【手続補正書】
【提出日】平成15年8月15日(2003.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の３次元特徴を層に表示する構造体において、上記第１の特徴の少なくとも一部分は上記層の第１のレベルから垂直方向に変位し、上記第１の特徴は上記第１のレベルに実質的に平行な第１の主軸と、実質的に上記主軸に垂直でかつ上記第１のレベルに平行な第１の横軸と、上記第１の主軸及び上記第１のレベルの両方に実質的に垂直な第１の垂直軸とを有する構造体であって、
さらに、上記第１の特徴は、
ａ．横断面によって規定された上記第１の特徴の外形が、上記第１の特徴でのある横方向エッジで上記第１の特徴が上記第１のレベルより変位を開始するポイントから、上記第１のレベルからの上記変位が上記第１の特徴の反対側の横方向エッジに至るポイントまでの傾斜に実質的な不連続性を示さず、
ｂ．上記第１のレベルに関し上記第１の垂直軸に沿った上記第１の特徴の範囲は、ほぼ０．２５ミクロンよりも小さく、上記第１の横軸に沿った上記第１の特徴の範囲は、ほぼ１ミクロンよりも小さく、上記第１の主軸に沿った上記第１の特徴の範囲は、上記第１の横軸に沿った上記第１の特徴の範囲の少なくとも２倍あり、
ｃ．上記第１の垂直軸に沿った第１の方向における上記第１のレベルからの上記第１の特徴の最大変位の、反対の垂直方向における変位に対する比率が、ほぼ０．２からほぼ５．０の範囲を除くことを特徴とする構造体。
【請求項２】
上記比率が、さらに実質的に零値及び実質的に無限大値をさらに除くことを特徴とする請求項１に記載の構造体。
【請求項３】
上記第１の特徴は、選択的に復元されるデータを表すことを特徴とする請求項２に記載の構造体。
【請求項４】
上記層は、実質的に一様な構成であることを特徴とする請求項１に記載の構造体。
【請求項５】
ａ．上記構造体は、ディスクが選択的に回転される中心軸を有するディスクを含み、
ｂ．上記第１の特徴はピットであって、上記ピットは復元データを表す、
ことを特徴とする請求項４に記載の光学的記録構造体。
【請求項６】
上記ピットの長て方向の先端は、互いに実質的に幾何学的対称であることを特徴とする請求項５に記載の光学的記録構造体。
【請求項７】
上記層は、上記ピットの連続を含み、上記連続は上記ディスクの少なくとも１つの円弧に沿って延び、第１の上記ピットは、上記層のランド領域によって連続の中の最も近接した上記連続ピットから長て方向に離されていることを特徴とする請求項６に記載の構造体。
【請求項８】
ａ．上記構造体は、ディスクが選択的に回転される中心軸を有するディスクを含み、かつ
ｂ．上記第１の特徴は隆起であって、上記隆起は復元データを表すことを特徴とする請求項４に記載の構造体。
【請求項９】
ａ．上記構造体は、ディスクが選択的に回転される中心軸を有するディスクを含み、かつ、
ｂ．上記第１の特徴は、上記ディスクの少なくとも１つの円弧に沿って延びる溝であることを特徴とする請求項２に記載の構造体。
【請求項１０】
上記層は上記第１の特徴の連続を含み、上記第１の特徴の特定の１つは、上記層の中間ランド領域によって上記第１の特徴の最も近接した連続ピットから長て方向に分離され、上記中間ランド領域は第２の特徴を表示し、上記第２の特徴は、上記第１のレベルに平行でかつ上記第１のレベルに垂直な方向に、第２のレベルから変位した上記第２のレベルを含む延長された３次元の領域を含み、上記延長された領域は上記第１の主軸に実質的に整合した第２の主軸を有し、上記第２の特徴の少なくとも一部の横軸方向の範囲は、上記第１の横軸に沿った上記第１の特徴の横軸方向の範囲よりも小さくないことを特徴とする請求項１に記載の構造体。
【請求項１１】
上記第１の特徴は、熱に基づくプロセスによる上記層に供給されることを特徴とする請求項１に記載の構造体。
【請求項１２】
上記比率は、実質的に零または実質的に無限大であることを特徴とする請求項１１に記載の構造体。
【請求項１３】
上記層は、化学的分解のための第１の熱閾値と、可塑化のための第２の熱閾値を含み、上記第２の熱閾値は上記第１の熱閾値を上回ることを特徴とする請求項１１に記載の構造体。
【請求項１４】
上記層は、
ａ．紫外線回復の樹脂、
ｂ．触媒作用の回復樹脂、
ｃ．熱の回復樹脂、
より構成されるグループから選択された少なくとも１つの樹脂を含むことを特徴とする請求項１１または１３に記載の構造体。
【請求項１５】
上記外形は、面のでこぼこを実質的に全く表さないことを特徴とする請求項１に記載の構造体。
【請求項１６】
さらに、
ａ．第１の方向における上記第１のレベルから変位する上記層の第２のレベルと、
ｂ．上記第１の方向における上記第２のレベルから変位し、かつ、上記第１の方向の上記第１のレベルからさらに変位する上記層の第３のレベルと、
ｃ．第２の特徴であって、その少なくとも一部分が、
（１）上記第１の主軸に実質的に平行であり、かつ横方向に実質的に整合した第２の主軸と、
（２）上記第２の主軸に実質的に垂直な第２の垂直軸と、上記第２の特徴の上記部分は、上記第２の垂直軸方向に上記第２のレベルから上記第３のレベルまで実質的に延びており、
（３）第２の横方向範囲であって、上記第１の横軸に沿った上記第１の特徴の範囲よりも小さい上記第２の横方向範囲とを有する延長された３次元の上記第２の特徴とを備えたことを特徴とする請求項１に記載の構造体。
【請求項１７】
上記第２の特徴の横方向範囲は、上記第１の特徴の横方向範囲の中に完全に含まれることを特徴とする請求項１６に記載の構造体。
【請求項１８】
上記第２の特徴の横方向範囲は、上記第１の特徴の横方向範囲の中に完全に含まれないことを特徴とする請求項１６に記載の構造体。
【請求項１９】
横断面によって定義された上記第２の特徴の外形は、上記第１の特徴の外形の実質的な連続であって、上記第２の特徴が、上記反対の垂直方向に上記レベルから変位を開始するポイントから上記指標レベルからの該変位が終息するポイントまでの、上記第２の特徴の横方向の範囲が、零より大きく１００ナノメータより小さくなるように、上記第２の特徴が特徴付けられていることを特徴とする請求項１６〜１８の何れか１項に記載の構造体。
【請求項２０】
上記構造体は、延長されたトラックを含み、上記トラックの少なくとも一部分は実質的に垂直であり、上記第１の方向に垂直な方向に延びる第３の主軸を有し、上記第１及び第２の主軸はそれぞれ実質的に平行で、かつ上記第３の主軸に実質的に横方向に整合していることを特徴とする請求項１６に記載の構造体。
【請求項２１】
上記第１、第２、及び第３の主軸は、横方向に整合していることを特徴とする請求項２０に記載の構造体。
【請求項２２】
上記第１の特徴の少なくとも一部分は、上記第２の特徴から長て方向に変位していることを特徴とする請求項２０に記載の構造体。
【請求項２３】
復元データを選択的に含むためのデータ層を含む構造体であって、上記データ層は、
ａ．第１のレベルと、
ｂ．第１の方向の上記第１のレベルから変位した第２のレベルと、
ｃ．上記第１の方向の上記第２のレベルから変位し、さらに上記第１の方向の上記第１のレベルから変位した第３のレベルと、
ｄ．少なくともその一部分が、実質的に、
（１）縦軸であり、
（２）上記第１の方向に垂直している、
ことを特徴とする延長されたデータトラックと、
ｅ．第１の特徴であって、少なくともその一部分が、
（１）上記データトラックの部分に平行でかつ実質的に横方向に整合した第１の主軸と、
（２）上記主軸に実質的に垂直な垂直軸と、上記第１の特徴の部分が上記第１のレベルから上記第２のレベルまで実質的にその方向に延び、
（３）第１の微視的寸法の横方向の範囲値と、
を有することを特徴とする延長された上記第１の３次元特徴と、
ｆ．第２の特徴であって、少なくともその特徴の一部分が、
（１）上記データトラックの部分及び上記第１の主軸に実質的に平行でかつ横方向に実質的に整合した第２の主軸と、
（２）上記第２の主軸に実質的に垂直な垂直軸と、上記第２の特徴の上記部分が、上記第２のレベルから上記第３のレベルまで実質的に上記垂直方向に延び、
（３）第２の微視的寸法の横方向の範囲値であって、上記第２の範囲値は上記第１の範囲値よりも小さいことを特徴として有した延長された上記第２の３次元特徴と、
を備えていることを特徴とする構造体。
【請求項２４】
請求項１〜２３記載の何れか１項に記載の構造体を含むことを特徴とする親構造体。
【請求項２５】
請求項２４に記載の親構造体から実質的に正確に複製された派生的な構造体。
【請求項２６】
上記派生的な構造体は、上記親構造体と直接の接触によるよりも、上記親構造体から生成された中間的な構造体から複製されることを特徴とする請求項２５に記載の派生的な構造体。
【請求項２７】
構造体を生成する方法において、
ａ．上記構造体に層を供給し、
ｂ．上記層の第１のレベルを規定し、かつ、
ｃ．第１の３次元特徴を上記層に生成し、上記第１の特徴の少なくとも一部分が、上記層の第１のレベルから垂直方向に変位し、上記第１の特徴は上記第１のレベルに実質的に平行な第１の主軸と、実質的に上記主軸に垂直でかつ上記第１のレベルに平行な第１の横軸と、上記第１の主軸及び上記１のレベルの両方に実質的に垂直な第１の垂直軸とを有する構造体を生成する、ステップを含む方法であって、
さらに、上記第１の特徴は、
（１）横断面によって規定された上記第１の特徴の外形が、上記第１の特徴でのある横方向エッジで上記第１の特徴が上記第１のレベルより変位を開始するポイントから、上記第１のレベルからの上記変位が上記第１の特徴の反対側の横方向エッジに至るポイントまでの傾斜に実質的な不連続性を示さず、
（２）上記第１のレベルに関し上記第１の垂直軸に沿った上記第１の特徴の範囲は、ほぼ０．２５ミクロンよりも小さく、上記第１の横軸に沿った上記第１の特徴の範囲は、ほぼ１ミクロンよりも小さく、上記第１の主軸に沿った上記第１の特徴の範囲は、上記第１の横軸に沿った上記第１の特徴の範囲の少なくとも２倍あり、
（３）上記第１の垂直軸に沿った第１の方向における上記第１のレベルからの上記第１の特徴の最大変位の、反対の垂直方向における変位に対する比率が、ほぼ０．２からほぼ５．０の範囲を除くことを特徴とする方法。
【請求項２８】
上記比率が、さらに実質的に零値及び実質的に無限大値をさらに除くことを特徴とする請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
上記層は、実質的に一様な構成であることを特徴とする請求項２７に記載の方法。
【請求項３０】
ａ．上記構造体は、ディスクが選択的に回転される中心軸を有するディスクを含み、
ｂ．上記生成ステップはピットを生成するステップを含み、上記ピットは復元データを表すことを特徴とする請求項２７〜２９の何れか１項に記載の方法。
【請求項３１】
ａ．上記構造体は、ディスクが選択的に回転される中心軸を有するディスクを含み、かつ、
ｂ．上記生成ステップは隆起を生成するステップを含み、上記隆起は復元データを表すことを特徴とする請求項２７〜２９の何れか１項に記載の方法。
【請求項３２】
上記生成ステップは、さらに、
ａ．第１の方向の上記第１のレベルから変位した上記層の第２のレベルを規定し、
ｂ．上記第１の方向の上記第２のレベルから変位し、かつ、上記第１の方向の上記第１のレベルからさらに変位する上記層の第３のレベルを規定し、
ｃ．さらに、第２の特徴であってその少なくとも一部分が、
（１）上記第１の主軸に実質的に平行でかつ横方向に実質的に整合した第２の主軸と、
（２）上記第２の主軸に実質的に垂直な第２の垂直軸と、上記第２の特徴の上記部分は、上記第２の垂直軸方向に上記第２のレベルから上記第３のレベルまで実質的に延び、
（３）第２の横方向範囲であって、上記第１の横軸に沿った上記第１の特徴の範囲よりも小さい上記第２の横方向範囲とを有する、延長された上記第２の３次元特徴を与えるステップを含むことを特徴とする請求項２７〜２９の何れか１項に記載の方法。
【請求項３３】
上記第２の特徴の横方向範囲は、上記第１の特徴の横方向範囲の中に完全に含まれることを特徴とする請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
上記第２の特徴の横方向範囲は、上記第１の特徴の横方向範囲の中に完全に含まれないことを特徴とする請求項３２に記載の方法。
【請求項３５】
上記生成ステップは、上記層に上記第１の特徴の連続を生成し、上記第１の特徴の初期の１つは、上記層のランド領域によって上記連続の中の最も近接した第１の特徴から、長て方向に分離されることを特徴とする請求項２７〜２９の何れか１項に記載の方法。
【請求項３６】
上記第１の特徴及び上記第２の特徴のそれぞれは、ピットと隆起とを含むグループから選択される特徴を含むことを特徴とする請求項２７、２８、２９、３１に記載の方法。
【請求項３７】
ａ．上記供給ステップが、微視的特徴が熱に基づくプロセスによって格納される層を供給することを含み、
ｂ．上記生成ステップが、熱に基づくプロセスによって上記第１の特徴を生成することを含むことを特徴とする請求項２７〜２９の何れか１項に記載の方法。
【請求項３８】
上記供給ステップは、上記構成として、化学的分解のための第１の熱閾値と、可塑化のための第２の熱閾値を含み、上記第２の熱閾値は上記第１の熱閾値を上回ることを供給するステップを含むことを特徴とする請求項３７に記載の方法。
【請求項３９】
上記供給ステップは、
ａ．紫外線回復の樹脂、
ｂ．触媒作用の回復樹脂、
ｃ．熱の回復樹脂、
より構成されるグループから選択された少なくとも１つの樹脂を含むことを特徴とする請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
上記生成ステップに先だって、上記樹脂を架橋させるステップをさらに含むことを特徴とする請求項３９に記載の方法。
【請求項４１】
ａ．上記供給ステップは、上記層の選択的領域にその特性が上記領域でのエネルギー変換ビームの選択的な照射によって変えられる層を供給することを含み、
ｂ．上記生成ステップは、上記領域でのエネルギー変換ビームの選択的な照射によって上記第１の特徴を生成することを含み、
ｃ．上記第１の特徴の形は、上記領域の形から直接的に作られることを特徴とする請求項２７〜２９の何れか１項に記載の方法。
【請求項４２】
上記生成ステップは、
ａ．上記層の第１の上記領域に向かってエネルギー変換ビームを方向付け、
ｂ．上記ビームの大きさを制御し、
ｃ．上記層の上記第１の領域のビームスポットに上記ビームを合焦し、
ｄ．上記第１の領域と第２の方向の上記ビームスポットとの間に関連ある動きを生成し、上記第２の方向は上記層に実質的に平行し、
ｅ．第３の方向に上記ビームスポットをディザーし、上記第３の方向は実質的に上記層に平行でかつ上記第２の方向に垂直する、
ステップを含むことを特徴とする請求項４１に記載の方法。
【請求項４３】
上記生成ステップは、
ａ．上記層の第１の上記領域に向かって第１のエネルギー変換ビームを方向付け、
ｂ．また、上記層の第２の上記領域に向かって第２のエネルギー変換ビームを方向付け、
ｃ．上記第１及び第２のビームの大きさを制御し、
ｄ．上記第１の領域の第１のビームスポットに上記第１のビームを合焦し、
ｅ．また、上記第２の領域の第２のビームスポットに上記第２のビームを合焦し、
ｆ．上記層と、上記層に実質的に平行な第２の方向における上記第１及び第２のビームスポットとの間に関連ある動きを生成し、
ｇ．第３の方向に上記第１のビームスポットに関する上記第２のビームスポットをディザーし、上記第３の方向は実質的に上記層に平行でかつ上記第２の方向に垂直である、
ステップを含むことを特徴とする請求項４１に記載の方法。
【請求項４４】
上記生成ステップは、
ａ．上記層の第１の上記領域に向かって第１のエネルギー変換ビームを方向付け、
ｂ．また、上記層の第２の上記領域に向かって第２のエネルギー変換ビームを方向付け、
ｃ．上記第１及び第２のビームの大きさを制御し、
ｄ．上記第１の領域の第１のビームスポットに上記第１のビームを合焦し、上記第１のビームスポットは第１の断面直径を有し、
ｅ．また、上記第２の領域の第２のビームスポットに上記第２のビームを合焦し、上記第２のビームスポットは第２の断面直径を有し、上記第２の直径は上記第１の直径を拡張し、
ｆ．上記層と、上記層に実質的に平行な方向における上記第１及び第２のビームスポットとの間に関連ある動きを生成する、
ステップを含むことを特徴とする請求項４１に記載の方法。
【請求項４５】
上記第１の及び第２のビームスポットは実質的に同心円であることを特徴とする請求項４４に記載の方法。
【請求項４６】
上記方向付けステップは、
ａ．レーザを供給し、
ｂ．上記レーザにレーザビームを生成させるようにし、
ｃ．上記層に向かって上記レーザビームを照射する、
ステップを含むことを特徴とする請求項４２〜４５の何れか１項に記載の方法。
【請求項４７】
上記方向付けステップおよび、単一のレーザ源から生じるレーザビームを方向付けるステップを含むことを特徴とする請求項４４または４５に記載の方法。
【請求項４８】
選択的な復元データを含む構造体を生成する方法であって、上記方法は、
ａ．上記データを含むための上記構造体のデータ層を与え、
ｂ．上記データ層の第１のレベルを規定し、
ｃ．上記第１のレベルに実質的に平行でかつ第１の方向の上記第１のレベルから垂直に移動した上記データ層の第２のレベルを識別し、
ｄ．上記第１及び第２のレベルに実質的に平行し、上記第１の方向の上記第２のレベルから実質的に移動し、上記第１の方向の上記第１のレベルからさらに移動した、上記データ層の第３のレベルを明確にし、
ｅ．トラックの少なくとも一部分が、実質的に、
（１）長て方向であって、
（２）上記第１の方向に垂直する、
上記データ層に延長されたデータトラックを位置付け、
ｆ．上記データトラックのセグメントに、第１の特徴であって少なくともその一部分が、
（１）上記データトラックの上記部分に実質的に平行でかつ横方向に整合した第１の主軸と、
（２）上記主軸に実質的に垂直した垂直軸と、上記第１の特徴の上記部分が、上記垂直軸の方向に上記第２のレベルから上記第３のレベルまで延び、
（３）上記第２のレベルでよりも上記第３のレベルの方が小さな横方向の範囲と、
（４）微視的な第１の寸法値を有し、上記第２のレベルで、上記第１の特徴のある側から上記第１の特徴の反対の側まで、上記第１の方向に反対の垂直方向における上記第２のレベルからの上記第１の特徴の任意の変位を含む横方向の範囲と、
を備えた微視的に表示される第１の３次元特徴を形成し、
ｇ．また、上記データトラックの部分に、第２の特徴であって少なくともその一部分が、
（１）上記データトラックの上記部分及び上記第１の主軸に実質的に平行で、かつ横方向に整合した第２の主軸と、
（２）上記第２の主軸に実質的に垂直した垂直軸と、上記第２の特徴の上記部分が、上記垂直軸の方向に上記第１のレベルから上記第２のレベルまで延び、
（３）上記第１のレベルでよりも上記第２のレベルの方が小さな横方向の範囲と、
（４）微視的な第２の寸法値を有し、上記第１のレベルで、上記第２の特徴でのある側から上記第２の特徴の反対の側まで、上記垂直と反対方向における上記第２のレベルからの上記第２の特徴の任意の変位を含む、上記第２の寸法値が上記第１の寸法値よりも小さくない横方向の範囲と、
を備えた延長された第２の３次元特徴を形成するステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項４９】
構造体の層を生じさせる装置であって、上記層は第１の３次元特徴を含む主レベルを有し、上記装置は上記層に少なくとも１つの上記第１の３次元特徴を生成する第１の特徴生成手段を含み、上記第１の特徴の少なくとも一部分は、第１の方向の上記主レベルから実質的に延び、上記第１の特徴は上記主レベルに実質的に平行な主軸と、上記主軸に実質的に垂直でかつ上記主レベルに平行な横軸と、上記主軸と上記主レベルの両方に実質的に垂直な垂直軸とを有し、
上記第１の特徴は、
ａ．上記第１の特徴の横方向の範囲が、上記第１の方向で減少し、
ｂ．任意の部分が上記第１の方向と反対方向に延びることを包含しながら、上記第１の特徴でのある側で、上記第１の特徴が上記主レベルから変位を開始するポイントから、上記主レベルからの該変位が上記第１の特徴の反対側で終息するポイントまで測定された上記第１の特徴の横方向の範囲の外形は、実質的に不連続な斜面を表示せず、
ｃ．（１）上記第１のレベルの上記垂直軸に沿った範囲が、ほぼ０．２５ミクロンより大きくなく、
（２）上記横軸に沿った範囲が、ほぼ１ミクロンより大きくなく、
（３）上記主軸に沿った範囲が、上記横軸に沿った上記第１の特徴の範囲の少なくとも２倍である上記第１の特徴の範囲であり、
ｄ．上記第１の垂直方向における上記主レベルからの上記第１の特徴の最大変位の、上記垂直方向とは反対方向の変位に対する比率は、ほぼ０．２からほぼ５．０まで範囲を除くことを特徴とする装置。
【請求項５０】
上記比率は、さらに実質的に零値及び実質的に無限大値をさらに除くことを特徴とする請求項４９に記載の装置。
【請求項５１】
上記層は、実質的に一様な構成であることを特徴とする請求項４９に記載の装置。
【請求項５２】
ａ．上記構造体は、ディスクが選択的に回転される中心軸を有するディスクを含み、
ｂ．上記第１の特徴生成手段は、上記層で復元データを表すピットを作り出すためのピット生成手段を含み、
ｃ．上記第１の特徴生成手段は、長て方向で互いに幾何学的対称な上記ピットの先端を生じさせる手段を含むことを特徴とする請求項４９〜５１の何れか１項に記載の装置。
【請求項５３】
ａ．上記構造体は、ディスクが選択的に回転される中心軸を有するディスクを含み、
ｂ．上記第１の特徴生成手段は、上記層で復元データを表す隆起を作り出すための隆起生成手段を含み、
ｃ．上記第１の特徴生成手段は、長て方向で互いに幾何学的対称な上記隆起の先端を生じさる手段を含むことを特徴とする請求項４９〜５１の何れか１項に記載の装置。
【請求項５４】
ａ．上記構造体は、ディスクが選択的に回転される中心軸を有するディスクを含み、
ｂ．上記第１の特徴生成手段は、上記層で上記ディスクにおいて少なくとも１つの円弧に沿って延びる溝を作り出すための溝生成手段を含むことを特徴とする請求項４９〜５１の何れか１項に記載の装置。
【請求項５５】
上記第１の特徴生成手段は、上記層で上記第１の特徴の連続を作り出すための第１の多層特徴生成手段を含み、上記第１の特徴の初期の特徴は、上記層のランド領域によって連続の中の最も近接した第１の特徴から長て方向に分離されることを特徴とする請求項４９〜５１の何れか１項に記載の装置。
【請求項５６】
さらに、上記ランド領域に、第２の特徴を生成するための第２の特徴生成手段を含み、上記第２の特徴は、上記主レベルに平行な第２のレベルを含む延長された３次元の領域を含み、上記第２の特徴の少なくとも一部分は、上記第２のレベルから上記第１の方向の上記主レベルまで延び、上記第２の特徴は、初期の上記第１の特徴の主軸に実質的に平行で整合する主軸を有し、
任意の部分が上記第１の方向と反対方向に延びることを包含しながら、上記第２の特徴でのある側で、上記第２の特徴が上記第２のレベルから変位を開始するポイントから、上記第２のレベルからの該変位が上記第２の特徴の反対側で終息するポイントまで測定された上記第２の特徴の横方向の範囲は、初期の上記第１の特徴の上記横方向の範囲よりも小さくないことを特徴とする請求項４９〜５５の何れか１項に記載の装置。
【請求項５７】
ａ．上記層は、微視的特徴が熱に基づくプロセスによって格納される材料を含み、
ｂ．上記材料は、化学的分解のための第１の熱閾値と、可塑化のための第２の熱閾値を表し、上記第２の熱閾値は上記第１の熱閾値を上回り、
ｃ．上記材料は、
（１）紫外線回復の樹脂、
（２）触媒作用の回復樹脂、
（３）熱の回復樹脂、
より構成されるグループから選択された少なくとも１つの樹脂を含み、
ｄ．さらに、上記第１の特徴生成手段のアプリケーションに重要な上記樹脂を架橋させるための回復手段を含むことを特徴とする請求項４９〜５６の何れか１項に記載の装置。
【請求項５８】
上記第１の特徴生成手段は、上記層の上記第１の特徴を生成するためのエネルギービーム手段を含むことを特徴とする請求項４９〜５７の何れか１項に記載の装置。
【請求項５９】
上記エネルギービーム手段は、
ａ．上記層に向かってエネルギー変換ビームを方向付けるビーム方向付け手段と、
ｂ．上記ビームの大きさを制御する強度制御手段と、
ｃ．上記層のビームスポットに上記ビームを合焦させるビーム合焦手段と、
ｄ．上記層と上記層に実質的に平行な第２の方向の上記ビームスポットとの間に関連ある動きを生成するための関連動き生成手段と、
ｅ．上記層に実質的に平行でかつ上記第２の方向に垂直する第３の方向の上記ビームスポットをディザーさせるビームディザー手段と、
を含むことを特徴とする請求項５８に記載の装置。
【請求項６０】
上記エネルギービーム手段は、
ａ．上記層に向かって第１のエネルギー変換ビームを方向付け、かつ、上記層に向かって第２のエネルギー変換ビームを方向付けるビーム方向付け手段と、
ｂ．上記第１及び第２のビームの大きさを制御する強度制御手段と、
ｃ．上記層において第１のビームポットに上記第１のビームを合焦させる合焦手段と、上記第１のビームスポットは、第１の断面直径を有しかつ上記層の第２のビームスポットに上記第２のビームを合焦させ、上記第２のビームスポットは第２の断面直径を有し、上記第２の直径は上記第１の直径を上回り、
ｄ．上記層と、上記層に実質的に平行な第２の方向の上記第１及び第２のビームスポットとの間に関連ある動きを生成するための関連動き生成手段と、
を含むことを特徴とする請求項５８に記載の装置。
【請求項６１】
さらに、上記層の第２の特徴を生成するための第２の特徴生成手段を含み、
上記第２の特徴は、上記主レベルに平行な第２のレベルを含む３次元の領域を含み、上記第２の特徴の少なくとも一部分は、上記第２のレベルから上記第１の方向の上記主レベルまで延び、上記第２の特徴は、上記第１の特徴の主軸に実質的に平行で整合する主軸を有し、
任意の部分が上記第１の方向と反対方向に延びることを包含しながら、上記第２の特徴でのある側で、上記第２の特徴が上記第２のレベルから変位を開始するポイントから、上記第２のレベルからの該変位が上記第２の特徴の反対側で終息するポイントまで測定された上記第２の特徴の横方向の範囲は、上記第１の特徴の上記横方向の範囲よりも小さくないことを特徴とする請求項４９〜６０の何れか１項に記載の装置。
【請求項６２】
上記構造体のデータ層に含まれる選択的な復元データを生じさせるための装置であって、
上記データ層は、
ａ．第１のレベルと、
ｂ．実質的に上記第１のレベルに平行でかつ、第１の方向で上記第１のレベルから垂直に移動された第２のレベルと、
ｃ．実質的に上記第１と第２のレベルに平行で、上記第１の方向で上記第２のレベルから垂直に移動され、上記第１の方向で上記第１のレベルからさらに移動された第３のレベルと、
ｄ．少なくともその一部分が、実質的に、
（１）長て方向であって、
（２）上記第１の方向に垂直な、
延長されたデータトラックとを含むデータ層であり、
上記装置は、
ｅ．上記データトラックのセグメントにおいて、微視的にデータ表示する第１の３次元特徴であって、少なくともその一部分が、
（１）上記データトラックの上記部分に実質的に平行でかつ、横方向にほぼ整合した第１の主軸と、
（２）上記主軸に実質的に垂直な垂直軸と、上記垂直軸の方向に上記第２のレベルから上記第３のレベルまで延びた上記第１の特徴の上記部分と、
（３）上記第２のレベルでよりも上記第３のレベルの方が小さな横方向の範囲と、
（４）微視的な第１の寸法値を有し、上記第２のレベルで、上記第１での特徴のある側から上記第１の特徴の反対の側まで、上記反対の垂直方向における上記第２のレベルからの上記第１の特徴の任意の変位を含む横方向の範囲とを特徴として有する第１の特徴手段と、
ｆ．上記データトラックの部分において、第２の３次元特徴であって、その少なくとも一部分が、
（１）上記データトラックの上記部分及び上記第１の主軸に実質的に平行でかつ、横方向に整合した第２の主軸と、
（２）上記第２の主軸に実質的に垂直な垂直軸と、上記垂直軸の方向に上記第１のレベルから上記第２のレベルまで延びた上記第２の特徴の上記部分と、
（３）上記第１のレベルでよりも上記第２のレベルの方が小さな横方向の範囲と、
（４）微視的な第２の寸法値を有し、上記第１のレベルで、上記第２の特徴でのある側から上記第２の特徴の反対の側まで、上記反対の垂直方向における上記第２のレベルからの上記第２の特徴の任意の変位を含む横方向の範囲と、上記第２の寸法値は上記第１の寸法値よりも小さくないことを特徴として有する第２の３次元特徴を包含する第２の特徴手段と、
により構成されることを特徴とする装置。