Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月15日(2004.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  パイプに熱プラスチックコーティングを形成し、このコーティングを冷却するための方法であって、
各々が軸を有する複数のパイプ（１１，１２）と、搬送されてきたパイプに熱プラスチックコーティングを形成するコーティング処理ステーション（１７）とを準備する工程と、
前記パイプを、前記コーティング処理ステーションから長手方向に離れた領域の所で、隣り合うパイプ間にギャップが生じるように、各パイプの軸と平行な長手方向に前記コーティング処理ステーションを通過させて搬送させるための搬送装置（１３，１４）を適用する工程と、
前記コーティング処理ステーションの近くでパイプ内を通る冷却媒体供給装置（１８，２１，２２，２３，２４，２８）を与える工程であって、前記冷却媒体供給装置は、この冷却媒体供給装置が、パイプの周囲の設備に対する静止位置を維持するようにパイプの軸に対して傾斜したローラ部材（１９）上でパイプ（１２）内で延びており、また、この冷却媒体供給装置は、加圧冷却媒体のリザーバ（１７）を支持しているカート（１８）と、前記リザーバから長手方向に延びている再充填ランス（２８）とを有する、と、
前記長手方向に平行で往復する加圧冷却媒体の通過を可能にし、また、結合部（２７）を有し、この結合部が、前記パイプから横方向外方に離間した引っ込み位置と、結合部が前記再充填ランスとアラインメントする伸張位置との間で移動可能である再充填装置（２６）を与える工程と、
熱プラスチックコーティングをパイプに与えるために、前記パイプ（１１，１２）を搬送装置により、前記コーティング処理ステーションを連続して通るように搬送する工程と、
前記コーティング処理ステーションの下流で、各パイプの内面に、前記冷却媒体供給装置のリザーバから冷却媒体を連続的に与えて前記コーティングを冷却する工程と、
前記パイプ間のギャップの近くで、前記結合部を前記伸張位置に移動させ、前記結合部（２７）を前記ランス（２８）と係合させるように、第１の長手方向に結合部と共に再充填装置（２６）を移動させ、この再充填装置を介して加圧冷却媒体を流して前記リザーバ（２４）ら再充填し、前記ランスから結合部を非結合とするように、前記第１の長手方向とは反対の方向に再充填装置を移動させ、そして、前記結合部を引っ込め位置に移動させることにより、前記リザーバ（２４）を間欠的に再充填する工程とを具備する方法。
【請求項２】  前記冷却する工程において、冷却媒体が供給されてるときに、前記コーティングは、ほぼ全体に渡って流動状態である請求項１の方法。
【請求項３】  前記冷却媒体が供給されるときに、前記コーティングは、これが形成された温度とほぼ同じである請求項１もしくは２の方法。
【請求項４】  パイプへの冷却媒体の供給は、コーティングがパイプの後部になされているときに始められる請求項１ないし３のいずれか１の方法。
【請求項５】  前記搬送装置を適用する工程において、前記搬送装置は、前記コーティング処理装置の下流に離間した所でパイプと接触する搬送部材（１４ａ）を有し、また、前記冷却媒体は、コーティングが形成されたパイプ（１２）が搬送部材（１４ａ）と接触する前記場所とコーティング処理ステーション（１７）との間の領域（２３）で、前記パイプの内部に与えられる請求項１ないし４のいずれか１の方法。
【請求項６】  前記パイプは、これの軸を中心として回転される請求項１ないし５のいずれか１の方法。
【請求項７】  前記冷却媒体は、水である請求項１ないし６のいずれか１の方法。
【請求項８】  前記冷却する工程において、前記冷却媒体は、パイプの長手方向にのびた領域（２３）に連続的に沿った内面に均一に供給される請求項１ないし７のいずれか１の方法。
【請求項９】  コーティング処理ステーションを準備する工程において、このステーションは、粉末が供給されるコーティングもしくは突き出しコーティングを形成する請求項１ないし８のいずれか１の方法。
【請求項１０】  前記冷却媒体供給装置を与える工程において、前記パイプは、金属パイプである請求項１ないし９のいずれか１の方法。
【請求項１１】  前記金属パイプは、スチールパイプである請求項１０の方法。
【請求項１２】  前記金属パイプは、外部に盛り上がった溶接部を有する請求項１０もしくは１１の方法。
【請求項１３】  前記溶接部は、これの上面に凸湾曲部と、溶接のネック部に凹湾曲部とを有する請求項１２の方法。
【請求項１４】  前記再充填装置（２６）は、前記コーティング処理ステーション（１７）の下流に設けられている請求項１ないし１３のいずれか１の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月14日(2004.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも一つの粒子性免疫原、およびＡサブユニットもしくは毒性ＬＴホロトキシンを全く含まない大腸菌（E. coli）に特徴的な易熱性エンテロトキシンのＢサブユニット（ＬＴＢ）のアジュバント作用性量を含んでなり、かつ、該少なくとも一つの粒子性免疫原は該Ｂサブユニットに共有結合していないものである、粘膜投与用のワクチン。
【請求項２】  ＬＴＢが組換えＤＮＡ法により調製される、請求項１に記載のワクチン。
【請求項３】  ウイルスもしくは細菌もしくは真菌類の抗原が免疫原として用いられる、請求項１〜２のいずれかに記載のワクチン。
【請求項４】  免疫原が、粘膜感染により伝播する疾患に対する免疫感作を提供する、請求項１〜３のいずれかに記載のワクチン。
【請求項５】  インフルエンザ抗原が免疫原として用いられる、請求項４に記載のワクチン。
【請求項６】  有効成分として、少なくとも一つの粒子性免疫原、およびＡサブユニットもしくは毒性ＬＴホロトキシンを全く含まない大腸菌（E. coli）に特徴的な易熱性エンテロトキシンのＢサブユニット（ＬＴＢ）のアジュバント作用性量を含んでなり、かつ、該少なくとも一つの粒子性免疫原は該Ｂサブユニットに共有結合していないものである、ことを特徴とする、ある免疫原に対する全身性免疫グロブリン応答の誘導用製薬学的製剤。
【請求項７】  有効成分として、少なくとも一つの粒子性免疫原、およびＡサブユニットもしくは毒性ＬＴホロトキシンを全く含まない大腸菌（E. coli）に特徴的な易熱性エンテロトキシンのＢサブユニット（ＬＴＢ）のアジュバント作用性量を含んでなり、かつ、該少なくとも一つの粒子性免疫原は該Ｂサブユニットに共有結合していないものである、ことを特徴とする、ある免疫原に対する一般的粘膜免疫応答の誘導用製薬学的製剤。
【請求項８】  Ａサブユニットもしくは毒性LTホロトキシンを全く含まない大腸菌（E. coli）に特徴的な易熱性エンテロトキシンのＢサブユニット（ＬＴＢ）の、粒子状免疫原、および粘膜投与により個体内での前記免疫原に対する全身性免疫グロブリン応答の誘導に適する前記ＬＴＢのアジュバント作用性量を含むワクチン調製物であって、前記免疫原が前記Ｂサブユニットに共有結合していないものであるワクチン調製物を調製する際の使用。
【請求項９】  Ａサブユニットもしくは毒性ＬＴホロトキシンを全く含ない大腸菌（E. coli）に特徴的な易熱性エンテロトキシンのＢサブユニット（ＬＴＢ）の、粒子状免疫原、および粘膜投与により個体内での前記免疫原に対する一般的粘膜免疫応答の誘導に適する前記ＬＴＢのアジュバント作用性量を含むワクチン調製物であって、前記免疫原が前記Ｂサブユニットに共有結合していないものであるワクチン調製物を調製する際の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月11日(2005.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】装着物品及び汚染制御装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  汚染制御装置のハウジング内に汚染制御要素を装着するために使用される装着物品であって、
主上面、主底面、厚さ、長さおよび幅を有するシート材料を具備し、該シート材料は、その長さ方向へ前記汚染制御要素に巻き付けられて該汚染制御要素を該ハウジング内に装着する寸法を有するとともに、該主上面および該主底面の少なくとも一方に少なくとも１本の切れ目線を有し、
前記少なくとも１本の切れ目線は、前記シート材料の全幅に渡って前記長さに直交する方向へ延び、それにより、該シート材料が前記長さ方向へ前記汚染制御要素に巻き付けられて該汚染制御要素を前記ハウジング内に装着するときに、前記主上面および前記主底面の少なくとも一方に生じる張力を少なくとも低減すること、
を特徴とする装着物品。
【請求項２】  前記シート材料は、前記主上面および前記主底面の少なくとも一方に少なくとも２本の切れ目線を有する、請求項１に記載の装着物品。
【請求項３】  前記シート材料は、第２シート材料の複数のストリップを支持可能な表面を有するシート材料層を具備し、該第２シート材料の複数のストリップは、互いに隣接して該シート材料層の該表面に取り付けられ、それにより前記少なくとも１本の切れ目線が形成される、請求項１に記載の装着物品。
【請求項４】  汚染制御装置であって、
ハウジングと、該ハウジング内に配置される汚染制御要素と、該汚染制御要素と該ハウジングとの間に配置される装着物品とを具備し、
前記装着物品は、主上面、主底面、厚さ、長さおよび幅を有するシート材料を具備し、該シート材料は、その長さ方向へ前記汚染制御要素に巻き付けられて該汚染制御要素を該ハウジング内に装着するとともに、該主上面および該主底面の少なくとも一方に少なくとも１本の切れ目線を有し、
前記少なくとも１本の切れ目線は、前記シート材料の全幅に渡って前記長さに直交する方向へ延び、それにより、前記主上面および前記主底面の少なくとも一方に生じる張力を少なくとも低減すること、
を特徴とする汚染制御装置。
【請求項５】  前記シート材料は、前記主上面および前記主底面の少なくとも一方に少なくとも２本の切れ目線を有する、請求項４に記載の汚染制御装置。
【請求項６】  前記シート材料は、第２シート材料の複数のストリップを支持可能な表面を有するシート材料層を具備し、該第２シート材料の複数のストリップは、互いに隣接して該シート材料層の該表面に取り付けられ、それにより前記少なくとも１本の切れ目線が形成される、請求項４に記載の汚染制御装置。
【請求項７】  前記シート材料は、前記主底面に前記少なくとも１本の切れ目線を有し、該主底面が前記汚染制御要素に対面して配置される、請求項４に記載の汚染制御装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月22日(2005.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  絶縁性のガスケットによりシールされた２つの部分からなる導電性ハウジングを有し、一方のハウジング部分が一方の電極と関係付けられたカップであり、他方のハウジング部分が他方の電極と関連付けられた缶である小型ガルヴァーニ電池であって、前記ガスケットが、少なくとも一方のハウジング部分の内表面に渡って延びて、該ハウジング部分とこれに関連付けられた電極との間の絶縁層を形成し、集電体が、前記ハウジング部分からこれに関連付けられた電極へ前記絶縁層の開口部を通って延び、前記缶が、前記ガスケットに固定されて電池をシールする、前記ガルヴァーニ電池。
【請求項２】  前記ガスケットが、少なくとも前記カップの内表面に渡って延び、前記集電体が該カップと電気的に接触している、請求項１に記載のガルヴァーニ電池。
【請求項３】  前記ガスケットが、さらに集電体の一部に渡って延びている、請求項２に記載のガルヴァーニ電池。
【請求項４】  前記カップ及び前記集電体が単一の部材である、請求項２に記載のガルヴァーニ電池。
【請求項５】  前記カップ及び前記集電体が２つの部材である、請求項２に記載のガルヴァーニ電池。
【請求項６】  前記集電体が、ワイヤ状、爪状、または円筒状の部材である、請求項５に記載のガルヴァーニ電池。
【請求項７】  前記ガスケットが単一の材料で作製されている、請求項１〜６のいずれか１項に記載のガルヴァーニ電池。
【請求項８】  前記ガスケットが、少なくとも２つの分離されたセグメントで作製されている、請求項１〜６のいずれか１項に記載のガルヴァーニ電池。
【請求項９】  前記ガスケットが、合成ゴム、フッ化ビニリデン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、シリコーン、ポリプロピレン、及び四フッ化エチレンポリマーから選ばれる材料で作製されている、請求項１〜８のいずれか１項に記載のガルヴァーニ電池。
【請求項１０】  前記電極内に配置された集電体の表面積が、前記ガスケットの内表面積の２５％未満、好ましくは１０％未満、さらに好ましくは７％未満である、請求項１〜９のいずれか１項に記載のガルヴァーニ電池。
【請求項１１】  前記電池が空気減極電池、好ましくは亜鉛−空気電池である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のガルヴァーニ電池。
【請求項１２】  請求項１に記載のガルヴァーニ電池であって、
ａ） ある極性を有する第１の電極；
ｂ） 反対の極性を有する第２の電極；
ｃ） 第１の電極と第２の電極との間のセパレータ；
ｄ） 電解質；
ｅ） 第１の電極、第２の電極、セパレータ、及び電解質を収容する、２つの部分からなる導電性ハウジングであって、該ハウジングの第１の部分は、開口部を規定する端部を伴う壁を有する導電性の缶であって、一方の電極と電気的に接続されており、該ハウジングの第２の部分は、周縁フランジを有する導電性のカップであって、他方の電極と電気的に接続されている、前記ハウジング；
ｆ） ベースセグメント、該ベースセグメント中の開口部を規定する内壁、及び周縁壁を備えたガスケットであって、該ガスケットの周縁壁が缶の壁に近接して配置されており、缶の端部がガスケットに対してシールされており、これによって缶をガスケットに固定して、電池のためのシールを付与している、前記ガスケット；及び、 ｇ） 該ガスケットのベースセグメント中の開口部を通って延び、一方の電極と一方の末端で電気的に接触し、前記カップと他方の末端で電気的に接触している、集電体部材、を備えた、前記ガルヴァーニ電池。
【請求項１３】  前記ガスケットの周縁壁がその内部に環状の溝を有し、前記カップのフランジが該溝に固定されている、請求項１２に記載のガルヴァーニ電池。
【請求項１４】  前記カップのフランジが、カップの壁の上に前記溝に固定された湾曲したセグメントを形成し、該溝の深さが少なくとも該湾曲したセグメントの長さである、請求項１３に記載のガルヴァーニ電池。
【請求項１５】  前記周縁壁、内壁、及びベースセグメントが、ガスケットのための内表面積を規定し、前記集電体が、ガスケットの内表面積の２５％未満の第２の電極内に配置された表面積を有する、請求項１２〜１４のいずれか１項に記載のガルヴァーニ電池。
【請求項１６】  請求項１２〜１５のいずれか１項に記載されているガスケットであって、小型電池用の前記ガスケット。
【請求項１７】  小型電池の構成要素を、一方の部分がカップであり他方の部分が缶である２つの部分からなるハウジング内に組立てる方法であって、次の工程：
（ａ） 開口部を規定している端部で終わっている周縁壁を有する導電性の缶を用意する工程；
（ｂ） ベースセグメント、内部に溝を有する周縁壁、及び開口部を規定している内壁を有する、ガスケットを用意する工程；
（ｃ） 周縁フランジを伴う導電性のカップを用意する工程；
（ｄ） 集電体を、ガスケットの開口部を通してその内部に配置し、カップのフランジを溝の内部に配置し、カップをガスケットに固定して、フランジがガスケットの溝の内部に固定されるようにする工程；
（ｅ） 少なくとも２個の電極及び電解質を含む電池の構成要素を、缶及びカップの内部に配置して、缶の壁をガスケットの周縁壁と平行に整合させる工程；及び、
（ｆ） 缶の壁を、ガスケットの壁に対して固定して、シールされた電池を製造する工程、を含む、前記組立方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月16日(2004.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  Ａ．（ｉ）ＣＯ2供与体および（ｉｉ）酸性成分を含有する発泡性組成物、
Ｂ．製薬有効物質、および
Ｃ．補助物質、
からなる薬物含有発泡性製剤の製造方法であって、
２種の成分Ａ（ｉ）およびＡ（ｉｉ）の少なくとも１種、および適当な場合には、他の発泡性製剤成分を、融解されたＣ）糖および／または糖アルコールおよび／または糖代用品中に分散し、こうして得られる混合物を、適当な場合には打錠することを特徴とする方法。
【請求項２】  Ａ．（ｉ）ＣＯ2供与体および（ｉｉ）酸性成分を含有する発泡性組成物、
Ｂ．製薬有効物質、および
Ｃ．補助物質、
からなる発泡性製剤であって、
補助物質Ｃが、融解しうる糖および／または糖アルコールおよび／または糖代用品を含み、そして成分Ａ（ｉ）および／またはＡ（ｉｉ）が、融解しうる糖および／または糖アルコールおよび／または糖代用品のマトリックス中に分散されていることを特徴とする製剤。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成16年2月5日(2004.2.5)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリント回路基盤の製造における、特に伝導性ポリマー層を設け、次いで金属被覆を行うことにより顕微鏡でしか見えない穴及び微細な形状を有するプリント回路基盤の製造におけるポリマー表面を有する基板の被覆方法であって、電気伝導性ポリマー層が金属被覆段階の前に好ましくは錫含有コロイダルパラジウム溶液によってドープ処理される方法であり、電気伝導性ポリマーが３，４−エチレンジオキシチオフェンであり、且つ金属被覆の前に銅（ＩＩ）塩溶液との接触が行われることを特徴とする方法。
【請求項２】
基板表面が、電気伝導性ポリマー層を設ける前に少なくとも１回、以下の段階に付されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
ａ）水性濾過液、有機溶剤、又はアルカリ溶剤による膨潤；
ｂ）アルカリ過マンガン酸塩溶液による処理；及び
ｃ）還元剤による処理
【請求項３】
基板表面が、段階ａ）の前に、ブラッシング、サンドブラスト、軽石ブラッシング、又は軽石ブラストによって機械的に凹凸付けがされることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記方法が水平に行われることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００１】
本発明は、プリント回路基盤(printed circuit boards)の製造において、特に、伝導性ポリマー層を設け、次いで金属被覆(metallization)を行うことにより顕微鏡でしか見えない(microscopic)穴及び微細な形状を有するプリント回路基盤の製造において、ポリマー表面を有する基板を金属を用いて被覆するための方法であって、伝導性ポリマー層が金属被覆段階の前に、好ましくは錫含有コロイダルパラジウム溶液によってドープ処理される方法に関する。特に、顕微鏡でしか見えない穴及び微細な形状を有するプリント回路基盤は、いわゆるメッキ(build-up)技術によって製造される。一般に、この技術において両表面上に仕上げ処理を施された回路は、芯として用いられ、そして従来技術により、例えば、写真平版技術又はレーザーによって顕微鏡でしか見えない穴が作られたポリマーにより被覆され、いわゆるブラインドバイアス(blind vias)のような前記顕微鏡でしか見えない穴によって、ほぼ伝導体の水準に達する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月29日(2005.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  互いに隣接した複数のサーボフレームを含む少なくとも１本の長手方向に設けられたサーボストライプを具有する磁気テープにおいて、各該サーボフレームが：
第１の周波数が書き込まれた第１の部分、及び所定パターンの消去周波数が書き込まれた第２の部分を有するエリアと；
テープヘッドを基準とする磁気テープ上のサーボフレームの長手方向位置を指示するデータ信号が書き込まれた該エリアと異なるデータフィールドと；
を具有することを特徴とする磁気テープ。
【請求項２】  第１の所定数の隣り合ったサーボフレームのデータ信号が所定順序のデータ信号として書き込まれて位置カウントフィールドを形成することを特徴とする請求項１記載のある長さを有する磁気テープ。
【請求項３】  位置カウントフィールドの後に続く第２の所定数の隣り合ったサーボフレームのデータ信号が所定順序のデータ信号として書き込まれて同期化フィールドを形成することを特徴とする請求項２記載のある長さを有する磁気テープ。
【請求項４】  上記所定順序のデータ信号が長手方向位置の２進コード化形をなし、
上記位置カウントフィールドにおける上記所定順序のデータ信号が、さらに、誤り訂正コードを形成するもう１つの順序を具有し、
上記誤り訂正コードが６ビットのハミングコードを含むことを特徴とする請求項２記載のある長さを有する磁気テープ。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月21日(2003.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロチャンネル構造体の形をした凹みを有する１枚またはそれ以上の互いに重ね合わされた重合体フィルムから成り、開いたチャンネルがフィルムの上側および下側において或いはフィルム積層体の上側および下側において上部および下部の密封層によって密封され、該密封層の少なくとも一つは少なくとも一つのマイクロチャンネルへの出入口を少なくとも二つ含んでいることを特徴とするマイクロチャンネル・システムをもった重合体材料からつくられたモジュール。
【請求項２】
フィルムは可視または赤外領域の波長をもった輻射線を吸収することを特徴とする請求項１記載のモジュール。
【請求項３】
フィルムの厚さは１０〜１０００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍ、特に好ましくは２５〜７５μｍであることを特徴とする請求項１又は２に記載のモジュール。
【請求項４】
チャンネルの長さは１〜１００ｍｍ、好ましくは５〜５０ｍｍであり、チャンネルの幅は好ましくは１μｍ〜５ｍｍであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１に記載のモジュール。
【請求項５】
マイクロチャンネルに対する出入口の上で、一つまたは両方の密封層のチャンネルから遠い方に面した側面に、試料の容器、試薬の容器、および／または緩衝液の容器が存在することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１に記載のモジュール。
【請求項６】
マイクロチャンネルの重なり合った区域または密封層の内部の直接出入口において、外側の密封層とフィルムとの間或いは２枚のフィルムの間のマイクロチャンネルへの出入口の区域に、１枚またはそれ以上の分離膜が存在することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１に記載のモジュール。
【請求項７】
１枚またはそれ以上のフィルムがミクロ構造化され、１枚のミクロ構造化されたフィルムを密封層に接合するか、或いは２枚またはそれ以上の互いに重なり合ったミクロ構造化されたフィルムを互いにおよび密封層と接合し、ミクロ構造化されたフィルム中のチャンネルを密封することを特徴とする請求項１記載の重合体材料からつくられたモジュールの製造法。
【請求項８】
フィルムのミクロ構造化はエッチング、レーザーによる切除、スタンピングおよび／または切削によって行うことを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項９】
フィルムに予備的な張力をかけ、そして個々のチャンネルを平行に配置した二つのナイフで長手方向に切削し、この際ナイフの間の距離はチャンネルの幅に対応するようにし、チャンネルの横方向の境界は切削または穿孔によってつくることを特徴とする請求項８記載の方法。
【請求項１０】
フィルムおよび密封層を加圧、接着または熔接によって互いに接合することを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項１１】
使用する密封層は、ネジ止めまたはボルト止め、クリップ止め、クランプ止め、リベット止めまたは熔接によって接合されており、且つ密封層の間にあるフィルムに圧力を及ぼす固いシートから成っていることを特徴とする請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
フィルムを密封層に接合する前に、分離膜を使用することを特徴とする請求項７〜１１のいずれか１に記載のモジュールの製造法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月27日(2004.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）近臨界流体又は第１超臨界流体であるビヒクル中に溶解している目的物質を含有する目的溶液を調製すること、
（ｂ）前記目的溶液を、粒子形成容器に導入すること、及び
（ｃ）前記粒子形成容器において、第２超臨界流体が前記目的溶液から前記目的物質の粒子を沈殿させる条件で、前記目的溶液を前記第２超臨界流体と接触させること、
を含み、前記第２超臨界流体が前記ビヒクルと混和可能又は実質的に混和可能であり、且つ前記目的物質が前記第２超臨界流体に不溶性又は実質的に不溶性である、目的物質の粒子を製造する方法。
【請求項２】  前記目的溶液と前記第２超臨界流体とを共に、１つの流体入口手段を経由させて前記粒子形成容器に導入し、ここで前記流体入口手段は、これら両方の流体を同じ又は実質的に同じ箇所で前記容器に入れることを可能にし、この箇所が、これらの流体が出合う箇所、及び前記第２超臨界流体が前記目的溶液を分散させ、前記目的溶液から沈殿をもたらす箇所と同じ又は実質的に同じである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記第２超臨界流体と前記目的溶液とを共に、同軸又は実質的に同軸の流れで前記粒子形成容器に導入し、前記流体入口手段としては、前記粒子形成容器の内側に導通している出口端及びこの出口端において互いに近接又は実質的に近接して終わっている２又はそれよりも多い同軸流路を有するノズルを使用し、前記流路のうちの少なくとも１つが、前記第２超臨界流体の流れを導入し、前記流路のうちの少なくとも１つが、前記目的溶液の流れを導入する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】  前記ビヒクルが超臨界流体である、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】  前記ビヒクルが超臨界二酸化炭素である、請求項４に記載の方法。
【請求項６】  前記ビヒクルが１又は複数の改質剤を含む、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】  前記第２超臨界流体が超臨界窒素である、請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】  前記第２超臨界流体が超臨界希ガスである、請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項９】  前記第２超臨界流体が前記目的溶液に接触するとき又はその直前に測定した場合に、前記粒子形成容器に入る前記第２超臨界流体の流量が、前記目的溶液の流量よりも多い、請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】  前記第２超臨界流体と前記目的溶液の流量を、前記ビヒクルが、これらの流体が互いに接触するときに形成される流体混合物の１〜２０ｍｏｌ％を構成するようにする、請求項１〜９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】  前記目的物質を前記ビヒクルに直接に溶解し、得られた溶液を粒子形成容器に導入して、前記第２超臨界流体に接触させることを含む、請求項１〜１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】  前記ビヒクルよりも前記目的物質を溶解する主溶媒中で、前記目的物質を含有する主溶液を形成し、この主溶液を、前記ビヒクル又は亜臨界の前記ビヒクルに溶解させ、そして超臨界流体又は近臨界流体の状態の得られた溶液を、前記粒子形成容器において第２超臨界流体と接触させることを含む、請求項１〜１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】  流体入口手段を使用して前記主溶液を前記ビヒクルと共に流体混合容器に分散させることによって、前記主溶液を前記ビヒクルに溶解させ、ここで前記流体入口手段は、前記主溶液及びビヒクルの両方を、同じ又は実質的に同じ箇所で前記容器に導入することを可能にし、この箇所は、これらの溶液及びビヒクルが出合う箇所と同じ又は実質的に同じであり、また前記流体入口手段は、これらの流体が流体混合容器に入る箇所又は実質的にこの箇所で、前記ビヒクルが前記主溶液を分散させることを可能にする、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  粒子形成容器、
前記粒子形成容器の温度及び圧力を制御して所望のレベルにする制御手段、
流体混合容器、
前記流体混合容器の温度及び圧力を制御して所望のレベルにする制御手段、
ビヒクルと主溶媒中に目的物質を含有する主溶液とを、前記流体混合容器に導入して、この流体混合容器において、前記ビヒクル中に前記目的物質及び前記主溶媒を含有する目的溶液を作る、第１流体入口手段、並びに
そのようにして作られた目的溶液を、前記粒子形成容器に導入する第２流体入口手段、
を具備しており、前記第１流体入口手段が、前記主溶液とビヒクルの両方を、同じ又は実質的に同じ箇所で前記流体混合容器に導入することを可能にし、この箇所が、これらの流体が出合う箇所とも同じ又は実質的に同じであり、ここで、前記第１流体入口手段は、前記流体が前記流体混合容器に入る箇所と同じ又は実質的に同じ箇所で、前記ビヒクルが前記主溶媒を分散させることを可能にする、請求項１２又は１３に記載の方法を実施するのに使用する装置。
【請求項１５】  前記第２流体入口手段が、第２超臨界流体と共に、前記目的流体を前記粒子形成容器に導入することを可能にする、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】  前記第２流体入口手段が、前記目的溶液と前記第２超臨界流体との両方を、同じ又は実質的に同じ箇所で前記粒子形成容器に導入することを可能にし、この箇所が、これらの流体が出合う箇所とも同じ又は実質的に同じであり、また前記第２流体入口手段は、前記第２超臨界流体が前記容器に入る箇所又は実質的にその箇所で、前記第２超臨界流体が前記目的溶液を分散させることを可能にする、請求項１４又は１５に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月20日(2004.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  微孔質熱可塑性フィルムの高速度製造方法であって、
（ａ）約３５重量％から約４５重量％の線状低密度ポリエチレン、
（ｂ）約３重量％から約１０重量％の低密度ポリエチレン、
（ｃ）約４０重量％から約５５重量％の炭酸カルシウム充填材粒子、および
（ｄ）スチレン−ブタジエン−スチレン、スチレン−イソプレン−スチレンおよびスチレン−エチレン−ブチレン−スチレン、およびそれらの混合物からなる群から選択された、約２重量％から約６重量％のスチレンのトリブロックコポリマーを含む組成物を溶融混合すること、
前記溶融混合した組成物をエアーナイフによりローラーのニップに押出して、少なくとも約５５０ｆｐｍから約１２００ｆｐｍ（２．７９４から６．０９６ｍ／ｓ）程度の速度で引取共振がないフィルムを形成すること、および
前記速度でラインに沿って、フィルムと交差してかつフィルムの深さ全体に実質的に均一に、かみ合いローラーで得たインクレメンタル延伸力を前記フィルムに適用して微孔質フィルムを供給することを含む方法。
【請求項２】  前記溶融混合した組成物が、本質的に約４２重量％の線状低密度ポリエチレン、約４重量％の低密度ポリエチレン、約４４重量％の炭酸カルシウム充填材粒子、および約３重量％のトリブロックポリマーからなる請求項１に記載の高速度製造方法。
【請求項３】  前記溶融混合した組成物が、さらに約０〜５重量％の高密度ポリエチレン、約０〜４重量％の二酸化チタン、および約０．１重量％から約０．２重量％の加工助剤を含む請求項１に記載の高速度製造方法。
【請求項４】  前記溶融混合した組成物が、約４重量％の高密度ポリエチレン、約３重量％の二酸化チタン、および約０．１重量％のフルオロカーボンポリマー加工助剤を含む請求項３に記載の高速度製造方法。
【請求項５】  前記フルオロカーボンポリマー加工助剤が、１−プロペン，１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロコポリマーおよび１，１−ジフルオロエチレンである請求項４に記載の高速度製造方法。
【請求項６】  前記トリブロックポリマーを油、炭化水素、酸化防止剤および安定剤と予備ブレンドする請求項１から５のいずれか一項に記載の高速度製造方法。
【請求項７】  前記ローラーのニップが、１６５〜３００線／インチ（６４．９６〜１１８．１１線／ｃｍ）以内のＣＤおよびＭＤラインの彫刻を有する金属製エンボスローラーおよびゴムローラーを含み、かつ前記ローラー間の圧縮力を制御してエンボスしたフィルムを形成する請求項１から６のいずれか一項に記載の高速度製造方法。
【請求項８】  前記ローラーが研磨したクロム表面を備え平滑フィルムを形成する請求項１から７のいずれか一項に記載の高速度製造方法。
【請求項９】  前記ローラーのニップに不織布ウエブを導入し、ニップのウエブとフィルム間の圧縮力を制御して、ウエブの表面をフィルムに結合させて積層した微孔質シートを形成する請求項１から８のいずれか一項に記載の高速度製造方法。
【請求項１０】  前記不織布ウエブがポリオレフィン繊維を含む請求項９に記載の高速度製造方法。
【請求項１１】  前記繊維を、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエステル、セルロース、レーヨン、ナイロン、および２種又はそれ以上のそれら繊維の混合物または相互押出し成型物からなる群から選択された請求項１０に記載の高速度製造方法。
【請求項１２】  不織布ウエブが５から７０ｇｍｓ／平方ヤード（５．９８から８３．７２ｇ／ｍ2）の重量であり、微孔質フィルムが０．２５から１０ミル（６．３５から２５４μｍ）程度の厚さである請求項９から１１のいずれか一項に記載の高速度製造方法。
【請求項１３】  前記ウエブをステープルファイバまたはフィラメントから形成する請求項９から１２のいずれか一項に記載の高速度製造方法。
【請求項１４】  前記インクレメンタル延伸ステップを周囲温度で実施する請求項１から１３のいずれか一項に記載の高速度製造方法。
【請求項１５】  溶融混合組成物を前記ローラーのニップにスロットダイ押出しを行い、フィルムを周囲温度に冷却した後インクレメンタル延伸する請求項１４に記載の高速度製造方法。
【請求項１６】  前記インクレメンタル延伸ステップを高められた温度で実施する請求項１から１３のいずれか一項に記載の高速度製造方法。
【請求項１７】  前記フィルムが流れ方向に移動し、移動するフィルムの流れ方向と交差してインクレメンタル延伸力を適用し、かつ移動するフィルムの流れ方向に延伸力を適用することにより微孔質フィルムを供給する請求項１から１６のいずれか一項に記載の高速度製造方法。
【請求項１８】  請求項１から１７のいずれか一項に記載の方法で製造した製品。
【請求項１９】  高い水蒸気透過率（ＭＶＴＲ）を有し、粒子の分散相を含有する熱可塑性プラスチックポリマーフィルムを含む、インクレメンタルに延伸した非エンボスフィルムにおいて、前記フィルムが約０．２５から１０ミル（６．３５から２５４μｍ）の厚さを有し、フィルム中にインクレメンタルに延伸した領域を有し、フィルム中の微孔質性として、ＡＳＴＭ  Ｅ  ９６Ｅ基準で約１９００ｇ／ｍ2／日よりも大きいＭＶＴＲを付与したフィルム。
【請求項２０】  厚さが約０．２５から２ミル（６．３５から５０．８μｍ）である請求項１９に記載のフィルム。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月19日(2004.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  硬化可能な整形アセンブリーにおいて、
間隔を開けて混交された層を有する二重層織物および前記混交された層を相互に連結する繊維の透かし細工のマトリックスから構成される活性層であって、前記混交された層が、解剖学的組織の周りで三次元的ドレープ成形を容易にするために、前記相互に連結された繊維の範囲内で、互いに独立して可動となっている活性層；および
前記混交された二重層織物を囲む水蒸気不透過性パッケージングを有してなり、
前記活性層が、水分で硬化可能なウレタンを含浸し、ヒドロキシプロピルメチルセルロース(HPMC)を適用されており、
前記活性二重層織物の透かし細工のマトリックスは、前記ウレタンによる素早く一様な含浸、およびその後の一様な水の浸透を容易にし、透かし細工のマトリックス中における前記ウレタンの硬化から生ずる安定した支持を提供し；前記HPMCは、湿った場合に前記ウレタンの粘着性を減少させることを特徴とするアセンブリー。
【請求項２】  さらに、患者の皮膚に固定するために前記二重層織物の片側に固定された柔らかい物質の非含浸層を含むことを特徴とする請求項１記載の硬化可能な整形アセンブリー。
【請求項３】  前記二重層織物が外表面を有し、前記HPMCを該二重層織物の少なくとも一つの外表面に適用することを特徴とする請求項１記載の硬化可能な整形アセンブリー。
【請求項４】  前記HPMCを十分な量で適用し、湿った場合に滑らかで柔らかい手触りをおよび硬化した場合に滑らかな外表面を前記アセンブリーに与えることを特徴とする請求項３記載の硬化可能な整形アセンブリー。
【請求項５】  前記ウレタンを前記HPMCと混合してウレタンおよびHPMC混合物を作製し、前記柔軟なキャリアに該ウレタンおよびHPMC混合物を含浸することを特徴とする請求項１記載の硬化可能な整形アセンブリー。
【請求項６】  前記ウレタンおよびHPMC混合物が、100重量部のウレタンにつき約１から10重量部のHPMCを含むことを特徴とする請求項５記載の硬化可能な整形アセンブリー。
【請求項７】  前記ウレタンおよびHPMC混合物が、100重量部のウレタンにつき４重量部のHPMCを含むことを特徴とする請求項５記載の硬化可能な整形アセンブリー。
【請求項８】  前記二重層織物が第一層および第二層を有し、これらの層の少なくとも一つがガラス繊維物質であることを特徴とする請求項１記載の硬化可能な整形アセンブリー。
【請求項９】  前記相互に連結された繊維がガラス繊維物質からなることを特徴とする請求項１記載の硬化可能な整形アセンブリー。
【請求項１０】  さらに前記二重層織物の少なくとも片側に水分不透過性の層を有することを特徴とする請求項１記載の硬化可能な整形アセンブリー。
【請求項１１】  硬化可能な整形アセンブリーであって、
水分で硬化可能なウレタンを含浸し、少なくとも一つの外表面にヒドロキシプロピルメチルセルロース(HPMC)を適用された柔軟なキャリア；および
前記含浸された柔軟なキャリアを包む水蒸気不透過性パッケージングを有してなり、
前記柔軟なキャリアが十分に多孔性であり、前記水分で硬化可能なウレタンによる素早く一様な含浸、およびその後の水の浸透を容易にし、キャリア中に含浸されたウレタンの硬化から生ずる安定した支持を提供することを特徴とする硬化可能な整形アセンブリー。
【請求項１２】  さらに患者の皮膚に固定するために前記柔軟なキャリアの片側に固定された柔らかい物質の非含浸層を有することを特徴とする請求項１１記載の硬化可能な整形アセンブリー。
【請求項１３】  さらに前記柔軟なキャリアの少なくとも片側に水分不透過性の層を有することを特徴とする請求項１１記載の硬化可能な整形アセンブリー。
【請求項１４】  前記HPMCを十分な量で提供して、湿った場合に滑らかで柔らかい手触りをおよび硬化した場合に滑らかな外表面を前記アセンブリーに提供することを特徴とする請求項１１記載の硬化可能な整形アセンブリー。
【請求項１５】  硬化可能な整形ギプスまたは支持器であって、
柔軟なキャリア織物；および
該織物に含浸された水分で硬化可能な樹脂；
を有してなり、
前記水分で硬化可能な樹脂と共に含まれて、水を加えた後に前記樹脂の粘着性を減少させるヒドロキシプロピルメチルセルロース(HPMC)を含むことを特徴とする整形ギプスまたは支持器。
【請求項１６】  前記HPMCを前記樹脂に混合することを特徴とする請求項１５記載のギプスまたは支持器。
【請求項１７】  前記HPMCを前記樹脂の外表面に加えることを特徴とする請求項１５記載のギプスまたは支持器。
【請求項１８】  前記織物が二重編みタイプの織物であることを特徴とする請求項１５記載のギプスまたは支持器。
【請求項１９】  前記ギプスまたは支持器が、HPMC以外の追加の潤滑物質を含むことを特徴とする請求項１５記載のギプスまたは支持器。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月12日(2004.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  活性放射線硬化性の陽イオン重合性組成物であって、
(a)２個以上のエポキシ基、オキセタン基またはそれらの組み合わせを有する陽イオン重合性化合物、
（ｂ）ヒドロキシアルキルオキセタン化合物、ヒドロキシアルキルエポキシ化合物、ヒドロキシアルキルテトラヒドロフルフリル化合物およびそれの組み合わせからなる群から選択されるヒドロキシアルキル脂環式エーテル
(ｃ)水、および
(ｄ)陽イオン開始剤
の水溶液を含む組成物。
【請求項２】  陽イオン重合性化合物が脂環式エポキシ化合物とテトラヒドロフルフリル化合物から選択される特許請求の範囲第1項記載の組成物。
【請求項３】  脂環式エポキシ化合物が3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3’,4’-カルボン酸エポキシシクロヘキシルである特許請求の範囲第2項記載の組成物。
【請求項４】  陽イオン重合性化合物がビスフェノールAのジグリシジルエーテル；アルコキシル化ビスフェノールAのジグリシジルエーテル；アルコキシル化ビスフェノールAのトリグリシジルエーテル；ノバラックエポキシ；およびそれらの組み合わせから成る群より選択される特許請求の範囲第1項記載の組成物。
【請求項５】  ヒドロキシアルキル環状エーテルが、ヒドロキシアルキルオキセタン化合物である特許請求の範囲第1項記載の組成物。
【請求項６】  ヒドロキシオキセタンが次式で示される構造をもつ特許請求の範囲第5項記載の組成物：
【化１】
2002531678.tif 000001
（式中R1は炭素原子数1〜2のアルケニル基であり、またR2は水素であるか、または炭素原子数1〜6のアルキル基である。）
【請求項７】  ヒドロキシアルキルオキセタンが3-エチル-3-ヒドロキシメチル-オキセタンである特許請求の範囲第6項記載の組成物。
【請求項８】  ヒドロキシアルキル環状エーテルがヒドロキシアルキルエポキシ化合物である特許請求の範囲第5項記載の組成物。
【請求項９】  ヒドロキシアルキルエポキシ化合物が次式で示される構造をもつ特許請求の範囲第8項記載の組成物：
【化２】
2002531678.tif 000002
（式中R3は炭素原子数1〜2のアルケニル基であり、またR4は水素であるか、または炭素原子数1〜6のアルキル基である。）
【請求項１０】  ヒドロキシアルキルエポキシ化合物が4-ヒドロキシメチル-1,2-エポキシシクロヘキサンである特許請求の範囲第9項記載の組成物。
【請求項１１】  ヒドロキシアルキル環状エーテルがヒドロキシアルキルオキセタンとヒドロキシアルキルエポキシの組み合わせである特許請求の範囲第5項記載の組成物。
【請求項１２】  ヒドロキシアルキルオキセタンが3-エチル-3-ヒドロキシメチル-オキセタンであり、ヒドロキシアルキルエポキシが4-ヒドロキシメチル-1,2-エポキシシクロヘキサンである特許請求の範囲第11項記載の組成物。
【請求項１３】  活性放射線が紫外線である特許請求の範囲第1項記載の組成物。
【請求項１４】  活性放射線が電子ビームである特許請求の範囲第1項記載の組成物。
【請求項１５】  着色剤をさらに含む特許請求の範囲第1項記載の組成物。
【請求項１６】  着色剤が染料である特許請求の範囲第15項記載の組成物。
【請求項１７】  着色剤が水溶液中に分散させた顔料である特許請求の範囲第15項記載の組成物。
【請求項１８】  ビニルエーテルをさらに含む特許請求の範囲第1項記載の組成物。
【請求項１９】  組成物重量の35 wt.%未満のラジカル付加重合性組成物をさらに含む特許請求の範囲第1項記載の組成物。
【請求項２０】  ラジカル付加重合性組成物が
(1)オリゴマー、ポリマー、またはそれらの組み合わせ
(2)エチレン基不飽和のモノマー希釈剤、および
(3)活性放射線によって活性化されるラジカル光開始剤系
を含む特許請求の範囲第19項記載の組成物。
【請求項２１】  活性放射線硬化性の陽イオン重合性組成物であって、(a)2個以上のエポキシ基、オキセタン基、またはそれらの組み合わせをもつ陽イオン重合性化合物；(b)ヒドロキシアルキルオキセタン化合物、ヒドロキシアルキルエポキシ化合物、ヒドロキシアルキルテトラヒドロフルフリル化合物およびそれらの組み合わせから成る群より選択されるヒドロキシアルキル環状エーテル；(c)水；および(d)陽イオン開始剤、を成分とする水溶液から成り、三成分状態図の頂点が(a)、(b)および(c)各成分の100 wt.%濃度を表し、陽イオン重合性化合物と水の二成分濃度が第1二成分軸に沿って図示され、ヒドロキシアルキル環状エーテルと陽イオン重合性化合物の二成分濃度が第2二成分軸に沿って図示され、また水と環状エーテルの二成分濃度が第3二成分軸に沿って図示され、さらに前記状態図中の曇り点曲線によって(a)、(b)および(c)三成分混合物の単相濃度域を二相濃度域から分離されるような三成分状態図によって特徴づけられる物性を有する組成物。
【請求項２２】  単相域が曇り点曲線と第2二成分軸によって囲まれる特許請求の範囲第21項記載の組成物。
【請求項２３】  曇り点曲線、第2二成分軸および第3二成分軸の一部分によって囲まれる、水濃度範囲0〜45 wt.%の領域で表される特許請求の範囲第22項記載の組成物。
【請求項２４】  特許請求の範囲第21項記載の活性放射線硬化性の陽イオン重合性組成物から調製される印刷インク。
【請求項２５】  特許請求の範囲第21項記載の活性放射線硬化性の陽イオン重合性組成物から調製される塗料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
発明の要約
本発明は、次の三成分、すなわち(a)少なくとも2個のエポキシ基、オキセタン基、テトラヒドロフルフリル基、またはそれらの組み合わせをもつ陽イオン重合性化合物、(b)ヒドロキシアルキルオキセタン化合物、ヒドロキシアルキルエポキシ化合物、ヒドロキシアルキルテトラヒドロフルフリル化合物、およびそれらの組み合わせから成る群より選択されるヒドロキシアルキル環状エーテル、および(c)水の三成分から成る水溶液と紫外線の照射を受けて陽イオンたとえばプロトンを生成する陽イオン開始剤とを含む活性放射線硬化性の陽イオン重合性組成物である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月15日(2004.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内面を有する電池ハウジング：
前記電池ハウジングの前記内面に隣接して配置され、キャビティを画定する第１電極；
前記キャビティ内に配置される第２電極；
前記第１及び第２電極の間に配置された隔離板；及び
前記電池ハウジング中に配置される電解質；
を包含する電気化学的電池であって、
前記電極の少なくとも１つが、電気化学的に活性な材料の少なくとも１つのリボンであって、少なくとも約２mmの長さを有し隔離板界面近傍に伸びるリボンを含む電気化学的電池。
【請求項２】
さらに、前記電池ハウジング内の中心に伸長する電流コレクターとを含み、前記リボンが、少なくとも前記隔離板と前記電流コレクターとの間の距離に等しい長さを有する、請求項１に記載の電気化学的電池。
【請求項３】
前記リボンが、前記隔離板と前記電流コレクターとの間の距離の少なくとも約10倍の長さを有する請求項２に記載の電気化学的電池。
【請求項４】
前記リボンが、約40〜3200μmの幅を有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の電気化学的電池。
【請求項５】
前記リボンが、約２〜80μmの厚さを有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の電気化学的電池。
【請求項６】
前記リボンが、ビスマス、インジウム、カルシウム、及びアルミニウムから選択される少なくとも１種の金属を含有する亜鉛合金で製造される、請求項１〜５のいずれか１項に記載の電気化学的電池。
【請求項７】
前記電解質が、アルカリ性電解質である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の電気化学的電池。
【請求項８】
前記第１電極が、ＭｎＯ2を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の電気化学的電池。
【請求項９】
前記第１電極が正電極であり、かつ前記第２電極が負電極である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の電気化学的電池。
【請求項１０】
アルカリ電池用の負電極であって、少なくとも約２mmの長さを有し隔離板界面近傍に伸びる亜鉛リボンを含んでなり、かつ亜鉛組成物の１グラム当たり250mAの電流で連続的に放電される場合に、541mAh/gより大きい放電容量を有する負電極。
【請求項１１】
前記負電極が、亜鉛組成物の１グラム当たり250mAの電流で連続的に放電される場合に、少なくとも730mAh/gの放電容量を有する請求項１０に記載の負電極。
【請求項１２】
アルカリ電池用の負電極であって、少なくとも約２mmの長さを有し隔離板界面近傍に伸びる亜鉛リボンを含んでなり、かつ亜鉛組成物の１グラム当たり250mAの電流で連続的に放電される場合に、６６パーセントより大きい放電効率を有する負電極。
【請求項１３】
前記負電極が、亜鉛組成物の１グラム当たり250mAの電流で連続的に放電される場合に、少なくとも約８８パーセントの放電効率を有する請求項１２に記載の負電極。
【請求項１４】
前記亜鉛リボンが、亜鉛合金で製造される、請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の負電極。
【請求項１５】
前記亜鉛合金が、ビスマス、インジウム、カルシウム、及びアルミニウムから選択される少なくとも１種の金属を含有する、請求項１４に記載の負電極。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月9日(2004.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  レーザー干渉計を使用してなされる距離測定の精度を改善するための方法であって、
前記レーザー干渉計により放出されたレーザービーム（３）の全経路に沿った空気温度効果を、同じ経路を同時に伝播した音波（５）の速度を測定することにより決定し、
前記音波速度の測定値を使用することにより、空気温度に依存する距離測定値の調整量を計算する、各工程を備える、方法。
【請求項２】  前記レーザー干渉計により測定された距離を適宜前記計算工程で使用することにより、前記音波速度の測定工程を実行する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記空気温度に依存する距離測定値の調整量を計算する前記工程は、空気圧力、相対湿度、ガスの濃度、温度勾配及び風のうち少なくとも１つの効果を考慮に入れる工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記音波速度を測定する前記工程は、前記レーザービームの全経路に沿って各々反対の両方向に伝播した音波の速度を測定する工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】  前記音波速度は音波の送信器／受信器を使用することにより測定され、
前記方法は、
光学系の変位に係わらず、レーザービーム経路長及び音波伝播経路長の両方の変化が常に厳密に等しく、且つ、前記音波が前記レーザービームに対して平行である軸で伝播するように、前記レーザービームの経路の両端部に設けられた前記光学系に前記送信器／前記受信器を配置する工程を備える、請求項１に記載の方法。
【請求項６】  前記レーザービームに対して垂直方向の温度勾配を考慮に入れるため、前記音波速度が、少なくとも２対の送信器／受信器を使用することにより測定され、
前記方法は、
前記レーザービームの伝播経路及び軸と前記音波の伝播経路及び軸とが互いに隣接し、且つ、該音波が該レーザービームに対して平行で対称的な軸で伝播するように、各対の前記送信器／受信器を配置する工程を備える、請求項１に記載の方法。
【請求項７】  前記送信器／受信器を５度乃至８度のビーム角度範囲で作動させる、請求項５又は６に記載の方法。
【請求項８】  前記送信器／受信器を超音波の周波数で作動させる、請求項５又は６に記載の方法。
【請求項９】  レーザー干渉計を使用してなされる距離測定の精度を改善するための装置であって、
レーザー干渉計により放出されたレーザービームの全経路に沿った空気温度効果を決定するための決定手段であって、前記全経路を同時に伝播する音波の速度を測定するための測定手段を備える、前記決定手段と、
前記音波速度の測定値を使用することにより、空気温度に依存する距離測定値の調整量を計算するための計算手段と、
を備える、装置。
【請求項１０】  測定距離を決定するための前記レーザー干渉計と、
前記音波速度の測定で要求される計算のため前記測定距離を使用するための手段と、
を備える、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】  空気温度に依存する前記距離測定値の調整量を計算するための前記計算手段は、空気圧力、相対湿度、ガスの濃度、温度勾配及び風のうち少なくとも１つの効果を考慮に入れる手段を備える、請求項９に記載の装置。
【請求項１２】  前記レーザービームの全経路の両端部に光学系を備え、
音波速度を測定する前記測定手段は、前記両端部の光学系の変位に係わらず、レーザービーム経路長及び音波伝播経路長の両方の変化が常に厳密に等しく、且つ、前記音波が前記レーザービームに対して平行である軸で伝播するように、前記光学系に配置された音波の送信器／受信器を備える、請求項９に記載の装置。
【請求項１３】  音波速度を測定する前記測定手段は、前記レーザービームの全経路に沿って各々反対の両方向に伝播した音波の速度を測定するための手段を備える、請求項９に記載の装置。
【請求項１４】  音波速度を測定する前記測定手段は、前記レーザービーム経路に対して垂直方向の温度勾配を考慮に入れるため、前記レーザービームの伝播経路及び軸と前記音波の伝播経路及び軸とが互いに隣接し、且つ、該音波が該レーザービームに対して平行で対称的な軸で伝播するように配置された、少なくとも２対の送信器／受信器を備える、請求項９に記載の装置。