【手続補正書】
【提出日】平成17年1月26日(2005.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチクルと感応基板とを投影光学系に対して所定の走査方向に相対移動しつつ、前記レチクルに形成されたパターンを投影光学系を介して前記感応基板上に逐次転写する走査型露光方法であって；
多点フォーカスセンサによって前記感応基板上の複数の検出点における前記感応基板表面の前記投影光学系の光軸方向の位置を検出するフォーカス検出工程と；
前記感応基板を前記投影光学系の光軸方向への駆動または前記光軸直交面に対して傾斜駆動する基板駆動工程と；
前記基板駆動工程における感応基板の駆動を制御する制御工程と；
前記多点フォーカスセンサのうち使用状態にあるセンサの配列と前記感応基板上の所定のショット領域とが所定の関係にある場合に、前記使用状態にあるセンサが検出可能か否かを判定する判定工程とを備え；
前記制御工程は、前記判定結果に基づいて、前記感応基板の前記光軸方向位置のみを調整する調整工程か、前記感応基板の光軸方向位置及び前記光軸直交面に対する傾斜を調整する調整工程かのいずれかの調整工程を行う；
走査型露光方法。
【請求項２】
前記判定工程で、前記所定の関係にある場合が、使用状態にある前記センサの配列が前記所定のショット領域の露光終了位置にある場合である、請求項１に記載の、走査型露光方法。
【請求項３】
前記使用状態にあるセンサが、前の処理で選択されていた追従センサであることを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の、走査型露光方法。
【請求項４】
センサの配列に伴って定まる調整工程が、前記使用状態にあるセンサが、前記所定の走査方向に配列されたセンサを含む場合は、前記所定の走査方向の前記光軸直交面に対する傾斜を調整する調整工程であり、前記所定の走査方向に直交する方向に配列されたセンサを含む場合は、前記所定の走査方向に直交する方向の前記光軸直交面に対する傾斜を調整する調整工程であることを特徴とする、請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の、走査型露光方法。
【請求項５】
前記感応基板上のショット毎にショット形状を記録したショットマップを用意し、該ショットマップに基づいて前記判定工程の判定をすることを特徴とする、請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の、走査型露光方法。
【請求項６】
レチクルと感応基板とを投影光学系に対して所定の走査方向に相対移動しつつ、前記レチクルに形成されたパターンを投影光学系を介して前記感応基板上に逐次転写する走査型露光方法であって；
多点フォーカスセンサによって前記感応基板上の複数の検出点における前記感応基板表面の前記投影光学系の光軸方向の位置を検出するフォーカス検出工程と；
前記感応基板を前記投影光学系の光軸方向への駆動または前記光軸直交面に対して傾斜駆動する基板駆動工程と；
前記基板駆動工程における感応基板の駆動を制御する制御工程と；
前記感応基板上のショット毎に所定のショット領域の露光終了位置にある場合に検出可能なセンサを指定したマップを用意する工程と；
前記マップに基づいて使用状態にあるセンサの配列を定める工程とを備え；
前記制御工程は、前記センサの配列に伴って定まる調整工程であって、前記感応基板の前記光軸方向位置のみを調整する調整工程か、前記感応基板の光軸方向位置及び前記光軸直交面に対する傾斜を調整する調整工程かのいずれかの調整工程を行う；
走査型露光方法。
【請求項７】
前記判定工程の結果に基づいて、前記使用状態にあるセンサの配列を変更する自動選択工程を有することを特徴とする、請求項１記載の走査型露光方法。
【請求項８】
前記自動選択工程では、所定の基準を充足するフォーカスセンサを、所定の順番に従って選択することを特徴とする、請求項７記載の走査型露光方法。
【請求項９】
レチクルと感応基板とを同期して走査しながら、前記レチクルのパターンを投影光学系を介して前記基板上のショット領域に露光する露光装置において；
設定された複数のフォーカスセンサによって前記基板上の複数の検出点における前記基板の前記投影光学系の光軸方向の位置を検出するフォーカス検出系と；
前記基板を前記光軸方向または前記光軸直交面に対して傾斜駆動する駆動機構と；
前記フォーカスセンサと前記基板と前記ショット領域との位置関係に基づいて、前記フォーカスセンサが検出可能か否かを判定する判定部とを有することを特徴とする；
露光装置。
【請求項１０】
前記判定部は、前記判定結果に基づいて前記基板の前記光軸方向の位置と、前記基板の光軸方向の位置及び前記傾斜とのいずれか一方を調整することを特徴とする、請求項９記載の露光装置。
【請求項１１】
前記判定部は、前記基板の周辺部に位置するショット領域の形状に基づいて、前記フォーカスセンサの設定を変更することを特徴とする、請求項９または請求項１０記載の露光装置。
【請求項１２】
前記判定部は、前記基板の周辺部に位置するショット領域の形状に基づいて、前記フォーカスセンサの検出点の数を変更することを特徴とする、請求項１１記載の露光装置。
【請求項１３】
前記判定部は、前記ショット領域の両端の前記走査方向の長さの差に基づいて前記フォーカスセンサの設定を変更することを特徴とする、請求項９または請求項１０記載の装置。
【請求項１４】
前記判定部は、前記ショット領域の露光終了位置における前記フォーカスセンサと、前記ショット領域との位置関係に基づいて、前記フォーカスセンサが検出可能か否かを判定することを特徴とする請求項９ないし請求項１３のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１５】
レチクルと感応基板とを同期して走査しながら、前記レチクルのパターンを前記基板上のショット領域に露光することで前記基板上に半導体素子を製造する素子製造方法において：複数のフォーカスセンサによって、前記基板上の複数の検出点におけるフォーカス位置を検出し、前記基板をフォーカス方向への駆動または前記基板面を傾斜駆動すること；前記フォーカスセンサと前記基板と前記ショット領域との位置関係に基づいて、前記フォーカスセンサが検出可能か否かを判定すること：前記判定結果に基づいて決定された前記フォーカスセンサを使って前記基板の前記光軸方向の位置と前記基板の傾斜との少なくとも一方を調整すること，前記調整後の基板に前記レチクルのパターンを露光すること；を特徴とする素子製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
さらにこの場合、請求項１１に記載のように、前記判定部は、前記基板の周辺部に位置するショット領域の形状に基づいて、前記フォーカスセンサの設定を変更するように構成してもよい。さらにこの場合、請求項１２に記載のように、前記判定部は、前記基板の周辺部に位置するショット領域の形状に基づいて、前記フォーカスセンサの検出点の数を変更するように構成してもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
さらにこの場合、請求項１３に記載のように、前記判定部は、前記ショット領域の両端の前記走査方向の長さの差に基づいて前記フォーカスセンサの設定を変更するように構成してもよい。そして、請求項１４に記載のように、前記判定部は、前記ショット領域の露光終了位置における前記フォーカスセンサと前記ショット領域との位置関係に基づいて、前記フォーカスセンサが検出可能か否かを判定するものとすることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
請求項１５に係る発明による素子製造方法は、レチクルと感応基板とを同期して走査しながら、前記レチクルのパターンを前記基板上のショット領域に露光することで前記基板上に半導体素子を製造する素子製造方法において；複数のフォーカスセンサによって、前記基板上の複数の検出点におけるフォーカス位置を検出し、前記基板をフォーカス方向への駆動または前記基板面を傾斜駆動すること；前記フォーカスセンサと前記基板と前記ショット領域との位置関係に基づいて、前記フォーカスセンサが検出可能か否かを判定すること；前記判定結果に基づいて決定された前記フォーカスセンサを使って前記基板の前記光輔方向の位置と前記基板の傾斜との少なくとも一方を調整すること；前記調整後の基板に前記レチクルのパターンを露光することを特徴とする。