(57)【要約】  本発明のパターン転写用スタンパ１は、データ領域８１と、このデータ領域８１に周方向に隣接するサーボ領域８２と、を有する磁気ディスクＤを製造するためのベースとなる部材の変形可能な表面に対して、所定の凹凸パターンを転写するためのものである。パターン転写用スタンパ１は、少なくともデータ領域８１に対応するガードバンドパターン部１１を備えており、ガードバンドパターン部１１は、周方向に延びかつ径方向に所定の間隔を有して形成される筋状凸部１１ａを有している。複数の筋状凸部１１ａの端部１１ｂには、それらを支持するための支持用凸部１５が一体的に設けられている。
2008047447.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データ領域と、このデータ領域に周方向に隣接するサーボ領域と、を有するディスク状磁気記録媒体を製造するためのベースとなる部材の変形可能な表面に対して、所定の凹凸パターンを転写するためのパターン転写用スタンパであって、
少なくとも、前記ディスク状磁気記録媒体の前記データ領域に対応するデータ領域対応凹凸パターン部を備えており、
前記データ領域対応凹凸パターン部は、周方向に延びかつ径方向に所定の間隔を有して形成される筋状凸部を有し、
前記１または複数の筋状凸部の端部には、それらを支持するための支持用凸部が一体的に設けられていることを特徴とする、パターン転写用スタンパ。
【請求項２】
前記支持用凸部は、径方向に沿って延びて形成され、かつ前記複数の筋状凸部の各端部に連接されている、請求項１に記載のパターン転写用スタンパ。
【請求項３】
前記支持用凸部の幅は、前記筋状凸部の幅より大とされている、請求項２に記載のパターン転写用スタンパ。
【請求項４】
前記ディスク状磁気記録媒体の前記サーボ領域に対応するサーボ領域対応凹凸パターン部を備えており、
前記サーボ領域対応凹凸パターン部は、径方向に延びかつ周方向に所定の間隔を有して形成される複数のサーボ領域対応筋状凸部を有し、
前記支持用凸部には、前記複数のサーボ領域対応筋状凸部のうち前記データ領域対応凹凸パターン部に隣接して設けられた前記サーボ領域対応筋状凸部が用いられている、請求項２に記載のパターン転写用スタンパ。
【請求項５】
前記支持用凸部は、略方形状に形成され、かつ少なくとも２以上の前記筋状凸部の各端部に連設されている、請求項１に記載のパターン転写用スタンパ。
【請求項６】
前記支持用凸部は、略方形状に形成され、かつ複数並設された前記筋状凸部のうちひとつおきの前記筋状凸部の各端部に連設されている、請求項１に記載のパターン転写用スタンパ。
【請求項７】
前記ディスク状磁気記録媒体の前記サーボ領域に対応するサーボ領域対応凹凸パターン部を備えており、
前記サーボ領域対応凹凸パターン部は、略方形状に形成される複数の方状凸部を有し、
前記支持用凸部には、前記複数の方状凸部のうち前記データ領域対応凹凸パターン部に隣接して設けられた前記方状凸部が用いられている、請求項５または６に記載のパターン転写用スタンパ。
【請求項８】
前記支持用凸部は、径方向に対して斜め方向に延びて形成され、かつ少なくとも２以上の前記筋状凸部の各端部に連設されている、請求項１に記載のパターン転写用スタンパ。
【請求項９】
前記ディスク状磁気記録媒体の前記サーボ領域に対応するサーボ領域対応凹凸パターン部を備えており、
前記サーボ領域対応凹凸パターン部は、径方向に対して斜め方向に延びて形成される複数のサーボ領域対応筋状凸部を有し、
前記支持用凸部には、前記複数のサーボ領域対応筋状凸部のうち前記データ領域対応凹凸パターン部に隣接して設けられた前記サーボ領域対応筋状凸部が用いられている、請求項８に記載のパターン転写用スタンパ。
【請求項１０】
前記ディスク状磁気記録媒体のベースとなる基板上に磁性体層を形成し、前記磁性体層の表面に樹脂層を形成し、前記樹脂層に対して、請求項１に記載の前記パターン転写用スタンパの前記凹凸面を押し付けることによって前記樹脂層に前記パターン転写用スタンパの凹凸パターンを転写し、前記磁性体層の表面の前記樹脂層をマスクとして、露出した前記磁性体層にエッチング処理を施すことにより、凹凸のパターンを形成することを特徴とする、磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１１】
前記ディスク状磁気記録媒体のベースとなる変形可能な基板に対して、請求項１に記載の前記パターン転写用スタンパの前記凹凸面を押し付けることによって前記変形可能基板に前記パターン転写用スタンパの凹凸パターンを転写し、前記凹凸パターンの凹部に磁性体層を形成することにより、磁性体の有無のパターンを形成することを特徴とする、磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１２】
請求項１０または１１に記載の磁気記録媒体の製造方法を用いて作製されたことを特徴とする、磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体（たとえば磁気ディスク）の製造において微細な凹凸パターンを磁気ディスクに転写するためのパターン転写用スタンパに関する。本発明は、また、パターン転写用スタンパを用いた磁気記録媒体の製造方法およびその磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
たとえば磁気ディスクは、図１５に示すように、その表面にデータ領域８１とサーボ領域８２とを有している。データ領域８１には、複数の同心状のトラック（図示略）が設けられている。データ領域８１には、磁気ディスクＤの周方向に沿って複数のガードバンド（図示略）が設けられている。ガードバンドは、複数のトラック間を分離するものである。サーボ領域８２は、データ領域８１に周方向に隣接されて設けられている。サーボ領域８２は、各トラックを検出するためのものである。サーボ領域８２には、各トラックの位置情報などを示すサーボ情報を表すサーボパターン（図示略）が設けられている。【０００３】
ところで、高密度の磁気ディスクＤの製造においては、たとえば特許文献１に示すように、ナノインプリント法と呼称される転写方法が提案されている。ナノインプリント法とは、ベースとなる基板の上に形成される樹脂層の表面に凹凸パターンを転写する技術である。凹凸パターンは、パターン転写用スタンパ（以下、単に「スタンパ」という）を、樹脂層に対して押圧することにより形成される。スタンパは、ナノメートル単位のピッチで微細な凹凸面を有している。凹凸パターンは、トラックやサーボパターンなどを表すものである。
【特許文献１】特開２００５−２８６２２２号公報  図１６は、従来のスタンパを示す要部斜視図である。このスタンパ８６の凹凸面８７は、ガードバンドパターン部８８とサーボパターン部８９とを有している。ガードバンドパターン部８８は、磁気ディスクＤのデータ領域８１に対応する。サーボパターン部８９は、磁気ディスクＤのサーボ領域８２に対応する。
【０００４】
ガードバンドパターン部８８には、周方向に延びた複数の筋状凸部９０が形成されている。筋状凸部９０は、磁気ディスクＤの表面にガードバンドを形成するためのものである。サーボパターン部８９には、略矩形状に突出した方状凸部９１が形成されている。方状凸部９１は、位置情報などを表すサーボバースト部を形成するためのものである。図１６に示すスタンパ８６では、筋状凸部９０および方状凸部９１が所定の間隔を隔てて形成されている。【０００５】
上記ナイノインプント法を用いて磁気ディスクＤを製造する場合、図１６に示す形状のスタンパ８６が磁気ディスクＤの樹脂層に対して押し付けられる。この場合、筋状凸部９０と方状凸部９１とが所定の間隔を隔てて形成されているため、筋状凸部９０の端部９０ａ近傍に押圧時の圧力が集中する。そのため、磁気ディスクＤの製造時にスタンパ８６が繰り返し用いられると、図１７に示すように、筋状凸部９０の端部９０ａが径方向に曲折するように変形することがある。また、使用状態によっては、筋状凸部９０の端部９０ａが損傷したり、破断したりすることがある。【０００６】
図１７に示す形状のスタンパ８６によって磁気ディスクＤの樹脂層が押し付けられると、筋状凸部９０に対応するガードバンドおよびそれに隣接するトラックにおいて、オフセットが生じる。そのため、精度よくかつ良好な凹凸パターンを転写することが困難になる。したがって、トラックに磁化されたデータの読み取りに支障をきたし、データの信号品質が悪化するといった問題点があった。また、図１７に示す形状のスタンパ８６が繰り返して用いられると、トラックのオフセットに対するマージンが減少することになる。このことは、磁気ディスクＤの全体の読み書きマージンの減少に繋がり、磁気ディスクＤの実際の使用に悪影響を及ぼす。
【発明の開示】
【０００７】
本発明は、上記した事情のもとで考え出されたものである。そこで、本発明は、精度よくかつ良好な凹凸パターンの転写を行うことのできるパターン転写用スタンパを提供することをその課題としている。また、本発明は、上記パターン転写用スタンパを用いた磁気記録媒体の製造方法を提供することを、その課題としている。また、本発明は、上記製造方法を用いて製造された磁気記録媒体を提供することを、その課題としている。
【０００８】
本発明の第１の側面によって提供されるパターン転写用スタンパは、データ領域と、このデータ領域に周方向に隣接するサーボ領域と、を有するディスク状磁気記録媒体を製造するためのベースとなる部材の変形可能な表面に対して、所定の凹凸パターンを転写するためのパターン転写用スタンパであって、少なくとも、前記ディスク状磁気記録媒体の前記データ領域に対応するデータ領域対応凹凸パターン部を備えており、前記データ領域対応凹凸パターン部は、周方向に延びかつ径方向に所定の間隔を有して形成される筋状凸部を有し、前記１または複数の筋状凸部の端部には、それらを支持するための支持用凸部が一体的に設けられていることを特徴としている。
【０００９】
好ましくは、前記支持用凸部は、径方向に沿って延びて形成され、かつ前記複数の筋状凸部の各端部に連接されている。
【００１０】
好ましくは、前記支持用凸部の幅は、前記筋状凸部の幅より大とされている。
【００１１】
好ましくは、前記パターン転写用スタンパは、前記ディスク状磁気記録媒体の前記サーボ領域に対応するサーボ領域対応凹凸パターン部を備えており、前記サーボ領域対応凹凸パターン部は、径方向に延びかつ周方向に所定の間隔を有して形成される複数のサーボ領域対応筋状凸部を有し、前記支持用凸部には、前記複数のサーボ領域対応筋状凸部のうち前記データ領域対応凹凸パターン部に隣接して設けられた前記サーボ領域対応筋状凸部が用いられている。
【００１２】
好ましくは、前記支持用凸部は、略方形状に形成され、かつ少なくとも２以上の前記筋状凸部の各端部に連設されている。
【００１３】
好ましくは、前記支持用凸部は、略方形状に形成され、かつ複数並設された前記筋状凸部のうちひとつおきの前記筋状凸部の各端部に連設されている。
【００１４】
好ましくは、前記パターン転写用スタンパは、前記ディスク状磁気記録媒体の前記サーボ領域に対応するサーボ領域対応凹凸パターン部を備えており、前記サーボ領域対応凹凸パターン部は、略方形状に形成される複数の方状凸部を有し、前記支持用凸部には、前記複数の方状凸部のうち前記データ領域対応凹凸パターン部に隣接して設けられた前記方状凸部が用いられている。
【００１５】
好ましくは、前記支持用凸部は、径方向に対して斜め方向に延びて形成され、かつ少なくとも２以上の前記筋状凸部の各端部に連設されている。
【００１６】
好ましくは、前記パターン転写用スタンパは、前記ディスク状磁気記録媒体の前記サーボ領域に対応するサーボ領域対応凹凸パターン部を備えており、前記サーボ領域対応凹凸パターン部は、径方向に対して斜め方向に延びて形成される複数のサーボ領域対応筋状凸部を有し、前記支持用凸部には、前記複数のサーボ領域対応筋状凸部のうち前記データ領域対応凹凸パターン部に隣接して設けられた前記サーボ領域対応筋状凸部が用いられている。
【００１７】
本発明の第２の側面によれば、磁気記録媒体の製造方法が提供される。この製造方法は、前記ディスク状磁気記録媒体のベースとなる基板上に磁性体層を形成し、前記磁性体層の表面に樹脂層を形成し、前記樹脂層に対して、本発明の第１の側面によって提供されるパターン転写用スタンパの前記凹凸面を押し付けることによって前記樹脂層に前記パターン転写用スタンパの凹凸パターンを転写し、前記磁性体層の表面の前記樹脂層をマスクとして、露出した前記磁性体層にエッチング処理を施すことにより、凹凸のパターンを形成することを特徴としている。
【００１８】
本発明の第３の側面によれば、磁気記録媒体の製造方法が提供される。この製造方法は、前記ディスク状磁気記録媒体のベースとなる変形可能な基板に対して、本発明の第１の側面によって提供されるパターン転写用スタンパの前記凹凸面を押し付けることによって前記変形可能基板に前記パターン転写用スタンパの凹凸パターンを転写し、前記凹凸パターンの凹部に磁性体層を形成することにより、磁性体の有無のパターンを形成することを特徴としている。
【００１９】
本発明の第４の側面によって提供される磁気記録媒体は、本発明の第２または第３の側面によって提供される磁気記録媒体の製造方法を用いて作製されたことを特徴としている。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の第１実施例によるパターン転写用スタンパを示す要部斜視図である。
【図２】磁気ディスクの表面を示す図である。
【図３】パターン転写用スタンパによって押圧された後の磁気ディスクの表面形状を示す図である。
【図４】パターン転写装置の構成を示す図である。
【図５】磁気ディスクの製造方法を説明するための説明図である。
【図６】磁気ディスクの製造方法を説明するための説明図である。
【図７】磁気ディスクの他の製造方法を説明するための説明図である。
【図８】磁気ディスクの他の製造方法を説明するための説明図である。
【図９】本発明の第２実施例によるパターン転写用スタンパを示す要部斜視図である。
【図１０】本発明の第３実施例によるパターン転写用スタンパを示す要部斜視図である。
【図１１】本発明の第４実施例によるパターン転写用スタンパを示す要部斜視図である。
【図１２】本発明の第５実施例によるパターン転写用スタンパを示す要部斜視図である。
【図１３】本発明の第６実施例によるパターン転写用スタンパを示す要部斜視図である。
【図１４】本発明の第７実施例によるパターン転写用スタンパを示す要部斜視図である。
【図１５】磁気ディスクの外観図である。
【図１６】従来のパターン転写用スタンパを示す要部斜視図である。
【図１７】従来のパターン転写用スタンパを示す要部斜視図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の実施例につき、図面を参照して具体的に説明する。【００２２】
図１は、本発明の第１実施例によるパターン転写用スタンパの要部斜視図である。このパターン転写用スタンパ１（以下、単に「スタンパ１」という。）は、磁気記録媒体としての磁気ディスクＤが製造される際に用いられる。磁気ディスクＤは、たとえばディスクリートトラックメディアと呼称される。スタンパ１は、いわゆるナノインプリント法によって磁気ディスクＤに対して微細な凹凸パターンの転写を行うためのものである。【００２３】
磁気ディスクＤは、背景技術の欄で説明した図１５に示したように、円盤状に形成されている。磁気ディスクＤは、少なくともその一方の面にデータ領域８１とサーボ領域８２とを有している。【００２４】
図２は、磁気ディスクＤのデータ領域８１およびサーボ領域８２を示す斜視図である。データ領域８１には、同心状の複数のトラック２が形成されている。データ領域８１には、磁気ディスクＤの周方向に沿って複数のガードバンド３（周方向に沿う斜線部参照）が設けられている。ガードバンド３は、複数のトラック２間を分離するものである。なお、後述するように、トラック２は、たとえば磁性体によって形成されている。ガードバンド３は、たとえば非磁性体によって形成されている。【００２５】
サーボ領域８２は、データ領域８１に周方向に隣接して設けられている。サーボ領域８２は、トラック２を検出するためのものである。サーボ領域８２には、サーボパターン４が形成されている。サーボパターン４は、トラック２の位置情報などのサーボ情報を表すものである。なお、図２には、サーボパターン４の一部であるサーボバースト部５が示されている。サーボバースト部５は、図示しない磁気ヘッドをトラッキングさせるためのものである。【００２６】
トラック３およびサーボパターン４は、スタンパ１によって凹凸パターンが転写されることに基づいて作製することができる。すなわち、磁気ディスクＤを作製する際には、スタンパ１を磁気ディスクＤのベース部材（たとえば樹脂層）に密接させ押圧させる。これにより、樹脂層には、トラック３やサーボパターン４に応じた微細な凹凸パターンが転写される。そのため、スタンパ１は、トラック３やサーボパターン４に応じた凹凸パターンに対応した凹凸面１０（図１参照）を有している。【００２７】
なお、トラック３とサーボパターン４とはそれぞれ別々に形成することもできる。具体的には、本実施例のスタンパ１は、トラック３に応じた凹凸パターンに対応した凹凸部を有しているが、サーボパターン４に応じた凹凸パターンに対応した凹凸部を有していなくても構わない。すなわち、トラック３に応じた凹凸パターンに対応した凹凸部のみを有するスタンパによって、トラック３に応じた凹凸パターンのみが転写される。そして、サーボパターン４に応じた凹凸パターンに対応した凹凸部のみを有する他のスタンパによって、サーボパターン４に応じた凹凸パターンのみが転写される。この場合、サーボパターン４は、ナノインプリント以外の手法、たとえばサーボトラックライタ等を用いて磁気ディスクＤ上に後から磁気的に形成することができる。【００２８】
スタンパ１は、たとえばＮｉ基板またはＳｉＯ2基板からなる。スタンパ１は、その凹凸面１０が磁気ディスクＤの盤面とほぼ同じ大きさを有する。スタンパ１は、別途用意された原盤の片面にレジストの塗布、電子ビームによる露光、現像、およびメッキ処理またはエッチングなどが施されることにより作製される。【００２９】
スタンパ１の凹凸面１０は、好ましくは図１に示すように、ガードバンドパターン部１１とサーボパターン部１２とを有している。ガードバンドパターン部１１は、磁気ディスクＤのデータ領域８１に対応し、径方向に凹凸パターンを有している。より詳細には、ガードバンドパターン部１１には、周方向に延びた複数の筋状凸部１１ａが形成されている。筋状凸部１１ａは、径方向に所定の間隔を隔てて形成されている。【００３０】
サーボパターン部１２は、磁気記録媒体Ｄのサーボ領域８２に対応した凹凸パターンを有している。図１によると、サーボパターン部１２は、サーボバーストパターン部１３と無パターン部１４とを有している。サーボバーストパターン部１３には、略矩形状に突出した複数の方状凸部１３ａが形成されている。方状凸部１３ａは、縦横に並列して配置されている。サーボバーストパターン部１３は、磁気記録媒体Ｄのサーボ領域８２に設けられるサーボバースト部５（図２参照）に対応する。無パターン部１４は、凹凸パターンが存在しない平面状に形成されている。【００３１】
ガードバンドパターン部１１の複数の筋状凸部１１ａの端部１１ｂには、それらを支持するための支持用凸部１５が一体的に設けられている。支持用凸部１５は、径方向に延びている。支持用凸部１５は、各筋状凸部１１ａの各端部１１ｂにそれぞれ連設されている。支持用凸部１５の幅Ｗ１は、筋状凸部１１ａの幅Ａとほぼ同一とされている。【００３２】
なお、図１には図示されていないが、サーボパターン部１２には、サーボバーストパターン部１３の他にプリアンブルパターン部（後述）などが形成されている。プリアンブルパターン部は、径方向に延びた複数の筋状凸部を有している。また、サーボバーストパターン部１３に代えて位相差信号パターン部（後述）が配置されることもある。位相差信号パターン部は、周方向に対して斜め方向に延びた複数の筋状凸部を有している。【００３３】
図３は、上記スタンパ１によって押圧された後の磁気ディスクＤのベース基材の表面形状を示す要部斜視図である。磁気ディスクＤのベース基材は、図３に示すように、たとえばガラス基板３１と、磁性膜３２と、樹脂層３３とによって構成されている。磁性膜３２は、ガラス基板３１上に形成されている。樹脂層３３は、磁性膜３２上に形成されている。【００３４】
樹脂層３３には、スタンパ１によってその凹凸面１０に応じた微細な凹凸パターンが形成されている。たとえば樹脂層３３の表面には、スタンパ１の筋状凸部１１ａによって周方向に延びる複数の凹部１６が形成されている。樹脂層３３の表面には、スタンパ１の支持用凸部１５によって径方向に延びる凹部１７が形成されている。各凹部１６は、凹部１７を通じて連通されている。また、樹脂層３３の表面には、スタンパ１の方状凸部１３ａによって複数の方状凹部１８が形成されている。【００３５】
上記のように、第１実施例によれば、筋状凸部１１ａの各端部１１ｂに支持用凸部１５が一体的に設けられている。これにより、各筋状凸部１１ａは、支持用凸部１５を介して連接される。そのため、筋状凸部１１ａの各端部１１ｂは、支持用凸部１５によって支持されるとともに、その端部１１ｂ近傍に剛性が与えられる。したがって、ナイノインプント法を用いて、スタンパ１が繰り返し用いられたとしても、筋状凸部１１ａの端部１１ｂが径方向に曲折するように変形してしまったり、筋状凸部１１ａの端部１１ｂが損傷したり、破断したりすることを抑制することができる。【００３６】
すなわち、第１実施例では、スタンパ１の支持用凸部１５によって、樹脂層３３に適正な形状の凹部１６が形成される。そのため、凹凸パターンを良好にかつ精度よく転写することができる。樹脂層３３は、後述するように、エッチング用のマスクとして用いられるが、凹部１６によってそのエッチング処理を精度よく行うことができ、ひいてはトラック２を適切に形成することができる。【００３７】
なお、支持用凸部１５の幅Ｗ１は、筋状凸部１１ａの幅Ａより大であってもよい。これにより、筋状凸部１１ａの各端部１１ｂをより強固に支持することができる。また、支持用凸部１５が筋状凸部１１ａを支持することができるのであれば、支持用凸部１５の幅Ｗ１は、筋状凸部１１ａの幅Ａより小であってもよい。【００３８】
ここで、磁気ディスクＤを作製する際には、スタンパ１を磁気ディスクＤのベース部材に密接させ押圧するため、押圧はスタンパ１の径方向に集中することになる。また、支持用凸部１５と筋状凸部１１ａは互いに支持し合うことができる。さらに、支持用凸部１５の幅Ｗ１の小さい方が磁気ディスクＤ上に支持用凸部１５が占める面積を小とできるため、磁気ディスクＤの密度を多く確保することが可能となる。したがって、支持用凸部１５をスタンパ１上に独立して設ける場合には、支持用凸部１５の幅Ｗ１は、筋状凸部１１ａの幅Ａよりも小であることが好ましい。【００３９】
次に、上記スタンパ１を用いた磁気ディスクＤの製造方法について説明する。磁気ディスクＤの製造において、スタンパ１を用いてナノインプリント法によって凹凸パターンを転写するには、たとえば図４に示すようなパターン転写装置２０が用いられる。【００４０】
このパターン転写装置２０は、たとえば作業室２１の内部に設置されている。パターン転写装置２０は、スタンパ１、上側固定部材２４、下側パネル２５、下側昇降部材２６、および駆動モータ２７を備えて構成されている。上側固定部材２４は、スタンパ１や上側パネル２２を水平に保持するとともに、上部ユニット２３を保持する。下側パネル２５は、上側固定部材２４、磁気ディスクＤを水平に保持する。下側昇降部材２６は、下側パネル２５を保持して上下方向に昇降可能である。駆動モータ２７は、下側昇降部材２６を昇降動作させる。作業室２１には、作業室２１内の圧力を減圧するための真空ポンプ２８が備えられている。真空ポンプ２８は、作業室２１内の圧力をたとえば１Torr程度まで減圧する能力を有する。【００４１】
上側パネル２２は、たとえば石英ガラスからなり、位置決め用の光を透過する役割を果たす。上部ユニット２３の内部には、所定の機構（たとえば光照射器や光検出器）が設けられている（図示略）。所定の機構は、水平面内においてスタンパ１を磁気ディスクＤに対して位置決めするためのものである。そのため、スタンパ１としては、光透過性をもつＳｉＯ2基板からなるものが好ましい。【００４２】
下側パネル２５には、スタンパ１および磁気ディスクＤに接した状態でこれらに熱を伝えるヒータ２９が内装されている。上側パネル２５の内部には、スタンパ１および磁気ディスクＤに熱を伝えるヒータが設けられていてもよい。下側パネル２５は、駆動モータ２７によって下側昇降部材２６が昇降させられるのに伴い、これと一体になって上下方向に移動する。すなわち、下側パネル２５によって水平に保持された磁気ディスクＤは、床面から一定の高さに保持されたスタンパ１に対して接近あるいは離隔させられる。スタンパ１の凹凸面１０に密接させられた状態で、スタンパ１と磁気ディスクＤとが押圧される。【００４３】
図５および図６は、磁気ディスクＤの製造過程を示す図である。図５および図６に示すスタンパ１および磁気ディスクＤは、凹凸パターンがより明瞭となるように凹凸パターンを拡大して記載している。実際には図９に示す大きさの磁気ディスクＤが装着される。【００４４】
まず、この製造過程では、図５Ａに示すような磁気ディスクＤのベース基材が準備される。ベース基材は、たとえばガラス基板３１の片面に磁性膜３２が形成され、磁性膜３２の表面に樹脂層３３が形成されたものである。樹脂層３３は、製造過程においてマスクとして用いる（後述）ためのものである。樹脂層３３は、スピンコートなどによって形成される。樹脂層３３は、たとえばポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）といった熱可塑性樹脂からなる。樹脂層３３は、ガラス転移点が１００℃前後である。【００４５】
この樹脂層３３の表面に、図５Ａに示すように、スタンパ１の凹凸面１０が密接させられる。スタンパ１の凹凸面１０を樹脂層３３に密接させる際には、真空ポンプ２８（同図においては図示略）が作動される。これにより、作業室２１を達成真空度が１Torr程度の真空状態にされる。【００４６】
次いで、スタンパ１の凹凸面１０および樹脂層３３には、真空下における加圧処理および加熱処理が行われる。すなわち、スタンパ１および磁気ディスクＤは、図５Ｂに示すように、押圧面１０と樹脂層３３とが接した状態で上側パネル２２と下側パネル２５との間に挟み込まれる。スタンパ１および磁気ディスクＤは、上側パネル２２および下側パネル２５によってたとえば２５００ｋｇｆ程度の押圧力Ｆで押圧させられる。スタンパ１および磁気ディスクＤは、ヒータ２９によって樹脂層３３のガラス転移点以上となる１３５℃程度まで加熱される。【００４７】
そして、所要の冷却期間を経た後、作業室２１の真空状態が解除される。次いで、スタンパ１の凹凸面１０は、図５Ｃに示すように、樹脂層３３から離隔させられる。その結果、樹脂層３３は、凹凸面１０に応じた凹凸パターンが転写されて硬化した状態となる。樹脂層３３の凹凸パターンは、後述するようにエッチング用マスクとして用いられる。【００４８】
このように、樹脂層３３には、スタンパ１の凹凸面１０に応じた凹凸パターンが転写される。この場合、ガードバンドパターン部１１の筋状凸部１１ａの端部１１ｂには、支持用凸部１５が形成される。そのため、筋状凸部１１ａの端部１１ｂは、スタンパ１が繰り返し用いられても曲折することが抑制される。樹脂層３３に形成される凹凸パターンは、凹凸面１０に応じた転写欠陥のないパターンとなる。すなわち、樹脂層３３に精密な凹凸パターンを転写することができる。【００４９】
凹凸パターンが転写された直後の樹脂層３３には、マスクとして不要な残渣部分が存在するため、図５Ｄに示すように、樹脂層３３の残渣部分が除去される。これにより、樹脂層３３の凹部の底部は、磁性膜３２が露出した状態となる。【００５０】
この樹脂層３３をマスクとして磁性膜３２にエッチング処理を行う。その後、残った樹脂層３３を除去することにより、図６Ａに示すように、磁性膜３２には、凹部３４が形成される。【００５１】
その後、図６Ｂに示すように、磁性膜３２には、凹部３４を埋めながら全体を覆うように非磁性材料３５が定着させられる。そして、図６Ｃに示すように、磁性膜３２および非磁性材料３５の表面が研磨される。その結果、磁性膜３２は、凹部３４に埋め込まれた非磁性材料３５によって分離された状態となる。さらに、これらの表面に、たとえば保護膜および潤滑膜（ともに図示略）が形成されることにより、ディスクリートトラックメディアとしての磁気ディスクＤが完成する。【００５２】
図７および図８は、磁気ディスクＤの他の製造方法を示す図である。図７および図８に示すスタンパ１および磁気ディスクＤは、凹凸パターンがより明瞭となるように凹凸パターンを拡大して記載している。実際には図９に示す大きさの磁気ディスクＤが装着される。この他の製造方法は、ガラス基板３１に代えて樹脂基板３６が用いられる点で上記した製造方法と異なる。この他の製造方法は、ガラス基板３１の表面に予め磁性膜３２を形成するのではなく、樹脂スタンパ１による押圧が行われた後で、磁性膜３２を形成する点で上記した製造方法と異なる。【００５３】
まず、この製造過程では、磁気ディスクＤのベース基材として変形可能な樹脂基板３６が準備される。この他の製造方法では、図７Ａに示すように、作業室２１が真空状態にされた後、樹脂基板３６の表面に、スタンパ１の凹凸面１０が直接的に密接させられる。【００５４】
次いで、凹凸面１０や樹脂基板３６には、真空下における加圧処理および加熱処理が行われる。すなわち、スタンパ１および樹脂基板３６は、図７Ｂに示すように、凹凸面１０と樹脂基板３６とが接した状態で上側パネル２２と下側パネル２５との間に挟み込まれる。スタンパ１および樹脂基板３６は、押圧力Ｆで押圧させられる。その後、スタンパ１および樹脂基板３６は、ヒータ２９によって加熱される。【００５５】
そして、所要の冷却期間を経た後、作業室２１の真空状態が解除される。スタンパ１の凹凸面１０は、図７Ｃに示すように、樹脂基板３６から離隔させられる。その結果、樹脂基板３６は、図７Ｄに示すように、凹凸面１０に応じた凹凸パターンが転写されて硬化した状態となる。【００５６】
その後、図８Ａに示すように、樹脂基板３６には、全体を覆うように磁性膜３７が定着させられる。そして、図８Ｂに示すように、磁性膜３７の表面が研磨され、ベース基材の表面において、磁性膜３７は樹脂基板３６と分離された状態となる。これにより、ディスクリートトラックメディアとしての磁気ディスクＤが完成する。【００５７】
図９〜図１４は、本発明の第２実施例ないし第７実施例を示す図である。これら他の実施例は、いずれも第１実施例の支持用凸部１５の変形例を示すものである。すなわち、これら他の実施例は、ガードバンドパターン部１１の筋状凸部１１ａの端部１１ｂを支持するための他の構成を示す。【００５８】
図９は、本発明の第２実施例によるスタンパを示す要部斜視図である。このスタンパ１Ａでは、第１実施例の支持用凸部１５に代えて、サーボバーストパターン部１３に形成される方状凸部１３ａが用いられている。【００５９】
方状凸部１３ａは、ガードバンドパターン部１１の隣り合う２つの筋状凸部１１ａの各端部１１ｂに一体的に設けられている。すなわち、サーボバーストパターン部１３に形成された方状凸部１３ａのうち、ガードバンドパターン部１１に隣接して形成された方状凸部１３ａが筋状凸部１１ａに連設されている。【００６０】
方状凸部１３ａは、その一辺の長さＤが隣り合う２つの筋状凸部１１ａの隙間Ｌより大とされる。そのため、方状凸部１３ａは、隣り合う２つの筋状凸部１１ａの各端部１１ｂに連接される。すなわち、この第２実施例では、第１実施例（図１参照）において無パターン部１４が削除され、ガードバンドパターン部１１とサーボバーストパターン部１３とが隣り合う構成とされている。【００６１】
第２実施例においては、支持部材としての方状凸部１３ａによって、隣り合う２つの筋状凸部１１ａの各端部１１ｂを連接させることができる。そのため、２つの筋状凸部１１ａの各端部１１ｂを支持することができ、これらに剛性を与えることができる。なお、方状凸部１３ａは、３つ以上の筋状凸部１１ａの端部１１ｂを連接させるようにしてもよい。【００６２】
図１０は、本発明の第３実施例によるスタンパを示す要部斜視図である。このスタンパ１Ｂでは、第２実施例（図９参照）で示した方状凸部１３ａが、複数並設された筋状凸部１１ａのうち、ひとつおきの筋状凸部１１ａの各端部１１ｂに一体的に設けられている点で、第２実施例と異なる。【００６３】
第３実施例の構成は、２つの筋状凸部１１ａの各端部１１ｂを連接させるものではないが、ひとつおきの筋状凸部１１ａの各端部１１ｂおよびその近傍に剛性を与えることができる。【００６４】
図１１は、本発明の第４実施例によるスタンパを示す要部斜視図である。このスタンパ１Ｃでは、第１実施例の支持用凸部１５に代えて、プリアンブルパターン部１６の筋状凸部１６ａが用いられている。【００６５】
プリアンブルパターン部１６は、サーボパターン部１２に形成され、磁気ディスクＤのサーボ領域８２のプリアンブル部（図示略）に対応する。プリアンブル部は、トラック２のデータを読み取るときのクロック情報を表すものである。プリアンブルパターン部１６には、径方向に延びる複数の筋状凸部１６ａが形成されている。【００６６】
第４実施例では、プリアンブルパターン部１６に形成された筋状凸部１６ａのうち、ガードバンドパターン部１１と隣接する筋状凸部１６ａが、ガードバンドパターン部１１の筋状凸部１１ａの各端部１１ｂと連接されている。そのため、筋状凸部１１ａの各端部１１ｂを支持することができ、これらに剛性を与えることができる。【００６７】
図１２は、本発明の第５実施例によるスタンパを示す要部斜視図である。このスタンパ１Ｄでは、第１実施例の支持用凸部１５に代えて、位相差信号パターン部１７に形成された筋状凸部１７ａが用いられている。【００６８】
位相差信号パターン部１７は、サーボパターン部１２に形成され、磁気ディスクＤのサーボ領域８２の位相差信号部（図示略）に対応する。位相差信号部は、位置情報やセクタ情報を表すものである。位相差信号パターン部１７には、周方向に対して斜め方向に延びる複数の筋状凸部１７ａが形成されている。【００６９】
第５実施例では、筋状凸部１７ａは、その端部がガードバンドパターン部１１の隣り合う２つの筋状凸部１１ａの各端部１１ｂを連接させるように形成されている。すなわち、位相差信号パターン部１７の筋状凸部１７ａのうち、ガードバンドパターン部１１に隣接された筋状凸部１７ａの端部が筋状凸部１１ａと連設されている。そのため、筋状凸部１７ａによって２つの筋状凸部１１ａの各端部１１ｂを支持することができ、これらに剛性を与えることができる。なお、筋状凸部１７ａは、３つ以上の筋状凸部１１ａの端部１１ｂを連接させるようにしてもよい。【００７０】
図１３は、本発明の第６実施例によるスタンパを示す要部斜視図である。このスタンパ１Ｅでは、第１実施例の支持用凸部１５に代えて、プリアンブルパターン部１６の筋状凸部１６ｂが用いられている。筋状凸部１６ｂは、径方向に延びて形成されている。筋状凸部１６ｂは、その幅Ｗ２が比較的狭く形成されている。具体的には、筋状凸部１６ｂは、その幅Ｗ２がプリアンブルパターン部１６の筋状凸部１６ａの幅Ｗ３に比べ、小とされている。【００７１】
たとえば第４実施例（図１１参照）においては、筋状凸部１６ａがガードバンドパターン部１１の筋状凸部１１ａに一体的に設けられるため、筋状凸部１１ａ同士の間に形成される凹部は、筋状凸部１６ａによって囲まれた形状となる。そのため、スタンパ１Ｃ（図１１参照）が磁気ディスクＤの樹脂層を押し付けるとき、筋状凸部１１ａと一体的に設けられた筋状凸部１６ａによって押し出された樹脂や空気がガードバンドパターン部１１とサーボパターン部１２との間で流れ難くなる。そのため、樹脂溜まりが生じることによる樹脂の過剰供給や、空気の溜まり込みによる充填不足等が生じ、適切な形状の凹凸パターンが形成され難くなる。【００７２】
そこで、この第６実施例では、筋状凸部１６ｂの幅Ｗ２が筋状凸部１６ａの幅Ｗ３より小とされている。そのため、スタンパ１Ｅ（図１３参照）が磁気ディスクＤの樹脂層を押し付けるとき、ガードバンドパターン部１１（筋状凸部１１ａ同士の間に形成される凹部１１ｃ）とサーボパターン部１２（凹部１６ｃ）との間に流入する樹脂の量が少なくて済み、空気も流れやすくなる。そのため、樹脂の過剰供給や充填不足が生じることを抑制でき、凹凸パターンの転写性を損なうことを抑制することができる。【００７３】
図１４は、本発明の第７実施例によるスタンパを示す要部斜視図である。このスタンパ１Ｆでは、ガードバンドパターン部１１の筋状凸部１１ａの端部１１ｂに、筋状凸部１８ａが一体的に設けられている。筋状凸部１８ａは、径方向に延びて形成されている。筋状凸部１８ａは、その高さＨが筋状凸部１１ａの高さＢより低く形成されている。【００７４】
第７実施例では、筋状凸部１８ａの高さが筋状凸部１１ａの高さより低く形成されているため、スタンパ１Ｆ（図１４参照）が磁気ディスクＤの樹脂層を押し付けるとき、樹脂や空気はガードバンドパターン部１１（筋状凸部１１ａ同士の間に形成される凹部１１ｃ）とサーボパターン部１２（凹部１８ｂ）との間を流れやすくなる。そのため、第６実施例と同様に、樹脂の充填不足が生じることを抑制でき、凹凸パターンの転写性を損なうことを抑制することができる。【００７５】
なお、第７実施例のスタンパ１Ｆは、筋状凸部１８ａと筋状凸部１６ａとの高さが互いに異なっているため、従来のエッチングを用いた方法によって製作することは困難である。そこで、スタンパ１Ｆは、以下の方法によって製作されることが望ましい。【００７６】
まず、別途用意されたスタンパ１Ｆの原盤の片面に、レジストの塗布、電子ビームによる露光、現像を施す。塗布されたレジストをマスクにして第１のエッチング処理を行う。次いで、レジストを再び塗布する。このとき、第１のエッチングで形成された凹部は、再度塗布されたレジストによって埋められる。その後、露光、現像を施し、このレジストをマスクにして、第１のエッチング処理と異なる条件（たとえばエッチング時間を変える。）で第２のエッチング処理を行う。このようにすれば、スタンパ１Ｆの原盤に段差を生じさせることができ、高さの異なる筋状凸部１８ａと筋状凸部１６ａとを形成することができる。【００７７】
なお、本発明は、上記各実施形態に限定されるものではない。たとえば凹凸パターンを転写する対象物としては、ディスクリートトラックメディアに限らない。また、本発明は、スタンパ１の凹凸パターンをナノインプリント法で転写して別のスタンパを作製する際にも有効である。さらに、メッキ等のナノインプリント法以外の手段を用いる複製の際にも、たとえば複製されたスタンパをスタンパ１から剥がす際にナノインプリント法と逆方向の力がスタンパ１に加わり、本発明の課題と同様なスタンパの変形や損傷の問題を発生するため、有効である。また、所望とする微細な凹凸パターンを必要とするものであれば、上記実施形態によるスタンパ１を適用することができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【国際調査報告】
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