【手続補正書】
【提出日】平成15年11月25日(2003.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
合金金属約２重量％〜約１５重量％を含んで成るスズ合金を用いる基板の電気めっき方
法であって、
ａ）基板と、
１．可溶性の第一スズ塩、
２．合金金属の可溶性の塩、及び
３．錯化剤
を含んで成る電気めっき浴媒体とを接触させること、並びに
ｂ）平均電流密度が合金金属が沈着するような密度である第一の条件、及び平均電流密
度が、第一の条件の場合より低く、実質的にスズのみが沈着するような密度である第
二の条件を包含する電流処方を適用すること
を含んで成る方法。
【請求項２】
合金金属が、コバルト、ニッケル及び前者の組み合わせから成る群から選ばれる、請求
項１に記載の方法。
【請求項３】
電気めっき浴が、更にホウ酸を含んで成る、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
スズ塩が、硫酸第一スズ、塩化第一スズ、メタンスルホン酸第一スズ、フッ化ホウ酸
第一スズ、フェノールスルホン酸第一スズ及びトルエンスルホン酸第一スズから成る群か
ら選ばれる、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
合金金属の塩が、硫酸コバルト、硫酸ニッケル、塩化コバルト、塩化ニッケル、メタン
スルホン酸コバルト、メタンスルホン酸ニッケル、フッ化ホウ酸コバルト、フッ化ホウ酸
ニッケル、フェノールスルホン酸コバルト、フェノールスルホン酸ニッケル、トルエンス
ルホン酸コバルト及びトルエンスルホン酸ニッケルから成る群から選ばれる、請求項１〜
４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
錯化剤が、モノ−、ジ−又はポリ−ヒドロキシカルボン酸、又はそれらのアルカリ金属
塩から成る群から選ばれる、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
電気めっき浴媒体が、式：
【化１】
2004536219.tif 000001
［式中、ｎは１〜１００の整数であり、ｍは２又は３であり、そしてＲ１は、式：
【化２】
2004536219.tif 000002
（ここで  Ｒ２は１〜１４個の炭素原子を有するアルキル基である）を有するフェノ
ール基又は、式：
【化３】
2004536219.tif 000003
を有するアルファ又はベータナフタレン基のいずれかであり、
そして
Ｒ３は、Ｈ、ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ、
ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＳＯ３Ｈ又はＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｈである］
を有する、浴に可溶な、置換フェノール系化合物を含んで成る結晶粒微細化剤を、更に含
んで成る、請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
電流処方が、パルス電流を通すことを包含する、請求項１〜７のいずれかに記載の方法
。
【請求項９】
電流処方が、少なくとも１回の第一の時間間隔には直流を通し、そして少なくとも１回
の第二の時間間隔には該パルス電流を通す、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
パルス電流の使用率が、約２０％〜約５０％である、請求項８〜９のいずれかに記載
の方法。
【請求項１１】
基板が軸受けであり、そして電気めっきされたスズ合金被膜が軸受け被膜を構成する、
請求項１〜１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
スズと、コバルト及び／又はニッケルを含んで成る合金金属との合金を電気めっきする
ための電気めっき浴媒体製造用の組成物であって、
（ａ）硫酸第一スズ、塩化第一スズ、メタンスルホン酸第一スズ、フッ化ホウ酸第一ス
ズ、フェノールスルホン酸第一スズ及びトルエンスルホン酸第一スズから成る群
から選ばれる、少なくとも１種のスズ塩、
（ｂ）硫酸コバルト、硫酸ニッケル、塩化コバルト、塩化ニッケル、メタンスルホン酸
コバルト、メタンスルホン酸ニッケル、フッ化ホウ酸コバルト、フッ化ホウ酸
ニッケル、フェノールスルホン酸コバルト、フェノールスルホン酸ニッケル、ト
ルエンスルホン酸コバルト及びトルエンスルホン酸ニッケルから成る群から選ば
れる、少なくとも１種の合金金属、
（ｃ）モノ−、ジ−又はポリ−ヒドロキシカルボン酸、又はそれらのアルカリ金属塩
から成る群から選ばれる、１種以上の浴錯化剤、及び
（ｄ）ホウ酸
を含んで成る組成物。
【請求項１３】
請求項１２に記載の組成物、及び式：
【化４】
2004536219.tif 000004
［式中、ｎは１〜１００の整数であり、ｍは２又は３であり、そしてＲ１は、式：
【化５】
2004536219.tif 000005
（ここで  Ｒ２は１〜１４個の炭素原子を有するアルキル基である）を有するフェノ
ール基又は、式：
【化６】
2004536219.tif 000006
を有するアルファ又はベータナフタレン基のいずれかであり、
そして
Ｒ３は、Ｈ、ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ、
ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＳＯ３Ｈ及びＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｈ
から成る群から選ばれる］
を有する、浴に可溶な、置換フェノール系化合物を含んで成る結晶粒微細化剤を含んで成
る、スズ−コバルト合金を電気めっきするための電気めっき浴媒体。
【請求項１４】
浴錯化剤が、ポリヒドロキシカルボン酸又はそのアルカリ金属塩である、請求項１３
に記載の電気めっき浴媒体。
【請求項１５】
浴錯化剤が、グルコン酸ナトリウム、グルコヘプトン酸ナトリウム又はそのアルカリ金
属塩である、請求項１４に記載の電気めっき浴媒体。
【請求項１６】
請求項１〜１１のいずれかに記載の方法によって製造された電気めっきされた物品。
【請求項１７】
物品が軸受けである、請求項１６に記載の電気めっきされた物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
パネルを分析し、直流サイクル中の電流密度４Ａ／ｄｍ２に対応する点でコバルト３．
４％を含有していることが分った。
この実施例は、モノ−ヒドロキシカルボン酸の使用を説明する。
本発明の好ましい実施の態様は次のとおりである。
１．  合金金属約２重量％〜約１５重量％を含んで成るスズ合金を用いる基板の電気めっき方法であって、
ａ）基板と、
１．可溶性の第一スズ塩、
２．合金金属の可溶性の塩、及び
３．錯化剤
を含んで成る電気めっき浴媒体とを接触させること、並びに
ｂ）平均電流密度が合金金属が沈着するような密度である第一の条件、及び平均電流密    度が、第一の条件の場合より低く、実質的にスズのみが沈着するような密度である第    二の条件を包含する電流処方を適用すること
を含んで成る方法。
２．  合金金属が、コバルト、ニッケル及び前者の組み合わせから成る群から選ばれる、上記１に記載の方法。
３．  電気めっき浴が、更にホウ酸を含んで成る、上記１又は２に記載の方法。
４．  スズ塩が、硫酸第一スズ、塩化第一スズ、メタンスルホン酸第一スズ、フッ化ホウ酸第一スズ、フェノールスルホン酸第一スズ及びトルエンスルホン酸第一スズから成る群から選ばれる、上記１〜３のいずれかに記載の方法。
５．  合金金属の塩が、硫酸コバルト、硫酸ニッケル、塩化コバルト、塩化ニッケル、メタンスルホン酸コバルト、メタンスルホン酸ニッケル、フッ化ホウ酸コバルト、フッ化ホウ酸ニッケル、フェノールスルホン酸コバルト、フェノールスルホン酸ニッケル、トルエンスルホン酸コバルト及びトルエンスルホン酸ニッケルから成る群から選ばれる、上記１〜４のいずれかに記載の方法。
６．  錯化剤が、モノ−、ジ−又はポリ−ヒドロキシカルボン酸、又はそれらのアルカリ金属塩から成る群から選ばれる、上記１〜５のいずれかに記載の方法。
７．  電気めっき浴媒体が、式：
【化４】
2004536219.tif 000007
［式中、ｎは１〜１００の整数であり、ｍは２又は３であり、そしてＲ１は、式：
【化５】
2004536219.tif 000008
（ここで  Ｒ２は１〜１４個の炭素原子を有するアルキル基である）を有するフェノール基又は、式：
【化６】
2004536219.tif 000009
を有するアルファ又はベータナフタレン基のいずれかであり、
そして
Ｒ３は、Ｈ、ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ、
ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＳＯ３Ｈ又はＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｈである］
を有する、浴に可溶な、置換フェノール系化合物を含んで成る結晶粒微細化剤を、更に含んで成る、上記１〜６のいずれかに記載の方法。
８．  厚さが５〜５０ミクロンの範囲であるスズ合金電着被膜を生成する、上記１〜７のいずれかに記載の方法。
９．  電流処方が、パルス電流を通すことを包含する、上記１〜８のいずれかに記載の方法。
１０．  電流処方が、少なくとも１回の第一の時間間隔には直流を通し、そして少なくとも１回の第二の時間間隔には該パルス電流を通す、上記９に記載の方法。
１１．  第一の時間間隔と第二の時間間隔が連続している、上記１０に記載の方法。
１２．  第一の時間間隔が約１０秒〜約１００秒であり、そして第二の時間間隔が約２０秒〜約２００秒である、上記１０又は１１に記載の方法。
１３．  パルス電流の周波数が約１０Ｈｚ〜約５００Ｈｚである、上記９〜１２のいずれかに記載の方法。
１４．  パルス電流の第二の条件において、電流密度が実質的に零である、上記９〜１３のいずれかに記載の方法。
１５．  パルス電流の使用率が、約２０％〜約５０％である、上記９〜１４のいずれかに記載の方法。
１６．  基板が軸受けであり、そして電気めっきされたスズ合金被膜が軸受け被膜を構成する、上記１〜１５のいずれかに記載の方法。
１７．  スズと、コバルト及び／又はニッケルを含んで成る合金金属との合金を電気めっきするための電気めっき浴媒体製造用の組成物であって、
（ａ）硫酸第一スズ、塩化第一スズ、メタンスルホン酸第一スズ、フッ化ホウ酸第一スズ、フェノールスルホン酸第一スズ及びトルエンスルホン酸第一スズから成る群から選ばれる、少なくとも１種のスズ塩、
（ｂ）硫酸コバルト、硫酸ニッケル、塩化コバルト、塩化ニッケル、メタンスルホン酸コバルト、メタンスルホン酸ニッケル、フッ化ホウ酸コバルト、フッ化ホウ酸ニッケル、フェノールスルホン酸コバルト、フェノールスルホン酸ニッケル、トルエンスルホン酸コバルト及びトルエンスルホン酸ニッケルから成る群から選ばれる、少なくとも１種の合金金属、
（ｃ）モノ−、ジ−又はポリ−ヒドロキシカルボン酸、又はそれらのアルカリ金属塩から成る群から選ばれる、１種以上の浴錯化剤、及び
（ｄ）ホウ酸
を含んで成る組成物。
１８．  スズ塩が、約２ｇ／リットル〜約８０ｇ／リットルの量で存在する、上記１７に記載の組成物。
１９．  コバルト塩及び／又はニッケル塩が、合計量約１０ｇ／リットル〜約２５０ｇ／リットルで存在する、上記１７又は１８に記載の組成物。
２０．  錯化剤が、約２０ｇ／リットル〜約２００ｇ／リットルの量で存在する、上記１７、１８又は１９に記載の組成物。
２１．  ホウ酸が、約１０ｇ／リットル〜約１５０ｇ／リットルの量で存在する、上記１７〜２０のいずれかに記載の組成物。
２２．  上記１７〜２１のいずれかに記載の組成物、及び式：
【化７】
2004536219.tif 000010
［式中、ｎは１〜１００の整数であり、ｍは２又は３であり、そしてＲ１は、式：
【化８】
2004536219.tif 000011
（ここで  Ｒ２は１〜１４個の炭素原子を有するアルキル基である）を有するフェノール基又は、式：
【化９】
2004536219.tif 000012
を有するアルファ又はベータナフタレン基のいずれかであり、
そして
Ｒ３は、Ｈ、ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ、
ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＳＯ３Ｈ及びＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｈ
から成る群から選ばれる］
を有する、浴に可溶な、置換フェノール系化合物を含んで成る結晶粒微細化剤を含んで成る、スズ−コバルト合金を電気めっきするための電気めっき浴媒体。
２３．  結晶粒微細化剤が、約１０ｐｐｍ〜約１０ｇ／リットルの量で存在する、上記２２に記載の電気めっき浴媒体。
２４．  スズ塩が硫酸第一スズであり、そして合金金属塩が硫酸ニッケル及び硫酸コバルトの中の一方又は両方である、上記２２又は２３に記載の電気めっき浴媒体。
２５．  浴錯化剤が、ポリヒドロキシカルボン酸又はそのアルカリ金属塩である、上記２２、２３又は２４に記載の電気めっき浴媒体。
２６．  浴錯化剤が、グルコン酸ナトリウム、グルコヘプトン酸ナトリウム又はそのアルカリ金属塩である、上記２５に記載の電気めっき浴媒体。
２７．  錯化剤が７０ｇ／リットルと２００ｇ／リットルの間の量で存在し、そしてホウ酸が５０ｇ／リットル〜１２０ｇ／リットルの量で存在する、上記２５又は２６に記載の電気めっき浴媒体。
２８．  結晶粒微細化剤が、浴に可溶なベータ−ナフトール誘導体である、上記２２〜２７のいずれかに記載の電気めっき浴媒体。
２９．  スズ塩が１０ｇ／リットル〜６０ｇ／リットルの量で存在し、そして少なくとも１種の合金金属塩が合計で７０ｇ／リットルと１５０ｇ／リットルの間の量で存在する、上記２２〜２８のいずれかに記載の電気めっき浴媒体。
３０．  結晶粒微細化剤が、０．５ｇ／リットル〜４ｇ／リットルの量で存在する、上記２２〜２９のいずれかに記載の電気めっき浴媒体。
３１．  媒体の操作温度が、約２０℃と約７０℃の間である、上記２２〜３０のいずれかに記載の電気めっき浴媒体。
３２．  媒体の操作ｐＨが、約ｐＨ２と約ｐＨ５の間である、上記２２〜３１のいずれかに記載の電気めっき浴媒体。
３３．  電気めっき浴媒体が、上記１７〜２１のいずれかに記載の組成物であるか、又は請求項２２〜３２のいずれかに記載の媒体である、上記１〜１６のいずれかに記載の方法。
３４．３２のいずれかに記載の電気めっき浴媒体及びその媒体を収容するための容器を含んで成る電気めっき浴。
３５．  少なくとも１個のスズ陽極を包含する、上記３４に記載の電気めっき浴。
３６．  物品をスズ合金被膜で電気めっきする方法であって、物品を上記３４又は３５に記載の電気めっき浴を浸せきする工程を包含する方法。
３７．  平均電流密度が、少くとも１種の合金金属が沈着するような密度である第一の条件、及び平均電流密度が、第一の条件の場合より低く、実質的にスズのみが沈着するような密度である第二の条件を包含する電流処方を適用する工程を包含する、上記３６に記載の方法。
３８．  上記１〜１６、３３、３６又は３７のいずれかに記載の方法によって製造された電気めっきされた物品。
３９．  スズ合金電気めっき被膜が、約２〜約１５％のコバルトを含有し残部がスズ及び不可避的な不純物であるスズ−コバルト合金である、上記３８に記載の物品。
４０．  スズ合金電気めっき被膜が、約２〜約１５％のニッケルを含有し残部がスズ及び不可避的な不純物であるスズ−ニッケル合金である、上記３８に記載の物品。
４１．  スズ合金電気めっき被膜が、合計で約２〜約１５％のニッケル及びコバルトを含有し残部がスズ及び不可避的な不純物であるスズ−コバルト−ニッケル合金である、上記３８に記載の物品。
４２．  物品が軸受けである、上記３８〜４１のいずれかに記載の電気めっきされた物品。
４３．  スズ合金被膜は、厚さが少なくとも５ミクロンである、上記３８〜４２のいずれかに記載の物品。
４４．  スズ合金被膜は、厚さが５〜５０ミクロンの範囲である、上記４３に記載の物品。
４５．  実施例１、２又は３に参照して明細書中に記載した電気めっき浴媒体と実質的に同一の電気めっき浴媒体。
４６．  実施例１〜８のいずれかに参照して明細書中に記載した方法と実質的に同一の方法。