【手続補正書】
【提出日】平成16年12月21日(2004.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水、α−アルミナ及び酢酸を含むアルミナゾルを含有することを特徴とする磁気ディスク基板研磨用組成物。
【請求項２】
アルミナゾルの粒子形が羽毛状である請求項１記載の磁気ディスク基板研磨用組成物。
【請求項３】
アルミナゾルの平均粒子径が、０.１〜０.６μｍである請求項１又は請求項２記載の磁気ディスク基板研磨用組成物。
【請求項４】
アルミナゾルの粒子含有量が、０.１〜１０重量％である請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板研磨用組成物。
【請求項５】
α−アルミナの、最大粒子径が４μｍ以下であり、平均粒子径が０.１〜２μｍである粒度分布を有する請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板研磨用組成物。
【請求項６】
α−アルミナの含有量が、２〜２０重量％である請求項１〜５のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板研磨用組成物。
【請求項７】
ｐＨが、２〜５である請求項１〜６のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板研磨用組成物。
【請求項８】
さらに酢酸以外の有機酸を含有する請求項１〜７のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板研磨用組成物。
【請求項９】
酢酸以外の有機酸が、蟻酸、プロピオン酸、アクリル酸、蓚酸、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、フタル酸、グリコール酸、乳酸、グリセリン酸、グルコン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、グリシン、アラニン、アスパラギン酸、グルタミン酸及びポリアクリル酸から選ばれた１種又は２種以上である請求項８記載の磁気ディスク基板研磨用組成物。
【請求項１０】
酢酸以外の有機酸の含有量が、０.００１〜１０重量％である請求項８または９記載の磁気ディスク基板研磨用組成物。
【請求項１１】
さらに水溶性の酸化剤、界面活性剤および防腐剤のいずれかを含有する請求項１〜７のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板研磨用組成物。
【請求項１２】
希釈して請求項４、６及び１０のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板研磨用組成物となる輸送用濃厚組成物。
【請求項１３】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板研磨用組成物を用いて研磨することを特徴とする磁気ディスク基板の製造方法。
【請求項１４】
研磨が、研磨パッドを磁気ディスク基板に摺り合わせ、パッドと基板の間に研磨用組成物を供給しながら研磨パッド又は磁気ディスク基板を回転させる請求項１３記載の磁気ディスク基板の製造方法。
【請求項１５】
研磨が、研磨速度０.２０μｍ／分以上で表面粗さ１０Å以下となるまで行なわれる請求項１３または１４記載の磁気ディスク基板の製造方法。
【請求項１６】
請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板の製造方法で製造される研磨ピット深さ１０ｎｍ以下の磁気ディスク基板。
【請求項１７】
磁気ディスク基板の表面粗さが１０Å以下である請求項１６記載の磁気ディスク基板。
【請求項１８】
ミッシングパルスエラーの発生しない請求項１６または１７記載の磁気ディスク基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、水、α−アルミナ及び酢酸で安定化したアルミナゾルを含有する基板研磨用組成物が、磁気ディスク基板を研磨したときの研磨速度が大きく、良好な研磨面が得られ、さらに、該組成物に有機酸を含有せしめることにより、研磨面が一層良好となることを見いだし、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
（１）水、α−アルミナ及び酢酸を含むアルミナゾルを含有することを特徴とする磁気ディスク基板研磨用組成物、
（２）アルミナゾルの粒子形が羽毛状である第(１)項記載の磁気ディスク基板研磨用組成物、
（３）アルミナゾルの平均粒子径が、０.１〜０.６μｍである第(１)項又は第(２)項記載の磁気ディスク基板研磨用組成物、
（４）アルミナゾルの粒子含有量が、０.１〜１０重量％である第(１)項〜第(３)項のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板研磨用組成物、
（５）α−アルミナの、最大粒子径が４μｍ以下であり、平均粒子径が０.１〜２μｍである粒度分布を有する第(１)項〜第(４)項のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板研磨用組成物、
（６）α−アルミナの含有量が、２〜２０重量％である第(１)項〜第(５)項のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板研磨用組成物、
（７）ｐＨが、２〜５である第(１)項〜第(６)項のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板研磨用組成物、
（８）さらに酢酸以外の有機酸を含有する第(１)〜第(７)項のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板研磨用組成物、
（９）酢酸以外の有機酸が、蟻酸、プロピオン酸、アクリル酸、蓚酸、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、フタル酸、グリコール酸、乳酸、グリセリン酸、グルコン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、グリシン、アラニン、アスパラギン酸、グルタミン酸及びポリアクリル酸から選ばれた１種又は２種以上である第(８)項記載の磁気ディスク基板研磨用組成物、
（１０）酢酸以外の有機酸の含有量が、０.００１〜１０重量％である第(８)項または第(９)項記載の磁気ディスク基板研磨用組成物、
（１１）さらに水溶性の酸化剤、界面活性剤および防腐剤のいずれかを含有する第(１)項〜第(７)項のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板研磨用組成物、
（１２）希釈して第(４)項、第(６)項及び第(１０)項のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板研磨用組成物となる輸送用濃厚組成物、
（１３）第(１)項〜第(１１)項のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板研磨用組成物を用いて研磨することを特徴とする磁気ディスク基板の製造方法、
（１４）研磨が、研磨パッドを磁気ディスク基板に摺り合わせ、パッドと基板の間に研磨用組成物を供給しながら研磨パッド又は磁気ディスク基板を回転させる第(１３)項記載の磁気ディスク基板の製造方法、
（１５）研磨が、研磨速度０.２０μｍ／分以上で表面粗さ１０Å以下となるまで行なわれる第(１３)項または第(１４)項記載の磁気ディスク基板の製造方法、
（１６）第(１３)項〜第(１５)項のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板の製造方法で製造される研磨ピット深さ１０ｎｍ以下の磁気ディスク基板、
（１７）磁気ディスク基板の表面粗さが１０Å以下である第(１６)項記載の磁気ディスク基板、及び、
（１８）ミッシングパルスエラーの発生しない第(１６)項または第(１７)項記載の磁気ディスク基板、
を提供するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の研磨用組成物においては、α−アルミナ、酢酸で安定化したアルミナゾルに加えて、さらに酢酸以外の有機酸を含有せしめることができる。α−アルミナ及び酢酸で安定化したアルミナゾルの機械的研磨作用に、有機酸による化学的研磨作用を加えることにより、表面粗さＲaを小さくして、研磨面の面精度を向上することができる。使用する有機酸は、水溶性を有するものであれば特に制限はないが、蟻酸（ＨＣＯＯＨ）、プロピオン酸（Ｃ2Ｈ5ＣＯＯＨ）、アクリル酸（ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＨ）、蓚酸（ＨＯＯＣＣＯＯＨ）、マロン酸（ＨＯＯＣＣＨ2ＣＯＯＨ）、コハク酸（ＨＯＯＣ(ＣＨ2)2ＣＯＯＨ）、アジピン酸（ＨＯＯＣ(ＣＨ2)4ＣＯＯＨ）、マレイン酸（cis−ＨＯＯＣＣＨ＝ＣＨＣＯＯＨ）、フマル酸（trans−ＨＯＯＣＣＨ＝ＣＨＣＯＯＨ）、イタコン酸（ＣＨ2＝Ｃ(ＣＯＯＨ)ＣＨ2ＣＯＯＨ）、フタル酸（ｏ−Ｃ6Ｈ4(ＣＯＯＨ)2）、グリコール酸（ＨＯＣＨ2ＣＯＯＨ）、乳酸（ＣＨ3ＣＨ(ＯＨ)ＣＯＯＨ）、グリセリン酸（ＨＯＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＯＯＨ）、グルコン酸（ＨＯＣＨ2(ＣＨ(ＯＨ))4ＣＯＯＨ）、リンゴ酸（ＨＯＯＣＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＯＯＨ）、酒石酸（ＨＯＯＣ(ＣＨ(ＯＨ))2ＣＯＯＨ）、クエン酸（ＨＯＯＣＣＨ2Ｃ(ＯＨ)(ＣＯＯＨ)ＣＨ2ＣＯＯＨ）、グリシン（ＨＮ2ＣＨ2ＣＯＯＨ）、アラニン（ＣＨ3ＣＨ(ＮＨ2)ＣＯＯＨ）、アスパラギン酸（ＨＯＯＣＣＨ2ＣＨ(ＮＨ2)ＣＯＯＨ）、グルタミン酸（ＨＯＯＣ(ＣＨ2)2ＣＨ(ＮＨ2)ＣＯＯＨ）及びポリアクリル酸（−(ＣＨ2ＣＨＣＯＯＨ)n−）を好適に使用することができる。これらの中で、グルコン酸とｐＫaが４〜４.５であるコハク酸、アクリル酸、アジピン酸を特に好適に使用することができる。有機酸は、研磨促進剤として公知であるアルミニウム塩に比べ、磁気ディスク基板に対する腐食作用などの化学的作用が強くはないが、有機酸を使用することにより高いレベルの面精度を得ることができる。この効果は、研磨屑などの排出性を良好にする結果と考えられる。本発明組成物において、有機酸の含有量は０.００１〜１０重量％であることが好ましく、０.１〜２重量％であることがより好ましい。有機酸の含有量が０.００１重量％未満であると、面精度向上の効果が十分に発現しないおそれがある。有機酸の含有量が２重量％を超えると、面精度は有機酸の含有量の増加に見合っては向上せず、有機酸の含有量が１０重量％を超えると、研磨面には悪影響はないが、経済性が損なわれるおそれがある。