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【手続補正書】
【提出日】平成16年8月9日(2004.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に塗布液を塗布する塗布処理装置であって，
基板に対して塗布液を吐出しながら，少なくとも基板の一端部上から他端部上までの間を往復移動するノズルと，
前記ノズルの下方でかつ基板の端部上において，ノズルから吐出される塗布液を受け止めるマスク部材と，
前記マスク部材を前記ノズルの往復移動の方向で基板に対して相対的に移動させる駆動部と，を備え，
塗布液を吐出しているノズルが基板の内側から基板の端部上の前記マスク部材上に移動するときには，当該マスク部材を，基板に対して相対的に基板の内側方向に所定距離移動させ，塗布液を吐出しているノズルが基板の端部上のマスク部材上から基板の内側に向かって移動するときには，当該マスク部材を，基板に対して相対的に基板の外側方向に所定距離移動させるように，前記駆動部は制御されていることを特徴とする，基板の塗布処理装置。
【請求項２】
前記マスク部材は，前記基板の両端部上に配置され，
前記駆動部は，当該各マスク部材毎に備えられていることを特徴とする，請求項１に記載の基板の塗布処理装置。
【請求項３】
前記各マスク部材は，当該各マスク部材を保持するそれぞれの保持部材に保持され，
前記駆動部は，当該駆動部本体が伸縮自在なものであり，かつ前記マスク部材と前記保持部材との間に介在されていることを特徴とする，請求項２に記載の基板の塗布処理装置。
【請求項４】
前記マスク部材は，前記基板の両端部上に配置され，
前記マスク部材は，同一の支持体に支持されており，
前記駆動部は，前記支持体全体を移動させて，前記マスク部材の移動を行うことができることを特徴とする，請求項１に記載の基板の塗布処理装置。
【請求項５】
ノズルが基板に対して塗布液を吐出しながら，基板上を往復移動する工程と，
ノズルと基板との間の基板の端部上において，マスク部材がノズルから吐出される塗布液を受け止める工程と，を有する，基板に塗布液を塗布する方法であって，
塗布液を吐出しているノズルが基板の内側から基板の端部上のマスク部材上に移動する場合に，当該マスク部材が基板に対して相対的に基板の内側方向に所定距離移動する工程と，
塗布液を吐出しているノズルが基板の端部上のマスク部材上から基板の内側に向かって移動する場合に，当該マスク部材が基板に対して相対的に基板の外側方向に所定距離移動する工程と，を有することを特徴とする，基板の塗布処理方法。
【請求項６】
ノズルが基板の端部上に移動した際に，基板がノズルに対して前記往復移動の方向と直角をなす方向に移動する工程を有し，
前記マスク部材の前記所定距離の移動は，前記基板の前記直角をなす方向への移動と同時期に行われることを特徴とする，請求項５に記載の基板の塗布処理方法。
【請求項７】
前記駆動部を制御する制御装置を備え，
前記制御装置には，前記ノズルの往復移動の移動速度と，前記塗布液の吐出速度と，前記ノズルから吐出された塗布液の水平方向の飛距離との相関データが記憶され，
前記制御装置は，前記相関データに基づいて，前記マスク部材が移動する前記所定距離を定め，前記駆動部を制御して前記マスク部材を前記所定距離移動させることを特徴とする，請求項１〜４に記載の基板の塗布処理装置。
【請求項８】
前記駆動部は，圧電素子であることを特徴とする，請求項１，２，３，４，７のいずれかに記載の基板の塗布処理装置。
【請求項９】
前記ノズルの往復移動の移動速度と，前記塗布液の吐出速度と，前記ノズルから吐出された塗布液の水平方向の飛距離との相関データに基づいて，前記マスク部材が移動する前記所定距離が定められることを特徴とする，請求項５又は６のいずれかに記載の基板の塗布処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
前記塗布処理方法は，ノズルが基板の端部上に移動した際に，基板がノズルに対して前記往復移動の方向と直角をなす方向に移動する工程を有し，マスク部材の前記所定距離の移動は，前記基板の前記直角をなす方向への移動と同時期に行われるようにしてもよい。こうすることによって，例えば基板の直角方向への移動とマスク部材の移動を同じトリガを用いて行うことができる。この結果，例えば塗布処理を行うための各種部材の動作制御を，より単純化して行うことができる。
前記基板の塗布処理装置において，前記駆動部を制御する制御装置を備え，前記制御装置には，前記ノズルの往復移動の移動速度と，前記塗布液の吐出速度と，前記ノズルから吐出された塗布液の水平方向の飛距離との相関データが記憶され，前記制御装置は，前記相関データに基づいて，前記マスク部材が移動する前記所定距離を定め，前記駆動部を制御して前記マスク部材を前記所定距離移動させてもよい。
前記駆動部は，圧電素子であってもよい。
また，前記基板の塗布処理方法において，前記ノズルの往復移動の移動速度と，前記塗布液の吐出速度と，前記ノズルから吐出された塗布液の水平方向の飛距離との相関データに基づいて，前記マスク部材が移動する前記所定距離が定められてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月25日(2005.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光層が窒化ガリウム系化合物半導体からなるＬＥＤチップと、ＬＥＤチップの発光によって励起されて発光する蛍光体を含有する透明樹脂をＬＥＤチップの周囲に充填させたコーティング部と、ＬＥＤチップとコーティング部を被覆する透明樹脂からなるモールド部とを有する発光ダイオードにおいて、ＬＥＤチップの発光は、３６０ｎｍ〜５３０ｎｍの範囲にピーク波長がある単色性の発光スペクトルを有し、蛍光体は発光中心を添加したオキシ窒化物ガラスからなることを特徴とする発光ダイオード。
【請求項２】
前記蛍光体が、発光中心としてＥｕ２＋イオンを添加したＣａ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ系オキシ窒化物ガラスであることを特徴とする請求項１に記載の発光ダイオード。
【請求項３】
Ｃａ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ系オキシ窒化物ガラスの組成が、ＣａＯが２０〜５０モル％、Ａｌ２Ｏ３が０．１〜３０モル％、ＳｉＯが２５〜６０モル％、ＡｌＮが５〜５０モル％、希土類酸化物または遷移金属酸化物が０．１〜２０モル％の範囲であり、かつそれらの合計が１００モル％であることを特徴とする請求項２に記載の発光ダイオード。
【請求項４】
前記コーティング部を構成する透明樹脂が、（メタ）アクリル酸系樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン架橋樹脂、ＵＶ硬化樹脂、ユリア樹脂、シリコーン樹脂から選択される一種であることを特徴とする請求項１ないし３に記載の発光ダイオード。
【請求項５】
前記コーティング部の表面側からＬＥＤチップ側に向かって、蛍光体の混合比率を徐々に多くすることを特徴とする請求項１ないし４に記載の発光ダイオード。
【請求項６】
前記モールド部を構成する透明樹脂は、前記コーティング部を構成する透明樹脂と同じ樹脂材料を用いていることを特徴とする請求項１ないし５に記載の発光ダイオード。
【請求項７】
前記モールド部が、拡散材を含有することを特徴とする請求項１ないし６に記載の発光ダイオード。
【請求項８】
請求項１ないし７に記載の発光ダイオードを用いた白色照明装置。
【請求項９】
発光層が窒化ガリウム系化合物半導体からなるＬＥＤチップの周囲に、ＬＥＤチップの発光によって励起されて発光する蛍光体を含有する透明樹脂を充填してコーティング部を形成し、さらにＬＥＤチップとコーティング部を透明樹脂で被覆してモールド部を形成する発光ダイオードの製造方法において、前記ＬＥＤチップの発光が、３６０ｎｍ〜５３０ｎｍの範囲にピーク波長がある単色性の発光スペクトルを有し、蛍光体が発光中心を添加したオキシ窒化物ガラスからなることを特徴とする発光ダイオードの製造方法。
【請求項１０】
前記蛍光体が、発光中心としてＥｕ２＋イオンを添加したＣａ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ系オキシ窒化物ガラスであることを特徴とする請求項９に記載の発光ダイオードの製造方法。
【請求項１１】
Ｃａ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ系オキシ窒化物ガラスの組成が、ＣａＯが２０〜５０モル％、Ａｌ２Ｏ３が０．１〜３０モル％、ＳｉＯが２５〜６０モル％、ＡｌＮが５〜５０モル％、希土類酸化物または遷移金属酸化物が０．１〜２０モル％の範囲であり、かつそれらの合計が１００モル％であることを特徴とする請求項１０に記載の発光ダイオードの製造方法。
【請求項１２】
前記コーティング部のＬＥＤチップ側から表面側に向かって、蛍光体の混合比率の高いものから順に充填することを特徴とする請求項９ないし１１に記載の発光ダイオードの製造方法。
【請求項１３】
発光中心としてＥｕ２＋イオンを添加したＣａ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ系オキシ窒化物ガラスである蛍光体。
【請求項１４】
Ｃａ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ系オキシ窒化物ガラスの組成が、ＣａＯが２０〜５０モル％、Ａｌ２Ｏ３が０．１〜３０モル％、ＳｉＯが２５〜６０モル％、ＡｌＮが５〜５０モル％、希土類酸化物または遷移金属酸化物が０．１〜２０モル％の範囲であり、かつそれらの合計が１００モル％であることを特徴とする請求項１３に記載の蛍光体。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月12日(2004.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも上つばを有し、コイルを配した内部コアと、この内部コアを囲うように格納したシールドコアを備え、このシールドコアは少なくとも２箇所にコイル端末結線用電極と、このコイル端末結線用電極に続いて側面より下面に電極が露出され、さらに、前記内部コアが格納される内側面の前記コイル端末結線用電極の位置にコイル端末導出用凹所が設けられ、前記コイルの端末はこの凹所を介して上面に導出し、前記コイル端末結線用電極に接続され、前記内部コアは上つば部でシールドコアに接着された面実装型チョークコイル。
【請求項２】
前記内部コアは、上つばとこれより小径の下つばを有するドラム型になっており、このつばの空間にコイルが巻回され上つばでシールドコアを係止している請求項１に記載の面実装型チョークコイル。
【請求項３】
前記シールドコアのコイル端末結線用電極部は、このシールドコアの上面より低い段部に形成され、さらに、前記コイル端末導出用凹所の開口幅より大きい幅を有する段部が前記コイル端末結線用電極部と前記コイル端末導出用凹所間に設けられている請求項１または請求項２のいずれかに記載の面実装型チョークコイル。
【請求項４】
前記コイル端末導出用凹所の空所を覆うように前記ドラムコアの上つばが前記シールドコアの上面に載置されてなる請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の面実装型チョークコイル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】          
上記課題を解決するするには、請求項１に記載の発明のように、少なくとも上つばを有し、コイルを配した内部コアと、この内部コアを囲うように格納したシールドコアを備え、このシールドコアは少なくとも２箇所にコイル端末結線用電極と、このコイル端末結線用電極に続いて側面より下面に電極が露出され、さらに、前記内部コアが格納される内側面の前記コイル端末結線用電極の位置にコイル端末導出用凹所が設けられ、前記コイルの端末はこの凹所を介して上面に導出し、前記コイル端末結線用電極に接続し、前記内部コアは上つば部でシールドコアに接着することにより達成できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１に記載した発明によれば、少なくとも上つばを有し、コイルを配した内部コアと、この内部コアを囲うように格納したシールドコアを備え、このシールドコアは少なくとも２箇所にコイル端末結線用電極と、このコイル端末結線用電極に続いて側面より下面に電極が露出され、さらに、前記内部コアが格納される内側面の前記コイル端末結線用電極の位置にコイル端末導出用凹所が設けられ、前記コイルの端末はこの凹所を介して上面に導出し、前記コイル端末結線用電極に接続し、前記内部コアは上つば部でシールドコアに接着すれば、外形寸法やインダクタンスの値を変えることなく、太い導線を巻回して定格電流を大きくした小型の面実装型チョークコイルを提供できる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月9日(2005.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  下面の一部領域に設けられたチップ搭載部と、上記下面の上記チップ搭載部とは異なる一部領域に設けられた側壁部とを備えた基板と、上記チップ搭載部に設けられた半導体素子と、上記基板の上面に設けられた電子部品とを有することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】  請求項１に記載の半導体装置において、
上記基板は、複数のチップ領域を有するウェハを上記チップ領域ごとに分割して形成されたものであり、
上記基板の上記凹部は、上記ウェハにおいて互いに隣接する２つの上記チップ領域に亘って形成されていたことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】  請求項１または２に記載の半導体装置において、
上記側壁部は、上記基板の下面側より見て上記基板の上記外縁部に沿った四角環の一辺が欠けたコ字状またはＵ字状であることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】  請求項１〜３のうちいずれか１つに記載の半導体装置において、
上記半導体素子は、上記基板とフリップチップ実装されており、
上記基板と上記半導体チップとの間の隙間が樹脂によって埋められていることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】  請求項１〜４のうちいずれか１つに記載の半導体装置において、
上記基板は複数の絶縁層から構成されており、
上記絶縁層を貫通し導体で埋められた少なくとも１つのビアホールと、
上記絶縁層の間に介在する少なくとも１つの配線パターンと
をさらに備え、
上記半導体素子と上記電子部品とは、上記ビアホールおよび上記配線パターンによって電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】  請求項５記載の半導体装置において、上記複数の絶縁層のうち一層は、セラミックシートであることを特徴とする半導体装置。
【請求項７】  請求項１に記載の半導体装置において、
上記チップ搭載部は、樹脂によって埋められていることを特徴とする半導体装置。
【請求項８】  請求項５記載の半導体装置において、上記半導体素子は、上記ビアホールのうちの少なくとも１つとフリップチップ接続またはワイヤボンド接続により電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項９】  請求項１記載の半導体装置において、
上記半導体素子は、ランドグリッドアレイ状またはボールグリッドアレイ状に形成されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項１０】  基板の下面側に、複数のチップ領域ごとに凹部を形成する工程（ａ）と、  上記基板を１つの上記チップ領域ごとに分割する工程（ｂ）と、
上記凹部の側壁部の下面上に第１導体部材を形成し、上記基板の上面上に第２導体部材を形成する工程（ｃ）と
を備える半導体装置の製造方法。
【請求項１１】  請求項１０に記載の半導体装置の製造方法において、
上記工程（ａ）では、上記凹部を２つの上記チップ領域の外縁部を除く部分に形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１２】  請求項１０または１１に記載の半導体装置の製造方法において、
上記工程（ａ）では、複数の絶縁層を重ねることにより上記基板に上記凹部を形成し、
上記工程（ａ）の前に、上記絶縁層を貫通するビアホールを形成して導体で埋め、上記絶縁層の表面上に配線パターンを形成する工程（ｄ）をさらに備え、
上記第１導体部材と上記第２導体部材とは、上記ビアホールと上記配線パターンとにより電気的に接続されることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１３】  絶縁層を貫通するビアホールを形成して導体で埋める工程（ａ）と、
上記絶縁層の表面上に導体パターンを形成する工程（ｂ）と、
複数の上記絶縁層を重ねることにより、下面側に凹部を有する基板を形成する工程（ｃ）と、
上記基板をチップ領域ごとに分割する工程（ｄ）と、
上記凹部の側壁部の下面上に第１導体部材を形成し、上記基板の上面上に第２導体部材を形成する工程（ｅ）と
を備え、
上記第１導体部材と上記第２導体部材とは上記ビアホールおよび上記配線パターンによって電気的に接続されることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月26日(2004.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ダマシン処理装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気絶縁膜に形成したプラグ部に銅を埋め込んで電気伝導性のダマシンを形成するダマシン処理装置において、
ｌｏｗ−ｋ材をエッチング処理するエッチング処理室と、エッチング処理した試料を真空中で搬送する真空搬送室と、搬送された試料を受け入れる受入れ手段、電圧付与手段、および電圧で加速したイオンもしくは加速した該イオンを除電化した中性粒子をエッチング処理面に衝突させて炭化、窒化、臭化、ホウ化、還元、非晶質化あるいはこれらの組合せの表面改質による銅バリア処理を行う銅バリア処理室と、および該銅バリア処理されたエッチング処理面を有するプラグ部に銅を埋め込む高真空処理室とを有することを特徴とするダマシン処理装置。
【請求項２】
エッチング処理面に表面改質材質を成膜する成膜処理室を有することを特徴とする請求項１に記載のダマシン処理装置。
【請求項３】
前記真空搬送室と前記高真空処理室との間に両側にゲート弁を有する高真空バッファ室を設けたことを特徴とする請求項１に記載のダマシン処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月19日(2005.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
気相成長法によってｐ型不純物を含むＧａＮ系半導体結晶を成長させた後、その結晶成長温度において、雰囲気を、アンモニアを０．１〜３０ｖｏｌ％の割合で含む冷却用雰囲気に切り替え、該冷却用雰囲気中において前記半導体結晶を冷却する工程を有し、上記ｐ型不純物を含むＧａＮ系半導体結晶を成長させる際に、最後に成長させるＧａＮ系半導体結晶がＩｎｘＡｌｙＧａ１−ｘ−ｙＮ（０≦ｘ≦０．２、０＜ｙ＜１）であるｐ型ＧａＮ系半導体の製造方法。
【請求項２】
上記最後に成長させるＧａＮ系半導体結晶がＩｎｘＡｌｙＧａ１−ｘ−ｙＮ（０≦ｘ≦０．１、０．０５≦ｙ≦０．３）である、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
上記最後に成長させるＧａＮ系半導体結晶の成長厚みが２ｎｍ以上である、請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
不活性ガスを５０ｖｏｌ％以上の割合で含む結晶成長用雰囲気中で、上記ｐ型不純物を含むＧａＮ系半導体結晶を成長させることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
すなわち、本発明は下記の特徴を有する。
（１）気相成長法によってｐ型不純物を含むＧａＮ系半導体結晶を成長させた後、その結晶成長温度において、雰囲気を、アンモニアを０．１〜３０ｖｏｌ％の割合で含む冷却用雰囲気に切り替え、該冷却用雰囲気中において前記半導体結晶を冷却する工程を有し、上記ｐ型不純物を含むＧａＮ系半導体結晶を成長させる際に、最後に成長させるＧａＮ系半導体結晶がＩｎｘＡｌｙＧａ１−ｘ−ｙＮ（０≦ｘ≦０．２、０＜ｙ＜１）であるｐ型ＧａＮ系半導体の製造方法。
（２）上記最後に成長させるＧａＮ系半導体結晶がＩｎｘＡｌｙＧａ１−ｘ−ｙＮ（０≦ｘ≦０．１、０．０５≦ｙ≦０．３）である、上記（１）に記載の製造方法。
（３）上記最後に成長させるＧａＮ系半導体結晶の成長厚みが２ｎｍ以上である、上記（１）または（２）に記載の製造方法。
（４）不活性ガスを５０ｖｏｌ％以上の割合で含む結晶成長用雰囲気中で、上記ｐ型不純物を含むＧａＮ系半導体結晶を成長させることを特徴とする、上記（１）〜（３）のいずれかに記載の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月25日(2005.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  多数の同心円状のトラックに前記トラックの中心からの距離を規定する位置情報が間欠的に書き込まれたディスクと、
データの読み書きを行うヘッドと、
前記ディスクを回転させるスピンドルモータと、
前記ヘッドから検出した前記位置情報から前記トラックの中心位置と前記ヘッドの半径方向位置との位置誤差である位置誤差信号を復調する復調部と、
前記ヘッドを前記ディスクの半径方向位置に移動させるための駆動機構と駆動回路からなる駆動部と、
前記位置誤差を入力とし、前記位置誤差を零とするように前記駆動部に対し操作量を出力して制御するコントローラとを有する磁気ディスク装置であって、
前記ディスクの回転に同期した周波数の高次成分を遮断するバンドイルミネーション特性を備え、前記位置誤差を入力とし、前記位置誤差から前記バンドイルミネーション特性により修正位置誤差を生成し、前記修正位置誤差を新たな位置誤差として前記コントローラの入力とする位置誤差修正手段を有することを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項２】  請求項１記載の磁気ディスク装置において、
前記位置誤差修正手段は、前記位置誤差を入力とし、メモリ上に逐次記憶した過去のセクタに対応した位置誤差を用いて現在のセクタに対応した位置誤差を補正する繰返し制御部と、前記繰返し制御部の出力を入力とするハイパスフィルタとを有することを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項３】  多数の同心円状のトラックに前記トラックの中心からの距離を規定する位置情報が間欠的に書き込まれたディスクと、
データの読み書きを行うヘッドと、
前記ディスクを回転させるスピンドルモータと、
前記ヘッドから検出した前記位置情報から前記トラックの中心位置と前記ヘッドの半径方向位置との位置誤差である位置誤差信号を復調する復調部と、
前記ヘッドを前記ディスクの半径方向位置に移動させるための駆動機構と駆動回路からなる駆動部と、
前記位置誤差を入力とし、前記位置誤差を零とするように前記駆動部に対し操作量を出力して制御するコントローラとを有する磁気ディスク装置であって、
目標トラックのうねった軌跡である目標位置を推定し、その推定値を位置誤差補正値とする推定手段と、
前記位置誤差補正値を記録する記録手段と、
前記位置誤差から前記位置誤差補正値を差し引き第１の修正位置誤差とする補正手段と、
前記ディスクの回転に同期した周波数成分の高次成分を遮断するバンドイルミネーション特性を備え、前記第１の修正位置誤差を入力とし、前記第１の修正位置誤差から前記バンドイルミネーション特性により第２の修正位置誤差を生成し、前記第２の修正位置誤差を新たな位置誤差として前記コントローラの入力とする位置誤差修正手段とを有することを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項４】  請求項３記載の磁気ディスク装置において、
前記位置誤差修正手段は、前記位置誤差を入力とし、メモリ上に逐次記憶した過去のセクタに対応した位置誤差を用いて現在のセクタに対応した位置誤差を補正する繰返し制御部と、前記繰返し制御部の出力を入力とするハイパスフィルタとを有することを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項５】  請求項４記載の磁気ディスク装置において、
前記推定手段は、前記位置誤差修正手段を有することを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項６】  多数の同心円状のトラックに前記トラックの中心からの距離を規定する位置情報が間欠的に書き込まれたディスクと、
データの読み書きを行うヘッドと、
前記ディスクを回転させるスピンドルモータと、
前記ヘッドから検出した前記位置情報から前記トラックの中心位置と前記ヘッドの半径方向位置との位置誤差である位置誤差信号を復調する復調部と、
前記ヘッドを前記ディスクの半径方向位置に移動させるための駆動機構と駆動回路からなる駆動部と、
前記位置誤差を入力とし、前記位置誤差を零とするように前記駆動部に対し操作量を出力して制御するコントローラとを有する磁気ディスク装置であって、
目標トラックのうねった軌跡である目標位置を推定し、その推定値を位置誤差補正値とする推定手段と、
前記位置誤差補正値を記録する記録手段と、
前記位置誤差から前記位置誤差補正値を差し引き第１の修正位置誤差とする補正手段と、
前記ディスクの回転に同期した周波数成分の高次成分を遮断するバンドイルミネーション特性を備え、前記第１の修正位置誤差を入力とし、前記第１の修正位置誤差から前記バンドイルミネーション特性により第２の修正位置誤差を生成し、前記第２の修正位置誤差を新たな位置誤差として前記コントローラの入力とする位置誤差修正手段と、
前記位置誤差補正値の再生に成功したときは、前記第１の修正位置誤差を新たな位置誤差として前記コントローラの入力とし、前記位置誤差補正値の再生に失敗したときは、前記第１の修正位置誤差を前記位置誤差修正手段への入力とする切換え手段とを有することを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項７】  請求項６記載の磁気ディスク装置において、
前記位置誤差修正手段は、前記位置誤差を入力とし、メモリ上に逐次記憶した過去のセクタに対応した位置誤差を用いて現在のセクタに対応した位置誤差を補正する繰返し制御部と、前記繰返し制御部の出力を入力とするハイパスフィルタとを有することを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項８】  請求項７記載の磁気ディスク装置において、
前記推定手段は、前記位置誤差修正手段を有することを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項９】  請求項１、２、３、４、５、６、７または８記載の磁気ディスク装置において、
前記位置誤差修正手段は、マイクロプロセッサにより実行される制御プログラムにおいて実現されることを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項１０】 多数の同心円状のトラックに前記トラックの中心からの距離を規定する位置情報が書き込まれたディスクと、
データの読み書きを行うヘッドと、
前記ディスクを回転させるスピンドルモータと、
前記ヘッドを前記ディスクの半径方向位置に移動させるための駆動機構と駆動回路とを含む駆動部と、
前記ヘッドから検出した前記位置情報から前記トラックの中心位置と前記ヘッドの半径方向位置との位置誤差である第１の位置誤差に基づいて、前記駆動部に対し操作量を出力して制御するコントローラとを有する磁気ディスク装置において、
前記第１の位置誤差を入力し、第２の位置誤差を前記コントローラに出力する位置誤差修正器を備え、
前記位置誤差修正器はノッチ特性を有することを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項１１】 請求項１０記載の磁気ディスク装置において、
前記位置誤差修正器は、前記第１の位置誤差から前記ディスクの回転同期周波数の高次成分に対してノッチ特性を有することを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項１２】 請求項１１記載の磁気ディスク装置において、
前記ディスクの回転同期周波数の高次成分は、前記ヘッドを前記トラックの中心位置に位置決めする制御系のサーボ帯域より大きい周波数の成分であることを特徴とする磁気ディスク装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月13日(2005.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記複数のメモリセルトランジスタの各々は、
当該不揮発性半導体記憶装置が形成される半導体基板の表層部において、第１の導電型のチャネル領域を介して対向して形成される第２の導電型の第１および第２の領域と、
前記第１の導電型のチャネル領域上にゲート絶縁膜を介して形成されたフローティングゲートおよびコントロールゲートを有する２層ゲート電極と、
前記第１の領域と前記第１の導電型のチャネル領域との間および前記第２の領域と前記第１の導電型のチャネル領域との間に、前記２層ゲート電極とはオーバーラップしないように形成される第２の導電型の電界緩和層とを含む、請求項１に記載の不揮発性半導体記憶装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記書戻し動作においては、前記コントロールゲートの電位は不活性レベルに保持され、前記第１および第２の領域の一方は接地電位に設定され、かつ、前記第１および第２の領域の他方は所定の電位に設定されることによって、サブスレッショルドチャネルホットエレクトロン電流による自己選択的な書戻しが行なわれる、請求項３に記載の不揮発性半導体記憶装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
好ましくは、複数のメモリセルトランジスタの各々は、当該不揮発性半導体記憶装置が形成される半導体基板の表層部において、第１の導電型のチャネル領域を介して対向して形成される第２の導電型の第１および第２の領域と、第１の導電型のチャネル領域上にゲート絶縁膜を介して形成されたフローティングゲートおよびコントロールゲートを有する２層ゲート電極と、第１の領域と第１の導電型のチャネル領域との間および第２の領域と第１の導電型のチャネル領域との間に、２層ゲート電極とはオーバーラップしないように形成される第２の導電型の電界緩和層とを含む。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
好ましくは、書戻し動作においては、コントロールゲートの電位は不活性レベルに保持され、第１および第２の領域の一方は接地電位に設定され、かつ、第１および第２の領域の他方は所定の電位に設定されることによって、サブスレッショルドチャネルホットエレクトロン電流による自己選択的な書戻しが行なわれる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月10日(2005.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
垂直記録ヘッドを有する磁気ヘッドにおいて、
該垂直記録ヘッドは、主磁極と、垂直磁気記録媒体と対向する前記主磁極の浮上面の反対側に設けられた第１のヨークとを有し、
前記第１のヨークの最も面積の広い主平面は前記浮上面と平行であり、
前記主磁極のリーディング側の面、トラック方向に略平行な第１の側面及び前記第１の側面と対向してトラック方向に略平行な第２の側面は、垂直より傾斜していることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】
前記主磁極は、前記第１のヨークのうち最も面積の広い主平面の略中央部で、前記第１のヨークと接続されていることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
【請求項３】
前記主磁極を略中心として、前記主磁極に磁束を励磁するための少なくとも１ターンのコイルが形成されていることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
【請求項４】
更に、磁気抵抗効果素子を有する再生ヘッドを有し、
前記再生ヘッドには、垂直磁気記録媒体から漏洩してきた磁束を導くための第２のヨークが形成されていることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
【請求項５】
前記磁気抵抗効果素子は、前記主磁極の浮上面と平行に形成されていることを特徴とする請求項４記載の磁気ヘッド。
【請求項６】
前記第２のヨークは２つの分離された磁性体で構成され、
前記２つの分離された磁性体それぞれが、前記再生ヘッドのトレーリング側及びリーディング側に設置されていることを特徴とする請求項４記載の磁気ヘッド。
【請求項７】
前記第１のヨークが、前記第２のヨークと兼用されていることを特徴とする請求項４記載の磁気ヘッド。
【請求項８】
前記第２のヨークのリーディング側の面、トラック方向に略平行な第１の側面及び前記第１の側面と対向してトラック方向に略平行な第２の側面のうち少なくとも１つ以上は、垂直より傾斜していることを特徴とする請求項４記載の磁気ヘッド。
【請求項９】
前記トレーリング側に設置されている磁性体は、トレーリング側の面、トラック方向に略平行な第１の側面及び前記第１の側面と対向してトラック方向に略平行な第２の側面のうち少なくとも１つ以上が垂直より傾斜しており、
前記リーディング側に設置されている磁性体は、リーディング側の面、トラック方向に略平行な第１の側面及び前記第１の側面と対向してトラック方向に略平行な第２の側面のうち少なくとも１つ以上が垂直より傾斜していることを特徴とする請求項６記載の磁気ヘッド。
【請求項１０】
前記主磁極の浮上面と、リーディング側に位置する前記主磁極の面との角度θが、20度以上65度以下であることを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項に記載の磁気ヘッド。
【請求項１１】
前記主磁極の浮上面と垂直な面と、垂直磁気記録媒体の回転方向と直交する方向に位置する前記主磁極の面との角度が20度以下であることを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項に記載の磁気ヘッド。
【請求項１２】
前記主磁極の体積V1と前記第１のヨークの体積V2との比V2/V1は、10以上であることを特徴とする請求項１乃至１１の何れか１項に記載の磁気ヘッド。
【請求項１３】
少なくとも基板上に軟磁性裏打ち層及び記録層を有する垂直磁気記録媒体と、垂直記録ヘッドを有する磁気ヘッドとを備える磁気ディスク装置において、
該垂直記録ヘッドは、主磁極と、垂直磁気記録媒体と対向する前記主磁極の浮上面の反対側に設けられた第１のヨークとを有し、
前記第１のヨークの最も面積の広い主平面は前記浮上面と平行であり、
主磁極のリーディング側の面、トラック方向に略平行な第１の側面及び前記第１の側面と対向してトラック方向に略平行な第２の側面は、垂直より傾斜していることを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項１４】
垂直記録ヘッドを有する磁気ヘッドであり、該垂直記録ヘッドは、主磁極と、垂直磁気記録媒体と対向する前記主磁極の浮上面の反対側に設けられた第１のヨークとを有し、前記第１のヨークの最も面積の広い主平面は前記浮上面と平行であり、主磁極のリーディング側の面、トラック方向に略平行な第１の側面及び前記第１の側面と対向してトラック方向に略平行な第２の側面は、垂直より傾斜していることを特徴とする磁気ヘッドを製造するに際し、
主磁極先端の少なくともトレーリング側において、媒体対向面から基板方向に向かいテーパ形状を形成するエッチング工程、基板面と略平行な媒体対向面を形成する平坦化工程を含む工程により主磁極を形成することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１５】
更に、基板面もしくは媒体対向面に略平行な面内を周回する励磁コイルを形成工程を含む工程により主磁極を形成することを特徴とする請求項１４記載の磁気ヘッドの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月7日(2004.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フロントフォークパイプと車体フレームとカバー部材と該カバー部材を支持するカウルステーとを備えるスクータ型車両であって、
前記カウルステーは、前記フロントフォークパイプより外側位置に配設され、前記車体フレームに固定されていることを特徴とするスクータ型車両の車体フレーム構造。
【請求項２】
前記車体フレームはヘッドパイプを含み、前記カウルステーは前記ヘッドパイプに固定され、前記ヘッドパイプの側方に配設されていることを特徴とする請求項１に記載のスクータ型車両の車体フレーム構造。
【請求項３】
前記車体フレームは、前記ヘッドパイプから後方に向けて延長される下フレームを含み、前記カウルステーは、前記下フレームに固定されていること特徴とする請求項２に記載のスクータ型車両の車体フレーム構造。
【請求項４】
前記カウルステーはループ形状であり、その上端部と下端部で前記車体フレームに固定されていることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一つに記載のスクータ型車両の車体フレーム構造。
【請求項５】
足載せ部と前記カウルステーに固定され、前記足載せ部の荷重を受ける荷重受け部を備えることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一つに記載のスクータ型車両の車体フレーム構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を達成するために、請求項１に記載の発明は、フロントフォークパイプと車体フレームとカバー部材と該カバー部材を支持するカウルステーとを備えるスクータ型車両であって、前記カウルステーは、前記フロントフォークパイプより外側位置に配設され、前記車体フレームに固定されているスクータ型車両の車体フレーム構造としたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の構成に加え、前記車体フレームはヘッドパイプを含み、前記カウルステーは前記ヘッドパイプに固定され、前記ヘッドパイプの側方に配設されていることを特徴とする。
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の構成に加え、前記車体フレームは、前記ヘッドパイプから後方に向けて延長される下フレームを含み、前記カウルステーは、前記下フレームに固定されていること特徴とする。
請求項４に記載の発明は、請求項１乃至３の何れか一つに記載の構成に加え、前記カウルステーはループ形状であり、その上端部と下端部で前記車体フレームに固定されていることを特徴とする。
請求項５に記載の発明は、請求項１乃至４の何れか一つに記載の構成に加え、足載せ部と前記カウルステーに固定され、前記足載せ部の荷重を受ける荷重受け部を備えることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
詳しくは、図２７（ａ）に示すように、カウルステー６７にブラケット７５が固定され、このブラケット７５にボルト７６・ナット７７によりレッグシールド５６の足載せ部５６ｃが取り付けられ、この足載せ部５６ｃには、足載せマット７８が敷設されている。そのブラケット７５は、足載せ部５６ｃとカウルステー６７とに固定され、足載せ部５６ｃの荷重を受ける荷重受け部を構成している。なお、図２７（ａ）中符号７９は、足載せ部５６ｃの下側側方を覆うサイドパネルである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４９】
【発明の効果】
以上説明してきたように、請求項１に記載された発明によれば、カウルステーをフロントフォークパイプの外側に配置することにより、車体フロント部分では、フロントフォークパイプが回動するようになっているため、この各種部品を支持するのに苦慮しているが、これらフロントフォークパイプの外側の干渉しない位置にカウルステーを設けることにより、このカウルステー等に各種部品を簡単に支持することができる。
請求項２に記載された発明によれば、カウルステーはヘッドパイプに固定され、ヘッドパイプの側方に配設されているため、カウリング（カバー）を良好に支持することができる。従って、フレームから長いステーを多数延長したりする必要がないため、フレーム全体としてのコンパクト化や軽量化を図ることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５０】
請求項３に記載された発明によれば、車体フレームは、ヘッドパイプから後方に向けて延長される下フレームを含み、カウルステーは、下フレームに固定されているため、このカウルステーへ各種部品の支持することにより、フレームから延長された長いステーに支持する場合より、支持強度を確保できる。
請求項４に記載された発明によれば、カウルステーはループ形状であり、その上端部と下端部で車体フレームに固定されているため、カウルステーに各種部品を簡単に支持できる。
請求項５に記載された発明によれば、足載せ部とカウルステーに固定され、足載せ部の荷重を受ける荷重受け部を備えるため、最適位置で、足載せ荷重を負担できる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月7日(2004.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車体フレームと、運転者が着座するシートと、前記車体フレームに固定されたエンジンと、該エンジンに含まれ前記シートの下方に位置するクランクケースと、前記エンジンを側方から覆うカバー部材とを備えたスクータ型車両であって、
前記カバー部材に、前記クランクケースの側面部が外部に露出する切欠き部を形成したことを特徴とするスクータ型車両のエンジン配設部構造。
【請求項２】
前記切欠き部を形成することにより、前記クランクケース側面部の車幅方向の幅と、前記カバー部材の車幅方向の幅とを略同じに設定したことを特徴とする請求項１に記載のスクータ型車両のエンジン配設部構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
そこで、この発明は、デザイン性を良好とするスクータ型車両のエンジン配設部構造を提供することを課題としている。
また、他の課題は、足付き性を良好とすることにある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、車体フレームと、運転者が着座するシートと、前記車体フレームに固定されたエンジンと、該エンジンに含まれ前記シートの下方に位置するクランクケースと、前記エンジンを側方から覆うカバー部材とを備えたスクータ型車両であって、前記カバー部材に、前記クランクケースの側面部が外部に露出する切欠き部を形成したスクータ型車両のエンジン配設部構造としたことを特徴とする。
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の構成に加え、前記切欠き部を形成することにより、前記クランクケース側面部の車幅方向の幅と、前記カバー部材の車幅方向の幅とを略同じに設定したことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
すなわち、エンジン４をフレーム５側に固定すると、運転者の着座位置の下方にエンジン４が配置され、エンジン４の内でもクランクケース４ａの部分がエンジン４の最大幅部となる。従って、このエンジン４のクランクケース４ａの側方全体をフートボード８１及びブーメランカバー８９で覆うと車幅が広くなってしまい、運転者の足付き性が悪化する。そこで、フートボード８１及びブーメランカバー８９の一部に切欠き部８１ｄ，８９ｃを設けてクランクケース４ａを露出させることにより、エンジン４のクランクケース４ａ側面部の車幅方向の幅とフートボード８１及びブーメランカバー８９の車幅方向の幅とを、略同じに設定することができるため、運転者の足を付く部分の車体幅を狭くすることができ、足付き性を向上させることができると共に、デザイン性も良好とすることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４８】
【発明の効果】
以上説明してきたように、請求項１に記載された発明によれば、カバー部材に、クランクケースの側面部を外部に露出させる切欠き部を形成したため、デザイン性を良好にすることができると共に、クランクケースの側面部に走行風等を直接当てることができ、冷却性能を向上させることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４９】
請求項２に記載された発明によれば、カバー部材に切欠き部を形成することにより、クランクケース側面部の車幅方向の幅と、カバー部材の車幅方向の幅とを略同じに設定したため、車両停車時における運転者の足付き性の工場を図ることができる。すなわち、エンジンを車体フレーム側に固定すると、運転者の着座位置の下方にエンジンが配置され、エンジンの内でもクランクケースの部分がエンジンの最大幅部となる。従って、このエンジンのクランクケースの側方全体をカバー部材で覆うと車幅が広くなってしまい、運転者の足付き性が悪化する。そこで、カバー部材の一部に切欠き部を設けてクランクケースを露出させることにより、エンジンのクランクケース側面部の車幅方向の幅とカバー部材の車幅方向の幅とを、略同じに設定することができるため、運転者の足を付く部分の車体幅を狭くすることができ、足付き性を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月7日(2004.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートと、該シートの下側位置まで延長されたフードボードと、該フートボードに形成された乗員の足載せ部と、前記シートの下側近傍に配置されたシート下サイドカバーと前記フートボードと前記シート下サイドカバーの間を覆う外観部品と、を備えることを特徴とするスクータ型車両の外装構造。
【請求項２】
前記外観部品は、中間部が上方に位置し、前後端部側が斜め下方に延びるように略くの字状に折曲されて、前記フートボードの上面に沿って配置されていることを特徴とする請求項１に記載のスクータ型車両の外装構造。
【請求項３】
前記外観部品は、前記フードボードの上縁部と前記シート下サイドカバーの下縁部とを覆うことを特徴とする請求項１に記載のスクータ型車両の外装構造。
【請求項４】
前記外観部品は、車体に対して着脱自在とし、エンジンを覆っていることを特徴とする請求項１に記載のスクータ型車両の外装構造。
【請求項５】
スクータ型車両は折り畳み自在なタンデムフートレストを備え、折り畳まれた前記ダンデムフートレストは前記外観部品に収納可能としたことを特徴とする請求項１に記載のスクータ型車両の外装構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、シートと、該シートの下側位置まで延長されたフードボードと、該フートボードに形成された乗員の足載せ部と、前記シートの下側近傍に配置されたシート下サイドカバーと前記フートボードと前記シート下サイドカバーの間を覆う外観部品と、を備えるスクータ型車両の外装構造としたことを特徴とする。
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の構成に加え、前記外観部品は、中間部が上方に位置し、前後端部側が斜め下方に延びるように略くの字状に折曲されて、前記フートボードの上面に沿って配置されていることを特徴とする。
請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の構成に加え、前記外観部品は、前記フードボードの上縁部と前記シート下サイドカバーの下縁部とを覆うことを特徴とする。
請求項４に記載の発明は、請求項１に記載の構成に加え、前記外観部品は、車体に対して着脱自在とし、エンジンを覆っていることを特徴とする。
請求項５に記載の発明は、請求項１に記載の構成に加え、前記スクータ型車両は折り畳み自在なタンデムフートレストを備え、折り畳まれた前記ダンデムフートレストは前記外観部品に収納可能としたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
また、図１３に示すように、そのフートボード８１はシート２の下方位置まで延長される一方、このシート２の下側近傍には、シート下サイドカバー９５が配設されている。そして、このシート下サイドカバー９５とフートボード８１との間には、略水平方向に延びて略くの字状（いわゆるブーメラン形状）に折曲された外観部品であるブーメランカバー８９が配設されている。このブーメランカバー８９は、中間部が上方に位置し、前後端部側が斜め下方に延びるように略くの字状に折曲されて、フートボード８１の上面に沿って配置されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４８】
【発明の効果】
以上説明してきたように、請求項１に記載された発明によれば、シートと、このシートの下側位置まで延長されたフードボードと、このフートボードに形成された乗員の足載せ部と、前記シートの下側近傍に配置されたシート下サイドカバーと前記フートボードと前記シート下サイドカバーの間を覆う外観部品と、を備えるため、外観品質の色や材質を変えることができ、外観部品がデザイン上のアクセントとなる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４９】
請求項２に記載された発明によれば、外観部品は、中間部が上方に位置し、前後端部側が斜め下方に延びるように略くの字状に折曲されて、フートボードの上面に沿って配置されているため、フートボードとシート下サイドカバーの基本デザインを損なうことがない。
請求項３に記載された発明によれば、外観部品は、フードボードの上縁部とシート下サイドカバーの下縁部とを覆うため、フートボードとシート下サイドカバーとの合わせ精度を向上させることができると共に、合わせ部分の取付部を覆い外観品質を向上させることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５０】
請求項４に記載された発明によれば、外観部品は、車体に対して着脱自在とし、エンジンを覆っているため、外観部品を容易に外すことができ、内部に配置されたエンジン部品のメンテナンスを容易に行うことができる。
請求項５に記載された発明によれば、スクータ型車両は折り畳み自在なタンデムフートレストを備え、折り畳まれたダンデムフートレストは外観部品に収納可能とされているため、外観部品をタンデムフートレストの収納部として利用できる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月7日(2004.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車体フレームと、運転者及び同乗者が着座できるシートと、該シートの下方の前端部から後端部まで連続的に延びるカバー部材と、該カバー部材の下方に配設され、前記車体フレームに固定されたマフラーと、該マフラーの下方に配設された車軸と、該マフラーの前に配設されたタンデムフートレストとを備えたことを特徴とする自動二輪車用マフラー廻り構造。
【請求項２】
前記マフラーは中間部を含み、該中間部を前記カバー部材の下方で、前記車体フレームに固定する取付け部を備え、
該取付け部の下方に前記車軸が配設されたことを特徴とする請求項１に記載の自動二輪車用マフラー廻り構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】    
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、車体フレームと、運転者及び同乗者が着座できるシートと、該シートの下方の前端部から後端部まで連続的に延びるカバー部材と、該カバー部材の下方に配設され、前記車体フレームに固定されたマフラーと、該マフラーの下方に配設された車軸と、該マフラーの前に配設されたタンデムフートレストとを備えた自動二輪車用マフラー廻り構造としたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の構成に加え、前記マフラーは中間部を含み、該中間部を前記カバー部材の下方で、前記車体フレームに固定する取付け部を備え、該取付け部の下方に前記車軸が配設されたことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５０】
【発明の効果】
以上説明してきたように、請求項１に記載された発明によれば、シートの下方前端部から後端部まで連続的に延びるカバー部材と、このカバー部材の下方に配設され、車体フレームに固定されたマフラーと、このマフラーの下方に配設された車軸と、このマフラーの前に配設されたタンデムフートレストとを備えたため、同乗者の乗車姿勢に自由度を持たせることができる。
請求項２に記載された発明によれば、マフラーの中間部をカバー部材の下方で、車体フレームに固定する取付け部を備え、この取付け部の下方に車軸が配設されたため、マフラーを直接車体フレームに取り付けることにより、中間ステーを廃止でき、部品点数や取付工数を削減できると共に、マフラーを高い位置に配置できる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月21日(2004.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
（５）中間層用塗液の調製
平均粒子径１μｍ、中空度（外径に対する内径の比率）７０％のスチレン系中空粒子の４０％分散液１００部、ポリビニルアルコールの１０％水溶液４０部、固形分濃度５０％のスチレン−ブタジエン系ラテックス１０部、吸油量１１０ｍｌ／１００ｇの焼成カオリン２０部、平均粒子径１μｍの炭酸カルシウム５部および水５０部からなる組成物を混合攪拌して中間層用塗液を得た。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
（６）スレッドの作製
両面にアルミニウムが真空蒸着されたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（蒸着層を含む厚さ：１２μｍ）の両面に、ウレタン系樹脂粘着剤（商品名：スーパーフレックス７５０、第一工業製薬株式会社製）をグラビアロールコーターで乾燥重量がそれぞれ３ｇ／ｍ2になるように塗布乾燥させた。ついで、マイクロスリッターで、巾３ｍｍにスリットし、ボビンに巻取り、スレッドを得た。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
（７）紙支持体の作製
三槽のシリンダバットを備えた円網抄紙機の第一の円網で、１ｃｍ×１ｃｍの（窓）が１０ｃｍ間隔で空いている第一紙層を抄紙し、その窓の位置に沿って上記のスレッドを挿入した。次に、第一紙層の一方の面に第二の円網で抄いた窓のない全面の第二紙層を、他方の面に第三紙層を重ね合わせて、紙支持体の原型となる湿潤紙（水分５０％）を作成し、ヤンキードライヤー（表面温度：約７０℃）、シリンダードライヤー４本（表面温度：約７０〜９０℃）を通して乾燥させて、含水分率５％、厚さ６０μｍの紙支持体を得た。この紙支持体において、スレッドは、紙支持体の厚さ方向のほぼ中央に抄き込まれていた。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
（８）感熱記録紙の作製
上記（７）で得た紙支持体の一方の面に、上記（５）で得た中間層用塗液及び上記（４）で得た感熱記録層用塗液を乾燥後の塗布量が、それぞれ８．０／ｍ2、６．０ｇ／ｍ2となるように順次塗布乾燥して中間層及び感熱記録層を設けた後、スーパーキャレンダー処理し、感熱記録紙を得た。