【手続補正書】
【提出日】平成17年10月6日(2005.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂及び次式Ｉのフォト酸生成剤化合物を含むフォトレジスト組成物：
【化１】
2003195489.tif 000001
ここで、Ｒは非水素置換基又はＲは他のフォト酸生成剤部位への結合であり；Ｙ及びＺはそれぞれが独立して水素又は非水素置換基であり；又はＹ及び／又はＺの二つは一緒になって縮合環を形成し；ｎは３から８の整数であり；及びＸは対アニオンである、但し、Ｙ及びＺ双方が同一環炭素上のＣ１〜４アルキルである場合を除く。
【請求項２】
樹脂及び次式Ｉのフォト酸生成剤化合物を含むフォトレジスト組成物：
【化２】
2003195489.tif 000002
ここで、Ｒは非水素置換基又はＲは他のフォト酸生成剤部位への結合であり；Ｙ及びＺはそれぞれが独立して水素又は非水素置換基であり；又はＹ及び／又はＺの二つは一緒になって縮合環を形成し；ｎは３から８の整数であり；及びＸは対アニオンである、但し、Ｒが他のフォト酸生成剤部位への結合以外のものである場合であって、非置換フェニル、ヒドロキシ又はアルコキシによって置換されるフェニル、非置換ナフチル又はヒドロキシ又はアルコキシによって置換されるナフチルである場合を除く。
【請求項３】
フォト酸生成剤化合物が次式ＩＡのものである請求項１又は２のフォトレジスト組成物：
【化３】
2003195489.tif 000003
ここで、Ｒは非水素置換基又は他のフォト酸生成剤部位への結合であり；Ｒ１は非水素置換基であり；ｍは０から８の整数であり；及びＸは対アニオンである。
【請求項４】
フォト酸生成剤化合物が次式ＩＢのものである請求項１又は２のフォトレジスト組成物：
【化４】
2003195489.tif 000004
ここで、Ｒは非水素置換基又は他のフォト酸生成剤部位への結合であり；Ｒ１は非水素置換基であり；ｍ´は０から１０の整数であり；及びＸは対アニオンである。
【請求項５】
フォト酸生成剤化合物が次式ＩＩのものである請求項１に記載のフォトレジスト組成物：
【化５】
2003195489.tif 000005
ここで、Ｒは化学結合又はリンカーであり；Ｙ及びＺはそれぞれが独立して水素又は非水素置換基であり；ｎ及びｎ´はそれぞれ独立して３から８の整数であり；及びそれぞれのＸは同一又は異なる対アニオンである。
【請求項６】
樹脂及び次式ＩＩＡのフォト酸生成剤化合物を含む請求項１に記載のフォトレジスト組成物：
【化６】
2003195489.tif 000006
ここで、Ｒは化学結合又はリンカーであり；それぞれのＲ１は同一又は異なる非水素置換基であり；それぞれのｍは独立して０から８の整数であり；及びＸは対アニオンである。
【請求項７】
樹脂及び次式ＩＩＢのフォト酸生成剤化合物を含むフォトレジスト組成物：
【化７】
2003195489.tif 000007
ここで、Ｒは化学結合又はリンカーであり；それぞれのＲ１は同一又は異なる非水素置換基であり；それぞれのｍ´は独立して０から８の整数であり；及びＸは対アニオンである。
【請求項８】
樹脂及び次式ＩＩＩのフォト酸生成剤化合物を含むフォトレジスト組成物：
【化８】
2003195489.tif 000008
ここで、Ｒは非水素置換基又はＲは他のフォト酸生成剤部位への結合であり；Ｙ及びＺはそれぞれが独立して水素又は非水素置換基であり；又はＹ及び／又はＺの二つは一緒になって縮合環を形成し；ｎは３から８の整数であり；及びＸは対アニオンである。
【請求項９】
フォト酸生成剤化合物が次式ＩＩＩＡのものである請求項８に記載のフォトレジスト組成物：
【化９】
2003195489.tif 000009
ここで、Ｒは化学結合又はリンカーであり；それぞれのＲ１は同一又は異なる非水素置換基であり；ｍは０から８の整数であり；及びＸは対アニオンである。
【請求項１０】
フォト酸生成剤化合物が次式ＩＩＩＢのものである請求項８に記載のフォトレジスト組成物：
【化１０】
2003195489.tif 000010
ここで、Ｒは化学結合又はリンカーであり；それぞれのＲ１は同一又は異なる非水素置換基であり；ｍ´は０から８の整数であり；及びＸは対アニオンである。
【請求項１１】
フォト酸生成剤化合物が次式ＩＶのものである請求項８に記載のフォトレジスト組成物：
【化１１】
2003195489.tif 000011
ここで、Ｒは他のフォト酸生成剤部位への結合であり；Ｙ及びＺはそれぞれが独立して水素又は非水素置換基であり；又はＹ及び／又はＺの二つは一緒になって縮合環を形成し；ｎ及びｎ´はそれぞれ独立して３から８の結合であり；及びＸは対アニオンである。
【請求項１２】
フォト酸生成剤化合物が次式Ｖのものである請求項１に記載のフォトレジスト組成物：
【化１２】
2003195489.tif 000012
ここで、Ｙ及びＺはそれぞれが独立して水素であり又は非水素置換基であり；又はＹ及び／又はＺの二つは一緒になって縮合環を形成し；ｎ及びｎ´はそれぞれ独立に３から８の結合であり；Ａｒは任意に置換されたアリール基であり；それぞれのＷは任意に置換されたアルコキシ又はＡｒ基のフォト酸レイビル環置換基であり；及びｍは１から５の整数である。
【請求項１３】
フォト酸生成剤化合物が次式ＶＩのものである請求項１に記載のフォトレジスト組成物：
【化１３】
2003195489.tif 000013
ここで、Ｙ及びＺはそれぞれが独立して水素又は非水素置換基であり；又はＹ及び／又はＺの二つは一緒になって縮合環を形成し；ｎ及びｎ´はそれぞれ独立に３から８の結合であり；Ａｒは任意に置換されたアリール基であり；それぞれのＷは任意に置換されたアルコキシ又はＡｒ基のフォト酸レイビル環置換基であり；及びｍは１から５の整数である。
【請求項１４】
Ｒが任意に置換されたアルキル、任意に置換された炭素環式アリール、任意に置換されたへテロ芳香族又は任意に置換されたヘテロ脂環式環である請求項１、２、３、４、８、９又は１０のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１５】
Ｒが化学結合、任意に置換されたアルキレン又は任意に置換された炭素環式アリールである請求項５、６、７又は１１に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１６】
それぞれのＹ及びそれぞれのＺが独立して任意に置換された炭素環式アリール、任意に置換されたへテロ芳香族又は任意に置換されたヘテロ脂環式環である請求項１、２、５、８、１１、１２又は１３のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１７】
二つのＹ及びＺ基が一緒になってスルホニウム又はスルホキソニウム環に縮合された環を形成する請求項１、２、５、８、１１、１２又は１３のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１８】
該縮合環が任意に置換された炭素脂環式環、任意に置換された炭素環式アリール、任意に置換されたへテロ芳香族又は任意に置換されたヘテロ脂環式環である請求項１７に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１９】
一緒になる二つのＲ１基がスルホニウム又はスルホキソニウム環に隣接する炭素原子の置換基である請求項１７又は１８に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項２０】
一緒になる二つのＲ１基がスルホニウム又はスルホキソニウム環の非隣接炭素原子の置換基である請求項１７又は１８に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項２１】
１以上のＲ１基が任意に置換された炭素環式アリール、任意に置換されたへテロ芳香族又は任意に置換されたヘテロ脂環式環である請求項３、４、６、７、９、又は１０のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項２２】
二つのＲ１基が一緒になってスルホニウム又はスルホキソニウム環に縮合される環を形成する請求項３、４、６、７、９、又は１０のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項２３】
該縮合環が任意に置換された炭素脂環式環、任意に置換された炭素環式アリール、任意に置換されたへテロ芳香族又は任意に置換されたヘテロ脂環式環である請求項２２に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項２４】
一緒になる二つのＲ１基がスルホニウム又はスルホキソニウム環に隣接する炭素原子の置換基である請求項２２又は２３に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項２５】
一緒になる二つのＲ１基がスルホニウム又はスルホキソニウム環の非隣接炭素原子の置換基である請求項２２又は２３に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項２６】
樹脂及び多環式スルホニウムフォト酸生成剤化合物を含むフォトレジスト組成物。
【請求項２７】
該スルホニウム化合物が二環式化合物である請求項２６に記載のフォトレジスト。
【請求項２８】
該スルホニウム化合物が三環式化合物である請求項２６に記載のフォトレジスト。
【請求項２９】
該スルホニウム原子が５原子環の環員である請求項２６乃至２８のいずれか一つに記載のフォトレジスト。
【請求項３０】
該スルホニウム原子が６原子環の環員である請求項２６乃至２８のいずれか一つに記載のフォトレジスト。
【請求項３１】
樹脂及び多環式スルホキソニウムフォト酸生成剤化合物を含むフォトレジスト組成物。
【請求項３２】
該スルホキソニウム化合物が二環式化合物である請求項３１に記載のフォトレジスト。
【請求項３３】
該スルホキソニウム化合物が三環式化合物である請求項３１に記載のフォトレジスト。
【請求項３４】
該スルホキソニウム原子が５原子環の環員である請求項３１乃至３３のいずれか一つに記載のフォトレジスト。
【請求項３５】
該スルホキソニウム原子が６原子環の環員である請求項３１乃至３４のいずれか一つに記載のフォトレジスト。
【請求項３６】
該組成物が化学増幅型ポジ型フォトレジストである請求項１乃至３５のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項３７】
該樹脂がフェノール単位及びフォト酸レイビルアルキルアクリレート単位を含有するポリマーを含む請求項３６に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項３８】
該樹脂が１）フェノール単位、２）フェニル単位及び３）フォト酸レイビルアルキルアクリレート単位を含有するポリマーを含む請求項３６に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項３９】
該樹脂がアセタール又はケタール基を含む請求項３６に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項４０】
該フォトレジストが芳香族単位を含有するポリマーを本質的に含まない請求項３６に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項４１】
該フォトレジストが重合された脂環式オレフィン基を含むポリマーを含む請求項３６乃至４０のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項４２】
該フォトレジストが重合された、任意に置換されたノルボルネン単位を含むポリマーを含む請求項４１に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項４３】
該フォトレジストが重合されたアルキルアクリレート基を含むポリマーを含む請求項３６乃至４２のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項４４】
該組成物がネガ型フォトレジストである請求項１乃至３５のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項４５】
該フォトレジストがフッ素置換基を有する樹脂を含む請求項１乃至３５のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項４６】
（ａ）基体上に請求項１乃至４５のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物のコーティング層を塗布し；及び（ｂ）パターン形成された活性放射線で該フォトレジストコーティング層を露光し、露光されたフォトレジスト層を現像してレリーフイメージを提供することを含む、基体上にフォトレジストレリーフイメージを形成する方法。
【請求項４７】
該フォトレジストコーティング層が約３００ｎｍ未満の波長を有する放射線で露光される請求項４６の方法。
【請求項４８】
該フォトレジストコーティング層が約２４８ｎｍの波長を有する放射線で露光される請求項４６に記載の方法。
【請求項４９】
該フォトレジストコーティング層が約２００ｎｍ未満の波長を有する放射線で露光される請求項４６に記載の方法。
【請求項５０】
該フォトレジストコーティング層が約１９３ｎｍ又は１５７ｎｍの波長を有する放射線で露光される請求項４６に記載の方法。
【請求項５１】
少なくとも一つの表面に請求項１乃至４５のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物のコーティング層を有する製品。
【請求項５２】
該フォトレジスト組成物がマイクロエレクロニクスウェーハ基体、フラットパネルディスプレー基体又はプリント回路板基体上に被覆される請求項５１に記載の製品。
【請求項５３】
次式Ｉのフォト酸生成剤化合物：
【化１４】
2003195489.tif 000014
ここで、Ｒは非水素置換基又はＲは他のフォト酸生成剤部位への結合であり；Ｙ及びＺはそれぞれが独立して水素又は非水素置換基であり；又はＹ及び／又はＺの二つは一緒になって縮合環を形成し；ｎは３から８の整数であり；及びＸは対アニオンである、但し、Ｙ及びＺ双方が同一環炭素上のＣ１〜４アルキルである場合を除く。
【請求項５４】
次式Ｉのフォト酸生成剤化合物：
【化１５】
2003195489.tif 000015
ここで、Ｒは非水素置換基又はＲは他のフォト酸生成剤部位への結合であり；Ｙ及びＺはそれぞれが独立して水素又は非水素置換基であり；又はＹ及び／又はＺの二つは一緒になって縮合環を形成し；ｎは３から８の整数であり；及びＸは対アニオンである、但し、Ｒが他のフォト酸生成剤部位への結合以外のものである場合であって、非置換フェニル、ヒドロキシ又はアルコキシによって置換されるフェニル、非置換ナフチル又はヒドロキシ又はアルコキシによって置換されるナフチルである場合を除く。
【請求項５５】
該フォト酸生成剤化合物が次式ＩＡのものである請求項５３又は５４に記載のフォト酸生成剤化合物：
【化１６】
2003195489.tif 000016
ここで、Ｒは非水素置換基又は他のフォト酸生成剤部位への結合であり；Ｒ１は非水素置換基である、但し、二つのＲ１基が共に同一環炭素上にＣ１〜４アルキルとして存在する場合を除く；ｍは０から８の整数であり；及びＸは対アニオンである。
【請求項５６】
該フォト酸生成剤化合物が次式ＩＢのものである請求項５３又は５４のフォト酸生成剤化合物：
【化１７】
2003195489.tif 000017
ここで、Ｒは非水素置換基又は他のフォト酸生成剤部位への結合であり；Ｒ１は非水素置換基である、但し二つのＲ１基が共に同一環炭素上にＣ１〜４アルキルとして存在する場合を除く；ｍ´は０から１０の整数であり；及びＸは対アニオンである。
【請求項５７】
該フォト酸生成剤化合物が次式ＩＩのものである請求項５３又は５４に記載のフォト酸生成剤化合物：
【化１８】
2003195489.tif 000018
ここで、Ｒは化学結合又はリンカーであり；それぞれのＹ及びそれぞれのＺは独立して水素又は非水素置換基であり；ｎ及びｎ´は、それぞれ独立して３から８の整数であり；及びそれぞれのＸは同一又は異なる対アニオンである。
【請求項５８】
該フォト酸生成剤化合物が次式ＩＩＡのものである請求項５３又は５４に記載のフォト酸生成剤化合物：
【化１９】
2003195489.tif 000019
ここで、Ｒは化学結合又はリンカーであり；それぞれのＲ１は同一又は異なる非水素置換基であり；それぞれのｍは独立して０から８の整数であり；及びＸは対アニオンである。
【請求項５９】
該フォト酸生成剤化合物が次式ＩＩＢのものである請求項５３又は５４に記載のフォト酸生成剤化合物：
【化２０】
2003195489.tif 000020
ここで、Ｒは化学結合又はリンカーであり；それぞれのＲ１は同一又は異なる非水素置換基であり；それぞれのｍ´は独立して０から１０の整数であり；及びＸは対アニオンである。
【請求項６０】
次式ＩＩＩのフォト酸生成剤化合物：
【化２１】
2003195489.tif 000021
ここで、Ｒは非水素置換基又はＲは他のフォト酸生成剤部位への結合であり；Ｙ及びＺはそれぞれが独立して水素又は非水素置換基であり；又はＹ及び／又はＺの二つは一緒になって縮合環を形成し；ｎは３から８の整数であり；及びＸは対アニオンである。
【請求項６１】
該フォト酸生成剤化合物が次式ＩＩＩＡのものである請求項６０に記載のフォト酸生成剤化合物：
【化２２】
2003195489.tif 000022
ここで、Ｒは化学結合又はリンカーであり；それぞれのＲ１は同一又は異なる非水素置換基であり；ｍは０から８の整数であり；及びＸは対アニオンである。
【請求項６２】
該フォト酸生成剤化合物が次式ＩＩＩＢのものである請求項６０に記載のフォト酸生成剤化合物：
【化２３】
2003195489.tif 000023
ここで、Ｒは化学結合又はリンカーであり；それぞれのＲ１は同一又は異なる非水素置換基であり；ｍ´は０から８の整数であり；及びＸは対アニオンである。
【請求項６３】
該フォト酸生成剤化合物が次式ＩＶのものである請求項６０に記載のフォト酸生成剤化合物：
【化２４】
2003195489.tif 000024
ここで、Ｒは他のフォト酸生成剤部位への結合であり；Ｙ及びＺはそれぞれが独立して水素又は非水素置換基であり；又はＹ及び／又はＺの二つは一緒になって縮合環を形成し；ｎ及びｎ´はそれぞれ独立して３から８の結合であり；及びＸは対アニオンである。
【請求項６４】
次式Ｖのフォト酸生成剤：
【化２５】
2003195489.tif 000025
ここで、Ｙ及びＺはそれぞれが独立して水素又は非水素置換基であり；又はＹ及び／又はＺの二つは一緒になって縮合環を形成し；ｎ及びｎ´はそれぞれ独立して３から８の結合であり；Ａｒは任意に置換されたアリール基であり；それぞれのＷは任意に置換されたアルコキシ又はＡｒ基のフォト酸レイビル環置換基であり；及びｍは１から５の整数である。
【請求項６５】
次式ＶＩのフォト酸生成剤：
【化２６】
2003195489.tif 000026
ここで、Ｙ及びＺはそれぞれが独立して水素又は非水素置換基であり；又はＹ及び／又はＺの二つは一緒になって縮合環を形成し；ｎ及びｎ´はそれぞれ独立して３から８の結合であり；Ａｒは任意に置換されたアリール基であり；それぞれのＷは任意に置換されたアルコキシ又はＡｒ基のフォト酸レイビル環置換基であり；及びｍは１から５の整数である。
【請求項６６】
Ｒが任意に置換されたアルキル、任意に置換された炭素環式アリール、任意に置換されたへテロ芳香族又は任意に置換されたヘテロ脂環式環である請求項５３、５４、５５又は５７に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項６７】
Ｒが化学結合、任意に置換されたアルキレン又は任意に置換された炭素環式アリールである請求項５３、５４、５５又は５７に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項６８】
それぞれのＹ及びそれぞれのＺが独立して任意に置換された炭素環式アリール、任意に置換されたへテロ芳香族又は任意に置換されたヘテロ脂環式環である請求項５３、５４、５７、６０、６１、６４又は６５のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項６９】
二つのＹ及びＺ基が一緒になってスルホニウム又はスルホキソニウム環に縮合される環を形成する請求項５３、５４、５７、６０、６１、６４又は６５のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項７０】
該縮合環が任意に置換された炭素脂環式環、任意に置換された炭素環式アリール、任意に置換されたへテロ芳香族又は任意に置換されたヘテロ脂環式環である請求項６９に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項７１】
一緒になる二つのＲ１基がスルホニウム又はスルホキソニウム環に隣接する炭素原子の置換基である請求項６９又は７０に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項７２】
一緒になる二つのＲ１基がスルホニウム又はスルホキソニウム環の非隣接炭素原子の置換基である請求項６９又は７０に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項７３】
１以上のＲ１基が任意に置換された炭素環式アリール、任意に置換されたへテロ芳香族又は任意に置換されたヘテロ脂環式環である請求項５５、５６、５８、５９、６１又は６２のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項７４】
二つのＲ１基が一緒になってスルホニウム又はスルホキソニウム環に縮合される環を形成する請求項５５、５６、５８、５９、６１又は６２のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項７５】
該縮合環が任意に置換された炭素脂環式環、任意に置換された炭素環式アリール、任意に置換されたへテロ芳香族又は任意に置換されたヘテロ脂環式環である請求項７４に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項７６】
一緒になる二つのＲ１基がスルホニウム又はスルホキソニウム環に隣接する炭素原子の置換基である請求項７４又は７５に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項７７】
一緒になる二つのＲ１基がスルホニウム又はスルホキソニウム環の非隣接炭素原子の置換基である請求項７４又は７５に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項７８】
多環式スルホニウムフォト酸生成剤化合物。
【請求項７９】
該スルホニウム化合物が二環式化合物である請求項７８に記載のスルホニウム化合物。
【請求項８０】
該スルホニウム化合物が三環式化合物である請求項７８に記載のスルホニウム化合物。
【請求項８１】
該スルホニウム原子が５原子環の環員である請求項７８乃至８０のいずれか一つに記載のスルホニウム化合物。
【請求項８２】
該スルホニウム原子が６原子環の環員である請求項７８乃至８０のいずれか一つに記載のスルホニウム化合物。
【請求項８３】
多環式スルホキソニウムフォト酸生成剤化合物。
【請求項８４】
該スルホキソニウム化合物が二環式化合物である請求項８３に記載のスルホキソニウム化合物。
【請求項８５】
該スルホキソニウム化合物が三環式化合物である請求項８３に記載のスルホキソニウム化合物。
【請求項８６】
該スルホキソニウム原子が５原子環の環員である請求項８３乃至８５のいずれか一つに記載のスルホキソニウム化合物。
【請求項８７】
該スルホキソニウム原子が６原子環の環員である請求項８３乃至８５のいずれか一つに記載のスルホキソニウム化合物。