【手続補正書】
【提出日】平成16年11月25日(2004.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光酸発生剤と、
（ａ）下記構造
【化１】
1998213903.tif 000001
（上式中、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 は水素、アルキル、ヒドロキシアルキル、アシル、または−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ' （ＣＯＯＲ" ）m （ここで、Ｒ' はアルキレン、フェニレン、またはシクロヘキシレンであり、ｍは１または２であって、ｍが１のときはＲ''は水素であり、ｍが２のときは少なくとも１つのＲ" が水素であり、他方は１〜４個の炭素原子を有するアルキルである）であり、但し、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 の少なくとも１つは−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ' （ＣＯＯＲ" ）m であり、他のＲ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 の少なくとも１つはアルキル、ヒドロキシアルキル、アシル、または−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ' （ＣＯＯＲ" ）m であるものとする）を有する、酸官能基を有するセルロース樹脂、および
（ｂ）樹脂の総重量に対して０〜25重量％の酸性アクリル樹脂、
を含み、上記（ａ）及び（ｂ）のみがバインダーである、
ポジティブ型フォトレジスト組成物。
【請求項２】
上記アクリル樹脂が約 -10〜約 110℃のＴg を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
バインダー樹脂（ｂ）の量が０％である、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
上記アクリル樹脂は酸価が約８０〜約２４０である、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
Ｒ１により示されるアルキレン基は２又は３個の炭素原子を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
上記光酸発生剤がトリヒドロキシベンゾフェノンのジアゾキノンスルホニルエステルである、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
上記光酸発生剤が6-ニトロ -2-メチロール p-クレゾールのジアゾキノンスルホニルエステルである、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
上記光酸発生剤がヘキサフルオロアンチモン酸トリアリールスルホニウムである、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
Ｒにより表わされるアルキル基は１〜６個の炭素原子を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
上記ヒドロキシアルキル基は２〜６個の炭素原子を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項１１】
上記アシル基は２〜４個の炭素原子を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項１２】
ｍが１である、請求項１に記載の組成物。
【請求項１３】
水素、アルキル、ヒドロキシアルキル、アシル、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ' （ＣＯＯＲ" ）mは同時に存在する置換基である、請求項１に記載の組成物。
【請求項１４】
上記光酸発生剤が6-ニトロ -2-メチロール p-クレゾールのジアゾキノンスルホニルエステルであり、バインダー樹脂（ｂ）の量が０％であり、水素、メチル、ヒドロキシプロピル、アセチル、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ' （ＣＯＯＲ" ）m （ここで、ｍは１であり、Ｒ' はアルキレン基である）が同時に存在する置換基である、請求項１に記載の組成物。
【請求項１５】
ポジティブ型フォトレジスト組成物を用いて、あらかじめ感光層が付与されている銅張誘電体であって、上記ポジティブ型フォトレジスト組成物が光酸発生剤と、
（ａ）下記構造
【化２】
1998213903.tif 000002
（上式中、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 は水素、アルキル、ヒドロキシアルキル、アシル、または−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ' （ＣＯＯＲ" ）m （ここで、Ｒ' はアルキレン、フェニレン、またはシクロヘキシレンであり、ｍは１または２であって、ｍが１のときはＲ''は水素であり、ｍが２のときは少なくとも１つのＲ" が水素であり、他方は１〜４個の炭素原子を有するアルキルである）であり、但し、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 の少なくとも１つは−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ' （ＣＯＯＲ" ）m であり、他のＲ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 の少なくとも１つはアルキル、ヒドロキシアルキル、アシル、または−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ' （ＣＯＯＲ" ）m であるものとする）を有する、酸官能基を有するセルロース樹脂、および
（ｂ）樹脂の総重量に対して０〜25重量％の酸性アクリル樹脂、
を含み、上記（ａ）及び（ｂ）のみがバインダーである、銅張誘電体。
【請求項１６】
上記アクリル樹脂が約 -10〜約 110℃のＴg を有する、請求項１５に記載の銅張誘電体。
【請求項１７】
バインダー樹脂（ｂ）の量が０％である、請求項１５に記載の銅張誘電体。
【請求項１８】
上記アクリル樹脂は酸価が約８０〜約２４０である、請求項１５に記載の銅張誘電体。
【請求項１９】
上記ポジティブ型フォトレジスト組成物が単一層である、請求項１５に記載の銅張誘電体。
【請求項２０】
上記光酸発生剤がトリヒドロキシベンゾフェノンのジアゾキノンスルホニルエステルである、請求項１５に記載の銅張誘電体。
【請求項２１】
上記光酸発生剤が6-ニトロ -2-メチロール p-クレゾールのジアゾキノンスルホニルエステルである、請求項１５に記載の銅張誘電体。
【請求項２２】
上記光酸発生剤がヘキサフルオロアンチモン酸トリアリールスルホニウムである、請求項１５に記載の銅張誘電体。
【請求項２３】
Ｒにより表わされるアルキル基は１〜６個の炭素原子を有する、請求項１５に記載の銅張誘電体。
【請求項２４】
上記ヒドロキシアルキル基は２〜６個の炭素原子を有する、請求項１５に記載の銅張誘電体。
【請求項２５】
上記アシル基は２〜４個の炭素原子を有する、請求項１５に記載の銅張誘電体。
【請求項２６】
Ｒ’により表わされるアルキレン基は２又は３個の炭素原子を有する、請求項１５に記載の銅張誘電体。
【請求項２７】
水素、アルキル、ヒドロキシアルキル、アシル、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ' （ＣＯＯＲ" ）m は同時に存在する置換基である、請求項１５に記載の銅張誘電体。
【請求項２８】
上記光酸発生剤が6-ニトロ -2-メチロール p-クレゾールのジアゾキノンスルホニルエステルであり、バインダー樹脂（ｂ）の量が０％であり、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 により表される置換基が同時に水素、メチル、ヒドロキシプロピル、アセチル、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ' （ＣＯＯＲ" ）m （ここで、ｍは１であり、Ｒ' はアルキレン基である）である、請求項１５に記載の銅張誘電体。
【請求項２９】
支持体およびその上のポジティブ型フォトレジストの単一層を含んでいる輻射線感受性記録材料であって、前記フォトレジストが、光酸発生剤と、
（ａ）下記構造
【化３】
1998213903.tif 000003
（上式中、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 は水素、アルキル、ヒドロキシアルキル、アシル、または−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ' （ＣＯＯＲ" ）m （ここで、Ｒ' はアルキレン、フェニレン、またはシクロヘキシレンであり、ｍは１または２であって、ｍが１のときはＲ''は水素であり、ｍが２のときは少なくとも１つのＲ" が水素であり、他方は１〜４個の炭素原子を有するアルキルである）であり、但し、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 の少なくとも１つは−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ' （ＣＯＯＲ" ）m であり、他のＲ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 の少なくとも１つはアルキル、ヒドロキシアルキル、アシル、または−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ' （ＣＯＯＲ" ）m であるものとする）を有する、酸官能基を有するセルロース樹脂、および
（ｂ）樹脂の総重量に対して０〜25重量％の酸性アクリル樹脂、
を含み、上記（ａ）及び（ｂ）のみがバインダーである、輻射線感受性記録材料。
【請求項３０】
上記アクリル樹脂が約 -10〜約 110℃のＴg を有する、請求項２９に記載の輻射線感受性記録材料。
【請求項３１】
バインダー樹脂（ｂ）の量が０％である、請求項２９に記載の輻射線感受性記録材料。
【請求項３２】
上記アクリル樹脂は酸価が約８０〜約２４０である、請求項２９に記載の輻射線感受性記録材料。
【請求項３３】
Ｒ’により表わされるアルキレン基は２又は３個の炭素原子を有する、請求項２９に記載の輻射線感受性記録材料。
【請求項３４】
上記光酸発生剤がトリヒドロキシベンゾフェノンのジアゾキノンスルホニルエステルである、請求項２９に記載の輻射線感受性記録材料。
【請求項３５】
上記光酸発生剤が6-ニトロ -2-メチロール p-クレゾールのジアゾキノンスルホニルエステルである、請求項２９に記載の輻射線感受性記録材料。
【請求項３６】
上記光酸発生剤がヘキサフルオロアンチモン酸トリアリールスルホニウムである、請求項２９に記載の輻射線感受性記録材料。
【請求項３７】
Ｒにより表わされるアルキル基は１〜６個の炭素原子を有する、請求項２９に記載の輻射線感受性記録材料。
【請求項３８】
上記ヒドロキシアルキル基は２〜６個の炭素原子を有する、請求項２９に記載の輻射線感受性記録材料。
【請求項３９】
上記アシル基は２〜４個の炭素原子を有する、請求項２９に記載の輻射線感受性記録材料。
【請求項４０】
上記アルキレン基は２個の炭素原子を有する、請求項３３に記載の輻射線感受性記録材料。
【請求項４１】
水素、アルキル、ヒドロキシアルキル、アシル、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ' （ＣＯＯＲ" ）m は同時に存在する置換基である、請求項２９に記載の輻射線感受性記録材料。
【請求項４２】
上記光酸発生剤が6-ニトロ -2-メチロール p-クレゾールのジアゾキノンスルホニルエステルであり、バインダー樹脂（ｂ）の量が０％であり、水素、メチル、ヒドロキシプロピル、アセチル、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ' （ＣＯＯＲ" ）m （ここで、ｍは１であり、Ｒ' はアルキレン基である）が同時に存在する置換基である、請求項２９に記載の輻射線感受性記録材料。
【請求項４３】
ポジティブ型フォトレジストの単一層乾燥膜であって、上記ポジティブ型フォトレジスト組成物が光酸発生剤と、
（ａ）下記構造
【化４】
1998213903.tif 000004
（上式中、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 は水素、アルキル、ヒドロキシアルキル、アシル、または−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ' （ＣＯＯＲ" ）m （ここで、Ｒ' はアルキレン、フェニレン、またはシクロヘキシレンであり、ｍは１または２であって、ｍが１のときはＲ''は水素であり、ｍが２のときは少なくとも１つのＲ" が水素であり、他方は１〜４個の炭素原子を有するアルキルである）であり、但し、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 の少なくとも１つは−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ' （ＣＯＯＲ" ）m であり、他のＲ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 の少なくとも１つはアルキル、ヒドロキシアルキル、アシル、または−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ' （ＣＯＯＲ" ）m であるものとする）を有する、酸官能基を有するセルロース樹脂、および
（ｂ）樹脂の総重量に対して０〜25重量％の酸性アクリル樹脂、
を含み、上記（ａ）及び（ｂ）のみがバインダーである、
乾燥膜。
【請求項４４】
上記アクリル樹脂が約 -10〜約 110℃のＴg を有する、請求項４３に記載の乾燥膜。
【請求項４５】
バインダー樹脂（ｂ）の量が０％である、請求項４３に記載の乾燥膜。
【請求項４６】
上記アクリル樹脂は酸価が約８０〜約２４０である、請求項４３に記載の乾燥膜。
【請求項４７】
Ｒ’により表わされるアルキレン基は２又は３個の炭素原子を有する、請求項４３に記載の乾燥膜。
【請求項４８】
上記光酸発生剤がトリヒドロキシベンゾフェノンのジアゾキノンスルホニルエステルである、請求項４３に記載の乾燥膜。
【請求項４９】
上記光酸発生剤が6-ニトロ -2-メチロール p-クレゾールのジアゾキノンスルホニルエステルである、請求項４３に記載の乾燥膜。
【請求項５０】
上記光酸発生剤がヘキサフルオロアンチモン酸トリアリールスルホニウムである、請求項４３に記載の乾燥膜。
【請求項５１】
Ｒにより表わされるアルキル基は１〜６個の炭素原子を有する、請求項４３に記載の乾燥膜。
【請求項５２】
上記ヒドロキシアルキル基は２〜６個の炭素原子を有する、請求項４３に記載の乾燥膜。
【請求項５３】
上記アシル基は２〜４個の炭素原子を有する、請求項４３に記載の乾燥膜。
【請求項５４】
水素、アルキル、ヒドロキシアルキル、アシル、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ' （ＣＯＯＲ" ）m は同時に存在する置換基である、請求項４３に記載の乾燥膜。
【請求項５５】
上記光酸発生剤が6-ニトロ -2-メチロール p-クレゾールのジアゾキノンスルホニルエステルであり、バインダー樹脂（ｂ）の量が０％であり、水素、メチル、ヒドロキシプロピル、アセチル、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ' （ＣＯＯＲ" ）m （ここで、ｍは１であり、Ｒ' はアルキレン基である）は同時に存在する置換基である、請求項４７に記載の乾燥膜。
【請求項５６】
約０．１〜１５重量％の可塑剤固形分をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項５７】
上記可塑剤はベンジルブチルフタレートである、請求項５６に記載の組成物。