【手続補正書】
【提出日】平成17年6月2日(2005.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】磁気抵抗効果素子及び磁気再生装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部磁界により磁化方向が変化する第１の磁性層と、磁化が実質的に固着された第２の磁性層と、前記第１の磁性層と前記第２の磁性層との間に設けられた非磁性中間層と、を備えた磁気抵抗効果素子であって、
前記第１の磁性層に隣接して設けられた金属バリア層と、
前記金属バリア層に隣接して設けられ、酸化物、窒化物、炭化物、フッ化物、塩化物、硫化物及びホウ化物から選ばれた少なくともいずれかを含む第３の層と、をさらに備えたことを特徴とする磁気抵抗効果素子。
【請求項２】
前記第３の層の平均厚さが３ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項３】
前記第３の層は、前記金属バリア層が含有する元素と同一の元素を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項４】
前記第２の磁性層は、相互に反強磁性的に結合された第１および第２の強磁性膜と、この２つの強磁性体膜を分離し、且つ反強磁性的に結合するカップリング層を含んでいることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項５】
ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）から選ばれるｆｃｃ金属からなる単層または２種以上の層からなる下地層をさらに備えたことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項６】
前記第１の磁性層の厚みと前記金属バリア層の厚みの合計は、１０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項７】
外部磁界により磁化方向が変化する第１の磁性層と、金属反強磁性層と、前記金属反強磁性層により磁化が実質的に固着された第２の磁性層と、前記第１の磁性層と前記第２の磁性層との間に設けられた非磁性中間層と、を備え、
前記第２の磁性層は、酸化物、窒化物、炭化物、フッ化物、塩化物、硫化物及びホウ化物から選ばれた少なくともいずれかを含む第３の層を含んだことを特徴とする磁気抵抗効果素子。
【請求項８】
前記第２の磁性層は、相互に反強磁性的に結合された第１及び第２の強磁性体膜と、この２つの強磁性体膜を分離し、且つ反強磁性的に結合するカップリング膜を含んでいることを特徴とする請求項７記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項９】
前記第３の層は、前記カップリング層と前記非磁性中間層との間に設けられたことを特徴とする請求項７または８に磁気抵抗効果素子。
【請求項１０】
前記第３の層は、前記非磁性中間層よりも前記カップリング層に近い位置に設けられたことを特徴とする請求項９記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項１１】
前記第２の磁性層のうちで前記第３の層と前記非磁性中間層との間の部分の厚みは１０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項７〜１０のいずれか１つに記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項１２】
前記第２の磁性層のうちで前記非磁性中間層からみて前記第３の層よりも遠い側の部分は、コバルト（Ｃｏ）もしくはニッケル（Ｎｉ）を主成分とした合金にクロム（Ｃｒ）、ニオブ（Ｎｂ）、ホウ素（Ｂ）及びロジウム（Ｒｈ）から選ばれた少なくともいずれかを添加した材料からなることを特徴とする請求項７〜１１のいずれか１つに記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項１３】
前記非磁性中間層からみて前記第３の層よりも遠い側において前記第３の層に隣接してタンタル（Ｔａ）、クロム（Ｃｒ）及びチタン（Ｔｉ）から選ばれた少なくともいずれかを主成分とする層が設けられたことを特徴とする請求項７〜１２のいずれか１つに記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項１４】
前記第１の磁性層の非磁性中間層とは反対側の面において、酸化物、窒化物、炭化物、フッ化物、塩化物およびホウ化物から選ばれる少なくとも１種を含む第４の層が積層されていることを特徴とする請求項７〜１３のいずれか１つに記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項１５】
前記第４の層の平均厚さが３ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１４記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項１６】
前記第１の磁性層と前記第４の層との間に設けられた金属バリア層をさらに備えたことを特徴とする請求項１４または１５に記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項１７】
前記金属バリア層は、スカンジウム（Ｓｃ）、チタン（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、イットリウム（Ｙ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、銀（Ａｇ）、カドミウム（Ｃｄ）、レニウム（Ｒｅ）、オスミウム（Ｏｓ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、タリウム（Ｔｌ）、鉛（Ｐｂ）から選ばれる金属、またはこれらの少なくともいずれかを含む非磁性合金からなることを特徴とする請求項１〜５及び１６のいずれか１つに記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項１８】
前記第４の層は、前記金属バリア層が含有する元素と同一の元素を含有することを特徴とする請求項１４〜１６のいずれか１つに記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項１９】
ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）から選ばれるｆｃｃ金属からなる単層または２種以上の層からなる下地層をさらに備えたことを特徴とする請求項７〜１８のいずれか１つに記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項２０】
前記第１の磁性層の前記第２の磁性層とは反対側の面に、磁化が実質的に固着された第３の磁性層と、前記第１の磁性層と前記第３の磁性層との間に設けられた第２の非磁性中間層と、をさらに備えたことを特徴とする請求項７記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項２１】
前記第３の磁性層は、酸化物、窒化物、炭化物、フッ化物、塩化物、硫化物およびホウ化物から選ばれる少なくとも１種を含む第４の層を含むことを特徴とする請求項７記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項２２】
前記第３の層の平均厚さは２ｎｍ以下であることを特徴とする請求項７記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項２３】
前記第３の層は、遷移金属またはランタノイドの少なくともいずれかを含んでおり、かつその平均厚さが３ｎｍ以下であることを特徴とする請求項７記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項２４】
前記第３の層は、室温において強磁性または反強磁性を有し、かつその平均厚さが１０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項７記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項２５】
前記非磁性中間層は、前記第２の磁性層の上に設けられ、
前記第１の磁性層は、前記非磁性中間層の上に設けられ、
前記金属バリア層は、前記第１の磁性層の上に設けられ、
前記第３の層は、前記金属バリア層の上に設けられたことを特徴とする請求項１記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項２６】
前記第２の磁性層は、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、マンガン（Ｍｎ）、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、シリコン（Ｓｉ）及びランタン系列の元素のうちの少なくともいずれかを含有する電子反射層を有することを特徴とする請求項７記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項２７】
外部磁界により磁化方向が変化する第１の磁性層と、
磁化が実質的に固着された第２の磁性層と、
前記第１の磁性層と前記第２の磁性層との間に設けられた非磁性中間層と、
前記非磁性中間層とは反対側において前記第１の磁性層と積層された導電層と、
前記導電層と積層された酸化物層と、
を備え、
前記導電層は、銅（Ｃｕ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、レニウム（Ｒｅ）、オスミウム（Ｏｓ）、イリジウム（Ｉｒ）、金（Ａｕ）及び銀（Ａｇ）から選ばれた少なくともいずれかの金属を含有し、
前記酸化物層は、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）及びニッケル（Ｎｉ）から選ばれた少なくともいずれかの元素を含有し、厚さが３ｎｍ以下であることを特徴とする磁気抵抗効果素子。
【請求項２８】
外部磁界により磁化方向が変化する第１の磁性層と、
磁化が実質的に固着された第２の磁性層と、
前記第１の磁性層と前記第２の磁性層との間に設けられた非磁性中間層と、
前記非磁性中間層とは反対側において前記第１の磁性層と積層された導電層と、
前記導電層と積層された酸化物層と、
を備え、
前記導電層は、銅（Ｃｕ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、レニウム（Ｒｅ）、オスミウム（Ｏｓ）、イリジウム（Ｉｒ）、金（Ａｕ）及び銀（Ａｇ）から選ばれた少なくともいずれかの金属を含有し、
前記酸化物層は、クロム（Ｃｒ）またはタンタル（Ｔａ）の少なくともいずれかの元素を含有することを特徴とする磁気抵抗効果素子。
【請求項２９】
前記導電層の厚さは、０．５ｎｍ以上３．０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項２７または２８に記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項３０】
外部磁界が印加されていない状態において、前記第１の磁性層の磁化の方向と前記第２の磁性層の磁化の方向とが略直交することを特徴とする請求項１〜２９のいずれか１つに記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項３１】
請求項１〜３０のいずれか１つに記載の磁気抵抗効果素子を有する磁気ヘッドを備え、
磁気記録媒体に磁気的に記録された情報の読み取りを可能としたことを特徴とする磁気再生装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】 
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気センサなどに用いられる磁気抵抗効果素子及び磁気再生装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】 
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、このような課題の認識に基づいてなされたものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
すなわち、その目的は、磁気抵抗効果素子の強磁性層／非磁性層界面などにおける原子の相互拡散を抑制することによって熱安定性を向上させ、長期的な信頼性を向上させた磁気抵抗効果素子を提供することにある。 
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
すなわち、本発明の一態様によれば、外部磁界により磁化方向が変化する第１の磁性層と、磁化が実質的に固着された第２の磁性層と、前記第１の磁性層と前記第２の磁性層との間に設けられた非磁性中間層と、を備えた磁気抵抗効果素子であって、
前記第１の磁性層に隣接して設けられた金属バリア層と、
前記金属バリア層に隣接して設けられ、酸化物、窒化物、炭化物、フッ化物、塩化物、硫化物及びホウ化物から選ばれた少なくともいずれかを含む第３の層と、をさらに備えたことを特徴とする磁気抵抗効果素子が提供される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
ここで、前記第３の層の平均厚さが３ｎｍ以下であるものとすることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、前記第３の層は、前記金属バリア層が含有する元素と同一の元素を含有するものとすることができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、前記第２の磁性層は、相互に反強磁性的に結合された第１および第２の強磁性膜と、この２つの強磁性体膜を分離し、且つ反強磁性的に結合するカップリング層を含んでいるものとすることができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）から選ばれるｆｃｃ金属からなる単層または２種以上の層からなる下地層をさらに備えたものとすることができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、前記第１の磁性層の厚みと前記金属バリア層の厚みの合計は、１０ｎｍ以下であるものとすることができる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
一方、本発明の他の一態様によれば、外部磁界により磁化方向が変化する第１の磁性層と、金属反強磁性層と、前記金属反強磁性層により磁化が実質的に固着された第２の磁性層と、前記第１の磁性層と前記第２の磁性層との間に設けられた非磁性中間層と、を備え、
前記第２の磁性層は、酸化物、窒化物、炭化物、フッ化物、塩化物、硫化物及びホウ化物から選ばれた少なくともいずれかを含む第３の層を含んだものとすることができる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
ここで、前記第２の磁性層は、相互に反強磁性的に結合された第１及び第２の強磁性体膜と、この２つの強磁性体膜を分離し、且つ反強磁性的に結合するカップリング膜を含んでいるものとすることができる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、前記第３の層は、前記カップリング層と前記非磁性中間層との間に設けられたものとすることができる。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、前記第３の層は、前記非磁性中間層よりも前記カップリング層に近い位置に設けられたものとすることができる。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
また、前記第２の磁性層のうちで前記第３の層と前記非磁性中間層との間の部分の厚みは１０ｎｍ以下であるものとすることができる。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、前記第２の磁性層のうちで前記非磁性中間層からみて前記第３の層よりも遠い側の部分は、コバルト（Ｃｏ）もしくはニッケル（Ｎｉ）を主成分とした合金にクロム（Ｃｒ）、ニオブ（Ｎｂ）、ホウ素（Ｂ）及びロジウム（Ｒｈ）から選ばれた少なくともいずれかを添加した材料からなるものとすることができる。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
また、前記非磁性中間層からみて前記第３の層よりも遠い側において前記第３の層に隣接してタンタル（Ｔａ）、クロム（Ｃｒ）及びチタン（Ｔｉ）から選ばれた少なくともいずれかを主成分とする層が設けられたものとすることができる。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
また、前記第１の磁性層の非磁性中間層とは反対側の面において、酸化物、窒化物、炭化物、フッ化物、塩化物およびホウ化物から選ばれる少なくとも１種を含む第４の層が積層されているものとすることができる。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
また、前記第４の層の平均厚さが３ｎｍ以下であるものとすることができる。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
また、前記第１の磁性層と前記第４の層との間に設けられた金属バリア層をさらに備えたものとすることができる。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
一方、前記金属バリア層は、スカンジウム（Ｓｃ）、チタン（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、イットリウム（Ｙ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、銀（Ａｇ）、カドミウム（Ｃｄ）、レニウム（Ｒｅ）、オスミウム（Ｏｓ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、タリウム（Ｔｌ）、鉛（Ｐｂ）から選ばれる金属、またはこれらの少なくともいずれかを含む非磁性合金からなるものとすることができる。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
ここで、前記第４の層は、前記金属バリア層が含有する元素と同一の元素を含有するものとすることができる。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
また、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）から選ばれるｆｃｃ金属からなる単層または２種以上の層からなる下地層をさらに備えたものとすることができる。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
また、前記第１の磁性層の前記第２の磁性層とは反対側の面に、磁化が実質的に固着された第３の磁性層と、前記第１の磁性層と前記第３の磁性層との間に設けられた第２の非磁性中間層と、をさらに備えたものとすることができる。
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
また、前記第３の磁性層は、酸化物、窒化物、炭化物、フッ化物、塩化物、硫化物およびホウ化物から選ばれる少なくとも１種を含む第４の層を含むものとすることができる。
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
ここで、前記第３の層の平均厚さは２ｎｍ以下であるものとすることができる。
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
また、前記第３の層は、遷移金属またはランタノイドの少なくともいずれかを含んでおり、かつその平均厚さが３ｎｍ以下であるものとすることができる。
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
また、前記第３の層は、室温において強磁性または反強磁性を有し、かつその平均厚さが１０ｎｍ以下であるものとすることができる。
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
また、前記非磁性中間層は、前記第２の磁性層の上に設けられ、
前記第１の磁性層は、前記非磁性中間層の上に設けられ、
前記金属バリア層は、前記第１の磁性層の上に設けられ、
前記第３の層は、前記金属バリア層の上に設けられたものとすることができる。
【手続補正３１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
また、前記第２の磁性層は、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、マンガン（Ｍｎ）、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、シリコン（Ｓｉ）及びランタン系列の元素のうちの少なくともいずれかを含有する電子反射層を有するものとすることができる。
【手続補正３２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
一方、本発明のさらに他の一態様によれば、
外部磁界により磁化方向が変化する第１の磁性層と、
磁化が実質的に固着された第２の磁性層と、
前記第１の磁性層と前記第２の磁性層との間に設けられた非磁性中間層と、
前記非磁性中間層とは反対側において前記第１の磁性層と積層された導電層と、
前記導電層と積層された酸化物層と、
を備え、
前記導電層は、銅（Ｃｕ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、レニウム（Ｒｅ）、オスミウム（Ｏｓ）、イリジウム（Ｉｒ）、金（Ａｕ）及び銀（Ａｇ）から選ばれた少なくともいずれかの金属を含有し、
前記酸化物層は、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）及びニッケル（Ｎｉ）から選ばれた少なくともいずれかの元素を含有し、厚さが３ｎｍ以下であることを特徴とする磁気抵抗効果素子が提供される。
【手続補正３３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
一方、本発明のさらに他の一態様によれば、
外部磁界により磁化方向が変化する第１の磁性層と、
磁化が実質的に固着された第２の磁性層と、
前記第１の磁性層と前記第２の磁性層との間に設けられた非磁性中間層と、
前記非磁性中間層とは反対側において前記第１の磁性層と積層された導電層と、
前記導電層と積層された酸化物層と、
を備え、
前記導電層は、銅（Ｃｕ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、レニウム（Ｒｅ）、オスミウム（Ｏｓ）、イリジウム（Ｉｒ）、金（Ａｕ）及び銀（Ａｇ）から選ばれた少なくともいずれかの金属を含有し、
前記酸化物層は、クロム（Ｃｒ）またはタンタル（Ｔａ）の少なくともいずれかの元素を含有することを特徴とする磁気抵抗効果素子が提供される。
【手続補正３４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
ここで、前記導電層の厚さは、０．５ｎｍ以上３．０ｎｍ以下であるものとすることができる。
【手続補正３５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
また、外部磁界が印加されていない状態において、前記第１の磁性層の磁化の方向と前記第２の磁性層の磁化の方向とが略直交するものとすることができる。
【手続補正３６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
一方、本発明のさらに他の一態様によれば、上記のいずれかの磁気抵抗効果素子を有する磁気ヘッドを備え、
磁気記録媒体に磁気的に記録された情報の読み取りを可能としたことを特徴とする磁気再生装置が提供される。
【手続補正３７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】削除
【補正の内容】