【手続補正書】
【提出日】平成16年7月23日(2004.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスク及び基板を同期して移動することにより、前記マスクのパターンを投影光学系を介して前記基板上に転写する走査型露光方法において、
前記マスクのパターン像で前記基板を走査露光するのに先立って、前記マスクのパターン面の形状を形状測定系により計測し、
走査露光時に前記パターン面の計測結果に基づいて前記投影光学系の結像特性及び前記基板の位置の少なくとも一方を補正するとともに、
前記マスクのパターン面の形状計測に先立って、前記マスクを移動するマスクステージ上に形成され且つ前記マスクのパターン面と実質的に同じ高さである基準面を用いて、前記形状計測定系のキャリブレーションを行うことを特徴とする走査型露光方法。
【請求項２】
マスク及び基板を同期して移動することにより、前記マスクのパターンを投影光学系を介して前記基板上に転写する走査型露光装置において、
前記マスクのパターン像で前記基板を走査露光するのに先立って、前記マスクが助走開始位置にあるとき、又は前記マスクが助走位置にあるときに、前記マスクのパターン面の形状を計測し、
走査露光時に前記パターン面の計測結果に基づいて前記投影光学系の結像特性及び前記基板の位置の少なくとも一方を補正することを特徴とする走査型露光方法。
【請求項３】
マスク及び基板を同期して移動することにより、前記マスクのパターンを投影光学系を介して前記基板上に転写する走査型露光装置において、
前記投影光学系による転写対象領域の外側に検出点を有し、前記マスクのパターン面の形状を計測する形状測定系と、
該形状測定系の計測結果に基づいて前記投影光学系の結像特性及び前記基板の位置の少なくとも一方を補正する補正系と、を有し、
前記形状測定系は、前記マスクを移動するマスクステージ上に形成され且つ前記マスクのパターン面と実質的に同じ高さである基準面を用いて、キャリブレーションが行われることを特徴とする走査型露光装置。
【請求項４】
マスク及び基板を同期して移動することにより、前記マスクのパターンを投影光学系を介して前記基板上に転写する走査型露光装置において、
前記投影光学系による転写対象領域の外側に検出点を有し、前記マスクのパターン面の形状を計測する形状測定系と、
該形状測定系の計測結果に基づいて前記投影光学系の結像特性及び前記基板の位置の少なくとも一方を補正する補正系と、を有し、
前記形状測定系は、前記マスクが助走開始位置にあるとき、又は前記マスクが助走位置にあるときに、前記マスクのパターン面の形状を計測することを特徴とする走査型露光装置。
【請求項５】
前記マスクのパターン面の形状計測は、前記マスクが助走開始位置にあるとき、又は前記マスクが助走位置にあるときに行われることを特徴とする請求項３に記載の走査型露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明による第１の走査型露光方法は、マスク（Ｒ）及び基板（Ｗ）を同期して移動することにより、そのマスクのパターンを投影光学系（ＰＬ）を介してその基板上に転写する走査型露光方法において、そのマスクのパターン像でその基板を走査露光するのに先立って、マスク（Ｒ）のパターン面の形状を形状測定系（３０）により計測し、走査露光時にそのパターン面の計測結果に基づいて投影光学系（ＰＬ）の結像特性、及び基板（Ｗ）の位置の少なくとも一方を補正するとともに、そのマスクのパターン面の形状計測に先立って、そのマスクを移動するマスクステージ（７，ＲＳＴ）上に形成され且つそのマスクのパターン面と実質的に同じ高さである基準面（１０）を用いて、その形状計測定系のキャリブレーションを行うものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
斯かる本発明によれば、例えば投影光学系による転写対象領域の外側にマスクのパターン面の少なくとも一部が位置するときにマスクのパターン面の形状を計測できればよいため、マスクの形状測定系（３０）は投影光学系に対して走査方向に離れた位置に配置できる。従って、投影光学系とマスク側のステージとの間の空間が狭い場合でも、その形状測定系（３０）を容易に設置でき、これを用いてマスクの変形量（撓み量）を計測できる。この変形量に応じて投影光学系のディストーション、又は基板のフォーカス位置を補正することで良好な結像特性が得られる。
また、形状測定系（３０）を用いて測定する際には、先ず基準面（１０）の位置を測定してから、その測定値を基準としてマスク（Ｒ）の面位置を測定するようにする。即ち、基準面（１０）とマスク（Ｒ）の面位置との差分を測定することによって、形状測定系（３０）の測定値の安定性は、基準面（１０）を測定してからマスク（Ｒ）を測定し終わるまでの短い時間だけ維持されていればよい。従って、形状測定系（３０）の測定値が所定時間の間に経時変化するときでも、マスク形状に起因する結像特性の変化を正確に測定し、補正を行うことが可能である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明による第２の走査型露光方法は、マスク（Ｒ）及び基板（Ｗ）を同期して移動することにより、そのマスクのパターンを投影光学系（ＰＬ）を介してその基板上に転写する走査型露光方法において、そのマスクのパターン像でその基板を走査露光するのに先立って、マスク（Ｒ）が助走開始位置にあるとき、又はマスク（Ｒ）が助走位置にあるときに、マスク（Ｒ）のパターン面の形状を計測し、走査露光時にそのパターン面の計測結果に基づいて投影光学系（ＰＬ）の結像特性及び基板（Ｗ）の位置の少なくとも一方を補正するものである。
本発明によれば、例えばマスクの交換後にマスクのパターン面が助走開始位置か助走区間にあるときに面形状を一度計測しておけば、その後の露光時に補正を行うことができる。また、助走位置で面形状を計測できれば、面形状計測用にマスクの移動ストロークを伸ばす必要がない。なお、そのマスクの面形状の測定を走査露光時、走査露光終了後の減速時、又は減速後の停止時に行ってもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
次に、本発明による第１の走査型露光装置は、マスク（Ｒ）及び基板（Ｗ）を同期して移動することにより、そのマスクのパターンを投影光学系（ＰＬ）を介してその基板上に転写する走査型露光装置において、投影光学系（ＰＬ）による転写対象領域（４４）の外側に検出点を有し、そのマスクのパターン面の形状を計測する形状測定系（３０）と、この形状測定系の計測結果に基づいてその投影光学系の結像特性及びその基板の位置の少なくとも一方を補正する補正系（１５，１９，２３，２６）と、を有し、その形状測定系は、そのマスクを移動するマスクステージ（７，ＲＳＴ）上に形成され且つそのマスクのパターン面と実質的に同じ高さである基準面（１０）を用いて、キャリブレーションが行われるものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
斯かる本発明の第１の走査型露光装置によれば、形状測定系（３０）は投影光学系に対して走査方向に離れた位置に配置でき、この形状測定系によってマスクのパターン面の形状が容易に計測できる。また、その形状測定系に沿ってマスクを走査することによって、そのマスクのパターン面の全面の形状を計測できる。これによって、本発明の第１の走査型露光方法が実施できる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
この場合、形状測定系（３０）のキャリブレーションを行う基準面（１０）が、マスク（Ｒ）を移動させるマスクステージ（７，ＲＳＴ）上に、マスク（Ｒ）のパターン面と実質的に同じ高さに形成されている。このとき、形状測定系（３０）を用いて測定する際には、先ず基準面（１０）の位置を測定してから、その測定値を基準としてマスク（Ｒ）の面位置を測定するようにする。即ち、基準面（１０）とマスク（Ｒ）の面位置との差分を測定することによって、形状測定系（３０）の測定値の安定性は、基準面（１０）を測定してからマスク（Ｒ）を測定し終わるまでの短い時間だけ維持されていればよい。従って、形状測定系（３０）の測定値が所定時間の間に経時変化するときでも、マスク形状に起因する結像特性の変化を正確に測定し、補正を行うことが可能である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明による第２の走査型露光装置は、マスク（Ｒ）及び基板（Ｗ）を同期して移動することにより、そのマスクのパターンを投影光学系（ＰＬ）を介してその基板上に転写する走査型露光装置において、投影光学系（ＰＬ）による転写対象領域（４４）の外側に検出点を有し、そのマスクのパターン面の形状を計測する形状測定系（３０）と、この形状測定系の計測結果に基づいてその投影光学系の結像特性及びその基板の位置の少なくとも一方を補正する補正系（１５，１９，２３，２６）と、を有し、その形状測定系は、マスク（Ｒ）が助走開始位置にあるとき、又はマスク（Ｒ）が助走位置にあるときに、マスク（Ｒ）のパターン面の形状を計測するものである。
これによって、本発明の第２の走査型露光方法を実施できる。