Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月10日(2005.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層アモルファスヘッドを備える記録及び／又は再生装置に使用されるとともに、非磁性支持体上に少なくとも磁性粉末、結合剤、研磨剤、潤滑剤及び有機溶剤よりなる磁性塗料が塗布されて磁性層が形成される磁気記録媒体において、
上記磁性塗料は、上記研磨剤が他の磁性塗料成分とは別に上記結合剤及び上記有機溶剤とともに混合分散されてなる研磨剤スラリーと、他の磁性塗料成分が上記結合剤及び上記有機溶剤中とともに混合分散されてなる磁性粉末分散物とを混合して調製され、
上記磁性層は、ｎ−ヘキサンにより抽出される脂肪酸エステル類の量が２０ｍｇ／ｍ２〜１３０ｍｇ／ｍ２あることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
上記強磁性粉末は、飽和磁化σｓ＝１００Ａｍ２／ｋｇ〜２００Ａｍ２／ｋｇ、抗磁力Ｈｃ＝８８ＫＡ／ｍ〜１２７ＫＡ／ｍ、ＢＥＴ法によって測定される比表面積が２５ｍ２／ｇ〜８０ｍ２／ｇであることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
一方、上述した非磁性支持体に塗布される磁性塗料に含有される強磁性粉末としては、飽和磁化σｓ＝１００Ａｍ２／ｋｇ〜２００Ａｍ２／ｋｇ、抗磁力Ｈｃ＝８８ＫＡ／ｍ〜１２７ＫＡ／ｍ、ＢＥＴ法によって測定される比表面積が２５ｍ２／ｇ〜８０ｍ２／ｇのものが使用され、具体的には、γ−ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５），Ｃｏ変性γ−ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５），Ｆｅ、ＮｉまたはＣｏを主成分（７５％以上）とする強磁性合金，バリウムフェライト，ストロンチウムフェライト等の公知の強磁性材料が使用できる。また、強磁性粉末には所定の原子以外に、Ａｌ，Ｓｉ，Ｓ，Ｓｃ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｂａ，Ｎｉ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｅ，Ａｕ，Ｈｇ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｓｒ，Ｂ等の原子を含んでもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月15日(2004.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの磁気抵抗効果型ヘッドを備えた磁気ディスク装置に適用され、前記ヘッドにより磁気記録媒体から読み取られた信号を増幅する機能を有するヘッドアンプ回路において、
前記ヘッドの磁化反転リセット操作に必要な、バイアス電流の電流値を表す電流値パラメータ及び当該バイアス電流の印加時間を表す時間パラメータを含むパラメータ組を少なくとも設定するためのレジスタ群と、
外部からの磁化反転リセットモードの設定により、外部から入力されるクロックを前記レジスタ群に設定されている前記時間パラメータの数だけカウントするカウンタとを具備し、
前記レジスタ群に設定されている前記電流値パラメータの示す電流値のバイアス電流を、前記カウンタにより前記時間パラメータの数がカウントされている期間だけ前記ヘッドに流すように構成されていることを特徴とするヘッドアンプ回路。
【請求項２】
少なくとも１つの磁気抵抗効果型ヘッドを備えた磁気ディスク装置に適用され、前記ヘッドにより磁気記録媒体から読み取られた信号を増幅する機能を有するヘッドアンプ回路において、
前記ヘッドの磁化反転リセット操作に必要な、バイアス電流の電流値を表す電流値パラメータ、当該バイアス電流の印加時間を表す時間パラメータ及び当該バイアス電流の極性を表す極性パラメータのパラメータ組を複数組、少なくとも設定するためのレジスタ群と、
外部からの磁化反転リセットモードの設定により、外部から入力されるクロックを前記レジスタ群に設定されている前記時間パラメータの数だけカウントする動作を、当該時間パラメータを切り替えながら実行するカウンタとを具備し、
前記レジスタ群に設定されている前記電流値パラメータの示す電流値のバイアス電流を、前記カウンタにより当該電流値パラメータと同一組の前記時間パラメータの数がカウントされている期間だけ、当該電流値パラメータと同一組の前記極性パラメータの示す極性で前記ヘッドに流す動作を、前記パラメータ組を切り替えながら実行するように構成されていることを特徴とするヘッドアンプ回路。
【請求項３】
前記レジスタ群は、前記磁化反転リセットモードを表す特定状態のフラグ情報が設定される特定レジスタを含んでおり、
前記特定レジスタに前記特定状態のフラグ情報が設定されることで、前記磁化反転リセットモードに設定されることを特徴とする請求項１または請求項２記載のヘッドアンプ回路。
【請求項４】
外部から磁化反転リセットモードを表す特定信号が与えられることにより、前記磁化反転リセットモードに設定されることを特徴とする請求項１または請求項２記載のヘッドアンプ回路。
【請求項５】
少なくとも１つの磁気抵抗効果型ヘッドを備えた磁気ディスク装置において、
請求項１、請求項２、請求項３または請求項４に記載のヘッドアンプ回路と、
前記ヘッドの磁化反転リセット操作が必要な場合に、前記パラメータ組を前記ヘッドアンプ回路の前記レジスタ群に設定した状態で、前記ヘッドアンプ回路を前記磁化反転リセットモードに設定する制御装置とを具備することを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項６】
前記ヘッドアンプ回路の前記レジスタ群への設定対象となる前記パラメータ組が少なくとも登録されている領域を持つメモリを更に具備し、
前記制御装置は、前記ヘッドアンプ回路を前記磁化反転リセットモードに設定する前に、前記メモリに登録されている前記パラメータ組を前記ヘッドアンプ回路の前記レジスタ群に設定するように構成されていることを特徴とする請求項５記載の磁気ディスク装置。
【請求項７】
外部から指定された周波数の前記クロックを前記ヘッドアンプ回路に出力するクロック発生回路を更に具備すると共に、
前記メモリには、前記クロックの周波数を示す複数の周波数値が更に登録されており、
前記制御装置は、前記メモリに登録されている前記複数の周波数値の１つを選択して、その選択した周波数値の周波数のクロックを前記クロック発生回路から前記ヘッドアンプ回路に出力させるように構成されていることを特徴とする請求項６記載の磁気ディスク装置。
【請求項８】
前記ヘッドが複数設けられると共に、
前記メモリには、前記パラメータ組が前記複数のヘッド毎に登録されており、
前記制御装置は、前記ヘッドアンプ回路を前記磁化反転リセットモードに設定する前に、前記メモリから磁化反転リセット操作の対象となるヘッドに固有の前記パラメータ組を選択して前記レジスタ群に設定するように構成されていることを特徴とする請求項６または請求項７記載の磁気ディスク装置。
【請求項９】
少なくとも１つの磁気抵抗効果型ヘッドと、前記ヘッドにより磁気記録媒体から読み取られた信号を増幅するヘッドアンプ回路とを備えた磁気ディスク装置に適用される磁化反転リセット方法であって、
少なくとも磁化反転リセットモードの期間は、前記ヘッドアンプ回路にクロックを供給し、
前記ヘッドの磁化反転リセット操作が必要な場合に、バイアス電流の電流値を表す電流値パラメータ及び当該バイアス電流の印加時間を表す時間パラメータを含むパラメータ組を、前記ヘッドアンプ回路内に設けたレジスタ群に設定した状態で、前記ヘッドアンプ回路を前記磁化反転リセットモードに設定することで、
前記ヘッドアンプ回路により、前記クロックを前記レジスタ群に設定されている前記時間パラメータの数だけカウンタを用いてカウントしながら、前記レジスタ群に設定されている前記電流値パラメータの示す電流値のバイアス電流を、前記時間パラメータの数のカウント期間だけ前記ヘッドに流す磁化反転リセット操作を行わせることを特徴とする磁化反転リセット方法。
【請求項１０】
リード処理時において、予め定められた回数のリードリトライを実行してもエラーが回復しない場合には、請求項９に記載の磁化反転リセット方法を適用して、該当する前記ヘッドを対象とする磁化反転リセット操作を行い、
しかる後にリードリトライを再実行することを特徴とするエラーリトライ方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月28日(2004.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面架橋された粉末状の吸水性樹脂であって、平均粒径が１００〜８００μｍであり、粒度分布の正規標準偏差が１３０以上である、ことを特徴とする吸水性樹脂。
ただし、平均粒径は、ＪＩＳ標準ふるい（目開き８５０μｍ、７１０μｍ、６００μｍ、５００μｍ、４２５μｍ、３５５μｍ、３００μｍ、２５０μｍ、１８０μｍ、１５０μｍ、１００μｍ、７５μｍ、４５μｍ）を用いて試料樹脂をふるい分級した後、残留百分率Ｒを正規確率紙にプロットし、Ｒ＝５０％に相当する粒径。
正規標準偏差は下記式で規定。
【数１】
1999246625.tif 000001
（Ｘ０はＲ＝５０％、Ｘ１はＲ＝８４．１％、Ｘ２はＲ＝１５．９％のときのそれぞれの粒径）
【請求項２】
血液ゲル吸収量が２ｇ／ｇ以上である、請求項１に記載の吸水性樹脂。
【請求項３】
血液吸引量が５ｇ／ｇ以上である、請求項１または２に記載の吸水性樹脂。
【請求項４】
表面架橋に用いる表面架橋剤が、多価アルコールおよびアルキレンカーボネートから選ばれる少なくとも１種である、請求項１から３までのいずれかに記載の吸水性樹脂。
【請求項５】
平均粒径が１００〜８００μｍの粉末状の吸水性樹脂の製造方法であって、互いに平均粒径の異なる二種以上の表面架橋された粉末状の吸水性樹脂を混合する工程を含む、ことを特徴とする吸水性樹脂の製造方法。
【請求項６】
粉末状の吸水性樹脂を複数の粒度範囲に分級した後、分級によって得られた互いに重複しない粒度範囲の二種以上の吸水性樹脂を混合する工程を含む、請求項５に記載の吸水性樹脂の製造方法。
【請求項７】
請求項１から４までのいずれかに記載の吸水性樹脂を坪量２０〜１００００ｇ／ｍ２で用いた吸収性物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は、以下の構成をとる。
(1) 表面架橋された粉末状の吸水性樹脂であって、平均粒径が１００〜８００μｍであり、粒度分布の正規標準偏差が１３０以上である、ことを特徴とする吸水性樹脂。
ただし、平均粒径は、ＪＩＳ標準ふるい（目開き８５０μｍ、７１０μｍ、６００μｍ、５００μｍ、４２５μｍ、３５５μｍ、３００μｍ、２５０μｍ、１８０μｍ、１５０μｍ、１００μｍ、７５μｍ、４５μｍ）を用いて試料樹脂をふるい分級した後、残留百分率Ｒを正規確率紙にプロットし、Ｒ＝５０％に相当する粒径。
正規標準偏差は下記式で規定。
【数１】
1999246625.tif 000002
（Ｘ０はＲ＝５０％、Ｘ１はＲ＝８４．１％、Ｘ２はＲ＝１５．９％のときのそれぞれの粒径）
(2) 血液ゲル吸収量が２ｇ／ｇ以上である、前記(1) 記載の吸水性樹脂。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
(3) 血液吸引量が５ｇ／ｇ以上である、前記(1) または(2) 記載の吸水性樹脂。
(4) 表面架橋に用いる表面架橋剤が、多価アルコールおよびアルキレンカーボネートから選ばれる少なくとも１種である、前記(1) から(3) までのいずれかに記載の吸水性樹脂。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
(5) 平均粒径が１００〜８００μｍの粉末状の吸水性樹脂の製造方法であって、互いに平均粒径の異なる二種以上の表面架橋された粉末状の吸水性樹脂を混合する工程を含む、ことを特徴とする吸水性樹脂の製造方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
(6) 粉末状の吸水性樹脂を複数の粒度範囲に分級した後、分級によって得られた互いに重複しない粒度範囲の二種以上の吸水性樹脂を混合する工程を含む、前記(5) 記載の吸水性樹脂の製造方法。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
(7) 前記(1) から(4) までのいずれかに記載の吸水性樹脂を坪量２０〜１００００ｇ／ｍ２で用いた吸収性物品。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月22日(2005.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水溶性エチレン性不飽和モノマーを含むモノマー水溶液を重合して得られる吸水性樹脂の含水ゲルにイオン封鎖剤を添加することを特徴とする吸水剤の製造方法。
【請求項２】
含水ゲルの固形分が２０〜４０重量％の範囲である請求項１記載の吸水剤の製造方法。
【請求項３】
イオン封鎖剤を、含水ゲルを乾燥する前及び／又は乾燥途中に、含水ゲルに添加する請求項１又は２記載の吸水剤の製造方法。
【請求項４】
含水ゲルを１２０℃以上で乾燥する請求項３記載の吸水剤の製造方法。
【請求項５】
イオン封鎖剤が、カルボキシル基を３個以上有するアミノカルボン酸及びその塩から選ばれる請求項１〜４の何れかに記載の吸水剤の製造方法。
【請求項６】
含水ゲルの乾燥後の吸水性樹脂の表面近傍を、さらに表面架橋剤を使用して架橋する請求項１〜５の何れかに記載の吸水剤の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
即ち、本発明は水溶性エチレン性不飽和モノマーを含むモノマー水溶液を重合して得られる吸水性樹脂の含水ゲルにイオン封鎖剤を添加することを特徴とする吸水剤の製造方法を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月28日(2005.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
湿式摩擦材において強度と柔軟性とを両立させるために、熱硬化性樹脂としてフェノール樹脂をシリコーン樹脂に混ぜ合わせて前記の製造方法を行うことを試みても、一般に知られているように、フェノール樹脂とシリコーン樹脂では混ぜ合わせることが困難である。
そこで、粉状のフェノール樹脂と粉状のシリコーン樹脂を充填材及び繊維基材と共に混ぜ合わせ、ペーパーを得た後に熱を加えることで湿式摩擦材を得る製造方法が考案された（特開平７−１７３３０１号）。この湿式摩擦材では、前記の両粉状樹脂粒子を混合するもので、ペーパーを得た後に熱を加えることによりこれらの樹脂は硬化するもので、ペーパーにこれらの樹脂を含浸させる手段を取っていないので、両方の液状樹脂を均一に混合させるという問題を避けることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月2日(2005.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合単位として、フッ化ビニリデン（ＶＤＦ）を２〜５０モル％、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）を２〜５０モル％（但し、前記ＶＤＦとＴＦＥの合計量は１５〜８５モル％）、かつシクロヘキシル基を含むビニルエーテル及び／またはアクリルエステル１種以上を２〜３０モル％含み、
さらにグリシジル基を含むビニルエーテル、アリルエーテル、及びアクリルエステルからなる群より選択される１種以上を２〜４０モル％含むことを特徴とする硬化性含フッ素共重合体。
【請求項２】
溶媒として酢酸エチル及び／または酢酸ブチルを使用する請求項１記載の共重合体を製造する方法。
【請求項３】
請求項１記載の硬化性含フッ素共重合体よりなるワニスまたは塗料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
硬化性官能基を含む含フッ素共重合体は、例えばヒドロキシアルキルビニルエーテルと、フルオロオレフィンと必要に応じてアルキルビニルエーテル、アルキルビニルエステル等を溶液重合して得られ、得られた反応液はそのままあるいは芳香族炭化水素類や塗料用シンナーで希釈されて硬化型塗料用ベースとして用いられている。かかる含フッ素共重合体をベースとする塗料は、耐薬品性、耐候性、耐汚染性、耐熱性などに優れているが、保存安定性が悪く、保存中に酸が発生して溶液のｐＨが低下し、ゲル化してしまう。含フッ素共重合体の保存安定性の改良についてはたとえば、特公昭６３−２３０５号明細書にはヒドロキシアルキル基を含む含フッ素共重合体溶液に第３アミンを添加することにより、保存安定性にすぐれた塗料が提案されている。しかしながら、第３アミンの添加は保存安定性の改良については効果があるが、含フッ素共重合体溶液が黄色、又は淡褐色に着色してしまうという欠点がある。また、特公平２−２０２９４２号明細書にはヒドロキシアルキル基を含む含フッ素共重合体溶液にエポキシ化合物を添加することが提案されている。しかしながら、これらはいずれもヒドロキシアルキル基を含む含フッ素共重合体溶液を製造した後、ゲル化防止のための添加剤としてエポキシ化合物を用いており、ヒドロキシアルキル基を含む含フッ素共重合体の持つゲル化性向上要因の解決にはなっていないという問題がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明の硬化性含フッ素共重合体は、硬化部位として作用するエポキシ基を含有するものであり、通常の硬化性エポキシ塗料に用いられている硬化剤、例えばジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン等のような脂肪族アミン類またはその変成物、メタフェニレンジアミン、ｐ，ｐ'−ジアミノジフェニルメタン、ジアミノフェニルスルホン等のような芳香族アミン類またはその変成物、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水修酸、ヘキサヒドロフタル酸、ピメリン酸、メチル・エンドメチレン無水フタル酸等の多価のカルボン酸またはその無水物等が使用される。さらに、本発明の硬化性含フッ素共重合体は多価イソシアネート類を用いて常温で硬化させることもできる。該多価イソシアネート類としては、例えばヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどの無黄変性ジイソシアネートやその付加物、イソシアヌレート類を有する多価イソシアネートが好ましく挙げられるが、これらの中でイソシアヌレート類を有する多価イソシアネートが特に有効である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
［接着性］ ＪＩＳ−Ｋ５４００ ８．５．２（ゴバン目セロテープ（登録商標）試験）による。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
［鉛筆硬度］ ＪＩＳ−Ｋ５４００ ８．４．１（鈴筆引っかき試験）による。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月17日(2005.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
尚、ポリウレタンフォ−ムの物性（Ｔｂ）として、引張強度について規定されるのが好ましく、Ｔｂ保持率が９０％以上の物性であることが望ましい。この試験はＪＩＳＫ６４００の引張試験を行ったものであり、先ずサンプルをダンベルにて打ち抜き、フェ−ドメ−タ−で紫外線照射を行った。そして、ブラックパネル６３℃、５００時間照射後、引張試験を行い、照射前の強度を１００％とした時の割合を示したものである。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月7日(2005.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
1999246398.tif 000001
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、同一または異なって、水素、ヒドロキシまたは低級アルコキシを表す）で示されるクルクミン誘導体、式（ＩＩ）
【化２】
1999246398.tif 000002
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、上記定義と同じである）で示されるテトラヒドロクルクミン誘導体、またはその両方を有効成分として含む、生体内過酸化脂質増加に起因する疾患の予防または治療剤。
【請求項２】
疾患が腎障害であることを特徴とする請求項１に記載の予防または治療剤。
【請求項３】
さらに担体を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の予防または治療剤。
【請求項４】
請求項１に定義したテトラヒドロクルクミン誘導体を有効成分として含む、生体内過酸化脂質増加を抑制するための食品添加物。
【請求項５】
請求項１に定義したテトラヒドロクルクミン誘導体を有効成分として含む、生体内過酸化脂質増加を抑制するための飲料または食品。
【請求項６】
食品がチョコレート、ガムまたは飴である請求項５に記載の食品。
【請求項７】
請求項１に定義したテトラヒドロクルクミン誘導体を有効成分として含む、生体内過酸化脂質増加を抑制するための動物飼料。
【請求項８】
動物が家畜または養殖魚であることを特徴とする請求項７に記載の飼料。
【請求項９】
請求項１に定義したテトラヒドロクルクミン誘導体を含み、かつ生体内過酸化脂質増加を抑制するために用いられるものである旨の表示を付した飲料または食品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明はさらに、上記定義のテトラヒドロクルクミン誘導体を有効成分として含む、生体内過酸化脂質増加を抑制するための飲料または食品を提供する。本発明の飲料または食品には、生体内過酸化脂質増加を抑制するために用いられるものである旨の表示を付すことができる。本発明はまた、上記定義のテトラヒドロクルクミン誘導体を有効成分として含む、生体内過酸化脂質増加を抑制するための動物飼料を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月3日(2005.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、かかる事情に鑑みて開発されたもので、ラベンダー精油等に含まれるリナロール又はリナリルアセテートの少なくとも１種を吸熱性組成物中に含有する冷却作用及び鎮静作用のある外用組成物を提供することを目的とする。該外用組成物は、ヒトの額部や胸部に適用されることにより催眠効果を発揮する入眠補助剤若しくは睡眠導入剤として有用である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
本発明の外用組成物は、特に不安、過労、憂鬱、興奮などといった精神的原因に基づく不眠若しくは入眠障害、生体リズムの変調に基づく不眠若しくは入眠障害等に有用である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月20日(2004.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
難溶性薬物と増粘剤からなる粒子の表面を分散剤で被覆したことを特徴とする速溶性用時調製用粉剤。
【請求項２】
該粒子が、該増粘剤の表面に該難溶性薬物が付着している粒子である請求項１に記載の速溶性用時調製用粉剤。
【請求項３】
該粒子の表面を分散剤と溶解補助剤とで被覆したことを特徴とする請求項１または２に記載の速溶性用時調製用粉剤。
【請求項４】
該粒子の表面を分散剤と溶解補助剤とを含む層でフィルム状にコーティングしたことを特徴とする請求項３に記載の速溶性用時調製用粉剤。
【請求項５】
該粒子の表面に分散剤と溶解補助剤とを粒子状に付着させたことを特徴とする請求項３に記載の速溶性用時調製用粉剤。
【請求項６】
増粘剤として、ポリアクリル酸ナトリウム、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ゼラチンおよびショ糖脂肪酸エステルから選ばれた少なくとも一種を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の速溶性用時調製用粉剤。
【請求項７】
分散剤として、キシリトール、ソルビトールおよびＤ−マンニトールから選ばれた少なくとも１種を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の速溶性用時調製用粉剤。
【請求項８】
溶解補助剤として、ポリビニルピロリドンおよびマクロゴールから選ばれた少なくとも１種を含有することを特徴とする請求項３〜５のいずれか一項に記載の速溶性用時調製用粉剤。
【請求項９】
難溶性薬物として、アロプリノール、2-(3-シアノ-4-イソブトキシフェニル)-4-メチル-5-チアゾールカルボン酸、サリチル酸（ｏ-ヒドロキシ安息香酸）、アスピリンから選ばれた少なくとも1種を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の速溶性用時調製用粉剤。
【請求項１０】
難溶性薬物と増粘剤とを含む粒子を形成した後、得られた粒子の表面の少なくとも一部を、分散剤及び／又は溶解補助剤で被覆することを特徴とする速溶性用時調製用粉剤の製造法。
【請求項１１】
難溶性薬物と増粘剤との混合物を空気中で流動させながら攪拌翼で攪拌しつつスプレーで結合液を噴霧することにより粒子状とすることを特徴とする請求項１０に記載の速溶性用時調製用粉剤の製造法。
【請求項１２】
難溶性薬物と増粘剤との混合物を遠心力で難溶性薬物と増粘剤を密着させて造粒することにより粒子状とすることを特徴とする請求項１０に記載の速溶性用時調製用粉剤の製造法。
【請求項１３】
難溶性薬物と増粘剤との混合物を空気で流動させながらスプレーで結合液を噴霧して粒子状とすることを特徴とする請求項１０に記載の速溶性用時調製粉剤の製造法。
【請求項１４】
難溶性薬物と増粘剤とを溶媒に溶解させた溶液を、スプレードライすることによリ粒子状とすることを特徴とする請求項１０に記載の速溶性用時調製用粉剤の製造法。
【請求項１５】
難溶性薬物と増粘剤との混合物をローラーで圧縮しペレット状にした後粉砕することにより粒子状とすることを特徴とする請求項１０に記載の速溶性用時調製用粉剤の製造法。
【請求項１６】
難溶性薬物と増粘剤とを溶媒に溶解させた溶液を濃縮、乾固した後、粉砕することにより粒子状とすることを特徴とする請求項１０に記載の速溶性用時調製用粉剤の製造法。
【請求項１７】
難溶性薬物と増粘剤の混合物を、空気または不活性気体の気流と回転版によって衝突させることにより粒子状とすることを特徴とする請求項１０に記載の速溶性用時調製用粉剤の製造法。
【請求項１８】
難溶性薬物と増粘剤とからなる粒子に、分散剤を含む溶液をスプレーして粒子表面を被覆することを特徴とする請求項１０に記載の速溶性用時調製用粉剤の製造法。
【請求項１９】
難溶性薬物と増粘剤とからなる粒子を流動させ、それに分散剤を含む粉体を付着させることを特徴とする請求項１０に記載の速溶性用時調製用粉剤の製造法。
【請求項２０】
含嗽剤であることを特徴とする請求項１に記載の速溶性用時調製用粉剤。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月28日(2004.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
昇降路と、この昇降路内のガイドレールに沿って昇降する乗りかごおよび釣合い重りと、これら乗りかごおよび釣合い重りを懸架する吊りロープと、昇降路内の上部に設けられ、前記吊りロープを走行させて乗りかごを駆動する駆動装置とを具備し、
前記吊りロープは、乗りかごの両側の２系統に振り分けて設けられているとともに、その乗りかごを懸架する側の端部が、乗りかごの天井面より下部の乗りかごの両側の位置に接続されていることを特徴とするエレベータのかご吊り構造。
【請求項２】
２系統の吊りロープの乗りかごに対する一方の接続部と他方の接続部とが、乗りかごの重心位置を隔てる対称的な位置に配置していることを特徴とする請求項１に記載のエレベータのかご吊り構造。
【請求項３】
２系統の吊りロープの乗りかごに対する接続部が乗りかごの床部に定められていることを特徴とする請求項１または２に記載のエレベータのかご吊り構造。
【請求項４】
駆動装置が吊りロープを走行させるトラクションシーブを有していることを特徴とする請求項１、２または３に記載のエレベータのかご吊り構造。
【請求項５】
２系統の吊りロープを個々に走行させる２個の駆動装置が設けられていることを特徴とする請求項４に記載のエレベータのかご吊り構造。
【請求項６】
駆動装置が２個のトラクションシーブを有し、その一方のトラクションシーブで一方の系統の吊りロープを走行させ、他方のトラクションシーブで他方の系統の吊りロープを走行させることを特徴とする請求項４に記載のエレベータのかご吊り構造。
【請求項７】
２系統の吊りロープの乗りかごに対する接続部の位置が乗りかごの両側の前後方向の中間部であることを特徴とする請求項１ないし６のうちの１つに記載のエレベータのかご吊り構造。
【請求項８】
２系統の吊りロープの乗りかごに対する一方の接続部と他方の接続部とが、乗りかごを平面からみたときのその対角線上に配置していることを特徴とする請求項１ないし６のうちの１つに記載のエレベータのかご吊り構造。
【請求項９】
駆動装置が乗りかごの背部側における乗りかごの平面投影域の外側の昇降路の上部に配置していることを特徴とする請求項１ないし８のうちの１つに記載のエレベータのかご吊り構造。
【請求項１０】
駆動装置が乗りかごの側部側における乗りかごの平面投影域の外側の昇降路の上部に配置していることを特徴とする請求項１ないし８のうちの１つに記載のエレベータのかご吊り構造。
【請求項１１】
２系統の吊りロープを、それぞれ少なくとも１個のそらせシーブを用いて乗りかごに垂直に垂下して乗りかごに接続してあることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７または９に記載のエレベータのかご吊り構造。
【請求項１２】
２系統の吊りロープのいずれか一方を、少なくとも１個のそらせシーブを用いて乗りかごに垂直に垂下して接続し、この吊りロープと他方の吊りロープとで、乗りかごを平面からみたときのその対角線上の２点の位置を支持していることを特徴とする請求項８、９または１０に記載のエレベータのかご吊り構造。
【請求項１３】
少なくとも１つのそらせシーブが、かご用または重り用のガイドレールに支持されていることを特徴とする請求項１１または１２に記載のエレベータのかご吊り構造。
【請求項１４】
昇降路と、この昇降路内のガイドレールに沿って昇降する乗りかごおよび釣合い重りと、これら乗りかごおよび釣合い重りを懸架する吊りロープと、前記吊りロープを走行させて乗りかごを駆動する駆動装置とを具備し、
前記吊りロープは、乗りかごの両側の２系統に振り分けて設けられているとともに、その乗りかごを懸架する側の端部が、乗りかごの天井面より下部の乗りかごの両側の位置に接続され、前記駆動装置は釣合い重りに設けられていることを特徴とするエレベータのかご吊り構造。
【請求項１５】
昇降路と、この昇降路内のガイドレールに沿って昇降する乗りかごおよび釣合い重りと、これら乗りかごおよび釣合い重りを懸架する吊りロープと、昇降路内の上部に設けられ、前記吊りロープを走行させて乗りかごを駆動する駆動装置とを具備し、
前記吊りロープは、乗りかごの両側の２系統に振り分けて設けられることを特徴とするエレベータのかご吊り構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
請求項１４に係る発明は、昇降路と、この昇降路内のガイドレールに沿って昇降する乗りかごおよび釣合い重りと、これら乗りかごおよび釣合い重りを懸架する吊りロープと、前記吊りロープを走行させて乗りかごを駆動する駆動装置とを具備し、前記吊りロープは、乗りかごの両側の２系統に振り分けて設けられているとともに、その乗りかごを懸架する側の端部が、乗りかごの天井面より下部の乗りかごの両側の位置に接続され、前記駆動装置は釣合い重りに設けられていることを特徴としている。
請求項１５に係る発明は、昇降路と、この昇降路内のガイドレールに沿って昇降する乗りかごおよび釣合い重りと、これら乗りかごおよび釣合い重りを懸架する吊りロープと、昇降路内の上部に設けられ、前記吊りロープを走行させて乗りかごを駆動する駆動装置とを具備し、前記吊りロープは、乗りかごの両側の２系統に振り分けて設けられることを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月7日(2005.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
この合成ナトリウムＸ型ゼオライト粉末とバインダーとを水分の調整をしながらすべてが均一となるよう混練混合した後、嵩密度が０．８〜１．０ｋｇ／リットルになるよう十分捏和する。混練混合した際の混合物の嵩密度が０．８ｋｇ／リットルよりも小さい場合は圧密が十分ではなく混合物粒子間に気泡の孔が存在して造粒性が低下することがある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
＜イオン交換工程＞以上の工程により成形、焼成したビーズ成形体をＬｉ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｓｒなど所望のイオンを含むイオン交換液と所定の温度にて接触させイオン交換する。各々のイオンとの交換に用いる化合物としては水溶液として容易に提供できるものであれば特に制限はないが、通常、塩化物水溶液が好ましく用いられる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月7日(2005.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明のＡ型ゼオライトビーズ成形体におけるＡ型ゼオライトと粘土バインダーとの構成比率としては、粘土バインダー量が多いと細孔表面積が大きく強度も強くなり、逆に粘土バインダー量が少ないと細孔容積が大きくなることを考慮し、通常Ａ型ゼオライト分の１５〜２５重量％程度の比率のものが好ましく用いられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
その製造法としては、Ａ型ゼオライト粉末と、無水基準で前記Ａ型ゼオライト粉末１００重量部に対して１５〜２５重量部のセピオライト型あるいはアタパルジャイト型粘土などの繊維状一次元構造の粘土バインダーとに水を加えて嵩密度が０．８〜１．０ｋｇ／リットルになるよう混練・捏和した後、羽根撹拌式の転動造粒によってビーズ状に成形するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
この合成ナトリウムＡ型ゼオライト粉末とバインダーとを水分の調整をしながらすべてが均一となるよう混練混合した後、嵩密度が０．８〜１．０ｋｇ／リットルになるよう十分捏和する。混練混合した際の混合物の嵩密度が０．８ｋｇ／リットルよりも小さい場合は圧密が十分ではなく混合物粒子間に気泡の孔が存在して造粒性が低下することがある。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月29日(2004.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも植物繊維材料及びセメントを含有してなる植物繊維セメント成形体において、添加剤として硝酸マグネシウム、硝酸第二鉄及び硝酸ニッケルからなる群から選択された１種または２種以上の硝酸塩を含有してなることを特徴とする植物繊維セメント成形体。
【請求項２】
硝酸塩の含有量が０．５〜１０重量％である、請求項１記載の植物繊維セメント成形体。
【請求項３】
少なくとも植物繊維材料、セメント及び水を混合し、得られた混合物を成形し、養生硬化することからなる植物繊維セメント成形体の製造方法において、原料を混合する際または前記混合物を成形する際に、硝酸塩を添加することを特徴とする植物繊維セメント成形体の製造方法。
【請求項４】
硝酸塩の添加量が０．５〜１０重量％である、請求項２記載の植物繊維セメント成形体の製造方法。
【請求項５】
硝酸塩が水溶液の形態で添加される、請求項３または４記載の植物繊維セメント成形体の製造方法。
【請求項６】
硝酸塩が、硝酸マグネシウム、硝酸第二鉄、硝酸ニッケル及び硝酸アルミニウムからなる群から選択された１種または２種以上である、請求項３ないし５のいずれか１項記載の植物繊維セメント成形体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明は、少なくとも植物繊維材料及びセメントを含有してなる植物繊維セメント成形体において、添加剤として硝酸マグネシウム、硝酸第二鉄及び硝酸ニッケルからなる群から選択された１種または２種以上の硝酸塩を含有してなることを特徴とする植物繊維セメント成形体に係る。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月15日(2004.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高周波スパッタリング法によって光学薄膜を製造する方法において、光源から出射した光線を基板上で反射させ、プラズマに起因する光の波長域以外の波長域における反射光の強度を受光手段で検出し、この受光手段の出力より成膜中の膜厚を算出し、この算出結果に基づいて薄膜の形成を終了することを特徴とする光学薄膜の製造方法。
【請求項２】
少なくとも金属フッ化物を含むターゲットを載置した電極に、放電ガスの存在下で高周波電力を印加してターゲット上にプラズマを発生させ、このプラズマ中のイオンにより上記ターゲットをスパッタリングして基板上に薄膜を形成する光学薄膜の製造方法において、
光源から出射した光線を基板上で反射させ、上記プラズマに起因する光の波長域以外の波長域における反射光の強度を受光手段で検出し、この受光手段の出力より成膜中の膜厚を算出し、この算出結果に基づいて薄膜の形成を終了することを特徴とする光学薄膜の製造方法。
【請求項３】
真空槽に放電ガスとして酸素を導入し、フッ化マグネシウムをターゲットとし、このターゲット上に高周波電力により上記放電ガスのプラズマを発生させてターゲットをスパッタリングする光学薄膜の製造方法において、光源から出射した光線を基板上で反射させた反射光の強度に基づいて膜厚を算出する光学式の膜厚計を使用し、４２０ｎｍ〜４３０ｎｍの波長範囲、４４０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲又は４７５ｎｍ〜４９１ｎｍの波長範囲のいずれかの波長範囲を上記膜厚計の監視波長として膜厚を監視しながら膜厚を制御することを特徴とする光学薄膜の製造方法。
【請求項４】
上記反射光は、プラズマに起因する波長域の光をフィルター又は回折格子で遮断した反射光であることを特徴とする請求項１または請求項２記載の薄膜の製造方法。
【請求項５】
上記受光手段は、プラズマに起因する波長域以外の光を選択的に受光して上記反射光の強度を受光することを特徴とする請求項１または請求項２記載の薄膜の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
これに対し、真空蒸着法では、特公平７−９８９９３号公報に記載されるように、光学式膜厚制御法によって成膜時の膜厚を制御している。この光学式膜厚制御法は、基板上に薄膜が成膜されることにより、その反射率が変化するため、光強度検出器によって基板からの反射光を測定し、この測定値に基づいて反射率の変化を監視して膜厚を制御するものである。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
放電ガスとして酸素を使用し、ターゲットとしてフッ化マグネシウムを使用した場合、放電ガス及びターゲットが決定されているため、４２０ｎｍ〜４３０ｎｍの波長範囲、４４０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲又は４７５ｎｍ〜４９１ｎｍの波長範囲の光がプラズマから発生することがない。本発明では、これらの内のいずれかの波長範囲を光学式の膜厚計によって測定するため、膜厚を高精度に制御した成膜を行うことができる。特に、この発明では、ターゲットとしてフッ化マグネシウムを使用するため、低い屈折率と高い耐久性を有したＭｇＦ2 膜を成膜することができる。また請求項４の発明は、上記請求項１または請求項２の発明で、上記反射光は、プラズマに起因する波長域の光をフィルター又は回折格子で遮断した反射光であることを特徴とする。これにより、フィルター又は回折格子によって遮断すべき波長域を選択することができるため、成膜の制御が簡単となる。また請求項５の発明は、上記請求項１または請求項２の発明で、上記受光手段は、プラズマに起因する波長域以外の光を選択的に受光して上記反射光の強度を受光することを特徴とする。これにより、受光手段が光の波長域を選択することができるため、測定可能な波長域が広くなる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
請求項３の発明によれば、複数の特定の波長範囲の光の強度を検出するため、検出する範囲が広くなり、柔軟性のある膜厚制御ができる。また、光学式の膜厚計を用いた制御が可能となる。請求項４の発明によれば、フィルター又は回折格子によって遮断すべき波長域を選択することができるため、成膜の制御が簡単となる。また請求項５の発明によれば、受光手段が光の波長域を選択することができるため、測定可能な波長域が広くなる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月5日(2005.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  全て重量％で、Ｃ ≦０．０８％；Ｃｒ ≧８％；Ａｌ ＜０．０３％；Ｍｎ ≦１．５０％；Ｎ ≦０．０５％；Ｓｉ ≦1．５％；Ｎｉ ＜２．０％；残部はＦｅ及び残留元素；を含有するクロム合金化フェライトスチールであって、該スチールはチタンで脱酸され、且つ５０％を越える等軸粒子の鋳放し構造を有するクロム合金化フェライトスチール。
【請求項２】  Ｔｉ ≧０．１０％を含有し、且つ（Ｔｉ×Ｎ）／Ａｌ≧０．１４の割合を有する、冷間圧下されたシートに形成されたスチールであって、該スチールは再結晶焼きなましされ且つ部品に成形されたとき隆起が本質的に無く、そして焼きなましされたシートは熱加工シートから冷間圧下される請求項１に記載のスチール。
【請求項３】  Ｎ ≦０．０１２％であり、Ｔｉ ≦０．２５％である請求項１に記載のスチール。
【請求項４】  等軸粒子が３ｍｍ以下のサイズを有する請求項１に記載のスチール。
【請求項５】  Ａｌ≦０．０１３％である請求項１に記載のスチール。
【請求項６】  ニオブ、ジルコニウム、タンタル及びバナジウムからなる群から選ばれる第二安定化元素を含有する請求項１に記載のスチール。
【請求項７】  Ａｌ＜０．０２％であり、鋳放し構造が６０％以上の等軸粒子である請求項２に記載のスチールシート。
【請求項８】  Ａｌ≦０．０１３％であり、鋳放し構造が８０％以上の等軸粒子である請求項２に記載のスチールシート。
【請求項９】  Ａｌ≦０．０１０％であり、（Ｔｉ×Ｎ）／Ａｌ≧０．２３の割合を有し、且つ鋳放し構造は円柱状粒子を実質的に含まない請求項２に記載のスチールシート。
【請求項１０】  鋳放しスチールが酸化チタン介在物を有し、該介在物の大部分が１．５μｍ未満のサイズを有する請求項２に記載のスチールシート。
【請求項１１】  Ｃｒ ≧１６％であり、（Ｔｉ×Ｎ）／Ａｌ≧０．３０の割合を有する請求項２に記載のスチールシート。
【請求項１２】  焼きなましされたシートがＲm≧１．７を有する請求項８に記載のスチールシート。
【請求項１３】  下記：
全て重量％で、Ｃ ≦０．０８％；Ｃｒ ≧８％；Ａｌ ＜０．０３％；Ｍｎ ≦１．５０％；Ｎ ≦０．０５％；Ｓｉ ≦１．５％；Ｎｉ ＜２．０％；残部はＦｅ及び残留元素；を含有するスチール溶融物を用意する工程と、
該溶融物をＴｉで脱酸する工程と、
溶融物を、５０％を越える等軸粒子の鋳放し構造を有するスチールに鋳造する工程と、
該スチールをシートに熱加工する工程と、
該シートを脱スケールする工程と、
該シートを最終厚さに冷間圧下する工程と、
該冷間圧下されたシートを再結晶焼きなましする工程であって、その際焼きなましされたシートは部品に成形されたとき隆起が実質的にない工程と
を包含するクロム合金スチールの製造方法。
【請求項１４】  Ａｌ ＜０．０２０％、Ｔｉ ≧０．１０％、及び（Ｔｉ×Ｎ）／Ａｌ≧０．１４である請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  Ｔｉ ≧０．１５％、（Ｔｉ×Ｎ）／Ａｌ≧０．２３であり、且つ（Ｔｉ／４８）／［（Ｃ／１２）＋（Ｎ／１４）］＞１．５の関係を満足させる請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】  溶融物を、１４０ｍｍ以下の厚さを有する薄いスラブに、連続的に鋳造し、シートへの熱間圧延の前に１０５０〜１３００℃の温度へスラブを再加熱する付加工程を有する請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】  熱加工されたシートが予備焼きなましされることなく冷間圧下される請求項１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月21日(2004.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板のめっき方法および装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
めっき槽に収容しためっき液を循環槽に循環させ、
前記循環槽から前記めっき液を自動分析手段に供給し、
前記自動分析手段により前記めっき液を分析してその成分を測定し、
前記自動分析手段によって分析された結果に基づいて、前記めっき液の成分を補給して、めっき液を正常な組成に保つことを特徴とする基板のめっき方法。
【請求項２】
前記めっき液として電解銅めっき液を使用することを特徴とする請求項１記載の基板のめっき方法。
【請求項３】
前記自動分析手段は、銅イオン濃度、硫酸濃度、塩素イオン濃度、添加剤濃度のうち少なくとも１つ以上を測定することを特徴とする請求項２に記載の基板のめっき方法。
【請求項４】
前記めっき液として無電解銅めっき液を使用することを特徴とする請求項１記載の基板のめっき方法。
【請求項５】
前記自動分析手段は、銅イオン濃度、還元剤濃度、ｐＨ、キレート濃度、溶存酸素濃度、溶存水素濃度、添加剤濃度のうち少なくとも１つ以上を測定することを特徴とする請求項４に記載の基板のめっき方法。
【請求項６】
めっき液を収容するめっき槽と、これに連通して前記めっき液を前記めっき槽から循環する循環槽と、前記循環槽と連通した自動分析手段とを備え、
前記自動分析手段により前記めっき液を分析した結果に基づいて、前記めっき液の不足成分を補給して、めっき液を正常な組成に保つことを特徴とする基板のめっき装置。
【請求項７】
前記めっき液として電解銅めっき液を使用することを特徴とする請求項６記載の基板のめっき装置。
【請求項８】
前記自動分析手段は、銅イオン濃度、硫酸濃度、塩素イオン濃度、添加剤濃度のうち少なくとも１つ以上を測定することを特徴とする請求項７に記載の基板のめっき装置。
【請求項９】
前記めっき液として無電解銅めっき液を使用することを特徴とする請求項６記載の基板のめっき装置。
【請求項１０】
前記自動分析手段は、銅イオン濃度、還元剤濃度、ｐＨ、キレート濃度、溶存酸素濃度、溶存水素濃度、添加剤濃度のうち少なくとも１つ以上を測定することを特徴とする請求項９に記載の基板のめっき装置。
【請求項１１】
前記自動分析手段で自動分析された結果を表示するディスプレイをさらに備えたことを特徴とする請求項６記載の基板のめっき装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板のめっき方法および装置に係り、特に半導体基板に形成された配線用の窪みに銅等の金属を充填する等の用途の基板のめっき方法および装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は上記事情に鑑みて為されたもので、その時々におけるめっき液の組成を自動的に分析して迅速にモニタ表示できるようにした基板のめっき方法および装置を提供することを目的とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月7日(2005.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
Ｑ+ が一般式 +ＮＲ1 Ｒ2 Ｒ3 Ｒ4 、+ ＰＲ1 Ｒ2 Ｒ3 Ｒ4 、Ｒ1 Ｒ2 + Ｎ＝ＣＲ3 Ｒ4 またはＲ1 Ｒ2 + Ｐ＝ＣＲ3 Ｒ4 または
【化２】
1999246575.tif 000001
［式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は互いに同じか異なり、それぞれ水素原子または炭素原子数１〜２０の直鎖状のまたは枝分かれした炭化水素基を意味し、ただしＮＨ4 + は除かれそしてヘテロ環は炭素原子数４〜１０の環員原子数で構成されている。］
で表される四級アンモニウム−および／または−ホスホニウム−カチオンである請求項１または２に記載のイオン性の非水性リガンド液。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
Ｑ+ が一般式Ｒ1 Ｒ2 + Ｎ＝ＣＲ3 −Ｘ−Ｒ3 Ｃ＝+ ＮＲ1 Ｒ2 またはＲ1 Ｒ2 + Ｐ＝ＣＲ3 −Ｘ−Ｒ3 Ｃ＝+ ＰＲ1 Ｒ2 で表される四級アンモニウム−および／または−ホスホニウム−カチオンであり、その際にＲ1 、Ｒ2 およびＲ3 は互いに同じか異なり、水素原子または炭素原子数１〜２０の直鎖状のまたは枝分かれした炭化水素基を意味しそしてＸはアルキレン−またはフェニレン基を意味する請求項１または２に記載のイオン性の非水性リガンド液。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
トリフェニルホスフィンのスルホン化で得られるナトリウム−またはカリウム塩水溶液を使用する請求項１０〜１５のいずれか一つに記載のイオン性の非水性リガンド液の製造方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
本発明のイオン性の非水性リガンド液を製造するためのカチオンＱ+ としては一般式 +ＮＲ1 Ｒ2 Ｒ3 Ｒ4 または+ ＰＲ1 Ｒ2 Ｒ3 Ｒ4 または一般式Ｒ1 Ｒ2 + Ｎ＝ＣＲ3 Ｒ4 またはＲ1 Ｒ2 + Ｐ＝ＣＲ3 Ｒ4 （各式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は互いに同じか異なり、水素原子または炭素原子数１〜２０の直鎖状のまたは枝分かれした炭化水素基、例えばアルキル−、アルケニル−、シクロアルキル−、アルキルアリール−、アリール−またはアルアルキル基を意味し、ただしＮＨ4  +は除かれる。）で表される四級アンモニウム−および／または−ホスホニウム−カチオンが使用される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
別のカチオンＱ+ としては、一般式
Ｒ1 Ｒ2 Ｒ3 Ｎ+ −（Ｘ）−Ｎ+ Ｒ4 Ｒ5 Ｒ6 （第四ジアミン）
Ｒ1 Ｒ2 Ｒ3 Ｐ+ −（Ｘ）−Ｐ+ Ｒ4 Ｒ5 Ｒ6 （第四ジホスフィン）
［両式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 およびＲ6 は互いに同じか異なり、水素原子、炭素原子数１〜２０の直鎖状のまたは枝分かれした炭化水素基、例えばアルキル−、アルケニル−、シクロアルキル−、アルキルアリール−、アリール−またはアルアルキル基を意味し、そしてＸは１，２−フェニレン、１，３−フェニレン、１，４−フェニレンまたは（ＣＨＲ7 ）b −で表されるアルキレン基であり、その際にＲ7 は互いに同じであり、水素原子または炭素原子数１〜５の炭化水素基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチルおよびｔ−ブチルでありそしてｂは１〜８の整数である。］
で表される四級アンモニウム−および／または−ホスホニウム−カチオンが適している。例えばＸは、メチレン−、エチレン−、プロピレン、ブチレン基、または１，４−フェニレン基である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
本発明のイオン性の非水性リガンド液を製造するのに適する第四ジアミンには、一般式      Ｒ1 Ｒ2 Ｒ3 Ｎ+ −（ＣＨＲ7 ）b −Ｎ+ Ｒ4 Ｒ5 Ｒ6 
［式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 およびＲ6 が互いに同じか異なり、水素原子、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｉ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｉ−オクチル、ｎ−ノニル、ｉ−ノニル、ｎ−デシル、ｉ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｉ−ウンデシル、ｎ−ドデシルおよびｉ−ドデシルであり、Ｒ7 が水素原子、メチル基またはエチル基を意味しそしてｂが２、３、４、５または６である。］
で表される第四ジアミンがある。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
（スルホフェニル）−ジフェニルホスフィン、ジ−（スルホフェニル）フェニルホスフィンまたはトリ（スルホフェニル）ホスフィンのナトリウム−、カリウム、カルシウム−またはバリウム塩の水溶液が特に適している。これらの水溶液の混合物も使用できる。しかしながら上記のアルカリ金属元素およびアルカリ土類金属元素の１種類の塩水溶液、特にナトリウム−またはカリウム水溶液を使用するのが有利であり、この場合にはこれらの溶液は（スルホフェニル）−ジフェニルホスフィン、ジ（スルホフェニル）フェニルホスフィンおよびトリ（スルホフェニル）ホスフィンよりなる混合物を含有していてもよい。本発明のイオン性の非水性リガンド液を製造するのに適する混合物は、例えばドイツ特許出願公開（Ａ）第２６２７３５４号明細書から公知の通り、トリフェニルホスフィンのスルホン化の際に生じる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月5日(2005.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
なお、表１の水洗工程後の薬液持ち出し量については、φ０．３ｍｍの銅線が水洗工程を通過した直後、テフロン（登録商標）製の薄板を被めっき材に接触させ、そこから薬液を滴下させしずくを採取した量である。