Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月23日(2005.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
４−２０ｍＡプロセス制御ループに結合可能な二つの端子を有するフィールド装置であって、
４−２０ｍＡプロセス制御ループから供給電流を取り出す電子機器装置と、
前記電子機器装置により消費される供給電流に関連するパラメータを測定するのに適した供給電流測定回路と、
複数の測定された供給電流パラメータに関わるデータを受信し蓄積するメモリ構体と、
前記複数の供給電流パラメータに基づいて電子機器装置の寿命を計算するために、前記メモリ構体に接続された予測エンジンとからなるフィールド装置。
【請求項２】
前記フィールド装置がプロセス制御送信機である請求項１に記載のフィールド装置。
【請求項３】
前記フィールド装置がバルブである請求項１に記載のフィールド装置。
【請求項４】
前記予測エンジンが複数の蓄積供給電流パラメータに近似する線形曲線を適用する請求項１に記載のフィールド装置。
【請求項５】
前記予測エンジンが複数の蓄積供給電流パラメータに近似する非線形曲線を適用する請求項１に記載のフィールド装置。
【請求項６】
前記メモリ構体がアレーである請求項１に記載のフィールド装置。
【請求項７】
前記メモリ構体が複数のアレーからなり、第１アレーは複数の連続する測定供給電流に関わるデータを蓄積し、第２アレーは該第１アレーの測定時間に関わるデータを蓄積する請求項１に記載のフィールド装置。
【請求項８】
前記予測エンジンは寿命予測の計算のために、神経回路網分析を使用する請求項１に記載のフィールド装置。
【請求項９】
前記予測エンジンは寿命予測の計算のために、ファジー論理を使用する請求項１に記載のフィールド装置。
【請求項１０】
フィールド装置中の電子機器ボードの寿命を予測する方法であって、
電気機器供給電流に関わる複数のパラメータを連続的に測定し、
数学モデルを連続的に測定される供給電流パラメータに適用し、
供給電流がある選択された閾値に到達すると予想される未来時間を計算する方法。
【請求項１１】
前記未来時間の計算が神経回路網分析を用いて行われる請求項１０の方法。
【請求項１２】
前記未来時間の計算がファジー論理を用いて行われる請求項１０の方法。
【請求項１３】
４−２０ｍＡプロセス制御ループに接続されるフィールド装置であって、
電子機器装置、
４−２０ｍＡプロセス制御ループに接続できる供給電流測定回路、
および、複数の連続する供給電流測定に基づいて、電子機器ボードの残余の寿命を予測する手段とからなるフィールド装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
図３は、本発明の実施形態を実現するのに便利なデータ構造を示す。特に、長さＮの一対のアレーが示されている。診断の間、供給電流に関わるパラメータまたは供給電流そのものがサンプリングされ、アレー１００中にＩＱ値として蓄積される。このプロセスは、アレー１００が予め定められた数（Ｎ）のＩＱ値で一杯になるまで周期的に繰り返される。概念的には、この一組のＩＱ値はアレーであるが、数個のフォーマットにモデル化および／または蓄積されることができる。同様のアレーＴは各ＩＱ値がサンプリングされる時間に相当する。これらの値は、好ましくは不揮発性メモリに蓄積される。一度両方のメモリが一杯になると、アレーの内容は、マイクロプロセッサ上で走っているソフトウェア内に含まれている予測エンジンに送られる。この予測エンジンは、アレー（Ｔ）で表される時間に対するＩＱ値のサンプルに適合する曲線を提供し、連続する時間の式ＩＱ（ｔ）に対する係数を生成する。もし、ＩＱに対する上限が例えば４ｍＡに設定されているなら、予測エンジンは、ＩＱ＝ＩＱＭＡＸになるまで絶対時間（ＴＡＢＳ-ＬＩＦＥ）を計算するためにＩＱ（ｔ）の係数を使用する。ＴＡＢＳ-ＬＩＦＥは時間の初期値Ｔ０（Ｔ［１］）から参照されるので、実際の残余時間は、ＴＡＢＳ-ＬＩＦＥとｔ［Ｎ］からの差となる。この時間は電子機器ボードの寿命とみなされる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
図５は、電子機器ボードの寿命予測の計算を示す図である。任意の値Ｎ（一例として、１０）に対しては、アレーＩＱとＴは、ｔ＝Ｔ９で一杯になってしまうであろう（図３参照）。この時、予測エンジンは次のように計算するであろう。
Ｉｑ（ｔ）→ｔ（Ｉｑ）
ＴＡＢＳ-ＬＩＦＥ＝ｔ（Ｉｑ−ｍａｘ）                                   式１
ＴＡＢＳ-ＬＩＦＥ＝ｔ（Ｉｑ−ｍａｘ）−ｔ［Ｎ］                          式２
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
この実施形態では、予測エンジンはＩＱ（ｔ）を表すために近似線形直線を選択し、ＴＥＢ-ＬＩＦＥの計算は図５に示されているようにして行われる。当業者はアレー中に含まれるデータ点または他のデータ構造を予測診断出力に相関させる複数の方法があり、またこのような方法が研究されていることを認識するであろう。例えば、非線形関係もまた使用されることができる。さらに、神経回路網分析技術および／またはファジー論理関係が、測定された供給電流パラメータを電子機器ボードの残余の寿命のような診断出力に関係づけるために使用されることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月18日(2003.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
大容量のデータを保持するための不揮発性電気メモリ（２）と、
暗号オペレーションを実行するのに適したマイクロコントローラ（３）であって、該メモリ（２）へのアクセスが該マイクロコントローラ（３）を介してのみ可能である、マイクロコントローラと
を有するデータメディアであって、該データメディアは、
該メモリ（２）が、１Ｍバイトより大きいメモリ容量を有し、かつ、データが該メモリ（２）内に保存される前に、該マイクロコントローラ（３）を利用して、ユーザが、データソースに対する権限を与えられることを特徴とするデータメディア。
【請求項２】
前記データメディア（１）が置き換え可能なデータメディアであることを特徴とする、請求項１に記載のデータメディア。
【請求項３】
前記データメディアがチップカードの形式であることを特徴とする、請求項１または２に記載のデータメディア。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月17日(2005.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
プリズムのアレイは、-1度から-15度の間の角度に傾いている、請求項9記載のシート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
プリズムのアレイは、1度から15度の間の角度に傾いている、請求項11記載のシート。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２２】
-1度から-15度の間の角度に傾いている、請求項21記載のプリズム。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２４】
1度から15度の間の角度に傾いている、請求項23記載のプリズム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月5日(2005.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体と；
前記基体の表面をコーティングする感熱画像形成性組成物とを備え；前記感熱画像形成性組成物は、疎水性ポリマーバックボーンおよび式：
−Ｑ−Ｗ−Ｙ
（式中、Ｑは二官能連結基であり；
Ｗは親水性セグメントおよび疎水性セグメントからなる群から選択され；
Ｙは親水性セグメントおよび疎水性セグメントからなる群から選択され、
ただし、Ｗが親水性セグメントである場合、Ｙは親水性セグメントおよび疎水性セグメントからなる群から選択され、さらに、Ｗが疎水性である場合、Ｙは親水性セグメントである）
で表される複数のペンダント基を有するグラフトコポリマーを含有する、画像形成性エレメント。
【請求項２】
基体と、
前記基体の表面をコーティングする感熱画像形成性組成物とを含有し、前記感熱画像形成性組成物は、式：
【化１】
2004525420.tif 000001
（式中、Ｒ１およびＲ２の各々は、独立して、Ｈ、アルキル、アリール、アラルキル、アルカリール、ＣＯＯＲ５、Ｒ６ＣＯ、ハロゲン、及びシアノからなる群から選択され；
Ｑは、
【化２】
2004525420.tif 000002
（式中、Ｒ３はＨおよびアルキルからなる群から選択され；Ｒ４はＨ、アルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アシル、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される）
からなる群から選択され；
Ｗは親水性セグメントおよび疎水性セグメントからなる群から選択され；
Ｙは親水性セグメントおよび疎水性セグメントからなる群から選択され；
Ｚは、Ｈ、アルキル、ハロゲン、シアノ、アシルオキシ、アルコキシ、アルコキシカルボニル、ヒドロキシアルキルオキシカルボニル、アシル、アミノカルボニル、アリール、および置換アリールからなる群から選択され；
ｊは少なくとも１であり；
ｋは少なくとも１であり；及び
ｍは少なくとも２であり、
ただし、Ｗが親水性セグメントである場合、Ｙは親水性セグメントおよび疎水性セグメントからなる群から選択され、さらに、Ｗが疎水性である場合、Ｙは親水性セグメントである）
で表される繰り返し単位を含むグラフトコポリマーを含有する、画像形成性エレメント。
【請求項３】
基体と；前記基体の表面をコーティングする感熱画像形成性組成物とを備え；前記グラフトコポリマーは、疎水性ポリマーバックボーンおよび式：
−Ｑ−Ｗ−Ｙ
（式中、Ｑは二官能連結基であり；Ｗは親水性セグメントおよび疎水性セグメントからなる群から選択され；Ｙは親水性セグメントおよび疎水性セグメントからなる群から選択され；ただし、Ｗが親水性セグメントである場合、Ｙは親水性セグメントおよび疎水性セグメントからなる群から選択され、さらに、Ｗが疎水性である場合、Ｙは親水性セグメントである）
で表される複数のペンダント基を有するグラフトコポリマーを含有する、画像形成性エレメントを提供する工程と；
前記画像形成性エレメントを熱放射に画像様露光させて、露光領域および非露光領域を形成する工程と；
前記画像様露光した画像形成性エレメントと現像剤を接触させて、前記非露光領域を除去し、これによって画像形成されたエレメントを製造する工程とを含む、画像形成されたエレメントの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月7日(2004.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  次の式（Ｉ）
【化１】
2004525091.tif 000001
（式中、ＲFは（Ｃ1−Ｃ4）−ハロアルキルである）
の４−ハロアルキルニコチノニトリルの製造方法であって、
ａ）３−アミノ−１−ハロアルキル−２−プロペン−１−オン、
ＲF−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨ2    （II）
を次の式（III）から（VII）の化合物と縮合反応で反応させ、
（Ｒ1Ｚ）ＣＨ＝ＣＨ−ＣＮ          （III）
（Ｒ1Ｚ)2ＣＨ−ＣＨ2−ＣＮ          （IV）
Ｈａｌ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＮ            （Ｖ）
Ｈａｌ2ＣＨ−ＣＨ2ＣＮ             （VI）
ＨＣ≡Ｃ−ＣＮ                      （VII）
（式中、Ｒ1はアルキルであり、ＨａｌはＣｌまたはＢｒであり、さらにＺはＯ、Ｓ、ＮＲ1またはＯＣＯであり、式（IV）の場合は２つのラジカルＺはそれぞれ別個に上記の意味を有することができる）
次の式（VIII）、（IX）および／または（Ｘ）の化合物を生成させ、
ＲF−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＮ      （VIII）
ＲF−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨ−ＣＨ（ＺＲ1）−ＣＨ2−ＣＮ  （IX）
ＲF−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨ−ＣＨ（Ｈａｌ）−ＣＨ2−ＣＮ  （Ｘ）
（式中、Ｒ1、ＺおよびＨａｌは上記で示した意味を有する）
そして、この反応生成物を、
ｂ）閉環反応に付す、
上記４−ハロアルキルニコチノニトリルの製造方法。
【請求項２】  式（II）の化合物を減圧下で式（III）および／または（IV）の化合物と反応させる請求項１に記載の方法。
【請求項３】  次の式（XI）
【化２】
2004525091.tif 000002
（式中、ＲFは（Ｃ1−Ｃ4）−ハロアルキルである）
の４−ハロアルキルニコチンアミドの製造方法であって、
ａ）３−アミノ−１−ハロアルキル−２−プロペン−１−オン、
ＲF−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨ2    （II）
を次の式（III）から（VII）の化合物と縮合反応で反応させ、
（Ｒ1Ｚ）ＣＨ＝ＣＨ−ＣＮ          （III）
（Ｒ1Ｚ)2ＣＨ−ＣＨ2−ＣＮ         （IV）
Ｈａｌ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＮ            （Ｖ）
Ｈａｌ2ＣＨ−ＣＨ2ＣＮ             （VI）
ＨＣ≡Ｃ−ＣＮ                      （VII）
（式中、Ｒ1はアルキルであり、ＨａｌはＣｌまたはＢｒであり、ＺはＯ、Ｓ、ＮＲ1またはＯＣＯであり、式（IV）の場合は２つのラジカルＺはそれぞれ別個に上記の意味を有することができる）、
次の式（VIII）、（IX）および／または（Ｘ）の化合物を生成し、
ＲF−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＮ            （VIII）
ＲF−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨ−ＣＨ（ＺＲ1）−ＣＨ2−ＣＮ    （IX）
ＲF−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨ−ＣＨ（Ｈａｌ）−ＣＨ2−ＣＮ  （Ｘ）
（式中、Ｒ1、ＺおよびＨａｌは上述のとおりである）、
そして、この反応生成物を、
ｂ）環化反応に付し、そして
ｃ）得られた次の式（Ｉ）
【化３】
2004525091.tif 000003
の４−ハロアルキルニコチノニトリルを加水分解する、
上記４−ハロアルキルニコチンアミドの製造方法。
【請求項４】  次の式（VIII）、（IX）または（Ｘ）の化合物。
ＲF−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＮ            （VIII）
ＲF−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨ−ＣＨ（ＺＲ1）−ＣＨ2−ＣＮ    （IX）
ＲF−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨ−ＣＨ（Ｈａｌ）−ＣＨ2−ＣＮ  （Ｘ）
（式中、ＲFは（Ｃ1−Ｃ4）−ハロアルキルであり、Ｒ1はアルキル基であり、ＺはＯ、ＳまたはＯＣＯ（アルキル）であり、そしてＨａｌはＣｌまたはＢｒである）
【請求項５】  次の式（XV）、（XVI）または（XVII）の中間体化合物。
【化４】
2004525091.tif 000004
（式中、ＲFは（Ｃ1−Ｃ4）−ハロアルキルであり、Ｒ1は（Ｃ1−Ｃ6）−アルキルであり、ＭはＨまたは一価の陽イオンである）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明にしたがえば、化合物（II）を式（III）から（VII）の１つまたはそれ以上の化合物と縮合反応で反応させて、化合物（VIII）、（IX）および／または（Ｘ）が生成される。
化合物（II）と式（III）から（VII）の１つまたはそれ以上の化合物との縮合反応、およびそれに続く閉環反応は下記の反応工程図に示される：
【化８】
2004525091.tif 000005
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
例示として、第二の成分として化合物（IV）を用いる下記の反応を説明する：
【化９】
2004525091.tif 000006
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
それに対応して、化合物（IX）は下記の互変異性体を有する：
【化１１】
2004525091.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月17日(2004.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
雌における膣炎および／または細菌性膣症を予防、抑制、または治療するための薬剤を製造するためのポリスチレンスルホネート組成物の使用であって、該薬剤は、雌の膣に投与した際に、トリコモナス、ガードネレラ、または他の膣炎／膣症を引き起こす細菌を抑制するのに十分な、有効量の該ポリスチレンスルホネート組成物を含むことを特徴とする使用。
【請求項２】
ポリスチレンスルホネート組成物が、ｐＨ約３．５から約７．５に緩衝した水性基剤中のポリスチレンスルホネートを含むことを特徴とする請求項１に記載の使用。
【請求項３】
ポリスチレンスルホネート組成物が、分子量約１００，０００ｇ／モルより大きいポリスチレンスルホネートを約１０から約２５０ｍｇ／ｍｌ含有することを特徴とする請求項１に記載の使用。
【請求項４】
ポリスチレンスルホネート組成物が、分子量約１００，０００ｇ／モルより大きいポリスチレンスルホネートを約１０から約２５０ｍｇ／ｍｌ含有することを特徴とする請求項２に記載の使用。
【請求項５】
ポリスチレンスルホネート組成物が、分子量約２００，０００ｇ／モルより大きいポリスチレンスルホネートを約２０から約１００ｍｇ／ｍｌ含有することを特徴とする請求項３に記載の使用。
【請求項６】
ポリスチレンスルホネート組成物が、分子量約２００，０００ｇ／モルより大きいポリスチレンスルホネートを約２０から約１００ｍｇ／ｍｌ含有することを特徴とする請求項４に記載の使用。
【請求項７】
雌の膣におけるトリコモナス、ガードネレラ、または他の膣炎／膣症を引き起こす細菌をコントロールおよび抑制するための薬剤を製造するためのポリスチレンスルホネート組成物の使用であって、該薬剤は、雌の膣に投与した際に、トリコモナス、ガードネレラ、または他の膣炎／膣症を引き起こす細菌をコントロールおよび抑制するに十分な、有効量のポリスチレンスルホネート組成物を含むことを特徴とする使用。
【請求項８】
ポリスチレンスルホネート組成物が、ｐＨ約３．５から約７．５に緩衝した水性基剤中のポリスチレンスルホネートを含むことを特徴とする請求項７に記載の使用。
【請求項９】
ポリスチレンスルホネート組成物が、分子量約１００，０００ｇ／モルより大きいポリスチレンスルホネートを約１０から約２５０ｍｇ／ｍｌ含有することを特徴とする請求項７に記載の使用。
【請求項１０】
ポリスチレンスルホネート組成物が、分子量約１００，０００ｇ／モルより大きいポリスチレンスルホネートを約１０から約２５０ｍｇ／ｍｌ含有することを特徴とする請求項８に記載の使用。
【請求項１１】
ポリスチレンスルホネート組成物が、分子量約２００，０００ｇ／モルより大きいポリスチレンスルホネートを約２０から約１００ｍｇ／ｍｌ含有することを特徴とする請求項９に記載の使用。
【請求項１２】
ポリスチレンスルホネート組成物が、分子量約２００，０００ｇ／モルより大きいポリスチレンスルホネートを約２０から約１００ｍｇ／ｍｌ含有することを特徴とする請求項１０に記載の使用。
【請求項１３】
雌における膣炎および／または細菌性膣症のリスクを減じるための予防的治療のための薬剤を製造するためのポリスチレンスルホネート組成物の使用であって、該薬剤は、膣炎および／または細菌性膣症のリスクがあるが、膣炎および／または細菌性膣症を患ってはいない雌の膣に投与した際に、トリコモナス、ガードネレラ、または他の膣炎／膣症を引き起こす細菌が膣内に定着するようになるリスクを減じるのに十分な、有効量の該ポリスチレンスルホネート組成物を含むことを特徴とする使用。
【請求項１４】
ポリスチレンスルホネート組成物が、ｐＨ約３．５から約７．５に緩衝した水性基剤中のポリスチレンスルホネートを含むことを特徴とする請求項１３に記載の使用。
【請求項１５】
ポリスチレンスルホネート組成物が、分子量約１００，０００ｇ／モルより大きいポリスチレンスルホネートを約１０から約２５０ｍｇ／ｍｌ含有することを特徴とする請求項１３に記載の使用。
【請求項１６】
ポリスチレンスルホネート組成物が、分子量１００，０００ｇ／モルより大きいポリスチレンスルホネートを約１０から約２５０ｍｇ／ｍｌ含有することを特徴とする請求項１４に記載の使用。
【請求項１７】
ポリスチレンスルホネート組成物が、分子量約２００，０００ｇ／モルより大きいポリスチレンスルホネートを約２０から約１００ｍｇ／ｍｌ含有することを特徴とする請求項１５に記載の使用。
【請求項１８】
ポリスチレンスルホネート組成物が、分子量約２００，０００ｇ／モルより大きいポリスチレンスルホネートを約２０から約１００ｍｇ／ｍｌ含有することを特徴とする請求項１６に記載の使用。
【請求項１９】
膣の本来のフローラを著しく破壊することなしに、雌における膣炎および／または細菌性膣症を選択的に予防、抑制、または治療するための薬剤を製造するためのポリスチレンスルホネート組成物の使用であって、該薬剤は、雌の膣に投与した際に、膣の本来のフローラを著しく破壊することなしに、トリコモナス、ガードネレラ、または他の膣炎／膣症を引き起こす細菌を抑制するのに十分な、有効量の該ポリスチレンスルホネート組成物を含むことを特徴とする使用。
【請求項２０】
ポリスチレンスルホネート組成物が、ｐＨ約３．５から約７．５に緩衝した水性基剤中のポリスチレンスルホネートを含むことを特徴とする請求項１９に記載の使用。
【請求項２１】
ポリスチレンスルホネート組成物が、分子量約１００，０００ｇ／モルより大きいポリスチレンスルホネートを約１０から約２５０ｍｇ／ｍｌ含有することを特徴とする請求項１９に記載の使用。
【請求項２２】
ポリスチレンスルホネート組成物が、分子量約１００，０００ｇ／モルより大きいポリスチレンスルホネートを約１０から約２５０ｍｇ／ｍｌ含有することを特徴とする請求項２０に記載の使用。
【請求項２３】
ポリスチレンスルホネート組成物が、分子量約２００，０００ｇ／モルより大きいポリスチレンスルホネートを約２０から約１００ｍｇ／ｍｌ含有することを特徴とする請求項２１に記載の使用。
【請求項２４】
ポリスチレンスルホネート組成物が、分子量が約２００，０００ｇ／モルより大きいポリスチレンスルホネートを約２０から約１００ｍｇ／ｍｌ含有することを特徴とする請求項２２に記載の使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】膣炎および／または細菌性膣症の予防、抑制、または治療のための薬剤を製造するためのポリスチレンスルホネート組成物の使用
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月3日(2004.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  非置換またはアルキル置換ＴＨＦを製造する方法において、Ｃ４−ジカルボン酸および／またはその誘導体をガス相中で、ＣｕＯを＜８０質量％および酸性中心を有する酸化物支持体を＞２０質量％含有する触媒を用い、ホットスポット温度２４０〜３１０℃、および触媒負荷０.０１〜１.０ｋｇ出発物質／ｌ触媒・時間で、接触水素化することを特徴とする、非置換またはアルキル置換ＴＨＦの製法。
【請求項２】  酸化物支持体がＡｌ２Ｏ３であるか、または質量比２０：１〜１：２０のＡｌ２Ｏ３／ＺｎＯからなる組合せである、請求項１記載の製法。
【請求項３】  １〜３０バールの圧力で実施する、請求項１または２記載の製法。
【請求項４】  水素／出発物質のモル比が２０〜４００である、請求項１から３までのいずれか１項記載の製法。
【請求項５】  ＧＨＳＶが１００〜１００００標準ｍ３／ｍ３ｈの値である、請求項１から４までのいずれか１項記載の製法。
【請求項６】  入口温度が＞２２０〜３００℃で、かつホットスポット温度より約５〜１５℃下回る、請求項１から５までのいずれか１項記載の製法。
【請求項７】  ホットスポット温度が反応装置の最初の半分の範囲内にある、請求項１から６までのいずれか１項記載の製法。
【請求項８】  元素の周期系の第１〜１４族の元素からなる群から選択された１種またはそれ以上のその他の金属またはその化合物が触媒中に存在する、請求項１から７までのいずれか１項記載の製法。
【請求項９】  ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２およびＭｇＯからなる群から選択される物質が触媒中に存在する、請求項８記載の製法。
【請求項１０】  触媒を反応器中に設置する前または後、および水素化反応に使用する前に還元により活性化する、請求項１から９までのいずれか１項記載の製法。
【請求項１１】  触媒が更に＜１０質量％の量でグラファイト、ステアリン酸、シリカゲルおよび銅粉末からなる群からの助剤を含有する、請求項１から１０までのいずれか１項記載の製法。
【請求項１２】  触媒成形体が孔径＞５０ｎｍに関して孔体積≧０.０１ｍｌ／ｇを有する、請求項１から１１までのいずれか１項記載の製法。
【請求項１３】  触媒成形体において、直径＞４ｎｍを有する孔に関する全孔体積に対する、直径＞５０ｎｍを有するマクロ孔の割合は＞１０％である、請求項１から１２までのいずれか１項記載の製法。
【請求項１４】  固定床反応器、シャフト反応器、流動床反応器または内部熱除去装置を備える反応器を使用する、請求項１から１３までのいずれか１項記載の製法。
【請求項１５】  無水マレイン酸を出発物質として反応に使用する、請求項１から１４までのいずれか１項記載の製法。
【請求項１６】  ベンゼン、Ｃ４−オレフィンまたはｎ−ブタンを酸化し、この酸化により得られた粗無水マレイン酸を溶剤で粗生成物混合物から抽出し、引き続きこの溶剤から水素でストリッピングすることにより製造された無水マレイン酸を使用する、請求項１から１５までのいずれか１項記載の製法。
【請求項１７】  吸収剤がトリクレシルホスフェート、ジブチルマレエート、高分子量ワックス、分子量１５０〜４００および１４０℃を越える沸点を有する芳香族炭化水素、芳香族および脂肪族ジカルボン酸のジ−Ｃ１〜Ｃ４−アルキルエステル、炭素原子１４〜３０個を有する長鎖脂肪酸のメチルエステル、高沸点エーテル、ポリエチレングリコールのジメチルエーテル、およびＣ１〜Ｃ８−アルキル基を有するジアルキルフタレートからなる群から選択されている、請求項１から１６までのいずれか１項記載の製法。
【請求項１８】  無水マレイン酸を吸収剤から真空中または水素化の圧力に相当するかまたはこの圧力を最高で１０％上回る圧力でストリッピングする、請求項１から１７までのいずれか１項記載の製法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月19日(2003.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｎ末端α−アミノ基を有し、かつ骨髄細胞による網状赤血球及び赤血球の産生の増加を生じるというｉｎ  ｖｉｖｏ生物学的活性を有し、かつヒトエリスロポエチン、及び１〜６個のグリコシル化部位の付加又は少なくとも１個のグリコシル化部位の再編成により修飾されたヒトエリスロポエチンの配列を有するその類似体からなる群より選択されるエリスロポエチン糖タンパク質を含むコンジュゲートであって；該糖タンパク質が、式
【化１】
2004525097.tif 000001
［式中、ポリ（エチレングリコール）基の−ＣＯは、該Ｎ末端α−アミノ基とアミド結合を形成しており；
Ｒは、低級アルキルであり；
ｘは、２又は３であり；かつ
ｍは、約４５０〜約１３５０である］
のポリ（エチレングリコール）基１個と共有結合で結合している、コンジュゲート。
【請求項２】
式：
【化２】
2004525097.tif 000002
［式中、ｘ、ｍ、及びＲは、請求項１と同義であり、かつＰは、ポリ（エチレングリコール）基と共にアミド結合を形成しているＮ末端α−アミノ基を除く糖タンパク質の残基である］の請求項１記載のコンジュゲート。
【請求項３】
Ｒが、メチルである、請求項１又は２記載のコンジュゲート。
【請求項４】
ｍが、５５０〜１０００である、請求項１〜３記載のコンジュゲート。
【請求項５】
ｍが、約６５０〜約７５０である、請求項１〜４記載のコンジュゲート。
【請求項６】
Ｒが、メチルであり、かつｍが、約６５０〜約７５０である、請求項１〜５記載のコンジュゲート。
【請求項７】
式
【化３】
2004525097.tif 000003
［式中、ｍは、６５０〜７５０であり、かつＰは、請求項２と同義である］を有する、請求項１〜６記載のコンジュゲート。
【請求項８】
糖タンパク質が、ヒトエリスロポエチンである、請求項１〜７記載のコンジュゲート。
【請求項９】
ヒトエリスロポエチン糖タンパク質が、内因性遺伝子活性化により発現される、請求項１〜７のいずれかに記載のコンジュゲート。
【請求項１０】
糖タンパク質が、図１又は図２に示される配列を有する、請求項１〜９のいずれかに記載のコンジュゲート。
【請求項１１】
糖タンパク質が、１〜６個のグリコシル化部位の付加により修飾されたヒトエリスロポエチンの配列を有する、請求項１〜８のいずれかに記載のコンジュゲート。
【請求項１２】
糖タンパク質が、
【表１】
2004525097.tif 000004
からなる群より選択される修飾により修飾されたヒトエリスロポエチンの配列を有する、請求項１〜１１のいずれかに記載のコンジュゲート。
【請求項１３】
糖タンパク質が、少なくとも１個のグリコシル化部位の再編成により修飾されたヒトエリスロポエチンの配列を有する、請求項１〜７のいずれかに記載のコンジュゲート。
【請求項１４】
再編成が、ヒトエリスロポエチンのＮ結合型グリコシル化部位のいずれかの欠失、及びヒトエリスロポエチンの配列の８８位におけるＮ結合型グリコシル化部位の付加を含む、請求項１３のコンジュゲート。
【請求項１５】
糖タンパク質が、
【表２】
2004525097.tif 000005
からなる群より選択される修飾により修飾されたヒトエリスロポエチンの配列を有する、請求項１４のコンジュゲート。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれかに定義されたコンジュゲートと、薬学的に許容されうる賦形剤とを含む医薬組成物。
【請求項１７】
医薬の調製のための、請求項１〜１５のいずれかに記載のコンジュゲートの使用。
【請求項１８】
慢性腎不全患者（ＣＲＦ）、エイズ、及び化学療法を受けている癌患者における貧血と相関している疾患の治療又は予防用の医薬の製造のための、請求項１〜１５のいずれかに記載のコンジュゲートの使用。
【請求項１９】
請求項１〜１５のいずれかに定義されたコンジュゲートの調製のための方法であって、
ａ）タンパク質分解的切断配列を含む、Ｎ末端ペプチド伸長部を含む組換えＥＰＯタンパク質の発現、好ましくは無血清発酵、
ｂ）ε−アミノ基の保護、
ｃ）Ｎ末端ペプチド伸長部のタンパク質分解的切断、
ｄ）Ｎ末端α−アミノ基のＰＥＧ化、
ｅ）エリスロポエチン糖タンパク質のε−アミノ基の脱保護、を含み、
ｆ）場合により、前記の各工程の後に精製工程が実施されてもよい、方法。
【請求項２０】
組換えＥＰＯが、図１〜５に示されたアミノ酸配列からなる群より選択される配列を含む、請求項１９記載の方法。
【請求項２１】
工程ｂ）において、ε−アミノ基がシトラコニル化により保護される、請求項１９又は２０に記載の方法。
【請求項２２】
Ｎ末端α−アミノ基が、式：
【化４】
2004525097.tif 000006
［式中、Ｒ、ｍ、及びｘは、請求項１〜１５のいずれかと同義である］によりＰＥＧ化される、請求項１９〜２１のいずれかに記載の方法。
【請求項２３】
請求項１９〜２２に記載の方法により調製された、請求項１〜１５のいずれかに記載の化合物。
【請求項２４】
慢性腎不全患者（ＣＲＦ）、ＡＩＤＳ、及び化学療法を受けている癌患者における貧血と関連した疾患の処置のための、請求項１〜１５のいずれかに記載の化合物。
【請求項２５】
タンパク質分解的切断部位を表すＮ末端ペプチド伸長部を有し、場合によりＮ末端精製タグを含む、図１及び図２に示されるようなアミノ酸配列を含むエリスロポエチン糖タンパク質。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月16日(2004.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  Ｃ４−ジカルボン酸及び／又はその誘導体を気相中で水素化する方法において、
反応を、流動床反応器中で実施することを特徴とする、気相中でのＣ４−ジカルボン酸及び／又はその誘導体の水素化法。
【請求項２】  Ｃ４−ジカルボン酸及び／又はその誘導体を、液状の形で反応器中へ供給する、請求項１記載の方法。
【請求項３】  触媒が、Ａｌ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｃｅ、Ｌａ、第ＩＩＩＡ〜ＶＩＩＩＡ族及び第ＩＡ及びＩＩＡ族の元素からなる群からの少なくとも１つの別の金属又はその化合物を含有する酸化銅ベースの触媒である、請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】  触媒が、酸化銅とＡｌ２Ｏ３、ＺｎＯ及び／又はＳｉＯ２との混合物である、請求項３記載の方法。
【請求項５】  Ｃｕ又はその化合物が≧１０質量％で存在し、かつその他の成分が≦９０質量％で存在する、請求項３又は４記載の方法。
【請求項６】  触媒を、１０〜１０００μｍの直径を有する粉末の形で使用する、請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項７】  水素化に使用される水素を、純粋な形でか又は他の成分との混合物として使用する、請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項８】  水素と、出発材料として使用されるＣ４−ジカルボン酸又はその誘導体との比が、１０〜２００の値である、請求項１から７までのいずれか１項記載の方法。
【請求項９】  出発材料濃度が０．５〜１０体積％の値である、請求項１から８までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】  方法を、２００〜４００℃の温度で及び１〜１００barの圧力で実施する、請求項１から９までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】  出発材料として無水マレイン酸及び／又はマレイン酸を使用する、請求項１から１０までのいずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月7日(2005.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
停止状態で発進を開始する際、車両が制動されて斜面で保持され、車両が不意に動きださないように発進させるために運転者が前もって操作したブレーキ装置をゆるめることができるように、運転者をアシストする。それによって、ブレーキをゆるめるときと本来の発進過程の間の時間空間が架橋される。運転者ブレーキ圧力を保持するための方法が知られている。この方法は、積極的な常用ブレーキによって、ブレーキ圧力、ブレーキトルクまたはブレーキ力を積極的に増大させて保持する。この積極的なブレーキ介入は、発進アシストの作動判断基準が満たされるときに生じる。例えば電気油圧式または電気機械式ブレーキ、電気式駐車ブレーキまたはアクティブ式ブレーキブースタを備えたブレーキ装置のようなブレーキ装置のために、ブレーキ圧力の保持自体には問題がない。というのは、これらのブレーキ装置では、制御可能な外部圧力発生器、すなわち運転者に依存しない圧力源が設けられているからである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
アナログ化された分離弁は切換え弁と同様に作動するがしかし、調節された弁電流によって、許容窓内に定められた圧力差が弁で生じる点が異なっている。モデルベースの“最悪ケース”−計算に従って、漏れまたは圧力損失が時間にわたって決定されると、ブレーキベダルを離した後でコントロールの時点を定めることができる。液圧ポンプが圧力上昇のために始動させられ、同時にアナログ化された分離弁の動作電流が必要な液圧に従って調節されると、アナログ化された分離弁の分散に依存して車輪ブレーキに加えられるブレーキ圧力が最大で意図した目標ブレーキ圧力まで容易に上昇させることが可能である。この場合、アナログ化された分離弁は調節可能な圧力制限弁の機能を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
ブレーキ圧力を保持−ブレーキ圧力ｐ１，ｐ２に調整する時間Ｔ４の間、菱形ブロック５８において、カウンタ３７の値が時間Ｔ３の漏れと上昇時間Ｔ４（オフセット）のブレーキ圧力の合計よりも小さいかどうかが質問される。その際、菱形ブロック５０の手前のスタートＡではじまって、図４の質問は、ブレーキ圧力が時点Ｔ５で保持−ブレーキ圧力ｐ２に調節されるまで、クロック周波数で行われる。カウンタ３７が値Ｗgrenz に達するかまたはこの値を上回ると、ステップ５９においてカウンタ３７がリセットされ、ポンプ６，７が停止され、分離弁８，８′に最大動作電流が供給され、それによって図１に示すように閉じられ、切換え弁が通電を停止され、それによって閉じられる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月25日(2004.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体又は液体化可能な材料を含む積荷を輸送及び／又は収容するのための大型可撓性流体収容船の作製方法であって、
細長い可撓性管状構造物は、第１円周を有する布を含んで形成され、
前記管状構造物を不浸透性にし、
前端部と後端部を形成し、
前記前端部と前記後端部とを密閉し、
前記積荷収容船を充填及び排出するための手段をもたらし、
管状構造物の前端部又は後端部の少なくとも一方は、織り、編むあるいは撚り合わせられ、第１円周よりも短い第２円周の末端がテーパを有している、
を備える可撓性流体収容船の作製方法。
【請求項２】
縦糸と横糸の繊維あるいは糸を備えた管状構造物を織る工程、また前記端部で織られているような連続する方法で徐々に縦糸を除去することにより前記端部でテーパに織る工程を含んでいる請求項１に記載の方法。
【請求項３】
縦糸と横糸の繊維あるいは糸を備えた管状構造物を織る工程、また前記端部で織られているような縦糸の中で抜き取ることにより前記端部でテーパに織る工程を含んでいる請求項１に記載の方法。
【請求項４】
テーパを作製する前記端部の編む間に編み針を徐々に外していくことにより前記端部でテーパに編む工程を含んでいる請求項１に記載の方法。
【請求項５】
管状構造物を編む工程を含んでいる請求項１に記載の方法。
【請求項６】
撚り合わせ繊維又は糸の速度に関する巻き取り速度の調節により前記端部でテーパを撚り合わせる工程を含んでいる請求項１に記載の方法。
【請求項７】
管状構造物を撚り合わせる工程を含んでいる請求項１に記載の方法。
【請求項８】
テーパを備えた前端部及び後端部を織り、編むあるいは撚り合わせる工程を含んでいる請求項１に記載の方法。
【請求項９】
流体又は液体化可能な材料を含む積荷を輸送及び／又は収容するのための大型可撓性流体収容船であって、
細長い可撓性管状構造物は、第１円周を有する布を含み、
前記管状構造物は不浸透性であり、
前端部と後端部とを密閉してあり、
前記積荷収容船を充填及び排出するための手段、及び
管状構造物の前端部又は後端部の少なくとも一方は、織り、編むあるいは撚り合わせることにより形成され、そのような方法で第１円周よりも短い第２円周の末端がテーパを有している、
を備える前記船。
【請求項１０】
縦糸と横糸の繊維あるいは糸を有する管状構造物、また前記端部で織られているような連続する方法で徐々に縦糸を除去することにより前記端部で形成されたテーパを含んでいる請求項９に記載の船。
【請求項１１】
縦糸と横糸の繊維あるいは糸を備えた管状構造物、また前記端部で織られているような縦糸の中で抜き取ることにより前記端部で形成されたテーパを含んでいる請求項９に記載の船。
【請求項１２】
テーパを作製する前記端部の編む間に編み針を徐々に外していくことにより前記端部でテーパに編まれたことを含んでいる請求項９に記載の船。
【請求項１３】
管状構造物に編まれたことを含んでいる請求項９に記載の船。
【請求項１４】
撚り合わせ繊維又は糸の速度に関する巻き取り速度の調節により前記端部でテーパに撚り合わされたことを含んでいる請求項９に記載の船。
【請求項１５】
管状構造物に撚り合わされたことを含んでいる請求項９に記載の船。
【請求項１６】
織り、編むあるいは撚り合わされたテーパを備えた前端部及び後端部を含んでいる請求項９に記載の船。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月28日(2003.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
基部がリムシートに取付けられるようになっているビードに各側で固定された少なくとも１つのカーカス型補強構造を備えており、各ビードが側壁部によって半径方向外方に延長されており、側壁部が半径方向外方でトレッドに合流しており、カーカス型補強構造がビードから側壁部まで周方向に延びており、またクラウン補強体を備えており、ビードの各々が更に補強構造を取付ける主固定帯域を備えているタイヤであって、該タイヤは、側壁部に対して軸方向外方に延びているゴム突起を備えているリム保護体を主固定帯域に対して半径方向外方の位置に備えており、また複数の周方向コード巻き体よりなる少なくとも１つの第２固定帯域を備えており、前記巻き体はゴム固定混合物を介して第２補強構造の隣接部分と協働し、前記固定帯域は実質的に半径方向に配向されていることを特徴とするタイヤ。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月21日(2005.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
その組成が、質量パーセントとして表される下に規定される範囲において、以下の成分、即ち、
ＳｉＯ2           ５０〜６０％
Ａｌ2Ｏ3          １０〜１９％
Ｂ2Ｏ3            １６〜２５％
Ｐ2Ｏ5            ０．５〜４％
Ｎａ2Ｏ           １．５％以下
Ｋ2Ｏ             １．５％以下
Ｒ2Ｏ             ２％以下
ＣａＯ            １０％以下
ＭｇＯ            １０％以下
Ｆ                ０〜２％以下
ＲＯ              ４〜１５％
その他            ３％以下
式中、Ｒ2Ｏ＝Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ＋Ｌｉ2Ｏ、ＲＯ＝ＣａＯ＋ＭｇＯ
を含んで成る、強化用ガラスヤーン。
【請求項２】
該組成が、Ｐ2Ｏ5≧１％、及び／又は、Ｐ2Ｏ5≦３％であるようなリン（Ｐ2Ｏ5）の含有量を有することを特徴とする、請求項１に記載のガラスヤーン。
【請求項３】
該組成が、ＣａＯ≦８％、及び／又は、ＣａＯ≧２％であるような石灰（ＣａＯ）の含有量を有することを特徴とする、請求項１及び請求項２の何れか１項に記載のガラスヤーン。
【請求項４】
該組成が、ＭｇＯ≦８％、及び／又は、ＭｇＯ≧２％であるようなマグネシア（ＭｇＯ）の含有量を有することを特徴とする、請求項１〜３の何れか１項に記載のガラスヤーン。
【請求項５】
該組成が、Ｂ2Ｏ3≧１８％、及び／又は、Ｂ2Ｏ3≦２２％であるようなホウ素（Ｂ2Ｏ3）の含有量を有することを特徴とする、請求項１〜４の何れか１項に記載のガラスヤーン。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか１項によって規定されるガラスヤーンを含んで成ることを特徴とする、ガラスヤーンと有機及び／又は無機材料の複合物。
【請求項７】
プリント回路基材を製造するための、請求項１〜５の何れか１項によって規定されるガラスヤーンの使用。
【請求項８】
１つ又は複数のブッシングの底部に配置された多数のオリフィスから流出する多数の溶融ガラス流が、連続ヤーンの１つ又は複数のウェブの形で引き抜かれ、次いで、フィラメントが１つ又は複数のヤーンに寄せ集められ、移動支持体の上に集められる、請求項１〜５の何れか１項に規定されるガラスヤーンを製造するための方法。
【請求項９】
１つ又は複数のブッシングのオリフィスに送り込む溶融ガラスが、質量パーセントとして表される以下の組成、即ち、
ＳｉＯ2           ５０〜６０％
Ａｌ2Ｏ3          １０〜１９％
Ｂ2Ｏ3            １６〜２５％
Ｐ2Ｏ5            ０．５〜４％
Ｎａ2Ｏ           １．５％以下
Ｋ2Ｏ             １．５％以下
Ｒ2Ｏ             ２％以下
ＣａＯ            １０％以下
ＭｇＯ            １０％以下
Ｆ                ０〜２％以下
ＲＯ              ４〜１５％
その他            ３％以下
式中、Ｒ2Ｏ＝Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ＋Ｌｉ2Ｏ、ＲＯ＝ＣａＯ＋ＭｇＯ
を有することを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
質量パーセントとして表される下に規定する範囲において、以下の成分、即ち、
ＳｉＯ2           ５０〜６０％
Ａｌ2Ｏ3          １０〜１９％
Ｂ2Ｏ3            １６〜２５％
Ｐ2Ｏ5            ０．５〜４％
Ｎａ2Ｏ           １．５％以下
Ｋ2Ｏ             １．５％以下
Ｒ2Ｏ             ２％以下
ＣａＯ            １０％以下
ＭｇＯ            １０％以下
Ｆ                ０〜２％以下
ＲＯ              ４〜１５％
その他            ３％以下
式中、Ｒ2Ｏ＝Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ＋Ｌｉ2Ｏ、ＲＯ＝ＣａＯ＋ＭｇＯ
を含んで成る、強化用ガラスヤーンを製造するのに適したガラス組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月16日(2003.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
建設資材の製造に適した石膏組成物であって、
ａ）石膏、
ｂ）水、および
ｃ）アクリル／ポリエーテル櫛型分岐共重合体を含有する分散剤調合物
を含む石膏組成物。
【請求項２】
分散剤調合物が、有効な量の該分散剤調合物を含まない同様の石膏組成物の粘稠度に比べて石膏組成物の粘稠度を低減するのに有効な量で存在する請求項１記載の石膏組成物。
【請求項３】
分散剤調合物が、石膏組成物の全重量をベースにして０.００１から１.０重量％の共重合体が石膏組成物中に存在するようになる効果を有する量で石膏組成物に存在する請求項１記載の石膏組成物。
【請求項４】
分散剤調合物が、さらに、アルカリ金属硫酸塩、アルカリ土類金属水酸化物およびこれらの組み合わせからなる群から選ばれた少なくとも一つの無機硬化促進剤を含む請求項１記載の石膏組成物。
【請求項５】
無機硬化促進剤が、硫酸ナトリウム及び水酸化カルシウムを含み、共重合体、硫酸ナトリウムおよび水酸化カルシウムが、分散剤調合物中に、石膏組成物の石膏の全重量をベースとして重量％で、下記の量存在する請求項４記載の石膏組成物。
共重合体          ０.００１と１.０重量％との間
硫酸ナトリウム    ０.０１と５重量％との間
水酸化カルシウム  ０.０００１と０.０５重量％との間
【請求項６】
分散剤調合物が、有効な量の該分散剤調合物を含まない同様の石膏組成物の粘稠度および初期硬化時間に比べて石膏組成物の粘稠度および初期硬化時間を低減するのに有効な量で存在する請求項４記載の石膏組成物。
【請求項７】
建設資材の製造に適した石膏組成物を製造する方法であって、
ａ）石膏、
ｂ）水、および
ｃ）アクリル／ポリエーテル櫛型分岐共重合体を含有する分散剤調合物
を、任意の組み合わせで、一緒に混合することを含む石膏組成物を製造する方法。
【請求項８】
分散剤調合物が、有効な量の該分散剤調合物を含まない同様の石膏組成物の粘稠度に比べて石膏組成物の粘稠度を低減するのに有効な量で供給される請求項７記載の方法。
【請求項９】
分散剤調合物が、石膏組成物の全重量をベースにして０.００１から１.０重量％の共重合体が石膏組成物中に存在するようになる効果を有する量で石膏組成物に供給される請求項７記載の方法。
【請求項１０】
二枚の板紙と、
請求項１の石膏組成物の硬化物である該板紙の間の石膏コア
を含む人造壁板。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月1日(2004.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
また、本発明の混合物の成分の好適な選択により、他の有利な特性を維持しながら、一層高いしきい値電圧において一層高い透明点（例えば１１０℃を超える）を達成することが可能であるか、または一層低いしきい値電圧において一層低い透明点を達成することが可能であることは、言うまでもない。わずかにのみ対応して増大する粘度において、同様に、比較的高いΔεおよび従って比較的低いしきい値を有する混合物を得ることが可能である。本発明のＭＬＣディスプレイは、グーチ(Gooch)およびタリー(Tarry)の第一透過率極小値で好ましく動作し[C.H. GoochおよびH.A. Tarry, Electron. Lett. 10, 2-4, 1974; C.H. GoochおよびH.A. Tarry, Appl. Phys., Vol. 8, 1575-1584, 1975]、特に好ましい電気光学的特性、例えば特性曲線の高い急峻性およびコントラストの低い角度依存性（ドイツ国特許30 22 818）で使用され、一層低い誘電異方性は、第二極小値において、類似ディスプレイにおけるのと同一のしきい値電圧において十分である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月6日(2004.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
殺微生物剤と、式
【化１】
2004525087.tif 000001
で示される化合物とを含む水性溶液。
【請求項２】
前記化合物が水溶性塩として提供される、請求項１記載の水性溶液。
【請求項３】
前記化合物が、前記水性溶液を約６．４〜７．８のｐＨに維持するのに十分な量で提供される、請求項１記載の水性溶液。
【請求項４】
前記化合物の濃度が約０．００１〜０．２モルである、請求項１記載の水性溶液。
【請求項５】
前記殺微生物剤が、ポリヘキサメチレンビグアニド、アレキシジン、ヘキセチジン、Ｎ−アルキル−２−ピロリジノン、クロルヘキシジン、ポリクオタニウム−１、ブロノポール、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、過酸化水素、それらの塩及びそれらの混合物からなる群より選択される、請求項１記載の水性溶液。
【請求項６】
殺微生物剤が、ポリヘキサメチレンビグアニド、アレキシジン、それらの塩及びそれらの混合物からなる群より選択される、請求項５記載の水性溶液。
【請求項７】
キレート化剤をさらに含む、請求項１記載の水性溶液。
【請求項８】
前記キレート化剤が、エチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、それらの塩及びそれらの混合物からなる群より選択される、請求項７記載の水性溶液。
【請求項９】
界面活性剤をさらに含む、請求項１記載の水性溶液。
【請求項１０】
前記界面活性剤が、ポロキソマー、ポロキサミン、オクトキシノール、ヒドロキシル化ヒマシ油及びチロキサポールからなる群より選択される、請求項９記載の水性溶液。
【請求項１１】
等張化剤をさらに含む、請求項１記載の水性溶液。
【請求項１２】
前記等張化剤が、塩化ナトリウムである、請求項１１記載の水性溶液。
【請求項１３】
粘度調整剤をさらに含む、請求項１記載の水性溶液。
【請求項１４】
前記粘度調整剤が、レシチン、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース及びメチルセルロース、ポリビニルアルコール及びポリビニルピロリドンからなる群より選択される、請求項１３記載の水性溶液。
【請求項１５】
ポリヘキサメチレンビグアニド及びアレキシジンからなる群より選択される殺微生物剤０．１〜１０ppmと、１，３−ビス（トリス〔ヒドロキシメチル〕メチルアミノ）プロパン又はその塩０．００１〜０．２mol/lとを含む、ｐＨ６．８〜７．５に調節されている水性溶液。