Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月1日(2003.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
双子型成形織布製紙機械の成形部分に使用する刃の可撓性装着体において、
製紙機械構造により支持される構造と配列をもつ基盤部材と、
第１端部を持つ第１ビーム部分と、そして第２端部を持つ第２ビーム部分とを有し、該第１ビーム部分の該第１端部は前記基盤部材に取付けられている構成の可撓性Ｃ字形ビームと、
前記Ｃ字形ビームの前記第２端部に取付けられた、前面と後面をもつ織布接触刃取付け手段と、
前記基盤部材と前記Ｃ字形ビームの第２端部との間のＣ字形ビームの中に配置された加圧負荷チューブと、
を備えていることを特徴とする可撓性装着体。
【請求項２】
前記基盤部材に取付けられた前記Ｃ字形ビームで構成される２部品構造を有して成ることを特徴とする請求項１に記載の可撓性装着体。
【請求項３】
前記Ｃ字形ビームと前記基盤部材とで構成される一体化構造を有して成ることを特徴とする請求項１に記載の可撓性装着体。
【請求項４】
前記第１及び第２のビーム部分は、共に弓形を成し、前記Ｃ字形ビームを提供することを特徴とする請求項１に記載の可撓性装着体。
【請求項５】
前記第１ビーム部分は第２端部を持ち、前記第２ビーム部分は第１端部を持ち、該第１と第２のビーム部分は共に実質的に平坦であり、該第１ビーム部分の該第２端部は、該第２端部において、ある角度で該第２ビーム部分の第１端部に取付けられ、前記Ｃ字形ビームを提供していることを特徴とする請求項１に記載の可撓性装着体。
【請求項６】
前記第１ビーム部分は第２端部を持ち、前記第２ビーム部分は第１端部を持ち、該第１と第２のビーム部分は共に実質的に平坦であり、該第１ビーム部分の該第２端部は、該第２端部において、ある角度で該第２ビーム部分の第１端部に取付けられ、前記Ｃ字形ビームを提供し、該第１と第２のビーム部分は一体化構造であることを特徴とする請求項１に記載の可撓性装着体。
【請求項７】
前記Ｃ字形ビームの第２端部と前記基盤部材との間に配置した可撓性封止手段を更に有することを特徴とする請求項１に記載の可撓性装着体。
【請求項８】
前記Ｃ字形ビームは、前記基盤部材に堅固に取付けられて成ることを特徴とする請求項２に記載の可撓性装着体。
【請求項９】
前記Ｃ字形ビームは、前記基盤部材に可撓性をもって取付けられて成ることを特徴とする請求項２に記載の可撓性装着体。
【請求項１０】
前記Ｃ字形ビームの第１端部は、該第１端部を受入れる構造と配列をもつ基盤部材の穴の中に収めることにより基盤部材に取付けられ、該第１端部は、可撓性接着化合物により該穴の中に保持される構成をもつことを特徴とする請求項９に記載の可撓性装着体。
【請求項１１】
前記Ｃ字形ビームの第１端部は、機械的取付け手段によって基盤部材に取付けられることを特徴とする請求項８に記載の可撓性装着体。
【請求項１２】
前記機械的取付け手段は、穴及びボルト手段と、ボルト手段とのうちの一部材が選択されていることを特徴とする請求項１１に記載の可撓性装着体。
【請求項１３】
前記可撓性封止手段は、帯から成り、該帯の各端部は、前記Ｃ字形ビームの第２部分の第２端部の中と、前記基盤部材の共に作用する穴とに、それぞれ嵌め込まれていることを特徴とする請求項７に記載の可撓性装着体。
【請求項１４】
前記加圧負荷チューブは、前記基盤部材の穴の中に配置されることを特徴とする請求項１に記載の可撓性装着体。
【請求項１５】
前記加圧負荷チューブは、前記Ｃ字形ビームの前記第２部分の前記第２端部と係合するのに適した圧力リブを有することを特徴とする請求項１に記載の可撓性装着体。
【請求項１６】
前記Ｃ字形ビームは、繊維強化型プラスチック材料、ばね鋼そしてステンレス鋼から成るグループから選択した材料で製作されることを特徴とする請求項１に記載の可撓性装着体。
【請求項１７】
前記Ｃ字形ビームは、繊維強化型プラスチック材料から製作されることを特徴とする請求項２に記載の可撓性装着体。
【請求項１８】
前記基盤部材は、繊維強化型プラスチック材料、ばね鋼そしてステンレス鋼から成るグループから選択した材料で製作されることを特徴とする請求項１に記載の可撓性装着体。
【請求項１９】
前記基盤部材は、繊維強化型プラスチック材料から製作されることを特徴とする請求項２に記載の可撓性装着体。
【請求項２０】
一体構成の前記Ｃ字形ビームと前記基盤部材は、繊維強化型プラスチック材料、ばね鋼そしてステンレス鋼から成るグループから選択した材料で製作されることを特徴とする請求項３に記載の可撓性装着体。
【請求項２１】
一体構成の前記Ｃ字形ビームと前記基盤部材は、繊維強化型プラスチック材料から製作されることを特徴とする請求項３に記載の可撓性装着体。
【請求項２２】
前記Ｃ字形ビームの前記第２縁に取付けられた織布接触刃取付け手段は、更に、前面と後面、そして前面を後面に連結する液体排出手段を有して成ることを特徴とする請求項１に記載の可撓性装着体。
【請求項２３】
前記液体排出手段は、前記織布接触刃取付け手段を通して前面から後面に到る一連の孔と長孔から成るグループから選択され、これらの孔と長孔は横断機械方向に間隔を採って配置されて成ることを特徴とする請求項２２に記載の可撓性装着体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
この構造において、取付け手段８は、他の図の場合のように中実ではないが、それに代わって排出手段が設けてあり、この排出手段を経て、取付け手段８の前面８３上に堆積するあらゆる液体の少なくともその一部を、後面８４において排出可能である。この方策によって、跳ね返りの危険性を実質的に取除くように、刃１３により修正された充分な量の液体が、取付け手段８の後面に移送可能である。図９には、適当な排出手段を含む取付け手段８の一部を断面図で示す。前面８３と後面８４の間の取付け手段８の中に、中間にテーパー付きスペーサー８２を設けた一連の長孔８１が配置してある。これらの長孔は横断機械方向に、取付け手段８に沿って間隔を採って形成される。在庫品からの固形物による長孔の障害物を避けるためには、スペーサー８２は８５で示すように角度付き前縁をもたせることが好ましく、長孔８１間の８６で示すような平坦な間隙は好ましくない。修正された液体の少なくとも一部が矢印Ｇで略記して示す経路を通り、そして刃装着体の下流側空間から排出される。この構造の更なる変更態様をやはり図８に示す。取付け手段８の後面８４には反らせ板リブ８７があり、このものは隣接する成形織布１７の機械側から離れている長孔８１を通って排出するように液体を屈折させる作用をもつ。図３に示す構成では、成形織布は矢印Ｄ方向に動いており、やはり跳ね返り問題を軽減するのに役立っている。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月6日(2003.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
次に、図５を参照すると、第３の組をなすホイール３８，４０によるセグメント２６の再整列によってはセグメント２６の完全な再整列が達成されないことは直ちに明らかである。セグメント２６を完全に再整列させると、セグメント２６は互いに整列してフィン１２に設けられていて図５に示す多数のセグメント２６から成る列の多数のフィンセグメント厚さ５０が図９に示すように１つのフィンの厚さ又は高さ“Ｈ”と同一であるようになる。その代わり、多数のフィンセグメント厚さ５０は、単一のフィン厚さ“Ｈ”よりも大きい。というのは、図５及び図６から理解できるように、セグメント２６は互いに完全に整列した直線状の状態から幾分ずれており、このずれは、最大０．０２５インチ（０．０６３５ｃｍ）である。また、図５から理解できるように、セグメント２６が互いに幾分ずれているということにより、セグメント２６の右側前縁部４４の空気力学的に一層望ましい向きが得られ、幾分尖った縁部４４が図５及び図６に矢印“Ａ”で示すように外部ガス又は液体の到来流れ内に向くようになる。また、このずれ整列関係は、セグメントの曲率と協働してセグメント２６による外部ガス又は液体の付着を良好にし、その結果、セグメント２６とフィン付き管１８の外部上をこれに沿って流れているガス又は液体との熱伝達が良好になる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月10日(2005.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  特定の均一断面形状を有する高強度鋼製構造部材の製造方法において、
少なくとも約１１８０００ＰＳＩ（８１４ＭＰａ）の引張り強さ、および、少なくとも約９００００ＰＳＩ（６２１ＭＰａ）の降伏強さを有する圧延された高強度鋼材製ブランクを準備する段階と、
次に前記圧延ブランクの厚さを低減し、これによって前記鋼材を加工硬化または歪み硬化させる段階と、
次に加工硬化または歪み硬化した前記圧延ブランクを、実質上全長に沿って均一断面形状を有する構造部材に冷間成形する段階とを含み、
前記断面形状がその全外周長よりも小さい厚さを有する少なくとも一つのフランジを有し、前記フランジが、前記構造部材の荷重負荷性能を増大させ、これによって、靱性を改善するための追加処理を必要とせず、前記構造部材の引張り強さおよび降伏強さといった機械特性が、前記ブランクと実質的に同じか、または、それ以上になる高強度鋼製構造部材の製造方法。
【請求項２】  前記圧延ブランクが、フェライトとパーライトから成るマイクロ組織を有し、さらに、
炭素：  約０．３０〜約０．６５重量％、
マンガン：  約０．３０〜約２．５重量％、
アルミニウム、ニオブ、チタン、バナジウム、およびこれらの混合物からなる群より選択された少なくとも一つのマイクロ合金添加剤： 最大約０．３５重量％、および
残部としての鉄を含む請求項１に記載された高強度鋼製構造部材の製造方法。
【請求項３】  前記高強度鋼材が、
炭素：  約０．４０〜約０．５５重量％、
マンガン：  約０．３０〜約２．５重量％、
アルミニウム、ニオブ、チタン、バナジウム、およびこれらの混合物からなる群より選択された少なくとも一つのマイクロ合金添加剤：  最大約０．２０重量％、および
残部としての鉄を含む請求項２に記載された高強度鋼製構造部材の製造方法。
【請求項４】  前記高強度鋼材が、
炭素：  約０．５０〜約０．５５重量％、
マンガン：  約１．２０〜約１．６５重量％、
アルミニウム、ニオブ、チタン、バナジウム、およびこれらの混合物からなる群より選択された少なくとも一つのマイクロ合金添加剤：  約０．３〜約０．２０重量％、および
残部としての鉄を含む請求項３に記載された高強度鋼製構造部材の製造方法。
【請求項５】  前記高強度鋼材製圧延ブランクが少なくとも約１５００００ＰＳＩ（１０３４ＭＰａ）の引張り強さおよび少なくとも約１３００００ＰＳＩ（８９６ＭＰａ）の降伏強さを有する請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載された高強度鋼製構造部材の製造方法。
【請求項６】  前記冷間成形に先立って、前記圧延ブランクを既定の幅または長さに切断する段階をさらに含む請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載された高強度鋼製構造部材の製造方法。
【請求項７】  前記圧延ブランクがコイルから得られることを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載された高強度鋼製構造部材の製造方法。
【請求項８】  前記冷間成形に先立って、高強度鋼製ブランク材料のコイルを巻き戻して略平面形状にする段階をさらに含む請求項７に記載された高強度鋼製構造部材の製造方法。
【請求項９】  前記圧延ブランクを事前に熱間圧延する請求項１から請求項８までのいずれか一項に記載された高強度鋼製構造部材の製造方法。
【請求項１０】  前記圧延ブランクの厚さの低減が約１０％〜約１５％である請求項１から請求項９までのいずれか一項に記載された製造方法。
【請求項１１】  前記冷間成形を室温と約３００°Ｆ（１５０℃）未満との間の温度で行う請求項１から請求項１０までのいずれか一項に記載された高強度鋼製構造部材の製造方法。
【請求項１２】  前記構造部材をショットピーニングして、前記構造部材の疲労寿命を増加させる段階をさらに含む請求項１から請求項１１までのいずれか一項に記載された高強度鋼製構造部材の製造方法。
【請求項１３】  前記圧延ブランクおよび冷間成形された構造部材の少なくとも一方に穴を形成する段階をさらに含む請求項１から請求項１２までのいずれか一項に記載された高強度鋼製構造部材の製造方法。
【請求項１４】  前記冷間成形がさらに冷間圧延を含む請求項１から請求項１３までのいずれか一項に記載された高強度鋼製構造部材の製造方法。
【請求項１５】  前記断面形状がＯ、Ｌ、Ｃ、Ｚ、Ｉ、Ｔ、Ｕ、Ｖ、およびＷ字形状からなる群より選択される請求項１から請求項１４までのいずれか一項に記載された高強度鋼製構造部材の製造方法。
【請求項１６】  前記冷間成形後、前記構造部材を熱処理しない請求項１から請求項１５までのいずれか一項に記載された高強度鋼製構造部材の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月22日(2003.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
疎水性の二酸化チタンを調製するためのプロセスであって、以下の工程：
（ｉ）以下の式：
ＲｎＳｉＸ４−ｎ
を有する反応性シランを、水性媒体と混合し、その結果、該反応性シランが、実質的に縮合し、そして反応性水性分散を形成する工程であって、ここで、Ｒは、飽和または不飽和の、分枝または非分枝の、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基、アリール基、シクロアルキル基またはアルキルアリール基を表し、Ｘはハロゲンを表し、そしてｎ＝１または２である、工程、
（ｉｉ）得られる該水性分散を、二酸化チタンの水中スラリーと混合して、混合剤を生成する工程、
（ｉｉｉ）該二酸化チタンと該分散との間の化学反応によって、該二酸化チタン上に疎水性被覆を形成する工程、および
（ｉｖ）該二酸化チタンと該分散を洗浄、乾燥および微粉化して疎水性二酸化チタンを形成する工程、
を包含する、プロセス。
【請求項２】
前記反応性シランが、工程（ｉ）において、インライン回転子固定子ミキサーまたは乳化器を使用して、前記水性媒体と混合される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記反応性シランが、９より高いｐＨにおいて水性媒体と混合される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】
Ｘがクロロ基であり、ｎ＝１であり、そしてＲが１〜２０個の炭素を有するアルキル基である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項５】
前記シランが、ヘキシルトリクロロシラン、ヘキシルジクロロシラン、オクチルトリクロロシラン、オクチルジクロロシラン、およびこれらの混合物からなる群より選択される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項６】
さらに、以下の工程：
均一な粘度が得られるまで、前記混合剤を撹拌する工程；
該混合剤のｐＨを、約６．５〜約１０の範囲のｐＨに調整する工程；および
該混合剤を熟成する工程、
を包含する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項７】
前記混合剤が、約４００〜約５００ｃｐｓの範囲のブルックフィールド粘度に達するまで撹拌される、請求項６に記載のプロセス。
【請求項８】
前記二酸化チタンが少なくとも３０００オームの電気抵抗を有するまで、該二酸化チタンが洗浄される、請求項４に記載のプロセス。
【請求項９】
前記微粉化が、スチーム微粉化器、空気微粉化器、またはその両方を使用して実施される、請求項４に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記反応性シランの量が、前記疎水性の二酸化チタンの重量に基づいて、約０．１〜約５重量％の疎水性被覆を形成するに十分である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１１】
疎水性の二酸化チタンを調製するためのプロセスであって、以下の工程：
（ｉ）以下の式：
ＲｎＳｉＣｌ４−ｎ
を有する反応性シランを、水性媒体と、約９以上のｐＨにおいて混合し、その結果、該反応性シランが、実質的に縮合し、そして反応性水性分散を形成する工程であって、ここで、Ｒは、飽和または不飽和の、分枝または非分枝の、４〜１０個の炭素原子を有するアルキル基を表し、Ｃｌはクロロ基を表し、そしてｎ＝１または２である、工程；
（ｉｉ）得られる該水性分散を、二酸化チタンおよび水のスラリーと混合して、混合剤を生成する工程であって、ここで、該分散が、該二酸化チタンと直接化学反応するか、または引き続く加熱もしくは乾燥の際に化学反応して、疎水性の二酸化チタンを形成する、工程；
（ｉｉｉ）均一な粘度が得られるまで、該混合剤を撹拌する工程；
（ｉｖ）該混合剤のｐＨを、約６．５〜約１０の範囲のｐＨに調整する工程；
（ｖ）該混合剤を熟成する工程；
（ｖｉ）  形成した該疎水性の二酸化チタンを、該混合剤から分離する工程；
（ｖｉｉ）該疎水性の二酸化チタンが少なくとも３０００オームの電気抵抗を有するまで、該分離された二酸化チタンを洗浄する工程；
（ｖｉｉｉ）該疎水性の二酸化チタンを乾燥する工程；ならびに
（ｉｘ）スチーム微粉器、空気微粉器、またはその両方を使用して、該疎水性の二酸化チタンを微粉化する工程、
を包含する、プロセス。
【請求項１２】
前記反応性シランの量が、前記疎水性の二酸化チタンの重量に基づいて、約０．１〜約５重量％の疎水性被覆を形成するに十分である、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記シランが、ヘキシルトリクロロシラン、ヘキシルジクロロシラン、オクチルトリクロロシラン、オクチルジクロロシラン、およびこれらの混合物からなる群より選択される、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１４】
請求項１に記載のプロセスによって形成された、疎水性の二酸化チタン。
【請求項１５】
請求項１１に記載のプロセスによって形成された、疎水性の二酸化チタン。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月26日(2005.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板上に作製され、第１伝播軸を有し、前記第１伝播軸が前記第１基板の第１平面型表面から第１距離にあり且つ前記第１基板の第１結合表面と交差する第１導波路セグメントと、
前記第１基板と接続された第２基板上に作製され、第２伝播軸を有する第２導波路セグメントと、
前記第２基板上に作製され、第３伝播軸を有し、前記第３伝播軸が前記第２基板の第２平面型表面から第３距離にあり且つ前記第２伝播軸と実質的に平行である第３導波路セグメントであって、前記第２導波路セグメントに近接して配置され、前記第３導波路セグメントの端部で前記第２基板の第２結合表面と交差し、前記第３導波路セグメントのテーパ形部分が横断方向寸法においてテーパ付けされ、前記横断方向寸法が、前記テーパ形部分の端部の第１幅から、前記端部から或る選択された距離の第２幅まで、第３伝播軸に実質的に直交する第３導波路セグメントと、
を備え、
前記第１結合表面と前記第２結合表面との間の間隙にわたって前記第１導波路と前記第３導波路とを結合するために、前記第１平面型表面及び前記第２平面型表面が、前記第１距離及び前記第３距離の合計に実質的に等しい距離だけ離間されてなる光デバイス。
【請求項２】
作製表面及びダイ載置表面を有する基板を備え、
第１導波路が前記基板上に作製されており、
前記第１導波路が第１伝播軸及び第１モード・サイズを有し、
前記ダイ載置表面が前記第１伝播軸から選択された距離にあり、且つ前記第１伝播軸に実質的に平行であり、
第２導波路が前記基板上に作製されており、
前記第２導波路が前記第１伝播軸に平行な第２伝播軸を有し、且つセグメント化されたテーパ部分を含み、
前記セグメント化されたテーパ部分が、前記セグメント化されたテーパ部分の端部において第２モード・サイズを有し、前記端部から選択された距離に第３モード・サイズを有しており、
前記第３モード・サイズが前記第２モード・サイズより前記第１モード・サイズに近い値を有し、
少なくとも前記セグメント化されたテーパ部分内で前記第１導波路と光エネルギーを交換するように前記第２導波路が結合される
光デバイス。
【請求項３】
第１基板上に作製され、第１伝播軸を有し、前記第１伝播軸が前記第１基板の第１平面型表面から第１距離にあり且つ前記第１基板の第１結合表面と交差する第１導波路セグメントと、
前記第１基板と接続された第２基板上に作製され、第２伝播軸を有する第２導波路セグメントと、
前記第２基板上に作製され、第３伝播軸を有し、前記第３伝播軸が前記第２基板の第２平面型表面から第３距離にあり且つ前記第２伝播軸と実質的に平行である第３導波路セグメントであって、前記第２導波路セグメントに近接して配置され、前記第３導波路セグメントの端部で前記第２基板の第２結合表面と交差し、前記第３導波路セグメントのテーパ形部分が横断方向寸法においてテーパ付けされ、前記横断方向寸法が、前記テーパ形部分の端部の第１幅から、前記端部から或る選択された距離の第２幅まで、前記第３伝播軸に実質的に直交する第３導波路セグメントと、
を備え、
前記第１結合表面と前記第２結合表面との間の間隙にわたって前記第１導波路と前記第３導波路とを結合するために、前記第１平面型表面及び前記第２平面型表面が、前記第１距離と前記第３距離との差に実質的に等しい距離だけ離間されてなる光デバイス。
【請求項４】
第１垂直モード・サイズ、第１有効屈折率及び第１伝播軸を有する第１の半導体導波路セグメントを有し、且つ第１作製表面上に配置された選択された厚さの取付け層を有するレーザ・ダイオード・チップであって、前記第１伝播軸が前記レーザ・ダイオード・チップの第１結合表面と交差するレーザ・ダイオード・チップと、
載置表面を有する基板上に作製され、第２垂直モード・サイズ、第２横モード・サイズ、第２伝播定数及び第２伝播軸を有し、前記第２垂直モード・サイズが少なくとも２倍だけ前記第１垂直モード・サイズと異なるシリカ・ベースの第２導波路セグメントと、
前記基板上に作製され、当接結合領域において第３横モード・サイズと前記第１有効屈折率以下である第３有効屈折率と第３伝播軸とを有し、且つ前記第２導波路セグメントに近接して配置され、前記第３伝播軸が前記第２伝播軸と実質的に平行であり、前記第３伝播軸が前記第２横モード・サイズと前記第３横モード・サイズとのうちの大きいものより小さい距離だけ前記第２伝播軸から分離された第３導波路セグメントであって、前記第３導波路セグメントの端部で前記基板の第２結合表面と交差し、前記第３導波路セグメントのテーパ形部分が横断方向寸法でテーパ付けされ、前記横断方向寸法が、前記端部での第１幅から第２幅まで前記端部からの第１の選択された距離で前記第３伝播軸に実質的に直交し、第３伝播定数を第２伝播定数に近い値に徐々に変化させる第３導波路セグメントと、
を備え、
前記レーザ・ダイオード・チップが、前記載置表面に隣接する前記取付け層によって前記基板の前記載置表面上に載置され、
前記第１結合表面が前記第２結合表面に近接し、それによって、前記第１伝播軸が前記第３伝播軸と実質的に同軸であって、前記第１導波路セグメントを前記第３導波路セグメントに光学的に当接結合し、次いで前記第３導波路セグメントを前記第２導波路セグメントに光学的に平行結合し、それによって前記第１導波路セグメントと前記第２導波路セグメントの間の結合損失が３ｄＢより小さい光デバイス。
【請求項５】
載置表面を有する基板と、
前記基板の前記載置表面上に載置された第１導波路セグメントを有し、前記第１導波路セグメントが、前記第１基板の第１結合表面と交差する第１伝播軸を有するレーザ・ダイオード・チップと、
前記基板上に作製され、第２伝播軸を有する第２導波路セグメントと、
前記基板上に作製され、前記第１伝播軸と実質的に同軸な第３伝播軸をする第３導波路セグメントと、
を具備し、
前記レーザ・ダイオード・チップが前記載置表面上に載置されて前記第３導波路セグメントと光学的に結合し、
前記第３導波路セグメントが前記第２導波路セグメントに隣接して配置され、
前記第３伝播軸が前記第２伝播軸に実質的に平行であり、
前記第３導波路セグメントがその端部で前記第２基板の第２結合表面と交差し、
前記第３導波路セグメントのセグメント化されたテーパ形部分が約０．７ミクロンより大きい幅を有する
光デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月1日(2003.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図１４〜図２０において最もよく示されているように、異なる様々な遠位先端部が本発明のハンドピースと共に使用され得る。例えば、図１４〜図１６に示されているように、遠位先端部６００は、複数の排出オリフィス６０４を有した遠位端部６０２を含むことができる。複数の排出オリフィス６０４は、標的組織及び所望される外科的成果によって、図１４に示されているように発散パターンで配置されてもよく、図１５に示されているように収束パターンで配置されてもよく、図１６に示されているように非収束のニアミスパターン（すなわち至近パターン）で配置されてもよい。収束する流れは、流れがぶつかる位置に高圧領域を形成し、最大の液化破砕帯域を作り出す。発散する流れは、遠位先端部６００のすぐ前で最大平均圧力を示し、その領域に最も効率的な液化破砕帯域を作る。ニアミス流れは各流れの間に高剪断領域を形成し、この領域は遠位先端部６００の近傍における物質の剪断破壊に寄与し得る。当業者は複数のオリフィス６０４が遠位先端部６００の外側又は内孔６０９の内側に所望のパターンを形成するように配置され得ることを認識できよう。遠位端部６０２は、例えば外側管１６５及び内側管１６７の端部又は外側管２６５及び内側管２６７の端部をそれぞれ（図１９及び図２０に示されているように）かしめて、環状間隙１６９又は２６９がオリフィス６０４と流体連通するようにすることによって、形成され得る。当業者は、遠位先端部６００が別個の部品として形成され圧入されてもよく、若しくは遠位先端部６００が相互に交換可能となり得るように外側管１６５及び内側管１６７又は外側管２６５及び内側管２６７に取り付けられてもよいことが分かるであろう。例えば、外科手法の部分によって異なる遠位先端部６００の構造が所望されることがある。


【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１４】
2003515363.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１５】
2003515363.tif 000002
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１６】
2003515363.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月1日(2004.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
また、ここでは大きさ及びコネクタの個数が与えられることがわかるであろう。これらのコネクタ個数は例示的なもにすぎず、本発明を限定するものと解すべきではない。例えば、６列び８列のコネクタが示されている。しかしながら、いかなる列数のものを用いてもよいであろう


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
また、本発明は締まり嵌めされた直角のピン−ソケットコネクタとして示されていることがわかるであろう。本発明は単に直角での用途に有用であるのではない。堆積型あるいは中二階型コネクタにも用いられよう。また、本発明は締まり嵌めのコネクタに限られない。表面装着型あるいは圧力装着型のコネクタにも用いられよう。さらに、本発明は単にピン−ソケット型のコネクタに限られない。種々のコンタクトの形態が知られており、本発明は他の形態でも用いられよう。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月16日(2004.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組成物の０．００１〜９９重量％の、超音波洗浄剤を含んでなる超音波洗浄組成物であって、
前記組成物が、低発泡性であり、界面張力が１０ mNm−１〜０．０００１ mNm−１であり、消泡剤を実質的に含まないものである、超音波洗浄組成物。
【請求項２】
前記組成物の界面張力が１ mNm−１〜０．０００１ mNm−１である、請求項１に記載の超音波洗浄組成物。
【請求項３】
前記超音波洗浄剤が、ビルダー、界面活性剤、酵素、漂白活性剤、漂白剤触媒、漂白強化剤、漂白剤、アルカリ度供給源、殺菌剤、着色剤、香料、石灰セッケン分散剤、重合体状染料移動防止剤、結晶成長抑制剤、光漂白剤、重金属イオン封鎖剤、曇り防止剤、抗菌剤、酸化防止剤、再付着防止剤、汚れ遊離重合体、電解質、ｐＨ調整剤、増粘剤、研磨材、金属イオン塩、酵素安定剤、腐食防止剤、ジアミン、発泡安定化重合体、溶剤、処理助剤、香料、布地柔軟性付与剤、光学ブライトナー、ヒドロトロピー剤、およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１または２に記載の超音波洗浄組成物。
【請求項４】
前記組成物が、発泡シリンダー試験における発泡の高さが８０mm未満である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の超音波洗浄組成物。
【請求項５】
前記組成物が、液体、錠剤、ペースト、ゲル、マイクロエマルションまたはトリクリティカルな形態にある、請求項１〜４のいずれか一項に記載の超音波洗浄組成物。
【請求項６】
前記界面活性剤が、陰イオン系、非イオン系、両性、陽イオン系、双生イオン系、およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項３〜５のいずれか一項に記載の超音波洗浄組成物。
【請求項７】
前記陰イオン系界面活性剤が、Ｃ６〜Ｃ１８の分岐した、または線状のアルキルサルフェート、Ｃ６〜Ｃ１８の分岐した、または線状のアルキルベンゼンスルホネート、Ｃ６〜Ｃ１８の分岐した、または線状のアルキルアルコキシサルフェート、Ｃ６〜Ｃ１８の分岐した、または線状のアルキルカルボキシレート、およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項６に記載の超音波洗浄組成物。
【請求項８】
前記非イオン系界面活性剤が、ポリヒドロキシ脂肪酸アミド、ベタイン、スルホベタイン、アルキルポリグリコシド、アルキルエトキシレート、アミンオキシド、エーテルキャップされたポリ（オキシアルキル化）アルコール、低発泡性非イオン系界面活性剤およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項６に記載の超音波洗浄組成物。
【請求項９】
前記酵素が、プロテアーゼ、アミラーゼ、セルラーゼ、リパーゼ、ヘミセルラーゼ、ペルオキシダーゼ、グルコ−アミラーゼ、クチナーゼ、ペクチナーゼ、キシラナーゼ、還元酵素、オキシダーゼ、フェノールオキシダーゼ、リポキシゲナーゼ、リグニナーゼ、プルラナーゼ、タンナーゼ、ペントサナーゼ、マラナーゼ、β−グルカナーゼ、アラビノシダーゼ、およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項３〜８のいずれか一項に記載の超音波洗浄組成物。
【請求項１０】
前記組成物が漂白剤を含んでなり、前記漂白剤が酸素漂白剤である、請求項３〜９のいずれか一項に記載の超音波洗浄組成物。
【請求項１１】
前記組成物が漂白活性剤、漂白剤触媒およびそれらの混合物をさらに含んでなる、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の超音波洗浄組成物。
【請求項１２】
前記ビルダーが、アルミノケイ酸塩、ケイ酸塩、ゼオライト、ポリカルボキシレート、リン酸塩、ポリリン酸塩、ホスホン酸塩、ニトリロトリ酢酸、炭酸塩、重炭酸塩、およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項３〜１１のいずれか一項に記載の超音波洗浄組成物。
【請求項１３】
前記ジアミンが下記式を有するものであり、但し、前記ジアミンは少なくとも約８のpKaを有するものである、請求項３〜１２のいずれか一項に記載の超音波洗浄組成物。
Ｒ              Ｒ
＼          ／
Ｎ−Ｘ−Ｎ
／          ＼
Ｒ              Ｒ
［上記式中、
Ｒは、独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ4の線状の、または分岐したアルキル、下記の式を有するアルキレンオキシからなる群から選択されるものであり、
−（Ｒ２Ｏ）ｙＲ３
（上記式中、
Ｒ２は、Ｃ2〜Ｃ4の線状の、または分岐したアルキレン、およびそれらの混合物であり、
Ｒ３は、水素、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、およびそれらの混合物であり、
ｙは、１〜約１０である）
Ｘは、単位であって、それは
i)Ｃ3〜Ｃ10の線状のアルキレン、Ｃ3〜Ｃ10の分岐したアルキレン、Ｃ3〜Ｃ10の環状アルキレン、Ｃ3〜Ｃ10の分岐した環状のアルキレン、下記の式を有するアルキレンオキシアルキレンと、
−（Ｒ２Ｏ）ｙＲ２−
（上記式中、Ｒ２およびｙは先に定義した通りである）
ii）Ｃ3〜Ｃ10の線状の、Ｃ3〜Ｃ10の分岐した線状の、Ｃ3〜Ｃ10の環状の、Ｃ3〜Ｃ10の分岐した環状のアルキレン、Ｃ6〜Ｃ10のアリーレンと、
ここで、前記単位は、前記ジアミンに約８を超えるpKaを与える、１個以上の電子供与または吸引部分を含んでなるものであり、および
iii)(i)および(ii)の混合物とから選択されるものである］
【請求項１４】
洗浄する必要がある汚れた食器類を請求項１〜１３のいずれか一項に記載の組成物の水溶液と接触させ、次いで、前記汚れた食器類に超音波を作用させることを含んでなる、食器類の洗浄方法。
【請求項１５】
頑固な食品汚れを請求項１〜１３のいずれか一項に記載の組成物の水溶液または希釈していない溶液と接触させ、次いで、前記汚れに超音波を作用させることを含んでなる、硬質表面から頑固な食品汚れを除去する方法。
【請求項１６】
前記組成物が、溶解した空気、好ましくは溶解した酸素を有し、超音波エネルギーにより除去される様に設計されてなる、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１７】
超音波洗浄組成物を利用する超音波洗浄装置であって、
圧電セラミック素子とソノトロードとを備えてなる音響機構を備えた手で保持する振動超音波装置を備えてなり、
前記ソノトロードが、幅が０．０５ｍｍ〜５ｍｍ、長さが１０ｍｍ〜５０ｍｍである、のみ形のものであり、または、
前記ソノトロードが、ディスク半径が１０ｍｍ〜１００ｍｍであるディスク型のものである、装置。
【請求項１８】
前記ソノトロードが、チタン、アルミニウム、鋼、またはこれらの組合せによるものである、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記ソノトロードが、洗浄工程を支援するのに使用される、補助材料のケースに入れられるか、補助材料で包み込まれるか、または補助材料に近接させるものである、請求項１７に記載の装置。
【請求項２０】
前記ソノトロードが、１００Hz〜２０，０００ kHzの周波数で振動するものである、請求項１７に記載の装置。
【請求項２１】
前記装置の出力が、前記洗浄ヘッドの単位表面積あたり少なくとも０．０２ワット/cm２、である、請求項１７に記載の装置。
【請求項２２】
前記装置が、電池作動式超音波洗浄装置である、請求項１７に記載の装置。
【請求項２３】
処理時間が、１秒間〜５分間である、請求項１７に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月24日(2004.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  オレフィンと、少なくとも１個のハロゲン化窒素含有芳香族基配位子を含む第１３族元素共触媒錯体との反応によりオレフィン重合のために活性化される有機金属触媒化合物とを、オレフィン重合条件下で混合することを含む、１種以上のオレフィンモノマーからポリオレフィンを製造する方法。
【請求項２】  前記第１３族元素共触媒錯体が、中性第１３族３配位ルイス酸化合物、または４配位第１３族元素アニオン錯体を含むイオン塩化合物である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記有機金属触媒化合物が、配位子引抜によってオレフィン重合のために活性化されうる第３〜１０族遷移金属化合物である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記遷移金属有機金属触媒化合物が、式
ＬＡＬＢＬＣｉＭＤＥ
（式中、ＬＡは、Ｍにπ結合された置換または非置換シクロペンタジエニルまたはヘテロシクロペンタジエニル補助配位子であり、ＬＢは、ＬＡに関して定義された補助配位子のクラスのメンバーであり、またはＭに結合されたヘテロ原子補助配位子Jであり、ＬＡおよびＬＢ配位子は、第１４族元素連結基を通して共に共有結合で橋かけすることが可能であり、ＬＣｉは、Ｍへの供与結合を有する任意の中性非酸化配位子であり（ｉは０〜３に等しい）、Ｍは第３〜６族遷移金属であり、ＤおよびＥは独立に、前記第１３族元素共触媒錯体による引抜き目的のために破壊できる重合性モノマーまたはマクロモノマーを配位重合のためにその中に挿入することができる、モノアニオンの不安定配位子であり、それぞれがＭへのσ結合を有し、任意に互いにあるいはＬＡまたはＬＢに橋かけされている）
を有する第３〜６族メタロセン化合物である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】  前記第１３族元素共触媒錯体が、式
ＲｎＭ（ＡｒＮＨａｌ）３−ｎ
（式中、Ｒは、置換または非置換Ｃ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル脂肪族あるいは芳香族基であり、Ｍは、第１３族金属またはメタロイドであり、ＡｒＮＨａｌは、ハロゲン化窒素含有芳香族環、多環式芳香族環または芳香族環群であり、ｎは０〜２である）
によって記載されるルイス酸である、請求項２に記載の方法。
【請求項６】  前記第１３族元素共触媒錯体が、式
［Ｃ］＋［ＲｎＭ（ＡｒＮＨａｌ）４−ｎ］−
（式中、[Ｃ]＋は、適するカチオンであり、Ｒは、置換または非置換Ｃ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル脂肪族または芳香族基であり、Ｍは、第１３族金属またはメタロイドであり、ＡｒＮＨａｌは、ハロゲン化窒素含有芳香族環、多環式芳香族環または芳香族環群であり、ｎ＝０〜３である）
によって表されるイオン塩である、請求項２に記載の方法。
【請求項７】  前記オレフィン重合条件が、３０℃〜２００℃の間の反応温度および０〜２０００ｂａｒの間の圧力で行われる、溶液プロセス、超臨界圧プロセス、バルクプロセス、スラリープロセスまたは気相プロセスを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】  前記プロセスが、バルクプロセス、スラリープロセスまたは気相プロセスであり、前記第１３族元素共触媒錯体が、第１３族原子を金属／メタロイド支持体または高分子支持体へ連結する共有接続基をさらに含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】  前記支持体がシリカである、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  前記支持体が高分子である、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】  Ｍがチタンであり、ＬＢが、Ｍにσ結合されたヘテロ原子補助配位子Ｊである、請求項４に記載の方法。
【請求項１２】  Ｍがジルコニウムまたはハフニウムであり、ＬＢが独立に、Ｍにπ結合された、置換または非置換シクロペンタジエニルまたはヘテロシクロペンタジエニル補助配位子である、請求項４に記載の方法。
【請求項１３】  １）少なくとも１個の補助安定化配位子およびオレフィンの挿入のために適すると共に活性カチオン遷移金属中心を形成するために引抜または除去が可能な少なくとも２個の不安定配位子を有する遷移金属化合物と、
２）少なくとも１個のハロゲン化窒素含有芳香族基配位子が第１３族錯体に結合されている第１３族元素共触媒錯体と
の反応生成物である、オレフィン重合触媒。
【請求項１４】  前記反応生成物が、支持体材料に物理的または化学的に固定されている、請求項１３に記載の触媒。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
本発明のためのオレフィン重合方法の別の実施形態において、触媒系は、液相（溶液、スラリー、懸濁液、バルク相またはそれらの組み合せ）、高圧液あるいは超臨界流体相、または気相において用いられる。これらの各プロセスも、単一、並列または直列の反応器において用いることが可能である。液体プロセスは、オレフィンモノマーを適する希釈液または溶媒中の前述した触媒系と接触させ、前記モノマーが本発明のコポリマーを生成するために十分な時間にわたって反応することを可能とすることを含む。脂肪族および芳香族両方のヒドロカルビル溶媒は適しており、ヘキサンおよびトルエンは好ましい。バルクプロセスおよびスラリープロセスは、一般に、触媒を液体モノマーのスラリーと接触させることによって行われ、触媒系は支持されている。気相プロセスは、一般に担持触媒を用い、配位重合によって製造されるエチレンホモポリマーまたはコポリマーのために適することが知られているいずれかの方法において行われる。説明のための例は、米国特許第４，５４３，３９９号、第４，５８８，７９０号、第５，０２８，６７０号、第５，３８２，６３８号、第５，３５２，７４９号、第５，４３６，３０４号、第５，４５３，４７１号および第５，４６３，９９９号、およびＷＯ第９５／０７９４２号において見られる。各文書は米国特許業務の遂行のために本明細書に引用して援用する。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月25日(2003.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
前記方法が、（ｃ）前記硬質表面を水溶液で濯ぐ工程をさらに含んでなる、請求項９〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６９】
還元性漂白剤
別の群の有用な漂白剤は、いわゆる還元性漂白剤である。これらの材料は、従来の漂白剤の様に酸化する代わりに、電気化学的な意味で「還元する」還元剤である。これらは、Kirk Othmer, Encyclopedia of Chemical Technology, Vol. 17, John Willey and Sons, 1982に広範囲に記載されている。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月1日(2003.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記からなる群から選択される化合物ならびに該化合物の混合物および該化合物の医薬的に許容される塩。
【化１】
2002530411.tif 000001
［式中、Ａは
【化２】
2002530411.tif 000002
からなる群から選択される二酸素化シクロペンタン部分であり；
Ｍは
【化３】
2002530411.tif 000003
からなる群から選択され；
Ｎは
【化４】
2002530411.tif 000004
2002530411.tif 000005
からなる群から選択され；
Ｒ１は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルおよびＳｉ（ＣＨ３）２ｔＢｕからなる群から選択され；
Ｒ２は、ＨおよびＣ１〜Ｃ１０アルキルからなる群から選択され；
Ｒ３は、Ｈ、テトラヒドロピランおよびＳｉ（ＣＨ３）２ｔＢｕからなる群から選択され；
Ｒ４およびＲ５は独立に、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、フェニル、ベンジル、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシおよびＣＦ３からなる群から選択され；
ｎは０〜５の整数である。］
【請求項２】
下記化学式によって表される化合物ならびに該化合物の混合物および該化合物の医薬的に許容される塩。
【化５】
2002530411.tif 000006
［式中、Ａは
【化６】
2002530411.tif 000007
からなる群から選択される二酸素化シクロペンタン部分であり；
Ｍは
【化７】
2002530411.tif 000008
からなる群から選択され；
Ｒ１は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルおよびＳｉ（ＣＨ３）２ｔＢｕからなる群から選択され；
Ｒ２は、ＨおよびＣ１〜Ｃ１０アルキルからなる群から選択され；
Ｒ３は、Ｈ、ＴＨＰおよびＳｉ（ＣＨ３）２ｔＢｕからなる群から選択され；
Ｒ４およびＲ５は独立に、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、フェニル、ベンジル、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシおよびＣＦ３からなる群から選択され；
ｎは０〜５の整数である。］
【請求項３】
Ｍが、
【化８】
2002530411.tif 000009
からなる群から選択される請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
Ｍが、
【化９】
2002530411.tif 000010
である請求項３に記載の化合物。
【請求項５】
ｎがゼロであり、Ｒ４およびＲ５がそれぞれＨである請求項４に記載の化合物。
【請求項６】
Ａが
【化１０】
2002530411.tif 000011
である請求項５に記載の化合物。
【請求項７】
Ｒ１およびＲ３がＨである請求項６に記載の化合物。
【請求項８】
Ｒ２がｎ−Ｃ５Ｈ１１である請求項７に記載の化合物。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の化合物および医薬的に許容される担体を含む医薬組成物。
【請求項１０】
哺乳動物における骨吸収の阻害方法であって、処置を必要とする哺乳動物に対して、治療上有効量の請求項１に記載の化合物を投与する段階を有する方法。
【請求項１１】
前記哺乳動物がヒトである請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
骨吸収に関連する哺乳動物での疾患状態の治療または該状態の罹患リスク低下方法であって、該哺乳動物に対して治療上有効量の請求項１に記載の化合物を投与する段階を有する方法。
【請求項１３】
前記哺乳動物がヒトである請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記疾患状態が、骨粗鬆症、糖質コルチコイド誘発骨粗鬆症、ページェット病、骨代謝異常亢進、歯周疾患、歯喪失、骨折、慢性関節リウマチ、補綴具周囲骨溶解、骨形成不全症、転移骨疾患、悪性腫瘍の高カルシウム血症および多発性骨髄腫からなる群から選択される請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記疾患状態が、骨粗鬆症または糖質コルチコイド誘発骨粗鬆症である請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
哺乳動物における骨折治癒速度の上昇方法であって、処置を必要とする哺乳動物に対して治療上有効量の請求項１に記載の化合物を投与する段階を有する方法。
【請求項１７】
哺乳動物における骨移植奏功率の向上方法であって、処置を必要とする哺乳動物に対して治療上有効量の請求項１に記載の化合物を投与する段階を有する方法。
【請求項１８】
哺乳動物における骨形成速度の向上方法であって、処置を必要とする哺乳動物に対して治療上有効量の請求項１に記載の化合物を投与する段階を有する方法。
【請求項１９】
骨吸収に関連する哺乳動物での疾患状態の治療または該状態の罹患リスク低下；あるいは哺乳動物における骨折治癒速度の上昇；あるいは骨移植奏功率の向上；あるいは哺乳動物における骨形成速度の向上のための医薬品製造における、請求項１ないし８のいずれかに記載の化合物または該化合物の混合物あるいは該化合物の医薬的に許容される塩の使用。
【請求項２０】
骨吸収に関連する哺乳動物での疾患状態の治療または該状態の罹患リスク低下；あるいは哺乳動物における骨折治癒速度の上昇；あるいは骨移植奏功率の向上；あるいは哺乳動物における骨形成速度の向上に使用される、請求項１ないし８のいずれかに記載の化合物または該化合物の混合物あるいは該化合物の医薬的に許容される塩。
【請求項２１】
抗骨粗鬆症薬としての、請求項１ないし８のいずれかに記載の化合物または該化合物の混合物あるいは該化合物の医薬的に許容される塩の使用。
【請求項２２】
医薬的に許容される担体とともに、許容される骨形成促進および骨吸収阻害量の請求項１ないし８のいずれかに記載の化合物もしくは該化合物の混合物または該化合物の医薬的に許容される塩を含む、骨形成促進・骨吸収阻害薬医薬組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【化１１】
2002530411.tif 000012
式中、Ａは


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
【化１２】
2002530411.tif 000013
式中、Ａは
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月9日(2004.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の工程からなり、こられは次々と連続して行なわれることを特徴とするプラスチック面の金属化処理プロセス：
径が約０．０９ミクロンより小さく、かつ深さが０．０９ミクロンよりも浅い穴をプラスチック面中に穿つような穏やかなエッチング条件下でプラスチック面をエッチング処理し；
続いて、コバルト塩、銀塩、錫塩、および鉛塩からなる群から選ばれる少なくとも１つの金属塩の溶液で前記プラスチック面を処理し；
前記プラスチック面を硫化物溶液で処理し；そして
前記プラスチック面を金属化する。
【請求項２】
前記エッチング処理を、エッチング溶液でもって、約４０℃よりも低い温度で約３分から約１５分の間行なうか、または約４０℃から約９５℃の温度で約１５秒から約５分間行い、
該エッチング液は、
ａ．過マンガン酸塩、過オキソ二硫酸塩（peroxodisulfate）、過ヨウ素酸、過酸化物またはこれらの組み合わせからなる酸化剤；および
ｂ．リン酸、硫酸もしくはこれらの組み合わせからなる酸またはアルカリ溶液（lye）を含む塩基、
を含むことを特徴とする請求項１記載のプロセス。
【請求項３】
前記エッチング液が酸からなり、前記エッチング液が実質的に硫酸を含まない請求項２記載のプロセス。
【請求項４】
前記金属塩溶液のｐＨが約７．５から約１２．５である請求項１−３のいずれかに記載のプロセス。
【請求項５】
前記金属塩溶液が約０．１から１５ｇ／ｌの濃度のコバルト塩溶液からなることを特徴とする請求項１−４のいずれかに記載のプロセス。
【請求項６】
前記金属塩溶液がアンモニア、アミンまたはその組み合わせを含むことを特徴とする請求項１−５のいずれかに記載のプロセス。
【請求項７】
少なくとも一塩から金属イオンの酸化状態を増進させるために前記金属塩溶液が酸化剤を含む請求項1−6のいずれかに記載のプロセス。
【請求項８】
酸化剤が過酸化水素または空気である請求項7に記載のプロセス。
【請求項９】
プラスチック面が金属塩溶液の処理の後でかつ硫化物溶液の処理の前に水性アルカリ溶液中に浸漬され、そして該水性アルカリ溶液は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムまたはこれらの組み合わせを含むものであることを特徴とする請求項1−8のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１０】
前記水性アルカリ溶液が約５から５０ｇ／ｌの濃度の水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムを含む請求項9記載のプロセス。
【請求項１１】
前記硫化物溶液がアルカリ金属硫化物を含む請求項1−１０のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１２】
前記硫化物溶液がアンモニウム硫化物を含む請求項１−１１のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１３】
前記硫化物溶液が水酸化ナトリウムを含む請求項１−１２のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１４】
前記金属塩溶液処理と前記硫化物溶液処理が約３０℃を超えない温度で行なわれ、そしてプラスチック面が硫化物溶液処理の後でかつ金属化の前に乾燥されることを特徴とする請求項１−１３のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１５】
金属化がプラスチック面を電気的にニッケルメッキすることからなることを特徴とする請求項１−１４のいずれかに記載のプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月18日(2005.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  化合物：Ｎ−［４−（３−クロロ−４−フルオロフェニルアミノ）−７−（３−モルホリン−４−イルプロポキシ）キナゾリン−６−イル］アクリルアミドまたはその医薬的に許容される塩。
【請求項２】  請求項１記載の化合物を含有する医薬的に許容される組成物。
【請求項３】  請求項１記載の化合物を含有する癌の治療剤。
【請求項４】  癌は乳癌または結腸癌である請求項３記載の治療剤。
【請求項５】  請求項１記載の化合物を含有する再狭窄の治療または予防剤。
【請求項６】  請求項１記載の化合物からなるチロシンキナーゼの不可逆的阻害剤。
【請求項７】  チロシンキナーゼはＥＧＦＲ、ｅｒｂＢ２またはｅｒｂＢ４である請求項６記載の阻害剤。
【請求項８】  請求項１記載の化合物からなるｅｒｂＢ３のチロシンリン酸化の阻害剤。
【請求項９】  請求項１記載の化合物を含有する乾癬の治療剤。
【請求項１０】  請求項１記載の化合物を含有するアテローム性動脈硬化症の治療または予防剤。
【請求項１１】  請求項１記載の化合物を含有する子宮内膜症の治療剤。
【請求項１２】  請求項１記載の化合物からなるＶＥＧＦ分泌の阻害剤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
化合物１はキナゾリン基に窒素原子を介して結合するフェニル環の置換基において異なっている。化合物１のフェニル環は３−位で塩素、４−位でフッ素によって置換されている。これに対し、ＰＣＴ出願の実施例２１（以下、「実施例２１」と呼ぶ）におけるフェニル環は３−位で臭素により置換されているのみである。これらの２つの化合物は構造が類似しているが、化合物１は、ＰＣＴ出願の実施例２１と比較した場合、インビボにおいて驚くべき、予期されなかった性質を示す。