【手続補正書】
【提出日】平成16年1月30日(2004.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロエレクトロニック加工片を電気化学的に処理する装置であって、
反応容器を備え、前記反応容器は、
外壁を有する外側コンテナと、
一次流を前記外側コンテナ内へ導入するように構成されている第１の出口と、
二次流を前記一次流から分離させて前記外側コンテナ内に導入するように構成されている少なくとも１つの第２の出口と、
前記外側コンテナ内にあって前記第２の出口に結合され且つ前記二次流を受ける誘電性電界成形ユニットとを含み、
前記電界成形ユニットは、前記外側コンテナの少なくとも一部分を通る前記一次流から分離されている前記二次流を容れるように構成され、また前記電界成形ユニットは、前記二次流を通過させることはできるが該二次流を前記一次流から分離させる少なくとも１つの電極隔室を有し、
前記反応容器は更に、前記電極隔室内の電極を含む、
ことを特徴とする装置。
【請求項２】
一次流案内を更に備え、
前記一次流案内は、少なくとも前記一次流を通過させることができる複数の第１の開口を有する第１のバッフルと、
前記第１のバッフルの下流の第２のバッフルとを含み、前記第２のバッフルは、前記第１の開口を通過した後の前記一次流を通過させることができる複数の第２の開口を有している、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
一次流案内を更に備え、
前記一次流案内は、共通軸上に中心を有する環状外側バッフルを含み、前記外側バッフルは複数の第１の開口を有し、
前記一次流案内は更に、前記外側バッフルの内側に同心状に位置決めされている環状内側バッフルを含み、前記内側バッフルは複数の第２の開口を有し、前記一次流は、前記外側バッフルの第１の開口を通過した後に前記内側バッフルの第２の開口を通過するようになっている、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
一次流案内を更に備え、
前記一次流案内は、共通軸上に中心を有する環状外側バッフルを含み、前記外側バッフルは複数のほぼ垂直のスロットを有し、
前記一次流案内は更に、前記外側バッフルの内側に同心状に位置決めされている環状内側バッフルを含み、前記内側バッフルは前記共通軸に対して上方に傾斜している環状に延びる複数の放射状スロットを有する逆円錐台形の壁を有し、前記一次流は、前記外側バッフルの垂直スロットを通過した後に前記内側バッフルの環状スロットを通過し、半径方向内向きに且つ複数の直径方向に逆向きのベクトルに沿って前記共通軸に対して上向きに放出されるようになっている、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記電界成形ユニットは前記外側コンテナの外壁内に配置されている誘電性壁を含み、前記電極隔室は前記誘電性壁と前記外壁との間にあって、前記二次流が前記誘電性壁の一方の側の前記電極隔室を通過し、前記一次流が前記誘電性壁の別の側を通過するようになっていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記電界成形ユニットは前記外側コンテナ内の環状壁を含み、前記環状壁は前記外壁から半径方向内側に離間して共通軸上に中心を有する中心開口を限定しており、前記電極隔室は前記環状壁と前記外壁との間にあって、前記一次流が前記中心開口を通過し、前記二次流が前記電極隔室を通過するようになっていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記電界成形ユニットは、前記外側コンテナ内の共通軸上に中心を有する第１の環状壁を含み、前記第１の環状壁は前記外壁から半径方向内側に離間しており、前記電界成形ユニットは更に、前記外側コンテナ内にあって前記第１の環状壁と同心状であり且つ前記第１環状壁と前記外壁との間の第２の環状壁を含み、前記第２の環状壁の内面は第１の電極隔室の外側を限定し、前記第２の環状壁の外面は第２の電極隔室の内側を限定しており、
前記装置は更に、前記第１の電極隔室内の第１の環状電極と、前記第２の電極隔室内の第２の環状電極とを備えている、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記電界成形ユニットは、前記外側コンテナ内にあって共通軸上に中心を有する第１の環状壁を含み、前記第１の環状壁は前記外壁から半径方向内側に離間しており、
前記電界成形ユニットは更に、前記外側コンテナ内にあって前記第１の環状壁と同心状であり且つ前記第１の環状壁と前記外壁との間の第２の環状壁を含み、前記第２の環状壁の内面が第１の電極隔室の外側を限定し、前記第２の環状壁の外面が第２の電極隔室の内側を限定しており、
前記装置は更に、第１の仕切り及び第２の仕切りを有する仮想電極ユニットを備え、前記第１の仕切りは、前記第１及び第２の環状壁に結合されている第１の横方向区分と、前記第１の横方向区分から突き出て前記一次流のための内側流路を限定している第１の環状リップとを有し、前記第２の仕切りは、前記第１の横方向区分の上方の第２の横方向区分と、前記第２の横方向区分から突き出て前記第１の環状リップを取り囲みそれとの間に環状開口を限定している第２の環状リップとを有しており、
前記装置は更に、前記第１の電極隔室内の第１の環状電極と、前記第２の電極隔室内の第２の環状電極とを備えている、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記外側コンテナに結合されているディストリビュータを更に備え、前記ディストリビュータは、前記第１の出口を限定している中心出口と、第２の出口を限定している複数の外側出口とを有していることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記ディストリビュータは、前記一次流を受ける入口、及び前記入口に結合されている環状空洞を含み、前記環状空洞は前記中心出口を限定しており、
前記ディストリビュータは更に、前記入口から分離されていて前記二次流を受けるプレナムと、前記プレナムの上側部分に位置する複数の上側オリフィスと、前記プレナムの下側部分に位置する複数の下側オリフィスと、前記オリフィスから対応する外側出口まで延びている複数のチャンネルとを含む、
ことを特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記ディストリビュータは、
複数の環状ステップを有する環状ボディと、
前記一次流を受けるように前記ボディを通って延びる入口と、
前記二次流を受けるように前記入口から分離されているプレナムと、前記プレナムの上側部分に位置する複数の上側オリフィスと、前記プレナムの下側部分に位置する複数の下側オリフィスと、
前記オリフィスから、前記環状ボディのステップにおける対応する外側出口まで延びている複数のチャンネルとを含む、
ことを特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
前記電極の下流において前記電界成形ユニットによって担持されている界面部材を更に備え、前記界面部材は前記電極隔室において前記二次流と流体的に通じ、また前記界面部材は前記二次流の選択された物質が前記一次流へ通過することを防ぎ、及び／または前記一次流の選択された物質が前記二次流へ通過することを防ぐように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
前記界面部材は、前記二次流及び／または前記一次流から粒子を除去することができるフィルタからなることを特徴とする請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記界面部材は、選択されたイオンが前記二次流と前記一次流との間を通過できるように構成されているイオン膜からなることを特徴とする請求項１２に記載の装置。
【請求項１５】
前記界面部材は、選択されたイオンが前記二次流と前記一次流との間を通過できるように構成されているイオン膜からなり、前記イオン膜は前記二次流及び前記一次流の流体に対して少なくとも実質的に不透過性であることを特徴とする請求項１２に記載の装置。
【請求項１６】
前記界面部材は、選択されたイオンが前記二次流と前記一次流との間を通過できるように構成されているイオン膜からなり、前記イオン膜は前記二次流及び／または前記一次流の流体に対して少なくとも実質的に透過性であることを特徴とする請求項１２に記載の装置。
【請求項１７】
前記反応容器を含む処理ツールを更に限定し、
前記装置は更に、
内側エンクロージャを有するキャビネットと、
前記エンクロージャ内の電気化学処理ステーションとを備え、
前記処理ステーションは、
加工片を保持するための加工片支持具を含むヘッド組立体と、
ハウジングを有する処理チャンバとを含み、前記反応容器は前記ハウジング内にあり、
前記装置は更に、前記エンクロージャ内の転送デバイスを備え、前記転送デバイスは、前記キャビネット内においてマイクロエレクトロニック加工片を操作するためのエンドエフェクタを有している、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１８】
前記反応容器は更に、一次流案内を含み、
前記一次流案内は、少なくとも前記一次流を通過させることができる複数の第１の開口を有する第１のバッフルと、
前記第１のバッフルの下流の第２のバッフルとを含み、前記第２のバッフルは、前記第１の開口を通過した後の前記一次流を通過させることができる複数の第２の開口を有している、
ことを特徴とする請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記反応容器の前記電界成形ユニットは、前記コンテナの外壁内に配置されている誘電性壁からなり、前記電極隔室は前記誘電性壁と前記外壁との間にあって、前記二次流が前記誘電性壁の一方の側の前記電極隔室を通過し、前記一次流が前記誘電性壁の別の側を通過するようになっていることを特徴とする請求項１７に記載の装置。
【請求項２０】
前記反応容器は更に、前記外側コンテナに結合されているディストリビュータを備え、前記ディストリビュータは、前記第１の出口を限定している中心出口と、第２の出口を限定している複数の外側出口とを有していることを特徴とする請求項１７に記載の装置。
【請求項２１】
前記反応容器は更に、前記電極の下流において前記電界成形ユニットによって担持されている界面部材を備え、前記界面部材は、前記二次流の選択された物質が前記一次流へ通過することを防ぎ、及び／または前記一次流の選択された物質が前記二次流へ通過することを防ぐように構成されていることを特徴とする請求項１７に記載の装置。
【請求項２２】
マイクロエレクトロニック加工片を処理するために使用される電気化学処理チャンバ用反応容器であって、
外壁を有する外側コンテナと、
前記外側コンテナに結合されているディストリビュータとを備え、前記ディストリビュータは、一次流を前記外側コンテナ内へ導入するように構成されている第１の出口、及び二次流を前記一次流から分離させて前記外側コンテナ内へ導入するように構成されている少なくとも１つの第２の出口を有し、
前記反応容器は更に、前記外側コンテナ内にあって前記二次流を受ける誘電性電界成形ユニットを備え、前記電界成形ユニットは、前記ディストリビュータに結合され、前記外側コンテナの少なくとも一部分を通る前記一次流から分離されている前記二次流を容れるように構成され、また前記電界成形ユニットは、前記二次流を通過させることはできるが該二次流を前記一次流から分離させる少なくとも１つの電極隔室を有しており、
前記反応容器は更に、前記電極隔室内の電極と、
前記電極の下流において前記電界成形ユニットによって担持されている界面部材とを備え、前記界面部材は前記電極隔室において前記二次流と流体的に通じ、また前記界面部材は前記二次流の選択された物質が前記一次流へ通過することを防ぎ、及び／または前記一次流の選択された物質が前記二次流へ通過することを防ぐように構成されている、
ことを特徴とする反応容器。
【請求項２３】
一次流案内を更に備え、
前記一次流案内は、少なくとも前記一次流を通過させることができる複数の第１の開口を有する第１のバッフルと、
前記第１のバッフルの下流の第２のバッフルとを含み、前記第２のバッフルは、前記第１の開口を通過した後の前記一次流を通過させることができる複数の第２の開口を有している、
ことを特徴とする請求項２２に記載の装置。
【請求項２４】
一次流案内を更に備え、
前記一次流案内は、共通軸上に中心を有する環状外側バッフルを含み、前記外側バッフルは複数の第１の開口を有し、
前記一次流案内は更に、前記外側バッフルの内側に同心状に位置決めされている環状内側バッフルを含み、前記内側バッフルは複数の第２の開口を有し、前記一次流は、前記外側バッフルの第１の開口を通過した後に前記内側バッフルの第２の開口を通過するようになっている、
ことを特徴とする請求項２２に記載の装置。
【請求項２５】
前記電界成形ユニットは前記外側コンテナの外壁内に配置されている誘電性壁を含み、前記電極隔室は前記誘電性壁と前記外壁との間にあって、前記二次流が前記誘電性壁の一方の側の前記電極隔室を通過し、前記一次流が前記誘電性壁の別の側を通過するようになっていることを特徴とする請求項２２に記載の装置。
【請求項２６】
前記電界成形ユニットは、前記外側コンテナ内の共通軸上に中心を有する第１の環状壁を含み、前記第１の環状壁は前記外壁から半径方向内側に離間しており、前記電界成形ユニットは更に、前記外側コンテナ内にあって前記第１の環状壁と同心状で且つ前記第１環状壁と前記外壁との間の第２の環状壁を含み、前記第２の環状壁の内面は第１の電極隔室の外側を限定し、前記第２の環状壁の外面は第２の電極隔室の内側を限定しており、
前記装置は更に、前記第１の電極隔室内の第１の環状電極と、前記第２の電極隔室内の第２の環状電極とを備えている、
ことを特徴とする請求項２２に記載の装置。
【請求項２７】
前記電界成形ユニットは、前記外側コンテナ内にあって共通軸上に中心を有する第１の環状壁を含み、前記第１の環状壁は前記外壁から半径方向内側に離間しており、
前記電界成形ユニットは更に、前記外側コンテナ内にあって前記第１の環状壁と同心状で且つ前記第１の環状壁と前記外壁との間の第２の環状壁を含み、前記第２の環状壁の内面が第１の電極隔室の外側を限定し、前記第２の環状壁の外面が第２の電極隔室の内側を限定しており、
前記装置は更に、第１の仕切り及び第２の仕切りを有する仮想電極ユニットを備え、前記第１の仕切りは、前記第１及び第２の環状壁に結合されている第１の横方向区分と、前記第１の横方向区分から突き出て前記一次流のための内側流路を限定している第１の環状リップとを有し、前記第２の仕切りは、前記第１の横方向区分の上方の第２の横方向区分と、前記第２の横方向区分から突き出て前記第１の環状リップを取り囲みそれとの間に環状開口を限定している第２の環状リップとを有しており、
前記装置は更に、前記第１の電極隔室内の第１の環状電極と、前記第２の電極隔室内の第２の環状電極とを備えている、
ことを特徴とする請求項２２に記載の装置。
【請求項２８】
前記ディストリビュータは、前記一次流を受ける入口と、前記入口と流体的に通じている第１の出口と、
前記二次流を受けるように前記入口から分離されているプレナムと、前記プレナムの上側部分に位置する複数の上側オリフィスと、前記プレナムの下側部分に位置する複数の下側オリフィスと、前記オリフィスから複数の外側出口まで延びている複数のチャンネルと
を含み、前記外側出口は第２の出口を限定している、
ことを特徴とする請求項２２に記載の装置。
【請求項２９】
前記ディストリビュータは、複数の環状ステップを有する環状ボディと、
前記ボディを通って延びる前記一次流を受ける入口とを含み、前記第１の出口は前記入口と流体的に通じており、
前記ディストリビュータは更に、前記二次流を受けるように前記入口から分離されているプレナムと、前記プレナムの上側部分に位置する複数の上側オリフィスと、前記プレナムの下側部分に位置する複数の下側オリフィスとを含み、
前記ディストリビュータは更に、前記オリフィスから前記環状ボディのステップにおける複数の外側出口まで延びている複数のチャンネルを含み、前記外側出口は第２の出口を限定している、
ことを特徴とする請求項２２に記載の装置。
【請求項３０】
前記界面部材は、前記二次流が前記一次流と合流する前に前記二次流から粒子を除去することができるフィルタからなることを特徴とする請求項２２に記載の装置。
【請求項３１】
前記界面部材は、選択されたイオンが前記二次流から前記一次流へ通過できるように構成されているイオン膜からなることを特徴とする請求項２２に記載の装置。
【請求項３２】
前記界面部材は、選択されたイオンが前記二次流から前記一次流へ通過できるように構成されているイオン膜からなり、前記イオン膜は前記二次流の流体に対して少なくとも実質的に不透過性であることを特徴とする請求項２２に記載の装置。
【請求項３３】
前記界面部材は、選択されたイオンが前記二次流から前記一次流へ通過できるように構成されているイオン膜からなり、前記イオン膜は前記二次流の流体に対して少なくとも実質的に透過性であることを特徴とする請求項２２に記載の装置。
【請求項３４】
マイクロエレクトロニック加工片を処理するために使用される電気化学処理チャンバ用反応容器であって、
外壁を有する外側コンテナと、
前記外側コンテナに結合されているディストリビュータとを備え、前記ディストリビュータは、一次流を前記外側コンテナ内へ導入するように構成されている第１の出口、及び二次流を前記一次流から分離させて前記外側コンテナ内へ導入するように構成されている少なくとも１つの第２の出口を有し、
前記反応容器は更に、前記外側コンテナ内にあって前記ディストリビュータに結合され且つ前記一次流を前記第１の出口から受けてそれを加工片処理サイトへ導く一次流案内と、
前記外側コンテナ内にあって前記ディストリビュータに結合され且つ前記二次流を前記第２の出口から受ける誘電性電界成形ユニットとを備え、前記電界成形ユニットは、前記外側コンテナの少なくとも一部分を通る前記一次流から分離されている前記二次流を容れるように構成され、また前記電界成形ユニットは、前記二次流を通過させることはできるが該二次流を前記一次流から分離させる少なくとも１つの電極隔室を有し、
前記反応容器は更に、
前記電極隔室内の電極と、
前記電極の下流において前記電界成形ユニットによって担持されている界面部材とを備え、前記界面部材は前記電極隔室において前記二次流と流体的に通じ、また前記界面部材は前記二次流の選択された物質が前記一次流へ通過することを防ぐように構成されていることを特徴とする反応容器。
【請求項３５】
前記一次流案内は、
少なくとも前記一次流を通過させることができる複数の第１の開口を有する第１のバッフルと、
前記第１のバッフルの下流の第２のバッフルとを含み、前記第２のバッフルは、前記第１の開口を通過した後の前記一次流を通過させることができる複数の第２の開口を有している、
ことを特徴とする請求項３４に記載の装置。
【請求項３６】
前記一次流案内は、共通軸上に中心を有する環状外側バッフルを含み、前記外側バッフルは複数の第１の開口を有し、
前記一次流案内は更に、前記外側バッフルの内側に同心状に位置決めされている環状内側バッフルを含み、前記内側バッフルは複数の第２の開口を有し、前記一次流は、前記外側バッフルの第１の開口を通過した後に前記内側バッフルの第２の開口を通過するようになっている、
ことを特徴とする請求項３４に記載の装置。
【請求項３７】
前記一次流案内は、共通軸上に中心を有する環状外側バッフルを含み、前記外側バッフルは複数のほぼ垂直のスロットを有し、
前記一次流案内は更に、前記外側バッフルの内側に同心状に位置決めされている環状内側バッフルを含み、前記内側バッフルは前記共通軸に対して上方に傾斜している環状に延びる複数の放射状スロットを有する逆円錐台形の壁を有し、前記一次流は、前記外側バッフルの垂直スロットを通過した後に前記内側バッフルの環状スロットを通過し、半径方向内向きに且つ複数の直径方向に逆向きのベクトルに沿って前記共通軸に対して上向きに放出されるようになっている、
ことを特徴とする請求項３４に記載の装置。
【請求項３８】
前記電界成形ユニットは前記外側コンテナの外壁内に配置されている誘電性壁を含み、前記電極隔室は前記誘電性壁と前記外壁との間にあって、前記二次流が前記誘電性壁の一方の側の前記電極隔室を通過し、前記一次流が前記誘電性壁の別の側を通過するようになっていることを特徴とする請求項３４に記載の装置。
【請求項３９】
前記電界成形ユニットは、前記外側コンテナ内の共通軸上に中心を有する第１の環状壁を含み、前記第１の環状壁は前記外壁から半径方向内側に離間しており、前記電界成形ユニットは更に、前記外側コンテナ内にあって前記第１の環状壁と同心状で且つ前記第１環状壁と前記外壁との間の第２の環状壁を含み、前記第２の環状壁の内面は第１の電極隔室の外側を限定し、前記第２の環状壁の外面は第２の電極隔室の内側を限定しており、
前記装置は更に、前記第１の電極隔室内の第１の環状電極と、前記第２の電極隔室内の第２の環状電極とを備えている、
ことを特徴とする請求項３４に記載の装置。
【請求項４０】
前記電界成形ユニットは、前記外側コンテナ内にあって共通軸上に中心を有する第１の環状壁を含み、前記第１の環状壁は前記外壁から半径方向内側に離間しており、
前記電界成形ユニットは更に、前記外側コンテナ内にあって前記第１の環状壁と同心状の且つ前記第１の環状壁と前記外壁との間の第２の環状壁を含み、前記第２の環状壁の内面が第１の電極隔室の外側を限定し、前記第２の環状壁の外面が第２の電極隔室の内側を限定しており、
前記装置は更に、第１の仕切り及び第２の仕切りを有する仮想電極ユニットを含み、前記第１の仕切りは、前記第１及び第２の環状壁に結合されている第１の横方向区分と、前記第１の横方向区分から突き出て前記一次流のための内側流路を限定している第１の環状リップとを有し、前記第２の仕切りは、前記第１の横方向区分の上方の第２の横方向区分と、前記第２の横方向区分から突き出て前記第１の環状リップを取り囲みそれとの間に環状開口を限定している第２の環状リップとを有しており、
前記装置は更に、前記第１の電極隔室内の第１の環状電極と、前記第２の電極隔室内の第２の環状電極とを備えている、
ことを特徴とする請求項３４に記載の装置。
【請求項４１】
前記ディストリビュータは、前記一次流を受ける入口と、前記入口に結合されている環状空洞とを含み、前記環状空洞は前記第１の出口を限定し、
前記ディストリビュータは更に、前記二次流を受けるように前記入口から分離されているプレナムと、前記プレナムの上側部分に位置する複数の上側オリフィスと、前記プレナムの下側部分に位置する複数の下側オリフィスと、前記オリフィスから複数の外側出口まで延びている複数のチャンネルとを含み、前記外側出口は第２の出口を限定している、
ことを特徴とする請求項３４に記載の装置。
【請求項４２】
前記ディストリビュータは、
複数の環状ステップを有する環状ボディと、
前記ボディを通って延びる前記一次流を受ける入口と、
前記二次流を受けるように前記入口から分離されているプレナムと、前記プレナムの上側部分に位置する複数の上側オリフィスと、前記プレナムの下側部分に位置する複数の下側オリフィスと、
前記オリフィスから、前記環状ボディのステップに位置する複数の外側出口まで延びている複数のチャンネルと、
を含むことを特徴とする請求項３４に記載の装置。
【請求項４３】
前記界面部材は、前記二次流が前記一次流と合流する前に前記二次流から粒子を除去することができるフィルタからなることを特徴とする請求項３４に記載の装置。
【請求項４４】
前記界面部材は、選択されたイオンが前記二次流から前記一次流へ通過できるように構成されているイオン膜からなることを特徴とする請求項３４に記載の装置。
【請求項４５】
前記界面部材は、選択されたイオンが前記二次流から前記一次流へ通過できるように構成されているイオン膜からなり、前記イオン膜は前記二次流の流体に対して少なくとも実質的に不透過性であることを特徴とする請求項３４に記載の装置。
【請求項４６】
前記界面部材は、選択されたイオンが前記二次流から前記一次流へ通過できるように構成されているイオン膜からなり、前記イオン膜は前記二次流の流体に対して少なくとも実質的に透過性であることを特徴とする請求項３４に記載の装置。
【請求項４７】
マイクロエレクトロニック加工片を処理するために使用される電気化学処理チャンバ用反応容器であって、
外壁を有する外側コンテナと、
前記外側コンテナによって担持されている第１の流体導管とを備え、前記第１の流体導管は、第１の入口と、前記第１の入口に結合されている一次流チャンネルとを有し、前記一次流チャンネルは、前記外側コンテナ内にあって一次流体流を加工片処理サイトへ向けて導くように構成されており、
前記反応容器は更に、前記外側コンテナによって担持されている第２の流体導管を備え、前記第２の流体導管は、少なくとも１つの電極隔室を含む誘電性電界成形ユニットを有し、前記第２の流体導管は、前記外側コンテナの少なくとも一部分を通る前記一次流から分離されている二次流体流を容れるようになっており、
前記反応容器は更に、前記電界成形ユニットによって担持され、前記二次流体流の選択された物質が前記一次流体流へ通過することを防ぐように構成されている少なくとも１つの界面部材と、
前記界面部材の上流の少なくとも１つの電極隔室内に少なくとも１つの電極とを備えている、
ことを特徴とする反応容器。
【請求項４８】
マイクロエレクトロニック加工片を処理するために使用される電気化学処理チャンバ用反応容器であって、
外壁を有する外側コンテナと、
前記外側コンテナ内の少なくとも第１の電極隔室と、前記コンテナの少なくとも一部分を通して前記第１の電極隔室から分離されている第２の電極隔室とを含む複数の隔室とを備え、前記電極隔室は電気化学的処理溶液を容れるように構成されており、
前記反応容器は更に、前記第１の電極隔室内の少なくとも第１の電極と、前記第２の電極隔室内の第２の電極とを含む複数の分離した電極と、
前記第１の電極隔室の前記第１の電極と加工片を処理することができる加工片サイトとの間に第１の界面部材とを備え、前記第１の界面部材は、選択された物質が前記第１の界面部材を横切って通過することを防ぐように構成されている、
ことを特徴とする反応容器。
【請求項４９】
前記第２の電極隔室の前記第２の電極と前記加工片サイトとの間に第２の界面部材を更に備え、前記第２の界面部材は、選択された物質が前記第２の界面部材を横切って通過することを防ぐように構成されていることを特徴とする請求項４８に記載の反応容器。
【請求項５０】
前記コンテナの内側の第１の環状壁と、前記コンテナの内側の第２の環状壁とを更に備え、前記第２の環状壁は前記第１の環状壁と前記外壁との間にあり、前記第１の環状壁と前記第２の環状壁との間の第１の環状空間が前記第１の電極隔室を限定し、前記第２の環状壁の外側の第２の環状空間が前記第２の電極隔室を限定しており、
前記第１の電極は前記第１の電極隔室内の第１の環状電極であり、前記第２の電極は前記第２の電極隔室内の第２の環状電極である、
ことを特徴とする請求項４８に記載の反応容器。
【請求項５１】
前記反応容器は更に、前記コンテナの内側の第１の環状壁と、前記コンテナの内側の第２の環状壁を備え、前記第２の環状壁は前記第１の環状壁と前記外壁との間にあり、前記第１の環状壁と前記第２の環状壁との間の第１の環状空間が前記第１の電極隔室を限定し、前記第２の環状壁の外側の第２の環状空間が前記第２の電極隔室を限定しており、
前記第１の電極は前記第１の電極隔室内の第１の環状電極であり、前記第２の電極は前記第２の電極隔室内の第２の環状電極であり、
前記反応容器は更に、前記第２の電極隔室の前記第２の電極と前記加工片サイトとの間に第２の界面部材を備え、前記第２の界面部材は、選択された物質が前記第２の界面部材を横切って通過することを防ぐように構成されている、
ことを特徴とする請求項４８に記載の反応容器。
【請求項５２】
前記第１及び第２の界面部材は、前記第１及び第２の電極隔室を通る前記処理溶液の流れから粒子を除去することができるフィルタからなることを特徴とする請求項５１に記載の反応容器。
【請求項５３】
前記第１及び第２の界面部材はイオン膜からなり、前記イオン膜は、選択されたイオンが前記膜を横切って通過できるように構成されていることを特徴とする請求項５１に記載の反応容器。
【請求項５４】
前記第１及び第２の界面部材はイオン膜からなり、前記イオン膜は、選択されたイオンが前記膜を横切って通過できるように構成され、前記第１及び第２のイオン膜は前記処理溶液内の流体に対して不透過性であることを特徴とする請求項５１に記載の反応容器。
【請求項５５】
前記第１及び第２の界面部材はイオン膜からなり、前記イオン膜は、選択されたイオンが前記膜を横切って通過できるように構成され、前記第１及び第２のイオン膜は前記処理溶液内の流体に対して透過性であることを特徴とする請求項５１に記載の反応容器。
【請求項５６】
前記外側コンテナ内にあって前記処理溶液を受けるように構成されている誘電性電界成形ユニットを更に備え、前記電界成形ユニットは、前記第１及び第２の電極隔室を限定するように構成されている第１及び第２の壁を有し、前記第１の壁は開口を有し、
前記第２の電極隔室の前記第２の電極と前記加工片サイトとの間に第２の界面部材を更に備え、前記第２の界面部材は選択された物質が前記第２の界面部材を横切って通過することを防ぐように構成され、前記第１の界面部材は前記第１の壁内の開口上に前記第１の壁によって担持され、前記第２の界面部材は前記第１の壁と前記第２の壁との間に容れられた処理溶液と接触するように前記電界成形ユニットによって担持されている、
ことを特徴とする請求項４８に記載の反応容器。
【請求項５７】
マイクロエレクトロニック加工片を電気化学的に処理する装置であって、
処理ステーションを備え、
前記処理ステーションは、マイクロエレクトロニック加工片を処理位置に保持するように構成されている接点組立体、及び前記処理位置において前記加工片の一部分と接触するように構成されている複数の接点を有するヘッド組立体と、
前記接点組立体及び反応容器を受けて内部に収容するように構成されているハウジングを有する処理チャンバとを備え、
前記反応容器は、
外壁を有する外側コンテナと、
一次流を前記外側コンテナ内へ導入するように構成されている第１の出口と、
二次流を前記一次流から分離させて前記外側コンテナ内に導入するように構成されている少なくとも１つの第２の出口と、
前記外側コンテナ内にあって前記第２の出口に結合され且つ前記二次流を受ける誘電性電界成形ユニットとを含み、前記電界成形ユニットは、前記外側コンテナの少なくとも一部分を通る前記一次流から分離されている前記二次流を容れるように構成され、また前記電界成形ユニットは、前記二次流を通過させることはできるが該二次流を前記一次流から分離させる少なくとも１つの電極隔室を有し、
前記反応容器は更に、前記電極隔室内の電極を含む、
ことを特徴とする装置。
【請求項５８】
一次流案内を更に備え、
前記一次流案内は、少なくとも前記一次流を通過させることができる複数の第１の開口を有する第１のバッフルと、
前記第１のバッフルの下流の第２のバッフルとを含み、前記第２のバッフルは前記第１の開口を通過した後の前記一次流を通過させることができる複数の第２の開口を有する、
ことを特徴とする請求項５７に記載の装置。
【請求項５９】
一次流案内を更に備え、
前記一次流案内は、共通軸上に中心を有する環状外側バッフルを含み、前記外側バッフルは複数の第１の開口を有し、
前記一次流案内は更に、前記外側バッフルと同心状に且つその内側に位置決めされている環状内側バッフルを含み、前記内側バッフルは複数の第２の開口を有し、前記一次流は前記外側バッフルの第１の開口を通過した後に前記内側バッフルの第２の開口を通過するようになっている、
ことを特徴とする請求項５７に記載の装置。
【請求項６０】
前記電界成形ユニットは前記外側コンテナの外壁内に配置されている誘電性壁を含み、前記電極隔室は前記誘電性壁と前記外壁との間にあって、前記二次流が前記誘電性壁の一方の側の前記電極隔室を通過し、前記一次流が前記誘電性壁の別の側を通過するようになっていることを特徴とする請求項５７に記載の装置。
【請求項６１】
前記電界成形ユニットは前記外側コンテナ内に環状壁を含み、前記環状壁は前記外壁から半径方向内側に離間して共通軸上に中心を有する中心開口を限定しており、前記電極隔室は前記環状壁と前記外壁との間にあって、前記一次流が前記中心開口を通過し、前記二次流が前記電極隔室を通過するようになっていることを特徴とする請求項５７に記載の装置。
【請求項６２】
前記電界成形ユニットは、前記外側コンテナ内の共通軸上に中心を有する第１の環状壁を含み、前記第１の環状壁は前記外壁から半径方向内側に離間しており、前記電界成形ユニットは更に、前記外側コンテナ内の前記第１の環状壁と同心状の且つ前記第１環状壁と前記外壁との間の第２の環状壁を含み、前記第２の環状壁の内面は第１の電極隔室の外側を限定し、前記第２の環状壁の外面は第２の電極隔室の内側を限定しており、
前記装置は更に、前記第１の電極隔室内の第１の環状電極と、前記第２の電極隔室内の第２の環状電極とを備えている、
ことを特徴とする請求項５７に記載の装置。
【請求項６３】
前記外側コンテナに結合されているディストリビュータを更に備え、前記ディストリビュータは、前記第１の出口を限定している中心出口と、第２の出口を限定している複数の外側出口とを有していることを特徴とする請求項５７に記載の装置。
【請求項６４】
前記ディストリビュータは、前記一次流を受ける入口と、前記入口に結合されている環状空洞とを含み、前記環状空洞は前記中心出口を限定し、
前記ディストリビュータは更に、前記二次流を受けるように前記入口から分離されているプレナムと、前記プレナムの上側部分に位置する複数の上側オリフィスと、前記プレナムの下側部分に位置する複数の下側オリフィスと、前記オリフィスから複数の外側出口まで延びている複数のチャンネルとを含み、前記外側出口は第２の出口を限定している、
ことを特徴とする請求項６３に記載の装置。
【請求項６５】
前記電極の下流において前記電界成形ユニットによって担持されている界面部材を更に備え、前記界面部材は前記電極隔室において前記二次流と流体的に通じ、また前記界面部材は前記二次流の選択された物質が前記一次流へ通過することを防ぐように構成されていることを特徴とする請求項５７に記載の装置。
【請求項６６】
前記界面部材は、前記二次流が前記一次流に合流する前に前記二次流から粒子を除去することができるフィルタからなることを特徴とする請求項６５に記載の装置。
【請求項６７】
前記界面部材は、選択されたイオンが前記二次流から前記一次流へ通過できるように構成されているイオン膜からなることを特徴とする請求項６５に記載の装置。
【請求項６８】
前記界面部材は、選択されたイオンが前記二次流から前記一次流へ通過できるように構成されているイオン膜からなり、前記イオン膜は前記二次流の流体に対して少なくとも実質的に不透過性であることを特徴とする請求項６５に記載の装置。
【請求項６９】
前記界面部材は、選択されたイオンが前記二次流から前記一次流へ通過できるように構成されているイオン膜からなり、前記イオン膜は前記二次流の流体に対して少なくとも実質的に透過性であることを特徴とする請求項１２に記載の装置。
【請求項７０】
前記反応容器を含む処理ツールを更に限定し、
前記装置は更に、
内側エンクロージャを有するキャビネットと、
前記エンクロージャ内にある転送デバイスとを備え、前記転送デバイスは前記キャビネット内において前記マイクロエレクトロニック加工片を操作するためのエンドエフェクタを有し、
前記処理ステーションは、前記エンクロージャ内にある、
ことを特徴とする請求項５７に記載の装置。
【請求項７１】
前記反応容器は一次流案内を更に備え、
前記一次流案内は、少なくとも前記一次流を通過させることができる複数の第１の開口を有する第１のバッフルと、
前記第１のバッフルの下流にあって前記第１の開口を通過した後の前記一次流を通過させることができる複数の第２の開口を有する第２のバッフルとを含む、
ことを特徴とする請求項７０に記載の装置。
【請求項７２】
前記反応容器の電界成形ユニットは前記コンテナの外壁内に配置されている誘電性壁を含み、前記電極隔室は前記誘電性壁と前記外壁との間にあって、前記二次流が前記誘電性壁の一方の側の前記電極隔室を通過し、前記一次流が前記誘電性壁の別の側を通過するようになっていることを特徴とする請求項７０に記載の装置。
【請求項７３】
前記反応容器は更に、前記外側コンテナに結合されているディストリビュータを含み、前記ディストリビュータは、前記第１の出口を限定している中心出口と、第２の出口を限定している複数の外側出口とを有していることを特徴とする請求項７０に記載の装置。
【請求項７４】
前記反応容器は更に、前記電極の下流において前記電界成形ユニットによって担持されている界面部材を含み、前記界面部材は、前記二次流の選択された物質が前記一次流へ通過することを防ぎ、及び／または前記一次流の選択された物質が前記二次流へ通過することを防ぐように構成されていることを特徴とする請求項７０に記載の装置。
【請求項７５】
マイクロエレクトロニック加工片を電気化学的に処理する処理ステーションであって、
マイクロエレクトロニック加工片を処理位置に保持するように構成されている接点組立体、及び前記処理位置において前記加工片の一部分と接触するように構成されている複数の接点を有するヘッド組立体と、
前記接点組立体及び反応容器を受けて内部に収容するように構成されているハウジングを有する処理チャンバとを備え、
前記反応容器は、
外壁を有する外側コンテナと、
前記外側コンテナに結合されているディストリビュータとを含み、前記ディストリビュータは、一次流を前記外側コンテナ内へ導入するように構成されている第１の出口、及び二次流を前記一次流から分離させて前記外側コンテナ内へ導入するように構成されている少なくとも１つの第２の出口を有し、
前記反応容器は更に、前記外側コンテナ内にあって前記ディストリビュータに結合され且つ前記二次流を受ける誘電性電界成形ユニットを含み、前記電界成形ユニットは前記外側コンテナの少なくとも一部分を通る前記一次流から分離されている前記二次流を容れるように構成され、また前記電界成形ユニットは前記二次流を通過させることはできるが該二次流を前記一次流から分離させる少なくとも１つの電極隔室を有し、
前記反応容器は更に、前記電極隔室内の電極と、
前記電極の下流において前記電界成形ユニットによって担持されている界面部材とを含み、前記界面部材は前記電極隔室において前記二次流と流体的に通じ、また前記界面部材は前記二次流の選択された物質が前記一次流へ通過することを阻止するように構成されている、
ことを特徴とする装置。
【請求項７６】
一次流案内を更に備え、
前記一次流案内は、共通軸上に中心を有し、複数の第１の開口を有する環状外側バッフルと、
前記外側バッフルの内側に同心状に位置決めされ、複数の第２の開口を有する環状内側バッフルとを含み、前記一次流は、前記外側バッフルの第１の開口を通過した後に前記内側バッフルの第２の開口を通過するようになっている、
ことを特徴とする請求項７５に記載の装置。
【請求項７７】
一次流案内を更に備え、
前記一次流案内は、共通軸上に中心を有する環状外側バッフルを含み、前記外側バッフルは複数のほぼ垂直のスロットを有し、
前記一次流案内は更に、前記外側バッフルの内側に同心状に位置決めされている環状内側バッフルを含み、前記内側バッフルは前記共通軸に対して上方に傾斜している環状に延びる複数の放射状スロットを有する逆円錐台形の壁を有し、前記一次流は、前記外側バッフルの垂直スロットを通過した後に前記内側バッフルの環状スロットを通過し、半径方向内向きに且つ複数の直径方向に逆向きのベクトルに沿って前記共通軸に対して上向きに放出されるようになっている、
ことを特徴とする請求項７５に記載の装置。
【請求項７８】
前記電界成形ユニットは前記外側コンテナの外壁内に配置されている誘電性壁を含み、前記電極隔室は前記誘電性壁と前記外壁との間にあって、前記二次流が前記誘電性壁の一方の側の前記電極隔室を通過し、前記一次流が前記誘電性壁の別の側を通過するようになっていることを特徴とする請求項７５に記載の装置。
【請求項７９】
前記電界成形ユニットは、前記外側コンテナ内の共通軸上に中心を有する第１の環状壁を含み、前記第１の環状壁は前記外壁から半径方向内側に離間しており、前記電界成形ユニットは更に、前記外側コンテナ内にあって前記第１の環状壁と同心状の且つ前記第１の環状壁と前記外壁との間の第２の環状壁を含み、前記第２の環状壁の内面は第１の電極隔室の外側を限定し、前記第２の環状壁の外面は第２の電極隔室の内側を限定しており、
前記装置は更に、前記第１の電極隔室内の第１の環状電極と、前記第２の電極隔室内の第２の環状電極とを備えている、
ことを特徴とする請求項７５に記載の装置。
【請求項８０】
前記ディストリビュータは、前記一次流を受ける入口、及び前記入口に結合されている環状空洞を含み、前記環状空洞は前記第１の出口を限定しており、
前記ディストリビュータは更に、前記二次流を受けるように前記入口から分離されているプレナムと、前記プレナムの上側部分に位置する複数の上側オリフィスと、前記プレナムの下側部分に位置する複数の下側オリフィスと、前記オリフィスから複数の外側出口まで延びている複数のチャンネルとを含み、前記外側出口は第２の出口を限定している、
ことを特徴とする請求項７５に記載の装置。
【請求項８１】
前記界面部材は、前記二次流が前記一次流と合流する前に前記二次流から粒子を除去することができるフィルタからなることを特徴とする請求項７５に記載の装置。
【請求項８２】
前記界面部材は、選択されたイオンが前記二次流から前記一次流へ通過できるように構成されているイオン膜からなることを特徴とする請求項７５に記載の装置。
【請求項８３】
前記界面部材は、選択されたイオンが前記二次流から前記一次流へ通過できるように構成されているイオン膜からなり、前記イオン膜は前記二次流の流体に対して少なくとも実質的に不透過性であることを特徴とする請求項７５に記載の装置。
【請求項８４】
前記界面部材は、選択されたイオンが前記二次流から前記一次流へ通過できるように構成されているイオン膜からなり、前記イオン膜は前記二次流の流体に対して少なくとも実質的に透過性であることを特徴とする請求項７５に記載の装置。
【請求項８５】
マイクロエレクトロニック加工片を電気化学的に処理する処理ステーションであって、
マイクロエレクトロニック加工片を処理位置に保持するように構成されている接点組立体、及び前記処理位置において前記加工片の一部分と接触するように構成されている複数の接点を有するヘッド組立体と、
前記接点組立体及び反応容器を受けて内部に収容するように構成されているハウジングを有する処理チャンバとを備え、
前記反応容器は、
外壁を有する外側コンテナと、
前記外側コンテナ内に結合されているディストリビュータとを含み、前記ディストリビュータは、一次流を前記外側コンテナ内へ導入するように構成されている第１の出口、及び二次流を前記一次流とは分離させて前記外側コンテナ内へ導入するように構成されている少なくとも１つの第２の出口を有し、
前記反応容器は更に、前記外側コンテナ内にあって前記一次流を受けるように前記ディストリビュータに結合され、前記一次流を加工片処理サイトへ導く一次流案内と、
前記外側コンテナ内にあって前記二次流を受けるように前記ディストリビュータに結合されている誘電性電界成形ユニットとを含み、前記電界成形ユニットは前記外側コンテナの少なくとも一部分を通る前記一次流とは分離されている前記二次流を容れるように構成され、また前記誘電性電界成形ユニットは前記二次流を通過させることはできるがその二次流を前記一次流から分離させる少なくとも１つの電極隔室を有し、
前記反応容器は更に、前記電極隔室内の電極と、
前記電極の下流において前記電界成形ユニットによって担持されている界面部材とを含み、前記界面部材は前記電極隔室において前記二次流と流体的に通じ、また前記界面部材は前記二次流の選択された物質が前記一次流へ通過することを阻止するように構成されている、
を含むことを特徴とする処理ステーション。
【請求項８６】
マイクロエレクトロニック加工片を電気化学的に処理する処理ステーションであって、
マイクロエレクトロニック加工片を処理位置に保持するように構成されている接点組立体と、前記処理位置において前記加工片の一部分と接触するように構成されている複数の接点を有するヘッド組立体と、
前記接点組立体及び反応容器を受けて内部に収容するように構成されているハウジングを有する処理チャンバとを備え、
前記反応容器は、
外壁を有する外側コンテナと、
前記外側コンテナによって担持されている第１の流体導管とを含み、前記第１の流体導管は、第１の入口、及び前記第１の入口に結合されている一次流チャンネルとを有し、前記一次流チャンネルは、前記外側コンテナ内にあって一次流体流を加工片処理サイトへ向けて導くように構成されており、
前記反応容器は更に、前記外側コンテナによって担持されている第２の流体導管を含み、前記第２の流体導管は少なくとも１つの電極隔室を含む誘電性電界成形ユニットを有し、また二次流体流を容れている前記第２の流体導管は前記外側コンテナの少なくとも一部分を通る前記一次流から分離されており、
前記反応容器は更に、前記電界成形ユニットによって担持され、前記二次流体流の選択された物質が前記一次流体流へ通過することを防ぐように構成されている少なくとも１つの界面部材を含み、
前記反応容器は更に、前記界面部材の上流の少なくとも１つの電極隔室内の少なくとも１つの電極を含む、
ことを特徴とする処理ステーション。
【請求項８７】
マイクロエレクトロニック加工片を電気化学的に処理する方法であって、
一次流体流を、反応容器を通る第１の流路に沿って通過させるステップと、
二次流体流を、前記反応容器の少なくとも一部を通る前記第１の流路とは分離した前記反応容器を通る第２の流路に沿って通過させるステップと、
前記二次流体流が前記一次流体流から分離されている位置において、前記二次流体流内の電極に電位を印加するステップ、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項８８】
マイクロエレクトロニック加工片を電気化学的に処理する方法であって、
一次流体流を、反応容器を通る第１の流路に沿って通過させるステップと、
二次流体流を、前記反応容器の少なくとも一部を通る前記第１の流路とは分離した前記反応容器を通る第２の流路に沿って通過させるステップと、
前記二次流体流が前記一次流体流から分離されている位置において、前記二次流体流内の電極に電位を印加するステップと、
（ａ）前記二次流体流からの物質が前記一次流体流内へ侵入すること及び／または（ｂ）前記一次流体流からの物質が前記二次流体流内へ侵入することを阻止するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項８９】
マイクロエレクトロニック加工片を電気化学的に処理する方法であって、
一次流体流を、反応容器を通る第１の流路に沿って通過させるステップと、
二次流体流を、前記反応容器の少なくとも一部を通る前記第１の流路とは分離した前記反応容器を通る第２の流路に沿って通過させるステップと、
前記二次流体流が前記一次流体流から分離されている位置において、前記二次流体流内の電極に電位を印加するステップと、
前記二次流体流からの物質が前記一次流体流内へ侵入することを阻止するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項９０】
マイクロエレクトロニック加工片を電気化学的に処理する方法であって、
一次流体流を、反応容器を通る第１の流路に沿って通過させるステップと、
二次流体流を、前記反応容器の少なくとも一部を通る前記第１の流路とは分離した前記反応容器を通る第２の流路に沿って通過させるステップと、
前記二次流体流が前記一次流体流から分離されている位置において、前記二次流体流内の電極に電位を印加するステップと、
前記二次流体流からの選択された物質だけが前記一次流体流へ侵入できるようにするステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項９１】
マイクロエレクトロニック加工片を電気化学的に処理する装置であって、
一次流体流を加工片処理サイトへ向けて導くように構成されている一次流チャンネルを含む第１の流体導管、及び二次流体流を輸送するように構成されている少なくとも第１の電極隔室を含む第２の流体導管を有する反応容器と、
前記第１の電極隔室内の少なくとも第１の電極と、
前記第１の流体導管と前記第２の流体導管との間のイオン交換膜とを備え、前記イオン交換膜は、前記一次流体流の流体を前記二次流体流の流体から分離し、且つ選択されたイオンに対して前記一次流体流と前記二次流体流との間で透過性である、
ことを特徴とする装置。
【請求項９２】
加工片と接触させる前記第１の流体導管内の陰極液の一次流体流と、前記第１の電極と接触させる前記第２の流体導管内の陽極液の二次流体流とを更に備えていることを特徴とする請求項９１に記載の装置。
【請求項９３】
前記第２の流体導管は、前記二次流体流の一部分を輸送するように構成されている第２の電極隔室を更に備え、前記装置は、前記第２の電極隔室内に第２の電極を備えていることを特徴とする請求項９１に記載の装置。
【請求項９４】
加工片と接触させる前記第１の流体導管内の陰極液の一次流体流と、前記第１及び第２の電極と接触させる前記第２の流体導管内の陽極液の二次流体流とを更に備えていることを特徴とする請求項９３に記載の装置。
【請求項９５】
前記イオン膜は、全フッ素化メンブレンからなることを特徴とする請求項９４に記載の装置。
【請求項９６】
マイクロエレクトロニック加工片を電気化学的に処理する装置であって、
一次流体流を加工片処理サイトへ向けて導くように構成されている一次流チャンネルを含む第１の流体導管、及び少なくとも第１の電極隔室及び第２の電極隔室を含み二次流体流を前記第１及び第２の電極隔室を通して輸送するように構成されている第２の流体導管を有する反応容器と、
前記第１の電極隔室内の第１の電極とを備え、前記第１の電極隔室は、前記二次流体流と前記第１の電極とを接触させるように構成されており、
前記装置は更に、前記第２の電極隔室内の第２の電極を備え、前記第２の電極隔室は、前記二次流体流と前記第２の電極とを接触させながら輸送するように構成されており、
前記装置は更に、前記第１の流体導管と前記第２の流体導管との間の界面部材を備え、前記界面部材の一方の側は前記第１の流体導管に曝されて前記一次流体流と接触し、その別の側は前記第２の流体導管に曝されて前記二次流体流と接触するようにされており、また前記界面部材は選択された物質がそれを横切ることを防ぐように構成されている、
ことを特徴とする装置。
【請求項９７】
加工片と接触させる前記第１の流体導管内の陰極液の一次流体流と、前記第１の電極と接触させる前記第２の流体導管内の陽極液の二次流体流とを更に備えていることを特徴とする請求項９６に記載の装置。
【請求項９８】
前記界面部材は、前記一次流体流の流体と前記二次流体流の流体とを分離しているイオン膜であり、前記イオン交換膜は、選択されたイオンに対して前記一次流体流と前記二次流体流との間で透過性であることを特徴とする請求項９６に記載の装置。
【請求項９９】
前記イオン膜は、ペルフルオリネーテッドメンブレンからなることを特徴とする請求項９８に記載の装置。
【請求項１００】
前記界面部材は、多孔性材料で作られたフィルタからなることを特徴とする請求項９６に記載の装置。
【請求項１０１】
前記多孔性材料は、多孔性プラスチックからなることを特徴とする請求項１００に記載の装置。
【請求項１０２】
マイクロエレクトロニック加工片を電気化学的に処理する装置であって、
（ａ）陰極液の源に結合され、前記陰極液の流れを加工片処理サイトへ向けて導くように構成されている一次流チャンネルを含む第１の流体導管、及び（ｂ）陽極液の源に結合され、前記陽極液が流れるようになっている少なくとも第１の電極隔室を含む第２の流体導管を有する反応容器と、
前記第１の電極隔室内の少なくとも第１の電極と、
前記第１の流体導管と前記第２の流体導管との間にあって前記陰極液と前記陽極液とを分離しているイオン膜とを備え、前記イオン膜は、（ａ）前記陰極液及び陽極液の流体に対して不透過性であり、そして（ｂ）陽イオンに対して透過性である、
ことを特徴とする装置。
【請求項１０３】
前記イオン膜は、ペルフルオリネーテッドメンブレンからなることを特徴とする請求項１０２に記載の装置。
【請求項１０４】
前記第２の流体導管内の第２の電極隔室、及び前記第２の電極隔室内の第２の電極を更に備え、前記陽極液は前記第２の電極隔室を通って流れ、前記第２の電極と接触することを特徴とする請求項１０２に記載の装置。
【請求項１０５】
マイクロエレクトロニック加工片を電気化学的に処理するツールであって、
キャビネットと、
前記キャビネット内に位置する複数の電気化学的反応器とを備え、
個々の反応器は、（ａ）加工片を処理サイトに保持し、且つ前記加工片に電気的に接触する複数の電気接点を有する接点組立体を有するヘッド、及び（ｂ）少なくとも１つの処理流体を容れるように構成され、少なくとも第１の電極を有する容器を含み、
前記ツールは更に、
前記個々の反応器内で使用される陽極液処理流体と、
前記個々の反応器内で使用される陰極液処理流体と、
前記キャビネット内に位置し、前記加工片を前記反応器へ／から輸送する転送デバイスとを備えている、
ことを特徴とするツール。
【請求項１０６】
前記個々の反応器の容器は更に、（ａ）前記陰極液に結合され、前記陰極液の流れを加工片処理サイトへ向けて導くように構成されている一次流チャンネルを含む第１の流体導管、及び前記陽極液に結合され、少なくとも第１の電極隔室を含む第２の流体導管を含み、前記陽極液は前記第１の電極と接触しながら前記第１の電極隔室を通って流れるようになっており、
前記個々の反応器は更に、前記第１の流体導管と前記第２の流体導管との間にあって前記陰極液と前記陽極液とを分離しているイオン膜を含み、前記イオン膜は（ａ）前記陰極液の流体及び前記陽極液の流体に対して不透過性であり、（ｂ）陽イオンに対して透過性である、
ことを特徴とする請求項１０５に記載のツール。
【請求項１０７】
前記個々の反応器は更に、前記第１の電極から分離されている第２の電極を含み、
前記個々の反応器の容器は更に、（ａ）前記陰極液に結合され、前記陰極液の流れを加工片処理サイトへ向けて導くように構成されている一次流チャンネルを含む第１の流体導管、及び（ｂ）前記陽極液に結合され、少なくとも第１の電極隔室及び第２の電極隔室を含む第２の流体導管を含み、前記陽極液は前記第１の電極と接触しながら前記第１の電極隔室を通って流れ、前記陽極液は前記第２の電極と接触しながら前記第２の電極隔室を通って流れるようになっており、
前記個々の反応器は更に、前記第１の流体導管と前記第２の流体導管との間の界面部材を含み、前記界面部材の一方の側は前記陰極液に曝され、前記界面部材の別の側は前記陽極液に曝されており、前記界面部材は選択された物質が前記界面部材を横切ることを防ぐように構成されている、
ことを特徴とする請求項１０５に記載のツール。