Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月7日(2005.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ素化界面活性剤の存在下での水相における１種類以上のフッ素化モノマーの乳化重合により、フルオロポリマーを作製する方法であって、前記フッ素化界面活性剤の少なくとも一部を、水と混和性がなく、且つハロゲン化および非ハロゲン化有機液体から選択される少なくとも１種類の有機液体との水性混合物として水相に添加し、前記水性混合物は、平均液滴径が１０００ｎｍ以下の液滴を有し、前記水性混合物は、前記フッ素化界面活性剤の総量が、水相の重量を基準にして１重量％以下となり、且つ前記有機液体の総量が、前記水相の重量を基準にして１重量％以下となるような量で水相に添加され、前記有機液体がパーフルオロポリエーテルである場合、その量は水相の重量を基準にして０．０１重量％以下であることを特徴とする方法。
【請求項２】
次式：
Ｙ−Ｒf−Ｚ−Ｍ
（式中、Ｙは、水素、Ｃｌ又はＦを表し、Ｒfは、炭素数４〜１０の直鎖又は分枝過フッ素化アルキレンを表し、Ｚは、ＣＯＯ-又はＳＯ3-を表し、Ｍは、一価のカチオンを表す）
を有するフッ素化界面活性剤の存在下での水相における１種類以上のフッ素化モノマーの乳化重合により、フルオロポリマーを作製する方法であって、
前記フッ素化界面活性剤の少なくとも一部を、水と混和性がなく、且つハロゲン化および非ハロゲン化有機液体から選択される少なくとも１種類の有機液体との水性混合物として水相に添加し、前記水性混合物は、平均液滴径が１０００ｎｍ以下の液滴を有し、前記混合物は、前記フッ素化界面活性剤の総量が、前記水相の重量を基準にして１重量％以下となり、且つ前記有機液体の総量が、前記水相の重量を基準にして１重量％以下となるような量で水相に添加されることを特徴とする方法。
【請求項３】
フッ素化界面活性剤および水と混和性のない有機液体とから成る水性混合物であって、前記混合物は、２０ｎｍ〜２００ｎｍの平均直径を有する液滴を含み、前記有機液体は、状況に応じて最大２つまでの酸素、硫黄、および／又は窒素原子を含有する、過フッ素化、又は一部フッ素化された脂肪族又は芳香族有機液体から選択され、前記フッ素化界面活性剤は、次の一般式：
Ｙ−Ｒf−Ｚ−Ｍ
（式中、Ｙは、水素、Ｃｌ又はＦを表し、Ｒfは、炭素数４〜１０の直鎖又は分枝過フッ素化アルキレンを表し、Ｚは、ＣＯＯ-又はＳＯ3-を表し、Ｍは、一価のカチオンを表す）
に対応する水性混合物。
【請求項４】
フッ素化界面活性剤と有機液体との混合物を調製する方法であって、前記フッ素化界面活性剤は、一般式：
Ｙ−Ｒf−Ｚ−Ｍ
（式中、Ｙは、水素、Ｃｌ又はＦを表し、Ｒfは、炭素数４〜１０の直鎖又は分枝過フッ素化アルキレンを表し、Ｚは、ＣＯＯ-又はＳＯ3-を表し、Ｍは、一価のカチオンイオンを表す）
に対応し、
前記方法が、前記有機液体の存在下で前記フッ素化界面活性剤の対応する酸を蒸留する工程と、その後、前記酸を塩に転換し、前記有機液体と混合された前記フッ素化界面活性剤を得る段階とを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月28日(2005.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数種類の熱可塑性合成ポリマーを別々に溶融させ、別々の溶融ポリマー流れとして押し出す工程と、
前記別々の溶融ポリマー流れを別々の平面状溶融ポリマー流れに分配する工程と、
前記別々の平面状溶融ポリマー流れをろ過する工程と、
複数の別々のポリマー流路を含む紡糸口金に前記別々の平面状溶融ポリマー流れを供給する工程とを含み、各平面状溶融ポリマー流れは紡糸口金出口孔と連絡する別々の一連の前記ポリマー流路に供給され、前記出口孔から出現する複数の溶融ポリマー流れが互いに接触して多層フィラメントが形成されるように前記流路が配列される、
複数種類の熱可塑性合成ポリマーから複数の多層フィラメントを製造する方法。
【請求項２】
複数種類の熱可塑性合成ポリマーを別々に溶融させ、溶融ポリマー流れとして押し出すための複数の押出機と、
前記別々の溶融ポリマー流れを別々の平面状溶融ポリマー流れに分配するための、前記押出機の下流にあり前記押出機と連絡する別々の分配マニホールドと、
前記別々の平面状溶融ポリマー流れをろ過するための、前記分配マニホールドの下流にあり前記分配マニホールドと連絡する別々のフィルターと、
前記別々の平面状溶融ポリマー流れの各々を複数の紡糸口金出口孔に移動させるための、前記フィルターの下流にあり前記フィルターと連絡し複数の別々のポリマー流路を含む紡糸口金とを含み、前記出口孔から出現する複数の溶融ポリマー流れが互いに接触して多層フィラメントが形成されるように前記流路が配列される、
複数種類の熱可塑性合成ポリマーから複数の多層フィラメントを紡糸する装置。
【請求項３】
別々の複数のコートハンガー分配マニホールドとそれぞれ連絡する複数のポリマー入口通路と、各コートハンガー分配マニホールドの下流にあり各コートハンガー分配マニホールドと連絡する別々のフィルターと、前記フィルターの下流にあり前記フィルターと連絡する紡糸口金とを含み、前記紡糸口金は、前記多層フィラメントを紡糸するための出口孔と連絡する複数の別々のポリマー流路を有する、複数種類の熱可塑性合成ポリマーから複数の多層フィラメントを形成するための溶融紡糸ビーム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
平面状溶融ポリマー流れをろ過することによって、紡糸口金出口孔の詰まりが実質的に解消され、それによって形成される不織ウェブの均一性が増大し、紡糸システムの使用可能時間が延長される。
本発明の好適な実施の態様は次のとおりである。
１．複数種類の熱可塑性合成ポリマーを別々に溶融させ、別々の溶融ポリマー流れとして押し出す工程と、
前記別々の溶融ポリマー流れを別々の平面状溶融ポリマー流れに分配する工程と、
前記別々の平面状溶融ポリマー流れをろ過する工程と、
複数の別々のポリマー流路を含む紡糸口金に前記別々の平面状溶融ポリマー流れを供給する工程とを含み、各平面状溶融ポリマー流れは紡糸口金出口孔と連絡する別々の一連の前記ポリマー流路に供給され、前記出口孔から出現する複数の溶融ポリマー流れが互いに接触して多層フィラメントが形成されるように前記流路が配列される、
複数種類の熱可塑性合成ポリマーから複数の多層フィラメントを製造する方法。
２．形成された前記多層フィラメントを、前記複数の紡糸口金出口孔に近接して配置された流体ジェットから放出される流体によって冷却し繊維化する工程をさらに含む上記１に記載の方法。
３．複数種類の熱可塑性合成ポリマーの種類数が２である上記１に記載の方法。
４．複数種類の熱可塑性合成ポリマーの種類数が３以上である上記１に記載の方法。
５．複数種類の熱可塑性合成ポリマーを別々に溶融させ、溶融ポリマー流れとして押し出すための複数の押出機と、
前記別々の溶融ポリマー流れを別々の平面状溶融ポリマー流れに分配するための、前記押出機の下流にあり前記押出機と連絡する別々の分配マニホールドと、
前記別々の平面状溶融ポリマー流れをろ過するための、前記分配マニホールドの下流にあり前記分配マニホールドと連絡する別々のフィルターと、
前記別々の平面状溶融ポリマー流れの各々を複数の紡糸口金出口孔に移動させるための、前記フィルターの下流にあり前記フィルターと連絡し複数の別々のポリマー流路を含む紡糸口金とを含み、前記出口孔から出現する複数の溶融ポリマー流れが互いに接触して多層フィラメントが形成されるように前記流路が配列される、
複数種類の熱可塑性合成ポリマーから複数の多層フィラメントを紡糸する装置。
６．前記紡糸口金出口孔に近接して配置され、前記多層フィラメントを冷却し繊維化するための流体を提供する流体ジェットをさらに含む上記５に記載の装置。
７．前記分配マニホールドがコートハンガーマニホールドである上記５に記載の装置。
８．２種類の熱可塑性合成ポリマー用に構成される上記５に記載の装置。
９．３種類以上の熱可塑性合成ポリマー用に構成される上記５に記載の装置。
１０．別々の複数のコートハンガー分配マニホールドとそれぞれ連絡する複数のポリマー入口通路と、各コートハンガー分配マニホールドの下流にあり各コートハンガー分配マニホールドと連絡する別々のフィルターと、前記フィルターの下流にあり前記フィルターと連絡する紡糸口金とを含み、前記紡糸口金は、前記多層フィラメントを紡糸するための出口孔と連絡する複数の別々のポリマー流路を有する、複数種類の熱可塑性合成ポリマーから複数の多層フィラメントを形成するための溶融紡糸ビーム。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月9日(2003.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
ネットワーク基盤のプロセッサを具備したクライアント/サーバー環境のコンピューターシステムが、ウェブ環境システムへのログインを受け付ける段階と、資料提供者が自分のクライアントシステムでデータ化された資料を資料共有サイトの資料室に登録するのを受け付ける段階と、資料利用者が自分のクライアントシステムで資料共有サイトの資料室に登録された資料を利用し、その代価を支払うことを可能にする段階と、を実現することからなるネットワーク基盤の資料共有方法において、
前記情報提供者が資料共有サイトに資料を登録するにあたり、登録資料の有／無料提供、後援、その他の使用用途を選択するのを受け付ける段階と；
その他の情報を入力した後、資料を登録するのを受け付ける段階と；
資料利用者が資料共有サイトに登録された資料を閲覧し、自分が希望した資料ならその代価を決定し決済することを可能にする段階と；
前記決済段階でバナー広告及び/または金融口座を選択するのを受け付ける段階と；
選択した支払金額の一部を資料提供者に支払い、その残り一部を運営者に支払うことを可能にする段階と；を前記コンピューターシステムが実現し、良質の資料共有と資料活性化を可能にしたことを特徴とするインターネットを利用した資料共有方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
バナー広告及び/または金融口座を選択するのを受け付ける決済段階にて、バナー広告料を恵まれない隣人や経営状態の悪い企業に支給する選択を受け付ける段階を含み、
前記コンピューターシステムが、前記バナー広告料を恵まれない隣人や経営状態の悪い企業に使用した内訳及び処理結果を、後援者と関係者に電子メールで通報するようにしたことを特徴とする請求項１に記載のインターネットを利用した資料共有方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2004527846.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月3日(2005.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチ表面に加わるタッチ力であって、力覚型タッチ位置判定装置の精度面に対して垂直方向の垂直成分と該精度面に対して接線方向の接線成分とを含むタッチ力を検知するための、力覚型タッチ位置判定装置において、
前記タッチ表面に対する前記タッチ力の印加に応答して信号を出力する複数の力覚センサと、
前記タッチ力の前記接線成分の大部分を伝達する第１の機械的経路であって、前記複数の力覚センサを有さない第１の機械的経路と、
を備える力覚型タッチ位置判定装置。
【請求項２】
前記第１の機械的経路が、前記タッチ表面に連結された複数のシャント接続部を備える、請求項１に記載の力覚型タッチ位置判定装置。
【請求項３】
前記複数のシャント接続部が、前記タッチ表面の横方向の動きを妨げるための横方向難動化手段を備える、請求項２に記載の力覚型タッチ位置判定装置。
【請求項４】
前記横方向難動化手段が、前記タッチ力の前記接線成分に対して実質的ゼロ反作用モーメントの面を有し、該実質的ゼロ反作用モーメントの面が実質的に前記タッチ表面と一致する、請求項３に記載の力覚型タッチ位置判定装置。
【請求項５】
前記タッチ表面が、ディスプレイ表面を覆うタッチオーバーレイを含む、請求項１に記載の力覚型タッチ位置判定装置。
【請求項６】
前記接線方向に印加されるタッチ力の、前記力覚センサを介して伝達される比率を小さくするために、前記力覚センサを通る力の経路が、横方向易動化手段をさらに通る、請求項１に記載の力覚型タッチ位置判定装置。
【請求項７】
第２の経路は、前記タッチ力の前記接線成分の大部分を、前記第１の経路を通して方向付ける横方向易動化手段を備える、請求項１に記載の力覚型タッチ位置判定装置。
【請求項８】
タッチ表面に加わるタッチ力であって、力覚型タッチ位置判定装置の精度面に対して垂直方向の垂直成分と該精度面に対して接線方向の接線成分とを含むタッチ力を検知するための、力覚型タッチ位置判定装置であって、
前記タッチ表面に対する前記タッチ力の印加に応答して信号を出力する複数のセンサと、
前記複数のセンサと前記タッチ表面との間に連結された少なくとも１つの検知接続部であって、前記タッチ力の前記接線成分に対する対応反力を発生させるとともに、該対応反力に対して実質的垂直方向の感度軸を有する少なくとも１つの検知接続部と、
前記タッチ表面と少なくとも１つの結合表面との間に連結された複数の弾性手段であって、前記精度面に対して傾いた構成要素を有し、それにより、前記少なくとも１つの検知接続部の弾性中心を実質的に前記精度面内に位置決めする複数の弾性手段と、
を備える力覚型タッチ位置判定装置。
【請求項９】
前記複数のセンサが複数の力覚センサを含む、請求項８に記載の力覚型タッチ位置判定装置。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの検知接続部の前記感度軸が、前記タッチ表面の法線に対して傾いている、請求項８に記載の力覚型タッチ位置判定装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月31日(2005.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ナトリウム・スカンジウム・トリウムのハロゲン化物を含む蒸発可能な充填材を有する高輝度放電ランプであって、前記ランプの動作特性は、約８５を超えるワット当りのルーメンと、約８０を超える演色インデックスと、約３０００ Ｋから約６０００ Ｋの相関色温度とを含むことを特徴とする高輝度放電ランプ。
【請求項２】
更に、可視スペクトル内の狭波長周波数帯においてランプによって発生される光の少なくとも７０％を反射し、可視スペクトル内でかつ狭周波数帯の外側でランプによって発生される光の少なくとも７０％を透過させる、ノッチフィルタを備えることを特徴とする請求項１に記載のランプ。
【請求項３】
前記ノッチフィルタは、狭波長周波数帯においてランプによって発生される光の少なくとも８０％を反射し、可視スペクトル内でかつ狭周波数帯の外側でランプによって発生される光の少なくとも８０％を透過させることを特徴とする請求項２に記載のランプ。
【請求項４】
狭波長周波数帯は約５９０ｎｍの波長に略中心を置いていることを特徴とする請求項２に記載のランプ。
【請求項５】
前記ノッチフィルタは多層被覆を備えることを特徴とする請求項２に記載のランプ。
【請求項６】
前記被覆は前記充填材を含む発光管の外面に塗布されることを特徴とする請求項５に記載のランプ。
【請求項７】
更に、前記発光管を実質的に囲むシュラウドを備え、前記被覆は前記シュラウドに塗布されることを特徴とする請求項５に記載のランプ。
【請求項８】
前記フィルタは前記発光管を実質的に囲むシュラウドを備えることを特徴とする請求項２に記載のランプ。
【請求項９】
ランプの操作中に発光プラズマを形成する１つ以上の金属ハロゲン化物の蒸発可能な充填材を有する高輝度放電ランプの製造方法であって、前記方法は、
前記ランプの動作特性が、約８５を超えるワット当りのルーメンと、約８０を超える演色インデックスと、約３０００ Ｋから約６０００ Ｋの相関色温度とを含むように、
ナトリウムとスカンジウムとトリウムのハロゲン化物を含む充填ガスを選択するステップと、
プラズマから放射される光をフィルタリングするステップとを含むことを特徴とする方法。
【請求項１０】
光をフィルタリングするステップは、可視スペクトル内の狭波長周波数帯内でランプによって発生される光の少なくとも７０％を反射し、可視スペクトル内でかつ狭周波数帯の外側でランプによって発生される光の少なくとも７０％を透過させる、ノッチフィルタを提供するステップを含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記ノッチフィルタは、狭波長周波数帯内でランプによって発生される光の少なくとも８０％を反射し、可視スペクトル内でかつ狭周波数帯の外側でランプによって発生される光の少なくとも８０％を透過させることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
狭周波数帯は約５９０ｎｍの波長に略中心を置いていることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記ノッチフィルタは多層被覆を備えることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月3日(2004.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照射光源と、偏光照射ビームを形成する照射ビーム形成光学器と、前記偏光照射ビームを変調して、画像符号化偏光サブビームを形成する画像符号化偏光変調器と、前記画像符号化偏光サブビームからの画像を投射する投射レンズ光学器とを具えた画像プロジェクタにおいて、
前記画像プロジェクタがさらに、前記画像符号化偏光サブビームを前記照射ビームから分割する、平板支持、表面実装の偏光ビームスプリッタを具えて、前記偏光ビームスプリッタの偏光子支持板が、前記偏光ビームスプリッタの照射光源側にあることを特徴とする画像プロジェクタ。
【請求項２】
前記平板支持、表面実装のビームスプリッタが、透明な偏光子支持板と、前記偏光子支持板のほぼ平坦な外面上に実装した固定偏光軸の偏光子とを具えて、前記外面が偏光子支持面を規定することを特徴とする請求項１に記載の画像プロジェクタ。
【請求項３】
前記固定偏光軸の偏光子の、前記偏光子支持面に垂直な方向の厚さが薄いことを特徴とする請求項２に記載の画像プロジェクタ。
【請求項４】
暗画素偏光状態の偏光ビーム軸が、前記偏光子支持板の前記偏光子支持面上に実装した前記固定偏光軸の偏光子から外向きに伸びるように、前記固定偏光軸の偏光子を配向させたことを特徴とする請求項２に記載の画像プロジェクタ。
【請求項５】
暗画素偏光状態の偏光ビーム軸と、前記偏光子支持面の法線との間の角度がほぼ45°であることを特徴とする請求項２に記載の画像プロジェクタ。
【請求項６】
前記画像符号化偏光変調器が、入射する直線偏光した色成分サブビームの偏光状態を、所望のカラーディジタル画像の対応する色成分の画像に応じて空間的に変調して、反射して画像を符号化した色成分サブビームを形成する反射型ディジタル画像符号化偏光変調器を具えていることを特徴とする請求項２に記載の画像プロジェクタ。
【請求項７】
前記反射型ディジタル画像符号化偏光変調器が、反射型液晶表示パネルを具えていることを特徴とする請求項６に記載の画像プロジェクタ。
【請求項８】
前記平板支持、表面実装の偏光ビームスプリッタを、針金格子偏光偏光ビームスプリッタで構成したことを特徴とする請求項１に記載の画像プロジェクタ。
【請求項９】
前記平板支持、表面実装の偏光ビームスプリッタが、透明支持板と、方向性複屈折材料と非複屈折材料とを交互に具えた複屈折／非複屈折交互型フィルム偏光子とを具えて、前記非複屈折材料の屈折率が、前記方向性複屈折材料の一方の屈折率にほぼ等しいことを特徴とする請求項１に記載の画像プロジェクタ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月13日(2004.8.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  実質的に平面状の基板誘電材料層と少なくとも１つの間欠導電材料層を有する基板導電材料層とが交番する複数の層と、
第１の表面と第２の表面と
を備え、実質的に平面状の基板誘電材料層と基板導電材料層が交番する前記複数の層が、前記第１の表面と前記第２の表面の間を実質的に直角に延びるマイクロエレクトロニック基板。
【請求項２】  第１の表面と第２の表面を有し、実質的に平面状の基板誘電材料層と少なくとも１つの間欠導電材料層を有する基板導電材料層が交番する複数の層を備え、基板誘電材料層の各々および基板導電材料層の各々が、前記第１の表面と第２の表面の間を実質的に直角に延びている基板と、
前記基板の第１の表面および前記基板の第２の表面の少なくともいずれか一方に配置されたトレース網と
を備えたマイクロエレクトロニック・デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月12日(2005.1.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】第１のクロック信号WP1および位相変化信号ΔΨから、第２のクロック信号WP2のための同期変数WCSを生成する方法であって、
前記同期変数の第１の概算値WS0を求め、
前記第１概算値に近い他の概算値を求め、
前記概算値のそれぞれについて、誤差を計算し、
前記概算値のうち最適の概算値を、前記同期変数として得る、
方法。
【請求項２】前記同期変数の第１の概算値WS0を求める前に、第２のクロック信号WP2の周期の概算値Pwpを求める、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】前記同期変数の第２の概算値WSp1および第３の概算値WSm1を、WSp1＝WS0＋１およびWSm1＝WS0−１で求める、
請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】所与の時間における位相Ψを、前回までの位相変化信号ΔΨと該所与の時間における位相変化信号とを加算し、クロック信号WP1の周期を法とすることにより計算する、
請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】Aを定数として、WS0＝Ψ＊Pwp/Aの式から前記第１の概算値WS0を得る、
請求項４に記載の方法。
【請求項６】得られた前記概算値のそれぞれに対応して、誤差値が、BおよびCは定数として、次の式
・err_0＝（B*Ψ）-（C*ΔΨ* WS0）
・err_p1＝（B*Ψ）-（C*ΔΨ* （WS0＋１））
・err_m1＝（B*Ψ）-（C*ΔΨ* （WS0−１））
に従って算出される、
請求項４または５に記載の方法。
【請求項７】前記同期変数WCSは、最小の誤差を生成する前記概算値に等しい、
請求項６に記載の方法。
【請求項８】ｎは予め決められた定数であり、Ａは２ｎである、
請求項５に記載の方法。
【請求項９】第１のクロック信号WP1および位相変化信号ΔΨから、第２のクロック信号WP2のための同期変数WCSを生成する装置であって、
前記同期変数の第１の概算値WS0を求める手段と、
前記第１の概算値に近い他の概算値を求める手段と、
前記概算値のそれぞれについて、誤差を計算する手段と、
最良の前記概算値を、同期変数として得る手段と、
を備える装置。
【請求項１０】請求項９に記載の装置を含む集積回路。
【請求項１１】デジタルディスクリーダであって、
入射光ビームを発する手段、および、ディスクでの該光ビームの反射を検知する複数の光検知器を有する光ヘッドと、
前記複数の光検知器からの信号を、２つの該光検知器ずつ加算し、２つのサンプリングされた入射信号を提供する加算手段と、
前記２つのサンプリングされた入射信号の位相差を計算する計算手段と、を備え、
前記計算手段は、請求項９に記載の装置を含む、
デジタルディスクリーダ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月18日(2004.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サーバにおいてオブジェクトに対するユーザのリクエストを受け取るステップ、
前記ユーザから前記サーバの前記オブジェクトへの経路上にないクラスタ装置において前記オブジェクトに関連したデータに関する操作であって、前記サーバにおいて前記オブジェクトにアクセスすることを含んでいる操作を実行するステップ、ならびに、
前記ユーザのリクエスト、および、前記操作の結果に応じ、条件付きで前記オブジェクトへのアクセスを可能にするステップを有する方法。
【請求項２】
前記操作が、複数の処理を含み、個々の処理が別個のクラスタ装置において実行される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記クラスタ装置に対し、アクセスの種類を指定するステップを有しており、前記アクセスの種類により、前記オブジェクトに関連するユーザのロックに関わり無く、前記クラスタ装置が前記操作を実行可能である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記サーバが前記操作に対するタイムアウトを実施し、
たとえ前記タイムアウトが終了しようとも、前記クラスタ装置は前記操作を完了し、また、前記操作の前記結果を前記サーバに報告し、かつ、
前記サーバが、前記操作の前記結果を見込まれる後の使用のために記憶する、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記操作にウィルススキャンが含まれる、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記クラスタ装置が前記オブジェクトへのアクセスのためのスキャン用開放許可を有する場合に限り、前記操作が実行され、かつ、
前記クラスタ装置が前記オブジェクトへのアクセスのためのスキャン用開放許可を有する場合、たとえ前記オブジェクトが他のユーザまたは装置によってロックされていようとも前記操作が実行される、ことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
オブジェクトの組、および、ネットワークインターフェースを有するサーバ、
前記オブジェクトの少なくとも１つを要求している、ユーザのリクエスト、
前記ユーザから前記サーバの前記オブジェクトへの経路上にないクラスタ装置、
前記の要求されている１つのオブジェクトを示している、前記サーバから前記クラスタ装置への第１メッセージ、
前記要求されている１つのオブジェクトについて実行された操作に関する結果を示している、前記クラスタ装置から前記サーバへの第２メッセージ、ならびに、
前記第２メッセージに対応した、前記オブジェクトに対する条件付きのアクセスを含んでいる、前記ユーザのリクエストへのレスポンスを有する装置。
【請求項８】
前記サーバが前記第２メッセージに対するタイムアウトを実施し、
たとえ前記タイムアウトが終了しようとも、前記第２メッセージが前記クラスタ装置から前記サーバに向けて送信され、かつ、
前記サーバが、前記操作の前記結果を見込まれる後の使用のために記憶する、ことを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記操作にウィルススキャンが含まれる、ことを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項１０】
前記クラスタ装置が前記オブジェクトへのアクセスのためのスキャン用開放許可を有する場合に限り、前記操作が実行され、かつ、
前記クラスタ装置が前記オブジェクトへのアクセスのためのスキャン用開放許可を有する場合、たとえ前記オブジェクトが他のユーザまたは装置によってロックされていようとも前記操作が実行される、ことを特徴とする請求項９に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2004527857.tif 000001
【図２】
2004527857.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月25日(2005.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スマートラベル基板上の回路パターンと、構造部基板上にオンチップ集積回路を有する構造部とを含むスマートラベルであって、該構造部は前記スマートラベル基板および／または回路パターンに取り付けられていて、前記回路パターンは前記オンチップ集積回路に電気的に接続されているスマートラベルにおいて、前記オンチップ集積回路は、チップ外に配置された少なくとも１つのコンデンサによって、前記回路パターンに接続されていることを特徴とするスマートラベル。
【請求項２】
請求項１に記載のスマートラベルにおいて、前記オンチップ集積回路は、直列接続され前記チップ外に配置された２つのコンデンサによって、前記回路パターンに接続されていることを特徴とするスマートラベル。
【請求項３】
請求項１に記載のスマートラベルにおいて、前記オンチップ集積回路を有する構造部は、熱可塑性材料によってスマートラベルに取り付けられていることを特徴とするスマートラベル。
【請求項４】
請求項３に記載のスマートラベルにおいて、前記熱可塑性材料は異方導電性・熱可塑性フィルムであることを特徴とするスマートラベル。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載のスマートラベルにおいて、前記コンデンサはコンデンサ極板を含み、該極板は、前記スマートラベル基板上および構造部基板上に形成され、異方導電性・熱可塑性フィルムおよび／またはスマートラベル基板は、前記コンデンサ極板間の絶縁体層を形成することを特徴とするスマートラベル。
【請求項６】
請求項５に記載のスマートラベルにおいて、前記スマートラベル基板の誘電正接は最大で0.7 × 10-3であることを特徴とするスマートラベル。
【請求項７】
請求項５または６に記載のスマートラベルにおいて、前記スマートラベル基板の材料はポリプロピレンまたはポリエチレンなどのポリオレフィンであることを特徴とするスマートラベル。
【請求項８】
請求項５に記載のスマートラベルにおいて、前記構造部は、前記スマートラベル基板のうち、前記回路パターンが配置されている側の反対側に取り付けられ、これによって短絡が防止されていることを特徴とするスマートラベル。
【請求項９】
請求項３または８に記載のスマートラベルにおいて、前記オンチップ集積回路は、前記熱可塑性材料とスマートラベル基板との間に配置されていることを特徴とするスマートラベル。
【請求項１０】
請求項１に記載のスマートラベルにおいて、前記構造部基板の材料は、ポリアミドまたはポリエステルであることを特徴とするスマートラベル。
【請求項１１】
縦列および／または横列に配置されたスマートラベルを含むスマートラベルウェブであって、該スマートラベルは、回路パターンと、該回路パターンに取り付けられたオンチップ集積回路とを含み、該オンチップ集積回路は、別個の担体ウェブから分離されている構造部によって前記スマートラベルに取り付けられているスマートラベルウェブにおいて、前記オンチップ集積回路は、チップ外に配置された少なくとも１つのコンデンサによって、前記回路パターンに接続されていることを特徴とするスマートラベルウェブ。
【請求項１２】
請求項11に記載のスマートラベルウェブにおいて、前記オンチップ集積回路は、直列接続され前記チップ外に配置された２つのコンデンサによって、前記回路パターンに接続されていることを特徴とするスマートラベルウェブ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月6日(2004.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生物薬剤材料の冷凍保存方法であり、
生体適合性を有する材料からなる柔軟な容器を用意し、該柔軟な容器は、少なくとも１つの生物薬剤材料を受容し、
凍結機構を前記少なくとも１つの生物薬剤材料の少なくとも１つ及び前記柔軟な容器に熱的に結合し、前記凍結機構は、前記少なくとも１つの生物薬剤材料の温度をモニターする温度センサと、樹枝状凍結境界面速度を制御するフィードバックループとを有し、
前記温度センサからのフィードバック情報に基づいて、前記少なくとも１つの生物薬剤材料内の樹枝状凍結境界面速度を５ミリメータ／時間から２５０ミリメータ／時間の範囲に制御することを特徴とする冷凍保存方法。
【請求項２】
前記生体適合性を有する材料が、エチレン−酢酸ビニルコポリマー、エチレン−ビニルアルコールコポリマー、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリエステル類、ナイロン類、ポリプロピレン類、ポリ弗化ビニリデン、ポリウレタン類、ポリ塩化ビニル類、または、これらの混合物またはラミネートからなることを特徴とする請求項１に記載の冷凍保存方法。
【請求項３】
前記柔軟な容器が、２０ミリリットルから１０００リットルの範囲内の容量を有することを特徴とする請求項１または２に記載の冷凍保存方法。
【請求項４】
前記柔軟な容器が、５００ミリリットルから１００リットルの範囲内の容量を有することを特徴とする請求項１または２に記載の冷凍保存方法。
【請求項５】
前記柔軟な容器が、１００ミリリットルから５００ミリリットルの範囲内の容量を有することを特徴とする請求項１または２に記載の冷凍保存方法。
【請求項６】
前記柔軟な容器が、１リットルから２０リットルの範囲内の容量を有することを特徴とする請求項１または２に記載の冷凍保存方法。
【請求項７】
前記柔軟な容器が、０.５ミリリットルから５０リットルの範囲の容量を有することを特徴とする請求項１または２に記載の冷凍保存方法。
【請求項８】
前記樹枝状凍結境界面速度が、前記温度センサからのフィードバック情報に基づいて８ミリメータ／時間から１８０ミリメータ／時間の範囲内に制御されることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の冷凍保存方法。
【請求項９】
前記樹枝状凍結境界面速度が、前記温度センサからのフィードバック情報に基づいて１０ミリメータ／時間から１２５ミリメータ／時間の範囲内に制御されることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の冷凍保存方法。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの生物薬剤材料が、蛋白質溶液、蛋白質組成物、アミノ酸溶液、アミノ酸組成物、ペプチド溶液、ペプチド組成物、ＤＮＡ溶液、ＤＮＡ組成物、ＲＮＡ溶液、ＲＮＡ組成物、核酸溶液、核酸組成物、生物学的細胞懸濁液、細胞小器官と核と封入体と膜との少なくとも１つを含む生物学的細胞フラグメント懸濁液、組織フラグメント懸濁液、細胞集合体懸濁液、生物組織の溶液、臓器の溶液、胚溶液、細胞増殖培地、血清、生物製剤、血液製剤、保存溶液、発酵培地、または、細胞を含むかまたは含まない細胞培養液、及びこれらの混合物からなることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の冷凍保存方法。
【請求項１１】
前記柔軟な容器と、前記温度センサ及び前記フィードバックループを含む凍結機構とを備えた冷凍保存システムであり、
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の冷凍保存方法を行なうことを特徴とする冷凍保存システム。
【請求項１２】
少なくとも１つの生物薬剤材料を受容するようになっている生体適合性を有する柔軟な容器と、
前記少なくとも１つの生物薬剤材料の少なくとも１つ及び前記柔軟な容器に熱的に結合した凍結機構であって、前記生体適合性を有する柔軟な容器を受容して支持するような形の内部を有する低温冷却室を有し、該低温冷却室が冷凍剤を受容して該低温冷却室の内部を冷やす前記凍結機構と、
前記低温冷却室内に位置し、該低温冷却室内の温度をモニターする少なくとも１つの温度センサとを有する冷凍保存システムであり、
フィードバックループが樹枝状凍結境界面速度を制御する構成で、前記温度センサからのフィードバック情報に基づいて、前記少なくとも１つの生物薬剤材料内の樹枝状凍結境界面速度を５ミリメータ／時間から２５０ミリメータ／時間の範囲に制御することを特徴とする冷凍保存システム。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月20日(2004.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
貯蔵容器において液化圧縮ガスの温度を制御する方法において、
ａ．液化圧縮ガスを貯蔵容器に送り、
ｂ．圧縮ガス貯蔵容器の壁に温度測定手段を配置し、
ｃ．貯蔵容器に接近させて少なくとも１個の加熱手段を配置し、
ｄ．貯蔵容器内の圧縮ガスの温度を温度測定手段で監視し、そして
ｅ．加熱手段の出力を調整して貯蔵容器内の液化圧縮ガスを加熱する、
ことを含む液化圧縮ガスの温度制御法。
【請求項２】
前記液化圧縮ガスが、アンモニア、塩化水素、水素、臭素、塩素及びペルフルオルプロパンからなる群から選択される半導体処理ガスである請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記温度測定手段が熱電対である請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記加熱手段がセラミックヒーターである請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記加熱手段が加熱ジャケットである請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記加熱手段が熱媒液熱伝達装置である請求項１に記載の方法。
【請求項７】
貯蔵容器において液化圧縮ガスの蒸発を蒸気の送出中に維持する方法において、
ａ．液化圧縮高純度半導体ガスを貯蔵容器に送り、
ｂ．貯蔵容器の壁に温度測定手段を配置し、
ｃ．貯蔵容器に接近させて少なくとも１個の加熱手段を配置し、
ｄ．貯蔵容器内の圧縮ガスの温度を温度測定手段で監視し、
ｅ．貯蔵容器の出口に圧力測定手段を配置し、
ｆ．貯蔵容器内の圧縮ガスの圧力を圧力測定手段で監視し、
ｇ．貯蔵容器からガスの一部分を取り出し、そして
ｈ．加熱手段の熱出力を調整して所望の圧力を維持する、
ことを含む液化圧縮ガスの蒸発維持法。
【請求項８】
液化圧縮ガスを高流量で送出する方法において、
ａ．液化圧縮高純度半導体ガスを貯蔵容器に送り、
ｂ．圧縮ガス貯蔵容器の壁に温度測定手段を配置し、
ｃ．貯蔵容器に接近させて少なくとも１個の加熱手段を配置し、
ｄ．生じる温度を温度測定手段で監視し、
ｅ．貯蔵容器の出口に圧力測定手段を配置して容器圧を監視し、
ｆ．加熱手段の熱出力を調整して貯蔵容器内の液化圧縮ガスを加熱し、貯蔵容器内の液化圧縮ガスの蒸発を制御し、そして
ｇ．貯蔵容器からのガスの流れを制御する、
ことを含む液化圧縮ガスの高流量送出法。
【請求項９】
アンモニアを高流量で送出する方法において、
ａ．高純度液化圧縮アンモニアガスをトンコンテナに送り、
ｂ．トンコンテナの壁に熱電対を配置し、
ｃ．トンコンテナに接近させて少なくとも１個の加熱手段を配置し、
ｄ．熱電対を監視し、
ｅ．トンコンテナの出口に圧力変換器を配置して容器圧を監視し、
ｆ．トンコンテナ内の液化圧縮アンモニアの平均重量損失を監視し、
ｇ．加熱手段の出力から温度を調整してトンコンテナ内の液化アンモニアを加熱し、
ｈ．液化圧縮アンモニアを対流及び核沸騰型下に沸騰させ、
ｉ．トンコンテナ内の液化圧縮アンモニアの蒸発を対流及び核沸騰型下に制御し、そして
ｊ．トンコンテナからのアンモニアの流れを制御する、
ことを含むアンモニアの高流量送出法。
【請求項１０】
半導体処理ガスを高流量で送出するための装置において、
ａ．液化半導体処理ガスを収容する貯蔵容器、
ｂ．貯蔵容器の壁に配置される温度測定手段、
ｃ．貯蔵容器の出口に配置される圧力プローブ、
ｄ．貯蔵容器に接近させて配置された加熱手段、ここで、ヒーターの出力を調整して圧縮ガス貯蔵容器において液化圧縮半導体ガスを加熱し、且つ圧縮ガス貯蔵容器からの半導体ガスの高流量を可能にするために温度プローブ及び圧力プローブが使用されること、
ｅ．貯蔵容器から流出する半導体ガスの流れを制御するためのバルブ手段、
を含む半導体処理ガスの高流量送出装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
貯蔵容器は、ボンベ（cylinder）又はトンコンテナ（ton container）である。液化ガスは、アンモニア、塩化水素、水素、臭素、塩素又はペルフルオルプロパンであってよい。一般的には、温度測定手段は熱電対である。加熱手段は、セラミックヒーター、加熱ジャケット又は熱媒液熱伝達装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月29日(2004.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固形炭質物の燃焼方法であって、
燃焼室に置かれたストーカー火格子上に該固形炭質物を導入して、該ストーカー火格子上に固形炭質物床を形成させ、
共燃焼用固体、液体および気体燃料の少くとも一部を含んでなる熱分解剤の連続的な導入により、該ストーカー火格子上の該固形炭質物の少くとも一部を熱分解させ、
該燃焼室中へ火格子下オキシダントを導入して、熱分解産物を含んでなる一次燃焼ゾーンを形成させ、そして
該ストーカー火格子上方の該燃焼室中へ過燃焼用オキシダントを導入して、二次燃焼ゾーンの形成をもたらす
工程を含んでなる方法。
【請求項２】
固形炭質物が予熱される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
熱分解剤が、共燃焼用固体、液体および気体燃料およびオキシダントのうち少くとも一種の実質的連続燃焼からの燃焼産物を含んでなる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
共燃焼用固体、液体および気体燃料およびオキシダントのうち少くとも一種の実質的連続燃焼が、該共燃焼用固体、液体および気体燃料および該オキシダントのうち少くとも一種を固形炭質物床中へ直接的に連続導入することにより行われる、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
共燃焼用固体、液体および気体燃料およびオキシダントのうち少くとも一種の実質的連続燃焼が、ストーカー火格子の下で行われる、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
固形炭質物床が酸素欠乏ゾーンを含んでなる、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
更に、二次燃焼ゾーン上の燃焼室中へ再燃焼用燃料を導入して、還元三次燃焼ゾーンを形成させ、該還元三次燃焼ゾーンの上方へ追加の過燃焼用オキシダントを導入して、酸化四次燃焼ゾーンを形成させる、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
熱分解産物の実質的に完全な燃焼が二次燃焼ゾーンで生じる、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
燃焼室を取り囲む少くとも１つの壁；
該燃焼室の下部領域に配置された固形炭質物の床を保持するために適したストーカー火格子；
固形炭質物の該床を予熱するための予熱手段；および
固形炭質物の該床中へ熱分解剤を連続的に導入するための注入手段
を含んでなる、固形炭質物の燃焼用装置。
【請求項１０】
注入手段が、ストーカー火格子の下方に配置された少くとも一つの連続燃焼バーナーを含んでなる、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
注入手段が、バーナーにより生じる燃焼の産物が固形炭質物の床中へ直接注入されるように置かれた少くとも一つの連続燃焼バーナーを含んでなる、請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
ストーカー火格子の上方に配置されて、該ストーカー火格子の上方の燃焼室中へ過燃焼用オキシダントを注入するようにされてなり、少くとも１つの過燃焼用オキシダントインジェクターを更に含んでなる、請求項９に記載の装置。
【請求項１３】
少くとも１つの過燃焼用オキシダントインジェクターの上方に配置され、該過燃焼用オキシダント上方の燃焼室中へ再燃焼用燃料を注入するようにされてなる、少くとも１つの再燃焼用燃料インジェクターを更に含んでなる、請求項９に記載の装置。
【請求項１４】
少くとも１つの再燃焼用燃料インジェクターの上方に配置され、該再燃焼用燃料の上方に追加の過燃焼用オキシダントを注入するようにされてなる、少くとも１つの追加過燃焼用オキシダントインジェクターを更に含んでなる、請求項１３に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月6日(2004.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁界の少なくとも２つの成分を測定するための磁界センサーであって、
半導体チップの表面上に搭載され、一般に基本的に第１の面内で広がる平らな形状をして、内側端および外側端を有し、内側端が開口の境界を形成し、磁界を集中させるための強磁性コア、
前記面内の磁界の第１成分および第２成分を測定するための２つの読出しセンサーであって、前記半導体チップ内に集積化され、前記強磁性コアの外側端に近接して配置される２つの読出しセンサー、
少なくとも１巻きを有する巻線で、該巻線の一部が前記半導体チップの導体抵抗線によって形成され、該巻線の他の部分が前記半導体チップの外側を通過している励磁コイル、
前記励磁コイルと前記強磁性コアが磁界の第１成分および第２成分を切断するように前記励磁コイルに交流電流を印加するための電流源
を含む磁界センサー。
【請求項２】
前記強磁性コアはその内側端と外側端の間に設置された少なくとも１つの孔を有し、前記励磁コイルの少なくとも１つの巻線が該孔を通ることにより、前記励磁コイルを流れる電流が前記少なくとも１つの孔の領域において強磁性コアを磁気飽和させることができるが、該強磁性コアの残りの領域は磁気飽和されないことを特徴とする、請求項１に記載の磁界センサー。
【請求項３】
前記各々の読出しセンサーが前記強磁性コアの直径上の両側でかつ下側に配置される２つの水平ホール素子を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の磁界センサー。
【請求項４】
前記各々の読出しセンサーが前記強磁性コアの外側端の外側に設けられる１つの垂直ホール素子を含む請求項１または２に記載の磁界センサー。
【請求項５】
磁界の３つの成分を測定するための磁界センサーであって、前記強磁性コアの厚さは、その幅の少なくとも０．５倍である請求項１から６のいずれか一つに記載の磁界センサー。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月2日(2003.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線のような高エネルギー電磁放射線のためのコリメータ（１）において、ビーム進路（７）に配置され、上記コリメータの開口を制限する複数のＸ線光学素子（３、４）と、筒（５）とを含み、上記複数のＸ線光学素子（３、４）は、上記コリメータの入口側におけるＸ線光学素子（３）と、上記コリメータの出口側におけるＸ線光学素子（４）を有し、上記筒（５）は、上記入口側における上記Ｘ線光学素子（３）と上記出口側における上記Ｘ線光学素子（４）との間に内壁（６）を有し、
上記Ｘ線光学素子は、放射線のための少なくとも１つの通過開口が設けられるスリット又はホールダイアフラム（３、４）であり、
上記入口側における上記Ｘ線光学素子のエッジゾーン（９、１０）は、上記放射線の上記伝播方向（７）について少なくとも部分的に角度が付けられる、コリメータ（１）であって、
上記内壁（６）は、上記ダイアフラムとは異なる材料からなることを特徴とする、コリメータ。
【請求項２】
上記入口側における上記素子（３）の角度は、上記入口側における上記Ｘ線光学素子（３）の上記角度が付けられるエッジ（９）に沿ってグレージング角で進行する放射線（７ａ）が、上記出口側における上記Ｘ線光学素子（４）に直接入射しないようにされる請求項１記載のコリメータ。
【請求項３】
上記Ｘ線光学素子（３、４）は、互いから一定の距離に配置され、且つ、それぞれ角度が付けられるエッジゾーン（９、１０）が設けられることを特徴とする請求項１又は２記載のコリメータ。
【請求項４】
上記Ｘ線光学ダイアフラム（３、４）は、上記放射線をセグメントに取り囲み、
上記コリメータは、二次放射線を反射する、散乱させる、又は、生成する壁が内側に設けられることを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか一項記載のコリメータ。
【請求項５】
上記コリメータ（１）において、上記壁（６）により反射される又は散乱される放射線、又は、二次放射線を除去するために、ビーム直径を制限する更なるダイアフラムが配置されることを特徴とする請求項４記載のコリメータ。
【請求項６】
上記入口側における上記Ｘ線光学ダイアフラム（３）と上記出口側における上記Ｘ線光学ダイアフラム（４）は、同じ向きに角度が付けられることを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか一項記載のコリメータ。
【請求項７】
上記出口側における上記素子（４）の角度付けは、上記出口側における上記Ｘ線光学素子（４）の上記角度が付けられたエッジ（１０）に沿ってグレージング角で進行する放射線（７ｂ）が、上記入口側における上記Ｘ線光学素子（３）から直接発生しないようにされることを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか一項記載のコリメータ。
【請求項８】
少なくとも１つの上記Ｘ線光学素子（１０３、１０４）には、放射線用の少なくとも１つの通過開口（１０３ａ、１０４ａ）が設けられる上記コリメータであって、
上記通過開口（１０３ａ、１０４ａ）に面する上記Ｘ線光学素子（１０３、１０４）のエッジゾーン（１０９、１１０）は段階的にされ、上記放射線の伝播方向において長く、そして、大きい開口を有するゾーン（１０９）と、上記伝播方向（７）において短く、そして、小さい開口を有する後続のゾーン（１１０）を含むことを特徴とする、請求項１乃至７のうちいずれか一項記載のコリメータ。
【請求項９】
上記入口側及び上記出口側に上記ゾーン（１０９）を有する上記Ｘ線光学素子（１０３、１０４）を含む請求項８記載のコリメータ。
【請求項１０】
請求項１乃至９のうちいずれか一項記載のコリメータを含むＸ線検出器。
【請求項１１】
請求項１乃至９のうちいずれか一項記載のコリメータを含む分光計。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月15日(2003.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  既知のキー計算方法に基づいて、先立つキー計算ステップの間に計算され、以前に導出されたキー（Ｍ'i-1）から、各アップデートされた導出キー（Ｍ'1、Ｍ'i）を算出する、複数の導出キー計算ステップ（ＥＴ２）を有し、最初のアップデートされた導出キー（Ｍ'1）は、シークレットキー（Ｋ0）から取得される方法であって、
前記方法は、シークレットキー（Ｋ0）をマスクし、各アップデートされた導出計算キー（Ｍ'1、Ｍ'i）が、本方法の各実行時異なるようにするための、最初のキー計算ステップ（ＥＴ２）前に実行される唯一のマスキングステップ（ＥＴ１）を含むことを特徴とする、
入力データ（ＭＥ）とシークレットキー（Ｋ0）から出力データ（ＭＳ）を得る暗号化計算の安全化方法。
【請求項２】  前記マスキングステップ（ＥＴ１）の間に、ランダムに選択したマスキングパラメータ（Ｘ0）が、シークレットキー（Ｋ0）とミックスされ、マスクされたシークレットキー（Ｋ'0）が算出され、前記最初の導出キー（Ｍ'1）は、前記最初のキー計算ステップ（ＥＴ２）において、マスクされたシークレットキー（Ｋ0）から計算されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】  前記マスキングステップ（ＥＴ１）は、前記方法の開始ステップ（ＥＴ０、ＥＴ１）の間に実行されることを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項４】  ―アップデータされた導出キー（Ｍ'1、Ｍ'i）を使う計算ステップ（ＥＴ５）と、
―以前の計算ステップの結果からマスキングパラメータ（Ｘ0）の寄与を除去するために、計算ステップ（ＥＴ５）の後、実行するアンマスキングステップ（ＥＴ４）と、
を含む請求項２又は請求項３記載の方法。
【請求項５】  マスキングステップ（ＥＴ１）の間に、
Ｋ'0＝Ｋ0｜Ｘ0
但し、Ｋ'0は、マスクされたシークレットキーであり、
Ｋ0は、シークレットキーであり、
Ｘ0は、マスキングパラメータであり、
「｜」は、ミキシング演算子である。
の操作が実行されることを特徴とする請求項２〜４のうちの１項記載の方法。
【請求項６】  前記ミキシング演算子は、２パラメータの線形演算子であることを特徴とする請求項５記載の方法。
【請求項７】  前記ミキシング演算子は、ＸＯＲ演算子であることを特徴とする請求項５又は６記載の方法。
【請求項８】  前記アンマスキングステップ（ＥＴ4）において、ミキシング演算子の逆演算子（inverse operator）が使われることを特徴とする請求項４記載の方法。
【請求項９】  先立つ計算ステップ（ＥＴ５）の結果に基づいてマスキングパラメータ（Ｘ0）の寄与を除去するために、各アップデートされた導出キー（Ｍ'1、Ｍ'i）を使って、（仏文）各計算ステップ（ＥＴ５）の後、アンマスキングステップ（ＥＴ４）を実行する、複数の計算ステップ（ＥＴ５）を有する請求項２〜８のいずれか1項記載の方法。
【請求項１０】  各ラウンドの操作は、アップデートされた導出キー（Ｍ'1、…Ｍ'16）を使い、ＤＥＳタイプの方法の最初のラウンドより前にマスキングステップ（ＥＴ1）が実行される、Ｎラウンドの操作を有するＤＥＳタイプの方法である、請求項１〜９のいずれか1項の方法。
【請求項１１】  各操作ラウンドにおいて、
―先立つラウンドで計算された中間データと、アップデータされた導出キー（Ｍ'1、・・・Ｍ'16）を組合わせる計算ステップ（ＥＴ５）と、
―前記計算ステップの後、実行するアンマスキングステップ（ＥＴ４）、
を含む、変換Ｆが実行される請求項１０記載の方法。
【請求項１２】  請求項１から１１のいずれか１項に基づく暗号化計算の安全化方法を含むことを特徴とする電子部品。