メッシュの形状は、所定のピッチＰｙ間隔で互いに平行にＸ方向に沿い設けられた複数のラインと、前記複数のラインの各隣接するラインを繋ぎ、ラインと所定の角θで交叉する複数の線分とからなり、各ライン間の線分は所定のＸ方向ピッチＰｘ間隔で設けられ、且つ、該各ライン間の複数の線分のＸ方向位置が、該各隣接するライン毎にランダムであるメッシュ形状の所定領域を用いたものであることを特徴とするものである。
そして、上記において、ディスプレイの前面に置いて用いられた際にディスプレイの画面領域を囲むように、メッシュ部の外周辺にメッシュと同じ金属薄膜からなる接地用枠部を設けたことを特徴とするものである。
そしてまた、上記において、ディスプレイの前面に置いて用いられた際に、ディスプレイの水平走査線とメッシュのライン方向とのなす角度が１５度〜４５度の範囲であることを特徴とするものである。
尚、ここで言う透明な基板とは、ガラス、ポリアクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂からなる剛性のある基板に加えプラスチックフィルムを含むものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明のメッシュパターン版は、ディスプレイの前面に置いて用いられる、透明な基板の一面に金属薄膜からなるメッシュを積層した電磁波遮蔽性を有する電磁波遮蔽板における該メッシュを形成するためのパターン版であって、少なくとも１つのパターン版の中に作成するメッシュ領域の絵柄を全て備えているもので、パターン形状は、所定のピッチＰｙ間隔で互いに平行にＸ方向に沿い設けられた複数のラインと、前記複数のラインの各隣接するラインを繋ぎ、ラインと所定の角θで交叉する複数の線分とからなり、各ライン間の線分は所定のＸ方向ピッチＰｘ間隔で設けられ、且つ、該各ライン間の複数の線分のＸ方向位置が、該各隣接するライン毎にランダムであるメッシュ形状の所定領域を用いたものであることを特徴とするものである。
尚、前述のように、ここで言う透明な基板とは、ガラス、ポリアクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂からなる剛性のある基板に加えプラスチックフィルムを含むものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【作用】
本発明の電磁波遮蔽板は、このような構成にすることにより、ＰＤＰ等のディスプレイの前面に置いて用いても、金属薄膜メッシュとディスプレイの走査線との相互作用によるモアレの発生がない、あるいはモアレが目立たない金属薄膜メッシュを設けた電磁遮蔽板の提供を可能としている。
これにより、ＰＤＰ等ディスプレイ用の良好な透視性と電磁波シールド性を兼ね備えた電磁波遮蔽板の提供を可能としている。
具体的には、メッシュの形状は、所定のピッチＰｙ間隔で互いに平行にＸ方向に沿い設けられた複数のラインと、前記複数のラインの各隣接するラインを繋ぎ、ラインと所定の角θで交叉する複数の線分とからなり、各ライン間の線分は所定のＸ方向ピッチＰｘ間隔で設けられ、且つ、該各ライン間の複数の線分のＸ方向位置が、該各隣接するライン毎にランダムであるメッシュ形状の所定領域を用いたものであることにより、これを達成している。
即ち、各ライン間の線分のＸ方向位置をランダムにすることにより、メッシュ配列の規則性をなくして、金属薄膜メッシュとディスプレイの走査線との相互作用によるモアレの発生がない、あるいはモアレが目立たないようにしている。
更に、ディスプレイの前面に置いて用いられた際に、ディスプレイの水平走査線とメッシュのライン方向とのなす角度を１５度〜４５度の範囲とすることにより、一層有効にしている。
また、ディスプレイの前面に置いて用いられた際にディスプレイの画面領域を囲むように、メッシュ部の外周辺にメッシュと同じ金属薄膜からなる接地用枠部を設けたことにより、実用的な形態としている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明のメッシュパターン版は、このような構成にすることにより、本発明の電磁波遮蔽板に用いられる金属メッシュのフオトリソグラフィー法による微細加工を可能とするものであり、また、メッシュパターン版自体を比較的簡単に作成することを可能としている。
具体的には、少なくとも１つのパターン版の中に作成するメッシュ領域の絵柄を全て備えているもので、パターン形状は、所定のピッチＰｙ間隔で互いに平行にＸ方向に沿い設けられた複数のラインと、前記複数のラインの各隣接するラインを繋ぎ、ラインと所定の角θで交叉する複数の線分とからなり、各ライン間の線分は所定のＸ方向ピッチＰｘ間隔で設けられ、且つ、該各ライン間の複数の線分のＸ方向位置が、該各隣接するライン毎にランダムであるメッシュ形状の所定領域を用いたものであることにより、これを達成している。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【実施の形態】
本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。
図１は、本発明の電磁波遮蔽板の実施の形態の１例で、図２（ａ）、図２（ｂ）はそれぞれ本発明のメッシュパターン版の１例で、図３はメッシュパターンのパターン形状を説明するための一部拡大図である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
先ず本発明の電磁波遮蔽板の実施の形態の１例を図１に基づいて説明する。
図１に示す例は、ＰＤＰ等のディスプレイの前面に置き用いられる電磁波シールド用電磁波遮蔽板で、透明基板の一面上に接地用枠部とメッシュ部とを形成したものである。
図１中、１００は電磁波遮蔽板、１１０はメッシュ部、１１５は接地用枠部、１１７は金属薄膜、１３０は透明基板、１５０はライン、１７０は線分である。
図１（ａ）は平面図、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ１−Ａ２における断面図、図１（ｃ）はメッシュ部の一部の拡大図である。尚、図１（ａ）と図１（ｃ）には、位置関係、メッシュ形状を明確にするための、Ｘ方向、Ｙ方向を表示してある。
図１（ｂ）にその断面を示すように、メッシュ部１１０、接地用枠部１１５とを透明基板１３０の一面に設けたものである。
接地用枠部１１５は、ディスプレイの前面に置いて用いられた際にディスプレイの画面領域を囲むように、メッシュ部１１０の外周辺にメッシュ部と同じ金属薄膜で形成されている。
メッシュ部１１０は、その形状を図１（ｃ）に一部拡大して示すように、所定のピッチＰｙ間隔で互いに平行にＸ方向に沿い設けられた複数のライン１５０と、前記複数のラインの各隣接するラインを繋ぎ、ラインと所定の角θで交叉する複数の線分１７０とからなるメッシュ形状の所定領域を接地用枠部１１５で囲んだものである。
尚、上記メッシュ形状においては、各ライン１５０間の線分１７０は所定のＸ方向ピッチＰｘ間隔で設けられ、且つ、該各ライン間の複数の線分のＸ方向位置が、該各隣接するライン毎にランダムである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
次いで、本発明のメッシュパターン版の実施の形態の例を図２に挙げて説明する。
図２（ａ）、図２（ｂ）は、それぞれパターン版のメッシュ部の一部を拡大して示した図である。図３（ａ）は図２（ａ）に示すパターン版の一部を拡大して示した図である。
尚、図２はメッシュ部のみ一部拡大して示したもので接地用枠部は示していない。
図２中、２１０、２１１はパターン版、２２１は黒部、２２２は白部で、図１と同様、１５０はライン、１７０は線分、θは交叉角である。
図２に示す例は、図１に示すＰＤＰ等のディスプレイの前面に置き用いられる電磁波シールド用電磁波遮蔽板のメッシュ部をフォトリソグラフィー法によりエッチング加工するためのパターン版で、少なくとも１つのパターン版の中に作成するメッシュ領域の絵柄を全て備えているもので、パターン形状は、所定のピッチＰｙ間隔で互いに平行にＸ方向に沿い設けられた複数のラインと、前記複数のラインの各隣接するラインを繋ぎ、ラインと所定の角θで交叉する複数の線分とからなり、各ライン間の線分は所定のＸ方向ピッチＰｘ間隔で設けられ、且つ、該各ライン間の複数の線分のＸ方向位置が、該各隣接するライン毎にランダムであるメッシュ形状の所定領域を用いたものである。
図２（ａ）に示すパターン２１０は、互いに直交するライン１５０と線分１７０とにより構成するもので、ライン１５０と線分１７０との交叉角θが９０度の場合である。
図２（ｂ）に示すパターン２１１は、互いに斜交するライン１５０と線分１７０とにより構成するもので、ライン１５０と線分１７０との交叉角θが９０度より小の場合である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
図２（ａ）に示すパターン版２１０の形状について、一部拡大して示すと図３（ａ）に示すようになる。
ところで、図３（ａ）に示すようなラインと線分との組合せからなる形状の繰り返し形状のパターンについては、図３（ｂ）の（１）式、（２）式に示すように、Ｙ方向ｍ個目のラインＬｍとＹ方向ｍ＋１個目のラインＬｍ＋１との間で、Ｘ方向がｎ個目の各線分Ｌｎｍの位置Ｐｎｍは求められる。
但し、Ｒｍは０〜Ｐｘの範囲でｍが変わる毎にランダムに変わる変数であり（この結果、各ライン間の複数の線分のＸ方向位置が、該各隣接するライン毎にランダムとなる。）、各線分Ｌｎｍの原点位置（図３ではＰ０点）からＸ方向、Ｙ方向にα、βの所定の位置を線分Ｌｎｍの位置Ｐｎｍとしている。
尚、各線分の原点位置はそれぞれ対応する位置を原点位置としてとれば良い。原点位置のとり方によりα、βの値も変わることは言うまでもない。
図２（ｂ）に示すパターン版２０１については、線分１７０のライン１５０に交叉する角度が図２（ａ）に示すパターン版とは異なるが、Ｘ方向ｎ個目、Ｙ方向ｍ個目の線分Ｌｎｍの位置をＰｎｍとした場合、図２（ａ）（即ち図３の場合）と同様に、ＰｎｍのＸ座標はＲｍ＋α＋（ｎ−１）Ｐｘ、Ｙ座標はβ＋（ｍ−１）ｐｙで表される。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
次いで、パターン版２１０、２１１の製造方法の１例を簡単に説明しておく。
先ず、メッシュ部のパターンについての作成を以下のようにして行う。
図３にて説明したように、各線分１７０の位置ＰｎｍのＸ座標はＲｍ＋α＋（ｎ−１）Ｐｘ、Ｙ座標はβ＋（ｍ−１）ｐｙで表され、且つ、ライン１５０はＹ方向に所定ピックＰ間隔に設けられているため、１つの線分１５０に対応するデータ、および１つのラインに対応するデーターを所定ピッチで送ることにより全パターン領域の絵柄位置を表現できることが分かる。
即ち、ピッチ指定でパターン版の全領域の絵柄を表現できるが、先ず、この特性を利用して、ＣＡＤにて描画用の画像データを作成するには、これらピッチ送りされる数だけ持つ、多数のデータをフラット化してもつ描画データとしておく。
次に、接地用枠部のパターンについては、座標指定により直接ＣＡＤにて描画データを作成しておく。
このようにして、メッシュ部および接地用枠部の描画データを得る。
次いで、得られた描画用データをラスター型の電子線露光機用データに変換し、電子線露光機にて、前述の透明基板の一面に蒸着やスパッタリング等にて形成された金属薄膜上に塗布されたレジストのパターン領域を一括して露光する。
次いで、これを現像して金属薄膜上にパターンに対応したレジスト像を形成し、該レジスト像をマスクとして露出している金属薄膜部分をエッチング除去することにより、パターン版を得る。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
1999121974.tif 000001