Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月4日(2005.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一のモジュールから直列データおよびこれと同期したクロックをそれぞれ出力し、それぞれ伝送路を介して第二のモジュールに伝送する情報伝送方法であって、
第一のモジュールにおいて前記直列データをそのまま伝送データ信号として、また前記クロックを分周して伝送クロック信号として出力し、第二のモジュールにおいて、前記伝送クロック信号を逓倍してクロックを再生する情報伝送方法。
【請求項２】
直列データは最小エッジ反転間隔が少なくともクロック周期の２倍以上になるように符号化されたデジタルデータであることを特徴とした請求項１記載の情報伝送方法。
【請求項３】
直列データの最小エッジ反転間隔をＮとしたとき、クロックの分周比を２×Ｎとしたことを特徴とした請求項２記載の情報伝送方法。
【請求項４】
伝送データ信号および伝送クロック信号はそれぞれ一対の差動信号であることを特徴とした請求項１記載の情報伝送方法。
【請求項５】
第一のモジュールから直列データおよびこれと同期したクロックをそれぞれ出力し、それぞれ伝送路を介して第二のモジュールに伝送する情報伝送装置であって、
前記第一のモジュールは、直列データに対して位相同期したクロックを生成する第一の位相同期手役と、前記クロックを所定数分周して伝送クロック信号を生成する分周手役とを有し、
前記第二のモジュールは、前記伝送クロック信号を所定数逓倍してクロックを再生する第二の位相同期手段を有し、
前記第一のモジュールは、前記直列データを伝送データ信号として、また前記クロックを分周して伝送クロック信号として前記伝送路を介して出力し、前記第二のモジュールは前記伝送路を介して入力した前記伝送クロック信号を所定数逓倍してクロックを再生することを特徴とする情報伝送装置。
【請求項６】
光ディスクから読み出し再生した直列データを第一のモジュールから伝送路を介して第二のモジュールヘ伝送する光ディスク装置であって、
前記第一のモジュールは、直列データに対して位相同期したクロックを生成する第一の位相同期手役と、前記クロックを所定数分周して伝送クロック信号を生成する分周手段とを有し、
前記第二のモジュールは、前記伝送クロック信号を所定数逓倍してクロックを再生する第二の位相同期手役を有し、
前記第一のモジュールは、前記直列データを伝送データ信号として、また前記クロックを分周して伝送クロック信号として前記伝送路を介して出力し、前記第二のモジュールは前記伝送路を介して入力した前記伝送クロック信号を所定数逓倍してクロックを再生することを特徴とする光ディスク装置。
【請求項７】
光ヘッドに第一のモジュールが設けられ、固定基板に第二のモジュールが設けられ、両モジュール間に設けられたフレキシブルケーブルに直列データおよびこれと同期したクロックが伝送される情報伝送方法であって、
前記フレキシブルケーブルにおいて前記直列データはそのまま伝送データ信号として、また前記クロックは分周されて伝送クロック信号として伝送される情報伝送方法。
【請求項８】
直列データは最小エッジ反転間隔が少なくともクロック周期の２倍以上になるように符号化されたデジタルデータであることを特徴とした請求項７記載の情報伝送方法。
【請求項９】
直列データの最小エッジ反転間隔をＮとしたとき、クロックの分周比を２×Ｎとしたことを特徴とした請求項８記載の情報伝送方法。
【請求項１０】
伝送データ信号および伝送クロック信号はそれぞれ一対の差動信号であることを特徴とした請求項７記載の情報伝送方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月8日(2004.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サーボコードを、幅を有するテープに、サーボライタを用いて書き込むステップであって、
前記サーボライタは、前記幅に垂直な長さ方向にテープを移動させ、前記テープの長さの方向に沿って、複数のサーボバンドでサーボコードを書き込むように構成されている
ステップと、
前記サーボライタとは別の第１のテープドライブを用いて、少なくとも前記サーボバンドのいずれかの少なくとも長さ方向の部分を消去し、その場所にデータトラックを書き込むステップであって、
前記消去は、前記サーボバンドの幅の全体の消去を実質的に含み、
前記データトラックは、前記消去されたサーボコードがあった前記テープの幅に沿った場所と同じ前記テープの幅に沿った場所にある
ステップと
を有する方法。
【請求項２】
同じ前記サーボライタを用いて、幅を有する第２のテープにサーボコードを書き込むステップと、
前記第１のテープドライブとは別の第２のテープドライブを用いて、前記第２のテープの少なくとも前記サーボバンドのいずれかの長さ方向の部分を消去し、その場所にデータトラックを書き込むステップであって、
前記第２のテープ上のデータトラックは、前記幅に対応し、前記第１のテープ上のデータトラックの場所と異なる場所にある
ステップと
をさらに有する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
サーボコードを、幅を有するテープに書き込むサーボライタであって、
前記幅に垂直な長さ方向にテープを移動させ、前記テープの長さの方向に沿って、実質的に前記テープの幅の全体にわたって広がる複数のサーボバンドでサーボコードを書き込むように構成されている
サーボライタと、
前記サーボライタとは別の第１のテープドライブであって、
少なくとも前記サーボバンドのいずれかの少なくとも長さ方向の部分の消去であって、前記サーボバンドの幅の全体の消去を実質的に含む消去と、
前記消去されたサーボコードがあった前記テープの幅に沿った場所と同じ前記テープの幅に沿った場所へのデータトラックの書き込みと
を行うように構成された第１のテープドライブと
を有するシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月2日(2005.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像処理方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力画像の画素に対して１以上の画素おきに所定の処理を行い、前記所定の処理が行われない未処理の画素の画素値を、該未処理画素に隣接する処理された画素の画素値を用いて算出することを特徴とする画像処理方法。
【請求項２】
前記所定の処理が行われない未処理の画素の画素値を、該未処理画素に隣接する処理された画素の画素値を引数とする関数であって、前記所定の処理よりも計算量の少ない所定の関数によって算出することを特徴とする請求項１記載の画像処理方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は前記目的を達成する為に、入力画像の画素に対して１以上の画素おきに所定の処理を行い、前記所定の処理が行われない未処理の画素の画素値を、該未処理画素に隣接する処理された画素の画素値を用いて算出することを特徴とする。
また、前記所定の処理が行われない未処理の画素の画素値を、該未処理画素に隣接する処理された画素の画素値を引数とする関数であって、前記所定の処理よりも計算量の少ない所定の関数によって算出することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月25日(2005.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カチオン％表示で、Ｐ5+  ２３〜４１％、Ａｌ3+  ４〜１６％、Ｌｉ+  １１〜４０％、Ｎａ+  ３〜１３％、Ｒ2+  １２〜５３％（ただし、Ｒ2+はＭｇ2+、Ｃａ2+、Ｓｒ2+、Ｂａ2+およびＺｎ2+の合計量）、およびＣｕ2+  ２．６〜４．７％を含むと共に、アニオン成分としてＦ-およびＯ2-を含むことを特徴とする近赤外光吸収ガラス。
【請求項２】
カチオン成分として、Ｚｎ2+を含む請求項１に記載の近赤外光吸収ガラス。
【請求項３】
アニオン％表示で、Ｆ-  ２５〜４８％およびＯ2-  ５２〜７５％を含む請求項１または２に記載の近赤外光吸収ガラス。
【請求項４】
実質的にヒ素および鉛を含まず、波長４００〜７００ｎｍの分光透過率において透過率が５０％を示す波長が６１５ｎｍになる厚さが０．１〜０．８ｍｍの範囲にあって、前記厚さにおける波長４００ｎｍの透過率が８０％以上、波長８００〜１０００ｎｍの透過率が５％未満、波長１２００ｎｍの透過率が２０％未満であることを特徴とする近赤外光吸収ガラス。
【請求項５】
カチオン％表示で、Ｐ5+  ２３〜４１％、Ａｌ3+  ４〜１６％、Ｌｉ+  １１〜４０％、Ｎａ+  ３〜１３％、Ｒ2+  １２〜５３％（ただし、Ｒ2+はＭｇ2+、Ｃａ2+、Ｓｒ2+、Ｂａ2+およびＺｎ2+の合計量）、およびＣｕ2+  ２．６〜４．７％を含むと共に、アニオン成分としてＦ-およびＯ2-を含む請求項４に記載の近赤外光吸収ガラス。
【請求項６】
カチオン成分として、Ｚｎ2+を含む請求項５に記載の近赤外光吸収ガラス。
【請求項７】
アニオン％表示で、Ｆ-  ２５〜４８％およびＯ2-  ５２〜７５％を含む請求項５または６に記載の近赤外光吸収ガラス。
【請求項８】
液相温度が７５０℃以下である請求項１ないし７のいずれか１項に記載の近赤外光吸収ガラス。
【請求項９】
厚さ０．５ｍｍに換算した場合に、波長４００〜７００ｎｍの分光透過率において、透過率５０％を示す波長が６３０ｎｍ未満、この波長よりも長波長側の透過率が５０％未満、前記波長よりも短波長側の透過率が５０％超であって、液相温度における粘度が０．５Ｐａ・ｓ以上であることを特徴とする近赤外光吸収ガラス。
【請求項１０】
カチオン％表示で、Ｐ5+  ２３〜４１％、Ａｌ3+  ４〜１６％、Ｌｉ+  １１〜４０％、Ｎａ+  ３〜１３％、Ｒ2+  １２〜５３％（ただし、Ｒ2+はＭｇ2+、Ｃａ2+、Ｓｒ2+、Ｂａ2+およびＺｎ2+の合計量）、およびＣｕ2+  ２．６〜４．７％を含むと共に、アニオン成分としてＦ-およびＯ2-を含む請求項９に記載の近赤外光吸収ガラス。
【請求項１１】
カチオン成分として、Ｚｎ2+を含む請求項１０に記載の近赤外光吸収ガラス。
【請求項１２】
アニオン％表示で、Ｆ-  ２５〜４８％およびＯ2-  ５２〜７５％を含む請求項１０または１１に記載の近赤外光吸収ガラス。
【請求項１３】
銅含有フツ燐酸塩ガラスである請求項４ないし１２のいずれか１項に記載の近赤外光吸収ガラス。
【請求項１４】
請求項１ないし１３のいずれか１項に記載の近赤外光吸収ガラスからなる近赤外光吸収素子。
【請求項１５】
請求項１ないし１３のいずれか１項に記載の近赤外光吸収ガラスからなるガラス板を備えたことを特徴とする近赤外光吸収フィルター。
【請求項１６】
７１０℃以下の溶融ガラスを成形、冷却して請求項９〜１２に記載の近赤外光吸収ガラスからなるガラス成形体を作製することを特徴とする近赤外光吸収ガラス成形体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月4日(2005.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
組成物全量基準で、前記エポキシ樹脂（Ａ）を０．１〜８０質量％、前記フェノール樹脂（Ｂ）を０．１〜４０質量％、前記ポリオキシアルキレン変性ジアルキルポリシロキサン（Ｃ）を０．０１〜１０．０質量％、前記無機質充填剤（Ｄ）を１５〜９８質量％の割合で含有し、および前記酸化防止剤（Ｅ）をポリオキシアルキレン変性ジアルキルポリシロキサン（Ｃ）１００質量部あたり０．０１〜５質量部の割合で含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
［式中、Ｒ１及びＱは、一般式（１）で定義したものと同じ意味を表す。］
また、本発明の第４の発明によれば、第１〜３のいずれかの発明において、組成物全量基準で、前記エポキシ樹脂（Ａ）を０．１〜８０質量％、前記フェノール樹脂（Ｂ）を０．１〜４０質量％、前記ポリオキシアルキレン変性ジアルキルポリシロキサン（Ｃ）を０．０１〜１０．０質量％、前記無機質充填剤（Ｄ）を１５〜９８質量％の割合で含有し、および前記酸化防止剤（Ｅ）をポリオキシアルキレン変性ジアルキルポリシロキサン（Ｃ）１００質量部あたり０．０１〜５質量部の割合で含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物が提供される。
さらに、本発明の第５の発明によれば、第１〜４のいずれかの発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物によって、半導体チップが封止されてなる半導体装置が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月19日(2005.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリトリメチレンテレフタレート樹脂とアイオノマー樹脂からなるポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物であって、（Ａ）ポリトリメチレンテレフタレート樹脂１００重量部に対し、（Ｂ）アイオノマー樹脂を０．１〜１５重量部および熱安定剤を配合してなるポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【請求項２】
該熱安定剤が、テトラキス（２、４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）［１，１−ビフェニ］−４，４‘−ジイルビスホスファイトおよび／またはトリス（２，４−ジ−ブチル−フェニル）フォスファイトであることを特徴とする請求項１に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【請求項３】
（Ｂ）成分のアイオノマー樹脂が、エチレン／アクリル酸アイオノマー、エチレン／メタクリル酸アイオノマーから選ばれた、１種または２種以上であることを特徴とする請求項１または２に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【請求項４】
（Ｂ）成分のアイオノマー樹脂における金属成分が、Ｎａおよび／またはＺｎであることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【請求項５】
（Ｂ）成分のアイオノマー樹脂の配合量が、０．３〜５重量部であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【請求項６】
（Ｃ）成分として、さらに無機フィラーを。（Ａ）と（Ｂ）の合計量１００重量部に対して、５〜１５０重量部配合することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、ポリトリメチレンテレフタレート樹脂に、アイオノマー樹脂を配合してなる樹脂組成物が、成形サイクルが短く、バリが大幅に改善されることを見出し本発明に至った。
すなわち本発明は、１．（Ａ）ポリトリメチレンテレフタレート樹脂１００重量部に対し、（Ｂ）アイオノマー樹脂を０．１〜１５重量部および熱安定剤を配合してなるポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物、
２．該熱安定剤が、テトラキス（２、４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）［１，１−ビフェニ］−４，４‘−ジイルビスホスファイトおよび／またはトリス（２，４−ジ−ブチル−フェニル）フォスファイトであることを特徴とする上記１に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物、
３．（Ｂ）成分のアイオノマー樹脂が、エチレン／アクリル酸アイオノマー、エチレン／メタクリル酸アイオノマーから選ばれた、１種または２種以上であることを特徴とする上記１または２に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物、
４．（Ｂ）成分のアイオノマー樹脂における金属成分が、Ｎａおよび／またはＺｎであることを特徴とする、上記１〜３のいずれかに記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物、
５．（Ｂ）成分のアイオノマー樹脂の配合量が、０．３〜５重量部であることを特徴とする上記１〜４のいずれかに記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物、
６．（Ｃ）成分として、さらに無機フィラーを。（Ａ）と（Ｂ）の合計量１００重量部に対して、５〜１５０重量部配合することを特徴とする上記１〜５のいずれかに記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物、である
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月21日(2005.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
比較例１の塗布具用の金属光沢を有する水性カラーインキは、色材である表面着色アルミニウム粉末の粒径が大きすぎて、表面同士で密着してしまったため巨大粒子を形成し、塗布具用の水性カラーインキとして機能しなかった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
比較例２の金属光沢を有する水性カラーインキは、色材である表面着色アルミニウム粉末の粒子径が小さいため紙面に形成された素材（紙の繊維）による微細な凹凸な目に入り込み、紙面から完全に消去できなかった。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月8日(2005.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板ホルダで保持し給電用接点に接触させて陽極または陰極の一方の電極となるようにした基板と、該基板に対峙する位置に配置した対極との間に電解液を満たして基板の電解処理を行う電解処理装置において、
前記基板ホルダで保持した基板と前記対極との間に配置され、基板の有効面積とほぼ同じ大きさの有効領域を有する電場補正体と、
前記基板ホルダと前記対極とを相対的に移動させる移動機構を有することを特徴とする電解処理装置。
【請求項２】
前記移動機構は、基板ホルダと前記対極とを相対的に平行移動または上下移動の少なくとも一方を行わせるように構成されていることを特徴とする請求項１記載の電解処理装置。
【請求項３】
前記電場補正体は、非導電性材料からなる中空円筒体、連続気孔構造を有するポーラス材料からなる構造体、非導電性材料に通孔をあけた遮蔽板、またはこれらの組合せからなることを特徴とする請求項１または２記載の電解処理装置。
【請求項４】
前記給電用接点は、該基板ホルダで保持した基板のベベル部乃至端面で該基板と接触するように構成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の電解処理装置。
【請求項５】
前記基板ホルダで保持した基板のベベル部乃至端面に圧接しシールして前記給電用接点を電解液から隔離するシール材を更に有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の電解処理装置。
【請求項６】
前記基板ホルダは、該基板ホルダで保持した基板のそりを矯正するそり矯正機構を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の電解処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、基板ホルダで保持し給電用接点に接触させて陽極または陰極の一方の電極となるようにした基板と、該基板に対峙する位置に配置した対極との間に電解液を満たして基板の電解処理を行う電解処理装置において、前記基板ホルダで保持した基板と前記対極との間に配置され、基板の有効面積とほぼ同じ大きさの有効領域を有する電場補正体と、前記基板ホルダと前記対極とを相対的に移動させる移動機構を有することを特徴とする電解処理装置である。
請求項２に記載の発明は、前記移動機構は、基板ホルダと前記対極とを相対的に平行移動または上下移動の少なくとも一方を行わせるように構成されていることを特徴とする請求項１記載の電解処理装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項３に記載の発明は、前記電場補正体は、非導電性材料からなる中空円筒体、連続気孔構造を有するポーラス材料からなる構造体、非導電性材料に通孔をあけた遮蔽板、またはこれらの組合せからなることを特徴とする請求項１または２記載の電解処理装置である。
非導電性材料としては、例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、エチレン、ポリ塩化ビニル、テフロン（登録商標）などの汎用プラスチックが挙げられる。また、連続気孔構造を有するポーラス材料としては、例えば、ポーラスセラミックス、ポリプロピレン等の焼結体などが挙げられる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項４に記載の発明は、前記給電用接点は、該基板ホルダで保持した基板のベベル部乃至端面で該基板と接触するように構成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の電解処理装置である。これにより、基板がその表面周縁部で給電用接点と接触することをなくし、基板の表面周縁部を均一に電解処理することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項５に記載の発明は、前記基板ホルダで保持した基板のベベル部乃至端面に圧接しシールして前記給電用接点を電解液から隔離するシール材を更に有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の電解処理装置である。これにより、シール材が基板の表面周縁部で基板の被処理面から突出することをなくし、基板の表面周縁部を均一に電解処理することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
請求項６に記載の発明は、前記基板ホルダは、該基板ホルダで保持した基板のそりを矯正するそり矯正機構を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の電解処理装置である。これにより、例えばクランプ方式を採用して基板を基板ホルダで保持する時に、基板がそってしまうことを防止して、給電用接点やシール材等を基板のベベル部乃至端面に安定して接触させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月26日(2005.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
この場合、上記したような両基板の一方あるいは他方に平行な両傾斜状態が混在する触媒線の配列を、直立状態と上記した両傾斜状態の一方と他方とを所定順序で配置して成る単位配列が連続したものにすると、触媒線の立設状態の変化が周期的に訪れることになり、上記の膜厚や膜質の均等性が一層確実なものとなる。このときの単位配列中の所定順序として触媒線の傾斜状態に応じて、例えば、両基板の一方の側に内方傾斜させたものと、直立状態のものと、両基板の他方の側に外方傾斜させたものとで順番を形成した配列を用いることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月11日(2005.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
質量百分率表示で、ＳｉＯ２  ９０〜９８．８％、Ｆ  １．２〜１０％、から本質的になるガラスをその粘度が１０５〜１０１２．５ポアズとなる温度に保持してプレス成形することを特徴とする石英系ガラス製品の製造方法。
【請求項２】
プレス成形するときに使用されるプレス型が、グラッシーカーボン、ＳｉＣまたはＳｉ３Ｎ４からなることを特徴とする請求項１に記載の石英系ガラス製品の製造方法。
【請求項３】
石英系ガラス製品が光学レンズである請求項１または２に記載の石英系ガラス製品の製造方法。
【請求項４】
石英系ガラス製品がＶ溝基板である請求項１または２に記載の石英系ガラス製品の製造
［特許請求の範囲］
［請求項１］
質量百分率表示で、ＳｉＯ２  ９０〜９８．８％、Ｆ  １．２〜１０％、から本質的になるガラスをその粘度が１０５〜１０１２．５ポアズとなる温度に保持してプレス成形することを特徴とする石英系ガラス製品の製造方法。
［請求項２］
プレス成形するときに使用されるプレス型が、グラッシーカーボン、ＳｉＣまたはＳｉ３Ｏ４からなることを特徴とする請求項１に記載の石英系ガラス製品の製造方法。
［請求項３］
石英系ガラス製品が光学レンズである請求項１または２に記載の石英系ガラス製品の製造方法。
［請求項４］
石英系ガラス製品がＶ溝基板である請求項１または２に記載の石英系ガラス製品の製造方法。
方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月16日(2004.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
人工ゼオライトの原料にアルカリ水溶液を添加して生成されたスラリーを連続的に加圧して出力するスラリー連続出力装置と、
一方の立型流路の上端から入力されたスラリーを他方の立型流路の上端から流下出力する機能的にはＵ字形状の立型流路ユニットを直列に多数連結して成り、前段ユニットから流下出力されるスラリーを順次次段のユニットに流下させる形で長尺の上下蛇行流路を形成した流下流路装置と、
前記流下流路装置を流れるスラリーを100℃より高い温度に加熱保持する加熱保持装置と、
前記流下流路装置の各流路を同圧に維持する均圧化装置と、
前記流下流路装置から出力される反応後のスラリー及び前記スラリー連続出力装置から出力されるスラリーとを向流させ、両スラリーの保有熱量を相互に交換し合う向流式熱交換装置と、
前記流下流路装置から出力される反応前のスラリーに、前記均圧化装置で定まる圧力より低い値の圧力に近い圧力を掛けつつ、前記スラリー連続出力装置が出力する量のスラリーを順次排出する背圧弁的機能弁と、を備えたことを特徴とする連続流下式人工ゼオライト製造装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月9日(2004.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
熱処理により形成されたメソカーボン小球体を含む易黒鉛化炭素材料に、有機溶媒を添加して、粘度が１〜１００ mPa・s となるように粘度調整後、ろ過によりメソカーボン小球体を分離し、得られたメソカーボン小球体を黒鉛化する多結晶メソカーボン小球体黒鉛化品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、本発明は、熱処理により形成されたメソカーボン小球体を含む易黒鉛化炭素材料に、有機溶媒を添加して、粘度が１〜１００ mPa・s となるように粘度調整後、ろ過によりメソカーボン小球体を分離し、得られたメソカーボン小球体を黒鉛化する多結晶メソカーボン小球体黒鉛化品の製造方法である。この製造方法は、複数の結晶からなり、各結晶のＣ軸方向がランダムな方向をなしている多結晶メソカーボン小球体黒鉛化品の製造方法として好適である。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の黒鉛化品は、熱処理により形成されたメソカーボン小球体を含む易黒鉛化炭素材料に、有機溶媒を添加して、粘度が１〜１００ mPa・s となるように粘度調整後、ろ過によりメソカーボン小球体を分離し、得られたメソカーボン小球体を黒鉛化することにより製造することができる。前記の粘度はろ過時の粘度であり、１００〜１４０℃において測定したものである。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
次に、生成したメソカーボン小球体を、易黒鉛化炭素材料から分離する。そのために、易黒鉛化炭素材料に有機溶媒を添加し、粘度が１〜１００ mPa・s 、好ましくは１．０〜５０ mPa・s になるように調整する。その際、必要に応じて、攪拌してもよい。なお、従来のメソカーボン小球体を含む易黒鉛化炭素材料の粘度は０．０１ mPa・s 程度であるが、これはろ過を容易に実施できることを考慮したものである。
有機溶媒としては、トルエン、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素、テトラヒドロフランなどのエーテル、アセトンなどのケトン、キノリンなどのピリジン類、タール軽油、タール重油などが挙げられるが、もちろん、これらに限定されるものではない。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
粘度を調整されたメソカーボン小球体を含む易黒鉛化炭素材料から、ろ過により、メソカーボン小球体を分離する。このとき、粘度が１００ mPa・s より高いとろ過が困難になり、また粘度が１ mPa・s より低くなるとメソカーボン小球体の表面にメソカーボン小球体以外の易黒鉛化炭素材料であるピッチ成分などが大量に付着し、負極材料として用いた場合には放電容量が低く、さらに充放電ロスが増大する。前記粘度範囲でろ過することにより、メソカーボン小球体以外の易黒鉛化炭素材料と、添加した有機溶剤は同時に除去され、メソカーボン小球体を分離することができる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
以下、本発明の実施例および比較例により、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
（実施例１）
フリーカーボンを１質量％含有するコールタールピッチを４５０℃で３０分間加熱し、コールタールピッチ中にメソカーボン小球体（平均粒径３２μｍ）を３５質量％生成させた。これに、タール中油（沸点：１８０〜３００℃）を添加し、コールタールピッチの粘度を１．５ mPa・s （１２５℃）に調整し、１２５℃で１時間攪拌し、メソカーボン小球体を含む易黒鉛化炭素材料を得た。これを１２５℃に保持したまま加圧ろ過器に注入し、窒素ガスで加圧してろ過し、メソカーボン小球体を分離した。メソカーボン小球体の含有量は、ろ布上に残ったメソカーボンと原料のコールタールピッチの質量比により算出した。また、メソカーボン小球体の平均粒径はレーザー回折式粒度分布計により測定した５０％体積換算累計粒径である。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
（比較例１）
フリーカーボンを０．５質量％含有するコールタールピッチを４２０℃で１５分間加熱し、コールタールピッチ中にメソカーボン小球体（平均粒径１９μｍ）を１２質量％生成させた。これに、タール軽油（沸点：８０〜１２０℃）を添加し、コールタールピッチの粘度を０．０１ mPa・s （１２５℃）に調整し、１２５℃で１時間攪拌し、メソカーボン小球体を含む易黒鉛化炭素材料を得た。これを１２５℃に保持したまま加圧ろ過器に注入し、窒素ガスで加圧してろ過し、メソカーボン小球体を分離した。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
【表１】
2004083398.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月22日(2004.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
また、導電性を制御する他の方法として、日射遮蔽体形成用の分散液中へ無機バインダーまたは樹脂バインダーを加え、この含有量を加減する方法を採ることも可能である。この無機バインダーまたは樹脂バインダーを加える方法は、分散液の硬化後に、基板上で高密度に堆積して形成されているＡＴＯ微粒子の基材への密着性を向上させ、さらに膜の硬度を向上させる効果もあり好ましい。他方、分散液中に樹脂バインダーまたは無機バインダーを加えない場合に得られる膜は、基材上に上記ＡＴＯ微粒子のみが堆積した膜構造になる。このＡＴＯ微粒子のみが堆積した膜は、勿論このままでも日射遮蔽効果を示す。そしてバインダーが加えられた場合も加えられない場合も、この日射遮蔽体は、高い可視光透過率と、低い日射透過率を有しながら、ヘイズ値が低いという優れた光学特性を有する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
５）光学特性の測定
得られた日射遮蔽体試料Ａ〜Ｏの光学特性は、日立製作所（株）製の分光光度計Ｕ−４０００を用いて測定した。また、ヘイズ値は村上色彩技術研究所（株）製ＨＲ−２００を用いて測定した。
膜評価においては、膜厚の異なる３種の日射遮蔽体Ａ〜Ｏの光学特性を測定して３点プロットとし、この３点プロットより可視光透過率を７５％に規格化したときの日射透過率およびヘイズ値を算出して求めた。
得られた日射遮蔽体試料Ａ〜Ｏの光学特性の測定結果を図１に示す。
図１に示すように、日射透過率が６０％未満で、かつヘイズ値が１％未満の優れた光学特性を示した日射遮蔽体は、試料Ａ〜ＧおよびＫ〜Ｏであった。中でも試料Ｃ〜ＥおよびＬ、Ｍは日射透過率が５６．５％未満で、かつヘイズ値が０．８％以下というさらに優れた光学特性を示した。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月24日(2005.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【実施例】
［実施例１］
濃度１．０ｍｏｌ／ｌの塩化ネオジウム溶液２００ｍｌ（Ａ液）及びモル比で炭酸イオン濃度がネオジウムイオン濃度の４倍含むように調整した炭酸水素アンモニウム溶液８００ｍｌ（Ｂ液）を準備した。両者の合計量における希土類イオン（Ｎｄ３＋）の濃度は０．２０ｍｏｌ／ｌである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
［実施例２］
濃度２．０ｍｏｌ／ｌの硝酸ホルミウム溶液２００ｍｌ（Ａ液）及びモル比で炭酸イオン濃度がホルミウムイオン濃度の６倍になるように調整した炭酸アンモニウム溶液８００ｍｌ（Ｂ液）を準備した。両者の合計量における希土類イオン（Ｈｏ３＋）の濃度は０．４０ｍｏｌ／ｌである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
［実施例３］
濃度１．０ｍｏｌ／ｌの塩化セリウム溶液２００ｍｌ（Ａ液）及びモル比で炭酸イオン濃度がセリウムイオン濃度の４倍になるよう含有する炭酸水素アンモニウム溶液８００ｍｌ（Ｂ液）を準備した。両者の合計量における希土類イオン（Ｃｅ３＋）の濃度は０．２０ｍｏｌ／ｌである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
［比較例１］
濃度１．０ｍｏｌ／ｌの塩化ネオジウム溶液２００ｍｌ（Ａ液）、モル比で炭酸イオン濃度がネオジウムイオン濃度の１．５倍になるように調整した炭酸水素アンモニウム溶液８００ｍｌ（Ｂ液）を準備した。両者の合計量における希土類イオン（Ｃｅ３＋）の濃度は０．２０ｍｏｌ／ｌである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
［比較例２］
濃度２．０ｍｏｌ／ｌの硝酸ホルミウム溶液２００ｍｌ（Ａ液）、モル比で炭酸イオン濃度がホルミウムイオン濃度の６倍になるように調整した炭酸アンモニウム溶液７００ｍｌ（Ｂ液）を準備した。両者の合計量における希土類イオン（Ｈｏ３＋）の濃度は０．４４ｍｏｌ／ｌである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
［比較例３］
濃度１．５ｍｏｌ／ｌの硝酸ホルミウム溶液1０００ｍｌ(Ａ液)、モル比で炭酸イオン濃度がホルミウムイオン濃度の３倍になるように調整した炭酸水素アンモニウム溶液４００ｍｌ(Ｂ液)を準備した。両者の合計量における希土類イオン（Ｈｏ３＋）の濃度は１．０７ｍｏｌ／ｌである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月28日(2004.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
ジカルボン酸単位（ａ）は、４０モル％以下であれば、テレフタル酸単位以外の他のジカルボン酸単位を含んでいてもよい。かかる他のジカルボン酸単位としては、マロン酸、ジメチルマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、２−メチルアジピン酸、トリメチルアジピン酸、ピメリン酸、２，２−ジメチルグルタル酸、２，２−ジエチルコハク酸、アゼライン酸、セバシン酸、スベリン酸等の脂肪族ジカルボン酸；１，３−シクロペンタンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環式ジカルボン酸；イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，４−フェニレンジオキシジ酢酸、１，３−フェニレンジオキシジ酢酸、ジフェン酸、ジフェニルメタン−４，４’−ジカルボン酸、ジフェニルスルホン−４，４’−ジカルボン酸、４，４’−ビフェニルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸から誘導される単位を挙げることができ、これらのうちの１種または２種以上を使用することができる。これらのなかでも芳香族ジカルボン酸から誘導される単位が好ましい。ジカルボン酸単位（ａ）におけるこれらの他のジカルボン酸単位の含有率は、２５モル％以下であることが好ましく、１０モル％以下であることがより好ましい。さらに、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸などの多価カルボン酸から誘導される単位を、溶融成形が可能な範囲内で含んでいてもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
変性に使用されるα，β−不飽和カルボン酸および／またはその誘導体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和モノカルボン酸；マレイン酸、イタコン酸、フタル酸等のα，β−不飽和ジカルボン酸；グリシジルアクリレ−ト、グリシジルメタクリレ−ト、ヒドロキシエチルアクリレ−ト、ヒドロキシエチルメタクリレ−ト等のα，β−不飽和モノカルボン酸エステル；無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水フタル酸等のα，β−不飽和ジカルボン酸無水物などが挙げられる。これらの中でも、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水フタル酸等のα，β−不飽和ジカルボン酸無水物が好ましく、無水マレイン酸がより好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
α，β−不飽和カルボン酸またはその誘導体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和モノカルボン酸；マレイン酸、イタコン酸、フタル酸等のα，β−不飽和ジカルボン酸；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、エタクリル酸メチル、グリシジルアクリレ−ト、グリシジルメタクリレ−ト、ヒドロキシエチルアクリレ−ト、ヒドロキシエチルメタクリレ−ト等のα，β−不飽和モノカルボン酸エステル；無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水フタル酸等のα，β−不飽和ジカルボン酸無水物などが挙げられるが、メタクリル酸メチル、無水マレイン酸が最も好ましい。
また、シアン化ビニル系化合物としては、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどが挙げられる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月9日(2005.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記（Ａ）成分が、一般式（１）で表わされるリン化合物の金属塩であることを特徴とする請求項１に記載の潤滑油組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
更に（Ｂ）金属系清浄剤、（Ｃ）無灰分散剤及び（Ｄ）酸化防止剤から選ばれる少なくとも１種の添加剤を含有することを特徴とする請求項１に記載の潤滑油組成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
従って酸化安定性に極めて優れたロングドレイン型の潤滑油を得るためには、摩耗防止剤を中心とした抜本的な添加剤配合の見直しが必要となってきた。
また、近年の環境問題に対応して内燃機関に装着されている三元触媒や酸化触媒、ＮＯｘ吸蔵還元触媒等の排ガス触媒、あるいはＤＰＦ（ディーゼルパティキュレートフィルタ）等の排ガス後処理装置への影響を緩和する必要に迫られ、低硫黄、低リン、あるいは低灰分の潤滑油も要望されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
一般式（１）において、Ｒ１は炭素数１以上の炭化水素基を示し、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ個別に水素又は炭素数１〜３０の炭化水素基を示す。
前記（Ａ）成分が、一般式（１）で表わされるリン化合物の金属塩であることが好ましい。
一般式（１）におけるＲ１、Ｒ２及びＲ３の全てが炭素数１〜３０の炭化水素基であることが好ましい。
本発明の潤滑油組成物は、更に（Ｂ）金属系清浄剤、（Ｃ）無灰分散剤及び（Ｄ）酸化防止剤から選ばれる少なくとも１種の添加剤を含有することが好ましい。
前記（Ｂ）成分が、硫黄を含有しない金属系清浄剤であることが好ましい。
潤滑油基油の全芳香族分が１０質量％以下、硫黄分が０．０５質量％以下であることが好ましい。
本発明の潤滑油組成物は、内燃機関用であることが好ましく、硫黄分が５０質量ｐｐｍ以下の燃料を使用する内燃機関用であることが特に好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
アルカリ金属又はアルカリ土類金属スルホネートとは、分子量３００〜１５００、好ましくは４００〜７００のアルキル芳香族化合物をスルホン化することによって得られるアルキル芳香族スルホン酸のアルカリ金属又はアルカリ土類金属塩、特にマグネシウム塩及び／またはカルシウム塩であり、カルシウム塩が好ましく用いられる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月11日(2004.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非水溶性マトリックスと該非水溶性マトリックス中に分散された水溶性粒子とを含有する研磨パッド用組成物において、該非水溶性マトリックスは架橋１，２−ポリブタジエンと、架橋１，２−ポリブタジエン及び架橋エチレン−酢酸ビニル共重合体の両方を除く他の架橋重合体（但し、カルボキシル基、アミノ基、ヒドロキシル基、エポキシ基、スルホン酸基及びリン酸基の群から選ばれる少なくとも１種の官能基を有する架橋重合体、並びにポリブタジエンゴムを除く。）とを含有し、該架橋１，２−ポリブタジエンは、該非水溶性マトリックス全体を１００質量％とした場合に１０質量％以上であることを特徴とする研磨パッド用組成物。
【請求項２】
非水溶性マトリックスと該非水溶性マトリックス中に分散された水溶性粒子とを含有する研磨パッド用組成物において、該非水溶性マトリックスは架橋１，２−ポリブタジエンと架橋エチレン−酢酸ビニル共重合体とを含有し、該架橋１，２−ポリブタジエンは該非水溶性マトリックス全体を１００質量％とした場合に１０質量％以上であり、且つ、該架橋１，２−ポリブタジエンは該架橋１，２−ポリブタジエンと該架橋エチレン−酢酸ビニル共重合体との合計を１００質量％とした場合に５０質量％以上であることを特徴とする研磨パッド用組成物。
【請求項３】
上記非水溶性マトリックスは、更に、架橋１，２−ポリブタジエン及び架橋エチレン−酢酸ビニル共重合体の両方を除く他の架橋重合体を含有する請求項２記載の研磨パッド用組成物。
【請求項４】
上記他の架橋重合体は、架橋ポリエチレン重合体、架橋アクリロニトリル−スチレン−ブタジエン共重合体、及び架橋スチレン−ブタジエン−スチレン共重合体のうちの少なくとも１種である請求項１又は３に記載の研磨パッド用組成物。
【請求項５】
請求項１乃至４のうちのいずれか１項に記載の研磨パッド用組成物からなる研磨部を備えることを特徴とする研磨パッド。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、下記（１）〜（４）の研磨パッド用組成物及びこれを用いた研磨パッドを提供する。
（１）非水溶性マトリックスと該非水溶性マトリックス中に分散された水溶性粒子とを含有する研磨パッド用組成物において、該非水溶性マトリックスは架橋１，２−ポリブタジエンと、架橋１，２−ポリブタジエン及び架橋エチレン−酢酸ビニル共重合体の両方を除く他の架橋重合体（但し、カルボキシル基、アミノ基、ヒドロキシル基、エポキシ基、スルホン酸基及びリン酸基の群から選ばれる少なくとも１種の官能基を有する架橋重合体、並びにポリブタジエンゴムを除く。）とを含有し、該架橋１，２−ポリブタジエンは、該非水溶性マトリックス全体を１００質量％とした場合に１０質量％以上であることを特徴とする研磨パッド用組成物。
（２）非水溶性マトリックスと該非水溶性マトリックス中に分散された水溶性粒子とを含有する研磨パッド用組成物において、該非水溶性マトリックスは架橋１，２−ポリブタジエンと架橋エチレン−酢酸ビニル共重合体とを含有し、該架橋１，２−ポリブタジエンは該非水溶性マトリックス全体を１００質量％とした場合に１０質量％以上であり、且つ、該架橋１，２−ポリブタジエンは該架橋１，２−ポリブタジエンと該架橋エチレン−酢酸ビニル共重合体との合計を１００質量％とした場合に５０質量％以上であることを特徴とする研磨パッド用組成物。
（３）上記非水溶性マトリックスは、更に、架橋１，２−ポリブタジエン及び架橋エチレン−酢酸ビニル共重合体の両方を除く他の架橋重合体を含有する上記（２）に記載の研磨パッド用組成物。
（４）上記他の架橋重合体は、架橋ポリエチレン重合体、架橋アクリロニトリル−スチレン−ブタジエン共重合体、及び架橋スチレン−ブタジエン−スチレン共重合体のうちの少なくとも１種である上記（１）又は上記（３）に記載の研磨パッド用組成物。
（５）上記（１）乃至上記（４）のうちのいずれかに記載の研磨パッド用組成物からなる研磨部を備えることを特徴とする研磨パッド。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月6日(2005.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機ポリイソシアネート、高分子量親水性ポリオール及び／又はポリアミン、及び分子内に少なくとも１個の活性水素含有基を有するポリシロキサン化合物とを、反応させて得られる親水性セグメントとポリシロキサンセグメントとを有する親水性ポリウレタン系樹脂と微粒子アルミナとからなる組成物であって、その溶液においては、微粒子アルミナが上記の親水性ポリウレタン系樹脂の溶液に安定に分散していることを特徴とするアルミナ分散親水性ポリウレタン系樹脂組成物。
【請求項２】
微粒子アルミナの含有量が、上記の親水性ポリウレタン系樹脂に対して５〜９５重量％である請求項１に記載のアルミナ分散親水性ポリウレタン系樹脂組成物。
【請求項３】
微粒子アルミナは、平均粒径が１〜３００ｎｍである請求項１に記載のアルミナ分散親水性ポリウレタン系樹脂組成物。
【請求項４】
微粒子アルミナは、上記の親水性ポリウレタン系樹脂を合成する際に、前記の原料成分中の高分子量親水性ポリオール又はポリアミンの少なくとも一部として、微粒子アルミナと上記ポリオール又はポリアミンとの混合物を用いることで含有される請求項１に記載のアルミナ分散親水性ポリウレタン系樹脂組成物。
【請求項５】
親水性ポリウレタン系樹脂中の親水性セグメントの含有量が３０〜８０重量％、ポリシロキサンセグメントの含有量が０．１〜１０重量％である請求項１に記載のアルミナ分散親水性ポリウレタン系樹脂組成物。
【請求項６】
親水性セグメントがポリエチレンオキサイドセグメントである請求項１に記載のアルミナ分散親水性ポリウレタン系樹脂組成物。
【請求項７】
有機ポリイソシアネート、高分子量親水性ポリオール及び／又はポリアミン、及び分子内に少なくとも１個の活性水素含有基を有するポリシロキサン化合物とを、反応させて得られる親水性セグメントとポリシロキサンセグメントとを有する親水性ポリウレタン系樹脂と微粒子アルミナとからなる親水性ポリウレタン系樹脂組成物を製造する方法において、上記親水性ポリウレタン系樹脂を上記原料成分中の高分子量親水性ポリオール及びポリアミンの少なくとも一部として、微粒子アルミナと上記ポリオール又はポリアミンとの混合物を使用して製造することを特徴とするアルミナ分散親水性ポリウレタン系樹脂組成物の製造方法。
【請求項８】
上記の混合物が、高分子量親水性ポリオール又はポリアミンとアルミナゾルとの混合物からアルミナゾルの分散溶剤を除去したものである請求項７に記載のアルミナ分散親水性ポリウレタン系樹脂組成物の製造方法。
【請求項９】
微粒子アルミナは、平均粒径が１〜３００ｎｍである請求項７又は８に記載のアルミナ分散親水性ポリウレタン系樹脂組成物の製造方法。
【請求項１０】
上記の混合物中の微粒子アルミナの含有量が、生成する上記の親水性ポリウレタン系樹脂に対して５〜９５重量％となる量である請求項８に記載のアルミナ分散親水性ポリウレタン系樹脂組成物の製造方法。
【請求項１１】
親水性ポリウレタン系樹脂中の親水性セグメントの含有量が３０〜８０重量％、ポリシロキサンセグメントの含有量が０．１〜１０重量％である請求項７に記載のアルミナ分散親水性ポリウレタン系樹脂組成物の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的は以下の本発明によって達成される。即ち、本発明は、有機ポリイソシアネート、高分子量親水性ポリオール及び／又はポリアミン、及び分子内に少なくとも１個の活性水素含有基を有するポリシロキサン化合物とを、反応させて得られる親水性セグメントとポリシロキサンセグメントとを有する親水性ポリウレタン系樹脂と微粒子アルミナとからなる組成物であって、その溶液においては、微粒子アルミナが上記の親水性ポリウレタン系樹脂の溶液に安定に分散していることを特徴とするアルミナ分散親水性ポリウレタン系樹脂組成物である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
又、本発明は、有機ポリイソシアネート、高分子量親水性ポリオール及び／又はポリアミン、及び分子内に少なくとも１個の活性水素含有基を有するポリシロキサン化合物とを、反応させて得られる親水性セグメントとポリシロキサンセグメントとを有する親水性ポリウレタン系樹脂と微粒子アルミナとからなる親水性ポリウレタン系樹脂組成物を製造する方法において、上記親水性ポリウレタン系樹脂を上記原料成分中の高分子量親水性ポリオール及びポリアミンの少なくとも一部として、微粒子アルミナと上記ポリオール又はポリアミンとの混合物を使用して製造することを特徴とするアルミナ分散親水性ポリウレタン系樹脂組成物の製造方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月5日(2004.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、各種添加剤を含有するものであってもよい。添加剤としては、例えば、各種有機あるいは無機顔料；酸性染料、直接染料、反応性染料、分散染料、食品用色素等の各種染料；可塑剤、成膜助剤、ワックス、保湿剤、消泡剤、界面活性剤、湿潤剤、レベリング剤、増粘剤、レオロジー改良剤、金属イオン封鎖剤、殺生剤、分散剤；炭酸カルシウム、タルク、クレー、シリカ、シリケート等の増量剤；フィラー、凍結防止剤、凍結および解凍安定剤、保存料、腐食防止剤、カラー保水性向上剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線防止剤、蛍光増白剤等が挙げられる。これら添加剤の配合量は、本発明の効果を損なわない範囲内で適宜設定すればよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本発明の樹脂組成物を塗工・含浸することのできる基材は、特に限定されるものではなく、例えば、ポリエチレンやポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ナイロン、ＰＥＴ等のポリエステル系樹脂、セロファン、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂等の有機基材；上質紙、クラフト紙、クレープ紙、グラシン紙、プラスチックコート紙等の紙基材；金属（例えば、鉄、アルミニウム、銅）、ガラス、コンクリート、セメント、煉瓦、石膏板等の無機基材；ビチューメン；シンダーブロック；パーチクルボード；木材；麻、綿、レーヨン、キュプラ等のセルロース系繊維；羊毛、獣毛、絹等のタンパク繊維；アセテート等の半合成繊維；ナイロン、ポリエステル、ポリアクリロニトリル、ビニロン等の合成繊維；ロックウール、ガラスファイバー等の無機繊維；皮革；等が挙げられる。また、下塗り剤等の塗料を塗布した基材の上にも塗工することができる。これら基材の形態としては、特に限定されないが、フィルム、シート、成形物、発泡体、コード、不織布や布等の繊維加工品等が挙げられる。また、本発明の樹脂組成物を塗工・含浸する際の方法についても、特に限定されず、例えば、ナイフコート、コンマコート、スロットダイコート、スライドダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、バーコート、キスコート、スプレーコート、エアスプレーコート、ロールコート、ブラシコート、カーテンコート、フラッドコート、ディッピングコート等の公知の方法や装置を採用することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本発明の樹脂組成物は、酒石酸および／またはその塩が共存していることにより、１液安定性に優れ、また、室温という緩やかな乾燥条件においても良好な乾燥性を示すとともに、得られた塗膜は、塗膜外観、塗膜の密着性、耐水ラビング性、耐温水白化性、耐ブロッキング性に特に優れ、耐水性、耐溶剤性、強度にも優れている。このため、本発明の樹脂組成物は、例えば、グラビア印刷用インク、フレキソ印刷用インク、インクジェットプリンター用インク等の各種インク；ＯＰニス、フィルムコート等の各種クリアーコーティング剤；インクジェットプリンター用受容紙の受容層；路面表示用塗料、導電性塗料、プラスチック用塗料、無機建材用塗料、金属用塗料、皮革塗料、補修用塗料等の各種塗料；有機基材、無機基材、難接着性基材へのプライマー；不織布バインダー、顔料捺染用バインダー、撥水加工や仕上げ加工用バインダー、織布コーティングや含浸処理加工用バインダー等の各種繊維処理剤；ドライラミネートや押し出しラミネート等の各種ラミネート用接着剤、木材用接着剤、構造用接着剤等の各種接着剤；帯電防止剤；プライマー；トップコート；粘着剤；マニキュアやヘアセット剤等の各種化粧品；等の幅広い用途において、耐摩擦性、耐ブロッキング性、耐洗濯性、耐水強度、耐水接着性、耐薬品性等の実用的な耐性および良好な作業性を発揮し、好適に用いることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
（実施例４）
実施例３で用いた配合成分をそれぞれ表１に示す配合比で用いたこと以外は実施例３と同様にし、各種試験を行った。結果を表１に示した。
（実施例５）
水分散性ウレタン系樹脂（スーパーフレックス４６０（第一工業製薬製））を用い、表１に示す配合比で用いたこと以外は実施例１と同様にし、各種試験を行った。結果を表１に示した。
（比較例１〜３）
実施例１〜５で用いた配合成分のうちから選択される成分を表２に示す配合比で用いたこと以外は実施例１と同様にし、各種試験を行った。結果を表２に示した。