(57)【要約】  ガラス基板にひびやキズ、割れの生じない保持治具、該保持治具を用いた記録媒体用ガラス基板の製造方法、記録媒体用ガラス基板及び記録媒体を提供する。ガラス基板を支持する側部支持部材の断面形状が互いに平行な平坦部を有する保持治具を用いた記録媒体用ガラス基板の製造方法である。
2008078528.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板を化学強化液に浸漬し化学強化を行う工程で用いる前記ガラス基板を保持する保持治具において、
前記保持治具は、複数の支持部材と、該支持部材を取り付ける一対の固定部材とを有し、前記複数の支持部材は、前記ガラス基板を支持するための複数の溝を備えた、前記ガラス基板の下部を支持する下部支持部材と、前記ガラス基板の側部を支持する側部支持部材とからなり、
前記側部支持部材の溝の断面形状が互いに平行な平坦部を有することを特徴とする保持治具。
【請求項２】
前記側部支持部材の溝の入り口が面取りした形状であることを特徴とする請求の範囲第１項に記載の保持治具。
【請求項３】
前記側部支持部材の溝の互いに平行な平坦部の間隔が１〜２ｍｍであることを特徴とする請求の範囲第１項又は第２項に記載の保持治具。
【請求項４】
前記側部支持部材の溝の互いに平行な平坦部の何れか一方と、前記ガラス基板の側部との重なる領域が、０．５〜５ｍｍであることを特徴とする請求の範囲第１項乃至第３項の何れか１項に記載の保持治具。
【請求項５】
互いに対向配置された２本の前記側部支持部材間の前記ガラス基板の側部を指示する内側の間隔Ｌと、前記ガラス基板の外径Ｇとが、０．２ｍｍ≦Ｌ−Ｇ≦５．０ｍｍの関係にあることを特徴とする請求の範囲第１項乃至第４項の何れか１項に記載の保持治具。
【請求項６】
前記側部支持部材の溝の断面形状がコの字状であることを特徴とする請求の範囲第１項乃至第５項の何れか１項に記載の保持治具。
【請求項７】
前記下部支持部材の溝の断面形状がＶ字状であり、前記ガラス基板の外周端部の２カ所が面取り加工されており、該面取り加工後の２つの加工面のなす角度をθ２とした時、前記Ｖ字状の角度θ１が下記式の範囲であることを特徴とする請求の範囲第１項乃至第６項の何れか１項に記載の保持治具。
θ２＜θ１＜１７０°
【請求項８】
前記下部支持部材の溝の断面形状がＶ字状であり、前記ガラス基板の外周端部がラウンド加工がされており、前記Ｖ字状の角度θ１が９０°〜１７０°であることを特徴とする請求の範囲第１項乃至第６項の何れか１項に記載の保持治具。
【請求項９】
前記下部支持部材の溝の断面形状が円弧状であり、前記ガラス基板の外周端部の２カ所が面取り加工されており、前記ガラス基板の面取り加工された面取り部の外端が、前記溝の断面と接触することを特徴とする請求の範囲第１項乃至第６項の何れか１項に記載の保持治具。
【請求項１０】
前記下部支持部材の溝の断面形状が曲率半径Ｒ１の円弧状であり、前記ガラス基板の外周端部がラウンド加工がされており、該外周端部の曲率半径をＲ２とした時、Ｒ１がＲ２よりも大きいことを特徴とする請求の範囲第１項乃至第６項の何れか１項に記載の保持治具。
【請求項１１】
ガラス基板を化学強化する工程を有する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
請求の範囲第１項乃至第１０項の何れか１項の保持治具を用いて製造することを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項１２】
請求の範囲第１１項に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法をもちいて製造されることを特徴とする記録媒体用ガラス基板。
【請求項１３】
請求の範囲第１２項に記載の記録媒体用ガラス基板の表面に磁性膜を有することを特徴とする記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、保持治具、該保持治具を用いた記録媒体用ガラス基板の製造方法、記録媒体用ガラス基板及び記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、記録媒体用基板としては、デスクトップ用コンピュータやサーバなどの据え置き型の情報機器にはアルミニウム合金が使用され、ノート型コンピュータやモバイル型コンピュータなどの携帯型の情報機器にはガラス基板が一般に使用されていた。アルミニウム合金は変形しやすく、また硬さが不十分であるため研磨後の基板表面の平滑性が十分とは言えなかった。さらに、記録用ヘッドが機械的に磁気ディスクに接触する際、磁性膜が基板から剥離しやすいという問題もあった。そこで、変形が少なく、平滑性が良好で、かつ機械的強度の大きいガラス基板が、携帯型のみならず据え置き型の情報機器やその他のテレビ等の家庭用機器にも今後広く使用されていくものと予測されている。【０００３】
記録媒体用ガラス基板の機械的強度を向上させるために、化学強化処理が従来から広く行われている。この化学強化処理は、化学強化処理槽内に貯留された化学強化液中にガラス基板を浸漬させて、ガラス基板表面のアルカリ金属イオンを、そのアルカリ金属イオンよりも大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換することにより圧縮歪みを発生させ、機械的強度を向上させるものである。【０００４】
この化学強化処理を行う際に記録媒体用ガラス基板を保持する保持治具として、特許文献１に記載されているものが知られている。この保持治具は、３つの穴が形成された板状の側板に、ソロバン玉状の複数の突部を有する３本の軸状体が固定されたものである。これらの軸状体に形成される突部の間には、Ｖ字状の谷底部が形成され、これらの谷底部はガラス基板の外周部を支持することができる。そして、これらの軸状体はガラス基板の外周部の３箇所を支持することによってガラス基板の側面が軸状体の軸線方向と直交するように複数のガラス基板を保持できるようになっている。【０００５】
このような保持治具を用いて、ガラス基板を化学強化する際には、例えば、次のような方法が用いられる。複数のガラス基板を保持した保持治具を予め３００℃に加熱し、４００℃の化学強化処理液の入った化学強化処理槽に約３時間浸漬する。この後、ガラス基板を保持した保持治具を化学強化処理液から取りだし、２０℃の水槽に浸漬して急冷し約１０分間維持することでガラス基板表面の化学強化を行うことができる。
【特許文献１】特開２００１−１９５７２８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、特許文献１における保持治具の形状では、ガラス基板の側部２カ所を支持する支持部がＶ字状の形状となっている。この状態で化学強化され、化学強化処理液から取り出されると、保持治具の収縮によりガラス基板を側部２カ所で挟まれることがあり、ひびやキズ、割れが発生するという問題があった。【０００７】
従って、本発明が解決しようとする技術課題は、ガラス基板にひびやキズ、割れの生じない保持治具、該保持治具を用いた記録媒体用ガラス基板の製造方法、記録媒体用ガラス基板及び記録媒体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、本発明は以下の特徴を有するものである。【０００９】
１．
ガラス基板を化学強化液に浸漬し化学強化を行う工程で用いる前記ガラス基板を保持する保持治具において、
前記保持治具は、複数の支持部材と、該支持部材を取り付ける一対の固定部材とを有し、前記複数の支持部材は、前記ガラス基板を支持するための複数の溝を備えた、前記ガラス基板の下部を支持する下部支持部材と、前記ガラス基板の側部を支持する側部支持部材とからなり、
前記側部支持部材の溝の断面形状が互いに平行な平坦部を有することを特徴とする保持治具。【００１０】
２．
前記側部支持部材の溝の入り口が面取りした形状であることを特徴とする１に記載の保持治具。【００１１】
３．
前記側部支持部材の溝の互いに平行な平坦部の間隔が１〜２ｍｍであることを特徴とする１又は２に記載の保持治具。【００１２】
４．
前記側部支持部材の溝の互いに平行な平坦部の何れか一方と、前記ガラス基板の側部との重なる領域が、０．５〜５ｍｍであることを特徴とする１乃至３の何れか１項に記載の保持治具。【００１３】
５．
互いに対向配置された２本の前記側部支持部材間の前記ガラス基板の側部を指示する内側の間隔Ｌと、前記ガラス基板の外径Ｇとが、０．２ｍｍ≦Ｌ−Ｇ≦５．０ｍｍの関係にあることを特徴とする１乃至４の何れか１項に記載の保持治具。【００１４】
６．
前記側部支持部材の溝の断面形状がコの字状であることを特徴とする１乃至５の何れか１項に記載の保持治具。【００１５】
７．
前記下部支持部材の溝の断面形状がＶ字状であり、前記ガラス基板の外周端部の２カ所が面取り加工されており、該面取り加工後の２つの加工面のなす角度をθ２とした時、前記Ｖ字状の角度θ１が下記式の範囲であることを特徴とする１乃至６の何れか１項に記載の保持治具。【００１６】
θ２＜θ１＜１７０°
８．
前記下部支持部材の溝の断面形状がＶ字状であり、前記ガラス基板の外周端部がラウンド加工がされており、前記Ｖ字状の角度θ１が９０°〜１７０°であることを特徴とする１乃至６の何れか１項に記載の保持治具。【００１７】
９．
前記下部支持部材の溝の断面形状が円弧状であり、前記ガラス基板の外周端部の２カ所が面取り加工されており、前記ガラス基板の面取り加工された面取り部の外端が、前記溝の断面と接触することを特徴とする１乃至６の何れか１項に記載の保持治具。【００１８】
１０．
前記下部支持部材の溝の断面形状が曲率半径Ｒ１の円弧状であり、前記ガラス基板の外周端部がラウンド加工がされており、該外周端部の曲率半径をＲ２とした時、Ｒ１がＲ２よりも大きいことを特徴とする１乃至６の何れか１項に記載の保持治具。【００１９】
１１．
ガラス基板を化学強化する工程を有する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
１乃至１０の何れか１項の保持治具を用いて製造することを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。【００２０】
１２．
１１に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法をもちいて製造されることを特徴とする記録媒体用ガラス基板。【００２１】
１３．
１２に記載の記録媒体用ガラス基板の表面に磁性膜を有することを特徴とする記録媒体。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、保持治具の側部支持部材の溝の断面形状が互いに平行な平坦部を有する構成としたので、化学強化工程における温度変化に伴い、側部支持部材間の距離が収縮しても、ガラス基板にひびやキズ、割れを発生することがない。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】記録媒体用ガラス基板の製造工程の例を示すフロー図である。
【図２】図１における化学強化処理工程の内容を示すフロー図である。
【図３】（ａ）はガラス基板を収納し保持する一例の保持治具の上面、（ｂ）はガラス基板を収納し保持する一例の保持治具の断面図である。
【図４】従来の側部支持部材の溝形状とガラス基板を支持した状態を示す模式図である。
【図５】本発明に係る側部支持部材の溝形状とガラス基板を支持した状態を示す模式図である。
【図６】本発明に係る下部支持部材の溝の断面形状がＶ字状で、外周端部の２カ所が面取り加工されたガラス基板を支持した状態を示す模式図である。
【図７】ガラス基板の面取り部と記録面との境界部で下部支持部材の溝とガラス基板が接触している状態を示す模式図である。
【図８】下部支持部材のＶ字状の角度が、１７０°以上の時にガラス基板が横にずれやすくなる状態を示す模式図である。
【図９】本発明に係る下部支持部材の溝の断面形状がＶ字状で、外周端部がラウンド加工がされたガラス基板を支持した状態を示す模式図である。
【図１０】本発明に係る下部支持部材の溝の断面形状が円弧状で、外周端部の２カ所が面取り加工されたガラス基板を支持した状態を示す模式図である。
【図１１】本発明に係る下部支持部材の溝の断面形状が円弧状で、外周端部がラウンド加工されたガラス基板を支持した状態を示す模式図である。
【図１２】磁気ディスクの部分断面を含む斜視図である。
【符号の説明】
【００２４】
１  記録媒体用ガラス基板
２  磁性膜
ＤＩ  磁気ディスク
３０  保持治具
３１  ガラス基板
３２ａ  側部支持部材
３２ｂ  下部支持部材
３４ａ、３４ｂ  溝
３６  固定部材
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
本発明を図示の実施の形態に基づいて説明するが、本発明は該実施の形態に限らない。【００２６】
（製造工程）
記録媒体用ガラス基板の製造方法について説明する。図１に、記録媒体用ガラス基板の製造工程の例をフロー図で示す。まず、ガラス素材を溶融し（ガラス溶融工程）、溶融ガラスを下型に流し込み、上型によってプレス成形して円盤状のガラス基板前駆体を得る（プレス成形工程）。なお、円盤状のガラス基板前駆体は、プレス成形によらず、例えばダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスを研削砥石で切り出して作製してもよい。
プレス成形されたガラス基板前駆体には、必要によりコアドリル等で中心部に孔が開けられる（コアリング工程）。
次に、ガラス基板の両表面が研磨加工され、ガラス基板の全体形状、すなわちガラス基板の平行度、平坦度および厚みが予備調整される（第１ラッピング工程）。
次に、ガラス基板の両表面が再び研磨加工されて、ガラス基板の平行度、平坦度および厚みが微調整される（第２ラッピング工程）
次に、ガラス基板の外周端面および内周端面が研削され、外周端部及び内周端部が面取りされて、ガラス基板の外径寸法および真円度、孔の内径寸法、並びにガラス基板と孔との同心度が微調整される（内・外径加工工程）。その後、ガラス基板の内周端面が研磨されて微細なキズ等が除去され（内周端面加工工程）、次に、ガラス基板の外周端面が研磨されて微細なキズ等が除去される（外周端面加工工程）。【００２７】
次に、ガラス基板が洗浄された後、後述の化学強化液にガラス基板を浸漬してガラス基板に化学強化層を形成する（化学強化工程）。この後、ガラス基板の表面を精密に仕上げる研磨加工を行う（ポリッシング工程）。そして洗浄及び検査が行われ、製品としての記録媒体用ガラス基板が完成する。尚、化学強化層を形成する化学強化工程後、研磨加工を行うポリッシング工程があるが、この研磨加工前後においてのガラス基板の強度はほとんど変わらない。【００２８】
上記の化学強化工程の内容を図２のフロー図に示す。洗浄されたガラス基板は、予め加熱された（予熱工程）後、化学強化液に浸漬される（化学強化液浸漬工程）。化学強化液から取り出されたガラス基板は、水にて洗浄され（水浸漬工程）、乾燥（乾燥工程）される。【００２９】
化学強化工程において、一連の予熱工程から乾燥工程までの各工程を実際に行う場合、例えば、以下のようにする。まず、複数枚のガラス基板を保持した保持治具を準備し、ガラス基板を保持治具とともに順次、予熱炉に投入し、化学強化液槽に浸漬し、洗浄槽に浸漬し、乾燥炉に投入することで、化学強化の一連の処理をすることができる。【００３０】
複数枚のガラス基板を保持する保持治具の例を図３に示す。【００３１】
図３（ａ）は、ガラス基板３１を収納する側から保持治具３０を見た図である。図３（ｂ）は、ガラス基板３１を溝３４を設けている支持部材３２が保持している様子を示している。図３の保持治具３０は、ガラス基板３１の配列方向に等間隔で溝３４を複数個形成した２本の側部支持部材３２ａと１本の下部支持部材３２ｂの３本を、一対の固定部材３６で連結して構成している。この保持治具３０において、複数のガラス基板は、各ガラス基板が３本の支持部材３２ａ、３２ｂの同一平面内にある溝３４ａ、３４ｂによって３カ所を支持して保持し、支持部材３２の延在する方向に複数枚配列する。【００３２】
また、支持部材３２ａ、３２ｂの本数は３本に限定はしないが、ガラス基板３１に接触する部分が少なく、且つ、安定して保持できることから３本とすることが好ましい。【００３３】
各工程でガラス基板３１及びこれ保持する保持治具３０に加わる温度は、ガラス基板材料、化学強化液等により異なるが、例えば、おおよそ以下となる。予熱工程での予熱炉においては２００℃から６００℃、化学強化液浸漬工程での化学強化液槽においては２８０℃から６６０℃、水浸漬工程での洗浄槽においては３５℃から１００℃、乾燥炉においては１００℃から１５０℃である。また、各工程の間では、保持治具３０を上記の各炉また槽の間で室温下の空気中を移動させる必要がある。従って、ガラス基板３１及び保持治具３０は、上記の例から室温と６００℃程度といった急激な大きな温度差に晒されることになる。【００３４】
上記のような大きな温度差に晒される保持治具３０は、高温の時に比べ低温になると熱収縮を起こす。固定部材３６も収縮することで側部支持部材３２ａの２本の軸の間隔が縮まる。この時、図４に示す従来例では、側部支持部材３２ａの溝３４ａがＶ字状の溝であり、溝３４ａの端面とガラス基板の外周端部のエッジ部分と接触点Ａが熱収縮とともにスムーズに移動せず、ガラス基板３１に応力がかかり、割れやカケが発生するときがあった。【００３５】
そこで、このような問題を解決するために、保持治具３０の側部支持部材３２ａの溝３４ａの形状を図５（ａ）、（ｂ）に示すようにする。図５（ａ）は、ガラス基板を支持した状態の側部支持部材３２ａを上方から見た図であり、図５（ｂ）は、側部支持部材３２ａの断面形状である。【００３６】
図５（ｂ）に示すように側部支持部材３２ａの溝３４ａの断面形状が互いに平行な平坦部を有する形状であり、ガラス基板３１を挿入する溝の入り口が面取りした形状となっている。このような形状とすることで、固定部材３６が熱収縮し、２本の支持部材３２ａの軸間距離が縮んでも（図５（ａ）の矢印Ｓ）、ガラス基板３１の外周端部のエッジ部分が溝３４ａの側面に引っかかることがない。よって、ガラス基板３１に応力がかかることがなく、ひびやキズ、割れ等の発生を抑制することができる。また、ガラス基板３１の外周端部が平面状に面取りしたり、曲率を持たせたラウンド加工等を行っていても、同じような効果を得ることができる。【００３７】
また、側部支持部材３２ａの溝３４ａの断面形状の互いの平坦部の間隔Ｄは、１〜２ｍｍが好ましい。１ｍｍ未満になるとガラス基板を挿入しにくくなり、ガラス基板３１の外周端部にキズを付けやすくなるため、作業効率が悪くなる。また、２ｍｍを越えるとガラス基板３１のがたつきが大きくなり、隣り合うガラス基板同士で接触し、キズが発生しやすくなる。【００３８】
また、側部支持部材３２ａの溝３４ａの互いに平行な平坦部の何れか一方と、ガラス基板の側部との重なる領域（図５（ａ）のｄ）が、０．５〜５ｍｍであることが好ましい。      【００３９】
下部支持部材３４ｂが１本の場合、ガラス基板３１が側部支持部材３２ａのどちらかに偏ることがある。この時の図５（ａ）の重なる領域ｄは、側部支持部材３２ａの平坦部の長さｄ０となる。この重なる領域ｄが０．５ｍｍより小さい場合は、保持治具３０でガラス基板３１を搬送する時の揺れによってガラス基板３１が溝３２ａから外れやすくなり、ガラス基板３１の端面にキズが入る可能性がある。また、重なる領域ｄが５ｍｍより大きい場合は、化学強化液浸漬工程でガラス基板と保持治具の側部支持部材３２ａとの重なる領域に残存する化学強化液を、水浸漬工程で除去するのが困難になる場合がある。
また、側部支持部材３２ａの溝３４ａの断面形状は、コの字状であることが好ましい。コの字状にすることにより、ガラス基板３１の外周端部のエッジと溝３４ａとが強く接触しても、ガラス基板端部のひびやキズ、割れの発生を抑制することが出来る。コの字状における互いに平行な平坦部以外の底部の形状は、図５（ｂ）では、平坦な形状をしているが、側部支持部材３２ａの中心軸方向に凹形状でも良く、また、凸形状でも良い。また、底部は、Ｖ字状、円弧状でも良い。
また、図５（ａ）における２本の側部支持部材３２ａの内側距離Ｌとガラス基板３１の外径Ｇは、０．２ｍｍ≦Ｌ−Ｇ≦５．０ｍｍの関係にあることが好ましい。０．２ｍｍ未満だと、ガラス基板３１の外周端部と側部支持部材３２ａとの隙間が狭いため、ガラス基板３１を３２ａ間に挿入するとき、強い圧力がガラス基板３１にかかる場合があり、ガラス基板３１の端部にひびやキズ、割れを生じる恐れがある。また、５．０ｍｍを越えると、ガラス基板３１と側部支持部材３２ａとの間隔が広すぎるため、安定してガラス基板を保持できなくなる恐れがある。【００４０】
また、下部支持部材３２ｂについては、側部支持部材３２ａと同様に溝３４ｂの断面形状が互いに平行な平坦部を有する構成でも良いが、以下のような構成にするのが好ましい。
即ち、ガラス基板３１の外周端部の２箇所が面取り加工され、その加工面のなす角度をθ２としたとき、下部支持部材３２ｂに設けた溝の断面形状は、図６に示すようにＶ字状で、該Ｖ字状の角度θ１は、下記式の範囲が好ましい。【００４１】
θ２＜θ１＜１７０°
Ｖ字状の溝３４ｂのＶ字の角度θ１をこの範囲にすることで、ガラス基板３１の外周端部の面取り部３３と下部支持部材３２ｂとの接触する箇所が、面取り部３３の最も外側の部分Ｐ１で接触することになり、ガラス基板３１の記録面Ｓ１、Ｓ２と接触することがない。また、ガラス基板３１の外周端面３５（厚さＨの平坦部）が下部支持部材３２ｂの溝３４ｂに密着することもない。よって、記録媒体用ガラス基板の製造工程における化学強化工程を行っても、ガラス基板３１にキズや歪みを生じさせることが無く、また、接触部Ｐ１でわずかなキズが発生したとしても、記録面Ｓ１、Ｓ２をキズをつけることがなく、品質のよいガラス基板３１を製造することが出来る。【００４２】
また、Ｖ字の角度θ１が面取り角度θ２よりも小さい場合は、図７のようにガラス基板３１の面取り部３３と記録面Ｓ１、Ｓ２との境界部Ｐ２で溝３４ｂと接触することになり、接触部Ｐ２でわずかなキズが発生すると、記録面Ｓ１、Ｓ２をキズつけることがある。【００４３】
また、Ｖ字状の溝３４のＶ字の角度θ１が、１７０°以上になると、図８に示すように、横の溝とのピッチを広く取らないと、ガラス基板３１が横にずれやすくなり、ガラス基板３１が溝間の山を越えて隣の溝に移動し、隣り合うガラス基板と接触して記録面Ｓ１，Ｓ２をキズつけることがある。【００４４】
また、Ｖ字状の角度θ１は１１０°〜１６０°であることが好ましい。この範囲にすることで、より記録面Ｓ１、Ｓ２をキズつけることが少なくなる。【００４５】
また、図９に示すようにガラス基板３１の外周端部がラウンド加工がされている場合では、下部支持部材３２ｂの溝３４ｂのＶ字状の角度θ１が９０°〜１７０°が好ましい。このようにすることで、ガラス基板のラウンド加工された曲面部３６が、下部支持部材３２ｂの溝３４ｂの断面と接触することになり、曲面部３６と溝３４ｂとの接触部で、わずかにキズが発生したとしても記録面Ｓ１、Ｓ２をキズつけることがない。また、Ｖ字状の溝３４ｂのＶ字の角度θ１が、１７０°以上になると、横の溝とのピッチを広く取らないと、ガラス基板３１が横にずれやすくなり、ガラス基板３１が溝間の山を越えて隣の溝に移動し、隣り合うガラス基板と接触して記録面Ｓ１，Ｓ２をキズつけることがある。【００４６】
また、図１０に示すように下部支持部材３２ｂ溝３４ｂの断面形状が円弧状の場合、ガラス基板３１の外周端部の２カ所が面取り加工されており、ガラス基板３１の面取り加工された面取り部の外端Ｐ１が、支持部材３２ｂの溝３４ｂの円弧状の断面と接触するよう、溝３４ｂの断面が円弧状の形状であることが好ましい。即ち、ガラス基板３１の記録面Ｓ１、Ｓ２と面取り部との境界位置Ｐ２と下部支持部材３２ｂの溝３４ｂとが、接触しないように、溝３４ｂの曲率半径Ｒ１を設定している。このようにすることで、ガラス基板３１の面取り部の外端Ｐ１と溝３４ｂとの接触部で、わずかにキズが発生したとしても記録面Ｓ１、Ｓ２をキズつけることがない。
また、図１１に示すように、ガラス基板３１の外周端部がラウンド加工されている場合で、下部支持部材３２ｂの溝３４ｂを円弧状とした場合、ガラス基板３１の外周端部の曲率半径をＲ２、下部支持部材３２ｂの溝３４ｂの円弧状の曲率半径をＲ１としたとき、Ｒ１がＲ２よりも大きいことが好ましい。このようにすることでガラス基板３１の外周端部のラウンド加工面と溝３４ｂとが接触することとなり、該接触部で、わずかにキズが発生したとしても記録面Ｓ１、Ｓ２をキズつけることがない。また、下部支持部材３２ｂの溝３４ｂの断面の曲率半径Ｒ１がガラス基板３１の外周端部の曲率半径Ｒ２より小さいと、下部支持部材３２ｂがガラス基板３１を安定して保持することができない。また、Ｒ２がＲ１よりも大きい場合で、ガラス基板３１の厚さが薄く、溝３４ｂにはまる場合があるが、ガラス基板３１の記録面Ｓ１、Ｓ２とラウンド加工面との境界位置Ｐ３が、溝３４ｂと接触することとなり、該接触部で、わずかにキズが発生したとしても記録面Ｓ１、Ｓ２をキズつけることになり好ましくない。また、下部支持部材３２ｂの溝３４ｂの断面の曲率半径Ｒ１とガラス基板３１の外周端部の曲率半径Ｒ２とが等しい場合は、溝３４ｂとガラス基板３１の外周端部が面接触し、化学強化工程で高温にした後、低温に冷却するときガラス基板３１の外周端部に歪みが発生し、キズになることがある。【００４７】
以上のように側部支持部材３２ａの溝３４ａの形状を本発明にかかる構成とすることにより、ガラス基板３１のひびやキズ、割れ等を防止することができる。【００４８】
上記では保持治具３０を使用する工程を化学強化工程における化学強化液浸漬工程と、その後の水浸漬工程としているが、化学強化液浸漬工程の前の洗浄工程で水に浸漬する場合に使用することができる。【００４９】
保持治具３０を構成する材料としては、例えば、金属系では、工具鋼（０．３〜２．０％の炭素を含む鋼材）、純鉄、純アルミニウム、純チタン、チタン合金、マグネシウム合金、ジルコニウム、インコネルＨＸ（耐熱特殊鋼）、ニッケル、ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３１６、ＳＵＳ３１０Ｓ、ＳＵＳ３２９、ＳＵＳ４１０、ＳＵＳ４３０等がある。また、セラミックス系では、窒化珪素（Ｓｉ３Ｎ４）、炭化珪素（ＳｉＣ）、窒化アルミ、窒化ホウ素、アルミナ、ムライト（３Ａｌ２Ｏ３・２ＳｉＯ２）、ジルコニア（ＺｒＯ２）、コージエライト、マセライト（切削性セラミックス）等がある。更に、石英ガラスがある。これらの材料を用いて保持治具を構成する場合、保持治具を構成する各部材の熱膨張係数を考慮して保持治具の熱変形を抑えることが好ましい。【００５０】
上記の保持治具３０を構成する材料は、高温の化学強化液に対する耐食性が優れており、微小粉を生じない発塵性の低い材料がより好ましい。耐食性が優れていることで、保持治具３０の耐久性が良好となり、腐食による微小粉の発生が抑えられる。また、発塵性が低いことで、化学強化液や洗浄水に浸漬することによるガラス基板に付着する異物の発生を抑えることができる。【００５１】
（化学強化液浸漬工程）
化学強化液浸漬工程は、化学強化剤を溶融した化学強化液にガラス基板３１を浸漬させて、ガラス基板表層のアルカリ金属イオンを化学強化液のアルカリ金属イオンにイオン交換する。【００５２】
化学強化剤としては従来公知のものを使用でき、例えば、硝酸カリウム（ＫＮＯ３）、硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ３）、炭酸カリウム（Ｋ２ＣＯ３）などが挙げられ、これらを単独又は２種以上混合して使用する。【００５３】
化学強化剤は化学強化処理槽に所定量投入し、加熱することによって溶融して化学強化液となる。化学強化液の加熱温度は、イオン交換の速度やガラス基板のＴｇ（ガラス転移温度）などの点から２８０℃〜６６０℃の範囲が好ましく、より好ましくは３００℃〜４５０℃の範囲である。この高温側（上限値）がガラス転移温度Ｔｇより低い３００℃〜４５０℃の範囲とすることで、イオン交換の反応速度が遅すぎることなく、また、ガラス基板の形状に影響が生じない。【００５４】
ガラス基板３１を化学強化液に浸漬する時間は０．１時間〜数十時間の範囲が好ましい。また、本例に示しているように、ガラス基板３１を化学強化液に浸漬する前に、予め加熱しておくことが好ましい。予めガラス基板３１を加熱すると、化学強化液に浸漬した際に化学強化液の温度が低下し過ぎることがなく化学強化が効率的に行うことができる。【００５５】
強化層の厚みとしては、ガラス基板３１の強度向上とポリッシング工程の時間の短縮との兼ね合いから、５μｍ〜１５μｍ程度の範囲が好ましい。【００５６】
（水浸漬工程）
ガラス基板３１を化学強化液に浸漬した後、連続してガラス基板の表面の化学強化液をムラなく除去するために水に浸漬する。ガラス基板３１の全体を水に浸漬することで化学強化液がガラス基板上に部分的に存在することが無く、部分的に化学強化が進むことがなくなる。このため、化学強化にムラがないため、ガラス基板３１に一様な強度を持たせることができる。【００５７】
ガラス基板３１の表面から化学強化液や化学強化液を成す塩の結晶物は、浸漬する水の温度を高くするほどより短時間で効率よく除去することができる。こうした水の温度は、大気圧下で、３５℃から１００℃が好ましい。また、ガラス基板を水に浸漬する時間は、１秒以上が好ましい。１秒未満であると、ガラス基板上の化学強化液を十分に除去できないため化学強化液がガラス基板上に残り、強化ムラが生じる。水に浸漬する時間の上限は、特に制限はなく、生産性を考慮して適宜決めればよい。【００５８】
また、水の温度と化学強化液との温度差により水浸漬工程においてガラス基板のひび、割れが発生しないように温度差を緩和するために、化学強化液浸漬工程と水浸漬工程との間でガラス基板３１を冷却する冷却工程を設けてもよい。【００５９】
（ガラス基板）
化学強化されるガラス基板３１としては特に限定はないが、二酸化ケイ素、酸化ナトリウム、酸化カルシウムを主成分としたソーダライムガラス；二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、Ｒ２Ｏ（Ｒ＝Ｋ、Ｎａ、Ｌｉ）を主成分としたアルミノシリケートガラス；ボロシリケートガラス；酸化リチウム−二酸化ケイ素系ガラス；酸化リチウム−酸化アルミニウム−二酸化ケイ素系ガラス；Ｒ’Ｏ−酸化アルミニウム−二酸化ケイ素系ガラス（Ｒ’＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ又はＢａ）を使用することができ、これらガラス材料に酸化ジルコニウムや酸化チタン等を添加したものであってもよい。【００６０】
またガラス基板３１の大きさに限定はなく２．５インチ，１．８インチ、１インチ、０．８５インチあるいはそれ以下の小径ディスクにも本発明の方法を適用することができ、またその厚さが２ｍｍや１ｍｍ、０．６３ｍｍ、あるいはそれ以下といった薄型のものにも適用することができる。【００６１】
化学強化工程に提供されるガラス基板３１において、主表面および端面部分の粗さに特に限定はないが、ガラス基板３１の主表面の表面粗度は、Ｒｍａｘ（最大高さ）が１０ｎｍ以下、Ｒａ（中心線平均粗さ）が１．０ｎｍ以下であるのが好ましい。また端面の表面粗度は、Ｒｍａｘが０．０１μｍ〜１μｍの範囲、Ｒａが０．００１μｍ〜０．８μｍの範囲であるのが好ましい。表面研磨されたガラス基板３１を化学強化すると、強化層を均一に形成することができるようになる。【００６２】
（記録媒体）
次に、これまで説明した記録媒体用ガラス基板を用いた記録媒体について説明する。この記録媒体用ガラス基板を用いると、耐久性および高記録密度が実現される。以下、図面に基づき記録媒体について説明する。【００６３】
図１２は磁気ディスクの斜視図である。この磁気ディスクＤＩは、円形の記録媒体用ガラス基板１の表面に磁性膜２を直接形成されている。磁性膜２の形成方法としては従来公知の方法を用いることができ、例えば磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂を基板上にスピンコートして形成する方法や、スパッタリング、無電解めっきにより形成する方法が挙げられる。スピンコート法での膜厚は約０．３μｍ〜１．２μｍ程度、スパッタリング法での膜厚は０．０４μｍ〜０．０８μｍ程度、無電解めっき法での膜厚は０．０５μｍ〜０．１μｍ程度であり、薄膜化および高密度化の観点からはスパッタリング法および無電解めっき法による膜形成が好ましい。【００６４】
磁性膜に用いる磁性材料としては、特に限定はなく従来公知のものが使用できるが、高い保持力を得るために結晶異方性の高いＣｏを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でＮｉやＣｒを加えたＣｏ系合金などが好適である。具体的には、Ｃｏを主成分とするＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔや、ＣｏＮｉＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔＴａ、ＣｏＣｒＰｔＢ、ＣｏＣｒＰｔＳｉＯなどが挙げられる。磁性膜は、非磁性膜（例えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、ＣｒＶなど）で分割しノイズの低減を図った多層構成（例えば、ＣｏＰｔＣｒ／ＣｒＭｏ／ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒＰｔＴａ／ＣｒＭｏ／ＣｏＣｒＰｔＴａなど）としてもよい。上記の磁性材料の他、フェライト系、鉄−希土類系や、ＳｉＯ２、ＢＮなどからなる非磁性膜中にＦｅ、Ｃｏ、ＦｅＣｏ、ＣｏＮｉＰｔ等の磁性粒子を分散された構造のグラニュラーなどであってもよい。また、磁性膜は、内面型および垂直型のいずれの記録形式であってもよい。【００６５】
また、磁気ヘッドの滑りをよくするために磁性膜の表面に潤滑剤を薄くコーティングしてもよい。潤滑剤としては、例えば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。【００６６】
さらに必要により下地層や保護層を設けてもよい。磁気ディスクにおける下地層は磁性膜に応じて選択される。下地層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、Ｎｉなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。Ｃｏを主成分とする磁性膜の場合には、磁気特性向上等の観点からＣｒ単体やＣｒ合金であることが好ましい。また、下地層は単層とは限らず、同一又は異種の層を積層した複数層構造としても構わない。例えば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、ＮｉＡｌ／Ｃｒ、ＮｉＡｌ／ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ／ＣｒＶ等の多層下地層としてもよい。【００６７】
磁性膜の摩耗や腐食を防止する保護層としては、例えば、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、シリカ層などが挙げられる。これらの保護層は、下地層、磁性膜など共にインライン型スパッタ装置で連続して形成できる。また、これらの保護層は、単層としてもよく、あるいは、同一又は異種の層からなる多層構成としてもよい。なお、上記保護層上に、あるいは上記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。例えば、上記保護層に替えて、Ｃｒ層の上にテトラアルコキシシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層を形成してもよい。【００６８】
以上、記録媒体の一実施態様として磁気ディスクについて説明したが、記録媒体はこれに限定されるものではなく、光磁気ディスクや光ディスクなどにも本発明のガラス基板を用いることができる。
【実施例】
【００６９】
（実施例１〜１０）
化学強化を行うガラス基板として、外径φ１＝６５ｍｍ、内径φ２＝２０ｍｍ、板厚ｄ＝０．６３５ｍｍのアルミノシリケートガラス基板を準備し、外周端部の２カ所をを図６に示すように面取り加工した。端面に平坦部厚さＨ＝０．３ｍｍを残して、面取り角度９０°のものを作成した。また、保持治具としては、１本の下部支持部材と２本の側部支持部材を用いて、ガラス基板を保持する保持治具を用いた。側部支持部材の断面形状は、図５に示すコの字状とし、外径１４ｍｍ、溝部外径７ｍｍ、平坦部の間隔Ｄ及び平坦部の長さｄ０を表１に示す値とした。各溝のピッチは６．５ｍｍとした。下部支持部材の溝形状は、図６に示す形状のものを用い、Ｖ字の角度θ１を１１０°とした。下部支持部材の外径は、φ１４ｍｍである。保持治具を構成する材料は、すべてＳＵＳ３０４を用いた。【００７０】
上記のガラス基板１００枚を保持治具に収納し、予め３５０℃に加熱後、化学強化液に１５分間浸漬した。化学強化液は、ＮａＮＯ３とＫＮＯ３とを質量比１：９の割合とした化学強化剤を化学強化槽に投入し３３０℃に加熱したものとした。ガラス基板と側部指示部材との重なり領域ｄは、ガラス基板が２本の側部支持部材の何れかに偏り、平坦部の長さｄ０となって重なっていた。【００７１】
化学強化液に浸漬した後、化学強化した１００枚のガラス基板を保持治具に収納した状態で６０℃のアルカリ金属イオンを含む水に５分間浸漬し、その後乾燥した。【００７２】
保持治具よりガラス基板を取りだして、ガラス基板を目視またはルーペを用いた目視にてひび、割れ、色変化、化学強化液の残存の有無を確認した。１００枚中１枚でもひび、割れの発生したものを×、１００枚中１枚でも色変化しているものを△、１００枚すべてのガラス基板にひび、割れ、色変化のないものを○、化学強化液の残存している物を×、わずかに残存しているものを△、残存のない物を○として、評価した。×評価は、記録媒体用ガラス基板としては、使用できないレベルであり、△、○評価は、使用できるれべるである。
（比較例１）
比較例１としては、側部支持部材の溝を図４に示すＶ字状でθを９０°とした他は、実施例３と同様の条件に作成し、評価した。【００７３】
表１に評価結果を示す。【００７４】
【表１】
2008078528.tif 000003
【００７５】
表１の結果において、実施例３と比較例１とを比較すると、比較例１においては、側部支持部材の断面形状がＶ字状であるため、ガラス基板にキズ、割れ等が発生しているのに比べ、実施例３のように側部支持部材の断面形状が、互いに平行な平坦部を有する形状とすることで、キズ、割れの発生のない良好なガラス基板を製造できることがわかる。また、実施例１〜５を比較すると、側部支持部材の互いに平行な平坦部の間隔Ｄは、１〜２ｍｍが好ましいことがわかる。また、実施例６〜１０を比較すると、側部支持部材とガラス基板との重なる領域は、０．５〜５ｍｍが好ましいことがわかる。
【図１】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2008078528.tif 000007
【図８】
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【図９】
2008078528.tif 000009
【図１０】
2008078528.tif 000010
【図１１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図１２】
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【国際調査報告】
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