【手続補正書】
【提出日】平成16年10月18日(2004.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  面心立方単位胞（a face centered cubic unit cell）を有する材料を含み、スパッタリング表面を有する物理蒸着ターゲットであって、そのターゲットが、
鋳造；
等チャネル角度押出し（equal channel angular extrusion）；及び
前記等チャネル角度押出し後、軸配向＜２２０＞及び平面配向＜２２０＞結晶学的集合組織の少なくとも１つを強化するためのクロスローリング及び鍛造の少なくとも１つからなる追加加工による結晶学的集合組織配向の改質からなるプロセスにより形成され；且つ
そのターゲットが、（２２０）、（２００）、（１１１）及び（１１３）面によってもたらされる全強度と比較して少なくとも約６０％の（２２０）面強度寄与率、スパッタリング表面全体にわたる優先する＜２２０＞結晶学的集合組織、及びスパッタリング表面全体にわたる平均結晶粒度約３０ミクロン以下を有する、ターゲット。
【請求項２】  前記スパッタリング表面全体にわたる前記平均結晶粒度が１ミクロン以下である、請求項１に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項３】  さらに前記スパッタリング表面に近接した気孔又はボイドを実質
的に含まない、請求項１に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項４】  前記優先する＜２２０＞結晶学的集合組織が強い＜２２０＞結晶学的集合組織である、請求項１に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項５】  前記面心立方単位胞の＜２２０＞結晶学的配向対全ての他の配向の比として少なくとも約８０％を含む、請求項１に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項６】  前記面心立方単位胞の＜２２０＞結晶学的配向対全ての他の配向の比として少なくとも約９０％を含む、請求項１に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項７】  前記スパッタリング表面全体にわたる結晶粒度の実質的に全てが約３０ミクロン未満である、請求項１に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項８】  前記スパッタリング表面全体にわたる結晶粒度の実質的に全てが１ミクロン未満である、請求項１に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項９】  前記追加加工が鍛造を含み、且つ前記＜２２０＞集合組織が優先して軸＜２２０＞配向を含む、請求項１に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項１０】  前記追加加工がクロスローリングを含み、且つ前記＜２２０＞集合組織が優先して平面＜２２０＞配向を含む、請求項１に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項１１】  アルミニウム、銅、銀、金、ニッケル、黄銅、セリウム、コバルト、カルシウム、鉄、鉛、パラジウム、白金、ロジウム、ストロンチウム、イッテルビウム、及びトリウムからなる群から選択された少なくとも１種の元素を含む、請求項１に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項１２】  アルミニウム、銅、金、ニッケル、及び白金からなる群から選択された少なくとも１種の元素を含む、請求項１に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項１３】  前記ターゲット中に存在する任意の析出物が最大寸法０．５ミクロンを有する、請求項１に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項１４】  面心立方単位胞を有する銅材料；  
（２２０）、（２００）、（１１１）及び（１１３）面の全強度に基づいて少なくとも６０％の（２２０）面強度；
スパッタリング表面全体にわたる優先する＜２２０＞結晶学的集合組織；及び
スパッタリング表面全体にわたる平均結晶粒度約３０ミクロン以下を含み、前記ターゲット中に存在する任意の第２相析出物が最大寸法０．５ミクロンを有する物理蒸着ターゲット。
【請求項１５】  アルミニウム、銀、及び金からなる群から選択された少なくとも１種の元素を含む請求項１４に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項１６】  アルミニウムを含む請求項１５に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項１７】 銀を含む請求項１５に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項１８】  金を含む請求項１５に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項１９】  前記スパッタリング表面全体にわたる前記平均結晶粒度が１ミクロン以下である、請求項１４に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項２０】  さらに前記スパッタリング表面に近接した気孔又はボイドを実質
的に含まない、請求項１４に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項２１】  前記優先する＜２２０＞結晶学的集合組織が強い＜２２０＞結晶学的集合組織である、請求項１４に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項２２】  前記面心立方単位胞の＜２２０＞結晶学的配向対全ての他の配向の比として少なくとも約８０％を含む、請求項１４に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項２３】  前記面心立方単位胞の＜２２０＞結晶学的配向対全ての他の配向の比として少なくとも約９０％を含む、請求項１４に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項２４】  前記スパッタリング表面全体にわたる結晶粒度の実質的に全てが約３０ミクロン未満である、請求項１４に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項２５】  前記スパッタリング表面全体にわたる結晶粒度の実質的に全てが１ミクロン未満である、請求項１４に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項２６】  前記＜２２０＞集合組織が優先して軸＜２２０＞配向を含む、請求項１４に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項２７】  前記＜２２０＞集合組織が優先して平面＜２２０＞配向を含む、請求項１４に記載の物理蒸着ターゲット。
【請求項２８】  面心立方単位胞を有する材料を含む物理蒸着ターゲットであって、そのターゲットが、
（２２０）、（２００）、（１１１）及び（１１３）面の全強度に基づいて少なくとも約６０％の（２２０）面強度；及び
アルミニウム、銅、銀、金、ニッケル、黄銅、セリウム、コバルト、カルシウム、鉄、鉛、パラジウム、白金、ロジウム、ストロンチウム、イッテルビウム、及びトリウムからなる群から選択された少なくとも１種の元素を含む前記ターゲット。
【請求項２９】  面心立方単位胞を有する金属材料の製造方法であって、
該金属材料内部に実質的にランダムな結晶学的配向分布を生成するのに十分な回数前記金属材料を押出することと；及び
該押出しの後、前記材料をクロスローリングし、次に前記材料を鍛造して前記材料内部に、優先する＜２２０＞結晶学的集合組織を誘起することと；
を含む方法。
【請求項３０】  前記誘起された集合組織が強い＜２２０＞集合組織である、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】  前記誘起された集合組織が、前記面心立方単位胞の＜２２０＞結晶学的配向対全ての他の配向の比として少なくとも約８０％を含む、請求項２９に記載の方法。
【請求項３２】  前記誘起された集合組織が、前記面心立方単位胞の＜２２０＞結晶学的配向対全ての他の配向の比として少なくとも約９０％を含む、請求項２９に記載の方法。
【請求項３３】  前記金属材料が鋳造材料である、請求項２９に記載の方法。
【請求項３４】  前記押出しは、前記材料をＥＣＡＥ装置に少なくとも４回通すことを含み、該装置を通る各パスは、前記材料を、ほぼ等しい断面積を有し互いに約９０°の角度で配置された２つの交差する通路に通すことを含む、請求項２９に記載の方法。
【請求項３５】  更に鍛造の前に前記材料を実質的に円形の形状に成形することを含む、請求項２９に記載の方法。
【請求項３６】  前記押出しは、押出し材料内部の前記結晶粒度が実質的に全てが１ミクロン未満であるように十分な回数で行われる、請求項２９に記載の方法。
【請求項３７】  前記鍛造は、前記材料の静的再結晶温度を超える温度で行われ、前記鍛造は、前記材料内部に、軸＜２２０＞配向を有するように、前記優先する＜２２０＞集合組織を生成し、前記押出しによって生成した結晶粒度は、前記鍛造の最中に平均結晶粒度１ミクロン〜約３０ミクロンにまで増大する、請求項３６に記載の方法。
【請求項３８】  前記鍛造は、前記材料内部に、軸＜２２０＞配向であるように、優先する＜２２０＞集合組織を生成するために、及び前記押出しによって生成した結晶粒度を実質的に維持するために、前記材料の静的再結晶温度未満の温度で行われる、請求項３６に記載の方法。
【請求項３９】  更に前記鍛造の後に、前記材料を物理蒸着ターゲットの形状に成形することを含む、請求項２９に記載の方法。
【請求項４０】  前記押出しは、前記押出し材料内部の結晶粒度の実質的に全てが１ミクロン未満であるように十分な回数行われ、更に前記材料内部の平均結晶粒度１ミクロン〜約３０ミクロンを得るために前記材料内部に結晶粒成長を誘起するのに、前記鍛造の後に前記材料の再結晶焼なましをすることを含む、請求項２９に記載の方法。
【請求項４１】  更に前記鍛造の後に、前記材料の静的再結晶を提供する温度及び時間未満の温度及び時間で前記材料の回復焼なましをすることを含む、請求項２９に記載の方法。
【請求項４２】  更に前記鍛造の後に、少なくとも約１５０℃の温度で少なくとも約１時間前記材料の回復焼なましをすることを含む、請求項２９に記載の方法。
【請求項４３】  更に前記クロスローリングの後で且つ前記鍛造の前に、前記材料の静的再結晶を提供する温度及び時間未満の温度及び時間で前記材料の回復焼なましをすることを含む、請求項２９に記載の方法。
【請求項４４】  更に前記クロスローリングの後で且つ前記鍛造の前に、少なくとも約１５０℃の温度で少なくとも約１時間前記材料の回復焼なましをすることを含む、請求項２９に記載の方法。
【請求項４５】  更に前記クロスローリングの後で且つ前記鍛造の前に、前記材料の再結晶焼なましをすることを含む、請求項２９に記載の方法。