Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月13日(2005.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
ヒト型キメラ抗体のVHが配列番号2で示されるアミノ酸配列の1〜123番目、および／またはVLが配列番号4で示されるアミノ酸配列の1〜107番目を含む、請求項3または4に記載の抗体またはその抗体断片。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
本発明のhIGF-Iに特異的に結合するヒト型キメラ抗体（以下、抗hIGF-Iキメラ抗体と表記する）としては、配列番号5、6、7で示されるアミノ酸配列からなるVHのCDR1、CDR2、CDR3、および／または配列番号8、9、10で示されるアミノ酸配列からなるVLのCDR1、CDR2、CDR3、を含む抗hIGF-Iキメラ抗体、ハイブリドーマKM1473から生産されるモノクローナル抗体のVHおよび／またはVLを含む抗hIGF-Iキメラ抗体、抗体のVHが配列番号2で示されるアミノ酸配列の1〜123番目、および／またはVLが配列番号4で示されるアミノ酸配列の1〜107番目を含む抗hIGF-Iキメラ抗体、抗体のVHが配列番号2で示されるアミノ酸配列の1〜123番目のアミノ酸配列、ヒト抗体のCHがhIgG1サブクラスのアミノ酸配列から成り、抗体のVLが配列番号4で示されるアミノ酸配列の1〜107番目のアミノ酸配列、ヒト抗体のCLがκクラスのアミノ酸配列からなる抗hIGF-Iキメラ抗体があげられる。これらのアミノ酸配列において、1以上のアミノ酸が欠失、付加、置換または挿入され、かつ、hIGF-Iと特異的に反応する抗体も本発明の範囲に包含される。具体的には、形質転換株KM3003が生産する抗hIGF-Iキメラ抗体があげられる。KM3003は、平成１４年４月２日付で、独立行政法人産業技術総合研究所  特許生物寄託センター（日本国茨城県つくば市東１丁目１番地１  中央第６）にFERM BP-7997として寄託されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１４】
（5）diabodyの作製
diabodyは遺伝子工学的には、多くは大腸菌、また、昆虫細胞や動物細胞などを用いて作製することができる。例えば、上記2（2）、2（4）および2（5）に記載の抗体のVHとVLをリンカーがコードするアミノ酸残基が8残基以下となるように連結したDNAを作製し、diabody発現用ベクターにクローニングし、diabody発現ベクターを作製することができる。diabody発現用ベクターとしては、diabodyのDNAを組み込み発現できるものであればいかなるものも用いることができる。例えば、pCANTAB5E（Pharmacia社製）、pHFA（Human Antibodies Hybridomas, 5, 48, 1994）などがあげられる。diabody発現ベクターを導入した大腸菌の封入体あるいはペリプラズマ層にdiabodyを生成蓄積させることができる。封入体からは、通常蛋白質で用いられるリフォールディング法により、活性のあるdiabodyとすることができ、また、ペリプラズマ層に発現させた場合は、リゾチームによる部分消化、浸透圧ショック、ソニケーションなどの処理により菌を破砕し、菌体外へ回収することができる。リフォールディング後あるいは菌の破砕液からは、陽イオン交換クロマトグラフィーなどを用いることにより、均一なdiabodyを精製することができる（Antibody Engineering, A Practical Approach, IRL PRESS, 1996）。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月13日(2005.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ポリヒドロキシアルカノエートシンターゼおよび４ＨＢ−ＣｏＡトランスフェラーゼからなる群より選択される異種酵素をコードする遺伝子をゲノムに安定に組み込んだ組換え宿主により生成された、モノマー３−ヒドロキシ酪酸またはモノマー４−ヒドロキシ酪酸のうちの少なくとも１つを含むポリヒドロキシアルカノエートポリマー。
【請求項２】  異種宿主ゲノムへの組み込み後に発現を増強するための、プロモーター制御下の４ＨＢ−ＣｏＡトランスフェラーゼをコードする単離遺伝子を含む、ベクター。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月21日(2004.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
続いて、ＣＰＵ１１は、１周期分の加速度脈波のデータの最大値と最小値を探索し、最大値から最小値までの加速度脈波（以下、最大−最小加速度脈波という。）のデータを取り出す。これによって、図２（ｃ）に示すような１周期分の加速度脈波のデータから図２（ｄ）に示すような最大−最小加速度脈波のデータが得られる。続いて、ＣＰＵ１１は、最大−最小加速度脈波のデータについて最小値が０となるようにデータを加工して（各座標の値から最小値を引く）、修正最大−最小加速度脈波のデータを得る。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
続いて、ＣＰＵ１１は、前記修正最大−最小加速度脈波のデータを１０等分し、間隔の値を得る。さらに、ＣＰＵ１１は、この修正最大−最小加速度脈波のデータの等分した各点（両端を含む）を規格化し、１１点の規格化データの値を得る。尚、規格化は、修正最大−最小加速度脈波の各点の値を修正最大−最小加速度脈波の最大値で割ることによって行われる。このようにして得た各点における規格化データは、図２（ｅ）に示される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
ＣＰＵ１１は、上述したように、提示された入力ベクトルｘ（ｔ）を利用して、勝者ユニットを探し、探し出した勝者ユニットの近傍に含まれるユニットの参照ベクトルを更新すること、つまり学習を行う。また、ＣＰＵ１１は、このような学習を、提示順に従って全ての入力ベクトルを利用して行う。さらに、ＣＰＵ１１は、このことを、総学習回数Ｔ回行う。以上が、自己組織化アルゴリズムの概要である。尚、自己組織化アルゴリズム自体は既知のものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2003310558.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月26日(2004.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
ここで、プローブ部１の発光，受光動作に伴う許容誤差範囲ｙ１が設定されると共に（この場合はｙ１＝５０％）（ステップＡ１０）、補正係数ｘ１が“０”にリセットされる（ステップＡ１１）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2003310580.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2003310580.tif 000002
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2003310580.tif 000003
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2003310580.tif 000004
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２】
2003310580.tif 000005
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１７】
2003310580.tif 000006
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１８】
2003310580.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月6日(2005.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】磁気共鳴イメージング装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
静磁場中に置かれた被検体中に核磁気共鳴を起こさせる高周波磁場を発生する手段と、核磁気共鳴によって被検体が発生する核磁気共鳴信号を位相エンコードする傾斜磁場を発生する手段と、前記核磁気共鳴信号を用いて前記被検体の断層像を形成する画像形成手段と、前記高周波磁場発生手段及び傾斜磁場発生手段を制御する制御手段とを備えた磁気共鳴イメージング装置において、
前記制御手段は、高周波磁場を繰り返し印加するとともに繰り返し時間内で位相エンコードと核磁気共鳴信号の計測を行うパルスシーケンスを連続して実行し、画像データセットの少なくとも一部の取得を、画像データセットを変えて繰り返し、その際、１の画像データセットの少なくとも一部の取得の際に最後に印加される位相エンコード傾斜磁場の強度と、次の画像データセットの少なくとも一部の取得の際に最初に印加される位相エンコード傾斜磁場の強度とを略同一にすることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項２】
静磁場中に置かれた被検体中に核磁気共鳴を起こさせる高周波磁場を発生する手段と、核磁気共鳴によって被検体が発生する核磁気共鳴信号を位相エンコードする傾斜磁場を発生する手段と、前記核磁気共鳴信号を用いて前記被検体の断層像を形成する画像形成手段と、前記高周波磁場発生手段及び傾斜磁場発生手段を制御する制御手段とを備えた磁気共鳴イメージング装置において、
前記制御手段は、高周波磁場を繰り返し印加するとともに繰り返し時間内で位相エンコードと核磁気共鳴信号の計測を行うパルスシーケンスを連続して実行し、その際、繰り返し時間毎に変化させる位相エンコードの順序を、極性が負から正に変化する順序（昇順）と正から負に変化する順序（降順）とが交互になるように、傾斜磁場を制御することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項３】
請求項２記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記制御手段は、繰り返し時間毎に変化させる位相エンコードの順序を、極性が負の最大値から正の最大値まで順に変化させ、次いで正の最大値から負の最大値まで順に変化させることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項４】
請求項２又は３に記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記制御手段は、高周波磁場を繰り返し印加するとともに繰り返し時間内で２軸方向の位相エンコードと核磁気共鳴信号の計測を行うパルスシーケンスを連続して実行し、その際、第1の位相エンコードを固定して第2の位相エンコードを順次変化しながら繰り返し核磁気共鳴信号を取得するステップを、第1の位相エンコードを順次変化させながら繰り返し、各ステップにおける第１の位相エンコードの順序を、昇順と降順とが交互となるように傾斜磁場を制御することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項５】
請求項２記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記制御手段は、前記被検体の生体信号に同期して、パルスシーケンスを制御し、１の生体信号と次の生体信号との間を分割した複数の時相の、ある時相では、位相エンコードの順序を、極性が負から正に変化する順序（昇順）となり、次の時相では極性が正から負に変化する順序（降順）となるように、傾斜磁場を制御することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項６】
請求項１ないし５いずれか１項記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記繰り返し時間内に、位相エンコードを付与する傾斜磁場パルスと強度が同じで極性が逆のリワインドパルスを含むことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月31日(2005.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図２は、撮像部１の構成を示す模式図である。放射線源１１としては、コヒーレント性及び単色性が高い放射線ビームを発生する放射線源を用いることが望ましい。ここで、単色性が高いビームとは、主に単一波長を有するビームのことをいう。このため、本実施形態においては、放射線源１１として、Ｘ線を発生する放射光源を用いている。放射光とは、電子を加速したり、電子の進行方向を曲げることによって発生する電磁波のことをいう。放射線源１１から発生したＸ線は、被写体１０を透過し、センサ１２に入射する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
（２）実空間におけるフィルタリングを行う方法
図５は、実空間におけるフィルタリングを行う方法を説明するための図である。図５の（ａ）は、図４の（ａ）に示すガウス分布状のフィルタに対して逆フーリエ変換を施すことによって得られた実空間フィルタを示す図である。また、図５の（ｂ）は、検出データＩＮを構成するＮ個の画素データＩ（０）、Ｉ（１）、…、Ｉ（Ｎ−１）を示している。さらに、サンプリング間隔をＤ（ｍ）とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
まず、図５の（ａ）に示すグラフに基づいて、実空間フィルタを作成する。即ち、図５の（ａ）に示すグラフをサンプリング間隔Ｄ（ｍ）でサンプリングし、全フィルタ値の和が１になるように規格化することにより、図５の（ｃ）に示すフィルタ値ｆｉｌ’（−Ｍ＋１）〜ｆｉｌ’（Ｍ−１）を得ることができる。ここで、図５の（ｃ）において、Ｍ＝Ｎ／２である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
本実施形態においては、被写体を撮像する際に放射光源を用いているが、放射光ではないビームを発生する放射線源を用いても良い。例えば、立命館大学が開発した電子蓄積型高輝度硬Ｘ線発生装置は、卓上型でありながら放射光並みに輝度及び指向性の高いＸ線を発生することができる。この装置が発生するＸ線はコヒーレント性を有しており、また、単一波長ではないが、単色化結晶と組み合わせることにより単色化することが可能である。また、技術研究組合フェムト秒テクノロジー研究機構（ＦＥＳＴＡ）が開発した線源は、逆コンプトン散乱の原理に基づいて極短パルス高輝度Ｘ線を発生する。この線源は、小型で持ち運びが可能であり、コヒーレント性を有すると共に、指向性及び単色性の高いＸ線を発生することができる。なお、放射線源として点放射線源を用いる場合には、位相情報復元装置においてデータ処理を行う際に、拡大率を含めて補正することが望ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１、６  撮像部
２  位相情報復元装置
３  表示部
４  出力部
５  読取り部
１０  被写体
１１  放射線源
１２  センサ
１３  保持台
１４  レール
１５、６０  増幅器
１６、６１  Ａ／Ｄ変換器
２１  記憶部
２２  差分処理部
２３  ＬＰＦ
２４  位相復元部
２５  画像処理部
２６  制御部
２７  記録媒体
５０  輝尽性蛍光体シート（記録シート）
５１  モータ
５２  シート搬送手段
５３  レーザ光源
５４  モータ
５５  回転多面鏡
５６  収束レンズ
５７  ミラー
５８  光ガイド
５９  フォトマルチプライヤ（光電子増倍管）
１０１  物体面
１０２  スクリーン
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2003310593.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月29日(2004.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
食器類を収納し洗浄水を溜める洗浄槽と、
給水ホースに接続され、前記洗浄槽内に洗浄水を供給する電磁給水弁と、
を備え、
前記電磁給水弁に、前記給水ホースに接続される継手部を設け、該継手部に水よけフランジを備えたことを特徴とする食器洗い機。
【請求項２】
給水ホースの継手部と電磁給水弁の継手部の接続を、ワンタッチで接続されるスライド式のワンタッチジョイントとしたことを特徴とする請求項１記載の食器洗い機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る食器洗い機は、食器類を収納し洗浄水を溜める洗浄槽と、給水ホースに接続され、前記洗浄槽内に洗浄水を供給する電磁給水弁と、を備え、
前記電磁給水弁は、前記給水ホースの継手部に接続される継手部に設けられた水よけフランジを備えたものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、給水ホースの継手部と電磁給水弁の継手部の接続を、ワンタッチで接続されるスライド式のワンタッチジョイントとしたものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
図２において、給水弁４０は、流入口４１と、流入管路４２と、流入室４３と、流出管路４４端面に設けられた主弁座４５と、流出口４６とを有する弁本体４７に、主弁座４５を閉塞するように、流入する流体圧で変位可能なダイヤフラム弁４８を設置し、弁本体４７にダイヤフラム弁４８のダイヤフラム４９の液密パッキン部５０を押圧するようにガイドケース５１を押止め、このガイドケース５１の内周には、このダイヤフラム弁４８のパイロットオリフィス５２を閉塞するようにプランジャシート５３が固定されたプランジャ５４と、このプランジャ５４を押圧しているコイルスプリング５５を収納し、このガイドケース５１の外周には、マグネット・ワイヤーと呼ばれる銅線５６を円筒状のボビン５７に巻いて端子片５８に接続したソレノイド５９を設置したものである。また、６０は弁本体４７の継手部８２の弁本体４７側に設けられた水よけフランジ（以下、フランジという）である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
図３において、給水ホース１３０の継手部７１は、スライド部（以下、スライド部という）７０、抜け防止のストッパー（以下、ストッパーという）７２、ボディ７３、ボール７４、７５はスプリング、スライド部がスプリング７５によってボディ７３より抜け出てしまわないようにしているストップリング７６、シール部品７９から構成される。７７はホース、７８はボディ７３とホース７７のカシメ部品である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
次に、図４、図５、図６に基づいて給水弁４０と給水ホース１３０の接続方法について説明する。図４より、まず、ストッパー７２の凸部８０をスライド部７０に当るところまで広げ、その状態でスライド部７０をボディ側ヘスライドさせる。この時スプリング７５はスライド部７０により押し縮められており、ボール７４はスライド部７０端部の凹部８１へ入り、フリーの状態になっている。
１４０は給水弁４０の継手部８２と給水ホース１３０の継手部７１からなるワンタッチジョイントである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
次に図５より、給水弁４０の継手部８２にボディ７３を勘合させ、フランジ６０ヘボディ７３が突き当たるまで差し込み、スライド部７０を放すとスプリング７５によってスライド部７０がフランジ側へ押し上げられる。この時、ボール７４はスライド部７０により押され、給水弁４０の継手部８２の凹部８３へ勘合され、給水ホース１３０の継手部７１（図３）が給水弁の継手部８２より抜けないようになっている。さらに、図６より、ストッパー７２がフランジ６０へ引っ掛かり、抜け防止の役目をしている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、この状態においてシール部品７９が給水弁４０の継手部８２に押されシールしている。この時にシール部品７９は従来例のシール部品３２と違い自由に回転できる状態にあるため、給水弁４０の接続後に給水ホース１３０の方向を変えた場合でも水漏れを起こさない。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
【発明の効果】
以上のように、この発明によれば、食器類を収納し洗浄水を溜める洗浄槽と、給水ホースに接続され、前記洗浄槽内に洗浄水を供給する電磁給水弁と、を備え、前記電磁給水弁は、前記給水ホースの継手部に接続される継手部に設けられた水よけフランジを備えたので、水漏れを防止することができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、給水ホースの継手部と電磁給水弁の継手部の接続を、ワンタッチで接続されるスライド式のワンタッチジョイントとしたので、電磁給水弁と給水ホースとの接続作業が簡単にでき、また、給水弁と給水ホースとの勘合の確認が可能なため、水漏れをよりよく防止することができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
４０  給水弁、５８  端子片、５９  ソレノイド、６０  フランジ、７０  スライド部、７１  給水ホースの継手部、７２  ストッパー、８２  給水弁の継手部、９０  食器洗い機本体、１２１  洗浄槽、１３０  給水ホース、１４０  ワンタッチジョイント。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2003310522.tif 000001
【手続補正１３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2003310522.tif 000002
【手続補正１４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2003310522.tif 000003
【手続補正１５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2003310522.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月19日(2005.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
そして、例えば、引上げ法を用いた場合は、ゲルマニウムの結晶を引き上げる間に、ドープ材を接触させることによりドープすることができる。この際のドープ材としては、周期表５Ｂ族のリン、ヒ素、アンチモン又はビスマスが用いられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明健康パッドにおいて、ｎ‐型ゲルマニウム半導体チップの被覆として用いる貴金属は、周期表第８族及び１Ｂ族の原子量１００〜２００の範囲の金属、すなわちルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、オスミウム、イリジウム、白金及び金の中から任意に選ぶことができる。
この半導体チップは、例えばゲルマニウムチップの先端部分をめっき防止のエナメル塗料で覆ったのち、貴金属をめっきすることにより製造することができる。この際のめっきの厚さとしては、１〜１０μｍの範囲が好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月6日(2005.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
足裏に作用する磁気治療器において、少なくとも合成樹脂製の本体と永久磁石から成る、靴の中底の一部に貼付け用いる小型薄肉の磁気治療器。
【請求項２】
消臭作用を有し、永久磁石がネオジウム磁石で磁気治療器の最大厚みが３ｍｍ以下であり、該ネオジウム磁石が本体の薄膜を介して外部と隔離設置され足裏に接触しない請求項１記載の磁気治療器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
さらに、より良い履き心地を得るために、磁石には汎用のフェライト磁石より磁束密度や機械的強度が強いネオジウム磁石を用い磁気治療器の小型薄肉性を高める。通常、ネオジウム磁石は錆易いためにニッケル鍍金をしているが、極稀にニッケルアレルギーを起こす人が居るのでネオジウム磁石が足裏に接触することがない構造、即ち該ネオジウム磁石が本体の薄膜を介して外部と隔離設置され足裏に接触しないようにする。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月6日(2004.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
貯蔵庫単体２Ｃ、２Ｃ．．について
貯蔵穀類がバラ状か適小単位のコンテナ詰めなどかの収納姿、既存土壌９の地形制約、あるいは搬出入時の使用機材と作業法、等々の諸事情を勘案すると、搬入口２Ｃ２、２Ｃ２．．の取付け仕様も多様に、また、貯蔵庫単体２Ｃ、２Ｃ．．の形状についても例えば、直６面体、直８面体、円筒体などそれに加えて底面を斜降させるなど多様に考えられる。貯蔵庫単体２Ｃ、２Ｃ．．の配列法についても貯蔵庫単体２Ｃ、２Ｃ．．と通路２Ｂとの組み合わせ方についても然りである。また、外殻２Ａを多階構造にすることもできる。  本発明のものは、上記のような収納姿、要部の形状、配列、組み合わせなどについては適任意であるとし、また、そのことによって本発明が特に制約を受けるものではないことを附記しておく。
ただし、本発明の主旨、内容を簡明に説明する便宜上、直６面体の貯蔵庫単体２Ｃ、２Ｃ．．が互いに仕切壁２Ｃ１、２Ｃ１．．を共有して連結させるようにして前後方向に直列状の２列で連設した場合とし、適小単位のコンテナ詰めの荷姿で穀類を収納するものとして、これを図示して説明する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月28日(2005.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、棒状あるいは収穫した農産物の茎葉部のような搬送物を一対の挟持搬送ベルトにより挟持して搬送する過程にねじりを設け、当初の搬送姿勢を変えて排出するねじり挟持搬送ベルトにおける張り調節装置に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月19日(2005.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一辺が浴槽内壁上端部における横幅の長さを有すると共に浴槽上端に保持可能であり、その対辺の中ほどに首挿入口を有し、該対辺と他の残り二辺の形状が浴槽上端より下位置の浴槽内壁面にほぼ沿った形をなし、これら三辺が浴槽内壁面に接して浴槽内に入れ込み可能な構造であることを特徴とする風呂ふた。
【請求項２】
浴槽上端に保持可能な辺とその対辺を除く、前記二辺のうち少なくとも一つの辺が伸縮可能であり、少しの力を加えることで該二辺と前記対辺の三辺が浴槽内壁面に接して浴槽内に入れ込み可能な構造であることを特徴とする請求項１記載の風呂ふた。
【請求項３】
浴槽上端に保持可能な前記一辺に、長さを伸縮できる支持軸を有することを特徴とする請求項１又は２記載の風呂ふた。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項３の風呂ふたは、浴槽上端に保持可能な前記一辺に、長さを伸縮できる支持軸を有することを特徴とする。これにより、支持軸長を浴槽に合わせて最適に調整し、美観と使用感を損なわず、一種類の風呂ふたで複数の横幅長の浴槽に使うことが出来る。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月19日(2005.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
そして、例えば、引上げ法を用いた場合は、ゲルマニウムの結晶を引き上げる間に、ドープ材を接触させることによりドープすることができる。この際のドープ材としては、周期表５Ｂ族のリン、ヒ素、アンチモン又はビスマスが用いられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明健康装身具において、基材として用いる貴金属は、周期表第８族及び１Ｂ族の原子量１００〜２００の範囲の金属、すなわちルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、オスミウム、イリジウム、白金及び金の中から任意に選ぶことができる。この貴金属材料としては、銅、鉄のような非貴金属の表面を上記の貴金属で被覆したものを用いることもできる。
本発明健康装身具としては、例えばネックレス、ブレスレッド、イヤリング、指輪、時計ケース、時計バンドなどを挙げることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月9日(2005.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）（ａ）第一のイオン性界面活性剤及び任意の電荷制御剤を含む、顔料又は着色剤の水性分散液と、（ｂ）線状ポリマー粒子、架橋ポリマー粒子、任意の非イオン性界面活性剤、及び前記顔料又は着色剤の分散液に含まれる前記第一のイオン性界面活性剤の極性と反対の電荷極性を有する第二のイオン性界面活性剤を含むラテックスブレンドとを混合する工程、
（ｉｉ）上記工程（ｉ）により得られた混合物を前記線状ラテックスポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）より低い温度で加熱して、トナーとして使用しうるサイズの凝集体を形成する工程、及び
（ｉｉｉ）前記凝集体の懸濁液を前記線状ラテックスポリマーのＴｇより高い温度で加熱して、前記凝集体の溶融又は融合を行う工程
を含む、トナーの調製方法。
【請求項２】
前記線状ポリマーが、ポリ（スチレン−ブタジエン）、ポリ（メチルメタクリレート−ブタジエン）、ポリ（エチルメタクリレート−ブタジエン）、ポリ（プロピルメタクリレート−ブタジエン）、ポリ（ブチルメタクリレート−ブタジエン）、ポリ（メチルアクリレート−ブタジエン）、ポリ（エチルアクリレート−ブタジエン）、ポリ（プロピルアクリレート−ブタジエン）、ポリ（ブチルアクリレート−ブタジエン）、ポリ（スチレン−イソプレン）、ポリ（メチルスチレン−イソプレン）、ポリ（メチルメタクリレート−イソプレン）、ポリ（エチルメタクリレート−イソプレン）、ポリ（プロピルメタクリレート−イソプレン）、ポリ（ブチルメタクリレート−イソプレン）、ポリ（メチルアクリレート−イソプレン）、ポリ（エチルアクリレート−イソプレン）、ポリ（プロピルアクリレート−イソプレン）、ポリ（ブチルアクリレート−イソプレン）、ポリ（スチレン−ブチルアクリレート）、ポリ（スチレン−ブタジエン）、ポリ（スチレン−イソプレン）、ポリ（スチレン−ブチルメタクリレート）、ポリ（スチレン−ブチルアクリレート−アクリル酸）、ポリ（スチレン−ブタジエン−アクリル酸）、ポリ（スチレン−イソプレン−アクリル酸）、ポリ（スチレン−ブチルメタクリレート−アクリル酸）、ポリ（ブチルメタクリレート−ブチルアクリレート）、ポリ（ブチルメタクリレート−アクリル酸）、ポリ（スチレン−ブチルアクリレート−アクリロニトリル−アクリル酸）及びポリ（アクリロニトリル−ブチルアクリレート−アクリル酸）からなる群より選択されること、及び、
前記架橋ポリマーが、前記線状ポリマーが架橋したものを含むこと
を特徴とする、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月20日(2004.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
ローカル収集ユニットにおける無損失のデータ記録と、
ローカル収集ユニットにおいて記録された無損失のデータと対応する第一のフェーズで伝送された圧縮データ間の差の判定と、
この差分が転送される第二のフェーズと、
伝送および差分の転送で受信したデータを結合することによる各ローカル収集ユニットにより収集された地震データの中央ステーションにおける再構成とから成る請求項１記載の地震データ伝送方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
各ローカル収集ユニット（Ａ）の処理アセンブリ（２、７）は第二の圧縮率で無損失型式の第二の圧縮を地震データに提供する請求項１４記載の地震データ伝送システム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
各ローカル収集ユニット（Ａ）は、信号プロセッサ（７）を備え、地震のトレースデータを圧縮するようにプログラムされたコンピュータを有する請求項１４または１５記載の地震データ伝送システム。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月12日(2004.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の原画像をそれぞれフ−リエ変換した後、前記フーリエ変換した複数の画像を配列してフィルム上に出力したホログラムであって、
前記ホログラムの再生像を見るときに、見る方向、前記フィルムの位置、又は光源の位置に応じて複数の画像が再生されることを特徴とするホログラム。
【請求項２】
前記複数の原画像は、連続的に変化する画像であることを特徴とする請求項１記載のホログラム。
【請求項３】
前記フーリエ変換した複数の画像を、所定の形状を存する領域内に配列する事を特徴とする請求項１記載のホログラム。
【請求項４】
前記フーリエ変換した複数の画像を、円を分割した扇形領域に夫々配列することを特徴とする請求項３記載のホログラム。
【請求項５】
網点画像が一部に埋め込まれたことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載されたホログラム。
【請求項６】
（ａ）複数の原画像を作成する工程と、
（ｂ）前記複数の原画像のフ−リエ変換像を作成する工程と、
（ｃ）前記複数のフ−リエ変換像を配列する工程と、
（ｄ）前記配列された画像をフィルムに出力する工程と、
を具備し、
前記工程（ｃ）において、両目で再生像を見ることができるように各フ−リエ変換像を配列することを特徴とするホログラムの作成方法。
【請求項７】
前記工程（ｃ）は、前記各画像を左目用の領域と右目用の領域に配列し、
左目と右目の距離をＸ、
左目用の領域の右端と右目用の領域の左端との距離をＹ、
左目用の領域の左端と右目用の領域の右端との距離をＺ、
とすると、
Ｚ≧Ｘ＞Ｙ
となるように配列することを特徴とする請求項６記載のホログラムの作成方法。
【請求項８】
前記工程（ｃ）は、前記各画像を左目用の領域と右目用の領域に配列し、
左目の中心と右目の中心を結んだ直線を基準として
θRR：右目用の領域の右端と右目の中心を結んだ直線のなす角度
θRL：右目用の領域の左端と右目の中心を結んだ直線のなす角度
θLR：左目用の領域の右端と左目の中心を結んだ直線のなす角度
θLL：左目用の領域の左端と左目の中心を結んだ直線のなす角度
とすると、
θRL＞θLRかつθLL≧θRR
となるように配列することを特徴とする請求項６記載のホログラムの作成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
前述した目的を達成するために本発明は、複数の原画像をそれぞれフ−リエ変換した後、前記フーリエ変換した複数の画像を配列してフィルム上に出力したホログラムであって、前記ホログラムの再生像を見るときに、見る方向、前記フィルムの位置、又は光源の位置に応じて複数の画像が再生されることを特徴とするホログラムと、（ａ）複数の原画像を作成する工程と、（ｂ）前記複数の原画像のフ−リエ変換像を作成する工程と、（ｃ）前記複数のフ−リエ変換像を配列する工程と、（ｄ）前記配列された画像をフィルムに出力する工程と、を具備し、前記工程（ｃ）において、両目で再生像を見ることができるように各フ−リエ変換像を配列することを特徴とするホログラムの作成方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月1日(2004.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
次に、ＣＰＵ４５は、パン動作検出部５３によって、積分部５２より出力される角度信号Ｅｘに基づいて、意図的なパン動作の開始もしくは終了を検出し、パン開始信号Ｐｓもしくはパン終了信号Ｐｅを出力する（ステップＳ１０４）。パン動作検出部５３は、意図的なパン動作の開始を検出した場合には、パン開始信号Ｐｓを減算値生成部５４に出力する。減算値生成部５４は、パン開始信号Ｐｓを入力してからパン終了信号Ｐｅを入力するまでの期間では、減算値の絶対値Ｄθｘの初期値を０、一定時間当たりの増加量をｎ1 （正の値）として、加算処理（Ｄθｘ＝Ｄθｘ＋ｎ1 ）を実行することにより、時間と共に増加する減算値の絶対値Ｄθｘを生成する（ステップＳ１０５）。この減算値の絶対値Ｄθｘは、Ｘ角度制御信号演算部５５に送られる。Ｘ角度制御信号演算部５５は、角度信号Ｅｘの極性（±）を判断し（ステップＳ１０７）、角度信号Ｅｘが正の値（Ｅｘ＞０）である場合には、角度信号Ｅｘより減算値の絶対値Ｄθｘを減算（Ｅｘ−Ｄθｘ）して、Ｘ方向角度制御信号ＶXrefとして出力する（ステップＳ１０８）。一方、角度信号Ｅｘが負の値（Ｅｘ＜０）である場合には、角度信号Ｅｘに減算値の絶対値Ｄθｘを加算、言い換えると、角度信号Ｅｘより減算値（−Ｄθｘ）を減算（Ｅｘ−（−Ｄθｘ））して、Ｘ方向角度制御信号ＶXrefとして出力する（ステップＳ１０９）。Ｘ方向角度制御信号演算部５５は、ステップＳ１０８もしくはステップＳ１０９によって得られたＸ方向角度制御信号ＶXrefを、Ｘ方向駆動制御部４３Ｘに出力し（ステップＳ１１０）、ＣＰＵ４５による動作は、メインのルーチンにリターンする。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
パン動作検出部５３は、ステップＳ１０４において、意図的なパン動作の終了を検出した場合には、パン終了信号Ｐｅを減算値生成部５４に出力する。減算値生成部５４は、パン終了信号Ｐｅを入力した後、次にパン開始信号Ｐｓを入力するまでは、パン終了信号Ｐｅ入力時におけるＤθｘの値を初期値とし、一定時間当たりの減少量をｎ2 （正の値）として、減算処理（Ｄθｘ＝Ｄθｘ−ｎ2 ）を実行することにより、時間と共に減少する減算値の絶対値Ｄθｘを生成する（ステップＳ１０６）。ただし、前述の通り、減算値の絶対値Ｄθｘの最小値は０であり、減算値の絶対値Ｄθｘが０となった後は、減算値の絶対値Ｄθｘは０のまま維持される。この減算値の絶対値Ｄθｘは、Ｘ角度制御信号演算部５５に送られる。Ｘ角度制御信号演算部５５は、角度信号Ｅｘの極性（±）を判断し（ステップＳ１０７）、角度信号Ｅｘが正の値（Ｅｘ＞０）である場合には、角度信号Ｅｘより減算値の絶対値Ｄθｘを減算（Ｅｘ−Ｄθｘ）して、Ｘ方向角度制御信号ＶXrefとして出力する（ステップＳ１０８）。一方、角度信号Ｅｘが負の値（Ｅｘ＜０）である場合には、角度信号Ｅｘに減算値の絶対値Ｄθｘを加算、言い換えると、角度信号Ｅｘより減算値（−Ｄθｘ）を減算（Ｅｘ−（−Ｄθｘ））して、Ｘ方向角度制御信号ＶXrefとして出力する（ステップＳ１０９）。Ｘ方向角度制御信号演算部５５は、ステップＳ１０８もしくはステップＳ１０９によって得られたＸ方向角度制御信号ＶXrefを、Ｘ方向駆動制御部４３Ｘに出力し（ステップＳ１１０）、ＣＰＵ４５による動作は、メインのルーチンにリターンする。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月14日(2004.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）カルボキシル基含有量が酸当量で１００〜６００であり、かつ、重量平均分子量が１５万〜３０万の線状重合体Ａ、及びカルボキシル基含有量が酸当量で１００〜６００であり、かつ、重量平均分子量が１万〜３万の線状重合体Ｂが混合されてなり、Ｂに対するＡの重量比率が９０／１０〜５０／５０であるバインダー用樹脂、２０〜９０重量％、（ｂ）下記式（Ｉ）または（ＩＩ）で示される光重合可能な不飽和化合物、５〜６０重量％、（ｃ）光重合開始剤、０．０１〜３０重量％を含有することを特徴とする光重合性組成物。
【化１】
1998282656.tif 000001
（ここでＲ１は炭素数４〜１２のジイソシアナート残基、Ｒ２、Ｒ３は水素またはメチル基、ｎ１、ｎ２は１〜１５の整数を表す。）
【化２】
1998282656.tif 000002
（ここでｎ３、ｎ４、ｎ５は３〜２０の整数、Ｒ４、Ｒ５は水素またはメチル基を表す）
【請求項２】
支持体上に請求項１の光重合性組成物からなる層を設けた光重合性樹脂積層体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
すなわち、本発明は、（ａ）カルボキシル基含有量が酸当量で１００〜６００であり、かつ、重量均分子量が１５万〜３０万の線状重合体Ａ、及びカルボキシル基含有量が酸当量で１００〜６００であり、かつ、重量平均分子量が１万〜３万の線状重合体Ｂが混合されてなり、Ｂに対するＡの重量比率が９０／１０〜５０／５０であるバインダー用樹脂、２０〜９０重量％、（ｂ）下記式（Ｉ）または（ＩＩ）で示される光重合可能な不飽和化合物、５〜６０重量％、（ｃ）光重合開始剤、０．０１〜３０重量％を含有することを特徴とする光重合性組成物を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
【表１】
1998282656.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月22日(2004.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくともホタル石と石英の２種類のガラス材を使用し、物体側より順に、正のパワーを持つ第１レンズ群Ｇ1と、負のパワーを待つ第２レンズ群Ｇ2と、正のパワーを持つ第３レンズ群Ｇ3とを含む構成をとり、以下の条件を満足することを特徴とする投影光学系。
｜Ｌ／ｆ｜＜２                          ‥‥（１）
０．７≦ｆ3／ｆ3C≦２．８               ‥‥（２）
但し、Ｌ：物体面から像面までの距離
ｆ：全系の焦点距離
ｆ3：前記第３レンズ群Ｇ3の焦点距離
ｆ3C：前記第３レンズ群Ｇ3に含まれるホタル石レンズエレメントのみによる              合成焦点距離であり、且つ、
1998282411.tif 000001
ｈ3max：前記第３レンズ群Ｇ3における近軸光線高の最大値
ｆk：各レンズエレメントの焦点距離
ｈk：各レンズエレメントの前面と後面での近軸光線高の平均値
Σ3C：前記第３レンズ群Ｇ3に含まれる全てのホタル石レンズエレメント              についての和である。
【請求項２】
以下の条件を満足する請求項１記載の投影光学系。
０．８≦ｈ3Cmax／ｈ3max                 ‥‥（３）
但し、ｈ3Cmax：前記第３レンズ群Ｇ3に含まれる全てのホタル石レンズエレメント                における近軸光線高の最大値である。
【請求項３】
以下の条件を満足する請求項１又は２記載の投影光学系。
０．８≦ｈ3Qmax／ｈ3max                 ‥‥（４）
但し、ｈ3Qmax：前記第３レンズ群Ｇ3に含まれる全ての石英レンズエレメント                  における近軸光線高の最大値である。
【請求項４】
以下の条件を満足する請求項１、２又は３記載の投影光学系。
０．０７≦ｆ3／Ｌ≦０．１５             ‥‥（５）
【請求項５】
以下の条件を満足する請求項１、２、３又は４記載の投影光学系。
０．１５≦ｆ3Cmax／Ｌ≦１               ‥‥（６）
但し、ｆ3Cmax：前記第３レンズ群Ｇ3に含まれる正のパワーのホタル石レンズ                  エレメントのうちの近軸光線高が最も高いところに配置され                  たエレメントの焦点距離である。
【請求項６】
以下の条件を満足する請求項１、２、３、４又は５記載の投影光学系。
０．２≦｜ｆ3Qmax／Ｌ｜≦１             ‥‥（７）
但し、ｆ3Qmax：前記第３レンズ群Ｇ3に含まれる負のパワーの石英レンズエレ                  メントのうちの近軸光線高が最も高いところに配置されたエ                  レメントの焦点距離である。
【請求項７】
以下の条件を満足する請求項１〜６のいずれか１項記載の投影光学系。
０．８≦ｈ3Cave／ｈ3max                 ‥‥（８）
但し、ｈ3Cave：前記第３レンズ群Ｇ3に含まれる全てのホタル石レンズエレメ                  ントにおける近軸光線高の平均値である。
【請求項８】
前記第１レンズ群Ｇ1にホタル石レンズエレメントを含み、以下の条件を満足する請求項１〜７のいずれか１項記載の投影光学系。
０．７≦ｆ1／ｆ1C≦２．５               ‥‥（９）
但し、ｆ1：前記第１レンズ群Ｇ1の焦点距離
ｆ1C：前記第１レンズ群Ｇ1に含まれるホタル石レンズエレメントのみ              による合成焦点距離であり、且つ、
1998282411.tif 000002
ｈ1max：前記第１レンズ群Ｇ1における近軸光線高の最大値
Σ1C：前記第１レンズ群Ｇ1に含まれる全てのホタル石レンズエレメン              トについての和である。
【請求項９】
投影原版の像を基板上に投影露光する投影露光装置において、
前記投影原版を照明する照明光学装置と、
請求項１〜８のいずれか１項記載の投影光学系とを備えることを特徴とする投影露光装置。
【請求項１０】
集積回路の製造方法において、
請求項９記載の投影露光装置を用いて回路パターンを露光転写する工程を備えていることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月5日(2004.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
観察光学系を収納する顕微鏡本体と、この顕微鏡本体に着脱自在な観察光学系の構成ユニットとを備えた倒立型顕微鏡において、
少なくとも一つの観察光学系の構成ユニットが前記顕微鏡本体に配置される光軸の向きに着脱自在であり、かつその構成ユニットは前記顕微鏡本体に対して調整なしに直接固定されてなることを特徴とする倒立型顕微鏡。
【請求項２】
観察光学系の少なくとも一部を収納する顕微鏡本体と、この顕微鏡本体に装着可能な残りの観察光学系の一部を含む構成ユニットを備えた倒立型顕微鏡において、
前記構成ユニットは、前記顕微鏡本体の観察光軸と平行な方向に着脱自在であり、かつ前記顕微鏡本体に対して位置調整することなく固定可能であることを特徴とする倒立型顕微鏡。
【請求項３】
前記構成ユニットは、対物レンズからでた光が反射部材により反射された後に結像する光学像をリレーするリレー光学系ユニットであり、さらに、該リレー光学系ユニットの後方に観察鏡筒ユニットを着脱自在に設けたことを特徴とする請求項１又は２のいずれかに記載の倒立型顕微鏡。
【請求項４】
観察光学系の少なくとも一部を収納する顕微鏡本体と、この顕微鏡本体に装着可能な照明光学系の投光管ユニットとを備えた倒立型顕微鏡において、
前記投光管ユニットは、照明用の光源からの光を導く投光管と、該投光管から導かれた光を反射して試料を照明するキューブとを一体化したことを特徴とする請求項１記載の倒立型顕微鏡。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、請求項１に係る発明は、観察光学系を収納する顕微鏡本体と、この顕微鏡本体に着脱自在な観察光学系の構成ユニットとを備えた倒立型顕微鏡において、少なくとも一つの観察光学系の構成ユニットが前記顕微鏡本体に配置される光軸の向きに着脱自在であり、かつその構成ユニットは前記顕微鏡本体に対して調整なしに直接固定されてなることを特徴とする。請求項２に係る発明は、観察光学系の少なくとも一部を収納する顕微鏡本体と、この顕微鏡本体に装着可能な残りの観察光学系を含む構成ユニットを備えた倒立型顕微鏡において、前記構成ユニットは、前記顕微鏡本体の観察光軸と平行な方向に着脱自在であり、かつ前記顕微鏡本体に対して位置調整することなく固定可能であることを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項１に係る発明の作用では、少なくとも一つの観察光学系の構成ユニットが顕微鏡本体に配置される光軸の向きに着脱自在であり、かつその構成ユニットは顕微鏡本体に対して調整なしに直接固定されてなることにより、観察光学系の構成ユニットを保持する構造を簡単にし、光学心の心出し作業を容易にする。請求項２に係る発明の作用では、観察光学系の一部を含む構成ユニットが、前記顕微鏡本体の観察光軸と平行な方向に着脱自在であり、かつ前記顕微鏡本体に対して位置調整することなく固定可能であることにより、観察光学系の構成ユニットを保持する構造を簡単にし、光学心の心出し作業を容易にする。
【発明の実施の形態１】
図１〜図２は発明の実施の形態１を示し、図１は倒立型顕微鏡の平面図、図２は倒立型顕微鏡の側面図である。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
【発明の効果】
請求項１乃至４に係る発明によれば、観察光学系の構成ユニットを保持する構造を簡単にし、光学心の心出し作業を容易にするので、光学心精度を正確に維持しつつ、組立性、保守性を向上させ、かつ顕微鏡本体の構造を簡単化して安価にした倒立型顕微鏡を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月14日(2004.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも３つの面が互いに偏心して配置され、その３つの面の間が屈折率が１．３以上の透明媒質で埋められた構成の偏心プリズム光学系において、前記光学系は少なくとも２回の内部反射を行うように、前記３つの面の中の少なくとも２つの面を反射作用を有する面で形成すると共に、前記の２つの反射作用を有する面によって反射された光線が前記光学系内部で交差しないような位置に前記の２つの反射作用を有する面を配置し、前記反射作用を有する２つの面の中、１つの面の形状は面内及び面外共に回転対称軸を有さない回転非対称面にて形成され、他の１つの面の少なくとも有効面（面の全領域中で光束が透過及び／又は反射をする領域）の形状が有効面内に回転対称軸を有する回転対称面にて構成されていることを特徴とする偏心プリズム光学系。
【請求項２】
請求項１記載の偏心プリズム光学系において、前記回転対称面が、前記光学系を通過する光束を入射若しくは射出させる透過作用と前記光学系の内部で前記光束を折り曲げる反射作用とを併せ持つ第１面として形成され、前記回転非対称面が前記第１面と対向配置された第２面として形成され、さらに、前記光学系を通過する光束を射出若しくは入射させる透過作用を有する第３面が、前記第１面と前記第２面との対向方向に対して略垂直方向の位置に配置され、少なくとも前記偏心プリズム光学系が前記第１面と前記第２面と前記第３面とを含む構成であることを特徴とする偏心プリズム光学系。
【請求項３】
請求項２記載の偏心プリズム光学系において、前記第１面が有効面内にてその透過作用と反射作用とが少なくとも一部の領域で重なり合うように形成されていると共に、少なくとも前記第１面の有効面内の透過作用と反射作用との重なり合う領域での反射作用が全反射作用によるように構成されていることを特徴とする偏心プリズム光学系。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか１項に記載の偏心プリズム光学系において、
前記回転対称面が、前記少なくとも３つの面の内で最も有効面の面積が広い面に設けられていることを特徴とする偏心プリズム光学系。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れか１項に記載の偏心プリズム光学系において、
前記回転対称面が、前記少なくとも３つの面の内で偏心により発生する偏心収差が少ない面に設けられていることを特徴とする偏心プリズム光学系。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れか１項に記載の偏心プリズム光学系において、
前記回転対称面が、前記偏心プリズム光学系の瞳に最も近い位置にある面に設けられていることを特徴とする偏心プリズム光学系。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
次に、以下の説明において用いる座標系について説明する。
図１に示すように、偏心プリズム光学系７の瞳１の中心を通り、像面６（接眼光学系として用いる場合は、画像表示素子）中心に到達する軸上主光線が瞳１を射出し偏心プリズム光学系７の第１面３に交差するまでの直線（光軸２と一致。接眼光学系として用いる場合は、観察者視軸となる。）によって定義される軸をＺ軸とし、このＺ軸と直交しかつ偏心プリズム光学系７を構成する各面の偏心面内の軸をＹ軸と定義し、Ｚ軸と直交しかつＹ軸と直交する軸をＸ軸とする。また、瞳１の中心をこの座標系の原点とする。そして、軸上主光線が物点から像面に到る方向をＺ軸の正方向、像面６が位置する方向をＹ軸の正方向、Ｙ軸とＺ軸と右手系を構成するＸ軸の方向をＸ軸の正方向とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
物点中心から光学系の入射瞳中心を通る軸上主光線と平行に瞳中心からＸ軸方向に微小量Ｈ（ｍｍ）の点を通り、その軸上主光線と平行に光学系に入射する光線を光線追跡したときの射出光線のＮＡ（軸上主光線となす角のｓｉｎの値）を上記Ｈで割った値を光学系全体のＸ方向の焦点距離Ｆｘ（ｍｍ）と定義する。また、瞳中心からＹ方向にＨ（ｍｍ）の点を通り、その軸上主光線と平行に光学系に入射する光線を光線追跡したときの射出光線のＮＡ（軸上主光線となす角のｓｉｎの値）を上記Ｈで割った値を光学系全体のＹ方向の焦点距離Ｆｙ（ｍｍ）と定義する。