Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月26日(2004.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
骨髄細胞に網状赤血球および赤血球の産生を増加させるインビボの生物学的活性を有するエリスロポエチンムテインであって、Ａｓｎ３８およびＡｓｎ８３においてＮ−グリコシル化されているがＡｓｎ２４においてＮ−グリコシル化されていないことを特徴とする、エリスロポエチンムテイン。
【請求項２】
Ｎ−末端アミノ基および／またはＬｙｓ２０のε−アミノ基において低級アルコキシポリ（エチレングリコール）基に結合することを特徴とする、請求項１に記載のエリスロポエチンムテイン。
【請求項３】
各ポリ（エチレングリコール）部分の平均分子量が約５キロダルトン〜約４０キロダルトンである、請求項２に記載のエリスロポエチンムテイン。
【請求項４】
各ポリ（エチレングリコール）部分の平均分子量が約３０キロダルトンである、請求項２に記載のエリスロポエチンムテイン。
【請求項５】
ポリ（エチレングリコール）部分がメトキシによりキャップされている、請求項２〜４のいずれか１項に記載のエリスロポエチンムテイン。
【請求項６】
配列番号１または配列番号２に示されるアミノ酸配列を有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載のエリスロポエチンムテイン。
【請求項７】
骨髄細胞に網状赤血球および赤血球の産生を増加させるインビボの生物学的活性を有するエリスロポエチンムテインであって、Ａｓｎ３８およびＡｓｎ７４においてＮ−グリコシル化されているがＡｓｎ２４においてＮ−グリコシル化されていないことを特徴とするエリスロポエチンムテインと、薬学的に許容され得る緩衝剤とを含む、水性組成物。
【請求項８】
前記エリスロポエチンムテインがＮ−末端アミノ基および／またはＬｙｓ２０のε−アミノ基において低級アルコキシポリ（エチレングリコール）基に結合することを特徴とする、請求項７に記載の水性組成物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載のムテインまたは組成物と、薬学的に許容され得る賦形剤とを含む医薬組成物。
【請求項１０】
慢性腎不全（ＣＲＦ）患者における貧血およびＡＩＤＳに関する疾患の治療または予防用の、ならびに化学療法を受けている癌患者の治療用の、薬剤を調製するための、請求項１〜８のいずれか１項に記載のムテインまたは組成物の使用。
【請求項１１】
エリスロポエチンムテインの製造方法であって、保持されたＡｓｎ２４およびＧｌｙ２８を有するエリスロポエチンのアミノ酸１〜２８からなるＮ−末端エリスロポエチン断片と、Ａｓｎ３８およびＡｓｎ８３においてグリコシル化されると共に保持されたＣｙｓ２９を有するエリスロポエチンのアミノ酸２９〜１６５または１６６からなるＣ−末端エリスロポエチン断片とを、Ｇｌｙ２８とＣｙｓ２９との間の化学的結合により結合させ、そしてエリスロポエチンムテインを単離することを特徴とする方法。
【請求項１２】
前記Ｎ−末端断片がエリスロポエチン配列のＮ−末端および／またはリシン２０においてＰＥＧ化される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記Ｎ−末端断片が化学的合成により製造される、請求項１１または１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記Ｃ−末端断片が組換え遺伝子発現により製造される、請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月11日(2004.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
癌、炎症または炎症関連障害を処置するための請求項１−９の何れかに記載の化合物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
癌の処置のための請求項１１に記載の化合物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
炎症の処置のための請求項１１に記載の化合物。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
炎症関連障害の処置のための請求項１１に記載の化合物。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
炎症関連障害が関節炎である請求項１４に記載の化合物。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
炎症関連障害が痛みである請求項１４に記載の化合物。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１７】
炎症関連障害が発熱である請求項１４に記載の化合物。
【手続補正８】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
プロテインキナーゼ阻害剤である請求項１−９の何れかに記載の化合物。
【手続補正９】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１９】
前記プロテインキナーゼが、異なったアイソフォームのプロテインキナーゼＣ、サイクリン依存性キナーゼ（ｃｄｋ）、Ｍｅｔ、ＰＡＫ−４、ＰＡＫ−５、ＺＣ−１、ＳＴＬＫ−２、ＤＤＲ−２、Aurora １、Aurora ２、Ｂｕｂ−１、ＰＬＫ、Ｃｈｋｌ、Ｃｈｋ２、ＨＥＲ２、ｒａｆｌ、ＭＥＫ１、ＭＡＰＫ、ＥＧＦ−Ｒ、ＰＤＧＦ−Ｒ、ＦＧＦ−Ｒ、ＩＧＦ−Ｒ、ＶＥＧＦ−Ｒ、ＰＩ３Ｋ、ｗｅｅ１キナーゼ、Ｓｒｃ、Ａｂｌ、Ａｋｔ、ＩＬＫ、ＭＫ−２、ＩＫＫ−２、Ｃｄｃ７、ＮｅｋＩＫＫ１、ＩＫＫ２、ＩＫＫα／ＩＫＫβヘテロ二量体、ＴＢＫおよびＩＫＫｉから成る群より選択される請求項１８に記載の化合物。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２０】
前記プロテインキナーゼが、ＩＫＫ２、ＩＫＫα／ＩＫＫβヘテロ二量体、ＴＢＫおよびＩＫＫｉから成る群より選択される請求項１８に記載の化合物。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２１】
前記プロテインキナーゼがＩＫＫ２である請求項１８に記載の化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月17日(2004.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
ブッシュ（２１）は、垂直ピストン（１５）の反対側に面したスラスト軸受（２７）の側面上に支持リング（２４）を有し、この支持リング（２４）は、垂直ピストン（１５）用の運動ストッパを形成することを特徴とする請求項１又は２に記載の舵。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
このときに発生する船腹方向への力の伝達が、滑りスイベルピストン関節のこの構成に基づいて不可能である。その結果、大きい摩損が発生し得ない。
舵又は舵の可動部分の自由度が、この構造によって大幅に大きくなる。これらの自由度は、高いエッジストレスが軸受の表面に必要以上に作用しないことを保証する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
図１中に示された舵は、主舵２０から構成される。この主舵は、この主舵に旋回可能に配置され制御される安定板１０を有する。この安定板１０は、滑りスイベルピストン関節１００を有する。この滑りスイベルピストン関節１００は、ヒンジボルト１４及び図１中で目視可能な付随する水平ピストン１１と垂直ピストン１５の軸受ケース１２，１６を有する自在継手から主に構成される。水平ピストン１１と垂直ピストン１５は、図２中に一緒に示されている。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月21日(2004.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
国際公開公報第01/49262号は、好ましくはグリセロールまたはプロピレングリセロールエステルに基づく油を含む親油性相を含んだフェノフィブラートのプレ乳濁液濃縮物と; 親油性界面活性剤および親水性併用界面活性剤およびさらに、プレ濃縮物を安定化するためのビタミンEを含んだ乳化システムとを記載している。これらの組成物では、フェノフィブラートは油相に溶解されている。この製剤はさらに界面活性剤としてビタミンE TPGSを含んでもよい。国際公開公報第01/49262号には、ビタミンEアセテートの使用が薬物の溶解と結晶化の阻害を助け、従ってエタノールまたはプロピレングリコールの使用を除くと報告されている。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月28日(2004.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生物学的体液あるいは対照の第１の医学的に重要な成分の濃度を定量する方法であって、前記生物学的体液あるいは対照は、第１成分の濃度の定量に影響を及ぼす第２成分を含み、前記方法は、その生物学的体液かあるいは対照に対して第１の測定を行うことを包含し、前記第１の測定は、第１成分の濃度および第２成分の少なくとも１つの存在および濃度の双方とともに変化し；生物学的体液あるいは対照に対して第２の測定を行うことを包含し、その中では、第２の測定も、第２成分の少なくとも１つの存在および濃度の指示を展開するために、第２成分の少なくとも１つの存在および濃度とともに変化し；および第一の測定により指示された第１成分の濃度から、第２成分の指示された存在および濃度を表示する量を除去することを含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
第２の測定は、ヘマトクリットのグルコースにきわめて無感応な尺度であることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
第１の測定は、グルコース濃度のヘマトクリット感応性尺度であることを特徴とする請求項１または２記載の方法。 
【請求項４】
前記第２の測定は、そこに適用されるサンプルを用いたテスト細片のキャパシタンス測定であることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
電流は、前記第１測定として測定され、前記電流とコットレル電流との間の欠損は、第２成分の存在あるいは濃度を表すキャパシタンスに帰せられ、前記電流は、第１に医学的に重要な成分の濃度を定量するために、電流測定から除去されるキャパシタンスに帰せられることを特徴とする請求項１記載の方法。 
【請求項６】
生物学的体液あるいは対照（４２）の第１の医学的に重要な成分（例えばグルコース）の濃度を定量する装置であって、前記生物学的体液あるいは対照（４２）は、第１成分の濃度の定量に影響を及ぼす第２成分（例えば血球）を含み、前記装置は、その生物学的体液かあるいは対照（４２）に対して第１の測定を行うためのデバイスを含み、この第１の測定は、第１成分の濃度および第２成分の少なくとも１つの存在および濃度（例えばヘマトクリット）の双方とともに変化し；生物学的体液あるいは対照（４２）に対して第２の測定を行うためのデバイスを含み、その中では、第２の測定は、第２成分の少なくとも１つの存在および濃度の指示を展開するために、第２成分の少なくとも１つの存在および濃度とともにのみ変化し；さらに第１の測定により指示された第１成分の濃度から、指示された第２成分の存在あるいは濃度を表示する量を除去するためのデバイスを含むことを特徴とする装置。
【請求項７】
血液、血液画分あるいは対照（４２）に対して第１の測定を行うための装置であって、この第１の測定は、グルコースの濃度および血液、血液画分あるいは対照（４２）の濃度（例えばヘマトクリット）の双方とともに変化し、第２の測定は、血液、血液画分あるいは対照（４２）中の血球の濃度とともにのみ主として変化することを特徴とする請求項６記載の装置。 
【請求項８】
前記第１測定は、電流測定であり、また前記電流とコットレル電流との間の欠損は、第２成分の存在あるいは濃度を表すキャパシタンスに帰せられ、前記電流は、第１に医学的に重要な成分の濃度を定量するために電流測定から除去されるキャパシタンスに帰せられ、そして前記欠損は、前記第１の医学的に重要な成分の濃度を定量するために、電流測定から除去されることを特徴とする請求項６記載の装置。 
【請求項９】
生物学的体液あるいは対照のサンプルを検査する時に、生物学的体液あるいは対照の第１および第２の医学的に重要な成分の濃度を実質的に同時に定量する方法であって、前記方法は、生物学的体液あるいは対照のサンプルの電気的等価回路モデルと生物学的体液あるいは対照を検査する装置を開発することを包含し；電気回路モデルの少なくとも第１素子を同定することを包含し、その挙動では、前記少なくとも第１素子は、第２成分の濃度とは相対的に独立して第１成分の濃度とともに変化し；電気回路モデルの少なくとも第２素子を同定することを包含し、その挙動では、前記少なくとも第２素子は、
−第１成分の濃度とは相対的に独立して第２成分の濃度とともに変化するか、あるいは、
−第１成分の濃度と第２成分の濃度とともに変化し；検査時に少なくとも第１素子と少なくとも第２素子の挙動を検査することを包含し；および少なくとも第１素子と少なくとも第２素子の挙動を別個に検査することにより、第１成分および第２成分の双方の濃度を定量することを含むことを特徴とする方法。
【請求項１０】
サンプルを検査する時に、生物学的体液あるいは対照の第１および第２の医学的に重要な成分の濃度を実質的に同時に定量する装置であって、サンプルを検査するための装置と電気的等価回路モデルにより特徴付けられるサンプルの組み合わせが、少なくとも第１素子を包含し、その挙動では、前記少なくとも第１素子は、第２成分の濃度とは相対的に独立して第１成分の濃度とともに変化し；前記電気的等価回路モデルは、さらに少なくとも第２素子を包含し、その挙動では、前記少なくとも第２素子は、
−第１成分の濃度とは相対的に独立して第２成分の濃度とともに変化するか、あるいは、
−第１成分と第２成分の双方の濃度とともに変化し；前記装置は、検査時に少なくとも第１素子と少なくとも第２素子の挙動を別個に検査するためのデバイスを包含し、かつ少なくとも第１素子と少なくとも第２素子の挙動を別個に検査することにより、第１成分および第２成分の双方の濃度を定量することを特徴とする装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月12日(2005.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光モニタ（１０）において、
信号入力ポート、混合信号入力部、第１の出力ポート（１７）、及び第２の出力ポート（１８）を有する偏光依存ビームスプリッタ（１２）であって、
前記信号入力ポートは、第１及び第２の直交偏光成分を有する入力光信号を受信するよう構成され、
前記混合信号入力部は、前記入力光信号の前記第１及び第２の直交偏光成分にそれぞれ平行な第１及び第２の偏光成分を有する混合光信号を受信するよう構成され、
前記偏光依存ビームスプリッタ（１２）は、前記第１及び第２の出力ポート（１７，１８）にそれぞれ第１及び第２の出力信号を生成し、
前記第１の出力信号は、前記入力光信号と前記混合光信号との前記第１の偏光成分の和を含み、
前記第２の出力信号は、前記入力光信号と前記混合光信号との前記第２の偏光成分の和を含むことからなる、偏光依存ビームスプリッタ（１２）と、
前記第１及び第２の出力光信号を受信し、その信号から電気信号を生成するための第１及び第２の光検出器（１５，１６）と、
前記混合光信号を生成し、前記混合光信号を前記混合信号入力部に結合するための混合光信号の光源（１３，１９）と、
前記入力光信号の少なくとも２つの光学的特性を示す信号を生成するためのプロセッサ（１４）
とを備える、光モニタ（１０）。
【請求項２】
モニタ（５７）を備える信号補償回路（５０）において、該モニタが、
信号入力ポート、混合信号入力部、第１の出力ポート（１７）、及び第２の出力ポート（１８）を有する偏光依存ビームスプリッタ（１２）であって、
前記信号入力ポートは、第１及び第２の直交偏光成分を有する入力光信号を受信するよう構成され、
前記混合信号入力部は、前記入力光信号の前記第１及び第２の直交偏光成分にそれぞれ平行な第１及び第２の偏光成分を有する混合光信号を受信するよう構成され、
前記偏光依存ビームスプリッタ（１２）は、前記第１及び第２の出力ポート（１７，１８）にそれぞれ第１及び第２の出力信号を生成し、
前記第１の出力信号は、前記入力光信号と前記混合光信号との前記第１の偏光成分の和を含み、
前記第２の出力信号は、前記入力光信号と前記混合光信号との前記第２の偏光成分の和を含むことからなる、偏光依存ビームスプリッタと、
前記第１及び第２の出力光信号を受信し、その信号から電気信号を生成するための第１及び第２の光検出器（１５，１６）と、
前記混合光信号を生成し、前記混合光信号を前記混合信号入力部に結合するための混合光信号の光源（１３，１９）と、
前記入力光信号の位相を波長の関数として変化させるための位相補償器（５３）
とを備える、信号補償回路（５０）。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月7日(2005.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンコーダ用のスイッチ素子であって、基部及び該基部上の少なくとも１つのエンコードトラックを有し、該エンコードトラックは連続的に構成された伝導性部位を有し、該伝導性部位はソルダーマスク材料の非伝導性部位により分離され、前記伝導性部位及び前記非伝導性部位の境界が実質的に平坦かつ円滑である、スイッチ素子。
【請求項２】
前記エンコードトラックが環状である、請求項１に記載のスイッチ素子。
【請求項３】
少なくとも１つの付加的エンコードトラックをさらに有し、該付加的エンコードトラック及び前記エンコードトラックは互いに同心かつ環状であって径方向に離れて配置される、請求項１に記載のスイッチ素子。
【請求項４】
前記伝導性部位が、金からなる露出した可動子接触面を有する、請求項１に記載のスイッチ素子。
【請求項５】
エンコーダ用のスイッチ素子の作製方法であって、前記スイッチ素子は、連続的に構成されるとともに伝導性部位及び非伝導性部位が交互に入れ替わるエンコードトラックを有し、前記非伝導性部位を画定するソルダーマスク材料のパターン配列の沈着によって前記非伝導性材料を形成するステップと、前記ソルダーマスク材料を実質的に硬化させるステップとを有する、作製方法。
【請求項６】
前記伝導性部位が前記非伝導性部位と同じ高さになるように、前記伝導性部位をニッケルで鍍金した後に金で鍍金するステップであって、それにより前記伝導性部位及び前記非伝導性部位の境界が実質的に平坦かつ円滑になる、ステップをさらに有する、請求項５に記載の作製方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
次に露出した伝導性の銅部位は、厚さ数ミクロンのニッケルコーティングにより鍍金され、続いて、好ましくは金の、厚さ約０．２５ミクロンのフィルムにより鍍金される。それにより、図５に示されるように、可動子が接触する伝導性部位３１がトラック１７及び１８上に形成され、他の露出した銅表面上に伝導性表面３２が形成される。円滑かつ耐腐食性のニッケル−金の層が側部と当接関係を有して形成され、かつ、この層が隣接するソルダーマスクの非伝導性領域の上面と実質的に正確に同じ高さになるように、鍍金工程が制御される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
完成されたスイッチ素子１０の上面を図３に示す。環状トラック１７及び１８は、交互に入れ替わる伝導性部位及び非伝導性部位の環状パターン３１及び３３を画定し、これら２つのトラックの伝導性部位は、ロータリーエンコーダに通例であるように、径方向に整合していない。伝導性部位と非伝導性部位との間に明瞭に規定されたマージンがあるが、トラックの表面は非常に円滑である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、ロータリーポジション又はシャフトポジションエンコーダのためのスイッチ素子に関して説明されているが、交互に入れ替わる伝導性領域及び非伝導性領域が線形パターンにて構成されるリニアエンコーダにも等しく使用できる。本発明により、スイッチ素子の迅速かつ正確な製造が可能になり、伝導性領域と非伝導性領域との間の水平又は鉛直方向のずれは殆ど又は全くない。可動子の跳ねは実質的に排除され、スイッチ素子及び可動子の摩耗も同様に排除される。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月20日(2004.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの実質的に球形の基体を備え、前記少なくとも１つの球形の基体が、任意選択で、レセプター結合材料で被覆されており、
さらに、前記球形の基体に付着した少なくとも１つのレセプターを備え、前記少なくとも１つのレセプターが、リガンドに結合してレセプター−リガンド複合体を形成する能力を有し、前記レセプター−リガンド複合体の形成によって信号が生み出され、
さらに、液晶材料を含む増幅機構を備え、前記増幅機構が、レセプター−リガンド複合体の形成時に前記信号を増幅する
リガンド検出装置。
【請求項２】
前記実質的に球形の基体が非多孔質である、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記少なくとも１つのレセプターが、前記実質的に球形の非多孔質基体の外表面に付着している、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記実質的に球形の基体が多孔質である、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記少なくとも１つのレセプターが、（ｉ）前記実質的に球形の多孔質基体の外表面と（ｉｉ）前記実質的に球形の多孔質基体の細孔の少なくとも一方に付着している、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記少なくとも１つのレセプターが、前記実質的に球形の多孔質基体の外表面に付着している、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記少なくとも１つのレセプターが、前記実質的に球形の多孔質基体の細孔に付着している、請求項５に記載の装置。
【請求項８】
複数のレセプターが、前記実質的に球形の多孔質基体の表面及び細孔内に付着し、かつ前記実質的に球形の多孔質基体の表面及び細孔内にランダムに分布している、請求項５に記載の装置。
【請求項９】
液晶材料が、サーモトロピック液晶材料及びリオトロピック液晶材料からなるグループから選択された、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
液晶材料がリオトロピック液晶材料である、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
リオトロピック液晶材料がリオトロピック・クロモニック液晶材料である、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
液晶材料がサーモトロピック液晶材料である、請求項９に記載の装置。
【請求項１３】
実質的に球形の基体が、（ｉ）ポリイオン、ポリアルケン、ポリアクリラート、ポリメタクリラート、ポリビニル、ポリスチレン、ポリカーボナート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、ポリシロキサン、ポリシラン、ポリエーテル及びポリカルボキシラートからなるグループから選択されたポリマー材料と、（ｉｉ）ガラス、ケイ素及びコロイド金からなるグループから選択された無機材料とからなるグループから選択された材料から作られている、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
ポリマー材料がポリスチレン、無機材料がガラスである、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記少なくとも１つのレセプターが、（ｉ）共有結合形成による化学的な結合と、（ｉｉ）疎水性相互作用及びファンデルワールス相互作用からなるグループから選択された物理的な付着とからなるグループから選択された１つの手段によって前記球形の基体に付着している、請求項１に記載の装置。
【請求項１６】
前記レセプター結合材料が、天然ポリマー、合成ポリマー、タンパク質及び２次抗体からなるグループから選択された、請求項１に記載の装置。
【請求項１７】
請求項１から１６のいずれか一項に記載の装置を用意すること、
少なくとも１つのリガンドを含む試料を前記装置に曝露すること、
前記レセプターを前記少なくとも１つのリガンドと相互作用させて、少なくとも１つのレセプター−リガンド複合体を形成させること、及び
前記レセプター−リガンド複合体の形成によって生み出された信号を測定すること
を含むリガンド検出方法。
【請求項１８】
レセプター結合材料で被覆された実質的に平らな基体を備え、前記実質的に平らな基体が任意選択で帯電しており、
さらに、前記被覆された実質的に平らな基体に付着した少なくとも１つのレセプターを備え、前記少なくとも１つのレセプターが、リガンドに結合してレセプター−リガンド複合体を形成する能力を有し、前記レセプター−リガンド複合体の形成によって信号が生み出され、
さらに、液晶材料を含む増幅機構を備え、前記増幅機構が、レセプター−リガンド複合体の形成時に前記信号を増幅する
リガンド検出装置。
【請求項１９】
液晶材料が、サーモトロピック液晶材料及びリオトロピック液晶材料からなるグループから選択された、請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
液晶材料がリオトロピック液晶材料である、請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
リオトロピック液晶材料がリオトロピック・クロモニック液晶材料である、請求項２０に記載の装置。
【請求項２２】
液晶材料がサーモトロピック液晶材料である、請求項１９に記載の装置。
【請求項２３】
実質的に平らな基体が、（ｉ）ポリイオン、ポリアルケン、ポリアクリラート、ポリメタクリラート、ポリビニル、ポリスチレン、ポリカーボナート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、ポリシロキサン、ポリシラン、ポリエーテル及びポリカルボキシラートからなるグループから選択されたポリマー材料と、（ｉｉ）ガラス、ケイ素及びコロイド金からなるグループから選択された無機材料とからなるグループから選択された材料から作られている、請求項１８に記載の装置。
【請求項２４】
ポリマー材料がポリスチレン、無機材料がガラスである、請求項２３に記載の装置。
【請求項２５】
前記少なくとも１つのレセプターが、（ｉ）共有結合形成による化学的な結合と、（ｉｉ）疎水性相互作用又はファンデルワールス相互作用による物理的な付着とからなるグループから選択された１つの手段によって前記基体に付着している、請求項１８に記載の装置。
【請求項２６】
前記レセプター結合材料が、天然ポリマー、合成ポリマー、タンパク質及び２次抗体からなるグループから選択された、請求項１８に記載の装置。
【請求項２７】
請求項１８から２６のいずれか一項に記載の装置を用意すること、
少なくとも１つのリガンドを含む試料を前記装置に曝露すること、
前記レセプターを前記少なくとも１つのリガンドと相互作用させて、少なくとも１つのレセプター−リガンド複合体を形成させること、及び
前記レセプター−リガンド複合体の形成によって生み出された信号を測定すること
を含むリガンド検出方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月14日(2004.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ミクロ流体デバイスにおける流れを制御するためのデバイスであって、以下：
内部に形成された少なくとも１つのミクロ流体構造を有する第一基板；
該ミクロ流体構造の少なくとも一部分の上面上に配置される、第一可撓性シート；および
該シートの一部が、該ミクロ流体構造に対して、該ミクロ流体構造における流体の抵抗を変更するように少なくとも１つの寸法で該ミクロ流体構造の断面を変更する関係で移動するように、該第１の可撓性シート上に圧力差を生じるための手段、
を備える、デバイス。
【請求項２】
請求項１に記載のデバイスであって、該デバイスは、前記ミクロ流体構造における該流体の抵抗が変更されるように、該ミクロ流体構造の断面積が少なくとも１つの寸法で変更されるように、前記第一可撓性シートの一部分が該ミクロ流体構造との関係で移動するように、空気または流体の流れを介して該第一可撓性シートの特定位置上に圧力を伝達するために、該第一可撓性シートの反対側に第二のミクロ流体構造をさらに備える、デバイス。
【請求項３】
ミクロ流体デバイスにおける流れを制御するためのデバイスであって、以下：
内部に形成された少なくとも１つのミクロ流体構造を有する第一基板；
該ミクロ流体構造の少なくとも一部分の上面上に配置される、第一可撓性シート；および
該ミクロ流体構造を通る流体の流れが方向付けられ得るかまたは変更され得るように、該ミクロ流体構造における該流体の抵抗が１つ以上の位置で変更されるように、該ミクロ流体構造の断面積が１つ以上の位置において少なくとも１つの寸法で変更されるように、該シートの１つ以上の部分が該ミクロ流体構造との関係で移動するように、該第一可撓性シート上の複数の、個々にアドレス可能な位置に対して圧力を生じるための手段、
を備える、デバイス。
【請求項４】
ミクロ流体回路において使用するためのゼロデッドボリュームバルブであって、該ゼロデットボリュームバルブは、以下：
ミクロ流体投入チャネル；
ミクロ流体排出チャネル；
該投入チャネルと該排出チャネルとを接続する、平坦な底部表面を有するチャンバ；ならびに
付随した弾性力を有する可撓性膜であって、該膜は、第一弛緩位置および第二作動位置を有し、第一弛緩位置は、該平坦な表面に接触して該投入チャネルおよび該排出チャネルを遮断し、第二作動位置は、該投入チャネルが該排出チャネルと流体連絡するように、該平坦な表面から間隔を空けて配置される、可撓性膜；
を備え、
ここで、流体が該膜の弾性力より大きい十分な力で、該投入チャネルに導入される場合、該膜は、該弛緩位置から該作動位置へ移動され、従って、流体が該投入チャネルから該排出チャネルへ、該平坦な表面を横切って流れることを可能にする、デッドボリュームバルブ。
【請求項５】
請求項４に記載のバルブであって、該バルブは以下：
圧力供給源；および
前記チャンバを、該圧力供給源に結合するミクロ流体チャネル、
をさらに備え、該膜は、該圧力供給源からの十分な真空の適用によって、該弛緩位置から該作動位置に移動され得る、バルブ。
【請求項６】
前記可撓性膜が、前記圧力供給源からの十分な正の圧力の適用によって、前記弛緩位置に維持される、請求項５に記載のバルブ。
【請求項７】
前記可撓性膜がラテックスゴム要素を含む、請求項４に記載のバルブ。
【請求項８】
前記十分な真空が、少なくとも−５５ｍｍ  Ｈｇの負の圧力を含む、請求項５に記載のバルブ。
【請求項９】
前記十分な正の圧力が、少なくとも＋１０ｐｓｉの空気圧を含む、請求項６に記載のバルブ。
【請求項１０】
ミクロ流体回路における使用のためのバルブであって、該バルブは、以下：
ミクロ流体投入チャネル；
ミクロ流体排出チャネル；
該投入チャネルと該排出チャネルとを接続するチャンバであって、該チャンバは、該チャンバを横切って付着される可撓性膜を備え、該膜は、弛緩した第一位置および作動された第二位置を有し、該弛緩した第一位置の場合に、該投入チャネルは該排出チャネルと流体連絡し、そして該作動された第二位置は該投入チャネルおよび該排出チャネルを遮断する、チャンバ；ならびに
該投入チャネルおよび該可撓性膜の、該排出チャネルと反対の側で該チャンバに結合している、圧力供給源；
を備えるバルブであって、ここで、十分な圧力が該チャンバに伝達される場合、該可撓性膜は、該第一位置から該第二位置へと移動され、該投入チャネルから該排出チャネルへの流体の通過を遮断する、バルブ。
【請求項１１】
前記可撓性膜がゴムシートを含む、請求項８に記載のバルブ。
【請求項１２】
ミクロ流体回路における使用のためのバルブであって、該バルブは、以下：
ミクロ流体投入チャネル；
ミクロ流体排出チャネル；
該投入チャネルと該排出チャネルとを接続する第一チャンバ；
該チャンバを横切って付着される可撓性膜を有する、該排出チャネルに隣接する第二チャネルであって、該膜は、該第二チャンバ内の第一弛緩位置と第二作動位置を有し、ここで、該膜は、該第一チャンバと接触するように屈曲し、該投入チャネルから該排出チャネルへの流れを遮断する、チャネル；および
該可撓性膜の、該排出チャネルと反対の側で該第二チャンバに結合している、圧力供給源；
を備えるバルブであって、ここで、十分な圧力が該圧力供給源から提供される場合、該可撓性膜は、該第一弛緩位置から該第二作動位置へと移動され；該投入チャネルから該排出チャネルへの流れを遮断する、バルブ。
【請求項１３】
前記可撓性膜がラテックスゴムシートを含む、請求項１２に記載のバルブ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月16日(2004.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
信号波長で光信号を伝送する装置であって、
前記信号波長において正分散および正分散傾斜を有する第１および第２ＰＤＰＳ光ファ
イバセクションと前記第１および第２ＰＤＰＳ光ファイバセクションの間に配置されかつ
前記信号波長において負分散および負分散傾斜を有しているＮＤＮＳ光ファイバセクショ
ンとからなる光ファイバスパンと、
前記光ファイバスパンにラマン増幅を提供するように前記第１および第２ＰＤＰＳ光フ
ァイバセクションのうちの１つに光学的に連結しているポンプ光発光装置と、を含み、
前記ＮＤＮＳ光ファイバセクションに対する前記第１および第２ＰＤＰＳ光ファイバセ
クションの結合された長さの比は略０．７より大である、ことを特徴とする信号波長で光
信号を伝送する装置。
【請求項２】
前記光ファイバセクションのうちの少なくとも１つが１５５０ｎｍの波長で略０．２ｄＢ
／ｋｍ未満の減衰を呈することを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記第１ＰＤＰＳ光ファイバセクション、前記第２ＰＤＰＳ光ファイバセクションおよび
前記ＮＤＮＳ光ファイバセクションの結合された長さが略５０ｋｍ乃至略１５０ｋｍの範
囲にあることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項４】
前記光ファイバスパンのラマンノイズ指数が略１０ｄＢ乃至略１５ｄＢの間のラマン利得
に対して−２ｄＢ未満である、ことを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項５】
前記第１および第２ＰＤＰＳ光ファイバセクションのうちの少なくとも１つが１５５０ｎ
ｍの波長で略９５μｍ2以上の有効面積を有することを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項６】
前記スパンの全体に対する平均分散の絶対値が１５３０ｎｍ乃至１６３０ｎｍの全波長範
囲において略５ｐｓ／ｎｍ−ｋｍ未満で変化することを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項７】
前記光伝送ラインは、２０ｄＢのラマン利得において１２ｄＢのラマン利得におけるより
も大なる２０ｌｏｇＱの値を呈することを特徴とする請求項１記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月4日(2005.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）少なくとも第１の重合体及び第２の重合体の交互層を含み、かつ第１及び第２の外側の層を有する光学スタック；
（ｂ）前記光学スタックと組み合わさったホログラフィック画像；及び
（ｃ）前記ホログラフィック画像上の少なくとも１つの追加の層；
を含む多層光学フィルム。
【請求項２】
前記ホログラフィック画像が前記光学スタックの外側の層のうちの少なくとも１層の中あるいはその上に提供されている、請求項１に記載の多層光学フィルム。
【請求項３】
前記ホログラフィック画像が前記光学スタックの外側の層のうちの少なくとも１層上の表面薄層の中に提供されている、請求項１に記載の多層光学フィルム。
【請求項４】
前記ホログラフィック画像が前記光学スタックの最も外側の層ではない、請求項１に記載の多層光学フィルム。
【請求項５】
（ａ）少なくとも第１の重合体及び第２の重合体の交互層を含み、かつ第１及び第２の外側の層を有する光学スタックを提供する工程、
（ｂ）前記光学スタックの少なくとも１つの層の上あるいはその中にホログラフィック画像を提供する工程、及び
（ｃ）前記ホログラフィック画像の上に少なくとも１つの追加の層を提供する工程、
を含む、光学フィルムを提供する方法。
【請求項６】
（ａ）少なくとも第１の重合体及び第２の交互層を含み、重合体のうちの少なくとも１つが応力誘発形複屈折を有する光学スタック；及び
（ｂ）前記光学スタックを通して視認可能なホログラフィック画像；
を含む多層光学フィルム。
【請求項７】
前記光学スタックが、０．５ミクロン以下の平均厚みを有する半結晶重合体の層及び０．５ミクロン以下の平均厚みを有する第２の重合体の層を含み、前記光学スタックが少なくとも１つの方向で、その方向への未延伸寸法の少なくとも２倍まで延伸されており、前記光学スタックが第１及び第２の主表面を有し、前記層の各々が、前記層の平面内でｎx及びｎy及び前記層の平面に対し垂直にｎzという屈折率を有し、前記屈折率は全て、所望の光学特性を提供するように選択されている、請求項６に記載の多層光学フィルム。
【請求項８】
（ｉ）０．５ミクロン以下の平均厚みを有する半結晶重合体及び（ii）０．５ミクロン以下の平均厚みを有する第２の重合体の交互層を含む光学スタックを備えた多層フィルムであって、前記光学スタックが少なくとも１つの方向で、その方向の未延伸寸法の少なくとも２倍まで延伸されており、前記光学スタックが第１及び第２の主表面を有し、前記層の各々が、前記層のｘ−ｙ面内でｎx及びｎy及び前記層のｘ−ｙ面に対し垂直にｎzという屈折率を有し、前記屈折率は全て、所望の光学特性を提供するように選択されており、前記フィルムはさらに、前記光学スタックの前記第１の主表面に取り込まれたホログラフィック画像を有する、多層フィルム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月12日(2005.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記固定相材料（１１５，１３８，２９１，３１９，３２９，３３９，３４９，３５９，３６９，３７９，３８９，４２９，４４９，４６９，４８９，５７１）は充填された粒子材料を含む、前記請求項１から３のいずれか１項に記載のマイクロ流体分離装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記試料流入口（１１０，１３５Ａ，２３６Ａ〜２３６Ｈ，３１４，３２４，３３４，３４４，３５４，３６０Ａ，３７４，３８４，４２７Ａ，４２７Ｂ，４４７，４６７Ａ，４６７Ｂ，４８７）と協働する試料入口ポート（１０６Ａ，１２９Ａ，２２８Ａ，３１２，３２２，３３２Ａ，３４２，３５２，３６２，３７２，３８２，４２２Ａ，４４２Ｂ，４６２Ａ，４８２，５５３Ａ）をさらに備える、前記請求項１から６のいずれか１項に記載のマイクロ流体分離装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
前記試料流入口（１１０，１３５Ａ，２３６Ａ〜２３６Ｈ，３１４，３２４，３３４，３４４，３５４，３６０Ａ，３７４，３８４，４２７Ａ，４２７Ｂ，４４７，４６７Ａ，４６７Ｂ，４８７）を選択的にシールするメカニカルシール（５２０，５３０，６０６）をさらに備える、前記請求項１から１３のいずれか１項に記載のマイクロ流体分離装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
前記分離溝（１１４，１４２，２８１，３１０，３２０，３３０，３４０，３５０，３６０，３７０，３８０，４２０，４４０，４６０，４８０，５６１）は少なくとも６９ｋＰａの圧力で機能するようになっている、前記請求項１から１４のいずれか１項に記載のマイクロ流体分離装置。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
前記分離溝（１１４，１４２，２８１，３１０，３２０，３３０，３４０，３５０，３６０，３７０，３８０，４２０，４４０，４６０，４８０，５６１）は少なくとも３４５ｋＰａの圧力で機能するようになっている、前記請求項１から１５のいずれか１項に記載のマイクロ流体分離装置。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１７】
それぞれ固定相材料（１３８〜１４０，２９１〜２９８，３１９，３２９，３３９，３４９，３５９，３６９，３７９，３８９，４２９，４４９，４６９，４８９，５７１〜５７８）を収容する複数のマイクロ流体分離溝（１４２〜１４４，２８１〜２８８，３１０，３２０，３３０，３４０，３５０，３６０，３７０，３８０，４２０，４４０，４６０，４８０，５６１〜５６８）をさらに備える、前記請求項１から１６のいずれか１項に記載のマイクロ流体分離装置（１２０，２００，３００，４００，５５０）。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月4日(2004.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多軸速度テーブル上に取付けられる複数の慣性測定ユニットと共に使用され、種々の既知の環境条件に従って慣性測定ユニットの出力と既知の環境条件との間の差を決定し、より高い精度を達成するため出力を修正するために使用される多数の校正係数を計算する校正テスト装置であって、
複数のプロセッサの各々が内部において各慣性測定ユニットに接続され既知の環境条件を有するようにプログラムされる複数のプロセッサと、
出力を提供する慣性測定ユニット内に配置されるプロセッサに各慣性測定ユニットの出力を供給するコネクタと、を含み、
前記複数のプロセッサは、既知の環境条件を前記出力と比較して複数の校正係数を計算するように作動可能である校正テスト装置。
【請求項２】
前記環境条件は入力運動を含む請求項１記載の校正テスト装置。
【請求項３】
前記環境条件は温度を含む請求項２記載の校正テスト装置。
【請求項４】
前記環境条件は振動を含む請求項３記載の校正テスト装置。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成16年1月28日(2004.1.28)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
別の望ましい発明の構成としては、それぞれのグループに含まれる３個の歯は、高い歯，低い歯および高さがこの高い歯と同じもう一つの高い歯から連続的に構成される。高い歯と低い歯の間には深い歯溝があり、２個の高い歯の間には浅い歯溝がある。
ピニオンの歯のグループ数は奇数なので，ピニオンと一方のサイドギヤのギヤ比が最大になった時、ピニオンともう一方のサイドギヤのギヤ比が最小になる。サイドギヤのグループ数は遊星ギヤ数の倍数なので、それぞれのピニオンは同じ位相角で動作する。


【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
同種のギヤについて、異なるグループの対応する歯同士は同じ形状と高さを持ってい  る。ピニオンギヤ４の歯のグループ数は奇数であるので，ピニオンギヤ４と一方のサイ  ドギヤ２のギヤ比が最大に達した時、ピニオンギヤ４ともう一方のサイドギヤ２のギヤ  比は最小になる。このようにして，２個のサイドギヤ間で最大のトルクバイアス比が得  られる。サイドギヤ２の歯のグループ数はピニオンギヤ４の数の倍数であるので，それ  ぞれのピニオンギヤ４は同じ位相角で動作し，ピニオンギヤ４とサイドギヤ２の動的干  渉が回避される。
実施形態１では、サイドギヤ２の歯数は、９，１２，１５，及び１８の範囲にある。 一方，ピニオン４の歯数は９及び１５の範囲にある。一つのグループに含まれる前記の ３個の歯は、低い歯、高い歯および高さがこの低い歯と同じもう一つの低い歯から連続 的に構成される。サイドギヤ２について見ると、高い歯７と低い歯８の間には浅い歯溝 ９があり、２個の低い歯８の間には深い歯溝１０がある。ピニオンギヤ４について見る と、高い歯１３と低い歯１４の間には浅い歯溝１２があり、２個の低い歯１４の間には 深い歯溝１１がある。実施形態１の動作原理は、ギヤ比の変動周期が３ピッチに増加さ れ、ピニオンの１回転中のギヤ比変化の回数が従来の設計方法と比較して１／３に減少 される。このようにして、ピニオンとサイドギヤ間の相対的角加速度を減少させながら、速度比の変動領域を十分に増加することができる。従って，本発明の目的が達成され る。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月21日(2004.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体中の物質を検出するために、該液体で湿らされるテストストリップのテストフィールドの着色状態を検出する光学測定デバイスであって、該テストフィールドの反射率が、検出される該物質の濃度に依存して変化する、該光学測定デバイスは、該テストストリップが配置される測定平面と、該測定平面および該テストストリップを照射する照射デバイスと、平面イメージセンサと、該テストストリップのイメージを該平面イメージセンサに提供する光学システムと、該平面イメージセンサによって生成される少なくとも１つの信号を評価する電子評価ユニットであって、該照射デバイスは、少なくとも２つの異なる色の光源を含み、該テストストリップを該異なる色で選択して照射し、該電子評価ユニットは、異なる色の照射の下での該テストフィールドの着色状態を検出する、電子評価ユニットと
を備える、光学測定デバイス。
【請求項２】
前記イメージセンサが平面マトリクスに配置された感光性ＣＭＯＳ素子を含む、請求項１に記載の光学測定デバイス。
【請求項３】
前記照射デバイスの前記光源は、発光ダイオード（ＬＥＤ）を含む、請求項１または２に記載の光学測定デバイス。
【請求項４】
前記ＬＥＤは、それぞれ、約４５０ｎｍ、５３０ｎｍ、および６２０ｎｍの波長を有する、青、緑、オレンジＬＥＤを含む、請求項３に記載の光学測定デバイス。
【請求項５】
前記光源は、トランスミッタ基板上に直列に配置されている、請求項１に記載の光学測定デバイス。
【請求項６】
前記トランスミッタ基板上の前記光源の配置の密度は、該トランスミッタ基板の中心付近から該トランスミッタ基板の端に向かって外側方向に増大する、請求項５に記載の光学測定デバイス。
【請求項７】
前記直列の光源のそれぞれの側にスクリーンをさらに備え、該スクリーンはテストストリップの長手方向に対して平行に配置され、前記光源から反射された光の焦点を該テストストリップに合わせる、請求項５または６に記載の光学測定デバイス。
【請求項８】
前記スクリーンは、前記直列の光源の長さを超えて実質的に伸び、全長を超えて伸びる複数の表面セグメントを含み、該表面セグメントの前記トランスミッタ基板に対する傾斜角度は、該トランスミッタ基板からの距離の増大に応じて増大する、請求項７に記載の光学測定デバイス。
【請求項９】
前記スクリーンは、圧延または射出成形によって製造された部分を含み、該部分は、反射層を有するか、または反射膜が積層される、請求項７または８に記載の光学測定デバイス。
【請求項１０】
前記照射デバイスによって前記テストストリップと同時に照射され、前記光学システムによって前記イメージセンサにイメージングされるように配置された第１の基準表面をさらに備える、請求項１に記載の光学測定デバイス。
【請求項１１】
前記測定デバイスは、測定のテストストリップの位置を取る第１の位置と、前記光学システムによって前記イメージセンサ上にイメージングされ得ない第２の位置との間で移動可能な第２の基準表面を備える、請求項１に記載の光学測定デバイス。
【請求項１２】
前記第２の基準表面は、第１の端部に該第２の基準表面に対して実質的に垂直な第１のアームを備えるストリップ型プレートの表面を含み、該第１のアームは、該第２の基準表面に対して平行な軸の周りを旋回可能である、請求項１１に記載の光学測定デバイス。
【請求項１３】
前記ストリップ型プレートの端部に配置される第２のアームをさらに含み、該第２のアームは、前記第１のアームに対して実質的に平行であり、該第１のアームと同じ軸の周りを旋回可能である、請求項１２に記載の光学測定デバイス。
【請求項１４】
前記第１のアームによって、バーの第１の端部において旋回可能に支持され、前記基準表面を第１の位置から第２の位置へと移動させるバーをさらに含む、請求項１２または１３に記載の光学測定デバイス。
【請求項１５】
前記バーは、第２の端部において第１のレバーに旋回可能に固定され、該第１のレバーは、第１のレバー軸の周りを旋回可能であり、前記基準表面が第２の位置を取るように偏向素子によって第１のレバー位置に偏向され、該第１のレバーは、該基準表面が第２の位置を取るように、該偏向素子の偏向力に逆らって第２のレバー位置に調節可能である、請求項１４に記載の光学測定デバイス。
【請求項１６】
前記第１のレバーは、偏心駆動装置によって動かされる、請求項１５に記載の光学測定デバイス。
【請求項１７】
テストストリップを測定位置に保持し、アライメントする手段をさらに備える、請求項１に記載の光学測定デバイス。
【請求項１８】
前記保持し、アライメントする手段は、前記測定平面に突き出る第１の位置と、該測定平面の完全に外部になる第２の位置との間で、長手軸に沿って移動可能な２つの平行なピンを含む、請求項１７に記載の光学測定デバイス。
【請求項１９】
前記ピンは、第２の位置に偏向され、レバー素子によって、前記偏向力に逆らって第１の位置に調節可能である、請求項１８に記載の光学測定デバイス。
【請求項２０】
前記レバー素子は、前記第１のレバーと同じ偏心駆動装置によって調節される、請求項１９に記載の光学測定デバイス。
【請求項２１】
前記偏心駆動装置はモータによって駆動される回転ディスクを含み、第２のピンが、該回転ディスクの表面に垂直に配置され、該ディスクが第１の回転方向に回転するときに、該第２のピンは前記第１のレバーを第２のレバー位置に移動させ、該ディスクが第２の回転方向に回転するときに、該ピンは、前記レバー素子が前記実質的に平行なピンを第１の位置に移動させるように該レバー素子を移動させる、請求項２０に記載の光学測定デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月12日(2004.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の表面を含む可撓基板層と、
該可撓基板層の第１の表面に配置される金属の導電性パターンを構成する電極層と、
前記電極層の少なくとも一部を露出するように設けられた試験チャンバを画定している可撓性の光画定乾燥フィルムカバーレイシートであって、前記基板層の第１の表面に取り付けられたカバーレイシートと
を備えることを特徴とする可撓センサ。 
【請求項２】
前記カバーレイシートが、接着剤を介在して設けられることなしに、前記基板層に直接積層されてなる請求項１記載のセンサ。
【請求項３】
前記カバーレイシートが２５〜２５０μｍの厚さを有してなる請求項１記載のセンサ。
【請求項４】
前記カバーレイシート上に固着された第２カバーレイを含む請求項１記載のセンサ。
【請求項５】
前記第２のカバーレイが第１の感光性材料を含み、前記カバーレイシートが異なる第２の感光性材料を含む請求項４記載のセンサ。
【請求項６】
前記第２のカバーレイが、前記カバーレイシートによって画定される試験チャンバの上に天井を形成してなる請求項４記載のセンサ。
【請求項７】
前記カバーレイシートが、開口から前記試験チャンバまで延びる通路をさらに画定している請求項１記載のセンサ。
【請求項８】
前記カバーレイシートの上に固着される第２のカバーレイを含み、第２のカバーレイが前記カバーレイシートによって画定された試験チャンバの一部の上に天井を形成してなる請求項７記載のセンサ。
【請求項９】
前記カバーレイシートが、光画像処理可能なポリマー、アクリル系の可撓性組成物およびそれらの誘導体からなる群から選択される請求項１記載のセンサ。
【請求項１０】
可撓基板上に電極を有するセンサを製造する方法であって、
第１の表面を含む可撓基板層を設ける工程と、
金属の導電パターンを含む電極を前記基板層の第１の表面上に形成する工程と、
前記基板の第１の表面に可撓性の光画像処理可能な乾燥フィルムを貼り付ける工程と、
前記電極層の少なくとも一部を露出するように設けられる試験チャンバを画定するために、前記カバーレイシートの所定の領域を除去する工程とを含む方法。
【請求項１１】
前記貼り付ける工程が、介在して設けられる接着剤なしに、前記カバーレイシートを基板層に積層する工程を含む請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記カバーレイシートが２５〜２５０μｍの厚さを有する請求項１０記載の方法。
【請求項１３】
前記カバーレイシートの上に固着される第２のカバーレイを貼り付ける工程をさらに含む請求項１０記載の方法。
【請求項１４】
前記第２のカバーレイが、第１の光画像処理可能な材料を含み、前記カバーレイシートが異なる第２の光画像処理可能な材料を含む請求項１４記載の方法。
【請求項１５】
前記第２のカバーレイが、前記カバーレイシートによって画定された試験チャンバの少なくとも一部の上に天井を形成してなる請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
前記除去する工程が、開口から前記試験チャンバまで延びる通路を画定するために、前記カバーレイシートの一部を除去する工程をさらに含む請求項１０記載の方法。
【請求項１７】
前記カバーレイシートの上に固着される第２のカバーレイを貼り付ける工程を含み、該第２のカバーレイが、前記カバーレイシートによって画定された試験チャンバの少なくとも一部の上に天井を形成してなる請求項１６記載の方法。
【請求項１８】
前記カバーレイシートが、光画像処理可能なポリマー、アクリル系の可撓性組成物およびそれらの誘導体からなる群から選択される請求項１０記載の方法。
【請求項１９】
前記除去工程が、
前記カバーレイシートの少なくとも１つの所定の領域を紫外光に露出する工程、および
当該カバーレイシートの所定の領域上に溶液を導入して、当該所定の領域のカバーレイシートの一部を除去する工程
とを含む請求項１０記載の方法。