【手続補正書】
【提出日】平成17年5月23日(2005.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で示されるラクトン含有化合物。
【化１】
2000159758.tif 000001
（式中、Ｒ1は水素原子、メチル基又はＣＨ2ＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ2は水素原子、メチル基又はＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ3は水素原子、又は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ4は水素原子又はＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ5は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。ＸはＣＨ2ＣＨ2、Ｏ又はＳを示す。）
【請求項２】
下記一般式（１ａ）で示される単位を構成単位として含有することを特徴とする重量平均分子量１，０００〜５００，０００の高分子化合物。
【化２】
2000159758.tif 000002
（式中、Ｒ1は水素原子、メチル基又はＣＨ2ＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ2は水素原子、メチル基又はＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ3は水素原子、又は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ4は水素原子又はＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ5は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。ＸはＣＨ2ＣＨ2、Ｏ又はＳを示す。）
【請求項３】
下記一般式（１）で示されるラクトン含有化合物。
【化４９】
2000159758.tif 000003
（式中、Ｒ1は水素原子、メチル基又はＣＨ2ＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ2は水素原子、メチル基又はＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ3は水素原子、又は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ5は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、Ｏ又はＳを示す。）
【請求項４】
下記一般式（１ａ）で示される単位を構成単位として含有することを特徴とする重量平均分子量１，０００〜５００，０００の高分子化合物。
【化５０】
2000159758.tif 000004
（式中、Ｒ1は水素原子、メチル基又はＣＨ2ＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ2は水素原子、メチル基又はＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ3は水素原子、又は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ5は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、Ｏ又はＳを示す。）
【請求項５】
更に下記式（２ａ）〜（１０ａ）で示される単位の１種又は２種以上を構成単位として含有する請求項２に記載の高分子化合物。
【化３】
2000159758.tif 000005
（式中、Ｒ1、Ｒ2は上記と同様である。Ｒ6は水素原子、炭素数１〜１５のカルボキシ基又は水酸基を含有する１価の炭化水素基を示す。Ｒ7〜Ｒ10の少なくとも１個は炭素数１〜１５のカルボキシ基又は水酸基を含有する１価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ7〜Ｒ10は互いに環を形成していてもよく、その場合にはＲ7〜Ｒ10の少なくとも１個は炭素数１〜１５のカルボキシ基又は水酸基を含有する２価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基を示す。Ｒ11は炭素数３〜１５の−ＣＯ2−部分構造を含有する１価の炭化水素基を示す。Ｒ12〜Ｒ15の少なくとも１個は炭素数２〜１５の−ＣＯ2−部分構造を含有する１価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ12〜Ｒ15は互いに環を形成していてもよく、その場合にはＲ12〜Ｒ15の少なくとも１個は炭素数１〜１５の−ＣＯ2−部分構造を含有する２価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基を示す。Ｒ16は炭素数７〜１５の多環式炭化水素基又は多環式炭化水素基を含有するアルキル基を示す。Ｒ17は酸不安定基を示す。ｋは０又は１である。）
【請求項６】
更に下記式（２ａ）〜（１０ａ）で示される単位の１種又は２種以上を構成単位として含有する請求項４に記載の高分子化合物。
【化５１】
2000159758.tif 000006
（式中、Ｒ1、Ｒ2は上記と同様である。Ｒ6は水素原子、炭素数１〜１５のカルボキシ基又は水酸基を含有する１価の炭化水素基を示す。Ｒ7〜Ｒ10の少なくとも１個は炭素数１〜１５のカルボキシ基又は水酸基を含有する１価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ7〜Ｒ10は互いに環を形成していてもよく、その場合にはＲ7〜Ｒ10の少なくとも１個は炭素数１〜１５のカルボキシ基又は水酸基を含有する２価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基を示す。Ｒ11は炭素数３〜１５の−ＣＯ2−部分構造を含有する１価の炭化水素基を示す。Ｒ12〜Ｒ15の少なくとも１個は炭素数２〜１５の−ＣＯ2−部分構造を含有する１価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ12〜Ｒ15は互いに環を形成していてもよく、その場合にはＲ12〜Ｒ15の少なくとも１個は炭素数１〜１５の−ＣＯ2−部分構造を含有する２価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基を示す。Ｒ16は炭素数７〜１５の多環式炭化水素基又は多環式炭化水素基を含有するアルキル基を示す。Ｒ17は酸不安定基を示す。ｋは０又は１である。）
【請求項７】
下記一般式（１ａ）で示される単位と下記式（２ａ）で示される単位と下記式（５ａ）で示される単位とを構成単位として含有することを特徴とする重量平均分子量１，０００〜５００，０００の高分子化合物。
【化５２】
2000159758.tif 000007
（式中、Ｒ1は水素原子、メチル基又はＣＨ2ＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ2は水素原子、メチル基又はＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ3は水素原子、又は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ4は水素原子又はＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ5は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、Ｏ又はＳを示す。Ｒ6はカルボキシ基を含有する直鎖状又は分岐状のアルキル基、カルボキシシクロペンチル基、カルボキシシクロヘキシル基、及び水酸基を含有する直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基から選ばれる基、Ｒ17は酸不安定基を示す。）
【請求項８】
下記一般式（１ａ）で示される単位と下記式（２ａ）で示される単位と下記式（４ａ）で示される単位とを構成単位として含有することを特徴とする重量平均分子量１，０００〜５００，０００の高分子化合物。
【化５３】
2000159758.tif 000008
（式中、Ｒ1は水素原子、メチル基又はＣＨ2ＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ2は水素原子、メチル基又はＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ3は水素原子、又は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ4は水素原子又はＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ5は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、Ｏ又はＳを示す。Ｒ6は水素原子、カルボキシ基を含有する直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、水酸基を含有する直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基から選ばれる基、Ｒ16は炭素数７〜１５の多環式炭化水素基又は多環式炭化水素基を含有するアルキル基を示す。）
【請求項９】
更に、下記一般式（５ａ）で示される単位を含有する請求項８記載の高分子化合物。
【化５４】
2000159758.tif 000009
（式中、Ｒ1、Ｒ2は上記の通り。Ｒ17は酸不安定基を示す。）
【請求項１０】
下記一般式（１ａ）で示される単位と下記式（６ａ）〜（９ａ）で示されるいずれかの単位とを構成単位として含有することを特徴とする重量平均分子量１，０００〜５００，０００の高分子化合物。
【化５５】
2000159758.tif 000010
（式中、Ｒ1は水素原子、メチル基又はＣＨ2ＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ2は水素原子、メチル基又はＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ3は水素原子、又は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ4は水素原子又はＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ5は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、Ｏ又はＳを示す。Ｒ7〜Ｒ10の少なくとも１個は炭素数１〜１５のカルボキシ基又は水酸基を含有する１価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ7〜Ｒ10は互いに環を形成していてもよく、その場合にはＲ7〜Ｒ10の少なくとも１個は炭素数１〜１５のカルボキシ基又は水酸基を含有する２価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基を示す。Ｒ11は炭素数３〜１５の−ＣＯ2−部分構造を含有する１価の炭化水素基を示す。Ｒ12〜Ｒ15の少なくとも１個は炭素数２〜１５の−ＣＯ2−部分構造を含有する１価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ12〜Ｒ15は互いに環を形成していてもよく、その場合にはＲ12〜Ｒ15の少なくとも１個は炭素数１〜１５の−ＣＯ2−部分構造を含有する２価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基を示す。Ｒ16は炭素数７〜１５の多環式炭化水素基又は多環式炭化水素基を含有するアルキル基を示す。Ｒ17は酸不安定基を示す。ｋは０又は１である。）
【請求項１１】
下記一般式（１ａ）で示される単位と下記式（１０ａ）で示される単位とを構成単位として含有することを特徴とする重量平均分子量１，０００〜５００，０００の高分子化合物。
【化５６】
2000159758.tif 000011
（式中、Ｒ1は水素原子、メチル基又はＣＨ2ＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ2は水素原子、メチル基又はＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ3は水素原子、又は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ4は水素原子又はＣＯ2Ｒ5を示す。Ｒ5は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、Ｏ又はＳを示す。）
【請求項１２】
請求項１又は３に記載のラクトン含有化合物及び炭素−炭素二重結合を含有する別の化合物をラジカル重合又はアニオン重合させることを特徴とする高分子化合物の製造方法。
【請求項１３】
請求項２及び４〜１１のいずれか１項に記載の高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【請求項１４】
請求項２及び４〜１１のいずれか１項に記載の高分子化合物と高エネルギー線もしくは電子線に感応して酸を発生する化合物と有機溶剤とを含むことを特徴とするレジスト材料。
【請求項１５】
請求項１３又は１４に記載のレジスト材料を基盤上に塗布する工程と、加熱処理後フォトマスクを介して高エネルギー線もしくは電子線で露光する工程と、必要に応じて加熱処理した後現像液を用いて現像する工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。