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【手続補正書】
【提出日】平成15年7月31日(2003.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
異方性結晶膜を製造する方法であって、
異方性粒子を含むコロイド系の層を基板上に適用する工程、
前記コロイド系に外部衝撃を加えて、前記コロイド系を適用した層の粘度を下げる工程、
前記コロイド系に外部配向処理を行って、前記コロイド系の粒子に優性配向を与える工程、
前記粒子が優性配向している堆積コロイド系が、少なくともその初期粘度値に戻るようにする工程、及び
前記堆積層を乾燥する工程を含むことを特徴とする前記方法。
【請求項２】
コロイド系に外部衝撃を加える工程と、該系に外部配向処理を行う工程とを、同時に行うことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
コロイド系に加える外部衝撃が、更に前記配向処理を行う前にコロイド系を加熱して粘度を下げることを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記系に加える外部衝撃を、前記コロイド系の層を基板に適用するときに前記コロイド系の層に機械的作用を及ぼすことにより加えることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項５】
堆積層の表面からの溶媒煙霧の偏りに抵抗するように形成された有限容積の中で処理を行うことにより乾燥速度を強制的に下げて、前記堆積層を、温度範囲０℃から５０℃、湿度範囲６０から９０％で乾燥する工程を含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項６】
堆積層の乾燥処理の間、湿度勾配を、層表面上方で接線方向及び／又は法線方向に作り出すことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記堆積層の表面の少なくとも一部を覆うシェル内で乾燥作業を行うことにより、堆積層の表面上方に有限容積を作り出し、及び前記堆積層表面上方の湿度勾配が、膜表面に沿って少なくとも１つの方向に前記シェルを少なくとも１回移動することにより作り出されることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
有限容積が、シェルにより形成され、少なくともその一部が、口径４ｎｍから２ｍｍの範囲で気孔率が５％以上の多孔膜の形態で行うことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項９】
前記乾燥作業を、コロイド系の堆積及び／又は配向の温度より低い温度で且つコロイド系の堆積及び／又は配向の湿度より高い湿度で行うことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項１０】
多細孔膜を、前記コロイド系を堆積させる基板として使用することを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項１１】
前記乾燥を、膜中の溶媒分が２−１５％になるまで行うことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項１２】
前記乾燥処理の終了後、結晶膜を、温度６０°乃至１５０°の通常の湿度で熟成することを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項１３】
堆積層を、層に沿って温度域を少なくとも一方向に通過させることにより熱処理する工程を含むことを特徴とする請求項１又は５に記載の方法。
【請求項１４】
前記温度域を、基板の、堆積層が形成されるのとは反対の側を局所的に加熱することにより作り出すことを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記温度域の局所加熱と同時に、基板の残り部分を冷却することを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記加熱域の温度を、基板温度よりも１０℃以上高く且つ結晶膜の分解温度よりも少なくとも１０℃以上低くなるように選択することを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
前記温度域の通過方向を、配向の方向と一致するように選択することを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１８】
前記温度域を多数回通過させるが、各回の通過の方向をその前の回の通過の方向に対して０から１８０°の角度範囲から選択することを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１９】
異方性結晶膜を形成する間の少なくとも一定期間中、堆積層が、一定の電界及び／又は磁界下にあることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項２０】
異方性結晶膜を製造する方法であって、
リザーバに入れた異方性粒子を含むコロイド系に外部衝撃を加えて、粘度を下げる工程、
前記コロイド系に外部配向処理を行って、加圧下でスッロト・ダイを通すことにより前記コロイド系の粒子に優性配向を与える工程、
前記外部衝撃を停止するか又は更に外部衝撃を加えることにより、スロット・ダイから出るときには粘度を高めた膜を形成し、前記コロイド系の少なくとも初期粘度値に戻す工程、
前記膜を基板に適用する工程、
前記堆積層を乾燥する工程を含むことを特徴とする前記方法。
【請求項２１】
前記系への外部配向処理を、前記リザーバ内に入れたコロイド系を加熱することにより行うことを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記外部配向処理を、内壁に配向用の起伏が設けられたスロット・ダイを使って行うことを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２３】
離液性液晶を前記コロイド系として使用することを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２４】
前記外部処理を、前記コロイド系の相転移を確実に行うよう選択することを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２５】
ゾル又はゲルを、前記コロイド系として使用することを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２６】
前記コロイド系内の異方性粒子が結晶であることを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２７】
コロイド系を使用し、前記コロイド系の分散相の濃度を、前記系のチキソトロピーを提供するように選択することを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２８】
前記系内の異方性粒子が電荷を帯びていることを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２９】
基板上に結晶膜を製造するための装置であって、
基板保持部、
異方性粒子を含む所定の厚さのコロイド系の層を、前記基板保持部に保持された基板上に適用するための、基板上方に所定間隔離して設けた手段、
前記基板に適用されたコロイド系に配向処理を行うための配向工具、及び
前記基板に適用されたコロイド系を加熱する手段を備えていることを特徴とする前記装置。
【請求項３０】
前記コロイド系を加熱するための手段により、基板保持部の少なくとも一部を加熱することを特徴とする請求項２９に記載の装置。
【請求項３１】
基板上に結晶膜を製造するための装置であって、
加熱要素と、リザーバ内に余分の圧力を発生させるための手段とを装備した、コロイド系を入れるためのリザーバ、及び
前記リザーバの下方に所定間隔離して、リザーバに対して水平面内で移動可能に設置された基板保持部を備え、
前記リザーバの下部に、配向衝撃の条件を規定するスロット・ダイの形をした開口部が設けられていることを特徴とする装置。
【請求項３２】
前記基板保持部下方に、前記基板保持部の少なくとも一部に亘り、ある一定の温度を維持できるように熱要素が実装されていることを特徴とする請求項３１に記載の装置。
【請求項３３】
前記スロット・ダイの表面の少なくとも一部が、起伏形状を特徴とする請求項３１に記載の装置。
【請求項３４】
前記スロット・ダイの表面の少なくとも一部が、親水性又は疎水性被膜を特徴とする請求項３３に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月13日(2004.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
本プロセスの第三の態様に於いて、ニトロ又はニトロソ前駆体を、前記の条件下で水素化し、発色現像主薬遊離塩基を、不均一水素化触媒を除去した後のオートクレーブ溶液から、結晶化及び分離によって単離する。水素化溶媒は好ましくは２−プロパノールである。ＣＤ−３遊離塩基について表Ｉに報告された溶解度データは、ＣＤ−３遊離塩基は、２−プロパノール中の低い溶解度及び２−プロパノールからの最高の生成物回収率を示すので、２−プロパノールの優位性を示している。結晶化方法を例５４及び５５に示す。
【手続補正書】
【提出日】平成15年4月4日(2003.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマー電解質として使用する組成物であって、前記組成物が、１つまたは複数の極性材料と式ＩＩＩからなる１つまたは複数のポリエステルを含み、
【化１】
2004519067.tif 000001
式中、ｙが、１．５から８０であり、各単位Ａが、同一または異なっていてもよいＩＶの構造であり、
【化２】
2004519067.tif 000002
式中、ｘが、１から５であり、各単位Ｂが、同一または異なっていてもよいＶの構造であり、
【化３】
2004519067.tif 000003
式中、ＲおよびＲ１が、それぞれ独立して、水素、置換されていてもよいヒドロカルビル基または不活性官能基である組成物。
【請求項２】
前記１つまたは複数のポリエステルのそれぞれが、３００００より大きい重量平均分子量を有する請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
ポリマー電解質として使用する組成物であって、前記組成物が、１つまたは複数の極性材料と、炭酸および１，２−エタンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールから選択される多価アルコールからなる１つまたは複数のポリエステルを含み、前記１つまたは複数のポリエステルのそれぞれが、３００００より大きい重量平均分子量を有する組成物。
【請求項４】
ポリエステルが、ポリ（炭酸トリメチレン）である請求項１又は３に記載の組成物。
【請求項５】
極性材料が、リチウム金属塩である請求項１から４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
前記組成物が、固体である請求項１から５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項７】
組成物が、１つまたは複数の可塑剤化合物をさらに含む請求項１から６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか一項に記載の組成物を調製する方法であって、ポリエステルおよび塩成分の均一な混合物を含む溶液を溶媒中で調製し、場合によっては、前記溶液の溶媒を不活性雰囲気下で蒸発させる該方法。
【請求項９】
請求項１から７のいずれか一項に記載の組成物の用途であって、電量計、ディスプレイ、スマートウィンドウ、電池またはバッテリーの中のポリマー電解質としての用途。
【請求項１０】
請求項１から７のいずれか一項に記載の組成物を含む電池および／またはバッテリー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2004519067.tif 000004
【図２】
2004519067.tif 000005
【図３】
2004519067.tif 000006
【図４】
2004519067.tif 000007
【図５】
2004519067.tif 000008
【図６】
2004519067.tif 000009
【図７】
2004519067.tif 000010
【図８】
2004519067.tif 000011
【図９】
2004519067.tif 000012
【図１０】
2004519067.tif 000013
【図１１】
2004519067.tif 000014
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月20日(2004.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】外部コンタクトエレメントとコンタクトするのに適したランプキャップを備える電気ランプであって、前記ランプキャップが、ランプ容器に接続されるとともに、ハウジングと、前記電気ランプの導電体に接続されるコンタクト部材とを有する、電気ランプであって、
各コンタクト部材が、スプリングと、第１のコンタクト部分と、第２のコンタクト部分とを有し、
前記第２のコンタクト部分が、前記外部コンタクトエレメントとのコンタクト中に取り付け方向に関して横方向に前記第１のコンタクト部分に対し移動可能にされるように、前記第２のコンタクト部分が、前記スプリングを介して前記第１のコンタクト部分に接続されることを特徴とする、電気ランプ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】前記第１のコンタクト部分が、かなり高いスプリング圧力下において、前記第１のコンタクト部分を前記ハウジングに寄りかかった状態に保つための他のスプリングを備えることを特徴とする、請求項１又は２に記載の電気ランプ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月28日(2004.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  無線周波数識別タグ装置を製造するための方法であって、
第１の主面および第２の主面を含む基板を形成する工程であり、前記基板の第１の部分がコネクタタブを含む工程と、
前記基板の前記第１の主面上に回路パターンを形成する工程であって、前記回路パターンが
第１の端部および第２の端部を含むアンテナパターンと、
第１の接続パッドおよび第２の接続パッドであって、前記第１の接続パッドが、前記コネクタタブ内にある前記基板の前記第１の主面上に位置している第１の接続パッドおよび第２の接続パッドと、
前記アンテナパターンと電気的に連通している共通コンデンサ板と、
複数の同調コンデンサ板であって、同調コンデンサ板の各々が同調コンデンサ板接続によって前記アンテナパターンと電気的に連通している同調コンデンサ板と、
を具備する工程と、
前記コネクタタブ内の前記基板の前記第１の主面が前記コネクタタブの外側の前記基板の前記第１の主面に面するように、コネクタタブ折畳み線に沿って前記コネクタタブを折畳む工程と、を含み、
前記複数の同調コンデンサ板が、前記コネクタタブに位置するか、または前記共通コンデンサ板が前記コネクタタブに位置し、折畳んだ後、前記複数の同調コンデンサ板および前記共通コンデンサ板がコンデンサを形成するようになり、
折畳んだ後、前記第１の接続パッドが前記第２の接続パッドに面する、方法。
【請求項２】  前記装置の共振周波数を測定する工程と、
前記同調コンデンサ板接続の少なくとも１つを選択的に分断する工程と、をさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記コネクタタブを折畳む前に、前記基板において分離線を形成する工程をさらに含み、前記コネクタタブが前記コネクタタブ折畳み線および前記分離線によって画定される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記共通コンデンサ板と前記同調コンデンサ板の各々との間に、誘電体層を位置付けることをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】  前記第２の接続パッドに電気的に連通している前記第１の接続パッドを配置する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】  前記回路パターンが、前記基板の前記第１の主面にダイ接続地点をさらに含み、前記ダイ接続地点が前記アンテナパターンと電気的に連通している、請求項１に記載の方法。
【請求項７】  前記基板の第２の部分が誘電タブを形成し、前記方法が誘電タブ折畳み線に沿って前記誘電タブを折畳む工程を含み、さらに前記誘電タブおよび前記コネクタタブを折畳んだ後、前記誘電タブが前記共通コンデンサ板と前記複数の同調コンデンサ板との間に位置付けられる、請求項１に記載の方法。
【請求項８】  基板を備える工程は、コネクタタブをそれぞれが含む複数の第１の部分を含む基板ウェブを備える工程をさらに含み、前記基板ウェブが複数の回路パターンを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】  第１の主面および第２の主面を含む基板であって、前記基板の第１の部分がコネクタタブを形成し、前記コネクタタブ内に位置する前記基板の前記第１の主面が前記コネクタタブの外側にある前記基板の前記第１の主面に面するように、コネクタタブ折畳み線に沿って折畳まれる基板と、
前記基板の前記第１の主面に位置するアンテナと、
前記コネクタタブ内にある前記基板の前記第１の主面に位置する第１の接続パッドと、
前記コネクタタブの外側にある前記基板の前記第１の主面に位置する第２の接続パッドであって、互いに面し、互いに電気的に連通している第１の接続パッドおよび第２の接続パッドと、
前記アンテナと電気的に連通している共通コンデンサ板と、誘電体層によって前記共通コンデンサ板から分離される複数の同調コンデンサ板と、を含むコンデンサであって、前記複数の同調コンデンサ板の各々が、同調コンデンサ板接続によって前記アンテナと電気的に連通し、前記共通コンデンサ板または前記複数の同調コンデンサ板の１つのみが前記コネクタタブ内に位置するコンデンサと、を含む無線周波数識別タグ装置。
【請求項１０】  前記コネクタタブが、前記基板に形成された前記コネクタタブ折畳み線および分離線によって画定される、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】  前記基板の第２の部分が誘電タブを形成し、前記誘電タブが誘電タブ折畳み線に沿って折畳まれ、さらに、前記誘電タブが前記コンデンサの前記誘電体層の少なくとも一部を形成する、請求項９または１０に記載の装置。
【請求項１２】  前記共通コンデンサ板と前記同調コンデンサ板の各々との間に位置付けられる接着剤をさらに含む、請求項９に記載の装置。
【請求項１３】  前記基板の前記第１の主面に位置付けられたダイ接続地点であって、前記アンテナに電気的に連通している前記ダイ接続地点をさらに含む、請求項９に記載の装置。
【請求項１４】  前記共通コンデンサ板に対向する位置にありかつ前記誘電体層によって前記共通コンデンサ板から分離された少なくとも１つの分離された同調コンデンサ板をさらに含み、前記分離された同調コンデンサ板が前記アンテナに電気的に連通している、請求項９に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月1日(2005.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  
投影光を放射するための光源と、
反射映像光を形成するために前記投影光を変調するための反射型ディスプレイ装置と、
光軸を有する投影レンズ・グループと、
前記投影レンズ・グループの前記光軸に対して非共軸である対物レンズ・グループからなり、該対物レンズ・グループは、非ゼロ角度の入射で前記ディスプレイ装置に照射するために前記投影光を方向付け、前記投影レンズ・グループの前記光軸に平行する光学経路に沿って前記反射映像光を向けるために配置されることを特徴とする投影システム。
【請求項２】
前記反射映像光の前記光学経路が、前記投影レンズ・グループの前記光軸と一致することを特徴とする請求項１記載の投射システム。
【請求項３】
前記反射型ディスプレイ装置が前記投影レンズ・グループの前記光軸に配置されることを特徴とする請求項１記載の投射システム。
【請求項４】
前記対物レンズ・グループが、前記投影レンズ・グループの前記光軸に共軸である対物レンズ及びプリズムを含むことを特徴とする請求項１記載の投射システム。
【請求項５】
前記対物レンズ・グループが前記投影レンズ・グループの前記光軸に対して非共軸である対物レンズを含むことを特徴とする請求項１記載の投射システム。
【請求項６】
前記対物レンズ・グループが、前記投影レンズ・グループの前記光軸に対して非共軸である対物レンズからなることを特徴とする請求項５記載の投射システム。
【請求項７】
前記投影レンズ・グループの前記光軸に対して前記ディスプレイ装置が傾けられていることを特徴とする請求項１記載の投射システム。
【請求項８】
前記ディスプレイ装置が、前記投影レンズ・グループの前記光軸に対して、前記ディスプレイ装置の表面が前記投影レンズ・グループと前記対物レンズ・グループの組み合わせによる焦点面と配列するのに十分な量だけ傾けられることを特徴とする。
【請求項９】
前記対物レンズ・グループが、前記投影レンズ・グループの前記光軸に対して傾けられていることを特徴とする請求項１記載の投影システム。
【請求項１０】
前記ディスプレイ装置の表面が、前記投影レンズ・グループの前記光軸に対して、前記ディスプレイ装置の表面が前記投影レンズ・グループと前記対物レンズ・グループの組み合わせによる焦点面と配列するのに十分な量だけ傾けられることを特徴とする。
【請求項１１】  
前記投影光を偏光するために前記光源と前記ディスプレイ装置との間に配置される偏光器と、
前記映像光を分光するために前記対物レンズ・グループと前記投影レンズ・グループの間に配置され、前記偏光器から分離している検光子と、
を更に含む請求項１記載の投影システム。
【請求項１２】
更に、前記投影光を複数の有色投影光へ分離するために前記光源と前記偏光器の間に配置された色彩分離器と、
対応する有色映像光を形成するために対応する有色投影光と変調するための前記有色投影光のそれぞれと各々が対応する複数のディスプレイ装置と、
各々が前記複数のディスプレイ装置の１つと対応し、前記投影レンズ・グループの前記光軸に関して非共軸である対物レンズ・グループと、
前記投影レンズ・グループの前記光軸に平行する光学経路に沿った、対応する有色の映像光を方向付けるために配置される複数の対物レンズ・グループと、
前記映像光を形成するための有色映像光と結合するためのカラー・コンバイナと、
からなることを特徴とする請求項１１記載の投影システム。
【請求項１３】
前記複数のディスプレイ装置の一つとそれぞれが対応するとともに、前記ディスプレイ装置と前記色彩分離器の間に配置される複数の偏光器と、前記複数のディスプレイ装置の一つとそれぞれ対応するとともに、前記ディスプレイ装置と前記カラー結合手段の間に配置される複数の検光子とを更に含むことを特徴とする請求項１２記載の投影システム。
【請求項１４】
反射型ディスプレイ装置を供給し、光軸を有する投影レンズ・グループを供給し、非ゼロ入射角度で前記ディスプレイ装置に投影光を向ける段階と、反射された映像光を形成するための前記ディスプレイ装置で前記投影光を変調し、光学経路に沿って前記反射された映像光を前記投影レンズ・グループの前記光軸に平行な方向に向けることを特徴とするディスプレイ像を投影する方法。
【請求項１５】
光学経路に沿う前記反射された映像光を前記投影レンズ・グループの前記光軸に平行な方向に向ける前記段階が、光軸に沿う反射された前記映像光を前記投影レンズ・グループの前記光軸に一致する方向に向ける段階からなることを特徴とする請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
反射型ディスプレイ装置を供給する前記段階が、前記投影レンズ・グループの前記光軸上に前記反射型ディスプレイ装置を配置することからなる特徴とする請求項１４記載の方法。
【請求項１７】
前記映像光を方向付ける前記段階が、前記映像光の前記光軸にプリズムを配置する段階からなることを特徴とする請求項１４記載の方法。
【請求項１８】
前記映像光を方向付ける前記段階が、対物レンズ・グループを前記映像光の前記光学経路に配設する段階からなり、前記対物レンズ・グループは前記投影レンズ・グループの前記光軸に対して非共軸の光軸を有することを特徴とする請求項１４記載の方法。
【請求項１９】
前記ディスプレイ装置で前記光線を変調する前記段階が、前記投影レンズ・グループの前記光軸に対して前記ディスプレイ装置を傾けることによって、前記ディスプレイ装置の表面を前記投影レンズ・グループの焦点面に配列させる段階からなることを特徴とする請求項１４記載の方法。
【請求項２０】
前記投影光を偏光させる段階と前記偏光器から分離した検光子で前記映像光を分光する段階とを更に含むことを特徴とする請求項１４記載の方法。
【請求項２１】
投影光を複数の有色投影光に分光する段階と前記複数の有色投影光のそれぞれが、複数の色付けされた映像光を形成するための複数の反射型ディスプレイ装置に連なる装置によって、変調される段階と、光学経路に沿う前記有色映像光が前記投影レンズ・グループの前記光軸に対して非共軸の光軸を有している複数の前記対物レンズ・グループのうち一つに接続した前記投影レンズ・グループの前記光学経路に平行に方向を変えられる段階と前記映像光を形成するための複数の有色映像光を再結合する段階を更に含むことを特徴とする請求項１４記載の方法。
【請求項２２】
対応する複数の偏光器の１つにより前記有色投影光のそれぞれが偏光される段階と、対応する複数の検光子の１つにより、前記有色投影光のそれぞれが分光される段階を更に有し、前記関連する検光子は前記関連する偏光器から分離していることを特徴とする請求項２１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月16日(2004.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、本発明は、非球面と、遠方視領域と、中間視領域と、近方視領域と、累進の主子午線と、加入度数と、１２ｍｍ未満の累進長さとを含んでなる累進多焦点眼鏡レンズであって、前記非球面がその非球面上のどの点においても平均球面値とシリンダ値とを持つ非球面であり、前記累進の主子午線が、前記三つの領域を通過している累進の主子午線であり、前記加入度数が、近方視領域基準点と遠方視領域基準点との間の平均球面値における差に等しい加入度数であり、前記累進長さが、平均球面値が遠方視領域基準点における平均球面値より加入度数値の８５％だけ大であるところの前記主子午線上の点と、マウンティングセンタとの間の鉛直距離に等しい累進長さである累進多焦点眼鏡レンズにおいて、
第一に、シリンダ値に球面値の勾配のノルムを乗じて得られた積の、レンズの中心を中心とする４０ｍｍ直径円での積分と、
第二に、前記円の面積と、加入度数と、前記円の中に含まれる子午線の部分の上の球面値の勾配のノルムの最大値と、を乗じて得られた積と、の間の比率が、
前記円の中に含まれる子午線の部分の上の球面値の勾配のノルムの最大値と、前記円の中の球面値の勾配のノルムに関する最大値と、の間の比率の０．１６倍未満である。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月9日(2003.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この目的は、ヒューズエレメントの製造方法であって、
内部空間を包囲する管状壁と、２つの対向する開口末端面とで構成される中空体を提供するステップと、
中空体の内部空間内へ可溶伝導エレメントを、この可溶伝導エレメントが実質的に一方の末端面から他方の末端面へ延びるように、導入するステップと、
可溶伝導エレメントの導体の両末端部分を、内部空間内から末端面を通って中空体の壁部周囲に、導体の末端部分が中空体の外表面上のそれぞれの接着点において外側に配設されるように、通すステップと、
少なくとも中空体の外表面上の２つの接着点に接着剤を、可溶伝導エレメントの導体の末端部分のそれぞれの部分も濡れるように、塗布するステップと、
それぞれの底部と隣接する側壁とを有する２つの接触キャップを中空体上に、２つの接触キャップの底部が末端面において内部空間を少なくとも部分的に閉鎖しかつ側壁が中空体の壁部の外表面のそれぞれの部分を覆い、この部分が２つの接触点を封入するように、配置するステップと、
それによって、接着剤は、小形管の外表面に塗布され、次に接触キャップは、接着剤が接触キャップと小形管との間に分配され、いかなる接着剤も中空体の末端面上および内部空間内に達しないように、配置され、
接着剤を硬化させるステップと、を含み、
それによって、可溶伝導エレメントの導体の末端部分が、内部空間の外部で、外表面と側壁との間に郭成された間隙形状空間中に、内部空間に隣接する表面が有機物質を実質的に含まないように保たれるように、固定されるヒューズエレメントの製造方法により解決される。
【手続補正書】
【提出日】平成15年5月6日(2003.5.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フラッシュメモリセル（３２）を作る方法であって、
フラッシュメモリセル（３２）をその上に有する基板（３０）を提供するステップを含み、セルは０．１８μｍまたはそれ未満のゲート長を有しており、前記方法はさらに、
基板（３０）の上に自己整列ソースマスク（４８）を形成するステップを含み、マスクは、セルに隣接する基板の領域が露出してソース線が形成される開口部（５０）を有しており、前記方法はさらに、
第１の型のソースドーパントを、マスク（４８）の開口部（５０）を通して基板（３０）に注入し、ソース側注入物（５２）を形成するステップと、
マスクを基板（３０）から除去するステップと、
基板（３０）を洗浄するステップと、
ソースドーパントを注入するステップの後に、および第２の型のドレイン注入物を注入するステップの前に、酸素を含有する雰囲気において４００℃〜１，２００℃の温度で基板を加熱することによって、基板の上に薄い酸化物層を形成する注入前酸化ステップを行なうステップと、
ドレイン注入物を基板（３０）に注入して、フラッシュメモリセル（３２）と隣接してその両側にソース領域（５４）およびドレイン領域（５６）を形成するステップとを含み、
ソース領域（５４）はソース側注入物（５２）の下に形成されることを特徴とする、方法。
【請求項２】
注入前酸化ステップは、酸素および少なくとも１つの不活性ガスを含有する雰囲気において基板を加熱することによって行なわれる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
フラッシュメモリセルは窒化されたトンネル酸化物層を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
ソースドーパントは、１５ｋｅＶ〜３０ｋｅＶのエネルギで、および５×１０13原子／ｃｍ2〜２×１０14原子／ｃｍ2の投与量まで注入される、請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
ドレイン注入物は、３０ｋｅＶ〜６０ｋｅＶのエネルギで、および５×１０13原子／ｃｍ2〜５×１０15原子／ｃｍ2の投与量まで注入される、請求項１から４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
フラッシュメモリセル（３２）は、第１のポリ層（４２）と、第１のポリ層（４２）の上のＯＮＯ多層誘電体（４４）と、ＯＮＯ多層誘電体（４４）の上の第２のポリ層（４６）とを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項７】
フラッシュメモリセル（３３）は、ＯＮＯ電荷トラッピング層（４４）と、ＯＮＯ電荷トラッピング層（４４）の上のポリ層（５８）とを含む、請求項１または２に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前述の懸念事項および問題に鑑みて、集積化が高まった改良された品質のフラッシュメモリセルを作ることに対する、特に短チャネル効果が低減した０．１８μｍ以下のフラッシュメモリセルに対する、まだ満たされていない要求が存在する。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【発明の概要】
この発明の結果、不揮発性フラッシュメモリデバイスの製作は改良され、それにより、改良された信頼性を有するデバイスが作られる。不均一なチャネルドーピングを提供するこの発明の方法を採用することによって、短チャネル効果が低減した、０．１８μｍ以下のスケールでのフラッシュメモリデバイスが製作される。特に、この発明は、不揮発性フラッシュメモリデバイスのさらなるスケーリングを可能とする一方、Ｖｔ減衰、高ＤＩＢＬ、過度のコラムリーク、およびプロダクトアレイ全体のゲート長の変動のうちの少なくとも１つを含む望ましくない短チャネル効果を最小限に抑え、および／または排除する。窒化されたトンネル酸化物層の使用によって生じる望ましくない短チャネル効果も、最小限に抑えられる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
構造のコア領域のスタック型メモリセル区域にメモリセルを形成するために、さまざまな好適なマスキングおよびエッチングステップが採用される（ゲートが規定される）。１つ以上のフォトレジストおよび／またはハードマスクおよび／または部分的に形成されたスタック型メモリセル（図示せず）をマスクとして用いてもよい。エッチングは通常、エッチング選択性を最大化するために層毎に行なわれる。たとえば、ポリ２層は、酸化物層をエッチングするのとは異なるエッチング化学を用いてエッチングされる。たった１つのスタック型フラッシュメモリセル３２しか図示されていないが、複数のセルが構造のコア領域に形成される。構造は次に進む前に随意に洗浄される。スタック型フラッシュメモリセル３２（および図６のＳＯＮＯＳタイプのメモリセル）は、約０．１８μｍまたはそれ未満の幅（ゲート長）を有していてもよい。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
図３を参照すると、注入前酸化ステップに続き、構造上にマスクが形成され、Ｖｓｓ線を露出したままにする。注入前酸化ステップは、酸素を含有する雰囲気において十分な期間、構造を加熱し、非常に薄い酸化物層（図示せず）を形成することを伴う。一実施例では、注入前酸化ステップは、酸素および随意に少なくとも１つの不活性ガスを含有する雰囲気の下で、約４００℃〜約１，２００℃の温度で約１秒〜５分間、構造を加熱することを伴う。不活性ガスは、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、およびキセノンを含む。別の実施例では、注入前酸化ステップは、約５００℃〜約１，１００℃の温度の下で約１０秒〜３分間、構造を加熱することを伴う。さらに別の実施例では、注入前酸化ステップは、約６００℃〜約１，０００℃の温度の下で約１５秒〜２分間、構造を加熱することを伴う。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
図４を参照すると、ソースドーパントの注入に続き、マスク４８が除去され、随意に構造が洗浄され、随意に構造を十分な期間熱処理して、ゲートの下での（ポリ１ゲート４２の下での）ホウ素５２の拡散がさらに促進される。一実施例では、熱処理は、約３００℃〜約１，１００℃の温度の下で約１秒〜５分間、構造を加熱することを伴う。別の実施例では、熱処理は、約４００℃〜約１，０００℃の温度の下で約１０秒〜３分間、構造を加熱することを伴う。さらに別の実施例では、熱処理は、約５００℃〜約９００℃の温度の下で約１５秒〜２分間、構造を加熱することを伴う。


【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１ａ】
2004519092.tif 000001
【図１ｂ】
2004519092.tif 000002
【図２】
2004519092.tif 000003
【図３】
2004519092.tif 000004
【図４】
2004519092.tif 000005
【図５】
2004519092.tif 000006
【図６】
2004519092.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月13日(2005.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも第１及び第２の回路と、前記第１及び第２の回路間の第１及び第２の信号パスとを有する集積回路であって、前記第１及び第２の信号パスは、前記第１の回路に結合された第１の入力と、第２の入力と、前記第２の回路に結合された出力とを有する選択素子をそれぞれ有し、前記第２の信号パスの前記選択素子の前記第２の入力はメモリ素子に結合されており、前記第１の信号パスの前記選択素子の出力が前記メモリ素子の入力に結合されたことを特徴とする集積回路。
【請求項２】  請求項１に記載の集積回路であって、前記選択素子の出力をさらなる選択素子を介して前記メモリ素子に結合するように、前記選択素子の出力に結合された第１の入力を有する当該さらなる選択素子を有し、前記さらなる選択素子は、前記選択素子の前記第１の入力に結合された第２の入力をさらに有することを特徴とする集積回路。
【請求項３】  請求項１又は請求項２記載の集積回路であって、前記メモリ素子がフリップフロップである集積回路。
【請求項４】  請求項１又は請求項２記載の集積回路であって、前記メモリ素子がラッチである集積回路。
【請求項５】  請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の集積回路であって、一つの回路がアナログ回路であり、他の回路がディジタル回路である集積回路。
【請求項６】  請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の集積回路であって、一つの回路が同期して動作し、他の回路が非同期で動作する集積回路。
【請求項７】  請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の集積回路であって、両方の回路が互いに異なるクロックレートで同期して動作する集積回路。
【請求項８】  請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の集積回路であって、一つの回路がＬＩＮ又はＣＡＮトランシーバを含む集積回路。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月20日(2003.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
送信元エンティティから宛先エンティティへオブジェクト（Ｏ）の適合バージョンを含むファイルを転送する方法であって、
該送信元エンティティはマークアップ言語で書かれた基本文書（ＤＯＣ（０））を保持するメモリを具備し、
基本文書は該オブジェクトの基本バージョンを格納する基本プログレッシブ・ファイル（Ｆ（Ｏ），ＣＳ）を記述し、
当該方法は、
上記適合バージョンに応じて所定の変換（ＴＲｉ（Ｏ））を選択する手順と、
変換された文書（ＤＯＣｉ（Ｏ））を作成するため、選択された変換を該基本文書に適用する変換手順と、
該変換された文書に基づいて該オブジェクトの該適合バージョンを格納するファイル（Ｆｉ（Ｏ））を作成する手順と、
作成されたファイルを転送する手順と、
を有することを特徴とするファイルを転送する方法。
【請求項２】
オブジェクトの基本バージョンを格納する基本プログレッシブ・ファイルを記述し、マークアップ言語で書かれた基本文書から、該オブジェクトの適合バージョンを格納したファイルを作成する方法であって、
該適合バージョンに応じた所定の変換を基本文書に適用することにより、変換された文書を作成する変換手順を含み、
該適合バージョンを格納したファイルは、変換された文書から作成される、
ファイルを作成する方法。
【請求項３】
該基本文書は、タグによって区切られ、一つ以上の属性が与えられ得る一つ以上の要素を格納し、
該変換は、一つ以上の要素を抑制し、一つ以上の属性と一つ以上の要素のうちの少なくとも一方の値を変更する、
ことを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項４】
所定の変換は、該マークアップ言語で記述された文書を該マークアップ言語で記述された別の文書に変換するための規則を定義することができる変換言語で書かれていることを特徴とする、請求項２記載の方法。
【請求項５】
マークアップ言語で書かれ、基本プログレッシブ・ファイルを記述する文書を格納するメモリと、
請求項２記載のファイルを作成する方法を実施する手段と、
を有する電子機器。
【請求項６】
少なくとも一つの送信元エンティティと、
一つ以上の宛先エンティティと、
を有し、
該エンティティは、請求項１記載の方法を実施するためのエンティティである、
伝送システム。
【請求項７】
所定の文字の組を使用してマークアップ言語で書かれ、
コンテンツと、一つ以上の属性と、一つ以上のサブ要素と、のうちの少なくとも一つを格納する要素を含み、
バイナリ・データ、マーカー、及び、一つ以上のマーカーに関連付けられたパラメータを格納するバイナリ・ファイルを記述する、
文書であって、
当該文書において、要素は各マーカーに関連付けられ、
該マーカーに関連付けられる可能性のあるパラメータは、該要素のサブ要素若しくは属性を形成し、
該文字の組の該文字によって形成された一つ以上の要素のコンテンツは、該バイナリ・データと結び付けられている、
ことを特徴とする文書。
【請求項８】
プログレッシブ・ファイルを含むメイン・ボックスと、
マークアップ言語で書かれ、該プログレッシブ・ファイルを記述する文書を格納する少なくとも一つの補助的なボックスと、
を少なくとも有し、
ボックスの形式にフォーマットされたファイル。
【請求項９】
請求項１記載のファイルを転送する方法の手順をプロセッサに実行させるための命令を含むプログラム。
【請求項１０】
請求項２記載のファイルを作成する方法の手順をプロセッサに実行させるための命令を含むプログラム。
【請求項１１】
該送信元エンティティと該宛先エンティティが相互に離れているとき、該宛先エンティティは、オブジェクト転送に関係する要求を該送信エンティティへ送信するために用いられ、
該宛先エンティティは、
要求と要求に対する応答を送受信するために用いられるサーバ・モジュールと、
オブジェクト転送に関係した該要求を受信し、該要求に対応した基本文書を見つけ出し、上記基本文書に関係した要求を該サーバ・モジュールに送信し、転送されるオブジェクトの適合バージョンを格納するファイルを作成し、作成されたファイルを、宛先エンティティへ送信するため、サーバ・モジュールへ送信するために用いられる処理モジュールと、
該基本文書に関係する該要求を該サーバ・モジュールから受信し、変換を選択し、変換された文書を該処理モジュールへ送信するため、変換された文書を該サーバ・モジュールへ送信するために用いられる変換モジュールと、
を含む、
ことを特徴とする請求項１記載のファイルを転送する方法。
【請求項１２】
該要求は、送信元エンティティが宛先エンティティのプロファイルを決定することを可能にさせ、
該変換モジュールによって適用される変換（ＴＲｉ（Ｏ））は該プロファイルの関数である、
ことを特徴とする請求項１記載のファイルを転送する方法。
【請求項１３】
該要求は、送信元エンティティが宛先エンティティのプロファイルを決定できるようにするため、送信元エンティティと宛先エンティティの間の交渉フェーズを含むことを特徴とする請求項１２記載のファイルを転送する方法。
【請求項１４】
オブジェクトの基本バージョンを格納する基本プログレッシブ・ファイルを記述し、マークアップ言語で書かれた基本文書を変換し、該オブジェクトの適合バージョンを格納したファイルを記述する変換文書を作成する方法であって、
該適合バージョンに応じて所定の変換を選択する手順と、
該変換を該基本文書に適用する手順と、
を有する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月10日(2003.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
上記１つのレンズ又は一連のレンズは、テレセントリックレンズ系を含み、
上記テレセントリックレンズ系は、目的物への距離が変化しても透視画法的な誤差のない一定の倍率を有する画像を供給するレンズ系である請求項２記載の装置。（図１−３）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
第１の実施例は更に、マーキング面に入射する光の平面波を生成するよう配置される１つ以上の赤外線発光ダイオードを含む。（図１−３）
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月17日(2005.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】交通システムに対する通知サービスを提供する方法であって、旅行における変更について登録された当事者に電子通知を送信することを起動する方法。
【請求項２】ユーザが前記交通システムにおいて関連の場所を見つけることを可能にするための情報を、前記ユーザに更に供給する請求項１に記載の方法。
【請求項３】前記当事者が、前記交通システムを用いるように予定された旅行者であり、当該方法が、前記ユーザの旅行における変更について前記ユーザの個人用の装置に前記メッセージを送信する請求項１に記載の方法。
【請求項４】前記ユーザが前記サービスに登録することを可能にし、前記装置を前記ユーザに供給する請求項３に記載の方法。
【請求項５】前記装置は、前記ユーザが前記交通システムにおいて関連の場所を見つけることを可能にするナビゲーションモジュールを有する請求項４に記載の方法。
【請求項６】前記ユーザが、前記サービスを受けるための個人用の通信装置を登録することを可能にする請求項３に記載の方法。
【請求項７】前記ユーザは、前記通知のモーダリティに関する好みを示すことが可能にされる請求項６に記載の方法。
【請求項８】前記ユーザが、前記電子通知における少なくとも一部分の情報の受け取り用に、別の当事者を登録することを可能にする請求項３に記載の方法。
【請求項９】交通システムのユーザに供給されるパーソナライズされた通信サービス用のデータ処理装置であって、
前記サービスにより起こされ、前記ユーザの旅行における変更に関する通知を受け取るワイヤレス通信モジュールと、
前記通知を前記ユーザにレンダリングするレンダリングモジュールとを有する装置。
【請求項１０】前記ユーザが、前記交通システムにおける関連の場所を見つけることを可能にするナビゲーションモジュールを有する請求項９に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月21日(2004.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  光を操作するためのスクリーンであって、
基材と、
前記基材上に配置された高分子組成物と、
を含み、前記高分子組成物が、
接着材料と、
それぞれ主軸を有する複数の細長構造体として前記接着材料内に配置された分散相材料とを含み、
前記細長構造体の主軸が実質的に整列されており、前記分散相材料が、前記接着材料の屈折率と少なくとも０．０１異なる屈折率を有するスクリーン。
【請求項２】  前面投影スクリーンを含む、請求項１に記載のスクリーン。
【請求項３】  第１の方向に第１の視野角を提供し第２の方向に第２の視野角を提供するように光を操作し、前記第１の方向が前記第２の方向に垂直であり、接着性組成物が、第２の視野角よりも広い第１の視野角を有する表示を提供する、請求項１に記載のスクリーン。
【請求項４】  偏光子をさらに含む、請求項１に記載のスクリーン。
【請求項５】  反射素子をさらに備える、請求項１に記載のスクリーン。
【請求項６】  偏光子をさらに備える、請求項５に記載のスクリーン。
【請求項７】  優先的光散乱方向を有する光学素子を作製する方法であって、
第１の高分子材料と、前記第１の高分子材料内に分散された第２の高分子材料とを含む高分子組成物を形成する工程であって、前記第１の高分子材料の屈折率は、前記第２の高分子材料の屈折率と少なくとも０．０１異なる工程と、
前記高分子組成物を基材上に送出する工程であって、前記送出の結果として、前記第２の高分子材料は、前記第１の高分子材料内に、それぞれ主軸を有する複数の細長構造体を形成し、前記細長構造体の主軸は実質的に整列される工程と、を含む方法。
【請求項８】  光を提供するための照明源と、
前記照明源からの光を受取るための入射表面と表示表面とを有するスクリーンと、
を備えた光学系であって、
前記スクリーンが、
第１の高分子材料と、それぞれ主軸を有する複数の細長構造体として前記第１の高分子材料内に配置された分散相材料とを含み、
前記細長構造体の主軸が実質的に整列されており、前記分散相材料が、前記第１の高分子材料の屈折率と少なくとも０．０１異なる屈折率を有し、前記細長構造体が、前記照明源からの光を非対称的に拡散させるようにサイズ設定、成形、および位置決めされている光学系。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月26日(2004.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも１つの極性基または極性基含有有機基を有するポリフルオロポリエーテル化合物を含む表面処理剤を有する光学素子。
【請求項２】  一般式（ＣnＦ2n+1）−Ｘ（式中、ｎは約４であり、Ｘは、スルホン酸およびそれらの塩、スルホンアミド、スルホンイミドおよびそれらの塩、アミド、シランならびにそれらの混合物からなる群より選択される極性基または極性基含有有機基である。）を有するフルオロケミカル化合物を含む表面処理剤を有する光学素子。
【請求項３】  液体バインダーと、請求項１又は２に記載の光学素子とを含む製品。
【請求項４】  前記製品が路面表示材、反射シート又はリヤプロジェクションスクリーンである、請求項３に記載の製品。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月17日(2005.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  センサを備えた装置（１０）であって、当該装置（１０）が、手（２０，２２）で表面（１４）にわたって案内されるようになっており、当該装置（１０）において、検出されたデータが、表示装置（３８）によって表示されるようになっている形式のものにおいて、手（２０，２２）のために、グリップ（１２）の、ほぼ直径方向で互いに反対の側に位置する２つの面にグリップ面（４０，４２）が位置しており、該グリップ面（４０，４２）のうちの少なくとも一方のグリップ面が、センサ（２６，２８，３０，３２）を有しており、該センサ（２６，２８，３０，３２）が、前記グリップ面（４０，４２）に接触している指（２０，２２）の数を検出するようになっていることを特徴とする、センサを備えた装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月12日(2004.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）再帰反射シートと（ｂ）接着剤層とを含む、基材表面へ付着させるためのタンパー表示物品であって、
前記再帰反射シートが、
反射層と、
前記反射層の近傍にある非シリコーンベースのリリース層と、
前記リリース層上に配置され、かつ再帰反射を生じるように前記反射層と光学的に結合する位置にあるレンズ層と、
を含み、
前記基材表面から前記物品を取り外そうとする時に、前記再帰反射シートの前記リリース層で層間接着破壊を示すタンパー表示物品。
【請求項２】  前記リリース層が不連続である請求項１に記載のタンパー表示物品。
【請求項３】  前記再帰反射シートが、前記反射層と、その近傍のリリース層との間にインク層をさらに含む請求項２に記載のタンパー表示物品。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月21日(2004.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ビデオ表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ビデオ表示装置であって、
画像を発生させるために通常のビデオ表示モードの間に付勢されるバックライト・ランプと、
入力電源オン制御信号源と、
入力電源オフ制御信号源と、
前記電源オフ制御信号に応答し、前記ランプに結合され、前記電源オフ制御信号の発生後の第１の期間の間、前記ランプを付勢された状態に保つと共に、前記第１の期間の終了後に前記ランプの付勢を止めるための第１のタイマーであって、前記第１の期間の間に前記電源オン制御信号が生じると、前記ランプが前記第１の期間の終了後に付勢を止められるのを防止されて、前記通常のビデオ表示モードの動作が再開される、前記第１のタイマーと、
前記電源オフ制御信号に応答し、前記第１の期間に電源オフ・モードに見せかけるための電源オフ表示器と、からなる前記ビデオ表示装置。
【請求項２】  前記表示器が、前記ランプに光学的に結合され且つ前記入力電源オフ制御信号に応答するライトバルブを含み、前記第１の期間に前記ライトバルブからの光出力をオフにし、前記第１の期間の間、電源オフ・モードに見せかける、請求項１記載のビデオ表示装置。
【請求項３】  前記表示器が更に、前記電源オフ制御信号に応答する光源を含み、前記第１の期間に前記光源の見かけを変化させる、請求項２記載のビデオ表示装置。
【請求項４】  前記光源が、発光ダイオードからなる、請求項３記載のビデオ表示装置。
【請求項５】  前記表示器が更に、前記電源オフ制御信号に応答して、前記第１の期間に前記音声変換器からの音声出力をオフにするための音声変換器を含む、請求項２記載のビデオ表示装置。
【請求項６】  前記第１の期間の開始後に、前記電源オフ制御信号の発生が、無視される、請求項１記載のビデオ表示装置。
【請求項７】  前記タイマーが前記電源オフ信号に応答して、前記第１の期間に続く第２の期間の間、前記ランプが付勢を止められるのを防止する、請求項１記載のビデオ表示装置。
【請求項８】  前記ランプが、液晶ディスプレイにおいてバックライトを供給する、請求項１記載のビデオ表示装置。
【請求項９】  前記ランプが、ＬＣＯＳ表示装置においてバックライトを供給する、請求項１記載のビデオ表示装置。