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【手続補正書】
【提出日】平成17年3月17日(2005.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
脳腫瘍タンパク質標的（TBT）遺伝子又は遺伝子産物の活性を調整する生物学的活性薬剤を開発するための方法であって、
候補の生物学的活性薬剤を、
（a）配列番号：1、3、5、もしくは7〜16に示された配列のうちのいずれか一つによってコードされたポリペプチド；
（b）配列番号：1、3、5、もしくは7〜16に示された配列のうちのいずれか一つによってコードされたポリペプチドをコードし発現する核酸を含む細胞；又は
（c）（i）表1に示された配列のうちのいずれか一つに対応する遺伝子のノックアウト；（ii）配列番号：1、3、5、もしくは7〜16に示された配列のうちのいずれか一つを含む外因性の安定的に伝達された哺乳動物遺伝子配列のうちの一つを含む脳腫瘍遺伝子機能に関する非ヒトトランスジェニック動物モデル
のうちのいずれか一つと組み合わせること；並びに
脳腫瘍により誘導された分子及び細胞の変化に対する該薬剤の効果を決定することを含む、方法。
【請求項２】
生物学的活性薬剤が、発現を下方制御又は上方制御するものである、請求項1記載の方法。
【請求項３】
生物学的活性薬剤が、ポリペプチドの活性を阻害するか又は増加させるものである、請求項1記載の方法。
【請求項４】
表1に示された配列のうちのいずれか一つの発現の上方制御又は下方制御を決定することを含む、脳腫瘍の診断又は病期決定のための方法。
【請求項５】
脳腫瘍が星状細胞腫である、請求項4記載の方法。
【請求項６】
星状細胞腫が神経膠芽腫である、請求項5記載の方法。
【請求項７】
脳腫瘍細胞内のmRNA又はポリペプチドの量の増加又は減少を検出することを含む、請求項4記載の方法。
【請求項８】
配列番号：1、3、5、又は7〜16に示された配列を含む核酸を2個またはそれ以上含む核酸のアレイ。
【請求項９】
イメージング部分と結合している、配列番号：1、3、5、又は7〜16に示された配列によりコードされたタンパク質と特異的に結合する化合物を、有効量、患者へ投与すること；及び
化合物のイメージング部分を可視化することを含む、脳腫瘍を画像化する方法。
【請求項１０】
化合物がクモ膜下腔内投与によって投与される、請求項9の方法。
【請求項１１】
化合物が血管内投与によって投与される、請求項9の方法。
【請求項１２】
脳腫瘍が星状細胞腫である、請求項9の方法。
【請求項１３】
星状細胞腫が神経膠芽腫である、請求項12の方法。
【請求項１４】
化合物が抗体又は抗体断片である、請求項9の方法。
【請求項１５】
イメージング部分が、放射性部分、陽電子放射部分、光学的に可視の色素、光学的に可視の粒子、及び磁気スピンコントラスト部分からなる群より選択される、請求項9の方法。
【請求項１６】
1個またはそれ以上の細胞毒性部分と結合している、配列番号：1、3、5、又は7〜16に示された配列によりコードされたタンパク質と特異的に結合する化合物を、治療的な量、投与することを含む、脳腫瘍を処置する方法。
【請求項１７】
化合物がクモ膜下腔内投与によって投与される、請求項16の方法。
【請求項１８】
化合物が血管内投与によって投与される、請求項16の方法。
【請求項１９】
脳腫瘍が星状細胞腫である、請求項16の方法。
【請求項２０】
星状細胞腫が神経膠芽腫である、請求項19の方法。
【請求項２１】
化合物が抗体又は抗体断片である、請求項16の方法。
【請求項２２】
細胞毒性部分が、放射性部分、化学毒性部分、及び毒素タンパク質部分からなる群より選択される、請求項16の方法。
【請求項２３】
PTP-ζSM1又はSM2スプライスバリアントをコードする単離された核酸。
【請求項２４】
PTP-ζがヒトのものである、請求項23記載の核酸。
【請求項２５】
配列番号：3又は配列番号：5に示された核酸配列を有する、請求項23記載の核酸。
【請求項２６】
請求項23の核酸によりコードされたポリペプチド。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１５】
検出可能に標識されたTBT特異的抗体は、標的の発現を分析するため、イメージング技術と共に使用される。一つの態様において、イメージング法は、放射性核種が合成的又は局所的に患者に投与されるイメージング技術であるPET又はSPECTのうちの一つである。その後の放射性トレーサーの取り込みが経時的に測定され、標的とされた組織に関する情報を得るために使用される。使用された特定の同位体の高エネルギー（γ線）放射、並びにそれらを検出するために使用された装置の感度及び精度のため、放射能の二次元分布が体外から推量される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
PETにおいて最も一般的に使用されている陽子放射核種には、11C、13N、150、及び18Fが含まれる。SPECTにおいては、電子捕捉及び／又はγ放射により崩壊する同位体が使用されており、それには123I及び99mTcが含まれる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月12日(2005.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ．完全なまたは分割したトランスジェニック植物材料を得るステップと、
ｂ．前記トランスジェニック植物材料を脱水するステップと、
ｃ．前記脱水ステップの前又は後に、前記トランスジェニック植物材料を混合してホモジネートにするステップと
を含み、これらのステップにより異種タンパク質を発現するトランスジェニック植物の安定な乾燥ホモジネートが産生される、異種タンパク質を発現するトランスジェニック植物の安定な乾燥ホモジネートの産生方法。
【請求項２】
トランスジェニックタンパク質を含有する脱水されたトランスジェニック植物材料を含む、安定な乾燥ホモジネート。
【請求項３】
薬学的に許容可能なキャリアと混合されている、請求項２の安定な乾燥ホモジネートを含む医薬組成物。
【請求項４】
トランスジェニック植物材料の動物への投与により避妊タンパク質に対する前記動物の粘膜免疫応答が誘導され、避妊ポリペプチドをコードする核酸が植物染色体に組み込まれる、避妊ポリペプチドをコードする核酸配列を発現するトランスジェニック植物材料を含む食用トランスジェニック植物。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月2日(2004.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
以下を含む群より選択されるヌクレオチド配列を含む、単離されたヌクレオチド配列：
a）配列番号：1から配列番号：2270、
b）a）に定義される配列の少なくとも15個の連続するヌクレオチドのヌクレオチド配列、
c）a）またはb）に定義される配列と、最適アライメント後に少なくとも80％の同一性の割合を有するヌクレオチド配列、
d）a）またはb）に定義される配列と、高ストリンジェントな条件下でハイブリダイズするヌクレオチド配列、および
e）a）、b）、c）またはd）に定義される配列に対応する、相補的なヌクレオチド配列またはRNA配列。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２１】
試験される患者由来の生物学的試料を用いる、配列番号：1から配列番号：2270より選択される少なくとも1つの配列の発現解析を含む、ウイルス性疾患または腫瘍発達もしくは細胞変性を特徴とする疾患の、診断および／または予後評価のための方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２２】
以下の段階を含む、請求項21記載の診断および／または予後評価のための方法：
試験される患者由来の生物学的試料から、伝令RNAを単離する段階、
該伝令RNAからその相補的DNAを調製する段階、
選択的に、配列番号：1から配列番号：2270より選択される少なくとも1つの配列に対応する、相補的DNAの一部を増幅する段階、
増幅された可能性のある相補的DNAを検出する段階。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は第一に、以下の群より選択される核酸配列を含む、精製された核酸に関する：
a）配列番号：1から配列番号：2270；
b）a）に定義される配列の、少なくとも15個の連続するヌクレオチドからなるヌクレオチド配列；
c）a）またはb）に定義される配列と、最適アライメントの後、少なくとも80％の同一性の割合を有するヌクレオチド配列；
d）a）またはb）に定義される配列と、高ストリンジェントな条件下でハイブリダイズするヌクレオチド配列；および
e）a）、b）、c）またはd）に定義される配列に対応する、相補的なヌクレオチド配列またはRNA配列。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月15日(2005.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細胞の増殖及び／又は分裂を刺激する方法であって、
a) 配列番号1に示される配列、
b) 配列番号2に示される配列、
c) 配列番号3に示される配列、及び
d) a)〜c)の配列のいずれかと少なくとも50％同一である配列、
からなる群より選択される配列を含むポリペプチドを、動物細胞と接触させるか、又はこれに挿入することを含む、前記方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月15日(2004.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
次いで、図２のフローチャートを参照し、本発明による方法の動作について説明する。まず、ステップ５１において、当技術分野で周知の方法により、初期通信パスを確立し、適切なプロトコルに従って送信用のデータパケットストリーム２９を構成する。そして、初期通信パスを介した宛先ノード２１へのデータパケットストリーム２９の送信を開始すると、データパケットストリーム２９内の個々のデータパケットが中間ノード１３〜１９のそれぞれを連続的に通過する。この初期通信パス内の少なくとも１つの中間ノードは、後程詳述するステップ５７における優先順位キューイングによる将来発生し得るローカルな再送信のために、データパケットを蓄積するべく構成されている。初期通信パスが正常な状態で維持され、判定ブロック５９において、障害が検出されない場合には、ステップ６１において、システムは、次の送信のために待機し、ステップ５３において、提供されたデータパケットを受信する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
第２中間ノード１５と第１代替接続ノード２３間に新しい無線リンク４１が形成され、第１代替接続ノード２３と第２代替接続ノード２５間に別の新しい無線リンク４３が形成され、第２代替接続ノード２５と第４中間ノード１９間に新しい無線リンク４５が形成されることになる。そして、後程詳述するように、ステップ６５において、残りの未配信のデータパケットが宛先ノード２１に対して送信される。図２の判定ブロック６１において、送信セッションが完了していない場合には、制御がステップ５３に戻され、データパケットストリーム２９の次の部分が送信用に構成される。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月14日(2004.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固定子巻線を受け入れる溝が内周又は外周に相互に間隔を空けて提供された固定子を有する（リング）発電機を含む風力発電装置であって、前記固定子巻線が、とぎれることなく最初から最後まで連続して巻かれる装置。
【請求項２】
前記固定子（１０）が、最初から最後まで巻かれた少なくとも２相の巻線であって、好ましくは６相の巻線を有する請求項１に記載の風力発電装置。
【請求項３】
１つの位相の各々の巻線が、１つの溝内に配置される請求項１又は２に記載の風力発電装置。
【請求項４】
異なる位相の溝巻線が、隣接して配置される請求項１から３のいずれかに記載の風力発電装置。
【請求項５】
１つの位相の巻線が、少なくとも１つの導体束を有し、好ましくは、少なくとも２つの導体束を有し、１つの導体束が、相互に絶縁された複数の導体を備える請求項１から４のいずれかに記載の風力発電装置。
【請求項６】
少なくとも２つの導体束が、１つの溝において、相互に重ね合わせられて配置される請求項５に記載の風力発電装置。
【請求項７】
複数の導体束が配置される溝において、上部及び下部の導体束の位置が、所定の順序に入れ替えられる請求項６に記載の風力発電装置。
【請求項８】
好ましくは、同じ位相に対応する２つの旋回が、各々の溝に挿入される請求項１から７のいずれかに記載の風力発電装置。
【請求項９】
固定子巻線を受け入れる溝が内周又は外周に相互に間隔を空けて提供された同期機の固定子の製造装置であって、
前記固定子巻線が、とぎれることなく最初から最後まで連続して巻かれ、
前記固定子が、その周囲に存在し、かつ立った状態で保持される前記固定子の取り付け装置によって特徴付けられる製造装置。
【請求項１０】
前記取り付け装置において前記固定子を周囲方向に回転させる少なくとも１つの駆動部によって特徴付けられる請求項９に記載の製造装置。
【請求項１１】
前記取り付け装置と分離された、巻線を有する少なくとも１つのドラムを保持する運搬装置によって特徴付けられる請求項９又は１０に記載の製造装置。
【請求項１２】
複数のドラムの対形式の配置によって特徴付けられ、前記ドラムの対が、概念上の円上に均一に間隔を空けて配置される請求項１１に記載の製造装置。
【請求項１３】
前記固定子の各々の側に配置された運搬装置によって特徴付けられる請求項９から１２のいずれかに記載の製造装置。
【請求項１４】
固定子に巻かれる位相の数に等しい数の対のドラムによって特徴付けられる請求項９から１３のいずれかに記載の製造装置。
【請求項１５】
運搬装置の各々が、前記ドラムのそれぞれ半分を運搬する請求項１４に記載の製造装置。
【請求項１６】
実質的に垂直に配置される運搬プレートと、前記運搬プレートの中心から外側に存在する、前記ドラムを受け入れる運搬アームによって特徴付けられる請求項９から１５のいずれかに記載の製造装置。
【請求項１７】
前記運搬プレートの回転可能な取り付け装置によって特徴付けられる請求項１６に記載の製造装置。
【請求項１８】
前記運搬プレートを周囲方向に回転する駆動部によって特徴付けられる請求項１７に記載の製造装置。
【請求項１９】
前記ドラムが、前記運搬アーム（３４）の実質的に水平に存在する部分に取り付けられ、前記水平に存在する部分が、その長さ軸の周りに回転可能に適用されることを特徴とする請求項１６から１８のいずれかに記載の製造装置。
【請求項２０】
固定子巻線を受け入れる溝が内周及び外周に相互に間隔を空けて提供された固定子を有する同期機であって、
前記固定子巻線が、とぎれることなく最初から最後まで連続して巻かれ、
前記固定子巻線が、少なくとも２相であり、好ましくは、６相であり、異なる位相の巻線が、隣接する溝に配置され、各々の巻線が、複数の導体を有する少なくとも１つの導体束を有し、各々の巻線が、固定子の周囲の溝内で、互いに入れ替え可能に配列される２つの導体束を有する同期機。
【請求項２１】
請求項１から請求項８のいずれかに記載の風力発電装置のリング発電機であって、
前記固定子が、前記風力発電装置の機械運搬装置に固定され、
前記リング発電機の回転子が前記風力発電装置の回転子に結合されるリング発電機。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月13日(2004.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポンピング光（３）を端面で固体（２）へ入力結合させ、反射により分散させる
スタブ状またはスラブ状のレーザー活性固体（２）の光ポンピング装置（１；２０；３０）において、
固体（２）はリング状空隙（６）に設けられたリフレクタ（５；２１）によって包囲されており、
固体（２）の套面（７）を通過するポンピング光（１０；３２）が套面（７）および／またはリフレクタ（５）で反射され、拡散しながら戻って固体（２）へ入射する
ことを特徴とするレーザー活性固体の光ポンピング装置。
【請求項２】
套面（７）は通過するポンピング光（８）を拡散させる表面特性を有する、請求項１記載の装置。
【請求項３】
リフレクタ（５）はポンピング光（１０）を拡散反射する、請求項１または２記載の装置。
【請求項４】
リフレクタ（２１）はポンピング光（１０）を鏡面反射する、請求項１または２記載の装置。
【請求項５】
套面（７）の外側に固体（２）よりも屈折率の高い媒体が設けられている、請求項１記載の装置。
【請求項６】
媒体は套面（７）の外側に層（３１）として設けられている、請求項５記載の装置。
【請求項７】
リフレクタ（５）はポンピング光（１０）を拡散反射する、請求項５または６記載の装置。
【請求項８】
リング状空隙（６）には冷却媒体、例えば水が貫流している、請求項１から７までのいずれか１項記載の装置。
【請求項９】
端面で入力結合したポンピング光（８）のうち少なくとも３％、有利には少なくとも２０％、特に有利には少なくとも４０％が固体（２）内で拡散される、請求項１から８までのいずれか１項記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月18日(2004.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射ピークの櫛を生成するように設けられた分布ブラッグ反射鏡形態の第１の反射鏡によって一方の端部における境界が画定されかつ第２のブラッグ反射鏡によって他方の端部における境界が画定された増幅セクションを有し、前記第２のブラッグ反射鏡は、複数の波長で反射するように設けられ、前記第２のブラッグ反射鏡の個別の複数のセグメントが選択的に調整可能とされることで、前記第２のブラッグ反射鏡の一つもしくは複数のセグメントが、より低い一つの波長にチューニング可能とされており、これにより、前記第２のブラッグ反射鏡の当該より低い波長で反射するセグメントによって反射が生じて、当該より低い波長における反射率が高まるように構成され、前記第２の反射鏡がチューニングされる前記より低い波長が、前記第１の反射鏡のピークに概ね合致することで、当該より低い波長で当該レーザをレーザ発振させるように構成されているチューナブルレーザ。
【請求項２】
請求項１に記載のチューナブルレーザにおいて、
前記第２の反射鏡は、屈折率が変更可能な材料で形成され、前記材料の屈折率を変更することによって、前記反射される波長のチューニングが行われるように設けられていることを特徴とするチューナブルレーザ。
【請求項３】
請求項２に記載のチューナブルレーザにおいて、
前記屈折率は、前記第２の反射鏡が形成されている前記材料に電流を通すことによって変更されるように設けられていることを特徴とするチューナブルレーザ。
【請求項４】
請求項３に記載のチューナブルレーザにおいて、
前記第２のブラッグ反射鏡は、チャープ回折格子とされ、かつ内部に電流が流れることに対応して変更可能な屈折率を持つ材料で形成され、複数の外部電極が前記回折格子の長さに沿って設けられ、各電極には、選択的に電源が接続可能とされていることを特徴とするチューナブルレーザ。
【請求項５】
請求項４に記載のチューナブルレーザにおいて、
前記チャープブラッグ反射鏡は、前記増幅セクションに最も近いところでピッチが最も短くなるようにして自身に沿ってピッチが累加する線形チャープを備えていることを特徴とするチューナブルレーザ。
【請求項６】
請求項４または請求項５に記載のチューナブルレーザにおいて、
前記チャープブラッグ反射鏡は、それぞれが前記チャープ回折格子全体の一部を構成している複数のチャープ・セグメントに分割され、全てのチャープ・セグメントが連結されていることを特徴とするチューナブルレーザ。
【請求項７】
請求項３に記載のチューナブルレーザにおいて、
前記第２のブラッグ反射鏡は、複数の別々の回折格子セグメントを備え、これらの回折格子セグメントの少なくとも２つは、異なるピッチを有し、このとき、より長いピッチを持つ少なくとも一つの回折格子に電流を付与することが可能で、これにより、当該より長いピッチを持つ回折格子の実効波長を、より短いピッチを持つ前記回折格子の波長に同調させることができるように構成されていることを特徴とするチューナブルレーザ。
【請求項８】
請求項３に記載のチューナブルレーザにおいて、
前記第２のブラッグ反射鏡は、複数の別々の回折格子セグメントを備え、各回折格子セグメントは、異なるピッチを有し、これにより、前記増幅セクションに最も近い前記回折格子セグメントが最も短いピッチを有して、前記増幅セクションから順番に連なる回折格子セグメントそれぞれのピッチが直前のセグメントのピッチよりも大きくなるように設けられていることを特徴とするチューナブルレーザ。
【請求項９】
請求項８に記載のチューナブルレーザにおいて、
各回折格子セグメントは、独立に作動可能な電極を有していることを特徴とするチューナブルレーザ。
【請求項１０】
請求項３から請求項９のいずれか１項に記載のチューナブルレーザにおいて、
前記電極への電流を入れたり切ったりするためのスイッチング回路が設けられていることを特徴とするチューナブルレーザ。
【請求項１１】
請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載のチューナブルレーザにおいて、
半導体材料を用いて製造されていることを特徴とするチューナブルレーザ。
【請求項１２】
請求項１１に記載のチューナブルレーザにおいて、
III-V属半導体材料を用いて製造されていることを特徴とするチューナブルレーザ。
【請求項１３】
請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載のチューナブルレーザにおいて、
電子ビーム描写技術を用いて製造されていることを特徴とするチューナブルレーザ。
【請求項１４】
請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載のチューナブルレーザにおいて、
ホログラフィ位相回折格子プレートを用いて製造されていることを特徴とするチューナブルレーザ。
【請求項１５】
請求項１から請求項１４のいずれか１項に記載のチューナブルレーザにおいて、
前記ブラッグ・セグメントは、前記第２の反射鏡内では、明細書に定義の如くそれぞれ短く維持され、これにより、前記ブラッグ回折格子に関連する累加する導波路長さが最小化されて、導波路による損失が低く保たれるように設けられていることを特徴とするチューナブルレーザ。
【請求項１６】
請求項１から請求項１５のいずれか１項に記載のチューナブルレーザにおいて、
前記第１の反射鏡を形成する前記分布ブラッグ反射鏡は、位相シフトブラッグ回折格子反射鏡とされていることを特徴とするチューナブルレーザ。
【請求項１７】
請求項１６に記載のチューナブルレーザにおいて、
前記第１の反射鏡は、明細書に定義の如く長く設けられていることを特徴とするチューナブルレーザ。
【請求項１８】
請求項１から請求項１７のいずれか１項に記載のチューナブルレーザにおいて、
前記第２の反射鏡を通して光が放出されるように設けられていることを特徴とするチューナブルレーザ。
【請求項１９】
請求項１から請求項１８のいずれか１項に記載のチューナブルレーザにおいて、
前記増幅セクションと、前記反射鏡のいずれか一方もしくは双方との間に、位相変化セクションが設けられていることを特徴とするチューナブルレーザ。
【請求項２０】
請求項１９に記載のチューナブルレーザにおいて、
前記位相変化セクションは、前記増幅セクションと、前記第１ないし前記第２の反射鏡との間に配置されていることを特徴とするチューナブルレーザ。
【請求項２１】
請求項２０に記載のチューナブルレーザにおいて、
前記位相変化セクションは、位相を変化させるために、該位相変化セクションの材料の屈折率を変化させるよう、該位相変化セクションを通して電流を流せるようにするための電極を有していることを特徴とするチューナブルレーザ。
【請求項２２】
概ね、明細書に記載されたような、添付の図面に示されたようなチューナブルレーザ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月29日(2004.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
相対的な屈折率パーセントおよび外側半径を有し、略１３００重量ｐｐｍ乃至略３６００重量ｐｐｍの範囲にあるＥｒ2Ｏ3と略６．０重量％乃至略１０．０重量％の範囲にあるＡｌ2Ｏ3と略９．０重量％乃至略２０．０重量％の範囲にあるＧｅＯ2とを少なくとも１部に含むコア領域と、
前記コア領域を囲繞しかつ相対的な屈折率パーセントと外側半径とを有する内側クラッドと、
前記内側クラッドを囲繞しかつ相対的な屈折率パーセントを有する外側クラッドと、を含み、
前記コア領域、前記内側クラッド及び前記外側クラッドの相対的な屈折率と半径が選択され、
前記コアのセグメントの相対的な屈折率パーセントが略０．５％乃至略２．０％の範囲にあり、
前記内側クラッドの相対的な屈折率パーセントが略０．０％乃至略０．４％の範囲にあり、
前記コアの領域の外側半径が略０．７μｍ乃至略１．６μｍの範囲にあり、
前記内側クラッドの外側半径が略４．３μｍ乃至略１８．８μｍの範囲にある、ことを特徴とする光導波ファイバ。
【請求項２】
前記コア領域におけるＥｒ2Ｏ3の量が略１９５０重量ｐｐｍ乃至略３１００重量ｐｐｍの範囲にあることを特徴とする請求項１記載のファイバ。
【請求項３】
前記コア領域におけるＡｌ2Ｏ3の量が略６．５重量％乃至略９．５重量％の範囲にあることを特徴とする請求項１記載のファイバ
【請求項４】
前記コア領域におけるＧｅＯ2の量が略９．０重量％乃至略１６．０重量％の範囲にあることを特徴とする請求項１記載のファイバ。
【請求項５】
前記コア領域、前記内側クラッドおよび前記外側クラッドの相対的な屈折率パーセントならびに半径と、前記コア領域におけるＥｒ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3およびＧｅＯ2の量と、が１５５０ｎｍの波長において５．２μｍ以上のモードフィールド径を提供するように選択されることを特徴とする請求項１記載のファイバ。
【請求項６】
前記コア領域、前記内側クラッドおよび前記外側クラッドの相対的な屈折率パーセントならびに半径と、前記コア領域におけるＥｒ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3およびＧｅＯ2の量と、が略１４５０ｎｍ乃至略１６２０ｎｍの間の波長帯域において略３６ｄＢ／ｍ以下のピーク吸収値を提供するように選択されることを特徴とする請求項１記載のファイバ。
【請求項７】
前記コア領域、前記内側クラッドおよび前記外側クラッドの相対的な屈折率パーセントならびに半径と、前記コア領域におけるＥｒ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3およびＧｅＯ2の量と、が１４８０ｎｍの波長において略２．５％以下の吸収に対する全バックグラウンド損失を提供するように選択されることを特徴とする請求項１記載のファイバ。
【請求項８】
前記コア領域、前記内側クラッドおよび前記外側クラッドの相対的な屈折率パーセントならびに半径と、前記コア領域におけるドーパントの量と、が略１４００ｎｍ以下のカットオフ波長を提供するように選択されることを特徴とする請求項１記載のファイバ。
【請求項９】
光学信号を伝送するのに適した送信機と、
前記送信機を有する光通信における光導波伝送ファイバと、
前記光導波伝送ファイバを有する光通信の請求項１の光導波ファイバと、
前記光導波ファイバ増幅器を有する光通信においてかつこれにポンプ放射を供給するのに適した少なくとも１つのポンプと、
前記光信号を受信するのに適した受信機と、を含むことを特徴とする光ファイバ通信システム。
【請求項１０】
略１３００重量ｐｐｍ乃至略３６００重量ｐｐｍの範囲にあるＥｒ2Ｏ3と略６．０重量％乃至略１０．０重量％の範囲にあるＡｌ2Ｏ3と略９．０重量％乃至略２０．０重量％の範囲にあるＧｅＯ2とを少なくとも１部に含みかつ屈折率プロファイルを有するコア領域と、
前記コア領域を囲繞して屈折率プロファイルを有する内側クラッドと、
前記内側クラッドを囲繞して屈折率プロファイルを有する外側クラッドと、を含み、
前記コア領域内におけるＥｒ2Ｏ3，Ａｌ2Ｏ3およびＧｅＯ2の量と、前記コア領域、前記内側クラッドおよび前記外側クラッドの屈折率プロファイルと、が１５５０ｎｍの波長において略５．２μｍ以上のモードフィールド径を提供するように選択される、ことを特徴とする光導波ファイバ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月22日(2004.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
埋め込み型医療デバイスであって、
ハウジングと、
該ハウジング内に取り付けられた半導体基板と、
該基板に形成された複数の受動部品と、
該基板に形成された複数の能動部品と、
作動的埋め込み型医療デバイスの機能を実行する回路を備える、該基板に取り付けられた集積回路と、
該基板に形成され、該能動部品、該受動部品及び該集積回路間に配線された複数の相互接続体とを備える、埋め込み型医療デバイス。
【請求項２】
請求項１の埋め込み型医療デバイスにおいて、該複数の能動部品が少なくとも１つの高電力部品を含む、埋め込み型医療デバイス。
【請求項３】
請求項１の埋め込み型医療デバイスにおいて、該複数の能動部品が少なくとも１つの出力トランジスタを含む、埋め込み型医療デバイス。
【請求項４】
請求項１の埋め込み型医療デバイスにおいて、該集積回路の該回路がペーシング機能（ｐａｃｉｎｇ  ｆｕｎｃｔｉｏｎ）を実行する、埋め込み型医療デバイス。
【請求項５】
請求項１の埋め込み型医療デバイスにおいて、該複数の能動部品が少なくとも１つのサージ保護デバイスを含む、埋め込み型医療デバイス。
【請求項６】
請求項１の埋め込み型医療デバイスにおいて、該複数の受動部品がコンデンサ及び抵抗器を含む、埋め込み型医療デバイス。
【請求項７】
請求項１の埋め込み型医療デバイスにおいて、該複数の能動部品及び該複数の受動部品が高電圧デバイスを備える、埋め込み型医療デバイス。
【請求項８】
請求項１の埋め込み型医療デバイスにおいて、該複数の能動部品及び該複数の受動部品が高電力デバイスを備える、埋め込み型医療デバイス。
【請求項９】
請求項１の埋め込み型医療デバイスにおいて、該集積回路が低電圧回路を備える、埋め込み型医療デバイス。
【請求項１０】
請求項１の埋め込み型医療デバイスにおいて、該複数の能動部品が少なくとも１つのサージ保護デバイスを含む、埋め込み型医療デバイス。
【請求項１１】
請求項１の埋め込み型医療デバイスにおいて、複数の高電力部品が該受動部品とは異なった幾何学的形状（ｇｅｏｍｅｔｒｙ）を含む、埋め込み型医療デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成14年7月1日(2002.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハレベルで形成される集積回路パッケージであって、
或る面積を有しかつ複数のボンディングパッドが第１の表面上に配置されたシリコンダイと、
前記ダイの前記第１の表面の大部分を覆う接着層とを含み、前記複数のボンディングパッドは露出したままであり、前記集積回路パッケージはさらに
前記接着層上に配置されかつ複数のメタライズされた開口部を含む中間基板を含み、前記メタライズされた開口部は複数のメタライズされたバイアを形成し、前記バイアは前記ダイの前記複数のボンディングパッドと整列させられ、前記中間基板は前記複数のメタライズされたバイアを相互接続するための複数の金属回路トレースをさらに含み、前記回路トレースは前記基板内で凹んでおり、前記集積回路パッケージはさらに
前記中間基板の前記複数のメタライズされたバイアと前記ダイ上の前記複数のボンディングパッドとを電気的に接続する手段と、
前記中間基板の前記複数のメタライズされた開口部上に形成され、前記凹んだ金属トレースへの接続を形成するための複数のＩ／Ｏ配線とを含む、集積回路パッケージ。
【請求項２】
前記複数のＩ／Ｏ配線は前記中間基板上に形成されたはんだボールである、請求項１に記載の集積回路パッケージ。
【請求項３】
前記複数のメタライズされた開口部と前記複数のボンディングパッドとを電気的に接続する手段ははんだである、請求項１に記載の集積回路パッケージ。
【請求項４】
前記複数のメタライズされた開口部と前記複数のボンディングパッドとを電気的に接続する手段は導電性接着剤である、請求項１に記載の集積回路パッケージ。
【請求項５】
前記中間基板は前記ダイの前記面積と同じサイズの面積を有する、請求項１に記載の集積回路パッケージ。
【請求項６】
ウェハレベルで集積回路チップパッケージを形成する方法であって、
複数のボンディングパッドがシリコンウェハの第１の表面上に配された、前記シリコンウェハを提供するステップと、
前記複数のボンディングパッドを再びメタライズするステップと、
前記ウェハの前記第１の表面上に接着材料の層を堆積形成するステップとを含み、前記複数のボンディングパッドは露出したままであり、前記方法はさらに
誘電材料と複数のメタライズされたトレースとからなる中間基板を前記接着材料の層に固定することによりウェハアセンブリを形成するステップを含み、前記中間基板は前記複数のボンディングパッドに整列させられた複数のメタライズされたバイアを形成する複数のメタライズされた開口部を含み、前記方法はさらに
前記複数のメタライズされたバイアと前記複数のボンディングパッドとの間に電気的接続を形成するステップと、
複数のＩ／Ｏ配線を前記中間基板の前記表面上の前記複数のメタライズされた開口部に付着させるステップと、
前記ウェハアセンブリを複数の個々の集積回路チップパッケージへとダイシングするステップとを含む、方法。
【請求項７】
前記中間基板を前記接着材料の層に固定する前記ステップは、前記ウェハアセンブリを硬化させるステップをさらに含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記複数のＩ／Ｏ配線は複数のはんだボールである、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記複数のＩ／Ｏ配線を前記複数のメタライズされた開口部に付着させる前記ステップは、
前記複数のはんだボールを前記複数のメタライズされた開口部に置くステップと、
前記複数のはんだボールをリフローして複数の配線を形成するステップとを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記複数のボンディングパッドを再びメタライズさせる前記ステップは、
亜鉛の層を前記ボンディングパッドの各々の上に堆積形成するステップと、
無電解ニッケルめっきの層を前記ボンディングパッドの各々の上にある前記亜鉛の層の上に堆積形成するステップと、
無電解金めっきの層を前記ボンディングパッドの各々の上にある前記無電解ニッケルめっきの層の上に堆積形成するステップとを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
前記接着材料の層を前記ウェハの前記第１の表面上に堆積形成する前記ステップは、スクリーン印刷処理によって実行される、請求項６に記載の方法。
【請求項１２】
前記接着材料の層はシリコーンエラストマからなる、請求項６に記載の方法。
【請求項１３】
前記複数のメタライズされた開口部と前記複数のボンディングパッドとの間に電気的接続を形成する前記ステップは、
はんだの層を前記メタライズされた開口部上に堆積形成するステップと、
前記はんだの層をリフローして電気的接続を形成するステップとを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項１４】
前記複数のメタライズされた開口部と前記複数のボンディングパッドとの間に電気的接続を形成する前記ステップは、
導電性接着剤の層を前記メタライズされた開口部上に堆積形成するステップと、
前記導電性接着剤の層を硬化させて電気的接続を形成する、請求項６に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月16日(2004.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記ユーザー・エンド・システム（１０）が、セキュリティ端末（１４）を更に備え、該端末（１４）が、前記トランザクション媒体（２）の識別子（ＫＭ）を送信したときから、前記対価を請求するためのデータ交換が開始されるまでの時間を監視することを特徴とする請求項１記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
ユーザー・エンド・システムとデータ交換を行うためのトランザクション・モジュール、サービス・プロバイダーとの間にデータ・リンクをセットアップするためのルータ・モジュール、および対価支払モジュールを備え、データ・ネットワークを介してサービスを取得する方法を実行する決済センターであって、前記方法の第１フェーズにおいて、前記トランザクション・モジュール（３２）が、ユーザー・エンド・システム（１０）の識別子（ＫＭ）を取得し、ユーザー・エンド・システム（１０）を介して要求された前記サービス・プロバイダー（４０）のサービスにリンクし、前記方法の第２フェーズにおいて、対価支払モジュール（３４）が、前記識別子（ＫＭ）を用いて、前記サービスの取得に必要なトランザクション媒体（２）の対価をユーザー・エンド・システム（１０）に要求することを特徴とする決済センター。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成16年8月23日(2004.8.23)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１】  嫌気性接着剤組成物であって、その反応生成物によって、前記組成物の酸化による硬化に関与する酸化性元素に対する初期室温トルク強度が改善され、
a）少なくとも1種の嫌気的に硬化可能な（メタ）アクリレートモノマー; 及び
b）（i）少なくとも1種のフリーラジカル生成材料; 
（ii）（i）と（ii）のそれぞれが実質的に同量で存在している、前記フリーラジカル生成材料の酸性還元剤; 及び
（iii）前記フリーラジカル生成材料の還元用促進剤
を含み、約5分以内に24時間硬化トルク強度の約30％以上を得るのに十分な量で存在している、前記（メタ）アクリレートモノマーの硬化系
を含み、マレイン酸を全組成物の0.1〜1重量％の量で含まない、前記組成物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１１】  嫌気性接着剤組成物であって、その反応生成物によって、前記組成物の酸化による硬化に関与する酸化性元素に対する初期室温トルク強度が改善され、
a）少なくとも1種の嫌気的に硬化可能な（メタ）アクリレートモノマー; 及び
b）実質的に
（i）少なくとも1種のフリーラジカル生成材料; 
（ii）（i）と（ii）のそれぞれが実質的に同量で存在している、前記フリーラジカル生成材料の酸性還元剤; 及び
（iii）前記フリーラジカル生成材料の還元用促進剤
からなり、約5分以内に24時間硬化トルク強度の約30％以上を得るのに十分な量で存在している、前記（メタ）アクリレートモノマーの硬化系
を含み、マレイン酸を全組成物の0.1〜1重量％の量で含まない、前記組成物。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１３】  約5分以内に24時間硬化強度の約30％以上の、酸化による硬化に関与する酸化性元素に対する初期室温トルク強度に達する嫌気性接着剤組成物の調製方法であって、
（i）少なくとも1種の嫌気的に硬化可能なアルキル（メタ）アクリレートモノマー; 
（ii）少なくとも1種のフリーラジカル生成材料; 
（iii）（i）と（ii）のそれぞれが実質的に同量で存在している、前記フリーラジカル生成材料の酸性還元剤; 及び
（iv）前記フリーラジカル生成材料の還元用促進剤
を混合物として合わせる工程を含み、前記嫌気性接着剤組成物がマレイン酸を全組成物の0.1〜1.0重量％の量で含まない、前記方法。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１４】  基質を結合する方法であって、
（i）少なくとも1種のフリーラジカル生成材料; 
（ii）（i）と（ii）のそれぞれが実質的に同量で存在している、前記フリーラジカル生成材料の酸性還元剤; 及び
（iii）前記フリーラジカル生成材料の還元用促進剤
を含んでいる硬化系を含む嫌気性接着剤組成物を酸化による嫌気的硬化に関与することが可能な係合部間に適用する工程; 及び
前記嫌気性接着剤組成物を硬化させる工程
を含み、前記硬化系が約5分以内に24時間硬化トルク強度の約30％以上を得るのに十分な量で存在し、前記嫌気性接着剤組成物がマレイン酸を全組成物の0.1〜1重量％の量で含まない、前記方法。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
発明の要約
本発明は、嫌気性接着剤組成物であって、その反応生成物により、該組成物の酸化による硬化に関与する酸化性元素に対して初期室温トルク強度が改善された、前記組成物を提供する。本発明の組成物は、
a）少なくとも1種の嫌気的に硬化可能な（メタ）アクリレートモノマー; 及び
b）（i）少なくとも1種のフリーラジカル生成材料; 
（ii）（i）と（ii）のそれぞれが実質的に同量で存在している、前記フリーラジカル生成材料の酸性還元剤; 及び
（iii）前記フリーラジカル生成材料の還元用促進剤
を含む該（メタ）アクリレートモノマーの硬化系
を含んでいる。
該硬化系は、約5分以内に24時間硬化強度の約30％以上を得るのに十分な量で存在している。本発明の組成物は、マレイン酸を全組成物の0.1重量％〜1重量％の量で含まない。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
本発明の態様では、更に、次の成分: 
a）全組成物の60重量％未満の量で存在する少なくとも1種の嫌気的に硬化可能なアルキル（メタ）アクリレートモノマー; 及び
b）（i）少なくとも1種のフリーラジカル生成材料; 
（ii）（i）と（ii）のそれぞれが実質的に同量で存在している、前記フリーラジカル生成材料の酸性還元剤; 及び
（iii）前記フリーラジカル生成材料の還元用促進剤
からなり、約5分以内に24時間硬化トルク強度の約30％以上を得るのに十分な量で存在している、前記（メタ）アクリレートモノマーの硬化系
を含んでいる嫌気性接着剤組成物が提供される。
本発明の態様においては、更に、
（i）少なくとも1種の嫌気的に硬化可能なアルキル（メタ）アクリレートモノマー; 
（ii）少なくとも1種のフリーラジカル生成材料; 
（iii）（i）と（ii）のそれぞれが実質的に同量で存在している、前記フリーラジカル生成材料の酸性還元剤; 及び
（iv）前記フリーラジカル生成材料の還元用促進剤
を混合物として合わせる工程を含み、前記嫌気性組成物がマレイン酸を全組成物の0.1〜1.0重量％の量で含まない、基質を結合する方法が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月27日(2004.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記を含む、環境温度で硬化するコーティング組成物、
下記式を有するポリシロキサン：
【化１】
2003519712.tif 000001
ここで、各Ｒ１は、６個までの炭素原子を有するアルキル、アリールおよびアルコキシ基、反応性グリシドキシ基、ならびにＯＳｉ（ＯＲ３）3基から成る群から選択され、各Ｒ３は独立して、Ｒ１と同じ意味を有し、各Ｒ２は水素ならびに６個までの炭素原子を有するアルキルおよびアリール基から成る群から選択され、ｎは、ポリシロキサンの分子量が５００〜約２，０００の範囲であるように選択される；
反応性希釈剤の存在下での重合によって得られるグリシジル官能性アクリルポリマー；および
硬化剤。
【請求項２】
下記を含み、かつ７０重量％より多い固形分含量を有する、環境温度で硬化するコーティング組成物、
下記式を有するポリシロキサン：
【化２】
2003519712.tif 000002
ここで、各Ｒ１は、６個までの炭素原子を有するアルキル、アリールおよびアルコキシ基、反応性グリシドキシ基、ならびにＯＳｉ（ＯＲ３）3基から成る群から選択され、各Ｒ３は独立して、Ｒ１と同じ意味を有し、各Ｒ２は水素ならびに６個までの炭素原子を有するアルキルおよびアリール基から成る群から選択され、ｎは、ポリシロキサンの分子量が５００〜約２，０００の範囲であるように選択される；
グリシジル官能性アクリルポリマー；および
硬化剤。
【請求項３】
グリシジル官能性アクリルポリマーが、反応性希釈剤の存在下での重合によって得られることを特徴とする、請求項２記載のコーティング組成物。
【請求項４】
グリシジル官能性アクリルポリマーが、該ポリシロキサン中での重合によって得られることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項記載のコーティング組成物。
【請求項５】
ポリシロキサンがアルコキシシリル官能性ポリシロキサンであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項記載のコーティング組成物。
【請求項６】
グリシジル官能性アクリルポリマーが、グリシジルメタクリレートおよびブチルアクリレートを含む混合物を重合することにより得られることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項記載のコーティング組成物。
【請求項７】
混合物がメチルメタクリレートをさらに含むことを特徴とする、請求項６記載のコーティング組成物。
【請求項８】
混合物が、１５〜７５重量％のグリシジルメタクリレート、０〜６０重量％のメチルメタクリレートおよび３０〜８５重量％のブチルアクリレートを含むことを特徴とする、請求項７記載のコーティング組成物。
【請求項９】
組成物が、４５〜７５重量％のポリシロキサン、２０〜４５重量％のグリシジル官能性アクリルポリマー、および４〜１１重量％の硬化剤を含み、ここで、重量％はコーティング組成物の重量に基づいて計算される、請求項１〜８のいずれか１項記載のコーティング組成物。
【請求項１０】
組成物が、６０〜７０重量％のポリシロキサン、２０〜３０重量％のグリシジル官能性アクリルポリマー、および７〜１１重量％の硬化剤を含み、ここで、重量％はコーティング組成物の重量に基づいて計算される、請求項９記載のコーティング組成物。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項記載のコーティング組成物を保護コーティングとして使用する方法。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれか１項記載のコーティング組成物を、船、橋、建築物、工業プラント、油田掘削装置およびその他の大きい構築物の環境温度でのコーティングに使用する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月10日(2004.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  式
【化１】
2003519141.tif 000001
で示される化合物又はその製薬学的に許容され得る塩もしくは水和物。
【請求項２】  式
【化２】
2003519141.tif 000002
を有する請求項１に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩もしくは水和物。
【請求項３】  請求項１又は２に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩もしくは水和物を有効成分として含有することを特徴とする医薬。
【請求項４】抗凝固薬である請求項３に記載の医薬。
【請求項５】  式
【化３】
2003519141.tif 000003
で示される化合物をカルボニルジイミダゾールと反応させることを特徴とする式
【化４】
2003519141.tif 000004
で示される化合物の製造方法。
【請求項６】  式
【化５】
2003519141.tif 000005
で示される化合物を式
【化６】
2003519141.tif 000006
で示される化合物と反応させることを特徴とする式
【化７】
2003519141.tif 000007
で示される化合物の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月24日(2005.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  積層ビームを製造する方法であって、
複数の薄板が圧力下で互いに接着されることにより組み付けられ、
組み付けられる多数の薄板を設けるステップと、
各薄板の少なくとも１つの面に接着剤を塗布するステップと、
前記薄板を望ましい構造に組み立てるステップと、
組み立てられた薄板に、プレスにおいて圧力を加えるステップとを含み、
接着剤を塗布する薄板上の特定の点にて塗布される接着剤の少なくとも１つの成分の量を、接着剤が塗布される前記点がプレスにおいて圧力を加えられる前に経過する待ち時間の関数になるように制御することを特徴とする方法。
【請求項２】  接着剤が多成分接着剤であり、接着剤の１つの成分が硬化剤であり、前記接着剤成分の１つの成分の量が、硬化剤とその他の成分との比率が待ち時間の関数になるように制御される請求項１に記載の方法。
【請求項３】  接着剤が、硬化剤および接着成分を含む２成分接着剤であり、接着成分に対する硬化剤の比率が、待ち時間がより長ければより小さくなるように制御される請求項２に記載の方法。
【請求項４】  接着剤が１成分接着剤であり、接着剤の量が、増大する待ち時間の関数として増大される請求項１に記載の方法。
【請求項５】  各薄板に塗布される接着剤の量が、前記薄板の面にわたって一定であるが薄板間では異なる請求項４に記載の方法。
【請求項６】  一連の薄板における第１の薄板が、第１薄板より後の薄板よりも少ない量の接着剤を塗布される請求項４に記載の方法。
【請求項７】  各薄板に塗布される接着剤の量が前記薄板の面にわたって変化する請求項４に記載の方法。
【請求項８】  塗布される接着剤の量が、接着剤塗布中の薄板の移動速度を制御することにより制御される請求項４〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】  塗布される接着剤の量が、各薄板の面への接着剤の塗布速度を制御することにより制御される請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  移動の速度が１つの薄板と別の薄板とで異なる請求項８または９に記載の方法。
【請求項１１】  移動の速度が各薄板への接着剤塗布中に変化する請求項８または９に記載の方法。
【請求項１２】  移動の速度が段階的にまたは連続的に変化する請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  塗布速度が段階的にまたは連続的に変化する請求項９に記載の方法。
【請求項１４】  積層ビームを製造するための装置であって、
複数の薄板が圧力下で互いに接着されることにより組み付けられ、
薄板フィーダ（６；１６）と、
接着剤塗布器（１０）と、
スタッキングユニット（１２）と、
制御ユニット（１５）と、
プレス（１７）とを含み、
制御ユニット（１５）が、接着剤塗布器（１０）および／または薄板フィーダ（６；１６）が最適な接着剤塗布量をもたらすように制御シーケンスが実行されるようにプログラム可能であることを特徴とする装置。
【請求項１５】  制御シーケンスが、フィーダ（６；１６）の移動速度と、それにより、接着剤塗布器（１０）を通る薄板の速度とを制御するように適合された請求項１２に記載の装置。
【請求項１６】  制御シーケンスが、薄板への接着剤塗布の速度を制御するように適合された請求項１４に記載の装置。
【請求項１７】  積層ビームへと組み付けられる薄板に、制御された接着剤塗布を行うための装置であって、
薄板フィーダ（６；１６）と、
接着剤塗布器（１０）と、
制御ユニット（１５）とを含み、
制御ユニット（１５）が、接着剤塗布器（１０）および／または薄板フィーダ（６；１６）が最適な接着剤塗布量をもたらすように制御シーケンスが実行されるようにプログラム可能であることを特徴とする装置。