【手続補正書】
【提出日】平成14年6月17日(2002.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）複数の原子または分子を含むガスクラスター粒子を含んで成るビームを形成し；該ビームはさらにガスモノマーを含んでおり；
（ｂ）ガスクラスター粒子及びガスモノマーをイオン化し；
（ｃ）イオン化されたガスクラスター粒子及びガスモノマーを加速し；
（ｄ）永久磁石ビームフィルターを用いて、加速されたガスクラスター粒子及びガスモノマーを濾過し、加速されたガスモノマーを除去し、；次いで、
（ｅ）減圧雰囲気中で、加速され磁気的に濾過されたガスクラスター粒子を基材の表面に照射する；
工程を含むことを特徴とする基材表面の処理方法。
【請求項２】
永久磁石ビームフィルターが、北極および南極を有する永久磁石、該永久磁石に付着されて、その間をイオン化されたガスクラスター粒子が流動するギャップによって分離された２つの極面を有する磁気回路を形成するための鉄極片を含む請求項１記載の方法。
【請求項３】
濾過工程は加速された低密度ガスクラスター粒子をさらに除去することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
複数の原子または分子を含むガスクラスター粒子を含んで成るビームを形成するためのノズル；該ビームはガスモノマーをさらに含んでおり；
該ガスクラスター粒子及びガスモノマーをイオン化するためのイオナイザー；
ガスクラスター粒子及びガスモノマーを加速するための電源；
ビームから加速されたガスモノマーを除去するための永久磁石ビームフィルター；および
減圧雰囲気中で、磁気的に濾過され加速されたガスクラスター粒子を基材の表面に照射するための走査手段；
を含むことを特徴とする基材表面処理装置。
【請求項５】
該永久磁石ビームフィルターが、北極および南極を有する永久磁石、該永久磁石に付着されて、その間をガスクラスター粒子が流動するギャップによって分離された２つの極面を有する磁気回路を形成するための鉄極片を含む請求項４記載の装置。
【請求項６】
永久磁石ビームフィルターは加速された低マスガスクラスター粒子を除去することを特徴とする請求項４記載の装置。
【請求項７】
（ａ）複数の原子または分子を含むガスクラスター粒子を含んで成るビームを形成し；該ビームはさらにガスモノマーを含んでおり；
（ｂ）ガスクラスター粒子とガスモノマーを加速し；
（ｃ）長い焦点距離を実現するためのレンズ組み合わせを用い、加速されたガスクラスター粒子とガスモノマーを焦点に合わせ；
（ｄ）焦点に合わされたガスクラスター粒子とガスモノマーを濾過し、永久磁石ビームフィルターを使用してモノマーを除去し；
（ｅ）減圧雰囲気中で、加速され磁気的に濾過されたガスクラスター粒子を基材の表面に照射する；
工程を含むことを特徴とする基材表面の処理方法。
【請求項８】
レンズ組み合わせが三極管／アインゼル（Ｅｉｎｚｅｌ）レンズ組み合わせである請求項７記載の方法。
【請求項９】
焦点距離が１．５メートル未満である請求項８記載の方法。
【請求項１０】
永久磁石ビームフィルターが、北極および南極を有する永久磁石、該永久磁石に付着されて、その間をガスクラスター粒子が流動するギャップによって分離された２つの極面を有する磁気回路を形成するための鉄極片を含む請求項７記載の方法。
【請求項１１】
複数の原子または分子を含むガスクラスター粒子を含んで成るビームを形成するためのノズル；該ビームはさらにガスモノマーを含んでおり；
該ガスクラスター粒子とガスモノマーをイオン化するためのイオナイザー；
ガスクラスター粒子とガスモノマーを加速するための電源；
加速されたガスクラスター粒子を焦点に集めて、長い焦点距離を実現するためのレンズ組合せ；
焦点が合わされたビーム内でガスクラスター粒子からガスモノマーを濾過する永久磁石ビーム；
減圧雰囲気中で、磁気的に濾過され加速されたガスクラスター粒子を基材の表面に照射するための走査手段；および
を含むことを特徴とする基材表面の処理装置。
【請求項１２】
レンズ組み合わせが三極管／アインゼルレンズ組み合わせである請求項１１記載の装置。
【請求項１３】
該永久磁石ビームフィルターが、北極および南極を有する永久磁石、該永久磁石に付着されて、その間をガスクラスター粒子が流動するギャップによって分離された２つの極面を有する磁気回路を形成するための鉄極片を含む請求項１２記載の装置。
【請求項１４】
複数の原子または分子を含むガスクラスター粒子を含んで成るビームを形成するためのノズル；
該ガスクラスター粒子とガスモノマーをイオン化するためのイオナイザー；
ガスクラスター粒子とガスモノマーを加速するための電源；
加速されたガスクラスター粒子とガスモノマーを焦点に合わせるためのレンズアセンブリー；
焦点に合わされたガスクラスター粒子とガスモノマーからガスモノマーを濾過するためのフィルター；
濾過され加速されたガスクラスター粒子を、減圧雰囲気チャンバー中に位置するワークピース表面に照射するための走査手段；および
ワークピースを負荷し、負荷解除するための基材負荷／負荷解除メカニズムを含み、
該基材負荷／負荷解除メカニズムは、減圧雰囲気チャンバー内の第１の位置に位置するホールダーに、複数のワークピースからのワークピースを供し、該第１の位置は、濾過され加速されたガスクラスター粒子の流れの中心軸に対して実質的に平行であり；
該基材負荷／負荷解除メカニズムは、それにワークピースが備えられたホールダーを第２の位置まで移動させ、該第２の位置は、該第１の位置および濾過され加速されたガスクラスター粒子の流れの中心軸に対して実質的に垂直であることを特徴とする基材の表面を処理するための装置。
【請求項１５】
フィルターが、北極および南極を有する永久磁石、該永久磁石に付着されて、その間をガスクラスター粒子が流動するギャップによって分離された２つの極面を有する磁気回路を形成する鉄極片を含む請求項１４記載の装置。
【請求項１６】
複数の原子または分子を含むガスクラスター粒子を含んで成るビームを形成するためのノズル；
不都合なガス分子をビームから除去するためのスキマーであって、ビームを濾過させる入口開口部を有したスキマー；
該ガスクラスター粒子をイオン化するためのイオナイザー；
ガスクラスター粒子を加速するための電源；
濾過され加速されたガスクラスター粒子を、減圧雰囲気チャンバー中に位置するワークピースの表面に照射するための走査手段；および
該ノズルは整列デバイスを含み；
該整列デバイスは、Ｘ／Ｙ並進エレメント、および角度並進エレメントを含み、
該角度並進エレメントはスキマーの入口開口部でピボット点を有しており、Ｘ／Ｙ並進エレメントの調整を行わずに該ピボット点周囲での回転で角度調節を提供することを特徴とする基材の表面を処理するための装置。
【請求項１７】
低マス粒子をビームから除去する永久磁石ビームフィルターをさらに含んでいることを特徴とする請求項１６記載の装置。
【請求項１８】
永久磁石ビームフィルターが、北極および南極を有する永久磁石、該永久磁石に付着されて、その間をガスクラスター粒子が流動するギャップによって分離された２つの極面を有する磁気回路を形成するための鉄極片を含む請求項１７記載の装置。
【請求項１９】
加速されたガスクラスター粒子を焦点に合わせるレンズアセンブリーをさらに含んでいることを特徴とする請求項１６記載の装置。
【請求項２０】
ワークピースに負荷及び負荷解除する基材負荷／負荷解除メカニズムをさらに含んでおり、基材負荷／負荷解除メカニズムは、複数のワークピースからの１つのワークピースを減圧雰囲気チャンバー内の第１の位置に位置するホルダーに提供し、該第１の位置は、加速されたガスクラスター粒子の流れの中心軸に対して実質的に平行であり；および
該基材負荷／負荷解除メカニズムは、それにワークピースが備えられたホールダーを第２の位置まで移動させ、該第２の位置は、該第１の位置および加速されたガスクラスター粒子の流れの中心軸に対して実質的に垂直である請求項１６記載の装置。
【請求項２１】
複数の原子および分子を含むガスクラスター粒子を形成するためのノズル；
該ガスクラスター粒子をイオン化するためのイオナイザー；
ガスクラスター粒子を加速するための電源；
加速されたガスクラスター粒子を焦点に集めるための三極管／アインゼルレンズ組み合わせアセンブリー；
焦点に集められたガスクラスター粒子を濾過するための永久磁石ビームフィルター；
濾過され加速されたガスクラスター粒子を、減圧雰囲気チャンバー中に位置するワークピースの表面に照射するための走査手段；および
ワークピースを負荷し、および負荷解除するための基材負荷／負荷解除メカニズムを含み、
該ノズルは整列デバイスを含み；
該整列デバイスは、
対向復帰スプリングアセンブリーを備えたマイクロメーター駆動ヘッドを有するＸ／Ｙ並進エレメント、および
退行復帰スプリングアセンブリーを備えたマイクロメーター駆動ヘッドを有する角度並進エレメント、を含んでいることを特徴とする基材の表面を平滑化するための装置。