【手続補正書】
【提出日】平成16年3月22日(2004.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】位置検出方法、露光方法、及び露光装置


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスク上のパターンを感光基板上に露光する露光装置であって、
内部の基準部材に対する前記感光基板上のマークの相対位置情報を光学的に検出するマーク位置検出系と、
所定基準位置に対する前記マーク位置検出系内部の前記基準部材の相対変位情報を検出する変位検出系とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
請求項１記載の露光装置において、
前記基準部材は指標マークが形成された指標板であって、
前記変位検出系が前記指標板に対して干渉光を射出することにより前記指標板の相対変位情報を光学的に検出する干渉計を含み、
前記指標板が、前記干渉計の干渉光を反射する反射面を有することを特徴とする露光装置。
【請求項３】
請求項２記載の露光装置において、
前記干渉計の前記所定基準位置は、前記干渉計内部で干渉光を反射する参照鏡の位置であることを特徴とする露光装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記変位検出系は、前記マーク位置検出系内部の前記基準部材の二次元的な変位を検出することを特徴とする露光装置。
【請求項５】
請求項４記載の露光装置において、
前記変位検出系は、前記マーク位置検出系内部の前記基準部材に対して第１方向から干渉光を照射する第１の干渉計と、前記第１方向と交差する第２方向から前記基準部材に対して干渉光を照射する第２干渉計とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項６】
基板上のマークの位置を検出する位置検出方法であって、
前記基板上のマークを光学的に検出するマーク検出系内部の第１の基準位置に対する前記マークの相対位置情報を検出し、
第２の基準位置に対する前記マーク検出系内部の前記第１の基準位置の相対変位情報を検出し、
前記相対変位情報に基づいて、前記マーク検出系内部の前記第１の基準位置に対する前記マークの相対位置情報を補正することを特徴とする位置検出方法。
【請求項７】
マスク上のパターンを感光基板上に露光する露光方法であって、
前記感光基板上のマークを光学的に検出するマーク検出系内部の第１の基準位置に対する前記マークの相対位置情報を検出し、
第２の基準位置に対する前記マーク検出系内部の前記第１の基準位置の相対変位情報を検出し、
前記相対変位情報に基づいて、前記マーク検出系内部の前記第１の基準位置に対する前記マークの相対位置情報を補正し、
補正された前記相対位置情報に基づいて、前記マスク上のパターンの像と前記感光基板との相対位置を調整し、
前記マスク上のパターンを前記感光基板上に露光することを特徴とする露光方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明による露光装置は、マスク（１０）上のパターンを感光基板（１２）上に露光する露光装置であって、内部の基準部材に対する感光基板（１２）上のマーク（ＷＭ）の相対位置情報を光学的に検出するマーク位置検出系（３２）と、所定基準位置に対するマーク位置検出系（３２）内部のその基準部材の相対変位情報を検出する変位検出系（５４〜５６，５７，６０）とを有するものである。
斯かる本発明の露光装置によれば、変位検出系（５４〜５６，５７，６０）によりマーク位置検出系（３２）の所定の基準部材の相対変位情報を検出し、その結果に基づいて、別の位置関係を補正できる。そのため、その位置関係がベースライン量である場合には、常に正確なベースライン量に基づいて、マスク（１０）のパターンを感光基板（１２）上に高い重ね合わせ精度で転写できる。
本発明において、一例として、その基準部材は指標マークが形成された指標板であって、その変位検出系がその指標板に対して干渉光を射出することによりその指標板の相対変位情報を光学的に検出する干渉計を含み、その指標板が、その干渉計の干渉光を反射する反射面を有する。
また、その干渉計のその所定基準位置は、その干渉計内部で干渉光を反射する参照鏡の位置であってもよい。
また、その変位検出系は、そのマーク位置検出系内部のその基準部材の二次元的な変位を検出してもよい。
また、その変位検出系は、そのマーク位置検出系内部のその基準部材に対して第１方向から干渉光を照射する第１の干渉計と、その第１方向と交差する第２方向からその基準部材に対して干渉光を照射する第２干渉計とを有することができる。
また、本発明による位置検出方法は、基板（１２）上のマーク（ＷＭ）の位置を検出する位置検出方法であって、その基板上のマークを光学的に検出するマーク検出系内部の第１の基準位置に対するそのマークの相対位置情報を検出し、第２の基準位置に対するそのマーク検出系内部のその第１の基準位置の相対変位情報を検出し、その相対変位情報に基づいて、そのマーク検出系内部のその第１の基準位置に対するそのマークの相対位置情報を補正するものである。
また、本発明による露光方法は、マスク（１０）上のパターンを感光基板（１２）上に露光する露光方法であって、その感光基板上のマーク（ＷＭ）を光学的に検出するマーク検出系内部の第１の基準位置に対するそのマークの相対位置情報を検出し、第２の基準位置に対するそのマーク検出系内部のその第１の基準位置の相対変位情報を検出し、その相対変位情報に基づいて、そのマーク検出系内部のその第１の基準位置に対するそのマークの相対位置情報を補正し、補正されたその相対位置情報に基づいて、そのマスク上のパターンの像とその感光基板との相対位置を調整し、そのマスク上のパターンをその感光基板上に露光するものである。
また、本発明の実施形態に記載された露光装置は、マスク（１０）上のパターンを感光基板（１２）上に露光する露光装置において、感光基板（１２）上に形成された位置合わせ用マーク（ＷＭ）の位置を光学的に検出するマーク位置検出系（３２）と、マスク（１０）のパターン像の位置とマーク位置検出系（３２）の所定の基準位置との関係（ベースライン量等）を検出する基準位置検出系（３１Ａ，３１Ｂ，３３）と、この基準位置検出系とは別に設けられ、マーク位置検出系（３２）の所定の基準位置の２次元的な変位を検出する変位検出系（５４〜５６，５７，６０）と、を備えたものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
【発明の効果】
本発明によれば、マーク位置検出系の所定の基準位置（基準部材）の相対変位情報が常時検出できるため、その検出結果に基づいて、例えばマスクのパターン像の位置関係（ベースライン量等）を補正できる。従って、露光工程に適用した場合には、露光工程におけるスループットを低下させることなく、そのマーク位置検出系のベースライン量等の変化を常時計測でき、正確なベースライン量等に基づいて、マスクのパターンを感光基板上に高い重ね合わせ精度で転写できる利点がある。
本発明の実施形態に記載された露光装置によれば、変位検出系によってマーク位置検出系の所定の基準位置の２次元的な変位が常時検出できるため、その検出結果に基づいて基準位置検出系で検出されたマスクのパターン像の位置とその所定の基準位置との関係（ベースライン量等）を補正できる。従って、露光工程におけるスループットを低下させることなく、そのマーク位置検出系のベースライン量等の変化を常時計測でき、正確なベースライン量等に基づいて、マスクのパターンを感光基板上に高い重ね合わせ精度で転写できる利点がある。