Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月8日(2005.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
製品の組立不良率を推定する製品の不良率推定方法であって、
製品を構成する部品ごとの、その組付部品の性質情報、その組付部品が組付けられる被組付部品の性質情報およびその組付部品を組付けるための作業内容情報とに基づき、製品全体および部品の組付作業ごとの組立不良率を演算出力するステップを有することを特徴とする不良率推定方法。
【請求項２】
請求項１に記載の製品の不良率推定方法であって、
前記演算出力される製品の作業内容毎または組付部品毎の不良率について、不良率の高い順に表示するステップを有することを特徴とする不良率推定方法。
【請求項３】
請求項１に記載の製品の不良率推定方法であって、
前記作業内容毎の不良原因、改善提案のうち少なくとも１つの表示を、標準作業内容毎の不良の具体的な原因情報及び改善提案情報とを予め記憶したデータベースより抽出して行なうステップを有することを特徴とする不良率推定方法。
【請求項４】
請求項１に記載の製品の不良率推定方法であって、
前記組付部品毎の不良原因、改善提案のうち少なくとも１つの表示を、組付部品毎の不良の具体的な原因情報及び改善提案情報とを予め記憶したデータベースより抽出して行なうステップを有することを特徴とする不良率推定方法。
【請求項５】
複数の部品から組立てられる製品の不良率を推定する方法であって、
前記製品の組立工程における組付作業情報と、前記組付作業によって組付けられる組付部品の性質を表す組付部品情報と、前記組付部品に対する被組付部品の性質を表す被組付部品情報とを入力するステップと、
予め標準組付作業毎の不良率係数を記憶した記憶装置より、前記組付作業情報に基づいた不良率係数を抽出するステップと、
予め部品毎の不良率補正係数を記憶した記憶装置より、前記組付部品情報に基づいた第1の不良率補正係数と前記被組付部品に基づいた第２の不良率補正係数とを抽出するステップと、
前記抽出された組付作業毎の不良率係数を、前記第１及び第２の不良率補正係数に基づき補正演算することで、組付作業毎又は当該作業に係る組付部品毎の不良率を算出するステップを有することを特徴とする不良率推定方法。
【請求項６】
請求項５に記載の製品の不良率を推定する方法であって、
前記算出される製品の組付作業毎又は組付部品毎の不良率について、不良率の高い順に表示するステップを有することを特徴とする不良率推定方法。
【請求項７】
請求項５に記載の製品の不良率を推定する方法であって、
前記組付作業毎の不良原因、改善提案のうち少なくとも１つの表示を、標準組付作業毎の不良の具体的な原因情報及び改善提案情報とを予め記憶したデータベースより抽出して行なうステップを有することを特徴とする不良率推定方法。
【請求項８】
請求項５に記載の製品の不良率を推定する方法であって、
前記組付部品毎の不良原因、改善提案のうち少なくとも１つの表示を、組付部品毎の不良の具体的な原因情報及び改善提案情報とを予め記憶したデータベースより抽出して行なうステップを有することを特徴とする不良率推定方法。
【請求項９】
複数の部品から組立てられる製品の不良率を推定する方法であって、
前記製品の組立工程における組付動作情報と、前記組付動作によって組付けられる組付部品の性質を表す組付部品情報と、前記組付部品に対する被組付部品の性質を表す被組付部品情報と、製品を組立てる職場条件に関する職場情報を入力するステップと、
予め標準組付動作毎の不良率係数を記憶した記憶装置より、前記組付動作情報に基づいた不良率係数を抽出するステップと、
予め部品毎の不良率補正係数を記憶した記憶装置より、前記組付部品情報に基づいた第1の不良率補正係数と前記被組付部品に基づいた第２の不良率補正係数とを抽出するステップと、
予め職場条件に応じた不良率補正係数を記憶した記憶装置より、前記職場情報に基づいた第３の不良率補正係数を抽出するステップと、
前記抽出された組付動作毎の不良率係数を、前記第１、第２、第３の不良率補正係数に基づき補正演算することで、組付動作毎又は当該動作に係る組付部品毎の不良率を算出し、製品全体の不良率をも算出するステップと、
を有することを特徴とする不良率推定方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の製品の不良率推定方法であって、
前記演算出力される製品の組付動作毎または組付部品毎の不良率について、不良率の高い順に表示するステップを有することを特徴とする不良率推定方法。
【請求項１１】
請求項９に記載の製品の不良率推定方法であって、
前記組付動作毎の職場条件の観点から見た不良原因、改善提案のうち少なくとも１つの表示を、標準組付動作毎の不良の具体的な原因情報及び改善提案情報とを予め記憶したデータベースより抽出して行なうステップを有することを特徴とする不良率推定方法。
【請求項１２】
請求項９に記載の製品の不良率推定方法であって、
前記組付部品毎の職場条件の観点から見た不良原因、改善提案のうち少なくとも１つの表示を、組付部品毎の不良の具体的な原因情報及び改善提案情報とを予め記憶したデータベースより抽出して行なうステップを有することを特徴とする不良率推定方法。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれかに記載の不良率推定方法のステップを有するプログラムを格納したことを特徴とする記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月25日(2005.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明のパンチングプレスのプレス部のハード構成ブロック図である。
【図２】
本発明のパンチングプレスの制御ブロック図である。
【図３】
本発明に係る金型管理情報記憶部の説明図である。
【図４】
本発明に係るプレス動作パターン記憶部の説明図である。
【図５】
本発明に係るプレス動作パターン例の説明図である。
【図６】
本発明に係る加工プログラムの説明図である。
【図７】
本発明に係る使用金型情報設定部の説明図である。
【図８】
本発明に係る加工基準位置データ設定部の説明図である。
【図９】
従来技術のプレス部及び下ダイ軸退避機能の説明図である。
【図１０】
上向き成形部位への打抜き加工例の説明図である。
【図１１】
図１０の打抜き加工例に用いるダイ金型の斜視図である。
【符号の説明】
１…パンチ軸ピストン、２…パンチ軸シリンダ、４…パンチ軸サーボバルブ、６…パンチ軸位置検出器、９，１９，２９…サーボアンプ、１１…ストリッパ軸ピストン、１２…ストリッパ軸シリンダ、１４…ストリッパ軸サーボバルブ、１６…ストリッパ軸位置検出器、２１…下ダイ軸ピストン、２２…下ダイ軸シリンダ、２４…下ダイ軸サーボバルブ、２６…下ダイ軸位置検出器、３０…支持部材、３１…パンチ金型、３２…ストリッパ、３３…ダイ金型、４０…制御器、４１…データ設定手段、４２…金型管理情報記憶部、４３…プレス動作パターン記憶部、４４…加工指令部、４５…使用金型情報設定部、４６…加工基準位置データ設定部、４７…加工板厚情報記憶部、４８…待機位置情報記憶部、４９…動作パターン設定部、５１…加工基準位置変更／キャンセル指令検出部（Ｍ７２／Ｍ７３検出部）、５２…パンチ指令検出部、５３…ストローク制御部、５４…ＸＹテーブル移動指令検出部、５５…Ｘ軸モータ、５６…Ｙ軸モータ、６１…パンチ軸、６２…ストリッパ軸、６３…下ダイ軸。Ｐ…パスライン、Ｗ…ワーク、ＭＰ…加工プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月11日(2004.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、ヒンダードアミン化合物と酸とのオニウム塩を含有する多孔質インク受容層を有する記録シート。
【請求項２】
前記多孔質インク受容層は、ベーマイトとバインダーからなる層である請求項１に記載の記録シート。
【請求項３】
前記オニウム塩は、前記多孔質インク受容層中に０．０１〜１０重量％含有されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の記録シート。
【請求項４】
基材上に、ヒンダードアミン化合物と酸とのオニウム塩を含有するインク受容層を有し、この多孔質インク受容層に色素が担持された記録物。
【請求項５】
前記多孔質インク受容層は、ベーマイトとバインダーからなる層である請求項４に記載の記録物。
【請求項６】
前記オニウム塩は、前記多孔質インク受容層中に０．０１〜１０重量％含有されていることを特徴とする請求項４又は５に記載の記録物。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月8日(2004.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
差し込み部が円筒形に形成されたキーと、このキーが差し込まれる鍵孔を有する錠本体とで形成され、この錠本体の鍵孔に、鍵孔と同心状に且つ鍵孔の長手方向に延びて丸棒状の軸が設けられ、この軸の周面にタンブラが係止される円筒形キー使用のシリンダ錠であって、上記キーの差し込み部の外周面に、周方向に等間隔をあけて計３本の突条が差し込み部の長手方向に延びて形成され、この突条と係合する凹溝が鍵孔の内周面に形成され、上記の軸の先端が鍵孔の入口に向かって先細りのテーパーに形成されると共に、上記のタンブラがタンブラピンとタンブラボールとが軸の周面に係止される状態で組み合わされてなることを特徴とする円筒形キー使用のシリンダ錠。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
請求項１記載のシリンダ錠であって、突条が周方向に等間隔をあけて計３本形成されるのに代え、突条が差し込み部の外周面に、周方向に９０度づつあけて形成されたことを特徴とする円筒形キー使用のシリンダ錠。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
請求項１又は２記載のシリンダ錠であって、タンブラボールが、鍵孔の長手方向にわたって内筒に形成された収納孔に万遍なく配置されたことを特徴とする円筒形キー使用のシリンダ錠。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
即ち本発明は、図１に示されるように、差し込み部１ａが円筒形に形成されたキー１と、このキー１が差し込まれる鍵孔２ａを有する錠本体２とで形成され、この錠本体２の鍵孔２ａに、鍵孔２ａと同心状に且つ鍵孔２ａの長手方向に延びて丸棒状の軸３が設けられ、この軸３の周面にタンブラ４が係止される円筒形キー使用のシリンダ錠であって、上記キー１の差し込み部１ａの外周面に、周方向に等間隔をあけて計３本の突条１ｂが差し込み部１ａの長手方向に延びて形成され、この突条１ｂと係合する凹溝２ｂが鍵孔２ａの内周面に形成され、上記の軸３の先端３ａが鍵孔２ａの入口２ｃに向かって先細りのテーパーに形成されると共に、上記のタンブラ４がタンブラピン４ａとタンブラボール４ｂとが軸３の周面に係止される状態で組み合わされてなることを特徴とする（請求項１）。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の場合、突条１ｂは、周方向に等間隔をあけて計３本形成されるのに代え、図１等に示されるように、キー１の差し込み部１ａの外周面に、周方向に９０度づつあけて形成されるのが好ましい（請求項２）。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
又本発明は、タンブラボール４ｂが、鍵孔２ａの長手方向にわたって内筒５に形成された収納孔５ａに万遍なく配置されるのが好ましい（請求項３）。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月8日(2004.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
ノズルは、一般的に、スロートとして知られる最小流れ面積の平面に至る収束上流側ダクトと、スロートから出口まで延びる拡散下流側ダクトとを形成するフラップを含む。ノズルはまた、フラップを動かすための機構を含み、全ての出力設定、飛行速度及び高度において、効率的なエンジン性能を実現するようにスロート及び出口の寸法を変化させることができる。フラップは、非常に振動のある環境において高圧及び高温排気ガスへ曝されることに耐えるように構成される。大半のノズルフラップは、フラップに並行に近接して延びる、高温に耐えるように設計された薄い金属シェルすなわちライナを有する。冷却空気の層は、一般的にライナとフラップとの間に供給される。ライナは、レーダ又は赤外線の視認性を減少させる、あるいはライナの熱的保護を高めるための材料からなる１つ又はそれ以上の被覆層を備えることができる。
【特許文献１】特公平７−９９１１９号公報
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月9日(2005.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
そして入力軸２０のスプライン溝５１，６２と入力ディスク１２のスプライン溝５２，６３との間に複数のボール５３，６４が収容されている。したがって各入力ディスク１２は、入力軸２０に対して回転方向に固定され、軸線Ｐ方向に移動可能となっている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
パワーローラ１５はトラニオン１７の上部の揺動軸１７ｂと下部の揺動軸１７ｃとの間に設けられ、このパワーローラ１５を回転自在に支持した偏位軸１９がトラニオン１７の主部１７ａに取り付けられている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
互いに対向した一対のトラニオン１７における上部の揺動軸１７ｂおよび下部の揺動軸１７ｃはそれぞれ変速機１０のケーシング１０ａに設けられた上部のヨーク７０および下部のヨーク７１を介して回転自在に支持されている。そして互いに対向した一対のトラニオン１７の下部の揺動軸１７ｃの相互間には、その一対のトラニオン１７の相互を同期して揺動させる同期ケーブル７２が襷掛け状に掛け渡されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
各油圧シリンダ機構７５に対する給排油は一つの制御弁８０により行なわれる。制御弁８０は、変速指令用のステッピングモータ８４により軸方向に駆動されるスリーブ８１と、このスリーブ８１内に軸方向に摺動自在に嵌挿されたスプール８２とを備えている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
この結果、パワーローラ１５の周面と入力ディスク１２および出力ディスク１３のトラクション面との当接位置が変化し、入力軸２０と出力ギア３３との間の回転速度比が変化する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
このような動作の繰り返しにより、トラニオン１７が所定量変位した状態で、制御弁８０の油流路が閉じられ、各油圧シリンダ機構７５への油の給排が停止する。前記トラニオン１７の動作は同期ケーブル７２により他方のトラニオン１７に伝達され、したがって各トラニオン１７の上下方向及び揺動方向の変位量が前記ステッピングモータ８４による制御に応じた量に保持され、変速比が設定された目標値に定まる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2002147559.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月1日(2004.3.1)
【手続補正１】
【補正対象項目名】手続補正１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インペラー、タービン、及びステータからなるトーラス形状の流体作動部を備え、
前記流体作動部の外径Ｄ１に対する内径Ｄ２の比（Ｄ２／Ｄ１）が０．６１以上である、
トルクコンバータ。
【請求項２】
前記Ｄ２／Ｄ１は０．６１〜０．７７の範囲にある、請求項１に記載のトルクコンバータ。
【請求項３】
フロントカバーと、
前記フロントカバーに連結されたインペラー、タービン、及びステータからなるトーラス形状の流体作動部と、
前記フロントカバーと前記タービンとの間に配置され両者を機械的に連結するための装置であり、捩じり振動を吸収・減衰するためのトーションスプリングを備えたロックアップ装置とを備え、
前記トーションスプリングの外周縁は前記流体作動部の内周縁より内周側に位置している、
トルクコンバータ。
【請求項４】
フロントカバーと、
前記フロントカバーに連結されたインペラー、タービン、及びステータからなるトーラス形状の流体作動部と、
前記フロントカバーと前記タービンとの間に配置され両者を機械的に連結するための装置であり、捩じり振動を吸収・減衰するためのトーションスプリングを備えたロックアップ装置とを備え、
前記ステータは、ステータキャリアとステータブレードとを有し、
前記タービンは、タービンシェルと、前記タービンシェルの外周側部分に設けられたタービンブレードとを有し、
前記ステータキャリアは軸方向エンジン側の面が凹んだ形状になっており、
前記タービンシェルの内周側部分は少なくとも一部が前記凹んだ形状内に配置されている、
トルクコンバータ。
【請求項５】
前記タービンシェルの内周側部分は前記ステータキャリアに沿って軸方向に湾曲している、請求項４に記載のトルクコンバータ。
【請求項６】
前記タービンシェルの内周側部分の半径方向中間部分は、前記流体作動部の軸方向中心位置に近接している、請求項５に記載のトルクコンバータ。
【請求項７】
前記タービンシェルの内周側部分の半径方向中間部分は前記流体作動部の軸方向中心位置より軸方向トランスミッション側に位置している、請求項６に記載のトルクコンバータ。
【請求項８】
前記トーションスプリングの軸方向トランスミッション側縁は前記タービンの前記タービンブレードの軸方向トランスミッション側縁を越えて前記流体作動部の軸方向中心位置に近接している、請求項４〜７のいずれかに記載のトルクコンバータ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月14日(2004.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯電可能な複数の像担持体を有する画像形成装置において、
前記複数の像担持体には互いに異なる対摩擦耐久性を有する像担持体を含むことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記複数の像担持体が複数の層を有し、前記像担持体の最外層の厚みを異ならしめることにより前記複数の像担持体の対摩擦耐久性を異ならしめることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記複数の像担持体が複数の層を有し、前記像担持体の最外層の材料を異ならしめることにより前記複数の像担持体の対摩擦耐久性を異ならしめることを特徴とする請求項１または２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
像担持体がトナーを担持し、研磨力の異なる複数のトナーを有する画像形成装置において、
前記トナーの研磨力が高いトナーが接触する像担持体の対摩擦耐久性は前記トナーの研磨力が低いトナーが接触する像担持体の対摩擦耐久性よりも高いことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記複数のトナーは磁性トナーと非磁性トナーを有することを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記複数の全ての像担持体と接触回転する中間転写体を有し、前記複数の像担持体が回転可能である画像形成装置において、前記複数の像担持体のうちのいずれかの像担持体が互いに前記中間転写体との周速差が異なる画像形成装置において、
前記中間転写体との周速差が大きい前記像担持体の対摩擦耐久性は、前記中間転写体との周速差が小さい像担持体の対磨耗耐久性よりも高いことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
転写材が前記複数の全ての像担持体と接触移動し、前記複数の像担持体が回転可能である画像形成装置において、前記複数の像担持体のうちのいずれかの像担持体の表面の移動速度が互いに転写材との移動速度差が異なる画像形成装置において、
前記転写材と表面の移動速度の移動差が大きい前記像担持体の対摩擦耐久性は、前記転写材との移動速度差が小さい像担持体の対磨耗耐久性よりも高いことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
図５に示すように、この画像形成装置は、画像形成ユニットとして、マゼンタ、シアン、イエロー、ブラックの４色の画像形成ユニットＭ、Ｃ、Ｙ、Ｂｋを有し、さらに、転写手段として転写ベルト３０、及び定着器４０を有するものである。また、各画像形成ユニットの画像形成部は、像担持体である感光ドラム１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｙ、１１Ｂｋを有し、その周辺に、帯電ローラ１２Ｍ、１２Ｃ、１２Ｙ、１２Ｂｋ、レーザ露光装置１３Ｍ、１３Ｃ、１３Ｙ、１３Ｂｋ、現像器１４Ｍ、１４Ｃ、１４Ｙ、１４Ｂｋがそれぞれ配設されている。転写ベルト３０は、感光ドラム１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｙ、１１Ｂｋに接触して配置され、駆動ローラ３１、分離ローラ３２で張架され、駆動されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決すべき本発明は、帯電可能な複数の像担持体を有する画像形成装置において、前記複数の像担持体には互いに異なる対摩擦耐久性を有する像担持体を含むことを特徴とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
好ましくは、前記複数の像担持体が複数の層を有し、前記像担持体の最外層の厚みを異ならしめることにより前記複数の像担持体の対摩擦耐久性を異ならしめることを特徴とするものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
好ましくは、前記複数の像担持体が複数の層を有し、前記像担持体の最外層の材料を異ならしめることにより前記複数の像担持体の対摩擦耐久性を異ならしめることを特徴とするものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
好ましくは、像担持体がトナーを担持し、研磨力の異なる複数のトナーを有する画像形成装置において、前記トナーの研磨力が高いトナーが接触する像担持体の対摩擦耐久性は前記トナーの研磨力が低いトナーが接触する像担持体の対摩擦耐久性よりも高いことを特徴とするものである。
好ましくは、前記複数のトナーは磁性トナーと非磁性トナーを有することを特徴とするものである。
好ましくは、前記複数の全ての像担持体と接触回転する中間転写体を有し、前記複数の像担持体が回転可能である画像形成装置において、前記複数の像担持体のうちのいずれかの像担持体が互いに前記中間転写体との周速差が異なる画像形成装置において、前記中間転写体との周速差が大きい前記像担持体の対摩擦耐久性は、前記中間転写体との周速差が小さい像担持体の対磨耗耐久性よりも高いことを特徴とするものである。
好ましくは、転写材が前記複数の全ての像担持体と接触移動し、前記複数の像担持体が回転可能である画像形成装置において、前記複数の像担持体のうちのいずれかの像担持体の表面の移動速度が互いに転写材との移動速度差が異なる画像形成装置において、前記転写材と表面の移動速度の移動差が大きい前記像担持体の対摩擦耐久性は、前記転写材との移動速度差が小さい像担持体の対磨耗耐久性よりも高いことを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月2日(2004.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像形成装置および加熱装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写材上へトナー像を担持し、これを熱定着させることによって該転写材に画像を形成する画像形成装置において、
電力供給によって発熱する発熱体を複数有し、トナー像の担持された転写材を加熱する熱定着手段と、前記発熱体に電力を供給する電力供給手段と、
前記電力供給手段による前記複数の発熱体について、各発熱体への通電及び非通電を切り替える通電発熱体切り替え手段と、
前記発熱体の温度を検出する温度検出手段と、
前記検出された温度に基づいて、前記電力供給手段が各発熱体に供給する電力を制御する電力供給指示制御手段とを有してなる
ことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記通電発熱体切り替え手段は、前記複数の発熱体のうち、各発熱体への通電及び非通電をそれぞれ切り替える
ことを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記通電発熱体切り替え手段は、前記複数の発熱体のうち、２つ以上の発熱体への通電を選択的に切り替える
ことを特徴とする請求項１または２記載の画像形成装置。
【請求項４】
第１発熱体および第２発熱体を含む複数の発熱体を有する加熱部材と、
前記第１発熱体および前記第２発熱体のいずれかを選択する選択手段と、
選択された発熱体への供給電力を制御する第１スイッチング制御素子と、
前記複数の発熱体のうちの特定の発熱体における供給電力を制御する第２スイッチング制御素子とを有する
ことを特徴とする加熱装置。
【請求項５】
前記第１発熱体および前記第２発熱体のうちの少なくとも一方が、半導体素子である
ことを特徴とする請求項４記載の加熱装置。
【請求項６】
前記第１発熱体および前記第２発熱体のうちの少なくとも一方が、トライアックである
ことを特徴とする請求項４記載の加熱装置。
【請求項７】
前記選択手段による選択が、記録紙のサイズに基づいて実行される
ことを特徴とする請求項４乃至６のいずれか１項記載の加熱装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
同図８に示すように、通常、複数の発熱体から構成されるヒータ８０３はトライアック等のスイッチング制御素子８０４，８１６を介して商用交流電源８０１に接続されており、この交流電源８０１から電力が供給される。ヒータ８０３には温度検出素子、例えばサーミスタ温度検出素子８１４が設けられており、この温度検出素子８１４によりヒータ８０３の温度が検出され、その検出温度情報をもとに、制御回路（電力供給指示手段）８１２がスイッチング制御素子８０４，８１６をオン／オフ制御することにより、ヒータ８０３への電力供給をオン／オフし、熱定着装置の温度が目標の一定温度に制御される。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月21日(2005.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理対象を撮像する位置検出用撮像器と、当該位置検出用撮像器に対しオフセットして設けられ前記処理対象を処理するツールと、を備えた処理装置におけるオフセット測定方法であって、
所定位置に配置された光源から測定方向に対する所定の傾斜角をもって基準パターンを前記ツールに向けて投影するステップと、
前記ツールに投影された前記基準パターンに基づいて前記ツールの位置を測定するステップと、
前記位置検出用撮像器の位置を測定するステップと、
これら測定結果に基づいてオフセット量を求めるステップと、を含むことを特徴とするオフセット測定方法。
【請求項２】
請求項１に記載のオフセット測定方法であって、
前記位置検出用撮像器の位置を測定するステップは、前記位置検出用撮像器で所定の基準点を撮像することにより実行されることを特徴とするオフセット測定方法。
【請求項３】
請求項２に記載のオフセット測定方法であって、
前記基準点は所定位置に設置されたリファレンス部材であり、
前記投影するステップと前記ツールの位置を測定するステップとはいずれも前記ツールを前記リファレンス部材に近接させた姿勢で実行され、
前記オフセット量を求めるステップは、前記ツールの位置を測定する際の姿勢と前記位置検出用撮像器で基準点を撮像する際の姿勢との間の位置検出用撮像器およびツールの移動量を特定するステップを更に含むことを特徴とするオフセット測定方法。
【請求項４】
請求項３に記載のオフセット測定方法であって、
前記投影するステップにおいて前記光源から前記ツールおよび前記リファレンス部材の両方に前記基準パターンを投影し、前記ツールの位置を測定するステップは前記ツールおよび前記リファレンス部材の両方の像光に基づいて実行されることを特徴とするオフセット測定方法。
【請求項５】
請求項３または４に記載のオフセット測定方法であって、
前記ツールの位置を測定するステップは、前記ツールと前記リファレンス部材との像光を前記位置検出用撮像器に導くステップを更に含むことを特徴とするオフセット測定方法。
【請求項６】
ボンディング部品を撮像する位置検出用撮像器と、当該位置検出用撮像器に対しオフセットして設けられ前記ボンディング部品を処理するツールと、を備えたボンディング装置であって、
所定位置に配置され測定方向に対する所定の傾斜角をもって基準パターンを前記ツールに向けて投影する光源を備え、
前記ツールに投影された前記基準パターンに基づいて前記ツールの位置を測定した測定値と、
前記位置検出用撮像器の位置を測定した測定値と、
に基づいてオフセット量を求める演算制御装置を備えたボンディング装置。
【請求項７】
請求項６に記載のボンディング装置であって、
前記位置検出用撮像器は所定の基準点を撮像することにより前記位置検出用撮像器の位置を測定することを特徴とするボンディング装置。
【請求項８】
請求項７に記載のボンディング装置であって、
前記基準点は所定位置に設置されたリファレンス部材であり、
前記投影と前記ツールの位置の測定とはいずれも前記ツールを前記リファレンス部材に近接させた姿勢で実行され、
前記ツールの位置を測定する際の姿勢と前記位置検出用撮像器で基準点を撮像する際の姿勢との間の位置検出用撮像器およびツールの移動量を特定する手段を更に含むことを特徴とするボンディング装置。
【請求項９】
請求項８に記載のボンディング装置であって、
前記基準パターンの投影は前記光源から前記ツールおよび前記リファレンス部材の両方に対して行われ、前記ツールの位置の測定は前記ツールおよび前記リファレンス部材の両方の像光に基づいて実行されることを特徴とするボンディング装置。
【請求項１０】
請求項８または９に記載のボンディング装置であって、
前記ツールと前記リファレンス部材との像光を前記位置検出用撮像器に導く光学部材を更に備えたことを特徴とするボンディング装置。
【請求項１１】
処理対象を処理するツールの位置検出方法であって、
前記ツールおよび所定位置に設置されたリファレンス部材の両方に、所定位置に配置された光源から基準パターンを投影するステップと、
前記ツールおよび前記リファレンス部材に投影された前記基準パターンに基づいて前記ツールの位置を測定するステップと、を含むことを特徴とするツール位置検出方法。
【請求項１２】
ボンディング部品を撮像する位置検出用撮像器と、当該位置検出用撮像器に対しオフセットして設けられ前記ボンディング部品を処理するツールと、前記位置検出用撮像器と前記ツールとを一体的に移動させるＸＹテーブルと、を備えたボンディング装置において、
所定位置に配置され測定方向に対する所定の傾斜角をもって基準パターンを前記ツールに向けて投影する光源と、
前記ツールと所定位置に設置されたリファレンス部材との像光を前記位置検出用撮像器に導く光学部材と、を備え、
前記ツールを前記ＸＹテーブルにより前記リファレンス部材に近接させた第一の姿勢において前記ツールに投影された前記基準パターンに基づいて前記ツールの位置を測定した測定値と、該第一の姿勢において前記ツールおよび前記リファレンス部材の像光を前記位置検出用撮像器に導いて前記ツールと前記リファレンス部材とのＸＹ平面上の位置関係を前記位置検出用撮像器により測定した測定値と、
前記位置検出用撮像器を前記ＸＹテーブルにより所定位置に設置されたリファレンス部材に近接させた第二の姿勢において前記位置検出用撮像器と前記リファレンス部材とのＸＹ平面上の位置関係を前記位置検出用撮像器で測定した測定値と、
前記第一の姿勢と第二の姿勢との間における前記位置検出用撮像器および前記ツールの移動量と、
に基づいてオフセット量を求める演算制御装置を備えたボンディング装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月28日(2005.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
この図に示すように、自乗回路１、多段遅延回路２、Ｇａｕｓｓ型加重回路３、微分Ｇａｕｓｓ型加重回路５により、上の総和部分６により式（３）の分子部分を計算し、下の総和部分４により式（３）の分母部分を計算することにより、不動点検出回路７において平均時刻を計算し、式（１０）によって不動点として駆動点の位置を求める。また、傾斜計算回路９において式（１１）により定義される平均時間の導関数を上記で求めた駆動点の位置において求める。こうして求めた傾斜の値を拡がり変換回路１０において式（１４）により駆動点付近での信号の標準偏差１１に変換し、駆動点の特徴量とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
信号は多段遅延回路２１、Ｇａｕｓｓ型加重回路２３、微分Ｇａｕｓｓ型加重回路２５とＦＦＴ（高速フーリエ変換）回路２４，２６により、式（２３）の分母（Ｇａｕｓｓ型加重回路２３とＦＦＴ回路２４利用）と、分子（微分Ｇａｕｓｓ型加重回路２５とＦＦＴ回路２６利用）を計算し、群遅延計算回路２８によって式（２３）を実行して群遅延特性を求める。最小位相群遅延計算回路２９では式（１８）によりパワースペクトル計算回路２７により式（１７）で求められる振幅スペクトルから複素ケプストラムを介して最小位相応答の位相成分を求め、その周波数成分により最小位相応答成分の群遅延特性を求める。補償済み群遅延計算回路３０では、群遅延計算回路２８で式（２３）により求められた群遅延特性の実測値から最小位相群遅延計算回路２９で求められた最小位相応答成分の群遅延特性を減算することで、受動的な伝達システム（この場合は例えば声道の伝達特性等）の影響を補償して駆動源だけに依存した補償済み群遅延特性を推定する。補償済み平均群遅延計算回路３１では、こうして求めた補償済み群遅延特性を、パワースペクトル計算回路２７により式（１７）の自乗で求められるパワースペクトルを、加重として用いて式（２０）によって定義される補償された平均時刻を求める。不動点計算回路３２では、補償された平均時刻が０を上から下に横切る点として不動点位置３３を求める。また、同時に、補償された群遅延の駆動点付近での標準偏差３５を群遅延標準偏差計算回路３４で計算し、駆動点の特徴量とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１    自乗回路
２，２１    多段遅延回路
３，２３    Ｇａｕｓｓ（ガウス）型加重回路
４，６    総和部分（Σ）
５，２５    微分Ｇａｕｓｓ型加重回路
７    不動点検出回路
８    不動点位置
９    傾斜計算回路
１０    拡がり変換回路
１１，３５    標準偏差
２４，２６    ＦＦＴ（高速フーリエ変換）回路
２７    パワースペクトル計算回路
２８    群遅延計算回路
２９    最小位相群遅延計算回路
３０    補償済み群遅延計算回路
３１    補償済み平均群遅延計算回路
３２    不動点計算回路
３３    不動点位置
３４    群遅延標準偏差計算回路
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月8日(2004.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エラーが、第１のメモリのデータユニットにあるか否かを検出するステップと、
前記検出ステップの完了前に開始され、前記データユニットに基づくデータを、前記第１のメモリから第２のメモリに転送するステップと、
前記検出ステップが、前記データユニットのエラーを検出したときに、少なくとも前記第２のメモリの一部をディスエーブルするステップと
を有する方法。
【請求項２】
エラー保護の符号化された符号ワードを記憶する第１のメモリと、
前記第１のメモリに接続され、エラーを含むか否かにかかわらず、前記符号ワードのいずれかに対応するデータが、前記第１のメモリから転送される第２のメモリと、
前記第１のメモリおよび前記第２のメモリに接続され、前記第１のメモリから前記第２のメモリに転送されたデータが、検出可能なエラーを含むときに、少なくとも前記第２のメモリの一部をディスエーブルするエラー検出回路と
を有する装置。
【請求項３】
第１のメモリ内のデータのユニットに適応されるエラー検出および訂正またはこれらのいずれかのレーテンシーを回避する装置であって、
前記第１のメモリと一体であって、前記データのユニットの中のエラーの検出に応じて、ディスエーブル信号を供給するディスエーブル論理と、
前記第１のメモリおよび前記ディスエーブル論理と接続された第２のメモリであって、
エラー検出のレーテンシーを回避する手段と、
前記エラーの伝搬を防ぐ手段と
を有する第２のメモリと
を有する装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月2日(2004.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体メモリにおいて誤りを検出して訂正する方法であって、
前記メモリをＭ個のメモリブロックに区分けするステップであって、前記Ｍ個のメモリブロックの各々は、誤り訂正符号（ＥＣＣ）の各符号ワード毎にｋ個のデータビットを含むことが可能であり、前記ｋ個のデータビットは、共通のＥＣＣブロックによって生成された複数のＥＣＣビットに関連することからなる、ステップと、
前記Ｍ個のメモリブロックに対してｒ個の誤り訂正符号（ＥＣＣ）ビットを割り当てるステップであって、ｒの値は積Ｍ×ｋと使用されるECC符号のタイプを使用して決定されることからなる、ステップと、
前記ｒ個のＥＣＣビットを前記Ｍ個のメモリブロック間に分散させるステップであって、前記Ｍ個のメモリブロックは、ＥＣＣビットの生成のために、及び、誤り検出と誤り訂正のために、前記共通のＥＣＣブロックを共有することからなる、ステップ
を含む方法。
【請求項２】
複数のメモリユニットを有する半導体メモリとともに動作する共有誤り訂正符号（ＥＣＣ）回路であって、
前記複数のメモリユニットに対応する複数のＥＣＣセルであって、前記複数のメモリユニットの各々が、各ＥＣＣ符号ワードのための複数のデータビットを含むことが可能であることからなる、複数のＥＣＣセルと、
ＥＣＣビットを生成する共通ＥＣＣブロック
とを備え、
前記複数のＥＣＣセルにおけるＥＣＣビットの数が、各ＥＣＣ符号ワードのための前記複数のメモリユニットに格納されたデータビットの総数に関連し、前記ＥＣＣビットが、前記複数のメモリユニット間に分散され、前記複数のメモリユニットが、ＥＣＣビットの生成のために、及び、誤り検出と誤り訂正のために、前記共通ＥＣＣブロックを共有し、前記ＥＣＣビットが、前記複数のメモリユニットにおける複数のビット誤りを訂正することからなる、共有誤り訂正符号（ＥＣＣ）回路。
【請求項３】
複数のメモリユニットを有する半導体メモリとともに動作する共有誤り訂正符号（ＥＣＣ）回路であって、
前記複数のメモリユニットに対応する複数のＥＣＣセルであって、前記複数のメモリユニットの各々が、各ＥＣＣ符号ワードのための複数のデータビットを含むことが可能であることからなる、複数のＥＣＣセルと、
ＥＣＣビットを生成する共通ＥＣＣブロック
とを備え、
前記複数のＥＣＣセルにおけるＥＣＣビットの数が、各ＥＣＣ符号ワードのための前記複数のメモリユニットに格納されたデータビットの総数に関連し、前記ＥＣＣビットが、前記複数のメモリユニット間に分散され、前記複数のメモリユニットが、ＥＣＣビットの生成のために、及び、誤り検出と誤り訂正のために、前記共通ＥＣＣブロックを共有し、前記ＥＣＣビットが、前記複数のメモリユニット間に非対称に分散されることからなる、共有誤り訂正符号（ＥＣＣ）回路。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月26日(2004.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）下記一般式（Ｘ）で示される基を含有する構造単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び
（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
【化１】
2001249458.tif 000001
一般式（Ｘ）中、Ｒ１、Ｒ２は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ３、Ｒ４は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐、環状アルキル基を表し、Ｒ５は、置換基を有してもよい直鎖、分岐、環状アルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基を表す。ｍは１〜２０の整数を表し、ｎは０〜５の整数を表す。
【請求項２】
（ａ）下記一般式（Ｉ）、一般式（II）及び一般式（III)で示される構造単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び
（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
【化２】
2001249458.tif 000002
式（Ｉ）〜（III）中、Ｒ２１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２２は酸の作用により分解しない基を表し、Ｒ２３は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基又はアシロキシ基を表す。ｎは１〜３の整数を表す。Ｗは上記一般式（Ｘ）で示される基を表す。
【請求項３】
下記一般式（Ｉ）、一般式（II）及び一般式（III)で示される構造単位の比率が下記（１）〜（４）の条件を満足することを特徴とする請求項２に記載のポジ型フォトレジスト組成物。
（１）  ０．１０＜（Ｉ）／（Ｉ）＋（II）＋（III）＜０．２５
（２）  ０．０１＜（II）／（Ｉ）＋（II）＋（III）＜０．１５
（３）  （Ｉ）＞（II）
（４）  ０．５＜（Ｉ）／（Ｉ）＋（II）＜０．８５
（式中、（Ｉ）、（II）、（III）は、各々、一般式（Ｉ）、一般式（II）及び一般式（III)で示される基を含有する構造単位のモル分率を表す。）
【請求項４】
上記（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物が、活性光線または放射線の照射により、スルホン酸を発生する下記一般式（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ａ−３）、（Ａ−４）、（Ａ−５）、（Ａ−６）及び（Ａ−７）で表される化合物のうち少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のポジ型フォトレジスト組成物。
【化３】
2001249458.tif 000003
式（Ａ−１）、（Ａ−２）中、Ｒ1〜Ｒ5は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、又は−Ｓ−Ｒ6基を示す。Ｒ6はアルキル基、又はアリール基を示す。Ｘ-は、分岐状又は環状の炭素数８個以上のアルキル基及びアルコキシ基の群の中から選ばれる基を少なくとも１個有するか、直鎖状、分岐状又は環状の炭素数４〜７個のアルキル基及びアルコキシ基の群の中から選ばれる基を少なくとも２個有するか、直鎖状又は分岐状の炭素数１〜３個のアルキル基及びアルコキシ基の群の中から選ばれる基を少なくとも３個有するか、１〜５個のハロゲン原子を有するか、若しくは直鎖状又は分岐状の炭素数１〜１０のエステル基を有するベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸又はアントラセンスルホン酸のアニオンを示す。
【化４】
2001249458.tif 000004
式（Ａ−３）中、Ｒ7〜Ｒ10は、同一でも異なっていてもよく、各々水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、又はハロゲン原子を示す。Ｘ-は、上記と同義である。ｍ、ｎ、ｐ及びｑは、各々１〜３の整数を示す。
【化５】
2001249458.tif 000005
式（Ａ−４）中、Ｒ11〜Ｒ13は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子又は−Ｓ−Ｒ6基を示す。Ｒ6、Ｘ-は上記と同義である。ｌ、ｍ及びｎは、同じでも異なってもよく、１〜３の整数を示す。ｌ、ｍ及びｎが各々２又は３の場合、２〜３個のＲ11〜Ｒ13のうちの各々の２個が互いに結合して、炭素環、複素環又は芳香環を含む５〜８個の元素から成る環を形成してもよい。
【化６】
2001249458.tif 000006
式（Ａ−５）中、Ｒ14〜Ｒ16は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子又は−Ｓ−Ｒ6基を示す。Ｒ6、Ｘ-は前記と同義である。ｌ、ｍ及びｎは、同じでも異なってもよく、１〜３の整数を示す。ｌ、ｍ及びｎが各々２又は３の場合、２〜３個のＲ14〜Ｒ16のうちの各々の２個が互いに結合して、炭素環、複素環又は芳香環を含む５〜８個の元素から成る環を形成してもよい。
【化７】
2001249458.tif 000007
式（Ａ−６）中、Ｙは置換基を有していてもよい直鎖、分岐、環状アルキル基、置換されていてもよいアラルキル基、
【化８】
2001249458.tif 000008
で表される基を示す（Ｒ31〜Ｒ51は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよい直鎖、分岐、環状アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アリール基、アシロキシ基、アラルキル基もしくはアルコキシカルボニル基、又はホルミル基、ニトロ基、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、水酸基、もしくはシアノ基を示し、Ｒ31〜Ｒ35、Ｒ36〜Ｒ42及びＲ43〜Ｒ51はそれぞれの群のうちの２つが結合して炭素原子及び／又はヘテロ原子からなる５〜８員環を形成していてもよい）。また、Ｙは別のイミドスルホネート化合物の残基と結合していてもよい。
Ｘは、置換基を有していてもよい直鎖、分岐アルキレン基、置換基を有していてもよくヘテロ原子を含んでいてもよい単環又は多環環状アルキレン基、置換されていてもよい直鎖、分岐アルケニレン基、置換されていてもよくヘテロ原子を含んでいてもよい単環又は多環環状アルケニレン基、置換されていてもよいアリーレン基、置換されていてもよいアラルキレン基を示す。また、Ｘは別のイミドスルホネート残基と結合していてもよい。
Ａｒ1−ＳＯ2−ＳＯ2−Ａｒ2        （Ａ−７）
式（Ａ−７）中、Ａｒ1、Ａｒ2は、同一でも異なっていてもよく、置換もしくは未置換のアリール基を示す。
【請求項５】
さらに環状アミン化合物を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のポジ型フォトレジスト組成物。
【請求項６】
さらにフッ素系界面活性剤又はシリコン系界面活性剤又はその両方を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のポジ型フォトレジスト組成物。
【請求項７】
酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する化合物をさらに含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のポジ型フォトレジスト組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載のポジ型フォトレジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月24日(2004.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の符号周期を有する被変調信号の符号クロックの位相を定める装置であって、
所定の定まった標本化周期を有し、被変調信号が入力される入力と、出力とを有する標本化装置と、
前記標本化装置の出力に接続された入力と、出力とを有していて、複数の所定の開始時間で開始して、所定の再標本化周期を有し、前記標本化装置の出力を反復的に再標本化することによって、各々がそれぞれの開始時間を有する複数の再標本化時間記録を出力する再標本化装置と、
前記再標本化装置の出力に接続された入力と、出力とを有し、複数の再標本化時間記録の各々で所定の統計処理を行うことによって、各々がそれぞれの開始時間を有する複数の統計特性記録を出力する統計解析装置と、
前記統計解析装置の出力に接続され、所定の選択基準に基づいて統計特性記録を選択することによって、それぞれの統計特性記録の開始時間が被変調信号の符号クロックの位相を示す評価装置とを有し、
前記統計解析装置によって行われる前記統計処理が、前記複数の再標本化時間記録の各々についての振幅に関するヒストグラムを生成することを特徴とする装置。
【請求項２】
前記統計解析装置が更に、前記ヒストグラムの所定の特性を定める統計的特性作成装置を備えたことを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項３】
所定の符号周期を有する被変調信号の符号クロックの位相を定める方法であって、
所定の標本化速度で被変調信号を標本化する段階と、
複数の所定の開始時間で開始して、所定の再標本化周期で前記標本化された信号を反復的に再標本化することによって、各々がそれぞれの開始時間を有する複数の再標本化時間記録が作成される段階と、
複数の前記再標本化時間記録の統計処理を行って各々の前記再標本化時間記録に関する統計的情報を作成することによって、各々がそれぞれの開始時間を有する複数の統計特性記録が作成される段階と、
複数の前記統計特性記録を評価して、所定の選択基準に基づいて統計特性記録を選択することによって、それぞれの統計特性記録の開始時間が被変調信号の符号クロックの位相を示す段階とを含み、
前記統計的情報が、前記複数の再標本化時間記録毎の振幅に関するヒストグラムであることを特徴とする方法。
【請求項４】
前記所定の選択基準が、前記統計処理によって発生した前記統計的情報のピーク値に基くことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記所定の再標本化周期が前記符号周期であることを特徴とする請求項３または４に記載の方法。
【請求項６】
前記所定の再標本化周期が、前記符号周期の１／２の期間であることを特徴とする請求項３または４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月12日(2005.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
椎弓を切除した骨間に嵌め込んで補綴する椎弓形成術に使用される脊椎手術用スペーサにおいて、切除した自家採取の自家骨又はこの自家骨を加工した加工骨を載置する載置面部と、この載置面部にこれよりも上方に突出して配され対向する一対の側壁部とを有することを特徴とする脊椎手術用スペーサ。
【請求項２】
前記載置面部は、断面が円弧状又はほぼ台形状に形成されるとともに、載置面部を貫通する多数の孔が形成されていることを特徴とする請求項１記載の脊椎手術用スペーサ。
【請求項３】
前記対向する一対の側壁部の中央に、切離した棘突起を戻すときにこれを支持する中央桟が設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の脊椎手術用スペーサ。
【請求項４】
棘突起を切離した後、椎弓を切除した骨間にスペーサを嵌め込んで補綴する椎弓形成術に使用される脊椎手術用スペーサの使用方法において、この脊椎手術用スペーサは、切除した自家採取の自家骨又はこの自家骨を加工した加工骨を載置する載置面部と、この載置面部にこれよりも上方に突出して配され対向する一対の側壁部とを有し、切除した骨間にスペーサを嵌め込むとともに、上記載置面部に切除した自家採取の自家骨又はこの自家骨を加工した加工骨を載置し、その後、切離した棘突起と載置した自家骨又はこの自家骨を加工した加工骨とを接合し、棘突起の再建をすることを特徴とする脊椎手術用スペーサの使用方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
さらに、従来の椎弓スペーサは、棘突起を戻して再建することはできず、棘突起を縫着する部分もなかった。なお、特許文献４と特許文献５は、損傷を受け又は変性した脊椎椎間板を置換するもので、本願発明の目的とするものとは異なる。