Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月15日(2004.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電源としてバッテリを使用する電子機器であって、該バッテリが複数の異なるバッテリケミストリーのいずれかである電子機器の残量計測方法であって、
バッテリのバッテリケミストリーを確定するステップと、
該確定されたバッテリケミストリーにバッテリ残量計測を適応させるステップと
を含む方法。
【請求項２】
前記電子機器の動作モードを確定するステップをさらに含み、前記適応させるステップが、該確定された動作モードに前記残量計測をさらに適応させるステップを含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記バッテリケミストリーを確定するステップが、
負荷状態の前記バッテリの電圧を測定するステップと、
該測定された特性を、前記機器に使用され得る前記複数の異なるバッテリケミストリーの各バッテリケミストリーの既知の特性の各々と比較するステップと、
を含み、
該測定された特性と該既知の特性の各々の１またはそれ以上との関係が、前記確定されたバッテリケミストリーと一致する請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記バッテリケミストリーを確定するステップが、
無負荷状態の前記バッテリの電圧を測定して無負荷バッテリ測定電圧値をもたらすステップと、
負荷状態の前記バッテリの電圧を測定して負荷バッテリ測定電圧値をもたらすステップと、
該無負荷測定電圧値と該負荷測定電圧値との比からバッテリケミストリー係数を計算するステップと、
該計算されたバッテリケミストリー係数を、各候補バッテリケミストリーに対応するバッテリケミストリー係数の範囲のセットと比較すること、
を含み、
前記確定されたバッテリケミストリーが、該計算された係数が入る該係数の範囲に対応する該候補バッテリケミストリーである請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記残量計測を適応させるステップが、各異なる確定されたバッテリケミストリーに対して異なる残量計アルゴリズムを使用し、前記バッテリの残量を計測するステップを含む請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記バッテリの特性を監視し測定データを生成するステップと、
残量計読み値を生成するステップであって、該残量計読み値が前記確定されたバッテリケミストリーと該測定データとの関数であるステップと
をさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項７】
バッテリを有し、複数の異なるバッテリケミストリーのいずれをも使用することができる電子機器と共に使用される残量計測装置であって、
該バッテリの特性を監視し測定データを生成するバッテリモニタと、
該測定データを受取り、適応的残量計測を実現するコントローラであって、該適応的残量計測が、残量計読み値と該バッテリの確定されたケミストリーと任意選択的に確定された動作モードとを含み、該残量計読み値が、該測定データと該確定されたバッテリケミストリーと任意選択的に確定された動作モードとの関数であるコントローラと、
を含んでなる残量計測装置。
【請求項８】
前記コントローラからの前記測定データを格納するメモリと、
該メモリに格納されたコンピュータプログラムと、
をさらに含んでなり、
前記コントローラが、前記コンピュータプログラムを実行することにより前記適応的残量計測を実現する請求項７に記載の残量計測装置。
【請求項９】
前記コンピュータプログラムが、前記バッテリのケミストリーを確定する命令と、前記電子機器の前記動作モードを確定する命令と、該確定されたケミストリーと前記確定された動作モードと前記測定データとから前記残量計読み値を生成する命令とを含む請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
適応的残量計測を有する電子機器であって、バッテリを有し、複数の異なるバッテリケミストリーのいずれをも使用することができる電子機器であって、
該バッテリの特性を測定するバッテリモニタと、
該バッテリモニタから該測定されたバッテリ特性を受取るコントローラと、
該コントローラのための一時的なデータ格納を提供するメモリと、
該コントローラによってもたらされる結果を表示するユーザインタフェースと、
該メモリに格納されており、該適応的残量計測を実現するコンピュータプログラムと
を含み、
該コンピュータプログラムが、該コントローラによって実行されるときに、該バッテリのケミストリーを確定し、該確定されたケミストリーに残量計測を適応させ、該適応に基づき該測定されたバッテリ特性のデータから該ユーザインタフェースに残量計測結果を生成する命令を含む電子機器。
【請求項１１】
前記コンピュータプログラムが、前記データが測定されたときに、前記機器の動作モードを確定し、さらに該確定された動作モードに前記残量計測を適応させる命令をさらに含む請求項１０に記載の電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月3日(2004.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動体上または、移動体上と固定位置とに配置された複数のアンテナと、前記複数のアンテナのうち１つを基準アンテナとして、前記複数のアンテナで複数の測位用衛星からの電波をそれぞれ受信して、１重位相差または２重位相差の観測結果から整数バイアスおよび基線ベクトルを推定する手段を備えるキャリア位相相対測位装置において、
前記複数の測位用衛星が増減した場合、または基準となる測位用衛星が切り替わった場合に、前記推定された基線ベクトルまたは前記推定された整数バイアスから新たな前記整数バイアスを推定することを特徴とするキャリア位相相対測位装置。
【請求項２】
前記測位用衛星が増加した場合に、該測位用衛星が増加する前に推定された前記基線ベクトルのみから、前記整数バイアスを推定することを特徴とする請求項１に記載のキャリア位相相対測位装置。
【請求項３】
前記測位用衛星が減少した場合に、該減少した測位用衛星に関する前記整数バイアスの推定値を除去することにより、測位用衛星減少後の前記整数バイアスを推定することを特徴とする請求項１に記載のキャリア位相相対測位装置。
【請求項４】
前記整数バイアスの推定に前記２重位相差を用い、前記基準となる測位用衛星が切り替わった場合に、該切り替わりに応じて、差分演算処理を行うことにより、切り替わり後の前記整数バイアスを推定することを特徴とする請求項１に記載のキャリア位相相対測位装置。
【請求項５】
前記整数バイアスおよび基線ベクトルを推定する手段で推定された整数バイアスを検定する手段を備え、
該整数バイアスを検定する手段は、連続して検出された前記整数バイアス推定値について、所定回数、その確かさが認められることにより、整数バイアスとして決定することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のキャリア位相相対測位装置。
【請求項６】
前記整数バイアスおよび基線ベクトルを推定する手段で推定された整数バイアスを検定する手段を備え、
前記整数バイアスを検定する手段は、連続して検出された前記整数バイアス推定値が、所定回数、同じ値となることにより、整数バイアスとして決定することを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれかに記載のキャリア位相相対測位装置。
【請求項７】
前記整数バイアスの基となるfloating  ambiguity と基線ベクトルとの推定に、カルマンフィルタを用いることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のキャリア位相相対測位装置。
【請求項８】
前記floating  ambiguity を基にＬＡＭＢＤＡ法を用いて、前記整数バイアスの推定および決定を行うことを特徴とする請求項７に記載のキャリア位相相対測位装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】
この発明は、基線ベクトルと整数バイアスとを推定する手段を備え、複数の測位用衛星の増減および基準となる測位用衛星が切り替わった場合に、推定された基線ベクトルまたは推定された整数バイアスから新たな整数バイアスを推定する方法を用いて、キャリア位相相対測位装置を構成する。これにより、複数の測位用衛星の増減する場合、または基準となる測位用衛星が切り替わった場合に、新たに整数バイアスを推定せず、直前での整数バイアスまたは基線ベクトルを用いて、その時点までの整数バイアスの推定を継続する。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、この発明は、整数バイアスおよび基線ベクトルを推定する手段で推定された整数バイアスを検定する手段を備え、この整数バイアスを検定する手段で、連続して検出された整数バイアス推定値について、所定回数、その確かさが認められることにより、整数バイアスとして決定する。これにより、同一の整数バイアス推定値が繰り返される回数をカウントし、検定された整数バイアスの確かさを確認する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、この発明は、整数バイアスおよび基線ベクトルを推定する手段で推定された整数バイアスを検定する手段を備え、この整数バイアスを検定する手段で、連続して検出された整数バイアス推定値が、所定回数、同じ値となることにより、整数バイアスとして決定する。これにより、同一の整数バイアス推定値が連続して繰り返される回数をカウントし、更に高精度に検定された整数バイアスの確かさを確認する。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、この発明は、floating  ambiguity を基にＬＡＭＢＤＡ法を用いて、整数バイアスの推定および決定を行う。これにより、整数バイアスを推定、算出し、その確かさを向上する。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５５】
また、この発明によれば、連続して検出された整数バイアス推定値が、所定回数、同じ値となることにより、整数バイアスとして決定する方法を用いることにより、検定された整数バイアスの確かさを、更に高精度に確認することができる。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５７】
また、この発明によれば、floating  ambiguity を基にＬＡＭＢＤＡ法を用いて、整数バイアスの推定および決定を行うことにより、容易に整数バイアスを推定、算出し、その確かさを向上することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月21日(2005.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料の観察状態を変更する複数の被調整部材および前記複数の被調整部材を電動制御する顕微鏡制御部を備えた顕微鏡と、
前記試料の光学像を撮像して画像を生成する撮像手段と、
前記撮像手段により生成される画像を表示し、前記表示画像に基づき表示条件を変更できる表示手段と、
前記表示手段により表示すべき画像の前記表示条件に応じて、前記複数の被調整部材のうち制御すべき被調整部材の制御内容と前記撮像手段の撮像条件とを関連付けて決定し、決定した内容に従って前記被調整部材と前記撮像手段とを互いに関連させて制御し、前記撮像手段からの画像を画像処理して前記表示手段に表示する制御手段と
を備えたことを特徴とする顕微鏡システム。
【請求項２】
請求項１に記載の顕微鏡システムにおいて、
前記表示手段の表示画面上において前記画像の表示条件を設定できる表示条件設定手段を備え、
前記制御手段は、前記撮像手段により生成される画像を前記表示手段に表示させる画像処理手段と、前記複数の被調整部材の制御内容を示す信号を前記画像処理手段に伝達するインタフェース部とを備えた
ことを特徴とする顕微鏡システム。
【請求項３】
請求項２に記載の顕微鏡システムにおいて、
前記制御手段は、前記試料の観察倍率を変更すると、まず前記表示条件設定手段により設定された画像の明るさ条件に応じて前記撮像手段が適正露出となるように、前記複数の被調整部材のうち制御すべき被調整部材を制御し、次に前記撮像手段の撮像条件を決定する
ことを特徴とする顕微鏡システム。
【請求項４】
請求項２または請求項３の何れか１項に記載の顕微鏡システムにおいて、
前記制御手段は、前記表示条件設定手段により明るさ以外の画像の表示条件が設定された場合、前記表示手段に既に表示されている画像の明るさが保たれるように、前記制御すべき被調整部材の制御内容と前記撮像条件とを決定する
ことを特徴とする顕微鏡システム。
【請求項５】
請求項１に記載の顕微鏡システムにおいて、
検鏡方法の設定に係るユーザ操作を受け付ける検鏡方法設定手段を備え、
前記制御手段は、前記表示手段に既に表示されている画像の表示条件が保たれるように、前記制御すべき被調整部材の制御内容と前記撮像条件とを、前記検鏡方法設定手段により設定された検鏡方法に基づいて決定する
ことを特徴とする顕微鏡システム。
【請求項６】
請求項５に記載の顕微鏡システムにおいて、
前記制御手段は、前記表示手段に表示されている画像の明るさが最適に保たれるように、前記制御すべき被調整部材の制御内容と前記撮像条件とを、前記検鏡方法設定手段により設定された検鏡方法に基づいて決定する
ことを特徴とする顕微鏡システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の顕微鏡システムは、試料の観察状態を変更する複数の被調整部材および前記複数の被調整部材を電動制御する顕微鏡制御部を備えた顕微鏡と、前記試料の光学像を撮像して画像を生成する撮像手段と、前記撮像手段により生成される画像を表示し、前記表示画像に基づき表示条件を変更できる表示手段と、前記表示手段により表示すべき画像の前記表示条件に応じて、前記複数の被調整部材のうち制御すべき被調整部材の制御内容と前記撮像手段の撮像条件とを関連付けて決定し、決定した内容に従って前記被調整部材と前記撮像手段とを互いに関連させて制御し、前記撮像手段からの画像を画像処理して前記表示手段に表示する制御手段とを備えたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項２に記載の顕微鏡システムは、請求項１に記載の顕微鏡システムにおいて、前記表示手段の表示画面上において前記画像の表示条件を設定できる表示条件設定手段を備え、前記制御手段は、前記撮像手段により生成される画像を前記表示手段に表示させる画像処理手段と、前記複数の被調整部材の制御内容を示す信号を前記画像処理手段に伝達するインタフェース部とを備えたことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項３に記載の顕微鏡システムは、請求項２に記載の顕微鏡システムにおいて、前記制御手段は、前記試料の観察倍率を変更すると、まず前記表示条件設定手段により設定された画像の明るさ条件に応じて前記撮像手段が適正露出となるように、前記複数の被調整部材のうち制御すべき被調整部材を制御し、次に前記撮像手段の撮像条件を決定することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月9日(2005.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】結像光学系、投影露光装置、及び投影露光方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＳｒＦ2の結晶材料からなる屈折部材を少なくとも１つ備えている
ことを特徴とする結像光学系。
【請求項２】
前記ＳｒＦ2の結晶材料の＜１１１＞結晶軸は、前記屈折部材の光軸方向に一致している
ことを特徴とする請求項１に記載の結像光学系。
【請求項３】
前記ＳｒＦ2の結晶材料からなる屈折部材は、
光軸を基準とした結像光束の最大通過角度が、他の屈折部材よりも大きい
ことを特徴とする請求項２に記載の結像光学系。
【請求項４】
前記ＳｒＦ2の結晶材料からなる屈折部材は、
出射面と入射面との面間隔が、他の屈折部材よりも大きい
ことを特徴とする請求項３に記載の結像光学系。
【請求項５】
開口数０．６以上の光束を結像に寄与させる請求項１〜請求項４の何れか一項に記載の結像光学系であって、
前記ＳｒＦ2の結晶材料からなる屈折部材は、
光軸を基準とした結像光束の最大通過角度θが、sinθ＞０．４を満たす
ことを特徴とする結像光学系。
【請求項６】
ＣａＦ2の結晶材料からなる屈折部材を少なくとも１つ備えている
ことを特徴とする請求項１〜請求項５の何れか一項に記載の結像光学系。
【請求項７】
全ての屈折部材が波長１６０ｎｍ以下の光を透過可能な材料からなり、
物体の縮小像をテレセントリックに投影し、かつその縮小側の開口数が０．６以上である
ことを特徴とする請求項１〜請求項６の何れか一項に記載の結像光学系。
【請求項８】
原板のパターンを基板状に縮小投影する投影露光装置であって、
波長１６０ｎｍ以下の光を出射する光源と、
請求項７に記載の結像光学系と
を備えたことを特徴とする投影露光装置。
【請求項９】
パターンを基板上に縮小投影する投影露光方法であって、
光源からの波長１６０ｎｍ以下の光に基づいて、請求項７に記載の結像光学系を用いて前記パターンの縮小像を前記基板上に形成する
ことを特徴とする投影露光方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、結像光学系、及び原板のパターンを基板上に縮小投影する投影露光装置、及び投影露光方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
しかし、短波長の光は、エネルギーが高いため、投影光学系内のレンズを透過する際に照射変動を生じさせ、性能を劣化させる虞がある。
このような性能の劣化は、使用波長が２００ｎｍ以下である投影光学系、例えば、特開平５−１７３０６５号公報に記載された屈折型の投影光学系、特開平５−７２４７８号公報に記載された反射屈折型の投影光学系においてでさえも生じている（なお、これらのレンズの材料は、石英（ＳｉＯ2）である。）。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
そこで本発明は、短波長化した場合に生じる複屈折を確実に小さく抑えることができ、コントラストが良好な高性能な結像光学系、及び高性能な投影露光装置を提供することを目的とする。また、本発明は、良好なコントラストでパターンを基板上に投影することのできる投影露光方法を提供することを目的とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項７に記載の結像光学系は、全ての屈折部材が波長１６０ｎｍ以下の光を透過可能な材料からなり、物体の縮小像をテレセントリックに投影し、かつその縮小側の開口数が０．６以上であることを特徴とする請求項１〜請求項６の何れか一項に記載の結像光学系である。
請求項８に記載の投影露光装置は、原板のパターンを基板状に縮小投影する投影露光装置であって、波長１６０ｎｍ以下の光を出射する光源と、請求項７に記載の結像光学系とを備えたことを特徴とする。
請求項９に記載の投影露光方法は、パターンを基板上に縮小投影する投影露光方法であって、光源からの波長１６０ｎｍ以下の光に基づいて、請求項７に記載の結像光学系を用いて前記パターンの縮小像を前記基板上に形成することを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
【発明の効果】
以上説明したとおり、本発明によると、短波長化した場合に生じる複屈折を確実に小さく抑えることができ、コントラストが良好な高性能な結像光学系、及び高性能な投影露光装置が実現する。
また、本発明によると、良好なコントラストでパターンを基板上に投影することのできる投影露光方法が実現する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月10日(2004.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
顕微鏡本体と、
標本を載置するベース部と、前記ベース部に立設された支柱と、前記支柱に対して上下移動可能に取り付けられた焦準移動部と、前記焦準移動部に接続されて前記顕微鏡本体を連結するアーム部とを有し、前記顕微鏡本体を搭載して前記標本の焦準を行う架台と、
前記標本を照明するための光源を格納し、前記ベース部、前記支柱、前記アームの内少なくとも１つに着脱可能な光源ユニットと、
を備えたことを特徴とする実体顕微鏡。
【請求項２】
前記光源ユニットは、前記標本に照明光を導くためのファイバを着脱可能であり、前記アーム部は、前記ファイバの先端部を保持する方向保持手段を備えたことを特徴とする請求項１記載の実体顕微鏡。
【請求項３】
前記光源ユニットは、前記標本に照明光を導くためのファイバを着脱可能であり、前記アーム部は、前記ファイバから出射される照明光の出射方向を調整する方向調整手段を備えたことを特徴とする請求項１記載の実体顕微鏡。
【請求項４】
前記アーム部は、前記光源ユニットから出射される照明光の出射方向を保持するための保持手段を備えたことを特徴とする請求項１記載の実体顕微鏡。
【請求項５】
前記アーム部は、前記光源ユニットから出射される照明光の出射方向を調整するための調整手段を備えたことを特徴とする請求項１記載の実体顕微鏡。
【請求項６】
前記ベース部は、
前記光源ユニットを取り付けるための取付部と、
前記光源からの光を導くためのレンズと、
前記レンズからの光を標本に照射するために折り返すミラー部と、
を備えたことを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の実体顕微鏡。
【請求項７】
前記光源ユニットは、
前記光源の交換が可能な交換部と、
前記光源の光量を調整する調整部と、
を備えたことを特徴とする請求項２乃至６のうちいずれか１項に記載の実体顕微鏡。
【請求項８】
前記光源に直流電圧を供給する電源アダプタを更に備えたことを特徴とする請求項２乃至６のうちいずれか1項に記載の実体顕微鏡。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解消するための本発明は、顕微鏡本体と、標本を載置するベース部と、ベース部に立設された支柱と、支柱に対して上下移動可能に取り付けられた焦準移動部と、焦準移動部に接続されて顕微鏡本体を連結するアーム部とを有し、顕微鏡本体を搭載して標本の焦準を行う架台と、標本を照明するための光源を格納し、ベース部、支柱、アームの内少なくとも１つに着脱可能な光源ユニットとを備えた実体顕微鏡である。  
また、本発明は、上記記載の実体顕微鏡において、光源ユニットは、標本に照明光を導くためのファイバを着脱可能であり、アーム部は、ファイバの先端部を保持する方向保持手段を備えた実体顕微鏡である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明は、上記記載の実体顕微鏡において、光源ユニットは、標本に照明光を導くためのファイバを着脱可能であり、アーム部は、ファイバから出射される照明光の出射方向を調整する方向調整手段を備えた実体顕微鏡である。
また、本発明は、上記記載の実体顕微鏡において、アーム部は、光源ユニットから出射される照明光の出射方向を保持するための保持手段を備えた実体顕微鏡である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、本発明は、上記記載の実体顕微鏡において、アーム部は、光源ユニットから出射される照明光の出射方向を調整するための調整手段を備えた実体顕微鏡である。
また、本発明は、上記記載の実体顕微鏡において、ベース部は、光源ユニットを取り付けるための取付部と、光源からの光を導くためのレンズと、レンズからの光を標本に照射するために折り返すミラー部とを備えた実体顕微鏡である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、本発明は、上記記載の実体顕微鏡において、光源ユニットは、光源の交換が可能な交換部と、光源の光量を調整する調整部とを備えた実体顕微鏡である。
また、本発明は、上記記載の実体顕微鏡において、光源に直流電圧を供給する電源アダプタを更に備えた実体顕微鏡である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月10日(2004.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の蛍光色素や蛍光蛋白で標識された試料を励起するための複数の異なる波長域からなるレーザー光を発生するレーザー光源と、
前記レーザー光源より発生されるレーザー光を集光して前記試料上にレーザスポットを形成する対物レンズと、
前記レーザー光を複数の波長域ごとに前記対物レンズに対して異なる角度で入射させ、前記対物レンズにより前記試料上に形成されるレーザースポットをずらして照射させる照射手段と、
前記対物レンズにより試料上に形成されるレーザースポットを走査する走査手段と、
前記試料からの蛍光を複数の波長域ごとに分光する蛍光分光手段と、
前記蛍光分光手段で分光された各波長域の蛍光をそれぞれ異なる共焦点絞りを介して同時に検出する光検出手段とを具備したことを特徴とする走査型レーザー顕微鏡。
【請求項２】
前記光検出手段で検出された前記試料からの各波長域の蛍光をそれぞれ画像化し、位置補正するとともに、各画像を合成可能とした位置補正手段を有することを特徴とする請求項１記載の走査型レーザー顕微鏡。
【請求項３】
前記照射手段は、前記レーザー光源より発生されるレーザー光をスペクトル分解するスペクトル分解手段を有することを特徴とする請求項１または２に記載の走査型レーザー顕微鏡。
【請求項４】
前記照射手段は、前記レーザー光源より発生される複数の波長域ごとのレーザー光を対物レンズのほぼ瞳中心に投影するための瞳投影手段を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の走査型レーザー顕微鏡。
【請求項５】
複数のレーザー光源と、
前記レーザー光源より発生されるレーザー光を集光して前記試料上にレーザスポットを形成する対物レンズと、
前記複数のレーザー光を前記対物レンズに対してそれぞれ異なる角度で入射させ、前記対物レンズにより前記試料上に形成されるレーザースポットをずらして照射させる照射手段と、
前記対物レンズにより試料上に形成されるレーザースポットを走査する走査手段と、
前記試料からの蛍光を前記複数のレーザ光のそれぞれのスポット位置と共役であるそれぞれの共焦点絞りを介して同時に検出する光検出手段とを具備したことを特徴とする走査型レーザー顕微鏡。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
請求項４記載の発明は、請求項１乃至３のいずれかに記載の発明において、前記照射手段は、前記レーザー光源より発生される複数の波長域ごとのレーザー光を対物レンズのほぼ瞳中心に投影するための瞳投影手段を有することを特徴としている。
請求項５記載の発明は、複数のレーザー光源と、前記レーザー光源より発生されるレーザー光を集光して前記試料上にレーザスポットを形成する対物レンズと、前記複数のレーザー光を前記対物レンズに対してそれぞれ異なる角度で入射させ、前記対物レンズにより前記試料上に形成されるレーザースポットをずらして照射させる照射手段と、前記対物レンズにより試料上に形成されるレーザースポットを走査する走査手段と、前記試料からの蛍光を前記複数のレーザ光のそれぞれのスポット位置と共役であるそれぞれの共焦点絞りを介して同時に検出する光検出手段とを具備したことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月20日(2004.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
異なる被走査面上に形成される走査線間の湾曲差の許容量をΔｐをビーム径の１／１０に設定すると、６００ｄｐｉの場合には、前述のように条件｜ΔＸn-1(Ｙ)｜≦５０Δｐは、｜ΔＸn-1(Ｙ)｜≦０．２となる。実施例１−４は、いずれもサグ量差の絶対値が０．２ｍｍ以下であり、この条件を満たしている。この結果、ボウ差の最大値は０．００１２〜０．００３５の範囲であり、６００ｄｐｉの場合にはビーム径の１／１０以下(０．００４２３ｍｍ以下)という条件を満たしている。したがって、レンズの組み付け誤差や、調整のためにボウが発生した場合にも、各走査線の湾曲形状をほぼ一致させることができ、カラープリンターでの色ズレの発生を防ぐことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月8日(2005.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心軸線に対して横方向に延びる第１の曲面表面と、該中心軸線に対して横方向に延びる第２の曲面表面と、該第１の曲面表面と該第２の曲面表面との間に延びる外周面とを有するボディで構成され、該ボディは、該第１の曲面表面から入射したガウス型光強度分布をもつ入射光が、該第１の曲面表面から該第２の曲面表面を通過した際に受ける屈折により、ガウス型光強度分布をもつ入射光が中央部の光強度が低くかつ周辺部の光強度が高い光強度分布をもつ出射光に変換されるように構成されることを特徴とする光強度変換素子。
【請求項２】
光源と、光強度変換素子とを備え、
該光強度変換素子は、中心軸線に対して横方向に延びる第１の曲面表面と、該中心軸線に対して横方向に延びる第２の曲面表面と、該第１の曲面表面と該第２の曲面表面との間に延びる外周面とを有するボディで構成され、該ボディは、該第１の曲面表面から入射した入射光が、該第１の曲面表面から該第２の曲面表面を通過した際に受ける屈折により、ガウス型光強度分布をもつ入射光が中央部の光強度が低くかつ周辺部の光強度が高い光強度分布をもつ出射光に変換されるように構成されることを特徴とする光学装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月14日(2004.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Lrp様蛋白質の立体構造情報に基づき、該蛋白質のリガンドとなる物質を選択することを特徴とする、微生物の代謝、増殖および感染から選ばれる少なくとも１以上を制御する薬剤のスクリーニング方法であって、
前記立体構造情報が、Lrp様蛋白質会合体と少なくとも１つの天然のリガンドを含む結晶化複合体から得られる立体構造情報である前記方法。
【請求項２】
前記立体構造情報が、Lrp様蛋白質の会合によって生じるすきま部や穴部に関する立体構造情報である、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記立体構造情報が、Ｘ線回折法による原子3次元座標データから得られる情報である、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
以下の工程からなる、微生物の代謝、増殖および感染から選ばれる少なくとも１以上を制御する薬剤のスクリーニング方法。
1) Ｘ線回折法により、Lrp様蛋白質の結晶の原子３次元座標データを得る。
2) 上記３次元座標データを蛋白質の立体構造解析プログラムに入力し、Lrp様蛋白質の立体構造画像および／または数値情報を解析する。
3) 上記立体構造画像および／または数値情報に基づき、Lrp様蛋白質の会合によって生じるすきま部や穴部に関する立体構造情報を得る。
4) 上記立体構造情報に基づき、Lrp様蛋白質のリガンドとなる物質を薬剤として選択する。
【請求項５】
前記Lrp様蛋白質会合体が、Lrp様蛋白質の８量体である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記リガンドがLrp様蛋白質８量体を安定化するものである、請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記微生物の代謝、増殖および感染から選ばれる少なくとも１以上を制御する薬剤が抗微生物薬である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記Lrp様蛋白質がPyrococcus属に属する微生物由来のLrp様蛋白質である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記微生物がPyrococcus sp. OT3(JCM 9974)である、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記原子3次元座標データが表１記載のデータである、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
Lrp様蛋白質会合体と少なくとも１つの天然のリガンドを含む結晶化複合体。
【請求項１２】
前記Lrp様蛋白質会合体が、Lrp様蛋白質の８量体である、請求項１１記載の結晶化複合体。
【請求項１３】
前記Lrp様蛋白質がPyrococcus属に属する微生物由来のLrp様蛋白質である、請求項１１または１２記載の結晶化複合体。
【請求項１４】
前記微生物がPyrococcus sp. OT3(JCM 9974)である、請求項１３記載の結晶化複合体。
【請求項１５】
前記結晶化複合体が表１記載の原子3次元座標データによって特定されるものである、請求項１１〜１４のいずれか１項に記載の結晶化複合体。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月24日(2005.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微粒子を収める複数の容器を供給する工程と、
各々の前記微粒子を前記複数の容器からホルダーへ供給する工程とを有し、
前記微粒子はプローブが固定されるものであり、１の前記容器に収められた前記微粒子は１種類のプローブが固定されるものであることを特徴とするプローブアレイ製造方法。
【請求項２】
微粒子を収める複数の容器を供給する工程と、
各々の前記微粒子を前記複数の容器からホルダーへ供給する工程とを有し、
前記微粒子はプローブが固定されるものであり、１の前記容器に収められた前記微粒子に固定するプローブの種類は複数であることを特徴とするプローブアレイ製造方法。
【請求項３】
前記微粒子は液流で前記ホルダーへ供給されることを特徴とする請求項１内至請求項２に記載のプローブアレイ製造方法。
【請求項４】
前記微粒子は電場によって前記ホルダーへ供給されることを特徴とする請求項１内至請求項２に記載のプローブアレイ製造方法。
【請求項５】
前記微粒子は配列用溝を通じて前記ホルダーに供給されることを特徴とする請求項１内至請求項２に記載のプローブアレイ製造方法。
【請求項６】
前記配列用溝は前記複数の容器の配列方向と実質的に直交することを特徴とする請求項１内至請求項２に記載のプローブアレイ製造方法。
【請求項７】
各々の前記微粒子を前記複数の容器から前記キャピラリーへ所定の順で供給することを特徴とする請求項１内至請求項２に記載のプローブアレイ製造方法。
【請求項８】
前記ホルダーは、キャピラリー管であることを特徴とする請求項１内至請求項２に記載のプローブアレイ製造方法。
【請求項９】
前記ホルダーは、板状部材に形成された溝を有することを特徴とする請求項１内至請求項２に記載のプローブアレイ製造方法。
【請求項１０】
前記ホルダーの配列順序が前記ホルダーでの前記プローブの配列順序となることを特徴とする請求項１内至請求項２に記載のプローブアレイ製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月9日(2004.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検査対象である配線パターンに対向する電極を有するプローブを当該配線パターンに沿ってトレースし、電極と配線パターンとの間の静電容量を非接触で計測し、この静電容量から配線パターンの断線または短絡を検査する配線パターン検査方法。
【請求項２】
被検査対象である配線パターンに対向する電極を有する第一プローブを当該配線パターンに沿ってトレースする一方、この第一プローブとともに、被検査対象である配線パターンに対向する電極を有する第二プローブを配線パターンに沿ってトレースし、
第二プローブにより配線パターンと電極との間隔を非接触で計測し、この計測結果に基づいて第一プローブの電極と配線パターンとの間隔を一定に制御しつつ、第一プローブの電極と配線パターンとの間の静電容量を非接触で計測し、この静電容量から配線パターンの断線または短絡を検査する配線パターン検査方法。
【請求項３】
被検査対象である配線パターンに対向する電極を有するプローブを当該配線パターンに沿ってトレースし、
プローブの電極と配線パターンとの間の静電容量を非接触で計測し、静電容量の変化量が、
所定閾値以下の場合、前記静電容量の値に基づいてプローブの電極と配線パターンとの間隔を一定に制御し、
所定閾値より大きい場合、配線パターンの断線または短絡と判定する配線パターン検査方法。
【請求項４】
被検査対象である配線パターンに対向する電極を有するプローブを当該配線パターンに沿ってトレースし、
プローブの電極と配線パターンとの間の静電容量を非接触で計測して、前記プローブの出力信号を所定周期で連続的に切り換えて分岐出力し、一方で前記出力信号に基づいて前記プローブの電極と配線パターンとの間隔を一定に制御しつつ、他方で前記出力信号に基づいて配線パターンの断線または短絡を判定する配線パターン検査方法。
【請求項５】
被検査対象である配線パターンに対向する電極を有する第一プローブを当該配線パターンに沿ってトレースする一方、この第一プローブとともに、被検査対象である配線パターンに対する間隔を静電容量以外の手段をもって非接触で計測する第二プローブを配線パターンに沿ってトレースし、
第二プローブにより配線パターンとの間隔を非接触で計測し、この計測結果に基づいて第一プローブの電極と配線パターンとの間隔を一定に制御しつつ、第一プローブの電極と配線パターンとの間の静電容量を非接触で計測し、この静電容量から配線パターンの断線または短絡を検査する配線パターン検査方法。
【請求項６】
被検査対象である配線パターンに非接触で対向する電極を有するプローブと、
プローブの出力信号から電極と配線パターンとの間の静電容量を計測する静電容量計測手段と、
配線パターンに沿って前記プローブを移動制御する水平移動制御手段と、
前記静電容量から配線パターンの断線または短絡を判定する判定手段と、
を備えた配線パターン検査装置。
【請求項７】
被検査対象である配線パターンに非接触で対向する電極を有する第一プローブおよび第二プローブと、
第一プローブおよび第二プローブの出力信号から電極と配線パターンとの間の静電容量を計測する静電容量計測手段と、
第二プローブを配線パターンに対して垂直方向に移動すると共に第二プローブの計測した静電容量に基づいて配線パターンと電極との間隔を取得し、当該間隔が一定になるように第一プローブを移動制御する垂直制御制御手段と、
第一プローブを配線パターンに沿って移動制御する水平移動制御手段と、
第一プローブの計測した静電容量から配線パターンの断線または短絡を判定する判定手段と、
を備えた配線パターン検査装置。
【請求項８】
被検査対象である配線パターンに非接触で対向する電極を有するプローブと、
プローブを配線パターンに沿って移動制御する水平移動制御手段と、
プローブにより計測した静電容量が所定閾値以下の場合、配線パターンと電極との間隔が変化したと判定し、所定閾値より大きい場合、断線または短絡が発生したと判定する判定手段と、
プローブを配線パターンに対して垂直方向に移動すると共に配線パターンと電極との間隔が変化したと判定した場合、当該間隔が一定になるようにプローブを移動制御する垂直移動制御手段と、
を備えた配線パターン検査装置。
【請求項９】
被検査対象である配線パターンに非接触で対向する電極を有するプローブと、
プローブの出力信号を所定周期で切り換えて分岐出力する切換手段と、
プローブを配線パターンに対して垂直方向に移動すると共に分岐出力した一方の静電容量に基づいて配線パターンと電極との間隔を取得し、当該間隔が一定になるようにプローブを移動制御する垂直移動制御手段と、
プローブを配線パターンに沿って移動制御する水平移動制御手段と、
分岐出力した他方の静電容量から配線パターンの断線または短絡を判定する判定手段と、
を備えた配線パターン検査装置。
【請求項１０】
被検査対象である配線パターンに非接触で対向する電極を有する第一プローブと、
被検査対象である配線パターンとの間隔を静電容量以外の手段をもって非接触で計測する第二プローブと、
第一プローブの出力信号から電極と配線パターンとの間の静電容量を計測する静電容量計測手段と、
第二プローブの出力信号から第一プローブの電極と配線パターンとの間隔を計測する間隔計測手段と、
第二プローブを配線パターンに対して垂直方向に移動すると共に第二プローブの計測結果に基づいて配線パターンと電極との間隔が一定になるように第一プローブを移動制御する垂直移動制御手段と、
第一プローブを配線パターンに沿って移動制御する水平移動制御手段と、
第一プローブの計測した静電容量から配線パターンの断線または短絡を判定する判定手段と、
を備えた配線パターン検査装置。
【請求項１１】
更に、前記水平移動制御手段または垂直移動制御手段は、
ボールネジ等の直動送り手段と、圧電素子により構成した微小送り手段との組み合わせから構成される請求項６〜１０のいずれか一つに記載の配線パターン検査装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月21日(2005.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
均一時間分解蛍光法による、プロリンリッチなペプチドとＳＨ３ドメイン含有ペプチドとの相互作用を阻害する候補化合物のスクリーニング方法であって：
ａ）第１の蛍光マーカーで標識されたプロリンリッチなペプチドを含有する緩衝液を提供する工程（ここで、該第１の蛍光マーカーは、対のフレット（ＦＲＥＴ）蛍光マーカーの第１のパートナーまたは第２のパートナーである）；
ｂ）工程ａ）で得られた溶液に候補化合物を加える工程；
ｃ）第２の蛍光マーカーで直接または間接的に標識されたＳＨ３ドメイン含有ペプチドを加える工程（ここで、該第２の蛍光マーカーは、対のフレット（ＦＲＥＴ）蛍光マーカーの第２のパートナーまたは第１のパートナーである）；
ｄ）工程ｃ）で得られた混合物を、対のフレット（ＦＲＥＴ）蛍光マーカーの第１のパートナーの励起波長に対応する波長のエネルギー源に付して、対のフレット（ＦＲＥＴ）蛍光マーカーの第２のパートナーの発光波長における蛍光シグナルを測定する工程；
ｅ）工程ｄ）で得られた蛍光シグナル値を、工程ｂ）が無い時に得られた蛍光シグナル値と比較して、候補化合物が、プロリンリッチなペプチドとＳＨ３ドメイン含有ペプチドとの相互作用を阻害するかどうかを決定する工程、
を含んでなる、上記方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
１つの一般的な態様において本発明は、均一時間分解蛍光法（Homogeneous Time-Resolved Fluorescence technique）による、プロリンリッチなペプチドとＳＨ３ドメイン含有ペプチドとの相互作用を阻害する能力を有する、治療的価値のある化合物のスクリーニング方法であって：
ａ）第１の蛍光マーカーで標識されたプロリンリッチなペプチドを含有する緩衝液を提供する工程（ここで、該第１の蛍光マーカーは、対のフレット（ＦＲＥＴ）蛍光マーカーの第１のパートナーまたは第２のパートナーである）；
ｂ）工程ａ）で得られた溶液に候補化合物を加える工程；
ｃ）第２の蛍光マーカーで直接または間接的に標識されたＳＨ３ドメイン含有ペプチドを加える工程（ここで、該第２の蛍光マーカーは、対のフレット（ＦＲＥＴ）蛍光マーカーの第２のパートナーまたは第１のパートナーである）；
ｄ）工程ｃ）で得られた混合物を、対のフレット（ＦＲＥＴ）蛍光マーカーの第１のパートナーの励起波長に対応する波長のエネルギー源に付して、対のフレット（ＦＲＥＴ）蛍光マーカーの第２のパートナーの発光波長における蛍光シグナルを測定する工程；
ｅ）工程ｄ）で得られた蛍光シグナル値を、工程ｂ）が無い時に得られた蛍光シグナル値と比較して、候補化合物が、プロリンリッチなペプチドとＳＨ３ドメイン含有ペプチドとの相互作用を阻害するかどうかを決定する工程、
を含んでなる、上記方法を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
従って本発明はまず、均一時間分解蛍光法による、プロリンリッチなペプチドとＳＨ３ドメイン含有ペプチドとの相互作用を阻害する候補化合物のスクリーニング方法であって：
ａ）第１の蛍光マーカーで標識されたプロリンリッチなペプチドを含有する緩衝液を提供する工程（ここで、該第１の蛍光マーカーは、対のフレット（ＦＲＥＴ）蛍光マーカーの第１のパートナーまたは第２のパートナーである）；
ｂ）工程ａ）で得られた溶液に候補化合物を加える工程；
ｃ）第２の蛍光マーカーで直接または間接的に標識されたＳＨ３ドメイン含有ペプチドを加える工程（ここで、該第２の蛍光マーカーは、対のフレット（ＦＲＥＴ）蛍光マーカーの第２のパートナーまたは第１のパートナーである）；
ｄ）工程ｃ）で得られた混合物を、対のフレット（ＦＲＥＴ）蛍光マーカーの第１のパートナーの励起波長に対応する波長のエネルギー源に付して、対のフレット（ＦＲＥＴ）蛍光マーカーの第２のパートナーの発光波長における蛍光シグナルを測定する工程；
ｅ）工程ｄ）で得られた蛍光シグナル値を、工程ｂ）が無い時に得られた蛍光シグナル値と比較して、候補化合物が、プロリンリッチなペプチドとＳＨ３ドメイン含有ペプチドとの相互作用を阻害するかどうかを決定する工程、
を含んでなる、上記方法に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月2日(2004.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体（１）内に加熱コイル（４）と、調理庫（８）を有するロースター部（７）と、この調理庫（８）に連通する排気ダクト（１７）を備え、本体（１）後部に加熱コイル（４）に連通する排気口（１３）と、排気ダクト（１７）に連通する排気口（１４）を備え、前記調理庫（８）の後部に調理庫排気口（１５）を配し、この調理庫排気口（１５）部に触媒（１８）と触媒ヒータ（１９）を備え、調理庫排気口（１５）の後方に排気ファン（１６）を備えた加熱調理器において、
前記排気ファン（１６）は調理庫（８）内部及び周囲の空気を吸込むように構成したことを特徴とする加熱調理器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上述の課題を解決するために、本体内に加熱コイルと、調理庫を有するロースター部と、この調理庫に連通する排気ダクトを備え、本体後部に加熱コイルに連通する排気口と、排気ダクトに連通する排気口を備え、前記調理庫の後部に調理庫排気口を配し、この調理庫排気口部に触媒と触媒ヒータを備え、調理庫排気口の後方に排気ファンを備えた加熱調理器において、前記排気ファンは調理庫内部及び周囲の空気を吸込むように構成したものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【発明の実施の形態】
本発明は、本体内に加熱コイルと、調理庫を有するロースター部と、この調理庫に連通する排気ダクトを備え、本体後部に加熱コイルに連通する排気口と、排気ダクトに連通する排気口を備え、前記調理庫の後部に調理庫排気口を配し、この調理庫排気口部に触媒と触媒ヒータを備え、調理庫排気口の後方に排気ファンを備えた加熱調理器において、前記排気ファンは調理庫内部及び周囲の空気を吸込むように構成したものである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月1日(2004.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
上記の第１実施例に於いては、テーパー片(５)の係合部(１８)をソケット部材(１３)の環状壁(２４)で被覆し、環状壁(２４)の内面に設けた係合突部(２５)に係合部(１８)を係合している。また、第１実施例に於いてテーパー片(５)は、ソケット部材(１３)を挟持する方向に弾性力が作用しており、このソケット部材(１３)を取り除くことにより相手部材から容易に取り外すことが可能となる。また、ソケット部材(１３)を挟持する方向に弾性力が作用しているので、ソケット部材(１３)と一体となっての取り扱いが容易で、構造を簡易とする利点を有している。
これに対し、異なる第２実施例に於いては、図９に示す如く、テーパー片(５)を外部方向に拡開するよう付勢して形成し、ソケット部材(１３)を挟持する方向に弾性力が作用していない。そして、第２実施例に於いては、図８に示す如く、テーパー片(５)の係合部(１８)をソケット部材(１３)の環状壁(２４)の外面に配置し、環状壁(２４)の外周に凹設した係合受部(２９)に係合している。また、環状壁(２４)から、ソケット部材(１３)の側面に沿って突出した側壁(２６)に環状壁(２４)と略同径のリング壁(２７)を形成している。このリング壁(２７)の内面には環状凹溝(２８)を形成している。また、テーパー片(５)には、係合段部(１１)よりも係合部(１８)側に近い位置を山形に折曲して山形部(３０)を形成し、この山形部(３０)を図１０に示す如く、リング壁(２７)の環状凹溝(２８)に仮止め可能としている。この仮止め状態に於いて、テーパー片(５)をソケット部材(１３)の外周に挟持するよう弾性変形させるものである。