【手続補正書】
【提出日】平成17年1月18日(2005.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一緒になって反応性カチオン及び非配位アニオンを形成する開始剤と活性剤を含むカチオン重合触媒系の存在下、大気圧より低い圧力で、少なくとも1つのカチオン重合性オレフィンを重合する工程を含み、活性剤は、式：(R1R2R3)M
［式中、M は B、Al、Ga または In であり、
R1、R2 または R3 は、独立して、架橋または未架橋ハロゲン化物基、ジアルキルアミド基、アルコキシド基及びアリールオキシド基、炭化水素基及び置換炭化水素基、含ハロゲン炭化水素基及び置換含ハロゲン炭化水素基、並びに炭化水素-及び含ハロゲン炭化水素-置換有機メタロイド基から選ばれる。ただし、1つ以下の R 基はハロゲン化物基であってよい。］
で示される化合物と、アルコール、チオール、カルボン酸、チオカルボン酸などからなる群から選ばれる共開始剤との反応によって調製される、カチオン重合性オレフィンの重合方法。
【請求項２】
反応性カチオンが、
【化１】
2004520467.tif 000001
［式中、(A-Cp) は (Cp)(Cp＊) または Cp-A'-Cp＊ であり；
Cp 及び Cp＊ は、0〜5個の置換基 S で置換されている同じまたは異なるシクロペンタジエニル環であり、ここで、各置換基 S は、独立して、炭化水素、置換炭化水素、含ハロゲン炭化水素、置換含ハロゲン炭化水素、炭化水素置換有機メタロイド、含ハロゲン炭化水素置換有機メタロイド、二置換ホウ素、二置換プニクトゲン、置換カルコゲンまたはハロゲン化物基を含む群から選ばれる基であり、または、Cp 及び Cp＊ は、いずれか2つの隣接 S 基が、飽和または不飽和の多環シクロペンタジエニル配位子を与えるように C4〜C20 環系を形成して結合しているシクロペンタジエニル環であり；
R は、金属原子とも結合している、シクロペンタジエニル基上の1つの置換基であり；
A' は、Cp 及び Cp＊ 環または (C5H5-y-xSx) 及び JR'(z-1-y) 基の回転を制限し得る架橋基であり；
M は、4、5または6族遷移金属であり；
y は、0または1であり；
(C5H5-y-xSx) は、0〜5個の S 基で置換されたシクロペンタジエニル環であり；
x は、0〜5であり；
JR'(z-1-y) は、J が配位数3の15族元素または配位数2の16族元素で、好ましくは窒素、リン、酸素または硫黄であるヘテロ原子配位子であり；
R" は、炭化水素基であり；
X 及び X1 は、独立して、水素化物基、炭化水素基、置換炭化水素基、含ハロゲン炭化水素基、置換含ハロゲン炭化水素基、並びに炭化水素-及び含ハロゲン炭化水素-置換有機メタロイド基、置換プニクトゲン基、または置換カルコゲン基であり；
L は、オレフィン、ジオレフィンまたはアリーン配位子、もしくは中性ルイス塩基である。］
からなる群から選ばれるシクロペンタジエニル遷移金属錯体である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
開始剤と活性剤を含むカチオン重合触媒系の存在下、少なくとも1つのカチオン重合性オレフィンを重合する工程を含み、活性剤は、式：(R1R2R3)M
［式中、M は B、Al、Ga または In であり、
R1、R2 または R3 は、独立して、架橋または未架橋ハロゲン化物基、ジアルキルアミド基、アルコキシド基及びアリールオキシド基、炭化水素基及び置換炭化水素基、含ハロゲン炭化水素基及び置換含ハロゲン炭化水素基、並びに炭化水素-及び含ハロゲン炭化水素-置換有機メタロイド基から選ばれる。ただし、1つ以下の R 基はハロゲン化物基であってよい。］
で示される化合物と、アルコール、チオール、カルボン酸、チオカルボン酸などからなる群から選ばれる共開始剤との反応によって調製され、この反応は反応混合物の高い有効冷却を生じる、カチオン重合性オレフィンの重合方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本発明及びその好ましい実施態様は以下のとおりである。
１．
一緒になって反応性カチオン及び非配位アニオンを形成する開始剤と活性剤を含むカチオン重合触媒系の存在下、大気圧より低い圧力で、少なくとも1つのカチオン重合性オレフィンを重合する工程を含み、活性剤は、式：(R1R2R3)M
［式中、M は B、Al、Ga または In であり、
R1、R2 または R3 は、独立して、架橋または未架橋ハロゲン化物基、ジアルキルアミド基、アルコキシド基及びアリールオキシド基、炭化水素基及び置換炭化水素基、含ハロゲン炭化水素基及び置換含ハロゲン炭化水素基、並びに炭化水素-及び含ハロゲン炭化水素-置換有機メタロイド基から選ばれる。ただし、1つ以下の R 基はハロゲン化物基であってよい。］
で示される化合物と、アルコール、チオール、カルボン酸、チオカルボン酸などからなる群から選ばれる共開始剤との反応によって調製される、カチオン重合性オレフィンの重合方法。
２．
M が B である前記１項に記載の方法。
３．
共開始剤の (R1R2R3)M に対する比率が0.01：1〜1：1の範囲である、前記１項に記載の方法。
４．
共開始剤の (R1R2R3)M に対する比率が約0.1：1〜約1：1の範囲である、前記３項に記載の方法。
５．
反応性カチオンがシクロペンタジエニル遷移金属錯体である、前記１項に記載の方法。
６．
遷移金属錯体が、
【化２】
2004520467.tif 000002
［式中、(A-Cp) は (Cp)(Cp＊) または Cp-A'-Cp＊ であり；
Cp 及び Cp＊ は、0〜5個の置換基 S で置換されている同じまたは異なるシクロペンタジエニル環であり、ここで、各置換基 S は、独立して、炭化水素、置換炭化水素、含ハロゲン炭化水素、置換含ハロゲン炭化水素、炭化水素置換有機メタロイド、含ハロゲン炭化水素置換有機メタロイド、二置換ホウ素、二置換プニクトゲン、置換カルコゲンまたはハロゲン化物基を含む群から選ばれる基であり、または、Cp 及び Cp＊ は、いずれか2つの隣接 S 基が、飽和または不飽和の多環シクロペンタジエニル配位子を与えるように C4〜C20 環系を形成して結合しているシクロペンタジエニル環であり；
R は、金属原子とも結合している、シクロペンタジエニル基上の1つの置換基であり；
A' は、Cp 及び Cp＊ 環または (C5H5-y-xSx) 及び JR'(z-1-y) 基の回転を制限し得る架橋基であり；
M は、4、5または6族遷移金属であり；
y は、0または1であり；
(C5H5-y-xSx) は、0〜5個の S 基で置換されたシクロペンタジエニル環であり；
x は、0〜5であり；
JR'(z-1-y) は、J が配位数3の15族元素または配位数2の16族元素で、好ましくは窒素、リン、酸素または硫黄であるヘテロ原子配位子であり；
R" は、炭化水素基であり；
X 及び X1 は、独立して、水素化物基、炭化水素基、置換炭化水素基、含ハロゲン炭化水素基、置換含ハロゲン炭化水素基、並びに炭化水素-及び含ハロゲン炭化水素-置換有機メタロイド基、置換プニクトゲン基、または置換カルコゲン基であり；
L は、オレフィン、ジオレフィンまたはアリーン配位子、もしくは中性ルイス塩基である。］
からなる群から選ばれる化合物である前記５項に記載の方法。
７．
R1、R2 及び R3 が、独立して、6〜20個の炭素原子を有する芳香族または置換芳香族炭化水素基から選ばれ、平面架橋基によって互いに架橋され得る前記１項に記載の方法。
８．
R1、R2 及び R3 が各々 C6F5 基である前記２項に記載の方法。
９．
共開始剤がフッ素化されている前記１項に記載の方法。
１０．
反応を-100℃より高い温度で行う前記１項に記載の方法。
１１．
大気圧より低い圧力が約100 kPa 未満である前記１項に記載の方法。
１２．
少なくとも1つのカチオン重合性オレフィンが、イソブチレン及びイソプレンの混合物を含む前記１項に記載の方法。
１３．
開始剤と活性剤を含むカチオン重合触媒系の存在下、少なくとも1つのカチオン重合性オレフィンを重合する工程を含み、活性剤は、式：(R1R2R3)M
［式中、M は B、Al、Ga または In であり、
R1、R2 または R3 は、独立して、架橋または未架橋ハロゲン化物基、ジアルキルアミド基、アルコキシド基及びアリールオキシド基、炭化水素基及び置換炭化水素基、含ハロゲン炭化水素基及び置換含ハロゲン炭化水素基、並びに炭化水素-及び含ハロゲン炭化水素-置換有機メタロイド基から選ばれる。ただし、1つ以下の R 基はハロゲン化物基であってよい。］
で示される化合物と、アルコール、チオール、カルボン酸、チオカルボン酸などからなる群から選ばれる共開始剤との反応によって調製され、この反応は反応混合物の高い有効冷却を生じる、カチオン重合性オレフィンの重合方法。
本発明の態様を、以下の実施例を参照して説明するが、これは説明の目的で提供するのみで、本発明の範囲を限定するのに用いられるべきではない。