【手続補正書】
【提出日】平成16年11月15日(2004.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記成分：
（Ａ）原子番号４４以上の１種類以上の第８族、第９族もしくは第１０族金属又はその化合物、
（Ｂ）１種以上のアルカリ金属塩、
（Ｃ）１種以上の金属助触媒、
（Ｄ）１種以上の活性化有機溶媒、及び
（Ｅ）任意成分としての１種以上の塩基
及びこれらの任意の反応生成物を含むカルボニル化有効量の触媒組成物の存在下で、１種以上の芳香族ヒドロキシ化合物を酸素及び一酸化炭素と接触させることを含んでなるジアリールカーボネートの製造方法であって、
反応水を、以下の段階：
（ｉ）反応容器内の酸化カルボニル化反応混合物から液流を取り出す段階、
（ii）液流をフラッシュ容器（３）に移送し、そこで液流を減圧に付して大部分の水を除去する段階、
（iii）乾燥液流の少なくとも一部を反応容器に戻す段階、
（iv）任意段階として、補給用の芳香族ヒドロキシ化合物もしくは他の揮発性成分又は触媒成分の少なくとも１つを反応容器（１）に又は反応容器に戻す前の乾燥液流に添加する段階
含んでなるプロセスで除去し、
ジアリールカーボネートの少なくとも一部を水の除去前又は除去後の液流から回収する、方法。
【請求項２】
前記芳香族ヒドロキシ化合物がフェノールであり、成分Ａの１種以上の第８族、第９族又は第１０族金属がパラジウムである、請求項１記載の方法。
【請求項３】
１種以上のパラジウム源がパラジウム、パラジウムブラック、担持パラジウム、パラジウム／炭素、パラジウム／アルミナ、パラジウム／シリカ、無機パラジウム塩、塩化パラジウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウム、硫酸パラジウム、硝酸パラジウム、有機パラジウム塩、酢酸パラジウム、シュウ酸パラジウム、パラジウム（II）アセチルアセトナート、パラジウム錯体、ＰｄＣｌ2(ＰｈＣＮ)2及びＰｄＣｌ2(ＰＰｈ3)2からなる群から選択される、請求項２記載の方法。
【請求項４】
酸素の割合が酸素と一酸化炭素の合計量を基準にして約１〜５０モル％である、請求項１記載の方法。
【請求項５】
反応容器内の圧力が約０．１〜５１ＭＰａであり、温度が約５０〜１６０℃である、請求項１記載の方法。
【請求項６】
反応容器（１）から取り出した液流の温度を、液流を減圧に付すまで、液流を取り出した反応混合物の温度とほぼ同じ温度に維持する、請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記温度が約５０〜１６０℃である、請求項６記載の方法。
【請求項８】
反応容器（１）から取り出した液流の温度を、液流を減圧に付す前に、液流を取り出した反応混合物の温度よりも低くする、請求項１記載の方法。
【請求項９】
前記温度が約５０〜９０℃である、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
フラッシュ容器内の圧力が約０．７〜５３ｋＰａであり、温度が約５０〜１６０℃である、請求項１記載の方法。
【請求項１１】
フラッシュ容器（３）内での水の除去を実質的に等温条件下で行う、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
フラッシュ容器（３）内での水の除去を実質的に断熱条件下で行う、請求項１０記載の方法。
【請求項１３】
フラッシュ容器（３）内での水の除去を断熱条件と等温条件の間の条件下で行う、請求項１０記載の方法。
【請求項１４】
フラッシュ容器（３）内での水の除去を反応容器内の温度よりも３０℃以上高い温度で行う、請求項１０記載の方法。
【請求項１５】
フラッシュ容器（３）内での水の除去を反応容器内の温度よりも３０℃以上低い温度で行う、請求項１０記載の方法。
【請求項１６】
さらに、反応容器（１）から液流をフラッシュ容器に移送する前に液流を攪拌しない第一離脱容器（２）に移送する段階を含む、請求項１記載の方法。
【請求項１７】
反応容器（１）と第一離脱容器（２）が実質的に同じ圧力及び温度である、請求項１６記載の方法。
【請求項１８】
さらに、第一離脱容器（２）から液流をフラッシュ容器に移送する前に液流を第一離脱容器よりも低い圧力の第二離脱容器（１４）に移送する段階を含む、請求項１６記載の方法。
【請求項１９】
ジアリールカーボネートの少なくとも一部を乾燥液流から回収する、請求項１記載の方法。
【請求項２０】
ジアリールカーボネートの少なくとも一部を水の除去前の液流から回収する、請求項１記載の方法。
【請求項２１】
下記成分：
（Ａ）１種以上のパラジウム源、
（Ｂ）臭化ナトリウム、
（Ｃ）鉛、セリウム、銅及びチタン並びにこれらの混合物からなる群から選択される金属助触媒、
（Ｄ）１種以上の活性化有機溶媒、及び
（Ｅ）任意成分としての１種以上の塩基
及びこれらの任意の反応生成物を含むカルボニル化有効量の触媒組成物の存在下で、フェノールを酸素及び一酸化炭素と接触させることを含んでなるジフェニルカーボネートの製造方法であって、
反応水を、以下の段階：
（vii）反応容器（１）内の攪拌酸化カルボニル化反応混合物から液流を取り出し、攪拌しない第一離脱容器（２）に液流を移送する段階、
（viii）第一離脱容器（２）から液流をフラッシュ容器（３）に移送し、そこで液流を減圧に付して大部分の水を除去する段階、
（ix）乾燥液流の少なくとも一部を反応容器に戻す段階、
（ｘ）任意段階として、補給用の芳香族ヒドロキシ化合物もしくは他の揮発性成分又は触媒成分の少なくとも１つを反応容器（１）に又は反応容器に戻す前の乾燥液流に添加する段階
含んでなるプロセスで除去し、
ジアリールカーボネートの少なくとも一部を水の除去前又は除去後の液流から回収する、方法。
【請求項２２】
下記成分：
（Ａ）原子番号４４以上の１種類以上の第８族、第９族もしくは第１０族金属又はその化合物、
（Ｂ）１種以上のアルカリ金属塩、
（Ｃ）１種以上の銅源と１種以上のチタン源からなる金属助触媒、
（Ｄ）１種以上の活性化有機溶媒、及び
（Ｅ）任意成分としての１種以上の塩基
及びこれらの任意の反応生成物を含むカルボニル化有効量の触媒組成物の存在下で、１種以上の芳香族ヒドロキシ化合物を酸素及び一酸化炭素と接触させることを含んでなるジアリールカーボネートの製造方法であって、
反応水を、以下の段階：
（ｉ）反応容器内の酸化カルボニル化反応混合物から液流を取り出す段階、
（ii）液流をフラッシュ容器（３）に移送し、そこで液流を減圧に付して大部分の水を除去する段階、
（iii）乾燥液流の少なくとも一部を反応容器に戻す段階、
（iv）任意段階として、補給用の芳香族ヒドロキシ化合物もしくは他の揮発性成分又は触媒成分の少なくとも１つを反応容器（１）に又は反応容器に戻す前の乾燥液流に添加する段階
含んでなるプロセスで除去し、
ジアリールカーボネートの少なくとも一部を水の除去前又は除去後の液流から回収する、方法。
【請求項２３】
下記成分：
（Ａ）１種以上のパラジウム源、
（Ｂ）臭化ナトリウム、
（Ｃ）１種以上の銅源と１種以上のチタン源からなる金属助触媒、
（Ｄ）１種以上の活性化有機溶媒、及び
（Ｅ）任意成分としての１種以上の塩基
及びこれらの任意の反応生成物を含むカルボニル化有効量の触媒組成物の存在下で、フェノールを酸素及び一酸化炭素と接触させることを含んでなるジフェニルカーボネートの製造方法であって、
反応水を、以下の段階：
（vii）反応容器（１）内の攪拌酸化カルボニル化反応混合物から液流を取り出し、攪拌しない第一離脱容器（２）に液流を移送する段階、
（viii）第一離脱容器（２）から液流をフラッシュ容器（３）に移送し、そこで液流を減圧に付して大部分の水を除去する段階、
（ix）乾燥液流の少なくとも一部を反応容器に戻す段階、
（ｘ）任意段階として、補給用の芳香族ヒドロキシ化合物もしくは他の揮発性成分又は触媒成分の少なくとも１つを反応容器（１）に又は反応容器に戻す前の乾燥液流に添加する段階
含んでなるプロセスで除去し、
ジアリールカーボネートの少なくとも一部を水の除去前又は除去後の液流から回収する、方法。