【手続補正書】
【提出日】平成17年8月26日(2005.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板をほぼ水平に保持する基板保持部と、
この基板保持部を回転させるための回転駆動機構と、
上記基板保持部に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出手段と、
上記基板保持部の側方を取り囲むように配置可能で、上記回転駆動機構による上記基板保持部の回転に伴って側方へ飛ばされる洗浄液を受けて回収するための洗浄液回収部とを含み、
上記洗浄液吐出手段が上記洗浄液回収部内に設けられた吐出口を有することを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
上記基板保持部に保持された基板に向けて処理液を吐出する処理液ノズルをさらに含み、
上記洗浄液回収部が、上記処理液ノズルから吐出され上記回転駆動機構による遠心力により側方へ飛ばされた処理液を受けるためのスプラッシュガードに形成されていることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
上記スプラッシュガードが、処理液を回収するための処理液回収部を含むことを特徴とする請求項２記載の基板処理装置。
【請求項４】
上記処理液回収部が、上下方向に複数個積層されて設けられていることを特徴とする請求項３記載の基板処理装置。
【請求項５】
上記洗浄液回収部が、最下部の上記処理液回収部より低い高さ位置に設けられていることを特徴とする請求項３または４記載の基板処理装置。
【請求項６】
上記洗浄液回収部に、上記回転駆動機構の回転中心に向かって開いた開口が形成されており、
上記洗浄液吐出手段が、先端に上記吐出口を有する洗浄ノズルを含み、
この洗浄ノズルの吐出口が、上記開口の内部に配置されていることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項７】
上記洗浄ノズルは、上記開口の天井から突出するように設けられていることを特徴とする請求項６記載の基板処理装置。
【請求項８】
上記基板保持部に保持された基板に近接して対向配置可能な遮断板をさらに含むことを特徴とする請求項１ないし７のいずれかに記載の基板処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
洗浄液吐出手段の吐出口は、洗浄液回収部に設けられているので、基板保持部の側方に洗浄液吐出手段の吐出口を配した場合、基板保持部の側方には洗浄液回収部が存在している。この状態で、回転駆動機構により基板保持部を回転させながら、洗浄液吐出手段から基板保持部に向けて洗浄液を吐出すると、洗浄液は側方へと飛ばされる。基板保持部の側方には、洗浄液回収部が存在しているので、このような洗浄液は洗浄液回収部に受けられる（トラップされる。）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
基板周縁部に至った処理液は、側方へと振り切られて、スプラッシュガードに受けられる。
洗浄液吐出手段から吐出された洗浄液を受けるための洗浄液回収部は、スプラッシュガードに形成されているので、スプラッシュガードを利用して、洗浄液を受けることもできる。したがって、装置の構造を簡単にすることができる。
請求項３記載の発明は、上記スプラッシュガードが、処理液を回収するための処理液回収部（１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，３８ｂ）を含むことを特徴とする請求
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
洗浄ノズルは、たとえば、１本であってもよく、この場合、回転駆動機構により基板保持部を回転させることにより、洗浄液が基板保持部に当たる領域を、基板保持部の周方向に移動させて、基板保持部を良好に洗浄できる。洗浄ノズルは、複数本備えられていてもよい。
請求項７記載のように、上記洗浄ノズルは、上記開口の天井から突出するように設けられていてもよい。
請求項８記載の発明は、上記基板保持部に保持された基板に近接して対向配置可能な遮断板（２７）をさらに含むことを特徴とする請求項１ないし７のいずれかに記載の基板処理装置である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
続いて、制御部１５により回転駆動機構８，２９が制御されて、スピンチャック３０および遮断板２７の回転数が小さくされる。その結果、下ノズル１３から吐出されたウエハ用洗浄液は、ウエハＷにより十分大きな遠心力が与えられなくなり、下ノズル１３に向かって落ちるようになる。これにより、下ノズル１３がウエハ用洗浄液で洗浄される。
スピンチャック３０が低速回転されることにより、スピンベース２の上面２ａやウエハＷの上面を流れるウエハ用洗浄液には大きな遠心力が働かなくなる。このため、スピンベース２やウエハＷから振り切られるウエハ用洗浄液は、十分大きな速度で側方へと飛び出すことができず、図２に矢印Ａ１で示すように、案内部３ａに届かずに下方へと落下する。しかし、回収ポート１１ａ〜１１ｃは、案内部３ａより低い高さ位置には配されていないので、ウエハ用洗浄液が第１、第２、または第３の薬液に混入することはない。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
この際、遠心力によりスピンベース２から側方に振り切られたりチャックピン６に当たって洗浄ノズル１２側に跳ね返されたチャック用洗浄液は、案内部３ａ内の洗浄ノズル１２近傍で受けられ（トラップされ；図２に矢印Ａ２〜Ａ４で示す。）た後、下方へと流れ落ちて洗浄液回収槽２６に回収される。また、チャックピン６で跳ね返り、ミストとなって上方へと飛散しようとするチャック用洗浄液も、遮断板２７の下面で受けられ（トラップされ；図２に矢印Ａ５で示す。）、側方へ振り切られて、案内部３ａを経て洗浄液回収槽２６に回収される。遮断板２７の径はウエハＷの径より大きいので、チャックピン６から斜め上方に飛散したチャック用洗浄液も効率的に受けることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
スプラッシュガード３８には昇降機構１０が結合されており、昇降自在とされている。スプラッシュガード３８が下降されているときには、溝３８ｃは仕切部材３９ａの上部に遊嵌する。
スプラッシュガード３８を貫通し第１案内部３８ａの天井２８ｅから突出するように、ほぼ水平に第１洗浄ノズル４０が設けられている。第１洗浄ノズル４０の先端には、直径が８ｍｍ以下の円形の吐出口４０ｔが形成されている。この吐出口４０ｔは、天井３８ｅからわずかに突出した位置にあり、第１案内部３８ａの内部に配置され、この位置から、スピンチャック３０の回転半径方向内方へ向けて、ほぼ水平にチャック用洗浄液を吐出する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
この基板処理装置でウエハＷの処理をするときは、先ず、制御部１５の制御により、遮断板２７がスピンチャック３０に保持されたウエハＷ上方に近接して対向配置される。そして、制御部１５の制御により、スピンチャック３０に保持されたウエハＷおよび遮断板２７が回転される。
その後、制御部１５により昇降機構１０が制御されて、スピンベース２の上面２ａと第２案内部３８ｂとがほぼ同じ高さになるように、スプラッシュガード３８が移動される。仕切部材３９ａの高さ位置は変わらないので、この状態で、上面２ａと第２案内部３８ｂとの間には、仕切部材３９ａは存在しない。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
ウエハＷが薬液により処理される際、薬液の一部はスピンベース２の上面２ａに落ちる。したがって、薬液による処理が終了した後、スピンベース２の上面２ａおよびチャックピン６は、薬液により汚れた状態となっている。
その後、制御部１５により昇降機構１０が制御されて、スプラッシュガード３が下降され、チャックピン６と第１洗浄ノズル４０とがほぼ同じ高さになるようにされる。この状態で、スピンベース２の上面２ａの側方には、第１案内部３８ａが存在しており、仕切部材３９ａは溝３８ｃに遊嵌する。また、遮断板２７は、第１案内部３８ａの上端に近接し、遮断板２７の上面とスプラッシュガード３８の上端とは、ほぼ同じ高さになる。ウエハＷおよび遮断板２７の回転は維持される。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
そして、制御部１５の制御により、下ノズル１３および上ノズル３４から、ウエハ用洗浄液が吐出される。ウエハ用洗浄液は、ウエハＷの遠心力により、ウエハWの下面および上面に沿って外方に向かって流れる。これにより、ウエハＷの下面および上面が洗浄される。ウエハＷの周縁部に至ったウエハ用洗浄液は、側方へと振り切られて、スプラッシュガード３８の第１案内部３８ａに受けられ、さらに、下方へと流れて洗浄液回収槽４３に回収される。洗浄液は、薬液を回収するのに用いられる第２案内部３８ｂより高い位置に配された第１案内部３８ａに案内されて回収されるが、仕切部材３９ａにより、薬液回収槽４２に回収された薬液に洗浄液が混入しないようにされている。