(57)【要約】  本発明は、ハードコート性、および透視解像性を維持しながら、干渉ムラが目立たない光学用フィルムを提供する。  光学用フィルムは、基材層２１と、ハードコート性を有する樹脂層２３との間に下引き層２２を配置する。基材層２１の屈折率をｎａ、下引き層２２の屈折率をｎｂ、樹脂層２３の屈折率をｎｃとした場合に、ｎａ≦ｎｂ≦ｎｃまたはｎａ≧ｎｂ≧ｎｃの関係を満たす（但し、ｎａ≠ｎｃ）。基材層２１の屈折率ｎａと樹脂層２３の屈折率ｎｂの差が０．５以内である。これにより、隣接する層の屈折率差を小さくすることができるため、干渉ムラを抑制でき、透視解像性を維持できる。
2008041506.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材層の少なくとも一方の面に下引き層、樹脂層が順次積層された光学用フィルムであって、基材層の屈折率をｎａ、下引き層の屈折率をｎｂ、樹脂層の屈折率をｎｃとした場合に、ｎａ≦ｎｂ≦ｎｃまたはｎａ≧ｎｂ≧ｎｃの関係を満たし（但し、ｎａ≠ｎｃ）、基材層の屈折率と樹脂層の屈折率の差が０．５以内であることを特徴とする光学用フィルム。
【請求項２】
隣接する層の屈折率の差が０．２以内であることを特徴とする請求項１記載の光学用フィルム。
【請求項３】
前記下引き層のＪＩＳ  Ｋ６７６８：１９９９で規定されているぬれ張力が、４０ｍＮ／ｍ以上であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学用フィルム。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項記載の光学用フィルムのＪＩＳ  Ｋ７１０５：１９８１で規定されているヘーズが、５％以下であることを特徴とする光学用フィルム。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項記載の光学用フィルムにおいて、前記樹脂層は、ハードコート層であることを特徴とする光学用フィルム。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項記載の光学用フィルムにおいて、前記基材層、下引き層および樹脂層の屈折率の関係は、前記ｎａ≧ｎｂ≧ｎｃの関係であり（但し、ｎａ≠ｎｃ）、前記基材層の屈折率は１．４５以上１．７５以下、前記下引き層の屈折率は１．４０以上１．７０以下、前記樹脂層の屈折率は１．３５以上１．６５以下であることを特徴とする光学用フィルム。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項記載の光学用フィルムと、該光学用フィルムの少なくとも一方の面に配置された透明導電膜とを有することを特徴とする透明導電性部材。
【請求項８】
少なくとも片面に透明導電膜が設けられた２枚の透明電極基板が、互いの透明導電膜同士が向き合うように配置されて構成された透明タッチパネルにおいて、前記透明電極基板のうち少なくとも一方として請求項７記載の透明導電性部材を用いたことを特徴とする透明タッチパネル。
【請求項９】
請求項８に記載の透明タッチパネルにおいて、前記２枚の透明電極基板のうち一方は可動電極基板であり、他方は固定電極基板であり、前記可動電極基板として請求項７記載の透明導電性部材を用いたことを特徴とする透明タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードコート性、および透視解像性を維持しながら、干渉縞を抑制した光学用フィルム、及びそれを用いた透明導電性部材、透明タッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、画像表示素子として液晶表示装置が注目されている。液晶表示装置は、携帯用の電子手帳、情報端末などへ応用され、例えば、携帯用の電子手帳、情報端末などへの入力装置として用いられている。入力装置として液晶表示素子を用いる場合、液晶表示素子の上に透明なタッチパネルを載せた構造が採用される。特に、価格などの点から抵抗膜方式のタッチパネルが一般に用いられている。【０００３】
抵抗膜方式のタッチパネルは、透明導電性フィルムと透明導電膜付ガラスとを適当なギャップで隔てて配置した構造のものが一般に用いられる。透明導電性フィルムが、指やペンで押下されることにより対向する透明導電膜付ガラスに接触し、両者が通電する。これにより、押下されたことが電気的に検出される。【０００４】
透明導電性フィルムとしては、プラスチックフィルム等の基材フィルムの下面（透明導電膜付きガラスに対向する面）にインジウム−スズ酸化物（以下、「ＩＴＯ」という）等の透明導電膜を形成したものが一般に用いられている。基材フィルムとしては、透明高分子フィルムの表面に透明ハードコート膜を設けた透明ハードコートフィルムが用いられる。透明ハードコートフィルムを透明導電性フィルムの基材フィルムとして用いることにより、透明導電性フィルムの耐久性を向上させることができる。【０００５】
一方、携帯用の電子手帳、情報端末などの入力装置が使用される環境では、照明として三波長蛍光灯が用いられることが多い。三波長蛍光灯は、特定の三波長の発光強度が大きく、物がはっきり見えるという特性があるためである。【０００６】
しかし、特許文献１に記載されているように、現状のタッチパネル等に組み込まれた透明ハードコートフィルムは、透明ハードコート膜の厚みムラに起因する干渉縞が生じることがあり、特に、三波長蛍光灯を照明とする環境では、干渉縞が目立つという問題が発生している。このような干渉縞は、透明ハードコートフィルムを構成する透明高分子フィルムと透明ハードコート膜の屈折率を同じにすることにより解消できるが、透明ハードコート膜のハードコート性を維持しながら、屈折率を調整することは難しい。また、透明ハードコート膜にマット剤を含有させて、その表面を凹凸面にすることにより、干渉縞を目立たなくすることも可能であるが、透明ハードコートフィルムを介して観察される像の解像性（透視解像性）が低下する。特許文献１では、透明ハードコート膜の色相と彩度を調整することにより、干渉縞を抑制することを開示している。【０００７】
特許文献２では、ハードコート膜の上に設ける反射防止層の厚みムラにより、反射防止層で干渉縞が発生するのを抑制するために、反射防止層を所定の屈折率範囲の高屈折率層と低屈折率層の２層構造とすることを開示している。【０００８】
【特許文献１】特開２００３−３３４８９１号公報（背景技術）
【特許文献２】特開２００５−２５７８４０号公報（背景技術）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、ハードコート性、および透視解像性を維持しながら、干渉縞が目立たない光学用フィルムを提供することを目的とする。また、この光学用フィルムを基材として用いた透明導電性部材を提供することを目的とする。さらに、この透明導電性部材を用いたタッチパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らが鋭意研究した結果、光学用フィルムを構成する各層の屈折率を特定の関係にすることによって、干渉縞を目立たなくさせることができることを見出し、上記課題を解決するに至った。【００１１】
即ち、本発明の光学用フィルムは、基材層の少なくとも一方の面に下引き層、樹脂層が順次積層された光学用フィルムであって、基材層の屈折率をｎａ、下引き層の屈折率をｎｂ、樹脂層の屈折率をｎｃとした場合に、ｎａ≦ｎｂ≦ｎｃまたはｎａ≧ｎｂ≧ｎｃの関係を満たし（但し、ｎａ≠ｎｃ）、基材層の屈折率と樹脂層の屈折率の差が０．５以内であることを特徴とするものである。【００１２】
また、本発明の光学用フィルムは、例えば、隣接する層の屈折率の差が０．２以内であることを特徴とするものである。【００１３】
また、本発明の光学用フィルムは、例えば、前記下引き層のＪＩＳ  Ｋ６７６８：１９９９で規定されているぬれ張力が、４０ｍＮ／ｍ以上であることを特徴とするものである。【００１４】
また、本発明の光学用フィルムは、例えば、ＪＩＳ  Ｋ７１０５：１９８１で規定されているヘーズが５％以下であることを特徴とするものである。【００１５】
また、本発明の光学用フィルムは、例えば、樹脂層がハードコート層であることを特徴とするものである。【００１６】
本発明の光学用フィルムは、例えば、前記基材層、下引き層および樹脂層の屈折率の関係がｎａ≧ｎｂ≧ｎｃであり（但し、ｎａ≠ｎｃ）、基材層の屈折率は１．４５以上１．７５以下、下引き層の屈折率は１．４０以上１．７０以下、樹脂層の屈折率は１．３５以上１．６５以下であることを特徴とするものである。【００１７】
また、本発明の透明導電性部材は、上記光学用フィルムの少なくとも一方の面に透明導電膜を有することを特徴とするものである。【００１８】
さらに、本発明の透明タッチパネルは、少なくとも片面に透明導電膜が設けられた２枚の透明電極基板が、互いの透明導電膜同士が向き合うように配置されて構成された透明タッチパネルであって、透明電極基板のうち少なくとも一方として上記透明導電性部材を用いたことを特徴とするものである。【００１９】
また、本発明の透明タッチパネルは、例えば、２枚の透明電極基板のうち一方は可動電極基板であり、他方は固定電極基板であり、可動電極基板として上記透明導電性部材を用いたことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、ハードコート性、および透視解像性を維持しながら、光学用フィルムを構成する各層の屈折率を特定の関係にすることによって、干渉ムラを目立たなくした光学用フィルムおよび光学用フィルムを基材として用いた透明導電性部材を提供することができる。さらに、この透明導電性部材を用いたタッチパネルを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明の光学用フィルムの実施の形態について説明する。
本発明の光学用フィルム２は、図１に示したように、基材層２１と、基材層２１の少なくとも一方の面に配置された下引き層２２と、下引き層２２の上に積層された樹脂層２３とを有している。樹脂層２３は、ハードコート性を有する層である。３層の屈折率は、所定の関係を有するように設計されている。具体的には、基材層２１の屈折率をｎａ、下引き層２２の屈折率をｎｂ、樹脂層２３の屈折率をｎｃとした場合に、ｎａ≦ｎｂ≦ｎｃまたはｎａ≧ｎｂ≧ｎｃの関係を満たし（但し、ｎａ≠ｎｃ）、基材層２１の屈折率と樹脂層２３の屈折率の差が０．５以内となるように設計されている。【００２２】
このように、基材層２１と樹脂層２３との間に、下引き層２２が配置され、基材層２１、下引き層２２、樹脂層２３の屈折率が、上記の関係を満たす場合、３層の界面の屈折率差が小さくなるため、樹脂層２３の厚みムラに起因する干渉を抑制できる。これにより、干渉縞および干渉縞による色ムラ（以下干渉ムラと称する）を目立たなくすることができる。ｎａ≦ｎｂ≦ｎｃまたはｎａ≧ｎｂ≧ｎｃの関係を満たしていても、基材層２１と樹脂層２３の屈折率の差が０．５より大きくなると、各層の界面で起こる屈折率変化が大きくなり、干渉ムラを抑制できない。【００２３】
さらに好ましくは、基材層２１、下引き層２２および樹脂層２３は、隣接する層の屈折率の差が０．２以内であることが望ましい。このように隣接する層の屈折率の差を小さくすることで干渉ムラの抑制にさらに有利となる。【００２４】
特に、各層の屈折率は、ｎａ≧ｎｂ≧ｎｃに設計することが好ましい。具体的には、基材層の屈折率は１．４５以上１．７５以下、下引き層の屈折率は、１．４０以上１．７０以下、樹脂層の屈折率を１．３５以上１．６５以下の範囲とすることが好ましい。【００２５】
下引き層２２は、樹脂層２３のハードコート性を低下させる要因となるのを防止するために、単層とすることが望ましく、その材質および厚さを適切に設計する。また、下引き層２２の材質および厚さを適切に設計することにより、基材層２１と樹脂層２３との密着性を向上させる作用を生じさせることが可能になる。【００２６】
一般に、干渉ムラを抑制するため、ハードコート性を有する樹脂層２３をフッ素樹脂などから形成し、基材層２１と樹脂層２３の屈折率を小さくすることが考えられるが、樹脂層２３が脆くなりやすく、基材層２１との密着性も低下するため好ましくない。また、一般に基材層２１の方が樹脂層２３よりも屈折率が大きいため、両者の屈折率差を小さくするために金属等のような屈折率の高い物質を混合することにより樹脂層２３の屈折率を高くすることも考えられるが、ハードコート性の低下を招くため好ましくない。本発明では、下引き層２２を配置し、３層の屈折率差を適切に設定することにより、このような問題を生じさせることなく、干渉ムラを抑制する。【００２７】
本発明の光学用フィルムの基材層２１としては、透過率の高いものであれば良く、例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、ポリウレタンアクリレート系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、アセタール系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、環状オレフィンなどの１種もしくは２種以上を混合した透明性に優れる高分子フィルムが用いられる。特に二軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルムが機械的強度、寸法安定性に優れているため好適に使用することができる。また、耐熱性が必要な用途においては、耐熱性が優れるポリエチレンナフタレートを好適に使用することができる。基材の厚みとしては、取り扱う上で支障のない厚みであれば特に限定されるものではないが、１０μｍ〜５００μｍ程度、好ましくは、１２μｍ〜３５０μｍである。【００２８】
下引き層２２は、基材層２１の少なくとも一方の面に設けられていれば良く、基材層２１の両面に設けられていても良い。下引き層２２は、例えば、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂から形成する。下引き層２２の厚みとしては、０．０３〜１μｍ程度が好ましい。０．０３μｍ以上とするのは、基材層２１や樹脂層２３との密着性を向上させることができるためであり、１μｍ以下とするのは、下引き層２２の厚みムラによる干渉ムラを抑制するためであり、さらに、樹脂層２３のハードコート性を低下させないためである。【００２９】
下引き層２２に用いられる熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂としては、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、ポリウレタンアクリレート系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、アセタール系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂などの１種若しくは２種以上を使用することができる。【００３０】
また、下引き層２２は、ＪＩＳ  Ｋ６７６８：１９９９で規定されているぬれ張力が、４０ｍＮ／ｍ以上であることが好ましい。ぬれ張力を４０ｍＮ／ｍ以上とすることにより、樹脂層２３がムラなく均一で平滑な塗膜となるため、樹脂層２３の厚みムラに起因する干渉ムラを抑制できる。また、基材層２１と樹脂層２３との密着性不良を抑制することができる。また、干渉ムラを防止することにより、反射模様による透視解像性が悪くなることを防止することができる。なお、ぬれ張力は、樹脂の本来の性質により４０ｍＮ／ｍ以上となるものに限られない。下引き層２２の表面にコロナ放電処理等を施すことによりぬれ張力を高め、４０ｍＮ／ｍ以上にしたものであってもよい。【００３１】
樹脂層２３としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂などの樹脂を用いることができる。特に、電離放射線硬化性樹脂から形成した場合には、表面硬度等に代表されるハードコート性を発揮できるため好ましい。樹脂層２３は、光学用フィルムとしたときの表面硬度が、Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上である場合にはより好ましい。Ｈより小さい場合には傷が付きやすくなり好ましくない。【００３２】
光学用フィルムの用途が、視認性および透過性を著しく求められる用途である場合には、樹脂層２３中に顔料を添加しないことが望ましい。視認性および透過性の低下の要因となり、さらには、光沢感などの意匠性も損なわせるためである。例えば、光学用フィルムとしたときのＪＩＳ  Ｋ７１０５：１９８１で規定されているヘーズが、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがさらに好ましい。【００３３】
樹脂層２３を構成する熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂としては、上述の下引き層２２に用いられる樹脂を用いることができる。電離放射線硬化性樹脂としては、電離放射線（紫外線または電子線）の照射によって架橋硬化することができる光重合性プレポリマーを用いることができ、この光重合性プレポリマーとしては、１分子中に２個以上のアクリロイル基を有し、架橋硬化することにより３次元網目構造となるアクリル系プレポリマーが特に好ましく使用される。このアクリル系プレポリマーとしては、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、メラミンアクリレート、ポリフルオロアルキルアクリレート、シリコーンアクリレート等が使用できる。さらにこれらのアクリル系プレポリマーは単独でも使用可能であるが、架橋硬化性を向上させ表面保護膜の硬度をより向上させるために、光重合性モノマーを加えることが好ましい。【００３４】
光重合性モノマーとしては、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート等の単官能アクリルモノマー、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート等の２官能アクリルモノマー、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等の多官能アクリルモノマー等の１種若しくは２種以上が使用される。【００３５】
電離放射線硬化性樹脂を、紫外線照射によって硬化させる場合には、上述した光重合性プレポリマー及び光重合性モノマーの他、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を用いることが好ましい。【００３６】
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等があげられる。【００３７】
また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合障害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルなどがあげられる。【００３８】
また、下引き層２２と樹脂層２３の各層を構成する樹脂は、主成分となる樹脂の溶解度係数が相互に近いものを選択することが、層間の密着性を向上させるため好ましい。特に、溶解度係数の差が１以内のものが好ましい。例えば、樹脂層２３に電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、電離放射線硬化性樹脂を構成するプレポリマーの主たるオリゴマー成分の溶解度係数と、下引き層２２の主たる樹脂を構成するモノマー成分の溶解度係数の差が、１以内になるように樹脂を選択する。具体的には、樹脂層２３を形成する電離放射線硬化性樹脂のオリゴマー成分がウレタンアクリレートの場合、その溶解度係数は１０であるから、この溶解度係数１０との差が１以内の飽和ポリエステル樹脂によって下引き層２２を形成することができる。【００３９】
また、樹脂層２３の厚みは、使用する樹脂などにより異なるが、ハードコート性を発揮させるために、０．５μｍ〜１５μｍ、さらには２μｍ〜１０μｍ程度とするのが好ましい。樹脂層２３の厚みを０．５μｍ以上とすることにより、十分なハードコート性を付与することができるためである。また、１５μｍ以下とすることにより、樹脂層の硬化収縮によるカールの発生を防止することができ、また、紫外線照度不足による硬化不足、および下引き層との密着性の低下を防止することができるためである。【００４０】
また、基材層２１の樹脂層２３とは反対の面には、粘着層を設けることもできる。粘着層の材質は、例えば、天然ゴム系、再生ゴム系、クロロプレンゴム系、ニトロゴム系、スチレン・ブタジエン系などのエラストマー粘着剤、アクリル系、ポリエステル系、エポキシ系、ウレタン系、シアノアクリレート系などの合成樹脂粘着剤のほか、エマルジョン系粘着剤などの公知の粘着剤を用いる。粘着層は、粘着性を発揮させるために厚み１５μｍ以上にするのが一般的であるため、干渉ムラには殆ど影響を与えない。【００４１】
以上説明した下引き層２２、樹脂層２３、粘着層の形成方法としては、各々の構成成分や必要に応じて他の成分を配合して、さらに適当な溶媒に溶解又は分散させて塗布液を調製し、当該塗布液をロールコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、エアナイフコーティング法などの公知の方法により塗布、乾燥した後、適宜必要な硬化方法を用いて硬化させる方法を用いることができる。【００４２】
また、以上説明した各層２１〜２３および粘着層には、紫外線吸収性能をもたせることも可能である。特に３５０〜３８０ｎｍの範囲の光線透過率を０．１％〜７０％程度とした場合、ハードコート性を保持しながら、耐候性を付与することができる。樹脂層２３に、電離放射線硬化性樹脂を用いた場合には、電離放射線硬化性樹脂が硬化する紫外線領域と吸収する紫外線領域を調整することにより、樹脂層２３の硬化に影響を与えることなく、紫外線吸収性の付与できる。例えば、紫外線吸収剤の吸収波長域のピークと２０ｎｍ以上異なる位置に吸収波長域のピークを有する光重合開始剤を用いることが好ましい。このようにすることにより樹脂層２３を十分に硬化させることができ、優れたハードコート性を付与することができる。【００４３】
また、本実施の形態では、図１に示したように、基材層２１の片面に樹脂層２３を設けた場合を説明したが、樹脂層２３は、基材２１の両面に設けられても良く、その場合には、基材２１を中心に、一方の面と他方の面のそれぞれに下引き層２２および樹脂層２３を設け、両面でそれぞれ上述した屈折率条件（ｎａ≦ｎｂ≦ｎｃまたはｎａ≧ｎｂ≧ｎｃ、かつ、｜ｎａ−ｎｃ｜≦０．５）を満たすことが好ましい。このとき、ｎａ≦ｎｂ≦ｎｃまたはｎａ≧ｎｂ≧ｎｃの条件については、基材２１の両面で同じ条件を満たしていてもよいし、異なる条件を満たしていてもよい。例えば、基材２１の一方の面側ではｎａ≦ｎｂ≦ｎｃを満たし、他方の面側ではｎａ≧ｎｂ≧ｎｃを満たしていてもよい。【００４４】
つぎに、上述した光学用フィルムを用いて構成した透明導電性部材の実施の形態について図２を用いて説明する。
図２に示した透明導電性部材４は、上述した構成の光学用フィルム２の少なくとも一方の面に透明導電膜３を備えたものである。ここでは、光学用フィルム２の樹脂層２３が設けられている面とは反対面に、透明導電膜３を設けた場合を例に説明するが、樹脂層２３上に透明導電膜３を設けることも可能である。【００４５】
透明導電膜３の材質としては、一般的に広く知られた透明導電性材料を用いることができる。例えば、酸化インジウム、酸化スズ、インジウム−スズ酸化物、金、銀、パラジウム等の透明導電性物質を用いることができる。これらは、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、溶液塗布法等により、光学用フィルムの樹脂層面と反対面に薄膜として形成することができる。また、ポリパラフェニレン、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリピロール、ポリフラン、ポリセレノフェン、ポリピリジン等の導電性高分子からなる有機導電性材料を用いて、透明導電膜を形成することも可能である。特に、透明性、導電性に優れ、比較的低コストに得られる酸化インジウム、酸化錫又は酸化インジウム錫のいずれかを主成分とした透明導電性材料を好適に使用することができる。【００４６】
透明導電膜３の厚みは、適用する材料によっても異なるため一概には言えないが、表面抵抗率で１０００Ω以下、好ましくは５００Ω以下になるような厚みであることが望ましい。例えば、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。経済性を考慮すると、８０ｎｍ以下、好ましくは７０ｎｍ以下の範囲が好適である。このような薄膜においては透明導電膜３の厚みムラに起因する可視光の干渉縞は発生しにくい。また、全光線透過率は、通常８０％以上であることが好ましく、８５％以上である場合さらに好ましい。８８％以上である場合には特に好ましい。【００４７】
このような構成の透明導電性部材４は、干渉ムラが目立たないため、帯電防止フィルムや赤外線遮蔽フィルム、反射防止フィルム、透明電極用部材として使用することができる。【００４８】
次に、本発明の透明タッチパネル１の実施の形態について図２を用いて説明する。本発明の透明タッチパネル１は、少なくとも片面に透明導電膜が設けられた２枚の透明電極基板が、互いの透明導電膜同士が向き合うように配置され、一方を可動電極とする構成である。可動側の透明電極基板として本発明の透明導電性部材４を用いている。【００４９】
さらに具体的に説明すると、図２のように、非可動側の透明電極基板であるガラス基板６上には、透明導電膜７が形成され、その上にドット状のスペーサー５が配置されている。上述の実施の形態の透明導電性部材４は、透明導電膜３が、スペーサー５と向き合うようにガラス基板６に対して対向配置されている。透明導電性部材４およびガラス基板６の端部には不図示の電極が配置されている。これにより、抵抗膜方式の透明タッチパネル１が構成されている。【００５０】
このような透明タッチパネル１は、ユーザが指やペン等で透明導電性部材４を押下することにより、透明導電膜３がガラス基板６上の透明導電膜７と接触する。この接触を端部の電極を介して電気的に検出することにより、押下された位置が検出される。【００５１】
透明タッチパネル１は、可動電極として透明導電性部材４を用いているため、干渉ムラを抑制することができる。しかも、本発明の光学用フィルム２は、高いハードコート性および高い透視解像性を有するため、透明タッチパネル１は傷がつきにくく、タッチパネル１の下に配置される液晶表示パネルの表示が見やすいというという効果が得られる。なお、スペーサー５は必要に応じて配置すれば良く、スペーサー５を配置しない構成にすることも可能である。【００５２】
なお、非可動電極（ガラス基板６および透明導電膜７）に代えて、本発明の透明導電性部材４を用いることもできる。これにより、より軽く、より薄型で、割れにくいタッチパネルとすることができる。
【実施例】
【００５３】
以下、実施例により本発明を更に説明する。なお、「部」、「％」は特に示さない限り、重量基準とする。【００５４】
［実施例１］
基材層２１として、厚さ１８８μｍの透明高分子フィルム（ポリエチレンテレフタレート  屈折率：１．６５）を用いた。基材層２１の一方の表面に下記組成の下引き層用塗布液をバーコーティングにより塗布し、加熱硬化させ、厚み約０．２μｍ、屈折率１．６０のポリエステル系樹脂製の下引き層２２を形成した。さらに、下引き層２１上に、下記組成の樹脂層用塗布液をバーコーティングにより塗布・乾燥し、高圧水銀灯により紫外線照射を行って硬化させることにより、厚み約１０μｍ、屈折率１．５０の電離放射線硬化性樹脂製の樹脂層２３を形成し、実施例１の光学用フィルムを得た。【００５５】
＜下引き層用塗布液：屈折率１．６０＞
・ポリエステル系樹脂                                １部
（エリーテルUE3200：ユニチカ社）
・希釈溶剤                                        ３２部
＜樹脂層用塗布液：屈折率１．５０＞
・電離放射線硬化性樹脂                            １０部
（ビームセット575：荒川化学工業社）
・光重合開始剤                                  ０．５部
（イルガキュア184：チバスペシャリティケミカルズ社）
・希釈溶剤                                        １０部【００５６】
［実施例２］
基材層２１として、屈折率１．７５のポリエチレンナフタレートフィルムを用いた。それ以外は、実施例１と同様にして実施例２の光学用フィルムを得た。【００５７】
［実施例３］
基材層２１は、実施例２と同じ屈折率１．７５のポリエチレンナフタレートフィルムを用いた。下引き層用塗布液および樹脂層用塗布液としてそれぞれ下記のものを用い、実施例１と同様の手法により、厚み約０．２μｍ、屈折率１．５０のアクリル樹脂製の下引き層２２、および、厚み約１０μｍ、屈折率１．４５のポリ酢酸ビニル製の樹脂層２３を形成し、実施例３の光学用フィルムを得た。ただし、樹脂層２３の形成時には、紫外線照射は行わなかった。【００５８】
＜下引き層用塗布液：屈折率１．５０＞
・アクリル系樹脂                                    １部
（ジュリマーFC-60：日本純薬社）
・希釈溶剤                                          ７部
＜樹脂層用塗布液：屈折率１．４５＞
・ポリ酢酸ビニル                                  １０部
（ゴーセノールGL-05：日本合成化学工業社）
・希釈溶剤                                        １０部【００５９】
［実施例４］
基材層２１は、実施例１と同じ屈折率１．６５のポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。下引き層用塗布液は、下記のものを用いた。樹脂層用塗布液は、実施例１と同じものを用いた。実施例１と同様の手法により、厚み約０．２μｍ、屈折率１．６０のポリスチレン系樹脂製の下引き層２２、および、厚み約１０μｍ、屈折率１．５０の電離放射線硬化樹脂製の樹脂層２３を形成し、実施例４の光学用フィルムを得た。【００６０】
＜下引き層用塗布液：屈折率１．６０＞
・ポリスチレン系樹脂                                １部
（ＨＩスタイロン470:旭化成工業社）
・希釈溶剤                                        ３２部【００６１】
［実施例５］
基材層２１は、実施例１と同じ屈折率１．６５のポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。下引き層用塗布液は、下記のものを用いた。樹脂層用塗布液は、実施例１と同じものを用いた。実施例１と同様の手法により、厚み約０．２μｍ、屈折率１．６０の塩化ビニリデン樹脂製の下引き層２２、および、厚み約１０μｍ、屈折率１．５０の電離放射線硬化樹脂製の樹脂層２３を形成し、実施例５の光学用フィルムを得た。【００６２】
＜下引き層用塗布液：屈折率１．６０＞
・塩化ビニリデン樹脂                                ２部
（サランラテックスL-504：旭化成工業社）
・希釈溶剤                                        ３１部【００６３】
［実施例６］
基材層２１は、屈折率１．４９のポリプロピレンフィルムを用いた。下引き層用塗布液は、実施例３と同じものものを用いた。樹脂層用塗布液は、下記のものを用いた。実施例１と同様の手法により、厚み約０．２μｍ、屈折率１．５０のアクリル樹脂製の下引き層２２、および、厚み約１０μｍ、屈折率１．６０のポリエステル系樹脂製の樹脂層２３を形成し、実施例６の光学用フィルムを得た。ただし、樹脂層２３の形成時には、紫外線照射は行わなかった。【００６４】
＜樹脂層用塗布液：屈折率１．６０＞
・ポリエステル系樹脂                              １０部
（エリーテルUE3200：ユニチカ社）
・希釈溶剤                                        １０部【００６５】
［実施例７］
基材層２１は、実施例２と同じ屈折率１．７５のポリエチレンナフタレートフィルムを用いた。下引き層用塗布液は実施例１と同じものを用いた。樹脂層用塗布液として実施例３と同じものを用いた。実施例１と同様の手法により、厚み約０．２μｍ、屈折率１．６０のポリエステル樹脂製の下引き層２２、および、厚み約１０μｍ、屈折率１．４５のポリ酢酸ビニル製の樹脂層２３を形成し、実施例７の光学用フィルムを得た。ただし、樹脂層２３の形成時には、紫外線照射は行わなかった。【００６６】
［実施例８］
基材層２１は、実施例２と同じ屈折率１．７５のポリエチレンナフタレートフィルムを用いた。下引き層用塗布液は実施例１と同じものを用いた。樹脂層用塗布液として下記のものを用いた。実施例１と同様の手法により、厚み約０．２μｍ、屈折率１．６０のポリエステル樹脂製の下引き層２２、および、厚み約１０μｍ、屈折率１．３５のフッ素樹脂製の樹脂層２３を形成し、実施例８の光学用フィルムを得た。ただし、実施例８では、下引き層２２形成後、下引き層２２の表面にコロナ放電処理を施し、その上に樹脂層２３を形成した。これにより、下引き層と樹脂層２３の密着性を向上させた。樹脂層２３の形成時には、紫外線照射は行わなかった。【００６７】
＜樹脂層用塗布液：屈折率１．３５＞
・フッ素系樹脂                                    １０部
（サイトップCTX-107AP：旭硝子社）
・希釈溶剤は使用せず【００６８】
［実施例９］
実施例４と同じ基材層２１、下引き層用塗布液および樹脂層用塗布液を用いて、実施例１と同様の手法により、実施例４と同様の層構成の実施例９の光学用フィルムを得た。ただし、実施例９では、下引き層２２形成後、下引き層２２の表面にコロナ放電処理を施し、その上に樹脂層２３を形成した。これにより、下引き層と樹脂層２３の密着性を実施例４よりも向上させた。樹脂層２３の形成時には、紫外線照射は行わなかった。【００６９】
［実施例１０］
実施例３と同様の基材フィルム、下引き用塗布液、樹脂層用塗布液を用いた。ただし、樹脂層用塗布液に、粒径１μｍのシリカビーズを０．３部追加した。実施例３と同様の手法により、屈折率１．７５のポリエチレンナフタレートフィルムの基材層２１、厚み約０．２μｍ、屈折率１．５０のアクリル樹脂製の下引き層２２、および、厚み約１０μｍ、屈折率１．４５のポリ酢酸ビニル（粒径１μｍのシリカビーズ添加）製の樹脂層２３を形成し、実施例１０の光学用フィルムを得た。【００７０】
実施例１０の光学用フィルムは、樹脂層２３にシリカビーズが添加されているが、樹脂層２３の膜厚（１０μｍ）に対して粒径が小さい（１μｍ）ため、樹脂層２３の表面に凹凸はなく、外部ヘーズは生じていなかった。シリカビーズによる内部ヘーズのみが生じていた。【００７１】
［比較例１］
基材層２１は、実施例１と同じ屈折率１．６５のポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。下引き層用塗布液は下記のものを用いた。樹脂層用塗布液は実施例１と同じものを用いた。実施例１と同様の手法により、厚み約０．２μｍ、屈折率１．４５のポリ酢酸ビニル製の下引き層２２、および、厚み約１０μｍ、屈折率１．５０の電離放射線硬化樹脂製の樹脂層２３を形成し、比較例１の光学用フィルムを得た。【００７２】
＜下引き層用塗布液：屈折率１．４５＞
・ポリ酢酸ビニル                                    １部
（ゴーセノールGL-05：日本合成化学工業社）
・希釈溶剤                                        ３２部【００７３】
［比較例２］
基材層２１は、屈折率２．０の金属微粒子含有フィルムを用いた。下引き層用塗布液および樹脂層用塗布液として、比較例１と同じ物を用いた。実施例１と同様に、厚み約０．２μｍ、屈折率１．４５のポリ酢酸ビニル製の下引き層２２、および、厚み約１０μｍ、屈折率１．５０の電離放射線硬化樹脂の樹脂層２３を形成し、比較例２の光学用フィルムを得た。【００７４】
［比較例３］
基材層２１は、実施例１と同じ屈折率１．６５のポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。下引き層用塗布液および樹脂層用塗布液として比較例１と同じものを用いた。ただし、樹脂層用塗布液には、粒径５μｍのシリカビーズを１０部添加した。実施例１と同様の手法により、厚み約０．２μｍ、屈折率１．４５のポリ酢酸ビニル製の下引き層２２、および、厚み約１０μｍ、屈折率１．５０の電離放射線硬化樹脂製（粒径５μｍのシリカビーズ添加）の樹脂層２３を形成し、比較例３の光学用フィルムを得た。【００７５】
比較例３の光学用フィルムは、樹脂層２３の膜厚（１０μｍ）に対して粒径の大きな（５μｍ）シリカビーズが添加されているため、樹脂層２３の表面にビーズにより凹凸が形成し、外部ヘーズが生じていた。【００７６】
［比較例４］
比較例３と同じ基材層２１、下引き層用塗布液および樹脂層用塗布液を用いて、実施例１と同様の手法により、比較例３と同様の層構成の比較例４の光学用フィルムを得た。ただし、樹脂層用塗布液に添加するシリカビーズとして、粒径１μｍのものを用いた。添加量は、０．３部とした。【００７７】
比較例４の光学用フィルムは、比較例３とは異なり、樹脂層２３の膜厚（１０μｍ）に対してシリカビーズの粒径が小さい（１μｍ）ため、樹脂層２３の表面に凹凸はなく、外部ヘーズは生じていなかった。シリカビーズによる内部ヘーズのみが生じていた。【００７８】
［比較例５］
基材層２１として、比較例２と同じものを用いた。下引き層用塗布液および樹脂層用塗布液は、実施例３と同じものを用いた。実施例１と同様の手法により、屈折率２．０の金属微粒子含有フィルムの基材層２１上に、厚み約０．２μｍ、屈折率１．５０のアクリル系樹脂製の下引き層２２、および、厚み約１０μｍ、屈折率１．４５のポリ酢酸ビニル製の樹脂層２３を形成し、比較例５の光学用フィルムを得た。ただし、樹脂層２３の形成時には、紫外線照射は行わなかった。【００７９】
［比較例６］
基材層２１および下引き層用塗布液として、比較例２と同じものを用いた。樹脂層用塗布液として、実施例８と同じものを用いた。実施例１と同様の手法により、屈折率２．０の金属微粒子含有フィルムの基材層２１上に、厚み約０．２μｍ、屈折率１．４５のポリ酢酸ビニル製の下引き層２２、および、厚み約１０μｍ、屈折率１．３５のフッ素樹脂製の樹脂層２３を形成し、比較例６の光学用フィルムを得た。ただし、樹脂層２３の形成時には、紫外線照射は行わなかった。【００８０】
上記の実施例１〜１０および比較例１〜６で得られた光学用フィルムの基材層２１の屈折率ｎａ、下引き層２２の屈折率ｎｂおよび樹脂層２３の屈折率ｎｃの各値と、各層の屈折率の大小関係（＞または＜）を表１に示した。さらに、基材層２１と樹脂層２３の屈折率の差（｜ｎａ−ｎｃ｜）、隣接する基材層２１と下引き層２２の屈折率の差（｜ｎａ−ｎｂ｜）、隣接する下引き層２２と樹脂層２３の屈折率の差（｜ｎｂ−ｎｃ｜）についても、表１に示した。【００８１】
［ぬれ張力］
つぎに、実施例１〜１０および比較例１〜６で得られた光学用フィルムの下引き層のぬれ張力を、ＪＩＳ  Ｋ６７６８：１９９９に基づき測定した。試験用混合液としては、ぬれ張力４０．０ｍＮ／ｍのものを用いた。ぬれ張力が４０．０ｍＮ／ｍ以上のものを「４０≦」、４０．０ｍＮ／ｍ未満のものを「＜４０」として、表１に示す。【００８２】
［溶解度係数］
実施例１〜１０および比較例１〜６で用いられた下引き層２２及び樹脂層２３の主成分の溶解度係数を算出し、その差が１以内であったものを「≦１」、１より大きいものを「１＜」として、表１に示す。なお、溶解度係数は、von Kreevelenが提唱した原子団総和法によるものであり、具体的にはPolymer Handbook,Fourth Edition, John Wiley & Sons,Iｎｃ.,1999 のVII／675頁〜VII／686頁記載の方法により算出した。【００８３】
［干渉ムラ］
黒色布上で、実施例１〜１０および比較例１〜６で得られた光学用フィルムの樹脂層に、三波長ランプにより照明光を照射し、反射光に生じる干渉ムラを、反射光による三波長ランプの像が観察される位置から目視で観察して、干渉ムラがまったく目立たないものを「◎」、干渉ムラが目立たないものを「○」、干渉ムラがあるが目立たないものを「△」、干渉ムラがとても目立つものを「×」として評価した。また、同じ実施例で複数の試料を作製し、試料によって◎または○と評価が異なる場合には、その実施例の評価を「◎〜○」とした。同様に試料によって○または△と評価が異なる場合には、その実施例の評価を「○〜△」とした。評価結果を表２に示す。【００８４】
［密着性］
実施例１〜１０および比較例１〜６で得られた光学用フィルムの樹脂層に、ＪＩＳ  Ｋ５４００の碁盤目テープ法に準じて、隙間間隔１ｍｍのマス目が１００個できるように切れ目を入れ、ＪＩＳ−Ｚ１５２２に規定するセロハン粘着テープを貼り、剥がした後の塗膜の状態を目視によって観察し、全く剥離が起きないものを「○」、わずかに剥離してしまうものを「△」、全て剥離してしまうものを「×」として評価した。結果を表２に示す。【００８５】
［透視解像性］
実施例１〜１０および比較例１〜６で得られた光学用フィルムについて、ＪＩＳ  Ｋ７１０５に準じて、写像性測定器（ＩＣＭ−１ＤＰ：スガ試験機社）を用いて、光学くし２．０ｍｍの像鮮明度を測定し、測定値が９０％以上であったものを「○」、８０％以上９０％未満であったものを「△」、８０％未満であったものを「×」とした。なお、測定は樹脂層を有する面から光を入射させた。結果を表２に示す。【００８６】
［ヘーズ］
ＳＭカラーコンピューターＵＧＶ−５Ｋ（スガ試験機社）を用い、ＪＩＳ  Ｋ７１０５：１９８１に基き、実施例１〜６および比較例１〜４で得られた光学用フィルムのヘーズを測定した（単位は「％」）。なお、測定は樹脂層を有する面から光を入射させた。測定した結果、５％以下であったものを「○」、５％を超えるものを「×」とした。【００８７】
【表１】
2008041506.tif 000003
【００８８】
【表２】
2008041506.tif 000004
【００８９】
表１から明らかなように、実施例１〜１０の光学用フィルムは、基材層２１の屈折率ｎａ、下引き層２２の屈折率ｎｂ、樹脂層２３の屈折率ｎｃが、ｎａ≦ｎｂ≦ｎｃまたはｎａ≧ｎｂ≧ｎｃの関係を満たしている。これに対し、比較例１〜４の光学用フィルムは、ｎａ≦ｎｂ≦ｎｃの関係も、ｎａ≧ｎｂ≧ｎｃの関係も満たさない。表２に示したように、干渉ムラの評価結果は、実施例１〜１０の光学用フィルムが△〜◎であるのに対し、比較例１、３、４は、いずれも干渉ムラが目立ち×であった。これらのことにより、ｎａ≦ｎｂ≦ｎｃまたはｎａ≧ｎｂ≧ｎｃの関係を満たすことで干渉ムラを低減できることが確認できた。【００９０】
なお、比較例３は、ｎａ≦ｎｂ≦ｎｃまたはｎａ≧ｎｂ≧ｎｃの関係を満たさないにもかかわらず、干渉ムラの評価が○である。その理由は、比較例３の光学用フィルムは、樹脂層２３に粒径の大きなビーズが添加され、表面に凹凸があるため、外部ヘーズが生じ、干渉ムラを目立たなくしているためである。しかし、表２から明らかなように、外部ヘーズは、比較例３の光学用フィルムの透視解像性を低下させ、評価が×となっている（表２参照）。このことから、透視解像性を維持しながら干渉ムラを抑制するには、ｎａ≦ｎｂ≦ｎｃまたはｎａ≧ｎｂ≧ｎｃの関係を満たすことが有効であることが確認できる。すなわち、外部ヘーズによって干渉ムラを目立たなくする作用は得られるが、透視解像性を維持することができない。【００９１】
また、比較例４の光学用フィルムは、樹脂層２３に粒径の小さなビーズが添加され、内部ヘーズが生じているが、表２から明らかなように、干渉ムラの評価は×である。このことから、内部ヘーズでは、干渉ムラを抑制することができないこともわかる。【００９２】
つぎに、比較例５および６の光学用フィルムの屈折率と実施例１〜１０の光学用フィルムの屈折率とを対比すると、表１および表２のように、比較例５および６は、ｎａ≦ｎｂ≦ｎｃまたはｎａ≧ｎｂ≧ｎｃの関係を満たしているにもかかわらず、干渉ムラが抑制されていないことがわかる。これは、基材層２１の屈折率ｎａと樹脂層の屈折率ｎｃとの差（｜ｎａ−ｎｃ｜が、０．５より大きいためである。このため、ｎａ≦ｎｂ≦ｎｃまたはｎａ≧ｎｂ≧ｎｃの関係を満たしていても、隣接する層間の屈折率差が大きくなり、干渉ムラが生じやすい。このことからｎａ≦ｎｂ≦ｎｃまたはｎａ≧ｎｂ≧ｎｃの関係を満たすのみならず、基材層２１の屈折率ｎａと樹脂層の屈折率ｎｃとの差を０．５以内にする必要があることが確認できた。【００９３】
また、実施例３、８、１０の光学用フィルムは、実施例１、２、５、６、９の光学用フィルムと比較すると、干渉ムラの評価が劣っている。これは、実施例３および１０の光学用フィルムは、隣接する基材層２１と下引き層２２の屈折率差｜ｎａ−ｎｂ｜が他の実施例と比較して大きく、実施例８の光学用フィルムは、下引き層２２と樹脂層２３との屈折率差｜ｎｂ−ｎｃ｜が他の実施例と比較して大きく、いずれも０．２を超えているためである。このことから、干渉ムラをより抑制するには、隣接する層の屈折率差を０．２以下となるように設計することが望ましいことがわかる。【００９４】
実施例４の光学用フィルムは、実施例１、２、５、６、９の光学用フィルムと比較すると、干渉ムラの評価が劣っている。これは、下引き層２２のぬれ張力が４０ｍＮ／ｍよりも小さいために、ぬれ張力が４０ｍＮ／ｍ以上である他の実施例と比較して、樹脂層２３の形成時に塗膜の厚みの均一性が低いためである。このことから、下引き層２２のぬれ張力を４０ｍＮ／ｍ以上となるように設計することが望ましいことがわかる。これにより、樹脂層の均一度を高めることができるため、干渉ムラをより抑制することができる。【００９５】
なお、ぬれ張力は、下引き層２２を構成する樹脂の本来の性質により４０ｍＮ／ｍ以上となるものに限られない。実施例８，９のようにコロナ放電処理等によりぬれ張力を高めたものであってもよい。ぬれ張力４０ｍＮ／ｍ以上であれば、樹脂層の均一度を高めることができる。このことは、実施例８，９の干渉ムラの評価が高いことから確認できる。特に、実施例９は、実施例４と同じ層構成であって、相違点は、コロナ放電処理により下引き層２２のぬれ張力を４０ｍＮ／ｍ以上に高めたことのみである。よって、実施例９の干渉ムラ評価が、実施例４よりも高くなっているのは、下引き層のぬれ張力を高めたことに起因していることがわかる。【００９６】
また、実施例５の光学用フィルムでは、表１のように下引き層２２と樹脂層２３を構成する樹脂は、主成分の樹脂の溶解度係数の差が１を超えている。このため、表２から明らかなように、実施例５の光学用フィルムは、層の密着性が、上記溶解度係数の差が１以下の他の実施例１〜４、６〜１０よりも劣っている。このことから、光学用フィルムは、下引き層２２と樹脂層２３を構成する樹脂は、主成分の樹脂の溶解度係数の差が１以下となるように樹脂を選択することが望ましいことがわかる。これにより、層間の密着性を向上させることができる。【００９７】
さらに、表２から明らかなように、樹脂層２３にビーズが添加され、ヘーズが５％より大きい実施例１０の光学用フィルムは、ヘーズが５％以下の他の実施例１〜９の光学用フィルムよりも透視解像性が劣っている。このことから、本発明の光学用フィルムは、例え、内部ヘーズであっても、ヘーズが小さいことが望ましく、具体的には、ヘーズを５％以下にすることが望ましいことがわかる。【００９８】
［実施例１１］
つぎに、実施例１１として、上記実施例１〜６の光学用フィルムを用いて図２の構成のタッチパネル１を作製した。同様に比較例１〜３、６の光学用フィルムを用いて比較例のタッチパネルを作製した。【００９９】
透明導電性部材の作製
上記実施例１〜６および比較例１〜３、６の光学用フィルムの樹脂層２３とは反対面に、透明導電膜３として厚み約２０ｎｍのＩＴＯ膜をスパッタリング法で形成し、実施例１〜６および比較例１〜３、６の透明導電性部材４を作製した。【０１００】
下部電極のパネル板の作製
透明電極基板であるガラス基板６として、厚み１ｍｍの強化ガラス板を用意し、一方の面に、透明導電膜７として厚み約２０ｎｍのＩＴＯ膜をスパッタリング法で形成し、４型の大きさ（縦８７．３ｍｍ、横６４．０ｍｍの長方形）に切り取り、下部電極のパネル板を作製した。【０１０１】
スペーサーの作製
上記下部電極のパネル板の透明導電膜７を有する面に、スペーサー用塗布液として電離放射線硬化性樹脂（Dot Cure TR5903：太陽インキ社）をスクリーン印刷法によりドット状に印刷した後、高圧水銀灯で紫外線を照射して、直径５０μｍ、高さ８μｍのスペーサー５を１ｍｍの間隔で配列させた。【０１０２】
透明タッチパネルの作製
上記透明導電性部材４と下部電極のパネル板とを、透明導電膜３と透明導電膜７とが対向するように配置し、厚み３０μｍ、幅３ｍｍの両面接着テープで縁を接着し、透明タッチパネルを作製した。このとき、接着部分が、透明タッチパネルの表示面の領域外となるようにした。【０１０３】
実施例１、２、５、６の光学用フィルムを用いて作製したタッチパネルは、干渉ムラが目立たず、良好に操作をすることができるものであった。実施例３、４の光学用フィルムを用いたタッチパネルは、干渉ムラがあることがわかるが、目立つほどではなく、良好に操作することができるものであった。【０１０４】
比較例１、２、６のタッチパネルは、干渉ムラが目立ち、操作しにくいものであった。
比較例３のタッチパネルは、樹脂層にガラスビーズを含有し、表面に凹凸するものであったため、ぎらつくものとなり、操作しにくいものであった。
【図面の簡単な説明】
【０１０５】
【図１】本発明の光学用フィルムの一実施の形態を示す断面図
【図２】本発明の透明タッチパネルの一実施の形態を示す断面図
【符号の説明】
【０１０６】
１・・・・透明タッチパネル、２・・・・光学用フィルム、３・・・・透明導電膜、４・・・・透明導電性部材、５・・・・スペーサー、６・・・・ガラス基板、７・・・・透明導電膜、２１・・・基材層、２２・・・下引き層、２３・・・樹脂層。
【図１】
2008041506.tif 000005
【図２】
2008041506.tif 000006
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月17日(2009.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
［溶解度係数］
実施例１〜１０および比較例１〜６で用いられた下引き層２２及び樹脂層２３の主成分の溶解度係数を算出し、その差が１以内であったものを「≦１」、１より大きいものを「１＜」として、表１に示す。なお、溶解度係数は、van Kreevelenが提唱した原子団総和法によるものであり、具体的にはPolymer Handbook,Fourth Edition, John Wiley & Sons,Iｎｃ.,1999 のVII／675頁〜VII／686頁記載の方法により算出した。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
［ヘーズ］
ＳＭカラーコンピューターＵＧＶ−５Ｋ（スガ試験機社）を用い、ＪＩＳ  Ｋ７１０５：１９８１に基き、実施例１〜１０および比較例１〜６で得られた光学用フィルムのヘーズを測定した（単位は「％」）。なお、測定は樹脂層を有する面から光を入射させた。測定した結果、５％以下であったものを「○」、５％を超えるものを「×」とした。
【国際調査報告】
2008041506.tif 000007
2008041506.tif 000008