【手続補正書】
【提出日】平成17年2月22日(2005.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトレジスト組成物を調製する方法であって、
ａ）重合反応の実質的な期間にわたって、反応混合物に１以上の組み込まれる重合化学物質を添加することを含む重合反応により得られるポリマーを供給することと；
ｂ）ポリマーを光活性成分と混合することと；
を含む方法。
【請求項２】
光活性成分および、重合反応の実質的な期間にわたって１以上の重合化学物質を反応混合物に添加することによって得られるポリマーを含むフォトレジスト組成物。
【請求項３】
フォトレジストレリーフ画像を形成する方法であって：
（ａ）請求項２に記載のフォトレジストのコーティング層を基板上に塗布することと；
（ｂ）レリーフ画像を得るために、フォトレジスト層を露光および現像することと；
を含む方法。
【請求項４】
請求項２に記載のフォトレジスト組成物の層が上にコーティングされたマイクロ電子ウェハ基板またはフラットパネルディスプレイ基板を含む製品。
【請求項５】
フォトレジスト組成物の調製のための方法であって：
重合反応の実質的な期間にわたって、反応混合物に１以上の重合化学物質を添加することにより得ることができるポリマーを供給することと；
ポリマーを光活性成分と混合することと；
を含む方法。
【請求項６】
重合反応の実質的な期間にわたって１以上の重合化学物質を反応混合物に添加することを含む、ポリマーを生成する方法。
【請求項７】
請求項６記載の方法により得られるポリマー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１４】
本発明は以下の態様を包含するものである。
（１）
フォトレジスト組成物を調製する方法であって、
ａ）重合反応の実質的な期間にわたって、反応混合物に１以上の組み込まれる重合化学物質を添加することを含む重合反応により得られるポリマーを供給することと；
ｂ）ポリマーを光活性成分と混合することと；
を含む方法。
（２）
複数の組み込まれる重合化学物質が反応し、他の組み込まれる重合化学物質に対して最も高い反応速度を有する組み込まれる重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたって反応混合物に添加される、前記（１）に記載の方法。
（３）
複数の組み込まれる重合化学物質が反応し、他の組み込まれる重合化学物質に対して２番目に高い反応速度を有する組み込まれる重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたって反応混合物に添加される、前記（１）または（２）に記載の方法。
（４）
複数の組み込まれる重合化学物質が反応し、他の組み込まれる重合化学物質に対して最も低い反応速度を有する組み込まれる重合化学物質が、重合反応開始時に反応混合物中に存在し、重合反応の実質的な期間にわたって反応混合物に添加されない、前記（１）〜（３）のいずれか一項に記載の方法。
（５）
マレイン酸無水物が重合反応の実質的な期間にわたって反応混合物に添加される、前記（１）〜（４）のいずれか一項に記載の方法。
（６）
アクリレート化合物が重合反応の実質的な期間にわたって反応混合物に添加される、前記（１）〜（５）のいずれか一項に記載の方法。
（７）
アクリレート化合物がフォト酸レイビルエステルを含む、前記（６）に記載の方法。
（８）
１以上の重合化学物質を含む反応混合物が重合反応の開始時に最初に供給され、
１以上の追加の重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたって反応混合物に添加される、
前記（１）〜（７）のいずれか一項に記載の方法。
（９）
反応混合物が重合反応の開始時に、任意に置換された炭素脂環式化合物または任意に置換されたヘテロ脂環式化合物を含む、前記（８）に記載の方法。
（１０）
反応混合物が重合反応の開始時に、任意に置換されたノルボルネン化合物または任意に置換された酸素ヘテロ脂環式化合物を含む、前記（８）に記載の方法。
（１１）
各重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたって反応混合物に添加される、前記（１）〜（３）または（５）〜（７）に記載の方法。
（１２）
重合反応がフリーラジカル媒介反応である、前記（１）〜（１１）のいずれか一項に記載の方法。
（１３）
重合反応がアニオン、カチオンまたは金属触媒反応である、前記（１）〜（１１）のいずれか一項に記載の方法。
（１４）
１以上の重合化学物質が、無水物、ラクトン、フッ素化オレフィン、炭素脂環式化合物、ヘテロ脂環式化合物、またはアクリレートからなる群より選択される、前記（１）〜（１３）のいずれか一項に記載の方法。
（１５）
１以上の重合化学物質が２−メチルアダマンタニルメタクリレート、２−メチルアダマンタニルアクリレート、マレイン酸無水物、ノルボルネン、３，４−ジヒドロピラン、またはテトラフルオロエチレンである、前記（１）〜（１３）のいずれか一項に記載の方法。
（１６）
重合化学物質の各々が非芳香族化合物である、前記（１）〜（１５）のいずれか一項に記載の方法。
（１７）
１以上の重合化学物質が芳香族化合物である、前記（１）〜（１５）のいずれか一項に記載の方法。
（１８）
１以上の重合化学物質が任意に置換されたフェニルまたは任意に置換されたナフチル部分を含む、前記（１）〜（１５）のいずれか一項に記載の方法。
（１９）
１以上の重合化学物質が重合反応の期間の少なくとも約８０パーセントにわたって添加される、前記（１）〜（１８）のいずれか一項に記載の方法。
（２０）
少なくとも２つの重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたって添加される、前記（１）〜（１９）のいずれか一項に記載の方法。
（２１）
ラジカル開始剤化合物が重合反応の実質的な期間にわたって添加される、前記（１）〜（２０）のいずれか一項に記載の方法。
（２２）
重合反応の実質的な期間にわたり反応混合物中の実質的に一定の開始剤濃度を維持するために、開始剤をある速度で添加する、前記（２１）に記載の方法。
（２３）
反応容器が最初に１以上の重合化学物質によって充填され、充填された化学物質よりも高い反応速度を有する１以上の重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたり反応容器に添加される、前記（１）〜（２２）のいずれか一項に記載の方法。
（２４）
フッ素化オレフィン、無水物またはラクトンが重合反応の実質的な期間にわたって添加される、前記（１）〜（２３）のいずれか一項に記載の方法。
（２５）
アクリレート化合物およびマレイン酸無水物が重合反応の実質的な期間にわたって、任意に置換されたノルボルネン化合物を含む反応混合物に添加される、前記（１）〜（２３）のいずれか一項に記載の方法。
（２６）
アクリレート化合物およびマレイン酸無水物が重合反応の実質的な期間にわたって、任意に置換されたノルボルネン化合物および任意に置換されたジヒドロピランを含む反応混合物に添加される、前記（１）〜（２３）のいずれか一項に記載の方法。
（２７）
少なくとも１つの重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたって低下する速度で添加される、前記（１）〜（２６）のいずれか一項に記載の方法。
（２８）
１以上の重合化学物質が反応容器中に含有され、１以上の重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたって反応容器に添加される、前記（１）〜（３）、（５）〜（１０）または（１２）〜（２７）のいずれか一項に記載の方法。
（２９）
光活性成分が１以上のフォト酸発生剤化合物を含む、前記（１）〜（２８）のいずれか一項に記載の方法。
（３０）
ポリマーが、第三級脂環式基を含むフォト酸レイビル反復単位を含む、前記（１）〜（２９）のいずれか一項に記載の方法。
（３１）
ポリマーが重合されたフッ素化不飽和モノマーを含む、前記（１）〜（３０）のいずれか一項に記載の方法。
（３２）
ポリマーが縮合へテロ脂環式基を含む、前記（１）〜（３１）のいずれか一項に記載の方法。
（３３）
ポリマーが酸素環員を有する縮合へテロ脂環式基を含む、前記（１）〜（３２）のいずれか一項に記載の方法。
（３４）
ポリマーが次の式：
【化１】
2004524564.tif 000001
（式中、Ｘ、ＹおよびＺはそれぞれ独立に炭素、酸素または硫黄であり、Ｘ、ＹまたはＺの少なくとも１つが酸素または硫黄であり、好ましくはＸ、ＹおよびＺの２よりも多くが酸素または硫黄であることはなく；
Ｑは、ポリマー主鎖に縮合された任意に置換された炭素脂環式基を表し；
ｐおよびｒはそれぞれの単位のモル分率であり、ｐおよびｒの各々はゼロより大きい）
の構造を含む、前記（１）〜（３３）のいずれか一項に記載の方法。
（３５）
ポリマーが次の式：
【化２】
2004524564.tif 000002
（式中、Ｔは任意に置換されたアクリレート基であり；
Ｘ、ＹおよびＺはそれぞれ独立に炭素、酸素または硫黄であり、Ｘ、ＹまたはＺの少なくとも１つが酸素または硫黄であり、好ましくはＸ、ＹおよびＺの２よりも多くが酸素または硫黄であることはなく；
Ｑは、ポリマー主鎖に縮合された任意に置換された炭素脂環式基を表し；
ｐ、ｒおよびｓはそれぞれの単位のモル分率であり、ｐ、ｒおよびｓの各々はゼロより大きい）
の構造を含む、前記（１）〜（３３）のいずれか一項に記載の方法。
（３６）
Ｔがフォト酸レイビル部分を含む、前記（３５）に記載の方法。
（３７）
組成物が化学増幅ポジ型レジストである、前記（１）〜（３６）のいずれか一項に記載の方法。
（３８）
組成物がネガ型レジストである、前記（１）〜（３６）のいずれか一項に記載の方法。
（３９）
フォトレジスト組成物のコーティング層を基板上に塗布することと；フォトレジストコーティング層をパターン様活性放射線に露光させることと；レジストレリーフ画像を提供するために、露光されたフォトレジストコーティング層を現像することとを含む、前記（１）〜（３８）のいずれか一項に記載の方法。
（４０）
フォトレジスト層が約３００ｎｍ未満の波長を有する照射により露光される、前記（３９）に記載の方法。
（４１）
フォトレジスト層が約２００ｎｍ未満の波長を有する照射により露光される、前記（３９）に記載の方法。
（４２）
フォトレジスト層が約１９３ｎｍの波長を有する照射により露光される、前記（３９）に記載の方法。
（４３）
基板がマイクロ電子ウェハである、前記（３９）〜（４２）のいずれか一項に記載の方法。
（４４）
光活性成分および、重合反応の実質的な期間にわたって１以上の重合化学物質を反応混合物に添加することによって得られるポリマーを含むフォトレジスト組成物。
（４５）
複数の組み込まれる重合化学物質が反応し、他の組み込まれる重合化学物質に対して最も高い反応速度を有する組み込まれる重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたって反応混合物に添加される、前記（４４）に記載のフォトレジスト組成物。
（４６）
複数の組み込まれる重合化学物質が反応し、他の組み込まれる重合化学物質に対して２番目に高い反応速度を有する組み込まれる重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたって反応混合物に添加される、前記（４４）または（４５）に記載のフォトレジスト組成物。
（４７）
複数の組み込まれる重合化学物質が反応し、他の組み込まれる重合化学物質に対して最も低い反応速度を有する組み込まれる重合化学物質が、重合反応開始時に反応混合物中に存在し、重合反応の実質的な期間にわたって反応混合物に添加されない、前記（４４）〜（４６）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（４８）
マレイン酸無水物が重合反応の実質的な期間にわたって反応混合物に添加される、前記（４４）〜（４７）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（４９）
アクリレート化合物が重合反応の実質的な期間にわたって反応混合物に添加される、前記（４４）〜（４７）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（５０）
アクリレート化合物がフォト酸レイビルエステルを含む、前記（４９）に記載のフォトレジスト組成物。
（５１）
１以上の重合化学物質を含む反応混合物が重合反応の開始時に最初に供給され、
１以上の追加の重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたって反応混合物に添加される、前記（４４）〜（５０）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（５２）
反応混合物が重合反応の開始時に、任意に置換された炭素脂環式化合物または任意に置換されたヘテロ脂環式化合物を含む、前記（５１）に記載のフォトレジスト組成物。
（５３）
反応混合物が重合反応の開始時に、任意に置換されたノルボルネン化合物または任意に置換された酸素ヘテロ脂環式化合物を含む、前記（５１）に記載のフォトレジスト組成物。
（５４）
各重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたって反応混合物に添加される、前記（４４）〜（４６）または（４８）〜（５３）に記載のフォトレジスト組成物。
（５５）
重合反応がフリーラジカル媒介反応である、前記（４４）〜（５４）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（５６）
重合反応がアニオン、カチオンまたは金属触媒反応である、前記（４４）〜（５５）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（５７）
１以上の重合化学物質が、無水物、ラクトン、フッ素化オレフィン、炭素脂環式化合物、ヘテロ脂環式化合物、またはアクリレートからなる群より選択される、前記（４４）〜（５６）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（５８）
１以上の重合化学物質が２−メチルアダマンタニルメタクリレート、２−メチルアダマンタニルアクリレート、マレイン酸無水物、ノルボルネン、３，４−ジヒドロピラン、またはテトラフルオロエチレンである、前記（４４）〜（５６）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（５９）
重合化学物質の各々が非芳香族化合物である、前記（４４）〜（４６）、（４８）〜（５３）または（５５）〜（５８）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（６０）
１以上の重合化学物質が芳香族化合物である、前記（４４）〜（５８）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（６１）
１以上の重合化学物質が任意に置換されたフェニルまたは任意に置換されたナフチル部分を含む、前記（４４）〜（５８）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（６２）
１以上の重合化学物質が重合反応の期間の少なくとも約８０パーセントにわたって添加される、前記（４４）〜（６１）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（６３）
少なくとも２つの重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたって添加される、前記（４４）〜（６１）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（６４）
ラジカル開始剤化合物が重合反応の実質的な期間にわたって添加される、前記（４４）〜（６２）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（６５）
重合反応の実質的な期間にわたり反応混合物中の実質的に一定の開始剤濃度を維持するために、開始剤をある速度で添加する、前記（６４）に記載のフォトレジスト組成物。
（６６）
反応容器が最初に１以上の重合化学物質によって充填され、充填された化学物質よりも高い反応速度を有する１以上の重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたり反応容器に添加される、前記（４４）〜（６５）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（６７）
フッ素化オレフィン、無水物またはラクトンが重合反応の実質的な期間にわたって添加される、前記（４４）〜（６６）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（６８）
アクリレート化合物およびマレイン酸無水物が重合反応の実質的な期間にわたって、任意に置換されたノルボルネン化合物を含む反応混合物に添加される、前記（４４）〜（６７）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（６９）
アクリレート化合物およびマレイン酸無水物が重合反応の実質的な期間にわたって、任意に置換されたノルボルネン化合物および任意に置換されたジヒドロピランを含む反応混合物に添加される、前記（４４）〜（６８）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（７０）
少なくとも１つの重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたって低下する速度で添加される、前記（４４）〜（６９）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（７１）
１以上の重合化学物質が反応容器中に含有され、１以上の重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたって反応容器に添加される、前記（４４）〜（５８）または（６０）〜（７０）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（７２）
光活性成分が１以上のフォト酸発生剤化合物を含む、前記（４４）〜（７１）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（７３）
ポリマーが、第三級脂環式基を含むフォト酸レイビル反復単位を含む、前記（４４）〜（７２）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（７４）
ポリマーが重合されたフッ素化不飽和モノマーを含む、前記（４４）〜（７３）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（７５）
ポリマーが縮合へテロ脂環式基を含む、前記（４４）〜（７４）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（７６）
ポリマーが酸素環員を有する縮合へテロ脂環式基を含む、前記（４４）〜（７５）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（７７）
ポリマーが次の式：
【化３】
2004524564.tif 000003
（式中、Ｘ、ＹおよびＺはそれぞれ独立に炭素、酸素または硫黄であり、Ｘ、ＹまたはＺの少なくとも１つが酸素または硫黄であり、好ましくはＸ、ＹおよびＺの２よりも多くが酸素または硫黄であることはなく；
Ｑは、ポリマー主鎖に縮合された任意に置換された炭素脂環式基を表し；
ｐおよびｒはそれぞれの単位のモル分率であり、ｐおよびｒの各々はゼロより大きい）
の構造を含む、前記（４４）〜（７６）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（７８）
ポリマーが次の式：
【化４】
2004524564.tif 000004
（式中、Ｔは任意に置換されたアクリレート基であり；
Ｘ、ＹおよびＺはそれぞれ独立に炭素、酸素または硫黄であり、Ｘ、ＹまたはＺの少なくとも１つが酸素または硫黄であり、好ましくはＸ、ＹおよびＺの２よりも多くが酸素または硫黄であることはなく；
Ｑは、ポリマー主鎖に縮合された任意に置換された炭素脂環式基を表し；
ｐ、ｒおよびｓはそれぞれの単位のモル分率であり、ｐ、ｒおよびｓの各々はゼロより大である）
の構造を含む、前記（４４）〜（７６）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（７９）
Ｔがフォト酸レイビル部分を含む、前記（７８）に記載のフォトレジスト組成物。
（８０）
組成物が化学増幅ポジ型レジストである、前記（４４）〜（７９）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（８１）
組成物がネガ型レジストである、前記（４４）〜（７９）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物。
（８２）
フォトレジストレリーフ画像を形成する方法であって：
（ａ）前記（４４）〜（８１）のいずれか一項に記載のフォトレジストのコーティング層を基板上に塗布することと；
（ｂ）レリーフ画像を得るために、フォトレジスト層を露光および現像することと；
を含む方法。
（８３）
フォトレジスト層が約３００ｎｍ未満の波長を有する照射により露光される、前記（８２）に記載の方法。
（８４）
フォトレジスト層が約２００ｎｍ未満の波長を有する照射により露光される、前記（８２）に記載の方法。
（８５）
フォトレジスト層が約１９３ｎｍの波長を有する照射により露光される、前記（８２）に記載の方法。
（８６）
前記（４４）〜（８１）のいずれか一項に記載のフォトレジスト組成物の層が上にコーティングされたマイクロ電子ウェハ基板またはフラットパネルディスプレイ基板を含む製品。
（８７）
フォトレジスト組成物の調製のための方法であって：
重合反応の実質的な期間にわたって、反応混合物に１以上の組み込まれる重合化学物質を添加することにより得ることができるポリマーを供給することと；
ポリマーを光活性成分と混合することと；
を含む方法。
（８８）
重合反応の実質的な期間にわたって１以上の重合化学物質を反応混合物に添加することを含む、ポリマーを生成する方法。
（８９）
複数の組み込まれる重合化学物質が反応し、他の組み込まれる重合化学物質に対して最も高い反応速度を有する組み込まれる重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたって反応混合物に添加される、前記（８８）に記載の方法。
（９０）
複数の組み込まれる重合化学物質が反応し、他の組み込まれる重合化学物質に対して２番目に高い反応速度を有する組み込まれる重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたって反応混合物に添加される、前記（８８）または（８９）に記載の方法。
（９１）
複数の組み込まれる重合化学物質が反応し、他の組み込まれる重合化学物質に対して最も低い反応速度を有する組み込まれる重合化学物質が、重合反応開始時に反応混合物中に存在し、重合反応の実質的な期間にわたって反応混合物に添加されない、前記（８８）〜（９０）のいずれか一項に記載の方法。
（９２）
マレイン酸無水物が重合反応の実質的な期間にわたって反応混合物に添加される、前記（８８）〜（９１）のいずれか一項に記載の方法。
（９３）
アクリレート化合物が重合反応の実質的な期間にわたって反応混合物に添加される、前記（８８）〜（９２）のいずれか一項に記載の方法。
（９４）
アクリレート化合物がフォト酸レイビルエステルを含む、前記（９３）に記載の方法。
（９５）
１以上の重合化学物質を含む反応混合物が重合反応の開始時に最初に供給され、
１以上の追加の重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたって反応混合物に添加される、
前記（８８）〜（９４）のいずれか一項に記載の方法。
（９６）
反応混合物が重合反応の開始時に、任意に置換された炭素脂環式化合物または任意に置換されたヘテロ脂環式化合物を含む、前記（９５）に記載の方法。
（９７）
反応混合物が重合反応の開始時に、任意に置換されたノルボルネン化合物または任意に置換された酸素ヘテロ脂環式化合物を含む、前記（９５）に記載の方法。
（９８）
各重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたって反応混合物に添加される、前記（８７）〜（９０）、（９２）〜（９４）または（９６）〜（９７）のいずれか一項に記載の方法。
（９９）
重合反応がフリーラジカル媒介反応である、前記（８８）〜（９８）のいずれか一項に記載の方法。
（１００）
重合反応がアニオン、カチオンまたは金属触媒反応である、前記（８８）〜（９８）のいずれか一項に記載の方法。
（１０１）
１以上の重合化学物質が、無水物、ラクトン、フッ素化オレフィン、炭素脂環式化合物、ヘテロ脂環式化合物、またはアクリレートからなる群より選択される、前記（８８）〜（１００）のいずれか一項に記載の方法。
（１０２）
１以上の重合化学物質が２−メチルアダマンタニルメタクリレート、２−メチルアダマンタニルアクリレート、マレイン酸無水物、ノルボルネン、３，４−ジヒドロピラン、またはテトラフルオロエチレンである、前記（８８）〜（１０１）のいずれか一項に記載の方法。
（１０３）
重合化学物質の各々が非芳香族化合物である、前記（８８）〜（１０２）のいずれか一項に記載の方法。
（１０４）
１以上の重合化学物質が芳香族化合物である、前記（８８）〜（１０２）のいずれか一項に記載の方法。
（１０５）
１以上の重合化学物質が任意に置換されたフェニルまたは任意に置換されたナフチル部分を含む、前記（８８）〜（１０４）のいずれか一項に記載の方法。
（１０６）
１以上の重合化学物質が重合反応の期間の少なくとも約８０パーセントにわたって添加される、前記（８８）〜（１０５）のいずれか一項に記載の方法。
（１０７）
少なくとも２つの重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたって添加される、前記（８８）〜（１０６）のいずれか一項に記載の方法。
（１０８）
ラジカル開始剤化合物が重合反応の実質的な期間にわたって添加される、前記（８８）〜（１０７）のいずれか一項に記載の方法。
（１０９）
重合反応の実質的な期間にわたり反応混合物中の実質的に一定の開始剤濃度を維持するために、開始剤をある速度で添加する、前記（１０８）に記載の方法。
（１１０）
反応容器が最初に１以上の重合化学物質によって充填され、充填された化学物質よりも高い反応速度を有する１以上の重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたり反応容器に添加される、前記（８８）〜（９７）または（９９）〜（１０９）のいずれか一項に記載の方法。
（１１１）
フッ素化オレフィン、無水物またはラクトンが重合反応の実質的な期間にわたって添加される、前記（８８）〜（１１０）のいずれか一項に記載の方法。
（１１２）
アクリレート化合物およびマレイン酸無水物が重合反応の実質的な期間にわたって、任意に置換されたノルボルネン化合物を含む反応混合物に添加される、前記（８８）〜（１１１）のいずれか一項に記載の方法。
（１１３）
アクリレート化合物およびマレイン酸無水物が重合反応の実質的な期間にわたって、任意に置換されたノルボルネン化合物および任意に置換されたジヒドロピランを含む反応混合物に添加される、前記（８８）〜（１１１）のいずれか一項に記載の方法。
（１１４）
少なくとも１つの重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたって低下する速度で添加される、前記（８８）〜（１１３）のいずれか一項に記載の方法。
（１１５）
１以上の重合化学物質が反応容器中に含有され、１以上の重合化学物質が重合反応の実質的な期間にわたって反応容器に添加される、前記（８８）〜（１１３）のいずれか一項に記載の方法。
（１１６）
ポリマーが、第三級脂環式基を含むフォト酸レイビル反復単位を含む、前記（８８）〜（１１５）のいずれか一項に記載の方法。
（１１７）
ポリマーが重合されたフッ素化不飽和モノマーを含む、前記（８８）〜（１１６）のいずれか一項に記載の方法。
（１１８）
ポリマーが縮合へテロ脂環式基を含む、前記（８８）〜（１１７）のいずれか一項に記載の方法。
（１１９）
ポリマーが酸素環員を有する縮合へテロ脂環式基を含む、前記（８８）〜（１１８）のいずれか一項に記載の方法。
（１２０）
ポリマーが次の式：
【化５】
2004524564.tif 000005
（式中、Ｘ、ＹおよびＺはそれぞれ独立に炭素、酸素または硫黄であり、Ｘ、ＹまたはＺの少なくとも１つが酸素または硫黄であり、好ましくはＸ、ＹおよびＺの２よりも多くが酸素または硫黄であることはなく；
Ｑは、ポリマー主鎖に縮合された任意に置換された炭素脂環式基を表し；
ｐおよびｒはそれぞれの単位のモル分率であり、ｐおよびｒの各々はゼロより大きい）
の構造を含む、前記（８８）〜（１１９）のいずれか一項に記載の方法。
（１２１）
ポリマーが次の式：
【化６】
2004524564.tif 000006
（式中、Ｔは任意に置換されたアクリレート基であり；
Ｘ、ＹおよびＺはそれぞれ独立に炭素、酸素または硫黄であり、Ｘ、ＹまたはＺの少なくとも１つが酸素または硫黄であり、好ましくはＸ、ＹおよびＺの２よりも多くが酸素または硫黄であることはなく；
Ｑは、ポリマー主鎖に縮合された任意に置換された炭素脂環式基を表し；
ｐ、ｒおよびｓはそれぞれの単位のモル分率であり、ｐ、ｒおよびｓの各々はゼロより大きい）
の構造を含む、前記（８８）〜（１１９）のいずれか一項に記載の方法。
（１２２）
Ｔがフォト酸レイビル部分を含む、前記（１２１）に記載の方法。
（１２３）
前記（８８）〜（１２２）のいずれか一項記載の方法により得られるポリマー。
本明細書で挙げたすべての文書は、参照により本明細書に組み込まれている。以下の限定しない実施例は、本発明の例示である。