Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月1日(2005.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基準マーク（７８）がその上に設けられたハウジング（１２）と、
該ハウジング（１２）に接続されるように設計されたエンドキャップ（６０）であって、互いに離間している複数の位置マーク（８０）が、それぞれ該エンドキャップ（６０）の外周に設けられているエンドキャップ（６０）と、
該エンドキャップ（６０）の外に出ない収縮位置と、延伸位置との間で刺す方向に動くことができるランセット（３２）と、
該ランセット（３２）を該収縮位置から該延伸位置に動かすための、該ハウジング（１２）中に配置されたアクチュエータ機構と、
を含み、
該エンドキャップ（６０）が、複数の異なる角度位置の間で該ハウジング（１２）に対して回転可能であり、該複数の異なる角度位置は、該エンドキャップ（６０）に設けられた該位置マーク（８０）の第一のマークが該ハウジング（１２）に設けられた該基準マーク（７８）と整列する第一の角度位置、及び該エンドキャップ（６０）に設けられた該位置マーク（８０）の第二のマークが該ハウジング（１２）に設けられた該基準マーク（７８）と整列する第二の角度位置を含み、
該エンドキャップ（６０）が、該刺す方向に対して平行な方向に、該ハウジング（１２）から離れ且つ該エンドキャップ（６０）が該ハウジング（１２）に対して任意の角度関係を占めうる離脱位置から、該エンドキャップ（６０）が該ハウジング（１２）に確実に取り付けられる固着位置まで、該ハウジング上で滑動するように設計されており、
該エンドキャップ（６０）が、内周を有し、該エンドキャップ（６０）が付加的にその内周全体に亘って配置された角度つきの複数のスロット（７４）を含んでいることを特徴とする血液試料採取装置。
【請求項２】
該エンドキャップ（６０）に配置された該位置マーク（８０）の各々が、異なった長さを有し、該長さの各々は異なる刺し傷の深さに対応する、請求項１記載の血液試料採取装置。
【請求項３】
基準マーク（７８）がその上に設けられたハウジング（１２）と、
該ハウジング（１２）に接続されるように設計されたエンドキャップ（６０）であって、それぞれが該エンドキャップ（６０）の外周で互いに離間している複数の位置マーク（８０）がその上に設けられたエンドキャップ（６０）と、
該エンドキャップ（６０）の外に出ない収縮位置と、延伸位置との間で刺す方向に動くことができるランセット（３２）と、
該ランセット（３２）を該収縮位置から該延伸位置に動かすための、該ハウジング（１２）中に配置されたアクチュエータ機構と、
を含み、
該エンドキャップ（６０）が、複数の異なる角度位置の間で該ハウジング（１２）に対して回転可能であり、該複数の異なる角度位置は、該エンドキャップ（６０）に設けられた該位置マーク（８０）の第一のマークが該ハウジング（１２）に設けられた該基準マーク（７８）と整列する第一の角度位置、及び該エンドキャップ（６０）に設けられた該位置マーク（８０）の第二のマークが該ハウジング（１２）に設けられた該基準マーク（７８）と整列する第二の角度位置を含み、
該エンドキャップ（６０）が該刺す方向に対して平行な方向に；該エンドキャップ（６０）が該ハウジング（１２）から離隔され且つ該エンドキャップ（６０）が該ハウジング（１２）に対して任意の角度関係を占めうる離脱位置から、該エンドキャップ（６０）が該ハウジング（１２）に確実に取り付けられる固着位置まで、該ハウジング（１２）に対する該エンドキャップ（６０）の角回転を生じさせることなく、該ハウジング（１２）上で真っすぐに滑動するように設計されており、
該エンドキャップ（６０）が該内側に配置された斜めのスロット（７４）を有する内部を備えており、
該ハウジング（１２）が内面を有し、その中に該エンドキャップ（６０）の内面に配置された複数の斜めのスロット（７４）を付加的に含んでいることを特徴とする血液試料採取装置。
【請求項４】
該エンドキャップ（６０）が摩擦保持手段によって該ハウジング（１２）に確実に取り付けられる、請求項３記載の血液試料採取装置。
【請求項５】
該エンドキャップ（６０）に設けられた該位置マーク（８０）それぞれが、異なる刺し傷の深さに対応する異なる長さを有する線形のマークを含む、請求項３記載の血液試料採取装置。
【請求項６】
ハウジング（１２）と、
該ハウジング（１２）に接続されるように設計されたエンドキャップ（６０）と、
該エンドキャップ（６０）の外に出ない収縮位置と、ある深さの刺し傷をつけるように設計された延伸位置との間で刺す方向に動くことができるランセット（３２）と、
該ランセット（３２）を該収縮位置から該延伸位置に動かすための、該ハウジング（１２）中に配置されたアクチュエータ機構と、
該エンドキャップ（６０）を該ハウジング（１２）に確実に取り付けるための取り付け手段であって、該ハウジング（１２）に対して該エンドキャップ（６０）を回転させることなく、該刺す方向に対して平行な方向に、該エンドキャップ（６０）が該ハウジング（１２）から離れ且つ該エンドキャップ（６０）が該ハウジングに対して任意の角度関係を占めうる離脱位置から、該エンドキャップ（６０）が該ハウジング（１２）に確実に取り付けられる固着位置まで動かすことにより、該エンドキャップを確実に取り付けるための取り付け手段と、
該エンドキャップ（６０）の内面に配置された複数の斜めのスロット（７４）を含んでなり、該ランセット（３２）の刺し傷の深さを調整するための手段と、を含むことを特徴とする血液試料採取装置。
【請求項７】
該エンドキャップ（６０）が、それぞれが該エンドキャップ（６０）の外周で互いに離間している、その上に配置された複数の位置マーク（８０）を有する、請求項６記載の血液試料採取装置。
【請求項８】
該ハウジング（１２）がその上に配置された基準マーク（７８）を有し、且つ該エンドキャップ（６０）が、該ハウジング（１２）に対して該エンドキャップ（６０）に配置された該位置マーク（８０）の第一のマークが該ハウジング（１２）に配置された該基準マーク（７８）と揃う第一の角度位置と、該ハウジング（１２）に配置された該基準マーク（７８）と揃う第二の角度位置と、を含む複数の異なった角度位置との間で、該ハウジング（１２）に関して回転できることを特徴とする、請求項７記載の血液試料採取装置。
【請求項９】
該エンドキャップ（６０）に配置された該位置マーク（８０）の各々が異なる長さを有し、該長さの各々は異なる刺し傷の深さに対応する、請求項８記載の血液試料採取装置。
【請求項１０】
該取り付け手段が摩擦保持手段を含む、請求項６記載の血液試料採取装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月26日(2004.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被験者に画像を提示する画面と、
被験者の荷重の中心位置を測定する荷重中心測定手段と、
被験者の荷重の中心位置を視覚的に表すマーカ図形と、
前記マーカ図形で追跡すべき軌道を視覚的に表すトレース図形と、
マーカ図形とトレース図形を含む画像を生成し前記画面に出力するとともに被験者の運動機能を評価する処理手段を備え、
前記トレース図形は時間経過に伴って前記画面上をスクロールし、前記マーカ図形は荷重中心位置の変化により前記画面上で移動することを特徴とする運動機能検査装置。
【請求項２】
被験者がトレース図形の変化を前以て予測し得る時間を予測可能時間とし、
前記予測可能時間を入力する予測可能時間入力手段を付加し、
トレース図形は時間経過と予測可能時間とから決定された条件で画面上をスクロールすることを特徴とする、請求項１記載の運動機能検査装置。
【請求項３】
被験者がトレース図形の変化を前以て予測し得る時間を予測可能時間とし、
前記予測可能時間を入力する予測可能時間入力手段を付加し、
マーカ図形は荷重中心位置と予測可能時間とから決定された条件で画面上を移動することを特徴とする、請求項１記載の運動機能検査装置。
【請求項４】
マーカ図形は前記トレース図形のスクロール方向と垂直の方向に移動することを特徴とする、請求項１、２または３記載の運動機能検査装置。
【請求項５】
被験者に画像を提示する画面と、被験者の荷重の中心位置を測定する荷重中心測定手段と、被験者の荷重の中心位置を視覚的に表すマーカ図形と、前記マーカ図形で追跡すべき軌道を視覚的に表すトレース図形と、
画像を生成し前記画面に出力するとともに被験者の運動機能を評価する処理手段とを備え、
前記トレース図形は時間経過と共に前記画面上を縦または横方向にスクロールして移動し、前記マーカ図形は被験者の荷重の中心位置に連動して、前記画面上を前記トレース図形のスクロール方向と垂直方向に移動し、前記処理手段は前記トレース図形および前記マーカ図形を少なくとも含む画像を生成するとともに、前記マーカ図形の軌跡と前記トレース図形との相対的位置関係と、前記マーカ図形の軌跡との少なくとも１つから被験者の運動機能を評価することを特徴とする運動機能検査装置。
【請求項６】
トレース図形が、一定間隔に配置された二本の線で表現される図形であることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の運動機能検査装置。
【請求項７】
トレース図形が周期的な規則性を持つ波形であることを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載の運動機能検査装置。
【請求項８】
トレース図形が三角波形であることを特徴とする請求項７記載の運動機能検査装置。
【請求項９】
トレース図形がサイン波形であることを特徴とする請求項７記載の運動機能検査装置。
【請求項１０】
トレース図形がステップ波形であることを特徴とする請求項７記載の運動機能検査装置。
【請求項１１】
トレース図形がランダムな振幅を持つ波形であることを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載の運動機能検査装置。
【請求項１２】
被験者の荷重の中心位置を測定して出力する荷重中心測定手段と、
被験者の荷重の中心位置を視覚的に表す図形をマーカ図形とし、前記荷重中心測定手段で測定した荷重の中心位置から前記マーカ図形の幾何学的な情報をマーカ図形情報として決定し出力するマーカ図形生成手段と、
時間経過を加味し幾何学的に変化して荷重の中心位置の目標を視覚的に被験者に指示する図形をトレース図形とし、前記トレース図形の幾何学的な情報をトレース図形情報として決定し出力するトレース図形生成手段と、
前記トレース図形生成手段のトレース図形情報と前記マーカ図形生成手段のマーカ図形情報とから、トレース図形とマーカ図形とを少なくとも描画した画像データを生成して出力する画像生成手段と、
前記画像生成手段から出力された画像データを被験者に提示する表示手段と、
前記トレース図形情報と前記マーカ図形情報とを逐次的に記録する記録手段と、前記記録手段の記録から被験者の運動機能を評価する評価手段と
を具備することを特徴とする運動機能検査装置。
【請求項１３】
被験者が荷重の中心位置の目標の変化を前以て予測し得る時間を予測可能時間とし、前記予測可能時間を入力する予測可能時間入力手段を付加し、
マーカ図形生成手段が前記予測可能時間入力手段で入力した予測可能時間と荷重中心測定手段で測定した荷重中心位置とからマーカ図形情報を決定し出力するものであることを特徴とする請求項１２記載の運動機能検査装置。
【請求項１４】
被験者が荷重の中心位置の目標の変化を前以て予測し得る時間を予測可能時間とし、前記予測可能時間を入力する予測可能時間入力手段と、前記予測可能時間入力手段の予測可能時間と画像生成手段の画像データとを入力し前記予測可能時間に合わせて前記画像データの一部を隠ぺい加工して表示手段に出力する画像加工手段とを付加したことを特徴とする請求項１２記載の運動機能検査装置。
【請求項１５】
評価手段を、
マーカ図形の軌跡の時間的変化と、マーカ図形の軌跡とトレース図形とのずれ量と、マーカ図形軌跡の最大振幅とのうち少なくとの１つから被験者の運動機能を評価する軌跡評価手段で置き換えたことを特徴とする請求項１２、１３または１４記載の運動機能検査装置。
【請求項１６】
トレース図形生成手段が、
周期的な関数で表現し得る波形をトレース図形としてトレース図形情報を決定し出力するものであることを特徴とする請求項１２〜１５の何れかに記載の運動機能検査装置。
【請求項１７】
トレース図形生成手段が、
三角波形をトレース図形としてトレース図形情報を決定し出力するものであることを特徴とする請求項１６記載の運動機能検査装置。
【請求項１８】
トレース図形生成手段が、
サイン波形をトレース図形としてトレース図形情報を決定し出力するものであることを特徴とする請求項１６記載の運動機能検査装置。
【請求項１９】
トレース図形生成手段が、
ステップ波形をトレース図形としてトレース図形情報を決定し出力するものである
ことを特徴とする請求項１６記載の運動機能検査装置。
【請求項２０】
トレース図形生成手段が、
ランダムな振幅を持つ波形をトレース図形としてトレース図形情報を決定し出力するものであることを特徴とする請求項１２〜１５の何れかに記載の運動機能検査装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月31日(2004.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
静磁場発生領域に均一な静磁場を発生させる静磁場発生手段と、前記静磁場発生領域に傾斜磁場を発生させる傾斜磁場発生手段と、前記静磁場発生領域に挿入された被検者に高周波（以下、ＲＦと略称する）磁場を照射するＲＦ照射手段と、該ＲＦ照射手段からの外部へのＲＦ磁場を遮蔽するＲＦシールド手段とを含む磁気共鳴イメージング装置において、前記傾斜磁場発生手段が前記静磁場発生領域に傾斜磁場を発生する主コイルと該主コイルがその外側に発生する漏洩磁場を打ち消すための磁場を発生するシールドコイルとから構成され、前記ＲＦシールド手段が前記主コイルよりも前記静磁場発生手段に近い側に配置されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項２】
請求項１記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記ＲＦシールド手段が前記主コイルと前記シールドコイルとの間に配置されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項３】
請求項１記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記ＲＦシールド手段が前記シールドコイルよりも前記静磁場発生手段に近い側に配置されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項４】
請求項１乃至３記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記静磁場発生手段が前記静磁場発生領域を挾んで、対向して、ほぼ平行に配置された２個の静磁場発生用磁石で構成されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項５】
請求項４記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記静磁場発生用磁石の前記静磁場発生領域に対向する面側の中央部に凹部が設けられ、該凹部に少なくとも前記傾斜磁場発生手段のうちのシールドコイル及び前記ＲＦシールドの中央部が収容されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項６】
請求項１乃至５記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記静磁場発生手段が超電導磁石であることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月14日(2004.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
体腔内に挿入し被写体を撮像する内視鏡と、
前記内視鏡に照明光を供給する光源装置と、
前記内視鏡が撮像した前記被写体の撮像信号を信号処理する信号処理装置と、
を具備した内視鏡システムにおいて、
前記内視鏡を識別するための識別情報を入力する情報入力手段と、
前記情報入力手段により入力された識別情報を表示するための表示データを生成する表示データ生成手段と、
前記情報入力手段により入力された識別情報に基づいて前記内視鏡、前記光源装置及び前記信号処理装置の履歴情報を作成する履歴情報手段と、
を備えたことを特徴とする内視鏡システム。
【請求項２】
前記識別情報は、少なくとも前記内視鏡の型名とシリアルＮｏ．を含むことを特徴とする請求項１に記載の内視鏡システム。
【請求項３】
前記履歴情報は、少なくとも前記内視鏡の使用時間情報を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の内視鏡システム。
【請求項４】
前記表示データ生成手段が生成した表示データを前記内視鏡の内視鏡画像に選択的に重畳させる重畳手段を備えたことを特徴とする請求項１，２または３に記載の内視鏡システム。
【請求項５】
前記履歴情報は、少なくとも前記光源装置の照診ランプの点灯時間と点灯回数を含むことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の内視鏡システム。
【請求項６】
少なくとも前記履歴情報を含むシステム情報を送受信できることを特徴とする請求項１乃至５のいずいか１項に記載の内視鏡システム。
【請求項７】
前記システム情報は、前記内視鏡、前記光源装置及び前記信号処理装置の各種設定値を含むことを特徴とする請求項６に記載の内視鏡システム。
【請求項８】
前記識別情報に基づき、前記内視鏡の機種を判別して、前記内視鏡の先端より突出する生検鉗子の位置を指示することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の内視鏡システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の内視鏡システムは、体腔内に挿入し被写体を撮像する内視鏡と、前記内視鏡に照明光を供給する光源装置と、前記内視鏡が撮像した前記被写体の撮像信号を信号処理する信号処理装置と、を具備した内視鏡システムにおいて、前記内視鏡を識別するための識別情報を入力する情報入力手段と、前記情報入力手段により入力された識別情報を表示するための表示データを生成する表示データ生成手段と、前記情報入力手段により入力された識別情報に基づいて前記内視鏡、前記光源装置及び前記信号処理装置の履歴情報を作成する履歴情報手段とを備えて構成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の内視鏡システムでは、前記履歴情報手段が前記識別情報に基づいて前記内視鏡、前記光源装置及び前記信号処理装置の履歴情報を作成することで、記録済みの画像より故障している内視鏡を特定すると共に、視野角度、視野方向、解像度が異なる内視鏡を用いた場合に生じる病変部の見え方や鉗子孔位置の差に対応することを可能とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の内視鏡システムによれば、履歴情報手段が前記識別情報に基づいて内視鏡、光源装置及び信号処理装置の履歴情報を作成するので、記録済みの画像より故障している内視鏡を特定すると共に、視野角度、視野方向、解像度が異なる内視鏡を用いた場合に生じる病変部の見え方や鉗子孔位置の差に対応することができるという効果がある。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月28日(2004.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
大腸に挿入される細長な挿入部を備える大腸挿入機器において、
大腸内に挿入される前記挿入部の外周部に、大腸壁面に接触しながら挿入部先端側から基端側に向けて変動する変動部を設けたことを特徴とする大腸挿入機器。
【請求項２】
長尺な挿入部と、
前記挿入部の外周に設けられ、前記挿入部の軸方向と交わる方向に膨張可能な変動部と、
前記変動部の膨張を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする大腸挿入機器。
【請求項３】
長尺な挿入部と、
挿入部の外周に設けられ、前記挿入部の軸方向と交わる方向に膨張可能な第１の変動部と、
前記挿入部の外周で前記第１の変動部よりも基端側に設けられ、前記挿入部の軸方向と交わる方向に膨張可能な第２の変動部と、
前記第１の変動部と前記第２の変動部との膨張を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする大腸挿入機器。
【請求項４】
前記制御手段は前記第１の変動部と前記第２の変動部との膨張のタイミングを異なるように制御することを特徴とする請求項３に記載の大腸挿入機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の大腸挿入機器は、大腸に挿入される細長な挿入部を備える大腸挿入機器であって、大腸内に挿入される前記挿入部の外周部に、大腸壁面に接触しながら挿入部先端側から基端側に向けて変動する変動部を設けている。
請求項２に記載の大腸挿入機器は、長尺な挿入部と、前記挿入部の外周に設けられ、前記挿入部の軸方向と交わる方向に膨張可能な変動部と、前記変動部の膨張を制御する制御手段と、を有することを特徴とする。
請求項３に記載の大腸挿入機器は、長尺な挿入部と、挿入部の外周に設けられ、前記挿入部の軸方向と交わる方向に膨張可能な第１の変動部と、前記挿入部の外周で前記第１の変動部よりも基端側に設けられ、前記挿入部の軸方向と交わる方向に膨張可能な第２の変動部と、前記第１の変動部と前記第２の変動部との膨張を制御する制御手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月7日(2005.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主としてアルミナをベースとしかつ主として複数の並置された凝集物からなる押出担体、場合によっては第VIB 族（元素周期表の新規記号の第６族）の少なくとも１つの触媒金属もしくは触媒金属化合物、および／または第VIII族（元素周期表の新規記号の第８族）の少なくとも１つの触媒金属もしくは触媒金属化合物を含む触媒であって、触媒中、酸化物で表示される第VIB 族および第VIII族金属の合計Ｓが、０〜５０重量％である触媒において、これら凝集物の各々が、一部薄板の積み重ね状物形態でありかつ一部針状物形態であり、前記針状物は、薄板の積み重ね状物の周囲と薄板の間とに同時に均一に分散されることを特徴とする触媒。
【請求項２】
金属を含まない（Ｓ＝０％）ものである、請求項１記載の触媒。
【請求項３】
合計Ｓが０．５〜５０重量％である、請求項１記載の触媒。
【請求項４】
アルミナの凝集物が、ハイドラーギライトの急速な脱水により生じる出発アルミナを成形することにより得られ、またベーマイトの分解により生じるアルミナの割合が５〜７０重量％である、請求項１〜３のいずれか１項記載の触媒。
【請求項５】
総細孔容積が、少なくとも０．６ｃｍ3 ／ｇであり、メゾ（中間）細孔が、平均直径１５〜３６ナノメートル（ｎｍ）である、請求項１〜４のいずれか１項記載の触媒。
【請求項６】
メゾ（中間）細孔容積Ｖ6nm −Ｖ100nm が、少なくとも０．３ｃｍ3 ／ｇであり、マクロ細孔容積Ｖ100nm が、多くとも０．５ｃｍ3 ／ｇであり、ミクロ細孔容積Ｖ0-6nm が、多くとも０．５５ｃｍ3 ／ｇである、請求項１〜５のいずれか１項記載の触媒。
【請求項７】
第VIB 族の触媒金属または触媒金属化合物が、モリブデンまたはタングステンであり、第VIII族の触媒金属または触媒金属化合物が、鉄、ニッケルまたはコバルトである、請求項１および請求項３〜６のいずれか１項記載の触媒。
【請求項８】
第VIB 族の触媒金属または触媒金属化合物が、モリブデンであり、第VIII族の触媒金属または触媒金属化合物が、ニッケルである、請求項１および請求項３〜７のいずれか１項記載の触媒。
【請求項９】
アルミナ押出物が、直径０．５〜１０ｍｍを有する、請求項１〜８のいずれか１項記載の触媒。
【請求項１０】
次の工程：
(a) 押出物を得るための主としてアルミナをベースとする担体の成形工程と、
(b) 少なくとも１つの第VIB 族触媒金属化合物を含む溶液による押出物の含浸工程であって、後に場合によっては熟成化工程、および／または乾燥工程、次いで焼成工程が続く含浸工程と、
(c) 少なくとも１つの第VIII族触媒金属化合物を含む溶液による押出物の含浸工程であって、後に場合によっては熟成化工程、および／または乾燥工程、次いで焼成工程が続く含浸工程と
を含むことを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項記載の触媒の調製方法。
【請求項１１】
次の工程：
(a) 押出物を得るための出発アルミナの成形工程と、
(b) 少なくとも１つの第VIB 族触媒金属化合物と、少なくとも１つの第VIII族触媒金属化合物とを含む溶液による押出物の含浸工程であって、後に場合によっては熟成化工程、および／または乾燥工程、次いで場合によっては焼成工程が続く含浸工程と
を含むことを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項記載の触媒の調製方法。
【請求項１２】
次の工程：
(a) ハイドラーギライトの急速な脱水により生じるアルミナ粉体と少なくとも１つの第VIB 族触媒金属化合物、および／または少なくとも１つの第VIII族触媒金属化合物との共混練工程であって、後に場合によっては熟成化工程、および／または乾燥工程、次いで場合によっては焼成工程が続く共混練工程と、
(b) 工程(a) で得られた物質の押出による成形工程と
を含むことを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項記載の触媒の調製方法。
【請求項１３】
出発アルミナの成形方法が、次の工程：
ａ1・ハイドラーギライトの急速な脱水により生じる出発アルミナを出発とする工程、
ｂ1・出発アルミナを再水和する工程、
ｃ1・水中における少なくとも１つの炭化水素のエマルジョンの存在下に再水和されたアルミナを混練する工程、
ｄ1・工程ｃ1 で得られたアルミナをベースとするペーストを押出す工程、
ｅ1 ・ 押出物を乾燥させ、次いで焼成する工程、
ｆ1・工程ｅ1 により生じた押出物を、閉鎖的雰囲気下に酸−水熱反応処理に付す工程、および
ｇ1・工程ｆ1 により生じた押出物を乾燥させ、次いで焼成する工程
を含む、請求項１０〜１２のいずれか１項記載の触媒の調製方法。
【請求項１４】
出発アルミナの成形方法が、次の工程：
ａ2・ハイドラーギライトの急速な脱水により生じる出発アルミナを出発とする工程、
ｂ2・発泡剤の存在下にアルミナを球体形態に成形する工程、
ｃ2・得られたアルミナ球体を熟成させる工程、
ｄ2・工程ｃ2 により生じた球体を混練し、それによりペーストを得て、このペーストを押し出す工程、
ｅ2・得られた押出物を乾燥させ、次いで焼成する工程、
ｆ2・工程ｅ2 により生じた押出物を、閉鎖的雰囲気下に酸−水熱反応処理に付す工程、および
ｇ2・工程ｆ2 により生じた押出物を乾燥させ、次いで焼成する工程
を含む、請求項１０〜１２のいずれか１項記載の触媒の調製方法。
【請求項１５】
出発アルミナの成形方法が、次の工程：
ａ3・ハイドラーギライトの急速な脱水により生じるアルミナを出発とする工程、
ｂ3・出発アルミナを再水和する工程、
ｃ3・擬似ベーマイト・ゲルを用いて再水和されたアルミナを混練する工程であって、前記ゲルは、再水和されたアルミナとゲルとに対する含有量１〜３０重量％である工程、
ｄ3・工程ｃ3 で得られたアルミナをベースとするペーストを押出す工程、
ｅ3 ・ 押出物を乾燥させ、次いで焼成する工程、
ｆ3・工程ｅ3 により生じた押出物を、閉鎖的雰囲気下に酸−水熱反応処理に付す工程、および
ｇ3・工程ｆ3 により生じた押出物を場合によっては乾燥させ、次いで焼成する工程
を含む、請求項１０〜１２のいずれか１項記載の触媒の調製方法。
【請求項１６】
触媒が固定床で使用される炭化水素仕込原料の水素化処理方法における、請求項１〜９のいずれか１項記載の触媒、あるいは請求項１０〜１５のいずれか１項記載により調製される触媒の使用法。
【請求項１７】
炭化水素仕込原料が、バナジウムおよび／またはニッケルおよび／または鉄および／またはナトリウムおよび／またはチタンおよび／またはケイ素および／または銅を含む、請求項１６記載の使用法。
【請求項１８】
炭化水素仕込原料が、硫黄および／または窒素および／または酸素を含む、請求項１６または１７記載の使用法。
【請求項１９】
水素化処理方法が、温度約３２０〜４５０℃、水素分圧約３〜３０ＭＰａ、空間速度毎時触媒１容積当り仕込原料約０．１〜５容積で行われ、炭化水素液体仕込原料に対するガス水素比が、１立法メートル当り２００〜５０００標準立法メートル（Ｎｍ3 ／ｍ3 ）である、請求項１６〜１８のいずれか１項記載の使用法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月13日(2005.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水和物形成の回避を目的とするメタノールの存在下での冷却によるガスからの液体炭化水素の分離方法において、ガスに含まれるメタノールが、液体炭化水素フラクションによるガスの洗浄により少なくとも一部回収されることを特徴とするガスからの液体炭化水素の分離方法。
【請求項２】
ガスから、それが含んでいるメタノールの少なくとも一部を、液体炭化水素の分離操作中に生成された液体炭化水素フラクションによる洗浄により除去することを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項３】
メタノールが、水による洗浄により液体炭化水素フラクションから少なくとも一部分離されることを特徴とする、請求項２記載の方法。
【請求項４】
水による洗浄が、装填物を有する塔内で向流により行われることを特徴とする、請求項３記載の方法。
【請求項５】
洗浄水が、仕込原料ガスの少なくとも１つのフラクションとの接触により少なくとも一部再生されることを特徴とする、請求項３または４記載の方法。
【請求項６】
メタノールが、パーベーパレーションにより液体炭化水素フラクションから少なくとも一部分離されることを特徴とする、請求項２記載の方法。
【請求項７】
メタノールが、吸着工程により液体炭化水素フラクションから少なくとも一部分離され、吸着剤が、仕込原料ガスのフラクションにより再生されることを特徴とする、請求項２記載の方法。
【請求項８】
ガスの洗浄に供される液体炭化水素フラクションが、メタノールの分離工程前に安定化工程を経ることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
ガスの洗浄に供される液体炭化水素フラクションが、液体炭化水素の分離工程に先立つ凝縮工程から来ることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
下記工程：
(a) 処理すべきガスを２つのフラクション(1)(2)に分割する工程、
(b) 前記フラクション(1) を冷却して、水性液相と液体炭化水素相とを凝縮させる工程、
(c) 三相分離器内で冷却工程(b) により生じた相を分離し、凝縮水が排出される工程、
(d) 分離工程(a) により生じた処理すべきガスの前記フラクション(2) を、メタノールを含む水相に接触させ、水相に含まれるメタノールがガスにより脱着され、この工程により、メタノールを含ませたガスと水相とを生じ、水相は、この水相が含んでいたメタノールの大部分が除去されて、接触帯域の底部において排出される工程、
(e) 工程(c)(d)により生じたガス相を混合し、メタノールの補給後にこれらガス相を冷却する工程、
(f) 残留水相と液体炭化水素フラクションとガス相とからなる、冷却工程(e) で生じた三相を接触帯域内に搬送し、この接触帯域で、ガスの洗浄と液相のデカンテーションとが行われ、ガスの洗浄は、分離工程(c) から生じたメタノールを除いた凝縮物とガスとを向流で接触させることにより行われ、メタノールが前記接触中にガス相から液体炭化水素フラクションに移行し、含んでいたメタノールが除去された処理済ガスを排出し、水液相と炭化水素液相とが接触帯域の下部においてデカンテーションにより分離される工程、
(g) 液体炭化水素フラクションを安定化帯域内に搬送し、この帯域において最も軽質な成分（メタンおよびエタン）が分離される工程、
(h) 安定化塔の頂部から出るガスフラクションを燃料ガスとして使用するか、あるいはこのガスフラクションを、分離工程の下流に再循環する前に再圧縮するか、あるいはさらにはこのガスフラクションを、処理済ガスと混合する工程、
(i) 安定化塔の底部から出る炭化水素相を排出する工程、および
(j) デカンテーション工程(f) により生じたメタノールを含ませた水相を、接触帯域(d) の頂部に再循環する工程、
を含むことを特徴とする、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
処理済ガスが、天然ガスであることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】
処理済ガスが、製油所ガスであることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月4日(2004.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の中心出力周波数付近へ電圧制御発振器の出力周波数を調整するためのアナログ信号を受信する第１の入力と、２つのバング・バング周波数の間で前記電圧制御発振器の中心出力周波数を切換えるデジタル信号を入力する第２の入力とを備える前記電圧制御発振器であって、
前記２つのバング・バング周波数の周期の差と、前記電圧制御発振器の動作周波数によって決まる周期との比が、前記電圧制御発振器の供給電圧変動やその動作温度変動及び製造プロセス変動とは無関係に一定となることを特徴とする電圧制御発振器。
【請求項２】
それぞれが第１の入力と第１の出力を備える複数の可変遅延セルをさらに含んでいることと、
前記各可変遅延セルの第１の出力が後続する前記可変遅延セルの第１の入力に結合されており、これにより複数の前記可変遅延セルが環状に結合されていることと、
奇数番目の前記可変遅延セルはその第１の出力が後続の前記可変遅延セルに結合される前に反転されていることと、
前記各可変遅延セルは、アナログ信号を受信するためのアナログ信号入力と、バング・バング信号とを受信するためのバング・バング信号入力を備えていることと、
それぞれが対応する前記可変遅延セルに前記バング・バング信号を供給し、また、ディスエーブル信号を受信するためのディスエーブル信号入力と、第１のデジタル信号を受信するためのデジタル信号入力とを備えた複数のバング・バング変調器をさらに含んでいることを特徴とする請求項１に記載の電圧制御発振器。
【請求項３】
前記環状に結合された可変遅延セルの全遅延が、第１の所定の直流成分と、前記バング・バング変調器からの前記バング・バング信号によって得られる第２のバング・バング電流成分とを有する変調電流によって決まることを特徴とする請求項２に記載の電圧制御発振器。
【請求項４】
前記変調電流のバング・バング電流成分と前記直流成分の比が、前記可変遅延セルと前記バング・バング変調器における抵抗の比によって決まることを特徴とする請求項３に記載の電圧制御発振器。
【請求項５】
環状に結合された複数の可変遅延セルを備えており、所定の中心動作周波数と、所定のバング・バング周波数だけ前記中心動作周波数を上下にシフトさせるためのバング・バング信号入力とを有する電圧制御発振器において、前記バング・バング周波数を制御するための方法であって、
変調電流を用いて前記可変遅延セルによる時間遅延を制御するステップと、
直流電流とバング・バング変調電流の組み合わせから前記変調電流を発生するステップとを設けており、
前記直流電流と前記バング・バング変調電流の比が、抵抗の比によって決まることを特徴とする制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月16日(2004.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体基板の研磨方法および研磨装置


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板の表面を平坦化する半導体基板の研磨方法であって、
前記半導体基板の表面を第１の研磨液を用いて研磨する主研磨工程と、
該主研磨工程の後に、前記半導体基板の表面をキレート剤を用いて研磨する仕上げ研磨工程とを備えたことを特徴とする半導体基板の研磨方法。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体基板の研磨方法において、
前記主研磨工程および前記仕上げ研磨工程を、同一の研磨定盤および研磨布を用いて行うようにしたことを特徴とする半導体基板の研磨方法。
【請求項３】
請求項１に記載の半導体基板の研磨方法において、
前記主研磨工程を、第１の研磨定盤および第１の研磨布を用いて行い、かつ前記仕上げ研磨工程を、第２の研磨定盤および第２の研磨布を用いて行うようにしたことを特徴とする半導体基板の研磨方法。
【請求項４】
請求項１に記載の半導体基板の研磨方法において、
前記仕上げ研磨工程を、前記キレート剤および前記第１の研磨液を使用して行うようにしたことを特徴とする半導体基板の研磨方法。
【請求項５】
請求項１に記載の半導体基板の研磨方法において、
前記仕上げ研磨工程を、前記キレート剤および前記第１の研磨液とは異なる第２の研磨液を使用して行うようにしたことを特徴とする半導体基板の研磨方法。
【請求項６】
請求項５に記載の半導体基板の研磨方法において、
前記第１の研磨液は研磨粒子およびアルカリ遷移金属を含むスラリーを有し、前記第２の研磨液は研磨粒子およびアンモニア若しくはアミン類を含むスラリーを有していることを特徴とする半導体基板の研磨方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の半導体基板の研磨方法において、
前記キレート剤は、クエン酸、エチレンジアミン４酢酸、ヒドロキシエチレンＮ−ジアミン３酢酸、アンモニア３酢酸、ジエチレン３アミンペンタ酢酸およびエタノールジグリシネートの中から選ばれる少なくとも１つの物質を含んで構成されていることを特徴とする半導体基板の研磨方法。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の半導体基板の研磨方法において、
前記キレート剤の体積濃度は、０．０１％以上２０％以下であることを特徴とする半導体基板の研磨方法。
【請求項９】
半導体基板の表面を平坦化する半導体基板の研磨装置であって、
前記半導体基板を支持する基板支持基体と、
該基板支持基体に対向して配置された研磨定盤と、
該研磨定盤上に設けられた研磨布と、
主研磨を行う際に前記研磨布に第１の研磨液を供給する研磨液供給部と、
前記主研磨後の仕上げ研磨を行う際に前記研磨布にキレート剤を供給するキレート剤供給部とを備えたことを特徴とする半導体基板の研磨装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の半導体基板の研磨装置において、
前記主研磨を行う際に用いる研磨定盤および研磨布と、前記仕上げ研磨を行う際に用いる研磨定盤および研磨布とは同一であることを特徴とする半導体基板の研磨装置。
【請求項１１】
請求項９に記載の半導体基板の研磨装置において、
前記主研磨を行う際に用いる研磨定盤および研磨布は、第１の研磨定盤および第１の研磨布であり、かつ前記仕上げ研磨を行う際に用いる研磨定盤および研磨布は、第２の研磨定盤および第２の研磨布であることを特徴とする半導体基板の研磨装置。
【請求項１２】
請求項９に記載の半導体基板の研磨装置において、
前記キレート剤供給部は、前記仕上げ研磨を行う際に前記研磨布に前記キレート剤および前記第１の研磨液を供給することを特徴とする半導体基板の研磨装置。
【請求項１３】
請求項９に記載の半導体基板の研磨装置において、
前記キレート剤供給部は、前記仕上げ研磨を行う際に前記研磨布に前記キレート剤および前記第１の研磨液とは異なる第２の研磨液を供給することを特徴とする半導体基板の研磨装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の半導体基板の研磨装置において、
前記第１の研磨液は研磨粒子およびアルカリ遷移金属を含むスラリーを有し、前記第２の研磨液は研磨粒子およびアンモニア若しくはアミン類を含むスラリーを有していることを特徴とする半導体基板の研磨装置。
【請求項１５】
請求項９〜１４のいずれか１項に記載の半導体基板の研磨装置において、
前記キレート剤は、クエン酸、エチレンジアミン４酢酸、ヒドロキシエチレンＮ−ジアミン３酢酸、アンモニア３酢酸、ジエチレン３アミンペンタ酢酸およびエタノールジグリシネートの中から選ばれる少なくとも１つの物質を含んで構成されていることを特徴とする半導体基板の研磨装置。
【請求項１６】
請求項９〜１４のいずれか１項に記載の半導体基板の研磨装置において、
前記キレート剤の体積濃度は、０．０１％以上２０％以下であることを特徴とする半導体基板の研磨装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
仕上げ研磨工程を、キレート剤および第１の研磨液を使用して行うことができる。第１の研磨液は、好ましくは研磨粒子およびアルカリ遷移金属を含むスラリーを有している。
また、仕上げ研磨工程を、キレート剤および第１の研磨液とは異なる第２の研磨液を使用して行うことができる。第１の研磨液は、好ましくは研磨粒子およびアルカリ遷移金属を含むスラリーを有する。また、第２の研磨液は、好ましくは研磨粒子およびアンモニア若しくはアミン類を含むスラリーを有している。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月12日(2004.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
位相制御発振器、この発振器を制御する位相検出器、位相検出器と発振器との間の制御線路に配置されたループフィルター、基準周波数源、この基準周波数源と位相検出器の一方の入力の間に配置された周波数分割器を持っており、この周波数分割器は数全体の分割比へ調整でき、且つ多重のインテグレーションで動作する調整手段を持ち、それによって周波数分割器の数全体の分割比が、所望の分数有理数分割比に対応する分数分割比がシミュレーションされるというやり方で制御されるものであって、
その位相検出器の他方の入力がミキサーを介して発振器の出力とつながれ、ミキサーでは、発振器の出力周波数と基準周波数源の基準周波数との差が形成されることを特徴とする、
分数周波数合成の原理に従って動作する周波数シンセサイザー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段及び発明の効果】
この目的は、主特許請求範囲の前文部に記載したところの、「位相制御発振器、この発振器を制御する位相検出器、位相検出器と発振器との間の制御線路に配置されたループフィルター、基準周波数源、この基準周波数源と位相検出器の一方の入力の間に配置された周波数分割器を持っており、この周波数分割器は数全体の分割比へ調整でき、且つ多重のインテグレーションで動作する調整手段を持ち、それによって周波数分割器の数全体の分割比が、所望の分数有理数分割比に対応する分数分割比がシミュレーションされるというやり方で制御される」周波数シンセサイザーを基礎とし、それを特性づける特徴によって解決される。また、その有利な展開は、従属する特許請求範囲においてなされる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
発振器1の出力周波数f０はミキサー8に供給され、そこで基準周波数源4の出力周波数fｒと混合されて中間数波数fｉに下げられる。この中間周波数fｉは位相検出器2のもう一方の入力9に供給される。出力周波数数f０、基準周波数fｒ、ならびに周波数分割器6の分割比Nの間の関係は次のとおりである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月6日(2004.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
含有しない場合に比してインクジェットインクをより耐光性にするためのインクジェットインク用耐光性添加剤であって、三つの部分
Ａ−Ｘ−Ｂ                    （Ｉ）
からなり、式中、
部分Ａは、置換基を有する又は有しない、酸形又は塩形のアリールスルホン酸又はアリールカルボン酸、
部分−Ｘ−は、−ＮＲ−又は−Ｏ−であり、及び
部分Ｂは、置換基を有する又は有しない、トリアジン、ベンゾトリアゾール、テトラゾール、又はベンゾイミダゾールである
耐光性添加剤。
【請求項２】
前記部分Ａが、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンモノスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸、安息香酸、ベンゼンスルホン酸塩、及びヒドロキシベンゼンスルホン酸塩から成る群より選択される請求項１に記載の耐光性添加剤。
【請求項３】
前記塩が、カリウム、リチウム、及びナトリウムから成る群より選択される対イオンを含む請求項１に記載の耐光性添加剤。
【請求項４】
前記Ａ部分及び前記Ｂ部分に対する置換基が、ハロゲン、アルキル、アリール、置換アルキル、置換アリール、エステル（−Ｏ−）、エーテル（−ＯＲ）、アルコール（−ＯＨ）、及びアミド（−ＮＲ２、ここでＲはＨ又はアルキル若しくはアリール又は置換アルキル若しくは置換アリール）から成る群より個々に選択される請求項１に記載の耐光性添加剤。
【請求項５】
前記Ｘ部分におけるＲが、Ｈ、アルキル、置換アルキル、アリール、及び置換アリールからなる群より選択される請求項１に記載の耐光性添加剤。
【請求項６】
前記Ｘ部分が少なくとも二つ存在し、二つ目のＸ部分が付加的なＡ部分を前記Ｂ部分に連結し、又は付加的なＢ部分を前記Ａ部分に連結する請求項１に記載の耐光性添加剤。
【請求項７】
前記耐光性添加剤が、次式
【化１】
2002348512.tif 000001
から成る群より選択される請求項１に記載の耐光性添加剤。
【請求項８】
ビヒクルと、少なくとも一つの着色剤とを含み、さらに請求項１に記載の耐光性添加剤を少なくとも一つ含有するインクジェットインク。
【請求項９】
前記インクが前記耐光性添加剤を約０．１〜４０重量％含有する請求項８に記載のインクジェットインク。
【請求項１０】
前記着色剤が染料又は顔料である請求項８に記載のインクジェットインク。
【請求項１１】
前記ビヒクルが、少なくとも一つの水混和性有機共溶媒と、殺生物剤、ｐＨ調節剤及び緩衝剤、金属イオン封鎖剤、及び粘度調節剤から成る群より選択される少なくとも一つの添加剤とを含む請求項８に記載のインクジェットインク。
【請求項１２】
ビヒクルと少なくとも１つの着色剤とを含むインクジェットインクの耐光性を改善する方法であって、請求項１に記載の少なくとも一つの耐光性添加剤を前記インクに添加することからなる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月16日(2004.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
接着剤部分と活性剤部分を含む２成分の接着性組成物であって、前記接着剤部分は、アクリル及び／又はメタクリルモノマー、還元剤及び阻害剤を含有し、前記活性剤部分は、少なくとも１種の開始剤を含有し、かつ前記還元剤は、本質的に、アニリン、トルイジン、置換アニリン及び置換トルイジンから成る群から選択される少なくとも１種の還元剤から成ることを特徴とする、接着性組成物。
【請求項２】
前記接着剤部分が、更に、強化剤、耐衝撃性改良剤、カルボン酸、遅延剤及び/又は連鎖移動剤を含む、請求項１記載の接着性組成物。
【請求項３】
前記活性剤部分が、更に、キャリヤー、増粘剤、及び/又は顔料を含む、請求項１記載の接着性組成物。
【請求項４】
前記アクリル及び／又はメタクリルモノマーが、以下の一般構造で示される、請求項１記載の接着性組成物。
メタクリレートエステル：
【化１】
2002348544.tif 000001
及び
アクリレートエステル：    ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯＯＲ
（式中、Ｒ＝ＣnＨ2n+1であり、及びｎ＝１、２、３…２０であり、低分子量モノマーは、ｎ≦２のモノマーであり、高分子量モノマーは、ｎ＞２である該モノマーである。）
【請求項５】
前記アクリレート及び/又はメタクリレートモノマーが、前記接着剤部分中、約５５〜７５質量％の範囲で存在する、請求項１記載の接着性組成物。
【請求項６】
前記接着剤部分が、接着剤部分中、約０．０２〜１質量％の範囲で前記還元剤を含有する、請求項１記載の接着性組成物。
【請求項７】
前記接着剤部分が、約１〜２０質量％の強化剤、約１８〜３８質量％の耐衝撃性改良剤、０〜約１０質量％のカルボン酸、約０．００１〜０．１５質量％の阻害剤、約０．００１〜１５質量％の遅延剤及び０〜約１質量％の連鎖移動剤を含有する、請求項２記載の接着性組成物。
【請求項８】
前記カルボン酸が、メタクリル酸から成る、請求項２記載の接着性組成物。
【請求項９】
前記強化剤が、本質的に、ポリクロロプレン、ブタジエンと他のモノマーとのコポリマー、イソプレンと、スチレン、アクリロニトリル、アクリレートエステル、メタクリレートエステルとのコポリマー、エチレンとアクリレートエステルとのコポリマー、エピクロロヒドリンのホモポリマー、及びエピクロロヒドリンと、エチレンとのコポリマー、ポリクロロプレン及びスチレンと、ブタジエン又はイソプレンとのブロックコポリマー及びスチレンとジエンモノマーとのブロックコポリマーからなる群から選択されるポリマーを含有する、請求項２記載の接着性組成物。
【請求項１０】
前記少なくとも１種の活性剤部分が、過酸化ジベンゾイル、クメンヒドロペルオキシド、第三ブチルヒドロペルオキシド、ジクミルペルオキシド、第三ブチルペルオキシドアセテート、第三ブチルペルベンゾエート、二重第三ブチルアゾジイソブチロニトリルから本質的に成る群から選択される発生剤も含めて、遊離基発生剤を含有する開始剤を含む、請求項１記載の接着性組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月21日(2005.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の間取りに区分された床と、同床上に配置される壁とによって構成される仮想的な建築構造をＣＡＤ装置にて作成する際に使用される建築構造の強度判定装置において、
前記床の床データを暫定的に入力する第１の入力手段と、
前記壁の壁データを暫定的に入力する第２の入力手段と、
同第１及び第２の入力手段によって入力される床データ及び壁データに基づいて強度計算を行い強度値を算出する強度算出手段と
同強度算出手段によって得られた強度値と予め設定された所定の強度値とを比較し、所望の強度値に達しているかどうかを判定する判定手段と、
同判定手段による判定結果を表示させる表示手段とを備えた建築構造の強度判定装置。
【請求項２】
所定の間取りに区分された床と、同床上に配置される壁とによって構成されるＣＡＤ装置にて作成される仮想的な建築構造であって、
前記床の床データを暫定的に入力する第１の入力工程と、
前記壁の壁データを暫定的に入力する第２の入力工程と、
同第１及び第２の入力工程によって入力された床データ及び壁データに基づいて強度計算を行い暫定強度値を算出する強度算出工程と
同強度算出工程によって得られた暫定強度値と予め設定された所定の強度値とを比較し、所望の強度値に達しているかどうかを判定する判定工程と、
所望の強度値が得られない場合には前記床データ及び壁データの少なくとも一方を変更して再度前記強度算出工程による強度計算を行い得られた修正強度値と所定の強度値とを再度比較する修正工程とを備えたことを特徴とする建築構造の強度修正方法。
【請求項３】
前記床は平面上の格子によって区画される基本方形単位を連結して所定形状の部屋を構成し、これら部屋を連結して所定の間取りとするようにしたことを特徴とする請求項２に記載の建築構造の強度修正方法。
【請求項４】
前記判定工程において判定結果はモニタ画面上で目視可能であることを特徴とする請求項２又は３に記載の建築構造の強度修正方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【発明の効果】  以上のように構成することで請求項１〜４の発明では、床と壁で構成された概略の建築構造にすぎないプランニングの段階においてもその間取りが好ましいかどうかの判断をすることが可能となり、従来に比べてユーザにより安全性を強調することが可能となる。
請求項２の発明では加えて、所望の強度に修正することが容易となる。また、請求項３の発明では請求項１又は２の発明の効果に加えて、床を平面上の格子によって区画される基本方形単位を連結して構成していくようにしたため床データを算出し易くなる。また、請求項４の発明では請求項２又は３の発明の効果に加えて、判定結果をモニタ画面上で目視することができ修正作業が行いやすくなる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月23日(2005.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Hu蛋白質、Hu蛋白質のアミノ酸配列に１又は複数のアミノ酸が置換、欠失、付加もしくは挿入されたアミノ酸配列を有し、Hu蛋白質と同様の性質を有するポリペプチド、又はこれらのアミノ酸配列をコードする遺伝子を有効成分とする神経系腫瘍治療剤。
【請求項２】
神経系腫瘍が、神経芽細胞腫である請求項１記載の神経系腫瘍治療剤。