【手続補正書】
【提出日】平成16年9月17日(2004.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクパターンが形成されたマスクを露光波長λ、ウェハ側開口数ＮＡ、照明のコヒーレンスファクタσ、ウェハ上のパターンに対するマスクパターンの倍率Ｍなる露光装置にセットし、ウェハ上に塗布されたレジストにマスクパターンを露光し、該マスクパターンに対応するウェハ上のレジストの状態を観察することにより、ウェハ上の実効的な露光量を測定する露光量測定方法であって、
前記マスクパターンはウェハ上に解像されない微細な周期パターンであることを特徴とし、
前記ウェハ上のレジストのレジスト膜厚に応じた物理量を測定するステップと、
測定された物理量と、予め求められた前記レジストの膜厚に応じた物理量と露光量との関係とに基づいて、前記ウェハ上の実効的な露光量を測定するステップとを含むことを特徴とする露光量測定方法。
【請求項２】
マスクパターンが形成されたマスクを、露光波長λ，ウェハ側開口数ＮＡ，照明のコヒーレンスファクタσ，ウェハ上のパターンに対するマスクパターンの倍率Ｍなる露光装置にセットし、ウェハ上に塗布されたレジストにマスクパターンを露光し、該マスクパターンに対応するウェハ上のレジストの状態を観察することにより、ウェハ上の実効的な露光量を測定する露光量測定方法であって、
前記マスクパターンは周期ｐにて透光部と遮光部が繰り返されたパターンであり、前記周期ｐが、
ｐ／Ｍ≦λ／（１＋σ）ＮＡ
を満たすように設定され、
前記ウェハ上のレジストのレジストの膜厚に応じた物理量を測定するステップと、
測定された物理量と、予め求められた前記レジストの膜厚に応じた物理量と露光量との関係とに基づいて、前記ウェハ上の実効的な露光量を測定するステップとを含むことを特徴とする露光量測定方法。
【請求項３】
マスクパターンが形成されたマスクを、露光波長λ，ウェハ側開口数ＮＡ，照明のコヒーレンスファクタσ，ウェハ上のパターンに対するマスクパターンの倍率Ｍなる露光装置にセットし、ウェハ上に塗布されたレジストにマスクパターンを露光し、該マスクパターンに対応するウェハ上のレジストの状態を観察することにより、ウェハ上の実効的な露光量を測定する露光量測定方法であって、
前記マスクパターンは周期ｐにて透光部と遮光部が繰り返されたパターンであり、かつ透光部と遮光部の割合に応じて透過率が異なる複数種類が同一マスクに形成され、前記周期ｐが、
ｐ／Ｍ≦λ／（１＋σ）ＮＡ
を満たすように設定され、
特定のマスクパターンに対応する前記ウェハ上のレジストの膜厚に対応する物理量を測定する測定ステップと、
この測定ステップで測定された物理量と予め設定された設定範囲値とを比較する比較ステップと、
この比較ステップにおける比較の結果、前記測定ステップで測定された物理量が前記設定範囲値内の場合、予め求められた物理量と露光量との関係に基づいて、測定された物理量に対応する前記ウェハ上の実効的な露光量を測定するステップと、
この比較ステップにおける比較の結果、前記測定ステップで測定された物理量が前記設定範囲値外の場合、前記測定に用いたレジストに対応するマスクパターンと異なる種類のマスクパターンに対応するレジストの膜厚に応じた物理量を測定する再測定ステップと、
この再測定ステップで測定された物理量が設定範囲値内の場合、予め求められた物理量と露光量との関係に基づいて、測定された物理量に対応する前記ウェハ上の実効的な露光量を測定するステップとを含むことを特徴とする露光量測定方法。
【請求項４】
前記再測定ステップにおいて、
特定のマスクパターンに対応する前記ウェハ上の前記物理量が所定範囲値以上であった場合、測定されたレジストパターンに対応する特定のマスクパターンより透過率が高い種類のマスクパターンに対応するレジストの前記物理量を測定し、
特定のマスクパターンに対応する前記ウェハ上の前記物理量が所定範囲値以下であった場合、測定されたレジストパターンに対応する特定のマスクパターンより透過率が低い種類のマスクパターンに対応するレジストの前記物理量を測定することを特徴とする請求項３に記載の露光量測定方法。
【請求項５】
マスクパターンが形成されたマスクを、露光波長λ，ウェハ側開口数ＮＡ，照明のコヒーレンスファクタσ，ウェハ上のパターンに対するマスクパターンの倍率Ｍなる露光装置にセットし、ウェハ上に塗布されたレジストにマスクパターンを露光し、該マスクパターンに対応するウェハ上のレジストの状態を観察することにより、ウェハ上の実効的な露光量を測定する露光量測定装置であって、
前記マスクパターンは周期ｐにて透光部と遮光部が繰り返されたパターンであり、かつ透光部と遮光部の割合に応じて透過率が異なる複数種類が同一マスクに形成され、前記周期ｐが、
ｐ／Ｍ≦λ／（１＋σ）ＮＡ
を満たすように設定され、
前記マスクパターンに対応するウェハ上のレジストの膜厚に応じた物理量を測定する測定部と、
この測定部により測定された物理量と、予め設定された設定範囲値とを比較する比較部と、
この比較部の比較の結果、前記物理量が前記設定範囲値外の場合、前記測定部に、前記測定に用いたレジストに対応するマスクパターンと異なる種類のマスクパターンに対応するレジストの膜厚に応じた物理量を測定させる制御部と、
前記測定部で測定された物理量が所定範囲値内の場合、予め求められた物理量と露光量との関係に基づいて、測定された物理量に対応する前記ウェハ上の実効的な露光量を算出する露光量算出部とを具備してなることを特徴とする露光量測定装置。
【請求項６】
前記制御部は、
特定のマスクパターンに対応する前記ウェハ上の前記物理量が所定範囲値以上であった場合、測定されたレジストパターンに対応する特定のマスクパターンより透過率が高い種類のマスクパターンに対応するレジストの前記物理量を測定させ、
特定のマスクパターンに対応する前記ウェハ上の前記物理量が所定範囲値以下であった場合、測定されたレジストパターンに対応する特定のマスクパターンより透過率が低い種類のマスクパターンに対応するレジストの前記物理量を測定させることを特徴とする請求項５に記載の露光量測定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明に係わる露光量測定方法は、マスクパターンが形成されたマスクを露光波長λ、ウェハ側開口数ＮＡ、照明のコヒーレンスファクタσ、ウェハ上のパターンに対するマスクパターンの倍率Ｍなる露光装置にセットし、ウェハ上に塗布されたレジストにマスクパターンを露光し、該マスクパターンに対応するウェハ上のレジストの状態を観察することにより、ウェハ上の実効的な露光量を測定する露光量測定方法であって、前記マスクパターンはウェハ上に解像されない微細な周期パターンであることを特徴とし、前記ウェハ上のレジストのレジスト膜厚に応じた物理量を測定するステップと、測定された物理量と、予め求められた前記レジストの膜厚に応じた物理量と露光量との関係とに基づいて、前記ウェハ上の実効的な露光量を測定するステップとを含むことを特徴とする。
本発明に係わる露光量測定方法は、マスクパターンが形成されたマスクを、露光波長λ，ウェハ側開口数ＮＡ，照明のコヒーレンスファクタσ，ウェハ上のパターンに対するマスクパターンの倍率Ｍなる露光装置にセットし、ウェハ上に塗布されたレジストにマスクパターンを露光し、該マスクパターンに対応するウェハ上のレジストの状態を観察することにより、ウェハ上の実効的な露光量を測定する露光量測定方法であって、前記マスクパターンは周期ｐにて透光部と遮光部が繰り返されたパターンであり、前記周期ｐが、ｐ／Ｍ≦λ／（１＋σ）ＮＡを満たすように設定され、前記ウェハ上のレジストのレジストの膜厚に応じた物理量を測定するステップと、測定された物理量と、予め求められた前記レジストの膜厚に応じた物理量と露光量との関係とに基づいて、前記ウェハ上の実効的な露光量を測定するステップとを含む。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明に係わる露光量測定方法は、マスクパターンが形成されたマスクを、露光波長λ，ウェハ側開口数ＮＡ，照明のコヒーレンスファクタσ，ウェハ上のパターンに対するマスクパターンの倍率Ｍなる露光装置にセットし、ウェハ上に塗布されたレジストにマスクパターンを露光し、該マスクパターンに対応するウェハ上のレジストの状態を観察することにより、ウェハ上の実効的な露光量を測定する露光量測定方法であって、前記マスクパターンは周期ｐにて透光部と遮光部が繰り返されたパターンであり、かつ透光部と遮光部の割合に応じて透過率が異なる複数種類が同一マスクに形成され、前記周期ｐが、ｐ／Ｍ≦λ／（１＋σ）ＮＡを満たすように設定され、特定のマスクパターンに対応する前記ウェハ上のレジストの膜厚に対応する物理量を測定する測定ステップと、この測定ステップで測定された物理量と予め設定された設定範囲値とを比較する比較ステップと、この比較ステップにおける比較の結果、前記測定ステップで測定された物理量が前記設定範囲値内の場合、予め求められた物理量と露光量との関係に基づいて、測定された物理量に対応する前記ウェハ上の実効的な露光量を測定するステップと、この比較ステップにおける比較の結果、前記測定ステップで測定された物理量が前記設定範囲値外の場合、前記測定に用いたレジストに対応するマスクパターンと異なる種類のマスクパターンに対応するレジストの膜厚に応じた物理量を測定する再測定ステップと、この再測定ステップで測定された物理量が設定範囲値内の場合、予め求められた物理量と露光量との関係に基づいて、測定された物理量に対応する前記ウェハ上の実効的な露光量を測定するステップとを含むことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明に係わる露光量測定装置は、マスクパターンが形成されたマスクを、露光波長λ，ウェハ側開口数ＮＡ，照明のコヒーレンスファクタσ，ウェハ上のパターンに対するマスクパターンの倍率Ｍなる露光装置にセットし、ウェハ上に塗布されたレジストにマスクパターンを露光し、該マスクパターンに対応するウェハ上のレジストの状態を観察することにより、ウェハ上の実効的な露光量を測定する露光量測定装置であって、前記マスクパターンは周期ｐにて透光部と遮光部が繰り返されたパターンであり、かつ透光部と遮光部の割合に応じて透過率が異なる複数種類が同一マスクに形成され、前記周期ｐが、ｐ／Ｍ≦λ／（１＋σ）ＮＡを満たすように設定され、前記マスクパターンに対応するウェハ上のレジストの膜厚に応じた物理量を測定する測定部と、この測定部により測定された物理量と、予め設定された設定範囲値とを比較する比較部と、この比較部の比較の結果、前記物理量が前記設定範囲値外の場合、前記測定部に、前記測定に用いたレジストに対応するマスクパターンと異なる種類のマスクパターンに対応するレジストの膜厚に応じた物理量を測定させる制御部と、前記測定部で測定された物理量が所定範囲値内の場合、予め求められた物理量と露光量との関係に基づいて、測定された物理量に対応する前記ウェハ上の実効的な露光量を算出する露光量算出部とを具備してなることを特徴とする。