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【手続補正書】
【提出日】平成16年5月18日(2004.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板表面を隣接した領域がオーバーラップする連続した複数の小領域に分割する工程と、
前記基板表面を前記小領域を複数含む複数の大領域に分割する工程と、
前記小領域のそれぞれについて表面を代表する法線ベクトルを求める工程と、
隣接する２つの前記小領域について前記法線ベクトル間の角度差を求める工程と、
前記角度差をあらかじめ設定された基準値と比較して前記角度差を求めた小領域を含む大領域の品質を評価する工程とを有することを特徴とする基板の検査方法。
【請求項２】
基板表面を隣接した領域がオーバーラップする連続した複数の小領域に分割する工程と、
前記基板表面を前記小領域を複数含む複数の大領域に分割する工程と、
前記小領域のそれぞれについて表面を代表する法線ベクトルを求める工程と、
一つの平面に前記法線ベクトルをそれぞれ投影して成分ベクトルを求める工程と、
隣接する２つの前記小領域について前記成分ベクトル間の角度差を求める工程と、
前記角度差をあらかじめ設定された基準値と比較して前記角度差を求めた小領域を含む大領域の品質を評価する工程とを有することを特徴とする基板の検査方法。
【請求項３】
前記表面を代表する法線ベクトルは、前記基板の厚さのばらつきより求めることを特徴とする請求項１または２のいずれか一に記載の基板の検査方法。
【請求項４】
前記基板がウェハであり、前記大領域が半導体チップに対応していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一に記載の基板の検査方法。
【請求項５】
基板表面を隣接した領域がオーバーラップする連続した複数の小領域に分割する手段と、
前記基板表面を前記小領域を複数含む複数の大領域に分割する手段と、
前記小領域のそれぞれについて表面を代表する法線ベクトルを求める手段と、
隣接する２つの前記小領域について前記法線ベクトル間の角度差を求める手段と、
前記角度差をあらかじめ設定された基準値と比較して前記角度差を求めた小領域を含む大領域の品質を評価する手段とを有することを特徴とする基板の検査装置。
【請求項６】
基板表面を隣接した領域がオーバーラップする連続した複数の小領域に分割する手段と、
前記基板表面を前記小領域を複数含む複数の大領域に分割する手段と、
前記小領域のそれぞれについて表面を代表する法線ベクトルを求める手段と、
一つの平面に前記法線ベクトルをそれぞれ投影して成分ベクトルを求める手段と、
隣接する２つの前記小領域について前記成分ベクトル間の角度差を求める手段と、
前記角度差をあらかじめ設定された基準値と比較して前記角度差を求めた小領域を含む大領域の品質を評価する手段とを有することを特徴とする基板の検査装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板の検査方法及び装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
この目的を達成するため、本発明に係る基板の検査方法の第１の形態は、基板表面を隣接した領域がオーバーラップする連続した複数の小領域に分割する工程と、前記基板表面を前記小領域を複数含む複数の大領域に分割する工程と、前記小領域のそれぞれについて表面を代表する法線ベクトルを求める工程と、隣接する２つの前記小領域について前記法線ベクトル間の角度差を求める工程と、前記角度差をあらかじめ設定された基準値と比較して前記角度差を求めた小領域を含む大領域の品質を評価する工程とを有する。また、本発明に係る基板の検査方法の第２の形態は、基板表面を隣接した領域がオーバーラップする連続した複数の小領域に分割する工程と、前記基板表面を前記小領域を複数含む複数の大領域に分割する工程と、前記小領域のそれぞれについて表面を代表する法線ベクトルを求める工程と、一つの平面に前記法線ベクトルをそれぞれ投影して成分ベクトルを求める工程と、隣接する２つの前記小領域について前記成分ベクトル間の角度差を求める工程と、前記角度差をあらかじめ設定された基準値と比較して前記角度差を求めた小領域を含む大領域の品質を評価する工程とを有する。そして、本発明に係る基板の検査装置の第１と第２の形態は、基板の検査方法の第１と第２の形態の各工程に対応した手段をそれぞれ有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の基板の検査方法及び検査装置によれば、複数の小領域の品質が当該小領域の表面形状を代表する法線ベクトル角度差によって評価される。そして、この検査方法及び装置によれば、基板の欠陥やチップの欠陥が実際の製造に類似した条件で事前評価される。同様に、実際の製造に類似した条件で、基板のどの部分に欠陥があるかを基板毎に評価できるし、境界近傍の基板部分の品質を事前評価できる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
このように、本発明の検査方法及び検査装置によれば、露光装置によって画像が露光される露光領域に対応する隣接するサブサイトの間の角度差がウェハ全体で得られる。そして、その角度差を用いてウェハの欠陥やウェハや各チップの欠陥が実際の製造に類似した条件で事前評価される。また、実際の製造に類似した条件で、チップのどの部分に欠陥があるかをチップ毎に評価できる。さらに、実際の製造に類似した条件で、境界近傍のウェハ部分の品質を事前評価できる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月2日(2005.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
詳述すると、本実施形態では、連結手段４６は、右側マウント板３０Ｒの側壁３８Ｒの肥大部４０Ｒの前方端部から左方側に延びた横断面矩形状のロッド部材４６Ａと、このロッド部材４６Ａを摺動自在に受け入れる二股部材４６Ｂとから成る。ロッド部材４６Ａ及び二股部材４６Ｂの長さについては、可動ケーシング部分１０Ｂが収納位置（図１及び図２）から最大引出し位置（図３及び図４）まで引き出された際にもロッド部材４６Ａと二股部材４６Ｂとの摺動係合が維持される。かくして、可動ケーシング部分１０Ｂがケーシング本体部分１０Ａに対してどのような引出し位置にあっても、右側マウント板３０Ｒ及び左側マウント板３０Ｌはそれぞれの案内ロッド４２Ｒ及び４２Ｌに沿って同期して移動することができる。なお、ロッド部材４６Ａには横断面矩形状の孔４７が形成されるが、この孔４７の機能については後で説明する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
環状体６６には舌状片６７が一体的に形成され、この舌状片６７は該環状体６６の平坦面に対して直径方向に配置させられる。図８に最もよく図示するように、舌状片６７は内部フレーム構造４８の中央本体部分４８Ｃの矩形状開口部５４から突出させられて連結手段４６のロッド部材４６Ａの孔４７に挿入させられる。従って、撮影機能付双眼鏡の観察者が例えば人指し指によって転輪部６０の露出部に触れて転輪軸筒５７が回転させられると、環状体６６は上述したように転輪軸筒５７の長手方向中心軸線に沿って移動させられ、かくしてマウント板３０Ｒ及び３０Ｌが一対の観察光学系１２Ｒ及び１２Ｌの光軸に沿って移動させられることになる。要するに、転輪部６０の回転運動が各観察光学系（１２Ｒ、１２Ｌ）の正立プリズム系（１４Ｒ、１４Ｌ）と接眼レンズ系（１５Ｒ、１５Ｌ）との直線運動に変換させられ、これにより該観察光学系（１２Ｒ、１２Ｌ）の合焦が行われることとなる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
このような合焦操作中、合焦指標要素７８Ｒが右側観察光学系１２Ｒに組み込まれていれば、観察者は十字形指標８１を見易い視度に調整し、その合焦位置で観察することになるので、観察者の眼は観察対象物像を該合焦位置で合焦するように働く。かくして、観察者が観察対象物に対して一対の観察光学系１２Ｒと１２Ｌで合焦させたとき、その観察対象物像は撮影光学系６８でも合焦された被写体像としてＣＣＤ撮像素子７２の受光面に結像される。要するに、一対の観察光学系１２Ｒ及び１２Ｌは撮影光学系６８の合焦装置として利用され得ることになる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
図１ないし図４に示すように、電源回路基板８４には適当な外部接続コネクタとして例えばビデオ出力端子コネクタ１０２を設けることが可能であり、ビデオ出力端子コネクタ１０２に外部コネクタを接続させるためにケーシング本体部分１０Ａの前方壁部には孔１０４が形成される。また、図２及び図３に示すように、ケーシング本体部分１０Ａの底部には電子制御回路基板８５の下側にＣＦカードホルダ１０６を設けてもよく、このＣＦカードホルダ１０６にはＣＦカードがメモリカードとして抜差し自在に挿入し得るようになっている。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月25日(2004.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮影レンズから入射し撮像素子に結像する被写体像を一連の信号処理を行って画像記録手段に記録する撮像処理系と、
前記画像記録手段に記録された撮像画像を表示する表示手段と、
撮影を行う撮影モードと撮影画像の表示を行う表示を行う表示モードとを切り替える切り替え手段と、
ズーム倍率を変更するために前記撮像レンズを駆動するズーム駆動手段と、前記切り替え手段により表示モードから撮影モードへの切り替えがなされた時に、前記ズーム駆動手段を起動して、前記撮影レンズを略広角端まで移動させる第３の撮影制御手段と
を備えたことを特徴とする撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月29日(2005.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
楽音を制御するパラメータの値を記憶する記憶手段と、
設定されたパラメータの値に基づいて楽音を制御する楽音制御手段と、
前記記憶手段に記憶されたパラメータの値を前記楽音制御手段に設定する設定手段と、
操作位置を示す指標を有し、操作位置に応じた値を入力する操作子と、
前記設定手段により前記記憶手段に記憶されたパラメータの値が前記楽音制御手段に設定されている時、前記操作子が操作され、その操作位置に応じて入力された値が前記設定手段により前記楽音制御手段に設定されているパラメータの値に基づく所定範囲に含まれた時点以降は、該操作子により入力された値を前記楽音制御手段に設定する設定変更手段とを備えたことを特徴とする楽音制御装置。
【請求項２】
前記所定範囲は、前記設定手段により前記楽音制御手段に設定されたパラメータの値と、該パラメータの値が該楽音制御手段に設定された時点以降に前記操作子が最初に操作された操作位置に応じた値とに基づく範囲であることを特徴とする請求項１記載の楽音制御装置。
【請求項３】
前記所定範囲は、前記設定手段により前記楽音制御手段に設定されたパラメータの値と、該パラメータの値および該パラメータの値が該楽音制御手段に設定された時点以降に前記操作子が最初に操作された操作位置に応じた値の差分値に対する所定割合の値とに基づく範囲であることを特徴とする請求項２記載の楽音制御装置。
【請求項４】
前記所定範囲は、前記設定手段により前記楽音制御手段に設定されたパラメータの値と、該パラメータの値の可変範囲に対する所定割合とに基づく範囲であることを特徴とする請求項１記載の楽音制御装置。
【請求項５】
前記操作子により入力された値に対応する表示を行う表示手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１記載の楽音制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する本発明の楽音制御装置は、楽音を制御するパラメータの値を記憶する記憶手段と、
設定されたパラメータの値に基づいて楽音を制御する楽音制御手段と、
上記記憶手段に記憶されたパラメータの値を上記楽音制御手段に設定する設定手段と、
操作位置を示す指標を有し、操作位置に応じた値を入力する操作子と、
上記設定手段により上記記憶手段に記憶されたパラメータの値が上記楽音制御手段に設定されている時、上記操作子が操作され、その操作位置に応じて入力された値が上記設定手段により上記楽音制御手段に設定されているパラメータの値に基づく所定範囲に含まれた時点以降は、その操作子により入力された値を上記楽音制御手段に設定する設定変更手段とを備えたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の楽音制御装置によれば、上記楽音制御手段は、上記操作子の操作位置に応じて入力された値が上記所定範囲に含まれるまでは、上記記憶手段に記憶されたパラメータの値に基づいて楽音を制御するものであるため、操作子を操作し始めた途端にユーザが予期する範囲を逸脱した楽音に切り換わってしまうことが防止される。また、上記楽音制御手段は、上記操作子の操作位置に応じて入力された値が上記所定範囲に含まれた時点以降は、その操作子により入力された値に基づいて楽音を制御するものであるため、操作子をある程度操作した時点で、その操作子の操作位置に応じて入力された値に基づいた楽音に切り換えることができ、操作性が向上する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本発明の楽音制御装置において、上記所定範囲は、上記設定手段により上記楽音制御手段に設定されたパラメータの値と、そのパラメータの値がその楽音制御手段に設定された時点以降に上記操作子が最初に操作された操作位置に応じた値とに基づく範囲であることや、さらには、
上記所定範囲は、上記設定手段により上記楽音制御手段に設定されたパラメータの値と、そのパラメータの値およびそのパラメータの値がその楽音制御手段に設定された時点以降に上記操作子が最初に操作された操作位置に応じた値の差分値に対する所定割合の値とに基づく範囲であることが好ましい。
これらのように上記所定範囲を定めることで、上記楽音制御手段に設定された値と、その値が上記楽音制御手段に設定された時点以降に上記操作子が最初に操作された操作位置に応じた値との両者が考慮されるため、ユーザが予期することができる範囲の楽音に切り換えられ、操作性はより向上する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
さらに、本発明の楽音制御装置において、上記所定範囲は、上記設定手段により上記楽音制御手段に設定されたパラメータの値と、そのパラメータの値の可変範囲に対する所定割合とに基づく範囲であることも好ましい。
またさらに、本発明の楽音制御装置において、上記操作子により入力された値に対応する表示を行う表示手段をさらに備えたことも好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月8日(2005.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
従来、直下型バックライトを用いる液晶表示装置において、例えば、発泡によって微細セルを形成した白色ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムや白色顔料をＰＰ（ポリプロピレン）等のポリオレフィン樹脂に練り込んで延伸させて微細溝を形成した白色フィルム等の白色反射フィルムが反射シート（反射板）として用いられている。このような反射板、冷陰極管やＬＥＤ等のランプ、拡散板、必要に応じて２枚のプリズムシート（輝度を高める）、ＴＦＴ液晶セルの順の積層構造をアルミニウム製又は樹脂製の枠体（フレーム）中に構成して直下型バックライト方式ＴＦＴ液晶表示装置を組み立てる。上記のような白色反射フィルムを反射板として用いると、バックライトの光が反射板を透過してその裏面から出て、反射板の下に在るアルミニウム製又は樹脂製のフレームで反射され、反射光が再度反射板、拡散板、プリズムシート、液晶セルを透過して来て、液晶ディスプレイの表面にアルミニウム製又は樹脂製のフレームの影が輝線として現れるため、液晶ディスプレイの輝度がその全表面に渡って均一とならないと言う問題があり、また、反射板を支えるアルミニウム板等の金属板の裏面にその下の（回路）基板を支持するための「爪」を付けるフック形状の穴を設ける場合にはその穴から光が漏れて不都合が生じると言う問題がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
この様にして得られた反射シートを適当な寸法に裁断して、反射板として用いる。アルミニウム製又は樹脂製の枠体（フレーム）中において、このようにして得られた反射板、冷陰極管やＬＥＤ等のランプ、拡散板、必要に応じて２枚のプリズムシート、ＴＦＴ液晶セルの順に積層して、直下型バックライト方式ＴＦＴ液晶表示装置を組み立てる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月12日(2005.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
着脱可能な画像形成ユニット内に接触型ＩＣメモリを備えた画像記録装置において、
接触型ＩＣメモリとの通信を制御する通信制御手段と、
プリントを指示する信号に応じて駆動を開始するモータの駆動電流値を検出する検出手段とを有し、
前記通信制御手段は、前記モータの駆動電流値に応じて前記接触型ＩＣメモリとの通信を制御することを特徴とする画像記録装置。
【請求項２】
前記通信制御手段は、前記モータの駆動電流値が所定の値未満の場合に、前記接触型ＩＣメモリとの通信を開始させ、通信中に、所定の値以上になると該通信を停止させるように制御することを特徴とする請求項１記載の画像記録装置。
【請求項３】
前記プリントを指示する信号に基づいてプリント開始を検出するプリント開始検出手段と、
画像記録のための高圧を制御する高圧制御手段とを更に有し、
前記通信制御手段は、前記プリント開始時、及び高圧制御中か否かに応じて、前記接触型ＩＣメモリとの通信を制御することを特徴とする請求項１記載の画像記録装置。
【請求項４】
着脱可能な画像形成ユニット内に接触型ＩＣメモリを備えた画像記録装置の通信制御方法であって、
接触型ＩＣメモリとの通信を制御する通信制御工程と、
プリントを指示する信号に応じて駆動されるモータの駆動電流値を検出する検出工程とを有し、
前記通信制御工程は、前記モータの駆動電流値に応じて前記接触型ＩＣメモリとの通信を制御することを特徴とする画像記録装置の通信制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、着脱可能な画像形成ユニット内に接触型ＩＣメモリを備えた画像記録装置において、接触型ＩＣメモリとの通信を制御する通信制御手段と、プリントを指示する信号に応じて駆動を開始するモータの駆動電流値を検出する検出手段とを有し、前記通信制御手段は、前記モータの駆動電流値に応じて前記接触型ＩＣメモリとの通信を制御することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、上記目的を達成するために、本発明は、着脱可能な画像形成ユニット内に接触型ＩＣメモリを備えた画像記録装置の通信制御方法であって、接触型ＩＣメモリとの通信を制御する通信制御工程と、プリントを指示する信号に応じて駆動されるモータの駆動電流値を検出する検出工程とを有し、前記通信制御工程は、前記モータの駆動電流値に応じて前記接触型ＩＣメモリとの通信を制御することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月19日(2005.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）無機粉末と感光性有機成分を含有する感光性セラミックス組成物を用い、感光性セラミックス組成物をシート化して感光性グリーンシートとする工程と
（２）シート化された感光性グリーンシートの外形をフォトリソグラフィを用いて加工する工程と
（３）フォトリソグラフィによって外形が加工された感光性グリーンシートを、別の外形が加工されていない感光性グリーンシートに積層する、もしくは別の非感光性グリーンシートに積層する工程と
（４）（３）の工程で積層されたグリーンシートの積層体を焼成する工程
を含むことを特徴とするセラミックス多層基板の製造方法。
【請求項２】
（１）無機粉末と感光性有機成分を含有する感光性セラミックス組成物を用い、感光性セラミックス組成物をキャリアフィルム上にシート化して感光性グリーンシートとする工程と
（２）キャリアフィルムに付着した状態で感光性グリーンシートの外形をフォトリソグラフィを用いて互いに分離した構造に加工する工程と
（３）フォトリソグラフィを用いて加工された互いに分離した構造を有する感光性グリーンシートを、別の被転写物と位置合わせをして、転写する工程と、
（４）上記（１）〜（３）の工程を繰り返して、感光性グリーンシートを積層する工程と、
（５）積層されたセラミックスグリーンシートを焼成する工程
を含むことを特徴とするセラミックス多層基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【課題を解決するための手段】
すなわち本発明は、基本的には以下の構成よりなる。即ち、
（１）無機粉末と感光性有機成分を含有する感光性セラミックス組成物を用い、感光性セラミックス組成物をシート化して感光性グリーンシートとする工程と
（２）シート化された感光性グリーンシートの外形をフォトリソグラフィを用いて加工する工程と
（３）フォトリソグラフィによって外形が加工された感光性グリーンシートを、別の外形が加工されていない感光性グリーンシートに積層する、もしくは別の非感光性グリーンシートに積層する工程と
（４）（３）の工程で積層されたグリーンシートの積層体を焼成する工程
を含むことを特徴とするセラミックス多層基板の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、本発明にいう、フォトリソグラフィによって外形加工された感光性グリーンシートを積層する工程とは、前記外形加工を行ったシートを少なくとも１つ以上を前記感光性セラミックスシートもしくは、無機粉末と非感光性有機成分からなる非感光性セラミックスシートと積層する工程のことを指す。フォトリソグラフィ加工では深さに限界があるので、薄い層をフォトリソグラフィ加工して積層することにより、好適な厚みの基板を得るものである。感光性セラミックスシートの厚みは好ましくは１０〜５００（より好ましくは２５〜４００、更に好ましくは５０〜３００）μｍである。前記数値範囲の下限値を下回ると可撓性が低下し亀裂を生じやすくなり、一方、上限値を上回るとフォトリソグラフィにより断面加工することが難しくなり、いずれも好ましくない。また、積層完成された基板の厚みは好ましくは５０〜３０００（より好ましくは１００〜２５００、更に好ましくは４００〜２０００）μｍである。前記数値範囲の下限値を下回ると積層時の厚みの不均一を生じやすくなり、一方、上限値を上回ると焼結時に内部に有機成分が残留したり、ガス化して空孔を生じる等して均一な焼成基板を得にくくなりとなり、いずれも好ましくない。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、本発明にいう、積層されたセラミックスグリーンシートを焼成する工程とは、積層されたシートをマッフル炉などの焼成炉に投入して、シート中に存在する有機成分をガス化する工程（通称、脱バインダ工程と呼ばれる）と、脱バインダ後、無機成分の少なくとも一つ以上の成分が流動化し、一部には結晶化が進むなどして行く工程（通称、焼成もしくは焼結工程と呼ばれる）を含む工程のことを指す。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月9日(2005.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と第２の基板との間に液晶層を有する液晶表示装置であって、
前記第１の基板は画素電極を有する画素領域と前記画素領域を囲む周辺領域とを有し、
前記画素領域はゲート線とドレイン線を有し、前記ゲート線は第１ゲート線と第２ゲート線を有し、
前記周辺領域には前記第１ゲート線と液晶駆動回路とを電気的に接続する第１ゲート接続線と、前記第２ゲート線と前記液晶駆動回路とを電気的に接続する第２ゲート接続線とが配置され、
前記第１ゲート接続線と前記第２ゲート接続線とは前記基板の厚さ方向に積層されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１において、前記第１ゲート線は前記第２ゲート線よりも前記液晶駆動回路から離れており、前記第１ゲート接続線は前記第２ゲート接続線よりも上層に位置することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１において、前記画素領域は２つに分離されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
互いに対向配置される第１の基板と第２の基板とを有し、前記第１の基板と前記第２の基板との間に液晶層を有する液晶表示装置であって、
前記第１の基板は横方向に延びるゲート線と縦方向に延びるドレイン線と、画素電極と、前記ゲート線と平行に延びる保持容量配線とを有し、
前記画素電極は対向して配置された共通電極との間で電圧を保持するためのコンデンサを形成し、
前記共通電極は共通線を介して前記保持容量配線と電気的に接続され、
前記ゲート線は前記共通線の下に絶縁状態で配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項４において、前記共通線はドレイン線と平行に延在することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
第１の基板と第２の基板との間に液晶層を有する液晶表示装置であって、
前記第１の基板は画素領域にゲート線とドレイン線とを有し、前記画素領域を囲む周辺領域にゲートドライバとドレインドライバとを備え、前記ゲート線はゲート接続線により前記ゲートドライバと電気的に接続され、前記ドレイン線はドレイン接続線により前記ドレインドライバと電気的に接続され、
前記ドレイン接続線は前記ゲートドライバの下を通過して前記ドレイン線と前記ドレインドライバとを電気的に接続していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
請求項６において、前記ドレインドライバは短辺と長辺を有する矩形状であり、前記ドレイン接続線は前記ドレインドライバの短辺側で電気的に接続していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
請求項１において、平面的に見た場合に、前記第１ゲート接続線と前記第２ゲート接続線とが互いに重畳することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項９】
請求項１において、平面的に見た場合に、前記第１ゲート接続線が、隣り合う２つの前記第２ゲート接続線の間に配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月29日(2005.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力楽音信号の音高と所定の基準音高との差分が所定範囲内にあるか否かを報知する電子調律器において、
前記差分が前記所定範囲内に入ったときに報知する第１の報知手段と、
前記差分が所定時間継続して前記所定範囲内にあったときに報知する第２の報知手段とを備えたことを特徴とする電子調律器。
【請求項２】
前記第１の報知手段は、視覚に対する報知を行う視覚報知手段であることを特徴とする請求項１記載の電子調律器。
【請求項３】
前記第２の報知手段は、聴覚に対する報知を行う聴覚報知手段であることを特徴とする請求項１記載の電子調律器。
【請求項４】
前記視覚報知手段は、指針の動きで報知するメータであることを特徴とする請求項２記載の電子調律器。
【請求項５】
前記視覚報知手段は、発光器の発光状態で報知する発光手段であることを特長とする請求項２記載の電子調律器。
【請求項６】
前記聴覚報知手段は、発音して報知する発音手段であることを特徴とする請求項３記載の電子調律器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の電子調律器は、ギター等の調律を行なうにあたり、第１の報知手段である例えば上記メータの指針が振動したり上記ＬＥＤが点滅表示するような場合であっても、第２の報知手段（例えば、後述する実施形態におけるスピーカ）により入力楽音信号の音高と所定の基準音高との差分が所定時間継続して所定範囲内にあったときに報知される。従って、初心者であっても調律が確実に行なわれたことを認識することができる。
ここで、本発明の電子調律器において、前記第１の報知手段は、視覚に対する報知を行う視覚報知手段であってもよく、あるいは、前記第２の報知手段は、聴覚に対する報知を行う聴覚報知手段であってもよい。この場合に、前記視覚報知手段は、指針の動きで報知するメータであってもよく、あるいは、前記視覚報知手段は、発光器の発光状態で報知する発光手段であってもよい。また、前記聴覚報知手段は、発音して報知する発音手段であってもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月29日(2004.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
暖房温水が循環する循環加熱回路と、給湯主配管とを有し、前記循環加熱回路と前記給湯主配管は互いに伝熱関係を有し、断熱材により配管され熱交換装置で熱交換し、前記熱交換装置に設けた暖房温水の貯湯タンク内に給湯用の受熱管と給湯ヘッダーを設けた即時給湯装置。
【請求項２】
熱交換装置の貯湯タンク内に設けた螺旋管と給湯ヘッダーの少なくともどちらか一方に吸熱促進部を設けた請求項１記載の即時給湯装置。
【請求項３】
暖房温水が循環する循環加熱回路と、給湯主配管とを有し、前記循環加熱回路と前記給湯主配管は互いに伝熱関係を有し、断熱材により配管され熱交換装置で熱交換し、前記熱交換装置は給湯ヘッダーを兼用する即湯タンクの外周部を暖房温水が循環する伝熱管を設けた即時給湯装置。
【請求項４】
熱交換装置の即湯タンクの外周部に凹部を設け螺旋管が前記凹部に勘合してなる請求項３記載の即時給湯装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
従来のこの種の即時給湯装置は特開２００１−１９３９５５号公報に記載されているようなものが一般的であった。この即時給湯装置は図１２に示すように、即湯循環回路１に設けた循環ポンプ２により即時給湯用の温水を循環させる。また、温水暖房装置３の循環加熱回路４の暖房温水を加熱源として即湯循環回路１内の温水を加熱する熱交換器５を設けて構成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月2日(2005.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】空気清浄装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気流の上流側に放電電極と対向電極を対向してなるコロナ放電部と、下流側に集塵電極を備えた集塵部とから構成される電気集塵方式の空気清浄装置において、
前記集塵部を集塵電極となる導電性の網状体により形成し、前記対向電極と同極性となるように、同対向電極の後面に着脱可能に配設してなることを特徴とする空気清浄装置。
【請求項２】
前記集塵部と前記対向電極とを磁石又は導電性バネにより接続してなることを特徴とする請求項１記載の空気清浄装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月14日(2005.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）溶剤及び（Ｄ）界面活性剤を含有するポジ型レジスト組成物。
【化１】
2004053822.tif 000001
式（Ｉ）において、Ｒ1は水素原子又は炭化水素基を表す。Ｒ2は炭化水素基を表す。Ｘは単結合又はカルボニル基を表す。
【請求項２】
更に（Ｅ）有機塩基性化合物を含有することを特徴とする請求項１に記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項３】
（Ａ）成分の樹脂が、更に下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載のポジ型レジスト組成物。
【化２】
2004053822.tif 000002
一般式（ＩＩ）において、Ｒ6は水素原子又はメチル基を表し、Ａは単結合又は連結基を表し、ＡＬＧは下記一般式（ｐＩ）〜一般式（ｐＶ）のいずれかを表す。
【化３】
2004053822.tif 000003
式中、Ｒ11は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基又はｓｅｃ−ブチル基を表し、Ｚは、炭素原子とともに脂環式炭化水素基を形成するのに必要な原子団を表す。
Ｒ12〜Ｒ16は、各々独立に、炭素数１〜４個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表す。但し、Ｒ12〜Ｒ14のうち少なくとも１つ、及びＲ15、Ｒ16のいずれかは脂環式炭化水素基を表す。
Ｒ17〜Ｒ21は、各々独立に、水素原子、炭素数１〜４個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、Ｒ17〜Ｒ21のうち少なくとも１つは脂環式炭化水素基を表す。また、Ｒ19、Ｒ21のいずれかは炭素数１〜４個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表す。
Ｒ22〜Ｒ25は、各々独立に、炭素数１〜４個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、Ｒ22〜Ｒ25のうち少なくとも１つは脂環式炭化水素基を表す。また、Ｒ23とＲ24は、互いに結合して環を形成していてもよい。
【請求項４】
（Ａ）成分の樹脂が、更に下記一般式（III）で表される繰り返し単位を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のポジ型レジスト組成物。
【化４】
2004053822.tif 000004
式（III）において、
Ｒ3は水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ4は脂環式炭化水素基を有する連結基を表す。
Ｒ5は酸の作用により脱離する基を表す。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のレジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月9日(2005.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
像担持体と、像担持体面を帯電する帯電手段と、帯電処理された像担持体に静電潜像を形成する露光手段と、静電潜像に現像剤を供給し静電潜像を可視化する現像手段と、前記帯電手段に、直流電圧と交流電圧のどちらか、若しくはその両方の重畳電圧を印加する手段と、前記帯電手段に印加する直流電圧、交流電圧のピーク間電圧の各電圧値を制御する手段と、を有する画像形成装置において、
前記帯電手段に直流電圧を印加した時の像担持体への放電開始電圧をＶｔｈとした時に、前記帯電手段がＶｔｈの２倍以下のピーク間電圧の交流電圧を印加された前記像担持体面に、前記露光手段により露光することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
像担持体と、像担持体面を帯電する帯電手段と、帯電処理された像担持体に静電潜像を形成する露光手段と、静電潜像に現像剤を供給し静電潜像を可視化する現像手段と、前記帯電手段に、直流電圧と交流電圧のどちらか、若しくはその両方の重畳電圧を印加する手段と、前記帯電手段に印加する直流電圧、交流電圧のピーク間電圧の各電圧値を制御する手段と、を有する画像形成装置において
前記帯電手段に直流電圧を印加した時の像担持体への放電開始電圧をＶｔｈとした時に、前記制御する手段は、前記帯電手段にＶｔｈの２倍以上のピーク間電圧の交流電圧とＶｔｈの２倍以下のピーク間電圧の交流電圧とを印加し、その際に流れるそれぞれの交流電流値を基に印字時に帯電手段に印加される交流電圧を制御し、前記帯電手段にＶｔｈの２倍以下のピーク間電圧の交流電圧を印加された際に帯電された前記像担持体面に、前記露光手段により露光することを特徴とする画像形成装置。
【請求項３】
前記帯電手段は、接触帯電方式であることを特徴とする請求項１又は２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記帯電手段より前記像担持体の回転方向上流側に位置し、像担持体上に残留する残留現像剤の帯電量を均一化するために直流電圧を印加する現像剤帯電量制御手段を有する請求項１乃至３のいずれかに記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
（１）像担持体と、像担持体面を帯電する帯電手段と、帯電処理された像担持体に静電潜像を形成する露光手段と、静電潜像に現像剤を供給し静電潜像を可視化する現像手段と、前記帯電手段に、直流電圧と交流電圧のどちらか、若しくはその両方の重畳電圧を印加する手段と、前記帯電手段に印加する直流電圧、交流電圧のピーク間電圧の各電圧値を制御する手段と、を有する画像形成装置において、
前記帯電手段に直流電圧を印加した時の像担持体への放電開始電圧をＶｔｈとした時に、前記帯電手段がＶｔｈの２倍以下のピーク間電圧の交流電圧を印加された前記像担持体面に、前記露光手段により露光することを特徴とする画像形成装置。
（２）像担持体と、像担持体面を帯電する帯電手段と、帯電処理された像担持体に静電潜像を形成する露光手段と、静電潜像に現像剤を供給し静電潜像を可視化する現像手段と、前記帯電手段に、直流電圧と交流電圧のどちらか、若しくはその両方の重畳電圧を印加する手段と、前記帯電手段に印加する直流電圧、交流電圧のピーク間電圧の各電圧値を制御する手段と、を有する画像形成装置において
前記帯電手段に直流電圧を印加した時の像担持体への放電開始電圧をＶｔｈとした時に、前記制御する手段は、前記帯電手段にＶｔｈの２倍以上のピーク間電圧の交流電圧とＶｔｈの２倍以下のピーク間電圧の交流電圧とを印加し、その際に流れるそれぞれの交流電流値を基に印字時に帯電手段に印加される交流電圧を制御し、前記帯電手段にＶｔｈの２倍以下のピーク間電圧の交流電圧を印加された際に帯電された前記像担持体面に、前記露光手段により露光することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
（３）前記帯電手段は、接触帯電方式であることを特徴とする（１）又は（２）に記載の画像形成装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
（４）前記帯電手段より前記像担持体の回転方向上流側に位置し、像担持体上に残留する残留現像剤の帯電量を均一化するために直流電圧を印加する現像剤帯電量制御手段を有する（１）乃至（３）のいずれかに記載の画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月17日(2004.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
質量流量計であって、ケーシング（１）と、コリオリ導管（２）と、質量流量計を導管システム（５）の接続部（４）に接続するための接続装置（３）とが設けられている形式のものにおいて、
質量流量計の接続装置（３）が、結合部分（８）と補強部分（１６）とを有しており、該補強部分（１６）が、コリオリ導管（２）の端部に被せ嵌められていて、質量流量計のケーシング（１）に保持されていて、結合部分（８）が、コリオリ導管（２）と補強部分（１６）とに溶接されていて、導管システム（５）の接続部（４）を介して、導管システム（５）をコリオリ導管（２）に連通結合するために設けられており、結合部分（８）とは別個の保持部分（１７）が設けられていて、該保持部分（１７）によって補強部分（１６）が、質量流量計のケーシング（１）に保持されていることを特徴とする、質量流量計。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月17日(2005.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料中の少なくとも１つの被分析物を検出するための基材を調製する方法であって、
ａ）少なくとも２つの異なる選択条件に該試料を曝露する工程であって、各選択条件は、該吸着体と溶離物との組み合わせによって規定されて、該吸着体による該被分析物の保持を可能にする、工程；
ｂ）脱離スペクトロメトリーによって、該被分析物が保持される少なくとも１つの選択条件を決定する工程；および
ｃ）決定された選択条件の少なくとも１つの吸着体を含む基材を調製する工程、
を包含する、方法。
【請求項２】
疾患の診断マーカーを複数検出する方法であって、
ａ）基材に付着した少なくとも一つの吸着体と、被験体由来の生物学的試料を接触させて、少なくとも一つの吸着体を診断マーカーに結合させる工程；
ｂ）少なくとも一つの溶離物で少なくとも一つの吸着体を洗浄して、結合していない材料を除去し、かつ少なくとも一つの吸着体による診断マーカーの保持を可能にする工程；
ｃ）脱離スペクトロメトリーによって、保持された診断マーカーを検出する工程；および
ｄ）複数の診断マーカーの検出データを提供する工程であって、データが、複数の診断マーカーの示差的な存在を示す工程
を包含する、方法。
【請求項３】
複数の吸着体が少なくとも一つの基材に付着し、各吸着体が、アドレス可能な位置において付着している、請求項2記載の方法。
【請求項４】
疾患が、ガン、心臓病、自己免疫疾患、ウイルス感染、アルツハイマー病、および糖尿病から選択される、請求項2記載の方法。
【請求項５】
生物学的試料が、組織、血液、尿、大便、リンパ液、脳脊髄液、および関節内液から選択される、請求項2記載の方法。
【請求項６】
生物学的試料が病理細胞に由来する、請求項2記載の方法。
【請求項７】
少なくとも一つの吸着体が疎水性吸着体である、請求項2記載の方法。
【請求項８】
少なくとも一つの吸着体がチオフィリック（thiophilic）吸着体である、請求項2記載の方法。
【請求項９】
少なくとも一つの吸着体が正常相吸着体である、請求項2記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも一つの吸着体がアニオン交換吸着体である、請求項2記載の方法。
【請求項１１】
少なくとも一つの吸着体がカチオン交換吸着体である、請求項2記載の方法。
【請求項１２】
少なくとも一つの吸着体が金属イオン吸着体である、請求項2記載の方法。
【請求項１３】
少なくとも一つの吸着体が糖タンパク質相互作用吸着体である、請求項2記載の方法。
【請求項１４】
少なくとも一つの吸着体が核酸を含む、請求項2記載の方法。
【請求項１５】
少なくとも一つの吸着体が、診断マーカーに結合する複数の抗体を含む、請求項2記載の方法。
【請求項１６】
同一のアドレス可能な位置において、抗体が基材に付着する、請求項15記載の方法。
【請求項１７】
異なるアドレス可能な位置において、診断マーカーが抗体に結合する、請求項15記載の方法。
【請求項１８】
一つまたは複数のマーカーがポリペプチドを含む、請求項2〜17のいずれか一項記載の方法。
【請求項１９】
一つまたは複数のマーカーが核酸を含む、請求項2〜17のいずれか一項記載の方法。
【請求項２０】
脱離スペクトロメトリーが、レーザー脱離／イオン化質量スペクトロメトリーである、請求項2〜17のいずれか一項記載の方法。
【請求項２１】
脱離スペクトロメトリーが、レーザー脱離／イオン化質量スペクトロメトリーである、請求項18記載の方法。
【請求項２２】
脱離スペクトロメトリーが、レーザー脱離／イオン化質量スペクトロメトリーである、請求項19記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月19日(2005.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクティブ岩盤破壊検出装置とダミー岩盤破壊検出装置とからなり、その両岩盤破壊検出装置は、同じ構成で、夫々ＡＥセンサ、増幅器、計測器及びそれらを接続するラインからなり、アクティブ岩盤破壊検出装置のＡＥセンサは岩盤に取付けることができ、ダミー岩盤破壊検出装置のＡＥセンサは岩盤から離して設置することができることを特徴とする岩盤破壊検出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の岩盤破壊検出装置において、前記アクティブ岩盤破壊検出装置のＡＥセンサを取付け、前記ダミー岩盤破壊検出装置のＡＥセンサを離して設置する岩盤は、破壊の際ＡＥ波を発生するものであることを特徴とする岩盤破壊検出装置。
【請求項３】
請求項１に記載の岩盤破壊検出装置において、前記アクティブ岩盤破壊検出装置のＡＥセンサを取付け、前記ダミー岩盤破壊検出装置のＡＥセンサを離して設置する岩盤は、コンクリート建造物であることを特徴とする岩盤破壊検出装置。
【請求項４】
請求項１、請求項２又は請求項３に記載の岩盤破壊検出装置において、アクティブ岩盤破壊検出装置のＡＥセンサとダミー岩盤破壊検出装置のＡＥセンサは、一体的に構成してあることを特徴とする岩盤破壊検出装置。
【請求項５】
請求項１、請求項２、請求項３又は請求項４に記載の岩盤破壊検出装置において、計測器は、ＡＥカウンターであることを特徴とする岩盤破壊検出装置。
【請求項６】
ＡＥセンサ、増幅器、計測器及びそれらを接続するラインからなる同じ構成のアクティブ岩盤破壊検出装置とダミー岩盤破壊検出装置を並置し、アクティブ岩盤破壊検出装置のＡＥセンサは岩盤に取付け、ダミー岩盤破壊検出装置のＡＥセンサは岩盤から離して設置し、その両岩盤破壊検出装置の計測データを比較して、ＡＥ信号か電磁誘導雑音かを判別することを特徴とする岩盤破壊検出方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本願発明は、前記目的を達成するため、請求項１に記載の岩盤破壊検出装置は、アクティブ岩盤破壊検出装置とダミー岩盤破壊検出装置とからなり、その両岩盤破壊検出装置は、同じ構成で、夫々ＡＥセンサ、増幅器、計測器及びそれらを接続するラインからなり、アクティブ岩盤破壊検出装置のＡＥセンサは岩盤に取付けることができ、ダミー岩盤破壊検出装置のＡＥセンサは岩盤から離して設置することができることを特徴とする。
請求項２に記載の岩盤破壊検出装置は、請求項１に記載の岩盤破壊検出装置において、前記アクティブ岩盤破壊検出装置のＡＥセンサを取付け、前記ダミー岩盤破壊検出装置のＡＥセンサを離して設置する岩盤は、破壊の際ＡＥ波を発生するものであることを特徴とする。
請求項３に記載の岩盤破壊検出装置は、請求項１に記載の岩盤破壊検出装置において、前記アクティブ岩盤破壊検出装置のＡＥセンサを取付け、前記ダミー岩盤破壊検出装置のＡＥセンサを離して設置する岩盤は、コンクリート建造物であることを特徴とする。
請求項４に記載の岩盤破壊検出装置は、請求項１、請求項２又は請求項３に記載の岩盤破壊検出装置において、アクティブ岩盤破壊検出装置のＡＥセンサとダミー岩盤破壊検出装置のＡＥセンサは、一体的に構成してあることを特徴とする。
請求項５に記載の岩盤破壊検出装置は、請求項１、請求項２、請求項３又は請求項４に記載の岩盤破壊検出装置において、計測器は、ＡＥカウンターであることを特徴とする。
請求項６に記載の岩盤破壊検出方法は、ＡＥセンサ、増幅器、計測器及びそれらを接続するラインからなる同じ構成のアクティブ岩盤破壊検出装置とダミー岩盤破壊検出装置を並置し、アクティブ岩盤破壊検出装置のＡＥセンサは岩盤に取付け、ダミー岩盤破壊検出装置のＡＥセンサは岩盤から離して設置し、その両岩盤破壊検出装置の計測データを比較して、ＡＥ信号か電磁誘導雑音かを判別することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月21日(2004.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
水溶性の固着剤が、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルエーテル、ビニルピロリドン・酢酸ビニル共重合体、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリアクリル酸及び／又はその塩並びにポリメタクリル酸及び／又はその塩から選択されるものであることを特徴とする、請求項１に記載の角質細胞採取用具。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題の解決手段】
本発明者らは、この様な状況に鑑みて、体積形状を損なわずに角質細胞を採取する手段を求めて、鋭意研究努力を重ねた結果、水溶性の固着剤を、支持体上に塗工してなる、角質細胞採取用具を用いて、水溶性の固着剤塗工面を湿潤用の水性担体で湿らせ、膨潤させた後、角質細胞の採取部に貼付し、乾燥固化させ、剥離し、固着剤を分散用の水性担体で溶解させ、固着剤に固着された角質細胞を水性担体中に分散手段により分散させることにより、角質細胞の形状を損なわずに角質細胞が採取できることを見出し、発明を完成させるに至った。即ち、本発明は以下に示す技術に関するものである。
（１）水溶性の固着剤を、支持体上に塗工してなる、角質細胞採取用具。
（２）水溶性の固着剤が、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルエーテル、ビニルピロリドン・酢酸ビニル共重合体、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリアクリル酸及び／又はその塩並びにポリメタクリル酸及び／又はその塩から選択されるものであることを特徴とする、（１）に記載の角質細胞採取用具。
（３）支持体がフィルムであることを特徴とする、（１）又は（２）に記載の角質細胞採取用具。
（４）（１）〜（３）何れか１項に記載の角質細胞採取用具の水溶性の固着剤塗工面を湿潤用の水性担体で湿らせ、膨潤させた後、角質細胞の採取部に貼付し、乾燥固化させ、剥離し、固着剤を分散用の水性担体で溶解させ、固着剤に固着された角質細胞を水性担体中に分散手段により分散させ、水性担体に分散された角質細胞の面積と体積を測定し、該体積を面積で除した細胞の厚さを指標とすることを特徴とする、皮膚の状態の鑑別法。
（５）分散手段が、プロテアーゼ及び／又は界面活性剤であることを特徴とする、（４）に記載の皮膚の状態の鑑別法。
（６）更に超音波による分散促進手段を用いることを特徴とする、（４）又は（５）に記載の皮膚の状態の鑑別法。
以下、本発明について詳細に説明を加える。