【手続補正書】
【提出日】平成16年2月10日(2004.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写用のパターンが形成されたマスクを照明するための照明光学系と、前記マスクのパターン像を感光性の基板上に投影するための投影光学系と、前記基板を保持して前記投影光学系に対して前記基板を位置決めするための基板ステージと、前記基板ステージの外部にある所定光源からの光を前記基板ステージの内部を介して所定領域に照射するための送光光学系とを備えた投影露光装置において、
前記送光光学系は、
前記所定光源からの光を前記基板ステージの内部に導入するための光導入系と、
前記光導入系を介して前記基板ステージの内部に導入された光を前記所定領域に照射するための光照射系とを備え、
前記光導入系と前記光照射系とは機械的に分離されており、前記投影光学系に対して前記基板ステージが特定の位置関係にあるときにのみ前記光導入系と前記光照射系とが光学的に接続可能であることを特徴とする投影露光装置。
【請求項２】
前記送光光学系は、
前記所定光源からの光を前記基板ステージの外部の所定位置まで導くための第１ライトガイド手段と、
前記第１ライトガイド手段の射出端から射出された光を前記基板ステージの内部の所定位置まで導くための第２ライトガイド手段とを有することを特徴とする請求項１に記載の投影露光装置。
【請求項３】
前記第１ライトガイド手段の射出端と前記第２ライトガイド手段の入射端とを光学的に接続するためのレンズ系をさらに有することを特徴とする請求項２に記載の投影露光装置。
【請求項４】
前記第１ライトガイド手段の射出端は、前記第２ライトガイド手段の入射端に近接して位置決めされていることを特徴とする請求項２に記載の投影露光装置。
【請求項５】
前記送光光学系は、
前記所定光源からの光を前記投影光学系と前記マスクとの間の所定位置まで導くための第１ライトガイド手段と、
前記第１ライトガイド手段の射出端から射出され前記投影光学系を介して前記基板ステージの内部に導かれた光を前記基板ステージの内部の所定位置まで導くための第２ライトガイド手段とを有することを特徴とする請求項１に記載の投影露光装置。
【請求項６】
前記第１ライトガイド手段の射出端と前記投影光学系との間の光路および前記投影光学系と前記第２ライトガイド手段の入射端との間の光路のうちの少なくとも一方の光路中には、前記第１ライトガイド手段の射出端と前記第２ライトガイド手段の入射端とを光学的に接続するためのレンズ系がさらに設けられていることを特徴とする請求項５に記載の投影露光装置。
【請求項７】
前記光導入系は、前記基板ステージの前記投影光学系側から前記基板ステージ内の前記光照射系へ光を導くことを特徴とする請求項１に記載の投影露光装置。
【請求項８】
転写用のパターンが形成されたマスクを照明するための照明光学系と、前記マスクのパターン像を感光性の基板上に投影するための投影光学系と、前記基板を保持して前記投影光学系に対して前記基板を位置決めするための基板ステージと、前記投影光学系を介して前記基板ステージの内部に導入された光を受光するための受光光学系とを備えた投影露光装置において、
前記受光光学系は、
前記基板ステージの内部に導入された光を前記基板ステージの外部に導き出すための光導出系と、
前記光導出系を介して前記基板ステージの外部に導き出された光を受光するための受光系とを備え、
前記光導出系と前記受光系とは機械的に分離されており、前記投影光学系に対する前記基板ステージの位置関係に応じて前記光導出系と前記受光系とが光学的に接続可能であることを特徴とする投影露光装置。
【請求項９】
前記受光光学系は、
前記投影光学系を介して前記基板ステージの内部に導入された光を前記基板ステージの内部または外部の所定位置まで導くための第３ライトガイド手段と、
前記第３ライトガイド手段の射出端から射出された光を前記基板ステージの外部の所定位置において受光するための受光手段とを有することを特徴とする請求項８に記載の投影露光装置。
【請求項１０】
前記第３ライトガイド手段の射出端と前記受光手段の受光面とを光学的に接続するためのレンズ系をさらに有することを特徴とする請求項９に記載の投影露光装置。
【請求項１１】
前記受光手段の受光面は、前記第３ライトガイド手段の射出端に近接して位置決めされていることを特徴とする請求項９に記載の投影露光装置。
【請求項１２】
前記受光光学系における前記光導出系と前記受光系とは、前記投影光学系に対して前記基板ステージが特定の位置関係にあるときにのみ光学的に接続されることを特徴とする請求項８に記載の投影露光装置。
【請求項１３】
転写用のパターンが形成されたマスクを照明するための照明光学系と、前記マスクのパターン像を感光性の基板上に投影するための投影光学系と、前記基板を保持して前記投影光学系に対して前記基板を位置決めするための基板ステージと、前記基板ステージの外部にある所定光源からの光を前記基板ステージの内部を介して前記投影光学系に向かって照射するための送光光学系と、前記投影光学系を介して前記基板ステージの内部に再び導入された前記送光光学系からの光を受光するための受光光学系とを備えた投影露光装置において、
前記送光光学系は、前記所定光源からの光を前記基板ステージの内部に導入するための光導入系と、前記光導入系を介して前記基板ステージの内部に導入された光を前記投影光学系に向かって照射するための光照射系とを備え、前記光導入系と前記光照射系とは機械的に分離されており、前記投影光学系に対する前記基板ステージの位置関係に応じて前記光導入系と前記光照射系とが光学的に接続可能であり、
前記受光光学系は、前記基板ステージの内部に再び導入された前記送光光学系からの光を前記基板ステージの外部に導き出すための光導出系と、前記光導出系を介して前記基板ステージの外部に導き出された光を受光するための受光系とを備え、前記光導出系と前記受光系とは機械的に分離されており、前記投影光学系に対する前記基板ステージの位置関係に応じて前記光導出系と前記受光系とが光学的に接続可能であることを特徴とする投影露光装置。
【請求項１４】
前記送光光学系は、前記所定光源からの光を前記基板ステージの外部の所定位置まで導くための第４ライトガイド手段と、前記第４ライトガイド手段の射出端から射出された光を基板ステージの内部の所定位置まで導くための第５ライトガイド手段とを有し、
前記受光光学系は、前記基板ステージの内部に再び導入された前記送光光学系からの光を前記基板ステージの内部または外部の所定位置まで導くための第６ライトガイド手段と、前記第６ライトガイド手段の射出端から射出された光を基板ステージの外部の所定位置において受光するための受光手段とを有することを特徴とする請求項１３に記載の投影露光装置。
【請求項１５】
前記第５ライトガイド手段と前記第６ライトガイド手段とは共通のライトガイド手段から構成され、前記受光手段は前記第４ライトガイド手段を介して前記共通のライトガイド手段の射出端から射出された光を受光し、
前記第４ライトガイド手段と前記共通のライトガイド手段との対向端を互いに光学的に接続するためのレンズ系をさらに有することを特徴とする請求項１４に記載の投影露光装置。
【請求項１６】
前記第５ライトガイド手段と前記第６ライトガイド手段とは共通のライトガイド手段から構成され、前記受光手段は前記第４ライトガイド手段を介して前記共通のライトガイド手段の射出端から射出された光を受光し、
前記第４ライトガイド手段と前記共通のライトガイド手段との対向端は、互いに近接して位置決めされていることを特徴とする請求項１４に記載の投影露光装置。
【請求項１７】
前記光導入系と前記光照射系とは、前記投影光学系に対して前記基板ステージが特定の位置関係にあるときにのみ光学的に接続可能であり、
前記受光光学系における前記光導出系と前記受光系とは、前記投影光学系に対して前記基板ステージが特定の位置関係にあるときにのみ光学的に接続されることを特徴とする請求項１３に記載の投影露光装置。
【請求項１８】
請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の投影露光装置を用い、前記マスク上の前記転写用のパターンを照明し、前記マスクのパターン像を感光性の基板上に投影露光することを特徴とする投影露光方法。