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【手続補正書】
【提出日】平成16年12月21日(2004.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発光素子およびその作製方法、発光装置、電気器具
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着装置に設けられ第１の圧力に保たれた真空槽内において、第１の有機化合物の蒸発を開始し、前記第１の圧力よりも高い第２の圧力に保たれた前記真空槽内で、前記第１の有機化合物の蒸発を終了し、前記真空槽内が前記第２の圧力から前記第１の圧力になる前に、第２の有機化合物の蒸発を開始して、前記第１の有機化合物と前記第２の有機化合物とが混合された有機化合物膜を形成する工程を含むことを特徴とする発光素子の作製方法。
【請求項２】
第１の電極が設けられた基板を、蒸着装置に設けられた真空槽内に搬入し、
第１の圧力に保った雰囲気で第１の有機化合物の蒸着を開始し、前記第１の圧力よりも高い第２の圧力に保たれた雰囲気で前記第１の有機化合物の蒸着を終了し、前記第２の圧力から前記第１の圧力になる前に、第２の有機化合物の蒸着を開始して、前記基板の上に、前記第１の有機化合物と前記第２の有機化合物とが混合された有機化合物膜を形成した後、
前記有機化合物膜が形成された基板上に第２の電極を形成し、
１×１０-4Ｐａ以下の雰囲気において６０℃〜１００℃の温度で前記第２の電極が形成された基板を加熱する
工程を含むことを特徴とする発光素子の作製方法。
【請求項３】
前記第１の圧力は１×１０-4Ｐａ以下であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の発光素子の作製方法。
【請求項４】
前記第１の有機化合物は芳香族ジアミン化合物であり、
前記第２の有機化合物はベンゾキノリン骨格を含む金属錯体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム、およびフェナントロリン誘導体から選ばれる一の化合物である
ことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の発光素子の作製方法。
【請求項５】
電極間に、
正孔輸送性である第１の有機化合物を含む第１の領域と、
電子輸送性である第２の有機化合物を含む第２の領域と、
を有し、
前記第１の領域と前記第２の領域との間に、
前記第１の領域から前記第２の領域に向かって前記第１の有機化合物の濃度が減少すると共に、前記第２の領域から前記第１の領域に向かって前記第２の有機化合物の濃度が減少するように、前記第１の有機化合物と前記第２の有機化合物とが混合された第３の領域を有する
ことを特徴とする発光素子。
【請求項６】
電極間に、
第１の有機化合物を含む第１の領域と、
第２の有機化合物を含む第２の領域と、
を有し、
前記第１の領域と前記第２の領域との間に、
前記第１の領域から前記第２の領域に向かって前記第１の有機化合物の濃度が減少すると共に、前記第２の領域から前記第１の領域に向かって前記第２の有機化合物の濃度が減少するように、前記第１の有機化合物と前記第２の有機化合物とが混合された第３の領域
を有し、
前記第３の領域に発光性化合物を含む
ことを特徴とする発光素子。
【請求項７】
電極間に、
正孔輸送性である第１の有機化合物を含む第１の領域と、
電子輸送性である第２の有機化合物を含む第２の領域と、
を有し、
前記第１の領域と前記第２の領域との間に、
前記第１の領域から前記第２の領域に向かって前記第１の有機化合物の濃度が減少すると共に、前記第２の領域から前記第１の領域に向かって前記第２の有機化合物の濃度が減少するように、前記第１の有機化合物と前記第２の有機化合物とが混合された第３の領域
を有し、
前記第３の領域に発光性化合物を含む
ことを特徴とする発光素子。
【請求項８】
前記発光性化合物が金属錯体であることを特徴とする請求項７または請求項９に記載の発光素子。
【請求項９】
電極間に、
正孔輸送性である第１の有機化合物を含む第１の領域と、
電子輸送性である第２の有機化合物を含む第２の領域と、
を有し、
前記第１の領域と前記第２の領域との間に、
前記第１の領域から前記第２の領域に向かって前記第１の有機化合物の濃度が減少すると共に、前記第２の領域から前記第１の領域に向かって前記第２の有機化合物の濃度が減少するように、前記第１の有機化合物と前記第２の有機化合物とが混合された第３の領域
を有し、
前記第３の領域に、前記第１の有機化合物および前記第２の有機化合物よりも、最高被占分子軌道と最低空分子軌道との間のエネルギー差が大きい第３の有機化合物を含み、
前記第１の有機化合物または前記第２の有機化合物は発光を呈する有機化合物である
ことを特徴とする発光素子。
【請求項１０】
前記第１の有機化合物は芳香族ジアミン化合物であり、
前記第２の有機化合物はベンゾキノリン骨格を含む金属錯体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム、およびフェナントロリン誘導体から選ばれる一の化合物である
ことを特徴とする請求項５乃至請求項９のいずれか一項に記載の発光素子。
【請求項１１】
請求項５乃至請求項１０のいずれか一項に記載の発光素子を画素部に含む発光装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の発光装置を表示部として含む電気器具。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月12日(2005.1.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極、有機化合物層及び陰極を有する発光装置の作製方法において、
前記陽極を形成し、
前記陽極の表面を拭浄性材料により拭浄して平坦化することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２】
陽極、有機化合物層及び陰極を有する発光装置の作製方法において、
透明性導電膜からなる前記陽極を形成し、
前記陽極の表面を拭浄性材料により拭浄して平坦化することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
平坦化された前記陽極上に前記有機化合物層が形成され、
前記有機化合物層上に前記陰極が形成されることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項４】
陰極、有機化合物層及び陽極を有する発光装置の作製方法において、
前記陰極を形成し、
前記陰極の表面を拭浄性材料により拭浄して平坦化することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項５】
陰極、有機化合物層及び陽極を有する発光装置の作製方法において、
透明性導電膜からなる前記陰極を形成し、
前記陰極の表面を拭浄性材料により拭浄して平坦化することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項６】
請求項４又は請求項５において、
平坦化された前記陰極上に前記有機化合物層が形成され、
前記有機化合物層上に前記陽極が形成されることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項７】
基板上に複数のＴＦＴを形成し、
前記ＴＦＴ上に有機樹脂材料からなる第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜上に無機絶縁材料からなる第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜上に透明性導電膜を形成し、
前記透明性導電膜の表面を拭浄性材料により拭浄して平坦化することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項８】
基板上に複数のＴＦＴを形成し、
前記ＴＦＴ上に有機樹脂材料からなる第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜上に無機絶縁材料からなる第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜上に陽極を形成し、
前記陽極の表面を拭浄性材料により拭浄して平坦化することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項９】
基板上に複数のＴＦＴを形成し、
前記ＴＦＴ上に有機樹脂材料からなる第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜上に無機絶縁材料からなる第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜上に陰極を形成し、
前記陰極の表面を拭浄性材料により拭浄して平坦化することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１０】
基板上に複数のＴＦＴを形成し、
前記ＴＦＴ上に有機樹脂材料からなる第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜上に無機絶縁材料からなる第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜上に透明性導電膜を形成し、
前記透明性導電膜上に有機樹脂材料からなる第３の絶縁膜を形成し、
前記第３の絶縁膜の表面を拭浄性材料により拭浄して平坦化することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１１】
基板上に複数のＴＦＴを形成し、
前記ＴＦＴ上に有機樹脂材料からなる第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜上に無機絶縁材料からなる第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜上に陽極を形成し、
前記陽極上に有機樹脂材料からなる第３の絶縁膜を形成し、
前記第３の絶縁膜の表面を拭浄性材料により拭浄して平坦化することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１２】
基板上に複数のＴＦＴを形成し、
前記ＴＦＴ上に有機樹脂材料からなる第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜上に無機絶縁材料からなる第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜上に陰極を形成し、
前記陰極上に有機樹脂材料からなる第３の絶縁膜を形成し、
前記第３の絶縁膜の表面を拭浄性材料により拭浄して平坦化することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１３】
請求項１０乃至請求項１２のいずれか一項において、
前記第３の絶縁膜は、１〜５０ｎｍの膜厚で形成されることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１４】
請求項１０乃至請求項１３のいずれか一項において、
前記第３の絶縁膜がアクリル、ポリイミドまたはポリアミドからなることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１５】
請求項７乃至請求項１４のいずれか一項において、
前記有機樹脂材料とは、アクリル、ポリイミドまたはポリアミドであることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１６】
請求項７乃至請求項１５のいずれか一項において、
前記無機絶縁材料とは、酸化珪素、窒化珪素、窒化酸化珪素、酸化窒化珪素、窒化アルミニウム、窒化酸化アルミニウム、または酸化窒化アルミニウムであることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１７】
請求項１乃至請求項１６のいずれか一項において、
前記拭浄性材料とはポリビニルアルコール系の多孔質体であることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１８】
請求項１乃至請求項１７のいずれか一項において、
洗浄液と前記拭浄性材料によって前記表面を拭浄することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１９】
請求項１乃至請求項１８のいずれか一項において、
前記拭浄性材料で前記表面を擦ることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２０】
請求項１乃至請求項１９のいずれか一項において、
前記表面における拭浄前の水に対する接触角が９０°よりも小さいときは、拭浄後における水に対する接触角は、拭浄前の水に対する接触角よりも大きく、かつ９０°より小さくなることを特徴とする発光装置の作製方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０３】
本発明により作製した発光装置を用いた電気器具として、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ゴーグル型ディスプレイ（ヘッドマウントディスプレイ）、ナビゲーションシステム、音響再生装置（カーオーディオ、オーディオコンポ等）、ノート型パーソナルコンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末（モバイルコンピュータ、携帯電話、携帯型ゲーム機または電子書籍等）、記録媒体を備えた画像再生装置（具体的にはデジタルビデオディスク（ＤＶＤ）等の記録媒体を再生し、その画像を表示しうる表示装置を備えた装置）などが挙げられる。特に、斜め方向から画面を見る機会が多い携帯情報端末は、視野角の広さが重要視されるため、発光素子を有する発光装置を用いることが好ましい。それら電気器具の具体例を図１４に示す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2002319495.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月4日(2004.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
同期光学ネットワーク標準信号の性能を監視する装置であって、
標準の光学信号が与えられ、この標準の光学信号を電気信号に変換する手段と、
前記電気信号から、フレーミング信号部分を分離してそのタイムスロット内にフレーミング信号上にあったノイズを残す手段と、
標準の光学信号の品質の測定基準として用いるために、データパワーから前記ノイズを監視用に選択的に分離する手段と、
を備えることを特徴とする装置。
【請求項２】
前記ノイズを残す手段が、
低ノイズパワーと高データパワーとの間の分離を行う二乗法則回路と
前記ノイズパワーをディスプレイに選択的に通過させるローパスフィルタとを有する請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記二乗法則回路はダイオドである請求項２記載の装置。
【請求項４】
前記ノイズを残す手段が、ノッチフィルタである請求項１記載の装置。
【請求項５】
前記フレーミング信号が、ローパスフィルタによりそのタイムスロットの内でノイズから分離され、
前記ローパスフィルタが、
２本の５０オウム長さの伝送ラインと、
２本の１／４波長スタブとを有し
前記２個のスタブの内一方がショートされ他方がオープンエンドとなっている請求項１記載の装置。
【請求項６】
前記ノイズを残す手段が、ノッチフィルタである請求項２記載の装置。
【請求項７】
ＳＯＮＥＴ標準信号をの性能を監視する方法であって、
光学信号を電気信号に変換するステップと、
フレーミング信号タイムスロット内にノイズを残しデータパワーが影響を受けないようにしながらフレーミング信号を電気信号から分離するステップと、
前記分離された信号のフレーミング信号タイムスロット内のノイズパワーを表示するステップと、
を有することを特徴とする方法。
【請求項８】
表示する前に、電気分離された信号を処理してフレーミング信号タイムスロット内のノイズパワーのレベルと、信号のデータパワーのレベルの差を広げるよう処理を行う請求項７記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月24日(2004.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中間層と、前記中間層を挟持する一対の磁性層とを有する磁気抵抗効果素子の製造方法であって、
少なくとも２枚の基板上にそれぞれ第１磁性層を形成する工程と、
同一の成膜室において前記第１磁性層上にそれぞれ前駆体を成膜する工程と、
前記少なくとも２枚の基板を前記成膜室から反応室に移送する工程と、
前記反応室において、酸素原子、窒素原子および炭素原子から選ばれる少なくとも１つの反応種を含有する同一の反応雰囲気下において、前記前駆体を前記反応種と反応させて前記中間層の少なくとも一部とする工程とを含む磁気抵抗効果素子の製造方法。
【請求項２】
前駆体を、酸素原子、窒素原子および炭素原子から選ばれる少なくとも１つの反応種を含有する反応雰囲気において成膜する請求項１に記載の磁気抵抗効果素子の製造方法。
【請求項３】
第１反応雰囲気下で第１前駆体を成膜する工程と、
前記第１前駆体を前記中間層の一部となる第１中間膜とする工程と、
前記第１中間膜上に、第２反応雰囲気下で第２前駆体を成膜する工程と、
前記第２前駆体を前記中間層の一部となる第２中間膜とする工程とを含み、
前記第２反応雰囲気が前記第１反応雰囲気よりも高い反応性を有する請求項２に記載の磁気抵抗効果素子の製造方法。
【請求項４】
第１前駆体を成膜する工程と、
前記第１前駆体を第１反応雰囲気下で前記中間層の一部となる第１中間膜とする工程と、
前記第１中間膜上に第２前駆体を形成する工程と、
前記第２前駆体を第２反応雰囲気下で前記中間層の一部となる第２中間膜とする工程とを含み、
前記第２反応雰囲気が前記第１反応雰囲気よりも高い反応性を有する請求項１に記載の磁気抵抗効果素子の製造方法。
【請求項５】
前駆体の体積Ｖｂに対する、前記前駆体から形成した膜の体積Ｖａの比率が１．０５以上２．０以下である請求項１に記載の磁気抵抗効果素子の製造方法。
【請求項６】
前駆体がＡｌ以外の金属元素を含む請求項５に記載の磁気抵抗効果素子の製造方法。
【請求項７】
反応雰囲気が、少なくとも酸素原子および窒素原子を含む請求項１に記載の磁気抵抗効果素子の製造方法。
【請求項８】
反応雰囲気が、Ｋｒ原子およびＸｅ原子から選ばれる少なくとも１種を含む請求項１に記載の磁気抵抗効果素子の製造方法。
【請求項９】
前駆体を、Ａｒ原子および窒素原子から選ばれる少なくとも１種を含む第１雰囲気に接触させた後に、Ａｒ原子および窒素原子から選ばれる少なくとも１種と酸素原子と含む第２雰囲気に接触させる請求項１に記載の磁気抵抗効果素子の製造方法。
【請求項１０】
前駆体が、アモルファス相を含む請求項１に記載の磁気抵抗効果素子の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月6日(2004.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のノードおよび該各ノードに接続されるランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）を規定する集積回路コンポーネントのシステムであって、
前記各ノードが、
予め定められた処理機能を実行するよう構成された少なくとも一つの機能ユニットと、
他のノードとの情報の通信を管理し制御するよう構成された通信機構と、
前記ノードに接続される前記ＲＡＭに対する書込みおよび読取りを制御するよう構成されたメモリコントローラと、を備え、
前記システムが、該システムの複数のノードによる前記ＲＡＭへの読取りアクセスを許可し、書込みアクセスを前記ＲＡＭが接続されているノードだけに制限するよう構成される、前記システム。
【請求項２】
前記システムがコンピューターグラフィックス・システムである、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記少なくとも一つの機能ユニットが、テクスチャマッピング・コンポーネント、幾何学アクセラレータ、シェーダ、z/混合コンポーネント、ラスタライザ、タイラ、およびキャッシュ・コントローラからなるグループから選択される、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記各ノードが、遠隔機能ユニットによるメモリの使用およびアクセスを制御するための制御手段を更に含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記制御手段が、少なくとも一つの仕事待ち行列を含むメモリセグメントを含み、該仕事待ち行列は、前記少なくとも一つの機能ユニットのための先入れ先出し命令待ち行列の形である、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記仕事待ち行列が複数のメッセージを含む、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
前記メッセージが前記制御手段の制御の下で異なるノードの間で通信される、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記複数のノードが複数のシリアル通信リンクを介して相互接続されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記ＲＡＭが、接続されたノードの制御手段に専用の少なくとも一つのセグメントと、システムの機能動作を実行するための専用の少なくとも一つの付加的なセグメントとを含むようセグメント化されている、請求項４に記載のシステム。
【請求項１０】
前記ＲＡＭが、テクスチャマップ面の一部および画像面の一部に専用の少なくとも一つの付加的なセグメントをさらに含むようセグメント化されており、残りのテクスチャマップ面および画像面は、他のノードに接続されたＲＡＭのメモリセグメントに格納され、多種のテクスチャマップ面セグメントおよび画像面セグメントが、分割されて、重複しない態様でＲＡＭに記憶されるよう構成された、請求項９に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月8日(2005.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
三次元空間に形成される複数のリンクを有する構造体を画面に表示し、当該構造体のアニメーションを生成する処理をコンピュータに実行させるアニメーション生成プログラムにおいて、
前記各リンクは、回転中心となる関節部分を少なくとも含み、
前記各リンクの関節部分の空間位置の可動又は固定を設定し、
前記コンピュータに対する所定の操作に応答して、画面上で前記構造体の第一のリンクを選択して移動させ、
当該移動の後に前記構造体を画面に表示する際に、前記構造体が自然な姿勢を維持するように、場合によっては、前記関節部分が固定に設定された第二のリンクの前記関節部分を移動する、処理を前記コンピュータに実行させることを特徴とするアニメーション生成プログラム。
【請求項２】
請求項１において、
前記第二のリンクの関節部分の設定は、前記移動後、固定に維持されることを特徴とするアニメーション生成プログラム。
【請求項３】
三次元空間に形成される複数のリンクを有する構造体を画面に表示し、当該構造体のアニメーションを生成する処理をコンピュータに実行させるアニメーション生成プログラムにおいて、
前記各リンクは、回転中心となる関節部分を少なくとも含み、
前記各リンクの関節部分の回転範囲を設定し、
前記コンピュータに対する所定の操作に応答して、画面上で前記構造体の第一のリンクを選択して移動させ、
当該移動の後に前記構造体を画面に表示する際に、前記構造体が自然な姿勢を維持するように、場合によっては、第二のリンクの関節部分をその回転範囲を超えて回転する、処理を前記コンピュータに実行させることを特徴とするアニメーション生成プログラム。
【請求項４】
請求項３において、更に、
前記各リンクの表示位置にその回転範囲を表示する処理を前記コンピュータに実行させることを特徴とするアニメーション生成プログラム。
【請求項５】
請求項４において、更に、
前記各リンクの回転位置がそれぞれの回転範囲の限度又はその限度内外の近傍に位置すると、回転範囲の表示色を変更する処理を前記コンピュータに実行させることを特徴とするアニメーション生成プログラム。
【請求項６】
請求項３乃至５のいずれかにおいて、
前記各リンクの回転範囲が変更可能であることを特徴とするアニメーション生成プログラム。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかにおいて、
前記第二のリンクの空間位置が、ヤコビアンとそのシンギュラリティ・ロバスト・インバース(SR-Inverse)に基づいたインバースキネマティック演算を利用して決定されることを特徴とするアニメーション生成プログラム。
【請求項８】
三次元空間に形成される複数のリンクを有する構造体を画面に表示し、当該構造体のアニメーションを生成する処理をコンピュータに実行させるアニメーション生成プログラムにおいて、
前記各リンクは、回転中心となる関節部分を少なくとも含み、
前記各リンクの関節部分の空間位置の可動又は固定を設定し、
前記コンピュータに対する所定の操作に応答して、前記関節部分が固定に設定された第一のリンクを選択し、当該選択した第一のリンクを移動可能とする、処理を前記コンピュータに実行させることを特徴とするアニメーション生成プログラム。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかにおいて、
前記画面上に表示される所定の指示手段を移動させて、前記第一のリンクと前記画面上で合わせる操作に応答して、前記第一のリンクが選択されることを特徴とするアニメーション生成プログラム。
【請求項１０】
請求項９において、更に、
前記第一のリンクが選択されると、前記第一のリンクの表示色を変更する処理を前記コンピュータに実行させることを特徴とするアニメーション生成プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月6日(2004.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光源と、
前記レーザ光源からの光を光ディスク上に集光する対物レンズと、
前記光ディスクからの反射光を前記光学系から分岐する光分岐素子と、
分岐された反射光を受光して電気信号に変換する受光素子と、
前記受光素子からの電気信号から再生信号を得る演算回路から少なくとも構成される光ヘッドにおいて、
前記受光部は前記光ディスクに複数形成されている記録層の目的の記録層からの反射光を集光して検出する第１の受光部と、前記第１の受光部の外縁部に配置された目的の層以外からの反射光を検出する第２の受光部とを有し、前記第１の受光部の信号と前記第２の受光部の信号とを差動演算することにより再生信号を得ることを特徴とする光ヘッド。
【請求項２】
請求項１に記載の光ヘッドにおいて、前記第１の受光部と前記第２の受光部の面積比に基づいたゲインを用い、差動演算することを特徴とする光ヘッド。
【請求項３】
請求項１に記載の光ヘッドにおいて、前記再生信号のジッタ又はエラー率が最小となるよう前記ゲインの値が設定されていることを特徴とする光ヘッド。
【請求項４】
レーザ光源と、
前記レーザ光源からの光を光ディスク上に集光する対物レンズと、
前記光ディスクからの反射光を回折する回折格子と、
分岐された反射光を受光して電気信号に変換する受光素子と、
前記受光素子からの電気信号から再生信号を得る演算回路から少なくとも構成される光ヘッドにおいて、
前記回折格子を通過した第一の光束の第１の受光部は目的の記録層からの反射光を集光して受光し、前記回折格子を通過した第二の光束の第２の受光部は目的の層以外からの反射光を受光し、第１の受光部の信号と第２の受光部の信号とを差動演算することにより再生信号を得ることを特徴とする光ヘッド。
【請求項５】
請求項４に記載の光ヘッドにおいて、前記第２の受光部の信号を用いて焦点位置ずれ信号を得ることを特徴とする光ヘッド。
【請求項６】
請求項４に記載の光ヘッドにおいて、前記第２の分岐素子の回折効率、及び、前記第１の受光部と前記第２の受光部の面積比に基づいたゲインを用い、差動演算することを特徴とする光ヘッド。
【請求項７】
請求項４に記載の光ヘッドにおいて、前記再生信号のジッタ又はエラー率が最小となるよう前記ゲインの値が設定されていることを特徴とする光ヘッド。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月14日(2004.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体レーザー素子より放射するレーザービームをコリメートレンズを介して対物レンズにより収束させて記録媒体に照射し、前記記録媒体からの反射光を受光素子にて受光すると共に、前記半導体レーザー素子を含む光学素子が搭載されるハウジングに対物レンズをフォーカス方向及びトラッキング方向に駆動するアクチュエーターを取付けて構成される光ピックアップ装置において、前記コリメートレンズはハウジングの上面に配置され、ハウジングの上面にはハウジング内部の光学素子が配置される光路空間内の空気を放熱する放熱用孔が前記コリメートレンズの周りを囲うように複数設けられたことを特徴とする光ピックアップ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月2日(2005.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁路の一部に記録ギャップを有し、該記録ギャップからの漏洩磁界により磁気記録媒体に情報を記録する記録ヘッドに於いて、
前記記録ギャップは、第１の軟磁性体膜と第２の軟磁性体膜の間に配置された導電性非磁性膜からなり、
前記第１と第２の軟磁性膜はそれぞれ積層方向に漸増するように成膜された部分を備えるめっき積層構造を有し、
前記第２の軟磁性膜の一部に第３の軟磁性膜が磁気的に結合されると共に、前記第１の軟磁性膜の一部に第４の軟磁性膜が磁気的に結合され、これら結合部から離れた端部で前記第３の軟磁性体膜と前記第４の軟磁性膜とが磁気的に結合され、
前記第３の軟磁性体膜と前記第４の軟磁性体膜の間にコイルパターンが配置され、前記第３の軟磁性体膜と前記第４の軟磁性体膜との結合部に導電性非磁性膜が配置されていることを特徴とする磁気ディスク装置用記録ヘッド。
【請求項２】
上記第１の軟磁性体膜と第２の軟磁性体膜はそれぞれ組成の異なる複数の磁性膜からなり、記録媒体面に対向する磁気ヘッド面に露出する上記第１の軟磁性体膜、導電性非磁性膜及び第２の軟磁性体膜の形状に於いて、記録トラック幅を制限する第１の軟磁性体膜の幅、導電性非磁性膜の幅、及び第２の軟磁性体膜の幅が各々等しいことを特徴とする請求項１記載の磁気ディスク装置用記録ヘッド。
【請求項３】
第１軟磁性膜を形成する第1工程と、
前記第1軟磁性膜上にフレームパターンを用いて、第2軟磁性膜と第1導電性非磁性膜と第3軟磁性膜とをメッキ法にて積層する第2工程と、
前記第2工程後コイルを形成する第3工程と、
前記コイル上に絶縁層を形成する第4工程と、
前記第３軟磁性膜の一部と磁気的に結合される第4軟磁性膜を形成する第５工程とを有し、
前記第2工程において、前記第4軟磁性膜と前記第1軟磁性膜とを後端部で結合する部分を形成し、
前記導電性非磁性膜は、前記第1軟磁性膜と前記第2軟磁性膜との間に配置され、
前記導電性非磁性膜と前記第3軟磁性膜とが接する領域は前記導電性非磁性膜と前記第２軟磁性膜とが接する領域より大きいことを特徴とする記録ヘッドの製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載の製造方法において、
前記第2工程は、前記第2軟磁性膜と導電性非磁性膜と第3軟磁性膜とをメッキ法にて積層する前に、第１軟磁性膜上に絶縁膜を堆積し、前記絶縁膜を熱処理することで浮上面に向かってテーパ形状とする工程を有し、
前記後端部で結合する部分は、第2導電性非磁性膜を有することを特徴とする記録ヘッドの製造方法。
【請求項５】
請求項３に記載の製造方法において、
前記第4軟磁性膜の浮上面側の面は前記第3軟磁性膜に比べ後退し、
前記浮上面における、前記第2軟磁性膜と前記導電性非磁性膜と、前記第3軟磁性膜の幅は等しいことを特徴とする記録ヘッドの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月27日(2005.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空処理室と、第一の電源を有するプラズマ発生装置と、前記真空処理室に処理ガスを供給する処理ガス供給手段と、前記真空処理室内で処理される試料を保持する試料載置面を有する電極と、前記真空処理室を減圧する真空排気系とを有するプラズマ処理装置において、
前記真空処理室内で前記試料載置面に対向しプラズマに面する位置に配置されたプレートと、
前記プレートの前記プラズマに面しない側に接して配置された円板状導電体と、
前記円板状導電体に高周波のバイアス電力を印加する第二の電源とを備え、
前記プレートが高純度のシリコンまたはカーボンからなり、
前記プレートの温度を所定の値に制御する手段を有し、
前記円板状導電体および前記プレートは、前記処理ガス供給手段から供給される処理ガスを前記真空処理室に導入するための多数の孔をそれぞれ有することを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
請求項１において、前記プレートの下面と前記試料載置面上の試料との距離が３０mm〜１５０mmであることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項１において、前記プレートの温度を所定の値に制御する手段は、前記円板状導電体内を循環する熱媒体を有することを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項４】
真空処理室と、第一の電源が印加される円板状導電体を有するプラズマ発生装置と、前記真空処理室に処理ガスを供給する処理ガス供給手段と、前記真空処理室内で処理される試料を保持する試料載置面を有する電極と、前記真空処理室を減圧する真空排気系とを有するプラズマ処理装置用のプレートであって、
前記プレートは、
高純度のシリコンまたはカーボンからなり、
前記真空処理室内で前記試料載置面に対向しプラズマに面する位置に配置され、前記プラズマに面しない側に前記円板状導電体が接して配置され、
前記処理ガス供給手段から供給される処理ガスを前記真空処理室に導入するための多数の孔を有し、
前記円板状導電体を介して第二の電源から高周波のバイアス電力が印加され、
温度を所定の値に制御する手段を有する、ことを特徴とするプラズマ処理装置用のプレート。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月6日(2005.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮影画面内の距離分布及び輝度分布を検出するセンサと、
上記センサの出力に基づいて撮影時の構図を判定する構図判定手段と、
上記構図判定手段の判定結果に基づいて、撮影時の露出制御が適正となる撮影画面内の位置を決定する決定手段と、
上記決定手段により決定された位置におけるセンサの出力に基づいて露出制御を行う露出制御手段と、
を具備することを特徴とするカメラの露出制御装置。
【請求項２】
ストロボ発光手段を更に具備し、
上記決定手段は、上記ストロボ発光手段によるストロボ光投射時の上記センサの出力に基づいて上記決定を行うことを特徴とする請求項１に記載のカメラの露出制御装置。
【請求項３】
上記構図判定手段は、上記センサにより検出された輝度分布による撮影画面の水平方向及び垂直方向に対する輝度変化に基づき構図判定を行うことを特徴とする請求項１に記載のカメラの露出制御装置。
【請求項４】
上記構図判定手段は、更に、上記センサにより検出された距離分布に基づき構図判定を行うことを特徴とする請求項３に記載のカメラの露出制御装置。
【請求項５】
上記露出制御手段は、上記構図判定手段の判定結果に基づき、撮影画面の上方又は下方を重視した露出制御を行うことを特徴とする請求項１に記載のカメラの露出制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明のカメラの露出制御装置の一態様は、撮影画面内の距離分布及び輝度分布を検出するセンサと、上記センサの出力に基づいて撮影時の構図を判定する構図判定手段と、上記構図判定手段の判定結果に基づいて、撮影時の露出制御が適正となる撮影画面内の位置を決定する決定手段と、上記決定手段により決定された位置におけるセンサの出力に基づいて露出制御を行う露出制御手段と、を具備することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
このようにカメラで被写体５を撮影することによって、図１（ｂ）または図１（ｃ）にそれぞれ例示するような縦長または横長の撮像フレームをもつ画像が表示部１６に表示され、その画像がメモリ１５に記録される。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月25日(2005.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくともアイコンを表示することができる表示部と、
前記表示部に密着又は近接して設けられたタッチセンサと、
前記表示部及び前記タッチセンサからなるタッチパネルを制御する制御部と、
を備え、
各種操作入力を前記タッチパネルにより行うことができるカメラであって、
前記制御部は、前記タッチパネルによる操作入力の仕様を変更できること、
を特徴とするカメラ。
【請求項２】
請求項１に記載のカメラにおいて、
前記制御部が変更することができる前記仕様は、前記アイコンの表示位置，前記アイコンの表示サイズ，表示するアイコンにより操作入力する操作内容のいずれかひとつを含むこと、
を特徴とするカメラ。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のカメラにおいて、
カメラの姿勢を検出する姿勢検出部を備え、
前記制御部は、前記仕様を、前記姿勢検出部の検出結果に応じて変更できること、
を特徴とするカメラ。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載のカメラにおいて、
前記制御部は、前記仕様を、撮影者自身の使い勝手に合わせて変更できること、
を特徴とするカメラ。
【請求項５】
請求項４に記載のカメラにおいて、
撮影者自身が設定した前記仕様を記憶する記憶部を有すること、
を特徴とするカメラ。
【請求項６】
請求項１から請求項５までのいずれか１項に記載のカメラにおいて、
前記制御部により変更する操作入力の仕様には、撮影被写体像を観察しながらＡＦエリアを指定することを含むこと、
を特徴とするカメラ。
【請求項７】
請求項１から請求項６までのいずれか１項に記載のカメラにおいて、
前記制御部により変更する操作入力の仕様には、撮影被写体像を観察しながら露出基準とする位置を指定することを含むこと、
を特徴とするカメラ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項５の発明は、請求項４に記載のカメラにおいて、撮影者自身が設定した前記仕様を記憶する記憶部（２５ａ）を有すること、を特徴とするカメラである。
請求項６の発明は、請求項１から請求項５までのいずれか１項に記載のカメラにおいて、前記制御部（２５）により変更する操作入力の仕様には、撮影被写体像を観察しながらＡＦエリアを指定することを含むこと、を特徴とするカメラである。
請求項７の発明は、請求項１から請求項６までのいずれか１項に記載のカメラにおいて、前記制御部（２５）により変更する操作入力の仕様には、撮影被写体像を観察しながら露出基準とする位置を指定することを含むこと、を特徴とするカメラである。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月1日(2005.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶表示素子における液晶層の厚さを一定に保つために基板上に配置されるスペーサー画素パターンを形成するためのスペーサー用樹脂組成物において、液晶作成時のシール温度における単一スペーサーの荷重１ｇｆ／２５６μｍ２に対する塑性変形量が０．０３μｍ〜０．３μｍであることを特徴とするスペーサー用樹脂組成物。
【請求項２】
体質顔料を含む請求項１に記載のスペーサー用樹脂組成物。
【請求項３】
体質顔料の含有量が、スペーサー用樹脂組成物の全固形分の１〜５０質量％である請求項１又は２に記載のスペーサー用樹脂組成物。
【請求項４】
仮支持体上に、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層と、中間層と、感光性樹脂層とを、この順に有してなる感光性転写材料の感光性樹脂層に用いる請求項１から３のいずれかに記載のスペーサー用樹脂組成物。
【請求項５】
互いに対向して配される一対の基板間に液晶が封入された液晶表示素子において、
前記液晶層の厚さを一定に保つために基板上に配置されるスペーサー画素パターンが請求項１から４のいずれかに記載のスペーサー用樹脂組成物から形成されたものであることを特徴とする液晶表示素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。即ち、
＜１＞  液晶表示素子における液晶層の厚さを一定に保つために基板上に配置されるスペーサー画素パターンを形成するためのスペーサー用樹脂組成物において、液晶作成時のシール温度における単一スペーサーの荷重１ｇｆ／２５６μｍ２に対する塑性変形量が０．０３μｍ〜０．３μｍであることを特徴とするスペーサー用樹脂組成物である。
＜２＞  体質顔料を含む前記＜１＞に記載のスペーサー用樹脂組成物である。
＜３＞  体質顔料の含有量が、スペーサー用樹脂組成物の全固形分の１〜５０質量％である前記＜１＞又は＜２＞に記載のスペーサー用樹脂組成物である。
＜４＞  仮支持体上に、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層と、中間層と、感光性樹脂層とを、この順に有してなる感光性転写材料の感光性樹脂層に用いる前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載のスペーサー用樹脂組成物である。
＜５＞  互いに対向して配される一対の基板間に液晶が封入された液晶表示素子において、
前記液晶層の厚さを一定に保つために基板上に配置されるスペーサー画素パターンが前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載のスペーサー用樹脂組成物から形成されたものであることを特徴とする液晶表示素子である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について更に詳しく説明する。
（スペーサー用樹脂組成物）
本発明のスペーサー用樹脂組成物は、液晶表示素子における液晶層の厚さを一定に保つために基板上に配置されるスペーサー画素パターンを形成するのに用いられ、液晶作成時のシール温度における単一スペーサーの荷重１ｇｆ／２５６μｍ２に対する塑性変形量が０．０３μｍ〜０．３μｍであり、０．０４μｍ〜０．２μｍが好ましく、０．０５μｍ〜０．１５μｍがより好ましい。
前記塑性変形量が小さすぎると、スペーサー層の膜厚不均一性がそのまま残りスペーサーの高さが不揃いになり液晶表示ムラが生じる。一方、大きすぎると、適正な膜厚から外れたり、場合によってはスペーサーが形成できないおそれがある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明のスペーサー用樹脂組成物は、上記液晶作成時のシール温度における単一スペーサーの荷重１ｇｆ／２５６μｍ２に対する塑性変形量が０．０３μｍ〜０．３μｍの範囲であれば特に制限はなく、通常スペーサー用樹脂組成物に用いられる成分の中から適宜選択して用いることができるが、特に、アリル基含有樹脂を含有し、更に、重合性モノマー、重合開始剤、体質性顔料、必要に応じて適宜選択したその他の成分を含有してなるものが好適である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月8日(2005.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向する上基板と下基板とからなる一対の基板と、該一対の基板間に挟持された液晶層とを有する液晶表示装置であって、
前記液晶層よりも前記下基板側に位置し、前記上基板側からの入射光を反射させる反射層と、該反射層と前記液晶層との間に位置するカラーフィルタ層と、該カラーフィルタ層と前記液晶層との間に位置する絶縁層とを備えるとともに、
前記反射層の液晶層側表面には複数の凹凸が設けられ、該凹凸の凸状部の高さ平均が０．０５μｍ〜０．５μｍで、且つ凸状部の幅平均が０．１μｍ〜１０μｍであり、前記カラーフィルタ層及び絶縁層の層厚の和が１．０μｍ〜４．０μｍであることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記液晶層がスーパーツイステッド型のネマチック液晶を主体として構成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記反射層に設けられた凹凸の凸状部は、当該凸状部を断面視した場合に異なる傾斜角の傾斜面を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記反射層が、光を透過させる開口部を備えることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の液晶表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月18日(2005.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
以上説明したように、本実施形態では適切にピッチを変化させた円弧状等の円弧回折格子ＣＧ１、ＣＧ２と、放射状格子スケールＧＴに略点状照明する条件とを組み合わせることで、小型で安定した高分解能の３格子干渉型エンコーダに最適な光学系を構成している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
本実施形態では、格子スケールＧＴの格子ピッチが変化した場合、回折光の回折角が変わり、円弧回折格子ＣＧ１、ＣＧ２に入射する位置がずれる。そこで、円弧回折格子ＣＧ１、ＣＧ２の格子ピッチ間隔を（例えばフレネルレンズのように）適切に配置することで、反射回折光を元の方位に射出させている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
例えば、円弧回折格子ＣＧ１、ＣＧ２としてフレネル反射ミラーを想定する場合は、格子スケールＧＴと該円弧状反射回折格子ＣＧ１、ＣＧ２との間隔を、該円弧回折格子ＣＧ１、ＣＧ２の所謂焦点距離の２倍の関係にしている。これにより所望の光学効果を得ている。格子スケールＧＴに再入射する光路を元の光路と一致させ、これによって常に安定した干渉情報を得ている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
格子スケールＧＴの配列方向と、円弧回折格子ＣＧ１、ＣＧ２の光束入射位置における格子の配列方位は、取付け誤差がない状態では、完全に平行になるが、角度がつく場合がある。この場合は、格子スケールＧＴで再回折された±１次の光束が完全に一致せず、異なる方位に射出する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
ＧＴ  格子スケール
ＣＧ  円弧状素子
ＬＤ  半導体レーザ、
Ｒ    光束、
Ｒ＋  ＋１次回折光、
Ｒ−  −１次回折光、
ＣＧ１、ＣＧ２  円弧回折格子
ＰＤ４  ４分割受光素子アレイ、
Ｍ    反射面、
ＱＺ１、ＱＺ２  １／８波長板、
ＰＯＬ４  ４分割偏光板アレイ
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月12日(2005.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
潜像を担持する潜像担持体と該潜像担持体に現像剤を付与することにより前記潜像を現像剤像として可視化する現像手段と、所定方向に搬送される記録材に該現像手段による該現像剤像を転写する転写手段と、該転写手段によって前記現像剤像の転写を受けた前記記録材を所定の定着処理条件にて加熱および加圧することにより前記現像剤像を記録材に定着させる定着装置とを備えた画像形成装置において、
前記記録材の表面に光を照射する光照射手段と、
前記記録材の表面の該光照射手段による光照射領域内を映像として読み取る読取り手段と、
前記読取り手段の読取り結果から、記録材表面の凹凸の深さを演算する第一の演算手段と
前記読取り手段の読取り結果から、記録材表面の凹凸間隔を演算する第二の演算手段と、
前記第一の演算手段と前記第二の演算手段の演算結果に基づいて、画像形成条件を制御することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
（８）潜像を担持する潜像担持体と該潜像担持体に現像剤を付与することにより前記潜像を現像剤像として可視化する現像手段と、所定方向に搬送される記録材に該現像手段による該現像剤像を転写する転写手段と、該転写手段によって前記現像剤像の転写を受けた前記記録材を所定の定着処理条件にて加熱および加圧することにより前記現像剤像を記録材に定着させる定着装置とを備えた画像形成装置において、
前記記録材の表面に光を照射する光照射手段と、
前記記録材の表面の該光照射手段による光照射領域内を映像として読み取る読取り手段と、
前記読取り手段の読取り結果から、記録材表面の凹凸の深さを演算する第一の演算手段と
前記読取り手段の読取り結果から、記録材表面の凹凸間隔を演算する第二の演算手段と、
前記第一の演算手段と前記第二の演算手段の演算結果に基づいて、画像形成条件を制御する画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月18日(2004.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線通信装置を備えたデータアクセスポイントであるかどうかを示す識別情報を含む施設情報を持ち、該施設との交信を行う通信装置を備えたナビゲーション装置であって、前記識別情報を基に地図上にデータアクセスポイントである施設とそうでない施設とが識別できるように表示する表示制御手段を備えたことを特徴とするナビゲーション装置。
【請求項２】
無線通信装置を備えたデータアクセスポイントであるかどうかを示す識別情報とアクセス可能な範囲を示す距離情報を含む施設情報を持ち、該施設と交信を行う通信装置を備えたナビゲーション装置であって、表示された地図上の施設がデータアクセスポイントであるかどうかを前記識別情報を基に判定する判定手段と、前記判定手段にて該施設があると判定した場合に前記距離情報に基づいて、地図上にアクセス可能な範囲を表示する表示制御手段を備えたことを特徴とするナビゲーション装置。
【請求項３】
前記表示手段は無線通信装置を備えたデータアクセスポイントである施設が複数存在する場合、該施設の名称と現在地からの距離を選択可能な態様でリスト表示することを特徴とする請求項２記載のナビゲーション装置。
【請求項４】
無線通信装置を備えたデータアクセスポイントであるかどうかを示す識別情報とアクセス可能な範囲を示す距離情報を含む施設情報を持ち、該施設と交信を行う通信装置を備えたナビゲーション装置であって、表示された地図上の施設がデータアクセスポイントであるかどうかを判定する第１の判定手段と、前記第１の判定手段にて該施設がデータアクセスポイントであると判定された場合に前記距離情報から現在地がアクセス可能な範囲かどうかを判定する第２の判定手段と、前記第２の判定手段にてアクセス可能であると判定された場合に前記施設との交信を開始するためのボタン表示を行う表示制御手段を備えたことを特徴とするナビゲーション装置。
【請求項５】
無線通信装置を備えたデータアクセスポイントであるかどうかを示す識別情報とアクセス可能な範囲を示す距離情報を含む施設情報を持ち、該施設と交信を行う通信装置を備えたナビゲーション装置であって、表示された地図上の施設がデータアクセスポイントであるかどうかを判定する第１の判定手段と、前記第１の判定手段にて該施設がデータアクセスポイントであると判定された場合に前記距離情報から現在地がアクセス可能な範囲にあるかどうかを判定する第２の判定手段と、前記第２の判定手段にて前記アクセス可能な範囲にあると判定された場合に前記施設との交信を開始するためのボタン表示と、以前に該施設から受信した情報を呼び出すためのボタン表示を行う表示制御手段と、前記開始ボタンが選択された場合に前記通信装置を用いて該施設と交信を開始する通信制御手段を備えたことを特徴とするナビゲーション装置。
【請求項６】
前記通信制御手段は、更に接続した施設に関する施設情報の中にＵＲＬ（Ｕｎｉｆｏｒｍ  Ｒｅｓｏｕｒｃｅ  Ｌｏｃａｔｏｒ）情報が含まれているかどうか検索し、該ＵＲＬ情報があった場合には前記表示制御手段がそれを受けてそこにアクセスするかどうかをユーザに問い合わせる表示を行うことを特徴とする請求項５記載のナビゲーション装置。
【請求項７】
無線通信装置を備えたデータアクセスポイントであるかどうかを示す識別情報とアクセス可能な範囲を示す距離情報を含む施設情報を持ち、該施設と交信を行う通信装置を備えたナビゲーション装置であって、表示された地図上の施設がデータアクセスポイントであるかどうかを判定する第１の判定手段と、前記第１の判定手段にて該施設があると判定された場合に前記距離情報から現在地がアクセス可能な範囲にあるかどうかを判定する第２の判定手段と、移動速度が所定速度以下であるかどうかを判定する第３の判定手段と、前記第２の判定手段にて前記アクセス可能な範囲にあると判定され、且つ前記第３の判定手段にて所定速度以下であると判定された場合に該施設との交信を自動的に開始させる通信制御手段を備えたことを特徴とするナビゲーション装置。
【請求項８】
前記識別情報は無線ＬＡＮ装置を識別するコードであることを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項記載のナビゲーション装置。
【請求項９】
前記距離情報は無線ＬＡＮ装置を含む無線通信装置からの電波の到達可能距離を示す情報であることを特徴とする請求項２乃至８の何れか１項記載のナビゲーション装置。
【請求項１０】
ナビゲーション装置において地図上に表示する施設に関する情報が記録された記録媒体であって、前記施設情報として無線ＬＡＮ装置を特定する識別コードと無線ＬＡＮ装置から発信される電波の到達可能距離情報が記録されていることを特徴とする記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために本発明は、無線通信装置を備えたデータアクセスポイントであるかどうかを示す識別情報を含む施設情報を持ち、該施設との交信を行う通信装置を備えたナビゲーション装置であって、前記識別情報を基に地図上にデータアクセスポイントである施設とそうでない施設とが識別できるように表示する表示制御手段を備えたことに一つの特徴がある。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の他の特徴は、無線通信装置を備えたデータアクセスポイントであるかどうかを示す識別情報とアクセス可能な範囲を示す距離情報を含む施設情報を持ち、該施設と交信を行う通信装置を備えたナビゲーション装置であって、表示された地図上の施設がデータアクセスポイントであるかどうかを前記識別情報を基に判定する判定手段と、前記判定手段にて該施設があると判定した場合に前記距離情報に基づいて、地図上にアクセス可能な範囲を表示する表示制御手段を備えたことにある。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の他の特徴は、無線通信装置を備えたデータアクセスポイントであるかどうかを示す識別情報とアクセス可能な範囲を示す距離情報を含む施設情報を持ち、該施設と交信を行う通信装置を備えたナビゲーション装置であって、表示された地図上の施設がデータアクセスポイントであるかどうかを判定する第１の判定手段と、前記第１の判定手段にて該施設がデータアクセスポイントであると判定された場合に前記距離情報から現在地がアクセス可能な範囲かどうかを判定する第２の判定手段と、前記第２の判定手段にてアクセス可能であると判定された場合に前記施設との交信を開始するためのボタン表示を行う表示制御手段を備えたことにある。