(57)【要約】  レンズホルダ(8)は、金属製のホルダ本体(12)と、被加工レンズ(7)の加工中心部(13)を保持する弾性部材(14)とで構成されている。ホルダ本体(12)は、前面中央に形成された嵌合孔(20)を有する。弾性部材(14)は、嵌合孔(20)に摺動可能に嵌合される嵌合軸部(14A)と、この嵌合軸部(14A)に一体に設けられたレンズ保持部(14B)とで構成される。レンズ保持部(14B)は、前面が被加工レンズ(7)を保持するレンズ保持面(24)を形成し、被加工レンズ(7)を保持する以前はホルダ本体(12)の前面(18)との間に適宜な隙間(g)が形成されており、被加工レンズ(7)に押し付けられると背面側に弾性変形してホルダ本体(12)の前面(18)に押し付けられる。
2008117768.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工レンズの一方の光学面の加工中心部を保持して縁摺り加工装置のレンズ保持軸に装着されるレンズホルダにおいて、
前記レンズホルダは、金属製のホルダ本体と、このホルダ本体に着脱可能に取付けられ前記被加工レンズの加工中心部を保持する弾性部材とで構成され、
前記ホルダ本体は前面中央に形成された嵌合孔を有し、
前記弾性部材は、前記嵌合孔に摺動可能に嵌合される嵌合軸部と、この嵌合軸部に一体に設けられ前記ホルダ本体の前面と略同一の大きさを有するレンズ保持部とで構成され、前記レンズ保持部の裏面は、前記嵌合軸部との接続部付近が前記ホルダ本体の前面に接触し、この接続部付近からレンズ保持部の外周縁に向かうにしたがって徐々に大きくなる隙間が前記前面との間に形成されていることを特徴とするレンズホルダ。
【請求項２】
請求項１記載のレンズホルダにおいて、
前記ホルダ本体の前面と前記レンズ保持部の背面には、互いに噛合する複数の突状体が放射状に突設されていることを特徴とするレンズホルダ。
【請求項３】
請求項２記載のレンズホルダにおいて、
前記突状体は、略同一角度で傾斜する２つの斜面を有する断面山形形状の突状体からなり、ホルダ本体の前面とレンズ保持部の裏面との間の隙間が突状体の内端から外端に向かって徐々に大きくなるように形成されていることを特徴とするレンズホルダ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、眼鏡レンズの縁摺り加工に用いられるレンズホルダに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
眼鏡レンズの縁摺り加工装置は、通常レンズ保持軸と加工具回転軸とを備え、レンズ保持軸に加工治具（レンズホルダとレンズ押え）を介して未加工の円形レンズ（以下、被加工レンズともいう）を装着し、加工具回転軸に取付けた研削砥石等の加工具によって被加工レンズの周面を加工し、眼鏡フレームの枠形状に適合する玉型形状に形成するようにしている。レンズ保持軸は、同軸に配置された第１、第２のレンズ保持軸を有し、その対向端面にそれぞれ取付けたレンズホルダとレンズ押えとで被加工レンズの加工中心部を挟持するようにしている。【０００３】
このような縁摺り加工装置に用いられるレンズホルダとしては、例えば実開平６−２４８５２号公報、特開２００１−４７３４７号公報および特開２００５−２７１２０３号公報等に開示されているレンズホルダが知られている。【０００４】
実開平６−２４８５２号公報に記載されているレンズホルダは、レンズ保持軸に取付けられるクランプ軸と、被加工レンズの凸側光学面を保持する弾性シールとを備え、クランプ軸のシール取付面に鋸歯状の歯を形成し、この歯を弾性シールに食い込ませることにより、縁摺り加工時の加工抵抗による被加工レンズの軸ずれを防止するようにしている。【０００５】
特開２００１−４７３４７号公報に記載されているレンズホルダは、上述した実開平６−２４８５２号公報に記載されているレンズホルダと同様に被加工レンズの凸側光学面に圧接する凹球面状のレンズ保持面に、接着パッドとの密着結合力を増大させるために微小凹凸を多数形成している。この微小凹凸は、レンズ保持軸の回転方向前側の壁面と後側の壁面とを略同一角度の傾斜面からなる山形断面形状に形成されている。このようなレンズホルダによれば、微小凹凸の両方の斜面に接着パッドが均等に密着するため接触面積が増大してレンズ保持力が増大し、また接着パッドが両方の斜面に均等に圧接するので、接着パッドに無用な回転力が発生せず、被加工レンズの軸ずれを防止することができる。【０００６】
特開２００５−２７１２０３号公報に記載されているレンズホルダも上述した特開２００１−４７３４７号公報に記載されているレンズホルダと同様に山形断面形状の歯を備えている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記した従来のレンズホルダは、いずれも薄いシート状の弾性シールを粘着剤によって固着しているだけであるため、レンズホルダのレンズ保持面の曲率が被加工レンズのレンズカーブと異なっていると、被加工レンズと弾性シートとの接触面積が小さくてレンズ保持力が弱く、縁摺り加工時の加工抵抗によって被加工レンズが軸ずれし易いという問題があった。このため、被加工レンズを安定かつ確実に保持することができ、縁摺り加工時の被加工レンズの軸ずれを防止し得るようにしたレンズホルダの開発が要請されている。【０００８】
本発明は上記したような問題および要請に応えるべくなされたもので、その目的とするところは、大きなレンズ保持力が得られてレンズを確実に保持することができ、加工時のレンズの軸ずれを防止するようにしたレンズホルダを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために本発明は、被加工レンズの一方の光学面の加工中心部を保持して縁摺り加工装置のレンズ保持軸に装着されるレンズホルダにおいて、前記レンズホルダを、金属製のホルダ本体と、このホルダ本体に着脱可能に取付けられ前記被加工レンズの加工中心部を保持する弾性部材とで構成し、前記ホルダ本体は前面中央に形成された嵌合孔を有し、前記弾性部材は、前記嵌合孔に摺動可能に嵌合される嵌合軸部と、この嵌合軸部に一体に設けられたレンズ保持部とで構成され、前記レンズ保持部の裏面は、前記嵌合軸部との接続部付近が前記ホルダ本体の前面に接触し、この接続部付近からレンズ保持部の外周縁に向かうにしたがって徐々に大きくなる隙間が前記前面との間に形成されているものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明において、弾性部材はレンズ保持部が被加工レンズに押し付けられると、ホルダ本体との間に設けられている隙間により背面側に弾性変形してレンズ保持面を被加工レンズに密接させる。このため、被加工レンズと弾性部材のレンズ保持面との接触面積が増大して大きなレンズ保持力が得られ、縁摺り加工時の加工抵抗による被加工レンズの軸ずれを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本発明に係るレンズホルダの分解斜視図である。
【図２】図２は、レンズホルダのレンズ保持前の状態を示す断面図である。
【図３】図３は、レンズホルダの要部の拡大断面図である。
【図４】図４は、レンズホルダの要部の拡大側面図である。
【図５】図５は、レンズホルダとレンズ押えとで被加工レンズを保持した状態を示す断面図である。
【図６】図６は、被加工レンズの縁摺り加工を説明するための図である。
【図７】図７は、被加工レンズの保護膜層を示す要部の拡大断面図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明する。
図１〜図６において、縁摺り加工装置１は、平行に配置されたレンズ保持軸２と加工具回転軸３とを備えている。レンズ保持軸２は、軸線を一致させて配置された第１、第２のレンズ保持軸５、６とで構成され、これらのレンズ保持軸５、６の対向面間に被加工レンズ７がレンズホルダ８とレンズ押え９に挟持されて装着されている。加工具回転軸３には、被加工レンズ７の外周面７ｃを縁刷り加工する加工具としての研削砥石１０が装着されている。研削砥石１０は、荒加工用の研削砥石１０Ａと仕上げ加工用の研削砥石１０Ｂとで構成され、研削砥石１０Ｂの周面にはヤゲン用溝１１が形成されている。【００１３】
図７において、被加工レンズ７は、注型重合法によって形成された円形（例えば、直径８０φｍｍ）のプラスチック製マイナスレンズからなり、表面全体に保護膜層４０と撥水膜層４３が積層形成されている。保護膜層４０は、レンズの光学特性、耐久性、耐擦傷性等を向上させるために形成されるもので、通常ハードコート膜層４１と反射防止膜層４２とで構成されている。撥水膜層４３は、凸側光学面７ａと凹側光学面７ｂの平滑度を高めて防汚性を向上させるとともに、水やけを防止するために形成されるもので、最近では滑り性のよい超撥水レンズが普及しつつある。撥水材としては、例えばフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む撥水原料等が用いられている。なお、保護膜層４０と撥水膜層４３についはさらに後述する。【００１４】
レンズホルダ８は、ステンレス、アルミニウム合金、鉄等からなる金属製のホルダ本体１２と、このホルダ本体１２に取付けられ被加工レンズ７の凸側光学面７ａの加工中心部１３を保持する弾性部材１４とで構成されている。【００１５】
ホルダ本体１２は、第１のレンズ保持軸５の嵌合孔１６に嵌合される円筒状の嵌合軸部１２Ａと、この嵌合軸部１２Ａの前端に一体に設けられた弾性部材取付部１２Ｂとで構成されている。【００１６】
弾性部材取付部１２Ｂは、例えば長さ２４ｍｍ、高さ１６ｍｍ、奥行き１３ｍｍ程度で、両側面が凸曲面に形成された略直方体のブロックからなり、前面１８には貫通孔１９と複数の突状体２０が一体に突設されている。貫通孔１９は穴径が１０ｍｍ程度で、嵌合軸部１２Ａの背面に開口している。【００１７】
突状体２０は、前面１８で貫通孔１９を取り囲むように放射状に形成されている。また、突状体２０は、略同一角度で反対方向に傾斜する２つの斜面２１ａ、２１ｂを有することにより、長手方向と直交する断面形状が左右対称な山形形状（Ｖ字状）の突状体からなり、高さが内端３２ａから外端３２ｂ（図３）に向かうにしたがって徐々に高くなるように、かつ幅が同じく内端３２ａから外端３２ｂに向かうにしたがって徐々に広くなるように形成されている。このため、突状体２０の山線２０ａは、ホルダ本体１２の軸線Ｌに対して８５°傾斜し、谷線２０ｂに対して小角度θ（θ＝５°程度）傾斜している。谷線２０ｂは、レンズホルダ８の軸線Ｌと直交している。【００１８】
また、ホルダ本体１２の両側面後端側には、第１のレンズ保持軸５の前端面に突設された回転防止用の突起部２２に係合する係合凹部２３がそれぞれ形成されている。【００１９】
弾性部材１４は、ホルダ本体１２の貫通孔１９に摺動可能に嵌挿される円柱状の嵌合軸部１４Ａと、この嵌合軸部１４Ａの外周面前端部に一体に設けられた鍔状のレンズ保持部１４Ｂとで構成されている。弾性部材１４の材質としては、国際ゴム硬度が９０°程度のゴム材、例えば軟質ウレタンゴムが用いられる。【００２０】
レンズ保持部１４Ｂは、厚さが２．５〜３ｍｍ程度で、ホルダ本体１２の前面と同一の大きさの板状に形成されている。また、レンズ保持部１４Ｂは、表面側が凹、背面側が凸となるように湾曲した板状に形成され、表面がレンズ保持面２４を形成している。さらに詳述すると、レンズ保持面２４は、被加工レンズ７の凸側光学面７ａのレンズカーブよりも大きなカーブを有する凹球面に形成されていることが好ましい。例えば、加工対象レンズが０．５〜８カーブの場合、レンズ保持面２４の表面形状は８〜９カーブ程度が好適である。一方、加工対象レンズが０．５〜５カーブの場合、レンズ保持面２４の表面形状は５〜６カーブが好適である。なお、レンズ保持面２４の中央には、穴径が８φｍｍ、深さが１〜２ｍｍ程度の円形の凹陥部２５が形成されている。【００２１】
さらに、レンズ保持部１４Ｂの背面には、環状溝２６と、複数の突状体２７が設けられている。環状溝２６は、レンズ保持部１４Ｂの前後方向の弾性変形を容易にするために形成されるもので、嵌合軸部１４Ａの全周を取り囲む環状溝で構成されている。【００２２】
突状体２７は、ホルダ本体１２の突状体２０と歯合することにより弾性部材１４の中心をホルダ本体１２の中心に一致させ弾性部材１４の回転を防止するために形成されるもので、環状溝２６の外側に放射状に突設されている。また、この突状体２７も、突状体２０と同様に幅が内端３３ａから外端３３ｂに向かうにしたがって徐々に広くなるように形成されている。さらに、突状体２７は、略同一角度で反対方向に傾斜する２つの斜面２８ａ、２８ｂを有することにより、長手方向と直交する断面形状が左右対称な山形形状（Ｖ字状）の突状体からなり、内端３３ａが外端３３ｂ（図３）よりも後方側に位置するように弾性部材１４の軸線Ｌに対して８７．１５°傾斜し、軸線Ｌと直交する面に対して小角度α（α＝２．４５°）傾斜するように設けられている。突状体２７の山線２７ａと谷線２７ｂは略平行である。【００２３】
このため、図３に示すように嵌合軸部１４Ａをホルダ本体１２の嵌合孔１６に嵌挿して弾性部材１４をホルダ本体１２に装着した状態において、レンズ保持部１４Ｂの裏面は、被加工レンズ７を保持する以前において、嵌合軸部１４Ａとの接続部付近Ｚ（図３）、すなわち環状溝２６の外周縁部分がホルダ本体１２の前面１８に接触し（隙間が零）、この接続部付近Ｚからレンズ保持部１４Ｂの外周縁に向かうにしたがって徐々に大きくなる隙間ｇが前面１８との間に形成されている。さらに隙間ｇについて詳述すると、突状体２７の山線２７ａの内端３３ａを突状体２０の谷線２０ｂの内端３２ａとは、互いに接触しているため隙間ｇは零である。そして、突状体２０の山線２０ａと突状体２７の谷線２７ｂとの間および突状体２０の谷線２０ｂと突状体２７の山線２７ａとの間には、嵌合軸部１４Ａとの接続部付近から遠のくにしたがって徐々に大きくなる隙間ｇ（図３および図４参照）がそれぞれ形成されている。この隙間ｇは、弾性部材取付部１２Ｂとレンズ保持部１４Ｂが矩形に形成されているためレンズ保持部１４Ｂの外周において一定ではなく、レンズホルダ１２の中心からの距離が短い長辺側においては小さい隙間（例えば０．０４ｍｍ）を形成し、中心からの距離が長い短辺側においては大きい隙間（例えば、０．２２ｍｍ）を形成している。なお、弾性部材取付部１２Ｂとレンズ保持部１４Ｂを円形に形成した場合は、レンズ保持部１４Ｂの外周における隙間ｇを全周にわたって一定な値とすることができる。【００２４】
次に、図６に基づいて被加工レンズの縁摺り加工について説明する。
先ず、レンズホルダ８に被加工レンズ７をリープテープ３５（図１）を介して取付ける。リープテープ３５は、両面に粘着剤が塗布されており、レンズホルダ８のレンズ保持面２４に予め貼付されている。そして、このリープテープ３５を被加工レンズ７の凸側光学面７ａの加工中心部１３に押しつけると、被加工レンズ７はレンズホルダ８によりリープテープ３５を介して保持される。被加工レンズ７の加工中心は、眼鏡フレームのフレームセンターまたはレンズの光学中心である。【００２５】
次に、被加工レンズ７をレンズ保持軸２に装着する。レンズ保持軸２への装着に際しては、先ず被加工レンズ７を保持しているレンズホルダ８を第１のレンズ保持軸５に装着する。このレンズホルダ８の装着は、嵌合軸部１２Ａを第１のレンズ保持軸５の先端面に形成されている嵌合孔１６に嵌合し、係合凸部２２と係合凹部２３（図１）を互いに係合させることにより行なうことができる。【００２６】
次に、第２のレンズ保持軸６を前進させてこの保持軸６の先端に取付けられているレンズ押え９を被加工レンズ７の凹側光学面７ｂに弾性部材３６を介して押し付ける。これにより、被加工レンズ７の凸側と凹側の光学面７ａ、７ｂの加工中心部１３がレンズホルダ８とレンズ押え９とによって挟持され、レンズ保持軸２へのレンズの装着が終了する。【００２７】
レンズ押え９によって被加工レンズ７の凹側光学面７ｂを押圧して被加工レンズ７をレンズホルダ８にリープテープ３５を介して押し付けると、弾性部材１４のレンズ保持部１４Ｂは、突状体２０と突状体２７との間の隙間ｇの存在により、環状溝２６を支点として背面側に弾性変形する。このため、リープテープ３５も被加工レンズ７の凸側光学面７ａに沿って変形し凸側光学面７ａとの接触面積が増大する。そして、弾性部材１４の突状体２７の山線２７ａと谷線２０ｂがホルダ本体１２の突状体２０の谷線２０ｂと山線２０ａにそれぞれ押し付けられ、図４に示すように隙間ｇが零になった後は、一定量圧縮変形して被加工レンズ７とリープテープ３５との接触面積をさらに増大させる。したがって、リープテープ３５の表面全体が凸側光学面７ａに密着して被加工レンズ７を大きなレンズ保持力で保持することができ、レンズ保持軸２への被加工レンズ７の装着が終了する。【００２８】
レンズ保持軸２への被加工レンズ７の装着が終了すると、レンズ保持軸２と加工具回転軸３をそれぞれ回転させるとともにレンズ保持軸２をレンズ枠形状データに基づいて軸線と直交する方向（矢印Ｙ方向）に移動させ、被加工レンズ７の周面７ｃを荒加工する。この荒加工は、荒加工用研削砥石１０Ａによって行い、周面７ｃを所定形状に荒加工した後、仕上げ加工用砥石１０Ｂによって眼鏡フレームの枠形状に適合する玉型形状に仕上げ加工し、縁摺り加工を終了する。この仕上げ加工時に、ヤゲン用溝１１により被加工レンズ７の周面にはＶ字状の突状体からなるヤゲンが形成される。【００２９】
隙間ｇの角度α、βとしては、０．１〜３°（最適な隙間角度は0.25°付近）が好ましい。隙間ｇの幅としては、０．１〜０．５ｍｍ（最適な隙間幅は0.20ｍｍ付近）が好ましい。弾性部材１４の硬度としては、８０〜１００°（最適硬度は９０°付近）が好ましい。【００３０】
被加工レンズ７の光学基材としては、例えば、メチルメタクリレートと一種以上の他のモノマーとの共重合体、ジエチルグリコールビスアリルカーボネートと一種以上の他のモノマーとの共重合体、ポリカーボネート、ウレタン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリチオウレタン、エン−チオール反応を利用したスルフィド、硫黄を含むビニル重合体等が挙げられ、中でもウレタン系光学基材とアリル系光学基材が好適であるが、これに限定されるものではない。また、本発明における光学基材としては、プラスチック光学基材であると好ましく、眼鏡用プラスチック光学基材であるとさらに好ましい。【００３１】
保護膜層４０のハードコート膜層４１は、眼鏡レンズ自体の硬度を高めるとともに耐擦傷性を向上させるためにレンズの表裏面に形成されるものであり、材料としては、例えば、シリコン系樹脂などの有機物質が用いられる。ハードコート膜層４１は、溶剤からなるシリコン系樹脂を浸漬法またはスピンコート法によって塗布した後、加熱炉によって加熱硬化させることにより形成される。このようなハードコート膜層４１の形成方法は、従来からよく知られた方法である。【００３２】
反射防止膜層４２は、反射防止効果と耐擦傷効果を高めるためにハードコート膜層４１の上に形成されている。また、この反射防止膜層４２は、異なった複数の材質によって形成されることにより、多層の反射防止膜層を形成している。反射防止用材料としては、例えば、Ｚｒ，Ｔｉ，Ｓｎ，Ｓｉ，Ｉｎ，Ａｌ等の金属酸化物または珪素酸化物やＭｇＦ2 が用いられる。このような多層反射防止膜層４２は、例えば特開平１１−３３３６８５号公報等に記載の真空蒸着法によって形成される。【００３３】
多層反射防止膜層４２としては、良好な膜強度および密着性を得るためイオンアシスト法で形成されることが好ましい。この反射防止膜のハイブリッド層以外の膜構成層は、良好な反射防止効果、耐擦傷性等の物性を得るため、高屈折率層として酸化タンタル（Ta2Ｏ5）層とする。この酸化タンタル層は各層中にそれぞれ酸化タンタルを少なくとも５０重量％含有し、さらに、８０重量％以上含有することが好ましい。【００３４】
イオンアシスト法において、出力に関する好ましい範囲は、特に、良好な反応を得る観点から、加速電圧５０〜７００ｖ、加速電流３０〜２５０ｍＡである。イオンアシスト法を実施する際に使用されるイオン化ガスは、成膜中の反応性、酸化防止の点からアルゴン（Ａｒ）、またはアルゴンと酸素の混合ガスを用いるのが好ましい。【００３５】
本発明におけるハイブリッド層に使用される無機物質としては、二酸化ケイ素を含有することが必要であり、その他、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化イットリウムおよび酸化ニオブから選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。複数の無機物質を用いる場合は、それらを物理的に混合してもよいし、また複合酸化物であってもよく、具体的には二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）−酸化アルミニウム（Ａｌ2 Ｏ3 ）等がある。これらのうち二酸化ケイ素単独、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも１種類の無機酸化物が好ましい。【００３６】
本発明におけるハイブリッド層に使用される有機物質としては、膜厚の制御、蒸着速度の制御の観点から、常温、常圧下で、液体状態にある有機ケイ素化合物および／または常温、常圧下で液体であるケイ素非含有有機化合物が用いられる。【００３７】
有機ケイ素化合物としては、例えば、以下の一般式（ａ）〜（ｄ）で表されるいずれかの構造を有することが好ましい。【００３８】
一般式（ａ）：シラン・シロキサン化合物
【化１】
2008117768.tif 000003
【００３９】
一般式（ｂ）：シラザン化合物
【化２】
2008117768.tif 000004
【００４０】
一般式（ｃ）：シクロシロキサン化合物
【化３】
2008117768.tif 000005
【００４１】
一般式（ｄ）：シクロシラザン化合物
【化４】
2008117768.tif 000006
【００４２】
一般式（ａ）〜（ｄ）において、式中のｍ、ｎは、それぞれ独立に０以上の整数を表す。また、Ｘ1〜Ｘ8はそれぞれ独立に水素、炭素数１〜６の炭化水素基（飽和・不飽和双方を含む）、−ＯＲ1基、−ＣＨ2ＯＲ2基、−ＣＯＯＲ3基、−ＯＣＯＲ4基、−ＳＲ5基、−ＣＨ2ＳＲ6 基、−ＮＲ72基、または、−ＣＨ2ＮＲ82基[Ｒ1〜Ｒ8は水素または炭素数１〜６の炭化水素基（飽和・不飽和双方を含む）]を表し、Ｘ1〜Ｘ8は上記の任意の官能基であればよく、すべて同じ官能基でもよいし、すべて異なるものでもよい。【００４３】
Ｒ1〜Ｒ8で示される炭素数１〜６の炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ビニル基、アリル基、エチニル基、フェニル基、シクロヘキシル基、プロピニル基、イソプロペニル基等が挙げられる。【００４４】
一般式（ａ）で表せる具体的な化合物としては、トリメチルシラノール、テトラメチルシラン、ジエチルシラン、ジメチルエトキシシラン、ヒドロキシメチルトリメチルシラン、メトキシトリメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、メチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、メルカプトメチルトリメチルシラン、アミノメチルトリメチルシラン、ジメチルジメチルアミノシラン、エチニルトリメチルシラン、ジアセトキシメチルシラン、アリルジメチルシラン、トリメチルビニルシラン、メトキシジメチルビニルシラン、アセトキシトリメチルシラン、トリメトキシビニルシラン、ジエチルメチルシラン、エチルトリメチルシラン、エトキシトリメチルシラン、ジエトキシメチルシラン、エチルトリメトキシシラン、ジメチルアミノトリメチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルシラン、フェニルシラン、ジメチルジビニルシラン、2-プロピニロキシトリメチルシラン、ジメチルエトキシエチニルシラン、ジアセトキシジメチルシラン、アリルトリメチルシラン、アリロキシトリメチルシラン、エトキシジメチルビニルシラン、イソプロペノキシトリメチルシラン、アリルアミノトリメチルシラン、トリメチルプロピルシラン、トリメチルイソプロピルシラン、トリエチルシラン、ジエチルジメチルシラン、ブチルジメチルシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメチルイソプロポキシシラン、トリエチルシラノール、ジエトキシジメチルシラン、プロピルトリメトキシシラン、ジエチルアミノジメチルシラン、ビス（エチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラン、トリ（ジメチルアミノ）シラン、メチルフェニルシラン、メチルトリビニルシラン、ジアセトキシメチルビニルシラン、メチルトリアセトキシシラン、アリロキシジメチルビニルシラン、ジエチルメチルビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルビニルシラン、ブチルジメチルヒドロキシメチルシラン、1-メチルプロポキシトリメチルシラン、イソブトキシトリメチルシラン、ブトキシトリメチルシラン、ブチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、イソプロピルアミノメチルトリメチルシラン、ジエチルアミノトリメチルシラン、メチルトリ（ジメチルアミノ）シラン、ジメチルフェニルシラン、テトラビニルシラン、トリアセトキシビニルシラン、テトラアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、ジアリルジメチルシラン、1,1-ジメチルプロピニロキシトリメチルシラン、ジエトキシジビニルシラン、ブチルジメチルビニルシラン、ジメチルイソブトキシビニルシラン、アセトキシトリエチルシラン、トリエトキシビニルシラン、テトラエチルシラン、ジメチルジプロピルシラン、ジエトキシジエチルシラン、ジメチルジプロポキシシラン、エチルトリエトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルフェニルビニルシラン、フェニルトリメチルシラン、ジメチルヒドロキシメチルフェニルシラン、フェノキシトリメチルシラン、ジメトキシメチルフェニルシラン、フェニルトリメトキシシラン、アニリノトリメチルシラン、1-シクロヘキセニロキシトリメチルシラン、シクロヘキシロキシトリメチルシラン、ジメ��ルイソペンチロキシビニルシラン、アリルトリエトキシシラン、トリプロピルシラン、ブチルジメチル−３−ヒドロキシプロピルシラン、ヘキシロキシトリメチルシラン、プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ジメチルフェニルビニルシラン、トリメチルシリルベンゾネート、ジメチルエトキシフェニルシラン、メチルトリイソプロペノキシシラン、メトキシトリプロピルシラン、ジブトキシジメチルシラン、メチルトリプロポキシシラン、ビス（ブチルアミノ）ジメチルシラン、ジビニルメチルフェニルシラン、ジアセトキシメチルフェニルシラン、ジエチルメチルフェニルシラン、ジエトキシメチルフェニルシラン、トリイソプロポキシビニルシラン、２−エチルヘキシロキシトリメチルシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ジフェニルシラン、ジフェニルシランジオールフェニルトリビニルシラン、トリエチルフェニルシラン、フェニルトリエトキシシラン、テトラアリロキシシラン、フェニルトリ（ジメチルアミノ）シラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、ジフェニルメチルシラン、ジアリルメチルフェニルシラン、ジメチルジフェニルシラン、ジメトキシジフェニルシラン、ジアニリノジメチルシラン、ジフェニルエトキシメチルシラン、トリペンチロキシシラン、ジフェニルジビニルシラン、ジアセトキシジフェニルシラン、ジエチルジフェニルシラン、ジエトキシジフェニルシラン、ビス（ジメチルアミノ）ジフェニルシラン、テトラブチルシラン、テトラブトキシシラン、トリフェニルシラン、ジアリルジフェニルシラン、トリヘキシルシラン、トリフェノキシビニルシラン、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ペンタメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、１，３−ジメトキシテトラメチルジシロキサン、１，３−ジエチニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−ジエトキシテトラメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、１，３−ジブチル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンなどの化合物が挙げられる。【００４５】
一般式（ｂ）で表される具体的な化合物としては、１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、ヘキサメチルジシラザン、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシラザンなどの化合物が挙げられる。【００４６】
一般式（ｃ）で表される具体的な化合物としては、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ヘキサエチルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサンなどの化合物が挙げられる。【００４７】
一般式（ｄ）で表される具体的な化合物としては、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルシクロトリシラザン、１，１，３，３，５，５，７，７−オクタメチルシクロテトラシラザンなどの化合物が挙げられる。【００４８】
これらの有機ケイ素化合物の数平均分子量は、ハイブリッド膜中の有機成分の制御、膜自体の強度の点から、好ましくは、４８〜６００、特に好ましくは、１４０〜５００である。【００４９】
さらに、ハイブリッド層を構成するケイ素非含有有機化合物は、その側鎖または末端に反応性基を含有する炭素および水素を必須成分とするものが好ましく、より具体的には一般式（e）〜(g)で表される化合物が好ましく用いられる。【００５０】
一般式（ｅ）：片末端にエポキシ基を有する炭素および水素を必須成分とするケイ素非含有有機化合物
【化５】
2008117768.tif 000007
【００５１】
一般式（ｆ）：両末端にエポキシ基を有する炭素および水素を必須成分とするケイ素非含有有機化合物
【化６】
2008117768.tif 000008
【００５２】
一般式（ｇ）：二重結合を含む、炭素および水素を必須成分とするケイ素非含有有機化合物
ＣＸ9Ｘ10＝ＣＸ11Ｘ12 ・・・（ｇ）【００５３】
一般式（ｅ）、（ｆ）において、Ｒ9は水素、または酸素を含んでいてもよい炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｒ10は、酸素を含んでいてもよい炭素数１〜７の二価の炭化水素基を表す。一般式（ｇ）において、Ｘ9〜Ｘ12はそれぞれ独立に水素、炭素数１〜１０の炭化水素基、または炭素数１〜１０の炭素、水素を必須成分とし、さらに酸素および窒素の少なくとも一方を必須成分とする有機基を表す。【００５４】
一般式（ｅ）の化合物の具体例としては、メチルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、デジルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｓｅｃ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、２−メチルオクチルグリシジルエーテル、グリシドール、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテルなどが挙げられる。【００５５】
一般式（ｆ）の化合物の具体例としては、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルなどが挙げられる。【００５６】
一般式（ｇ）の具体例としてはエチレン、プロピレン、塩化ビニル、フッ化ビニル、アクリルアミド、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾール、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、メタクリル酸、グリシジルメタクリレート、酢酸ビニル、スチレンなどがあげられる。【００５７】
また、一般式（ｅ）〜（ｇ）で表される化合物の数平均分子量は、ハイブリッド膜中の有機成分の制御およびハイブリッドの膜強度を考慮して、好ましくは、２８〜４０００、特に好ましくは、１４０〜３６０である。【００５８】
本発明における常温、常圧下で液体である有機ケイ素化合物および／または常温、常圧下で液体であるケイ素非含有有機化合物（以下「有機物質」ということがある）の成膜方法としては、ハイブリッド層を形成する際には、無機物質、有機物質それぞれを別の蒸着源にて同時に蒸着して成膜するのが好ましい。具体的には、無機物質を電子銃等を用いて加熱することにより気化させ、有機物質を外部タンクに貯蔵し、このタンク内でこの有機物質を気化させ、無機物質と有機物質を同時に蒸着させる方法が好ましい。【００５９】
なお、蒸着速度の制御の観点から、有機物質を貯蔵する外部タンクを加熱・減圧してこの有機物質をチャンバー内に供給し、酸素ガスおよび／またはアルゴンガスを用いイオンアシスト成膜するのが好ましい。さらに、本発明では有機物質が常温・常圧で液体であり、溶媒を使用する必要がなく、直接加熱して蒸着することができる。また、有機物質の導入口は、無機物質蒸発源真上に設けるのが耐衝撃性、耐摩耗性向上に効果的であり、有機ケイ素化合物を下部より、その側鎖または末端に反応性基を含有する炭素および水素を必須成分とするケイ素非含有有機化合物を上部より供給するのが好ましい。【００６０】
外部タンクの加熱温度は、その有機物質の蒸発温度により異なるが、３０〜２００℃、好ましくは５０〜１５０℃とすることが適当な蒸着速度を得るという点から好ましい。【００６１】
本発明におけるハイブリッド層の有機物質の好ましい膜内含有率は、特に良好な物性改質効果が得られる点を考慮して、０．０２０〜２５重量％である。【００６２】
本発明における好ましい膜厚および屈折率の範囲は以下の通りである。なお、ここでλは光の波長を示す。
第１層  ０．００５λ〜１．２５λ  １．４１〜１．５０
第２層  ０．００５λ〜０．１０λ  ２．００〜２．３５
第３層  ０．００５λ〜１．２５λ  １．４１〜１．５０
第４層  ０．０５λ〜０．４５λ  ２．００〜２．３５
第５層  ０．００５λ〜０．１５λ  １．４１〜１．５０
第６層  ０．０５λ〜０．４５λ  ２．００〜２．３５
第７層  ０．２λ〜０．２９λ  １．４１〜１．５０
かかる膜構成にすることにより、目的とする物性が容易に得られる。【００６３】
最上層の撥水膜層４３は、レンズ表面の平滑度を高めて防汚性能を高めるとともに、水やけを防止するために、反射防止膜層４２の上に形成されている。このような撥水膜層４３は、多層反射防止膜層４２の第７層上に、例えばフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を原料として用い真空蒸着法により形成される。【００６４】
その原料および形成方法は、例えば特開２００４−１２２２３８号公報等に記載されている方法を用いることが好ましい。その方法としては、溶媒で希釈したフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を減圧下であって、この有機ケイ素化合物の蒸着開始温度以上からこの有機ケイ素化合物の分解温度を超えない範囲で、加熱開始から蒸着を９０秒以内、好ましくは１０秒以内に完結させることが好ましい。このような蒸着時間を達成する方法としては、有機ケイ素化合物に電子ビームを照射する方法が好ましく用いられる。【００６５】
フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物としては、下記一般式（ｈ）で表されるもの、または下記単位式（ｉ）で表されるものが好ましい。【００６６】
【化７】
2008117768.tif 000009
【００６７】
一般式（ｈ）中、ＲＦは炭素数１〜１６の直鎖状のパーフルオロアルキル基、Ｘは水素または炭素数１〜５の低級アルキル基、Ｒ11は加水分解可能な基、ｋは１〜５０の整数、ｒは０〜２の整数、ｐは１〜１０の整数である。
ＣｑＦ2ｑ+１ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＮＨ2）3 ・・・（ｉ）
ただし、ｑは１以上の整数である。【００６８】
ここで、上記Ｒ11で示される加水分解可能な基としてはアミノ基、アルコキシ基、特にアルキル部が炭素数１〜２であるアルコキシ基、塩素原子等が挙げられる。【００６９】
また、上記式（ｉ）で表される化合物の具体例としては、ｎ−ＣＦ3ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＮＨ2）3；ｎ−トリフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）プロピルシラザン、ｎ−Ｃ3Ｆ7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＮＨ2）3；ｎ−ヘプタフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）ペンチルシラザン、ｎ−Ｃ4Ｆ9ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＮＨ2）3；ｎ−ノナフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）ヘキシルシラザン、ｎ−Ｃ6Ｆ13ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ2（ＮＨ2）3；ｎ−トリデオフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）オクチルシラザン、ｎ−Ｃ8Ｆ17ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＮＨ2）3；ｎ−ヘプタデカフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）デシルシラザン等を例示することができる。【００７０】
また、撥水膜層４３の原料として、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物と、ケイ素非含有のパーフルオロポリエーテルとの２成分を主成分とする原料を用いることもでき、さらにはこれらの原料からなる第１層を形成し、この第１層上に接して、ケイ素非含有のパーフルオロポリエーテルを主成分とする原料を用いて第２層を形成することにより、撥水膜層を形成することも好適である。【００７１】
ケイ素非含有のパーフルオロポリエーテルは、ケイ素を含有しない以下の構造式（ｊ）
−（Ｒ12Ｏ）− ・・・（ｊ）
式（ｊ）中、Ｒ12は炭素数１〜３のパーフルオロアルキレン基である。
で表される単位からなるものが好ましく用いられ、平均分子量が１０００〜１００００、特に２０００〜１００００のものが好ましい。Ｒは炭素数１〜３のパーフルオロアルキレン基であり、具体的にはＣＦ2、ＣＦ2−ＣＦ2、ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2、ＣＦ（ＣＦ2）ＣＦ2等の基が挙げられる。これらのパーフルオロポリエーテルは常温で液状であり、いわゆるフッ素オイルと称されるものである。【００７２】
また、本発明の眼鏡レンズは、反射防止膜層の下に、密着性を向上させるために、下地層として、後述するハイブリッド層形成の際に触媒作用のある金属、例えば、ニッケル（Ｎｉ）、銀（Ａｇ）、白金（Ｐｔ）、ニオブ（Ｎｂ）およびチタニウム（Ｔｉ）から選ばれる少なくとも１種類からなる層を施すことができる。特に好ましい下地層は、より良好な耐衝撃性を付与させるために、ニオブからなる金属層である。金属層を下地層として用いた場合、下地層の上に設けられるハイブリッド層の反応が進みやすくなり、分子内編み目構造を有する物質が得られ、耐衝撃性が向上する。【００７３】
最上層の撥水膜層４３が内部に２層構造を有し、第一撥水層および第２撥水層からなることも本願発明に好適である。例えば撥水膜層４３として、下記一般式(Ｉ)で示されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物と、下記一般式（II−１）、（II−２）および（II−３）の中から選ばれた少なくとも一種のシラン化合物との混合物を含有する蒸着材料を光学部材上に蒸着して第１撥水層を形成し、その上に下記一般式(III)で示されるパーフルオロポリエーテル−ポリシロキサン共重合体変性シランと溶媒を含有する浸漬材料に浸漬して第２撥水層を形成することにより、２層からなる撥水膜層４３を形成する。
一般式(Ｉ)
【化８】
2008117768.tif 000010
【００７４】
一般式（Ｉ）中において、Ｒｆは、式：−（ＣkＦ2kＯ）−（ｋは１〜６の整数である）で表わされる単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する二価の基である。Ｒは独立に炭素原子数１〜８の一価炭化水素基である。Ｘは独立に加水分解性基またはハロゲン原子である。ｎおよびｎ’はそれぞれ０〜２の整数であり、ｍおよびｍ’はそれぞれ１〜５の整数であり、ａおよびｂはそれぞれ２または３である。【００７５】
一般式（II）
【化９】
2008117768.tif 000011
Ｒ’は有機基であり、Ｒ’’はアルキル基である。【００７６】
一般式(III)
【化１０】
2008117768.tif 000012
【００７７】
一般式(III)中、Ｒｇは、式：−（ＣjＦ2jＯ）−（ｊは１〜５の整数である）で表わされる繰り返し単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する二価の基であり、繰り返し単位数が３０〜６０であり、異なるｊの繰り返し単位を同時に含んでいてもよい。Ｒ1は同一または異なっていてもよい炭素数１〜４のアルキル基またはフェニル基、ｗは３０〜１００、ａ，ｂおよびｃは、それぞれ独立に１〜５の整数、Ｒ2は炭素数１〜４のアルキル基またはフェニル基、Ｘ1は加水分解性基、ｄは２または３、ｙは１〜５の整数である。
以下、一般式（Ｉ）〜(III)の化合物について説明する。【００７８】
一般式（Ｉ）において、Ｒｆ基は、式：−（ＣkＦ2kＯ）−（式中、ｋは１〜６、好ましくは１〜４の整数であり、一般式（Ｉ）中のＣｋＦ2kＯの配列はランダムである。）で表わされる単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する二価の基である。なお、一般式（Ｉ）中のｎおよびｎ’がいずれも０である場合、一般式（Ｉ）中の酸素原子（Ｏ）に結合するＲｆ基の末端は、酸素原子ではない。【００７９】
ここで、Ｒｆは、二価の直鎖型パーフルオロポリエーテル基であり、各種鎖長のパーフルオロポリエーテル基が含まれるが、好ましくは炭素数１〜６程度のパーフルオロポリエーテル基を繰返し単位とする二価の直鎖型パーフルオロポリエーテルである。この二価の直鎖型パーフルオロポリエーテルとしては、例えば、以下に示すようなものが挙げられる。
−ＣＦ2ＣＦ2Ｏ（ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）rＣＦ2ＣＦ2−
−ＣＦ2（ＯＣ2Ｆ4）s−（ＯＣＦ2）t−
上記化学構造式中のｒ、ｓおよびｔはそれぞれ１以上の整数を示す。具体的には１〜５０、より好ましくは１０〜４０の範囲が好ましい。なお、パーフルオロポリエーテルの分子構造は、これら例示したものに限定されるものではない。【００８０】
一般式（Ｉ）において、Ｘは加水分解性基またはハロゲン原子である。Ｘが加水分解性基である場合としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシ基；アリロキシ基、イソプロペノキシ等のアルケニルオキシ基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシロキシ基；ジメチルケトオキシム基、メチルエチルケトオキシム基、ジエチルケトオキシム基、シクロペンタノキシム基、シクロヘキサノキシム基等のケトオキシム基；Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基等のアミノ基；Ｎ−メチルアセトアミド基、Ｎ−エチルアセトアミド基、Ｎ−メチルベンズアミド基等のアミド基；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノオキシ基等のアミノオキシ基等を挙げることができる。
また、上記Ｘがハロゲン原子である場合としては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
これらの中で、メトキシ基、エトキシ基、イソプロペノキシ基および塩素原子が好適である。【００８１】
一般式（Ｉ）において、Ｒは炭素原子数１〜８の一価炭化水素基であり、Ｒが複数存在する場合には、Ｒは互いに同一でも異なってもよい。Ｒの具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基等が挙げられる。これらの中でも炭素原子数１〜３の一価炭化水素基が好ましく、特にメチル基が好適である。【００８２】
一般式（Ｉ）において、ｎおよびｎ’はそれぞれ０〜２の整数であり、好ましくは１である。ｎとｎ’は互いに同一であっても異なっていてもよい。また、ｍおよびｍ’はそれぞれ１〜５の整数であり、３であることが好ましい。ｍとｍ’は互いに同一であっても異なっていてもよい。【００８３】
次に、ａおよびｂは各々２または３であり、加水分解および縮合反応性、および被膜の密着性の観点から、３であることが好ましい。【００８４】
一般式（Ｉ）で表されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物の分子量は、特に制限されないが、安定性、取扱い易さ等の点から、数平均分子量で５００〜２０，０００、好ましくは１０００〜１０，０００のものが適当である。【００８５】
一般式（Ｉ）で表されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物の具体例としては、例えば、下記構造式で示されるものが挙げられる。ただし、下記例示に限定されるものではない。
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ（ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）lＣＦ2ＣＦ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨＳｉ（ＯＣＨ3）3
（ＣＨ3Ｏ）2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ（ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）lＣＦ2ＣＦ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2（ＯＣ2Ｆ4）p（ＯＣＦ2）qＯＣＦ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3
（ＣＨ3Ｏ）2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2（ＯＣ2Ｆ4）p（ＯＣＦ2）qＯＣＦ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＦ2（ＯＣ2Ｆ4）p（ＯＣＦ2）ｑＯＣＦ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3
（Ｃ2Ｈ5Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2（ＯＣ2Ｆ4）p（ＯＣＦ2）qＯＣＦ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3【００８６】
一般式（Ｉ）の化合物は、１種単独でも２種以上を組合せても使用することができる。また、場合により、上記フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物とその部分加水分解縮合物とを組み合わせて使用することができる。さらに、後述する一般式(III)で示されるようなパーフルオロポリエーテル−ポリシロキサン共重合体変性シランを組み合わせて使用することもできる。【００８７】
一般式（Ｉ）で表されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物は、溶媒で希釈されたものを用いるとよい。使用できる溶媒としては、例えば、フッ素変性脂肪族炭化水素系溶剤（パーフルオロヘプタン、パーフルオロオクタン等）、フッ素変性芳香族炭化水素系溶剤（１，３−ジ（トリフルオロメチル）ベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン等）、フッ素変性エーテル系溶剤（メチルパーフルオロブチルエーテル、パーフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）等）、フッ素変性アルキルアミン系溶剤（パーフルオロトリブチルアミン、パーフルオロトリペンチルアミン等）、炭化水素系溶剤（石油ベンジン、ミネラルスピリッツ、トルエン、キシレン等）、ケトン系溶剤（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等）、アルコール溶剤（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−プロパノール等）等が挙げられる。これらは１種単独でも２種以上を組み合わせてもよい。これらのなかでも、変性シランの溶解性、濡れ性等の点で、フッ素変性された溶剤が好ましく、特に、１，３−ジ（トリフルオロメチル）ベンゼン、パーフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）、およびパーフルオロトリブチルアミンが好ましい。【００８８】
一般式（II−１）、（II−２）および（II−３）の中から選ばれた少なくとも一種のシラン化合物は、
一般式（II−１）    Ｒ’−Ｓｉ(ＯＲ’’)3
一般式（II−２）    Ｓｉ(ＯＲ’’)4
一般式（II−３）    ＳｉＯ（ＯＲ’’）3Ｓｉ（ＯＲ’’）3
からなる。【００８９】
Ｒ’は有機基であり、炭素数１〜５０（好ましくは１〜１０）のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基等）、エポキシエチル基、グリシジル基、アミノ基等が挙げられ、これらは置換されていてもよい。Ｒ’’は炭素数１〜４８のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基等）であり、メチル基またはエチル基が好ましい。【００９０】
一般式（II−１）〜（II−３）で表されるシラン化合物の具体例としては、例えば、構造式、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＮＨ2、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＮＨ2、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）4Ｓｉ、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）3Ｓｉ-Ｏ-Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3等が挙げられる。ただし、上記例示に限定されるものではない。【００９１】
一般式（II−１）〜（II−３）のシラン化合物は、１種単独でも２種以上を組合せても使用することができる。
シラン化合物は、一般式（II−１）の化合物を単独あるいは他の成分より多く用いることがより好ましい。【００９２】
一般式(III)のパーフルオロポリエーテル−ポリシロキサン共重合体変性シラン
【化１１】
2008117768.tif 000013
【００９３】
一般式(III)において、Ｒｇ基は、式：−（ＣjＦ2jＯ）−（ｊは１〜５の整数であり、好ましくは１〜３の整数であり、一般式（III）中のＣjＦ2jＯの配列はランダムである。）で表わされる繰り返し単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する二価の基であり、繰り返し単位数が３０〜６０（好ましくは３０〜５０）であり、異なるｊの繰り返し単位を同時に含んでいてもよい。【００９４】
ここで、Ｒｇは、二価の直鎖型パーフルオロポリエーテル基であり、各種鎖長のパーフルオロポリエーテル基が含まれるが、好ましくは炭素数１〜５程度のパーフルオロポリエーテル基を繰返し単位とする二価の直鎖型パーフルオロポリエーテルである。この二価の直鎖型パーフルオロポリエーテルとしては、例えば、以下に示すようなものが挙げられる。
−ＣＦ2ＣＦ2Ｏ（ＣＦ2ＣＦＣＦ2Ｏ）kＣＦ2ＣＦ2−
−ＣＦ2（ＯＣ2Ｆ4）p−（ＯＣＦ2）q−
上記化学構造式中のｋ、ｐおよびｑはそれぞれ１以上の整数を示す。ｋおよびｐ＋ｑは３０〜６０の範囲が好ましい。なお、パーフルオロポリエーテルの分子構造は、これら例示したものに限定されるものではない。【００９５】
一般式(III)において、Ｒ1は同一または異なっていてもよい炭素数１〜４のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基）またはフェニル基である。
一般式(III)において、ｗは３０〜１００であり、３０〜６０であると好ましい。ａ、ｂおよびｃは、それぞれ独立に１〜５の整数であり、１〜３であると好ましい。
一般式(III)において、Ｒ2は炭素数１〜４のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基）またはフェニル基である。【００９６】
一般式(III)において、Ｘ1は加水分解性基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシ基；アリロキシ基、イソプロペノキシ等のアルケニルオキシ基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシロキシ基；ジメチルケトオキシム基、メチルエチルケトオキシム基、ジエチルケトオキシム基、シクロペンタノキシム基、シクロヘキサノキシム基等のケトオキシム基；Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基等のアミノ基；Ｎ−メチルアセトアミド基、Ｎ−エチルアセトアミド基、Ｎ−メチルベンズアミド基等のアミド基；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノオキシ基等のアミノオキシ基等を挙げることができる。【００９７】
これらの基の中で、メトキシ基、エトキシ基、イソプロペノキシ基が好適である。
一般式(III)において、ｄは２または３で、加水分解および縮合反応性、および被膜の密着性の観点から考えると３であることが好ましい。ｙは１〜５の整数であり、１〜３であると好ましい。
一般式(III)の化合物は、１種単独でも２種以上を組合せても使用することもある。【００９８】
本発明で使用するプラスチック基材の材質は、特に限定されず、例えば、メチルメタクリレート単独重合体、メチルメタクリレートと１種以上の他のモノマーとの共重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート単独重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートと１種以上の他のモノマーとの共重合体、イオウ含有共重合体、ハロゲン共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリチオウレタン、エピチオ基を有する化合物を原料とする重合体などが挙げられる。【００９９】
エピチオ基を有する化合物の例としては、ビス（β−エピチオプロピルチオ）メタン、１，２−ビス（β−エピチオプロピルチオ）エタン、１，３−ビス（β−エピチオプロピルチオ）プロパン、１，２−ビス（β−エピチオプロピルチオ）プロパン、１−（β−エピチオプロピルチオ）−２−（β−エピチオプロピルチオメチル）プロパン、１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ブタン、１，３−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ブタン、１−（β−エピチオプロピルチオ）−３−（β−エピチオプロピルチオメチル）ブタン、１，５−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ペンタン、１−（β−エピチオプロピルチオ）−４−（β−エピチオプロピルチオメチル）ペンタン、１，６−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ヘキサン、１−（β−エピチオプロピルチオ）−５−（β−エピチオプロピルチオメチル）ヘキサン、１−（β−エピチオプロピルチオ）−２−〔（２−β−エピチオプロピルチオエチル）チオ〕エタン、１−（β−エピチオプロピルチオ）−２−［〔２−（２−β−エピチオプロピルチオエチル）チオエチル〕チオ］エタン等の鎖状有機化合物等が挙げられる。また、テトラキス（β−エピチオプロピルチオメチル）メタン、１，１，１−トリス（β−エピチオプロピルチオメチル）プロパン、１，５−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−２−（β−エピチオプロピルチオメチル）−３−チアペンタン、１，５−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−２，４−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３−チアペンタン、１−（β−エピチオプロピルチオ）−２，２−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−４−チアヘキサン、１，５，６−トリス（β−エピチオプロピルチオ）−４−（β−エピチオプロピルチオメチル）−３−チアヘキサン、１，８−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−４−（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６−ジチアオクタン、１，８−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−４，５ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６−ジチアオクタン、１，８−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−４，４−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６−ジチアオクタン、１，８−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−２，４，５−トリス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６−ジチアオクタン、１，８−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−２，５−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６−ジチアオクタン、１，９−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−５−（β−エピチオプロピルチオメチル）−５−〔（２−β−エピチオプロピルチオエチル）チオメチル〕−３，７−ジチアノナン、１，１０−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−５，６−ビス〔（２−β−エピチオプロピルチオエチル）チオ〕−３，６，９−トリチアデカン、１，１１−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−４，８−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン、１，１１−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−５，７−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン、１，１１−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−５，７−〔（２−β−エピチオプロピルチオエチル）チオメチル〕−３，６，９−トリチアウンデカン、１，１１−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−４，７−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン等の分岐状有機化合物およびこれらの化合物のエピスルフィド基の水素の少なくとも１個がメチル基で置換された化合物等が挙げられる。さらには１，３および１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオ）シクロヘキサン、１，３および１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）シクロヘキサン、ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）シクロヘキシル〕メタン、２，２−ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）シクロヘキシル〕プロパン、ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）シクロヘキシル〕スルフィド、２，５−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−１，４−ジチアン、２，５−ビス（β−エピチオプロピルチオエチルチオメチル）−１，４−ジチアン等の環状脂肪族有機化合物およびこれらの化合物のエピスルフィド基の水素の少なくとも１個がメチル基で置換された化合物、および１，３および１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ベンゼン、１，３および１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）ベンゼン、ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）フェニル〕メタン、２，２−ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）フェニル〕プロパン、ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）フェニル〕スルフィド、ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）フェニル〕スルフォン、４，４’−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ビフェニル等の芳香族有機化合物およびこれらの化合物のエピスルフィド基の水素の少なくとも１個がメチル基で置換された化合物等が挙げられる。【０１００】
本発明の眼鏡レンズは、プラスチック基材と下地層との間に、硬化層を有してもよい。硬化層の形成には、通常、金属酸化物コロイド粒子と下記一般式（ｋ）
（Ｒ13）ａ (Ｒ14)ｂＳｉ（ＯＲ15）4-(a+b) ・・・（ｋ）
で表される有機ケイ素化合物とからなる組成物が使用される。【０１０１】
上式（ｋ）中、Ｒ13およびＲ14は、それぞれ独立に、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、炭素数６〜８のアリール基、炭素数１〜８のアシル基、ハロゲン基、グリシドキシ基、エポキシ基、アミノ基、フェニル基、メルカプト基、メタクリロキシ基およびシアノ基の中から選ばれる有機基を示す。Ｒ13は、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアシル基および炭素数６〜８のフェニル基の中から選ばれる有機基を示す。ａおよびｂは、それぞれ独立に０または１の整数である。【０１０２】
金属酸化物コロイド粒子としては、例えば、酸化タングステン（ＷＯ3）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ケイ素（ＳｉＯ2）、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、酸化チタニウム（ＴｉＯ2）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、酸化ベリリウム（ＢｅＯ）または酸化アンチモン（Ｓｂ2Ｏ5）等が挙げられ、単独または２種以上を併用することができる。【０１０３】
硬化層を作るコーティング液には、従来知られている方法で、液の調製を行うことができる。所望により、硬化触媒、塗布時における濡れ性を向上させ、硬化層の平滑性を向上させる目的で各種の有機溶剤や界面活性剤を含有させることもできる。さらに、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤老化防止剤等もコーティング組成物および硬化被膜の物性に影響を与えない限り添加することができる。【０１０４】
コーティング組成物の硬化は、熱風乾燥または活性エネルギー線照射によって行い、硬化条件としては、７０〜２００℃の熱風中にて行うのがよく、特に好ましくは９０〜１５０℃である。なお活性エネルギー線としては遠赤外線等があり、熱による損傷を低く抑えることができる。【０１０５】
また、コーティング組成物よりなる硬化層を基材上に形成する方法としては、上述したコーティング組成物を基材に塗布する方法が挙げられる。塗布手段としてはディッピング法、スピンコーティング法、スプレー法等の通常行われる方法が適用できるが、面精度の面からディッピング法、スピンコーティング法が特に好ましい。【０１０６】
また、プラスチック基材と下地層との密着性確保または蒸着物質の初期膜形成状態の均一化を図るために、硬化層表面にイオン化ガス処理してもよい。イオン銃前処理におけるイオン化ガスは、酸素、アルゴン（Ａｒ）などを用いることができ、出力で好ましい範囲は、特に良好な密着性、耐摩耗性を得る観点から加速電圧５０〜７００Ｖ、加速電流５０〜２５０ｍＡである。【０１０７】
なお、本発明においては、特開昭６３−１４１００１号公報などに記載されている、プラスチック基材と反射防止膜層との間に有機化合物よりなるプライマー層を形成することを否定するものでなく、更なる耐衝撃性向上のため、プラスチック基材と多層反射防止膜層４２との間、またはプラスチック基材と硬化層との間に、有機化合物を原料とするプライマー層を形成してもよい。【０１０８】
このプライマー層の例としては、ポリイソシアネートとポリオールを原料として、ウレタン系の膜を形成するものが挙げられる。ポリイソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、４，４’−シクロヘキシルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネートのそれぞれ数分子を種々の方法で結合させた付加物、イソシアヌレート、アロファネート、ビュウレット、カルボジイミドをアセト酢酸、マロン酸、メチルエチルケトオキシムなどでブロックしたものなどが挙げられ、一方、ポリオールとしては、水酸基を１分子内に複数個有するポリエステル、ポリエーテル、ポリカプロラクトン、ポリカーボネート、ポリアクリレートなどが挙げられる。また、プライマー膜の屈折率向上のため、酸化チタン微粒子などの酸化金属微粒子をプライマー層に含有することができる。【０１０９】
特に、屈折率が１．６８〜１．７６程度のエピチオ基を有する化合物を原料とするプラスチック基材にプライマー層を形成し、さらに本発明の多層反射防止膜層４２を形成することにより、レンズ基材の中心厚を小さくしても耐衝撃性、密着性、耐擦傷性に優れた眼鏡レンズを得ることができる。【０１１０】
屈折率（ne）１．６０素材にハードコートおよび反射防止コート、撥水コートが施されたプラスチック眼鏡レンズを実施例の保持方法にて保持し、荷重をかけて剥がれる時の荷重を測定した。なお、比較例は弾性部材に代えてリープテープ（住友３Ｍ社製リープ３）を用いた。比較例のその他条件は実施例と同じである。また比較例、実施例共に縁摺加工を行い玉型形状のレンズを得た。加工後のレンズに対して視覚的な検査（目視）を実施して軸ずれおよびコート膜破断（クラック）の有無を判定した。【０１１１】
測定装置
引張荷重測定器（AIKOH製  9500series）【０１１２】
（測定方法）
１．各テストの前にレンズおよびレンズホルダの貼り付け面はアセトンにて表面の異物や油分等を除去する。
２．レンズの光学中心でかつレンズの光軸と平行にレンズホルダを装着してレンズを保持後５分間放置する。
３．レンズホルダのレンズより８ｍｍ離間した位置に引っ張り荷重測定器を引っかける。
４．レンズの光軸と垂直方向に引っ張り加重測定器を引っ張る。
５．レンズとレンズホルダがはがれた瞬間の荷重圧（N）を最大荷重として測定する。【０１１３】
（レンズ）
加工テスト製品名：HOYA（株）製ハイルックス1．6  VPコート付きハイビジョン（単焦点プラスチックレンズ）
平均屈折力：−８．００〜＋４．００D（外径６５φ〜７５φ）
凸面側表面カーブ（屈折率1.530換算）：２〜６．５０カーブ
（レンズホルダおよび弾性体の保持部形状）【０１１４】
比較例に用いたレンズホルダは、表１に示す２種類である（なお、カーブと曲率半径の変換は屈折率1.530 にて行なった）。【０１１５】
【表１】
2008117768.tif 000014
【０１１６】
本発明の実施例と比較例の結果を表２に示す。【０１１７】
【表２】
2008117768.tif 000015
【０１１８】
下記基準により表２の結果を評価すると表３のようになる。
○  １９以上        相当な力を加えれば剥がれる（加工負荷の上限クリア）。→合格
△  １５〜１９      少し力を加えれば剥がれる（加工負荷の上限付近）→難あり
×  １５以下        簡単に剥がれる→不可【０１１９】
【表３】
2008117768.tif 000016
【０１２０】
表３より本発明の実施例では全カーブ（レンズ全種）にて加工負荷に抗する十分な保持力を得ることができた。一方、比較例に用いたレンズホルダではいずれも一部のカーブで保持力不足が発生しており、全カーブ種を保持するためには複数種類のホルダを用い、互いに補完する必要がある。一方、縁摺加工を実施したところ表３の○では軸ずれは発生しなかったが、△および×では全て軸ずれが発生していた。【０１２１】
このように、  本発明によれば、被加工レンズと弾性部材のレンズ保持面との接触面積が増大して大きなレンズ保持力が得られ、縁摺り加工時の加工抵抗による被加工レンズの軸ずれを防止することができる。【０１２２】
また、実施例においては、レンズホルダ８を金属製のホルダ本体１２と、このホルダ本体１２に進退移動可能に取付けられる弾性部材１４とで構成している。また、このレンズホルダ８は、被加工レンズ７を保持しない状態においては、レンズ保持部１４Ｂの裏面のうち嵌合軸部１４Ａとの接続部付近Ｚにおいてホルダ本体１２の前面１８と接触させ、それ以外の裏面を前面１８から離間させることにより、接続部付近Ｚからレンズ保持部１４Ｂの外周縁に向かうにしたがって徐々に大きくなる隙間ｇを設けておき、被加工レンズ７をレンズホルダ８で保持するときレンズ保持部１４Ｂをリープテープ３５を介して被加工レンズ７に押し付けてレンズ保持部１４Ｂを背面側に弾性変形させるようにしている。このようにすると、レンズ保持部１４Ｂのレンズ保持面２４の曲率が被加工レンズ７のレンズカーブと一致してしない場合であっても隙間ｇによるレンズ保持部１４Ｂの弾性変形によってレンズ保持面２４を被加工レンズ７の凸側光学面７ａに対してリープテープ３５を介して良好に接触させることができる。その結果として、大きな接触面積とレンズ保持力を得ることができ、縁摺り加工時に加工抵抗によって被加工レンズ７が軸ずれするおそれが少なく、高い精度で縁摺り加工することができる。【０１２３】
また、本実施例においては、ホルダ本体の前面とレンズ保持部の背面とに、互いに噛合する複数の突状体を放射状に突設しているので、加工抵抗により弾性部材が移動したり回転したりするおそれがなく、被加工レンズの軸ずれをより一層確実に防止することができる。【０１２４】
さらに、本実施例においては、突状体を略同一角度で傾斜する２つの斜面を有する断面山形形状とし、ホルダ本体の前面とレンズ保持部の裏面との間に形成されている隙間を前記突状体の内端から外端に向かって徐々に大きくなるように形成しているので、レンズ保持部を被加工レンズに押し付けたとき、レンズ保持部は突状体の内端側を支点として外端側が背面側に弾性変形し、レンズ保持面を被加工レンズに密接させる。
【産業上の利用分野】
【０１２５】
本発明は、被加工レンズ７としてマイナスレンズに限らず、プラスレンズにも適用することができる。
【図１】
2008117768.tif 000017
【図２】
2008117768.tif 000018
【図３】
2008117768.tif 000019
【図４】
2008117768.tif 000020
【図５】
2008117768.tif 000021
【図６】
2008117768.tif 000022
【図７】
2008117768.tif 000023
【国際調査報告】
2008117768.tif 000024
2008117768.tif 000025
2008117768.tif 000026
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