【手続補正書】
【提出日】平成17年2月21日(2005.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
貫通ビームエミッタおよび貫通ビームレシーバを有する装置を設け、
エミッタの貫通ビームの通路中にターゲットマーカーを含む調整可能なターゲットアセンブリを設け、ターゲットマーカーはエミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲットマーカーはターゲット軸上のターゲット点を示し、ターゲットアセンブリはさらにターゲッティングビーム装置を含み、そのターゲッティングビーム装置はターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給することが可能であり、
貫通ビームの通路中の第１の位置において第１の較正点を指示する第１の較正ターゲットを設け、その第１の較正ターゲットは少なくとも部分的に不透明であり、
貫通ビームをレシーバに向けて送り、
レシーバにおいて貫通ビームを受取り、
ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給し、
ターゲットアセンブリを調整してターゲッティングビームを第１の位置で第１の較正点に入射させ、それによりレシーバにより与えられるイメージが第１の位置における第１の較正点と一致したターゲット点を示し、
第１の較正点としてターゲット軸の位置に対応する情報を記録し、
貫通ビームの通路中の第２の位置における第２の較正点を指示する第２の較正ターゲットを提供し、この第２の較正ターゲットは少なくとも部分的に貫通ビームに対して不透明であり、
ターゲットアセンブリを調整してターゲッティングビームを第２の位置で第２の較正点に入射させ、それによりレシーバにより与えられるイメージが第２の位置における第２の較正点と一致したターゲット点を示し、
第２の較正点としてターゲット軸の位置に対応する情報を記録するターゲットシステムの動作方法。
【請求項２】
ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む較正点の１つと一致するターゲット点を指示する請求項１記載の方法。
【請求項３】
ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバがターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む較正点の１つと一致するターゲット点を指示する請求項１記載の方法。
【請求項４】
ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲッティングビームをターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む較正点の１つと一致するターゲット点に入射させる請求項１記載の方法。
【請求項５】
ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲッティングビームをターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む較正点の１つと一致するターゲット点に入射させる請求項１記載の方法。
【請求項６】
ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項１記載の方法。
【請求項７】
ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項１記載の方法。
【請求項８】
記録された第１の較正位置の少なくとも一部と記録された第２の較正位置の少なくとも一部とを使用して貫通ビームの放射中心を決定する請求項１記載の方法。
【請求項９】
貫通ビームエミッタおよび貫通ビームレシーバを有する装置を設け、
エミッタの貫通ビームの通路中にターゲットマーカーを含む調整可能なターゲットアセンブリを設け、ターゲットマーカーはエミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲットマーカーはターゲット軸上のターゲット点を示し、ターゲットアセンブリはさらにターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給することが可能なターゲッティングビーム装置を含み、、
貫通ビームの通路中にオブジェクトを設け、そのオブジェクトは貫通ビームの通路中に位置した関心のある関連した区域を有し、関心のある区域とオブジェクトは、貫通ビームが関心のある区域に向けて送られてレシーバにより受取られたときレシーバにより与えられたイメージ中の関心のある区域を作業員が認識できるように貫通ビームに対して不透明であり、
貫通ビームをオブジェクトおよび関心のある区域に向けて送り、
レシーバにおいて貫通ビームを受取り、
レシーバにより与えられたイメージが関心のある区域と一致するターゲット点を示すようにターゲットアセンブリを調整し、
ターゲット点の位置を決定し、
ターゲット軸の所望の位置を決定し、
ターゲット軸が所望の位置にあるようにターゲットアセンブリを調整し、
ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給するターゲッティングシステムの動作方法。
【請求項１０】
ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む関心のある区域と一致するターゲット点を指示する請求項９記載の方法。
【請求項１１】
ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む関心のある区域と一致するターゲット点を指示する請求項９記載の方法。
【請求項１２】
ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項９記載の方法。
【請求項１３】
ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項９記載の方法。
【請求項１４】
ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲット軸がターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む所望の位置に位置させる請求項９記載の方法。
【請求項１５】
ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲット軸がターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む所望の位置に位置させる請求項９記載の方法。
【請求項１６】
貫通ビームエミッタおよび貫通ビームレシーバを有する装置を設け、
エミッタの貫通ビームの通路中にターゲットマーカーを含む調整可能なターゲットアセンブリを設け、ターゲットマーカーはエミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲットマーカーはターゲット軸上のターゲット点を示し、ターゲットアセンブリはさらにターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給することが可能なターゲッティングビーム装置を含み、、
貫通ビームの通路中の第１の位置に較正点を示す較正ターゲットを設け、その較正ターゲットは貫通ビームに対して少くとも部分的に不透明であり、
貫通ビームをレシーバに向けて送り、
レシーバにおいて貫通ビームを受取り、
ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給し、
ターゲッティングビームを第１の位置で較正点に入射させてそれによりレシーバにより与えられるイメージが第１の位置における較正点と一致したターゲット点を示すようにターゲットアセンブリを調整し、
第１の較正位置としてターゲット軸の位置に対応する情報を記録し、
貫通ビームの通路中の第２の位置に較正ターゲットを移動させ、
ターゲッティングビームを第２の位置で較正点に入射させ、それによりレシーバにより与えられるイメージが第２の位置における較正点と一致したターゲット点を示すようにターゲットアセンブリを調整し、
第２の較正位置としてターゲット軸の位置に対応する情報を記録するターゲッティングシステムの動作方法。
【請求項１７】
ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む較正点と一致するターゲット点を指示する請求項１６記載の方法。
【請求項１８】
ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバがターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む較正点の１つと一致するターゲット点を指示する請求項１６記載の方法。
【請求項１９】
ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲッティングビームをターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む較正点に入射させる請求項１６記載の方法。
【請求項２０】
ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲッティングビームをターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む較正点に入射させる請求項１６記載の方法。
【請求項２１】
ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項１６記載の方法。
【請求項２２】
ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項１６記載の方法。
【請求項２３】
さらに、記録された第１の較正位置の少なくとも一部と記録された第２の較正位置の少なくとも一部とを使用して貫通ビームの放射中心を決定する請求項１６記載の方法。
【請求項２４】
貫通ビームエミッタと、
貫通ビームレシーバと、
エミッタにより与えられた貫通ビームの通路中に位置し、エミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲット軸上のターゲット点を指示するターゲットマーカーを含み、ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを与えることができるターゲッティングビーム装置を備えている調節可能なターゲットアセンブリと、
貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、貫通ビームの通路中に位置する較正点を指示する第１の較正ターゲットと、
ターゲット軸の少なくとも２つの較正位置に対応する情報を記録することのできる位置記録装置とを具備しているターゲットシステム。
【請求項２５】
さらに、貫通ビームの通路に位置する第２の較正点を指示する第２の較正ターゲットを含み、この第２の較正ターゲットは少なくとも部分的に貫通ビームに対して不透明である請求項２４記載のシステム。
【請求項２６】
ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項２４記載のシステム。
【請求項２７】
ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項２４記載のシステム。
【請求項２８】
貫通ビームエミッタと、
貫通ビームレシーバと、
エミッタにより放射された貫通ビームの通路中に位置し、エミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲット軸上のターゲット点を指示するターゲットマーカーを含み、ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを与えることができるターゲッティングビーム装置を備えている調節可能なターゲットアセンブリと、
第１の自由度でターゲット軸の所望の位置を決定し、第２の自由度でターゲット点の位置を与えることにより貫通ビームの発生中心の位置を決定するのに十分な情報を与えられる計算装置とを具備しているターゲットシステム。
【請求項２９】
ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項２８記載のシステム。
【請求項３０】
ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項２８記載のシステム。
【請求項３１】
貫通ビームエミッタおよび貫通ビームレシーバを有する装置を設け、
４以上の自由度を有し、エミッタにより与えられる貫通ビームの通路中にターゲットマーカー含む調整可能なターゲットアセンブリを設け、ターゲットマーカーはエミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲットマーカーはターゲット軸上のターゲット点を示し、ターゲットアセンブリはさらにターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給することが可能なターゲッティングビーム装置を含み、
第１の位置における第１の較正点を示す第１の較正ターゲットと、第２の位置における第２の較正点を示す第２の較正ターゲットとを設け、第１および第２の較正点はエミッタにより放射された貫通ビームの通路中に位置し、第１および第２の較正ターゲットは貫通ビームに対して少くとも部分的に不透明であり、
貫通ビームをレシーバに向けて送り、
レシーバにおいて貫通ビームを受取り、
ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給し、
ターゲッティングビームを第１の位置で第１の較正点に入射させ、それによりレシーバにより与えられるイメージが第１の位置における第１の較正点と一致したターゲット点を示すようにターゲットアセンブリを少くとも１つの自由度で調整し、
第１の較正位置としてターゲット軸の位置に対応する情報を記録し、
ターゲッティングビームを第２の位置で第２の較正点に入射させ、それによりレシーバにより与えられるイメージが第２の位置における第２の較正点と一致したターゲット点を示すようにターゲットアセンブリを少くとも１つの自由度で調整し、
第２の較正位置としてターゲット軸の位置に対応する情報を記録するターゲッティングシステムの動作方法。
【請求項３２】
ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む較正点の任意の１つと一致するターゲット点を指示する請求項３１記載の方法。
【請求項３３】
ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む較正点の任意の１つと一致するターゲット点を指示する請求項３１記載の方法。
【請求項３４】
ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲッティングビームがターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む較正点の任意の１つに入射する請求項３１記載の方法。
【請求項３５】
ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲッティングビームがターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む較正点の任意の１つに入射する請求項３１記載の方法。
【請求項３６】
ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項３１記載の方法。
【請求項３７】
ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項３１記載の方法。
【請求項３８】
さらに、記録された第１の較正位置の少なくとも一部と、記録された第２の較正位置の少なくとも一部とを使用して貫通ビームの放射中心を決定する請求項３１記載の方法。
【請求項３９】
貫通ビームエミッタおよび貫通ビームレシーバを有する装置を設け、
４以上の自由度を有し、エミッタにより与えられる貫通ビームの通路中にターゲットマーカー含む調整可能なターゲットアセンブリを設け、ターゲットマーカーはエミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲットマーカーはターゲット軸上のターゲット点を示し、ターゲットアセンブリはさらにターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給することが可能なターゲッティングビーム装置を含み、
貫通ビームの通路中にオブジェクトを設け、そのオブジェクトは貫通ビームの通路中に位置する関心のある関連した区域を有し、関心のある区域とオブジェクトは貫通ビームが関心のある区域に向けて送られてレシーバにより受取られたときレシーバにより与えられたイメージ中の関心のある区域を作業員が識別することができるように貫通ビームに対して不透明であり、
貫通ビームをオブジェクトおよび関心のある区域に向けて送り、
レシーバにおいて貫通ビームを受取り、
レシーバにより与えられたイメージが関心のある区域と一致するターゲット点を示すように少くとも１つの自由度でターゲットアセンブリを調整し、
少くとも１つの自由度でターゲット点の位置を決定し、
少くとも１つの自由度でターゲット軸の所望の位置を決定し、
ターゲット軸が所望の位置にあるようにターゲットアセンブリを調整し、
ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給するターゲッティングシステムの動作方法。
【請求項４０】
ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項３９記載の方法。
【請求項４１】
ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項３９記載の方法。
【請求項４２】
ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む関心のある区域と一致するターゲット点を指示する請求項３９記載の方法。
【請求項４３】
ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む関心のある区域と一致するターゲット点を指示する請求項３９記載の方法。
【請求項４４】
少くとも１つの自由度におけるターゲット点の位置の決定は、ターゲット点の変移位置の決定を含んでいる請求項３９記載の方法。
【請求項４５】
少くとも１つの自由度におけるターゲット点の位置の決定は、ターゲット点の回転位置の決定を含んでいる請求項３９記載の方法。
【請求項４６】
ターゲット軸がターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む所望の位置であるようにターゲットアセンブリを調整する請求項３９記載の方法。
【請求項４７】
ターゲット軸がターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む所望の位置であるようにターゲットアセンブリを調整する請求項３９記載の方法。
【請求項４８】
貫通ビームエミッタと、
貫通ビームレシーバと、
エミッタにより与えられた貫通ビームの通路中に位置するエミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明でターゲット軸上のターゲット点を指示するターゲットマーカーを含み、ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを与えることができる４以上の自由度を有するターゲッティングビーム装置を備えている調節可能なターゲットアセンブリとを具備しているターゲットシステム。
【請求項４９】
さらに、エミッタにより与えられた貫通ビームの通路中に位置し、貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明である較正ターゲットと、
ターゲット軸の２以上の較正位置に対応する情報を記録することのできる位置記録装置とを具備している請求項４８記載のシステム。
【請求項５０】
さらに、第１の自由度で所望の位置を決定し、第２の自由度でターゲット点の位置を与え、貫通ビームの放射の中心の位置を決定するために充分な情報を与える計算装置を具備している請求項４８記載のシステム。
【請求項５１】
ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項４８記載のシステム。
【請求項５２】
ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項４８記載のシステム。