【手続補正書】
【提出日】平成15年12月25日(2003.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の式(Ｉ)：
【化１】
2004528333.tif 000001
[上式中：
−  ｎは３、４又は５であり、
−  Ｒは未置換で直鎖状のＣ１-Ｃ４アルキル基及び／又は未置換のアリール基以外であって：
−  複素環及び／又は-ＮＲ１Ｒ２基及び／又は-ＳＲ１基及び／又は-ＯＲ１基及び／又はヒドロキシル基(-ＯＨ)及び／又はアラルキル基及び／又はアリール基の少なくとも一つで置換されていてもよい直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ８アルキル基で、Ｒ１及びＲ２が直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ４アルキル基を表すもの、
−  Ｒ１及びＲ２が直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ４アルキル基、フェニル基又はベンジル基を表す-ＮＲ１Ｒ２基及び／又は-ＳＲ１基及び／又は-ＯＲ１基及び／又はヒドロキシル基(-ＯＨ)及び／又はアルキル基の少なくとも一つで置換されていてもよい複素環又はアリール又はアルキルアリール又はアリールアルキル基、
を表す]
に相当する、３-アルキル(４,５-ジフェニルイミダゾル-１-イル)ファミリーの化合物あるいはその生理学的に許容可能な塩又はその光学もしくは幾何異性体。
【請求項２】
−  ３-ベンジルオキシプロピル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ４-ベンジルオキシブチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ５-ベンジルオキシペンチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ３-(２-テトラヒドロ-２Ｈ-ピラノキシ)プロピル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ４-(２-テトラヒドロ-２Ｈ-ピラノキシ)ブチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ５-(２-テトラヒドロ-２Ｈ-ピラノキシ)ペンチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ３-(２-メトキシエトキシ)プロピル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ４-(２-メトキシエトキシ)ブチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ５-(２-メトキシエトキシ)ペンチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ３-(２-エトキシエトキシ)プロピル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ４-(２-エトキシエトキシ)ブチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ５-(２-エトキシエトキシ)ペンチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ３-(２-プロピルオキシエトキシ)プロピル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ４-(２-プロピルオキシエトキシ)ブチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ５-(２-プロピルオキシエトキシ)ペンチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ３-(メトキシメトキシ)プロピル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ４-(メトキシメトキシ)ブチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ５-(メトキシメトキシ)ペンチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ３-(エトキシメトキシ)プロピル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ４-(エトキシメトキシ)ブチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ５-(エトキシメトキシ)ペンチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ３-(プロピルオキシメトキシ)プロピル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ４-(プロピルオキシメトキシ)ブチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ５-(プロピルオキシメトキシ)ペンチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ３-(３-メトキシプロピルオキシ)プロピル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ４-(３-メトキシプロピルオキシ)ブチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ５-(３-メトキシプロピルオキシ)ペンチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ３-(３-エトキシプロピルオキシ)プロピル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ４-(３-エトキシプロピルオキシ)ブチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ５-(３-エトキシプロピルオキシ)ペンチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ３-(３-プロピルオキシプロピルオキシ)プロピル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ４-(３-プロピルオキシプロピルオキシ)ブチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ５-(３-プロピルオキシプロピルオキシ)ペンチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ３-(２,３,４-トリメトキシベンジルオキシ)プロピル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ４-(２,３,４-トリメトキシベンジルオキシ)ブチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ５-(２,３,４-トリメトキシベンジルオキシ)ペンチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ３-(３,４-ジメトキシベンジルオキシ)プロピル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ４-(３,４-ジメトキシベンジルオキシ)ブチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ５-(３,４-ジメトキシベンジルオキシ)ペンチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ３-(３-メトキシベンジルオキシ)プロピル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ４-(３-メトキシベンジルオキシ)ブチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ５-(３-メトキシベンジルオキシ)ペンチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ３-(４-メトキシベンジルオキシ)プロピル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ４-(４-メトキシベンジルオキシ)ブチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ５-(４-メトキシベンジルオキシ)ペンチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ３-(３-ピリジルメトキシ)プロピル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ４-(３-ピリジルメトキシ)ブチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ５-(３-ピリジルメトキシ)ペンチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ３-(４-ベンジルオキシ-３-メトキシベンジルオキシ)プロピル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ４-(４-ベンジルオキシ-３-メトキシベンジルオキシ)ブチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ５-(４ベンジルオキシ-３-メトキシベンジルオキシ)ペンチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ３-(１-ナフタレンメトキシ)プロピル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ４-(１-ナフタレンメトキシ)ブチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ５-(１-ナフタレンメトキシ)ペンチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
から選択される、請求項１に記載の式(Ｉ)の化合物。
【請求項３】
ｎが３又は４に等しいことを特徴とする請求項１に記載の式(Ｉ)の化合物。
【請求項４】
Ｒがベンジル基を示すことを特徴とする、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の式(Ｉ)の化合物。
【請求項５】
−  ３-ベンジルオキシプロピル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
−  ４-ベンジルオキシブチル(４,５-ジフェニルイミダゾル)-１-イル；
から選択される、請求項１ないし４のいずれか１項に記載の式(Ｉ)の化合物。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の式(Ｉ)の化合物の調製方法において、本質的に：
ａ）好ましくはアセトニトリル、アセトン、テトラヒドロフラン(ＴＨＦ)及びジメチルホルムアミド(ＤＭＦ)から選択される非プロトン性有機溶媒に、４,５-ジフェニルイミダゾールを溶解させ；
ｂ）１〜１０当量の量で有機又は無機塩基を添加し；
ｃ）１〜５当量の量でハロゲン化アルキルを添加し；
ｄ）５０℃〜８５℃の温度で、６時間〜４８時間加熱し；
ｅ）室温まで冷却した後、反応媒体を真空下で蒸発乾固させ；
ｆ）水に残渣を溶解させ；
ｇ）酢酸エチル、ジクロロメタン及びジエチルエーテルから選択される有機溶媒で水溶液を抽出し；
ｈ）有機相を乾燥蒸発させて乾固させ；
ｉ）場合によっては残渣を精製する；
工程からなることを特徴とする方法。
【請求項７】
工程ａ）において、非プロトン性有機溶媒がアセトニトリルであることを特徴とする、請求項６に記載の調製方法。
【請求項８】
工程ｂ）において、塩基が無機塩基であることを特徴とする、請求項６に記載の調製方法。
【請求項９】
工程ｂ）において、無機塩基が炭酸カリウム、炭酸カルシウム及び炭酸ナトリウムから選択されることを特徴とする、請求項６又は８に記載の調製方法。
【請求項１０】
工程ｂ）において、塩基が無機塩基であり、さらに炭酸カリウムであることを特徴とする、請求項６、８及び９のいずれか１項に記載の調製方法。
【請求項１１】
工程ｂ）において、１〜３当量、有利には２当量の塩基が添加されることを特徴とする、請求項６、８及び９のいずれか１項に記載の調製方法。
【請求項１２】
工程ｃ）において、１．５当量のハロゲン化アルキルが添加されることを特徴とする、請求項６ないし１１のいずれか１項に記載の調製方法。
【請求項１３】
工程ｄ）において、混合物が７０℃〜８５℃の温度に加熱されることを特徴とする、請求項６ないし１２のいずれか１項に記載の調製方法。
【請求項１４】
工程ｄ）において、混合物が１２時間〜３０時間加熱されることを特徴とする、請求項６ないし１３のいずれか１項に記載の調製方法。
【請求項１５】
工程ｄ）において、混合物が２４時間加熱されることを特徴とする、請求項６ないし１４のいずれか１項に記載の調製方法。
【請求項１６】
工程ｇ）において、有機溶媒が酢酸エチルであることを特徴とする、請求項６ないし１５のいずれか１項に記載の調製方法。
【請求項１７】
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の式(Ｉ)の化合物の調製方法において、本質的に：
ａ）ジメチルホルムアミド(ＤＭＦ)、ジメチルスルホキシド(ＤＭＳＯ)及びジメチルアセトアミド(ＤＭＡｃ)から選択される両性の非プロトン性溶媒に、４,５-ジフェニルイミダゾールを溶解させ；
ｂ）０．９〜１．５当量の量で有機又は無機塩基を不活性雰囲気下で添加し；
ｃ）２５℃〜１００℃の温度で、３０分〜１０時間、反応媒体を攪拌し；
ｄ）１〜３当量の量でハロゲン化アルキルを添加し；
ｅ）１〜３当量の量でヨウ化カリウム又はヨウ化ナトリウムを添加し；
ｆ）２５℃〜１００℃の温度で、５時間〜２４時間加熱し；
ｇ）ジクロロメタン及びクロロホルムから選択される有機溶媒に反応媒体を溶解させ；
ｈ）水及び重炭酸塩で有機相を洗浄し、乾燥蒸発させて乾固させ；
ｉ）場合によっては残渣を精製する；
工程からなることを特徴とする方法。
【請求項１８】
工程ａ）において、非プロトン性有機溶媒がＤＭＦであることを特徴とする、請求項１７に記載の調製方法。
【請求項１９】
工程ｂ）において、塩基が無機塩基であることを特徴とする、請求項１７又は１８に記載の調製方法。
【請求項２０】
工程ｂ）において、無機塩基が水素化ナトリウム(ＮａＨ)及びブチルリチウム(ＢｕＬｉ)から選択されることを特徴とする、請求項１９に記載の調製方法。
【請求項２１】
工程ｂ）において、塩基が無機塩基であり、水素化ナトリウムであることを特徴とする、請求項１９又は２０に記載の調製方法。
【請求項２２】
工程ｂ）において、１．０〜１．１当量、有利には１．０当量の塩基が添加されることを特徴とする、請求項１７ないし２１のいずれか１項に記載の調製方法。
【請求項２３】
工程ｃ）において、温度が５０℃であり、１時間〜２時間、好ましくは１時間であることを特徴とする、請求項１７ないし２２のいずれか１項に記載の調製方法。
【請求項２４】
工程ｄ）において、１〜２当量、有利には１．２当量のハロゲン化アルキルが添加されることを特徴とする、請求項１７ないし２３のいずれか１項に記載の調製方法。
【請求項２５】
工程ｅ）において、１〜２当量、有利には１．２当量のヨウ化カリウム又はヨウ化ナトリウムが添加されることを特徴とする、請求項１７ないし２４のいずれか１項に記載の調製方法。
【請求項２６】
工程ｆ）において、混合物が４０℃〜６０℃、好ましくは５０℃の温度で、１０時間〜２０時間、好ましくは１５時間加熱されることを特徴とする、請求項１７ないし２５のいずれか１項に記載の調製方法。
【請求項２７】
工程ｇ）において、有機溶媒がジクロロメタンであることを特徴とする、請求項１７ないし２６のいずれか１項に記載の調製方法。
【請求項２８】
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の少なくとも一の式(Ｉ)の化合物を含有する組成物。
【請求項２９】
化粧品的又は製薬的用途を意図していることを特徴とする請求項２８に記載の組成物。
【請求項３０】
組成物の全重量に対して０．００１％〜２０％の量、好ましくは組成物の全重量に対して０．０１％〜５％の量で、少なくとも一の式(Ｉ)の化合物を含有していることを特徴とする、請求項２８又は２９に記載の化粧品用組成物。
【請求項３１】
抗菌剤、駆虫剤、抗真菌剤、抗ウィルス剤、抗炎症剤、止痒剤、麻酔剤、角質溶解剤、フリーラジカル捕捉剤、抗脂漏剤、抗フケ剤、抗ざ瘡剤及び／又は皮膚の分化及び／又は増殖及び／又は色素沈着を低減する薬剤、毛髪の再成長における活性を改善し、及び／又は抜毛を停止させるための薬剤、及び植物及び／又は細菌由来の抽出物から選択される少なくとも一の薬剤をさらに含有していることを特徴とする、請求項２８ないし３０のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項３２】
抗炎症剤が、ステロイド系又は非ステロイド系の抗炎症剤から選択されることを特徴とする請求項３１に記載の組成物。
【請求項３３】
化粧品的又は製薬的に許容可能な媒体中に、刺激性副作用を有する少なくとも一の生成物と、請求項１ないし５のいずれか１項に記載の式(Ｉ)に相当する３-アルキル(４,５-ジフェニルイミダゾル-１-イル)ファミリーの少なくとも一の化合物を含有せしめてなることを特徴とする化粧品用又は製薬用組成物。
【請求項３４】
刺激性副作用を有する生成物が、イオン性又は非イオン性の界面活性剤、防腐剤、有機溶媒又は活性剤、α-ヒドロキシ酸、β-ヒドロキシ酸、α-ケト酸、β-ケト酸、レチノイド類、アントラリン類、アントラノイド類、過酸化物、ミノキシジル、リチウム塩、代謝拮抗物質、ビタミンＤとその誘導体、毛髪用染料又は毛髪用着色料、芳香性アルコール溶液、制汗剤、脱毛用活性剤、パーマネントウエーブ用活性剤、及び色素脱失活性剤から選択されることを特徴とする請求項３３に記載の組成物。
【請求項３５】
鎮静組成物中への又は鎮静組成物の調製のための、生理学的に許容可能な媒体中の、請求項１ないし５のいずれか１項に記載の式(Ｉ)に相当する３-アルキル(４,５-ジフェニルイミダゾル-１-イル)ファミリーの少なくとも一の化合物の使用。
【請求項３６】
化合物又は組成物が、敏感肌、不快感、突っ張り感、掻痒、刺激、発赤、温熱感及び／又は炎症感、有利には過敏性及び／又は炎症性及び／又は反応性及び／又は不耐性、特に刺すような痛み、チクチクする痛み、掻痒又は痒み、炎症感、不快感、突っ張り感等のある皮膚及び／又は頭皮及び／又は粘膜の徴候等から選択される、皮膚障害の緩和を意図していることを特徴とする請求項３５に記載の使用。
【請求項３７】
化粧品用組成物中への又は製薬用組成物の調製のための、生理学的に許容可能な媒体中の、請求項１ないし５のいずれか１項に記載の式(Ｉ)の３-アルキル(４,５-ジフェニルイミダゾル-１-イル)ファミリーの少なくとも一の化合物の使用であって、化合物又は組成物が男性における自然な抜毛、有利にはアンドロゲン性脱毛症を低減し及び／又は安定化させることを意図している使用。
【請求項３８】
式(Ｉ)に相当する少なくとも一の化合物を含有する化粧品用組成物を、皮膚及び／又は粘膜及び／又は頭皮に適用し、皮膚及び／又は粘膜及び／又は頭皮と接触させて放置し、場合によってはすすぐことからなることを特徴とする、敏感肌、不快感、突っ張り感、掻痒、刺激、発赤、温熱感及び／又は炎症感、有利には過敏性及び／又は炎症性及び／又は反応性及び／又は不耐性の皮膚及び／又は頭皮及び／又は粘膜の徴候から選択される少なくとも一の皮膚障害の緩和を意図した、皮膚及び／又は頭皮及び／又は粘膜の美容処理方法。
【請求項３９】
過敏性及び／又は炎症性及び／又は反応性及び／又は不耐性の皮膚及び／又は頭皮及び／又は粘膜用であることを意図していることを特徴とする、請求項３８に記載の美容処理方法。
【請求項４０】
男性における自然な抜毛の美容処理を意図していることを特徴とする、請求項３８又は３９に記載の美容処理方法。