【手続補正書】
【提出日】平成17年4月5日(2005.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクのパタ−ンの像を投影光学系を介して基板上に転写する露光装置において、
前記投影光学系の物体平面と像面との間隔を投影倍率比で内分する前記投影光学系の光軸上の基準点を中心として、前記投影光学系が所定範囲内で回転できるように前記投影光学系を支持する投影光学系支持部を設けたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
請求項１記載の露光装置であって、前記マスクを移動させるマスクステージと、該マスクステージと前記投影光学系とを支持する構造体と、前記基板を移動させる基板ステージと、を有し、
前記投影光学系支持部は、前記構造体から延びる少なくとも３つの柔構造の支持手段を備え、該支持部材は、それぞれの延長線が前記基準点で交わることを特徴とする露光装置。
【請求項３】
投影光学系を介して基板上にパタ−ンを露光する露光装置において、
前記基板を保持して移動する基板ステージと、
前記基板ステージとは分離した構造体と、
前記構造体から前記投影光学系を吊り下げ支持する柔構造の支持手段と、を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項４】
請求項３記載の露光装置において、
前記柔構造の支持手段はロッドを有していることを特徴とする露光装置。
【請求項５】
請求項３又は４記載の露光装置において、
前記柔構造の支持手段は前記投影光学系の外周部を吊り下げ支持することを特徴とする露光装置。
【請求項６】
マスクのパタ−ンの像を投影光学系を介して基板上に転写する露光装置において、
前記マスクを保持して移動させるマスクステージと、前記基板を保持して移動させる基板テーブルと、該基板テーブルを保持して移動させる基板ステージと、該基板ステージを支持する構造体と、を有し、
前記基板テーブルは、前記構造体上で該基板テーブルを支持する少なくとも３つの支持脚を有し、
該支持脚は、支持方向に対して伸縮自在であり、該支持脚と前記構造体との間に流体軸受け機構を有することを特徴とする露光装置。
【請求項７】
請求項６記載の露光装置であって、露光時に前記マスク及び前記基板は同期して移動されると共に、前記構造体の前記基板ステージの走り面の走査方向の傾斜角、非走査方向の傾斜角、及び高さを検出し、該検出結果に基づいて、前記伸縮自在の支持脚を制御することを特徴とする露光装置。
【請求項８】
請求項６又は７記載の露光装置であって、
前記基板ステージの前記投影光学系の光軸周りの回転角、及び位置ずれ量を検出し、該検出結果に基づいて、前記マスクステージ、又は前記基板ステージの位置を制御することを特徴とする露光装置。
【請求項９】
マスクのパタ−ンの像を投影光学系を介して基板上に転写する露光装置において、
前記基板を保持して移動させる基板テーブルと、該基板テーブルを保持して移動させる基板ステージと、該基板ステージを支持する構造体と、該構造体を支持して高さ方向に駆動する支持部と、を有し、
該支持部と前記構造体との間に粘弾性体を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
マスクのパタ−ンの像を投影光学系を介して基板上に転写する露光装置において、
前記基板を保持して移動させる基板テーブルと、該基板テーブルを保持して移動させる基板ステージと、該基板ステージを支持する構造体と、前記基板の前記基板テーブルとの間での受け渡しを行う基板搬送アームを備えた基板搬送機構と、を有し、
前記基板テーブルは、前記基板を該基板テーブルに載置した際、前記基板搬送アームを、該基板テーブルに接触させることなく移動させるための溝を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
請求項１０記載の露光装置であって、
前記基板搬送機構は、少なくとも２つの基板搬送アームと、基板収納ケース支持部と、を備え、
前記基板搬送アームは、前記投影光学系の光軸周りの回転方向、水平方向、及び鉛直方向の３方向に移動自在であり、
前記基板収納ケース支持部は、鉛直方向に移動自在であることを特徴とする露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
次に、本発明の第２の露光装置は、投影光学系（２）を介して基板（３）上にパタ−ンを露光する露光装置において、基板（３）を保持して移動する基板ステージ（５）と、基板ステージ（５）とは分離した構造体（６）と、構造体（６）から投影光学系（２）を吊り下げ支持する柔構造の支持手段（１９Ａ〜Ｃ）と、を備えている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
これによれば、柔構造の支持手段（１９Ａ〜Ｃ）により投影光学系（２）を吊り下げ支持しているので、高周波の振動が減衰される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、構造体（６）が基板ステージ（５）とは分離しているので、投影光学系（２）が基板ステージ（５）の移動による影響を受けにくい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
なお、柔構造の支持手段（１９Ａ〜Ｃ）はロッドを有していてもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、柔構造の支持手段（１９Ａ〜Ｃ）は投影光学系（２）の外周部を吊り下げ支持してもよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
次に、本発明の第３の露光装置は、マスク（１）のパタ−ンの像を投影光学系（２）を介して基板（３）上に転写する露光装置において、そのマスク（１）を保持して移動させるマスクステージ（４）と、その基板（３）を保持して移動させる基板テーブル（２０）と、この基板テーブル（２０）を保持して移動させる基板ステージ（５）と、この基板ステージ（５）を支持する構造体（７）と、を有し、その基板テーブル（２０）は、その構造体（７）上でこの基板テーブル（２０）を支持する少なくとも３つの支持脚（３１Ａ〜３１Ｃ）を有し、この支持脚（３１Ａ〜３１Ｃ）は、支持方向に対して伸縮自在であり、この支持脚（３１Ａ〜３１Ｃ）とその構造体（７）との間に流体軸受け機構（３２Ａ〜３２Ｃ）を有するものである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
斯かる本発明の第３の露光装置によれば、支持方向に対して所定範囲内で伸縮自在の支持脚（３１Ａ〜３１Ｃ）の伸縮量を制御することにより、基板テーブル（２０）の傾斜角、又は高さ方向の位置を制御することができ、簡単な構成で基板（３）の表面を投影光学系（２）の像面に合わせこんで露光を行うことができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、その基板ステージ（５）のその投影光学系（２）の光軸周りの回転角、及び位置ずれ量を検出し、この検出結果に基づいて、そのマスクステージ（４）、又はその基板ステージ（５）の位置を制御することが望ましい。これによって、マスク（１）と基板（３）との重ね合わせを高精度に行うことができる。
次に、本発明の第４の露光装置は、マスク（１）のパタ−ンの像を投影光学系（２）を介して基板（３）上に転写する露光装置において、その基板（３）を保持して移動させる基板テーブル（２０）と、この基板テーブル（２０）を保持して移動させる基板ステージ（５）と、この基板ステージ（５）を支持する構造体（７）と、この構造体（７）を支持して高さ方向に駆動する支持部（８）とを有し、この支持部（８）とその構造体（７）との間に粘弾性体を有するものである。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
斯かる本発明の第４の露光装置によれば、構造体（７）この構造体（７）を支持して高さ方向に駆動する支持部（８）との間に粘弾性体を有することにより、露光装置が設置されている床からの振動を低減することができる。
また、本発明の第５の露光装置は、マスク（１）のパタ−ンの像を投影光学系（２）を介して基板（３）上に転写する露光装置において、その基板（３）を保持して移動させる基板テーブル（２０）と、この基板テーブル（２０）を保持して移動させる基板ステージ（５）と、この基板ステージ（５）を支持する構造体（７）と、その基板（３）のその基板テーブル（２０）との間での受け渡しを行う基板搬送アーム（４０Ａ，４０Ｂ）を備えた基板搬送機構（４０Ａ，４０Ｂ，４７,４８,６７Ａ〜６９Ａ，６７Ｂ，６９Ｂ）と、を有し、その基板テーブル（２０）は、その基板（３）をこの基板テーブル（２０）に載置した際、基板搬送アーム（４０Ａ，４０Ｂ）を、この基板テーブル（２０）に接触させることなく移動させるための溝（３８）を有するものである。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
斯かる本発明の第５の露光装置によれば、基板テーブル（２０）に溝（３８）が設けられており、基板搬送アーム（４０Ａ，４０Ｂ）を基板テーブル（２０）に接触させることなく基板（３）を基板テーブル（２０）上に載置し、基板（３）を基板テーブル（２０）上で一旦仮に固定して支持することなく露光装置に搬入または搬出でき、スループットが向上するという利点がある。また、基板ステージ（５）を基板搬出アーム（４０Ａ）又は基板搬入アーム（４０Ｂ）の下部まで移動し、基板（３）を基板搬送アーム（４０Ａ，４０Ｂ）間で受け渡すことなく基板を露光装置に搬入でき、異物が付着する確率や搬送中に動作エラーが生じる確率が減少するという利点がある。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
次に本発明の第２の露光装置によれば、柔構造の支持手段により投影光学系を吊り下げ支持しているので、高周波の振動が減衰され、高精度な露光を行うことができる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
更に、本発明の第２の露光装置によれば、構造体が基板ステージとは分離しているので、投影光学系が基板ステージの移動による影響を受けることなくパタ−ンを投影することができる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
次に、本発明の第３の露光装置によれば、支持方向に対して伸縮自在の支持脚の長さを制御することにより、基板テーブルの傾斜角、又は高さ方向の位置を制御することができ、基板の表面を像面に合わせ込んで高精度に露光を行うことができる。また、露光時にマスク及び基板が同期して移動されると共に、構造体の基板ステージの走り面の走査方向の傾斜角、非走査方向の傾斜角、及び高さを検出し、この検出結果に基づいて、伸縮自在の支持脚を制御する場合には、基板の表面を像面に合わせ込みながら高精度に走査露光を行うことができる。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
また、基板ステージの投影光学系の光軸周りの回転角、及び位置ずれ量を検出し、この検出結果に基づいて、マスクステージ、又は、基板ステージの位置を制御する場合には、基板の表面と像面との位置合わせを高精度に行うことができる。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
次に、本発明の第４の露光装置によれば、支持部と構造体との間に粘弾性体を有するため、露光装置が設置されている床からの振動を低減することができる。従って高精度に露光を行うことができる。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
次に、本発明の第５の露光装置によれば、基板テーブルに溝が設けられており、基板搬送アームを基板テーブルに接触させることなく基板を基板テーブル上に載置できる。即ち、基板を基板テーブル上で一旦仮に固定して支持することなく露光装置に搬入又は搬出でき、スループットが向上するという利点がある。
また、基板搬送機構が、少なくとも２つの基板搬送アームと、基板収納ケース支持部とを備え、基板搬送アームが、投影光学系の光軸周りの回転方向、水平方向、及び鉛直方向の３方向に移動自在であり、その基板収納ケース支持部が、鉛直方向に移動自在である場合には、基板ステージを基板搬出アーム又は基板搬入アームの下部まで移動し、基板を基板搬送アーム間で受け渡すことなく基板を露光装置に搬送でき、ウエハに異物が付着する確率や搬送中に故障が生じる確率が減少するという利点がある。