【手続補正書】
【提出日】平成16年6月22日(2004.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式
【化１】
2002193916.tif 000001
〔式中、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を示し、Ｒ１およびＲ２の何れか一方のみが１個の不斉炭素を含み、Ｒａは光学活性な置換されていてもよい炭化水素基または光学活性な置換されていてもよい複素環基を示す。〕で表わされるジアステレオマー混合物またはそれらの塩を分割することを特徴とするＲ１またはＲ２における不斉炭素の立体配置がＲ配置またはＳ配置であるジアステレオマーまたはその塩の製造法。
【請求項２】
Ｒａが不斉炭素を含む光学活性な置換されていてもよい炭化水素基または不斉炭素を含む光学活性な置換されていてもよい複素環基である請求項１記載の製造法。
【請求項３】
加水分解酵素を使用しないで分割することを特徴とする請求項１記載の製造法。
【請求項４】
式
Ｒ１−ＳＯ２−ＮＨ−Ｒ２    （II）
〔式中、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を示し、Ｒ１およびＲ２の何れか一方のみが１個の不斉炭素を含む。〕で表わされるラセミ体またはそれらの塩と式
Ｒａ−ＣＯＯＨ    （III）
〔式中、Ｒａは光学活性な置換されていてもよい炭化水素基または光学活性な置換されていてもよい複素環基を示す。〕で表わされる光学活性化合物もしくはその塩またはその反応性誘導体とを反応させることを特徴とする式
【化２】
2002193916.tif 000002
〔式中、各記号は前記と同意義を示す。〕で表わされるジアステレオマー混合物またはそれらの塩の製造法。
【請求項５】
請求項１で得られるジアステレオマーまたはその塩を脱アシル化することを特徴とする、式
Ｒ１ａ−ＳＯ２−ＮＨ−Ｒ２ａ    （Ｖ）
〔式中、Ｒ１ａおよびＲ２ａは同一または異なって置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を示し、Ｒ１ａおよびＲ２ａの何れか一方のみが１個の不斉炭素を含み、該不斉炭素の立体配置がＲ配置またはＳ配置を示す。〕で表わされる光学活性体またはその塩の製造法。
【請求項６】
式
Ｒ１−ＳＯ２−ＮＨ−Ｒ２    （II）
〔式中、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を示し、Ｒ１およびＲ２の何れか一方のみが１個の不斉炭素を含む。〕で表わされるラセミ体またはそれらの塩と式
Ｒａ−ＣＯＯＨ    （III）
〔式中、Ｒａは光学活性な置換されていてもよい炭化水素基または光学活性な置換されていてもよい複素環基を示す。〕で表わされる光学活性化合物もしくはその塩またはその反応性誘導体とを反応させ、式
【化３】
2002193916.tif 000003
〔式中、各記号は前記と同意義を示す。〕で表わされるジアステレオマー混合物またはそれらの塩を得、次いで、当該ジアステレオマー混合物またはそれらの塩を分割することによってＲ１またはＲ２における不斉炭素の立体配置がＲ配置またはＳ配置であるジアステレオマーまたはその塩を製造し、次いで脱アシル化することを特徴とする、式
Ｒ１ａ−ＳＯ２−ＮＨ−Ｒ２ａ    （Ｖ）
〔式中、Ｒ１ａおよびＲ２ａは同一または異なって置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を示し、Ｒ１ａおよびＲ２ａの何れか一方のみが１個の不斉炭素を含み、不斉炭素の立体配置がＲ配置またはＳ配置を示す。〕で表わされる光学活性体またはその塩の製造法。
【請求項７】
式
【化４】
2002193916.tif 000004
で表わされる基が式
【化５】
2002193916.tif 000005
〔式中、Ｒ３およびＲ４は同一または異なって置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を示し、Ｒ３とＲ４は隣接する炭素原子と共に置換されていてもよい環状基を形成してもよく、Ａｒは置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を、式
【化６】
2002193916.tif 000006
はラセミ体であることを示す。〕で表わされる基を、ジアステレオマーが式
【化７】
2002193916.tif 000007
〔式中、＊は不斉炭素の位置を、他の記号は前記と同意義を示す。〕で表わされる基の不斉炭素の立体配置がＲ配置またはＳ配置であるジアステレオマーである請求項１〜６のいずれかに記載の製造法。
【請求項８】
式
【化８】
2002193916.tif 000008
で表わされる基が式
【化９】
2002193916.tif 000009
〔式中、Ｒ５は置換されていてもよい炭化水素基、置換されていてもよい複素環基、式−ＯＲ６（Ｒ６は水素原子または置換されていてもよい脂肪族炭化水素基を示す。）で表わされる基または式−ＮＲ７Ｒ８（Ｒ７およびＲ８は同一または異なって水素原子または置換されていてもよい脂肪族炭化水素基を示す。）で表わされる基を、
Ａｒ１は置換されていてもよい芳香族炭化水素基を、
環Ａはさらに置換されていてもよく、ｎは１〜４の整数を、式
【化１０】
2002193916.tif 000010
はラセミ体であることを示す。〕で表わされる基を、ジアステレオマーが式
【化１１】
2002193916.tif 000011
〔式中、＊は不斉炭素の位置を、他の記号は前記と同意義を示す。〕で表わされる基の不斉炭素の立体配置がＲ配置またはＳ配置であるジアステレオマーである請求項１〜６のいずれかに記載の製造法。
【請求項９】
式
【化１２】
2002193916.tif 000012
で表わされる基が式
【化１３】
2002193916.tif 000013
〔式中、Ｒ９はＣ１−６アルキル基を、Ａｒ２はハロゲン原子を有していてもよいＣ６−１４アリール基を、式
【化１４】
2002193916.tif 000014
はラセミ体であることを示す。〕で表わされる基を、ジアステレオマーが
【化１５】
2002193916.tif 000015
〔式中、＊は不斉炭素の位置を、他の記号は前記と同意義を示す。〕で表わされる基の不斉炭素の立体配置がＲ配置またはＳ配置であるジアステレオマーである請求項１〜６のいずれかに記載の製造法。
【請求項１０】
式
Ｒａ−ＣＯＯＨ    （III）
〔式中、Ｒａは光学活性な置換されていてもよい炭化水素基または光学活性な置換されていてもよい複素環基を示す。〕で表わされる化合物がカルボキシル基のα位に不斉炭素を含む化合物である請求項４または６に記載の製造法。
【請求項１１】
式
Ｒａ−ＣＯＯＨ    （III）
〔式中、Ｒａは光学活性な置換されていてもよい炭化水素基または光学活性な置換されていてもよい複素環基を示す。〕で表わされる化合物が
［１］式
【化１６】
2002193916.tif 000016
〔式中、ＲｂはＣ６−１４アリール基を、ＲｃはＣ１−６アルカノイル基またはＣ１−４アルキル基を示す。〕で表わされる光学活性化合物またはその塩、または
［２］式
【化１７】
2002193916.tif 000017
〔式中、ＲｄおよびＲｅはそれぞれ同一または異なってＣ１−４アルキル基を示す。〕で表わされる光学活性化合物またはその塩である請求項１０に記載の製造法。
【請求項１２】
式
【化１８】
2002193916.tif 000018
〔式中、Ｒａは光学活性な置換されていてもよい炭化水素基または光学活性な置換されていてもよい複素環基を示し、Ｒ５は置換されていてもよい炭化水素基、置換されていてもよい複素環基、式−ＯＲ６（Ｒ６は水素原子または置換されていてもよい脂肪族炭化水素基を示す。）で表わされる基または式−ＮＲ７Ｒ８（Ｒ７およびＲ８は同一または異なって水素原子または置換されていてもよい脂肪族炭化水素基を示す。）で表わされる基を、Ａｒ１は置換されていてもよい芳香族炭化水素基を、
環Ａはさらに置換されていてもよく、ｎは１〜４の整数を、＊は不斉炭素の位置を示す。〕で表わされる化合物またはその塩。
【請求項１３】
ＲａＣＯ−が式
【化１９】
2002193916.tif 000019
〔式中、ＲｂはＣ６−１４アリール基を、ＲｃはＣ１−６アルカノイル基またはＣ１−４アルキル基を示す。〕で表わされる基である請求項１２記載の化合物。
【請求項１４】
ＲａＣＯ−が式
【化２０】
2002193916.tif 000020
〔式中、ＲｄおよびＲｅはそれぞれ同一または異なってＣ１−４アルキル基を示す。〕で表わされる基である請求項１２記載の化合物。
【請求項１５】
（６Ｒ）−６−（｛［（２Ｓ）−２−（アセチルオキシ）−２−フェニルエタノイル］−２−クロロ−４−フルオロアニリノ｝スルホニル）−１−シクロヘキセン−１−カルボン酸エチルエステル。
【請求項１６】
（６Ｒ）−６−（｛２−クロロ−４−フルオロ［（２Ｒ）−４−メトキシ−２−メチル−４−オキソブタノイル］アニリノ｝スルホニル）−１−シクロヘキセン−１−カルボン酸エチルエステル。
【請求項１７】
（６Ｓ）−６−（｛［（２Ｒ）−２−（アセチルオキシ）−２−フェニルエタノイル］−２−クロロ−４−フルオロアニリノ｝スルホニル）−１−シクロヘキセン−１−カルボン酸エチルエステル。
【請求項１８】
（６Ｓ）−６−（｛２−クロロ−４−フルオロ［（２Ｓ）−４−メトキシ−２−メチル−４−オキソブタノイル］アニリノ｝スルホニル）−１−シクロヘキセン−１−カルボン酸エチルエステル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
〔式中、ＲｄおよびＲｅはそれぞれ同一または異なってＣ１−４アルキル基を示す。〕で表わされる基である上記（１２）の化合物；
（１５）（６Ｒ）−６−（｛［（２Ｓ）−２−（アセチルオキシ）−２−フェニルエタノイル］−２−クロロ−４−フルオロアニリノ｝スルホニル）−１−シクロヘキセン−１−カルボン酸エチルエステル；
（１６）（６Ｒ）−６−（｛２−クロロ−４−フルオロ［（２Ｒ）−４−メトキシ−２−メチル−４−オキソブタノイル］アニリノ｝スルホニル）−１−シクロヘキセン−１−カルボン酸エチルエステル；
（１７）（６Ｓ）−６−（｛［（２Ｒ）−２−（アセチルオキシ）−２−フェニルエタノイル］−２−クロロ−４−フルオロアニリノ｝スルホニル）−１−シクロヘキセン−１−カルボン酸エチルエステル；および
（１８）（６Ｓ）−６−（｛２−クロロ−４−フルオロ［（２Ｓ）−４−メトキシ−２−メチル−４−オキソブタノイル］アニリノ｝スルホニル）−１−シクロヘキセン−１−カルボン酸エチルエステル、に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９５】
【化５４】
2002193916.tif 000021
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
【化５５】
2002193916.tif 000022
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
【化５６】
2002193916.tif 000023
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８６】
実施例３
（６Ｒ）−６−（｛２−クロロ−４−フルオロ［（２Ｒ）−４−メトキシ−２−メチル−４−オキソブタノイル］アニリノ｝スルホニル）−１−シクロヘキセン−１−カルボン酸エチルエステル（化合物６）の製造