【手続補正書】
【提出日】平成17年11月1日(2005.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャリアを収容する空間を備えた車体と、該車体に備えられた第１及び第２のフィルターと、ポンプと、シャッターとを有し、
前記シャッターを閉じることで前記空間が外界と隔てられ、
前記ポンプによって前記第１のフィルターによって濾過された空気が前記空間内に取りこまれ、なおかつ前記空間内の空気が前記第２のフィルターによって濾過されて前記空間から排出されることを特徴とする自動搬送装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１または第２のフィルターは、ＵＬＰＡフィルターまたはＨＥＰＡフィルターであることを特徴とする自動搬送装置。
【請求項３】
請求項１において、
前記第２のフィルターはイオン交換繊維を濾材とするカチオン交換繊維を含むフィルターであることを特徴とする自動搬送装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか１項において、
前記第１のフィルターは、前記第２のフィルターよりも、前記車体の上方に設けられていることを特徴とする自動搬送装置。
【請求項５】
ホストコンピューターと、第１および第２の製造装置と、第１および第２のキャリアと、自動搬送装置とを有し、
前記自動搬送装置が有する車体は、
前記第２のキャリアを収容する空間と、
該車体に備えられた第１及び第２のフィルターと、
閉じることで前記空間を外界と隔てることができるシャッターと、
前記第１のフィルターによって濾過された空気を前記空間内に取り込み、なおかつ前記空間内の空気が前記第２のフィルターによって濾過されて前記空間から排出されるようにするポンプとを有し、
前記ホストコンピューターは、
前記第１の製造装置と前記第２の製造装置間の基板の搬送経路において前記自動搬送装置を用いることと、前記第１の製造装置において処理前と処理後で前記基板を前記第１のキャリアから前記第２のキャリアに移し変えることをデータとして保持する手段と、
前記第１の製造装置と前記第２の製造装置間の搬送における前記基板の搬送を前記自動搬送装置に指示する信号を生成する手段と、
前記基板の前記第１のキャリアから前記第２のキャリアへの移し変えを前記第１の製造装置に指示する信号を生成する手段とを有することを特徴とする半導体装置の生産システム。
【請求項６】
ホストコンピューターと、第１、第２及び第３の製造装置と、第１及び第２のキャリアと、第１及び第２の自動搬送装置とを有し、
前記第１の自動搬送装置が有する車体は、
前記第１のキャリアを収容する空間を有し、
前記第２の自動搬送装置が有する車体は、
前記第２のキャリアを収容する空間と、
該車体に備えられた第１及び第２のフィルターと、
閉じることで前記空間を外界と隔てることができるシャッターと、
前記第１のフィルターによって濾過された空気を前記空間内に取り込み、なおかつ前記空間内の空気が前記第２のフィルターによって濾過されて前記空間から排出されるようにするポンプとを有し、
前記ホストコンピューターは、
前記第１の製造装置と前記第２の製造装置間の基板の搬送経路において前記第２の自動搬送装置を用い、なおかつ前記第２の製造装置と前記第３の製造装置間の基板の搬送経路において前記第１の自動搬送装置を用いることと、前記第１の製造装置において処理前と処理後で前記基板を前記第１のキャリアから前記第２のキャリアに移し変え、なおかつ前記第２の製造装置において処理前と処理後で前記基板を前記第２のキャリアから前記第１のキャリアに移し変えることとをデータとして保持する手段と、
前記第１の製造装置と前記第２の製造装置間の搬送経路における基板の搬送を前記第２の自動搬送装置に指示する信号を生成し、なおかつ前記第２の製造装置と前記第３の製造装置間の搬送経路における基板の搬送を前記第１の自動搬送装置に指示する信号を生成する手段と、
前記基板の前記第１のキャリアから前記第２のキャリアへの移し変えを前記第１の製造装置に指示する信号を生成し、なおかつ前記基板の前記第２のキャリアから前記第１のキャリアへの移し変えを前記第２の製造装置に指示する信号を生成する手段とを有することを特徴とする半導体装置の生産システム。
【請求項７】
請求項５または請求項６において、
前記第１の製造装置はドーピング装置であることを特徴とする半導体装置の生産システム。
【請求項８】
請求項５乃至請求項７において、
前記第２の製造装置はレジスト剥離装置であることを特徴とする半導体装置の生産システム。
【請求項９】
請求項５乃至請求項８のいずれか１項において、
前記第１または第２のフィルターは、ＵＬＰＡフィルターまたはＨＥＰＡフィルターであることを特徴とする半導体装置の生産システム。
【請求項１０】
請求項５乃至請求項８のいずれか１項において、
前記第２のフィルターはイオン交換繊維を濾材とするカチオン交換繊維を含むフィルターであることを特徴とする半導体装置の生産システム。
【請求項１１】
請求項５乃至請求項１０のいずれか１項において、
前記第１のフィルターは、前記第２のフィルターよりも、前記車体の上方に設けられていることを特徴とする半導体装置の生産システム。
【請求項１２】
ホストコンピューターによって、第１の製造装置と第２の製造装置の区間において自動搬送装置を用いてキャリアを搬送するように制御され、なおかつ前記第１の製造装置および第２の製造装置において処理前と処理後でキャリアを変更するように制御され、
前記自動搬送装置が有する車体に備えられた前記キャリアを収容する空間に、該車体に備えられた第１のフィルターによって濾過された空気が取り込まれ、なおかつ前記空間内の空気が前記第２のフィルターによって濾過されて前記空間から排出されていることを特徴とする半導体装置の生産管理方法。
【請求項１３】
請求項１２において、
前記第１の製造装置はドーピング装置であることを特徴とする半導体装置の生産管理方法。
【請求項１４】
請求項１２または請求項１３において、
前記第２の製造装置はレジスト剥離装置であることを特徴とする半導体装置の生産管理方法。
【請求項１５】
請求項１２乃至請求項１４のいずれか１項において、
前記第１または第２のフィルターは、ＵＬＰＡフィルターまたはＨＥＰＡフィルターであることを特徴とする半導体装置の生産管理方法。
【請求項１６】
請求項１２乃至請求項１４のいずれか１項において、
前記第２のフィルターはイオン交換繊維を濾材とするカチオン交換繊維を含むフィルターであることを特徴とする半導体装置の生産管理方法。
【請求項１７】
請求項１２乃至請求項１６のいずれか１項において、
前記第１のフィルターは、前記第２のフィルターよりも、前記車体の上方に設けられていることを特徴とする半導体装置の生産管理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
１０５は吸気用フィルターであり、外気を濾過して収容部１０３内に取り込むために備えられている。また１０６は排気用フィルターであり、収容部１０３内の空気をＡＧＶの外部に排出する際に、不純物を濾過して取り除くために備えられている。そして１０９はポンプであり、吸気用フィルター１０５で濾過されてから取り込まれた空気が収容部１０３内を通り、排気用フィルター１０６で再び濾過されて排気されるように、収容部１０３内の空気の流れを制御することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
また、各製造装置には、キャリアの受け渡しを行なうために、一時的にキャリアを収容することができるキャリアステーション２１０、２１１、２１２が併設されている。ＡＧＶによって搬送されてきたキャリアは、キャリアステーション２１０、２１１、２１２に収容され、各製造装置に引き渡される。このとき、キャリアごと各製造装置に引き渡しても良いし、キャリアに格納されている基板のみを引き渡すようにしても良い。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
また、特に処理前と処理後でキャリアを区別する必要がない場合、例えばドーピングの濃度が著しく低くて不純物の拡散がさして問題にならないとした場合など、上記２つのキャリア２２０、２２１とはまた別個のキャリア２２２を用い、該キャリア２２２もキャリアステーション２１０、２１１、２１２において収容できるようにしても良い。