(57)【要約】  ディスク状記録媒体のデータトラックパターンを有するデータ領域と、そのデータ領域の外側及び内側の少なくとも一方にダミーパターンを有するダミー領域とを、転写面に有する記録媒体作製用転写型であり、ダミーパターンはデータトラックパターンのトラックピッチ以上の幅をディスク半径方向に有する複数のダミー凸部による少なくとも１つの列からなる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスク状記録媒体のデータトラックパターンを有するデータ領域と、そのデータ領域の外側及び内側の少なくとも一方にダミーパターンを有するダミー領域とを、転写面に有するインプリント用転写型であって、前記ダミーパターンは前記データトラックパターンのトラックピッチ以上の幅をディスク半径方向に有する複数のダミー凸部による少なくとも１つの列からなることを特徴とする記録媒体作製用転写型。
【請求項２】
前記ダミー凸部の表面形状は多角形又は楕円を含む円形であることを特徴とする請求項１記載の記録媒体作製用転写型。
【請求項３】
前記ダミー凸部の最短幅と高さとの比が２以上２０以下であることを特徴とする請求項1 記載の記録媒体作製用転写型。
【請求項４】
前記ダミー凸部の列は円形の周列であることを特徴とする請求項１記載の記録媒体作製用転写型。
【請求項５】
前記ダミー領域はディスク半径方向に５０μm以下の幅で存在することを特徴とする請求項１記載の記録媒体作製用転写型。
【請求項６】
前記ダミー領域の前記ダミー凸部の部分の面積とそれ以外のスペース面積との比率が、前記データ領域の凸部の部分の面積とそれ以外のスペース面積との比率とほぼ同一になるようにされていることを特徴とする１記載の記録媒体作製用転写型。
【請求項７】
ディスク状記録媒体のデータトラックパターンを有するデータ領域と、そのデータ領域の外側及び内側の少なくとも一方にダミーパターンを有するダミー領域とを、転写面に有し、前記ダミーパターンが前記データトラックパターンのトラックピッチ以上の幅をディスク半径方向に有する複数のダミー凸部による少なくとも１つの列からなる記録媒体作製用転写型の前記転写面を記録媒体用基板の表面に形成された受型層に押圧することによって、前記受型層に前記データトラックパターン及び前記ダミーパターンを形成することを特徴とする記録媒体製造方法。
【請求項８】
ディスク状記録媒体のデータトラックパターンを有するデータ領域と、そのデータ領域の外側及び内側の少なくとも一方にダミーパターンを有するダミー領域とを、転写面に有し、前記ダミーパターンが前記データトラックパターンのトラックピッチ以上の幅をディスク半径方向に有する複数のダミー凸部による少なくとも１つの列からなる記録媒体作製用転写型の前記転写面を記録媒体用基板の表面に形成された受型層に押圧することによって、前記受型層に形成された前記データトラックパターン及び前記ダミーパターンに基づいて作製されたことを特徴とする記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録媒体製造時に記録媒体基板の表面に押圧によって転写されるパターンが転写面に形成された記録媒体作製用転写型に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスク装置（ＨＤＤ）に用いられる磁気ディスクにおいては、図１に示すように、磁気ヘッドと磁気ディスク上のトラックとの相対位置を検出するためのサーボパターンを記録したサーボ領域と、データの記録再生を行うためのトラックのパターンが形成されたデータ領域とが周方向のトラックに沿って一定した角度間隔で交互に並んでおり、磁気ヘッドはデータ記録又は再生中に一定時間毎にその記録又は再生位置を検出することができる。【０００３】
サーボ領域及びデータ領域のパターンを有する磁気ディスクを製造する際には、受型層としての樹脂層が表面に形成された磁気ディスク用基板が用いられ、その基板の表面の樹脂層に転写型（スタンパ）によって圧力を加えるインプリント工程が実行される。インプリント工程によりサーボ領域及びデータ領域のパターンの凹凸が樹脂層に転写され、その後の工程においてパターンが転写された基板に基づいて磁気ディスクが製造される。【０００４】
そのインプリント工程において、データ領域のトラック間のガードバンドが凸となった転写型が用いられると、インプリント加圧により樹脂層に形成されるデータ領域の外周部分及び内周部分の凸部が倒れてしまいパターンの変形が生じるという問題点があった。具体的には、図２(a)に示すように、インプリント加圧で矢印で示す方向で転写型５１を基板５２上の樹脂層５３に押し付けた時に転写型５１が歪んで斜めに食い込み、加圧を止めて転写型を戻しながら樹脂層５３から外れた時に図２(b)に示すように、樹脂層５３に形成された凸部を矢印で示す方向に引っ張るように倒していくことにより、パターンの変形が生じている。【０００５】
この問題に対処するために、インプリント加圧による圧力分散用凸部を転写型の凹凸パターン形成可能な環状領域の外側及び内側の領域に形成する方法が特許文献１に示されている。特許文献２には、目的は異なるが、転写型にそのデータ領域の溝パターンと同等な螺旋状のダミーの溝パターンを設けて、パターニング加工物のデータ領域のエッチングの深さを均一にする方法が示されている。特許文献３には、情報領域とは異なるダミーグルーブやダミーピットを光磁気ディスク用スタンパに設ける方法が示されている。
【特許文献１】特開２００５−７１４８７号公報
【特許文献２】特開平６−２１２４５７号公報
【特許文献３】特開２００１−１１８２８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１〜３に示されたような方法においては、転写型のデータ領域の内側及び外側にデータ領域に形成されるパターンと同等の凹凸形状のダミーのパターンを単に設けており、それはインプリント加圧により樹脂層に形成されるデータ領域のパターンの変形を効果的に防止するものはないという問題があった。すなわち、インプリント加圧で転写型を樹脂層に押し付けた時に転写型が歪んで斜めに食い込むことを前提にしてそのダミーのパターン領域を定めているので、加圧を繰り返すに従って樹脂層に転写されたダミーパターン領域の変形が進み、やがてデータ領域のガードバンドにも影響を与えるようになってしまうという問題点があった
そこで、本発明が解決しようとする課題には、上記の欠点が一例として挙げられ、インプリント加圧により樹脂層等の受型層に形成されるデータ領域のパターンの変形を確実に防止することができる記録媒体作製用転写型、その記録媒体作製用転写型を用いた記録媒体製造方法、及びその記録媒体作製用転写型を用いて作製された記録媒体を提供することが本発明の目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に係る発明の記録媒体作製用転写型は、ディスク状記録媒体のデータトラックパターンを有するデータ領域と、そのデータ領域の外側及び内側の少なくとも一方にダミーパターンを有するダミー領域とを、転写面に有するインプリント用転写型であって、前記ダミーパターンは前記データトラックパターンのトラックピッチ以上の幅をディスク半径方向に有する複数のダミー凸部による少なくとも１つの列からなることを特徴としている。【０００８】
請求項７に係る発明の記録媒体製造方法は、ディスク状記録媒体のデータトラックパターンを有するデータ領域と、そのデータ領域の外側及び内側の少なくとも一方にダミーパターンを有するダミー領域とを、転写面に有し、前記ダミーパターンが前記データトラックパターンのトラックピッチ以上の幅をディスク半径方向に有する複数のダミー凸部による少なくとも１つの列からなる記録媒体作製用転写型の前記転写面を記録媒体用基板の表面に形成された受型層に押圧することによって、前記受型層に前記データトラックパターン及び前記ダミーパターンを形成することを特徴としている。【０００９】
請求項８に係る発明の記録媒体は、ディスク状記録媒体のデータトラックパターンを有するデータ領域と、そのデータ領域の外側及び内側の少なくとも一方にダミーパターンを有するダミー領域とを、転写面に有し、前記ダミーパターンが前記データトラックパターンのトラックピッチ以上の幅をディスク半径方向に有する複数のダミー凸部による少なくとも１つの列からなる記録媒体作製用転写型の前記転写面を記録媒体用基板の表面に形成された受型層に押圧することによって、前記受型層に形成された前記データトラックパターン及び前記ダミーパターンに基づいて作製されたことを特徴としている。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】磁気ディスクに形成されるデータ領域とサーボ領域を示す図である。
【図２】転写型によるインプリント時の状態を示す図である。
【図３】本発明による転写型の転写面を示す図である。
【図４】図３の転写型の転写面外周側の一部を拡大して示す図である。
【図５】インプリント装置の概略構成を示す図である。
【図６】図３の転写型によるインプリント時の状態を示す図である。
【図７】本発明の他の実施例として転写型の転写面外周側の一部を拡大して示す図である。
【図８】本発明の他の実施例として転写型の転写面外周側の一部を拡大して示す図である。
【図９】本発明の他の実施例として転写型の転写面外周側の一部を拡大して示す図である。
【図１０】本発明の他の実施例として転写型の転写面外周側の一部を拡大して示す図である。
【図１１】本発明の他の実施例として転写型の転写面外周側の一部を拡大して示す図である。
【図１２】本発明の他の実施例として転写型の転写面外周側の一部を拡大して示す図である。
【図１３】本発明の他の実施例として転写型の転写面外周側の一部を拡大して示す図である。
【図１４】本発明の他の実施例として転写型の転写面外周側の一部を拡大して示す図である。
【図１５】本発明の他の実施例として転写型の転写面外周側の一部を拡大して示す図である。
【図１６】本発明の他の実施例として転写型の転写面外周側の一部を拡大して示す図である。
【図１７】本発明の他の実施例として転写型の転写面を示す図である。
【図１８】図３の転写型を用いた転写によって磁気ディスクを製造する方法の各工程を示す図である。
【図１９】図３の転写型を用いた転写によって磁気ディスクを製造する他の方法の各工程を示す図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
請求項１に係る発明の記録媒体作製用転写型、請求項７に係る発明の記録媒体製造方法及び請求項８に係る発明の記録媒体においては、ダミー領域のダミーパターンがデータ領域のデータトラックパターンのトラックピッチ以上の幅をディスク半径方向に有する複数のダミー凸部による少なくとも１つの列からなるので、インプリント装置によって転写型を基板表面の受型層に押圧しても転写型のダミー領域部分が歪むことが防止される。よって、ダミー領域及びデータ領域の双方の領域のパターンを基板表面の受型層に変形なく確実に形成させることができる。これにより、低コストで高精度のデータトラックパターンを有する記録媒体の製造が可能である。また、記録媒体においてデータ領域に使用できない領域を減少させることができる。
【実施例】
【００１２】
以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ詳細に説明する。【００１３】
本発明を適用した転写型は、例えばＮｉ等の金属材料、Ｓｉ等の半金属材料や、ＳｉＯ2といった金属、半金属の酸化物等の光透過性を持つ材料によって構成されている。転写型は、好ましくは高精細パターンが形成可能な電子線描画装置を用いて作製される。具体的には、基板を水平方向に移動させる機構と基板を回転させる回転ステージを持ち、基板に塗布されたレジストに電子ビームを照射して描画するｘ-θ型の電子線描画装置を用いて、基板を回転すると同時に半径方向に移動させながら所望の描画パターン（データ領域のデータトラックパターン、サーボ領域のサーボパターン、およびダミー領域のダミーパターン等）に応じた変調がなされた電子ビームによりレジストに描画パターンを形成し、現像を行った後、エッチングやメッキ処理などを行う事によって作製される。なお、上記した所望の描画パターンに関する詳細な説明は後述する。【００１４】
図３は本発明を適用した転写型の転写面を示している。図４は図３の転写型の転写面の外周側の一部を拡大して示している。この転写型の転写面にはデータ領域１と、ダミー領域である内周ダミーバンド部２及び外周ダミーバンド部３が円環状に形成されている。データ領域１は内周ダミーバンド部２と外周ダミーバンド部３との間に形成され、複数の同心円の凹部のトラック１ａと、そのトラック間の凸部のガードバンド１ｂとからなる。内周ダミーバンド部２及び外周ダミーバンド部３各々には複数のダミー凸部２ａ，３ａが所定間隔で配列されている。ダミー凸部２ａ，３ａ各々の転写面の正面から見た形状は正方形である。ダミー凸部２ａ，３ａの高さはガードバンド１ｂの高さと同じである。【００１５】
トラック１ａのトラックピッチをＴＰとすると、ダミー凸部３ａの正方形の一辺の長さＹ１はＴＰ程度の長さ以上あれば良いが、この実施例では図４に示すように、１．２×ＴＰである。ダミー凸部３ａのトラック接線方向におけるピッチは２×ＴＰである。また、データ領域１の最外周のガードバンド１ｂとダミー凸部３ａとのピッチは２×ＴＰである。隣接するダミー凸部３ａ間の隙間の長さＹ２＝２×ＴＰ−１．２×ＴＰ＝０．８×ＴＰである。更に、Ｙ２＜Ｙ１の関係がある。このダミー凸部３ａの配置条件はダミー凸部２ａについても同様である。【００１６】
図５は図３の転写型が用いられるインプリント装置の概略構成を示している。このインプリント装置においては、装置筐体１１内に作業用チャンバ１２が形成され、そこにインプリント装置本体が配置されている。装置筐体１１内上部には転写型１３を転写面を下方に向けて保持する転写型保持部１４が固定されている。転写型１３は図３及び図４に示したものである。【００１７】
装置筐体１１内下部には昇降加圧ユニット１７が固定されている。昇降加圧ユニット１７はその上部の可動部１７ａに設けられたテーブル１８を上下に移動させる。その昇降加圧ユニット１７によるテーブル１８の上下移動は図示しない制御装置によって制御される。テーブル１８上には基板１９が載置される。基板１９の表面にはパターンが転写されるべき受型層である樹脂層２０が形成されている。樹脂層２０は室温又はガラス転移温度以上まで加温した時に流動性を有する、例えば、ポリメタクリル酸メチル樹脂からなる。基板１９の樹脂層２０表面が転写型１３と対向するようにされている。昇降加圧ユニット１７がテーブル１８を基板１９と共に上昇させると、その加圧によって転写型１３が樹脂層２０に押し付けられる。例えば、図６に示すように、転写型１３のガードバンド１ｂ及びダミー凸部３ａが樹脂層２０に押し込まれる。これにより転写型１３のパターンが樹脂層２０に転写されることになる。【００１８】
真空ポンプ１５は転写型１３によるインプリント時に装置筐体１１内に作業用チャンバ１２の圧力を調整弁１６を介して減圧させるために設けられている。これは、転写型１３と樹脂層２０との気泡の混入を防ぐと共に、加熱や硬化反応によって樹脂層２０から発生する脱ガスを除去するためである。【００１９】
このようなインプリント装置によるインプリントの場合、転写後の樹脂層２０の凹部の底に残った余分な樹脂層の厚さが一定になることが望ましいことから、ダミーバンド部２，３でもデータ領域１のパターン/スペース面積比は維持することが望ましい。例えば、ガードバンド１ｂの幅：トラック１ａの幅＝４０％：６０％の場合には、ダミー凸部２ａ，３ａは一辺が１．２〜１．３トラックピッチ幅で２トラックピッチ幅のピッチで並べたものが望ましい。【００２０】
孤立したドットやラインのようなパターンの場合に、そのパターンが例えば、幅９０nm,高さ６０nmであるならば、幅：高さのアスペクト比は１．５（３：２）となる。このようにパターンの最短幅と高さのアスペクト比が２よりも小さくなると、インプリント時の押圧で歪んだり倒れたりすることが多く発生するようになり、１よりも小さくなると更に簡単に歪むようになる。【００２１】
一方、パターンの最短幅と高さのアスペクト比が２を超える値であれば、インプリント時の押圧によってパターンが倒れることを防ぐことができる。しかしながら、ダミー凸部２ａの幅が広過ぎると作製コストの上昇とインプリント時に押し付け面が広くなって圧力が下がってしまうために好ましくない。ダミー凸部２ａの局所圧力は凸部の幅の二乗で下がってしまうので、圧力差を２桁以内に収めるためには、幅と高さのアスペクト比を２０以下とすることが望ましく、圧力差を１桁以内に収めるためには、幅と高さのアスペクト比を１０未満とすることが望ましい。【００２２】
この実施例では凸部がガードバンドであるとしているが、転写型の転写面のデータ領域１の内周側および外周側の端部が凸部であれば、凸部がトラックで凹部がガードバンドであるような形態であっても構わない。また、ダミー凸部２a，３ａは図４に示したような正確に角が直角な正方形である必要は無く、製造上の理由等で多少の曲率を持つ形状であっても構わない。これは他の実施例においても同様である。【００２３】
図７は本発明の他の実施例として転写型の転写面の外周側の一部を拡大して示している。この図７の転写型の転写面においては外周ダミーバンド部３にダミー凸部３ａの列が４列だけ形成されている。上記のように、ダミー凸部２ａ，３ａのトラック接線方向におけるピッチが２×ＴＰである場合には、ダミー凸部２ａ，３ａのディスク半径方向のピッチは２×ＴＰである。なお、図７では４列分のダミー凸部３ａを示しているが、これに限定されず、ダミー凸部２ａ，３ａの列数は２列等の他の列数値でも良い。【００２４】
図３、図４及び図７のダミー凸部３ａは正方形に形成されているが、ダミー凸部２ａ，３ａの形状は正方形に限定されず、他の形状でも良い。図８〜図１０には、ダミー凸部３ｂの形状が長方形の場合が示されている。図８の場合には、トラック１ａのトラックピッチをＴＰとすると、ダミー凸部３ａの長方形の短辺の長さは１．２×ＴＰである。ダミー凸部３ａのトラック接線方向のピッチをＤＰとすると、ダミー凸部３ａの長方形の長辺の長さは(ＤＰ／２)×１．２である。図９の場合には、トラック１ａのトラックピッチをＴＰとすると、ダミー凸部３ａの長方形の長辺の長さは１．２×ＴＰである。ダミー凸部３ａのトラック接線方向のピッチをＤＰとすると、ダミー凸部３ａの長方形の短辺の長さは(ＤＰ／２)×１．２である。また、図１０に示すように、ダミー凸部３ａの長方形の長辺の長さ、すなわちディスク半径方向の長さを１．２×ＴＰより大きくしても良いが、長くとも５０μmあれば十分である。このダミー凸部３ａの配置条件はダミー凸部２ａについても同様である。【００２５】
更に、ダミーバンド２，３のダミー凸部２ａ，３ａの形状は四角形に限らず、図１１及び図１２に示すように、円形でも良い。また、楕円形、小判型でも良い。ダミー凸部の形状は四角形でも図１３及び図１４に示すような平行四辺形、或いは台形でも良い。更に、６角形のような多角形でも勿論良い。【００２６】
また、データ領域１の最外周のガードバンド１ｂと外周ダミーバンド部３のダミー凸部３ａとの距離は図１５及び図１６に示すように、若干離れていても良い。データ領域１の最内周のガードバンド１ｂと内周ダミーバンド部２のダミー凸部２ａとの間においても同様である。【００２７】
上記した各実施例においては、内周ダミーバンド部２と外周ダミーバンド部３との間にはデータ領域１だけが存在する転写型について説明したが、例えば、図１７(a)及び(b)に示すように、サーボパターンが存在する等のためデータトラックが断続しているパターンを有する転写型の場合であっても、内周ダミーバンド部２と外周ダミーバンド部３を設けることにより同様の効果を得ることができる。図１７(a)及び(b)の転写型では、データ領域１とサーボパターンを有するサーボ領域４とが周方向のトラックに沿って交互に形成された場合に、データ領域１及びサーボ領域４各々の内側に内周ダミーバンド部２が形成され、外側に外周ダミーバンド部３が形成されている。なお、図１７(a)の転写型ではデータ領域１とサーボ領域４との境界がディスク半径方向に直線に形成されているが、図１７(b)の転写型ではデータ領域１とサーボ領域４との境界が湾曲状に形成されている。【００２８】
また、内周ダミーバンド部２と外周ダミーバンド部３との両方を設けないで、そのいずれか一方でも良い。【００２９】
更に、上記した各実施例においては、トラック１ａ，ガードバンド１ｂ，ダミー凸部２ａ，３ａ各々の列は同心円の円環状列であるが、螺旋状のスパイラルパターンであっても有効である。【００３０】
図１８(a)〜(m)は上記した転写型を用いた転写によって磁気ディスクを製造する方法の各工程を示している。図１８(a)に示す磁気ディスクのベース基板３１は特殊加工化学強化ガラス、Ｓｉウエハ、アルミ板等の材料からなる。ベース基板３１には図１８(b)に示すように、スパッタリング等の処理により記録膜層３２が成膜される。記録膜層３２は垂直磁気記録媒体の場合には、軟磁性下地層、中間層、強磁性記録層等の積層構造体になる。記録膜層３２上にはスパッタリング等の処理によりＴａやＴｉ等のメタルマスク層３３が形成される。メタルマスク層３３上には受型層としての樹脂層３４が形成される。【００３１】
このように積層されたベース基板３１は図１８(c)に示すように、上記のインプリント装置のテーブル１８上に固定され、一方、転写型１３が転写面を下方に向けて転写型保持部１４に固定される。これにより樹脂層３４の表面と転写型１３の転写面とが対向した状態となる。作業用チャンバ１２内が真空ポンプ１５により必要に応じて減圧された後、樹脂層３４が流動性を持つまで加熱された後、図１８(d)に示すように、昇降加圧ユニット１７がテーブル１８を積層された基板３１と共に上昇させると、矢印の如き方向の加圧によって転写型１３と樹脂層３４とが互いに押し付けられる（インプリント工程）。作業用チャンバ１２内の雰囲気が元に戻され、昇降加圧ユニット１７がテーブル１８を降下させることにより転写型１３と樹脂層３４とが図１８(e)に示すように離れて、転写型１３の凹凸パターンが転写された樹脂層３４を有するベース基板３１が得られる。【００３２】
インプリント工程で樹脂層３４の凹部の底に残った不要な樹脂はソフトアッシングで図１８(f)に示すように取り除かれる。そして、基板３１に対してエッチングが行われ（エッチング工程）、樹脂層３４が残った部分はエッチングマスクとなり、それ以外の露出しているメタルマスク層３３が図１８(g)に示すようにエッチングで除去される。【００３３】
メタルマスク層３３のエッチング工程後、残った樹脂層３４の樹脂がウエットプロセス又は酸素アッシングで図１８(h)に示すように取り除かれる。メタルマスク層３３が残った部分はエッチングマスクとなり、それ以外の露出している記録膜層３２が図１８(i)に示すようにドライエッチングで除去される。その後、残存するメタルマスク層３３はウエットプロセス又はドライエッチングによって図１８(j)に示すように除去されて記録膜層３２の凹凸表面が露出する。記録膜層３２の凹凸表面はスパッタリングや塗布により非磁性材３５が図１８(k)に示すように充填される。【００３４】
充填された非磁性材３５の表面はエッチバック又はケミカルメカニカルポリッシュによって研磨されて図１８(l)に示すように平坦化される。これによって記録膜層３２の凸部が非記録性材の非磁性材３５によって分離された構造が形成される。平坦化された表面には保護膜３６及び潤滑膜３７が例えば、スパッタリングやディッピングによって形成され、図１８(m)に示すように
磁気ディスクが完成する。磁気ディスクは、ハードディスクドライブに組み込まれて、ディスクリートトラックメディアや、パターンドメディアとなる。【００３５】
図１９(a)〜(k)は上記した転写型を用いた転写によって磁気ディスクを製造する他の方法の各工程を示している。図１９(a)に示す磁気ディスクのベース基板４１は特殊加工化学強化ガラス、Ｓｉウエハ、アルミ板等の非磁性材料からなる。ベース基板４１上には図１９(b)に示すように、転写材料としての樹脂層４２が形成される。【００３６】
このように樹脂層４２を有するベース基板３１は図１９(c)に示すように、上記のインプリント装置のテーブル１８上に固定され、一方、転写型１３が転写面を下方に向けて転写型保持部１４に固定される。これにより樹脂層４２の表面と転写型１３の転写面とが対向した状態となる。作業用チャンバ１２内が真空ポンプ１５により必要に応じて減圧された後、樹脂層４２が流動性を持つまで加熱された後、図１９(d)に示すように、昇降加圧ユニット１７がテーブル１８を積層された基板４１と共に上昇させると、矢印の如き方向の加圧によって転写型１３と樹脂層４２とが互いに押し付けられる（インプリント工程）。作業用チャンバ１２内の雰囲気が元に戻され、昇降加圧ユニット１７がテーブル１８を降下させることにより転写型１３と樹脂層４２とが図１９(e)に示すように離れて、転写型１３の凹凸パターンが転写された樹脂層４２を有するベース基板４１が得られる。【００３７】
インプリント工程で樹脂層４２の凹部の底に残った不要な樹脂はソフトアッシングで図１９(f)に示すように取り除かれる。そして、基板４１に対してエッチングが行われ（エッチング工程）、樹脂層４２が残った部分はエッチングマスクとなり、それ以外の露出している基板４１が図１９(g)に示すようにエッチングで凹状に除去される。【００３８】
基板４１のエッチング工程後、残った樹脂層４２の樹脂がウエットプロセス又はドライエッチングによって図１９(h)に示すように取り除かれて基板４１の凹凸表面が露出する。基板４１の凹凸表面はスパッタリングなどの手法により磁性材の記録膜層４３が図１９(i)に示すように充填成膜される。記録膜層４３は垂直磁気記録媒体の場合には、軟磁性下地層、中間層、強磁性記録層等の積層構造体になる。【００３９】
充填された記録膜層４３の表面はエッチバック又はケミカルメカニカルポリッシュによって研磨されて図１９(j)に示すように平坦化される。これによって記録膜層４３部分が基板４１の非記録性材によって分離された構造が形成される。平坦化された記録膜層４３表面には保護膜４４及び潤滑膜４５が例えば、スパッタリングやディッピングによって形成され、図１９(k)に示すように磁気ディスクが完成する。【００４０】
以上のように、本発明によれば、転写型のダミーバンド部にはデータトラックパターンのトラックピッチ以上の幅をディスク半径方向に有するダミー凸部の列が形成されているので、インプリント装置によって転写型を基板表面の樹脂層に押圧しても転写型のダミーバンド部の部分が歪むことが防止される。よって、データ領域だけでなくダミーバンド部のパターンを樹脂層に変形なく確実に形成させることができる。
【産業上の利用可能性】
【００４１】
本発明はディスクリートトラックメディア、パターンドメディア等の磁気記録媒体の他に、近接場光記録メディア、ＳＩＬ、ホログラフィックメモリ、超解像光ディスク、多層
光ディスク、更に、次世代ディスク記録媒体に適用することができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
2008072319.tif 000021
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月12日(2008.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスク状記録媒体のデータトラックパターンを有するデータ領域と、そのデータ領域の外側及び内側の少なくとも一方にダミーパターンを有するダミー領域とを、転写面に有するインプリント用転写型であって、
前記ダミーパターンは前記データトラックパターンのトラックピッチ以上の幅をディスク半径方向に有する複数のダミー凸部による少なくとも１つの列からなり、
前記ダミー凸部の最短幅と高さとの比（＝最短幅／高さ）が２以上２０以下であることを特徴とする記録媒体作製用転写型。
【請求項２】
前記ダミー凸部の表面形状は多角形又は楕円を含む円形であることを特徴とする請求項１記載の記録媒体作製用転写型。
【請求項３】
（削除）
【請求項４】
前記ダミー凸部の列は円形の周列であることを特徴とする請求項１記載の記録媒体作製用転写型。
【請求項５】
前記ダミー領域はディスク半径方向に５０μｍ以下の幅で存在することを特徴とする請求項１記載の記録媒体作製用転写型。
【請求項６】
前記ダミー領域の前記ダミー凸部の部分の面積とそれ以外のスペース面積との比率が、前記データ領域の凸部の部分の面積とそれ以外のスペース面積との比率とほぼ同一になるようにされていることを特徴とする１記載の記録媒体作製用転写型。
【請求項７】
ディスク状記録媒体のデータトラックパターンを有するデータ領域と、そのデータ領域の外側及び内側の少なくとも一方にダミーパターンを有するダミー領域とを、転写面に有し、
前記ダミーパターンが前記データトラックパターンのトラックピッチ以上の幅をディスク半径方向に有する複数のダミー凸部による少なくとも１つの列からなり、
前記ダミー凸部の最短幅と高さとの比（＝最短幅／高さ）が２以上２０以下にされた記録媒体作製用転写型の前記転写面を記録媒体用基板の表面に形成された受型層に押圧することによって、前記受型層に前記データトラックパターン及び前記ダミーパターンを形成することを特徴とする記録媒体製造方法。
【請求項８】
ディスク状記録媒体のデータトラックパターンを有するデータ領域と、そのデータ領域の外側及び内側の少なくとも一方にダミーパターンを有するダミー領域とを、転写面に有し、
前記ダミーパターンが前記データトラックパターンのトラックピッチ以上の幅をディスク半径方向に有する複数のダミー凸部による少なくとも１つの列からなり、
前記ダミー凸部の最短幅と高さとの比（＝最短幅／高さ）が２以上２０以下にされた記録媒体作製用転写型の前記転写面を記録媒体用基板の表面に形成された受型層に押圧することによって、前記受型層に形成された前記データトラックパターン及び前記ダミーパターンに基づいて作製されたことを特徴とする記録媒体。
【国際調査報告】
2008072319.tif 000022
2008072319.tif 000023
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