(57)【要約】  耐指紋性、耐マジック性、滑り性、撥水性を同時に満たす防汚層を最表面に有する光学機能フィルム。  基材と、上記基材上に形成された光学機能層と、上記光学機能層上に形成され、元素割合がケイ素元素（Ｓｉ）と炭素元素（Ｃ）の比Ｓｉ／Ｃが０．２５〜１．０であり、かつフッ素元素（Ｆ）と炭素元素（Ｃ）の比であるＦ／Ｃが０．１０〜１．０であり、かつ以下の特性を有する防汚層と、を有する光学機能フィルム。ａ．流動パラフィン接触角が６５°以上であり、かつ流動パラフィン転落角が１５°以下ｂ．黒マジック接触角が３５°以上であり、かつ黒マジック転落角が１５°以下ｃ．動摩擦係数が０．１５未満
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材上に形成された光学機能層と、前記光学機能層上に形成され、表面の元素割合がケイ素元素（Ｓｉ）と炭素元素（Ｃ）の比Ｓｉ／Ｃが０．２５〜１．０であり、かつフッ素元素（Ｆ）と炭素元素（Ｃ）の比であるＦ／Ｃが０．１０〜１．０であり、かつ以下の特性を有する防汚層とを有することを特徴とする光学機能フィルム。
ａ．流動パラフィン接触角が６５°以上であり、かつ流動パラフィン転落角が１５°以下
ｂ．黒マジック接触角が３５°以上であり、かつ黒マジック転落角が１５°以下
ｃ．動摩擦係数が０．１５未満
【請求項２】
前記防汚層の水接触角が１００°以上であることを特徴とする請求の範囲第１項に記載の光学機能フィルム。
【請求項３】
前記防汚層が、原子間力顕微鏡を用いて測定した表面粗さ（Ｒａ）が２ｎｍ以下であることを特徴とする請求の範囲第１項または請求の範囲第２項に記載の光学機能フィルム。
【請求項４】
前記防汚層が、シロキサン基を有する含ケイ素化合物と、パーフルオロアルキル基またはパーフルオロアルキルエーテル基の少なくともいずれか一方を含む含フッ素化合物と、を有することを特徴とする請求の範囲第１項から第３項までのいずれかの請求の範囲に記載の光学機能フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置などのディスプレイ等の最表層に好適に用いられ、耐指紋性、耐マジック性、滑り性に優れた防汚層を最表面に有する光学機能フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
テレビ、パソコン、携帯電話等のディスプレイ、カーブミラー、バックミラー、ゴーグル、窓ガラス、その他の商業ディスプレイは、表示された文字や図形その他の情報を読み取るため、表面での光反射を防止する反射防止性や防眩性、電磁波を遮蔽する導電性、錆などを防止するバリア性、意匠性やセキュリティ性を高めるホログラムなどの光回折性、及び／ 又は外力による傷を防止するハードコート性、などの機能性が必要である。そのため、このようなディスプレイ表面には、これらの機能を有した光学機能フィルムが設けられているのが一般的である。【０００３】
しかしながら光学機能フィルムは、その用途上、ディスプレイ等の最表面に配置されているため、人の手が直接触れることによる指紋の付着、風雨等による汚れが付着する。このような汚れが付着した場合には、ディスプレイ等に表示される文字、図形等の情報の読み取りに障害が生じる可能性がある。そのため、光学機能フィルムの最表面には、通常、汚れの付着を防止する防汚層が形成されている。
このような防汚層に必要とされる要求特性としては、上述したような人の手が触れることにより付着する油脂成分である指紋に対する耐指紋性、雨水に対する撥水性、汚れの拭取り性に対する滑り性、さらにはマジックを用いた落書きに対する耐マジック性などが挙げられる。このような様々な性能が要求される防汚層に対して、これまでシラン系化合物や、フッ素系化合物が用いられてきた。【０００４】
しかしながら、シラン系化合物は耐マジック性、滑り性、撥水性に対しては良好であるのに対して、耐指紋性が劣るといった問題があった。一方フッ素系化合物は、耐指紋性、撥水性は良好であるが、耐マジック性が劣るといった問題があった。そこで、このようなシラン系化合物とフッ素系化合物を混合、または共重合させて、両者の利点を組み合わせる試みがなされてきた（特許文献１、特許文献２）が、両者の利点を併せもった耐指紋性、耐マジック性、耐すべり性、撥水性を同時に満たすものは得られていない。【０００５】
【特許文献１】特公平６−２９３３２号公報
【特許文献２】特開平７−１６９４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、耐指紋性、耐マジック性、滑り性、撥水性を同時に満たす防汚層を最表面に有する光学機能フィルムを提供することを主目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明は、基材と、上記基材上に形成された光学機能層と、上記光学機能層上に形成され、表面の元素割合がケイ素元素（Ｓｉ）と炭素元素（Ｃ）の比Ｓｉ／Ｃが０．２５〜１．０であり、かつフッ素元素（Ｆ）と炭素元素（Ｃ）の比であるＦ／Ｃが０．１０〜１．０であり、かつ以下の特性を有する防汚層と、を有することを特徴とする光学機能フィルムを提供する。
ａ．流動パラフィン接触角が６５°以上であり、かつ流動パラフィン転落角が１５°以下
ｂ．黒マジック接触角が３５°以上であり、かつ黒マジック転落角が１５°以下
ｃ．動摩擦係数が０．１５未満【０００８】
本発明によれば、上記防汚層が、流動パラフィン接触角が６５°以上であり、かつ流動パラフィン転落角が１５°以下の特性を持つことにより優れた耐指紋性と、黒マジック接触角が３５°以上であり、かつ黒マジック転落角が１５°以下であることにより優れた耐マジック性と、動摩擦係数が０．１５未満であることにより優れた滑り性と、を有することになり、耐指紋性、耐マジック性、滑り性を同時に満たすものとすることができる。【０００９】
上記発明においては、上記防汚層の水接触角が１００°以上であることが好ましい。撥水性に優れたものとすることができるからである。【００１０】
上記発明においては、原子間力顕微鏡を用いて測定した場合における上記防汚層の表面粗さ（Ｒａ）が２ｎｍ以下であることが好ましい。上記防汚層が平滑性にすぐれることにより、耐擦傷性、耐摩耗性に優れ、埃の付着を抑制できるからである。【００１１】
上記発明においては、上記防汚層が、シロキサン基を有する含ケイ素化合物と、パーフルオロアルキル基またはパーフルオロアルキルエーテル基の少なくともいずれか一方を含む含フッ素化合物と、を有することが好ましい。両化合物は、一般的に表面張力が低く、表面に存在し易いため、他成分と混ぜた場合でも表面にブリードし易く、存在比率の調整が容易となるからである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明は、耐指紋性、耐マジック性、滑り性を同時に満たす防汚層を最表面に有する光学機能フィルムを提供するといった効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の光学機能フィルムの一例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【００１４】
１  …  基材
２  …  光学機能層
３  …  防汚層
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明は、光学機能フィルムに関するものである。以下、本発明の光学機能フィルムについて説明する。【００１６】
本発明の光学機能フィルムは、基材と、上記基材上に形成された光学機能層と、上記光学機能層上に形成され、以下の特性を有し、かつ表面の元素割合がケイ素元素（Ｓｉ）と炭素元素（Ｃ）の比Ｓｉ／Ｃが０．２５〜１．０であり、かつフッ素元素（Ｆ）と炭素元素（Ｃ）の比であるＦ／Ｃが０．１０〜１．０である防汚層と、を有することを特徴とするものである。
ａ．流動パラフィン接触角が６５°以上であり、かつ流動パラフィン転落角が１５°以下
ｂ．黒マジック接触角が３５°以上であり、かつ黒マジック転落角が１５°以下
ｃ．動摩擦係数が０．１５未満【００１７】
まず、本発明の光学機能フィルムについて、図を参照しながら説明する。図１は本発明の光学機能フィルムの一例を示す概略断面図である。図１に示すように、本発明の光学機能フィルム１０は、基材１と、上記基材１上に形成された光学機能層２と、上記光学機能層２上に形成された防汚層３と、を有するものである。【００１８】
従来の光学機能フィルムの最表層に形成される防汚層は、シラン系化合物や、フッ素系化合物が用いられてきた。シラン系化合物は耐マジック性、滑り性、撥水性に対しては良好であるのに対して、耐指紋性が劣るといった問題があった。一方フッ素系化合物は、耐指紋性、撥水性は良好であるが、耐マジック性が劣るといった問題があった。そこで、このようなシラン系化合物とフッ素系化合物を混合、または共重合させて、両者の利点を組み合わせる試みがなされてきたが、両者の利点を併せもった耐指紋性、耐マジック性、耐すべり性、撥水性を同時に満たすものは得られていない。【００１９】
この点、本発明によれば、上記防汚層が、流動パラフィン接触角が６５°以上であり、かつ流動パラフィン転落角が１５°以下の特性を持つことにより優れた耐指紋性と、黒マジック接触角が３５°以上であり、かつ黒マジック転落角が１５°以下であることにより優れた耐マジック性と、動摩擦係数が０．１５未満であることにより優れた滑り性と、を有することになり、耐指紋性、耐マジック性、滑り性を同時に満たすものとすることができる【００２０】
本発明の光学機能フィルムは基材と、光学機能層と、防汚層を有するものである。以下、このような本発明の光学機能フィルムの各構成について説明する。【００２１】
１．防汚層
本発明に用いられる防汚層は、後述する光学機能層上に形成されるものであるが、形成状態により２つの態様をとることができる。すなわち、上記防汚層は、後述する防汚層を構成する材料を、上記光学機能層上に膜状に形成したもの、および上記光学機能層内に混合させた後に、上記光学機能層の最表面にブリードさせたものの２つの態様をとることができる。本発明においては上記２つの態様のうち、いずれの態様も用いることができる。【００２２】
本発明に用いられる防汚層は、以下の特性を有し、かつ元素割合がケイ素元素（Ｓｉ）と炭素元素（Ｃ）の比Ｓｉ／Ｃが０．２５〜１．０であり、かつフッ素元素（Ｆ）と炭素元素（Ｃ）の比であるＦ／Ｃが０．１０〜１．０のものである。
ａ．流動パラフィン接触角が６５°以上であり、かつ流動パラフィン転落角が１５°以下
ｂ．黒マジック接触角が３５°以上であり、かつ黒マジック転落角が１５°以下
ｃ．動摩擦係数が０．１５未満
以下、このような防汚層について詳細に説明する。【００２３】
（１）流動パラフィン接触角および流動パラフィン転落角
流動パラフィン接触角および流動パラフィン転落角は、流動パラフィンで代表される親油性成分の付着しやすさ、および拭取りやすさを評価することにより、本発明に用いられる防汚層の指紋の付着しやすさおよび拭取りやすさを評価するものである。以下、このような流動パラフィン接触角、および流動パラフィン転落角について説明する。【００２４】
（ａ）流動パラフィン接触角
流動パラフィン接触角とは、流動パラフィンを防汚層の表面に接触させて液滴を作り、接触角を測定したものをいう。
人が手で触れることにより付着する指紋は、油脂成分であり親油性物質であるため、同じく親油性物質のひとつである流動パラフィンの接触角を測定することにより、指紋の付着しやすさの指標とすることができる。ここで接触角は大きいほど、防汚層表面となじみにくく、付着しにくいことを意味する。すなわち流動パラフィンの接触角が大きいほど指紋が付着しにくい性質を有することになる。
本発明における流動パラフィン接触角は、６５°以上であることを特徴とするものであるが、なかでも、７０°以上の範囲内が好ましく、特に、７５°以上であることが好ましい。上記範囲より小さいと、本発明の光学機能フィルムに用いた場合に、指紋が付きやすいものとなるからである。【００２５】
なお、上記流動パラフィン接触角の測定方法は、乾燥状態（２０℃−６５％ＲＨ）下で、水平に設置した防汚層上に、針先で作った、直径３．０ｍｍの流動パラフィンの液滴を接触させて、上記防汚層上に流動パラフィンの液滴を形成した。接触角とは、上記防汚層と流動パラフィンの液滴とが接触する点における流動パラフィンの液滴表面に対する接線と上記防汚層表面とがなす角であり、流動パラフィンの液滴を含む側の角度をいう。
このような接触角の測定については、例えば、全自動接触角計（協和界面科学（株）製、ＤＭ７００）を用いて測定することができる。【００２６】
（ｂ）流動パラフィン転落角
流動パラフィン転落角とは、流動パラフィンを、防汚層の表面上に接触させて液滴を作った後、防汚層を徐々に傾けていった際に、液滴が下方へ滑り出すときの傾斜角度を転落角として評価するものである。このような測定方法で得られる流動パラフィン転落角は、流動パラフィンの防汚層表面に対する付着力を測るものであり、指紋の拭取りやすさの指標とすることができる。ここで転落角が小さいほど付着力が弱いことを意味し、指紋が拭き取りやすい性質を有することになる。本発明における流動パラフィン転落角は、１５°以下であることを特徴とするものであるが、なかでも、１０°以下の範囲内が好ましく、特に５°以下の範囲内となることが好ましい。上記範囲より大きいと、本発明の光学機能フィルムに用いた場合に、指紋が拭き取りにくいものとなるからである。【００２７】
なお、上記流動パラフィン転落角としては、乾燥状態（２０℃−６５％ＲＨ）下で、水平に設置した防汚層上に、針先で作った、直径３．０ｍｍの流動パラフィンの液滴を接触させて、上記防汚層上に流動パラフィンの液滴を形成した。次いで、上記防汚層を２°／ｓの速度で傾斜角度を大きくしていき、流動パラフィンの液滴が下方へ滑り出すときの傾斜角度を流動パラフィン転落角をいう。
このような転落角の測定については、例えば、全自動接触角計（協和界面科学（株）製、ＤＭ７００）を用いて測定することができる。【００２８】
（ｃ）流動パラフィン接触角および流動パラフィン転落角
本発明に用いられる流動パラフィン接触角および流動パラフィン転落角は、それぞれ指紋の付着しやすさ、および指紋の拭き取りやすさを表すものであり、両者が共に上述した範囲内にあることで、指紋が付着しにくく、かつ付着した指紋は拭き取りやすいものとなり、優れた耐指紋性を有することになる。【００２９】
（２）黒マジック接触角および黒マジック転落角
黒マジック接触角および黒マジック転落角は、油性の黒マジックの付着しやすさ、および拭取りやすさを評価するものであり、本発明に用いられる防汚層表面に対して、油性の黒マジックによる文字等の記載のしやすさ、および拭取りやすさを評価するものである。以下、このような黒マジック接触角、および黒マジック転落角について説明する。【００３０】
（ａ）黒マジック接触角
黒マジック接触角とは、黒マジックとして油性の黒マジックのインクを防汚層の表面に滴下させてマジックインクの液滴を作り、接触角を測定したものをいう。
このような黒マジックの接触角を測定することにより、黒マジックと防汚層とのなじみやすさ、すなわち付着しやすさの指標とすることができる。ここで接触角は大きいほど、防汚層に付着しにくいことを意味する。
本発明における黒マジック接触角は、３５°以上であることを特徴とするものであるが、なかでも、４０°以上の範囲内が好ましく、特に、５０°以上の範囲内となることが好ましい。上記範囲より小さいと、本発明の光学機能フィルムに用いた場合に、黒マジックが付着しやすいものとなるからである。
なお、黒マジック接触角の測定方法としては、油性の黒マジックインクを用いて液滴を形成した以外は、上記「（１）流動パラフィン接触角および流動パラフィン転落角」の「（ａ）流動パラフィン接触角」の項に記載した内容と同様の方法で測定した。
ここで、上記油性の黒マジックインクとしては、一般的に市販されている油性の黒マジックインクを用いることができ、具体的には、ＭＨＪ６０−Ｔ１黒(寺西化学工業(株)製)を用いることができる。【００３１】
（ｂ）黒マジック転落角
黒マジック転落角とは、油性の黒マジックのインクを、防汚層の表面上に接触させてマジックインクの液滴を作り、防汚層を徐々に傾けていった際に液滴が下方へ滑り出すときの傾斜角度を転落角として評価するものである。
このように測定方法で得られる黒マジック転落角は、黒マジックの防汚層表面に対する付着力を測るものであり、黒マジックの拭取りやすさの指標とすることができる。ここで転落角が小さいほど付着力が弱いことを意味し、指紋が拭き取りやすい性質を有することになる。本発明における黒マジック転落角は、１５°以下であることを特徴とするものであるが、なかでも、１０°以下の範囲内が好ましく、特に５°以下の範囲内となることが好ましい。上記範囲より大きいと黒マジックの付着力が強く、本発明の光学機能フィルムに用いた場合に、黒マジックが拭き取りにくいものとなるからである。
なお、黒マジック接触角の測定方法としては、油性の黒マジックインクを用いて液滴を形成した以外は、上記「（１）流動パラフィン接触角および流動パラフィン転落角」の「（ｂ）流動パラフィン転落角」の項に記載した内容と同様の方法で測定した。
また、上記黒マジックインクとしては、上記「（ａ）黒マジック接触角」と同様のものを用いることができる。【００３２】
（ｃ）黒マジック接触角および黒マジック転落角
本発明に用いられる黒マジック接触角および黒マジック転落角は、それぞれ油性の黒マジックの付着しやすさ、および拭き取りやすさを表すものである。黒マジック接触角および黒マジック転落角の両者が共に上述した範囲内にあることで、黒マジックが付着しにくく、付着した場合においては拭き取りやすいものとなり、優れた耐マジック性を有することになる。【００３３】
（３）動摩擦係数
本発明に用いられる動摩擦係数は、例えば、上記防汚層表面に付着した指紋やマジックを布等で拭き取る際の拭き取りのしやすさの指標となる滑り性を表すものである。ここで、動摩擦係数が小さい場合には、上記防汚層表面が滑りやすく、指紋やマジックを布等で拭き取りやすいものとなる。本発明においては、上記動摩擦係数が０．１５未満であることを特徴とするものであるが、なかでも０．１０以下の範囲内が好ましく、特に０．０８以下の範囲内であることが好ましい。上記範囲より大きいと指紋等を拭き取りにくいものとなるからである。
なお、上記動摩擦係数は、乾燥状態（２０℃−６５％ＲＨ）下で、ＨＥＩＤＯＮ  ＨＨＳ−２０００動摩擦試験機により、１０ｍｍφステンレス鋼球、荷重２００ｇ、速度５ｍｍ／ｓにて測定した値を用いた。【００３４】
（４）その他の特性
本発明に用いられる防汚層は、表面の元素割合がケイ素元素（Ｓｉ）と炭素元素（Ｃ）の比Ｓｉ／Ｃが０．２５〜１．０であり、かつフッ素元素（Ｆ）と炭素元素（Ｃ）の比であるＦ／Ｃが０．１０〜１．０であり、上述した特性を有するものであれば特に限定されるものではなく、他の特性を有するものであっても良い。本発明においては、例えば、水接触角が１００°以上、表面粗さ（Ｒａ）が２ｎｍ以下としてもよい。【００３５】
上記水接触角は、水とのなじみやすさ、すなわち水の付着しやすさを示すものであり、接触角が大きいと水が付着しにくい特性を有することを意味する。近年、屋内だけでなく、屋外においても、ディスプレイ等が用いられるようになっており、風雨に曝されても、良好に画像を認識できることが求められている。そのようなニーズに対して、上記水接触角が１００°以上であることにより、水が付着しにくく、拭き取りやすいものとなり、優れた撥水性を有することができる。本発明においては、水接触角が１００°以上であれば良いが、なかでも１０５°以上の範囲内が好ましく、特に１１０°以上であることがより好ましい。上記範囲より小さいと十分な撥水性を発揮することができず、ディスプレイに表示される画像を良好に認識できない可能性があるからである。
なお、水接触角の測定方法としては、蒸留水を用いて液滴を形成した以外は、上記「（１）流動パラフィン接触角および流動パラフィン転落角」の「（ａ）流動パラフィン接触角」の項に記載した内容と同様の方法で測定した。【００３６】
上記防汚層の表面粗さ（Ｒａ）は、防汚層表面の凹凸の有無を示すものであり、この値が大きいと、表面に大きな凹凸があることを意味する。上記表面粗さ（Ｒａ）が大きい場合には、耐擦傷性、耐磨耗性が弱く、また、埃が付着しやすいといった問題が発生する。それに対して、表面粗さ（Ｒａ）が２ｎｍ以下であることにより、耐擦傷性、耐磨耗性に優れ、防汚層表面の凹凸に埃が付着しにくいものとすることができる。本発明においては、表面粗さ（Ｒａ）が２ｎｍ以下であれば良いが、なかでも１．５ｎｍ以下の範囲内が好ましく、特に１ｎｍ以下の範囲内であることが好ましい。上記範囲より大きいと、耐擦傷性、耐磨耗性が劣化しやすく、防汚層表面に埃が付着しやすくなるからである。
ここで上記表面粗さ（Ｒａ）は、平均面粗さを示しており、原子間力顕微鏡（日本ビーコ(株)製、Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ IIIａ）を用い、スキャナーはＤＭＬＳ−６３３Ｇを使用した。カンチレバーはシリコン製のＭＰＰ−２１１００−１０を使用した。ともに日本ビーコ社から購入できる一般的に使用されているものである。観察モードはタッピングモードで行った。観察に用いるカンチレバーは探針汚染による分解能低下がないように常に新品を使用した。また観察時における磨耗劣化を防ぐために、分解能を犠牲にしない範囲でできる限り探針にかかる負荷が小さい条件で行った。乾燥状態（２０℃−６５％ＲＨ）下で１μｍ×１μｍの微小範囲を測定し、分解能２５６ピクセル×２５６ピクセルで観察することで行った。走査速度は１．０Ｈｚで行ったが、分解能に支障がなければ、この速度にこだわる事はない。観察後付属のソフトウエアによりデータの傾斜を補正し、その後、付属のソフトウエアにより表面粗さ評価を行った。表面粗さ（Ｒａ）は、下記計算式（１）により得た。【００３７】
【数１】
2008038714.tif 000003
【００３８】
上記計算式（１）で得られる平均面粗さＲａ値（ｎｍ）は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１で定義されている中心線平均粗さＲａを、測定面に対し適用し三次元に拡張したもので、「基準面から指定面までの偏差の絶対値を平均した値」と表現したものである。ここで、上記計算式（１）で用いた、Ｓ0、Ｆ（Ｘ，Ｙ）、Ｘ L〜Ｘ R、Ｙ B〜Ｙ T、Ｚ0の意味は次のとおりである。
Ｒａ：平均面粗さ値（ｎｍ）
Ｓ0：測定面が理想的にフラットであるとした時の面積（｜ＸR−ＸL｜×｜ＹT−ＹB｜）
Ｆ（Ｘ，Ｙ）：測定点（Ｘ，Ｙ）における高さ（ＸはＸ座標、ＹはＹ座標） 
Ｘ L〜Ｘ R：測定面のＸ座標の範囲 
Ｙ B〜Ｙ T：測定面のＹ座標の範囲
Ｚ0 ：測定面内の平均の高さ【００３９】
（５）防汚層
本発明に用いられる防汚層の表面の元素割合は、上述した特性を有するものであって、ケイ素元素（Ｓｉ）と炭素元素（Ｃ）の比Ｓｉ／Ｃが０．２５〜１．０であり、かつフッ素元素（Ｆ）と炭素元素（Ｃ）の比であるＦ／Ｃが０．１０〜１．０であれば特に限定されるものではない。本発明においては、Ｓｉ／Ｃが０．２５〜１．０であり、かつＦ／Ｃが０．１０〜１．０であることを特徴とするものであるが、なかでも、上記元素割合は、Ｓｉ／Ｃが０．３以上の範囲内であり、かつＦ／Ｃが０．１５以上の範囲内であることが好ましく、特にＳｉ／Ｃが０．３５以上の範囲内であり、かつＦ／Ｃが０．２０以上の範囲内であることが好ましい。上記範囲より小さいと、上述した特性が十分発揮されないためである。また、Ｓｉ／Ｃが１．０を超える元素割合となると、他の成分との相溶性が著しく悪くなるため、塗工面にハジキやムラを生じたり、白化したりと悪影響を及ぼす。また、最表層の膜強度の低下も引き起こす。Ｆ／Ｃが１．０を超える元素割合となった場合も、同様の不具合を生じるため、好ましくない。
なお、上記元素割合の測定には、ＥＳＣＡ（角度分解型微小領域Ｘ線光電子分光装置 Theta  Probe(サーモエレクトロン(株)製)を用い、以下の条件下で上記防汚層表面を測定した結果を用いた。Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）の測定では、反射防止膜の表面からおおよそ１ｎｍ〜１０ｎｍの範囲の元素が検出される。
（測定条件）
Ｘ線源：単色化  ＡｌＫα
測定面積：４００μｍφ
Ｘ線出力：１００Ｗ【００４０】
表面がこのような元素割合である防汚層を構成する材料としては、含ケイ素化合物と、含フッ素化合物とを、有するものを挙げることができ、なかでも、シロキサン基を有する含ケイ素化合物と、パーフルオロアルキル基またはパーフルオロアルキルエーテル基の少なくともいずれか一方を含む含フッ素化合物とを有することが好ましい。両化合物は、一般的に表面張力が低く、表面に存在し易いため、他成分と混ぜた場合でも表面にブリードし易く、存在比率の調整が容易となるからである。【００４１】
本発明に用いられるシロキサン基を有する含ケイ素化合物としては、下記一般式（１）で示されるものを用いることができる。式中、Ｒａはメチル基などの炭素数１〜２０のアルキル基を示し、Ｒｂは非置換、もしくはアミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、水酸基、または(メタ)アクリロイル基で置換された炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、またはポリエーテル変性基を示し、各Ｒａ、Ｒｂは互いに同一でも異なっていても良い。また、ｍは０〜２５０、ｎは０〜２５０の整数である。【００４２】
【化１】
2008038714.tif 000004
【００４３】
本発明においては、上記一般式（１）で表される構造を有する化合物のなかでも、特に、片末端を（メタ）アクリロイル変性をしたＸ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−２４２６（いずれも信越化学工業(株)製）または両末端を（メタ）アクリロイル変性をしたＸ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１６４Ｅ（いずれも信越化学工業(株)製）を好ましく用いることができる。【００４４】
また、本発明に用いられる含フッ素化合物としては、ＣｄＦ２ｄ＋１(ｄは１〜２１の整数)で表されるパーフルオロアルキル基、または、−（ＣＦ２−ＣＦ２−Ｏ）−で表されるパーフルオロアルキルエーテル基のうち少なくともいずれか一方を含むものであれば特に限定されるものではなく、例えば、含フッ素モノマーの重合体、または含フッ素モノマーと非含フッ素モノマーの共重合体等を用いることもできる。【００４５】
本発明においては、なかでも、下記一般式（２）で表されるパーフルオロポリエーテル基を有する化合物を好ましく用いることができる。また、ｐは０〜２０００、ｑは０〜２０００の整数である。【００４６】
【化２】
2008038714.tif 000005
【００４７】
本発明においては、上記一般式（２）で表されるパーフルオロポリエーテル基を有する化合物のなかでも、特に、両末端、または片末端を（メタ）アクリロイル変性したパーフルオロポリエーテル化合物が好ましく用いられる。具体的には、両末端ウレタンメタクリレート変性したＭＤ７００、５１０１Ｘ(いずれもソルベイソレクシス(株)製)、両末端ウレタンアクリレート変性した５０９０Ｘ(ソルベイソレクシス(株)製)が挙げられる。【００４８】
また、本発明に用いられる防汚層を構成する材料としては、上記シロキサン基を有する含ケイ素化合物と、パーフルオロアルキル基またはパーフルオロアルキルエーテル基の少なくともいずれか一方を含む含フッ素化合物とを有するものであれば、特に限定されるものではなく、混合物として使用しても良く、両者を共重合し、同一分子内に含むものであっても良い。本発明においては両者のいずれも好適に用いることができるが、同一分子内に含むものが好ましい。上記防汚層の表面の元素割合の調整が容易であるからである。【００４９】
本発明においては、上記含ケイ素化合物と、含フッ素化合物の比としては、上記防汚層の表面のＳｉ／ＣおよびＦ／Ｃが上述した範囲内にあれば特に限定されるものではなく、用いる化合物の種類に応じて適宜選択するものである。【００５０】
本発明に用いられる防汚層の膜厚は、上記防汚層が上記防汚層を構成する材料を、後述する光学機能層の最表面にブリードさせて形成したものである場合には、明確に規定できない場合もあるが、上記防汚層が後述する光学機能層上に膜状に形成されたものである場合においては、通常１ｎｍ〜３０ｎｍの範囲内であることが好ましく、中でも５ｎｍ〜１０ｎｍの範囲内とすることが好ましい。上記範囲より厚いと光学特性に影響を及ぼし、ディスプレイ等に用いた場合に、画像を良好に認識できない可能性があるためである。【００５１】
本発明における上記防汚層の形成方法としては、溶剤中に上述したシロキサン基を有する含ケイ素化合物と、パーフルオロアルキル基またはパーフルオロアルキルエーテル基の少なくともいずれか一方を含む含フッ素化合物とを、溶解または分散させて防汚層塗工液を調製し、後述する光学機能層上に、塗布、乾燥する方法や、後述する光学機能層を形成する光学機能層形成用塗工液中に溶解し後述する基材上に塗布することで、上記光学機能層の表面にブリードアウトさせる方法を挙げることができる。本発明においては、後者の方法を用いることが好ましい。膜厚を薄いものとすることができ、さらに工程数を減らし生産性を向上させることができるからである。【００５２】
２．基材
本発明に用いられる基材としては、ディスプレイ等の画像表示装置の前面に配置した際に、ディスプレイ等に表示される画像を良好に認識できるものであれば特に限定されない。このような基材としては、可視光を吸収しない透明フィルムを用いることができる。このような透明フィルムとしては、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系フィルム、ポリウレタン系フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネイトフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、トリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、アクリロニトリルフィルム、メタクリロニトリルフィルム等が挙げられる。本発明においては、上記透明フィルム材料のなかでも、一軸または二軸延伸ポリエステルフィルムおよび、トリアセチルセルロースフィルムを用いることが好ましい。上記一軸または二軸延伸ポリエステルフィルムは、透明性、耐熱性に優れたものであるからであり、トリアセチルセルロースフィルムは、光学異方性がないからである。【００５３】
上記透明フィルムの厚みは、画像を良好に認識できるものであれば特に限定されるものではないが、通常、２５μｍ〜１０００μｍの範囲内である。【００５４】
３．光学機能層
本発明に用いられる光学機能層は、上述した基材上および防汚層の間に形成されるものであり、ディスプレイ等の表面に用いられた際に所望の光学機能を有するものであれば特に限定されるものではない。本発明において、上記光学機能層としては、例えば、フィルムの表面の傷付きが起きないように耐擦傷性の機能を有するハードコート層、反射防止の機能を有する低屈折率層、帯電を防止することによりホコリの付着防止の機能を有する帯電防止層、外光の反射を拡散することで拡散反射となり、螢光灯などの画面への映り込みを減少させる機能を有する防眩層等を挙げることができ、このような光学機能層のうち、少なくとも１層以上を積層してなるものである。【００５５】
本発明に用いられる光学機能層の積層順としては、通常、基材側から帯電防止層、ハードコート層、防眩層、低屈折率層の順で積層される。そのため、上記光学機能層の層構成としては、例えば、基材／帯電防止層、基材／ハードコート層、基材／低屈折率層、基材／帯電防止層／ハードコート層、基材／ハードコート層／低屈折率層、基材／帯電防止層／ハードコート層／低屈折率層、基材／防眩層、基材／防眩層／低屈折率層、基材／防眩層／ハードコート層／低屈折率層、基材／帯電防止層／防眩層、基材／帯電防止層／防眩層／低屈折率層、基材／帯電防止層／防眩層／ハードコート層／低屈折率層等を挙げることができる。【００５６】
（１）帯電防止層
本発明に用いられる帯電防止層は、帯電防止効果により、ホコリの付着防止、あるいは本発明の光学機能フィルムをＣＲＴに用いた場合の電磁波シールド効果を得ることができる。
このような帯電防止層としては、通常、導電性微粒子を樹脂組成物に分散したものが用いられる。【００５７】
上記帯電防止層に用いられる導電性微粒子としては、例えば、アンチモンドープのインジウム・ティンオキサンド（ＡＴＯ）やインジウム・ティンオキサンド（ＩＴＯ）、金及び／又はニッケルで表面処理した有機化合物微粒子等を挙げることができる。また、帯電防止剤としては、第４級アンモニウム塩等のカチオン性帯電防止剤、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基等のアニオン系帯電防止剤、ポリエチレングリコール系等のノニオン性の帯電防止剤などの各種界面活性剤型帯電防止剤、さらには上記の如き帯電防止剤を高分子量化した高分子型帯電防止剤等でも良い。さらに、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリフェニレンビニレン、ポリアセン、またはその各誘導体等の導電性ポリマーも用いることができる。【００５８】
上記帯電防止層に用いられる樹脂組成物としては、上記導電性微粒子を含むことができる透明な樹脂組成物であれば、特に限定されるものではなく、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、感光性樹脂等を用いることができる。【００５９】
本発明に用いられる帯電防止層の製造方法は、均一な膜厚で形成できるものであれば特に限定されるものではなく、通常のコーティング方法を用いることができる。【００６０】
また本発明においては、上記導電性微粒子を、後述するハードコート層、低屈折率層、防眩層に添加することで、それぞれが帯電防止層としての機能を併せもったものとしても良い。【００６１】
（２）ハードコート層
本発明に用いられるハードコート層は、本発明の光学機能フィルムの表面の傷付きが起きないよう、耐擦傷性効果を付与するものである。本発明において、上記ハードコート層としては、ＪＩＳ５６００−５−４：１９９９で示される鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を示すものである。
このようなハードコート層を構成する材料としては、透明性を有し、ハードコート性が得られるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂等を用いることができる。本発明においては、ハードコート性に優れたものとすることができる利点から、なかでも、反応硬化型樹脂、即ち、熱硬化型樹脂及び／又は電離放射線硬化型樹脂を使用することが好ましく、特に、電離放射線硬化型樹脂をハードコート層のバインダー樹脂に用いることが好ましい。生産性、エネルギー効率、他の部材への熱ダメージの低減等に優れているからである。【００６２】
本発明に用いられるハードコート層を形成するのに好適な電離放射線硬化型樹脂組成物としては、好ましくはアクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエーテル樹脂、多価アルコール、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート等のジ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート誘導体やジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレートなどの多官能化合物などのモノマー類やエポキシアクリレートやウレタンアクリレートなどのオリゴマーなどを使用することができる。【００６３】
上記電離放射線硬化型樹脂組成物に用いる光重合開始剤は、上記電離放射線硬化型樹脂組成物の反応形式に合わせて、光ラジカル開始剤又は光カチオン開始剤等を適宜選択する。光重合開始剤には特に限定されないが、例えば、光重合開始剤は、バインダー成分の電離放射線硬化性の反応形式に合わせて、光ラジカル開始剤又は光カチオン開始剤等を適宜選択する。
このような光重合開始剤としては特に限定されないが、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物類などが挙げられる。より具体的には、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケトン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、2-ヒロドキシ-1-{4-[4-(2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル)-ベンジル]フェニル}-2-メチル-プロパン-1-オン、ベンゾフェノン等を例示できる。これらのうちでも、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、及び、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オンは、少量でも電離放射線の照射による重合反応を開始し促進するので、本発明において好ましく用いられる。これらは、いずれか一方を単独で、又は、両方を組み合わせて用いることができる。これらは市販品にも存在し、例えば、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンはイルガキュア  １８４（Ｉｒｇａｃｕｒｅ  １８４）の商品名でチバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）から入手できる。【００６４】
本発明に用いられるハードコート層の膜厚は、耐擦傷性を発揮でき、十分な強度を有するものであれば特に限定されるものではなく、硬化後において、０．１μｍ〜１００μｍの範囲内であることが好ましく、なかでも０．８μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲より薄いと、充分なハードコート性能が得られず、上記範囲より厚いと外部からの衝撃に対して割れやすくなるからである。【００６５】
本発明に用いられるハードコート層の製造方法は、均一な膜厚で形成できるものであれば特に限定されるものではなく、通常のコーティング方法を用いることができる。【００６６】
（３）防眩層
本発明に用いられる防眩層は、表面に微細な凹凸形状を有し、防眩機能を提供する層である。【００６７】
上記防眩層は、防眩性を付与するための透光性微粒子、及び基材や隣接する層に対する密着性を付与するためのバインダーを含有し、更に必要に応じて、レベリング剤等の添加剤、屈折率調整、架橋収縮防止、高押し込み強度付与のための無機フィラー等を含有して形成される。【００６８】
上記各透光性微粒子は、特に限定されず、無機系、有機系のものが使用することができる。有機系材料により形成されてなる微粒子の具体例としては、プラスチックビーズを挙げることができる。プラスチックビーズとしては、スチレンビーズ（屈折率１．６０）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．５０〜１．５３）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４〜１．５８）、ベンゾグアナミンビーズ、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合ビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ、等が挙げられる。上記プラスチックビーズは、その表面に疎水性基を有することが好ましく、例えば、スチレンビーズを挙げることができる。無機系微粒子としては、不定形シリカ、無機シリカビーズ等を挙げることができる。【００６９】
本発明に用いられる透光性微粒子の粒径は、バインダー中に均一に分散させることができ、所望の凹凸が得られるものであれば特に限定されるものではなく、０．５μｍ〜８μｍのものが好適に用いられる。【００７０】
また、このような透光性微粒子のバインダーに対する含有量としては、バインダー１００質量部に対して１質量部〜１５質量部の範囲内で好ましく用いられる。【００７１】
本発明に用いられる防眩層に用いることのできるバインダーとしては、透明な樹脂であれば特に限定されるものではなく、例えば、熱可塑性樹脂、および反応硬化型樹脂である熱硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂等を用いることができる。【００７２】
本発明に用いられる防眩層の膜厚としては、所望の防眩性が得られるものではあれば特に限定されるものではなく、用いる透光性微粒子の種類や、本発明の光学機能フィルムの用途等に応じて適宜設定することができる。【００７３】
また、上記防眩層は、単層であってもよいが複層からなるものであってもよい。防眩層が複層の場合、下地凹凸層及びこの下地凹凸層上に設けられた表面形状調整層からなることが好ましい。ここで表面形状調整層は、上記下地凹凸層の表面形状をより適切な凹凸形状に調整する機能を有する層である。防眩層が複層の場合の下地凹凸層は、表面が凹凸形状を有するものであって、凹凸層単層である場合の防眩層と実質的に同じ方法により得ることができる。【００７４】
本発明に用いられる防眩層の形成方法は、通常、上記透光性微粒子を、上記バインダーに混合し、塗工液としたものを塗工することによって形成する。
このような塗工液においては、使用時に沈殿した透光性微粒子をよく攪拌して分散させる必要がある。このような不都合を無くすために、前記の塗工液に沈降防止剤として、粒径０．５μｍ以下、好ましくは０．１μｍ〜０．２５μｍのシリカビーズを添加してもよい。なお、このシリカビーズは添加するほど有機フィラーの沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与える。したがって、塗膜の透明性を損なわず、かつ沈降防止することができる範囲、すなわち、バインダー１００質量部に対して０．１質量部未満程度シリカビーズを添加するのが好ましい。【００７５】
（４）低屈折率層
本発明における低屈折率層としては、上記光学機能層に反射防止効果を与えることができるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、低屈折率微粒子とバインダー成分とを有するものを挙げることができる。低屈折率微粒子は、バインダー成分よりも低い屈折率を有する微粒子である。【００７６】
（低屈折率微粒子）
本発明において用いられるコアとなる低屈折率微粒子は、コーティング組成物において用いられるバインダー成分よりも低い屈折率を有する微粒子である。本発明においては、上記低屈折率微粒子の屈折率としては、１．４４以下であることが好ましく、なかでも１．４０以下であることが好ましい。十分な低屈折率性を付与することができるからである。【００７７】
本発明において用いられる低屈折率微粒子としては、空隙を有する微粒子、あるいは低屈折率性を有する金属フッ化物微粒子等が挙げられる。【００７８】
本発明において、上記空隙を有する微粒子とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成する微粒子を意味する。気体が屈折率１．０の空気である場合、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の占有率に比例して屈折率が低下する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。【００７９】
本発明において用いられる低屈折率微粒子のうち、空隙を有する微粒子の材料としては、無機物、有機物のいずれでもあってよく、例えば、金属、金属酸化物、樹脂からなるものを挙げることができ、なかでも、酸化珪素（シリカ）微粒子を用いることが好ましい。上記シリカ微粒子は結晶性、ゾル状、ゲル状の状態等を問わない。【００８０】
空隙を有する無機系の微粒子の具体例としては、特開平７−１３３１０５号公報、特開２００１−２３３６１１号公報等に開示された複合酸化物ゾルまたは中空シリカ微粒子が挙げられる。中でも、特開２００１−２３３６１１号公報で開示されている技術を用いて調製した中空シリカ微粒子が好ましい。空隙を有する無機系微粒子は硬度が高いため、バインダー成分と混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０〜１．４４程度の範囲内に調製することを可能だからである。【００８１】
上記のような中空シリカ微粒子等の空隙を有する無機系微粒子は、具体的には、以下の第１〜第３工程により製造することができる。【００８２】
すなわち、第１工程として、予めシリカ原料およびシリカ以外の無機酸化物原料のアルカリ水溶液を個別に調製するか、または、両者の混合水溶液を調製する。次に、目的とする複合酸化物の複合割合に応じて、得られた上記水溶液を、ｐＨ１０以上のアルカリ水溶液中に撹拌しながら徐々に添加する。なお、第１工程の代わりに、予めシード粒子を含む分散液を出発原料とすることも可能である。【００８３】
次に、第２工程として、上記の工程で得られた複合酸化物からなるコロイド粒子から、珪素と酸素以外の元素の少なくとも一部を選択的に除去する。具体的には、複合酸化物中の元素を、鉱酸や有機酸を用いて溶解除去したり、あるいは、陽イオン交換樹脂と接触させてイオン交換除去する。【００８４】
続いて、第３工程として、この一部元素が除去された複合酸化物のコロイド粒子に、加水分解性の有機ケイ素化合物またはケイ酸液等を加えることにより、コロイド粒子の表面を加水分解性有機ケイ素化合物またはケイ酸液等の重合物で被覆する。このようにして、上記公報に記載の複合酸化物ゾルを製造することができる。【００８５】
また、形成した低屈折率層の内部及び／または表面の少なくとも一部にナノポーラス構造を形成することが可能な微粒子としては、先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラムおよび表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、または断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体例としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業（株）製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。【００８６】
一方、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている技術を用いて調製した中空高分子微粒子が好ましく挙げられる。中空高分子微粒子は、具体的には、分散安定剤の水溶液中で、（i）少なくとも１種の架橋性モノマー、（ii）開始剤、（iii）少なくとも１種の架橋性モノマーから得られる重合体、又は、少なくとも１種の架橋性モノマーと少なくとも１種の単官能性モノマーとの共重合体、並びに、（i）〜（iii）に対して相溶性の低い水難溶性の溶媒からなる混合物を分散させ、懸濁重合を行うことにより製造することができる。なおここで、架橋性モノマーとは重合性反応基を２個以上有するものであり、単官能性モノマーとは重合性反応基を１個有するものである。【００８７】
本発明において低屈折率微粒子として空隙を有する微粒子を用いる場合の屈折率としては、１．２０〜１．４４の範囲内であることが好ましく、なかでも１．２２〜１．４０の範囲内であることが好ましい。上記範囲より大きいと十分に低屈折率化することができないからであり、上記範囲より小さいと微粒子自体の強度の確保が困難となるからである。【００８８】
一方、本発明において用いられる金属フッ化物微粒子の材料としては、屈折率が低いものであれば特に限定されるものではなく、例えば、フッ化マグネシウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム等を挙げることができる。
また、本発明において低屈折率微粒子として金属フッ化物微粒子を用いる場合の屈折率としては、１．３０〜１．４４の範囲内であることが好ましく、なかでも１．３３〜１．４０の範囲内であることが好ましい。上記範囲より大きいと十分に低屈折率化することができないからであり、低屈折率層を十分に低屈折率化することが可能な点から、上記範囲が好ましい。【００８９】
微粒子の形状は、球状、鎖状、針状、板状、片状、棒状、繊維状、樹脂状のいずれであってもよい。【００９０】
低屈折率微粒子の平均粒子径は、好ましくは１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、更に好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が５０ｎｍ以下である。微粒子の平均粒子径が１００ｎｍを超える場合には、透明性を損なう恐れがあるからである。一方、微粒子の平均粒子径が１ｎｍ未満である場合には、微粒子の分散が困難になる恐れがある。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。【００９１】
（バインダー成分）
本発明に用いられるバインダー成分としては、上述した低屈折率微粒子を均一に分散して用いることができ、優れた成膜性や、基材や隣接する層に対する密着性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。【００９２】
このようなバインダー成分としては、固化又は硬化した際に透明性を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば、可視光、紫外線、電子線等の電磁波又はエネルギー粒子線に感応して硬化する光硬化性バインダー成分や、熱に感応して硬化する熱硬化性バインダー成分に代表される反応性バインダー成分、または光や熱等に感応することなく乾燥又は冷却により固化する熱可塑性樹脂等に代表される非反応性バインダー成分を用いることができる。
なかでも本発明においては、光硬化性バインダー成分、特に電離放射線硬化性バインダー成分を用いることが好ましい。塗工適性に優れたコーティング組成物を調製することができ、均一な大面積塗膜を形成しやすいからである。また、塗膜中のバインダー成分を塗工後に光重合により硬化させることにより比較的強度の高い塗膜が得られるからである。【００９３】
このような電離放射線硬化性バインダー成分としては、電離放射線の照射を受けた時に直接、又は開始剤の作用を受けて間接的に、重合や二量化等の大分子化を進行させる反応を起こす重合性官能基を有するモノマー、オリゴマー及びポリマーを用いることが出来る。本発明においては、主に、アクリル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合を有するラジカル重合性のものや、エポキシ基含有化合物のような光カチオン重合性のもものを用いることができる。【００９４】
上記熱硬化性バインダー成分としては、加熱によって同一の官能基又は他の官能基との間で重合又は架橋等の大分子量化反応を進行させて硬化させることができる硬化反応性官能基を有するモノマー、オリゴマー及びポリマーを用いることができる。具体的には、アルコキシ基、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、水素結合形成基等を有するモノマー、オリゴマーが挙げられる。【００９５】
本発明においては、上記電離放射線硬化性バインダー成分、上記熱硬化性バインダー成分としては、バインダー成分間で架橋結合ができるように、一分子内に重合性官能基を２個以上有する多官能性であることが好ましい。【００９６】
上記非反応性バインダー成分としては、光学薄膜を形成するために従来から用いられている非重合反応性の透明樹脂、例えば、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリオレフィン、ポリスチロール、ポリアミド、ポリイミド、ポリビニルクロライド、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート等を例示することができる。【００９７】
本発明においては、上記バインダー成分の１種類を用いても良く、２種類以上を混合したものであっても良い。例えば、上記電離放射線硬化性バインダー成分に、上記熱硬化性バインダー成分や、上記非反応性バインダー成分のように他の反応形式の重合性モノマー、オリゴマー、ポリマーを組み合わせても良い。【００９８】
本発明に用いられる低屈折率層を構成する上記低屈折率微粒子および上記バインダー成分の配合比率としては、低屈折率微粒子１０質量部に対して、バインダー成分を３質量部〜２０質量部で配合することが好ましい。【００９９】
本発明に用いられる低屈折率層の厚みは、反射防止効果を発揮できるものであれば特に限定されるものではないが、通常、１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内である。【０１００】
本発明に用いられる低屈折率層の形成方法としては、膜厚が均一なものとすることができるのであれば特に限定するものではなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、熱ＣＶＤ法など種々の真空成膜の方法、あるいはゾルゲル法などによるウェットコーティングなどの公知の方法を用いることができるが、通常、上記低屈折率微粒子およびバインダー成分を塗工液状とした低屈折率層用コーティング組成物を塗工するウェットコーティングにより形成されるものである。【０１０１】
上記低屈折率層用コーティング組成物としては、少なくとも上記低屈折率微粒子およびバインダー成分を有するものであるが、その他必要に応じて、溶剤、光重合開始剤、その他の添加剤を含有させても良い。【０１０２】
（溶剤）
本発明に用いられる上記低屈折率層用コーティング組成物に含まれる溶剤としては、上記低屈折率微粒子およびバインダー成分等を均一に溶解ないし分散することができるものであれば特に限定されるものではなく、一般的な有機溶剤を用いることができる。
このような溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、あるいはこれらの混合物を用いることができる。【０１０３】
本発明においては、なかでも、ケトン系の有機溶剤を用いるのが好ましい。ケトン系溶剤を用いて本発明に係るコーティング組成物を調製すると、当該組成物を基材表面に容易に薄く均一に塗布することができ、且つ、塗工後において溶剤の蒸発速度が適度で乾燥むらを起こし難いので、均一な薄さの大面積塗膜を容易に得ることができる。ケトン系溶剤としては、１種のケトンからなる単独溶剤、２種以上のケトンからなる混合溶剤、及び、１種又は２種以上のケトンと共に他の溶剤を含有しケトン溶剤としての性質を失っていないものを用いることができる。好ましくは、溶剤の７０質量％以上、特に８０質量％以上が１種又は２種以上のケトンで占められているケトン系溶剤が用いられる。【０１０４】
また、溶剤の量は、各成分を均一に溶解、分散することができ、調製後の保存時に凝集を来たさず、かつ、塗工時に希薄すぎない濃度となるように適宜調節する。この条件が満たされる範囲内で溶剤の使用量を少なくして高濃度のコーティング組成物を調製し、容量をとらない状態で保存し、使用時に必要分を取り出して塗工作業に適した濃度に希釈するのが好ましい。固形分と溶剤の合計量を１００質量部とした時に、全固形分０．５質量部〜５０質量部に対して、溶剤を５０質量部〜９５．５質量部、さらに好ましくは、全固形分１０質量部〜３０質量部に対して、溶剤を７０質量部〜９０質量部の割合で用いることにより、特に分散安定性に優れ、長期保存に適した低屈折率層用コーティング組成物が得られる。【０１０５】
（光重合開始剤）
本発明において用いられるバインダー成分が電離放射線硬化性である場合には、光重合を開始させるために光重合開始剤を用いることが望ましい。光重合開始剤としては、上記「（２）ハードコート層」の項に記載したものと同様のものを用いることができる。【０１０６】
また、光重合開始剤を用いる場合には、電離放射線硬化性バインダー成分１００質量部に対して、当該光重合開始剤を通常は３質量部〜８質量部の割合で配合することが好ましい。【０１０７】
（その他）
本発明においては、上記低屈折率微粒子およびバインダー成分以外にも必要に応じて、他の添加物を加えても良い。このような添加物としては、エポキシアクリレート樹脂（共栄社化学製「エポキシエステル」や昭和高分子製「エポキシ」等）や各種イソシアナートと水酸基を有するモノマーとがウレタン結合を介して重付加によって得られるウレタンアクリレート樹脂（日本合成化学工業製「紫光」や共栄社化学製「ウレタンアクリレート」）といった数平均分子量（ＧＰＣ法で測定したポリスチレン換算数平均分子量）が２万以下のオリゴマー類も好ましく使用できる。これらのモノマー類やオリゴマー類は塗膜の架橋密度を高める効果が高いほか、数平均分子量が２万以下と小さいので流動性が高い成分であり、上記低屈折率層用コーティング組成物の塗工適性を向上させる効果があるからである。【０１０８】
また、バインダーとして屈折率を下げる目的で、フッ素を含有したモノマー、及びポリマーを添加しても構わない。【０１０９】
また本発明に用いられる低屈折率層は、上記低屈折率層の基材側に他の屈折率層（高屈折率層と中屈折率層）をさらに設けてもよい。上記高屈折率層、中屈折率層は、低屈折率層と合わせて用いることにより、それぞれの屈折率の違いにより光の反射を効率よく防止することができるからである。【０１１０】
これらの他の屈折率層の屈折率としては、上記低屈折率層より屈折率が高いものであれば特に限定されるものではなく、１．４６〜２．００の範囲内で任意に設定することができる。本発明においては、中屈折率層は、少なくとも上記低屈折率層よりも屈折率が高く、その屈折率が１．４６〜１．８０の範囲内のものを意味し、高屈折率層は、中屈折率層と併用される場合には少なくとも上記中屈折率層よりも屈折率が高く、その屈折率が１．６５〜２．００の範囲内のものを意味する。【０１１１】
本発明に用いられる上記中屈折率層および高屈折率層としては、屈折率が上述した範囲内であれば特に限定されるものではなく、例えば、超微粒子のうち所望の屈折率を有するものとバインダー成分とを有するものを挙げることができる。【０１１２】
このような超微粒子の材料としては、例えば、酸化亜鉛（１．９０）、チタニア（２．３〜２．７）、セリア（１．９５）、スズドープ酸化インジウム（１．９５〜２．００）、アンチモンドープ酸化スズ（１．７５〜１．８５）、イットリア（１．８７）、ジルコニア（２．１０）が挙げられる。なお上記かっこ内は各超微粒子の材料の屈折率を示す。【０１１３】
本発明において上記中屈折率層および高屈折率層の屈折率の調整方法としては、上記超微粒子の含有率によって一般的に定まることから、添加量によって調整することができる。【０１１４】
また、本発明に用いられる超微粒子の平均粒子径は、所望の屈折率を有する層を形成することができるものであれば特に限定されるものではないが、通常１００ｎｍ以下である。また上記バインダー成分としては上述した低屈折率層と同様のものを用いることができる。【０１１５】
これら他の屈折率層の膜厚は１０ｎｍ〜３００ｎｍ、更に３０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲であることが好ましい。【０１１６】
上記他の屈折率層（高屈折率層と中屈折率層）の形成位置としては、上記低屈折率層と上記基材との間であれば特に限定されるものではなく、上記基材上に直接設けても良いが、上記基材上にハードコート層を形成し、ハードコート層と低屈折率層との間に設けることが好ましい。反射防止機能をより効果的に発揮できるからである。【０１１７】
また本発明に用いられる超微粒子が導電性を有するものであれば、このような超微粒子を用いて形成された他の屈折率層（高屈折率層または中屈折率層）は導電性を有することから、帯電防止層としての機能を兼ね備えたものとしてもよい。【０１１８】
本発明における上記高屈折率層または中屈折率層の形成方法としては、上述した低屈折率層と同様の方法によって形成することができ, 化学蒸着法（ＣＶＤ）、物理蒸着法（ＰＶＤ）などの蒸着法により形成したチタニア又はジルコニアのような屈折率の高い無機酸化物の蒸着膜としても良く、あるいは、チタニアのような屈折率の高い無機酸化物微粒子を分散させた膜としても良い。【０１１９】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１２０】
次に、実施例及び比較例を挙げて、本発明についてさらに具体的に説明する。【０１２１】
［評価方法］
実施例、比較例における光学機能フィルムは、（１）反射率測定、（２）表面の元素割合（Ｓｉ／ＣおよびＦ／Ｃ）、（３）接触角、及び転落角、（４）表面の動摩擦係数、（５）表面の平均面粗さ（Ｒａ）、（６）耐擦傷性評価試験について測定した。その結果を表１に示す。【０１２２】
（１）反射率測定
島津製作所（株）製分光光度計（ＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて絶対反射率を測定した。最低反射率を表１に示す。なお、最低反射率は、低屈折率層の膜厚が反射率の極小値が波長５５０ｎｍ付近になるように設定した際の反射率の値とした。【０１２３】
（２）表面の元素割合（Ｓｉ／ＣおよびＦ／Ｃ）
ＥＳＣＡ（角度分解型微小領域X 線光電子分光装置 Theta  Probe(サーモエレクトロン(株)製)を用い、以下の条件下で塗工膜表面の元素割合を測定した。
（測定条件）
Ｘ線源：単色化  ＡｌＫα
測定面積：４００μｍφ
Ｘ線出力：１００Ｗ【０１２４】
（３）接触角、及び転落角
表面の流動パラフィン、黒マジック（ＭＨＪ６０−Ｔ１黒、寺西化学工業(株)製)の接触角及び転落角、水の接触角をＤＭ７００(協和界面科学(株)製)を用いて測定した。【０１２５】
（４）表面の動摩擦係数
表面の動摩擦係数は、ＨＥＩＤＯＮ  ＨＨＳ−２０００動摩擦試験機により、乾燥状態（２０℃−６５％ＲＨ）下で、１０ｍｍφステンレス鋼球、荷重２００ｇ、速度５ｍｍ／ｓの条件にて測定した。【０１２６】
（５）表面の平均面粗さ（Ｒａ）
表面の平均面粗さ（Ｒａ）は、原子間力顕微鏡（日本ビーコ(株)製、Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ IIIａ）を用い、乾燥状態（２０℃−６５％ＲＨ）下、１μｍ×１μｍの範囲にて測定した。【０１２７】
（６）耐擦傷性評価試験
＃００００のスチールウールを用い、荷重２００ｇで２０往復した時の傷の有無を目視により確認した。評価基準は以下の通りとした。
○：全く傷が認められないもの
○〜△：細かい傷（５本以下）が認められるもの
△：傷は著しくつくが、剥離は認められないもの
×：剥離するもの【０１２８】
［実施例１］
（１）ハードコート層の形成
（ハードコート層形成用組成物の調製）
下記組成の成分を混合してハードコート層形成用組成物を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴ−３０：商品名、日本化薬製）；３０．０質量部
・イルガキュア９０７（商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）；１．５質量部
・メチルイソブチルケトン；７３．５質量部【０１２９】
（ハードコート層の作製）
厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、上記調製したハードコート層形成用組成物を、バーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置を用いて照射線量約２０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、膜厚１０μｍのハードコート層を有する、基材／ハードコート層からなる積層フィルムを得た。【０１３０】
（２）低屈折率層の形成
下記組成の成分を混合して低屈折率層形成用組成物を調製した。【０１３１】
（低屈折率層形成用組成物）
・中空シリカ微粒子分散液（中空シリカメチルイゾブチルケトンゾル；平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、触媒化成工業(株)製）；１３．６質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴ−３０：商品名、日本化薬製）；１．８質量部
・イルガキュア１２７（商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）；０．１質量部
・Ｘ−２２−１６４Ｅ（商品名、信越化学工業製、両末端メタクリル変性シリコーン）；０．２質量部
・５１０１Ｘ（商品名、ソルベイソレクシス製、両末端４官能メタクリレート変性パーフルオロポリエーテル化合物）；０．２質量部
・メチルイソブチルケトン；８４．１質量部【０１３２】
（３）光学機能フィルムの作製
（１）で得られた基材／ハードコート層からなる積層フィルム上に，上記で調製された低屈折率層形成用組成物をバーコーティングし、乾燥させることにより溶剤を除去した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン（株），光源Ｈバルブ）を用いて、照射線量２００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、膜厚約１００ｎｍの低屈折率層を形成した。
以上により、基材／ハードコート層／低屈折率層／防汚層(ブリードにより形成)の層構成を有する光学機能フィルムを得た。【０１３３】
［実施例２］
低屈折率層形成用組成物を下記組成の成分とした以外は、実施例１と同様とし、基材／ハードコート層／低屈折率層／防汚層（ブリードにより形成）の層構成を有する光学機能フィルムを得た。【０１３４】
（低屈折率層形成用組成物）
・中空シリカ微粒子分散液（中空シリカメチルイゾブチルケトンゾル；平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、触媒化成工業(株)製）；１３．６質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴ−３０：商品名、日本化薬製）；１．８質量部
・イルガキュア１２７（商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）；０．１質量部
・ＺＸ−００７Ｃ（固形分３５％、商品名、富士化成工業製、フッ素樹脂／シロキサングラフト型ポリマー）；０．５質量部  
・５０８８Ｘ（商品名、ソルベイソレクシス製、両末端２官能ウレタンメタクリレート変性パーフルオロポリエーテル化合物）；０．２質量部  
・メチルイソブチルケトン；８３．４質量部【０１３５】
［実施例３］
（１）基材／ハードコート層／低屈折率層の形成
実施例１と同様にして、基材／ハードコート層からなる積層フィルムを得た。次いで、  低屈折率層形成用組成物を下記組成の成分とし、上記積層フィルム上に低屈折率層を形成した。【０１３６】
（低屈折率層形成用組成物）
・中空シリカ微粒子分散液（中空シリカメチルイゾブチルケトンゾル；平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、触媒化成工業(株)製）；１６．４質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴ−３０：商品名、日本化薬製）；１．６質量部
・イルガキュア１２７（商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）；０．１質量部  
メチルイソブチルケトン；８１．９質量部【０１３７】
（２）防汚層の形成
下記組成の成分を混合して防汚層形成用組成物を調製した。【０１３８】
（防汚層形成用組成物）
・ＺＸ−００７Ｃ（固形分３５％、商品名、富士化成工業製、フッ素樹脂／シロキサングラフト型ポリマー）；０．６質量部
・ＦＬＵＯＲＯＬＩＮＫ  Ｄ（商品名、ソルベイソレクシス製、両末端水酸基変性パーフルオロポリエーテル化合物）；０．１質量部
・コロネートＨＸ(商品名、日本ポリウレタン製、イソシアヌレート型プレポリマー)；０．３質量部
・イソプロピルアルコール；９．４質量部【０１３９】
（１）で得られた基材／ハードコート層／低屈折率層からなる積層フィルム上に，上記で調製された防汚層形成用組成物をバーコーティングし、乾燥させることにより溶剤を除去した後、オーブンにて８０℃、１ｈの条件にて塗膜を硬化させて、膜厚約１０ｎｍの防汚層を形成した。
以上により、基材／ハードコート層／低屈折率層／防汚層（膜状）の層構成を有する光学機能フィルムを得た。【０１４０】
［比較例１］
低屈折率層形成用組成物を下記組成の成分とした以外は、実施例１と同様に反射防止膜を作製し、基材／ハードコート層／低屈折率層の層構成の光学機能フィルムを得た。【０１４１】
（低屈折率層形成用組成物）
・中空シリカ微粒子分散液（中空シリカメチルイゾブチルケトンゾル；平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、触媒化成工業(株)製）；１４．７質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴ−３０：商品名、日本化薬製）；２．０質量部
・イルガキュア１２７（商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）；０．１質量部
・メチルイソブチルケトン；８３．２質量部【０１４２】
［比較例２］
低屈折率層形成用組成物を下記組成の成分とした以外は、実施例１と同様に反射防止膜を作製し、基材／ハードコート層／低屈折率層／防汚層(シリコン系防汚剤のみをブリードさせて形成)の層構成を有する光学機能フィルムを得た。【０１４３】
（低屈折率層形成用組成物）
・中空シリカ微粒子分散液；１４．０質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴ−３０：商品名、日本化薬製）；１．９質量部
・イルガキュア３６９（商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）；０．１質量部
・Ｘ−２２−１６２Ｃ（商品名、信越化学工業製、両末端カルボキシル基変性シリコーン添加剤）；０．２質量部
・メチルイソブチルケトン；８３．８質量部【０１４４】
［比較例３］
低屈折率層形成用組成物を下記組成の成分とした以外は、実施例１と同様に反射防止膜を作製し、基材／ハードコート層／低屈折率層(フッ素系防汚剤のみをブリードさせて形成)の層構成を有する光学機能フィルムを得た。【０１４５】
（低屈折率層形成用組成物）
・中空シリカ微粒子分散液；１４．０質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴ−３０：商品名、日本化薬製）；１．９質量部
・イルガキュア３６９（商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）；０．１質量部
・Ｆ２００（固形分３０％、商品名、日本油脂製、フッ素系ブロックコポリマー添加剤）；０．８質量部
・メチルイソブチルケトン；８３．２質量部【０１４６】
【表１】
2008038714.tif 000006
【０１４７】
実施例および比較例における光学機能フィルムの表面の元素割合を測定したところ、実施例ついては、いずれも、ケイ素元素（Ｓｉ）と炭素元素（Ｃ）の比Ｓｉ／Ｃが０．２５以上であり、かつフッ素元素（Ｆ）と炭素元素（Ｃ）の比であるＦ／Ｃが０．１０以上であり、以下の特性を満たすものであった。
ａ．流動パラフィン接触角が６５°以上であり、かつ流動パラフィン転落角が１５°以下
ｂ．黒マジック接触角が３５°以上であり、かつ黒マジック転落角が１５°以下
ｃ．動摩擦係数が０．１５未満
それに対して、比較例においては、上記ａ〜ｃの全ての特性を満たすものはなかった。
【産業上の利用可能性】
【０１４８】
耐指紋性、耐マジック性、滑り性に優れた防汚層を最表面に有することにより、テレビ、パソコン、携帯電話等のディスプレイ、カーブミラー、バックミラー、ゴーグル、窓ガラス、その他の商業ディスプレイの最表層に用いることができ、特に液晶表示装置などのディスプレイの最表層に好適に用いることができる。
【図１】
2008038714.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月1日(2009.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
しかしながら、シラン系化合物は耐マジック性、滑り性、撥水性に対しては良好であるのに対して、耐指紋性が劣るといった問題があった。一方フッ素系化合物は、耐指紋性、撥水性は良好であるが、耐マジック性が劣るといった問題があった。そこで、このようなシラン系化合物とフッ素系化合物を混合、または共重合させて、両者の利点を組み合わせる試みがなされてきた（特許文献１、特許文献２）が、両者の利点を併せもった耐指紋性、耐マジック性、滑り性、撥水性を同時に満たすものは得られていない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
従来の光学機能フィルムの最表層に形成される防汚層は、シラン系化合物や、フッ素系化合物が用いられてきた。シラン系化合物は耐マジック性、滑り性、撥水性に対しては良好であるのに対して、耐指紋性が劣るといった問題があった。一方フッ素系化合物は、耐指紋性、撥水性は良好であるが、耐マジック性が劣るといった問題があった。そこで、このようなシラン系化合物とフッ素系化合物を混合、または共重合させて、両者の利点を組み合わせる試みがなされてきたが、両者の利点を併せもった耐指紋性、耐マジック性、滑り性、撥水性を同時に満たすものは得られていない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
（ｂ）黒マジック転落角
黒マジック転落角とは、油性の黒マジックのインクを、防汚層の表面上に接触させてマジックインクの液滴を作り、防汚層を徐々に傾けていった際に液滴が下方へ滑り出すときの傾斜角度を転落角として評価するものである。
このように測定方法で得られる黒マジック転落角は、黒マジックの防汚層表面に対する付着力を測るものであり、黒マジックの拭取りやすさの指標とすることができる。ここで転落角が小さいほど付着力が弱いことを意味し、指紋が拭き取りやすい性質を有することになる。本発明における黒マジック転落角は、１５°以下であることを特徴とするものであるが、なかでも、１０°以下の範囲内が好ましく、特に５°以下の範囲内となることが好ましい。上記範囲より大きいと黒マジックの付着力が強く、本発明の光学機能フィルムに用いた場合に、黒マジックが拭き取りにくいものとなるからである。
なお、黒マジック転落角の測定方法としては、油性の黒マジックインクを用いて液滴を形成した以外は、上記「（１）流動パラフィン接触角および流動パラフィン転落角」の「（ｂ）流動パラフィン転落角」の項に記載した内容と同様の方法で測定した。
また、上記黒マジックインクとしては、上記「（ａ）黒マジック接触角」と同様のものを用いることができる。
【国際調査報告】
2008038714.tif 000008
2008038714.tif 000009
2008038714.tif 000010
2008038714.tif 000011