Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月2日(2004.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コレステロールの腸吸収を減少させるため及び／または血清コレステロールレベルを低下させるために用いるための組成物であって、シトスタノール脂肪酸エステル及び少なくとも20重量％のカンペスタノール脂肪酸エステルを含む前記組成物。
【請求項２】
20〜40重量％のカンペスタノール脂肪酸エステルを含む請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
25〜35重量％のカンペスタノール脂肪酸エステルを含む請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
30重量％のカンペスタノール脂肪酸エステルを含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
50〜80重量％のシトスタノール脂肪酸エステルを含む請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６】
コレステロールの腸吸収を減少させるため及び／または血清コレステロールレベルを低下させるための規定食の一部として用いるための、請求項１〜5のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７】
コレステロールの腸吸収を減少させるため及び／または血清コレステロールレベルを低下させるための脂肪含有食物を含む規定食の一部として用いるための、請求項１〜5のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８】
食用品の製造のための請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物の使用。
【請求項９】
コレステロールの腸吸収を減少させるのに有効な及び／または血清コレステロールレベルを低下させるのに有効な植物スタノール脂肪酸エステル組成物を含有する食物であって、前記植物スタノール脂肪酸エステル組成物はシトスタノール脂肪酸エステルと少なくとも20重量％のカンペスタノール脂肪酸エステルを含む、食物。
【請求項１０】
前記組成物が20〜40重量％のカンペスタノール脂肪酸エステルを含む請求項９に記載の食物。
【請求項１１】
前記組成物が25〜35重量％のカンペスタノール脂肪酸エステルを含む請求項９または１０に記載の食物。
【請求項１２】
前記組成物が30重量％のカンペスタノール脂肪酸エステルを含む請求項９〜１１のいずれか１項に記載の食物。
【請求項１３】
前記組成物が50〜80重量％のシトスタノール脂肪酸エステルを含む請求項９〜１２のいずれか１項に記載の食物。
【請求項１４】
請求項１〜５のいずれか１項記載の組成物を製造するための原料としての、シトステロールに加えて相当な量のカンペステロールを含む植物ステロール混合物の使用。
【請求項１５】
請求項９〜１３に記載の食物を製造するための原料としての、シトステロールに加えて相当な量のカンペステロールを含む植物ステロール混合物の使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
この組成物は好ましくは、20％〜40％の、最も好ましくは25％〜35％程度の、たとえば約30％のカンペスタノールまたはその脂肪酸エステルを、組成物をエステル化して親油性にさせた時に含有する。
本発明の食物組成物における、カンペスタノール脂肪酸エステル対シトスタノール脂肪酸エステルの重量比は２：８〜４：６であり、好ましくは２：８〜３．５：６．５である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月15日(2005.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
改良対象の地盤に砂杭を造成して当該地盤を改良する際に、
Ｎg＝ｆ（ＮP，Ｎ1，ａs，ｂ）
Ｎg：等価Ｎ値
ＮP：砂杭のＮ値
Ｎ1：砂杭間のＮ値
ａs：置換率
ｂ ：係数
上記関数に基づき、等価Ｎ値Ｎgが所定値以上となるように置換率ａsを定め、該置換率ａsとなるように前記砂杭を造成することを特徴とする地盤改良工法。
【請求項２】
上記関数が、
Ｎg＝｛ａsＮP2b＋（１−ａs）Ｎ12b｝1/2b  ・・・・式（１）
であることを特徴とする請求項１に記載の地盤改良工法。
【請求項３】
前記等価Ｎ値Ｎgを用いて液状化判定を行った場合に、該等価Ｎ値Ｎgが目標Ｎ値以上となるように前記置換率ａsを定めたことを特徴とする請求項１又は２に記載の地盤改良工
法。
【請求項４】
改良対象の地盤データを入力するステップと、
Ｎg＝ｆ（ＮP，Ｎ1，ａs，ｂ）
Ｎg：等価Ｎ値
ＮP：砂杭のＮ値
Ｎ1：砂杭間のＮ値
ａs：置換率
ｂ ：係数
上記関数に基づき、等価Ｎ値、又は該等価Ｎ値が所定値以上となる置換率ａsを評価結
果として定めるステップと、
前記評価結果を出力するステップと、
をコンピュータに実行させるプログラム。
【請求項５】
上記関数が、
Ｎg＝｛ａsＮP2b＋（１−ａs）Ｎ12b｝1/2b  ・・・・式（１）
であることを特徴とする請求項４に記載のプログラム。
【請求項６】
前記等価Ｎ値Ｎgを用いて液状化判定を行った場合に、該等価Ｎ値Ｎgが目標Ｎ値以上となるように前記置換率ａsを定めたことを特徴とする請求項４又は５に記載のプログラ
ム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
このとき本発明では、上述のように地盤７０を改良する際に、
Ｎg＝ｆ（ＮP，Ｎ1，ａs，ｂ）
Ｎg：等価Ｎ値
ＮP：砂杭のＮ値
Ｎ1：砂杭間のＮ値
ａs：置換率
ｂ ：係数
上記関数に基づき、等価Ｎ値Ｎgが所定値以上となるように置換率ａsを定める。
なお、本実施形態では、上記関数を
Ｎg＝｛ａsＮP2b＋（１−ａs）Ｎ12b｝1/2b  ・・・・式（１）
としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
〔付記２〕
上記関数が、
Ｎg＝｛ａsＮP2b＋（１−ａs）Ｎ12b｝1/2b  ・・・・式（１）
であることを特徴とする付記１に記載の地盤改良工法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
〔付記５〕
上記関数が、
Ｎg＝｛ａsＮP2b＋（１−ａs）Ｎ12b｝1/2b  ・・・・式（１）
であることを特徴とする付記４に記載のプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月9日(2004.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
また、かかる補強材１０は本発明の機能材として、その一部を袋詰土４，４間に挟むことができる。さらに好ましい形態では、これらの補強材１０の端部を機能材（本形態ではＬ型壁面材）３に連結することができる。これにより、積み上げた袋詰土４，４…を機能材３および補強材１０を介して背面地盤１Ｇに対し定着させることができる。またかかる安定化は後述の実施形態においても同様に適用できるものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
そして、本形態では、かかるカバー手段８における支持部８２および抵抗体７を袋詰土４，４間に挟んで固定するとともに、本体部８０は支持部８２に対して水平軸周りに回転自由な状態を維持しつつ背面の袋詰土４を覆うように配置している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
かくして、下部地盤や背面地盤１Ｇが沈下変形した場合にも、カバー手段８の本体部８０はこれに追従して支持部８２に対し水平軸周りに回動できる。よって、かかる場合にも本体部８０に大きな応力が加わり難くなるため、より低強度で安価な材料によりカバー手段８を形成できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
特に本発明の可動型カバー手段８を複数並設する場合には、本体部相互を一部ラップさせて配置させることもできる。図示形態の各カバー手段８は、上段の本体部８０下部が下段の本体部８０上部の上に重なるように配されている。かかる場合にも各本体部８０，８０…が独立的にそれぞれの支持部８２，８２…に対して動くことができるから、カバー手段８を低強度且つ安価な材料で形成できるという利点を維持しつつも、袋詰土４からなる壁面２を完全にカバーすることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
ただし、本体部８０が余りに容易に動くようになっていると、手を挟む等の危険性があったり、強風時にばたつき破壊するおそれもあるため、これを回避しうるように可動範囲を制限するのが望ましい。このため図示形態では、本体部８０の可動範囲を規制する規制手段として、本体部８０の背面下部に、下段カバー手段８の本体部８０上部が遊びをもって嵌め入れられる逆さＬ字状係合部８３が設けられている。かかる係合部８３内に下段カバー手段８の本体部８０上部を挿入しつつ、上段カバー手段８を設置することにより、上下カバー手段８，８は互いに可動範囲を規制しあうようになり、前述の問題点を回避できるようになる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
また、本形態の支持部８２は耐腐食性を有する網状材となっているが、耐蝕処理を施した鋼材等を用いることもできる。鋼材等の高強度部材を用いる場合には抵抗体７と同等の機能を持たせることもできる。さらに図示形態において抵抗体７を省略することもできる。また、図示形態のカバー手段８では、本体部８０が壁面方向に沿う水平軸周りに回動するようになっているが、本体部８０と支持部８２とをボールリンク、蝶番等の連結器具により機械的に連結し、適宜の動作を行うように構成することもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月12日(2005.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
上記のプラスチック製で金属装飾を有する水栓レバーについて、水栓金具業界で品質確認のためによく行なわれている試験を行ない、それぞれ下に記す結果を得た。
［表面硬度試験］  ＪＩＳ  Ａ４４２０
鉛筆硬度３Ｈ以上（ＣｒＮ層は実質硬さ２０００Ｈｖを有するため、傷がつきにくい。）
［密着性試験］  ＪＩＳ  Ｋ５４００
セロハン粘着テープ試験：カッターナイフによるマス目の剥離はゼロ。
［キャス試験］  ＪＩＳ  Ｈ８５０２
２４時間：異種金属のコーティング膜がないため、腐食は全く問題ない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
［ヒートサイクル試験］  ＪＩＳ  Ｈ８６３０
８０℃の雰囲気に１時間→−２０℃の雰囲気に１時間のサイクルを１０回繰り返したのち、密着の状況を確認したところ、問題はなかった。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月1日(2004.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自走体と上部旋回台本体及びブームから構成されているローディングショベルのブーム又は高層建造物解体仕様機のハイリフトブームに対しブームと燃料タンクの一体化によるものである。（ハイリフトブームには図１に示す▲１▼継ぎ足しブームと▲２▼ストレートブームがある）これらの３種類のブームに▲１１▼仕切板とブームの最大降下時に燃料送流を可能とする▲１５▼センタースリット槽をブーム下部センターに設けた事により一体化を可能としたメンテナンス向上機構
【請求項２】
請求項１からによるローディングショベル又は高層建造物解体仕様機の油圧作動油タンクとカウンターウエイトとの一体化によるメンテナンス向上機構
【請求項３】
本発明にて燃料補給に対し上部への昇降安全タラップ設置
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月25日(2004.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持部を床面に配設し、複数のパネルを該支持部で支持して整列配置し、複数のパネル隅部が集合する箇所の上面に交差部カバーを設けて構成された二重床構造において、
前記交差部カバーの端部に設けられた屈曲性を有する屈曲部及びヒンジ係合部を備えたヒンジ部と、
前記パネル隅部の集合箇所における少なくとも一つのパネル隅部に設けられたヒンジ被係合部とを有し、
前記ヒンジ部により、前記ヒンジ係合部を、前記ヒンジ被係合部に着脱可能に係合し、前記屈曲部の屈曲により前記交差部カバーを開閉可能とすることを特徴とする二重床構造。
【請求項２】
所望の配線通路を形成するように、支持部を床面に配設すると共に、複数のパネルを該支持部で支持して所定間隔で整列配置し、該パネル周縁相互間の配線通路の上面に直線部カバーを架設して構成された二重床構造において、
前記直線部カバーの一方側に設けられた屈曲性を有する屈曲部及びヒンジ係合部を備えたヒンジ部と、
前記パネルの所定箇所に設けられ、前記ヒンジ係合部と対応するヒンジ被係合部とを有し、
前記ヒンジ部により、前記ヒンジ係合部を前記ヒンジ被係合部に着脱可能に係合し、前記屈曲部の屈曲により前記直線部カバーを開閉可能とすることを特徴とする二重床構造。
【請求項３】
請求項1又は2記載の二重床構造において、前記カバーは、略板状の金属材と弾性樹脂材とを重合一体化し、該弾性樹脂材に前記屈曲部と前記ヒンジ係合部とを備えたヒンジ部を構成したことを特徴とする二重床構造。
【請求項４】
所望の配線通路を形成するように、支持部を床面に配設すると共に、複数のパネルを該支持部で支持して所定間隔で整列配置し、該パネル周縁相互間の配線通路の上面に直線部カバーと交差部カバーを架設して構成された二重床構造において、
前記直線部カバーの一方側に設けられた屈曲性を有する屈曲部及びヒンジ係合部を備えたヒンジ部と、
前記パネルの所定箇所に設けられ、前記ヒンジ係合部と対応するヒンジ被係合部と、
前記ヒンジ係合部を前記ヒンジ被係合部に着脱可能に係合して、前記屈曲部の屈曲により前記直線部カバーを開閉可能とするヒンジ部を構成すると共に、該直線部カバーに設けられ前記パネルの側周縁で係合する係合設置部と、
前記交差部カバーの一端部側に設けられた屈曲性を有する屈曲部及びヒンジ係合部を備えたヒンジ部と、
前記パネル隅部の集合箇所における少なくとも一つのパネル隅部に設けられ、前記ヒンジ係合部と対応するヒンジ被係合部と、
前記ヒンジ係合部を前記ヒンジ被係合部に着脱可能に係合して、前記屈曲部の屈曲により前記交差部カバーを開閉可能とするヒンジ部を構成すると共に、該交差部カバーに設けられた前記パネルの隅部周縁で係合する係合設置部とを有することを特徴とする二重床構造。
【請求項５】
請求項1ないし4のいずれかに記載の二重床構造において、前記カバーのヒンジ部は、該カバーを開けた際、所定の位置の開状態から閉状態へ前記屈曲部の屈曲により復帰することを特徴とする二重床構造。
【請求項６】
所望の配線通路を形成するように、支持部を床面に配設すると共に、複数のパネルを該支持部で支持して所定間隔で整列配置し、該パネルの周縁相互間の配線通路の上面に直線部カバー及び該パネルの隅部が集合する配線通路上面に交差部カバーを架設して構成された二重床構造において、
前記直線部カバーの一方側に、及び前記交差部カバーの一端部側に、それぞれ設けられた開閉可能なヒンジ係合部と、
前記直線部カバーが隣り合って設けられる前記パネルの2辺側と、該パネルの2辺側の前記交差部カバーが設けられるパネル隅部、または前記直線部カバーが隣り合って設けられない該パネルの2辺側の前記交差部カバーが設けられるパネル隅部とにそれぞれ設けられ、前記ヒンジ係合部と対応するヒンジ被係合部と、
前記直線部カバー及び前記交差部カバーの各ヒンジ係合部を前記ヒンジ被係合部に係合することにより、前記直線部カバー及び前記交差部カバーが、前記パネルにそれぞれ着脱可能であって開閉自在に設けられて1ユニットを構成することを特徴とする二重床構造。
【請求項７】
請求項6記載の二重床構造において、前記直線部カバー及び前記交差部カバーの各ヒンジ係合部は、その先端部の断面が略R形状に形成された差込み構造に形成され、前記ヒンジ被係合部に係合可能であって、該各カバーが回動操作により開状態の場合にはその開状態を維持し、閉状態の場合にはその閉状態を維持可能とすることを特徴とする二重床構造。
【請求項８】
請求項1ないし7のいずれかに記載の二重床構造において、前記カバーのヒンジ部又はヒンジ係合部は、該カバーの上面が、前記パネルの上面に近接する開状態を維持可能であることを特徴とする二重床構造。
【請求項９】
請求項1ないし8のいずれかに記載の二重床構造において、該二重床構造は、
前記カバーに設けられた回動可能な係止部と、
該係止部と対応する前記パネルの所定位置に設けられた被係止部とを有し、
前記カバーを開状態にした場合、前記係止部を前記被係止部に係合して該カバーの開状態を維持可能とすることを特徴とする二重床構造。
【請求項１０】
請求項6ないし9のいずれかに記載の二重床構造において、前記交差部カバー及び前記直線部カバーのうちの少なくとも一方は、その上面側に設けられた金属材と、その下面側に設けられ前記パネルの周縁に係合する弾性樹脂材とが重合して構成されていることを特徴とする二重床構造。
【請求項１１】
請求項2ないし10のいずれかに記載の二重床構造において、前記カバーは、前記配線経路に敷設又は前記パネル内に収容される配線の種類に応じた可視表示の配線種別表示が付されていることを特徴とする二重床構造。
【請求項１２】
請求項2ないし11のいずれかに記載の二重床構造において、前記直線部カバーには、スリット状開口が多数設けられていることを特徴とする二重床構造。
【請求項１３】
請求項2ないし12のいずれかに記載の二重床構造において、前記カバーの裏面側には、補強用リブ、突起部又は突出部が形成されていることを特徴とする二重床構造。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月23日(2004.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
乳酸成分（Ｉ）としては、ポリ乳酸又はラクタイドを原料として用いることが好ましい。原料としてポリ乳酸又はラクタイドを用いた場合、得られる乳酸ポリエステルはブロック共重合体となり、透明性に優れ、かつ優れた耐折強さを付与することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
（耐折回数）
厚さ約２５０μｍのシートを用い、ＭＩＴ耐揉疲労試験機（（株）東洋精機製作所）により、ＪＩＳ Ｐ−８１１５に基づいて測定した。尚、耐折強さは耐折回数の常用対数である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
製造例２〜１１（乳酸系ポリエステルＰ−２〜Ｐ−１１の作製）
ジカルボン酸、ジオール、ラクタイドの種類、添加量を表１のように変えた以外は、製造例１と同様にして、乳酸系ポリエステル（Ｐ−２〜Ｐ−１１）を合成した。
各ポリマーの数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、ガラス転移点（Ｔｇ）についても表１〜３に示す。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月24日(2004.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
排水トラップの下部に排水通管と排気通管を形成した径違い継手管を接続し、前記排気通管の一方に排気ファンを取付けて排気管で連結接続し、前記排気ファンの一方に接続した排気管の先端を吸気口としてこれらを一体化構造手段とし、前記吸気口を本体と組み合せて前記排気ファンによって排気臭を排出管に排出させることを特徴とする流し台の排水トラップに接続する排気臭の排出装置。
【請求項２】
排水トラップの下部に排水通管と排気通管を形成した径違い継手菅を接続し、前記排気通管の一方に排気管で排気ファンに連結接続して生ゴミ処理機の本体と連結し、前記生ゴミ処理機は流し台シンクと隣接する天板の下部方向の収納庫に着脱用内容器を内蔵した固定外容器を垂下させて取付け、前記着脱用内容器の内部に撹拌用羽根を設けて、前記各容器の上面に蓋を装着したこれらの生ゴミ処理機に前記排気ファンを介して排出管に排気臭を排出させることを特徴とする流し台に設置する生ゴミ処理機。
【請求項３】
排気通管の一方に排水逆流止め弁を取付けた請求項１又は２記載の流し台の排水トラップに接続する排気臭の排出装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
従来の排気臭の排出方法は、生ゴミ処理機を流し台のシンク下方部の収納庫に装着し、それから発生する臭気を壁や床に孔を開けて排気管を通し、室外に排出されていた。
（例えば特許文献１参照）
また、シンクにディスポーザーを取付けて生ゴミを粉砕し、固液分離装置で排水と生ゴミを分離して排水は排水管に流し、生ゴミは別の処理タンクに回収して乾燥、バイオ分解処理し、発生する臭気を排水管に排出したものもある。
（例えば特許文献２参照）
それに排水管にＴ型分岐菅を接続して臭気を排水管に排出するものもあった。
（例えば特許文献３参照）
そして、厨芥処理装置として、シンクの底部にゴミ投入口を設け、その下方部の流し台収納庫の内部に外容器に内蔵された厨芥収納内容器に加熱乾燥処理装置として、引き出し式により収納されているものもある。
（例えば特許文献４参照）
【特許文献１】特開２０００−２１０１４４号公報
【特許文献２】特開平１１−１０４６０９号公報
【特許文献３】特開平７−２２３７０３号公報
【特許文献４】特開平８−５２３８号公報
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月8日(2005.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
３．エポキシ基含有シラン化合物（Ｃ）：
本発明の樹脂組成物は、ポリオレフィン系樹脂（Ａ）とＰＡＳ樹脂（Ｂ）とを樹脂成分として含有するものであるが、他の成分として、エポキシ基含有シラン化合物を含有させることが好ましい。ポリオレフィン系樹脂（Ａ）とＰＡＳ樹脂（Ｂ）とは、相溶性が不十分であるため、溶融混練しても均一な単一相を形成することが困難である。エポキシ基含有シラン化合物（Ｃ）は、両樹脂相の界面での密着性を高める上で好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
充填剤としては、例えば、ガラス繊維、炭素繊維（ＰＡＮ系またはピッチ系炭素繊維）、ステンレス繊維、アルミニウム繊維、黄銅繊維などの金属繊維、芳香族ポリアミドなどの有機繊維、石膏繊維、セラミックス繊維、アスベスト繊維、ジルコニア繊維、アルミナ繊維、シリカ繊維、酸化チタン繊維、炭化珪素繊維、ロックウール、チタン酸カリウム繊維、チタン酸バリウム繊維、硼酸アルミニウム繊維、窒化硼素繊維などの繊維状あるいはウィスカー状の充填剤；マイカ、タルク、カオリン、シリカ、炭酸カルシウム、ガラスビーズ、ガラスフレーク、ガラスマイクロバルーン、クレー、ワラストナイト、酸化チタン、酸化亜鉛、ポリリン酸カルシウム、黒鉛、カーボンブラック、炭素前駆体、金属酸化物などの粉末状、板状若しくはテトラポット状の充填剤；などが挙げられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
［実施例１］
ポリフェニレンスルフィド樹脂（呉羽化学工業社製「Ｗ２０３」、温度３１０℃、剪断速度１２００／秒での溶融粘度＝２８Ｐａ・ｓ）１００質量部と、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１質量部とを２０リットルのヘンシェルミキサーヘ投入し、約１０分間撹拌して混合物を得た。得られた混合物を、約４時間室温において乾燥した後、２００℃から３１０℃に温度調整された２軸押出機へ供給し、ペレット（以下「ＰＰＳ樹脂ペレット」という）を作製した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
次いで、高密度ポリエチレン（日本ポリオレフィン社製「ジェイレックスＨＤ  ＫＢＹ４７Ｃ」、測定条件コードＧで測定したＭＦＲ＝５ｇ／１０分、密度＝０．９４５ｇ／ｃｍ３）ペレット１００質量部と、ＰＰＳ樹脂ペレット３５質量部とを、タンブラーミキサーを使用して１０分間混合し、混合物を調製した。この混合物を、シリンダー温度が２９０℃から１５０℃、金型温度が５０℃に調整された射出成形機へ供給し、試験片を作成した。この試験片を使用して、−４０℃におけるアイゾッド衝撃強度を測定したところ、１１６Ｊ／ｍであった。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
［比較例１］
ポリフェニレンスルフィド樹脂（呉羽化学工業社製「Ｗ２１４」）を２００℃から３１０℃に調整された２軸押出機へ供給し、ペレットを作製した。次いで、高密度ポリエチレン（日本ポリオレフィン社製「ジェイレックスＨＤ  ＫＢＹ４７Ｃ」）ペレット１００質量部と、該ＰＰＳ樹脂ペレット７０質量部とを、タンブラーミキサーを使用して１０分間混合し、混合物を調製した。以下、この混合物を用いたこと以外は、実施例１と同様の操作を行った。結果を表１に示す。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
［比較例２］
ポリフェニレンスルフィド（呉羽化学工業社製「Ｗ２０３」）を、２００℃から３１０℃に調整された２軸押出機ヘ供給し、ペレットを作製した。次いで、高密度ポリエチレン（三井化学社製「ハイゼックス２２００Ｊ」、測定条件コードＤで測定したＭＦＲ＝５．２ｇ／１０分、密度＝０．９６８ｇ／ｃｍ３）ペレット１００質量部と、該ＰＰＳ樹脂ペレット３５質量部とを、タンブラーミキサーを使用して１０分間混合し、混合物を調製した。以下、この混合物を用いたこと以外は、実施例１と同様の操作を行った。結果を表１に示す。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月17日(2005.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （Ａ１）ポリアミド樹脂と（Ｂ）高級脂肪酸の金属塩および（Ｃ）高級脂肪酸と高級アルコールとのエステル化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種を混練してなる摺動性付与マスターバッチ（Ｉ）並びに（Ａ２）ポリアミド樹脂と（Ｄ）銅系熱安定剤を混練してなる耐熱性付与マスターバッチ（ＩＩ）を、（Ａ３）ポリアミド樹脂と混合して得られるポリアミド樹脂組成物であって、該樹脂組成物の９８％硫酸相対粘度（１ｇ／１００ｍｌ）ηｒが３．５以上６．０以下であることを特徴とする摺動部品用ポリアミド樹脂組成物。
【請求項２】  （Ａ１）および（Ａ２）のポリアミド樹脂が、それぞれポリアミド６６、ポリアミド６およびポリアミド６６／ポリアミド６共重合体から選ばれる少なくとも１種類であり、（Ａ３）のポリアミド樹脂がポリアミド６６であることを特徴とする請求項１に記載の摺動部品用ポリアミド樹脂組成物。
【請求項３】  摺動部品用ポリアミド樹脂組成物が、ポリアミド６６単位成分１００質量部に対してポリアミド６単位成分０．１から２質量部を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の摺動部品用ポリアミド樹脂組成物。
【請求項４】  摺動部品用ポリアミド樹脂組成物１００質量部に対して、（Ｂ）高級脂肪酸の金属塩および／または（Ｃ）高級脂肪酸と高級アルコールとのエステル化合物を０．０１から５質量部含んでいることを特徴とする請求項１〜３のいずれか1項に記載の摺動部品用ポリアミド樹脂組成物。
【請求項５】  摺動部品用ポリアミド樹脂組成物が、銅元素として２０から２００ｐｐｍ含んでいることを特徴とする請求項１から４のいずれか記載の摺動部品用ポリアミド樹脂組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、特定の摺動性付与マスターバッチと特定の耐熱性付与マスターバッチおよびポリアミド樹脂と混合して得られる特定のポリアミド樹脂組成物が上記課題が解決できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は、
１．（Ａ１）ポリアミド樹脂と（Ｂ）高級脂肪酸の金属塩および（Ｃ）高級脂肪酸と高級アルコールとのエステル化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種を混練してなる摺動性付与マスターバッチ（Ｉ）並びに（Ａ２）ポリアミド樹脂と（Ｄ）銅系熱安定剤を混練してなる耐熱性付与マスターバッチ（ＩＩ）を、（Ａ３）ポリアミド樹脂と混合して得られるポリアミド樹脂組成物であって、該樹脂組成物の９８％硫酸相対粘度（１ｇ／１００ｍｌ）ηｒが３．５以上６．０以下であることを特徴とする摺動部品用ポリアミド樹脂組成物、
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
２．（Ａ１）および（Ａ２）のポリアミド樹脂が、それぞれポリアミド６６、ポリアミド６およびポリアミド６６／ポリアミド６共重合体から選ばれる少なくとも１種類であり、（Ａ３）のポリアミド樹脂がポリアミド６６であることを特徴とする上記１に記載の摺動部品用ポリアミド樹脂組成物、
３．摺動部品用ポリアミド樹脂組成物が、ポリアミド６６単位成分１００質量部に対してポリアミド６単位成分０．１から２質量部を含有することを特徴とする上記１または２に記載の摺動部品用ポリアミド樹脂組成物、
４．摺動部品用ポリアミド樹脂組成物１００質量部に対して、（Ｂ）高級脂肪酸の金属塩および／または（Ｃ）高級脂肪酸と高級アルコールとのエステル化合物を０．０１から５質量部含んでいることを特徴とする上記１〜３のいずれかに記載の摺動部品用ポリアミド樹脂組成物、
５．摺動部品用ポリアミド樹脂組成物が、銅元素として２０から２００ｐｐｍ含んでいることを特徴とする上記１から４のいずれかに記載の摺動部品用ポリアミド樹脂組成物、である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
製造例２−１  マスターバッチ（Ｉ−イ）の製造
製造例１−１で得たポリアミド（イ）を凍結粉砕して粉末状とした。この粉末状ポリアミド９０質量部に対して、（Ｂ）としてモンタン酸カルシウム（以下ＣａＶと記述）１０質量部をヘンシェルミキサーにてブレンドし、二軸押出機（東芝機械（株）製ＴＥＭ３５）にて、吐出量４０ｋｇ／ｈ、回転数３００ｒｐｍ、温度２８０℃で溶融混練してマスターバッチ（Ｉ−イ）得た。このマスターバッチのηｒは２．６であった。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
製造例３−２  マスターバッチ（ＩＩ−ロ）の製造
ポリアミドとして、製造例１−３で得たポリアミド（ハ）を用いた以外は製造例３−１と同様に操作を行った。このマスターバッチのηｒは２．４であった。このペレットに含まれる銅元素は高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発光分析より、３０００ｐｐｍであった。
製造例３−３  マスターバッチ（ＩＩ−ハ）の製造
ポリアミドとして、宇部興産（株）製ポリアミド６（ＳＦ１０１３Ａ）を用いた以外は製造例３−１と同様に操作を行った。このマスターバッチのηｒは２．１であった。このペレットに含まれる銅元素は高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発光分析より、３０００ｐｐｍであった。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月6日(2005.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  アクリル酸含量が20重量%以下のエチレン-アクリル酸共重合体をデカリン、テトラリンまたはこれらの混合物中に加熱溶解させた溶液に、導電性粒子および芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素またはこれらの混合溶剤に非極性ゴムを溶解した溶液を添加してなるPTCインク組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
かかる状況に鑑み、本出願人は先にEAAと導電粒子の組み合わせからなるPTC材料であって、インク化を可能としたPTCインク組成物の製造法を提案している(特開2002-146251号公報)。かかる方法により製造されたPTC材料は、機能面からは厚さが100μm以下と薄膜化が可能になり、品質面からはその安定性が優れ、製品コストが抑えられるという効果を奏するものの、インクから被膜を形成する際にその印刷特性が十分ではなく、印刷時に基材上への連続被膜を形成することが困難であった。すなわち、インクを溶解している溶剤がインクから滲み出すことで、印刷時に基材とインクとの間に被膜となってインクの基材への転写を妨げるという現象が起こり、また溶剤の分離が激しい場合には基材に転写せず、一方溶剤の分離が少ない場合には基材上でのインクの途中切れが生じ、連続被膜を形成するためには印刷速度を落とす必要があり、製造上の品質とコストに問題が見られた。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
かかる本発明の目的は、アクリル酸含量が20重量%以下のエチレン-アクリル酸共重合体をデカリン、テトラリンまたはこれらの混合物中に加熱溶解させた溶液に、導電性粒子および芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素またはこれらの混合溶剤に非極性ゴムを溶解した溶液を添加したPTCインク組成物によって達成される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
以上の各成分には、さらにエチレンプロピレンゴム(EPDM)、ブチルゴム(IIR)等の非極性ゴムを芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素またはこれらの混合溶剤中に溶解したゴム溶液が添加される。ゴムを溶解する溶剤としての芳香族炭化水素としては、トルエン、キシレン、ソルベントナフタ、ジペンテンなどが、また脂肪族炭化水素としては、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ゴム揮発油、ミネラルスピリットなどが、印刷方法により沸点、蒸気圧などを考慮しながら単体またはこれらの混合物として用いられる。このとき非極性ゴムの濃度は2〜40重量％、好ましくは5〜20重量％がよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
以上の各実施例および各比較例について、メタルマスク印刷での所定の印刷速度に対するインクと溶剤の分離、印刷対象物への転写および連続被膜の形成を以下の基準に従い判定した。得られた結果は、次の表に示される。
インクと溶剤の分離：印刷周辺に滲みのないものを○、滲みはあるが端部
が明確なものを△、滲んで端部が崩れているものを
×として判定
印刷対象物への転写：転写したものを○、一部転写しないものを△、滑っ
て転写しないものを×として判定
連続被膜の形成：連続被膜を形成するものを○、一部だけ連続被膜を形成
するものを△、連続被膜を形成しないものを×として判
定
表
印刷速度(mm／秒)        
5    15    30    60    90   120
〔実施例１〕
分離          △    △    △    △    △    △
転写          ○    ○    ○    ○    △    ×
被膜          ○    ○    ○    △    ×    ×
〔比較例１〕
分離          ×    ×    ×    ×    ×    ×
転写          △    ×    ×    ×    ×    ×
被膜          ×    ×    ×    ×    ×    ×
〔実施例２〕
分離          ○    ○    ○    ○    ○    ○
転写          ○    ○    ○    ○    ○    ○
被膜          ○    ○    ○    ○    ○    ○
〔実施例３〕
分離          ○    ○    ○    ○    ○    ○
転写          ○    ○    ○    ○    ○    ○
被膜          ○    ○    ○    ○    ○    ○
〔比較例２〕
分離          ×    ×    ×    ×    ×    ×
転写          ○    ○    △    ×    ×    ×
被膜          ○    △    ×    ×    ×    ×
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月30日(2005.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
(Ｂ)成分のオルガノポリシロキサンとしては、平均単位式：
(Ｒ2ＳiＯ3/2)a(Ｒ22ＳiＯ2/2)b(Ｒ23ＳiＯ1/2)c(ＳiＯ4/2)d(ＸＯ1/2)e
で表されるオルガノポリシロキサンであることが好ましい。上式中、Ｒ2は同じか、または異なる置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、具体的には、前記アルキル基、前記アルケニル基、前記アリール基、前記アラルキル基、前記ハロゲン化アルキル基が例示される。但し、一分子中、全Ｒ2の０.１〜４０モル％は前記アルケニル基であることが好ましい。これは、アルケニル基の含有率が上記範囲の下限未満であると、(Ｃ)成分との反応性が低下する傾向があるからであり、一方、上記範囲の上限を超えても、(Ｃ)成分との反応性が低下する傾向があるからである。また、本組成物を硬化して得られる硬化物において、光の屈折、反射、散乱等による減衰が小さいことから、一分子中、全Ｒ2の１０モル％以上は前記アリール基であることが好ましく、特に、フェニル基であることが好ましい。また、(Ｂ)成分中の一般式：
Ｒ2ＳiＯ3/2
で表されるシロキサン単位において、式中のＲ2は３０モル％以上が前記アリール基であることが好ましく、特に、フェニル基であることが好ましい。また、上式中のアルケニル基とアリール基以外のＲ2はメチル基であることが好ましい。また、上式中、Ｘは水素原子またはアルキル基であり、このアルキル基としては、前記と同様の基が例示され、特に、メチル基であることが好ましい。また、上式中、ａは正数であり、ｂは０または正数であり、ｃは０または正数であり、ｄは０または正数であり、ｅは０または正数であり、かつｂ／ａは０〜１０の数であり、ｃ／ａは０〜０.５の数であり、ｄ／(ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ)は０〜０.３の数であり、ｅ／(ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ)は０〜０.４の数である。このような(Ｂ)成分の分子量は限定されないが、標準ポリスチレン換算による重量平均分子量（Ｍｗ）が５００〜１０,０００の範囲内であることが好ましく、特に、７００〜３,０００の範囲内であることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月27日(2004.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下式（１）で表される、数平均分子量２００００〜７００００の高分子量ポリオキサレート。
【化１】
2004143400.tif 000001
（式中、Ｒは、分岐構造或いは脂環式構造を含んでいてもよい、主鎖の炭素数が３〜１２であるアルキレン基を表し、ｎは正の整数を表し、Ｘは、水素原子、ＡｒＯＣＯＣＯ−基、又はＨＣＯ−基を表し、Ｘが水素原子を表すときは、Ｙは、−ＯＡｒ基、−ＯＲＯＨ基、又は−ＯＲＯＣＨＯ基を表し、ＸがＡｒＯＣＯＣＯ−基を表すときは、Ｙは−ＯＡｒ基又は−ＯＲＯＣＨＯ基を表し、ＸがＨＣＯ−基を表すときは、Ｙは−ＯＡｒ基又は−ＯＲＯＣＨＯ基を表す。Ａｒはアリール基を表す。）
【請求項２】
数平均分子量が２５０００〜７００００である、請求項１記載の高分子量ポリオキサレート。
【請求項３】
重量平均分子量が３００００〜２０００００である、請求項１又は２記載の高分子量ポリオキサレート。
【請求項４】
シュウ酸ジアリールと脂肪族ジオールを反応原料中の水分濃度を１０００ｐｐｍ未満として重縮合反応させることを特徴とする請求項１〜３のいずれか記載の高分子量ポリオキサレートの製造方法。
【請求項５】
シュウ酸ジアリールと脂肪族ジオールを、反応原料中の水分濃度を１０００ｐｐｍ未満として、シュウ酸ジアリール１モルに対して脂肪族ジオール０．９９〜１．０１モルの割合で重縮合反応させて、数平均分子量が２００００〜７００００で、末端が水酸基とアリールオキシ基又はホルメート基とであるポリオキサレートを生成させることを特徴とする高分子量ポリオキサレートの製造方法。
【請求項６】
シュウ酸ジアリールと脂肪族ジオールを、反応原料中の水分濃度を２０ｐｐｍ以上から１０００ｐｐｍ未満の範囲として、シュウ酸ジアリール１モルに対して脂肪族ジオール０．９９〜１．０１モルの割合で重縮合反応させて、数平均分子量が２００００〜７００００で、末端が水酸基とホルメート基とであるポリオキサレートを生成させることを特徴とする高分子量ポリオキサレートの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月20日(2005.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
【化６】
2004143303.tif 000001
ここで、Ｙはアルキレン基、Ｚはアルキル基、（メタ）アクリロイル基、アリル基、アシル基のいずれかであり、ｐは１以上の整数である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
帯電防止剤［Ｅ］としては、例えば、４級アンモニウム塩のカチオン型帯電防止剤、脂肪族スルホン酸塩、高級アルコール硫酸エステル塩、高級アルコールアルキレンオキサイド付加物硫酸エステル塩、高級アルコールリン酸エステル塩、高級アルコールアルキレンオキサイド付加物リン酸エステル塩等のアニオン型帯電防止剤、高級アルコールアルキレンオキサイド付加物、ポリアルキレングリコール脂肪酸エステル等が挙げられる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月22日(2005.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）で表されるフタロシアニン染料と、水性媒体と、を含有する水性インクにおいて、該フタロシアニン染料はｘ＋ｙ＝２の成分を含有せず、ｘ＋ｙ＝３の成分及びｘ＋ｙ＝４の成分を少なくとも含有し、ｘ＋ｙ＝３の成分の含有量よりｘ＋ｙ＝４の成分の含有量が多く、且つ該水性媒体は蒸気圧０．０１ｍｍＨｇ（２０〜２５℃）以上のアミン化合物を含有していることを特徴とする水性インク。
【化１】
2004143454.tif 000001
（式中、ＣｕＰｃは、銅フタロシアニン残基を表し、ｘは１、２、３または４であり、ｙは０、１、２または３である。）
【請求項２】
アミン化合物の蒸気圧が、１２ｍｍＨｇ（２０〜２５℃）以下である請求項１に記載の水性インク。
【請求項３】
測定波長２５４ｎｍでの高速液体クロマトグラフィー分析において、ｘ＋ｙ＝４の成分のピーク高さＡとｘ＋ｙ＝３の成分のピーク高さＢが、Ａ／Ｂ＞１を満足する請求項１または２に記載の水性インク。
【請求項４】
Ａ／Ｂが１．５以上である請求項３に記載の水性インク。
【請求項５】
Ａ／Ｂが９以下である請求項３または４に記載の水性インク。
【請求項６】
前記アミン化合物が２−ピロリドンである請求項１〜５のいずれかに記載の水性インク。
【請求項７】
蒸気圧が０．０１ｍｍＨｇ（２０〜２５℃）以上のグリコールを更に含んでいる請求項１〜６のいずれかに記載の水性インク。
【請求項８】
前記グリコールがエチレングリコールである請求項７に記載の水性インク。
【請求項９】
インクジェット記録用である請求項１〜８のいずれかに記載の水性インク。
【請求項１０】
水性インクをインクジェット法で被記録媒体に吐出する工程を有するインクジェット記録方法において、
該水性インクが、請求項１〜９のいずれかに記載の水性インクであることを特徴とするインクジェット記録方法。
【請求項１１】
水性インクを収納しているインク収納部を有しているインクタンクにおいて、
該水性インクが、請求項１〜９のいずれかに記載の水性インクであることを特徴とするインクタンク。
【請求項１２】
水性インクと、該水性インクを吐出させるためのインクジェット記録ヘッドを有している記録ユニットにおいて、
該水性インクが、請求項１〜９のいずれかに記載の水性インクであることを特徴とする記録ユニット。
【請求項１３】
水性インクと、該水性インクを吐出させるためのインクジェット記録ヘッドを有しているインクジェット記録装置において、
該水性インクが、請求項１〜９のいずれかに記載の水性インクであることを特徴とするインクジェット記録装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月28日(2005.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
比表面積値が３〜１５ｍ2／ｇであって、平均粒径が０．５μｍ以下である酸化インジウム粉末と、比表面積値が１０〜１５ｍ2／ｇで、平成粒径が１．５μｍ以下である酸化スズ粉末とを、酸化スズの含有量が１０〜５０質量％となるように混合・粉砕して原料粉末を得た後、９８ＭＰa以上の圧力で加圧成形して成形体を得て、該成形体を常圧の酸素雰囲気中で１４００〜１６００℃の温度で焼結することを特徴とする高濃度スズＩＴＯターゲットの製造方法。
【請求項２】
加圧成形前に前記原料粉末を平均粒径１０μｍ以上の顆粒状に造粒する請求項１に記載の高濃度スズＩＴＯターゲットの製造方法。
【請求項３】
前記酸化スズ粉末として、平均粒径が１μｍ以下である酸化スズ粉末を用いる請求項２に記載の高濃度酸化スズＩＴＯターゲットの製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法により得られる高濃度酸化スズＩＴＯターゲットであり、酸化インジウム−酸化スズからなり、酸化スズの含有量が２０質量％を超え、かつ、５０質量％以下であって、平均密度が７．０ｇ／ｃｍ3以上である高濃度酸化スズＩＴＯターゲット。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月1日(2005.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細胞の培養を行う細胞培養プレートであって、細胞が配置、培養される空間構造を形成する凹凸パターンを有することを特徴とする細胞培養プレート。
【請求項２】
培養液および／または試薬が通液する流路をさらに備えることを特徴とする、請求項１に記載の細胞培養プレート。
【請求項３】
培養液および／または試薬を混合する混合部をさらに備えることを特徴とする、請求項１または２に記載の細胞培養プレート。
【請求項４】
電気的細胞融合のための電極をさらに有することを特徴とする、請求項１、２または３に記載の細胞培養プレート。
【請求項５】
前記細胞培養プレートの流路の幅が１μｍ〜１０００μｍ、流路の深さが１μｍ〜１０００μｍであることを特徴とする請求項２に記載の細胞培養プレート。
【請求項６】
前記細胞培養プレートの凹凸パターンにより形成される細胞が配置、培養される空間構造の高さが３μｍ〜１０００μｍ、幅が３μｍ〜１０００μｍ、奥行が３μｍ〜１０００μｍであることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の細胞培養プレート。
【請求項７】
前記細胞培養プレートの凹凸パターン内部に、高さが２０ｎｍ〜１００μｍ、幅またはピッチが２０ｎｍ〜１００μｍの凹凸パターンを有することを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の細胞培養プレート。
【請求項８】
前記細胞培養プレートが細胞固定化のための表面処理が施されていること特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の細胞培養プレート。
【請求項９】
前記細胞培養プレートが樹脂成形品であることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の細胞培養プレート。
【請求項１０】
前記細胞培養プレートが、複数枚のプレートを積層させた構造であることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の細胞培養プレート。
【請求項１１】
第２の流路をさらに備え、
前記流路及び第２の流路は、前記凹凸パターンと連結され、
培養液および／または試薬が、前記流路をから、前記凹凸パターンに流入し、
培養液および／または試薬が、前記凹凸パターンから、前記第２の流路に流出する、
請求項２に記載の細胞培養プレート。
【請求項１２】
細胞が配置、培養される空間構造を形成する凹凸パターンを有する細胞培養プレートの製造方法であって、
基板上にレジストパターンを形成するステップと、
前記基板上に形成されたレジストパターンまたはその転写パターンにしたがって金属を付着させ、前記細胞培養プレートの構造パターンの反対パターンを有する金属構造体を形成するステップと、
前記金属構造体のパターンを転写して樹脂成形細胞培養プレートを形成するステップと、
を備えた細胞培養プレートの製造方法。
【請求項１３】
前記基板上にレジストパターンを形成するステップが、レジスト層が予め定められた高さ、または、深さを有する構造体に形成されるまで、複数回レジスト層の形成、露光を繰り返すステップを含むことを特徴とする請求項１２記載の細胞培養プレートの製造方法。
【請求項１４】
前記基板上にレジストパターンを形成するステップにおいて、複数回レジスト層の形成、露光を繰り返す際、露光における各層のマスクパターンの位置が同じ位置になるように、マスクパターンの位置を合わせるマスク位置合わせステップをさらに備えることを特徴とする請求項１３記載の細胞培養プレートの製造方法。
【請求項１５】
前記基板上にレジストパターンを形成するステップにおいて、複数回レジスト層の形成、露光を繰り返す際、各レジスト層に感度の異なるレジストを用いることを特徴とする請求項１３記載の細胞培養プレートの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
そこで、本発明者らは、上記の問題を解決するために鋭意検討した結果、細胞培養のための空間構造を形成する凹凸パターンを有するプレートが、バイオアッセイ等に好適な細胞培養プレートであることを見出して本発明を完成した。
すなわち本願発明は、細胞の培養を行う細胞培養プレートであって、細胞が配置、培養される空間構造を形成する凹凸パターンを有することを特徴とする。これにより、広い空間で培養したときに細胞が薄く延びて生体内での特徴を示さないことを解消することができる。好ましくは、培養液および／または試薬が通液する流路をさらに有する。また、好ましくは、培養液および／または試薬を混合する混合部をさらに有する。あるいは、電気的細胞融合のための電極を有することが好ましい。これにより、用途に応じた細胞培養プレートを提供することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の他の態様は、細胞が配置、培養される空間構造を形成する凹凸パターンを有する細胞培養プレートを製造する方法であって、基板上にレジストパターン形成するステップと、前記基板上に形成された前記レジストパターンもしくはその転写パターンにしたがって金属を付着させ、前記細胞培養プレートの構造パターンの反対パターンを有する金属構造体を形成するステップと、前記金属構造体のパターンを転写して樹脂成形細胞培養プレートを形成するステップと、を備える。これにより、所望の細胞培養プレートを効果的に製造することができる
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月17日(2005.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
RSDS出力回路５、中心電圧レベル制御信号発生回路７及びバイアス電圧発生回路６の図３における、それぞれの位置は、それぞれの回路が形成された領域の位置を示す。すなわち、各出力回路４におけるRSDS出力回路５と中心電圧レベル制御信号発生回路７は、半導体チップ１ａ上において近接した位置に形成されている。具体的には、RSDS出力回路５に含まれるトランジスタと、中心電圧レベル制御信号発生回路７に含まれるトランジスタの動作特性が互いに同等となるような近傍に、中心電圧レベル制御信号発生回路７の形成領域と、ＲＳＤＳ出力回路5の形成領域が配置される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
なお、図３に示す配置は、トランジスタの動作特性が互いに同等となるような近傍に、中心電圧レベル制御信号発生回路７の形成領域と、ＲＳＤＳ出力回路5の形成領域が配置されることを説明するための例であり、具体的な配置はこれに限られるものではない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
Pチャンネルトランジスタ３４のドレインとNチャンネルトランジスタ３５のドレインの間の接続点C1と、Pチャンネルトランジスタ３２のドレインとNチャンネルトランジスタ３３のドレインの間の接続点C2が、それぞれ正転及び反転の差動信号OUT+，OUT-となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
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