【手続補正書】
【提出日】平成17年2月14日(2005.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空容器内にガスを供給しつつ真空容器内を排気し、真空容器内を所定の圧力に制御しながら、直径の異なる複数の部材を同心状に配設して成るコイルに高周波電圧を印加することにより真空容器内にプラズマを発生させ、真空容器内に配設された電極上の基板を処理するプラズマ処理方法。
【請求項２】
真空容器と、真空容器の排気手段と、真空容器内にガスを供給する手段と、真空容器外に直径の異なる複数の部材を同心状に配設して成るコイルと、コイルに高周波電圧を印加する高周波電源と、真空容器内に配設された電極とを備えたプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記各部材の一端を導電体で接続して高周波電力の印加部とし、他端を導電体で接続して接地した請求項２記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
印加部のインダクタンスを前記各部材のインダクタンスより小さくした請求項３記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記各部材のインダクタンスをほぼ同一とした請求項４記載のプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明のプラズマ処理方法は、真空容器内にガスを供給しつつ真空容器内を排気し、真空容器内を所定の圧力に制御しながら、直径の異なる複数の部材を同心状に配設して成るコイルに高周波電圧を印加することにより真空容器内にプラズマを発生させ、真空容器内に配設された電極上の基板を処理するものであり、各部材の長さは渦巻き状に巻回する場合に比して短いために効率良く大電流を流して高密度のプラズマを形成できるとともに、同心状に配設しているため、配設間隔を適切に設定することで広い範囲で均一なプラズマを得ることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、本発明のプラズマ処理装置は、真空容器と、真空容器の排気手段と、真空容器内にガスを供給する手段と、真空容器外に直径の異なる複数の部材を同心状に配設して成るコイルと、コイルに高周波電圧を印加する高周波電源と、真空容器内に配設された電極とを備えたものであり、上記方法を実施して高密度てかつ広い範囲で均一なプラズマを得ることができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、各部材の一端を導電体で接続して高周波電力の印加部とし、他端を導電体で接続して接地し、また印加部のインダクタンスを各部材のインダクタンスより小さくし、また各部材のインダクタンスをほぼ同一とすると、より効果的である。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のプラズマ処理装置の参考例と実施形態について、図１〜図５を参照して説明する。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
（第１の参考例）
本発明の第１の参考例のプラズマ処理装置について、図１、図２を参照して説明する。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
以上のように、本参考例のコイル５においては、従来例のコイル２５に比較して、外周部のＩsat はほぼ同等で、中央部のＩsat が向上している。これは、比較的内周部にも間隔Ｌ１のエリアを配設した結果であると言える。こうして、内周部のＩsat が向上したことにより、全体的に均一性が向上している。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
（第２の参考例）
次に、本発明の第２の参考例のプラズマ処理装置について、図３を参照して説明する。なお、第１の参考例と同一の構成要素については同一参照符号を付して説明を省略し、相違点のみを説明する。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
図３において、本参考例では、間隔がほぼ同一の第１の間隔Ｌ１のエリア１１を外周部に配設した下部のコイルまたはアンテナ１２と、同エリア１１を内周部に配設した上部のコイルまたはアンテナ１３にてコイルまたはアンテナを構成するとともに、これらの下部と上部のコイルまたはアンテナ１２、１３を高周波電源６に並列接続している。そして、これら下部のコイルまたはアンテナ１２と上部のコイルまたはアンテナ１３の抵抗値またはインダクタンスを、適宜に変化させて設定している。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
本参考例においては、外周部にエリア１１を有する下部のコイルまたはアンテナ１２と、内周部にエリア１１を有する上部のコイルまたはアンテナ１３で、それらのエリア１１を流れる電流値をコントロールすることができ、プラズマ密度及びその均一性のコントロールが可能となり、広い範囲で均一なプラズマを得ることができる。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
次に、本発明の一実施形態のプラズマ処理装置について、図４、図５を参照して説明する。なお、第１の参考例と同一の構成要素については同一参照符号を付して説明を省略し、相違点のみを説明する。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
【発明の効果】
本発明のプラズマ処理方法及び装置によれば、直径の異なる複数の部材を同心状に配設して成るコイルに高周波電圧を印加するようにしたので、各部材の長さは渦巻き状に巻回する場合に比して短いために効率良く大電流を流して高密度のプラズマを形成できるとともに、同心状に配設しているため、配設間隔を適切に設定することで広い範囲で均一なプラズマを得ることができる。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明の第１の参考例のプラズマ処理装置の縦断面図である。
【図２】
同参考例と従来例における飽和イオン電流の分布図である。
【図３】
本発明の第２の参考例のプラズマ処理装置の縦断面図である。
【図４】
本発明の一実施形態のプラズマ処理装置の縦断面図である。
【図５】
同実施形態のプラズマ処理装置の上部構成図である。
【図６】
従来例のプラズマ処理装置の縦断面図である。
【図７】
同従来例のプラズマ処理装置の上部構成を示す平面図である。
【符号の説明】
１  真空容器
３  真空ポンプ（排気手段）
４  ガス供給手段
５  コイルまたはアンテナ
６  高周波電源
７  下部電極
１０  基板
１４  コイルまたはアンテナ
１５  円弧部材
１６  印加部
１７  導電体
１８  導電体