【手続補正書】
【提出日】平成16年6月30日(2004.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】粒子線治療システム及び荷電粒子ビーム軌道の調整方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子ビームを設定されたエネルギーまで加速する加速器と、この加速器から出射した荷電粒子ビームを照射する回転式の照射装置とを備え、前記照射装置は、前記加速器から出射した荷電粒子ビームを輸送するビーム輸送手段と、このビーム輸送手段で輸送した荷電粒子ビームの照射野を形成する照射野形成手段とを有する粒子線治療システムにおいて、
前記ビーム輸送手段に設けられた電磁石のうちで最も下流側に設けられた前記電磁石よりも下流側で前記荷電粒子ビームの軌道に沿って配置され、荷電粒子ビームの通過位置を検出する第１ビーム位置検出手段と、
前記第１ビーム位置検出手段より下流側で前記軌道に沿って配置され、荷電粒子ビームの通過位置を検出する第２ビーム位置検出手段と、
前記第１ビーム位置検出手段より上流側の前記ビーム輸送手段に設けられた第１ステアリング電磁石及び第２ステアリング電磁石と、
前記第１及び第２ビーム位置検出手段のそれぞれから出力される各検出信号に基づき、前記第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれによって前記荷電粒子ビームの位置を変位させるそれぞれの変位量を求める変位量算出手段と、
それぞれの前記変位量に基づいて、前記第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれの励磁電流を制御する制御手段とを備えることを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項２】
請求項１記載の粒子線治療システムにおいて、前記照射野形成手段は第１散乱体及び前記第１散乱体の下流側に配置された第２散乱体を有し、前記第１ビーム位置検出手段は前記第２散乱体よりも上流側に配置されることを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項３】
請求項１記載の粒子線治療システムにおいて、前記照射野形成手段は荷電粒子ビームを走査するビーム走査手段を有し、前記第１ビーム位置検出手段は前記ビーム走査手段よりも上流側に配置されることを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項記載の粒子線治療システムにおいて、前記変位量算出手段は、前記第１及び第２ビーム位置検出手段の各検出信号に基づき、前記荷電粒子ビームの位置が前記照射野形成手段内での設定軌道内に入るように前記変位量を求めることを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項記載の粒子線治療システムにおいて、前記変位量算出手段は、少なくとも、前記第１及び第２ステアリング電磁石を含む前記第１ビーム輸送手段の各輸送要素の輸送特性をそれぞれ表す複数の輸送行列を用いた近似モデルにより、前記第１変位量を求めることを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項記載の粒子線治療システムにおいて、前記第１及び第２ステアリング電磁石のうち少なくとも一方が、一の方向へ荷電粒子ビームを変位させる機能と、前記一の方向に垂直な他の方向へその荷電粒子ビームを変位させる機能との両方を備えていることを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項７】
荷電粒子ビームを設定されたエネルギーまで加速する加速器と、この加速器から出射した荷電粒子ビームを照射する回転式の照射装置と、前記加速器から出射した荷電粒子ビームを前記照射装置へ輸送するビーム輸送手段とを備える粒子線治療システムにおいて、
前記ビーム輸送手段における荷電粒子ビームの通過位置を検出する第１ビーム位置検出手段と、
前記第１ビーム位置検出手段より下流側において前記ビーム輸送手段における荷電粒子ビームの通過位置を検出する第２ビーム位置検出手段と、
前記第１ビーム位置検出手段より上流側で前記ビーム輸送手段に設けられた第１ステアリング電磁石及び第２ステアリング電磁石と、
前記第１及び第２ビーム位置検出手段のそれぞれから出力される各検出信号に基づき、前記第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれによって前記荷電粒子ビームの位置を変位させるそれぞれの変位量を求める変位量算出手段と、
それぞれの前記変位量に基づいて、前記第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれの励磁電流を制御する制御手段とを備えることを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項８】
請求項７記載の粒子線治療システムにおいて、前記変位量算出手段は、前記第１及び第２ビーム位置検出手段の各検出信号に基づき、前記荷電粒子ビームの位置が前記照射野形成手段内での設定軌道内に入るように前記変位量を求めることを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項９】
請求項７又は８記載の粒子線治療システムにおいて、前記変位量算出手段は、少なくとも、前記第１及び第２ステアリング電磁石を含む前記ビーム輸送手段の各輸送要素の輸送特性をそれぞれ表す複数の輸送行列を用いた近似モデルにより、前記変位量を求めることを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項１０】
請求項７〜９のいずれか１項記載の粒子線治療システムにおいて、前記第１及び第２ステアリング電磁石のうち少なくとも一方が、一の方向へ荷電粒子ビームを変位させる機能と、前記一の方向に垂直な他の方向へその荷電粒子ビームを変位させる機能との両方を備えていることを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項１１】
荷電粒子ビームを設定されたエネルギーまで加速する加速器と、この荷電粒子ビームを照射する固定式の照射装置と、前記加速器から出射した荷電粒子ビームを前記照射装置に輸送するビーム輸送手段とを備える粒子線治療システムにおいて、
前記ビーム輸送手段に設けられた電磁石のうちで最も下流側に設けられた前記電磁石よりも下流側で前記荷電粒子ビームが通る軌道に沿って配置され、荷電粒子ビームの通過位置を検出する第１ビーム位置検出手段と、  前記第１ビーム位置検出手段より下流側で前記軌道に沿って配置され、荷電粒子ビームの通過位置を検出する第２ビーム位置検出手段と、  前記第１ビーム位置検出手段より上流側の前記ビーム輸送手段に設けられた第１ステアリング電磁石及び第２ステアリング電磁石と、
前記第１及び第２ビーム位置検出手段のそれぞれから出力される各検出信号に基づき、前記第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれによって前記荷電粒子ビームの位置を変位させるそれぞれの変位量を求める変位量算出手段と、
それぞれの前記変位量に基づいて、前記第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれの励磁電流を制御する制御手段とを備えることを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項１２】
請求項１１記載の粒子線治療システムにおいて、前記照射装置は第１散乱体及び前記第１散乱体の下流側に配置された第２散乱体を有し、前記第１ビーム位置検出手段は前記第２散乱体よりも上流側に配置されることを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項１３】
請求項１１記載の粒子線治療システムにおいて、前記照射装置は荷電粒子ビームを走査するビーム走査手段を有し、前記第１ビーム位置検出手段は前記ビーム走査手段よりも上流側に配置されることを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項１４】
荷電粒子ビームを設定されたエネルギーまで加速する加速器と、この加速器から出射した荷電粒子ビームを照射する回転式の照射装置とを備え、前記照射装置
は、前記加速器から出射した荷電粒子ビームを輸送するビーム輸送手段と、このビーム輸送手段で輸送した荷電粒子ビームの照射野を形成する照射野形成手段とを有する粒子線治療システムにおいて、
前記ビーム輸送手段において最も下流側に位置する偏向電磁石よりも下流側で前記荷電粒子ビームの軌道に沿って配置され、荷電粒子ビームの通過位置を検出する第１ビーム位置検出手段と、
前記第１ビーム位置検出手段より下流側で前記軌道に沿って配置され、荷電粒子ビームの通過位置を検出する第２ビーム位置検出手段と、
前記第１ビーム位置検出手段より上流側の前記ビーム輸送手段に設けられた第１ステアリング電磁石及び第２ステアリング電磁石と、
前記第１及び第２ビーム位置検出手段のそれぞれから出力される各検出信号に基づき、前記第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれによって前記荷電粒子ビームの位置を変位させるそれぞれの変位量を求める変位量算出手段と、
それぞれの前記変位量に基づいて、前記第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれの励磁電流を制御する制御手段とを備えることを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項１５】
荷電粒子ビームを設定されたエネルギーまで加速する加速器と、この加速器から出射した荷電粒子ビームを照射する回転式の照射装置とを備え、前記照射装置は、前記加速器から出射した荷電粒子ビームを輸送するビーム輸送手段と、このビーム輸送手段で輸送した荷電粒子ビームの照射野を形成する照射野形成手段とを有する粒子線治療システムにおいて、
前記照射野形成装置は、荷電粒子ビームを走査するビーム走査手段を備え、 前記ビーム走査手段より上流側で前記荷電粒子ビームの軌道に沿って配置され、荷電粒子ビームの通過位置を検出する第１ビーム位置検出手段と、
前記ビーム走査手段より下流側で前記軌道に沿って配置され、荷電粒子ビームの通過位置を検出する第２ビーム位置検出手段と、
前記第１ビーム位置検出手段より上流側の前記ビーム輸送手段に設けられた第１ステアリング電磁石及び第２ステアリング電磁石と、
前記第１及び第２ビーム位置検出手段のそれぞれから出力される各検出信号に基づき、前記第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれによって前記荷電粒子ビームの位置を変位させるそれぞれの変位量を求める変位量算出手段と、
それぞれの前記変位量に基づいて、前記第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれの励磁電流を制御する制御手段とを備えることを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項１６】
荷電粒子ビームを設定されたエネルギーまで加速する加速器と、この加速器から出射した荷電粒子ビームを照射する回転式の照射装置とを備え、前記照射装置は、第１ステアリング電磁石及び第２ステアリング電磁石が設けられて前記加速器から出射した荷電粒子ビームを輸送するビーム輸送手段と、このビーム輸送手段で輸送した荷電粒子ビームの照射野を形成する照射野形成手段とを有する粒子線治療システムにおける荷電粒子ビーム軌道の調整方法であって、
前記ビーム輸送手段における最も下流側に位置する偏向電磁石よりも下流側で前記荷電粒子ビームの第１通過位置を検出し、
前記第１通過位置を検出する位置よりも下流側で前記荷電粒子ビームの第２通過位置を検出し、
検出された前記第１及び第２通過位置に基づき、前記第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれによって前記荷電粒子ビームの位置を変位させるそれぞれの変位量を、変位量算出手段によって算出し、
それぞれの前記変位量に基づいて、前記第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれの励磁電流を制御することを特徴とする荷電粒子ビーム軌道の調整方法。
【請求項１７】
荷電粒子ビームを設定されたエネルギーまで加速する加速器と、この加速器から出射した荷電粒子ビームを照射する回転式の照射装置と、前記加速器から出射した荷電粒子ビームを前記照射装置へ輸送し、第１ステアリング電磁石及び第２ステアリング電磁石が設けられたビーム輸送手段とを備える粒子線治療システムにおける荷電粒子ビーム軌道の調整方法であって、
前記ビーム輸送手段のある位置で前記荷電粒子ビームの第１通過位置を検出し、
前記第１通過位置を検出する位置よりも前記荷電粒子ビーム進行方向における下流側で、前記ビーム輸送手段において荷電粒子ビームの第２通過位置を検出し、
検出された前記第１及び第２通過位置に基づき、前記第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれによって前記荷電粒子ビームの位置を変位させるそれぞれの変位量を、変位量算出手段によって算出し、
それぞれの前記変位量に基づいて、前記第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれの励磁電流を制御することを特徴とする荷電粒子ビーム軌道の調整方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、荷電粒子ビームを用いてガンや腫瘍等を治療する粒子線治療システ
ム及び荷電粒子ビーム軌道の調整方法に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の目的は、ビーム軌道の補正を簡単にかつ素早く行うことができる粒子
線治療システム及び荷電粒子ビーム軌道の調整方法を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】
（１）上記目的を達成するために、本発明は、荷電粒子ビームを設定されたエネルギーまで加速する加速器と、この加速器から出射した荷電粒子ビームを照射する回転式の照射装置とを備え、前記照射装置は、前記加速器から出射した荷電粒子ビームを輸送するビーム輸送手段と、このビーム輸送手段で輸送した荷電粒子ビームの照射野を形成する照射野形成手段とを有する粒子線治療システムにおいて、前記ビーム輸送手段に設けられた電磁石のうちで最も下流側に設けられた前記電磁石よりも下流側で前記荷電粒子ビームの軌道に沿って配置され、荷電粒子ビームの通過位置を検出する第１ビーム位置検出手段と、前記第１ビーム位置検出手段より下流側で前記軌道に沿って配置され、荷電粒子ビームの通過位置を検出する第２ビーム位置検出手段と、前記第１ビーム位置検出手段より上流側の前記ビーム輸送手段に設けられた第１ステアリング電磁石及び第２ステアリング電磁石と、前記第１及び第２ビーム位置検出手段のそれぞれから出力される各検出信号に基づき、前記第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれによって前記荷電粒子ビームの位置を変位させるそれぞれの変位量を求める変位量算出手段と、それぞれの前記変位量に基づいて、前記第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれの励磁電流を制御する制御手段とを備える。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明においては、ビーム輸送手段に設けられた電磁石のうちで最も下流側に設けられた前記電磁石よりも下流側の部分で荷電粒子ビームの通過位置を第１及び第２ビーム位置検出手段で検出し、この検出信号に基づき、変位量算出手段でそれぞれの変位量（例えば、各輸送要素の輸送行列を用いた近似モデルによって第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれによって前記荷電粒子ビームの位置を変位させるそれぞれの変位量）を求め、制御手段で、それぞれの変位量に基づいて、第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれの励磁電流を制御する。このようにして荷電粒子ビームを必要に応じて変位させて設定範囲内（例えば照射野形成手段の設計軌道）とすることができるので、各ステアリング電磁石のキック量を手動操作で変化させつつ試行錯誤にてビーム軌道を補正していた従来構造に比べ、軌道補正のための労力及び時間を大幅に低減でき、簡単かつ素早く荷電粒子ビームの軌道補正を行うことができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
（２）上記（１）において、好ましくは、前記照射野形成手段は第１散乱体及
び前記第１散乱体の下流側に配置された第２散乱体を有し、前記第１ビーム位置検出手段は前記第２散乱体よりも上流側に配置される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
（３）上記（１）において、また好ましくは、前記照射野形成手段は荷電粒子
ビームを走査するビーム走査手段を有し、前記第１ビーム位置検出手段は前記ビーム走査手段よりも上流側に配置される。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
（４）上記（１）〜（３）のいずれか１つにおいて、また好ましくは、前記変位量算出手段は、前記第１及び第２ビーム位置検出手段の各検出信号に基づき、前記荷電粒子ビームの位置が前記照射野形成手段内での設定軌道内に入るように前記第１変位量を求める。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
（５）上記（１）〜（４）のいずれか１つにおいて、また好ましくは、前記変位量算出手段は、少なくとも、前記第１及び第２ステアリング電磁石を含む前記ビーム輸送手段の各輸送要素の輸送特性をそれぞれ表す複数の輸送行列を用いた近似モデルにより、前記変位量を求める。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
（７）上記目的を達成するために、本発明は、荷電粒子ビームを設定されたエネルギーまで加速する加速器と、この加速器から出射した荷電粒子ビームを照射する回転式の照射装置と、前記加速器から出射した荷電粒子ビームを前記照射装置へ輸送するビーム輸送手段とを備える粒子線治療システムにおいて、前記ビーム輸送手段における荷電粒子ビームの通過位置を検出する第１ビーム位置検出手段と、前記第１ビーム位置検出手段より下流側において前記ビーム輸送手段における荷電粒子ビームの通過位置を検出する第２ビーム位置検出手段と、前記第１ビーム位置検出手段より上流側で前記ビーム輸送手段に設けられた第１ステアリング電磁石及び第２ステアリング電磁石と、前記第１及び第２ビーム位置検出手段のそれぞれから出力される各検出信号に基づき、前記第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれによって前記荷電粒子ビームの位置を変位させるそれぞれの変位量を求める変位量算出手段と、それぞれの前記変位量に基づいて、前記第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれの励磁電流を制御する制御手段とを備える。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明においては、回転式の照射装置に荷電粒子ビームを導くビーム輸送手段において荷電粒子ビームの通過位置を第１ビーム位置検出手段で検出し、第１ビーム位置検出手段より下流側においてビーム輸送手段における荷電粒子ビームの通過位置を第２ビーム位置検出手段で検出し、これらの検出信号に基づき、変位量算出手段でそれぞれの変位量（例えば、各輸送要素の輸送行列を用いた近似モデルによって第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれによって荷電粒子ビームの位置を変位させるそれぞれの変位量）を求め、制御手段で、それぞれの変位量に基づいて、前記第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれの励磁電流を制御する。このようにして荷電粒子ビームを必要に応じて変位させて設定範囲内（例えば照射野形成手段の設計軌道）とすることができるので、各ステアリング電磁石のキック量を手動操作で変化させつつ試行錯誤にてビーム軌道を補正していた従来構造に比べ、軌道補正のための労力及び時間を大幅に低減でき、簡単かつ素早く荷電粒子ビームの軌道補正を行うことができる。
（８）上記（７）において、好ましくは、前記変位量算出手段は、前記第１及び第２ビーム位置検出手段の各検出信号に基づき、前記荷電粒子ビームの位置が前記照射野形成手段内での設定軌道内に入るように前記変位量を求める。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
（９）上記（７）又は（８）において、また好ましくは、前記変位量算出手段は、少なくとも、前記第１及び第２ステアリング電磁石を含む前記ビーム輸送手段の各輸送要素の輸送特性をそれぞれ表す複数の輸送行列を用いた近似モデルにより、前記変位量を求める。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
（１０）上記（７）〜（９）のいずれか１つにおいて、また好ましくは、前記
第１及び第２ステアリング電磁石のうち少なくとも一方が、一の方向へ荷電粒子
ビームを変位させる機能と、前記一の方向に垂直な他の方向へその荷電粒子ビー
ムを変位させる機能との両方を備えている。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
（１１）上記目的を達成するために、本発明は、荷電粒子ビームを設定された
エネルギーまで加速する加速器と、この荷電粒子ビームを照射する固定式の照射
装置と、前記加速器から出射した荷電粒子ビームを前記照射装置に輸送するビー
ム輸送手段とを備える粒子線治療システムにおいて、前記ビーム輸送手段に設け
られた電磁石のうちで最も下流側に設けられた前記電磁石よりも下流側で前記荷
電粒子ビームが通る軌道に沿って配置され、荷電粒子ビームの通過位置を検出す
る第１ビーム位置検出手段と、前記第１ビーム位置検出手段より下流側で前記軌
道に沿って配置され、荷電粒子ビームの通過位置を検出する第２ビーム位置検出
手段と、前記第１ビーム位置検出手段より上流側の前記ビーム輸送手段に設けら
れた第１ステアリング電磁石及び第２ステアリング電磁石と、前記第１及び第２
検出手段のそれぞれから出力される各検出信号に基づき、前記第１及び第２ステ
アリング電磁石のそれぞれによって前記荷電粒子ビームの位置を変位させるそれぞれの変位量を求める変位量算出手段と、それぞれの前記変位量に基づいて、前記第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれの励磁電流を制御する制御手段とを有する。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
（１２）上記（１１）において、好ましくは、前記照射装置は第１散乱体及び
前記第１散乱体の下流側に配置された第２散乱体を有し、前記第１ビーム位置検出手段は前記第２散乱体よりも上流側に配置される。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
（１３）上記（１１）において、また好ましくは、前記照射装置は荷電粒子ビ
ームを走査するビーム走査手段を有し、前記第１ビーム位置検出手段は前記ビーム走査手段よりも上流側に配置される。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
図１は、本実施形態の粒子線治療システムの全体構成を表すシステム構成図で
ある。なお、全体構成の理解の容易化のために、側面図として表す回転照射装置
１０３（後述）側の構成と、平面図として表すそれ以外の主加速器１０１（後述
）側の構成とを同一図として便宜的に示している。これに対応し、誤解防止のた
めに、ビーム進行方向への座標軸ｓ軸、ｓ軸に直角な座標軸ｘ及びこれらｘ軸及びｓ軸に直角な方向のｙ軸を併せて示している。また、図示煩雑を防止するために、一部の信号の流れの図示を省略している。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３７】
【発明の効果】
請求項１記載の発明によれば、第１及び第２ビーム位置検出手段のそれぞれから出力される各検出信号に基づき、変位量算出手段で、照射装置のビーム輸送手段に設けられた第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれによって荷電粒子ビームの位置を変位させるそれぞれの変位量を求め、制御手段でそれぞれの変位量に基づいて、第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれの励磁電流を制御し、荷電粒子ビームの位置を必要に応じて変位させて設定範囲内にすることができる。したがって、従来構造に比べ、軌道補正のための労力及び時間を大幅に低減でき、簡単かつ素早く荷電粒子ビームの軌道補正を行うことができる。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３８】
請求項７記載の発明によれば、第１及び第２ビーム位置検出手段のそれぞれから出力される各検出信号に基づき、変位量算出手段で、加速器から照射装置に荷電粒子ビームを導くビーム輸送手段に設けられた第１及び第２ステアリング電磁石のそれぞれによって荷電粒子ビームの位置を変位させるそれぞれの変位量を求め、制御手段でそれぞれの変位量に基づいて、第１及び第２ステアリング電磁石
のそれぞれの励磁電流を制御し、荷電粒子ビームの位置を必要に応じて変位させ
て設定範囲内にすることができる。したがって、従来構造に比べ、軌道補正のた
めの労力及び時間を大幅に低減でき、簡単かつ素早く荷電粒子ビームの軌道補正を行うことができる。