【手続補正書】
【提出日】平成17年3月29日(2005.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光剤と組み合わせて用いられる下記式（１）
Ａ−［（Ｊ）m−（Ｘ−Ｐｒｏ）］n    （１）
（式中、Ａは、炭化水素基及び複素環基から選択された少なくとも一種の疎水性基で構成された疎水性ユニットを示し、Ｊは連結基を示し、Ｘ−Ｐｒｏは光照射に起因して脱離可能な保護基Ｐｒｏで保護された親水性基を示す。ｍは０又は１、ｎは１以上の整数である）で表される光活性化合物であって、前記式（１）の化合物が、下記式（３ｂ）又は（４ｂ）である光活性化合物。
【化１】
2002363123.tif 000001
（式中、Ｚ1は、炭化水素環又は複素環を示し、Ｒ1は同一又は異なって、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、又はケイ素含有基を示し、ｒは０又は１以上の整数を示す。Ｊはアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、オキシアルキレン基、アルキレンオキシ基、ポリ（オキシアルキレン）基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、アミド基、ウレタン基、および尿素基から選択された連結基を示す。ｍ、Ｘ、Ｐｒｏ、ｎは前記に同じ。Ｒ1は少なくともハロゲン原子又はケイ素含有基を含み、ｒ＝０のとき、Ｊがアルケニレン基又はアルキニレン基、ｍ＝１である。）
【化２】
2002363123.tif 000002
（式中、Ｚ2及びＺ3は、同一又は異なって、炭化水素環又は複素環を示し、Ａ3は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、オキシアルキレン基、アルキレンオキシ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、アミド基、ウレタン基、尿素基、およびスルホニル基から選択された連結基を示し、ｓ及びｕは同一又は異なって０又は１である。Ｊ1a及びＪ1bは同一又は異なってＡ3と異なる連結基を示し、Ｒ1a及びＲ1bは同一又は異なってハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、又はケイ素含有基を示し、ｎ１及びｎ２はそれぞれ独立して０又は１以上の整数であり、ｎ１＋ｎ２≧１である。Ｊ、ｒ、ｍ、Ｘ、Ｐｒｏは前記に同じである。ただし、下記（ｉ）〜（ｖｉ）のいずれかを満たす。
（ｉ）Ａ3がアルケニレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、縮合炭化水素環基、オキシアルキレン基又はアルキレンオキシ基、ｓ＝１
（ｉｉ）Ｚ2がシクロアルカン環、Ｚ3が芳香族炭化水素環
（ｉｉｉ）Ｒ1a及びＲ1bが少なくともケイ素含有基を含み、環Ｚ2についてｒが０又は１〜６、環Ｚ3についてｒが１〜６
（ｉｖ）Ａ3がカルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基、Ｒ1a及びＲ1bがアルコキシ基、ｓ＝１、環Ｚ2についてｒが０又は１〜６、環Ｚ3についてｒが１〜６、ｎ１＋ｎ２＝１
（ｖ）Ａ3がカルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基、Ｊがアルケニレン基又はアルキニレン基、ｓ＝１、ｍ＝１
（ｖｉ）Ａ3がカルボニルオキシ基、オキシカルボニル基又はスルホニル基、保護基Ｐｒｏがアルコキシアルキル基、ｓ＝１）
【請求項２】
保護基Ｐｒｏが、光照射により、感光剤と関連して脱離可能である請求項１記載の光活性化合物。
【請求項３】
保護基Ｐｒｏが、疎水性保護基であり、この疎水性保護基の脱離により、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を生成可能である請求項１記載の光活性化合物。
【請求項４】
保護基Ｐｒｏが、（ｉ）アルコキシアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、オキサシクロアルキル基、架橋環式脂環族基、及びアルキルシリル基から選択されたヒドロキシル基に対する保護基、又は（ｉｉ）アルキル基、橋架環式脂環族炭化水素基、オキサシクロアルキル基、ラクトン環基、及びカルバモイル基又はＮ−置換カルバモイル基から選択されたカルボキシル基に対する保護基である請求項１記載の光活性化合物。
【請求項５】
式（１）において、疎水性ユニットＡが、脂肪族炭化水素基、脂環族炭化水素基又は芳香族炭化水素基で構成され、親水性基がヒドロキシル基又はカルボキシル基であり、保護基Ｐｒｏが、（ｉ）Ｃ1-6アルキル−カルボニル基、Ｃ1-6アルコキシ−Ｃ1-6アルキル基、Ｃ1-6アルコキシ−カルボニル基、オキサシクロアルキル基、ビ又はトリシクロアルキル基、及びＣ1-6アルキルシリル基から選択されたヒドロキシル基に対する保護基、又は（ｉｉ）Ｃ1-6アルキル基、ビ又はトリシクロアルキル基、カルバモイル基、Ｎ−Ｃ1-6アルキル−カルバモイル基及びＮ−Ｃ6-10アリール−カルバモイル基から選択されたカルボキシル基に対する保護基である請求項１記載の光活性化合物。
【請求項６】
式（３ｂ）において、Ｚ1がＣ4-40脂環族炭化水素環又はＣ6-40芳香族炭化水素環であり、Ｒ1が、同一又は異なって、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、又はケイ素含有基であり、ｒが０〜４であり、Ｊが、アルキレン基、アルケニレン基、又はアルキニレン基であり、ｍが０又は１、ｎが１〜６である請求項１記載の光活性化合物。
【請求項７】
式（３ｂ）において、Ｒ1が、同一又は異なって、ハロゲン原子又はケイ素含有基であり、ｒが１〜４である請求項１記載の光活性化合物。
【請求項８】
式（３ｂ）において、Ｚ1が芳香族炭化水素環であり、Ｒ1が、同一又は異なって、ハロゲン原子又はケイ素含有基であり、ｒが１〜４であり、ｎが１〜４である請求項１記載の光活性化合物。
【請求項９】
式（３ｂ）において、Ｚ1がＣ6-10アレーン環であり、Ｒ1が、同一又は異なって、ハロゲン原子、Ｃ1-18アルキルシリルＣ2-4アルケニル基又はＣ1-18アルキルシリルＣ2-4アルキニル基であり、ｒが１〜４、ｎが１〜４である請求項１記載の光活性化合物。
【請求項１０】
式（４ｂ）において、連結基Ａ3が、直接結合、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、オキシアルキレン基、アルキレンオキシ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、アミド基、ウレタン基、尿素基又はスルホニル基であるとき、ｕ＝０であり、連結基Ａ3が、シクロアルキレン基又はアリーレン基であるとき、ｕ＝１である請求項１記載の光活性化合物。
【請求項１１】
式（４ｂ）において、連結基Ａ3が、シクロアルキレン基又はアリーレン基であるとき、連結基Ｊ1a及びＪ1bが直接結合又はアルキレン基である請求項１記載の光活性化合物。
【請求項１２】
式（４ｂ）において、連結基Ａ3が、シクロアルキレン基又はアリーレン基であるとき、連結基Ｊ1a及びＪ1bが、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、及びアリール基から選択された置換基を有していてもよいアルキレン基である請求項１記載の光活性化合物。
【請求項１３】
式（４ｂ）において、Ｚ2−（Ｊ1a）u−（Ａ3）s−（Ｊ1b）u−Ｚ3で表される疎水性ユニットが、（ａ）ビフェノール類、（ｂ）ビス（ヒドロキシアリール）Ｃ1-10アルカン類、（ｃ）ビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、（ｄ）Ａ3がカルボニル基、酸素原子、エステル基、アルキレンオキシ基、オキシアルキレン基、アミド基又はスルホニル基であるビスフェノール類、（ｅ）Ａ3がベンゼン環であり、Ｊ1a及びＪ1bがアルキレン基であるビスフェノール類及び（ｈ）フルオレン骨格を有するビスフェノール類から選択された化合物に対応する疎水性ユニットであり、ｎ１＋ｎ２＝１〜１０である請求項１記載の光活性化合物。
【請求項１４】
式（４ｂ）において、ｓ＝１であり、Ａ3がアルキニレン基、アルキレンオキシ基、オキシアルキレン基又はシクロアルキレン基である請求項１記載の光活性化合物。
【請求項１５】
式（４ｂ）において、ｓ＝１、ｕ＝０であり、Ａ3がＣ2-4アルキニレン基、Ｃ1-6アルキレンオキシ基、オキシＣ1-6アルキレン基又はＣ4-8シクロアルキレン基である請求項１記載の光活性化合物。
【請求項１６】
式（４ｂ）において、ｓ＝１、ｕ＝０であり、Ａ3がオキシカルボニル基、カルボニルオキシ基又はスルホニル基であり、保護基Ｐｒｏがアルコキシアルキル基である請求項１記載の光活性化合物。
【請求項１７】
式（４ｂ）において、Ｚ2がシクロアルカン環であり、Ｚ3が芳香族炭化水素環である請求項１記載の光活性化合物。
【請求項１８】
式（４ｂ）において、Ｚ2がＣ4-8シクロアルカン環であり、Ｚ3がＣ6-10アレーン環であり、ｓが０又は１、ｕ＝０であり、Ａ3がオキシカルボニル基又はカルボニルオキシ基である請求項１記載の光活性化合物。
【請求項１９】
式（４ｂ）において、環Ｚ2についてｒが０又は１〜６、環Ｚ3についてｒが１〜６であり、Ｒ1a及びＲ1bがケイ素含有基である請求項１記載の光活性化合物。
【請求項２０】
式（４ｂ）において、環Ｚ2についてｒが０又は１〜４、環Ｚ3についてｒが１〜４であり、Ｒ1a及びＲ1bが、同一又は異なって、Ｃ1-18アルキルシリルＣ2-4アルケニル基又はＣ1-18アルキルシリルＣ2-4アルキニル基である請求項１記載の光活性化合物。
【請求項２１】
式（４ｂ）において、Ｚ2−（Ｊ1a）u−（Ａ3）s−（Ｊ1b）u−Ｚ3で表される疎水性ユニットが、９，９−ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレン類である請求項１記載の光活性化合物。
【請求項２２】
ベース樹脂と感光剤と請求項１記載の光活性化合物とで構成されている感光性樹脂組成物。
【請求項２３】
水又はアルカリ現像可能である請求項２２記載の感光性樹脂組成物。
【請求項２４】
ポジ型感光性樹脂組成物である請求項２２記載の感光性樹脂組成物。
【請求項２５】
ベース樹脂が、酸の作用により親水性基を生成可能な樹脂で構成され、感光剤が光酸発生剤で構成されている請求項２２記載の感光性樹脂組成物。
【請求項２６】
ベース樹脂が、ヒドロキシル基及びカルボキシル基から選択され、かつ酸の作用により脱離可能な保護基で保護可能な親水性基を有する単量体の単独又は共重合体で構成されている請求項２２記載の感光性樹脂組成物。
【請求項２７】
光活性化合物と感光剤との割合（重量比）が、前者／後者＝０．０１／１〜１００／１である請求項２２記載の感光性樹脂組成物。
【請求項２８】
感光剤の使用量が、ベース樹脂１００重量部に対して０．１〜５０重量部であり、光活性化合物の使用量が、ベース樹脂１００重量部に対して１〜１０００重量部である請求項２２記載の感光性樹脂組成物。
【請求項２９】
請求項２２記載の感光性樹脂組成物を基板に塗布し、露光した後、加熱処理し、さらに現像してパターンを形成する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
Ａ−［（Ｊ）m−（Ｘ−Ｐｒｏ）］n    （１）
（式中、Ａは、炭化水素基及び複素環基から選択された少なくとも一種の疎水性基で構成された疎水性ユニットを示し、Ｊは連結基を示し、Ｘ−Ｐｒｏは光照射に起因して脱離可能な保護基Ｐｒｏで保護された親水性基を示す。ｍは０又は１、ｎは１以上の整数である）
なお、前記式において、基「Ｘ−Ｐｒｏ」は、基Ｘに対応する親水性基が保護基Ｐｒｏにより保護された基を示す。
前記式（１）の化合物には、下記式（３ｂ）又は（４ｂ）で表される化合物が含まれる。
【化３】
2002363123.tif 000003
（式中、Ｚ1は、炭化水素環又は複素環を示し、Ｒ1は同一又は異なって、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、又はケイ素含有基を示し、ｒは０又は１以上の整数を示す。Ｊはアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、オキシアルキレン基、アルキレンオキシ基、ポリ（オキシアルキレン）基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、アミド基、ウレタン基、および尿素基から選択された連結基を示す。ｍ、Ｘ、Ｐｒｏ、ｎは前記に同じ。Ｒ1は少なくともハロゲン原子又はケイ素含有基を含み、ｒ＝０のとき、Ｊがアルケニレン基又はアルキニレン基、ｍ＝１である。）
【化４】
2002363123.tif 000004
（式中、Ｚ2及びＺ3は、同一又は異なって、炭化水素環又は複素環を示し、Ａ3は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、オキシアルキレン基、アルキレンオキシ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、アミド基、ウレタン基、尿素基、およびスルホニル基から選択された連結基を示し、ｓ及びｕは同一又は異なって０又は１である。Ｊ1a及びＪ1bは同一又は異なってＡ3と異なる連結基を示し、Ｒ1a及びＲ1bは同一又は異なってハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、又はケイ素含有基を示し、ｎ１及びｎ２はそれぞれ独立して０又は１以上の整数であり、ｎ１＋ｎ２≧１である。Ｊ、ｒ、ｍ、Ｘ、Ｐｒｏは前記に同じである。ただし、下記（ｉ）〜（ｖｉ）のいずれかを満たす。
（ｉ）Ａ3がアルケニレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、縮合炭化水素環基、オキシアルキレン基又はアルキレンオキシ基、ｓ＝１
（ｉｉ）Ｚ2がシクロアルカン環、Ｚ3が芳香族炭化水素環
（ｉｉｉ）Ｒ1a及びＲ1bが少なくともケイ素含有基を含み、環Ｚ2についてｒが０又は１〜６、環Ｚ3についてｒが１〜６
（ｉｖ）Ａ3がカルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基、Ｒ1a及びＲ1bがアルコキシ基、ｓ＝１、環Ｚ2についてｒが０又は１〜６、環Ｚ3についてｒが１〜６、ｎ１＋ｎ２＝１
（ｖ）Ａ3がカルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基、Ｊがアルケニレン基又はアルキニレン基、ｓ＝１、ｍ＝１
（ｖｉ）Ａ3がカルボニルオキシ基、オキシカルボニル基又はスルホニル基、保護基Ｐｒｏがアルコキシアルキル基、ｓ＝１）
前記保護基Ｐｒｏは、光照射により、感光剤と関連して脱離可能であってもよい。また、保護基Ｐｒｏは、疎水性保護基であってもよく、この疎水性保護基の脱離により、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を生成可能であってもよい。前記保護基Ｐｒｏは、（ｉ）アルコキシアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、オキサシクロアルキル基、架橋環式脂環族基、アルキルシリル基などのヒドロキシル基に対する保護基であってもよく、（ｉｉ）アルキル基、橋架環式脂環族炭化水素基、オキサシクロアルキル基、ラクトン環基、カルバモイル基又はＮ−置換カルバモイル基などのカルボキシル基に対する保護基であってもよい。前記式（１）における疎水性ユニットＡは、脂肪族炭化水素基、脂環族炭化水素基、芳香族炭化水素基などで構成してもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
なお、ｎは１〜１０程度である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
前記式（３ｂ）において、前記Ｚ1は、例えば、Ｃ4-40脂環族炭化水素、Ｃ6-40芳香族炭化水素であってもよく、Ｒ1は、同一又は異なって、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、ケイ素含有基などであってもよく、ｒは、例えば、０〜４程度であってもよい。連結基Ｊは、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基などであってもよく、ｍは０又は１、ｎは１〜６程度である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
前記式（３ｂ）で表される化合物には、Ｒ1が、同一又は異なって、ハロゲン原子又はケイ素含有基であり、ｒが１〜４である光活性化合物；Ｚ1が芳香族炭化水素環であり、Ｒ1が、同一又は異なって、ハロゲン原子又はケイ素含有基であり、ｒが１〜４であり、ｎが１〜４である光活性化合物；Ｚ1がＣ6-10アレーン環であり、Ｒ1が、同一又は異なって、ハロゲン原子、Ｃ1-18アルキルシリルＣ2-4アルケニル基又はＣ1-18アルキルシリルＣ2-4アルキニル基であり、ｒが１〜４、ｎが１〜４である光活性化合物などが含まれる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、前記式（４ｂ）において、連結基Ａ3が、直接結合、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、オキシアルキレン基、アルキレンオキシ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、アミド基、ウレタン基、尿素基又はスルホニル基であるとき、ｕは０であってもよく、連結基Ａ3が、シクロアルキレン基又はアリーレン基であるとき、ｕは１であってもよい。また、連結基Ａ3が、シクロアルキレン基又はアリーレン基であるとき、連結基Ｊ1a及びＪ1bは直接結合又はアルキレン基であってもよい。さらに、連結基Ａ3が、シクロアルキレン基又はアリーレン基であるとき、連結基Ｊ1a及びＪ1bは、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基から選択された置換基を有していてもよいアルキレン基であってもよい。前記式（４ｂ）において、Ｚ2−（Ｊ1a）u−（Ａ3）s−（Ｊ1b）u−Ｚ3で表される疎水性ユニットは、（ａ）ビフェノール類、（ｂ）ビス（ヒドロキシアリール）Ｃ1-10アルカン類、（ｃ）ビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、（ｄ）Ａ3がカルボニル基、酸素原子、エステル基、アルキレンオキシ基、オキシアルキレン基、アミド基又はスルホニル基であるビスフェノール類、（ｅ）Ａ3がベンゼン環であり、Ｊ1a及びＪ1bがアルキレン基であるビスフェノール類及び（ｈ）フルオレン骨格を有するビスフェノール類から選択された化合物に対応する疎水性ユニットであってもよく、ｎ１＋ｎ２＝１〜１０であってもよい。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
前記式（４ｂ）で表される化合物には、ｓ＝１であり、Ａ3がアルキニレン基、アルキレンオキシ基、オキシアルキレン基又はシクロアルキレン基である光活性化合物；ｓ＝１、ｕ＝０であり、Ａ3がＣ2-4アルキニレン基、Ｃ1-6アルキレンオキシ基、オキシＣ1-6アルキレン基又はＣ4-8シクロアルキレン基である光活性化合物；ｓ＝１、ｕ＝０であり、Ａ3がオキシカルボニル基、カルボニルオキシ基又はスルホニル基であり、保護基Ｐｒｏがアルコキシアルキル基である光活性化合物；Ｚ2がシクロアルカン環であり、Ｚ3が芳香族炭化水素環である光活性化合物；Ｚ2がＣ4-8シクロアルカン環であり、Ｚ3がＣ6-10アレーン環であり、ｓが０又は１、ｕ＝０であり、Ａ3がオキシカルボニル基又はカルボニルオキシ基である光活性化合物；環Ｚ2についてｒが０又は１〜６、環Ｚ3についてｒが１〜６であり、Ｒ1a及びＲ1bがケイ素含有基である光活性化合物；環Ｚ2についてｒが０又は１〜４、環Ｚ3についてｒが１〜４であり、Ｒ1a及びＲ1bが、同一又は異なって、Ｃ1-18アルキルシリルＣ2-4アルケニル基又はＣ1-18アルキルシリルＣ2-4アルキニル基である光活性化合物；Ｚ2−（Ｊ1a）u−（Ａ3）s−（Ｊ1b）u−Ｚ3で表される疎水性ユニットが、９，９−ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレン類である光活性化合物などが含まれる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
（式（４ａ）（４ｂ）中、Ｚ2及びＺ3は、同一又は異なって、炭化水素環又は複素環を示し、Ａ3は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、オキシアルキレン基、アルキレンオキシ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基（カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基）、アミド基、ウレタン基、尿素基、スルホニル基から選択された連結基を示し、ｓ及びｕは同一又は異なって０又は１である。Ｊ1a及びＪ1bは同一又は異なってＡ3と異なる連結基を示し、Ｒ1a及びＲ1bは同一又は異なってハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、又はケイ素含有基を示し、ｎ１及びｎ２はそれぞれ独立して０又は１以上の整数であり、ｎ１＋ｎ２≧１である。Ｊ、ｒ、ｍ、Ｘ、Ｐｒｏは前記に同じ）
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
ｓ及びｕは同時に０であってもよく（すなわち、環Ｚ2及びＺ3は直接結合してもよく）、ｓ＝１及びｕ＝０であってもよく、ｓ＝０及びｕ＝１、ｓ＝１及びｕ＝１であってもよい。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０６】
光活性化合物の重量平均分子量Ｍｗは、ポリマーでは、通常、５，０００以上、オリゴマーでは、通常、１００〜２，５００、好ましくは２００〜２，０００、さらに好ましくは３００〜１，０００程度である。光活性化合物がモノマー乃至オリゴマーの場合、特にレジスト用途において、レジストの溶剤に対する溶解性や樹脂との親和性を向上でき、溶解速度の差を大きくできる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４７１】
（ｉ）１−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ブロモベンゾエートの合成
実施例１０４において、テレフタル酸クロリドを４−ブロモベンゾイルクロリドに代える以外、実施例１０４と同様にして１−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ブロモベンゾエートを得た。
（ｉｉ）１−［４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）フェニル］−２−（４−ｎ−プロピルオキシフェニル）アセチレンの合成
実施例３１のステップ（ｉ）において、１−ｎ−プロピル−４−ブロモベンゼンとトリメチルシリルアセチレンをステップ（ｉ）で合成した１−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ブロモベンゾエートと実施例３２のステップ（ｉｉｉ）で合成した４−ｎ−プロピルオキシフェニルアセチレンに代える以外、実施例３１のステップ（ｉ）と同様にして反応させた後、反応溶液を氷水の中へ投入して、塩酸を加えて系内を酸性にした。生じた固体を濾過・水洗乾燥後、ヘキサンで再結晶することにより１−［４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）フェニル］−２−（４−ｎ−プロピルオキシフェニル）アセチレンを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）ｐｐｍ：１．０６（ｔ，３Ｈ，ＣＨ3），１．６０（ｓ，９Ｈ，ｔｅｒｔ−Ｂｕ），１．７３〜１．９１（ｍ，２Ｈ，ＣＨ2），３．９５（ｔ，２Ｈ，ＯＣＨ2），６．８８（ｄ，２Ｈ，Ｃ6Ｈ4），７．４８（ｄ，２Ｈ，Ｃ6Ｈ4），７．５３（ｄ，２Ｈ，Ｃ6Ｈ4），７．９５（ｄ，２Ｈ，Ｃ6Ｈ4）。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４７７】
（ｉ）４−（４−ヒドロキシフェニル）安息香酸エチルの合成
実施例３３のステップ（ｉ）において、４−ｎ−プロピル安息香酸を４−（４−ヒドロキシフェニル）安息香酸に，メタノールをエタノールに代える以外、実施例３３のステップ（ｉ）と同様にして合成した後、トルエンで再結晶することにより４−（４−ヒドロキシフェニル）安息香酸エチルを得た。
（ｉｉ）４−（４−ｎ−プロピルオキシフェニル）安息香酸の合成
実施例２４のステップ（ｉ）において、４−ヒドロキシ安息香酸メチルをステップ（ｉ）で合成した４−（４−ヒドロキシフェニル）安息香酸エチルに代える以外、実施例２４のステップ（ｉｉ）と同様にして４−（４−ｎ−プロピルオキシフェニル）安息香酸を得た。
（ｉｉｉ）４’−（ｎ−プロピルオキシ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ビフェニルの合成
ステップ（ｉｉ）で合成した４−（４−ｎ−プロピルオキシフェニル）安息香酸５．０ｇ（１９．５ｍｍｏｌ）に塩化チオニル１０ｍｌを加え一晩還流した。過剰の塩化チオニルを除去した後、実施例１０４と同様にして４’−（ｎ−プロピルオキシ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ビフェニルを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）ｐｐｍ：１．０７（ｔ，３Ｈ，ＣＨ3），１．６１（ｓ，９Ｈ，ｔｅｒｔ−Ｂｕ），１．７８〜１．９４（ｍ，２Ｈ，ＣＨ2），３．９９（ｔ，２Ｈ，ＯＣＨ2），６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｃ6Ｈ4），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｃ6Ｈ4），７．６０（ｄ，２Ｈ，Ｃ6Ｈ4），８．０２（ｄ，２Ｈ，Ｃ6Ｈ4）。