【手続補正書】
【提出日】平成16年11月8日(2004.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】イオンをワークピースに注入する方法であって，
イオンビームを発生する工程と，
平面内で，イオンビームを，所望の程度の平行度となるように調節する工程と，
前記平面内で調節されたイオンビームのビームの向きを測定する工程と，
測定されたビームの向きを基準とした注入角度に，前記平面に垂直な軸に関してワークピースを傾斜する工程と，
注入角度に傾斜したワークピースに注入を実行する工程と，
を含む方法
【請求項２】イオンビームを調節する工程が，実質的に平行なイオン軌道となるように，イオンビームを調節することを含む，請求項１に記載の方法。
【請求項３】ビームの向きが，ビーム角度だけ，基準方向から異なる，ところの請求項２に記載の方法。
【請求項４】ワークピースを傾斜する工程が，測定されたビームの向きを基準とした注入角度に，半導体ウエハを傾斜することを含む，請求項１に記載の方法。
【請求項５】注入角度がゼロ度であり，ワークピースが測定されたビームの向きに対して垂直に傾斜した，ところの請求項１に記載の方法。
【請求項６】さらに，イオンビームの非平行度の角度を測定する工程を含み，
イオンビームを調節する工程が，非平行度の測定角度に基づく，ところの請求項１に記載の方法。
【請求項７】ビームの向きおよびイオンビームの非平行度の角度は，可動なビームプロファイラーおよび一つ以上のビーム検出器でもって測定される，ところの請求項６に記載の方法。
【請求項８】イオンをワークピースに注入する方法であって，
イオンビームを発生する工程と，
平面内で，イオンビームの平行度を測定する工程と，
測定された平行度に基づき，所望の平行度となるように，前記平面内でイオンビームを調節する工程と，
前記平面内で調節されたイオンビームのビームの向きを測定する工程と，
測定されたビームの向きを基準とした注入角度に，前記平面に垂直な軸に関して，ワークピースを傾斜する工程と，
測定されたビームの向きを基準とした注入角度に傾斜したワークピースでもって，注入を実行する工程と，
を含む方法。
【請求項９】イオンビームを調節する工程が，実質的に平行なイオンの軌道となるようにイオンビームを調節することを含む，請求項８に記載の方法。
【請求項１０】注入角度がゼロ度で，ワークピースが測定されたビームの向きに対して垂直方向に傾斜される，ところの請求項８に記載の方法。
【請求項１１】イオンビームの平行度を測定する工程が，イオンビームの非平行度の角度を測定する工程を含み，イオンビームを調節する工程が，非平行度の測定された角度に基づく，ところの請求項８に記載の方法。
【請求項１２】非平行度の角度およびビームの向きが，可動なビームプロファイラーおよび一つ以上の検出器でもって測定される，ところの請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】ワークピースを傾斜する工程が半導体ウエハを傾斜することを含む，請求項８に記載の方法。
【請求項１４】イオンをワークピースに注入する装置であって，
イオンビームを発生する手段と，
平面内で，イオンビームの平行度を測定する手段と，
測定された平行度に基づき，所望の平行度となるように，前記平面内でイオンビームを調節する手段と，
前記平面内で調節されたイオンビームのビームの向きを測定する手段と，
測定されたビームの向きを基準とした注入角度に，前記平面に垂直な軸に関して，ワークピースを傾斜する手段と，
測定されたビームの向きを基準とした注入角度に傾斜したワークピースでもって，注入を実行する手段と，
を含む装置。
【請求項１５】イオンビームを調節する前記手段が，実質的に平行な軌道となるように，イオンビームを調節する手段を含む，請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】注入角度がゼロ度で，ワークピースが測定されたビームに対して垂直に傾斜される，ところの請求項１４に記載の装置。
【請求項１７】平行度を測定する前記手段およびビームの向きを測定する前記手段が，可動なビームプロファイラーおよび一つ以上の検出器を含む，ところの請求項１４に記載の装置。
【請求項１８】ワークピースを傾斜する前記手段が，イオンビームに対して，半導体ウエハを傾斜する傾斜機構からなる，請求項１４に記載の装置。
【請求項１９】イオンをワークピースに注入する装置であって，
イオンビーム発生器と，
平面内で，所望の平行度となるようにイオンビームを調節する光学要素と，
前記平面内で調節されたイオンビームのビームの向きを測定する測定システムと，
測定されたビームの向きを基準した注入角度に，前記平面に垂直な軸に関して，ワークピースを傾斜する傾斜機構と，
を含み，
測定されたビームの向きを基準とした注入角度に傾斜したワークピースでもって注入が実行される，ところの装置。
【請求項２０】前記光学要素が実質的に平行なイオン軌道となるように，イオンビームを調節する角度補正器を含む，請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】前記測定システムが，可動なプロファイラーおよび一つ以上の測定器を含む，請求項１８に記載の装置。
【請求項２２】傾斜機構が半導体ウエハを傾斜するように構成されている，請求項１８に記載の装置。
【請求項２３】イオンをワークピースに注入する方法であって，
イオンビームを発生する工程と，
イオンビームのビームの方向を測定する工程と，
測定されたビームの向きを基準とした注入角度に，測定されたビームの向きに平行でない軸に関して，ワークピースを傾斜する工程と，
注入角度に傾斜したワークピースでもって，注入を実行する工程と，
を含む方法。
【請求項２４】ワークピースを傾斜する工程が半導体ウエハを傾斜することを含む，請求２３に記載の方法。
【請求項２５】ワークピースを傾斜する工程が，測定されたビームの向きに実質的に垂直な軸に関して半導体ウエハを傾斜することを含む，請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】さらに，所望の平行度となるように，イオンビームを調節する工程を含む，請求項２３に記載の方法。
【請求項２７】イオンをワークピースに注入する装置であって，
イオンビームを発生する手段と，
イオンビームのビームの方向を測定する手段と，
測定されたビームの向きを基準とした注入角度に，測定されたビームの向きに平行でない軸に関して，ワークピースを傾斜する手段と，
を含み，
注入角度に傾斜したワークピースでもって注入が実行される，ところの装置。
【請求項２８】前記ワークピースを傾斜する手段がイオンビームに対して半導体ウエハを傾斜する傾斜機構を含む，請求２７に記載の装置。
【請求項２９】前記ワークピースを傾斜する手段が，測定されたビームの向きに実質的に垂直な軸に関して半導体ウエハを傾斜する傾斜機構を含む，請求項２７に記載の装置。
【請求項３０】さらに，所望の平行度となるように，イオンビームを調節する手段を含む，請求項２７に記載の装置。
【請求項３１】イオンをワークピースに注入する装置であって，
イオンビーム発生器と，
イオンビームのビームの向きを測定する測定システムと，
測定されたビームの向きを基準とした注入角度に，測定されたビームの向きに平行でない軸に関して，ワークピースを傾斜する傾斜機構と，
を含み，
注入角度に傾斜したワークピースでもって注入が実行される，ところの装置。
【請求項３２】前記傾斜機構が半導体ウエハを傾斜するように構成される，請求項３１に記載の装置。
【請求項３３】前記傾斜機構が，測定されたビームの向きに実質的に垂直な軸に関して半導体ウエハを傾斜するように構成される，請求項３１に記載の注入装置。
【請求項３４】さらに，所望の平行度となるように，イオンビームを調節する光学要素を含む，請求項３１に記載の注入装置。