【手続補正書】
【提出日】平成17年9月26日(2005.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  マスクと感応基板とを同期移動させることにより、前記感応基板上の複数のショット領域に前記マスクのパターンを順次転写する露光装置であって、
前記感応基板を保持して２次元平面内を移動する基板ステージと；
前記マスクを保持して移動可能なマスクステージと；
前記基板ステージの露光終了後の次ショット露光のための助走動作と次ショット露光のための非走査方向へのステッピング動作とが同時並行的に行われ、かつ前記非走査方向へのステッピング動作が次ショット露光前の前記両ステージの同期整定期間の前に終了するように、前記両ステージを制御するステージ制御系とを備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】  基板上の複数の区画領域にマスクのパターンを順次転写する走査露光方法において、
前記マスクと前記基板とを同期移動して、前記複数の区画領域の１つを走査露光し、
前記基板が同期移動される第１方向と直交する第２方向に関して前記１つの区画領域と隣接する別の区画領域を走査露光するために、前記１つの区画領域の走査露光終了後の前記基板の前記第２方向へのステッピング動作が終了する前に前記基板の前記第１方向への加速を開始することを特徴とする走査露光方法。
【請求項３】  マスクと基板とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向とほぼ直交する第２方向に沿って配列される前記基板上の第１区画領域と第２区画領域とをそれぞれ前記マスクのパターンで走査露光する方法において、
前記第１区画領域の走査露光終了後に、前記基板の第１方向の移動速度が零となるまで、前記基板を減速させつつ前記第２方向に移動し、かつ前記第２区画領域の走査露光前に、前記基板を前記第１方向に加速させつつ前記第２方向に移動することを特徴とする走査露光方法。
【請求項４】  マスクと基板とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向とほぼ直交する第２方向に配列される前記基板上の第１区画領域と第２区画領域とにそれぞれ前記マスクのパターンを転写する走査露光方法において、
前記第１区画領域の走査露光後に、前記基板をその移動軌跡がほぼ放物線になるように移動した後、前記マスクのパターンで前記第２区画領域を走査露光することを特徴とする走査露光方法。
【請求項５】  マスクと基板とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向とほぼ直交する第２方向に配列される前記基板上の第１区画領域と第２区画領域とにそれぞれ前記マスクのパターンを転写する走査露光方法において、
前記第１区画領域の走査露光終了後の前記基板の減速中、及び前記第２区画領域の走査露光前の前記基板の加速中に、前記基板を前記第１及び第２方向と交差する方向に移動することを特徴とする走査露光方法。
【請求項６】  マスクと基板とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向と直交する第２方向に沿って配列される前記基板上の第１区画領域と第２区画領域とに前記マスクのパターンを順次転写する走査露光方法において、
前記第１区画領域の走査露光終了後、前記基板の前記第２方向の位置が前記第２区画領域の前記第２方向の位置と一致する前に、前記第２区画領域の走査露光のための前記基板の加速を開始することを特徴とする走査露光方法。
【請求項７】  マスクと基板とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向と直交する第２方向に沿って配列される前記基板上の第１区画領域と第２区画領域とに前記マスクのパターンを順次転写する走査露光方法において、
前記第１区画領域の走査露光終了後の前記基板の前記第２方向の速度成分が零となる前に、前記第２区画領域の走査露光のための前記基板の加速を開始することを特徴とする走査露光方法。
【請求項８】  マスクと基板とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向と直交する第２方向に沿って配列される前記基板上の第１区画領域と第２区画領域とに前記マスクのパターンを順次転写する走査露光方法において、
前記第１区画領域の走査露光終了後に前記基板の前記第１方向の速度成分が零となる前記基板の前記第２方向の位置を、前記第２区画領域の前記第２方向の位置よりも前記第１区画領域側とし、かつ前記第２区画領域を走査露光するために、前記第１及び第２方向に対して斜めに前記基板を移動することを特徴とする走査露光方法。
【請求項９】  マスクと基板とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向と直交する第２方向に沿って配列される前記基板上の第１区画領域と第２区画領域とに前記マスクのパターンを順次転写する走査露光方法において、
前記第１区画領域の第１走査露光と前記第２区画領域の第２走査露光とで前記基板を逆向きに移動するために、前記第１走査露光終了後に前記基板の前記第１方向の速度成分を零とし、かつ前記第２走査露光に先立って前記第１及び第２方向の各速度成分が零とならないように前記基板を加速することを特徴とする走査露光方法。
【請求項１０】  マスクと基板とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向と直交する第２方向に沿って配列される前記基板上の第１区画領域と第２区画領域とに前記マスクのパターンを順次転写する走査露光方法において、
前記第１区画領域の第１走査露光と前記第２区画領域の第２走査露光との間、前記第１走査露光終了後の前記第１方向の速度成分が零となる前記基板の前記第２方向の位置が、前記第１区画領域の前記第２方向の位置と前記第２区画領域の前記第２方向の位置との間になるように前記基板を移動することを特徴とする走査露光方法。
【請求項１１】  マスクと基板とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向と直交する第２方向に沿って配列される前記基板上の第１区画領域と第２区画領域とに前記マスクのパターンを順次転写する走査露光方法において、
前記第１区画領域の第１走査露光と前記第２区画領域の第２走査露光との間の前記基板の移動軌跡がほぼ放物線状となるように、前記第１走査露光後の前記基板の減速中、及び前記第２走査露光前の前記基板の加速中、前記第２方向の速度成分を零とすることなく前記基板を移動することを特徴とする走査露光方法。
【請求項１２】  マスクと基板とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向と直交する第２方向に沿って配列される前記基板上の第１区画領域と第２区画領域とに前記マスクのパターンを順次転写する走査露光方法において、
前記第１区画領域の第１走査露光と前記第２区画領域の第２走査露光との間、前記第１走査露光終了後の前記基板の前記第１方向の速度成分が零となる前に、前記基板の前記第２方向への加速を開始し、かつ前記基板の前記第２方向の速度成分が零となる前に、前記基板の前記第１方向への加速を開始することを特徴とする走査露光方法。
【請求項１３】  マスクと基板とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向とほぼ直交する第２方向に配列される前記基板上の第１及び第２区画領域にそれぞれ前記マスクのパターンを転写する走査露光方法において、
前記第１区画領域の第１走査露光と前記第２区画領域の第２走査露光との間で前記基板を前記第２方向に移動するときに、前記基板の加速時と減速時とでその加速度の絶対値を異ならせることを特徴とする走査露光方法。
【請求項１４】  基板上の区画領域毎にマスクと前記基板とを同期移動して、前記基板上の複数の区画領域に前記マスクのパターンを順次転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査露光方法において、
前記マスクの往復移動によって前記マスクのパターンが転写される前記基板上の２つの区画領域の走査露光間で前記基板を停止することなく移動することを特徴とする走査露光方法。
【請求項１５】  マスクと基板とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向に直交する第２方向に沿って配列される前記基板上の第１区画領域と第２区画領域とに前記マスクのパターンを順次転写する走査露光方法において、
少なくとも前記第１区画領域に対する走査露光に際して、前記マスク及び前記基板の少なくとも一方を、前記マスクと前記基板との同期移動に先立ってその加速度が徐々に零に収束するような加速度変化曲線に基づいて前記第１方向に沿って加速するとともに、前記同期移動の終了後に一定減速度で前記第１方向に沿って減速することを特徴とする走査露光方法。
【請求項１６】  定盤と；
前記定盤に対して相対移動が可能であるとともに基板をそれぞれ保持する少なくとも２つの第１可動体と；
前記各第１可動体がその上部に配置されるとともに、前記定盤上に配置され、かつ前記定盤及び前記各第１可動体のそれぞれに対して相対移動する第２可動体と；
前記第２可動体に設けられ、前記各第１可動体を２次元平面内で駆動する駆動装置とを備え、
前記各第１可動体の駆動の際の反力に応じて前記第２可動体が移動するように構成されていることを特徴とするステージ装置。
【請求項１７】  前記各第１可動体の質量は前記第２可動体の質量のほぼ１／９以下であり、
前記定盤上で前記第２可動体を低応答周波数で駆動する第２の駆動装置を更に備えることを特徴とする請求項１６に記載のステージ装置。
【請求項１８】  マスクのパターンを基板上に転写する露光装置であって、
請求項１６又は１７に記載のステージ装置を備え、
前記マスクのパターンが転写される基板が前記ステージ装置を構成する前記各第１可動体に保持されることを特徴とする露光装置。
【請求項１９】  前記マスクのパターンを前記基板に投影する投影光学系を更に備え、
前記ステージ装置を構成する前記駆動装置が、前記各第１可動体にそれぞれ保持された基板に前記マスクのパターンを転写する際に、そのパターン転写の対象の基板を保持する前記第１可動体を前記マスクと同期して前記投影光学系に対して走査方向に駆動することを特徴とする請求項１８に記載の露光装置。
【請求項２０】  基板上で隣接して配置される第１及び第２区画領域のそれぞれにマスクのパターンを転写する露光装置であって、
前記基板を保持する基板ステージと；
前記第１区画領域に対する第１露光と前記第２区画領域に対する第２露光との間で前記基板ステージを移動するときに、前記基板ステージの加速時と減速時とでその加速度の絶対値を異ならせる第１駆動装置とを備える露光装置。
【請求項２１】  マスクのパターンを基板上に転写する露光装置であって、
第１定盤と；
前記第１定盤上にそれぞれ配置され前記基板をそれぞれ保持する複数の基板ステージと；
前記第１定盤が配置される第２定盤と；
前記複数の基板ステージの少なくとも１つの移動による重心位置変動を抑制するように、前記第２定盤に対して前記第１定盤を相対移動可能に支持する支持装置とを備える露光装置。
【請求項２２】  少なくとも１つが物体を保持するように構成された複数の第１可動体と；
前記各第１可動体の移動によって生じる反力に応じて移動する第２可動体とを備え、
前記各第１可動体の質量は、前記第２可動体の質量のほぼ１／９以下であることを特徴とするステージ装置。
【請求項２３】  前記各第１可動体と前記第２可動体は、それぞれ非接触で支持されていることを特徴とする請求項２２に記載のステージ装置。
【請求項２４】  前記各第１可動体は、前記第２可動体に対して２次元平面内で移動可能であることを特徴とする請求項２２又は２３に記載のステージ装置。
【請求項２５】  基板上にパターンを形成するための露光装置であって、
請求項２２〜２４のいずれか一項に記載のステージ装置を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２６】  請求項２５に記載の露光装置であって、
所定のパターンが形成されたマスクを保持するマスクステージと；
前記パターンを投影する投影光学系とを備え、
前記複数の第１可動体の少なくとも１つは前記基板を保持し、該基板を保持した第１可動体と前記マスクステージとによって前記マスクと前記基板とを同期移動させて前記パターンを前記基板上に転写することを特徴とする露光装置。
【請求項２７】  ２次元平面内を移動する少なくとも２つの可動体と；
前記各可動体に設けられ、前記２次元平面内で所定の第１軸及びこれに直交する第２軸の双方と交差する方向に沿って延びる第１反射面と；
前記第１反射面に垂直に測長ビームを照射してその反射光を受光することにより前記各可動体の第３軸方向の位置を計測する計測装置と；
前記計測装置の計測値に基づいて前記各可動体の前記第１軸及び前記第２軸で規定される直交座標系上の位置座標を求める演算装置と；を備えることを特徴とするステージ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明は、第１の観点からすると、マスク（Ｒ）と感応基板（Ｗ）とを同期移動させることにより、前記感応基板（Ｗ）上の複数のショット領域（Ｓ１、Ｓ２等）に前記マスクのパターンを順次転写する露光装置であって、前記感応基板（Ｗ）を保持して２次元平面内を移動する基板ステージ（ＷＳＴ）と；前記マスクを保持して移動可能なマスクステージ（ＲＳＴ）と；前記基板ステージの露光終了後の次ショット露光のための助走動作と次ショット露光のための非走査方向へのステッピング動作とが同時並行的に行われ、かつ前記非走査方向へのステッピング動作が次ショット露光前の前記両ステージの同期整定期間の前に終了するように、前記両ステージを制御するステージ制御系（３３、７８、８０）とを備えることを特徴とする第１の露光装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明は、第２の観点からすると、基板（Ｗ）上の複数の区画領域（Ｓ１、Ｓ２）にマスク（Ｒ）のパターンを順次転写する走査露光方法において、前記マスクと前記基板とを同期移動して、前記複数の区画領域の１つ（Ｓ１）を走査露光し、前記基板が同期移動される第１方向と直交する第２方向に関して前記１つの区画領域と隣接する別の区画領域（Ｓ２）を走査露光するために、前記１つの区画領域（Ｓ１）の走査露光終了後の前記基板の前記第２方向へのステッピング動作が終了する前に前記基板の前記第１方向への加速を開始することを特徴とする第１の走査露光方法である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明は、第３の観点からすると、マスク（Ｒ）と基板（Ｗ）とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向とほぼ直交する第２方向に沿って配列される前記基板上の第１区画領域（Ｓ１）と第２区画領域（Ｓ２）とをそれぞれ前記マスクのパターンで走査露光する方法において、前記第１区画領域の走査露光終了後に、前記基板の第１方向の移動速度が零となるまで、前記基板を減速させつつ前記第２方向に移動し、かつ前記第２区画領域の走査露光前に、前記基板を前記第１方向に加速させつつ前記第２方向に移動することを特徴とする第２の走査露光方法である。これによれば、前記第１区画領域の走査露光終了後に、基板は放物線状の経路に沿って移動されるので、最短距離に近い経路で基板が移動され、その分スループットの向上が可能となる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明は、第４の観点からすると、マスク（Ｒ）と基板（Ｗ）とを同期移動して、前記基板（Ｗ）が同期移動される第１方向とほぼ直交する第２方向に配列される前記基板上の第１区画領域（Ｓ１）と第２区画領域（Ｓ２）とにそれぞれ前記マスクのパターンを転写する走査露光方法において、前記第１区画領域（Ｓ１）の走査露光後に、前記基板をその移動軌跡がほぼ放物線状になるように移動した後、前記マスクのパターンで前記第２区画領域（Ｓ２）を走査露光することを特徴とする第３の走査露光方法である。これによれば、第１区画領域の走査露光後、第２区画領域の走査露光の開始前に、基板をその移動軌跡がほぼ放物線状になるように移動するので、この移動の終了部分では基板はほぼ第１方向に沿って移動され、走査露光開始後に基板の非走査方向の速度成分が走査露光に影響を与えることがない。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本発明は、第５の観点からすると、マスク（Ｒ）と基板（Ｗ）とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向とほぼ直交する第２方向に配列される前記基板上の第１区画領域（Ｓ１）と第２区画領域（Ｓ２）とにそれぞれ前記マスクのパターンを転写する走査露光方法において、前記第１区画領域（Ｓ１）の走査露光終了後の前記基板の減速中、及び前記第２区画領域の走査露光前の前記基板の加速中に、前記基板を前記第１及び第２方向と交差する方向に移動することを特徴とする第４の走査露光方法である。これによれば、第１区画領域の走査露光終了後の基板の減速中、及び第２区画領域の走査露光前の基板の加速中に、基板を第１及び第２方向と交差する方向に移動するので、結果的に基板の移動軌跡は従来のコ字経路に比べて短くなり、最短距離に近い経路で基板が移動され、その分スループットの向上が可能となる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本発明は、第６の観点からすると、マスク（Ｒ）と基板（Ｗ）とを同期移動して、前記基板（Ｗ）が同期移動される第１方向と直交する第２方向に沿って配列される前記基板上の第１区画領域（Ｓ１）と第２区画領域（Ｓ２）とに前記マスクのパターンを順次転写する走査露光方法において、前記第１区画領域（Ｓ１）の走査露光終了後、前記基板の前記第２方向の位置が前記第２区画領域（Ｓ２）の前記第２方向の位置と一致する前に、前記第２区画領域の走査露光のための前記基板の加速を開始することを特徴とする第５の走査露光方法である。これによれば、第１区画領域の走査露光の終了後、第２区画領域の走査露光のため第２方向についての基板の移動が開始されるが、この途中で第２区画領域の走査露光のための基板の第１方向についての基板の加速が開始されるので、第２区画領域の走査露光のための第２方向の基板の移動が終了してから第２区画領域の走査露光のための加速が開始される場合に比べてスループットを向上させることが可能である。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
本発明は、第７の観点からすると、マスク（Ｒ）と基板（Ｗ）とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向と直交する第２方向に沿って配列される前記基板上の第１区画領域（Ｓ１）と第２区画領域（Ｓ２）とに前記マスクのパターンを順次転写する走査露光方法において、前記第１区画領域（Ｓ１）の走査露光終了後の前記基板（Ｗ）の前記第２方向の速度成分が零となる前に、前記第２区画領域の走査露光のための前記基板の加速を開始することを特徴とする第６の走査露光方法である。これによれば、第１区画領域の走査露光の終了後、第２区画領域へ向けて第２方向についての基板の移動が行われるが、この移動が終了して基板の第２方向の速度成分が零となる前に、第２区画領域の走査露光のための基板の加速が開始されるので、第２区画領域の走査露光のための第２方向の基板の移動が終了してから第２区画領域の走査露光のための加速が開始される場合に比べてスループットを向上させることが可能である。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
本発明は、第８の観点からすると、マスク（Ｒ）と基板（Ｗ）とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向と直交する第２方向に沿って配列される前記基板上の第１区画領域（Ｓ１）と第２区画領域（Ｓ２）とに前記マスクのパターンを順次転写する走査露光方法において、前記第１区画領域（Ｓ１）の走査露光終了後に前記基板の前記第１方向の速度成分が零となる前記基板の前記第２方向の位置を、前記第２区画領域の前記第２方向の位置よりも前記第１区画領域側とし、かつ前記第２区画領域を走査露光するために、前記第１及び第２方向に対して斜めに前記基板を移動することを特徴とする第７の走査露光方法である。これによれば、前記第１区画領域の走査露光終了後の基板の移動軌跡は従来のコ字経路に比べて短くなり、最短距離に近い経路で基板が移動され、その分スループットの向上が可能となる。なお、この場合、基板の移動軌跡はＶ字状であっても良いが、第１区画領域の走査露光と第２区画領域の走査露光との間で基板を停止することなく移動して、その軌跡を放物線状（又はＵ字状）とすることが望ましい。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
本発明は、第９の観点からすると、マスク（Ｒ）と基板（Ｗ）とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向と直交する第２方向に沿って配列される前記基板上の第１区画領域（Ｓ１）と第２区画領域（Ｓ２）とに前記マスクのパターンを順次転写する走査露光方法において、前記第１区画領域（Ｓ１）の第１走査露光と前記第２区画領域（Ｓ２）の第２走査露光とで前記基板を逆向きに移動するために、前記第１走査露光終了後に前記基板の前記第１方向の速度成分を零とし、かつ前記第２走査露光に先立って前記第１及び第２方向の各速度成分が零とならないように前記基板を加速することを特徴とする第８の走査露光方法である。これによれば、基板は第２走査露光に先立って曲線状（又は直線状）の経路に沿って第１及び第２方向に対し斜めに移動されることとなる。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
本発明は、第１０の観点からすると、マスク（Ｒ）と基板（Ｗ）とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向と直交する第２方向に沿って配列される前記基板上の第１区画領域（Ｓ１）と第２区画領域（Ｓ２）とに前記マスクのパターンを順次転写する走査露光方法において、前記第１区画領域（Ｓ１）の第１走査露光と前記第２区画領域（Ｓ２）の第２走査露光との間、前記第１走査露光終了後の前記第１方向の速度成分が零となる前記基板の前記第２方向の位置が、前記第１区画領域の前記第２方向の位置と前記第２区画領域の前記第２方向の位置との間になるように前記基板を移動することを特徴とする第９の走査露光方法である。これによれば、第１走査露光が終了すると、基板の第１方向の速度を減速しつつ第２方向への移動が行われ、この際、基板の第１方向の速度成分が零となる基板の第２方向の位置が、第１区画領域の第２方向の位置と第２区画領域の第２方向の位置との間になるように基板が移動される。従って、第１走査露光が終了すると、基板は曲線状（又は直線状）の経路に沿って第１及び第２方向に対し斜めに移動されることとなる。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
本発明は、第１１の観点からすると、マスク（Ｒ）と基板（Ｗ）とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向と直交する第２方向に沿って配列される前記基板上の第１区画領域（Ｓ１）と第２区画領域（Ｓ２）とに前記マスクのパターンを順次転写する走査露光方法において、前記第１区画領域（Ｓ１）の第１走査露光と前記第２区画領域（Ｓ２）の第２走査露光との間の前記基板の移動軌跡がほぼ放物線状となるように、前記第１走査露光後の前記基板の減速中、及び前記第２走査露光前の前記基板の加速中、前記第２方向の速度成分を零とすることなく前記基板を移動することを特徴とする第１０の走査露光方法である。これによれば、第１区画領域の第１走査露光と前記第２区画領域の第２走査露光との間の基板の移動軌跡がほぼ放物線状となり、しかも第２方向の速度成分を零とすることなく基板が移動されるので、基板が停止することがなく、オーバースキャン、ステッピング、及びプリスキャンの総所要時間（ショット間での基板の移動時間）はほぼ最短となる。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
本発明は、第１２の観点からすると、マスク（Ｒ）と基板（Ｗ）とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向と直交する第２方向に沿って配列される前記基板上の第１区画領域（Ｓ１）と第２区画領域（Ｓ２）とに前記マスクのパターンを順次転写する走査露光方法において、前記第１区画領域（Ｓ１）の第１走査露光と前記第２区画領域（Ｓ２）の第２走査露光との間、前記第１走査露光終了後の前記基板の前記第１方向の速度成分が零となる前に、前記基板の前記第２方向への加速を開始し、かつ前記基板の前記第２方向の速度成分が零となる前に、前記基板の前記第１方向への加速を開始することを特徴とする第１１の走査露光方法である。これによれば、第１区画領域の第１走査露光と第２区画領域の第２走査露光との間の基板の移動軌跡は、Ｕ字状あるいはそれに近い経路となる。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
本発明は、第１３の観点からすると、マスク（Ｒ）と基板（Ｗ）とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向とほぼ直交する第２方向に配列される前記基板上の第１及び第２区画領域（Ｓ１及びＳ２）にそれぞれ前記マスクのパターンを転写する走査露光方法において、前記第１区画領域の第１走査露光と前記第２区画領域の第２走査露光との間で前記基板を前記第２方向に移動するときに、前記基板の加速時と減速時とでその加速度の絶対値を異ならせることを特徴とする第１２の走査露光方法である。
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
本発明は、第１４の観点からすると、基板（Ｗ）上の区画領域毎にマスク（Ｒ）と前記基板とを同期移動して、前記基板上の複数の区画領域（Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、……）に前記マスクのパターンを順次転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査露光方法において、前記マスクの往復移動によって前記マスクのパターンが転写される前記基板上の２つの区画領域の走査露光間で前記基板を停止することなく移動することを特徴とする第１３の走査露光方法である。これによれば、基板上の順次マスクのパターンが転写される２つの区画領域（通常は隣接領域）の走査露光間で基板が停止することがないので、その部分に関してはよりスループットが向上する。
【手続補正３８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
本発明は、第１５の観点からすると、マスクと基板とを同期移動して、前記基板が同期移動される第１方向に直交する第２方向に沿って配列される前記基板上の第１区画領域と第２区画領域とに前記マスクのパターンを順次転写する走査露光方法において、少なくとも前記第１区画領域に対する走査露光に際して、前記マスク及び前記基板の少なくとも一方を、前記マスクと前記基板との同期移動に先立ってその加速度が徐々に零に収束するような加速度変化曲線に基づいて前記第１方向に沿って加速するとともに、前記同期移動の終了後に一定減速度で前記第１方向に沿って減速することを特徴とする第１４の走査露光方法である。
【手続補正４９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
本発明は、第１６の観点からすると、定盤（２２）と；前記定盤に対して相対移動が可能であるとともに基板（Ｗ１、Ｗ２）をそれぞれ保持する少なくとも２つの第１可動体（ＷＳＴ１、ＷＳＴ２）と；前記各第１可動体がその上部に配置されるとともに、前記定盤上に配置され、かつ前記定盤及び前記各第１可動体のそれぞれに対して相対移動する第２可動体（１３８）と；前記第２可動体に設けられ、前記各第１可動体を２次元平面内で駆動する駆動装置（４２ａ、４２ｂ）とを備え、前記各第１可動体の駆動の際の反力に応じて前記第２可動体が移動するように構成されていることを特徴とする第１のステージ装置である。
【手続補正５４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
この場合において、前記各第１可動体（ＷＳＴ１、ＷＳＴ２）の質量は前記第２可動体（１３８）の質量のほぼ１／９以下であり、前記定盤（２２）上で前記第２可動体を低応答周波数で駆動する第２の駆動装置（４４）を更に備えていても良い。かかる場合には、上記の如く、ステージ装置の重心を所定位置に保持することができるのに加え、例えば、いずれかの第１可動体が移動した場合、その反力により逆方向に第２可動体が移動する距離を１／１０以下にすることができる。また、第２可動体は第１可動体の加減速時の反力に対しては応答できない程度の低い応答周波数で第２の駆動装置によって定盤上で駆動されるので、前記各第１可動体の動きに影響を与えることなく、第２可動体を駆動することが可能になる。
【手続補正５５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
本発明は、第１７の観点からすると、マスクのパターンを基板上に転写する露光装置であって、本発明の第１のステージ装置を備え、前記マスクのパターンが転写される基板が前記ステージ装置を構成する前記各第１可動体に保持されることを特徴とする第２の露光装置である。
【手続補正５６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
この場合において、前記マスクのパターンを前記基板に投影する投影光学系を更に備える場合には、前記ステージ装置を構成する前記駆動装置が、前記各第１可動体にそれぞれ保持された基板に前記マスクのパターンを転写する際に、そのパターン転写の対象の基板を保持する前記第１可動体を前記マスクと同期して前記投影光学系に対して走査方向に駆動しても良い。
【手続補正５７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
本発明は、第１８の観点からすると、基板（Ｗ又はＷ１）上で隣接して配置される第１及び第２区画領域（Ｓ１及びＳ２）のそれぞれにマスク（Ｒ）のパターンを転写する露光装置であって、前記基板を保持する基板ステージ（ＷＳＴ、ＷＳＴ１又はＷＳＴ３）と；前記第１区画領域に対する第１露光と前記第２区画領域に対する第２露光との間で前記基板ステージを移動するときに、前記基板ステージの加速時と減速時とでその加速度の絶対値を異ならせる第１駆動装置（（４２，７８）又は（４２ａ、１６０））とを備える第３の露光装置である。
【手続補正５８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
本発明は、第１９の観点からすると、マスク（Ｒ）のパターンを基板（Ｗ１，Ｗ２）上に転写する露光装置であって、第１定盤（１３８）と；前記第１定盤上にそれぞれ配置される前記基板をそれぞれ保持する複数の基板ステージ（ＷＳＴ１、ＷＳＴ２又はＷＳＴ３、ＷＳＴ４）と；前記第１定盤が配置される第２定盤（２２）と；前記複数の基板ステージの少なくとも１つの移動による重心位置変動を抑制するように、前記第２定盤に対して前記第１定盤を相対移動可能に支持する支持装置（４４）とを備える第４の露光装置である。これによれば、いずれかの基板ステージが移動すると、その移動による反力により支持装置により支持された第１定盤が移動して、その基板ステージの重心移動による偏荷重を第１定盤の重心移動によりキャンセルすることができ、結果的に複数の基板ステージ、第１定盤及び第２定盤を含む系全体の重心位置を所定位置に保持できる。同様に、複数の基板ステージが同時に移動する場合には、それぞれの基板ステージの移動によって生じる反力の合力により、複数の基板ステージの重心移動による偏荷重を第１定盤の重心移動によりキャンセルするように支持装置に支持された第１定盤が移動され、結果的に複数の基板ステージ、第１定盤及び第２定盤を含む系全体の重心位置を所定位置に保持できる。従って、一つの基板ステージの動作が他の基板ステージに外乱として作用することがないように基板ステージ同士の動作の調整を行う必要がなくなるので、制御負担が軽減されるとともに、各基板ステージの位置制御性をともに高く維持することができる
【手続補正６８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
本発明は、第２０の観点からすると、少なくとも１つが物体を保持するように構成された複数の第１可動体と；前記各第１可動体の移動によって生じる反力に応じて移動する第２可動体とを備え、前記各第１可動体の質量は、前記第２可動体の質量のほぼ１／９以下であることを特徴とする第２のステージ装置である。
【手続補正６９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
本発明は、第２１の観点からすると、２次元平面内を移動する少なくとも２つの可動体と；前記各可動体に設けられ、前記２次元平面内で所定の第１軸及びこれに直交する第２軸の双方と交差する方向に沿って延びる第１反射面と；前記第１反射面に垂直に測長ビームを照射してその反射光を受光することにより前記各可動体の第３軸方向の位置を計測する計測装置と；前記計測装置の計測値に基づいて前記各可動体の前記第１軸及び前記第２軸で規定される直交座標系上の位置座標を求める演算装置と；を備えることを特徴とする第３のステージ装置である。
【手続補正７０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０１
【補正方法】削除
【補正の内容】