【手続補正書】
【提出日】平成15年4月11日(2003.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第２のプレート構造上に指定の環状パターンで設けられたシーリング材料が第１のプレート構造と前記第２のプレート構造との間に位置するように、前記第１のプレート構造を前記第２のプレート構造の鉛直方向下側に位置合わせするステップと、
前記シーリング材料が重力により概ね下側に移動し、前記第１のプレート構造に接触して、前記プレート構造を共にシーリングするように、前記シーリング材料を加熱するステップとを含む方法。
【請求項２】
前記加熱ステップの間、前記プレート構造が互いに概ね固定された位置関係に維持されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記位置合わせステップが、前記加熱ステップの際に、前記両プレート構造が概ね固定された状態で互いに鉛直施向に離間するように、前記両プレート構造を概ね固定された状態に互いに鉛直方向に離間するように配置するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記配置ステップが、前記両プレート構造に接触するように、前記両プレート構造間に前記シーリング材料以外の中間手段を配設するステップを含むことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記中間手段がタック手段を含み、このタック手段を介して、前記両プレート構造に沿って横方向に離間した複数の位置において前記両プレート構造が互いに連結されることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記タック手段が前記シーリング材料の外側に配置されることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記中間手段が前記シーリング材料の内側に配置されたスペーサ手段を有することを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項８】
前記中間手段がタック手段を含み、このタック手段を介して、前記両プレート構造に沿って横方向に離間した複数の位置において前記両プレート構造が互いに連結されることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記配置ステップが、前記両プレート構造に沿って横方向に離間した複数の位置において前記両プレート構造に対して前記スペーサ手段を接触させるステップを更に含むことを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記位置合わせステップが、前記加熱ステップの前に、前記第２のプレート構造及び前記シーリング材料が、概ね前記シーリング材料の全体において前記第１のプレート構造から鉛直方向に離間するように、前記両プレート構造間にスペーサ手段を配置するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記スペーサ手段により、前記加熱ステップの間、前記両プレート構造が概ね固定された状態で互いに離間されていることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記位置合わせステップが、前記両プレート構造に沿って横方向に離間した複数の位置において前記両プレート構造に対して前記スペーサ手段を接触させるステップを更に含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記位置合わせステップの前に、前記スペーサ手段が前記第２のプレート構造上に設けられることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記位置合わせステップの前に、前記スペーサ手段が前記第１のプレート構造上に設けられることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
更に、前記位置合わせステップと前記加熱ステップとの間に、前記第１のプレート構造において横方向に離間した複数の位置に前記第１のプレート構造に前記シーリング材料を接着するステップを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記接着ステップが、前記第１のプレート構造に沿った前記複数の位置のそれぞれに対応した複数の横方向に離間したシーリング位置の前記シーリング材料上に、エネルギーを局所的に加えるステップを含むことを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記加熱ステップが、前記シーリング材料及び前記両プレート構造を全体的に加熱することを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記第１のプレート構造が、
（ａ）前記加熱ステップの際に前記シーリング材料に接触する、前記シーリング材料の接着を促進する表面エネルギーを備えた、シーリング領域と、
（ｂ）前記シーリング領域に横方向に隣接し、前記シーリング材料の接着を妨げる表面エネルギーを備えた別の領域とを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記第２のプレート構造が、
（ａ）前記シーリング材料に接触する、前記シーリング材料の接着を促進する表面エネルギーを備えた、シーリング領域と、
（ｂ）前記シーリング領域に横方向に隣接し、前記シーリング材料の接着を妨げる表面エネルギーを備えた別の領域とを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
前記第１のプレート構造が、
（ａ）前記加熱ステップの際に前記シーリング材料に接触する、前記第１のプレート構造のシーリング領域に対する前記シーリング材料の接着を促進する表面エネルギーを備えた、シーリング領域と、
（ｂ）前記第１のプレート構造のシーリング領域に横方向に隣接し、前記第１のプレート構造のシーリング領域に対する前記シーリング材料の接着を妨げる表面エネルギーを備えた別の領域とを含むことを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記加熱ステップが終了すると、前記シーリング材料が一方の前記プレート構造から他方の前記プレート構造に連続して延在していることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
外壁部分が、前記シーリング材料の第１の部分で覆われた第１の端部と、前記シーリング材料の第２部分で覆われた、前記第１の端部とは反対側の第２の端部とを有し、
前記位置合わせステップの前に、前記シーリング材料の第２の部分により、前記第２の端部に沿って前記外壁部分が前記第２のプレート構造に接続されるように、前記外壁部分が前記第２のプレート構造上に設けられることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項２３】
概ね互いに対向するように第１及び第２のプレート構造を位置合わせするステップであって、前記第１のプレート構造上に設けられた制限構造が前記両プレート間に配置され、前記第２のプレート構造上に設けられた指定のパターンのシーリング材料が、前記制限構造に近接して前記両プレート間に配置される、前記位置合わせステップと、
前記両プレート構造を互いに密閉するべく前記シーリング材料を加熱するステップであって、前記シーリング材料が、前記制限構造に近接した前記第１のプレート構造に接触するが、加熱ステップの後に第2プレート構造から離間しているように十分短くなっている前記制限構造により、前記シーリング材料が前記制限構造上を横方向に広がって、前記制限構造を横方向に越えた前記第１のプレート構造に接触するのが防止される、前記加熱ステップとを含む方法。
【請求項２４】
前記シーリング材料が、前記加熱ステップの際に前記制限構造上に著しくは広がらないことを特徴とする請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記シーリング材料が、前記位置合わせステップの際に前記制限構造に十分近接して位置するため、前記加熱ステップの際に前記シーリング材料が前記制限構造に横方向に接触することを特徴とする請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
前記制限構造が、前記シーリング材料によって著しく湿潤しない材料を含むことを特徴とする請求項２３に記載の方法。
【請求項２７】
前記制限構造が概ね横方向の環状形状であり、前記加熱ステップの際に、前記シーリング材料が、前記制限構造の概ね外側の位置で前記第１のプレート構造に接触することを特徴とする請求項２３に記載の方法。
【請求項２８】
前記位置合わせステップが、前記第２のプレート構造の鉛直方向下側に前記第１のプレート構造を位置合わせするステップを含み、
前記シーリング材料が、前記加熱ステップ中に重力により鉛直方向下向きに移動することを特徴とする請求項２３に記載の方法。
【請求項２９】
前記加熱ステップが、前記シーリング材料、前記両プレート構造、及び前記制限構造を全体的に加熱することを含むことを特徴とする請求項２３に記載の方法。
【請求項３０】
前記位置合わせステップが、間隙により前記シーリング材料と前記第１のプレート構造とが少なくとも部分的に離間するように、前記第１のプレート構造を前記第２のプレート構造の鉛直方向上側に位置合わせするステップを含み、
前記加熱ステップの際に、前記シーリング材料が前記間隙を塞ぐことを特徴とする請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
前記位置合わせステップが、前記加熱ステップの間、前記両プレート構造が概ね固定された状態で互いに鉛直方向に離間するように、前記両プレート構造を概ね固定された状態に互いに鉛直方向に離間するように配置するステップを含むことを特徴とする請求項２３に記載の方法。
【請求項３２】
前記位置合わせステップが、前記両プレート構造に接触するように、前記両プレート構造間に前記シーリング材料以外の中間手段を配設するステップを含むことを特徴とする請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記方法が更に、
前記位置合わせステップの前に、前記第２のプレート構造上に別の制限構造を設けて、前記シーリング材料が、前記別の制限構造に面した位置に近接した前記第２のプレート構造上に位置するようにするステップを含み、
前記加熱ステップの際に、前記別の制限構造により、前記シーリング材料が前記別の制限構造を横方向に越えて広がって前記別の制限構造を横方向に越えた第２のプレート構造に接触するのが概ね妨げられることを特徴とする請求項２３に記載の方法。
【請求項３４】
前記第２のプレート構造が、
（ａ）前記シーリング材料に接触する、前記シーリング材料の接着を促進する表面エネルギーを備えた、シーリング領域と、
（ｂ）前記シーリング領域に横方向に隣接し、前記シーリング材料の接着を妨げる表面エネルギーを備えた別の領域とを含むことを特徴とする請求項２３に記載の方法。
【請求項３５】
前記加熱ステップが終了すると、前記シーリング材料が一方の前記プレート構造から他方の前記プレート構造に連続して延在していることを特徴とする請求項２３に記載の方法。
【請求項３６】
外壁部分が、前記シーリング材料の第１の部分で覆われた第１の端部と、前記シーリング材料の第２部分で覆われた、前記第１の端部とは反対側の第２の端部とを有し、
前記位置合わせステップの前に、前記シーリング材料の第２の部分により、前記第２のプレート構造に前記第２の端部に沿って前記外壁部分が接続されるように、前記外壁部分が前記第２のプレート構造上に設けられることを特徴とする請求項２３に記載の方法。
【請求項３７】
概ね互いに対向するように第１及び第２のプレート構造を位置合わせするステップであって、前記第１のプレート構造上に設けられた一対の制限構造が前記両プレート間に配置され、前記第２のプレート構造上に設けられた指定のパターンのシーリング材料が、前記両プレート構造間に位置し、かつ前記一対の制限構造に面してそれらの間に配置される、前記位置合わせステップと、
前記両プレート構造を互いに密閉するべく前記シーリング材料を加熱するステップであって、前記シーリング材料が、前記一対の制限構造の間の前記第１のプレート構造に接触するが、前記制限構造により、前記シーリング材料が前記制限構造上に広がって、前記制限構造を横方向に越えた前記第１のプレート構造に接触するのが防止されている、前記加熱ステップとを含む方法。
【請求項３８】
前記シーリング材料が、前記加熱ステップの際に前記一対の制限構造上に著しくは広がらないことを特徴とする請求項３７に記載の方法。
【請求項３９】
前記シーリング材料が、前記位置合わせステップの際に前記制限構造に十分近接して位置するため、前記加熱ステップの際に、前記シーリング材料が前記一対の制限構造の少なくとも一方に横方向に接触することを特徴とする請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
前記一対の制限構造が、前記シーリング材料によって著しく湿潤しない材料を含むことを特徴とする請求項３７に記載の方法。
【請求項４１】
前記各制限構造が概ね横向きの環状形状であることを特徴とする請求項３７に記載の方法。
【請求項４２】
前記位置合わせステップが、前記第２のプレート構造の鉛直方向下側に前記第１のプレート構造を位置合わせするステップを含み、
前記シーリング材料が、前記加熱ステップの際に、重力により鉛直方向下向きに移動することを特徴とする請求項３７に記載の方法。
【請求項４３】
前記加熱ステップが前記シーリング材料、前記プレート構造、及び前記一対の制限構造を全体的に加熱するステップを含むことを特徴とする請求項３７に記載の方法。
【請求項４４】
前記位置合わせステップが、間隙により前記シーリング材料と前記第１のプレート構造とが少なくとも部分的に離間するように、前記第１のプレート構造を前記第２のプレート構造の鉛直方向上側に位置合わせするステップを含み、
前記加熱ステップの際に、前記シーリング材料が前記間隙を塞ぐことを特徴とする請求項４３に記載の方法。
【請求項４５】
前記加熱ステップの間、前記両プレート構造が、互いに概ね固定された位置関係に維持されることを特徴とする請求項３７に記載の方法。
【請求項４６】
前記位置合わせステップが、前記加熱ステップの間、前記両プレート構造が概ね固定された状態で互いに鉛直方向に離間するように、前記両プレート構造を概ね固定された状態に互いに鉛直方向に離間するように配置するステップを含むことを特徴とする請求項３７に記載の方法。
【請求項４７】
前記配置ステップが、前記両プレート構造に接触するように、前記両プレート構造間に前記シーリング材料以外の中間手段を配設するステップを含むことを特徴とする請求項４６に記載の方法。
【請求項４８】
前記中間手段がタック手段を含み、このタック手段を介して、前記両プレート構造に沿って横方向に離間した複数の位置において前記両プレート構造が互いに連結されることを特徴とする請求項４７に記載の方法。
【請求項４９】
前記シーリング材料が概ね横方向の環状構造であり、前記中間手段が、前記シーリング材料の内側に配置されたスペーサ手段を含むことを特徴とする請求項４７に記載の方法。
【請求項５０】
前記位置合わせステップが、前記加熱ステップの前に、前記第２のプレート構造及び前記シーリング材料が、概ね前記シーリング材料の全体において前記第１のプレート構造から鉛直方向に離間するように、前記両プレート構造間に位置するようにスペーサ手段を配置するステップを含むことを特徴とする請求項３７に記載の方法。
【請求項５１】
前記スペーサ手段により、前記加熱ステップの間、前記両プレート構造が概ね固定された状態で互いに離間されていることを特徴とする請求項５０に記載の方法。
【請求項５２】
更に、前記位置合わせステップと前記加熱ステップとの間に、前記第１のプレート構造において横方向に離間した複数の位置に前記第１のプレート構造に前記シーリング材料を接着するステップを更に含むことを特徴とする請求項３７に記載の方法。
【請求項５３】
前記接着ステップが、前記第１のプレート構造に沿った前記複数の位置のそれぞれに対応した複数の横方向に離間したシーリング位置の前記シーリング材料上に、エネルギーを局所的に加えるステップを含むことを特徴とする請求項５２に記載の方法。
【請求項５４】
前記方法が更に、
前記位置合わせステップの前に、前記第２のプレート構造上に一対の制限構造を設けて、前記シーリング材料が、前記一対の制限構造に面したそれらの間の前記第２のプレート構造上に配置されるようにするステップを含み、
前記加熱ステップの際に、前記一対の制限構造により、前記シーリング材料が前記一対の制限材料を横方向に越えて広がって前記一対の制限構造を横方向に越えた第２のプレート構造に接触するのが概ね妨げられることを特徴とする請求項３７に記載の方法。
【請求項５５】
前記第２のプレート構造が、
（ａ）前記シーリング材料に接触する、前記シーリング材料の接着を促進する表面エネルギーを備えた、シーリング領域と、
（ｂ）前記シーリング領域に横方向に隣接し、前記シーリング材料の接着を妨げる表面エネルギーを備えた別の領域とを含むことを特徴とする請求項３７に記載の方法。
【請求項５６】
第２のプレート構造に概ね対向するように第１のプレート構造を位置合わせするステップであって、前記第２のプレート構造に指定のパターンで設けられたシーリング材料が、前記両プレート構造間に位置し、間隙により前記シーリング材料と前記第１のプレート構造とが少なくとも部分的に離間される、前記位置合わせステップと、
前記シーリング材料と前記プレート構造とを全体的に加熱して、前記シーリング材料が前記間隙をブリッジして前記プレート構造を共にシールする加熱ステップとを含む方法。
【請求項５７】
前記位置合わせステップが、前記第２のプレート構造の鉛直方向上側に前記第１のプレート構造を位置合わせするステップを含むことを特徴とする請求項５６に記載の方法。
【請求項５８】
前記間隙が少なくとも２５μｍの平均高さを有することを特徴とする請求項５６に記載の方法。
【請求項５９】
前記加熱ステップが、前記シーリング材料及び前記両プレート構造を、前記プレート構造のあらゆる重要な部分に有意な損傷を与えることなく前記シーリング材料を前記間隙に沿って軟化する即ち溶解するのに十分なシーリング温度まで加熱するステップを含むことを特徴とする請求項５６に記載の方法。
【請求項６０】
前記シーリング温度が３００℃〜６００℃であることを特徴とする請求項５９に記載の方法。
【請求項６１】
前記両プレート構造が、前記加熱ステップの間、互いに概ね固定された位置関係で維持されることを特徴とする請求項５６に記載の方法。
【請求項６２】
前記位置合わせステップが、前記加熱ステップの間、前記両プレート構造が概ね固定された状態で互いに鉛直方向に離間するように、前記両プレート構造を概ね固定された状態に互いに鉛直方向に離間するように配置するステップを含むことを特徴とする請求項５６に記載の方法。
【請求項６３】
前記配置ステップが、前記両プレート構造に接触するように、前記両プレート構造間に前記シーリング材料以外の中間手段を配設するステップを含むことを特徴とする請求項６２に記載の方法。
【請求項６４】
前記中間手段がタック手段を含み、このタック手段を介して、前記両プレート構造に沿って横方向に離間した複数の位置において前記両プレート構造が互いに連結されることを特徴とする請求項６３に記載の方法。
【請求項６５】
前記位置合わせステップが、前記加熱ステップの前に、前記第２のプレート構造及び前記シーリング材料が、概ね前記シーリング材料の全体において前記第１のプレート構造から鉛直方向に離間するように、前記両プレート構造間にスペーサ手段を配置するステップを含むことを特徴とする請求項５６に記載の方法。
【請求項６６】
前記位置合わせステップが、前記両プレート構造に沿って横方向に離間した複数の位置において前記両プレート構造に対して前記スペーサ手段を接続させるステップを更に含むことを特徴とする請求項６５に記載の方法。
【請求項６７】
前記位置合わせステップが、前記間隙が形成されるように、前記スペーサ手段を前記両プレート構造間に配置するステップを含むことを特徴とする請求項６５に記載の方法。
【請求項６８】
更に、前記位置合わせステップと前記加熱ステップとの間に、前記第１のプレート構造において横方向に離間した複数の位置に前記第１のプレート構造に前記シーリング材料を接着するステップを更に含むことを特徴とする請求項５６に記載の方法。
【請求項６９】
前記第１のプレート構造が、
（ａ）前記加熱ステップの際に前記シーリング材料に接触する、前記シーリング材料の接着を促進する表面エネルギーを備えた、シーリング領域と、
（ｂ）前記シーリング領域に横方向に隣接し、前記シーリング材料の接着を妨げる表面エネルギーを備えた別の領域とを有することを特徴とする請求項５６に記載の方法。
【請求項７０】
前記第２のプレート構造が、
（ａ）前記シーリング材料に接触する、前記シーリング材料の接着を促進する表面エネルギーを備えた、シーリング領域と、
（ｂ）前記シーリング領域に横方向に隣接し、前記シーリング材料の接着を妨げる表面エネルギーを備えた別の領域とを含むことを特徴とする請求項５６に記載の方法。
【請求項７１】
前記第１のプレート構造が、
（ａ）前記加熱ステップの際に前記シーリング材料に接触する、前記第１のプレート構造のシーリング領域に対する前記シーリング材料の接着を促進する表面エネルギーを備えた、シーリング領域と、
（ｂ）前記第１のプレート構造のシーリング領域に横方向に隣接し、前記第１のプレート構造のシーリング領域に対する前記シーリング材料の接着を妨げる表面エネルギーを備えた別の領域とを含むことを特徴とする請求項７０に記載の方法。
【請求項７２】
前記加熱ステップが終了すると、前記シーリング材料が一方の前記プレート構造から他方の前記プレート構造に連続して延在していることを特徴とする請求項５６に記載の方法。
【請求項７３】
外壁部分が、前記シーリング材料の第１の部分で覆われた第１の端部と、前記シーリング材料の第２部分で覆われた、前記第１の端部とは反対側の第２の端部とを有し、
前記位置合わせステップの前に、前記シーリング材料の第２の部分により、前記第２の端部に沿って前記外壁部分が前記第２のプレート構造に接着されるように、前記外壁部分が前記第２のプレート構造上に設けられることを特徴とする請求項５６に記載の方法。
【請求項７４】
第２のプレート構造に概ね対向するように第１のプレート構造を位置合わせするステップであって、前記第２のプレート構造に指定のパターンで設けられたシーリング材料が、前記両プレート構造間に位置し、間隙により前記シーリング材料と前記第１のプレート構造とが少なくとも部分的に離間され、スペーサ手段が、（ａ）前記両プレート構造間に位置し、（ｂ）前記シーリング材料によって横方向に概ね囲まれ、（ｃ）前記両プレート構造に沿った横方向に離間した複数の位置で前記両プレートに固定結合されるようにする、前記位置合わせステップと、
前記シーリング材料が前記間隙を塞いで前記両プレート構造を共にシールするように、前記シーリング材料に局所的にエネルギーを加えるステップとを含むことを特徴とする方法。
【請求項７５】
前記スペーサ手段が、横方向に互いに離間した複数のスペーサを含むことを特徴とする請求項７４に記載の方法。
【請求項７６】
前記スペーサ手段により、前記エネルギーを加えるステップの時に、前記両プレート構造が概ね固定された状態で互いに離間されることを特徴とする請求項７４に記載の方法。
【請求項７７】
前記エネルギーが光エネルギーを含むことを特徴とする請求項７４に記載の方法。
【請求項７８】
前記エネルギーを加えるステップの際、前記シーリング材料が、重力により鉛直方向下側に移動して前記第１のプレート構造に接触するように、前記第１のプレート構造が前記第２のプレート構造の鉛直方向下側に配置されることを特徴とする請求項７４に記載の方法。
【請求項７９】
前記エネルギーを加えるステップの際、前記シーリング材料が、鉛直方向上側に移動して前記間隙を塞ぐように、前記第１のプレート構造が前記第２のプレート構造の鉛直方向上側に配置されることを特徴とする請求項７４に記載の方法。
【請求項８０】
前記間隙の平均高さが少なくとも２５μｍであることを特徴とする請求項７９に記載の方法。
【請求項８１】
前記位置合わせステップが、前記第１のプレート構造に設けた制限構造が前記両プレート間に位置し、前記シーリング材料が前記制限構造に近接して位置するように、前記両プレート構造を位置合わせするステップを含み、
前記エネルギーを加えるステップの際に、前記シーリング材料が、前記制限構造に近接した前記第１のプレート構造に接触するが、前記制限構造により、前記シーリング材料が前記制限構造を横方向に越えて広がって、前記制限構造を横方向に越えた前記第１のプレート構造に接触するのが防止されることを特徴とする請求項７４に記載の方法。
【請求項８２】
前記方法が更に、
前記位置合わせステップの前に、前記第２のプレート構造上に別の制限構造を設けて、前記シーリング材料が、前記別の制限構造に面した近接した位置の前記第２のプレート構造上に配置されるようにするステップを含み、
前記エネルギーを加えるステップの際に、前記別の制限構造により、前記シーリング材料が前記別の制限構造を横方向に越えて広がって前記別の制限構造を横方向に越えた第２のプレート構造に接触するのが概ね妨げられることを特徴とする請求項８１に記載の方法。
【請求項８３】
前記位置合わせステップが、前記第１のプレート構造上に設けられた一対の制限構造が、前記両プレート間に位置し、かつ前記シーリング材料が前記一対の制限構造に面してそれらの内側に配置されるように、前記両プレート構造を位置合わせするステップを含み、
前記エネルギーを加えるステップで、前記シーリング材料が、前記一対の制限構造間の前記第１のプレート構造に接触するが、前記一対の制限構造により、前記シーリング材料が前記一対の制限構造を越えて横方向に広がって、前期制限構造を横方向に越えた前記第１のプレート構造に接触するのが防止されることを特徴とする請求項７４に記載の方法。
【請求項８４】
第２のプレート構造の鉛直方向下側に第１のプレート構造を位置合わせするステップであって、前記第２のプレート構造上に指定のパターンで設けられたシーリング材料が前記両プレート構造間に位置するステップと、
前記シール材料が重力により概ね下側に移動し、前記第1のプレート構造に接触して、前記プレート構造を共にシーリングするように加熱するステップであって、前記第1のプレート構造が、（ａ）該加熱ステップの際に前記シーリング材料に接触するシーリング領域であって、該シーリング領域に対する前記シーリング材料の接着を促進する表面エネルギーを備えた、シーリング領域と、（ｂ）前記シーリング領域に横方向に隣接する別の領域であって、該別領域に対する前記シーリング材料の接着を妨げる表面エネルギーを備えた、別の領域とを有する、加熱ステップとを含むことを特徴とする方法。
【請求項８５】
前記加熱ステップの間、前記両プレート構造が、互いに概ね固定された位置関係に維持されることを特徴とする請求項８４に記載の方法。
【請求項８６】
前記加熱ステップが前記シーリング材料及び前記プレート構造を全体的に加熱するステップを含むことを特徴とする請求項８４に記載の方法。
【請求項８７】
第２のプレート構造の鉛直方向下側に第１のプレート構造を位置合わせするステップであって、前記第２のプレート構造上に指定のパターンで設けられたシーリング材料が前記両プレート構造間に位置するステップと、
前記シール材料が重力により概ね下側に移動し、前記第1のプレート構造に接触して、前記プレート構造を共にシーリングするように加熱するステップであって、前記第2のプレート構造が、（ａ）前記シーリング材料に接触するシーリング領域であって、該シーリング領域に対する前記シーリング材料の接着を促進する表面エネルギーを備えた、シーリング領域と、（ｂ）前記シーリング領域に横方向に隣接する別の領域であって、該別領域に対する前記シーリング材料の接着を妨げる表面エネルギーを備えた、別の領域とを有する、加熱ステップとを含むことを特徴とする方法。
【請求項８８】
前記第1のプレート構造が、
（ａ）前記加熱ステップの際に前記シーリング材料に接触するシーリング領域であって、前記第1のプレート構造の該シーリング領域に対する前記シーリング材料の接着を促進する表面エネルギーを備えた、シーリング領域と、
（ｂ）前記第1プレート構造の前記シーリング領域に横方向に隣接する別の領域であって、前記第1プレート構造の前記シーリング領域に対する前記シーリング材料の接着を妨げる表面エネルギーを備えた別の領域とを含むことを特徴とする請求項８７に記載の方法。
【請求項８９】
前記加熱ステップの間、前記両プレート構造が、互いに概ね固定された位置関係に維持されることを特徴とする請求項８７に記載の方法。
【請求項９０】
前記加熱ステップが前記シーリング材料及び前記プレート構造を全体的に加熱するステップを含むことを特徴とする請求項８７に記載の方法。
【請求項９１】
概ね互いに対向するように第１及び第２のプレート構造を位置合わせするステップであって、前記第１のプレート構造上に設けられた制限構造が前記両プレート間に配置され、前記第２のプレート構造上に設けられた指定のパターンのシーリング材料が、前記制限構造に近接して前記両プレート間に配置され、前記シーリング材料若しくは前記制限構造以外の中間手段が、前記両プレート間に配置されて前記両プレート構造と接触する、前記位置合わせステップと、
前記両プレート構造を互いに密閉するべく前記シーリング材料を加熱するステップであって、前記シーリング材料が、前記制限構造に近接した前記第１のプレート構造に接触するが、前記制限構造により、前記シーリング材料が前記制限構造上を横方向に広がって、前記制限構造を横方向に越えた前記第１のプレート構造に接触するのが防止される、前記加熱ステップとを含む方法。
【請求項９２】
前記中間手段がタック手段を含み、このタック手段を介して、前記両プレート構造に沿って横方向に離間した複数の位置において前記両プレート構造が互いに連結されることを特徴とする請求項９１に記載の方法。
【請求項９３】
前記シーリング材料が概ね横方向の環状構造であり、前記タック手段が、前記シーリング材料の外側に配置されていることを特徴とする請求項９２に記載の方法。
【請求項９４】
前記シーリング材料が概ね横方向の環状構造であり、前記中間手段が、前記シーリング材料の内側に配置されたスペーサ手段を含むことを特徴とする請求項９１に記載の方法。
【請求項９５】
前記中間手段が更にタック手段を含み、このタック手段を介して、前記両プレート構造に沿って横方向に離間した複数の位置において前記両プレート構造が互いに連結されることを特徴とする請求項９４に記載の方法。
【請求項９６】
前記シーリング材料が、前記位置合わせステップの際に前記制限構造に十分近接して位置するため、前記加熱ステップの際に前記シーリング材料が前記制限構造に横方向に接触することを特徴とする請求項９１に記載の方法。
【請求項９７】
前記位置合わせステップが、前記第２のプレート構造の鉛直方向下側に前記第１のプレート構造を位置合わせするステップを含み、
前記シーリング材料が、前記加熱ステップ中に重力により鉛直方向下向きに移動することを特徴とする請求項９１に記載の方法。
【請求項９８】
前記加熱ステップが、前記シーリング材料、前記両プレート構造、及び前記制限構造を全体的に加熱することを含むことを特徴とする請求項９１に記載の方法。
【請求項９９】
前記位置合わせステップが、間隙により前記シーリング材料と前記第１のプレート構造とが少なくとも部分的に離間するように、前記第１のプレート構造を前記第２のプレート構造の鉛直方向上側に位置合わせするステップを含み、
前記加熱ステップの際に、前記シーリング材料が前記間隙を塞ぐことを特徴とする請求項９８に記載の方法。
【請求項１００】
概ね互いに対向するように第１及び第２のプレート構造を位置合わせするステップであって、前記第１のプレート構造上に設けられた第1制限構造が前記両プレート間に配置され、前記第2プレート構造上に設けられた第2制限構造が前記両プレート間に配置され、前記第２のプレート構造上に設けられた指定のパターンのシーリング材料が、前記第1制限構造に近接して且つ前記第2プレート構造に近接して面するように前記両プレート間に配置される、前記位置合わせステップと、
前記両プレート構造を互いに密閉するべく前記シーリング材料を加熱するステップであって、前記シーリング材料が、前記第1制限構造に近接した前記第１のプレート構造に接触するが、前記第1制限構造により、前記シーリング材料が前記第1制限構造上を横方向に広がって、前記第1制限構造を横方向に越えた前記第１のプレート構造に接触するのが防止され、且つ前記第2制限構造により、前記シーリング材料が前記第2制限構造上を横方向に広がって、前記第2制限構造を横方向に越えた前記第2のプレート構造に接触するのが防止される、前記加熱ステップとを含む方法。
【請求項１０１】
前記シーリング材料が、前記位置合わせステップの際に前記制限構造に十分近接して位置すわため、前記加熱ステップの際に前記シーリング材料が前記制限構造に横方向に接触することを特徴とする請求項１００に記載の方法。
【請求項１０２】
前記位置合わせステップが、前記第２のプレート構造の鉛直方向下側に前記第１のプレート構造を位置合わせするステップを含み、
前記シーリング材料が、前記加熱ステップ中に重力により鉛直方向下向きに移動することを特徴とする請求項１００に記載の方法。
【請求項１０３】
前記加熱ステップが、前記シーリング材料、前記両プレート構造、及び前記制限構造を全体的に加熱することを含むことを特徴とする請求項１００に記載の方法。
【請求項１０４】
前記位置合わせステップが、間隙により前記シーリング材料と前記第１のプレート構造とが少なくとも部分的に離間するように、前記第１のプレート構造を前記第２のプレート構造の鉛直方向上側に位置合わせするステップを含み、
前記加熱ステップの際に、前記シーリング材料が前記間隙を塞ぐことを特徴とする請求項１０３に記載の方法。
【請求項１０５】
前記加熱ステップの後に、前記シーリング材料が、概ね四角形に似た形状の鉛直方向断面形状を備えていることを特徴とする請求項１乃至１０４の何れかに記載の方法。
【請求項１０６】
前記加熱ステップの後に、前記シーリング材料が、（ａ）前記第1プレート構造と接触する第1の側辺と、（ｂ）前記第1の側辺と概ね平行に延在し、前記第1の側辺よりも短い、前記第2プレート構造と接触する第2の側辺とを有する鉛直方向断面形状を備えていることを特徴とする請求項１乃至１０４の何れかに記載の方法。
【請求項１０７】
前記加熱ステップの前に、前記シーリング材料が、第1の側辺と、該第1の側辺と概ね平行に延在し、前記第1の側辺よりも短い、前記第2プレート構造と接触する第2の側辺とを有する鉛直方向断面形状を備えていることを特徴とする請求項２３乃至７３及び請求項９１乃至１０４の何れかに記載の方法。
【請求項１０８】
前記加熱ステップの前に、前記シーリング材料の鉛直方向断面形状が概ね台形に似た形状をしており、該台形の平行する2辺の各々が前記第1の側辺及び第2の側辺を構成することを特徴とする請求項１０７に記載の方法。
【請求項１０９】
前記台形が二等辺台形であることを特徴とする請求項１０８に記載の方法。
【請求項１１０】
前記シーリング材料が概ね横方向の環状構造であることを特徴とする請求項２３乃至４８、請求項５０乃至７３、請求項８４乃至９２、及び請求項９６乃至１０４の何れかに記載の方法。
【請求項１１１】
前記両プレート構造が、フラットパネルディスプレイの構成部品であることを特徴とする請求項１乃至１１０の何れかに記載の方法。
【請求項１１２】
前記フラットパネルディスプレイが、フラットパネルＣＲＴディスプレイであることを特徴とする請求項１１１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
シール作業の際、フリット１８及びフリット２０を含む外壁１４の上端部は最初に、スペーサ壁１６の上端部よりも少し高くなっている。フリット２０が融解するにつれて、スペーサ壁１６が背面板構造１０と接するまで、プレート構造１０及び１２と垂直な、一般的にz軸と呼ばれる方向にいくらか圧縮される。シール作業の際にフリット１８もz軸方向に圧縮され得る。それゆえに、プレート構造１０及び１２は、FEDがシールされるように互いに関してz軸方向に動く。複合型外壁１４／１８／２０に対して長方形型のリングであるフリットを配置した場合も同様のz軸方向の動きが生じる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
z軸方向の動きの副作用は、表面板構造１２が背面板構造１０に対してz軸方向と垂直な方向に動くことがある点である。それゆえに、プレート構造１０及び１２の位置合わせは、構造１０及び１２のz軸方向運動の結果として若干崩れる。主としてプレート構造１０及び１２と位置合わせシステム２２との熱膨張係数の差異によって、システム２２を用いても位置合わせの崩れが生じ得る。ディスプレイの2つのプレート構造間のz軸の動きをほぼ防ぎ、従って、そのようなz軸方向の動きによる位置合わせの崩れを防ぐ技術により、フラットパネルディスプレイ、特にFED等のフラットパネルCRTディスプレイの密封シールすることが望ましい。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
電界放出ディスプレイ（別表現で「FED」）中の表面板構造３２は、透明な表面板の内面上に設けられた発光素子の二次元アレイを含んでいる。構造３２中の発光素子に隣接して陽極が配置される。陽極は、発光素子全体に渡って配置されてよい。その場合に陽極は通常、放出電子が容易に通過して発光素子にぶつかることが可能なアルミニウムのような導電性光反射材料の薄膜で構成されている。先行技術を用いた配置による表面板構造を備えたFEDの例が米国特許第5,424,605号及び5,477,105号に説明されている。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
表面板３２Ｓは、シール領域３２Ｓの内側部分及び外側部分に沿って各々隣接し、且つ延在する、表面板構造３２の内面の（図３で記号３２ＮＩ及び３２ＮＯと示された）2部分とは異なる表面エネルギーになっていてよい。そうなっている場合、表面エネルギー領域３２Ｓは、外壁３４のシール材料に対して領域３２Ｓの結合を促進させるような性質を有する。これは一般的に、領域３２Ｓが壁シール材料によって接着力を有することを意味している。また、隣接部分３２ＮＩ及び３２ＮＯの各々の表面エネルギーは、３２ＮＩ及び３２ＮＯ部分が外壁３４のシーワ材料に結合するのを妨げる性質を有する。これは概して、非シール部分３２ＮＩ及び３２ＮＯが３２Ｓに比べて壁シール材料によってほとんど接着力を有しないことを意味している。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
タッキングされ、位置合わせが行われた（通常、タック構造４４を含む）構造３０／３２／３４／３６は、例えば、背面板構造３０が鉛直方向で既に上部にあり、且つ背面板構造３０を外壁３４にシールするためにシール用炉５４の中に配置されている場合、構造３０／３２／３４／３６を裏返すことによって、図２ｇに示されるように表面板構造が鉛直方向で上部になるように配置される（図２ｈ参照）。炉５４中に配置される際に、背面板構造３０は表面板構造３２の鉛直方向で下に配置され、それにより外壁３４と共に形成されたシール材料及びスペーサ壁３６はプレート構造３０と３２との間に配置される。タッキングされた構造３０／３２／３４／３６は、通常、概ね水平方向に延びている（即ち、概ね鉛直方向に延びているプレート構造３０若しくは３２の外面と垂直である）。しかしながら、タッキングされた構造３０／３２／３４／３６は、背面板構造と外壁とのシールにそれほど影響を与えることなしに水平方向からやや外れて（通常、水平方向からの外れは少なくとも20°に達する）延びている。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９５】
外壁３４は、背面板シール領域３０Ｓと向かい合わせに配置され、それゆえに背面板制限構造６０と６２との間の位置と向かい合わせに配置される。壁３４は構造６０と６２との間の空間に延在してもよいし、延在しなくてもよい。壁３４は、通常、図７ａの段階で構造６０若しくは６２と接触しない。通常、壁３４と構造６０若しくは６２との間の側部方向の間隔は5〜500μm（通常は250μm）である。しかしながら、壁３４はこの時点で構造６０及び／又は構造６２と接触し得る。いずれにしても、構造６０及び６２はスペーサ壁３６より短くなっており、従って表面板構造３２とは接触しない。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１２】
図１０ａ乃至図１０ｉ（まとめて「図１０」）は、本発明に従ったシール制限構造を用いたフラットパネルディスプレイを密封シールする別のプロセスが図示されている。図７のプロセスでは背面板構造３０上だけであったのに対して、図１０のプロセスでは、シール制限構造がプレート構造３０及び３２の両方に設けられているという点で図７のプロセスと異なっている。この差異及び図７のプロセスが図２ａ乃至図２ｅのステップで開始されることに留意すると、図１０ａ乃至図１０ｉのステップは図２ａ乃至図２ｅ及び図７ａ乃至図７ｄのステップと各々対応している。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１５】
表面板制限構造６４及び６６は、背面板制限構造６０及び６２と同様の方法で形成されてよい。例えば、複合表面板構造３２／６４／６６を製造する際の適切な段階で、シール制限材料のブランケット層が表面板構造３２のその時点で存在する内面上に形成されてよい。表面板制限構造６４及び６６に対するシール制限材料のブランケット層の形成は、背面板制限構造６０及び６２に対してシール制限材料のブランケット層を生成するための上述の方法のいずれを用いて実行されてもよい。適切なフォトレジストマスクを用いて、シール制限材料の望んでいない部分が除去されて表面板制限構造６４及び６６が作成される。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
或いは、シール制限材料が構造３２のその時点で存在する内面上の望まれない領域に積重ねられることを防ぐためにシャドーマスクを用いて、表面板制限構造６４及び６６が表面板構造３２のその時点で存在している内面上に選択的に成膜されてもよい。このシャドーマスクは、表面板構造３２のその時点で存在する面上の、シール制限材料が望まれない部分に直接形成されるフォトレジストで置き換えられてもよい。シーワ制限材料の付着後、マスク上に成膜された任意のシール制限材料を除去するためにフォトレジストマスクが除去される。更に、制限構造６４及び６６は表面板構造３２のその時点で存在する内面上にスクリーン印刷されてよい。


【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２３】
表面板構造と外壁とのシール作業を適切に制御することによって、通常、壁シール材料が側方に広がって内側表面板制限構造６４と接触してその外側側壁を著しく越えていくことや、若しくは外側表面板制限構造６６と接触してその内側側壁を著しく越えていくことがなくなる。即ち、通常、壁シール材料が構造６４若しくは６６の上部を著しく越えていくことはない。構造６４及び６６は、表面板構造と外壁とのシーリング作業の際に壁３４のシール材料が側方に広がることを物理的及び／又は化学的に抑制するので、表面板構造と外壁とのシールの際に図２のプロセスの場合よりも壁３４の粘着力をより変化させることができる。


【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３１】
タッキングされ、位置合わせが行われた（通常、タック構造４４を含む）構造３０／３２／３４／３６／６０／６２／６４／６６は、例えば、背面板構造３０が鉛直方向で既に上部にあり、炉５４の中に配置されている場合、タッキングされた構造３０／３２／３４／３６／６０／６２／６４／６６を裏返すことによって、図１０ｇに示されるように表面板構造が鉛直方向で上部になるように配置される（図１０ｈ参照）。対応する図２における図２ｈの段階、若しくは対応する図７における図７ｃの段階でそうであるように、図１０ｈの段階で炉５４中に背面板構造３０が表面板構造３２の鉛直方向で下に配置され、且つ、外壁３４がプレート構造３０と３２との間に配置される。プレート構造３０と３２とが概ね固定された方法で互いに離れて鉛直方向に間隔付けられるように中間機構を形成するスペーサ壁３６及び（存在する場合には）タック構造４４を用いて、複合表面板構造３２／６４／６６の複合背面板構造３０／６０／６２への外壁３４を介した密封シールを実行するために重力式加熱作業が実行される。この重力式加熱作業は、背面板制限構造６０及び６２の説明をしている図７の修正に従って、図２に関連して上述されたように実行される。


【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５２】
タッキングされた構造３０／３２／３４／３６／６０／６２は、図１３ｂの段階でのタッキングされた構造３０／３２／３４／３６に対して上述されたように全体加熱される。全体加熱によって、外壁３４のシール材料が間隙を鉛直方向にジャンプして、図１４ｂに示されたように壁３４を介してプレート構造３０と３２を1つに密封シールする。図１３プロセスにおける全体加熱間隙ジャンプ作業について上述したことは全て、図１４のプロセスにおける全体加熱間隙ジャンプ作業に適用される。これには、壁３４の鉛直方向断面が図１４ａの段階で逆台形状等の非四角形状の構成になっている代替実施例が含まれる。


【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５５】
図１５ａ〜１５ｃ（まとめて「図１５」）には、本発明による全体加熱間隙ジャンプ方法、背面板シール制限構造６０及び６２、並びに表面板シール制限構造６４及び６６を用いてフラットパネルディスプレイをシールするための一般的な手順の一部が図示されている。図１５のプロセスは、同様にして、背面板構造３０と制限構造６０及び６２とから構成される複合背面板構造３０／６０／６２が、表面板構造３２と制限構造６４及び６６とで構成される複合表面板構造３２／６４／６６にタッキングされている（通常はタック構造４４を含む）位置合わせ及びタッキングされた構造３０／３２／３４／３６／６０／６２／６４／６６を作るための図１０ａ〜図１０ｆのステップで開始される。図１５ａ〜１５ｃのステップは各々図１３ａ〜１３ｃのステップに対応している。図１５ａは、図１０ａ〜図１０ｆのステップが終了した後にタッキングされた構造３０／３２／３４／３６／６０／６２／６４／６６がどう見えるかを示している。


【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５７】
タッキングされた構造３０／３２／３４／３６／６０／６２／６４／６６は、図１３ｂの段階でのタッキングされた構造３０／３２／３４／３６に対して上述されたように全体加熱される。全体加熱によって、外壁３４のシール材料が間隙を鉛直方向にジャンプして、図１５ｂに示されたように外壁３４を介してプレート構造３０と３２を1つに密封シールする。図１３プロセスにおける全体加熱間隙ジャンプ作業について上述したことは全て、図１５のプロセスにおける全体加熱間隙ジャンプ作業に適用される。


【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６５】
外壁３４がプレート構造３０及び３２の一方と最初に結合され、且つスペーサ壁３６が構造３０及び３２の他方と最初に結合されてよい。この時点で外壁３４若しくはスペーサ壁３６のいずれかに結合された背面板構造３０が、この時点でスペーサ壁３６若しくは外壁３４のいずれかに結合された表面板構造３０に位置合わせ及びタッキングされる。これら2つの代替実施例のいずれが用いられるかに応じて、外壁３４と背面板構造３０との間、若しくは外壁３４と表面板構造３４との間のいずれかに間隙が存在する。


【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７２】
特定状況下では、本発明により製造されたフラットパネルディスプレイは、プレート構造３０と３２との間に一定間隔を保持し、且つ外部からの力、特に気圧によってディスプレイが損傷するのを防止するように内側スペーサシステムを有さなくてもよい。例えば、ディスプレイは側方領域が十分小さくて、内側スペーサシステムが不要であってよい。代替的に、若しくは付加的に、気圧及び同様の外部力に対して、プレート構造３０及び３２自体の耐性が十分強くなっていてもよい。内側スペーサシステムを備えていないフラットパネルCRTディスプレイの例は、米国特許第5,964,630号を参照されたい。