Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月14日(2005.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ロボット、ロボット制御装置、ロボット制御システムおよびロボット制御方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロボットの近傍に存在する人間の位置を検出する人間位置検出部と、
前記人間位置検出部で検出した人間の位置の周囲に動作禁止領域を設定する動作禁止領域設定部と、
前記ロボットと前記動作禁止領域との干渉を検出する干渉監視部を備えたことを特徴とするロボット制御装置。
【請求項２】
前記ロボットが前記動作禁止領域と干渉した場合に、
前記ロボットを非常停止させることを特徴とする請求項１に記載のロボット制御装置。
【請求項３】
前記ロボットが前記動作禁止領域と干渉した場合に、
前記ロボットを減速停止させることを特徴とする請求項１に記載のロボット制御装置。
【請求項４】
前記ロボットが前記動作禁止領域と干渉した場合に、
前記ロボットに回避行動を取らせることを特徴とする請求項１に記載のロボット制御装置。
【請求項５】
前記動作禁止領域の外側に動作禁止予備領域を設定する動作禁止予備領域設定部を備え、前記干渉検出部で前記ロボットと前記動作禁止予備領域の干渉を検出することを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれかに記載のロボット制御装置。
【請求項６】
前記ロボットが前記動作禁止予備領域または前記動作禁止領域と干渉すると、警報を発することを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれかに記載のロボット制御装置。
【請求項７】
表示器を備え、前記ロボットの位置、前記動作禁止領域および前記動作禁止予備領域を前
記表示器に表示することを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれかに記載のロボット制御装置。
【請求項８】
ロボットの近傍に存在する人間の位置を検出し、
検出した前記人間の位置の周囲に動作禁止領域を設定し、
前記ロボットと前記動作禁止領域との干渉を検出することを特徴とするロボット制御方法。
【請求項９】
前記ロボットが前記動作禁止領域と干渉した場合に、
前記ロボットを非常停止させることを特徴とする請求項８に記載のロボット制御方法。
【請求項１０】
前記ロボットが前記動作禁止領域と干渉した場合に、
前記ロボットを減速停止させることを特徴とする請求項８に記載のロボット制御方法。
【請求項１１】
前記ロボットが前記動作禁止領域と干渉した場合に、
前記ロボットに回避行動を取らせることを特徴とする請求項８に記載のロボット制御方法。
【請求項１２】
請求項１ないし請求項７いずれかに記載のロボット制御装置によって制御されることを特徴とするロボット。
【請求項１３】
請求項１ないし請求項７いずれかに記載のロボット制御装置と、
前記ロボット制御装置によって制御されるロボットと、を備えたことを特徴とするロボット制御システム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、請求項１の発明は、ロボット制御装置にロボットの近傍に存在する人間の位置を検出する人間位置検出部と、前記人間位置検出部で検出した人間の位置の周囲に動作禁止領域を設定する動作禁止領域設定部と、前記ロボットと前記動作禁止領域との干渉を検出する干渉監視部を備えるものである。
また請求項２の発明は、前記ロボットが前記動作禁止領域と干渉した場合に、前記ロボットを非常停止させるものである。
また請求項３の発明は前記ロボットが前記動作禁止領域と干渉した場合に、前記ロボットを減速停止させるものである。
また請求項４の発明は、前記ロボットが前記動作禁止領域と干渉した場合に、前記ロボットに回避行動を取らせるものである。
また、請求項５の発明は、前記動作禁止領域の外側に動作禁止予備領域を設定する動作禁止予備領域設定部を備え、前記干渉検出部で前記ロボットと前記動作禁止予備領域の干渉を検出するものである。
また、請求項６の発明は、前記ロボットが前記動作禁止予備領域または前記動作禁止領域と干渉すると、警報を発するものである。
また、請求項７の発明は、前記ロボット制御装置に表示器を備え、前記ロボットの位置、前記動作禁止領域および前記動作禁止予備領域を前記表示器に表示するものである。
また、請求項８の発明は、ロボットの近傍に存在する人間の位置を検出し、検出した前記人間の位置の周囲に動作禁止領域を設定し、前記ロボットと前記動作禁止領域との干渉を検出するものである。
また請求項９の発明は、前記ロボットが前記動作禁止領域と干渉した場合に、前記ロボットを非常停止させるものである。
また、請求項１０の発明は、前記ロボットが前記動作禁止領域と干渉した場合に、前記ロボットを減速停止させるものである。
また、請求項１１の発明は、前記ロボットが前記動作禁止領域と干渉した場合に、前記ロボットに回避行動を取らせるものである。
また、請求項１２の発明は、請求項１ないし請求項７いずれかに記載のロボット制御装置によって制御されるものである。
また、請求項１３の発明は、請求項１ないし請求項７いずれかに記載のロボット制御装置と、前記ロボット制御装置によって制御されるロボットと、を備えたものである。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月15日(2005.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
以上に、前駆体同士を混合させることにより調製したナノ粒子を、粒径ごとに分類する手法を挙げたが、金属カルコゲナイド半導体が溶存酸素下で光照射により酸化溶解することを利用し粒径の単分散化を行うサイズ選択光エッチング法も報告されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
一方で、粒径の単分散化を、該前駆体同士の混合の段階で制御させることで行う方法もある。この代表的なものとして、逆ミセル法が挙げられる。逆ミセル法は、スルホこはく酸ジイソオクチルナトリウム等の両親媒性分子と水をヘプタン等の有機溶媒中に混合し有機溶媒中に逆ミセルを形成させ、逆ミセル中の水相のみで前駆体同士の反応を行う方法である。逆ミセルの大きさは、前記両親媒性分子と水との量比で決定され、大きさを比較的均一に制御することができる。調製される半導体ナノ粒子の大きさは、逆ミセルの大きさに依存するため、比較的粒径のそろった半導体ナノ粒子を調製することが可能となる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
以上のような方法により得られた半導体ナノ粒子は、比較的狭い粒径分布を示す。しかしながら、これらの方法により調製された半導体ナノ粒子の蛍光特性は、顕著なピークを持たないなだらかな蛍光スペクトルを示す。さらに、前記蛍光スペクトルは、半導体ナノ粒子が発光するべき蛍光の理論値と異なる波長においてピークを示す。すなわち、前記半導体ナノ粒子は、半導体ナノ粒子内部が示すバンドギャップ蛍光のほかに、半導体ナノ粒子内部のエネルギーレベルの禁制帯内に存在するエネルギーレベルから発すると見られる全く別の蛍光を発する。この蛍光を発するエネルギーレベルは、主に半導体ナノ粒子の表面サイトに存在すると考えられている。本来、半導体ナノ粒子の粒径制御による蛍光特性の変化は、バンドギャップ蛍光に現れるため、粒径分布の狭い半導体ナノ粒子の性質を阻害する現象となり、解決すべき課題とされてきた。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
半導体ナノ粒子の調製方法
半導体ナノ粒子は、その体積に対する表面積の割合が極めて大きく、非常に凝集しやすい状態にある。したがって半導体ナノ粒子を安定に存在させるためには、粒子同士の衝突・融合を防ぐための施策が必要になる。これまでに様々な方法が考案されており、大別すると、固体マトリクス及び高分子マトリクス中への取り込みによる半導体ナノ粒子同士の物理的隔離と、粒子表面の金属イオンサイトをこれと高い錯形成能を有する低分子有機物で化学修飾することによる粒子表面の不活性化になる。本方法では、後者の考えに基づき、ヘキサメタリン酸を安定化剤として用いる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月8日(2004.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多結晶の板状シリコンにおいて、該板状シリコン表面に結晶粒界線を有し、そのうち少なくとも１本は直線状の結晶粒界線が形成されていることを特徴とする板状シリコン。
【請求項２】
多結晶の板状シリコンにおいて、該板状シリコン表面に結晶粒界線を有し、そのうち少なくとも１本は直線状の結晶粒界線を形成するとともに、その結晶粒界線を形成している結晶粒はランダムであるものが９０％以上であることを特徴とする板状シリコン。
【請求項３】
多結晶の板状シリコンにおいて、該板状シリコン表面にある結晶粒界線のうち、少なくとも２本の直線状の結晶粒界線が、ほぼ平行に形成されていることを特徴とする板状シリコン。
【請求項４】
多結晶の板状シリコンにおいて、該板状シリコン表面にある結晶粒界線のうち、少なくとも２本の直線状の結晶粒界線が、交わって形成されていることを特徴とする板状シリコン。
【請求項５】
多結晶の板状シリコンにおいて、該板状シリコン表面を横切る結晶粒界線のうち、少なくとも２本の直線状の結晶粒界線が交わっており、その交点における鋭角の角度が３０°以上、９０°以下であることを特徴とする板状シリコン。
【請求項６】
板状シリコン表面にある結晶粒界線が０．０５ｍｍピッチ以上、５ｍｍピッチ以下であることを特徴とする請求項３〜５のいずれかに記載の板状シリコン。
【請求項７】
板状シリコン表面にある直線状の結晶粒界線が凹凸基体の凹部に対応する位置に存在することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の板状シリコン。
【請求項８】
板状シリコン表面の１００ｍｍ2の範囲内にある直線状の結晶粒界線が、５０本以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の板状シリコン。
【請求項９】
板状シリコンにおいて、該板状シリコン表面にある直線状の結晶粒界線で囲まれた面積が、０．２５ｍｍ2以上であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の板状シリコン。
【請求項１０】
請求項１〜６のいずれかに記載の板状シリコンに、電極を形成することで得られる太陽電池。
【請求項１１】
板状シリコンの上に太陽電池を作製することを特徴とする請求項１０記載の太陽電池。
【請求項１２】
板状シリコンが、シリコンの融点以下の温度の基体上に、溶融シリコンから固化して形成される板状シリコンの製造方法であって、
基体は、溶融シリコンに接触する表面に少なくとも凹凸部を有しその凸部が直線状に配列されており、該基体の凹凸面と溶融シリコンとが接触しながら相対的に平行移動するステップを有することを特徴とする板状シリコンの製造方法。
【請求項１３】
シリコンの融点以下の温度の凹凸基体上に、溶融シリコンから固化して形成する多結晶の板状シリコンであって、該板状シリコン表面の直線状の結晶粒界線が凹凸基体の凹部に対応する位置に存在することを特徴とする板状シリコン。
【請求項１４】
シリコンの融点以下の温度の凹凸基体上に、溶融シリコンから固化して形成する多結晶の板状シリコンであって、該板状シリコン表面の直線状の結晶粒界線が格子状であることを特徴とする板状シリコン。
【請求項１５】
シリコンの融点以下の温度の凹凸基体上に、溶融シリコンから固化して形成する多結晶の板状シリコンであって、該板状シリコン表面の直線状の結晶粒界線が格子状であり、その１つの格子の面積が０．２５ｍｍ2以上であることを特徴とする板状シリコン。
【請求項１６】
シリコンの融点以下の温度の凹凸基体上に、溶融シリコンから固化して形成する多結晶の板状シリコンを用いて作製した太陽電池であって、格子を形成している直線状の結晶粒界線が板状シリコン面内のある１辺から他の辺へ貫通していることを特徴とする太陽電池。
【請求項１７】
板状シリコンにおいて、該板状シリコン表面にある直線状の結晶粒界線で囲まれた面積が０．２５ｍｍ2以上であり、その格子内部にも結晶粒界線があることを特徴とする請求項１記載の板状シリコン。
【請求項１８】
シリコンの融点以下の温度の凹凸基体上に、溶融シリコンから固化して形成する多結晶の板状シリコンであって、該板状シリコン表面の直線状の結晶粒界線が格子状であり、その格子内部にも結晶粒界線があることを特徴とする板状シリコン。
【請求項１９】
板状シリコンの直線状の結晶粒界線に沿ってフィンガー電極が直線状に形成されていることを特徴とする請求項１０記載の太陽電池。
【請求項２０】
板状シリコンの直線状の結晶粒界線が不活性化されていることを特徴とする請求項１０記載の太陽電池。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月8日(2004.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭化珪素単結晶からなる種結晶の表面に原料を供給し、該表面上に炭化珪素単結晶を成長させる炭化珪素単結晶の製造方法において、表面を蒸着物で被覆した種結晶を使用することを特徴とする炭化珪素単結晶の製造方法。
【請求項２】
前記蒸着物が金属、酸化物、炭化物、窒化物のうちの少なくとも１種からなることを特徴とする請求項１に記載の炭化珪素単結晶の製造方法。
【請求項３】
前記蒸着物の厚さが、１Å以上５００Å以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の炭化珪素単結晶の製造方法。
【請求項４】
前記蒸着物が、Ｗ，Ｐｔ，酸化アルミニウム，炭化タングステンからなる群から選ばれた何れか１種以上を含むことを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の炭化珪素単結晶の製造方法。
【請求項５】
蒸着物の被覆を、電子ビーム蒸着法または化学蒸着法で行うことを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の炭化珪素単結晶の製造方法。
【請求項６】
種結晶への被覆前に種結晶の表面を、硫酸と過酸化水素の混合液、および塩酸と過酸化水素の混合液で洗浄することを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の炭化珪素単結晶の製造方法。
【請求項７】
表面を蒸着物で被覆した炭化珪素単結晶からなる種結晶を使用し、該表面に原料を供給して成長させた炭化珪素単結晶。
【請求項８】
前記蒸着物が金属、酸化物、炭化物、窒化物のうちの少なくとも１種からなることを特徴とする請求項７に記載の炭化珪素単結晶。
【請求項９】
前記蒸着物の厚さが、１Å以上５００Å以下であることを特徴とする請求項７または８に記載の炭化珪素単結晶。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月7日(2004.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートを積載して収納するシート収納部と、
前記シート収納部を開放するために装置本体に開閉可能に取り付けられたドアと、
前記ドアに設けられ、前記シート収納部からシートを送り出すためのシート給送手段と、
を備え、
前記シート給送手段は、前記シート収納部に積載されているシートを繰り出すためのピックアップローラと、該ピックアップローラにより繰り出されたシートを搬送するフィードローラと、該フィードローラに当接してシートを１枚ずつに分離するためのリタードローラとから構成され、前記ピックアップローラ及び前記フィードローラは前記装置本体に配置され、前記リタードローラが前記ドアに保持されていることを特徴とするシート供給装置。
【請求項２】
前記ドアは前記装置本体の前面を全て開放するように水平方向に開閉可能に設けられていることを特徴とする請求項１に記載のシート供給装置。
【請求項３】
装置本体に対して回動可能な回動部材と、
シートを積載する昇降可能な昇降部材と、
前記昇降部材に積載されたシートを繰り出すピックアップローラと、
前記ピックアップローラにより繰り出されたシートを搬送するフィードローラと、
前記フィードローラに当接してシートを分離する分離部材と、
を有し、
前記分離部材を前記回動部材に配置したことを特徴とするシート供給装置。
【請求項４】
前記回動部材は、シートの補給ならびにシートサイズを変更するための開閉可能なドアであり、該ドアは水平に回動することを特徴とする請求項３に記載のシート供給装置。
【請求項５】
前記分離部材は、前記フィードローラと同一回転方向に回転するリタード軸にトルクリミッタを介して軸着され前記フィードローラに当接するリタードローラであることを特徴とする請求項３又は請求項４に記載のシート供給装置。
【請求項６】
シートに画像を形成する画像形成手段と、
前記画像形成手段に向けてシートを一枚ずつ供給する、請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載のシート供給装置と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項７】
前記シート供給装置は、画像形成装置本体に対して着脱自在であることを特徴とする請求項６に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本発明の代表的な構成は、シートを積載して収納するシート収納部と、前記シート収納部を開放するために装置本体に開閉可能に取り付けられたドアと、前記ドアに設けられ、前記シート収納部からシートを送り出すためのシート給送手段と、を備え、前記シート給送手段は、前記シート収納部に積載されているシートを繰り出すためのピックアップローラと、該ピックアップローラにより繰り出されたシートを搬送するフィードローラと、該フィードローラに当接してシートを１枚ずつに分離するためのリタードローラとから構成され、前記ピックアップローラ及び前記フィードローラは前記装置本体に配置され、前記リタードローラが前記ドアに保持されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月10日(2005.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）１分子当たり平均２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂と、
（ｂ）２，４−ジ（Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド）トルエンを必須の成分とし、下記(i)及び(ii)の条件のいずれかを満たすことを特徴とするマトリックス樹脂組成物。
(i)１５０℃で３分間加熱することによりガラス転移温度が１４０℃より高くなる。
(ii)８０℃で５時間加熱することによりガラス転移温度が１００℃より高くなる。
【請求項２】
さらに潜伏性硬化剤を含む請求項１に記載のマトリックス樹脂組成物。
【請求項３】
潜伏性硬化剤がジシアノポリアミドである請求項２に記載のマトリックス樹脂組成物。
【請求項４】
さらに熱可塑性添加剤を含む請求項１〜３のいずれかに記載のマトリックス樹脂組成物。
【請求項５】
熱可塑性添加剤が、ポリビニルホルマール（ＰＶＦ）類、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）類、ポリアリールエーテルスルホン（ＰＥＳ）類、ポリスルホン（ＰＳＦ）類、ポリイミド（ＰＩ）類、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）類、及びポリエチレンオキサイド（ＰＥＯ）類から選択される請求項４に記載のマトリックス樹脂組成物。
【請求項６】
エポキシ樹脂が、ビスフェノール系エポキシ樹脂類、エポキシフェノールノボラック類、３官能性エポキシ樹脂類、４官能性エポキシ樹脂類、及びそれらのハロゲン化誘導体からなるグループから選択される請求項１〜５のいずれかに記載のマトリックス樹脂組成物。
【請求項７】
エポキシ樹脂が、ビスフェノール系エポキシ樹脂類であってそのエポキシ当量が１５０〜１５００である請求項６に記載のマトリックス樹脂組成物。
【請求項８】
ビスフェノール系エポキシ樹脂が、１５０〜１９５のエポキシ当量を有する第１のビスフェノール系エポキシ樹脂と、４００〜１５００のエポキシ当量を有する第２のビスフェノール系エポキシ樹脂の混合物であり、ビスフェノール系エポキシ樹脂混合物の平均エポキシ当量が２００〜８００である請求項６に記載のマトリックス樹脂組成物。
【請求項９】
２，４−ジ（Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド）トルエンの配合量がエポキシ樹脂１００重量部に対して０．５〜１０重量部である請求項１〜８のいずれかに記載のマトリックス樹脂組成物。
【請求項１０】
１５０℃で５分間加熱した後の硬化度が９５％より高くなる請求項１〜９のいずれかに記載のマトリックス樹脂組成物。
【請求項１１】
１２０℃で２０分間加熱した後の硬化度が９５％より高くなる請求項１〜１０のいずれかに記載のマトリックス樹脂組成物。
【請求項１２】
８０℃で５時間加熱した後のガラス転移温度が１１８℃より高くなる請求項１〜１１のいずれかに記載のマトリックス樹脂組成物。
【請求項１３】
強化材を含む請求項１〜１２のいずれかに記載のマトリックス樹脂組成物を硬化させることによって生成される製品。
【請求項１４】
前記強化材がガラス繊維、アラミド繊維、及びグラファイト繊維からなるグループから選択される少なくとも１種からなり、かつ前記繊維類が織物、マット、一方向繊維のうち少なくとも１種からなる請求項１３に記載の製品。
【請求項１５】
フィルムに支持された請求項１〜１４のいずれかに記載のマトリックス樹脂組成物を硬化させることによって得られる接着性フィルム。
【請求項１６】
フィルムがポリエステル及びナイロンからなるグループから選択される少なくとも１種である請求項１５に記載の接着性フィルム。
【請求項１７】
（ａ）請求項１〜１２のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物、及び
（ｂ）強化繊維
を必須の成分とするプリプレグ。
【請求項１８】
強化繊維が、ガラス繊維、アラミド繊維、グラファイト繊維、織物繊維、マット繊維、及び一方向繊維からなるグループから選択される請求項１７に記載のプリプレグ。
【請求項１９】
（ａ）１分子当たり平均２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂と潜伏性アミン系硬化剤を含むエポキシ樹脂組成物を作成する工程
（ｂ）  ２，４−ジ（Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド）トルエンをエポキシ樹脂１００重量部に対して０．５重量部以上混合する工程、および
（ｃ）１２０℃以上で加熱し、熱硬化性エポキシ樹脂配合物を９５％以上硬化させて製品を生成する工程
を含む製品の製造方法。
【請求項２０】
該エポキシ樹脂組成物がさらに補強繊維を含む請求項１９に記載の製品の製造方法。
【請求項２１】
（ａ）１分子当たり平均２個以上のエポキシ基を有し、ビスフェノール系エポキシ樹脂を含み、エポキシ当量が１５０〜１５００であるエポキシ樹脂と、
（ｂ）７０重量％以上が２，４−ジ（Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド）トルエンである触媒を必須の成分とするマトリックス樹脂組成物。
【請求項２２】
触媒の９５重量％以上が２，４−ジ（Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド）トルエンである請求項２１に記載のマトリックス樹脂組成物。
【請求項２３】
粘度が４０℃で２０，０００ポアズ以下である請求項２１または２２に記載のマトリックス樹脂組成物。
【請求項２４】
エポキシ当量が１７０〜１４００である請求項２１〜２３のいずれかに記載のマトリックス樹脂組成物。
【請求項２５】
ビスフェノール系エポキシ樹脂が、１５０〜１９５のエポキシ当量を有する第１のビスフェノール系エポキシ樹脂と、４００〜１５００のエポキシ当量を有する第２のビスフェノール系エポキシ樹脂の混合物であり、ビスフェノール系エポキシ樹脂混合物の平均エポキシ当量が２００〜８００である請求項２１〜２４のいずれかに記載のマトリックス樹脂組成物。
【請求項２６】
エポキシ樹脂が、ビスフェノールＡ系エポキシ樹脂である請求項２１〜２５のいずれかに記載のマトリックス樹脂組成物。
【請求項２７】
３官能性エポキシ樹脂を含む請求項２１〜２６のいずれかに記載のマトリックス樹脂組成物。
【請求項２８】
次の（ａ）〜（ｃ）の群のいずれかから選ばれる請求項２５に記載のマトリックス樹脂組成物
（ａ）１５０〜１９５のエポキシ当量を有するビスフェノール系エポキシ樹脂と、４００〜１５００のエポキシ当量を有するビスフェノール系エポキシ樹脂の混合物
（ｂ）１５０〜１９５のエポキシ当量を有するビスフェノール系エポキシ樹脂と、４００〜１５００のエポキシ当量を有するビスフェノール系エポキシ樹脂と、１７０から１９０のエポキシ当量を有する官能基数２．２から４．０のフェノールノボラック系エポキシ樹脂の混合物
（ｃ）１５０〜１９５のエポキシ当量を有するビスフェノール系エポキシ樹脂と、４００〜１５００のエポキシ当量を有するビスフェノール系エポキシ樹脂と、１１７〜１３４のエポキシ当量を有する４官能性エポキシ樹脂の混合物
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月22日(2004.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】  本発明のエポキシ樹脂は、一般式（２）で示されるフェノール系重合体とエピハロヒドリン、例えばエピクロルヒドリンやエピブロムヒドリンなどと、好ましくはハロゲン化水素捕捉剤の存在下に反応させることによって容易に得ることができる。この反応においては、フェノール系重合体としては、１５０℃における溶融粘度が７００ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは５００ｍＰａ・ｓ以下の範囲にあり、また水酸基価が２２０〜３５０ｇ／ｅｑ、とくに２３０〜３３０ｇ／ｅｑの範囲にあるものを使用するのが好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】  フェノール系重合体とエピハロヒドリンの反応における反応温度は、５０〜１５０℃の範囲が好ましく、また反応時間は一般に１〜２０時間である。このエポキシ化反応は無溶媒でも、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、メチルエチルケトンなどの適当な溶媒の存在下でも行うことができる。この反応はまた、無触媒でも進行するが、所望により相間移動触媒などの適当な触媒を使用して行うこともできる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】    【実施例】  ［参考例１］  特願２００１−２５７７４４号実施例１に基づき、本発明のエポキシ樹脂の原料であるフェノール系重合体を調製した。すなわちフェノール９６．７ｇ（１．０３）モル、４，４’−ジクロロメチルビフェニル１０３．３ｇ（０．４１モル）及び水０．５ｇを用い、一般式（１０）で示され、ＯＨ基当量が２１３ｇ／ｅｑ、ＯＨ基当量から計算される式（１０）のｃの平均値が２．０であるフェノールビフェニルアラルキル樹脂を製造した。    【化１２】2003128748.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月1日(2005.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
ベースデンプンと酸を混合し、実質的に無水の状態まで前記混合物を乾燥させ、前記乾燥した混合物を５〜５０秒の漏斗流動粘度を有する転化デンプンを製造するのに十分な時間加熱することを含むデンプンを転化する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月4日(2004.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
上記エチレン−ビニルエステル共重合体エマルジョン（Ａ）中の重合体に含まれるビニルエステル単位を１００重量部としたとき、該重合体に含まれるエチレン単位が５〜７０重量部である請求項１に記載の複合樹脂エマルジョンの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月9日(2005.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
−受像用媒体に画像を印刷するためのプリントヘッドを有する印刷ユニット、
−前記印刷ユニットに前記受像用媒体を供給するための媒体供給手段を備えた印刷装置において、
−前記印刷ユニットにおける前記受像用媒体の整列を決定するための少なくも１個の整列センサー
−前記受像用媒体を独立的に駆動するための少なくも２個の駆動ローラーにより前記整列を修正するための整列修正システム
を有する媒体整列システム
を備えることを特徴とする前記印刷装置。
【請求項２】
前記受像用媒体を反転させるために前記印刷ユニットに組合わされたタンブラーユニットを更に備える請求項１に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月22日(2005.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
折り枚葉紙（１）、枚葉紙、仮とじ本、または同様の印刷製品用の中とじ機または丁合い機（６）のような後処理機械の供給マガジン（５）のローディング装置であって、横に置かれたパイル（２）の形態で縁を下にして立てられた印刷製品（１）を押し出す、平滑に延びる第１の搬送装置（１５）と、前記印刷製品（１）を前記パイル（２）からずれ重なり状に引出し、このずれ重なり（３）を前記供給マガジン（５）に渡す、最初斜めに立ち上がっている第２の搬送装置（１６）を有しており、無段階に調節可能な駆動装置（２０,２４）が両方の前記搬送装置（１５,１６）にそれぞれ付属しており、光学式通過センサ（３１）が前記供給マガジン（５）内に配置されているローディング装置において、
前記駆動装置（２０,２４）を前記光学式通過センサ（３１）の遮蔽の度合（ＢＧ）に基づいて制御し、それによって前記供給マガジン（５）の充填レベルを前記光学式通過センサ（３１）の位置によって定められる、少なくとも実質的に一定の高さに保つ制御装置（２３）を有することを特徴とするローディング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記制御装置（２３）は、前記光学式通過センサの前記遮蔽の度合（ＢＧ）の平均値を各サイクルの始めに、前の所定数のサイクルに亘って統計的に算出する評価装置を備えており、前記制御装置（２３）は、前記両搬送装置（１５,１６）の前記両駆動装置（２０,２４）を前記光学式通過センサの前記遮蔽の度合（ＢＧ）の前記平均値に応じて、前記光学式通過センサ（３１）が、予め設定された遮蔽の度合（ＢＧｉｄ）を保つように調節する、請求項１または２に記載のローディング装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記制御装置（２３）は、現在の時点の前記平均値を評価する際に、前記両搬送装置（１５,１６）の搬送速度を、前記遮蔽の度合（ＢＧ）の実際値の、前記遮蔽の度合の、予め設定された目標値（ＢＧｉｄ）からのずれに応じた割合だけ速くしたり遅くしたりする、請求項３に記載のローディング装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記両搬送装置（１５,１６）を制御する前記制御装置（２３）内に連続的なＰＩ制御装置が構成されている、請求項３または４に記載のローディング装置。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
充填レベルに関して前記第１の光学式通過センサ（３１）の下方に配置され、遮蔽の状態が変化した際に信号を前記制御装置（２３）に送り、それによって、前記制御装置（２３）が、前記両搬送装置（１５,１６）の搬送速度を速くしたり遅くしたりする割合を変化させる、前記供給マガジン（５）内に配置された第２の光学式通過センサ（３２）を有している、請求項１から８のいずれか１項に記載のローディング装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月10日(2004.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
シートを受け入れて積載する積載面を形成し、シートの一端を係止するストッパ部を配した積載トレイと、該積載トレイへシートを排出する排出ローラ対の一方に内周面の一部を巻き掛け、対向する外周面は排出ローラ対の他方に接してニップ部を形成し、シートを前記積載トレイに排出すると同時に、積載トレイ上のシートをストッパ部へ引き込む弾性状の無端帯状の無端帯状送りベルトを有するベルトローラ対と、各部の動作を制御する制御手段を有するシート後処理装置において、
シートを積載トレイへ排出するベルトローラ対の所定排出速度が処理トレイ上に排出されたシートの落下，静定が完了するまで、一定速で維持されることを特徴とするシート後処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
シート画像を形成する画像形成手段と、請求項１乃至３何れか１項に記載のシート後処理装置とを備えたことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
（２）シートを受け入れて積載する積載面を形成し、シートの一端を係止するストッパ部を配した積載トレイと、該積載トレイへシートを排出する排出ローラ対の一方に内周面の一部を巻き掛け、対向する外周面は排出ローラ対の他方に接してニップ部を形成し、シートを前記積載トレイに排出すると同時に、積載トレイ上のシートをストッパ部へ引き込む弾性状の無端帯状の無端帯状送りベルトを有するベルトローラ対と、各部の動作を制御する制御手段を有するシート後処理装置において、
シートを積載トレイへ排出するベルトローラ対の所定排出速度が処理トレイに排出されたシートの落下，静定が完了するまで、一定速で維持されることを特徴とするシート後処理装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
（４）シート画像を形成する画像形成手段と、前記（１）乃至（３）何れか１項に記載のシート後処理装置とを備えたことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月2日(2004.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
【実施例】
実施例１  ポリオキシエチレン（７モル）トリスチレン化フェノールリン酸混合（モノ、ジ）エステルの製造
オートクレーブ中にトリスチレン化フェノール（５５０ｇ）、KOH（５．５ｇ）、エチレンオキシド（４５０ｇ）を仕込み、１５０℃で５時間反応し、３時間放置した。得られたポリオキシエチレン（７モル）トリスチレン化フェノール６３５ｇに対し、無水リン酸（４０ｇ）を加え、８０℃で５時間反応し、液状のポリオキシエチレン（７モル）トリスチレン化フェノールリン酸混合（モノ、ジ）エステル（６６２ｇ）を得た。
赤外吸収スペクトル  νｃｍ−１（ｎｅａｔ）：２８６６，１４９３，１４５１，１２５０，１２０７，１１０６，１０５７，１０２８．
実施例２  ポリオキシエチレン（７モル）トリスチレン化フェノールリン酸混合（モノ、ジ）エステルの２―メチルイミダゾリウム塩の製造
実施例１で得られたポリオキシエチレン（７モル）トリスチレン化フェノールリン酸混合（モノ、ジ）エステル４０．０ｇに、２−メチルイミダゾール１．３２ｇを加えて中和し、液状のポリオキシエチレン（７モル）トリスチレン化フェノールリン酸混合（モノ、ジ）エステルの２―メチルイミダゾリウム塩４１．３ｇを得た。
赤外吸収スペクトル  νｃｍ−１（ｎｅａｔ）：２８６８，１４９３，１４５０，１２４７，１１０６,１０５７，９９３、９８０
実施例３  ポリオキシエチレン（３モル）ドデシルリン酸混合（モノ、ジ）エステルとポリオキシエチレン（３モル）トリデシルシルリン酸混合（モノ、ジ）エステル混合物の２―メチルイミダゾリウム塩の製造
オートクレーブ中にドデシルアルコールとトリデシルアルコールの混合物（５８５ｇ）、KOH（５．８５ｇ）、エチレンオキシド（４１５ｇ）を仕込み、１５０℃で５時間は反応し、３時間放置した。得られたポリオキシエチレン（３モル）ドデシルエーテルとポリオキシエチレン（３モル）トリデシルシルエーテル混合物のうち５１８ｇに対し、無水リン酸（７２.５ｇ）を加え、８０℃で５時間反応後、２−メチルイミダゾール４４ｇを加えて中和し、液状のポリオキシエチレン（３モル）ドデシルリン酸混合（モノ、ジ）エステルとポリオキシエチレン（３モル）トリデシルシルリン酸混合（モノ、ジ）エステル混合物のイミダゾリウム塩（６３４ｇ）を得た。
赤外吸収スペクトル  νｃｍ−１（ｎｅａｔ）：２９２３，２８５３，１６３４，１４６１，１３５０，１２１５，１１８９，１１１０，１０６２，９８０．
実施例４  ポリオキシエチレン（３モル）ドデシルリン酸混合（モノ、ジ）エステルとポリオキシエチレン（３モル）トリデシルシルリン酸混合（モノ、ジ）エステル混合物の１／２カルシウム塩の製造
実施例２で得られたポリオキシエチレン（３モル）ドデシルエーテルとポリオキシエチレン（３モル）トリデシルシルエーテル混合物のうち２７１ｇに対し、無水リン酸（３８ｇ）を加え、８０℃で５時間反応後、イオン交換水１０ｇを加えた後水酸化カルシウム２０．５ｇを加えて中和し、ペースト状のポリオキシエチレン（３モル）ドデシルリン酸混合（モノ、ジ）エステルとポリオキシエチレン（３モル）トリデシルシルリン酸混合（モノ、ジ）エステル混合物の１／２カルシウム塩（３３６ｇ）を得た。
赤外吸収スペクトル  νｃｍ−１（ｎｅａｔ）：２９２３，２８５５，１４６６，１２３３，１１０７，１０９７，１０７２，９７２，９７１，９５３．
試験例１．アスファルト剥離試験
剥離試験とし、実施例１及び２で得られたアスファルト剥離防止剤０．４％または０．３％にアスファルト（ストアス６０／８０）を１２０℃又は１５０℃にて１分間攪拌し混合したもの５．５ｇと、１３．２〜９．５ｍｍの乾燥硬質砂岩１００ｇを、金属容器中で各試験温度で１．５分間攪拌し、アスファルト被覆骨材を得た。この被覆骨材20個程度を、ガラス板にへらで置き、１時間放置し室温まで冷却した。この被覆骨材を載せたガラス板を８０℃に保った恒温水槽に３０〜９０分浸漬し剥離面積を目視にて求めた。結果を表１に示す。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月8日(2004.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
５０重量％トルエン溶液のｎ−ヘプタンとのトレランスが３００〜１５００である植物油変性されたロジン変性フェノール樹脂（Ａ）と、芳香族系溶剤の含有率が１重量％以下の有機溶剤（Ｂ）と、植物油（Ｃ）とを必須成分として含有することを特徴とする印刷インキ用樹脂ワニス。
【請求項２】
植物油変性されたロジン変性フェノール樹脂（Ａ）が、ロジン変性フェノール樹脂の製造時、または製造後に植物油を添加し、１８５〜２８０℃で変性させて得られたものである、請求項１記載の印刷インキ用樹脂ワニス。
【請求項３】
植物油変性されたロジン変性フェノール樹脂（Ａ）の５０重量％トルエン溶液のｎ−ヘプタンとのトレランスが３５０〜１０００である、請求項１記載の印刷インキ用樹脂ワニス。
【請求項４】
植物油（Ｃ）がアマニ油および／または大豆油である、請求項１記載の印刷インキ用樹脂ワニス。
【請求項５】
更に、酸化防止剤（Ｄ）を含有する、請求項１記載の印刷インキ用樹脂ワニス。
【請求項６】
３３重量％トルエン溶液のｎ−ヘプタンとのトレランスが１０〜５０である、請求項１記載の印刷インキ用樹脂ワニス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
即ち、本発明は、５０重量％トルエン溶液のｎ−ヘプタンとのトレランスが３００〜１５００である植物油変性されたロジン変性フェノール樹脂（Ａ）[以下、変性フェノール樹脂（Ａ）と略記する]と、芳香族系溶剤の含有率が１重量％以下の有機溶剤（Ｂ）と、植物油（Ｃ）とを必須成分として含有することを特徴とする印刷インキ用樹脂ワニスを提供するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
ロジン変性フェノール樹脂（Ａ）は、５０重量％トルエン溶液のｎ−ヘプタンとのトレランスが３００〜１５００の範囲であることが必要である。トレランスが３００より低いと印刷インキ用樹脂ワニスの貯蔵安定性がよくなく冬場等低温環境で樹脂が析出したり、また、該ワニスからなるインキの光沢が低下する。１５００を超えるとインキのセット時間が長くなる。ロジン変性フェノール樹脂（Ａ）の５０重量％トルエン溶液のｎ−ヘプタンとのトレランスは、なかでも、３５０〜１０００がより好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
次に本発明の芳香族系溶剤の含有率が１重量％以下の有機溶剤（Ｂ）について説明する。
芳香族系溶剤の含有率が１重量％以下の有機溶剤（Ｂ）は、芳香族系溶剤の含有量が１重量％以下であれば制限なく使用できる。このような有機溶剤（Ｂ）としては、例えば、印刷インキ用溶剤Ｏ号ソルベントＨ〔日石三菱（株）社製、芳香族成分含有率１重量％以下〕、ＡＦソルベント４〜７号〔日石三菱（株）社製、芳香族成分含有率１重量％以下〕、ＥＸＸＰＲＩＮＴ  ２８３Ｄ（Ｅｘｘｏｎ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）、ＭＡＧＩＥＳＯＬ  ４７（Ｍａｇｉｅ  Ｂｒｏｔｈｅｒｓ  ｏｉｌ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）等が挙げられる。有機溶剤（Ｂ）は、本発明のワニスを用いたインキの印刷機上での安定性と乾燥性が良好なことから、沸点が２３９〜３２１℃の範囲であれば好ましく、２６０〜３００℃の範囲がより好ましい。また、有機溶剤（Ｂ）は、それぞれ単独で使用してもよいし、２種以上のものを併用しても良い。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本発明の印刷インキ用樹脂ワニスは、貯蔵安定性が良いこと、冬場等低温環境でも樹脂が析出しないこと、インキとして使用した際の光沢が良好なこと、インキのセット時間が早いことから、印刷インキ用樹脂ワニスの３３重量％トルエン溶液のｎ−ヘプタンとのトレランスが６〜５０の範囲であれば好ましく、１０〜５０の範囲であればより好ましく、１５〜４５の範囲が特に好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
ここで言う印刷インキ用樹脂ワニスの３３重量％トルエン溶液のｎ−ヘプタンとのトレランスとは、印刷インキ用樹脂ワニスとトルエンの重量比〔印刷インキ用樹脂ワニス／トルエン〕が１／２である樹脂溶液１ｇに、この溶液が白濁するまで添加することができるｎ−ヘプタンの量（ｍｌ）である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
実施例３
合成例２と同様の反応装置に、ＨＲ−１を５００部、大豆油１００部を仕込み、２５０℃で１時間加熱攪拌した。得られた植物油変性ロジン変性フェノール樹脂ＨＲ−３の５０％トルエン溶液のｎ−ヘプタンに対するトレランスは、７０６であった。この調製で得られたＨＲ−３にＡＦ−６号３００部と大豆油１００部とアルミニウムイソプロポキサイド１部を添加して１６０℃で１時間保持し、さらに、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．３部を加え印刷インキ用樹脂ワニス３を調製した。該ワニス３の３３％トルエン溶液のｎ−ヘプタンに対するトレランスは２０であった。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
比較例１（比較対照用印刷インキ用樹脂ワニスの調製）
合成例２と同様の反応装置に、ＨＲ−１を６００部、ＡＦ−６号３００部を仕込み、１８５℃で１時間加熱攪拌した。その後、大豆油１００部とアルミニウムイソプロポキサイド１部を添加して１６０℃で１時間保持し、さらに、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．３部を加え比較対照用印刷インキ用樹脂ワニス１′を調製した。該ワニス１′の３３重量％トルエン溶液のｎ−ヘプタンに対するトレランスは４であった。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月26日(2004.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）ポリアリーレンサルファイド樹脂１００重量部に対し、（ｂ）非繊維状充填材を１００〜２００重量部含有し、（ｂ）非繊維状充填材の２５〜８５重量％がタルクであり、残部がタルク以外の非繊維状充填材であるポリアリーレンサルファイド樹脂組成物であって、（ｂ）非繊維状充填材として用いられるタルク及び他の非繊維状充填材を予め混合機にて混合したのち、これと（ａ）ポリアリーレンサルファイド樹脂をドライブレンドし、続いて溶融混練することにより製造されたポリアリーレンサルファイド樹脂組成物。
【請求項２】
更に（ｃ）繊維状充填材を５０〜２００重量部含有することを特徴とする請求項１記載のポリアリーレンサルファイド樹脂組成物。
【請求項３】
（ｂ）非繊維状充填材の２５〜８５重量％がタルクであり、非繊維状充填材の残部がアルカリ土類金属炭酸塩であることを特徴とする請求項１、２いずれかに記載のポリアリーレンサルファイド樹脂組成物。
【請求項４】
比較トラッキング指数が４５０Ｖ以上である、請求項１〜３いずれかに記載のポリアリーレンサルファイド樹脂組成物。
【請求項５】
（ｂ）非繊維状充填材として用いられるタルク及び他の非繊維状充填材を予め混合機にて混合したのち、これと（ａ）ポリアリーレンサルファイド樹脂、その他の原料をドライブレンドし、続いて溶融混練することにより請求項１〜４のいずれかに記載のポリアリーレンサルファイド樹脂組成物を製造することを特徴とする、ポリアリーレンサルファイド樹脂組成物の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の目的を達成するために鋭意検討した結果、（ａ）ポリアリーレンサルファイド樹脂１００重量部に対し、（ｂ）非繊維状充填材を１００〜２００重量部含有し、（ｂ）非繊維状充填材の２５〜８５重量％がタルクであり、残部がタルク以外の非繊維状充填材であるポリアリーレンサルファイド樹脂組成物であって、（ｂ）非繊維状充填材として用いられるタルク及び他の非繊維状充填材を予め混合機にて混合したのち、これと（ａ）ポリアリーレンサルファイド樹脂をドライブレンドし、続いて溶融混練することにより製造されたポリアリーレンサルファイド樹脂組成物が優れた耐トラッキング性を示すことを見出し本発明に到達した。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
本発明のポリフェニレンスルフィド樹脂組成物の調製方法は、（ｂ）非繊維状充填材として用いられるタルク及び他の非繊維状充填材を予め、ヘンシェルミキサーなどの混合機にて混合したのち、これと（ａ）ポリアリーレンサルファイド樹脂、その他の原料をドライブレンドし、続いて上記方法にて溶融混練することにより製造される。これによりすぐれた耐トラッキング性を得ることができる。上記溶融混練方法としては、原料の混合物を単軸あるいは２軸の押出機、バンバリーミキサー、ニーダーおよびミキシングロールなど通常公知の溶融混合機に供給して、２８０〜３８０℃の温度で混練する方法などを代表例として挙げることができる。また、少量添加剤成分については、他の成分を上記の方法などで混練しペレット化した後、成形前に添加して成形に供することももちろん可能である。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
［実施例、比較例で使用した原材料］
ＰＰＳ樹脂：東レ株式会社製ポリフェニレンスルフィド樹脂  Ｍ２９００
タルク：竹原化学工業（株）社製“ハイトロン”
炭酸カルシウム：丸尾カルシウム（株）社製“カルファイン”２００Ｍ
ガラス繊維：旭ファイバーグラス社製、０３ＪＡＦＴ５２３
ポリエチレン：三井化学社製、ＰＥ７０００ＦＰ
［比較例１〜３］
ＰＰＳ樹脂とタルクおよび／または炭酸カルシウム、ガラス繊維、ポリエチレンとを表１に示す割合で一括ドライブレンドし、スクリュー型２軸押出機（池貝ＰＣＭ−３０）を用いて溶融混練、ペレタイズを行った。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
［実施例１］
タルクと炭酸カルシウムを予めヘンシェルミキサーにて３０分混合した後、これとＰＰＳ樹脂、ガラス繊維、ポリエチレンを実施例１と同様の割合で混合し、比較例１と同様にして溶融混練、ペレタイズ、ＣＴＩ、衝撃強度評価を行った。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
【表１】
2003128915.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月7日(2004.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
ブロック共重合体（ａ）は、本発明の趣旨を損なわない限り、分子鎖中に、または分子末端に、カルボキシル基、水酸基、酸無水物基、アミノ基、エポキシ基などの官能基を有していてもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
また、以下の例で用いた各成分の内容と略号は以下のとおりである。
［１］ブロック共重合体（ａ）
[製造方法：参考例]
ｓ−ブチルリチウムを重合開始剤として用いて、シクロヘキサン中で、スチレンと、イソプレン、ブタジエン、またはイソプレンとブタジエンの混合物を逐次添加してアニオン重合することにより、共役ジエン化合物よりなる重合体ブロックの両端にスチレン重合体ブロックが結合したＡＢＡ型のトリブロック共重合体又は片端にスチレン重合体ブロックが結合したＡＢ型のジブロック共重合体をそれぞれ製造した。得られたトリブロック共重合体又はジブロック共重合体を、シクロヘキサン中、Ｚｉｅｇｌｅｒ系触媒を用いて、０．８ＭＰａの水素圧力雰囲気下に７５℃で水素添加反応を行って、下記の表１に示す物性を有するブロック共重合体（ａ）−１〜（ａ）−６を得た。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月16日(2004.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機リチウム化合物を開始剤として製造したビニル芳香族炭化水素と共役ジエンからなる共重合体であり、共重合体のビニル芳香族炭化水素と共役ジエンの重量比が８５／１５〜９５／５、共重合体に組み込まれているビニル芳香族炭化水素のブロック率が１０〜８０重量％で、ビニル芳香族炭化水素重合体ブロックの数平均分子量が０．５万〜６．０万で、ビカット軟化温度が５０〜８８℃の範囲である共重合体（Ｉ）と、少なくとも１個のプラスチック性重合体セグメントＡと少なくとも１個のエラストマー性重合体セグメントＢを有し、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとの重量比が６５／３５〜８２／１８であるブロック共重合体で、該ブロック共重合体の動的粘弾性の関数ｔａｎδのピークが７０〜１２５℃に少なくとも１つ有するブロック共重合体（ＩＩ）とからなる組成物で、該組成物のビカット軟化温度が６０〜８３℃の範囲であり、共重合体（Ｉ）とブロック共重合体（ＩＩ）の重量比が１０／９０〜９０／１０である重合体組成物。
【請求項２】
有機リチウム化合物を開始剤として製造したビニル芳香族炭化水素と共役ジエンからなる共重合体であり、共重合体のビニル芳香族炭化水素と共役ジエンの重量比が８５／１５〜９５／５、共重合体に組み込まれているビニル芳香族炭化水素のブロック率が１０〜８０重量％で、ビニル芳香族炭化水素重合体ブロックの数平均分子量が０．５万〜６．０万で、ビカット軟化温度が５０〜８８℃の範囲である共重合体（Ｉ）と、少なくとも１個のプラスチック性重合体セグメントＡと少なくとも１個のエラストマー性重合体セグメントＢを有し、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとの重量比が６５／３５〜８２／１８であるブロック共重合体で、該ブロック共重合体の動的粘弾性の関数ｔａｎδのピークが７０〜１２５℃に少なくとも１つ有するブロック共重合体（ＩＩ）および、スチレン含有量が７０〜９０重量％、アクリル酸ｎ−ブチル含有量が３０〜１０重量％からなるスチレン−アクリル酸ｎ−ブチル共重合体（ＩＩＩ）とからなる組成物で、該組成物のビカット軟化温度が６０〜８３℃の範囲であり、共重合体（Ｉ）、ブロック共重合体（ＩＩ）およびスチレン−アクリル酸ｎ−ブチル共重合体（ＩＩＩ）の重量比は、合計量を１００重量％として、（Ｉ）が１０〜８０重量％、（ＩＩ）が１０〜８０重量％、および（ＩＩＩ）が５〜５０重量％の範囲からなる重合体組成物。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の重合体組成物を延伸してなり、延伸方向における６５℃の熱収縮率が１０〜６０％、延伸方向における引張弾性率が７０００〜３００００Ｋｇ／ｃｍ2である熱収縮性フィルム。
【請求項４】
共重合体（Ｉ）が、該共重合体に組み込まれているビニル芳香族炭化水素のブロック率が１５〜７５重量％で、ビニル芳香族炭化水素重合体ブロックの数平均分子量が０．８万〜５．０万で、ビカット軟化温度が５５〜８５℃の範囲であることを特徴とする請求項１または２に記載の重合体組成物。
【請求項５】
ＪＩＳ−Ｋ−６８７０記載の測定方法で、２００℃、荷重５ｋｇの条件で測定したメルトフローインデックス（ＭＦＲ）が、共重合体（Ｉ）、ブロック共重合体（ＩＩ）では、０．１〜５０ｇ／１０ｍｉｎ、重合体（ＩＩＩ）では１〜１０ｇ／１０ｍｉｎであることを特徴とする請求項１または２に記載の重合体組成物。
【請求項６】
延伸温度が６０〜１１０℃、延伸倍率が１．５〜８倍であることを特徴とする請求項３記載の熱収縮性フィルム。