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【手続補正書】
【提出日】平成17年8月23日(2005.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
蒸気流の全部または一部をその中に存在するモノマーおよびコモノマーと一緒に二つの反応段階を構成する工程の第二の反応器に供給する請求項１〜６のいずれか一つに記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
部分蒸発の間にこの方法で使用される分散媒の１／５〜１／２、好ましくは分散媒の１／４〜１／３が蒸気として蒸気流の状態で抜き取られる。
蒸発は好ましくは減圧下で行い、蒸発の間の圧力は０．１〜０．８ｂａｒ、特に０．３〜０．５ｂａｒである。
新規の重合法ではコモノマーとして、モノマー全量を基準として１０重量％までの割合で式
Ｒ−ＣＨ＝ＣＨ2 
［式中、Ｒは炭素原子数１〜４の直鎖状のまたは枝分かれしたアルキル残基である。］
で表される１−オレフィンを使用する。非常に適するコモノマーはブテン、ペンテン、ヘキセンおよび４−メチル−１−ペンテンである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
除かれた分散媒（母液）はコモノマーが少なく、導管（８）を通して重合用容器に再循環する。流れ（Ｚ）を基準として５〜１２％程度の量の、ワックス含有分散媒の小さな流れ（Ｄ）を蒸発器（３０）中で蒸発処理し、その際に溶解したワックス化合物（ＷＡ）の全てが除かれる。これによって分散媒中の低分子量ワックス留分（例えば炭素原子数２４以下の鎖長を有する分子）の水準が制限される。プロセスに戻す流れ（流れＶ）の一部または全部を第二の反応器（２１）に戻す（流れＶR ）。一部を戻す場合には、流れＶD の残りはブタン除去用分散媒蒸留塔（２７）に供給する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
この方法では、二つのモードのあるポリエチレンコポリマーを連続的に製造するのに必要な反応条件を同時に守りながら重合用反応器（２０）および（２１）へのワックス含有分散媒の高い戻し率が達成される。
図２において反応器（２０）、（２１）および（２２）での重合条件は図１におけるそれに相応する。分散媒としてのイソオクタンに関する懸濁液流（Ｚ）の濃縮は、攪拌式容器（２９）において約０．３２ｂａｒの減圧下に、分散媒としてのヘキサンの反応温度と僅かだけ異なり、しかもそれより僅かに高い、熱交換器（２６）で得られ約７０℃の温度で実施する。凝縮されるワックス不含のブテン含有蒸気流（流れＶ）は第二反応器（２１）に導かれる。デカンター受け器（２３）で３５℃に冷却されそしてデカンター（２８）中で機械的に液体分離を実施した後の分散媒流は、後反応器（２２）の流れ（Ｚ）を基準として５〜１２重量％の割合で最初の反応器および第二の反応器（２０および２１）に再導入される。更なる分離は図１における様に行なう。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
例３は、本発明の対象である手段によって、分散媒に溶解するワックスの比較的多い割合がデカンター受け器（２３）において固体ポリエチレンコポリマーに吸着される場合のエチレンコポリマーの性質を示している。
例４は、重合プロセスで生じそして分散媒に溶解するワックスの全量を生成物の上に再噴霧した場合のエチレンコポリマーの性質を明らかにしている。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月11日(2004.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の製造方法に使用される（Ｃ）成分の酸性触媒としては、塩酸，硫酸，トリフルオロ酢酸，トリフルオロメタンスルホン酸のようなプロトン酸；塩化鉄，塩化アルミニウム，塩化亜鉛，塩化チタンのようなルイス酸が挙げられる。これらの中でも反応の転化率を向上させるために、塩酸やパーフルオロアルカンスルホン酸等の強酸が好ましく、トリフルオロメタンスルホン酸が特に好ましい。これらの強酸の添加量は、シロキサン結合のランダムな再配列反応やシクロトリシロキサンの単独重合などの副反応を抑制するために、目的とする反応を起こすに足る程度の微量でよい。具体的には、使用する触媒の酸性度や反応系中の水分やシラノール化合物の含有率などによって異なるが、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計重量に対して１,０００ｐｐｍ以下であることが好ましく、トリフルオロメタンスルホン酸の場合は反応混合物の全量に対して１０〜１,０００ｐｐｍ程度の量で十分である。使用する酸の量が減るほど、その中和のための塩基性化合物、あるいはその水洗のための水の量を減らすことができるので、この点からも必要最小量であることが好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
【実施例１】
窒素置換した攪拌装置付き４つ口フラスコに、ヘキサメチルシクロトリシロキサン２０グラム（９０ミリモル），１,１,３,３−テトラメチルジシロキサン１３．３グラム（９９ミリモル）、ＧＬＣの内部標準としてトルエン２グラムを投入した。これを室温で攪拌したところ、反応溶液の温度は１９℃まで低下した。次いでトルフルオロメタンスルホン酸１．５マイクロリットルを添加したところ、反応溶液の温度は３１℃まで上昇した。この反応溶液を室温で攪拌しながら、定期的にＧＬＣで反応の進行をモニターしたところ、４５分間経過後にヘキサメチルシクロトリシロキサンの転化率が９９．１％に達し、反応がほぼ完結していることが判った。ＧＬＣにて観測された各種ピークをガスクロマトグラフィー−質量分析計（以下、ＧＣ−ＭＳ）にて分析して、反応主生成物の収率をＧＬＣにて定量したところ、得られた反応主生成物は、１,１,３,３,５,５,７,７,９,９−デカメチルペンタシロキサン（I）であり、その収率は６０．２％であることが判明した（標品との比較による補正済み収率）。これより、釜効率は５５％であった。また、副生成物の構造はこの反応主生成物がさらにヘキサメチルシクロトリシロキサンと反応してなる下記構造式の化合物（II），（III）であることが判明した。
H(CH3)2Si(OSi(CH3)2)6OSi(CH3)2H      （II）
H(CH3)2Si(OSi(CH3)2)9OSi(CH3)2H      （III）
また、反応主生成物と副生成物とのＧＬＣピーク面積比は、以下の通りであった。
［主生成物（I）］／［副生成物（II）］＝３．３
［主生成物（I）］／［副生成物（III）］＝１３．２
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月29日(2005.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項2】  成分Bが、式IC；
【化3】
1999158468.tif 000001
(式中、R3は、式IBの意味を有し、kは、０又は１及びR*は、炭素原子２個から８個を有するアルケニルである）
の化合物を少なくとも1つ含有することを特徴とする、請求項１に記載のディスプレイ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項4】  成分Aが、少なくとも１つの式IIaから式IId及び式IIf；
【化7】
1999158468.tif 000002
(式中R、L3、L4、及びL7は、請求項3に記載のとおりである）
から選択される化合物の少なくとも1つを含有することを特徴とする、請求項１、２又は３に記載のディスプレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月19日(2004.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の一般式（１）
【化１】
1999158498.tif 000001
（式中、Ａはメチル基または−Ｃn Ｈ2n −Ｄで示される基を表し、ＤはＣＯＯＭ基または水酸基を表し、ＣＯＯＭは各々独立にカルボキシル基またはそのアルカリ金属塩、アンモニウム塩もしくはアミン塩を表し、ｍは０〜３の整数を、ｎは０〜２の整数を表す。）で示されるアミノ酸−Ｎ，Ｎ−二酢酸（塩）と陰イオン界面活性剤および／又は非イオン界面活性剤からなる界面活性剤とを含有することを特徴とする車両用洗浄剤組成物。
【請求項２】
車両塗装面水垢汚れ用洗浄剤組成物である請求項１記載の車両用洗浄剤組成物。
【請求項３】
アミノ酸−Ｎ，Ｎ−二酢酸（塩）の含有量が１〜１５重量％で界面活性剤の含有量が５〜２０重量％である請求項２記載の車両用洗浄剤組成物。
【請求項４】
アミノ酸−Ｎ，Ｎ−二酢酸（塩）がアスパラギン酸−Ｎ．Ｎ−二酢酸（塩）またはグルタミン酸−Ｎ，Ｎ−二酢酸（塩）である請求項１または３記載の車両用洗浄剤組成物。
【請求項５】
使用時のｐＨが６〜１１である請求項１〜４のいずれかに記載の車両用洗浄剤組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
車両塗装面の汚れは従来から界面活性剤を主成分とする洗浄剤が広く用いられてきた。しかし、その汚れは通称水垢という不溶性の無機塩および有機分の混合物の汚れであり容易には除去できないものである。このため、研磨剤を含有した洗浄剤あるいは強アルカリ洗浄剤等が使用され、あるいは検討されてきたがそれぞれ問題がある。研磨剤含有のものは物理的力によりこの水垢を除去できるが研磨剤による塗装面の損傷を受け、強アルカリ洗浄剤は化学的に塗装面を変質させるとともに近年、車両の軽量化の為にアルミニウムを始めとする軽金属の使用がありこの軽金属部品のアルカリ腐食及びそれに伴う光沢の消失が問題となっている。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明に用いられるアミノ酸−Ｎ，Ｎ−二酢酸（塩）は前記の一般式（１）で示され、Ｍは独立に水素原子、アルカリ金属、アンモニウムまたはアミンであり、アルカリ金属としてはナトリウムまたはカリウムが挙げられ、アミンとしてはアルキルアミン、ジアルキルアミン、トリアルキルアミンが挙げられ、またアンモニウムなどがあり、好ましくはナトリウムである。ＣＯＯＭ基が全て同じであってもよいが、異なっていてもよい、例えば、アスパラギン酸−Ｎ，Ｎ，−二酢酸やグルタミン酸−Ｎ，Ｎ，−二酢酸の場合、４個のＣＯＯＭが四ナトリウム塩でもよいし、２個の遊離のカルボキシル基を有する二ナトリウム塩でもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月19日(2005.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）約５〜約４０ｄＢ／ｍｍの音響損失値を有する液体環状ビヒクルと、２）約３０〜約７４℃の融点および約２５〜約８０ｄＢ／ｍｍの音響損失値を有する固体添加剤成分と、（３）液晶性ニトリル化合物と、（４）耐光性紫外線吸収剤と、（５）耐光性酸化防止剤と、（６）着色剤とを含み、約１０〜約８０ｄＢ／ｍｍの音響損失値を有することを特徴とする非水性のインク組成物。
【請求項２】
請求項１に記載のインク組成物において、
前記液体環状ビヒクルは約０．５〜約４９重量％の量で存在し、前記固体添加剤成分は約０．５〜約４９重量％の量で存在し、前記液晶性ニトリル化合物は約６９〜約１重量％の量で存在し、前記紫外線吸収剤は約５〜約０．２５重量％の量で存在し、前記酸化防止剤は約５〜約０．２５重量％の量で存在し、前記着色剤は約２０〜約０．５重量％の量で存在することを特徴とするインク組成物。
【請求項３】
請求項１または２に記載のインク組成物において、
前記液体環状ビヒクルが１−アセチル−２−メチル−１−シクロペンテン、１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、または無水酪酸であり、
前記添加剤が２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、１，２−ビス（４，４−ジメチル−２−オキサゾリン−２−イル）エタン、または無水ステアリン酸であり、
前記液晶性ニトリル化合物が４′−（ペンチルオキシ）−４−ビフェニルカルボニトリル、または４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）ベンゾニトリルであり、
前記紫外線吸収剤が２−ドデシル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）スクシンイミド、または［１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル／１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸β，β，β′，β′−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキソスピロ（５，５）ウンデカン）ジエチル］であり、
前記耐光性酸化防止剤がＮ−（１，２−ジカルボキシエチル）−Ｎ−オクタデシル−スルホスクシンアミド酸）四ナトリウムまたはオキシスルフィドジチオカルバミン酸モリブデンであることを特徴とするインク組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のインク組成物を音響インクジェットプリンター中に組み入れ、インクの小滴を像様のパターンで基質上に噴出させることを特徴とする印刷方法。
【請求項５】
（１）液体環状ビヒクルと、（２）環状化合物と、（３）液晶性ニトリル化合物と、（４）耐光性紫外線吸収剤と、（５）耐光性酸化防止剤と、および（６）着色剤とを含むことを特徴とするインク組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、インクの（１）環状ビヒクルが１−アセチル−２−メチル−１−シクロペンテン、１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、または無水酪酸であり、（２）添加剤が２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、１，２−ビス（４，４−ジメチル−２−オキサゾリン−２−イル）エタン、または無水ステアリン酸であり、（３）液晶性ニトリル化合物が４′−（ペンチルオキシ）−４−ビフェニルカルボニトリル、または４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）ベンゾニトリルであり、（４）紫外線吸収剤が２−ドデシル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）スクシンイミド、または［１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル／１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸β，β，β′，β′−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキソスピロ（５，５）ウンデカン）ジエチル］であり、（５）耐光性酸化防止剤がＮ−（１，２−ジカルボキシエチル）−Ｎ−オクタデシル−スルホスクシンアミド酸）四ナトリウムまたはオキシスルフィドジチオカルバミン酸モリブデンである。また、インクの粘度は、約１２５℃〜約１６５℃の温度において約０．０１〜約０．１Ｐａ・Ｓである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月26日(2004.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鋼材部材を真空炉の加熱室内で所定の炉内温度及び圧力下で浸炭後窒化性ガスを供給し、炭素の拡散に続いて窒化を行うことを特徴とする転動部材の製造方法。
【請求項２】
前記浸炭後の窒化時の、炉内温度を８００℃〜９００℃、炉内圧力を４Ｔｏｒｒ〜４００Ｔｏｒｒとしたことを特徴とする請求項１記載の転動部材の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明者らは、ガス浸炭窒化法においてはこの限りではなく、９５０℃と高い温度域においても浸炭窒化が可能なことを特開平６−３４１４４１号公報にて提案してきた。本発明に係る真空下での浸炭窒化においても同様に９５０℃までの温度域では浸炭窒化が可能であり、これを越えると転がり疲れ寿命の向上、焼戻し抵抗性、耐摩耗性を得るために有効な窒素量が得られないことを見出したので、処理温度の上限を９５０℃とした。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月3日(2004.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】成膜装置のサセプター及び成膜装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマを用いて基板上に被膜を成膜する成膜装置のサセプターであって、
前記サセプターに前記基板を保持したときに前記サセプターと前記基板の裏面の一部との間に隙間が形成される段差を有することを特徴とする成膜装置のサセプター。
【請求項２】
プラズマを用いて基板上に被膜を成膜する成膜装置のサセプターであって、
前記サセプターに前記基板を保持したときに前記サセプターと前記基板の裏面の周辺部のみ接触し、前記サセプターと前記基板の裏面の周辺部以外との間に隙間が形成される段差を有していることを特徴とする成膜装置のサセプター。
【請求項３】
プラズマを用いて基板上に被膜を成膜する成膜装置のサセプターであって、
前記サセプターに前記基板を保持したときに前記サセプターと前記基板の裏面の中心部及び周辺部が接触し、前記サセプターと前記基板の裏面の中心部及び周辺部以外との間に隙間が形成される段差を有していることを特徴とする成膜装置のサセプター。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、前記隙間における前記サセプターと前記基板の裏面との間隔は０．５〜１．０ｍｍであることを特徴とする成膜装置のサセプター。
【請求項５】
プラズマを用いて基板上に被膜を成膜する成膜装置のサセプターであって、
前記サセプターに前記基板を保持したときに前記サセプターと前記基板の裏面の一部との間に第１の隙間が形成される段差と、前記サセプターと前記基板の裏面の他の一部との間に第２の隙間が形成される段差とを有し、
前記第１の隙間における前記サセプターと前記基板の裏面との間隔と前記第２の隙間における前記サセプターと前記基板の裏面との間隔は異なることを特徴とする成膜装置のサセプター。
【請求項６】
基板を保持するサセプターを有し、プラズマを用いて前記基板上に被膜を成膜する成膜装置であって、
前記サセプターは、前記基板を保持したときに前記サセプターと前記基板の裏面の一部との間に隙間が形成される段差を有していることを特徴とする成膜装置。
【請求項７】
基板を保持するサセプターを有し、プラズマを用いて前記基板上に被膜を成膜する成膜装置であって、
前記サセプターは、前記基板を保持したときに前記サセプターと前記基板の裏面の周辺部のみ接触し、前記サセプターと前記基板の裏面の周辺部以外との間に隙間が形成される段差を有していることを特徴とする成膜装置。
【請求項８】
基板を保持するサセプターを有し、プラズマを用いて前記基板上に被膜を成膜する成膜装置であって、
前記サセプターは、前記基板を保持したときに前記サセプターと前記基板の裏面の中心部及び周辺部が接触し、前記サセプターと前記基板の裏面の中心部及び周辺部以外との間に隙間が形成される段差を有していることを特徴とする成膜装置。
【請求項９】
請求項６乃至８のいずれか一において、前記隙間における前記サセプターと前記基板の裏面との間隔は０．５〜１．０ｍｍであることを特徴とする成膜装置。
【請求項１０】
基板を保持するサセプターを有し、プラズマを用いて前記基板上に被膜を成膜する成膜装置であって、
前記サセプターは、前記基板を保持したときに前記サセプターと前記基板の裏面の一部との間に第１の隙間が形成される段差と、前記サセプターと前記基板の裏面の他の一部との間に第２の隙間が形成される段差とを有し、
前記第１の隙間における前記サセプターと前記基板の裏面との間隔と前記第２の隙間における前記サセプターと前記基板の裏面との間隔は異なることを特徴とする成膜装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月30日(2004.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
繊維質基体（Ａ）上に、隠蔽層（Ｂ）および易染層（Ｃ）を順次有し、且つ前記易染層（Ｃ）のインクに含まれる染料に対する平衡染着量が６０ｍｇ／ｇ以上であることを特徴とするインクジェット方式による描画用皮革様シート。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月24日(2004.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機系耐炎繊維または有機系耐炎繊維と炭素繊維からなり、厚み方向に実質的に均質な構造を有する前駆体フェルト状物を、最高温度１１００〜１５００℃、および１１００℃以上の温度領域での処理時間２〜３６０分の条件で炭素化処理を施して比抵抗値を０．５Ω・ｃｍ以下とすることを特徴とする炭素繊維フェルトの製造方法。
【請求項２】
１１００℃以上の温度領域での処理時間が３０〜１４０分である請求項１記載の炭素繊維フェルトの製造方法。
【請求項３】
前駆体フェルト状物の構成繊維として、有機耐炎繊維を７０〜１００ｗｔ％、炭素繊維を０〜３０ｗｔ％含有することを特徴とする請求項１または２記載の炭素繊維フェルトの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月2日(2004.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
３０〜２００ｐｐｍの銅を有し、９０％蟻酸相対粘度が４５〜１００のポリアミド繊維
から成り、耐熱強度保持率が８５％以上であり、かつ、その仮撚り加工後の仮撚り強度保
持率が９０％以上であることを特徴とする耐熱性ポリアミド繊維。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】  又、特開昭５０−１２３９９９号公報等は、歯付きベルト等の耐熱性の向上を目的に、ポリアミド系繊維の表面に沃化第一銅、及び臭化第一銅等の化合物を紡糸過程以降で付与させる方法を提案している。しかし、紡糸過程以降で前記化合物を付与するのは、余分な製造設備の付加を必要とし、また、製造コスト面においても極めて不利である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】  すなわち、本発明は、1．30〜200ppmの鋼を含有し、90％蟻酸相対粘度が45〜100のポリアミド繊維から成り、そのt anδmax、及びTmaxが下記（1）式、及び（2）式を満足することを特徴とする耐熱性ポリアミド繊維、      0．08≦t anδma x          （1）    110℃≦Tma x≦125℃         （2）2．30〜200ppmの鋼を含有し、90％蟻酸相対粘度が45〜100のポリアミド繊維から成り、耐熱強度保持率が８５％以上であり、かつ、その仮撚り加工後の仮撚り強度保持率が９０％以上であることを特徴とする耐熱性ポリアミド繊維、3．前記1又は2記載のポリアミド繊維が、歯付きベルト用ポリアミド繊維であることを特徴とする耐熱性ポリアミド繊維、4．30〜200ppmの鋼を含有し、90％蟻酸相対粘度が45〜100のポリアミド糸条を引き取りロールで引き取った後、一旦巻き取ることなくゴデットロール間で直接熱延伸して巻き取ることを特徴とする前記1、2、又は3記載の耐熱性ポリアミド繊維の製造方法、である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】  本発明による耐熱性ポリアミド繊維は、耐熱強度保持率が90％以上であり、かつ仮撚り強度保持率が85％以上であって、仮撚り加工されて成るポリアミド繊維であることが特に好ましい。このようになすことで、歯付きベルト用繊維として、特に好適なポリアミド繊維となせる。本発明による耐熱強度保持率、仮撚り強度保持率は、下記のように定義される。    仮撚り強度保持率＝（仮撚り後強度／原糸強度）×100（％）    耐熱強度保持率＝（原糸の熱処理後強度／原糸強度）×100（％）  上式における原糸の熱処理とは、原糸を140℃で560時間、無張力下で放置して処理することである。また、上式における仮撚りは通常の加熱しながらの仮撚り加工を意味する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月26日(2005.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ポリエステル樹脂、並びに１種類以上の高分子シロキサン組成物とホウ素及びリン含有物質と上記シロキサン組成物及び上記ホウ素及びリン含有物質の難燃効果を高めるための有機クレイとを含んでなる非ハロゲン含有難燃剤の組合せを含んでなる難燃化樹脂成形用組成物。
【請求項２】  チャー形成樹脂を追加成分として含む、請求項１記載の非ハロゲン難燃化樹脂成形用組成物。
【請求項３】  前記チャー形成樹脂がポリカーボネート又はポリフェニレンエーテル樹脂を含む、請求項２記載の非ハロゲン難燃化樹脂成形用組成物。
【請求項４】  前記ポリエステル樹脂と前記チャー形成樹脂との混合前に、前記有機クレイの一部を前記ポリエステル樹脂の一部と混合してマスターバッチを形成している、請求項２又は請求項３記載の非ハロゲン難燃化樹脂成形用組成物。
【請求項５】  前記シロキサン組成物がポリシロキサン重合体を含む、請求項３記載の非ハロゲン難燃化樹脂成形用組成物。
【請求項６】  前記シロキサン組成物が、
次式のポリジアルキルシロキサン：
【化１】
1999158363.tif 000001
（式中、Ｒは炭素原子数１〜６のアルキル基であり、ｎは上記重合体の分子量が好ましくは約５０〜約５００となるように選択される。）、
次式の高分子シロキサン化合物：
【化２】
1999158363.tif 000002
（式中、各Ｒ1 は独立にＣ1-5 アルキル基であり、Ｒ2 はＣ1-5 アルキル基又は第一もしくは第二アミノ基であり、Ｒ3 は水素又はＣ1-5 アルキル基であり、ｗは０又は１であり、ｘ及びｙは各々独立に１〜７の整数であり、ｚは０〜７の整数である。）、又は
以下のいずれかの式で表される高分子シロキサン化合物：
【化３】
1999158363.tif 000003
【化４】
1999158363.tif 000004
（式中、ｍ＋ｎは５〜２０００の値であり、Ｖ1 〜Ｖ15は各々互いに独立に水素原子、又はアルキル、アルコキシ、アルケニル、アリール、アラルキル及びアルキルアリールからなる群から選択される炭素原子数１〜１２の基であって、これらの基はハロゲン化されていてもよく、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3 は各々互いに独立にアルキレン、シクロアルキレン、アリーレン、アラルキレン及びアルキルアリーレンからなる群から選択される基を表し、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3 は各々互いに独立に-ＮＶ16Ｖ17-、-ＮＨ-(ＣＨ2)qＮＶ16Ｖ17（ただし、Ｖ16〜Ｖ17は各々互いに独立に水素原子又は炭素原子数１〜１２のアルキル基であり、ｑは１〜１０の値である）、脂肪族もしくは環式脂肪族エポキシド、カルボン酸又は無水物基であり、Ｚ1又はＺ2は水素原子であるが、ただし、式Ｖの化合物は同時にアミン基又はアミノ基とカルボン酸基、或いは同時にエポキシド基とカルボン酸又は無水物基を含み得ない。）
のいずれかを含む、請求項１乃至請求項５のいずれか１項記載の非ハロゲン難燃化樹脂成形用組成物。
【請求項７】  前記リン含有化合物がリン酸、ピロ／ポリリン酸塩、並びにホスフィン酸及びホスホン酸の有機エステルからなる群から選択される、請求項１乃至請求項６のいずれか１項記載の非ハロゲン難燃化樹脂成形用組成物。
【請求項８】  前記リン含有化合物が、
次式のリン酸、ピロリン酸乃至メタリン酸塩：
Ｈm+2ＰmＯ3m+1
ピロリン酸金属塩、ポリリン酸金属塩、酸性ピロリン酸金属塩、酸性ポリリン酸金属塩及びこれらの混合物からなる群から選択されるピロ／ポリリン酸塩、
次式の化合物：
ＭzxＨyＰnＯ3n+1
（式中、Ｍは金属であり、ｘは１〜１２の数であり、ｙは０〜１２の数であり、ｎは２〜１０の数であり、ｚは１〜５の数であり、（ｘｚ）＋ｙの合計はｎ＋２に等しい）
からなる群から選択される、請求項７記載の非ハロゲン難燃化樹脂成形用組成物。
【請求項９】  前記ホウ素含有成分が重合体組成物のホウ素含有量が原子ホウ素換算で０．０２〜５重量％、好ましくは０．２〜１重量％となるような量で存在する、請求項１乃至請求項８のいずれか１項記載の非ハロゲン難燃化樹脂成形用組成物。
【請求項１０】  前記ホウ素含有化合物がホウ酸、ホウ酸金属塩、リン酸ホウ素、過ホウ酸塩である、請求項１乃至請求項９のいずれか１項記載の非ハロゲン難燃化樹脂成形用組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月11日(2004.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明に使用される(Ｂ)成分のシリカ微粉末は、補強性充填剤であり、本発明組成物を硬化させて得られるシリコーンゴムに機械的強度を付与するために必要とされる成分である。このようなシリカ微粉末としてはヒュームドシリカ等の乾式法シリカ、沈殿シリカ、シリカアエロゲルが挙げられる。これらの中でも、ヒユームドシリカが好ましい。このようなシリカ微粉末は、平均粒子径が５０μm以下であり、比表面積が５０ｍ2／ｇ以上であることが好ましい。さらにこれらの表面がオルガノシラン、オルガノシラザン、オルガノシロキサンオリゴマー等の有機ケイ素化合物で疎水化された微粉末状シリカが好ましい。本成分の配合量は、(Ａ)成分１００重量部に対し１〜１００重量部であり、好ましくは１０〜６０重量部である。これは本成分の配合量が少なすぎると高い機械的強度が得られず、逆に多すぎると(Ａ)成分への配合が困難になるためである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に使用される(Ｃ)成分のアナターゼ型酸化チタン微粉末は本発明組成物を硬化させて得られるシリコーンゴムに耐汚染性を付与するために必須とされる成分であり、その平均粒子径が０.２μｍ以下であることが好ましい。このようなアナターゼ型酸化チタン微粉末は市販されており、市場から容易に入手できる。本成分の配合量は、(Ａ)成分１００重量部に対し０.１〜４重量部であり、好ましくは０.５〜４重量部である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明組成物に使用される(Ｄ)成分の硬化剤は、本発明組成物を硬化させるためのものである。本成分の代表例としては有機過酸化物がある。このような有機過酸化物としては、ベンゾイルパーオキサイド、ビス(オルソ―メチルベンゾイルパーオキサイド)、ビス(メタ―メチルベンゾイルパーオキサイド)、ビス(パラ―メチルベンゾイルパーオキサイド)、２,３,―ジメルベンゾイルパーオキサイド、２,４,―ジメチルベンゾイルパーオキサイド、２,６−ジメチルベンゾイルパーオキサイド、２,３,４−トリメチルベンゾイルパーオキサイド、２,４,６―トリメチルべンゾイルパーオキサイド等のメチル基置換ベンゾイルパーオキサイド； ｔ−ブチルパーベンゾエイト、ジクミルパーオキサイド、２,５−ジメチル−２,５−ジ(ｔ−ブチルパーオキシ)ヘキサン等が例示される。このような有機過酸化物の配合量は、(Ａ)成分１００重量部に対し１〜１０重量部である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
【実施例２】
ジメチルシロキサン単位９９.８７モル％とメチルビニルシロキサン単位０.１３モル％からなる、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体生ゴム(重合度５,０００)１００部と、比表面積２００ｍ2／ｇのヒュームドシリカ３０部(日本アエロジル株式会社製、商品名：アエロジル２００)、可塑剤として粘度３０センチポイズの両末端シラノール基封鎖ジメチルポリシロキサンオリゴマー６部をニーダーミキサーに投入して均一に混合した後、１７０℃で１時間加熱処理してシリコーンゴムベースコンパウンドを得た。このベースコンパウンド１００部に、２本ロール上で、平均粒子径０.１５μmのアナターゼ型酸化チタン［石原産業株式会社製、商品名：タイペークＡ１００］２部と分子鎖両末端がトリメチルシロキシ基で封鎖されたジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体(ケイ素原子結合水素原子含有量０.７重量％)１.０部、ヒドロシリレーション反応用触媒として塩化白金酸の３重量％イソプロピルアルコール溶液を白金金属量として１０ppmとなる量加えて均一に混合してシリコーンゴム組成物を調製した。
このシリコーンゴム組成物から実施例１と同様にしてシリコーンゴムパッキンを作成してその汚染性を測定した。その結果を表２に示した。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
【実施例３】
ジメチルシロキサン単位９９.８７モル％とメチルビニルシロキサン単位０.１３モル％からなる、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体生ゴム(重合度５,０００)１００部と、比表面積２００ｍ2／ｇのヒュームドシリカ３０部［日本アエロジル株式会社製、商品名：アエロジル２００］、可塑剤として粘度３０センチポイズの両末端シラノール基封鎖ジメチルポリシロキサンオリゴマー６部をニーダーミキサーに投入して均一に混合した後、１７０℃で１時間加熱処理してシリコーンゴムベースコンパウンドを得た。このベースコンパウンド１００部に、２本ロール上で、平均粒子径約０.１５μmのアナターゼ型酸化チタン微粉末[石原産業株式会社製、商品名：タイペークＡ１００]２部と２,５−ジメチル−２,５−ジ(ｔブチルパーオキシ)ヘキサンの５０％シリコーンオイルマスターバッチを０.８部添加、均一に混合してシリコーンゴム組成物とした。次いで、上記で得られたシリコーンゴム組成物をシート成形用金型に充填して、１０分／１７０℃の条件下でプレス成形して、厚さ２ｍｍのシリコーンゴムシートを成型した。このシートを、幅５mm、長さ１０cmの長方形短冊状に切断してシリコーンゴムパッキン試験片を作成した。この試験片の汚染性を実施例１と同様に評価した。その結果を表２に示した。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月24日(2004.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
［比較例１］
ロスミキサーにより、粘度が４０,０００センチポイズであり、式：
【化３】
1999158383.tif 000001
で表される分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体（ビニル基の含有量＝０.５重量％）１００重量部、および平均粒子径が５μｍである粉砕石英微粉末１４０重量部を均一に混合した後、これに粘度が１０センチポイズであり、式：
【化４】
1999158383.tif 000002
で表される分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン（ケイ素原子結合水素原子の含有量＝０.１６重量％）７重量部（上記のジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体中のビニル基１モルに対して、このジメチルポリシロキサン中のケイ素原子結合水素原子が０.６５モルとなる量）、および塩化白金酸のイソプロピルアルコール溶液（白金金属の含有量＝１重量％）０.５重量部を均一に混合して熱伝導性シリコーンゴム組成物を調製した。
この熱伝導性シリコーンゴム組成物を硬化させて得られたシリコーンゴムの硬度(ＪＩＳ  Ａ)は３５であり、熱伝導率は１.６×１０-3cal/cm・sec・℃、反ぱつ弾性は６０％であり、また、圧縮永久ひずみは８％であった。
この熱伝導性シリコーンゴム組成物を用いてフッ素樹脂被覆定着ロールを作成した。この定着ロールを電子写真複写機に装着してＡ４サイズの複写紙を１５万枚連続複写したところ、１０万枚目以降、紙しわや紙づまりが発生した。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月19日(2005.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の成分：
（ａ）５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン、２−メチル−３−イソチアゾロン、５−クロロ−２−エチル−３−イソチアゾロン、２−エチル−３−イソチアゾロン、４，５−ジクロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン、およびこれらの混合物からなる群から選択される３−イソチアゾロン化合物、０．５〜５重量％；
（ｂ）銅塩の形態の第２銅イオン、２〜５００ｐｐｍ；
（ｃ）塩素酸塩、過塩素酸塩、ヨウ素酸、ヨウ素酸塩、過ヨウ素酸および過ヨウ素酸塩からなる群から選択される酸化剤、０．０１から１０重量％；及び
（ｄ）水；
を含み、第２銅イオンと酸化剤との重量比が１：３５またはそれ以上である、
殺微生物化合物の安定な希薄溶液組成物。
【請求項２】
３−イソチアゾロン化合物の量が、組成物の重量を基準として１〜２重量％の量である請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
銅塩が、硫酸銅、酢酸銅、塩化銅、臭化銅、塩素酸銅、過塩素酸銅、亜硝酸銅、および硝酸銅からなる群から選択される、請求項１記載の組成物。
【請求項４】
酸化剤が、塩素酸ナトリウム、塩素酸カリウム、過塩素酸ナトリウム、および過塩素酸カリウムからなる群から選択される、請求項１記載の組成物。
【請求項５】
第２銅イオンと酸化剤との重量比が１：３５から１：３００である、請求項１記載の組成物。
【請求項６】
組成物の重量を基準として０．０１から１０重量％の、塩素酸塩、過塩素酸塩、ヨウ素酸、ヨウ素酸塩、過ヨウ素酸および過ヨウ素酸塩からなる群から選択される酸化剤を、組成物の重量を基準として０．５〜５重量％の、５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン、２−メチル−３−イソチアゾロン、５−クロロ−２−エチル−３−イソチアゾロン、２−エチル−３−イソチアゾロン、４，５−ジクロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン、およびこれらの混合物からなる群から選択される３−イソチアゾロン化合物；銅塩の形態の第２銅イオン２から５００ｐｐｍ；および水を含む、安定化された３−イソチアゾロン組成物に加える工程を含み、ここで、第２銅イオンと酸化剤との重量比が１：３５またはそれ以上である、殺微生物剤組成物中における沈殿の形成を防止する方法。
【請求項７】
銅塩が、硫酸銅、酢酸銅、塩化銅、臭化銅、塩素酸銅、過塩素酸銅、亜硝酸銅、および硝酸銅からなる群から選択される、請求項６記載の方法。
【請求項８】
酸化剤が、塩素酸ナトリウム、塩素酸カリウム、過塩素酸ナトリウム、および過塩素酸カリウムからなる群から選択される、請求項６記載の方法。
【請求項９】
請求項１に記載の組成物を対象に導入することを含む、対象における微生物の成長を制御又は抑制する方法。
【請求項１０】
対象が、冷却塔、空気洗浄機、ボイラー、鉱物スラリー、排水処理装置、装飾用泉、逆浸透濾過装置、限外濾過装置、バラスト水、蒸発凝縮器、熱交換器、パルプ及び紙処理流体、プラスチック、エマルジョン及び分散液、ペイント、ラテックス、被覆剤、及び金属作動流体からなる群から選択される請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月19日(2005.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の成分：
（ａ）組成物の重量を基準として５〜３５重量％の水溶性３−イソチアゾロン；
（ｂ）組成物の重量を基準として０．２〜２０重量％の、塩素酸塩または過塩素酸塩；
（ｃ）組成物の重量を基準として０．０１〜３重量％の、銅塩の形態の第２銅イオン；及び
（ｄ）水；
を含み、（ｂ）と（ｃ）との重量比が６：１〜２００：１であり、組成物が沈殿物を含まない、安定な殺微生物剤組成物。
【請求項２】
３−イソチアゾロンが、５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン、２−メチル−３−イソチアゾロン、２−エチル−３−イソチアゾロン、５−クロロ−２−エチル−３−イソチアゾロン、４，５−ジクロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン、及びこれらの混合物からなる群から選択される請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
塩素酸塩または過塩素酸塩が、塩素酸ナトリウム、塩素酸カリウム、過塩素酸ナトリウム、および過塩素酸カリウムからなる群から選択される、請求項１記載の組成物。
【請求項４】
銅塩が、硫酸銅、酢酸銅、塩化銅、臭化銅、塩素酸銅、過塩素酸銅、亜硝酸銅、および硝酸銅からなる群から選択される、請求項１記載の組成物。
【請求項５】
３−イソチアゾロンが、５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン、２−メチル−３−イソチアゾロン、及びこれらの混合物からなる群から選択される請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
組成物の重量を基準として０．２〜２０重量％の、塩素酸塩または過塩素酸塩；および組成物の重量を基準として０．０１〜３重量％の銅塩の形態の第２銅イオンを、組成物の重量を基準として５〜３５重量％の水溶性３−イソチアゾロン化合物および水を含む３−イソチアゾロン組成物に加える工程を含み、ここで、塩素酸塩または過塩素酸塩と銅塩との重量比は６：１〜２００：１である、殺微生物剤組成物の安定化方法。
【請求項７】
銅塩が、硫酸銅、酢酸銅、塩化銅、臭化銅、塩素酸銅、過塩素酸銅、亜硝酸銅、および硝酸銅からなる群から選択される、請求項６記載の方法。
【請求項８】
酸化剤が、塩素酸ナトリウム、塩素酸カリウム、過塩素酸ナトリウム、および過塩素酸カリウムからなる群から選択される、請求項６記載の方法。
【請求項９】
請求項１に記載の組成物を対象に導入することを含む、対象における微生物の成長を制御又は抑制する方法。
【請求項１０】
対象が、冷却塔、空気洗浄機、ボイラー、鉱物スラリー、排水処理装置、装飾用泉、逆浸透濾過装置、限外濾過装置、バラスト水、蒸発凝縮器、熱交換器、パルプ及び紙処理流体、プラスチック、エマルジョン及び分散液、ペイント、ラテックス、被覆剤、及び金属作動流体からなる群から選択される請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月23日(2004.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【書類名】      明細書
【発明の名称】  排水装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】  排水用配管を備えた止水ゲートを昇降摺動により開閉自在に支持する水門が設置されている水路から上記止水ゲートの閉鎖状態のままで上記排水用配管内を通して排水する装置であって、ポンプをその吐出口が上記排水用配管に接続されるように上記止水ゲートに離脱可能に取り付けるようにしたことを特徴とする排水装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば灌漑用や止水用水門に昇降摺動により開閉自在に支持させた止水ゲートよりも上流の水路から河川などに向けて上記ゲートの閉鎖状態で強制排水を行なう排水装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
緊急時に止水ゲートより上流の水路から河川などに向けて強制排水する方法として、従来では、止水ゲート自体に排水用ポンプを固定的に取り付けておき、緊急時にはそのポンプを駆動させて強制排水する方法が採用されていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
上記した従来の緊急強制排水方法では、止水ゲート自体に排水用ポンプを取り付けるために、ポンプの点検や保守にも多大な人手と費用がかかるという問題があった。
【０００４】
本発明は上記実情に鑑みてなされたもので、点検や保守を容易に行なえる排水装置を提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１に記載の発明に係る排水装置は、排水用配管を備えた止水ゲートを昇降摺動により開閉自在に支持する水門が設置されている水路から上記止水ゲートの閉鎖状態のままで上記排水用配管内を通して排水する装置であって、ポンプをその吐出口が上記排水用配管に接続されるように上記止水ゲートに離脱可能に取り付けるようにしたことを特徴とするものである。
【０００６】
上記請求項１に記載の発明によれば、止水ゲート側にポンプを固定的に取り付ける必要がなく、ポンプに対する点検や保守が容易に行なえる。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面にもとづいて説明する。
図１は本発明に係る排水が実施される止水ゲートを設置した水門付近の概略平面図、図２は要部の拡大縦断側面図であり、水路１の両側に立設した水門柱２と水路１の床に横設した床材３とにより形成された水門４における両側戸当り４ａに止水ゲート５の左右両側縁を係合させて該止水ゲート５が昇降摺動開閉自在に支持されている。この止水ゲート５の左右両側部には、その一端部１０ａがゲート５上流側の水路１に開口するとともに、他端部１０ｂが堤防７下に形成されて河川８などに連なる下流側放水路６に向けて開口し、かつ、その下流側開口部に上記放水路６の水位が一定以上のとき、下流側水圧を受けて閉鎖維持されるフラップ式逆止弁９を枢着してなる排水用配管１０が取り付けられている。
【０００８】
上記止水ゲート５の幅方向中央部から上方へ向けてはゲート昇降用スピンドル１１が延出されており、このスピンドル１１の上端部で水路１の上方部に設けたコンクリートスラブ１２上には、上記スピンドル１１に螺合するウォームギヤ（図示省略する）を正逆駆動回転させるモータおよび手動ハンドルからなるゲート開閉機構１３が固定設置されている。また、上記コンクリートスラブ１２には水中ポンプ１５をクレーン（図示省略する）を使って下降させるときの案内孔１６が上下に貫通して形成されている。
【０００９】
次に、大量の降雨などによって水路１の水嵩が異常に高くなり、この水路１から河川８等に向けて緊急強制排水が必要になったときの強制排水について説明する。図１に示すように、水中ポンプ１５をクレーンを使用してコンクリートスラブ１２の上方へ移行させた上、案内孔１６を通して止水ゲート５の上流位置にまで下降させる。この下降位置において、ポンプ１５の吐出口１５ａに設けたフランジ１５ｂと上記止水ゲート５に取り付けられている排水用配管１０の一端開口部１０ａに設けたフランジ１０ｃとをフランジ１５ｂに設置されている図２に示すような着脱式ガイド金具１８を介して離脱可能に固定連結することにより該水中ポンプ１５の吐出口１５ａと上記排水用配管１０とを接続する。
【００１０】
しかる後、上記水中ポンプ１５を駆動させることにより、止水ゲート５の上流から下流にかけての長い距離に亘って排水ホースを布設するといった人手作業を要することなく、止水ゲート５の閉鎖状態のままで水路１内の水を水中ポンプ１５により吸い込み、かつ、吐出して排水用配管１０を経て放水路６から河川８等に強制排水させることが可能である。そして、緊急強制排水の終了後は上記着脱式ガイド金具１８による両フランジ１５ｂ，１０ｃの固定連結を解除したうえ、クレーンを使って上記水中ポンプ１５を上記案内孔１６を通してコンクリートスラブ１２の上方まで上昇させればよい。止水ゲート５側に固定的にポンプを装備する場合に比べて水中ポンプ１５に対する点検や保守を容易に行なうことが可能である。
【００１１】
また、上記着脱式ガイド金具１８は図２に示した形状、形式のものに限らず、フランジ同士を固定連結できるものであればどのような形状、形式のものであってもよい。
【００１２】
【発明の効果】
以上のように、請求項１に記載の発明によれば、止水ゲート側にはポンプを固定的に取り付ける必要がなく、ポンプに対する点検や保守を容易に行なうことができる、という効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明に係る排水が実施される止水ゲートを設置した水門付近の概略平面図である。
【図２】
同上水門付近で排水の準備が完了した状態の要部の拡大縦断側面図である。
【符号の説明】
１  水路
４  水門
５  止水ゲート
１０  排水用配管
１５  水中ポンプ
１８  着脱式ガイド金具
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
1999158831.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月17日(2004.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ごみを熱分解して熱分解ガスを生成するとともに残渣を排出する熱分解炉（１）と、該熱分解炉に接続され残渣が炭素源として供給される高炉（２）とを具備することを特徴とするごみ熱分解−製鉄複合設備。
【請求項２】
熱分解炉（１）に接続状態に配され、残渣に混入している金属分を除去するための脱金属処理手段（１２）を具備することを特徴とする請求項１記載のごみ熱分解−製鉄複合設備。
【請求項３】
脱金属処理手段（１２）と高炉（２）との間に、金属分を除去した残渣を粉砕した状態として高炉の羽口（２ａ）に送り込むための粉砕手段（１３）が配されることを特徴とする請求項２記載のごみ熱分解−製鉄複合設備。
【請求項４】
熱分解炉（１）に接続状態に配され、ごみを熱分解して得られた可燃性の熱分解ガスを燃焼させて、その熱により高炉（２）に供給する空気を加熱するための熱風炉（１４）を具備することを特徴とする請求項１、２または３記載のごみ熱分解−製鉄複合設備。
【請求項５】
熱分解炉（１）においてごみを熱分解して得られた残渣を、空気とともに羽口（２ａ）から高炉（２）の中に送り込んで燃焼させ、高炉で生成されるスラグに、残渣分のスラグを混合して高炉から取り出すことを特徴とする残渣の処理方法。
【請求項６】
熱分解炉（１）から排出される残渣中に混入している金属分を除去してから高炉に送り込むことを特徴とする請求項５記載の残渣の処理方法。
【請求項７】
金属分を除去した残渣を、粉砕してから高炉（２）に送り込むことを特徴とする請求項６記載の残渣の処理方法。
【請求項８】
熱分解炉（１）においてごみを熱分解して得られた可燃性の熱分解ガスを燃焼させて、その燃焼ガスにより空気を加熱して高炉（２）に供給することを特徴とする請求項５、６または７記載の残渣の処理方法。
【請求項９】
熱分解炉から排出された残渣から塩化物を除去する脱塩素処理系を有することを特徴とする請求項１、２、３または４記載のごみ熱分解−製鉄複合設備。
【請求項１０】
熱分解炉（１）から排出される残渣から塩化物を除去することを特徴とする請求項５、６、７または８記載の残渣の処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
そして、熱分解炉１には、図１に示すように、ごみの分解処理によって得られる固形分，熱分解ガス分及び塩化物をそれぞれ処理するための脱金属処理手段１２，粉砕手段１３，熱風炉１４，オフガス処理系１５等が接続される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
前記脱塩素処理系１６は、ごみの熱分解によって生成された塩化物を、残渣及び熱分解ガスから除去するものであり、図１に示すように熱分解ガスの処理経路及び残渣の処理経路にそれぞれ設けられている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
1999158516.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月14日(2005.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記憶媒体と、
前記記憶媒体におけるナノメートルスケールの記憶領域と、
前記記憶領域に近接して配置された一次エネルギー源と、及び
前記記憶領域の近くに配置された二次エネルギー源とを含む、超高密度データ記憶デバイス。
【請求項２】
前記記憶媒体が、半導体、ダイオード、及び蛍光体材料を備えたフォトダイオードのうちの少なくとも１つからなる、請求項１に記載の超高密度データ記憶デバイス。
【請求項３】
前記一次エネルギー源が、ＡＦＭプローブ先端構造体、スピント電子放出器、及びフラット電子放出器のうちの少なくとも１つからなる、請求項１に記載の超高密度データ記憶デバイス。
【請求項４】
前記一次エネルギー源がシリコンからなる、請求項１に記載の超高密度データ記憶デバイス。
【請求項５】
前記一次エネルギー源が前記記憶媒体と直に接触する、請求項１に記載の超高密度データ記憶デバイス。
【請求項６】
前記二次エネルギー源が、抵抗性エレメント、光源、及び熱源のうちの少なくとも１つからなる、請求項１に記載の超高密度データ記憶デバイス。
【請求項７】
前記二次エネルギー源が、前記記憶媒体と接触して配置された抵抗性エレメントからなる、請求項６に記載の超高密度データ記憶デバイス。
【請求項８】
前記熱源が加熱ランプからなる、請求項６に記載の超高密度データ記憶デバイス。
【請求項９】
ナノメートルスケールの記憶領域を有する記憶媒体を準備するステップと、
前記記憶媒体を局所的に付勢することにより、前記記憶媒体から読出しを行うステップと、及び
前記記憶媒体の広範囲に及ぶ領域にエネルギーを供給することにより前記記憶媒体に書込みを行うステップとからなる、データを格納し、及び読出す方法。
【請求項１０】
前記記憶媒体を準備するステップが、半導体、ダイオード、及び蛍光体材料を備えたフォトダイオードのうちの少なくとも１つを準備することを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記書込みを行うステップが、エネルギーを供給するために、抵抗性エレメントと、光源と、熱源とのうちの少なくとも１つを用いることを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記書込みを行うステップが、前記熱源として加熱ランプを設けることを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記書込みを行うステップが、前記記憶媒体と直に接触する抵抗性エレメントを設けることを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記読出しを行うステップが、ＡＦＭプローブ先端構造体、スピント放出器、及びフラット放出器のうちの少なくとも１つを設けることを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１５】
前記読出しを行うステップが、シリコン製の一次エネルギー源を設けることを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１６】
前記書込みを行うステップが、１つの記憶領域を局所的に付勢することを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１７】
前記読出しを行うステップが、前記記憶媒体に非常に接近して一次エネルギー源を設けることを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１８】
前記読出しを行うステップが、前記記憶媒体と直に接触する一次エネルギー源を設けることを含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記書込みを行うステップが、前記記憶媒体の近くに二次エネルギー源を設けることを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項２０】
前記書込みを行うステップが、変更されていない記憶領域から変更された記憶領域に記憶領域を変化させることを含む、請求項９に記載の方法。